JP2017193661A - Polyethylene composition and film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ポリエチレン組成物及びその組成物からなるフィルムに関する。 The present invention relates to a polyethylene composition and a film comprising the composition.
ポリエチレンフィルムの用途の一つに、光学部材などの表面保護(マスキング)フィルムがある。保護フィルムには、薄膜部材のハンドリング向上又は/及び接着時のたるみによるシワの防止のために、コシがあることが求められる。また、フィルムにフィッシュアイ(以下、FEと略す)があると、被保護部材を傷つけてしまうおそれがあることから、FEが十分に少ないことも求められる。 One of the uses of the polyethylene film is a surface protection (masking) film such as an optical member. The protective film is required to have a firmness in order to improve the handling of the thin film member and / or prevent wrinkles due to sagging during bonding. Further, if the film has fish eyes (hereinafter abbreviated as FE), the member to be protected may be damaged. Therefore, it is also required that the FE is sufficiently small.
ポリエチレンフィルムは、フィルムの密度が高いほどフィルムにコシが生まれ、保護フィルムとしては好ましい。しかしながら、高密度ポリエチレンは一般にFEが非常に多く、単独で保護フィルムとして十分満足できる性能を持たせることは出来ていなかった。FEを減少させる方法としては、高密度ポリエチレンと高圧法低密度ポリエチレンを混合させることでFEを減少させるものが公知である(例えば、特許文献1参照)。 A polyethylene film is more preferable as a protective film because the higher the film density is, the more the film becomes firmer. However, high-density polyethylene generally has a very large amount of FE, and it has not been possible to provide a sufficiently satisfactory performance as a protective film alone. As a method for reducing FE, a method of reducing FE by mixing high-density polyethylene and high-pressure low-density polyethylene is known (for example, see Patent Document 1).
なお、ここでいうFEとは、フィルム内に存在する小球状の異物、欠陥構造を意味する。FEの原因は様々ではあるが、ベースの樹脂との溶融混合が不十分なために発生するものや、ベース樹脂と粘度(分子量)の異なる成分、ゲル成分、酸化劣化樹脂、異樹脂、包材の破片(紙、糸、繊維等)、塵埃等が原料樹脂製造工程、袋詰め・輸送工程、フィルム成形工程の何れかで混入することによって発生する。
In addition, FE here means the small spherical foreign material and defect structure which exist in a film. There are various causes of FE, but it can be caused by insufficient melt mixing with the base resin, components with different viscosity (molecular weight) from the base resin, gel components, oxidatively deteriorated resins, different resins, packaging materials It is generated by mixing fragments (paper, thread, fiber, etc.), dust, etc. in any of the raw material resin manufacturing process, bagging / transporting process, and film forming process.
特許文献1では、FEを十分に減少させるには、ポリエチレン組成物の内30〜60%を高圧法低密度ポリエチレンにする必要がある。それだけの量の高圧法低密度ポリエチレンを混ぜると、フィルムにしたときのコシが失われ、薄膜部材をカバーする際に、全体のハンドリングが困難になるという問題が生じる。コシを生むために高密度ポリエチレンの割合を増やせばFEの量が増えてしまうというトレードオフの関係にある。また、工業的に高密度ポリエチレンに高圧法低密度ポリエチレンをと30〜60%混ぜるためには、予め両者を混ぜ合わせるブレンド用ホッパーが必要になる。またブレンド方法としては、FEを低減させる観点からドライブレンドよりもメルトブレンドの方が均一に分散されるため好ましいが、メルトブレンドを余分に一度実施するためコスト増になるという問題もある。 In Patent Document 1, in order to sufficiently reduce the FE, 30 to 60% of the polyethylene composition needs to be a high pressure method low density polyethylene. When such a high pressure method low density polyethylene is mixed, the stiffness when formed into a film is lost, and when the thin film member is covered, the whole handling becomes difficult. There is a trade-off relationship that the amount of FE increases if the proportion of high-density polyethylene is increased to produce stiffness. Further, in order to industrially mix 30-60% of high-pressure polyethylene with high-density polyethylene in a high-density polyethylene, a blending hopper that mixes both in advance is required. As a blending method, the melt blend is preferably dispersed more uniformly than the dry blend from the viewpoint of reducing the FE, but there is a problem that the cost is increased because the melt blend is performed once more.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、比較的に小さなFEの数が少なく、コシが強く、さらに断面における毛羽立ちの発生も少ないフィルムを与えることのできるポリエチレン組成物及び該ポリエチレン組成物からなるフィルムを安価に提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and a polyethylene composition capable of providing a film having a relatively small number of small FEs, strong stiffness, and less occurrence of fluffing in a cross section, and the polyethylene It aims at providing the film which consists of a composition at low cost.
本発明者は、FEが適度に少なく、フィルムのコシも兼ね備えたフィルムを開発するために鋭意研究を重ねた結果、高密度ポリエチレンと高圧法低密度ポリエチレンのブレンド系において、下記に説明する要件を満たす高圧法低密度ポリエチレンを特定の条件で押出混練させることで、少量の添加であっても高密度ポリエチレンのFEを十分に低減させることを見出した。また、少量の添加であれば高密度ポリエチレンの造粒時にサイドフィーダーで練り込むことが可能となり、メルトブレンドのための二次押出しが不要になるため、コスト削減につながる。 As a result of intensive research to develop a film having a moderately low FE and a firmness of the film, the present inventor has the following requirements in a blend system of high-density polyethylene and high-pressure low-density polyethylene. It has been found that the high-pressure low-density polyethylene to be filled is extruded and kneaded under specific conditions, so that the FE of the high-density polyethylene can be sufficiently reduced even with a small amount of addition. Moreover, if it is added in a small amount, it can be kneaded with a side feeder at the time of granulation of high-density polyethylene, and secondary extrusion for melt blending becomes unnecessary, leading to cost reduction.
すなわち、本発明は、以下に関する。
〔1〕
下記要件(1)〜(3)を満たすポリエチレン組成物;
要件(1):JIS K7112における密度が、940kg/m3以上975kg/m3以下であること、
要件(2):クロス分別クロマトグラフィー測定により得られる溶出温度−溶出量曲線において2つ以上のピークを有すること、
要件(3):前記2つ以上のピークのうち、最も低温側のピークをピークPlowとしたとき、該ピークPlowのピークトップ温度Tlowで溶出する成分の重量平均分子量Mwlowが、50,000以上300,000以下であること、
要件(4):フーリエ変換型赤外分光法で500μm2以上4000μm2未満の面積についての測定を前記ポリエチレン組成物表面の任意の10点について実施したとき、1378cm-1に観測されるスペクトル強度r1,i(i=1〜10)と、1369cm-1に観測されるスペクトル強度r2,i(i=1〜10)との比Wi=r1,i/r2,i(i=1〜10)の標準偏差sが、0.2以下であること。
〔2〕
前記ピークPlowのピークトップ温度Tlowが、71℃以上84℃以下である、〔1〕に記載のポリエチレン組成物。
〔3〕
前記ピークPlowにおいて溶出する成分の割合wlowが、0.5%以上20%以下である、〔1〕又は〔2〕に記載のポリエチレン組成物。
〔4〕
前記ピークPlowのピークトップ温度Tlowで溶出する成分の重量平均分子量Mwlowと数平均分子量Mnlowの比Mwlow/Mnlowが、3.0以上9.0以下である、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載のポリエチレン組成物。
〔5〕
〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載のポリエチレン組成物を含む、フィルム。
〔6〕
保護フィルム用途である、〔5〕に記載のフィルム。
That is, the present invention relates to the following.
[1]
A polyethylene composition satisfying the following requirements (1) to (3);
Requirement (1): Density at JIS K7112 is, 940 kg / m 3 or more 975 kg / m 3 or less,
Requirement (2): having two or more peaks in the elution temperature-elution amount curve obtained by cross-fractionation chromatography measurement,
Requirement (3): wherein the two or more peaks, when the peak of the lowest temperature side was set to peak P low, weight-average molecular weight Mw low of components eluted at a peak top temperature T low of the peak P low is 50 , 000 to 300,000,
Requirement (4): When the measurements for area of less than 500 [mu] m 2 or more 4000 .mu.m 2 Fourier transform infrared spectroscopy was performed on an arbitrary 10 points of the polyethylene composition surface, spectral intensity r observed at 1378 cm -1 1, i (i = 1 to 10) and the ratio of spectral intensities r 2, i (i = 1 to 10) observed at 1369 cm −1 W i = r 1, i / r 2, i (i = The standard deviation s of 1 to 10) is 0.2 or less.
[2]
Peak top temperature T low of the peak P low is, 71 ° C. or higher 84 ° C. or less, the polyethylene composition according to [1].
