JP2017183675A - Electromagnetic wave shielding enclosure - Google Patents

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JP2017183675A JP2016073373A JP2016073373A JP2017183675A JP 2017183675 A JP2017183675 A JP 2017183675A JP 2016073373 A JP2016073373 A JP 2016073373A JP 2016073373 A JP2016073373 A JP 2016073373A JP 2017183675 A JP2017183675 A JP 2017183675A
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Koichiro Tanaka
幸一郎 田中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shielding enclosure capable of being manufactured by insert molding and in-mold molding utilizing pressure forming and vacuum forming, suppressing a metal layer from being broken, and excellent in bond strength between a shielding material and the enclosure.SOLUTION: An electromagnetic wave shielding enclosure includes a resin-made enclosure body and an electromagnetic wave shielding material for bonding and coating the inner surface and/or the outer surface of the resin-made enclosure body. The electromagnetic wave shielding material has a multilayer structure where at least one sheet of metal foil and at least one sheet of resin film are laminated in close contact with each other. A layer of the electromagnetic wave shielding material forming a joint surface with the inner surface and/or the outer surface of the resin-made enclosure body is formed of a resin film.SELECTED DRAWING: Figure 1-1

Description

本発明は電磁波シールド筐体に関する。より詳細には、本発明は電気・電子機器を内部に収容して電気・電子機器から放射される電磁波を遮断するための筐体に関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding casing. More specifically, the present invention relates to a housing for accommodating an electric / electronic device therein to block electromagnetic waves radiated from the electric / electronic device.

近年、地球環境問題に対する関心が全世界的に高まっており、電気自動車やハイブリッド自動車といった二次電池を搭載した環境配慮型自動車の普及が進展している。これらの自動車においては、搭載した二次電池から発生する直流電流をインバータを介して交流電流に変換した後、必要な電力を交流モータに供給し、駆動力を得る方式を採用するものが多い。インバータのスイッチング動作等に起因して電磁波が発生する。電磁波は車載の音響機器や無線機器等の受信障害となることから、インバータ或いはインバータと共にバッテリーやモータ等を金属製ケース内に収容して、電磁波シールドするという対策が行われてきた(特開2003−285002号公報)。   In recent years, interest in global environmental issues has increased worldwide, and the spread of environmentally friendly vehicles equipped with secondary batteries such as electric vehicles and hybrid vehicles is progressing. Many of these automobiles employ a method of obtaining a driving force by converting a direct current generated from a mounted secondary battery into an alternating current through an inverter and then supplying necessary power to the alternating current motor. Electromagnetic waves are generated due to the switching operation of the inverter. Since electromagnetic waves interfere with the reception of in-vehicle acoustic devices and wireless devices, measures have been taken to shield the electromagnetic waves by housing a battery, a motor or the like together with an inverter or an inverter in a metal case (Japanese Patent Laid-Open No. 2003). -285002).

また、自動車に限らず、通信機器、ディスプレイ及び医療機器を含め多くの電気・電子機器から電磁波が放射される。電磁波は精密機器の誤作動を引き起こす可能性があり、更には、人体に対する影響も懸念される。このため、電磁波シールド材を用いて電磁波の影響を軽減する各種の技術が開発されてきた。例えば、銅箔と樹脂フィルムとを積層してなる銅箔複合体が電磁波シールド材として用いられている(特開平7−290449号公報)。銅箔は電磁波シールド性を有し、樹脂フィルムは銅箔の補強のために積層される。また、絶縁材料からなる中間層の内側と外側にそれぞれ金属層を積層した電磁波シールド構造も知られている(特許第4602680号公報)。   Moreover, electromagnetic waves are radiated not only from automobiles but also from many electric / electronic devices including communication devices, displays and medical devices. Electromagnetic waves can cause malfunction of precision equipment, and there is also concern about the effects on the human body. For this reason, various techniques for reducing the influence of electromagnetic waves using electromagnetic shielding materials have been developed. For example, a copper foil composite formed by laminating a copper foil and a resin film is used as an electromagnetic shielding material (Japanese Patent Laid-Open No. 7-290449). The copper foil has electromagnetic shielding properties, and the resin film is laminated for reinforcing the copper foil. There is also known an electromagnetic wave shield structure in which metal layers are laminated on the inner side and the outer side of an intermediate layer made of an insulating material (Japanese Patent No. 4602680).

一方、樹脂材料と金属製シールド材料を一体成形する方法としては、フィルムインサート成形やインモールド成形が知られている。特開平4−135815号公報ではフィルムインサート成形により、シールド材と樹脂を一体成形している。シールド材としては金属箔のほか、金属箔の表面に高分子フィルムをラミネートしたものが記載されている。特開平6−29669号公報ではインモールド成形によりアルミニウム等の基体と合成樹脂を一体成形して電子機器用筐体を製造することが記載されている。そして、特開平6−29669号公報では筐体の薄肉化について考察しており、合成樹脂部品が成形可能な厚みは0.8mm以上であり、基体の肉厚は強度計算上0.3mm以上必要であることが記載されている。何れの公報においても、シールド材をプレス加工して一次成形した後に、樹脂と一体化する二次成形を行っている。   On the other hand, film insert molding and in-mold molding are known as methods for integrally molding a resin material and a metallic shield material. In JP-A-4-135815, the shield material and the resin are integrally formed by film insert molding. As the shielding material, in addition to the metal foil, a material obtained by laminating a polymer film on the surface of the metal foil is described. Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-29669 describes that a housing for electronic equipment is manufactured by integrally molding a base such as aluminum and a synthetic resin by in-mold molding. Japanese Patent Laid-Open No. 6-29669 considers the thinning of the housing, and the thickness of the synthetic resin component that can be molded is 0.8 mm or more, and the thickness of the base must be 0.3 mm or more for strength calculation. It is described that. In any of the above publications, after the shield material is pressed and primary molded, secondary molding that integrates with the resin is performed.

特開2003−285002号公報JP 2003-285002 A 特開平7−290449号公報JP 7-290449 A 特許第4602680号公報Japanese Patent No. 4602680 特開平4−135815号公報JP-A-4-135815 特開平6−29669号公報JP-A-6-29669

優れた電磁波シールドの効果と成形加工性を両立させるためにはシールド材を構成する金属層の厚みを大きくすればよいが、金属層の強度が高くなり、インサート成形やインモールド成形の前段のプレフォーム成形する段階で、圧空成形や真空成形を採用することができず、プレス成形が必要となる。特開平4−135815号公報及び特開平6−29669号公報においてもプレス成形を採用している。しかしながら、上型または下型のみで成形できる圧空成形や真空成形と異なり、プレス成形は上下の金型が必要であり、上下の金型のクリアランスも重要となるため、精度も必要なため高コストである。したがって多品種の製造には適さず、短いスパンで設計変更されるような製品には対応できないという点で不都合がある。   In order to achieve both excellent electromagnetic shielding effect and moldability, the thickness of the metal layer constituting the shield material should be increased. However, the strength of the metal layer is increased, and the pre-stage of insert molding or in-mold molding is increased. At the stage of foam molding, pressure molding or vacuum molding cannot be adopted, and press molding is required. Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 4-135815 and 6-29669 also employ press molding. However, unlike pressure forming and vacuum forming, which can be formed only with the upper or lower mold, press molding requires upper and lower molds, and the clearance between the upper and lower molds is also important, so accuracy is also required and high cost. It is. Therefore, it is not suitable for manufacturing a wide variety of products, and it is disadvantageous in that it cannot cope with products whose design is changed in a short span.

一方、自動車においては燃費向上の観点から軽量化が大きな課題となっており、金属材料から樹脂材料や炭素繊維材料への転換も検討が進んでいる。しかしながら、樹脂材料や炭素繊維材料には電磁波シールド効果は期待できない。かといって金属層の厚みを小さくし過ぎると優れたシールド効果(例えば、1MHz〜1000MHzにおいて、36dB以上)が得られないし、薄い金属層には延性がないため成形に耐えることができずに破断してしまう。   On the other hand, in automobiles, weight reduction is a major issue from the viewpoint of improving fuel consumption, and studies are also underway on switching from metal materials to resin materials and carbon fiber materials. However, the resin material and the carbon fiber material cannot be expected to have an electromagnetic wave shielding effect. However, if the thickness of the metal layer is too small, an excellent shielding effect (for example, 36 dB or more at 1 MHz to 1000 MHz) cannot be obtained, and the thin metal layer is not ductile, so it cannot withstand forming and breaks. Resulting in.

この点、特開平7−290449号公報及び特許第4602680号公報の記載の技術は絶縁層と金属層の複合体でシールド効果を狙ったものであり、ある程度の軽量化を図ることはできるものの、これらの公報には絶縁層と金属層の複合体からなるシールド材と筐体の接合に関する考察が不足している。特に、圧空成形や真空成形を利用したインサート成形やインモールド成形によってシールド材と筐体を優れた接合強度で接合し、しかも成形時に金属層の破断が抑制された電磁波シールド筐体を如何にして製造するかという点に関しては記載も示唆もされていない。筐体から電磁波シールド材が剥離するとシールド特性に悪影響を及ぼすおそれがあり、また、美観を害する。   In this regard, the techniques described in JP-A-7-290449 and Japanese Patent No. 4602680 aim at a shielding effect with a composite of an insulating layer and a metal layer, and although a certain amount of weight can be reduced, In these publications, there is a lack of consideration regarding the joining of the shielding material and the casing made of the composite of the insulating layer and the metal layer. In particular, how to make an electromagnetic shielding case where the shield material and the case are bonded with excellent bonding strength by insert molding or in-mold forming using pressure forming or vacuum forming, and the metal layer breakage is suppressed during molding. There is no description or suggestion as to whether to manufacture. If the electromagnetic shielding material is peeled off from the housing, the shielding characteristics may be adversely affected, and the aesthetics will be impaired.

本発明は上記事情に鑑みて創作されたものであり、圧空成形や真空成形を利用したインサート成形やインモールド成形により製造可能であり、金属層の破断が抑制され、且つ、シールド材と筐体の接合強度に優れた電磁波シールド筐体を提供することを課題の一つとする。   The present invention has been created in view of the above circumstances, and can be manufactured by insert molding or in-mold molding using compressed air molding or vacuum molding, the metal layer is prevented from being broken, and a shielding material and a casing Another object is to provide an electromagnetic wave shielding casing having excellent bonding strength.

本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねたところ、金属箔と樹脂フィルムを密着積層させると、金属箔が樹脂フィルムに追随して一律に延伸しやすくなるため、成形時の破断が抑制されることを見出した。また、金属箔及び樹脂フィルムの多層構造を有する電磁波シールド材の少なくとも一方の最外層を樹脂フィルムで構成し、当該樹脂フィルムを樹脂製筐体と接合することにより、筐体との接合強度が高まることを見出した。本発明は当該知見に基づいて完成したものである。   The present inventor has made extensive studies to solve the above problems, and when the metal foil and the resin film are adhered and laminated, the metal foil easily follows the resin film and is easily stretched. It was found to be suppressed. Further, the outermost layer of the electromagnetic shielding material having a multilayer structure of metal foil and resin film is formed of a resin film, and the resin film is bonded to the resin casing, thereby increasing the bonding strength with the casing. I found out. The present invention has been completed based on this finding.

本発明は第一の側面において、樹脂製筐体本体と、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面を接合被覆する電磁波シールド材とを備えた電磁波シールド筐体であって、電磁波シールド材は少なくとも一枚の金属箔及び少なくとも一枚の樹脂フィルムが密着積層した多層構造を有しており、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面との接合面を形成する電磁波シールド材の層は樹脂フィルムで構成されている電磁波シールド筐体である。   In the first aspect, the present invention is an electromagnetic wave shielding case comprising a resin case main body and an electromagnetic wave shielding material that covers and covers the inner surface and / or the outer surface of the resin case main body. The layer of the electromagnetic shielding material having a multilayer structure in which at least one metal foil and at least one resin film are closely laminated, and forming a joint surface with the inner surface and / or outer surface of the resin casing body is a resin. It is an electromagnetic wave shielding housing composed of a film.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は一実施形態において、電磁波シールド材を構成する金属箔及び樹脂フィルムは熱圧着によって密着積層されている。   In one embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, the metal foil and the resin film constituting the electromagnetic wave shielding material are adhered and laminated by thermocompression bonding.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は別の一実施形態において、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面との接合面を形成する電磁波シールド材の層は、樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる樹脂フィルムで構成されている。   In another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, the layer of the electromagnetic shielding material forming the bonding surface with the inner surface and / or the outer surface of the resin casing main body is formed of the resin casing. It is comprised with the resin film which consists of the same kind of resin material as a main body.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面との接合面を形成する電磁波シールド材の層である樹脂フィルムを構成する樹脂の融点は、樹脂製筐体本体を構成する樹脂の融点に対して±5℃以内である。   In still another embodiment, the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention is a resin film that is a layer of an electromagnetic shielding material that forms a bonding surface with the inner surface and / or the outer surface of the resin casing main body. The melting point of the constituent resin is within ± 5 ° C. with respect to the melting point of the resin constituting the resin casing body.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、電磁波シールド材を構成する金属箔及び樹脂フィルムの破断箇所が存在しない。   In still another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, there is no broken portion of the metal foil and the resin film constituting the electromagnetic wave shielding material.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、電磁波シールド材は、少なくとも二枚の金属箔が樹脂フィルムを介して積層された構造を有する。   In still another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, the electromagnetic wave shielding material has a structure in which at least two metal foils are laminated via a resin film.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、電磁波シールド材を構成する金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせが、σM×dM×dR≧3×10-3を満たす。
但し、式中の記号は以下を示す。
σM:金属箔の20℃における導電率(S/m)
M:金属箔の厚み(m)
R:樹脂フィルムの厚み(m)
In another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, all combinations of the metal foil and the resin film constituting the electromagnetic wave shielding material are σ M × d M × d R ≧ 3 ×. 10-3 is satisfied.
However, the symbol in a formula shows the following.
σ M : conductivity of metal foil at 20 ° C. (S / m)
d M : Metal foil thickness (m)
d R : thickness of resin film (m)

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、電磁波シールド材を構成する各金属箔の20℃における導電率が1.0×106S/m以上である。 In still another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, the electrical conductivity at 20 ° C. of each metal foil constituting the electromagnetic wave shielding material is 1.0 × 10 6 S / m or more. .

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、電磁波シールド材を構成する各金属箔の厚みが4〜50μmである。   In still another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, the thickness of each metal foil constituting the electromagnetic wave shielding material is 4 to 50 μm.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、電磁波シールド材を構成する各樹脂フィルムの20℃における比誘電率が2.0〜10.0である。   In still another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, the relative dielectric constant at 20 ° C. of each resin film constituting the electromagnetic wave shielding material is 2.0 to 10.0.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、電磁波シールド材を構成する各樹脂フィルムの厚みが4〜500μmである。   In still another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, the thickness of each resin film constituting the electromagnetic wave shielding material is 4 to 500 μm.

本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体は更に別の一実施形態において、樹脂製筐体本体の最も薄い箇所の厚みが0.5mm以上である。   In still another embodiment of the electromagnetic wave shielding casing according to the first aspect of the present invention, the thickness of the thinnest portion of the resin casing main body is 0.5 mm or more.

