JP2018049196A - Display and driving circuit board - Google Patents

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洋平 岩井
Yohei Iwai
洋平 岩井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the amount of deformation of a TFT substrate or a driving circuit board when a driver IC is mounted on one of the substrates to prevent a reduction in display quality and prevent a reduction in reliability of the product.SOLUTION: A display includes a first substrate 100 on which a driver IC 40 is mounted. The driver IC 40 is mounted with an anisotropic conductive film therebetween, and the first substrate 100 has a concave part 60 in the vicinity of a short side of the driver IC 40.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は表示装置あるいは駆動回路基板にドライバICを実装した場合のストレスによる基板の変形を防止する構成に関する。   The present invention relates to a structure for preventing deformation of a substrate due to stress when a driver IC is mounted on a display device or a drive circuit substrate.

液晶表示装置や有機EL表示装置は駆動回路にドライバICを用いる。ドライバICは、液晶表示装置等の基板に、直接実装する場合や駆動回路基板等を介して実装する場合がある。液晶表示装置や有機EL表示装置では、TFTや画素電極等が形成されたTFT基板は、従来はガラスで形成されてきたが、表示装置をフレキシブルにするために、TFT基板をポリイミド等の樹脂で形成する場合もある。   A liquid crystal display device or an organic EL display device uses a driver IC as a drive circuit. The driver IC may be directly mounted on a substrate such as a liquid crystal display device or may be mounted via a drive circuit substrate or the like. In a liquid crystal display device or an organic EL display device, a TFT substrate on which TFTs, pixel electrodes, and the like are conventionally formed of glass, but in order to make the display device flexible, the TFT substrate is made of a resin such as polyimide. Sometimes it forms.

いずれにしても、ドライバICと、TFT基板あるいは駆動回路基板とでは、熱膨張係数が異なるために、ドライバICの接続部付近では、基板およびドライバICにストレスがかかり、基板あるいはドライバICのクラックや反り変形を引き起こす。   In any case, since the thermal expansion coefficient differs between the driver IC and the TFT substrate or the drive circuit substrate, stress is applied to the substrate and the driver IC near the connection portion of the driver IC, and cracks in the substrate or the driver IC Causes warping deformation.

特許文献1には、ガラスで形成されたTFT基板に種々の部品が実装された場合に、TFT基板にクラックが形成されることを防止するために、TFT基板の裏側にあらかじめ溝等を形成し、この溝部分でガラスに加わるストレスを吸収する構成が記載されている。   In Patent Document 1, in order to prevent cracks from being formed on the TFT substrate when various components are mounted on the TFT substrate formed of glass, a groove or the like is formed in advance on the back side of the TFT substrate. The structure for absorbing the stress applied to the glass at the groove portion is described.

特許文献2には、TFT基板にドライバICを実装した場合、ドライバICの接続部において、TFT基板にかかるストレスを緩和するために、ガラスで形成されたTFT基板の内部に空洞を形成し、この空洞によって、ストレスを吸収する構成が記載されている。   In Patent Document 2, when a driver IC is mounted on a TFT substrate, a cavity is formed inside the TFT substrate formed of glass in order to relieve stress applied to the TFT substrate at the connection portion of the driver IC. A configuration is described in which stress is absorbed by the cavity.

特開2010−72380号公報JP 2010-72380 A 特開2010−14996号公報JP 2010-14996 A

液晶表示装置や有機EL表示装置は厚さを小さくすることが要求されている。これらの表示装置において、厚さに対して大きな影響を与えるのが、ガラスで形成されたTFT基板、あるいは対向基板の厚さである。ガラス基板は、通常は0.7mmあるいは0.5mm程度に規格化されている。しかし、表示装置を薄くするために、TFT基板あるいは対向基板を研磨して、0.2mmあるいは0.1mm程度にまで研磨する。さらに表示装置を薄くしてフレキシブルな表示装置とするために、TFT基板等をポリイミド等の樹脂で形成する場合もある。   Liquid crystal display devices and organic EL display devices are required to have a small thickness. In these display devices, it is the thickness of the TFT substrate formed of glass or the counter substrate that greatly affects the thickness. The glass substrate is usually standardized to about 0.7 mm or 0.5 mm. However, in order to make the display device thin, the TFT substrate or the counter substrate is polished to about 0.2 mm or 0.1 mm. Further, in order to make the display device thin and flexible, a TFT substrate or the like may be formed of a resin such as polyimide.

ガラス基板及び樹脂基板のいずれにしても、ドライバICとは熱膨張係数が異なる。また、ドライバICは、TFT基板には、異方性導電膜(ACF)を用いて熱圧着される。そうすると、ドライバICのほうが、より温度が上昇し、ドライバICの熱膨張量がTFT基板の熱膨張量よりも大きくなる。そうすると、ドライバICの温度が常温に戻ると、発生した応力のために、TFT基板が変形するという問題が生ずる。   Either the glass substrate or the resin substrate has a thermal expansion coefficient different from that of the driver IC. The driver IC is thermocompression bonded to the TFT substrate using an anisotropic conductive film (ACF). Then, the temperature of the driver IC rises more, and the amount of thermal expansion of the driver IC becomes larger than the amount of thermal expansion of the TFT substrate. Then, when the temperature of the driver IC returns to room temperature, there arises a problem that the TFT substrate is deformed due to the generated stress.

基板の変形はそれ自体が問題であるが、ドライバICが表示領域の近くに実装されると、TFT基板の変形による影響が表示領域にまでおよび、表示領域の色むらや輝度むら等の原因になる。この問題は、特にTFT基板の厚さが小さくなると発生しやすい。また、駆動回路基板は、樹脂で形成され、厚さが30μm程度であるので、ドライバICを実装した場合の変形量が大きくなる。そうすると、製造歩留りの低下、製品の変形による信頼性の低下が問題となる。   The deformation of the substrate itself is a problem, but if the driver IC is mounted near the display area, the influence of the deformation of the TFT substrate extends to the display area, causing unevenness of color or brightness of the display area. Become. This problem is likely to occur especially when the thickness of the TFT substrate is reduced. Further, since the drive circuit board is made of resin and has a thickness of about 30 μm, the amount of deformation when the driver IC is mounted becomes large. If it does so, the fall of the manufacturing yield and the reliability fall by the deformation | transformation of a product will become a problem.

本発明の課題は、ドライバICをTFT基板あるいは駆動回路基板に実装した場合の基板の変形量を小さくすることにより、表示品質の低下の防止、製品の信頼性の低下を防止することである。   An object of the present invention is to prevent deterioration in display quality and product reliability by reducing the deformation amount of a substrate when a driver IC is mounted on a TFT substrate or a drive circuit substrate.

