JP2017187443A - Polymer film for analyzer, substrate for analyzer, method of manufacturing polymer film for analyzer, and method of manufacturing substrate for analyzer - Google Patents

Polymer film for analyzer, substrate for analyzer, method of manufacturing polymer film for analyzer, and method of manufacturing substrate for analyzer Download PDF

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悠二 藤田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer film that can be used separately from a substrate, such as an Si substrate, and reduces distortion of nanopore openings.SOLUTION: A polymer film for an analyzer comprises a polymer film (11) having a nanopore (12) formed therethrough. The nanopore (12) has openings (12a, 12b) provided at surfaces (11a, 11b) of the polymer film (11), and an inner wall (12c) formed through the polymer film (11) between the openings (12a, 12b). A ratio of a diameter of a maximum circle (13) to a diameter of a minimum circle (14) of the openings (12a, 12b) is 1.274 or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、分析装置用ポリマー膜、分析装置、分析装置用基板、分析装置用ポリマー膜の製造方法、および分析装置用基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a polymer film for an analyzer, an analyzer, a substrate for an analyzer, a method for manufacturing a polymer film for an analyzer, and a method for manufacturing a substrate for an analyzer.

ナノポアと呼ばれるナノメートルサイズの細孔を用いて、デオキシリボ核酸(DNA)、タンパク質、ウィルスおよび細菌などを分析するための分析装置の開発が進められている。   Development of analyzers for analyzing deoxyribonucleic acid (DNA), proteins, viruses, bacteria, and the like using nanometer-sized pores called nanopores is in progress.

たとえば特許文献1には、シリコン(Si)基板上にSiN膜を積層した後に、窒化シリコン(SiN)膜をエッチングすることによりSiN膜に直径75nmの円形開口形状の貫通孔を形成した隔壁を用いた一粒子解析装置が開示されている(たとえば特許文献1の段落[0060]〜[0073]等参照)。   For example, Patent Document 1 uses a partition in which a SiN film is stacked on a silicon (Si) substrate, and then a silicon nitride (SiN) film is etched to form a circular opening of 75 nm in diameter in the SiN film. (See, for example, paragraphs [0060] to [0073] of Patent Document 1).

また、たとえば特許文献2には、シリコン、ガラス、石英、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリスチレン、ポリプロピレンに例示される電気的絶縁体材料に電子ビームやイオンビームを照射してナノポアを形成した固体基板を用いた核酸分析デバイスが開示されている(たとえば特許文献2の段落[0021]〜[0029]等参照)。   Further, for example, in Patent Document 2, an electrical insulator material exemplified by silicon, glass, quartz, polydimethylsiloxane (PDMS), polytetrafluoroethylene (PTFE), polystyrene, and polypropylene is irradiated with an electron beam or an ion beam. Thus, a nucleic acid analysis device using a solid substrate on which nanopores are formed has been disclosed (see, for example, paragraphs [0021] to [0029] of Patent Document 2).

WO2013/137209号WO2013 / 137209 特開2013−90576号公報JP 2013-90576 A

しかしながら、特許文献1の一粒子解析装置においては、SiN膜からなる隔壁を支持する基板であるSi基板が割れて破損しやすいという課題があった。   However, the one-particle analysis apparatus of Patent Document 1 has a problem that the Si substrate that supports the partition wall made of the SiN film is easily broken and damaged.

また、特許文献2の核酸分析デバイスにおいては、PDMS、PTFE、ポリスチレン、ポリプロピレンに例示される高分子材料に電子ビームやイオンビームを照射してナノポアを形成した場合にはナノポアの開口が大きく歪むという課題があった。   In addition, in the nucleic acid analysis device of Patent Document 2, when a nanopore is formed by irradiating a polymer material exemplified by PDMS, PTFE, polystyrene, or polypropylene with an electron beam or an ion beam, the opening of the nanopore is greatly distorted. There was a problem.

ここで開示された実施形態は、ポリマー膜を備え、ポリマー膜にはナノポアが設けられており、ナノポアは、ポリマー膜の表面に設けられた開口と、開口からポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備え、開口の最小円の直径に対する最大円の直径の比が1.274以下である、分析装置用ポリマー膜である。   The embodiment disclosed herein includes a polymer film, and the polymer film is provided with nanopores, and the nanopores are provided so as to penetrate through the polymer film from the openings provided on the surface of the polymer film. A polymer film for an analyzer, wherein the ratio of the diameter of the maximum circle to the diameter of the minimum circle of the opening is 1.274 or less.

ここで開示された実施形態は、ポリマー膜を備え、ポリマー膜にはナノポアが設けられており、ナノポアは、ポリマー膜の表面に設けられた開口と、開口からポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備え、ポリマー膜の厚さが1μm以下である、分析装置用ポリマー膜である。   The embodiment disclosed herein includes a polymer film, and the polymer film is provided with nanopores, and the nanopores are provided so as to penetrate through the polymer film from the openings provided on the surface of the polymer film. And an inner wall, and the thickness of the polymer film is 1 μm or less.

ここで開示された実施形態は、上記の分析装置用ポリマー膜と、上記の分析装置用ポリマー膜上の補強材と、を備えた、分析装置用基板である。   The embodiment disclosed herein is a substrate for an analysis apparatus including the polymer film for an analysis apparatus and a reinforcing material on the polymer film for the analysis apparatus.

ここで開示された実施形態は、上記の分析装置用ポリマー膜、または上記の分析装置用基板を備えた、分析装置である。   Embodiment disclosed here is an analyzer provided with said polymer film for analyzers, or said board | substrate for analyzers.

ここで開示された実施形態は、基板上に導電性材料を設置する工程と、導電性材料上にポリマー膜を設置する工程と、ポリマー膜にナノポアを形成する工程と、導電性材料を除去することによってポリマー膜を基板から分離する工程とを含み、ナノポアは、ポリマー膜の表面に設けられた開口と、開口からポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備えている、分析装置用ポリマー膜の製造方法である。   Embodiments disclosed herein include placing a conductive material on a substrate, placing a polymer film on the conductive material, forming nanopores in the polymer film, and removing the conductive material. The nanopore has an opening provided on the surface of the polymer film and an inner wall provided so as to penetrate the polymer film from the opening. It is a manufacturing method of a polymer film.

ここで開示された実施形態は、基板上に可溶性材料を設置する工程と、可溶性材料上に厚さ1μm以下のポリマー膜を設置する工程と、ポリマー膜にナノポアを形成する工程と、可溶性材料を溶解させることによってポリマー膜を基板から分離する工程とを含み、ナノポアは、ポリマー膜の表面に設けられた開口と、開口からポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備えている、分析装置用ポリマー膜の製造方法である。   The embodiment disclosed herein includes a step of installing a soluble material on a substrate, a step of installing a polymer film having a thickness of 1 μm or less on the soluble material, a step of forming nanopores in the polymer film, Separating the polymer film from the substrate by dissolving, the nanopore comprising an opening provided in the surface of the polymer film and an inner wall provided to penetrate the polymer film from the opening It is the manufacturing method of the polymer film for apparatuses.

ここで開示された実施形態は、上記の分析装置用ポリマー膜の製造方法により分析装置用ポリマー膜を製造する工程と、分析装置用ポリマー膜上に補強材を設置する工程と、を含む、分析装置用基板の製造方法である。   An embodiment disclosed herein includes a step of manufacturing a polymer film for an analytical device by the above-described method for manufacturing a polymer membrane for an analytical device, and a step of installing a reinforcing material on the polymer film for the analytical device. It is a manufacturing method of the board | substrate for apparatuses.

Si基板等の基板から分離して使用可能であり、ナノポアの開口の歪みを低減することができる分析装置用ポリマー膜を提供することができる。   It is possible to provide a polymer film for an analyzer that can be used separately from a substrate such as a Si substrate and can reduce distortion of the opening of the nanopore.

