JP2018095589A - Polishing residue scattering prevention composition for nails or skin - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、爪または皮膚を研磨した際に生じる、研磨カスの飛散を防止する研磨カス飛散防止組成物に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polishing residue scattering preventing composition that prevents scattering of polishing residue generated when polishing nails or skin.
白癬は、白癬菌と称される真菌の感染により生じる皮膚感染症の一種である。白癬は、白癬菌が感染した部位により名称が異なっている。例えば、白癬菌が足に感染した場合は「足白癬」と呼ばれ、白癬菌が爪に感染した場合は「爪白癬」と呼ばれる。足白癬は日本人の５人に１人が罹患しており、爪白癬は日本人の１０人に１人が罹患しているといわれている。 Ringworm is a type of skin infection caused by a fungal infection called ringworm. The name of ringworm differs depending on the site of infection with ringworm. For example, when a ringworm infects a foot, it is called “foot ringworm”, and when a ringworm infects a nail, it is called “nail ringworm”. It is said that foot tinea affects one in five Japanese people, and nail tinea affects one in ten Japanese people.
爪白癬の症状としては爪の肥厚や変形などがよく知られているが、爪周囲炎となることもある。また、糖尿病患者では壊疽に進展することもある。糖尿病患者では足白癬や爪白癬などに罹患しやすいといわれている。近年、足白癬または爪白癬を発症している糖尿病患者の数が増加しており、診療上の重要な項目となっている。 As for the symptoms of onychomycosis, thickening and deformation of the nail are well known, but peritonitis may occur. It can also progress to gangrene in diabetics. It is said that diabetic patients are likely to suffer from tinea pedis and onychomycosis. In recent years, the number of diabetic patients who develop tinea pedis or onychomycosis is increasing, which is an important item in clinical practice.
足白癬および爪白癬の患者に対して、特に医療業界ではフットケアとして、爪をグラインダーや爪やすり等を用いて研磨し、あるいは爪の形を整えたりする場合があり、また肥厚した皮膚を角質やすりなどを用いて滑らかにすることがある。このように爪または皮膚を研磨すると、白癬菌を有する多量の研磨カスが発生し、且つ白癬菌を有する研磨カスが研磨施術者及び研磨対象者の周辺に飛散し、白癬菌の感染リスクが懸念される。 For patients with tinea pedis and onychomycosis, especially as a foot care in the medical industry, the nail may be polished using a grinder or nail file, or the nail may be trimmed, and the thickened skin may be keratinous It may be smoothed using a file. When the nail or the skin is polished in this way, a large amount of abrasive debris containing ringworm bacteria is generated, and the abrasive debris having ringworm bacteria is scattered around the polishing operator and the person to be polished. Is done.
このような問題に対し特許文献１では、アルコールを５０〜９０質量％、前記したアルコールに対し非溶解性でかつ水溶性の多糖類をゲル化剤とし、該ゲル化剤を２〜１０質量％、およびヒドロキシプロピルセルロースやカルボキシビニルポリマーなどの増粘用高分子化合物を３〜１０質量％含有する、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物が開示されており、かかる飛散防止組成物を、研磨する箇所にあらかじめ塗布しておくことで研磨カスを包摂し、研磨カスの飛散を効果的に防止できることが記載されている。 With respect to such a problem, in Patent Document 1, alcohol is 50 to 90% by mass, a non-soluble and water-soluble polysaccharide is used as a gelling agent, and the gelling agent is 2 to 10% by mass. , And a nail or skin polishing residue scattering prevention composition containing 3 to 10% by mass of a polymer compound for thickening such as hydroxypropylcellulose and carboxyvinyl polymer is disclosed. It is described that the polishing residue can be included by applying it in advance to the portion to be processed, and the scattering of the polishing residue can be effectively prevented.
