JP2018066958A - Optical device, projection optical system, exposure apparatus and production method of article - Google Patents

Optical device, projection optical system, exposure apparatus and production method of article Download PDF

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Kazuyuki Harumi
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical device advantageous for suppressing vibrations in a rotation direction around the optical axis of a mirror as a rotation axis, and an exposure apparatus for exposing a substrate.SOLUTION: An optical device OA includes a base 4, a support part 2 disposed on the base 4 and supporting a mirror 1 at the center portion on the back surface of the mirror 1, and a control part D for applying force on a side face of the mirror 1 to suppress vibrations in a rotation direction around the optical axis of the mirror 1 as a rotation axis.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法に関する。   The present invention relates to an optical apparatus, a projection optical system, an exposure apparatus, and an article manufacturing method.

ミラー(の反射面)を任意の形状に変形させて光学収差、焦点位置、像面湾曲などの補正を可能とする可変ミラーを有する光学系が一般的に知られている。天文分野においては、星を観察する際に、大気の揺らぎによって像の分解能が低下してしまうため、高速で波面を計測して可変ミラーで補正することで、大気の揺らぎによる影響を低減する技術が存在する。また、半導体デバイスの製造に用いられる露光装置においては、露光時の温度変化による収差の変化に対応するために、光学系に含まれているミラーを可変ミラーとし、収差を補正する技術が存在する。   2. Description of the Related Art An optical system having a variable mirror that can correct optical aberration, focal position, field curvature, etc. by deforming a mirror (reflection surface thereof) into an arbitrary shape is generally known. In the astronomical field, when recognizing stars, the resolution of the image decreases due to atmospheric fluctuations, so the technology that reduces the effects of atmospheric fluctuations by measuring the wavefront at high speed and correcting it with a variable mirror. Exists. In addition, in an exposure apparatus used for manufacturing semiconductor devices, there is a technique for correcting aberration by using a mirror included in an optical system as a variable mirror in order to cope with a change in aberration due to a temperature change during exposure. .

大口径(例えば、200mm以上)の可変ミラーには、ミラーの裏面をアクチュエータによって反射面の面外方向に駆動することで、任意の形状の反射面を形成するものがあり、100個以上のアクチュエータが配置される場合もある。このような技術に関し、ミラーの裏面とアクチュエータの可動子とを締結する方式やミラーの裏面に磁石を配置(接合)し、且つ、かかる磁石から微小な間隔を有する位置にコイルを配置する方式などが提案されている。   Some variable mirrors with a large aperture (for example, 200 mm or more) form a reflecting surface of an arbitrary shape by driving the back surface of the mirror in the out-of-plane direction of the reflecting surface by an actuator. There are 100 or more actuators May be arranged. With regard to such a technique, a method of fastening the back surface of the mirror and the mover of the actuator, a method of arranging (joining) a magnet on the back surface of the mirror, and a method of arranging a coil at a position having a minute interval from the magnet, etc. Has been proposed.

前者の方式において、アクチュエータとしてピエゾ素子を用いる場合には、ミラーの裏面とアクチュエータの可動子とを機械的に締結する際に、多数のアクチュエータを整列させた状態でミラーを組み付ける必要がある。この場合、各アクチュエータの位置管理が難しいため、ミラーに変形を与えないでアクチュエータに組み付けることは非常に難しい作業となる。   In the former method, when a piezo element is used as an actuator, it is necessary to assemble the mirror in a state where a large number of actuators are aligned when mechanically fastening the back surface of the mirror and the mover of the actuator. In this case, since it is difficult to manage the position of each actuator, it is very difficult to assemble the actuator without deforming the mirror.

後者の方式では、ミラーの裏面と多数のアクチュエータとを締結する必要がないため、ミラーの初期形状を崩すリスクは低減されている。ミラーの裏面にコイルを配置し、磁石を固定側に配置することでも可変ミラーを実現することは可能であるが、この場合、任意の形状を形成するミラーに電気配線を実装する必要があり、現実的ではない。   In the latter method, since it is not necessary to fasten the back surface of the mirror and a large number of actuators, the risk of breaking the initial shape of the mirror is reduced. Although it is possible to realize a variable mirror by arranging a coil on the back surface of the mirror and arranging the magnet on the fixed side, in this case, it is necessary to mount electrical wiring on the mirror that forms an arbitrary shape, Not realistic.

ミラーの支持(固定)に関しては、ミラーの裏面の中心の1箇所とする構成が提案されている(特許文献1参照)。ミラーの裏面の中心の1箇所でミラーを支持することで、ミラーの過拘束を回避し、ミラーを歪ませることなく支持することができる。   Regarding the support (fixation) of the mirror, a configuration has been proposed in which the center of the back surface of the mirror is one (see Patent Document 1). By supporting the mirror at one central position on the back surface of the mirror, over-constraining of the mirror can be avoided and the mirror can be supported without being distorted.

従って、可変ミラーを実現するための構成としては、ミラーの裏面の中心の1箇所でミラーを支持し、ミラーの裏面に磁石を配置し、かかる磁石に対向する位置にコイルを配置する構成が好ましい。また、ミラーの固定は、接着で行うのがよい。これは、ミラーを1箇所(小領域)で支持するため、機械的に締結すると、その締結力によって局所的にミラーに力が加わり、ミラーの形状が変形してしまうからである。一方、接着であれば、ミラーの裏面(の形状)と支持部材の支持面(の形状)とが完全に一致していなくても、接着剤が介在することになるため、ミラーの形状を維持したまま支持部材に取り付けることができる。   Therefore, as a configuration for realizing the variable mirror, a configuration in which the mirror is supported at one center of the back surface of the mirror, a magnet is disposed on the back surface of the mirror, and a coil is disposed at a position facing the magnet is preferable. . The mirror should be fixed by adhesion. This is because, since the mirror is supported at one place (small region), when mechanically fastened, a force is locally applied to the mirror by the fastening force, and the shape of the mirror is deformed. On the other hand, in the case of adhesion, even if the back surface of the mirror (the shape) and the support surface of the support member (the shape) do not completely match, the adhesive is interposed, so the shape of the mirror is maintained. It can be attached to the support member as it is.

