JP2017129804A - Electro-optic device and electronic apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は電気光学装置及び電気光学装置を組み込んだ電子機器に関し、特に、マイクロレンズアレイを備える電気光学装置及びこれを用いた電子機器に関する。 The present invention relates to an electro-optical device and an electronic device incorporating the electro-optical device, and more particularly to an electro-optical device including a microlens array and an electronic device using the same.
例えばプロジェクターのライトバルブとして用いられる液晶パネルにおいて、基板上の配線による開口率の低下に起因するコントラスト低下を改善する技術が知られている。特許文献1には、液晶セルの光軸に対して傾斜および回転可能な光学補償板を有する液晶装置が記載されている。特許文献2には、対向基板側から光を入射する液晶表示装置において素子基板側にマイクロレンズを設ける技術が記載されている。特許文献3には、対向基板側から光を入射する液晶表示装置においてマイクロレンズによる回折の影響を2枚の位相差板を用いて補償する技術が記載されている。
For example, in a liquid crystal panel used as a light valve of a projector, a technique for improving a decrease in contrast due to a decrease in aperture ratio due to wiring on a substrate is known.
特許文献1においては、光の利用効率が十分でないという問題があった。特許文献2および3においては、液晶層から出射した光が素子基板の素子等により回折され、マイクロレンズによる集光の効果が薄れてしまい、光利用効率が低下する、また、コントラストが低下するという問題があった。
In
これに対し本発明は、電気光学装置及び電子機器において、光の利用効率及びコントラストをより向上させる技術を提供する。 On the other hand, the present invention provides a technique for further improving light utilization efficiency and contrast in electro-optical devices and electronic devices.
本発明は、マイクロレンズを透過した光を出射する素子基板と、前記素子基板から入射した光を透過する電気光学層と、前記電気光学層から入射した光を透過する対向基板と、前記素子基板の光出射側に設けられた光学補償板とを有する電気光学装置を提供する。
この電気光学装置によれば、入射光をマイクロレンズにより集光し、光を効率よく素子基板から電気光学層に入射させるとともに、電気光学層からの回折光が抑制された光が光学補償板により電気光学層等で生じる位相差(復等屈折効果)等を効果的に打ち消す(補償)ことができる。例えば、入射光である光源からの光を効率よく出射でき、さらに、電気光学層から出射した光を出射側の偏光板における光の漏れを生じさせないように出射できる。従って、電気光学装置の明るさ(光利用効果)を向上できるとともにコントラストを向上させることができる。
The present invention includes an element substrate that emits light transmitted through a microlens, an electro-optical layer that transmits light incident from the element substrate, a counter substrate that transmits light incident from the electro-optical layer, and the element substrate There is provided an electro-optical device having an optical compensation plate provided on the light emitting side of the above.
According to this electro-optical device, incident light is collected by the microlens, and the light is efficiently incident on the electro-optical layer from the element substrate, and light whose diffraction light from the electro-optical layer is suppressed is transmitted by the optical compensator. It is possible to effectively cancel (compensate) a phase difference (birefringence effect) or the like generated in the electro-optic layer or the like. For example, light from a light source that is incident light can be efficiently emitted, and further, light emitted from the electro-optic layer can be emitted so as not to cause light leakage in the polarizing plate on the emission side. Accordingly, the brightness (light utilization effect) of the electro-optical device can be improved and the contrast can be improved.
前記光学補償板が、前記対向基板の光出射側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、光学補償板を電気光学装置に容易に形成することができる。例えば、対向基板に有機膜または無機膜を形成することで光学補償板を形成できる。また、別体の有機膜または無機膜が形成された光学補償板(ガラス、フィルム)を対向基板に接着剤で張り付けることで形成できる。
The optical compensation plate may be provided on the light emitting side of the counter substrate.
According to this electro-optical device, the optical compensation plate can be easily formed on the electro-optical device. For example, the optical compensation plate can be formed by forming an organic film or an inorganic film on the counter substrate. Alternatively, an optical compensation plate (glass, film) on which a separate organic film or inorganic film is formed can be attached to the counter substrate with an adhesive.
