JP2018045033A - Electrophoretic display device, manufacturing method for the same, and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophoretic display device having excellent display quality by defining the moisture content contained in electrophoretic dispersion liquid filled in each cell partitioned by partition walls in an appropriate range, and a manufacturing method for the electrophoretic display device capable of manufacturing the electrophoretic display device and an electronic apparatus excellent in reliability.SOLUTION: An electrophoretic display device 10 includes: a first substrate; a second substrate disposed so as to face the first substrate; partition walls 35 being disposed between the first substrate and the second substrate and partitioning a space therebetween into a plurality of cells 36; and electrophoretic dispersion liquid 37 being disposed in the plurality of cells 36 and containing electrophoretic particles 34 and a dispersion medium 15. The dispersion medium 15 contains a first material having a first molecular weight and a second material having a second molecular weight having a molecular weight greater than the first molecular weight. The second material is present at end portions of the second substrate side of the partition walls 35.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、電気泳動表示装置、電気泳動表示装置の製造方法および電子機器に関するものである。   The present invention relates to an electrophoretic display device, an electrophoretic display device manufacturing method, and an electronic apparatus.

従来から、粒子の電気泳動を利用した電気泳動表示装置が知られており、この電気泳動表示装置は、可搬性および省電力性を有している点で優れている。   2. Description of the Related Art Conventionally, an electrophoretic display device using particle electrophoresis is known, and this electrophoretic display device is excellent in that it has portability and power saving.

この電気泳動表示装置では、電気泳動粒子を含む電気泳動分散液を挟んで対向する画素電極と共通電極との間に電圧を印加して、帯電した黒粒子や白粒子等の電気泳動粒子を空間的に移動させることで表示領域に画像を形成している。電気泳動表示装置としては、例えば、対をなす画素基板と対向基板との間を隔壁によって複数の空間に区画し、各空間内に電気泳動粒子および分散媒を含む電気泳動分散液を封入した構成のものが知られている。   In this electrophoretic display device, a voltage is applied between a pixel electrode and a common electrode facing each other with an electrophoretic dispersion liquid containing electrophoretic particles interposed therebetween, so that charged electrophoretic particles such as black particles and white particles are spatially separated. The image is formed in the display area by moving the image automatically. As an electrophoretic display device, for example, a configuration in which a pair of pixel substrate and counter substrate is partitioned into a plurality of spaces by partition walls, and an electrophoretic dispersion liquid containing electrophoretic particles and a dispersion medium is enclosed in each space Things are known.

このような電気泳動表示装置は、例えば、特許文献1に記載のように、電気泳動分散液(電気泳動インク)を空間(セル)の内部に隙間なく封止するために、画素基板上に設けられた隔壁の頂部と、対向基板に形成された封止層とを接合する技術が開示されている。   Such an electrophoretic display device is provided on a pixel substrate in order to seal an electrophoretic dispersion liquid (electrophoretic ink) inside a space (cell) without any gap as described in Patent Document 1, for example. A technique for joining the top of the partition wall and a sealing layer formed on the counter substrate is disclosed.

かかる構成の電気泳動表示装置は、隔壁が設けられた画素基板を用意し、その後、画素基板上の隔壁により区画された空間内に電気泳動分散液を充填させた後に、封止層が設けられた対向基板を接合することにより製造される。   In the electrophoretic display device having such a configuration, a pixel substrate provided with a partition wall is prepared, and after the electrophoretic dispersion liquid is filled in a space defined by the partition wall on the pixel substrate, a sealing layer is provided. It is manufactured by bonding the opposite substrates.

ところが、このような電気泳動表示装置の製造方法では、電気泳動分散液を閉空間となるセルの内部に封止する前工程において、電気泳動表示装置の各部を構成する構成材料(構造材料)が不本意に吸湿または吸着してしまい、その結果、吸湿または吸着した構成材料から電気泳動分散液に水分が浸入することに起因して、電気泳動分散液中に含まれる電気泳動粒子の帯電状態が変化する。そのため、電気泳動粒子の凝集や、電気泳動粒子の電極への固着が発生し、その結果、電気泳動表示装置の表示品質が損ねられると言う問題があった。   However, in such a method for manufacturing an electrophoretic display device, constituent materials (structural materials) constituting each part of the electrophoretic display device are used in a pre-process for sealing the electrophoretic dispersion liquid in a cell serving as a closed space. As a result, the charged state of the electrophoretic particles contained in the electrophoretic dispersion liquid is caused by moisture intruding into the electrophoretic dispersion liquid from the absorbed or adsorbed constituent material. Change. Therefore, there is a problem that the electrophoretic particles are aggregated and the electrophoretic particles are fixed to the electrode, and as a result, the display quality of the electrophoretic display device is impaired.

特開2015−138220号公報JP 2015-138220 A

本発明の目的は、隔壁によって区画された各セル内に充填された電気泳動分散液に含まれる水分量が適切な範囲に規定されることで、優れた表示品質を備える電気泳動表示装置、かかる電気泳動表示装置を製造し得る電気泳動表示装置の製造方法、および信頼性に優れた電子機器を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electrophoretic display device having excellent display quality by setting the amount of water contained in an electrophoretic dispersion filled in each cell partitioned by a partition wall to an appropriate range. An object of the present invention is to provide an electrophoretic display device manufacturing method capable of manufacturing an electrophoretic display device and an electronic apparatus having excellent reliability.

このような目的は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、下記の本発明により達成される。   Such an object has been made to solve at least a part of the above-described problems, and is achieved by the present invention described below.

本発明の電気泳動表示装置は、第1基板と、
前記第1基板と対向して配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、複数のセルに区切る隔壁と、
複数の前記セル内に配置され、電気泳動粒子と分散媒とを含有する電気泳動分散液とを有し、
前記分散媒は、第1分子量の第1材料と、前記第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料とを含有し、
前記隔壁の前記第2基板側の端部に、前記第2材料が存在することを特徴とする。
The electrophoretic display device of the present invention includes a first substrate,
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A partition wall disposed between the first substrate and the second substrate and partitioned into a plurality of cells;
An electrophoretic dispersion liquid disposed in a plurality of the cells and containing electrophoretic particles and a dispersion medium;
The dispersion medium contains a first material having a first molecular weight and a second material having a second molecular weight that is larger than the first molecular weight.
The second material is present at an end of the partition on the second substrate side.

これにより、隔壁によって区画された各セル内に充填された電気泳動分散液に含まれる水分量を適切な範囲に規定することができ、優れた表示品質を備える電気泳動表示装置とすることができる。   Accordingly, the amount of water contained in the electrophoretic dispersion filled in each cell partitioned by the partition walls can be regulated within an appropriate range, and an electrophoretic display device having excellent display quality can be obtained. .

本発明の電気泳動表示装置では、前記隔壁と前記第2基板との間に配置された封止層を有することが好ましい。   In the electrophoretic display device according to the aspect of the invention, it is preferable that the electrophoretic display device includes a sealing layer disposed between the partition wall and the second substrate.

このように、前記隔壁と前記第2基板との間に配置された封止層を備える場合に、本発明の電気泳動表示装置が好適に適用される。   As described above, the electrophoretic display device of the present invention is suitably applied when the sealing layer disposed between the partition and the second substrate is provided.

本発明の電気泳動表示装置では、前記封止層は、第1封止層と第2封止層とが前記第2基板側からこの順で積層された積層体であることが好ましい。   In the electrophoretic display device according to the aspect of the invention, it is preferable that the sealing layer is a stacked body in which a first sealing layer and a second sealing layer are stacked in this order from the second substrate side.

このように、前記封止層が前記積層体で構成される場合に、本発明の電気泳動表示装置がより好ましく適用される。   Thus, when the sealing layer is composed of the laminate, the electrophoretic display device of the present invention is more preferably applied.

本発明の電気泳動表示装置では、前記第1材料と、前記第2材料とは、同一構造を有していることが好ましい。   In the electrophoretic display device of the present invention, it is preferable that the first material and the second material have the same structure.

これにより、電気泳動分散液中に含まれる分散媒において、第1材料に第2材料がより確実に溶け込まれたものとなる。   Thereby, in the dispersion medium contained in the electrophoretic dispersion liquid, the second material is more reliably dissolved in the first material.

本発明の電気泳動表示装置では、前記第1材料と、前記第2材料とは、ともにシリコーンオイルであることが好ましい。   In the electrophoretic display device of the present invention, it is preferable that both the first material and the second material are silicone oil.

これにより、第2材料を第1材料に溶け込ませて、結果的に、電気泳動粒子の優れた分散性を保つことが可能となる。   Thereby, the second material can be dissolved in the first material, and as a result, the excellent dispersibility of the electrophoretic particles can be maintained.

本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、第1分子量の第1材料および前記第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を含有する分散媒と、電気泳動粒子とを含む電気泳動分散液を充填する複数のセルに区切るための隔壁を第1基板上に形成する工程と、
第2基板および前記隔壁の少なくとも一方に、前記第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を含有する水分封止層を形成する工程と、
前記電気泳動粒子が前記第1材料に分散された分散液を前記セル内に注入する工程と、
前記水分封止層が介在するように、前記隔壁と前記第2基板とを接合する工程とを有することを特徴とする。
The method for producing an electrophoretic display device of the present invention includes an electrophoretic particle including a dispersion medium containing a first material having a first molecular weight, a second material having a second molecular weight larger than the first molecular weight, and electrophoretic particles. Forming a partition on the first substrate for partitioning into a plurality of cells filled with the electrophoretic dispersion;
Forming a moisture sealing layer containing a second material having a second molecular weight larger than the first molecular weight on at least one of the second substrate and the partition;
Injecting a dispersion liquid in which the electrophoretic particles are dispersed in the first material into the cell;
A step of bonding the partition wall and the second substrate so that the moisture sealing layer is interposed.

これにより、隔壁によって区画された各セル内に充填された電気泳動分散液に含まれる水分量を適切な範囲に規定することができるため、優れた表示品質を備える電気泳動表示装置を製造することができる。   Accordingly, the amount of water contained in the electrophoretic dispersion filled in each cell partitioned by the partition walls can be regulated within an appropriate range, and thus an electrophoretic display device having excellent display quality is manufactured. Can do.

本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記水分封止層は、平均厚さが1μm以上5μm以下の厚さで形成されることが好ましい。   In the method for manufacturing an electrophoretic display device according to the aspect of the invention, it is preferable that the moisture sealing layer has an average thickness of 1 μm to 5 μm.

これにより、水分封止層を、分散媒中に溶け込ませた際の、分散媒中における第2材料の含有量が適切な範囲内に設定され、分散媒の粘度を適切な範囲内に設定することができるため、電気泳動分散媒中において、電気泳動粒子を優れた泳動特性で泳動させることができる。   As a result, the content of the second material in the dispersion medium when the moisture sealing layer is dissolved in the dispersion medium is set within an appropriate range, and the viscosity of the dispersion medium is set within an appropriate range. Therefore, the electrophoretic particles can be migrated with excellent electrophoretic characteristics in the electrophoretic dispersion medium.

本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前記隔壁は、平均高さが10μm以上150μm以下の高さで形成されることが好ましい。   In the method for manufacturing an electrophoretic display device according to the aspect of the invention, it is preferable that the partition walls have an average height of 10 μm to 150 μm.

これにより、この隔壁で区切られたセル内に形成される電気泳動層の厚さもこの平均高さとほぼ等しく設定される。   Thereby, the thickness of the electrophoretic layer formed in the cells partitioned by the partition walls is also set to be approximately equal to the average height.

本発明の電子機器は、本発明の電気泳動表示装置を備えることを特徴とする。
これにより、電子機器は、優れた信頼性を備えるものとなる。
An electronic apparatus according to the present invention includes the electrophoretic display device according to the present invention.
As a result, the electronic device has excellent reliability.

本発明の電気泳動表示装置が搭載された電子機器の実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows embodiment of the electronic device by which the electrophoretic display apparatus of this invention is mounted. 本発明の電気泳動表示装置の電気的な構成の実施形態を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram showing an embodiment of an electrical configuration of the electrophoretic display device of the present invention. 本発明の電気泳動表示装置の構造の実施形態を示す模式平面図である。It is a schematic plan view which shows embodiment of the structure of the electrophoretic display device of this invention. 図3に示す電気泳動表示装置のA−A’線断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of the electrophoretic display device shown in FIG. 3. 図3に示す電気泳動表示装置のうち封止層、およびシール部周辺の構造を示す模式平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view showing a structure around a sealing layer and a seal portion in the electrophoretic display device shown in FIG. 3. 図5に示す電気泳動表示装置のB−B’線断面図である。FIG. 6 is a B-B ′ line cross-sectional view of the electrophoretic display device shown in FIG. 5. 図5に示す電気泳動表示装置のC部を拡大して示す拡大平面図である。FIG. 6 is an enlarged plan view showing an enlarged C part of the electrophoretic display device shown in FIG. 5. 図6に示す電気泳動表示装置のF部を拡大して示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which expands and shows the F section of the electrophoretic display device shown in FIG. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を工程順に示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention in order of a process. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を工程順に示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention in order of a process. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd manufacturing method of the electrophoretic display device of this invention.

以下、本発明の電気泳動表示装置、電気泳動表示装置の製造方法および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, an electrophoretic display device, an electrophoretic display device manufacturing method, and an electronic apparatus according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を含むものとする。   In the following embodiments, for example, when “on the substrate” is described, the substrate is disposed so as to be in contact with the substrate, or is disposed on the substrate via another component, or the substrate. It includes a case where a part is arranged on the top and a part is arranged via another component.

<電子機器>
まず、本発明の電気泳動表示装置および電気泳動表示装置の製造方法を説明するのに先立って、本発明の電気泳動表示装置を備える電子機器について説明する。
<Electronic equipment>
First, prior to describing the electrophoretic display device and the method of manufacturing the electrophoretic display device of the present invention, an electronic apparatus including the electrophoretic display device of the present invention will be described.

図1は、本発明の電気泳動表示装置が搭載された電子機器の実施形態を示す斜視図である。なお、使用する図面(図1および以下で示す図を含む)は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。   FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of an electronic apparatus equipped with the electrophoretic display device of the present invention. Note that the drawings to be used (including FIG. 1 and the drawings shown below) are appropriately enlarged or reduced so as to be recognized.

図1に示すように、電子機器100は、電気泳動表示装置10と、電子機器100を操作するためのインターフェイスとを備えている。このインターフェイスは、具体的には、例えば、操作部110であり、スイッチ等から構成される。   As shown in FIG. 1, the electronic device 100 includes an electrophoretic display device 10 and an interface for operating the electronic device 100. Specifically, this interface is, for example, the operation unit 110 and includes a switch and the like.

電気泳動表示装置10は、本発明の電気泳動表示装置で構成され、表示領域Eを有するディスプレイモジュールである。表示領域Eは複数の画素から成り、これらの画素が電気的に制御されることで表示領域Eに画像が表示される。そのため、かかる電気泳動表示装置10を備える電子機器100は、優れた信頼性を備えるものとなる。   The electrophoretic display device 10 is a display module that includes the display region E and includes the electrophoretic display device of the present invention. The display area E includes a plurality of pixels, and an image is displayed on the display area E by electrically controlling these pixels. Therefore, the electronic device 100 including the electrophoretic display device 10 has excellent reliability.

なお、電気泳動表示装置10を備えた電子機器100として、図1に示す、電子ペーパー(EPD:Electronic Paper Display)の他、ウォッチ、リスタブル機器、スマートフォン、タブレット端末、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、電子新聞、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネル等に適用することができる。   In addition to the electronic paper (EPD: Electronic Paper Display) shown in FIG. 1, the electronic device 100 including the electrophoretic display device 10 is a watch, a re-stable device, a smartphone, a tablet terminal, a television, a viewfinder type, and a direct monitor view. It can be applied to a type of video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook, calculator, electronic newspaper, word processor, personal computer, workstation, videophone, POS terminal, touch panel and the like.

<電気泳動表示装置>
次に、かかる電子機器100が備える電気泳動表示装置10(本発明の電気泳動表示装置)について説明する。
<Electrophoretic display device>
Next, the electrophoretic display device 10 (electrophoretic display device of the present invention) included in the electronic apparatus 100 will be described.

図2は、本発明の電気泳動表示装置の電気的な構成の実施形態を示す等価回路図、図3は、本発明の電気泳動表示装置の構造の実施形態を示す模式平面図、図4は、図3に示す電気泳動表示装置のA−A’線断面図、図5は、図3に示す電気泳動表示装置のうち封止層、およびシール部周辺の構造を示す模式平面図、図6は、図5に示す電気泳動表示装置のB−B’線断面図、図7は、図5に示す電気泳動表示装置のC部を拡大して示す拡大平面図、図8は、図6に示す電気泳動表示装置のF部を拡大して示す拡大断面図である。なお、図5〜図8においては、絶縁層や配線、電極等の図示は省略する。   2 is an equivalent circuit diagram showing an embodiment of the electrical configuration of the electrophoretic display device of the present invention, FIG. 3 is a schematic plan view showing an embodiment of the structure of the electrophoretic display device of the present invention, and FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the electrophoretic display device shown in FIG. 3. FIG. 5 is a schematic plan view showing the structure around the sealing layer and the seal portion in the electrophoretic display device shown in FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of the electrophoretic display device shown in FIG. 5, FIG. 7 is an enlarged plan view showing the portion C of the electrophoretic display device shown in FIG. 5, and FIG. It is an expanded sectional view which expands and shows the F section of the electrophoretic display device shown. 5-8, illustration of an insulating layer, wiring, an electrode, etc. is abbreviate | omitted.

