JP2017214235A - Bright material and use thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、新規な光輝材と、当該光輝材を配合した化粧料および塗料とに関し、更に詳細には、生体に対する影響が少なく、かつ、容易に製造できる光輝材と、当該光輝材を配合した化粧料および塗料に関する。 The present invention relates to a novel glittering material, and a cosmetic and paint containing the glittering material, and more specifically, a glittering material that has little influence on a living body and can be easily manufactured, and the glittering material. It relates to cosmetics and paints.
例えばファンデーション等のメークアップ化粧料やペンキ等の塗料には、光沢性を付与するために光輝材が配合されている。例えば、化粧料に用いられる光輝材には、パール顔料と称されるものがある。 For example, a makeup material such as a foundation or a paint such as paint contains a glittering material in order to impart gloss. For example, a bright material used in cosmetics includes what is called a pearl pigment.
光輝材では、透明材料の屈折率差を利用して光を干渉させることで発色させる干渉色(構造色ともいう)が利用されている。干渉色は自然界にも存在しており、その例としてモルフォ蝶及び玉虫の羽、サンマ及びイワシの体表、クジャクの羽の鮮やかな色彩が挙げられる。干渉色は屈折率が異なる材料同士の界面での光の反射(フレネル反射)を利用したものであり、その反射率は界面での屈折率差に依存する。 In the glittering material, an interference color (also referred to as a structural color) is used in which color is developed by causing light to interfere using the refractive index difference of the transparent material. Interference colors also exist in nature, and examples include the morpho butterfly wings, the surface of saury and sardines, and the vivid colors of peacock wings. The interference color utilizes light reflection (Fresnel reflection) at the interface between materials having different refractive indexes, and the reflectance depends on the refractive index difference at the interface.
このような干渉色を利用した光輝材は、色素に比べて変退色が起きにくい、金属光沢のような色味(色調)を実現できる、干渉により特定の波長と強めることでより鮮やかな呈色を実現できる等の利点がある。 Bright materials using such interference colors are less likely to cause discoloration than pigments, can achieve a metallic luster (color tone), and more vibrant color by strengthening to a specific wavelength due to interference There is an advantage that can be realized.
酸化チタンは屈折率が高い無機材料の一つである。従来から、上述したパール顔料であれば、例えばマイカ等の板状紛体の表面上にナノサイズの酸化チタンをコーティングして得られることが知られている。 Titanium oxide is one of inorganic materials having a high refractive index. Conventionally, it is known that the pearl pigment described above can be obtained by coating nano-sized titanium oxide on the surface of a plate-like powder such as mica.
その一方で、近年では、ナノサイズの酸化チタンが人体に悪影響を及ぼしうるとの報告もなされている(非特許文献1)。しかしながら、干渉光に基づく呈色に必要な性質である、比較的高い透光性(例えば、可視光での透明性)と屈折率とを兼ね備える材料として、酸化チタンに代替し得るものは多くはない。 On the other hand, in recent years, it has been reported that nano-sized titanium oxide can adversely affect the human body (Non-patent Document 1). However, many materials that can replace titanium oxide as a material that has both a relatively high light-transmitting property (for example, transparency in visible light) and a refractive index, which are properties necessary for coloration based on interference light, are many. Absent.
また酸化チタン、酸化亜鉛などの酸化力は高く、他成分の分解や、皮膚への悪影響を抑制するためには被覆等の処理により光触媒活性を失活させる手間を要する(非特許文献2)。 In addition, the oxidizing power of titanium oxide, zinc oxide and the like is high, and it takes time and effort to deactivate the photocatalytic activity by treatment such as coating in order to suppress decomposition of other components and adverse effects on the skin (Non-patent Document 2).
また、干渉色を利用した光輝材において、より強く呈色させるために、例えば光輝材そのものを多層膜で形成することによって、単層膜よりも反射率を上げる方法も知られている。しかし、光輝材をなす材料の屈折率自体が高くない場合は、多数の積層を要し、製造コストが上昇する。 In addition, in order to make the bright material using the interference color more intensely colored, for example, a method of increasing the reflectance as compared with a single layer film by forming the bright material itself with a multilayer film is also known. However, when the refractive index of the material forming the glittering material is not high, a large number of layers are required, and the manufacturing cost increases.
したがって、生体に対する影響が少なく、呈色性に優れ、かつ、容易に得られる、新規な光輝材の開発が望まれていた。 Therefore, it has been desired to develop a new glittering material that has little influence on the living body, is excellent in coloration, and can be easily obtained.
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであって、生体に対する影響が少なく、呈色性に優れ、かつ、容易に得られる光輝材とその利用とを提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a luster material that has little influence on a living body, is excellent in coloration, and can be easily obtained, and uses thereof. .
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、グラファイト状窒化炭素フィルムを粉砕して得られるフィルム片であれば、上記課題を解決する光輝材として用いることができることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a film piece obtained by pulverizing a graphite-like carbon nitride film can be used as a glittering material that solves the above problems. The headline and the present invention were completed.
すなわち、本発明の光輝材は、グラファイト状窒化炭素フィルムのフィルム片を含むものある。 That is, the glittering material of the present invention includes a film piece of a graphite-like carbon nitride film.
本発明の光輝材において、上記グラファイト状窒化炭素フィルムは、X+ mYm−で表される化合物(X+は、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオン、メレミウムイオン、下記式(I)で示されるグアニジン誘導体イオン、または下記式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンであり、Ym−は陰イオンであり、mはYの価数である)の重合物であることが好ましい。 In the glitter material of the present invention, the graphite-like carbon nitride film is a compound represented by X + m Y m- (X + is a guanidinium ion, a melaminium ion, a melmium ion, a melium ion, ) Or a guanidine derivative ion represented by the following formula (II), Y m− is an anion, and m is a valence of Y).
(式(I)および(II)中、R1、R2およびR3は、互いに独立して、アミノ基、ニトロ基、炭素数1〜10のアルキル基、−(C2H4O)n−R4(n=1〜10、R4は炭素数1〜4のアルキル基)、ハロゲン、または一級アミド基を表す。)
本発明の光輝材において、上記フィルム片の膜厚は50nm〜2μmであることが好ましい。
(In the formula (I) and (II), R 1, R 2 and R 3 independently of one another, an amino group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, - (C 2 H 4 O ) n —R 4 (n = 1 to 10, R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), a halogen, or a primary amide group.
In the glitter material of the present invention, the film piece preferably has a film thickness of 50 nm to 2 μm.
本発明の光輝材において、上記フィルム片の長さは1μm〜2mmであることが好ましい。 In the bright material of the present invention, the length of the film piece is preferably 1 μm to 2 mm.
本発明の光輝材において、上記フィルム片は、基材に付着したものであってもよい。 In the glitter material of the present invention, the film piece may be attached to a base material.
本発明の光輝材において、上記基材は、表面が負電荷を帯びているか、または表面にπ電子を有していることが好ましい。 In the glittering material of the present invention, it is preferable that the substrate has a negative charge on the surface or has π electrons on the surface.
本発明に係る光輝材において、上記基材は、マイカであることが好ましい。 In the glitter material according to the present invention, the base material is preferably mica.
また、本発明は、本発明に係る光輝材が配合された化粧料および塗料を提供する。 Moreover, this invention provides the cosmetics and coating material with which the brilliant material which concerns on this invention was mix | blended.
本発明によれば、グラファイト状窒化炭素フィルムのフィルム片を含む光輝材とすることによって、生体に対する影響が少なく、呈色性に優れ、かつ、容易に得られるとともに、例えば化粧料及び塗料に配合させることができる光輝材を提供することができる。 According to the present invention, a bright material including a film piece of a graphite-like carbon nitride film has little influence on a living body, is excellent in coloration, and can be easily obtained. For example, it is blended in cosmetics and paints. It is possible to provide a glittering material that can be made to occur.