本発明は第二の側面において、樹脂製筐体本体と、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面を接合被覆する電磁波シールド材とを備えた電磁波シールド筐体の製造方法であって、
少なくとも一枚の金属箔及び少なくとも一枚の樹脂フィルムが積層された多層構造を有し、少なくとも一方の最外層が樹脂フィルムであるフィルム状の電磁波シールド材をプレフォーム用金型にセットして、圧空成形又は真空成形することにより、立体形状にプレフォームされた電磁波シールド材を得る工程と、
プレフォームされた電磁波シールド材を、該電磁波シールド材の立体形状に合致したキャビティ面を有する射出成形用金型に、最外層を形成する樹脂フィルムがキャビティ内で露出するように嵌め込んだ状態で、射出成形用金型のキャビティに筐体用の溶融樹脂を射出し、冷却固化することにより、プレフォームされた電磁波シールド材と筐体を一体化する工程と、
を含む製造方法である。
In a second aspect, the present invention is a method of manufacturing an electromagnetic shielding casing comprising a resin casing main body and an electromagnetic shielding material for bonding and covering the inner surface and / or outer surface of the resin casing main body,
It has a multilayer structure in which at least one metal foil and at least one resin film are laminated, and at least one outermost layer is a resin film, and a film-like electromagnetic shielding material is set in a preform mold, A step of obtaining an electromagnetic wave shielding material preformed into a three-dimensional shape by pressure forming or vacuum forming;
In a state where the preformed electromagnetic wave shielding material is fitted into an injection mold having a cavity surface matching the three-dimensional shape of the electromagnetic wave shielding material so that the resin film forming the outermost layer is exposed in the cavity. Injecting the molten resin for the housing into the cavity of the injection mold, and solidifying by cooling, thereby integrating the preformed electromagnetic shielding material and the housing;
It is a manufacturing method containing.

本発明の第二の側面に係る電磁波シールド筐体の製造方法は一実施形態において、最外層を形成し、キャビティ内で露出する樹脂フィルムが樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる。   In one embodiment of the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding casing according to the second aspect of the present invention, the outermost layer is formed, and the resin film exposed in the cavity is made of the same type of resin material as the resin casing body.

本発明の第二の側面に係る電磁波シールド筐体の製造方法は別の一実施形態において、電磁波シールド筐体が本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体である。   In another embodiment of the method for producing an electromagnetic wave shielding casing according to the second aspect of the present invention, the electromagnetic shielding casing is the electromagnetic shielding casing according to the first aspect of the present invention.

本発明の第二の側面に係る電磁波シールド筐体の製造方法は更に別の一実施形態において、立体形状にプレフォームされた電磁波シールド材を得る工程においては、電磁波シールド材を構成するすべての樹脂フィルムについて、樹脂フィルムの熱変形温度を20℃下回る温度以上に加熱した状態で圧空成形、真空成形又はプレス成形する。   In another embodiment of the method for producing an electromagnetic wave shielding casing according to the second aspect of the present invention, in the step of obtaining the electromagnetic wave shielding material preformed in a three-dimensional shape, all the resins constituting the electromagnetic wave shielding material The film is subjected to pressure forming, vacuum forming or press forming in a state where the film is heated to a temperature lower than 20 ° C. below the heat deformation temperature of the resin film.

本発明の第二の側面に係る電磁波シールド筐体の製造方法は更に別の一実施形態において、プレフォームされた電磁波シールド材と筐体を一体化する工程においては、射出される樹脂の融点を5℃超える温度以上、且つ、射出される樹脂の融点を100℃超える温度以下の溶融樹脂を射出する。   In yet another embodiment of the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding casing according to the second aspect of the present invention, in the step of integrating the preformed electromagnetic shielding material and the casing, the melting point of the injected resin is determined. A molten resin having a temperature higher than 5 ° C. and lower than a temperature exceeding the melting point of the injected resin by 100 ° C. is injected.

本発明の第二の側面に係る電磁波シールド筐体の製造方法は更に別の一実施形態において、圧空成形又は真空成形においては、電磁波シールド材の減肉率を16%以上として行う。   In still another embodiment of the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding casing according to the second aspect of the present invention, the thickness reduction rate of the electromagnetic shielding material is set to 16% or more in the pressure forming or vacuum forming.

本発明は第三の側面において、樹脂製筐体本体と、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面を接合被覆する電磁波シールド材とを備えた電磁波シールド筐体の製造方法であって、
少なくとも一枚の金属箔及び少なくとも一枚の樹脂フィルムが積層された多層構造を有し、少なくとも一方の最外層が樹脂フィルムであるフィルム状の電磁波シールド材を、電磁波シールド材の立体形状を画定するための凹凸を有する第一金型と射出口を有する第二金型とを備えた射出成形用金型に、最外層を形成する樹脂フィルムが第二金型に設置された溶融樹脂の射出口と向き合うようにセットする工程と、
両金型を射出成形時の位置まで移動させることにより予備成形された電磁波シールド材を得る工程と、
第二金型に設けられた射出口から筐体用の溶融樹脂を射出し、射出圧力により電磁波シールド材を第一金型の凹凸に追従させて本成形した後、冷却固化することにより、本成形された電磁波シールド材と筐体を一体化する工程と、
を含む製造方法である。
In a third aspect, the present invention is a method for manufacturing an electromagnetic shielding casing comprising a resin casing main body, and an electromagnetic shielding material that covers and covers the inner surface and / or outer surface of the resin casing main body,
A film-like electromagnetic shielding material having a multilayer structure in which at least one metal foil and at least one resin film are laminated, and at least one outermost layer being a resin film, defines a three-dimensional shape of the electromagnetic shielding material A molten resin injection port in which a resin film for forming an outermost layer is installed in a second mold in an injection mold having a first mold having projections and depressions and a second mold having an injection port And the process of setting to face each other,
A step of obtaining a preformed electromagnetic wave shielding material by moving both molds to the position at the time of injection molding;
By injecting molten resin for the housing from the injection port provided in the second mold, the electromagnetic shielding material is made to follow the unevenness of the first mold by injection pressure, and then cooled and solidified. Integrating the molded electromagnetic shielding material and the housing;
It is a manufacturing method containing.

本発明の第三の側面に係る電磁波シールド筐体の製造方法は一実施形態において、最外層を形成し、射出口と向き合う樹脂フィルムが樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる。   The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding housing | casing which concerns on the 3rd side surface of this invention WHEREIN: In one Embodiment, the outermost layer is formed and the resin film which faces an injection port consists of the same kind of resin material as a resin-made housing body.

本発明の第三の側面に係る電磁波シールド筐体の製造方法は別の一実施形態において、電磁波シールド筐体が本発明の第一の側面に係る電磁波シールド筐体である。   In another embodiment of the method for producing an electromagnetic wave shielding casing according to the third aspect of the present invention, the electromagnetic shielding casing is the electromagnetic shielding casing according to the first aspect of the present invention.

本発明の第三の側面に係る電磁波シールド筐体の製造方法は更に別の一実施形態において、予備成形及び本成形における電磁波シールド材の合計の減肉率を16%以上として行う。   In still another embodiment of the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding casing according to the third aspect of the present invention, the total thickness reduction rate of the electromagnetic wave shielding material in the preforming and the main molding is set to 16% or more.

本発明に係る電磁波シールド筐体で使用する電磁波シールド材は、金属箔に樹脂フィルムを密着積層した構成を有する。当該電磁波シールド材では金属箔という薄い素材を使用していることに加えて、金属箔は樹脂フィルムと密着しているために延伸しやすい。このため、本発明に係る電磁波シールド筐体は圧空成形や真空成形を利用したインサート成形やインモールド成形により製造可能である。そして、金属箔が延伸しやすくなったことで成形時に金属箔の破断が抑制されるので、破断箇所で生じ得る電磁波漏洩も抑制される。更に、樹脂フィルムを介して複数の金属箔を積層することにより軽量性と優れた電磁波シールド性を両立することも可能となる。   The electromagnetic wave shielding material used in the electromagnetic wave shielding casing according to the present invention has a configuration in which a resin film is adhered and laminated on a metal foil. In addition to using a thin material such as a metal foil, the electromagnetic shielding material is easily stretched because the metal foil is in close contact with the resin film. For this reason, the electromagnetic wave shielding housing according to the present invention can be manufactured by insert molding or in-mold molding using pressure forming or vacuum forming. And since it becomes easy to extend | stretch metal foil, since the fracture | rupture of metal foil is suppressed at the time of shaping | molding, the electromagnetic wave leakage which may arise in a fracture location is also suppressed. Further, by laminating a plurality of metal foils via a resin film, it is possible to achieve both lightness and excellent electromagnetic shielding properties.

また、本発明に係る電磁波シールド筐体では、電磁波シールド材と樹脂製筐体本体の接合界面が樹脂で構成されているので、電磁波シールド材と樹脂製筐体本体の間の高い接合強度を確保することが可能となる。   Moreover, in the electromagnetic wave shielding housing according to the present invention, since the bonding interface between the electromagnetic wave shielding material and the resin housing body is made of resin, a high bonding strength between the electromagnetic wave shielding material and the resin housing body is ensured. It becomes possible to do.

フィルムインサート成形を利用した本発明に係る電磁波シールド筐体の製造手順の例を模式的に示す。The example of the manufacture procedure of the electromagnetic wave shielding housing | casing which concerns on this invention using film insert molding is shown typically. インモールド成形を利用した本発明に係る電磁波シールド筐体の製造手順の例を模式的に示す。The example of the manufacture procedure of the electromagnetic wave shielding housing | casing which concerns on this invention using in-mold shaping | molding is shown typically. 試験例2における磁界シールド効果評価試験の結果を示す。The result of the magnetic field shield effect evaluation test in Test Example 2 is shown. 試験例3における磁界シールド効果評価試験に使用した電磁波シールド材(a)〜(d)の積層構造を示す。The laminated structure of the electromagnetic shielding material (a)-(d) used for the magnetic field shield effect evaluation test in Test Example 3 is shown. 試験例3における磁界シールド効果評価試験に使用した電磁波シールド材(e)〜(i)の積層構造を示す。The laminated structure of the electromagnetic shielding material (e)-(i) used for the magnetic field shield effect evaluation test in Test Example 3 is shown. 試験例3における磁界シールド効果評価試験に使用した電磁波シールド材(j)〜(m)の積層構造を示す。The laminated structure of electromagnetic wave shielding material (j)-(m) used for the magnetic field shield effect evaluation test in Test Example 3 is shown. 試験例3における磁界シールド効果評価試験の結果を示す((a)〜(d))。The result of the magnetic field shielding effect evaluation test in Test Example 3 is shown ((a) to (d)). 試験例3における磁界シールド効果評価試験の結果を示す((e)〜(i))。The result of the magnetic field shield effect evaluation test in Test Example 3 is shown ((e) to (i)). 試験例3における磁界シールド効果評価試験の結果を示す((a)、(b)、(e)、(f)の比較)。The result of the magnetic field shield effect evaluation test in Test Example 3 is shown (comparison of (a), (b), (e), and (f)). 試験例3における磁界シールド効果評価試験の結果を示す((j)〜(m))。The result of the magnetic field shielding effect evaluation test in Test Example 3 is shown ((j) to (m)).

(金属箔)
本発明に係る電磁波シールド筐体のシールド材に使用する金属箔の材料としては特に制限はないが、交流磁界や交流電界に対するシールド特性を高める観点からは、導電性に優れた金属材料とすることが好ましい。具体的には、導電率が1.0×106S/m(20℃の値。以下同じ。)以上の金属によって形成することが好ましく、金属の導電率が10.0×106S/m以上であるとより好ましく、30.0×106S/m以上であると更により好ましく、50.0×106S/m以上であると最も好ましい。このような金属としては、導電率が約9.9×106S/mの鉄、導電率が約14.5×106S/mのニッケル、導電率が約39.6×106S/mのアルミニウム、導電率が約58.0×106S/mの銅、及び導電率が約61.4×106S/mの銀が挙げられる。導電率とコストの双方を考慮すると、アルミニウム又は銅を採用することが実用性上好ましい。本発明に係るシールド材に使用する金属箔はすべて同一の金属であってもよいし、層毎に異なる金属を使用してもよい。また、上述した金属の合金を使用することもできる。金属箔表面には接着促進、耐環境性、耐熱及び防錆などを目的とした各種の表面処理層が形成されていてもよい。
(Metal foil)
Although there is no restriction | limiting in particular as a material of metal foil used for the shielding material of the electromagnetic wave shielding housing | casing which concerns on this invention, From a viewpoint of improving the shielding characteristic with respect to an alternating current magnetic field or an alternating current electric field, it shall be a metal material excellent in electroconductivity. Is preferred. Specifically, it is preferably formed of a metal having an electrical conductivity of 1.0 × 10 6 S / m (a value at 20 ° C., the same shall apply hereinafter), and the electrical conductivity of the metal is 10.0 × 10 6 S / m. m is more preferably 30.0 × 10 6 S / m or more, and most preferably 50.0 × 10 6 S / m or more. Such metals include iron conductivity of about 9.9 × 10 6 S / m, the conductivity of about 14.5 × 10 6 S / m of nickel, the conductivity of about 39.6 × 10 6 S Aluminum having a conductivity of about 58.0 × 10 6 S / m, and silver having a conductivity of about 61.4 × 10 6 S / m. Considering both conductivity and cost, it is preferable in practical use to use aluminum or copper. The metal foil used for the shield material according to the present invention may all be the same metal, or a different metal may be used for each layer. Moreover, the metal alloy mentioned above can also be used. Various surface treatment layers for the purpose of adhesion promotion, environmental resistance, heat resistance and rust prevention may be formed on the surface of the metal foil.

例えば、金属面が最外層となる場合に必要とされる耐環境性、耐熱性を高めることを目的として、Auめっき、Agめっき、Snめっき、Niめっき、Znめっき、Sn合金めっき(Sn−Ag、Sn−Ni、Sn−Cuなど)、クロメート処理などを施すことができる。これらの処理を組み合わせてもよい。コストの観点からSnめっきあるいはSn合金めっきが好ましい。   For example, Au plating, Ag plating, Sn plating, Ni plating, Zn plating, Sn alloy plating (Sn-Ag) for the purpose of enhancing the environmental resistance and heat resistance required when the metal surface is the outermost layer. , Sn-Ni, Sn-Cu, etc.), chromate treatment, and the like. These processes may be combined. From the viewpoint of cost, Sn plating or Sn alloy plating is preferable.

また、金属箔と樹脂フィルムとの密着性を高めることを目的として、クロメート処理、粗化処理、Niめっきなどを施すことができる。これらの処理を組み合わせてもよい。粗化処理が密着性を得られやすく好ましい。   Further, for the purpose of enhancing the adhesion between the metal foil and the resin film, chromate treatment, roughening treatment, Ni plating and the like can be performed. These processes may be combined. Roughening treatment is preferable because adhesion can be easily obtained.

また、直流磁界に対するシールド効果を高めることを目的として、比透磁率の高い金属層を設けることができる。比透磁率の高い金属層としてはFe−Ni合金めっき、Niめっきなどが挙げられる。   In addition, a metal layer having a high relative permeability can be provided for the purpose of enhancing the shielding effect against a DC magnetic field. Examples of the metal layer having a high relative magnetic permeability include Fe—Ni alloy plating and Ni plating.

