JP2018040045A - Substrate holder, plating device, and method for holding substrate - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve holdability of a large-sized substrate in a substrate holder.SOLUTION: Provided is a substrate holder which includes a first and a second holding members for clamping and fixing a substrate. The first holding member has: a first holding member main body; and a clamp provided to the first holding member main body, which is rotatable about a shaft parallel to a face of the first holding member main body or reciprocally movable in a direction crossing with the face of the first holding member main body. The second holding member has a second holding member main body. The clamp is engaged with the second holding member in a state where the first holding member main body and the second holding member main body are abutting against each other to be able to fix the second holding member to the first holding member.SELECTED DRAWING: Figure 2C

Description

本発明は、基板ホルダ、めっき装置、及び基板を保持する方法に関する。   The present invention relates to a substrate holder, a plating apparatus, and a method for holding a substrate.

従来、半導体ウェハやプリント基板等の基板の表面に配線やバンプ(突起状電極)等を形成したりすることが行われている。この配線及びバンプ等を形成する方法として、電解めっき法が知られている。   Conventionally, wiring, bumps (projection electrodes), and the like are formed on the surface of a substrate such as a semiconductor wafer or a printed circuit board. An electroplating method is known as a method for forming the wirings, bumps, and the like.

電解めっき法に用いるめっき装置では、円形又は多角形の基板の端面をシールし、表面(被めっき面)を露出させて保持する基板ホルダを備える。このようなめっき装置において基板表面にめっき処理を行うときは、基板を保持した基板ホルダをめっき液中に浸漬させる。   The plating apparatus used for the electrolytic plating method includes a substrate holder that seals an end face of a circular or polygonal substrate and exposes and holds the surface (surface to be plated). When performing the plating process on the substrate surface in such a plating apparatus, the substrate holder holding the substrate is immersed in the plating solution.

特許文献1には、半導体ウェハの基板ホルダが記載されている。この基板ホルダでは、固定保持部材(第1保持部材22)に載置した基板を可動保持部材(第2保持部材24)で挟み、第2保持部材24上の押えリング27を回転させて第1保持部材22上のクランパ33と係合させることによって、基板を基板ホルダに固定している。
特許文献2には、角形のプリント基板の基板保持用治具が記載されている。この基板保持用治具では、矩形のフレーム20に設けられた4箇所の把持部材30でプリント基板Pを固定している。
特許文献3には、基板を水平な状態で搬送し、めっきユニット26の保持ベース42上に水平に保持された状態でめっき処理を施すめっき装置が記載されている。
Patent Document 1 describes a substrate holder for a semiconductor wafer. In this substrate holder, the substrate placed on the fixed holding member (first holding member 22) is sandwiched by the movable holding member (second holding member 24), and the press ring 27 on the second holding member 24 is rotated to rotate the first holding member. By engaging with the clamper 33 on the holding member 22, the substrate is fixed to the substrate holder.
Patent Document 2 describes a substrate holding jig for a square printed circuit board. In this substrate holding jig, the printed circuit board P is fixed by four gripping members 30 provided on the rectangular frame 20.
Patent Document 3 describes a plating apparatus that transports a substrate in a horizontal state and performs a plating process in a state of being horizontally held on a holding base 42 of a plating unit 26.

特開2016−117917号公報JP, 2006-117717, A 特許第4179707号公報Japanese Patent No. 4179707 特開2009−270167号公報JP 2009-270167 A

特許文献1に記載の構成は、円形の半導体ウェハをめっき処理するためのものであるが、現在、種々の寸法、形状、厚みの基板をめっき処理することが要請されてきている。特に、特許文献1の基板ホルダで大型薄膜の基板を保持する場合、押えリングの回転によって基板に撓みを生じる可能性がある。
特許文献2に記載の基板保持用治具では、把持部材30の一対のブロック31、32の間に基板の端部を挟み込んだ状態で両ブロックをねじ止めして基板を把持部材30で固定するが、この構成は、基板保持用治具による保持を自動化するのに適していない。
特許文献3に記載の構成では、ガラス基板の被処理面を上向きにしたまま、装置内を搬送し処理することによって、複雑な姿勢転換機構を設けることなく装置を小型化することが記載されている。しかし、ガラス基板よりも薄膜で反りがあるような基板を処理する場合、被処理面を上向きにしたまま搬送すると、基板表面に傷を生じたり、基板が破損するおそれがある。
The configuration described in Patent Document 1 is for plating a circular semiconductor wafer. Currently, there is a demand for plating a substrate having various sizes, shapes, and thicknesses. In particular, when a large thin film substrate is held by the substrate holder of Patent Document 1, there is a possibility that the substrate is bent by the rotation of the presser ring.
In the substrate holding jig described in Patent Document 2, both the blocks are screwed in a state where the end portions of the substrate are sandwiched between the pair of blocks 31 and 32 of the holding member 30, and the substrate is fixed by the holding member 30. However, this configuration is not suitable for automating the holding by the substrate holding jig.
In the configuration described in Patent Document 3, it is described that the size of the apparatus can be reduced without providing a complicated posture changing mechanism by conveying and processing the inside of the apparatus with the processing surface of the glass substrate facing upward. Yes. However, when processing a substrate that is warped with a thin film rather than a glass substrate, if the surface to be processed is transported upward, the substrate surface may be damaged or the substrate may be damaged.

本発明の目的は、上述した課題の少なくとも一部を解決することである。   An object of the present invention is to solve at least a part of the problems described above.

[1] 本発明の一形態に係る基板ホルダは、基板を挟持して固定する第1及び第2保持部材を備え、 前記第1保持部材は、第1保持部材本体と、前記第1保持部材本体に設けられ、前記第1保持部材本体の面に平行な軸の周りを回転可能な又は前記第1保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能なクランプと、を有し、 前記第2保持部材は、第2保持部材本体を有し、 前記クランプは、前記第1保持部材本体及び前記第2保持部材本体が互いに当接した状態で前記第2保持部材に係合し、前記第2保持部材を前記第1保持部材に固定可能に構成されている。   [1] A substrate holder according to an aspect of the present invention includes first and second holding members that sandwich and fix a substrate, and the first holding member includes a first holding member body and the first holding member. A clamp provided on the main body and capable of rotating around an axis parallel to the surface of the first holding member main body or reciprocating in a direction intersecting the surface of the first holding member main body, The second holding member has a second holding member main body, and the clamp engages with the second holding member in a state where the first holding member main body and the second holding member main body are in contact with each other, and The two holding members can be fixed to the first holding member.

この基板ホルダによれば、第1保持部材本体の面に平行な軸の周りを回転可能な又は第1保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能なクランプによって、基板を挟持する第1保持部材と第2保持部材とを互いに固定するため、基板に回転方向の力が加わることを抑制ないし防止できる。特に基板が大型薄膜である場合は、基板に回転方向の力が加わると基板に撓みを生じるおそれがあるが、この基板ホルダによれば、大型で薄い基板を保持する場合にも撓みの発生を抑制ないし防止できる。   According to this substrate holder, the first holding the substrate by the clamp that can rotate around an axis parallel to the surface of the first holding member main body or reciprocate in a direction intersecting the surface of the first holding member main body. Since the holding member and the second holding member are fixed to each other, it is possible to suppress or prevent the force in the rotation direction from being applied to the substrate. In particular, when the substrate is a large thin film, there is a possibility that the substrate will bend when a rotational force is applied to the substrate. However, this substrate holder can bend even when holding a large and thin substrate. It can be suppressed or prevented.

[2] [1]に記載の基板ホルダにおいて、 前記クランプは、第1付勢部材によって閉じる方向に付勢されており、 前記クランプが開いた状態で前記第2保持部材本体を前記第1保持部材本体に当接させ、その後、前記クランプを閉じた状態で、前記第2保持部材を前記第1保持部材に固定可能に構成されている。
この構成では、クランプがノーマルクローズ型であるため、第2保持部材本体を第1保持部材本体に当接する際にクランプを開けば、クランプした状態ではアクチュエータ等によって外部から力を加える必要がなく、エネルギー消費を抑制できる。
[2] In the substrate holder according to [1], the clamp is urged in a closing direction by a first urging member, and the second holding member main body is held in the first holding state with the clamp opened. The second holding member can be fixed to the first holding member in a state in which the second holding member is brought into contact with the member main body and then the clamp is closed.
In this configuration, since the clamp is a normally closed type, if the clamp is opened when the second holding member main body is brought into contact with the first holding member main body, it is not necessary to apply force from the outside by an actuator or the like in the clamped state. Energy consumption can be suppressed.

[3] [1]又は[2]に記載の基板ホルダにおいて、 前記第1保持部材は、複数のクランプを有し、これらの複数のクランプを連結する連結部材を更に有し、 前記連結部材は、前記複数のクランプを同期して動作させるように構成されている。
この構成では、第2保持部材を複数の箇所でクランプによって挟持することが可能であり、また、連結部材によって各クランプの動作が同期されるので、クランプ動作を効率よく行うことができる。また、複数のクランプを連結部材で連動させることで、外部から力を加えるアクチュエータの構成を簡易にすることができる。
[3] In the substrate holder according to [1] or [2], the first holding member further includes a plurality of clamps, and further includes a connecting member that connects the plurality of clamps. The plurality of clamps are configured to operate synchronously.
In this configuration, the second holding member can be clamped at a plurality of locations, and the operation of each clamp is synchronized by the connecting member, so that the clamping operation can be performed efficiently. Moreover, the structure of the actuator which applies force from the outside can be simplified by interlocking a plurality of clamps with a connecting member.

[4] [3]に記載の基板ホルダにおいて、 前記連結部材は、前記第1保持部材本体に回転可能に取り付けられた回転軸である。
この場合、連結部材を回転軸によって構成することにより構成が簡易であり、各クランプを確実に同期させることができる。
[4] In the substrate holder according to [3], the connecting member is a rotating shaft rotatably attached to the first holding member main body.
In this case, by configuring the connecting member with a rotating shaft, the configuration is simple, and each clamp can be reliably synchronized.

[5] [3]又は[4]に記載の基板ホルダにおいて、 前記連結部材に設けられた第1力受部を有し、 前記第1力受部は、前記連結部材は、前記第1力受部に力が与えられることにより動作するように構成される。
この場合、例えばアクチュエータで第1力受部に力を加えることで、連動部材を介して各クランプを動作させることができるので、クランプによる保持を自動化することが容易である。
[5] The substrate holder according to [3] or [4], further including a first force receiving portion provided on the connecting member, wherein the first force receiving portion includes the first force. It is comprised so that it may operate | move when force is given to a receiving part.
In this case, for example, by applying a force to the first force receiving portion with an actuator, each clamp can be operated via the interlocking member, so that it is easy to automate the holding by the clamp.

[6] [1]乃至[5]の何れかに記載の基板ホルダにおいて、 前記クランプは、先端に係合部を有し、 前記第2保持部材は、前記クランプの前記係合部を受け入れる形状の係合受部を有する。
この場合、第2保持部材にクランプの係合部を受け入れる形状の係合受部を設けることによって、クランプによる係合を向上し得る。
[6] The substrate holder according to any one of [1] to [5], wherein the clamp has an engaging portion at a tip, and the second holding member receives the engaging portion of the clamp. Having an engagement receiving portion.
In this case, the engagement by the clamp can be improved by providing the second holding member with an engagement receiving portion configured to receive the engagement portion of the clamp.

