JP2018065073A - Diluted hydrogen gas generation device - Google Patents

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尚士 市ノ木山
Naoshi Ichinokiyama
尚士 市ノ木山
裕一 道喜
Yuichi Michiyoshi
裕一 道喜
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for producing diluted hydrogen gas used as inspection gas for leakage inspection which suppresses use of a high pressure gas cylinder as much as possible, minimizes disadvantage by use of the gas cylinder, and can reduce a running cost.SOLUTION: A diluted hydrogen gas production device includes: a mixture tank to which hydrogen gas and dilution gas are introduced to produce diluted hydrogen gas obtained by diluting hydrogen; a hydrogen generator which decomposes water to produce hydrogen gas; a dilution gas supply source which supplies the dilution gas; a hydrogen gas supply flow path which guides the hydrogen gas toward the mixture tank from the hydrogen generator; a dilution gas supply flow path which guides the dilution gas toward the mixture tank from the dilution gas supply source; and gas flow rate ratio control means for controlling a ratio of a hydrogen gas flow rate guided into the mixture tank through the hydrogen gas supply path to the dilution gas flow rate guided toward the mixture tank from the dilution gas supply source.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、例えば漏れ検査(リークテスト)における検査用ガスなどとして使用される、水素ガスを希釈した希釈水素ガスを生成する装置に関するものである。   The present invention relates to an apparatus for generating diluted hydrogen gas obtained by diluting hydrogen gas, which is used as, for example, an inspection gas in a leak inspection (leak test).

各種気体や液体を収容した中空部品、あるいは気体や液体を移送するための配管などについては、充分な気密性が要求されることが多い。そこでこれらの部品や配管などについては、その製造工程の最終段階や出荷段階、あるいは使用前の段階などにおいて、漏れが生じるか否かをチェックするための検査を行うのが通常である。この種の漏れ検査では、検査対象物(ワーク)内に検査用ガスを導入し、検査対象物の外側においてガス検知装置により検査用ガスの漏出の有無を検出するのが一般的である。   Sufficient airtightness is often required for hollow parts containing various gases and liquids or piping for transferring gases and liquids. Therefore, these parts and piping are usually inspected to check whether leakage occurs at the final stage of the manufacturing process, the shipping stage, or the stage before use. In this type of leakage inspection, inspection gas is generally introduced into an inspection object (work), and the presence or absence of leakage of the inspection gas is detected by a gas detection device outside the inspection object.

このような漏れ検査用ガスとしては、一般にはヘリウム(He)ガスが用いられている。但し、高価な100%ヘリウムのガスを使用する必要はなく、そこで一般には空気などの希釈用ガスを高濃度のヘリウムガスに混合して、ヘリウムガス濃度を所定の低濃度に希釈した希釈ヘリウムガスを漏れ検査用ガスとして使用するのが一般的である。
このような漏れ検査用ガスの生成装置、例えば高濃度のヘリウムガスに空気を混合して希釈するためのガス混合装置としては、例えば図4に示されるものが特許文献1によって提案されている。
Generally, helium (He) gas is used as such a gas for leak inspection. However, it is not necessary to use expensive 100% helium gas, and therefore, generally diluted gas such as air is mixed with high-concentration helium gas to dilute the helium gas concentration to a predetermined low concentration. Is generally used as a gas for leak inspection.
As such a gas generator for leakage inspection, for example, a gas mixing device for diluting by mixing air with high-concentration helium gas, for example, the one shown in FIG.

図4に示す特許文献1の提案のガス混合装置は、基本的には、混合タンク11に、ヘリウムガス配送管12を経て高濃度ヘリウムガスを導入するとともに、空気配送管13を経て希釈用ガスとしての空気を導入して、混合タンク11で混合された検査用ガス(空気で希釈した低濃度ヘリウムガス)を、開閉バルブ15aおよび検査用ガス配送管15を介して図示しない漏れ検査装置に送り出す構成とされている。ヘリウムガス配送管12には、その上流端のヘリウムガス供給装置12dから混合タンク11に向けて、減圧弁12c、ヘリウムガス流量センサ16、ヘリウムガス流量調整弁12b、および開閉バルブ12aが介挿されている。また空気配送管13には、その上流端の空気供給装置13dから混合タンク11に向けて、減圧弁13c、空気流量センサ18、空気流量調整弁13b、および開閉バルブ13aが介挿されている。混合タンク11には、圧力計14が接続され、開閉バルブ12a、13aは、圧力計14からの信号と、次に述べるヘリウムガス積算計16a、空気積算計18aからの信号とに応じて、シーケンサ17によって開閉制御されるようになっている。   The gas mixing apparatus proposed in Patent Document 1 shown in FIG. 4 basically introduces a high-concentration helium gas into the mixing tank 11 via the helium gas delivery pipe 12 and the dilution gas via the air delivery pipe 13. As a result, the inspection gas mixed in the mixing tank 11 (low-concentration helium gas diluted with air) is sent to a leak inspection apparatus (not shown) through the open / close valve 15a and the inspection gas delivery pipe 15. It is configured. A decompression valve 12c, a helium gas flow rate sensor 16, a helium gas flow rate adjustment valve 12b, and an opening / closing valve 12a are inserted into the helium gas delivery pipe 12 from the helium gas supply device 12d at the upstream end toward the mixing tank 11. ing. In addition, a pressure reducing valve 13c, an air flow rate sensor 18, an air flow rate adjusting valve 13b, and an opening / closing valve 13a are inserted into the air delivery pipe 13 from the upstream air supply device 13d toward the mixing tank 11. A pressure gauge 14 is connected to the mixing tank 11, and the open / close valves 12 a and 13 a are sequencers according to signals from the pressure gauge 14 and signals from the helium gas integrating meter 16 a and air integrating meter 18 a described below. Opening and closing control is performed by 17.

ヘリウムガス流量センサ16には、ヘリウムガス積算計16aが接続されて、ヘリウムガス配送管12を通過する単位時間当たりのヘリウムガスの積算流量を算出し、また空気流量センサ18には、空気積算計18aが接続されて、空気配送管13を通過する単位時間当たりの空気の積算流量を算出する。   A helium gas integrator 16 a is connected to the helium gas flow sensor 16 to calculate an integrated flow of helium gas per unit time passing through the helium gas delivery pipe 12, and an air integrator 18 The integrated flow rate of air per unit time passing through the air delivery pipe 13 is calculated.

このような図4に示されるガス混合装置においては、シーケンサ17に与えられる、圧力計14からの混合タンク11内の圧力を表す圧力信号と、ヘリウムガス積算計16aから与えられる、ヘリウムガス配送管12における単位時間当たりのヘリウムガス積算流量の信号と、空気積算計18aから与えられる、空気配送管13における単位時間当たりの空気積算流量の信号とによって、開閉バルブ12a、13aをそれぞれ開閉することにより、混合タンク11に導入されるヘリウムガスの量および空気の量をそれぞれ制御し、所要のヘリウムガス濃度の検査用ガスを混合タンク11内で混合生成するとともに、その混合タンク11内の検査用ガスを一定以上の圧力に制御することとされている。   In such a gas mixing apparatus shown in FIG. 4, a pressure signal indicating the pressure in the mixing tank 11 from the pressure gauge 14 provided to the sequencer 17, and a helium gas delivery pipe provided from the helium gas integrator 16a. By opening and closing the open / close valves 12a and 13a by a signal of the integrated helium gas flow per unit time at 12 and a signal of the integrated air flow per unit time in the air delivery pipe 13 provided from the air integrator 18a. The amount of helium gas and the amount of air introduced into the mixing tank 11 are respectively controlled, and a test gas having a required helium gas concentration is mixed and generated in the mixing tank 11, and the inspection gas in the mixing tank 11 is also generated. Is controlled to a pressure above a certain level.

このような図4に示される装置における具体的な制御方式の概要は、次の通りと読み取ることができる。   The outline of a specific control method in the apparatus shown in FIG. 4 can be read as follows.