実施形態1の分析装置用ポリマー膜の模式的な平面図である。2 is a schematic plan view of a polymer film for an analyzer according to Embodiment 1. FIG. 図1のII−IIに沿った模式的な断面図である。It is typical sectional drawing in alignment with II-II of FIG. ナノポアの第1の開口または第2の開口の模式的な拡大平面図である。It is a typical enlarged plan view of the 1st opening of a nanopore, or the 2nd opening. (a)は基板上に設置された導電性材料を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、(b)は(a)のIVb−IVbに沿った模式的な断面図である。(A) is a typical top view of an example when the conductive material installed on the board | substrate is seen from upper direction, (b) is typical sectional drawing in alignment with IVb-IVb of (a). is there. (a)は導電性材料上に設置されたポリマー膜を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、(b)は(a)のVb−Vbに沿った模式的な断面図である。(A) is a typical top view of an example when the polymer film installed on the electroconductive material is seen from the upper part, (b) is typical sectional drawing along Vb-Vb of (a). It is. (a)はポリマー膜上に設置された補強材を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、(b)は(a)のVIb−VIbに沿った模式的な断面図である。(A) is a typical top view of an example when the reinforcing material installed on the polymer film is seen from above, and (b) is a schematic cross-sectional view along VIb-VIb in (a). is there. (a)はナノポアの形成後のポリマー膜上に設置された補強材を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、(b)は(a)のVIIb−VIIbに沿った模式的な断面図である。(A) is a schematic top view of an example when the reinforcing material installed on the polymer film after formation of nanopores is viewed from above, and (b) is a schematic view along VIIb-VIIb in (a). FIG. (a)は基板から分離されたポリマー膜上の補強材を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、(b)は(a)のVIIIb−VIIIbに沿った模式的な断面図である。(A) is a schematic plan view of an example when the reinforcing material on the polymer film separated from the substrate is viewed from above, and (b) is a schematic cross section taken along VIIIb-VIIIb in (a). FIG. 導電性材料上にポリマー膜が設置された状態でFIBの照射により形成された実施形態1の分析装置用ポリマー膜のナノポアの開口の一例の写真である。It is a photograph of an example of the opening of the nanopore of the polymer film for analyzers of Embodiment 1 formed by FIB irradiation in the state in which the polymer film was installed on the conductive material. 導電性材料上にポリマー膜が設置された状態でFIBの照射により形成された実施形態1の分析装置用ポリマー膜のナノポアの開口の他の一例の写真である。It is a photograph of other examples of the opening of the nanopore of the polymer film for analyzers of Embodiment 1 formed by irradiation of FIB in the state where the polymer film was installed on the conductive material. 導電性材料を用いることなく基板上にポリマー膜を直接設置した状態でFIBの照射により形成されたナノポアの開口の一例の写真である。It is a photograph of an example of the opening of the nanopore formed by irradiation of FIB in the state which installed the polymer film directly on the board | substrate, without using an electroconductive material. 導電性材料を用いることなく基板上にポリマー膜を直接設置した状態でFIBの照射により形成されたナノポアの開口の他の一例の写真である。It is a photograph of the other example of the opening of the nanopore formed by irradiation of FIB in the state which installed the polymer film directly on the board | substrate, without using an electroconductive material. 最大/最小円直径比が1.026であるナノポアの開口の一例の写真である。It is a photograph of an example of the opening of the nanopore whose maximum / minimum circle diameter ratio is 1.026. 最大/最小円直径比が1.274であるナノポアの開口の一例の写真である。It is a photograph of an example of the opening of the nanopore whose maximum / minimum circle diameter ratio is 1.274. 最大/最小円直径比が1.105であるナノポアの開口の一例の写真である。It is a photograph of an example of the opening of the nanopore whose maximum / minimum circle diameter ratio is 1.105. 実施形態2の分析装置用ポリマー膜の模式的な断面図である。6 is a schematic cross-sectional view of a polymer film for an analyzer according to Embodiment 2. FIG. (a)は可溶性材料上に設置されたポリマー膜を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、(b)は(a)のXVIIb−XVIIbに沿った模式的な断面図である。(A) is a typical top view of an example when the polymer film installed on the soluble material is seen from above, and (b) is a schematic cross-sectional view along XVIIb-XVIIb in (a). is there. (a)はポリマー膜上に設置された補強材を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、(b)は(a)のXVIIIb−XVIIIbに沿った模式的な断面図である。(A) is a schematic plan view of an example when the reinforcing material installed on the polymer film is viewed from above, and (b) is a schematic cross-sectional view taken along XVIIIb-XVIIIb in (a). is there. (a)はナノポアの形成後のポリマー膜上に設置された補強材を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、(b)は(a)のXIXb−XIXbに沿った模式的な断面図である。(A) is a schematic top view of an example when the reinforcing material installed on the polymer film after formation of nanopores is viewed from above, and (b) is a schematic diagram along XIXb-XIXb in (a). FIG. 実施形態3の分析装置の模式的な構成図である。It is a typical block diagram of the analyzer of Embodiment 3. 実施形態3の分析装置で測定される検出信号としての電流値の変化の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the change of the electric current value as a detection signal measured with the analyzer of Embodiment 3. 実施形態4の分析装置の模式的な構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an analyzer according to a fourth embodiment. 実施形態4の分析装置において得られるトンネル電流値と測定時間との関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between the tunnel current value obtained in the analyzer of Embodiment 4, and measurement time. 実施形態4の分析装置に用いられる電極を備えたポリマー膜の製造方法の一例の製造工程の一部を図解する模式的な断面図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view illustrating a part of the manufacturing process of an example of a method for manufacturing a polymer film provided with an electrode used in the analyzer of Embodiment 4. 実施形態4の分析装置に用いられる電極を備えたポリマー膜の製造方法の一例の製造工程の他の一部を図解する模式的な断面図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view illustrating another part of the manufacturing process of an example of the manufacturing method of the polymer film provided with the electrode used in the analyzer of Embodiment 4.

以下、実施形態について説明する。なお、実施形態の説明に用いられる図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。   Hereinafter, embodiments will be described. In the drawings used to describe the embodiments, the same reference numerals represent the same or corresponding parts.

<実施形態1>
図1に、実施形態1の分析装置用ポリマー膜の模式的な平面図を示す。図1に示すように、実施形態1の分析装置用ポリマー膜は、ポリマー膜11と、ポリマー膜11に設けられたナノポア12とを備えている。
<Embodiment 1>
In FIG. 1, the typical top view of the polymer film for analyzers of Embodiment 1 is shown. As shown in FIG. 1, the polymer film for analyzer of Embodiment 1 includes a polymer film 11 and nanopores 12 provided on the polymer film 11.

ポリマー膜11としては、たとえば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)、ジメチルポリシロキサン(PDMS)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリイミド(PI)、ポリスチレン(PS)、ポリ乳酸(PLA)、SU−8、およびグラフェンからなる群から選択された少なくとも1つを含む有機高分子膜等を用いることができる。   Examples of the polymer film 11 include polymethyl methacrylate (PMMA), cycloolefin polymer (COP), cycloolefin copolymer (COC), dimethylpolysiloxane (PDMS), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), and polypropylene (PP ), Polytetrafluoroethylene (PTFE), polyimide (PI), polystyrene (PS), polylactic acid (PLA), SU-8, and an organic polymer film containing at least one selected from the group consisting of graphene, etc. Can be used.

図2に、図1のII−IIに沿った模式的な断面図を示す。図2に示すように、ナノポア12は、ポリマー膜11の第1の表面11aに設けられた第1の開口12aと、ポリマー膜11の第1の表面11aと反対側の第2の表面11bに設けられた第2の開口12bと、ポリマー膜11の第1の表面11aと第2の表面11bとの間を貫通するように第1の開口12aと第2の開口12bとの間に設けられた内壁12cと、を備えている。   FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view along II-II in FIG. As shown in FIG. 2, the nanopore 12 is formed on the first opening 12 a provided in the first surface 11 a of the polymer film 11 and the second surface 11 b opposite to the first surface 11 a of the polymer film 11. Provided between the first opening 12a and the second opening 12b so as to penetrate between the provided second opening 12b and the first surface 11a and the second surface 11b of the polymer film 11. And an inner wall 12c.

実施形態1の分析装置用ポリマー膜においては、ナノポア12の第1の開口12aおよび第2の開口12bの少なくとも一方の開口の最小円の直径に対する最大円の直径の比(以下、「最大/最小円直径比」という。)が1.274以下となっている。   In the polymer membrane for an analyzer of Embodiment 1, the ratio of the diameter of the maximum circle to the diameter of the minimum circle of at least one of the first opening 12a and the second opening 12b of the nanopore 12 (hereinafter referred to as “maximum / minimum” Is referred to as “circle diameter ratio”) is 1.274 or less.

図3に、ナノポア12の第1の開口12aまたは第2の開口12bの模式的な拡大平面図を示す。ナノポア12の第1の開口12aまたは第2の開口12bの開口の中心を通り、かつ当該開口の外周上の任意の2点を結ぶ線分のうち最長の長さを直径D1とする仮想円を最大円13とする。また、ナノポア12の第1の開口12aまたは第2の開口12bの開口の中心を通り、かつ当該開口の外周上の任意の2点を結ぶ線分のうち最短の長さを直径D2とする仮想円を最小円14とする。最大/最小円直径比は、最小円14の直径D2に対する最大円13の直径D1の比(D1/D2)とされる。   FIG. 3 shows a schematic enlarged plan view of the first opening 12 a or the second opening 12 b of the nanopore 12. A virtual circle having a diameter D1 of the longest length of line segments passing through the center of the first opening 12a or the second opening 12b of the nanopore 12 and connecting any two points on the outer periphery of the opening. The maximum circle is 13. In addition, the shortest length of line segments that pass through the center of the first opening 12a or the second opening 12b of the nanopore 12 and connect any two points on the outer periphery of the opening is a diameter D2. Let the circle be the minimum circle 14. The maximum / minimum circle diameter ratio is the ratio of the diameter D1 of the maximum circle 13 to the diameter D2 of the minimum circle 14 (D1 / D2).

