JP2018123073A - Production method of hydrosilane - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of hydrosilane capable of producing hydrosilane efficiently.SOLUTION: Silane having a structure shown by formula (a) is reacted with hydrogen in the presence of iridium complex shown by formula (I) and organic base, to thereby produce hydrosilane efficiently.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明はヒドロシランの製造方法に関し、さらに詳しくは、イリジウム錯体の存在下におけるハロシラン類の水素化分解反応によるヒドロシランの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing hydrosilane, and more particularly to a method for producing hydrosilane by hydrogenolysis of halosilanes in the presence of an iridium complex.

ヒドロシラン類は、有機ケイ素化合物の原料に用いられる重要な化合物である。しかし、その触媒的な合成法に関する報告数は限られている。例えば、ルテニウム分子状水素錯体を触媒とするシリルエノールエーテルの水素化分解によるヒドロシラン合成が報告されている(非特許文献1及び2参照)。
また、イリジウム錯体を触媒としたハロゲン化シラン及びその誘導体の水素化分解も報告されている(特許文献1参照)。この反応は、ジアルキルベンゾイミダゾール−2−イリデン配位子とホスフィン配位子を有するイリジウム錯体が水素ガスとの反応から生成するイリジウムヒドリド種がハロゲン化シランと反応することにより進行する。
Hydrosilanes are important compounds used as raw materials for organosilicon compounds. However, the number of reports on its catalytic synthesis is limited. For example, hydrosilane synthesis by hydrogenolysis of silyl enol ether using a ruthenium molecular hydrogen complex as a catalyst has been reported (see Non-Patent Documents 1 and 2).
In addition, hydrogenolysis of halogenated silanes and derivatives thereof using an iridium complex as a catalyst has also been reported (see Patent Document 1). This reaction proceeds when an iridium hydride species generated from a reaction of an iridium complex having a dialkylbenzimidazol-2-ylidene ligand and a phosphine ligand with hydrogen gas reacts with a halogenated silane.

特開2016−17071号公報JP 2006-17071 A

M.Hidai,et al. Angew.Chem.Int.Ed. 1999, 38, 3047−3050.M.M. Hidai, et al. Angew. Chem. Int. Ed. 1999, 38, 3047-3050. I.Takai,et al. J.Organomet.Chem. 2003, 679, 32−42.I. Takai, et al. J. et al. Organomet. Chem. 2003, 679, 32-42.

本発明は、ヒドロシランを効率良く製造することができるヒドロシランの製造方法を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method of hydrosilane which can manufacture hydrosilane efficiently.

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のイリジウム錯体と有機塩基の存在下でハロシラン等と水素を反応させることにより、ヒドロシランが効率よく生成することを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that hydrosilane can be efficiently produced by reacting hydrogen with halosilane or the like in the presence of a specific iridium complex and an organic base, The present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.

<1> 下記式(I)で表されるイリジウム錯体及び有機塩基の存在下、下記式(a)で
表される構造を有するシランと水素を反応させて下記式(b)で表される構造を有するヒドロシランを生成する水素化工程を含むことを特徴とするヒドロシランの製造方法。
(式(I)中、R1はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜1
0の炭化水素基を、R2はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の2価又は
3価の炭化水素基を、R3はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数
1〜10の炭化水素基、又は水素原子を、R4はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子
数1〜10の2価の炭化水素基、又はカルボニル基を、R5はヘテロ原子を含んでいても
よい炭素原子数1〜10の炭化水素基、又は水素原子を、mは0〜5の整数を、nは1又は2を、実線と破線の二重線は単結合又は二重結合を、Ir−N間の破線は配位結合を表す。但し、mが2以上である場合、R1の2以上の炭化水素基が互いに連結して環状構造
を形成していてもよく、nが1の場合、実線と破線の二重線は二重結合であり、nが2の場合、実線と破線の二重線は単結合であり、R2とR3の炭化水素基が互いに連結して環状構造を形成していてもよく、R4が炭化水素基である場合、R4とR5の炭化水素基が互い
に連結して環状構造を形成していてもよい。)
(式(a)中、Lは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は下記式(s)で表される基を表す。)
(式(s)中、Rは窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の炭化水素基を表す。)
<2> 前記有機塩基が、下記式(II−1)で表されるアミン、下記式(ii−1)で
表される構造を有する化合物、及び下記式(ii−2)で表される構造を有する化合物からなる群より選択される少なくとも1種である、<1>に記載のヒドロシランの製造方法。
(式(II−1)中、R6はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数1〜10の炭化
水素基を表す。)
<1> A structure represented by the following formula (b) by reacting a silane having a structure represented by the following formula (a) with hydrogen in the presence of an iridium complex represented by the following formula (I) and an organic base. A method for producing hydrosilane, comprising a hydrogenation step for producing hydrosilane having a hydrofluoric acid.
(Formula (in I), R 1 each independently carbon atoms which may contain a hetero atom 1-1
A hydrocarbon group of 0, R 2 may be a divalent or trivalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, and R 3 may independently contain a hetero atom. R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom, R 4 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a carbonyl group, R 5 is A hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a hydrogen atom, m is an integer of 0 to 5, n is 1 or 2, and a double line of a solid line and a broken line is a single bond Or a double bond and the broken line between Ir-N represent a coordination bond. However, when m is 2 or more, two or more hydrocarbon groups of R 1 may be connected to each other to form a cyclic structure. When n is 1, the double line of the solid line and the broken line is double a bond, if n is 2, a solid line and a dashed double line is a single bond, may form a cyclic structure linked hydrocarbon group of R 2 and R 3 together, R 4 is When it is a hydrocarbon group, the hydrocarbon groups of R 4 and R 5 may be linked to each other to form a cyclic structure. )
(In the formula (a), L represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a group represented by the following formula (s).)
(In formula (s), R represents a C1-C10 hydrocarbon group which may contain a nitrogen atom, an oxygen atom, and a halogen atom.)
<2> The organic base is a compound represented by the following formula (II-1), a compound having a structure represented by the following formula (ii-1), and a structure represented by the following formula (ii-2). <1> The method for producing hydrosilane according to <1>, which is at least one selected from the group consisting of compounds having:
(In formula (II-1), each R 6 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)

本発明によれば、ヒドロシランを効率良く製造することができる。   According to the present invention, hydrosilane can be produced efficiently.

本発明の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。   The details of the present invention will be described with specific examples. However, the present invention is not limited to the following contents without departing from the gist of the present invention, and can be implemented with appropriate modifications.

