JP2017218728A - Bubble injection system, bubble injection method and method for producing bubble injection system - Google Patents

Bubble injection system, bubble injection method and method for producing bubble injection system Download PDF

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JP2017218728A JP2016111511A JP2016111511A JP2017218728A JP 2017218728 A JP2017218728 A JP 2017218728A JP 2016111511 A JP2016111511 A JP 2016111511A JP 2016111511 A JP2016111511 A JP 2016111511A JP 2017218728 A JP2017218728 A JP 2017218728A
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崇嗣 赤井
Takatsugu Akai
崇嗣 赤井
山下 裕士
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裕士 山下
幸作 高島
Kosaku Takashima
幸作 高島
直人 荒木
Naoto Araki
直人 荒木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bubble injection system and a bubble injection method which enables bubbles to be easily pressed into a reservoir of hydrocarbon; and a method for producing the bubble injection system.SOLUTION: A bubble injection system S comprises a liquid flow passage 512 for forcibly sending a liquid L to be mixed with a gas fluid, to a first position in the neighborhood of a reservoir R, a gas flow passage 513 for forcibly sending the gas fluid to a second position in the neighborhood of the reservoir R, a shearing member 514 that generates bubbles in the liquid L forcibly sent by the liquid flow passage 512 by making the gas fluid forcibly sent by the gas flow passage 513 pass through and shearing the gas fluid by pores, and an injection part 515 for injecting bubbles generated in the liquid L into the reservoir R together with the liquid L.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、地下に蓄えられる炭化水素の貯留層にバブルを注入するためのバブル注入システム、バブル注入方法及びバブル注入システムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a bubble injection system, a bubble injection method, and a method for manufacturing a bubble injection system for injecting bubbles into a reservoir of hydrocarbon stored underground.

油ガス田における炭化水素回収効率を高める方法として、油ガス層にマイクロバブルを圧入することにより炭化水素を回収するマイクロバブル圧入攻法が知られている。特許文献1には、ガスと水とを混合することにより生成したマイクロバブルを油層に注入し、マイクロバブルによって追い出された油分を回収する原油回収方法が開示されている。また、特許文献2〜4には、二酸化炭素および二酸化炭素を含むガスを、多孔質の物質からなるフィルターに通すことにより、塩水中にマイクロバブルを発生させる方法が開示されている。   As a method for increasing the hydrocarbon recovery efficiency in an oil and gas field, a micro bubble injection method for recovering hydrocarbons by pressing micro bubbles into an oil gas layer is known. Patent Document 1 discloses a crude oil recovery method in which microbubbles generated by mixing gas and water are injected into an oil layer, and the oil components expelled by the microbubbles are recovered. Patent Documents 2 to 4 disclose a method of generating microbubbles in salt water by passing carbon dioxide and a gas containing carbon dioxide through a filter made of a porous substance.

特開2008−19644号公報JP 2008-19644 A 特許第5315346号公報Japanese Patent No. 5315346 特許第5380463号公報Japanese Patent No. 5380463 特許第5399436号公報Japanese Patent No. 5399436

特許文献1に開示されている技術においては、地表面付近で注入ガスを注入水に混合することによりマイクロバブルを生成し、生成したマイクロバブルを圧入井から圧入する。圧入井に圧入されたマイクロバブルは、圧入井を長い距離にわたって移動して、貯留層付近に達する。ところが、地表面付近で発生させたマイクロバブルを貯留層付近にまで圧入すると、貯留層付近の圧力が地表面付近の圧力よりも高い場合、マイクロバブルが水に再溶解してしまい、マイクロバブルの一部が消滅してしまうという問題があった。   In the technique disclosed in Patent Literature 1, microbubbles are generated by mixing an injection gas with injection water in the vicinity of the ground surface, and the generated microbubbles are injected from the injection well. The microbubbles injected into the injection well move through the injection well over a long distance and reach the vicinity of the reservoir. However, when the microbubbles generated near the ground surface are pressed into the reservoir, if the pressure near the reservoir is higher than the pressure near the ground, the microbubbles are re-dissolved in water, There was a problem that some would disappear.

これに対して、特許文献2〜4には、いわゆるケーシングと称される坑井外壁を構成する管を流路としてガス又は超臨界流体のみを地下に送り、坑底にて、油層に密着したフィルターでマイクロバブル状の二酸化炭素を油層に圧入する技術が開示されている。この技術では、圧入初期は、油層内の地層水中にバブルを発生させることが可能であるが、やがて坑井近傍の全ての地層水がガスで置換されてしまうので、マイクロバブルを発生させることができなくなるという問題があった。   On the other hand, in Patent Documents 2 to 4, only a gas or a supercritical fluid is sent to the underground using a pipe constituting a well wall called a so-called casing as a flow path, and in close contact with the oil layer at the bottom. A technique for press-fitting microbubble-like carbon dioxide into an oil layer with a filter is disclosed. In this technology, it is possible to generate bubbles in the formation water in the oil reservoir in the initial stage of press-fitting, but eventually all formation water near the well will be replaced with gas, so microbubbles may be generated. There was a problem that it was impossible.

そこで、本発明は上述した点に鑑みてなされたものであり、バブルを継続的に炭化水素の貯留層に圧入することができるバブル注入システム、バブル注入方法及びバブル注入システムの製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above-described points, and provides a bubble injection system, a bubble injection method, and a method for manufacturing a bubble injection system capable of continuously injecting bubbles into a hydrocarbon reservoir. For the purpose.

本発明の第1の態様においては、ガス成分を含む流体であるガス流体に基づいて発生したバブルを含む液体を炭化水素の貯留層に注入するバブル注入システムであって、前記貯留層の近傍の第1位置まで、前記ガス流体と混合される液を圧送する液流路と、前記貯留層の近傍の第2位置まで前記ガス流体を圧送するガス流路と、前記ガス流路により圧送された前記ガス流体を通過させ、細孔により前記ガス流体をせん断することにより、前記液流路によって圧送された前記液中にバブルを発生させるせん断部材と、前記液中に発生したバブルを前記液とともに前記貯留層に注入する注入部と、を備えることを特徴とするバブル注入システムを提供する。前記せん断部材は、例えば粒径が100μm以下の前記バブルを発生させる多孔質部材である。   In the first aspect of the present invention, there is provided a bubble injection system for injecting a liquid containing bubbles generated based on a gas fluid, which is a fluid containing a gas component, into a hydrocarbon reservoir, and in the vicinity of the reservoir. A liquid flow path for pumping a liquid mixed with the gas fluid to a first position, a gas flow path for pumping the gas fluid to a second position near the reservoir, and a pressure flow by the gas flow path A shearing member that generates bubbles in the liquid pumped by the liquid flow path by passing the gas fluid and shearing the gas fluid by pores, and bubbles generated in the liquid together with the liquid A bubble injection system comprising: an injection unit for injecting into the reservoir. The shear member is a porous member that generates the bubbles having a particle size of, for example, 100 μm or less.

前記バブル注入システムは、前記ガス流路及び前記液流路を収容する収容部をさらに備え、前記注入部が、前記収容部における前記貯留層の深さに対応する位置に形成されていてもよい。前記ガス流路が、前記液流路の内部に設けられていてもよい。   The bubble injection system may further include a storage unit that stores the gas flow channel and the liquid flow channel, and the injection unit may be formed at a position corresponding to a depth of the storage layer in the storage unit. . The gas flow path may be provided inside the liquid flow path.

前記せん断部材が、円筒形状の前記ガス流路の内径よりも小さい外径の円柱形状をしており、前記ガス流路の内側で前記ガス流路に密着した状態で接続されていてもよい。   The shearing member may have a columnar shape with an outer diameter smaller than the inner diameter of the cylindrical gas flow path, and may be connected in close contact with the gas flow path inside the gas flow path.

円筒形状の前記ガス流路が、円筒形状の前記液流路の内側に同軸状に設けられており、前記せん断部材は、前記液流路の内径よりも小さい外径の円柱形状をしており、前記液流路の内側で前記液流路に密着した状態で接続されていてもよい。   The cylindrical gas flow path is coaxially provided inside the cylindrical liquid flow path, and the shearing member has a cylindrical shape with an outer diameter smaller than the inner diameter of the liquid flow path. The liquid channel may be connected in close contact with the liquid channel.

円筒形状の前記液流路が、前記液流路の外径よりも大きな内径を有する円筒形状の収容部に収容されており、前記貯留層よりも高い位置における前記収容部の内壁と前記液流路の外壁との間に設けられ、前記バブルの上昇を阻止する阻止部をさらに備えてもよい。
この場合、前記収容部における前記阻止部よりも深い領域が耐腐食性の材料により形成されていてもよい。
The cylindrical liquid channel is accommodated in a cylindrical container having an inner diameter larger than the outer diameter of the liquid channel, and the inner wall of the container and the liquid flow at a position higher than the reservoir A blocking portion provided between the outer wall of the road and blocking the bubble from rising may further be provided.
In this case, a region deeper than the blocking portion in the housing portion may be formed of a corrosion-resistant material.