なお、ナノポア12の第1の開口12aまたは第2の開口12bの開口の中心を通って当該開口の周縁上の任意の2点を結ぶ線分(ナノポア径)のうち最長の長さが1000nm未満である場合には、たとえば、ウィルス検査、分子間相互作用解析、RNAシークエンサー、およびDNAシークエンサー等に実施形態1の分析装置用ポリマー膜を用いることができる。また、ナノポア径が1000nmよりも大きい場合には、たとえば、細胞分取器、および1細胞カウンター等に実施形態1の分析装置用ポリマー膜を用いることができる。また、ナノポア径が1000nmよりも大きい場合には、実施形態1の分析装置用ポリマー膜を用いて、1000nm以上の径を有する異なる2つの粒子を分離することもできる。たとえば、1000nm以上の異なる径を有する2つの粒子(第一の粒子(径:d1)と第二の粒子(径:d2))を分離する場合に、d1>dp>d2の関係を満たすナノポア径dpを設定し、第二の粒子のみをナノポア12を通過させることによって、第一の粒子と第二の粒子とを分離することができる。   The longest length of a line segment (nanopore diameter) connecting any two points on the periphery of the opening through the center of the opening of the first opening 12a or the second opening 12b of the nanopore 12 is less than 1000 nm. In this case, for example, the polymer membrane for an analyzer of the first embodiment can be used for virus inspection, intermolecular interaction analysis, RNA sequencer, DNA sequencer and the like. Further, when the nanopore diameter is larger than 1000 nm, for example, the polymer membrane for analyzer of Embodiment 1 can be used for a cell sorter, a one-cell counter, and the like. In addition, when the nanopore diameter is larger than 1000 nm, two different particles having a diameter of 1000 nm or more can be separated using the polymer film for analyzer of the first embodiment. For example, when two particles having different diameters of 1000 nm or more (first particle (diameter: d1) and second particle (diameter: d2)) are separated, the nanopore diameter satisfying the relationship of d1> dp> d2 By setting dp and passing only the second particles through the nanopore 12, the first particles and the second particles can be separated.

以下、図4〜図8を参照して、実施形態1の分析装置用ポリマー膜の製造方法の一例について説明する。まず、図4(a)および図4(b)に示すように、基板21上に導電性材料22を設置する工程を行なう。図4(a)は基板21上に設置された導電性材料22を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、図4(b)は図4(a)のIVb−IVbに沿った模式的な断面図である。   Hereinafter, an example of a method for producing a polymer film for an analyzer according to Embodiment 1 will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIGS. 4A and 4B, a step of installing a conductive material 22 on the substrate 21 is performed. FIG. 4A is a schematic plan view of an example when the conductive material 22 installed on the substrate 21 is viewed from above, and FIG. 4B is a schematic view of IVb-IVb in FIG. It is typical sectional drawing along.

基板21上に導電性材料22を設置する工程は、たとえば、導電性材料22を溶媒に溶解した溶液をSi基板等の基板上に塗布した後にスピンコートし、溶媒を除去することによって行なうことができる。   The step of installing the conductive material 22 on the substrate 21 is performed, for example, by applying a solution obtained by dissolving the conductive material 22 in a solvent on a substrate such as a Si substrate, and then spin-coating and removing the solvent. it can.

次に、図5(a)および図5(b)に示すように、導電性材料22上にポリマー膜11を設置する工程を行なう。図5(a)は導電性材料22上に設置されたポリマー膜11を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、図5(b)は図5(a)のVb−Vbに沿った模式的な断面図である。   Next, as shown in FIGS. 5A and 5B, a step of installing the polymer film 11 on the conductive material 22 is performed. FIG. 5A is a schematic plan view of an example when the polymer film 11 placed on the conductive material 22 is viewed from above, and FIG. 5B is Vb-Vb in FIG. It is typical sectional drawing in alignment with.

導電性材料22上にポリマー膜11を設置する工程は、たとえば、ポリマー膜11の原料となるポリマーを溶媒に溶解した溶液を導電性材料22上に塗布した後にスピンコートし、溶媒を除去することによって行なうことができる。   The step of installing the polymer film 11 on the conductive material 22 includes, for example, applying a solution obtained by dissolving a polymer, which is a raw material of the polymer film 11, in a solvent, and then spin-coating and removing the solvent. Can be done.

また、導電性材料22上にポリマー膜11を設置する工程は、ポリマー膜11の原料となるポリマーを融点以上に加熱して液状ポリマーを形成し、導電性材料22上に液状ポリマーを塗布した後にスピンコートし、液状ポリマーを冷却することによって行なってもよい。また、導電性材料22上にポリマー膜11を設置する工程は、粘着性を有するポリマーシート(ポリマー膜11)を導電性材料22上に貼り付けることによって行なってもよい。   In addition, the step of installing the polymer film 11 on the conductive material 22 includes the step of heating the polymer that is the raw material of the polymer film 11 to a melting point or higher to form a liquid polymer, and applying the liquid polymer on the conductive material 22. You may carry out by spin-coating and cooling a liquid polymer. Further, the step of installing the polymer film 11 on the conductive material 22 may be performed by sticking an adhesive polymer sheet (polymer film 11) on the conductive material 22.

次に、図6(a)および図6(b)に示すように、ポリマー膜11上に開口部25を有する補強材24を設置する工程を行なう。図6(a)はポリマー膜11上に設置された補強材24を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、図6(b)は図6(a)のVIb−VIbに沿った模式的な断面図である。   Next, as shown in FIGS. 6A and 6B, a step of installing a reinforcing material 24 having an opening 25 on the polymer film 11 is performed. FIG. 6A is a schematic plan view of an example when the reinforcing member 24 installed on the polymer film 11 is viewed from above, and FIG. 6B is a view taken along VIb-VIb in FIG. It is typical sectional drawing along.

ポリマー膜11上に開口部25を有する補強材24を設置する工程は、たとえば、ポリマー膜11上に補強材24を設置した後に紫外光を照射し、ポリマー膜11の補強材24側の表面を活性化してポリマー膜11に補強材24を貼り合わせることにより行なうことができる。補強材24としては、たとえば、ポリマー膜11よりも厚いアクリル板などを用いることができる。なお、補強材24は必ずしも用いる必要がない。また、補強材24は補強の目的に限定されない。たとえば、ナノポア12が設けられた実施形態1の分析装置用ポリマー膜を流路を有するプレートに取り付けて分析装置を作製する場合には、流路を有する補強材24(流路を有するプレートを補強の目的にも使用する)をポリマー膜11に取り付けて、ポリマー膜11にナノポア12を形成することによって分析装置を効率良く製造することができる。すなわち、ポリマー膜11にナノポア12を形成して実施形態1の分析装置用ポリマー膜を形成した後に、実施形態1の分析装置用ポリマー膜を流路を有するプレートに取り付ける工程を省くことができる。   The step of installing the reinforcing member 24 having the opening 25 on the polymer film 11 is performed by, for example, irradiating the surface of the polymer film 11 on the reinforcing member 24 side by irradiating ultraviolet light after the reinforcing member 24 is installed on the polymer film 11. The activation can be performed by bonding the reinforcing material 24 to the polymer film 11. As the reinforcing material 24, for example, an acrylic plate thicker than the polymer film 11 can be used. The reinforcing material 24 is not necessarily used. Further, the reinforcing material 24 is not limited to the purpose of reinforcement. For example, when the analytical device is manufactured by attaching the polymer film for analyzer of Embodiment 1 provided with the nanopore 12 to a plate having a flow path, the reinforcing material 24 having a flow path (the plate having the flow path is reinforced). Can also be efficiently manufactured by forming nanopores 12 on the polymer film 11. That is, after the nanopore 12 is formed on the polymer film 11 to form the analytical apparatus polymer film of Embodiment 1, the process of attaching the analytical apparatus polymer film of Embodiment 1 to the plate having the flow path can be omitted.

次に、図7(a)および図7(b)に示すように、ポリマー膜11にナノポア12を形成する工程を行なう。図7(a)はナノポア12の形成後のポリマー膜11上に設置された補強材24を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、図7(b)は図7(a)のVIIb−VIIbに沿った模式的な断面図である。   Next, as shown in FIGS. 7A and 7B, a step of forming nanopores 12 on the polymer film 11 is performed. FIG. 7A is a schematic plan view of an example when the reinforcing material 24 installed on the polymer film 11 after the formation of the nanopore 12 is viewed from above, and FIG. 7B is a plan view of FIG. It is typical sectional drawing in alignment with VIIb-VIIb.

