JP2018066958A - Optical device, projection optical system, exposure apparatus and production method of article - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法に関する。 The present invention relates to an optical apparatus, a projection optical system, an exposure apparatus, and an article manufacturing method.
ミラー(の反射面)を任意の形状に変形させて光学収差、焦点位置、像面湾曲などの補正を可能とする可変ミラーを有する光学系が一般的に知られている。天文分野においては、星を観察する際に、大気の揺らぎによって像の分解能が低下してしまうため、高速で波面を計測して可変ミラーで補正することで、大気の揺らぎによる影響を低減する技術が存在する。また、半導体デバイスの製造に用いられる露光装置においては、露光時の温度変化による収差の変化に対応するために、光学系に含まれているミラーを可変ミラーとし、収差を補正する技術が存在する。 2. Description of the Related Art An optical system having a variable mirror that can correct optical aberration, focal position, field curvature, etc. by deforming a mirror (reflection surface thereof) into an arbitrary shape is generally known. In the astronomical field, when recognizing stars, the resolution of the image decreases due to atmospheric fluctuations, so the technology that reduces the effects of atmospheric fluctuations by measuring the wavefront at high speed and correcting it with a variable mirror. Exists. In addition, in an exposure apparatus used for manufacturing semiconductor devices, there is a technique for correcting aberration by using a mirror included in an optical system as a variable mirror in order to cope with a change in aberration due to a temperature change during exposure. .
大口径(例えば、200mm以上)の可変ミラーには、ミラーの裏面をアクチュエータによって反射面の面外方向に駆動することで、任意の形状の反射面を形成するものがあり、100個以上のアクチュエータが配置される場合もある。このような技術に関し、ミラーの裏面とアクチュエータの可動子とを締結する方式やミラーの裏面に磁石を配置(接合)し、且つ、かかる磁石から微小な間隔を有する位置にコイルを配置する方式などが提案されている。 Some variable mirrors with a large aperture (for example, 200 mm or more) form a reflecting surface of an arbitrary shape by driving the back surface of the mirror in the out-of-plane direction of the reflecting surface by an actuator. There are 100 or more actuators May be arranged. With regard to such a technique, a method of fastening the back surface of the mirror and the mover of the actuator, a method of arranging (joining) a magnet on the back surface of the mirror, and a method of arranging a coil at a position having a minute interval from the magnet, etc. Has been proposed.
前者の方式において、アクチュエータとしてピエゾ素子を用いる場合には、ミラーの裏面とアクチュエータの可動子とを機械的に締結する際に、多数のアクチュエータを整列させた状態でミラーを組み付ける必要がある。この場合、各アクチュエータの位置管理が難しいため、ミラーに変形を与えないでアクチュエータに組み付けることは非常に難しい作業となる。 In the former method, when a piezo element is used as an actuator, it is necessary to assemble the mirror in a state where a large number of actuators are aligned when mechanically fastening the back surface of the mirror and the mover of the actuator. In this case, since it is difficult to manage the position of each actuator, it is very difficult to assemble the actuator without deforming the mirror.
後者の方式では、ミラーの裏面と多数のアクチュエータとを締結する必要がないため、ミラーの初期形状を崩すリスクは低減されている。ミラーの裏面にコイルを配置し、磁石を固定側に配置することでも可変ミラーを実現することは可能であるが、この場合、任意の形状を形成するミラーに電気配線を実装する必要があり、現実的ではない。 In the latter method, since it is not necessary to fasten the back surface of the mirror and a large number of actuators, the risk of breaking the initial shape of the mirror is reduced. Although it is possible to realize a variable mirror by arranging a coil on the back surface of the mirror and arranging the magnet on the fixed side, in this case, it is necessary to mount electrical wiring on the mirror that forms an arbitrary shape, Not realistic.
ミラーの支持(固定)に関しては、ミラーの裏面の中心の1箇所とする構成が提案されている(特許文献1参照)。ミラーの裏面の中心の1箇所でミラーを支持することで、ミラーの過拘束を回避し、ミラーを歪ませることなく支持することができる。 Regarding the support (fixation) of the mirror, a configuration has been proposed in which the center of the back surface of the mirror is one (see Patent Document 1). By supporting the mirror at one central position on the back surface of the mirror, over-constraining of the mirror can be avoided and the mirror can be supported without being distorted.