しかしながら爪または皮膚を研磨する際、施術する箇所の症状や形状によっては、爪や皮膚の研磨に要する時間が長引く場合があるが、このような場合において、時間の経過と共にグラインダーや爪やすり等の研磨器具の凹部に、爪や皮膚の研磨カスを含有する組成物が固着し、研磨作業効率が次第に低下するとの問題が生じ、改善が求められていた。また該組成物が固着、乾燥した研磨器具の洗浄作業は非常に煩雑であり、かかる研磨器具の洗浄性に関しても、改善が求められていた。 However, when polishing nails or skin, depending on the symptoms and shape of the area to be treated, the time required for polishing the nails and skin may be prolonged. In such cases, grinders, nail files, etc. There has been a problem in that the composition containing the nail and skin debris adheres to the recess of the polishing tool and the polishing work efficiency gradually decreases, and improvement has been demanded. In addition, the cleaning operation of the polishing tool to which the composition is fixed and dried is very complicated, and improvement has been demanded for the cleaning performance of the polishing tool.
本発明は、良好な研磨カス包摂性、および施術時間が長引いた場合であっても良好な研磨作業性が得られ、かつ使用後の研磨器具の洗浄性に優れた、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供することである。 The present invention provides good polishing residue inclusions, good polishing workability even when the treatment time is prolonged, and excellent nail or skin polishing residue after use. It is to provide an anti-scatter composition.
本発明者は、鋭意検討した結果、以下の構成を有する研磨カス飛散防止組成物によって、上記課題を解決できることを見いだした。 As a result of intensive studies, the present inventor has found that the above problem can be solved by a polishing residue scattering preventing composition having the following constitution.
（１）溶媒成分として少なくとも水およびアルコールを含有し、更に高分子化合物を少なくとも含有する爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物であって、該研磨カス飛散防止組成物が含有する全溶媒成分量に対する水の割合が３０〜７０質量％であり、該高分子化合物の全質量に対する、アルコールおよび水に対して溶解性を有する高分子化合物の占める割合が８５質量％以上であることを特徴とする、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物。 (1) A nail or skin polishing residue scattering prevention composition containing at least water and alcohol as solvent components and further containing at least a polymer compound, the total amount of solvent components contained in the polishing residue scattering prevention composition The proportion of water with respect to water is 30 to 70% by mass, and the proportion of the polymer compound having solubility in alcohol and water to the total mass of the polymer compound is 85% by mass or more. , Nail or skin polishing debris prevention composition.
本発明により、良好な研磨カス包摂性、および施術時間が長引いた場合であっても良好な研磨作業性が得られ、かつ使用後の研磨器具の洗浄性に優れた、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to obtain good polishing residue inclusions, good polishing workability even when the treatment time is prolonged, and excellent nail or skin polishing residue after use. An anti-scattering composition can be provided.
以下に、本発明の組成物について詳細に説明する。 Below, the composition of this invention is demonstrated in detail.
本発明の爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物（以下「本発明の組成物」ともいう）は、爪や皮膚上に均一に塗布することが容易であり、研磨しようとする爪および／または皮膚上に塗布して使用する。使用方法の一例としては、チューブ容器に内包された本発明の組成物を少量取り出し、研磨しようとする爪または皮膚上に薄くのばして塗布し、該組成物が塗布された爪または皮膚を、グラインダーや爪やすり、角質やすりなどの研磨器具を用いて研磨する。研磨した際に生じる爪または皮膚の研磨カスは、本発明の組成物内に包摂され、周囲に飛散することなく施術することができる。本発明の組成物は、アルコールの蒸発や研磨時の振動等により、研磨カスを含有した状態でそのまま固形化（ゲル化）する。固形化した組成物をティッシュペーパーなどで拭き取ることで、研磨カスを飛散させずに爪または皮膚の研磨を終えることができる。 The nail or skin polishing residue scattering prevention composition of the present invention (hereinafter also referred to as “the composition of the present invention”) is easy to apply evenly on the nail or skin, and / or the nail to be polished and / or Apply on skin and use. As an example of the method of use, a small amount of the composition of the present invention contained in a tube container is taken out and applied thinly on the nail or skin to be polished, and the nail or skin coated with the composition is applied to the grinder Use a polishing tool such as a nail file or a keratin file. The nail or skin polishing residue generated upon polishing is included in the composition of the present invention and can be treated without being scattered around. The composition of the present invention is solidified (gelled) as it is in a state containing polishing residue due to evaporation of alcohol, vibration during polishing, or the like. By wiping the solidified composition with a tissue paper or the like, polishing of nails or skin can be finished without scattering polishing residue.