図2に示すように、電気泳動表示装置10は、複数のデータ線12と、複数の走査線13とを有し、データ線12と走査線13とが交差する部分に画素11が配置される。具体的には、電気泳動表示装置10は、データ線12と走査線13とに沿ってマトリクス状に配置された複数の画素11を有している。各画素11は、画素電極21と共通電極22との間に配置された分散媒15と電気泳動粒子34とを含む電気泳動分散液を有する。   As shown in FIG. 2, the electrophoretic display device 10 includes a plurality of data lines 12 and a plurality of scanning lines 13, and the pixels 11 are arranged at portions where the data lines 12 and the scanning lines 13 intersect. . Specifically, the electrophoretic display device 10 includes a plurality of pixels 11 arranged in a matrix along data lines 12 and scanning lines 13. Each pixel 11 has an electrophoretic dispersion liquid including a dispersion medium 15 and electrophoretic particles 34 disposed between the pixel electrode 21 and the common electrode 22.

画素電極21は、トランジスター16(TFT16)を介してデータ線12に接続されている。また、TFT16のゲート電極は、走査線13に接続されている。なお、図2は、例示であり、必要に応じて保持容量等の他の素子が組み込まれてもよい。   The pixel electrode 21 is connected to the data line 12 via the transistor 16 (TFT 16). The gate electrode of the TFT 16 is connected to the scanning line 13. Note that FIG. 2 is an example, and other elements such as a storage capacitor may be incorporated as necessary.

また、図3および図4に示すように、電気泳動表示装置10は、素子基板51と、素子基板51と対向して配置された対向基板52と、素子基板51と対向基板52との間に配置され、複数のセル36に区切る隔壁35と、複数のセル36内に配置され、電気泳動粒子34と分散媒15とを含有する電気泳動分散液37で構成される電気泳動層33と、隔壁35と対向基板52との間に配置された封止層42とを有する。   As shown in FIGS. 3 and 4, the electrophoretic display device 10 includes an element substrate 51, a counter substrate 52 disposed so as to face the element substrate 51, and the element substrate 51 and the counter substrate 52. A partition wall 35 that is arranged and divided into a plurality of cells 36, an electrophoretic layer 33 that is arranged in the plurality of cells 36 and is composed of an electrophoretic dispersion liquid 37 containing the electrophoretic particles 34 and the dispersion medium 15, and the partition walls And a sealing layer 42 disposed between the counter substrate 52 and the counter substrate 52.

本実施形態では、本発明における第1基板として素子基板51が適用され、本発明における第2基板として対向基板52が適用される。   In the present embodiment, the element substrate 51 is applied as the first substrate in the present invention, and the counter substrate 52 is applied as the second substrate in the present invention.

素子基板51が備える、例えば、透光性を有するガラス基板からなる第1基材31上には、各画素11に対応して画素電極21が配置されている。   On the first substrate 31 provided in the element substrate 51, for example, made of a glass substrate having translucency, the pixel electrode 21 is arranged corresponding to each pixel 11.

詳述すると、図3および図4に示すように、画素11(画素電極21)は、例えば、平面視でマトリクス状に形成されている。画素電極21の材料としては、例えば、ITO(錫を添加した酸化インジウム:Indium Tin Oxide)等の光透過性材料が用いられる。   More specifically, as shown in FIGS. 3 and 4, the pixels 11 (pixel electrodes 21) are formed in a matrix in a plan view, for example. As the material of the pixel electrode 21, for example, a light transmissive material such as ITO (indium tin oxide added with tin) is used.

第1基材31と画素電極21との間には、図示しない回路部が設けられており、回路部の中にTFT16等が形成されている。TFT16は、図示しないコンタクト部を介して、各画素電極21と電気的に接続されている。なお、図示しないが、回路部の中には、TFT16の他、各種配線(例えば、データ線12や走査線13等)や素子(例えば、容量素子)等が配置されている。画素電極21上を含む第1基材31上の全面には、第1絶縁層32が形成されている。なお、第1絶縁層32を設けない構成でもよい。   A circuit part (not shown) is provided between the first base material 31 and the pixel electrode 21, and the TFT 16 and the like are formed in the circuit part. The TFT 16 is electrically connected to each pixel electrode 21 via a contact portion (not shown). Although not shown, in the circuit portion, various wirings (for example, the data line 12 and the scanning line 13) and elements (for example, capacitive elements) are arranged in addition to the TFT 16. A first insulating layer 32 is formed on the entire surface of the first base 31 including the pixel electrode 21. Note that the first insulating layer 32 may be omitted.

対向基板52が備える、例えば、透光性を有するガラス基板からなる第2基材41上(図4における分散媒15側)には、複数の画素11に対応して共通に設けられた共通電極22が形成されている。共通電極22としては、例えば、ITO等の光透過性材料が用いられる。   For example, a common electrode provided in common corresponding to the plurality of pixels 11 on the second base material 41 (on the dispersion medium 15 side in FIG. 4) made of a glass substrate having translucency provided in the counter substrate 52. 22 is formed. As the common electrode 22, for example, a light transmissive material such as ITO is used.

また、対向基板52が備える共通電極22上(図4における分散媒15側)には、本実施形態では、第1封止層42aが形成されている。さらに、第1封止層42aの上には、第2封止層42bが形成されている。なお、第1封止層42aと第2封止層42bとを合せて封止層42と称する。なお、この封止層42については、後に詳述する。   Further, in the present embodiment, a first sealing layer 42 a is formed on the common electrode 22 (on the dispersion medium 15 side in FIG. 4) provided in the counter substrate 52. Furthermore, a second sealing layer 42b is formed on the first sealing layer 42a. The first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b are collectively referred to as a sealing layer 42. The sealing layer 42 will be described in detail later.

第1絶縁層32と封止層42との間には、電気泳動層33が設けられている。
電気泳動層33は、少なくとも1以上の電気泳動粒子34と、電気泳動粒子34が分散された分散媒15とを含む電気泳動分散液37で構成され、この電気泳動分散液37(分散媒15および電気泳動粒子34)が、第1絶縁層32と、第2封止層42bと、第1基材31上に設けられた隔壁35(リブ)と、により仕切られた(分割された)空間(領域)であるセル36内に充填されることで形成される。
An electrophoretic layer 33 is provided between the first insulating layer 32 and the sealing layer 42.
The electrophoretic layer 33 is composed of an electrophoretic dispersion liquid 37 including at least one or more electrophoretic particles 34 and a dispersion medium 15 in which the electrophoretic particles 34 are dispersed, and the electrophoretic dispersion liquid 37 (the dispersion medium 15 and the dispersion medium 15). A space (electrophoretic particles 34) partitioned (divided) by a first insulating layer 32, a second sealing layer 42b, and partition walls 35 (ribs) provided on the first substrate 31 ( It is formed by filling in the cell 36 which is a region.

隔壁35は、図3に示すように、素子基板51と、対向基板52との間に介挿され、碁盤目状に形成されている。なお、隔壁35は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の透光性材料であることが好ましい。このような透光性材料で構成することにより、表示領域Eに表示された画像に隔壁35が映り込むのを的確に抑制または防止することができる。さらに、これらの透光性材料は、吸湿性または吸着性の低い材料であることから、隔壁35に吸着された水分がセル36内において、電気泳動分散液37中に移行するのを的確に抑制または防止することができる。   As shown in FIG. 3, the partition wall 35 is interposed between the element substrate 51 and the counter substrate 52 and is formed in a grid pattern. In addition, it is preferable that the partition 35 is translucent materials, such as an acrylic resin and an epoxy resin. By using such a translucent material, it is possible to accurately suppress or prevent the partition wall 35 from being reflected in the image displayed in the display area E. Further, since these light-transmitting materials are materials having a low hygroscopic property or a low adsorptive property, the moisture adsorbed on the partition wall 35 is accurately suppressed from moving into the electrophoretic dispersion 37 in the cell 36. Or it can be prevented.

また、隔壁35の幅は、好ましくは3μm以上10μm以下に設定される。
なお、本実施形態では、各画素11に画素電極21が配置され、各画素電極21に前記隔壁35(リブ)が配置されている構成としたが、これに限定されず、複数の画素毎(例えば2〜20画素毎)に、隔壁35(リブ)が形成されても良い。
The width of the partition wall 35 is preferably set to 3 μm or more and 10 μm or less.
In this embodiment, the pixel electrode 21 is disposed in each pixel 11 and the partition wall 35 (rib) is disposed in each pixel electrode 21. However, the present invention is not limited to this, and a plurality of pixels ( For example, partition walls 35 (ribs) may be formed every 2 to 20 pixels.

また、素子基板51と対向基板52とを貼り合せた際、隔壁35の上部が対向基板52(具体的には、封止層42)に接触することにより、隔壁35の高さ(実際には、図6に示す額縁隔壁61)を基準に素子基板51と対向基板52との間のセルギャップを決めることができる。   Further, when the element substrate 51 and the counter substrate 52 are bonded together, the upper portion of the partition wall 35 comes into contact with the counter substrate 52 (specifically, the sealing layer 42), so that the height of the partition wall 35 (actually, The cell gap between the element substrate 51 and the counter substrate 52 can be determined based on the frame partition wall 61) shown in FIG.

なお、以下では、隔壁35によって囲まれて区切られた領域をセル36と言う。一つのセル36は、隔壁35と、画素電極21と、共通電極22(封止層42)と、電気泳動層33とを含む。   Hereinafter, a region surrounded by the partition wall 35 is referred to as a cell 36. One cell 36 includes a partition wall 35, a pixel electrode 21, a common electrode 22 (sealing layer 42), and an electrophoretic layer 33.

さらに、隔壁35の平均高さは、この隔壁35により区画される電気泳動層33の平均厚さとほぼ等しく設定され、例えば、10μm以上150μm以下であることが好ましく、20μm以上100μm以下であることがより好ましく、特に好ましくは30μm程度に設定される。これにより、電気泳動粒子34の移動による白色表示と黒色表示とを優れたコントラストで表示することが可能となる。   Furthermore, the average height of the partition walls 35 is set to be approximately equal to the average thickness of the electrophoretic layer 33 partitioned by the partition walls 35, and is preferably 10 μm or more and 150 μm or less, for example, 20 μm or more and 100 μm or less. More preferably, the thickness is particularly preferably set to about 30 μm. Thereby, it is possible to display white display and black display by movement of the electrophoretic particles 34 with excellent contrast.

また、本実施形態では、図4に示すように、電気泳動粒子34として、白色粒子と黒色粒子とを示している。   In the present embodiment, as shown in FIG. 4, white particles and black particles are shown as the electrophoretic particles 34.

例えば、画素電極21と共通電極22との間に電圧を印加すると、これらの間に生じる電界にしたがって、電気泳動粒子34は、いずれかの電極(画素電極21、共通電極22)に向かって電気泳動する。例えば、白色粒子が正荷電を有する場合、画素電極21を負電位とすると、白色粒子は、画素電極21側(下側)に移動して集まり、黒色表示となる。逆に、画素電極21を正電位とすると、白色粒子は、共通電極22側(上側)に移動して集まり、白色表示となる。このように、表示側の電極に集合する白色粒子の有無や数等に応じて、所望の情報(画像)が表示される。なお、ここでは、電気泳動粒子34として白色粒子や黒色粒子を用いたが、他の有色粒子を用いてもよい。   For example, when a voltage is applied between the pixel electrode 21 and the common electrode 22, the electrophoretic particles 34 are electrically directed toward one of the electrodes (the pixel electrode 21 and the common electrode 22) according to the electric field generated therebetween. Run. For example, when the white particles have a positive charge, when the pixel electrode 21 is set to a negative potential, the white particles move to the pixel electrode 21 side (lower side) and gather to display black. On the contrary, when the pixel electrode 21 is set to a positive potential, the white particles move to the common electrode 22 side (upper side) and gather to display white. In this manner, desired information (image) is displayed according to the presence or absence or the number of white particles gathering on the display-side electrode. Here, although white particles or black particles are used as the electrophoretic particles 34, other colored particles may be used.

また、電気泳動粒子34としては、無機顔料系の粒子、有機顔料系の粒子または高分子微粒子等を用いることができ、各種粒子を2種以上混合して用いてもよい。また、電気泳動粒子34の平均粒子径は、例えば、0.05μm以上10μm以下程度のものが用いられ、好ましくは、0.2μm以上2μm以下程度のものが用いられる。   Further, as the electrophoretic particles 34, inorganic pigment-based particles, organic pigment-based particles, polymer fine particles, or the like can be used, and two or more kinds of various particles may be mixed and used. The average particle size of the electrophoretic particles 34 is, for example, about 0.05 μm to 10 μm, and preferably about 0.2 μm to 2 μm.

また、白色粒子の含有量は、分散媒15、白色粒子および黒色粒子の全重量、すなわち電気泳動分散液に対して30%以内であり、黒色粒子の含有量は、分散媒15、白色粒子、黒色粒子の全重量、すなわち電気泳動分散液に対して10%以内である。このように配分することにより、反射率が40%以上、および黒色反射率が2%以下になり、表示性能を高くすることができる。   Further, the content of the white particles is within 30% of the total weight of the dispersion medium 15, the white particles and the black particles, that is, the electrophoretic dispersion, and the content of the black particles is the dispersion medium 15, the white particles, The total weight of black particles, that is, within 10% with respect to the electrophoretic dispersion. By allocating in this way, the reflectance becomes 40% or more and the black reflectance becomes 2% or less, and the display performance can be improved.

また、本実施形態では、電気泳動粒子34を分散させた電気泳動分散液37とするための分散媒15として、沸点が100℃以上であり、比較的高い絶縁性を有するものが好ましく用いられる。   In the present embodiment, as the dispersion medium 15 for making the electrophoretic dispersion liquid 37 in which the electrophoretic particles 34 are dispersed, a medium having a boiling point of 100 ° C. or higher and a relatively high insulating property is preferably used.

かかる分散媒としては、例えば、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸ブチル、高級脂肪酸エステル等のエステル類、ジブチルケトン等のケトン類、ペンタン等の脂肪族炭化水素類(流動パラフィン)、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン等の芳香族複素環類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド類のような有機溶媒またはシリコーンオイル等が挙げられ、これらを単独または混合物として用いることができる。   Examples of the dispersion medium include cellosolves such as butyl cellosolve, esters such as butyl acetate and higher fatty acid esters, ketones such as dibutyl ketone, aliphatic hydrocarbons (liquid paraffin) such as pentane, and alicyclic rings such as cyclohexane. Formula hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, aromatic heterocycles such as pyridine, nitriles such as acetonitrile, and amides such as N, N-dimethylformamide Such organic solvents or silicone oils can be mentioned, and these can be used alone or as a mixture.

中でも、分散媒としては、シリコーンオイルを主成分とするものが好ましい。シリコーンオイルを主成分とする分散媒は、電気泳動粒子34の凝集抑制効果が高いことから、図3に示す電気泳動表示装置10の表示性能が経時的に劣化するのを抑制することができる。また、シリコーンオイルは、不飽和結合を有しないため耐候性に優れ、さらに安全性も高いという利点を有している。   Among these, as the dispersion medium, those containing silicone oil as a main component are preferable. Since the dispersion medium containing silicone oil as a main component has a high effect of suppressing aggregation of the electrophoretic particles 34, it is possible to suppress the display performance of the electrophoretic display device 10 shown in FIG. Silicone oil has the advantage that it has excellent weather resistance and has high safety because it does not have an unsaturated bond.

なお、分散媒15に分散される電気泳動粒子34は、上記の通り、いずれかの電極に向かって電気泳動し得るように、正または負の荷電を有するが、その帯電量は、通常、電気泳動粒子34が取り込む、分散媒15中に含まれる水分の取り込み量によって規定される。そのため、分散媒15中に含まれる水分量は、好ましくは300ppm以上1000ppm以下程度、より好ましくは400ppm以上700ppm以下程度に設定される。なお、分散媒15としてシリコーンオイル(以下の第1材料、第2材料)を主成分とするものを用いた場合、シリコーンオイルは吸湿性または吸着性の高い材料であることから、前記水分量を前記範囲内に設定することが、優れた泳動特性を有する電気泳動粒子34を得るための要素として求められる。   As described above, the electrophoretic particles 34 dispersed in the dispersion medium 15 have a positive or negative charge so that they can be electrophoresed toward one of the electrodes. It is defined by the amount of moisture taken in by the migrating particles 34 and contained in the dispersion medium 15. Therefore, the amount of water contained in the dispersion medium 15 is preferably set to about 300 ppm to 1000 ppm, more preferably about 400 ppm to 700 ppm. In addition, when a silicone oil (the following first material and second material) as a main component is used as the dispersion medium 15, the silicone oil is a highly hygroscopic or adsorptive material. Setting within the above range is required as an element for obtaining electrophoretic particles 34 having excellent electrophoretic properties.

また、分散媒15中に含まれる水分量を前記範囲内に設定し得るのは、本発明では、分散媒15を、上述した材料のうち、第1分子量の第1材料と、この第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料とを含有するものとすることによるが、その詳細な説明は、後述する電気泳動表示装置の製造方法において行うこととする。   In the present invention, the amount of water contained in the dispersion medium 15 can be set within the above range. In the present invention, the dispersion medium 15 includes the first material having the first molecular weight and the first molecular weight among the materials described above. The second molecular weight second material having a molecular weight higher than that of the second molecular weight is included, but the detailed description thereof will be made in a method for manufacturing an electrophoretic display device to be described later.

なお、分散媒15を、第1分子量の第1材料と、この第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料とを含有するものとすることで、分散媒15中に含まれる水分量を前記範囲内に設定し得る他、白色表示または黒色表示した際の保持性の向上が図られると言う利点も得られる。これは、分散媒15に、第1分子量の第1材料の他に、さらに、第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料が含まれることで、分散媒15のチキソ性が良好なものとなるため、電気泳動粒子34の泳動開始当初の保持力が優れたものとなるため、結果として、白色表示または黒色表示した際の保持性が向上すると推察される。また、電気泳動分散液37中における電気泳動粒子34の分散性が良くなる。   The dispersion medium 15 contains the first material having the first molecular weight and the second material having the second molecular weight having a molecular weight larger than the first molecular weight, so that the water contained in the dispersion medium 15 is contained. In addition to being able to set the amount within the above range, there is also an advantage that the retention is improved when displaying white or black. This is because the dispersion medium 15 includes a second material having a second molecular weight larger than the first molecular weight in addition to the first material having the first molecular weight, so that the thixotropy of the dispersion medium 15 is good. Therefore, it is presumed that the retention at the start of electrophoresis of the electrophoretic particles 34 is excellent, and as a result, the retention at the time of white display or black display is improved. Further, the dispersibility of the electrophoretic particles 34 in the electrophoretic dispersion liquid 37 is improved.