前記光学補償板が、前記電気光学層の光出射側かつ前記対向基板の光入射側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、電気光学層からの出射光が、対向基板より前に光学補償板に入射し、回折光がより抑制され、電気光学層で生じる位相差をより効果的に補償できる。
The optical compensation plate may be provided on the light emitting side of the electro-optic layer and on the light incident side of the counter substrate.
According to this electro-optical device, the light emitted from the electro-optical layer enters the optical compensation plate before the counter substrate, the diffracted light is further suppressed, and the phase difference generated in the electro-optical layer can be more effectively compensated. .
前記素子基板の前記電気光学層側に設けられた画素電極を有し、前記光学補償板が、前記画素電極の素子基板側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、光が光学補償板に入射して電気光学層から出射し、回折光がより抑制され、電気光学層で生じる位相差をより効果的に補償できる。
It may have a pixel electrode provided on the electro-optic layer side of the element substrate, and the optical compensation plate may be provided on the element substrate side of the pixel electrode.
According to this electro-optical device, light enters the optical compensation plate and exits from the electro-optical layer, diffracted light is further suppressed, and a phase difference generated in the electro-optical layer can be more effectively compensated.
前記光学補償板が、無機材料により形成されていてもよい。
この電気光学装置によれば、光学補償板の耐光性と耐熱性が向上した電気光学装置が形成できる。
The optical compensation plate may be formed of an inorganic material.
According to this electro-optical device, an electro-optical device with improved light resistance and heat resistance of the optical compensator can be formed.
前記光学補償板が、1軸性位相差板を含んでいてもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を1軸補償することができる。
The optical compensation plate may include a uniaxial retardation plate.
According to this electro-optical device, the phase difference can be uniaxially compensated.
前記光学補償板は、Cプレートを含んでもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を補償することができる。
The optical compensation plate may include a C plate.
According to this electro-optical device, the phase difference can be compensated.
前記光学補償板は、2軸位相差板を含んでいてもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を2軸補償することができる。
The optical compensation plate may include a biaxial retardation plate.
According to this electro-optical device, the phase difference can be biaxially compensated.
また、本発明の一実施形態に係る電子機器は、上記の本発明に係る電気光学装置を備える。
