JP2017125098A - Method for curing photocurable adhesive, cured product, photocurable adhesive, and product - Google Patents

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翔馬 河野
Shoma Kono
翔馬 河野
智洋 緑川
Tomohiro Midorikawa
智洋 緑川
岡村 直実
Naomi Okamura
直実 岡村
宏士 山家
Hiroshi Yamaya
宏士 山家
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for curing a photocurable adhesive which has long heating stability at high temperature, and can control curing timing at desired timing; a cured product; a photocurable adhesive; and a product.SOLUTION: A method for curing a photocurable adhesive includes: a heating step of heating a photocurable adhesive containing a thermoplastic resin and a photo-latent curing catalyst at 50°C or higher; a coating step of coating the heated photocurable adhesive onto an adherend; and a curing step of irradiating the photocurable adhesive coated onto the adherent with light to cure the adherend.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光硬化性接着剤の硬化方法、硬化物、光硬化性接着剤、及び製品に関する。特に、本発明は、高温での加熱安定性に優れると共に硬化タイミングを制御できる光硬化性接着剤の硬化方法、硬化物、光硬化性接着剤、及び製品に関する。   The present invention relates to a method for curing a photocurable adhesive, a cured product, a photocurable adhesive, and a product. In particular, the present invention relates to a photocurable adhesive curing method, a cured product, a photocurable adhesive, and a product that are excellent in heat stability at high temperatures and can control the curing timing.

従来、下記一般式(i)で表される反応性ケイ素基を有する有機重合体、常温で固体の樹脂、下記一般式(ii)で表される反応性ケイ素基を有するシランカップリング剤、硬化触媒を含有する湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤組成物が知られている。
−SiR 3−a (i)
(式中Rはそれぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基からなる群より選択される少なくとも1つである。Xは水酸基または加水分解性基である。aは1、2又は3である。)
−SiR (ii)
(式中R、Xは前記に同じ。)
Conventionally, an organic polymer having a reactive silicon group represented by the following general formula (i), a resin solid at room temperature, a silane coupling agent having a reactive silicon group represented by the following general formula (ii), curing Moisture curable reactive hot melt adhesive compositions containing a catalyst are known.
-SiR 1 3-a X a (i)
(In the formula, each R 1 is independently at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. X Is a hydroxyl group or a hydrolyzable group, a is 1, 2 or 3.)
-SiR 1 X 2 (ii)
(Wherein R 1 and X are the same as above)

特許文献1に記載の湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤組成物によれば、加熱溶融時の熱安定性と塗工後の室温での硬化性とを両立でき、かつ毒性の少ない湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤を提供できる。   According to the moisture curable reactive hot melt adhesive composition described in Patent Document 1, it is possible to achieve both the thermal stability during heating and melting and the curability at room temperature after coating, and the moisture curable type with less toxicity. A reactive hot melt adhesive can be provided.

国際公開第2012/053478号International Publication No. 2012/053478

しかし、特許文献1に記載されている湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤組成物においては、特許文献1の実施例に記載の通り、高温での熱安定性が最長でも1時間50分程度と短いだけでなく、湿気に触れると硬化が進行するので、例えば、ディスペンサー等で被着体に塗布した時点から接着剤組成物の硬化が進行してしまい、硬化タイミングを制御できない。また、特許文献1に記載されている湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤組成物は空気中の湿気に触れることで硬化が進行するので、当該接着剤組成物の塗布に用いるディスペンサー等の機材の吐出口が、当該接着剤組成物の硬化により目詰まりする。   However, in the moisture-curable reactive hot melt adhesive composition described in Patent Document 1, as described in the Examples of Patent Document 1, the thermal stability at high temperature is about 1 hour 50 minutes at the longest. In addition to being short, the curing proceeds when exposed to moisture. For example, the curing of the adhesive composition proceeds from the time of application to the adherend with a dispenser or the like, and the curing timing cannot be controlled. In addition, since the moisture curable reactive hot melt adhesive composition described in Patent Document 1 is cured by touching moisture in the air, the equipment of a dispenser or the like used for application of the adhesive composition The discharge port is clogged by the curing of the adhesive composition.

したがって、本発明の目的は、高温での加熱安定性が長く、硬化タイミングを所望のタイミングに制御できる光硬化性接着剤の硬化方法、硬化物、光硬化性接着剤、及び製品を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a photocurable adhesive curing method, a cured product, a photocurable adhesive, and a product that have long heating stability at high temperatures and can control the curing timing to a desired timing. It is in.

本発明は、上記目的を達成するため、熱可塑性樹脂、及び光潜在性硬化触媒を含有する光硬化性接着剤を50℃以上に加熱する加熱工程と、加熱された光硬化性接着剤を被着体に塗布する塗布工程と、被着体に塗布された光硬化性接着剤に光を照射して硬化させる硬化工程とを備える光硬化性接着剤の硬化方法が提供される。   In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a heating step of heating a photocurable adhesive containing a thermoplastic resin and a photolatent curing catalyst to 50 ° C. or more, and a heated photocurable adhesive. There is provided a method for curing a photocurable adhesive comprising an application step of applying to an adherend and a curing step of irradiating and curing the photocurable adhesive applied to the adherend.

また、上記光硬化性接着剤の硬化方法において、光硬化性接着剤が、架橋性ケイ素基を有する有機重合体を更に含有することが好ましい。   Moreover, in the said hardening method of a photocurable adhesive agent, it is preferable that a photocurable adhesive agent further contains the organic polymer which has a crosslinkable silicon group.

また、上記光硬化性接着剤の硬化方法において、光潜在性硬化触媒が、光潜在性の化合物と共に用いられるSi−F結合を有するケイ素化合物、及び光塩基発生剤からなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含むことが好ましい。   Further, in the photocurable adhesive curing method, the photolatent curing catalyst is at least selected from the group consisting of a silicon compound having a Si—F bond used together with a photolatent compound, and a photobase generator. Preferably it contains one compound.

また、上記光硬化性接着剤の硬化方法において、光硬化性接着剤が、光により第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物を更に含有することが好ましい。   Moreover, in the said hardening method of a photocurable adhesive agent, the photocurable adhesive produces | generates 1 or more types of amino groups selected from the group which consists of a primary amino group and a secondary amino group with light. It is preferable to further contain a functional silicon group-containing compound.

また、本発明は、上記目的を達成するため、熱可塑性樹脂、及び光潜在性硬化触媒を含有する光硬化性接着剤を、光硬化性接着剤の粘度が0.1〜1,000Pa・sになるまで加熱する加熱工程と、加熱された光硬化性接着剤を被着体に塗布する塗布工程と、被着体に塗布された光硬化性接着剤に光を照射して硬化させる硬化工程とを備える光硬化性接着剤の硬化方法が提供される。   In order to achieve the above object, the present invention provides a photocurable adhesive containing a thermoplastic resin and a photolatent curing catalyst, wherein the viscosity of the photocurable adhesive is 0.1 to 1,000 Pa · s. A heating process that heats the adhesive until it becomes, a coating process that applies the heated photocurable adhesive to the adherend, and a curing process that cures the photocurable adhesive applied to the adherend by irradiating light. A photocurable adhesive curing method comprising:

また、上記光硬化性接着剤の硬化方法において、光硬化性接着剤が、架橋性ケイ素基を有する有機重合体を更に含有することが好ましい。   Moreover, in the said hardening method of a photocurable adhesive agent, it is preferable that a photocurable adhesive agent further contains the organic polymer which has a crosslinkable silicon group.