〔光輝材〕
本発明の光輝材は、グラファイト状窒化炭素フィルム(以下、「g−C3N4フィルム」ということがある)のフィルム片を含むものである。なお、本明細書において、「光輝材」とは、光の干渉または散乱等に基づく呈色を利用した材質であって、光沢性を付与できる材質を意味するものとする。
(Bright material)
The glitter material of the present invention includes a film piece of a graphite-like carbon nitride film (hereinafter sometimes referred to as “g-C 3 N 4 film”). In the present specification, the “brilliant material” means a material using coloration based on interference or scattering of light and the like and capable of giving gloss.
本発明において、g−C3N4フィルムは、単層または多層のシート構造を有している。なお、単層のシート構造を有しているg−C3N4フィルムでは、メレム構造単位が二次元方向に広がっている。多層のシート構造を有しているg−C3N4フィルムでは、メレムの構造単位が二次元方向に広がっているシートが、複数、積層している。また、1つのg−C3N4フィルムにおいて、層の数が異なる箇所があってもよい。さらに、g−C3N4フィルムが詳しくは後述する基材に付着している場合には、各層(1または複数の相)は基材に対して平行に積層している。 In the present invention, the g-C 3 N 4 film has a single-layer or multilayer sheet structure. Note that in the g-C 3 N 4 film having a single-layer sheet structure, the melem structural units are spread in a two-dimensional direction. In a g-C 3 N 4 film having a multilayer sheet structure, a plurality of sheets in which melem structural units spread in a two-dimensional direction are laminated. Further, in one g-C 3 N 4 film, there may be a portion where the number of layers is different. Further, when the g-C 3 N 4 film is attached to a substrate described in detail later, each layer (one or a plurality of phases) is laminated in parallel to the substrate.
本発明におけるg−C3N4フィルムは、X+ mYm−で表される化合物(「化合物X+ mYm−」と称する)の重合物であることが好ましい。なお、g−C3N4フィルムの製造方法については詳しくは後述する。 The g-C 3 N 4 film in the present invention is preferably a polymer of a compound represented by X + m Y m- (referred to as “compound X + m Y m− ”). Incidentally, it details a method for manufacturing the g-C 3 N 4 film will be described later.
上記化合物X+ mYm−において、X+は、グアニジニウムイオン(「グアニジウムイオン」ともいう)、メラニニウムイオン、メラミウムイオン、メレミウムイオン、下記式(1)で示されるグアニジン誘導体イオン、または下記式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンである。 In the compound X + m Y m- , X + is a guanidinium ion (also referred to as “guanidinium ion”), a melaninium ion, a melmium ion, a melium ion, or a guanidine derivative ion represented by the following formula (1). Or a guanidine derivative ion represented by the following formula (II).
上記式(I)におけるR1は、アミノ基、ニトロ基、炭素数1〜10、好ましくは1〜5、より好ましくは1〜3のアルキル基、−(C2H4O)n−R4、ハロゲン、または一級アミド基である。−(C2H4O)n−R4におけるnは1〜10、好ましくは1〜5、より好ましくは1〜3であり、R4は炭素数1〜4のアルキル基である。また、−(C2H4O)nの部分は、エチレンオキシド基であり、C原子がグアニジンのN原子に結合するものが意図される。炭素数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、およびイソブチル基等が挙げられる。ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、およびヨウ素が挙げられる。R1として好ましくは、アミノ基およびニトロ基である。 R 1 in the above formula (I) is an amino group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10, preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3 carbon atoms, — (C 2 H 4 O) n —R 4. , Halogen, or a primary amide group. - (C 2 H 4 O) n is 1 to 10 in the n -R 4, preferably 1 to 5, more preferably from 1 to 3, R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Also, - (C 2 H 4 O ) n moiety of are ethylene oxide groups, which C atoms are bonded to the N atom of the guanidine are contemplated. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and an isobutyl group. Halogen includes fluorine, chlorine, bromine, and iodine. R 1 is preferably an amino group or a nitro group.
上記式(II)におけるR2およびR3は、互いに独立して、アミノ基、ニトロ基、炭素数1〜10、好ましくは1〜5、より好ましくは1〜3のアルキル基、−(C2H4O)n−R4、ハロゲン、または一級アミド基である。−(C2H4O)n−R4およびハロゲンについての説明は、上記式(I)における説明とそれぞれ同じである。R2およびR3として好ましくは、互いに独立して、アミノ基およびニトロ基である。 R 2 and R 3 in the formula (II) are independently of each other an amino group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, — (C 2 H 4 O) n -R 4, halogen or a primary amide group. The description of — (C 2 H 4 O) n —R 4 and halogen is the same as that in the above formula (I). R 2 and R 3 are preferably independently of each other an amino group and a nitro group.
X+ mは、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオンまたはメレミウムイオンであることが好ましく、グアニジニウムイオンであることがより好ましい。 X + m is preferably a guanidinium ion, a melaminium ion, a melaminium ion or a melemium ion, and more preferably a guanidinium ion.
X+ mYm−におけるYm−は陰イオンであり、mはYの価数である。陰イオンとしては、例えば、CO3 2−、SO4 2−、Cl−、HPO4 2−、NO3 −、SCN−、SO3NH3 −、CrO4 2−、p-toluenesulfonate、およびReO4 −などが挙げられる。Ym−は、CO3 2−、SO4 2−またはCl−であることが好ましく、CO3 2−であることが特に好ましい。Ym−がCO3 2−である場合、化合物X+ mYm−には融点が存在しないため、化合物X+ mYm−またはその反応物が気化する前にCO3 2−が系から抜け出しにくいと考えられる。そのため、Ym−がCO3 2−である場合、Ym−が他の場合と比較して、気化する化合物X+ mYm−またはその反応物の量が多くなり、より効率的にフィルムを製造することができると考えられる。 Y m-is the X + m Y m- is an anion, m is the valence of Y. Examples of the anion include CO 3 2− , SO 4 2− , Cl − , HPO 4 2− , NO 3 − , SCN − , SO 3 NH 3 − , CrO 4 2− , p-toluenesulfonate, and ReO 4. - and the like. Y m− is preferably CO 3 2− , SO 4 2− or Cl − , and particularly preferably CO 3 2− . If Y m-is CO 3 is 2, since the compound X + m Y m- in the absence of the melting point, the CO 3 2- is a system before the compound X + m Y m-, or the reaction product thereof is vaporized It is thought that it is hard to escape. Therefore, when Y m-is CO 3 is 2, as compared with the case Y m-is another, the number amount of compound X + m Y m-, or reaction product thereof to vaporize, more efficient film It is thought that can be manufactured.
本発明の光輝材を構成するフィルム片とは、上述したg−C3N4フィルムが持つ単層または多層のシート構造を維持している、g−C3N4フィルムの小片を指す。このフィルム片は、g−C3N4フィルムの各種特性(例えば、可視光領域での優れた光透過性、高屈折率(入射光の波長にも依存するが、面内方向の屈折率は2〜4の範囲内であり、例えば、3.0〜2.0程度である)および低光触媒活性、等)を備えるため、呈色性に優れ、かつ環境や生体(特に人体)に対する影響が少ない光輝材として利用可能である。 The film piece constituting the glitter material of the present invention refers to a small piece of g-C 3 N 4 film that maintains the single-layer or multi-layer sheet structure of the g-C 3 N 4 film described above. This film piece has various characteristics of g-C 3 N 4 film (for example, excellent light transmittance in the visible light region, high refractive index (depending on the wavelength of incident light, the refractive index in the in-plane direction is 2) to 4), for example, about 3.0 to 2.0) and low photocatalytic activity, etc.), and is excellent in coloration and has an influence on the environment and the living body (particularly the human body). It can be used as a low brightness material.