この電子機器によれば、明るさとコントラストを向上させることができる。
An electronic apparatus according to an embodiment of the invention includes the electro-optical device according to the invention.
According to this electronic device, brightness and contrast can be improved.
1.構成
図1は、一実施形態に係るプロジェクター2100の構成を例示する図である。プロジェクター2100は、映像信号に応じた映像をスクリーン2120に投写する表示装置である電子機器の一例である。プロジェクター2100において、投写光は複数の色成分(この例では3原色)に分離され、色成分毎に個別のライトバルブ(光変調器)によって変調される。プロジェクター2100は、ランプユニット2102、ミラー2106、ダイクロイックミラー2108、ライトバルブ2150R、ライトバルブ2150G、ライトバルブ2150B、ダイクロイックプリズム2112、投写レンズ群2114、およびリレーレンズ系2121を有する。
1. Configuration FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of a
ランプユニット2102は、投写光を照射する。投写光は、3枚のミラー2106および2枚のダイクロイックミラー2108によってR(赤)色、G(緑)色、B(青)色の3原色に分離される。分離された投写光は、各原色に対応するライトバルブ2150R、2150G、および2150Bにそれぞれ導かれる。なお、B色の光は、他のR色やG色と比較すると光路が長いので、その損失を防ぐために、リレーレンズ系2121を介してライトバルブ2150Bに導かれる。リレーレンズ系2121は、入射レンズ2122、リレーレンズ2123、および出射レンズ2124を含む。
The
ライトバルブ2150R、2150G、および2150Bは、色成分毎の映像信号に応じて駆動される。ライトバルブ2150R、2150G、および2150Bによってそれぞれ変調された光は、ダイクロイックプリズム2112に3方向から入射する。そして、ダイクロイックプリズム2112において、R色およびB色の光は90°に屈折し、G色の光は直進する。したがって、各原色の画像が合成された後、スクリーン2120には、投写レンズ群2114によってカラー画像が投写される。
The
なお、ライトバルブ2150R、2150G、および2150Bには、ダイクロイックミラー2108によって、R色、G色、B色のそれぞれに対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。また、ライトバルブ2150R、2150Bの透過像は、ダイクロイックプリズム2112により反射した後に投写されるのに対し、ライトバルブ2150Gの透過像はそのまま投写される。したがって、ライトバルブ2150R、2150Bによる水平走査方向は、ライトバルブ2150Gによる水平走査方向と逆向きにして、左右を反転させた像を表示する構成となっている。
Since light corresponding to each of R color, G color, and B color is incident on the
以下において、ライトバルブ2150R、2150G、および2150Bの各々を区別しないときは単にライトバルブ2150という。ライトバルブ2150は、電気光学装置の一例である液晶パネルを含む。
Hereinafter, when each of the
図2は、一実施形態に係る液晶パネル100の電気的構成を例示する図である。液晶パネル100は、制御回路10から供給される信号に応じて画像を表示する装置である。制御回路10は、走査制御回路20および映像処理回路30を含む。液晶パネル100は、表示領域101、走査線駆動回路130、およびデータ線駆動回路140を有する。表示領域101は、m行n列のマトリクス状に配置された画素111を有する。走査制御回路20は、同期信号Syncに応じて制御信号Yctrおよび制御信号Xctrを生成する。制御信号Yctrは走査線駆動回路130を制御する信号である。制御信号Xctrはデータ線駆動回路140を制御する信号である。映像処理回路30は、同期信号Syncおよび入力映像信号Vid−inに応じてデータ信号Vxを生成する。データ信号Vxは、各画素111に印加される電圧を示す信号である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an electrical configuration of the
画素111は、走査線駆動回路130およびデータ線駆動回路140から供給される信号に応じた光学状態を示す。液晶パネル100は、表示領域101における複数の画素111の光学状態を制御することにより画像を表示する。
The