前記バブル注入システムは、前記液流路の内壁と前記ガス流路の外壁とを接続し、前記ガス流路の位置を固定する固定部をさらに有してもよい。前記液流路が耐腐食性の部材により形成されていてもよい。   The bubble injection system may further include a fixing unit that connects the inner wall of the liquid channel and the outer wall of the gas channel, and fixes the position of the gas channel. The liquid channel may be formed of a corrosion-resistant member.

前記ガス流路及び前記液流路は円筒形状をしており、前記ガス流路の外径と前記液流路の外径とを合算した長さよりも大きな内径を有する円筒形状の収容部に並列に収容されており、前記ガス流路は、前記液流路が前記液を圧送する前記第1位置よりも深い前記第2位置まで前記ガス流体を圧送してもよい。   The gas flow channel and the liquid flow channel have a cylindrical shape, and are arranged in parallel with a cylindrical housing portion having an inner diameter larger than the total length of the outer diameter of the gas flow channel and the outer diameter of the liquid flow channel. The gas flow path may pump the gas fluid to the second position deeper than the first position where the liquid flow path pumps the liquid.

前記バブル注入システムは、前記貯留層よりも高い位置における前記収容部と前記ガス流路及び前記液流路との間に設けられた、前記バブルの上昇を阻止する阻止部をさらに備えてもよい。   The bubble injection system may further include a blocking unit that is provided between the storage unit, the gas channel, and the liquid channel at a position higher than the reservoir, and prevents the bubble from rising. .

前記バブル注入システムは、塩分を含む液と界面活性剤とを混合することにより前記液を製造する溶液製造部をさらに備え、前記液流路は、前記溶液製造部が製造した前記液を圧送してもよい。
前記溶液製造部は、前記バブルの発生状況に基づいて、前記塩分を含む液と混合する前記界面活性剤の量を制御してもよい。
The bubble injection system further includes a solution manufacturing unit that manufactures the liquid by mixing a liquid containing salt and a surfactant, and the liquid flow path pumps the liquid manufactured by the solution manufacturing unit. May be.
The solution manufacturing unit may control the amount of the surfactant to be mixed with the salt-containing liquid based on the generation state of the bubbles.

前記バブル注入システムは、前記液流路を圧送する前記液の量、及び前記ガス流路を圧送する前記ガス流体の量を制御する圧入制御部をさらに備えてもよい。
前記圧入制御部は、臨界圧力以上の圧力で前記ガス流体を前記ガス流路に圧入してもよい。前記圧入制御部が、前記ガス流路の内圧よりも高い耐圧を備えてもよい。
The bubble injection system may further include a press-fitting control unit that controls the amount of the liquid that pumps the liquid flow path and the amount of the gas fluid that pumps the gas flow path.
The press-fitting control unit may press-fit the gas fluid into the gas flow path at a pressure equal to or higher than a critical pressure. The press-fitting control unit may have a pressure resistance higher than an internal pressure of the gas flow path.

本発明の第2の態様においては、ガス成分を含む流体であるガス流体に基づいて発生したバブルを含む液体を炭化水素の貯留層に注入するバブル注入方法であって、前記貯留層の近傍の第1位置まで、前記ガス流体と混合される液を圧送する工程と、前記貯留層の近傍の第2位置まで前記ガス流体を圧送する工程と、前記第2位置まで圧送された前記ガス流体を、細孔を有するせん断部材に通してせん断することにより、前記第1位置まで圧送された前記液中にバブルを発生させる工程と、前記液中に発生したバブルを前記液とともに前記貯留層に注入する工程と、を有することを特徴とするバブル注入方法を提供する。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a bubble injection method for injecting a liquid containing bubbles generated based on a gas fluid, which is a fluid containing a gas component, into a hydrocarbon reservoir, and in the vicinity of the reservoir. A step of pumping a liquid mixed with the gas fluid to a first position; a step of pumping the gas fluid to a second position near the reservoir; and the gas fluid pumped to the second position. Generating a bubble in the liquid pumped to the first position by shearing through a shearing member having pores, and injecting the bubble generated in the liquid into the reservoir together with the liquid There is provided a bubble injection method characterized by comprising the steps of:

本発明の第3の態様においては、ガス成分を含む流体であるガス流体に基づいて発生したバブルを含む液体を炭化水素の貯留層に注入するバブル注入システムの製造方法であって、前記貯留層の近傍の第1位置に達するように、前記ガス流体と混合される液を圧送するための液流路を設置する工程と、前記貯留層の近傍の第2位置に達するように、前記ガス流体を圧送するためのガス流路を設置する工程と、前記ガス流体を圧送するガス流路の内側に、前記ガス流路により圧送された前記ガス流体を通過させ、細孔により前記ガス流体をせん断することにより、前記液流路によって圧送された前記液中にバブルを発生させるせん断部材を固定する工程と、を有することを特徴とするバブル注入システムの製造方法を提供する。   In a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a bubble injection system for injecting a liquid containing bubbles generated based on a gas fluid, which is a fluid containing a gas component, into a hydrocarbon reservoir. Installing the liquid flow path for pumping the liquid mixed with the gas fluid so as to reach the first position in the vicinity of the gas fluid, and the gas fluid so as to reach the second position in the vicinity of the reservoir. A gas flow path for pumping the gas, and passing the gas fluid pumped by the gas flow path inside the gas flow path for pumping the gas fluid, and shearing the gas fluid by the pores And a step of fixing a shearing member for generating bubbles in the liquid pumped by the liquid flow path. A method for manufacturing a bubble injection system is provided.

前記液流路を設置する工程及び前記ガス流路を設置する工程の前に、前記液流路及び前記ガス流路を収容する収容部を設置する工程を有してもよい。   You may have the process of installing the accommodating part which accommodates the said liquid flow path and the said gas flow path before the process of installing the said liquid flow path and the process of installing the said gas flow path.

本発明によれば、バブルを継続的に炭化水素の貯留層に圧入することができるという効果を奏する。   According to the present invention, there is an effect that bubbles can be continuously pressed into a hydrocarbon reservoir.

バブル注入システムの概要について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the outline | summary of a bubble injection | pouring system. 第1の実施形態に係るバブル注入システムの構成図である。It is a lineblock diagram of the bubble injection system concerning a 1st embodiment. 第2の実施形態に係るバブル注入システムの構成図である。It is a block diagram of the bubble injection system which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係るバブル注入システムの構成図である。It is a block diagram of the bubble injection system which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係るバブル注入システムの構成図である。It is a block diagram of the bubble injection system which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施形態に係るバブル注入システムの構成図である。It is a block diagram of the bubble injection system which concerns on 5th Embodiment.

[本実施の形態の概要]
図1は、バブル注入システムSの概要について説明するための図である。バブル注入システムSは、ガスGに基づいてマイクロバブルを発生させ、発生させたマイクロバブルを炭化水素の貯留層Rに注入するシステムである。マイクロバブルは、粒径が100μm以下の泡である。ただし、バブル注入システムSは、粒径が100μmよりも大きな泡を発生してもよい。バブル注入システムSは、ガスGと液Lを同時に別々の流路にて坑井内の地下深くまで圧送し、地下の貯留層R付近においてガスGに基づいてマイクロバブルを発生させて、貯留層Rにマイクロバブルを注入する点に特徴がある。
[Outline of this embodiment]
FIG. 1 is a diagram for explaining an outline of the bubble injection system S. The bubble injection system S is a system that generates microbubbles based on the gas G and injects the generated microbubbles into the hydrocarbon reservoir R. Microbubbles are bubbles having a particle size of 100 μm or less. However, the bubble injection system S may generate bubbles having a particle size larger than 100 μm. The bubble injection system S simultaneously pumps the gas G and the liquid L deeply in the well through separate flow paths, generates microbubbles based on the gas G in the vicinity of the underground reservoir R, and stores the reservoir R It is characterized by injecting microbubbles.

ガスGは、ガス成分を含むガス流体であり、マイクロバブルの生成に用いられる。ガスGは、ガス充填容器(不図示)に収容されている。ガスGは、例えば、二酸化炭素(CO)、窒素(N)、炭化水素等である。液Lは、ガスGと混合される液であり、液L中に、ガスGに基づくマイクロバブルが生成される。 The gas G is a gas fluid containing a gas component, and is used for generating microbubbles. The gas G is accommodated in a gas filling container (not shown). The gas G is, for example, carbon dioxide (CO 2 ), nitrogen (N 2 ), hydrocarbon or the like. The liquid L is a liquid mixed with the gas G, and microbubbles based on the gas G are generated in the liquid L.

貯留層Rは、地中における石油や天然ガス等の炭化水素が多く含まれている層であり、例えば、地下数百メートル〜数千メートル付近に存在する。バブル注入システムSが発生したマイクロバブルを貯留層Rに注入し、貯留層R内の石油や天然ガスをマイクロバブルによって追い出すことにより、石油や天然ガスを採ることができる。   The reservoir R is a layer that contains a lot of hydrocarbons such as oil and natural gas in the ground, and is present in the vicinity of several hundred meters to several thousand meters, for example. Oil and natural gas can be taken by injecting microbubbles generated by the bubble injection system S into the reservoir R and expelling oil and natural gas in the reservoir R with microbubbles.