本発明の光輝材を構成するフィルム片の形状は特に限定されないが、例えば、略円盤形、略楕円盤形、略多角形盤状(略長方形盤状)、波打った形状等が挙げられる。また、フィルム片は、例えば筒状に丸まった形状となっていてもよい。 Although the shape of the film piece which comprises the brilliant material of this invention is not specifically limited, For example, a substantially disc shape, a substantially elliptic disc shape, a substantially polygon disc shape (substantially rectangular disc shape), a wavy shape etc. are mentioned. Moreover, the film piece may be a shape rounded into a cylindrical shape, for example.
本発明の光輝材を構成するフィルム片の膜厚は特に限定されないが、例えば、50nm〜2μmの範囲内であり、好ましくは100nm〜1.5μmの範囲内であり、より好ましくは100nm〜1μmの範囲内である。ただし、フィルム片の膜厚は、本発明の光輝材の用途に応じて適宜設定すればよい。 The film thickness of the film piece constituting the glittering material of the present invention is not particularly limited, but is, for example, in the range of 50 nm to 2 μm, preferably in the range of 100 nm to 1.5 μm, and more preferably in the range of 100 nm to 1 μm. Within range. However, what is necessary is just to set the film thickness of a film piece suitably according to the use of the brilliant material of this invention.
本発明の光輝材を例えばファンデーション等の化粧料に配合する場合には、フィルム片の膜厚は50nm〜2μm、好ましくは100nm〜1.5μm、より好ましくは100nm〜1μmである。 When the glitter material of the present invention is blended in cosmetics such as a foundation, the film thickness of the film piece is 50 nm to 2 μm, preferably 100 nm to 1.5 μm, more preferably 100 nm to 1 μm.
また、本発明の光基材を例えばペンキ等の塗料に配合する場合には、フィルム片の膜厚は、50nm〜2μm、好ましくは50nm〜1μm、より好ましくは100nm〜500nmである。 Moreover, when mix | blending the optical base material of this invention with coating materials, such as a paint, the film thickness of a film piece is 50 nm-2 micrometers, Preferably it is 50 nm-1 micrometer, More preferably, it is 100 nm-500 nm.
また本発明において、フィルム片の長さは利用可能なフィルムの粉砕方法や用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、例えば1μm〜2mmの範囲内であり、好ましくは1μm〜800μmの範囲内であり、より好ましくは1μm〜500μmの範囲内であり、さらに好ましくは1μm〜300μmの範囲内である。フィルム片の幅も特に限定されないが、例えば、1μm〜800μmの範囲内であり、好ましくは1μm〜500μmの範囲内であり、より好ましくは1μm〜300μmの範囲内である(ただし、同一のフィルム片において、幅は長さ以下である)。ただし、フィルム片の長さおよび幅は、本発明の光輝材の用途に応じて適宜設定すればよい。なお、本明細書において「フィルム片の長さ」とは、フィルム片の平面部分(フィルム面)における長手方向のサイズを指す(円盤形のように、長手方向が規定できない場合は直径に相当する)。「フィルム片の幅」とは、フィルム片の平面部分において上記長手方向に直交する方向におけるサイズを指す。フィルム片が、例えば筒状に丸まっている場合でも、フィルム片の長さおよび幅は、丸まる以前のフィルム片の平面部分において規定される。 In the present invention, the length of the film piece can be appropriately set according to the pulverization method and use of the available film, and is not particularly limited. For example, it is in the range of 1 μm to 2 mm, preferably 1 μm to 800 μm. More preferably, it is in the range of 1 μm to 500 μm, and more preferably in the range of 1 μm to 300 μm. Although the width of the film piece is not particularly limited, for example, it is in the range of 1 μm to 800 μm, preferably in the range of 1 μm to 500 μm, more preferably in the range of 1 μm to 300 μm (however, the same film piece) The width is less than or equal to the length). However, the length and width of the film piece may be appropriately set according to the use of the glitter material of the present invention. In the present specification, the “length of the film piece” refers to the size in the longitudinal direction of the flat portion (film surface) of the film piece (corresponding to the diameter when the longitudinal direction cannot be defined as in a disk shape). ). The “width of the film piece” refers to the size in the direction perpendicular to the longitudinal direction in the plane portion of the film piece. Even when the film piece is rounded, for example, in a cylindrical shape, the length and width of the film piece are defined in the plane portion of the film piece before rounding.
本発明の光輝材を化粧料に配合する場合には、フィルム片の長さは1μm〜800μm、好ましくは1μm〜300μm、より好ましくは1μm〜200μmである。 When blending the glitter material of the present invention in a cosmetic, the length of the film piece is 1 μm to 800 μm, preferably 1 μm to 300 μm, more preferably 1 μm to 200 μm.
また、本発明の光輝材を塗料に配合する場合には、フィルム片の長さは1μm〜2mm、好ましくは1μm〜200μm、より好ましくは1μm〜100μmである。 Moreover, when mix | blending the glittering material of this invention with a coating material, the length of a film piece is 1 micrometer-2 mm, Preferably it is 1 micrometer-200 micrometers, More preferably, it is 1 micrometer-100 micrometers.
g−C3N4フィルムの呈色は低角度依存性である。そのため、本発明の光輝材は、表面に凹凸を有する対象面に適用しても均一な光沢が得られやすいという利点がある。 The coloration of the g-C 3 N 4 film is low angle dependent. Therefore, the glitter material of the present invention has an advantage that uniform gloss can be easily obtained even when applied to a target surface having irregularities on the surface.
本発明において、フィルム片は基材に付着されたものであってもよい。なお、本発明において、基材は、表面が負電荷を帯びているか、または表面にπ電子を有している基材であることが好ましい。 In the present invention, the film piece may be attached to a substrate. In the present invention, the substrate is preferably a substrate having a negatively charged surface or having π electrons on the surface.
基材が帯びている負電荷は、基材が元々有しているものであってもよいし、人工的に付与したものであってもよい。表面が負電荷を帯びている基材としては、例えば、金属材料、鉱物材料(例えばマイカ等)などが挙げられる。 The negative charge carried by the base material may be one that the base material originally has, or may be artificially applied. Examples of the substrate having a negatively charged surface include metal materials and mineral materials (for example, mica).
表面にπ電子を有している基材としては、例えば、グラファイト、フラーレン、およびカーボンナノチューブなどが挙げられる。 Examples of the substrate having π electrons on the surface include graphite, fullerene, and carbon nanotube.
また、g‐C3N4フィルムが、上述したようにX+ mYm−で表される化合物の重合物である場合には、g‐C3N4の重合反応において加熱を要することから、基材は耐熱性であることがこのましい。耐熱性の程度は、加熱する温度および時間等に応じて決定すればよい。基材は、例えば、700℃の熱に耐えられるものであることが好ましく、さらに1000℃の熱に耐えられるものであることがより好ましい。なお、所望の耐熱性を有する基材は、当業者に容易に選択される。 Further, when the g-C 3 N 4 film is a polymer of a compound represented by X + m Y m- as described above, heating is required in the polymerization reaction of g-C 3 N 4. The substrate is preferably heat resistant. The degree of heat resistance may be determined according to the heating temperature and time. For example, the substrate is preferably one that can withstand 700 ° C. heat, and more preferably one that can withstand 1000 ° C. heat. In addition, the base material which has desired heat resistance is easily selected by those skilled in the art.
基材の大きさおよび形状は、特に限定されない。また、本発明のフィルム片は、基材の全面に付着していてもよいし、基材の一部分に付着していてもよい。 The size and shape of the substrate are not particularly limited. Moreover, the film piece of this invention may adhere to the whole surface of a base material, and may adhere to a part of base material.
本発明の光輝材を例えば化粧料に配合する場合には、生体に対する影響が少ないという観点から、基材はマイカ又はフラーレンからなることが好ましい。 For example, when the glitter material of the present invention is blended in cosmetics, the base material is preferably made of mica or fullerene from the viewpoint of little influence on living bodies.