<ヒドロシランの製造方法>
本発明の一態様であるヒドロシランの製造方法は、下記式(I)で表されるイリジウム錯体及び有機塩基の存在下、下記式(a)で表される構造を有するシランと水素を反応させて下記式(b)で表される構造を有するヒドロシランを生成する水素化工程(以下、「水素化工程」と略す場合がある。)を含むことを特徴とする。
(式(I)中、R1はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜1
0の炭化水素基を、R2はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の2価又は
3価の炭化水素基を、R3はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数
1〜10の炭化水素基、又は水素原子を、R4はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子
数1〜10の2価の炭化水素基、又はカルボニル基を、R5はヘテロ原子を含んでいても
よい炭素原子数1〜10の炭化水素基、又は水素原子を、mは0〜5の整数を、nは1又
は2を、実線と破線の二重線は単結合又は二重結合を、Ir−N間の破線は配位結合を表す。但し、mが2以上である場合、R1の2以上の炭化水素基が互いに連結して環状構造
を形成していてもよく、nが1の場合、実線と破線の二重線は二重結合であり、nが2の場合、実線と破線の二重線は単結合であり、R2とR3の炭化水素基が互いに連結して環状構造を形成していてもよく、R4が炭化水素基である場合、R4とR5の炭化水素基が互い
に連結して環状構造を形成していてもよい。)
(式(a)中、Lは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は下記式(s)で表される基を表す。)
(式(s)中、Rは窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の炭化水素基を表す。)
前述のように、ヒドロシランの合成方法として、ルテニウム分子状水素錯体や特定のイリジウム錯体を触媒として利用した水素化分解の例が報告されているが、これらの反応系では、ブロモシランやクロロシランといった反応性が低いハロゲン化シランを原料にヒドロシランを合成することは困難であった。
本発明者らは、「式(I)で表されるイリジウム錯体」と「有機塩基」の存在下で「式(a)で表される構造を有するシラン」と水素を反応させることにより、ヒドロシランが効率よく生成することを見出したのである。なお、かかる反応において、「有機塩基」は、ハロゲン化シラン等の水素化分解によって生じたHL(L=OTf,I,Br,Cl等)
を中和し、反応を促進し、かつ触媒の長寿命化に役割を果たすものと考えられる。
なお、「有機塩基」とは、ブレンステッド塩基性を有した有機化合物を意味するものとする。
また、「水素」とは、水素分子(H2)を意味するものとする。
さらに、式(a)及び式(b)中の波線は、その先の構造が任意であることを意味する。従って、「式(a)で表される構造を有するシラン」は、−Lを2以上有するものであってもよく、また「水素化工程」は、2以上の−Lを全て置換する反応であっても、−Lの一部を置換する反応であってもよいものとする(下記式参照)。
以下、「水素化工程」について詳細に説明する。
<Method for producing hydrosilane>
In a method for producing hydrosilane which is one embodiment of the present invention, a silane having a structure represented by the following formula (a) is reacted with hydrogen in the presence of an iridium complex represented by the following formula (I) and an organic base. It includes a hydrogenation step for producing hydrosilane having a structure represented by the following formula (b) (hereinafter sometimes abbreviated as “hydrogenation step”).
(Formula (in I), R 1 each independently carbon atoms which may contain a hetero atom 1-1
A hydrocarbon group of 0, R 2 may be a divalent or trivalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, and R 3 may independently contain a hetero atom. R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom, R 4 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a carbonyl group, R 5 is A hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a hydrogen atom, m is an integer of 0 to 5, n is 1 or 2, and a double line of a solid line and a broken line is a single bond Or a double bond and the broken line between Ir-N represent a coordination bond. However, when m is 2 or more, two or more hydrocarbon groups of R 1 may be connected to each other to form a cyclic structure. When n is 1, the double line of the solid line and the broken line is double a bond, if n is 2, a solid line and a dashed double line is a single bond, may form a cyclic structure linked hydrocarbon group of R 2 and R 3 together, R 4 is When it is a hydrocarbon group, the hydrocarbon groups of R 4 and R 5 may be linked to each other to form a cyclic structure. )
(In the formula (a), L represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a group represented by the following formula (s).)
(In formula (s), R represents a C1-C10 hydrocarbon group which may contain a nitrogen atom, an oxygen atom, and a halogen atom.)
As mentioned above, examples of hydrocracking using ruthenium molecular hydrogen complexes or specific iridium complexes as catalysts have been reported as hydrosilane synthesis methods, but in these reaction systems, reactivity such as bromosilane and chlorosilane is reported. However, it was difficult to synthesize hydrosilane from a low halogenated silane.
The present inventors have reacted hydrosilane with “silane having a structure represented by formula (a)” and hydrogen in the presence of “iridium complex represented by formula (I)” and “organic base”. Was found to generate efficiently. In this reaction, “organic base” means HL (L = OTf, I, Br, Cl, etc.) generated by hydrogenolysis of halogenated silane or the like.
Is considered to play a role in prolonging the life of the catalyst.
The “organic base” means an organic compound having Bronsted basicity.
“Hydrogen” means a hydrogen molecule (H 2 ).
Furthermore, the wavy line in formula (a) and formula (b) means that the structure ahead is arbitrary. Accordingly, the “silane having the structure represented by the formula (a)” may have two or more −L, and the “hydrogenation step” is a reaction for substituting all of two or more of −L. Even if it exists, the reaction which substitutes a part of -L shall be sufficient (refer following formula).
Hereinafter, the “hydrogenation step” will be described in detail.

水素化工程は、式(I)で表されるイリジウム錯体及び有機塩基の存在下、式(a)で表される構造を有するシランと水素を反応させて式(b)で表される構造を有するヒドロシランを生成する工程であるが、「式(I)で表されるイリジウム錯体」、「有機塩基」、及び「式(a)で表される構造を有するシラン」の具体的種類は、目的に応じて適宜選択されるべきである。以下、「式(I)で表されるイリジウム錯体」、「有機塩基」、及び「式(a)で表される構造を有するシラン」について具体例を挙げて説明する。
式(I)中のR1は、それぞれ独立して「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1
〜10の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」とは、分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合をそれぞれ有していてもよく、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等の何れであってもよいものとする。また、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子がヘテロ原子、即ち、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等を含む1価の官能基で置換されていてもよいほか、炭化水素基の炭素骨格内部の炭素原子が窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等を含む2価以上の官能基(連結基)で置換されていてもよいことを意味する。
1に含まれる官能基や連結基としては、フルオロ基(−F)、クロロ基(−Cl)、
ブロモ基(−Br)、ヨード基(−I)、ホスフィノ基(−PR''2)、アルコキシ基(
−OR'')、トリアルキルシリル基(−SiR''3)、ホスフィンオキシド基(−P(=
O)R''2)等が挙げられる。
1の炭化水素基の炭素原子数としては、好ましくは9以下、より好ましくは8以下、
さらに好ましくは7以下であり、R1が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通
常6以上である。
1としては、メチル基(−CH3,−Me)、エチル基(−C25,−Et)、n−プロピル基(−n37,−nPr)、i−プロピル基(−i37,−iPr)、n−ブチル
基(−n49,−nBu)、t−ブチル基(−t49,−tBu)、n−ペンチル基(−n511)、n−ヘキシル基(−n613,−nHex)、シクロヘキシル基(−c611,−Cy)、フェニル基(−C65,−Ph)、ベンジル基(−CH265,−Bn)等が挙げられる。この中でもメチル基が好ましい。
なお、「mが2以上である場合、R1の2以上の炭化水素基が互いに連結して環状構造
を形成していても」よいが、環状構造を形成しているものとしては、下記式で表されるようなインデニルアニオン、オクタヒドロフルオレニルアニオン、フルオレニルアニオンが挙げられる。
式(I)で表されるイリジウム錯体の配位子(シクロペンタジエニルアニオン)としては、下記式で表されるペンタメチルシクロペンタジエニルアニオンが好ましい。
In the hydrogenation step, a silane having a structure represented by the formula (a) is reacted with hydrogen in the presence of an iridium complex represented by the formula (I) and an organic base to form a structure represented by the formula (b). Specific types of “iridium complex represented by formula (I)”, “organic base”, and “silane having a structure represented by formula (a)” Should be selected as appropriate. Hereinafter, “iridium complex represented by formula (I)”, “organic base”, and “silane having a structure represented by formula (a)” will be described with specific examples.
R 1 in the formula (I) is independently represented by “the number of carbon atoms which may contain a hetero atom 1
-10 hydrocarbon groups ", the" hydrocarbon group "may have a branched structure, a cyclic structure, and a carbon-carbon unsaturated bond, respectively, a saturated hydrocarbon group, an unsaturated group. Any of a hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, etc. shall be sufficient. Further, “may contain a hetero atom” means that a hydrogen atom of a hydrocarbon group is substituted with a hetero atom, that is, a monovalent functional group containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, or the like. In addition, the carbon atom inside the carbon skeleton of the hydrocarbon group may be substituted with a divalent or higher functional group (linking group) containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom or the like. To do.
Examples of the functional group or linking group contained in R 1 include a fluoro group (—F), a chloro group (—Cl),
Bromo group (—Br), iodo group (—I), phosphino group (—PR ″ 2 ), alkoxy group (
—OR ″), trialkylsilyl group (—SiR ″ 3 ), phosphine oxide group (—P (=
O) R ″ 2 ) and the like.
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group for R 1 is preferably 9 or less, more preferably 8 or less,
More preferably, it is 7 or less, and the number of carbon atoms when R 1 is an aromatic hydrocarbon group is usually 6 or more.
R 1 includes a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), and an i-propyl group. (- i C 3 H 7, - i Pr), n- butyl (- n C 4 H 9, - n Bu), t- butyl (- t C 4 H 9, - t Bu), n- pentyl group (- n C 5 H 11) , n- hexyl group (- n C 6 H 13, - n Hex), cyclohexyl (- c C 6 H 11, -Cy), phenyl group (-C 6 H 5, -Ph), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5, -Bn) , and the like. Among these, a methyl group is preferable.
"When m is 2 or more, two or more hydrocarbon groups of R 1 may be linked to each other to form a cyclic structure". Indenyl anion, octahydrofluorenyl anion, and fluorenyl anion represented by
The ligand (cyclopentadienyl anion) of the iridium complex represented by the formula (I) is preferably a pentamethylcyclopentadienyl anion represented by the following formula.