バブル注入システムSは、ガス管1、水処理設備2、液管3、流量制御装置4、及び圧入井5を有する。ガス管1、水処理設備2、液管3及び流量制御装置4は地上に設置されており、圧入井5は地下に設置されている。本明細書において、地上とは地面又は海底面よりも上方の領域であり、海中も含まれる。地下とは地面又は海底面よりも下方の領域である。   The bubble injection system S includes a gas pipe 1, a water treatment facility 2, a liquid pipe 3, a flow rate control device 4, and a press-fit well 5. The gas pipe 1, the water treatment facility 2, the liquid pipe 3, and the flow rate control device 4 are installed on the ground, and the injection well 5 is installed on the underground. In the present specification, the ground is a region above the ground or the bottom of the sea and includes the sea. The underground is an area below the ground or the sea floor.

図1は、ガス管1、水処理設備2、液管3及び流量制御装置4が陸上に設置されており、圧入井5が、陸上から地下の貯留層Rより深い位置まで延伸している例を示している。これに対して、ガス管1、水処理設備2、液管3及び流量制御装置4が海上に設置されており、圧入井5が、海中を介して貯留層Rより深い位置まで延伸してもよい。   FIG. 1 shows an example in which a gas pipe 1, a water treatment facility 2, a liquid pipe 3, and a flow rate control device 4 are installed on the land, and the injection well 5 extends from the land to a position deeper than the underground reservoir R. Is shown. On the other hand, even if the gas pipe 1, the water treatment facility 2, the liquid pipe 3, and the flow rate control device 4 are installed on the sea and the injection well 5 extends to a position deeper than the reservoir R through the sea. Good.

ガス管1は、流量制御装置4に接続され、貯留層Rの付近に導入する対象となるガスGを収容しているガス充填容器(不図示)から流量制御装置4にガスGを輸送するための管である。   The gas pipe 1 is connected to the flow rate control device 4 for transporting the gas G from a gas filling container (not shown) containing the gas G to be introduced near the reservoir R to the flow rate control device 4. The tube.

水処理設備2は、地上に設置され、貯留層Rの付近に導入する対象となる液Lを製造する溶液製造部である。水処理設備2は、塩分を含む液と界面活性剤とを混合することにより液Lを製造する。水処理設備2は、例えば、油やガスの生産に伴い副次的に生産される地層水を含む随伴水を処理することにより、液Lを生成する。水処理設備2においては、塩分濃度の調整、不純物の除去、及び界面活性剤の添加等の随伴水の処理が行われる。水処理設備2が、塩分を含む随伴水に界面活性剤を添加することにより、より一層マイクロバブルを発生しやすい液Lを生成することができる。   The water treatment facility 2 is a solution manufacturing section that manufactures a liquid L that is installed on the ground and that is to be introduced near the reservoir R. The water treatment facility 2 produces a liquid L by mixing a salt-containing liquid and a surfactant. For example, the water treatment facility 2 generates liquid L by treating accompanying water including formation water that is produced as a secondary product with the production of oil and gas. In the water treatment facility 2, treatment of accompanying water such as adjustment of salt concentration, removal of impurities, addition of a surfactant, and the like is performed. The water treatment facility 2 can generate a liquid L that is more likely to generate microbubbles by adding a surfactant to the accompanying water containing salt.

なお、水処理設備2は、液Lがマイクロバブルの発生に適した塩分濃度になるように、適切な量の塩分を添加してもよい。水処理設備2は、例えば、随伴水の塩分濃度の測定結果に基づいて定められる量の塩分を添加することにより、マイクロバブルの発生に適した塩分濃度の液Lを生成する。また、水処理設備2は、マイクロバブルの発生状況に基づいて、塩分を含む液と混合する界面活性剤の量を制御するようにしてもよい。   Note that the water treatment facility 2 may add an appropriate amount of salt so that the liquid L has a salt concentration suitable for generation of microbubbles. For example, the water treatment facility 2 generates a liquid L having a salt concentration suitable for generation of microbubbles by adding an amount of salt determined based on the measurement result of the salinity of the accompanying water. Further, the water treatment facility 2 may control the amount of the surfactant to be mixed with the liquid containing salt based on the generation state of the microbubbles.

液管3は、水処理設備2と流量制御装置4との間に配置され、水処理設備2から流量制御装置4に液Lを輸送するための管である。流量制御装置4は、ガス管1と液管3との間に設置され、圧入井5内に圧送するガスGと液Lの流量を制御し、ガスGと液Lを圧入井5内に圧送する坑口装置(wellhead)である。流量制御装置4の構成の詳細については、後述する。   The liquid pipe 3 is a pipe that is disposed between the water treatment facility 2 and the flow rate control device 4 and transports the liquid L from the water treatment facility 2 to the flow rate control device 4. The flow rate control device 4 is installed between the gas pipe 1 and the liquid pipe 3, controls the flow rate of the gas G and liquid L to be pumped into the press-fit well 5, and pumps the gas G and liquid L into the press-fit well 5. Wellhead. Details of the configuration of the flow control device 4 will be described later.

圧入井5は、ガスG及び液Lを貯留層R付近にまで圧送するための坑井である。圧入井5は、流量制御装置4に接続され、流量制御装置4から貯留層Rより深い位置まで延伸するように設けられている。圧入井5は、収容部501、せん断部材502、及び注入部503を有する。   The injection well 5 is a well for pumping the gas G and the liquid L to the vicinity of the reservoir R. The injection well 5 is connected to the flow control device 4 and is provided to extend from the flow control device 4 to a position deeper than the reservoir R. The press-fit well 5 includes a housing part 501, a shearing member 502, and an injection part 503.

収容部501は、坑井内へ地層内の流体が侵入するのを防止するためのケーシング管である。収容部501は、流量制御装置4に接続され、地上から地下深くまで埋設された円筒形状の金属製の管であり、底部が貯留層Rよりも深い位置に達している。収容部501の内側には、ガスGを貯留層R付近まで圧送するためのガス流路及び液Lを貯留層R付近まで圧送するための液流路が設けられている。これらのガス流路及び液流路の詳細については後述する。   The accommodating part 501 is a casing pipe for preventing the fluid in the formation from entering the well. The accommodating portion 501 is a cylindrical metal pipe that is connected to the flow rate control device 4 and buried from the ground to the deep underground, and has a bottom that reaches a position deeper than the reservoir R. Inside the accommodating portion 501, a gas flow path for pumping the gas G to the vicinity of the storage layer R and a liquid flow path for pumping the liquid L to the vicinity of the storage layer R are provided. Details of these gas flow path and liquid flow path will be described later.

せん断部材502は、マイクロバブルを発生させる機能を有し、収容部501内の貯留層R付近に設けられている。せん断部材502は、流量制御装置4から貯留層R付近まで圧送されたガスGをせん断する。せん断されたガスGが液Lと混合されることにより、マイクロバブルが発生する。   The shearing member 502 has a function of generating microbubbles, and is provided in the vicinity of the storage layer R in the housing portion 501. The shear member 502 shears the gas G fed from the flow control device 4 to the vicinity of the reservoir R. When the sheared gas G is mixed with the liquid L, microbubbles are generated.

注入部503は、せん断部材502が発生させたマイクロバブルを液Lとともに貯留層Rに注入するための複数の開口を有する。収容部501内の圧力を貯留層R内の圧力よりも高くしておくことで、せん断部材502が発生させたマイクロバブルを貯留層Rに注入することができる。   The injection unit 503 has a plurality of openings for injecting the microbubbles generated by the shearing member 502 into the storage layer R together with the liquid L. The microbubbles generated by the shearing member 502 can be injected into the reservoir layer R by keeping the pressure in the accommodating portion 501 higher than the pressure in the reservoir layer R.

注入部503は、収容部501における貯留層Rの深さに対応する位置の外壁に形成されている。貯留層Rの深さに対応する位置とは、貯留層Rの最も浅い位置と最も深い位置との間の位置を含む位置である。例えば、注入部503は、貯留層Rの最も浅い位置と最も深い位置との間を全て覆ってもよい。注入部503は、貯留層Rの最も浅い位置と最も深い位置との間の一部のみを覆ってもよい。注入部503は、例えば、収容部501の貯留層Rと接する位置に設置した火薬を爆破することにより形成される。
以下、バブル注入システムSの各種の実施の形態について、詳細に説明する。
The injection part 503 is formed on the outer wall at a position corresponding to the depth of the reservoir R in the accommodating part 501. The position corresponding to the depth of the reservoir R is a position including a position between the shallowest position and the deepest position of the reservoir R. For example, the injection part 503 may cover all between the shallowest position and the deepest position of the reservoir R. The injection part 503 may cover only a part between the shallowest position and the deepest position of the reservoir R. The injection part 503 is formed, for example, by blasting explosives installed at a position in contact with the storage layer R of the storage part 501.
Hereinafter, various embodiments of the bubble injection system S will be described in detail.