本発明の光輝材は、有機物として極めて高い屈折率を有する。そのため、従来の有機物による干渉色を利用した光輝材のように多数の積層を要することなく、反射率を効果的に上げることができる。そのため、本発明の光輝材によれば、製造コストの低減を実現することができる。また、例えば、酸化チタンの価電子帯は非常に貴であり、酸化力が高いことが文献で知られている(文献Landong Liet al. Nat. Commun. 6:5881 doi: 10.1038/ncomms6881 (2015))。一方、g−C3N4の価電子帯は酸化チタンに比べ卑であり、酸化力は酸化チタンに比べると低い(文献Yanjuan Cui et alal.Phys.Chem.Chem.Phys,2012,14,1455-1462.)。そのため、本発明の光輝材は、肌への悪影響や他成分の分解は酸化チタンに比べ非常に少ないと考えられる。 The glitter material of the present invention has an extremely high refractive index as an organic substance. Therefore, the reflectance can be effectively increased without requiring a large number of layers as in the case of a bright material using an interference color caused by an organic material. Therefore, according to the glittering material of the present invention, it is possible to reduce the manufacturing cost. In addition, for example, it is known in the literature that the valence band of titanium oxide is very noble and has high oxidizing power (literature Landong Liet al. Nat. Commun. 6: 5881 doi: 10.1038 / ncomms6881 (2015) ). On the other hand, the valence band of g-C 3 N 4 is lower than that of titanium oxide, and its oxidizing power is lower than that of titanium oxide (documents Yanjuan Cui et al. Phys. Chem. Chem. Phys, 2012, 14, 1455). -1462.) Therefore, it is considered that the glittering material of the present invention has much less adverse effects on the skin and decomposition of other components than titanium oxide.
次に、本発明の光輝材の調製方法について説明する。 Next, a method for preparing the glitter material of the present invention will be described.
(光輝材の調製)
本発明の光輝材は、g−C3N4フィルムのフィルム片であればその調製方法は特に限定されるものではないが、例えば、本発明の光輝材は、g−C3N4フィルムを、例えば、粉砕等の方法によって、g−C3N4フィルムの単層または多層のシート構造を維持しながら小片化することによって容易に得ることができる。
(Preparation of glitter material)
The method of preparing the glitter material of the present invention is not particularly limited as long as it is a film piece of a g-C 3 N 4 film. For example, the glitter material of the present invention is a g-C 3 N 4 film. For example, it can be easily obtained by pulverizing by a method such as pulverization while maintaining a single-layer or multilayer sheet structure of the g-C 3 N 4 film.
なお、g−C3N4フィルムの製造方法としては、例えば本発明者らが開発した方法(当該方法は国際公開第WO2014/098251号に記載されている。)を用いることができる。以下、g−C3N4フィルムの製造方法について具体的に説明する。 As production method of g-C 3 N 4 film, for example, a method developed by the inventors (the method is described in WO WO2014 / 098251.) Can be used. Hereinafter, specific description will be given of a manufacturing method of g-C 3 N 4 film.
〔g−C3N4フィルムの製造方法〕
g−C3N4フィルムは、例えば、X+ mYm−で表される化合物(X+は、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオン、メレミウムイオン、下記式(I)で示されるグアニジン誘導体イオン、または下記式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンであり、Ym−は陰イオンであり、mはYの価数である)を原料として加熱し、当該化合物またはその反応物を気化させて、加熱した基材の表面に付着させ、当該基材上で当該化合物またはその反応物を重合させてグラファイト状窒化炭素を生成させることによって得られる。なお、基材は、表面が負電荷を帯びているまたは表面にπ電子を有している基材であることが好ましい。
[Production Method of g-C 3 N 4 Film]
The g-C 3 N 4 film is, for example, a compound represented by X + m Y m- (X + is represented by the following formula (I): guanidinium ion, melaminium ion, melaminium ion, melemium ion, A guanidine derivative ion or a guanidine derivative ion represented by the following formula (II), wherein Y m− is an anion and m is a valence of Y), and the compound or a reaction product thereof is heated. It is obtained by vaporizing and adhering to the surface of a heated substrate, and polymerizing the compound or its reaction product on the substrate to produce graphite-like carbon nitride. Note that the substrate is preferably a substrate having a negatively charged surface or having π electrons on the surface.
(原料)
原料として用いられる化合物は、X+ mYm−で表される化合物(「化合物X+ mYm−」と称する)である。X+ mYm−におけるX+は、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオン、メレミウムイオン、上記式(I)で示されるグアニジン誘導体イオン、または上記式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンである。
(material)
The compound used as a raw material is a compound represented by X + m Y m- (referred to as “compound X + m Y m− ”). X + m Y X + in m- is guanidinium ion, melamine ions, main Ramiumu ions, Meremiumuion above formula guanidine derivative ions represented by the general formula (I) or a guanidine derivative ion represented by above-mentioned formula (II), It is.
上記式(I)におけるR1は、アミノ基、ニトロ基、炭素数1〜10、好ましくは1〜5、より好ましくは1〜3のアルキル基、−(C2H4O)n−R4、ハロゲン、または一級アミド基である。−(C2H4O)n−R4におけるnは1〜10、好ましくは1〜5、より好ましくは1〜3であり、R4は炭素数1〜4のアルキル基である。また、−(C2H4O)nの部分は、エチレンオキシド基であり、C原子がグアニジンのN原子に結合するものが意図される。炭素数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、およびイソブチル基等が挙げられる。ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、およびヨウ素が挙げられる。R1として好ましくは、アミノ基およびニトロ基である。 R 1 in the above formula (I) is an amino group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10, preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3 carbon atoms, — (C 2 H 4 O) n —R 4. , Halogen, or a primary amide group. - (C 2 H 4 O) n is 1 to 10 in the n -R 4, preferably 1 to 5, more preferably from 1 to 3, R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Also, - (C 2 H 4 O ) n moiety of are ethylene oxide groups, which C atoms are bonded to the N atom of the guanidine are contemplated. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and an isobutyl group. Halogen includes fluorine, chlorine, bromine, and iodine. R 1 is preferably an amino group or a nitro group.
上記式(II)におけるR2およびR3は、互いに独立して、アミノ基、ニトロ基、炭素数1〜10、好ましくは1〜5、より好ましくは1〜3のアルキル基、−(C2H4O)n−R4、ハロゲン、または一級アミド基である。−(C2H4O)n−R4およびハロゲンについての説明は、上記式(I)における説明とそれぞれ同じである。R2およびR3として好ましくは、互いに独立して、アミノ基およびニトロ基である。 R 2 and R 3 in the formula (II) are independently of each other an amino group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, — (C 2 H 4 O) n -R 4, halogen or a primary amide group. The description of — (C 2 H 4 O) n —R 4 and halogen is the same as that in the above formula (I). R 2 and R 3 are preferably independently of each other an amino group and a nitro group.
上述したグアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオンおよびメレミウムイオンの構造は、以下に示すとおりである。 The structures of the above-described guanidinium ion, melaminium ion, melaminium ion and melemium ion are as shown below.
X+ mは、グアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオンまたはメレミウムイオンであることが好ましく、グアニジニウムイオンであることがより好ましい。 X + m is preferably a guanidinium ion, a melaminium ion, a melaminium ion or a melemium ion, and more preferably a guanidinium ion.
