JP2017129804A - Electro-optic device and electronic apparatus - Google Patents

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Akihide Haruyama
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transmission type electro-optic device capable of improving the brightness and the contrast.SOLUTION: A liquid crystal panel 100 includes: an element substrate 102 that emits a lay of light transmitted through a micro-lens 1021; a liquid crystal 105 that transmits the light coming from the element substrate 102; a counter substrate 103 that transmits the light coming from the liquid crystal 105; and an optical compensation plate 201 disposed at the light outgoing side of the element substrate 102.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は電気光学装置及び電気光学装置を組み込んだ電子機器に関し、特に、マイクロレンズアレイを備える電気光学装置及びこれを用いた電子機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic device incorporating the electro-optical device, and more particularly to an electro-optical device including a microlens array and an electronic device using the same.

例えばプロジェクターのライトバルブとして用いられる液晶パネルにおいて、基板上の配線による開口率の低下に起因するコントラスト低下を改善する技術が知られている。特許文献1には、液晶セルの光軸に対して傾斜および回転可能な光学補償板を有する液晶装置が記載されている。特許文献2には、対向基板側から光を入射する液晶表示装置において素子基板側にマイクロレンズを設ける技術が記載されている。特許文献3には、対向基板側から光を入射する液晶表示装置においてマイクロレンズによる回折の影響を2枚の位相差板を用いて補償する技術が記載されている。   For example, in a liquid crystal panel used as a light valve of a projector, a technique for improving a decrease in contrast due to a decrease in aperture ratio due to wiring on a substrate is known. Patent Document 1 describes a liquid crystal device having an optical compensator that can be tilted and rotated with respect to the optical axis of a liquid crystal cell. Patent Document 2 describes a technique in which a microlens is provided on an element substrate side in a liquid crystal display device in which light is incident from the counter substrate side. Patent Document 3 describes a technique for compensating for the influence of diffraction by a microlens using two retardation plates in a liquid crystal display device in which light is incident from the counter substrate side.

特開2011−164373号公報JP 2011-164373 A 特開2003−140127号公報JP 2003-140127 A 特開2013−178556号公報JP 2013-178556 A

特許文献1においては、光の利用効率が十分でないという問題があった。特許文献2および3においては、液晶層から出射した光が素子基板の素子等により回折され、マイクロレンズによる集光の効果が薄れてしまい、光利用効率が低下する、また、コントラストが低下するという問題があった。   In Patent Document 1, there is a problem that the light use efficiency is not sufficient. In Patent Documents 2 and 3, the light emitted from the liquid crystal layer is diffracted by the element of the element substrate, and the effect of condensing by the microlens is diminished, so that the light utilization efficiency is lowered and the contrast is lowered. There was a problem.

これに対し本発明は、電気光学装置及び電子機器において、光の利用効率及びコントラストをより向上させる技術を提供する。   On the other hand, the present invention provides a technique for further improving light utilization efficiency and contrast in electro-optical devices and electronic devices.

本発明は、マイクロレンズを透過した光を出射する素子基板と、前記素子基板から入射した光を透過する電気光学層と、前記電気光学層から入射した光を透過する対向基板と、前記素子基板の光出射側に設けられた光学補償板とを有する電気光学装置を提供する。
この電気光学装置によれば、入射光をマイクロレンズにより集光し、光を効率よく素子基板から電気光学層に入射させるとともに、電気光学層からの回折光が抑制された光が光学補償板により電気光学層等で生じる位相差(復等屈折効果)等を効果的に打ち消す(補償)ことができる。例えば、入射光である光源からの光を効率よく出射でき、さらに、電気光学層から出射した光を出射側の偏光板における光の漏れを生じさせないように出射できる。従って、電気光学装置の明るさ(光利用効果)を向上できるとともにコントラストを向上させることができる。
The present invention includes an element substrate that emits light transmitted through a microlens, an electro-optical layer that transmits light incident from the element substrate, a counter substrate that transmits light incident from the electro-optical layer, and the element substrate There is provided an electro-optical device having an optical compensation plate provided on the light emitting side of the above.
According to this electro-optical device, incident light is collected by the microlens, and the light is efficiently incident on the electro-optical layer from the element substrate, and light whose diffraction light from the electro-optical layer is suppressed is transmitted by the optical compensator. It is possible to effectively cancel (compensate) a phase difference (birefringence effect) or the like generated in the electro-optic layer or the like. For example, light from a light source that is incident light can be efficiently emitted, and further, light emitted from the electro-optic layer can be emitted so as not to cause light leakage in the polarizing plate on the emission side. Accordingly, the brightness (light utilization effect) of the electro-optical device can be improved and the contrast can be improved.

前記光学補償板が、前記対向基板の光出射側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、光学補償板を電気光学装置に容易に形成することができる。例えば、対向基板に有機膜または無機膜を形成することで光学補償板を形成できる。また、別体の有機膜または無機膜が形成された光学補償板(ガラス、フィルム)を対向基板に接着剤で張り付けることで形成できる。
The optical compensation plate may be provided on the light emitting side of the counter substrate.
According to this electro-optical device, the optical compensation plate can be easily formed on the electro-optical device. For example, the optical compensation plate can be formed by forming an organic film or an inorganic film on the counter substrate. Alternatively, an optical compensation plate (glass, film) on which a separate organic film or inorganic film is formed can be attached to the counter substrate with an adhesive.

前記光学補償板が、前記電気光学層の光出射側かつ前記対向基板の光入射側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、電気光学層からの出射光が、対向基板より前に光学補償板に入射し、回折光がより抑制され、電気光学層で生じる位相差をより効果的に補償できる。
The optical compensation plate may be provided on the light emitting side of the electro-optic layer and on the light incident side of the counter substrate.
According to this electro-optical device, the light emitted from the electro-optical layer enters the optical compensation plate before the counter substrate, the diffracted light is further suppressed, and the phase difference generated in the electro-optical layer can be more effectively compensated. .

前記素子基板の前記電気光学層側に設けられた画素電極を有し、前記光学補償板が、前記画素電極の素子基板側に設けられていてもよい。
この電気光学装置によれば、光が光学補償板に入射して電気光学層から出射し、回折光がより抑制され、電気光学層で生じる位相差をより効果的に補償できる。
It may have a pixel electrode provided on the electro-optic layer side of the element substrate, and the optical compensation plate may be provided on the element substrate side of the pixel electrode.
According to this electro-optical device, light enters the optical compensation plate and exits from the electro-optical layer, diffracted light is further suppressed, and a phase difference generated in the electro-optical layer can be more effectively compensated.