<第1の実施形態>
[第1の実施形態に係るバブル注入システムS1の構成]
図2(a)は、第1の実施形態に係るバブル注入システムS1の構成図である。図2(b)は、図2(a)のX−X線断面図である。図2における斜線は、液Lが圧送されている領域であることを示している。
<First Embodiment>
[Configuration of Bubble Injection System S1 According to First Embodiment]
FIG. 2A is a configuration diagram of the bubble injection system S1 according to the first embodiment. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line XX in FIG. The hatched lines in FIG. 2 indicate the region where the liquid L is being pumped.

第1の実施形態に係るバブル注入システムS1は、ガス管1、水処理設備2、液管3、流量制御装置4、及び圧入井51を有する。流量制御装置4は、接続部41、及びバルブ42a〜42eを有する。バルブ42a〜42eは、圧入井51内に圧送するガスGと液Lの流量を調整するためのバルブである。接続部41は、ガス管1とガス流路513とを接続し、液管3と液流路512とを接続するためのパイプを有しており、バルブ42a、42b、42c、及び42dに接続されている。接続部41は、例えば、バルブ42bを介して流入する液Lを、バルブ42d、42eを介して後述の液流路512に圧送し、バルブ42aを介して流入するガスGを、バルブ42d、42eを介して後述のガス流路513に圧送する。   The bubble injection system S <b> 1 according to the first embodiment includes a gas pipe 1, a water treatment facility 2, a liquid pipe 3, a flow rate control device 4, and a press-fit well 51. The flow control device 4 includes a connection portion 41 and valves 42a to 42e. The valves 42 a to 42 e are valves for adjusting the flow rates of the gas G and the liquid L that are pumped into the press-fit well 51. The connection part 41 has a pipe for connecting the gas pipe 1 and the gas flow path 513 and connecting the liquid pipe 3 and the liquid flow path 512, and is connected to the valves 42a, 42b, 42c, and 42d. Has been. For example, the connecting portion 41 pressure-feeds the liquid L flowing in through the valve 42b to the liquid flow path 512 described later through the valves 42d and 42e, and sends the gas G flowing in through the valve 42a to the valves 42d and 42e. Through the gas passage 513 to be described later.

バルブ42aは、例えば、制御室に設置されたコンピュータ(不図示)からの制御に基づいて開度を変化させることでガス流路513にガスGを圧送する際の流量を制御するガス圧入制御部として機能する。また、バルブ42bは、制御室に設置されたコンピュータからの制御に基づいて開度を変化させることで液流路512に液Lを圧送する際の流量を制御する液圧入制御部として機能する。なお、バルブ42a及びバルブ42b以外の装置が、ガス圧入制御部及び液圧入制御部として動作してもよい。   The valve 42a is, for example, a gas press-fitting control unit that controls the flow rate when the gas G is pumped to the gas flow path 513 by changing the opening degree based on control from a computer (not shown) installed in the control room. Function as. Further, the valve 42b functions as a liquid press-fitting control unit that controls the flow rate when the liquid L is pumped into the liquid flow path 512 by changing the opening degree based on control from a computer installed in the control room. Note that devices other than the valve 42a and the valve 42b may operate as the gas injection control unit and the hydraulic injection control unit.

圧入井51は、収容部511、液流路512、ガス流路513、せん断部材514、注入部515、及び阻止部516を有する。収容部511は、収容部501と同様の構成である。収容部511は、液流路512の外径及びガス流路513の外径よりも大きい内径を有し、液流路512及びガス流路513を収容している。   The press-fit well 51 includes a storage part 511, a liquid flow path 512, a gas flow path 513, a shear member 514, an injection part 515, and a blocking part 516. The housing part 511 has the same configuration as the housing part 501. The accommodating part 511 has an inner diameter larger than the outer diameter of the liquid channel 512 and the outer diameter of the gas channel 513, and accommodates the liquid channel 512 and the gas channel 513.

液流路512は、貯留層Rの近傍の第1位置までガスGと混合される液Lを圧送するための円筒形状の金属製の管である。第1位置は、例えば、貯留層Rの最も浅い位置よりも100m浅い位置よりも深く、貯留層Rの最も深い位置よりも100m深い位置よりも浅い位置である。第1位置は、好ましくは貯留層Rの最も浅い位置よりも深い位置であり、さらに好ましくは貯留層Rの最も深い位置よりも深い位置である。第1位置は、貯留層Rの最も浅い位置と最も深い位置との間の位置であってもよい。第1位置は、少なくとも圧入井51の中間位置よりも深い位置である。   The liquid flow path 512 is a cylindrical metal tube for pumping the liquid L mixed with the gas G to the first position in the vicinity of the reservoir R. The first position is, for example, a position deeper than a position 100 m shallower than the shallowest position of the reservoir R and shallower than a position 100 m deeper than the deepest position of the reservoir R. The first position is preferably a position deeper than the shallowest position of the reservoir R, and more preferably a position deeper than the deepest position of the reservoir R. The first position may be a position between the shallowest position and the deepest position of the reservoir R. The first position is a position deeper than at least the intermediate position of the injection well 51.

なお、第1位置は、流量制御装置4から圧送されたガスGが臨界圧力以上となる位置である。臨界圧力は、臨界温度のもとで、気体を液体にするのに必要な最低の圧力のことである。臨界温度とは、気体に圧力をかけて液体にできる最高の温度のことである。例えば、二酸化炭素(CO)の臨界温度は、31.1℃であり、臨界圧力は、7.39MPaである。 The first position is a position where the gas G fed from the flow rate control device 4 is equal to or higher than the critical pressure. The critical pressure is the lowest pressure required to make a gas liquid at a critical temperature. The critical temperature is the highest temperature that can be achieved by applying pressure to a gas to form a liquid. For example, the critical temperature of carbon dioxide (CO 2 ) is 31.1 ° C., and the critical pressure is 7.39 MPa.

ガス流路513は、貯留層Rの近傍の第2位置までガスGを圧送するための円筒形状の金属製の管である。第2位置は、第1位置と同様に、例えば、貯留層Rの最も浅い位置よりも100m浅い位置よりも深く、貯留層Rの最も深い位置よりも100m深い位置よりも浅い位置である。第2位置は、好ましくは貯留層Rの最も浅い位置よりも深い位置であり、さらに好ましくは貯留層Rの最も深い位置よりも深い位置である。第2位置は、貯留層Rの最も浅い位置と最も深い位置との間の位置であってもよい。第2位置は、少なくとも圧入井51の中間位置よりも深い位置である。   The gas flow path 513 is a cylindrical metal pipe for pumping the gas G to the second position near the reservoir R. Similarly to the first position, the second position is, for example, a position deeper than the shallowest position of the reservoir R by 100 m and a position shallower than the deepest position of the reservoir R by 100 m. The second position is preferably a position deeper than the shallowest position of the reservoir R, and more preferably a position deeper than the deepest position of the reservoir R. The second position may be a position between the shallowest position and the deepest position of the reservoir R. The second position is a position deeper than at least the intermediate position of the injection well 51.

第2位置も、流量制御装置4から圧送されたガスGが臨界圧力以上になる位置である。ガス流路513は、液流路512の内径よりも小さい外径を有し、液流路512の内側に、中心軸が液流路512の中心軸と一致するように同軸状に設けられている。   The second position is also a position where the gas G fed from the flow rate control device 4 becomes equal to or higher than the critical pressure. The gas flow path 513 has an outer diameter smaller than the inner diameter of the liquid flow path 512 and is coaxially provided inside the liquid flow path 512 so that the central axis coincides with the central axis of the liquid flow path 512. Yes.

図2に示す例においては、液Lが圧送される第1位置よりもガスGが圧送される第2位置の方が深い位置になっているが、第1位置と第2位置との関係は、これに限らない。第1位置と第2位置とが同じ位置であってもよい。液流路512及びガス流路513が貯留層Rの近傍の位置まで延伸されていることにより、液LとガスGとが混合されることにより発生するマイクロバブルが消滅しない状態で貯留層Rに注入されるので、貯留層Rに効率良くマイクロバブルを注入することが可能になる。   In the example shown in FIG. 2, the second position where the gas G is pumped is deeper than the first position where the liquid L is pumped, but the relationship between the first position and the second position is Not limited to this. The first position and the second position may be the same position. Since the liquid channel 512 and the gas channel 513 are extended to a position near the reservoir R, the microbubbles generated by mixing the liquid L and the gas G do not disappear in the reservoir R. Since it is injected, it is possible to efficiently inject microbubbles into the reservoir R.

液流路512が圧送する液Lの量、及びガス流路513が圧送するガスGの量は、制御室のコンピュータにより例えばバルブ42aの開度を変化させることにより制御される。接続部41は、臨界圧力以上の圧力でガスGをガス流路513に圧入する。したがって、接続部41は、ガス流路513の内圧よりも高い耐圧構造を有する。   The amount of the liquid L pumped by the liquid channel 512 and the amount of the gas G pumped by the gas channel 513 are controlled by changing, for example, the opening of the valve 42a by a computer in the control chamber. The connecting portion 41 presses the gas G into the gas flow path 513 with a pressure equal to or higher than the critical pressure. Therefore, the connection part 41 has a pressure | voltage resistant structure higher than the internal pressure of the gas flow path 513. FIG.