X+ mYm−におけるYm−は陰イオンであり、mはYの価数である。陰イオンとしては、例えば、CO3 2−、SO4 2−、Cl−、HPO4 2−、NO3 −、SCN−、SO3NH3 −、CrO4 2−、p-toluenesulfonate、およびReO4 −などが挙げられる。Ym−は、CO3 2−、SO4 2−またはCl−であることが好ましく、CO3 2−であることが特に好ましい。Ym−がCO3 2−である場合、化合物X+ mYm−には融点が存在しないため、化合物X+ mYm−またはその反応物が気化する前にCO3 2−が系から抜け出しにくいと考えられる。そのため、Ym−がCO3 2−である場合、Ym−が他の場合と比較して、気化する化合物X+ mYm−またはその反応物の量が多くなり、より効率的にフィルムを製造することができると考えられる。 Y m-is the X + m Y m- is an anion, m is the valence of Y. Examples of the anion include CO 3 2− , SO 4 2− , Cl − , HPO 4 2− , NO 3 − , SCN − , SO 3 NH 3 − , CrO 4 2− , p-toluenesulfonate, and ReO 4. - and the like. Y m− is preferably CO 3 2− , SO 4 2− or Cl − , and particularly preferably CO 3 2− . If Y m-is CO 3 is 2, since the compound X + m Y m- in the absence of the melting point, the CO 3 2- is a system before the compound X + m Y m-, or the reaction product thereof is vaporized It is thought that it is hard to escape. Therefore, when Y m-is CO 3 is 2, as compared with the case Y m-is another, the number amount of compound X + m Y m-, or reaction product thereof to vaporize, more efficient film It is thought that can be manufactured.
X+ mYm−で表される化合物としては、入手の容易さの観点から、グアニジンの酸塩が好ましい場合があり、g−C3N4フィルムの製造効率の観点から、グアニジン炭酸塩、グアニジン硫酸塩、およびグアニジン塩酸塩がより好ましく、グアニジン炭酸塩がさらに好ましい。 As the compound represented by X + m Y m- , an acid salt of guanidine may be preferable from the viewpoint of availability, and from the viewpoint of production efficiency of the g-C 3 N 4 film, guanidine carbonate, Guanidine sulfate and guanidine hydrochloride are more preferable, and guanidine carbonate is more preferable.
X+ mYm−で表される化合物は、市販されているものでもよいし、公知の方法で合成してもよい。また、複数種の化合物を混合してもよく、g−C3N4を形成し得る他の化合物と混合してもよい。 The compound represented by X + m Y m- may be commercially available or may be synthesized by a known method. It is also possible to mixing a plurality of kinds of compounds may be mixed with other compounds capable of forming a g-C 3 N 4.
(基材)
上述したg−C3N4フィルムの製造方法において用いられる基材は、表面が負電荷を帯びているか、または表面にπ電子を有している基材が好ましく、これらの基材としては、具体的には本発明の光輝材の説明において例示した基材が挙げられる。
(Base material)
The substrate used in the above-described method for producing a g-C 3 N 4 film is preferably a substrate having a negatively charged surface or having π electrons on the surface, and as these substrates, Specifically, the base material illustrated in description of the luster material of this invention is mentioned.
(g−C3N4フィルムの製造方法の詳細)
g−C3N4フィルムの製造方法では、上述の原料となる化合物を加熱して、当該化合物またはその反応物を気化させる。「その反応物」とは、原料の化合物が、加熱によって互いに反応し、別の構造の化合物に変化したものを指す。例えば原料としてグアニジン炭酸塩を用いた場合、加熱することにより、下記のスキームに従って変化することが予想される。
(Details of g-C 3 N 4 film production method)
The g-C 3 N 4 film manufacturing method, by heating the compound comprising the above-described raw material, to vaporize the compound or the reaction. The “reactant” refers to a raw material compound that has been reacted with each other by heating and changed to a compound having another structure. For example, when guanidine carbonate is used as a raw material, it is expected to change according to the following scheme by heating.
また、上記のスキームにおいて、メレミウムイオンに変化すると気化(昇華)することが予想される。したがって、X+がグアニジニウムイオン、メラミニウムイオン、メラミウムイオン、上述した式(I)で示されるグアニジン誘導体イオン、または上述した式(II)で示されるグアニジン誘導体イオンである場合、気化して基材に付着するのは、加熱によって生じたメレミウムイオン(塩の形態)であると考えられる。 Further, in the above scheme, vaporization (sublimation) is expected when it is changed to melemium ions. Therefore, when X + is a guanidinium ion, a melaminium ion, a melaminium ion, a guanidine derivative ion represented by the above formula (I), or a guanidine derivative ion represented by the above formula (II), it is vaporized to form a group. It is thought that it is the melium ion (salt form) produced by heating that adheres to the material.
なお、「気化」とは、液体が気体に変わること、および固体が直接気体に変わること(昇華)の両方を包含している。 “Vaporization” includes both the change of a liquid into a gas and the change of a solid directly into a gas (sublimation).
g−C3N4フィルムの製造方法において用いる上記原料の量は、フィルム片の所望の膜厚、長さおよび幅に応じて適宜決定すればよい。加熱する温度は、用いる原料の種類に応じて適宜決定すればよいが、例えば、300〜700℃であり、380〜550℃であることが好ましい。加熱時間は、製造したいg−C3N4フィルムの膜厚に応じて適宜設定し得るが、例えば、1分〜4時間とすることができる。 The amount of the raw materials used in the manufacturing method of the g-C 3 N 4 film is desired thickness of the film strip, it may be suitably determined according to the length and width. The heating temperature may be appropriately determined according to the type of raw material to be used, and is, for example, 300 to 700 ° C, preferably 380 to 550 ° C. Heating time is be appropriately set depending on the thickness of the g-C 3 N 4 film to be produced, for example, it is a 1 minute to 4 hours.
上述の気化した原料またはその反応物(「気化物質」と称する)を、表面が負電荷を帯びているまたは表面にπ電子を有している基材の表面に付着させる。気化物質は上述のように正電荷を有しているため、表面が負電荷を帯びている基材と電荷相互作用する。そのため、表面が負電荷を帯びている基材の表面に付着する。また、気化した原料またはその反応物はπ電子を有しているため、表面にπ電子を有している基材と相互作用する。そのため、表面にπ電子を有している基材の表面に付着する。 The above-mentioned vaporized raw material or a reaction product thereof (referred to as “vaporized material”) is attached to the surface of the substrate having a negatively charged surface or having π electrons on the surface. Since the vaporized substance has a positive charge as described above, the vaporized substance interacts with the substrate having a negative charge on the surface. Therefore, the surface adheres to the surface of the base material having a negative charge. Further, since the vaporized raw material or the reaction product thereof has π electrons, it interacts with the base material having π electrons on the surface. Therefore, it adheres to the surface of the substrate having π electrons on the surface.
このとき、基材は加熱されている。これにより、気化物質が基材の表面に付着すると、基材上で気化物質が次々に重合し、g−C3N4が生成する。g−C3N4を構成するのは、X+ mYm−のX+に由来する部分である。陰イオン(Ym−)は、基材上におけるg−C3N4への重合反応と同時に、気化物質のプロトン(H+)と反応して脱離すると考えられる。例えば、Ym−がCO3 2−の場合、プロトンとCO3 2−とが反応して、CO2およびH2Oとなって脱離する。さらに、基材上にg−C3N4の層が形成されると、その後に気化した気化物質は、既に形成されているg−C3N4のπ電子との相互作用によって、g−C3N4の表面に付着(吸着)する。そして、g−C3N4上でさらなるg−C3N4への重合反応が進行する。このようにして、基材上でg−C3N4のフィルムを製造することができる。 At this time, the substrate is heated. Thus, when the vaporization material adhering to the surface of the substrate to polymerization one after another vapors on the substrate, g-C 3 N 4 is produced. to construct a g-C 3 N 4 is a moiety derived from X + m Y m- for X +. The anion (Y m− ) is considered to be eliminated by reacting with the proton (H + ) of the vaporized substance simultaneously with the polymerization reaction to g-C 3 N 4 on the substrate. For example, when Y m− is CO 3 2− , protons and CO 3 2− react to desorb as CO 2 and H 2 O. Furthermore, when a layer of g-C 3 N 4 is formed on the base material, the vaporized material that has been vaporized thereafter is interacted with the π electrons of g-C 3 N 4 that has already been formed. It adheres (adsorbs) to the surface of C 3 N 4 . Then, the polymerization reaction for further g-C 3 N 4 on g-C 3 N 4 proceeds. In this way, a g-C 3 N 4 film can be produced on the substrate.