特許第4817702号公報Japanese Patent No. 4817702

しかしながら、上述した可変ミラーの構成では、ミラーの裏面と支持部材との間の剛性が低いため、床の振動などの外乱によって、ミラーが揺れやすいという欠点がある。特に、ミラーの光軸周りの回転方向の振動が発生してしまうという問題がある。   However, the configuration of the variable mirror described above has a drawback in that the mirror is easily swayed by disturbance such as floor vibration because the rigidity between the back surface of the mirror and the support member is low. In particular, there is a problem that vibration in the rotational direction around the optical axis of the mirror occurs.

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制するのに有利な光学装置を提供することを例示的目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an optical device that is advantageous for suppressing vibration in the rotation direction with the optical axis of the mirror as the rotation axis.

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての光学装置は、ベースと、前記ベースに設けられ、ミラーを、当該ミラーの裏面の中心部で支持する支持部と、前記ミラーの側面に力を加えて前記ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する抑制部と、を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, an optical device according to one aspect of the present invention includes a base, a support provided on the base and supporting a mirror at the center of the back surface of the mirror, and a side surface of the mirror. And a suppression unit that applies a force to suppress vibration in the rotation direction about the optical axis of the mirror as a rotation axis.

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。   Further objects and other aspects of the present invention will become apparent from the preferred embodiments described below with reference to the accompanying drawings.

本発明によれば、例えば、ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制するのに有利な光学装置を提供することができる。   According to the present invention, for example, it is possible to provide an optical device that is advantageous in suppressing vibration in the rotational direction with the optical axis of the mirror as the rotation axis.

第1実施形態における光学装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the optical apparatus in 1st Embodiment. 第1実施形態における抑制部の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the suppression part in 1st Embodiment. 第2実施形態における抑制部の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the suppression part in 2nd Embodiment. 第3実施形態における抑制部の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the control part in 3rd Embodiment. 第4実施形態における光学装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the optical apparatus in 4th Embodiment. 第5実施形態における抑制部の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the control part in 5th Embodiment. 本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the exposure apparatus as 1 side surface of this invention.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in each figure, the same reference number is attached | subjected about the same member and the overlapping description is abbreviate | omitted.

<第1実施形態>
図1(a)及び図1(b)は、第1実施形態における光学装置OAの構成を示す概略図である。図1(a)は、光学装置OAの上面図を示し、図1(b)は、光学装置OAの断面(正面)図を示している。光学装置OAは、ミラー1を変形させる、具体的には、ミラー1の反射面1aを所望の形状に変形させる可変ミラー装置である。光学装置OAは、ミラー1と、支持部2と、接着層3と、ベース4と、ボイスコイルモーターVCMと、抑制部Dとを有する。
<First Embodiment>
FIG. 1A and FIG. 1B are schematic views showing the configuration of the optical device OA in the first embodiment. FIG. 1A shows a top view of the optical device OA, and FIG. 1B shows a cross-sectional (front) view of the optical device OA. The optical device OA is a variable mirror device that deforms the mirror 1, specifically, deforms the reflecting surface 1a of the mirror 1 into a desired shape. The optical device OA includes a mirror 1, a support portion 2, an adhesive layer 3, a base 4, a voice coil motor VCM, and a suppression portion D.

ミラー1は、円形状の薄いミラーである。支持部2は、ベース4に設けられ、ミラー1を、ミラー1の中心部で支持する。接着層3は、ミラー1と支持部2とを接着(締結)する接着剤を含む層である。本実施形態では、ミラー1の中央部に形成された孔1cに支持部2が挿入され、接着剤で固定されている。従って、ミラー1の孔1cと支持部2との間には、薄い接着層3が介在する。支持部2は、装置全体を支持するベース4に固定されている。   The mirror 1 is a circular thin mirror. The support 2 is provided on the base 4 and supports the mirror 1 at the center of the mirror 1. The adhesive layer 3 is a layer containing an adhesive that bonds (fastens) the mirror 1 and the support portion 2. In this embodiment, the support part 2 is inserted in the hole 1c formed in the center part of the mirror 1, and is fixed with an adhesive. Therefore, a thin adhesive layer 3 is interposed between the hole 1 c of the mirror 1 and the support portion 2. The support portion 2 is fixed to a base 4 that supports the entire apparatus.

ミラー1の裏面(反射面1aの反対側の面)1bには、複数の磁石5が配置されている(取り付けられている)。また、ミラー1の裏面1bに配置された複数の磁石5のそれぞれに対向するように、複数のコイル6がベース4に配置されている(取り付けられている)。コイル6に電流を流すことで、ローレンツ力が発生する。1つの磁石5と、それに対応するコイル6とのペアによって、1つのボイスコイルモーターVCMが構成されている。磁石5とコイル6とは接触していないため、ミラー1は、支持部2のみで支持されている。このような構成では、ボイスコイルモーターVCMが推力を発生していない初期状態において、ミラー1が過拘束されていないため、ミラー1の初期形状を崩すリスクを低減することができる。   A plurality of magnets 5 are disposed (attached) to the back surface (the surface opposite to the reflecting surface 1a) 1b of the mirror 1. A plurality of coils 6 are arranged (attached) to the base 4 so as to face each of the plurality of magnets 5 arranged on the back surface 1 b of the mirror 1. A Lorentz force is generated by passing a current through the coil 6. One voice coil motor VCM is composed of a pair of one magnet 5 and a corresponding coil 6. Since the magnet 5 and the coil 6 are not in contact with each other, the mirror 1 is supported only by the support portion 2. In such a configuration, since the mirror 1 is not over-constrained in the initial state where the voice coil motor VCM does not generate thrust, the risk of breaking the initial shape of the mirror 1 can be reduced.

