JP2018107418A - Light-emitting device - Google Patents

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泰気 湯浅
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device which enables the suppression of color shift according to an angle at the time of visual recognition.SOLUTION: The present invention relates to a light-emitting device comprising: a light-emitting element 20 having an emission face and emitting light first light having an emission peak wavelength in a range of 380 nm or more and 430 nm or less; a phosphor layer 30 disposed on the emission face of the light-emitting element 20, and containing a phosphor which is excited by the first light and emits second light longer, in wavelength, than the first light; and a reflective film 40 provided on the phosphor layer 30, reflecting the first light, and allowing the second light to pass therethrough. According to reflection spectra of the reflective film 40, the reflective film 40 is 40% or more in reflectance to light in a range of 380 nm or more and 430 nm or less when an incident angle of the first light incident on the reflective film 40 is 0° to 85°.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、発光装置に関する。   The present invention relates to a light emitting device.

発光ダイオード(Light emitting diode:LED)を使用した発光装置は、ディスプレイ、警告灯、表示灯、照明灯として広く使用されている。
例えば、青色に発光する青色発光ダイオードと、青色発光ダイオードからの光を赤色に変換する蛍光体と、によって赤色に発光する自動車のテールランプ及びブレーキランプを形成する照明が知られている(例えば、特許文献1,2参照)。
Light emitting devices using light emitting diodes (LEDs) are widely used as displays, warning lights, indicator lights, and illumination lights.
For example, illumination that forms a tail lamp and a brake lamp of an automobile that emits red light by a blue light emitting diode that emits blue light and a phosphor that converts light from the blue light emitting diode into red is known (for example, patents). References 1 and 2).

特開2015−88220号公報JP-A-2015-88220 特開2015−88483号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-88483

しかしながら、特許文献1及び2に開示された発光装置は、発光装置を視認する角度によっては赤色光の色ずれを生じるおそれがある。   However, the light emitting devices disclosed in Patent Documents 1 and 2 may cause a color shift of red light depending on the angle at which the light emitting device is viewed.

そこで、本実施形態に係る発光装置は、視認する角度による色ずれを抑制できる発光装置を提供することを目的とする。   Therefore, the light emitting device according to the present embodiment aims to provide a light emitting device that can suppress a color shift due to a viewing angle.

本実施形態に係る発光装置は、380nm以上430nm以下に発光ピーク波長を持つ第1の光を発光する、発光面を持つ発光素子と、前記発光素子の発光面上に配置され、前記第1の光によって励起されて前記第1の光より長波長の第2の光を発光する蛍光体を含有する蛍光体層と、前記蛍光体層上に設けられ、前記第1の光を反射し、かつ前記第2の光を透過する反射膜と、を有し、前記反射膜の反射スペクトルにおいて、前記反射膜は、前記反射膜に対する前記第1の光の入射角が0°から85°における380nm以上430nm以下の光の反射率が40%以上である。   The light emitting device according to the present embodiment is arranged on the light emitting surface of the light emitting element, the light emitting element having a light emitting surface that emits first light having an emission peak wavelength of 380 nm to 430 nm, and the first light emitting device. A phosphor layer containing a phosphor that is excited by light and emits second light having a longer wavelength than the first light, and is provided on the phosphor layer, reflects the first light, and A reflection film that transmits the second light, and in the reflection spectrum of the reflection film, the reflection film has an incident angle of the first light with respect to the reflection film of 380 nm or more at 0 ° to 85 ° The reflectance of light of 430 nm or less is 40% or more.

また、別の観点における本実施形態に係る発光装置は、380nm以上430nm以下に発光ピーク波長を持つ第1の光を発光する、第1半導体層、活性層、第2半導体層の順に積層された発光素子と、前記発光素子上に配置され、前記第1の光によって励起されて前記第1の光より長波長の第2の光を発光する蛍光体を含有する蛍光体層と、前記蛍光体層上に設けられ、前記第1の光を反射し、かつ前記第2の光を透過する反射膜と、を有し、前記発光素子の平面視において前記活性層の中心を基準として、前記反射膜方向に−85°から+85°の範囲における380nm以上430nm以下の光の反射率が40%以上である。   In another aspect, the light emitting device according to this embodiment is formed by sequentially stacking a first semiconductor layer, an active layer, and a second semiconductor layer that emits first light having an emission peak wavelength of 380 nm to 430 nm. A phosphor layer including a light emitting element, a phosphor disposed on the light emitting element and excited by the first light and emitting a second light having a longer wavelength than the first light; and the phosphor And a reflective film that is provided on the layer and reflects the first light and transmits the second light, and the reflection with respect to the center of the active layer in a plan view of the light emitting element The reflectance of light between 380 nm and 430 nm in the range of −85 ° to + 85 ° in the film direction is 40% or more.

これにより視認する角度による色ずれを抑制できる発光装置を提供することができる。   Accordingly, it is possible to provide a light emitting device that can suppress color misregistration due to a viewing angle.

実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the light-emitting device which concerns on embodiment. 実施形態1に係る発光装置が発する光の色度座標(CIE1931)を示す色度図である。3 is a chromaticity diagram illustrating chromaticity coordinates (CIE1931) of light emitted from the light emitting device according to Embodiment 1. FIG. 実施例1に係る発光装置における、光が垂直入射(入射角0°)した場合の、反射膜の波長に対する反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance with respect to the wavelength of a reflecting film in case the light enters perpendicularly (incident angle 0 degree) in the light-emitting device which concerns on Example 1. FIG. 実施例1及び実施例2、比較例1の発光装置における指向角による色度座標xのずれを示す図である。6 is a diagram illustrating a shift in chromaticity coordinates x depending on a directivity angle in the light-emitting devices of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. FIG. 実施例1及び実施例2、比較例1の発光装置における指向角による色度座標yのずれを示す図である。It is a figure which shows the shift | offset | difference of the chromaticity coordinate y by the directivity angle in the light-emitting device of Example 1, Example 2, and the comparative example 1. FIG. 実施例1及び実施例2、比較例1に係る発光装置の発光スペクトルを示す図である。FIG. 4 is a graph showing an emission spectrum of the light emitting device according to Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. 実施例1及び実施例2,比較例1に係る発光装置の発光スペクトルを示す図である。6 is a graph showing an emission spectrum of a light emitting device according to Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. FIG. 反射膜に対する発光素子が発する第1の光の入射角における反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance in the incident angle of the 1st light which the light emitting element emits with respect to a reflecting film. 反射膜に対する発光素子が発する第1の光の入射角における反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance in the incident angle of the 1st light which the light emitting element emits with respect to a reflecting film. (Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体と、CaAlSiN:Eu蛍光体の粉体反射率を示すスペクトル図である。(Sr, Ca) AlSiN 3: Eu as the phosphor, CaAlSiN 3: is a spectrum diagram showing the powder reflectance of Eu phosphor.

以下、実施形態に係る発光装置を、実施の形態及び実施例を用いて説明する。但し、本発明は、この実施の形態及び実施例に限定されない。以下に示す実施の形態は、本発明の技術思想を具体化するための発光装置を例示するものであって、本発明は発光装置を以下のものに特定されない。
色名と色度座標との関係、光の波長範囲と単色光の色名との関係等は、JIS Z8110に従う。具体的には、380nm〜410nmが紫色、410nm〜455nmが青紫色、455nm〜485nmが青色、485nm〜495nmが青緑色、495nm〜548nmが緑色、548nm〜573nmが黄緑色、573nm〜584nmが黄色、584nm〜610nmが黄赤色、610nm〜780nmが赤色である。
Hereinafter, the light emitting device according to the embodiment will be described with reference to the embodiment and examples. However, the present invention is not limited to this embodiment and examples. The embodiment described below exemplifies a light emitting device for embodying the technical idea of the present invention, and the present invention is not limited to the following light emitting device.
The relationship between the color name and chromaticity coordinates, the relationship between the wavelength range of light and the color name of monochromatic light, and the like comply with JIS Z8110. Specifically, 380 nm to 410 nm is purple, 410 nm to 455 nm is blue purple, 455 nm to 485 nm is blue, 485 nm to 495 nm is blue green, 495 nm to 548 nm is green, 548 nm to 573 nm is yellow green, 573 nm to 584 nm is yellow, 584 nm to 610 nm is yellowish red, and 610 nm to 780 nm is red.

また、実施形態に係る発光装置及びその製造方法において、「上」、「下」、「左」及び「右」などは、状況に応じて入れ替わるものである。本明細書において、「上」、「下」などは、説明のために参照する図面において構成要素間の相対的な位置を示すものであって、特に断らない限り絶対的な位置を示すことを意図したものではない。
本明細書において、発光素子「上」や蛍光体層「上」、反射膜「上」などにおける「上」は接触している形態に限定されず、接触せずに間に他の部材が配置される形態であってもよい。例えば、「発光素子20の発光面上に配置され」のように「A部材上に配置され」というときには、A部材に接して設けられている場合と、A部材の上に他の層を介して設けられている場合とを含む。
本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。さらに組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
In the light emitting device and the manufacturing method thereof according to the embodiment, “upper”, “lower”, “left”, “right”, and the like are interchanged depending on the situation. In the present specification, “upper”, “lower” and the like indicate relative positions between components in the drawings referred to for explanation, and indicate absolute positions unless otherwise specified. Not intended.
In the present specification, the “upper” in the light emitting element “upper”, the phosphor layer “upper”, the reflective film “upper”, etc. is not limited to the contacted form, and other members are arranged in between without contacting. It may be a form. For example, when “arranged on the A member” such as “arranged on the light emitting surface of the light emitting element 20”, the case where it is provided in contact with the A member and another layer on the A member via And the case where it is provided.
In the present specification, a numerical range indicated using “to” indicates a range including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively. Further, the content of each component in the composition means the total amount of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific notice when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition.

