JP2018049196A - Display and driving circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は表示装置あるいは駆動回路基板にドライバICを実装した場合のストレスによる基板の変形を防止する構成に関する。 The present invention relates to a structure for preventing deformation of a substrate due to stress when a driver IC is mounted on a display device or a drive circuit substrate.
液晶表示装置や有機EL表示装置は駆動回路にドライバICを用いる。ドライバICは、液晶表示装置等の基板に、直接実装する場合や駆動回路基板等を介して実装する場合がある。液晶表示装置や有機EL表示装置では、TFTや画素電極等が形成されたTFT基板は、従来はガラスで形成されてきたが、表示装置をフレキシブルにするために、TFT基板をポリイミド等の樹脂で形成する場合もある。 A liquid crystal display device or an organic EL display device uses a driver IC as a drive circuit. The driver IC may be directly mounted on a substrate such as a liquid crystal display device or may be mounted via a drive circuit substrate or the like. In a liquid crystal display device or an organic EL display device, a TFT substrate on which TFTs, pixel electrodes, and the like are conventionally formed of glass, but in order to make the display device flexible, the TFT substrate is made of a resin such as polyimide. Sometimes it forms.
いずれにしても、ドライバICと、TFT基板あるいは駆動回路基板とでは、熱膨張係数が異なるために、ドライバICの接続部付近では、基板およびドライバICにストレスがかかり、基板あるいはドライバICのクラックや反り変形を引き起こす。 In any case, since the thermal expansion coefficient differs between the driver IC and the TFT substrate or the drive circuit substrate, stress is applied to the substrate and the driver IC near the connection portion of the driver IC, and cracks in the substrate or the driver IC Causes warping deformation.
特許文献1には、ガラスで形成されたTFT基板に種々の部品が実装された場合に、TFT基板にクラックが形成されることを防止するために、TFT基板の裏側にあらかじめ溝等を形成し、この溝部分でガラスに加わるストレスを吸収する構成が記載されている。
In
特許文献2には、TFT基板にドライバICを実装した場合、ドライバICの接続部において、TFT基板にかかるストレスを緩和するために、ガラスで形成されたTFT基板の内部に空洞を形成し、この空洞によって、ストレスを吸収する構成が記載されている。
In
液晶表示装置や有機EL表示装置は厚さを小さくすることが要求されている。これらの表示装置において、厚さに対して大きな影響を与えるのが、ガラスで形成されたTFT基板、あるいは対向基板の厚さである。ガラス基板は、通常は0.7mmあるいは0.5mm程度に規格化されている。しかし、表示装置を薄くするために、TFT基板あるいは対向基板を研磨して、0.2mmあるいは0.1mm程度にまで研磨する。さらに表示装置を薄くしてフレキシブルな表示装置とするために、TFT基板等をポリイミド等の樹脂で形成する場合もある。 Liquid crystal display devices and organic EL display devices are required to have a small thickness. In these display devices, it is the thickness of the TFT substrate formed of glass or the counter substrate that greatly affects the thickness. The glass substrate is usually standardized to about 0.7 mm or 0.5 mm. However, in order to make the display device thin, the TFT substrate or the counter substrate is polished to about 0.2 mm or 0.1 mm. Further, in order to make the display device thin and flexible, a TFT substrate or the like may be formed of a resin such as polyimide.
ガラス基板及び樹脂基板のいずれにしても、ドライバICとは熱膨張係数が異なる。また、ドライバICは、TFT基板には、異方性導電膜(ACF)を用いて熱圧着される。そうすると、ドライバICのほうが、より温度が上昇し、ドライバICの熱膨張量がTFT基板の熱膨張量よりも大きくなる。そうすると、ドライバICの温度が常温に戻ると、発生した応力のために、TFT基板が変形するという問題が生ずる。 Either the glass substrate or the resin substrate has a thermal expansion coefficient different from that of the driver IC. The driver IC is thermocompression bonded to the TFT substrate using an anisotropic conductive film (ACF). Then, the temperature of the driver IC rises more, and the amount of thermal expansion of the driver IC becomes larger than the amount of thermal expansion of the TFT substrate. Then, when the temperature of the driver IC returns to room temperature, there arises a problem that the TFT substrate is deformed due to the generated stress.