混合タンク11内の検査用ガスが少なくなって、混合タンク11内の圧力が所定の閾値よりも低下したことが検出された際には、シーケンサ17によって各配送管12、13の開閉バルブ12a、13aを同時もしくは時間差をもって開き、混合タンク11内に高濃度のヘリウムガスおよび空気を導入する。この際、各配送管12、13を通過するヘリウムガスの瞬時流量および空気の瞬時流量を、流量センサ16、18によって計測して、各瞬時流量を積算計16a、18aによって積算する。ここで、混合タンク11内へのヘリウムガスの流入量は、積算計16aによって得られる短時間当たりのヘリウムガス積算流量と、開閉バルブ12aを開放している時間との積によって算出される。一方、混合タンク11内への空気の流入量は、積算計18aによって得られる短時間当たりの空気積算流量と、開閉バルブ13aを開放している時間との積によって算出される。そこで、開閉バルブ12a、13aを開いてから、タンク内圧力がある値以上となるとともに、上記の計算によって得られる混合タンク11内へのヘリウムガスの流入量、空気の流入量が、予め定めた混合比となった時点で、シーケンサ17によって開閉バルブ12a、13aをそれぞれ個別に(必ずしも同時ではなく)閉じる。   When it is detected that the test gas in the mixing tank 11 has decreased and the pressure in the mixing tank 11 has fallen below a predetermined threshold, the sequencer 17 opens and closes the open / close valves 12a, 13a is opened simultaneously or with a time difference, and high-concentration helium gas and air are introduced into the mixing tank 11. At this time, the instantaneous flow rate of helium gas and the instantaneous flow rate of air passing through the delivery pipes 12 and 13 are measured by the flow rate sensors 16 and 18, and the instantaneous flow rates are integrated by the integrators 16a and 18a. Here, the amount of helium gas flowing into the mixing tank 11 is calculated by the product of the helium gas integrated flow rate per short time obtained by the accumulator 16a and the time during which the on-off valve 12a is open. On the other hand, the amount of air flowing into the mixing tank 11 is calculated by the product of the accumulated air flow per short time obtained by the accumulator 18a and the time during which the on-off valve 13a is opened. Therefore, after opening the on-off valves 12a and 13a, the pressure in the tank becomes a certain value or more, and the inflow amount of helium gas and the inflow amount of air into the mixing tank 11 obtained by the above calculation are determined in advance. When the mixture ratio is reached, the sequencer 17 closes the open / close valves 12a and 13a individually (not necessarily simultaneously).

このように図4のガス混合装置では、混合タンク11でのヘリウムガスと空気との混合比は、単位時間当たりの積算流量と供給時間との積から算出される混合タンク11へのヘリウムガス、空気の実際の流入量の比によって制御することとしている。
ここで、図4のガス混合装置においては、ヘリウムガス配送管12にヘリウムガス流量調整弁12bが設けられ、また空気配送管13に空気流量調整弁13bが設けられてはいるが、これらの流量調整弁12b、13bは、混合比の最終的な制御には関与しないと解される。もちろん、これらの流量調整弁12b、13bの開度を、得るべき混合比に対応するように、予備的に設定しておくことも考えられるが、それはあくまで予備的な設定であり、最終的な混合比の制御は、前述のように実際に混合タンク11内に流入するヘリウムガス、空気の流入量によって制御すると解される。
As described above, in the gas mixing apparatus of FIG. 4, the mixing ratio of helium gas and air in the mixing tank 11 is calculated from the product of the integrated flow rate per unit time and the supply time. Control is based on the ratio of the actual inflow of air.
Here, in the gas mixing apparatus of FIG. 4, the helium gas delivery pipe 12 is provided with a helium gas flow rate adjustment valve 12b, and the air delivery pipe 13 is provided with an air flow rate regulation valve 13b. It is understood that the regulating valves 12b and 13b are not involved in the final control of the mixing ratio. Of course, it is conceivable to preliminarily set the opening degrees of these flow rate adjusting valves 12b and 13b so as to correspond to the mixing ratio to be obtained, but this is only a preliminary setting, and the final It is understood that the mixing ratio is controlled by the amount of helium gas and air actually flowing into the mixing tank 11 as described above.

また特許文献1においては、図4におけるヘリウムガス供給装置12dの具体例は記載されていないが、実際上は、高濃度ヘリウムガスを高圧で貯留したヘリウムガスボンベを使用せざるを得ないと考えられる。すなわち一般の工場などにおいては、ヘリウムガスは常設配管によってどの現場にもただちに供給し得るようになっていないのが通常であり、したがってヘリウムガス供給装置12dとしてはヘリウムガスボンベを用いざるを得ない。   In Patent Document 1, a specific example of the helium gas supply device 12d in FIG. 4 is not described, but in practice, a helium gas cylinder in which high-concentration helium gas is stored at a high pressure must be used. . That is, in a general factory or the like, helium gas is usually not ready to be supplied to any site by permanent piping. Therefore, a helium gas cylinder must be used as the helium gas supply device 12d.

特許第4329921号公報Japanese Patent No. 4329921

前述のようにヘリウムガス供給源としてボンベを使用する場合、次のような問題がある。
すなわちボンベが空になれば、検査を中断してボンベを新たなものと交換する必要がある。しかしながら、この種のボンベは重量が大きく、その運搬や設置に多大な労力と時間を要する。もちろん実際上は、複数のボンベを漏れ検査現場に用意しておき、一つのボンベが空になった時に別のボンベに切り替えることも多いが、その場合でも、ボンベを漏れ検査現場に運搬、設置しなければならない点では同じ問題がある。
またこのようにヘリウムガス供給源としてボンベを使用する場合、漏れ検査には、漏れ検査を行う現場だけでなくボンベ保管箇所も関係するから、漏れ検査に当たっては、検査現場だけではなく、検査現場から離れたボンベ保管場所でのボンベの管理も必要であり、したがって管理のための手間、労力も無視することができない。
As described above, when a cylinder is used as a helium gas supply source, there are the following problems.
That is, if the cylinder is empty, it is necessary to interrupt the inspection and replace the cylinder with a new one. However, this type of cylinder is heavy and requires a lot of labor and time for its transportation and installation. Of course, in practice, multiple cylinders are prepared at the leak inspection site, and when one cylinder is empty, it is often switched to another cylinder, but even in that case, the cylinder is transported and installed at the leak inspection site. The same problem has to do.
In addition, when a cylinder is used as a helium gas supply source in this way, the leak inspection involves not only the site where the leak inspection is performed but also the location where the cylinder is stored. It is also necessary to manage the cylinders at remote cylinder storage locations, so the labor and labor for management cannot be ignored.

また図4に示される特許文献1の装置では、混合タンク内圧力が低下して開閉バルブ12a、13aを開いてから、タンク内圧力がある値以上となるとともに、前述のような各積算流量と各供給継続時間との積の計算によって得られる混合タンク11内へのヘリウムガスの流入量、空気の流入量が、予め定めた混合比となった時点で、シーケンサ17によって開閉バルブ12a、13aを個別に閉じることとしている。しかしながらこの場合、実際上は、混合比が目標とする比から外れてしまう現象、すなわちいわゆるオーバーシュートが生じてしまう懸念がある。   Further, in the apparatus of Patent Document 1 shown in FIG. 4, after the internal pressure of the mixing tank decreases and the on-off valves 12a and 13a are opened, the internal pressure of the tank becomes a certain value or more, When the inflow amount of helium gas and the inflow amount of air into the mixing tank 11 obtained by calculating the product with each supply continuation time becomes a predetermined mixing ratio, the sequencer 17 opens the opening / closing valves 12a and 13a. It is supposed to be closed individually. However, in this case, in practice, there is a concern that a phenomenon that the mixing ratio deviates from the target ratio, that is, so-called overshoot occurs.

一方、最近では、漏れ検査用のガスとして、高価なヘリウムガスに代えて、比較的安価な水素ガスを使用した漏れ検査装置が開発されるに至っている。
この場合、高濃度の水素ガスをそのまま漏れ検査に用いるのではなく、希釈用ガスによって低濃度に希釈した水素ガス(希釈水素ガス)を検査用ガスとして用いることになる。またその場合、希釈用ガスとしては、水素ガスに対して不活性なガス、例えば窒素ガスを使用することが望まれる。
On the other hand, recently, a leak inspection apparatus using a relatively inexpensive hydrogen gas instead of expensive helium gas as a gas for leak inspection has been developed.
In this case, the high concentration hydrogen gas is not used for the leak inspection as it is, but the hydrogen gas diluted to a low concentration with the dilution gas (diluted hydrogen gas) is used as the inspection gas. In this case, it is desirable to use a gas inert to hydrogen gas, for example, nitrogen gas, as the dilution gas.

ここで、図4に示される特許文献1の装置におけるヘリウムガス供給装置12dを水素ガス供給装置に変更する場合、その水素ガス供給装置として高圧で窒素ガスを貯留した水素ガスボンベを使用するのが一般的であり、そのため前述のようなボンベ使用による問題を解消することはできない。さらに、水素ガス希釈用ガスとして窒素ガスを用いる場合には、図4に示されるガス混合装置における空気供給装置13dに代えて、窒素ガスボンベを使用するのが通常であり、その場合には、ボンベの種類、数がいっそう多くなって、前述のボンベ使用による問題が顕著となってしまう。   Here, when the helium gas supply device 12d in the apparatus of Patent Document 1 shown in FIG. 4 is changed to a hydrogen gas supply device, a hydrogen gas cylinder storing nitrogen gas at high pressure is generally used as the hydrogen gas supply device. Therefore, the problem caused by using the cylinder as described above cannot be solved. Furthermore, when nitrogen gas is used as the hydrogen gas dilution gas, it is usual to use a nitrogen gas cylinder instead of the air supply device 13d in the gas mixing apparatus shown in FIG. As the number and types of the cylinders increase, the problems caused by the use of the above-mentioned cylinders become conspicuous.

