JP2018098646A - Information transmission system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an information transmission system of novel configuration.SOLUTION: A data server stores first data (handwritten document), and converts the first data into type data by character recognition using a neural network and stores the converted type data as second data when a transmitter transmits the first data from a terminal by a facsimile device or the like. When the transmitter corrects the first data (handwritten document) as third data and desires to replace the third data with the first data transmitted before, the transmitter transmits the third data (new handwritten document) from the terminal by the facsimile device or the like again. The data server extracts the first data having a high degree of matching with the third data and being data to be replaced from among stored reception data by pattern recognition using the neural network and replaces the first data with the third data.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明の一態様は、情報送信システムに関する。   One embodiment of the present invention relates to an information transmission system.

世界で生み出されるデータ量は日々増加しており、当該データを格納するデータサーバーにおける負荷は増大している。また、インターネットを利用したデータ送信などにより、大量のデータを短時間で送信することが可能になっている。例えば特許文献1では、ファクシミリ装置による情報の送信について開示している。   The amount of data generated in the world is increasing day by day, and the load on the data server storing the data is increasing. In addition, a large amount of data can be transmitted in a short time by data transmission using the Internet. For example, Patent Document 1 discloses information transmission by a facsimile apparatus.

米国特許出願公開第2008/0024833号公報US Patent Application Publication No. 2008/0024833

コンピュータが膨大なデジタルデータを生み出す一方で、人間が生み出す情報はファクシミリ装置で送信する手書き文書などアナログデータも未だに多い。そのような手書き文書をデジタル化することは、送信者と受信者との円滑なコミュニケーションを実現するために重要である。   While computers produce enormous amounts of digital data, human-generated information still contains a lot of analog data, such as handwritten documents transmitted by facsimile machines. Digitizing such a handwritten document is important for realizing smooth communication between the sender and the receiver.

ファクシミリ装置による情報の送信をした場合、送信者側の都合により、後からデータを差し替えたい場合があり得る。しかしながら新たなデータを送信することで、データサーバーでは前のデータと新たなデータが共存することになり、データ量の増加に伴うデータサーバーの負荷が増大してしまうといった問題が生じる。   When information is transmitted by a facsimile machine, there is a case where it is desired to replace data later for the convenience of the sender. However, by transmitting new data, the previous data and the new data coexist in the data server, and there arises a problem that the load on the data server increases as the data amount increases.

本発明の一態様は、新規な情報送信システムを提供することを課題の一とする。   An object of one embodiment of the present invention is to provide a novel information transmission system.

または本発明の一態様は、データサーバーに蓄積された受信データの中から矛盾無く過去のデータを抽出し、これを削除して、新しいデータと置き換えることができる、新規な情報送信システムを提供することを課題の一とする。   Alternatively, one aspect of the present invention provides a novel information transmission system that can extract past data from received data stored in a data server without any contradiction, delete the past data, and replace it with new data. This is one of the issues.

本発明の一態様は、送信装置からデータサーバーを介して受信装置にデータの送信をするための情報送信システムであって、送信装置は、第1のデータまたは第2のデータを送信する機能を有し、データサーバーは、文字データ生成回路と、パターン認識回路と、記憶回路と、を有し、文字データ生成回路は、第1のデータをもとに第3のデータを生成する機能、および第2のデータをもとに第4のデータを生成する機能を有し、記憶回路は、第1のデータおよび第3のデータと、第2のデータおよび第4のデータとの少なくとも一方を記憶する機能を有し、パターン認識回路は、第1のデータおよび第2のデータを比較して一致する領域を有する場合、記憶回路にある第1のデータおよび第3のデータを、第2のデータおよび第4のデータに差し替える機能を有し、受信装置は、第3のデータまたは第4のデータを表示する機能を有する、情報送信システムである。   One embodiment of the present invention is an information transmission system for transmitting data from a transmission device to a reception device via a data server, and the transmission device has a function of transmitting first data or second data. The data server includes a character data generation circuit, a pattern recognition circuit, and a storage circuit; the character data generation circuit generates a third data based on the first data; and The memory circuit has a function of generating fourth data based on the second data, and the memory circuit stores at least one of the first data and the third data, and the second data and the fourth data. And the pattern recognition circuit compares the first data and the second data and has a matching area, the first data and the third data in the memory circuit are converted into the second data. And fourth data Has the function of replacing, the receiving apparatus has a function of displaying the third data or the fourth data, which is information transmission system.

本発明の一態様は、送信装置から中継用データサーバーを介して受信装置にデータの送信をするための情報送信システムであって、送信装置は、第1のデータまたは第2のデータを送信する機能と、送信用データサーバーと、送信用データサーバーは、文字データ生成回路と、パターン認識回路と、第1の記憶回路と、を有し、中継用データサーバーは、第2の記憶回路と、を有し、文字データ生成回路は、第1のデータをもとに第3のデータを生成する機能、および第2のデータをもとに第4のデータを生成する機能を有し、第1の記憶回路および第2の記憶回路は、第1のデータおよび第3のデータと、第2のデータおよび第4のデータとの少なくとも一方を記憶する機能を有し、パターン認識回路は、第1のデータおよび第2のデータを比較して一致する領域を有する場合、第1の記憶回路および第2の記憶回路にある第1のデータおよび第3のデータを、第2のデータおよび第4のデータに差し替える機能を有し、受信装置は、第3のデータまたは第4のデータを表示する機能を有する、情報送信システムである。   One embodiment of the present invention is an information transmission system for transmitting data from a transmission device to a reception device via a relay data server, and the transmission device transmits first data or second data. The transmission data server, the transmission data server has a character data generation circuit, a pattern recognition circuit, and a first storage circuit, and the relay data server has a second storage circuit, The character data generation circuit has a function of generating third data based on the first data and a function of generating fourth data based on the second data. The memory circuit and the second memory circuit have a function of storing at least one of the first data and the third data, and the second data and the fourth data. Data and second data In the case of having a matching region, the first data and the third data in the first memory circuit and the second memory circuit have a function of replacing the second data and the fourth data, The receiving device is an information transmission system having a function of displaying the third data or the fourth data.

本発明の一態様において、第1のデータおよび第2のデータは、手書き文書のデータを有し、第3のデータおよび第4のデータは、活字のデータを有する、情報送信システムが好ましい。   In one embodiment of the present invention, an information transmission system in which the first data and the second data include handwritten document data, and the third data and the fourth data include type data is preferable.

本発明の一態様において、文字データ生成回路およびパターン認識回路は、ニューラルネットワークに用いることができる積和演算回路を有する、情報送信システムが好ましい。   In one embodiment of the present invention, the character data generation circuit and the pattern recognition circuit are preferably an information transmission system having a product-sum operation circuit that can be used in a neural network.

本発明の一態様において、送信装置は、ファクシミリ装置の機能を有し、受信装置は、表示装置の機能を有する、情報送信システムが好ましい。   In one embodiment of the present invention, an information transmission system is preferable in which the transmission device has a function of a facsimile device and the reception device has a function of a display device.

本発明の一態様において、第1の記憶回路および第2の記憶回路はそれぞれメモリ素子を有し、メモリ素子は、トランジスタと、容量素子と、を有し、トランジスタは、チャネル形成領域を有する半導体層に酸化物半導体を有する、情報送信システムが好ましい。   In one embodiment of the present invention, each of the first memory circuit and the second memory circuit includes a memory element, the memory element includes a transistor and a capacitor, and the transistor includes a channel formation region. An information transmission system with an oxide semiconductor in the layer is preferred.

なおその他の本発明の一態様については、以下で述べる「発明を実施するための形態」、および「図面」に記載されている。   Other aspects of the present invention are described in “DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION” and “Drawings” described below.

本発明の一態様は、新規な情報送信システムを提供することができる。   One embodiment of the present invention can provide a novel information transmission system.

または本発明の一態様は、データサーバーに蓄積された受信データの中から矛盾無く過去のデータを抽出し、これを削除して、新しいデータと置き換えることができる、新規な情報送信システムを提供することができる。   Alternatively, one aspect of the present invention provides a novel information transmission system that can extract past data from received data stored in a data server without any contradiction, delete the past data, and replace it with new data. be able to.

情報送信システムの構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of an information transmission system. 情報送信システムの構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of an information transmission system. 情報送信システムの構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of an information transmission system. 情報送信システムの構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of an information transmission system. 情報送信システムの構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of an information transmission system. 情報送信システムの構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of an information transmission system. 情報送信システムの構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of an information transmission system. 情報送信システムの構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of an information transmission system. 情報送信システムが有する積和演算回路の構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of the product-sum operation circuit which an information transmission system has. 情報送信システムが有する積和演算回路の構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of the product-sum operation circuit which an information transmission system has. 情報送信システムが有する積和演算回路の構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of the product-sum operation circuit which an information transmission system has. 階層型ニューラルネットワークの一例を示す図。The figure which shows an example of a hierarchical neural network. 階層型ニューラルネットワークの一例を示す図。The figure which shows an example of a hierarchical neural network. 階層型ニューラルネットワークの一例を示す図。The figure which shows an example of a hierarchical neural network. 回路の構成例を説明する図。10A and 10B each illustrate a configuration example of a circuit. 情報送信システムが有する記憶回路の構成を説明するための図。3A and 3B illustrate a structure of a memory circuit included in an information transmission system. 情報送信システムが有する表示装置の構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of the display apparatus which an information transmission system has. 情報送信システムが有する表示装置の構成を説明するための図。The figure for demonstrating the structure of the display apparatus which an information transmission system has.

以下、本発明の一態様について図面を参照しながら説明する。但し、本発明の一態様は多くの異なる態様で実施することが可能であり、趣旨およびその範囲から逸脱することなくその形態および詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は、以下の記載内容に限定して解釈されるものではない。   Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. However, one embodiment of the present invention can be implemented in many different modes, and it is easily understood by those skilled in the art that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope thereof. Is done. Accordingly, the present invention should not be construed as being limited to the following description.

本発明の一態様である情報送信システムの構成例について説明する。情報送信システムは、ファクシミリによる手書き文書等の情報の送信に適用することができる。   A configuration example of an information transmission system which is one embodiment of the present invention will be described. The information transmission system can be applied to transmission of information such as a handwritten document by facsimile.

<構成例1>
図1(A)は、情報送信システムの構成例を説明するための概念図である。図1(A)では、データの送信部10、中継部20、受信部30に大別して図示しており、矢印は送信部10側から中継部20を介した受信部30への情報の流れを模式的に表している。なお情報は、データと適宜読み替えることができる。
<Configuration example 1>
FIG. 1A is a conceptual diagram for explaining a configuration example of an information transmission system. In FIG. 1A, the data transmission unit 10, the relay unit 20, and the reception unit 30 are broadly illustrated, and arrows indicate the flow of information from the transmission unit 10 side to the reception unit 30 via the relay unit 20. This is schematically shown. Information can be appropriately read as data.

送信部10には、送信者11、データ12、および送信装置13を図示している。なお送信者11は、一例としては、データ12を送信するユーザーである。またデータ12は、一例としては、手書き文書のデータ、あるいは手書き文書そのものである。また送信装置13は、一例としては、手書き文書のデータを送信可能な装置、具体的にはファクシミリ装置(FAX装置、あるいはFAXと略記する場合がある)、あるいはスキャナーや電話等の機能が複合化された通信装置などである。   In the transmission unit 10, a sender 11, data 12, and a transmission device 13 are illustrated. The sender 11 is a user who transmits the data 12 as an example. The data 12 is, for example, handwritten document data or the handwritten document itself. For example, the transmission device 13 is a device capable of transmitting handwritten document data, specifically, a facsimile device (which may be abbreviated as FAX device or FAX), or a combination of functions such as a scanner and a telephone. Communication device.

中継部20には、ネットワーク21およびデータサーバー22を図示している。なおネットワーク21は、一例としては、例えば、World Wide Web(WWW)の基盤であるインターネット、LAN(Local Area Network)、等のコンピュータネットワーク、あるいは電話回線網である。データサーバー22は、一例としては、ネットワーク21を介して送信部10側より送信されるデータ12を保存すると共に、ニューラルネットワークによる文字認識によりデータ12を活字のデータに変換して保存する機能を有する。加えてデータサーバー22は、一例としては、データ12を訂正して別のデータとし、これを先に送信したデータ12(送信済みの手書き文書のデータ)と差し替えたい場合、あらためて、送信者11が送信装置13から別のデータ(新しい手書き文書のデータ(差し替える手書き文書のデータ))を送信した際に、ニューラルネットワークによるパターン認識により、蓄積しているデータ12の中から、差し替えたいデータとの一致度が高い差し替え対象となるデータ12を抽出し、データ12と差し替えたいデータと入れ替える機能を有する。   In the relay unit 20, a network 21 and a data server 22 are illustrated. The network 21 is, for example, a computer network such as the Internet, a LAN (Local Area Network), or a telephone line network, which is a base of World Wide Web (WWW). For example, the data server 22 has a function of storing the data 12 transmitted from the transmission unit 10 side via the network 21 and storing the data 12 by converting the data 12 into character data by character recognition using a neural network. . In addition, for example, when the data server 22 corrects the data 12 to be another data and wants to replace it with the previously transmitted data 12 (data of the handwritten document that has already been transmitted), the sender 11 revisits it. When another data (new handwritten document data (handwritten document data to be replaced)) is transmitted from the transmission device 13, the data is matched with the data to be replaced from the accumulated data 12 by pattern recognition using a neural network. It has a function of extracting data 12 to be replaced with a high degree and replacing the data 12 with the data to be replaced.

受信部30には、受信者31、および表示装置32を図示している。なお受信者31は、一例としては、データ12を基にした活字のデータあるいは手書き文書のデータを受信するユーザーである。また表示装置32は、一例としては、活字のデータあるいは手書き文書のデータを表示することができる機能を有する。この場合、屋内、屋外であるかに関わらず、データの確認ができるため好適である。なお表示装置32は、活字のデータあるいは手書き文書のデータを用紙に印字して出力する機能を有していてもよい。   The receiver 30 shows a receiver 31 and a display device 32. The receiver 31 is, for example, a user who receives print data or handwritten document data based on the data 12. For example, the display device 32 has a function of displaying type data or handwritten document data. In this case, it is preferable because data can be confirmed regardless of whether it is indoors or outdoors. The display device 32 may have a function of printing type data or handwritten document data on paper and outputting the data.

図1(B)は、図1(A)で説明した情報送信システムの概念図に対応するブロック図である。図1(B)では、図1(A)で図示した送信者11、送信装置13、ネットワーク21、データサーバー22、受信者31を図示している。データサーバー22は、文字データ生成回路23、パターン認識回路24、および記憶回路25を有する。   FIG. 1B is a block diagram corresponding to the conceptual diagram of the information transmission system described in FIG. FIG. 1B illustrates the sender 11, the transmission device 13, the network 21, the data server 22, and the receiver 31 illustrated in FIG. The data server 22 includes a character data generation circuit 23, a pattern recognition circuit 24, and a storage circuit 25.

文字データ生成回路23は、上述した手書き文書のデータ(送信済みの手書き文書のデータ)であるデータ12をもとに、ニューラルネットワーク等による文字認識によって活字のデータに変換するための回路である。つまり文字データ生成回路23は、手書き文書のデータをもとに活字のデータを生成する機能、および、新しい手書き文書のデータ(差し替える手書き文書のデータ)をもとに差し替える活字データを生成する機能、を有する。   The character data generation circuit 23 is a circuit for converting into character data by character recognition using a neural network or the like based on the data 12 which is the above-described handwritten document data (transmitted handwritten document data). That is, the character data generation circuit 23 has a function of generating print data based on handwritten document data, and a function of generating print data to be replaced based on new handwritten document data (handwritten document data to be replaced). Have

記憶回路25は、変換された活字データ、およびその元となる手書き文書のデータを共に記憶しておくための回路である。つまり記憶回路25は、活字のデータまたは差し替える活字のデータ、手書き文書のデータまたは差し替える手書き文書のデータを記憶する機能を有する。なお記憶回路25が有するメモリ素子は、トランジスタおよび容量素子を有し、当該トランジスタは、チャネル形成領域を有する半導体層に酸化物半導体(Oxide Semiconductor)を有するトランジスタ(以下、OSトランジスタ)であることが好ましい。OSトランジスタは、オフ状態時に流れるリーク電流が極めて小さい。そのためOSトランジスタをオフ状態にすることで電荷の保持をできる特性を利用して、データの記憶をすることができる。OSトランジスタを用いた記憶回路の構成については、後述する。   The storage circuit 25 is a circuit for storing the converted type data and the data of the handwritten document that is the source of the converted type data. That is, the storage circuit 25 has a function of storing type data, type data to be replaced, handwritten document data, or handwritten document data to be replaced. Note that the memory element included in the memory circuit 25 includes a transistor and a capacitor, and the transistor is a transistor including an oxide semiconductor in a semiconductor layer including a channel formation region (hereinafter referred to as an OS transistor). preferable. The OS transistor has a very small leakage current flowing in the off state. Therefore, data can be stored by utilizing a characteristic that charges can be held by turning off the OS transistor. A structure of the memory circuit using the OS transistor will be described later.

パターン認識回路24は、手書き文書のデータと、差し替える手書き文書のデータとを比較して一致する文書、すなわち、差し替え対象の手書き文書のデータを抽出するための回路である。つまりパターン認識回路24は、手書き文書のデータと差し替える手書き文書のデータとを比較して一致する領域を有する場合、手書き文書のデータと当該手書き文書と対になる活字のデータとを、差し替える手書き文書のデータと当該手書き文書と対になる活字のデータとのいずれか一方に差し替える機能を有する。   The pattern recognition circuit 24 is a circuit for comparing the data of the handwritten document with the data of the handwritten document to be replaced and extracting the matched document, that is, the data of the handwritten document to be replaced. That is, the pattern recognition circuit 24 compares the handwritten document data with the handwritten document data to replace the handwritten document data and the handwritten document data when the handwritten document data has a matching area. And the type data that is paired with the handwritten document.

手書き文書のデータをFAX等の送信装置で送信する際、送信済みの手書き文書のデータと、差し替えたい手書き文書の例で考えると、両者を比較する場合、一部に完全に一致する領域を含むことが挙げられる。これは、最初から全てを書き直すことは不便なため、追加で書き足す方が便利なためである。そのため、図形としてパターンマッチングを実行することで、精度良く一致する手書き文書、すなわち、差し替え対象の文書を抽出することができる。またパターンマッチングの実行は、手書き文書のデータから活字のデータを生成する際の文字認識にも有効である。なお上述のパターンマッチングの有無は、送信部側で先に送信した手書き文書の差し替えを任意に選択できるようにすることで、不必要なパターンマッチングの実行を省略することができる。   When transmitting handwritten document data with a transmission device such as FAX, considering the example of the transmitted handwritten document data and the example of the handwritten document that is to be replaced, a region that completely matches a part of the data is included. Can be mentioned. This is because it is inconvenient to rewrite everything from the beginning, and it is more convenient to add more. Therefore, by executing pattern matching as a figure, it is possible to extract a handwritten document that matches with high accuracy, that is, a replacement target document. The execution of pattern matching is also effective for character recognition when generating print data from handwritten document data. The presence or absence of the above-mentioned pattern matching can omit unnecessary execution of pattern matching by allowing the transmission unit to arbitrarily select replacement of the handwritten document transmitted earlier.

当該パターンマッチングには、例えば、ニューラルネットワークを基本とした畳み込み型ニューラルネットワークを利用することができる。ニューラルネットワークは、中継部側のデータサーバーの他、送信部側に設けられるデータサーバーに搭載することが可能である。送信部側でニューラルネットワークによる学習をした後、重み係数を中継部側のデータサーバーに送信して、データサーバーのニューラルネットワークを構成することが可能である。また、データサーバーでニューラルネットワークによる学習をした後、重み係数を送信部側に送信して、データサーバー内のニューラルネットワークを構成することが可能である。なおニューラルネットワークでは、重み係数を用いる積和演算によって信号処理を行う。積和演算を行う積和演算回路の構成については、後述する。   For the pattern matching, for example, a convolutional neural network based on a neural network can be used. The neural network can be mounted on a data server provided on the transmission unit side in addition to the data server on the relay unit side. After learning by the neural network on the transmission unit side, the weighting coefficient can be transmitted to the data server on the relay unit side to configure the neural network of the data server. In addition, after learning with a neural network in the data server, the weighting coefficient can be transmitted to the transmitting unit side to configure the neural network in the data server. In the neural network, signal processing is performed by a product-sum operation using a weighting factor. The configuration of the product-sum operation circuit that performs the product-sum operation will be described later.

なお、手書き文書同士の一致度を判定する場合、手書き文書のデータから文字認識して後得られた活字のデータ同士で比較を行う場合、追加した文章や図の位置により、一致度が著しく変化する場合が想定される。したがって、活字のデータとする前の手書き文書のデータでパターンマッチングを実行する構成が好ましい。なお、データサーバー内の手書き文書のデータの中から、探索する手書き文書を限定する目的で、送信側のFAX番号などの従属データを利用する方法がある。また、送信側から、送信時間等の情報として手書き文書のデータに付加して送信することも有効である。このような構成とすることで、効率的に差し替え対象の手書き文書のデータを探し出すことができる。   When determining the degree of matching between handwritten documents, when comparing character data obtained after character recognition from handwritten document data, the degree of matching varies significantly depending on the position of the added sentence or figure. It is assumed that Therefore, a configuration in which pattern matching is executed with the data of the handwritten document before the print data is preferable. There is a method of using dependent data such as a FAX number on the transmission side for the purpose of limiting the handwritten document to be searched among the data of the handwritten document in the data server. In addition, it is also effective to transmit the information by adding it to the data of the handwritten document as information such as the transmission time from the transmission side. With such a configuration, it is possible to efficiently search for data of a handwritten document to be replaced.

図1(A)、(B)に示す情報送信システムは、データサーバーに蓄積された受信データの中から矛盾無く過去のデータを抽出し、これを削除して、新しいデータと置き換えることができる。そのため、ファクシミリ装置による情報の送信をした場合、送信者側の都合により、後からデータを差し替えたい場合であっても、データ量の増加に伴うデータサーバーの負荷が増大してしまうといった問題をなくすことができる。   The information transmission system shown in FIGS. 1A and 1B can extract past data from received data stored in a data server without contradiction, delete this, and replace it with new data. Therefore, when information is transmitted by a facsimile machine, the problem that the load on the data server increases due to an increase in the amount of data is eliminated even if the data is to be replaced later for the convenience of the sender. be able to.

次いで図1(A)、(B)に示す情報送信システムの動作例について図2に示すフローチャートを用いて説明する。併せて、図3(A)、(B)および図4(A)、(B)は、図2に示す各ステップに対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。   Next, an operation example of the information transmission system shown in FIGS. 1A and 1B will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In addition, FIGS. 3A and 3B and FIGS. 4A and 4B are schematic diagrams for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to each step shown in FIG. FIG.

なお図2のフローチャートにおいて、上記説明した「手書き文書のデータ」を単に「データ」として図示している。また「活字のデータ」を「活字データ」として図示している。また「差し替えたい手書き文書」を「更新データ」として図示している。   In the flowchart of FIG. 2, the above-described “handwritten document data” is simply illustrated as “data”. “Type data” is illustrated as “type data”. In addition, “handwritten document to be replaced” is illustrated as “update data”.

また図2にフローチャートにおいて、点線および点線矢印で隔てた領域は、上記図1(A)の送信部10、中継部20および受信部30で処理するステップを理解しやすくするために付したものである。図2では、ステップS101、S104、S105が送信部10で処理するステップであり、ステップS102、S103、S106乃至S109が中継部20で処理するステップであり、ステップS110が受信部30で処理するステップである。   Further, in the flowchart of FIG. 2, the area separated by the dotted line and the dotted line arrow is attached to facilitate understanding of the processing steps performed by the transmission unit 10, the relay unit 20, and the reception unit 30 in FIG. is there. In FIG. 2, steps S101, S104, and S105 are steps processed by the transmission unit 10, steps S102, S103, and S106 to S109 are steps processed by the relay unit 20, and step S110 is a step processed by the reception unit 30. It is.

ステップS101は、データの送信を行う。例えば、送信者によって手書き文字のデータをFAXなどの送信装置により送信部10側から中継部20側に送信する。   In step S101, data is transmitted. For example, handwritten character data is transmitted from the transmission unit 10 side to the relay unit 20 side by a transmission device such as FAX by the sender.

ステップS102は、活字データの生成を行う。例えば、データサーバー22内の文字データ生成回路23においてニューラルネットワークを利用した文字認識によって手書き文字のデータを活字データに変換する。   In step S102, type data is generated. For example, the character data generation circuit 23 in the data server 22 converts handwritten character data into type data by character recognition using a neural network.

ステップS103は、データ及び活字データの記憶を行う。例えば、中継部20側に送信されたデータ、および文字データ生成回路23で変換された活字データを記憶回路25に記憶する。   In step S103, data and type data are stored. For example, the data transmitted to the relay unit 20 side and the type data converted by the character data generation circuit 23 are stored in the storage circuit 25.

図3(A)は、ステップS101乃至S103に対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。図3(A)に図示する点線矢印は、ステップS101乃至S103でのデータ12A、活字データ14Aの送信の流れを可視化したものである。データ12Aは、上述した「手書き文書のデータ」に相当する。図3(A)では理解をしやすくするため、手書き(筆記体)で図示した「abc−」を図示している。データ12Aは、送信装置13およびネットワーク21を介してデータサーバー22の文字データ生成回路23に送信される。文字データ生成回路23では、活字データ14Aを生成する。活字データ14Aは、上述した「活字のデータ」に相当する。図3(A)では理解をしやすくするため、既存のフォントで図示した「abc−」を図示している。データ12Aおよび活字データ14Aは、記憶回路25に記憶される。   FIG. 3A is a schematic diagram for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to steps S101 to S103. The dotted arrows shown in FIG. 3A visualize the flow of transmission of data 12A and type data 14A in steps S101 to S103. The data 12A corresponds to the “handwritten document data” described above. In FIG. 3A, “abc−” illustrated by handwriting (cursive) is illustrated for easy understanding. The data 12A is transmitted to the character data generation circuit 23 of the data server 22 via the transmission device 13 and the network 21. The character data generation circuit 23 generates type data 14A. The type data 14A corresponds to the “type data” described above. In FIG. 3A, “abc−” illustrated in an existing font is illustrated for easy understanding. The data 12A and the type data 14A are stored in the storage circuit 25.

ステップS104は、データの変更の判断を行う。例えば、送信装置13からデータサーバー22に手書き文字のデータを再度送信する際に送信者が差し替えたい手書き文字のデータがあるか否かを任意に選択することで、データサーバー22がある中継部での判断が行われる。送信者によって差し替えたい手書き文字のデータがなければ、先に送信した活字データを閲覧する。送信者によって差し替えたい手書き文字のデータ、つまり更新データがある場合、ステップS105に進む。   In step S104, the data change is determined. For example, when transmitting data of handwritten characters from the transmission device 13 to the data server 22 again, it is possible to arbitrarily select whether or not there is data of handwritten characters that the sender wants to replace, so that the relay unit with the data server 22 can be selected. Judgment is made. If there is no handwritten character data to be replaced by the sender, the type data sent earlier is viewed. If there is handwritten character data to be replaced by the sender, that is, update data, the process proceeds to step S105.

ステップS105は、更新データの送信を行う。例えば、送信者によって手書き文字のデータをFAXなどの送信装置により送信部10側から中継部20側に送信する。   In step S105, update data is transmitted. For example, handwritten character data is transmitted from the transmission unit 10 side to the relay unit 20 side by a transmission device such as FAX by the sender.

ステップS106は、パターン認識を行う。例えば、差し替えたい手書き文字のデータと、記憶回路25に保存されている既に送信された手書き文字のデータと、をデータサーバー22内のパターン認識回路24に読み出す。   In step S106, pattern recognition is performed. For example, the handwritten character data to be replaced and the already transmitted handwritten character data stored in the storage circuit 25 are read out to the pattern recognition circuit 24 in the data server 22.