基板の変形はそれ自体が問題であるが、ドライバICが表示領域の近くに実装されると、TFT基板の変形による影響が表示領域にまでおよび、表示領域の色むらや輝度むら等の原因になる。この問題は、特にTFT基板の厚さが小さくなると発生しやすい。また、駆動回路基板は、樹脂で形成され、厚さが30μm程度であるので、ドライバICを実装した場合の変形量が大きくなる。そうすると、製造歩留りの低下、製品の変形による信頼性の低下が問題となる。 The deformation of the substrate itself is a problem, but if the driver IC is mounted near the display area, the influence of the deformation of the TFT substrate extends to the display area, causing unevenness of color or brightness of the display area. Become. This problem is likely to occur especially when the thickness of the TFT substrate is reduced. Further, since the drive circuit board is made of resin and has a thickness of about 30 μm, the amount of deformation when the driver IC is mounted becomes large. If it does so, the fall of the manufacturing yield and the reliability fall by the deformation | transformation of a product will become a problem.
本発明の課題は、ドライバICをTFT基板あるいは駆動回路基板に実装した場合の基板の変形量を小さくすることにより、表示品質の低下の防止、製品の信頼性の低下を防止することである。 An object of the present invention is to prevent deterioration in display quality and product reliability by reducing the deformation amount of a substrate when a driver IC is mounted on a TFT substrate or a drive circuit substrate.
(1)表示領域と端子部が形成された第1の基板を有する表示装置であって、前記端子部には長辺と短辺を有するドライバICが異方性導電膜を介して実装され、前記ドライバICの短辺に対応する部分の前記第1の基板には、凹部が形成されていることを特徴とする表示領域。 (1) A display device having a first substrate on which a display region and a terminal portion are formed, wherein a driver IC having a long side and a short side is mounted on the terminal portion via an anisotropic conductive film, A display area, wherein a concave portion is formed in the first substrate corresponding to the short side of the driver IC.
(2)表示装置に接続するドライバICが実装された駆動回路基板であって、前記ドライバICは長辺と短辺を有しており、異方性導電膜を介して前記駆動回路基板と接続しており、前記ドライバICの短辺に対応する部分の前記駆動回路基板には、凹部が形成されていることを特徴とする駆動回路基板。 (2) A drive circuit board on which a driver IC connected to a display device is mounted, the driver IC having a long side and a short side, and connected to the drive circuit board via an anisotropic conductive film. In addition, a concave portion is formed in the drive circuit board corresponding to the short side of the driver IC.
以下、実施例によって本発明の内容を詳細に説明する。 Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail by way of examples.
図1は、本実施例における液晶表示装置の平面図である。図1において、TFT基板100と対向基板200が対向して配置され、TFT基板100と対向基板200の間に液晶が挟持されている。
FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device according to this embodiment. In FIG. 1, the
以下、実施例では、表示装置の短辺方向を第1方向Xとし、第1方向Xと垂直な方向を第2方向Yとし、第1方向X及び第2方向Yに垂直な方向を第3方向Zとする。また本実施例では、第3方向Zの正の向き、あるいは、TFT基板100から対向基板200に向かう方向を上又は上側とし、第3方向Zの負の向き、あるいは、対向基板200からTFT基板100に向かう方向を下又は下側とする。