ポリマー膜11にナノポア12を形成する工程は、たとえば、補強材24の開口部25から露出しているポリマー膜11の表面に電子ビームまたはイオンビームを照射することにより行なうことができる。なお、ナノポア12を再現性良く形成する観点からは、集束イオンビーム(FIB)を照射することによりナノポア12を形成することが好ましい。また、補強材24の開口部25の大きさは、ナノポア12の開口の大きさの100倍以上となる場合がある。また、ポリマー膜11の表面にビームを照射してナノポア12を形成する際に、導電性材料22にもビームが照射されることによって導電性材料22にも孔が形成されてもよいが、導電性材料22には孔を形成しなくてもよい。   The step of forming the nanopore 12 on the polymer film 11 can be performed, for example, by irradiating the surface of the polymer film 11 exposed from the opening 25 of the reinforcing material 24 with an electron beam or an ion beam. From the viewpoint of forming the nanopore 12 with good reproducibility, it is preferable to form the nanopore 12 by irradiating a focused ion beam (FIB). In addition, the size of the opening 25 of the reinforcing material 24 may be 100 times or more the size of the opening of the nanopore 12. In addition, when the nanopore 12 is formed by irradiating the surface of the polymer film 11 with the beam, the conductive material 22 may be irradiated with the beam to form a hole in the conductive material 22. The hole may not be formed in the conductive material 22.

次に、図8(a)および図8(b)に示すように、導電性材料22を除去することによってポリマー膜11を基板21から分離する工程を行なう。図8(a)は基板21から分離されたポリマー膜11上の補強材24を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、図8(b)は図8(a)のVIIIb−VIIIbに沿った模式的な断面図である。   Next, as shown in FIGS. 8A and 8B, a step of separating the polymer film 11 from the substrate 21 by removing the conductive material 22 is performed. FIG. 8A is a schematic plan view of an example when the reinforcing member 24 on the polymer film 11 separated from the substrate 21 is viewed from above, and FIG. 8B is a diagram of VIIIb in FIG. 8A. It is typical sectional drawing along -VIIIb.

導電性材料22を除去することによってポリマー膜11を基板21から分離する工程は、たとえば、導電性材料22を溶解可能な溶媒で導電性材料22を溶解することによって行なうことができる。たとえば、ポリマー膜11および補強材24が水溶性ではなく、導電性材料22が水溶性である場合には、純水洗浄により、導電性材料22を水に溶解させることによって、導電性材料22を除去することができる。以上により、実施形態1の分析装置用ポリマー膜を製造することができる。   The step of separating the polymer film 11 from the substrate 21 by removing the conductive material 22 can be performed, for example, by dissolving the conductive material 22 with a solvent capable of dissolving the conductive material 22. For example, when the polymer film 11 and the reinforcing material 24 are not water-soluble and the conductive material 22 is water-soluble, the conductive material 22 is dissolved in water by washing with pure water, thereby changing the conductive material 22. Can be removed. By the above, the polymer film for analyzers of Embodiment 1 can be manufactured.

従来においては、絶縁性材料である有機高分子材料に電子ビームやイオンビームを照射してナノポアを形成する場合には、有機高分子材料の表面の帯電によりビームの照射位置がドリフトし、ナノポアの開口が大きく歪み、最大/最小円直径比は1.274よりも大きくなっていた。このようなナノポアの開口の歪みは、ナノポアの開口形状のばらつきを引き起こし、ひいては当該ナノポアを用いた分析装置の分析結果のばらつきにつながっていた。   Conventionally, when an organic polymer material, which is an insulating material, is irradiated with an electron beam or an ion beam to form a nanopore, the irradiation position of the beam drifts due to charging of the surface of the organic polymer material, and the nanopore The aperture was greatly distorted and the maximum / minimum circle diameter ratio was greater than 1.274. Such a distortion of the opening of the nanopore causes a variation in the opening shape of the nanopore, which in turn leads to a variation in the analysis result of the analyzer using the nanopore.

しかしながら、実施形態1においては、導電性材料22上にポリマー膜11が設置されているため、ポリマー膜11の表面の電荷は導電性材料22を通してポリマー膜11の外部に放出することができる。これにより、ビーム照射によるナノポア12の形成時におけるポリマー膜11の表面の帯電量を従来よりも低減することができるため、ナノポア12の形成時におけるビームの照射位置のドリフトを抑え、ナノポアの開口の歪みを低減することができ、ひいては実施形態1の分析装置用ポリマー膜を用いた分析装置の分析結果のばらつきも低減し、分析精度も向上することができる。   However, in the first embodiment, since the polymer film 11 is disposed on the conductive material 22, the charge on the surface of the polymer film 11 can be discharged to the outside of the polymer film 11 through the conductive material 22. As a result, the amount of charge on the surface of the polymer film 11 when the nanopore 12 is formed by beam irradiation can be reduced as compared with the prior art. Distortion can be reduced, and as a result, variation in analysis results of the analyzer using the polymer film for analyzer of Embodiment 1 can be reduced, and analysis accuracy can be improved.

図9および図10に、導電性材料22上にポリマー膜11が設置された状態でFIBの照射により形成された実施形態1の分析装置用ポリマー膜のナノポア12の開口の一例の写真を示す。また、図11および図12に、導電性材料22を用いることなく基板21上にポリマー膜11を直接設置した状態でFIBの照射により形成されたナノポアの開口の一例の写真を示す。   FIG. 9 and FIG. 10 show photographs of an example of the opening of the nanopore 12 of the polymer film for analyzer of Embodiment 1 formed by FIB irradiation in a state where the polymer film 11 is placed on the conductive material 22. FIGS. 11 and 12 show photographs of examples of nanopore openings formed by FIB irradiation in a state where the polymer film 11 is directly placed on the substrate 21 without using the conductive material 22.

図9および図10と、図11および図12との比較から明らかなように、実施形態1の分析装置用ポリマー膜のナノポア12の開口は、基板上にポリマー膜を直接設置した状態でFIBの照射により形成されたナノポアの開口よりも歪みを低減できていることがわかる。   As is clear from a comparison between FIG. 9 and FIG. 10 and FIG. 11 and FIG. 12, the opening of the nanopore 12 of the polymer film for analyzer according to the first embodiment is the same as that of the FIB with the polymer film directly placed on the substrate. It can be seen that the distortion can be reduced more than the opening of the nanopore formed by irradiation.

なお、ナノポア12の開口の歪みを低減して開口形状のばらつき、および実施形態1の分析装置用ポリマー膜を用いた分析装置の分析結果のばらつきを低く抑える観点からは、最大/最小円直径比は1.105以下であることがより好ましく、1.026以下であることがさらに好ましい。   From the viewpoint of reducing the distortion of the aperture of the nanopore 12 to reduce the variation of the aperture shape and the analysis result of the analyzer using the polymer film for analyzer of Embodiment 1, the maximum / minimum circle diameter ratio Is more preferably 1.105 or less, and further preferably 1.026 or less.

図13に、最大/最小円直径比が1.026であるナノポア12の開口の一例の写真を示す。図13に示す例では、最大円13の直径D1は395nmとなっており、最小円14の直径D2は385nmとなっている。   FIG. 13 shows a photograph of an example of the opening of the nanopore 12 having a maximum / minimum circle diameter ratio of 1.026. In the example shown in FIG. 13, the diameter D1 of the maximum circle 13 is 395 nm, and the diameter D2 of the minimum circle 14 is 385 nm.

図14に、最大/最小円直径比が1.274であるナノポア12の開口の一例の写真を示す。図14に示す例では、最大円13の直径D1は172nmとなっており、最小円14の直径D2は135nmとなっている。   FIG. 14 shows a photograph of an example of the opening of the nanopore 12 having a maximum / minimum circle diameter ratio of 1.274. In the example shown in FIG. 14, the diameter D1 of the maximum circle 13 is 172 nm, and the diameter D2 of the minimum circle 14 is 135 nm.

図15に、最大/最小円直径比が1.105であるナノポア12の開口の一例の写真を示す。図15に示す例では、最大円13の直径D1は210nmとなっており、最小円14の直径D2は190nmとなっている。   FIG. 15 shows a photograph of an example of the opening of the nanopore 12 having a maximum / minimum circle diameter ratio of 1.105. In the example shown in FIG. 15, the diameter D1 of the maximum circle 13 is 210 nm, and the diameter D2 of the minimum circle 14 is 190 nm.