(1)表示領域と端子部が形成された第1の基板を有する表示装置であって、前記端子部には長辺と短辺を有するドライバICが異方性導電膜を介して実装され、前記ドライバICの短辺に対応する部分の前記第1の基板には、凹部が形成されていることを特徴とする表示領域。   (1) A display device having a first substrate on which a display region and a terminal portion are formed, wherein a driver IC having a long side and a short side is mounted on the terminal portion via an anisotropic conductive film, A display area, wherein a concave portion is formed in the first substrate corresponding to the short side of the driver IC.

(2)表示装置に接続するドライバICが実装された駆動回路基板であって、前記ドライバICは長辺と短辺を有しており、異方性導電膜を介して前記駆動回路基板と接続しており、前記ドライバICの短辺に対応する部分の前記駆動回路基板には、凹部が形成されていることを特徴とする駆動回路基板。   (2) A drive circuit board on which a driver IC connected to a display device is mounted, the driver IC having a long side and a short side, and connected to the drive circuit board via an anisotropic conductive film. In addition, a concave portion is formed in the drive circuit board corresponding to the short side of the driver IC.

実施例1における表示装置の平面図である。3 is a plan view of the display device in Embodiment 1. FIG. 熱圧着工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a thermocompression bonding process. 熱圧着工程における温度プロファイルである。It is a temperature profile in a thermocompression bonding process. 本実施例を適用していない場合の、熱圧着の工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of thermocompression bonding when the present Example is not applied. 実施例1における、熱圧着の工程の一部を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a part of the thermocompression bonding process in Example 1. 実施例1の他の例における、熱圧着の工程の一部を示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing a part of a thermocompression bonding process in another example of Example 1. FIG. TFT基板にドライバICが接続された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which driver IC was connected to the TFT substrate. 図7で示したA1乃至A5における、熱圧着によるストレスの比較を示す図である。It is a figure which shows the comparison of the stress by thermocompression bonding in A1 thru | or A5 shown in FIG. 本実施例の他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of a present Example. 凹部の深さの例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of the depth of a recessed part. 実施例1における、TFT基板、ドライバIC、ACFの関係を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a relationship between a TFT substrate, a driver IC, and an ACF in Example 1. 実施例1の他の例における、TFT基板、ドライバIC、ACFの関係を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a relationship among a TFT substrate, a driver IC, and an ACF in another example of Example 1. 本実施例の他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of a present Example. 本実施例のさらに他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of a present Example. 本実施例のさらに他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of a present Example. 実施例2における表示装置の平面図である。6 is a plan view of a display device in Example 2. FIG. 図16のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of FIG. 実施例3における表示装置の平面図である。6 is a plan view of a display device in Example 3. FIG. 実施例4における表示装置の平面図である。10 is a plan view of a display device in Example 4. FIG. 図19のC−C断面図である。It is CC sectional drawing of FIG.

以下、実施例によって本発明の内容を詳細に説明する。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail by way of examples.

図1は、本実施例における液晶表示装置の平面図である。図1において、TFT基板100と対向基板200が対向して配置され、TFT基板100と対向基板200の間に液晶が挟持されている。   FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device according to this embodiment. In FIG. 1, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are disposed to face each other, and the liquid crystal is sandwiched between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200.

以下、実施例では、表示装置の短辺方向を第1方向Xとし、第1方向Xと垂直な方向を第2方向Yとし、第1方向X及び第2方向Yに垂直な方向を第3方向Zとする。また本実施例では、第3方向Zの正の向き、あるいは、TFT基板100から対向基板200に向かう方向を上又は上側とし、第3方向Zの負の向き、あるいは、対向基板200からTFT基板100に向かう方向を下又は下側とする。   Hereinafter, in the embodiment, the short side direction of the display device is a first direction X, a direction perpendicular to the first direction X is a second direction Y, and a direction perpendicular to the first direction X and the second direction Y is a third direction. Let it be direction Z. In this embodiment, the positive direction in the third direction Z or the direction from the TFT substrate 100 toward the counter substrate 200 is set as the upper or upper side, and the negative direction in the third direction Z or the counter substrate 200 to the TFT substrate is set. The direction toward 100 is the lower or lower side.

図1に示すように、液晶表示装置は、表示領域10と周辺領域20とを有している。周辺領域20にはTFT基板100と対向基板200とを接着するシール材が配置しており、シール材によって囲まれた領域に液晶が封入されている。表示領域10には画素電極やTFT(Thin Film Transistor)を有する画素がマトリクス状に形成されている。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device has a display area 10 and a peripheral area 20. A sealing material for bonding the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is disposed in the peripheral region 20, and liquid crystal is sealed in a region surrounded by the sealing material. In the display region 10, pixels having pixel electrodes and TFTs (Thin Film Transistors) are formed in a matrix.

TFT基板100は対向基板200よりも大きく形成され、TFT基板100が対向基板200と重なっていない部分に端子部30が形成されている。端子部30には、映像信号等を供給するドライバIC40が実装されている。また、端子部30には、液晶表示装置に外部から信号や電力を供給するための駆動回路基板80が接続される。TFT基板100は、ドライバIC40の第1方向Xにおける端部に対応する位置、つまりは、ドライバIC40の短辺の位置に凹部60が形成されている。図1に示した例では、凹部60はドライバIC40と重なる位置に形成されている。この凹部60は、ドライバIC40とTFT基板100の接続時に発生するストレスを緩和して、TFT基板100の変形を防止するためのものである。   The TFT substrate 100 is formed larger than the counter substrate 200, and the terminal portion 30 is formed in a portion where the TFT substrate 100 does not overlap the counter substrate 200. A driver IC 40 that supplies a video signal or the like is mounted on the terminal unit 30. The terminal unit 30 is connected to a drive circuit board 80 for supplying signals and power from the outside to the liquid crystal display device. In the TFT substrate 100, a recess 60 is formed at a position corresponding to an end portion in the first direction X of the driver IC 40, that is, at a short side position of the driver IC 40. In the example shown in FIG. 1, the recess 60 is formed at a position overlapping the driver IC 40. The recess 60 is for relaxing the stress generated when the driver IC 40 and the TFT substrate 100 are connected to prevent the TFT substrate 100 from being deformed.

図2は、TFT基板100の端子部30に熱圧着によってドライバIC40を接続する状態を示す断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where the driver IC 40 is connected to the terminal portion 30 of the TFT substrate 100 by thermocompression bonding.

液晶表示装置は受台1200に載置され、端子部30はバックアップステージ1100に載置されている。この状態において、圧着ヘッド1000に、矢印の方向に圧力が加えられ、同時にドライバIC40が圧着ヘッド1000によって150℃程度に加熱される。熱圧着は異方性導電膜(ACF)を介して行われ、ACFが冷えて、ある温度に達するとACFが硬化してドライバICとTFT基板が接着する。   The liquid crystal display device is placed on the cradle 1200, and the terminal unit 30 is placed on the backup stage 1100. In this state, pressure is applied to the pressure bonding head 1000 in the direction of the arrow, and at the same time, the driver IC 40 is heated to about 150 ° C. by the pressure bonding head 1000. Thermocompression bonding is performed via an anisotropic conductive film (ACF). When the ACF cools and reaches a certain temperature, the ACF is cured and the driver IC and the TFT substrate are bonded.