ステップS107は、類似のデータが記憶されているかの判断を行う。例えば、データサーバー22内のパターン認識回路24において、ニューラルネットワークを利用したパターンマッチングによって手書き文字の一致の度合いを判断する。一致の度合いは、ニューラルネットワークでの学習によって判断させればよい。一致の度合いが高ければステップS108に進む。一致の度合いが低ければ、先に記憶したデータ12A、活字データ14Aと同様に処理するため、ステップS102に進む。   In step S107, it is determined whether similar data is stored. For example, the pattern recognition circuit 24 in the data server 22 determines the degree of matching of handwritten characters by pattern matching using a neural network. The degree of matching may be determined by learning with a neural network. If the degree of coincidence is high, the process proceeds to step S108. If the degree of coincidence is low, the process proceeds to step S102 in order to perform the same processing as the previously stored data 12A and type data 14A.

図3(B)は、ステップS104乃至S107に対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。図3(B)に図示する点線矢印は、ステップS104乃至S107でのデータ12A、12Bの送信の流れを可視化したものである。データ12Bは、上述した「差し替えたい手書き文書」つまり「更新データ」に相当する。図3(B)では理解をしやすくするため、手書き(筆記体)で図示した「abcd−」を図示している。つまり「d」が付け加えられた情報であり、送信者11が「d」を付け加えたデータに差し替えたいものとする。データ12Bは、送信装置13およびネットワーク21を介してデータサーバー22のパターン認識回路24に送信される。パターン認識回路24は、パターンマッチングにより類似するデータを特定するため、記憶回路25からデータ12Aを読み出し、一致の度合いを判定する。なお図3(B)の例では、付け加えられた情報「d」が異なるのみであり、一致の度合いが高いものとして説明する。一致の度合いが低い場合は、先に記憶したデータ12A、活字データ14Aと同様に処理をすればよい。   FIG. 3B is a schematic diagram for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to steps S104 to S107. The dotted arrows shown in FIG. 3B visualize the flow of transmission of data 12A and 12B in steps S104 to S107. The data 12B corresponds to the above-described “handwritten document to be replaced”, that is, “update data”. In FIG. 3 (B), “abcd−” illustrated by handwriting (cursive) is illustrated for easy understanding. That is, it is information with “d” added, and the sender 11 wants to replace the data with “d” added. The data 12B is transmitted to the pattern recognition circuit 24 of the data server 22 via the transmission device 13 and the network 21. The pattern recognition circuit 24 reads the data 12A from the storage circuit 25 and determines the degree of matching in order to identify similar data by pattern matching. In the example of FIG. 3B, it is assumed that only the added information “d” is different and the degree of matching is high. If the degree of coincidence is low, processing may be performed in the same manner as previously stored data 12A and type data 14A.

ステップS108は、データの更新を行う。例えば、中継部20側に送信された更新データを記憶回路25に記憶する。   In step S108, the data is updated. For example, the update data transmitted to the relay unit 20 side is stored in the storage circuit 25.

ステップS109は、活字データの更新を行う。例えば、中継部20側に送信された更新データを文字データ生成回路23で変換し、更新データに対応する新たな活字データを記憶回路25に記憶する。   In step S109, the type data is updated. For example, the update data transmitted to the relay unit 20 side is converted by the character data generation circuit 23, and new type data corresponding to the update data is stored in the storage circuit 25.

図4(A)は、ステップS108乃至S109に対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。図4(A)に図示する点線矢印は、ステップS108乃至S109でのデータ12B、活字データ14Bの送信の流れを可視化したものである。一致の度合いが高いと判断されたデータ12Bは、送信装置13およびネットワーク21を介してデータサーバー22の文字データ生成回路23に送信される。文字データ生成回路23では、活字データ14Bを生成する。活字データ14Bは、上述した「活字のデータ」に相当する。図4(A)では理解をしやすくするため、既存のフォントで図示した「abcd−」を図示している。データ12Bおよび活字データ14Bは、先に保存されていたデータ12Aおよび活字データ14Aに上書きして記憶回路25に記憶される。   FIG. 4A is a schematic diagram for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to steps S108 to S109. The dotted arrows shown in FIG. 4A visualize the flow of transmission of data 12B and type data 14B in steps S108 to S109. The data 12B determined to have a high degree of coincidence is transmitted to the character data generation circuit 23 of the data server 22 via the transmission device 13 and the network 21. The character data generation circuit 23 generates type data 14B. The type data 14B corresponds to the “type data” described above. In FIG. 4A, “abcd-” illustrated in an existing font is illustrated for easy understanding. The data 12B and the type data 14B are stored in the storage circuit 25 by overwriting the previously saved data 12A and type data 14A.

ステップS110は、活字データの閲覧を行う。例えば、受信側にある受信者31は、記憶回路25に記憶された更新データまたは更新データに対応する活字データを表示させ、更新された情報を確認する。   In step S110, the type data is browsed. For example, the receiver 31 on the receiving side displays the updated data stored in the storage circuit 25 or the type data corresponding to the updated data, and confirms the updated information.

図4(B)は、ステップS110に対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。図4(B)に図示する点線矢印は、ステップS110での活字データ14Bの流れを可視化したものである。差し替えられた手書き文字のデータに対応する活字のデータであるデータ14Bは、受信側にある受信者31によって読み出され、表示装置等で表示することで情報を確認することができる。必要に応じて受信者31は、データ14Bを読み出して、表示装置等で表示することで情報を確認することができる。   FIG. 4B is a schematic diagram for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to step S110. The dotted line arrow shown in FIG. 4B visualizes the flow of the type data 14B in step S110. The data 14B, which is the type data corresponding to the replaced handwritten character data, is read by the receiver 31 on the receiving side and displayed on a display device or the like to confirm the information. If necessary, the receiver 31 can check the information by reading the data 14B and displaying it on a display device or the like.

以上説明したように図1(A)、(B)に示す情報送信システムは、図2乃至図4で説明した動作により、データサーバーに蓄積された受信データの中から矛盾無く過去のデータを抽出し、これを削除して、新しいデータと置き換えることができる。そのため、ファクシミリ装置による情報の送信をした場合、送信者側の都合により、後からデータを差し替えたい場合であっても、データ量の増加に伴うデータサーバーの負荷が増大してしまうといった問題をなくすことができる。   As described above, the information transmission system shown in FIGS. 1A and 1B extracts past data from the received data stored in the data server without contradiction by the operations described in FIGS. You can then delete it and replace it with new data. Therefore, when information is transmitted by a facsimile machine, the problem that the load on the data server increases due to an increase in the amount of data is eliminated even if the data is to be replaced later for the convenience of the sender. be able to.

<構成例2>
図5(A)は、情報送信システムの別の構成例を説明するための概念図である。図5(A)では、図1(A)と同様に、データの送信部10、中継部20、受信部30に大別して図示しており、矢印は送信部10側から中継部20を介した受信部30への情報の流れを模式的に表している。なお構成例1と重複する説明は、読みやすさ等を考慮して適宜省略したが、省略する箇所については上記構成例1の記載を援用するものとする。
<Configuration example 2>
FIG. 5A is a conceptual diagram for explaining another configuration example of the information transmission system. In FIG. 5A, similarly to FIG. 1A, data is roughly divided into a data transmission unit 10, a relay unit 20, and a reception unit 30, and an arrow passes through the relay unit 20 from the transmission unit 10 side. The flow of information to receiving part 30 is typically expressed. In addition, although the description which overlaps with the structural example 1 was suitably omitted in consideration of readability etc., the description of the said structural example 1 shall be used about the location to abbreviate | omit.

送信部10には、送信者11、データ12、送信装置13、データサーバー15を図示している。データサーバー15は、一例としては、ネットワーク21を介して送信部10側より送信するデータ12を保存すると共に、ニューラルネットワークによる文字認識によりデータ12を活字のデータに変換して保存する機能、および送信する機能を有する。加えてデータサーバー15は、一例としては、データ12を訂正して別のデータとし、これを先に送信したデータ12(送信済みの手書き文書のデータ)と差し替えたい場合、あらためて、送信者11が送信装置13から別のデータ(新しい手書き文書のデータ(差し替える手書き文書のデータ))を送信した際に、ニューラルネットワークによるパターン認識により、蓄積しているデータ12の中から、差し替えたいデータとの一致度が高い差し替え対象となるデータ12を抽出し、データ12と差し替えたいデータと入れ替える機能、および送信した活字データを差し替える機能を有する。   In the transmitter 10, a sender 11, data 12, a transmitter 13, and a data server 15 are illustrated. As an example, the data server 15 stores the data 12 transmitted from the transmission unit 10 via the network 21, converts the data 12 into character data by character recognition using a neural network, and transmits the data. Has the function of In addition, for example, when the data server 15 corrects the data 12 into another data and wants to replace it with the previously transmitted data 12 (data of the transmitted handwritten document), the sender 11 again When another data (new handwritten document data (handwritten document data to be replaced)) is transmitted from the transmission device 13, the data is matched with the data to be replaced from the accumulated data 12 by pattern recognition using a neural network. It has a function of extracting data 12 to be replaced with a high degree, replacing the data 12 with data to be replaced, and a function of replacing transmitted type data.

中継部20には、ネットワーク21およびデータサーバー22を図示している。データサーバー22は、一例としては、ネットワーク21を介して送信部10側より送信されるデータ12および活字データを保存する機能を有する。   In the relay unit 20, a network 21 and a data server 22 are illustrated. For example, the data server 22 has a function of storing data 12 and type data transmitted from the transmission unit 10 side via the network 21.

受信部30には、受信者31、および表示装置32を図示している。   The receiver 30 shows a receiver 31 and a display device 32.

図5(B)は、図5(A)で説明した情報送信システムの概念図に対応するブロック図である。図5(B)では、図5(A)で図示した送信者11、送信装置13、データサーバー15、ネットワーク21、データサーバー22、受信者31を図示している。データサーバー15は、文字データ生成回路16、パターン認識回路17、付加データ生成回路18、および記憶回路19を有する。データサーバー22は、記憶回路25を有する。   FIG. 5B is a block diagram corresponding to the conceptual diagram of the information transmission system described in FIG. 5B illustrates the sender 11, the transmission device 13, the data server 15, the network 21, the data server 22, and the receiver 31 illustrated in FIG. 5A. The data server 15 includes a character data generation circuit 16, a pattern recognition circuit 17, an additional data generation circuit 18, and a storage circuit 19. The data server 22 has a storage circuit 25.

文字データ生成回路16は、上述した手書き文書のデータ(送信済みの手書き文書のデータ)であるデータ12をもとに、ニューラルネットワーク等による文字認識によって活字のデータに変換するための回路である。つまり文字データ生成回路16は、手書き文書のデータをもとに活字のデータを生成する機能、および、新しい手書き文書のデータ(差し替える手書き文書のデータ)をもとに差し替える活字データを生成する機能、を有する。   The character data generation circuit 16 is a circuit for converting into character data by character recognition using a neural network or the like based on the data 12 which is the above-mentioned handwritten document data (transmitted handwritten document data). That is, the character data generation circuit 16 has a function of generating print data based on handwritten document data, and a function of generating print data to be replaced based on new handwritten document data (handwritten document data to be replaced). Have

記憶回路19、25は、変換された活字データ、およびその元となる手書き文書のデータを共に記憶しておくための回路である。つまり記憶回路19、25は、活字のデータまたは差し替える活字のデータ、手書き文書のデータまたは差し替える手書き文書のデータを記憶する機能を有する。なお記憶回路19、25が有するメモリ素子は、トランジスタおよび容量素子を有し、当該トランジスタは、OSトランジスタであることが好ましい。OSトランジスタを用いた記憶回路の構成については、後述する。   The storage circuits 19 and 25 are circuits for storing the converted type data and the original handwritten document data together. That is, the storage circuits 19 and 25 have a function of storing type data, type data to be replaced, handwritten document data, or handwritten document data to be replaced. Note that the memory element included in the memory circuits 19 and 25 includes a transistor and a capacitor, and the transistor is preferably an OS transistor. A structure of the memory circuit using the OS transistor will be described later.

パターン認識回路17は、手書き文書のデータと、差し替える手書き文書のデータとを比較して一致する文書、すなわち、差し替え対象の手書き文書のデータを抽出するための回路である。つまりパターン認識回路17は、手書き文書のデータと差し替える手書き文書のデータとを比較して一致する領域を有する場合、手書き文書のデータと当該手書き文書と対になる活字のデータとを、差し替える手書き文書のデータと当該手書き文書と対になる活字のデータとのいずれか一方に差し替える機能を有する。   The pattern recognition circuit 17 is a circuit for comparing the data of the handwritten document with the data of the handwritten document to be replaced and extracting the matched document, that is, the data of the handwritten document to be replaced. That is, the pattern recognition circuit 17 compares the handwritten document data with the handwritten document data to be replaced, and has a matching area, the handwritten document data to replace the handwritten document data with the type data corresponding to the handwritten document. And the type data that is paired with the handwritten document.

付加データ生成回路18は、ネットワーク21を介して送信部10側より送信し、記憶回路25に記憶するデータ12および/または活字データを差し替える際に識別するための付加データを生成し、付与する機能を有する。付加データは、一例としては、送信時間等の情報データ等がある。このような構成とすることで、効率的に差し替え対象の手書き文書のデータを探し出すことができる。   The additional data generation circuit 18 generates and gives additional data for identification when replacing the data 12 and / or type data transmitted from the transmission unit 10 side via the network 21 and stored in the storage circuit 25. Have For example, the additional data includes information data such as a transmission time. With such a configuration, it is possible to efficiently search for data of a handwritten document to be replaced.

図5(A)、(B)に示す情報送信システムは、データサーバー15,22に蓄積された受信データの中から矛盾無く過去のデータを抽出し、これを削除して、新しいデータと置き換えることができる。そのため、ファクシミリ装置による情報の送信をした場合、送信者側の都合により、後からデータを差し替えたい場合であっても、データ量の増加に伴うデータサーバーの負荷が増大してしまうといった問題をなくすことができる。   The information transmission system shown in FIGS. 5 (A) and 5 (B) extracts past data from the received data stored in the data servers 15 and 22 without contradiction, deletes this data, and replaces it with new data. Can do. Therefore, when information is transmitted by a facsimile machine, the problem that the load on the data server increases due to an increase in the amount of data is eliminated even if the data is to be replaced later for the convenience of the sender. be able to.

次いで図5(A)、(B)に示す情報送信システムの動作例について図6に示すフローチャートを用いて説明する。併せて、図7(A)、(B)および図8(A)、(B)は、図2に示す各ステップに対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。   Next, an operation example of the information transmission system shown in FIGS. 5A and 5B will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In addition, FIGS. 7A and 7B and FIGS. 8A and 8B are schematic diagrams for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to each step shown in FIG. FIG.

なお図6のフローチャートにおいて、上記説明した「手書き文書のデータ」を単に「データ」として図示している。また「活字のデータ」を「活字データ」として図示している。また「差し替えたい手書き文書」を「更新データ」として図示している。また「付加データ」を「タグデータ」として図示している。   In the flowchart of FIG. 6, the “handwritten document data” described above is simply illustrated as “data”. “Type data” is illustrated as “type data”. In addition, “handwritten document to be replaced” is illustrated as “update data”. “Additional data” is illustrated as “tag data”.

また図6にフローチャートにおいて、点線および点線矢印で隔てた領域は、上記図5(A)の送信部10、中継部20および受信部30で処理するステップを理解しやすくするために付したものである。図6では、ステップS201乃至S203、S205乃至S211が送信部10で処理するステップであり、ステップS204、S212が中継部20で処理するステップであり、ステップS213が受信部30で処理するステップである。   Further, in the flowchart of FIG. 6, the area separated by the dotted line and the dotted line arrow is attached to make it easy to understand the processing steps performed by the transmission unit 10, the relay unit 20, and the reception unit 30 in FIG. is there. In FIG. 6, steps S201 to S203 and S205 to S211 are steps processed by the transmission unit 10, steps S204 and S212 are steps processed by the relay unit 20, and step S213 is a step processed by the reception unit 30. .

ステップS201は、活字データの生成を行う。例えば、データサーバー15内の文字データ生成回路16においてニューラルネットワークを利用した文字認識によって手書き文字のデータを活字データに変換する。   In step S201, type data is generated. For example, the character data generation circuit 16 in the data server 15 converts handwritten character data into type data by character recognition using a neural network.

ステップS202は、データの記憶を行う。例えば、データサーバー15内の記憶回路19に記憶する。   In step S202, data is stored. For example, it is stored in the storage circuit 19 in the data server 15.

ステップS203は、活字データの送信を行う。例えば、活字データは、送信部10側から中継部20側に送信される。   In step S203, type data is transmitted. For example, the print data is transmitted from the transmission unit 10 side to the relay unit 20 side.

ステップS204は、活字データの記憶を行う。例えば、活字データは、データサーバー22内の記憶回路25に記憶する。   Step S204 stores type data. For example, the type data is stored in the storage circuit 25 in the data server 22.

図7(A)は、ステップS201乃至S204に対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。図7(A)に図示する点線矢印は、ステップS201乃至S204でのデータ12A、活字データ14Aの送信の流れを可視化したものである。データ12Aは、データサーバー15の文字データ生成回路16に送信される。文字データ生成回路16では、活字データ14Aを生成する。データ12Aおよび活字データ14Aは、記憶回路19に記憶される。活字データ14Aは、記憶回路25に記憶される。記憶回路25には、活字データ14Aに合わせてデータ12Aを記憶してもよい。   FIG. 7A is a schematic diagram for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to steps S201 to S204. The dotted line arrows shown in FIG. 7A visualize the flow of transmission of data 12A and type data 14A in steps S201 to S204. The data 12A is transmitted to the character data generation circuit 16 of the data server 15. The character data generation circuit 16 generates type data 14A. Data 12A and type data 14A are stored in storage circuit 19. The type data 14A is stored in the storage circuit 25. The storage circuit 25 may store the data 12A in accordance with the type data 14A.

ステップS205は、データの変更の判断を行う。例えば、送信装置13からデータサーバー22に手書き文字のデータを再度送信する際に送信者が差し替えたい手書き文字のデータがあるか否かを任意に選択することで、データサーバー15での判断が行われる。送信者によって差し替えたい手書き文字のデータがなければ、先に送信した活字データを閲覧する。送信者によって差し替えたい手書き文字のデータ、つまり更新データがある場合、ステップS206に進む。   In step S205, the data change is determined. For example, when transmitting data of handwritten characters from the transmission device 13 to the data server 22 again, the data server 15 makes a determination by arbitrarily selecting whether or not there is handwritten character data that the sender wants to replace. Is called. If there is no handwritten character data to be replaced by the sender, the type data sent earlier is viewed. If there is handwritten character data to be replaced by the sender, that is, update data, the process proceeds to step S206.

ステップS206は、パターン認識を行う。例えば、差し替えたい手書き文字のデータと、記憶回路19に保存されている既に送信された手書き文字のデータと、をデータサーバー15内のパターン認識回路17に読み出す。   In step S206, pattern recognition is performed. For example, the handwritten character data to be replaced and the already transmitted handwritten character data stored in the storage circuit 19 are read out to the pattern recognition circuit 17 in the data server 15.

ステップS207は、類似のデータが記憶されているかの判断を行う。例えば、データサーバー15内のパターン認識回路17において、ニューラルネットワークを利用したパターンマッチングによって手書き文字の一致の度合いを判断する。一致の度合いは、ニューラルネットワークでの学習によって判断させればよい。一致の度合いが高ければステップS208に進む。一致の度合いが低ければ、先に記憶したデータ12A、活字データ14Aと同様に処理するため、ステップS201に進む。   In step S207, it is determined whether similar data is stored. For example, the pattern recognition circuit 17 in the data server 15 determines the degree of matching of handwritten characters by pattern matching using a neural network. The degree of matching may be determined by learning with a neural network. If the degree of coincidence is high, the process proceeds to step S208. If the degree of coincidence is low, the process proceeds to step S201 in order to perform the same processing as the previously stored data 12A and type data 14A.

図7(B)は、ステップS205乃至S207に対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。図7(B)に図示する点線矢印は、ステップS205乃至S207でのデータ12A、12Bの送信の流れを可視化したものである。データ12Bは、データサーバー15のパターン認識回路17に送信される。パターン認識回路17は、パターンマッチングにより類似するデータを特定するため、記憶回路19からデータ12Aを読み出し、一致の度合いを判定する。なお図7(B)の例では、付け加えられた情報「d」が異なるのみであり、一致の度合いが高いものとして説明する。一致の度合いが低い場合は、先に記憶したデータ12A、活字データ14Aと同様に処理をすればよい。   FIG. 7B is a schematic diagram for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to steps S205 to S207. The dotted arrows shown in FIG. 7B visualize the flow of transmission of data 12A and 12B in steps S205 to S207. The data 12B is transmitted to the pattern recognition circuit 17 of the data server 15. The pattern recognition circuit 17 reads the data 12A from the storage circuit 19 and determines the degree of matching in order to identify similar data by pattern matching. In the example of FIG. 7B, it is assumed that only the added information “d” is different and the degree of matching is high. If the degree of coincidence is low, processing may be performed in the same manner as previously stored data 12A and type data 14A.

ステップS208は、更新データの送信を行う。例えば、データサーバー15内の記憶回路19に記憶されたデータ12Aをデータ12Bに更新する。   In step S208, update data is transmitted. For example, the data 12A stored in the storage circuit 19 in the data server 15 is updated to the data 12B.

ステップS209は、活字データの更新を行う。例えば、更新データを文字データ生成回路16で変換し、更新データに対応する新たな活字データを記憶回路19に記憶する。   In step S209, the type data is updated. For example, the update data is converted by the character data generation circuit 16, and new type data corresponding to the update data is stored in the storage circuit 19.

ステップS210は、タグデータの生成を行う。例えば、タグデータは、データサーバー22内の記憶回路25に記憶したデータのうち、置き換えたいデータに対応するタグデータを生成する。   In step S210, tag data is generated. For example, tag data corresponding to data to be replaced among data stored in the storage circuit 25 in the data server 22 is generated.

ステップS211は、活字データおよびタグデータの送信を行う。例えば、送信部10側から中継部20側にネットワーク21を介して送信される。   In step S211, type data and tag data are transmitted. For example, it is transmitted from the transmission unit 10 side to the relay unit 20 side via the network 21.

ステップS212は、活字データの更新を行う。例えば、中継部20側に送信された更新データに対応する新たな活字データを記憶回路25に記憶する。   In step S212, the type data is updated. For example, new type data corresponding to the update data transmitted to the relay unit 20 side is stored in the storage circuit 25.

図8(A)は、ステップS208乃至S212に対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。図8(A)に図示する点線矢印は、ステップS208乃至S212でのデータ12B、活字データ14Bの送信の流れを可視化したものである。一致の度合いが高いと判断されたデータ12Bは、データサーバー15の文字データ生成回路16に送信される。文字データ生成回路16では、活字データ14Bを生成する。データ12Bおよび活字データ14Bは、先に保存されていたデータ12Aおよび活字データ14Aに上書きして記憶回路19に記憶される。活字データ14Bは、付加データ生成回路18のタグデータを付して、データサーバー22の記憶回路25に送信され、タグデータに応じた活字データ14Aが活字データ14Bに差し替えられて記憶される。   FIG. 8A is a schematic diagram for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to steps S208 to S212. The dotted arrows shown in FIG. 8A visualize the flow of transmission of data 12B and type data 14B in steps S208 to S212. The data 12B determined to have a high degree of coincidence is transmitted to the character data generation circuit 16 of the data server 15. The character data generation circuit 16 generates type data 14B. The data 12B and the type data 14B are stored in the storage circuit 19 by overwriting the previously saved data 12A and type data 14A. The type data 14B is attached with the tag data of the additional data generation circuit 18 and transmitted to the storage circuit 25 of the data server 22, and the type data 14A corresponding to the tag data is replaced with the type data 14B and stored.

ステップS213は、活字データの閲覧を行う。例えば、受信側にある受信者31は、記憶回路25に記憶された更新データに対応する活字データを表示させ、更新された情報を確認する。   In step S213, type data is browsed. For example, the receiver 31 on the receiving side displays the type data corresponding to the update data stored in the storage circuit 25 and confirms the updated information.

図8(B)は、ステップS213に対応する情報送信システムでのデータの流れについて補足的に説明するための模式図である。図8(B)に図示する点線矢印は、ステップS213での活字データ14Bの流れを可視化したものである。差し替えられた手書き文字のデータに対応する活字のデータであるデータ14Bは、受信側にある受信者31によって読み出され、表示装置等で表示することで情報を確認することができる。必要に応じて受信者31は、データ14Bを読み出して、表示装置等で表示することで情報を確認することができる。   FIG. 8B is a schematic diagram for supplementarily explaining the data flow in the information transmission system corresponding to step S213. The dotted line arrow shown in FIG. 8B is a visualization of the flow of type data 14B in step S213. The data 14B, which is the type data corresponding to the replaced handwritten character data, is read by the receiver 31 on the receiving side and displayed on a display device or the like to confirm the information. If necessary, the receiver 31 can check the information by reading the data 14B and displaying it on a display device or the like.

以上説明したように図5(A)、(B)に示す情報送信システムは、図6乃至図8で説明した動作により、データサーバーに蓄積された受信データの中から矛盾無く過去のデータを抽出し、これを削除して、新しいデータと置き換えることができる。そのため、ファクシミリ装置による情報の送信をした場合、送信者側の都合により、後からデータを差し替えたい場合であっても、データ量の増加に伴うデータサーバーの負荷が増大してしまうといった問題をなくすことができる。   As described above, the information transmission system shown in FIGS. 5A and 5B extracts past data from the received data stored in the data server without contradiction by the operation described in FIGS. You can then delete it and replace it with new data. Therefore, when information is transmitted by a facsimile machine, the problem that the load on the data server increases due to an increase in the amount of data is eliminated even if the data is to be replaced later for the convenience of the sender. be able to.

<文字データ生成回路およびパターン認識回路に適用可能な積和演算回路の構成例>
文字データ生成回路およびパターン認識回路において、ニューラルネットワークを利用した文字認識あるいはパターンマッチングに用いられる積和演算回路の構成の一例を図9に示す。図9に示す積和演算回路100は、記憶回路101、参照用記憶回路102、電流ソース回路103、電流シンク回路104、および電流源回路105を有する。
<Configuration example of product-sum operation circuit applicable to character data generation circuit and pattern recognition circuit>
FIG. 9 shows an example of the configuration of a product-sum operation circuit used for character recognition or pattern matching using a neural network in the character data generation circuit and the pattern recognition circuit. The product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9 includes a storage circuit 101, a reference storage circuit 102, a current source circuit 103, a current sink circuit 104, and a current source circuit 105.

記憶回路101は、メモリセルMC[i、j]、メモリセルMC[i+1、j]で例示されるメモリセルMCを有する。また、各メモリセルMCは、入力された電位を電流に変換する機能を有する素子を有する。上記機能を有する素子として、例えばトランジスタなどの能動素子を用いることができる。図9では、各メモリセルMCがトランジスタTr1を有する場合を例示している。   The memory circuit 101 includes a memory cell MC exemplified by a memory cell MC [i, j] and a memory cell MC [i + 1, j]. Each memory cell MC includes an element having a function of converting an input potential into a current. As an element having the above function, for example, an active element such as a transistor can be used. FIG. 9 illustrates a case where each memory cell MC includes a transistor Tr1.