液晶パネル100は、素子基板102、対向基板103、および液晶105を有する。素子基板102および対向基板103は、それぞれガラスまたは石英などの透光性を有する基板を有する。素子基板102と対向基板103とは、一定の間隙を保って貼り合わせられている。この間隙(ギャップ)に、液晶105が挟まれている。液晶105は、印加される電圧に応じて光学状態が変化する電気光学層の一例であり、例えば負の誘電率異方性を有するVA(Vertical Alignment)型の液晶である。
The
素子基板102は、液晶105を挟む2枚の基板のうちスイッチング素子が形成された基板である。素子基板102は、対向基板103と対向する面において、m本の走査線112およびn本のデータ線114を有する。走査線112は第1方向(図では横方向)に沿って、データ線114は第2方向(図では縦方向)に沿って、それぞれ設けられており、互いに絶縁されている。ここでは、走査線112が延びる方向をX方向といい、データ線114が延びる方向をY方向という。一の走査線112を他の走査線112と区別するときは、図において上から順に第1、第2、第3、…、第(m−1)、および第m行の走査線112という。同様に、一のデータ線114を他のデータ線114と区別するときは、図において左から順に第1、第2、第3、…、第(n−1)、第n列のデータ線114という。画素111は、X軸およびY軸に垂直な位置にある視点からみたときに、走査線112およびデータ線114の交差に対応して設けられている。複数の画素111は、それぞれ画素電極118を有する。
The
対向基板103は、液晶105を挟む2枚の基板のうち素子基板102とは別の基板である。対向基板103には、共通電極108が設けられている。共通電極108は、液晶105に電圧を印加するための電極であり、複数の画素111に共通である。液晶105には、画素電極118および共通電極108の電位差に相当する電圧が印加される。対向基板103は、光の回折の要因となる構造物は、表示領域において、ほとんど形成されず、光の回折は、素子基板102と比較して、生じないと言える。
The
図3は、画素111の等価回路を示す図である。画素111は、TFT(Thin Film Transistor)116と、液晶素子120と、保持容量125とを有する。液晶素子120は、画素電極118と、液晶105と、共通電極108とを有する。画素電極118は、画素111毎に個別に設けられた電極である。共通電極108は、すべての画素111に共通の電極である。画素電極118は素子基板102に、共通電極108は対向基板103に、それぞれ設けられている。液晶105は、画素電極118および共通電極108に挟まれている。共通電極108には、コモン電圧LCcomが印加される。図3に例示した要素のうち少なくともTFT116は、素子基板102上に形成されている。
FIG. 3 is a diagram illustrating an equivalent circuit of the
TFT116は、画素電極118への電圧の印加を制御するスイッチング素子の一例であり、この例では、nチャネル型の電界効果トランジスターである。TFT116は、画素111毎に個別に設けられている。第i行第j列のTFT116のゲートは第i行の走査線112に、ソースは第j列のデータ線114に、ドレインは画素電極118に、それぞれ接続されている。保持容量125は、一端が画素電極118に、他端が容量線115に、それぞれ接続されている。容量線115には、時間的に一定の電圧が印加される。
The
第i行の走査線112にH(High)レベルの電圧(以下「選択電圧」という)の信号が供給されると、第i行j列のTFT116はオン状態となり、ソースとドレインが導通する。このとき、第j列のデータ線114に、第i行第j列の画素111の階調値(データ)に応じた電圧(以下「データ電圧」という)の信号が供給されると、データ電圧は、TFT116を介して第i行第j列の画素電極118に印加される。
When a signal of an H (High) level voltage (hereinafter referred to as “selection voltage”) is supplied to the i-th
その後、第i行の走査線112にL(Low)レベルの電圧(以下「非選択電圧」という)が印加されると、TFT116はオフ状態になり、ソースとドレインは高インピーダンス状態となる。TFT116がオン状態のとき画素電極118に印加された電圧は、液晶素子120の容量性および保持容量125によって、TFT116がオフ状態になった後も保持される。
Thereafter, when an L (Low) level voltage (hereinafter referred to as “non-selection voltage”) is applied to the i-
液晶素子120には、データ電圧とコモン電圧との電位差に相当する電圧が印加される。液晶105の分子配向状態は、液晶素子120に印加される電圧に応じて変化する。画素111の光学状態は、液晶105の分子配向状態に応じて変化する。例えば、液晶パネル100が透過型のパネルである場合、変化する光学状態は透過率である。
A voltage corresponding to the potential difference between the data voltage and the common voltage is applied to the