図3は熱圧着におけるドライバICの上面の温度変化の例である。図3において、横軸が時間、縦軸がドライバIC上面の温度である。図3において、ドライバICの上面は、圧着ヘッドを押し当てて12秒後に150℃に達する。この時、ACFは軟化して、ACF内の導電粒子によってTFT基板に形成された端子とドライバICのバンプが電気的に接続する。その後、圧着ヘッドを離すとドライバICは冷却し、冷却の過程において、ACFが硬化し、ドライバICと基板が物理的に接着する。この時、ドライバICとTFT基板との接着部において、ストレスが発生する。   FIG. 3 shows an example of the temperature change of the upper surface of the driver IC in thermocompression bonding. In FIG. 3, the horizontal axis represents time, and the vertical axis represents the temperature of the upper surface of the driver IC. In FIG. 3, the upper surface of the driver IC reaches 150 ° C. 12 seconds after the pressing head is pressed. At this time, the ACF is softened, and the terminals formed on the TFT substrate and the bumps of the driver IC are electrically connected by the conductive particles in the ACF. Thereafter, when the pressure bonding head is released, the driver IC is cooled, and in the course of cooling, the ACF is cured and the driver IC and the substrate are physically bonded. At this time, stress is generated at the bonding portion between the driver IC and the TFT substrate.

図4は、本実施例を適用していない液晶表示装置にドライバICを熱圧着する工程を示す断面図である。図4は液晶表示パネルを駆動回路基板80側から視た端子部30の断面図である。図4(A)において、TFT基板100の端子部30にACF50が配置され、その上にドライバIC40が配置されている。ドライバIC40のバンプ41はTFT基板100に形成された端子と対応するように位置合わせされている。なお、以下の説明では、ドライバIC40の線膨張係数は3.53×10−6/℃、TFT基板100の線膨張係数は3.80×10−6/℃であると仮定している。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing a process of thermocompression bonding a driver IC to a liquid crystal display device to which this embodiment is not applied. FIG. 4 is a cross-sectional view of the terminal portion 30 when the liquid crystal display panel is viewed from the drive circuit board 80 side. In FIG. 4A, the ACF 50 is disposed on the terminal portion 30 of the TFT substrate 100, and the driver IC 40 is disposed thereon. The bumps 41 of the driver IC 40 are aligned so as to correspond to the terminals formed on the TFT substrate 100. In the following description, it is assumed that the linear expansion coefficient of the driver IC 40 is 3.53 × 10 −6 / ° C. and the linear expansion coefficient of the TFT substrate 100 is 3.80 × 10 −6 / ° C.

図4(B)は、ドライバIC40の上にテフロン(登録商標)等で形成された緩衝シート1010を介して圧着ヘッド1000によってドライバIC40を熱圧着している状態を示す断面図である。ドライバICは150℃程度まで加熱されるので、熱膨張量は大きく、例えばδaである。一方、TFT基板100も膨張するが、TFT基板100側は、ドライバIC40ほど温度は上昇しないので、熱膨張量はδbである。図4(B)に示す矢印は、ドライバIC40あるいはTFT基板100の熱膨張の方向と量を示すものである。ACF50は温度が上昇するにしたがって軟化し、温度が低下するにしたがって硬化し、ドライバIC40とTFT基板100を接着する。   FIG. 4B is a cross-sectional view showing a state in which the driver IC 40 is thermocompression-bonded by the pressure-bonding head 1000 via a buffer sheet 1010 formed of Teflon (registered trademark) or the like on the driver IC40. Since the driver IC is heated to about 150 ° C., the amount of thermal expansion is large, for example, δa. On the other hand, although the TFT substrate 100 also expands, the temperature does not rise as much as the driver IC 40 on the TFT substrate 100 side, so the thermal expansion amount is δb. The arrows shown in FIG. 4B indicate the direction and amount of thermal expansion of the driver IC 40 or the TFT substrate 100. The ACF 50 softens as the temperature rises, cures as the temperature falls, and bonds the driver IC 40 and the TFT substrate 100 together.

図4(C)は、ACF50が硬化する温度において、ドライバIC40が受けている歪の量とTFT基板100が受けている歪の量の比較を示す断面図である。図4(C)に示す矢印は、ACF50が硬化するまでにドライバIC40あるいはTFT基板100が収縮する方向と量を示している。ACF50が硬化した時点において、ドライバIC40にはTFT基板100に対してδCだけ歪が残る。この歪が原因で、図4(D)に示すように、TFT基板100がz1だけ湾曲する。   FIG. 4C is a cross-sectional view showing a comparison between the amount of strain received by the driver IC 40 and the amount of strain received by the TFT substrate 100 at the temperature at which the ACF 50 is cured. The arrows shown in FIG. 4C indicate the direction and amount in which the driver IC 40 or the TFT substrate 100 contracts until the ACF 50 is cured. At the time when the ACF 50 is cured, the driver IC 40 remains strained by δC with respect to the TFT substrate 100. Due to this distortion, the TFT substrate 100 is bent by z1 as shown in FIG.

このような湾曲が生ずると、液晶表示装置に組み込む際に、寸法的に問題を生ずることがある。さらに、TFT基板100に歪が生ずることによって、この歪が表示領域に影響を及ぼし、局所的な色むらあるいは輝度むらを生ずる。   When such a curvature occurs, there may be a problem in dimensions when it is incorporated into a liquid crystal display device. Further, when the TFT substrate 100 is distorted, the distortion affects the display area, and local color unevenness or luminance unevenness occurs.

図5は本実施例を適用した液晶表示パネルにドライバICを熱圧着する工程の一部を示す断面図である。図5(A)は、TFT基板100の端子部にACF50とドライバIC40が配置されている断面図である。図5(A)が図4(A)と異なる点は、ドライバIC40の端部に対応する位置において、TFT基板100に凹部60が形成されていることである。ドライバIC40を熱圧着によってTFT基板100に接続することは図4(B)で説明したのと同様である。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a part of the process of thermocompression bonding the driver IC to the liquid crystal display panel to which this embodiment is applied. FIG. 5A is a cross-sectional view in which the ACF 50 and the driver IC 40 are arranged on the terminal portion of the TFT substrate 100. 5A differs from FIG. 4A in that a recess 60 is formed in the TFT substrate 100 at a position corresponding to the end of the driver IC 40. FIG. The driver IC 40 is connected to the TFT substrate 100 by thermocompression bonding as described with reference to FIG.