式(I)中のR2は、「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の2価又は
3価の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はR1の場合と同義である。なお、「nが1の場合、実線と破線の二重線は二重結合で
あり、nが2の場合、実線と破線の二重線は単結合」であるため、「2価」の炭化水素基は、単結合による2つの結合部位を有する炭化水素基に、「3価」の炭化水素基は、1つの二重結合と1つの単結合による2つの結合部位を有する炭化水素基になる。
2に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基(オキサ基,−O−)、チオエー
テル基(スルフィド基,−S−)、フルオロ基(−F)、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)、ヨード基(−I)等が挙げられる。
2としては、メチレン基(−CH2−)、エチレン基(−CH2CH2−)、n−プロピレン基(−CH2CH2CH2−)、i−プロピレン基(−CH(CH3)CH2−)、メチ
リジン基(メチン基、=CH−)、エチリジン基(=C(CH3)−)等が挙げられる。
式(I)中のR3は、それぞれ独立して「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1
〜10の炭化水素基」、又は「水素原子」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はR1の場合と同義である。
3が炭化水素基である場合に含まれる官能基や連結基としては、第一級アミノ基(−
NH2)、第二級アミノ基(−NH−)、イミノ基(=N−)、エーテル基(オキサ基,
−O−)、チオエーテル基(スルフィド基,−S−)、フルオロ基(−F)、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)、ヨード基(−I)等が挙げられる。
3としては、メチル基(−CH3,−Me)、エチル基(−C25,−Et)、n−プロピル基(−n37,−nPr)、i−プロピル基(−i37,−iPr)、n−ブチル基(−n49,−nBu)、t−ブチル基(−t49,−tBu)、n−ペンチル基(−n511)、n−ヘキシル基(−n613,−nHex)、シクロヘキシル基(−c611,−Cy)、フェニル基(−C65,−Ph)、ベンジル基(−CH265,−Bn)、水素原子等が挙げられる。
なお、「R2とR3の炭化水素基が互いに連結して環状構造を形成していても」よいが、環状構造を形成している場合として、下記式で表される構造が挙げられる。
R 2 in the formula (I) represents “a divalent or trivalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a heteroatom”, but “a heteroatom may be contained”. “Good” and “hydrocarbon group” have the same meaning as in R 1 . In addition, since “when n is 1, the solid and broken double lines are double bonds, and when n is 2, the solid and broken double lines are single bonds”. The hydrogen group becomes a hydrocarbon group having two bonding sites by a single bond, and the “trivalent” hydrocarbon group becomes a hydrocarbon group having two bonding sites by one double bond and one single bond. .
Examples of functional groups and linking groups contained in R 2 include ether groups (oxa groups, —O—), thioether groups (sulfide groups, —S—), fluoro groups (—F), chloro groups (—Cl), bromo groups. Group (—Br), iodo group (—I) and the like.
R 2 includes methylene group (—CH 2 —), ethylene group (—CH 2 CH 2 —), n-propylene group (—CH 2 CH 2 CH 2 —), i-propylene group (—CH (CH 3). ) CH 2 —), methylidyne group (methine group, ═CH—), ethylidin group (═C (CH 3 ) —) and the like.
R 3 in the formula (I) each independently represents “a carbon atom which may contain a hetero atom 1
-10 hydrocarbon group "or" hydrogen atom "," may contain a hetero atom "and" hydrocarbon group "have the same meaning as in R 1 .
The functional group and linking group contained when R 3 is a hydrocarbon group include a primary amino group (—
NH 2 ), secondary amino group (—NH—), imino group (═N—), ether group (oxa group,
-O-), thioether group (sulfide group, -S-), fluoro group (-F), chloro group (-Cl), bromo group (-Br), iodo group (-I) and the like.
R 3 includes a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), and an i-propyl group. (- i C 3 H 7, - i Pr), n- butyl (- n C 4 H 9, - n Bu), t- butyl (- t C 4 H 9, - t Bu), n- pentyl group (- n C 5 H 11) , n- hexyl group (- n C 6 H 13, - n Hex), cyclohexyl (- c C 6 H 11, -Cy), phenyl group (-C 6 H 5, -Ph), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5, -Bn), such as a hydrogen atom.
In addition, “the hydrocarbon groups of R 2 and R 3 may be linked to each other to form a cyclic structure”, but as a case where a cyclic structure is formed, a structure represented by the following formula is exemplified.