本実施形態では、ミラー1と支持部2との締結には、接着を採用している。ミラー1と支持部2とを機械的に締結する場合、ミラー1の中心部の狭い領域を挟み込むことで固定することになる。従って、ミラー1と支持部2との当たり面の微小な形状誤差がミラー1の外周部に向かって拡大されてしまう。接着による締結では、ミラー1と支持部2との間の形状誤差を接着層3が吸収するため、そのような問題は発生しない。   In the present embodiment, bonding is adopted for fastening the mirror 1 and the support portion 2. When the mirror 1 and the support portion 2 are mechanically fastened, they are fixed by sandwiching a narrow region at the center of the mirror 1. Therefore, a minute shape error of the contact surface between the mirror 1 and the support portion 2 is enlarged toward the outer peripheral portion of the mirror 1. In fastening by bonding, since the adhesive layer 3 absorbs the shape error between the mirror 1 and the support portion 2, such a problem does not occur.

但し、接着は、剛性が低いという欠点がある。接着剤の弾性率は、一般的に、金属やガラスの弾性率よりも小さいため、中心部の一点で支持部2に支持されたミラー1が揺れやすくなる。ミラー1の光軸周りの回転方向の振動モードは、ミラー1を剛に固定している場合に比べて、共振周波数が低くなる。ミラー1が光軸周りの回転方向に振動した場合、ボイスコイルモーターVCMを駆動してミラー1の反射面1aを所望の形状に変形させたとしても、回転方向にずれるため、光学性能が低下してしまう。ミラー1が傾く方向の振動モード、所謂、チルトモードも発生するが、その方向には、ミラー1の反射面1aの形状を変形させるためのボイスコイルモーターVCMが多数配置されているため、制振制御を行うことが可能である。一方、ミラー1の光軸周りの回転方向の振動、即ち、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動に関しては、ボイスコイルモーターVCMでは対応することができない。   However, bonding has the disadvantage of low rigidity. Since the elastic modulus of the adhesive is generally smaller than the elastic modulus of metal or glass, the mirror 1 supported by the support portion 2 at one point in the central portion is likely to shake. The vibration mode in the rotational direction around the optical axis of the mirror 1 has a lower resonance frequency than when the mirror 1 is rigidly fixed. When the mirror 1 vibrates in the rotational direction around the optical axis, even if the voice coil motor VCM is driven and the reflecting surface 1a of the mirror 1 is deformed to a desired shape, the optical performance is deteriorated because the mirror 1 is displaced in the rotational direction. End up. A vibration mode in which the mirror 1 is tilted, that is, a so-called tilt mode also occurs. In this direction, a number of voice coil motors VCM for deforming the shape of the reflecting surface 1a of the mirror 1 are arranged. Control can be performed. On the other hand, the vibration in the rotation direction around the optical axis of the mirror 1, that is, the vibration in the rotation direction around the optical axis of the mirror 1 cannot be handled by the voice coil motor VCM.

そこで、本実施形態では、図1(b)に示すように、ミラー1の側面に力を与えてミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する機能、即ち、ダンピング機能を有する抑制部Dを設けている。物理学においては、ダンピングとは、振動の速度に応じて、振動の向きとは逆向きの力を発生することと定義されるが、ここでは、振動を抑制することと定義する。更に、同じ外乱によって振動が発生した場合、振動の振幅をより小さくすることをダンピングと定義する。   Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 1B, a function of applying a force to the side surface of the mirror 1 to suppress vibration in the rotational direction with the optical axis of the mirror 1 as a rotation axis, that is, a damping function is provided. The suppression part D which has is provided. In physics, damping is defined as generating a force in the direction opposite to the direction of vibration according to the speed of vibration, but here it is defined as suppressing vibration. Furthermore, when vibration is generated due to the same disturbance, reducing the amplitude of vibration is defined as damping.

図2は、第1実施形態における抑制部Dの構成を示す概略図である。図2では、Y軸方向から見た抑制部Dを示している。抑制部Dは、本実施形態では、第1保持部101と、第2保持部105と、センサターゲット102及びセンサ106を含む計測部111と、ダンピング用磁石103及びダンピング用コイル104を含むアクチュエータ113とを含む。また、抑制部Dは、アンプ107と、制御部108と、ドライバ109とを含む。   FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a configuration of the suppressing unit D in the first embodiment. In FIG. 2, the suppression part D seen from the Y-axis direction is shown. In the present embodiment, the suppression unit D includes a first holding unit 101, a second holding unit 105, a measuring unit 111 including the sensor target 102 and the sensor 106, and an actuator 113 including the damping magnet 103 and the damping coil 104. Including. In addition, the suppression unit D includes an amplifier 107, a control unit 108, and a driver 109.