銅箔を使用する場合、シールド性能が向上することから、純度が高いものが好ましく、純度は好ましくは99.5質量%以上、より好ましくは99.8質量%以上である。銅箔としては、圧延銅箔、電解銅箔、メタライズによる銅箔等を用いることができるが、屈曲性及び成形加工性に優れた圧延銅箔が好ましい。銅箔中に合金元素を添加して銅合金箔とする場合、これらの元素と不可避的不純物との合計含有量が0.5質量%未満であればよい。特に、銅箔中に、Sn、Mn、Cr、Zn、Zr、Mg、Ni、Si、及びAgの群から選ばれる少なくとも1種以上を合計で200〜2000質量ppm含有すると、同じ厚みの純銅箔より伸びが向上するので好ましい。   When using copper foil, since a shield performance improves, a thing with high purity is preferable, and purity is preferably 99.5 mass% or more, More preferably, it is 99.8 mass% or more. As the copper foil, a rolled copper foil, an electrolytic copper foil, a copper foil by metallization, or the like can be used, and a rolled copper foil excellent in flexibility and moldability is preferable. When alloy elements are added to the copper foil to obtain a copper alloy foil, the total content of these elements and inevitable impurities may be less than 0.5% by mass. In particular, when the copper foil contains at least one selected from the group consisting of Sn, Mn, Cr, Zn, Zr, Mg, Ni, Si, and Ag in a total amount of 200 to 2000 ppm by mass, pure copper foil having the same thickness This is preferable because the elongation is further improved.

本発明に係るシールド材に使用する金属箔の厚みは、一枚当たり4μm以上であることが好ましい。4μm未満だと金属箔の延性が著しく低下し、シールド材の成形加工性が不十分となる場合がある。また、一枚当たりの箔の厚みが4μm未満だと優れた電磁波シールド効果を得るために多数の金属箔を積層する必要が出てくるため、製造コストが上昇するという問題も生じる。このような観点から、金属箔の厚みは一枚当たり10μm以上であることがより好ましく、15μm以上であることが更により好ましく、20μm以上であることが更により好ましく、25μm以上であることが更により好ましく、30μm以上であることが更により好ましい。一方で、一枚当たりの金属箔の厚みが100μmを超えても成形加工性を悪化させることから、金属箔の厚みは一枚当たり100μm以下であることが好ましく、50μm以下であることがより好ましく、45μm以下であることが更により好ましく、40μm以下であることが更により好ましい。   The thickness of the metal foil used for the shield material according to the present invention is preferably 4 μm or more per sheet. If it is less than 4 μm, the ductility of the metal foil is remarkably lowered, and the molding processability of the shield material may be insufficient. Further, if the thickness of the foil per sheet is less than 4 μm, it is necessary to laminate a large number of metal foils in order to obtain an excellent electromagnetic wave shielding effect, which causes a problem that the manufacturing cost increases. From such a viewpoint, the thickness of the metal foil is more preferably 10 μm or more, still more preferably 15 μm or more, still more preferably 20 μm or more, and further preferably 25 μm or more. More preferably, it is 30 μm or more. On the other hand, the thickness of the metal foil is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, because the moldability deteriorates even if the thickness of the metal foil per sheet exceeds 100 μm. Is more preferably 45 μm or less, and still more preferably 40 μm or less.

シールド性能を高める観点からは、シールド材を構成する金属箔を樹脂フィルムを介して複数枚積層することが好ましい。但し、金属箔の層が二枚だと、周波数が1MHz程度の低周波領域において25dB以上の磁界シールド特性を得るために必要な金属箔の合計厚みが大きくなってしまうし、一枚当たりの金属箔の厚みも大きくなるので成形加工性にも悪影響が出る。このため、金属箔の合計厚みを薄くしながらも優れた電磁波シールド特性を確保する観点からは、金属箔を3枚以上積層することがより好ましい。金属箔を3枚以上積層することで、金属箔の合計厚みが同じだとしても金属箔が単層の場合や2枚積層する場合に比べて、シールド効果が顕著に向上する。一方、金属箔の積層枚数は多い方が電磁波シールド特性は向上するものの、積層枚数を多くすると積層工程が増えるので製造コストの増大を招き、また、シールド向上効果も飽和する傾向にあるため、シールド材を構成する金属箔は5枚以下であるのが好ましく、4枚以下であるのがより好ましい。   From the viewpoint of improving the shielding performance, it is preferable to laminate a plurality of metal foils constituting the shielding material via a resin film. However, if there are two metal foil layers, the total thickness of the metal foil required to obtain a magnetic field shielding characteristic of 25 dB or more in a low frequency region with a frequency of about 1 MHz will increase. Since the thickness of the foil is increased, the moldability is adversely affected. For this reason, it is more preferable to laminate three or more metal foils from the viewpoint of ensuring excellent electromagnetic wave shielding characteristics while reducing the total thickness of the metal foil. By laminating three or more metal foils, even when the total thickness of the metal foils is the same, the shielding effect is remarkably improved as compared with the case where the metal foil is a single layer or when two metal foils are laminated. On the other hand, the higher the number of laminated metal foils, the better the electromagnetic shielding properties. However, increasing the number of laminated layers increases the number of lamination processes, leading to increased manufacturing costs, and the effect of improving shielding tends to be saturated. The number of metal foils constituting the material is preferably 5 or less, more preferably 4 or less.

従って、本発明に係るシールド材の一実施形態においては、金属箔の合計厚みを15〜150μmとすることができ、100μm以下とすることもでき、80μm以下とすることもでき、60μm以下とすることもできる。   Therefore, in one embodiment of the shielding material according to the present invention, the total thickness of the metal foil can be 15 to 150 μm, can be 100 μm or less, can be 80 μm or less, and can be 60 μm or less. You can also.

(樹脂フィルム)
複数枚の金属箔を樹脂フィルムを介して密着積層することにより、電磁波シールド効果を顕著に向上させることが可能となると共に、金属箔の破断が抑制されるため成形加工性が有意に向上するので、圧空成形や真空成形を利用して軽量性と優れた電磁波シールド性を兼ね備えた立体形状のシールド材を製造することが可能である。金属箔同士を直接重ねても、金属箔の合計厚みが増えることでシールド効果が向上するものの、顕著な向上効果は得られない。これは、金属箔間に樹脂フィルムが存在することで電磁波の反射回数が増えて、電磁波が減衰されることによると考えられる。また、金属箔同士を直接重ねても成形加工性の向上効果を得ることはできない。
(Resin film)
By closely laminating a plurality of metal foils via a resin film, the electromagnetic wave shielding effect can be remarkably improved, and the moldability is significantly improved because the metal foil is prevented from being broken. It is possible to manufacture a three-dimensional shielding material having both light weight and excellent electromagnetic shielding properties by using compressed air molding or vacuum molding. Even if the metal foils are directly stacked, the shielding effect is improved by increasing the total thickness of the metal foils, but a remarkable improvement effect cannot be obtained. This is presumably because the presence of the resin film between the metal foils increases the number of reflections of the electromagnetic wave and attenuates the electromagnetic wave. Further, even if the metal foils are directly stacked, it is not possible to obtain the effect of improving the moldability.

樹脂フィルムとしては、金属箔とのインピーダンスの差が大きいものの方が、優れた電磁波シールド効果を得る上では好ましい。大きなインピーダンスの差を生じさせるには、樹脂フィルムの比誘電率が小さいことが必要であり、具体的には10(20℃の値。以下同じ。)以下であることが好ましく、5.0以下であることがより好ましく、3.5以下であることが更により好ましい。比誘電率は原理的には1.0より小さくなることはない。一般的に手に入る材料では低くても2.0程度であり、これ以上低くして1.0に近づけてもシールド効果の上昇は限られている一方、材料自体が特殊なものになり高価となる。コストと効果の兼ね合いを考えると、比誘電率は2.0以上であることが好ましく、2.2以上であることがより好ましい。   A resin film having a larger impedance difference from the metal foil is preferable for obtaining an excellent electromagnetic shielding effect. In order to produce a large impedance difference, it is necessary that the relative dielectric constant of the resin film is small, and specifically, it is preferably 10 (20 ° C. value; the same shall apply hereinafter) or less, preferably 5.0 or less. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 3.5 or less. In principle, the dielectric constant is never less than 1.0. Generally, it is about 2.0 at least for materials that can be obtained, and even if it is further lowered and approaches 1.0, the increase in shielding effect is limited, but the material itself becomes special and expensive. It becomes. Considering the balance between cost and effect, the relative dielectric constant is preferably 2.0 or more, and more preferably 2.2 or more.

樹脂フィルムを構成する材料としては加工性の観点から合成樹脂が好ましい。樹脂フィルムには炭素繊維、ガラス繊維及びアラミド繊維などの繊維強化材を混入させることも可能である。合成樹脂としては、入手のしやすさや加工性の観点から、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)及びPBT(ポリブチレンテレフタレート)等のポリエステル、ポリエチレン及びポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、液晶ポリマー、ポリアセタール、フッ素樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ABS樹脂、ポリビニルアルコール、尿素樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、スチレンブタジエンゴム等が挙げられ、これらの中でも加工性、コストの理由によりPET、PEN、ポリアミド、ポリイミドが好ましい。合成樹脂はウレタンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、スチレン系、オレフィン系、塩ビ系、ウレタン系、アミド系などのエラストマーとすることもできる。これらの中では、射出成形によく用いられ、一体化が容易なポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレンなどを好適に用いることができる。   The material constituting the resin film is preferably a synthetic resin from the viewpoint of processability. The resin film can be mixed with fiber reinforcing materials such as carbon fiber, glass fiber, and aramid fiber. Synthetic resins include polyesters such as PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate) and PBT (polybutylene terephthalate), olefinic resins such as polyethylene and polypropylene, polyamides, from the viewpoint of availability and processability. Polyimide, liquid crystal polymer, polyacetal, fluorine resin, polyurethane, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, phenol resin, melamine resin, ABS resin, polyvinyl alcohol, urea resin, polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, styrene butadiene rubber, etc. Of these, PET, PEN, polyamide, and polyimide are preferred for reasons of processability and cost. The synthetic resin may be an elastomer such as urethane rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, fluoro rubber, styrene, olefin, vinyl chloride, urethane, and amide. Of these, polyamide, polycarbonate, polystyrene, etc., which are often used for injection molding and can be easily integrated, can be suitably used.

樹脂フィルムの厚みは特に制限されないが、一枚当たりの厚みが4μmより薄いとシールド材の(伸び)破断歪が低下する傾向にあることから、樹脂フィルムの一枚当たりの厚みは4μm以上であることが好ましく、7μm以上であることがより好ましく、10μm以上であることが更により好ましく、20μm以上であることが更により好ましく、40μm以上であることが更により好ましく、80μm以上であることが更により好ましく、100μm以上であることが更により好ましい。一方、一枚当たりの厚みが600μmを超えてもシールド材の(伸び)破断歪が低下する傾向にある。そこで、樹脂フィルムの一枚当たりの厚みは600μm以下であることが好ましく、500μm以下であることがより好ましい。   The thickness of the resin film is not particularly limited, but if the thickness per sheet is less than 4 μm, the (elongation) breaking strain of the shielding material tends to decrease, so the thickness per resin film is 4 μm or more. It is preferably 7 μm or more, more preferably 10 μm or more, even more preferably 20 μm or more, still more preferably 40 μm or more, and further preferably 80 μm or more. And more preferably 100 μm or more. On the other hand, even if the thickness per sheet exceeds 600 μm, the (elongation) breaking strain of the shielding material tends to decrease. Therefore, the thickness of one resin film is preferably 600 μm or less, and more preferably 500 μm or less.

樹脂フィルムと金属箔を密着積層する方法としては、熱圧着、超音波接合、接着剤による接合、金属箔上に溶融した樹脂を塗布、硬化させてフィルムを形成する方法等が挙げられる。これらの中では、成形加工温度領域における接着強度の安定性から、熱圧着が好ましい。熱圧着は樹脂フィルムの融点以下に加熱した上で圧力を加えて金属箔及び樹脂フィルムを密着させ、塑性変形を起こさせて接合させる方法である。超音波振動を加えながら熱圧着させるサーモニックボンディングを採用することも好適である。接着剤を介して密着積層することも可能であるが、接着剤を使用する場合、筐体を射出成形する時の熱によって軟化し、金属箔と樹脂フィルムの密着強度を低下させる可能性がある。このため、熱圧着が好ましい。熱圧着の際、樹脂フィルムと金属箔の密着性を高める観点から、電磁波シールド材を構成するすべての樹脂フィルムについて、樹脂フィルムの融点を30℃下回る温度以上に加熱することが好ましく、融点を20℃下回る温度以上に加熱することがより好ましく、融点を10℃下回る温度以上に加熱することが更により好ましい。但し、必要以上に加熱すると樹脂フィルムが溶融して圧力で押し出されて厚さ均一性や物性が損なわれることから、熱圧着の際の加熱は電磁波シールド材を構成するすべての樹脂フィルムについて、樹脂フィルムの融点を20℃上回る温度以下とすることが好ましく、樹脂フィルムの融点を10℃上回る温度以下とすることがより好ましく、樹脂フィルムの融点以下とすることが更により好ましい。また、熱圧着の際の圧力は、樹脂フィルムと金属箔の密着性を高める観点から、0.05MPa以上とすることが好ましく、0.1MPa以上とすることがより好ましく、0.15MPa以上とすることが更により好ましい。但し、必要以上に加圧しても密着力は向上しないだけでなく、樹脂フィルムが変形して厚さ均一性が損なわれることから、熱圧着の際の圧力は60MPa以下とすることが好ましく、45MPa以下とすることがより好ましく、30MPa以下とすることが更により好ましい。   Examples of the method of closely laminating the resin film and the metal foil include thermocompression bonding, ultrasonic bonding, bonding with an adhesive, and a method of forming a film by applying and curing a molten resin on the metal foil. Among these, thermocompression bonding is preferable because of the stability of the adhesive strength in the molding processing temperature region. Thermocompression bonding is a method in which a metal foil and a resin film are brought into close contact with each other by applying pressure after heating to a melting point of the resin film or lower, thereby causing plastic deformation and joining. It is also preferable to employ thermonic bonding in which thermocompression bonding is performed while applying ultrasonic vibration. It is also possible to laminate closely through an adhesive, but when using an adhesive, there is a possibility of softening by the heat when injection molding the casing and reducing the adhesion strength between the metal foil and the resin film . For this reason, thermocompression bonding is preferred. At the time of thermocompression bonding, from the viewpoint of enhancing the adhesion between the resin film and the metal foil, it is preferable that all the resin films constituting the electromagnetic wave shielding material are heated to a temperature lower than the melting point of the resin film by 30 ° C. or more. It is more preferable to heat to a temperature below 10 ° C., and it is even more preferable to heat to a temperature below the melting point by 10 ° C. However, if heated more than necessary, the resin film melts and is extruded under pressure, resulting in loss of thickness uniformity and physical properties. Therefore, heating during thermocompression is performed on all resin films constituting the electromagnetic shielding material. The temperature is preferably 20 ° C. or less higher than the melting point of the film, more preferably 10 ° C. or less higher than the melting point of the resin film, and even more preferably less than the melting point of the resin film. In addition, the pressure during thermocompression bonding is preferably 0.05 MPa or more, more preferably 0.1 MPa or more, and more preferably 0.15 MPa or more from the viewpoint of improving the adhesion between the resin film and the metal foil. Even more preferred. However, even if the pressure is increased more than necessary, not only the adhesion is not improved, but also the resin film is deformed and the thickness uniformity is impaired. Therefore, the pressure during thermocompression bonding is preferably 60 MPa or less, and 45 MPa. More preferably, it is more preferably 30 MPa or less.