以下、本実施形態1に係る発光装置について図面を用いて説明する。図1は、実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。図2は、実施形態1に係る発光装置が発する光の色度座標(CIE1931)を示す色度図である。反射膜に対する第1の光の入射角Aは図1に示す入射角Aを指す。特に断りのない限り、発光素子の平面視において活性層の中心を基準とする。この活性層の中心からの第1の光が出射されると仮定し、入射角Aを規定している。   Hereinafter, the light-emitting device according to Embodiment 1 will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a light emitting device according to an embodiment. FIG. 2 is a chromaticity diagram showing chromaticity coordinates (CIE1931) of light emitted from the light emitting device according to the first embodiment. The incident angle A of the first light with respect to the reflective film indicates the incident angle A shown in FIG. Unless otherwise specified, the center of the active layer is used as a reference in the plan view of the light emitting element. Assuming that the first light is emitted from the center of the active layer, the incident angle A is defined.

発光装置100は、基台10と、基台10に配置される発光素子20と、発光素子20上に配置される蛍光体層30と、蛍光体層30上に設けられる反射膜40と、を備える。発光装置100は、さらに、反射膜40上に設けられた透光性部材50を備える。基台10は、第1リード11、第2リード12、第1リード11と第2リード12との間に配置される固定部13、及び、第1リード11と第2リード12上に設けられる側壁14を有している。基台10は凹部15が形成されており、凹部15の内底面16は第1リード11と第2リード12と固定部13が配置され、凹部15の内側面17は側壁14が配置されている。基台10の凹部15の内底面16上に発光素子20が配置され、透光性部材50と接するように基台10の凹部15内に樹脂70が配置されている。発光素子20は金や半田などの金属やエポキシ樹脂などの樹脂等のダイボンド材を用いて凹部15の内底面16上に配置してもよい。基台10の凹部15の内底面16を基準として、基台10の凹部15の最上面は、透光性部材50の表面よりも高い位置にあることが好ましい。これにより透光性部材50の脱落を防止することができる。   The light emitting device 100 includes a base 10, a light emitting element 20 disposed on the base 10, a phosphor layer 30 disposed on the light emitting element 20, and a reflective film 40 provided on the phosphor layer 30. Prepare. The light emitting device 100 further includes a translucent member 50 provided on the reflective film 40. The base 10 is provided on the first lead 11, the second lead 12, the fixing portion 13 disposed between the first lead 11 and the second lead 12, and the first lead 11 and the second lead 12. It has a side wall 14. The base 10 is formed with a recess 15, the first lead 11, the second lead 12, and the fixing portion 13 are disposed on the inner bottom surface 16 of the recess 15, and the side wall 14 is disposed on the inner surface 17 of the recess 15. . The light emitting element 20 is disposed on the inner bottom surface 16 of the recess 15 of the base 10, and the resin 70 is disposed in the recess 15 of the base 10 so as to be in contact with the translucent member 50. The light emitting element 20 may be disposed on the inner bottom surface 16 of the recess 15 using a die bond material such as a metal such as gold or solder or a resin such as an epoxy resin. The uppermost surface of the recess 15 of the base 10 is preferably located at a position higher than the surface of the translucent member 50 with reference to the inner bottom surface 16 of the recess 15 of the base 10. Thereby, the translucent member 50 can be prevented from falling off.

発光素子20は、380nm以上430nm以下に発光ピーク波長を持つ第1の光を発光する。発光素子20は、半導体積層体21と基板22とを備える。半導体積層体21は第1半導体層21a、活性層21b、第2半導体層21cの順に積層されている。発光素子20は基板22側若しくは半導体積層体21側のいずれかに発光面を持つ。
発光素子20は、発光ピーク波長の最大強度を1とした場合に、450nmの相対強度が0.3以下であることが好ましく、450nmの相対強度が0.1以下であることがより好ましい。これにより450nm付近の光を外部に放出するのを低減することができる。
The light emitting element 20 emits first light having an emission peak wavelength in the range of 380 nm to 430 nm. The light emitting element 20 includes a semiconductor stacked body 21 and a substrate 22. The semiconductor stacked body 21 is stacked in the order of the first semiconductor layer 21a, the active layer 21b, and the second semiconductor layer 21c. The light emitting element 20 has a light emitting surface on either the substrate 22 side or the semiconductor laminate 21 side.
The light emitting element 20 preferably has a relative intensity at 450 nm of 0.3 or less and more preferably a relative intensity at 450 nm of 0.1 or less when the maximum intensity of the emission peak wavelength is 1. Thereby, it is possible to reduce the emission of light near 450 nm to the outside.

蛍光体層30は、第1の光によって励起されて第1の光より長波長の第2の光を発光する蛍光体を含有する。蛍光体層30は、蛍光体のみから形成されていてもよく、蛍光体を樹脂などの有機物やセラミックスなどの無機物により固形化されていてもよい。蛍光体層30は、蛍光体の粒子が焼き固められたものである場合、耐熱性に優れる。蛍光体の粒子がエポキシ樹脂やシリコーン樹脂などに分散されたものである場合、簡易に蛍光体層30を形成することができる。また、蛍光体の粒子とセラミックスの粒子とを焼き固めたものも耐熱性に優れる。これらは使用目的や用途に応じて適宜選択する。
蛍光体層30に含有される蛍光体は、550nm以上780nm以下に発光ピーク波長を持つことが好ましく、584nm以上680nm以下に発光ピーク波長を持つことがより好ましい。この範囲に発光ピーク波長を持つことにより発光輝度を高くすることができるからである。また、赤色発光を視認し易いからである。
The phosphor layer 30 contains a phosphor that is excited by the first light and emits second light having a longer wavelength than the first light. The phosphor layer 30 may be formed of only a phosphor, and the phosphor may be solidified with an organic substance such as a resin or an inorganic substance such as a ceramic. The phosphor layer 30 is excellent in heat resistance when the phosphor particles are baked and hardened. When the phosphor particles are dispersed in an epoxy resin or a silicone resin, the phosphor layer 30 can be easily formed. A product obtained by baking and solidifying phosphor particles and ceramic particles is also excellent in heat resistance. These are appropriately selected according to the purpose and application.
The phosphor contained in the phosphor layer 30 preferably has an emission peak wavelength in the range of 550 nm to 780 nm, and more preferably has an emission peak wavelength in the range of 584 nm to 680 nm. This is because the emission luminance can be increased by having the emission peak wavelength in this range. Moreover, it is because red light emission is easy to visually recognize.

反射膜40は、第1の光を反射し、かつ第2の光を透過する性質を有する。反射膜40の反射スペクトルにおいて、反射膜40は、反射膜40に対する第1の光の入射角Aが0°から85°における380nm以上430nm以下の光の反射率が40%以上であり、より好ましくは45%以上である。反射膜40に対する第1の光の入射角Aが0°から45°における380nm以上430nm以下の光の反射率が90%以上であることが好ましく、反射率が95%以上であることがより好ましい。第1の光と反射膜40との入射角Aが0°において、反射膜は、380nm以上530nm以下の反射率が90%以上であることが好ましく、反射率が95%以上であることがより好ましい。
これにより、第1の光と反射膜40との入射角Aが垂直(0°)でない場合でも、第1の光の透過を抑えることができ、視認する角度による色ずれを抑制できる発光装置100を提供できる。
発光素子20の平面視において活性層21bの中心を基準として、反射膜40方向に−85°から+85°の範囲における380nm以上430nm以下の光の反射率が40%以上である。この角度は、入射角Aと同じ角度である。
The reflective film 40 has a property of reflecting the first light and transmitting the second light. In the reflection spectrum of the reflection film 40, the reflection film 40 has a reflectance of 40% or more of light of 380 nm or more and 430 nm or less when the incident angle A of the first light with respect to the reflection film 40 is 0 ° to 85 °. Is 45% or more. When the incident angle A of the first light with respect to the reflective film 40 is 0 ° to 45 °, the reflectance of light of 380 nm to 430 nm is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more. . When the incident angle A between the first light and the reflective film 40 is 0 °, the reflective film preferably has a reflectance of 380 nm or more and 530 nm or less of 90% or more, and more preferably has a reflectance of 95% or more. preferable.
Thereby, even when the incident angle A between the first light and the reflective film 40 is not vertical (0 °), the light-emitting device 100 can suppress the transmission of the first light and suppress the color shift due to the viewing angle. Can provide.
The reflectance of light of 380 nm to 430 nm in the range of −85 ° to + 85 ° in the direction of the reflective film 40 with respect to the center of the active layer 21b in a plan view of the light emitting element 20 is 40% or more. This angle is the same angle as the incident angle A.

透光性部材50は主に第2の光を透過する。透光性部材50はセラミックスやガラスなどの無機物や樹脂などの有機物を用いることができる。例えば、反射膜40が接する面が平坦な透明なガラス板からなるものを使用できる。
発光素子20上に配置される蛍光体層30は接着剤層60を介して配置してもよい。接着剤層60は透光性であることが好ましい。接着剤層60を用いることで簡易に発光素子20に蛍光体層30を配置することができる。また、発光素子20上に配置される蛍光体層30を、接着剤を介さずに直接接合してもよい。発光素子20と蛍光体層30とを直接接合することにより蛍光体層30で発生した熱を、発光素子20を介して放熱することができる。
反射膜40は単独で用いることができるが、印刷や塗布などで透光性部材50に反射膜40を形成することもできる。透光性部材50に強度の高い部材を用いることで反射膜40を簡易に設けることができる。また、印刷や塗布などで蛍光体層30に反射膜40を形成することもできる。
The translucent member 50 mainly transmits the second light. The translucent member 50 can be made of an inorganic material such as ceramics or glass, or an organic material such as a resin. For example, what consists of a transparent glass plate with the flat surface which the reflective film 40 touches can be used.
The phosphor layer 30 disposed on the light emitting element 20 may be disposed via the adhesive layer 60. The adhesive layer 60 is preferably translucent. By using the adhesive layer 60, the phosphor layer 30 can be easily disposed on the light emitting element 20. Further, the phosphor layer 30 disposed on the light emitting element 20 may be directly joined without using an adhesive. By directly joining the light emitting element 20 and the phosphor layer 30, heat generated in the phosphor layer 30 can be radiated through the light emitting element 20.
The reflective film 40 can be used alone, but the reflective film 40 can also be formed on the translucent member 50 by printing or coating. The reflective film 40 can be easily provided by using a member having high strength as the translucent member 50. The reflective film 40 can also be formed on the phosphor layer 30 by printing or coating.