再び図2を参照する。走査線駆動回路130は、m本の走査線112の中から一の走査線112を順次排他的に選択する(すなわち走査線112を走査する)回路である。具体的には、走査線駆動回路130は、制御信号Yctrに従って、第i行の走査線112に、走査信号Yiを供給する。この例で、走査信号Yiは、選択される走査線112に対しては選択電圧となり、選択されない走査線112に対しては非選択電圧となる信号である。
Refer to FIG. 2 again. The scanning
データ線駆動回路140は、n本のデータ線114にデータ電圧を示す信号(以下「データ信号」という)を出力する回路である。具体的には、データ線駆動回路140は、映像処理回路30から供給されるデータ信号Vxを、制御信号Xctrに従ってサンプリングし、第1〜第n列のデータ線114にデータ信号X1〜Xnとして出力する。なお、本説明において電圧については、液晶素子120の印加電圧を除き、特に明記しない限り図示省略した接地電位を基準(ゼロV)として表す。
The data line driving
図4は、一実施形態に係る液晶パネル100の断面構造の概要を模式的に例示する図である。液晶パネル100は、素子基板102、液晶105、および対向基板103に加え、光学補償板201を有する。この例で、光源からの光は素子基板102側から入射し、素子基板102、液晶105、対向基板103、および光学補償板201を介して出射する。また、液晶パネル100は、光の入射側(光源側)と出射側に不図示の一対の偏向板を備える。
FIG. 4 is a diagram schematically illustrating an outline of a cross-sectional structure of the
素子基板102において、光の経路上、スイッチング素子すなわちTFT116の上流(光入射側)に、マイクロレンズアレイ1022が設けられている。マイクロレンズアレイ1022は、複数のマイクロレンズ1021を有する。マイクロレンズ1021は、入射光を画素電極118に集光するためのレンズであり、画素111毎に設けられている。
In the
マイクロレンズアレイ1022の形状は、例えばフォトリソグラフィー技術を用いたパターニングおよびエッチングによって形成される。すなわち、まず素子基板102本体の表面にマイクロレンズアレイ1022に相当するパターンのレジストが形成され、エッチングにより凹部が形成される。レジスト除去後、この凹部にレンズ材料が埋め込まれ、マイクロレンズアレイ1022が形成される。レンズ材料は、素子基板102本体よりも屈折率が高い材料が用いられる。例えば、素子基板102本体として石英が用いられる場合、レンズ材料としては、SiONまたはAl2O3などの無機材料が用いられる。埋め込まれたレンズ材料の層は例えばCMP(Chemical Mechanical Polishing)処理により平坦化される。表面が平坦化されたレンズ材料はマイクロレンズアレイ1022として機能する。こうして、マイクロレンズアレイ1022を含む素子基板102が形成される。マイクロレンズアレイ1022は、画素電極118に集光できるレンズではあれば、形状および材料を限定するものでない。また、マイクロレンズアレイ1022と素子基板102を、別体で形成し、それを貼り合わせてもよい。
The shape of the
素子基板102の液晶105側の表面には、TFT116、走査線112、およびデータ線114が形成されている。なお走査線112およびデータ線114は、図4においては図示を省略しており、液晶105側の表面に形成された構造物の代表としてTFT161のみ図示している。素子基板102における光の回折の主要因はTFT161の構造物である。TFT161よりもさらに上部(光の経路における下流)には、画素電極118が形成されている。画素電極118は、ITO(Indium Tin Oxide)などの透光性を有する導電層をパターニングしたものである。図4においては図面を簡単にするため画素電極118は一連の層として記載しているが、実際、画素電極118は画素毎に分離している。光路を調整するため、マイクロレンズアレイ1022と画素電極118との間には層間膜109が形成されている。層間膜109は、例えばSiO2など、絶縁性および透光性を有する材料により形成される。
A
対向基板103の液晶105側の表面には、共通電極108が形成されている。共通電極108は、ITOなどの透光性を有する導電層で形成されている。
A
素子基板102および対向基板103は、スペーサーを含むシール材(図示略)によって一定の間隙を保って、互いに電極形成面が対向するように貼り合わせられている。液晶105は、この間隙に封入されている。素子基板102および対向基板103の液晶105に面する側には、それぞれ配向膜(図示略)が形成されている。配向膜は、電圧印加時に液晶分子が傾く方向を揃えるため、所定の方向にラビングされている。所定の方向とは、例えば、素子基板102においては画素111の配置に対して右上から左下に向かう方向であり、対向基板103においては左下から右上に向かう方向である。配向膜により、VA型の液晶分子は、電圧が印加されていないときに、素子基板102および対向基板103の表面に対して垂直な状態から例えば2〜6°傾いた方向に配向する。電圧が印加されていない状態において液晶分子が基板面に対して傾いていることをプレチルトといい、このときの傾きをプレチルト角という。プレチルト角は例えば88〜84°である。また、配向膜はSiO2等を材料とした無機配向膜でもよく、無機配向膜は所定の方向から斜方蒸着によって形成され、プレチルトが付与される。