また、実施形態1の分析装置用ポリマー膜は、ナノポア12が設けられたポリマー膜11をそのまま分析装置に用いることができるため、SiN膜のようにSi基板を支持基板として必要とせず、また、当然に、Si基板と比べて破損しにくい。なお、ポリマー膜11に補強材24を設けた分析装置用基板の状態で分析装置に用いてもよい。   In addition, the polymer film for analyzer of Embodiment 1 can use the polymer film 11 provided with the nanopores 12 as it is in the analyzer, so that it does not require a Si substrate as a support substrate like a SiN film. Naturally, it is less likely to be damaged than the Si substrate. In addition, you may use for the analyzer in the state of the board | substrate for analyzers which provided the reinforcing material 24 in the polymer film 11.

また、実施形態1においては、樹脂などの有機高分子材料からなるポリマー膜11に対して精度良くナノポア12を形成することができ、材料の選択性が広がることによって、分析装置のコスト低減も可能となる。また、SiN膜などの無機材料にナノポア12を形成する場合と比べて、ナノポア12の形成時間も短縮することができ、ナノポア12の内壁12cへの親水化処理も可能となる。ナノポア12の内壁12cへの親水化処理を行なうことによって、分析対象を含む水が、ナノポア12の内壁12cを通過しやすくなる。   Further, in the first embodiment, the nanopore 12 can be accurately formed on the polymer film 11 made of an organic polymer material such as a resin, and the cost of the analyzer can be reduced by expanding the selectivity of the material. It becomes. Moreover, compared with the case where the nanopore 12 is formed on an inorganic material such as a SiN film, the formation time of the nanopore 12 can be shortened, and the inner wall 12c of the nanopore 12 can be hydrophilized. By performing the hydrophilic treatment on the inner wall 12c of the nanopore 12, the water containing the analysis target easily passes through the inner wall 12c of the nanopore 12.

ナノポア12の内壁12cの少なくとも一部の親水化処理は、たとえば、ナノポア12の内壁12cの少なくとも一部に対して、酸素プラズマおよび紫外線の少なくとも一方を照射することにより行なうことができる。   The hydrophilic treatment of at least a part of the inner wall 12c of the nanopore 12 can be performed, for example, by irradiating at least one of the inner wall 12c of the nanopore 12 with at least one of oxygen plasma and ultraviolet light.

また、ナノポアを用いた分析装置において、ナノポアが形成された膜は、厚さが数十nm程度の薄膜であることが要求される場合もあるが、樹脂などの有機高分子材料はスピンコートなどによりそのような薄膜とすることができる点で有用である。   Moreover, in an analyzer using nanopores, the film on which nanopores are formed may be required to be a thin film having a thickness of about several tens of nanometers. Thus, such a thin film is useful.

<実施形態2>
図16に、実施形態2の分析装置用ポリマー膜の模式的な断面図を示す。実施形態2の分析装置用ポリマー膜は、ポリマー膜11の厚さが1μm以下であることを特徴としている。これは、本発明者が鋭意検討した結果、ポリマー膜11の厚さが1μm以下である場合には、ビームの照射によるナノポア12の形成時に、ビームの照射位置がドリフトする前にポリマー膜11の貫通が完了して、開口の歪みを低減したナノポア12が形成されることを見い出したことによるものである。
<Embodiment 2>
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view of the polymer film for an analyzer according to the second embodiment. The polymer film for an analyzer according to the second embodiment is characterized in that the thickness of the polymer film 11 is 1 μm or less. As a result of intensive studies by the present inventors, when the thickness of the polymer film 11 is 1 μm or less, when the nanopore 12 is formed by the beam irradiation, before the beam irradiation position drifts, This is because it has been found that nanopores 12 having reduced opening distortion are formed after the penetration is completed.

以下、図17〜図19を参照して、実施形態2の分析装置用ポリマー膜の製造方法の一例について説明する。まず、図17(a)および図17(b)に示すように、基板21上に可溶性材料26を設置する工程を行ない、可溶性材料26上にポリマー膜11を設置する工程を行なう。図17(a)は可溶性材料26上に設置されたポリマー膜11を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、図17(b)は図17(a)のXVIIb−XVIIbに沿った模式的な断面図である。   Hereinafter, an example of a method for producing a polymer film for an analyzer according to Embodiment 2 will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIGS. 17A and 17B, a process of installing the soluble material 26 on the substrate 21 is performed, and a process of installing the polymer film 11 on the soluble material 26 is performed. FIG. 17A is a schematic plan view of an example when the polymer film 11 placed on the soluble material 26 is viewed from above, and FIG. 17B is an XVIIb-XVIIb in FIG. It is typical sectional drawing along.

基板21上に可溶性材料26を設置する工程は、たとえば、可溶性材料26を溶媒に溶解した溶液をSi基板等の基板上に塗布した後にスピンコートし、溶媒を除去することにより行なうことができる。   The step of installing the soluble material 26 on the substrate 21 can be performed, for example, by applying a solution obtained by dissolving the soluble material 26 in a solvent on a substrate such as a Si substrate, and then spin-coating and removing the solvent.

可溶性材料26上にポリマー膜11を設置する工程は、たとえば、ポリマー膜11の原料となるポリマーを溶媒に溶解した溶液を可溶性材料26上に塗布した後にスピンコートし、溶媒を除去することにより行なうことができる。   The step of installing the polymer film 11 on the soluble material 26 is performed, for example, by applying a solution obtained by dissolving a polymer that is a raw material of the polymer film 11 in a solvent to the soluble material 26 and then spin-coating and removing the solvent. be able to.

また、可溶性材料26上にポリマー膜11を設置する工程は、たとえば、ポリマー膜11の原料となるポリマーを融点以上に加熱して液状ポリマーを形成し、可溶性材料26上に液状ポリマーを塗布した後にスピンコートし、液状ポリマーを冷却することにより行なってもよい。また、たとえば、粘着性を有するポリマーシート(ポリマー膜11)を可溶性材料26上に貼り付けることにより、可溶性材料26上にポリマー膜11を設置してもよい。   The step of installing the polymer film 11 on the soluble material 26 includes, for example, heating the polymer as a raw material of the polymer film 11 to a melting point or higher to form a liquid polymer, and applying the liquid polymer on the soluble material 26 You may carry out by spin-coating and cooling a liquid polymer. In addition, for example, the polymer film 11 may be placed on the soluble material 26 by sticking an adhesive polymer sheet (polymer film 11) on the soluble material 26.

なお、可溶性材料26は、実施形態1とは異なり、導電性材料でなくてもよい。
次に、図18(a)および図18(b)に示すように、ポリマー膜11上に開口部25を有する補強材24を設置する工程を行なう。図18(a)はポリマー膜11上に設置された補強材24を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、図18(b)は図18(a)のXVIIIb−XVIIIbに沿った模式的な断面図である。この工程は、たとえば実施形態1と同様にして行なうことができる。
Note that, unlike the first embodiment, the soluble material 26 may not be a conductive material.
Next, as shown in FIGS. 18A and 18B, a step of installing a reinforcing material 24 having an opening 25 on the polymer film 11 is performed. FIG. 18A is a schematic plan view of an example when the reinforcing member 24 installed on the polymer film 11 is viewed from above, and FIG. It is typical sectional drawing along. This step can be performed, for example, in the same manner as in the first embodiment.

次に、図19(a)および図19(b)に示すように、ポリマー膜11にナノポア12を形成する工程を行なう。図19(a)はナノポア12の形成後のポリマー膜11上に設置された補強材24を上方から見たときの一例の模式的な平面図であり、図19(b)は図19(a)のXIXb−XIXbに沿った模式的な断面図である。この工程も、たとえば、実施形態1と同様にして行なうことができる。また、ポリマー膜11の表面にビームを照射してナノポア12を形成する際に、可溶性材料26にもビームが照射されることによって可溶性材料26にも孔が形成されてもよいが、可溶性材料26には孔を形成しなくてもよい。   Next, as shown in FIGS. 19A and 19B, a process of forming nanopores 12 on the polymer film 11 is performed. FIG. 19A is a schematic plan view of an example when the reinforcing material 24 installed on the polymer film 11 after the nanopore 12 is formed is viewed from above, and FIG. 19B is a plan view of FIG. Is a schematic cross-sectional view along XIXb-XIXb. This step can also be performed in the same manner as in the first embodiment, for example. In addition, when forming the nanopore 12 by irradiating the surface of the polymer film 11 with the beam, the soluble material 26 may be irradiated with the beam to form holes in the soluble material 26. It is not necessary to form a hole.

上述のように、実施形態2においては、ポリマー膜11の厚さが1μm以下であるため、ビームの照射位置がドリフトする前にビームによるポリマー膜11の貫通が完了してナノポア12が形成される。これにより、ビーム照射におけるナノポア12の形成時のビームの照射位置のドリフトを抑え、ナノポア12の開口の歪みを低減することができる。   As described above, in the second embodiment, since the thickness of the polymer film 11 is 1 μm or less, the penetration of the polymer film 11 by the beam is completed and the nanopore 12 is formed before the irradiation position of the beam drifts. . Thereby, the drift of the irradiation position of the beam at the time of forming the nanopore 12 in the beam irradiation can be suppressed, and the distortion of the opening of the nanopore 12 can be reduced.

