JP2017139756A - 高周波整合システムのインピーダンス調整方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 53
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 42
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 23
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 122
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
【解決手段】インピーダンス調整装置は、可変周波数方式の高周波電源1vを用いた高周波電力供給システムに適用される。可変コンデンサの位置情報Cと高周波電源1vの出力周波数情報Fとの組み合わせの一部を対象とした特性パラメータがメモリ70に記憶される。Tパラメータ取得部130は、現時点のCnow,Fnowに対応する特性パラメータを取得する。出力反射係数演算部140は、出力端の反射係数Γoutnowを演算する。目標情報特定部180は、上記の情報と目標入力反射係数とに基づいて、出力端における反射係数を目標入力反射係数に近づける目標組み合わせ情報を特定し、この情報に基づいてインピーダンス整合させる。
【選択図】図6
Description
高周波電源1は、出力周波数(高周波電源1から出力される高周波電力が有する基本周波数(基本波の周波数))がある一定の周波数である高周波電源1pである。
また、図9に示すように、インピーダンス調整装置3Pには、第1の可変コンデンサ21、第2の可変コンデンサ24、及びインダクタ23によって構成された調整回路20pが設けられている。なお、第1の可変コンデンサ21及び第2の可変コンデンサ24は、可変電気特性素子の一種である。また、入力端301と調整回路20pとの間には、方向性結合器10が設けられている。また、出力端302(調整回路20pの出力端も実質的に同じ)は負荷5に接続されている。
負荷に対して高周波電力を供給する高周波電力供給手段と前記高周波電力供給手段から前記負荷側を見たインピーダンスを調整するインピーダンス調整手段とを含む高周波整合システムのインピーダンス調整方法であって、
前記インピーダンス調整手段の内部に設けた可変電気特性素子の電気特性情報と前記高周波電力供給手段の出力周波数情報とを組み合わせた情報を組み合わせ情報とし、前記電気特性情報と前記出力周波数情報とが取り得る全ての組み合わせのうちの一部の複数の組み合わせを対象とした場合に、対象となる組み合わせを実現させたときの前記インピーダンス調整手段全体の伝送特性を示す特性パラメータを、組み合わせ情報と関連付けて記憶する特性パラメータ記憶工程と、
前記高周波電力供給手段の出力端又は前記インピーダンス調整手段の入力端における高周波情報を検出する高周波情報検出工程と、
現時点の前記可変電気特性素子の電気特性情報を検出する可変素子情報検出工程と、
前記現時点の電気特性情報と現時点の出力周波数情報との組み合わせに対応する特性パラメータを、前記特性パラメータ記憶工程で記憶された特性パラメータの中から探索することによって取得するか、あるいは補間演算によって取得する特性パラメータ取得工程と、
前記高周波情報検出工程で検出された高周波情報と前記特性パラメータ取得工程で取得された特性パラメータとに基づいて、現時点の前記インピーダンス調整手段の出力端における反射係数を演算する現時点の出力反射係数演算工程と、
前記現時点の出力反射係数演算工程で演算された反射係数と予め設定された目標入力反射係数と前記特性パラメータ記憶工程で記憶された複数の特性パラメータとに基づいて、前記可変電気特性素子の電気特性情報と前記高周波電力供給手段の出力周波数情報との全ての組み合わせのうちで、前記インピーダンス調整手段の出力端における反射係数を前記目標入力反射係数に近づける目標組み合わせ情報を特定する特定工程と、
前記目標組み合わせ情報が示す電気特性情報を目標電気特性情報として設定し、前記可変電気特性素子の電気特性が、前記目標電気特性情報が示す電気特性に調整されるように指令信号を出力する目標電気特性設定工程と、
前記目標組み合わせ情報が示す出力周波数情報を目標出力周波数情報として設定し、前記高周波電力供給手段の出力周波数が、目標出力周波数情報が示す周波数に調整されるように指令信号を前記高周波電力供給手段に向けて出力する目標出力周波数設定工程と、
前記目標電気特性設定工程で出力された指令信号に基づいて可変電気特性素子の電気特性を調整する可変電気特性素子調整工程と、