The
光の経路において対向基板103の下流側(光出射側)には、光学補償板201が設けられている。光学補償板201は、液晶105を透過した光の位相差を補償するための光学部品であり、例えば、いわゆるCプレートである。Cプレートとは面内方向の屈折率(nx、xy)が厚み方向の屈折率(nz)と異なる光学部品をいい、特にnx=ny>nzのものをネガティブCプレートという。光学補償板201は、例えば、液晶105のプレチルトによって生じる位相差を補償するために用いられる。プレチルトによる位相差を補償するため、光学補償板201は、対向基板103の基板面に対して傾斜して配置されている。光学補償板201は、位相差を最適に補償する角度に傾斜角を調整するための角度調整機構を有してもよいし、液晶105のプレチルト角に応じて最適な傾斜角に設計されていてもよい。光学補償板201は、例えば無機材料で形成される。無機材料としては、例えば、Si、Al、Cr、Ti、およびZrの少なくとも1つを含有する酸化物が用いられる。あるいは、光学補償板201は、樹脂等の無機材料で形成されてもよい。また、光学補償板201はCプレートのみに限定されるものではなく、例えばCプレートと少なくとも一枚以上のOプレートを組み合わせたものでもよい。Cプレートと2枚のOプレートを組み合わせた場合には、基板は傾ける必要がなく、Oプレート基板法線を回転軸として調整して補償することも可能である。
An
図5は、液晶パネル100における光路を比較例と対比する図である。図5の(A)が比較例に係る液晶パネルにおける光補償効果を模式的に示したものであり、図5の(B)が本実施形態に係る液晶パネル100であり、図4において、光補償効果を模式的に示したものである。比較例においては、対向基板103にマイクロレンズアレイ1032が形成されており、光源からの光は対向基板103から入射して、素子基板102から出射する。光が液晶105を透過する方向と光学補償板201を透過する方向とが同一であることが理想であるが、比較例においては素子基板102上の構造物(TFT116等)により光が回折し、液晶105を透過したある光の光路に対して、回折ピークすなわち光学補償板201を透過する光路が複数、発生する。光学補償板201は、液晶105を透過した光に対して、その光が液晶105において受けた光路変化(光学特性)を補償するように設計されている。したがって、液晶105を透過した光がその後で回折されると、回折光(図の点線の矢印)に対しては0次光(図の実線の矢印)ほどの補償効果が及ばない。光源から液晶パネルに入射する光は例えば10°程度の角度分布を有しているため、各方向の光に対してこの現象が生じることとなる。そのため、光学補償板201による補償効果が十分に得られない場合がある。
FIG. 5 is a diagram comparing the optical path in the
素子基板102における回折現象は、小型化、高精細化に伴い、隣り合う画素111の間隔すなわち画素ピッチが狭くなるほど顕著になる。すなわち、画素ピッチが狭くなるほど、回折光の強度は強くなり、回折角は大きくなる。一例として、波長550nmの光が入射角5°で入射した場合、ピッチが8.5μmのときは1次回折光の回折角は1.3°および8.7°であり、ピッチが6μmのときは1次回折光の回折角は−0.3°および10.3°であり、ピッチが4μmのときは1次回折光の回折角は−2.9°および13.0°である。
The diffraction phenomenon in the
これに対し本実施形態においては、図5(B)のように、素子基板102において回折された回折光(図の点線の矢印)を含む光が、液晶105に入射し、液晶105から出射した光は回折されずそのまま光学補償板201に入射する。すなわち、液晶105を透過したそれぞれの光に対して、液晶105を透過する角度と光学補償板201を透過する角度とを整合させることができ、光の補償効果を高めることができる。図5(B)
In contrast, in this embodiment, as shown in FIG. 5B, light including diffracted light (dotted arrow in the figure) diffracted by the
2.変形例
本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、種々の変形実施が可能である。以下、変形例をいくつか説明する。以下の変形例のうち2つ以上のものが組み合わせて用いられてもよい。
2. Modifications The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. Hereinafter, some modifications will be described. Two or more of the following modifications may be used in combination.