基材を加熱する温度は、用いる原料の種類に応じて適宜決定すればよいが、例えば、300〜700℃であり、380〜550℃であることが好ましい。加熱時間は、製造したいg−C3N4フィルムの膜厚に応じて適宜設定し得るが、例えば、1分〜4時間とすることができる。 Although the temperature which heats a base material should just be determined suitably according to the kind of raw material to be used, it is 300-700 degreeC, for example, and it is preferable that it is 380-550 degreeC. Heating time is be appropriately set depending on the thickness of the g-C 3 N 4 film to be produced, for example, it is a 1 minute to 4 hours.
原料と基材とは、それぞれ別個に加熱してもよいし、一緒に加熱してもよい。簡便性の観点からは、原料と基材とを一つの加熱手段(例えば、加熱炉)内で一緒に加熱することが好ましい。また、原料および基材ならびに原料と基材との間の空間を一体的に加熱することによって、原料からg−C3N4への重合反応(原料から気化物質への反応、気化、および気化物質からg−C3N4への重合)が逐次的に起こるため、より良質なg−C3N4フィルムを製造することができる。 The raw material and the substrate may be heated separately or may be heated together. From the viewpoint of simplicity, it is preferable to heat the raw material and the substrate together in one heating means (for example, a heating furnace). In addition, by integrally heating the raw material and the base material and the space between the raw material and the base material, a polymerization reaction from the raw material to g-C 3 N 4 (reaction from raw material to vaporized substance, vaporization, and vaporization) Since the polymerization from the substance to g-C 3 N 4 occurs sequentially, a better quality g-C 3 N 4 film can be produced.
また、例えば既存の有機EL用蒸着装置を転用することによって、大面積のg−C3N4フィルムを製造することも可能である。 For example, a large-area g-C 3 N 4 film can be produced by diverting an existing organic EL vapor deposition apparatus.
g−C3N4フィルムの膜厚は光輝材としての性質に影響を及ぼすが、この膜厚は、g−C3N4フィルムの製造条件の変更、例えば上述した基材の種類を変更することによって、容易に調節することができる。 The film thickness of the g-C 3 N 4 film affects the properties as the luminous material, the thickness, g-C 3 N 4 change in the manufacturing conditions of the films, for example, changing the type of the above-mentioned substrate Can be easily adjusted.
〔g−C3N4フィルムの粉砕〕
本発明の光輝材に係るフィルム片は、例えば上記のようにして得られたg−C3N4フィルムを粉砕することによって得られる。g−C3N4フィルムの粉砕は、例えば、g−C3N4フィルムを含む媒質に超音波振動を付与する方法(以下、この方法を「超音波粉砕法」ということがある)によって行うことができる。以下、超音波粉砕法について、具体的に説明する。
[Grushing of g-C 3 N 4 film]
The film piece according to the glittering material of the present invention can be obtained, for example, by pulverizing the g-C 3 N 4 film obtained as described above. The crushing of the g-C 3 N 4 film is performed, for example, by a method of applying ultrasonic vibration to a medium containing the g-C 3 N 4 film (hereinafter, this method may be referred to as “ultrasonic crushing method”). be able to. Hereinafter, the ultrasonic grinding method will be specifically described.
(超音波粉砕法)
超音波粉砕法は、g−C3N4フィルムを含む媒質に超音波振動を付与することによって本発明のフィルム片を得るものである。
(Ultrasonic grinding method)
In the ultrasonic pulverization method, the film piece of the present invention is obtained by applying ultrasonic vibration to a medium containing a g-C 3 N 4 film.
超音波粉砕法において、媒質としては、例えば水、アルコールなどの極性有機溶媒、ヘキサンなどの非極性溶媒等からなる群から選択される1種または2種以上の媒質が挙げられる。 In the ultrasonic grinding method, examples of the medium include one or more media selected from the group consisting of polar organic solvents such as water and alcohol, nonpolar solvents such as hexane, and the like.
超音波粉砕法における媒質の温度は特に限定されるものではないが、5℃〜80℃、好ましくは15℃〜50℃、より好ましくは20℃〜35℃である。 The temperature of the medium in the ultrasonic pulverization method is not particularly limited, but is 5 ° C to 80 ° C, preferably 15 ° C to 50 ° C, more preferably 20 ° C to 35 ° C.
また、超音波粉砕法において用いるg−C3N4フィルムの量は特に限定されるものではないが、例えば上述した媒質100gに対して使用するg−C3N4フィルムの量は70g〜0.1g、好ましくは60g〜0.1g、より好ましくは50g〜0.1gである。 The amount of the g-C 3 N 4 film used in the ultrasonic pulverization method is not particularly limited. For example, the amount of the g-C 3 N 4 film used for 100 g of the medium described above is 70 g to 0 g. 0.1 g, preferably 60 g to 0.1 g, more preferably 50 g to 0.1 g.
また、超音波粉砕法においてg−C3N4フィルムに付与する超音波振動の周波数は、所望のフィルム片のサイズ等によって適宜設定すればよいが、通常は20kHz〜1MHz、好ましくは28kHz〜400kHz、さらに好ましくは38kHz〜42kHzである。 Further, the frequency of ultrasonic vibration applied to the g-C 3 N 4 film in the ultrasonic pulverization method may be appropriately set depending on the size of the desired film piece, but is usually 20 kHz to 1 MHz, preferably 28 kHz to 400 kHz. More preferably, it is 38 kHz to 42 kHz.
なお、超音波粉砕法では、g−C3N4フィルムの製造において基材に付着したg−C3N4フィルムを一旦基材から剥離してからg−C3N4フィルムを粉砕してもよく、あるいは、g−C3N4フィルムが基材に付着したままの状態で、基材に付着したg−C3N4フィルムを粉砕してもよい。 In the ultrasonic pulverization method, the g-C 3 N 4 film adhered to the base material in the production of the g-C 3 N 4 film is once peeled off from the base material, and then the g-C 3 N 4 film is pulverized. Alternatively, the g-C 3 N 4 film attached to the base material may be pulverized while the g-C 3 N 4 film remains attached to the base material.
超音波粉砕法においてg−C3N4フィルムを基材から剥離する方法として、例えば、基材に付着したg−C3N4フィルムを、40℃〜80℃、好ましくは50℃〜80℃、より好ましくは70℃〜80℃のお湯に半日〜3日間、好ましくは半日〜2日間、より好ましくは1日〜2日間浸漬することによって、g−C3N4フィルムを破損することなく基材から効率よく剥離させることができる。 As a method for peeling the g-C 3 N 4 film from the substrate in the ultrasonic pulverization method, for example, the g-C 3 N 4 film attached to the substrate is 40 ° C. to 80 ° C., preferably 50 ° C. to 80 ° C. More preferably, by immersing in hot water of 70 ° C. to 80 ° C. for half a day to 3 days, preferably half a day to 2 days, more preferably 1 day to 2 days without damaging the g-C 3 N 4 film. It can be efficiently peeled from the material.
なお、フィルム片を粉砕する方法は、上述した超音波粉砕法に限定されるものではないが、超音波粉砕法を用いれば、本発明の光輝材を構成するフィルム片の凝集を抑制しながら効果的に調製することができる。 The method of pulverizing the film pieces is not limited to the ultrasonic pulverization method described above, but if the ultrasonic pulverization method is used, it is effective while suppressing aggregation of the film pieces constituting the glittering material of the present invention. Can be prepared.