を備えたことを特徴としている。
前記特性パラメータ記憶工程で記憶される特性パラメータが、前記対象となる組み合わせのそれぞれの組み合わせ毎に測定した特性パラメータ又は測定した特性パラメータを変換した特性パラメータであることを特徴としている。
前記特性パラメータ記憶工程で記憶される特性パラメータが、前記対象となる組み合わせの一部の組み合わせ毎に測定した特性パラメータ及び前記一部の組み合わせ毎に測定した特性パラメータを用いて演算により推定した他の組み合わせの特性パラメータ又はそれらの特性パラメータを変換した特性パラメータであることを特徴としている。
前記電気特性情報と前記出力周波数情報とが取り得る全ての組み合わせのうちの一部の組み合わせに関するものであり、前記一部の組み合わせは、
前記複数の可変電気特性素子の電気特性情報を第1軸上に表し、前記高周波電力供給手段の出力周波数情報を第2軸上に表して、両者の組み合わせ情報を座標形式で表したときに、前記第1軸上に第1の所定間隔毎に設定された座標と前記第2軸上に第2の所定間隔毎に設定された座標とを組み合わせることによって格子状に設定された組み合わせであることを特徴としている。
前記高周波情報検出工程で検出された高周波情報に基づいて、前記インピーダンス調整手段の入力端における反射係数を演算し、この演算された入力端における反射係数と、前記特性パラメータ取得工程で取得された特性パラメータとに基づいて、現時点の前記インピーダンス調整手段の出力端における反射係数を演算することを特徴としている。
前記高周波情報検出工程で検出した高周波情報に基づいて、前記高周波電力供給手段の出力周波数情報を検出する周波数検出工程を、さらに備え、
前記特性パラメータ取得工程は、前記周波数検出工程で検出した出力周波数情報を現時点の出力周波数情報として用いることを特徴としている。
前記高周波電力供給手段が認識している出力周波数を現時点の出力周波数情報として用いることを特徴としている。
前記測定した特性パラメータがSパラメータであり、前記変換した特性パラメータがSパラメータから変換できるTパラメータであることを特徴としている。
前記高周波電力供給手段から前記負荷側に進行する進行波電圧及び前記負荷側から反射してくる反射波電圧であることを特徴としている。
この際、例えば、出力周波数の可変範囲の下限周波数を「0」とし、出力周波数の可変範囲の上限周波数を「100」として、「0」〜「100」の101段階で出力周波数を変更できるように設計される。すなわち、出力周波数の可変範囲が2MHz±10%(1.8〜2.2MHz)である場合、「0」が1.8MHzであり、「100」が2.2MHzであるので、0.004MHz毎(4kHz毎)に出力周波数を変更する。
なお、上述したように、可変コンデンサ21の可動部の位置情報は、キャパシタンスを表す情報(キャパシタンス情報)として扱うことができる。広い概念では、可動部の位置情報は、電気特性を表す情報(電気特性情報)として扱うことができる。
なお、方向性結合器10は、本発明の高周波情報検出手段の一部として機能する。また方向性結合器10と後述するベクトル化部110とを組み合わせたものが、本発明の高周波情報検出手段の一例となる。
第1ステップ:S11(10,10)の測定値とS11(20,10)の測定値とを用いて、S11(18,10)の推定値を求めるための補間演算を行う。
第2ステップ:S11(10,20)の測定値とS11(20,20)の測定値とを用いて、S11(18,20)の推定値を求めるための補間演算を行う。
第3ステップ:第1ステップ及び第2ステップで求めたS11(18,10)の推定値とS11(18,20)の推定値とを用いて、S11(18,16)の推定値を求めるための補間演算を行う。
S11(18,10)の推定値:100×0.2+160×0.8=148
S11(18,20)の推定値:170×0.2+200×0.8=194
S11(18,16)の推定値:148×0.4+194×0.6=175.6
したがって、S11(18,16)の推定値は、175.6となる。
図4は、格子状にSパラメータを測定するとともに、他の一部の組み合わせ情報に対してSパラメータを測定する場合の一例である。図4において、横軸は、可変コンデンサ21の可動部の位置情報Cであり、縦軸は、高周波電源1vの出力周波数情報Fである。また、黒丸が格子状に測定されたSパラメータを示している。そして、領域Aや領域Bの部分について、さらにSパラメータを測定した一例を示している。