また、分散媒15中には、必要に応じて、例えば、電解質、界面活性剤(アニオン性またはカチオン性)、金属石鹸、樹脂材料、ゴム材料、油類、ワニス、コンパウンド等の粒子からなる荷電制御剤、潤滑剤、安定化剤、各種染料等の各種添加剤を添加するようにしてもよい。   Further, in the dispersion medium 15, for example, a charge made of particles such as an electrolyte, a surfactant (anionic or cationic), a metal soap, a resin material, a rubber material, an oil, a varnish, a compound, or the like is necessary. Various additives such as a control agent, a lubricant, a stabilizer, and various dyes may be added.

また、図5および図6に示すように、電気泳動表示装置10は、表示領域Eと、この表示領域Eを囲む額縁領域E1(外周領域)とを有する。この額縁領域E1には、電気泳動層33のうち表示に寄与しない領域であるダミー画素領域Dと、ダミー画素領域Dの外側に配置された額縁隔壁61(外周隔壁)と、額縁隔壁61の外側に配置されたシール部14とを含む。   As shown in FIGS. 5 and 6, the electrophoretic display device 10 has a display area E and a frame area E1 (outer peripheral area) surrounding the display area E. The frame region E1 includes a dummy pixel region D which is a region that does not contribute to display in the electrophoretic layer 33, a frame partition 61 (outer peripheral partition) disposed outside the dummy pixel region D, and an outer side of the frame partition 61. And a seal portion 14 disposed on the surface.

なお、額縁領域E1の幅は、例えば、1mm程度である。また、ダミー画素領域Dの幅は、例えば、80μmである。ダミー画素領域Dの表示領域E側には、表示領域Eに配置された隔壁35と同じ形状で形成された隔壁35aが設けられている隔壁のリブ幅(頂部35’の幅)は、3μm以上10μm以下程度であるのが好ましい。また、隣り合う隔壁と隔壁との距離は、好ましくは100μm以上300μm以下程度に設定される。   The width of the frame region E1 is, for example, about 1 mm. Further, the width of the dummy pixel region D is, for example, 80 μm. On the display area E side of the dummy pixel area D, the rib width (the width of the top portion 35 ′) of the partition wall provided with the partition wall 35a formed in the same shape as the partition wall 35 arranged in the display area E is 3 μm or more. It is preferably about 10 μm or less. The distance between adjacent partition walls is preferably set to about 100 μm or more and 300 μm or less.

ダミー画素領域Dの外側には、額縁隔壁61が設けられている。額縁隔壁61は、分散媒15が外側に流れ出ないように堰き止めることができると共に、セルギャップを調整するために用いられており、ダミー画素領域Dを囲むように配置されている。なお、額縁隔壁61は、通常、表示領域Eの隔壁35と同じ材料で構成されている。   A frame partition wall 61 is provided outside the dummy pixel region D. The frame partition wall 61 can be dammed so that the dispersion medium 15 does not flow outside, and is used to adjust the cell gap, and is disposed so as to surround the dummy pixel region D. The frame partition 61 is usually made of the same material as the partition 35 of the display area E.

額縁隔壁61の幅W1は、好ましくは100μm以上300μm以下程度に設定される。   The width W1 of the frame partition wall 61 is preferably set to about 100 μm to 300 μm.

また、額縁隔壁61の高さは、例えば、10μm以上200μm以下程度であることが好ましく、20μm以上100μm以下程度であることがより好ましい。これにより、額縁隔壁61を、電気泳動層33の厚さを規定するギャップ材として機能させることができ、電気泳動層33の厚さを前述した範囲内に容易に設定することができる。   Further, the height of the frame partition wall 61 is, for example, preferably about 10 μm to 200 μm, and more preferably about 20 μm to 100 μm. Accordingly, the frame partition wall 61 can function as a gap material that defines the thickness of the electrophoretic layer 33, and the thickness of the electrophoretic layer 33 can be easily set within the above-described range.

なお、額縁隔壁61は、隣接して配置される第1シール材14aが表示領域Eにはみ出さないようにするためにも用いられる。   The frame partition wall 61 is also used to prevent the first sealing material 14a disposed adjacent to the display area E from protruding.

シール部14は、本実施形態では、図6に示すように、第1シール材14aと、第2シール材14bとを有する。第1シール材14aは、素子基板51と対向基板52とを貼り合わせる際に接着するために用いられ、額縁隔壁61を囲むように設けられている。   In the present embodiment, the seal portion 14 includes a first seal material 14a and a second seal material 14b as shown in FIG. The first sealing material 14 a is used to bond the element substrate 51 and the counter substrate 52 together, and is provided so as to surround the frame partition wall 61.

第1シール材14aの幅W2は、好ましくは150μm以上600μm以下程度に設定される。また、第1シール材14aの粘度は、例えば、30万Pa・s以上100万Pa・s以下であり、好ましくは、40万Pa・s程度である。このような粘度の第1シール材14aを用いることにより、素子基板51と対向基板52との貼り合せの際に、素子基板51と対向基板52との接触面積を大きく保つことができる。   The width W2 of the first sealing material 14a is preferably set to about 150 μm or more and 600 μm or less. Moreover, the viscosity of the 1st sealing material 14a is 300,000 Pa * s or more and 1 million Pa * s or less, for example, Preferably, it is about 400,000 Pa * s. By using the first sealing material 14a having such a viscosity, the contact area between the element substrate 51 and the counter substrate 52 can be kept large when the element substrate 51 and the counter substrate 52 are bonded together.

また、第2シール材14bは、素子基板51と対向基板52との間を封止するために用いられ、第1シール材14aを囲むように配置されている。   The second sealing material 14b is used to seal between the element substrate 51 and the counter substrate 52, and is disposed so as to surround the first sealing material 14a.

第2シール材14bの幅W3は、好ましくは150μm以上600μm以下程度に設定される。また、第2シール材14bの粘度は、例えば、100Pa・s以上500Pa・s以下であり、好ましくは、400Pa・s程度である。このような粘度の第2シール材14bを用いることにより、第1シール材14aの周囲の素子基板51と対向基板52との間に、第2シール材14bを入り込ませることが可能となる。そのため、第2シール材14bの接着強度を向上させることができる。また、外部から第2シール材14bおよび第1シール材14aを介して内部に水分が侵入することを抑えることが可能となり、信頼性の高いシール構造を得ることができる。   The width W3 of the second sealing material 14b is preferably set to about 150 μm or more and 600 μm or less. Moreover, the viscosity of the 2nd sealing material 14b is 100 Pa.s or more and 500 Pa.s or less, for example, Preferably, it is about 400 Pa.s. By using the second sealing material 14b having such a viscosity, the second sealing material 14b can be inserted between the element substrate 51 and the counter substrate 52 around the first sealing material 14a. Therefore, the adhesive strength of the second sealing material 14b can be improved. Moreover, it becomes possible to suppress moisture from entering the inside through the second sealing material 14b and the first sealing material 14a from the outside, and a highly reliable seal structure can be obtained.

以上のようなシール部14において、第1シール材14aは、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂のような各種硬化型樹脂で構成されることが好ましい。これにより、素子基板51と対向基板52とを確実かつ強固に接合することができる。   In the sealing part 14 as described above, the first sealing material 14a is preferably composed of various curable resins such as an ultraviolet curable resin and a thermosetting resin. Thereby, the element substrate 51 and the counter substrate 52 can be reliably and firmly bonded.

また、第2シール材14bの構成材料としては、アクリル樹脂やエポキシ樹脂のうちの少なくとも1種が好ましく用いられる。かかる樹脂材料で構成される第2シール材14bは、吸湿性または吸着性の低い材料であることから、電気泳動表示装置10の外側から、第2シール材14bを介して、電気泳動分散液37側に、水分が移行するのを的確に抑制または防止することができる。   Moreover, as a constituent material of the second sealing material 14b, at least one of acrylic resin and epoxy resin is preferably used. Since the second sealing material 14b made of such a resin material is a material having low hygroscopicity or low adsorptivity, the electrophoretic dispersion liquid 37 from the outside of the electrophoretic display device 10 through the second sealing material 14b. It is possible to accurately suppress or prevent moisture from moving to the side.

なお、シール部14は、第1シール材14aと、第2シール材14bとのように別体として設ける場合の他、第2シール材14bの構成材料によっては、第1シール材14aを省略して、第2シール材14bの単体で構成されるものであってもよい。   In addition, the seal part 14 may omit the first seal material 14a depending on the constituent material of the second seal material 14b, in addition to the case where the seal member 14 is provided separately as in the case of the first seal material 14a and the second seal material 14b. The second sealing material 14b may be constituted by a single body.

図6および図8に示すように、表示領域Eにおいて、対向基板52には封止層42が設けられ、これにより、封止層42は、隔壁35の頂部35’と対向基板52との間に配置されている。すなわち、電気泳動表示装置10は、隔壁35と対向基板52との間に配置された封止層42を有している。   As shown in FIGS. 6 and 8, in the display region E, the counter substrate 52 is provided with a sealing layer 42, whereby the sealing layer 42 is provided between the top 35 ′ of the partition wall 35 and the counter substrate 52. Is arranged. That is, the electrophoretic display device 10 includes the sealing layer 42 disposed between the partition wall 35 and the counter substrate 52.

これにより、封止層42と、第1絶縁層32と、隔壁35(リブ)とにより区画された空間(閉空間)が形成され、この空間に分散媒15と電気泳動粒子34とを含む電気泳動分散液37が充填されることで、分散媒15および電気泳動粒子34を含む電気泳動分散液37が隣接するセル36同士の間で、行き来できないようになっている。   As a result, a space (closed space) defined by the sealing layer 42, the first insulating layer 32, and the partition walls 35 (ribs) is formed, and the electricity containing the dispersion medium 15 and the electrophoretic particles 34 is formed in this space. By filling the electrophoretic dispersion liquid 37, the electrophoretic dispersion liquid 37 including the dispersion medium 15 and the electrophoretic particles 34 can not go back and forth between the adjacent cells 36.

この際、図6、図8に示すように、本実施形態では、封止層42と電気泳動層33との接触面(第1封止層42aと第2封止層42bとの接触面)のうち、隔壁35と平面視で重なる部分は、隔壁35と平面視で重ならない部分よりも断面視において第2基材41(対向基板52)側に位置しており、これにより、隔壁35は、その頂部35’が封止層42に食い込んで(埋入して)いる。このように、頂部35’を封止層42に食い込ませることで、封止層42と、第1絶縁層32と、隔壁35とにより区画された閉空間すなわちセル36内に充填された電気泳動分散液37が、隣接するセル36同士の間で、行き来するのを的確に抑制または防止することができる。   At this time, as shown in FIGS. 6 and 8, in this embodiment, the contact surface between the sealing layer 42 and the electrophoretic layer 33 (the contact surface between the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b). Of these, the portion that overlaps the partition wall 35 in plan view is located closer to the second base material 41 (counter substrate 52) in a cross-sectional view than the portion that does not overlap the partition wall 35 in plan view. The top portion 35 ′ bites (embeds) the sealing layer 42. In this way, by causing the top portion 35 ′ to bite into the sealing layer 42, electrophoresis filled in the closed space defined by the sealing layer 42, the first insulating layer 32, and the partition wall 35, that is, the cell 36. It is possible to accurately suppress or prevent the dispersion liquid 37 from going back and forth between the adjacent cells 36.

このような封止層42は、本実施形態では、図4でも説明したように、対向基板52(第2基板)側から第1封止層42aと第2封止層42bとが、この順に積層された積層体で構成されている。   In this embodiment, as described with reference to FIG. 4, such a sealing layer 42 includes the first sealing layer 42 a and the second sealing layer 42 b in this order from the counter substrate 52 (second substrate) side. It is comprised by the laminated body laminated | stacked.

このような積層体において、第1封止層42aと第2封止層42bとの接触面のうち頂部35’が食い込んでいない部分(隔壁35と平面視で重ならない部分)と頂部35’とを比較した際、図8に示すように頂部35’の方が第2基材41側に位置している。そして、隔壁35の封止層42への食い込み量t2、すなわち第2封止層42bの電気泳動層33側の面のうち、頂部35’が食い込んでいない部分と頂部35’との間の距離は、例えば、1μm〜5μmであることが好ましい。これにより、電気泳動分散液37が、隣接するセル36同士の間で、行き来するのをより的確に抑制または防止することができる。   In such a laminate, a portion of the contact surface between the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b where the top portion 35 'does not bite (a portion that does not overlap with the partition wall 35 in plan view) and a top portion 35' , The top portion 35 'is positioned on the second base material 41 side as shown in FIG. Then, the amount t2 of the partition wall 35 that bites into the sealing layer 42, that is, the distance between the portion of the second sealing layer 42b on the side of the electrophoretic layer 33 where the top portion 35 'does not bite and the top portion 35'. Is, for example, preferably 1 μm to 5 μm. Thereby, it is possible to more accurately suppress or prevent the electrophoresis dispersion liquid 37 from going back and forth between the adjacent cells 36.

また、第1封止層42aと第2封止層42bとからなる封止層42において、第1封止層42aの弾性率は、5MPa以上40MPa以下であることが好ましい。また、第2封止層42bの弾性率は、50MPa以上10GPa以下であることが好ましい。第1封止層42aと、第2封止層42bとを、上記のような弾性率を有するものとすることにより、積層体、すなわち、封止層42全体としての弾性率を、1MPa以上100MPa以下の範囲内に容易に設定することができるとともに、隔壁35の頂部35’が折れ曲がったり、第2封止層42bが破損することなく、隔壁35の頂部35’を封止層42に食い込ませること、換言すれば、隔壁35の頂部35’により封止層42を変形させることができる。   In the sealing layer 42 composed of the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, the elastic modulus of the first sealing layer 42a is preferably 5 MPa or more and 40 MPa or less. The elastic modulus of the second sealing layer 42b is preferably 50 MPa or more and 10 GPa or less. By making the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b have the above elastic modulus, the elastic modulus of the laminate, that is, the entire sealing layer 42, is 1 MPa or more and 100 MPa. It can be easily set within the following range, and the top portion 35 'of the partition wall 35 is bitten into the sealing layer 42 without bending the top portion 35' of the partition wall 35 or damaging the second sealing layer 42b. In other words, the sealing layer 42 can be deformed by the top portion 35 ′ of the partition wall 35.

さらに、第1封止層42aの厚みは、2.5μm以上20μm以下であることが好ましく、第2封止層42bの厚みは、0.05μm以上1.0μm以下であることが好ましい。これにより、積層体において、第1封止層42aと第2封止層42bとの接触面のうち頂部35’が食い込んでいない部分と頂部35’とを比較した際、図8に示すように頂部35’の方が第2基材41側に位置している構成に比較的容易に設定することができる。また、第1封止層42aと、第2封止層42bとの積層体、すなわち、封止層42全体としての弾性率を、1MPa以上100MPa以下の範囲内に容易に設定することができる。なお、第2封止層42bの厚みが0.5μm以下のように薄いものである場合には、第2封止層42bの弾性率が10GPa程度のように高く、第2封止層42bが硬いものであったとしても、封止層42全体としての弾性率には影響を与えないことがある。   Furthermore, the thickness of the first sealing layer 42a is preferably 2.5 μm or more and 20 μm or less, and the thickness of the second sealing layer 42b is preferably 0.05 μm or more and 1.0 μm or less. Thereby, in the laminated body, when the portion where the top portion 35 ′ does not bite and the top portion 35 ′ of the contact surfaces of the first sealing layer 42 a and the second sealing layer 42 b are compared, as shown in FIG. 8. It can be set relatively easily in the configuration in which the top portion 35 ′ is located on the second base material 41 side. Further, the elastic modulus of the laminated body of the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, that is, the sealing layer 42 as a whole can be easily set within a range of 1 MPa or more and 100 MPa or less. When the thickness of the second sealing layer 42b is as thin as 0.5 μm or less, the elastic modulus of the second sealing layer 42b is as high as about 10 GPa, and the second sealing layer 42b Even if it is hard, the elastic modulus of the sealing layer 42 as a whole may not be affected.

なお、第1封止層42aと第2封止層42bとの厚さが上記のように設定される場合には、第1封止層42aは、第2封止層42bよりも弾性率の低い材料を用いて形成されていること、すなわち、第1封止層42aの弾性率は、第2封止層42bの弾性率よりも低いことが好ましい。これにより、隔壁35の頂部35’の幅を3μm〜10μmの範囲内のように細くしたとしても、頂部35’が折れ曲がったり、第2封止層42bが破損したりすることなく、隔壁35の頂部35’を封止層42に食い込ませることができる。   When the thicknesses of the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b are set as described above, the first sealing layer 42a has a higher elastic modulus than the second sealing layer 42b. It is preferable that the first sealing layer 42a is formed using a low material, that is, the elastic modulus of the first sealing layer 42a is lower than that of the second sealing layer 42b. As a result, even if the width of the top portion 35 ′ of the partition wall 35 is reduced to be within a range of 3 μm to 10 μm, the top portion 35 ′ is not bent and the second sealing layer 42b is not damaged. The top portion 35 ′ can bite into the sealing layer 42.