図5(B)は、ドライバIC40が熱圧着後の状態を示す断面図である。熱圧着時におけるドライバIC40の温度とTFT基板100の温度の差による熱膨張の差によって、TFT基板100が撓むが、撓み量z2は、図4に示す撓み量z1よりも小さくなっており、液晶表示装置の組み立てに問題がない程度、あるいは、表示領域に局所的な輝度むらや色むらが生じない程度に抑えられている。   FIG. 5B is a cross-sectional view showing the state after the driver IC 40 is thermocompression bonded. The TFT substrate 100 bends due to the difference in thermal expansion due to the difference between the temperature of the driver IC 40 and the temperature of the TFT substrate 100 at the time of thermocompression bonding, but the bend amount z2 is smaller than the bend amount z1 shown in FIG. It is suppressed to such an extent that there is no problem in assembling the liquid crystal display device, or local luminance unevenness and color unevenness do not occur in the display area.

図6は、本実施例の他の例を適用した液晶表示パネルにドライバICを熱圧着する工程の一部を示す断面図である。図6(A)は、TFT基板100の端子部にACF50とドライバIC40が配置されている断面図である。図6(A)が図5(A)と異なる点は、ドライバIC40の端部に対応するTFT基板100に貫通孔70が形成されていることである。ドライバIC40を熱圧着によってTFT基板100に接続することは図4(B)で説明したのと同様である。   FIG. 6 is a cross-sectional view showing a part of a process of thermocompression bonding a driver IC to a liquid crystal display panel to which another example of this embodiment is applied. FIG. 6A is a cross-sectional view in which the ACF 50 and the driver IC 40 are arranged on the terminal portion of the TFT substrate 100. 6A differs from FIG. 5A in that a through hole 70 is formed in the TFT substrate 100 corresponding to the end of the driver IC 40. FIG. The driver IC 40 is connected to the TFT substrate 100 by thermocompression bonding as described with reference to FIG.

図6(B)は、ドライバIC40が熱圧着後の状態を示す断面図である。熱圧着時におけるドライバIC40の温度とTFT基板100の温度差に起因する熱膨張差によって、TFT基板100が撓むが、撓み量z3は、図4に示す撓み量z1よりも小さくなっており、さらに、図5に示す撓み量z2よりも小さくなっている。貫通孔70は、応力解放の効果がより大きいからである。   FIG. 6B is a cross-sectional view showing the state after the driver IC 40 is thermocompression bonded. The TFT substrate 100 bends due to the difference in thermal expansion caused by the temperature difference between the driver IC 40 and the TFT substrate 100 at the time of thermocompression bonding, but the bend amount z3 is smaller than the bend amount z1 shown in FIG. Furthermore, it is smaller than the deflection amount z2 shown in FIG. This is because the through hole 70 has a greater stress release effect.

図5における凹部60及び図6における貫通孔70はレーザ照射あるいはエッチングによって形成することが出来る。ガラス基板100の場合、ガラスによって吸収される波長のレーザを、凹部60もしくは貫通孔70を形成する部分に焦点を当てて照射し、この部分においてガラスを蒸発させる。また、フォトリソグラフィを用いて、必要な部分のみエッチングすることによって凹部60もしくは貫通孔70を形成することが出来る。一般的には、液晶表示パネルが完成した後、ドライバIC40を接続する前に凹部60もしくは貫通孔70を形成する。   The recess 60 in FIG. 5 and the through hole 70 in FIG. 6 can be formed by laser irradiation or etching. In the case of the glass substrate 100, a laser having a wavelength absorbed by the glass is irradiated while focusing on a portion where the recess 60 or the through hole 70 is formed, and the glass is evaporated in this portion. Moreover, the recessed part 60 or the through-hole 70 can be formed by etching only a required part using photolithography. Generally, after the liquid crystal display panel is completed, the recess 60 or the through hole 70 is formed before the driver IC 40 is connected.

基板がガラスでなく、樹脂である場合も基本的には同様である。すなわち、レーザ照射あるいはフォトリソグラフィによって、樹脂基板に凹部もしくは貫通孔を形成することが出来る。   This is basically the same when the substrate is not glass but resin. That is, a recess or a through hole can be formed in the resin substrate by laser irradiation or photolithography.

図7は、TFT基板100にドライバIC40が接続された状態を示す平面図である。なお図7では、液晶表示パネルの中心から片側の平面図を示している。熱圧着によるストレスは、ドライバIC40の第1方向Xにおける端部で大きくなる。図7(A)は、本実施例を適用していない端子部の平面図である。図7(A)において、ドライバIC40の長辺の長さの1/2が10.11mmであり、短辺の長さは1.467mmである。端子部30の第2方向Yにおける幅は3.335mmである。図7(A)の上側が、対向基板が配置されている側であり、対向基板の端部から0.4mm離れたところにドライバIC40が配置している。ドライバIC40の寸法、位置、端子部30の寸法等は、図7(B)乃至(E)においても同じである。図7(A)において、ドライバIC40を熱圧着した後、TFT基板100においてストレスが最も大きく現れる点は、ドライバIC40のコーナー部に対応するA1である。   FIG. 7 is a plan view showing a state where the driver IC 40 is connected to the TFT substrate 100. 7 shows a plan view of one side from the center of the liquid crystal display panel. The stress due to thermocompression increases at the end of the driver IC 40 in the first direction X. FIG. 7A is a plan view of a terminal portion to which this embodiment is not applied. In FIG. 7A, ½ of the long side length of the driver IC 40 is 10.11 mm, and the short side length is 1.467 mm. The width of the terminal portion 30 in the second direction Y is 3.335 mm. The upper side of FIG. 7A is the side where the counter substrate is disposed, and the driver IC 40 is disposed at a distance of 0.4 mm from the end of the counter substrate. The dimensions and position of the driver IC 40, the dimensions of the terminal portion 30, and the like are the same in FIGS. 7B to 7E. In FIG. 7A, after the driver IC 40 is thermocompression bonded, the point at which the stress appears most in the TFT substrate 100 is A1 corresponding to the corner portion of the driver IC 40.

図7(B)は本実施例を適用した端子部の平面図である。図7(A)と異なる点は、ドライバIC40の短辺近傍に、TFT基板100に凹部60が形成されている点である。凹部60の寸法は、第2方向Yにおける幅が2.157、第1方向Xにおける幅が1.0mmである。凹部60の深さは、TFT基板100の厚さの1/3としている。この場合のTFT基板100において、ストレスが最も大きく現れる点はドライバIC40のコーナー部に対応するA2である。   FIG. 7B is a plan view of a terminal portion to which this embodiment is applied. A difference from FIG. 7A is that a recess 60 is formed in the TFT substrate 100 in the vicinity of the short side of the driver IC 40. The recess 60 has a dimension of 2.157 in the second direction Y and 1.0 mm in the first direction X. The depth of the recess 60 is set to 1/3 of the thickness of the TFT substrate 100. In the TFT substrate 100 in this case, the point where the stress appears most is A 2 corresponding to the corner portion of the driver IC 40.