従って、可変ミラーを実現するための構成としては、ミラーの裏面の中心の1箇所でミラーを支持し、ミラーの裏面に磁石を配置し、かかる磁石に対向する位置にコイルを配置する構成が好ましい。また、ミラーの固定は、接着で行うのがよい。これは、ミラーを1箇所(小領域)で支持するため、機械的に締結すると、その締結力によって局所的にミラーに力が加わり、ミラーの形状が変形してしまうからである。一方、接着であれば、ミラーの裏面(の形状)と支持部材の支持面(の形状)とが完全に一致していなくても、接着剤が介在することになるため、ミラーの形状を維持したまま支持部材に取り付けることができる。 Therefore, as a configuration for realizing the variable mirror, a configuration in which the mirror is supported at one center of the back surface of the mirror, a magnet is disposed on the back surface of the mirror, and a coil is disposed at a position facing the magnet is preferable. . The mirror should be fixed by adhesion. This is because, since the mirror is supported at one place (small region), when mechanically fastened, a force is locally applied to the mirror by the fastening force, and the shape of the mirror is deformed. On the other hand, in the case of adhesion, even if the back surface of the mirror (the shape) and the support surface of the support member (the shape) do not completely match, the adhesive is interposed, so the shape of the mirror is maintained. It can be attached to the support member as it is.
しかしながら、上述した可変ミラーの構成では、ミラーの裏面と支持部材との間の剛性が低いため、床の振動などの外乱によって、ミラーが揺れやすいという欠点がある。特に、ミラーの光軸周りの回転方向の振動が発生してしまうという問題がある。 However, the configuration of the variable mirror described above has a drawback in that the mirror is easily swayed by disturbance such as floor vibration because the rigidity between the back surface of the mirror and the support member is low. In particular, there is a problem that vibration in the rotational direction around the optical axis of the mirror occurs.
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制するのに有利な光学装置を提供することを例示的目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an optical device that is advantageous for suppressing vibration in the rotation direction with the optical axis of the mirror as the rotation axis.
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての光学装置は、ベースと、前記ベースに設けられ、ミラーを、当該ミラーの裏面の中心部で支持する支持部と、前記ミラーの側面に力を加えて前記ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する抑制部と、を有することを特徴とする。 In order to achieve the above object, an optical device according to one aspect of the present invention includes a base, a support provided on the base and supporting a mirror at the center of the back surface of the mirror, and a side surface of the mirror. And a suppression unit that applies a force to suppress vibration in the rotation direction about the optical axis of the mirror as a rotation axis.
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。 Further objects and other aspects of the present invention will become apparent from the preferred embodiments described below with reference to the accompanying drawings.
本発明によれば、例えば、ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制するのに有利な光学装置を提供することができる。 According to the present invention, for example, it is possible to provide an optical device that is advantageous in suppressing vibration in the rotational direction with the optical axis of the mirror as the rotation axis.