前述した特許文献１（特開２０１２−１３１７３４号公報）においては、研磨カス飛散防止組成物中に占めるアルコールの割合が５０〜９０質量％と極めて多いため、良好な研磨カス包摂性を得るためには、ゲル化剤として、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物が必要であった。しかしながらアルコールの含有量が多い組成物においては、溶媒成分の揮発速度が速いことから、グラインダーや爪やすり等の研磨器具の凹部に、爪または皮膚の研磨カスを含有した研磨カス飛散防止組成物が固着しやすくなり、良好な研磨作業性を得ることは非常に困難であった。 In Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-131734) described above, since the proportion of alcohol in the polishing residue scatter prevention composition is as high as 50 to 90% by mass, in order to obtain good polishing residue inclusion properties. Requires a high-molecular compound that is insoluble in alcohol and water-soluble as a gelling agent. However, in a composition with a high content of alcohol, the volatilization rate of the solvent component is fast, so that there is a polishing residue scattering prevention composition containing nail or skin polishing residue in a recess of a polishing tool such as a grinder or nail file. It was very difficult to obtain a good polishing workability because it was easily fixed.
これに対し本発明では、該組成物が含有する全溶媒成分量に対する水の割合を３０〜７０質量％とすることで、溶媒成分の揮発速度を低下させると共に、そのような系においては研磨カス飛散防止組成物が含有する高分子化合物のうち、アルコールおよび水に対して溶解性を有する高分子化合物の占める割合を８５質量％以上にまで増加させることで、研磨カスを含有した状態で、固形化（ゲル化）できることを見いだし、本発明に至った。また、研磨カス飛散防止組成物が含有する高分子化合物中に占める、アルコールおよび水に対して溶解性を有する高分子化合物の割合を８５質量％以上に高めた場合、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物（従来技術におけるゲル化剤）の含有量が相対的に低下するが、ゲル化剤の含有量の低下に伴い、使用後の研磨器具の洗浄性が著しく改善できることを見いだし、本発明に至った。 On the other hand, in the present invention, the ratio of water to the total amount of the solvent component contained in the composition is 30 to 70% by mass, thereby reducing the volatilization rate of the solvent component. By increasing the proportion of the polymer compound that is soluble in alcohol and water to 85% by mass or more of the polymer compound contained in the anti-scattering composition, it is solid in a state containing polishing residue. It was found that it can be formed (gelled), and the present invention has been achieved. Further, when the proportion of the polymer compound having solubility in alcohol and water in the polymer compound contained in the polishing residue scattering prevention composition is increased to 85% by mass or more, it is insoluble in alcohol and Although the content of water-soluble polymer compound (gelling agent in the prior art) is relatively reduced, it has been found that the cleaning performance of the polishing tool after use can be remarkably improved as the content of the gelling agent decreases. The present invention has been reached.
本発明の爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物が含有するアルコールは、人体に対する毒性が低いものであれば特に限定されない。そのようなアルコールの好ましい例としては、エタノールおよびイソプロパノールが挙げられる。これらのアルコールは、単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また本発明の組成物が含有する他の溶媒成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール等が例示される。 The alcohol contained in the nail or skin polishing residue scattering prevention composition of the present invention is not particularly limited as long as it has low toxicity to the human body. Preferred examples of such alcohols include ethanol and isopropanol. These alcohols may be used alone or in combination of two or more. Examples of other solvent components contained in the composition of the present invention include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, methyl cellosolve, and hexylene glycol.