また水素ガスは、ヘリウムガスと比較すれば相対的に安価ではあるが、高圧ボンベとしてガス製造業者などから購入する以上は、かなりのコストを要さざるを得ない。したがって、高価なヘリウムガスに代えて、比較的水素ガスを使用しても、漏れ検査のランニングコストを顕著に低減することはできず、その点が、漏れ検査のランニングコストの大幅な低減のネックとなっていたのが実情である。   In addition, hydrogen gas is relatively inexpensive as compared with helium gas, but it requires considerable cost as long as it is purchased from a gas manufacturer as a high-pressure cylinder. Therefore, even if relatively hydrogen gas is used instead of expensive helium gas, the running cost of the leak inspection cannot be significantly reduced, which is the bottleneck of drastically reducing the running cost of the leak inspection. It was the actual situation.

本発明は以上の事情を背景としてなされたもので、例えば漏れ検査における検査用ガスなどとして使用される希釈水素ガスを生成するための装置として、ガス供給源としての高圧ガスボンベの使用を極力抑制して、ガスボンベ使用による不利益を最小限に抑え、同時にランニングコストの低減を図るとともに、ガスの混合比が目標から外れてしまうこと(オーバーシュート)が生じにくいようにした、希釈水素ガス生成装置を提供することを課題としている。   The present invention has been made against the background described above. For example, as an apparatus for generating diluted hydrogen gas used as an inspection gas in a leak inspection, the use of a high-pressure gas cylinder as a gas supply source is suppressed as much as possible. A diluted hydrogen gas generator that minimizes the disadvantages of using gas cylinders and at the same time reduces running costs and prevents the gas mixture ratio from deviating from the target (overshoot). The issue is to provide.

上述の課題を解決するため、本発明の希釈水素ガス生成装置では、水素ガス供給源として、水素ガスボンベを使用せず、水の分解によって水素を発生する水素発生器を用いることとし、これによって低コスト化を図ることとした。また混合タンクにおける混合比(希釈水素ガスの水素濃度)は、特許文献1の技術のように各ガスの供給流路における積算流量と供給継続時間との積として計算により求められる混合タンク内への各ガスの実際の流入量の比によって制御するのではなく、各ガスの供給流路での流量の比によって制御することとし、これによって混合比の制御性を高めて、オーバーシュートが生じにくいようにした。
具体的には、本発明の各態様は、次の(1)〜(5)の通りである。
In order to solve the above-described problems, in the diluted hydrogen gas generation apparatus of the present invention, a hydrogen generator that generates hydrogen by the decomposition of water is used as a hydrogen gas supply source without using a hydrogen gas cylinder. We decided to reduce costs. Further, the mixing ratio (hydrogen concentration of diluted hydrogen gas) in the mixing tank is calculated as the product of the integrated flow rate and the supply duration in each gas supply channel as in the technique of Patent Document 1. Instead of controlling by the ratio of the actual inflow amount of each gas, it is controlled by the ratio of the flow rate of each gas in the supply flow path, thereby improving the controllability of the mixing ratio and preventing overshooting. I made it.
Specifically, each aspect of the present invention is as follows (1) to (5).

(1) 水素ガスと希釈用ガスが導入されて、水素を希釈した希釈水素ガスを生成するための混合タンクと、
水を分解して水素ガスを発生する水素発生器と、
希釈用ガスを供給する希釈用ガス供給源と、
前記水素発生器から混合タンクに向けて水素ガスを導く水素ガス供給流路と、
前記希釈用ガス供給源から混合タンクに向けて希釈用ガスを導く希釈用ガス供給流路と、
前記水素ガス供給路を経て混合タンクに導かれる水素ガス流量と前記希釈用ガス供給源から混合タンクに向けて導かれる希釈用ガス流量との比を制御するためのガス流量比制御手段と
を有してなることを特徴とする希釈水素ガス生成装置。
(1) a mixing tank for generating diluted hydrogen gas in which hydrogen gas and dilution gas are introduced to dilute hydrogen;
A hydrogen generator that decomposes water to generate hydrogen gas;
A dilution gas supply source for supplying the dilution gas;
A hydrogen gas supply flow path for introducing hydrogen gas from the hydrogen generator toward the mixing tank;
A dilution gas supply flow path for introducing the dilution gas from the dilution gas supply source toward the mixing tank;
A gas flow rate ratio control means for controlling a ratio of a hydrogen gas flow rate guided to the mixing tank through the hydrogen gas supply path and a dilution gas flow rate guided from the dilution gas supply source toward the mixing tank; A diluted hydrogen gas generator characterized by comprising:

(2) 前記希釈用ガス供給源が、空気から窒素を分離して取り出す窒素分離装置を備えており、その窒素分離装置で分離された窒素ガスを前記希釈用ガスとして、前希釈用ガス供給源から前記希釈用ガス供給流路を経て混合タンクに向けて導くことを特徴とする、前記(1)に記載の希釈水素ガス生成装置。 (2) The dilution gas supply source includes a nitrogen separation device that separates and extracts nitrogen from air, and the nitrogen gas separated by the nitrogen separation device is used as the dilution gas. The diluted hydrogen gas generating device according to (1), wherein the diluted hydrogen gas generating device is guided toward the mixing tank through the dilution gas supply flow path.

(3) 前記ガス流量比制御手段が、前記水素ガス供給流路に設けられた第1のマスフローコントローラと、前記希釈用ガス供給流路に設けられた第2のマスフローコントローラとを有する構成とされていることを特徴とする、前記(1)、(2)のいずれかに記載の希釈水素ガス生成装置。 (3) The gas flow rate ratio control means includes a first mass flow controller provided in the hydrogen gas supply flow path and a second mass flow controller provided in the dilution gas supply flow path. The diluted hydrogen gas generating device according to any one of (1) and (2), wherein

(4) 前記ガス流量比制御手段が、前記水素ガス供給流路に設けられた第1の音速ノズルと、前記希釈用ガス供給流路に設けられた第2の音速ノズルとを有する構成とされ、水素ガス供給流路における第1の音速ノズルよりも上流側の位置と、希釈用ガス供給流路における第2の音速ノズルよりも上流側の位置とのうち、いずれか一方には、直動式レギュレータが介挿され、他方には外部パイロット式レギュレータが介挿され、前記直動式レギュレータの出側の圧力が前記外部パイロット式レギュレータにパイロット圧力として加えられるように構成されたことを特徴とする、前記(1)、(2)のいずれかに記載の希釈水素ガス生成装置。 (4) The gas flow rate ratio control means includes a first sonic nozzle provided in the hydrogen gas supply channel and a second sonic nozzle provided in the dilution gas supply channel. In either of the position upstream of the first sonic nozzle in the hydrogen gas supply flow path and the position upstream of the second sonic nozzle in the dilution gas supply flow path, the linear movement A regulator is inserted, and an external pilot regulator is inserted on the other side. The pressure on the outlet side of the direct acting regulator is applied as a pilot pressure to the external pilot regulator. The diluted hydrogen gas generator according to any one of (1) and (2).

(5) 生成した前記希釈水素ガスを、漏れ検査のための検査用ガスとして使用する装置であることを特徴とする、前記(1)〜(4)のいずれかに記載の希釈水素ガス生成装置。 (5) The diluted hydrogen gas generating apparatus according to any one of (1) to (4), wherein the generated diluted hydrogen gas is an apparatus that uses the generated diluted hydrogen gas as an inspection gas for leak inspection. .

本発明によれば、例えば漏れ検査における検査用ガスなどとして使用される希釈水素ガスを生成するための装置として、ガス供給源としての高圧ガスボンベの使用を極力抑制して、ガスボンベ使用による不利益を最小限に抑え、同時にランニングコストの低減を図るとともに、混合比(水素の希釈度)の制御性を高めて、オーバーシュートの発生を抑えることができる。   According to the present invention, for example, as an apparatus for generating diluted hydrogen gas used as an inspection gas in a leak inspection, the use of a high-pressure gas cylinder as a gas supply source is suppressed as much as possible, and the disadvantage caused by using the gas cylinder is reduced. At the same time, the running cost can be reduced, and the controllability of the mixing ratio (hydrogen dilution) can be improved to suppress the occurrence of overshoot.