図6は、変形例1に係る液晶パネル100の構造を例示する図である。この例で、液晶パネル100においては、光学補償板201の詳細が図4の構成と異なっている。光学補償板201は、いわゆるOプレートを2層とCプレートとを積層したものである。Oプレートとは、屈折率楕円体が面内方向および厚み方向から見て傾斜している光学部材をいう。1軸性位相差板の場合は、例えば、次元方向の屈折率の関係が基板法線をz方向として、基板面内のx方向とy方向の屈折率関係がnx>ny=nzであるが、この楕円体の自体が厚み方向から見て傾斜していることになる。また2軸性位相差板の場合には、3次元方向の屈折率がすべて異なり、この3次元楕円体が基板法線に対して傾斜していることになる。Oプレートは、1軸性位相差板であってもよいし、2軸性位相差板であってもよい。Oプレートは無機材料を斜方蒸着することにより、またCプレートは無機材料をスパッタリングすることにより、それぞれ形成されている。
FIG. 6 is a diagram illustrating the structure of the
また、この例で、光学補償板201は防塵ガラスを兼ねており、対向基板103に接着されている。図4の構成と比較すると、光学補償板201の配置スペースを減らすこと、すなわち省スペース化することができる。防塵カラスは、電気光学装置を電子機器であるプロジェクター2100等の投射装置に組み込んだ場合、液晶パネル100に塵が付着しても表示品質を低下させないものである。
In this example, the
なお、光学補償板201は、Oプレートを2層とCプレートとを積層したものに限定されない。1軸性位相差板であるOプレートまたは2軸性位相差板であるOプレートを1層と、Cプレートとを積層させたものであってもよい。
The
図7は、変形例2に係る液晶パネル100の構造を例示する図である。この例で、光学補償板201は、対向基板103と共通電極108の間に形成されている。
FIG. 7 is a diagram illustrating the structure of the
図8は、変形例3に係る液晶パネル100の構造を例示する図である。この例で、光学補償板201は、素子基板102および液晶105(より詳細には画素電極118)の間に形成されている。図7および図8で例示したように、素子基板102よりも光路の下流に光学補償板201が位置するのであれば、液晶パネル100はどのような構造を有していてもよい。
FIG. 8 is a diagram illustrating the structure of the
液晶はVAモードのものに限定されない。TN液晶など、他のモードの液晶が用いられてもよい。あるいは、液晶以外の電気光学層が用いられてもよい。また、液晶パネル100はプロジェクターのライトバルブに用いられるものに限定されない。液晶パネル100は、直視の表示装置に用いられるものであってもよい。
The liquid crystal is not limited to the VA mode. Other modes of liquid crystal such as TN liquid crystal may be used. Alternatively, an electro-optical layer other than liquid crystal may be used. Further, the
10…制御回路、20…走査制御回路、30…映像処理回路、100…液晶パネル、101…表示領域、102…素子基板、103…対向基板、105…液晶、108…共通電極、109…層間膜、111…画素、112…走査線、114…データ線、115…容量線、116…TFT、118…画素電極、120…液晶素子、130…走査線駆動回路、140…データ線駆動回路、201…光学補償板、1021…マイクロレンズ、1022…マイクロレンズアレイ、2100…プロジェクター、2102…ランプユニット、2106…ミラー、2108…ダイクロイックミラー、2112…ダイクロイックプリズム、2114…投写レンズ群、2120…スクリーン、2121…リレーレンズ系、2122…入射レンズ、2123…リレーレンズ、2124…出射レンズ、2150…ライトバルブ
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記素子基板から入射した光を透過する電気光学層と、
前記電気光学層から入射した光を透過する対向基板と、
前記素子基板の光出射側に設けられた光学補償板と
を有する電気光学装置。 An element substrate for emitting light transmitted through the microlens;
An electro-optic layer that transmits light incident from the element substrate;
A counter substrate that transmits light incident from the electro-optic layer;
An electro-optical device comprising: an optical compensation plate provided on a light emitting side of the element substrate.
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein the optical compensation plate is provided on a light emitting side of the counter substrate.
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein the optical compensation plate is provided on a light emitting side of the electro-optical layer and on a light incident side of the counter substrate.
前記光学補償板が、前記画素電極の前記素子基板側に設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 A pixel electrode provided on the electro-optic layer side of the element substrate;
The electro-optical device according to claim 1, wherein the optical compensation plate is provided on the element substrate side of the pixel electrode.
ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical compensation plate is formed of an inorganic material.
ことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein the optical compensation plate includes a uniaxial retardation plate.
ことを特徴とする請求項6に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 6, wherein the optical compensation plate includes a C plate.
ことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to any one of claims 1 to 7, wherein the optical compensation plate includes a biaxial retardation plate.
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