前記光学補償板が、無機材料により形成されていてもよい。
この電気光学装置によれば、光学補償板の耐光性と耐熱性が向上した電気光学装置が形成できる。
The optical compensation plate may be formed of an inorganic material.
According to this electro-optical device, an electro-optical device with improved light resistance and heat resistance of the optical compensator can be formed.

前記光学補償板が、1軸性位相差板を含んでいてもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を1軸補償することができる。
The optical compensation plate may include a uniaxial retardation plate.
According to this electro-optical device, the phase difference can be uniaxially compensated.

前記光学補償板は、Cプレートを含んでもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を補償することができる。
The optical compensation plate may include a C plate.
According to this electro-optical device, the phase difference can be compensated.

前記光学補償板は、2軸位相差板を含んでいてもよい。
この電気光学装置によれば、位相差を2軸補償することができる。
The optical compensation plate may include a biaxial retardation plate.
According to this electro-optical device, the phase difference can be biaxially compensated.

また、本発明の一実施形態に係る電子機器は、上記の本発明に係る電気光学装置を備える。
この電子機器によれば、明るさとコントラストを向上させることができる。
An electronic apparatus according to an embodiment of the invention includes the electro-optical device according to the invention.
According to this electronic device, brightness and contrast can be improved.

一実施形態に係るプロジェクター2100の構成を例示する図。FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a projector 2100 according to an embodiment. 一実施形態に係る液晶パネル100の電気的構成を例示する図。The figure which illustrates the electrical constitution of the liquid crystal panel 100 which concerns on one Embodiment. 画素111の等価回路を示す図。FIG. 6 shows an equivalent circuit of a pixel 111. 一実施形態に係る液晶パネル100の断面構造の概要を例示する図。The figure which illustrates the outline | summary of the cross-section of the liquid crystal panel 100 which concerns on one Embodiment. 液晶パネル100における光路を比較例と対比する図。The figure which contrasts the optical path in the liquid crystal panel 100 with a comparative example. 変形例1に係る液晶パネル100の構造を例示する図。The figure which illustrates the structure of the liquid crystal panel 100 which concerns on the modification 1. As shown in FIG. 変形例2に係る液晶パネル100の構造を例示する図。The figure which illustrates the structure of the liquid crystal panel 100 which concerns on the modification 2. As shown in FIG. 変形例3に係る液晶パネル100の構造を例示する図。The figure which illustrates the structure of the liquid crystal panel 100 which concerns on the modification 3. FIG.

1.構成
図1は、一実施形態に係るプロジェクター2100の構成を例示する図である。プロジェクター2100は、映像信号に応じた映像をスクリーン2120に投写する表示装置である電子機器の一例である。プロジェクター2100において、投写光は複数の色成分(この例では3原色)に分離され、色成分毎に個別のライトバルブ(光変調器)によって変調される。プロジェクター2100は、ランプユニット2102、ミラー2106、ダイクロイックミラー2108、ライトバルブ2150R、ライトバルブ2150G、ライトバルブ2150B、ダイクロイックプリズム2112、投写レンズ群2114、およびリレーレンズ系2121を有する。
1. Configuration FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of a projector 2100 according to an embodiment. The projector 2100 is an example of an electronic device that is a display device that projects an image corresponding to an image signal onto a screen 2120. In the projector 2100, the projection light is separated into a plurality of color components (in this example, three primary colors), and each color component is modulated by an individual light valve (light modulator). The projector 2100 includes a lamp unit 2102, a mirror 2106, a dichroic mirror 2108, a light valve 2150R, a light valve 2150G, a light valve 2150B, a dichroic prism 2112, a projection lens group 2114, and a relay lens system 2121.

ランプユニット2102は、投写光を照射する。投写光は、3枚のミラー2106および2枚のダイクロイックミラー2108によってR(赤)色、G(緑)色、B(青)色の3原色に分離される。分離された投写光は、各原色に対応するライトバルブ2150R、2150G、および2150Bにそれぞれ導かれる。なお、B色の光は、他のR色やG色と比較すると光路が長いので、その損失を防ぐために、リレーレンズ系2121を介してライトバルブ2150Bに導かれる。リレーレンズ系2121は、入射レンズ2122、リレーレンズ2123、および出射レンズ2124を含む。   The lamp unit 2102 emits projection light. The projection light is separated into three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) by three mirrors 2106 and two dichroic mirrors 2108. The separated projection light is guided to the light valves 2150R, 2150G, and 2150B corresponding to the respective primary colors. Note that light of B color has a long optical path compared to other R colors and G colors, and is therefore guided to the light valve 2150B via the relay lens system 2121 in order to prevent the loss. The relay lens system 2121 includes an entrance lens 2122, a relay lens 2123, and an exit lens 2124.

ライトバルブ2150R、2150G、および2150Bは、色成分毎の映像信号に応じて駆動される。ライトバルブ2150R、2150G、および2150Bによってそれぞれ変調された光は、ダイクロイックプリズム2112に3方向から入射する。そして、ダイクロイックプリズム2112において、R色およびB色の光は90°に屈折し、G色の光は直進する。したがって、各原色の画像が合成された後、スクリーン2120には、投写レンズ群2114によってカラー画像が投写される。   The light valves 2150R, 2150G, and 2150B are driven according to the video signal for each color component. The lights modulated by the light valves 2150R, 2150G, and 2150B are incident on the dichroic prism 2112 from three directions. In the dichroic prism 2112, the R and B light beams are refracted at 90 °, and the G light beam travels straight. Therefore, after the primary color images are combined, a color image is projected onto the screen 2120 by the projection lens group 2114.

なお、ライトバルブ2150R、2150G、および2150Bには、ダイクロイックミラー2108によって、R色、G色、B色のそれぞれに対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。また、ライトバルブ2150R、2150Bの透過像は、ダイクロイックプリズム2112により反射した後に投写されるのに対し、ライトバルブ2150Gの透過像はそのまま投写される。したがって、ライトバルブ2150R、2150Bによる水平走査方向は、ライトバルブ2150Gによる水平走査方向と逆向きにして、左右を反転させた像を表示する構成となっている。   Since light corresponding to each of R color, G color, and B color is incident on the light valves 2150R, 2150G, and 2150B by the dichroic mirror 2108, it is not necessary to provide a color filter. The transmitted images of the light valves 2150R and 2150B are projected after being reflected by the dichroic prism 2112, while the transmitted image of the light valve 2150G is projected as it is. Therefore, the horizontal scanning direction by the light valves 2150R and 2150B is opposite to the horizontal scanning direction by the light valve 2150G, and an image in which left and right are reversed is displayed.

