JP2018064039A - Thermal shield film for electronic circuit protection - Google Patents

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博 楠目
Hiroshi Kusume
博 楠目
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal shield film for electronic circuit protection.SOLUTION: A thermal shield film for electronic circuit protection comprises: a resin layer including a resin composition and voids. The resin layer is 50 μm or larger in thickness; and the number of voids per 100 μm of the thickness in a thickness direction is 50-500 /100 μm.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、電子回路保護用遮熱フィルムに関する。   The present invention relates to a thermal barrier film for protecting an electronic circuit.

近年、通信技術の発達に伴い、各種通信機能を有する電子回路が様々な環境下で使用されて来ている。しかしながらこのような電子回路は、高温下においては回路破壊に繋がる為、環境によっては遮熱材により保護することが必要となる。例えば、スマートグリッドに代表されるような屋外で使用される通信用電子回路のための樹脂筐体には、太陽光などに由来する熱を遮蔽する機能が要求される。
従来、各種遮熱材料が検討されている(例えば特許文献1〜3)が、金属系材料の遮熱材では電波の送受信が困難となる等の問題から、電子回路の保護の目的では使用が困難となる場合がある。
In recent years, with the development of communication technology, electronic circuits having various communication functions have been used in various environments. However, since such an electronic circuit leads to circuit destruction at high temperatures, it is necessary to protect the electronic circuit with a heat shielding material depending on the environment. For example, a resin casing for a communication electronic circuit used outdoors such as a smart grid is required to have a function of shielding heat derived from sunlight or the like.
Conventionally, various heat shielding materials have been studied (for example, Patent Documents 1 to 3). However, the use of metal-based heat shielding materials for the purpose of protecting electronic circuits is difficult due to problems such as difficulty in transmitting and receiving radio waves. It can be difficult.

特開2000−129172号公報JP 2000-129172 A 特開2014−28896号公報JP 2014-28896 A 特開2004−34383号公報JP 2004-34383 A

本発明の目的は、上記課題に鑑み、優れた遮熱性を有する電子回路用の遮熱フィルムを提供することである。
また本発明の望ましい目的は、通信を阻害し難く、例えば通信用電子回路にも用いることができる、電子回路用の遮熱フィルムを提供することである。
In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a thermal barrier film for an electronic circuit having excellent thermal barrier properties.
A desirable object of the present invention is to provide a heat-shielding film for an electronic circuit that can hardly be used for communication and can be used for, for example, a communication electronic circuit.

本発明者らは、鋭意検討した結果、フィルムがボイドを有しかつそのボイド頻度を特定範囲とすることで優れた遮熱性を奏することを見出し、本発明に到達した。
すなわち本発明は、以下の構成を採用するものである。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the film has voids and exhibits excellent heat shielding properties by setting the void frequency within a specific range, and have reached the present invention.
That is, the present invention employs the following configuration.

1.樹脂組成物からなりボイドを含有する樹脂層を有するフィルムであって、前記樹脂層は、厚みが50μm以上であり、厚さ方向において、厚さ100μmあたりのボイドの個数が50〜500個/100μmである、電子回路保護用遮熱フィルム。
2.上記樹脂層は、厚さ方向において、高さ0.1〜5.0μmのボイドの個数が厚さ100μmあたり50〜500個/100μmである、上記1に記載の電子回路保護用遮熱フィルム。
3.通信用電子回路保護用である、上記1または2に記載の電子回路保護用遮熱フィルム。
1. A film comprising a resin composition and having a resin layer containing voids, wherein the resin layer has a thickness of 50 μm or more, and the number of voids per 100 μm thickness in the thickness direction is 50 to 500/100 μm. A thermal barrier film for protecting electronic circuits.
2. 2. The heat shielding film for protecting an electronic circuit according to 1, wherein the resin layer has 50 to 500/100 μm of voids having a height of 0.1 to 5.0 μm per 100 μm thickness in the thickness direction.
3. 3. The heat shielding film for protecting an electronic circuit according to the above 1 or 2, which is used for protecting an electronic circuit for communication.

本発明によれば、優れた遮熱性を有する遮熱フィルムを提供することができる。したがい本発明の遮熱フィルムは、電子回路を保護する用途に好適に用いることができる。
また、本発明の遮熱フィルムは、通信を阻害し難いため、例えば通信用電子回路を保護する目的にも好適に用いることができる。
より具体的には、本発明の遮熱フィルムは、例えば樹脂筐体に貼り合わせる等して用いることができ、そのようにすることで遮熱性を有する樹脂筐体が得られ、その樹脂筐体内部の電子回路を保護することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the thermal insulation film which has the outstanding thermal insulation property can be provided. Therefore, the thermal barrier film of the present invention can be suitably used for applications that protect electronic circuits.
Moreover, since the heat-insulating film of the present invention hardly inhibits communication, it can be suitably used for the purpose of protecting electronic circuits for communication, for example.
More specifically, the heat-shielding film of the present invention can be used, for example, by being attached to a resin casing, and by doing so, a resin casing having a heat-shielding property is obtained. The internal electronic circuit can be protected.

遮熱性の評価における配置を表わす模式図である。It is a schematic diagram showing the arrangement | positioning in evaluation of heat-insulating property. 樹脂層の断面SEM像の一例である。It is an example of the cross-sectional SEM image of a resin layer.

(遮熱フィルム)
本発明の遮熱フィルムは、樹脂組成物からなりボイドを含有する樹脂層を有するフィルムである。ここでボイドとは空隙のことである。そして該樹脂層は、厚みが50μm以上であり、また、厚さ方向において、厚さ100μmあたりに50〜500個/100μmのボイドを有する。
(Heat shield film)
The thermal barrier film of the present invention is a film having a resin layer made of a resin composition and containing voids. Here, the void is a void. The resin layer has a thickness of 50 μm or more, and has 50 to 500/100 μm voids per 100 μm thickness in the thickness direction.

本発明の遮熱フィルムは、上記樹脂層のみからなる単層フィルムであってもよく、また上記樹脂層と他の層とを有する積層フィルムであってもよい。より高い遮熱性を得るために好適なボイドの態様と、フィルム製膜時の生産安定性(以下、製膜性という場合がある。)との両立の観点から、上記樹脂層、すなわちこれが比較的多くのボイドを含有する層(以下、ボイド層という場合がある。)であり、これと他の層として比較的少ないボイドを含有するかボイドを含有しない層(以下、支持層という場合がある。)とを有する積層フィルムが好ましい。
なお、本発明における「遮熱」は、断熱の機能を奏しないことを限定するものではない。
The heat insulating film of the present invention may be a single layer film composed only of the resin layer, or may be a laminated film having the resin layer and another layer. From the viewpoint of coexistence of a void mode suitable for obtaining higher heat-shielding properties and production stability during film formation (hereinafter sometimes referred to as film-forming property), the above resin layer, that is, this is relatively It is a layer containing many voids (hereinafter sometimes referred to as a void layer), and as this and other layers, a layer containing relatively few voids or no voids (hereinafter sometimes referred to as a support layer). Are preferred.
It should be noted that “heat insulation” in the present invention is not limited to not having a heat insulation function.