本発明の第1の実施形態の希釈水素ガス生成装置を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the dilution hydrogen gas production | generation apparatus of the 1st Embodiment of this invention. 第1の実施形態で使用されるマスフローコントローラの一例を原理的に示す略解図である。1 is a schematic diagram showing in principle an example of a mass flow controller used in the first embodiment. 本発明の第2の実施形態の希釈水素ガス生成装置を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the dilution hydrogen gas production | generation apparatus of the 2nd Embodiment of this invention. 従来提案されている漏れ検査用ガス生成のためのガス混合装置の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of the gas mixing apparatus for the gas production | generation for the leak test | inspection conventionally proposed.

以下に、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。   Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

図1に、本発明の第1の実施形態の希釈水素ガス生成装置を示す。なお第1の実施形態は、高濃度水素ガスを窒素ガスにより希釈して漏れ検査用ガスを生成する例として示している。   FIG. 1 shows a diluted hydrogen gas generation apparatus according to a first embodiment of the present invention. The first embodiment shows an example in which leakage inspection gas is generated by diluting high-concentration hydrogen gas with nitrogen gas.

図1において、混合タンク21は、水素ガス供給流路22を経て、高濃度水素ガスが導入されるとともに、希釈用ガス供給流路としての窒素ガス供給流路23を経て、希釈用ガスとしての窒素ガスが導入されて、高濃度水素ガスと窒素ガスと混合し(すなわち高濃度水素ガスを窒素ガスで希釈し)、その混合ガス、すなわち窒素ガスで希釈した低濃度水素ガスを、開閉バルブ24および検査用ガス配送管25を介して図示しない漏れ検査装置に送り出す構成とされている。なお以下では、上記の高濃度水素ガスを、単に水素ガスと称することとする。   In FIG. 1, a mixing tank 21 is supplied with high-concentration hydrogen gas via a hydrogen gas supply flow path 22 and passes through a nitrogen gas supply flow path 23 as a dilution gas supply flow path and serves as a dilution gas. Nitrogen gas is introduced and mixed with high-concentration hydrogen gas and nitrogen gas (that is, the high-concentration hydrogen gas is diluted with nitrogen gas), and the mixed gas, that is, the low-concentration hydrogen gas diluted with nitrogen gas is supplied to the open / close valve 24. And it is set as the structure sent out to the leak inspection apparatus which is not shown in figure through the gas delivery pipe | tube 25 for a test | inspection. In the following, the high-concentration hydrogen gas is simply referred to as hydrogen gas.

水素ガス供給流路22には、その上流端の水素発生器26から混合タンク21に向けて、減圧弁27A、水素ガス用マスフローコントローラ(第1のマスフローコントローラ)28A、水素ガス用開閉バルブ29Aがその順に介挿されている。一方、窒素ガス供給流路23には、その上流端の空気ポンプ30から混合タンク21に向けて、減圧弁27B、窒素ガス分離用膜モジュール31、窒素ガス用マスフローコントローラ(第2のマスフローコントローラ)28B、窒素ガス用開閉バルブ29Bがその順に介挿されている。   In the hydrogen gas supply flow path 22, a pressure reducing valve 27 </ b> A, a hydrogen gas mass flow controller (first mass flow controller) 28 </ b> A, and a hydrogen gas open / close valve 29 </ b> A are directed from the upstream hydrogen generator 26 to the mixing tank 21. They are inserted in that order. On the other hand, in the nitrogen gas supply channel 23, a pressure reducing valve 27 </ b> B, a nitrogen gas separation membrane module 31, a nitrogen gas mass flow controller (second mass flow controller) are directed from the air pump 30 at the upstream end toward the mixing tank 21. 28B and a nitrogen gas opening / closing valve 29B are inserted in that order.

混合タンク21には、圧力計32が接続されて、混合タンク11内の圧力が常時計測されるようになっている。圧力計32の出力(混合タンク内圧力検出信号)は、シーケンサ33に送られるようになっている。このシーケンサ33は、混合タンク内圧力検出信号に応じて開閉バルブ29A、29Bを開閉制御するためのものである。   A pressure gauge 32 is connected to the mixing tank 21 so that the pressure in the mixing tank 11 is constantly measured. The output of the pressure gauge 32 (mixing tank pressure detection signal) is sent to the sequencer 33. The sequencer 33 is for opening / closing control of the opening / closing valves 29A, 29B in accordance with the mixing tank pressure detection signal.

このような第1の実施形態においては、外部から空気を取り入れて圧送するための空気ポンプ30と、空気から窒素ガスを分離する窒素分離装置としての膜モジュール31が、希釈用ガスを供給するための希釈用ガス供給源35を構成している。すなわち、希釈用ガス供給源として、窒素ガスボンベを用いず、大気中で空気を取り入れ、その空気から分離された窒素ガスを希釈用ガスとして用いることとしている。   In such a first embodiment, an air pump 30 for taking in air from outside and pumping it and a membrane module 31 as a nitrogen separation device for separating nitrogen gas from air supply dilution gas. The dilution gas supply source 35 is configured. That is, as a dilution gas supply source, air is taken in the atmosphere without using a nitrogen gas cylinder, and nitrogen gas separated from the air is used as the dilution gas.

第1の実施形態において、水素ガス供給流路22、窒素ガス供給流路23に介挿された各マスフローコントローラ28A、28Bは、流体(本実施形態では水素ガスもしくは窒素ガス)の質量流量を計測して流量制御を瞬時に行う装置であり、水素ガス供給流路22を経て混合タンク21に導かれる水素ガス流量と希釈用ガス供給源35から混合タンク21に向けて導かれる希釈用ガス流量との比を制御するためのガス流量比制御手段36を構成している。   In the first embodiment, the mass flow controllers 28A and 28B inserted in the hydrogen gas supply channel 22 and the nitrogen gas supply channel 23 measure the mass flow rate of the fluid (hydrogen gas or nitrogen gas in this embodiment). Thus, the flow rate control is performed instantaneously, and the hydrogen gas flow rate guided to the mixing tank 21 via the hydrogen gas supply flow path 22 and the dilution gas flow rate guided to the mixing tank 21 from the dilution gas supply source 35 The gas flow rate ratio control means 36 for controlling the ratio is configured.

マスフローコントローラ28A、28Bとしては、市販されている一般的なものを使用することができるが、代表的なマスフローコントローラの例を図2に原理的に示し、その概略を次に説明する。   As the mass flow controllers 28A and 28B, general commercially available ones can be used. An example of a typical mass flow controller is shown in FIG. 2 in principle, and an outline thereof will be described below.

マスフローコントローラは、基本的には、流路51を、毛細管からなるセンサ側流路51aとバイパス流路51bとに分流させるとともに、これらの流路51a、51bの合流箇所51cよりも下流側に流量制御バルブ52を設けておき、センサ側流路51aを通過する流体の質量流量を流量センサ53によって計測し、その計測結果に基づいて、流量制御バルブ52の開度を制御するものである。具体的には、センサ側流路51aの上流側と下流側にそれぞれ抵抗体54a、54bを巻いておいて、その抵抗体54a、54bをブリッジ回路55に組み込んで流量センサ53としている。そして、ブリッジ回路55の出力を、増幅回路56によって増幅し、補正回路57を経て比較制御回路58に流量計測信号S1として与え、その流量計測信号S1を外部からの流量設定信号S2と比較して、その差信号S3をバルブ駆動回路59に与え、ソレノイド方式もしくはピエゾ方式のバルブアクチュエータ60を駆動させ、流量制御バルブ52の開度を制御する。   The mass flow controller basically diverts the flow path 51 into a sensor-side flow path 51a and a bypass flow path 51b made of capillaries, and has a flow rate downstream of the junction 51c of the flow paths 51a and 51b. The control valve 52 is provided, the mass flow rate of the fluid passing through the sensor side flow path 51a is measured by the flow rate sensor 53, and the opening degree of the flow rate control valve 52 is controlled based on the measurement result. Specifically, the resistors 54a and 54b are wound around the upstream side and the downstream side of the sensor side channel 51a, respectively, and the resistors 54a and 54b are incorporated in the bridge circuit 55 to form the flow rate sensor 53. Then, the output of the bridge circuit 55 is amplified by the amplifier circuit 56, supplied to the comparison control circuit 58 through the correction circuit 57 as the flow measurement signal S1, and the flow measurement signal S1 is compared with the flow setting signal S2 from the outside. Then, the difference signal S3 is given to the valve drive circuit 59 to drive the solenoid-type or piezo-type valve actuator 60 to control the opening degree of the flow control valve 52.