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in each figure, the same reference number is attached | subjected about the same member and the overlapping description is abbreviate | omitted.
<第1実施形態>
図1(a)及び図1(b)は、第1実施形態における光学装置OAの構成を示す概略図である。図1(a)は、光学装置OAの上面図を示し、図1(b)は、光学装置OAの断面(正面)図を示している。光学装置OAは、ミラー1を変形させる、具体的には、ミラー1の反射面1aを所望の形状に変形させる可変ミラー装置である。光学装置OAは、ミラー1と、支持部2と、接着層3と、ベース4と、ボイスコイルモーターVCMと、抑制部Dとを有する。
<First Embodiment>
FIG. 1A and FIG. 1B are schematic views showing the configuration of the optical device OA in the first embodiment. FIG. 1A shows a top view of the optical device OA, and FIG. 1B shows a cross-sectional (front) view of the optical device OA. The optical device OA is a variable mirror device that deforms the
ミラー1は、円形状の薄いミラーである。支持部2は、ベース4に設けられ、ミラー1を、ミラー1の中心部で支持する。接着層3は、ミラー1と支持部2とを接着(締結)する接着剤を含む層である。本実施形態では、ミラー1の中央部に形成された孔1cに支持部2が挿入され、接着剤で固定されている。従って、ミラー1の孔1cと支持部2との間には、薄い接着層3が介在する。支持部2は、装置全体を支持するベース4に固定されている。
The
ミラー1の裏面(反射面1aの反対側の面)1bには、複数の磁石5が配置されている(取り付けられている)。また、ミラー1の裏面1bに配置された複数の磁石5のそれぞれに対向するように、複数のコイル6がベース4に配置されている(取り付けられている)。コイル6に電流を流すことで、ローレンツ力が発生する。1つの磁石5と、それに対応するコイル6とのペアによって、1つのボイスコイルモーターVCMが構成されている。磁石5とコイル6とは接触していないため、ミラー1は、支持部2のみで支持されている。このような構成では、ボイスコイルモーターVCMが推力を発生していない初期状態において、ミラー1が過拘束されていないため、ミラー1の初期形状を崩すリスクを低減することができる。
A plurality of
本実施形態では、ミラー1と支持部2との締結には、接着を採用している。ミラー1と支持部2とを機械的に締結する場合、ミラー1の中心部の狭い領域を挟み込むことで固定することになる。従って、ミラー1と支持部2との当たり面の微小な形状誤差がミラー1の外周部に向かって拡大されてしまう。接着による締結では、ミラー1と支持部2との間の形状誤差を接着層3が吸収するため、そのような問題は発生しない。
In the present embodiment, bonding is adopted for fastening the
但し、接着は、剛性が低いという欠点がある。接着剤の弾性率は、一般的に、金属やガラスの弾性率よりも小さいため、中心部の一点で支持部2に支持されたミラー1が揺れやすくなる。ミラー1の光軸周りの回転方向の振動モードは、ミラー1を剛に固定している場合に比べて、共振周波数が低くなる。ミラー1が光軸周りの回転方向に振動した場合、ボイスコイルモーターVCMを駆動してミラー1の反射面1aを所望の形状に変形させたとしても、回転方向にずれるため、光学性能が低下してしまう。ミラー1が傾く方向の振動モード、所謂、チルトモードも発生するが、その方向には、ミラー1の反射面1aの形状を変形させるためのボイスコイルモーターVCMが多数配置されているため、制振制御を行うことが可能である。一方、ミラー1の光軸周りの回転方向の振動、即ち、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動に関しては、ボイスコイルモーターVCMでは対応することができない。
However, bonding has the disadvantage of low rigidity. Since the elastic modulus of the adhesive is generally smaller than the elastic modulus of metal or glass, the
そこで、本実施形態では、図1(b)に示すように、ミラー1の側面に力を与えてミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する機能、即ち、ダンピング機能を有する抑制部Dを設けている。物理学においては、ダンピングとは、振動の速度に応じて、振動の向きとは逆向きの力を発生することと定義されるが、ここでは、振動を抑制することと定義する。更に、同じ外乱によって振動が発生した場合、振動の振幅をより小さくすることをダンピングと定義する。
Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 1B, a function of applying a force to the side surface of the
図2は、第1実施形態における抑制部Dの構成を示す概略図である。図2では、Y軸方向から見た抑制部Dを示している。抑制部Dは、本実施形態では、第1保持部101と、第2保持部105と、センサターゲット102及びセンサ106を含む計測部111と、ダンピング用磁石103及びダンピング用コイル104を含むアクチュエータ113とを含む。また、抑制部Dは、アンプ107と、制御部108と、ドライバ109とを含む。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a configuration of the suppressing unit D in the first embodiment. In FIG. 2, the suppression part D seen from the Y-axis direction is shown. In the present embodiment, the suppression unit D includes a