式(I)中のR4は、「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の2価の炭
化水素基」、又は「カルボニル基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はR1の場合と同義である。また、「2価の炭化水素基」は、単結合に
よる2つの結合部位を有する炭化水素基を意味する。
4が炭化水素基である場合に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基(オキサ
基,−O−)、チオエーテル基(スルフィド基,−S−)、フルオロ基(−F)、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)、ヨード基(−I)等が挙げられる。
4としては、カルボニル基(−C(=O)−)、メチレン基(−CH2−)、エチレン基(−CH2CH2−)、n−プロピレン基(−CH2CH2CH2−)、i−プロピレン基
(−CH(CH3)CH2−)、メチリジン基(メチン基、=CH−)、エチリジン基(=C(CH3)−)等が挙げられる。
式(I)中のR5は、「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の炭化水素
基」、又は「水素原子」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はR1の場合と同義である。
5が炭化水素基である場合に含まれる官能基や連結基としては、第一級アミノ基(−
NH2)、第二級アミノ基(−NH−)、イミノ基(=N−)、エーテル基(オキサ基,
−O−)、チオエーテル基(スルフィド基,−S−)、フルオロ基(−F)、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)、ヨード基(−I)等が挙げられる。
5としては、メチル基(−CH3,−Me)、エチル基(−C25,−Et)、n−プロピル基(−n37,−nPr)、i−プロピル基(−i37,−iPr)、n−ブチル基(−n49,−nBu)、t−ブチル基(−t49,−tBu)、n−ペンチル基(−n511)、n−ヘキシル基(−n613,−nHex)、シクロヘキシル基(−c611,−Cy)、フェニル基(−C65,−Ph)、ベンジル基(−CH265,−Bn)、p−ジメチルアミノフェニル基、水素原子等が挙げられる。
なお、「R4が炭化水素基である場合、R4とR5の炭化水素基が互いに連結して環状構
造を形成していてもよい」が、環状構造を形成している場合として、下記式で表される構造が挙げられる。
R 4 in formula (I) represents “a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a heteroatom” or “carbonyl group”. And “hydrocarbon group” have the same meaning as in R 1 . Further, the “divalent hydrocarbon group” means a hydrocarbon group having two bonding sites with a single bond.
Functional groups and linking groups included when R 4 is a hydrocarbon group include ether groups (oxa groups, —O—), thioether groups (sulfide groups, —S—), fluoro groups (—F), chloro Examples include a group (—Cl), a bromo group (—Br), an iodo group (—I) and the like.
R 4 includes carbonyl group (—C (═O) —), methylene group (—CH 2 —), ethylene group (—CH 2 CH 2 —), n-propylene group (—CH 2 CH 2 CH 2 —). ), I-propylene group (—CH (CH 3 ) CH 2 —), methylidine group (methine group, ═CH—), ethylidine group (═C (CH 3 ) —) and the like.
R 5 in formula (I) represents a “hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a heteroatom” or “hydrogen atom”. “Good” and “hydrocarbon group” have the same meaning as in R 1 .
The functional group and linking group contained when R 5 is a hydrocarbon group include a primary amino group (—
NH 2 ), secondary amino group (—NH—), imino group (═N—), ether group (oxa group,
-O-), thioether group (sulfide group, -S-), fluoro group (-F), chloro group (-Cl), bromo group (-Br), iodo group (-I) and the like.
R 5 includes a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), and an i-propyl group. (- i C 3 H 7, - i Pr), n- butyl (- n C 4 H 9, - n Bu), t- butyl (- t C 4 H 9, - t Bu), n- pentyl group (- n C 5 H 11) , n- hexyl group (- n C 6 H 13, - n Hex), cyclohexyl (- c C 6 H 11, -Cy), phenyl group (-C 6 H 5, -Ph), benzyl group (-CH 2 C 6 H 5, -Bn), p- dimethylaminophenyl group, such as a hydrogen atom.
In addition, “when R 4 is a hydrocarbon group, the hydrocarbon groups of R 4 and R 5 may be linked to each other to form a cyclic structure”, Examples include a structure represented by the formula.

式(I)で表されるイリジウム錯体の配位子(ジアミンアニオン)としては、下記式で表されるものが好ましい。
As the ligand (diamine anion) of the iridium complex represented by the formula (I), those represented by the following formula are preferred.

式(I)で表されるイリジウム錯体としては、下記式で表されるものが挙げられる。
Examples of the iridium complex represented by the formula (I) include those represented by the following formula.

式(I)で表されるイリジウム錯体は、酸化数+3のイリジウム原子(Ir)を中心金属とする錯イオンであるが、式(I)で表されるイリジウム錯体は、式(I)で表されるイリジウム錯体を含む錯塩を直接反応器に投入するほか、例えば下記式で表される反応のように、式(I)で表されるイリジウム錯体の前駆体と、この前駆体と反応して式(I)で表されるイリジウム錯体を形成する塩(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸銀)を反応器内に投入して、反応器内で式(I)で表されるイリジウム錯体を形成してもよい。
The iridium complex represented by the formula (I) is a complex ion having an iridium atom (Ir) having an oxidation number of +3 as a central metal, whereas the iridium complex represented by the formula (I) is represented by the formula (I). In addition to directly adding a complex salt containing an iridium complex to the reactor, the iridium complex precursor represented by the formula (I) is reacted with this precursor, for example, as in the reaction represented by the following formula: A salt that forms an iridium complex represented by the formula (I) (for example, silver trifluoromethanesulfonate) is charged into the reactor to form an iridium complex represented by the formula (I) in the reactor. Also good.

式(I)で表されるイリジウム錯体の対イオン(アニオン)としては、トリフラートアニオン(TfO-)が挙げられる。
式(I)で表されるイリジウム錯体の前駆体としては、下記式(I’)で表されるイリジウム錯体が挙げられる。
(式(I’)中、R1、R2、R、R4、R5、m、nは前述のものと同一であり、Xはハロゲン原子を表す。)
式(I)で表されるイリジウム錯体を形成するための塩としては、トリフルオロメタンスルホン酸塩が挙げられ、トリフルオロメタンスルホン酸塩の陽イオンとしては、リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)等のアルカリ
金属、マグネシウムイオン(Mg2+)、カルシウムイオン(Ca2+)等のアルカリ土類金属イオン、及び銀イオン(Ag+)が挙げられる。この中でも、リチウムが好ましい。
トリフルオロメタンスルホン酸塩としては、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸カリウム、トリフルオロメタンスルホン酸マグネシウム、トリフルオロメタンスルホン酸カルシウム、及びトリフルオロメタンスルホン酸銀が挙げられる。この中でも、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムが好ましい。
Examples of the counter ion (anion) of the iridium complex represented by the formula (I) include a triflate anion (TfO ).
Examples of the precursor of the iridium complex represented by the formula (I) include an iridium complex represented by the following formula (I ′).
(In the formula (I ′), R 1 , R 2 , R, R 4 , R 5 , m and n are the same as those described above, and X represents a halogen atom.)
Examples of the salt for forming the iridium complex represented by the formula (I) include trifluoromethanesulfonate, and examples of the cation of the trifluoromethanesulfonate include lithium ion (Li + ) and sodium ion (Na + ), Alkali metals such as potassium ions (K + ), alkaline earth metal ions such as magnesium ions (Mg 2+ ) and calcium ions (Ca 2+ ), and silver ions (Ag + ). Among these, lithium is preferable.
Examples of the trifluoromethanesulfonate include lithium trifluoromethanesulfonate, sodium trifluoromethanesulfonate, potassium trifluoromethanesulfonate, magnesium trifluoromethanesulfonate, calcium trifluoromethanesulfonate, and silver trifluoromethanesulfonate. Among these, lithium trifluoromethanesulfonate is preferable.

反応器内で式(I)で表されるイリジウム錯体を形成する場合、式(I)で表されるイリジウム錯体を形成するための塩の使用量(仕込量)は、式(a)で表される構造を有するシランに対して物質量換算で、通常3mol%以上、好ましくは5mol%以上、特に好ましくは10mol%以上であり、通常30mol%以下である。
反応器内で式(I)で表されるイリジウム錯体を形成する場合、式(I)で表されるイリジウム錯体を形成するための塩の使用量(仕込量)は、式(I)で表されるイリジウム錯体の前駆体に対して物質量換算で、通常0.1当量以上、好ましくは0.5当量以上、特に好ましくは1.0当量以上であり、通常3.0当量以下、より好ましくは1.5当量以下である。
上記範囲内であると、ヒドロシランをより収率良く製造することができる。
When the iridium complex represented by the formula (I) is formed in the reactor, the amount of salt used (formation amount) for forming the iridium complex represented by the formula (I) is represented by the formula (a). The amount is usually 3 mol% or more, preferably 5 mol% or more, particularly preferably 10 mol% or more, and usually 30 mol% or less in terms of the amount of the substance with respect to the silane having the structure.
When the iridium complex represented by the formula (I) is formed in the reactor, the amount of salt used (formation amount) for forming the iridium complex represented by the formula (I) is represented by the formula (I). The amount of the iridium complex precursor is usually 0.1 equivalents or more, preferably 0.5 equivalents or more, particularly preferably 1.0 equivalents or more, usually 3.0 equivalents or less, more preferably in terms of the amount of substance. Is 1.5 equivalents or less.
Within the above range, hydrosilane can be produced with higher yield.