また、第1封止層42aの体積抵抗率は、1×107Ω・cm以上5×1010Ω・cm以下であることが好ましく、第2封止層42bの体積抵抗率は1×107Ω・cm以上2×1011Ω・cm以下であることが好ましい。第1封止層42aと、第2封止層42bとを、上記のような体積抵抗率を有するものとすることにより、積層体、すなわち、封止層42全体としての体積抵抗率を、1×107Ω・cm以上1×1012Ω・cm以下の範囲内に容易に設定することができることから、画素電極21と共通電極22との間に封止層42が介在することに起因して、電気泳動粒子34の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。 The volume resistivity of the first sealing layer 42a is preferably 1 × 10 7 Ω · cm to 5 × 10 10 Ω · cm, and the volume resistivity of the second sealing layer 42b is 1 × 10. It is preferably 7 Ω · cm or more and 2 × 10 11 Ω · cm or less. By making the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b have the volume resistivity as described above, the volume resistivity of the laminate, that is, the sealing layer 42 as a whole, is 1 It can be easily set within the range of 10 7 Ω · cm or more and 1 × 10 12 Ω · cm or less, and therefore, the sealing layer 42 is interposed between the pixel electrode 21 and the common electrode 22. Thus, it is possible to accurately suppress or prevent the mobility of the electrophoretic particles 34 from being lowered.

以上のような封止層42(積層体)において、第1封止層42aは、第2封止層42bよりも柔軟であり隔壁35の頂部35’が、より食い込みやすい材料が好ましく用いられ、具体的には、第1封止層42aの構成材料としては、例えば、NBR(アクリロニトリル・ブタジエンゴム)、ウレタンゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、ニトリルゴム等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、NBRまたはヒドリンゴムであることが好ましい。NBRおよびヒドリンゴムによれば、その加硫条件の変更、および、第1封止層42aへのフィラーの添加により、第1封止層42aの弾性率を容易に調整することができる。したがって、頂部35’を封止層42に食い込ませることができる。   In the sealing layer 42 (laminated body) as described above, the first sealing layer 42a is preferably made of a material that is more flexible than the second sealing layer 42b, and the top portion 35 'of the partition wall 35 is more easily bite. Specifically, examples of the constituent material of the first sealing layer 42a include NBR (acrylonitrile / butadiene rubber), urethane rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, chloroprene rubber, styrene / butadiene rubber, hydrin rubber, and nitrile rubber. 1 type or 2 types or more of these can be used in combination. Among these, NBR or hydrin rubber is preferable. According to NBR and hydrin rubber, the elastic modulus of the first sealing layer 42a can be easily adjusted by changing the vulcanization conditions and adding a filler to the first sealing layer 42a. Therefore, the top portion 35 ′ can bite into the sealing layer 42.

なお、第1封止層42aに添加するフィラーとしては、例えば、シリカ、マイカ、アルミナ、酸化チタン、窒化珪素等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the filler added to the first sealing layer 42a include silica, mica, alumina, titanium oxide, silicon nitride, and the like, and one or more of these can be used in combination. .

また、第2封止層42bは、例えば、第1封止層42aが分散媒15に溶出しないようにするための封止層として機能し得るように第2封止層42bの構成材料が選択され、具体的には、第2封止層42bの構成材料としては、例えば、PVA(ポリビニルアルコール)の他、ポリエチレン、ポリプロピレンのような非極性ポリマー等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、PVAであることが好ましい。これらの材料(特に、PVA)は、分散媒15に溶出するおそれが少ないことから、電気泳動表示装置10の不具合を好適に軽減することができる。また、PVAは、接着性が低い材料であるため、第2封止層42bに電気泳動粒子34が固着することを防止することができる。   For example, the constituent material of the second sealing layer 42b is selected so that the second sealing layer 42b can function as a sealing layer for preventing the first sealing layer 42a from eluting into the dispersion medium 15. Specifically, examples of the constituent material of the second sealing layer 42b include nonpolar polymers such as polyethylene and polypropylene in addition to PVA (polyvinyl alcohol). Two or more kinds can be used in combination. Among these, PVA is preferable. Since these materials (especially PVA) are less likely to elute into the dispersion medium 15, problems of the electrophoretic display device 10 can be suitably reduced. Moreover, since PVA is a material with low adhesiveness, the electrophoretic particles 34 can be prevented from adhering to the second sealing layer 42b.

なお、第2封止層42bには、第2封止層42bの材料を柔らかくするための添加剤が含まれていてもよい。この添加剤としては、例えば、グリセリンが挙げられる。添加剤は、PVAの固形分に対して5wt%以上50wt%以下程度添加されることが好ましい。これにより、第2封止層42bの材料として弾性率が600MPa以上の材料を選択したとしても、第2封止層42bとして好適に用いることができる。本実施形態では、第2封止層42bの材料として、室温(25℃)における弾性率が692MPaのPVAにグリセリンを添加し、室温における弾性率が75MPaとしたものが用いられている。   Note that the second sealing layer 42b may contain an additive for softening the material of the second sealing layer 42b. As this additive, glycerol is mentioned, for example. The additive is preferably added in an amount of about 5 wt% to 50 wt% with respect to the solid content of PVA. Thereby, even if a material having an elastic modulus of 600 MPa or more is selected as the material of the second sealing layer 42b, it can be suitably used as the second sealing layer 42b. In the present embodiment, as the material of the second sealing layer 42b, a material in which glycerin is added to PVA having an elastic modulus of 692 MPa at room temperature (25 ° C.) and the elastic modulus at room temperature is 75 MPa is used.

また、添加剤は、グリセリンに限定されず、例えば、ポリエチレングリコール、グリセリン、尿素、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレングリコールから選択される1種または2種以上を混合したものを用いてもよい。
なお、封止層42の光線透過率は、PVAが99%であり、NBRも99%である。
Moreover, an additive is not limited to glycerol, For example, you may use what mixed 1 type, or 2 or more types selected from polyethyleneglycol, glycerol, urea, polyethylene oxide, and polypropylene glycol.
The light transmittance of the sealing layer 42 is 99% for PVA and 99% for NBR.

以上のように構成される封止層42において、積層体を形成する第1封止層42aおよび第2封止層42bは、それぞれの機能を発揮させるために、上述したような構成材料により構成されるが、これらの材料は、比較的吸湿性または吸着性の高い材料である。そのため、第1封止層42aおよび第2封止層42bのうちの少なくとも一方が吸湿性または吸着した状態で、仮に、電気泳動表示装置10を形成すると、封止層42から電気泳動分散液37中に水分が浸入(移行)し、その結果、分散媒15中に含まれる水分量を、適切な範囲に設定することが困難となる。具体的には、前述の通り、好ましくは300ppm以上1000ppm以下程度、より好ましくは400ppm以上700ppm以下程度に設定することが困難となる。したがって、電気泳動分散液37中に含まれる電気泳動粒子の帯電量に変化が生じ、その結果、電気泳動粒子の凝集や、電気泳動粒子の電極への固着が発生することに起因して、画素電極21と共通電極22との間に電圧を印加した際の電気泳動粒子の泳動特性に変化が生じるため、電気泳動表示装置の表示品質が損ねられると言う問題が生じる。   In the sealing layer 42 configured as described above, the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b forming the stacked body are made of the above-described constituent materials in order to exhibit their respective functions. However, these materials are relatively hygroscopic or adsorptive materials. Therefore, if the electrophoretic display device 10 is formed in a state where at least one of the first sealing layer 42 a and the second sealing layer 42 b is hygroscopic or adsorbed, the electrophoretic dispersion liquid 37 is formed from the sealing layer 42. Moisture permeates (transfers) inside, and as a result, it becomes difficult to set the amount of water contained in the dispersion medium 15 within an appropriate range. Specifically, as described above, it is difficult to set the pressure to preferably about 300 ppm to 1000 ppm, more preferably about 400 ppm to 700 ppm. Therefore, a change occurs in the charge amount of the electrophoretic particles contained in the electrophoretic dispersion liquid 37, and as a result, aggregation of the electrophoretic particles and sticking of the electrophoretic particles to the electrode occur. Since a change occurs in the electrophoretic characteristics of the electrophoretic particles when a voltage is applied between the electrode 21 and the common electrode 22, there arises a problem that the display quality of the electrophoretic display device is impaired.

これに対して、本発明では、分散媒15は、第1分子量の第1材料と、この第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料とを含有するものであり、これにより、上述した問題点を解消することができるが、その詳細は、以下に示す電気泳動表示装置の製造方法において説明することとする。   On the other hand, in the present invention, the dispersion medium 15 contains the first material having the first molecular weight and the second material having the second molecular weight larger than the first molecular weight. Although the above-described problems can be solved, details thereof will be described in the following method for manufacturing an electrophoretic display device.

すなわち、本発明は、電気泳動表示装置10が封止層42を備え、さらに、この封止層42が第1封止層42aと第2封止層42bとの積層体で構成される場合に好適に適用され、分散媒15を、第1材料と第2材料とを含有するものとすることで、上述した問題点を解消し得るが、その詳細は、以下に示す電気泳動表示装置の製造方法において説明する。   That is, in the present invention, when the electrophoretic display device 10 includes the sealing layer 42 and the sealing layer 42 is configured by a laminate of the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b. The above-described problems can be solved by suitably applying the dispersion medium 15 containing the first material and the second material, but details thereof will be described in the manufacture of the electrophoretic display device described below. The method will be described.

なお、封止層42は、第1封止層42aと、第2封止層42bとの積層体として設ける場合の他、第2封止層42bの構成材料によっては、第1封止層42aを省略して、第2封止層42bの単層で構成されるものであってもよいし、さらには、3層以上の積層体で構成されていてもよい。   The sealing layer 42 is provided as a stacked body of the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, and depending on the constituent material of the second sealing layer 42b, the first sealing layer 42a. May be omitted and may be constituted by a single layer of the second sealing layer 42b, or may be constituted by a laminate of three or more layers.

また、封止層42の平均厚さt1は、例えば、2.5μm以上30μm以下程度であることが好ましく、2.5μm以上10μm以下程度であることがより好ましい。   The average thickness t1 of the sealing layer 42 is preferably, for example, about 2.5 μm to 30 μm, and more preferably about 2.5 μm to 10 μm.

さらに、封止層42は、その体積抵抗率が電気泳動分散液の体積抵抗率よりも低いことが好ましい。これにより、画素電極21と共通電極22との間に封止層42が介在したとしても、封止層42における抵抗値が大きくなり過ぎることに起因して、電気泳動層33中において、電気泳動粒子34の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。具体的には、封止層42の体積抵抗率は、1×107Ω・cm以上1×1012Ω・cm以下であることが好ましく、1×10Ω・cm以上1×1010Ω・cm以下であることがより好ましい。 Furthermore, the sealing layer 42 preferably has a volume resistivity lower than that of the electrophoretic dispersion. As a result, even if the sealing layer 42 is interposed between the pixel electrode 21 and the common electrode 22, the electrophoresis in the electrophoresis layer 33 is caused by the resistance value in the sealing layer 42 becoming too large. It is possible to accurately suppress or prevent the mobility of the particles 34 from being lowered. Specifically, the volume resistivity of the sealing layer 42 is preferably 1 × 10 7 Ω · cm to 1 × 10 12 Ω · cm, and preferably 1 × 10 8 Ω · cm to 1 × 10 10 Ω. -More preferably, it is cm or less.

さらに、図6および図7に示すように、封止層42の端部は、例えば、表示領域Eの最外周の隔壁35aと額縁隔壁61との間、つまり、ダミー画素領域Dの範囲に配置されている。封止層42は、表示領域Eより一回り大きく、大きさにばらつきが生じたとしても、表示領域Eに端部が入り込まないような大きさになっている。   Further, as shown in FIGS. 6 and 7, the end portion of the sealing layer 42 is disposed, for example, between the outermost partition wall 35a of the display region E and the frame partition wall 61, that is, in the range of the dummy pixel region D. Has been. The sealing layer 42 is slightly larger than the display area E and has a size such that the end portion does not enter the display area E even if the size varies.

また、封止層42を形成する材料として接着剤を用いた場合、接着剤に含まれる例えば、完全に硬化しない反応性モノマー等の不純物が分散液の中に溶出することにより、この接着剤が電気泳動分散液に含まれる電気泳動粒子34に付着して、電気泳動粒子34の泳動性に影響を与えるおそれがある。しかしながら、本実施形態においては、封止層42を、第1封止層42aと第2封止層42bとを有するものとし、電気泳動粒子34と接触する部分に第2封止層42bを配置している。そのため、このような不具合も軽減することができる。   Further, when an adhesive is used as the material for forming the sealing layer 42, impurities such as reactive monomers that are not completely cured, for example, contained in the adhesive are eluted into the dispersion liquid. The electrophoretic particles 34 may adhere to the electrophoretic particles 34 contained in the electrophoretic dispersion liquid and affect the electrophoretic properties of the electrophoretic particles 34. However, in the present embodiment, the sealing layer 42 includes the first sealing layer 42 a and the second sealing layer 42 b, and the second sealing layer 42 b is disposed at a portion in contact with the electrophoretic particles 34. doing. Therefore, such a problem can be reduced.

また、封止層42を、弾性率の高い材料のみで形成した場合、隔壁35の頂部35’の幅が狭すぎると、頂部35’が封止層42に食い込まず、折れ曲がるおそれがある。そうすると、隔壁35の頂部35’と封止層42との間には隙間が生じ、電気泳動粒子34が隣合うセル36間を移動してしまうことが考えられる。しかしながら、本実施形態のように、封止層42を第1封止層42aと第2封止層42bとで形成し、それぞれの弾性率や厚さを好適な範囲に設定することで、このような不具合も抑制することができる。   In addition, when the sealing layer 42 is formed only from a material having a high elastic modulus, if the width of the top portion 35 ′ of the partition wall 35 is too narrow, the top portion 35 ′ may not bite into the sealing layer 42 and may be bent. Then, it is considered that a gap is generated between the top 35 ′ of the partition wall 35 and the sealing layer 42, and the electrophoretic particles 34 move between the adjacent cells 36. However, as in the present embodiment, the sealing layer 42 is formed by the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, and the respective elastic modulus and thickness are set in a suitable range. Such problems can also be suppressed.

次に、かかる構成の電気泳動表示装置10を製造するための製造方法(本発明の電気泳動表示装置の製造方法)を説明する。   Next, a manufacturing method for manufacturing the electrophoretic display device 10 having such a configuration (a manufacturing method of the electrophoretic display device of the present invention) will be described.

<電気泳動表示装置の製造方法>
(第1の製造方法)
まず、電気泳動表示装置10を製造するための第1の製造方法について説明する。
<Method for Manufacturing Electrophoretic Display Device>
(First manufacturing method)
First, a first manufacturing method for manufacturing the electrophoretic display device 10 will be described.

図9は、本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図10〜図17は、本発明の電気泳動表示装置の第1の製造方法を説明するための図である。   FIG. 9 is a flowchart showing the first manufacturing method of the electrophoretic display device of the present invention in the order of steps. 10 to 17 are views for explaining a first manufacturing method of the electrophoretic display device of the present invention.

以下、電気泳動表示装置の第1の製造方法を、図9〜図17を参照しながら説明する。
[1]まず、素子基板51(第1基板)を用意し、その後、この素子基板51上に、電気泳動分散液37を充填する複数のセル36に区切る(設ける)ための隔壁35を形成する。なお、電気泳動分散液37としては、本発明では、第1分子量の第1材料および第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を含有する分散媒15と、電気泳動粒子34とを含むものがセル36内に充填される。
Hereinafter, a first manufacturing method of the electrophoretic display device will be described with reference to FIGS.
[1] First, an element substrate 51 (first substrate) is prepared, and then a partition wall 35 is formed on the element substrate 51 to divide (provide) the cells into a plurality of cells 36 filled with the electrophoretic dispersion liquid 37. . As the electrophoretic dispersion liquid 37, in the present invention, the dispersion medium 15 containing the first material having the first molecular weight and the second material having the second molecular weight larger than the first molecular weight, the electrophoretic particles 34, Is filled in the cell 36.

[1−1]まず、ガラス等の透光性材料からなる第1基材31上に、TFT16や、ITO等の光透過性材料からなる画素電極21等を形成する(ステップS11)。   [1-1] First, the TFT 16 and the pixel electrode 21 made of a light transmissive material such as ITO are formed on the first base material 31 made of a light transmissive material such as glass (step S11).

具体的には、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、第1基材31上にTFT16および画素電極21等を形成する。なお、以降の断面図を用いた説明においては、画素電極21を除く、TFT16等の説明および図示を省略する。   Specifically, the TFT 16, the pixel electrode 21, and the like are formed on the first base material 31 using a well-known film formation technique, photolithography technique, and etching technique. In the following description using the cross-sectional views, the description and illustration of the TFT 16 and the like excluding the pixel electrode 21 are omitted.

[1−2]次いで、第1基材31上に第1絶縁層32を形成する(ステップS12)。
第1絶縁層32の製造方法としては、特に限定されず、例えば、第1基材31上に絶縁性材料を、スピンコート法等を用いて塗布し、その後、絶縁性材料を乾燥させることにより形成することができる。
以上により、素子基板51(第1基板)が完成する。
[1-2] Next, the first insulating layer 32 is formed on the first base material 31 (step S12).
The manufacturing method of the first insulating layer 32 is not particularly limited. For example, an insulating material is applied on the first base material 31 by using a spin coating method, and then the insulating material is dried. Can be formed.
Thus, the element substrate 51 (first substrate) is completed.

[1−3]次いで、素子基板51(具体的には、第1絶縁層32)上に、隔壁を形成する(ステップS13)。   [1-3] Next, partition walls are formed on the element substrate 51 (specifically, the first insulating layer 32) (step S13).

より具体的には、図10に示すように、隔壁35と、隔壁35aと、額縁隔壁61と、を含む各種隔壁を同時に形成する。   More specifically, as shown in FIG. 10, various partition walls including a partition wall 35, a partition wall 35 a, and a frame partition wall 61 are formed at the same time.

隔壁35、35a、額縁隔壁61は、例えば、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて一括して形成することができる。   The partition walls 35 and 35a and the frame partition wall 61 can be collectively formed using, for example, a well-known film formation technique, a photolithography technique, and an etching technique.

