JP2017501856A - 表面下の吸収材アレイおよび光照射治療 - Google Patents

Abstract

光吸収材または光吸収粒子を皮膚内に注入し、該材料または粒子を照射し、熱損傷区域を生じさせるための方法が提供されている。このような方法を用いて、とりわけ、加齢および／または光老化の影響を治療することができる

Description

[援用記載]
本明細書に記載されている全ての刊行物および特許出願は、個々の刊行物または特許出願が参照することによってここに含まれるように具体的かつ個別に指示されているのと同じ程度に、その全体が参照することによってここに含まれるものとする。

[発明の分野]
本願は、表面下の吸収材アレイの送達のための方法および光照射治療の方法に関する。

光老化は、紫外線（ＵＶ）光への露光による皮膚の老化である。ＵＶ露光によって、皺が生じることがある。また、老化によって、皮膚が弛むこともある。これらの状態のいずれも、コラーゲンを再生させ、皺の発現を軽減させることによって、改良することができる。皮膚剥離、化学的表皮剥離、および炭酸ガスレーザーまたはエルビウムヤグレーザーによる皮膚表面再生を含む良好な治療が、開発されてきており、すぐれた結果をもたらしている。しかし、連続する大きな熱損傷部分に対する治癒反応としての血液滲出、出血、痂皮形成、紅斑、などの副作用が、このような治療を魅力のないものにしている。第２世代の技術として、表面を冷却しながら、表面下熱損傷をもたらす方法が挙げられる。この場合、副作用の外形および苦痛が最小限に保たれたとき、十分な結果が得られないことになる。第３世代の技術は、皮膚のフラクショナル治療（fractional treatment）である。この場合、皮膚の閉塞部が、融除性レーザーまたは非融除性レーザーまたは機械的に鋭利な中空ニードルを介して、除去または加熱されるようになっている。これによって、副作用を最小限に抑え、受容可能な結果が得られることになる。しかし、フラクショナル治療の最良の結果は、治療区域に占める熱損傷部分の比率が大きい場合に得られるが、このとき、副作用が問題になる可能性がある。

いくつかの手法が試みられてきているが、皮膚の弛みおよび皺の治療の分野において、依然として、改良が必要とされている。

本発明は、皮膚への加齢作用および光老化作用の少なくとも１つを治療する方法に関する。本方法は、ある量の光吸収材を皮膚下の目標区域に所定パターンで所定深さに注入することと、該光吸収材に選択された周波数の光を照射し、これによって、少なくとも１つの熱損傷区域を生じさせること、とを含んでいる。注入は、単一ニードルを用いる注入であってもよいし、またはマイクロニードルアレイを用いる注入であってもよい。マイクロニードルアレイを用いるとき、注入は、アレイのニードルの少なくとも１つと流体接続しているリザーバを押し込むことを含んでいてもよい。押込みは、手動によって行なわれてもよいし、または送達装置を用いて行なわれてもよい。所定のパターンは、規則的に離間した行列であってもよいし、または不規則であってもよい。光吸収材は、約８００ｎｍから約１２００ｎｍの間の波長の光を吸収するように構成されていてもよい。光吸収材への照射は、光吸収材を約７００ｎｍから約１２００ｎｍの波長域の光に露光させることを含んでいてもよい。ある量の光吸収材の注入は、約５０μｍから約２ｍｍの間の深さに注入することを含んでいてもよい。熱損傷区域の直径は、約５０μｍから約１ｍｍの間とすることができる。光吸収材への照射は、複数の熱損傷区域を生じるようになっていてもよく、熱損傷区域の密度は、約１０区域／ｃｍ^２から約１５，０００区域／ｃｍ^２であってもよい。目標区域の吸光係数は、約１．０（Ｌ／ｃｍ）から約１，０００（Ｌ／ｃｍ）とすることができる。