本発明の組成物が含有する高分子化合物としては、アルコール及び水に対して溶解性を有する高分子化合物や、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物が挙げられる。ここで該高分子化合物がアルコールに対して溶解性を有する、および水溶性の高分子化合物の水溶性とは、２０℃のアルコール、または２０℃の水に対して、該高分子化合物が０．５質量％以上の溶解性を有することを意味する。 Examples of the polymer compound contained in the composition of the present invention include polymer compounds that are soluble in alcohol and water, and polymer compounds that are insoluble and water-soluble in alcohol. Here, the polymer compound is soluble in alcohol and the water solubility of the water-soluble polymer compound means that the polymer compound has a solubility of 0. 0 with respect to 20 ° C alcohol or 20 ° C water. It means having a solubility of 5% by mass or more.
前者のアルコール及び水に対して溶解性を有する高分子化合物としては、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシビニルポリマー、ステアロキシヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースステアロキシエーテル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドンビニルアセテート、低ケン化度ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン等が例示され、中でもヒドロキシプロピルセルロースとカルボキシビニルポリマーが好ましい。これにより、爪または皮膚への塗布性にとりわけ優れた研磨カス飛散防止組成物を得ることができる。 The polymer compounds having solubility in the former alcohol and water are hydroxypropyl cellulose, carboxyvinyl polymer, stearoxyhydroxypropyl methylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose stearoxy ether, polyvinyl butyral, polyvinylpyrrolidone vinyl acetate, low saponification Polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, polyvinyl pyrrolidone and the like are exemplified, among which hydroxypropyl cellulose and carboxyvinyl polymer are preferable. As a result, it is possible to obtain a polishing residue scattering prevention composition that is particularly excellent in applicability to nails or skin.
ヒドロキシプロピルセルロースとは、セルロースの水酸基の一部または全部が（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ）ｍＨ（式中、ｍは１以上の整数）で置換されたセルロース誘導体であり、この置換度などについては特に限定されない。このようなヒドロキシプロピルセルロースは、一般に市販されているものを入手し、利用することが可能であり、例えば日本曹達（株）社製のセルニー（登録商標）シリーズなどを使用することができる。 Hydroxypropyl cellulose is a cellulose derivative in which part or all of the hydroxyl groups of cellulose are substituted with (CH 2 CH (CH 3 ) —O) m H (where m is an integer of 1 or more). The degree is not particularly limited. Such hydroxypropyl cellulose can be obtained and used on the market, and for example, Selney (registered trademark) series manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. can be used.
カルボキシビニルポリマーとは、増粘剤として一般に広く使用されている化合物であり、カルボキシル基を有する水溶性のビニルポリマーである。このようなカルボキシビニルポリマーとしては、例えばルーブリゾール（株）社製のＣＡＲＢＯＰＯＬ（登録商標）シリーズ、和光純薬工業（株）社製のハイビスワコー（登録商標）シリーズ、住友精化（株）社製のアクペック（登録商標）シリーズ等として市販されているので、これらを入手し使用することができる。 A carboxy vinyl polymer is a compound generally used widely as a thickener, and is a water-soluble vinyl polymer having a carboxyl group. Examples of such carboxyvinyl polymers include CARBOPOL (registered trademark) series manufactured by Lubrizol Corp., Hibiswako (registered trademark) series manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Sumitomo Seika Co., Ltd. Since these products are commercially available as the Akpec (registered trademark) series, etc., these can be obtained and used.
後者の、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物は、従来技術においてゲル化剤として知られる化合物であり、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の多糖類が例示される。かかる多糖類としては、グルコマンナン、カラギーナン、寒天、ペクチン、キサンタンガム、グアガム、ジェランガム、アルギン酸、タラガム、トラガントガム、カードラン、タマリンドシードガム、サイリウムシードガム、カラヤガム、デンプンおよびセルロースなどが例示される。 The latter high-molecular compound that is insoluble in alcohol and water-soluble is a compound known as a gelling agent in the prior art, and is exemplified by polysaccharides that are insoluble in water and water-soluble. Examples of such polysaccharides include glucomannan, carrageenan, agar, pectin, xanthan gum, guar gum, gellan gum, alginic acid, tara gum, tragacanth gum, curdlan, tamarind seed gum, psyllium seed gum, karaya gum, starch and cellulose.