せん断部材514は、多数の細孔を有する多孔質部材であり、例えばポーラスフィルターである。せん断部材514は、このような細孔を有することにより粒径が100μm以下のバブルを発生させる。また、せん断部材514は、液流路512の内径よりも小さい外径の円柱形状をしており、液流路512の先端部の内側で液流路512に密着した状態で接続されている。   The shear member 514 is a porous member having a large number of pores, for example, a porous filter. The shear member 514 has such pores to generate bubbles having a particle size of 100 μm or less. Further, the shear member 514 has a cylindrical shape with an outer diameter smaller than the inner diameter of the liquid channel 512 and is connected in close contact with the liquid channel 512 inside the tip of the liquid channel 512.

ガス流路513により圧送されたガスGは、ガス流路513の先端部から放出されると、液流路512により圧送された液Lを押し出すようにしてせん断部材514を通過する。せん断部材514は、細孔によりガスG及び液Lをせん断することにより、マイクロバブルを発生させる。   When the gas G pumped by the gas flow path 513 is released from the tip of the gas flow path 513, it passes through the shearing member 514 so as to push out the liquid L pumped by the liquid flow path 512. The shearing member 514 generates microbubbles by shearing the gas G and the liquid L through the pores.

注入部515は、注入部503と同様の構成である。せん断部材514を通過することにより発生したマイクロバブルは、注入部515の位置まで浮上して、貯留層Rに入り込む。   The injection unit 515 has the same configuration as the injection unit 503. The microbubbles generated by passing through the shearing member 514 float up to the position of the injection portion 515 and enter the storage layer R.

阻止部516は、貯留層Rよりも高い位置における収容部511の内壁と液流路512の外壁との間に設けられており、せん断部材514で生成されたマイクロバブルと液Lとが混合した流体が収容部511の内壁と液流路512の外壁との間を上昇していくことを阻止する。阻止部516は、例えば、硬質ゴム製のパッカー(パッキング装置)であり、収容部511の内壁と液流路512の外壁との間を閉塞させる。   The blocking part 516 is provided between the inner wall of the accommodating part 511 and the outer wall of the liquid flow path 512 at a position higher than the reservoir layer R, and the microbubbles generated by the shearing member 514 and the liquid L are mixed. The fluid is prevented from rising between the inner wall of the storage portion 511 and the outer wall of the liquid flow path 512. The blocking unit 516 is, for example, a hard rubber packer (packing device), and closes the space between the inner wall of the storage unit 511 and the outer wall of the liquid channel 512.

阻止部516により液流路512の外径と収容部511の内径との間の空間が上下に区切られていることから、阻止部516の上部には、マイクロバブルと液Lとの混合水に含まれている炭酸水が侵入しないので、阻止部516の上部における収容部511の内壁が腐食されることを防ぐことができる。また、収容部511における阻止部516の下部の領域は、耐腐食性の材料により形成されていてもよい。   Since the space between the outer diameter of the liquid flow path 512 and the inner diameter of the accommodating portion 511 is vertically divided by the blocking portion 516, mixed water of microbubbles and liquid L is placed on the upper portion of the blocking portion 516. Since the contained carbonated water does not enter, it is possible to prevent the inner wall of the accommodating portion 511 at the upper portion of the blocking portion 516 from being corroded. Moreover, the area | region of the lower part of the prevention part 516 in the accommodating part 511 may be formed with the corrosion-resistant material.

[バブル注入方法]
以下、マイクロバブルの注入方法について説明する。
まず、流量制御装置4は、ガスGが臨界圧力以上になる位置よりも深い地中の第1位置まで、ガスGと混合される液Lを圧送する。並行して、流量制御装置4は、ガスGが臨界圧力以上になる位置よりも深い地中の第2位置までガスGを圧送する。流量制御装置4がガスGを圧送する間、流量制御装置4は、貯留層R付近のガスGの圧力に基づいて、圧送するガスGの圧力を制御する。具体的には、流量制御装置4は、圧送するガスGの圧力を、貯留層R付近のガスGの圧力よりも高くなるように制御する。
[Bubble injection method]
Hereinafter, a method for injecting microbubbles will be described.
First, the flow rate control device 4 pumps the liquid L mixed with the gas G to a first position in the ground deeper than the position where the gas G becomes the critical pressure or higher. In parallel, the flow control device 4 pumps the gas G to a second position in the ground deeper than the position where the gas G is equal to or higher than the critical pressure. While the flow control device 4 pumps the gas G, the flow control device 4 controls the pressure of the gas G to be pumped based on the pressure of the gas G in the vicinity of the reservoir R. Specifically, the flow control device 4 controls the pressure of the gas G to be pumped so as to be higher than the pressure of the gas G near the reservoir R.

そして、バブル注入システムSは、第2位置まで圧送されたガスGを、細孔を有するせん断部材514に通してせん断することにより、第1位置まで圧送された液L中にマイクロバブルを発生させ、液L中に発生したマイクロバブルを貯留層Rに注入する。   Then, the bubble injection system S generates microbubbles in the liquid L pumped to the first position by shearing the gas G pumped to the second position through the shearing member 514 having pores. The microbubbles generated in the liquid L are injected into the reservoir layer R.

[バブル注入システムS1の製造方法]
以下、バブル注入システムS1の製造方法について説明する。
まず、圧入井51の外壁となる収容部511としてのケーシング管を地下に埋め込む。この際、ケーシング管を新規に埋め込む代わりに、過去に使用された坑井のケーシング管を収容部511として流用してもよい。
[Method for Manufacturing Bubble Injection System S1]
Hereinafter, a manufacturing method of the bubble injection system S1 will be described.
First, a casing pipe serving as an accommodating portion 511 that serves as an outer wall of the press-fit well 51 is embedded in the basement. At this time, instead of newly embedding the casing pipe, the casing pipe of the well used in the past may be used as the accommodating portion 511.

次に、液流路512となる管を準備し、液流路512となる管の先端にせん断部材514を固定する。また、液流路512となる管の外側面の所定の位置に、阻止部516となる硬質ゴムを固定する。続いて、ガスGが臨界圧力以上になる位置よりも深い地中の第1位置に達するように、液流路512となる管を設置する。次に、ガス流路513となる管を準備し、ガスGが臨界圧力以上になる位置よりも深い地中の第2位置に達するように、ガス流路513となる管を設置する。続いて、液流路512に固定された硬質ゴムを膨張させることにより、収容部511の内壁と液流路512の外壁との間が閉塞された状態にする。   Next, a pipe that becomes the liquid flow path 512 is prepared, and a shearing member 514 is fixed to the tip of the pipe that becomes the liquid flow path 512. Further, a hard rubber to be the blocking portion 516 is fixed at a predetermined position on the outer side surface of the tube to be the liquid flow path 512. Subsequently, a pipe serving as the liquid flow path 512 is installed so as to reach the first position in the ground deeper than the position where the gas G becomes the critical pressure or higher. Next, a pipe that becomes the gas flow path 513 is prepared, and a pipe that becomes the gas flow path 513 is installed so as to reach a second position in the ground deeper than the position where the gas G becomes the critical pressure or higher. Subsequently, the hard rubber fixed to the liquid flow path 512 is expanded, so that the space between the inner wall of the housing portion 511 and the outer wall of the liquid flow path 512 is closed.

その後、ガス管1、水処理設備2、液管3、流量制御装置4等の設備を陸上に設置し、液流路512とガス流路513とを流量制御装置4に接続することによりバブル注入システムS1が完成する。   Thereafter, the gas pipe 1, the water treatment equipment 2, the liquid pipe 3, the flow rate control device 4, etc. are installed on the land, and the liquid flow channel 512 and the gas flow channel 513 are connected to the flow rate control device 4 to inject bubbles. System S1 is completed.

[第1の実施形態に係るバブル注入システムS1による効果]
以上説明したように、バブル注入システムS1は、ガスGと液Lとをそれぞれ異なる流路で同時に圧入井51の底部まで圧送する。そして、バブル注入システムS1は、貯留層Rの付近でガスGと液Lとが混合した流体をせん断部材514によりせん断することにより、マイクロバブルを含む炭酸水を生成する。
[Effects of the bubble injection system S1 according to the first embodiment]
As described above, the bubble injection system S1 simultaneously pumps the gas G and the liquid L to the bottom of the press-fit well 51 through different flow paths. And the bubble injection | pouring system S1 produces | generates the carbonated water containing a microbubble by shearing the fluid which gas G and the liquid L mixed in the vicinity of the storage layer R with the shearing member 514. FIG.