もちろん、第1の記憶領域及び第2の記憶領域は、同一のハードウェアに設けてもよいし、別のハードウェアに設けてもよい。また、第1の記憶領域及び第2の記憶領域を同一のハードウェアに設ける場合、第1の記憶領域及び第2の記憶領域を、所定の容量の領域毎に分けてもよいし、分けなくてもよい。なお、記憶するパラメータが、測定したパラメータ(測定したパラメータを変換したパラメータ)なのか、推定したパラメータ(推定したパラメータを変換したパラメータ)なのかが区別できるようにしておくことが好ましい。
そして、C/c0の整数部をnc、小数部をdcとし、F/f0の整数部をnf、小数部をdfとする。例えば、可変コンデンサ21の可動部の位置が「83」であり、データ間隔が「10」であれば、nc=8、dc=0.3となる。
この場合、Sパラメータを変換したTパラメータを構成する各パラメータT11,T12,T21,T22は「数7」のように表される。
図5は、インピーダンス調整装置3AのSパラメータを測定するための測定回路の構成を示す図である。この測定回路の構成は、予め製品出荷前に、例えば工場内で組み上げられるものである。
図5に示した測定回路では、可変コンデンサ21の可動部の位置を予め定めた段階ずつ変化させるとともに、ネットワークアナライザ80から出力される高周波の周波数を予め定めた段階ずつ変化させながら、ネットワークアナライザ80においてインピーダンス調整装置3AのSパラメータが測定される。以下、この手順を説明する。
なお、Sパラメータは、可変コンデンサ21の可動部の位置と高周波電源1vの出力周波数とを変数として測定されたものであり、可変コンデンサ21が0〜100の101段階に変位可能であり、高周波電源1vの出力周波数が、0〜100の101段階に変更可能であるとする。また、表2に示すように、可変コンデンサ21の可動部の位置及び出力周波数を、それぞれ10段階間隔で変更させた場合についての手順とする。
次に高周波電力供給システムとして実際に使用されるインピーダンス調整装置3Aの動作を、図6を参照して説明する。
この場合、入力側検出器と、入力側検出器から入力された情報に基づいて進行波電圧Vfinow及び反射波電圧Vrinowを求める部分とを含めたものが、本発明の高周波情報検出手段の一例となる。
また、上述したように、方向性結合器10に代えて、入力側検出器が用いられる場合は、周波数検出部120は、例えば、入力側検出器によって検出される高周波電圧を入力し、この高周波電圧に基づいて、高周波電源1vから負荷5に供給される高周波電力の出力周波数を検出すればよい。
Tパラメータ取得部130では、メモリ70に記憶されているTパラメータを用いて現時点の位置情報Cnow及び現時点の出力周波数Fnowに対応したTパラメータを取得し、取得したTパラメータを出力する。出力されたTパラメータは、現時点の出力反射係数演算部140に送られる。
しかし、全ての組み合わせに対するTパラメータ(Sパラメータ)が既知でなくても、演算によって「数13」が成り立つ条件に一番近い(できるだけ近い)可変コンデンサ21の可動部の位置と高周波電源1vの出力周波数との組み合わせ情報を特定することができる。この特定は、目標情報特定部180で行われる。
なお、「数17」において、A1,A2,B1,B2,C1,C2,D1,D2は、表記を簡易にするため、一部を省略している。例えば、A1は、A1(nc,nf,Γinset)のことである。
Re(A)+Re(B)dc+Re(C)df+Re(D)dcdf=0
Im(A)+Im(B)dc+Im(C)df+Im(D)dcdf=0となる。そのため、
df=−(Re(A)+Re(B)dc)/(Re(C)+Re(D)dc)
df=−(Im(A)+Im(B)dc)/(Im(C)+Im(D)dc)
となる。そのため、
(Re(A)+Re(B)dc)・(Im(C)+Im(D)dc)=(Re(C)+Re(D)dc)・(Im(A)+Im(B)dc)
となる。そのため、「数20」のようになる。
このとき、既知のTパラメータのデータ間隔が図2に示すように10であるならば、T(0,0),T(10,0),T(0,10),T(10,10)の4つのTパラメータを用いればよい。
また、(nc,nf)=(1,0)のときは、同様にして、T(10,0),T(20,0),T(10,10),T(20,10)の4つのTパラメータを用いればよい。
すなわち、ncおよびnfのそれぞれに対して、1つずつ大きな値を用いるために、全てのncとnfとの組み合わせを用いるためには、nc=0〜9、nf=0〜9の範囲で値を変化させればよい。
図7は、目標組み合わせ情報(Cz,Fz)を特定するために用いる変数の変化のさせ方の一例を示す図である。