〔光輝材の用途〕
本発明の光輝材は、そのままの状態で、あるいは常法により濾過、洗浄、乾燥等の処理を施して用いることができる。さらに、必要に応じてポリマーコーティング、無機微粒子の付着等で表面処理して用いることも可能である。
[Use of bright materials]
The glittering material of the present invention can be used as it is or after being subjected to treatments such as filtration, washing and drying by a conventional method. Further, if necessary, it can be used after being surface-treated by polymer coating, adhesion of inorganic fine particles or the like.
本発明の光輝材は、例えばファンデーション等の化粧料に配合することで、肌に光沢感を付与する新規なパール顔料として使用することができる。光輝材は、ペンキ等の塗料に配合して使用することもできる。以下では、本発明の光輝材を配合した組成物の一例として、化粧料および塗料について具体的に説明する。なお、本発明の光輝材は、以下に説明する化粧料および塗料以外にも配合させることができることは言うまでもない。 The glittering material of the present invention can be used as a novel pearl pigment that gives glossiness to the skin, for example, by blending it in cosmetics such as a foundation. The glitter material can also be used by blending with paint such as paint. Hereinafter, cosmetics and paints will be specifically described as an example of a composition containing the glittering material of the present invention. In addition, it cannot be overemphasized that the brilliant material of this invention can be mix | blended other than the cosmetics and coating material which are demonstrated below.
(化粧料)
本発明の光輝材を配合した化粧料の調製は、常法に従い、従来の化粧料成分を本発明の光輝材と組み合わせることにより行うことができる。
(Cosmetics)
The cosmetics containing the glitter material of the present invention can be prepared by combining conventional cosmetic ingredients with the glitter material of the present invention according to a conventional method.
したがって例えば、本発明の光輝材と、通常化粧料に用いられる成分として、例えば油性成分、界面活性剤、低級アルコール、防腐剤、殺菌剤、色剤、粉末、香料、水溶性高分子、緩衝剤等を適宜混合することによって、本発明の光輝材が配合された化粧料を調製することができる。 Therefore, for example, the bright material of the present invention and components usually used in cosmetics include, for example, oily components, surfactants, lower alcohols, preservatives, bactericides, colorants, powders, perfumes, water-soluble polymers, buffering agents. Etc. can be appropriately mixed to prepare a cosmetic containing the glitter material of the present invention.
なお、化粧料中の光輝材の配合量は、本発明の効果が損なわれない範囲で任意に選択されるが、通常は30重量%〜0.1重量%、好ましくは20重量%〜0.5重量%、より好ましくは15重量%〜1重量%である。 The amount of the glittering material in the cosmetic is arbitrarily selected as long as the effect of the present invention is not impaired, but is usually 30% by weight to 0.1% by weight, preferably 20% by weight to 0.00%. 5% by weight, more preferably 15% by weight to 1% by weight.
本発明の光輝材が配合された化粧料の剤型は、紛体状、固形状、クリーム状、乳液状、ジェル状、スプレー状等のいずれであってもよく、特にファンデーション、アイシャドウ、口紅、頬紅等メークアップ化粧料、日焼け止め乳液等のスキンケア化粧料およびヘアケア化粧料とすることができる。 The cosmetic dosage form in which the glittering material of the present invention is blended may be any of powder, solid, cream, emulsion, gel, spray, etc., in particular, foundation, eye shadow, lipstick, Makeup cosmetics such as blusher, skin care cosmetics such as sunscreen emulsions, and hair care cosmetics.
本発明の光輝材は、人体、特に皮膚に対する影響が少ないg−C3N4フィルムを原料としている。そのため、本発明の光輝材は、例えば従来の酸化チタンを用いたパール顔料に替わる、人体、特に皮膚に対する影響が低減された新規なパール顔料として利用することができる。また、g−C3N4フィルムの光吸収/反射特性によれば、UVカットおよびブルーライトカットの効果も得られると想定される(実施例における図3も参照)。 The glitter material of the present invention is made from a g-C 3 N 4 film, which has little influence on the human body, particularly the skin. Therefore, the bright material of the present invention can be used as a novel pearl pigment with reduced influence on the human body, particularly the skin, instead of the conventional pearl pigment using titanium oxide, for example. Further, according to the light absorption / reflection characteristics of the g-C 3 N 4 film, it is assumed that the effects of UV cut and blue light cut can also be obtained (see also FIG. 3 in the Examples).
(塗料)
本発明の光輝材を配合した塗料の調製は、常法に従い、従来の塗料成分を本発明の光輝材と組み合わせることにより行うことができる。
(paint)
The paint containing the glitter material of the present invention can be prepared by combining conventional paint components with the glitter material of the present invention according to a conventional method.
したがって例えば、本発明の光輝材と、通常塗料に用いられる成分として、例えば結合剤、顔料、防腐剤、安定剤、乾燥剤、溶剤等を適宜混合することによって、本発明の光輝材が配合された塗料を調製することができる。 Therefore, for example, the glittering material of the present invention is blended by appropriately mixing, for example, a binder, a pigment, a preservative, a stabilizer, a desiccant, a solvent, and the like as the components used in the coating material with the glittering material of the present invention. Paints can be prepared.
なお、塗料中の光輝材の配合量は、本発明の効果が損なわれない範囲で任意に選択されるが、通常は60重量%〜1重量%、好ましくは50重量%〜1重量%、さらに好ましくは50重量%〜10重量%の範囲で配合されていればよい。 The blending amount of the glittering material in the coating is arbitrarily selected as long as the effect of the present invention is not impaired, but is usually 60% by weight to 1% by weight, preferably 50% by weight to 1% by weight, Preferably, it may be blended in the range of 50 wt% to 10 wt%.
本発明の光輝材が配合された塗料の剤型は、液体状、ジェル状、スプレー状等のいずれであってもよい。 The dosage form of the paint blended with the glitter material of the present invention may be any of liquid, gel, spray and the like.
以下に実施例を示し、本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。もちろん、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、細部については様々な態様が可能であることはいうまでもない。さらに、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、それぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。また、本明細書中に記載された文献の全てが参考として援用される。 Examples will be shown below, and the embodiments of the present invention will be described in more detail. Of course, the present invention is not limited to the following examples, and it goes without saying that various aspects are possible in detail. Further, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope shown in the claims, and the present invention is also applied to the embodiments obtained by appropriately combining the disclosed technical means. It is included in the technical scope of the invention. Moreover, all the literatures described in this specification are used as reference.
〔実施例1〕
<窒素雰囲気下でのg−C3N4フィルムの作製>
以下の方法によりg−C3N4フィルムを作製した。グアニジン炭酸塩(3.0g,16.7mmol)を、ガラス製試験管(18mm径)の底に敷き詰め、試験管の中間に基板を設置し、穴を開けたアルミホイルで封をした。基材として、イーグルXG (登録商標) ガラス基板を用いた。試験管を石英管の中に静置し、窒素ガスをフローしながらチューブ型炉を用いて10℃/分で430℃まで昇温し、最高温度が530℃〜560℃になるまで2℃/分で昇温した。なお、最高温度が異なるのは炉によって最適温度が異なるためである。最高温度で30分加熱した後、室温まで自然放冷したところ、ガラス基板上に付着したg−C3N4フィルムを得た。
[Example 1]
<Preparation of g-C 3 N 4 film in a nitrogen atmosphere>
A g-C 3 N 4 film was produced by the following method. Guanidine carbonate (3.0 g, 16.7 mmol) was spread on the bottom of a glass test tube (18 mm diameter), a substrate was placed in the middle of the test tube, and sealed with aluminum foil with holes. An Eagle XG (registered trademark) glass substrate was used as the substrate. Place the test tube in a quartz tube, raise the temperature to 430 ° C. at 10 ° C./min using a tube furnace while flowing nitrogen gas, and increase the temperature to 2 ° C./max until the maximum temperature becomes 530 ° C. to 560 ° C. The temperature rose in minutes. Note that the maximum temperature differs because the optimum temperature differs depending on the furnace. After heating at the maximum temperature for 30 minutes and then naturally cooling to room temperature, a g-C 3 N 4 film adhered on the glass substrate was obtained.