第1保持部101は、ミラー1の側面1dに設けられている(固定されている)。第1保持部101は、本実施形態では、ダンピング用磁石103及びセンサターゲット102を保持する。第2保持部105は、ベース4に設けられている(固定されている)。第2保持部105は、第1保持部101に保持されたダンピング用磁石103と対向するようにダンピング用コイル104を保持する。また、第2保持部105は、第1保持部101に保持されたセンサターゲット102と対向するようにセンサ106を保持する。
The
計測部111は、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の速度(光軸周りの回転速度)を計測する機能を有する。センサ106は、例えば、静電容量センサなどの変位センサを含み、常に、センサターゲット102までの距離(センサターゲット102とセンサ106との間の距離)を検出している。センサ106で検出された距離(変位)を時間で微分することで、ミラー1の光軸周りの回転速度を計測することができる。
The measuring
アクチュエータ113は、ミラー1の側面1dに、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の力を加える機能を有する。アクチュエータ113は、ローレンツ力を利用したボイスコイルモーターであって、ダンピング用コイル104に電流を流すことで、ダンピング用磁石103との間に力を発生させることができる。アクチュエータ113において、計測部111によって計測された回転速度に比例した推力を発生させることでダンピング効果を得ることが可能となる。
The
制御部108は、計測部111の計測結果に基づいて、アクチュエータ113がミラー1の側面1dに加える回転方向の力を制御する。具体的には、センサ106からの出力(変位)は、アンプ107によって電圧などの出力に変換されて制御部108に送られる。制御部108は、変位を時間で微分して回転速度に変換し、かかる回転速度に応じて、係数を乗じて、アクチュエータ113で発生すべき推力を求める。そして、制御部108は、アクチュエータ113で発生すべき推力に応じた指令値をドライバ109に出力する。ドライバ109は、制御部108からの指令値に応じた電流を発生させてダンピング用コイル104に与える。これにより、抑制部Dは、ダンピング効果を発揮し、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させることができる。従って、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。
The
本実施形態では、抑制部Dにおいて、ダンピング用磁石103(可動部)とダンピング用コイル104(固定部)とが機械的に締結されていない非接触の状態となっている(アクチュエータ113が非接触型のアクチュエータである)。従って、ミラー1の反射面1aを所望の形状に変形させる制御(面形状制御)には、影響を与えることはない。
In the present embodiment, in the suppression portion D, the damping magnet 103 (movable portion) and the damping coil 104 (fixed portion) are not mechanically fastened (the
また、本実施形態では、ミラー1の光軸周りの回転速度を計測するために、センサ106として変位センサを用いて変位を検出し、かかる変位を時間で微分しているが、これに限定されるものではない。例えば、ミラー1の周辺部に加速度センサを配置し、加速度センサで検出された加速度を積分することで、ミラー1の光軸周りの回転速度を計測してもよい。
In this embodiment, in order to measure the rotational speed around the optical axis of the
<第2実施形態>
図3は、第2実施形態における抑制部Dの構成を示す概略図である。図3では、Y軸方向から見た抑制部Dを示している。抑制部Dは、本実施形態では、凸部201と、ガイド202と、ダンパー204と、ガイド支持部203と、ダンパー204とを含む。
Second Embodiment
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a configuration of the suppressing unit D in the second embodiment. In FIG. 3, the suppression part D seen from the Y-axis direction is shown. In the present embodiment, the suppressing portion D includes a
凸部201は、ミラー1の側面1dに剛に締結されている。ガイド202は、凸部201の両側面をボールで挟み込んで2次元で自由に転がり案内する、即ち、ミラー1を水平方向に案内する案内部であって、水平方向には力を伝達するが、垂直方向には力を伝達しない構造を有している。ダンパー204は、ベース4に設けられている(取り付けられている)。ダンパー204は、オイルダンパーで構成され、ベース4に固定されたシリンダ204aと、水平方向に可動するピストン204bとを含む。ガイド支持部203は、ガイド202及びピストン204bに締結されている。ガイド支持部203は、ガイド202とピストン204bとを接続し、ピストン204bの水平方向への移動による力をガイド202に伝達する伝達部として機能する。
The
第2実施形態における抑制部Dでは、ミラー1が光軸を回転軸とする回転方向に振動した場合、かかる振動の速度に応じてダンパー204が反力を発生する。ダンパー204で発生した反力は、ガイド支持部203を介してガイド202に伝達され、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させる。従って、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。
In the suppression part D in 2nd Embodiment, when the
<第3実施形態>
図4(a)及び図4(b)は、第3実施形態における抑制部Dの構成を示す概略図である。図4(a)は、Z軸方向から見た抑制部Dを示し、図4(b)は、Y軸方向から見た抑制部Dを示している。抑制部Dは、本実施形態では、凸部301と、ダンパー304と、ダンパー支持部303と、ジョイント302とを含む。
<Third Embodiment>