以下において、ライトバルブ2150R、2150G、および2150Bの各々を区別しないときは単にライトバルブ2150という。ライトバルブ2150は、電気光学装置の一例である液晶パネルを含む。   Hereinafter, when each of the light valves 2150R, 2150G, and 2150B is not distinguished, it is simply referred to as a light valve 2150. The light valve 2150 includes a liquid crystal panel which is an example of an electro-optical device.

図2は、一実施形態に係る液晶パネル100の電気的構成を例示する図である。液晶パネル100は、制御回路10から供給される信号に応じて画像を表示する装置である。制御回路10は、走査制御回路20および映像処理回路30を含む。液晶パネル100は、表示領域101、走査線駆動回路130、およびデータ線駆動回路140を有する。表示領域101は、m行n列のマトリクス状に配置された画素111を有する。走査制御回路20は、同期信号Syncに応じて制御信号Yctrおよび制御信号Xctrを生成する。制御信号Yctrは走査線駆動回路130を制御する信号である。制御信号Xctrはデータ線駆動回路140を制御する信号である。映像処理回路30は、同期信号Syncおよび入力映像信号Vid−inに応じてデータ信号Vxを生成する。データ信号Vxは、各画素111に印加される電圧を示す信号である。   FIG. 2 is a diagram illustrating an electrical configuration of the liquid crystal panel 100 according to an embodiment. The liquid crystal panel 100 is a device that displays an image in accordance with a signal supplied from the control circuit 10. The control circuit 10 includes a scanning control circuit 20 and a video processing circuit 30. The liquid crystal panel 100 includes a display area 101, a scanning line driving circuit 130, and a data line driving circuit 140. The display area 101 includes pixels 111 arranged in a matrix of m rows and n columns. The scanning control circuit 20 generates a control signal Yctr and a control signal Xctr according to the synchronization signal Sync. The control signal Yctr is a signal for controlling the scanning line driving circuit 130. The control signal Xctr is a signal for controlling the data line driving circuit 140. The video processing circuit 30 generates a data signal Vx according to the synchronization signal Sync and the input video signal Vid-in. The data signal Vx is a signal indicating a voltage applied to each pixel 111.

画素111は、走査線駆動回路130およびデータ線駆動回路140から供給される信号に応じた光学状態を示す。液晶パネル100は、表示領域101における複数の画素111の光学状態を制御することにより画像を表示する。   The pixel 111 indicates an optical state in accordance with signals supplied from the scanning line driving circuit 130 and the data line driving circuit 140. The liquid crystal panel 100 displays an image by controlling the optical state of the plurality of pixels 111 in the display area 101.

液晶パネル100は、素子基板102、対向基板103、および液晶105を有する。素子基板102および対向基板103は、それぞれガラスまたは石英などの透光性を有する基板を有する。素子基板102と対向基板103とは、一定の間隙を保って貼り合わせられている。この間隙(ギャップ)に、液晶105が挟まれている。液晶105は、印加される電圧に応じて光学状態が変化する電気光学層の一例であり、例えば負の誘電率異方性を有するVA(Vertical Alignment)型の液晶である。   The liquid crystal panel 100 includes an element substrate 102, a counter substrate 103, and a liquid crystal 105. The element substrate 102 and the counter substrate 103 each have a light-transmitting substrate such as glass or quartz. The element substrate 102 and the counter substrate 103 are bonded to each other while maintaining a certain gap. The liquid crystal 105 is sandwiched between the gaps. The liquid crystal 105 is an example of an electro-optical layer whose optical state changes according to an applied voltage. For example, the liquid crystal 105 is a VA (Vertical Alignment) type liquid crystal having negative dielectric anisotropy.

素子基板102は、液晶105を挟む2枚の基板のうちスイッチング素子が形成された基板である。素子基板102は、対向基板103と対向する面において、m本の走査線112およびn本のデータ線114を有する。走査線112は第1方向(図では横方向)に沿って、データ線114は第2方向(図では縦方向)に沿って、それぞれ設けられており、互いに絶縁されている。ここでは、走査線112が延びる方向をX方向といい、データ線114が延びる方向をY方向という。一の走査線112を他の走査線112と区別するときは、図において上から順に第1、第2、第3、…、第(m−1)、および第m行の走査線112という。同様に、一のデータ線114を他のデータ線114と区別するときは、図において左から順に第1、第2、第3、…、第(n−1)、第n列のデータ線114という。画素111は、X軸およびY軸に垂直な位置にある視点からみたときに、走査線112およびデータ線114の交差に対応して設けられている。複数の画素111は、それぞれ画素電極118を有する。   The element substrate 102 is a substrate on which a switching element is formed among two substrates sandwiching the liquid crystal 105. The element substrate 102 has m scanning lines 112 and n data lines 114 on the surface facing the counter substrate 103. The scanning lines 112 are provided along the first direction (lateral direction in the figure), and the data lines 114 are provided along the second direction (vertical direction in the figure), and are insulated from each other. Here, the direction in which the scanning line 112 extends is referred to as the X direction, and the direction in which the data line 114 extends is referred to as the Y direction. When one scanning line 112 is distinguished from the other scanning lines 112, they are referred to as the first, second, third,..., (M−1) th and mth rows of scanning lines 112 in order from the top. Similarly, when distinguishing one data line 114 from other data lines 114, the first, second, third,..., (N−1) th, nth column data lines 114 are sequentially shown from the left in the figure. That's it. The pixel 111 is provided corresponding to the intersection of the scanning line 112 and the data line 114 when viewed from a viewpoint at a position perpendicular to the X axis and the Y axis. Each of the plurality of pixels 111 includes a pixel electrode 118.