本発明の組成物は上記した化合物以外にも、例えば塩酸テルビナフィンなどの抗真菌薬；塩化ベンザルコニウムや塩化ベンゼトニウム、クロルヘキシジンなどの殺菌消毒薬；天然保湿成分やビタミン製剤、ヒアルロン酸、スクワランなどの保湿剤、グリセリンに代表される低分子量の粘性調整剤などを含有することができる。また、本発明の研磨カス飛散防止組成物は、着色剤や着香剤を含有することができる。 In addition to the above-described compounds, the composition of the present invention includes, for example, antifungal agents such as terbinafine hydrochloride; bactericidal disinfectants such as benzalkonium chloride, benzethonium chloride, and chlorhexidine; natural moisturizing ingredients, vitamin preparations, hyaluronic acid, squalane A humectant, a low molecular weight viscosity modifier represented by glycerin, and the like can be contained. Moreover, the polishing residue scattering prevention composition of this invention can contain a coloring agent and a flavoring agent.
本発明の組成物のｐＨは、特に限定されない。例えば添加成分などに応じてｐＨは２〜８の範囲内で調整される。 The pH of the composition of the present invention is not particularly limited. For example, the pH is adjusted within a range of 2 to 8 depending on the additive components.
本発明の組成物は、溶媒成分として少なくとも水およびアルコールを含有し、該組成物が含有する全溶媒成分量に対する水の割合が３０〜７０質量％を占める。水の含有量が３０質量％より少なくなると、アルコール成分の含有比率が相対的に高くなることから溶媒成分の揮発性が高まり、グラインダーや爪やすり等の研磨器具の凹部に、爪または皮膚の研磨カスを含有した研磨カス飛散防止組成物が固着しやすくなる。したがって、水の含有量が３０質量％より少ないと、施術時間が長引いた際に、良好な研磨作業性は得られない。また研磨器具の洗浄性も悪化する。 The composition of this invention contains water and alcohol at least as a solvent component, and the ratio of the water with respect to the total amount of solvent components which this composition contains occupies 30-70 mass%. When the water content is less than 30% by mass, the content ratio of the alcohol component is relatively high, so the volatility of the solvent component is increased, and the nail or skin is polished in the recess of a polishing tool such as a grinder or nail file. It becomes easy to adhere the polishing residue scattering preventing composition containing residue. Therefore, when the water content is less than 30% by mass, good polishing workability cannot be obtained when the treatment time is prolonged. In addition, the cleaning performance of the polishing tool also deteriorates.
一方、水の含有量が７０質量％を超えると、研磨カス飛散防止組成物の固形化（ゲル化）が起こりにくくなり、研磨カス包摂性が低下する。また包摂性の低下に伴い、包摂できなかった研磨カスが研磨器具の凹部に堆積することから、施術時間が長引いた際に、良好な研磨作業性が得られなくなる。本発明の研磨カス飛散防止組成物が含有する水は、全溶媒成分量に対し４５〜６０質量％であることがより好ましい。これにより研磨作業性と研磨カス包摂性にとりわけ優れた爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を得ることができる。 On the other hand, when the content of water exceeds 70% by mass, solidification (gelation) of the polishing residue scattering prevention composition is difficult to occur, and the polishing residue inclusion property is lowered. Moreover, since the polishing residue that could not be included accumulates in the recesses of the polishing tool as the inclusion property decreases, good polishing workability cannot be obtained when the treatment time is prolonged. It is more preferable that the water contained in the polishing residue scattering prevention composition of the present invention is 45 to 60% by mass with respect to the total amount of solvent components. As a result, it is possible to obtain a nail or skin polishing residue scattering prevention composition that is particularly excellent in polishing workability and polishing residue inclusion.