[7] [6]に記載の基板ホルダにおいて、 前記係合受部は、前記第2保持部材本
体と別体であり、前記第2保持部材本体に取り付けられている。
この場合、別体の係合受部を第2保持部材本体に取り付ける構成とすることで、係合受部の寸法、形状、個数等を適宜選択することが容易になる。
[7] The substrate holder according to [6], wherein the engagement receiving portion is separate from the second holding member main body and is attached to the second holding member main body.
In this case, by adopting a configuration in which a separate engagement receiving portion is attached to the second holding member main body, it is easy to appropriately select the size, shape, number, etc. of the engagement receiving portions.

[8] [1]乃至[7]に記載の基板ホルダにおいて、前記基板を保持するためのクリップを更に有することが可能である。基板をクリップで保持した後、第1及び第2保持部材で基板を挟持するので、基板の保持を正確かつ確実に行うことができる。
[9] [8]に記載の基板ホルダにおいて、前記クリップは、前記第2保持部材本体の基板と当接する側の面に設けられ、前記基板を保持するためのクリップを更に有し、 前記クリップは、前記第2保持部材本体の面に平行な軸の周りを回転可能又は前記第2保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能である。
この基板ホルダによれば、第2保持部材本体の面に平行な軸の周りを回転可能な又は第2保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能なクリップによって、基板を第2保持部材に固定するため、基板に回転方向等の基板面に平行な方向の力が加わることを抑制ないし防止できる。特に基板が大型薄膜である場合は、基板に回転方向等の基板面に平行な方向の力が加わると基板に撓みを生じるおそれがあるが、この基板ホルダによれば、大型薄膜の基板を保持する場合にも撓みの発生を抑制ないし防止できる。また、クリップによる基板固定後の第2保持部材の移動、姿勢の変更等が容易である。
[8] The substrate holder described in [1] to [7] may further include a clip for holding the substrate. Since the substrate is held by the first and second holding members after the substrate is held by the clip, the substrate can be held accurately and reliably.
[9] The substrate holder according to [8], wherein the clip is provided on a surface of the second holding member main body that is in contact with the substrate, and further includes a clip for holding the substrate. Can rotate around an axis parallel to the surface of the second holding member body or can reciprocate in a direction intersecting the surface of the second holding member body.
According to this substrate holder, the substrate is held by the second holding member by a clip that can rotate around an axis parallel to the surface of the second holding member main body or reciprocate in a direction intersecting the surface of the second holding member main body. Therefore, it is possible to suppress or prevent the force in the direction parallel to the substrate surface such as the rotation direction from being applied to the substrate. In particular, when the substrate is a large thin film, there is a risk of bending the substrate if a force in a direction parallel to the substrate surface, such as the rotation direction, is applied to the substrate, but this substrate holder holds the large thin film substrate. Also when it does, generation | occurrence | production of a bending can be suppressed thru | or prevented. In addition, it is easy to move the second holding member after the substrate is fixed by the clip, change the posture, and the like.

[10] [9]に記載の基板ホルダにおいて、 前記クリップは、第2付勢部材によって閉じる方向に付勢されている。
この構成では、クリップがノーマルクローズ型であるため、基板を第2保持部材本体に当接する際にクリップを開けば、クリップした状態ではアクチュエータ等によって外部から力を加える必要がなく、エネルギー消費を抑制できる。
[10] In the substrate holder according to [9], the clip is urged in a closing direction by a second urging member.
In this configuration, since the clip is a normally closed type, if the clip is opened when the substrate is brought into contact with the second holding member body, it is not necessary to apply an external force by an actuator or the like in the clipped state, thereby suppressing energy consumption. it can.

[11] [10]に記載の基板ホルダにおいて、 前記第2保持部材は、前記第2保持部材本体に設けられた第2力受部を有し、 前記第2力受部は、前記基板と当接する側の面とは反対の面から力を受けて、前記クリップに当接するように変位可能に構成されており、 前記クリップは、前記第2力受部に押圧されることによって前記第2付勢部材に抗して開くように構成されている。
この場合、例えばアクチュエータで第2力受部に力を加えることで、クリップを動作させることができるので、クリップによる固定を自動化することが容易である。基板と当接する側の面とは反対の面から力を受ける第2力受部を設けるため、アクチュエータを基板当接面とは反対側に配置することができ、基板固定後の第2保持部材の移動、姿勢の変更等が容易である。
[11] The substrate holder according to [10], wherein the second holding member includes a second force receiving portion provided in the second holding member main body, and the second force receiving portion includes the substrate and the second force receiving portion. It is configured to be able to be displaced so that it receives a force from a surface opposite to the surface on the abutting side and abuts against the clip, and the clip is pressed against the second force receiving portion to It is configured to open against the biasing member.
In this case, for example, the clip can be operated by applying a force to the second force receiving portion with an actuator, so that it is easy to automate the fixing with the clip. Since the second force receiving portion that receives the force from the surface opposite to the surface that contacts the substrate is provided, the actuator can be disposed on the side opposite to the substrate contacting surface, and the second holding member after fixing the substrate It is easy to move and change the posture.

[12] [1]乃至[11]の何れかに記載の基板ホルダにおいて、 前記第1保持部材は、前記基板と当接する面において、前記第1弾性突出部を保持する第1ホルダと、前記第1ホルダとは別の第2ホルダであって前記第2弾性突出部を保持する前記第2ホルダと、を更に備える。
この場合、第1弾性突出部及び第2弾性突出部を保持するホルダを別々に設けるので、各弾性突出部の交換を別々に行うことができる。
[12] In the substrate holder according to any one of [1] to [11], the first holding member includes a first holder that holds the first elastic protrusion on a surface that contacts the substrate; A second holder that is different from the first holder and that holds the second elastic protrusion.
In this case, since the holders for holding the first elastic protrusion and the second elastic protrusion are separately provided, the elastic protrusions can be exchanged separately.

[13] [1]乃至[12]の何れかに記載の基板ホルダにおいて、前記基板ホルダは、一端側にアーム部を備えている。
この場合、アーム部で基板ホルダを垂直に懸架した状態で搬送することが可能となり、基板表面の破損のおそれを抑制または防止できる。
[13] In the substrate holder according to any one of [1] to [12], the substrate holder includes an arm portion on one end side.
In this case, it becomes possible to carry the substrate holder while the substrate holder is vertically suspended by the arm portion, and the risk of damage to the substrate surface can be suppressed or prevented.

[14] [1]乃至[13]の何れかに記載の基板ホルダにおいて、前記基板ホルダは、矩形形状の基板を保持するように構成されている。
大型薄膜の矩形形状基板を、撓みを生じずに保持することができる。
[14] The substrate holder according to any one of [1] to [13], wherein the substrate holder is configured to hold a rectangular substrate.
A large thin-film rectangular substrate can be held without bending.

[15] 本発明の一形態に係るめっき装置は、基板を保持する基板ホルダと、基板ホルダを受け入れて前記基板にめっき処理するめっき槽と、を備える。基板ホルダは、前記基板ホルダは、基板を挟持して固定する第1及び第2保持部材を備える。前記第1保持部材は、第1保持部材本体と、前記第1保持部材本体に設けられ、前記第1保持部材本体の面に平行な軸の周りを回転可能な又は前記第1保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能なクランプと、を有する。前記第2保持部材は、第2保持部材本体を有する。前記クランプは、前記第1保持部材本体及び前記第2保持部材本体が互いに当接した状態で、前記第2保持部材を前記第1保持部材側に押圧するように前記第2保持部材に係合するように構成されている。
このめっき装置によれば、[1]で前述したと同様の採用効果を奏する。また、大型薄膜の基板を適切に基板ホルダに保持できるため、めっき品質を確保、向上できる。
[15] A plating apparatus according to an aspect of the present invention includes a substrate holder that holds a substrate, and a plating tank that receives the substrate holder and performs plating on the substrate. The substrate holder includes first and second holding members that sandwich and fix the substrate. The first holding member is provided on the first holding member main body and the first holding member main body, and is rotatable around an axis parallel to the surface of the first holding member main body or of the first holding member main body. And a clamp capable of reciprocating in a direction intersecting the surface. The second holding member has a second holding member body. The clamp engages with the second holding member so as to press the second holding member toward the first holding member in a state where the first holding member main body and the second holding member main body are in contact with each other. Is configured to do.
According to this plating apparatus, the same effects as described above in [1] can be obtained. Moreover, since the large thin film substrate can be appropriately held by the substrate holder, the plating quality can be secured and improved.

[16] 本発明の一形態に係る基板を保持する方法では、 前記基板を第1及び第2保持部材の間に挟持し、 前記第1保持部材の面に平行な軸の周りを回転可能な又は前記第1保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能なクランプによって、前記第2保持部材を前記第1保持部材側に押圧するように固定する。
この方法によれば、[1]で前述したと同様の作用効果を奏する。
[16] In the method for holding a substrate according to an aspect of the present invention, the substrate is sandwiched between first and second holding members, and can be rotated around an axis parallel to the surface of the first holding member. Alternatively, the second holding member is fixed so as to be pressed toward the first holding member by a clamp capable of reciprocating in a direction intersecting the surface of the first holding member main body.
According to this method, the same operational effects as described in [1] can be obtained.

[17] [16]に記載の基板を保持する方法において、 前記基板を第1及び第2保持部材の間に挟持する際に、 前記基板を前記第2保持部材の上に置いて、前記基板をクリップで保持し、 前記第1保持部材と前記第2保持部材とを互いに近づけて、前記基板を前記第1及び第2保持部材の間に挟持するようにしてもよい。
この場合、基板を第2保持部材にクリップで保持した後、第1及び第2保持部材で基板を挟持するので、クリップによる基板保持後の第2保持部材の移動、姿勢の変更等が可能となるとともに、基板の保持を正確かつ確実に行うことができる。
[17] The method for holding a substrate according to [16], wherein the substrate is placed on the second holding member when the substrate is sandwiched between the first and second holding members. May be held by a clip, and the first holding member and the second holding member may be brought close to each other so that the substrate is sandwiched between the first and second holding members.
In this case, since the substrate is held between the first holding member and the second holding member after the substrate is held on the second holding member by the clip, the second holding member can be moved and the posture thereof can be changed after holding the substrate by the clip. In addition, the substrate can be held accurately and reliably.