Hereinafter, in the embodiment, the short side direction of the display device is a first direction X, a direction perpendicular to the first direction X is a second direction Y, and a direction perpendicular to the first direction X and the second direction Y is a third direction. Let it be direction Z. In this embodiment, the positive direction in the third direction Z or the direction from the
図1に示すように、液晶表示装置は、表示領域10と周辺領域20とを有している。周辺領域20にはTFT基板100と対向基板200とを接着するシール材が配置しており、シール材によって囲まれた領域に液晶が封入されている。表示領域10には画素電極やTFT(Thin Film Transistor)を有する画素がマトリクス状に形成されている。
As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device has a
TFT基板100は対向基板200よりも大きく形成され、TFT基板100が対向基板200と重なっていない部分に端子部30が形成されている。端子部30には、映像信号等を供給するドライバIC40が実装されている。また、端子部30には、液晶表示装置に外部から信号や電力を供給するための駆動回路基板80が接続される。TFT基板100は、ドライバIC40の第1方向Xにおける端部に対応する位置、つまりは、ドライバIC40の短辺の位置に凹部60が形成されている。図1に示した例では、凹部60はドライバIC40と重なる位置に形成されている。この凹部60は、ドライバIC40とTFT基板100の接続時に発生するストレスを緩和して、TFT基板100の変形を防止するためのものである。
The
図2は、TFT基板100の端子部30に熱圧着によってドライバIC40を接続する状態を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where the
液晶表示装置は受台1200に載置され、端子部30はバックアップステージ1100に載置されている。この状態において、圧着ヘッド1000に、矢印の方向に圧力が加えられ、同時にドライバIC40が圧着ヘッド1000によって150℃程度に加熱される。熱圧着は異方性導電膜(ACF)を介して行われ、ACFが冷えて、ある温度に達するとACFが硬化してドライバICとTFT基板が接着する。
The liquid crystal display device is placed on the
図3は熱圧着におけるドライバICの上面の温度変化の例である。図3において、横軸が時間、縦軸がドライバIC上面の温度である。図3において、ドライバICの上面は、圧着ヘッドを押し当てて12秒後に150℃に達する。この時、ACFは軟化して、ACF内の導電粒子によってTFT基板に形成された端子とドライバICのバンプが電気的に接続する。その後、圧着ヘッドを離すとドライバICは冷却し、冷却の過程において、ACFが硬化し、ドライバICと基板が物理的に接着する。この時、ドライバICとTFT基板との接着部において、ストレスが発生する。 FIG. 3 shows an example of the temperature change of the upper surface of the driver IC in thermocompression bonding. In FIG. 3, the horizontal axis represents time, and the vertical axis represents the temperature of the upper surface of the driver IC. In FIG. 3, the upper surface of the driver IC reaches 150 ° C. 12 seconds after the pressing head is pressed. At this time, the ACF is softened, and the terminals formed on the TFT substrate and the bumps of the driver IC are electrically connected by the conductive particles in the ACF. Thereafter, when the pressure bonding head is released, the driver IC is cooled, and in the course of cooling, the ACF is cured and the driver IC and the substrate are physically bonded. At this time, stress is generated at the bonding portion between the driver IC and the TFT substrate.
図4は、本実施例を適用していない液晶表示装置にドライバICを熱圧着する工程を示す断面図である。図4は液晶表示パネルを駆動回路基板80側から視た端子部30の断面図である。図4(A)において、TFT基板100の端子部30にACF50が配置され、その上にドライバIC40が配置されている。ドライバIC40のバンプ41はTFT基板100に形成された端子と対応するように位置合わせされている。なお、以下の説明では、ドライバIC40の線膨張係数は3.53×10−6/℃、TFT基板100の線膨張係数は3.80×10−6/℃であると仮定している。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a process of thermocompression bonding a driver IC to a liquid crystal display device to which this embodiment is not applied. FIG. 4 is a cross-sectional view of the