対向基板103は、液晶105を挟む2枚の基板のうち素子基板102とは別の基板である。対向基板103には、共通電極108が設けられている。共通電極108は、液晶105に電圧を印加するための電極であり、複数の画素111に共通である。液晶105には、画素電極118および共通電極108の電位差に相当する電圧が印加される。対向基板103は、光の回折の要因となる構造物は、表示領域において、ほとんど形成されず、光の回折は、素子基板102と比較して、生じないと言える。   The counter substrate 103 is a substrate different from the element substrate 102 among the two substrates sandwiching the liquid crystal 105. A common electrode 108 is provided on the counter substrate 103. The common electrode 108 is an electrode for applying a voltage to the liquid crystal 105 and is common to the plurality of pixels 111. A voltage corresponding to the potential difference between the pixel electrode 118 and the common electrode 108 is applied to the liquid crystal 105. In the counter substrate 103, a structure that causes light diffraction is hardly formed in the display region, and it can be said that light diffraction does not occur as compared with the element substrate 102.

図3は、画素111の等価回路を示す図である。画素111は、TFT(Thin Film Transistor)116と、液晶素子120と、保持容量125とを有する。液晶素子120は、画素電極118と、液晶105と、共通電極108とを有する。画素電極118は、画素111毎に個別に設けられた電極である。共通電極108は、すべての画素111に共通の電極である。画素電極118は素子基板102に、共通電極108は対向基板103に、それぞれ設けられている。液晶105は、画素電極118および共通電極108に挟まれている。共通電極108には、コモン電圧LCcomが印加される。図3に例示した要素のうち少なくともTFT116は、素子基板102上に形成されている。   FIG. 3 is a diagram illustrating an equivalent circuit of the pixel 111. The pixel 111 includes a TFT (Thin Film Transistor) 116, a liquid crystal element 120, and a storage capacitor 125. The liquid crystal element 120 includes a pixel electrode 118, a liquid crystal 105, and a common electrode 108. The pixel electrode 118 is an electrode provided individually for each pixel 111. The common electrode 108 is an electrode common to all the pixels 111. The pixel electrode 118 is provided on the element substrate 102, and the common electrode 108 is provided on the counter substrate 103. The liquid crystal 105 is sandwiched between the pixel electrode 118 and the common electrode 108. A common voltage LCcom is applied to the common electrode 108. Among the elements illustrated in FIG. 3, at least the TFT 116 is formed on the element substrate 102.

TFT116は、画素電極118への電圧の印加を制御するスイッチング素子の一例であり、この例では、nチャネル型の電界効果トランジスターである。TFT116は、画素111毎に個別に設けられている。第i行第j列のTFT116のゲートは第i行の走査線112に、ソースは第j列のデータ線114に、ドレインは画素電極118に、それぞれ接続されている。保持容量125は、一端が画素電極118に、他端が容量線115に、それぞれ接続されている。容量線115には、時間的に一定の電圧が印加される。   The TFT 116 is an example of a switching element that controls application of a voltage to the pixel electrode 118. In this example, the TFT 116 is an n-channel field effect transistor. The TFT 116 is individually provided for each pixel 111. The gate of the TFT 116 in the i-th row and the j-th column is connected to the scanning line 112 in the i-th row, the source is connected to the data line 114 in the j-th column, and the drain is connected to the pixel electrode 118. The storage capacitor 125 has one end connected to the pixel electrode 118 and the other end connected to the capacitor line 115. A constant voltage is applied to the capacitor line 115 in terms of time.

第i行の走査線112にH(High)レベルの電圧(以下「選択電圧」という)の信号が供給されると、第i行j列のTFT116はオン状態となり、ソースとドレインが導通する。このとき、第j列のデータ線114に、第i行第j列の画素111の階調値(データ)に応じた電圧(以下「データ電圧」という)の信号が供給されると、データ電圧は、TFT116を介して第i行第j列の画素電極118に印加される。   When a signal of an H (High) level voltage (hereinafter referred to as “selection voltage”) is supplied to the i-th row scanning line 112, the TFT 116 in the i-th row and j-th column is turned on, and the source and the drain become conductive. At this time, when a signal having a voltage (hereinafter referred to as “data voltage”) corresponding to the gradation value (data) of the pixel 111 in the i-th row and j-th column is supplied to the j-th column data line 114, the data voltage Is applied to the pixel electrode 118 in the i-th row and j-th column via the TFT 116.

その後、第i行の走査線112にL(Low)レベルの電圧(以下「非選択電圧」という)が印加されると、TFT116はオフ状態になり、ソースとドレインは高インピーダンス状態となる。TFT116がオン状態のとき画素電極118に印加された電圧は、液晶素子120の容量性および保持容量125によって、TFT116がオフ状態になった後も保持される。   Thereafter, when an L (Low) level voltage (hereinafter referred to as “non-selection voltage”) is applied to the i-th scanning line 112, the TFT 116 is turned off, and the source and drain are in a high impedance state. The voltage applied to the pixel electrode 118 when the TFT 116 is on is held even after the TFT 116 is turned off by the capacitance of the liquid crystal element 120 and the storage capacitor 125.

液晶素子120には、データ電圧とコモン電圧との電位差に相当する電圧が印加される。液晶105の分子配向状態は、液晶素子120に印加される電圧に応じて変化する。画素111の光学状態は、液晶105の分子配向状態に応じて変化する。例えば、液晶パネル100が透過型のパネルである場合、変化する光学状態は透過率である。   A voltage corresponding to the potential difference between the data voltage and the common voltage is applied to the liquid crystal element 120. The molecular alignment state of the liquid crystal 105 changes according to the voltage applied to the liquid crystal element 120. The optical state of the pixel 111 changes according to the molecular alignment state of the liquid crystal 105. For example, when the liquid crystal panel 100 is a transmissive panel, the optical state that changes is the transmittance.

再び図2を参照する。走査線駆動回路130は、m本の走査線112の中から一の走査線112を順次排他的に選択する(すなわち走査線112を走査する)回路である。具体的には、走査線駆動回路130は、制御信号Yctrに従って、第i行の走査線112に、走査信号Yiを供給する。この例で、走査信号Yiは、選択される走査線112に対しては選択電圧となり、選択されない走査線112に対しては非選択電圧となる信号である。   Refer to FIG. 2 again. The scanning line driving circuit 130 is a circuit that sequentially and exclusively selects one scanning line 112 from the m scanning lines 112 (that is, scans the scanning line 112). Specifically, the scanning line driving circuit 130 supplies the scanning signal Yi to the i-th scanning line 112 in accordance with the control signal Yctr. In this example, the scanning signal Yi is a signal that becomes a selection voltage for the selected scanning line 112 and a non-selection voltage for the scanning line 112 that is not selected.