このように、隔壁35、35a、額縁隔壁61を、同じ材料で同時に形成することにより、これらを、効率よく製造することができる。   Thus, by simultaneously forming the partition walls 35 and 35a and the frame partition wall 61 with the same material, these can be manufactured efficiently.

なお、隔壁35は、分散媒15に溶解しない材質からなり、その材質は有機物か無機物かは問われない。具体的に、有機物材料の例としては、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、アクリルシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレンアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ブチラール樹脂、塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。これらの樹脂単体または二種類以上の複合剤を使用する。
以上により、隔壁35が設けられた素子基板51(第1基板)が完成する。
The partition wall 35 is made of a material that does not dissolve in the dispersion medium 15, and it does not matter whether the material is organic or inorganic. Specifically, examples of organic materials include urethane resin, urea resin, acrylic resin, polyester resin, silicone resin, acrylic silicone resin, epoxy resin, polystyrene resin, styrene acrylic resin, polyolefin resin, butyral resin, vinylidene chloride resin, Examples include melamine resin, phenol resin, fluororesin, polycarbonate resin, polysulfone resin, polyether resin, polyamide resin, and polyimide resin. These resin simple substance or 2 or more types of composite agents are used.
Thus, the element substrate 51 (first substrate) provided with the partition walls 35 is completed.

[2]次に、対向基板52を用意し、その後、この対向基板52上に、電気泳動分散液37をセル36内に封止するための封止層42を形成し、その後、封止層42上に、水分封止層44を形成する。   [2] Next, a counter substrate 52 is prepared, and then a sealing layer 42 for sealing the electrophoretic dispersion 37 in the cell 36 is formed on the counter substrate 52, and then the sealing layer A moisture sealing layer 44 is formed on 42.

すなわち、封止層42を介して、対向基板52(第2基板)上に、第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を含有する水分封止層44を形成する。   That is, the moisture sealing layer 44 containing the second material having the second molecular weight larger than the first molecular weight is formed on the counter substrate 52 (second substrate) via the sealing layer 42.

本実施形態では、本工程[2]により、対向基板52(第2基板)および隔壁の少なくとも一方に、第2材料を含有する水分封止層44を形成する工程が構成される。   In the present embodiment, the step [2] constitutes a step of forming the moisture sealing layer 44 containing the second material on at least one of the counter substrate 52 (second substrate) and the partition.

[2−1]まず、第2基材41上に共通電極22を形成する(ステップS21)。
具体的には、ガラス基板等の透光性材料からなる第2基材41上の全面に、周知の成膜技術を用いて共通電極22を形成する。
以上により、対向基板52(第2基板)が完成する。
[2-1] First, the common electrode 22 is formed on the second base material 41 (step S21).
Specifically, the common electrode 22 is formed on the entire surface of the second base material 41 made of a translucent material such as a glass substrate by using a well-known film forming technique.
Thus, the counter substrate 52 (second substrate) is completed.

[2−2]次いで、共通電極22上に封止層42、すなわち第1封止層42aおよび第2封止層42bを形成する(ステップS22、ステップS23)。   [2-2] Next, the sealing layer 42, that is, the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b are formed on the common electrode 22 (step S22, step S23).

第1封止層42aおよび第2封止層42bの形成方法としては、図11に示すように、例えば、対向基板52上にNBR(アクリロニトリルブタジエンゴム)をスピンコート等の塗布法で成膜し、その後、PVA(ポリビニルアルコール)を同様に塗布法で成膜する。PVAには、上記したように、グリセリン等の添加剤が添加されている。   As a method for forming the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, as shown in FIG. 11, for example, NBR (acrylonitrile butadiene rubber) is formed on the counter substrate 52 by a coating method such as spin coating. Thereafter, PVA (polyvinyl alcohol) is similarly formed by a coating method. As described above, additives such as glycerin are added to PVA.

さらに、エッチング法を用いて、形成すべき第1封止層42aおよび第2封止層42bの形状に対応して、PVAおよびNBRをパターニングすることで、第1封止層42aおよび第2封止層42bを得る。なお、塗布法に限定されず、印刷法を用いて形成するようにしてもよい。   Further, by using an etching method, PVA and NBR are patterned corresponding to the shapes of the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b to be formed, so that the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42 are formed. The stop layer 42b is obtained. Note that the present invention is not limited to the coating method and may be formed using a printing method.

また、第1封止層42aおよび第2封止層42bを備える封止層42の形成の後、この封止層42を焼成する。第1封止層42aおよび第2封止層42bに含まれる構成材料を前述したようなものとした場合、これらは比較的吸湿性または吸着性の高い材料である。そのため、封止層42に含まれる水分量を調整することを目的に、封止層42を焼成する。   Further, after forming the sealing layer 42 including the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, the sealing layer 42 is baked. When the constituent materials included in the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b are as described above, these are materials having relatively high hygroscopicity or adsorptivity. Therefore, the sealing layer 42 is baked for the purpose of adjusting the amount of moisture contained in the sealing layer 42.

この封止層42を焼成する際の温度は、封止層42の構成材料によっても若干異なるが、70℃以上150℃以下であることが好ましく、80℃以上110℃以下であることがより好ましい。また、焼成する時間は、特に限定されないが、例えば、0.5時間以上10時間以下であることが好ましく、1時間以上3時間以下であることがより好ましい。   The temperature at which the sealing layer 42 is fired varies slightly depending on the constituent material of the sealing layer 42, but is preferably 70 ° C or higher and 150 ° C or lower, more preferably 80 ° C or higher and 110 ° C or lower. . Moreover, although the time to bake is not specifically limited, For example, it is preferable that it is 0.5 to 10 hours, and it is more preferable that it is 1 to 3 hours.

[2−3]次いで、第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を主材料として含有する水分封止層44を封止層42上に形成する(ステップS24)。   [2-3] Next, a moisture sealing layer 44 containing a second material having a second molecular weight larger than the first molecular weight as a main material is formed on the sealing layer 42 (step S24).

この水分封止層44は、第1封止層42aおよび第2封止層42bの形成方法で挙げた、塗布法、エッチング法および印刷法等を用いて形成することができる。   The moisture sealing layer 44 can be formed by using the coating method, the etching method, the printing method, or the like mentioned in the method for forming the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b.

また、水分封止層44は、第2材料が単独で含まれるものであっても良いし、第2材料の他、第1材料や、上述した分散媒15に添加される各種添加剤が含まれるものであってもよい。   Further, the moisture sealing layer 44 may include the second material alone, and includes the first material and various additives added to the dispersion medium 15 described above in addition to the second material. It may be.

ここで、前記工程[2−2]において形成された封止層42は、その形成後に焼成されることで、その水分量が調整されるが、次工程[3]において、素子基板51と対向基板52とを貼り合わせる迄の間、焼成された封止層42を大気に曝すと、大気中に含まれる水分を封止層42が再度吸収する。そのため、この状態で、電気泳動表示装置10を形成すると、封止層42から電気泳動分散液37中に水分が浸入(移行)し、その結果、分散媒15中に含まれる水分量を適切な範囲、すなわち、好ましくは300ppm以上1000ppm以下程度、より好ましくは400ppm以上700ppm以下程度に設定することが困難となる。   Here, the sealing layer 42 formed in the step [2-2] is baked after the formation to adjust the amount of water. In the next step [3], the sealing layer 42 is opposed to the element substrate 51. When the fired sealing layer 42 is exposed to the atmosphere until the substrate 52 is bonded, the sealing layer 42 again absorbs moisture contained in the atmosphere. Therefore, when the electrophoretic display device 10 is formed in this state, water enters (transfers) from the sealing layer 42 into the electrophoretic dispersion liquid 37, and as a result, the amount of water contained in the dispersion medium 15 is appropriately set. It becomes difficult to set the range, that is, preferably about 300 ppm to 1000 ppm, more preferably about 400 ppm to 700 ppm.

これに対して、焼成した後の封止層42に対して水分封止層44を形成することで、封止層42が大気に曝されるのを的確に抑制または防止することができることから、分散媒15中に含まれる水分量を、前記範囲内のように適切な範囲に設定することができる。そのため、電気泳動分散液37中に含まれる電気泳動粒子34の帯電量に変化が生じ、その結果、電気泳動粒子34の凝集や、電気泳動粒子34の電極への固着が発生するのを的確に抑制または防止することができる。したがって、画素電極21と共通電極22との間に電圧を印加した際の電気泳動粒子34の泳動特性に変化が生じないことから、電気泳動表示装置10は、優れた表示品質を維持したものとなる。   On the other hand, since the moisture sealing layer 44 is formed on the sealing layer 42 after firing, the sealing layer 42 can be accurately suppressed or prevented from being exposed to the atmosphere. The amount of water contained in the dispersion medium 15 can be set to an appropriate range as in the above range. Therefore, a change occurs in the charge amount of the electrophoretic particles 34 contained in the electrophoretic dispersion liquid 37, and as a result, the aggregation of the electrophoretic particles 34 and the adhesion of the electrophoretic particles 34 to the electrodes are accurately generated. It can be suppressed or prevented. Accordingly, since the electrophoretic characteristics of the electrophoretic particles 34 do not change when a voltage is applied between the pixel electrode 21 and the common electrode 22, the electrophoretic display device 10 maintains excellent display quality. Become.

また、分散媒15に含まれる第1分子量の第1材料よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を主材料として含有するものを水分封止層44として封止層42上に形成することで、水分封止層44が大気に曝されている際に、水分封止層44が揮発するのを的確に抑制または防止することができる。さらに、分散媒15の構成材料として挙げたもののうち、単に分子量が大きいものを第2材料として選択していることから、水分封止層44を、次工程[3]において、素子基板51と対向基板52とを貼り合わせた際には、封止層42上に残存することなく、電気泳動粒子34が第1材料に分散された分散液中に溶け込ませることができる。そのため、電気泳動層33中における電気泳動粒子34の泳動特性に、悪影響を及ぼすのを的確に抑制または防止することができる。そして、この水分封止層44の溶け込みにより、分散媒15は、第1分子量の第1材料と、第2分子量の第2材料とを含有するものとなる。   Further, a material containing a second material having a second molecular weight that is higher in molecular weight than the first material having the first molecular weight contained in the dispersion medium 15 as a main material is formed as a moisture sealing layer 44 on the sealing layer 42. Thus, when the moisture sealing layer 44 is exposed to the atmosphere, it is possible to accurately suppress or prevent the moisture sealing layer 44 from volatilizing. Furthermore, since the material having a high molecular weight is selected as the second material among the constituent materials of the dispersion medium 15, the moisture sealing layer 44 is opposed to the element substrate 51 in the next step [3]. When the substrate 52 is bonded, the electrophoretic particles 34 can be dissolved in the dispersion liquid dispersed in the first material without remaining on the sealing layer 42. Therefore, it is possible to accurately suppress or prevent adverse effects on the electrophoretic characteristics of the electrophoretic particles 34 in the electrophoretic layer 33. The dispersion medium 15 contains the first material having the first molecular weight and the second material having the second molecular weight by the dissolution of the moisture sealing layer 44.

さらに、次工程[3]において、水分封止層44を、分散媒15中に溶け込ませると言う観点からは、第1材料と第2材料とは、分子量の大きさが異なるが、その組成の主鎖が同一の構造を有していることが好ましい。これにより、水分封止層44を、封止層42上に残存させることなく、分散媒15中に確実に溶け込ませることができる。   Furthermore, in the next step [3], from the viewpoint that the moisture sealing layer 44 is dissolved in the dispersion medium 15, the first material and the second material have different molecular weights, but the composition thereof It is preferred that the main chains have the same structure. Thereby, the moisture sealing layer 44 can be reliably dissolved in the dispersion medium 15 without remaining on the sealing layer 42.

なお、本明細書中において、第1材料と第2材料とが同一の構造を有しているとは、これらの主鎖(主骨格)の分子構造が同一であるもののことを言い、これらが備える側鎖や置換基は、同一であっても異なっていてもよい。   In the present specification, the phrase “the first material and the second material have the same structure” means that the molecular structures of these main chains (main skeletons) are the same. The side chains and substituents provided may be the same or different.

また、分散媒15としては、前述の通り、シリコーンオイルが好ましく用いられるため、第1材料と第2材料とは、ともにシリコーンオイルであることが好ましい。   As the dispersion medium 15, as described above, silicone oil is preferably used. Therefore, both the first material and the second material are preferably silicone oil.

このように、分散媒15(第1材料)として、シリコーンオイルが選択された際に、第2材料としてもシリコーンオイルを選択することで、水分封止層44を第1材料に溶け込ませて、結果的に、電気泳動粒子34の優れた分散性を保つことが可能となる。   Thus, when silicone oil is selected as the dispersion medium 15 (first material), the moisture sealing layer 44 is dissolved in the first material by selecting silicone oil as the second material, As a result, the excellent dispersibility of the electrophoretic particles 34 can be maintained.

また、第1材料は、その粘度が2mPa・s以上10Pa・s以下程度となる第1分子量を有するものが用いられ、第2材料は、その粘度が100Pa・s以上1000Pa・s以下程度となる第2分子量を有するものが用いられるのが好ましい。かかる粘度の大きさを有する第1材料および第2材料をそれぞれ選択することにより、分散媒15中において、電気泳動粒子34を優れた泳動特性で泳動させることができ、かつ、水分封止層44を、大気中において揮発するのを的確に抑制または防止することができる。   The first material has a first molecular weight with a viscosity of about 2 mPa · s to 10 Pa · s, and the second material has a viscosity of about 100 Pa · s to 1000 Pa · s. Those having a second molecular weight are preferably used. By selecting the first material and the second material having such a viscosity, the electrophoretic particles 34 can be migrated in the dispersion medium 15 with excellent electrophoretic characteristics, and the moisture sealing layer 44. Can be appropriately suppressed or prevented from volatilizing in the atmosphere.

さらに、前述の通り、隔壁35の平均高さは、この隔壁35により区画される電気泳動層33の平均厚さとほぼ等しく設定され、例えば、好ましくは10μm以上150μm以下、より好ましくは20μm以上100μm以下、特に好ましくは30μm程度に設定されるが、これに対して、水分封止層44の平均厚さは、好ましくは1μm以上5μm以下、より好ましくは3μm程度に設定される。これにより、次工程[3]において、水分封止層44を、分散媒15中に溶け込ませた際の、分散媒15中における第2材料の含有量が適切な範囲内に設定され、分散媒15の粘度が、第1材料の粘度である2mPa・s以上10Pa・s以下程度から大きく変化するのを的確に抑制または防止することができる。そのため、分散媒15中において、電気泳動粒子34を優れた泳動特性で泳動させることができる。   Furthermore, as described above, the average height of the partition walls 35 is set to be approximately equal to the average thickness of the electrophoretic layer 33 partitioned by the partition walls 35, for example, preferably 10 μm to 150 μm, more preferably 20 μm to 100 μm. Particularly preferably, the thickness is set to about 30 μm. On the other hand, the average thickness of the moisture sealing layer 44 is preferably set to about 1 μm to 5 μm, more preferably about 3 μm. Accordingly, in the next step [3], the content of the second material in the dispersion medium 15 when the moisture sealing layer 44 is dissolved in the dispersion medium 15 is set within an appropriate range, and the dispersion medium It is possible to accurately suppress or prevent the viscosity of 15 from greatly changing from about 2 mPa · s to 10 Pa · s, which is the viscosity of the first material. Therefore, the electrophoretic particles 34 can be migrated in the dispersion medium 15 with excellent migration characteristics.

以上の工程[2−1]〜工程[2−3]を経ることで、封止層42および水分封止層44が形成された対向基板52(第2基板)が完成する。   The counter substrate 52 (second substrate) on which the sealing layer 42 and the moisture sealing layer 44 are formed is completed through the above steps [2-1] to [2-3].

[3]次に、図9、図12〜図17を参照しながら、素子基板51と対向基板52とを貼り合わせることで電気泳動表示装置10を得る。以下、この方法について説明する。   [3] Next, the electrophoretic display device 10 is obtained by bonding the element substrate 51 and the counter substrate 52 with reference to FIGS. 9 and 12 to 17. Hereinafter, this method will be described.

[3−1]まず、図12に示すように、大気中において、額縁隔壁61の外周に第1シール材14aを塗布する(ステップS31)。   [3-1] First, as shown in FIG. 12, the first sealing material 14a is applied to the outer periphery of the frame partition wall 61 in the atmosphere (step S31).

第1シール材14aの材料は、例えば、比較的粘度の高い紫外線硬化型樹脂および熱硬化型樹脂(カヤトロン)等の液性硬化型樹脂が用いられる。第1シール材14aの粘度は、例えば、30万Pa・s〜100万Pa・sであり、好ましくは40万Pa・sである。塗布したときの第1シール材14aの幅は、真空に耐えられる程度の幅であり、例えば、200μm以上600μm以下程度である。   As the material of the first sealing material 14a, for example, a liquid curable resin such as an ultraviolet curable resin and a thermosetting resin (Kayatron) having a relatively high viscosity is used. The viscosity of the first sealing material 14a is, for example, 300,000 Pa · s to 1,000,000 Pa · s, preferably 400,000 Pa · s. The width of the first sealing material 14a when applied is a width that can withstand vacuum, and is, for example, about 200 μm or more and 600 μm or less.

[3−2]次いで、素子基板51上の表示領域E、すなわち、図13に示すように、額縁隔壁61で囲まれた領域内に、白色粒子および黒色粒子を含む電気泳動粒子34と、分散媒15に含まれる第1材料および第2材料のうち第1材料とを含有する分散液を塗布する(ステップS32)。   [3-2] Next, in the display area E on the element substrate 51, that is, in the area surrounded by the frame partition wall 61, as shown in FIG. A dispersion containing the first material of the first material and the second material contained in the medium 15 is applied (step S32).