図7(C)は、本実施例の他の例を適用した端子部の平面図である。図7(B)と異なる点は、ドライバIC40と重なる位置、すなわち、ドライバIC40の最外端のバンプ41とドライバIC40の端部との間の領域に重なる位置に凹部60が形成されている点である。凹部60の寸法及び深さは、図7(B)の場合と同様である。この場合、TFT基板100においてストレスが最も大きくなる点は、凹部60とドライバIC40の長辺の交点であるA3である。   FIG. 7C is a plan view of a terminal portion to which another example of this embodiment is applied. A difference from FIG. 7B is that the recess 60 is formed at a position overlapping the driver IC 40, that is, a position overlapping the region between the outermost bump 41 of the driver IC 40 and the end of the driver IC 40. It is. The dimensions and depth of the recess 60 are the same as in the case of FIG. In this case, the point where the stress is greatest in the TFT substrate 100 is A3, which is the intersection of the long sides of the recess 60 and the driver IC 40.

図7(D)は、本実施例の他の例を適用した端子部の平面図である。図7(B)と異なる点は、図7(B)では凹部60が形成されていた位置に、貫通孔70が形成されている点である。貫通孔70の寸法は、図7(B)における凹部60と同じである。また、図7(D)において、TFT基板100でストレスが最も大きく現れる点はドライバIC40のコーナー部に対応するA4であり、位置は図7(B)と同じである。   FIG. 7D is a plan view of a terminal portion to which another example of this embodiment is applied. A difference from FIG. 7B is that a through hole 70 is formed at the position where the recess 60 was formed in FIG. 7B. The dimension of the through-hole 70 is the same as the recessed part 60 in FIG.7 (B). Further, in FIG. 7D, the point where the stress appears most on the TFT substrate 100 is A4 corresponding to the corner portion of the driver IC 40, and the position is the same as in FIG. 7B.

図7(E)は、本実施例の他の例を適用した端子部の平面図である。図7(C)と異なる点は、図7(C)では凹部60が形成されていた位置に、貫通孔70が形成されている点である。貫通孔70の寸法は、図7(C)における凹部60の場合と同様である。この場合、TFT基板100においてストレスが最も大きくなる点は、貫通孔70とドライバIC40の長辺の交点であるA4であり、図7(C)の場合と位置は同じである。   FIG. 7E is a plan view of a terminal portion to which another example of this embodiment is applied. The difference from FIG. 7C is that a through hole 70 is formed at the position where the recess 60 was formed in FIG. 7C. The dimension of the through hole 70 is the same as that of the concave portion 60 in FIG. In this case, the point where the stress is greatest in the TFT substrate 100 is A4 which is the intersection of the long sides of the through hole 70 and the driver IC 40, and the position is the same as in the case of FIG.

図8は、図7(A)乃至(E)における最大のストレスの値を比較した表である。すなわち、図8は、図7(A)乃至(E)の各々における最大のストレスを示す点であるA1乃至A5における、XY平面方向のせん断応力をMPa(メガパスカル)で表したものである。   FIG. 8 is a table comparing the maximum stress values in FIGS. 7A to 7E. That is, FIG. 8 represents the shear stress in the XY plane direction in terms of MPa (megapascal) at A1 to A5, which is the point indicating the maximum stress in each of FIGS. 7 (A) to (E).

本実施例を示す図8(B)乃至(E)は、本実施例を適用していない場合と比較して、ストレスはいずれも小さくなっており、ストレスによる表示領域における輝度むら及び色むらの発生を防止することが可能である。例えば、図8(C)では、図8(A)に比較して、ストレスは15%小さくなり、図8(E)では、図8(A)に比較して、ストレスは20%小さくなる。したがって、TFT基板の湾曲も抑えることができ、液晶モジュールの組み立てに対する影響を軽減することが出来る。   In FIGS. 8B to 8E showing the present embodiment, the stress is smaller than that in the case where the present embodiment is not applied, and luminance unevenness and color unevenness in the display region due to the stress are reduced. It is possible to prevent the occurrence. For example, in FIG. 8C, the stress is reduced by 15% compared to FIG. 8A, and in FIG. 8E, the stress is reduced by 20% compared to FIG. 8A. Therefore, the curvature of the TFT substrate can be suppressed, and the influence on the assembly of the liquid crystal module can be reduced.

図9は、本実施例の他の例を示す平面図である。図9はTFT基板100に形成された凹部60の形成領域をシール材が形成されている周辺領域20にまで延長させた例である。図9(A)は、TFT基板100の凹部60が、ドライバIC40と重なる位置に形成されている場合であり、図9(B)は、TFT基板100の凹部60が、ドライバIC40の短辺の位置に形成されている場合である。図9において、周辺領域20の端部は対向基板200の端部と一致しており、凹部60は対向基板200の端部から幅yだけ周辺領域20と重なって形成されている。   FIG. 9 is a plan view showing another example of this embodiment. FIG. 9 shows an example in which the formation region of the recess 60 formed in the TFT substrate 100 is extended to the peripheral region 20 where the sealing material is formed. 9A shows a case where the concave portion 60 of the TFT substrate 100 is formed at a position overlapping the driver IC 40. FIG. 9B shows a case where the concave portion 60 of the TFT substrate 100 has a short side of the driver IC 40. It is a case where it is formed at a position. In FIG. 9, the end of the peripheral region 20 coincides with the end of the counter substrate 200, and the recess 60 is formed to overlap the peripheral region 20 by a width y from the end of the counter substrate 200.

凹部60が周辺領域20側に延長して形成されていること、すなわち、表示領域のより近くにまで形成されていることによって、表示領域側におけるストレスをさらに軽減することが出来る。したがって、図9の構成は、表示領域における局部的な輝度むら及び色むらを軽減する効果が大きい。図9において、凹部60の第2方向Yにおける幅は、シール材が形成されている領域の表示領域側の端部まで、延長させることが出来る。   Since the recess 60 is formed extending to the peripheral region 20 side, that is, formed closer to the display region, the stress on the display region side can be further reduced. Therefore, the configuration of FIG. 9 has a great effect of reducing local luminance unevenness and color unevenness in the display area. In FIG. 9, the width of the recess 60 in the second direction Y can be extended to the end of the area where the sealing material is formed on the display area side.

図10は、凹部60の深さの例を示す断面図である。図10において、TFT基板100の上に2層の絶縁膜が形成されている。第1絶縁膜110及び第2絶縁膜120は、無機絶縁膜の場合もあるし、有機絶縁膜の場合もある。TFT基板100と絶縁膜110、120とを合わせた厚さがt1、凹部60におけるTFT基板100の厚さがt2である。図10において、t2/t1は0.9以下であることが望ましく、0.7以下であることがより好ましい。また、t2は貫通しない場合、1μm以上である。   FIG. 10 is a cross-sectional view showing an example of the depth of the recess 60. In FIG. 10, a two-layer insulating film is formed on the TFT substrate 100. The first insulating film 110 and the second insulating film 120 may be inorganic insulating films or organic insulating films. The total thickness of the TFT substrate 100 and the insulating films 110 and 120 is t1, and the thickness of the TFT substrate 100 in the recess 60 is t2. In FIG. 10, t2 / t1 is desirably 0.9 or less, and more preferably 0.7 or less. Moreover, t2 is 1 μm or more when not penetrating.