図4(B)は、ドライバIC40の上にテフロン(登録商標)等で形成された緩衝シート1010を介して圧着ヘッド1000によってドライバIC40を熱圧着している状態を示す断面図である。ドライバICは150℃程度まで加熱されるので、熱膨張量は大きく、例えばδaである。一方、TFT基板100も膨張するが、TFT基板100側は、ドライバIC40ほど温度は上昇しないので、熱膨張量はδbである。図4(B)に示す矢印は、ドライバIC40あるいはTFT基板100の熱膨張の方向と量を示すものである。ACF50は温度が上昇するにしたがって軟化し、温度が低下するにしたがって硬化し、ドライバIC40とTFT基板100を接着する。
FIG. 4B is a cross-sectional view showing a state in which the
図4(C)は、ACF50が硬化する温度において、ドライバIC40が受けている歪の量とTFT基板100が受けている歪の量の比較を示す断面図である。図4(C)に示す矢印は、ACF50が硬化するまでにドライバIC40あるいはTFT基板100が収縮する方向と量を示している。ACF50が硬化した時点において、ドライバIC40にはTFT基板100に対してδCだけ歪が残る。この歪が原因で、図4(D)に示すように、TFT基板100がz1だけ湾曲する。
FIG. 4C is a cross-sectional view showing a comparison between the amount of strain received by the
このような湾曲が生ずると、液晶表示装置に組み込む際に、寸法的に問題を生ずることがある。さらに、TFT基板100に歪が生ずることによって、この歪が表示領域に影響を及ぼし、局所的な色むらあるいは輝度むらを生ずる。
When such a curvature occurs, there may be a problem in dimensions when it is incorporated into a liquid crystal display device. Further, when the
図5は本実施例を適用した液晶表示パネルにドライバICを熱圧着する工程の一部を示す断面図である。図5(A)は、TFT基板100の端子部にACF50とドライバIC40が配置されている断面図である。図5(A)が図4(A)と異なる点は、ドライバIC40の端部に対応する位置において、TFT基板100に凹部60が形成されていることである。ドライバIC40を熱圧着によってTFT基板100に接続することは図4(B)で説明したのと同様である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a part of the process of thermocompression bonding the driver IC to the liquid crystal display panel to which this embodiment is applied. FIG. 5A is a cross-sectional view in which the
図5(B)は、ドライバIC40が熱圧着後の状態を示す断面図である。熱圧着時におけるドライバIC40の温度とTFT基板100の温度の差による熱膨張の差によって、TFT基板100が撓むが、撓み量z2は、図4に示す撓み量z1よりも小さくなっており、液晶表示装置の組み立てに問題がない程度、あるいは、表示領域に局所的な輝度むらや色むらが生じない程度に抑えられている。
FIG. 5B is a cross-sectional view showing the state after the
図6は、本実施例の他の例を適用した液晶表示パネルにドライバICを熱圧着する工程の一部を示す断面図である。図6(A)は、TFT基板100の端子部にACF50とドライバIC40が配置されている断面図である。図6(A)が図5(A)と異なる点は、ドライバIC40の端部に対応するTFT基板100に貫通孔70が形成されていることである。ドライバIC40を熱圧着によってTFT基板100に接続することは図4(B)で説明したのと同様である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a part of a process of thermocompression bonding a driver IC to a liquid crystal display panel to which another example of this embodiment is applied. FIG. 6A is a cross-sectional view in which the
図6(B)は、ドライバIC40が熱圧着後の状態を示す断面図である。熱圧着時におけるドライバIC40の温度とTFT基板100の温度差に起因する熱膨張差によって、TFT基板100が撓むが、撓み量z3は、図4に示す撓み量z1よりも小さくなっており、さらに、図5に示す撓み量z2よりも小さくなっている。貫通孔70は、応力解放の効果がより大きいからである。
FIG. 6B is a cross-sectional view showing the state after the
図5における凹部60及び図6における貫通孔70はレーザ照射あるいはエッチングによって形成することが出来る。ガラス基板100の場合、ガラスによって吸収される波長のレーザを、凹部60もしくは貫通孔70を形成する部分に焦点を当てて照射し、この部分においてガラスを蒸発させる。また、フォトリソグラフィを用いて、必要な部分のみエッチングすることによって凹部60もしくは貫通孔70を形成することが出来る。一般的には、液晶表示パネルが完成した後、ドライバIC40を接続する前に凹部60もしくは貫通孔70を形成する。
The
基板がガラスでなく、樹脂である場合も基本的には同様である。すなわち、レーザ照射あるいはフォトリソグラフィによって、樹脂基板に凹部もしくは貫通孔を形成することが出来る。 This is basically the same when the substrate is not glass but resin. That is, a recess or a through hole can be formed in the resin substrate by laser irradiation or photolithography.