[3]
The polyethylene composition according to [1] or [2], wherein a ratio w low of a component eluted at the peak P low is 0.5% or more and 20% or less.
[4]
The ratio Mw low / Mn low of the weight average molecular weight Mw low and the number average molecular weight Mn low of the component eluted at the peak top temperature T low of the peak P low is 3.0 or more and 9.0 or less, [1] to [3] The polyethylene composition according to any one of [3].
[5]
The film containing the polyethylene composition as described in any one of [1]-[4].
[6]
The film according to [5], which is used for a protective film.
本発明によれば、比較的に小さなFEの数が少なく、コシが強く、さらに断面における毛羽立ちの発生も少ないフィルムを与えることのできるポリエチレン組成物及び該ポリエチレン組成物からなるフィルムを安価に提供することができる。 According to the present invention, a polyethylene composition capable of providing a film having a relatively small number of FEs, strong stiffness, and less occurrence of fluffing in a cross section, and a film comprising the polyethylene composition are provided at low cost. be able to.
以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の本実施形態に制限されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. In addition, this invention is not restrict | limited to the following this embodiment, A various deformation | transformation can be implemented within the range of the summary.
〔ポリエチレン組成物〕
本実施形態のポリエチレン組成物は、下記要件(1)〜(3)を満たす。
要件(1):JIS K7112における密度が、940kg/m3以上975kg/m3以下であること、
要件(2):クロス分別クロマトグラフィー(以下、「CFC」ともいう。)測定により得られる溶出温度−溶出量曲線において2つ以上のピークを有すること、
要件(3):前記2つ以上のピークのうち、最も低温側のピークをピークPlowとしたとき、該ピークPlowのピークトップ温度Tlowで溶出する成分の重量平均分子量Mwlowが、50,000以上300,000以下であること、
要件(4):フーリエ変換型赤外分光法で500μm2以上4000μm2未満の面積についての測定を前記ポリエチレン組成物表面の任意の10点について実施したとき、1378cm-1に観測されるスペクトル強度r1,i(i=1〜10)と、1369cm-1に観測されるスペクトル強度r2,i(i=1〜10)との比Wi=r1,i/r2,i(i=1〜10)の標準偏差sが、0.2以下であること。
以下、上記要件について説明する。
[Polyethylene composition]
The polyethylene composition of the present embodiment satisfies the following requirements (1) to (3).
Requirement (1): Density at JIS K7112 is, 940 kg / m 3 or more 975 kg / m 3 or less,
Requirement (2): having two or more peaks in an elution temperature-elution amount curve obtained by cross-fractionation chromatography (hereinafter also referred to as “CFC”) measurement,
Requirement (3): wherein the two or more peaks, when the peak of the lowest temperature side was set to peak P low, weight-average molecular weight Mw low of components eluted at a peak top temperature T low of the peak P low is 50 , 000 to 300,000,
Requirement (4): When the measurements for area of less than 500 [mu] m 2 or more 4000 .mu.m 2 Fourier transform infrared spectroscopy was performed on an arbitrary 10 points of the polyethylene composition surface, spectral intensity r observed at 1378 cm -1 1, i (i = 1 to 10) and the ratio of spectral intensities r 2, i (i = 1 to 10) observed at 1369 cm −1 W i = r 1, i / r 2, i (i = The standard deviation s of 1 to 10) is 0.2 or less.
The above requirements will be described below.
本実施形態のポリエチレン組成物は、高密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、及びその他特殊な超低密度ポリエチレンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む。このなかでも、高密度ポリエチレンと高圧法低密度ポリエチレンからなる組成物が好ましい。このようなポリエチレン組成物は、FEがより低減する傾向にある。本実施形態のポリエチレン組成物に含まれるポリエチレンは、エチレンの単独重合体であっても、エチレンとα−オレフィンとの共重合体であってもよい。 The polyethylene composition of this embodiment contains at least one selected from the group consisting of high-density polyethylene, high-pressure method low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, and other special ultra-low-density polyethylene. Among these, a composition comprising high density polyethylene and high pressure method low density polyethylene is preferable. Such a polyethylene composition tends to reduce FE more. The polyethylene contained in the polyethylene composition of the present embodiment may be a homopolymer of ethylene or a copolymer of ethylene and an α-olefin.
また、ポリエチレンの製造方法は、特に制限されず、ポリエチレンは、一般に用いられている溶液法、高圧法、高圧バルク法、ガス法、スラリー法のいずれの製造方法で製造されたものであってもよい。本実施形態の高密度ポリエチレンの製造に使用される触媒は特に限定されず、メタロセン触媒、チーグラーナッタ触媒、フィリップス触媒等を使用することが可能である。このなかでも、ブリードアウトしやすい低分子量成分を少なくすることのできるメタロセン触媒が好適に使用される。メタロセン触媒を得る方法及び重合方法は公知であり、例えば特開2015−89937号公報に記載されている。 Moreover, the manufacturing method in particular of polyethylene is not restrict | limited, Even if polyethylene is manufactured by any manufacturing method of the generally used solution method, a high pressure method, a high pressure bulk method, a gas method, and a slurry method. Good. The catalyst used for the production of the high-density polyethylene of this embodiment is not particularly limited, and a metallocene catalyst, a Ziegler-Natta catalyst, a Phillips catalyst, or the like can be used. Among these, a metallocene catalyst that can reduce the low molecular weight component that easily bleeds out is preferably used. Methods for obtaining metallocene catalysts and polymerization methods are known, and are described, for example, in JP-A-2015-89937.
[要件(1):密度]
本実施形態のポリエチレン組成物において、ポリエチレン組成物の密度は、940kg/m3以上975kg/m3以下であり、好ましくは945kg/m3以上975kg/m3以下であり、より好ましくは950kg/m3以上974kg/m3以下であり、さらに好ましくは954kg/m3以上973kg/m3以下である。密度が940kg/m3以上であることにより、フィルムにしたときのコシがより向上する。
[Requirement (1): Density]
In the polyethylene composition of the present embodiment, the density of the polyethylene compositions are 940 kg / m 3 or more 975 kg / m 3 or less, preferably 945 kg / m 3 or more 975 kg / m 3 or less, more preferably 950 kg / m 3 or more and 974 kg / m 3 or less, more preferably 954 kg / m 3 or more and 973 kg / m 3 or less. When the density is 940 kg / m 3 or more, the stiffness of the film is further improved.
ポリエチレン組成物の密度は、実施例に記載の方法により測定することができる。また、ポリエチレン組成物の密度は、用いるポリエチレンの種類及びその混合割合により制御することができる。 The density of the polyethylene composition can be measured by the method described in the examples. The density of the polyethylene composition can be controlled by the type of polyethylene used and the mixing ratio thereof.
[要件(2):CFC測定により得られる溶出温度−溶出量曲線]
本実施形態のポリエチレン組成物は、CFC測定により得られる溶出温度−溶出量曲線において2つ以上のピークを有する。
[Requirement (2): Elution temperature-elution amount curve obtained by CFC measurement]
The polyethylene composition of the present embodiment has two or more peaks in the elution temperature-elution amount curve obtained by CFC measurement.
ここで「クロス分別クロマトグラフィー(CFC)」とは、結晶性分別を行う温度上昇溶出分別部(以下、「TREF部」ともいう。)と分子量分別を行うゲルパーミエーションクロマトグラフィー部(以下、「GPC部」ともいう。)とを組み合わせた装置であって、TREF部とGPC部とを直接接続することにより組成分布と分子量分布の相互関係の解析を行うことが可能な装置である。 Here, “cross fractionation chromatography (CFC)” refers to a temperature-rise elution fractionation part (hereinafter also referred to as “TREF part”) that performs crystalline fractionation and a gel permeation chromatography part (hereinafter referred to as “TRF part”). The GPC unit is also a device that can analyze the mutual relationship between the composition distribution and the molecular weight distribution by directly connecting the TREF unit and the GPC unit.
ポリエチレンの各温度での溶出量及び溶出積分量は、TREF部により、溶出温度−溶出量曲線を以下のように測定することで求めることができる。具体的には、まず、充填剤を含有したカラムを140℃に昇温し、ポリエチレンをオルトジクロロベンゼンに溶かした試料溶液(例えば、濃度:20mg/20ml)を導入して120分間保持する。 The elution amount and integrated elution amount of polyethylene at each temperature can be determined by measuring an elution temperature-elution amount curve as follows using a TREF section. Specifically, first, the column containing the filler is heated to 140 ° C., and a sample solution (for example, concentration: 20 mg / 20 ml) in which polyethylene is dissolved in orthodichlorobenzene is introduced and held for 120 minutes.