ここで、上記のセンサ側流路51aを流体が通過する際には、上流側と下流側の抵抗体54a、54bに温度差が生じ、その温度差によって抵抗体54a、54bの電気抵抗に差が生じ、その差出力によって、センサ側流路51aを通過する流体の質量流量に対応する流量計測信号S1が得られるところから、流路51を流れる流体の質量流量が、流量設定信号S2により設定した流量となるように、流量制御バルブ58によって直ちにかつ正確に制御することができる。   Here, when the fluid passes through the sensor-side channel 51a, a temperature difference occurs between the upstream and downstream resistors 54a and 54b, and the temperature difference causes a difference in electrical resistance between the resistors 54a and 54b. The flow rate measurement signal S1 corresponding to the mass flow rate of the fluid passing through the sensor side flow channel 51a is obtained by the difference output, and the mass flow rate of the fluid flowing through the flow channel 51 is set by the flow rate setting signal S2. The flow rate can be controlled immediately and accurately by the flow rate control valve 58 so that the flow rate becomes the same.

そして図1に示す第1の実施形態では、このようなマスフローコントローラを水素ガス供給流路22、窒素ガス供給流路23のそれぞれに、水素ガス用、窒素ガス用のマスフローコントローラ28A、28Bとして介挿して、それぞれの流量を設定することによって、水素ガス供給流路22を流れる水素ガスの流量と窒素ガス供給流路23を流れる窒素ガスの流量の比を制御することができる。   In the first embodiment shown in FIG. 1, such mass flow controllers are provided as hydrogen gas and nitrogen gas mass flow controllers 28A and 28B in the hydrogen gas supply channel 22 and the nitrogen gas supply channel 23, respectively. By setting each flow rate, the ratio of the flow rate of the hydrogen gas flowing through the hydrogen gas supply channel 22 and the flow rate of the nitrogen gas flowing through the nitrogen gas supply channel 23 can be controlled.

以上のような図1に示される第1の実施形態における全体的な機能を次に説明する。   Next, the overall function of the first embodiment shown in FIG. 1 will be described.

予め、混合タンク21から図示しない漏れ検査装置において検査用ガスとして使用する希釈水素ガスの水素濃度を定めておく。漏れ検査用ガスにおける水素濃度は特に限定されるものではなく、漏れ検査の態様や検査対象物の形状、あるいは漏れガス検出精度などに応じて適宜選定可能であるが、一般には1%〜20%の範囲内が好ましく、より好ましくは、1〜5%の範囲内とする。なお、検査対象物を真空チャンバー内に配置せずに、外部空間において直接対象物の漏れ検査を行う場合、漏れがあれば、漏れた水素が大気中に直接放出されることになるから、検査用ガスの水素濃度は、安全のために比較的低い濃度、例えば5%以下とすることが望ましい。以下の説明では、代表的な例として、水素濃度が5%の希釈水素ガスを生成するものとして説明する。   The hydrogen concentration of the diluted hydrogen gas used as the inspection gas in the leak inspection apparatus (not shown) from the mixing tank 21 is determined in advance. The hydrogen concentration in the leak test gas is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the mode of the leak test, the shape of the inspection object, or the leak gas detection accuracy, but generally 1% to 20%. Is preferably within the range of 1 to 5%. If the inspection object is directly inspected in the external space without placing the inspection object in the vacuum chamber, if there is a leak, the leaked hydrogen will be released directly into the atmosphere. The hydrogen concentration of the working gas is desirably a relatively low concentration, for example, 5% or less for safety. In the following description, a representative example will be described assuming that diluted hydrogen gas having a hydrogen concentration of 5% is generated.

図1に示す第1の実施形態の装置においては、予め、水素ガス用マスフローコントローラ(第1のマスフローコントローラ)28Aおよび窒素ガス用マスフローコントローラ(第2のマスフローコントローラ)28Bを、それぞれの出側流量が、検査用ガスの混合比(例えば5:95)となるように設定しておく。   In the apparatus of the first embodiment shown in FIG. 1, a hydrogen gas mass flow controller (first mass flow controller) 28 </ b> A and a nitrogen gas mass flow controller (second mass flow controller) 28 </ b> B are respectively supplied to the outlet flow rates. However, it is set so that the mixing ratio (for example, 5:95) of the inspection gas is obtained.

漏れ検査時には、混合タンク21に収容された検査用ガス(水素濃度が5%となるように窒素によって希釈されたガス)が、開閉バルブ24および検査用ガス配送管25を介して図示しない漏れ検査装置に連続的に供給される。その間、圧力計32によって混合タンク21内の圧力が計測され、その圧力計測信号は、シーケンサ33に送られる。そして混合タンク21内の圧力が予め定めた圧力以下に低下した時に、開閉バルブ29A、29Bが開いて、次に説明する供給動作によって、水素ガス供給流路22を経て水素ガスが混合タンク21に導入されるとともに、窒素ガス供給流路23を経て窒素ガスが混合タンク21に導入される。   At the time of leak inspection, the inspection gas (gas diluted with nitrogen so that the hydrogen concentration becomes 5%) contained in the mixing tank 21 is leaked through the open / close valve 24 and the inspection gas delivery pipe 25 (not shown). Continuously supplied to the device. Meanwhile, the pressure in the mixing tank 21 is measured by the pressure gauge 32, and the pressure measurement signal is sent to the sequencer 33. When the pressure in the mixing tank 21 drops below a predetermined pressure, the open / close valves 29A and 29B are opened, and hydrogen gas is supplied to the mixing tank 21 via the hydrogen gas supply flow path 22 by the supply operation described below. While being introduced, nitrogen gas is introduced into the mixing tank 21 through the nitrogen gas supply channel 23.

水素ガス供給流路22の上流端においては、水(精製水もしくは純水)が水素発生器26によって分解されて、水素ガスが取り込まれ、減圧弁27Aを経て水素ガス用マスフローコントローラ28Aに導入される。そしてその水素ガス用マスフローコントローラ28Aに予め設定した流量で、水素ガスが流れ出て、開閉弁29Aを介して混合タンク21に送り込まれる。   At the upstream end of the hydrogen gas supply channel 22, water (purified water or pure water) is decomposed by the hydrogen generator 26, hydrogen gas is taken in, and introduced into the hydrogen gas mass flow controller 28A via the pressure reducing valve 27A. The Then, hydrogen gas flows out at a flow rate preset in the hydrogen gas mass flow controller 28A and is fed into the mixing tank 21 via the on-off valve 29A.

一方、窒素ガス供給流路23の上流端においては、空気ポンプ30により外部から空気が取り込まれ、その空気が減圧弁27Bを経て窒素ガス分離用膜モジュール31に送りこまれ、空気から窒素ガスが分離される。分離された窒素ガスは、窒素ガス用マスフローコントローラ28Bに導入される。そしてその窒素ガス用マスフローコントローラ28Bに予め設定した流量で、窒素ガスが流れ出て、開閉弁29Bを介して混合タンク21に送り込まれる。   On the other hand, at the upstream end of the nitrogen gas supply passage 23, air is taken in from the outside by the air pump 30, and the air is sent to the nitrogen gas separation membrane module 31 through the pressure reducing valve 27B, so that the nitrogen gas is separated from the air. Is done. The separated nitrogen gas is introduced into the nitrogen gas mass flow controller 28B. Then, nitrogen gas flows out at a flow rate preset in the nitrogen gas mass flow controller 28B, and is fed into the mixing tank 21 via the on-off valve 29B.

したがって、混合タンク21には、水素ガス用マスフローコントローラ28Aに設定した流量と窒素ガス用マスフローコントローラ28Bに設定した流量との比に相当する混合比で水素ガス及び窒素ガスが導入されて、混合タンク21内の圧力が上昇する。そして、圧力計32で検出する混合タンク21内の圧力が、予め定めた圧力に達すれば、シーケンサ33によって開閉弁29A、29Bが閉じられ、供給動作が停止される。
このようにして、混合タンク21の圧力が低下した際に、水素ガス、窒素ガスが所定の比率で供給されて、所定の水素濃度の検査用ガス(希釈水素ガス)が生成され、引き続いて漏れ検査を行うことが可能となる。
Accordingly, hydrogen gas and nitrogen gas are introduced into the mixing tank 21 at a mixing ratio corresponding to the ratio between the flow rate set in the hydrogen gas mass flow controller 28A and the flow rate set in the nitrogen gas mass flow controller 28B. The pressure in 21 rises. When the pressure in the mixing tank 21 detected by the pressure gauge 32 reaches a predetermined pressure, the sequencer 33 closes the on-off valves 29A and 29B, and the supply operation is stopped.
In this way, when the pressure in the mixing tank 21 decreases, hydrogen gas and nitrogen gas are supplied at a predetermined ratio to generate a test gas (diluted hydrogen gas) having a predetermined hydrogen concentration, and subsequently leak. Inspection can be performed.

なお第1の実施形態において、水素発生器26としては、要は高純度の水(精製水)を電気分解して水素を発生させる装置であれば特に限定されるものではなく、公知の固体電解質膜を用いた水素発生器など、任意の装置を用いることができる。   In the first embodiment, the hydrogen generator 26 is not particularly limited as long as it is a device that generates hydrogen by electrolyzing high-purity water (purified water), and is not particularly limited. Any device such as a hydrogen generator using a membrane can be used.