(樹脂層)
本発明における樹脂層の樹脂組成物を構成する樹脂としては、特に熱可塑性樹脂が好ましく、例えばポリエステル、ポリオレフィン、ポリスチレン、アクリル等を挙げることができる。機械的特性および熱安定性に優れるフィルムを得る観点から、ポリエステルが好ましい。
(Resin layer)
The resin constituting the resin composition of the resin layer in the present invention is particularly preferably a thermoplastic resin, and examples thereof include polyester, polyolefin, polystyrene, and acrylic. From the viewpoint of obtaining a film having excellent mechanical properties and thermal stability, polyester is preferred.

樹脂としてポリエステルを用いる場合、かかるポリエステルとしては、ジカルボン酸成分とジオール成分とからなるポリエステルを用いることが好ましい。このジカルボン酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸に由来する成分を挙げることができる。また、ジオール成分としては、例えばエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオールに由来する成分を挙げることができる。これらポリエステルのなかでも耐熱性の観点からは芳香族ポリエステルが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。   When using polyester as resin, it is preferable to use polyester which consists of a dicarboxylic acid component and a diol component as this polyester. Examples of the dicarboxylic acid component include components derived from terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, adipic acid, and sebacic acid. Examples of the diol component include components derived from ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 1,6-hexanediol. Among these polyesters, aromatic polyesters are preferable from the viewpoint of heat resistance, and polyethylene terephthalate is particularly preferable.

ポリエステルは、ホモポリエステルであってもよいが、筐体等に貼り合せる際の加工性により優れる観点から、共重合ポリエステルが好ましい。かかる共重合ポリエステルとしては、共重合ポリエチレンテレフタレートが好ましい。また、共重合ポリエステルを用いることによって、比較的多くのボイドを含んだとしても優れた製膜性を確保することができる。遮熱フィルムとして、ボイド層と支持層とを有する積層フィルムを用いる場合は、比較的多くのボイドを含有するボイド層に用いるポリエステルとして共重合ポリエステルを用いることが製膜性の向上に効果的であり好ましい。共重合成分の割合は、全ジカルボン酸成分100モル%を基準として、例えば1〜20モル%、好ましくは3〜15モル%、さらに好ましくは5〜13モル%である。共重合成分の割合をこの範囲とすることによって、ボイドを比較的多く含有したとしても優れた製膜性を得ることができる。また、熱寸法安定性に優れたフィルムを得ることできる。なお、共重合成分としては、上で例示したジカルボン酸成分およびジオール成分を挙げることができる。特に好ましい共重合ポリエステルは、イソフタル酸成分共重合ポリエチレンテレフタレートである。   The polyester may be a homopolyester, but is preferably a copolyester from the viewpoint of superior workability when bonded to a housing or the like. As such a copolyester, copolyethylene terephthalate is preferred. Further, by using the copolymer polyester, excellent film forming properties can be ensured even if a relatively large number of voids are included. When using a laminated film having a void layer and a support layer as the heat-shielding film, it is effective to improve the film-forming property by using a copolymer polyester as the polyester used for the void layer containing a relatively large amount of voids. It is preferable. The ratio of the copolymerization component is, for example, 1 to 20 mol%, preferably 3 to 15 mol%, more preferably 5 to 13 mol%, based on 100 mol% of all dicarboxylic acid components. By setting the proportion of the copolymer component within this range, excellent film forming properties can be obtained even if a relatively large amount of voids is contained. Moreover, the film excellent in thermal dimensional stability can be obtained. In addition, as a copolymerization component, the dicarboxylic acid component and diol component which were illustrated above can be mentioned. A particularly preferred copolymerized polyester is isophthalic acid component copolymerized polyethylene terephthalate.

また、更に遮熱性あるいは遮熱性以外の紫外性耐性、防汚性耐性等の機能を付与したい場合には、本発明の目的を損なわない範囲において、目的に応じて公知の手法にてフィルム表面に塗布層をコートにより形成したり、フィルム内部に前記機能を付加し得るような添加物を添加したりすることも出来る。   In addition, when it is desired to provide functions such as heat resistance or ultraviolet resistance other than heat shielding, antifouling resistance, etc., within a range not impairing the object of the present invention, it is applied to the film surface by a known method according to the purpose. The coating layer can be formed by coating, or an additive capable of adding the above function to the inside of the film can be added.

(ボイド)
本発明の遮熱フィルムは、遮熱性の為、樹脂層の厚さ100μmあたりの厚さ方向のボイドの個数が50〜500個/100μmであることが必要である。ボイドが少なすぎると空隙の存在による遮熱効果が低減することから、遮熱性が低下する。かかる観点から、ボイドの個数は、好ましくは100個/100μm以上、より好ましくは150個/100μm以上、さらに好ましくは200個/100μm以上である。他方、ボイドが多すぎても空隙が多すぎることとなり、遮熱性が低下する。また、フィルムが破断し易くなる傾向にありフィルムが得難くなる傾向にある。かかる観点から、ボイドの個数は、好ましくは480個/100μm以下、より好ましくは470個/100μm以下、さらに好ましくは450個/100μm以下、特に好ましくは420個/100μm以下である。
(void)
Since the heat-shielding film of the present invention has a heat-shielding property, the number of voids in the thickness direction per 100 μm thickness of the resin layer needs to be 50 to 500/100 μm. When there are too few voids, the heat shielding effect due to the presence of voids is reduced, so that the heat shielding property is lowered. From this viewpoint, the number of voids is preferably 100/100 μm or more, more preferably 150/100 μm or more, and further preferably 200/100 μm or more. On the other hand, even if there are too many voids, there will be too many voids and the heat shielding properties will be reduced. Moreover, it exists in the tendency for a film to be easy to fracture | rupture and to become difficult to obtain a film. From this point of view, the number of voids is preferably 480/100 μm or less, more preferably 470/100 μm or less, further preferably 450/100 μm or less, and particularly preferably 420/100 μm or less.