図7は、TFT基板100にドライバIC40が接続された状態を示す平面図である。なお図7では、液晶表示パネルの中心から片側の平面図を示している。熱圧着によるストレスは、ドライバIC40の第1方向Xにおける端部で大きくなる。図7(A)は、本実施例を適用していない端子部の平面図である。図7(A)において、ドライバIC40の長辺の長さの1/2が10.11mmであり、短辺の長さは1.467mmである。端子部30の第2方向Yにおける幅は3.335mmである。図7(A)の上側が、対向基板が配置されている側であり、対向基板の端部から0.4mm離れたところにドライバIC40が配置している。ドライバIC40の寸法、位置、端子部30の寸法等は、図7(B)乃至(E)においても同じである。図7(A)において、ドライバIC40を熱圧着した後、TFT基板100においてストレスが最も大きく現れる点は、ドライバIC40のコーナー部に対応するA1である。
FIG. 7 is a plan view showing a state where the
図7(B)は本実施例を適用した端子部の平面図である。図7(A)と異なる点は、ドライバIC40の短辺近傍に、TFT基板100に凹部60が形成されている点である。凹部60の寸法は、第2方向Yにおける幅が2.157、第1方向Xにおける幅が1.0mmである。凹部60の深さは、TFT基板100の厚さの1/3としている。この場合のTFT基板100において、ストレスが最も大きく現れる点はドライバIC40のコーナー部に対応するA2である。
FIG. 7B is a plan view of a terminal portion to which this embodiment is applied. A difference from FIG. 7A is that a
図7(C)は、本実施例の他の例を適用した端子部の平面図である。図7(B)と異なる点は、ドライバIC40と重なる位置、すなわち、ドライバIC40の最外端のバンプ41とドライバIC40の端部との間の領域に重なる位置に凹部60が形成されている点である。凹部60の寸法及び深さは、図7(B)の場合と同様である。この場合、TFT基板100においてストレスが最も大きくなる点は、凹部60とドライバIC40の長辺の交点であるA3である。
FIG. 7C is a plan view of a terminal portion to which another example of this embodiment is applied. A difference from FIG. 7B is that the
図7(D)は、本実施例の他の例を適用した端子部の平面図である。図7(B)と異なる点は、図7(B)では凹部60が形成されていた位置に、貫通孔70が形成されている点である。貫通孔70の寸法は、図7(B)における凹部60と同じである。また、図7(D)において、TFT基板100でストレスが最も大きく現れる点はドライバIC40のコーナー部に対応するA4であり、位置は図7(B)と同じである。
FIG. 7D is a plan view of a terminal portion to which another example of this embodiment is applied. A difference from FIG. 7B is that a through
図7(E)は、本実施例の他の例を適用した端子部の平面図である。図7(C)と異なる点は、図7(C)では凹部60が形成されていた位置に、貫通孔70が形成されている点である。貫通孔70の寸法は、図7(C)における凹部60の場合と同様である。この場合、TFT基板100においてストレスが最も大きくなる点は、貫通孔70とドライバIC40の長辺の交点であるA4であり、図7(C)の場合と位置は同じである。
FIG. 7E is a plan view of a terminal portion to which another example of this embodiment is applied. The difference from FIG. 7C is that a through
図8は、図7(A)乃至(E)における最大のストレスの値を比較した表である。すなわち、図8は、図7(A)乃至(E)の各々における最大のストレスを示す点であるA1乃至A5における、XY平面方向のせん断応力をMPa(メガパスカル)で表したものである。 FIG. 8 is a table comparing the maximum stress values in FIGS. 7A to 7E. That is, FIG. 8 represents the shear stress in the XY plane direction in terms of MPa (megapascal) at A1 to A5, which is the point indicating the maximum stress in each of FIGS. 7 (A) to (E).