また、本発明は、上記目的を達成するため、上記いずれか1つに記載の光硬化性接着剤の硬化方法で得られる光硬化性接着剤の硬化物が提供される。   Moreover, in order to achieve the said objective, this invention provides the hardened | cured material of the photocurable adhesive obtained by the hardening method of the photocurable adhesive as described in any one of the said.

更に、本発明は、上記目的を達成するため、熱可塑性樹脂と、光潜在性硬化触媒とを含有する加熱塗布に用いる光硬化性接着剤が提供される。   Furthermore, in order to achieve the above object, the present invention provides a photocurable adhesive used for heat application containing a thermoplastic resin and a photolatent curing catalyst.

また、上記光硬化性接着剤は、架橋性ケイ素基を有する有機重合体を更に含有することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said photocurable adhesive agent further contains the organic polymer which has a crosslinkable silicon group.

また、上記光硬化性接着剤において、光潜在性硬化触媒が、光潜在性の化合物と共に用いられるSi−F結合を有するケイ素化合物、及び光塩基発生剤からなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含むことが好ましい。   In the photocurable adhesive, the photolatent curing catalyst is at least one compound selected from the group consisting of a silicon compound having a Si—F bond used together with a photolatent compound, and a photobase generator. It is preferable to contain.

また、上記光硬化性接着剤において、架橋性ケイ素基を有する有機重合体が、分子内に架橋性ケイ素基と光ラジカル重合性のビニル基とを有する重合体(但し、Si−F結合を有するものを除く)、及び分子内に架橋性ケイ素基と光ラジカル重合性のビニル基とを有する重合体以外の架橋性ケイ素基を有する有機重合体からなる群から選択される1種以上の重合体であることが好ましい。   In the photocurable adhesive, the organic polymer having a crosslinkable silicon group is a polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradically polymerizable vinyl group in the molecule (provided that it has a Si-F bond). One or more polymers selected from the group consisting of organic polymers having a crosslinkable silicon group other than a polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradically polymerizable vinyl group in the molecule) It is preferable that

また、上記光硬化性接着剤が、光により第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物を更に含有することが好ましい。   The photocurable adhesive further contains a crosslinkable silicon group-containing compound that generates one or more amino groups selected from the group consisting of primary amino groups and secondary amino groups by light. Is preferred.

また、本発明は、上記目的を達成するため、上記いずれか1つに記載の光硬化性接着剤を用いて形成される製品が提供される。   In order to achieve the above object, the present invention provides a product formed using the photocurable adhesive described in any one of the above.

本発明の光硬化性接着剤の硬化方法、硬化物、光硬化性接着剤、及び製品によれば、高温での加熱安定性が長く、硬化タイミングを所望のタイミングに制御できる光硬化性接着剤の硬化方法、硬化物、光硬化性接着剤、及び製品を提供できる。   According to the curing method, cured product, photocurable adhesive, and product of the photocurable adhesive of the present invention, the photocurable adhesive has long heat stability at high temperatures and can control the curing timing to a desired timing. Curing methods, cured products, photocurable adhesives, and products can be provided.

本発明者は、所定の熱可塑性樹脂と所定の光潜在性硬化触媒とを組み合わせることで、湿気を含む空気に高温で暴露しても硬化が実質的に進行せず、活性エネルギーの照射を契機として硬化が速やかに進行する光硬化性接着剤が得られるという知見を得た。本実施形態に係る光硬化性接着剤は、かかる知見に基づいて創出された。以下、実施の形態に沿って詳細に説明する。   By combining a predetermined thermoplastic resin and a predetermined photolatent curing catalyst, the present inventor does not substantially proceed with curing even when exposed to air containing moisture at a high temperature, and the irradiation of active energy is triggered. As a result, it was found that a photo-curable adhesive that cures rapidly can be obtained. The photocurable adhesive which concerns on this embodiment was created based on this knowledge. Hereinafter, it demonstrates in detail along embodiment.

具体的に、本実施の形態に係る光硬化性接着剤は、熱可塑性樹脂と、光潜在性硬化触媒とを含有する。また、本実施の形態に係る光硬化性接着剤は、常温で液状の架橋性ケイ素基を有する有機重合体を更に含有することが好ましい。なお、本実施形態においては、説明の便宜上、架橋性ケイ素基を有する有機重合体(架橋性ケイ素基含有有機重合体という場合がある)をA成分、熱可塑性樹脂をB成分、光潜在性硬化触媒をC成分という場合がある。また、本実施の形態の説明において、本実施の形態に係る光硬化性接着剤を「本実施形態に係る配合物」という場合がある。   Specifically, the photocurable adhesive according to the present embodiment contains a thermoplastic resin and a photolatent curing catalyst. Moreover, it is preferable that the photocurable adhesive which concerns on this Embodiment further contains the organic polymer which has a liquid crosslinkable silicon group at normal temperature. In this embodiment, for convenience of explanation, an organic polymer having a crosslinkable silicon group (sometimes referred to as a crosslinkable silicon group-containing organic polymer) is an A component, a thermoplastic resin is a B component, and photolatent curing. A catalyst may be called C component. Moreover, in description of this Embodiment, the photocurable adhesive which concerns on this Embodiment may be called "the compound which concerns on this embodiment."

(A成分:架橋性ケイ素基含有有機重合体)
(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体としては、架橋性ケイ素基を有する有機重合体であれば特に制限はない。本実施の形態では、主鎖がポリシロキサンでない有機重合体であり、ポリシロキサンを除く各種の主鎖骨格を有する有機重合体が、入手が容易であり、かつ、電気用途分野において接点障害の要因となる低分子環状シロキサンを含有若しくは発生させない点で好適である。また、(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体としては、(a−1)分子内に架橋性ケイ素基と光ラジカル重合性のビニル基とを有する重合体を用いることもできる(ただし、Si−F結合を有するものを除く。)。架橋性ケイ素基含有有機重合体が分子内に光ラジカル重合性のビニル基を更に有することで、本実施形態に係る光硬化性接着剤の初期の粘着性、及び/又は柔軟性をより保持しやすくすることができ、後硬化による耐熱性等を更に向上させることができる。更に、(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体としては、(a−2) (a−1)以外の架橋性ケイ素基を有する有機重合体を用いることもできる。
(Component A: Crosslinkable silicon group-containing organic polymer)
(A) The crosslinkable silicon group-containing organic polymer is not particularly limited as long as it is an organic polymer having a crosslinkable silicon group. In this embodiment, the main chain is an organic polymer that is not polysiloxane, and organic polymers having various main chain skeletons excluding polysiloxane are easily available, and cause of contact failure in the field of electrical applications. This is preferable in that it does not contain or generate low molecular cyclic siloxane. Further, as the (A) crosslinkable silicon group-containing organic polymer, (a-1) a polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradically polymerizable vinyl group in the molecule can be used (however, Si Except those having a -F bond). Since the crosslinkable silicon group-containing organic polymer further has a photo-radically polymerizable vinyl group in the molecule, the initial tackiness and / or flexibility of the photocurable adhesive according to the present embodiment is further maintained. The heat resistance by post-curing can be further improved. Furthermore, as the crosslinkable silicon group-containing organic polymer (A), an organic polymer having a crosslinkable silicon group other than (a-2) (a-1) can also be used.