この図7では、ncを横軸、nfを縦軸として、あるncとnfとの組み合わせを(nc,nf)としたときに、上述した4点で囲まれる領域をX(nc,nf)としている。例えば、(nc,nf)=(0,0)の場合は、(nc,nf)=(0,0),(10,0),(0,10),(10,10)の4点で囲まれる領域が、X(0,0)となる。
X(0,0)→X(1,0)→X(2,0)・・・X(8,0)→X(9,0)→X(0,1)→X(1,1)→X(2,1)・・・X(8,1)→X(9,1)→X(0,2)→X(1,2)→X(2,2)・・・X(8,9)→X(9,9)のように演算の対象となる領域が変化していくので、全てのncとnfとの組み合わせを用いていることになる。
なお、図7の場合、領域「X(0,0)」とは、(C,F)=(0,0),(10,0),(0,10),(10,10)の4点で囲まれる領域となる。他の領域に対しても同様である。
上述したように、高周波電源1vの製造メーカと、インピーダンス調整装置3の製造メーカとが異なる場合等で、高周波電源1vが認識している電源認識出力周波数Fgeと、周波数検出部120が検出する現時点の出力周波数Fnow(インピーダンス調整装置3が認識する現時点の出力周波数Fnow)とのずれ(誤差)が生じる場合がある。そうなると、精度のよいインピーダンス整合ができない。
1v 可変周波数方式の高周波電源
2 伝送線路
3 インピーダンス調整装置
3A インピーダンス調整装置
4 負荷接続部
5 負荷(プラズマ処理装置)
10 方向性結合器
20 調整回路
21 可変コンデンサ
22 インピーダンスが固定のコンデンサ
23 インダクタ
30 調整部
40 位置検出部
70 メモリ
80 ネットワークアナライザ
100 制御部
110 ベクトル化部
120 周波数検出部
130 Tパラメータ取得部
140 現時点の出力反射係数演算部
150 目標入力反射係数設定部
180 目標情報特定部
191 目標位置設定部
192 目標周波数設定部
Claims (9)
- 負荷に対して高周波電力を供給する高周波電力供給手段と前記高周波電力供給手段から前記負荷側を見たインピーダンスを調整するインピーダンス調整手段とを含む高周波整合システムのインピーダンス調整方法であって、
前記インピーダンス調整手段の内部に設けた可変電気特性素子の電気特性情報と前記高周波電力供給手段の出力周波数情報とを組み合わせた情報を組み合わせ情報とし、前記電気特性情報と前記出力周波数情報とが取り得る全ての組み合わせのうちの一部の複数の組み合わせを対象とした場合に、対象となる組み合わせを実現させたときの前記インピーダンス調整手段全体の伝送特性を示す特性パラメータを、組み合わせ情報と関連付けて記憶する特性パラメータ記憶工程と、
前記高周波電力供給手段の出力端又は前記インピーダンス調整手段の入力端における高周波情報を検出する高周波情報検出工程と、
現時点の前記可変電気特性素子の電気特性情報を検出する可変素子情報検出工程と、
前記現時点の電気特性情報と現時点の出力周波数情報との組み合わせに対応する特性パラメータを、前記特性パラメータ記憶工程で記憶された特性パラメータの中から探索することによって取得するか、あるいは補間演算によって取得する特性パラメータ取得工程と、
前記高周波情報検出工程で検出された高周波情報と前記特性パラメータ取得手段によって取得された特性パラメータとに基づいて、現時点の前記インピーダンス調整手段の出力端における反射係数を演算する現時点の出力反射係数演算工程と、
前記現時点の出力反射係数演算工程で演算された反射係数と予め設定された目標入力反射係数と前記特性パラメータ記憶工程で記憶された複数の特性パラメータとに基づいて、前記可変電気特性素子の電気特性情報と前記高周波電力供給手段の出力周波数情報との全ての組み合わせのうちで、前記インピーダンス調整手段の出力端における反射係数を前記目標入力反射係数に近づける目標組み合わせ情報を特定する特定工程と、
前記目標組み合わせ情報が示す電気特性情報を目標電気特性情報として設定し、前記可変電気特性素子の電気特性が、前記目標電気特性情報が示す電気特性に調整されるように指令信号を出力する目標電気特性設定工程と、
前記目標組み合わせ情報が示す出力周波数情報を目標出力周波数情報として設定し、前記高周波電力供給手段の出力周波数が、目標出力周波数情報が示す周波数に調整されるように指令信号を前記高周波電力供給手段に向けて出力する目標出力周波数設定工程と、
前記目標電気特性設定工程で出力された指令信号に基づいて可変電気特性素子の電気特性を調整する可変電気特性素子調整工程と、