水素化工程における式(I)で表されるイリジウム錯体の使用量(仕込量)は、式(a)で表される構造を有するシランに対して物質量換算で、通常3mol%以上、好ましくは5mol%以上、特に好ましくは10mol%以上であり、通常40mol%以下、好
ましくは20mol%以下である。上記範囲内であると、ヒドロシランをより収率良く製造することができる。
The amount of use of the iridium complex represented by the formula (I) in the hydrogenation step (charge amount) is usually 3 mol% or more, preferably 3 mol% or more in terms of the amount of the silane having the structure represented by the formula (a), preferably It is 5 mol% or more, particularly preferably 10 mol% or more, and is usually 40 mol% or less, preferably 20 mol% or less. Within the above range, hydrosilane can be produced with higher yield.

有機塩基としては、下記式(II−1)で表されるアミン、下記式(ii−1)で表される構造を有する化合物、下記式(ii−2)で表される構造を有する化合物が挙げられる。なお、式(ii−1)及び式(ii−2)中の波線は、その先の構造が任意であることを意味するものであるが、具体的には環状構造を形成していてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基が挙げられる。
(式(II−1)中、R6はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数1〜10の炭化
水素基を表す。)
Examples of the organic base include an amine represented by the following formula (II-1), a compound having a structure represented by the following formula (ii-1), and a compound having a structure represented by the following formula (ii-2). Can be mentioned. In addition, although the wavy line in formula (ii-1) and formula (ii-2) means that the structure ahead is arbitrary, you may form the cyclic structure specifically. Examples thereof include hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms.
(In formula (II-1), each R 6 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)

具体的な有機塩基としては、下記式で表されるもの(トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、N,N−ジイソプロピルアミン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]
ノン−5−エン(DBN)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4,4,0]デカ−5−エン(MTBD)、1,5,7−トリアザビシクロ[4,4,0]デカ−5−エン(TBD)等)が挙げられる。
Specific examples of the organic base include those represented by the following formula (triethylamine, tri-n-propylamine, N, N-diisopropylamine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0].
Non-5-ene (DBN), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4,4,0] Deca-5-ene (MTBD), 1,5,7-triazabicyclo [4,4,0] dec-5-ene (TBD) and the like).

水素化工程における有機塩基の使用量(仕込量)は、式(a)で表される構造を有するシランに対して、通常0.1当量以上、好ましくは1.0当量以上であり、通常5.0当
量以下、好ましくは2.5当量以下、より好ましくは2当量以下、特に好ましくは1.5
当量以下である。上記範囲内であると、ヒドロシランをより収率良く製造することができる。
The amount of organic base used (charged amount) in the hydrogenation step is usually 0.1 equivalents or more, preferably 1.0 equivalents or more, usually 5 equivalents or more with respect to the silane having the structure represented by formula (a). 0.0 equivalents or less, preferably 2.5 equivalents or less, more preferably 2 equivalents or less, particularly preferably 1.5 equivalents or less.
It is below the equivalent. Within the above range, hydrosilane can be produced with higher yield.

式(a)中のLは、「塩素原子」、「臭素原子」、「ヨウ素原子」、又は「式(s)で表される基」を、式(s)中のRは、「窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」はR1
場合と同義である。また、「窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子が、窒素原子、酸素原子、ハロゲン原子等を含む1価の官能基で置換されていてもよいほか、炭化水素基の炭素骨格内部の炭素原子が窒素原子、酸素原子、ハロゲン原子等を含む2価以上の官能基(連結基)で置換されていてもよいことを意味する。
Rに含まれる官能基や連結基としては、フルオロ基(−F)、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)、ヨード基(−I)、ニトロ基(−NO2)等が挙げられる。
Rとしては、メチル基(−CH3,−Me)、エチル基(−C25,−Et)、n−プ
ロピル基(−n37,−nPr)、i−プロピル基(−i37,−iPr)、n−ブチル基(−n49,−nBu)、t−ブチル基(−t49,−tBu)、n−ペンチル基(−n511)、n−ヘキシル基(−n613,−nHex)、シクロヘキシル基(−c611,−Cy)、フェニル基(−C65,−Ph)、ベンジル基(−CH265,−Bn)、トリフルオロメチル基(−CF3)、トリル基(−C64CH3、o−、m−、又はp−)、2−ニトロフェニル基(−C64NO2)等が挙げられる。
Lとしては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、下記式で表される構造(メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基(−OTf)、p−トルエンスルホニルオキシ基(−OTs)、2−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基(−ONs))が挙げられる。この中でも、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基が特に好ましい。
L in the formula (a) is “chlorine atom”, “bromine atom”, “iodine atom” or “group represented by the formula (s)”, and R in the formula (s) is “nitrogen atom” Represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain an oxygen atom and a halogen atom, and the “hydrocarbon group” has the same meaning as in R 1 . Further, “may contain a nitrogen atom, an oxygen atom, and a halogen atom” means that a hydrogen atom of a hydrocarbon group is substituted with a monovalent functional group containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a halogen atom, or the like. In addition, it means that the carbon atom in the carbon skeleton of the hydrocarbon group may be substituted with a divalent or higher functional group (linking group) containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a halogen atom, or the like.
Examples of the functional group and linking group contained in R include a fluoro group (—F), a chloro group (—Cl), a bromo group (—Br), an iodo group (—I), and a nitro group (—NO 2 ). It is done.
R includes a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), an i-propyl group ( - i C 3 H 7, - i Pr), n- butyl (- n C 4 H 9, - n Bu), t- butyl (- t C 4 H 9, - t Bu), n- pentyl group (- n C 5 H 11) , n- hexyl group (- n C 6 H 13, - n Hex), cyclohexyl (- c C 6 H 11, -Cy), phenyl group (-C 6 H 5, - Ph), benzyl (-CH 2 C 6 H 5, -Bn), trifluoromethyl group (-CF 3), tolyl group (-C 6 H 4 CH 3, o-, m-, or p-), 2-nitrophenyl group (-C 6 H 4 NO 2), and the like.
As L, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a structure represented by the following formula (methanesulfonyloxy group, trifluoromethanesulfonyloxy group (-OTf), p-toluenesulfonyloxy group (-OTs), 2-nitrobenzene A sulfonyloxy group (-ONs)). Among these, an iodine atom and a trifluoromethanesulfonyloxy group are particularly preferable.