(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体の主鎖骨格としては、具体的には、ポリオキシプロピレン、ポリオキシテトラメチレン、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合体等のポリオキシアルキレン系重合体;エチレン−プロピレン系共重合体、ポリイソブチレン、ポリイソプレン、ポリブタジエン、これらのポリオレフィン系重合体に水素添加して得られる水添ポリオレフィン系重合体等の炭化水素系重合体;アジピン酸等の2塩基酸とグリコールとの縮合、又は、ラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体;エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等のモノマーをラジカル重合して得られる(メタ)アクリル酸エステル系重合体;(メタ)アクリル酸エステル系モノマー、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等のモノマーをラジカル重合して得られるビニル系重合体;有機重合体中でのビニルモノマーを重合して得られるグラフト重合体;ポリサルファイド系重合体;ポリアミド系重合体;ポリカーボネート系重合体;ジアリルフタレート系重合体等が挙げられる。これらの骨格は、(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体の中に単独で含まれていても、2種類以上がブロック若しくはランダムに含まれていてもよい。   (A) Specific examples of the main chain skeleton of the crosslinkable silicon group-containing organic polymer include polyoxyalkylene polymers such as polyoxypropylene, polyoxytetramethylene, and polyoxyethylene-polyoxypropylene copolymers. ; Hydrocarbon polymers such as ethylene-propylene copolymers, polyisobutylene, polyisoprene, polybutadiene, hydrogenated polyolefin polymers obtained by hydrogenating these polyolefin polymers; 2 bases such as adipic acid Polyester polymer obtained by condensation of acid and glycol or ring-opening polymerization of lactones; (meth) acrylic acid ester obtained by radical polymerization of monomers such as ethyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate Polymer: (meth) acrylic acid ester monomer, vinyl acetate, acrylo Vinyl polymer obtained by radical polymerization of monomers such as tolyl and styrene; Graft polymer obtained by polymerizing vinyl monomer in organic polymer; Polysulfide polymer; Polyamide polymer; Polycarbonate polymer A diallyl phthalate polymer and the like. These skeletons may be contained alone in (A) the crosslinkable silicon group-containing organic polymer, or two or more kinds may be contained in blocks or randomly.

更に、ポリイソブチレン、水添ポリイソプレン、水添ポリブタジエン等の飽和炭化水素系重合体や、ポリオキシアルキレン系重合体、(メタ)アクリル酸エステル系重合体は比較的ガラス転移温度が低く、得られる硬化物が耐寒性に優れることから好ましい。また、ポリオキシアルキレン系重合体、及び(メタ)アクリル酸エステル系重合体は、透湿性が高く1液型組成物にした場合に深部硬化性に優れることから特に好ましい。   Furthermore, saturated hydrocarbon polymers such as polyisobutylene, hydrogenated polyisoprene, and hydrogenated polybutadiene, polyoxyalkylene polymers, and (meth) acrylic acid ester polymers can be obtained with a relatively low glass transition temperature. The cured product is preferable because it is excellent in cold resistance. Polyoxyalkylene polymers and (meth) acrylic acid ester polymers are particularly preferred because they have high moisture permeability and are excellent in deep part curability when made into a one-component composition.

(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体の架橋性ケイ素基は、ケイ素原子に結合した水酸基又は加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋し得る基である。架橋性ケイ素基としては、例えば、一般式(1)で示される基が好適である。   (A) The crosslinkable silicon group of the crosslinkable silicon group-containing organic polymer is a group having a hydroxyl group or a hydrolyzable group bonded to a silicon atom and capable of crosslinking by forming a siloxane bond. As the crosslinkable silicon group, for example, a group represented by the general formula (1) is suitable.

式(1)中、Rは、炭素数が1〜20の炭化水素基、炭素数が1〜20のアルキル基、炭素数が3〜20のシクロアルキル基、炭素数が6〜20のアリール基、炭素数が7〜20のアラルキル基、R SiO−(Rは、前記と同じ)で示されるトリオルガノシロキシ基、若しくは−CHOR基(Rは、前記と同じ)である。また、Rは、1位から3位の炭素原子上の少なくとも1個の水素原子が、ハロゲン、−OR41、−NR4243、−N=R44、−SR45(R41、R42、R43、R45はそれぞれ水素原子、又は炭素数が1〜20の置換基を有するか若しくは置換基を有さない炭化水素基、R44は炭素数が1〜20の2価の置換基を有するか若しくは置換基を有さない炭化水素基である。)、炭素数が1〜20のペルフルオロアルキル基、若しくはシアノ基で置換された炭素数が1〜20の炭化水素基を示す。これらの中でRは、メチル基が好ましい。Rが2個以上存在する場合、複数のRは同一であっても、異なっていてもよい。Xは水酸基、又は加水分解性基を示し、Xが2個以上存在する場合、複数のXは同一であっても、異なっていてもよい。aは0、1、2又は3の整数のいずれかである。硬化性を考慮し、十分な硬化速度を有する硬化性組成物を得るためには、式(1)においてaは2以上が好ましく、3がより好ましい。 In the formula (1), R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aryl having 6 to 20 carbon atoms. A group, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a triorganosiloxy group represented by R 1 3 SiO— (wherein R 1 is the same as above), or a —CH 2 OR 1 group (wherein R 1 is the same as above) It is. In addition, R 1 is a group in which at least one hydrogen atom on the 1st to 3rd carbon atoms is halogen, —OR 41 , —NR 42 R 43 , —N═R 44 , —SR 45 (R 41 , R 42 , R 43 , and R 45 are each a hydrogen atom, or a hydrocarbon group having or having 1 to 20 carbon atoms, or R 44 is a divalent substitution having 1 to 20 carbon atoms. A hydrocarbon group having a group or having no substituent), a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms substituted by a cyano group. Among these, R 1 is preferably a methyl group. When two or more R 1 are present, the plurality of R 1 may be the same or different. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and when two or more X exist, the plurality of X may be the same or different. a is an integer of 0, 1, 2, or 3. In view of curability, in order to obtain a curable composition having a sufficient curing rate, in formula (1), a is preferably 2 or more, more preferably 3.