これにより、素子基板51と隔壁35とで区画されたセル36内に、電気泳動粒子34が第1材料に分散された分散液が注入される。   As a result, the dispersion liquid in which the electrophoretic particles 34 are dispersed in the first material is injected into the cell 36 partitioned by the element substrate 51 and the partition wall 35.

塗布方法としては、例えば、ディスペンサーを用いる。また、ダイコーター等も適用することができる。なお、第1材料およびこの第1材料を含有する分散媒15として、シリコーンオイルを用いる場合、このシリコーンオイルの粘度は、例えば、2mPa・s以上10Pa・s以下である。第1材料の量としては、素子基板51と対向基板52とを貼り合せたときに、第1材料と、第2材料が主材料として含まれる水分封止層44との合計が、額縁隔壁61で囲まれた中を満たすような液量である。本実施形態において額縁隔壁61の高さは、例えば、15μm以上45μm以下程度である。   As a coating method, for example, a dispenser is used. A die coater or the like can also be applied. When silicone oil is used as the first material and the dispersion medium 15 containing the first material, the viscosity of the silicone oil is, for example, 2 mPa · s or more and 10 Pa · s or less. As the amount of the first material, when the element substrate 51 and the counter substrate 52 are bonded together, the sum of the first material and the moisture sealing layer 44 containing the second material as a main material is the frame partition wall 61. The amount of liquid that fills the inside of the box. In the present embodiment, the height of the frame partition wall 61 is, for example, about 15 μm to 45 μm.

なお、額縁隔壁61が形成されていることにより、第1シール材14aが表示領域E側に入り込んで広がることを防ぐことができる。また、第1シール材14aの幅が所定の幅より広がらないように規制することができる。これにより、第1シール材14aの強度を十分に確保することができる。   In addition, by forming the frame partition wall 61, it is possible to prevent the first sealing material 14a from entering the display area E side and spreading. Moreover, it can regulate so that the width | variety of the 1st sealing material 14a may not become larger than predetermined width. Thereby, the strength of the first sealing material 14a can be sufficiently ensured.

[3−3]次いで、図14に示すように、対向基板52に設けられた水分封止層44と、素子基板51に設けられた隔壁35が対向するように配置した後、図15に示すように、素子基板51と対向基板52との間に、電気泳動粒子34および第1材料を含有する分散液と、水分封止層44とを封止する(第1封止;ステップS33)。   [3-3] Next, as shown in FIG. 14, the moisture sealing layer 44 provided on the counter substrate 52 and the partition wall 35 provided on the element substrate 51 are arranged so as to face each other, and then shown in FIG. As described above, the dispersion liquid containing the electrophoretic particles 34 and the first material and the moisture sealing layer 44 are sealed between the element substrate 51 and the counter substrate 52 (first sealing; step S33).

すなわち、水分封止層44が介在するように、隔壁35と対向基板52とを接合する。
このとき、封止層42(および水分封止層44)に隔壁35の頂部35’が食い込む(埋没する)よう、素子基板51と対向基板52とを接近させる。換言すれば、第1封止層42aと第2封止層42bとの接触面のうち、隔壁35と平面視で重なる部分と、隔壁35と平面視で重ならない部分とを断面視で比較した際に、隔壁35と平面視で重なる部分がそうでない部分よりも第2基材41側に位置するまで、対向基板52を素子基板51に圧力Xを付与することで押圧していく。
That is, the partition 35 and the counter substrate 52 are bonded so that the moisture sealing layer 44 is interposed.
At this time, the element substrate 51 and the counter substrate 52 are brought close to each other so that the top portion 35 ′ of the partition wall 35 bites into (be buried in) the sealing layer 42 (and the moisture sealing layer 44). In other words, of the contact surface between the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, a portion that overlaps the partition wall 35 in a plan view and a portion that does not overlap the partition wall 35 in a plan view are compared in a cross-sectional view. At this time, the counter substrate 52 is pressed by applying the pressure X to the element substrate 51 until the portion overlapping the partition wall 35 in plan view is positioned closer to the second base material 41 than the portion that is not.

この際、額縁隔壁61が素子基板51と対向基板52との間のセルギャップを規定するスペーサーとしても機能する。   At this time, the frame partition wall 61 also functions as a spacer that defines a cell gap between the element substrate 51 and the counter substrate 52.

素子基板51に対向基板52を押圧していくと、第1シール材14aが潰されると共に、電気泳動粒子34および第1材料を含む分散液と水分封止層44とが額縁隔壁61および第1シール材14aよりも内側に押され充填される。このとき、表示領域Eに設けられた隔壁35の頂部35’は、対向基板52側に設けられた水分封止層44に接触し、さらに封止層42に食い込む。これにより、各セル36内に、電気泳動粒子34および第1材料を含む分散液と水分封止層44とが封止される。さらに、各セル36内で、この分散液に水分封止層44が溶け込むことで、第1材料と第2材料とを含む分散媒15となる。これにより、セル36毎に電気泳動粒子34と分散媒15とを含む電気泳動分散液37が封止される。また、隔壁35の頂部35’(対向基板52側の端部)は、対向基板52側に設けられた封止層42に食い込ませる構成のため、隔壁35の頂部35’(対向基板52側の端部)には、第2材料が存在(残存)する。すなわち隔壁35の頂部35‘と封止層42(構造材料の一例)との界面に第2材料が存在(残存)することとなる。   When the counter substrate 52 is pressed against the element substrate 51, the first sealing material 14 a is crushed, and the dispersion liquid containing the electrophoretic particles 34 and the first material and the moisture sealing layer 44 are combined with the frame partition wall 61 and the first partition wall 61. It is pushed and filled inside the sealing material 14a. At this time, the top portion 35 ′ of the partition wall 35 provided in the display region E contacts the moisture sealing layer 44 provided on the counter substrate 52 side and further bites into the sealing layer 42. Thereby, the dispersion liquid containing the electrophoretic particles 34 and the first material and the moisture sealing layer 44 are sealed in each cell 36. Furthermore, in each cell 36, the water sealing layer 44 is dissolved in the dispersion liquid, whereby the dispersion medium 15 containing the first material and the second material is obtained. Thereby, the electrophoresis dispersion liquid 37 including the electrophoresis particles 34 and the dispersion medium 15 is sealed for each cell 36. Further, the top portion 35 ′ (end portion on the counter substrate 52 side) of the partition wall 35 is configured to bite into the sealing layer 42 provided on the counter substrate 52 side. The second material exists (remains) at the end). That is, the second material exists (remains) at the interface between the top 35 ′ of the partition wall 35 and the sealing layer 42 (an example of a structural material).

なお、各セル36内における、第1材料と電気泳動粒子34とを含む分散液に対する水分封止層44の溶け込みは、この分散液に対する水分封止層44の接触により能動的に行われても良いし、分散液に対して水分封止層44を接触させた状態で超音波等の微振動を付与するように受動的に行うようにしてもよい。   It should be noted that the moisture sealing layer 44 in the dispersion liquid containing the first material and the electrophoretic particles 34 in each cell 36 may be actively performed by the contact of the moisture sealing layer 44 with the dispersion liquid. Alternatively, it may be passively performed so as to apply fine vibrations such as ultrasonic waves in a state where the moisture sealing layer 44 is in contact with the dispersion.

以上のようにして、対向基板52に設けられた封止層42に、隔壁35を食い込ませることで、素子基板51と対向基板52とが接合される。   As described above, the element substrate 51 and the counter substrate 52 are bonded together by causing the partition wall 35 to bite into the sealing layer 42 provided on the counter substrate 52.

この際、前記工程[2−3]を経ることで、封止層42上に水分封止層44が形成されており、封止層42における水分の吸収が適切に抑制されているため、この状態を維持したまま、本工程[3−3]を実施することにより、電気泳動分散液37内に含まれる水分の含有量が適切な範囲内に設定される。そのため、電気泳動粒子34の泳動特性に変化が生じるのを的確に抑制または防止されることから、優れた表示品質が維持された電気泳動表示装置10が製造される。   At this time, the moisture sealing layer 44 is formed on the sealing layer 42 through the step [2-3], and moisture absorption in the sealing layer 42 is appropriately suppressed. By carrying out this step [3-3] while maintaining the state, the content of water contained in the electrophoresis dispersion liquid 37 is set within an appropriate range. Therefore, since the change in the electrophoretic characteristics of the electrophoretic particles 34 is accurately suppressed or prevented, the electrophoretic display device 10 in which excellent display quality is maintained is manufactured.

その後、図16に示すように、第1シール材14aが紫外線硬化型樹脂であれば紫外線Yを照射して、第1シール材14aを硬化させる。また、熱硬化型樹脂であれば、加熱することにより硬化させる。   After that, as shown in FIG. 16, if the first sealing material 14a is an ultraviolet curable resin, the first sealing material 14a is cured by irradiating with ultraviolet rays Y. Moreover, if it is a thermosetting resin, it will be hardened by heating.

素子基板51と対向基板52とを貼り合せたときのセルギャップは、20μm以上50μm以下程度であり、潰された第1シール材14aの幅は、例えば、200μm以上500μm以下である。   The cell gap when the element substrate 51 and the counter substrate 52 are bonded together is about 20 μm or more and 50 μm or less, and the width of the crushed first sealing material 14 a is, for example, 200 μm or more and 500 μm or less.

[3−4]次いで、図17に示すように、大気中において、第1シール材14aの外周に第2シール材14bを塗布して接着する(第2封止;ステップS34)。
これにより、素子基板51と対向基板52とを強固に接着固定することができる。
[3-4] Next, as shown in FIG. 17, in the atmosphere, the second sealing material 14b is applied and bonded to the outer periphery of the first sealing material 14a (second sealing; step S34).
Thereby, the element substrate 51 and the counter substrate 52 can be firmly bonded and fixed.

具体的には、第2シール材14bは、水分が入らず比較的低い粘度であり、隙間に入り込むことが重要であり、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等である。なお、第2シール材14bの粘度は、第1シール材14aの粘度よりも低く、例えば、100Pa・s以上500Pa・s以下であり、好ましくは、400Pa・s程度である。第2シール材14bの幅は、例えば、300μm以上500μm以下程度である。   Specifically, the second sealing material 14b does not contain moisture and has a relatively low viscosity, and it is important that the second sealing material 14b enters the gap, such as an acrylic resin or an epoxy resin. In addition, the viscosity of the 2nd sealing material 14b is lower than the viscosity of the 1st sealing material 14a, for example, is 100 Pa.s or more and 500 Pa.s or less, Preferably, it is about 400 Pa.s. The width of the second sealing material 14b is, for example, about 300 μm or more and 500 μm or less.

第2シール材14bを塗布する方法としては、例えば、ディスペンサーやダイコーター等が用いられる。以上により、図17に示すように、素子基板51と対向基板52とによって挟持された空間が封止される。その後、必要に応じて、製品の形状に切断する。
以上のような工程を経ることで、電気泳動表示装置10が得られる。
As a method for applying the second sealing material 14b, for example, a dispenser, a die coater, or the like is used. As described above, the space sandwiched between the element substrate 51 and the counter substrate 52 is sealed as shown in FIG. Then, it cuts into the shape of a product as needed.
Through the above steps, the electrophoretic display device 10 is obtained.

(第2の製造方法)
また、電気泳動表示装置10は、以下に説明するような第2の製造方法を用いて製造することもできる。
(Second manufacturing method)
Moreover, the electrophoretic display device 10 can also be manufactured using a second manufacturing method as described below.

図18は、本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図19〜図26は、本発明の電気泳動表示装置の第2の製造方法を説明するための図である。   FIG. 18 is a flowchart showing the second manufacturing method of the electrophoretic display device of the present invention in the order of steps. 19 to 26 are views for explaining a second manufacturing method of the electrophoretic display device of the present invention.

以下、電気泳動表示装置の第2の製造方法を、図18〜図26を参照しながら説明する。   Hereinafter, a second manufacturing method of the electrophoretic display device will be described with reference to FIGS.

[1’]まず、素子基板51(第1基板)を用意し、その後、この素子基板51上に、電気泳動分散液37を充填する複数のセル36に区切る(設ける)ための隔壁35、35aおよび額縁隔壁61を含む各種隔壁を形成し、その後、各種隔壁のうち額縁隔壁61上に、水分封止層44を形成する。   [1 ′] First, an element substrate 51 (first substrate) is prepared, and then, partition walls 35 and 35a for partitioning (providing) the cells into a plurality of cells 36 filled with the electrophoretic dispersion 37 on the element substrate 51. Then, various partition walls including the frame partition wall 61 are formed, and then the moisture sealing layer 44 is formed on the frame partition wall 61 among the various partition walls.

すなわち、各種隔壁のうち、額縁隔壁61(隔壁)上に、選択的に、第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を含有する水分封止層44を形成する。   That is, among the various partition walls, the moisture sealing layer 44 containing the second material having the second molecular weight higher than the first molecular weight is selectively formed on the frame partition wall 61 (partition wall).

本実施形態では、本工程[1’]により、対向基板52(第2基板)および隔壁の少なくとも一方に、第2材料を含有する水分封止層44を形成する工程が構成される。   In the present embodiment, the step [1 '] includes a step of forming the moisture sealing layer 44 containing the second material on at least one of the counter substrate 52 (second substrate) and the partition.

[1−1’]まず、ガラス等の透光性材料からなる第1基材31上に、TFT16や、ITO等の光透過性材料からなる画素電極21等を形成する(ステップS11’)。   [1-1 '] First, the TFT 16 and the pixel electrode 21 made of a light transmissive material such as ITO are formed on the first base material 31 made of a light transmissive material such as glass (step S11').

具体的には、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、第1基材31上にTFT16および画素電極21等を形成する。   Specifically, the TFT 16, the pixel electrode 21, and the like are formed on the first base material 31 using a well-known film formation technique, photolithography technique, and etching technique.

[1−2’]次いで、第1基材31上に第1絶縁層32を形成する(ステップS12’)。   [1-2 '] Next, the first insulating layer 32 is formed on the first base material 31 (step S12').

第1絶縁層32の製造方法としては、特に限定されず、例えば、第1基材31上に絶縁性材料を、スピンコート法等を用いて塗布し、その後、絶縁性材料を乾燥させることにより形成することができる。
以上により、素子基板51(第1基板)が完成する。
The manufacturing method of the first insulating layer 32 is not particularly limited. For example, an insulating material is applied on the first base material 31 by using a spin coating method, and then the insulating material is dried. Can be formed.
Thus, the element substrate 51 (first substrate) is completed.

[1−3’]次いで、素子基板51(具体的には、第1絶縁層32)上に、各種隔壁を形成する(ステップS13’)。   [1-3 '] Next, various partition walls are formed on the element substrate 51 (specifically, the first insulating layer 32) (step S13').

より具体的には、表示領域Eの隔壁35と、表示領域Eの最外周の隔壁35aと、その外側に設ける額縁隔壁61と、を含む各種隔壁を同時に形成する。   More specifically, various partition walls including the partition wall 35 of the display region E, the outermost partition wall 35a of the display region E, and the frame partition wall 61 provided outside thereof are formed simultaneously.

隔壁35、35a、額縁隔壁61は、例えば、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて一括して形成することができる。   The partition walls 35 and 35a and the frame partition wall 61 can be collectively formed using, for example, a well-known film formation technique, a photolithography technique, and an etching technique.

[1−4’]次いで、図19に示すように、第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を主材料として含有する水分封止層44を、隔壁35、35aおよび額縁隔壁61のうち額縁隔壁61上に形成する(ステップS14’)。   [1-4 ′] Next, as shown in FIG. 19, the moisture sealing layer 44 containing a second material having a second molecular weight larger than the first molecular weight as a main material, the partition walls 35, 35 a and the frame partition walls. It forms on the frame partition 61 among 61 (step S14 ').

この水分封止層44は、各種塗布法および各種印刷法等を用いて、額縁隔壁61上に対して選択的に形成することができる。   The moisture sealing layer 44 can be selectively formed on the frame partition wall 61 using various coating methods, various printing methods, and the like.

以上の工程[1−1’]〜工程[1−4’]を経ることで、隔壁35、35aおよび額縁隔壁61と、水分封止層44とが形成された素子基板51(第1基板)が完成する。   The element substrate 51 (first substrate) on which the partition walls 35 and 35a and the frame partition wall 61 and the moisture sealing layer 44 are formed through the above steps [1-1 ′] to [1-4 ′]. Is completed.

[2’]次に、対向基板52を用意し、その後、この対向基板52上に、電気泳動分散液37をセル36内に封止するための封止層42を形成する。   [2 ′] Next, a counter substrate 52 is prepared, and then a sealing layer 42 for sealing the electrophoretic dispersion liquid 37 in the cell 36 is formed on the counter substrate 52.

[2−1’]まず、第2基材41上に共通電極22を形成する(ステップS21’)。
具体的には、ガラス基板等の透光性材料からなる第2基材41上の全面に、周知の成膜技術を用いて共通電極22を形成する。
以上により、対向基板52(第2基板)が完成する。
[2-1 ′] First, the common electrode 22 is formed on the second base material 41 (step S21 ′).
Specifically, the common electrode 22 is formed on the entire surface of the second base material 41 made of a translucent material such as a glass substrate by using a well-known film forming technique.
Thus, the counter substrate 52 (second substrate) is completed.

[2−2’]次いで、共通電極22上に封止層42、すなわち第1封止層42aおよび第2封止層42bを形成する(ステップS22’、ステップS23’)。   [2-2 '] Next, the sealing layer 42, that is, the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b are formed on the common electrode 22 (Step S22', Step S23 ').

第1封止層42aおよび第2封止層42bの形成方法としては、図20に示すように、例えば、対向基板52上にNBR(アクリロニトリルブタジエンゴム)をスピンコート等の塗布法で成膜し、その後、PVA(ポリビニルアルコール)を同様に塗布法で成膜する。PVAには、上記したように、グリセリン等の添加剤が添加されている。   As a method for forming the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, as shown in FIG. 20, for example, NBR (acrylonitrile butadiene rubber) is formed on the counter substrate 52 by a coating method such as spin coating. Thereafter, PVA (polyvinyl alcohol) is similarly formed by a coating method. As described above, additives such as glycerin are added to PVA.