本発明の一実施形態に係る基板ホルダが使用されるめっき装置の全体配置図である。1 is an overall layout view of a plating apparatus in which a substrate holder according to an embodiment of the present invention is used. 一実施形態に係る基板ホルダの概略正面図である。It is a schematic front view of the substrate holder which concerns on one Embodiment. 基板ホルダの概略側面図である。It is a schematic side view of a substrate holder. 基板ホルダの概略背面図である。It is a schematic rear view of a substrate holder. 基板ホルダの前方斜視図である。It is a front perspective view of a substrate holder. 基板ホルダの後方斜視図である。It is a back perspective view of a substrate holder. 基板ホルダの前面図である。It is a front view of a substrate holder. 基板ホルダの背面図である。It is a rear view of a substrate holder. バックプレートの正面図である。It is a front view of a back plate. バックプレートの背面図である。It is a rear view of a back plate. バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大背面図である。It is a partial enlarged rear view of the substrate holder showing the attachment state of the back plate. バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大斜視図である。It is a partial expansion perspective view of a substrate holder which shows the attachment state of a backplate. クランプと連結部材の関係を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the relationship between a clamp and a connection member. クランプ状態のクランプの斜視図である。It is a perspective view of the clamp of a clamp state. クランプ状態のクランプの側面図である。It is a side view of the clamp of a clamp state. クランプ状態のクランプの断面斜視図である。It is a cross-sectional perspective view of the clamp in a clamped state. クランプ状態のクランプの断面図である。It is sectional drawing of the clamp of a clamp state. アンクランプ状態のクランプの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the clamp of an unclamp state. アンクランプ状態のクランプの側面図である。It is a side view of the clamp of an unclamp state. アンクランプ状態のクランプの断面斜視図である。It is a cross-sectional perspective view of the clamp in an unclamped state. アンクランプ状態のクランプの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the clamp of an unclamp state. バックプレートのクリップを示す一部切欠き側面図である。It is a partially notched side view which shows the clip of a backplate. バックプレートのクリップを示す一部拡大斜視図である。It is a partially expanded perspective view which shows the clip of a backplate. 閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。It is a partially notched perspective view which shows the state of the clip at the time of closure. 閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。It is a partially notched sectional view which shows the state of the clip at the time of closing. 開放時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。It is a partially notched perspective view which shows the state of the clip at the time of open | release. 開放時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。It is a partially cutaway sectional view showing the state of the clip at the time of opening. フロントプレートのインナーシール部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the inner seal part of a front plate. フロントプレートのインナーシール部及びアウターシール部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the inner seal part and outer seal part of a front plate.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各実施形態において、同一または相当する部材には同一符号を付して重複した説明を省略する。また、本明細書において「前面」、「背面」、「フロント」、「バック」、「上」、「下」、「左」、「右」等の表現を用いるが、これらは、説明の都合上、例示の図面の紙面上における位置、方向を示すものであり、装置使用時等の実際の配置では異なる場合がある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, the same or corresponding members are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In this specification, expressions such as “front”, “back”, “front”, “back”, “up”, “down”, “left”, “right”, etc. are used. The above shows the position and direction on the paper surface of the example drawing, and may differ in actual arrangement when the apparatus is used.

図1は、本発明の一実施形態に係る基板ホルダが使用されるめっき装置の全体配置図である。図1に示すように、このめっき装置100は、基板ホルダ1に基板(被処理物の一例に相当する)をロードし、又は基板ホルダ1から基板をアンロードするロード/アンロード部110と、基板を処理する処理部120と、洗浄部50aとに大きく分けられる。処理部120は、さらに、基板の前処理及び後処理を行う前処理・後処理部120Aと、基板にめっき処理を行うめっき処理部120Bとを含む。なお、このめっき装置100で処理する基板は、角形基板、円形基板を含む。また、角形基板は、矩形等の多角形のガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他の多角形のめっき対象物を含む。円形基板は、半導体ウェハ、ガラス基板、その他の円形のめっき対象物を含む。   FIG. 1 is an overall layout diagram of a plating apparatus in which a substrate holder according to an embodiment of the present invention is used. As shown in FIG. 1, this plating apparatus 100 loads a substrate (corresponding to an example of an object to be processed) on the substrate holder 1 or unloads the substrate from the substrate holder 1, It is roughly divided into a processing unit 120 for processing a substrate and a cleaning unit 50a. The processing unit 120 further includes a pre-processing / post-processing unit 120A that performs pre-processing and post-processing of the substrate, and a plating processing unit 120B that performs plating processing on the substrate. In addition, the board | substrate processed with this plating apparatus 100 contains a square substrate and a circular substrate. The rectangular substrate includes a polygonal glass substrate such as a rectangle, a liquid crystal substrate, a printed circuit board, and other polygonal plating objects. The circular substrate includes a semiconductor wafer, a glass substrate, and other circular plating objects.

ロード/アンロード部110は、2台のカセットテーブル25と、基板脱着機構29とを有する。カセットテーブル25は、半導体ウェハ、ガラス基板、液晶基板、プリント基板等の基板を収納したカセット25aを搭載する。基板脱着機構29は、基板を基板ホルダ1(図2A以降で後述)に着脱するように構成される。また、基板脱着機構29の近傍(例えば下方)には基板ホルダ1を収容するためのストッカ30が設けられる。これらのユニット25,29,30の中央には、これらのユニット間で基板を搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置27が配置されている。基板搬送装置27は、走行機構28により走行可能に構成される。   The load / unload unit 110 includes two cassette tables 25 and a substrate detachment mechanism 29. The cassette table 25 is mounted with a cassette 25a that stores substrates such as semiconductor wafers, glass substrates, liquid crystal substrates, and printed circuit boards. The substrate removal mechanism 29 is configured to attach and detach the substrate to and from the substrate holder 1 (described later in FIG. 2A). In addition, a stocker 30 for accommodating the substrate holder 1 is provided in the vicinity (for example, below) of the substrate removal mechanism 29. In the center of these units 25, 29, and 30, a substrate transfer device 27 including a transfer robot that transfers a substrate between these units is disposed. The substrate transfer device 27 is configured to be able to travel by the travel mechanism 28.

洗浄部50aは、めっき処理後の基板を洗浄して乾燥させる洗浄装置50を有する。基板搬送装置27は、めっき処理後の基板を洗浄装置50に搬送し、洗浄された基板を洗浄装置50から取り出すように構成される。   The cleaning unit 50a includes a cleaning device 50 that cleans and dries the substrate after the plating process. The substrate transport device 27 is configured to transport the plated substrate to the cleaning device 50 and take out the cleaned substrate from the cleaning device 50.

前処理・後処理部120Aは、プリウェット槽32と、プリソーク槽33と、プリリンス槽34と、ブロー槽35と、リンス槽36と、を有する。プリウェット槽32では、基板が純水に浸漬される。プリソーク槽33では、基板の表面に形成したシード層等の導電層の表面の酸化膜がエッチング除去される。プリリンス槽34では、プリソーク後の基板が基板ホルダと共に洗浄液(純水等)で洗浄される。ブロー槽35では、洗浄後の基板の液切りが行われる。リンス槽36では、めっき後の基板が基板ホルダと共に洗浄液で洗浄される。プリウェット槽32、プリソーク槽33、プリリンス槽34、ブロー槽35、リ
ンス槽36は、この順に配置されている。なお、このめっき装置100の前処理・後処理部120Aの構成は一例であり、めっき装置100の前処理・後処理部120Aの構成は限定されず、他の構成を採用することが可能である。
The pre-processing / post-processing unit 120A includes a pre-wet tank 32, a pre-soak tank 33, a pre-rinse tank 34, a blow tank 35, and a rinse tank 36. In the pre-wet tank 32, the substrate is immersed in pure water. In the pre-soak tank 33, the oxide film on the surface of the conductive layer such as the seed layer formed on the surface of the substrate is removed by etching. In the pre-rinse tank 34, the substrate after the pre-soak is cleaned with a cleaning liquid (pure water or the like) together with the substrate holder. In the blow tank 35, the substrate is drained after cleaning. In the rinsing tank 36, the substrate after plating is cleaned with a cleaning liquid together with the substrate holder. The pre-wet tank 32, the pre-soak tank 33, the pre-rinse tank 34, the blow tank 35, and the rinse tank 36 are arranged in this order. The configuration of the pretreatment / post-processing unit 120A of the plating apparatus 100 is an example, and the configuration of the pre-processing / post-processing unit 120A of the plating apparatus 100 is not limited, and other configurations can be adopted. .

めっき処理部120Bは、オーバーフロー槽38を備えた複数のめっき槽39を有する。各めっき槽39は、内部に一つの基板を収納し、内部に保持しためっき液中に基板を浸漬させて基板表面に銅めっき等のめっきを行う。ここで、めっき液の種類は、特に限られることはなく、用途に応じて様々なめっき液が用いられる。   The plating processing unit 120 </ b> B has a plurality of plating tanks 39 provided with an overflow tank 38. Each plating tank 39 accommodates one substrate therein and immerses the substrate in a plating solution held therein to perform plating such as copper plating on the substrate surface. Here, the type of the plating solution is not particularly limited, and various plating solutions are used depending on the application.

めっき装置100は、これらの各機器の側方に位置して、これらの各機器の間で基板ホルダを基板とともに搬送する、例えばリニアモータ方式を採用した基板ホルダ搬送装置37を有する。この基板ホルダ搬送装置37は、基板脱着機構29、プリウェット槽32、プリソーク槽33、プリリンス槽34、ブロー槽35、リンス槽36、及びめっき槽39との間で基板ホルダを搬送するように構成される。   The plating apparatus 100 includes a substrate holder transfer device 37 that employs, for example, a linear motor system, which is located on the side of each of these devices and transfers the substrate holder together with the substrates between these devices. The substrate holder transport device 37 is configured to transport the substrate holder between the substrate desorption mechanism 29, the pre-wet tank 32, the pre-soak tank 33, the pre-rinse tank 34, the blow tank 35, the rinse tank 36, and the plating tank 39. Is done.

以上のように構成されるめっき装置100を複数含むめっき処理システムは、上述した各部を制御するように構成されたコントローラ175を有する。コントローラ175は、所定のプログラムを格納したメモリ175Bと、メモリ175Bのプログラムを実行するCPU(Central Processing Unit)175Aと、CPU175Aがプログラムを実行することで実現される制御部175Cとを有する。制御部175Cは、例えば、基板搬送装置27の搬送制御、基板脱着機構29における基板の基板ホルダへの着脱制御、基板ホルダ搬送装置37の搬送制御、各めっき槽39におけるめっき電流及びめっき時間の制御、並びに、各めっき槽39に配置されるアノードマスク(図示せず)の開口径及びレギュレーションプレート(図示せず)の開口径の制御等を行うことができる。また、コントローラ175は、めっき装置100及びその他の関連装置を統括制御する図示しない上位コントローラと通信可能に構成され、上位コントローラが有するデータベースとの間でデータのやり取りをすることができる。ここで、メモリ175Bを構成する記憶媒体は、各種の設定データや後述するめっき処理プログラム等の各種のプログラムを格納している。記憶媒体としては、コンピュータで読み取り可能なROMやRAMなどのメモリや、ハードディスク、CD−ROM、DVD−ROMやフレキシブルディスクなどのディスク状記憶媒体などの公知のものが使用され得る。   The plating processing system including a plurality of plating apparatuses 100 configured as described above includes a controller 175 configured to control each unit described above. The controller 175 includes a memory 175B that stores a predetermined program, a CPU (Central Processing Unit) 175A that executes the program in the memory 175B, and a control unit 175C that is realized by the CPU 175A executing the program. The control unit 175C, for example, controls the transport of the substrate transport device 27, controls the attachment / detachment of the substrate to / from the substrate holder in the substrate detachment mechanism 29, controls the transport of the substrate holder transport device 37, and controls the plating current and plating time in each plating tank 39. In addition, the opening diameter of an anode mask (not shown) and the opening diameter of a regulation plate (not shown) disposed in each plating tank 39 can be controlled. The controller 175 is configured to be communicable with a host controller (not shown) that performs overall control of the plating apparatus 100 and other related apparatuses, and can exchange data with a database included in the host controller. Here, the storage medium constituting the memory 175B stores various programs such as various setting data and a plating processing program described later. As the storage medium, known media such as a computer-readable memory such as ROM and RAM, and a disk-shaped storage medium such as a hard disk, CD-ROM, DVD-ROM, and flexible disk can be used.