他の態様では、皮膚を治療するための装置が提供されている。本装置は、マイクロニードルのアレイと、マイクロニードルの少なくとも１つに流体接続された、光吸収材を含む流体を保持するように構成されたリザーバと、を備えている。アレイは、規則的な行列に配置されたマイクロニードルを備えていてもよいし、または不規則なパターンに配置されたマイクロニードルを備えていてもよい。本装置は、患者の治療部位に適応するように輪郭付けされていてもよい。本装置は、大きなマイクロニードルアレイを備えるプラットフォームまたは複数のマイクロニードルアレイを備えるプラットフォームであってもよい。本装置は、各々が少なくとも１つのマイクロニードルに流体接続された少なくとも２つのリザーバを備えていてもよい、本装置は、矩形形状を有していてもよいし、または楕円形状を有していてもよい。

本発明の新規の特徴は、以下の請求項に詳細に記載されている。本発明の特徴および利点のさらなる理解は、本発明の原理が適用される例示的な実施形態を示す以下の詳細な説明および添付の図面を参照することによって、得られるだろう。

光吸収材のアレイを注入することによって皮膚を治療する実施形態を示す図である。 注入の種々のパターンの実施形態を示す図である。 マイクロニードルアレイ注入器の実施形態を示す種々の図である。 マイクロニードルアレイを備える種々の形状の注入器の種々の実施形態を示す図である。 単一リザーバを備えるマイクロニードルアレイ注入器の実施形態を示す図である。 複数のリザーバを備えるマイクロニードルアレイ注入器の実施形態を示す図である。 輪郭付けされたマイクロニードルアレイの実施形態を示す図である。 １つまたは複数のマイクロニードルアレイを備えるマスク注入器の実施形態を示す図である。 １つまたは複数のマイクロニードルアレイを備えるフルフェイスマスク注入器の実施形態を示す図である。 注入中に用いることができる送達装置の実施形態を示す図です。

老化皮膚治療の１つの発展分野として、皮膚表面においてフラクショナルモードを維持しながら、表面下の位置においてより強いレベルの損傷をもたらすことを試みる方法が挙げられる。１つの特定の手法は、超音波によるものである。さらに具体的には、焦点式超音波（例えば、ウルセラ（Ulthera））による試みがなされてきている。しかし、熱損傷区域の寸法は、超音波の波長によって制限されることになる。従って、前記方法の固有の制限を受けることなく、表面下の目標部位により正確な強い損傷をもたらすことが依然として必要とされている。

本発明の一態様では、一回分の微粒子懸濁液をアレイパターンで皮膚下に注入することによって、表面下の熱損傷の量および拡がりを制御することができる。本発明の一態様では、マイクロリットル範囲の懸濁液を皮膚下の治療領域にアレイパターンで注入することができる。一回分の懸濁液の量は、注入の量または送達装置の大きさによって制御することができる。加えて、深さおよび損傷間距離も、患者の要求または所望の治療成果に基づいて変更可能になっている。所望の治療成果を得るために、一回分の懸濁液の量、注入の深さ、および／または損傷間距離を調整することができる。

本発明のいくつかの実施形態では、微粒子発色団（光エネルギー吸収材）の組成物が、ニードルまたは所望の処理によって、ヒトの皮膚の表面下内に注入されるようになっている。好ましい実施形態では、微粒子発色団の組成物は、非凝集状態のプラズモニックナノ粒子を含んでいる。このようなプラズモニックナノ粒子の例として、当業者に知られているナノロッド、中空ナノシェル、シリコンナノシェル、ナノプレート、ナノライス、ナノワイヤ、ナノピラミッド、ナノプリズム、ナノプレート、ナノプレート、中実ナノシェル、中空ナノシェル、ナノロッド、ナノライス、ナノ球、ナノファイバー、ナノワイヤ、ナノピラミッド、ナノプリズム、ナノスター、および他の構成物が挙げられる。プラズモニックナノ粒子は、概して、１ｎｍから１０００ｎｍの間の大きさであるが、プラズモニックナノ粒子が約１００ｎｍから３００ｎｍの間の大きさであると好ましい。プラズモニックナノ粒子は、典型的には、銀、金、ニッケル、銅、チタン、シリコン、ガラジウム、パラジウム、プラチナ、またはクロムを含んでいる。このようなプラズモニックナノ粒子は、概して、電磁波スペクトルの近赤外領域内に吸光ピークを有している。