データ線駆動回路140は、n本のデータ線114にデータ電圧を示す信号(以下「データ信号」という)を出力する回路である。具体的には、データ線駆動回路140は、映像処理回路30から供給されるデータ信号Vxを、制御信号Xctrに従ってサンプリングし、第1〜第n列のデータ線114にデータ信号X1〜Xnとして出力する。なお、本説明において電圧については、液晶素子120の印加電圧を除き、特に明記しない限り図示省略した接地電位を基準(ゼロV)として表す。   The data line driving circuit 140 is a circuit that outputs a signal indicating a data voltage (hereinafter referred to as “data signal”) to the n data lines 114. Specifically, the data line driving circuit 140 samples the data signal Vx supplied from the video processing circuit 30 according to the control signal Xctr and outputs the data signal X1 to Xn to the data lines 114 in the first to nth columns. To do. In this description, with respect to the voltage, except for the voltage applied to the liquid crystal element 120, the ground potential not shown is represented as a reference (zero V) unless otherwise specified.

図4は、一実施形態に係る液晶パネル100の断面構造の概要を模式的に例示する図である。液晶パネル100は、素子基板102、液晶105、および対向基板103に加え、光学補償板201を有する。この例で、光源からの光は素子基板102側から入射し、素子基板102、液晶105、対向基板103、および光学補償板201を介して出射する。また、液晶パネル100は、光の入射側(光源側)と出射側に不図示の一対の偏向板を備える。   FIG. 4 is a diagram schematically illustrating an outline of a cross-sectional structure of the liquid crystal panel 100 according to an embodiment. The liquid crystal panel 100 includes an optical compensation plate 201 in addition to the element substrate 102, the liquid crystal 105, and the counter substrate 103. In this example, light from the light source is incident from the element substrate 102 side and emitted through the element substrate 102, the liquid crystal 105, the counter substrate 103, and the optical compensation plate 201. The liquid crystal panel 100 includes a pair of deflecting plates (not shown) on the light incident side (light source side) and the light emitting side.

素子基板102において、光の経路上、スイッチング素子すなわちTFT116の上流(光入射側)に、マイクロレンズアレイ1022が設けられている。マイクロレンズアレイ1022は、複数のマイクロレンズ1021を有する。マイクロレンズ1021は、入射光を画素電極118に集光するためのレンズであり、画素111毎に設けられている。   In the element substrate 102, a microlens array 1022 is provided on the upstream side (light incident side) of the switching element, that is, the TFT 116 on the light path. The microlens array 1022 has a plurality of microlenses 1021. The micro lens 1021 is a lens for condensing incident light on the pixel electrode 118, and is provided for each pixel 111.

マイクロレンズアレイ1022の形状は、例えばフォトリソグラフィー技術を用いたパターニングおよびエッチングによって形成される。すなわち、まず素子基板102本体の表面にマイクロレンズアレイ1022に相当するパターンのレジストが形成され、エッチングにより凹部が形成される。レジスト除去後、この凹部にレンズ材料が埋め込まれ、マイクロレンズアレイ1022が形成される。レンズ材料は、素子基板102本体よりも屈折率が高い材料が用いられる。例えば、素子基板102本体として石英が用いられる場合、レンズ材料としては、SiONまたはAl23などの無機材料が用いられる。埋め込まれたレンズ材料の層は例えばCMP(Chemical Mechanical Polishing)処理により平坦化される。表面が平坦化されたレンズ材料はマイクロレンズアレイ1022として機能する。こうして、マイクロレンズアレイ1022を含む素子基板102が形成される。マイクロレンズアレイ1022は、画素電極118に集光できるレンズではあれば、形状および材料を限定するものでない。また、マイクロレンズアレイ1022と素子基板102を、別体で形成し、それを貼り合わせてもよい。 The shape of the microlens array 1022 is formed by patterning and etching using a photolithography technique, for example. That is, first, a resist having a pattern corresponding to the microlens array 1022 is formed on the surface of the element substrate 102 body, and a recess is formed by etching. After the resist is removed, a lens material is embedded in the recess to form a microlens array 1022. As the lens material, a material having a higher refractive index than the main body of the element substrate 102 is used. For example, when quartz is used for the element substrate 102 body, an inorganic material such as SiON or Al 2 O 3 is used as the lens material. The embedded lens material layer is planarized by, for example, CMP (Chemical Mechanical Polishing). The lens material whose surface is flattened functions as a microlens array 1022. Thus, the element substrate 102 including the microlens array 1022 is formed. The microlens array 1022 is not limited in shape and material as long as it is a lens that can focus on the pixel electrode 118. Alternatively, the microlens array 1022 and the element substrate 102 may be formed separately and bonded together.

素子基板102の液晶105側の表面には、TFT116、走査線112、およびデータ線114が形成されている。なお走査線112およびデータ線114は、図4においては図示を省略しており、液晶105側の表面に形成された構造物の代表としてTFT161のみ図示している。素子基板102における光の回折の主要因はTFT161の構造物である。TFT161よりもさらに上部(光の経路における下流)には、画素電極118が形成されている。画素電極118は、ITO(Indium Tin Oxide)などの透光性を有する導電層をパターニングしたものである。図4においては図面を簡単にするため画素電極118は一連の層として記載しているが、実際、画素電極118は画素毎に分離している。光路を調整するため、マイクロレンズアレイ1022と画素電極118との間には層間膜109が形成されている。層間膜109は、例えばSiO2など、絶縁性および透光性を有する材料により形成される。 A TFT 116, a scanning line 112, and a data line 114 are formed on the surface of the element substrate 102 on the liquid crystal 105 side. Note that the scanning lines 112 and the data lines 114 are not shown in FIG. 4, and only the TFT 161 is shown as a representative structure formed on the surface on the liquid crystal 105 side. The main factor of light diffraction in the element substrate 102 is the structure of the TFT 161. A pixel electrode 118 is formed further above the TFT 161 (downstream in the light path). The pixel electrode 118 is obtained by patterning a light-transmitting conductive layer such as ITO (Indium Tin Oxide). In FIG. 4, the pixel electrode 118 is illustrated as a series of layers for the sake of simplicity, but the pixel electrode 118 is actually separated for each pixel. In order to adjust the optical path, an interlayer film 109 is formed between the microlens array 1022 and the pixel electrode 118. The interlayer film 109 is formed of a material having an insulating property and a light transmitting property such as SiO 2 .