(電磁波シールド材)
電磁波シールド材(単に「シールド材」ともいう。)は好ましくは二枚以上、より好ましくは三枚以上の金属箔が樹脂フィルムを介して積層された構造を有する成形体で構成することができる。また、シールド材は樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面と接合するために、筐体との接合面を形成する層が樹脂フィルムで構成される必要がある。これらの要件を具備する電磁波シールド材の積層構造の例としては、以下が挙げられる。
(1)金属箔/樹脂フィルム/金属箔/筐体と接合する樹脂フィルム
(2)樹脂フィルム/金属箔/樹脂フィルム/金属箔/筐体と接合する樹脂フィルム
(3)金属箔/樹脂フィルム/金属箔/樹脂フィルム/金属箔/筐体と接合する樹脂フィルム
(4)樹脂フィルム/金属箔/樹脂フィルム/金属箔/樹脂フィルム/金属箔/筐体と接合する樹脂フィルム
(Electromagnetic wave shielding material)
The electromagnetic shielding material (also simply referred to as “shielding material”) is preferably formed of a molded body having a structure in which two or more, more preferably three or more metal foils are laminated via a resin film. Moreover, in order for a shield material to join with the inner surface and / or outer surface of a resin housing main body, the layer which forms a joint surface with a housing | casing needs to be comprised with a resin film. The following is mentioned as an example of the laminated structure of the electromagnetic wave shielding material which comprises these requirements.
(1) Metal foil / resin film / metal foil / resin film to be bonded to casing (2) Resin film / metal foil / resin film / metal foil / resin film to be bonded to casing (3) Metal foil / resin film / Metal foil / resin film / metal foil / resin film to be bonded to casing (4) resin film / metal foil / resin film / metal foil / resin film / metal foil / resin film to be bonded to casing

(1)〜(4)においては、一つの「金属箔」は樹脂フィルムを介することなく複数の金属箔を積層して構成することができ、一つの「樹脂フィルム」も金属箔を介することなく複数の樹脂フィルムを積層して構成することができる。つまり、樹脂フィルムを介することなく積層された複数の金属箔は一枚の金属箔として捉えることができ、金属箔を介することなく積層された複数の樹脂フィルムは一枚の樹脂フィルムとして捉えることができる。また、樹脂フィルムや金属箔以外の層を設けることもできる。   In (1) to (4), one “metal foil” can be formed by laminating a plurality of metal foils without using a resin film, and one “resin film” can also be formed without using a metal foil. A plurality of resin films can be laminated. That is, a plurality of metal foils laminated without a resin film can be regarded as a single metal foil, and a plurality of resin films laminated without a metal foil can be regarded as a single resin film. it can. Moreover, layers other than a resin film and metal foil can also be provided.

但し、成形加工性の観点からは、電磁波シールド材を構成する各金属箔は樹脂フィルムに両面が挟まれていることが好ましい。各金属箔の両面が樹脂フィルムで挟まれていることにより、成形加工時の破断防止効果を高くすることができる。つまり、金属箔が電磁波シールド材の最外層を形成する態様や、電磁波シールド材の内層で複数の金属箔が樹脂フィルムを介することなく積層された箇所がある態様よりも、積層体の両最外層が樹脂フィルムで構成され、樹脂フィルムと金属箔が交互に一枚ずつ積層された構成が好ましい。   However, from the viewpoint of moldability, each metal foil constituting the electromagnetic shielding material is preferably sandwiched on both sides by a resin film. Since both surfaces of each metal foil are sandwiched between resin films, the effect of preventing breakage during molding can be enhanced. That is, both the outermost layers of the laminated body than the aspect in which the metal foil forms the outermost layer of the electromagnetic wave shielding material or the aspect in which the plurality of metal foils are laminated without interposing the resin film in the inner layer of the electromagnetic wave shielding material Is preferably a resin film, and the resin film and the metal foil are alternately laminated one by one.

本発明に係る電磁波シールド材は一実施形態において、減肉率が16%以上である加工でも破断なく成形することができ、好ましくは減肉率が20%以上である加工でも破断なく成形することができ、より好ましくは減肉率が25%以上の加工でも破断なく成形することができ、例えば減肉率が16〜40%、典型的には20〜30%の加工を行うことができる。本発明において、金属箔と樹脂フィルムの両方の破断状態はX線CT観察装置により成形加工後の電磁波シールド材を観察することによって評価する。   In one embodiment, the electromagnetic shielding material according to the present invention can be formed without breakage even in a process with a thickness reduction rate of 16% or more, and preferably molded without breakage even in a process with a thickness reduction rate of 20% or more. More preferably, it can be formed without breaking even when the thickness reduction rate is 25% or more. For example, the thickness reduction rate is 16 to 40%, typically 20 to 30%. In the present invention, the ruptured state of both the metal foil and the resin film is evaluated by observing the electromagnetic wave shielding material after molding with an X-ray CT observation apparatus.

また、電磁波シールド材を構成する金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせが、σM×dM×dR≧3×10-3を満たすように、金属箔と樹脂フィルムを選択することが、電磁波シールド効果を顕著に高める観点から好ましい。 It is also possible to select the metal foil and the resin film so that all combinations of the metal foil and the resin film constituting the electromagnetic wave shielding material satisfy σ M × d M × d R ≧ 3 × 10 −3. It is preferable from the viewpoint of remarkably enhancing the shielding effect.

本明細書で使用する各種記号は、上記のσM、dM、dRを含めて以下のように定義される。
σM:金属箔の20℃における導電率(S/m)
M:金属箔の厚み(m)
R:樹脂フィルムのインピーダンス(Ω)=Z0×√(1/εR
εR:樹脂フィルムの20℃における比誘電率
γR:伝搬定数=j×2π√(εR/λ);jは虚数単位
λ:波長(m):1MHzでは300m
R:樹脂フィルムの厚み(m)
0:真空のインピーダンス=377Ω
Various symbols used in this specification are defined as follows including the above-mentioned σ M , d M , and d R.
σ M : conductivity of metal foil at 20 ° C. (S / m)
d M : Metal foil thickness (m)
Z R : impedance of resin film (Ω) = Z 0 × √ (1 / ε R )
ε R : relative dielectric constant γ R of resin film at 20 ° C .: propagation constant = j × 2π√ (ε R / λ); j is imaginary unit λ: wavelength (m): 300 m at 1 MHz
d R : thickness of resin film (m)
Z 0 : Impedance of vacuum = 377Ω

シールド特性は、入射波の電界をEx i、磁界をHx iとし、透過波の電界をEx t、磁界をHx tとすると、四端子行列を用いて以下の関係で表すことができる。
The shield characteristic can be expressed by the following relationship using a four-terminal matrix, where the electric field of the incident wave is E x i , the magnetic field is H x i , the electric field of the transmitted wave is E x t , and the magnetic field is H x t. it can.

この場合、シールド効果(SE)は、シェルクノフの式を用いると次式で表現することができる。
In this case, the shield effect (SE) can be expressed by the following equation using the Schelkunoff equation.

金属箔をシールド材の構成要素として用いたときは、a=1、b=0、c=σM×dM、d=1とすることができる。これを式1に代入すると次式のようになる。
When metal foil is used as a constituent element of the shield material, a = 1, b = 0, c = σ M × d M , and d = 1. Substituting this into equation 1, the following equation is obtained.

樹脂フィルムをシールド材の構成要素として用いたときは、a=1、b=ZR×γR×dR、c=γR×dR/ZR、d=1とすることができる。これを式1に代入すると次式のようになる。
When using a resin film as a component of the shielding material may be a = 1, b = Z R × γ R × d R, c = γ R × d R / Z R, and d = 1 to. Substituting this into equation 1, the following equation is obtained.

更に、樹脂フィルム及び金属箔を積層したときのシールド特性は各層に対応する四端子行列の積で理論的には求められる。例えば、金属(M1)/樹脂(R1)/金属(M2)の積層構造でシールド材を構成したときの入射波と透過波は以下の式で表すことができる。
Furthermore, the shielding characteristic when the resin film and the metal foil are laminated is theoretically obtained by the product of the four-terminal matrix corresponding to each layer. For example, an incident wave and a transmitted wave when a shield material is configured by a laminated structure of metal (M1) / resin (R1) / metal (M2) can be expressed by the following equations.

また、金属(M1)/樹脂(R1)/金属(M2)/樹脂(R2)/金属(M3)の積層構造でシールド材を構成したときの入射波と透過波は以下の式で表すことができる。
In addition, the incident wave and the transmitted wave when the shield material is configured by a laminated structure of metal (M1) / resin (R1) / metal (M2) / resin (R2) / metal (M3) can be expressed by the following equations. it can.

これを展開すると、次式が得られる。
ここで、A、B、C及びDは以下である。
A=1+ZR1γR1R1σM2M2+ZR2γR2R2σM3M3+ZR1γR1R1σM3M3+ZR1γR1R1R2γR2R2σM2M2σM3M3
B=ZR2γR2R2+ZR1γR1R1R2γR2R2σM2M2+ZR1γR1R1
C=σM1M1+σM2M2+σM3M3+γR1R1/ZR1+γR2R2/ZR2+ZR1γR1R1σM1M1+ZR1γR1R1σM1M1σM3M3+ZR1γR1R1R2γR2R2σM1M1σM2M2σM3M3+ZR2γR2R2σM2M2σM3M3+ZR2γR2R2σM3M3γR1R1/ZR1
D=ZR2γR2R2σM1M1+ZR2γR2R2σM1M1σM2M2+ZR2γR2R2σM2M2+ZR1γR1R1σM1M1+ZR2γR2R2γR1R1/ZR1
When this is expanded, the following equation is obtained.
Here, A, B, C and D are as follows.
A = 1 + Z R1 γ R1 d R1 σ M2 d M2 + Z R2 γ R2 d R2 σ M3 d M3 + Z R1 γ R1 d R1 σ M3 d M3 + Z R1 γ R1 d R1 Z R2 γ R2 d R2 σ M2 d M2 σ M3 d M3
B = Z R2 γ R2 d R2 + Z R1 γ R1 d R1 Z R2 γ R2 d R2 σ M2 d M2 + Z R1 γ R1 d R1
C = σ M1 d M1 + σ M2 d M2 + σ M3 d M3 + γ R1 d R1 / Z R1 + γ R2 d R2 / Z R2 + Z R1 γ R1 d R1 σ M1 d M1 + Z R1 γ R1 d R1 σ M1 d M1 σ M3 d M3 + Z R1 γ R1 d R1 Z R2 γ R2 d R2 σ M1 d M1 σ M2 d M2 σ M3 d M3 + Z R2 γ R2 d R2 σ M2 d M2 σ M3 d M3 + Z R2 γ R2 d R2 σ M3 d M3 γ R1 d R1 / Z R1
D = Z R2 γ R2 d R2 σ M1 d M1 + Z R2 γ R2 d R2 σ M1 d M1 σ M2 d M2 + Z R2 γ R2 d R2 σ M2 d M2 + Z R1 γ R1 d R1 σ M1 d M1 + Z R2 γ R2 d R2 γ R1 d R1 / Z R1

以上の例示から、金属箔と樹脂フィルムの積層体におけるシールド効果は、使用する金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせについてのσM×dM×ZR×γR×dRを大きくすることで、向上可能であることが理論的に理解できる。しかしながら、例えば“畠山賢一著、「初めて学ぶ電磁遮へい講座」科学情報出版(2013年)、56頁”に記載されているように、従来は(ZR×γR×dR)は低周波領域では極めて小さく0に近似されるとしていたため、この考え方に従えばσM×dM×ZR×γR×dRも0として近似されるパラメータであった。これに対して本発明者は、適切な金属箔と樹脂フィルムを組み合わせdR、σM及びdMを調整することでσM×dM×ZR×γR×dRは0には近似できない程度の大きな値となり、低周波領域においても有意な影響を与えることが分かった。 From the above illustration, the shielding effect in the laminate of the metal foil and the resin film is obtained by increasing σ M × d M × Z R × γ R × d R for all combinations of the metal foil and the resin film to be used. It can be theoretically understood that it can be improved. However, as described in, for example, “Kenichi Hatakeyama,“ Electromagnetic shielding course for the first time ”Science Information Publishing (2013), p. 56”, conventionally (Z R × γ R × d R ) is in the low frequency range. Therefore, according to this concept, σ M × d M × Z R × γ R × d R is also a parameter that can be approximated to 0. By adjusting d R , σ M, and d M by combining an appropriate metal foil and resin film, σ M × d M × Z R × γ R × d R becomes a large value that cannot be approximated to 0, and is low. It was found that there was a significant effect even in the frequency domain.

本発明者は金属箔と樹脂フィルムの積層体におけるシールド効果の実験を繰り返す中で、1MHz程度の低周波領域であってもσM×dM×dRが有意な影響を与えていることを見出し、電磁波シールド材を構成する金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせが、σM×dM×dR≧3×10-3を満たすように、金属箔と樹脂フィルムを選択することがシールド効果を高める上で極めて効果的であることを見出した。電磁波シールド材を構成する金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせが、σM×dM×dR≧1×10-2であることが好ましく、σM×dM×dR≧4×10-2であることがより好ましく、σM×dM×dR≧8×10-2であることが更により好ましく、σM×dM×dR≧1×10-1であることが更により好ましい。 The present inventor repeated the experiment of the shielding effect in the laminate of the metal foil and the resin film, and that σ M × d M × d R has a significant influence even in a low frequency region of about 1 MHz. It is possible to select the metal foil and the resin film so that all combinations of the metal foil and the resin film constituting the heading and the electromagnetic wave shielding material satisfy σ M × d M × d R ≧ 3 × 10 −3. It was found to be extremely effective in increasing It is preferable that all combinations of the metal foil and the resin film constituting the electromagnetic shielding material satisfy σ M × d M × d R ≧ 1 × 10 −2 , and σ M × d M × d R ≧ 4 × 10 −. 2 is more preferable, σ M × d M × d R ≧ 8 × 10 −2 is still more preferable, and σ M × d M × d R ≧ 1 × 10 −1 is even more preferable. preferable.

σM×dM×dRには特段の上限は設定されないが、厚みや使用する材料との兼ね合いから、電磁波シールド材を構成する金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせについて、通常はσM×dM×dR≦10であり、典型的にはσM×dM×dR≦1である。 No particular upper limit is set for σ M × d M × d R , but in general, all combinations of metal foil and resin film constituting the electromagnetic wave shielding material are considered to be σ M × in consideration of the thickness and the material used. d M × d R ≦ 10, typically σ M × d M × d R ≦ 1.

本発明に係る電磁波シールド材の一実施形態においては、電磁波シールド材の全体厚みを50〜1500μmとすることができ、1000μm以下とすることもでき、600μm以下とすることもでき、400μm以下とすることもでき、300μm以下とすることもでき、250μm以下とすることもできる。   In one embodiment of the electromagnetic wave shielding material according to the present invention, the total thickness of the electromagnetic wave shielding material can be 50 to 1500 μm, can be 1000 μm or less, can be 600 μm or less, and can be 400 μm or less. It can also be 300 micrometers or less, and can also be 250 micrometers or less.

本発明に係る電磁波シールド材の一実施形態によれば、1MHzにおいて25dB以上の磁界シールド特性(受信側でどれだけ信号が減衰したか)をもつことができ、好ましくは30dB以上の磁界シールド特性をもつことができ、より好ましくは40dB以上の磁界シールド特性をもつことができ、更により好ましくは50dB以上の磁界シールド特性をもつことができ、更により好ましくは60dB以上の磁界シールド特性をもつことができ、例えば36〜90dBの磁界シールド特性をもつことができる。本発明においては、磁界シールド特性はKEC法によって測定することとする。KEC法とは、関西電子工業振興センターにおける「電磁波シールド特性測定法」を指す。   According to one embodiment of the electromagnetic wave shielding material according to the present invention, it can have a magnetic field shielding characteristic of 25 dB or more (how much the signal has been attenuated on the receiving side) at 1 MHz, and preferably has a magnetic field shielding characteristic of 30 dB or more. More preferably 40 dB or more, even more preferably 50 dB or more, even more preferably 60 dB or more. For example, it can have a magnetic field shielding characteristic of 36 to 90 dB. In the present invention, the magnetic field shield characteristic is measured by the KEC method. The KEC method refers to the “electromagnetic shielding characteristic measurement method” at the Kansai Electronics Industry Promotion Center.