凹部15の内底面16上に配置される樹脂70は、透光性部材50の上面を除いて、透光性部材50の側面に配置してもよい。また、透光性部材50の側面だけでなく、樹脂70は、発光素子20、蛍光体層30、反射膜40を覆うように配置してもよい。これにより樹脂70は、発光素子20からの第1の光及び蛍光体層30からの第2の光のいずれも反射する。
樹脂70には、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化マグネシウム及び炭酸マグネシウムからなる群から選択される光拡散材を少なくとも一種は含まれることが好ましい。これにより発光素子20からの第1の光が、光拡散材が含有された樹脂70に照射され蛍光体層30側に戻すことができ、蛍光体層30からの第2の光の発光効率を高めることができる。また、樹脂70には、酸化チタンを含有してもよい。酸化チタンは420nmよりも短波長側の光は反射せず吸収されてしまうが、420nmよりも長波長側の光は効率良く反射するため、420nm〜430nmに発光ピーク波長を持つ発光素子20を使用する場合は、樹脂70に酸化チタンを含有させることもできる。
これにより、発光装置100が発する光は蛍光体層30が発する第2の光の発光スペクトルと実質的に等しい発光スペクトルを有する光が出射される。
The resin 70 disposed on the inner bottom surface 16 of the recess 15 may be disposed on the side surface of the translucent member 50 except for the upper surface of the translucent member 50. In addition to the side surface of the translucent member 50, the resin 70 may be disposed so as to cover the light emitting element 20, the phosphor layer 30, and the reflective film 40. Accordingly, the resin 70 reflects both the first light from the light emitting element 20 and the second light from the phosphor layer 30.
The resin 70 preferably contains at least one light diffusing material selected from the group consisting of zirconium oxide, yttrium oxide, aluminum oxide, aluminum hydroxide, barium carbonate, barium sulfate, magnesium oxide and magnesium carbonate. Thereby, the first light from the light emitting element 20 can be irradiated to the resin 70 containing the light diffusing material and returned to the phosphor layer 30 side, and the light emission efficiency of the second light from the phosphor layer 30 can be improved. Can be increased. Further, the resin 70 may contain titanium oxide. Titanium oxide is absorbed without reflecting light on the shorter wavelength side than 420 nm, but light on the longer wavelength side than 420 nm is efficiently reflected, so the light emitting element 20 having an emission peak wavelength between 420 nm and 430 nm is used. In that case, the resin 70 may contain titanium oxide.
Thereby, the light emitted from the light emitting device 100 is emitted having an emission spectrum substantially equal to the emission spectrum of the second light emitted from the phosphor layer 30.

発光素子20は、同一面側に正負一対の電極を有しており、フェイスダウン実装され、発光素子20と第1リード11及び第2リード12は導電性接合部材により電気的に接続されている。なお、フェイスダウン実装に代えて、フェイスアップ実装することもできる。フェイスアップ実装の場合は、導電性接合部材に代えて、ワイヤを用いて第1リード11、第2リード12と接続させてもよい。   The light emitting element 20 has a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, is mounted face down, and the light emitting element 20 and the first lead 11 and the second lead 12 are electrically connected by a conductive bonding member. . Instead of face-down mounting, face-up mounting can be performed. In the case of face-up mounting, instead of the conductive bonding member, the first lead 11 and the second lead 12 may be connected using wires.

反射膜40は、蛍光体層30上に設けられ、発光素子20が発光する第1の光を反射し、蛍光体層30が発光する第2の光を透過する。反射膜40は、例えば、互いに屈折率が異なる第1誘電体層41と第2誘電体層42とが交互に積層された誘電体多層膜により構成することができる。誘電体多層膜は、第1誘電体層41の第1屈折率及び第2誘電体層42の第2屈折率に基づいて第1誘電体層41の膜厚及び第2誘電体層42の膜厚を設定することにより、発光素子20が発光する第1の光を反射し、蛍光体層30が発光する第2の光を透過するように構成することができる。   The reflection film 40 is provided on the phosphor layer 30, reflects the first light emitted from the light emitting element 20, and transmits the second light emitted from the phosphor layer 30. The reflective film 40 can be constituted by, for example, a dielectric multilayer film in which first dielectric layers 41 and second dielectric layers 42 having different refractive indexes are alternately stacked. The dielectric multilayer film is a film of the first dielectric layer 41 and a film of the second dielectric layer 42 based on the first refractive index of the first dielectric layer 41 and the second refractive index of the second dielectric layer 42. By setting the thickness, the first light emitted from the light emitting element 20 can be reflected, and the second light emitted from the phosphor layer 30 can be transmitted.

また、発光装置100は、発光素子20及び蛍光体層30が、樹脂70と反射膜40とによって覆われているので、蛍光体層30が発光する第2の光は反射膜40を介して出射されるが、発光素子20が発光する第1の光は樹脂70及び反射膜40によって反射されて蛍光体層30側に戻され、蛍光体を励起することができ、発光効率を高くできる。これにより、発光装置100から外部へ放出される第1の光の放出が抑制され、発光装置100から外部に放出される光を実質的に蛍光体層30の第2の光のみとすることができ、半導体積層体21に対して垂直方向の色ずれを防止することができる。しかしながら、第1の光と反射膜40との入射が垂直でない場合、第1の光の一部は透過する。   Further, in the light emitting device 100, since the light emitting element 20 and the phosphor layer 30 are covered with the resin 70 and the reflective film 40, the second light emitted from the phosphor layer 30 is emitted through the reflective film 40. However, the first light emitted from the light emitting element 20 is reflected by the resin 70 and the reflective film 40 and returned to the phosphor layer 30 side, so that the phosphor can be excited and the luminous efficiency can be increased. Thereby, the emission of the first light emitted from the light emitting device 100 to the outside is suppressed, and the light emitted from the light emitting device 100 to the outside is substantially only the second light of the phosphor layer 30. In addition, the color misregistration in the vertical direction with respect to the semiconductor stacked body 21 can be prevented. However, when the incidence of the first light and the reflection film 40 is not perpendicular, a part of the first light is transmitted.

発光装置100において、反射膜40として誘電体多層膜を用いた場合、誘電体多層膜に対して垂直(0°)に入射した光はほぼ全て反射されるが、垂直入射でない光の一部は透過する。この垂直入射でない光の外部への出射を減らすためには蛍光体層30の厚さを厚くして、発光素子20からの第1の光の誘電体多層膜への入射量を減らす、すなわち、発光素子20からの第1の光の多くが誘電体多層膜に到達する前に蛍光体に吸収されて蛍光体を励起するようにすることが効果的である。しかしながら、蛍光体層30の厚さを厚くすると発光強度が低下するため、発光素子20が発光する第1の光の外部への出射が許容できる範囲まで蛍光体層30を薄くして発光強度を高くすることが好ましい。具体的には、発光装置100の発光スペクトルにおいて、最大強度を1とした場合に、450nmの相対強度が0.3以下とすることが好ましい。   In the light emitting device 100, when a dielectric multilayer film is used as the reflective film 40, almost all the light incident perpendicularly (0 °) to the dielectric multilayer film is reflected, but part of the light that is not perpendicularly incident is reflected. To Penetrate. In order to reduce the emission of light that is not perpendicularly incident, the thickness of the phosphor layer 30 is increased to reduce the incident amount of the first light from the light emitting element 20 to the dielectric multilayer film. It is effective that most of the first light from the light emitting element 20 is absorbed by the phosphor before it reaches the dielectric multilayer film to excite the phosphor. However, since the emission intensity decreases when the thickness of the phosphor layer 30 is increased, the emission intensity is reduced by reducing the phosphor layer 30 to the extent that the first light emitted from the light emitting element 20 can be emitted to the outside. Higher is preferred. Specifically, in the emission spectrum of the light emitting device 100, when the maximum intensity is 1, the relative intensity at 450 nm is preferably 0.3 or less.

発光装置100は、CIE1931色度図のxy色度座標系において、(x=0.645、y=0.335)、(x=0.665、y=0.335)、(x=0.735、y=0.265)、(x=0.721、y=0.259)の4点を結んでできる四角形で囲まれる範囲内にある光を発する。このような構成にすることにより、所定の赤色に発光し、角度による色ずれを抑制する発光装置を提供することができる。   The light emitting device 100 has (x = 0.645, y = 0.335), (x = 0.665, y = 0.335), (x = 0.0.3) in the xy chromaticity coordinate system of the CIE1931 chromaticity diagram. 735, y = 0.265), (x = 0.721, y = 0.259), and emits light within a range surrounded by a rectangle formed by connecting the four points. With such a configuration, it is possible to provide a light emitting device that emits light in a predetermined red color and suppresses a color shift due to an angle.

蛍光体層30に含まれる蛍光体は、(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体、CaAlSiN:Eu蛍光体、KSiF:Mn蛍光体、から選択される少なくとも1種であることが好ましい。また、その組み合わせとしてもよい。これにより、所定の赤色に発光し、角度による色ずれを抑制する発光装置を提供することができる。 The phosphor contained in the phosphor layer 30 may be at least one selected from (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor, CaAlSiN 3 : Eu phosphor, and K 2 SiF 6 : Mn phosphor. preferable. Moreover, it is good also as the combination. Accordingly, it is possible to provide a light emitting device that emits light in a predetermined red color and suppresses a color shift due to an angle.