第1保持部101は、ミラー1の側面1dに設けられている(固定されている)。第1保持部101は、本実施形態では、ダンピング用磁石103及びセンサターゲット102を保持する。第2保持部105は、ベース4に設けられている(固定されている)。第2保持部105は、第1保持部101に保持されたダンピング用磁石103と対向するようにダンピング用コイル104を保持する。また、第2保持部105は、第1保持部101に保持されたセンサターゲット102と対向するようにセンサ106を保持する。   The first holding unit 101 is provided (fixed) on the side surface 1 d of the mirror 1. In the present embodiment, the first holding unit 101 holds the damping magnet 103 and the sensor target 102. The second holding unit 105 is provided (fixed) on the base 4. The second holding unit 105 holds the damping coil 104 so as to face the damping magnet 103 held by the first holding unit 101. The second holding unit 105 holds the sensor 106 so as to face the sensor target 102 held by the first holding unit 101.

計測部111は、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の速度(光軸周りの回転速度)を計測する機能を有する。センサ106は、例えば、静電容量センサなどの変位センサを含み、常に、センサターゲット102までの距離(センサターゲット102とセンサ106との間の距離)を検出している。センサ106で検出された距離(変位)を時間で微分することで、ミラー1の光軸周りの回転速度を計測することができる。   The measuring unit 111 has a function of measuring a rotational speed (rotational speed around the optical axis) with the optical axis of the mirror 1 as a rotational axis. The sensor 106 includes a displacement sensor such as a capacitance sensor, for example, and always detects a distance to the sensor target 102 (a distance between the sensor target 102 and the sensor 106). By differentiating the distance (displacement) detected by the sensor 106 with respect to time, the rotational speed around the optical axis of the mirror 1 can be measured.

アクチュエータ113は、ミラー1の側面1dに、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の力を加える機能を有する。アクチュエータ113は、ローレンツ力を利用したボイスコイルモーターであって、ダンピング用コイル104に電流を流すことで、ダンピング用磁石103との間に力を発生させることができる。アクチュエータ113において、計測部111によって計測された回転速度に比例した推力を発生させることでダンピング効果を得ることが可能となる。   The actuator 113 has a function of applying a rotational force about the optical axis of the mirror 1 to the side surface 1 d of the mirror 1. The actuator 113 is a voice coil motor that uses Lorentz force, and can generate a force with the damping magnet 103 by passing a current through the damping coil 104. In the actuator 113, it is possible to obtain a damping effect by generating a thrust proportional to the rotational speed measured by the measuring unit 111.

制御部108は、計測部111の計測結果に基づいて、アクチュエータ113がミラー1の側面1dに加える回転方向の力を制御する。具体的には、センサ106からの出力(変位)は、アンプ107によって電圧などの出力に変換されて制御部108に送られる。制御部108は、変位を時間で微分して回転速度に変換し、かかる回転速度に応じて、係数を乗じて、アクチュエータ113で発生すべき推力を求める。そして、制御部108は、アクチュエータ113で発生すべき推力に応じた指令値をドライバ109に出力する。ドライバ109は、制御部108からの指令値に応じた電流を発生させてダンピング用コイル104に与える。これにより、抑制部Dは、ダンピング効果を発揮し、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させることができる。従って、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。   The control unit 108 controls the rotational force that the actuator 113 applies to the side surface 1 d of the mirror 1 based on the measurement result of the measurement unit 111. Specifically, the output (displacement) from the sensor 106 is converted into an output such as a voltage by the amplifier 107 and sent to the control unit 108. The control unit 108 differentiates the displacement with time and converts it into a rotational speed, and multiplies the coefficient according to the rotational speed to obtain a thrust to be generated by the actuator 113. Then, the control unit 108 outputs a command value corresponding to the thrust to be generated by the actuator 113 to the driver 109. The driver 109 generates a current corresponding to the command value from the control unit 108 and supplies it to the damping coil 104. Thereby, the suppression part D can exhibit the damping effect, and can attenuate the vibration of the rotation direction which makes the optical axis of the mirror 1 a rotating shaft. Therefore, the vibration in the rotation direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotation axis is reduced, and the deterioration of the optical performance can be suppressed.

本実施形態では、抑制部Dにおいて、ダンピング用磁石103(可動部)とダンピング用コイル104(固定部)とが機械的に締結されていない非接触の状態となっている(アクチュエータ113が非接触型のアクチュエータである)。従って、ミラー1の反射面1aを所望の形状に変形させる制御(面形状制御)には、影響を与えることはない。   In the present embodiment, in the suppression portion D, the damping magnet 103 (movable portion) and the damping coil 104 (fixed portion) are not mechanically fastened (the actuator 113 is not in contact). Type actuator). Therefore, the control (surface shape control) for deforming the reflecting surface 1a of the mirror 1 into a desired shape is not affected.

また、本実施形態では、ミラー1の光軸周りの回転速度を計測するために、センサ106として変位センサを用いて変位を検出し、かかる変位を時間で微分しているが、これに限定されるものではない。例えば、ミラー1の周辺部に加速度センサを配置し、加速度センサで検出された加速度を積分することで、ミラー1の光軸周りの回転速度を計測してもよい。   In this embodiment, in order to measure the rotational speed around the optical axis of the mirror 1, the displacement is detected using a displacement sensor as the sensor 106, and the displacement is differentiated with respect to time. However, the present invention is not limited to this. It is not something. For example, an acceleration sensor may be arranged around the mirror 1 and the rotation speed around the optical axis of the mirror 1 may be measured by integrating the acceleration detected by the acceleration sensor.

<第2実施形態>
図3は、第2実施形態における抑制部Dの構成を示す概略図である。図3では、Y軸方向から見た抑制部Dを示している。抑制部Dは、本実施形態では、凸部201と、ガイド202と、ダンパー204と、ガイド支持部203と、ダンパー204とを含む。
Second Embodiment
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a configuration of the suppressing unit D in the second embodiment. In FIG. 3, the suppression part D seen from the Y-axis direction is shown. In the present embodiment, the suppressing portion D includes a convex portion 201, a guide 202, a damper 204, a guide support portion 203, and a damper 204.