メモリセルMCには、配線WD[j]で例示される配線WDから第1のアナログ電位が入力される。そして、メモリセルMCは、第1のアナログ電位に応じた第1のアナログ電流を生成する機能を有する。具体的には、トランジスタTr1のゲートに第1のアナログ電位を供給したときに得られるトランジスタTr1のドレイン電流を、第1のアナログ電流とすることができる。なお、以下、メモリセルMC[i、j]に流れる電流をI[i、j]とし、メモリセルMC[i+1、j]に流れる電流をI[i+1、j]とする。   A first analog potential is input to the memory cell MC from the wiring WD exemplified by the wiring WD [j]. The memory cell MC has a function of generating a first analog current corresponding to the first analog potential. Specifically, the drain current of the transistor Tr1 obtained when the first analog potential is supplied to the gate of the transistor Tr1 can be used as the first analog current. Hereinafter, the current flowing through the memory cell MC [i, j] is I [i, j], and the current flowing through the memory cell MC [i + 1, j] is I [i + 1, j].

なお、トランジスタTr1が飽和領域で動作する場合、そのドレイン電流はソースとドレイン間の電圧に依存せず、ゲート電圧と閾値電圧の差分によって制御される。よって、トランジスタTr1は飽和領域で動作させることが望ましい。トランジスタTr1を飽和領域で動作させるために、そのゲート電圧、ソースとドレイン間の電圧は、飽和領域で動作する範囲の電圧に適切に設定されているものとする。   Note that when the transistor Tr1 operates in the saturation region, the drain current does not depend on the voltage between the source and the drain, but is controlled by the difference between the gate voltage and the threshold voltage. Therefore, it is desirable to operate the transistor Tr1 in the saturation region. In order to operate the transistor Tr1 in the saturation region, it is assumed that the gate voltage and the voltage between the source and the drain are appropriately set to a voltage within a range in which the transistor Tr1 operates in the saturation region.

具体的に、図9に示す積和演算回路100では、メモリセルMC[i、j]に配線WD[j]から第1のアナログ電位Vx[i、j]または第1のアナログ電位Vx[i、j]に応じた電位が入力される。メモリセルMC[i、j]は、第1のアナログ電位Vx[i、j]に応じた第1のアナログ電流を生成する機能を有する。すなわち、この場合、メモリセルMC[i、j]の電流I[i、j]は、第1のアナログ電流に相当する。   Specifically, in the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9, the first analog potential Vx [i, j] or the first analog potential Vx [i] from the wiring WD [j] to the memory cell MC [i, j]. , J] is input. The memory cell MC [i, j] has a function of generating a first analog current corresponding to the first analog potential Vx [i, j]. That is, in this case, the current I [i, j] of the memory cell MC [i, j] corresponds to the first analog current.

また、具体的に、図9に示す積和演算回路100では、メモリセルMC[i+1、j]に配線WD[j]から第1のアナログ電位Vx[i+1、j]または第1のアナログ電位Vx[i+1、j]に応じた電位が入力される。メモリセルMC[i+1、j]は、第1のアナログ電位Vx[i+1、j]に応じた第1のアナログ電流を生成する機能を有する。すなわち、この場合、メモリセルMC[i+1、j]の電流I[i+1、j]は、第1のアナログ電流に相当する。   Specifically, in the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9, the first analog potential Vx [i + 1, j] or the first analog potential Vx is connected to the memory cell MC [i + 1, j] from the wiring WD [j]. A potential corresponding to [i + 1, j] is input. The memory cell MC [i + 1, j] has a function of generating a first analog current corresponding to the first analog potential Vx [i + 1, j]. That is, in this case, the current I [i + 1, j] of the memory cell MC [i + 1, j] corresponds to the first analog current.

メモリセルMCは、第1のアナログ電位を保持する機能を有する。すなわち、メモリセルMCは、第1のアナログ電位を保持することで、第1のアナログ電位に応じた第1のアナログ電流を保持する機能を有すると言える。   The memory cell MC has a function of holding the first analog potential. That is, it can be said that the memory cell MC has a function of holding the first analog current corresponding to the first analog potential by holding the first analog potential.

また、メモリセルMCには、配線RW[i]、配線RW[i+1]で例示される配線RWから第2のアナログ電位が入力される。メモリセルMCは、既に保持されている第1のアナログ電位に、第2のアナログ電位或いは第2のアナログ電位に応じた電位を加算する機能と、加算することで得られる第3のアナログ電位を保持する機能とを有する。そして、メモリセルMCは、第3のアナログ電位に応じた第2のアナログ電流を生成する機能を有する。すなわち、メモリセルMCは、第3のアナログ電位を保持することで、第3のアナログ電位に応じた第2のアナログ電流を保持する機能を有すると言える。   In addition, the second analog potential is input to the memory cell MC from the wiring RW exemplified by the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1]. The memory cell MC has a function of adding the second analog potential or a potential corresponding to the second analog potential to the already held first analog potential, and a third analog potential obtained by the addition. Holding function. The memory cell MC has a function of generating a second analog current corresponding to the third analog potential. That is, it can be said that the memory cell MC has a function of holding the second analog current corresponding to the third analog potential by holding the third analog potential.

具体的に、図9に示す積和演算回路100では、メモリセルMC[i、j]に配線RW[i]から第2のアナログ電位Vw[i、j]が入力される。そして、メモリセルMC[i、j]は、第1のアナログ電位Vx[i、j]及び第2のアナログ電位Vw[i、j]に応じた第3のアナログ電位を保持する機能を有する。そして、メモリセルMC[i、j]は、第3のアナログ電位に応じた第2のアナログ電流を生成する機能を有する。すなわち、この場合、メモリセルMC[i、j]の電流I[i、j]は、第2のアナログ電流に相当する。   Specifically, in the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9, the second analog potential Vw [i, j] is input to the memory cell MC [i, j] from the wiring RW [i]. The memory cell MC [i, j] has a function of holding a third analog potential corresponding to the first analog potential Vx [i, j] and the second analog potential Vw [i, j]. The memory cell MC [i, j] has a function of generating a second analog current corresponding to the third analog potential. That is, in this case, the current I [i, j] of the memory cell MC [i, j] corresponds to the second analog current.

また、図9に示す積和演算回路100では、メモリセルMC[i+1、j]に配線RW[i+1]から第2のアナログ電位Vw[i+1、j]が入力される。そして、メモリセルMC[i+1、j]は、第1のアナログ電位Vx[i+1、j]及び第2のアナログ電位Vw[i+1、j]に応じた第3のアナログ電位を保持する機能を有する。そして、メモリセルMC[i+1、j]は、第3のアナログ電位に応じた第2のアナログ電流を生成する機能を有する。すなわち、この場合、メモリセルMC[i+1、j]の電流I[i+1、j]は、第2のアナログ電流に相当する。   In the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9, the second analog potential Vw [i + 1, j] is input to the memory cell MC [i + 1, j] from the wiring RW [i + 1]. The memory cell MC [i + 1, j] has a function of holding a third analog potential corresponding to the first analog potential Vx [i + 1, j] and the second analog potential Vw [i + 1, j]. The memory cell MC [i + 1, j] has a function of generating a second analog current corresponding to the third analog potential. That is, in this case, the current I [i + 1, j] of the memory cell MC [i + 1, j] corresponds to the second analog current.

そして、電流I[i、j]は、メモリセルMC[i、j]を介して配線BL[j]と配線VR[j]の間を流れる。電流I[i+1、j]は、メモリセルMC[i+1、j]を介して配線BL[j]と配線VR[j]の間を流れる。よって、電流I[i、j]と電流I[i+1、j]との和に相当する電流I[j]が、メモリセルMC[i、j]及びメモリセルMC[i+1、j]を介して配線BL[j]と配線VR[j]の間を流れることとなる。   The current I [i, j] flows between the wiring BL [j] and the wiring VR [j] through the memory cell MC [i, j]. The current I [i + 1, j] flows between the wiring BL [j] and the wiring VR [j] through the memory cell MC [i + 1, j]. Therefore, a current I [j] corresponding to the sum of the current I [i, j] and the current I [i + 1, j] is passed through the memory cell MC [i, j] and the memory cell MC [i + 1, j]. It flows between the wiring BL [j] and the wiring VR [j].

参照用記憶回路102は、メモリセルMCR[i]、メモリセルMCR[i+1]で例示されるメモリセルMCRを有する。メモリセルMCRには、配線WDREFから第1の参照電位VPRが入力される。そして、メモリセルMCRは、第1の参照電位VPRに応じた第1の参照電流を生成する機能を有する。なお、以下、メモリセルMCR[i]に流れる電流をIREF[i]とし、メモリセルMCR[i+1]に流れる電流をIREF[i+1]とする。   The reference memory circuit 102 includes a memory cell MCR exemplified by a memory cell MCR [i] and a memory cell MCR [i + 1]. A first reference potential VPR is input to the memory cell MCR from the wiring WDREF. The memory cell MCR has a function of generating a first reference current corresponding to the first reference potential VPR. Hereinafter, the current flowing through the memory cell MCR [i] is referred to as IREF [i], and the current flowing through the memory cell MCR [i + 1] is referred to as IREF [i + 1].

そして、具体的に、図9に示す積和演算回路100では、メモリセルMCR[i]に配線WDREF[i]から第1の参照電位VPRが入力される。メモリセルMCR[i]は、第1の参照電位VPRに応じた第1の参照電流を生成する機能を有する。すなわち、この場合、メモリセルMCR[i]の電流IREF[i]は、第1の参照電流に相当する。   Specifically, in the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9, the first reference potential VPR is input to the memory cell MCR [i] from the wiring WDREF [i]. The memory cell MCR [i] has a function of generating a first reference current corresponding to the first reference potential VPR. That is, in this case, the current IREF [i] of the memory cell MCR [i] corresponds to the first reference current.

また、図9に示す積和演算回路100では、メモリセルMCR[i+1]に配線WDREFから第1の参照電位VPRが入力される。メモリセルMCR[i+1]は、第1の参照電位VPRに応じた第1の参照電流を生成する機能を有する。すなわち、この場合、メモリセルMCR[i+1]の電流IREF[i+1]は、第1の参照電流に相当する。   In the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9, the first reference potential VPR is input to the memory cell MCR [i + 1] from the wiring WDREF. The memory cell MCR [i + 1] has a function of generating a first reference current corresponding to the first reference potential VPR. That is, in this case, the current IREF [i + 1] of the memory cell MCR [i + 1] corresponds to the first reference current.

そして、メモリセルMCRは、第1の参照電位VPRを保持する機能を有する。すなわち、メモリセルMCRは、第1の参照電位VPRを保持することで、第1の参照電位VPRに応じた第1の参照電流を保持する機能を有すると言える。   The memory cell MCR has a function of holding the first reference potential VPR. That is, it can be said that the memory cell MCR has a function of holding the first reference current corresponding to the first reference potential VPR by holding the first reference potential VPR.

また、メモリセルMCRには、配線RW[i]、配線RW[i+1]で例示される配線RWから第2のアナログ電位が入力される。メモリセルMCRは、既に保持されている第1の参照電位VPRに、第2のアナログ電位或いは第2のアナログ電位に応じた電位を加算し、加算することで得られる第2の参照電位を保持する機能を有する。そして、メモリセルMCRは、第2の参照電位に応じた第2の参照電流を生成する機能を有する。すなわち、メモリセルMCRは、第2の参照電位を保持することで、第2の参照電位に応じた第2の参照電流を保持する機能を有すると言える。   In addition, the second analog potential is input to the memory cell MCR from the wiring RW exemplified by the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1]. The memory cell MCR adds the second analog potential or a potential corresponding to the second analog potential to the already held first reference potential VPR, and holds the second reference potential obtained by the addition. It has the function to do. The memory cell MCR has a function of generating a second reference current corresponding to the second reference potential. That is, it can be said that the memory cell MCR has a function of holding the second reference potential corresponding to the second reference potential by holding the second reference potential.

具体的に、図9に示す積和演算回路100では、メモリセルMCR[i]に配線RW[i]から第2のアナログ電位Vw[i、j]が入力される。そして、メモリセルMCR[i]は、第1の参照電位VPR及び第2のアナログ電位Vw[i、j]に応じた第2の参照電位を保持する機能を有する。そして、メモリセルMCR[i]は、第2の参照電位に応じた第2の参照電流を生成する機能を有する。すなわち、この場合、メモリセルMCR[i]の電流IREF[i]は、第2の参照電流に相当する。   Specifically, in the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9, the second analog potential Vw [i, j] is input to the memory cell MCR [i] from the wiring RW [i]. The memory cell MCR [i] has a function of holding a second reference potential corresponding to the first reference potential VPR and the second analog potential Vw [i, j]. The memory cell MCR [i] has a function of generating a second reference current corresponding to the second reference potential. That is, in this case, the current IREF [i] of the memory cell MCR [i] corresponds to the second reference current.

また、図9に示す積和演算回路100では、メモリセルMCR[i+1]に配線RW[i+1]から第2のアナログ電位Vw[i+1、j]が入力される。そして、メモリセルMCR[i+1]は、第1の参照電位VPR及び第2のアナログ電位Vw[i+1、j]に応じた第2の参照電位を保持する機能を有する。そして、メモリセルMCR[i+1]は、第2の参照電位に応じた第2の参照電流を生成する機能を有する。すなわち、この場合、メモリセルMCR[i+1]の電流IREF[i+1]は、第2の参照電流に相当する。   In the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9, the second analog potential Vw [i + 1, j] is input to the memory cell MCR [i + 1] from the wiring RW [i + 1]. The memory cell MCR [i + 1] has a function of holding a second reference potential corresponding to the first reference potential VPR and the second analog potential Vw [i + 1, j]. The memory cell MCR [i + 1] has a function of generating a second reference current corresponding to the second reference potential. That is, in this case, the current IREF [i + 1] of the memory cell MCR [i + 1] corresponds to the second reference current.

そして、電流IREF[i]は、メモリセルMCR[i]を介して配線BLREFと配線VRREFの間を流れる。電流IREF[i+1]は、メモリセルMCR[i+1]を介して配線BLREFと配線VRREFの間を流れる。よって、電流IREF[i]と電流IREF[i+1]との和に相当する電流IREFが、メモリセルMCR[i]及びメモリセルMCR[i+1]を介して配線BLREFと配線VRREFの間を流れることとなる。   Then, the current IREF [i] flows between the wiring BLREF and the wiring VRREF through the memory cell MCR [i]. The current IREF [i + 1] flows between the wiring BLREF and the wiring VRREF through the memory cell MCR [i + 1]. Therefore, the current IREF corresponding to the sum of the current IREF [i] and the current IREF [i + 1] flows between the wiring BLREF and the wiring VRREF via the memory cell MCR [i] and the memory cell MCR [i + 1]. Become.

電流源回路105は、配線BLREFに流れる電流IREFと同じ値の電流、もしくは電流IREFに対応する電流を、配線BLに供給する機能を有する。そして、後述するオフセットの電流を設定する際には、メモリセルMC[i、j]及びメモリセルMC[i+1、j]を介して配線BL[j]と配線VR[j]の間を流れる電流I[j]が、メモリセルMCR[i]及びメモリセルMCR[i+1]を介して配線BLREFと配線VRREFの間を流れる電流IREFと異なる場合、差分の電流は電流ソース回路103または電流シンク回路104に流れる。   The current source circuit 105 has a function of supplying a current having the same value as the current IREF flowing through the wiring BLREF or a current corresponding to the current IREF to the wiring BL. When setting an offset current, which will be described later, a current flowing between the wiring BL [j] and the wiring VR [j] through the memory cell MC [i, j] and the memory cell MC [i + 1, j]. When I [j] is different from the current IREF flowing between the wiring BLREF and the wiring VRREF via the memory cell MCR [i] and the memory cell MCR [i + 1], the difference current is the current source circuit 103 or the current sink circuit 104. Flowing into.

具体的に、電流I[j]が電流IREFよりも大きい場合、電流ソース回路103は、電流I[j]と電流IREFの差分に相当する電流ΔI[j]を生成する機能を有する。また、電流ソース回路103は、生成した電流ΔI[j]を配線BL[j]に供給する機能を有する。すなわち、電流ソース回路103は、電流ΔI[j]を保持する機能を有すると言える。   Specifically, when the current I [j] is larger than the current IREF, the current source circuit 103 has a function of generating a current ΔI [j] corresponding to the difference between the current I [j] and the current IREF. The current source circuit 103 has a function of supplying the generated current ΔI [j] to the wiring BL [j]. That is, it can be said that the current source circuit 103 has a function of holding the current ΔI [j].

また、電流I[j]が電流IREFよりも小さい場合、電流シンク回路104は、電流I[j]と電流IREFの差分に相当する電流ΔI[j]を生成する機能を有する。また、電流シンク回路104は、生成した電流ΔI[j]を配線BL[j]から引き込む機能を有する。すなわち、電流シンク回路104は、電流ΔI[j]を保持する機能を有すると言える。   When the current I [j] is smaller than the current IREF, the current sink circuit 104 has a function of generating a current ΔI [j] corresponding to the difference between the current I [j] and the current IREF. The current sink circuit 104 has a function of drawing the generated current ΔI [j] from the wiring BL [j]. That is, it can be said that the current sink circuit 104 has a function of holding the current ΔI [j].

次いで、図9に示す積和演算回路100の動作の一例について説明する。   Next, an example of the operation of the product-sum operation circuit 100 illustrated in FIG. 9 will be described.

まず、メモリセルMC[i、j]に第1のアナログ電位に応じた電位を格納する。具体的には、第1の参照電位VPRから第1のアナログ電位Vx[i、j]を差し引いた電位VPR−Vx[i、j]が、配線WD[j]を介してメモリセルMC[i、j]に入力される。メモリセルMC[i、j]では、電位VPR−Vx[i、j]が保持される。また、メモリセルMC[i、j]では、電位VPR−Vx[i、j]に応じた電流I[i、j]が生成される。例えば第1の参照電位VPRは、接地電位よりも高いハイレベルの電位とする。具体的には、接地電位よりも高く、電流源回路105に供給されるハイレベルの電位VDDと同程度か、それ以下の電位であることが望ましい。   First, a potential corresponding to the first analog potential is stored in the memory cell MC [i, j]. Specifically, a potential VPR−Vx [i, j] obtained by subtracting the first analog potential Vx [i, j] from the first reference potential VPR is set to the memory cell MC [i] via the wiring WD [j]. , J]. In the memory cell MC [i, j], the potential VPR−Vx [i, j] is held. In the memory cell MC [i, j], a current I [i, j] corresponding to the potential VPR−Vx [i, j] is generated. For example, the first reference potential VPR is a high level potential higher than the ground potential. Specifically, it is desirable that the potential is higher than the ground potential and is approximately equal to or lower than the high-level potential VDD supplied to the current source circuit 105.

また、メモリセルMCR[i]に第1の参照電位VPRを格納する。具体的には、電位VPRが、配線WDREFを介してメモリセルMCR[i]に入力される。メモリセルMCR[i]では、電位VPRが保持される。また、メモリセルMCR[i]では、電位VPRに応じた電流IREF[i]が生成される。   Further, the first reference potential VPR is stored in the memory cell MCR [i]. Specifically, the potential VPR is input to the memory cell MCR [i] through the wiring WDREF. In the memory cell MCR [i], the potential VPR is held. In the memory cell MCR [i], a current IREF [i] corresponding to the potential VPR is generated.

また、メモリセルMC[i+1、j]に第1のアナログ電位に応じた電位を格納する。具体的には、第1の参照電位VPRから第1のアナログ電位Vx[i+1、j]を差し引いた電位VPR−Vx[i+1、j]が、配線WD[j]を介してメモリセルMC[i+1、j]に入力される。メモリセルMC[i+1、j]では、電位VPR−Vx[i+1、j]が保持される。また、メモリセルMC[i+1、j]では、電位VPR−Vx[i+1、j]に応じた電流I[i+1、j]が生成される。   In addition, a potential corresponding to the first analog potential is stored in the memory cell MC [i + 1, j]. Specifically, the potential VPR−Vx [i + 1, j] obtained by subtracting the first analog potential Vx [i + 1, j] from the first reference potential VPR is connected to the memory cell MC [i + 1] via the wiring WD [j]. , J]. In the memory cell MC [i + 1, j], the potential VPR−Vx [i + 1, j] is held. Further, in the memory cell MC [i + 1, j], a current I [i + 1, j] corresponding to the potential VPR−Vx [i + 1, j] is generated.

また、メモリセルMCR[i+1]に第1の参照電位VPRを格納する。具体的には、電位VPRが、配線WDREFを介してメモリセルMCR[i+1]に入力される。モリセルMCR[i+1]では、電位VPRが保持される。また、メモリセルMCR[i+1]では、電位VPRに応じた電流IREF[i+1]が生成される。   In addition, the first reference potential VPR is stored in the memory cell MCR [i + 1]. Specifically, the potential VPR is input to the memory cell MCR [i + 1] through the wiring WDREF. In the Mori cell MCR [i + 1], the potential VPR is held. In the memory cell MCR [i + 1], a current IREF [i + 1] corresponding to the potential VPR is generated.

上記動作において、配線RW[i]及び配線RW[i+1]は基準電位とする。例えば、基準電位として接地電位、基準電位よりも低いローレベルの電位VSSなどを用いることができる。或いは、基準電位として電位VSSと電位VDDの間の電位を用いると、第2のアナログ電位Vwを正負にしても、配線RWの電位を接地電位よりも高くできるので信号の生成を容易にすることができ、正負の電位に対する積演算が可能になるので好ましい。   In the above operation, the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1] are set to the reference potential. For example, a ground potential, a low-level potential VSS lower than the reference potential, or the like can be used as the reference potential. Alternatively, when a potential between the potential VSS and the potential VDD is used as the reference potential, the potential of the wiring RW can be higher than the ground potential even if the second analog potential Vw is positive or negative, so that signal generation is facilitated. This is preferable because product operation for positive and negative potentials can be performed.

上記動作により、配線BL[j]には、配線BL[j]に接続されたメモリセルMCにおいてそれぞれ生成される電流を合わせた電流が、流れることとなる。具体的に図9では、メモリセルMC[i、j]で生成される電流I[i、j]と、メモリセルMC[i+1、j]で生成される電流I[i+1、j]とを合わせた電流I[j]が流れる。また、上記動作により、配線BLREFには、配線BLREFに接続されたメモリセルMCRにおいてそれぞれ生成される電流を合わせた電流が、流れることとなる。具体的に図9では、メモリセルMCR[i]で生成される電流IREF[i]と、メモリセルMCR[i+1]で生成される電流IREF[i+1]とを合わせた電流IREFが流れる。   Through the above operation, currents that are combined with currents generated in the memory cells MC connected to the wiring BL [j] flow through the wiring BL [j]. Specifically, in FIG. 9, the current I [i, j] generated in the memory cell MC [i, j] is combined with the current I [i + 1, j] generated in the memory cell MC [i + 1, j]. Current I [j] flows. Further, by the above operation, currents that are combined with currents generated in the memory cells MCR connected to the wiring BLREF flow through the wiring BLREF. Specifically, in FIG. 9, a current IREF that is a combination of the current IREF [i] generated in the memory cell MCR [i] and the current IREF [i + 1] generated in the memory cell MCR [i + 1] flows.

次いで、配線RW[i]及び配線RW[i+1]の電位を基準電位としたまま、第1のアナログ電位によって得られる電流I[j]と第1の参照電位によって得られる電流IREFとの差分から得られるオフセットの電流Ioffset[j]を、電流ソース回路103または電流シンク回路104において保持する。   Next, from the difference between the current I [j] obtained by the first analog potential and the current IREF obtained by the first reference potential, with the potentials of the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1] being the reference potential. The obtained offset current Ioffset [j] is held in the current source circuit 103 or the current sink circuit 104.

具体的に、電流I[j]が電流IREFよりも大きい場合、電流ソース回路103は電流Ioffset[j]を配線BL[j]に供給する。すなわち、電流ソース回路103に流れる電流ICM[j]は電流Ioffset[j]に相当することとなる。そして、当該電流ICM[j]の値は電流ソース回路103において保持される。また、電流I[j]が電流IREFよりも小さい場合、電流シンク回路104は電流Ioffset[j]を配線BL[j]から引き込む。すなわち、電流シンク回路104に流れる電流ICP[j]は電流Ioffset[j]に相当することとなる。そして、当該電流ICP[j]の値は電流シンク回路104において保持される。   Specifically, when the current I [j] is larger than the current IREF, the current source circuit 103 supplies the current Ioffset [j] to the wiring BL [j]. That is, the current ICM [j] flowing through the current source circuit 103 corresponds to the current Ioffset [j]. The value of the current ICM [j] is held in the current source circuit 103. On the other hand, when the current I [j] is smaller than the current IREF, the current sink circuit 104 draws the current Ioffset [j] from the wiring BL [j]. That is, the current ICP [j] flowing through the current sink circuit 104 corresponds to the current Ioffset [j]. The value of the current ICP [j] is held in the current sink circuit 104.

次いで、既にメモリセルMC[i、j]において保持されている第1のアナログ電位または第1のアナログ電位に応じた電位に加算するように、第2のアナログ電位または第2のアナログ電位に応じた電位をメモリセルMC[i、j]に格納する。具体的には、配線RW[i]の電位を基準電位に対してVw[i]だけ高い電位とすることで、第2のアナログ電位Vw[i]が、配線RW[i]を介してメモリセルMC[i、j]に入力される。メモリセルMC[i、j]では、電位VPR−Vx[i、j]+Vw[i]が保持される。また、メモリセルMC[i、j]では、電位VPR−Vx[i、j]+Vw[i]に応じた電流I[i、j]が生成される。   Then, according to the second analog potential or the second analog potential so as to be added to the first analog potential already held in the memory cell MC [i, j] or the potential according to the first analog potential. The stored potential is stored in the memory cell MC [i, j]. Specifically, by setting the potential of the wiring RW [i] to a potential higher by Vw [i] than the reference potential, the second analog potential Vw [i] is stored in the memory via the wiring RW [i]. Input to cell MC [i, j]. In the memory cell MC [i, j], the potential VPR−Vx [i, j] + Vw [i] is held. In the memory cell MC [i, j], a current I [i, j] corresponding to the potential VPR−Vx [i, j] + Vw [i] is generated.

また、既にメモリセルMC[i+1、j]において保持されている第1のアナログ電位または第1のアナログ電位に応じた電位に加算するように、第2のアナログ電位または第2のアナログ電位に応じた電位をメモリセルMC[i+1、j]に格納する。具体的には、配線RW[i+1]の電位を基準電位に対してVw[i+1]だけ高い電位とすることで、第2のアナログ電位Vw[i+1]が、配線RW[i+1]を介してメモリセルMC[i+1、j]に入力される。メモリセルMC[i+1、j]では、電位VPR−Vx[i+1、j]+Vw[i+1]が保持される。また、メモリセルMC[i+1、j]では、電位VPR−Vx[i+1、j]+Vw[i+1]に応じた電流I[i+1、j]が生成される。   Further, according to the second analog potential or the second analog potential so as to be added to the first analog potential already held in the memory cell MC [i + 1, j] or the potential according to the first analog potential. The stored potential is stored in the memory cell MC [i + 1, j]. Specifically, by setting the potential of the wiring RW [i + 1] higher by Vw [i + 1] than the reference potential, the second analog potential Vw [i + 1] is stored in the memory through the wiring RW [i + 1]. It is input to the cell MC [i + 1, j]. In the memory cell MC [i + 1, j], the potential VPR−Vx [i + 1, j] + Vw [i + 1] is held. In the memory cell MC [i + 1, j], a current I [i + 1, j] corresponding to the potential VPR−Vx [i + 1, j] + Vw [i + 1] is generated.

なお、電位を電流に変換する素子として飽和領域で動作するトランジスタTr1を用いる場合、配線RW[i]の電位がVw[i]であり、配線RW[i+1]の電位がVw[i+1]であると仮定すると、メモリセルMC[i、j]が有するトランジスタTr1のドレイン電流が電流I[i、j]に相当するので、第2のアナログ電流は以下の式1で表される。なお、kは係数、VthはトランジスタTr1の閾値電圧である。   Note that in the case where the transistor Tr1 that operates in the saturation region is used as an element that converts potential into current, the potential of the wiring RW [i] is Vw [i], and the potential of the wiring RW [i + 1] is Vw [i + 1]. Assuming that the drain current of the transistor Tr1 included in the memory cell MC [i, j] corresponds to the current I [i, j], the second analog current is expressed by the following Expression 1. Note that k is a coefficient and Vth is a threshold voltage of the transistor Tr1.