また希釈用ガス供給源35としては、第1の実施形態では窒素分離装置である膜モジュールを用いて、いわゆる膜分離法によって空気から窒素ガスを分離することとしているが、そのほか、深冷分離法、あるいはPSA法(吸着法)などによって空気から窒素ガスを分離するように構成してもよい。但し、これらのうちでも、コスト面からは、膜モジュールを用いた膜分離法を適用することが最も有利である。   In the first embodiment, the dilution gas supply source 35 uses a membrane module, which is a nitrogen separation device, to separate nitrogen gas from air by a so-called membrane separation method. Alternatively, nitrogen gas may be separated from air by the PSA method (adsorption method) or the like. However, among these, from the viewpoint of cost, it is most advantageous to apply a membrane separation method using a membrane module.

以上のような第1の実施形態の希釈水素ガス生成装置においては、水素ガス供給源としては、水の分解によって水素を発生させる水素発生器26を用い、一方希釈用ガス供給源は、膜モジュールなどによって空気から窒素ガスを分離する構成としているため、これらのガスを貯留した高価なガスボンベが不要である。そのため、漏れ検査のランニングコストを低減することができる。また重量の大きいガスボンベを運搬したり設置したりする作業が不要となるため、その作業のための手間、労力が不要となる。また、予備のガスタンクを保管しておく必要もないため、ガスボンベの保管場所が不要となるとともに、保管場所での予備タンクの管理も不要となり、したって管理が漏れ検査現場のみで足り、いわゆるオンサイト化が可能となる。さらに、装置全体を一つの筐体に収めて、1ボックス化を図ることも可能となる。また、特許文献1に示されているガス混合比(希釈度)の制御方式(混合タンク内に実際に流入したガス流量によって制御する方式)とは異なり、各ガスが混合タンクに流入する以前の各ガス供給流路におけるガスの流量比によってガス混合比(希釈度)を設定、制御する方式であるため、混合比の制御性が良好であって、ガス混合比が目標から外れてしまうような事態(オーバーシュート)が生じるおそれを少なくすることができる。   In the diluted hydrogen gas generating apparatus of the first embodiment as described above, the hydrogen generator 26 that generates hydrogen by the decomposition of water is used as the hydrogen gas supply source, while the dilution gas supply source is a membrane module. Therefore, an expensive gas cylinder storing these gases is unnecessary. Therefore, the running cost of the leak inspection can be reduced. Moreover, since the operation | work which conveys and installs a heavy gas cylinder is unnecessary, the effort and labor for the operation | work are unnecessary. In addition, since there is no need to store a spare gas tank, it is not necessary to store a gas cylinder, and it is not necessary to manage the spare tank at the storage location. Siteization is possible. Furthermore, the entire apparatus can be housed in a single housing to form a single box. In addition, unlike the control method of gas mixture ratio (dilution degree) shown in Patent Document 1 (a method of controlling by the gas flow rate actually flowing into the mixing tank), the gas before the gas flows into the mixing tank. Since the gas mixture ratio (dilution degree) is set and controlled according to the gas flow ratio in each gas supply flow path, the control of the mixture ratio is good and the gas mixture ratio deviates from the target. The possibility that a situation (overshoot) will occur can be reduced.

図3には、本発明の第2の実施形態の希釈水素ガス生成装置を示す。なお第2の実施形態も、第1の実施形態と同様に、高濃度水素ガスを窒素ガスにより希釈して漏れ検査用ガスを生成する例として示している。   FIG. 3 shows a diluted hydrogen gas generation apparatus according to the second embodiment of the present invention. Note that the second embodiment also shows an example in which a high-concentration hydrogen gas is diluted with nitrogen gas to generate a leakage inspection gas, as in the first embodiment.

第2の実施形態では、ガス流量比制御手段36として、第1の実施形態におけるマスフローコントローラ28A、28Bに代えて音速ノズル43A、43Bを用いている。さらに第2の実施形態の希釈水素ガス生成装置では、音速ノズル43A、43Bに流入するガスの圧力を等しくするために、直動式レギュレータ41と外部パイロット式レギュレータ42とを組み合わせた構成としている。   In the second embodiment, sonic nozzles 43A and 43B are used as the gas flow rate control means 36 in place of the mass flow controllers 28A and 28B in the first embodiment. Furthermore, in the diluted hydrogen gas generator of the second embodiment, the direct acting regulator 41 and the external pilot regulator 42 are combined in order to equalize the pressure of the gas flowing into the sonic nozzles 43A and 43B.

すなわち、図3において、水素ガス供給流路22には、水素発生器26と開閉バルブ29Aとの間に、外部パイロット式レギュレータ42と水素ガス用音速ノズル(第1の音速ノズル)43Aとが、上流側から下流側に向けてその順に介挿されている。また、窒素ガス供給流路23には、窒素ガス供給源35の膜モジュール31と開閉バルブ29Bとの間に、直動式レギュレータ41と窒素ガス用音速ノズル(第2の音速ノズル)43Bとが、上流側から下流側に向けてその順に介挿されている。また水素ガス供給流路22の外部パイロット式レギュレータ42には、窒素ガス供給流路23の直動式レギュレータ41の出側圧力が分流路44を経てパイロット圧力として加えられるように構成されている。   That is, in FIG. 3, the hydrogen gas supply flow path 22 includes an external pilot regulator 42 and a hydrogen gas sonic nozzle (first sonic nozzle) 43A between the hydrogen generator 26 and the open / close valve 29A. It is inserted in that order from the upstream side to the downstream side. The nitrogen gas supply channel 23 includes a direct acting regulator 41 and a nitrogen gas sonic nozzle (second sonic nozzle) 43B between the membrane module 31 of the nitrogen gas supply source 35 and the open / close valve 29B. They are inserted in that order from the upstream side to the downstream side. Further, the external pilot regulator 42 of the hydrogen gas supply passage 22 is configured such that the outlet pressure of the direct acting regulator 41 of the nitrogen gas supply passage 23 is applied as a pilot pressure via the branch passage 44.

ここで、音速ノズルとは、ノズルの流路に、内径を小径に絞ったスロート部を設けておき、気体の上流側圧力と下流側圧力との比を臨界圧力比以下に保てば、スロート部(ノズルの最小口径部)における流速が音速に固定され、その結果、流入側圧力とスロート部の口径が一定であれば、常に一定の流量を発生させることができるノズルである。このような音速ノズルでは、高精度で所定の質量流量を得ることができる。ここで、音速ノズルの下流側の流量は、一定の流入側圧力のもとで、スロート部の口径に依存するから、水素ガス供給流路22に介挿された水素ガス用音速ノズル43Aのスロート部口径と、窒素ガス供給流路23に介挿された窒素ガス用音速ノズル43Bのスロート部口径との比を定めておくことにより、混合タンク21に導かれる水素ガスの流量と窒素ガスの流量との比を設定することができる。   Here, the sonic nozzle is a throat if a throat portion with a small inner diameter is provided in the flow path of the nozzle and the ratio of the upstream pressure and the downstream pressure of the gas is kept below the critical pressure ratio. If the flow velocity in the section (minimum diameter section of the nozzle) is fixed at the sonic velocity, and the inflow pressure and the diameter of the throat section are constant, the nozzle can always generate a constant flow rate. With such a sonic nozzle, a predetermined mass flow rate can be obtained with high accuracy. Here, since the downstream flow rate of the sonic nozzle depends on the diameter of the throat portion under a constant inflow side pressure, the throat of the hydrogen gas sonic nozzle 43A inserted in the hydrogen gas supply passage 22 is used. The flow rate of the hydrogen gas introduced into the mixing tank 21 and the flow rate of the nitrogen gas are determined by determining the ratio between the diameter of the portion and the throat portion diameter of the sonic nozzle 43B for nitrogen gas inserted in the nitrogen gas supply channel 23. The ratio can be set.

但し、音速ノズルにおいて流出側流量は、流入側圧力と比例関係にあるから、流入側のガス圧力が変動すれば、流出するガス流量も変動する。そこで第2の実施形態では、窒素ガス供給流路23における窒素ガス用音速ノズル43Bの上流に設けた直動式レギュレータ41の出側圧力を、分流路44を経て水素ガス供給流路22における外部パイロット式レギュレータ42にパイロット圧力として加えることによって、各レギュレータ41,42の出側圧力を等圧に制御して、窒素ガス用音速ノズル43Bの入側圧力と水素ガス用音速ノズル43Aの入側圧力とを、常に等しい圧力に維持するようにしている。   However, since the outflow side flow rate is proportional to the inflow side pressure in the sonic nozzle, if the inflow side gas pressure varies, the outflow gas flow rate also varies. Therefore, in the second embodiment, the outlet pressure of the direct acting regulator 41 provided upstream of the nitrogen gas sonic nozzle 43B in the nitrogen gas supply flow path 23 is supplied to the outside of the hydrogen gas supply flow path 22 via the branch flow path 44. By applying a pilot pressure to the pilot regulator 42, the outlet pressures of the regulators 41, 42 are controlled to be equal, and the inlet pressure of the nitrogen gas sonic nozzle 43B and the inlet pressure of the hydrogen gas sonic nozzle 43A are controlled. Are always maintained at the same pressure.