凸部201は、ミラー1の側面1dに剛に締結されている。ガイド202は、凸部201の両側面をボールで挟み込んで2次元で自由に転がり案内する、即ち、ミラー1を水平方向に案内する案内部であって、水平方向には力を伝達するが、垂直方向には力を伝達しない構造を有している。ダンパー204は、ベース4に設けられている(取り付けられている)。ダンパー204は、オイルダンパーで構成され、ベース4に固定されたシリンダ204aと、水平方向に可動するピストン204bとを含む。ガイド支持部203は、ガイド202及びピストン204bに締結されている。ガイド支持部203は、ガイド202とピストン204bとを接続し、ピストン204bの水平方向への移動による力をガイド202に伝達する伝達部として機能する。   The convex portion 201 is rigidly fastened to the side surface 1 d of the mirror 1. The guide 202 is a guide part that guides the mirror 1 in the horizontal direction by sandwiching both side surfaces of the convex part 201 with a ball, that is, guides the mirror 1 in the horizontal direction, and transmits a force in the horizontal direction. It has a structure that does not transmit force in the vertical direction. The damper 204 is provided (attached) to the base 4. The damper 204 is composed of an oil damper, and includes a cylinder 204a fixed to the base 4 and a piston 204b movable in the horizontal direction. The guide support portion 203 is fastened to the guide 202 and the piston 204b. The guide support portion 203 connects the guide 202 and the piston 204b, and functions as a transmission portion that transmits the force generated by the movement of the piston 204b in the horizontal direction to the guide 202.

第2実施形態における抑制部Dでは、ミラー1が光軸を回転軸とする回転方向に振動した場合、かかる振動の速度に応じてダンパー204が反力を発生する。ダンパー204で発生した反力は、ガイド支持部203を介してガイド202に伝達され、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させる。従って、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。   In the suppression part D in 2nd Embodiment, when the mirror 1 vibrates in the rotation direction which makes an optical axis a rotating shaft, the damper 204 generate | occur | produces reaction force according to the speed of this vibration. The reaction force generated by the damper 204 is transmitted to the guide 202 via the guide support portion 203 and attenuates vibration in the rotational direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotation axis. Therefore, the vibration in the rotation direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotation axis is reduced, and the deterioration of the optical performance can be suppressed.

<第3実施形態>
図4(a)及び図4(b)は、第3実施形態における抑制部Dの構成を示す概略図である。図4(a)は、Z軸方向から見た抑制部Dを示し、図4(b)は、Y軸方向から見た抑制部Dを示している。抑制部Dは、本実施形態では、凸部301と、ダンパー304と、ダンパー支持部303と、ジョイント302とを含む。
<Third Embodiment>
FIG. 4A and FIG. 4B are schematic views illustrating the configuration of the suppressing unit D in the third embodiment. 4A shows the suppression unit D viewed from the Z-axis direction, and FIG. 4B illustrates the suppression unit D viewed from the Y-axis direction. In the present embodiment, the suppressing portion D includes a convex portion 301, a damper 304, a damper support portion 303, and a joint 302.

凸部301は、ミラー1の側面1dに固定されている。ダンパー304は、オイルダンパーで構成され、シリンダ304aと、水平方向に可動するピストン304bとを含む。ダンパー支持部303は、ベース4に設けられている。ダンパー支持部303は、ダンパー304がミラー1と同じ高さに配置されるように、ダンパー304を保持する。ジョイント302は、凸部301とピストン304bとを接続している。ジョイント302は、自在継ぎ手を2箇所に含み、かかる自在継ぎ手は、ミラー1と同じ高さに配置されている。このように、ミラー1が光軸方向に沿って駆動された場合でも、その駆動量が微小量であれば、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向への力がミラー1にかからない構成となっている。従って、ジョイント302は、ミラー1とダンパー304との間において、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の力のみを伝達する。   The convex portion 301 is fixed to the side surface 1 d of the mirror 1. The damper 304 is composed of an oil damper, and includes a cylinder 304a and a piston 304b that is movable in the horizontal direction. The damper support portion 303 is provided on the base 4. The damper support portion 303 holds the damper 304 so that the damper 304 is disposed at the same height as the mirror 1. The joint 302 connects the convex portion 301 and the piston 304b. The joint 302 includes universal joints at two locations, and the universal joints are arranged at the same height as the mirror 1. As described above, even when the mirror 1 is driven along the optical axis direction, if the driving amount is very small, the force in the rotation direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotation axis is not applied to the mirror 1. It has become. Therefore, the joint 302 transmits only the force in the rotational direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotational axis between the mirror 1 and the damper 304.

第3実施形態における抑制部Dでは、ミラー1が光軸を回転軸とする回転方向に振動した場合、かかる振動の速度に応じてダンパー304が反力を発生する。ダンパー304で発生した反力は、ジョイント302を介して、ミラー1(の側面1d)に伝達され、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させる。従って、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。   In the suppression part D in 3rd Embodiment, when the mirror 1 vibrates in the rotation direction which makes an optical axis a rotating shaft, the damper 304 will generate reaction force according to the speed of this vibration. The reaction force generated by the damper 304 is transmitted to the mirror 1 (the side surface 1d thereof) via the joint 302, and attenuates the vibration in the rotation direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotation axis. Therefore, the vibration in the rotation direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotation axis is reduced, and the deterioration of the optical performance can be suppressed.