I[i、j]=k(Vw[i]−Vth+VPR−Vx[i、j])・・・(1) I [i, j] = k (Vw [i] −Vth + VPR−Vx [i, j]) 2 (1)

また、メモリセルMCR[i]が有するトランジスタTr1のドレイン電流が電流IREF[i]に相当するので、第2の参照電流は以下の式2で表される。   Further, since the drain current of the transistor Tr1 included in the memory cell MCR [i] corresponds to the current IREF [i], the second reference current is expressed by the following Expression 2.

IREF[i]=k(Vw[i]−Vth+VPR)・・・(2) IREF [i] = k (Vw [i] −Vth + VPR) 2 (2)

そして、メモリセルMC[i、j]に流れる電流I[i、j]と、メモリセルMC[i+1、j]に流れる電流I[i+1、j]の和に相当する電流I[j]は、I[j]=ΣiI[i、j]であり、メモリセルMCR[i]に流れる電流IREF[i]と、メモリセルMCR[i+1]に流れる電流IREF[i+1]の和に相当する電流IREFは、IREF=ΣiIREF[i]となり、その差分に相当する電流ΔI[j]は以下の式3で表される。   The current I [j] corresponding to the sum of the current I [i, j] flowing through the memory cell MC [i, j] and the current I [i + 1, j] flowing through the memory cell MC [i + 1, j] is: I [j] = ΣiI [i, j], and the current IREF corresponding to the sum of the current IREF [i] flowing through the memory cell MCR [i] and the current IREF [i + 1] flowing through the memory cell MCR [i + 1] is , IREF = ΣiIREF [i], and the current ΔI [j] corresponding to the difference is expressed by the following Equation 3.

ΔI[j]=IREF−I[j]=ΣiIREF[i]−ΣiI[i、j]・・・(3)   ΔI [j] = IREF−I [j] = ΣiIREF [i] −ΣiI [i, j] (3)

式1、式2、式3から、電流ΔI[j]は以下の式4のように導き出される。   From Equation 1, Equation 2, and Equation 3, current ΔI [j] is derived as in Equation 4 below.

ΔI[j]
=Σi{k(Vw[i]−Vth+VPR)−k(Vw[i]−Vth+VPR−Vx[i、j])
=2kΣi(Vw[i]・Vx[i、j])−2kΣi(Vth−VPR)・Vx[i、j]−kΣiVx[i、j]・・・(4)
ΔI [j]
= Σi {k (Vw [i] −Vth + VPR) 2 −k (Vw [i] −Vth + VPR−Vx [i, j]) 2 }
= 2kΣi (Vw [i] · Vx [i, j]) − 2kΣi (Vth−VPR) · Vx [i, j] −kΣiVx [i, j] 2 (4)

式4において、2kΣi(Vw[i]・Vx[i、j])で示される項は、第1のアナログ電位Vx[i、j]及び第2のアナログ電位Vw[i]の積と、第1のアナログ電位Vx[i+1、j]及び第2のアナログ電位Vw[i+1]の積と、の和に相当する。   In Equation 4, the term represented by 2kΣi (Vw [i] · Vx [i, j]) is the product of the first analog potential Vx [i, j] and the second analog potential Vw [i], This corresponds to the sum of the product of one analog potential Vx [i + 1, j] and the second analog potential Vw [i + 1].

また、Ioffset[j]は、配線RW[i]の電位を全て基準電位としたとき、すなわち第2のアナログ電位Vw[i]を0、第2のアナログ電位Vw[i+1]を0としたときの電流ΔI[j]とすると、式4から、以下の式5が導き出される。   Further, Ioffset [j] is when the potential of the wiring RW [i] is all set as the reference potential, that is, when the second analog potential Vw [i] is 0 and the second analog potential Vw [i + 1] is 0. If the current ΔI [j] is, then the following equation 5 is derived from the equation 4.

Ioffset[j]=−2kΣi(Vth−VPR)・Vx[i、j]−kΣiVx[i、j]・・・(5) Ioffset [j] = − 2kΣi (Vth−VPR) · Vx [i, j] −kΣiVx [i, j] 2 (5)

したがって、式3乃至式5から、第1のアナログ電流と第2のアナログ電流の積和値に相当する2kΣi(Vw[i]・Vx[i、j])は、以下の式6で表されることが分かる。   Therefore, from Expressions 3 to 5, 2kΣi (Vw [i] · Vx [i, j]) corresponding to the product sum of the first analog current and the second analog current is expressed by Expression 6 below. I understand that

2kΣi(Vw[i]・Vx[i、j])=IREF−I[j]−Ioffset[j]・・・(6)   2kΣi (Vw [i] · Vx [i, j]) = IREF−I [j] −Ioffset [j] (6)

そして、メモリセルMCに流れる電流の和を電流I[j]、メモリセルMCRに流れる電流の和を電流IREF、電流ソース回路103または電流シンク回路104に流れる電流を電流Ioffset[j]とすると、配線RW[i]の電位をVw[i]、配線RW[i+1]の電位をVw[i+1]としたときに配線BL[j]から流れ出る電流Iout[j]は、IREF−I[j]−Ioffset[j]で表される。式6から、電流Iout[j]は、2kΣi(Vw[i]・Vx[i、j])であり、第1のアナログ電位Vx[i、j]及び第2のアナログ電位Vw[i]の積と、第2のアナログ電位Vx[i+1、j]及び第2のアナログ電位Vw[i+1]の積と、の和に相当することが分かる。   When the sum of currents flowing through the memory cell MC is current I [j], the sum of currents flowing through the memory cell MCR is current IREF, and the current flowing through the current source circuit 103 or the current sink circuit 104 is current Ioffset [j]. When the potential of the wiring RW [i] is Vw [i] and the potential of the wiring RW [i + 1] is Vw [i + 1], the current Iout [j] that flows out of the wiring BL [j] is IREF−I [j] −. Ioffset [j]. From Expression 6, the current Iout [j] is 2kΣi (Vw [i] · Vx [i, j]), and the first analog potential Vx [i, j] and the second analog potential Vw [i] are It can be seen that this corresponds to the sum of the product and the product of the second analog potential Vx [i + 1, j] and the second analog potential Vw [i + 1].

なお、トランジスタTr1は飽和領域で動作させることが望ましいが、トランジスタTr1の動作領域が理想的な飽和領域と異なっていたとしても、第1のアナログ電位Vx[i、j]及び第2のアナログ電位Vw[i]の積と、第2のアナログ電位Vx[i+1、j]及び第2のアナログ電位Vw[i+1]の積との和に相当する電流を、所望の範囲内の精度で問題なく得ることができる場合は、トランジスタTr1は飽和領域で動作しているものとみなせる。   Note that the transistor Tr1 is desirably operated in a saturation region, but even if the operation region of the transistor Tr1 is different from an ideal saturation region, the first analog potential Vx [i, j] and the second analog potential are A current corresponding to the sum of the product of Vw [i] and the product of the second analog potential Vx [i + 1, j] and the second analog potential Vw [i + 1] is obtained without any problem with accuracy within a desired range. If it can, the transistor Tr1 can be regarded as operating in the saturation region.

図9に示す積和演算回路の構成とすることにより、の演算処理をデジタルデータに変換せずとも実行することができるので、半導体装置の回路規模を小さく抑えることができる。或いは、図9に示す積和演算回路の構成とすることにより、の演算処理をデジタルデータに変換せずとも実行することができるので、の演算処理に要する時間を抑えることができる。或いは、図9に示す積和演算回路の構成とすることにより、演算処理に要する時間を抑えつつ、半導体装置の低消費電力化を実現することができる。   With the configuration of the product-sum operation circuit shown in FIG. 9, the operation process can be executed without converting it into digital data, so that the circuit scale of the semiconductor device can be reduced. Alternatively, by using the configuration of the product-sum operation circuit shown in FIG. 9, the operation process can be executed without being converted into digital data, so that the time required for the operation process can be reduced. Alternatively, the configuration of the product-sum operation circuit illustrated in FIG. 9 can reduce the power consumption of the semiconductor device while suppressing the time required for the operation processing.

次いで、記憶回路101、参照用記憶回路102、電流ソース回路103、電流シンク回路104、および電流源回路105の具体的な構成の一例について、図10を用いて説明する。   Next, examples of specific structures of the memory circuit 101, the reference memory circuit 102, the current source circuit 103, the current sink circuit 104, and the current source circuit 105 will be described with reference to FIGS.

図10では、一例として、任意の2行2列のメモリセルMCと、任意の2行1列のメモリセルMCRとの、具体的な回路構成と接続関係とを示している。具体的に図10では、i行j列目のメモリセルMC[i、j]と、i+1行j列目のメモリセルMC[i+1、j]と、i行j+1列目のメモリセルMC[i、j+1]と、i+1行j+1列目のメモリセルMC[i+1、j+1]とを図示している。また、具体的に図10では、i行目のメモリセルMCR[i]と、i+1行目のメモリセルMCR[i+1]とを図示している。   FIG. 10 shows, as an example, a specific circuit configuration and connection relationship between an arbitrary memory cell MC of 2 rows and 2 columns and an arbitrary memory cell MCR of 2 rows and 1 column. Specifically, in FIG. 10, the memory cell MC [i, j] in the i-th row and j-th column, the memory cell MC [i + 1, j] in the i + 1-th row and j-th column, and the memory cell MC [i in the i-th row j + 1-th column. , J + 1] and the memory cell MC [i + 1, j + 1] in the (i + 1) th row and j + 1th column. Specifically, FIG. 10 illustrates the memory cell MCR [i] in the i-th row and the memory cell MCR [i + 1] in the i + 1-th row.

i行目のメモリセルMC[i、j]と、メモリセルMC[i、j+1]と、メモリセルMCR[i]とは、配線RW[i]及び配線WW[i]に接続されている。また、i+1行目のメモリセルMC[i+1、j]と、メモリセルMC[i+1、j+1]と、メモリセルMCR[i+1]とは、配線RW[i+1]及び配線WW[i+1]に接続されている。   The memory cell MC [i, j] in the i-th row, the memory cell MC [i, j + 1], and the memory cell MCR [i] are connected to the wiring RW [i] and the wiring WW [i]. The memory cell MC [i + 1, j] in the i + 1th row, the memory cell MC [i + 1, j + 1], and the memory cell MCR [i + 1] are connected to the wiring RW [i + 1] and the wiring WW [i + 1]. Yes.

j列目のメモリセルMC[i、j]と、メモリセルMC[i+1、j]とは、配線WD[j]、配線VR[j]、及び配線BL[j]に接続されている。また、j+1列目のメモリセルMC[i、j+1]と、メモリセルMC[i+1、j+1]とは、配線WD[j+1]、配線VR[j+1]、及び配線BL[j+1]に接続されている。また、メモリセルMCR[i]と、i+1行目のメモリセルMCR[i+1]とは、配線WDREF、配線VRREF、及び配線BLREFに接続されている。   The memory cell MC [i, j] in the j-th column and the memory cell MC [i + 1, j] are connected to the wiring WD [j], the wiring VR [j], and the wiring BL [j]. The memory cell MC [i, j + 1] in the j + 1 column and the memory cell MC [i + 1, j + 1] are connected to the wiring WD [j + 1], the wiring VR [j + 1], and the wiring BL [j + 1]. . The memory cell MCR [i] and the memory cell MCR [i + 1] in the (i + 1) th row are connected to the wiring WDREF, the wiring VRREF, and the wiring BLREF.

そして、各メモリセルMCと各メモリセルMCRとは、トランジスタTr1と、トランジスタTr2と、容量素子C1と、を有する。トランジスタTr2は、メモリセルMCまたはメモリセルMCRへの第1のアナログ電位の入力を制御する機能を有する。トランジスタTr1は、ゲートに入力された電位に従って、アナログ電流を生成する機能を有する。容量素子C1は、メモリセルMCまたはメモリセルMCRにおいて保持されている第1のアナログ電位または第1のアナログ電位に応じた電位に、第2のアナログ電位或いは第2のアナログ電位に応じた電位を加算する機能を有する。   Each memory cell MC and each memory cell MCR includes a transistor Tr1, a transistor Tr2, and a capacitor C1. The transistor Tr2 has a function of controlling input of the first analog potential to the memory cell MC or the memory cell MCR. The transistor Tr1 has a function of generating an analog current in accordance with the potential input to the gate. The capacitor C1 has a second analog potential or a potential corresponding to the second analog potential to the first analog potential or the potential corresponding to the first analog potential held in the memory cell MC or the memory cell MCR. Has the function of adding.

具体的に、図10に示すメモリセルMCでは、トランジスタTr1は、ゲートが配線WWに接続され、ソース又はドレインの一方が配線WDに接続され、ソース又はドレインの他方がトランジスタTr2のゲートに接続されている。また、トランジスタTr2は、ソース又はドレインの一方が配線VRに接続され、ソース又はドレインの他方が配線BLに接続されている。容量素子C1は、第1の電極が配線RWに接続され、第2の電極がトランジスタTr2のゲートに接続されている。   Specifically, in the memory cell MC illustrated in FIG. 10, the transistor Tr1 has a gate connected to the wiring WW, one of the source and the drain connected to the wiring WD, and the other of the source and the drain connected to the gate of the transistor Tr2. ing. In the transistor Tr2, one of a source and a drain is connected to the wiring VR, and the other of the source and the drain is connected to the wiring BL. In the capacitor C1, the first electrode is connected to the wiring RW, and the second electrode is connected to the gate of the transistor Tr2.

また、図10に示すメモリセルMCRでは、トランジスタTr1は、ゲートが配線WWに接続され、ソース又はドレインの一方が配線WDREFに接続され、ソース又はドレインの他方がトランジスタTr2のゲートに接続されている。また、トランジスタTr2は、ソース又はドレインの一方が配線VRREFに接続され、ソース又はドレインの他方が配線BLREFに接続されている。容量素子C1は、第1の電極が配線RWに接続され、第2の電極がトランジスタTr2のゲートに接続されている。   In the memory cell MCR shown in FIG. 10, the transistor Tr1 has a gate connected to the wiring WW, one of the source and the drain connected to the wiring WDREF, and the other of the source and the drain connected to the gate of the transistor Tr2. . In the transistor Tr2, one of a source and a drain is connected to the wiring VRREF, and the other of the source and the drain is connected to the wiring BLREF. In the capacitor C1, the first electrode is connected to the wiring RW, and the second electrode is connected to the gate of the transistor Tr2.

メモリセルMCにおいてトランジスタTr1のゲートをノードNとすると、メモリセルMCでは、トランジスタTr2を介してノードNに第1のアナログ電位が入力され、次いでトランジスタTr2がオフになるとノードNが浮遊状態になり、ノードNにおいて第1のアナログ電位または第1のアナログ電位に応じた電位が保持される。また、メモリセルMCでは、ノードNが浮遊状態になると、容量素子C1の第1の電極に入力された第2のアナログ電位がノードNに与えられる。上記動作により、ノードNは、第1のアナログ電位または第1のアナログ電位に応じた電位に、第2のアナログ電位または第2のアナログ電位に応じた電位が加算されることで得られる電位となる。   In the memory cell MC, when the gate of the transistor Tr1 is a node N, in the memory cell MC, the first analog potential is input to the node N through the transistor Tr2. Then, when the transistor Tr2 is turned off, the node N is in a floating state. The node N holds the first analog potential or the potential corresponding to the first analog potential. In the memory cell MC, when the node N is in a floating state, the second analog potential input to the first electrode of the capacitor C1 is applied to the node N. With the above operation, the node N has a potential obtained by adding the second analog potential or the potential corresponding to the second analog potential to the potential corresponding to the first analog potential or the first analog potential. Become.

なお、容量素子C1の第1の電極の電位は容量素子C1を介してノードNに与えられるため、実際には、第1の電極の電位の変化量がそのままノードNの電位の変化量に反映されるわけではない。具体的には、容量素子C1の容量値と、トランジスタTr1のゲート容量の容量値と、寄生容量の容量値とから一意に決まる結合係数を、第1の電極の電位の変化量に乗ずることで、ノードNの電位の変化量を正確に算出することができる。以下、説明を分かり易くするために、第1の電極の電位の変化量がほぼノードNの電位の変化量に反映されるものとして説明を行う。   Note that since the potential of the first electrode of the capacitor C1 is applied to the node N via the capacitor C1, in practice, the amount of change in the potential of the first electrode is directly reflected in the amount of change in the potential of the node N. It is not done. Specifically, by multiplying the amount of change in potential of the first electrode by a coupling coefficient that is uniquely determined from the capacitance value of the capacitive element C1, the capacitance value of the gate capacitance of the transistor Tr1, and the capacitance value of the parasitic capacitance. The amount of change in the potential of the node N can be accurately calculated. Hereinafter, in order to make the description easy to understand, it is assumed that the change amount of the potential of the first electrode is reflected in the change amount of the potential of the node N.

トランジスタTr1は、ノードNの電位にしたがってそのドレイン電流が定まる。よって、トランジスタTr2がオフになることでノードNの電位が保持されると、トランジスタTr1のドレイン電流の値も保持される。上記ドレイン電流には第1のアナログ電位と第2のアナログ電位が反映されている。   The drain current of the transistor Tr1 is determined according to the potential of the node N. Therefore, when the potential of the node N is held by turning off the transistor Tr2, the value of the drain current of the transistor Tr1 is also held. The drain current reflects the first analog potential and the second analog potential.

また、メモリセルMCRにおいてトランジスタTr1のゲートをノードNREFとすると、メモリセルMCRでは、トランジスタTr2を介してノードNREFに第1の参照電位または第1の参照電位に応じた電位が入力され、次いでトランジスタTr2がオフになるとノードNREFが浮遊状態になり、ノードNREFにおいて第1の参照電位または第1の参照電位に応じた電位が保持される。また、メモリセルMCRでは、ノードNREFが浮遊状態になると、容量素子C1の第1の電極に入力された第2のアナログ電位がノードNREFに与えられる。上記動作により、ノードNREFは、第1の参照電位または第1の参照電位に応じた電位に、第2のアナログ電位または第2のアナログ電位に応じた電位が加算されることで得られる電位となる。   Further, when the gate of the transistor Tr1 in the memory cell MCR is the node NREF, in the memory cell MCR, a first reference potential or a potential corresponding to the first reference potential is input to the node NREF through the transistor Tr2, and then the transistor When Tr2 is turned off, the node NREF enters a floating state, and the first reference potential or a potential corresponding to the first reference potential is held at the node NREF. In the memory cell MCR, when the node NREF is in a floating state, the second analog potential input to the first electrode of the capacitor C1 is applied to the node NREF. Through the above operation, the node NREF has the potential obtained by adding the second analog potential or the potential corresponding to the second analog potential to the potential corresponding to the first reference potential or the first reference potential. Become.

トランジスタTr1は、ノードNREFの電位にしたがってそのドレイン電流が定まる。よって、トランジスタTr2がオフになることでノードNREFの電位が保持されると、トランジスタTr1のドレイン電流の値も保持される。上記ドレイン電流には第1の参照電位と第2のアナログ電位が反映されている。   The drain current of the transistor Tr1 is determined according to the potential of the node NREF. Therefore, when the potential of the node NREF is held by turning off the transistor Tr2, the value of the drain current of the transistor Tr1 is also held. The drain current reflects the first reference potential and the second analog potential.

メモリセルMC[i、j]のトランジスタTr2に流れるドレイン電流を電流I[i、j]とし、メモリセルMC[i+1、j]のトランジスタTr2に流れるドレイン電流を電流I[i+1、j]とすると、配線BL[j]からメモリセルMC[i、j]及びメモリセルMC[i+1、j]に供給される電流の和は、電流I[j]となる。また、メモリセルMC[i、j+1]のトランジスタTr2に流れるドレイン電流を電流I[i、j+1]とし、メモリセルMC[i+1、j+1]のトランジスタTr2に流れるドレイン電流を電流I[i+1、j+1]とすると、配線BL[j+1]からメモリセルMC[i、j+1]及びメモリセルMC[i+1、j+1]に供給される電流の和は、電流I[j+1]となる。また、メモリセルMCR[i]のトランジスタTr2に流れるドレイン電流を電流IREF[i]とし、メモリセルMCR[i+1]のトランジスタTr2に流れるドレイン電流を電流IREF[i+1]とすると、配線BLREFからメモリセルMCR[i]及びメモリセルMCR[i+1]に供給される電流の和は、電流IREFとなる。   If the drain current flowing through the transistor Tr2 of the memory cell MC [i, j] is current I [i, j], and the drain current flowing through the transistor Tr2 of the memory cell MC [i + 1, j] is current I [i + 1, j]. The sum of the currents supplied from the wiring BL [j] to the memory cell MC [i, j] and the memory cell MC [i + 1, j] is the current I [j]. The drain current flowing through the transistor Tr2 of the memory cell MC [i, j + 1] is defined as a current I [i, j + 1], and the drain current flowing through the transistor Tr2 of the memory cell MC [i + 1, j + 1] is defined as a current I [i + 1, j + 1]. Then, a sum of currents supplied from the wiring BL [j + 1] to the memory cell MC [i, j + 1] and the memory cell MC [i + 1, j + 1] is a current I [j + 1]. Further, when the drain current flowing through the transistor Tr2 of the memory cell MCR [i] is current IREF [i] and the drain current flowing through the transistor Tr2 of the memory cell MCR [i + 1] is current IREF [i + 1], the memory cell is connected to the wiring BLREF. The sum of the currents supplied to MCR [i] and memory cell MCR [i + 1] is current IREF.

また図10に示す電流ソース回路103は、j列目のメモリセルMCに対応した電流ソース回路103[j]と、j+1列目のメモリセルMCに対応した電流ソース回路103[j+1]とを有する。また、図10に示す電流シンク回路104は、j列目のメモリセルMCに対応した電流シンク回路104[j]と、j+1列目のメモリセルMCに対応した電流シンク回路104[j+1]とを有する。   The current source circuit 103 illustrated in FIG. 10 includes a current source circuit 103 [j] corresponding to the memory cell MC in the jth column and a current source circuit 103 [j + 1] corresponding to the memory cell MC in the j + 1th column. . The current sink circuit 104 shown in FIG. 10 includes a current sink circuit 104 [j] corresponding to the memory cell MC in the jth column and a current sink circuit 104 [j + 1] corresponding to the memory cell MC in the j + 1th column. Have.

電流ソース回路103[j]及び電流シンク回路104[j]は、配線BL[j]に接続されている。また、電流ソース回路103[j+1]及び電流シンク回路104[j+1]は、配線BL[j+1]に接続されている。   The current source circuit 103 [j] and the current sink circuit 104 [j] are connected to the wiring BL [j]. In addition, the current source circuit 103 [j + 1] and the current sink circuit 104 [j + 1] are connected to the wiring BL [j + 1].

電流源回路105は、配線BL[j]、配線BL[j+1]、配線BLREFに接続されている。そして、電流源回路105は、配線BLREFに電流IREFを供給する機能と、電流IREFと同じ電流または電流IREFに応じた電流を、配線BL[j]及び配線BL[j+1]のそれぞれに供給する機能を有する。   The current source circuit 105 is connected to the wiring BL [j], the wiring BL [j + 1], and the wiring BLREF. The current source circuit 105 has a function of supplying the current IREF to the wiring BLREF and a function of supplying the same current as the current IREF or a current corresponding to the current IREF to each of the wiring BL [j] and the wiring BL [j + 1]. Have

具体的に、電流ソース回路103[j]及び電流ソース回路103[j+1]は、トランジスタTr7乃至Tr9と、容量素子C3とをそれぞれ有する。オフセットの電流を設定する際に、電流ソース回路103[j]において、トランジスタTr7は、電流I[j]が電流IREFよりも大きい場合に、電流I[j]と電流IREFの差分に相当する電流ICM[j]を生成する機能を有する。また、電流ソース回路103[j+1]において、トランジスタTr7は、電流I[j+1]が電流IREFよりも大きい場合に、電流I[j+1]と電流IREFの差分に相当する電流ICM[j+1]を生成する機能を有する。電流ICM[j]及び電流ICM[j+1]は、電流ソース回路103[j]及び電流ソース回路103[j+1]から配線BL[j]及び配線BL[j+1]に供給される。   Specifically, the current source circuit 103 [j] and the current source circuit 103 [j + 1] each include transistors Tr7 to Tr9 and a capacitor C3. When setting the offset current, in the current source circuit 103 [j], the transistor Tr7 has a current corresponding to the difference between the current I [j] and the current IREF when the current I [j] is larger than the current IREF. It has a function of generating ICM [j]. In the current source circuit 103 [j + 1], the transistor Tr7 generates a current ICM [j + 1] corresponding to the difference between the current I [j + 1] and the current IREF when the current I [j + 1] is larger than the current IREF. It has a function. The current ICM [j] and the current ICM [j + 1] are supplied from the current source circuit 103 [j] and the current source circuit 103 [j + 1] to the wiring BL [j] and the wiring BL [j + 1].

電流ソース回路103[j]及び電流ソース回路103[j+1]において、トランジスタTr7は、ソース又はドレインの一方が対応する配線BLに接続されており、ソース又はドレインの他方が所定の電位が供給される配線に接続されている。トランジスタTr8は、ソース又はドレインの一方が配線BLに接続されており、ソース又はドレインの他方がトランジスタTr7のゲートに接続されている。トランジスタTr9は、ソース又はドレインの一方がトランジスタTr7のゲートに接続されており、ソース又はドレインの他方が所定の電位が供給される配線に接続されている。容量素子C3は、第1の電極がトランジスタTr7のゲートに接続されており、第2の電極が所定の電位が供給される配線に接続されている。   In the current source circuit 103 [j] and the current source circuit 103 [j + 1], in the transistor Tr7, one of the source and the drain is connected to the corresponding wiring BL, and the other of the source and the drain is supplied with a predetermined potential. Connected to wiring. In the transistor Tr8, one of the source and the drain is connected to the wiring BL, and the other of the source and the drain is connected to the gate of the transistor Tr7. In the transistor Tr9, one of the source and the drain is connected to the gate of the transistor Tr7, and the other of the source and the drain is connected to a wiring to which a predetermined potential is supplied. In the capacitor C3, the first electrode is connected to the gate of the transistor Tr7, and the second electrode is connected to a wiring to which a predetermined potential is supplied.

トランジスタTr8のゲートは配線OSMに接続されており、トランジスタTr9のゲートは配線ORMに接続されている。   The gate of the transistor Tr8 is connected to the wiring OSM, and the gate of the transistor Tr9 is connected to the wiring ORM.

なお、図10では、トランジスタTr7がpチャネル型であり、トランジスタTr8及びTr9がnチャネル型である場合を例示している。   Note that FIG. 10 illustrates a case where the transistor Tr7 is a p-channel type and the transistors Tr8 and Tr9 are n-channel type.

また、電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]は、トランジスタTr4乃至Tr6と、容量素子C4とをそれぞれ有する。オフセットの電流を設定する際に、電流シンク回路104[j]において、トランジスタTr4は、電流I[j]が電流IREFよりも小さい場合に、電流I[j]と電流IREFの差分に相当する電流ICP[j]を生成する機能を有する。また、電流シンク回路104[j+1]において、トランジスタTr4は、電流I[j+1]が電流IREFよりも小さい場合に、電流I[j+1]と電流IREFの差分に相当する電流ICP[j+1]を生成する機能を有する。電流ICP[j]及び電流ICP[j+1]は、配線BL[j]及び配線BL[j+1]から電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]に引き込まれる。   The current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1] include transistors Tr4 to Tr6 and a capacitor C4, respectively. When setting the offset current, in the current sink circuit 104 [j], the transistor Tr4 has a current corresponding to the difference between the current I [j] and the current IREF when the current I [j] is smaller than the current IREF. It has a function of generating ICP [j]. In the current sink circuit 104 [j + 1], the transistor Tr4 generates a current ICP [j + 1] corresponding to the difference between the current I [j + 1] and the current IREF when the current I [j + 1] is smaller than the current IREF. It has a function. The current ICP [j] and the current ICP [j + 1] are drawn from the wiring BL [j] and the wiring BL [j + 1] to the current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1].