本実施例を示す図8(B)乃至(E)は、本実施例を適用していない場合と比較して、ストレスはいずれも小さくなっており、ストレスによる表示領域における輝度むら及び色むらの発生を防止することが可能である。例えば、図8(C)では、図8(A)に比較して、ストレスは15%小さくなり、図8(E)では、図8(A)に比較して、ストレスは20%小さくなる。したがって、TFT基板の湾曲も抑えることができ、液晶モジュールの組み立てに対する影響を軽減することが出来る。 In FIGS. 8B to 8E showing the present embodiment, the stress is smaller than that in the case where the present embodiment is not applied, and luminance unevenness and color unevenness in the display region due to the stress are reduced. It is possible to prevent the occurrence. For example, in FIG. 8C, the stress is reduced by 15% compared to FIG. 8A, and in FIG. 8E, the stress is reduced by 20% compared to FIG. 8A. Therefore, the curvature of the TFT substrate can be suppressed, and the influence on the assembly of the liquid crystal module can be reduced.
図9は、本実施例の他の例を示す平面図である。図9はTFT基板100に形成された凹部60の形成領域をシール材が形成されている周辺領域20にまで延長させた例である。図9(A)は、TFT基板100の凹部60が、ドライバIC40と重なる位置に形成されている場合であり、図9(B)は、TFT基板100の凹部60が、ドライバIC40の短辺の位置に形成されている場合である。図9において、周辺領域20の端部は対向基板200の端部と一致しており、凹部60は対向基板200の端部から幅yだけ周辺領域20と重なって形成されている。
FIG. 9 is a plan view showing another example of this embodiment. FIG. 9 shows an example in which the formation region of the
凹部60が周辺領域20側に延長して形成されていること、すなわち、表示領域のより近くにまで形成されていることによって、表示領域側におけるストレスをさらに軽減することが出来る。したがって、図9の構成は、表示領域における局部的な輝度むら及び色むらを軽減する効果が大きい。図9において、凹部60の第2方向Yにおける幅は、シール材が形成されている領域の表示領域側の端部まで、延長させることが出来る。
Since the
図10は、凹部60の深さの例を示す断面図である。図10において、TFT基板100の上に2層の絶縁膜が形成されている。第1絶縁膜110及び第2絶縁膜120は、無機絶縁膜の場合もあるし、有機絶縁膜の場合もある。TFT基板100と絶縁膜110、120とを合わせた厚さがt1、凹部60におけるTFT基板100の厚さがt2である。図10において、t2/t1は0.9以下であることが望ましく、0.7以下であることがより好ましい。また、t2は貫通しない場合、1μm以上である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing an example of the depth of the
TFT基板100は、ガラス基板の場合もあるし、ポリイミド等の樹脂で形成されている場合もある。TFT基板100がガラス基板の場合、0.15mm程度であるが、ポリイミドで形成されている場合は、10μm乃至20μm程度である。ポリイミドは機械的に強いので、図10におけるt2は1μm程度でも必要な機械的な強度を保つことが出来る。
The
図11は、本実施例におけるTFT基板100、ドライバIC40、ACF50の関係を示す図である。図11(A)は平面図であり、TFT基板100の凹部60が、ドライバIC40と重なっている状態を示している。図11(A)において、ドライバIC40とTFT基板100の凹部60が重なっていない量dは3μm以上必要である。
FIG. 11 is a diagram showing the relationship among the
図11(B)は、熱圧着前の断面図である。図11(B)において、ACF50がドライバIC40とTFT基板100との間に存在している。図11(C)は、ドライバIC40及びACF50を加熱することによって、ACF50が軟化して、TFT基板100の凹部60に流動した状態を示している。図11(C)に示すように、ACF50が軟化して流動しても、ACF50をTFT基板100の凹部60内にとどめることが出来るので、ACF50が流動して広がることによる接続不良等を防止することが出来る。
FIG. 11B is a cross-sectional view before thermocompression bonding. In FIG. 11B, the
図12は、本実施例の他の例におけるTFT基板100、ドライバIC40、ACF50の関係を示す図である。図12(A)は平面図であり、TFT基板100の凹部60の端部とドライバIC40の端部が一致している状態を示している。図12(B)は、熱圧着前の断面図である。図12(B)において、ACF50がドライバIC40とTFT基板100との間に存在している。図12(C)は、ドライバIC40およびACF50を加熱することによって、ACF50が軟化して、TFT基板100の凹部60に流動した状態を示している。図12(C)に示すように、ACF50が軟化して流動しても、TFT基板100の凹部60内にとどめることが出来るので、ACF50による接続不良等を防止することが出来る。