[基板ホルダ]
図2Aは、一実施形態に係る基板ホルダの概略正面図である。図2Bは、基板ホルダの概略側面図である。図2Cは、基板ホルダの概略背面図である。図3Aは、基板ホルダの前方斜視図である。図3Bは、基板ホルダの後方斜視図である。図4Aは、基板ホルダの前面図である。図4Bは、基板ホルダの背面図である。
[Substrate holder]
FIG. 2A is a schematic front view of a substrate holder according to an embodiment. FIG. 2B is a schematic side view of the substrate holder. FIG. 2C is a schematic rear view of the substrate holder. FIG. 3A is a front perspective view of the substrate holder. FIG. 3B is a rear perspective view of the substrate holder. FIG. 4A is a front view of the substrate holder. FIG. 4B is a rear view of the substrate holder.

基板ホルダ1は、フロントプレート300とバックプレート400とを備えている。これらのフロントプレート300とバックプレート400との間に基板Sが保持される。本実施例では、基板ホルダ1は、基板Sの片面を露出した状態で基板Sを保持する。基板Sは、半導体ウェハ、ガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他の被めっき物であり得る。基板Sは、円形、角形等の何れの形状である。なお、以下の説明では、角形の基板を例に挙げて説明するが、基板ホルダ1の開口部の形状を変更すれば、円形その他の形状の基板を保持することが可能である。   The substrate holder 1 includes a front plate 300 and a back plate 400. The substrate S is held between the front plate 300 and the back plate 400. In this embodiment, the substrate holder 1 holds the substrate S with one side of the substrate S exposed. The substrate S can be a semiconductor wafer, a glass substrate, a liquid crystal substrate, a printed board, or other objects to be plated. The substrate S has any shape such as a circle and a square. In the following description, a rectangular substrate will be described as an example. However, if the shape of the opening of the substrate holder 1 is changed, it is possible to hold a circular or other shape substrate.

フロントプレート300は、フロントプレート本体310と、アーム部330とを備えている。アーム部330は、基板ホルダ搬送装置37に把持される把持部分であり、めっき槽39に配置される際に支持される部分である。基板ホルダ1は、めっき装置の設置面に対して、垂直に立てた状態で搬送され、垂直に立てた状態でめっき槽39内に配置され
る。
The front plate 300 includes a front plate main body 310 and an arm portion 330. The arm portion 330 is a grip portion that is gripped by the substrate holder transport device 37 and is a portion that is supported when the arm portion 330 is disposed in the plating tank 39. The substrate holder 1 is conveyed vertically with respect to the installation surface of the plating apparatus, and is disposed in the plating tank 39 in a vertically standing state.

フロントプレート本体310は、概ね矩形状であり、前面301と背面302とを有する。フロントプレート本体310は、取付部320によって2箇所でアーム部330に取り付けられている。フロントプレート本体310には、開口部303が設けられており、開口部303から基板Sの被めっき面が露出される。本実施形態では、開口部303は、矩形状の基板Sに対応して矩形状に形成されている。なお、基板Sが円形の半導体ウェハ等である場合には、開口部303の形状も円形に形成される。   The front plate main body 310 is generally rectangular and has a front surface 301 and a back surface 302. The front plate body 310 is attached to the arm portion 330 at two locations by the attachment portion 320. The front plate main body 310 is provided with an opening 303, and the surface to be plated of the substrate S is exposed from the opening 303. In the present embodiment, the opening 303 is formed in a rectangular shape corresponding to the rectangular substrate S. When the substrate S is a circular semiconductor wafer or the like, the shape of the opening 303 is also circular.

フロントプレート本体310のアーム部330に近い側には、配線バッファ部311が設けられている。配線バッファ部311は、アーム部330を介してフロントプレート本体310まで到達するケーブルの分配を行う領域であり、また、予備の長さのケーブルを収容する領域である。配線バッファ部311は、フロントプレート本体310の他の部分よりも若干厚みを持って形成されている(図2B参照)。アーム部330の一端側には、外部の配線と電気的に接続するためのコネクタ331が設けられている(図3A等参照)。バックプレート400は、フロントプレート本体310の背面302にクランプ340によって固定される(図2C、図3B、図4B)。   A wiring buffer portion 311 is provided on the side of the front plate body 310 close to the arm portion 330. The wiring buffer unit 311 is a region for distributing cables that reach the front plate main body 310 via the arm unit 330, and is a region that accommodates a cable having a spare length. The wiring buffer portion 311 is formed with a thickness slightly larger than other portions of the front plate body 310 (see FIG. 2B). A connector 331 for electrically connecting to an external wiring is provided on one end side of the arm portion 330 (see FIG. 3A and the like). The back plate 400 is fixed to the back surface 302 of the front plate body 310 by a clamp 340 (FIGS. 2C, 3B, and 4B).

(バックプレートのフロントプレートへの取付構造)
図5Aは、バックプレートの正面図である。図5Bは、バックプレートの背面図である。図6Aは、バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大背面図である。図6Bは、バックプレートの取り付け状態を示す、基板ホルダの一部拡大斜視図である。図7は、クランプと連結部材の関係を示す斜視図である。
(Mounting structure of back plate to front plate)
FIG. 5A is a front view of the back plate. FIG. 5B is a rear view of the back plate. FIG. 6A is a partially enlarged rear view of the substrate holder showing the attachment state of the back plate. FIG. 6B is a partially enlarged perspective view of the substrate holder showing a state where the back plate is attached. FIG. 7 is a perspective view showing the relationship between the clamp and the connecting member.

バックプレート400は、バックプレート本体410を備え、バックプレート本体410は、概ね矩形状であるが、フロントプレート300のフロントプレート本体310よりも小さい寸法を有する(図3B、図4B)。バックプレート本体410は、前面401(図5A)と背面402(図5B)とを有する。   The back plate 400 includes a back plate body 410. The back plate body 410 has a generally rectangular shape, but has a smaller size than the front plate body 310 of the front plate 300 (FIGS. 3B and 4B). The back plate body 410 has a front surface 401 (FIG. 5A) and a back surface 402 (FIG. 5B).

バックプレート本体410の前面401は、基板Sの載置面であり、フロントプレート本体310の背面302に取り付けられる。バックプレート本体410の前面401には、基板Sを保持(固定)するためのクリップ420が、基板Sの各辺に対応して合計8個設けられている。この例では、クリップ420は、基板Sの上辺及び下辺にそれぞれ1個づつ、左片及び右辺にそれぞれ3個づつ配置されている。なお、クリップ420の数及び配置は、基板Sの寸法、形状に応じて適宜選択されるものであり、図示の数及び配置に限定されない。   A front surface 401 of the back plate body 410 is a mounting surface of the substrate S, and is attached to the back surface 302 of the front plate body 310. A total of eight clips 420 for holding (fixing) the substrate S are provided on the front surface 401 of the back plate body 410 corresponding to each side of the substrate S. In this example, one clip 420 is arranged on each of the upper side and the lower side of the substrate S, and three clips 420 are arranged on the left piece and the right side, respectively. The number and arrangement of the clips 420 are appropriately selected according to the size and shape of the substrate S, and are not limited to the illustrated number and arrangement.

バックプレート本体410の4隅のうちの3隅には、位置決め片490が設けられている。位置決め片490には、貫通孔490aが形成されている。位置決め片490は、バックプレート本体410と一体に形成してもよいし、バックプレート本体410とは別体で形成し、バックプレート本体410に取り付けるようにしてもよい。フロントプレート本体310の背面302には、位置決め片490の各々に対応する位置に位置決めピン390が設けられている(図6A,B)。位置決めピン390は、フロントプレート本体310と一体に形成してもよいし、フロントプレート本体310とは別体で形成し、フロントプレート本体310に取り付けるようにしてもよい。バックプレート400をフロントプレート300に取り付ける際に、バックプレート400の位置決め片490の貫通孔490aに位置決めピン390を挿通させ、両者の位置合わせを行う。   Positioning pieces 490 are provided at three of the four corners of the back plate body 410. A through hole 490 a is formed in the positioning piece 490. The positioning piece 490 may be formed integrally with the back plate body 410, or may be formed separately from the back plate body 410 and attached to the back plate body 410. On the back surface 302 of the front plate main body 310, positioning pins 390 are provided at positions corresponding to the positioning pieces 490 (FIGS. 6A and 6B). The positioning pins 390 may be formed integrally with the front plate body 310, or may be formed separately from the front plate body 310 and attached to the front plate body 310. When the back plate 400 is attached to the front plate 300, the positioning pins 390 are inserted through the through holes 490a of the positioning pieces 490 of the back plate 400, and the both are aligned.

フロントプレート300の背面302には、図4Bに示すように、バックプレート400の4辺の各辺に対応して、固定部材350が配置されている。2つの固定部材350が
、バックプレート400の1辺に対して設けられており、バックプレート400の1辺に沿って並んで配置されている。各固定部材350には、図6A、図6B、図7に示すように、2つのクランプ340が取り付けられている。よって、1辺あたり、4つのクランプ340が設けられている。また、各辺の2つの固定部材350の間には、4つのクリップ420を同時に動作させるためのレバー342が取り付けられている。
As shown in FIG. 4B, fixing members 350 are disposed on the back surface 302 of the front plate 300 corresponding to the four sides of the back plate 400. Two fixing members 350 are provided for one side of the back plate 400, and are arranged side by side along one side of the back plate 400. As shown in FIGS. 6A, 6B, and 7, two clamps 340 are attached to each fixing member 350. Therefore, four clamps 340 are provided per side. Further, a lever 342 for operating the four clips 420 simultaneously is attached between the two fixing members 350 on each side.