さらに好ましい実施形態では、注入される組成物は、シリカコアおよび金シェル（直径：１５０ｎｍ）を有する金ナノシェルのようなプラズモニックナノ粒子を含んでいる。さらに他の好ましい実施形態では、用いられるナノシェルは、１５μｍ厚みの金シェルによって覆われた１２０ｎｍ直径のシリカコア（全直径：１５０ｎｍ）から構成されている。このようなナノシェルは、５，０００ＭＷＰＥＧ層によって覆われているとよい。ＰＥＧ層は、ナノシェルの凝集を阻止および／または軽減し、これによって、ナノシェル懸濁液の安定および貯蔵寿命を増大させることになる。

プラズモニックナノ粒子を含む組成物は、約１０^９個／ｍＬから約１０^１６個／ｍLの範囲内のナノ粒子濃度を有しているとよい。典型的には、プラズモニックナノ粒子を含む組成物は、約１０^１０個／ｍＬから約１０^１３個／ｍLの範囲内のナノ粒子濃度を有しているとよい。このようなナノ粒子濃度は、そのピーク吸光波長における組成物の光学密度から計算されるようになっている、本発明に用いられるプラズモニックナノ粒子の組成物は、概して、約０．０５から約５０００の間の光学密度を有している。

いくつかの実施形態では、個々のニードルまたは注射器を用いて、アレイパターンを形成することができる。図１は、表面下の表皮１０８および真皮１０９内の（アレイパターンにおける）点１０３に光吸収材１０２を注入しているニードル１００の側断面図を示している。図１は、注入された光吸収材１０２に印加されているレーザー１０４を示している（レーザー１０４によって放出される波長は、近赤外域、例えば、８１０ｎｍである）。光吸収材１０２がプラズモニックナノ粒子であるとき、これらの粒子は、いったん近赤外光を吸収したあと、それらの局所環境を加熱し、注入された光吸収材１０２の位置またはその近傍に熱損傷区域１０６を生じることになる。図１に示されているように、光吸収材１０２は、表皮１０８の下方の真皮内に注入されている。

図２Ａ−２Ｃは、注入パターンの実施形態の上面図を示している。図２Ａの注入領域は、行列に配置された規則的パターンを形成している。図２Ｂは、注入領域が位置ずれした行列または千鳥状行列を形成する注入パターンの実施形態を示している。図２Ｃは、不規則な注入パターンの実施形態を示している。例えば、これらのパターンは、個々の患者要求または所望の治療成果に適するようになっているとよい。

一態様では、所望の効果を得るために、ごくわずかな量しか必要とされない。吸光係数が５ｃｍ^−１のとき、代表的な量は、一回の注入につき１０ｎＬであるとよい。この量の範囲は、約０．１ｎＬから１，０００ｎＬの間または１ｎＬから１００ｎＬの間であってもよい。吸光係数は、約１ｃｍ^−１から１，０００ｃｍ^−１の間とすることができる。１つの特定の態様では、近赤外（ＩＲ）範囲、例えば、約７００ｎｍから約１，２００ｎｍの範囲内にある光吸収材が供給されるようになっている。例えば、光吸収材は、約７５５ｎｍ、約８００ｎｍ、約８１０ｎｍ、または約１，０６４ｎｍの光を吸収するように構成可能になている。このような材料は、約７００ｎｍから約１，２００ｎｍの波長域を有する高強度パルス光機器（ＩＰＬ）と共に用いることができる。光吸収材がプラズモニック金ナノシェルであるとき、レーザーは、ナノシェルの吸光ピークに調整されるとよい（４０−５０Ｊ／ｃｍ^２、３０―ｍｓ、９×９ｍｍ、ライトシェア（８００ｎｍ））。

目標区域における吸光係数は、約１．０から約１，０００（Ｌ／ｃｍ）の範囲内にあればよい。注入およびそれに続く熱損傷の深さは、約５０μｍから約２ｍｍの間とすることができる。深さは、治療の解剖学的部位および／または患者の皮膚厚みに依存する。熱損傷区域の直径は、約５０μｍから約１ｍｍの範囲内にあればよい。この区域の直径は、皮膚下に注入される懸濁液の量に依存する。熱損傷区域の密度は、約１０区域／ｃｍ^２から１５，０００区域／ｃｍ^２の範囲内とすることができる。熱損傷区域の密度は、該区域の直径または注入される懸濁液の量に依存する。