なお、電流ICM[j]と電流ICP[j]とが、Ioffset[j]に相当する。また、なお、電流ICM[j+1]と電流ICP[j+1]とが、Ioffset[j+1]に相当する。   Note that the current ICM [j] and the current ICP [j] correspond to Ioffset [j]. Note that the current ICM [j + 1] and the current ICP [j + 1] correspond to Ioffset [j + 1].

そして、電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]において、トランジスタTr4は、ソース又はドレインの一方が対応する配線BLに接続されており、ソース又はドレインの他方が所定の電位が供給される配線に接続されている。トランジスタTr5は、ソース又はドレインの一方が配線BLに接続されており、ソース又はドレインの他方がトランジスタTr4のゲートに接続されている。トランジスタTr6は、ソース又はドレインの一方がトランジスタTr4のゲートに接続されており、ソース又はドレインの他方が所定の電位が供給される配線に接続されている。容量素子C4は、第1の電極がトランジスタTr4のゲートに接続されており、第2の電極が所定の電位が供給される配線に接続されている。   In the current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1], in the transistor Tr4, one of the source and the drain is connected to the corresponding wiring BL, and the other of the source and the drain is supplied with a predetermined potential. Connected to the wiring. In the transistor Tr5, one of the source and the drain is connected to the wiring BL, and the other of the source and the drain is connected to the gate of the transistor Tr4. In the transistor Tr6, one of the source and the drain is connected to the gate of the transistor Tr4, and the other of the source and the drain is connected to a wiring to which a predetermined potential is supplied. In the capacitor C4, the first electrode is connected to the gate of the transistor Tr4, and the second electrode is connected to a wiring to which a predetermined potential is supplied.

トランジスタTr5のゲートは配線OSPに接続されており、トランジスタTr6のゲートは配線ORPに接続されている。   The gate of the transistor Tr5 is connected to the wiring OSP, and the gate of the transistor Tr6 is connected to the wiring ORP.

なお、図10では、トランジスタTr4乃至Tr6がnチャネル型である場合を例示している。   Note that FIG. 10 illustrates the case where the transistors Tr4 to Tr6 are n-channel type.

また、電流源回路105は、配線BLに対応したトランジスタTr10と、配線BLREFに対応したトランジスタTr11とを有する。具体的に、図10に示す電流源回路105は、トランジスタTr10として、配線BL[j]に対応したトランジスタTr10[j]と、配線BL[j+1]に対応したトランジスタTr10[j+1]とを有する場合を例示している。   The current source circuit 105 includes a transistor Tr10 corresponding to the wiring BL and a transistor Tr11 corresponding to the wiring BLREF. Specifically, the current source circuit 105 illustrated in FIG. 10 includes, as the transistor Tr10, a transistor Tr10 [j] corresponding to the wiring BL [j] and a transistor Tr10 [j + 1] corresponding to the wiring BL [j + 1]. Is illustrated.

トランジスタTr10のゲートは、トランジスタTr11のゲートに接続されている。また、トランジスタTr10は、ソース又はドレインの一方が対応する配線BLに接続されており、ソース又はドレインの他方が所定の電位が供給される配線に接続されている。トランジスタTr11は、ソース又はドレインの一方が配線BLREFに接続されており、ソース又はドレインの他方が所定の電位が供給される配線に接続されている。   The gate of the transistor Tr10 is connected to the gate of the transistor Tr11. In the transistor Tr10, one of the source and the drain is connected to the corresponding wiring BL, and the other of the source and the drain is connected to a wiring to which a predetermined potential is supplied. In the transistor Tr11, one of a source and a drain is connected to the wiring BLREF, and the other of the source and the drain is connected to a wiring to which a predetermined potential is supplied.

トランジスタTr10とトランジスタTr11とは、同じ極性を有している。図10では、トランジスタTr10とトランジスタTr11とが、共にpチャネル型を有する場合を例示している。   The transistor Tr10 and the transistor Tr11 have the same polarity. FIG. 10 illustrates a case where both the transistor Tr10 and the transistor Tr11 have a p-channel type.

トランジスタTr11のドレイン電流は電流IREFに相当する。そして、トランジスタTr10とトランジスタTr11とはカレントミラー回路としての機能を有するため、トランジスタTr10のドレイン電流は、トランジスタTr11のドレイン電流とほぼ同じ値、またはトランジスタTr11のドレイン電流に応じた値となる。   The drain current of the transistor Tr11 corresponds to the current IREF. Since the transistor Tr10 and the transistor Tr11 have a function as a current mirror circuit, the drain current of the transistor Tr10 has almost the same value as the drain current of the transistor Tr11 or a value corresponding to the drain current of the transistor Tr11.

次いで、図10を用いて、積和演算回路100の具体的な動作の一例について説明する。   Next, an example of a specific operation of the product-sum operation circuit 100 will be described with reference to FIG.

図11は、図10に示すメモリセルMC、メモリセルMCR、電流ソース回路103、電流シンク回路104、および電流源回路105の動作を示すタイミングチャートの一例に相当する。図11では、時刻T01乃至時刻T04において、メモリセルMC及びメモリセルMCRに第1のアナログ電流を格納する動作が行われる。時刻T05乃至時刻T10において、電流ソース回路103及び電流シンク回路104にオフセットの電流Ioffsetを設定する動作が行われる。時刻T11乃至時刻T16において、第1のアナログ電流と第2のアナログ電流との積和値に対応したデータを取得する動作が行われる。   11 corresponds to an example of a timing chart illustrating operations of the memory cell MC, the memory cell MCR, the current source circuit 103, the current sink circuit 104, and the current source circuit 105 illustrated in FIG. In FIG. 11, the operation of storing the first analog current in the memory cell MC and the memory cell MCR is performed from time T01 to time T04. From time T05 to time T10, an operation of setting an offset current Ioffset in the current source circuit 103 and the current sink circuit 104 is performed. From time T11 to time T16, an operation of acquiring data corresponding to the product-sum value of the first analog current and the second analog current is performed.

なお、電源線VR[j]及び電源線VR[j+1]にはローレベルの電位が供給されるものとする。また、電流ソース回路103に接続される所定の電位を有する配線は、全てハイレベルの電位VDDが供給されるものとする。また、電流シンク回路104に接続される所定の電位を有する配線は、全てローレベルの電位VSSが供給されるものとする。また、電流源回路105に接続される所定の電位を有する配線は、全てハイレベルの電位VDDが供給されるものとする。   Note that a low-level potential is supplied to the power supply line VR [j] and the power supply line VR [j + 1]. In addition, all the wirings having a predetermined potential connected to the current source circuit 103 are supplied with the high-level potential VDD. In addition, all the wirings having a predetermined potential connected to the current sink circuit 104 are supplied with the low-level potential VSS. In addition, all the wirings having a predetermined potential connected to the current source circuit 105 are supplied with the high-level potential VDD.

また、トランジスタTr1、Tr4、Tr7、Tr10[j]、Tr10[j+1]、Tr11は飽和領域で動作するものとする。   The transistors Tr1, Tr4, Tr7, Tr10 [j], Tr10 [j + 1], and Tr11 are assumed to operate in the saturation region.

まず、時刻T01乃至時刻T02において、配線WW[i]にハイレベルの電位が与えられ、配線WW[i+1]にローレベルの電位が与えられる。上記動作により、図10に示すメモリセルMC[i、j]、メモリセルMC[i、j+1]、メモリセルMCR[i]においてトランジスタTr2がオンになる。また、メモリセルMC[i+1、j]、メモリセルMC[i+1、j+1]、メモリセルMCR[i+1]においてトランジスタTr2がオフの状態を維持する。   First, from time T01 to time T02, a high-level potential is applied to the wiring WW [i], and a low-level potential is applied to the wiring WW [i + 1]. Through the above operation, the transistor Tr2 is turned on in the memory cell MC [i, j], the memory cell MC [i, j + 1], and the memory cell MCR [i] illustrated in FIG. In addition, the transistor Tr2 is kept off in the memory cell MC [i + 1, j], the memory cell MC [i + 1, j + 1], and the memory cell MCR [i + 1].

また、時刻T01乃至時刻T02では、図10に示す配線WD[j]と配線WD[j+1]とに、第1の参照電位VPRから第1のアナログ電位を差し引いた電位がそれぞれ与えられる。具体的に、配線WD[j]には電位VPR−Vx[i、j]が与えられ、配線WD[j+1]には電位VPR−Vx[i、j+1]が与えられる。また、配線WDREFには第1の参照電位VPRが与えられ、配線RW[i]及び配線RW[i+1]には基準電位として電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられる。   Further, from time T01 to time T02, the potential obtained by subtracting the first analog potential from the first reference potential VPR is applied to the wiring WD [j] and the wiring WD [j + 1] illustrated in FIG. Specifically, the potential VPR-Vx [i, j] is applied to the wiring WD [j], and the potential VPR-Vx [i, j + 1] is applied to the wiring WD [j + 1]. The wiring WDREF is supplied with the first reference potential VPR, and the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1] have a potential between the potential VSS and the potential VDD as a reference potential, for example, a potential (VDD + VSS) / 2. Given.

よって、図10に示すメモリセルMC[i、j]のノードN[i、j]にはトランジスタTr2を介して電位VPR−Vx[i、j]が与えられ、メモリセルMC[i、j+1]のノードN[i、j+1]にはトランジスタTr2を介して電位VPR−Vx[i、j+1]が与えられ、メモリセルMCR[i]のノードNREF[i]にはトランジスタTr2を介して電位VPRが与えられる。   Therefore, the potential VPR−Vx [i, j] is applied to the node N [i, j] of the memory cell MC [i, j] illustrated in FIG. 10 through the transistor Tr2, and the memory cell MC [i, j + 1] is supplied. Node N [i, j + 1] is supplied with the potential VPR-Vx [i, j + 1] through the transistor Tr2, and the node NREF [i] of the memory cell MCR [i] is supplied with the potential VPR through the transistor Tr2. Given.

時刻T02が終了すると、図10に示す配線WW[i]に与えられる電位はハイレベルからローレベルに変化し、メモリセルMC[i、j]、メモリセルMC[i、j+1]、メモリセルMCR[i]においてトランジスタTr2がオフになる。上記動作により、ノードN[i、j]には電位VPR−Vx[i、j]が保持され、ノードN[i、j+1]には電位VPR−Vx[i、j+1]が保持され、ノードNREF[i]には電位VPRが保持される。   When the time T02 ends, the potential applied to the wiring WW [i] illustrated in FIG. 10 changes from the high level to the low level, the memory cell MC [i, j], the memory cell MC [i, j + 1], and the memory cell MCR. In [i], the transistor Tr2 is turned off. Through the above operation, the node N [i, j] holds the potential VPR−Vx [i, j], the node N [i, j + 1] holds the potential VPR−Vx [i, j + 1], and the node NREF [I] holds the potential VPR.

次いで、時刻T03乃至時刻T04において、図10に示す配線WW[i]の電位はローレベルに維持され、配線WW[i+1]にハイレベルの電位が与えられる。上記動作により、図10に示すメモリセルMC[i+1、j]、メモリセルMC[i+1、j+1]、メモリセルMCR[i+1]においてトランジスタTr2がオンになる。また、メモリセルMC[i、j]、メモリセルMC[i、j+1]、メモリセルMCR[i]においてトランジスタTr2がオフの状態を維持する。   Next, in time T03 to time T04, the potential of the wiring WW [i] illustrated in FIG. 10 is maintained at a low level, and a high-level potential is applied to the wiring WW [i + 1]. Through the above operation, the transistor Tr2 is turned on in the memory cell MC [i + 1, j], the memory cell MC [i + 1, j + 1], and the memory cell MCR [i + 1] illustrated in FIG. Further, the transistor Tr2 is kept off in the memory cell MC [i, j], the memory cell MC [i, j + 1], and the memory cell MCR [i].

また、時刻T03乃至時刻T04では、図10に示す配線WD[j]と配線WD[j+1]とに、第1の参照電位VPRから第1のアナログ電位を差し引いた電位がそれぞれ与えられる。具体的に、配線WD[j]には電位VPR−Vx[i+1、j]が与えられ、配線WD[j+1]には電位VPR−Vx[i+1、j+1]が与えられる。また、配線WDREFには第1の参照電位VPRが与えられ、配線RW[i]及び配線RW[i+1]には基準電位として電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられる。   From time T03 to time T04, a potential obtained by subtracting the first analog potential from the first reference potential VPR is supplied to the wiring WD [j] and the wiring WD [j + 1] illustrated in FIG. Specifically, the potential VPR−Vx [i + 1, j] is applied to the wiring WD [j], and the potential VPR−Vx [i + 1, j + 1] is applied to the wiring WD [j + 1]. The wiring WDREF is supplied with the first reference potential VPR, and the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1] have a potential between the potential VSS and the potential VDD as a reference potential, for example, a potential (VDD + VSS) / 2. Given.

よって、図10に示すメモリセルMC[i+1、j]のノードN[i+1、j]にはトランジスタTr2を介して電位VPR−Vx[i+1、j]が与えられ、メモリセルMC[i+1、j+1]のノードN[i+1、j+1]にはトランジスタTr2を介して電位VPR−Vx[i+1、j+1]が与えられ、メモリセルMCR[i+1]のノードNREF[i+1]にはトランジスタTr2を介して電位VPRが与えられる。   Accordingly, the node N [i + 1, j] of the memory cell MC [i + 1, j] illustrated in FIG. 10 is supplied with the potential VPR−Vx [i + 1, j] through the transistor Tr2, and the memory cell MC [i + 1, j + 1]. Node N [i + 1, j + 1] is supplied with the potential VPR-Vx [i + 1, j + 1] via the transistor Tr2, and the node NREF [i + 1] of the memory cell MCR [i + 1] is supplied with the potential VPR via the transistor Tr2. Given.

時刻T04が終了すると、図10に示す配線WW[i+1]に与えられる電位はハイレベルからローレベルに変化し、メモリセルMC[i+1、j]、メモリセルMC[i+1、j+1]、メモリセルMCR[i+1]においてトランジスタTr2がオフになる。上記動作により、ノードN[i+1、j]には電位VPR−Vx[i+1、j]が保持され、ノードN[i+1、j+1]には電位VPR−Vx[i+1、j+1]が保持され、ノードNREF[i+1]には電位VPRが保持される。   When the time T04 ends, the potential applied to the wiring WW [i + 1] illustrated in FIG. 10 changes from a high level to a low level, and the memory cell MC [i + 1, j], the memory cell MC [i + 1, j + 1], and the memory cell MCR. In [i + 1], the transistor Tr2 is turned off. Through the above operation, the node N [i + 1, j] holds the potential VPR−Vx [i + 1, j], the node N [i + 1, j + 1] holds the potential VPR−Vx [i + 1, j + 1], and the node NREF [I + 1] holds the potential VPR.

次いで、時刻T05乃至時刻T06において、図10に示す配線ORP及び配線ORMにハイレベルの電位が与えられる。図10に示す電流ソース回路103[j]及び電流ソース回路103[j+1]では、配線ORMにハイレベルの電位が与えられることで、トランジスタTr9がオンになり、トランジスタTr7のゲートは電位VDDが与えられることでリセットされる。また、図10に示す電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]では、配線ORPにハイレベルの電位が与えられることで、トランジスタTr6がオンになり、トランジスタTr4のゲートは電位VSSが与えられることでリセットされる。   Next, at time T05 to time T06, a high-level potential is applied to the wiring ORP and the wiring ORM illustrated in FIG. In the current source circuit 103 [j] and the current source circuit 103 [j + 1] illustrated in FIG. 10, when a high-level potential is applied to the wiring ORM, the transistor Tr9 is turned on, and the potential VDD is applied to the gate of the transistor Tr7. To reset. In addition, in the current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1] illustrated in FIG. 10, when a high-level potential is applied to the wiring ORP, the transistor Tr6 is turned on, and the gate of the transistor Tr4 has a potential VSS. Is reset when given.

時刻T06が終了すると、図10に示す配線ORP及び配線ORMに与えられる電位はハイレベルからローレベルに変化し、電流ソース回路103[j]及び電流ソース回路103[j+1]においてトランジスタTr9がオフになり、電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]においてトランジスタTr6がオフになる。上記動作により、電流ソース回路103[j]及び電流ソース回路103[j+1]においてトランジスタTr7のゲートに電位VDDが保持され、電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]においてトランジスタTr4のゲートに電位VSSが保持される。   When the time T06 ends, the potentials applied to the wiring ORP and the wiring ORM illustrated in FIG. 10 change from a high level to a low level, and the transistor Tr9 is turned off in the current source circuit 103 [j] and the current source circuit 103 [j + 1]. Thus, the transistor Tr6 is turned off in the current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1]. With the above operation, the potential VDD is held at the gate of the transistor Tr7 in the current source circuit 103 [j] and the current source circuit 103 [j + 1], and the transistor Tr4 in the current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1]. The potential VSS is held at the gate.

次いで、時刻T07乃至時刻T08において、図10に示す配線OSPにハイレベルの電位が与えられる。また、図10に示す配線RW[i]及び配線RW[i+1]には基準電位として電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられる。配線OSPにハイレベルの電位が与えられることにより、電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]においてトランジスタTr5がオンになる。   Next, at time T07 to time T08, a high-level potential is applied to the wiring OSP illustrated in FIG. Further, a potential between the potential VSS and the potential VDD, for example, a potential (VDD + VSS) / 2 is supplied as a reference potential to the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1] illustrated in FIG. When the high-level potential is applied to the wiring OSP, the transistor Tr5 is turned on in the current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1].

配線BL[j]に流れるI[j]が配線BLREFに流れる電流IREFよりも小さい場合、すなわちΔI[j]が正の場合、図10に示すメモリセルMC[i、j]のトランジスタTr1が引き込むことのできる電流と、メモリセルMC[i+1、j]のトランジスタTr1が引き込むことのできる電流との和が、トランジスタTr10[j]のドレイン電流より小さいことを意味する。よって、電流ΔI[j]が正の場合、電流シンク回路104[j]においてトランジスタTr5がオンになると、トランジスタTr10[j]のドレイン電流の一部がトランジスタTr4のゲートに流れ込み、当該ゲートの電位が上昇し始める。そして、トランジスタTr4のドレイン電流が電流ΔI[j]とほぼ等しくなると、トランジスタTr4のゲートの電位は所定の値に収束する。このときのトランジスタTr4のゲートの電位は、トランジスタTr4のドレイン電流が電流ΔI[j]、すなわちIoffset[j](=ICP[j])となるような電位に相当する。つまり、電流シンク回路104[j]のトランジスタTr4は、電流ICP[j]を流し得る電流源に設定された状態であると言える。   When I [j] flowing through the wiring BL [j] is smaller than the current IREF flowing through the wiring BLREF, that is, when ΔI [j] is positive, the transistor Tr1 of the memory cell MC [i, j] illustrated in FIG. This means that the sum of the current that can be drawn and the current that can be drawn by the transistor Tr1 of the memory cell MC [i + 1, j] is smaller than the drain current of the transistor Tr10 [j]. Therefore, when the current ΔI [j] is positive and the transistor Tr5 is turned on in the current sink circuit 104 [j], part of the drain current of the transistor Tr10 [j] flows into the gate of the transistor Tr4, and the potential of the gate Begins to rise. When the drain current of the transistor Tr4 becomes substantially equal to the current ΔI [j], the potential of the gate of the transistor Tr4 converges to a predetermined value. At this time, the gate potential of the transistor Tr4 corresponds to a potential at which the drain current of the transistor Tr4 becomes the current ΔI [j], that is, Ioffset [j] (= ICP [j]). That is, it can be said that the transistor Tr4 of the current sink circuit 104 [j] is set to a current source that can flow the current ICP [j].

同様に、配線BL[j+1]に流れるI[j+1]が配線BLREFに流れる電流IREFよりも小さい場合、つまり電流ΔI[j+1]が正の場合、電流シンク回路104[j+1]においてトランジスタTr5がオンになると、トランジスタTr10[j+1]のドレイン電流の一部がトランジスタTr4のゲートに流れ込み、当該ゲートの電位が上昇し始める。そして、トランジスタTr4のドレイン電流が電流ΔI[j+1]とほぼ等しくなると、トランジスタTr4のゲートの電位は所定の値に収束する。このときのトランジスタTr4のゲートの電位は、トランジスタTr4のドレイン電流が電流ΔI[j+1]、すなわちIoffset[j+1](=ICP[j+1])となるような電位に相当する。つまり、電流シンク回路104[j+1]のトランジスタTr4は、電流ICP[j+1]を流し得る電流源に設定された状態であると言える。   Similarly, when I [j + 1] flowing through the wiring BL [j + 1] is smaller than the current IREF flowing through the wiring BLREF, that is, when the current ΔI [j + 1] is positive, the transistor Tr5 is turned on in the current sink circuit 104 [j + 1]. Then, part of the drain current of the transistor Tr10 [j + 1] flows into the gate of the transistor Tr4, and the potential of the gate starts to rise. When the drain current of the transistor Tr4 becomes substantially equal to the current ΔI [j + 1], the gate potential of the transistor Tr4 converges to a predetermined value. The potential of the gate of the transistor Tr4 at this time corresponds to a potential at which the drain current of the transistor Tr4 becomes the current ΔI [j + 1], that is, Ioffset [j + 1] (= ICP [j + 1]). That is, it can be said that the transistor Tr4 of the current sink circuit 104 [j + 1] is set to a current source that can flow the current ICP [j + 1].

時刻T08が終了すると、図10に示す配線OSPに与えられる電位はハイレベルからローレベルに変化し、電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]においてトランジスタTr5がオフになる。上記動作により、トランジスタTr4のゲートの電位は保持される。よって、電流シンク回路104[j]は電流ICP[j]を流し得る電流源に設定された状態を維持し、電流シンク回路104[j+1]は電流ICP[j+1]を流し得る電流源に設定された状態を維持する。   When the time T08 ends, the potential applied to the wiring OSP illustrated in FIG. 10 changes from a high level to a low level, and the transistor Tr5 is turned off in the current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1]. With the above operation, the potential of the gate of the transistor Tr4 is maintained. Therefore, the current sink circuit 104 [j] maintains the state set as a current source capable of flowing the current ICP [j], and the current sink circuit 104 [j + 1] is set as a current source capable of flowing the current ICP [j + 1]. Maintain the state.

次いで、時刻T09乃至時刻T10において、図10に示す配線OSMにハイレベルの電位が与えられる。また、図10に示す配線RW[i]及び配線RW[i+1]には基準電位として電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられる。配線OSMにハイレベルの電位が与えられることにより、電流ソース回路103[j]及び電流ソース回路103[j+1]においてトランジスタTr8がオンになる。   Next, at time T09 to time T10, a high-level potential is applied to the wiring OSM illustrated in FIG. Further, a potential between the potential VSS and the potential VDD, for example, a potential (VDD + VSS) / 2 is supplied as a reference potential to the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1] illustrated in FIG. When the high-level potential is applied to the wiring OSM, the transistor Tr8 is turned on in the current source circuit 103 [j] and the current source circuit 103 [j + 1].

配線BL[j]に流れるI[j]が配線BLREFに流れる電流IREFよりも大きい場合、すなわちΔI[j]が負の場合、図10に示すメモリセルMC[i、j]のトランジスタTr1が引き込むことのできる電流と、メモリセルMC[i+1、j]のトランジスタTr1が引き込むことのできる電流との和が、トランジスタTr10[j]のドレイン電流より大きいことを意味する。よって、電流ΔI[j]が負の場合、電流ソース回路103[j]においてトランジスタTr8がオンになると、トランジスタTr7のゲートから配線BL[j]に電流が流れ出し、当該ゲートの電位が下降し始める。そして、トランジスタTr7のドレイン電流が電流ΔI[j]とほぼ等しくなると、トランジスタTr7のゲートの電位は所定の値に収束する。このときのトランジスタTr7のゲートの電位は、トランジスタTr7のドレイン電流が電流ΔI[j]、すなわちIoffset[j](=ICM[j])となるような電位に相当する。つまり、電流ソース回路103[j]のトランジスタTr7は、電流ICM[j]を流し得る電流源に設定された状態であると言える。   When I [j] flowing through the wiring BL [j] is larger than the current IREF flowing through the wiring BLREF, that is, when ΔI [j] is negative, the transistor Tr1 of the memory cell MC [i, j] illustrated in FIG. This means that the sum of the current that can be drawn and the current that can be drawn by the transistor Tr1 of the memory cell MC [i + 1, j] is larger than the drain current of the transistor Tr10 [j]. Therefore, when the current ΔI [j] is negative and the transistor Tr8 is turned on in the current source circuit 103 [j], current flows from the gate of the transistor Tr7 to the wiring BL [j], and the potential of the gate starts to decrease. . When the drain current of the transistor Tr7 becomes substantially equal to the current ΔI [j], the potential of the gate of the transistor Tr7 converges to a predetermined value. At this time, the gate potential of the transistor Tr7 corresponds to a potential at which the drain current of the transistor Tr7 becomes a current ΔI [j], that is, Ioffset [j] (= ICM [j]). That is, it can be said that the transistor Tr7 of the current source circuit 103 [j] is set to a current source that can flow the current ICM [j].

同様に、配線BL[j+1]に流れるI[j+1]が配線BLREFに流れる電流IREFよりも大きい場合、つまり電流ΔI[j+1]が負の場合、電流ソース回路103[j+1]においてトランジスタTr8がオンになると、トランジスタTr7のゲートから配線BL[j+1]に電流が流れ出し、当該ゲートの電位が下降し始める。そして、トランジスタTr7のドレイン電流が電流ΔI[j+1]の絶対値とほぼ等しくなると、トランジスタTr7のゲートの電位は所定の値に収束する。このときのトランジスタTr7のゲートの電位は、トランジスタTr7のドレイン電流が電流ΔI[j+1]、すなわちIoffset[j+1](=ICM[j+1])の絶対値に等しい電位に相当する。つまり、電流ソース回路103[j+1]のトランジスタTr7は、電流ICM[j+1]を流し得る電流源に設定された状態であると言える。   Similarly, when I [j + 1] flowing through the wiring BL [j + 1] is larger than the current IREF flowing through the wiring BLREF, that is, when the current ΔI [j + 1] is negative, the transistor Tr8 is turned on in the current source circuit 103 [j + 1]. Then, current flows from the gate of the transistor Tr7 to the wiring BL [j + 1], and the potential of the gate starts to drop. When the drain current of the transistor Tr7 becomes substantially equal to the absolute value of the current ΔI [j + 1], the potential of the gate of the transistor Tr7 converges to a predetermined value. The potential of the gate of the transistor Tr7 at this time corresponds to a potential at which the drain current of the transistor Tr7 is equal to the current ΔI [j + 1], that is, the absolute value of Ioffset [j + 1] (= ICM [j + 1]). That is, it can be said that the transistor Tr7 of the current source circuit 103 [j + 1] is set to be a current source through which the current ICM [j + 1] can flow.

時刻T08が終了すると、図10に示す配線OSMに与えられる電位はハイレベルからローレベルに変化し、電流ソース回路103[j]及び電流ソース回路103[j+1]においてトランジスタTr8がオフになる。上記動作により、トランジスタTr7のゲートの電位は保持される。よって、電流ソース回路103[j]は電流ICM[j]を流し得る電流源に設定された状態を維持し、電流ソース回路103[j+1]は電流ICM[j+1]を流し得る電流源に設定された状態を維持する。   When the time T08 ends, the potential applied to the wiring OSM illustrated in FIG. 10 changes from a high level to a low level, and the transistor Tr8 is turned off in the current source circuit 103 [j] and the current source circuit 103 [j + 1]. With the above operation, the potential of the gate of the transistor Tr7 is maintained. Therefore, the current source circuit 103 [j] maintains the state set as a current source that can flow the current ICM [j], and the current source circuit 103 [j + 1] is set as a current source that can flow the current ICM [j + 1]. Maintain the state.