発光装置100は、透光性部材50の最上面を除いて樹脂70に覆われていれば、例えば、砲弾型、表面実装型、チップタイプ等であってもよい。一般に砲弾型とは、外面を構成する樹脂の形状を砲弾型に形成したものを指す。例えば一方にカップを有するリードフレームと、カップ内に配置される発光素子と、発光素子及びリードフレームの一部を覆う封止樹脂と、を有する。また表面実装型とは、凹状の収納部内に発光素子を載置し、発光素子を樹脂にて充填して形成されたものを示す。収容部の材質として熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、セラミックス、金属等で作成したものがある。さらにチップタイプとしては、表面実装型のように凹状の収容部を持たず、発光素子に蛍光体を直接形成して発光素子の側面等を樹脂で固定したものである。チップタイプは蛍光体を含む層を平板状とできる他、レンズ形状としてもよい。
ここでは表面実装型を例にとって詳細を説明する。
As long as the light emitting device 100 is covered with the resin 70 except for the uppermost surface of the translucent member 50, for example, a bullet type, a surface mount type, a chip type, or the like may be used. In general, the bullet shape refers to a shape in which the shape of the resin constituting the outer surface is formed into a bullet shape. For example, it includes a lead frame having a cup on one side, a light emitting element disposed in the cup, and a sealing resin that covers a part of the light emitting element and the lead frame. In addition, the surface mount type refers to the one formed by placing a light emitting element in a concave storage portion and filling the light emitting element with resin. Examples of the material of the housing part include those made of thermoplastic resin, thermosetting resin, ceramics, metal, and the like. Further, the chip type does not have a concave accommodating portion unlike the surface mount type, and a phosphor is directly formed on the light emitting element, and the side surface of the light emitting element is fixed with a resin. In the chip type, the layer containing the phosphor may be a flat plate shape or a lens shape.
Here, the details will be described taking the surface mount type as an example.

[基台]
基台10の固定部13及び側壁14は熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂などの樹脂や、セラミックスやガラスなどの無機物や、絶縁処理等を施した金属などを使用することができる。
表面実装型の基台10は、絶縁性を有し、光を透過しにくいことが好ましい。基台10の材料としては、例えば、アルミナや窒化アルミニウム等のセラミックス、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、BTレジン、ポリフタルアミド等の樹脂を挙げることができる。なお、樹脂を用いる場合には、必要に応じて、ガラス繊維、酸化ケイ素、酸化チタン、アルミナ等の無機フィラーを樹脂に混合してもよい。これらの中でも、セラミックスは放熱効果が高いためより好ましい。
また、基台10は第1リード11と第2リード12と固定部13とを有している。基台10は実装面に対して略垂直方向に光を放出するトップビュー型、実装面に対して略平行方向に光を放出するサイドビュー型が主にあるが、いずれにも本件を使用することができる。第1リード11、第2リード12は板状の金属で形成される。ここでは凹部15の開口方向から見て第1リード11、第2リード12は固定部13から外側に突出していないが、固定部13から外側に突出した構成もとることができる。
[Base]
For the fixing portion 13 and the side wall 14 of the base 10, a resin such as a thermoplastic resin or a thermosetting resin, an inorganic material such as ceramics or glass, a metal subjected to an insulation process, or the like can be used.
It is preferable that the surface mount type base 10 has an insulating property and does not easily transmit light. Examples of the material of the base 10 include ceramics such as alumina and aluminum nitride, resins such as phenol resin, epoxy resin, polyimide resin, BT resin, and polyphthalamide. In addition, when using resin, you may mix inorganic fillers, such as glass fiber, a silicon oxide, a titanium oxide, an alumina, with a resin as needed. Among these, ceramics is more preferable because of its high heat dissipation effect.
The base 10 includes a first lead 11, a second lead 12, and a fixing portion 13. The base 10 is mainly a top view type that emits light in a direction substantially perpendicular to the mounting surface, and a side view type that emits light in a direction substantially parallel to the mounting surface. be able to. The first lead 11 and the second lead 12 are formed of a plate-like metal. Here, the first lead 11 and the second lead 12 do not protrude outward from the fixed portion 13 when viewed from the opening direction of the recess 15, but a configuration protruding outward from the fixed portion 13 can be employed.

第1リード11、第2リード12を構成する材料は、例えば、金属で、200W/(m・K)程度以上の熱伝導率を有しているもの、比較的大きい機械的強度を有するもの、あるいは打ち抜きプレス加工又はエッチング加工等が容易な材料が好ましい。具体的には、銅、アルミニウム、金、銀、タングステン、鉄、ニッケル等の金属又は鉄−ニッケル合金、燐青銅等の合金等が挙げられる。また、第1リード11、第2リード12の母材の表面に母材よりも光反射率の高い銀、アルミニウム、金などが被覆されていてもよい。   The material constituting the first lead 11 and the second lead 12 is, for example, a metal having a thermal conductivity of about 200 W / (m · K) or more, a material having a relatively large mechanical strength, Alternatively, a material that can be easily punched or etched is preferable. Specific examples include metals such as copper, aluminum, gold, silver, tungsten, iron and nickel, and alloys such as iron-nickel alloys and phosphor bronze. Further, the surface of the base material of the first lead 11 and the second lead 12 may be coated with silver, aluminum, gold or the like having a higher light reflectance than the base material.

[発光素子]
発光素子20は、蛍光体層30に含まれる蛍光体を励起するためのものである。発光素子20としては、例えば、発光ダイオード(LED)チップ又はレーザダイオード(LD)チップを用いることができ、なかでもLEDチップを用いることが好ましい。発光素子20を発光ダイオードチップとすることにより、発光素子20からの光が広がりやすくなるため、蛍光体を効率良く励起できる。発光素子20として、例えば、窒化物半導体を含む青色発光の発光ダイオードチップを用いられる。ここで、青色発光の発光ダイオードチップとは、380nm〜430nmの範囲に発光ピーク波長を有するものを指す。発光素子20は半導体積層体21と基板22とを有する。半導体積層体21は基板上に積層されたものでもよく、成長基板とは異なる基板に半導体積層体21を貼り付けたものでもよい。
[Light emitting element]
The light emitting element 20 is for exciting the phosphor contained in the phosphor layer 30. As the light emitting element 20, for example, a light emitting diode (LED) chip or a laser diode (LD) chip can be used, and among these, an LED chip is preferably used. By using the light emitting element 20 as the light emitting diode chip, the light from the light emitting element 20 can easily spread, so that the phosphor can be excited efficiently. As the light emitting element 20, for example, a blue light emitting diode chip containing a nitride semiconductor is used. Here, the blue light emitting diode chip refers to a chip having an emission peak wavelength in the range of 380 nm to 430 nm. The light emitting element 20 includes a semiconductor stacked body 21 and a substrate 22. The semiconductor laminate 21 may be laminated on a substrate, or may be a laminate of the semiconductor laminate 21 on a substrate different from the growth substrate.

ここでいう窒化物半導体は、一般式:InAlGa1−X−YN(0≦X、0≦Y、X+Y≦1)で表される半導体であり、半導体層の組成やその混晶度によって発光波長を種々選択することができる。窒化物半導体を用いた発光素子20は、例えば、サファイア等の窒化物半導体の成長が可能な基板22と該基板22の上に設けられた半導体積層体21とを含む。 Nitride semiconductor as referred to herein, the general formula: In X Al Y Ga 1- X-Y N (0 ≦ X, 0 ≦ Y, X + Y ≦ 1) is a semiconductor represented by the composition and its mixed semiconductor layer Various emission wavelengths can be selected depending on crystallinity. The light emitting element 20 using a nitride semiconductor includes, for example, a substrate 22 on which a nitride semiconductor such as sapphire can be grown, and a semiconductor stacked body 21 provided on the substrate 22.

発光素子20において、半導体積層体21には第1半導体層21a、活性層21b、第2半導体層21cが設けられている。第1半導体層21aと第2半導体層21cとは極性が異なる。例えば、第1半導体層21aにp型半導体層、第2半導体層21cにn型半導体層を用い、p型半導体層にはp電極が接続されており、n型半導体層にはn電極が接続されている。p電極及びn電極は発光素子20の同じ側の面に形成されており、第1リード11、第2リード12にフリップチップ実装されていることが好ましい。これにより、発光素子20の上面が平坦な面となり、発光素子20の上方に蛍光体層30を近接して配置することができる。なお、発光素子20は基板22を有するが、基板22は実装時又は実装後に除去され、半導体積層体21上に蛍光体層30が直接若しくは接着剤層60を介して接合されてもよい。   In the light emitting element 20, the semiconductor stacked body 21 is provided with a first semiconductor layer 21a, an active layer 21b, and a second semiconductor layer 21c. The first semiconductor layer 21a and the second semiconductor layer 21c have different polarities. For example, a p-type semiconductor layer is used for the first semiconductor layer 21a, an n-type semiconductor layer is used for the second semiconductor layer 21c, a p-electrode is connected to the p-type semiconductor layer, and an n-electrode is connected to the n-type semiconductor layer. Has been. The p electrode and the n electrode are formed on the same surface of the light emitting element 20, and are preferably flip-chip mounted on the first lead 11 and the second lead 12. Thereby, the upper surface of the light emitting element 20 becomes a flat surface, and the phosphor layer 30 can be disposed close to the upper side of the light emitting element 20. Although the light emitting element 20 includes the substrate 22, the substrate 22 may be removed during or after mounting, and the phosphor layer 30 may be bonded directly or via the adhesive layer 60 on the semiconductor stacked body 21.

[蛍光体層]
蛍光体層30は、発光素子20からの第1の光を吸収して異なる波長の光を発生する。蛍光体層30は、例えば、蛍光体粒子を含む透光性樹脂ペーストを、透光性部材の表面に反射膜40を介して印刷することにより形成される。蛍光体層30は、1又は2以上の層により構成してもよい。蛍光体層30は、必要に応じて拡散剤を含んでいても良い。
[Phosphor layer]
The phosphor layer 30 absorbs the first light from the light emitting element 20 and generates light of different wavelengths. The phosphor layer 30 is formed, for example, by printing a translucent resin paste containing phosphor particles on the surface of the translucent member via the reflective film 40. The phosphor layer 30 may be composed of one or more layers. The phosphor layer 30 may contain a diffusing agent as necessary.