粒子パターンの個々の注入に加えて、材料を皮膚内の所望の深さに注入するために、マイクロニードルのアレイが用いられてもよい。いくつかの実施形態では、マイクロニードルアレイ粒子の送達装置は、様々の寸法、形状、および構成のいずれの寸法、形状、および構成を有していてもよいパッチ基リザーバおよびニードルアレイである。

図３Ａは、（例えば、懸濁液内に含まれる）治療用光吸収粒子のリザーバ３０２を備えるマイクロニードルアレイ注入器３００の実施形態の上面図を示している。図３Ｂは、マイクロニードルアレイ注入器３００の側面図を示しており、この図では、個々のニードル３０４が見えている。図３Ｃは、注入器３００の底面図を示しており、この図では、ニードル３０４のパターンが示されている。この実施形態では、マイクロニードルパターンは、規則的に離間した行列を備えている。

前述したように、いくつかの実施形態では、パターンは、不規則に離間した行列を備えている。注入パターンは、（例えば、個々の患者特性または所望の治療成果に基づく）略不規則なパターンを備えることができる。注入パターンは、他の形態に形作られていてもよい。例えば、パターンは、円形、矩形、楕円形、などであってもよい。パターンは、患者の解剖学的構造および／または所望の治療成果に基づいて選択可能になっている。

ニードル３０４は、全てが同一の長さおよび同一のゲージを有するように、寸法決めされていてもよい。いくつかの実施形態では、ニードル３０４は、異なる長さおよび／または異なるゲージを有している。ニードルは、約５０μｍから約２ｍｍの間の長さを有することができる。異なる深さおよび／または異なるゲージを有するニードルの相対的な位置は、解剖学的構造、具体的には、特定の患者の解剖学的構造、および／または所望の治療成果に基づいて、選択可能になっている。

図３Ａ−３Ｃに示されているマイクロニードルアレイ３００は、丸縁を有する矩形の形状を有している。しかし、他の形状も可能である。図４Ａ−４Ｆは、非矩形状のマイクロニードルアレイの実施形態の上面図を示している。アレイの形状は、治療される特定の解剖学的構造に基づいて選択可能である。例えば、もし患者の特に個別の箇所が治療される場合、より小さいまたはより薄いアレイが用いられてもよい。当業者であれば、他の形状も可能であることを理解するだろう。

図５は、図３Ａ−３Ｃに示されているのと同様の光吸収材の単一リザーバ５０２を備えるマイクロニードルアレイ注入器５００を示している。このようなマイクロニードルアレイ注入器５００は、材料を大きな領域の全体にわたって注入することが望まれるときに略面拡散を行なうのに適している。注入器５００の底（図示せず）は、光吸収材の真皮下注入の所望のパターンおよび深さに適するように選択されたマイクロニードルアレイを有している。

図６は、光吸収材の複数のリザーバ６０２を備えるマイクロニードルアレイ注入器６００を示している。このような注入器６００によって、１つまたは複数の特定の領域に対して、１つのニードルまたは１つの群のニードルを用いて、より特定の局在化された治療を行なうことが可能になる。各リザーバ６０２は、単一ニードルを付随的に備えていてもよいし、または互いに隣接するニードルの群を付随的に備えていてもよい。リザーバ６０２は、種々の大きさを有していてもよいが、いくつかの実施形態では、同じ大きさを有している。各リザーバ６０２は、同一の光吸収材を含んでいてもよいし、または互いに異なる光吸収材を含んでいてもよい。注入器６００の底（図示せず）は、光吸収材の真皮下注入の所望のパターンおよび深さに適するように選択された各リザーバ６０２に付随する１つのマイクロニードルまたは１つのマイクロニードルアレイを有している。