加水分解性基や水酸基は1個のケイ素原子に1〜3個の範囲で結合することができる。加水分解性基や水酸基が架橋性ケイ素基中に2個以上結合する場合には、それらは同一であっても、異なっていてもよい。架橋性ケイ素基を形成するケイ素原子は1個でもよく、2個以上であってもよいが、シロキサン結合等により連結されたケイ素原子の場合には、20個程度あってもよい。   Hydrolyzable groups and hydroxyl groups can be bonded to one silicon atom in the range of 1 to 3. When two or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups are bonded to the crosslinkable silicon group, they may be the same or different. The number of silicon atoms forming the crosslinkable silicon group may be one or two or more. In the case of silicon atoms linked by a siloxane bond or the like, there may be about 20 silicon atoms.

Xで示される加水分解性基としては、F原子以外であれば特に限定されない。例えば、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、アルケニルオキシ基等が挙げられる。これらの中では、加水分解性が穏やかで取扱やすいという観点からアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の中では炭素数の少ないものの方が反応性が高く、メトキシ基>エトキシ基>プロポキシ基の順のように炭素数が多くなるほどに反応性が低くなる。目的や用途に応じて選択できるが、通常、メトキシ基やエトキシ基が用いられる。   The hydrolyzable group represented by X is not particularly limited as long as it is other than F atom. Examples thereof include an alkoxy group, an acyloxy group, an amino group, an amide group, an aminooxy group, and an alkenyloxy group. In these, an alkoxy group is preferable from a viewpoint that hydrolysis property is moderate and it is easy to handle. Among the alkoxy groups, those having a smaller number of carbon atoms have higher reactivity, and the reactivity increases as the number of carbon atoms increases in the order of methoxy group> ethoxy group> propoxy group. Although it can be selected according to the purpose and application, a methoxy group or an ethoxy group is usually used.

架橋性ケイ素基の具体的な構造としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等のトリアルコキシシリル基[−Si(OR)]、メチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基等のジアルコキシシリル基[−SiR(OR)]が挙げられ、トリアルコキシシリル基[−Si(OR)]が反応性が高い点で好適であり、トリメトキシシリル基がより好適である。ここでRはメチル基やエチル基のようなアルキル基である。本実施の形態に係る光硬化性接着剤は、反応性が大きいトリメトキシシリル基を有する重合体を用い、かつ、100℃程度の高温に加熱しても硬化が進行せず優れた安定性を示す。このように熱的には安定にもかかわらず、光照射により速やかに硬化する。したがって、光硬化性接着剤の製造には架橋性ケイ素基としてはトリメトキシシリル基が最も好ましい。 Specific examples of the crosslinkable silicon group include trialkoxysilyl groups [—Si (OR) 3 ] such as trimethoxysilyl group and triethoxysilyl group, dialkoxy such as methyldimethoxysilyl group and methyldiethoxysilyl group. A silyl group [—SiR 1 (OR) 2 ] can be mentioned, a trialkoxysilyl group [—Si (OR) 3 ] is preferable in terms of high reactivity, and a trimethoxysilyl group is more preferable. Here, R is an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. The photocurable adhesive according to the present embodiment uses a polymer having a highly reactive trimethoxysilyl group, and has excellent stability without curing even when heated to a high temperature of about 100 ° C. Show. Thus, although it is thermally stable, it cures quickly by light irradiation. Therefore, the trimethoxysilyl group is most preferable as the crosslinkable silicon group for the production of the photocurable adhesive.

また、架橋性ケイ素基は1種で使用してもよく、2種以上併用してもよい。架橋性ケイ素基は、主鎖又は側鎖あるいはいずれにも存在しうる。また、複数の一般式(1)で示される架橋性ケイ素基が互いに連結していてもよい。この場合、架橋性ケイ素基を形成するケイ素原子は1個以上であるが、シロキサン結合等により連結されたケイ素原子の場合には、ケイ素原子は20個以下であることが好ましい。また、光ラジカル重合性のビニル基としては(メタ)アクリロイルオキシ基等の(メタ)アクリロイル基を含む基を挙げることができる。   Moreover, a crosslinkable silicon group may be used by 1 type and may be used together 2 or more types. The crosslinkable silicon group can be present in the main chain, the side chain, or both. Moreover, the crosslinkable silicon group shown by several general formula (1) may mutually be connected. In this case, the number of silicon atoms forming the crosslinkable silicon group is one or more, but in the case of silicon atoms linked by a siloxane bond or the like, the number of silicon atoms is preferably 20 or less. Examples of the photo-radically polymerizable vinyl group include a group containing a (meth) acryloyl group such as a (meth) acryloyloxy group.

架橋性ケイ素基を有する有機重合体、及び架橋性ケイ素基と光ラジカル重合性のビニル基とを有する有機重合体はそれぞれ、直鎖状、又は分岐を有してもよく、その数平均分子量はGPCにおけるポリスチレン換算において500〜100,000程度、より好ましくは1,000〜50,000であり、特に好ましくは3,000〜30,000である。数平均分子量が500未満では、硬化物の伸び特性の点で不都合な傾向があり、100,000を越えると、高粘度となるために作業性の点で不都合な傾向がある。なお、粘着剤を後硬化させて得られる硬化物の柔軟性を確保する観点からは、数平均分子量は高いことが望ましい。   Each of the organic polymer having a crosslinkable silicon group and the organic polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradically polymerizable vinyl group may have a straight chain or a branch, and the number average molecular weight is It is about 500 to 100,000 in terms of polystyrene in GPC, more preferably 1,000 to 50,000, and particularly preferably 3,000 to 30,000. If the number average molecular weight is less than 500, the cured product tends to be inconvenient in terms of elongation characteristics, and if it exceeds 100,000, the viscosity tends to be inconvenient because of high viscosity. In addition, it is desirable that the number average molecular weight is high from the viewpoint of ensuring the flexibility of the cured product obtained by post-curing the pressure-sensitive adhesive.