各辺の2つの固定部材350に亘って回転軸341が取り付けられている。回転軸341は、固定部材350に対して回転自在に取り付けられている(図7)。各クランプ340及びレバー342は、回転軸341にキー結合(キー及びキー溝)によって回転不能に取り付けられている(図8A,B、図9A,B)。4つのクランプ340は、同一の位相で回転軸341に取り付けられているが、レバー342は、4つのクランプ340とは異なる位相で回転軸341に取り付けられている。この構成により、レバー342が回転すると、それに伴い、4つのクランプ340が同期して回転する。なお、ここでは、フロントプレート本体310の面301、302に平行な回転軸341の周りにクランプ340が回転するように構成したが、フロントプレート本体310の面301、302に垂直な方向に往復運動してバックプレート400をクランプするように、クランプ340を構成してもよい。   A rotating shaft 341 is attached across the two fixing members 350 on each side. The rotating shaft 341 is rotatably attached to the fixed member 350 (FIG. 7). Each clamp 340 and lever 342 are non-rotatably attached to the rotation shaft 341 by key coupling (key and key groove) (FIGS. 8A, B, and 9A, B). The four clamps 340 are attached to the rotation shaft 341 with the same phase, but the lever 342 is attached to the rotation shaft 341 with a phase different from that of the four clamps 340. With this configuration, when the lever 342 rotates, the four clamps 340 rotate in synchronization therewith. Here, the clamp 340 is configured to rotate around a rotation axis 341 parallel to the surfaces 301 and 302 of the front plate body 310, but reciprocating in a direction perpendicular to the surfaces 301 and 302 of the front plate body 310. Then, the clamp 340 may be configured to clamp the back plate 400.

クランプ340は、その先端部において鉤状に湾曲した係合部340aを有する。クランプ340の基端側には貫通孔を有し、この貫通孔に回転軸341が挿通され、キー及びキー溝によって回転不能に固定されている。レバー342は、外部からの力を受けていない場合、図7に示すように、圧縮ばね343によってフロントプレート300の背面302から立ち上がるように付勢されており、これに伴い、各クランプ340は閉じる方向に付勢されている。言い換えれば、クランプ340は、ノーマルクローズ型で構成されている。圧縮ばね343の一端はばね受け部材344に当接又は固定されており、他端はレバー342に当接又は固定されている。また、レバー342は、外部からの押圧力を受けることが可能な力受部として構成されている。レバー342は、例えば、基板着脱機構29に設けられるアクチュエータから押圧力を受けることが可能である。図10Bにおいて、アクチュエータAR1を模式的に示している。アクチュエータAR1は、例えば、エアシリンダ、モータ等の駆動部DRVと、駆動部DRVによって駆動される棒状部材RDとを備える。レバー342は、アクチュエータAR1から押圧力を受けると、フロントプレート300の背面302に向かって倒れる方向に回転し、これに伴い、クランプ340は開く方向に回転する。この例では、アクチュエータAR1は、各辺のレバー342に対応して4つ設けられる。好ましくは、4つのアクチュエータAR1は、同時に駆動されてレバー342を押す。但し、4つのアクチュエータAR1は、別々に駆動してもよく、同時に駆動することに限定されない。   The clamp 340 has an engaging portion 340a that is curved like a bowl at the tip. The clamp 340 has a through hole on the base end side, and a rotation shaft 341 is inserted through the through hole and fixed to be non-rotatable by a key and a key groove. When not receiving external force, the lever 342 is urged to rise from the back surface 302 of the front plate 300 by a compression spring 343 as shown in FIG. 7, and each clamp 340 is closed accordingly. Is biased in the direction. In other words, the clamp 340 is configured as a normally closed type. One end of the compression spring 343 is in contact with or fixed to the spring receiving member 344, and the other end is in contact with or fixed to the lever 342. The lever 342 is configured as a force receiving portion that can receive a pressing force from the outside. The lever 342 can receive a pressing force from an actuator provided in the board attaching / detaching mechanism 29, for example. In FIG. 10B, the actuator AR1 is schematically shown. Actuator AR1 is provided with drive parts DRV, such as an air cylinder and a motor, and rod-shaped member RD driven by drive part DRV, for example. When the lever 342 receives a pressing force from the actuator AR1, the lever 342 rotates in a direction to tilt toward the back surface 302 of the front plate 300, and accordingly, the clamp 340 rotates in the opening direction. In this example, four actuators AR1 are provided corresponding to the levers 342 on each side. Preferably, the four actuators AR1 are simultaneously driven to push the lever 342. However, the four actuators AR1 may be driven separately and are not limited to being driven simultaneously.

バックプレート400の背面402には、クランプ340に対応する位置に係合受部430が設けられている。係合受部430は、本実施形態で示すように、バックプレート400のバックプレート本体410とは別部材で形成され、バックプレート本体410に取り付けても良いし、バックプレート本体410と一体に形成したものであってもよい。係合受部430には、クランプ340の鉤状の係合部340aが引っ掛かり、係合することが可能な形状を有する突出部430aが形成されている。突出部430aは、クランプ340の係合部340aの係合を確実に受けるために、係合部340aよりも長い寸法を有する。   An engagement receiving portion 430 is provided on the back surface 402 of the back plate 400 at a position corresponding to the clamp 340. As shown in this embodiment, the engagement receiving portion 430 is formed as a separate member from the back plate body 410 of the back plate 400 and may be attached to the back plate body 410 or formed integrally with the back plate body 410. It may be what you did. The engagement receiving portion 430 is formed with a protruding portion 430a having a shape capable of being hooked and engaged with the hook-like engagement portion 340a of the clamp 340. The protrusion 430a has a longer dimension than the engagement portion 340a in order to reliably receive the engagement of the engagement portion 340a of the clamp 340.

以下、図面を参照しつつ、バックプレート400のフロントプレート300への取り付け構造を説明する。
図8Aは、クランプ状態のクランプの斜視図である。図8Bは、クランプ状態のクランプの側面図である。図9Aは、クランプ状態のクランプの断面斜視図である。図9Bは、
クランプ状態のクランプの断面図である。図10Aは、アンクランプ状態のクランプの構成を示す斜視図である。図10Bは、アンクランプ状態のクランプの側面図である。図11Aは、アンクランプ状態のクランプの断面斜視図である。図11Bは、アンクランプ状態のクランプの構成を示す断面図である。
Hereinafter, a structure for attaching the back plate 400 to the front plate 300 will be described with reference to the drawings.
FIG. 8A is a perspective view of the clamp in a clamped state. FIG. 8B is a side view of the clamp in a clamped state. FIG. 9A is a cross-sectional perspective view of the clamp in a clamped state. FIG. 9B shows
It is sectional drawing of the clamp of a clamp state. FIG. 10A is a perspective view showing a configuration of a clamp in an unclamped state. FIG. 10B is a side view of the clamp in an unclamped state. FIG. 11A is a cross-sectional perspective view of the clamp in an unclamped state. FIG. 11B is a cross-sectional view showing the configuration of the clamp in an unclamped state.

前述したように、クランプ340は、ノーマルクローズ型であり、レバー342に押圧力を受けていない状態では、図8A,B及び図9A,Bに示すように、閉じた状態にある。フロントプレート300にバックプレート400を取り付ける場合には、先ず、アクチュエータAR1(図10B)によってフロントプレート300のレバー342に押圧力を加え、図10A,B及び図11A,Bに示すように、圧縮ばね343の付勢力に抗してクランプ340を開く方向に回転させる。クランプ340を開放させた状態で、フロントプレート300の背面302の所定の位置にバックプレート400を配置する。このとき、フロントプレート300の位置合わせピン390が、バックプレート400の位置合わせ片490の貫通孔490aに係合して、バックプレート400がフロントプレート300の所定の位置に位置合わせされる。   As described above, the clamp 340 is a normally closed type, and is in a closed state as shown in FIGS. 8A and 8B and FIGS. 9A and 9B when the lever 342 is not subjected to a pressing force. When the back plate 400 is attached to the front plate 300, first, a pressing force is applied to the lever 342 of the front plate 300 by the actuator AR1 (FIG. 10B), and as shown in FIGS. 10A and 10B and FIGS. The clamp 340 is rotated in the opening direction against the urging force of 343. With the clamp 340 opened, the back plate 400 is disposed at a predetermined position on the back surface 302 of the front plate 300. At this time, the alignment pin 390 of the front plate 300 engages with the through hole 490a of the alignment piece 490 of the back plate 400, and the back plate 400 is aligned with a predetermined position of the front plate 300.

次に、フロントプレート300のレバー342からアクチュエータAR1の押圧力を取り除く。これにより、レバー342が圧縮ばね343の付勢力によってレバー342が元の位置に向かって回転し、各クランプ340が閉じる方向に回転する。この結果、クランプ340の係合部340aが、バックプレート400の係合受部430に係合し、バックプレート400がフロントプレート300に固定される(図8A,B及び図9A,B)。   Next, the pressing force of the actuator AR1 is removed from the lever 342 of the front plate 300. Accordingly, the lever 342 is rotated toward the original position by the urging force of the compression spring 343, and the clamps 340 are rotated in the closing direction. As a result, the engaging portion 340a of the clamp 340 engages with the engaging receiving portion 430 of the back plate 400, and the back plate 400 is fixed to the front plate 300 (FIGS. 8A and B and FIGS. 9A and 9B).

バックプレート400を取り外す場合には、前述したように、アクチュエータ(図示せず)によってフロントプレート300のレバー342に押圧力を加え、圧縮ばね343の付勢力に抗してクランプ340を開く方向に回転させる(図10A,B及び図11A,B)。この結果、クランプ340が係合受部430から解放され、バックプレート400をフロントプレート300から取り外し可能となる。   When the back plate 400 is removed, as described above, a pressing force is applied to the lever 342 of the front plate 300 by an actuator (not shown), and the clamp 340 is rotated in a direction to open against the urging force of the compression spring 343. (FIGS. 10A and B and FIGS. 11A and B). As a result, the clamp 340 is released from the engagement receiving portion 430, and the back plate 400 can be detached from the front plate 300.

(基板のバックプレートへの取付構造)
図12Aは、バックプレートのクリップを示す一部切欠き側面図である。図12Bは、バックプレートのクリップを示す一部拡大斜視図である。図13Aは、閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。図13Bは、閉鎖時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。図14Aは、開放時のクリップの状態を示す一部切欠き斜視図である。図14Bは、開放時のクリップの状態を示す一部切欠き断面図である。
(Mounting structure of the board to the back plate)
FIG. 12A is a partially cutaway side view showing a clip of the back plate. FIG. 12B is a partially enlarged perspective view showing a clip of the back plate. FIG. 13A is a partially cutaway perspective view showing a state of a clip at the time of closing. FIG. 13B is a partially cutaway cross-sectional view showing the state of the clip when closed. FIG. 14A is a partially cutaway perspective view showing a state of a clip when opened. FIG. 14B is a partially cutaway cross-sectional view showing the state of the clip when opened.