また、上記ボイドの個数は、フィルム厚み方向におけるボイド大きさ(以下、これをボイドの高さという場合がある。)が0.1〜5.0μmであるボイドについての個数であることが好ましい。このようにすることで、遮熱性の向上効果をより高めることができる。小さすぎるボイドや大きすぎるボイドは、空隙の存在による遮熱性の向上効果を奏し難い傾向にあるためである。さらには、高さ0.2〜3.0μmであるボイドについて上記個数を満たすことが好ましい。   The number of voids is preferably the number of voids having a void size in the film thickness direction (hereinafter sometimes referred to as void height) of 0.1 to 5.0 μm. By doing in this way, the heat-shielding improvement effect can be heightened more. This is because voids that are too small or too large tend not to exhibit the effect of improving heat shielding properties due to the presence of voids. Furthermore, it is preferable to satisfy the above number for voids having a height of 0.2 to 3.0 μm.

上記態様により遮熱効果が奏されるのは、これに限定されるものではないが、以下のようなメカニズムが考えられる。すなわち、前述のようなボイドの個数や高さであることで、赤外線領域の反射率が上昇するとともにフィルム自体の熱伝導性も低下すると考えられる。したがい、ボイド個数が少ないと赤外領域の反射率が低下する傾向にあり、熱伝導性は低下し難い傾向にある。他方、ボイド個数がある程度多い方が、遮熱性は良化する傾向にあるものの、多すぎると遮熱性は低下する傾向にあり、またフィルムが得られ難くなる傾向にある。また、ボイドの高さが適度であると、より好適に赤外領域の反射率が高くなる傾向にある。
本発明は、このようにボイドにより遮熱性を奏するものであることから、通信用の電磁波の透過を阻害し難い。
Although it is not limited to this, the following mechanisms can be considered that the heat insulation effect is show | played by the said aspect. That is, it is considered that the number and height of voids as described above increase the reflectance in the infrared region and decrease the thermal conductivity of the film itself. Therefore, if the number of voids is small, the reflectance in the infrared region tends to decrease, and the thermal conductivity tends not to decrease. On the other hand, when the number of voids is large to some extent, the heat shielding property tends to be improved, but when it is too much, the heat shielding property tends to be lowered and the film tends to be difficult to obtain. Further, when the height of the void is appropriate, the reflectance in the infrared region tends to be more suitably increased.
Since the present invention exhibits heat shielding properties by voids in this way, it is difficult to inhibit transmission of electromagnetic waves for communication.

本発明における樹脂層はボイドを含有するものであるが、ボイドを形成させる為に、ボイド核剤として無機粒子、有機粒子、有機無機複合粒子あるいは樹脂層を構成する樹脂とは非相溶の樹脂(以下、非相溶樹脂と呼称する場合がある。)を用いることができる。すなわち、樹脂にボイド核剤を添加した樹脂組成物を延伸することで、樹脂とボイド核剤との界面を剥離し、ボイドを形成させる方法を用いることができる。また、バッチ式にて超臨界法を用いてボイドを形成させる方法等も用いることができる。簡便さや生産性の点からは、ステンター等を用いた延伸法を採用する等により連続的にボイド形成可能であることから、前者のボイド核剤を添加した延伸フィルムとする方法が好ましい。   The resin layer in the present invention contains voids, but in order to form voids, the resin is incompatible with inorganic particles, organic particles, organic-inorganic composite particles, or resins constituting the resin layer as void nucleating agents. (Hereinafter, sometimes referred to as incompatible resin). That is, by stretching a resin composition obtained by adding a void nucleating agent to a resin, a method of peeling the interface between the resin and the void nucleating agent to form a void can be used. Moreover, the method of forming a void using a supercritical method by a batch type etc. can also be used. From the viewpoint of simplicity and productivity, the former method of forming a stretched film to which a void nucleating agent is added is preferable because a void can be continuously formed by adopting a stretching method using a stenter or the like.

ボイド核剤は、公知のボイド核剤を各種採用可能であるが、樹脂がポリエステル樹脂の際は、無機粒子としては硫酸バリウム、炭酸カルシウム、二酸化ケイ素などが好ましい。また非相溶樹脂としては、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリプロピレンなどのオレフィン樹脂、ポリスチレン等を用いることが出来、好ましい。
なお、ボイド核剤を用いる方法においては、ボイド核剤の量の増減によりボイドの量の増減をすることができ、ボイド核剤の大きさや延伸倍率を調整することによりボイドの大きさを調整することができる。超臨界法においても、発泡剤の量や温度、圧力の調整によりボイドの量や大きさを調整することができる。また、フィルムをプレスすることでボイドを潰し、ボイドの高さを低く調整することもできる。
As the void nucleating agent, various known void nucleating agents can be employed. When the resin is a polyester resin, barium sulfate, calcium carbonate, silicon dioxide and the like are preferable as the inorganic particles. As the incompatible resin, poly-4-methylpentene-1, olefin resins such as polypropylene, polystyrene, and the like can be used, which is preferable.
In the method using a void nucleating agent, the amount of void can be increased or decreased by increasing or decreasing the amount of the void nucleating agent, and the size of the void is adjusted by adjusting the size of the void nucleating agent or the draw ratio. be able to. Even in the supercritical process, the amount and size of voids can be adjusted by adjusting the amount, temperature and pressure of the blowing agent. Moreover, a void can be crushed by pressing a film and the height of a void can also be adjusted low.

(フィルム厚み)
本発明の遮熱フィルムにおいて、樹脂層の厚みは、優れた遮熱性を得るために、厚みが50μm以上である。薄すぎると絶対的にボイド個数が少なくなり、優れた遮熱性を奏することが困難となる。他方、厚すぎても取扱いや加工がし難くなったり、過剰品質である場合がある。したがいフィルムの厚みは、好ましくは50〜500μm、より好ましくは75〜400μm、さらに好ましくは100〜350μmである。
本発明の遮熱フィルムの厚みは、単層フィルムの場合は上記樹脂層の好ましい厚みと同様である。積層フィルムの場合は、好ましくは100〜500μmであり、より好ましくは150〜350μm、さらに好ましくは200〜250μmである。
(Film thickness)
In the heat shielding film of the present invention, the resin layer has a thickness of 50 μm or more in order to obtain excellent heat shielding properties. If it is too thin, the number of voids will definitely decrease and it will be difficult to achieve excellent heat shielding properties. On the other hand, if it is too thick, it may be difficult to handle or process, or it may be excessive quality. Accordingly, the thickness of the film is preferably 50 to 500 μm, more preferably 75 to 400 μm, and still more preferably 100 to 350 μm.
The thickness of the thermal barrier film of the present invention is the same as the preferred thickness of the resin layer in the case of a single layer film. In the case of a laminated film, the thickness is preferably 100 to 500 μm, more preferably 150 to 350 μm, and still more preferably 200 to 250 μm.