高強度、高伸びで、低弾性率を示すゴム状硬化物を得るためには、架橋性ケイ素基を有する有機重合体に含有される架橋性ケイ素基、架橋性ケイ素基と光ラジカル重合性のビニル基とを有する有機重合体に含有される架橋性ケイ素基及び光ラジカル重合性のビニル基は、重合体1分子中に平均して0.8個以上、好ましくは1.0個以上、より好ましくは1.1〜5個存在するのがよい。分子中に含まれる架橋性ケイ素基の数、及び光ラジカル重合性のビニル基が、平均して0.8個未満になると、硬化性が不充分になり、良好なゴム弾性挙動を発現しにくくなる。また、架橋密度を低下させる観点からは、分子中に含まれる架橋性ケイ素基の数が平均して1.0個以下の有機重合体を併用することが好ましい。架橋性ケイ素基、及び光ラジカル重合性のビニル基は、有機重合体分子鎖の主鎖の末端あるいは側鎖の末端にあっても、また、両方にあってもよい。特に、架橋性ケイ素基が分子鎖の主鎖の末端にのみある場合、最終的に形成される硬化物に含まれる有機重合体成分の有効網目長が長くなるため、高強度、高伸びで、低弾性率を示すゴム状硬化物が得られやすくなる。   In order to obtain a rubber-like cured product having high strength, high elongation, and low elastic modulus, a crosslinkable silicon group, a crosslinkable silicon group and a photo-radical polymerizable polymer contained in the organic polymer having a crosslinkable silicon group are used. The crosslinkable silicon group and photoradically polymerizable vinyl group contained in the organic polymer having a vinyl group average 0.8 or more, preferably 1.0 or more, more in one polymer molecule. Preferably 1.1 to 5 are present. If the number of crosslinkable silicon groups and radically polymerizable vinyl groups contained in the molecule is less than 0.8 on average, the curability will be insufficient and good rubber elastic behavior will not be exhibited. Become. From the viewpoint of reducing the crosslink density, it is preferable to use an organic polymer having an average number of crosslinkable silicon groups in the molecule of 1.0 or less in combination. The crosslinkable silicon group and the photoradically polymerizable vinyl group may be at the end of the main chain of the organic polymer molecular chain, at the end of the side chain, or at both. In particular, when the crosslinkable silicon group is only at the end of the main chain of the molecular chain, the effective network length of the organic polymer component contained in the finally formed cured product is increased, so that the high strength, high elongation, A rubber-like cured product having a low elastic modulus is easily obtained.

ポリオキシアルキレン系重合体は、本質的に一般式(2)で示される繰り返し単位を有する重合体である。
−R−O−・・・(2)
一般式(2)中、Rは炭素数が1〜14の直鎖状若しくは分岐アルキレン基であり、炭素数が1〜14の直鎖状若しくは分岐アルキレン基が好ましく、炭素数が2〜4の直鎖状若しくは分岐アルキレン基が更に好ましい。
The polyoxyalkylene polymer is essentially a polymer having a repeating unit represented by the general formula (2).
-R 2 -O- ··· (2)
In general formula (2), R 2 is a linear or branched alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 14 carbon atoms, and having 2 to 4 carbon atoms. The linear or branched alkylene group is more preferable.

一般式(2)で示される繰り返し単位の具体例としては、
−CHO−、−CHCHO−、−CHCH(CH)O−、−CHCH(C)O−、−CHC(CHO−、−CHCHCHCHO−等が挙げられる。ポリオキシアルキレン系重合体の主鎖骨格は、1種類だけの繰り返し単位からなってもよいし、2種類以上の繰り返し単位からなってもよい。
Specific examples of the repeating unit represented by the general formula (2) include
-CH 2 O -, - CH 2 CH 2 O -, - CH 2 CH (CH 3) O -, - CH 2 CH (C 2 H 5) O -, - CH 2 C (CH 3) 2 O-, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O- and the like. The main chain skeleton of the polyoxyalkylene polymer may be composed of only one type of repeating unit, or may be composed of two or more types of repeating units.

ポリオキシアルキレン系重合体の合成法としては、例えば、KOHのようなアルカリ触媒による重合法、例えば、複金属シアン化物錯体触媒による重合法等が挙げられるが、特に限定されない。複金属シアン化物錯体触媒による重合法によれば数平均分子量6,000以上、Mw/Mnが1.6以下の高分子量で分子量分布が狭いポリオキシアルキレン系重合体を得ることができる。   Examples of the synthesis method of the polyoxyalkylene polymer include, but are not particularly limited to, a polymerization method using an alkali catalyst such as KOH, a polymerization method using a double metal cyanide complex catalyst, and the like. According to the polymerization method using a double metal cyanide complex catalyst, a polyoxyalkylene polymer having a number average molecular weight of 6,000 or more and a high molecular weight of Mw / Mn of 1.6 or less and a narrow molecular weight distribution can be obtained.

ポリオキシアルキレン系重合体の主鎖骨格中にはウレタン結合成分等の他の成分を含んでいてもよい。ウレタン結合成分としては、例えば、トルエン(トリレン)ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族系ポリイソシアネート;イソフォロンジイソシアネート等の脂肪族系ポリイソシアネートと水酸基を有するポリオキシアルキレン系重合体との反応から得られる成分を挙げることができる。   The main chain skeleton of the polyoxyalkylene polymer may contain other components such as a urethane bond component. Examples of the urethane bond component are obtained from a reaction between an aromatic polyisocyanate such as toluene (tolylene) diisocyanate and diphenylmethane diisocyanate; an aliphatic polyisocyanate such as isophorone diisocyanate and a polyoxyalkylene polymer having a hydroxyl group. Ingredients can be mentioned.

分子中に不飽和基、水酸基、エポキシ基、又はイソシアネート基等の官能基を有するポリオキシアルキレン系重合体に、この官能基に対して反応性を有する官能基、並びに架橋性ケイ素基、及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物を反応させることで、ポリオキシアルキレン系重合体へ架橋性ケイ素基、及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を導入できる(以下、高分子反応法という)。   A polyoxyalkylene polymer having a functional group such as an unsaturated group, a hydroxyl group, an epoxy group, or an isocyanate group in the molecule, a functional group having reactivity with the functional group, a crosslinkable silicon group, and / or Alternatively, a crosslinkable silicon group and / or a photoradically polymerizable vinyl group can be introduced into a polyoxyalkylene polymer by reacting a compound having a photoradically polymerizable vinyl group (hereinafter referred to as a polymer reaction method). ).

高分子反応法の具体例として、不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体に架橋性ケイ素基を有するヒドロシランや、架橋性ケイ素基を有するメルカプト化合物を作用させてヒドロシリル化やメルカプト化し、架橋性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得る方法を挙げることができる。不飽和基含有ポリオキシアルキレン系重合体は水酸基等の官能基を有する有機重合体に、この官能基に対して反応性を示す活性基及び不飽和基を有する有機化合物を反応させ、不飽和基を含有するポリオキシアルキレン系重合体を得ることができる。   As a specific example of the polymer reaction method, hydrosilylation or mercaptoization is carried out by reacting an unsaturated group-containing polyoxyalkylene polymer with a hydrosilane having a crosslinkable silicon group or a mercapto compound having a crosslinkable silicon group. Examples thereof include a method for obtaining a polyoxyalkylene polymer having a group. An unsaturated group-containing polyoxyalkylene-based polymer is obtained by reacting an organic polymer having a functional group such as a hydroxyl group with an organic compound having an active group and an unsaturated group that are reactive with the functional group. A polyoxyalkylene polymer containing can be obtained.