式(a)で表される構造を有するシランとしては、下記式(A−1)〜(A−4)の何れかで表されるシランが挙げられる。
(式(A−1)〜(A−3)中、R’はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基、又は水素原子を、Lはそれぞれ独立して塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は式(s)で表される基を表す。)
式(A−1)〜(A−3)中、R’は、それぞれ独立して「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基」、又は「水素原子」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はR1の場合と同義である。
R’が炭化水素基である場合に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基(オキサ基,−O−)、チオエーテル基(スルフィド基,−S−)、フルオロ基(−F)、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)、ヨード基(−I)等が挙げられる。
R’としては、メチル基(−CH3,−Me)、エチル基(−C25,−Et)、n−
プロピル基(−n37,−nPr)、i−プロピル基(−i37,−iPr)、n−ブチル基(−n49,−nBu)、t−ブチル基(−t49,−tBu)、n−ペンチル基(−n511)、n−ヘキシル基(−n613,−nHex)、シクロヘキシル基(−c6
11,−Cy)、フェニル基(−C65,−Ph)、ベンジル基(−CH265,−B
n)、水素原子等が挙げられる。
式(A−1)〜(A−4)の何れかで表されるシランとしては、下記式で表される化合物が挙げられる。
Examples of the silane having a structure represented by the formula (a) include silanes represented by any of the following formulas (A-1) to (A-4).
(In formulas (A-1) to (A-3), R ′ is independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a hydrogen atom, and L is independently A chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a group represented by the formula (s).
In formulas (A-1) to (A-3), R ′ each independently represents a “hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom” or “hydrogen atom”. However, “may contain a heteroatom” and “hydrocarbon group” have the same meaning as in R 1 .
Functional groups and linking groups included when R ′ is a hydrocarbon group include ether groups (oxa groups, —O—), thioether groups (sulfide groups, —S—), fluoro groups (—F), chloro Examples include a group (—Cl), a bromo group (—Br), an iodo group (—I) and the like.
R ′ includes a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), n—
Propyl (- n C 3 H 7, - n Pr), i- propyl (- i C 3 H 7, - i Pr), n- butyl (- n C 4 H 9, - n Bu), t - butyl (- t C 4 H 9, - t Bu), n- pentyl (- n C 5 H 11) , n- hexyl group (- n C 6 H 13, - n Hex), cyclohexyl group (- c C 6
H 11, -Cy), phenyl group (-C 6 H 5, -Ph) , benzyl group (-CH 2 C 6 H 5, -B
n), hydrogen atoms and the like.
Examples of the silane represented by any one of formulas (A-1) to (A-4) include compounds represented by the following formula.

水素は、通常系中の気相に水素ガスとして投入される。水素化工程における水素分圧は、通常1気圧以上、好ましくは4気圧以上であり、通常50気圧以下、好ましくは10気圧以下である。上記範囲内であると、ヒドロシランをより収率良く製造することができる。   Hydrogen is usually charged as hydrogen gas into the gas phase in the system. The hydrogen partial pressure in the hydrogenation step is usually 1 atmosphere or more, preferably 4 atmospheres or more, and usually 50 atmospheres or less, preferably 10 atmospheres or less. Within the above range, hydrosilane can be produced with higher yield.

水素化工程は、溶媒を使用することが好ましい。また、溶媒の種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、具体的にはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル系溶媒、N−メチルピロリドン等が挙げられる。   In the hydrogenation step, it is preferable to use a solvent. The type of the solvent is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Specifically, it is a hydrocarbon solvent such as hexane, benzene, and toluene, and an ether type such as diethyl ether and tetrahydrofuran (THF). A solvent, N-methylpyrrolidone, etc. are mentioned.

水素化工程の反応温度は、通常25℃以上、好ましくは40℃以上、特に好ましくは60℃以上であり、通常180℃以下、好ましくは150℃以下、より好ましくは120℃以下、特に好ましくは90度以下である。
水素化工程の反応時間は、通常1時間以上、好ましくは12時間以上、より好ましくは24時間以上であり、通常72時間以下である。
上記範囲内であると、ヒドロシランをより収率良く製造することができる。
The reaction temperature in the hydrogenation step is usually 25 ° C. or higher, preferably 40 ° C. or higher, particularly preferably 60 ° C. or higher, and is usually 180 ° C. or lower, preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, particularly preferably 90 ° C. Less than or equal to degrees.
The reaction time of the hydrogenation step is usually 1 hour or longer, preferably 12 hours or longer, more preferably 24 hours or longer, and usually 72 hours or shorter.
Within the above range, hydrosilane can be produced with higher yield.

水素化工程によって生成する式(b)で表される構造を有するヒドロシランの具体的種類は、特に限定されず、製造目的に応じて適宜選択することができるが、下記式(B−1)〜(B−10)の何れかで表されるヒドロシランが挙げられる。
(式(B−1)〜(B−10)中、R’はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基を、Lは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は式(s)で表される基を表す。)
なお、R’、Lは、式(A−1)〜(A−4)の何れかで表されるシランの場合と同様である。
The specific kind of hydrosilane having a structure represented by the formula (b) generated by the hydrogenation step is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the production purpose. Hydrosilane represented by any of (B-10) is mentioned.
(In the formulas (B-1) to (B-10), R ′ each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, L represents a chlorine atom, a bromine atom, Represents an iodine atom or a group represented by the formula (s).)
R ′ and L are the same as in the case of silane represented by any one of formulas (A-1) to (A-4).

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention can be modified as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Accordingly, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

<実施例1〜6>
J.Youngバルブ付きNMR試料管に、下記式で表されるChloro[N−[4−(dimethylamino)phenyl]−2−pyridinecarboxamidato](pentamethylcyclopentadienyl)iri
dium(3.6mg,0.006mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム(0.9mg,0.006mmol)、及び1,4−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(6.7mg,0.03mmol)の重ベンゼン溶液(0.5mL)を調製し、ジイソプロピルエチルアミン(8.5mg,11.5μL,0.066mmol)と下記表1に記載のシランを0.060mmolを加えた。NMR管を凍結脱気後、水素(4気圧)を導入し、温度60℃で48時間反応を行った。1H,29SiNMR測定から対応するヒドロ
シラン化合物が生成することを確認した。それぞれの収率を表1に示す。
<Examples 1-6>
J. et al. Chloro [N- [4- (dimethylamino) phenyl] -2-pyridinecarboxamidato] (pentamethylcyclopentadienyl) iri represented by the following formula in an NMR sample tube with a Young valve.
A heavy benzene solution of dium (3.6 mg, 0.006 mmol), lithium trifluoromethanesulfonate (0.9 mg, 0.006 mmol), and 1,4-bis (trimethylsilyl) benzene (6.7 mg, 0.03 mmol) ( 0.5 mL) was prepared, and 0.060 mmol of diisopropylethylamine (8.5 mg, 11.5 μL, 0.066 mmol) and the silane described in Table 1 below were added. After freezing and degassing the NMR tube, hydrogen (4 atm) was introduced, and the reaction was performed at a temperature of 60 ° C. for 48 hours. From the 1 H, 29 Si NMR measurement, it was confirmed that the corresponding hydrosilane compound was formed. The respective yields are shown in Table 1.

<実施例7〜10>
J.Youngバルブ付きNMR試料管に、Chloro[N−[4−(dimethylamino)phenyl]−2−pyridinecarboxamidato](pentamethylcyclopentadienyl)iridium(3.6mg,0.006mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム(0.9mg,0.006mmol)、及び1,4−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(6.7mg,0.03mmol)の重ベンゼン溶液(0.5mL)を調製し、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)(10mg,10μL,0.066mmol)と下記表2に記載のシランを0.060mmolを加えた。NMR管を凍結脱気後、水素(4気圧)を導入し、温度60℃で48時間反応を行った。1H,29SiNMR測定か
ら対応するヒドロシラン化合物が生成することを確認した。それぞれの収率を表2に示す。
<Examples 7 to 10>
J. et al. An NMR sample tube equipped with a Young valve was charged with Chloro [N- [4- (dimethylamino) phenyl] -2-pyridinecarboxamidato] (pentamethylcyclopentadienyl) iridium (3.6 mg, 0.006 mmol), lithium trifluoromethanesulfonate (0.9 mg, 0.9 mg). .006 mmol) and 1,4-bis (trimethylsilyl) benzene (6.7 mg, 0.03 mmol) in a heavy benzene solution (0.5 mL) were prepared, and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca- 7-ene (DBU) (10 mg, 10 μL, 0.066 mmol) and 0.060 mmol of silane described in Table 2 below were added. After freezing and degassing the NMR tube, hydrogen (4 atm) was introduced, and the reaction was performed at a temperature of 60 ° C. for 48 hours. From the 1 H, 29 Si NMR measurement, it was confirmed that the corresponding hydrosilane compound was formed. The respective yields are shown in Table 2.