本発明の組成物の調製方法は、特に限定されない。例えば水やアルコールを含有する溶媒中に、上記したアルコール及び水に対して溶解性を有する高分子化合物やアルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物などを添加し、攪拌することで、本発明の組成物を調製することができる。あるいは、水やアルコールを含有する溶媒中に、上記したアルコール及び水に対して溶解性を有する高分子化合物やアルコールに非溶解性でかつ水溶性の高分子化合物などを分散し、該分散後の組成物中における固形成分を膨潤する膨潤工程を経た後、該組成物を改めて攪拌、溶解し、本発明の組成物を調製することができる。 The method for preparing the composition of the present invention is not particularly limited. For example, in a solvent containing water or alcohol, the above-described polymer compound having solubility in alcohol and water, or a water-insoluble and water-soluble polymer compound is added and stirred. The composition of the present invention can be prepared. Alternatively, in the solvent containing water or alcohol, the above-described alcohol and water-soluble polymer compound or alcohol-insoluble and water-soluble polymer compound is dispersed, and after the dispersion, After passing through the swelling step of swelling the solid component in the composition, the composition can be stirred and dissolved again to prepare the composition of the present invention.
以下に本発明を実施例により更に詳細に示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, and the present invention will be specifically described. However, the present invention is not limited to the following examples.
（実施例１）
蒸留水６３ｇ、エタノール３３．４ｇを混合した後、平均分子量が１４０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるセルニーＬ（日本曹達（株）社製）０．６ｇ、平均分子量が９１０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるセルニーＨ（日本曹達（株）社製）２．０ｇ、カルボキシビニルポリマーであるハイビスワコー１０３（和光純薬（株）社製）１．０ｇをこの順に混合し、後に株式会社シンキー製ＡＲＥ−３１０にて撹拌し、実施例１の研磨カス飛散防止組成物を得た。なお、該組成物は均一なゲル状の組成物であり、作製後は溶媒成分が揮発しないように、容器内にて密閉した。
Example 1
After mixing 63 g of distilled water and 33.4 g of ethanol, 0.6 g of Celny L (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), which is hydroxypropylcellulose having an average molecular weight of 140,000, and hydroxypropylcellulose having an average molecular weight of 910,000 Celny H (Nippon Soda Co., Ltd.) 2.0 g and carboxyvinyl polymer Hibiswako 103 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 1.0 g were mixed in this order, and then ARE manufactured by Shinky Co., Ltd. The mixture was stirred at −310 to obtain a polishing residue scattering prevention composition of Example 1. The composition was a uniform gel-like composition and was sealed in a container so that the solvent component would not volatilize after production.
（実施例２〜４、比較例１〜２）
実施例１の研磨カス飛散防止組成物中の作製において、蒸留水およびエタノールの使用量を後述の表１に示した量に変更した以外は同様にして、実施例２〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物を得た。なお、得られた組成物は何れも均一なゲル状の組成物であり、作製後は溶媒成分が揮発しないように、容器内にて密閉した。
(Examples 2-4, Comparative Examples 1-2)
In the production of the polishing residue scattering prevention composition of Example 1, Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were similarly performed except that the amounts of distilled water and ethanol used were changed to the amounts shown in Table 1 described later. 2 was obtained. Each of the obtained compositions was a uniform gel-like composition and was sealed in a container so that the solvent component would not volatilize after production.
このようにして得られた実施例１〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物について、研磨カス包摂性、研磨作業性、および研磨器具の洗浄性をそれぞれ評価した。 About the polishing residue scattering prevention compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 thus obtained, the polishing residue inclusion property, the polishing workability, and the cleaning property of the polishing tool were evaluated.