また、高分子反応法の他の具体例として、末端に水酸基を有するポリオキシアルキレン系重合体とイソシアネート基、並びに架橋性ケイ素基及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物とを反応させる方法や、末端にイソシアネート基を有するポリオキシアルキレン系重合体と水酸基やアミノ基等の活性水素基、並びに架橋性ケイ素基及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する化合物とを反応させる方法を挙げることができる。イソシアネート化合物を用いると、架橋性ケイ素基、及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を容易に得ることができる。   As another specific example of the polymer reaction method, a polyoxyalkylene polymer having a hydroxyl group at the terminal is reacted with an isocyanate group and a compound having a crosslinkable silicon group and / or a radically polymerizable vinyl group. And a method of reacting a polyoxyalkylene polymer having an isocyanate group at a terminal with a compound having an active hydrogen group such as a hydroxyl group or an amino group, and a crosslinkable silicon group and / or a photoradically polymerizable vinyl group. Can be mentioned. When an isocyanate compound is used, a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and / or a photoradically polymerizable vinyl group can be easily obtained.

架橋性ケイ素基、及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有するポリオキシアルキレン系重合体は、単独で使用しても、2種以上併用してもよい。   The polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and / or a radical photopolymerizable vinyl group may be used alone or in combination of two or more.

飽和炭化水素系重合体は芳香環を除く他の炭素−炭素不飽和結合を実質的に含有しない重合体である。その骨格を形成する重合体は、(1)エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブチレン等の炭素数が2〜6のオレフィン系化合物を主モノマーとして重合させるか、(2)ブタジエン、イソプレン等のジエン系化合物を単独重合させるか、あるいは、ジエン系化合物とオレフィン系化合物とを共重合させた後、水素添加する等の方法により得ることができる。イソブチレン系重合体や水添ポリブタジエン系重合体は、末端に官能基を導入しやすく、分子量を制御しやすく、また、末端官能基の数を多くすることができるので好ましく、イソブチレン系重合体が特に好ましい。主鎖骨格が飽和炭化水素系重合体である場合、耐熱性、耐候性、耐久性、及び湿気遮断性に優れる特徴を有する。   The saturated hydrocarbon polymer is a polymer that does not substantially contain other carbon-carbon unsaturated bonds other than aromatic rings. The polymer forming the skeleton is either (1) polymerizing an olefinic compound having 2 to 6 carbon atoms such as ethylene, propylene, 1-butene or isobutylene as a main monomer, or (2) a diene such as butadiene or isoprene. It can be obtained by a method such as homopolymerizing a system compound, or copolymerizing a diene compound and an olefin compound and then hydrogenating. The isobutylene polymer and the hydrogenated polybutadiene polymer are preferable because it is easy to introduce a functional group at the terminal, easily control the molecular weight, and can increase the number of terminal functional groups, and the isobutylene polymer is particularly preferable. preferable. When the main chain skeleton is a saturated hydrocarbon polymer, the main chain skeleton has characteristics of excellent heat resistance, weather resistance, durability, and moisture barrier properties.

イソブチレン系重合体は、単量体単位の全てがイソブチレン単位から形成されていてもよいし、他単量体との共重合体でもよい。ゴム特性の面からは、イソブチレンに由来する繰り返し単位を50質量%以上含有する重合体が好ましく、80質量%以上含有する重合体がより好ましく、90〜99質量%含有する重合体が特に好ましい。   In the isobutylene polymer, all of the monomer units may be formed from isobutylene units, or may be a copolymer with other monomers. From the viewpoint of rubber properties, a polymer containing 50% by mass or more of repeating units derived from isobutylene is preferred, a polymer containing 80% by mass or more is more preferred, and a polymer containing 90 to 99% by mass is particularly preferred.

飽和炭化水素系重合体の合成法としては、各種重合方法が挙げられる。特に、様々なリビング重合が開発されている。飽和炭化水素系重合体、特にイソブチレン系重合体の場合、Kennedyらによって見出されたイニファー重合(J. P. Kennedyら、J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed. 1997年、15巻、2843頁)により容易に製造できる。この重合法によれば、分子量500〜100,000程度の重合体を、分子量分布1.5以下で重合でき、分子末端に各種官能基を導入できる。   As a method for synthesizing the saturated hydrocarbon polymer, various polymerization methods may be mentioned. In particular, various living polymerizations have been developed. In the case of saturated hydrocarbon polymers, especially isobutylene polymers, according to inifer polymerization found by Kennedy et al. (JP Kennedy et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed. 1997, 15, 2843). Easy to manufacture. According to this polymerization method, a polymer having a molecular weight of about 500 to 100,000 can be polymerized with a molecular weight distribution of 1.5 or less, and various functional groups can be introduced at the molecular ends.

架橋性ケイ素基、及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する飽和炭化水素系重合体の製法としては、例えば、安定な炭素陽イオンを生成する有機ハロゲン化合物とフリーデルクラフツ酸触媒との組合せを共重合開始剤として用いるカチオン重合法が挙げられる。一例として、特公平4−69659号に開示されているイニファー法が挙げられる。   Examples of a method for producing a saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group and / or a photoradically polymerizable vinyl group include, for example, a combination of an organic halogen compound that generates a stable carbon cation and a Friedelcraft acid catalyst. And cationic polymerization method using as a copolymerization initiator. An example is the inifer method disclosed in Japanese Patent Publication No. 4-69659.

架橋性ケイ素基、及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する飽和炭化水素系重合体は、単独で使用しても2種以上併用してもよい。   The saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group and / or a radical photopolymerizable vinyl group may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル酸エステル系重合体の主鎖を構成する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとしては、各種のモノマーを用いることができる。例えば、アクリル酸等の(メタ)アクリル酸系モノマー;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ステアリル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー;脂環式(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;芳香族(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸2−メトキシエチル等の(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;γ−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)ジメトキシメチルシラン等のシリル基含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸の誘導体;フッ素含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマー等が挙げられる。   Various monomers can be used as the (meth) acrylic acid ester monomer constituting the main chain of the (meth) acrylic acid ester polymer. For example, (meth) acrylic acid monomers such as acrylic acid; (meth) acrylic acid methyl, (meth) acrylic acid ethyl, (meth) acrylic acid n-butyl, (meth) acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth) acrylic (Meth) acrylic acid alkyl ester monomers such as stearyl acid; alicyclic (meth) acrylic acid ester monomers; aromatic (meth) acrylic acid ester monomers; (meth) acrylic acid 2-methoxyethyl (meta) ) Acrylic ester monomers; silyl group-containing (meth) acrylic ester monomers such as γ- (methacryloyloxypropyl) trimethoxysilane, γ- (methacryloyloxypropyl) dimethoxymethylsilane; (meth) acrylic acid derivatives; Fluorine-containing (meth) acrylic acid ester monomers It is.

(メタ)アクリル酸エステル系重合体では、(メタ)アクリル酸エステル系モノマーと共に、以下のビニル系モノマーを共重合することもできる。ビニル系モノマーを例示すると、スチレン、無水マレイン酸、酢酸ビニル等が挙げられる。また、単量体単位(以下、他の単量体単位とも称する)として、これら以外にアクリル酸、グリシジルアクリレートを含有してもよい。   In the (meth) acrylic acid ester polymer, the following vinyl monomers can be copolymerized together with the (meth) acrylic acid ester monomer. Examples of vinyl monomers include styrene, maleic anhydride, vinyl acetate and the like. In addition to these, acrylic acid and glycidyl acrylate may be contained as monomer units (hereinafter also referred to as other monomer units).