(電磁波シールド筐体)
本発明に係る電磁波シールド筐体はフィルムインサート成形やインモールド成形によって製造可能である。本発明においては、軽量化の観点から筐体本体を構成する材料を樹脂材料で構成しており、筐体本体に電磁波シールド材を接合する必要がある。筐体本体に使用する樹脂は、強度確保の観点から、相当の厚みが必要であり、圧空成形や真空成形することは困難である。
(Electromagnetic wave shielding housing)
The electromagnetic wave shielding casing according to the present invention can be manufactured by film insert molding or in-mold molding. In the present invention, from the viewpoint of weight reduction, the material constituting the housing body is made of a resin material, and it is necessary to join an electromagnetic shielding material to the housing body. The resin used for the housing body needs to have a considerable thickness from the viewpoint of securing strength, and is difficult to perform pressure forming or vacuum forming.

筐体本体を構成する樹脂は、筐体本体と電磁波シールド材の界面における接合強度を確保する観点から、電磁波シールド材の筐体本体との接合面を形成する樹脂フィルムと同一種類の樹脂、つまりモノマー同士を結合する部分の化学構造が共通する樹脂とすることが望ましい。例えば、筐体本体との接合面を形成する電磁波シールド材の樹脂フィルムがエステル結合によってモノマー同士を結合するポリエステル製であれば、筐体本体もポリエステル製が望ましく、筐体本体との接合面を形成する電磁波シールド材の樹脂フィルムがイミド結合によってモノマー同士を結合するポリイミド製であれば、筐体本体もポリイミド製が望ましいということであり、筐体本体との接合面を形成する電磁波シールド材の樹脂フィルムがアミド結合によってモノマー同士を結合するポリアミド製であれば、筐体本体もポリアミド製が望ましいということである。但し、炭素繊維、ガラス繊維及びアラミド繊維などの繊維強化材の異同や他の添加剤の異同は問わない。   The resin constituting the housing body is the same type of resin as the resin film that forms the joint surface of the electromagnetic shielding material with the housing body from the viewpoint of securing the bonding strength at the interface between the housing body and the electromagnetic shielding material, that is, It is desirable to use a resin having a common chemical structure at the portion where the monomers are bonded. For example, if the resin film of the electromagnetic shielding material that forms the joint surface with the housing body is made of polyester that bonds the monomers to each other by ester bonds, the housing body is also preferably made of polyester, and the joint surface with the housing body is If the resin film of the electromagnetic shielding material to be formed is made of polyimide that bonds monomers by imide bonds, the housing body is also preferably made of polyimide, and the electromagnetic shielding material that forms the joint surface with the housing main body If the resin film is made of polyamide in which monomers are bonded to each other by an amide bond, the housing body is preferably made of polyamide. However, the difference in fiber reinforcing materials such as carbon fiber, glass fiber, and aramid fiber and the difference in other additives are not limited.

更に、筐体本体を構成する材料は、電磁波シールド材の筐体との接合面を形成する樹脂フィルムと共通のモノマー単位を有するのがより好ましい。例えば、筐体本体との接合面を形成する電磁波シールド材の樹脂フィルムがPET製であれば、筐体本体もPET製が望ましいということである。   Furthermore, it is more preferable that the material constituting the housing body has a monomer unit in common with the resin film that forms a joint surface with the housing of the electromagnetic shielding material. For example, if the resin film of the electromagnetic wave shielding material that forms the joint surface with the casing body is made of PET, the casing body is also preferably made of PET.

また、接合強度の観点からは、筐体本体との接合面を形成する電磁波シールド材の樹脂フィルムの融点は、筐体本体を構成する樹脂の融点に対して±20℃以内であることが好ましく、±10℃以内であることがより好ましく、±5℃以内であることが更により好ましい。筐体本体との接合面を形成する電磁波シールド材の樹脂フィルムの融点は、筐体本体を構成する樹脂の融点が近いことで、射出成型時に一体化しやすいという利点が得られる。   Further, from the viewpoint of bonding strength, the melting point of the resin film of the electromagnetic wave shielding material that forms the bonding surface with the housing body is preferably within ± 20 ° C. with respect to the melting point of the resin constituting the housing body. More preferably, it is within ± 10 ° C, and even more preferably within ± 5 ° C. The melting point of the resin film of the electromagnetic wave shielding material that forms the joint surface with the housing body is close to the melting point of the resin constituting the housing body, so that an advantage that it is easy to integrate at the time of injection molding can be obtained.

樹脂の融点は、示差走査熱量計によりDSC曲線を作成したときの融解による吸熱ピークを示す温度として定義する。樹脂がポリマーアロイで構成されているなど複数の吸熱ピークを示すときは熱ピークを示す温度のうち最も低温側の温度として定義する。   The melting point of the resin is defined as a temperature showing an endothermic peak due to melting when a DSC curve is created by a differential scanning calorimeter. When the resin shows a plurality of endothermic peaks such as a polymer alloy, it is defined as the lowest temperature among the temperatures showing the heat peaks.

筐体本体を構成する樹脂の厚みは、筐体としての強度を確保する観点から、最も薄い箇所でも0.5mm以上であることが好ましく、0.8mm以上であることがより好ましく、1mm以上であることが更により好ましい。筐体本体を構成する樹脂の厚みの上限には特に制限はないが、軽量化、小型化の観点からは、200mm以下であることが好ましく、150mm以下であることがより好ましく、100mm以下であることが更により好ましい。   The thickness of the resin constituting the housing body is preferably 0.5 mm or more, more preferably 0.8 mm or more, even at the thinnest part, from the viewpoint of securing the strength as the housing. Even more preferably. Although there is no restriction | limiting in particular in the upper limit of the thickness of resin which comprises a housing body, From a viewpoint of weight reduction and size reduction, it is preferable that it is 200 mm or less, it is more preferable that it is 150 mm or less, and it is 100 mm or less. Even more preferred.

フィルムインサート成形を利用した本発明に係る電磁波シールド筐体の具体的な製造手順の例を図1−1を参照しながら以下に説明する。
(1.プレフォームの成形)
まず、少なくとも一枚の金属箔及び少なくとも一枚の樹脂フィルムが積層された多層構造を有し、少なくとも一方の最外層が樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる樹脂フィルムであるフィルム状の電磁波シールド材11をプレフォーム用金型12にセットして(ステップ(a))、圧空成形又は真空成形することにより(ステップ(b))、立体形状にプレフォームされた電磁波シールド材13を得る(ステップ(c))。
An example of a specific manufacturing procedure of the electromagnetic wave shielding casing according to the present invention using film insert molding will be described below with reference to FIG.
(1. Molding of preform)
First, a film shape having a multilayer structure in which at least one metal foil and at least one resin film are laminated, and at least one outermost layer being a resin film made of the same type of resin material as the resin casing body The electromagnetic wave shielding material 11 is preformed into a three-dimensional shape by setting the electromagnetic wave shielding material 11 in a preform mold 12 (step (a)), and performing pressure forming or vacuum forming (step (b)). To obtain (step (c)).

圧空成形又は真空成形は、電磁波シールド材を変形しやすくし、金型への追従性を良好にするために電磁波シールド材を構成するすべての樹脂フィルムについて、樹脂フィルムの熱変形温度を20℃下回る温度以上の温度に加熱した状態で実施することが好ましく、樹脂フィルムの熱変形温度を10℃下回る温度以上に加熱した状態で実施することがより好ましく、樹脂フィルムの熱変形温度以上に加熱した状態で実施することが更により好ましい。一方、温度が高すぎると樹脂フィルムの強度が低下しすぎて金属箔を保持しにくくなり、金属箔が破断しやすくなるため、電磁波シールド材を構成するすべての樹脂フィルムについて、樹脂フィルムの融点を10℃下回る温度以下に加熱した状態で実施することが好ましく、樹脂フィルムの融点を15℃下回る温度以下に加熱した状態で実施することがより好ましく、樹脂フィルムの融点を20℃下回る温度以下に加熱した状態で実施することが更により好ましい。   Pressure forming or vacuum forming facilitates deformation of the electromagnetic shielding material and reduces the thermal deformation temperature of the resin film by 20 ° C. for all the resin films constituting the electromagnetic shielding material in order to improve the followability to the mold. It is preferably carried out in a state heated to a temperature equal to or higher than the temperature, more preferably carried out in a state heated to a temperature lower than the thermal deformation temperature of the resin film by 10 ° C. or more, a state heated above the thermal deformation temperature of the resin film. Even more preferably, On the other hand, if the temperature is too high, the strength of the resin film will be too low to hold the metal foil, and the metal foil will be easily broken, so the melting point of the resin film for all the resin films constituting the electromagnetic wave shielding material It is preferable to carry out in a state heated to a temperature below 10 ° C, more preferably to a temperature below a melting point of the resin film of 15 ° C or less, and heat to a temperature below the melting point of the resin film by 20 ° C or less. It is even more preferable to carry out in such a state.

ここで、樹脂の熱変形温度(荷重たわみ温度)はJIS K7191−2007によって規定された温度である。ヒートディストーションテスターにより支点間距離64mmの試料台に80mm×20mm、厚さ4mmの試料を配置し、18.6kg/cm2の曲げ荷重を加え、2℃/minで昇温したとき、樹脂フィルムのたわみが0.34mmとなったときの温度として定義する。 Here, the thermal deformation temperature (the deflection temperature under load) of the resin is a temperature defined by JIS K7191-2007. When a sample of 80 mm × 20 mm and a thickness of 4 mm was placed on a sample table with a fulcrum distance of 64 mm by a heat distortion tester, a bending load of 18.6 kg / cm 2 was applied and the temperature was raised at 2 ° C./min, the resin film It is defined as the temperature when the deflection is 0.34 mm.

(2.射出成形)
次いで、プレフォームされた電磁波シールド材13を、該電磁波シールド材13の立体形状に合致したキャビティ面を有する射出成形用金型14に導入し(ステップ(d))、樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる前記樹脂フィルムがキャビティ内で露出するように嵌め込んだ状態で、射出成形用金型のキャビティに筐体用の溶融樹脂を射出し、冷却固化することにより、プレフォームされた電磁波シールド材と筐体を一体化し(ステップ(e))、一体成形品を金型から取り出す(ステップ(f))。
(2. Injection molding)
Next, the preformed electromagnetic shielding material 13 is introduced into an injection mold 14 having a cavity surface that matches the three-dimensional shape of the electromagnetic shielding material 13 (step (d)), and is the same as the resin casing body. With the resin film made of various types of resin material fitted in the cavity so as to be exposed, the molten resin for the housing is injected into the cavity of the mold for injection molding, and is cooled and solidified. The electromagnetic shielding material and the housing are integrated (step (e)), and the integrally molded product is taken out from the mold (step (f)).

溶融樹脂を射出する際は、溶融樹脂の流動性を向上させるために、射出される樹脂の温度を当該樹脂の融点以上とすることが好ましく、融点を5℃超える温度以上とすることがより好ましく、融点を10℃超える温度以上とすることが更により好ましい。また、溶融樹脂を射出する際は、当該樹脂の熱による変質を防ぎ、品質を安定化させるため、射出される樹脂の温度をその融点を300℃超える温度以下とすることが好ましく、融点を250℃超える温度以下とすることがより好ましく、融点を200℃超える温度以下とすることが更により好ましい。   When injecting a molten resin, in order to improve the fluidity of the molten resin, it is preferable that the temperature of the injected resin be equal to or higher than the melting point of the resin, and more preferable that the temperature be higher than the melting point by 5 ° C. It is even more preferable to set the melting point to 10 ° C. or higher. Further, when injecting the molten resin, in order to prevent the resin from being deteriorated by heat and to stabilize the quality, it is preferable that the temperature of the injected resin is not more than 300 ° C. and the melting point is 250 ° C. More preferably, the temperature is less than or equal to ℃, and even more preferably, the melting point is less than or equal to 200 ℃.

溶融樹脂を射出する際は、ボイド等の内部欠陥を防止するために、射出圧力を20MPa以上とすることが好ましく、25MPa以上とすることがより好ましく、30MPa以上とすることが更により好ましい。圧力を高くしすぎるとバリが発生しやすくなるため、射出圧力は400MPa以下とすることが好ましく、350MPa以下とすることがより好ましく、300MPa以下とすることが更により好ましい。なお、射出圧力は金型内に射出された樹脂にかかる圧力を指す。   When injecting the molten resin, in order to prevent internal defects such as voids, the injection pressure is preferably 20 MPa or more, more preferably 25 MPa or more, and even more preferably 30 MPa or more. If the pressure is too high, burrs are likely to be generated. Therefore, the injection pressure is preferably 400 MPa or less, more preferably 350 MPa or less, and even more preferably 300 MPa or less. The injection pressure refers to the pressure applied to the resin injected into the mold.

次にインモールド成形を利用した本発明に係る電磁波シールド筐体の具体的な製造手順の例を図1−2を参照しながら以下に説明する。
(1.予備成形)
まず、少なくとも一枚の金属箔及び少なくとも一枚の樹脂フィルムが積層された多層構造を有し、少なくとも一方の最外層が樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる樹脂フィルムであるフィルム状の電磁波シールド材21を射出成形用金型22の第一金型22aと第二金型22bの間にセットする(ステップ(a’))。この際、樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる前記樹脂フィルムが第二金型22bに設置された溶融樹脂の射出口23と向き合うように、電磁波シールド材21をセットする。次いで、両金型を射出成形時の位置まで移動させる(ステップ(b’))。第一金型22aは電磁波シールド材21の立体形状を画定するための凹凸を有しており、ステップ(b’)により電磁波シールド材21は、第一金型22aの細かな凹凸には追従しないものの、大まかに射出成形品の第一金型22aに沿って予備成形される。
Next, an example of a specific manufacturing procedure of the electromagnetic wave shielding casing according to the present invention using in-mold molding will be described below with reference to FIGS.
(1. Pre-molding)
First, a film shape having a multilayer structure in which at least one metal foil and at least one resin film are laminated, and at least one outermost layer being a resin film made of the same type of resin material as the resin casing body The electromagnetic shielding material 21 is set between the first mold 22a and the second mold 22b of the injection mold 22 (step (a ')). At this time, the electromagnetic shielding material 21 is set so that the resin film made of the same type of resin material as the resin casing body faces the molten resin injection port 23 installed in the second mold 22b. Next, both molds are moved to the position at the time of injection molding (step (b ′)). The first mold 22a has irregularities for defining the three-dimensional shape of the electromagnetic shielding material 21, and the electromagnetic shielding material 21 does not follow the fine irregularities of the first mold 22a by step (b ′). However, it is preformed roughly along the first mold 22a of an injection molded product.