TFT基板100は、ガラス基板の場合もあるし、ポリイミド等の樹脂で形成されている場合もある。TFT基板100がガラス基板の場合、0.15mm程度であるが、ポリイミドで形成されている場合は、10μm乃至20μm程度である。ポリイミドは機械的に強いので、図10におけるt2は1μm程度でも必要な機械的な強度を保つことが出来る。   The TFT substrate 100 may be a glass substrate or may be formed of a resin such as polyimide. When the TFT substrate 100 is a glass substrate, it is about 0.15 mm, but when it is made of polyimide, it is about 10 μm to 20 μm. Since polyimide is mechanically strong, the required mechanical strength can be maintained even when t2 in FIG. 10 is about 1 μm.

図11は、本実施例におけるTFT基板100、ドライバIC40、ACF50の関係を示す図である。図11(A)は平面図であり、TFT基板100の凹部60が、ドライバIC40と重なっている状態を示している。図11(A)において、ドライバIC40とTFT基板100の凹部60が重なっていない量dは3μm以上必要である。   FIG. 11 is a diagram showing the relationship among the TFT substrate 100, the driver IC 40, and the ACF 50 in the present embodiment. FIG. 11A is a plan view showing a state where the recess 60 of the TFT substrate 100 overlaps the driver IC 40. In FIG. 11A, the amount d where the driver IC 40 and the recess 60 of the TFT substrate 100 do not overlap each other needs to be 3 μm or more.

図11(B)は、熱圧着前の断面図である。図11(B)において、ACF50がドライバIC40とTFT基板100との間に存在している。図11(C)は、ドライバIC40及びACF50を加熱することによって、ACF50が軟化して、TFT基板100の凹部60に流動した状態を示している。図11(C)に示すように、ACF50が軟化して流動しても、ACF50をTFT基板100の凹部60内にとどめることが出来るので、ACF50が流動して広がることによる接続不良等を防止することが出来る。   FIG. 11B is a cross-sectional view before thermocompression bonding. In FIG. 11B, the ACF 50 exists between the driver IC 40 and the TFT substrate 100. FIG. 11C shows a state where the driver IC 40 and the ACF 50 are heated and the ACF 50 is softened and flows into the recess 60 of the TFT substrate 100. As shown in FIG. 11C, even if the ACF 50 softens and flows, the ACF 50 can remain in the recess 60 of the TFT substrate 100, so that connection failure or the like due to the ACF 50 flowing and spreading can be prevented. I can do it.

図12は、本実施例の他の例におけるTFT基板100、ドライバIC40、ACF50の関係を示す図である。図12(A)は平面図であり、TFT基板100の凹部60の端部とドライバIC40の端部が一致している状態を示している。図12(B)は、熱圧着前の断面図である。図12(B)において、ACF50がドライバIC40とTFT基板100との間に存在している。図12(C)は、ドライバIC40およびACF50を加熱することによって、ACF50が軟化して、TFT基板100の凹部60に流動した状態を示している。図12(C)に示すように、ACF50が軟化して流動しても、TFT基板100の凹部60内にとどめることが出来るので、ACF50による接続不良等を防止することが出来る。   FIG. 12 is a diagram showing a relationship among the TFT substrate 100, the driver IC 40, and the ACF 50 in another example of this embodiment. FIG. 12A is a plan view showing a state in which the end of the recess 60 of the TFT substrate 100 and the end of the driver IC 40 are aligned. FIG. 12B is a cross-sectional view before thermocompression bonding. In FIG. 12B, the ACF 50 exists between the driver IC 40 and the TFT substrate 100. FIG. 12C shows a state in which the driver IC 40 and the ACF 50 are heated to soften the ACF 50 and flow into the recess 60 of the TFT substrate 100. As shown in FIG. 12C, even if the ACF 50 softens and flows, the ACF 50 can remain in the recess 60 of the TFT substrate 100, so that connection failure due to the ACF 50 can be prevented.

また、ガラス基板にレーザで凹部60を形成するような場合、凹部60において微小クラックが生ずる場合がある。微小クラックが存在すると、この部分において、クラックが進行し、TFT基板が割れてしまうおそれがある。図11及び図12に示すように、凹部60にACF50が流入すると、凹部60に存在している微小クラックをACF50の樹脂が埋め、クラックが進行することを防止することが出来る。   In addition, when the concave portion 60 is formed on the glass substrate with a laser, a minute crack may occur in the concave portion 60. If there are minute cracks, the cracks may progress in this portion, and the TFT substrate may be broken. As shown in FIGS. 11 and 12, when the ACF 50 flows into the recess 60, the resin of the ACF 50 fills the microcracks existing in the recess 60, and the crack can be prevented from progressing.

図13は、本実施例における凹部60の形状の他の例を示す平面図である。図13において、シール材が形成された周辺領域20の外側にTFT基板100における端子部30が存在している。端子部30に形成された配線31はドライバIC40のバンプ41と接続している。図13に示した例では、配線31を挟んだ両側に凹部60が形成されている。この場合も、TFT基板100におけるせん断応力を低下させることが出来る。   FIG. 13 is a plan view showing another example of the shape of the recess 60 in the present embodiment. In FIG. 13, the terminal part 30 in the TFT substrate 100 exists outside the peripheral region 20 where the sealing material is formed. The wiring 31 formed on the terminal portion 30 is connected to the bump 41 of the driver IC 40. In the example shown in FIG. 13, recesses 60 are formed on both sides of the wiring 31. Also in this case, the shear stress in the TFT substrate 100 can be reduced.

図14は、本実施例における凹部60の形状のさらに他の例を示す平面図である。図14において、シール材が形成された周辺部20の外側にTFT基板100における端子部30が存在している。端子部30に形成された配線31はドライバIC40のバンプ41と接続している。図14に示した例では、ドライバIC40のバンプ41の列の間に延在して凹部60が形成されている。この場合も、TFT基板100におけるせん断応力を低下させることが出来る。   FIG. 14 is a plan view showing still another example of the shape of the recess 60 in the present embodiment. In FIG. 14, the terminal part 30 in the TFT substrate 100 exists outside the peripheral part 20 where the sealing material is formed. The wiring 31 formed on the terminal portion 30 is connected to the bump 41 of the driver IC 40. In the example shown in FIG. 14, a recess 60 is formed extending between the rows of bumps 41 of the driver IC 40. Also in this case, the shear stress in the TFT substrate 100 can be reduced.