＜研磨カス包摂性＞
実施例１〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物を、木ベラを使って混ぜた後に、それぞれ容器内から取り出し、施術する箇所に塗布した。適切な塗布がしにくい組成物については組成物の量を多く塗布するなどして、可能な限り適切に塗布を行った。その後、グラインダーを用いて爪を研磨し、目視にて組成物と研磨カスの飛散の様子を以下の基準で評価した。この結果を表１に示す。
○：研磨カスが飛散せず包摂性は良好である。
△：研磨カスが僅かに飛散したが、実用上十分な包摂性が認められた。
×：組成物及び研磨カスが飛散し、包摂性に問題がある。
<Polish polishing residue>
The abrasive debris prevention compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 2 were mixed using a wooden spatula, then taken out from the container and applied to the place to be treated. A composition that is difficult to be applied properly was applied as much as possible by applying a large amount of the composition. Then, the nail | claw was grind | polished using the grinder and the mode of scattering of a composition and grinding | polishing residue was visually evaluated on the following references | standards. The results are shown in Table 1.
○: Polishing residue does not scatter and inclusion is good.
Δ: Although the polishing residue was slightly scattered, practically sufficient inclusion was recognized.
X: The composition and the polishing residue are scattered and there is a problem in the inclusion property.
＜研磨作業性＞
実施例１〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物を、木ベラを使って上記した研磨カス包摂性の評価と同様にして施術する箇所に塗布した。その後、グラインダーを用いて爪の研磨を行い、研磨状況を以下の基準で評価した。この結果を表１に示す。
○：爪の研磨作業を開始してから３０分経過した後であっても、良好な研磨効率が維
持されていた。
△：爪の研磨作業を開始後、１５分経過した後に研磨効率が低下したが、実用上問題
ないレベルである。
×：爪の研磨作業を開始後、１０分経過した後に研磨効率が低下し、不満なレベルで
ある。
<Polishing workability>
The polishing residue scattering prevention compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were applied to the locations to be treated in the same manner as the evaluation of the polishing residue inclusion using the wood spatula. Then, the nail | claw was grind | polished using the grinder and the grinding | polishing condition was evaluated on the following references | standards. The results are shown in Table 1.
A: Good polishing efficiency was maintained even after 30 minutes had passed since the nail polishing operation was started.
Δ: After 15 minutes have passed since the nail polishing operation was started, the polishing efficiency decreased, but it was at a level causing no practical problems.
X: After starting the nail polishing operation, the polishing efficiency is lowered after 10 minutes, which is an unsatisfactory level.
＜研磨器具の洗浄性＞
実施例１〜４および比較例１〜２の研磨カス飛散防止組成物を、木ベラを使って上記した研磨カス包摂性の評価と同様にして施術する箇所に塗布した。その後、グラインダーを用いて３０分間、爪の研磨作業を行い、使用後のグラインダーを水と共に超音波洗浄器内に投入して洗浄した。この時の洗浄性を以下の基準で評価した。この結果を表１に示す。
○：５分間未満の超音波洗浄により洗浄が完了した。
△：５分以上３０分未満の超音波洗浄により洗浄が完了した。
×：洗浄の完了まで３０分以上の時間を要した。
<Detergency of polishing equipment>
The polishing residue scattering prevention compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were applied to the locations to be treated in the same manner as the evaluation of the polishing residue inclusion using the wood spatula. Then, the nail | claw grinding | polishing operation | work was performed for 30 minutes using the grinder, and the grinder after use was thrown into the ultrasonic cleaner with water, and was wash | cleaned. The detergency at this time was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
○: Cleaning was completed by ultrasonic cleaning for less than 5 minutes.
Δ: Cleaning was completed by ultrasonic cleaning for 5 minutes or more and less than 30 minutes.
X: It took 30 minutes or more to complete the washing.