その結果、バブル注入システムS1は、マイクロバブルの発生に用いられる水を枯渇させることなく、圧入井51の底部において、長期間に亘り、安定的にマイクロバブルを発生させることができる。また、圧入井51内において、ガスGと液Lとが別々に流動することから、ガスG及び液Lの圧送中に炭酸水が発生しないので、液流路512及びガス流路513が炭酸水により腐食しない。また、阻止部516が設けられていることにより、ガスGと液Lとが混合することにより炭酸水が発生する領域が限定的であるので、収容部511の大部分を、耐腐食性でない素材で形成することができる。   As a result, the bubble injection system S1 can stably generate microbubbles for a long period of time at the bottom of the injection well 51 without depleting water used for generating microbubbles. In addition, since the gas G and the liquid L flow separately in the press-fit well 51, carbonated water is not generated during the pressure feeding of the gas G and the liquid L. Therefore, the liquid channel 512 and the gas channel 513 are carbonated water. Will not corrode. Moreover, since the region where the carbonated water is generated by mixing the gas G and the liquid L is limited due to the provision of the blocking portion 516, most of the accommodating portion 511 is made of a material that is not corrosion resistant. Can be formed.

<第2の実施形態>
図3(a)は、第2の実施形態に係るバブル注入システムS2の構成図である。図3(b)は、図3(a)のX−X線断面図である。図3における斜線は、液Lが圧送されている領域であることを示している。
<Second Embodiment>
FIG. 3A is a configuration diagram of the bubble injection system S2 according to the second embodiment. FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line XX in FIG. The hatched lines in FIG. 3 indicate the region where the liquid L is being pumped.

バブル注入システムS2は、バブル注入システムS1の構成と比べて、せん断部材524が取付けられている位置が異なる。せん断部材524は、せん断部材514と同様に、多数の細孔を有する多孔質部材であるが、形状及び接続位置がせん断部材514と異なっている。具体的には、せん断部材524は、ガス流路513の内径よりも小さい外径の円柱形状をしており、ガス流路513の先端の内側でガス流路513に密着した状態で接続されている。   The bubble injection system S2 is different from the configuration of the bubble injection system S1 in the position where the shearing member 524 is attached. The shear member 524 is a porous member having a large number of pores, similar to the shear member 514, but is different in shape and connection position from the shear member 514. Specifically, the shear member 524 has a cylindrical shape with an outer diameter smaller than the inner diameter of the gas flow path 513 and is connected in close contact with the gas flow path 513 inside the tip of the gas flow path 513. Yes.

このような構成とすることにより、バブル注入システムS2は、バブル注入システムS1と同様に、ガスGと液Lとをそれぞれ異なる流路で同時に圧入井52の底部まで圧送する。そして、バブル注入システムS2は、貯留層Rの付近でガスGをせん断部材524によりせん断した後に、液Lと混合させることにより、マイクロバブルを含む炭酸水を生成する。   By setting it as such a structure, the bubble injection system S2 pumps the gas G and the liquid L simultaneously to the bottom part of the injection well 52 by a respectively different flow path similarly to the bubble injection system S1. And the bubble injection | pouring system S2 produces | generates the carbonated water containing a microbubble by making it mix with the liquid L, after shearing the gas G by the shear member 524 in the vicinity of the storage layer R. FIG.

その結果、バブル注入システムS2は、マイクロバブルの発生に用いられる水を枯渇させることなく、圧入井52の底部において、長期間に亘り、安定的にマイクロバブルを発生させることができる。また、圧入井52内において、ガスGと液Lが別々に流動することから、炭酸水による収容部511の腐食を防ぐことができる。さらに、せん断部材524を液Lが通過することなくガスGが通過するので、せん断部材524を液Lが通過する際に起こり得る細孔の目詰まりが生じにくくなる。   As a result, the bubble injection system S2 can stably generate microbubbles over a long period of time at the bottom of the injection well 52 without depleting water used for generating microbubbles. Moreover, since the gas G and the liquid L flow separately in the injection well 52, corrosion of the accommodating part 511 by carbonated water can be prevented. Furthermore, since the gas G passes through the shearing member 524 without passing through the liquid L, clogging of pores that may occur when the liquid L passes through the shearing member 524 is less likely to occur.

<第3の実施形態>
図4(a)は、第3の実施形態に係るバブル注入システムS3の構成図である。図4(b)は、図4(a)のX−X線断面図である。
バブル注入システムS3は、バブル注入システムS2の構成と比べて、流量制御装置4の構成と、圧入井53の構成とが異なる。圧入井53の構成については、収容部511が液流路であり、収容部511の内部にガス流路533が設けられている点で異なる。また、圧入井53は、ガス流路533の先端内側にせん断部材534を有し、ガス流路533の外壁と収容部511の内壁との間に固定部537を有する点が異なる。
<Third Embodiment>
FIG. 4A is a configuration diagram of a bubble injection system S3 according to the third embodiment. FIG. 4B is a sectional view taken along line XX in FIG.
The bubble injection system S3 is different from the bubble injection system S2 in the configuration of the flow rate control device 4 and the configuration of the press-fit well 53. About the structure of the injection well 53, the accommodating part 511 is a liquid flow path, and the point by which the gas flow path 533 is provided inside the accommodating part 511 differs. Further, the press-fit well 53 is different in that a shearing member 534 is provided on the inner side of the distal end of the gas passage 533 and a fixing portion 537 is provided between the outer wall of the gas passage 533 and the inner wall of the accommodating portion 511.

図4(a)に示す流量制御装置4は、接続部41、及びバルブ42a〜42fを有する。接続部41は、ガスGと液Lとをそれぞれ別々に圧入井51内に圧送する流路を有し、バルブ42a、42b、42c、及び42dに接続されている。バルブ42cは、圧入井53内に圧送するガスGの流量を調整するためのバルブであり、バルブ42fは、圧入井53内に圧送する液Lの流量を調整するためのバルブである。   The flow control device 4 illustrated in FIG. 4A includes a connection portion 41 and valves 42a to 42f. The connection part 41 has a flow path for separately pumping the gas G and the liquid L into the press-fit well 51, and is connected to the valves 42a, 42b, 42c, and 42d. The valve 42 c is a valve for adjusting the flow rate of the gas G to be pumped into the press-fit well 53, and the valve 42 f is a valve for adjusting the flow rate of the liquid L to be pumped into the press-fit well 53.

ガス流路533は、ガス流路513と同様に、金属製の円筒状の管であるが、ガス流路513と径が異なっていてもよい。例えば、ガス流路533は、ガス流路513の径よりも大きい径を有していてもよい。そして、ガス流路533の外壁と収容部511の内壁との間に流量制御装置4から液Lが圧送される。   The gas flow path 533 is a metal cylindrical tube similarly to the gas flow path 513, but may have a diameter different from that of the gas flow path 513. For example, the gas flow path 533 may have a diameter larger than the diameter of the gas flow path 513. Then, the liquid L is pumped from the flow control device 4 between the outer wall of the gas flow path 533 and the inner wall of the housing portion 511.

せん断部材534は、せん断部材524と同様に、多数の細孔を有する多孔質部材であるが、ガス流路533の内径よりも小さい外径の円柱形状をしており、ガス流路533の先端の内側でガス流路533に密着した状態で接続されている。また、固定部537は、収容部511の内壁とガス流路533の外壁とを接続し、ガス流路533の位置を固定する。固定部537は、例えば、アンカーである。   The shear member 534 is a porous member having a large number of pores, like the shear member 524, but has a cylindrical shape with an outer diameter smaller than the inner diameter of the gas flow path 533, and the tip of the gas flow path 533. Are connected in close contact with the gas flow path 533. In addition, the fixing portion 537 connects the inner wall of the housing portion 511 and the outer wall of the gas flow path 533 to fix the position of the gas flow path 533. The fixing part 537 is an anchor, for example.

バブル注入システムS3の製造方法は、バブル注入システムS1の製造時に必要だった液流路512となる管を設置する必要がない点で、バブル注入システムS1の製造方法と異なる。また、バブル注入システムS3の製造方法は、ガス流路533となる管を設置した後に、ガス流路533と収容部511とを固定部537で接続する工程を有する。   The method of manufacturing the bubble injection system S3 is different from the method of manufacturing the bubble injection system S1 in that it is not necessary to install a tube that becomes the liquid flow path 512 that was necessary when the bubble injection system S1 was manufactured. In addition, the manufacturing method of the bubble injection system S3 includes a step of connecting the gas flow path 533 and the accommodating portion 511 with the fixing portion 537 after installing the pipe to be the gas flow path 533.

このような構成とすることにより、バブル注入システムS3は、バブル注入システムS2と同様に、ガスGと液Lとをそれぞれ異なる流路で同時に圧入井53の底部まで圧送する。そして、バブル注入システムS3は、貯留層Rの付近でガスGをせん断部材534によりせん断した後に、せん断した後のガスGを液Lと混合させることにより、マイクロバブルを含む炭酸水を生成する。   By adopting such a configuration, the bubble injection system S3 simultaneously pumps the gas G and the liquid L to the bottom of the press-fit well 53 through different flow paths, similarly to the bubble injection system S2. Then, after the gas G is sheared by the shearing member 534 in the vicinity of the reservoir R, the bubble injection system S3 mixes the sheared gas G with the liquid L, thereby generating carbonated water containing microbubbles.