本発明の遮熱フィルムが樹脂層と支持層とを有する場合は、各層の厚みはフィルム製膜性とボイド生成を勘案して設定すればよい。すなわち、支持層を比較的厚くすることでフィルム製膜性は向上する傾向にあり、他方、樹脂層を厚くすることで本発明の適したボイドの態様とし易くなる傾向にある。これらのバランスの観点から、樹脂層と支持層の総合計厚みを100%としたときに、樹脂層は好ましくは50〜95%、さらに好ましくは60〜90%となるような厚み比率とすればよい。また支持層は好ましくは50〜5%、さらに好ましくは40〜10%となるような厚み比率とすればよい。
なお、樹脂層と支持層の積層構造は、樹脂層/支持層の2層構造、樹脂層/支持層/樹脂層や支持層/樹脂層/支持層の3層構造や、同様にして4層以上の積層構造であってもよい。特に好ましくは、製膜性やカール等の観点から、支持層/樹脂層/支持層の3層構造である。
When the heat-shielding film of the present invention has a resin layer and a support layer, the thickness of each layer may be set in consideration of film forming properties and void formation. That is, the film-forming property tends to be improved by making the support layer relatively thick. On the other hand, the thickness of the resin layer tends to make it easy to obtain a suitable void mode of the present invention. From the viewpoint of these balances, when the total thickness of the resin layer and the support layer is 100%, the resin layer preferably has a thickness ratio of 50 to 95%, more preferably 60 to 90%. Good. Further, the thickness of the support layer is preferably 50 to 5%, more preferably 40 to 10%.
The laminated structure of the resin layer and the support layer is a two-layer structure of resin layer / support layer, a three-layer structure of resin layer / support layer / resin layer or support layer / resin layer / support layer, or four layers in the same manner. The laminated structure described above may be used. Particularly preferred is a three-layer structure of support layer / resin layer / support layer from the viewpoints of film forming properties, curling, and the like.

(製造方法)
以下、本発明の遮熱フィルムを製造する方法の一例を説明する。この例では、遮熱フィルムとして積層フィルムを用いる。なお、製膜機械軸方向を縦方向または長手方向またはMDと呼称する場合がある。また、該製膜機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向を横方向または幅方向またはTDと呼称する場合がある。
(Production method)
Hereinafter, an example of the method for producing the thermal barrier film of the present invention will be described. In this example, a laminated film is used as the heat shield film. Note that the film forming machine axis direction may be referred to as a vertical direction, a longitudinal direction, or MD. In addition, a direction perpendicular to the film forming machine axis direction and the thickness direction may be referred to as a lateral direction, a width direction, or TD.

例えば遮熱フィルムに用いる樹脂組成物としてポリエステル組成物を用いる。かかるポリエステル組成物は、フィルムを構成する熱可塑性樹脂としてのポリエステルに、ボイド核剤として例えば硫酸バリウム粒子を含有するものである。樹脂組成物は、さらにその他の任意のボイド核剤を含む組成物であることができる。また、支持層に用いるものについては、ボイド核剤を有していないことができる。樹脂組成物は、線径15μm以下のステンレス鋼細線よりなる平均目開き10〜100μm、好ましくは平均目開き20〜50μmの不織布型フィルターを用いて濾過を行うことが好ましい。この濾過を行うことで、通常は凝集して粗大凝集粒子となりやすい粒子の凝集を抑え、粗大ボイド形成を抑制することができる。このようにして樹脂層を形成するための樹脂組成物と、支持層を形成するための樹脂組成物を得る。   For example, a polyester composition is used as the resin composition used for the heat shielding film. Such a polyester composition contains, for example, barium sulfate particles as a void nucleating agent in polyester as a thermoplastic resin constituting the film. The resin composition may further be a composition containing any other void nucleating agent. Moreover, about the thing used for a support layer, it can have no void nucleating agent. The resin composition is preferably filtered using a nonwoven fabric type filter having an average opening of 10 to 100 μm, preferably an average opening of 20 to 50 μm, and made of stainless steel fine wires having a wire diameter of 15 μm or less. By performing this filtration, it is possible to suppress aggregation of particles that normally tend to aggregate into coarse aggregated particles, and to suppress formation of coarse voids. Thus, a resin composition for forming the resin layer and a resin composition for forming the support layer are obtained.

濾過した各々の樹脂組成物は、溶融した状態でフィードブロックを用いた同時多層押出法により、ダイから多層の状態で押出し、積層未延伸シートを製造する。
ダイより押出された積層未延伸シートは、キャスティングドラムで冷却固化され、積層未延伸フィルムとなる。この積層未延伸フィルムをロール加熱、赤外線加熱等で加熱し、縦方向に延伸して積層縦延伸フィルムを得る。この延伸は2個以上のロールの周速差を利用して行うのが好ましい。縦延伸は、樹脂層のポリエステルのガラス転移点(Tg)以上の温度で行うことが好ましい。より好ましくは、Tg以上、(Tg+70℃)以下の範囲である。縦方向の延伸倍率は、好ましくは2.2〜4.0倍、さらに好ましくは2.3〜3.9倍である。2.2倍未満とするとフィルムの厚み斑が悪くなる傾向にあり、4.0倍を超えると製膜中に破断が発生し易くなる傾向にある。縦延伸後、ここで、機能を付与する為に塗液を塗布する事も可能である。
Each filtered resin composition is extruded in a multilayer state from a die by a simultaneous multilayer extrusion method using a feed block in a molten state to produce a laminated unstretched sheet.
The laminated unstretched sheet extruded from the die is cooled and solidified by a casting drum to form a laminated unstretched film. This laminated unstretched film is heated by roll heating, infrared heating or the like, and stretched in the longitudinal direction to obtain a laminated longitudinally stretched film. This stretching is preferably performed by utilizing the difference in peripheral speed between two or more rolls. The longitudinal stretching is preferably performed at a temperature equal to or higher than the glass transition point (Tg) of the polyester of the resin layer. More preferably, it is the range of Tg or more and (Tg + 70 ° C.) or less. The draw ratio in the machine direction is preferably 2.2 to 4.0 times, more preferably 2.3 to 3.9 times. If it is less than 2.2 times, the thickness unevenness of the film tends to deteriorate, and if it exceeds 4.0 times, breakage tends to occur during film formation. After longitudinal stretching, it is also possible to apply a coating liquid here to give a function.