次に、降温速度0.5℃/分で40℃まで降温することで、試料を順次充填剤表面に析出させる。40℃で20分間保持した後、カラムの温度を、昇温速度20℃/分で順次昇温する。初めに40℃から60℃まで10℃間隔で昇温し、60℃から69℃まで3℃間隔で昇温し、69℃から100℃まで1℃間隔で昇温し、100℃から120℃まで10℃間隔で昇温する。なお、各温度で21分間保持した後に昇温を行い、各温度で溶出した試料(ポリエチレン)の濃度を検出する。そして、試料(ポリエチレン)の溶出量(質量%)とその時のカラム内温度(℃)との値より、溶出温度−溶出量曲線を測定し、各温度での溶出量が得られる。 Next, the sample is sequentially deposited on the surface of the filler by lowering the temperature to 40 ° C. at a temperature decrease rate of 0.5 ° C./min. After maintaining at 40 ° C. for 20 minutes, the temperature of the column is sequentially increased at a rate of temperature increase of 20 ° C./min. First, the temperature is increased from 40 ° C. to 60 ° C. at intervals of 10 ° C., the temperature is increased from 60 ° C. to 69 ° C. at intervals of 3 ° C., the temperature is increased from 69 ° C. to 100 ° C. at intervals of 1 ° C., and from 100 ° C. to 120 ° C. The temperature is increased at 10 ° C intervals. In addition, after hold | maintaining at each temperature for 21 minutes, it heats up and the density | concentration of the sample (polyethylene) eluted at each temperature is detected. And the elution temperature-elution amount curve is measured from the value of the elution amount (mass%) of the sample (polyethylene) and the temperature in the column (° C.) at that time, and the elution amount at each temperature is obtained.
[要件(3):ピークPlowのピークトップ温度Tlowで溶出する成分の重量平均分子量Mwlow]
CFC測定により得られる溶出温度−溶出量曲線における2つ以上のピークのうち、最も低温側のピークを「ピークPlow」とし、該ピークPlowのピークトップ温度を「ピークトップ温度Tlow」とする。このとき、ピークトップ温度Tlowで溶出する成分の重量平均分子量Mwlowは、50,000以上300,000以下であり、好ましくは100,000以上295,000以下であり、より好ましくは120,000以上290,000以下である。上記Mwlowが300,000以下であることにより、FEがより減少する。また、上記Mwlowが50,000以上であることによっても、FEがより減少する。
[Requirement (3): The weight average molecular weight of components eluted at a peak top temperature T low peak P low Mw low]
Among two or more peaks in the elution temperature-elution amount curve obtained by CFC measurement, the peak at the lowest temperature side is defined as “peak P low ”, and the peak top temperature of the peak P low is defined as “peak top temperature T low ”. To do. At this time, the weight average molecular weight Mw low of the component eluted at the peak top temperature T low is 50,000 or more and 300,000 or less, preferably 100,000 or more and 295,000 or less, more preferably 120,000. Above 290,000. When the Mw low is 300,000 or less, the FE is further reduced. Also, the FE is further reduced when the Mw low is 50,000 or more.
ピークトップ温度Tlowで溶出する成分の重量平均分子量Mwlowは、上述したCFC測定により得られ、より具体的には、実施例に記載の方法により測定することができる。また、ピークPlowは組成物の中で最も結晶化度の低い成分から成るピークであり、該成分の重量平均分子量Mwlowは該成分を重合する際に制御出来る。例えば該成分が高圧法低密度ポリエチレンから成る場合、Mwlowは重合温度を下げる、もしくは重合圧力を上げることにより増大し、重合温度を上げる、もしくは重合圧力を下げることにより減少する傾向にある。 The weight average molecular weight Mw low of the component eluting at the peak top temperature T low is obtained by the above-described CFC measurement, and more specifically can be measured by the method described in the examples. The peak P low is a peak composed of a component having the lowest crystallinity in the composition, and the weight average molecular weight Mw low of the component can be controlled when the component is polymerized. For example, when the component is made of high-pressure low-density polyethylene, Mw low tends to increase by decreasing the polymerization temperature or increasing the polymerization pressure, and decreasing by increasing the polymerization temperature or decreasing the polymerization pressure.
[ピークPlowのピークトップ温度Tlow]
上記ピークトップ温度Tlowは、好ましくは71℃以上84℃以下であり、より好ましくは72℃以上83℃以下であり、さらに好ましくは73℃以上82℃以下であり、特に好ましくは74℃以上81℃以下である。ピークトップ温度Tlowが71℃以上であることにより、FEがより減少する傾向にある。ピークトップ温度Tlowが84℃以下であることによっても、FEがより減少する傾向にある。なお、ピークPlowは、最も低結晶度側の成分に由来するピークであり、ピークトップ温度Tlowは、最も低結晶度側の成分の溶出温度である。
[Peak P peak of the low top temperature T low]
The peak top temperature T low is preferably 71 ° C. or higher and 84 ° C. or lower, more preferably 72 ° C. or higher and 83 ° C. or lower, still more preferably 73 ° C. or higher and 82 ° C. or lower, and particularly preferably 74 ° C. or higher and 81 ° C. or lower. It is below ℃. When the peak top temperature T low is 71 ° C. or higher, the FE tends to decrease more. Even when the peak top temperature T low is 84 ° C. or lower, the FE tends to decrease more. The peak P low is a peak derived from the component having the lowest crystallinity, and the peak top temperature T low is the elution temperature of the component having the lowest crystallinity.
ピークトップ温度Tlowは、上述したCFC測定により得られる溶出温度−溶出量曲線から得ることができ、より具体的には、実施例に記載の方法により測定することができる。また、ピークトップ温度Tlowは低結晶度成分の密度(結晶度)を上げることにより増大し、下げることにより減少する傾向にある。 The peak top temperature T low can be obtained from the elution temperature-elution amount curve obtained by the above-described CFC measurement, and more specifically can be measured by the method described in the examples. Further, the peak top temperature T low tends to increase by increasing the density (crystallinity) of the low crystallinity component and decrease by decreasing it.
[ピークPlowにおいて溶出する成分の割合wlow]
ピークPlowにおいて溶出する成分の割合を「割合wlow」とする。このとき、割合wlowは、好ましくは0.5%以上20%以下であり、より好ましくは1%以上18%以下であり、さらに好ましくは3%以上15%以下であり、よりさらに好ましくは4%以上14%以下であり、特に好ましくは5%以上13%以下である。溶出温度−溶出量曲線におけるピークPlowにおいて溶出する成分(低温側成分)とは、実質的にブレンド原料の低密度成分の量を表している。したがって、割合wlowが上記範囲よりも多いということは、実質的に混合させるブレンド原料の低密度成分の量が多いということを意味する。少量のブレンドであれば、高密度ポリエチレンを造粒する際の押出機に高圧法低密度ポリエチレンを添加することで容易に添加できるため、好ましい。割合wlowが20%以下であることにより、工業的にはブレンド原料を混合させるために専用の設備を省くことができるため好ましい。また、割合wlowが0.5%以上であることにより、FEがより減少する傾向にある。
[Proportion of component eluting at peak P low w low ]
The ratio of the components that elute at the peak P low is defined as “ratio w low ”. At this time, the ratio w low is preferably 0.5% or more and 20% or less, more preferably 1% or more and 18% or less, still more preferably 3% or more and 15% or less, and still more preferably 4%. % To 14%, particularly preferably 5% to 13%. The component (low temperature side component) eluted at the peak P low in the elution temperature-elution amount curve substantially represents the amount of the low density component of the blend raw material. Therefore, when the ratio w low is larger than the above range, it means that the amount of the low density component of the blend raw material to be substantially mixed is large. A small amount of blend is preferable because it can be easily added by adding high-pressure low-density polyethylene to an extruder for granulating high-density polyethylene. It is preferable that the ratio w low is 20% or less because a dedicated facility can be omitted industrially for mixing the blend raw materials. Further, when the ratio w low is 0.5% or more, the FE tends to decrease more.
なお、割合wlowは、CFC測定により得られる溶出温度−溶出量曲線における全ピークの総面積を100%に対する、ピークPlowの面積として求めることができ、より具体的には、実施例に記載の方法により求めることができる。なお、割合wlowは、組成物中の低結晶度成分の割合を上げることにより増大し、下げることにより減少する傾向にある。 The ratio w low can be determined as the area of the peak P low with respect to 100% of the total area of all peaks in the elution temperature-elution amount curve obtained by CFC measurement, and more specifically described in the examples. It can obtain | require by the method of. The ratio w low tends to increase by increasing the ratio of the low crystallinity component in the composition and decrease by decreasing it.