対向基板103の液晶105側の表面には、共通電極108が形成されている。共通電極108は、ITOなどの透光性を有する導電層で形成されている。   A common electrode 108 is formed on the surface of the counter substrate 103 on the liquid crystal 105 side. The common electrode 108 is formed of a light-transmitting conductive layer such as ITO.

素子基板102および対向基板103は、スペーサーを含むシール材(図示略)によって一定の間隙を保って、互いに電極形成面が対向するように貼り合わせられている。液晶105は、この間隙に封入されている。素子基板102および対向基板103の液晶105に面する側には、それぞれ配向膜(図示略)が形成されている。配向膜は、電圧印加時に液晶分子が傾く方向を揃えるため、所定の方向にラビングされている。所定の方向とは、例えば、素子基板102においては画素111の配置に対して右上から左下に向かう方向であり、対向基板103においては左下から右上に向かう方向である。配向膜により、VA型の液晶分子は、電圧が印加されていないときに、素子基板102および対向基板103の表面に対して垂直な状態から例えば2〜6°傾いた方向に配向する。電圧が印加されていない状態において液晶分子が基板面に対して傾いていることをプレチルトといい、このときの傾きをプレチルト角という。プレチルト角は例えば88〜84°である。また、配向膜はSiO2等を材料とした無機配向膜でもよく、無機配向膜は所定の方向から斜方蒸着によって形成され、プレチルトが付与される。 The element substrate 102 and the counter substrate 103 are bonded together with a sealant (not shown) including a spacer so that the electrode formation surfaces face each other while maintaining a certain gap. The liquid crystal 105 is sealed in this gap. An alignment film (not shown) is formed on each of the element substrate 102 and the counter substrate 103 facing the liquid crystal 105. The alignment film is rubbed in a predetermined direction in order to align the direction in which the liquid crystal molecules tilt when a voltage is applied. The predetermined direction is, for example, a direction from the upper right to the lower left with respect to the arrangement of the pixels 111 in the element substrate 102, and a direction from the lower left to the upper right in the counter substrate 103. By the alignment film, VA-type liquid crystal molecules are aligned in a direction inclined by 2 to 6 °, for example, from a state perpendicular to the surfaces of the element substrate 102 and the counter substrate 103 when no voltage is applied. The tilt of the liquid crystal molecules with respect to the substrate surface in a state where no voltage is applied is referred to as pretilt, and the tilt at this time is referred to as pretilt angle. The pretilt angle is, for example, 88 to 84 °. Further, the alignment film may be an inorganic alignment film made of SiO 2 or the like, and the inorganic alignment film is formed by oblique deposition from a predetermined direction and given a pretilt.

光の経路において対向基板103の下流側(光出射側)には、光学補償板201が設けられている。光学補償板201は、液晶105を透過した光の位相差を補償するための光学部品であり、例えば、いわゆるCプレートである。Cプレートとは面内方向の屈折率(nx、xy)が厚み方向の屈折率(nz)と異なる光学部品をいい、特にnx=ny>nzのものをネガティブCプレートという。光学補償板201は、例えば、液晶105のプレチルトによって生じる位相差を補償するために用いられる。プレチルトによる位相差を補償するため、光学補償板201は、対向基板103の基板面に対して傾斜して配置されている。光学補償板201は、位相差を最適に補償する角度に傾斜角を調整するための角度調整機構を有してもよいし、液晶105のプレチルト角に応じて最適な傾斜角に設計されていてもよい。光学補償板201は、例えば無機材料で形成される。無機材料としては、例えば、Si、Al、Cr、Ti、およびZrの少なくとも1つを含有する酸化物が用いられる。あるいは、光学補償板201は、樹脂等の無機材料で形成されてもよい。また、光学補償板201はCプレートのみに限定されるものではなく、例えばCプレートと少なくとも一枚以上のOプレートを組み合わせたものでもよい。Cプレートと2枚のOプレートを組み合わせた場合には、基板は傾ける必要がなく、Oプレート基板法線を回転軸として調整して補償することも可能である。   An optical compensation plate 201 is provided on the downstream side (light emission side) of the counter substrate 103 in the light path. The optical compensation plate 201 is an optical component for compensating for the phase difference of light transmitted through the liquid crystal 105, and is, for example, a so-called C plate. The C plate refers to an optical component having a refractive index (nx, xy) in the in-plane direction different from a refractive index (nz) in the thickness direction. The optical compensation plate 201 is used, for example, to compensate for a phase difference caused by the pretilt of the liquid crystal 105. In order to compensate for the phase difference due to the pretilt, the optical compensation plate 201 is disposed to be inclined with respect to the substrate surface of the counter substrate 103. The optical compensator 201 may have an angle adjustment mechanism for adjusting the tilt angle to an angle that optimally compensates for the phase difference, and is designed to have an optimal tilt angle according to the pretilt angle of the liquid crystal 105. Also good. The optical compensation plate 201 is made of, for example, an inorganic material. As the inorganic material, for example, an oxide containing at least one of Si, Al, Cr, Ti, and Zr is used. Alternatively, the optical compensation plate 201 may be formed of an inorganic material such as a resin. The optical compensation plate 201 is not limited to the C plate, and may be a combination of the C plate and at least one O plate. When the C plate and the two O plates are combined, it is not necessary to incline the substrate, and it is possible to compensate by adjusting the normal of the O plate substrate as the rotation axis.