なお、電流シンク回路104[j]及び電流シンク回路104[j+1]において、トランジスタTr4は電流を引き込む機能を有する。そのため、時刻T07乃至時刻T08において配線BL[j]に流れる電流I[j]が配線BLREFに流れる電流IREFよりも大きくΔI[j]が負の場合、或いは、配線BL[j+1]に流れる電流I[j+1]が配線BLREFに流れる電流IREFよりも大きくΔI[j+1]が負の場合、電流シンク回路104[j]または電流シンク回路104[j+1]から過不足なく配線BL[j]または配線BL[j+1]に電流を供給するのが難しくなる恐れがある。この場合、配線BL[j]または配線BL[j+1]に流れる電流と、配線BLREFに流れる電流とのバランスを取るために、メモリセルMCのトランジスタTr1と、電流シンク回路104[j]または電流シンク回路104[j+1]のトランジスタTr4と、トランジスタTr10[j]またはTr10[j+1]とが、共に飽和領域で動作することが困難になる可能性がある。   Note that in the current sink circuit 104 [j] and the current sink circuit 104 [j + 1], the transistor Tr4 has a function of drawing current. Therefore, when the current I [j] flowing through the wiring BL [j] is larger than the current IREF flowing through the wiring BLREF from time T07 to time T08 and ΔI [j] is negative, or the current I flowing through the wiring BL [j + 1] When [j + 1] is larger than the current IREF flowing through the wiring BLREF and ΔI [j + 1] is negative, the current sink circuit 104 [j] or the current sink circuit 104 [j + 1] has no excess or shortage, and the wiring BL [j] or the wiring BL [ It may be difficult to supply current to j + 1]. In this case, in order to balance the current flowing through the wiring BL [j] or the wiring BL [j + 1] and the current flowing through the wiring BLREF, the transistor Tr1 of the memory cell MC, the current sink circuit 104 [j], or the current sink It may be difficult for the transistor Tr4 of the circuit 104 [j + 1] and the transistor Tr10 [j] or Tr10 [j + 1] to operate in the saturation region.

時刻T07乃至時刻T08においてΔI[j]が負の場合でも、トランジスタTr1、Tr4、Tr10[j]またはTr10[j+1]における飽和領域での動作を確保するために、時刻T05乃至時刻T06において、トランジスタTr7のゲートを電位VDDにリセットするのではなく、トランジスタTr7のゲートの電位を所定のドレイン電流が得られる程度の高さに設定しておいても良い。上記構成により、トランジスタTr10[j]またはTr10[j+1]のドレイン電流に加えてトランジスタTr7から電流が供給されるため、トランジスタTr1において引き込めない分の電流を、トランジスタTr4においてある程度引き込むことができるため、トランジスタTr1、Tr4、Tr10[j]またはTr10[j+1]における飽和領域での動作を確保することができる。   Even in the case where ΔI [j] is negative from time T07 to time T08, in order to ensure the operation in the saturation region of the transistor Tr1, Tr4, Tr10 [j], or Tr10 [j + 1], the transistor from time T05 to time T06 Instead of resetting the gate of Tr7 to the potential VDD, the gate potential of the transistor Tr7 may be set to such a level that a predetermined drain current can be obtained. With the above structure, since current is supplied from the transistor Tr7 in addition to the drain current of the transistor Tr10 [j] or Tr10 [j + 1], a current that cannot be drawn in the transistor Tr1 can be drawn to some extent in the transistor Tr4. The operation in the saturation region of the transistors Tr1, Tr4, Tr10 [j] or Tr10 [j + 1] can be ensured.

なお、時刻T09乃至時刻T10において、配線BL[j]に流れるI[j]が配線BLREFに流れる電流IREFよりも小さい場合、すなわちΔI[j]が正の場合、時刻T07乃至時刻T08において電流シンク回路104[j]が電流ICP[j]を流し得る電流源に既に設定されているため、電流ソース回路103[j]においてトランジスタTr7のゲートの電位はほぼ電位VDDのままとなる。同様に、配線BL[j+1]に流れるI[j+1]が配線BLREFに流れる電流IREFよりも小さい場合、すなわちΔI[j+1]が正の場合、時刻T07乃至時刻T08において電流シンク回路104[j+1]が電流ICP[j+1]を流し得る電流源に既に設定されているため、電流ソース回路103[j+1]においてトランジスタTr7のゲートの電位はほぼ電位VDDのままとなる。   Note that at time T09 to time T10, when I [j] flowing through the wiring BL [j] is smaller than the current IREF flowing through the wiring BLREF, that is, when ΔI [j] is positive, current sinking is performed from time T07 to time T08. Since the circuit 104 [j] is already set as a current source capable of flowing the current ICP [j], the potential of the gate of the transistor Tr7 remains substantially the potential VDD in the current source circuit 103 [j]. Similarly, when I [j + 1] flowing through the wiring BL [j + 1] is smaller than the current IREF flowing through the wiring BLREF, that is, when ΔI [j + 1] is positive, the current sink circuit 104 [j + 1] is switched from time T07 to time T08. Since the current source is already set to a current source through which the current ICP [j + 1] can flow, the potential of the gate of the transistor Tr7 remains substantially at the potential VDD in the current source circuit 103 [j + 1].

次いで、時刻T11乃至時刻T12において、図10に示す配線RW[i]に第2のアナログ電位Vw[i]が与えられる。また、配線RW[i+1]には、基準電位として電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられたままである。具体的に、配線RW[i]の電位は、基準電位である電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2に対して電位差Vw[i]だけ高い電位となるが、以下説明を分かり易くするために、配線RW[i]の電位は電位Vw[i]であると仮定する。   Next, at time T11 to time T12, the second analog potential Vw [i] is applied to the wiring RW [i] illustrated in FIG. The wiring RW [i + 1] is still supplied with a potential between the potential VSS and the potential VDD, for example, the potential (VDD + VSS) / 2 as the reference potential. Specifically, the potential of the wiring RW [i] is higher by a potential difference Vw [i] than the potential between the potential VSS and the potential VDD, for example, the potential (VDD + VSS) / 2. For easy understanding, it is assumed that the potential of the wiring RW [i] is the potential Vw [i].

配線RW[i]が電位Vw[i]になると、容量素子C1の第1の電極の電位の変化量がほぼノードNの電位の変化量に反映されるものと仮定すると、図10に示すメモリセルMC[i、j]におけるノードNの電位はVPR−Vx[i、j]+Vw[i]となり、メモリセルMC[i、j+1]におけるノードNの電位はVPR−Vx[i、j+1]+Vw[i]となる。そして、上記の式6から、メモリセルMC[i、j]に対応する第1のアナログ電流と第2のアナログ電流の積和値は、電流ΔI[j]からIoffset[j]を差し引いた電流、すなわち、配線BL[j]から流れ出る電流Iout[j]に反映されることが分かる。また、メモリセルMC[i、j+1]に対応する第1のアナログ電流と第2のアナログ電流の積和値は、電流ΔI[j+1]からIoffset[j+1]を差し引いた電流、すなわち、配線BL[j+1]から流れ出る電流Iout[j+1]に反映されることが分かる。   When it is assumed that when the wiring RW [i] becomes the potential Vw [i], the amount of change in the potential of the first electrode of the capacitor C1 is substantially reflected in the amount of change in the potential of the node N, the memory illustrated in FIG. The potential of the node N in the cell MC [i, j] is VPR−Vx [i, j] + Vw [i], and the potential of the node N in the memory cell MC [i, j + 1] is VPR−Vx [i, j + 1] + Vw. [I]. From the above equation 6, the product sum of the first analog current and the second analog current corresponding to the memory cell MC [i, j] is the current obtained by subtracting Ioffset [j] from the current ΔI [j]. In other words, it is reflected in the current Iout [j] flowing out from the wiring BL [j]. The product sum of the first analog current and the second analog current corresponding to the memory cell MC [i, j + 1] is a current obtained by subtracting Ioffset [j + 1] from the current ΔI [j + 1], that is, the wiring BL [ It can be seen that the current Iout [j + 1] flowing out from j + 1] is reflected.

時刻T12が終了すると、配線RW[i]には、再度、基準電位である電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられる。   When the time T12 ends, the wiring RW [i] is again supplied with a potential between the potential VSS and the potential VDD which is the reference potential, for example, the potential (VDD + VSS) / 2.

次いで、時刻T13乃至時刻T14において、図10に示す配線RW[i+1]に第2のアナログ電位Vw[i+1]が与えられる。また、配線RW[i]には、基準電位として電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられたままである。具体的に、配線RW[i+1]の電位は、基準電位である電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2に対して電位差Vw[i+1]だけ高い電位となるが、以下説明を分かり易くするために、配線RW[i+1]の電位は電位Vw[i+1]であると仮定する。   Next, at time T13 to time T14, the second analog potential Vw [i + 1] is applied to the wiring RW [i + 1] illustrated in FIG. The wiring RW [i] is still supplied with a potential between the potential VSS and the potential VDD, for example, the potential (VDD + VSS) / 2 as the reference potential. Specifically, the potential of the wiring RW [i + 1] is higher by a potential difference Vw [i + 1] than the potential between the reference potential VSS and the potential VDD, for example, the potential (VDD + VSS) / 2. For ease of explanation, it is assumed that the potential of the wiring RW [i + 1] is the potential Vw [i + 1].

配線RW[i+1]が電位Vw[i+1]になると、容量素子C1の第1の電極の電位の変化量がほぼノードNの電位の変化量に反映されるものと仮定すると、図10に示すメモリセルMC[i+1、j]におけるノードNの電位はVPR−Vx[i+1、j]+Vw[i+1]となり、メモリセルMC[i+1、j+1]におけるノードNの電位はVPR−Vx[i+1、j+1]+Vw[i+1]となる。そして、上記の式6から、メモリセルMC[i+1、j]に対応する第1のと第2の積和値は、電流ΔI[j]からIoffset[j]を差し引いた電流、すなわち、Iout[j]に反映されることが分かる。また、メモリセルMC[i+1、j+1]に対応する第1のアナログ電流と第2のアナログ電流の積和値は、電流ΔI[j+1]からIoffset[j+1]を差し引いた電流、すなわち、Iout[j+1]に反映されることが分かる。   When it is assumed that when the wiring RW [i + 1] becomes the potential Vw [i + 1], the amount of change in the potential of the first electrode of the capacitor C1 is substantially reflected in the amount of change in the potential of the node N. The potential of the node N in the cell MC [i + 1, j] is VPR−Vx [i + 1, j] + Vw [i + 1], and the potential of the node N in the memory cell MC [i + 1, j + 1] is VPR−Vx [i + 1, j + 1] + Vw. [I + 1]. From Equation 6 above, the first and second product-sum values corresponding to the memory cell MC [i + 1, j] are obtained by subtracting Ioffset [j] from the current ΔI [j], that is, Iout [ j]. The product sum of the first analog current and the second analog current corresponding to the memory cell MC [i + 1, j + 1] is a current obtained by subtracting Ioffset [j + 1] from the current ΔI [j + 1], that is, Iout [j + 1]. ] Is reflected in the

時刻T12が終了すると、配線RW[i+1]には、再度、基準電位である電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられる。   When the time T12 ends, the wiring RW [i + 1] is again supplied with a potential between the potential VSS which is the reference potential and the potential VDD, for example, the potential (VDD + VSS) / 2.

次いで、時刻T15乃至時刻T16において、図10に示す配線RW[i]に第2のアナログ電位Vw[i]が与えられ、配線RW[i+1]に第2のアナログ電位Vw[i+1]が与えられる。具体的に、配線RW[i]の電位は、基準電位である電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2に対して電位差Vw[i]だけ高い電位となり、配線RW[i+1]の電位は、基準電位である電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2に対して電位差Vw[i+1]だけ高い電位となるが、以下説明を分かり易くするために、配線RW[i]の電位は電位Vw[i]であり、配線RW[i+1]の電位は電位Vw[i+1]であると仮定する。   Next, at time T15 to time T16, the second analog potential Vw [i] is supplied to the wiring RW [i] illustrated in FIG. 10, and the second analog potential Vw [i + 1] is supplied to the wiring RW [i + 1]. . Specifically, the potential of the wiring RW [i] is higher by a potential difference Vw [i] than a potential between the reference potential VSS and the potential VDD, for example, the potential (VDD + VSS) / 2, and the wiring RW [i] The potential of (i + 1) is higher than the potential between the potential VSS and the potential VDD, for example, the potential (VDD + VSS) / 2 by a potential difference Vw [i + 1]. Further, it is assumed that the potential of the wiring RW [i] is the potential Vw [i] and the potential of the wiring RW [i + 1] is the potential Vw [i + 1].

配線RW[i]が電位Vw[i]になると、容量素子C1の第1の電極の電位の変化量がほぼノードNの電位の変化量に反映されるものと仮定すると、図10に示すメモリセルMC[i、j]におけるノードNの電位はVPR−Vx[i、j]+Vw[i]となり、メモリセルMC[i、j+1]におけるノードNの電位はVPR−Vx[i、j+1]+Vw[i]となる。また、配線RW[i+1]が電位Vw[i+1]になると、容量素子C1の第1の電極の電位の変化量がほぼノードNの電位の変化量に反映されるものと仮定すると、図10に示すメモリセルMC[i+1、j]におけるノードNの電位はVPR−Vx[i+1、j]+Vw[i+1]となり、メモリセルMC[i+1、j+1]におけるノードNの電位はVPR−Vx[i+1、j+1]+Vw[i+1]となる。   When it is assumed that when the wiring RW [i] becomes the potential Vw [i], the amount of change in the potential of the first electrode of the capacitor C1 is substantially reflected in the amount of change in the potential of the node N, the memory illustrated in FIG. The potential of the node N in the cell MC [i, j] is VPR−Vx [i, j] + Vw [i], and the potential of the node N in the memory cell MC [i, j + 1] is VPR−Vx [i, j + 1] + Vw. [I]. Further, when it is assumed that when the wiring RW [i + 1] becomes the potential Vw [i + 1], the amount of change in the potential of the first electrode of the capacitor C1 is substantially reflected in the amount of change in the potential of the node N. FIG. The potential of the node N in the memory cell MC [i + 1, j] shown is VPR−Vx [i + 1, j] + Vw [i + 1], and the potential of the node N in the memory cell MC [i + 1, j + 1] is VPR−Vx [i + 1, j + 1. ] + Vw [i + 1].

そして、上記の式6から、メモリセルMC[i、j]とメモリセルMC[i+1、j]とに対応する第1と第2の積和値は、電流ΔI[j]からIoffset[j]を差し引いた電流、すなわち、電流Iout[j]に反映されることが分かる。また、メモリセルMC[i、j+1]とメモリセルMC[i+1、j+1]とに対応する第1と第2の積和値は、電流ΔI[j+1]からIoffset[j+1]を差し引いた電流、すなわち、電流Iout[j+1]に反映されることが分かる。   From Equation 6 above, the first and second product sum values corresponding to the memory cell MC [i, j] and the memory cell MC [i + 1, j] are obtained from the current ΔI [j] to Ioffset [j]. It can be seen that the current is subtracted from the current Iout [j]. The first and second product sum values corresponding to the memory cell MC [i, j + 1] and the memory cell MC [i + 1, j + 1] are currents obtained by subtracting Ioffset [j + 1] from the current ΔI [j + 1], that is, It can be seen that the current Iout [j + 1] is reflected.

時刻T16が終了すると、配線RW[i]及び配線RW[i+1]には、再度、基準電位である電位VSSと電位VDDの間の電位、例えば電位(VDD+VSS)/2が与えられる。   When the time T16 ends, the wiring RW [i] and the wiring RW [i + 1] are again supplied with a potential between the potential VSS and the potential VDD, for example, the potential (VDD + VSS) / 2.

上記構成により、積和演算を小さな回路規模で行うことができる。また、上記構成により、積和演算を高速で行うことができる。また、上記構成により、低消費電力で積和演算を行うことができる。   With the above configuration, the product-sum operation can be performed with a small circuit scale. In addition, with the above configuration, the product-sum operation can be performed at high speed. In addition, with the above configuration, the product-sum operation can be performed with low power consumption.

なお図9乃至図11で説明した積和演算回路の回路構成はあくまで一例であり、本発明の一態様を実現可能であれば任意の構成とすることができる。   Note that the circuit configuration of the product-sum operation circuit described with reference to FIGS. 9 to 11 is merely an example, and any configuration can be employed as long as one embodiment of the present invention can be realized.

なお、トランジスタTr2、Tr5、Tr6、Tr8、またはTr9は、オフ電流の著しく低いトランジスタを用いることが望ましい。トランジスタTr2にオフ電流の著しく低いトランジスタを用いることにより、ノードNの電位の保持を長時間に渡って行うことができる。また、トランジスタTr5及びTr6にオフ電流の著しく低いトランジスタを用いることにより、トランジスタTr4のゲートの電位の保持を、長時間に渡って行うことができる。また、トランジスタTr8及びTr9にオフ電流の著しく低いトランジスタを用いることにより、トランジスタTr7のゲートの電位の保持を、長時間に渡って行うことができる。   Note that as the transistor Tr2, Tr5, Tr6, Tr8, or Tr9, a transistor with extremely low off-state current is preferably used. By using a transistor with extremely low off-state current as the transistor Tr2, the potential of the node N can be held for a long time. Further, by using transistors with extremely low off-state current for the transistors Tr5 and Tr6, the potential of the gate of the transistor Tr4 can be held for a long time. Further, by using transistors with extremely low off-state current for the transistors Tr8 and Tr9, the potential of the gate of the transistor Tr7 can be held for a long time.

トランジスタのオフ電流を下げるには、例えば、チャネル形成領域をエネルギーギャップが広い半導体で形成すればよい。半導体のエネルギーギャップは、2.5eV以上、または2.7eV以上、または3eV以上であることが好ましい。このような半導体材料として酸化物半導体が挙げられる。トランジスタTr2、Tr5、Tr6、Tr8、またはTr9として、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むトランジスタを用いればよい。チャネル幅で規格化したOSトランジスタのリーク電流は、ソースドレイン電圧が10V、室温(25℃程度)の状態で10×10−21A/μm(10ゼプトA/μm)以下とすることが可能である。スイッチSW2、SW3に適用されるOSトランジスタのリーク電流は、室温(25℃程度)にて1×10−18A以下、または、1×10−21A以下、または1×10−24A以下が好ましい。または、リーク電流は85℃にて1×10−15A以下、または1×10−18A以下、または1×10−21A以下であることが好ましい。 In order to reduce the off-state current of the transistor, for example, the channel formation region may be formed using a semiconductor with a wide energy gap. The energy gap of the semiconductor is preferably 2.5 eV or more, 2.7 eV or more, or 3 eV or more. As such a semiconductor material, an oxide semiconductor can be given. A transistor including an oxide semiconductor in a channel formation region may be used as the transistors Tr2, Tr5, Tr6, Tr8, or Tr9. The leakage current of the OS transistor normalized by the channel width can be 10 × 10 −21 A / μm (10 zept A / μm) or less when the source drain voltage is 10 V and room temperature (about 25 ° C.). is there. The leakage current of the OS transistor applied to the switches SW2 and SW3 is 1 × 10 −18 A or less, 1 × 10 −21 A or less, or 1 × 10 −24 A or less at room temperature (about 25 ° C.). preferable. Alternatively, the leakage current is preferably 1 × 10 −15 A or less, or 1 × 10 −18 A or less, or 1 × 10 −21 A or less at 85 ° C.

酸化物半導体はエネルギーギャップが大きく、電子が励起されにくく、ホールの有効質量が大きい半導体である。このため、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むトランジスタは、シリコン等を用いた一般的なトランジスタと比較して、アバランシェ崩壊等が生じにくい場合がある。アバランシェ崩壊に起因するホットキャリア劣化等が抑制されることで、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むトランジスタは高いドレイン耐圧を有することとなり、高いドレイン電圧で駆動することが可能である。   An oxide semiconductor is a semiconductor with a large energy gap, difficulty in excitation of electrons, and a large effective mass of holes. For this reason, a transistor including an oxide semiconductor in a channel formation region may hardly undergo avalanche collapse or the like as compared with a general transistor using silicon or the like. By suppressing hot carrier deterioration caused by avalanche collapse, a transistor including an oxide semiconductor in a channel formation region has a high drain breakdown voltage, and can be driven with a high drain voltage.

トランジスタのチャネル形成領域に含まれる酸化物半導体は、インジウム(In)および亜鉛(Zn)の少なくとも一方を含む酸化物半導体であることが好ましい。このような酸化物半導体としては、In酸化物、Zn酸化物、In−Zn酸化物、In−M−Zn酸化物(元素Mは、Ga、Al、Ti、Y、Zr、La、Ce、Nd、またはHf)が代表的である。これら酸化物半導体は、電子供与体(ドナー)となる水素などの不純物を低減し、かつ酸素欠損も低減することで、酸化物半導体をi型半導体(真性半導体)にする、あるいはi型半導体に限りなく近づけることができる。このような酸化物半導体は、高純度化された酸化物半導体と呼ぶことができる。   The oxide semiconductor included in the channel formation region of the transistor is preferably an oxide semiconductor including at least one of indium (In) and zinc (Zn). As such an oxide semiconductor, an In oxide, a Zn oxide, an In—Zn oxide, an In—M—Zn oxide (the element M includes Ga, Al, Ti, Y, Zr, La, Ce, and Nd). Or Hf) is typical. These oxide semiconductors reduce an impurity such as hydrogen that serves as an electron donor (donor) and reduce oxygen vacancies to make the oxide semiconductor an i-type semiconductor (intrinsic semiconductor), or to an i-type semiconductor. It can be as close as possible. Such an oxide semiconductor can be referred to as a highly purified oxide semiconductor.

チャネル形成領域を、キャリア密度の低い酸化物半導体で形成することが好ましい。酸化物半導体のキャリア密度は、例えば、キャリア密度は8×1011/cm未満1×10−9/cm以上であるとよい。キャリア密度は、1×1011/cm未満が好ましく、1×1010/cm未満がさらに好ましい。 The channel formation region is preferably formed using an oxide semiconductor with low carrier density. For example, the carrier density of the oxide semiconductor is preferably less than 8 × 10 11 / cm 3 and 1 × 10 −9 / cm 3 or more. The carrier density is preferably less than 1 × 10 11 / cm 3, and more preferably less than 1 × 10 10 / cm 3 .

<文字データ生成回路およびパターン認識回路に適用可能なニューラルネットワークの構成例>
文字データ生成回路およびパターン認識回路に適用可能なニューラルネットワークの種類の一として、階層型ニューラルネットワークについて説明する。
<Configuration example of neural network applicable to character data generation circuit and pattern recognition circuit>
A hierarchical neural network will be described as one type of neural network applicable to the character data generation circuit and the pattern recognition circuit.

図12は、階層型ニューラルネットワークの一例を示した図である。第(k−1)層(kは2以上の整数である。)は、ニューロンをP個(Pは1以上の整数である。)有し、第k層は、ニューロンをQ個(Qは1以上の整数である。)有し、第(k+1)層は、ニューロンをR個(Rは1以上の整数である。)有する。   FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a hierarchical neural network. The (k−1) -th layer (k is an integer of 2 or more) has P neurons (P is an integer of 1 or more), and the k-th layer has Q neurons (Q is The (k + 1) th layer has R neurons (R is an integer of 1 or more).

第(k−1)層の第pニューロン(pは1以上P以下の整数である。)の出力信号z (k−1)と重み係数wqp (k)と、の積が第k層の第qニューロン(qは1以上Q以下の整数である。)に入力されるものとし、第k層の第qニューロンの出力信号z (k)と重み係数wrq (k+1)と、の積が第(k+1)層の第rニューロン(rは1以上R以下の整数である。)に入力されるものとし、第(k+1)層の第rニューロンの出力信号をz (k+1)とする。 The product of the output signal z p (k−1) and the weight coefficient w qp (k) of the p-th neuron of the (k−1) -th layer (p is an integer of 1 or more and P or less) is the k-th layer. The q-th neuron (q is an integer between 1 and Q), and the output signal z q (k) of the k- th neuron in the k-th layer and the weight coefficient w rq (k + 1) Assume that the product is input to the r-th neuron in the (k + 1) -th layer (r is an integer of 1 to R), and the output signal of the r-th neuron in the (k + 1) -th layer is expressed as z r (k + 1) To do.

このとき、第k層の第qニューロンへ入力される信号の総和は、次の式(D1)で表される。   At this time, the total sum of signals input to the k-th neuron in the k-th layer is expressed by the following equation (D1).

Figure 2018098646
Figure 2018098646

また、第k層の第qニューロンからの出力信号z (k)を次の式(D2)で定義する。 The output signal z q (k) from the q-th neuron in the k-th layer is defined by the following equation (D2).

Figure 2018098646
Figure 2018098646

関数f(u (k))は、ニューロンの出力関数であり、ステップ関数、線形ランプ関数、又はシグモイド関数などを用いることができる。なお、式(D1)の積和演算は、先述した積和演算回路によって実現できる。なお、式(D2)の演算は、例えば、図15(A)に示す回路411によって実現できる。 The function f (u q (k) ) is a neuron output function, and a step function, a linear ramp function, a sigmoid function, or the like can be used. The product-sum operation of equation (D1) can be realized by the product-sum operation circuit described above. Note that the calculation of the equation (D2) can be realized by a circuit 411 illustrated in FIG.

なお、ニューロンの出力関数は、全てのニューロンにおいて同一でもよいし、又は異なっていてもよい。加えて、ニューロンの出力関数は、層毎において、同一でもよいし、異なっていてもよい。   Note that the output function of the neurons may be the same or different in all the neurons. In addition, the output function of the neuron may be the same or different for each layer.

ここで、図13に示す、全L層からなる階層型ニューラルネットワークを考える(つまり、ここでのkは2以上(L−1)以下の整数とする。)。第1層は、階層型ニューラルネットワークの入力層となり、第L層は、階層型ニューラルネットワークの出力層となり、第2層乃至第(L−1)層は、隠れ層となる。   Here, consider a hierarchical neural network including all L layers shown in FIG. 13 (that is, k here is an integer of 2 or more and (L−1) or less). The first layer is an input layer of the hierarchical neural network, the Lth layer is an output layer of the hierarchical neural network, and the second to (L-1) th layers are hidden layers.

第1層(入力層)は、ニューロンをP個有し、第k層(隠れ層)は、ニューロンをQ[k]個(Q[k]は1以上の整数である。)有し、第L層(出力層)は、ニューロンをR個有する。   The first layer (input layer) has P neurons, and the kth layer (hidden layer) has Q [k] neurons (Q [k] is an integer equal to or greater than 1). The L layer (output layer) has R neurons.

第1層の第s[1]ニューロン(s[1]は1以上P以下の整数である。)の出力信号をzs[1] (1)とし、第k層の第s[k]ニューロン(s[k]は1以上Q[k]以下の整数である。)の出力信号をzs[k] (k)とし、第L層の第s[L]ニューロン(s[L]は1以上R以下の整数である。)の出力信号をzs[L] (L)とする。 The output signal of the s [1] neuron in the first layer (s [1] is an integer between 1 and P) is z s [1] (1), and the s [k] neuron in the kth layer. The output signal (s [k] is an integer between 1 and Q [k]) is z s [k] (k), and the s [L] neuron (s [L] is 1 in the Lth layer. The output signal is an integer less than or equal to R.) z s [L] (L) .