縦延伸後の積層フィルムは、続いて、予熱、横延伸、熱固定、熱弛緩の処理を順次施して積層二軸配向フィルムとするが、これら処理はフィルムを走行させながら行う。横延伸の処理はTgより高い温度から始める。横延伸過程での昇温は連続的でも段階的(逐次的)でもよいが通常逐次的に昇温する。例えばテンターの横延伸ゾーンをフィルム走行方向に沿って複数に分け、ゾーン毎に所定温度の加熱媒体を流すことで昇温する。横延伸は、樹脂層のポリエステルのガラス転移点(Tg)に対して、(Tg+5℃)〜(Tg+50℃)の温度で行うことが好ましい。横方向の延伸倍率は、好ましくは2.5〜4.5倍、さらに好ましくは2.8〜3.9倍である。2.5倍未満であるとフィルムの厚み斑が悪くなる傾向にあり、4.5倍を超えると製膜中に破断が発生し易くなる傾向にある。また、上記延伸倍率と延伸後に熱固定化させることでフィルムの熱寸法安定化も優れたものとなる。かかる熱固定は、好ましくは樹脂層のポリエステルの融点(Tm)に対して、(Tm−50℃)〜(Tm−10℃)の温度で、5〜60秒間行うことができる。   The laminated film after the longitudinal stretching is successively subjected to preheating, transverse stretching, heat setting, and thermal relaxation to form a laminated biaxially oriented film. These processes are performed while the film is running. The transverse stretching process starts from a temperature higher than Tg. Although the temperature rise in the transverse stretching process may be continuous or stepwise (sequential), the temperature is usually raised sequentially. For example, the transverse stretching zone of the tenter is divided into a plurality along the film running direction, and the temperature is raised by flowing a heating medium having a predetermined temperature for each zone. The transverse stretching is preferably performed at a temperature of (Tg + 5 ° C.) to (Tg + 50 ° C.) with respect to the glass transition point (Tg) of the polyester of the resin layer. The draw ratio in the transverse direction is preferably 2.5 to 4.5 times, more preferably 2.8 to 3.9 times. If it is less than 2.5 times, the thickness unevenness of the film tends to deteriorate, and if it exceeds 4.5 times, breakage tends to occur during film formation. Moreover, the thermal dimensional stabilization of the film is also excellent by heat-setting after the stretching ratio and stretching. Such heat setting can be preferably performed at a temperature of (Tm-50 ° C) to (Tm-10 ° C) for 5 to 60 seconds with respect to the melting point (Tm) of the polyester of the resin layer.

(遮熱性)
本発明の遮熱フィルムは、後述する遮熱性として50℃以下が好ましく、より好ましくは48℃以下、さらに好ましくは46℃以下である。
(Heat insulation)
The heat shielding film of the present invention has a heat shielding property described later of preferably 50 ° C. or lower, more preferably 48 ° C. or lower, and further preferably 46 ° C. or lower.

(用途)
本発明の遮熱フィルムは、使用される環境において与えられる熱等から電子回路を保護する目的で用いられるものである。例えば、屋外において太陽光から与えられる熱を遮蔽して、電子回路が破壊されることを抑制する。具体的には、例えば、電子回路を本発明の遮熱フィルムで一部もしくは全部を覆う態様が有り得る。
(Use)
The heat-shielding film of the present invention is used for the purpose of protecting an electronic circuit from heat applied in the environment in which it is used. For example, the heat given from sunlight outdoors is shielded to prevent the electronic circuit from being destroyed. Specifically, for example, there may be a mode in which the electronic circuit is partially or entirely covered with the heat-shielding film of the present invention.

より好ましい態様としては、電子回路は筐体に収納し、かかる筐体に本発明の遮熱フィルムを用いる。例えばかかる筐体を本発明の遮熱フィルムで製造するか、筐体の表面に本発明の遮熱フィルムを貼り合わせて用いる態様が有り得る。ここで筐体は、金属製の筐体であると通信を阻害するため、電子回路が通信用電子回路である場合は、金属製でない、例えば木製や樹脂製の筐体が好ましく、特に樹脂製の筐体(樹脂筐体)が好ましい。
筐体への本発明の遮熱フィルムの貼り合わせは、例えば接着剤等を用いて貼り合わせることができる。
As a more preferred embodiment, the electronic circuit is housed in a housing, and the heat shielding film of the present invention is used in the housing. For example, there may be an embodiment in which such a case is manufactured using the heat-shielding film of the present invention, or the heat-shielding film of the present invention is bonded to the surface of the case. Here, since the housing is a metal housing, communication is hindered. Therefore, when the electronic circuit is a communication electronic circuit, a non-metal, for example, wooden or resin housing is preferable, and a resin housing is particularly preferable. The case (resin case) is preferable.
The heat shielding film of the present invention can be bonded to the housing using, for example, an adhesive.

本発明の遮熱フィルムは、特にスマートメーターに好適に用いられる。スマートメーターは、従来のアナログ式誘導型電力量計とは異なり、電力をデジタルで計測し、メーター内に通信機能を持たせた次世代電力量計である。通信機能により計測したデータを送信することができる。ここでは、主に電気メーターをスマートメーターと呼ぶが、ガスや水道などの同様の計測機も含む。主にスマートグリッド(英語:smart grid)などで、その通信機能を活用して、人による検針を含まない自動検針を行うほか、様々なサービスへの応用が期待されているものに好適である。
その他、本発明の遮熱フィルムは、遮熱性の効果を利用して、自動車用途、建材用途、包装用途などにも用いる事が出来る。
The thermal barrier film of the present invention is particularly suitably used for smart meters. The smart meter is a next-generation watt-hour meter that measures power digitally and has a communication function in the meter, unlike a conventional analog inductive watt-hour meter. Data measured by the communication function can be transmitted. Here, the electric meter is mainly called a smart meter, but includes a similar measuring instrument such as gas or water. It is suitable mainly for smart grids (English: smart grid) and the like that utilize their communication functions to perform automatic meter reading that does not include meter reading by humans, and are expected to be applied to various services.
In addition, the heat-shielding film of the present invention can be used for automobile applications, building material applications, packaging applications, and the like by utilizing the heat-shielding effect.