を備えたことを特徴とする高周波整合システムのインピーダンス調整方法。 - 前記特性パラメータ記憶工程で記憶される特性パラメータは、前記対象となる組み合わせのそれぞれの組み合わせ毎に測定した特性パラメータ又は測定した特性パラメータを変換した特性パラメータである請求項1に記載のインピーダンス調整装置。
- 前記特性パラメータ記憶工程で記憶される特性パラメータは、前記対象となる組み合わせの一部の組み合わせ毎に測定した特性パラメータ及び前記一部の組み合わせ毎に測定した特性パラメータを用いて演算により推定した他の組み合わせの特性パラメータ又はそれらの特性パラメータを変換した特性パラメータである請求項1に記載の高周波整合システムのインピーダンス調整方法。
- 前記電気特性情報と前記出力周波数情報とが取り得る全ての組み合わせのうちの一部の組み合わせは、
前記複数の可変電気特性素子の電気特性情報を第1軸上に表し、前記高周波電力供給手段の出力周波数情報を第2軸上に表して、両者の組み合わせ情報を座標形式で表したときに、前記第1軸上に第1の所定間隔毎に設定された座標と前記第2軸上に第2の所定間隔毎に設定された座標とを組み合わせることによって格子状に設定された組み合わせである請求項1〜3のいずれかに記載の高周波整合システムのインピーダンス調整方法。 - 前記現時点の出力反射係数演算工程は、
前記高周波情報検出工程で検出された高周波情報に基づいて、前記インピーダンス調整手段の入力端における反射係数を演算し、この演算された入力端における反射係数と、前記特性パラメータ取得工程で取得された特性パラメータとに基づいて、現時点の前記インピーダンス調整手段の出力端における反射係数を演算する請求項1〜4のいずれかに記載の高周波整合システムのインピーダンス調整方法。 - 前記高周波情報検出工程で検出した高周波情報に基づいて、前記高周波電力供給手段の出力周波数情報を検出する周波数検出工程を、さらに備え、
前記特性パラメータ取得工程は、前記周波数検出工程で検出した出力周波数情報を現時点の出力周波数情報として用いる請求項1〜5のいずれかに記載の高周波整合システムのインピーダンス調整方法。 - 前記特性パラメータ取得工程は、前記高周波電力供給手段が認識している出力周波数を現時点の出力周波数情報として用いる請求項1〜6のいずれかに記載の高周波整合システムのインピーダンス調整方法。
- 前記測定した特性パラメータがSパラメータであり、前記変換した特性パラメータがSパラメータから変換できるTパラメータである、請求項2又は3に記載の高周波整合システムのインピーダンス調整方法。
- 前記高周波情報は、前記高周波電力供給手段から前記負荷側に進行する進行波電圧及び前記負荷側から反射してくる反射波電圧である、請求項1〜8のいずれかに記載の高周波整合システムのインピーダンス調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017010972A JP6485923B2 (ja) | 2017-01-25 | 2017-01-25 | 高周波整合システムのインピーダンス調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|---|---|
JP2012218702A Division JP6084417B2 (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | インピーダンス調整装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017139756A true JP2017139756A (ja) | 2017-08-10 |
JP6485923B2 JP6485923B2 (ja) | 2019-03-20 |
Family
ID=59566221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017010972A Active JP6485923B2 (ja) | 2017-01-25 | 2017-01-25 | 高周波整合システムのインピーダンス調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6485923B2 (ja) |
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CN117459012A (zh) * | 2023-12-22 | 2024-01-26 | 季华实验室 | 一种阻抗匹配控制方法及相关设备 |
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