その結果、バブル注入システムS3は、圧入井53の底部において、長期間に亘り、安定的にマイクロバブルを発生させることができる。また、バブル注入システムS3は、せん断部材534を液Lが通過することなくガスGが通過するので、せん断部材534内を液Lが通過する際に起こり得る細孔の目詰まりが生じにくくなる。さらに、バブル注入システムS3は、ガス流路533の内径をガス流路513の内径に比べて大きくすることにより、バブル注入システムS1、S2に比べて大容量のガスGを圧送することができるので、発生するマイクロバブルの濃度を高めることができる。   As a result, the bubble injection system S3 can stably generate microbubbles at the bottom of the press-fit well 53 for a long period of time. Further, in the bubble injection system S3, since the gas G passes through the shearing member 534 without passing the liquid L, clogging of the pores that may occur when the liquid L passes through the shearing member 534 is less likely to occur. Further, the bubble injection system S3 can pump a large volume of gas G compared to the bubble injection systems S1 and S2 by making the inner diameter of the gas flow path 533 larger than the inner diameter of the gas flow path 513. , The concentration of the generated microbubbles can be increased.

<第4の実施形態>
図5(a)は、第4の実施形態に係るバブル注入システムS4の構成図である。図5(b)は、図5(a)のX−X線断面図である。図5における斜線は、液Lが圧送されている領域であることを示している。
<Fourth Embodiment>
FIG. 5A is a configuration diagram of a bubble injection system S4 according to the fourth embodiment. FIG.5 (b) is XX sectional drawing of Fig.5 (a). The hatched lines in FIG. 5 indicate the region where the liquid L is being pumped.

バブル注入システムS4は、バブル注入システムS2の構成と比べて、流量制御装置4の構成と、圧入井54の構成とが異なる。圧入井54の構成については、ガス流路543が液流路542の内部に設けられておらず、ガス流路543と液流路542とが収容部511内に並列に収容されており、収容部511とガス流路543及び液流路542との間に阻止部546が設けられている点で異なる。   In the bubble injection system S4, the configuration of the flow control device 4 and the configuration of the press-fit well 54 are different from the configuration of the bubble injection system S2. Regarding the configuration of the press-fit well 54, the gas flow path 543 is not provided inside the liquid flow path 542, and the gas flow path 543 and the liquid flow path 542 are accommodated in parallel in the accommodating portion 511. The difference is that a blocking portion 546 is provided between the portion 511 and the gas flow path 543 and the liquid flow path 542.

流量制御装置4は、接続部41、及びバルブ42a〜42hを有する。接続部41は、ガスGと液Lとをそれぞれ別々に圧入井54内に圧送する流路を有し、バルブ42a、42b、42c、42d、42e、及び42fに接続されている。バルブ42cは、圧入井53内に圧送するガスGの流量を調整するためのバルブであり、バルブ42bは、圧入井53内に圧送する液Lの流量を調整するためのバルブである。   The flow rate control device 4 includes a connection part 41 and valves 42a to 42h. The connection part 41 has a flow path for separately pumping the gas G and the liquid L into the injection well 54, and is connected to valves 42a, 42b, 42c, 42d, 42e, and 42f. The valve 42 c is a valve for adjusting the flow rate of the gas G to be pumped into the press-fit well 53, and the valve 42 b is a valve for adjusting the flow rate of the liquid L to be pumped into the press-fit well 53.

液流路542及びガス流路543は、液流路512及びガス流路513と同様に金属製の円筒形状をしており、ガス流路543の外径と液流路542の外径とを合算した長さよりも大きな内径を有する円筒形状の収容部511に並列に収容されている。   The liquid flow path 542 and the gas flow path 543 have a cylindrical shape made of metal, similar to the liquid flow path 512 and the gas flow path 513, and the outer diameter of the gas flow path 543 and the outer diameter of the liquid flow path 542 are determined. It is accommodated in parallel in a cylindrical accommodating portion 511 having an inner diameter larger than the combined length.

また、ガス流路543は、液流路542が液Lを圧送する第1位置よりも深い第2位置までガスGを圧送する。他の実施形態と同様に、第1位置及び第2位置は、流量制御装置4から圧送されたガスGが臨界圧力以上になる位置よりも深い地中の位置である。図5においては、第1位置よりも第2位置の方が深い位置であるが、本実施形態においては、第1位置よりも第2位置の方が浅い位置であってもよい。   The gas channel 543 pumps the gas G to a second position deeper than the first position where the liquid channel 542 pumps the liquid L. As in the other embodiments, the first position and the second position are deeper positions in the ground than the position where the gas G pumped from the flow control device 4 is equal to or higher than the critical pressure. In FIG. 5, the second position is deeper than the first position, but in the present embodiment, the second position may be shallower than the first position.

せん断部材544は、せん断部材524と同様に多数の細孔を有する多孔質部材である。せん断部材544は、ガス流路543管の内径よりも小さい外径の円柱形状をしており、ガス流路543の先端の内側でガス流路543に密着した状態で接続されている。   The shear member 544 is a porous member having a large number of pores, similar to the shear member 524. The shear member 544 has a cylindrical shape with an outer diameter smaller than the inner diameter of the gas flow path 543 tube, and is connected in close contact with the gas flow path 543 inside the tip of the gas flow path 543.

阻止部546は、阻止部516と同様のパッカーであり、貯留層Rよりも高い位置における収容部511と液流路542及びガス流路543との間に設けられている。液流路542から排出された液Lは、阻止部546よりも深い領域に溜まり、溜まった液Lに、せん断部材544でせん断されたガスGが放出されることによりマイクロバブルが発生する。阻止部546によって、マイクロバブルと液Lとの混合流体が収容部511の内壁と液流路542の外壁及びガス流路543の外壁との間を上昇していくことが阻止される。   The blocking unit 546 is a packer similar to the blocking unit 516, and is provided between the storage unit 511, the liquid channel 542, and the gas channel 543 at a position higher than the reservoir layer R. The liquid L discharged from the liquid flow path 542 accumulates in a region deeper than the blocking portion 546, and the gas G sheared by the shearing member 544 is released into the accumulated liquid L, thereby generating microbubbles. The blocking part 546 prevents the mixed fluid of the microbubbles and the liquid L from rising between the inner wall of the storage part 511, the outer wall of the liquid channel 542, and the outer wall of the gas channel 543.

バブル注入システムS4の製造方法における基本的な工程は、バブル注入システムS1〜S3の製造方法と同等である。ただし、バブル注入システムS4の製造方法は、液流路542及びガス流路543のそれぞれを設置する順序が任意であるという点で、バブル注入システムS1〜S3の製造方法と異なる。   The basic steps in the method for manufacturing the bubble injection system S4 are the same as those for the bubble injection systems S1 to S3. However, the manufacturing method of the bubble injection system S4 is different from the manufacturing method of the bubble injection systems S1 to S3 in that the order of installing the liquid channel 542 and the gas channel 543 is arbitrary.

以上説明したように、バブル注入システムS4は、バブル注入システムS2と同様に、ガスGと液Lとをそれぞれ異なる流路で同時に圧入井54の底部まで圧送する。そして、バブル注入システムS4は、貯留層Rの付近でガスGをせん断部材544によりせん断した後に、液Lと混合させることにより、マイクロバブルを含む炭酸水を生成する。   As described above, the bubble injection system S4 simultaneously pumps the gas G and the liquid L to the bottom of the press-fit well 54 through different flow paths, similarly to the bubble injection system S2. And the bubble injection | pouring system S4 produces | generates the carbonated water containing a microbubble by making the gas G shear by the shearing member 544 in the vicinity of the storage layer R, and then making it mix with the liquid L.

その結果、バブル注入システムS4は、圧入井54の底部において、長期間に亘り、安定的にマイクロバブルを発生させることができる。また、バブル注入システムS4においては、圧入井54内において、ガスGと液Lが別々に流動することから、炭酸水による収容部511の腐食を防ぐことができる。さらに、バブル注入システムS4においては、せん断部材544を液Lが通過することなくガスGが通過するので、せん断部材544を液Lが通過する際に起こり得る細孔の目詰まりが生じにくくなる。   As a result, the bubble injection system S4 can stably generate microbubbles at the bottom of the press-fit well 54 for a long period of time. Further, in the bubble injection system S4, the gas G and the liquid L flow separately in the press-fit well 54, so that corrosion of the housing portion 511 due to carbonated water can be prevented. Further, in the bubble injection system S4, since the gas G passes through the shearing member 544 without passing the liquid L, clogging of pores that may occur when the liquid L passes through the shearing member 544 is less likely to occur.

<第5の実施形態>
図6(a)は、第5の実施形態に係るバブル注入システムS5の構成図である。図6(b)は、図6(a)のX−X線断面図である。図6における斜線は、液Lが圧送されている領域であることを示している。
<Fifth Embodiment>
FIG. 6A is a configuration diagram of a bubble injection system S5 according to the fifth embodiment. FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. A hatched line in FIG. 6 indicates a region where the liquid L is being pumped.