<第4実施形態>
図5は、第4実施形態における光学装置OAの構成を示す概略図である。図5では、光学装置OAの断面(正面)図を示している。本実施形態では、光学装置OAは、反射面1aが凹面形状であるミラー1、即ち、凹面ミラーを変形させる可変ミラー装置であって、基本的には、第1実施形態と同様な構成を有する。但し、図5では、ミラー1の反射面1aの形状を変形させるためのボイスコイルモーターVCM、即ち、磁石5及びコイル6の図示を省略している。
<Fourth embodiment>
FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of the optical device OA in the fourth embodiment. FIG. 5 shows a cross-sectional (front) view of the optical device OA. In this embodiment, the optical device OA is a mirror 1 having a concave reflecting surface 1a, that is, a variable mirror device that deforms a concave mirror, and basically has the same configuration as that of the first embodiment. . However, in FIG. 5, illustration of the voice coil motor VCM for deforming the shape of the reflecting surface 1 a of the mirror 1, that is, the magnet 5 and the coil 6 is omitted.

抑制部Dは、第1実施形態と同様に、第1保持部101と、第2保持部105と、計測部111と、アクチュエータ113とを有するが、計測部111の図示を省略している。本実施形態では、ミラー1に対して、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の力(ダンピング力)を加える位置(高さ)を規定する。具体的には、ミラー1の形状の重心位置と同じ高さの位置にアクチュエータ113が配置されるように、第1保持部101及び第2保持部105のそれぞれがダンピング用磁石103及びダンピング用コイル104を保持する。これにより、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動が発生した場合に、かかる振動を抑制するためにアクチュエータ113からミラー1に加えられる力の位置がミラー1の形状の重心位置と一致するため、回転方向のみの振動を抑制することができる。一方、アクチュエータ113からミラー1に加えられる力の位置がミラー1の形状の重心位置と一致していない場合には、ミラー1を曲げる方向に力が加わることになるため、ミラー1の面形状制御の精度を低下させてしまう。そこで、本実施形態では、ミラー1の形状の重心位置と同じ高さの位置にアクチュエータ113を配置することで、ミラー1の面形状制御の精度の低下を抑え、より高精度な可変ミラー装置を実現している。   The suppression unit D includes the first holding unit 101, the second holding unit 105, the measurement unit 111, and the actuator 113, as in the first embodiment, but the measurement unit 111 is not shown. In the present embodiment, a position (height) at which a force in the rotational direction (damping force) about the optical axis of the mirror 1 is applied to the mirror 1 is defined. Specifically, each of the first holding unit 101 and the second holding unit 105 includes a damping magnet 103 and a damping coil so that the actuator 113 is disposed at the same height as the center of gravity of the shape of the mirror 1. 104 is held. Thereby, when vibration in the rotation direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotation axis occurs, the position of the force applied from the actuator 113 to the mirror 1 to suppress such vibration is the center of gravity position of the shape of the mirror 1. Since they coincide with each other, vibration in only the rotation direction can be suppressed. On the other hand, when the position of the force applied from the actuator 113 to the mirror 1 does not coincide with the position of the center of gravity of the shape of the mirror 1, the force is applied in the direction of bending the mirror 1. Will reduce the accuracy. Therefore, in this embodiment, the actuator 113 is arranged at the same height as the position of the center of gravity of the shape of the mirror 1, thereby suppressing a decrease in the accuracy of the surface shape control of the mirror 1 and a more accurate variable mirror device. Realized.

<第5実施形態>
図6は、第5実施形態における抑制部Dの構成を示す概略図である。図6では、Y軸方向から見た抑制部Dを示している。抑制部Dは、本実施形態では、基本的には、第2実施形態と同様な構成を有するが、ダンパー204の代わりに固定部504を含む。
<Fifth Embodiment>
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a configuration of the suppressing unit D in the fifth embodiment. In FIG. 6, the suppression part D seen from the Y-axis direction is shown. In the present embodiment, the suppression unit D basically has the same configuration as that of the second embodiment, but includes a fixing unit 504 instead of the damper 204.

ガイド支持部203は、ガイド202及び固定部504に締結されている。固定部504は、ガイド支持部203をベース4に固定するとともに、ガイド支持部203の位置及び角度を調整する機能を有する。例えば、ガイド支持部203の姿勢が傾き、ガイド202が案内する面が光軸方向から傾いている場合には、ミラー1を変形させる際の抵抗となり、ミラー1を変形させるための力が増大してしまう。また、ガイド支持部203の位置がずれている場合には、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の力が常にかかり、ガイド202の摩擦によって、ミラー1を変形させるための力が増大してしまう。そこで、ガイド支持部203の位置及び姿勢を固定部504で調整することで、ガイド202が案内する方向を光軸方向に一致させる。   The guide support part 203 is fastened to the guide 202 and the fixed part 504. The fixing portion 504 has a function of fixing the guide support portion 203 to the base 4 and adjusting the position and angle of the guide support portion 203. For example, when the posture of the guide support portion 203 is tilted and the surface guided by the guide 202 is tilted from the optical axis direction, it becomes a resistance when the mirror 1 is deformed, and the force for deforming the mirror 1 increases. End up. Further, when the position of the guide support portion 203 is shifted, a force in the rotation direction with the optical axis of the mirror 1 as a rotation axis is always applied, and the force for deforming the mirror 1 is increased by the friction of the guide 202. Resulting in. Therefore, by adjusting the position and orientation of the guide support portion 203 with the fixing portion 504, the direction in which the guide 202 guides is matched with the optical axis direction.