[重量平均分子量Mwlowと数平均分子量Mnlowの比Mwlow/Mnlow]
ピークPlowのピークトップ温度Tlowで溶出する成分の重量平均分子量Mwlowと数平均分子量Mnlowの比を「比Mwlow/Mnlow」とする。比Mwlow/Mnlowは、好ましくは3.0以上9.0以下であり、より好ましくは3.0以上8.8以下であり、さらに好ましくは3.0以上8.5以下であり、特に好ましくは3.0以上8.1以下である。比Mwlow/Mnlowが大きいということは、実質的に混合させるブレンド原料の分子量分布が広いことを意味する。比Mwlow/Mnlowが9.0以下でああることによいr、FEの原因となり得る高分子量成分がより少なくなり、FEがより減少する傾向にある。
[Ratio of weight-average molecular weight Mw low number average molecular weight Mn low Mw low / Mn low]
The ratio between the weight average molecular weight Mw low and the number average molecular weight Mn low of the component eluted at the peak top temperature T low of the peak P low is defined as “ratio Mw low / Mn low ”. The ratio Mw low / Mn low is preferably 3.0 or more and 9.0 or less, more preferably 3.0 or more and 8.8 or less, and further preferably 3.0 or more and 8.5 or less. Preferably they are 3.0 or more and 8.1 or less. A large ratio Mw low / Mn low means that the molecular weight distribution of the blend raw material to be substantially mixed is wide. It is good that the ratio Mw low / Mn low is 9.0 or less, and there are fewer high molecular weight components that can cause FE, and FE tends to decrease more.
なお、比Mwlow/Mnlowは、上述したCFC測定により得られ、より具体的には、実施例に記載の方法により測定することができる。なお、ピークPlowは組成物の中で最も結晶化度の低い成分から成るピークであり、該比Mwlow/Mnlowは該成分を重合する際に制御出来る。例えば該成分が高圧法低密度ポリエチレンから成る場合、該比Mwlow/Mnlowは重合時の撹拌を強くすることにより増大し、撹拌を弱めることにより減少する傾向にある。 The ratio Mw low / Mn low is obtained by the above-described CFC measurement, and more specifically can be measured by the method described in the examples. The peak P low is a peak composed of a component having the lowest crystallinity in the composition, and the ratio Mw low / Mn low can be controlled when polymerizing the component. For example, when the component is made of high pressure process low density polyethylene, the ratio Mw low / Mn low tends to increase by increasing the agitation during polymerization and decrease by decreasing the agitation.
[要件(4):フーリエ変換型赤外分光法(FT−IR)]
フーリエ変換型赤外分光法(FT−IR)により、本実施形態のポリエチレン組成物の表面を任意の10点を測定したとき、1378cm-1に観測されるスペクトル強度をスペクトル強度r1,i(i=1〜10)とし、1369cm-1に観測されるスペクトル強度をスペクトル強度r2,i(i=1〜10)とする。このとき、比Wi=r1,i/r2,i(i=1〜10)の標準偏差sは、0.2以下であり、好ましくは0.18以下であり、より好ましくは0.15以下である。標準偏差sが0.2以下であることにより、組成物に局所的な組成の偏りが十分に少なく、物性が一様であり、フィルムにした際のFEも低減されたものとなる。
[Requirement (4): Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR)]
When arbitrary 10 points on the surface of the polyethylene composition of the present embodiment are measured by Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR), the spectrum intensity observed at 1378 cm −1 is the spectrum intensity r 1, i ( i = 1 to 10), and the spectrum intensity observed at 1369 cm −1 is the spectrum intensity r 2, i (i = 1 to 10). At this time, the standard deviation s of the ratio W i = r 1, i / r 2, i (i = 1 to 10) is 0.2 or less, preferably 0.18 or less, more preferably 0.8. 15 or less. When the standard deviation s is 0.2 or less, local compositional deviation in the composition is sufficiently small, the physical properties are uniform, and the FE when formed into a film is also reduced.
ここで、赤外分光光度計としては、微小な面積について測定が可能な顕微赤外分光光度計を用いることが好ましい。また、1点当たりの測定面積は500μm2以上4000μm2未満とする。1330cm-1と1398cm-1の吸収高さH1330とH1398を結んだ線をベースラインとして、目的の波数でのスペクトル強度を評価する。 Here, as the infrared spectrophotometer, it is preferable to use a micro infrared spectrophotometer capable of measuring a minute area. The measurement area per one point to 500 [mu] m 2 or more 4000μm less than 2. Using the line connecting the absorption heights H 1330 and H 1398 of 1330 cm −1 and 1398 cm −1 as the baseline, the spectral intensity at the target wave number is evaluated.
なお、標準偏差は以下の式で計算することができる。
なお、標準偏差sは、より具体的には、実施例に記載の方法により測定することができる。なお、標準偏差sは、組成物の混練の強度を上げることにより増大し、下げることにより減少する傾向にある。 The standard deviation s can be measured more specifically by the method described in the examples. The standard deviation s tends to increase by increasing the kneading strength of the composition and decrease by decreasing it.
[ポリエチレン組成物の製造方法]
本実施形態のポリエチレン組成物は、例えば以下の方法で溶融混練をすることで得られる。混練としては、1次混練と2次混練の2回の溶融混練を行うことが好ましい。
[Method for producing polyethylene composition]
The polyethylene composition of the present embodiment can be obtained, for example, by melt kneading by the following method. As kneading, it is preferable to perform melt kneading twice, that is, primary kneading and secondary kneading.
1次混練は、低温域での強せん断の混練であることが好ましい。例えば、押出機の温度を140℃から180℃(樹脂の融点+20℃程度)に設定し昇圧する。押出を開始した後、押出機の運転に支障が無い範囲で設定温度を下げていく。樹脂の実温度は溶融時の発熱のため一定の温度よりは低下しなくなるので、その温度を設定温度として押出・ペレタイズを実施する。可能な限り低温で混練することで、強いせん断応力が得られ、樹脂が効率よく分散する。分散が悪いようであれば、繰り返し1次混練を行ってもよい。ただし、押出を繰り返すと酸化・劣化した樹脂によるFEの増加が懸念される。 The primary kneading is preferably strong shear kneading in a low temperature range. For example, the temperature of the extruder is set to 140 ° C. to 180 ° C. (melting point of resin + about 20 ° C.) and the pressure is increased. After starting the extrusion, the set temperature is lowered within a range that does not hinder the operation of the extruder. Since the actual temperature of the resin does not drop below a certain temperature due to heat generation during melting, extrusion and pelletization are carried out with that temperature as the set temperature. By kneading at as low a temperature as possible, a strong shear stress is obtained and the resin is dispersed efficiently. If dispersion seems to be poor, primary kneading may be repeated. However, when extrusion is repeated, there is a concern that FE may increase due to oxidized and deteriorated resin.
2次混練は、高温域での高融点成分の混練であることが好ましい。例えば、押出機を240℃から280℃(樹脂の融点+120℃程度)に設定し昇圧する。押出時に、組成物に0.1〜1質量部程度のポリエチレンワックスを添加する。このポリエチレンワックスは、原料の高圧法低密度ポリエチレン及び高密度ポリエチレンを製造する際に副生されるものが相溶性の観点で好ましく、分子量が1000程度のものが好ましい。ポリエチレンワックスを添加して高温で混練することで、原料樹脂中に存在する高融点の成分を均一に拡散させることが出来る。この際、分散が悪いようであれば、繰り返し2次混練を行ってもよい。 The secondary kneading is preferably kneading of a high melting point component in a high temperature range. For example, the pressure is increased by setting the extruder to 240 ° C. to 280 ° C. (resin melting point + about 120 ° C.). At the time of extrusion, about 0.1 to 1 part by mass of polyethylene wax is added to the composition. This polyethylene wax is preferably produced as a by-product in the production of raw material high-pressure low-density polyethylene and high-density polyethylene from the viewpoint of compatibility, and preferably has a molecular weight of about 1000. By adding polyethylene wax and kneading at a high temperature, the high melting point component present in the raw material resin can be uniformly diffused. At this time, if the dispersion seems to be poor, secondary kneading may be repeated.
上記混練作業における溶融押出機としては、一軸押出機、二軸押出機、ベント押出機、タンデム押出機等を使用することができる。 As the melt extruder in the kneading operation, a single screw extruder, a twin screw extruder, a vent extruder, a tandem extruder, or the like can be used.