（比較例３）
蒸留水５４ｇ、エタノール４２．４ｇを混合した後、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の多糖類としてグルコマンナンであるレオレックス（登録商標）Ｏｎｅ（清水化学社製）０．９ｇ、平均分子量が１４０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるＮＩＳＳＯ ＨＰＣ Ｌ（日本曹達社製）０．６８ｇ、平均分子量が９１０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるＮＩＳＳＯ ＨＰＣ（登録商標） Ｈ（日本曹達社製）２．０２ｇをこの順に混合し、後に株式会社シンキー製ＡＲＥ−３１０にて撹拌し、比較例３の研磨カス飛散防止組成物を得た。また該組成物は均一なゲル状の組成物であり、作製後は溶媒成分が揮発しないように、容器内にて密閉した。
(Comparative Example 3)
After mixing 54 g of distilled water and 42.4 g of ethanol, 0.9 g of ROLEX (registered trademark) One (manufactured by Shimizu Chemical Co., Ltd.), which is a glucomannan as an insoluble and water-soluble polysaccharide in alcohol, has an average molecular weight. NISSO HPC L (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) 0.68 g which is 140,000 hydroxypropyl cellulose, and NISSO HPC (registered trademark) H (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) 2.02 g which is hydroxypropyl cellulose having an average molecular weight of 910,000. Were mixed in this order, and then stirred with ARE-310 manufactured by Shinky Co., Ltd. to obtain a polishing residue scattering prevention composition of Comparative Example 3. Moreover, this composition was a uniform gel-like composition, and it sealed in the container so that a solvent component might not volatilize after preparation.
（実施例５）
蒸留水５４ｇ、エタノール４２．４ｇを混合した後、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の多糖類としてグルコマンナンであるレオレックスＯｎｅ（清水化学社製）０．１８ｇ、平均分子量が１４０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるＮＩＳＳＯ ＨＰＣ Ｌ（日本曹達社製）０．８６ｇ、平均分子量が９１０，０００のヒドロキシプロピルセルロースであるＮＩＳＳＯ ＨＰＣ Ｈ（日本曹達社製）２．５７ｇをこの順に混合し、後に株式会社シンキー製ＡＲＥ−３１０にて撹拌し、実施例５の研磨カス飛散防止組成物を得た。また該組成物は均一なゲル状の組成物であり、作製後は溶媒成分が揮発しないように、容器内にて密閉した。
(Example 5)
After mixing 54 g of distilled water and 42.4 g of ethanol, 0.18 g of ROLEX One (manufactured by Shimizu Chemical Co., Ltd.), which is glucomannan as an insoluble and water-soluble polysaccharide in alcohol, has an average molecular weight of 140,000. Hydroxypropyl cellulose NISSO HPC L (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) 0.86 g, hydroxypropyl cellulose having an average molecular weight of 910,000 NISSO HPC H (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) 2.57 g were mixed in this order, and later stocked The resulting mixture was stirred with ARE-310 manufactured by Shinky Co., Ltd., and a polishing residue scattering prevention composition of Example 5 was obtained. Moreover, this composition was a uniform gel-like composition, and it sealed in the container so that a solvent component might not volatilize after preparation.
このようにして得られた比較例３、および実施例５の研磨カス飛散防止組成物について、先の実施例１〜４および比較例１〜２と同様にして研磨カス包摂性、研磨作業性、および研磨器具の洗浄性をそれぞれ評価した。この結果を表２に示す。 About the polishing residue scattering prevention composition of Comparative Example 3 and Example 5 thus obtained, the polishing residue inclusion property, the polishing workability, in the same manner as in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2, And the cleaning properties of the polishing tool were evaluated. The results are shown in Table 2.
以上の結果から明らかなように、本発明によれば、良好な研磨カス包摂性、および施術時間が長引いた場合であっても良好な研磨作業性が得られ、かつ使用後の研磨器具の洗浄性に優れた、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供することが可能となる。 As is clear from the above results, according to the present invention, good polishing residue inclusion property and good polishing workability can be obtained even when the treatment time is prolonged, and the polishing tool is cleaned after use. It is possible to provide a composition for preventing nail or skin polishing residue from scattering.
本発明の研磨カス飛散防止組成物は、爪疾患または皮膚疾患の患者に対してフットケアを行う医療機関や、ネイルケアを行うネイルサロンなどにおける、真菌感染の拡大の予防に有用である。 The composition for preventing polishing residue scattering of the present invention is useful for preventing the spread of fungal infections in medical institutions that perform foot care for patients with nail disease or skin disease, nail salons that perform nail care, and the like.
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