これらは、単独で用いても、複数を共重合させてもよい。生成物の物性等から、(メタ)アクリル酸系モノマーからなる重合体が好ましい。また、1種又は2種以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを用い、必要に応じて他の(メタ)アクリル酸モノマーを併用した(メタ)アクリル酸エステル系重合体がより好ましい。更に、シリル基含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマーを併用することで、(メタ)アクリル酸エステル系重合体(A)中のケイ素基の数を制御できる。接着性が良いことからメタクリル酸エステルモノマーからなるメタクリル酸エステル系重合体が特に好ましい。また、低粘度化、柔軟性の付与、粘着性の付与をする場合、アクリル酸エステルモノマーを適時用いることが好適である。なお、本実施形態において、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸を表す。   These may be used alone or may be copolymerized. From the physical properties of the product, a polymer composed of a (meth) acrylic acid monomer is preferred. Moreover, the (meth) acrylic acid ester type polymer which used the 1 type (s) or 2 or more types (meth) acrylic-acid alkylester monomer and used together with the other (meth) acrylic acid monomer as needed is more preferable. Furthermore, the number of silicon groups in the (meth) acrylic acid ester polymer (A) can be controlled by using a silyl group-containing (meth) acrylic acid ester monomer in combination. A methacrylic acid ester polymer comprising a methacrylic acid ester monomer is particularly preferred because of its good adhesion. In addition, when the viscosity is reduced, the flexibility is imparted, and the tackiness is imparted, it is preferable to use an acrylate monomer as appropriate. In the present embodiment, (meth) acrylic acid represents acrylic acid and / or methacrylic acid.

(メタ)アクリル酸エステル系重合体の製造方法は、特に限定されず、例えば、ラジカル重合反応を用いたラジカル重合法を用いることができる。ラジカル重合法としては、重合開始剤を用いて所定の単量体単位を共重合させるラジカル重合法(フリーラジカル重合法)や、末端等の制御された位置に反応性シリル基及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を導入できる制御ラジカル重合法が挙げられる。ただし、重合開始剤としてアゾ系化合物、過酸化物等を用いるフリーラジカル重合法で得られる重合体は、分子量分布の値が一般に2以上と大きく、粘度が高くなる。したがって、分子量分布が狭く、粘度の低い(メタ)アクリル酸エステル系重合体であって、高い割合で分子鎖末端に架橋性官能基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体を得るためには、制御ラジカル重合法を用いることが好適である。   The production method of the (meth) acrylic acid ester polymer is not particularly limited, and for example, a radical polymerization method using a radical polymerization reaction can be used. As the radical polymerization method, a radical polymerization method (free radical polymerization method) in which a predetermined monomer unit is copolymerized using a polymerization initiator, a reactive silyl group and / or a photo radical at a controlled position such as a terminal, etc. Examples thereof include a controlled radical polymerization method capable of introducing a polymerizable vinyl group. However, a polymer obtained by a free radical polymerization method using an azo compound, a peroxide or the like as a polymerization initiator generally has a large molecular weight distribution value of 2 or more and a high viscosity. Therefore, in order to obtain a (meth) acrylate polymer having a narrow molecular weight distribution and low viscosity and having a crosslinkable functional group at the molecular chain terminal at a high rate It is preferable to use a controlled radical polymerization method.

制御ラジカル重合法としては、特定の官能基を有する連鎖移動剤を用いたフリーラジカル重合法やリビングラジカル重合法が挙げられ、付加−開裂移動反応(Reversible Addition-Fragmentation chain Transfer;RAFT)重合法、遷移金属錯体を用いたラジカル重合法(Transition-Metal-Mediated Living Radical Polymerization)等のリビングラジカル重合法がより好ましい。また、反応性シリル基を有するチオール化合物を用いた反応や、反応性シリル基を有するチオール化合物及びメタロセン化合物を用いた反応も好適である。   Examples of the controlled radical polymerization method include a free radical polymerization method and a living radical polymerization method using a chain transfer agent having a specific functional group, and an addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization method, Living radical polymerization methods such as a radical polymerization method using a transition metal complex (Transition-Metal-Mediated Living Radical Polymerization) are more preferable. Further, a reaction using a thiol compound having a reactive silyl group and a reaction using a thiol compound having a reactive silyl group and a metallocene compound are also suitable.

架橋性ケイ素基、及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体は、単独で用いても、2種以上併用してもよい。   The (meth) acrylic acid ester-based polymer having a crosslinkable silicon group and / or a radical photopolymerizable vinyl group may be used alone or in combination of two or more.

これらの架橋性ケイ素基、及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する有機重合体は、単独で用いても、2種以上併用してもよい。具体的には、架橋性ケイ素基及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有するポリオキシアルキレン系重合体、架橋性ケイ素基及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する飽和炭化水素系重合体、並びに架橋性ケイ素基及び/又は光ラジカル重合性のビニル基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体からなる群から選択される2種以上をブレンドした有機重合体も用いることができる。特に架橋性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体と架橋性ケイ素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体とをブレンドした有機重合体が優れた特性を有している。本実施の形態に係る光硬化性接着剤に適用すると、引張せん断接着力、及び粘着力を高めることができる。   These organic polymers having a crosslinkable silicon group and / or a radically polymerizable vinyl group may be used alone or in combination of two or more. Specifically, a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and / or a photoradically polymerizable vinyl group, and a saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group and / or a photoradically polymerizable vinyl group In addition, an organic polymer obtained by blending two or more selected from the group consisting of a (meth) acrylic acid ester-based polymer having a crosslinkable silicon group and / or a radically polymerizable vinyl group can also be used. In particular, an organic polymer obtained by blending a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and a (meth) acrylic acid ester polymer having a crosslinkable silicon group has excellent characteristics. When applied to the photocurable adhesive according to the present embodiment, the tensile shear adhesive force and the adhesive force can be increased.

架橋性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体と架橋性ケイ素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体とをブレンドした有機重合体の製造方法としては、様々な方法が挙げられる。例えば、架橋性ケイ素基を有し、分子鎖が実質的に、一般式(3):
−CH−C(R)(COOR)− ・・・(3)
(式中、Rは水素原子又はメチル基、Rは炭素数が1〜5のアルキル基を示す)で表される(メタ)アクリル酸エステル単量体単位と、一般式(4):
−CH−C(R)(COOR)− ・・・(4)
(式中、Rは前記に同じ、Rは炭素数が6以上のアルキル基を示す)で表される(メタ)アクリル酸エステル単量体単位からなる共重合体に、架橋性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体をブレンドして製造する方法が挙げられる。
There are various methods for producing an organic polymer obtained by blending a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and a (meth) acrylic acid ester polymer having a crosslinkable silicon group. For example, it has a crosslinkable silicon group and the molecular chain is substantially the general formula (3):
-CH 2 -C (R 3) ( COOR 4) - ··· (3)
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 4 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms) and a general formula (4):
—CH 2 —C (R 3 ) (COOR 5 ) — (4)
(Wherein R 3 is the same as described above, and R 5 represents an alkyl group having 6 or more carbon atoms) A copolymer composed of a (meth) acrylic acid ester monomer unit is represented by a crosslinkable silicon group And a method of blending and producing a polyoxyalkylene-based polymer having.