また、第(k−1)層の第s[k−1]ニューロン(s[k−1]は1以上Q[k−1]以下の整数である。)の出力信号zs[k−1] (k−1)と重み係数ws[k]s[k−1] (k)と、の積us[k] (k)が第k層の第s[k]ニューロンに入力されるものとし、第(L−1)層の第s[L−1]ニューロン(s[L−1]は1以上Q[L−1]以下の整数である。)の出力信号zs[L−1] (L−1)と重み係数ws[L]s[L−1] (L)と、の積us[L] (L)が第L層の第s[L]ニューロンに入力されるものとする。 The output signal z s [k−1 ] of the s [k−1] th neuron (s [k−1] is an integer of 1 to Q [k−1]) in the (k−1) th layer. ] Product k s [k] (k ) and weight coefficient w s [k] s [k−1] (k) are input to the s [k] neuron in the k-th layer. It is assumed that the output signal z s [L− ] of the s [L−1] neuron (s [L−1] is an integer of 1 to Q [L−1]) in the (L−1) th layer. 1] (L−1) and the weight coefficient w s [L] s [L−1] (L) and the product u s [L] (L) are input to the s [L] neuron in the Lth layer. Shall be.

次に、教師付き学習について説明する。教師付き学習とは、上述の階層型ニューラルネットワークの機能において、出力した結果と、所望の結果(教師データ、又は教師信号という場合がある。)と異なったときに、階層型ニューラルネットワークの全ての重み係数を、出力した結果と所望の結果とに基づいて、更新する動作をいう。   Next, supervised learning will be described. Supervised learning means that when the output result differs from the desired result (sometimes referred to as teacher data or teacher signal) in the function of the above-described hierarchical neural network, An operation for updating the weighting coefficient based on the output result and the desired result.

教師付き学習の具体例として、逆伝播誤差方式による学習方法について説明する。図14は、逆伝播誤差方式による学習方法を説明する図である。逆伝播誤差方式は、階層型ニューラルネットワークの出力と教師データとの誤差が小さくなるに、重み係数を変更する方式である。   As a specific example of supervised learning, a learning method using a back propagation error method will be described. FIG. 14 is a diagram for explaining a learning method using the back propagation error method. The back propagation error method is a method of changing the weighting coefficient so that the error between the output of the hierarchical neural network and the teacher data becomes small.

例えば、第1層の第s[1]ニューロンに入力データを入力し、第L層の第s[L]ニューロンから出力データzs[L] (L)を出力されたとする。ここで、出力データzs[L] (L)に対する教師信号をts[L]としたとき、誤差エネルギーEは、出力データzs[L] (L)及び教師信号ts[L]によって表すことができる。 For example, assume that input data is input to the s [1] neuron in the first layer, and output data z s [L] (L) is output from the s [L] neuron in the Lth layer. Here, when the teacher signal for the output data z s [L] (L) is t s [L] , the error energy E is determined by the output data z s [L] (L) and the teacher signal t s [L] . Can be represented.

誤差エネルギーEに対して、第k層の第s[k]ニューロンの重み係数ws[k]s[k−1] (k)の更新量を∂E/∂ws[k]s[k−1] (k)とすることで、新たに重み係数を変更することができる。ここで、第k層の第s[k]ニューロンの出力値zs[k] (k)の誤差δs[k] (k)を∂E/∂us[k] (k)と定義すると、δs[k] (k)及び∂E/∂ws[k]s[k−1] (k)は、それぞれ次の式(D3)、(D4)で表すことができる。 For the error energy E, the update amount of the weight coefficient w s [k] s [k−1] (k) of the s [k] neuron in the k-th layer is expressed as ∂E / ∂w s [k] s [k −1] By setting (k) , the weighting factor can be newly changed. Here, if the error δ s [k] (k) of the output value z s [k] (k) of the s [k] neuron in the k-th layer is defined as ∂E / ∂u s [k] (k) , Δ s [k] (k) and ∂E / ∂w s [k] s [k−1] (k) can be expressed by the following equations (D3) and (D4), respectively.

Figure 2018098646
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f’(us[k] (k))は、ニューロン回路の出力関数の導関数である。なお、式(D3)の演算は、例えば、図15(B)に示す回路413によって実現できる。また、式(D4)の演算は、例えば、図16(C)に示す回路414によって実現できる。出力関数の導関数は、例えば、オペアンプの出力端子に所望の導関数に対応した演算回路を接続することによって実現できる。 f ′ (u s [k] (k) ) is a derivative of the output function of the neuron circuit. Note that the calculation of Expression (D3) can be realized by a circuit 413 illustrated in FIG. Moreover, the calculation of Formula (D4) is realizable by the circuit 414 shown in FIG.16 (C), for example. The derivative of the output function can be realized, for example, by connecting an arithmetic circuit corresponding to a desired derivative to the output terminal of the operational amplifier.

また、例えば、式(D3)のΣws[k+1]・s[k] (k+1)・δs[k+1] (k+1)の部分の演算は、前述した積和演算回路によって実現できる。 Further, for example, the calculation of the part of Σw s [k + 1] · s [k] (k + 1) · δ s [k + 1] (k + 1) in the equation (D3) can be realized by the product-sum operation circuit described above.

ここで、第(k+1)層が出力層のとき、すなわち、第(k+1)層が第L層であるとき、δs[L] (L)及び∂E/∂ws[L]s[L−1] (L)は、それぞれ次の式(D5)、(D6)で表すことができる。 Here, when the (k + 1) th layer is the output layer, that is, when the (k + 1) th layer is the Lth layer, δ s [L] (L) and ∂E / ∂w s [L] s [L -1] (L) can be represented by the following formulas (D5) and (D6), respectively.

Figure 2018098646
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式(D5)の演算は、図15(D)に示す回路415によって実現できる。また、式(D6)の演算は、図15(C)に示す回路414によって実現できる。   The calculation of Expression (D5) can be realized by a circuit 415 illustrated in FIG. Further, the calculation of Expression (D6) can be realized by a circuit 414 illustrated in FIG.

つまり、式(D1)乃至式(D6)により、全てのニューロン回路の誤差δs[k] (k)及びδs[L] (L)を求めることができる。なお、重み係数の更新は、誤差δs[k] (k)、δs[L] (L)及び所望のパラメータなどに基づいて、設定される。 That is, the errors δ s [k] (k) and δ s [L] (L) of all the neuron circuits can be obtained from the equations (D1) to (D6). The update of the weighting coefficient is set based on the errors δ s [k] (k) , δ s [L] (L), desired parameters, and the like.

以上のように、図9および図10に示す回路、及び前述した積和演算回路を用いることによって、教師付き学習を適用した階層型ニューラルネットワークの計算を行うことができる。   As described above, the hierarchical neural network to which supervised learning is applied can be calculated by using the circuits shown in FIGS. 9 and 10 and the product-sum operation circuit described above.

具体的には、図9および図10に示す回路において、第1アナログデータを重み係数として、複数の第2アナログデータをニューロン出力に対応することで、各ニューロン出力の重み付け和演算を並列して行うことができ、当該出力信号として重み付け演算の結果に対応したデータ、すなわちシナプス入力を取得することができる。具体的には、メモリセルAM[1,j]乃至メモリセルAM[m,j]に、第k層の第s[k]ニューロンの重み係数ws[k]・1 (k)乃至ws[k]・Q[k−1] (k)を第1アナログデータとして格納し、配線RW[1]乃至配線RW[m]にそれぞれ第(k−1)層の各ニューロンの出力信号z1・s[k] (k−1)乃至zQ[k−1]・s[k] (k−1)を第2アナログデータとして供給することで、第k層の第s[k]ニューロンに入力される信号の総和us[k] (k)を計算することができる。つまり、式(D1)に示した積和演算を積和演算回路によって実現することができる。 Specifically, in the circuits shown in FIGS. 9 and 10, the first analog data is used as a weighting factor, and a plurality of second analog data is associated with the neuron output, so that the weighted sum operation of each neuron output is performed in parallel. The data corresponding to the result of the weighting calculation, that is, the synaptic input can be acquired as the output signal. Specifically, the weight coefficients w s [k] · 1 (k) to w s of the s [k] neuron in the k-th layer are assigned to the memory cells AM [1, j] to AM [m, j]. [K] · Q [k−1] (k) is stored as the first analog data, and the output signal z 1 of each neuron of the (k−1) th layer is respectively connected to the wiring RW [1] to the wiring RW [m]. By supplying s [k] (k-1) to zQ [k-1] .s [k] (k-1) as the second analog data, the s [k] neuron in the kth layer is supplied. The sum total u s [k] (k) of the input signals can be calculated. That is, the product-sum operation shown in Expression (D1) can be realized by the product-sum operation circuit.

また、教師付き学習で重み係数の更新を行うとき、メモリセルAM[1,j]乃至メモリセルAM[m,j]に、第k層の第s[k]ニューロンから第(k+1)層の各ニューロンに信号が送られるときに掛かる重み係数w1・s[k] (k+1)乃至wQ[k+1]s[k] (k+1)を第1アナログデータとして格納し、配線RW[1]乃至配線RW[m]に第(k+1)層の各ニューロンの誤差δ (k+1)乃至δQ[k+1] (k+1)を第2アナログデータとして供給すると、式(D3)におけるΣws[k+1]・s[k] (k+1)・δs[k+1] (k+1)の値を、配線B[j]に流れる差分電流ΔI[j]から得ることができる。つまり、式(D3)に示した演算の一部を積和演算回路によって実現することができる。 Further, when updating the weighting coefficient by supervised learning, the memory cell AM [1, j] to memory cell AM [m, j] are transferred from the kth layer s [k] neuron to the (k + 1) th layer. The weighting factors w 1 · s [k] (k + 1) to w Q [k + 1] s [k] (k + 1) applied when signals are sent to the respective neurons are stored as first analog data, and wirings RW [1] to RW [1] to When the errors δ 1 (k + 1) to δ Q [k + 1] (k + 1) of each neuron of the (k + 1) -th layer are supplied as the second analog data to the wiring RW [m], Σw s [k + 1] · The value of s [k] (k + 1) · δ s [k + 1] (k + 1) can be obtained from the differential current ΔI B [j] flowing in the wiring B [j]. That is, a part of the calculation shown in Expression (D3) can be realized by the product-sum calculation circuit.

<記憶回路に適用可能なメモリセルの構成例>
記憶回路19,25に用いられるメモリセルの回路構成の一例を図12に示す。図16(A)乃至(F)では、上述した記憶回路19,25に適用可能なメモリセルの構成例について説明する。
<Configuration Example of Memory Cell Applicable to Memory Circuit>
An example of the circuit configuration of the memory cell used for the memory circuits 19 and 25 is shown in FIG. 16A to 16F, a configuration example of a memory cell that can be applied to the memory circuits 19 and 25 described above will be described.

図16(A)は、記憶回路19,25の構成例を説明するためのブロック図である。図16(A)に示すブロック図では、メモリセルアレイ90、ワード線駆動回路91、およびビット線駆動回路92を図示している。   FIG. 16A is a block diagram for explaining a configuration example of the memory circuits 19 and 25. In the block diagram of FIG. 16A, the memory cell array 90, the word line driver circuit 91, and the bit line driver circuit 92 are illustrated.

メモリセルアレイ90は、m行n列(m、nは自然数)のマトリクス状に設けられたメモリセルMCを有する。メモリセルMCは、ワード線WL_1乃至WL_mおよびビット線BL_1乃至BL_nに接続される。メモリセルMCは、ビット線およびワード線の他、電流を流すためのソース線、トランジスタのバックゲートに電圧を印加するための配線、または容量素子の一方の電極を固定電位にするための容量線等に接続されていてもよい。   The memory cell array 90 includes memory cells MC provided in a matrix of m rows and n columns (m and n are natural numbers). The memory cell MC is connected to the word lines WL_1 to WL_m and the bit lines BL_1 to BL_n. The memory cell MC includes a bit line and a word line, a source line for flowing current, a wiring for applying a voltage to the back gate of the transistor, or a capacitance line for setting one electrode of the capacitor to a fixed potential. Or the like.

ワード線駆動回路91は、各行におけるメモリセルMCを選択するための信号を出力する回路である。ワード線WL_1乃至WL_mは、書き込み用と読み出し用とに別々のワード線とがあってもよい。   The word line driving circuit 91 is a circuit that outputs a signal for selecting the memory cell MC in each row. The word lines WL_1 to WL_m may have separate word lines for writing and reading.

ビット線駆動回路92は、各列におけるメモリセルMCへのデータを書き込み、またはメモリセルMCからのデータの読み出しを行うための回路である。ビット線BL_1乃至BL_nは、書き込み用と読み出し用とに別々のビット線とがあってもよい。   The bit line driving circuit 92 is a circuit for writing data to the memory cells MC in each column or reading data from the memory cells MC. The bit lines BL_1 to BL_n may have different bit lines for writing and reading.

図16(B)乃至(F)には、図16(A)で説明したメモリセルMCが取り得る回路構成の一例を示す。   FIGS. 16B to 16F illustrate examples of circuit configurations that can be taken by the memory cell MC described with reference to FIG.

図16(B)に示すメモリセルMC_Aは、トランジスタOS1および容量素子93を有する。トランジスタOS1は、半導体層に酸化物半導体を有するトランジスタ(OSトランジスタ)である。OSトランジスタは、半導体層にシリコンを有するトランジスタ(Siトランジスタ)と比べて、非導通状態時のリーク電流(オフ電流)が極めて低いといった特性を有する。そのため、トランジスタOS1を非導通状態にすることで、電荷保持ノードSNにデータに応じた電荷を保持することができる。そのため、電荷保持ノードSNに保持したデータのリフレッシュレートを小さくすることができる。   A memory cell MC_A illustrated in FIG. 16B includes a transistor OS1 and a capacitor 93. The transistor OS1 is a transistor having an oxide semiconductor in a semiconductor layer (OS transistor). An OS transistor has a characteristic that leakage current (off current) in a non-conduction state is extremely low as compared with a transistor having silicon in a semiconductor layer (Si transistor). Therefore, the charge corresponding to the data can be held in the charge holding node SN by turning off the transistor OS1. Therefore, the refresh rate of data held in the charge holding node SN can be reduced.

図16(C)に示すメモリセルMC_Bは、トランジスタOS2および容量素子93を有する。トランジスタOS2は、OSトランジスタである。図16(B)のトランジスタOS1との違いは、ゲートとバックゲートとを接続し、双方よりワード線WLの電圧を印加する点にある。このような構成とすることで、トランジスタOS2を導通状態とした際にソースとドレインとの間を流れる電流量を増加させることができる。   A memory cell MC_B illustrated in FIG. 16C includes a transistor OS2 and a capacitor 93. The transistor OS2 is an OS transistor. The difference from the transistor OS1 in FIG. 16B is that the gate and the back gate are connected and the voltage of the word line WL is applied from both. With such a structure, the amount of current flowing between the source and the drain when the transistor OS2 is turned on can be increased.

図16(D)に示すメモリセルMC_Cは、トランジスタOS3および容量素子93を有する。トランジスタOS3は、OSトランジスタである。図16(B)のトランジスタOS1との違いは、バックゲートとバックゲート線BGLとを接続し、バックゲートにゲートとは異なる電圧を印加する点にある。このような構成とすることで、トランジスタOS3の閾値電圧を制御してソースとドレインとの間を流れる電流量を制御することができる。   A memory cell MC_C illustrated in FIG. 16D includes a transistor OS3 and a capacitor 93. The transistor OS3 is an OS transistor. A difference from the transistor OS1 in FIG. 16B is that a back gate and a back gate line BGL are connected and a voltage different from that of the gate is applied to the back gate. With such a structure, the threshold voltage of the transistor OS3 can be controlled to control the amount of current flowing between the source and the drain.

図16(E)に示すメモリセルMC_Dは、トランジスタOS1、トランジスタM1および容量素子93を有する。トランジスタOS1のソースまたはドレインの一方は書き込みビット線WBLに接続される。トランジスタOS1のソースまたはドレインの他方はトランジスタM1のゲート、および容量素子93の一方の電極に接続される。トランジスタOS1のゲートは書き込みワード線WWLに接続される。容量素子93の他方の電極は、読み出しワード線RWLに接続される。トランジスタM1のソース又はドレインの一方は読み出しビット線RBLに接続される。トランジスタM1のソース又はドレインの他方はソース線SLに接続される。トランジスタM1は、pチャネルトランジスタを図示したが、nチャネル型トランジスタでもよい。トランジスタOS1を非導通状態にすることで、電荷保持ノードSNにデータに応じた電荷を保持することができる。トランジスタM1は、チャネル形成領域にシリコンを有するトランジスタ(Siトランジスタ)である。なおトランジスタOS1は、上述したトランジスタOS2、OS3と同様の構成とすることができる。   A memory cell MC_D illustrated in FIG. 16E includes a transistor OS1, a transistor M1, and a capacitor 93. One of the source and the drain of the transistor OS1 is connected to the write bit line WBL. The other of the source and the drain of the transistor OS1 is connected to the gate of the transistor M1 and one electrode of the capacitor 93. The gate of the transistor OS1 is connected to the write word line WWL. The other electrode of the capacitor 93 is connected to the read word line RWL. One of the source and the drain of the transistor M1 is connected to the read bit line RBL. The other of the source and the drain of the transistor M1 is connected to the source line SL. The transistor M1 is a p-channel transistor, but may be an n-channel transistor. By setting the transistor OS1 in a non-conductive state, the charge corresponding to the data can be held in the charge holding node SN. The transistor M1 is a transistor (Si transistor) having silicon in a channel formation region. Note that the transistor OS1 can have a structure similar to that of the above-described transistors OS2 and OS3.

図16(F)に示すメモリセルMC_Eは、トランジスタOS1、トランジスタM1、トランジスタM2および容量素子93を有する。トランジスタOS1のソースまたはドレインの一方は書き込みビット線WBLに接続される。トランジスタOS1のソースまたはドレインの他方はトランジスタM1のゲート、および容量素子93の一方の電極に接続される。トランジスタOS1のゲートは書き込みワード線WWLに接続される。容量素子93の他方の電極は、容量線CLに接続される。トランジスタM1のソース又はドレインの一方はトランジスタM2のソースまたはドレインの一方に接続される。トランジスタM1のソース又はドレインの他方はソース線SLに接続される。トランジスタM2のゲートは読み出しワード線RWLに接続される。トランジスタM2のソース又はドレインの他方は読み出しビット線RBLに接続される。トランジスタM2は、pチャネルトランジスタを図示したが、nチャネル型トランジスタでもよい。トランジスタOS1を非導通状態にすることで、電荷保持ノードSNにデータに応じた電荷を保持することができる。トランジスタM2は、Siトランジスタである。なおトランジスタOS1は、上述したトランジスタOS2、OS3と同様の構成とすることができる。   A memory cell MC_E illustrated in FIG. 16F includes a transistor OS1, a transistor M1, a transistor M2, and a capacitor 93. One of the source and the drain of the transistor OS1 is connected to the write bit line WBL. The other of the source and the drain of the transistor OS1 is connected to the gate of the transistor M1 and one electrode of the capacitor 93. The gate of the transistor OS1 is connected to the write word line WWL. The other electrode of the capacitor 93 is connected to the capacitor line CL. One of the source and the drain of the transistor M1 is connected to one of the source and the drain of the transistor M2. The other of the source and the drain of the transistor M1 is connected to the source line SL. The gate of the transistor M2 is connected to the read word line RWL. The other of the source and the drain of the transistor M2 is connected to the read bit line RBL. The transistor M2 is a p-channel transistor, but may be an n-channel transistor. By setting the transistor OS1 in a non-conductive state, the charge corresponding to the data can be held in the charge holding node SN. The transistor M2 is a Si transistor. Note that the transistor OS1 can have a structure similar to that of the above-described transistors OS2 and OS3.

なお図16(B)乃至(F)に示すメモリセルの構成は、記憶回路に記憶するデータが増加する場合に特に有効である。記憶回路のメモリセルをSRAM(Static RAM)で構成する場合と比べて、メモリセルを1乃至3つとする構成は、回路面積の増加を抑制できる。特に図16(B)乃至(D)に示すメモリセルの構成は回路面積の増加の抑制に有効である。   Note that the structure of the memory cell illustrated in FIGS. 16B to 16F is particularly effective when data stored in the memory circuit is increased. Compared to the case where the memory cells of the memory circuit are configured by SRAM (Static RAM), the configuration having one to three memory cells can suppress an increase in circuit area. In particular, the structure of the memory cell shown in FIGS. 16B to 16D is effective in suppressing an increase in circuit area.

またOSトランジスタは、動作温度が上昇した際のトランジスタ特性の変動がSiトランジスタに比べて小さい。そのため、自動車等の車載仕様に耐えうる温度範囲での動作を、より確実におこなうことができる記憶回路とすることができる。   The OS transistor has a smaller variation in transistor characteristics when the operating temperature rises than that of the Si transistor. Therefore, it is possible to provide a memory circuit that can perform operation in a temperature range that can withstand in-vehicle specifications such as an automobile more reliably.

なお図16(B)乃至(F)に示す回路構成はあくまで一例であり、本発明の一態様を実現可能であれば任意の構成とすることができる。   Note that the circuit configurations illustrated in FIGS. 16B to 16F are merely examples, and any configuration can be employed as long as one embodiment of the present invention can be realized.

<表示装置に適用可能な回路の構成例>
表示装置32の表示部における回路構成の一例を図17に示す。図14では、上述した表示部が有する副画素に適用可能な回路構成の構成例について説明する。
<Example of Circuit Configuration Applicable to Display Device>
An example of a circuit configuration in the display unit of the display device 32 is shown in FIG. FIG. 14 illustrates an example of a circuit configuration that can be applied to the sub-pixels included in the display portion described above.

図17は、表示装置の構成例を説明するブロック図である。   FIG. 17 is a block diagram illustrating a configuration example of a display device.

図17に示す表示装置500は、駆動回路541、駆動回路542A、駆動回路542B、および表示部543を有する。なお、駆動回路541、駆動回路542A、および駆動回路542Bをまとめて「駆動回路」または「周辺駆動回路」という場合がある。   A display device 500 illustrated in FIG. 17 includes a driver circuit 541, a driver circuit 542A, a driver circuit 542B, and a display portion 543. Note that the drive circuit 541, the drive circuit 542A, and the drive circuit 542B may be collectively referred to as a “drive circuit” or a “peripheral drive circuit”.

駆動回路542A、駆動回路542Bは、例えば走査線駆動回路として機能できる。また、駆動回路541は、例えば信号線駆動回路として機能できる。なお、駆動回路542A、および駆動回路542Bは、どちらか一方のみとしてもよい。また、表示部543を挟んで駆動回路541と向き合う位置に、何らかの回路を設けてもよい。   The driver circuit 542A and the driver circuit 542B can function as a scan line driver circuit, for example. In addition, the drive circuit 541 can function as a signal line driver circuit, for example. Note that only one of the drive circuit 542A and the drive circuit 542B may be used. In addition, some circuit may be provided at a position facing the driving circuit 541 with the display portion 543 interposed therebetween.

また、図17に例示する表示装置500は、各々が略平行に配設され、且つ、駆動回路542A、および/または駆動回路542Bによって電位が制御されるp本の配線544と、各々が略平行に配設され、且つ、駆動回路541によって電位が制御されるq本の配線545と、を有する。さらに、表示部543はマトリクス状に配設された複数の副画素546を有する。副画素546は、画素回路および表示素子を有する。   In addition, in the display device 500 illustrated in FIG. 17, each of the display devices 500 is substantially parallel to the p wirings 544 that are arranged substantially in parallel and whose potential is controlled by the drive circuit 542A and / or the drive circuit 542B. And q wirings 545 whose potentials are controlled by the drive circuit 541. Further, the display portion 543 includes a plurality of subpixels 546 arranged in a matrix. The sub-pixel 546 includes a pixel circuit and a display element.

また、3つの副画素546を1つの画素として機能させることで、フルカラー表示を実現することができる。3つの副画素546は、それぞれが赤色光、緑色光、または青色光の、透過率、反射率、または発光光量などを制御する。なお、3つの副画素546で制御する光の色は赤、緑、青の組み合わせに限らず、黄、シアン、マゼンタであってもよい。   Further, full color display can be realized by causing the three sub-pixels 546 to function as one pixel. Each of the three subpixels 546 controls the transmittance, reflectance, light emission amount, etc. of red light, green light, or blue light. Note that the color of light controlled by the three sub-pixels 546 is not limited to a combination of red, green, and blue, and may be yellow, cyan, and magenta.

また、赤色光、緑色光、青色光を制御する画素に、白色光を制御する副画素546を加えて、4つの副画素546をまとめて1つの画素として機能させてもよい。白色光を制御する副画素546を加えることで、表示領域の輝度を高めることができる。また、1つの画素として機能させる副画素546を増やし、赤、緑、青、黄、シアン、およびマゼンタを適宜組み合わせて用いることにより、再現可能な色域を広げることができる。   In addition, a sub-pixel 546 that controls white light may be added to a pixel that controls red light, green light, and blue light, and the four sub-pixels 546 may function together as one pixel. By adding a sub-pixel 546 that controls white light, the luminance of the display region can be increased. Further, by increasing the number of sub-pixels 546 that function as one pixel and appropriately using red, green, blue, yellow, cyan, and magenta, the reproducible color gamut can be expanded.

画素を1920×1080のマトリクス状に配置すると、いわゆるフルハイビジョン(「2K解像度」、「2K1K」、「2K」などとも言われる。)の解像度で表示可能な表示装置部540を実現することができる。また、例えば、画素を3840×2160のマトリクス状に配置すると、いわゆるウルトラハイビジョン(「4K解像度」、「4K2K」、「4K」などとも言われる。)の解像度で表示可能な表示装置部540を実現することができる。また、例えば、画素を7680×4320のマトリクス状に配置すると、いわゆるスーパーハイビジョン(「8K解像度」、「8K4K」、「8K」などとも言われる。)の解像度で表示可能な表示装置部540を実現することができる。画素を増やすことで、16Kや32Kの解像度で表示可能な表示装置部540を実現することも可能である。   When the pixels are arranged in a matrix of 1920 × 1080, a display device portion 540 that can display at a resolution of so-called full high vision (also referred to as “2K resolution”, “2K1K”, “2K”, and the like) can be realized. . Further, for example, when pixels are arranged in a 3840 × 2160 matrix, a display device 540 that can display at a resolution of so-called ultra high vision (also referred to as “4K resolution”, “4K2K”, “4K”, etc.) is realized. can do. In addition, for example, when pixels are arranged in a 7680 × 4320 matrix, a display device portion 540 that can display at a resolution of so-called Super Hi-Vision (also referred to as “8K resolution”, “8K4K”, “8K”, etc.) is realized. can do. By increasing the number of pixels, it is also possible to realize the display device portion 540 that can display at a resolution of 16K or 32K.

g行目の配線544_g(gは1以上p以下の自然数。)は、表示部543においてp行q列(p、qは、ともに1以上の自然数。)に配設された複数の副画素546のうち、g行に配設されたq個の副画素546と電気的に接続される。また、h列目の配線545_h(hは1以上q以下の自然数。)は、p行q列に配設された副画素546のうち、h列に配設されたp個の副画素546に電気的に接続される。   The g-th wiring 544_g (g is a natural number greater than or equal to 1 and less than or equal to p) is a plurality of subpixels 546 arranged in p rows and q columns (p and q are both natural numbers greater than or equal to 1) in the display portion 543. Among these, q sub-pixels 546 arranged in g rows are electrically connected. Further, the h-th column wiring 545_h (h is a natural number of 1 or more and q or less) is connected to p sub-pixels 546 arranged in the h column among the sub-pixels 546 arranged in the p row and the q column. Electrically connected.