図４Ａ−４Ｅに示されているように、マイクロニードル粒子送達アレイは、治療部位に適合された特定の形状を有しているとよい。体または注入部位の輪郭は、マイクロニードル粒子注入器の形状、大きさ、または他の特性に対して指針をもたらすことになる。従って、いくつかの実施形態では、輪郭付けされた形状を備えるマイクロニードルアレイが利用されてもよい。

図７は、治療のための輪郭付けされた注文形状のマイクロニードルアレイの例を示している。いくつかの実施形態では、患者の前額に合わせて形作られたマイクロニードルアレイパッド７０２は、関連するマイクロニードルアレイを介して送達される光吸収材のリザーバを含んでいる。患者の片方または両方の頬に合わせて形作られたマイクロニードルアレイパッド７０４は、関連するマイクロニードルアレイを介して送達される光吸収材のリザーバを含んでいる。患者の鼻に合わせて形作られたマイクロニードルアレイパッド７０６は、関連するマイクロニードルアレイを介して送達される光吸収材のリザーバを含んでいる。患者の口に合わせて形作られたマイクロニードルアレイパッド７０８は、関連するマイクロニードルアレイを介して送達される光吸収材のリザーバを含んでいる。患者の顎または下顎の輪郭に合わせて形作られたマイクロニードルアレイパッド７１０は、関連するマイクロニードルアレイを介して送達される光吸収材のリザーバを含んでいる。輪郭付けされたそれぞれのアレイまたは全体としてのプラットフォームの大きさおよび形状は、患者の治療部位の走査または測定値を用いて患者に正確に適合させることができる。図７は、患者の顔に対して形作られたアレイのみ示しているが、手または首のような他の領域の治療に合わせて形作られたアレイも可能である。

いくつかの実施形態では、２つ以上のマイクロニードルアレイが同時に用いられてもよい。図８は、複数のマイクロニードルアレイまたは１つの大きなマイクロニードルアレイを備える注文形状のマスク８００の実施形態を示している。マスク８００は、位置決めおよび注入を可能にするように屈曲可能になっている。マスク８００は、光吸収材の組成物の単一リザーバを備えていてもよいし、または多数のリザーバを備えていてもよい。リザーバ構成は、解剖学的構造または所望の治療成果に基づいて選択可能になっている。マスク８００の底（図示せず）は、前述したように、同じように構成されたマイクロニードルを備えていてもよいし、または異なって構成されたマイクロニードルを備えていてもよい。図８にはマスクが示されているが、他の領域の治療のためのプラットフォームも可能である。例えば、１つの大きなマイクロニードルアレイまたは複数のマイクロニードルアレイを備えるプラットフォームが、首または胸領域に合わせて形作られ、首または胸領域を治療するように構成されてもよい。

図９もマスク９００の実施形態を示しており、その底面（図示せず）は、１つの大きなマイクロニードルアレイを備えていてもよいし、または複数のマイクロニードルアレイを備えていてもよい。選択された治療領域を走査し、特別に適合された１つまたは複数のマイクロニードルアレイおよび１つまたは複数の送達リザーバを、マスク９００に設けることができる。

いくつかの実施形態では、光吸収剤を放出するために、リザーバが手動によって押圧されるようになっている。いくつかの実施形態では、送達装置が用いられてもよい。図１０は、マイクロニードルアレイ１００４の粒子リザーバ１００２を押し込むために用いられる送達装置１０００の実施形態を示している。このツールは、リザーバを完全に押し込むのに有用であるが、リザーバは、手動によって押し込まれてもよい。ニードルアレイの一部に注入される粒子材料の量の調整または精度は、リザーバの大きさによって制御されるとよい。完全に押し込まれるかまたは平らにされたとき、ユーザーは、リザーバの全内容物が送達されることを知ることになる。リザーバの大きさは、送達される投与量に基づいて選択されるようになっている。大きな領域（図５）または小さい領域（図６）のいずれであっても、リザーバの大きさおよび送達技術は、特定のニードルアレイまたは治療パターンの状況に適合するように調整されるとよい。

ニードルの組内に注入される材料の量を調整する方法をもたらす装置が設けられてもよい。例えば、リザーバを押し込むために、トリガーを備える送達装置が用いられてもよい。制御可能なトリガーの絞込みによって、送達装置内においてプランジャーを既知の距離だけ前進させ、これによって、注入される量を調整することができる。