その後、可溶性材料26を溶解することによってポリマー膜11を基板21から分離する工程を行なう。この工程は、たとえば、実施形態1と同様に、ポリマー膜11および補強材24は溶解しないが、可溶性材料26を溶解可能な溶媒で可溶性材料26を溶解することによって除去することができる。以上により、実施形態2の分析装置用ポリマー膜を製造することができる。   Thereafter, a step of separating the polymer film 11 from the substrate 21 by dissolving the soluble material 26 is performed. In this step, for example, as in the first embodiment, the polymer film 11 and the reinforcing material 24 are not dissolved, but can be removed by dissolving the soluble material 26 with a solvent capable of dissolving the soluble material 26. By the above, the polymer film for analyzers of Embodiment 2 can be manufactured.

実施形態2における上記以外の説明は実施形態1と同様であるため、その説明については省略する。   Since the description other than the above in the second embodiment is the same as that in the first embodiment, the description thereof is omitted.

<実施形態3>
図20に、実施形態3の分析装置の模式的な構成を示す。図20に示すように、実施形態3の分析装置は、ナノポア12が設けられたポリマー膜11と、ポリマー膜11に接合された補強材24とからなる分析装置用基板27を備えている。また、実施形態3の分析装置は、分析装置用基板27により区画された第一のチャンバ34と第二のチャンバ41とを備えている。
<Embodiment 3>
FIG. 20 shows a schematic configuration of the analyzer according to the third embodiment. As shown in FIG. 20, the analyzer according to the third embodiment includes an analyzer substrate 27 including a polymer film 11 provided with nanopores 12 and a reinforcing member 24 bonded to the polymer film 11. Further, the analyzer of the third embodiment includes a first chamber 34 and a second chamber 41 that are partitioned by the analyzer substrate 27.

第一のチャンバ34には第一の電極31が設けられており、第一の電極31は、第一の電極31の一部が第一のチャンバ34の内部に露出するように設けられている。第一の電極31は、リード35を通して、アース36に接続されている。   A first electrode 31 is provided in the first chamber 34, and the first electrode 31 is provided such that a part of the first electrode 31 is exposed inside the first chamber 34. . The first electrode 31 is connected to the ground 36 through the lead 35.

第二のチャンバ41には第二の電極32が設けられており、第二の電極32は、第二の電極32の一部が第二のチャンバ41の内部に露出するように設けられている。第二の電極32は、リード40を通して、アース37に接続されている。電流計39および電源38は、リード40に第二の電極32側からこの順序で接続されている。   A second electrode 32 is provided in the second chamber 41, and the second electrode 32 is provided such that a part of the second electrode 32 is exposed inside the second chamber 41. . The second electrode 32 is connected to the ground 37 through the lead 40. The ammeter 39 and the power source 38 are connected to the lead 40 in this order from the second electrode 32 side.

実施形態3の分析装置による分析は、たとえば以下のようにして行なうことができる。まず、第一のチャンバ34の内部および第二のチャンバ41の内部にそれぞれ液体を充填する。第一のチャンバ34の内部と第二のチャンバ41の内部とはナノポア12を通して液体が移動可能となっている。第一のチャンバ34の内部の液体には分析対象物である粒子33が含まれる。第一の電極31は第一のチャンバ34の内部に充填された液体に接しており、第二の電極32は第二のチャンバ41の内部に充填された液体に接している。   The analysis by the analyzer of Embodiment 3 can be performed as follows, for example. First, the inside of the first chamber 34 and the inside of the second chamber 41 are filled with liquid, respectively. The liquid can move through the nanopore 12 between the inside of the first chamber 34 and the inside of the second chamber 41. The liquid inside the first chamber 34 contains particles 33 as an analysis target. The first electrode 31 is in contact with the liquid filled in the first chamber 34, and the second electrode 32 is in contact with the liquid filled in the second chamber 41.

第一のチャンバ34の内部および第二のチャンバ41の内部に充填される液体は、第一の電極31と第二の電極32との間を通電可能な液体であってよい。通電可能な液体としては、たとえば、KCl水溶液などの電解質溶液、またはTE緩衝溶液若しくはPBS緩衝溶液などの緩衝溶液などを用いることができる。   The liquid that fills the inside of the first chamber 34 and the inside of the second chamber 41 may be a liquid that can energize between the first electrode 31 and the second electrode 32. As the liquid that can be energized, for example, an electrolyte solution such as a KCl aqueous solution, or a buffer solution such as a TE buffer solution or a PBS buffer solution can be used.

第一のチャンバ34の内部および第二のチャンバ41の内部にそれぞれ液体が満たされた状態で、電源38により第一の電極31と第二の電極32との間に電流を流す。第一の電極31と第二の電極32との間の電流値を電流計39で経時的に測定する。第一のチャンバ34の内部の液体中の粒子33は拡散によりナノポア12を通って第二のチャンバ41の内部の液体に移動する。粒子33がナノポア12を通過するときに電流計39で測定される電流値は粒子33の大きさおよび形状に依存して低下する。   A current is passed between the first electrode 31 and the second electrode 32 by the power supply 38 in a state where the liquid is filled in the first chamber 34 and the second chamber 41. A current value between the first electrode 31 and the second electrode 32 is measured with an ammeter 39 over time. The particles 33 in the liquid inside the first chamber 34 move by diffusion to the liquid inside the second chamber 41 through the nanopore 12. The current value measured by the ammeter 39 when the particle 33 passes through the nanopore 12 decreases depending on the size and shape of the particle 33.

図21に、実施形態3の分析装置で測定される検出信号としての電流値の変化の一例を示す。図21の縦軸に電流値を示し、図21の横軸に測定時間を示す。ナノポア12内に粒子33が存在していない状態では、第一の電極31と第二の電極32との間の電流値は一定の電流値51を示す。この電流値51は基底値である。ナノポア12内を粒子33が通過するときには、第一の電極31と第二の電極32との間の電流値は粒子33の大きさおよび形状に依存して低下した電流値52となる。粒子33がナノポア12内を完全に通過した後には粒子33がナノポア12内を通過する以前のレベルの電流値53に回復する。   FIG. 21 shows an example of a change in current value as a detection signal measured by the analyzer of the third embodiment. The vertical axis in FIG. 21 shows the current value, and the horizontal axis in FIG. 21 shows the measurement time. In a state where the particles 33 are not present in the nanopore 12, the current value between the first electrode 31 and the second electrode 32 shows a constant current value 51. This current value 51 is a base value. When the particle 33 passes through the nanopore 12, the current value between the first electrode 31 and the second electrode 32 becomes a current value 52 that decreases depending on the size and shape of the particle 33. After the particle 33 has completely passed through the nanopore 12, the current value 53 is restored to the level before the particle 33 passes through the nanopore 12.

この現象は次のように説明できる。ナノポア12内を粒子33が通過するときには、電流パスであるナノポア12内のイオンなどの通電可能な液体中の通電物質が、粒子33の分だけ排除される。それにより、電流抵抗が上昇し、その結果、電流値が低下する。粒子33の通過が終了すれば、電流値は元のレベルに回復する。粒子33が一つ通過すれば、電流低下信号は一つ観測される。電流低下信号をカウントすれば、通過した粒子の数を数えることができる。ここで、粒子33の存在によりナノポア12内で排除されるイオンの量は、粒子33の大きさおよび形状に依存する。   This phenomenon can be explained as follows. When the particles 33 pass through the nanopore 12, the current-carrying substance in the liquid that can be energized, such as ions in the nanopore 12 that is the current path, is excluded by the amount of the particles 33. Thereby, the current resistance increases, and as a result, the current value decreases. When the passage of the particles 33 is completed, the current value is restored to the original level. If one particle 33 passes, one current drop signal is observed. If the current drop signal is counted, the number of particles that have passed can be counted. Here, the amount of ions excluded in the nanopore 12 due to the presence of the particles 33 depends on the size and shape of the particles 33.

<実施形態4>
図22に、実施形態4の分析装置の模式的な構成を示す。実施形態4の分析装置は、容器65を備えている。容器65の内部は、第一の電極61および第二の電極62と、これらの電極を挟持する2枚の分析装置用基板27とによって、第一の溶液槽66と第二の溶液槽67とに区画されている。
<Embodiment 4>
FIG. 22 shows a schematic configuration of the analyzer according to the fourth embodiment. The analyzer according to the fourth embodiment includes a container 65. The inside of the container 65 is composed of a first solution tank 66 and a second solution tank 67 by a first electrode 61 and a second electrode 62 and two analyzer substrates 27 sandwiching these electrodes. It is divided into.