FIG. 4A and FIG. 4B are schematic views illustrating the configuration of the suppressing unit D in the third embodiment. 4A shows the suppression unit D viewed from the Z-axis direction, and FIG. 4B illustrates the suppression unit D viewed from the Y-axis direction. In the present embodiment, the suppressing portion D includes a
凸部301は、ミラー1の側面1dに固定されている。ダンパー304は、オイルダンパーで構成され、シリンダ304aと、水平方向に可動するピストン304bとを含む。ダンパー支持部303は、ベース4に設けられている。ダンパー支持部303は、ダンパー304がミラー1と同じ高さに配置されるように、ダンパー304を保持する。ジョイント302は、凸部301とピストン304bとを接続している。ジョイント302は、自在継ぎ手を2箇所に含み、かかる自在継ぎ手は、ミラー1と同じ高さに配置されている。このように、ミラー1が光軸方向に沿って駆動された場合でも、その駆動量が微小量であれば、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向への力がミラー1にかからない構成となっている。従って、ジョイント302は、ミラー1とダンパー304との間において、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の力のみを伝達する。
The
第3実施形態における抑制部Dでは、ミラー1が光軸を回転軸とする回転方向に振動した場合、かかる振動の速度に応じてダンパー304が反力を発生する。ダンパー304で発生した反力は、ジョイント302を介して、ミラー1(の側面1d)に伝達され、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動を減衰させる。従って、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。
In the suppression part D in 3rd Embodiment, when the
<第4実施形態>
図5は、第4実施形態における光学装置OAの構成を示す概略図である。図5では、光学装置OAの断面(正面)図を示している。本実施形態では、光学装置OAは、反射面1aが凹面形状であるミラー1、即ち、凹面ミラーを変形させる可変ミラー装置であって、基本的には、第1実施形態と同様な構成を有する。但し、図5では、ミラー1の反射面1aの形状を変形させるためのボイスコイルモーターVCM、即ち、磁石5及びコイル6の図示を省略している。
<Fourth embodiment>
FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of the optical device OA in the fourth embodiment. FIG. 5 shows a cross-sectional (front) view of the optical device OA. In this embodiment, the optical device OA is a
抑制部Dは、第1実施形態と同様に、第1保持部101と、第2保持部105と、計測部111と、アクチュエータ113とを有するが、計測部111の図示を省略している。本実施形態では、ミラー1に対して、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の力(ダンピング力)を加える位置(高さ)を規定する。具体的には、ミラー1の形状の重心位置と同じ高さの位置にアクチュエータ113が配置されるように、第1保持部101及び第2保持部105のそれぞれがダンピング用磁石103及びダンピング用コイル104を保持する。これにより、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の振動が発生した場合に、かかる振動を抑制するためにアクチュエータ113からミラー1に加えられる力の位置がミラー1の形状の重心位置と一致するため、回転方向のみの振動を抑制することができる。一方、アクチュエータ113からミラー1に加えられる力の位置がミラー1の形状の重心位置と一致していない場合には、ミラー1を曲げる方向に力が加わることになるため、ミラー1の面形状制御の精度を低下させてしまう。そこで、本実施形態では、ミラー1の形状の重心位置と同じ高さの位置にアクチュエータ113を配置することで、ミラー1の面形状制御の精度の低下を抑え、より高精度な可変ミラー装置を実現している。
The suppression unit D includes the
<第5実施形態>
図6は、第5実施形態における抑制部Dの構成を示す概略図である。図6では、Y軸方向から見た抑制部Dを示している。抑制部Dは、本実施形態では、基本的には、第2実施形態と同様な構成を有するが、ダンパー204の代わりに固定部504を含む。
<Fifth Embodiment>
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a configuration of the suppressing unit D in the fifth embodiment. In FIG. 6, the suppression part D seen from the Y-axis direction is shown. In the present embodiment, the suppression unit D basically has the same configuration as that of the second embodiment, but includes a fixing
ガイド支持部203は、ガイド202及び固定部504に締結されている。固定部504は、ガイド支持部203をベース4に固定するとともに、ガイド支持部203の位置及び角度を調整する機能を有する。例えば、ガイド支持部203の姿勢が傾き、ガイド202が案内する面が光軸方向から傾いている場合には、ミラー1を変形させる際の抵抗となり、ミラー1を変形させるための力が増大してしまう。また、ガイド支持部203の位置がずれている場合には、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の力が常にかかり、ガイド202の摩擦によって、ミラー1を変形させるための力が増大してしまう。そこで、ガイド支持部203の位置及び姿勢を固定部504で調整することで、ガイド202が案内する方向を光軸方向に一致させる。
The
第5実施形態における抑制部Dでは、ミラー1の光軸を回転軸とする回転方向の剛性が向上しているため、外乱による振動がミラー1に生じた場合、かかる振動を抑制することができる。但し、ミラー1を変形させる方向の剛性は変わっていないため、ミラー1を変形させるための力が大きくなることはない。