ここでは、380nm以上430nm以下に発光ピーク波長を持つ発光素子20からの光を吸収し、550nm以上780nm以下に発光ピーク波長を持つ蛍光体を少なくとも1種、またはその組み合わせを使用する。ここで、蛍光体の発光色として、主に赤色を発光する。蛍光体は550nm以上780nm以下に発光ピーク波長を持つに過ぎず、550nm以上780nm以下に発光スペクトルを持つものに限定されない。特に610nm以上680nm以下に発光ピーク波長を持つものが好ましく、610nm以上650nm以下に発光ピーク波長を持つものが更に好ましい。視感度は約555nmをピークに555nmより長波長側にいくに従って視感度が低下するため、赤色領域のうち比較的視感度の高い610nm以上650nmに発光ピーク波長を持つ蛍光体を使用することが輝度向上に好ましいからである。   Here, at least one type of phosphor that absorbs light from the light emitting element 20 having an emission peak wavelength of 380 nm to 430 nm and has an emission peak wavelength of 550 nm to 780 nm or a combination thereof is used. Here, red is mainly emitted as the emission color of the phosphor. The phosphor has only an emission peak wavelength at 550 nm to 780 nm and is not limited to one having an emission spectrum at 550 nm to 780 nm. In particular, those having an emission peak wavelength in the range from 610 nm to 680 nm are preferred, and those having an emission peak wavelength in the range from 610 nm to 650 nm are more preferred. Since the visibility decreases as it reaches a wavelength longer than 555 nm with a peak at about 555 nm, it is necessary to use a phosphor having an emission peak wavelength at 610 nm to 650 nm, which has a relatively high visibility in the red region. It is because it is preferable for improvement.

蛍光体の平均粒径は、特に制限されず、目的等に応じて適宜選択することができる。蛍光体の平均粒径は、発光効率の観点から、1μm以上20μm以下であることが好ましく、5μm以上15μm以下であることがより好ましい。
樹脂中に含有される蛍光体粒子全体の体積が同じである場合、粒径が小さくなると粒子表面積が増え、蛍光体粒子が発光した光が他の蛍光体粒子によって散乱されやすくなり、光取り出し効率が低下する。一方、粒径が大きくなると散乱は少なくなって光の取り出し効率は高くなるが、粒子表面積が小さくなり、蛍光体が発光する光の量が少なくなって波長変換されない光の量が増える。波長変換されずに蛍光体層30に到達した光は反射膜40によって再度蛍光体層30側へ戻されるため、蛍光体粒子の粒径を大きくすることによって、粒子表面での散乱を抑制しつつ発光素子20からの第1の光を効率よく波長変換を行うことができる。したがって、発光装置100では、蛍光体粒子の粒径を大きくすることによって、発光素子20の第1の光を効率よく波長変換を行うことができ、かつ光取り出し効率を向上させることができる。
The average particle diameter of the phosphor is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose and the like. The average particle diameter of the phosphor is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 15 μm or less from the viewpoint of light emission efficiency.
When the volume of the entire phosphor particles contained in the resin is the same, the particle surface area increases as the particle size decreases, and the light emitted from the phosphor particles is easily scattered by other phosphor particles, resulting in light extraction efficiency. Decreases. On the other hand, as the particle size increases, scattering is reduced and light extraction efficiency is increased, but the particle surface area is reduced, the amount of light emitted from the phosphor is reduced, and the amount of light that is not wavelength-converted is increased. Since the light reaching the phosphor layer 30 without wavelength conversion is returned again to the phosphor layer 30 side by the reflective film 40, the scattering of the particle surface is suppressed by increasing the particle size of the phosphor particles. Wavelength conversion of the first light from the light emitting element 20 can be performed efficiently. Therefore, in the light emitting device 100, the wavelength of the first light of the light emitting element 20 can be efficiently converted and the light extraction efficiency can be improved by increasing the particle diameter of the phosphor particles.

なお、本明細書でいう蛍光体粒子の平均粒径は、一次粒子が凝集して形成された二次粒子の平均粒径のことをいうものとする。二次粒子の平均粒径(メジアン径)は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置(MALVERN(マルバーン)社製、製品名:MASTER SIZER(マスターサイザー)3000)により測定することができる。   In addition, the average particle diameter of the phosphor particles in the present specification refers to the average particle diameter of secondary particles formed by agglomerating primary particles. The average particle diameter (median diameter) of the secondary particles can be measured by, for example, a laser diffraction particle size distribution measuring device (product name: MASTER SIZER 3000, manufactured by MALVERN).

蛍光体層30の厚さは30μm〜150μmが好ましく、50μm〜120μmがより好ましい。これにより蛍光体層30内の散乱で失われる第2の光の量を減らし、蛍光体層30から出射される第2の光の量を増やすことができる。   The thickness of the phosphor layer 30 is preferably 30 μm to 150 μm, and more preferably 50 μm to 120 μm. Thereby, the amount of the second light lost due to the scattering in the phosphor layer 30 can be reduced, and the amount of the second light emitted from the phosphor layer 30 can be increased.

蛍光体として、窒化物蛍光体や酸化物蛍光体、フッ化物蛍光体、硫化物蛍光体などを使用することができる。
窒化物系蛍光体は、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Luからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の希土類元素により賦活される、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Znからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の第II族元素と、C、Si、Ge、Sn、Ti、Zr、Hfからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の第IV族元素と、Nと、を含む蛍光体である。この窒化物蛍光体の組成中に、Oが含まれていてもよい。
As the phosphor, a nitride phosphor, an oxide phosphor, a fluoride phosphor, a sulfide phosphor, or the like can be used.
The nitride-based phosphor is activated by at least one rare earth element selected from the group consisting of Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, and Lu. At least one selected from the group consisting of C, Si, Ge, Sn, Ti, Zr, and Hf, and at least one group II element selected from the group consisting of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn. A phosphor containing the above Group IV element and N. O may be contained in the composition of the nitride phosphor.

窒化物系蛍光体の具体例としては、一般式、L((2/3)X+(4/3)Y):R若しくはL((2/3)X+(4/3)Y−(2/3)Z):R(Lは、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Znからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の第II族元素である。Mは、C、Si、Ge、Sn、Ti、Zr、Hfからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の第IV族元素である。Rは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Luからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の希土類元素である。X、Y、Zは、0.5≦X≦3、1.5≦Y≦8、0<Z≦3である。)で表されるものを挙げることができる。 Specific examples of the nitride-based phosphor include a general formula L X M Y N ((2/3) X + (4/3) Y) : R or L X M Y O Z N ((2/3) X + (4/3) Y- (2/3) Z) : R (L is at least one Group II element selected from the group consisting of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn. M. Is at least one group IV element selected from the group consisting of C, Si, Ge, Sn, Ti, Zr, and Hf, and R is Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, And at least one rare earth element selected from the group consisting of Gd, Tb, Dy, Ho, Er, and Lu. X, Y, and Z are 0.5 ≦ X ≦ 3, 1.5 ≦ Y ≦ 8, 0 <Z ≦ 3)).

窒化物系蛍光体のより具体的な例としては、(Sr,Ca)AlSiN:Euに代表されるSCASN系の蛍光体及びCaAlSiN:Euに代表されるCASN系の蛍光体を挙げることができる。
また、窒化物系蛍光体以外では、KSF(KSiF:Mn)系蛍光体、硫化物系蛍光体などを用いることができる。
More specific examples of nitride-based phosphors include SCASN-based phosphors represented by (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu and CASN-based phosphors represented by CaAlSiN 3 : Eu. it can.
In addition to nitride phosphors, KSF (K 2 SiF 6 : Mn) phosphors, sulfide phosphors, and the like can be used.

以上では、蛍光体粒子を含む透光性樹脂ペーストを印刷することにより蛍光体層30を形成する例を示した。しかしながら、蛍光体層30は、蛍光体を含むように、ガラス、無機物等の透光性材料を成膜することにより形成するようにしてもよい。また、蛍光体層30が反射膜40の表面に直接接している形態を示しているが、蛍光体層30は必ずしも反射膜40の表面に直接接している必要はなく、接着剤等の他の部材を介して接合されていてもよい。例えば、板状の蛍光体板を、圧着、融着、焼結、有機系接着剤による接着、低融点ガラス等の無機系接着剤による接着することにより形成するようにしてもよい。   The example in which the phosphor layer 30 is formed by printing the translucent resin paste containing the phosphor particles has been described above. However, the phosphor layer 30 may be formed by depositing a translucent material such as glass or inorganic so as to include the phosphor. Further, although the phosphor layer 30 is shown in direct contact with the surface of the reflective film 40, the phosphor layer 30 is not necessarily in direct contact with the surface of the reflective film 40, and other adhesives and the like are used. It may be joined via a member. For example, a plate-like phosphor plate may be formed by pressure bonding, fusing, sintering, adhesion with an organic adhesive, or adhesion with an inorganic adhesive such as low-melting glass.

[反射膜]
反射膜40としては、選択性が高い誘電体多層膜を用いることが好ましい。ここで、選択性が高いとは、反射波長帯域における反射率が高く、透過波長帯域における透過率が高く、かつ反射波長帯域と透過波長帯域間において反射率又は透過率の変化が急峻であることをいう。
[Reflective film]
As the reflective film 40, it is preferable to use a dielectric multilayer film having high selectivity. Here, high selectivity means that the reflectance in the reflection wavelength band is high, the transmittance in the transmission wavelength band is high, and the change in reflectance or transmittance is steep between the reflection wavelength band and the transmission wavelength band. Say.

誘電体多層膜は、屈折率の異なる2つの第1誘電体層41と第2誘電体層42とを、それぞれλ/4の膜厚で交互に周期的に形成した反射膜である。ここで、λは、反射させたい波長領域のピーク波長であり、各誘電体材料における媒質内波長である。この誘電体多層膜は、理論的には、2つの第1誘電体層41と第2誘電体層42の屈折率差が大きいほど、また、交互に形成する周期数が多いほど高い反射率が得られることが知られている。しかしながら、2つの第1誘電体層41と第2誘電体層42の屈折率差が大き過ぎたり、周期数が大き過ぎると、反射ピーク波長λの両側で反射率が急激に減少したり(波長依存性が急峻になる)、反射率の波長依存性が大きくなったりして、所望の波長範囲で所望の反射率を安定して得ることが難しくなる。そこで、誘電体多層膜では、屈折率の高い誘電体材料からなる第1誘電体層41と屈折率の低い誘電体材料からなる第2誘電体層42の各屈折率及び屈折率差、交互に形成する周期数は、所望の波長範囲で所望の反射率が安定して得られるように、適宜設定される。   The dielectric multilayer film is a reflective film in which two first dielectric layers 41 and second dielectric layers 42 having different refractive indexes are alternately and periodically formed with a thickness of λ / 4. Here, λ is a peak wavelength in a wavelength region to be reflected, and is an in-medium wavelength in each dielectric material. Theoretically, this dielectric multilayer film has a higher reflectivity as the refractive index difference between the two first dielectric layers 41 and the second dielectric layer 42 is larger, and as the number of cycles formed alternately is larger. It is known to be obtained. However, if the difference in refractive index between the two first dielectric layers 41 and the second dielectric layer 42 is too large or the number of periods is too large, the reflectivity rapidly decreases on both sides of the reflection peak wavelength λ (wavelength The wavelength dependence of the reflectance increases, and it becomes difficult to stably obtain the desired reflectance in the desired wavelength range. Therefore, in the dielectric multilayer film, each refractive index and refractive index difference between the first dielectric layer 41 made of a dielectric material having a high refractive index and the second dielectric layer 42 made of a dielectric material having a low refractive index are alternately arranged. The number of periods to be formed is appropriately set so that a desired reflectance is stably obtained in a desired wavelength range.