〔フィルム〕
本実施形態のフィルムは、上記ポリエチレン組成物を含む。上記ポリエチレン組成物を用いて得られるフィルムは、比較的に小さなFEの数が非常に低減され、フィルムのコシも兼ね備えており、さらに断面に毛羽立ちの発生も少ないものとなる。当該フィルムの用途は、特に限定されないが、例えば、保護フィルム用途において好適に用いることができる。
〔the film〕
The film of this embodiment contains the said polyethylene composition. The film obtained by using the above polyethylene composition has a relatively small number of relatively small FEs, has a firmness of the film, and has less fuzz in the cross section. Although the use of the said film is not specifically limited, For example, it can use suitably in a protective film use.
[フィルムの成膜方法]
本実施形態のポリエチレン組成物を種々の方法でフィルム成形することによってフィルムを得ることが出来る。成型方法としては、例えば、空冷インフレーション法、水冷インフレーション法、Tダイ法などが適している。
[Film Formation Method]
A film can be obtained by film-forming the polyethylene composition of this embodiment by various methods. As the molding method, for example, an air-cooled inflation method, a water-cooled inflation method, a T-die method, or the like is suitable.
[添加剤]
本実施形態のポリエチレン組成物には、必要に応じて、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、有機あるいは無機フィラー、有機系あるいは無機系顔料、造核剤、架橋剤などの公知の添加剤を添加することができる。
[Additive]
The polyethylene composition of the present embodiment includes an antioxidant, an anti-blocking agent, a lubricant, an antistatic agent, an antifogging agent, an ultraviolet absorber, an organic or inorganic filler, an organic or inorganic pigment, a structure, if necessary. Known additives such as a nucleating agent and a crosslinking agent can be added.
以下、実施例を示して本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated in more detail, this invention is not limited by these Examples.
[評価方法]
実施例及び比較例に用いた組成物の諸物性は、下記の方法により測定した。
[Evaluation method]
Various physical properties of the compositions used in Examples and Comparative Examples were measured by the following methods.
(密度)
密度は、JIS K 7112に準拠して、密度勾配管法により測定した。
(density)
The density was measured by a density gradient tube method in accordance with JIS K7112.
(クロス分別クロマトグラフィー(CFC)測定)
Polymer ChAR社製Automated 3D analyzer CFC−2を用いてCFC測定を実施した。カラムはステンレススチールマイクロボールカラム(3/8”o.d x 150mm)を用い、溶離液はo−ジクロロベンゼン(高速液体クロマトグラフ用)を用いた。
(Cross fractionation chromatography (CFC) measurement)
CFC measurement was performed using an Automated 3D analyzer CFC-2 manufactured by Polymer ChAR. The column was a stainless steel microball column (3/8 "od x 150 mm), and the eluent was o-dichlorobenzene (for high performance liquid chromatography).
充填剤を含有したカラムを140℃に昇温し、ポリエチレンをオルトジクロロベンゼンに溶かした試料溶液を導入して120分間保持した。次に、カラムの温度を、降温速度0.5℃/分で40℃まで降温した後、20分間保持した。この工程で試料が充填剤表面に析出した。 The column containing the packing was heated to 140 ° C., and a sample solution in which polyethylene was dissolved in orthodichlorobenzene was introduced and held for 120 minutes. Next, the temperature of the column was lowered to 40 ° C. at a temperature lowering rate of 0.5 ° C./min, and then held for 20 minutes. In this step, the sample was deposited on the filler surface.
カラムの温度は以下の様に調整した。まず、50℃まで昇温速度20℃/分で昇温し、50℃で21分間保持した。続いて60℃まで昇温し、60℃で保持した。同様に保持温度を変えて昇温を続けたが、60℃から75℃までは5℃間隔で昇温・保持し、75℃から90℃までは3℃間隔で昇温・保持し、90℃から110℃までは1℃間隔で昇温・保持し、110℃から120℃までは5℃間隔で昇温・保持することとした。各昇温速度20℃/分で昇温し、各保持温度で21分間保持した後に溶出した試料(ポリエチレン)の濃度を検出した。 The column temperature was adjusted as follows. First, the temperature was raised to 50 ° C. at a rate of temperature rise of 20 ° C./min and held at 50 ° C. for 21 minutes. Then, it heated up to 60 degreeC and hold | maintained at 60 degreeC. Similarly, the temperature was raised while changing the holding temperature. The temperature was raised and held at intervals of 5 ° C. from 60 ° C. to 75 ° C., and the temperature was raised and held at intervals of 3 ° C. from 75 ° C. to 90 ° C. From 110 ° C. to 110 ° C., the temperature was raised / held at 1 ° C. intervals, and from 110 ° C. to 120 ° C., the temperature was raised / held at 5 ° C. intervals. The temperature of each sample was increased at a rate of 20 ° C./min, and the concentration of the sample (polyethylene) eluted after holding at each holding temperature for 21 minutes was detected.
上記条件における測定により、溶出温度−溶出量曲線、各温度での溶出量、溶出積分量、及び各温度で溶出した試料についての重量平均分子量(Mw)を得た。 By measurement under the above conditions, an elution temperature-elution amount curve, an elution amount at each temperature, an elution integral amount, and a weight average molecular weight (M w ) for a sample eluted at each temperature were obtained.
(フィルムの成形)
山口製作所製Tダイ成膜機を用い、シリンダー温度200℃、ダイス温度200℃、押出し量5kg/hとし、厚さ40μmのフィルムを成形した。
(Film forming)
Using a T-die film forming machine manufactured by Yamaguchi Seisakusho, a cylinder temperature of 200 ° C., a die temperature of 200 ° C., an extrusion rate of 5 kg / h, and a film having a thickness of 40 μm were formed.
(大FEの低減)
上記Tダイを用いて成形したフィルムの0.3mm以上のFEの数を目視評価した。FEとしては、組成物以外の異物に由来するものや、酸化により生じた着色物は計測対象から除外した。なお、実施例のポリエチレン組成物を構成する各成分(高密度ポリエチレン(A)及び低密度ポリエチレン(B))を単独で成膜し、当該膜に認められる0.3mm以上のFEの数をカウントした。そして、高密度ポリエチレン(A)単独膜又は低密度ポリエチレン(B)単独膜のうち、FEの数が最も多い方を基準(1)とした。次いで、実施例のポリエチレン組成物により得られた膜中の0.3mm以上のFEの数をカウントし、上記基準に対するFEの数の割合を求め、下記の様に評価した。
◎:0.5以下
○:0.5超過0.7以下
△:0.7超過1.0以下
×:1.0超過
(Reduction of large FE)
The number of FE of 0.3 mm or more of the film formed using the T die was visually evaluated. As the FE, those derived from foreign substances other than the composition and colored substances produced by oxidation were excluded from the measurement target. In addition, each component (high density polyethylene (A) and low density polyethylene (B)) which comprises the polyethylene composition of an Example is formed into a film independently, and the number of 0.3 mm or more FE recognized by the said film is counted. did. Of the high-density polyethylene (A) single film and the low-density polyethylene (B) single film, the one with the largest number of FE was used as the reference (1). Next, the number of FEs of 0.3 mm or more in the film obtained from the polyethylene composition of the example was counted, the ratio of the number of FEs with respect to the above criteria was determined, and evaluated as follows.
◎: 0.5 or less ○: 0.5 exceeding 0.7 or less △: 0.7 exceeding 1.0 or less ×: exceeding 1.0
(小FEの低減)
上記Tダイを用いて成形したフィルムの0.1mm以上0.3mm未満のFEの数を目視評価した。FEとしては、組成物以外の異物に由来するものや、酸化により生じた着色したものは計測対象から除外した。なお、実施例のポリエチレン組成物を構成する各成分(高密度ポリエチレン(A)及び低密度ポリエチレン(B))を単独で成膜し、当該膜に認められる0.1mm以上0.3mm未満のFEの数をカウントした。そして、高密度ポリエチレン(A)単独膜又は低密度ポリエチレン(B)単独膜のうち、FEの数が最も多い方を基準(1)とした。次いで、実施例のポリエチレン組成物により得られた膜中の0.1mm以上0.3mm未満のFEの数をカウントし、上記基準に対するFEの数の割合を求め、下記の様に評価した。
◎:0.5以下
○:0.5超過0.7以下
△:0.7超過1.0以下
×:1.0超過
(Reduction of small FE)
The number of FE of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm of the film formed using the T-die was visually evaluated. As the FE, those derived from foreign substances other than the composition and those colored by oxidation were excluded from the measurement target. In addition, each component (high density polyethylene (A) and low density polyethylene (B)) which comprises the polyethylene composition of an Example is formed into a film independently, and 0.1-0.3 mm FE recognized by the said film | membrane Counted the number of. Of the high-density polyethylene (A) single film and the low-density polyethylene (B) single film, the one with the largest number of FE was used as the reference (1). Next, the number of FEs of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm in the film obtained from the polyethylene composition of the example was counted, and the ratio of the number of FEs with respect to the above criteria was determined and evaluated as follows.