第一の溶液槽66は、一方の側面に導入口68を備えるとともに、他方の側面に排出口69を備えている。また、第一の溶液槽66は、導入口68と排出口69との間に第一の核酸駆動手段63を備えている。   The first solution tank 66 includes an introduction port 68 on one side surface and a discharge port 69 on the other side surface. The first solution tank 66 includes first nucleic acid driving means 63 between the inlet 68 and the outlet 69.

第二の溶液槽67は、一方の側面に導入口70を備えるとともに、他方の側面に排出口71を備えている。また、第二の溶液槽67は、導入口70と排出口71との間に第二の核酸駆動手段64を備えている。   The second solution tank 67 includes an introduction port 70 on one side surface and a discharge port 71 on the other side surface. The second solution tank 67 includes a second nucleic acid driving means 64 between the introduction port 70 and the discharge port 71.

また、第一の電極61と第二の電極62との間には電源(図示せず)と電流計(図示せず)とが接続されている。電源、電流計、第一の核酸駆動手段63、および第二の核酸駆動手段64は、図示しない制御およびデータ処理手段に接続されている。   A power source (not shown) and an ammeter (not shown) are connected between the first electrode 61 and the second electrode 62. The power supply, ammeter, first nucleic acid driving means 63, and second nucleic acid driving means 64 are connected to control and data processing means (not shown).

実施形態4の分析装置による分析は、たとえば以下のようにして行なうことができる。まず、核酸72を解析する際には、解析対象である核酸72をバッファ溶液に混合して導入口68より第一の溶液槽66の内部に導入する。また、バッファ溶液のみを導入口70より第二の溶液槽67に導入する。   The analysis by the analyzer of Embodiment 4 can be performed as follows, for example. First, when analyzing the nucleic acid 72, the nucleic acid 72 to be analyzed is mixed with the buffer solution and introduced into the first solution tank 66 through the inlet 68. Further, only the buffer solution is introduced into the second solution tank 67 through the introduction port 70.

次に、第一の核酸駆動手段63および第二の核酸駆動手段64を駆動させることによって、核酸72を第一の溶液槽66から第二の溶液槽67に移動させる。核酸72の移動と同時に第一の電極61と第二の電極62との間に電源により電圧を印加して、第一の電極61と第二の電極62との間を流れる電流を電流計を用いて計測する。核酸72がナノポア12に導入されると電流値が減少する。電流値が減少したら、第一の電極61と第二の電極62との間に流れる電流により塩基種の識別が可能となるように、第一の核酸駆動手段63および第二の核酸駆動手段64により、核酸72がナノポア12を通過するスピードを調節する。塩基種の識別は、一定電圧の下で流れる電流値の違い、または各塩基の電流−電圧特性の違いにより識別する。   Next, the nucleic acid 72 is moved from the first solution tank 66 to the second solution tank 67 by driving the first nucleic acid driving means 63 and the second nucleic acid driving means 64. Simultaneously with the movement of the nucleic acid 72, a voltage is applied between the first electrode 61 and the second electrode 62 by the power source, and the current flowing between the first electrode 61 and the second electrode 62 is measured by an ammeter. Use to measure. When the nucleic acid 72 is introduced into the nanopore 12, the current value decreases. When the current value decreases, the first nucleic acid driving unit 63 and the second nucleic acid driving unit 64 are configured so that the base species can be identified by the current flowing between the first electrode 61 and the second electrode 62. Thus, the speed at which the nucleic acid 72 passes through the nanopore 12 is adjusted. The base type is identified by a difference in current value flowing under a constant voltage or a difference in current-voltage characteristics of each base.

たとえば、実施形態4の分析装置を用いて、一定電圧の下で流れる電流値の違いにより、DNA鎖の塩基の識別を行う方法の一例について説明する。まず、予め、DNA鎖の塩基ATGCの1種類のみが連なったポリマーがナノポア12を通過するときのトンネル電流値を計測しておく。DNA鎖の塩基にはATGCの4種類があるが、これらの塩基の種類ごとに固有の電流値を計測しておき、制御およびデータ処理手段のメモリに記憶しておく。   For example, an example of a method for identifying a base of a DNA strand based on a difference in current value flowing under a constant voltage using the analyzer according to the fourth embodiment will be described. First, a tunnel current value when a polymer in which only one type of DNA chain base ATGC is continuous passes through the nanopore 12 is measured in advance. There are four types of bases in the DNA chain, ATGC. A unique current value is measured for each type of these bases and stored in the memory of the control and data processing means.

次に、分析対象のDNA鎖がナノポア12を通過するときのトンネル電流を実際に計測し、その計測されたトンネル電流値と、予めメモリに記憶されているATGCの各塩基の種類に対応した電流値と、を比較する。これにより、分析対象のDNA鎖を構成する塩基の識別が可能となる。   Next, the tunnel current when the DNA strand to be analyzed passes through the nanopore 12 is actually measured, and the measured tunnel current value and the current corresponding to the type of each base of ATGC stored in the memory in advance. Compare the value. This makes it possible to identify the bases constituting the DNA strand to be analyzed.

図23に、実施形態4の分析装置において得られる電流値と測定時間との関係の一例を示す。図23の縦軸が電流値を示し、横軸が測定時間を示している。図23に示される例では、塩基Aが最も電流値が高く、塩基Gが2番目に電流値が高く、塩基Cが3番目に電流値が高く、塩基Tが最も電流値が低くなっている。そして、これらの塩基の電流値の違いによって、DNA鎖を構成する塩基を識別する。   FIG. 23 shows an example of the relationship between the current value obtained in the analyzer of Embodiment 4 and the measurement time. The vertical axis in FIG. 23 indicates the current value, and the horizontal axis indicates the measurement time. In the example shown in FIG. 23, base A has the highest current value, base G has the second highest current value, base C has the third highest current value, and base T has the lowest current value. . And the base which comprises a DNA strand is identified by the difference in the electric current value of these bases.

以下、図24および図25の模式的な断面図を参照して、実施形態4の分析装置に用いられる電極61,62を備えたポリマー膜11の製造方法の一例について説明する。まず、図24に示すように、基板21上に、導電性材料22、ポリマー膜11、金属膜81、およびポリマー膜11をこの順に設置する。ここで、導電性材料22に代えて、または導電性材料22とともに可溶性材料26を設置してもよい。また、金属膜81は、たとえば、スパッタリング法または蒸着法等によってポリマー膜11上に堆積された後に、リソグラフィ技術等でパターニングされることによって形成することができる。   Hereinafter, an example of a method for manufacturing the polymer film 11 including the electrodes 61 and 62 used in the analyzer of Embodiment 4 will be described with reference to the schematic cross-sectional views of FIGS. 24 and 25. First, as shown in FIG. 24, the conductive material 22, the polymer film 11, the metal film 81, and the polymer film 11 are placed on the substrate 21 in this order. Here, the soluble material 26 may be installed instead of the conductive material 22 or together with the conductive material 22. The metal film 81 can be formed by depositing on the polymer film 11 by, for example, a sputtering method or a vapor deposition method and then patterning by a lithography technique or the like.

次に、図25に示すように、たとえば、電子ビーム、イオンビーム、またはFIB等のビーム82を、ポリマー膜11、金属膜81およびポリマー膜11の積層体に照射することによって、ポリマー膜11および金属膜81にナノポア12を形成する。金属膜81にナノポア12が形成されることによって、電極61,62を形成することができる。また、導電性材料22を用いることに代えて、または導電性材料22を用いるとともに、電極61,62にリードおよびアースを取り付けた状態でビーム82を照射することによって、ナノポア12の形成時におけるポリマー膜11の表面の帯電量を抑えることもできる。   Next, as shown in FIG. 25, for example, the polymer film 11 and the metal film 81 and the polymer film 11 are irradiated with a beam 82 such as an electron beam, an ion beam, or an FIB to thereby form the polymer film 11 and the polymer film 11. Nanopores 12 are formed on the metal film 81. By forming the nanopore 12 on the metal film 81, the electrodes 61 and 62 can be formed. Further, instead of using the conductive material 22 or using the conductive material 22 and irradiating the beam 82 with the leads 61 and 62 attached to the electrodes 61 and 62, the polymer at the time of forming the nanopore 12 is obtained. The amount of charge on the surface of the film 11 can also be suppressed.