(2.本成形)
次に、第二金型22bに設けられた射出口23から筐体用の溶融樹脂を射出し、その射出圧力により電磁波シールド材21を第一金型22aの細かな凹凸に追従させて本成形する。溶融樹脂を金型22内で冷却固化することにより、本成形された電磁波シールド材と筐体を一体化する(ステップ(c’))。その後、一体成形品25を射出成形用金型22から取り出す(ステップ(d’))。
(2. Main molding)
Next, the molten resin for the casing is injected from the injection port 23 provided in the second mold 22b, and the electromagnetic shielding material 21 is made to follow the fine unevenness of the first mold 22a by the injection pressure, thereby performing the main molding. To do. The molten resin is cooled and solidified in the mold 22 to integrate the molded electromagnetic shielding material and the casing (step (c ′)). Thereafter, the integrally molded product 25 is taken out from the injection mold 22 (step (d ′)).

溶融樹脂を射出する際は、溶融樹脂の流動性を向上させるために、射出される樹脂の温度を当該樹脂の融点以上とすることが好ましく、融点を5℃超える温度以上とすることがより好ましく、融点を10℃超える温度以上とすることが更により好ましい。また、溶融樹脂を射出する際は、当該樹脂の熱による変質を防ぎ、品質を安定化させるため、射出される樹脂の温度をその融点を300℃超える温度以下とすることが好ましく、融点を250℃超える温度以下とすることがより好ましく、融点を200℃超える温度以下とすることが更により好ましい。   When injecting a molten resin, in order to improve the fluidity of the molten resin, it is preferable that the temperature of the injected resin be equal to or higher than the melting point of the resin, and more preferable that the temperature be higher than the melting point by 5 ° C. It is even more preferable to set the melting point to 10 ° C. or higher. Further, when injecting the molten resin, in order to prevent the resin from being deteriorated by heat and to stabilize the quality, it is preferable that the temperature of the injected resin is not more than 300 ° C. and the melting point is 250 ° C. More preferably, the temperature is less than or equal to ℃, and even more preferably, the melting point is less than or equal to 200 ℃.

溶融樹脂を射出する際は、ボイド等の内部欠陥を防止するために、射出圧力を20MPa以上とすることが好ましく、25MPa以上とすることがより好ましく、30MPa以上とすることが更により好ましい。圧力を高くしすぎるとバリが発生しやすくなるため、射出圧力は400MPa以下とすることが好ましく、350MPa以下とすることがより好ましく、300MPa以下とすることが更により好ましい。なお、射出圧力は金型内に射出された樹脂にかかる圧力を指す。   When injecting the molten resin, in order to prevent internal defects such as voids, the injection pressure is preferably 20 MPa or more, more preferably 25 MPa or more, and even more preferably 30 MPa or more. If the pressure is too high, burrs are likely to be generated. Therefore, the injection pressure is preferably 400 MPa or less, more preferably 350 MPa or less, and even more preferably 300 MPa or less. The injection pressure refers to the pressure applied to the resin injected into the mold.

フィルムインサート成形又はインモールド成形によって得られた一体成形品は電磁波シールド筐体の一部、例えば下半部を構成することができる。必要に応じて、残部、例えば上半部を構成する一体成形品を同様の手順により成形し、両者を連結することにより電磁波シールド筐体を作製することができる。   The integrally molded product obtained by film insert molding or in-mold molding can constitute a part of the electromagnetic shielding casing, for example, the lower half. If necessary, the electromagnetic wave shielding casing can be manufactured by forming the remaining part, for example, an integrally molded product constituting the upper half part by the same procedure, and connecting them together.

本発明に係る電磁波シールド筐体は、特に電気・電子機器(例えば、インバータ、通信機、共振器、電子管・放電ランプ、電気加熱機器、電動機、発電機、電子部品、印刷回路、医療機器等)を収容することができ、電気・電子機器から放出される電磁波を遮断する用途に適用可能である。   The electromagnetic shielding casing according to the present invention is particularly an electric / electronic device (for example, an inverter, a communication device, a resonator, an electron tube / discharge lamp, an electric heating device, an electric motor, a generator, an electronic component, a printed circuit, a medical device, etc.). Can be accommodated, and can be applied to applications that block electromagnetic waves emitted from electrical and electronic equipment.

以下に本発明の実施例を比較例と共に示すが、これらは本発明及びその利点をよりよく理解するために提供するものであり、発明が限定されることを意図するものではない。   Examples of the present invention are shown below together with comparative examples, which are provided for a better understanding of the present invention and its advantages, and are not intended to limit the invention.

<試験例1:フィルムインサート成形の適用可能性評価>
(実施例1−1〜1−4>
金属箔及び樹脂フィルムとして以下の材料を準備した。
Cu:圧延銅箔(20℃での導電率:58.0×106S/m、厚み:表1参照)
Al:アルミ箔(20℃での導電率:39.6×106S/m、厚み:表1参照)
PA:ポリアミドフィルム(ナイロン6、20℃での比誘電率:3.7、熱変形温度:75℃、融点:300℃、厚み:表1参照)
これらの金属箔及び樹脂フィルムを表1に記載の積層順に重ねた上で、接着剤を使用することなく、圧力6MPaで295℃×30分の熱圧着を行い、金属箔及び樹脂フィルムが密着積層してなる電磁波シールド材を得た。
<比較例1−1〜1−3>
また、比較用に以下の電磁波シールド材を準備した。
銅板:20℃での導電率:58.0×106S/m、厚み:表1参照
アルミ板:20℃での導電率:39.6×106S/m、厚み:表1参照
なお、導電率はJIS C2525:1999のダブルブリッジ法で測定した。比誘電率はJIS C 2151:2006に記載のB法により測定した。樹脂フィルムの融点は示差走査熱量計(NETZSCH社製DSC−3100SA)により先述した基準で測定した。樹脂フィルムの熱変形温度はヒートディストーションテスター(東洋精機製作所製3M−2)により先述した基準で測定した。
<Test Example 1: Applicability evaluation of film insert molding>
(Examples 1-1 to 1-4>
The following materials were prepared as a metal foil and a resin film.
Cu: rolled copper foil (conductivity at 20 ° C .: 58.0 × 10 6 S / m, thickness: see Table 1)
Al: Aluminum foil (conductivity at 20 ° C .: 39.6 × 10 6 S / m, thickness: see Table 1)
PA: Polyamide film (nylon 6, relative dielectric constant at 20 ° C .: 3.7, heat distortion temperature: 75 ° C., melting point: 300 ° C., thickness: see Table 1)
After laminating these metal foils and resin films in the order of lamination shown in Table 1, thermocompression bonding was performed at a pressure of 6 MPa at 295 ° C. for 30 minutes without using an adhesive, and the metal foils and resin films were adhered and laminated. An electromagnetic shielding material was obtained.
<Comparative Examples 1-1 to 1-3>
Moreover, the following electromagnetic wave shielding materials were prepared for comparison.
Copper plate: conductivity at 20 ° C .: 58.0 × 10 6 S / m, thickness: see Table 1 Aluminum plate: conductivity at 20 ° C .: 39.6 × 10 6 S / m, thickness: see Table 1 The electrical conductivity was measured by the double bridge method of JIS C2525: 1999. The relative dielectric constant was measured by the B method described in JIS C 2151: 2006. The melting point of the resin film was measured with a differential scanning calorimeter (DSC-3100SA manufactured by NETZSCH) according to the above-mentioned criteria. The heat distortion temperature of the resin film was measured by the heat distortion tester (Toyo Seiki Seisakusho 3M-2) according to the above-mentioned standard.

(磁界シールド効果)
上記の電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、25℃の条件下で、KEC法により200kHzにおける磁界シールド効果を評価した。結果を表1に示す。磁界シールド効果が25dB以上であった場合を◎、23dB以上25dB未満であった場合を○、23dB未満であった場合を×とした。
(Magnetic shield effect)
The above electromagnetic shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan, Inc., model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect at 200 kHz was evaluated by the KEC method under the condition of 25 ° C. The results are shown in Table 1. The case where the magnetic field shielding effect was 25 dB or more was rated as ◎, the case where it was 23 dB or more and less than 25 dB was marked as ◯, and the case where it was less than 23 dB was marked as x.

(成形試験)
圧空成形試験機(北口精機社製、特注品)により、半径30mmの半球を作る金型にて、金型温度150℃、圧力1MPaの条件で90mm×90mmに切り出した各電磁波シールド材に対して成形試験を行った。成形品は、実施例1−1〜1−4では半球の外周面側が厚み50μmのポリアミドフィルム(表1中の最も右側のPA)となるように作製した。成形試験の途中で電磁波シールド材が割れてしまう場合を×、割れない場合を○とした。成形試験後の樹脂フィルム及び金属箔の厚みを断面観察よって測定した。割れの有無は最外層を構成する両面の樹脂フィルムのみならず、X線CT(東芝ITコントロールシステム製マイクロCTスキャナ、TOSCANER32251μhd、管電流120μA、管電圧80kV)で電磁波シールド材内部の樹脂フィルム及び金属箔を観察することにより確認した。また、上記試験により得られた成形品の深さが40mm以上であった場合を○、40mm未満であった場合を×とした。優れた柔軟性及び延性を有していれば、上記の圧力で40mm以上の深さの成形品が成形可能である。結果を表1に示す。
(Molding test)
For each electromagnetic shielding material cut into 90mm x 90mm under the conditions of a mold temperature of 150 ° C and a pressure of 1MPa in a mold that makes a hemisphere with a radius of 30mm by using a pressure forming tester (made by Kitaguchi Seiki Co., Ltd., special order) A molding test was conducted. In Examples 1-1 to 1-4, molded articles were prepared so that the outer peripheral surface side of the hemisphere was a polyamide film having a thickness of 50 μm (the rightmost PA in Table 1). The case where the electromagnetic shielding material was broken during the molding test was rated as x, and the case where it was not broken was marked as ◯. The thickness of the resin film and metal foil after the molding test was measured by cross-sectional observation. The presence or absence of cracks is not only the resin film on both sides constituting the outermost layer, but also X-ray CT (micro CT scanner manufactured by Toshiba IT Control System, TOSCANER 32251 μhd, tube current 120 μA, tube voltage 80 kV) and the resin film and metal inside the electromagnetic shielding material This was confirmed by observing the foil. Moreover, the case where the depth of the molded article obtained by the said test was 40 mm or more was set as (circle), and the case where it was less than 40 mm was set as x. If it has excellent flexibility and ductility, a molded product having a depth of 40 mm or more can be molded with the above pressure. The results are shown in Table 1.

(接合試験)
電磁波シールド材と、樹脂製筐体本体の接合強度を評価するための試験を以下の手順で実施した。上記の成形試験にて得られた半球状成形品の外周面に厚み5mmのポリアミド製樹脂(ナイロン6、20℃での比誘電率:3.7、融点:300℃熱変形温度:75℃)を射出成形(射出温度320℃、射出圧力120MPa)し、半球状成形品とポリアミド樹脂の一体成形品を得た。得られた一体成形品に対してJIS Z0237−2009に規定された180度剥離試験を実施することにより、半球状成形品とポリアミド樹脂の間の接合強度を測定した。接合強度は20N/25mm以上の場合を○、1N/25mm以上20N/25mm未満の場合を△、1N/25mm未満の場合を×とした。但し、実施例1−4については、ABS樹脂(20℃での比誘電率:3.0、融点:110℃)を射出成形(射出温度250℃、射出圧力100MPa)し、半球状成形品とABS樹脂の一体成形品を得た。結果を表1に示す。
(Joining test)
A test for evaluating the bonding strength between the electromagnetic shielding material and the resin casing body was performed according to the following procedure. Polyamide resin (nylon 6, relative dielectric constant at 20 ° C .: 3.7, melting point: 300 ° C. heat distortion temperature: 75 ° C.) on the outer peripheral surface of the hemispherical molded product obtained in the above molding test Was injection molded (injection temperature: 320 ° C., injection pressure: 120 MPa) to obtain a hemispherical molded product and an integrally molded product of polyamide resin. The joint strength between the hemispherical molded product and the polyamide resin was measured by performing a 180 degree peel test specified in JIS Z0237-2009 on the obtained integrally molded product. The case where the bonding strength was 20 N / 25 mm or more was evaluated as ◯, the case where it was 1 N / 25 mm or more and less than 20 N / 25 mm, and the case where it was less than 1 N / 25 mm, or x. However, for Example 1-4, ABS resin (relative dielectric constant at 20 ° C .: 3.0, melting point: 110 ° C.) was injection molded (injection temperature 250 ° C., injection pressure 100 MPa), and hemispherical molded product An integrally molded product of ABS resin was obtained. The results are shown in Table 1.

<試験例2:単層での磁界シールド効果の調査>
種々の金属について、単層での磁界シールド効果を調査した。使用した金属材料は下記の通りである。
(1)圧延銅箔(厚み:280μm)
(2)圧延銅箔(厚み:150μm)
(3)Znめっき鋼鈑(厚み:270μm)
(4)ケイ素鋼鈑(厚み:330μm)
(5)SUS304(厚み:330μm)
(6)SUS430(厚み:150μm)
(7)アルミニウム(厚み:300μm)
用意した金属材料を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、室温(25℃)条件下で、KEC法により磁界シールド効果を評価した。この際、周波数を0.1MHzから1000MHzまで変化させて、周波数の変化に対する磁界シールド効果の推移を調査した。
<Test Example 2: Investigation of magnetic shielding effect in a single layer>
The magnetic shielding effect of a single layer was investigated for various metals. The metal materials used are as follows.
(1) Rolled copper foil (thickness: 280 μm)
(2) Rolled copper foil (thickness: 150 μm)
(3) Zn-plated steel plate (thickness: 270 μm)
(4) Silicon steel plate (thickness: 330 μm)
(5) SUS304 (thickness: 330 μm)
(6) SUS430 (thickness: 150 μm)
(7) Aluminum (thickness: 300 μm)
The prepared metal material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. Model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated by the KEC method under room temperature (25 ° C.) conditions. At this time, the frequency was changed from 0.1 MHz to 1000 MHz, and the transition of the magnetic field shielding effect with respect to the change in frequency was investigated.

結果を図2に示す。同じ厚みであれば鉄系材料よりも導電性の高い銅が高いシールド効果を与えることが分かる。また、同一材料であれば厚みが大きい方がシールド効果が高まることが分かる。これらの材料のうちで、1MHz〜1000MHzの全領域において36dB以上の磁界シールド特性を達成することができたのは厚みが280μmの圧延銅箔と厚みが300μmのアルミニウムのみであった。これらの結果から分かるように、金属材料単独で優れた磁界シールド効果を得るには厚みをかなり大きくする必要がある。このように厚い金属箔では成形加工性が劣り、重量も重くなるため、実用性が高いとは言えない。   The results are shown in FIG. It can be seen that copper having higher conductivity than the iron-based material gives a higher shielding effect if the thickness is the same. Moreover, if the same material is used, it can be seen that the greater the thickness, the higher the shielding effect. Among these materials, only the rolled copper foil having a thickness of 280 μm and the aluminum having a thickness of 300 μm were able to achieve a magnetic field shielding characteristic of 36 dB or more in the entire region of 1 MHz to 1000 MHz. As can be seen from these results, it is necessary to considerably increase the thickness in order to obtain an excellent magnetic field shielding effect with the metal material alone. Such a thick metal foil is inferior in moldability and heavy, and thus cannot be said to be highly practical.