具体的には、屈折率の高い第1誘電体層41の第1屈折率は、例えば、1.5〜3.0の範囲に設定され、好ましくは、2.0〜2.6の範囲に設定される。また、屈折率の低い第2誘電体層42の第2屈折率は、例えば、1.0〜1.8の範囲に設定され、好ましくは、1.2〜1.6の範囲に設定される。さらに、第1誘電体層41と第2誘電体層42とを交互に形成する周期数は、例えば、1〜20の範囲に設定され、好ましくは、1〜5の範囲に設定される。第1屈折率と第2屈折率との差は0.3以上が好ましく0.5以上がより好ましく、0.7以上がさらに好ましい。   Specifically, the first refractive index of the first dielectric layer 41 having a high refractive index is set, for example, in the range of 1.5 to 3.0, and preferably in the range of 2.0 to 2.6. Is set. The second refractive index of the second dielectric layer 42 having a low refractive index is set, for example, in the range of 1.0 to 1.8, and preferably in the range of 1.2 to 1.6. . Further, the number of periods in which the first dielectric layer 41 and the second dielectric layer 42 are alternately formed is set in a range of 1 to 20, for example, and preferably in a range of 1 to 5. The difference between the first refractive index and the second refractive index is preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, and even more preferably 0.7 or more.

第1誘電体層41を構成する誘電体材料は、例えば、TiO、Nb、Ta及びZrから選択することができる。第2誘電体層42を構成する誘電体材料は、例えば、SiO、Al及びSiONから選択された材料により構成することができる。 The dielectric material constituting the first dielectric layer 41 can be selected from, for example, TiO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 and Zr 2 O 5 . The dielectric material composing the second dielectric layer 42 can be made of, for example, a material selected from SiO 2 , Al 2 O 3 and SiON.

[透光性部材]
透光性部材50は、一方の面に反射膜40と蛍光体層30とが設けられ、その反射膜40及び蛍光体層30を支持する。透光性部材50には、ガラスや樹脂のような透光性材料からなる板状体を用いることができる。ガラスとして、例えば、ホウ珪酸ガラスや石英ガラスから選択することができる。また、樹脂として、例えば、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂から選択することができる。透光性部材50の厚さは、製造工程における機械的強度が低下せず、蛍光体層30に十分な機械強度を付与することができる厚さであればよい。また、透光性部材50には、拡散剤を含有させてもよい。拡散剤には、酸化チタン、チタン酸バリウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素等を用いることができる。また、発光面となる透光性部材50の上面、つまり反射膜40と蛍光体層30とが設けられた面の反対の面は、平坦な面に限定されず、微細な凹凸を有していてもよい。発光面に凹凸を有していると、発光面からの出射光が散乱されて輝度むらや色むらを抑制することが可能となる。
[Translucent member]
The translucent member 50 is provided with the reflective film 40 and the phosphor layer 30 on one surface, and supports the reflective film 40 and the phosphor layer 30. As the translucent member 50, a plate-like body made of a translucent material such as glass or resin can be used. As the glass, for example, borosilicate glass or quartz glass can be selected. Moreover, as resin, it can select from a silicone resin and an epoxy resin, for example. The thickness of the translucent member 50 should just be the thickness which can provide sufficient mechanical strength to the fluorescent substance layer 30, without the mechanical strength in a manufacturing process falling. Further, the light transmissive member 50 may contain a diffusing agent. As the diffusing agent, titanium oxide, barium titanate, aluminum oxide, silicon oxide, or the like can be used. Further, the upper surface of the translucent member 50 serving as the light emitting surface, that is, the surface opposite to the surface on which the reflective film 40 and the phosphor layer 30 are provided is not limited to a flat surface and has fine irregularities. May be. When the light emitting surface has irregularities, the emitted light from the light emitting surface is scattered, and it is possible to suppress uneven brightness and uneven color.

[接着剤層]
接着剤層60は、発光素子20と蛍光体層30とを接着する。接着剤層60は、発光素子20からの出射光を極力減衰させることなく蛍光体層30へと導光できる材料が好ましい。具体例としてはエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、およびポリイミド樹脂等の有機樹脂を挙げることができるが、シリコーン樹脂が好ましい。接着剤層60の厚さは、薄ければ薄いほど好ましい。接着剤層が薄いと、接着剤層を透過する光の損失を少なくでき、かつ放熱性を向上させることができ、発光装置から出射される光の強度を高くできるからである。
[Adhesive layer]
The adhesive layer 60 bonds the light emitting element 20 and the phosphor layer 30 together. The adhesive layer 60 is preferably made of a material that can guide the emitted light from the light emitting element 20 to the phosphor layer 30 without being attenuated as much as possible. Specific examples include organic resins such as epoxy resins, silicone resins, phenol resins, and polyimide resins, with silicone resins being preferred. The thinner the adhesive layer 60 is, the better. This is because when the adhesive layer is thin, loss of light transmitted through the adhesive layer can be reduced, heat dissipation can be improved, and the intensity of light emitted from the light emitting device can be increased.

接着剤層60は、発光素子20と蛍光体層30の間のみならず、発光素子20の側面にも存在してもよい。また、蛍光体層30のバインダーにシリコーン樹脂を用いる場合には、接着剤層60の接着剤にもシリコーン樹脂を用いることが好ましい。蛍光体層30と接着剤層60の屈折率差を小さくすることができるので、接着剤層60から蛍光体層30への入射光を増加させることが可能となる。   The adhesive layer 60 may exist not only between the light emitting element 20 and the phosphor layer 30 but also on the side surface of the light emitting element 20. Further, when a silicone resin is used for the binder of the phosphor layer 30, it is preferable to use a silicone resin for the adhesive of the adhesive layer 60. Since the refractive index difference between the phosphor layer 30 and the adhesive layer 60 can be reduced, incident light from the adhesive layer 60 to the phosphor layer 30 can be increased.

[樹脂]
樹脂70の材料としては、絶縁材料を用いることが好ましい。ある程度の強度を確保するために、例えば熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。より具体的には、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、BTレジンや、PPAやシリコーン樹脂などが挙げられる。また、これらの母体となる樹脂に、発光素子20からの光を吸収しにくく、かつ母体となる樹脂に対する屈折率差の大きい反射部材を用いることができる。具体的には、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化マグネシウム及び炭酸マグネシウムからなる群から選択される光拡散材を少なくとも一種を分散することで、効率よく光を反射させることができる。
<実施形態2>
[resin]
As a material of the resin 70, an insulating material is preferably used. In order to ensure a certain level of strength, for example, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like can be used. More specifically, a phenol resin, an epoxy resin, a BT resin, PPA, a silicone resin, etc. are mentioned. In addition, a reflective member that hardly absorbs light from the light-emitting element 20 and has a large refractive index difference with respect to the base resin can be used as the base resin. Specifically, by dispersing at least one light diffusing material selected from the group consisting of zirconium oxide, yttrium oxide, aluminum oxide, aluminum hydroxide, barium carbonate, barium sulfate, magnesium oxide and magnesium carbonate, it is efficient. It can reflect light.
<Embodiment 2>

実施形態2に係る発光装置について、図面を用いて説明する。図1は、実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。図10は、(Sr,Ca)AlSiN3:Eu蛍光体と、CaAlSiN3:Eu蛍光体の粉体反射率を示すスペクトル図である。実施形態2は蛍光体層30の形態が、蛍光体層が複数積層されている以外は実施形態1とほぼ同じである。実施形態1と重複する箇所については説明を省略することもある。   A light-emitting device according to Embodiment 2 will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a light emitting device according to an embodiment. FIG. 10 is a spectrum diagram showing the powder reflectance of the (Sr, Ca) AlSiN3: Eu phosphor and the CaAlSiN3: Eu phosphor. The second embodiment is substantially the same as the first embodiment except that the phosphor layer 30 has a plurality of stacked phosphor layers. A description of the same parts as those in the first embodiment may be omitted.

蛍光体層30は発光素子20に近い側にCaAlSiN:Eu蛍光体層、遠い側に(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体層を配置している。この順番に配置することにより、CaAlSiN:Eu蛍光体と(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体とを分散させたものに比べ、発光効率を高め、明るい発光装置を提供することができる。これは例えば440nm〜480nmの発光素子20の発光波長付近において、CaAlSiN:Eu蛍光体の方が(Sr,Ca)AlSiN3:Eu蛍光体よりも反射率が高いため、CaAlSiN:Eu蛍光体層と(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体層との界面で反射された発光素子20からの青色光を再びCaAlSiN:Eu蛍光体層に戻すことができ、CaAlSiN:Eu蛍光体の発光を増幅させているからと思われる。発光素子20の発光波長付近においてCaAlSiN:Eu蛍光体よりも反射率が低く光吸収の高い(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体を上層に配置することで(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体層を透過してしまう青色光を減らすことができる。 In the phosphor layer 30, a CaAlSiN 3 : Eu phosphor layer is disposed on the side closer to the light emitting element 20, and a (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor layer is disposed on the far side. By arranging in this order, the luminous efficiency can be increased and a bright light emitting device can be provided as compared with the case where CaAlSiN 3 : Eu phosphor and (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor are dispersed. For example, the CaAlSiN 3 : Eu phosphor has a higher reflectance than the (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor in the vicinity of the emission wavelength of the light emitting element 20 of 440 nm to 480 nm, and thus the CaAlSiN 3 : Eu phosphor layer. And (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor layer reflected blue light from the light emitting element 20 can be returned to the CaAlSiN 3 : Eu phosphor layer again, and the CaAlSiN 3 : Eu phosphor emits light. It seems that it is amplifying. A (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor having a lower reflectance and higher light absorption than the CaAlSiN 3 : Eu phosphor in the vicinity of the emission wavelength of the light-emitting element 20 is disposed in the upper layer (Sr, Ca) AlSiN 3 : Blue light that passes through the Eu phosphor layer can be reduced.