その後、導電性材料22を除去して、ポリマー膜11、電極61,62およびポリマー膜11の積層体を基板21から分離することによって、実施形態4の分析装置に用いられる電極61,62を備えたポリマー膜11を形成することができる。その後、ポリマー膜11に補強材24を取り付ることもできるが、ポリマー膜11に補強材24を取り付けなくてもよい。   Thereafter, the conductive material 22 is removed, and the laminate of the polymer film 11, the electrodes 61 and 62, and the polymer film 11 is separated from the substrate 21, thereby providing the electrodes 61 and 62 used in the analyzer of Embodiment 4. A polymer film 11 can be formed. Thereafter, the reinforcing material 24 can be attached to the polymer film 11, but the reinforcing material 24 may not be attached to the polymer film 11.

以上のように実施形態について説明を行なったが、上述の各実施形態の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。   Although the embodiment has been described as described above, it is also planned from the beginning to appropriately combine the configurations of the above-described embodiments.

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   It should be thought that embodiment disclosed this time is an illustration and restrictive at no points. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

11 ポリマー膜、11a 第1の表面、11b 第2の表面、12 ナノポア、12a 第1の開口、12b 第2の開口、12c 内壁、13 最大円、14 最小円、21 基板、22 導電性材料、24 補強材、25 開口部、26 可溶性材料、27 分析装置用基板、31 第一の電極、32 第二の電極、33 粒子、34 第一のチャンバ、35,40 リード、36,37 アース、38 、39 電源、51,52,53 電流値、61 第一の電極、62 第二の電極、63 第一の核酸駆動手段、64 第二の核酸駆動手段、65 容器、66 第一の溶液槽、67 第二の溶液槽、68,70 導入口、69,71 排出口、72 核酸、81 金属膜、82 ビーム。   11 polymer film, 11a first surface, 11b second surface, 12 nanopore, 12a first opening, 12b second opening, 12c inner wall, 13 maximum circle, 14 minimum circle, 21 substrate, 22 conductive material, 24 Reinforcing Material, 25 Opening, 26 Soluble Material, 27 Analyzer Substrate, 31 First Electrode, 32 Second Electrode, 33 Particles, 34 First Chamber, 35, 40 Lead, 36, 37 Ground, 38 , 39 power supply, 51, 52, 53 current value, 61 first electrode, 62 second electrode, 63 first nucleic acid driving means, 64 second nucleic acid driving means, 65 container, 66 first solution tank, 67 Second solution tank, 68, 70 inlet, 69, 71 outlet, 72 nucleic acid, 81 metal film, 82 beam.

Claims (18)

ポリマー膜を備え、
前記ポリマー膜には、ナノポアが設けられており、
前記ナノポアは、前記ポリマー膜の表面に設けられた開口と、前記開口から前記ポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備え、
前記開口の最小円の直径に対する最大円の直径の比が1.274以下である、分析装置用ポリマー膜。
With a polymer membrane,
The polymer film is provided with nanopores,
The nanopore comprises an opening provided on the surface of the polymer film, and an inner wall provided so as to penetrate the polymer film from the opening,
The polymer membrane for an analyzer, wherein the ratio of the diameter of the maximum circle to the diameter of the minimum circle of the opening is 1.274 or less.
前記比が、1.105以下である、請求項1に記載の分析装置用ポリマー膜。   The polymer film for an analyzer according to claim 1, wherein the ratio is 1.105 or less. 前記比が、1.026以下である、請求項2に記載の分析装置用ポリマー膜。   The polymer film for an analyzer according to claim 2, wherein the ratio is 1.026 or less. ポリマー膜を備え、
前記ポリマー膜には、ナノポアが設けられており、
前記ナノポアは、前記ポリマー膜の表面に設けられた開口と、前記開口から前記ポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備え、
前記ポリマー膜の厚さが1μm以下である、分析装置用ポリマー膜。
With a polymer membrane,
The polymer film is provided with nanopores,
The nanopore comprises an opening provided on the surface of the polymer film, and an inner wall provided so as to penetrate the polymer film from the opening,
A polymer film for an analyzer, wherein the polymer film has a thickness of 1 μm or less.
前記内壁の少なくとも一部は親水性である、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の分析装置用ポリマー膜。   The polymer film for an analyzer according to any one of claims 1 to 4, wherein at least a part of the inner wall is hydrophilic. 前記ポリマー膜はポリメチルメタクリレートを含む、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の分析装置用ポリマー膜。   The polymer film for an analyzer according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymer film contains polymethyl methacrylate. 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の分析装置用ポリマー膜と、前記分析装置用ポリマー膜上の補強材と、を備えた、分析装置用基板。   A substrate for an analyzer comprising the polymer film for an analyzer according to any one of claims 1 to 6 and a reinforcing material on the polymer film for the analyzer. 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の分析装置用ポリマー膜、または請求項7に記載の分析装置用基板を備えた、分析装置。   The analyzer provided with the polymer film for analyzers of any one of Claims 1-6, or the board | substrate for analyzers of Claim 7. 基板上に導電性材料を設置する工程と、
前記導電性材料上にポリマー膜を設置する工程と、
前記ポリマー膜にナノポアを形成する工程と、
前記導電性材料を除去することによって前記ポリマー膜を前記基板から分離する工程とを含み、
前記ナノポアは、前記ポリマー膜の表面に設けられた開口と、前記開口から前記ポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備えている、分析装置用ポリマー膜の製造方法。
Installing a conductive material on the substrate;
Installing a polymer film on the conductive material;
Forming nanopores in the polymer film;
Separating the polymer film from the substrate by removing the conductive material;
The said nanopore is the manufacturing method of the polymer film for analyzers provided with the opening provided in the surface of the said polymer film, and the inner wall provided so that the said polymer film might be penetrated from the said opening.
前記導電性材料は水溶性であって、
前記導電性材料は水に溶解させることにより除去される、請求項9に記載の分析装置用ポリマー膜の製造方法。
The conductive material is water soluble,
The method for producing a polymer film for an analyzer according to claim 9, wherein the conductive material is removed by dissolving in water.
前記開口の最小円の直径に対する最大円の直径の比が1.274以下である、請求項9または請求項10に記載の分析装置用ポリマー膜の製造方法。   The method for producing a polymer film for an analyzer according to claim 9 or 10, wherein a ratio of a diameter of a maximum circle to a diameter of a minimum circle of the opening is 1.274 or less. 前記比が、1.105以下である、請求項11に記載の分析装置用ポリマー膜の製造方法。   The method for producing a polymer film for an analyzer according to claim 11, wherein the ratio is 1.105 or less. 前記比が、1.026以下である、請求項12に記載の分析装置用ポリマー膜の製造方法。   The method for producing a polymer film for an analyzer according to claim 12, wherein the ratio is 1.026 or less. 基板上に可溶性材料を設置する工程と、
前記可溶性材料上に厚さ1μm以下のポリマー膜を設置する工程と、
前記ポリマー膜にナノポアを形成する工程と、
前記可溶性材料を溶解させることによって前記ポリマー膜を前記基板から分離する工程とを含み、
前記ナノポアは、前記ポリマー膜の表面に設けられた開口と、前記開口から前記ポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備えている、分析装置用ポリマー膜の製造方法。
Installing a soluble material on the substrate;
Installing a polymer film having a thickness of 1 μm or less on the soluble material;
Forming nanopores in the polymer film;
Separating the polymer film from the substrate by dissolving the soluble material,
The said nanopore is the manufacturing method of the polymer film for analyzers provided with the opening provided in the surface of the said polymer film, and the inner wall provided so that the said polymer film might be penetrated from the said opening.
前記内壁の少なくとも一部を親水化する工程をさらに含む、請求項9〜請求項14のいずれか1項に記載の分析装置用ポリマー膜の製造方法。   The method for producing a polymer film for an analyzer according to any one of claims 9 to 14, further comprising a step of hydrophilizing at least a part of the inner wall. 前記内壁の少なくとも一部を親水化する工程は、酸素プラズマ処理および紫外線照射の少なくとも一方の方法により行なわれる、請求項15に記載の分析装置用ポリマー膜の製造方法。   The method for producing a polymer film for an analyzer according to claim 15, wherein the step of hydrophilizing at least a part of the inner wall is performed by at least one of oxygen plasma treatment and ultraviolet irradiation. 前記ナノポアは、前記ポリマー膜に集束イオンビームを照射することによって形成される、請求項9〜請求項16のいずれか1項に記載の分析装置用ポリマー膜の製造方法。   The said nanopore is a manufacturing method of the polymer film for analyzers of any one of Claims 9-16 formed by irradiating a focused ion beam to the said polymer film. 請求項9〜請求項17のいずれか1項に記載の分析装置用ポリマー膜の製造方法により分析装置用ポリマー膜を製造する工程と、
前記分析装置用ポリマー膜上に補強材を設置する工程と、を含む、分析装置用基板の製造方法。
A process for producing a polymer film for an analyzer by the method for producing a polymer film for an analyzer according to any one of claims 9 to 17,
And a step of installing a reinforcing material on the polymer film for an analyzer.
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