図15は、本実施例における凹部60の形状のさらに他の例を示す平面図である。図15は、TFT基板100に形成された凹部60の平面形状が円である。端子部30に形成された配線31はドライバIC40のバンプ41と接続している点等は、図13及び図14と同じである。図15に示すように、TFT基板100に形成された凹部60の平面形状は矩形に限らず、円等の曲線形状であっても本発明の目的を達成することが出来る。   FIG. 15 is a plan view showing still another example of the shape of the recess 60 in the present embodiment. In FIG. 15, the planar shape of the recess 60 formed in the TFT substrate 100 is a circle. The wiring 31 formed in the terminal portion 30 is the same as that shown in FIGS. 13 and 14 in that the wiring 31 is connected to the bump 41 of the driver IC 40. As shown in FIG. 15, the planar shape of the recess 60 formed in the TFT substrate 100 is not limited to a rectangle, and the object of the present invention can be achieved even with a curved shape such as a circle.

図16は、実施例2における表示装置2の平面図である。図16は、図1とほぼ同様の構成である。図1と異なる点は、図16に示した例は、有機EL表示装置であるという点である。つまり、表示領域10には有機EL層、駆動TFT、選択TFT等を有する画素がマトリクス状に形成されている。周辺領域20には、走査線駆動回路等が形成されている。   FIG. 16 is a plan view of the display device 2 according to the second embodiment. FIG. 16 has substantially the same configuration as FIG. The difference from FIG. 1 is that the example shown in FIG. 16 is an organic EL display device. That is, pixels having an organic EL layer, a driving TFT, a selection TFT, and the like are formed in a matrix in the display region 10. In the peripheral region 20, a scanning line driving circuit and the like are formed.

図17は、図16のB−B断面図である。図17において、TFT基板100に形成された表示領域10には、有機EL層を含む発光層が形成され、これを覆ってSiNあるいはSiO等による保護層220が形成されている。保護層220を覆って偏光板230が張り付けられている。   17 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. In FIG. 17, in the display region 10 formed on the TFT substrate 100, a light emitting layer including an organic EL layer is formed, and a protective layer 220 made of SiN or SiO is formed covering the light emitting layer. A polarizing plate 230 is attached to cover the protective layer 220.

有機EL表示装置では、TFT基板100をポリイミド等の樹脂で形成する場合がある。ポリイミド基板は10μm乃至20μm程度であるから、ドライバIC40を熱圧着したことによるTFT基板100の変形は大きい。実施例1と同様に、ドライバIC40の短辺付近において、凹部60もしくは貫通孔70を形成することによって、ドライバIC40をTFT基板100に熱圧着したことによるストレスを緩和することができ、TFT基板100の変形を軽減することが出来る。特に、薄い樹脂基板を用いた有機EL表示装置では、効果は非常に大きい。凹部の位置、形状、貫通孔の位置、形状等は実施例1で説明したのと同様である。なお、液晶表示装置においても、TFT基板100をポリイミド等の樹脂で形成する場合がある。その場合も、実施例1及び実施例2と同様の構成を用いて、同様の効果を得ることができる。   In the organic EL display device, the TFT substrate 100 may be formed of a resin such as polyimide. Since the polyimide substrate is about 10 μm to 20 μm, the deformation of the TFT substrate 100 due to the thermocompression bonding of the driver IC 40 is large. As in the first embodiment, by forming the recess 60 or the through hole 70 in the vicinity of the short side of the driver IC 40, the stress caused by thermocompression bonding of the driver IC 40 to the TFT substrate 100 can be alleviated. Can be reduced. In particular, the effect is very large in an organic EL display device using a thin resin substrate. The position and shape of the recess, the position and shape of the through hole are the same as described in the first embodiment. In the liquid crystal display device, the TFT substrate 100 may be formed of a resin such as polyimide. In that case, the same effect can be obtained by using the same configuration as in the first and second embodiments.

図18は、実施例3における表示装置の平面図である。図18は、ドライバIC40が駆動回路基板80を介して表示装置に接続されている点が図1及び図16とは異なっている。   FIG. 18 is a plan view of the display device according to the third embodiment. 18 is different from FIGS. 1 and 16 in that the driver IC 40 is connected to the display device via the drive circuit board 80.

駆動回路基板80は、厚さが30μm程度のポリイミド基板で形成されている。一方、ドライバIC40は熱圧着によって駆動回路基板80に接続されるので、駆動回路基板80の変形が大きくなりやすい。そこで、実施例1及び実施例2と同様に、ドライバIC40の端部に対応する部分に凹部60もしくは貫通孔70を形成することによって、熱圧着によるストレスを緩和することが出来る。凹部もしくは貫通孔70の位置、形状等は実施例1で説明したのと同様である。   The drive circuit board 80 is formed of a polyimide substrate having a thickness of about 30 μm. On the other hand, since the driver IC 40 is connected to the drive circuit board 80 by thermocompression bonding, the deformation of the drive circuit board 80 tends to be large. Therefore, similarly to the first and second embodiments, the recess 60 or the through hole 70 is formed in a portion corresponding to the end of the driver IC 40, so that stress due to thermocompression bonding can be reduced. The positions and shapes of the recesses or through holes 70 are the same as those described in the first embodiment.

図19は、実施例4における表示装置の平面図である。図19において、表示領域を覆って対向基板が形成され、TFT基板と対向基板とは周辺領域20に形成されたシール材440によって接着している。ドライバIC40は、表示パネルの下側、つまり、TFT基板100の下に実装されている。また、ドライバIC40が実装されている部分は、平面で視て、シール材440と重複している。   FIG. 19 is a plan view of the display device according to the fourth embodiment. In FIG. 19, a counter substrate is formed so as to cover the display region, and the TFT substrate and the counter substrate are bonded together by a sealing material 440 formed in the peripheral region 20. The driver IC 40 is mounted below the display panel, that is, below the TFT substrate 100. Further, the portion where the driver IC 40 is mounted overlaps with the sealing material 440 when viewed in plan.

図20は、図19のC−C断面図である。図20において、TFT基板100上には配線410が形成され、その上に、TFT等を含むアレイ層400が形成されている。アレイ層上に、液晶表示装置であれば液晶材料が、有機EL表示装置であれば、有機EL層が形成される。対向基板200はシール材440によってTFT基板100と接着している。   20 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. In FIG. 20, a wiring 410 is formed on the TFT substrate 100, and an array layer 400 including TFTs and the like is formed thereon. On the array layer, a liquid crystal material is formed for a liquid crystal display device, and an organic EL layer is formed for an organic EL display device. The counter substrate 200 is bonded to the TFT substrate 100 with a sealing material 440.