<実施例11>
ヨウ化ナトリウム(0.66mmol)の重ベンゼン−THF[0.5mL(3:2)]懸濁液に対してトリメチルクロロシラン(0.060mmol)を加えて、2時間室温で撹拌した。別途J.Youngバルブ付きNMR試料管に、Chloro[N−[4−(dimethylamino)phenyl]−2−pyridinecarboxamidato](pentamethylcyclopentadienyl)iridium(3.6mg,0.006mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム(0.9mg,0.006mmol)、1,4−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(6.7mg,0.03mmol)、及びジイソプロピルエチルアミン(8.5mg,11.5μL,0.066mmol)を量り取り、先に調製したトリメチルクロロシランを含む懸濁液を加えた。NMR管を凍結脱気後、水素(4気圧)を導入し、反応温度60℃で48時間反応させた。1H,29SiNMR測定からトリメチルヒドロシランが収率71%で生
成することを確認した。
ヨウ化ナトリウムで前処理することにより、クロロシランの水素化において、反応収率が向上した。
<Example 11>
Trimethylchlorosilane (0.060 mmol) was added to a suspension of sodium iodide (0.66 mmol) in deuterated benzene-THF [0.5 mL (3: 2)] and stirred at room temperature for 2 hours. Separately, J.H. An NMR sample tube equipped with a Young valve was charged with Chloro [N- [4- (dimethylamino) phenyl] -2-pyridinecarboxamidato] (pentamethylcyclopentadienyl) iridium (3.6 mg, 0.006 mmol), lithium trifluoromethanesulfonate (0.9 mg, 0.9 mg). .006 mmol), 1,4-bis (trimethylsilyl) benzene (6.7 mg, 0.03 mmol), and diisopropylethylamine (8.5 mg, 11.5 μL, 0.066 mmol), and trimethylchlorosilane prepared above was measured. The suspension containing was added. After freezing and degassing the NMR tube, hydrogen (4 atm) was introduced, and the reaction was carried out at a reaction temperature of 60 ° C. for 48 hours. From 1 H, 29 Si NMR measurement, it was confirmed that trimethylhydrosilane was produced in a yield of 71%.
Pretreatment with sodium iodide improved the reaction yield in the hydrogenation of chlorosilane.

<合成例:式(I)で表されるイリジウム錯体の調製>
シュレンク管に、Chloro[N−[4−(dimethylamino)phenyl]−2−pyridinecarboxamidato](pentamethyl
cyclopentadienyl)iridium(250mg,0.37mmol)、及びトリフルオロメタンスルホン酸銀(95.1mg,0.37mmol)を入れ、ジクロロメタン−アセトニトリル(17mL、15:2)混合溶媒にて室温、1時間攪拌を
行った。この際、白色沈殿の発生を確認した。この懸濁液をセライトろ過し、ろ液を減圧下にて乾固した。この黄色粉末を、ジクロロメタン−ヘキサン(20mL、5:1)混合溶媒に溶解させ、再度セライトろ過を行った。これを3時間減圧乾燥することで、[N−[4−(dimethylamino)phenyl]−2−pyridinecarboxamidato](pentamethylcyclopentadienyl)iridium trifluorometanesulfonateを226.1mg、
収率88%で得た。
1H NMR (600MHz, C6D6-CH2Cl2) δ 8.89 (dd, 1H, J= 6.2 Hz, 3.2 Hz, pyridyl), 7.93 (dd, 1H, J = 6.2 Hz, 3.2 Hz, pyridyl), 7.36 (dd, 2H, J= 8.2 Hz, 1.8 Hz, phenyl), 7.30-7.26 (m, 2H, pyridyl), 6.66 (dd, 2H, J= 8.2 Hz, 1.6 Hz, phenyl), 2.67 (s,
6H, -NMe2), 1.09 (s, 15H, C5Me5) ppm.
<Synthesis Example: Preparation of Iridium Complex Represented by Formula (I)>
The Schlenk tube has Chloro [N- [4- (dimethylamino) phenyl] -2-pyridinecarboxamito] (pentamethyl).
Cyclopentadienyl) iridium (250 mg, 0.37 mmol) and silver trifluoromethanesulfonate (95.1 mg, 0.37 mmol) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour in a dichloromethane-acetonitrile (17 mL, 15: 2) mixed solvent. It was. At this time, generation of white precipitate was confirmed. This suspension was filtered through Celite, and the filtrate was dried under reduced pressure. This yellow powder was dissolved in a mixed solvent of dichloromethane-hexane (20 mL, 5: 1), and celite filtration was performed again. By drying this under reduced pressure for 3 hours, [N- [4- (dimethylamino) phenyl] -2-pyridinecarboxamidate] (pentamethylcyclopentadienyl) iridium trifluorometasulfonate is 226.1 mg,
The yield was 88%.
1 H NMR (600MHz, C 6 D 6 -CH 2 Cl 2 ) δ 8.89 (dd, 1H, J = 6.2 Hz, 3.2 Hz, pyridyl), 7.93 (dd, 1H, J = 6.2 Hz, 3.2 Hz, pyridyl) , 7.36 (dd, 2H, J = 8.2 Hz, 1.8 Hz, phenyl), 7.30-7.26 (m, 2H, pyridyl), 6.66 (dd, 2H, J = 8.2 Hz, 1.6 Hz, phenyl), 2.67 (s,
6H, -NMe 2 ), 1.09 (s, 15H, C 5 Me 5 ) ppm.

<実施例12〜16>
J.Youngバルブ付きNMR試料管に、下記式で表される[N−[4−(dimethylamino)phenyl]−2−pyridinecarboxamidato](pentamethylcyclopentadienyl)iridium t
rifluorometanesulfonate(4.3mg,0.006mmol)、及び1,4−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(6.7mg,0.03mmol)の重ベンゼン溶液(0.5mL)を調製し、ジイソプロピルエチルアミン(8.5mg,11.5μL,0.066mmol)と下記表3に記載のシランを0.060mmolを加えた。NMR管を凍結脱気後、水素(4気圧)を導入し、温度60℃で48時間反応を行った。1H,29SiNMR測定から対応するヒドロシラン化合物が生成することを確認し
た。それぞれの収率を表3に示す。
<Examples 12 to 16>
J. et al. [N- [4- (dimethylamino) phenyl] -2-pyridinecarboxamidate] (pentamethylcyclopentadienyl) iridium t represented by the following formula on an NMR sample tube with a Young valve.
A benzene solution (0.5 mL) of rifluorometanesulfonate (4.3 mg, 0.006 mmol) and 1,4-bis (trimethylsilyl) benzene (6.7 mg, 0.03 mmol) was prepared, and diisopropylethylamine (8.5 mg, 11.5 μL, 0.066 mmol) and 0.060 mmol of silane described in Table 3 below were added. After freezing and degassing the NMR tube, hydrogen (4 atm) was introduced, and the reaction was performed at a temperature of 60 ° C. for 48 hours. From the 1 H, 29 Si NMR measurement, it was confirmed that the corresponding hydrosilane compound was formed. The respective yields are shown in Table 3.