図5は、液晶パネル100における光路を比較例と対比する図である。図5の(A)が比較例に係る液晶パネルにおける光補償効果を模式的に示したものであり、図5の(B)が本実施形態に係る液晶パネル100であり、図4において、光補償効果を模式的に示したものである。比較例においては、対向基板103にマイクロレンズアレイ1032が形成されており、光源からの光は対向基板103から入射して、素子基板102から出射する。光が液晶105を透過する方向と光学補償板201を透過する方向とが同一であることが理想であるが、比較例においては素子基板102上の構造物(TFT116等)により光が回折し、液晶105を透過したある光の光路に対して、回折ピークすなわち光学補償板201を透過する光路が複数、発生する。光学補償板201は、液晶105を透過した光に対して、その光が液晶105において受けた光路変化(光学特性)を補償するように設計されている。したがって、液晶105を透過した光がその後で回折されると、回折光(図の点線の矢印)に対しては0次光(図の実線の矢印)ほどの補償効果が及ばない。光源から液晶パネルに入射する光は例えば10°程度の角度分布を有しているため、各方向の光に対してこの現象が生じることとなる。そのため、光学補償板201による補償効果が十分に得られない場合がある。   FIG. 5 is a diagram comparing the optical path in the liquid crystal panel 100 with a comparative example. 5A schematically shows the light compensation effect in the liquid crystal panel according to the comparative example, and FIG. 5B shows the liquid crystal panel 100 according to the present embodiment. The compensation effect is schematically shown. In the comparative example, a microlens array 1032 is formed on the counter substrate 103, and light from the light source enters the counter substrate 103 and exits from the element substrate 102. Ideally, the direction in which light is transmitted through the liquid crystal 105 and the direction in which the light is transmitted through the optical compensation plate 201 are the same, but in the comparative example, the light is diffracted by a structure (such as the TFT 116) on the element substrate 102, With respect to the optical path of certain light that has passed through the liquid crystal 105, a plurality of diffraction peaks, that is, optical paths that pass through the optical compensator 201 are generated. The optical compensator 201 is designed so as to compensate the light transmitted through the liquid crystal 105 for the optical path change (optical characteristics) received by the liquid crystal 105. Therefore, when the light transmitted through the liquid crystal 105 is diffracted thereafter, the compensation effect as much as the 0th-order light (solid arrow in the figure) does not reach the diffracted light (dotted arrow in the figure). Since the light incident on the liquid crystal panel from the light source has an angular distribution of about 10 °, for example, this phenomenon occurs with respect to the light in each direction. Therefore, the compensation effect by the optical compensation plate 201 may not be sufficiently obtained.

素子基板102における回折現象は、小型化、高精細化に伴い、隣り合う画素111の間隔すなわち画素ピッチが狭くなるほど顕著になる。すなわち、画素ピッチが狭くなるほど、回折光の強度は強くなり、回折角は大きくなる。一例として、波長550nmの光が入射角5°で入射した場合、ピッチが8.5μmのときは1次回折光の回折角は1.3°および8.7°であり、ピッチが6μmのときは1次回折光の回折角は−0.3°および10.3°であり、ピッチが4μmのときは1次回折光の回折角は−2.9°および13.0°である。   The diffraction phenomenon in the element substrate 102 becomes more prominent as the distance between adjacent pixels 111, that is, the pixel pitch becomes narrower as the size and the definition become higher. That is, the narrower the pixel pitch, the stronger the diffracted light and the larger the diffraction angle. As an example, when light with a wavelength of 550 nm is incident at an incident angle of 5 °, the diffraction angles of the first-order diffracted light are 1.3 ° and 8.7 ° when the pitch is 8.5 μm, and when the pitch is 6 μm. The diffraction angles of the first order diffracted light are −0.3 ° and 10.3 °, and when the pitch is 4 μm, the diffraction angles of the first order diffracted light are −2.9 ° and 13.0 °.

これに対し本実施形態においては、図5(B)のように、素子基板102において回折された回折光(図の点線の矢印)を含む光が、液晶105に入射し、液晶105から出射した光は回折されずそのまま光学補償板201に入射する。すなわち、液晶105を透過したそれぞれの光に対して、液晶105を透過する角度と光学補償板201を透過する角度とを整合させることができ、光の補償効果を高めることができる。図5(B)   In contrast, in this embodiment, as shown in FIG. 5B, light including diffracted light (dotted arrow in the figure) diffracted by the element substrate 102 enters the liquid crystal 105 and exits from the liquid crystal 105. The light is incident on the optical compensation plate 201 without being diffracted. That is, for each light transmitted through the liquid crystal 105, the angle transmitted through the liquid crystal 105 and the angle transmitted through the optical compensation plate 201 can be matched, and the light compensation effect can be enhanced. FIG. 5 (B)

2.変形例
本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、種々の変形実施が可能である。以下、変形例をいくつか説明する。以下の変形例のうち2つ以上のものが組み合わせて用いられてもよい。
2. Modifications The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. Hereinafter, some modifications will be described. Two or more of the following modifications may be used in combination.

図6は、変形例1に係る液晶パネル100の構造を例示する図である。この例で、液晶パネル100においては、光学補償板201の詳細が図4の構成と異なっている。光学補償板201は、いわゆるOプレートを2層とCプレートとを積層したものである。Oプレートとは、屈折率楕円体が面内方向および厚み方向から見て傾斜している光学部材をいう。1軸性位相差板の場合は、例えば、次元方向の屈折率の関係が基板法線をz方向として、基板面内のx方向とy方向の屈折率関係がnx>ny=nzであるが、この楕円体の自体が厚み方向から見て傾斜していることになる。また2軸性位相差板の場合には、3次元方向の屈折率がすべて異なり、この3次元楕円体が基板法線に対して傾斜していることになる。Oプレートは、1軸性位相差板であってもよいし、2軸性位相差板であってもよい。Oプレートは無機材料を斜方蒸着することにより、またCプレートは無機材料をスパッタリングすることにより、それぞれ形成されている。   FIG. 6 is a diagram illustrating the structure of the liquid crystal panel 100 according to the first modification. In this example, in the liquid crystal panel 100, the details of the optical compensation plate 201 are different from the configuration of FIG. The optical compensation plate 201 is a laminate of two so-called O plates and a C plate. The O plate refers to an optical member in which a refractive index ellipsoid is inclined when viewed from the in-plane direction and the thickness direction. In the case of a uniaxial retardation plate, for example, the relationship between the refractive indexes in the dimensional direction is that the substrate normal is the z direction, and the refractive index relationship between the x direction and the y direction in the substrate plane is nx> ny = nz. The ellipsoid itself is inclined as viewed from the thickness direction. In the case of a biaxial retardation plate, the refractive indexes in all three-dimensional directions are different, and this three-dimensional ellipsoid is inclined with respect to the substrate normal. The O plate may be a uniaxial retardation plate or a biaxial retardation plate. The O plate is formed by obliquely depositing an inorganic material, and the C plate is formed by sputtering an inorganic material.