発光装置100の製造方法としては、透光性部材50に、異なる屈折率を有する誘電体層を交互に含む誘電体多層膜である反射層40を形成、その反射膜40上に、(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体層、CaAlSiN:Eu蛍光体層の順番に蛍光体層30を形成する。CaAlSiN:Eu蛍光体層と(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体層との膜厚は特に限定されないが、例えば約100μmである。 As a method for manufacturing the light emitting device 100, the reflective layer 40, which is a dielectric multilayer film alternately including dielectric layers having different refractive indexes, is formed on the translucent member 50, and (Sr, The phosphor layer 30 is formed in the order of Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor layer and CaAlSiN 3 : Eu phosphor layer. The film thickness of the CaAlSiN 3 : Eu phosphor layer and the (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor layer is not particularly limited, but is, for example, about 100 μm.

発光素子20は予め基台10に配置しておく。接着剤層60は発光素子20の上面に塗布し、発光素子20の発光面が、蛍光体層30と対向するように、蛍光体層30を発光素子20上に配置する。
以上により、発光装置100を簡易に製造することができる。
The light emitting element 20 is arranged on the base 10 in advance. The adhesive layer 60 is applied to the upper surface of the light emitting element 20, and the phosphor layer 30 is disposed on the light emitting element 20 so that the light emitting surface of the light emitting element 20 faces the phosphor layer 30.
As described above, the light emitting device 100 can be easily manufactured.

以下、実施例は図面を用いて具体的に説明するが、本実施形態はこれらの実施例に限定されるものではない。図3は、実施例1に係る発光装置における、光が垂直入射(入射角0°)した場合の、反射膜の波長に対する反射率を示す図である。図3はシミュレーションである。図4は、実施例1及び実施例2、比較例1の発光装置における指向角による色度座標xのずれを示す図である。図5は、実施例1及び実施例2、比較例1の発光装置における指向角による色度座標yのずれを示す図である。図6は、実施例1及び実施例2、比較例1に係る発光装置の発光スペクトルを示す図である。図7は、実施例1及び実施例2,比較例1に係る発光装置の発光スペクトルを示す図である。図8は、反射膜に対する発光素子が発する第1の光の入射角における反射率を示す図である。図9は、反射膜に対する発光素子が発する第1の光の入射角における反射率を示す図である。図8は図9の一部抜粋である。
実施例1及び実施例2、比較例1の発光装置を作製する。実施形態と重複する箇所については説明を省略することもある。
Hereinafter, examples will be specifically described with reference to the drawings. However, the present embodiment is not limited to these examples. FIG. 3 is a diagram illustrating the reflectance with respect to the wavelength of the reflective film when light is vertically incident (incident angle is 0 °) in the light emitting device according to the first embodiment. FIG. 3 is a simulation. FIG. 4 is a diagram illustrating a shift of the chromaticity coordinate x depending on the directivity angle in the light emitting devices of the first embodiment, the second embodiment, and the comparative example 1. FIG. 5 is a diagram illustrating a shift of the chromaticity coordinate y depending on the directivity angle in the light emitting devices of the first embodiment, the second embodiment, and the comparative example 1. 6 is a diagram showing emission spectra of the light emitting devices according to Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. FIG. 7 is a diagram showing an emission spectrum of the light emitting device according to Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. FIG. FIG. 8 is a diagram showing the reflectance at the incident angle of the first light emitted from the light emitting element with respect to the reflective film. FIG. 9 is a diagram showing the reflectance at the incident angle of the first light emitted from the light emitting element with respect to the reflective film. FIG. 8 is a partial extract of FIG.
The light emitting devices of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 are manufactured. A description of the same part as the embodiment may be omitted.

実施例1及び実施例2、比較例1の発光装置に使用する発光素子20として、約403nm、約420nm、約447nmにそれぞれ発光ピーク波長λpを持つ窒化物系半導体発光素子を用いる。透光性部材50は厚さが150μmのガラス板を用い、そのガラス板の上に、550nmより短波長側の光を反射し、550nmより長波長側の光を透過するように設計した誘電体多層膜(DBR反射膜)を用いた反射膜40を形成した。具体的には、誘電体多層膜は、Nbからなる第1誘電体層41とSiOからなる第2誘電体層42を、透光性部材50の上に第2誘電体層42、第1誘電体層41、第2誘電体層42、第1誘電体層41の順に交互に、スパッタ法により、15.5周期(合計31層)積層することにより形成した。 As the light-emitting element 20 used in the light-emitting devices of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, nitride-based semiconductor light-emitting elements having emission peak wavelengths λp at about 403 nm, about 420 nm, and about 447 nm, respectively, are used. The translucent member 50 uses a glass plate having a thickness of 150 μm, and is a dielectric designed to reflect light having a wavelength shorter than 550 nm and transmit light having a wavelength longer than 550 nm on the glass plate. A reflective film 40 using a multilayer film (DBR reflective film) was formed. Specifically, the dielectric multilayer film includes a first dielectric layer 41 made of Nb 2 O 5 and a second dielectric layer 42 made of SiO 2, and the second dielectric layer 42 on the translucent member 50. The first dielectric layer 41, the second dielectric layer 42, and the first dielectric layer 41 were alternately stacked in this order by sputtering for 15.5 periods (31 layers in total).

蛍光体層30は、シリコーン樹脂(信越化学工業社製KJR−9201)にCaAlSiN:Euで表されるCASN系蛍光体粒子を所定の重量%になるように混合して、反射膜40の上に印刷法により、所定の厚さに形成した。実施例1及び実施例2、比較例1に用いられる蛍光体層30の蛍光体は、発光ピーク波長が約660nmであり、また、平均粒径が6.5μmである。 The phosphor layer 30 is prepared by mixing a CASN-based phosphor particle represented by CaAlSiN 3 : Eu with a silicone resin (KJR-9201 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) so as to have a predetermined weight%. The film was formed to a predetermined thickness by a printing method. The phosphor of the phosphor layer 30 used in Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 has an emission peak wavelength of about 660 nm and an average particle diameter of 6.5 μm.

そして、反射膜40及び蛍光体層30が形成された透光性部材50を個片化し、基台10(日亜化学工業社製NJSW172A)上に実装した発光素子20上にシリコーン樹脂(信越化学工業社製KJR−9200)により接合する。さらに、透光性部材50の上面を除いて透光性部材50の側面、蛍光体層30、発光素子20、基台10の凹部15の内底面16及び内側面17を樹脂70にて覆う。樹脂70は光拡散材を含有したシリコーン樹脂(信越化学工業社製KJR−9023N)を用いる。凹部15の内側面17と発光素子20等との間に樹脂70を注入し、約150℃で4時間加熱することで樹脂組成物を硬化させる。
以上のようにして作製した実施例1及び実施例2、比較例1の発光装置の発光特性を表1に示す。
Then, the translucent member 50 on which the reflective film 40 and the phosphor layer 30 are formed is separated into pieces, and a silicone resin (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is placed on the light-emitting element 20 mounted on the base 10 (NJSW172A manufactured by Nichia Corporation). It joins by KJR-9200 made by an industrial company. Further, the side surface of the translucent member 50 except the upper surface of the translucent member 50, the phosphor layer 30, the light emitting element 20, and the inner bottom surface 16 and the inner side surface 17 of the recess 15 of the base 10 are covered with a resin 70. As the resin 70, a silicone resin (KJR-9023N manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) containing a light diffusing material is used. A resin 70 is injected between the inner surface 17 of the recess 15 and the light emitting element 20 and the like, and the resin composition is cured by heating at about 150 ° C. for 4 hours.
Table 1 shows the light emission characteristics of the light emitting devices of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 manufactured as described above.

Figure 2018107418
Figure 2018107418

実施例1及び実施例2、比較例1の発光装置において、いずれも所定の赤色に発光する。ほぼ同一の色度点における実施例1及び実施例2、比較例1の配光色度Δxを図4に、配向色度Δyを図5に示す。ここで、配光色度Δx、Δyとは、正面方向の色度座標を基準として、発光装置の指向角による色度座標のずれを表す。比較例1において指向角60°〜85°において配向色度Δx、Δyのいずれもがマイナス側に0.01以上ずれており、色度座標においては青色が強くなる方向にシフトしている。比較例1に比べ、実施例1及び2は指向角60°〜85°において、色度座標のずれが小さくなっており、配光色度は改善している。また、比較例1に比べて、実施例2及び実施例1の方が視感度は低いため、より一層色ずれを感じ難くなっている。   In the light emitting devices of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, all emit light in a predetermined red color. FIG. 4 shows the light distribution chromaticity Δx and FIG. 5 shows the orientation chromaticity Δy of Examples 1, 2 and Comparative Example 1 at almost the same chromaticity point. Here, the light distribution chromaticities Δx and Δy represent deviations in chromaticity coordinates due to the directivity angle of the light emitting device with reference to the chromaticity coordinates in the front direction. In Comparative Example 1, both the orientation chromaticity Δx and Δy are shifted to the minus side by 0.01 or more at the directivity angles of 60 ° to 85 °, and the chromaticity coordinates are shifted in the direction of increasing blue. Compared to Comparative Example 1, in Examples 1 and 2, the chromaticity coordinate shift is small at the directivity angle of 60 ° to 85 °, and the light distribution chromaticity is improved. In addition, compared with Comparative Example 1, Example 2 and Example 1 have lower visibility, and thus it is more difficult to perceive color misregistration.