◎: 0.5 or less ○: 0.5 exceeding 0.7 or less △: 0.7 exceeding 1.0 or less ×: exceeding 1.0
(弾性率)
上記Tダイ成形フィルムを用いて、JIS K 7127に準拠して引張割線弾性率(規定ひずみ2%)を測定した。縦方向、横方向の引張割線弾性率の平均値をコシの指標とし、以下の評価基準で評価した。
◎:400MPa以上:
○:300以上400MPa未満
△:200以上300MPa未満
×:200MPa未満
(Elastic modulus)
Using the T-die molded film, the tensile secant modulus (specified strain 2%) was measured according to JIS K 7127. The average value of the tensile secant modulus in the machine direction and the transverse direction was used as an index of stiffness, and evaluated according to the following evaluation criteria.
A: 400 MPa or more:
○: 300 or more and less than 400 MPa Δ: 200 or more and less than 300 MPa ×: less than 200 MPa
(フィルム切断面の状態)
上記Tダイ成形フィルムの耳のトリム面を目視観察し、切断面がカット良好で毛羽立ちが無い場合には○とし、毛羽がやや認められる場合は△、毛羽が多量に認められる場合は×とした。
(State of film cut surface)
The ear trim surface of the above T-die molded film was visually observed. If the cut surface was cut well and there was no fuzz, it was marked as ◯, when fluff was slightly recognized, and when fluff was found in large amounts, it was marked as x. .
(FT−IR測定)
日本分光製フーリエ変換赤外分光光度計FT/IR−4000及びその付属機赤外顕微鏡IRT−3000を用いて、上記Tダイ成形フィルムの顕微FT−IR測定を行った。測定面積は3600μm2とした。それぞれのサンプルについて任意の10カ所の測定を行い、1378cm-1に観測されるスペクトル強度r1,i(i=1〜10)と1369cm-1に観測されるスペクトル強度r2,i(i=1〜10)の比Wi=r1,i/r2,i(i=1〜10)の標準偏差sを求めた。
(FT-IR measurement)
Using a Fourier transform infrared spectrophotometer FT / IR-4000 manufactured by JASCO Corporation and its associated infrared microscope IRT-3000, microscopic FT-IR measurement of the T-die molded film was performed. The measurement area was 3600 μm 2 . For each sample was measured in arbitrary 10 places, the spectral intensity r 2 observed in the spectral intensity r 1, i (i = 1~10 ) and 1369cm -1 which is observed in 1378cm -1, i (i = The standard deviation s of the ratio W i = r 1, i / r 2, i (i = 1 to 10) of 1 to 10) was determined.
[実施例及び比較例において使用した成分の調製]
・高密度ポリエチレン(A)
<チーグラーナッタ触媒(a)の調製>
充分に窒素置換された200mLのステンレス製オートクレーブに式:AlMg6(C4H9)12(OC3H7)3で表される有機マグネシウム化合物のヘキサン溶液40mL(アルミニウムとマグネシウムの総量として37.8mmol相当)を仕込み、25℃で攪拌しながらメチルヒドロポリシロキサン2.27g(37.8mmol)を含有するヘキサン40mLを30分かけて滴下した。滴下後、80℃に昇温し、3時間攪拌しながら反応させることにより、チタン化合物と接触させる有機マグネシウム化合物を得た。
[Preparation of components used in Examples and Comparative Examples]
・ High density polyethylene (A)
<Preparation of Ziegler-Natta catalyst (a)>
40 mL of a hexane solution of an organomagnesium compound represented by the formula: AlMg 6 (C 4 H 9 ) 12 (OC 3 H 7 ) 3 in a fully nitrogen-substituted 200 mL stainless steel autoclave (37. 8 mL of hexane containing 2.27 g (37.8 mmol) of methylhydropolysiloxane was added dropwise over 30 minutes while stirring at 25 ° C. After dropping, the mixture was heated to 80 ° C. and reacted with stirring for 3 hours to obtain an organomagnesium compound to be brought into contact with the titanium compound.
充分に窒素置換された8Lのステンレス製オートクレーブにヘキサン2400mLを仕込み、−5℃で攪拌しながら、式AlMg6(C4H9)12(OC3H7)3で表される有機マグネシウム化合物のヘキサン溶液1300mL(マグネシウム521mmol相当)と0.5mol/Lの四塩化チタンのヘキサン溶液1300mLとを、2時間かけて同時に滴下した。滴下後、さらに10℃で1時間攪拌しながら熟成させた後、上澄み液を除去し、ヘキサン3000mLでの洗浄を4回行うことにより、チーグラーナッタ触媒を調製した。 Into an 8 L stainless steel autoclave sufficiently purged with nitrogen, 2400 mL of hexane was charged and stirred at −5 ° C., while the organomagnesium compound represented by the formula AlMg 6 (C 4 H 9 ) 12 (OC 3 H 7 ) 3 was used. 1300 mL of hexane solution (corresponding to 521 mmol of magnesium) and 1300 mL of hexane solution of 0.5 mol / L titanium tetrachloride were added dropwise simultaneously over 2 hours. After dropping, the mixture was further aged with stirring at 10 ° C. for 1 hour, and then the supernatant was removed and washed with 3000 mL of hexane four times to prepare a Ziegler-Natta catalyst.
<高密度ポリエチレン樹脂(A−1)の調製>
容積230Lの重合器で重合反応をおこなった。重合温度は86℃、重合圧力は1.0MPaとした。この重合器に合成したチーグラーナッタ触媒(a)を0.3g/hrの速度で、トリイソブチルアルミニウムを24mmol/hr、ノルマルヘキサンは48L/hrの速度で導入した。これにエチレン、水素、及び4mol%のブテン−1の混合ガスを導入して重合した。
<Preparation of high-density polyethylene resin (A-1)>
The polymerization reaction was conducted in a polymerization vessel having a volume of 230 L. The polymerization temperature was 86 ° C. and the polymerization pressure was 1.0 MPa. The Ziegler-Natta catalyst (a) synthesized in this polymerization vessel was introduced at a rate of 0.3 g / hr, triisobutylaluminum at 24 mmol / hr, and normal hexane at a rate of 48 L / hr. Polymerization was carried out by introducing a mixed gas of ethylene, hydrogen, and 4 mol% of butene-1 to this.
重合は、エチレン、水素混合ガスを脱圧して、窒素ガスで加圧、脱圧を3回繰り返した後、メタノールを溶媒であるノルマルヘキサンの0.5質量%導入することで重合を停止した。その後、エチレン単独重合体を300メッシュの金網で濾過し、95℃の熱風乾燥器で3時間乾燥した。得られた高密度ポリエチレン樹脂パウダーは、日本製鋼株式会社製押出機(スクリュー径65mm、L/D=28、L:押出機の原料供給口から排出口までの距離(m)、D:押出機の内径(m)。以下、同じ。)を用い、200℃にて押出して造粒し、高密度ポリエチレン樹脂(A−1)を得た。160℃以上200℃以下で造粒実施することで、相分離を防ぎ、かつ、高せん断下で混練することで分散性を上げることが出来る。得られた樹脂の物性を表1に示す。 The polymerization was terminated by depressurizing the mixed gas of ethylene and hydrogen, pressurizing and depressurizing with nitrogen gas three times, and then introducing methanol by 0.5 mass% of normal hexane as a solvent. Thereafter, the ethylene homopolymer was filtered through a 300-mesh wire net and dried in a hot air dryer at 95 ° C. for 3 hours. The obtained high-density polyethylene resin powder was manufactured by Nippon Steel Co., Ltd. extruder (screw diameter 65 mm, L / D = 28, L: distance (m) from the raw material supply port to the discharge port of the extruder, D: extruder. The same is used, and the mixture is extruded and granulated at 200 ° C. to obtain a high-density polyethylene resin (A-1). By carrying out granulation at 160 ° C. or more and 200 ° C. or less, phase separation can be prevented and dispersibility can be improved by kneading under high shear. Table 1 shows the physical properties of the obtained resin.
<高密度ポリエチレン樹脂(A−2)の調製>
ブテン−1を使用しない以外はA−1と同様に重合を行い、高密度ポリエチレン樹脂(A−2)を得た。得られた樹脂の物性を表1に示す。
<Preparation of high-density polyethylene resin (A-2)>
Polymerization was performed in the same manner as A-1 except that butene-1 was not used, to obtain a high-density polyethylene resin (A-2). Table 1 shows the physical properties of the obtained resin.