第5実施形態における抑制部Dでは、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の剛性が向上しているため、外乱による振動がミラー1に生じた場合、かかる振動を抑制することができる。但し、ミラー1を変形させる方向の剛性は変わっていないため、ミラー1を変形させるための力が大きくなることはない。   In the suppression unit D in the fifth embodiment, since the rigidity in the rotation direction with the optical axis of the mirror 1 as the rotation axis is improved, when vibration due to disturbance occurs in the mirror 1, such vibration can be suppressed. . However, since the rigidity in the direction of deforming the mirror 1 is not changed, the force for deforming the mirror 1 does not increase.

図7を参照して、本発明の一側面としての露光装置50について説明する。露光装置50は、基板56を露光するリソグラフィ装置である。露光装置50は、照明光学系ILと、投影光学系POと、マスク55を保持して移動するマスクステージMSと、基板56を保持して移動する基板ステージWSとを有する。また、露光装置50は、CPUやメモリなどを含み、露光装置50の全体を制御する制御部51を有する。   With reference to FIG. 7, an exposure apparatus 50 according to one aspect of the present invention will be described. The exposure apparatus 50 is a lithography apparatus that exposes the substrate 56. The exposure apparatus 50 includes an illumination optical system IL, a projection optical system PO, a mask stage MS that moves while holding a mask 55, and a substrate stage WS that moves while holding a substrate 56. The exposure apparatus 50 includes a control unit 51 that includes a CPU, a memory, and the like, and controls the entire exposure apparatus 50.

光源(不図示)からの光は、照明光学系ILに含まれるスリット(不図示)を介して、例えば、Y軸方向に長い円弧状の照明領域をマスク上に形成する。マスク55及び基板56のそれぞれは、マスクステージMS及び基板ステージWSに保持され、投影光学系POを介して、光学的にほぼ共役な位置(投影光学系POの物体面及び像面の位置)に配置されている。投影光学系POは、所定の投影倍率(例えば、1/2倍)を有し、マスク55に形成されたパターンを基板56に投影する。そして、マスクステージMS及び基板ステージWSを、投影光学系POの物体面と平行な方向(例えば、図7のX軸方向)に、投影光学系POの投影倍率に応じた速度比で走査する。これにより、マスク55に形成されたパターンを基板56に転写することができる。   Light from a light source (not shown) forms, for example, an arcuate illumination region that is long in the Y-axis direction on the mask through a slit (not shown) included in the illumination optical system IL. The mask 55 and the substrate 56 are respectively held by the mask stage MS and the substrate stage WS, and are optically conjugate positions (positions of the object plane and the image plane of the projection optical system PO) via the projection optical system PO. Has been placed. The projection optical system PO has a predetermined projection magnification (for example, ½ times), and projects the pattern formed on the mask 55 onto the substrate 56. Then, the mask stage MS and the substrate stage WS are scanned in a direction parallel to the object plane of the projection optical system PO (for example, the X-axis direction in FIG. 7) at a speed ratio corresponding to the projection magnification of the projection optical system PO. Thereby, the pattern formed on the mask 55 can be transferred to the substrate 56.

投影光学系POは、例えば、図7に示すように、平面ミラー52と、凹面ミラー53と、凸面ミラー54とを含む。照明光学系ILから射出され、マスク55を通過した光は、平面ミラー52の第1面52aで反射され、凹面ミラー53の第1面53aに入射する。凹面ミラー53の第1面53aで反射した光は、凸面ミラー54で反射され、凹面ミラー53の第2面53bに入射する。凹面ミラー53の第2面53bで反射した光は、平面ミラー52の第2面52bで反射され、基板上に結像する。投影光学系POでは、凸面ミラー54が光学的な瞳となる。   The projection optical system PO includes, for example, a plane mirror 52, a concave mirror 53, and a convex mirror 54 as shown in FIG. The light emitted from the illumination optical system IL and passing through the mask 55 is reflected by the first surface 52 a of the flat mirror 52 and enters the first surface 53 a of the concave mirror 53. The light reflected by the first surface 53 a of the concave mirror 53 is reflected by the convex mirror 54 and enters the second surface 53 b of the concave mirror 53. The light reflected by the second surface 53b of the concave mirror 53 is reflected by the second surface 52b of the flat mirror 52 and forms an image on the substrate. In the projection optical system PO, the convex mirror 54 becomes an optical pupil.

露光装置50において、上述した実施形態における光学装置OAは、例えば、凹面ミラー53の反射面を任意の形状に変形させる(即ち、凹面ミラー53をミラー1とする)可変ミラー装置として用いられる。これにより、凹面ミラー53の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。ここで、露光装置50における制御部51は、上述した第1実施形態における光学装置OA(抑制部D)における制御部108を含むように構成されてもよい。   In the exposure apparatus 50, the optical apparatus OA in the above-described embodiment is used, for example, as a variable mirror apparatus that deforms the reflecting surface of the concave mirror 53 into an arbitrary shape (that is, the concave mirror 53 is the mirror 1). Thereby, the vibration of the rotation direction which makes the optical axis of the concave mirror 53 a rotating shaft is reduced, and the fall of optical performance can be suppressed. Here, the control unit 51 in the exposure apparatus 50 may be configured to include the control unit 108 in the optical device OA (the suppression unit D) in the first embodiment described above.