バックプレート400の前面401には、基板Sの各辺に対応して合計8個のクリップ420が設けられている(図5A参照)。また、バックプレート400の背面402には、クリップ420の各々に対応する位置に、ボタン470が設けられている(図5B参照)。ボタン470に力が加わっていない場合、ボタン470の前面401側の面は、2つのクリップ421の基端部と所定の間隔を持って配置されている(図13B)。ボタン470は、力受部471と、力受部471をバックプレート本体410に対して変位可能に支持する弾性部分472と、弾性部分472の外周にある取付部473とを有する。ボタン470は、取付部473において押え部材474、及び締結部材475によって固定されている。締結部材475は、例えば、スタッド、ボルト等である。   A total of eight clips 420 corresponding to each side of the substrate S are provided on the front surface 401 of the back plate 400 (see FIG. 5A). In addition, buttons 470 are provided on the back surface 402 of the back plate 400 at positions corresponding to the respective clips 420 (see FIG. 5B). When no force is applied to the button 470, the surface on the front surface 401 side of the button 470 is disposed with a predetermined distance from the base ends of the two clips 421 (FIG. 13B). The button 470 includes a force receiving portion 471, an elastic portion 472 that supports the force receiving portion 471 so as to be displaceable with respect to the back plate body 410, and a mounting portion 473 on the outer periphery of the elastic portion 472. The button 470 is fixed at the attachment portion 473 by a pressing member 474 and a fastening member 475. The fastening member 475 is, for example, a stud, a bolt, or the like.

各クリップ420は、図12A,Bに示すように、バックプレート本体410の前面401に固定された固定部423と、固定部423に回転不能に固定された固定軸424と、固定軸424に対して並進しつつ回転可能に支持された2つのクリップ421と、クリップ421の各々に設けられクリップ421を閉鎖方向に付勢する巻ばね422と、を備えている。   As shown in FIGS. 12A and 12B, each clip 420 is fixed to a fixed portion 423 fixed to the front surface 401 of the back plate body 410, a fixed shaft 424 fixed to the fixed portion 423 so as not to rotate, and a fixed shaft 424. Two clips 421 that are rotatably supported while being translated, and a winding spring 422 that is provided on each of the clips 421 and biases the clip 421 in the closing direction.

クリップ421は、その先端部に爪部421aを有し、その基端側には長穴421b及び2つの丸穴421cが形成されている。クリップ421は、固定軸424を長穴421bに挿通させて取り付けられている。図13Bに示すように巻ばね422は、巻回部422cと、巻回部422cから延びる脚部422a、422bを有している。巻ばね422は、針金等を複数回円形に巻いて巻回部422cを設け、所定の長さの脚部422a、422bを残したものである。脚部422aは、略直角に折れ曲がる折曲部を先端に有し、この折曲部が、クリップ421の2つ丸穴421cのうち基端側の丸穴421cに挿入及び嵌合されている。他方の脚部422bは、クリップ421には取り付けられておらず、略直角に折れ曲がる折曲部を先端に有し、この折曲部が、固定部423に設けられた規制面423aに当接した状態で支持されている。また、脚部422aは、固定部423に設けられた案内面423bによって案内される(図13B、図14B)。   The clip 421 has a claw portion 421a at its distal end, and a long hole 421b and two round holes 421c are formed on its proximal end side. The clip 421 is attached by inserting the fixed shaft 424 through the elongated hole 421b. As illustrated in FIG. 13B, the winding spring 422 includes a winding portion 422c and legs 422a and 422b extending from the winding portion 422c. The winding spring 422 is formed by winding a wire or the like a plurality of times in a circular shape to provide a winding portion 422c, leaving leg portions 422a and 422b having a predetermined length. The leg portion 422a has a bent portion that bends at a substantially right angle at the tip, and this bent portion is inserted and fitted into a round hole 421c on the proximal end side of the two round holes 421c of the clip 421. The other leg portion 422b is not attached to the clip 421, and has a bent portion that bends at a substantially right angle at the tip, and this bent portion abuts on a regulating surface 423a provided on the fixing portion 423. Supported by the state. Moreover, the leg part 422a is guided by the guide surface 423b provided in the fixing | fixed part 423 (FIG. 13B, FIG. 14B).

この構成により、クリップ421は、バックプレート本体410から離れる方向に移動しつつ、バックプレート本体410の外側に向かって回転することが可能である(図13Bから図14B)。この結果、クリップ421は、開放状態となる(図14A,B)。また、逆に、クリップ421は、バックプレート本体410に接近する方向に移動しつつ、バックプレート本体410の内側に向かって回転することが可能である(図14Bから図13B)。この結果、クリップ421は、閉鎖状態となる(図13A,B)。なお、本実施形態では、クリップ421は、外部から力を受けない状態では、巻ばね422によって閉鎖方向に付勢されており、ノーマルクローズ型である(図13A,B)。   With this configuration, the clip 421 can rotate toward the outside of the back plate body 410 while moving away from the back plate body 410 (FIGS. 13B to 14B). As a result, the clip 421 is opened (FIGS. 14A and 14B). Conversely, the clip 421 can rotate toward the inside of the back plate body 410 while moving in a direction approaching the back plate body 410 (FIGS. 14B to 13B). As a result, the clip 421 is closed (FIGS. 13A and 13B). In this embodiment, the clip 421 is biased in the closing direction by the winding spring 422 in a state in which no force is applied from the outside, and is normally closed (FIGS. 13A and 13B).

基板Sをバックプレート400に載置する場合、バックプレート400の8個のボタン470(力受部471)に、外部からアクチュエータAR2によって押圧力を加える(図14B)。これにより、図14A,Bに示すように、力受部471が前面401側に変位し、2つのクリップ421の基端部に当接する。力受部471から受ける力によって、クリップ421は、図14Bに示すように、バックプレート本体410から離れる方向に移動しつつ、バックプレート本体410の外側に回転し、開放状態となる(図14B)。図14Bに模式的に示したように、アクチュエータAR2は、例えば、エアシリンダ、モータ等の駆動部DRVと、駆動部DRVによって駆動される棒状部材RDとを備える。アクチュエータAR2は、8個のボタン470に対応して8台設けられている。好ましくは、8台のアクチュエータAR2は、同時に駆動されてボタン470を押す。但し、8台のアクチュエータAR2は、別々に駆動してもよく、同時に駆動することに限定されない。   When the substrate S is placed on the back plate 400, a pressing force is applied to the eight buttons 470 (force receiving portion 471) of the back plate 400 from the outside by the actuator AR2 (FIG. 14B). As a result, as shown in FIGS. 14A and 14B, the force receiving portion 471 is displaced toward the front surface 401 and comes into contact with the proximal end portions of the two clips 421. As shown in FIG. 14B, the clip 421 rotates in the direction away from the back plate body 410 by the force received from the force receiving portion 471, and rotates to the outside of the back plate body 410 to be in an open state (FIG. 14B). . As schematically shown in FIG. 14B, the actuator AR2 includes, for example, a drive unit DRV such as an air cylinder or a motor, and a rod-shaped member RD driven by the drive unit DRV. Eight actuators AR2 are provided corresponding to the eight buttons 470. Preferably, the eight actuators AR2 are simultaneously driven to press the button 470. However, the eight actuators AR2 may be driven separately and are not limited to being driven simultaneously.

クリップ421が開放した状態で、バックプレート400の前面401の所定の位置に基板Sを載置し、その後、ボタン470からアクチュエータAR2による押圧力を解放する。この結果、クリップ421は、巻ばね422の付勢力によって、バックプレート本体410に接近する方向に移動しつつ、バックプレート本体410の内側に回転し、閉鎖状態となる(図14Bから図13B)。このとき、クリップ421の先端の爪部421aが基板Sの周縁部に係合し、基板Sをバックプレート400の前面401に固定することができる。   In a state where the clip 421 is opened, the substrate S is placed at a predetermined position on the front surface 401 of the back plate 400, and then the pressing force by the actuator AR2 is released from the button 470. As a result, the clip 421 rotates inward of the back plate main body 410 while moving in a direction approaching the back plate main body 410 by the urging force of the winding spring 422, and enters a closed state (FIGS. 14B to 13B). At this time, the claw portion 421 a at the tip of the clip 421 engages with the peripheral edge portion of the substrate S, and the substrate S can be fixed to the front surface 401 of the back plate 400.

このように基板Sを取り付けたバックプレート400を、図5から図13で説明したように、フロントプレート300に取り付ければ、基板ホルダ1への基板Sの取り付けが完了する。基板Sをバックプレート400から取り外す場合、前述したように、バックプレート400の8個のボタン470(力受部471)に、外部からアクチュエータAR2によって押圧力を加える(図14A、B)。   If the back plate 400 with the substrate S attached in this way is attached to the front plate 300 as described with reference to FIGS. 5 to 13, the attachment of the substrate S to the substrate holder 1 is completed. When removing the substrate S from the back plate 400, as described above, the pressing force is applied to the eight buttons 470 (force receiving portion 471) of the back plate 400 from the outside by the actuator AR2 (FIGS. 14A and 14B).

なお、ここでは、バックプレート本体410の面401、402に平行な固定軸424の周りにクリップ421が回転するように構成したが、バックプレート本体410の面4
01、402に垂直な方向に往復運動して基板Sをクランプするようにクリップ421を構成してもよい。
Here, the clip 421 is configured to rotate around the fixed axis 424 parallel to the surfaces 401 and 402 of the back plate body 410, but the surface 4 of the back plate body 410 is configured to rotate.
The clip 421 may be configured to reciprocate in a direction perpendicular to 01 and 402 to clamp the substrate S.

(シール部の構成)
図15は、フロントプレートのインナーシール部を示す断面図である。図16は、フロントプレートのインナーシール部及びアウターシール部を示す断面図である。
(Configuration of seal part)
FIG. 15 is a cross-sectional view showing the inner seal portion of the front plate. FIG. 16 is a cross-sectional view showing the inner seal portion and the outer seal portion of the front plate.

フロントプレート300の背面302には、開口部303に隣接してインナーシール361が設けられている。インナーシール361は、シールホルダ363によってフロントプレート300の背面302に取り付けられている。インナーシール361は、基板Sとフロントプレート300との間をシールし、めっき液が基板Sの端部に侵入することを防止する。シールホルダ363には、基板Sに電位を供給するためのコンタクト370も取り付けられている。   An inner seal 361 is provided on the back surface 302 of the front plate 300 adjacent to the opening 303. The inner seal 361 is attached to the back surface 302 of the front plate 300 by a seal holder 363. The inner seal 361 seals between the substrate S and the front plate 300 and prevents the plating solution from entering the end of the substrate S. A contact 370 for supplying a potential to the substrate S is also attached to the seal holder 363.

また、図16に示すように、フロントプレート300の背面302には、インナーシール361よりも外側において、アウターシール362がシールホルダ364によって取り付けられている。アウターシール362は、バックプレート400に当接し、フロントプレート300とバックプレート400との間をシールする。   Further, as shown in FIG. 16, an outer seal 362 is attached to the back surface 302 of the front plate 300 by a seal holder 364 outside the inner seal 361. The outer seal 362 contacts the back plate 400 and seals between the front plate 300 and the back plate 400.

本実施形態では、インナーシール361及びアウターシール362を取り付けるシールホルダ363、364が別部材で構成されているので、インナーシール361及びアウターシール362を別々に交換することができる。   In the present embodiment, since the seal holders 363 and 364 to which the inner seal 361 and the outer seal 362 are attached are configured as separate members, the inner seal 361 and the outer seal 362 can be replaced separately.