バブル注入システムS5は、バブル注入システムS4の構成と比べて、せん断部材554がガス流路543に設けられておらず、注入部515に設けられている点で異なる。せん断部材554は、せん断部材544と同様に、多数の細孔を有する多孔質部材であり、収容部511における注入部515に対応する位置に、注入部515を覆うようにして設けられている。   The bubble injection system S5 is different from the configuration of the bubble injection system S4 in that the shearing member 554 is not provided in the gas flow path 543 but is provided in the injection portion 515. Similar to the shear member 544, the shear member 554 is a porous member having a large number of pores, and is provided at a position corresponding to the injection portion 515 in the accommodating portion 511 so as to cover the injection portion 515.

このような構成とすることにより、バブル注入システムS5は、バブル注入システムS4と同様に、ガスGと液Lとをそれぞれ異なる流路で同時に圧入井55の底部まで圧送する。そして、バブル注入システムS5は、貯留層Rの付近でガスGと液Lとを混合し、ガスGと液Lとが混合した流体を注入部515に設けられたせん断部材554を通過させる。そして、ガスGと液Lとが混合した流体をせん断部材554によりせん断し、マイクロバブルを含む炭酸水を生成する。   By setting it as such a structure, the bubble injection | pouring system S5 pumps the gas G and the liquid L simultaneously to the bottom part of the injection well 55 with a respectively different flow path similarly to the bubble injection | pouring system S4. And the bubble injection | pouring system S5 mixes the gas G and the liquid L in the vicinity of the storage layer R, and lets the fluid with which the gas G and the liquid L mixed pass the shearing member 554 provided in the injection | pouring part 515. FIG. Then, the fluid in which the gas G and the liquid L are mixed is sheared by the shearing member 554 to generate carbonated water containing microbubbles.

その結果、バブル注入システムS5は、圧入井55の底部において、長期間に亘り、安定的にマイクロバブルを発生させることができる。また、バブル注入システムS5においては、圧入井55内において、ガスGと液Lが別々に流動することから、炭酸水による収容部511の腐食を防ぐことができる。   As a result, the bubble injection system S5 can stably generate microbubbles at the bottom of the injection well 55 for a long period of time. Further, in the bubble injection system S5, the gas G and the liquid L flow separately in the press-fit well 55, so that corrosion of the housing portion 511 due to carbonated water can be prevented.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。また、実施の形態の任意の組み合わせによって生じる新たな実施の形態も、本発明の実施の形態に含まれる。組み合わせによって生じる新たな実施の形態の効果は、もとの実施の形態の効果を合わせ持つ。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention. In addition, new embodiments generated by any combination of the embodiments are also included in the embodiments of the present invention. The effect of the new embodiment produced by the combination has the effect of the original embodiment.

例えば、上記の説明においては、水処理設備2において、随伴水に界面活性剤を添加することにより液Lを生成する例を示したが、液Lに界面活性剤を添加しなくてもよい。また、水処理設備2においては、随伴水以外の液を処理することにより液Lを生成してもよい。   For example, in the above description, in the water treatment facility 2, an example in which the liquid L is generated by adding the surfactant to the accompanying water has been shown, but the surfactant may not be added to the liquid L. Moreover, in the water treatment equipment 2, you may produce | generate the liquid L by processing liquids other than accompanying water.

S・・・バブル注入システム
G・・・ガス
L・・・液
R・・・貯留層
1・・・ガス管
2・・・水処理設備
3・・・液管
4・・・流量制御装置
41・・・接続部
42・・・バルブ
5、51、52、53、54,55・・・圧入井
501、511・・・収容部
502、514、524、534、544、554・・・せん断部材
503、515・・・注入部
512、542・・・液流路
513、533、543・・・ガス流路
516、546・・・阻止部
537・・・固定部
S ... Bubble injection system G ... Gas L ... Liquid R ... Reservoir 1 ... Gas pipe 2 ... Water treatment facility 3 ... Liquid pipe 4 ... Flow rate control device 41 ... Connection part 42 ... Valves 5, 51, 52, 53, 54, 55 ... Press-in wells 501, 511 ... Storage parts 502, 514, 524, 534, 544, 554 ... Shear members 503, 515 ... injection part 512, 542 ... liquid flow path 513, 533, 543 ... gas flow path 516, 546 ... blocking part 537 ... fixed part

Claims (7)

ガス成分を含む流体であるガス流体に基づいて発生したバブルを含む液体を炭化水素の貯留層に注入するバブル注入システムであって、
前記貯留層の近傍の第1位置まで、前記ガス流体と混合される液を圧送する液流路と、
前記貯留層の近傍の第2位置まで前記ガス流体を圧送するガス流路と、
前記ガス流路により圧送された前記ガス流体を通過させ、細孔により前記ガス流体をせん断することにより、前記液流路によって圧送された前記液中にバブルを発生させるせん断部材と、
前記液中に発生したバブルを前記液とともに前記貯留層に注入する注入部と、
を備えることを特徴とするバブル注入システム。
A bubble injection system for injecting a liquid containing bubbles generated based on a gas fluid that is a fluid containing a gas component into a hydrocarbon reservoir,
A liquid flow path for pumping a liquid mixed with the gas fluid to a first position in the vicinity of the reservoir;
A gas flow path for pumping the gas fluid to a second position in the vicinity of the reservoir;
A shearing member for generating bubbles in the liquid pumped by the liquid flow path by passing the gas fluid pumped by the gas flow path and shearing the gas fluid by pores;
An injection part for injecting bubbles generated in the liquid into the reservoir together with the liquid;
A bubble injection system comprising:
前記せん断部材は、粒径が100μm以下の前記バブルを発生させる多孔質部材であることを特徴とする、
請求項1に記載のバブル注入システム。
The shearing member is a porous member that generates the bubbles having a particle size of 100 μm or less,
The bubble injection system according to claim 1.
前記ガス流路及び前記液流路を収容する収容部をさらに備え、
前記注入部が、前記収容部における前記貯留層の深さに対応する位置に形成されていることを特徴とする、
請求項1又は2に記載のバブル注入システム。
A storage section for storing the gas flow path and the liquid flow path;
The injection part is formed at a position corresponding to the depth of the reservoir in the accommodating part,
The bubble injection system according to claim 1 or 2.
前記ガス流路が、前記液流路の内部に設けられていることを特徴とする、
請求項1から3のいずれか一項に記載のバブル注入システム。
The gas flow path is provided inside the liquid flow path,
The bubble injection system according to any one of claims 1 to 3.
ガス成分を含む流体であるガス流体に基づいて発生したバブルを含む液体を炭化水素の貯留層に注入するバブル注入方法であって、
前記貯留層の近傍の第1位置まで、前記ガス流体と混合される液を圧送する工程と、
前記貯留層の近傍の第2位置まで前記ガス流体を圧送する工程と、
前記第2位置まで圧送された前記ガス流体を、細孔を有するせん断部材に通してせん断することにより、前記第1位置まで圧送された前記液中にバブルを発生させる工程と、
前記液中に発生したバブルを前記液とともに前記貯留層に注入する工程と、
を有することを特徴とするバブル注入方法。
A bubble injection method for injecting a liquid containing bubbles generated based on a gas fluid that is a fluid containing a gas component into a hydrocarbon reservoir,
Pumping the liquid mixed with the gas fluid to a first position in the vicinity of the reservoir;
Pumping the gas fluid to a second position in the vicinity of the reservoir;
Generating a bubble in the liquid pumped to the first position by shearing the gas fluid pumped to the second position through a shearing member having pores;
Injecting bubbles generated in the liquid into the reservoir together with the liquid;
A bubble injection method characterized by comprising:
ガス成分を含む流体であるガス流体に基づいて発生したバブルを含む液体を炭化水素の貯留層に注入するバブル注入システムの製造方法であって、
前記貯留層の近傍の第1位置に達するように、前記ガス流体と混合される液を圧送するための液流路を設置する工程と、
前記貯留層の近傍の第2位置に達するように、前記ガス流体を圧送するためのガス流路を設置する工程と、
前記ガス流体を圧送するガス流路の内側に、前記ガス流路により圧送された前記ガス流体を通過させ、細孔により前記ガス流体をせん断することにより、前記液流路によって圧送された前記液中にバブルを発生させるせん断部材を固定する工程と、
を有することを特徴とするバブル注入システムの製造方法。
A method for producing a bubble injection system for injecting a liquid containing bubbles generated based on a gas fluid, which is a fluid containing a gas component, into a hydrocarbon reservoir,
Installing a liquid flow path for pumping the liquid mixed with the gas fluid so as to reach the first position in the vicinity of the reservoir;
Installing a gas flow path for pumping the gas fluid to reach a second position in the vicinity of the reservoir;
The liquid fluid pumped by the liquid flow channel is passed through the gas flow channel for pumping the gas fluid by passing the gas fluid pumped by the gas flow channel and shearing the gas fluid by pores. Fixing a shearing member that generates bubbles therein;
A method for manufacturing a bubble injection system, comprising:
前記液流路を設置する工程及び前記ガス流路を設置する工程の前に、前記液流路及び前記ガス流路を収容する収容部を設置する工程を有することを特徴とする、
請求項6に記載のバブル注入システムの製造方法。
Before the step of installing the liquid channel and the step of installing the gas channel, the method includes a step of installing an accommodating portion for storing the liquid channel and the gas channel,
The manufacturing method of the bubble injection | pouring system of Claim 6.
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