<試験例3:金属箔の積層枚数と磁界シールド効果との関係>
樹脂フィルムとして厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(25℃で比誘電率:3.2)を用い、金属箔として厚み17μm、33μm又は68μmの圧延銅箔(20℃で導電率:58.0×106Ω・m)、及び、厚み30μm又は60μmのアルミ箔(20℃で導電率:39.6×106Ω・m)を用い、図3〜5の(a)〜(m)に示す積層構造をもつ電磁波シールド材をそれぞれ作製した。導電率は銅箔、アルミ箔ともにJIS C2525:1999のダブルブリッジ法で測定した。金属箔とPETフィルムの積層を接着剤を介して行った界面については、図3〜図5中、“接着剤”と表示してある。接着剤はロックペイント社製アドロックRU−80/H−5のウレタン系接着剤を使用し、厚みを3μm程度とした。接着剤との表記がない界面については銅箔とPETフィルムが単に積層されているだけである。各電磁波シールド材に対して、磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例2と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
<Test Example 3: Relationship between the number of laminated metal foils and the magnetic shielding effect>
A 12 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (relative dielectric constant: 3.2 at 25 ° C.) was used as the resin film, and a rolled copper foil (conductivity at 20 ° C .: 58.25 μm) as the metal foil. 0 × 10 6 Ω · m) and 30 μm or 60 μm thick aluminum foil (conductivity at 20 ° C .: 39.6 × 10 6 Ω · m), and FIGS. Each of the electromagnetic shielding materials having the laminated structure shown in FIG. The conductivity was measured by the double bridge method of JIS C2525: 1999 for both copper foil and aluminum foil. About the interface which laminated | stacked metal foil and PET film through the adhesive agent, it has displayed as "adhesive agent" in FIGS. As the adhesive, a urethane adhesive of Adlock RU-80 / H-5 manufactured by Rock Paint Co., Ltd. was used, and the thickness was about 3 μm. For the interface not labeled as an adhesive, the copper foil and the PET film are simply laminated. With respect to each electromagnetic shielding material, it installed in the magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan company type | model TSES-KEC), and evaluated the magnetic field shielding effect by the method similar to the test example 2. FIG.

結果を図6〜9に示す。金属箔を重ねると、PETフィルムが金属箔間に積層されるか否かにかかわらず、磁界シールド効果は向上することが分かる。そして、PETフィルムが金属箔間に積層されることで磁界シールド効果は顕著に向上することが分かる。また、図7で(g)と(f)を比較することにより、PETフィルムを介して積層する場合には銅箔の合計厚みが小さくても、磁界シールド効果が高くなることが分かる。また、図8で(b)と(f)を比較すると、(b)は銅箔3枚の積層構造(銅箔の合計厚み51μm)であるのに対して、(f)は銅箔2枚の積層構造(銅箔の合計厚みは66μm)であるため、銅箔の合計厚みは(f)の方が大きいにもかかわらず、(b)の方が優れた磁界シールド効果を示した。また、図8で(b)と(e)を比較すると、両者は共に銅箔3枚の積層構造であるが、高周波領域においてはほとんど同じシールド効果を示す一方で、低周波領域においては各銅箔の厚みが大きい(e)の磁界シールド効果が優れていた。図9から、アルミ箔においても同様にPETフィルムを介して3枚以上積層することによる磁界シールド効果が確認できる。   The results are shown in FIGS. It can be seen that when the metal foils are stacked, the magnetic field shielding effect is improved regardless of whether or not the PET film is stacked between the metal foils. And it turns out that a magnetic field shielding effect improves notably by laminating | stacking PET film between metal foil. Moreover, by comparing (g) and (f) in FIG. 7, it can be seen that the magnetic field shielding effect is enhanced even when the total thickness of the copper foil is small when laminating via a PET film. Further, when (b) and (f) are compared in FIG. 8, (b) shows a laminated structure of three copper foils (total thickness of copper foil 51 μm), whereas (f) shows two copper foils. Since the total thickness of copper foil was larger in (f), (b) showed an excellent magnetic field shielding effect. Further, when (b) and (e) are compared in FIG. 8, both have a laminated structure of three copper foils, and show almost the same shielding effect in the high frequency region, but each copper in the low frequency region. The magnetic field shielding effect of (e) with a large foil thickness was excellent. From FIG. 9, the magnetic field shielding effect by laminating | stacking 3 or more sheets similarly through a PET film similarly in aluminum foil can be confirmed.

(a)〜(m)の試験例について1MHzにおける磁界シールド特性を表2に示す。試験例3において、1MHz〜1000MHzの全領域において36dB以上の磁界シールド特性を達成することができたのは(a)、(b)、(e)、(i)、(j)、及び(k)であった。そして、(a)は銅箔の合計厚みがわずか68μmであり、試験例2で当該特性を達成した280μmの銅箔の1/4程度の厚みしかない。(j)はアルミ箔の合計厚みがわずか90μmであり、試験例2で当該特性を達成した300μmのアルミ箔の3/10しかない。PETの重量を考慮しても、大幅な軽量化が可能となることが分かる。(i)及び(k)でも目標とする特性を達成できているが、金属箔の一枚当たりの厚みが大きすぎて加工性が確保できない。   Table 2 shows the magnetic field shielding characteristics at 1 MHz for the test examples (a) to (m). In Test Example 3, (a), (b), (e), (i), (j), and (k) were able to achieve a magnetic field shield characteristic of 36 dB or more in the entire region of 1 MHz to 1000 MHz. )Met. In (a), the total thickness of the copper foil is only 68 μm, which is only about ¼ of the thickness of the 280 μm copper foil that achieved this characteristic in Test Example 2. In (j), the total thickness of the aluminum foil is only 90 μm, which is only 3/10 of the 300 μm aluminum foil that achieved the characteristics in Test Example 2. It can be seen that even if the weight of PET is taken into consideration, the weight can be significantly reduced. In (i) and (k), the target characteristics can be achieved, but the workability cannot be ensured because the thickness per metal foil is too large.

<試験例4:σM×dM×dRが磁界シールド効果に与える影響の検証>
表3に記載の各金属箔及び絶縁フィルムを準備して、試験例4−1〜4−24の電磁波シールド材を作製した。表3に記載の各記号は以下を示す。
Cu:圧延銅箔(20℃での導電率:58.0×106S/m)
Al:アルミ箔(20℃での導電率:39.6×106S/m)
電解Cu:電解銅箔(20℃での導電率:56.0×106S/m)
Ni:ニッケル箔(20℃での導電率:14.5×106S/m)
Fe:軟鉄箔(20℃での導電率:9.9×106S/m)
sus:ステンレス箔(20℃での導電率:1.4×106S/m)
PI:ポリイミドフィルム(20℃での比誘電率:3.5)
PET:ポリエチレンテレフタレートフィルム(20℃での比誘電率:3.0)
PTFE:ポリテトラフルオロエチレンフィルム(20℃での比誘電率:2.1)
PA:ポリアミドフィルム(20℃での比誘電率:6.0)
空隙:金属箔同士を空気で隔てた(20℃での比誘電率:1.0)
<Test Example 4: Verification of influence of σ M × d M × d R on magnetic field shielding effect>
Each metal foil and insulating film described in Table 3 were prepared, and electromagnetic wave shielding materials of Test Examples 4-1 to 4-24 were prepared. Each symbol described in Table 3 indicates the following.
Cu: rolled copper foil (conductivity at 20 ° C .: 58.0 × 10 6 S / m)
Al: Aluminum foil (conductivity at 20 ° C .: 39.6 × 10 6 S / m)
Electrolytic Cu: electrolytic copper foil (conductivity at 20 ° C .: 56.0 × 10 6 S / m)
Ni: nickel foil (conductivity at 20 ° C .: 14.5 × 10 6 S / m)
Fe: soft iron foil (conductivity at 20 ° C .: 9.9 × 10 6 S / m)
sus: stainless steel foil (conductivity at 20 ° C .: 1.4 × 10 6 S / m)
PI: polyimide film (relative permittivity at 20 ° C .: 3.5)
PET: Polyethylene terephthalate film (relative permittivity at 20 ° C .: 3.0)
PTFE: polytetrafluoroethylene film (relative permittivity at 20 ° C .: 2.1)
PA: Polyamide film (relative permittivity at 20 ° C .: 6.0)
Air gap: Metal foils were separated by air (relative permittivity at 20 ° C .: 1.0)

(試験例4−1〜4−2:金属箔一枚の磁界シールド効果)
圧延銅箔(厚み:150μm)及びアルミ箔(厚み:300μm)について、単層での磁界シールド効果を調査した。用意した金属材料を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、周波数を1MHzとし、20℃の条件下で、KEC法により磁界シールド効果を評価した。
(Test Examples 4-1 to 4-2: Magnetic shield effect of one metal foil)
With respect to the rolled copper foil (thickness: 150 μm) and the aluminum foil (thickness: 300 μm), the magnetic field shielding effect in a single layer was investigated. The prepared metal material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd., model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated by the KEC method at a frequency of 1 MHz and 20 ° C.

(試験例4−3:金属箔3枚を積層したときの磁界シールド効果)
圧延銅箔(厚み:33μm)を3枚用意し、これを接着剤を介することなく単純に積層し、磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-3: Magnetic field shielding effect when three metal foils are laminated)
Three rolled copper foils (thickness: 33 μm) were prepared, and these were simply laminated without using an adhesive, and installed in a magnetic field shielding effect evaluation device (Techno Science Japan Co., Ltd. Model TSES-KEC). The magnetic field shielding effect was evaluated by the same method as -1.

(試験例4−4:金属箔2枚を樹脂フィルムを介して積層したときの磁界シールド効果)
樹脂フィルムとして厚さ250μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み7μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-4: Magnetic field shielding effect when two metal foils are laminated via a resin film)
Using a polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 250 μm as a resin film, a rolled copper foil with a thickness of 7 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminate structure shown in Table 3 is obtained. An electromagnetic shielding material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−5:金属箔2枚を樹脂フィルムを介して積層したときの磁界シールド効果)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み8μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-5: Magnetic field shielding effect when two metal foils are laminated via a resin film)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, using a rolled copper foil having a thickness of 8 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminated structure shown in Table 3 is obtained. An electromagnetic shielding material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−6:金属箔2枚を空気層を介して設置したときの磁界シールド効果)
樹脂フィルムとして空気を用い、金属箔として厚み6μm及び30μmのアルミ箔を用い、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この例において、2枚のアルミ箔は中央部に正方形状の大きな開口部を有する銅板を挟んで空気中で50μmの間隔で平行に配置した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-6: Magnetic field shielding effect when two metal foils are installed via an air layer)
Air was used as the resin film, and aluminum foils with thicknesses of 6 μm and 30 μm were used as the metal foils, and electromagnetic wave shielding materials having a laminated structure shown in Table 3 were produced. In this example, the two aluminum foils were arranged in parallel at intervals of 50 μm in air with a copper plate having a large square opening at the center. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−7:金属箔3枚を樹脂フィルムを介して積層したときの磁界シールド効果:σM×dM×dR<3×10-3
樹脂フィルムとして厚さ9μmのポリイミド(PI)フィルムを用い、金属箔として厚み6μmのアルミ箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-7: Magnetic field shielding effect when three metal foils are laminated via a resin film: σ M × d M × d R <3 × 10 −3 )
An electromagnetic wave shield having the laminated structure shown in Table 3 by using a polyimide (PI) film having a thickness of 9 μm as a resin film, an aluminum foil having a thickness of 6 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive. A material was prepared. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−8)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリイミド(PI)フィルムを用い、金属箔として厚み17μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-8)
By using a polyimide (PI) film with a thickness of 100 μm as a resin film, a rolled copper foil with a thickness of 17 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, an electromagnetic wave having a laminated structure shown in Table 3 A shield material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−9)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み20μmのアルミ箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-9)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, an aluminum foil having a thickness of 20 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, an electromagnetic wave having a laminated structure shown in Table 3 A shield material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−10)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み30μmの電解銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-10)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, an electrolytic copper foil having a thickness of 30 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, it has a laminated structure shown in Table 3. An electromagnetic shielding material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−11)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み50μmのニッケル箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-11)
An electromagnetic wave having a laminated structure shown in Table 3 is obtained by using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, a nickel foil having a thickness of 50 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive. A shield material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−12)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み50μmの軟鉄箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-12)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, a soft iron foil having a thickness of 50 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, an electromagnetic wave having a laminated structure described in Table 3 A shield material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−13)
樹脂フィルムとして厚さ500μmのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルムを用い、金属箔として厚み50μmのステンレス箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-13)
By using a polytetrafluoroethylene (PTFE) film having a thickness of 500 μm as a resin film, a stainless steel foil having a thickness of 50 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminated structure shown in Table 3 is obtained. An electromagnetic wave shielding material having the same was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−14)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み6μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-14)
Using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, a rolled copper foil having a thickness of 6 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminate structure shown in Table 3 is obtained. An electromagnetic shielding material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−15)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み17μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-15)
Using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, using a rolled copper foil having a thickness of 17 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminated structure shown in Table 3 is obtained. An electromagnetic shielding material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−16)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み33μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-16)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, a rolled copper foil having a thickness of 33 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminated structure shown in Table 3 is obtained. An electromagnetic shielding material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−17)
樹脂フィルムとして厚さ9μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み7μm及び33μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-17)
Using a polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 9 μm as a resin film, using a rolled copper foil with a thickness of 7 μm and 33 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminated structure described in Table 3 An electromagnetic shielding material having a thickness of 10 was prepared. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−18)
樹脂フィルムとして厚さ500μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み17μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-18)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 500 μm as a resin film, a rolled copper foil having a thickness of 17 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminated structure shown in Table 3 is obtained. An electromagnetic shielding material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−19)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルムを用い、金属箔として厚み17μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-19)
Using a polytetrafluoroethylene (PTFE) film having a thickness of 100 μm as a resin film, using a rolled copper foil having a thickness of 17 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminated structure described in Table 3 An electromagnetic shielding material having a thickness of 10 was prepared. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−20)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリアミド(PA)フィルムを用い、金属箔として厚み17μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-20)
An electromagnetic wave having a laminated structure shown in Table 3 is obtained by using a polyamide (PA) film having a thickness of 100 μm as a resin film, a rolled copper foil having a thickness of 17 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive. A shield material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−21)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み33μmの圧延銅箔と厚み30μmのニッケル箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-21)
Using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, a rolled copper foil having a thickness of 33 μm and a nickel foil having a thickness of 30 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, Table 3 An electromagnetic shielding material having the described laminated structure was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−22)
樹脂フィルムとして厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み12μmの圧延銅箔と厚み17μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-22)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 12 μm as the resin film, a rolled copper foil having a thickness of 12 μm and a rolled copper foil having a thickness of 17 μm as the metal foil, and simply laminating without using an adhesive, Table 3 An electromagnetic shielding material having the laminated structure described in 1 was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−23)
樹脂フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み12μmの圧延銅箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-23)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm as a resin film, using a rolled copper foil having a thickness of 12 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, the laminated structure shown in Table 3 is obtained. An electromagnetic shielding material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

(試験例4−24)
樹脂フィルムとして厚さ9μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、金属箔として厚み20μmのアルミ箔を用い、接着剤を使用せずに単に積層することで、表3に記載の積層構造をもつ電磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材を磁界シールド効果評価装置(テクノサイエンスジャパン社 型式TSES−KEC)に設置して、試験例4−1と同様の方法で磁界シールド効果を評価した。
(Test Example 4-24)
By using a polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 9 μm as a resin film, an aluminum foil with a thickness of 20 μm as a metal foil, and simply laminating without using an adhesive, an electromagnetic wave having the laminated structure shown in Table 3 A shield material was produced. This electromagnetic wave shielding material was installed in a magnetic field shielding effect evaluation apparatus (Techno Science Japan Co., Ltd. model TSES-KEC), and the magnetic field shielding effect was evaluated in the same manner as in Test Example 4-1.