本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に露光装置50を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。   The method for manufacturing an article according to an embodiment of the present invention is suitable for manufacturing an article such as a microdevice such as a semiconductor device or an element having a fine structure. In the method of manufacturing an article according to the present embodiment, a latent image pattern is formed on the photosensitive agent applied to the substrate using the exposure apparatus 50 (step of exposing the substrate), and the latent image pattern is formed in this step. Developing the substrate. Further, the manufacturing method includes other well-known steps (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, and the like). The method for manufacturing an article according to the present embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity, and production cost of the article as compared with the conventional method.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、上述した実施形態では、ダンピング機能を有する抑制部を構成するダンパーとしてオイルダンパーを例に説明したが、ダンパーは、オイルダンパーに限定されるものではない。例えば、パッシブダンパーであれば、ゴムを用いたダンパーやエアを用いたダンパーでも同様な効果を得ることができる。   As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary. For example, in the above-described embodiment, the oil damper is described as an example of the damper that configures the suppressing unit having the damping function. However, the damper is not limited to the oil damper. For example, if it is a passive damper, the same effect can be acquired even with a damper using rubber or a damper using air.

OA:光学装置 D:抑制部 1:ミラー 2:支持部 3:接着層 4:ベース 5:磁石 6:コイル OA: Optical device D: Suppression part 1: Mirror 2: Support part 3: Adhesive layer 4: Base 5: Magnet 6: Coil

Claims (9)

ベースと、
前記ベースに設けられ、ミラーを、当該ミラーの裏面の中心部で支持する支持部と、
前記ミラーの側面に力を加えて前記ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する抑制部と、
を有することを特徴とする光学装置。
Base and
A support provided on the base and supporting the mirror at the center of the back surface of the mirror;
A suppressor that applies a force to a side surface of the mirror to suppress vibration in a rotation direction with the optical axis of the mirror as a rotation axis;
An optical device comprising:
前記抑制部は、
磁石と、コイルとを含み、前記ミラーの側面に前記回転方向の力を加えるアクチュエータと、
前記ミラーの側面に設けられ、前記磁石を保持する第1保持部と、
前記ベースに設けられ、前記第1保持部に保持された前記磁石と対向するように前記コイルを保持する第2保持部と、
前記ミラーの前記回転方向の速度を計測する計測部と、
前記計測部の計測結果に基づいて、前記アクチュエータが前記ミラーの側面に加える前記回転方向の力を制御する制御部と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
The suppressor is
An actuator that includes a magnet and a coil and applies a force in the rotational direction to a side surface of the mirror;
A first holding part that is provided on a side surface of the mirror and holds the magnet;
A second holding portion that is provided on the base and holds the coil so as to face the magnet held by the first holding portion;
A measuring unit for measuring the speed of the mirror in the rotation direction;
Based on the measurement result of the measurement unit, a control unit that controls the rotational force applied by the actuator to the side surface of the mirror;
The optical apparatus according to claim 1, comprising:
前記抑制部は、
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
前記凸部を挟み込んで前記ミラーを水平方向に案内する案内部と、
前記ベースに設けられたシリンダと、前記水平方向に可動するピストンとを含むダンパーと、
前記案内部と前記ピストンとを接続し、前記ピストンの移動による力を前記案内部に伝達する伝達部と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
The suppressor is
A convex portion provided on a side surface of the mirror;
A guide part for horizontally guiding the mirror with the convex part interposed therebetween;
A damper including a cylinder provided on the base and a piston movable in the horizontal direction;
A transmission unit for connecting the guide unit and the piston, and transmitting a force generated by movement of the piston to the guide unit;
The optical apparatus according to claim 1, comprising:
前記抑制部は、
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
前記凸部を挟み込んで前記ミラーを水平方向に案内する案内部と、
前記ベースに固定され、前記案内部を保持する保持部と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
The suppressor is
A convex portion provided on a side surface of the mirror;
A guide part for horizontally guiding the mirror with the convex part interposed therebetween;
A holding part fixed to the base and holding the guide part;
The optical apparatus according to claim 1, comprising:
前記抑制部は、
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
シリンダと、水平方向に可動するピストンとを含むダンパーと、
前記ベースに設けられ、前記ダンパーが前記ミラーと同じ高さに配置されるように、前記ダンパーを保持する保持部と、
前記凸部と前記ピストンとを接続するジョイントと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
The suppressor is
A convex portion provided on a side surface of the mirror;
A damper including a cylinder and a horizontally movable piston;
A holding portion that is provided on the base and holds the damper so that the damper is disposed at the same height as the mirror;
A joint connecting the convex part and the piston;
The optical apparatus according to claim 1, comprising:
前記ミラーは、凹面ミラーであり、
前記第1保持部及び前記第2保持部のそれぞれは、前記ミラーの形状の重心位置と同じ高さの位置に前記アクチュエータが配置されるように、前記磁石及び前記コイルを保持することを特徴とする請求項2に記載の光学装置。
The mirror is a concave mirror;
Each of the first holding part and the second holding part holds the magnet and the coil so that the actuator is disposed at the same height as the center of gravity of the shape of the mirror. The optical device according to claim 2.
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系であって、
請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の光学装置を有することを特徴とする投影光学系。
A projection optical system for projecting a mask pattern onto a substrate,
A projection optical system comprising the optical device according to claim 1.
基板を露光する露光装置であって、
請求項7に記載の投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
An exposure apparatus for exposing a substrate,
An exposure apparatus comprising the projection optical system according to claim 7.
請求項8に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
Exposing the substrate using the exposure apparatus according to claim 8;
Developing the exposed substrate;
A method for producing an article comprising:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7468133B2 (en) 2020-05-18 2024-04-16 セイコーエプソン株式会社 Projection optical device, projector, and method for controlling projection optical device
JP2023046745A (en) * 2021-09-24 2023-04-05 キヤノン株式会社 Holding device, exposure device, and article manufacturing method
JP7328292B2 (en) 2021-09-24 2023-08-16 キヤノン株式会社 Holding device, exposure device, and article manufacturing method

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