FIG. 12 is a diagram showing a relationship among the
また、ガラス基板にレーザで凹部60を形成するような場合、凹部60において微小クラックが生ずる場合がある。微小クラックが存在すると、この部分において、クラックが進行し、TFT基板が割れてしまうおそれがある。図11及び図12に示すように、凹部60にACF50が流入すると、凹部60に存在している微小クラックをACF50の樹脂が埋め、クラックが進行することを防止することが出来る。
In addition, when the
図13は、本実施例における凹部60の形状の他の例を示す平面図である。図13において、シール材が形成された周辺領域20の外側にTFT基板100における端子部30が存在している。端子部30に形成された配線31はドライバIC40のバンプ41と接続している。図13に示した例では、配線31を挟んだ両側に凹部60が形成されている。この場合も、TFT基板100におけるせん断応力を低下させることが出来る。
FIG. 13 is a plan view showing another example of the shape of the
図14は、本実施例における凹部60の形状のさらに他の例を示す平面図である。図14において、シール材が形成された周辺部20の外側にTFT基板100における端子部30が存在している。端子部30に形成された配線31はドライバIC40のバンプ41と接続している。図14に示した例では、ドライバIC40のバンプ41の列の間に延在して凹部60が形成されている。この場合も、TFT基板100におけるせん断応力を低下させることが出来る。
FIG. 14 is a plan view showing still another example of the shape of the
図15は、本実施例における凹部60の形状のさらに他の例を示す平面図である。図15は、TFT基板100に形成された凹部60の平面形状が円である。端子部30に形成された配線31はドライバIC40のバンプ41と接続している点等は、図13及び図14と同じである。図15に示すように、TFT基板100に形成された凹部60の平面形状は矩形に限らず、円等の曲線形状であっても本発明の目的を達成することが出来る。
FIG. 15 is a plan view showing still another example of the shape of the
図16は、実施例2における表示装置2の平面図である。図16は、図1とほぼ同様の構成である。図1と異なる点は、図16に示した例は、有機EL表示装置であるという点である。つまり、表示領域10には有機EL層、駆動TFT、選択TFT等を有する画素がマトリクス状に形成されている。周辺領域20には、走査線駆動回路等が形成されている。
FIG. 16 is a plan view of the
図17は、図16のB−B断面図である。図17において、TFT基板100に形成された表示領域10には、有機EL層を含む発光層が形成され、これを覆ってSiNあるいはSiO等による保護層220が形成されている。保護層220を覆って偏光板230が張り付けられている。
17 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. In FIG. 17, in the
有機EL表示装置では、TFT基板100をポリイミド等の樹脂で形成する場合がある。ポリイミド基板は10μm乃至20μm程度であるから、ドライバIC40を熱圧着したことによるTFT基板100の変形は大きい。実施例1と同様に、ドライバIC40の短辺付近において、凹部60もしくは貫通孔70を形成することによって、ドライバIC40をTFT基板100に熱圧着したことによるストレスを緩和することができ、TFT基板100の変形を軽減することが出来る。特に、薄い樹脂基板を用いた有機EL表示装置では、効果は非常に大きい。凹部の位置、形状、貫通孔の位置、形状等は実施例1で説明したのと同様である。なお、液晶表示装置においても、TFT基板100をポリイミド等の樹脂で形成する場合がある。その場合も、実施例1及び実施例2と同様の構成を用いて、同様の効果を得ることができる。
In the organic EL display device, the
図18は、実施例3における表示装置の平面図である。図18は、ドライバIC40が駆動回路基板80を介して表示装置に接続されている点が図1及び図16とは異なっている。
FIG. 18 is a plan view of the display device according to the third embodiment. 18 is different from FIGS. 1 and 16 in that the
駆動回路基板80は、厚さが30μm程度のポリイミド基板で形成されている。一方、ドライバIC40は熱圧着によって駆動回路基板80に接続されるので、駆動回路基板80の変形が大きくなりやすい。そこで、実施例1及び実施例2と同様に、ドライバIC40の端部に対応する部分に凹部60もしくは貫通孔70を形成することによって、熱圧着によるストレスを緩和することが出来る。凹部もしくは貫通孔70の位置、形状等は実施例1で説明したのと同様である。
The
図19は、実施例4における表示装置の平面図である。図19において、表示領域を覆って対向基板が形成され、TFT基板と対向基板とは周辺領域20に形成されたシール材440によって接着している。ドライバIC40は、表示パネルの下側、つまり、TFT基板100の下に実装されている。また、ドライバIC40が実装されている部分は、平面で視て、シール材440と重複している。