結局、図3に示される第2の実施形態では、直動式レギュレータ41と外部パイロット式レギュレータ42とを組み合わせて、水素ガス用音速ノズル43Aの入側圧力と窒素ガス用音速ノズル43Bの入側圧力を等圧とするとともに、水素ガス用音速ノズル43Aのスロート部口径と、窒素ガス供給流路23に介挿された窒素ガス用音速ノズル43Bのスロート部口径との比を適切な比に設定することによって、混合タンク21に導かれる水素ガスの流量と窒素ガスの流量との比を適切に制御し、これによって混合タンク21で水素ガスと窒素ガスを適切な比で混合し、所要の低い水素濃度の希釈水素ガス(検査用ガス)を生成することができるのである。   After all, in the second embodiment shown in FIG. 3, the linear pressure regulator 41 and the external pilot regulator 42 are combined, and the inlet pressure of the sonic nozzle 43A for hydrogen gas and the inlet side of the sonic nozzle 43B for nitrogen gas are combined. The pressure is made equal, and the ratio between the throat portion diameter of the hydrogen gas sonic nozzle 43A and the throat portion diameter of the nitrogen gas sonic nozzle 43B inserted in the nitrogen gas supply channel 23 is set to an appropriate ratio. By doing so, the ratio of the flow rate of the hydrogen gas introduced into the mixing tank 21 and the flow rate of the nitrogen gas is appropriately controlled, whereby the mixing tank 21 mixes the hydrogen gas and nitrogen gas at an appropriate ratio, and the required low Diluted hydrogen gas (inspection gas) having a hydrogen concentration can be generated.

なお、図3では、窒素ガス供給流路23に直動式レギュレータ41を介挿し、水素ガス供給流路22に外部パイロット式レギュレータ42を介挿しているが、場合によっては、逆に水素ガス供給流路22に直動式レギュレータ41を介挿し、窒素ガス供給流路23に外部パイロット式レギュレータ42を介挿してもよい。この場合、水素ガス供給流路22における直動式レギュレータ41の出側圧力を分流して、窒素ガス供給流路23の外部パイロット式レギュレータ42にパイロット圧力として加えるように構成すればよい。   In FIG. 3, a direct-acting regulator 41 is inserted in the nitrogen gas supply flow path 23 and an external pilot regulator 42 is inserted in the hydrogen gas supply flow path 22, but in some cases, the hydrogen gas supply is reversed. A direct acting regulator 41 may be inserted into the flow path 22, and an external pilot type regulator 42 may be inserted into the nitrogen gas supply flow path 23. In this case, the outlet pressure of the direct acting regulator 41 in the hydrogen gas supply channel 22 may be divided and applied as a pilot pressure to the external pilot regulator 42 in the nitrogen gas supply channel 23.

なお、音速ノズルにおける出側の流量は、スロート部の最小口径に依存するから、スロート部の口径が異なるノズルに交換することによって、出側流量を変えることができる。したがって、検査用ガスの混合比(窒素ガスによる水素ガスの希釈度)を変更したい場合には、予めスロート部の口径が異なるノズルをいくつか用意しておき、適宜、異なるスロート部口径の音速ノズルに交換すれば、音速ノズル43A、43Bのいずれか一方もしくは双方の出側流量を変更し、これによって混合比を変更することができる。この場合、音速ノズルの装置全体ではなく、スロート部のみを交換して、出側流量を変えることも可能である。   Since the flow rate on the outlet side of the sonic nozzle depends on the minimum diameter of the throat part, the outlet side flow rate can be changed by replacing the nozzle with a different throat part diameter. Therefore, if you want to change the mixing ratio of the test gas (dilution of hydrogen gas with nitrogen gas), prepare several nozzles with different throat diameters in advance, and use sonic nozzles with different throat diameters as appropriate. In other words, it is possible to change the outlet flow rate of one or both of the sonic nozzles 43A and 43B, thereby changing the mixing ratio. In this case, it is also possible to change the outlet flow rate by exchanging only the throat part instead of the entire sonic nozzle device.

なおまた、検査用ガスの混合比(窒素ガスによる水素ガスの希釈度)を変更したい場合においては、上述のような音速ノズルもしくはそのスロート部の交換に依らずに、開閉バルブ29A,29Bの開放時間を変えることによっても、混合比を変更することも可能である。   In addition, when it is desired to change the mixing ratio of the inspection gas (dilution of hydrogen gas with nitrogen gas), the opening / closing valves 29A and 29B are opened without depending on the replacement of the sonic nozzle or the throat portion as described above. It is also possible to change the mixing ratio by changing the time.

第2の実施形態の希釈水素ガス生成装置でも、第1の実施形態の希釈水素ガス生成装置と同様に、水素ガスボンベおよび窒素ガスボンベが不要であり、そのため前記と同様に、漏れ検査のランニングコストを低減することができるとともに、大重量のガスボンベを運搬したり設置したりする作業が不要となり、さらにガスボンベの保管、管理も不要であって、漏れ検査のオンサイト化が可能となり、また、装置全体を1ボックス化することも可能となる。さらに、第1の実施形態と同様に、混合比の制御性が良好であって、ガス混合比(水素希釈度)が目標から外れてしまうような事態(オーバーシュート)が生じるおそれを少なくすることができる。
また図4に示される特許文献1の装置の場合、実際の制御においては、混合タンク内への供給を開始してから、圧力がある値以上に高くなった時点で直ちに開閉バルブが閉じられるとは限らず、そのためタンク内の圧力が過剰に高くなってしまうことが懸念されるのに対し、図3に示す本発明の第2の実施形態の場合は、図4の装置と比較して応答性が良好であり、そのため混合タンクの圧力が過剰に高くなってしまうような事態が生じるおそれが少ない。
Similarly to the diluted hydrogen gas generator of the first embodiment, the diluted hydrogen gas generator of the second embodiment does not require a hydrogen gas cylinder and a nitrogen gas cylinder. It can be reduced, and the work of transporting and installing heavy gas cylinders is not required, and storage and management of gas cylinders is also unnecessary, enabling on-site leak inspection, and the entire system Can be made into one box. Furthermore, as in the first embodiment, the controllability of the mixture ratio is good, and the possibility of occurrence of a situation (overshoot) in which the gas mixture ratio (hydrogen dilution) deviates from the target is reduced. Can do.
In the case of the device of Patent Document 1 shown in FIG. 4, in actual control, when the pressure is higher than a certain value after the supply into the mixing tank is started, the opening / closing valve is immediately closed. However, in the case of the second embodiment of the present invention shown in FIG. 3, compared with the apparatus of FIG. 4, there is a concern that the pressure in the tank becomes excessively high. Therefore, there is little possibility that a situation in which the pressure of the mixing tank becomes excessively high will occur.

なお、以上の第1、第2の各実施形態では、希釈用ガスとして窒素ガスを使用することとしているが、場合によっては、漏れ検査の対象物に悪影響を与えたり、水素爆発のおそれを招いたりすることなく、水素を希釈することができるガスであれば、窒素ガス以外のガス、例えばArガスなどの不活性ガスや、COガスなどを希釈用ガスとして用いることも許容される。 In each of the first and second embodiments described above, nitrogen gas is used as the dilution gas. However, depending on the case, it may adversely affect the object to be inspected and may cause a hydrogen explosion. As long as it is a gas capable of diluting hydrogen without using any gas, it is allowed to use a gas other than nitrogen gas, for example, an inert gas such as Ar gas, CO 2 gas or the like as a dilution gas.

このように不活性ガスや、COガスなどを希釈用ガスとして用いる場合は、希釈用ガス供給源としては、図1の第1の実施形態もしくは図3の第2の実施形態における窒素分離のための膜モジュール31などの代わりに、不活性ガスや、COガスなどのガスを貯留したガスボンベを使用すればよい。なおこの場合も、水素ガスは、水素発生器において水の分解によって発生させるから、水素ガス供給源としての水素ガスボンベは不要であり、したがってトータルとしてのボンベの種類および数は、水素ガス供給ボンベを用いる場合よりも少なくなる。そのためボンベの交換のための労力や時間も最小限に抑えることができ、またボンベ使用によるコストを抑えることもできる。 When an inert gas, CO 2 gas, or the like is used as the dilution gas in this way, the dilution gas supply source is the nitrogen separation in the first embodiment of FIG. 1 or the second embodiment of FIG. Instead of the membrane module 31 for the purpose, a gas cylinder storing an inert gas or a gas such as CO 2 gas may be used. In this case as well, since hydrogen gas is generated by the decomposition of water in the hydrogen generator, a hydrogen gas cylinder as a hydrogen gas supply source is not required. Therefore, the type and number of cylinders as a total are different from those of the hydrogen gas supply cylinder. Less than if used. Therefore, labor and time for exchanging the cylinder can be minimized, and the cost of using the cylinder can be reduced.