以下、実施例により本発明を詳述する。なお、各特性値は以下の方法で測定した。
(1)ボイドの個数、ボイドの高さ
集束イオン/電子ビーム加工装置(FIB−SEM)(日立ハイテクフィールディング社製S5200)を用い、Gaイオンビーム照射をしてFIB加工し、フィルム断面のSEM像を得る。SEM像は、フィルムのMD方向に平行な断面、および、TD方向に平行な断面につき、それぞれ任意の箇所の3画像ずつ、倍率20000倍にて得た。このとき、SEM像にはフィルム最表面が入らないようにした。また、積層フィルムの場合は、樹脂層についてのSEM像が得られるようにし、支持層が入らないようにした。また、装置へのサンプルセット時に、写真の縦方向がフィルムの厚み方向と平行となるようにした。
Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples. Each characteristic value was measured by the following method.
(1) Number of Voids, Void Height Using a focused ion / electron beam processing device (FIB-SEM) (S5200, manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.), performing GaB beam irradiation and FIB processing, SEM image of film cross section Get. SEM images were obtained at a magnification of 20,000 times for each of three images at arbitrary positions on the cross section parallel to the MD direction of the film and the cross section parallel to the TD direction. At this time, the outermost surface of the film was prevented from entering the SEM image. In the case of a laminated film, an SEM image of the resin layer was obtained so that the support layer did not enter. In addition, when the sample was set in the apparatus, the vertical direction of the photograph was made parallel to the thickness direction of the film.

各SEM像において、幅方向中央に、フィルム厚み方向と平行に1本の直線(21)を引き、かかる中央の直線と写真の幅方向端(23)との中央に左右1本ずつ、フィルム厚み方向と平行に直線(22)を引き、合計3本の厚み方向に平行な直線を引いた(図2参照)。
上記で記入した直線に重なるボイドであって、厚み方向の高さが0.1〜5.0μmであるボイドの個数をぞれぞれカウントし、MD方向、TD方向の全データ(MD方向のSEM像3枚から、それぞれ直線3本分のデータおよびTD方向のSEM像3枚から、それぞれ直線3本分のデータで、合計18データ)の平均値を算出し、またSEM像における縦の長さを厚みとし、100μm長さ当りのボイドの個数(個/100μm)を算出した。
ここでボイドの高さは、ボイドと直線が重なる部分のボイドの高さとした。また、SEM像中のスケールによりサイズを求めた。
In each SEM image, a straight line (21) is drawn in the center in the width direction in parallel with the film thickness direction, and one film is formed on the left and right in the center between the center straight line and the width direction end (23) of the photograph. A straight line (22) was drawn parallel to the direction, and a total of three straight lines parallel to the thickness direction were drawn (see FIG. 2).
The number of voids that overlap the straight line entered above and whose height in the thickness direction is 0.1 to 5.0 μm is counted, and all data in the MD direction and TD direction (MD direction From three SEM images, the average value of data for three straight lines and three SEM images in the TD direction, respectively, and three straight lines for each, a total of 18 data) is calculated. The thickness was taken as the thickness, and the number of voids per 100 μm length (pieces / 100 μm) was calculated.
Here, the height of the void is the height of the void where the void and the straight line overlap. Moreover, the size was calculated | required with the scale in a SEM image.

(2)フィルム厚み、フィルム各層の厚み
フィルムサンプルを三角形に切り出し、包埋カプセルに固定後、エポキシ樹脂にて包埋した。そして、包埋されたフィルムサンプルをミクロトーム(ULTRACUT−S)で縦方向に平行な断面を薄膜切片にした後、光学顕微鏡を用いて観察撮影し、写真から各層の厚み比を測定し、フィルム全体の厚みを断面から確認した上で、各層の厚み比から計算して各層の厚みを求めた。
(2) Film thickness, thickness of each film layer A film sample was cut into a triangle, fixed to an embedded capsule, and then embedded with an epoxy resin. And after making the cross section parallel to a vertical direction into a thin film section with a microtome (ULTRACUT-S), the film sample which was embedded was observed and photographed using the optical microscope, the thickness ratio of each layer was measured from the photograph, and the whole film The thickness of each layer was calculated from the thickness ratio of each layer.

(3)遮熱性
図1の通り、ハロゲンランプ(ウシオライティング製JDR110V/40WLM/K50W Type)(11)から9cm位置に、A3サイズの評価用サンプル(12)を配し、その裏面(ハロゲンランプとは反対側の面)にA3サイズ、厚さ2mmのポリカーボネート製プレート(13)を合わせて接して配し、さらにその裏(ハロゲンランプとは反対側)、ハロゲンランプから9.5cm位置にA5サイズの黒画用紙(厚み0.25mm)(14)を、評価用サンプルおよびポリカーボネート製プレートの中央部に配した。そのさらに裏にはサーモグラフィー(15)を配し、黒画用紙の裏面(ハロゲンランプとは反対側の面)の中央部の温度変化を計測できるようにした。
ハロゲンランプ照射後、10分後の黒画用紙の中央部の温度をサーモグラフィーにて読み取り、かかる値を遮熱性の評価結果とした。なお測定は、室温25℃、相対湿度50±10%の室内において行った。
(3) Heat shielding property As shown in FIG. 1, an evaluation sample (12) of A3 size was placed at a position 9 cm from a halogen lamp (JDR110V / 40WLM / K50W Type manufactured by USHIO LIGHTING) (11), and its back surface (with a halogen lamp A3 size, 2mm thick polycarbonate plate (13) is aligned and in contact with the opposite side), and the back side (the opposite side of the halogen lamp), A5 size at 9.5cm from the halogen lamp Black paper (thickness 0.25 mm) (14) was placed in the center of the evaluation sample and polycarbonate plate. Furthermore, a thermography (15) is arranged on the back side so that the temperature change at the center of the back side of the black drawing paper (the side opposite to the halogen lamp) can be measured.
The temperature at the center of the black drawing paper 10 minutes after the halogen lamp irradiation was read by thermography, and this value was used as the evaluation result of the heat shielding property. The measurement was performed in a room with a room temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50 ± 10%.