FIG. 19 is a plan view of the display device according to the fourth embodiment. In FIG. 19, a counter substrate is formed so as to cover the display region, and the TFT substrate and the counter substrate are bonded together by a sealing
図20は、図19のC−C断面図である。図20において、TFT基板100上には配線410が形成され、その上に、TFT等を含むアレイ層400が形成されている。アレイ層上に、液晶表示装置であれば液晶材料が、有機EL表示装置であれば、有機EL層が形成される。対向基板200はシール材440によってTFT基板100と接着している。
20 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. In FIG. 20, a
平面で視て、シール材440が形成された領域と重複した位置に、TFT基板100にスルーホール430が形成されている。ドライバIC40は、スルーホール430を介して、ACF50によって、TFT基板100と接続する。この場合も、実施例1乃至3と同様に、ドライバIC40を熱圧着した際のストレスによってTFT基板100が変形することを防止するために、ドライバIC40の端部に対応する位置において、TFT基板100に凹部60を形成する。そのため、実施例1乃至実施例3と同様の効果を得ることが出来る。
A through
図20で示した例では、TFT基板100の下側にドライバIC40が直接実装される場合について記載しているが、実施例3で示したように、駆動回路基板80を介してドライバICが接続される場合でも適用することができる。その場合、駆動回路基板80は、実施例3と同様の構成をとなる。
In the example shown in FIG. 20, the case where the
1…液晶表示装置、 2…有機EL表示装置、 10…表示領域、 20…周辺領域、 30…端子部、 40…ドライバIC、 41…バンプ、 50…ACF、 60…凹部、 70…貫通孔、 80…駆動回路基板、 100…TFT基板、 110…第1絶縁膜、 120…第2絶縁膜、 200…対向基板、 220…保護層、230…偏光板、 400…アレイ層、 410…配線、 430…スルーホール、 440…シール材、 1000…圧着ヘッド、 1010…緩衝シート、 1100…バックアップステージ、 1200…受台
DESCRIPTION OF
Claims (17)
前記ドライバICは、異方性導電膜を介して第1基板に実装され、
前記第1基板は、前記ドライバICの短辺近傍に、凹部を有していることを特徴とする表示装置。 A display device having a first substrate on which a driver IC is mounted,
The driver IC is mounted on the first substrate through an anisotropic conductive film,
The display device, wherein the first substrate has a recess in the vicinity of the short side of the driver IC.
前記第1基板と前記第2基板はシール材によって接着されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 A second substrate facing the first substrate;
The display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are bonded by a sealing material.
前記ドライバICは、異方性導電膜を介して前記駆動回路基板に実装され、
前記駆動回路基板は、前記ドライバICの近傍に、凹部を有していることを特徴とする駆動回路基板。 A drive circuit board on which a driver IC for supplying a video signal to a display device is mounted,
The driver IC is mounted on the drive circuit board via an anisotropic conductive film,
The drive circuit board has a recess in the vicinity of the driver IC.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016185275A JP2018049196A (en) | 2016-09-23 | 2016-09-23 | Display and driving circuit board |
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US11506947B2 (en) | 2019-12-17 | 2022-11-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
-
2016
- 2016-09-23 JP JP2016185275A patent/JP2018049196A/en active Pending
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