［代替的な治療適用例］
同様に、多汗症を治療するために、光吸収粒子を汗腺内に注入し、次いで、皮膚を光によって処理し、これによって、汗腺を熱的に損傷させ、不活性にすることができる。損傷形態は、密度、深さ、および一回の注入当たりの量の調整によって、制御可能である。

一態様では、治療領域内の皮膚が火傷によって損傷されているか、または火傷した皮膚を修復するために用いられた皮膚移植片を備えていることがある。本明細書に記載されている特定の注入パターン、特定の材料、および特定の密度は、火傷した皮膚の治癒を促進するように、または皮膚移植片または移植された領域への適応を促進するように、適合かつ構成されるようになっている。

本明細書に記載されている使用に対して活性化可能な粒子を提供するために、種々の異なる製剤および組成物が用いられてもよい。本明細書に含まれる実施例および図示例は、例示にすぎず、制限するものではないが、主題が実施され得る特定の実施形態を示している。他の態様では、送達流体を送達するための送達装置の操作（すなわち、任意の適切な手段による粒子の注入による送達）は、他の処理または他の所望の治療の前または後に行われるようになっている。この場合、送達装置の操作および使用は、多ステップ治療の一部である。特定の一実施例では、多ステップ治療は、送達システムを用いて、流体、製剤粒子、シェル、薬剤、リポソーム、他の治療剤、または薬理的材料を治療部位または送達部位内の構造上または構造内に送達し、続いて、送達部位または治療部位のさらなる治療が行われるようになっている。前述の実施例に加えて、特定の一実施例では、さらなる治療が、流体、製剤、または薬理的材料に活性化エネルギーを供給するようになっている。例示的な流体、製剤、および治療薬は、米国特許第６，１８３，７７３号、米国特許第６，５３０，９４４号、米国特許出願公開第２０１３/０３１５９９９号、および米国特許出願公開第２０１２／００５９３０７号に記載されている。これらの文献は、各々、その全体がここに含まれるものとする。付加的または任意選択的に、本明細書に記載されている送達装置を操作するパラメータおよび／または送達システムの使用方法の１つまたは複数が、送達流体の１つまたは複数の特性、具体的には、送達流体の成分または用いられる送達流体内の粒子に基づいて、修正されてもよい。いくつかの実施形態では、送達される粒子の例として、例えば、ナノロッド、ナノシェル、ナノプリズム、およびローズベンガル、ＩＣＧ、メチレンブルーのような染料の１つまたは複数が挙げられる。

本明細書において、ある特徴部または要素が他の特徴部または要素の「上（on）」に位置すると記載されているとき、該特徴部または要素は、他の特後部または要素の上に直接位置していてもよいし、または介在する特徴部および／または要素が存在していてもよい。対照的に、ある特徴部または要素が他の特徴部または要素の「上に直接（directly on）」位置していると記載されているとき、介在する特徴部または要素は、存在していない。また、ある特後部または要素が、他の特徴部または要素に「接続されている（connect）」、「取付けられている（attached）」、または「連結されている（coupled）」と記載されているとき、該特徴部または要素は、他の特徴部または要素に直接的に接続、取付け、または連結されていてもよいし、または介在する特徴部または要素が存在していてもよいことを理解されたい。対照的に、ある特徴部または要素が他の特徴部または要素に「直接接続されている（directly connected）」、「直接取付けられている（directly attached）」、または「直接連結されている（directly coupled）」と記載されているとき、介在する特徴部または要素は、存在していない。一実施形態に関して記載または図示されていても、そのように記載または図示されている特徴部または要素は、他の実施形態に適用されてもよい。また、当業者であれば、ある構造または特徴部が他の特徴部に「隣接して（adjacent）」配置されていると記載されているとき、該構造および特徴部は、隣接する特徴部の上に位置する部分を有していてもよいし、または下に位置する部分を有していてもよいことを理解するだろう。