<高密度ポリエチレン樹脂(A−3)の調製>
重合温度を83℃とし、ブテン−1の使用量を7.5mol%とした以外は高密度ポリエチレン樹脂(A−1)と同様に重合を行い、高密度ポリエチレン樹脂(A−3)を得た。得られた樹脂の物性を表1に示す。
<Preparation of high-density polyethylene resin (A-3)>
Polymerization was performed in the same manner as the high-density polyethylene resin (A-1) except that the polymerization temperature was 83 ° C. and the amount of butene-1 used was 7.5 mol% to obtain a high-density polyethylene resin (A-3). . Table 1 shows the physical properties of the obtained resin.
<メタロセン担持触媒(b)の調製>
シリカP−10[富士シリシア社(日本国)製](商標)を、窒素雰囲気下、400℃で5時間焼成し、脱水した。エトキシジエチルアルミニウムを表面水酸基と反応させてエタンガスを発生させ、ガスビュレットを用いて、発生したエタンガスの量を測定した。発生したエタンガスの量に基づいて脱水シリカの表面水酸基の初期量を求めたところ、1.3mmol/g−SiO2であった。容量1.8Lのオートクレーブにおいて、この脱水シリカ40gをヘキサン800cc中に分散させ、スラリーを得た。得られたスラリーを攪拌下50℃に保ちながら、トリエチルアルミニウムのヘキサン溶液(濃度1mol/L)を60cc加え、その後2時間攪拌し、トリエチルアルミニウムとシリカの表面水酸基とを反応させ、トリエチルアルミニウム処理されたシリカと上澄み液とを含み、該トリエチルアルミニウム処理されたシリカの全ての表面水酸基がつぶされている成分(c)を得た。その後、得られた反応混合物中の上澄み液をデカンテーションによって除去することにより、上澄み液中の未反応のトリエチルアルミニウムを除去した。その後、ヘキサンを適量加え、トリエチルアルミニウム処理されたシリカのヘキサンスラリー800ccを得た。
<Preparation of metallocene supported catalyst (b)>
Silica P-10 [manufactured by Fuji Silysia Ltd. (Japan)] (trademark) was calcined at 400 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere and dehydrated. Ethoxydiethylaluminum was reacted with surface hydroxyl groups to generate ethane gas, and the amount of ethane gas generated was measured using a gas burette. The initial amount of the surface hydroxyl group of dehydrated silica was determined based on the amount of ethane gas generated, and found to be 1.3 mmol / g-SiO 2 . In a 1.8 L autoclave, 40 g of this dehydrated silica was dispersed in 800 cc of hexane to obtain a slurry. While maintaining the resulting slurry at 50 ° C. with stirring, 60 cc of a hexane solution of triethylaluminum (concentration 1 mol / L) was added, and then stirred for 2 hours to react triethylaluminum with the surface hydroxyl group of silica, and the triethylaluminum treatment In addition, a component (c) containing the silica and the supernatant liquid and having all the surface hydroxyl groups of the silica treated with triethylaluminum being crushed was obtained. Thereafter, the supernatant liquid in the obtained reaction mixture was removed by decantation to remove unreacted triethylaluminum in the supernatant liquid. Thereafter, an appropriate amount of hexane was added to obtain 800 cc of a hexane slurry of silica treated with triethylaluminum.
一方、[(N−t−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシラン]チタニウム−1,3−ペンタジエン(以下、「チタニウム錯体」という)200mmolをアイソパーE[エクソンケミカル社(米国)製の炭化水素混合物の商品名]1000ccに溶解し、予めトリエチルアルミニウムとジブチルマグネシウムから合成した組成式AlMg6(C2H5)3(n−C4H9)12の1mol/Lヘキサン溶液を20cc加え、更にヘキサンを加えてチタニウム錯体濃度を0.1mol/Lに調整し、成分(d)を得た。 On the other hand, 200 mmol of [(Nt-butylamide) (tetramethyl-η5-cyclopentadienyl) dimethylsilane] titanium-1,3-pentadiene (hereinafter referred to as “titanium complex”) was added to Isopar E [Exxon Chemical Company (USA) 1) 1 mol / L hexane solution of composition formula AlMg 6 (C 2 H 5 ) 3 (n-C 4 H 9 ) 12 dissolved in 1000 cc and previously synthesized from triethylaluminum and dibutylmagnesium 20 cc, hexane was further added to adjust the titanium complex concentration to 0.1 mol / L, and component (d) was obtained.
また、ビス(水素化タロウアルキル)メチルアンモニウム−トリス(ペンタフルオロフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)ボレート(以下、「ボレート」と略称する)5.7gをトルエン50ccに添加して溶解し、ボレートの100mmol/Lトルエン溶液を得た。このボレートのトルエン溶液にエトキシジエチルアルミニウムの1mol/Lヘキサン溶液5ccを室温で加え、さらにヘキサンを加えてトルエン溶液中のボレート濃度が70mmol/Lとなるようにした。その後、室温で1時間攪拌し、ボレートを含む反応混合物を得た。 Also, 5.7 g of bis (hydrogenated tallow alkyl) methylammonium-tris (pentafluorophenyl) (4-hydroxyphenyl) borate (hereinafter abbreviated as “borate”) was added to 50 cc of toluene and dissolved, A 100 mmol / L toluene solution was obtained. To this toluene solution of borate, 5 cc of a 1 mol / L hexane solution of ethoxydiethylaluminum was added at room temperature, and further hexane was added so that the borate concentration in the toluene solution was 70 mmol / L. Then, it stirred at room temperature for 1 hour and obtained the reaction mixture containing a borate.
ボレートを含むこの反応混合物46ccを、上で得られた成分(c)のスラリー800ccに15〜20℃で攪拌しながら加え、ボレートを物理吸着によりシリカに担持した。こうして、ボレートを担持したシリカのスラリーが得られた。さらに上で得られた成分(d)のうち32ccを加え、3時間攪拌し、チタニウム錯体とボレートとを反応させた。こうしてシリカと上澄み液とを含み、触媒活性種が該シリカ上に形成されているメタロセン担持触媒(b)を得た。 46 cc of this reaction mixture containing borate was added to 800 cc of the slurry of component (c) obtained above with stirring at 15 to 20 ° C., and the borate was supported on silica by physical adsorption. Thus, a slurry of silica carrying borate was obtained. Further, 32 cc of the component (d) obtained above was added and stirred for 3 hours to allow the titanium complex and borate to react. Thus, a metallocene-supported catalyst (b) containing silica and a supernatant liquid and having catalytically active species formed on the silica was obtained.
<液体助触媒成分(e)の調製>
有機マグネシウム化合物として、AlMg6(C2H5)3(n−C4H9)12で示される有機マグネシウム化合物を使用した。これと反応させるシロキサン化合物として、メチルヒドロポリシロキサン(25℃における粘度20センチストークス)を使用した。200ccのフラスコに、ヘキサン40ccとAlMg6(C2H5)3(n−C4H9)12を、MgとAlの総量として37.8mmolを攪拌しながら添加し、25℃でメチルヒドロポリシロキサン2.27g(37.8mmol)を含有するヘキサン40ccを攪拌しながら添加し、その後80℃に温度を上げて3時間、攪拌下に反応させることにより、液体助触媒成分(e)を調製した。
<Preparation of liquid promoter component (e)>
As organomagnesium compound, using an organic magnesium compound represented by the AlMg 6 (C 2 H 5) 3 (n-C 4 H 9) 12. Methylhydropolysiloxane (viscosity 20 centistokes at 25 ° C.) was used as the siloxane compound to be reacted with this. To a 200 cc flask, 40 cc of hexane and AlMg 6 (C 2 H 5 ) 3 (n-C 4 H 9 ) 12 were added with a total amount of 37.8 mmol of Mg and Al with stirring. Liquid cocatalyst component (e) was prepared by adding 40 cc of hexane containing 2.27 g (37.8 mmol) of siloxane with stirring, then raising the temperature to 80 ° C. and reacting with stirring for 3 hours. .