本実施形態に係る基板ホルダ1によれば、フロントプレート本体310の面に平行な軸の周りを回転可能な又はフロントプレート本体310の面に交差する方向に往復移動可能なクランプ340によって、基板を挟持するフロントプレート300とバックプレート400とを互いに固定するため、基板に回転方向の力が加わることを抑制ないし防止できる。基板が大型で薄い場合は、基板に回転方向の力が加わると基板に撓みを生じるおそれがあるが、この基板ホルダ1によれば、大型で薄い基板を保持する場合にも撓みの発生を抑制ないし防止できる。   According to the substrate holder 1 according to the present embodiment, the substrate is clamped by the clamp 340 that can rotate around an axis parallel to the surface of the front plate body 310 or reciprocate in a direction intersecting the surface of the front plate body 310. Since the front plate 300 and the back plate 400 to be sandwiched are fixed to each other, it is possible to suppress or prevent the force in the rotation direction from being applied to the substrate. If the substrate is large and thin, the substrate may be bent when a rotational force is applied to the substrate. However, the substrate holder 1 suppresses the occurrence of bending even when holding a large and thin substrate. It can be prevented.

また、クランプ340がノーマルクローズ型であるため、バックプレート本体410をフロントプレート本体310に当接する際にクランプを開けば、クランプした状態ではアクチュエータ等によって外部から力を加える必要がなく、エネルギー消費を抑制できる。   In addition, since the clamp 340 is a normally closed type, if the clamp is opened when the back plate body 410 is brought into contact with the front plate body 310, it is not necessary to apply an external force by an actuator or the like in the clamped state, thereby reducing energy consumption. Can be suppressed.

また、バックプレート400を複数の箇所でクランプ340によって挟持することが可能であり、また、連結部材(回転軸341)によって各クランプ340の動作が同期されるので、クランプ動作を効率よく行うことができる。また、外部から力を加えるアクチュエータAR1の構成を簡易にすることができる。レバー342が外部の第1アクチュエータAR1から力を受けて回転軸341を介して各クランプ340を動作させることができるので、クランプ340による固定を自動化することが容易である。   In addition, the back plate 400 can be held by the clamps 340 at a plurality of locations, and the operation of each clamp 340 is synchronized by the connecting member (rotating shaft 341), so that the clamping operation can be performed efficiently. it can. In addition, the configuration of the actuator AR1 that applies force from the outside can be simplified. Since the lever 342 receives the force from the external first actuator AR1 and can operate each clamp 340 via the rotary shaft 341, it is easy to automate the fixing by the clamp 340.

また、バックプレート400に、クランプ340の係合部340aを受け入れる形状の係合受部430を設けることによって、クランプによる係合を向上し得る。別体の係合受部340をバックプレート本体410に取り付ける構成とすることで、係合受部340の寸法、形状、個数等を適宜選択することが容易になる。   Further, by providing the back plate 400 with the engagement receiving portion 430 having a shape for receiving the engagement portion 340a of the clamp 340, the engagement by the clamp can be improved. By adopting a configuration in which the separate engagement receiving portion 340 is attached to the back plate body 410, it is easy to appropriately select the size, shape, number, etc. of the engagement receiving portions 340.

また、バックプレート本体410の面に平行な軸424の周りを回転可能な又はバックプレート本体410の面に交差する方向に往復移動可能なクリップ421によって、基板をバックプレート400に固定するため、基板に回転方向の力が加わることを抑制ないし
防止できる。基板が大型で薄い場合は、基板に回転方向の力が加わると基板に撓みを生じるおそれがあるが、この基板ホルダによれば、大型で薄い基板を保持する場合にも撓みの発生を抑制ないし防止できる。
In addition, the substrate is fixed to the back plate 400 by a clip 421 that can rotate around an axis 424 parallel to the surface of the back plate body 410 or reciprocate in a direction intersecting the surface of the back plate body 410. It is possible to suppress or prevent a force in the rotational direction from being applied to the surface. If the substrate is large and thin, the substrate may bend when a rotational force is applied to the substrate, but this substrate holder suppresses the occurrence of bending even when holding a large and thin substrate. Can be prevented.

クリップ421がノーマルクローズ型であるため、基板をバックプレート本体410に当接する際にクリップ421を開けば、クリップした状態ではアクチュエータ等によって外部から力を加える必要がなく、エネルギー消費を抑制できる。   Since the clip 421 is a normally closed type, if the clip 421 is opened when the substrate is brought into contact with the back plate main body 410, it is not necessary to apply an external force by an actuator or the like in the clipped state, and energy consumption can be suppressed.

基板と当接する側の面とは反対の面から力を受けるボタン470を設けるため、アクチュエータAR2を基板当接面とは反対側に配置することができ、基板固定後のバックプレート400の移動、姿勢の変更等が容易である。   Since the button 470 that receives force from the surface opposite to the surface that contacts the substrate is provided, the actuator AR2 can be disposed on the side opposite to the substrate contact surface, and the back plate 400 can be moved after the substrate is fixed. It is easy to change the posture.

ボタン370が外部の第2アクチュエータAR2から力を受けてクリップ421を動作させることができるので、クリップ421による固定を自動化することが容易である。   Since the button 370 can operate the clip 421 by receiving a force from the external second actuator AR2, it is easy to automate the fixing by the clip 421.

インナーシール361及びアウターシール362を保持するシールホルダ363、364を別々に設けるので、各シールの交換を別々に行うことができる。   Since the seal holders 363 and 364 holding the inner seal 361 and the outer seal 362 are separately provided, each seal can be replaced separately.

以上、いくつかの例に基づいて本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。   The embodiments of the present invention have been described above based on some examples. However, the above-described embodiments of the present invention are for facilitating understanding of the present invention and do not limit the present invention. . The present invention can be changed and improved without departing from the gist thereof, and the present invention naturally includes equivalents thereof. In addition, any combination or omission of each constituent element described in the claims and the specification is possible within a range where at least a part of the above-described problems can be solved or a range where at least a part of the effect is achieved. It is.

1…基板ホルダ
25…カセットテーブル
25a…カセット
27…基板搬送装置
28…走行機構
29…基板脱着機構
30…ストッカ
32…プリウェット槽
33…プリソーク槽
34…プリリンス槽
35…ブロー槽
36…リンス槽
37…基板ホルダ搬送装置
38…オーバーフロー槽
39…めっき槽
50…洗浄装置
50a…洗浄部
100…めっき装置
110…アンロード部
120…処理部
120A…前処理・後処理部
120B…処理部
175…コントローラ
175A…CPU
175B…メモリ
175C…制御部
300…フロントプレート
301…前面
302…背面
303…開口部
310…フロントプレート本体
311…配線バッファ部
320…取付部
330…アーム部
331…コネクタ
340…クランプ
342…レバー
350…固定部材
361…インナーシール
362…アウターシール
363…シールホルダ
364…シールホルダ
370…コンタクト
390…位置合わせピン
400…バックプレート
401…前面
402…背面
410…バックプレート本体
420…クリップ部
421…クリップ
421a…爪部
421b…長穴
421c…丸穴
422…巻ばね
422a…脚部
422b…脚部
422c…巻回部
423…固定部
423b…規制面
423b…案内面
424…固定軸
430…係合受部
430a…突出部
470…ボタン
471…力受部
472…弾性部分
473…取付部
474…押え部材
475…締結部材
490…位置合わせ片
340a…係合部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate holder 25 ... Cassette table 25a ... Cassette 27 ... Substrate transport device 28 ... Traveling mechanism 29 ... Substrate removal mechanism 30 ... Stocker 32 ... Pre-wet tank 33 ... Pre-soak tank 34 ... Pre-rinse tank 35 ... Blow tank 36 ... Rinse tank 37 ... Substrate holder transfer device 38 ... Overflow tank 39 ... Plating tank 50 ... Cleaning apparatus 50a ... Cleaning section 100 ... Plating apparatus 110 ... Unloading section 120 ... Processing section 120A ... Pre-processing / Post-processing section 120B ... Processing section 175 ... Controller 175A ... CPU
175B ... Memory 175C ... Control part 300 ... Front plate 301 ... Front face 302 ... Back face 303 ... Opening part 310 ... Front plate body 311 ... Wiring buffer part 320 ... Mounting part 330 ... Arm part 331 ... Connector 340 ... Clamp 342 ... Lever 350 ... Fixing member 361 ... Inner seal 362 ... Outer seal 363 ... Seal holder 364 ... Seal holder 370 ... Contact 390 ... Alignment pin 400 ... Back plate 401 ... Front surface 402 ... Back surface 410 ... Back plate body 420 ... Clip portion 421 ... Clip 421a ... Claw part 421b ... elongated hole 421c ... round hole 422 ... winding spring 422a ... leg part 422b ... leg part 422c ... winding part 423 ... fixed part 423b ... regulating surface 423b ... guide surface 424 ... fixed shaft 430 ... engagement receiving part 430a ... Projection part 470 ... Button 471 ... Force receiving part 472 ... Elastic part 473 ... Mounting part 474 ... Holding member 475 ... Fastening member 490 ... Positioning piece 340a ... Engagement part

Claims (17)