なお、上記の評価において、金属箔の導電率はJIS C2525:1999のダブルブリッチ法で測定した。比誘電率はJIS C 2151:2006に記載のB法により測定した。   In addition, in said evaluation, the electrical conductivity of metal foil was measured by the double-brich method of JISC2525: 1999. The relative dielectric constant was measured by the B method described in JIS C 2151: 2006.

結果を表3に示す。表3中の「最小σMMR」は、各試験例において、使用した金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせのうち、σM×dM×dRが最も小さくなる金属箔と樹脂フィルムの組み合わせについての値である。試験例4−1及び4−2の結果から理解できるように、金属箔一枚では100μmを超える厚みに設定しても、シールド効果が31〜33dB程度しか得られない。試験例4−3の結果から理解できるように、金属箔のみを積層してもシールド効果の有意な向上は認められない。試験例4−4〜4−6の結果から理解できるように、金属箔2枚を樹脂フィルムを介して積層しても同様である。また、試験例4−7の結果から金属箔3枚を樹脂フィルムを介して積層した場合でも、σM×dM×dRが不十分だとシールド効果の向上は限定的であることが分かる。 The results are shown in Table 3. “Minimum σ M d M d R ” in Table 3 is the metal foil and resin in which σ M × d M × d R is the smallest among all combinations of metal foil and resin film used in each test example. Values for film combinations. As can be understood from the results of Test Examples 4-1 and 4-2, even if the thickness of the metal foil is more than 100 μm, the shielding effect is only about 31 to 33 dB. As can be understood from the results of Test Example 4-3, no significant improvement in the shielding effect is observed even when only the metal foil is laminated. As can be understood from the results of Test Examples 4-4 to 4-6, the same applies even when two metal foils are laminated via a resin film. Moreover, even when three metal foils are laminated via a resin film from the results of Test Example 4-7, it is understood that the improvement of the shielding effect is limited when σ M × d M × d R is insufficient. .

一方、金属箔3枚を樹脂フィルムを介して積層し、且つ、金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせについてσM×dM×dRが3×10-3以上である試験例4−8〜4−24においては、シールド効果が顕著に優れていることが理解できる。例えば、銅箔一枚では31.1dBのシールド効果を得るのに150μmもの厚みが必要であった試験例4−1に対して、試験例4−8ではその約1/3の厚みの銅箔しか用いていないにもかかわらず、約26dBもシールド効果が向上している。また、アルミ箔一枚では33.1dBのシールド効果を得るのに300μmもの厚みが必要であった試験例4−2に対して、試験例4−9ではその1/5の厚みのアルミ箔しか用いていないにもかかわらず、約19dBもシールド効果が向上している。 On the other hand, three metal foils are laminated via a resin film, and σ M × d M × d R is 3 × 10 −3 or more for all combinations of the metal foil and the resin film 4-8 to In 4-24, it can be understood that the shielding effect is remarkably excellent. For example, in contrast to Test Example 4-1, which required a thickness of 150 μm to obtain a shield effect of 31.1 dB with one copper foil, Test Example 4-8 has a copper foil having a thickness of about 1/3. Although it is only used, the shielding effect is improved by about 26 dB. Further, in contrast to Test Example 4-2 in which a thickness of 300 μm was necessary to obtain a shielding effect of 33.1 dB with one aluminum foil, in Test Example 4-9, only an aluminum foil having a thickness of 1/5 was used. Even though it is not used, the shielding effect is improved by about 19 dB.

また、金属箔と樹脂フィルムの組み合わせにおける最小σMMRが高いほうが、金属箔の総厚みを小さくしながら高いシールド効果が得られることも理解できる。例えば、試験例4−18〜4−20はすべて銅箔の総厚みが51μmであるが、最小σMMRの違いによってシールド効果に大きな差が生じていることが分かる。 It can also be understood that the higher the minimum σ M d M d R in the combination of the metal foil and the resin film, the higher shielding effect can be obtained while reducing the total thickness of the metal foil. For example, in all of Test Examples 4-18 to 4-20, the total thickness of the copper foil is 51 μm, but it can be seen that there is a large difference in the shielding effect due to the difference in the minimum σ M d M d R.

11 電磁波シールド材
12 プレフォーム用金型
13 電磁波シールド材
14 射出成形用金型
15 一体成形品
21 電磁波シールド材
22 射出成形用金型
22a 第一金型(上金型)
22b 第二金型(下金型)
23 射出口
25 一体成形品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Electromagnetic shielding material 12 Preform metal mold 13 Electromagnetic wave shielding material 14 Injection mold 15 Integrated molding 21 Electromagnetic wave shielding material 22 Injection mold 22a First mold (upper mold)
22b Second mold (lower mold)
23 Injection port 25 Integrated molded product

Claims (22)

樹脂製筐体本体と、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面を接合被覆する電磁波シールド材とを備えた電磁波シールド筐体であって、電磁波シールド材は少なくとも一枚の金属箔及び少なくとも一枚の樹脂フィルムが密着積層した多層構造を有しており、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面との接合面を形成する電磁波シールド材の層は樹脂フィルムで構成されている電磁波シールド筐体。   An electromagnetic wave shielding case comprising a resin case main body and an electromagnetic wave shielding material for bonding and covering an inner surface and / or an outer surface of the resin case main body, wherein the electromagnetic wave shielding material includes at least one metal foil and at least one metal foil. An electromagnetic wave shielding casing having a multilayer structure in which a plurality of resin films are closely laminated, and an electromagnetic shielding material layer forming a bonding surface with the inner surface and / or outer surface of the resin casing body is made of a resin film. body. 電磁波シールド材を構成する金属箔及び樹脂フィルムは熱圧着によって密着積層されている請求項1に記載の電磁波シールド筐体。   The electromagnetic shielding casing according to claim 1, wherein the metal foil and the resin film constituting the electromagnetic shielding material are closely laminated by thermocompression bonding. 樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面との接合面を形成する電磁波シールド材の層は、樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる樹脂フィルムで構成されている請求項1又は2に記載の電磁波シールド筐体。   The layer of the electromagnetic wave shielding material that forms the joint surface with the inner surface and / or the outer surface of the resin casing body is made of a resin film made of the same type of resin material as the resin casing body. The electromagnetic shielding housing described in 1. 樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面との接合面を形成する電磁波シールド材の層である樹脂フィルムを構成する樹脂の融点は、樹脂製筐体本体を構成する樹脂の融点に対して±5℃以内である請求項1〜3の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。   The melting point of the resin constituting the resin film that is a layer of the electromagnetic wave shielding material that forms the joint surface with the inner surface and / or the outer surface of the resin casing body is ± with respect to the melting point of the resin constituting the resin casing body. The electromagnetic wave shielding casing according to any one of claims 1 to 3, wherein the electromagnetic shielding casing is within 5 ° C. 電磁波シールド材を構成する金属箔及び樹脂フィルムの破断箇所が存在しない請求項1〜4の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。   The electromagnetic shielding housing according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal foil and the resin film constituting the electromagnetic shielding material are not broken. 電磁波シールド材は、少なくとも二枚の金属箔が樹脂フィルムを介して積層された構造を有する請求項1〜5の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。   The electromagnetic wave shielding material according to any one of claims 1 to 5, wherein the electromagnetic wave shielding material has a structure in which at least two metal foils are laminated via a resin film. 電磁波シールド材を構成する金属箔と樹脂フィルムのすべての組み合わせが、σM×dM×dR≧3×10-3を満たす請求項1〜6の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。
但し、式中の記号は以下を示す。
σM:金属箔の20℃における導電率(S/m)
M:金属箔の厚み(m)
R:樹脂フィルムの厚み(m)
The electromagnetic shielding casing according to any one of claims 1 to 6, wherein all combinations of the metal foil and the resin film constituting the electromagnetic shielding material satisfy σ M × d M × d R ≧ 3 × 10 −3. .
However, the symbol in a formula shows the following.
σ M : conductivity of metal foil at 20 ° C. (S / m)
d M : Metal foil thickness (m)
d R : thickness of resin film (m)
電磁波シールド材を構成する各金属箔の20℃における導電率が1.0×106S/m以上である請求項1〜7の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。 The electromagnetic shielding casing according to any one of claims 1 to 7, wherein each metal foil constituting the electromagnetic shielding material has an electric conductivity at 20 ° C of 1.0 x 10 6 S / m or more. 電磁波シールド材を構成する各金属箔の厚みが4〜50μmである請求項1〜8の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。   The thickness of each metal foil which comprises an electromagnetic wave shielding material is 4-50 micrometers, The electromagnetic wave shielding housing | casing as described in any one of Claims 1-8. 電磁波シールド材を構成する各樹脂フィルムの20℃における比誘電率が2.0〜10.0である請求項1〜9の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。   The electromagnetic wave shielding casing according to any one of claims 1 to 9, wherein each resin film constituting the electromagnetic wave shielding material has a relative dielectric constant at 20 ° C of 2.0 to 10.0. 電磁波シールド材を構成する各樹脂フィルムの厚みが4〜500μmである請求項1〜10の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。   The thickness of each resin film which comprises an electromagnetic wave shielding material is 4-500 micrometers, The electromagnetic wave shielding housing | casing as described in any one of Claims 1-10. 樹脂製筐体本体の最も薄い箇所の厚みが0.5mm以上である請求項1〜11の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体。   The electromagnetic shielding housing according to any one of claims 1 to 11, wherein the thickness of the thinnest portion of the resin housing body is 0.5 mm or more. 樹脂製筐体本体と、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面を接合被覆する電磁波シールド材とを備えた電磁波シールド筐体の製造方法であって、
少なくとも一枚の金属箔及び少なくとも一枚の樹脂フィルムが積層された多層構造を有し、少なくとも一方の最外層が樹脂フィルムであるフィルム状の電磁波シールド材をプレフォーム用金型にセットして、圧空成形又は真空成形することにより、立体形状にプレフォームされた電磁波シールド材を得る工程と、
プレフォームされた電磁波シールド材を、該電磁波シールド材の立体形状に合致したキャビティ面を有する射出成形用金型に、最外層を形成する樹脂フィルムがキャビティ内で露出するように嵌め込んだ状態で、射出成形用金型のキャビティに筐体用の溶融樹脂を射出し、冷却固化することにより、プレフォームされた電磁波シールド材と筐体を一体化する工程と、
を含む製造方法。
A method for manufacturing an electromagnetic shielding casing comprising a resin casing main body and an electromagnetic shielding material for bonding and covering the inner surface and / or outer surface of the resin casing main body,
It has a multilayer structure in which at least one metal foil and at least one resin film are laminated, and at least one outermost layer is a resin film, and a film-like electromagnetic shielding material is set in a preform mold, A step of obtaining an electromagnetic wave shielding material preformed into a three-dimensional shape by pressure forming or vacuum forming;
In a state where the preformed electromagnetic wave shielding material is fitted into an injection mold having a cavity surface matching the three-dimensional shape of the electromagnetic wave shielding material so that the resin film forming the outermost layer is exposed in the cavity. Injecting the molten resin for the housing into the cavity of the injection mold, and solidifying by cooling, thereby integrating the preformed electromagnetic shielding material and the housing;
Manufacturing method.
最外層を形成し、キャビティ内で露出する樹脂フィルムが樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる請求項13に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 13, wherein the resin film that forms the outermost layer and is exposed in the cavity is made of the same type of resin material as the resin casing body. 電磁波シールド筐体が請求項1〜12の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体である請求項13又は14に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 13 or 14, wherein the electromagnetic shielding housing is the electromagnetic shielding housing according to any one of claims 1 to 12. 立体形状にプレフォームされた電磁波シールド材を得る工程においては、電磁波シールド材を構成するすべての樹脂フィルムについて、樹脂フィルムの熱変形温度を20℃下回る温度以上に加熱した状態で圧空成形、真空成形又はプレス成形する請求項13〜15の何れか一項に記載の製造方法。   In the process of obtaining the electromagnetic shielding material preformed into a three-dimensional shape, all the resin films constituting the electromagnetic shielding material are subjected to pressure forming and vacuum forming in a state where the heat deformation temperature of the resin film is higher than 20 ° C. Or the manufacturing method as described in any one of Claims 13-15 which press-molds. プレフォームされた電磁波シールド材と筐体を一体化する工程においては、射出される樹脂の融点を5℃超える温度以上、且つ、射出される樹脂の融点を100℃超える温度以下の溶融樹脂を射出する請求項13〜16の何れか一項に記載の製造方法。   In the process of integrating the preformed electromagnetic shielding material and the housing, a molten resin having a temperature exceeding the melting point of the injected resin by 5 ° C. or more and a temperature exceeding the melting point of the injected resin by 100 ° C. or less is injected. The manufacturing method according to any one of claims 13 to 16. 圧空成形又は真空成形においては、電磁波シールド材の減肉率を16%以上として行う請求項13〜17の何れか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 13 to 17, wherein the pressure reduction molding or the vacuum molding is performed at a thickness reduction rate of 16% or more of the electromagnetic shielding material. 樹脂製筐体本体と、樹脂製筐体本体の内面及び/又は外面を接合被覆する電磁波シールド材とを備えた電磁波シールド筐体の製造方法であって、
少なくとも一枚の金属箔及び少なくとも一枚の樹脂フィルムが積層された多層構造を有し、少なくとも一方の最外層が樹脂フィルムであるフィルム状の電磁波シールド材を、電磁波シールド材の立体形状を画定するための凹凸を有する第一金型と射出口を有する第二金型とを備えた射出成形用金型に、最外層を形成する樹脂フィルムが第二金型に設置された溶融樹脂の射出口と向き合うようにセットする工程と、
両金型を射出成形時の位置まで移動させることにより予備成形された電磁波シールド材を得る工程と、
第二金型に設けられた射出口から筐体用の溶融樹脂を射出し、射出圧力により電磁波シールド材を第一金型の凹凸に追従させて本成形した後、冷却固化することにより、本成形された電磁波シールド材と筐体を一体化する工程と、
を含む製造方法。
A method for manufacturing an electromagnetic shielding casing comprising a resin casing main body and an electromagnetic shielding material for bonding and covering the inner surface and / or outer surface of the resin casing main body,
A film-like electromagnetic shielding material having a multilayer structure in which at least one metal foil and at least one resin film are laminated, and at least one outermost layer being a resin film, defines a three-dimensional shape of the electromagnetic shielding material A molten resin injection port in which a resin film for forming an outermost layer is installed in a second mold in an injection mold having a first mold having projections and depressions and a second mold having an injection port And the process of setting to face each other,
A step of obtaining a preformed electromagnetic wave shielding material by moving both molds to the position at the time of injection molding;
By injecting molten resin for the housing from the injection port provided in the second mold, the electromagnetic shielding material is made to follow the unevenness of the first mold by injection pressure, and then cooled and solidified. Integrating the molded electromagnetic shielding material and the housing;
Manufacturing method.
最外層を形成し、射出口と向き合う樹脂フィルムが樹脂製筐体本体と同一種類の樹脂材料からなる請求項19に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 19, wherein the resin film that forms the outermost layer and faces the injection port is made of the same type of resin material as the resin casing body. 電磁波シールド筐体が請求項1〜12の何れか一項に記載の電磁波シールド筐体である請求項19又は20に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 19 or 20, wherein the electromagnetic shielding housing is the electromagnetic shielding housing according to any one of claims 1 to 12. 予備成形及び本成形における電磁波シールド材の合計の減肉率を16%以上として行う請求項19〜21の何れか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 19 to 21, wherein the total thickness reduction rate of the electromagnetic shielding material in the preliminary molding and the main molding is set to 16% or more.
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