さらに、漏れ検査の対象物(ワーク)が酸化しにくい材料である場合や、対象物の酸化が問題とならないような場合には、希釈用ガスとして空気を用いることも許容される。但しその場合には、水素濃度が4%未満、好ましくは3%以下となるように水素を空気によって希釈することが望ましい。すなわち、空気と水素ガスを混合した場合でも、水素爆発のおそれがあるのは、水素濃度が4%〜75%の場合であることが知られており、したがって水素濃度が4%未満、好ましくは3%以下となるように水素を空気と混合すれば、水素爆発のおそれを回避することができる。   Furthermore, when the object (workpiece) for leak inspection is a material that is difficult to oxidize, or when oxidation of the object does not pose a problem, the use of air as the dilution gas is permitted. However, in that case, it is desirable to dilute the hydrogen with air so that the hydrogen concentration is less than 4%, preferably 3% or less. That is, even when air and hydrogen gas are mixed, hydrogen explosion is known to occur when the hydrogen concentration is 4% to 75%. Therefore, the hydrogen concentration is less than 4%, preferably If hydrogen is mixed with air so as to be 3% or less, the risk of hydrogen explosion can be avoided.

このように希釈用ガスとして空気を用いる場合、図1の第1の実施形態もしくは図3の第2の実施形態における膜モジュール31などの窒素分離装置を省くことができる。したがって希釈用ガスとして空気を用いれば、より一層の低コスト化を図ることができる。   Thus, when air is used as the dilution gas, the nitrogen separation device such as the membrane module 31 in the first embodiment of FIG. 1 or the second embodiment of FIG. 3 can be omitted. Therefore, if air is used as the dilution gas, further cost reduction can be achieved.

なお以上の説明では、本発明の希釈水素ガス生成装置によって得られた希釈ガス(水素含有混合ガス)を、漏れ検査用のガスとして使用することとしたが、そのほかの用途に本発明の装置によって得られた希釈水素ガスを使用してもよいことはもちろんである。   In the above description, the dilute gas (hydrogen-containing mixed gas) obtained by the dilute hydrogen gas generator of the present invention is used as a gas for leak inspection, but the apparatus of the present invention is used for other purposes. Of course, the obtained diluted hydrogen gas may be used.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、これらの実施形態は、あくまで本発明の要旨の範囲内の一つの例に過ぎず、本発明の要旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。すなわち本発明は、前述した説明によって限定されることはなく、添付の特許請求の範囲によってのみ限定され、その範囲内で適宜変更可能であることはもちろんである。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, these embodiments are merely examples within the scope of the gist of the present invention, and the addition of configurations within the scope not departing from the gist of the present invention, Omissions, substitutions, and other changes are possible. That is, the present invention is not limited by the above description, is limited only by the scope of the appended claims, and can be appropriately changed within the scope.

21…混合タンク、22…水素ガス供給流路、23…窒素ガス供給流路(希釈用ガス供給流路)、26…水素発生器、28A…水素ガス用マスフローコントローラ(第1のマスフローコントローラ)、28B…窒素ガス用マスフローコントローラ(第2のマスフローコントローラ)、31…膜モジュール(窒素分離装置)、35…希釈用ガス供給源、36…ガス流量比制御手段、41…直動式レギュレータ、42…外部パイロット式レギュレータ、43A…水素ガス用音速ノズル(第1の音速ノズル)、43B…窒素ガス用音速ノズル(第2の音速ノズル) DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Mixing tank, 22 ... Hydrogen gas supply flow path, 23 ... Nitrogen gas supply flow path (dilution gas supply flow path), 26 ... Hydrogen generator, 28A ... Hydrogen gas mass flow controller (1st mass flow controller), 28B ... Mass flow controller for nitrogen gas (second mass flow controller), 31 ... Membrane module (nitrogen separator), 35 ... Gas supply source for dilution, 36 ... Gas flow ratio control means, 41 ... Direct acting regulator, 42 ... External pilot regulator, 43A ... hydrogen gas sonic nozzle (first sonic nozzle), 43B ... nitrogen gas sonic nozzle (second sonic nozzle)

Claims (5)

水素ガスと希釈用ガスが導入されて、水素を希釈した希釈水素ガスを生成するための混合タンクと、
水を分解して水素ガスを発生する水素発生器と、
希釈用ガスを供給する希釈用ガス供給源と、
前記水素発生器から混合タンクに向けて水素ガスを導く水素ガス供給流路と、
前記希釈用ガス供給源から混合タンクに向けて希釈用ガスを導く希釈用ガス供給流路と、
前記水素ガス供給路を経て混合タンクに導かれる水素ガス流量と前記希釈用ガス供給源から混合タンクに向けて導かれる希釈用ガス流量との比を制御するためのガス流量比制御手段と
を有してなることを特徴とする希釈水素ガス生成装置。
A mixing tank for introducing hydrogen gas and dilution gas to produce diluted hydrogen gas diluted with hydrogen;
A hydrogen generator that decomposes water to generate hydrogen gas;
A dilution gas supply source for supplying the dilution gas;
A hydrogen gas supply flow path for introducing hydrogen gas from the hydrogen generator toward the mixing tank;
A dilution gas supply flow path for introducing the dilution gas from the dilution gas supply source toward the mixing tank;
A gas flow rate ratio control means for controlling a ratio of a hydrogen gas flow rate guided to the mixing tank through the hydrogen gas supply path and a dilution gas flow rate guided from the dilution gas supply source toward the mixing tank; A diluted hydrogen gas generator characterized by comprising:
前記希釈用ガス供給源が、空気から窒素を分離して取り出す窒素分離装置を備えており、その窒素分離装置で分離された窒素ガスを前記希釈用ガスとして、前希釈用ガス供給源から希釈用ガス供給流路を経て前記混合タンクに向けて導くことを特徴とする請求項1に記載の希釈水素ガス生成装置。   The dilution gas supply source includes a nitrogen separation device that separates and extracts nitrogen from air, and the nitrogen gas separated by the nitrogen separation device is used as the dilution gas from the predilution gas supply source. The dilute hydrogen gas generator according to claim 1, wherein the diluted hydrogen gas generator is guided toward the mixing tank through a gas supply channel. 前記ガス流量比制御手段が、前記水素ガス供給流路に設けられた第1のマスフローコントローラと、前記希釈用ガス供給流路に設けられた第2のマスフローコントローラとを有する構成とされていることを特徴とする請求項1、請求項2のいずれか1項に記載の希釈水素ガス生成装置。   The gas flow rate ratio control means includes a first mass flow controller provided in the hydrogen gas supply flow path and a second mass flow controller provided in the dilution gas supply flow path. The diluted hydrogen gas generator according to any one of claims 1 and 2. 前記ガス流量比制御手段が、前記水素ガス供給流路に設けられた第1の音速ノズルと、前記希釈用ガス供給流路に設けられた第2の音速ノズルとを有する構成とされ、水素ガス供給流路における第1の音速ノズルよりも上流側の位置と、希釈用ガス供給流路における第2の音速ノズルよりも上流側の位置とのうち、いずれか一方には、直動式レギュレータが介挿され、他方には外部パイロット式レギュレータが介挿され、前記直動式レギュレータの出側の圧力が前記外部パイロット式レギュレータにパイロット圧力として加えられるように構成されたことを特徴とする請求項1、請求項2のいずれか1項に記載の希釈水素ガス生成装置。   The gas flow ratio control means includes a first sonic nozzle provided in the hydrogen gas supply flow path and a second sonic nozzle provided in the dilution gas supply flow path, and hydrogen gas A direct-acting regulator is provided at any one of the position upstream of the first sonic nozzle in the supply flow path and the position upstream of the second sonic nozzle in the dilution gas supply flow path. The external pilot regulator is inserted in the other, and the pressure on the outlet side of the direct acting regulator is applied as a pilot pressure to the external pilot regulator. The diluted hydrogen gas generator according to any one of claims 1 and 2. 生成した前記希釈水素ガスを、漏れ検査のための検査用ガスとして使用する装置であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の希釈水素ガス生成装置。
The diluted hydrogen gas generation apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the generated diluted hydrogen gas is an apparatus that uses the diluted hydrogen gas as an inspection gas for leak inspection.
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