また、図8に示すように、各波長における反射率は、入射角60°付近では約半分に低下するが、入射角80°付近においては、波長450nmのみ急激に低下する。これにより、実施例1及び2は指向角による配光色度のずれを小さいまま維持するが、比較例1は、入射角が大きくなるにつれて配光色度のずれが大きくなる。また、発光スペクトルにおいて、比較例1に比べて、実施例1及び2は、発光素子によるピーク波長の強度が弱くなっている。このことから、実施例1及び2は、入射角によるDBR反射膜の反射率が維持され、発光素子の発する光が反射されていることがわかる。   Further, as shown in FIG. 8, the reflectance at each wavelength decreases to about half near the incident angle of 60 °, but sharply decreases only at the wavelength of 450 nm near the incident angle of 80 °. As a result, in Examples 1 and 2, the shift in light distribution chromaticity due to the directivity angle is kept small, but in Comparative Example 1, the shift in light distribution chromaticity increases as the incident angle increases. In addition, in the emission spectrum, compared with Comparative Example 1, Examples 1 and 2 have weaker peak wavelengths due to the light emitting elements. From this, it can be seen that in Examples 1 and 2, the reflectance of the DBR reflecting film depending on the incident angle is maintained, and the light emitted from the light emitting element is reflected.

本実施形態の発光装置は、一般照明、車載照明、観賞用照明、警告灯、表示灯等の幅広い分野で用いることができる。例えば、近紫外乃至青色光を発光する発光ダイオードと組み合わせて、車のリアランプやブレーキランプ等に用いられる発光装置を構成する場合には、例えば、窒化物系蛍光体を用いることができる。   The light emitting device of the present embodiment can be used in a wide range of fields such as general lighting, in-vehicle lighting, ornamental lighting, warning lamps, and indicator lamps. For example, when a light emitting device used for a rear lamp, a brake lamp, or the like of a car is combined with a light emitting diode that emits near ultraviolet to blue light, for example, a nitride-based phosphor can be used.

10 基台
11 第1リード
12 第2リード
13 固定部
14 側壁
15 凹部
16 内底面
17 内側面
20 発光素子
21 半導体積層体
21a 第1半導体層
21b 活性層
21c 第2半導体層
22 基板
30 蛍光体層
40 反射膜
41 第1誘電体層
42 第2誘電体層
50 透光性部材
60 接着剤層
70 樹脂
100 発光装置
A 入射角
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base 11 1st lead 12 2nd lead 13 Fixing part 14 Side wall 15 Recess 16 Inner bottom face 17 Inner side face 20 Light emitting element 21 Semiconductor laminated body 21a 1st semiconductor layer 21b Active layer 21c 2nd semiconductor layer 22 Substrate 30 Phosphor layer 40 reflective film 41 first dielectric layer 42 second dielectric layer 50 translucent member 60 adhesive layer 70 resin 100 light emitting device A incident angle

Claims (15)

380nm以上430nm以下に発光ピーク波長を持つ第1の光を発光する、発光面を持つ発光素子と、
前記発光素子の発光面上に配置され、前記第1の光によって励起されて前記第1の光より長波長の第2の光を発光する蛍光体を含有する蛍光体層と、
前記蛍光体層上に設けられ、前記第1の光を反射し、かつ前記第2の光を透過する反射膜と、を有し、
前記反射膜の反射スペクトルにおいて、前記反射膜は、前記反射膜に対する前記第1の光の入射角が0°から85°における380nm以上430nm以下の光の反射率が40%以上である発光装置。
A light-emitting element having a light-emitting surface that emits first light having an emission peak wavelength of 380 nm to 430 nm;
A phosphor layer that is disposed on the light emitting surface of the light emitting element and contains a phosphor that is excited by the first light and emits second light having a longer wavelength than the first light;
A reflective film provided on the phosphor layer and reflecting the first light and transmitting the second light;
In the reflection spectrum of the reflection film, the reflection film is a light emitting device in which a reflectance of light of 380 nm to 430 nm is 40% or more when an incident angle of the first light to the reflection film is 0 ° to 85 °.
前記反射膜に対する第1の光の入射角が0°から45°における380nm以上430nm以下の光の反射率が90%以上である請求項1に記載の発光装置。   2. The light emitting device according to claim 1, wherein the reflectance of light of 380 nm or more and 430 nm or less when the incident angle of the first light with respect to the reflection film is 0 ° to 45 ° is 90% or more. 前記第1の光と前記反射膜との入射角が0°において、前記反射膜は、380nm以上530nm以下の反射率が90%以上である請求項1又は2に記載の発光装置。   3. The light emitting device according to claim 1, wherein when the incident angle between the first light and the reflective film is 0 °, the reflective film has a reflectance of 380 nm or more and 530 nm or less of 90% or more. 前記発光素子は、発光ピーク波長の最大強度を1とした場合に、450nmの相対強度が0.3以下である請求項1乃至3のいずれか一項に記載の発光装置。   The light emitting device according to any one of claims 1 to 3, wherein the light emitting element has a relative intensity of 450 nm or less when a maximum intensity of an emission peak wavelength is 1. 前記蛍光体は、550nm以上780nm以下に発光ピーク波長を持つ請求項1乃至4のいずれか一項に記載の発光装置。   The light emitting device according to any one of claims 1 to 4, wherein the phosphor has an emission peak wavelength in a range of 550 nm to 780 nm. 前記発光装置は、さらに前記反射膜上に設けられた透光性部材を備えている請求項1乃至5のいずれか一項に記載の発光装置。   The light emitting device according to any one of claims 1 to 5, further comprising a translucent member provided on the reflective film. 前記発光装置は、さらに基台を備えており、前記発光素子は、前記基台に配置されている請求項1乃至6のいずれか一項に記載の発光装置。   The light emitting device according to any one of claims 1 to 6, further comprising a base, and the light emitting element is disposed on the base. 前記基台は内底面と内側面を持つ凹部を形成しており、
前記発光素子は、前記基台の凹部の内底面に配置されており、
前記基台の母材は、セラミックであり、前記発光素子及び前記透光性部材と接するように前記基台の凹部内に樹脂が配置されている請求項7に記載の発光装置。
The base has a recess having an inner bottom surface and an inner surface;
The light emitting element is disposed on the inner bottom surface of the recess of the base,
The light-emitting device according to claim 7, wherein a base material of the base is ceramic, and a resin is disposed in a concave portion of the base so as to be in contact with the light-emitting element and the translucent member.
前記基台の凹部の内底面に対して、前記基台の凹部の最上面は、前記透光性部材の表面よりも高い位置にある請求項8に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 8, wherein an uppermost surface of the concave portion of the base is higher than a surface of the translucent member with respect to an inner bottom surface of the concave portion of the base. 前記樹脂は、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化マグネシウム及び炭酸マグネシウムからなる群から選択される光拡散材を少なくとも一種を含む請求項1乃至9のいずれか一項に記載の発光装置。   10. The resin according to claim 1, wherein the resin includes at least one light diffusing material selected from the group consisting of zirconium oxide, yttrium oxide, aluminum oxide, aluminum hydroxide, barium carbonate, barium sulfate, magnesium oxide, and magnesium carbonate. A light-emitting device according to claim 1. 前記発光装置の発する光の色度は、CIE1931色度図のxy色度座標系において、(x=0.645、y=0.335)、(x=0.665、y=0.335)、(x=0.735、y=0.265)、(x=0.721、y=0.259)の4点を結んでできる四角形で囲まれる範囲内にある請求項1乃至10のいずれか一項に記載の発光装置。   The chromaticity of light emitted from the light emitting device is (x = 0.645, y = 0.335), (x = 0.665, y = 0.335) in the xy chromaticity coordinate system of the CIE1931 chromaticity diagram. , (X = 0.735, y = 0.265), (x = 0.721, y = 0.259) are within a range surrounded by a quadrangle formed by connecting four points. A light-emitting device according to claim 1. 前記蛍光体は、(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体、CaAlSiN:Eu蛍光体、KSiF:Mn蛍光体、から選択される少なくとも1種、またはその組み合わせである請求項1乃至11のいずれか一項に記載の発光装置。 The phosphor is at least one selected from a (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor, a CaAlSiN 3 : Eu phosphor, a K 2 SiF 6 : Mn phosphor, or a combination thereof. The light-emitting device according to any one of 11. 前記蛍光体層は複数積層されており、前記発光素子に近い側にCaAlSiN:Eu蛍光体層、遠い側に(Sr,Ca)AlSiN:Eu蛍光体層を配置している請求項1乃至11のいずれ一項に記載の発光装置。 A plurality of the phosphor layers are laminated, and a CaAlSiN 3 : Eu phosphor layer is disposed on a side closer to the light emitting element, and a (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu phosphor layer is disposed on a far side. The light emitting device according to any one of 11. 前記反射膜は、誘電体多層膜である請求項1乃至13のいずれか一項に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 1, wherein the reflective film is a dielectric multilayer film. 380nm以上430nm以下に発光ピーク波長を持つ第1の光を発光する、第1半導体層、活性層、第2半導体層の順に積層された発光素子と、
前記発光素子上に配置され、前記第1の光によって励起されて前記第1の光より長波長の第2の光を発光する蛍光体を含有する蛍光体層と、
前記蛍光体層上に設けられ、前記第1の光を反射し、かつ前記第2の光を透過する反射膜と、を有し、
前記発光素子の平面視において前記活性層の中心を基準として、前記反射膜方向に−85°から+85°の範囲における380nm以上430nm以下の光の反射率が40%以上である発光装置。
A light emitting element that emits first light having an emission peak wavelength of 380 nm or more and 430 nm or less and is laminated in the order of a first semiconductor layer, an active layer, and a second semiconductor layer;
A phosphor layer that is disposed on the light emitting element and contains a phosphor that is excited by the first light and emits second light having a longer wavelength than the first light;
A reflective film provided on the phosphor layer and reflecting the first light and transmitting the second light;
A light emitting device having a reflectance of light of 380 nm or more and 430 nm or less in a range of −85 ° to + 85 ° in the direction of the reflection film with respect to the center of the active layer in a plan view of the light emitting element as 40% or more.
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