<高密度ポリエチレン樹脂(A−4)の調製>
上記により得られたメタロセン担持触媒(b)と液体助触媒成分(e)を、触媒移送ラインに連鎖移動剤として必要量の水素を供給することで水素を接触させて重合反応器に導入し、溶媒として精製したヘキサン、モノマーとしてエチレンを用いた。全圧1.0MPa、反応温度は80℃として、エチレン、水素の混合ガス(ガス組成は、水素とエチレン+水素のモル比を0.5%で調節)に重合反応を行い、高密度ポリエチレン樹脂を得た。重合により得られた高密度ポリエチレン樹脂パウダーは、日本製鋼株式会社製押出機(スクリュー径65mm、L/D=28)を用い、200℃にて押出して造粒することで高密度ポリエチレン樹脂(A−4)を得た。得られた樹脂の物性を表1に示す。
<Preparation of high-density polyethylene resin (A-4)>
The metallocene-supported catalyst (b) obtained above and the liquid promoter component (e) are brought into contact with hydrogen by supplying a necessary amount of hydrogen as a chain transfer agent to the catalyst transfer line and introduced into the polymerization reactor, Purified hexane was used as a solvent, and ethylene was used as a monomer. High pressure polyethylene resin with a total pressure of 1.0 MPa and a reaction temperature of 80 ° C. and a polymerization reaction in a mixed gas of ethylene and hydrogen (the gas composition is adjusted so that the molar ratio of hydrogen and ethylene + hydrogen is 0.5%). Got. The high-density polyethylene resin powder obtained by polymerization is extruded and granulated at 200 ° C. using an extruder manufactured by Nippon Steel Co., Ltd. (screw diameter 65 mm, L / D = 28). -4) was obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained resin.
<高密度ポリエチレン樹脂(A−5)の調製>
水素のモル比を、エチレンと水素の合計100mol%に対して、0.6mol%とし、コモノマーとしてブテン−1を0.06モル%加えた以外は高密度ポリエチレン樹脂(A−4)と同様に重合を行い、高密度ポリエチレン樹脂(A−5)を得た。得られた樹脂の物性を表1に示す。
<Preparation of high-density polyethylene resin (A-5)>
Similar to the high-density polyethylene resin (A-4), except that the molar ratio of hydrogen is 0.6 mol% with respect to 100 mol% of the total of ethylene and hydrogen, and 0.06 mol% of butene-1 is added as a comonomer. Polymerization was performed to obtain a high-density polyethylene resin (A-5). Table 1 shows the physical properties of the obtained resin.
・低密度ポリエチレンの重合
<低密度ポリエチレン樹脂(B−1)〜(B−10)の調製>
表2に示す条件で、開始剤に過酸化物を用い高圧法低密度ポリエチレン樹脂(B−1)〜(B−10)を重合した。得られた樹脂の物性を表2に示す。
Under the conditions shown in Table 2, high pressure low density polyethylene resins (B-1) to (B-10) were polymerized using a peroxide as an initiator. Table 2 shows the physical properties of the obtained resin.
[実施例1〜11]
高密度ポリエチレン(A)と低密度ポリエチレン(B)を表3に示す割合で混合し、日本製鋼株式会社製押出機を用い、溶融混練を行い、ペレタイズを行った。初期の温度設定は170℃とし、予備運転をしながら徐々に温度を下げ、150℃で1次混練を実施した。
[Examples 1 to 11]
High density polyethylene (A) and low density polyethylene (B) were mixed in the ratio shown in Table 3, and melt kneaded and pelletized using an extruder manufactured by Nippon Steel Co., Ltd. The initial temperature was set to 170 ° C., and the temperature was gradually lowered during the preliminary operation, and primary kneading was performed at 150 ° C.
得られたペレット100質量部に対し、高密度ポリエチレン(A)の製造時に副生されたポリエチレンワックスを0.2質量部と低密度ポリエチレン(B)の製造時に副生されたポリエチレンワックスを0.2質量部添加し、ブレンダー(容器寸法直径770mm、高さ550mm)に投入し、撹拌翼の回転数を30rpmとして5分間混合させた。得られた混合物を260℃に設定した日本製鋼株式会社製押出機に再度投入し、2次混練を実施することでポリエチレン組成物(C−1)〜(C−11)のペレットを得た。評価結果を表3に示す。 0.2 parts by mass of polyethylene wax by-produced during the production of high-density polyethylene (A) and 0.1% of polyethylene wax by-produced during the production of low-density polyethylene (B) are added to 100 parts by mass of the obtained pellets. 2 parts by mass was added, and the mixture was put into a blender (container size diameter 770 mm, height 550 mm), and the stirring blade was rotated at 30 rpm and mixed for 5 minutes. The obtained mixture was again charged into an extruder manufactured by Nippon Steel Co., Ltd. set to 260 ° C., and secondary kneading was performed to obtain pellets of polyethylene compositions (C-1) to (C-11). The evaluation results are shown in Table 3.
[比較例1〜3]
高密度ポリエチレン(A)と低密度ポリエチレン(B)を表4に示す割合で混合し、実施例1〜9と同様に1次、2次混練を実施しポリエチレン組成物(D−1)〜(D−3)のペレットを得た。評価結果を表4に示す。
[Comparative Examples 1-3]
High-density polyethylene (A) and low-density polyethylene (B) are mixed in the proportions shown in Table 4, and primary and secondary kneading are carried out in the same manner as in Examples 1 to 9, and polyethylene compositions (D-1) to ( D-3) pellets were obtained. The evaluation results are shown in Table 4.
[比較例4、5]
高密度ポリエチレン(A)と低密度ポリエチレン(B)を表4に示す割合で混合し、日本製鋼株式会社製押出機を用い200℃で溶融混練を行い、ペレタイズを行った。得られたポリエチレン組成物(D−4)、(D−5)のペレットを得た。評価結果を表4に示す。
[Comparative Examples 4 and 5]
High density polyethylene (A) and low density polyethylene (B) were mixed in the ratio shown in Table 4, and melt kneaded at 200 ° C. using an extruder manufactured by Nippon Steel Co., Ltd., and pelletized. Pellets of the obtained polyethylene compositions (D-4) and (D-5) were obtained. The evaluation results are shown in Table 4.
図1に実施例3のクロス分別クロマトグラフィー測定により得られる溶出温度−溶出量曲線を示すグラフを示す。ピークPlow及びピーク温度Tlowを図3中に示した。図3に示されるとおり、ピークPlowにおいて溶出する成分の割合wlowは、全ピーク面積に対するピークPlowの面積の割合として求められる。また、重複するピークは、ピークの谷から時間軸に下ろした垂線によって分割することで分割することができる。 The graph which shows the elution temperature-elution amount curve obtained by the cross-fractionation chromatography measurement of Example 3 in FIG. The peak P low and the peak temperature T low are shown in FIG. As shown in FIG. 3, the ratio w low of components eluted at a peak P low is determined as the ratio of the area of the peak P low to the total peak area. In addition, overlapping peaks can be divided by dividing them with a perpendicular drawn from the peak valley to the time axis.
本発明のポリエチレン組成物は、ブレンドのための二次押出が不要のため製造工程が削減される。また、フィルムにした際に十分なコシを持ち、フィッシュアイが少なく、フィルムの断面の毛羽立ちも抑えられるため、高い産業上の利用可能性を有する。 Since the polyethylene composition of the present invention does not require secondary extrusion for blending, the production process is reduced. Moreover, since it has sufficient stiffness when it is made into a film, there are few fish eyes, and the fluffing of the cross section of the film can be suppressed, it has high industrial applicability.
Claims (6)
要件(1):JIS K7112における密度が、940kg/m3以上975kg/m3以下であること、
要件(2):クロス分別クロマトグラフィー測定により得られる溶出温度−溶出量曲線において2つ以上のピークを有すること、
要件(3):前記2つ以上のピークのうち、最も低温側のピークをピークPlowとしたとき、該ピークPlowのピークトップ温度Tlowで溶出する成分の重量平均分子量Mwlowが、50,000以上300,000以下であること、
要件(4):フーリエ変換型赤外分光法で500μm2以上4000μm2未満の面積についての測定を前記ポリエチレン組成物表面の任意の10点について実施したとき、1378cm-1に観測されるスペクトル強度r1,i(i=1〜10)と、1369cm-1に観測されるスペクトル強度r2,i(i=1〜10)との比Wi=r1,i/r2,i(i=1〜10)の標準偏差sが、0.2以下であること。 A polyethylene composition satisfying the following requirements (1) to (3);
Requirement (1): Density at JIS K7112 is, 940 kg / m 3 or more 975 kg / m 3 or less,
Requirement (2): having two or more peaks in the elution temperature-elution amount curve obtained by cross-fractionation chromatography measurement,
Requirement (3): wherein the two or more peaks, when the peak of the lowest temperature side was set to peak P low, weight-average molecular weight Mw low of components eluted at a peak top temperature T low of the peak P low is 50 , 000 to 300,000,
Requirement (4): When the measurements for area of less than 500 [mu] m 2 or more 4000 .mu.m 2 Fourier transform infrared spectroscopy was performed on an arbitrary 10 points of the polyethylene composition surface, spectral intensity r observed at 1378 cm -1 1, i (i = 1 to 10) and the ratio of spectral intensities r 2, i (i = 1 to 10) observed at 1369 cm −1 W i = r 1, i / r 2, i (i = The standard deviation s of 1 to 10) is 0.2 or less.
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