本明細書に用いられている専門用語は、特定の実施形態を説明することのみを目的としており、本発明を制限することを意図するものではない。例えば、本明細書に用いられている単数形の「a」、「an」、および「the」は、文脈が明らかに別のことを示していない限り、複数形を含むことも意図されている。「〜を備える（comprise）」、および／または「〜を備えている（comprising）」という用語は、本明細書に用いられる場合、記述されている特徴、工程、操作、要素、および／または構成部品の存在を特定することになるが、１つまたは複数の他の特徴、工程、操作、要素、構成部品、および／またはそれらの群の存在または追加を排除するものではないことをさらに理解されたい。本発明に用いられる「および／または（and/or）」という用語は、互いに関連して列挙されている項目の１つまたは複数のいずれかの組合せおよび全ての組合せを含んでおり、「／」として略されている場合もある。

「〜の下に（under）」、「〜の下方に（below）」、「〜の下側の（lower）」、「〜の上方に（over）」、「〜の上側の（upper）」などの空間に関連する用語は、図面に示されている１つの要素または特徴部と１つまたは複数の他の要素または特徴部との関係を説明するための記述を容易にするために、本明細書に用いられることがある。空間に関連するこれらの用語は、図面に描かれている方位に加えて、使用時または操作時における装置の異なる方位を含むことも意図されていることを理解されたい。例えば、もし図面における装置が倒置された場合、他の要素または特徴部の「下（under）」または「真下（beneath）」に位置すると記述されている要素は、他の要素または特徴部の「上（over）」に配向されることになる。従って、「〜の下に（under）」という例示的な用語は、「〜の上に」および「〜の下に」の両方の方位を含んでいることになる。装置は、これ以外に配向されることもあるが、（すなわち、９０°または他の方位に回転されることもあるが）、この場合、本明細書に用いられる空間に関連する記述用語も、それに応じて、解釈されるとよい。同様に、本明細書では、「上向きに（upwardly）」、「下向きに（downwardly）」、「垂直の（vertical）」、「水平の（horizontal）」、などの用語は、特に他の規定がなければ、説明の目的でのみ用いられている。

本明細書では、種々の特徴部／要素を記述するために、「第１の（first）」および「第２の (second)」という用語が用いられているが、これらの特徴部／要素は、文脈に特に他の規定がない限り、これらの用語に制限されるべきではない。これらの用語は、１つの特後部／要素を他の特徴部／要素から区別するために用いられている。従って、本発明の示唆から逸脱することなく、以下に記述される第１の特徴部／要素が第２の特徴部／要素と呼ばれてもよく、同様に、以下に記載される第２の特徴部／要素が第１の特徴部／要素と呼ばれてもよい。

実施例を含む明細書および請求項に用いられる全ての数字は、他の定めが明示的に規定されていない限り、「約（about）」または「略（approximately）」という用語が、仮に明示的に記載されていなくても、該数字に付されているかのように読み取られるとよい。記載されている大きさおよび／または位置が、その値および／または位置が合理的に予期される範囲内にあることを示すときに、「約（about）」または「略（approximately）」という用語が用いられてもよい。例えば、ある数値は、記述されている値（または値の範囲）の＋／−０．１％の値、記述されている値（または値の範囲）の＋／−１％の値、記述されている値（または値の範囲）の＋／−２％の値、記述されている値（または値の範囲）の＋／−５％の値、記述されている値（または値の範囲）の＋／−１０％の値、などを含んでいてもよい。本明細書に記載されているどのような数値も、そこに含まれる全ての部分範囲を含むことが意図されている。

種々の例示的な実施形態について説明してきたが、請求項に記載される本発明の範囲から逸脱することなく、多くの変更のいずれが種々の実施形態に対してなされてもよい。例えば、記載されている種々の方法ステップが行なわれる順序は、多くの場合、代替的実施形態において変更されてもよく、他の代替的実施形態では、１つまたは複数の方法ステップが一緒に省略されてもよい。種々の装置およびシステムの実施形態の任意選択的な特徴が、いくつかの実施形態に含まれるが、他の実施形態に含まれないようになっていてもよい。従って、前述の記載は、主に例示的な目的に対してなされており、請求項に記載される本発明の範囲を制限すると解釈されるべきではない。