平面で視て、シール材440が形成された領域と重複した位置に、TFT基板100にスルーホール430が形成されている。ドライバIC40は、スルーホール430を介して、ACF50によって、TFT基板100と接続する。この場合も、実施例1乃至3と同様に、ドライバIC40を熱圧着した際のストレスによってTFT基板100が変形することを防止するために、ドライバIC40の端部に対応する位置において、TFT基板100に凹部60を形成する。そのため、実施例1乃至実施例3と同様の効果を得ることが出来る。   A through hole 430 is formed in the TFT substrate 100 at a position overlapping the region where the sealing material 440 is formed as viewed in a plan view. The driver IC 40 is connected to the TFT substrate 100 by the ACF 50 through the through hole 430. Also in this case, as in the first to third embodiments, in order to prevent the TFT substrate 100 from being deformed by stress when the driver IC 40 is thermocompression bonded, the TFT substrate 100 is provided at a position corresponding to the end portion of the driver IC 40. A recess 60 is formed in the substrate. Therefore, the same effects as those of the first to third embodiments can be obtained.

図20で示した例では、TFT基板100の下側にドライバIC40が直接実装される場合について記載しているが、実施例3で示したように、駆動回路基板80を介してドライバICが接続される場合でも適用することができる。その場合、駆動回路基板80は、実施例3と同様の構成をとなる。   In the example shown in FIG. 20, the case where the driver IC 40 is directly mounted on the lower side of the TFT substrate 100 is described. However, as shown in the third embodiment, the driver IC is connected via the drive circuit substrate 80. It can be applied even if it is done. In that case, the drive circuit board 80 has the same configuration as that of the third embodiment.

1…液晶表示装置、 2…有機EL表示装置、 10…表示領域、 20…周辺領域、 30…端子部、 40…ドライバIC、 41…バンプ、 50…ACF、 60…凹部、 70…貫通孔、 80…駆動回路基板、 100…TFT基板、 110…第1絶縁膜、 120…第2絶縁膜、 200…対向基板、 220…保護層、230…偏光板、 400…アレイ層、 410…配線、 430…スルーホール、 440…シール材、 1000…圧着ヘッド、 1010…緩衝シート、 1100…バックアップステージ、 1200…受台   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display device, 2 ... Organic EL display device, 10 ... Display area | region, 20 ... Peripheral area | region, 30 ... Terminal part, 40 ... Driver IC, 41 ... Bump, 50 ... ACF, 60 ... Recessed part, 70 ... Through-hole, DESCRIPTION OF SYMBOLS 80 ... Drive circuit board | substrate, 100 ... TFT substrate, 110 ... 1st insulating film, 120 ... 2nd insulating film, 200 ... Opposite substrate, 220 ... Protective layer, 230 ... Polarizing plate, 400 ... Array layer, 410 ... Wiring, 430 ... through-hole, 440 ... seal material, 1000 ... crimping head, 1010 ... buffer sheet, 1100 ... backup stage, 1200 ... stand

Claims (17)

ドライバICが実装された第1基板を有する表示装置であって、
前記ドライバICは、異方性導電膜を介して第1基板に実装され、
前記第1基板は、前記ドライバICの短辺近傍に、凹部を有していることを特徴とする表示装置。
A display device having a first substrate on which a driver IC is mounted,
The driver IC is mounted on the first substrate through an anisotropic conductive film,
The display device, wherein the first substrate has a recess in the vicinity of the short side of the driver IC.
前記凹部は、前記ドライバICに重なって形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the recess is formed to overlap the driver IC. 前記凹部の一部は、前記異方性導電膜の一部によって覆われていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein a part of the recess is covered with a part of the anisotropic conductive film. 前記凹部における第1基板の厚さは1μm以上であり、前記凹部が形成されていない部分の基板の厚さの90%以下であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   2. The display device according to claim 1, wherein the thickness of the first substrate in the recess is 1 μm or more and 90% or less of the thickness of the substrate in the portion where the recess is not formed. 前記凹部における第1基板の厚さは1μm以上であり、前記凹部が形成されていない部分の基板の厚さの70%以下であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   2. The display device according to claim 1, wherein the thickness of the first substrate in the recess is 1 μm or more and 70% or less of the thickness of the substrate in a portion where the recess is not formed. 前記第1基板と対向する第2基板を有し、
前記第1基板と前記第2基板はシール材によって接着されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
A second substrate facing the first substrate;
The display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are bonded by a sealing material.
前記第1基板に形成された凹部は、平面で視て、前記シール材の一部と重なっていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。   The display device according to claim 6, wherein the concave portion formed in the first substrate overlaps with a part of the sealing material in a plan view. 前記凹部は、貫通孔であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the recess is a through hole. 前記ドライバICは、前記第1基板の前記第2基板とは反対側の面に実装されていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。   The display device according to claim 6, wherein the driver IC is mounted on a surface of the first substrate opposite to the second substrate. 前記第1基板と前記第2基板との間に液晶層が挟持されていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。   The display device according to claim 6, wherein a liquid crystal layer is sandwiched between the first substrate and the second substrate. 前記第1基板上に、有機EL層が形成されていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。   The display device according to claim 6, wherein an organic EL layer is formed on the first substrate. 表示装置に映像信号を供給するドライバICが実装された駆動回路基板であって、
前記ドライバICは、異方性導電膜を介して前記駆動回路基板に実装され、
前記駆動回路基板は、前記ドライバICの近傍に、凹部を有していることを特徴とする駆動回路基板。
A drive circuit board on which a driver IC for supplying a video signal to a display device is mounted,
The driver IC is mounted on the drive circuit board via an anisotropic conductive film,
The drive circuit board has a recess in the vicinity of the driver IC.
前記凹部は、前記ドライバICに重なって形成されていることを特徴とする請求項12に記載の駆動回路基板。   The drive circuit board according to claim 12, wherein the recess is formed to overlap the driver IC. 前記凹部の一部は、前記異方性導電膜の一部によって覆われていることを特徴とする請求項12に記載の駆動回路基板。   The drive circuit board according to claim 12, wherein a part of the recess is covered with a part of the anisotropic conductive film. 前記凹部における駆動回路基板の厚さは1μm以上であり、前記凹部が形成されていない部分の駆動回路基板の厚さの90%以下であることを特徴とする請求項12に記載の駆動回路基板。   13. The drive circuit board according to claim 12, wherein the thickness of the drive circuit board in the recess is 1 μm or more and 90% or less of the thickness of the drive circuit board in a portion where the recess is not formed. . 前記凹部における前記駆動回路基板の厚さは1μm以上であり、前記凹部が形成されていない部分の前記駆動回路基板の厚さの70%以下であることを特徴とする請求項12に記載の駆動回路基板。   13. The drive according to claim 12, wherein the thickness of the drive circuit board in the recess is 1 μm or more and 70% or less of the thickness of the drive circuit board in a portion where the recess is not formed. Circuit board. 前記凹部は、貫通孔であることを特徴とする請求項12に記載の駆動回路基板。   The drive circuit board according to claim 12, wherein the recess is a through hole.
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