[実施例1]
(硫酸バリウム粒子1の製造)
硫化バリウムの黒色の焙焼物(ブラックアッシュとも言う)330kgおよび水1000Lを反応容器に入れ、撹拌しながらこれに9モル濃度の塩酸を塩化バリウムに対して当量加えて反応させ、続けて撹拌しながらエアレーションを行い、不溶解残渣を濾別し、塩化バリウムとして1.2モル濃度の塩化バリウム水溶液1300Lを得た。この溶液を45℃に保ち、18モル濃度の硫酸95Lを加え、引き続いて4時間撹拌して、生成した懸濁液を濾過し、得られた含水ケーキを水洗、乾燥し、400kgの硫酸バリウム粒子1を得た。硫酸バリウム粒子1を100個任意に選択し、走査型電子顕微鏡(日立ハイテクフィールディング社製S5200)を用いて20000倍で撮影したSEM像の平均サイズを算出したところ、得られた硫酸バリウム粒子1の平均粒子径は1.2μmであった。
[Example 1]
(Production of barium sulfate particles 1)
330 kg of black roasted barium sulfide (also called black ash) and 1000 L of water are placed in a reaction vessel, and while stirring, an equivalent amount of 9 molar hydrochloric acid is added to barium chloride, followed by stirring. Aeration was performed, and the insoluble residue was separated by filtration to obtain 1300 L of a 1.2 molar aqueous barium chloride solution as barium chloride. The solution was kept at 45 ° C., and 95 L of 18 molar sulfuric acid was added, followed by stirring for 4 hours, the resulting suspension was filtered, and the resulting hydrous cake was washed with water and dried to give 400 kg of barium sulfate particles. 1 was obtained. When 100 barium sulfate particles 1 were arbitrarily selected and the average size of SEM images taken at a magnification of 20000 using a scanning electron microscope (S5200 manufactured by Hitachi High-Tech Fielding) was calculated, the obtained barium sulfate particles 1 were obtained. The average particle size was 1.2 μm.

(ポリエステルの製造)
テレフタル酸ジメチル132質量部、イソフタル酸ジメチル18質量部(ポリエステルの全酸成分に対して12モル%となる。)、エチレングリコール96質量部、ジエチレングリコール3.0質量部、酢酸マンガン0.05質量部、酢酸リチウム0.012質量部を精留塔、留出コンデンサを備えたフラスコに仕込み、撹拌しながら150〜235℃に加熱しメタノールを留出させエステル交換反応を行った。メタノールが留出した後、リン酸トリメチル0.03質量部、二酸化ゲルマニウム0.04質量部を添加し、反応物を反応器に移した。ついで撹拌しながら反応器内を徐々に0.5mmHgまで減圧するとともに290℃まで昇温し重縮合反応を行い、共重合ポリエステルを得た。
(Manufacture of polyester)
132 parts by mass of dimethyl terephthalate, 18 parts by mass of dimethyl isophthalate (12 mol% with respect to the total acid component of the polyester), 96 parts by mass of ethylene glycol, 3.0 parts by mass of diethylene glycol, 0.05 parts by mass of manganese acetate Then, 0.012 parts by mass of lithium acetate was charged into a rectification column and a flask equipped with a distillation condenser, and heated to 150 to 235 ° C. with stirring to distill methanol to conduct a transesterification reaction. After methanol was distilled, 0.03 parts by mass of trimethyl phosphate and 0.04 parts by mass of germanium dioxide were added, and the reaction product was transferred to the reactor. Then, while stirring, the pressure in the reactor was gradually reduced to 0.5 mmHg, and the temperature was raised to 290 ° C. to carry out a polycondensation reaction to obtain a copolyester.

(フィルムの製造)
上記で得られた共重合ポリエステルを樹脂層(層Aとする。)に用い、表1に示す含有量となるように上記で得られた硫酸バリウム粒子1を添加し層Aの原料とした。また、上述の共重合ポリエステルを支持層(層Bとする。)に用い、同じく表1に示す含有量となるように上記で得られた硫酸バリウム粒子1を添加して層Bの原料とした。
それぞれ280℃に加熱された2台の押出機に供給し、層A原料および層B原料を層B/層A/層Bの構成、および表1に示す厚み比率となるように3層フィードブロック装置を使用して合流させ、その積層状態を保持したままダイスよりシート状に成形した。さらにこのシートを表面温度25℃の冷却ドラムで冷却固化し、得られた未延伸フィルムを温度90℃にて倍率3.0倍で縦方向に延伸し、25℃のロール群で冷却した。続いて、フィルムの両端をクリップで保持しながらテンターに導き、予熱ゾーンにて予熱しながら120℃に加熱された雰囲気中にて倍率3.7倍で横方向に延伸した。その後テンター内で190℃の温度で熱固定を行い、縦方向の弛緩1.5%、横方向の幅入れ2%を行い、室温まで冷やして、二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表1に示す。
(Film production)
The copolymer polyester obtained above was used for the resin layer (referred to as layer A), and the barium sulfate particles 1 obtained above were added so as to have the contents shown in Table 1 to obtain the raw material of layer A. In addition, the above-described copolymer polyester was used for the support layer (referred to as layer B), and the barium sulfate particles 1 obtained above were added so as to have the contents shown in Table 1 to obtain the raw material for layer B. .
Feed to two extruders each heated to 280 ° C., and feed the layer A raw material and the layer B raw material into a layer B / layer A / layer B structure and a thickness ratio shown in Table 1 in a three-layer feed block They were merged using an apparatus, and formed into a sheet form from a die while maintaining the laminated state. Further, this sheet was cooled and solidified with a cooling drum having a surface temperature of 25 ° C., and the obtained unstretched film was stretched in the machine direction at a magnification of 3.0 times at a temperature of 90 ° C. and cooled with a roll group at 25 ° C. Subsequently, both ends of the film were guided to a tenter while being held with clips, and stretched in the transverse direction at a magnification of 3.7 times in an atmosphere heated to 120 ° C. while preheating in a preheating zone. Thereafter, heat setting was performed at a temperature of 190 ° C. in a tenter, longitudinal relaxation was 1.5%, lateral width was 2%, and the mixture was cooled to room temperature to obtain a biaxially stretched film. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.

[実施例2]
(硫酸バリウム粒子2の製造)
上記、実施例1における硫酸バリウム粒子1の製造において、4時間の撹拌反応時間を3時間に短くし、懸濁液を濾過する以外は同様に作成した。得られた硫酸バリウム粒子2の平均粒子径は0.7μmであった。
[Example 2]
(Production of barium sulfate particles 2)
In the production of the barium sulfate particles 1 in Example 1, the stirring reaction time for 4 hours was shortened to 3 hours, and the suspension was filtered. The average particle diameter of the obtained barium sulfate particles 2 was 0.7 μm.

(フィルムの製造)
かかる硫酸バリウム粒子2を用いる以外は実施例1と同様にして二軸延伸フィルムを得た。評価結果を表1に示す。
(Film production)
A biaxially stretched film was obtained in the same manner as in Example 1 except that such barium sulfate particles 2 were used. The evaluation results are shown in Table 1.