本明細書に含まれる実施例および図示例は、例示にすぎず、制限するものではないが、主題が実施され得る特定の実施形態を示している。前述したように、他の実施形態がこれらの特定の実施形態から活用かつ導かれてもよく、これによって，本開示の範囲から逸脱することなく、構造的および論理的な置換えおよび変更がなされてもよい。本発明の主題に関するこのような実施形態は、本明細書において、便宜上、個別的または集合的に単に「本発明（invention）」と呼ぶが、もし２つ以上の発明が事実上開示されているなら、本出願の範囲を単一の発明または単一の発明概念に自発的に制限することを意図するものではない。従って、特定の実施形態が本明細書に図示され、かつ記載されているが、同じ目的を達成することが想定される構成が、図示されている特定の実施形態と置き換えられてもよい。本開示は、種々の実施形態のあらゆる改良または変更を含むように意図されている。前述の実施形態および本明細書に具体的に記載されていない他の実施形態の組合せは、前述の記載を再検討すれば、当業者にとって明らかであろう。

Claims (20)

1. 皮膚を治療するための方法であって、
   ある量の光吸収材を前記皮膚下の目標区域に所定パターンで所定深さに注入することと、
   前記光吸収材に選択された波長の光を照射し、これによって、少なくとも１つの熱損傷区域を生じさせることと、
   を含む、方法。
2. 前記注入は、単一ニードルを用いる注入を含んでいる、請求項１に記載の方法。
3. 前記注入は、マイクロニードルアレイを用いる注入を含んでいる、請求項１に記載の方法。
4. 前記光吸収材の注入は、前記マイクロニードルアレイの前記ニードルの少なくとも１つと流体接続しているリザーバを押し込むことを含んでいる、請求項３に記載の方法。
5. 前記リザーバの押込みは、手動によって行なわれてもよいし、または送達装置を用いて行なわれてもよい、請求項４に記載の方法。
6. 前記所定パターンは、規則正しく離間した行列を備えている、請求項１に記載の方法．
7. 前記所定パターンは、不規則である、請求項１に記載の方法。
8. 前記光吸収材は、約８００ｎｍから約１，２００ｎｍの間の波長の光を吸収するように構成されている、請求項１に記載の方法。
9. 前記光吸収材の照射は、前記光吸収材を約７００ｎｍから約１，２００ｎｍの波長域の光に露光させることを含んでいる、請求項１に記載の方法。
10. ある量の光吸収材の注入は、約５０μｍから約２ｍｍの間の深さに注入することを含んでいる、請求項１に記載の方法。
11. 前記熱損傷区域の直径は、約５０μｍから約１ｍｍの間にある、請求項１に記載の方法。
12. 前記光吸収材の照射によって、複数の熱損傷区域が生じるようになっており、前記熱損傷区域の密度は、約１０区域／ｃｍ^２から約１５，０００区域／ｃｍ^２の間にある、請求項１に記載の方法。
13. 前記目標区域における吸光係数は、約１．０（Ｌ／ｃｍ）から約１，０００（Ｌ／ｃｍ）の間にある、請求項１に記載の方法。
14. 皮膚を治療するための装置であって、
    マイクロニードルのアレイと、
    前記マイクロニードルの少なくとも１つに流体接続された、光吸収材を含む流体を保持するように構成されたリザーバと、
    を備える、装置。
15. 前記アレイは、規則的な行列に配置されたマイクロニードルを備えている、請求項１４に記載の装置。
16. 前記アレイは、不規則パターンに配置されたマイクロニードルを備えている、請求項１４に記載の装置。
17. 前記装置は、患者の治療部位に適応するように輪郭付けされている、請求項１４−１６のいずれかに記載の装置。
18. 前記装置は、大きなマイクロニードルアレイを備えるプラットフォームまたは複数のマイクロニードルアレイを備えるプラットフォームである、請求項１４に記載の装置。
19. 前記装置は、各々が少なくとも１つのマイクロニードルに流体接続された少なくとも２つのリザーバを備えている、請求項１４に記載の装置。
20. 前記装置は、矩形形状または楕円形状を備えている、請求項１４に記載の装置。

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