表示装置500は、様々な形態を用いること、または様々な表示素子を有することが出来る。表示素子の一例としては、EL(エレクトロルミネッセンス)素子(有機EL素子、無機EL素子、または、有機物および無機物を含むEL素子)、LED(白色LED、赤色LED、緑色LED、青色LEDなど)、トランジスタ(電流に応じて発光するトランジスタ)、電子放出素子、液晶素子、電子インク、電気泳動素子、グレーティングライトバルブ(GLV)、MEMS(マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム)を用いた表示素子、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、DMS(デジタル・マイクロ・シャッター)、を用いた表示素子、など、電気的または磁気的作用により、コントラスト、輝度、反射率、透過率などが変化する表示媒体を有するものがある。また、表示素子として量子ドットを用いてもよい。   The display device 500 can use various modes or have various display elements. Examples of display elements include EL (electroluminescence) elements (organic EL elements, inorganic EL elements, or EL elements including organic and inorganic substances), LEDs (white LEDs, red LEDs, green LEDs, blue LEDs, etc.), transistors (Transistor that emits light in response to current), electron-emitting device, liquid crystal device, electronic ink, electrophoretic device, grating light valve (GLV), display device using MEMS (micro electro mechanical system), digital micromirror Some display devices using devices (DMD), DMS (digital micro shutter), etc. have display media whose contrast, brightness, reflectance, transmittance, etc. change due to electrical or magnetic action. . Further, quantum dots may be used as the display element.

次いで副画素が有する画素回路の一例について、説明する。   Next, an example of a pixel circuit included in the sub-pixel will be described.

表示部543の画素回路は、前述したとおり、表示素子として液晶素子、発光素子などのうち一種類を有し、表示素子の種類によって、表示部543の画素回路の構成が異なる。   As described above, the pixel circuit of the display portion 543 has one type of a liquid crystal element, a light emitting element, and the like as a display element, and the configuration of the pixel circuit of the display portion 543 differs depending on the type of the display element.

例えば、表示部543の表示素子として、液晶素子を適用した場合の画素回路の一例を図18(A)に示す。画素回路201は、トランジスタTr1と、容量素子C1と、液晶素子LDと、を有する。   For example, FIG. 18A illustrates an example of a pixel circuit in the case where a liquid crystal element is used as the display element of the display portion 543. The pixel circuit 201 includes a transistor Tr1, a capacitor element C1, and a liquid crystal element LD.

トランジスタTr1の第1端子は、配線SLと電気的に接続され、トランジスタTr1の第2端子は、液晶素子LDの第1端子と電気的に接続され、トランジスタTr1のゲートは、配線GL1と電気的に接続されている。容量素子C1の第1端子は、配線CSLと電気的に接続され、容量素子C1の第2端子は、液晶素子LDの第1端子と電気的に接続されている。液晶素子LDの第2端子は、配線VCOM1と電気的に接続されている。   The first terminal of the transistor Tr1 is electrically connected to the wiring SL, the second terminal of the transistor Tr1 is electrically connected to the first terminal of the liquid crystal element LD, and the gate of the transistor Tr1 is electrically connected to the wiring GL1. It is connected to the. The first terminal of the capacitor C1 is electrically connected to the wiring CSL, and the second terminal of the capacitor C1 is electrically connected to the first terminal of the liquid crystal element LD. The second terminal of the liquid crystal element LD is electrically connected to the wiring VCOM1.

配線SLは、画素回路201に画像信号を供給する信号線として機能する。配線GL2は、画素回路201を選択する走査線として機能する。配線CSLは、容量素子C1の第1端子の電位、換言すると、液晶素子LDの第1端子の電位を保持するための容量配線として機能する。配線VCOM1は、液晶素子LDの第2端子に、共通電位として、0V、またはGND電位などの固定電位を与えるための配線である。   The wiring SL functions as a signal line that supplies an image signal to the pixel circuit 201. The wiring GL2 functions as a scanning line for selecting the pixel circuit 201. The wiring CSL functions as a capacitor wiring for holding the potential of the first terminal of the capacitor C1, in other words, the potential of the first terminal of the liquid crystal element LD. The wiring VCOM1 is a wiring for applying a fixed potential such as 0 V or a GND potential as a common potential to the second terminal of the liquid crystal element LD.

また、例えば、表示部543の表示素子として、発光素子を適用した場合の画素回路の一例を図18(B)に示す。なお、該発光素子は、有機EL(Electro Luminescence)素子とする。画素回路202は、トランジスタTr2と、トランジスタTr3と、容量素子C2と、発光素子EDと、を有する。   For example, FIG. 18B illustrates an example of a pixel circuit in the case where a light-emitting element is used as the display element of the display portion 543. The light-emitting element is an organic EL (Electro Luminescence) element. The pixel circuit 202 includes a transistor Tr2, a transistor Tr3, a capacitor C2, and a light emitting element ED.

トランジスタTr2の第1端子は、配線DLと電気的に接続され、トランジスタTr2の第2端子は、トランジスタTr3のゲートと電気的に接続され、トランジスタTr2のゲートは、配線GL2と電気的に接続されている。トランジスタTr3の第1端子は、発光素子EDの第1端子と電気的に接続され、トランジスタTr3の第2端子は、配線ALと電気的に接続されている。容量素子C2の第1端子は、トランジスタTr3の第2端子と電気的に接続され、容量素子C2の第2端子は、トランジスタTr3のゲートと電気的に接続されている。発光素子EDの第2端子は、配線VCOM2と電気的に接続されている。   The first terminal of the transistor Tr2 is electrically connected to the wiring DL, the second terminal of the transistor Tr2 is electrically connected to the gate of the transistor Tr3, and the gate of the transistor Tr2 is electrically connected to the wiring GL2. ing. The first terminal of the transistor Tr3 is electrically connected to the first terminal of the light emitting element ED, and the second terminal of the transistor Tr3 is electrically connected to the wiring AL. The first terminal of the capacitor C2 is electrically connected to the second terminal of the transistor Tr3, and the second terminal of the capacitor C2 is electrically connected to the gate of the transistor Tr3. The second terminal of the light emitting element ED is electrically connected to the wiring VCOM2.

配線DLは、画素回路202に画像信号を供給する信号線として機能する。配線GL2は、画素回路202を選択する走査線として機能する。配線ALは、発光素子EDに電流を与えるための電流供給線として機能する。配線VCOM2は、発光素子EDの第2端子に、共通電位として、0V、またはGND電位などの固定電位を与えるための配線である。   The wiring DL functions as a signal line that supplies an image signal to the pixel circuit 202. The wiring GL2 functions as a scanning line for selecting the pixel circuit 202. The wiring AL functions as a current supply line for supplying a current to the light emitting element ED. The wiring VCOM2 is a wiring for applying a fixed potential such as 0 V or a GND potential as a common potential to the second terminal of the light emitting element ED.

容量素子C2は、トランジスタTr3の第2端子と、トランジスタTr3のゲートと、の間の電圧を保持する機能を有する。これにより、トランジスタTr3に流れるオン電流を一定に保持することができる。なお、トランジスタTr3の第2端子と、トランジスタTr3のゲートと、の寄生容量が大きい場合、容量素子C2を設けなくてもよい。   The capacitor C2 has a function of holding a voltage between the second terminal of the transistor Tr3 and the gate of the transistor Tr3. Thereby, the on-current flowing through the transistor Tr3 can be kept constant. Note that when the parasitic capacitance between the second terminal of the transistor Tr3 and the gate of the transistor Tr3 is large, the capacitor C2 is not necessarily provided.

また、表示部543の表示素子として、発光素子を適用する場合、画素回路202と別の構成である、図18(C)に示す画素回路203の構成としてもよい。   In the case where a light-emitting element is used as the display element of the display portion 543, a structure of the pixel circuit 203 illustrated in FIG. 18C which is different from the structure of the pixel circuit 202 may be employed.

画素回路203は、画素回路202が有するトランジスタTr3にバックゲートを設けた構成であり、トランジスタTr3のバックゲートは、トランジスタTr3のゲートと電気的に接続されている。このような構成にすることにより、トランジスタTr3に流れるオン電流を増加することができる。   The pixel circuit 203 has a structure in which a back gate is provided in the transistor Tr3 included in the pixel circuit 202. The back gate of the transistor Tr3 is electrically connected to the gate of the transistor Tr3. With such a configuration, the on-current flowing through the transistor Tr3 can be increased.

また、表示部543の表示素子として、発光素子を適用する場合、画素回路202、及び画素回路203と別の構成として、図18(D)に示す画素回路204の構成としてもよい。   In the case where a light-emitting element is used as the display element of the display portion 543, the structure of the pixel circuit 204 illustrated in FIG. 18D may be employed as a structure different from that of the pixel circuit 202 and the pixel circuit 203.

画素回路204は、画素回路202が有するトランジスタTr3にバックゲートを設けた構成であり、トランジスタTr3のバックゲートは、トランジスタTr3の第1端子と電気的に接続されている。このような構成にすることにより、トランジスタTr3のしきい値電圧のシフトを抑えることができる。そのため、トランジスタTr3の信頼性を高めることができる。   The pixel circuit 204 has a structure in which a back gate is provided in the transistor Tr3 included in the pixel circuit 202. The back gate of the transistor Tr3 is electrically connected to the first terminal of the transistor Tr3. With such a configuration, a shift in threshold voltage of the transistor Tr3 can be suppressed. Therefore, the reliability of the transistor Tr3 can be improved.

また、表示部543の表示素子として、発光素子を適用する場合、画素回路202乃至画素回路204と別の構成として、図18(E)に示す画素回路205の構成としてもよい。   In the case where a light-emitting element is used as the display element of the display portion 543, the structure of the pixel circuit 205 illustrated in FIG. 18E may be employed as a structure different from that of the pixel circuits 202 to 204.

画素回路205は、トランジスタTr2乃至トランジスタTr4と、容量素子C3と、発光素子EDと、を有する。   The pixel circuit 205 includes transistors Tr2 to Tr4, a capacitor C3, and a light emitting element ED.

トランジスタTr2の第1端子は、配線DLと電気的に接続され、トランジスタTr2の第2端子は、トランジスタTr3のゲートと電気的に接続され、トランジスタTr2のゲートは、配線MLと電気的に接続され、トランジスタTr2のバックゲートは、配線GL3と電気的に接続されている。トランジスタTr3の第1端子は、発光素子EDの第1端子と電気的に接続され、トランジスタTr3の第2端子は、配線ALと電気的に接続され、トランジスタTr3のゲートは、トランジスタTr3のバックゲートと電気的に接続されている。トランジスタTr4の第1端子は、発光素子EDの第1端子と電気的に接続され、トランジスタTr4の第2端子は、配線MLと電気的に接続され、トランジスタTr4のゲートは、配線MLと電気的に接続され、トランジスタTr4のバックゲートは配線GL3と電気的に接続されている。容量素子C3の第1端子は、トランジスタTr3のゲートと電気的に接続され、容量素子C3の第2端子は、トランジスタTr3の第1端子と電気的に接続されている。発光素子EDの第2端子は、配線VCOM2と電気的に接続されている。   The first terminal of the transistor Tr2 is electrically connected to the wiring DL, the second terminal of the transistor Tr2 is electrically connected to the gate of the transistor Tr3, and the gate of the transistor Tr2 is electrically connected to the wiring ML. The back gate of the transistor Tr2 is electrically connected to the wiring GL3. The first terminal of the transistor Tr3 is electrically connected to the first terminal of the light-emitting element ED, the second terminal of the transistor Tr3 is electrically connected to the wiring AL, and the gate of the transistor Tr3 is the back gate of the transistor Tr3. And are electrically connected. The first terminal of the transistor Tr4 is electrically connected to the first terminal of the light-emitting element ED, the second terminal of the transistor Tr4 is electrically connected to the wiring ML, and the gate of the transistor Tr4 is electrically connected to the wiring ML. The back gate of the transistor Tr4 is electrically connected to the wiring GL3. The first terminal of the capacitor C3 is electrically connected to the gate of the transistor Tr3, and the second terminal of the capacitor C3 is electrically connected to the first terminal of the transistor Tr3. The second terminal of the light emitting element ED is electrically connected to the wiring VCOM2.

配線DLは、画素回路205に画像信号を供給する信号線として機能する。配線GL3は、トランジスタTr2及びトランジスタTr4のしきい値電圧を制御するために、定電位を印加する配線として機能する。配線MLは、トランジスタTr2のゲート、トランジスタTr4の第2端子、及びトランジスタTr4のゲートに、定電位を印加する配線であり、画素回路202を選択する走査線として機能する。配線ALと、配線VCOM2と、については、画素回路202の配線AL、及び配線VCOM2の説明を参照する。   The wiring DL functions as a signal line that supplies an image signal to the pixel circuit 205. The wiring GL3 functions as a wiring for applying a constant potential in order to control the threshold voltages of the transistors Tr2 and Tr4. The wiring ML is a wiring for applying a constant potential to the gate of the transistor Tr2, the second terminal of the transistor Tr4, and the gate of the transistor Tr4, and functions as a scanning line for selecting the pixel circuit 202. For the wiring AL and the wiring VCOM2, the description of the wiring AL and the wiring VCOM2 of the pixel circuit 202 is referred to.

このような構成にすることにより、トランジスタTr2及びトランジスタTr4のしきい値電圧を制御することで、表示部543が有する複数の発光素子EDの輝度のばらつきを補正することができる。そのため、画素回路205を表示部543に適用することで、表示品質が良好な表示装置500を提供することができる。   With such a structure, variation in luminance of the plurality of light-emitting elements ED included in the display portion 543 can be corrected by controlling threshold voltages of the transistors Tr2 and Tr4. Therefore, by applying the pixel circuit 205 to the display portion 543, the display device 500 with favorable display quality can be provided.

<本明細書等の記載に関する付記>
本明細書等において、「第1」、「第2」、「第3」という序数詞は、構成要素の混同を避けるために付したものである。従って、構成要素の数を限定するものではない。また、構成要素の順序を限定するものではない。
<Additional notes regarding the description of this specification>
In this specification and the like, the ordinal numbers “first”, “second”, and “third” are given to avoid confusion between components. Therefore, the number of components is not limited. Further, the order of the components is not limited.

本明細書等において、ブロック図では、構成要素を機能毎に分類し、互いに独立したブロックとして示している。しかしながら実際の回路等においては、構成要素を機能毎に切り分けることが難しく、一つの回路に複数の機能が係わる場合や、複数の回路にわたって一つの機能が関わる場合があり得る。そのため、ブロック図のブロックは、明細書で説明した構成要素に限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。   In the present specification and the like, in the block diagram, components are classified by function and shown as blocks independent of each other. However, in an actual circuit or the like, it is difficult to separate the components for each function, and there may be a case where a plurality of functions are involved in one circuit or a case where one function is involved over a plurality of circuits. Therefore, the blocks in the block diagram are not limited to the components described in the specification, and can be appropriately rephrased depending on the situation.

なお図面において、同一の要素または同様な機能を有する要素、同一の材質の要素、あるいは同時に形成される要素等には同一の符号を付す場合があり、その繰り返しの説明は省略する場合がある。   Note that in the drawings, the same element, an element having a similar function, an element of the same material, an element formed at the same time, or the like may be denoted by the same reference numeral, and repeated description thereof may be omitted.

本明細書等において、トランジスタの接続関係を説明する際、ソースとドレインとの一方を、「ソース又はドレインの一方」(又は第1電極、又は第1端子)と表記し、ソースとドレインとの他方を「ソース又はドレインの他方」(又は第2電極、又は第2端子)と表記している。これは、トランジスタのソースとドレインは、トランジスタの構造又は動作条件等によって変わるためである。なおトランジスタのソースとドレインの呼称については、ソース(ドレイン)端子や、ソース(ドレイン)電極等、状況に応じて適切に言い換えることができる。   In this specification and the like, when describing a connection relation of a transistor, one of a source and a drain is referred to as “one of a source and a drain” (or a first electrode or a first terminal), and the source and the drain The other is referred to as “the other of the source and the drain” (or the second electrode or the second terminal). This is because the source and drain of a transistor vary depending on the structure or operating conditions of the transistor. Note that the names of the source and the drain of the transistor can be appropriately rephrased depending on the situation, such as a source (drain) terminal or a source (drain) electrode.

また、本明細書等において、電圧と電位は、適宜言い換えることができる。電圧は、基準となる電位からの電位差のことであり、例えば基準となる電位をグラウンド電位(接地電位)とすると、電圧を電位に言い換えることができる。グラウンド電位は必ずしも0Vを意味するとは限らない。なお電位は相対的なものであり、基準となる電位によっては、配線等に与える電位を変化させる場合がある。   In this specification and the like, voltage and potential can be described as appropriate. The voltage is a potential difference from a reference potential. For example, when the reference potential is a ground potential (ground potential), the voltage can be rephrased as a potential. The ground potential does not necessarily mean 0V. Note that the potential is relative, and the potential applied to the wiring or the like may be changed depending on the reference potential.

本明細書等において、スイッチとは、導通状態(オン状態)、または、非導通状態(オフ状態)になり、電流を流すか流さないかを制御する機能を有するものをいう。または、スイッチとは、電流を流す経路を選択して切り替える機能を有するものをいう。   In this specification and the like, a switch refers to a switch that is in a conductive state (on state) or a non-conductive state (off state) and has a function of controlling whether or not to pass current. Alternatively, the switch refers to a switch having a function of selecting and switching a current flow path.

一例としては、電気的スイッチ又は機械的なスイッチなどを用いることができる。つまり、スイッチは、電流を制御できるものであればよく、特定のものに限定されない。   As an example, an electrical switch or a mechanical switch can be used. That is, the switch is not limited to a specific one as long as it can control the current.

なお、スイッチとしてトランジスタを用いる場合、トランジスタの「導通状態」とは、トランジスタのソースとドレインが電気的に短絡されているとみなせる状態をいう。また、トランジスタの「非導通状態」とは、トランジスタのソースとドレインが電気的に遮断されているとみなせる状態をいう。なおトランジスタを単なるスイッチとして動作させる場合には、トランジスタの極性(導電型)は特に限定されない。   Note that in the case where a transistor is used as the switch, the “conducting state” of the transistor means a state where the source and the drain of the transistor can be regarded as being electrically short-circuited. In addition, the “non-conducting state” of a transistor refers to a state where the source and drain of the transistor can be regarded as being electrically cut off. Note that when a transistor is operated as a simple switch, the polarity (conductivity type) of the transistor is not particularly limited.

本明細書等において、AとBとが接続されている、とは、AとBとが直接接続されているものの他、接続されているものを含むものとする。ここで、AとBとが接続されているとは、AとBとの間で、何らかの電気的作用を有する対象物が存在するとき、AとBとの電気信号の授受を可能とするものをいう。   In this specification and the like, “A and B are connected” includes not only those in which A and B are directly connected but also those that are connected. Here, “A and B are connected” means that when there is an object having some electrical action between A and B, it is possible to send and receive electrical signals between A and B. Say.

BL_n ビット線
BL_1 ビット線
C1 容量素子
C2 容量素子
C3 容量素子
C4 容量素子
GL1 配線
GL2 配線
GL3 配線
M1 トランジスタ
M2 トランジスタ
OS1 トランジスタ
OS2 トランジスタ
OS3 トランジスタ
SW2 スイッチ
T01 時刻
T02 時刻
T03 時刻
T04 時刻
T05 時刻
T06 時刻
T07 時刻
T08 時刻
T09 時刻
T10 時刻
T11 時刻
T12 時刻
T13 時刻
T14 時刻
T15 時刻
T16 時刻
Tr1 トランジスタ
Tr2 トランジスタ
Tr3 トランジスタ
Tr4 トランジスタ
Tr5 トランジスタ
Tr6 トランジスタ
Tr7 トランジスタ
Tr8 トランジスタ
Tr9 トランジスタ
Tr10 トランジスタ
Tr11 トランジスタ
VCOM1 配線
VCOM2 配線
WL_m ワード線
WL_1 ワード線
10 送信部
11 送信者
12 データ
12A データ
12B データ
13 送信装置
14A データ
14B データ
15 データサーバー
16 文字データ生成回路
17 パターン認識回路
18 付加データ生成回路
19 記憶回路
20 中継部
21 ネットワーク
22 データサーバー
23 文字データ生成回路
24 パターン認識回路
25 記憶回路
30 受信部
31 受信者
32 表示装置
90 メモリセルアレイ
91 ワード線駆動回路
92 ビット線駆動回路
93 容量素子
100 積和演算回路
101 記憶回路
102 参照用記憶回路
103 電流ソース回路
104 電流シンク回路
105 電流源回路
201 画素回路
202 画素回路
203 画素回路
204 画素回路
205 画素回路
500 表示装置
540 表示装置部
541 駆動回路
542A 駆動回路
542B 駆動回路
543 表示部
544 配線
544_g 配線
545 配線
545_h 配線
546 副画素
BL_n bit line BL_1 bit line C1 capacitive element C2 capacitive element C3 capacitive element C4 capacitive element GL1 wiring GL2 wiring GL3 wiring M1 transistor M2 transistor OS1 transistor OS2 transistor OS3 transistor SW2 switch T01 time T02 time T03 time T04 time T05 time T06 time T07 time T08 Time T09 Time T10 Time T11 Time T12 Time T13 Time T14 Time T15 Time T16 Time Tr1 Transistor Tr2 Transistor Tr3 Transistor Tr4 Transistor Tr5 Transistor Tr6 Transistor Tr7 Transistor Tr8 Transistor Tr9 Transistor Tr10 Transistor Tr11 Transistor VCOM1 Line WL_WL Line 10 Transmission unit 11 Sender 12 Data 12A Data 12B Data 13 Transmission device 14A Data 14B Data 15 Data server 16 Character data generation circuit 17 Pattern recognition circuit 18 Additional data generation circuit 19 Storage circuit 20 Relay unit 21 Network 22 Data server 23 Character data generation Circuit 24 Pattern recognition circuit 25 Storage circuit 30 Receiver 31 Receiver 32 Display device 90 Memory cell array 91 Word line drive circuit 92 Bit line drive circuit 93 Capacitance element 100 Multiply-add operation circuit 101 Storage circuit 102 Reference storage circuit 103 Current source circuit 104 current sink circuit 105 current source circuit 201 pixel circuit 202 pixel circuit 203 pixel circuit 204 pixel circuit 205 pixel circuit 500 display device 540 display device unit 541 drive circuit 542A drive circuit 542B drive circuit 5 3 display 544 lines 544_g wiring 545 lines 545_h wiring 546 subpixels

Claims (10)

送信装置からデータサーバーを介して受信装置にデータの送信をするための情報送信システムであって、
前記送信装置は、第1のデータまたは第2のデータを送信する機能を有し、
前記データサーバーは、文字データ生成回路と、パターン認識回路と、記憶回路と、を有し、
前記文字データ生成回路は、前記第1のデータをもとに第3のデータを生成する機能、および前記第2のデータをもとに第4のデータを生成する機能を有し、
前記記憶回路は、前記第1のデータおよび前記第3のデータと、前記第2のデータおよび前記第4のデータとの少なくとも一方を記憶する機能を有し、
前記パターン認識回路は、前記第1のデータおよび前記第2のデータを比較して一致する領域を有する場合、前記記憶回路にある前記第1のデータおよび前記第3のデータを、前記第2のデータおよび前記第4のデータに差し替える機能を有し、
前記受信装置は、前記第3のデータまたは前記第4のデータを表示する機能を有する、情報送信システム。
An information transmission system for transmitting data from a transmission device to a reception device via a data server,
The transmission device has a function of transmitting the first data or the second data,
The data server includes a character data generation circuit, a pattern recognition circuit, and a storage circuit.
The character data generation circuit has a function of generating third data based on the first data, and a function of generating fourth data based on the second data;
The storage circuit has a function of storing at least one of the first data, the third data, the second data, and the fourth data;
The pattern recognition circuit compares the first data and the third data with the second data when the first data and the second data are compared and has a matching area. A function to replace the data and the fourth data;
The information receiving system, wherein the receiving device has a function of displaying the third data or the fourth data.
請求項1において、
前記第1のデータおよび前記第2のデータは、手書き文書のデータを有し、
前記第3のデータおよび前記第4のデータは、活字のデータを有する、情報送信システム。
In claim 1,
The first data and the second data include handwritten document data,
The information transmission system, wherein the third data and the fourth data include type data.
請求項1または2において、
前記文字データ生成回路および前記パターン認識回路は、ニューラルネットワークに用いることができる積和演算回路を有する、情報送信システム。
In claim 1 or 2,
The information transmission system, wherein the character data generation circuit and the pattern recognition circuit have a product-sum operation circuit that can be used in a neural network.
請求項1乃至3のいずれか一において、
前記送信装置は、ファクシミリ装置の機能を有し、
前記受信装置は、表示装置の機能を有する、情報送信システム。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
The transmitter has a function of a facsimile machine,
The information receiving system, wherein the receiving device has a function of a display device.
請求項1乃至4のいずれか一において、
前記記憶回路は、メモリ素子を有し、
前記メモリ素子は、トランジスタと、容量素子と、を有し、
前記トランジスタは、チャネル形成領域を有する半導体層に酸化物半導体を有する、情報送信システム。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
The memory circuit includes a memory element,
The memory element includes a transistor and a capacitor,
The transistor has an oxide semiconductor in a semiconductor layer having a channel formation region.
送信装置から中継用データサーバーを介して受信装置にデータの送信をするための情報送信システムであって、
前記送信装置は、第1のデータまたは第2のデータを送信する機能と、送信用データサーバーと、
前記送信用データサーバーは、文字データ生成回路と、パターン認識回路と、第1の記憶回路と、を有し、
前記中継用データサーバーは、第2の記憶回路と、を有し、
前記文字データ生成回路は、前記第1のデータをもとに第3のデータを生成する機能、および前記第2のデータをもとに第4のデータを生成する機能を有し、
前記第1の記憶回路および前記第2の記憶回路は、前記第1のデータおよび前記第3のデータと、前記第2のデータおよび前記第4のデータとの少なくとも一方を記憶する機能を有し、
前記パターン認識回路は、前記第1のデータおよび前記第2のデータを比較して一致する領域を有する場合、前記第1の記憶回路および前記第2の記憶回路にある前記第1のデータおよび前記第3のデータを、前記第2のデータおよび前記第4のデータに差し替える機能を有し、
前記受信装置は、前記第3のデータまたは前記第4のデータを表示する機能を有する、情報送信システム。
An information transmission system for transmitting data from a transmission device to a reception device via a relay data server,
The transmission device includes a function of transmitting the first data or the second data, a data server for transmission,
The transmission data server includes a character data generation circuit, a pattern recognition circuit, and a first storage circuit,
The data server for relay includes a second storage circuit;
The character data generation circuit has a function of generating third data based on the first data, and a function of generating fourth data based on the second data;
The first memory circuit and the second memory circuit have a function of storing at least one of the first data and the third data, and the second data and the fourth data. ,
The pattern recognition circuit compares the first data and the second data, and has a region that matches, the first data in the first memory circuit and the second memory circuit, and A function of replacing the third data with the second data and the fourth data;
The information receiving system, wherein the receiving device has a function of displaying the third data or the fourth data.
請求項6において、
前記第1のデータおよび前記第2のデータは、手書き文書のデータを有し、
前記第3のデータおよび前記第4のデータは、活字のデータを有する、情報送信システム。
In claim 6,
The first data and the second data include handwritten document data,
The information transmission system, wherein the third data and the fourth data include type data.
請求項6または7において、
前記文字データ生成回路および前記パターン認識回路は、ニューラルネットワークに用いることができる積和演算回路を有する、情報送信システム。
In claim 6 or 7,
The information transmission system, wherein the character data generation circuit and the pattern recognition circuit have a product-sum operation circuit that can be used in a neural network.
請求項6乃至8のいずれか一において、
前記送信装置は、ファクシミリ装置の機能を有し、
前記受信装置は、表示装置の機能を有する、情報送信システム。
In any one of Claims 6 thru | or 8,
The transmitter has a function of a facsimile machine,
The information receiving system, wherein the receiving device has a function of a display device.
請求項6乃至9のいずれか一において、
前記第1の記憶回路および前記第2の記憶回路はそれぞれメモリ素子を有し、
前記メモリ素子は、トランジスタと、容量素子と、を有し、
前記トランジスタは、チャネル形成領域を有する半導体層に酸化物半導体を有する、情報送信システム。
In any one of Claims 6 thru | or 9,
The first memory circuit and the second memory circuit each have a memory element;
The memory element includes a transistor and a capacitor,
The transistor has an oxide semiconductor in a semiconductor layer having a channel formation region.
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