また、この例で、光学補償板201は防塵ガラスを兼ねており、対向基板103に接着されている。図4の構成と比較すると、光学補償板201の配置スペースを減らすこと、すなわち省スペース化することができる。防塵カラスは、電気光学装置を電子機器であるプロジェクター2100等の投射装置に組み込んだ場合、液晶パネル100に塵が付着しても表示品質を低下させないものである。   In this example, the optical compensator 201 also serves as dustproof glass and is bonded to the counter substrate 103. Compared with the configuration of FIG. 4, the arrangement space of the optical compensation plate 201 can be reduced, that is, the space can be saved. The dust-proof crow does not deteriorate display quality even if dust adheres to the liquid crystal panel 100 when the electro-optical device is incorporated in a projector such as the projector 2100 that is an electronic device.

なお、光学補償板201は、Oプレートを2層とCプレートとを積層したものに限定されない。1軸性位相差板であるOプレートまたは2軸性位相差板であるOプレートを1層と、Cプレートとを積層させたものであってもよい。   The optical compensation plate 201 is not limited to a laminate of two O plates and a C plate. The O plate that is a uniaxial retardation plate or the O plate that is a biaxial retardation plate may be formed by laminating one layer and a C plate.

図7は、変形例2に係る液晶パネル100の構造を例示する図である。この例で、光学補償板201は、対向基板103と共通電極108の間に形成されている。   FIG. 7 is a diagram illustrating the structure of the liquid crystal panel 100 according to the second modification. In this example, the optical compensation plate 201 is formed between the counter substrate 103 and the common electrode 108.

図8は、変形例3に係る液晶パネル100の構造を例示する図である。この例で、光学補償板201は、素子基板102および液晶105(より詳細には画素電極118)の間に形成されている。図7および図8で例示したように、素子基板102よりも光路の下流に光学補償板201が位置するのであれば、液晶パネル100はどのような構造を有していてもよい。   FIG. 8 is a diagram illustrating the structure of the liquid crystal panel 100 according to the third modification. In this example, the optical compensation plate 201 is formed between the element substrate 102 and the liquid crystal 105 (more specifically, the pixel electrode 118). As illustrated in FIGS. 7 and 8, the liquid crystal panel 100 may have any structure as long as the optical compensation plate 201 is positioned downstream of the element substrate 102 in the optical path.

液晶はVAモードのものに限定されない。TN液晶など、他のモードの液晶が用いられてもよい。あるいは、液晶以外の電気光学層が用いられてもよい。また、液晶パネル100はプロジェクターのライトバルブに用いられるものに限定されない。液晶パネル100は、直視の表示装置に用いられるものであってもよい。   The liquid crystal is not limited to the VA mode. Other modes of liquid crystal such as TN liquid crystal may be used. Alternatively, an electro-optical layer other than liquid crystal may be used. Further, the liquid crystal panel 100 is not limited to that used for a light valve of a projector. The liquid crystal panel 100 may be used for a direct-view display device.

10…制御回路、20…走査制御回路、30…映像処理回路、100…液晶パネル、101…表示領域、102…素子基板、103…対向基板、105…液晶、108…共通電極、109…層間膜、111…画素、112…走査線、114…データ線、115…容量線、116…TFT、118…画素電極、120…液晶素子、130…走査線駆動回路、140…データ線駆動回路、201…光学補償板、1021…マイクロレンズ、1022…マイクロレンズアレイ、2100…プロジェクター、2102…ランプユニット、2106…ミラー、2108…ダイクロイックミラー、2112…ダイクロイックプリズム、2114…投写レンズ群、2120…スクリーン、2121…リレーレンズ系、2122…入射レンズ、2123…リレーレンズ、2124…出射レンズ、2150…ライトバルブ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Control circuit, 20 ... Scan control circuit, 30 ... Image processing circuit, 100 ... Liquid crystal panel, 101 ... Display area, 102 ... Element substrate, 103 ... Opposite substrate, 105 ... Liquid crystal, 108 ... Common electrode, 109 ... Interlayer film , 111 ... pixels, 112 ... scanning lines, 114 ... data lines, 115 ... capacitance lines, 116 ... TFTs, 118 ... pixel electrodes, 120 ... liquid crystal elements, 130 ... scanning line driving circuits, 140 ... data line driving circuits, 201 ... Optical compensator, 1021 ... micro lens, 1022 ... micro lens array, 2100 ... projector, 2102 ... lamp unit, 2106 ... mirror, 2108 ... dichroic mirror, 2112 ... dichroic prism, 2114 ... projection lens group, 2120 ... screen, 2121 ... Relay lens system, 2122 ... incident lens, 2123 ... relay Lens, 2124 ... exit lens, 2150 ... light valve

Claims (9)

マイクロレンズを透過した光を出射する素子基板と、
前記素子基板から入射した光を透過する電気光学層と、
前記電気光学層から入射した光を透過する対向基板と、
前記素子基板の光出射側に設けられた光学補償板と
を有する電気光学装置。
An element substrate for emitting light transmitted through the microlens;
An electro-optic layer that transmits light incident from the element substrate;
A counter substrate that transmits light incident from the electro-optic layer;
An electro-optical device comprising: an optical compensation plate provided on a light emitting side of the element substrate.
前記光学補償板が、前記対向基板の光出射側に設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1, wherein the optical compensation plate is provided on a light emitting side of the counter substrate.
前記光学補償板が、前記電気光学層の光出射側かつ前記対向基板の光入射側に設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1, wherein the optical compensation plate is provided on a light emitting side of the electro-optical layer and on a light incident side of the counter substrate.
前記素子基板の前記電気光学層側に設けられた画素電極を有し、
前記光学補償板が、前記画素電極の前記素子基板側に設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
A pixel electrode provided on the electro-optic layer side of the element substrate;
The electro-optical device according to claim 1, wherein the optical compensation plate is provided on the element substrate side of the pixel electrode.
前記光学補償板が、無機材料により形成されている
ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical compensation plate is formed of an inorganic material.
前記光学補償板が、1軸性位相差板を含む
ことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1, wherein the optical compensation plate includes a uniaxial retardation plate.
前記光学補償板は、Cプレートを含む
ことを特徴とする請求項6に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 6, wherein the optical compensation plate includes a C plate.
前記光学補償板は、2軸性位相差板を含む
ことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 7, wherein the optical compensation plate includes a biaxial retardation plate.
請求項1ないし8のいずれか一項に記載の電気光学装置を有する電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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