さらに、エッチング法を用いて、形成すべき第1封止層42aおよび第2封止層42bの形状に対応して、PVAおよびNBRをパターニングすることで、第1封止層42aおよび第2封止層42bを得る。なお、塗布法に限定されず、印刷法を用いて形成するようにしてもよい。   Further, by using an etching method, PVA and NBR are patterned corresponding to the shapes of the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b to be formed, so that the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42 are formed. The stop layer 42b is obtained. Note that the present invention is not limited to the coating method and may be formed using a printing method.

以上の工程[2−1’]〜工程[2−2’]を経ることで、封止層42が形成された対向基板52(第2基板)が完成する。   Through the steps [2-1 ′] to [2-2 ′], the counter substrate 52 (second substrate) on which the sealing layer 42 is formed is completed.

[3’]次に、図18、図21〜図26を参照しながら、素子基板51と対向基板52とを貼り合わせることで電気泳動表示装置10を得る。以下、この方法について説明する。   [3 '] Next, the electrophoretic display device 10 is obtained by bonding the element substrate 51 and the counter substrate 52 with reference to FIGS. 18 and 21 to 26. Hereinafter, this method will be described.

[3−1’]まず、図21に示すように、大気中において、額縁隔壁61の外周に第1シール材14aを塗布する(ステップS31’)。   [3-1 '] First, as shown in FIG. 21, the first sealing material 14a is applied to the outer periphery of the frame partition wall 61 in the atmosphere (step S31').

第1シール材14aの材料は、例えば、比較的粘度の高い紫外線硬化型樹脂および熱硬化型樹脂(カヤトロン)等の液性硬化型樹脂が用いられる。第1シール材14aの粘度は、例えば、30万Pa・s〜100万Pa・sであり、好ましくは40万Pa・sである。塗布したときの第1シール材14aの幅は、真空に耐えられる程度の幅であり、例えば、200μm以上600μm以下程度である。   As the material of the first sealing material 14a, for example, a liquid curable resin such as an ultraviolet curable resin and a thermosetting resin (Kayatron) having a relatively high viscosity is used. The viscosity of the first sealing material 14a is, for example, 300,000 Pa · s to 1,000,000 Pa · s, preferably 400,000 Pa · s. The width of the first sealing material 14a when applied is a width that can withstand vacuum, and is, for example, about 200 μm or more and 600 μm or less.

[3−2’]次いで、素子基板51上の表示領域E、すなわち、図22に示すように、額縁隔壁61で囲まれた領域内に、白色粒子および黒色粒子を含む電気泳動粒子34と、第1材料とを含有する分散液を塗布する(ステップS32’)。   [3-2 ′] Next, in the display area E on the element substrate 51, that is, in the area surrounded by the frame partition wall 61, as shown in FIG. 22, the electrophoretic particles 34 including white particles and black particles, A dispersion containing the first material is applied (step S32 ′).

これにより、素子基板51と隔壁35とで区画されたセル36内に、電気泳動粒子34が第1材料に分散された分散液が注入される。   As a result, the dispersion liquid in which the electrophoretic particles 34 are dispersed in the first material is injected into the cell 36 partitioned by the element substrate 51 and the partition wall 35.

塗布方法としては、例えば、ディスペンサーを用いる。また、ダイコーター等も適用することができる。なお、第1材料ひいては分散媒15として、シリコーンオイルを用いる場合、このシリコーンオイルの粘度は、例えば、2mPa・s以上10Pa・s以下である。第1材料の量としては、素子基板51と対向基板52とを貼り合せたときに、第1材料と、第2材料を主材料として含まれる水分封止層44との合計が、額縁隔壁61で囲まれた中を満たすような液量である。本実施形態において額縁隔壁61の高さは、例えば、15μm以上45μm以下程度である。   As a coating method, for example, a dispenser is used. A die coater or the like can also be applied. In addition, when silicone oil is used as the first material and thus the dispersion medium 15, the viscosity of the silicone oil is, for example, not less than 2 mPa · s and not more than 10 Pa · s. As the amount of the first material, when the element substrate 51 and the counter substrate 52 are bonded together, the sum of the first material and the moisture sealing layer 44 containing the second material as a main material is the frame partition wall 61. The amount of liquid that fills the inside of the box. In the present embodiment, the height of the frame partition wall 61 is, for example, about 15 μm to 45 μm.

なお、額縁隔壁61が形成されていることにより、第1シール材14aが表示領域E側に入り込んで広がることを防ぐことができる。また、第1シール材14aの幅が所定の幅より広がらないように規制することができる。これにより、第1シール材14aの強度を十分に確保することができる。   In addition, by forming the frame partition wall 61, it is possible to prevent the first sealing material 14a from entering the display area E side and spreading. Moreover, it can regulate so that the width | variety of the 1st sealing material 14a may not become larger than predetermined width. Thereby, the strength of the first sealing material 14a can be sufficiently ensured.

[3−3’]次いで、図23に示すように、対向基板52に設けられた封止層42と、素子基板51に設けられた隔壁35が対向するように配置した後、図24に示すように、素子基板51と対向基板52との間に、電気泳動粒子34および第1材料を含有する分散液と、水分封止層44とを封止する(第1封止;ステップS33’)。   [3-3 ′] Next, as shown in FIG. 23, the sealing layer 42 provided on the counter substrate 52 and the partition wall 35 provided on the element substrate 51 are disposed so as to face each other, and then, as shown in FIG. As described above, the dispersion liquid containing the electrophoretic particles 34 and the first material and the moisture sealing layer 44 are sealed between the element substrate 51 and the counter substrate 52 (first sealing; step S33 ′). .

このとき、封止層42に隔壁35の頂部35’が食い込む(埋没する)よう、素子基板51と対向基板52とを接近させる。換言すれば、第1封止層42aと第2封止層42bとの接触面のうち、隔壁35と平面視で重なる部分と、隔壁35と平面視で重ならない部分とを断面視で比較した際に、隔壁35と平面視で重なる部分がそうでない部分よりも第2基材41側に位置するまで、対向基板52を素子基板51に圧力Xを付与することで押圧していく。   At this time, the element substrate 51 and the counter substrate 52 are brought close to each other so that the top portion 35 ′ of the partition wall 35 bites into (be buried in) the sealing layer 42. In other words, of the contact surface between the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b, a portion that overlaps the partition wall 35 in a plan view and a portion that does not overlap the partition wall 35 in a plan view are compared in a cross-sectional view. At this time, the counter substrate 52 is pressed by applying the pressure X to the element substrate 51 until the portion overlapping the partition wall 35 in plan view is positioned closer to the second base material 41 than the portion that is not.

この際、額縁隔壁61が素子基板51と対向基板52との間のセルギャップを規定するスペーサーとしても機能する。   At this time, the frame partition wall 61 also functions as a spacer that defines a cell gap between the element substrate 51 and the counter substrate 52.

素子基板51に対向基板52を押圧していくと、第1シール材14aが潰されると共に、電気泳動粒子34および第1材料を含む分散液と水分封止層44とが額縁隔壁61および第1シール材14aよりも内側に押され充填される。このとき、表示領域Eに設けられた隔壁35の頂部35’は、対向基板52側に設けられた封止層42に食い込む。この際、表示領域Eの各セル36内、およびダミー画素領域Dのセル内に、額縁隔壁61上に形成されていた水分封止層44と、電気泳動粒子34および第1材料を含む分散液とが封止される。さらに、表示領域Eの各セル36内、およびダミー画素領域Dのセル内で、水分封止層44が、電気泳動粒子34および第1材料を含む分散液に溶け込むことで、第1材料と第2材料とを含む分散媒15となる。これにより、表示領域Eの各セル36内、およびダミー画素領域Dのセルに電気泳動粒子34と分散媒15とを含む電気泳動分散液37が封止される。また、額縁隔壁61は、対向基板52側に設けられた共通電極22に接合する構成のため、額縁隔壁61の頂部(対向基板52側の端部)には、第2材料が存在(残存)する。すなわち、額縁隔壁61と共通電極22(構造材料の一例)の界面に第2材料が存在(残存)することとなる。   When the counter substrate 52 is pressed against the element substrate 51, the first sealing material 14 a is crushed, and the dispersion liquid containing the electrophoretic particles 34 and the first material and the moisture sealing layer 44 are combined with the frame partition wall 61 and the first partition wall 61. It is pushed and filled inside the sealing material 14a. At this time, the top portion 35 ′ of the partition wall 35 provided in the display region E bites into the sealing layer 42 provided on the counter substrate 52 side. At this time, in each cell 36 of the display region E and in the cells of the dummy pixel region D, the water-sealing layer 44 formed on the frame partition wall 61, the electrophoretic particles 34, and the dispersion liquid containing the first material Are sealed. Further, in each cell 36 of the display area E and in the cells of the dummy pixel area D, the moisture sealing layer 44 dissolves in the dispersion liquid containing the electrophoretic particles 34 and the first material, so that the first material and the first material The dispersion medium 15 contains two materials. Thereby, the electrophoretic dispersion liquid 37 containing the electrophoretic particles 34 and the dispersion medium 15 is sealed in each cell 36 of the display area E and in the cells of the dummy pixel area D. Further, since the frame partition wall 61 is joined to the common electrode 22 provided on the counter substrate 52 side, the second material exists (residual) at the top of the frame partition wall 61 (the end portion on the counter substrate 52 side). To do. That is, the second material exists (remains) at the interface between the frame partition wall 61 and the common electrode 22 (an example of a structural material).

なお、この第2の製造方法では、額縁隔壁61に形成された水分封止層44が、隔壁35の頂部35’が封止層42に食い込むのに先立って、額縁隔壁61と第1シール材14aとにより、額縁隔壁61の内側の領域に押し出され、その後、第2封止層42bの上面に沿って濡れ広がる。したがって、隔壁35の頂部35’が封止層42に食い込んだ際には、各セル36内において、電気泳動粒子34および第1材料を含む分散液に水分封止層44が溶け込むこととなり、その結果、第1材料と第2材料とを含む分散媒15が完成される。   In the second manufacturing method, the moisture sealing layer 44 formed on the frame partition wall 61 and the frame partition wall 61 and the first sealing material before the top 35 ′ of the partition wall 35 bites into the sealing layer 42. 14a is pushed out into the region inside the frame partition wall 61, and then spreads wet along the upper surface of the second sealing layer 42b. Therefore, when the top 35 ′ of the partition wall 35 bites into the sealing layer 42, the moisture sealing layer 44 is dissolved in the dispersion liquid containing the electrophoretic particles 34 and the first material in each cell 36. As a result, the dispersion medium 15 including the first material and the second material is completed.

以上のようにして、対向基板52に設けられた封止層42に、隔壁35を食い込ませることで、素子基板51と対向基板52とが接合される。   As described above, the element substrate 51 and the counter substrate 52 are bonded together by causing the partition wall 35 to bite into the sealing layer 42 provided on the counter substrate 52.

この際、前記工程[1−4’]を経ることで、額縁隔壁61上に水分封止層44が形成されている。この水分封止層44が、水分を封止する封止性を備えている。そして、第1シール材14aの材料は、例えば、比較的粘度の高い紫外線硬化型樹脂および熱硬化型樹脂(カヤトロン)等の液性硬化型樹脂が用いられ、その材料の種類によっては、吸湿性または吸着性を示すことがある。そのため、第1シール材14aが水分を含んでいる場合があるが、このような場合であったとしても、水分封止層44を越えて、第1シール材14a側から、セル36内に充填されている分散媒側に水分が移行するのを抑制することができる。したがって、この状態を維持したまま、本工程[3−3’]を実施することにより、電気泳動分散液37内に含まれる水分の含有量を適切な範囲内に設定することができる。そのため、電気泳動粒子34の泳動特性に変化が生じるのを的確に抑制または防止し得ることから、優れた表示品質が維持された電気泳動表示装置10が製造される。   At this time, the moisture sealing layer 44 is formed on the frame partition wall 61 through the step [1-4 ′]. The moisture sealing layer 44 has a sealing property for sealing moisture. The material of the first sealing material 14a is, for example, a liquid curable resin such as an ultraviolet curable resin and a thermosetting resin (Kayatron) having a relatively high viscosity. Depending on the type of the material, the hygroscopic property may be used. Or it may show adsorptivity. Therefore, the first sealing material 14a may contain moisture. Even in such a case, the cell 36 is filled from the first sealing material 14a side beyond the moisture sealing layer 44. It is possible to suppress moisture from moving to the dispersion medium side. Therefore, by carrying out this step [3-3 ′] while maintaining this state, the water content contained in the electrophoretic dispersion liquid 37 can be set within an appropriate range. Therefore, since it is possible to accurately suppress or prevent the change in the electrophoretic characteristics of the electrophoretic particles 34, the electrophoretic display device 10 in which excellent display quality is maintained is manufactured.

その後、図25に示すように、第1シール材14aが紫外線硬化型樹脂であれば紫外線Yを照射して、第1シール材14aを硬化させた後に焼成する。また、熱硬化型樹脂であれば、加熱することにより硬化させるとともに、焼成する。これにより、素子基板51と対向基板52とを第1シール材14aを介して接合し得るとともに、第1シール材14aに含まれる水分を除去することができる。   Thereafter, as shown in FIG. 25, if the first sealing material 14a is an ultraviolet curable resin, the first sealing material 14a is baked after being irradiated with ultraviolet rays Y and cured. Further, if it is a thermosetting resin, it is cured by heating and fired. Thereby, the element substrate 51 and the counter substrate 52 can be joined via the first sealing material 14a, and moisture contained in the first sealing material 14a can be removed.

素子基板51と対向基板52とを貼り合せたときのセルギャップは、20μm以上50μm以下程度であり、潰された第1シール材14aの幅は、例えば、200μm以上500μm以下である。   The cell gap when the element substrate 51 and the counter substrate 52 are bonded together is about 20 μm or more and 50 μm or less, and the width of the crushed first sealing material 14 a is, for example, 200 μm or more and 500 μm or less.

なお、図24では、対向基板52を素子基板51に圧力Xを付与することで押圧する際に、額縁隔壁61に形成された水分封止層44の全部がセル36内に封入されるものとして記載したが、この場合に限定されず、水分封止層44は、額縁隔壁61と第1シール材14aとの間に残存していてもよい。   In FIG. 24, when the counter substrate 52 is pressed by applying a pressure X to the element substrate 51, it is assumed that all of the moisture sealing layer 44 formed on the frame partition wall 61 is enclosed in the cell 36. Although described, it is not limited to this case, the moisture sealing layer 44 may remain between the frame partition wall 61 and the first sealing material 14a.

[3−4’]次いで、図26に示すように、大気中において、第1シール材14aの外周に第2シール材14bを塗布して接着する(第2封止;ステップS34’)。   [3-4 '] Next, as shown in FIG. 26, the second sealing material 14b is applied and bonded to the outer periphery of the first sealing material 14a in the atmosphere (second sealing; step S34').

これにより、素子基板51と対向基板52とを強固に接着固定することができるので、第2シール材14bを介した電気泳動分散液37側への水分の移行が防止される。   Thereby, since the element substrate 51 and the counter substrate 52 can be firmly bonded and fixed, the movement of moisture toward the electrophoretic dispersion 37 through the second sealing material 14b is prevented.

具体的には、第2シール材14bは、水分が入らず比較的低い粘度であり、隙間に入り込むことが重要であり、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等である。なお、第2シール材14bの粘度は、第1シール材14aの粘度よりも低く、例えば、100Pa・s以上500Pa・s以下であり、好ましくは、400Pa・s程度である。第2シール材14bの幅は、例えば、300μm以上500μm以下程度である。   Specifically, the second sealing material 14b does not contain moisture and has a relatively low viscosity, and it is important that the second sealing material 14b enters the gap, such as an acrylic resin or an epoxy resin. In addition, the viscosity of the 2nd sealing material 14b is lower than the viscosity of the 1st sealing material 14a, for example, is 100 Pa.s or more and 500 Pa.s or less, Preferably, it is about 400 Pa.s. The width of the second sealing material 14b is, for example, about 300 μm or more and 500 μm or less.

第2シール材14bを塗布する方法としては、例えば、ディスペンサーやダイコーター等が用いられる。以上により、図26に示すように、素子基板51と対向基板52とによって挟持された空間が封止される。その後、必要に応じて、製品の形状に切断する。
以上のような工程を経ることで、電気泳動表示装置10が得られる。
As a method for applying the second sealing material 14b, for example, a dispenser, a die coater, or the like is used. Thus, as shown in FIG. 26, the space sandwiched between the element substrate 51 and the counter substrate 52 is sealed. Then, it cuts into the shape of a product as needed.
Through the above steps, the electrophoretic display device 10 is obtained.

なお、電気泳動表示装置10は、上述した電気泳動表示装置の第1および第2の製造方法により必ずしも製造される必要はなく、例えば、第1材料と第2材料とを含む分散媒15に電気泳動粒子34が分散された電気泳動分散液37を予め用意し、その後、この電気泳動分散液37をセル36内に充填した後、素子基板51と対向基板52とを接合することで、電気泳動表示装置10を製造する方法によっても、電気泳動表示装置10を製造してもよい。   Note that the electrophoretic display device 10 is not necessarily manufactured by the first and second manufacturing methods of the electrophoretic display device described above. For example, the electrophoretic display device 10 is electrically connected to the dispersion medium 15 including the first material and the second material. An electrophoretic dispersion liquid 37 in which the electrophoretic particles 34 are dispersed is prepared in advance, and then the electrophoretic dispersion liquid 37 is filled in the cell 36, and then the element substrate 51 and the counter substrate 52 are joined together to perform electrophoresis. The electrophoretic display device 10 may also be manufactured by a method for manufacturing the display device 10.