In the suppression unit D in the fifth embodiment, since the rigidity in the rotation direction with the optical axis of the
図7を参照して、本発明の一側面としての露光装置50について説明する。露光装置50は、基板56を露光するリソグラフィ装置である。露光装置50は、照明光学系ILと、投影光学系POと、マスク55を保持して移動するマスクステージMSと、基板56を保持して移動する基板ステージWSとを有する。また、露光装置50は、CPUやメモリなどを含み、露光装置50の全体を制御する制御部51を有する。
With reference to FIG. 7, an
光源(不図示)からの光は、照明光学系ILに含まれるスリット(不図示)を介して、例えば、Y軸方向に長い円弧状の照明領域をマスク上に形成する。マスク55及び基板56のそれぞれは、マスクステージMS及び基板ステージWSに保持され、投影光学系POを介して、光学的にほぼ共役な位置(投影光学系POの物体面及び像面の位置)に配置されている。投影光学系POは、所定の投影倍率(例えば、1/2倍)を有し、マスク55に形成されたパターンを基板56に投影する。そして、マスクステージMS及び基板ステージWSを、投影光学系POの物体面と平行な方向(例えば、図7のX軸方向)に、投影光学系POの投影倍率に応じた速度比で走査する。これにより、マスク55に形成されたパターンを基板56に転写することができる。
Light from a light source (not shown) forms, for example, an arcuate illumination region that is long in the Y-axis direction on the mask through a slit (not shown) included in the illumination optical system IL. The
投影光学系POは、例えば、図7に示すように、平面ミラー52と、凹面ミラー53と、凸面ミラー54とを含む。照明光学系ILから射出され、マスク55を通過した光は、平面ミラー52の第1面52aで反射され、凹面ミラー53の第1面53aに入射する。凹面ミラー53の第1面53aで反射した光は、凸面ミラー54で反射され、凹面ミラー53の第2面53bに入射する。凹面ミラー53の第2面53bで反射した光は、平面ミラー52の第2面52bで反射され、基板上に結像する。投影光学系POでは、凸面ミラー54が光学的な瞳となる。
The projection optical system PO includes, for example, a
露光装置50において、上述した実施形態における光学装置OAは、例えば、凹面ミラー53の反射面を任意の形状に変形させる(即ち、凹面ミラー53をミラー1とする)可変ミラー装置として用いられる。これにより、凹面ミラー53の光軸を回転軸とする回転方向の振動が低減され、光学性能の低下を抑制することができる。ここで、露光装置50における制御部51は、上述した第1実施形態における光学装置OA(抑制部D)における制御部108を含むように構成されてもよい。
In the
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に露光装置50を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。 The method for manufacturing an article according to an embodiment of the present invention is suitable for manufacturing an article such as a microdevice such as a semiconductor device or an element having a fine structure. In the method of manufacturing an article according to the present embodiment, a latent image pattern is formed on the photosensitive agent applied to the substrate using the exposure apparatus 50 (step of exposing the substrate), and the latent image pattern is formed in this step. Developing the substrate. Further, the manufacturing method includes other well-known steps (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, and the like). The method for manufacturing an article according to the present embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity, and production cost of the article as compared with the conventional method.
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、上述した実施形態では、ダンピング機能を有する抑制部を構成するダンパーとしてオイルダンパーを例に説明したが、ダンパーは、オイルダンパーに限定されるものではない。例えば、パッシブダンパーであれば、ゴムを用いたダンパーやエアを用いたダンパーでも同様な効果を得ることができる。 As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary. For example, in the above-described embodiment, the oil damper is described as an example of the damper that configures the suppressing unit having the damping function. However, the damper is not limited to the oil damper. For example, if it is a passive damper, the same effect can be acquired even with a damper using rubber or a damper using air.