<g−C3N4フィルムの剥離、粉砕>
ガラス基板上に付着したg−C3N4フィルムを70℃〜80℃程度に維持したお湯に数日間浸し、g−C3N4フィルムに対して手振りによる振動、または超音波振動(超音波振動の周波数42kHzまたは38kHz)を付与しながら、g−C3N4フィルムをガラス基板から剥離させた。剥離したg−C3N4フィルムに対して、さらに超音波振動(超音波振動の周波数42kHzまたは38kHz)を付与することによって、水中でg−C3N4フィルムを粉砕し、g−C3N4フィルム片を得た。得られたg−C3N4フィルム片の平均的なサイズは、膜厚が100nm〜300nm、長さが10μm〜500μm、幅が10μm〜500μm、形状が略多角形盤状であった。得られたg−C3N4フィルム片の様子を図1に示す。図1は、超音波振動付与後のg−C3N4フィルム片の分散液の外観を示す写真に基づく図である。図1に示すように、得られたg−C3N4フィルム片は干渉色を有しており、g−C3N4フィルム片の分散液からは、様々な色の反射光が観測できた。
<Peeling and crushing of g-C 3 N 4 film>
The g-C 3 N 4 film adhering to the glass substrate is immersed in hot water maintained at about 70 ° C. to 80 ° C. for several days, and the g-C 3 N 4 film is shaken by hand shaking or ultrasonic vibration (ultrasonic wave) The g-C 3 N 4 film was peeled from the glass substrate while applying a vibration frequency of 42 kHz or 38 kHz. Against exfoliated g-C 3 N 4 film, by further applying ultrasonic vibration (frequency 42kHz or 38kHz ultrasonic vibration), grinding the g-C 3 N 4 film in water, g-C 3 It was obtained N 4 film piece. The resulting average size of g-C 3 N 4 film pieces has a thickness of 100 nm to 300 nm, a length of 10 m to 500 m, a width of 10 m to 500 m, the shape is a substantially polygonal plate shape. The state of the obtained g-C 3 N 4 film piece is shown in FIG. FIG. 1 is a view based on a photograph showing the appearance of a dispersion of g-C 3 N 4 film pieces after application of ultrasonic vibration. As shown in FIG. 1, the obtained g-C 3 N 4 film piece has an interference color, and reflected light of various colors can be observed from the dispersion liquid of the g-C 3 N 4 film piece. It was.
また、上述した方法で得られたg−C3N4フィルム片をろ過し、乾燥させたのちにビーズ粉砕機(TAITEC μT−12)によりg−C3N4フィルム片をさらに粉砕した。ただし、できるだけ大きいサイズのg−C3N4フィルム片を得るために、この実験では剥離する際の超音波処理は最小限にとどめた。その後水に分散させたものをろ過し、粉末状のg−C3N4を得た。その結果を図2に示す。図2は、粉砕前後のg−C3N4フィルム片の光学顕微鏡写真に基づく図であり、左図は粉砕前、右図は粉砕後に対応する。2に示すように、粉砕前のg−C3N4フィルム片が反射により光沢を示しているのに対し、粉砕後は散乱に伴い光沢が減少している。光学顕微鏡で拡大した図を見ていると、粉砕された場所は、フィルムが極微小のサイズとなり、大きいフィルム片に比べマッドな質感を示していることがわかる。 Further, the g-C 3 N 4 film piece obtained by the above-described method was filtered and dried, and then the g-C 3 N 4 film piece was further crushed by a bead crusher (TAITEC μT-12). However, in order to obtain g-C 3 N 4 film pieces as possible large size, sonication during peeling in this experiment it was minimized. Filtered what was then dispersed in water to obtain a powdery g-C 3 N 4. The result is shown in FIG. FIG. 2 is a view based on optical micrographs of g-C 3 N 4 film pieces before and after grinding, the left figure corresponds to before grinding, and the right figure corresponds to after grinding. As shown in FIG. 2, the g-C 3 N 4 film piece before pulverization shows gloss due to reflection, whereas after pulverization, the gloss decreases with scattering. Looking at the enlarged image with an optical microscope, it can be seen that the pulverized location has a very small size of the film and shows a mud texture compared to a large piece of film.
〔実施例2〕
<マイカ基板上でのg−C3N4フィルムの作製>
以下の方法によりg−C3N4フィルムを作製した。グアニジン炭酸塩 (6.0g,33.4mmol) をガラス製試験管(30mm径)の底に敷き詰め、脱脂綿で封をしたのちに試験管の中間に基材を設置した。基材としてマイカ基板を用いた。チューブ型炉(KOYO KTF035N1)を用いて、10℃/分で昇温し、空気中、550℃で30分加熱した。加熱終了後、室温まで自然放冷したところ、マイカ基板上に付着したg−C3N4フィルムを得た。
[Example 2]
<Preparation of g-C 3 N 4 film on mica substrate>
A g-C 3 N 4 film was produced by the following method. Guanidine carbonate (6.0 g, 33.4 mmol) was spread on the bottom of a glass test tube (30 mm diameter), sealed with absorbent cotton, and a substrate was placed in the middle of the test tube. A mica substrate was used as the substrate. Using a tube furnace (KOYO KTF035N1), the temperature was raised at 10 ° C./min and heated in air at 550 ° C. for 30 minutes. After the heating, the mixture was naturally cooled to room temperature, and a g-C 3 N 4 film adhered on the mica substrate was obtained.
<マイカ基板上に付着したg−C3N4フィルムの拡散反射スペクトル>
上述のようにして得られた、マイカ基板上に付着したg−C3N4フィルムの光化学物性を調べるために、拡散反射スペクトル(JASCO V-670, JASCO ISN-723)の測定を行った。その結果を図3に示す。図3中、aはマイカ基板上に付着したg−C3N4フィルム(左側)およびマイカ基板(右側)のそれぞれの外観を示す写真に基づく図であり、bは、aに対応したグラフであって、マイカ基板上に付着したg−C3N4フィルムおよびマイカ基板それぞれの拡散反射スペクトルを示している。
<Diffuse reflectance spectra of the g-C 3 N 4 film deposited on mica substrate>
In order to examine the photochemical properties of the g-C 3 N 4 film deposited on the mica substrate obtained as described above, a diffuse reflection spectrum (JASCO V-670, JASCO ISN-723) was measured. The result is shown in FIG. In Figure 3, a is a diagram based on a photograph showing the respective appearance of g-C 3 N 4 film deposited on mica substrate (left) and mica board (right), b is a graph corresponding to a there are shows g-C 3 N 4 film and mica substrate, respectively diffuse reflectance spectra were deposited on mica substrate.
光の反射強度は物質の屈折率に依存する。g−C3N4フィルムは図3に示すように高い屈折率を有することから、輝度の高い光輝材として利用することが可能である。 The reflection intensity of light depends on the refractive index of the substance. Since the g-C 3 N 4 film has a high refractive index as shown in FIG. 3, it can be used as a bright material with high luminance.
本発明の光輝材は、例えば、光沢性を付与する呈色性に優れた材料として、例えば化粧料や塗料等に配合させて好適に使用することができる。 The glitter material of the present invention can be suitably used, for example, as a material excellent in coloration imparting glossiness, for example, in a cosmetic or paint.
Claims (9)
A paint in which the bright material according to any one of claims 1 to 7 is blended.
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