<実施例17〜18>
[N−[4−(dimethylamino)phenyl]−2−pyridinecarboxamidato](pentamethylcyclopentadienyl)iridium trifluorometanesulfonate(4.3mg,0.006mmol)、及び1,4−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(6.7mg,0.03mmol)の重ベンゼン溶液(0.5mL)を調製し、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)(10mg,10μL,0.066mmol)と下記表4に記載のシランを0.060mmolを加えた。NMR管を凍結脱気後、水素(4気圧)を導入し、温度60℃で48時間反応を行った。1H,29SiNMR
測定から対応するヒドロシラン化合物が生成することを確認した。それぞれの収率を表4
に示す。
<Examples 17-18>
[N- [4- (dimethylamino) phenyl] -2-pyridinecarbboxamito] (pentamethylcyclopentadienyl) iridium trifluoroethanesulfonate (4.3 mg, 0.006 mmol), 1,4-bis (trimethylsilyl), 0.03 A heavy benzene solution (0.5 mL) was prepared, and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU) (10 mg, 10 μL, 0.066 mmol) and the silane described in Table 4 below were prepared. 0.060 mmol was added. After freezing and degassing the NMR tube, hydrogen (4 atm) was introduced, and the reaction was performed at a temperature of 60 ° C. for 48 hours. 1 H, 29 Si NMR
From the measurement, it was confirmed that the corresponding hydrosilane compound was produced. Table 4 shows the yield of each.
Shown in

<実施例19>
ヨウ化ナトリウム(0.66mmol)の重ベンゼン−THF[0.5mL(3:2)]懸濁液に対してトリメチルクロロシラン(0.060mmol)を加えて、2時間室温で撹拌した。別途J.Youngバルブ付きNMR試料管に、[N−[4−(dimethylamino)phenyl]−2−pyridinecarboxamidato](pentamethylcyclopentadienyl)iridium trifluorometanesulfonate(2.2mg,0.003mmol)、1,4−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(6.7mg,0.03mmol)、及びジイソプロピルエチルアミン(8.5mg,11.5μL,0.066mmol)を量り取り、先に調製したトリメチルクロロシランを含む懸濁液を加えた。NMR管を凍結脱気後、水素(4気圧)を導入し、反応温度60℃で48時間反応させた。1H,29SiNMR
測定からトリメチルヒドロシランが収率67%で生成することを確認した。
ヨウ化ナトリウムで前処理することにより、クロロシランの水素化において、反応収率が向上した。
<Example 19>
Trimethylchlorosilane (0.060 mmol) was added to a suspension of sodium iodide (0.66 mmol) in deuterated benzene-THF [0.5 mL (3: 2)] and stirred at room temperature for 2 hours. Separately, J.H. In a NMR sample tube with a Young valve, [N- [4- (dimethylamino) phenyl] -2-pyridinecarboxamidato] (pentamethylcyclopentadienyl) iridium trifluorethansulfonate (2.2 mg, 0.003 mmol, benzene, trimethyl (trifluoroacetate), 2.2 mg, 0.003 mmol) 0.7 mg, 0.03 mmol) and diisopropylethylamine (8.5 mg, 11.5 μL, 0.066 mmol) were weighed and the suspension containing trimethylchlorosilane prepared above was added. After freezing and degassing the NMR tube, hydrogen (4 atm) was introduced, and the reaction was carried out at a reaction temperature of 60 ° C. for 48 hours. 1 H, 29 Si NMR
From the measurement, it was confirmed that trimethylhydrosilane was produced with a yield of 67%.
Pretreatment with sodium iodide improved the reaction yield in the hydrogenation of chlorosilane.

本発明の製造方法によって製造されたヒドロシランは、有機無機ハイブリット素材や機能性有機分子等の製造に利用することができる。   The hydrosilane produced by the production method of the present invention can be used for producing organic / inorganic hybrid materials, functional organic molecules, and the like.

Claims (2)

下記式(I)で表されるイリジウム錯体及び有機塩基の存在下、下記式(a)で表される構造を有するシランと水素を反応させて下記式(b)で表される構造を有するヒドロシランを生成する水素化工程を含むことを特徴とするヒドロシランの製造方法。
(式(I)中、R1はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜1
0の炭化水素基を、R2はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の2価又は
3価の炭化水素基を、R3はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数
1〜10の炭化水素基、又は水素原子を、R4はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子
数1〜10の2価の炭化水素基、又はカルボニル基を、R5はヘテロ原子を含んでいても
よい炭素原子数1〜10の炭化水素基、又は水素原子を、mは0〜5の整数を、nは1又は2を、実線と破線の二重線は単結合又は二重結合を、Ir−N間の破線は配位結合を表す。但し、mが2以上である場合、R1の2以上の炭化水素基が互いに連結して環状構造
を形成していてもよく、nが1の場合、実線と破線の二重線は二重結合であり、nが2の場合、実線と破線の二重線は単結合であり、R2とR3の炭化水素基が互いに連結して環状構造を形成していてもよく、R4が炭化水素基である場合、R4とR5の炭化水素基が互い
に連結して環状構造を形成していてもよい。)
(式(a)中、Lは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は下記式(s)で表される基を表す。)
(式(s)中、Rは窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜10の炭化水素基を表す。)
Hydrosilane having a structure represented by the following formula (b) by reacting a silane having a structure represented by the following formula (a) with hydrogen in the presence of an iridium complex represented by the following formula (I) and an organic base. A method for producing hydrosilane, comprising a hydrogenation step of producing
(Formula (in I), R 1 each independently carbon atoms which may contain a hetero atom 1-1
A hydrocarbon group of 0, R 2 may be a divalent or trivalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, and R 3 may independently contain a hetero atom. R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom, R 4 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a carbonyl group, R 5 is A hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a hydrogen atom, m is an integer of 0 to 5, n is 1 or 2, and a double line of a solid line and a broken line is a single bond Or a double bond and the broken line between Ir-N represent a coordination bond. However, when m is 2 or more, two or more hydrocarbon groups of R 1 may be connected to each other to form a cyclic structure. When n is 1, the double line of the solid line and the broken line is double a bond, if n is 2, a solid line and a dashed double line is a single bond, may form a cyclic structure linked hydrocarbon group of R 2 and R 3 together, R 4 is When it is a hydrocarbon group, the hydrocarbon groups of R 4 and R 5 may be linked to each other to form a cyclic structure. )
(In the formula (a), L represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a group represented by the following formula (s).)
(In formula (s), R represents a C1-C10 hydrocarbon group which may contain a nitrogen atom, an oxygen atom, and a halogen atom.)
前記有機塩基が、下記式(II−1)で表されるアミン、下記式(ii−1)で表される構造を有する化合物、及び下記式(ii−2)で表される構造を有する化合物からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1に記載のヒドロシランの製造方法。
(式(II−1)中、R6はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数1〜10の炭化
水素基を表す。)
The organic base is an amine represented by the following formula (II-1), a compound having a structure represented by the following formula (ii-1), and a compound having a structure represented by the following formula (ii-2) The method for producing hydrosilane according to claim 1, which is at least one selected from the group consisting of:
(In formula (II-1), each R 6 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
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