以上、本発明の電気泳動表示装置、電気泳動表示装置の製造方法および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明の電気泳動表示装置は、これに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に他の任意の構成物が付加されていてもよい。   The electrophoretic display device of the present invention, the method for manufacturing the electrophoretic display device, and the electronic apparatus have been described based on the illustrated embodiments. However, the electrophoretic display device of the present invention is not limited to this. The configuration of each unit can be replaced with any configuration having the same function. In addition, any other component may be added to the present invention.

また、前述した実施形態では、隔壁35が格子状をなしていたが、隔壁35の平面視形状としては、特に限定されない。例えば、ハニカム状、多角形状、丸形状、三角形状等に構成されていてもよい。   In the embodiment described above, the partition walls 35 have a lattice shape, but the shape of the partition walls 35 in plan view is not particularly limited. For example, it may be configured in a honeycomb shape, a polygonal shape, a round shape, a triangular shape, or the like.

また、素子基板51側に隔壁35や額縁隔壁61を配置することに限定されず、対向基板52側に隔壁35や額縁隔壁61を配置するようにしてもよい。   Further, the partition wall 35 and the frame partition wall 61 are not limited to be disposed on the element substrate 51 side, and the partition wall 35 and the frame partition wall 61 may be disposed on the counter substrate 52 side.

また、第1基材31および第2基材41は、表示側に光透過性を有する材料を用いればよく、ガラス基板の他、プラスチック基板を用いるようにしてもよい。   Moreover, the 1st base material 31 and the 2nd base material 41 should just use the material which has a light transmittance on the display side, and may be made to use a plastic substrate other than a glass substrate.

さらに、額縁隔壁61をスペーサーとして利用することに限定されない。素子基板51と対向基板52との間のセルギャップを規定するために、例えば別の部材をスペーサーとして設ける場合は、額縁隔壁61の高さは隔壁35の高さと等しくてもよい。   Furthermore, it is not limited to using the frame partition 61 as a spacer. In order to define the cell gap between the element substrate 51 and the counter substrate 52, for example, when another member is provided as a spacer, the height of the frame partition wall 61 may be equal to the height of the partition wall 35.

また、本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、任意の目的で、工程[1]の前工程、工程[1][1’]と工程[2][2’]との間、工程[2][2’]と工程[3][3’]との間に存在する中間工程、または工程[3] [3’]の後工程を追加するようにしてもよい。   Further, in the method for manufacturing an electrophoretic display device of the present invention, for any purpose, a step before the step [1], between the steps [1] [1 ′] and the steps [2] [2 ′], [ 2] [2 ′] and steps [3] [3 ′] may be added as intermediate steps, or after steps [3] [3 ′].

さらに、本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前述した、第2の製造方法において、隔壁35、35aおよび額縁隔壁61のうち、額縁隔壁61に選択的に水分封止層44を形成して、電気泳動表示装置10を製造することとしたが、これに限らず、隔壁35、35aと額縁隔壁61との双方に水分封止層44を形成して、電気泳動表示装置10を製造するようにしてもよい。ただし、後者を選択することにより、セル36毎に封入される電気泳動分散液37中に含まれる第1材料および第2材料の含有量の均一化が図られると言う利点が得られる。   Furthermore, in the manufacturing method of the electrophoretic display device of the present invention, the moisture sealing layer 44 is selectively formed on the frame partition wall 61 among the partition walls 35 and 35a and the frame partition wall 61 in the second manufacturing method described above. Thus, the electrophoretic display device 10 is manufactured. However, the present invention is not limited to this, and the electrophoretic display device 10 is manufactured by forming the moisture sealing layer 44 on both the partition walls 35 and 35a and the frame partition wall 61. You may do it. However, by selecting the latter, there is an advantage that the contents of the first material and the second material contained in the electrophoretic dispersion liquid 37 sealed for each cell 36 can be made uniform.

また、本発明の電気泳動表示装置の製造方法では、前述した、第1の製造方法と、第2の製造方法とを組み合わせるようにしてもよい。すなわち、封止層42と、隔壁35、35aおよび額縁隔壁61を含む各種隔壁との双方に水分封止層44を形成して、電気泳動表示装置10を製造するようにしてもよい。   In the method for manufacturing an electrophoretic display device of the present invention, the first manufacturing method and the second manufacturing method described above may be combined. That is, the electrophoretic display device 10 may be manufactured by forming the moisture sealing layer 44 on both the sealing layer 42 and the various partition walls including the partition walls 35, 35 a and the frame partition wall 61.

また、隔壁35を、フォトリソグラフィ法を用いて形成することに限定されず、例えば、ナノインプリント法やスクリーン印刷法、凸版印刷法、グラビア印刷法等の印刷プロセスで形成するようにしてもよい。   Further, the partition wall 35 is not limited to being formed using a photolithography method, and may be formed by a printing process such as a nanoimprint method, a screen printing method, a relief printing method, or a gravure printing method.

次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.評価用サンプルの製造
(サンプルNo.1;実施例相当)
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Manufacture of evaluation samples (sample No. 1; equivalent to examples)

<1>まず、平均厚さ0.5mmのガラス基板を第1基材31として備え、その下面側に平板電極を備えるものを用意した。次に、この第1基材31上に、ウレタン樹脂で構成される樹脂層(31μm)を形成した後、この樹脂層をエッチングすることにより、幅5μm・高さ31μmの隔壁35を格子状に形成した。   <1> First, a glass substrate having an average thickness of 0.5 mm was provided as the first base material 31 and a flat plate electrode was provided on the lower surface side. Next, after a resin layer (31 μm) made of urethane resin is formed on the first base material 31, the resin layer is etched to form partition walls 35 having a width of 5 μm and a height of 31 μm in a lattice shape. Formed.

<2>次いで、平均厚さ0.5mmのガラス基板を第2基材41として備え、その下面側に平板電極を備えるものを用意した。次に、この第2基材41上に、第1封止層42aおよび第2封止層42bを成膜することで封止層42を形成した。その後、この封止層42を、100℃×2時間の条件で焼成した。   <2> Next, a glass substrate having an average thickness of 0.5 mm was prepared as the second base material 41, and a plate electrode was prepared on the lower surface side. Next, the first sealing layer 42 a and the second sealing layer 42 b were formed on the second base material 41 to form the sealing layer 42. Thereafter, the sealing layer 42 was baked under conditions of 100 ° C. × 2 hours.

なお、第1封止層42aおよび第2封止層42bの成膜は、第2基材41上にNBRをスピンコート法で成膜し、その後、PVAをスピンコート法で成膜することにより行った。なお、この際に得られた、第1封止層42aおよび第2封止層42bの厚さは、それぞれ、2μmおよび0.3μmであった。また、第1封止層42aの25℃における弾性率は、15MPaであった。   The first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b are formed by forming NBR on the second base material 41 by a spin coating method and then forming PVA by a spin coating method. went. The thicknesses of the first sealing layer 42a and the second sealing layer 42b obtained at this time were 2 μm and 0.3 μm, respectively. The elastic modulus at 25 ° C. of the first sealing layer 42a was 15 MPa.

<3>次いで、第2基材41上に形成された封止層42上に、さらに、水分封止層44を形成した。   <3> Next, a moisture sealing layer 44 was further formed on the sealing layer 42 formed on the second substrate 41.

なお、水分封止層44の形成は、封止層42上に第2材料としてのシリコーンオイル(粘度:500Pa・s)をスピンコート法で成膜することにより行った。なお、この際に得られた、水分封止層44の厚さは、3μmであった。   The moisture sealing layer 44 was formed by forming a silicone oil (viscosity: 500 Pa · s) as the second material on the sealing layer 42 by spin coating. The thickness of the moisture sealing layer 44 obtained at this time was 3 μm.

<4>次いで、第1基材31上の隔壁35の外周に、液性エポキシ樹脂であるカヤトロンを第1シール材14aとして塗布した。その後、第1基材31と隔壁35とで形成された凹部内に電気泳動粒子34と、第1材料としてのシリコーンオイル(粘度:2mPa・s)とを含有する分散液を塗布することで注入した。   <4> Next, Kayatron, which is a liquid epoxy resin, was applied to the outer periphery of the partition wall 35 on the first base material 31 as the first sealing material 14a. Thereafter, injection is performed by applying a dispersion liquid containing electrophoretic particles 34 and silicone oil (viscosity: 2 mPa · s) as a first material in a recess formed by the first base material 31 and the partition wall 35. did.

<5>次いで、前記工程<4>において、第1基材31と隔壁35により形成された凹部内に前記分散液が充填された第1基材31に対して、前記工程<2>〜前記工程<3>において、封止層42および水分封止層44が形成された第2基材41を、隔壁35と水分封止層44とが対向するようにして、第1基材31と第2基材41とを貼り合わせた。なお、この貼り合わせは、500Paの真空負圧環境下で、封止層42に隔壁35の頂部35’が食い込むまで、素子基板51に対向基板52を押圧した後に、第1シール材14aに紫外線を照射して硬化させることにより行った。なお、封止層42に隔壁35の頂部35’が食い込むことで形成された電気泳動層33の厚さは、30μmであった。
以上のような工程を経ることで、サンプルNo.1の評価用サンプルを製造した。
<5> Next, in the step <4>, the steps <2> to the step described above with respect to the first substrate 31 in which the dispersion is filled in the recess formed by the first substrate 31 and the partition wall 35. In step <3>, the first base material 31 and the second base material 41 on which the sealing layer 42 and the moisture sealing layer 44 are formed are arranged so that the partition wall 35 and the moisture sealing layer 44 face each other. Two base materials 41 were bonded together. In this bonding, the counter substrate 52 is pressed against the element substrate 51 until the top 35 ′ of the partition wall 35 bites into the sealing layer 42 in a vacuum negative pressure environment of 500 Pa, and then the first sealing material 14 a is exposed to ultraviolet rays. Was performed by irradiating and curing. The thickness of the electrophoretic layer 33 formed by the top 35 ′ of the partition wall 35 biting into the sealing layer 42 was 30 μm.
By going through the above steps, sample No. One evaluation sample was produced.

(サンプルNo.2;比較例相当)
前記工程<3>における、封止層42上に対する水分封止層44の形成を省略したこと以外は、前記サンプルNo.1と同様にしてサンプルNo.2の評価用サンプルを製造した。
(Sample No. 2; equivalent to comparative example)
Except that the formation of the moisture sealing layer 44 on the sealing layer 42 in the step <3> was omitted, the sample Nos. In the same manner as in sample 1, sample no. Two evaluation samples were produced.

2.評価
サンプルNo.1の評価用サンプルおよびサンプルNo.2の評価用サンプルについて、それぞれ、白色表示した際の白色反射率、および黒色表示した際の黒色反射率を測定し、これらからコントラストを算出した。
2. Evaluation Sample No. 1 evaluation sample and sample No. 1 With respect to the two samples for evaluation, the white reflectance when displaying white and the black reflectance when displaying black were measured, and the contrast was calculated therefrom.

その結果、サンプルNo.1の評価用サンプルでは、コントラストが20%超であったのに対して、サンプルNo.2の評価用サンプルでは、コントラストが15%未満であった。   As a result, sample no. In the sample for evaluation 1, the contrast was more than 20%, whereas the sample No. In the sample for evaluation 2, the contrast was less than 15%.

また、サンプルNo.1の評価用サンプルおよびサンプルNo.2の評価用サンプルについて、それぞれ、分解し、分散媒中に含まれる水分量を測定したところ、サンプルNo.1の評価用サンプルでは、500ppm程度であったのに対して、サンプルNo.2の評価用サンプルでは、3000ppm超であった。   Sample No. 1 evaluation sample and sample No. 1 Each of the samples for evaluation 2 was decomposed and the amount of water contained in the dispersion medium was measured. In the sample for evaluation 1, the sample No. 1 was about 500 ppm. In the sample for evaluation 2, it was over 3000 ppm.

これらのことから、サンプルNo.1の評価用サンプルでは、封止層42を被覆する水分封止層44を設けることで、封止層42からの電気泳動分散液37中への水分の移行が低減され、その結果、サンプルNo.1の評価用サンプルが優れた表示品質を示す結果が得られた。これに対して、サンプルNo.2の評価用サンプルでは、水分封止層44の形成が省略されることで、封止層42から電気泳動分散液37中に水分が移行し、その結果、サンプルNo.2の評価用サンプルの表示品質が損ねられていると推察される結果が得られた。   From these, sample no. In the sample for evaluation 1, by providing the moisture sealing layer 44 that covers the sealing layer 42, the migration of moisture from the sealing layer 42 into the electrophoretic dispersion liquid 37 is reduced. . The result which the sample for evaluation of 1 showed the outstanding display quality was obtained. In contrast, sample no. In the evaluation sample of 2, the formation of the moisture sealing layer 44 is omitted, so that moisture moves from the sealing layer 42 into the electrophoretic dispersion 37. The result presumed that the display quality of the sample for evaluation 2 was impaired was obtained.

10…電気泳動表示装置、11…画素、12…データ線、13…走査線、14…シール部、14a…第1シール材、14b…第2シール材、15…分散媒、16…トランジスター、21…画素電極、22…共通電極、31…第1基材、32…第1絶縁層、33…電気泳動層、34…電気泳動粒子、35…隔壁、35'…頂部、35a…隔壁、36…セル、37…電気泳動分散液、41…第2基材、42…封止層、42a…第1封止層、42b…第2封止層、44…水分封止層、51…素子基板、52…対向基板、61…額縁隔壁、100…電子機器、110…操作部、D…ダミー画素領域、E…表示領域、E1…額縁領域、t1…平均厚さ、t2…食い込み量、W1…幅、W2…幅、W3…幅、X…圧力、Y…紫外線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Electrophoretic display device 11 ... Pixel, 12 ... Data line, 13 ... Scanning line, 14 ... Seal part, 14a ... 1st sealing material, 14b ... 2nd sealing material, 15 ... Dispersion medium, 16 ... Transistor, 21 ... Pixel electrode, 22 ... Common electrode, 31 ... First substrate, 32 ... First insulating layer, 33 ... Electrophoresis layer, 34 ... Electrophoretic particles, 35 ... Partition, 35 '... Top, 35a ... Partition, 36 ... Cell: 37 ... Electrophoretic dispersion liquid, 41 ... Second base material, 42 ... Sealing layer, 42a ... First sealing layer, 42b ... Second sealing layer, 44 ... Moisture sealing layer, 51 ... Element substrate, 52 ... Counter substrate, 61 ... Frame partition, 100 ... Electronic device, 110 ... Operating unit, D ... Dummy pixel area, E ... Display area, E1 ... Frame area, t1 ... Average thickness, t2 ... Biting amount, W1 ... Width , W2 ... width, W3 ... width, X ... pressure, Y ... UV

Claims (9)

第1基板と、
前記第1基板と対向して配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、複数のセルに区切る隔壁と、
複数の前記セル内に配置され、電気泳動粒子と分散媒とを含有する電気泳動分散液とを有し、
前記分散媒は、第1分子量の第1材料と、前記第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料とを含有し、
前記隔壁の前記第2基板側の端部に、前記第2材料が存在することを特徴とする電気泳動表示装置。
A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A partition wall disposed between the first substrate and the second substrate and partitioned into a plurality of cells;
An electrophoretic dispersion liquid disposed in a plurality of the cells and containing electrophoretic particles and a dispersion medium;
The dispersion medium contains a first material having a first molecular weight and a second material having a second molecular weight that is larger than the first molecular weight.
The electrophoretic display device, wherein the second material is present at an end of the partition on the second substrate side.
前記隔壁と前記第2基板との間に配置された封止層を有する請求項1に記載の電気泳動表示装置。   The electrophoretic display device according to claim 1, further comprising a sealing layer disposed between the partition wall and the second substrate. 前記封止層は、第1封止層と第2封止層とが前記第2基板側からこの順で積層された積層体である請求項2に記載の電気泳動表示装置。   The electrophoretic display device according to claim 2, wherein the sealing layer is a stacked body in which a first sealing layer and a second sealing layer are stacked in this order from the second substrate side. 前記第1材料と、前記第2材料とは、同一構造を有している請求項1ないし3のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。   The electrophoretic display device according to claim 1, wherein the first material and the second material have the same structure. 前記第1材料と、前記第2材料とは、ともにシリコーンオイルである請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。   The electrophoretic display device according to claim 1, wherein the first material and the second material are both silicone oil. 第1分子量の第1材料および前記第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を含有する分散媒と、電気泳動粒子とを含む電気泳動分散液を充填する複数のセルに区切るための隔壁を第1基板上に形成する工程と、
第2基板および前記隔壁の少なくとも一方に、前記第1分子量よりも分子量が大きい第2分子量の第2材料を含有する水分封止層を形成する工程と、
前記電気泳動粒子が前記第1材料に分散された分散液を前記セル内に注入する工程と、
前記水分封止層が介在するように、前記隔壁と前記第2基板とを接合する工程とを有することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
To divide into a plurality of cells filled with an electrophoretic dispersion liquid containing a first medium material having a first molecular weight and a dispersion medium containing a second material having a second molecular weight larger than the first molecular weight and electrophoretic particles. Forming a partition wall on the first substrate;
Forming a moisture sealing layer containing a second material having a second molecular weight larger than the first molecular weight on at least one of the second substrate and the partition;
Injecting a dispersion liquid in which the electrophoretic particles are dispersed in the first material into the cell;
A method for manufacturing an electrophoretic display device, comprising: bonding the partition and the second substrate so that the moisture sealing layer is interposed.
前記水分封止層は、平均厚さが1μm以上5μm以下の厚さで形成される請求項6に記載の電気泳動表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an electrophoretic display device according to claim 6, wherein the moisture sealing layer has an average thickness of 1 μm to 5 μm. 前記隔壁は、平均高さが10μm以上150μm以下の高さで形成される請求項6または7に記載の電気泳動表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an electrophoretic display device according to claim 6, wherein the partition walls are formed with an average height of 10 μm to 150 μm. 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electrophoretic display device according to claim 1.
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