基板を挟持して固定するための第1及び第2保持部材を備え、
前記第1保持部材は、第1保持部材本体と、前記第1保持部材本体に設けられ、前記第1保持部材本体の面に平行な軸の周りを回転可能な又は前記第1保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能なクランプと、を有し、
前記第2保持部材は、第2保持部材本体を有し、
前記クランプは、前記第1保持部材本体及び前記第2保持部材本体が互いに当接した状態で前記第2保持部材に係合し、前記第2保持部材を前記第1保持部材に固定可能に構成されている、
基板ホルダ。
Comprising first and second holding members for sandwiching and fixing the substrate;
The first holding member is provided on the first holding member main body and the first holding member main body, and is rotatable around an axis parallel to the surface of the first holding member main body or of the first holding member main body. A clamp capable of reciprocating in a direction intersecting the surface,
The second holding member has a second holding member body,
The clamp is configured to engage the second holding member in a state where the first holding member main body and the second holding member main body are in contact with each other, and to fix the second holding member to the first holding member. Being
Substrate holder.
請求項1に記載の基板ホルダにおいて、
前記クランプは、第1付勢部材によって閉じる方向に付勢されており、
前記クランプが開いた状態で前記第2保持部材本体を前記第1保持部材本体に当接させ、その後、前記クランプを閉じた状態で、前記第2保持部材を前記第1保持部材に固定可能に構成されている、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 1,
The clamp is biased in a closing direction by a first biasing member;
The second holding member main body is brought into contact with the first holding member main body in a state in which the clamp is opened, and then the second holding member can be fixed to the first holding member in a state in which the clamp is closed. A configured substrate holder.
請求項1又は2に記載の基板ホルダにおいて、
前記第1保持部材は、複数のクランプを有し、これらの複数のクランプを連結する連結部材を更に有し、
前記連結部材は、前記複数のクランプを同期して動作させるように構成されている、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 1 or 2,
The first holding member further includes a plurality of clamps, and further includes a connecting member that connects the plurality of clamps,
The connecting member is a substrate holder configured to operate the plurality of clamps in synchronization.
請求項3に記載の基板ホルダにおいて、
前記連結部材は、前記第1保持部材本体に回転可能に取り付けられた回転軸である、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 3,
The connection member is a substrate holder that is a rotation shaft rotatably attached to the first holding member main body.
請求項3又は4に記載の基板ホルダにおいて、
前記連結部材に設けられた第1力受部を有し、
前記連結部材は、前記第1力受部に力が与えられることにより動作するように構成される、基板ホルダ。
In the substrate holder according to claim 3 or 4,
A first force receiving portion provided on the connecting member;
The connection member is a substrate holder configured to operate when a force is applied to the first force receiving portion.
請求項1乃至5の何れかに記載の基板ホルダにおいて、
前記クランプは、先端に係合部を有し、
前記第2保持部材は、前記クランプの前記係合部を受け入れる形状の係合受部を有する、基板ホルダ。
The substrate holder according to any one of claims 1 to 5,
The clamp has an engaging portion at the tip,
The second holding member is a substrate holder having an engagement receiving portion configured to receive the engagement portion of the clamp.
請求項6に記載の基板ホルダにおいて、
前記係合受部は、前記第2保持部材本体と別体であり、前記第2保持部材本体に取り付けられている、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 6, wherein
The engagement holder is a substrate holder that is separate from the second holding member main body and is attached to the second holding member main body.
請求項1乃至7に記載の基板ホルダにおいて、前記基板を保持するためのクリップを更に有した、基板ホルダ。   8. The substrate holder according to claim 1, further comprising a clip for holding the substrate. 請求項8に記載の基板ホルダにおいて、
前記クリップは、前記第2保持部材本体の基板と当接する側の面に前記第2保持部材に設けられ、前記第2保持部材本体の面に平行な軸の周りを回転可能又は前記第2保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能である、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 8,
The clip is provided on the second holding member on a surface of the second holding member main body that is in contact with the substrate, and can be rotated around an axis parallel to the surface of the second holding member main body or the second holding member. A substrate holder capable of reciprocating in a direction intersecting the surface of the member body.
請求項9に記載の基板ホルダにおいて、
前記クリップは、第2付勢部材によって閉じる方向に付勢されている、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 9,
The clip holder is urged in a closing direction by a second urging member.
請求項10に記載の基板ホルダにおいて、
前記第2保持部材は、前記第2保持部材本体に設けられた第2力受部を有し、
前記第2力受部は、前記基板と当接する側の面とは反対の面から力を受けて、前記クリップに当接するように変位可能に構成されており、
前記クリップは、前記第2力受部に押圧されることによって前記第2付勢部材に抗して開くように構成されている、基板ホルダ。
The substrate holder according to claim 10, wherein
The second holding member has a second force receiving portion provided in the second holding member main body,
The second force receiving portion is configured to be able to be displaced so as to receive a force from a surface opposite to the surface that contacts the substrate and to contact the clip,
The substrate holder configured to open the clip against the second biasing member when pressed by the second force receiving portion.
請求項1乃至11の何れかに記載の基板ホルダにおいて、
前記第1保持部材は、前記基板と当接する面において、前記第1弾性突出部を保持する第1ホルダと、前記第1ホルダとは別の第2ホルダであって前記第2弾性突出部を保持する前記第2ホルダと、を更に備える、基板ホルダ。
The substrate holder according to any one of claims 1 to 11,
The first holding member is a first holder that holds the first elastic protrusion on a surface that contacts the substrate, and a second holder that is different from the first holder, and the second elastic protrusion is A substrate holder, further comprising the second holder for holding.
請求項1乃至12の何れかに記載の基板ホルダにおいて、前記基板ホルダは、一端側にアーム部を備えている、基板ホルダ。   13. The substrate holder according to claim 1, wherein the substrate holder includes an arm portion on one end side. 請求項1乃至13の何れかに記載の基板ホルダにおいて、前記基板ホルダは、矩形形状の基板を保持するように構成されている、基板ホルダ。   14. The substrate holder according to claim 1, wherein the substrate holder is configured to hold a rectangular substrate. 基板を保持するための基板ホルダと、
基板ホルダを受け入れて前記基板にめっき処理するめっき槽と、
を備え、
前記基板ホルダは、基板を挟持して固定するための第1及び第2保持部材を備え、
前記第1保持部材は、第1保持部材本体と、前記第1保持部材本体に設けられ、前記第1保持部材本体の面に平行な軸の周りを回転可能な又は前記第1保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能なクランプと、を有し、
前記第2保持部材は、第2保持部材本体を有し、
前記クランプは、前記第1保持部材本体及び前記第2保持部材本体が互いに当接した状態で前記第2保持部材に係合し、前記第2保持部材を前記第1保持部材に固定可能に構成されている、基板ホルダを備える、めっき装置。
A substrate holder for holding the substrate;
A plating tank for receiving a substrate holder and plating the substrate;
With
The substrate holder includes first and second holding members for sandwiching and fixing the substrate,
The first holding member is provided on the first holding member main body and the first holding member main body, and is rotatable around an axis parallel to the surface of the first holding member main body or of the first holding member main body. A clamp capable of reciprocating in a direction intersecting the surface,
The second holding member has a second holding member body,
The clamp is configured to engage the second holding member in a state where the first holding member main body and the second holding member main body are in contact with each other, and to fix the second holding member to the first holding member. A plating apparatus comprising a substrate holder.
基板を保持する方法であって、
前記基板を第1及び第2保持部材の間に挟持し、
前記第1保持部材の面に平行な軸の周りを回転可能な又は前記第1保持部材本体の面に交差する方向に往復移動可能なクランプによって、前記第2保持部材を前記第1保持部材側に押圧するように固定する、方法。
A method of holding a substrate,
Sandwiching the substrate between the first and second holding members;
The second holding member is moved to the first holding member side by a clamp that can rotate around an axis parallel to the surface of the first holding member or can reciprocate in a direction intersecting the surface of the first holding member body. The method of fixing to press.
請求項16に記載の基板を保持する方法において、
前記基板を第1及び第2保持部材の間に挟持する際に、
前記基板を前記第2保持部材の上に置いて、前記基板をクリップで保持し、前記第1保持部材と前記第2保持部材とを互いに近づけて、前記基板を前記第1及び第2保持部材の間に挟持するようにした、方法。
The method of holding a substrate according to claim 16,
When sandwiching the substrate between the first and second holding members,
The substrate is placed on the second holding member, the substrate is held by a clip, the first holding member and the second holding member are brought close to each other, and the substrate is moved to the first and second holding members. A method that is sandwiched between the two.
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CN201780054837.6A CN109689944B (en) 2016-09-08 2017-09-07 Substrate holder, plating device, and substrate holding method
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110644039A (en) * 2018-06-27 2020-01-03 株式会社荏原制作所 Substrate support
KR20200056914A (en) 2018-11-15 2020-05-25 에바라코포레이숀 Substrate holder, plating apparatus and substrate plating method
CN111211068A (en) * 2018-11-21 2020-05-29 株式会社荏原制作所 Method for making substrate holder hold substrate
KR20200101844A (en) 2019-02-20 2020-08-28 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder and plating apparatus provided with the substrate holder
KR20210006845A (en) 2019-07-09 2021-01-19 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Plating apparatus
KR20210075862A (en) 2019-12-13 2021-06-23 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder
KR20210075861A (en) 2019-12-13 2021-06-23 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder
JP2022009849A (en) * 2018-06-27 2022-01-14 株式会社荏原製作所 Substrate holder
CN114430780A (en) * 2019-10-04 2022-05-03 株式会社荏原制作所 Substrate holder and substrate processing apparatus
KR20220057484A (en) 2019-09-10 2022-05-09 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 A substrate holder, a substrate plating apparatus having the same, and an electrical contact

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7122235B2 (en) * 2018-11-26 2022-08-19 上村工業株式会社 holding jig

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014053594A (en) * 2012-08-07 2014-03-20 Ebara Corp Electroplating method and electroplating device of through hole
JP2014214332A (en) * 2013-04-23 2014-11-17 株式会社荏原製作所 Substrate plating apparatus and method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014053594A (en) * 2012-08-07 2014-03-20 Ebara Corp Electroplating method and electroplating device of through hole
JP2014214332A (en) * 2013-04-23 2014-11-17 株式会社荏原製作所 Substrate plating apparatus and method

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022009849A (en) * 2018-06-27 2022-01-14 株式会社荏原製作所 Substrate holder
JP2020002423A (en) * 2018-06-27 2020-01-09 株式会社荏原製作所 Substrate holder
CN110644039B (en) * 2018-06-27 2023-09-08 株式会社荏原制作所 Substrate support
US11676837B2 (en) 2018-06-27 2023-06-13 Ebara Corporation Substrate holder
JP7204860B2 (en) 2018-06-27 2023-01-16 株式会社荏原製作所 substrate holder
CN110644039A (en) * 2018-06-27 2020-01-03 株式会社荏原制作所 Substrate support
KR20200056914A (en) 2018-11-15 2020-05-25 에바라코포레이숀 Substrate holder, plating apparatus and substrate plating method
JP2020084203A (en) * 2018-11-15 2020-06-04 株式会社荏原製作所 Substrate holder, plating apparatus and plating method for substrate
JP7085968B2 (en) 2018-11-15 2022-06-17 株式会社荏原製作所 Board holder, plating equipment and board plating method
US11232972B2 (en) 2018-11-15 2022-01-25 Ebara Corporation Substrate holder, plating device, and plating method of substrate
US11236435B2 (en) 2018-11-21 2022-02-01 Ebara Corporation Method for holding substrate on substrate holder
CN111211068B (en) * 2018-11-21 2024-05-03 株式会社荏原制作所 Method for holding substrate by substrate holder
CN111211068A (en) * 2018-11-21 2020-05-29 株式会社荏原制作所 Method for making substrate holder hold substrate
JP7256027B2 (en) 2019-02-20 2023-04-11 株式会社荏原製作所 Substrate holder and plating apparatus equipped with the substrate holder
US11248308B2 (en) 2019-02-20 2022-02-15 Ebara Corporation Substrate holder and plating apparatus with substrate holder
KR20200101844A (en) 2019-02-20 2020-08-28 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder and plating apparatus provided with the substrate holder
JP2020132946A (en) * 2019-02-20 2020-08-31 株式会社荏原製作所 Substrate holder and plating device including substrate holder
KR20210006845A (en) 2019-07-09 2021-01-19 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Plating apparatus
US11591709B2 (en) 2019-07-09 2023-02-28 Ebara Corporation Apparatus for plating
KR20220057484A (en) 2019-09-10 2022-05-09 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 A substrate holder, a substrate plating apparatus having the same, and an electrical contact
CN114430780A (en) * 2019-10-04 2022-05-03 株式会社荏原制作所 Substrate holder and substrate processing apparatus
US11542625B2 (en) 2019-12-13 2023-01-03 Ebara Corporation Substrate holder
US11697886B2 (en) 2019-12-13 2023-07-11 Ebara Corporation Substrate holder
KR20210075861A (en) 2019-12-13 2021-06-23 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder
KR20210075862A (en) 2019-12-13 2021-06-23 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder

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