[実施例3]
(炭酸カルシウム粒子1の製造)
石灰石を焼成して得られた生石灰を水に溶解して消石灰スラリーとし、炭酸ガスと反応させ炭酸カルシウムを合成した。該炭酸カルシウム水スラリーを篩で異物、並びに粗大粒子除去を行った後に、該炭酸カルシウム水スラリーをオストワルド熟成により粒子成長を行わせ、炭酸カルシウム粒子を得た。
次に、リン酸トリメチルを炭酸カルシウム固形分に対し2質量%添加を行い表面処理し、その後、脱水・乾燥・解砕し、更に得られた乾粉を風力分級機で分級を行い、表面処理された炭酸カルシウム粉体を得てこれを炭酸カルシウム粒子1とした。この粒子の平均粒子径を測定すると0.6μmであった。
[Example 3]
(Production of calcium carbonate particles 1)
Quick lime obtained by firing limestone was dissolved in water to form a slaked lime slurry, and reacted with carbon dioxide to synthesize calcium carbonate. The calcium carbonate aqueous slurry was subjected to foreign matter and coarse particle removal with a sieve, and then the calcium carbonate aqueous slurry was subjected to particle growth by Ostwald ripening to obtain calcium carbonate particles.
Next, 2% by mass of trimethyl phosphate is added to the calcium carbonate solid content to surface-treat, then dehydrated, dried and crushed, and the resulting dry powder is classified with an air classifier and surface-treated. Calcium carbonate particles 1 were obtained. The average particle size of the particles was measured to be 0.6 μm.

(フィルムの製造)
硫酸バリウム粒子1に代えて上記で得られた炭酸カルシウム粒子1を表1に示す量で用いる以外は、実施例1と同様にして二軸延伸フィルムフィルムを得た。評価結果を表1に示す。
(Film production)
A biaxially stretched film film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the calcium carbonate particles 1 obtained above were used in the amounts shown in Table 1 instead of the barium sulfate particles 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[実施例4]
表1に示す通り炭酸カルシウム粒子1の添加量を調整した以外は、実施例3と同様にして二軸延伸フィルムを作成し、評価を行った。
[Example 4]
A biaxially stretched film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 3 except that the amount of calcium carbonate particles 1 added was adjusted as shown in Table 1.

[実施例5]
三井化学社製ポリ−4−メチルペンテン−1(PMP)の中で、メルトフローレート(MFR)=230g/10minのものを用意し、硫酸バリウム粒子1に代えてこれを表1に示す割合となるよう添加し、その他は実施例1と同様にして二軸延伸フィルムを作成した。評価結果を表1に示す。
[Example 5]
Among poly-4-methylpentene-1 (PMP) manufactured by Mitsui Chemicals, a melt flow rate (MFR) = 230 g / 10 min is prepared, and the ratio shown in Table 1 is used instead of barium sulfate particles 1 A biaxially stretched film was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above. The evaluation results are shown in Table 1.

[実施例6]
MFR=15g/10minのポリプロピレン(PP)を用意し、硫酸バリウム粒子1に代えてこれを表1に示す割合となるよう添加し、その他は実施例1と同様にして二軸延伸フィルムを作成した。評価結果を表1に示す。
[Example 6]
A polypropylene (PP) with MFR = 15 g / 10 min was prepared, added in place of the barium sulfate particles 1 so as to have the ratio shown in Table 1, and other than that, a biaxially stretched film was prepared in the same manner as in Example 1. . The evaluation results are shown in Table 1.

[比較例1、3、4]
表1に示す通りの態様とし、その他は実施例1と同様にして二軸延伸フィルムを作成した。それぞれの評価結果を表1に示す。
[Comparative Examples 1, 3, 4]
A biaxially stretched film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the embodiment was as shown in Table 1. Each evaluation result is shown in Table 1.

[比較例2]
(硫酸バリウム粒子3の製造)
バライト粉を粉砕したものを風力分級により平均粒子径が7μmとなるように調整し硫酸バリウム粒子3を得た。平均粒子径は電子顕微鏡で確認を行った。
[Comparative Example 2]
(Production of barium sulfate particles 3)
A barium powder pulverized was adjusted by wind classification so that the average particle size became 7 μm, and barium sulfate particles 3 were obtained. The average particle diameter was confirmed with an electron microscope.

(フィルムの製造)
層Aのボイド核剤として、硫酸バリウム粒子1に代えて硫酸バリウム粒子3を用い、表1に示す通りの組成とする以外は実施例1と同様にして二軸延伸フィルムを作成し、評価を行った。
(Film production)
A biaxially stretched film was prepared in the same manner as in Example 1 except that barium sulfate particles 3 were used in place of barium sulfate particles 1 as the void nucleating agent for layer A, and the composition was as shown in Table 1. went.

[参考例1]
ポリカーボネート製プレートの光源側にフィルムを設置せずに測定を行った。評価結果を表1に示す。
[Reference Example 1]
Measurement was carried out without installing a film on the light source side of the polycarbonate plate. The evaluation results are shown in Table 1.

本発明の遮熱フィルムは、電子回路保護用遮熱フィルムとして好適に用いることができ、その産業上の利用可能性は高い。   The heat shield film of the present invention can be suitably used as a heat shield film for protecting an electronic circuit, and its industrial applicability is high.

11 ハロゲンランプ
12 評価用サンプル
13 ポリカーボネート製プレート
14 黒画用紙
15 サーモグラフィー
21 中央の直線
22 左右1本ずつの直線
23 幅方向端
24 幅方向
25 厚み方向
11 Halogen Lamp 12 Evaluation Sample 13 Polycarbonate Plate 14 Black Drawing Paper 15 Thermography 21 Straight Line 22 in the Center Left and Right Straight Lines 23 Width Direction Edge 24 Width Direction 25 Thickness Direction

Claims (3)

樹脂組成物からなりボイドを含有する樹脂層を有するフィルムであって、前記樹脂層は、厚みが50μm以上であり、厚さ方向において、厚さ100μmあたりのボイドの個数が50〜500個/100μmである、電子回路保護用遮熱フィルム。   A film comprising a resin composition and having a resin layer containing voids, wherein the resin layer has a thickness of 50 μm or more, and the number of voids per 100 μm thickness in the thickness direction is 50 to 500/100 μm. A thermal barrier film for protecting electronic circuits. 上記樹脂層は、厚さ方向において、高さ0.1〜5.0μmのボイドの個数が厚さ100μmあたり50〜500個/100μmである、請求項1に記載の電子回路保護用遮熱フィルム。   2. The thermal barrier film for protecting an electronic circuit according to claim 1, wherein the number of voids having a height of 0.1 to 5.0 μm is 50 to 500/100 μm per 100 μm thickness in the thickness direction. . 通信用電子回路保護用である、請求項1または2に記載の電子回路保護用遮熱フィルム。   The heat shielding film for protecting an electronic circuit according to claim 1 or 2, which is used for protecting an electronic circuit for communication.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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