OA:光学装置 D:抑制部 1:ミラー 2:支持部 3:接着層 4:ベース 5:磁石 6:コイル OA: Optical device D: Suppression part 1: Mirror 2: Support part 3: Adhesive layer 4: Base 5: Magnet 6: Coil
Claims (9)
前記ベースに設けられ、ミラーを、当該ミラーの裏面の中心部で支持する支持部と、
前記ミラーの側面に力を加えて前記ミラーの光軸を回転軸とする回転方向の振動を抑制する抑制部と、
を有することを特徴とする光学装置。 Base and
A support provided on the base and supporting the mirror at the center of the back surface of the mirror;
A suppressor that applies a force to a side surface of the mirror to suppress vibration in a rotation direction with the optical axis of the mirror as a rotation axis;
An optical device comprising:
磁石と、コイルとを含み、前記ミラーの側面に前記回転方向の力を加えるアクチュエータと、
前記ミラーの側面に設けられ、前記磁石を保持する第1保持部と、
前記ベースに設けられ、前記第1保持部に保持された前記磁石と対向するように前記コイルを保持する第2保持部と、
前記ミラーの前記回転方向の速度を計測する計測部と、
前記計測部の計測結果に基づいて、前記アクチュエータが前記ミラーの側面に加える前記回転方向の力を制御する制御部と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The suppressor is
An actuator that includes a magnet and a coil and applies a force in the rotational direction to a side surface of the mirror;
A first holding part that is provided on a side surface of the mirror and holds the magnet;
A second holding portion that is provided on the base and holds the coil so as to face the magnet held by the first holding portion;
A measuring unit for measuring the speed of the mirror in the rotation direction;
Based on the measurement result of the measurement unit, a control unit that controls the rotational force applied by the actuator to the side surface of the mirror;
The optical apparatus according to claim 1, comprising:
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
前記凸部を挟み込んで前記ミラーを水平方向に案内する案内部と、
前記ベースに設けられたシリンダと、前記水平方向に可動するピストンとを含むダンパーと、
前記案内部と前記ピストンとを接続し、前記ピストンの移動による力を前記案内部に伝達する伝達部と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The suppressor is
A convex portion provided on a side surface of the mirror;
A guide part for horizontally guiding the mirror with the convex part interposed therebetween;
A damper including a cylinder provided on the base and a piston movable in the horizontal direction;
A transmission unit for connecting the guide unit and the piston, and transmitting a force generated by movement of the piston to the guide unit;
The optical apparatus according to claim 1, comprising:
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
前記凸部を挟み込んで前記ミラーを水平方向に案内する案内部と、
前記ベースに固定され、前記案内部を保持する保持部と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The suppressor is
A convex portion provided on a side surface of the mirror;
A guide part for horizontally guiding the mirror with the convex part interposed therebetween;
A holding part fixed to the base and holding the guide part;
The optical apparatus according to claim 1, comprising:
前記ミラーの側面に設けられた凸部と、
シリンダと、水平方向に可動するピストンとを含むダンパーと、
前記ベースに設けられ、前記ダンパーが前記ミラーと同じ高さに配置されるように、前記ダンパーを保持する保持部と、
前記凸部と前記ピストンとを接続するジョイントと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The suppressor is
A convex portion provided on a side surface of the mirror;
A damper including a cylinder and a horizontally movable piston;
A holding portion that is provided on the base and holds the damper so that the damper is disposed at the same height as the mirror;
A joint connecting the convex part and the piston;
The optical apparatus according to claim 1, comprising:
前記第1保持部及び前記第2保持部のそれぞれは、前記ミラーの形状の重心位置と同じ高さの位置に前記アクチュエータが配置されるように、前記磁石及び前記コイルを保持することを特徴とする請求項2に記載の光学装置。 The mirror is a concave mirror;
Each of the first holding part and the second holding part holds the magnet and the coil so that the actuator is disposed at the same height as the center of gravity of the shape of the mirror. The optical device according to claim 2.
請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の光学装置を有することを特徴とする投影光学系。 A projection optical system for projecting a mask pattern onto a substrate,
A projection optical system comprising the optical device according to claim 1.
請求項7に記載の投影光学系を有することを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus for exposing a substrate,
An exposure apparatus comprising the projection optical system according to claim 7.
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 Exposing the substrate using the exposure apparatus according to claim 8;
Developing the exposed substrate;
A method for producing an article comprising:
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JP2016207257A JP2018066958A (en) | 2016-10-21 | 2016-10-21 | Optical device, projection optical system, exposure apparatus and production method of article |
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Cited By (2)
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JP2023046745A (en) * | 2021-09-24 | 2023-04-05 | キヤノン株式会社 | Holding device, exposure device, and article manufacturing method |
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-
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- 2016-10-21 JP JP2016207257A patent/JP2018066958A/en active Pending
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