一般式(3)のRとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等の炭素数が1〜5、好ましくは炭素数が1〜4、更に好ましくは炭素数が1〜2のアルキル基が挙げられる。なお、Rのアルキル基は単独でもよく、2種以上混合していてもよい。 As R 4 in the general formula (3), for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group and the like have 1 to 5 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, Preferably, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms is used. The alkyl group of R 4 may alone, or may be a mixture of two or more.

一般式(4)のRとしては、例えば、2−エチルヘキシル基、ラウリル基、ステアリル基等の炭素数が6以上、通常は炭素数が7〜30、好ましくは炭素数が8〜20の長鎖のアルキル基が挙げられる。なお、Rのアルキル基はRの場合と同様、単独でも2種以上混合してもよい。 R 5 in the general formula (4) is, for example, a long group having 6 or more carbon atoms such as 2-ethylhexyl group, lauryl group, stearyl group, etc., usually 7 to 30 carbon atoms, preferably 8 to 20 carbon atoms. Chain alkyl groups. The alkyl group of R 5 is as in the case of R 4, may be alone or in admixture.

(メタ)アクリル酸エステル系共重合体の分子鎖は実質的に式(3)及び式(4)の単量体単位からなる。ここで、「実質的に」とは、共重合体中に存在する式(3)及び式(4)の単量体単位の合計が50質量%を越えることを意味する。式(3)及び式(4)の単量体単位の合計は好ましくは70質量%以上である。また式(3)の単量体単位と式(4)の単量体単位との存在比は、質量比で95:5〜40:60が好ましく、90:10〜60:40が更に好ましい。   The molecular chain of the (meth) acrylic ester copolymer is substantially composed of monomer units of the formulas (3) and (4). Here, “substantially” means that the total of the monomer units of the formula (3) and the formula (4) present in the copolymer exceeds 50% by mass. The total of the monomer units of the formula (3) and the formula (4) is preferably 70% by mass or more. The abundance ratio of the monomer unit of the formula (3) and the monomer unit of the formula (4) is preferably 95: 5 to 40:60, and more preferably 90:10 to 60:40, by mass ratio.

架橋性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体と架橋性ケイ素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体とをブレンドした有機重合体の製造方法に用いられる架橋性ケイ素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体として、例えば、架橋性ケイ素基を有し、分子鎖が実質的に(1)炭素数が1〜8のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル単量体単位と、(2)炭素数が10以上のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル単量体単位とを含有する(メタ)アクリル酸エステル系共重合体等の(メタ)アクリル酸エステル系共重合体も用いることができる。   (Meth) having a crosslinkable silicon group used in a method for producing an organic polymer obtained by blending a polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group with a (meth) acrylic acid ester polymer having a crosslinkable silicon group As the acrylic ester polymer, for example, a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer unit having a crosslinkable silicon group and having a molecular chain substantially having (1) an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms; (2) (meth) acrylic acid ester-based copolymers such as (meth) acrylic acid ester-based copolymers containing (meth) acrylic acid alkyl ester monomer units having an alkyl group having 10 or more carbon atoms Coalescence can also be used.

(メタ)アクリル酸エステル系重合体の数平均分子量は、600〜10,000が好ましく、600〜5,000がより好ましく、1,000〜4,500が更に好ましい。数平均分子量をこの範囲とすることにより、架橋性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体との相溶性が向上する。(メタ)アクリル酸エステル系重合体は、単独で用いても、2種以上併用してもよい。架橋性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体と架橋性ケイ素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体との配合比には特に制限はないが、(メタ)アクリル酸エステル系重合体とポリオキシアルキレン系重合体との合計100質量部に対して、(メタ)アクリル酸エステル系重合体が10〜60質量部の範囲内であることが好ましく、より好ましくは20〜50質量部の範囲内であり、更に好ましくは25〜45質量部の範囲内である。(メタ)アクリル酸エステル系重合体が60質量部より多いと粘度が高くなり、作業性が悪化するため好ましくない。   The number average molecular weight of the (meth) acrylic acid ester polymer is preferably 600 to 10,000, more preferably 600 to 5,000, and still more preferably 1,000 to 4,500. By setting the number average molecular weight within this range, compatibility with the polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group is improved. The (meth) acrylic acid ester polymer may be used alone or in combination of two or more. The compounding ratio of the polyoxyalkylene polymer having a crosslinkable silicon group and the (meth) acrylic acid ester polymer having a crosslinkable silicon group is not particularly limited, but the (meth) acrylic acid ester polymer and It is preferable that the (meth) acrylic acid ester polymer is in the range of 10 to 60 parts by mass, more preferably in the range of 20 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total with the polyoxyalkylene polymer. More preferably, it is in the range of 25 to 45 parts by mass. When the amount of the (meth) acrylic acid ester polymer is more than 60 parts by mass, the viscosity becomes high and workability deteriorates, which is not preferable.

更に、本実施形態においては架橋性ケイ素基を有する飽和炭化水素系重合体と架橋性ケイ素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系共重合体とをブレンドした有機重合体も用いることができる。架橋性ケイ素基を有する(メタ)アクリル酸エステル系共重合体をブレンドして得られる有機重合体の製造方法としては、他にも、架橋性ケイ素基を有する有機重合体の存在下で(メタ)アクリル酸エステル系単量体を重合する方法を利用できる。   Furthermore, in this embodiment, an organic polymer obtained by blending a saturated hydrocarbon polymer having a crosslinkable silicon group and a (meth) acrylic acid ester copolymer having a crosslinkable silicon group can also be used. As another method for producing an organic polymer obtained by blending a (meth) acrylic acid ester-based copolymer having a crosslinkable silicon group, in the presence of an organic polymer having a crosslinkable silicon group (meta ) A method of polymerizing an acrylate monomer can be used.

(B成分:熱可塑性樹脂)
本実施形態に係る光硬化性接着剤は、常温(23℃)で固体である熱可塑性樹脂を含有する。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系高分子、メタクリル系高分子、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン誘導体、ポリイソブテン、ポリオレフィン類、ポリアルキレンオキシド類、ポリウレタン類、ポリアミド類、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ワックス、エポキシ樹脂、ポリイソプレン、ニトロブタジエンゴム(NBR)、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SIS)、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、水添ニトロブタジエンゴム(水添NBR)、水添スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(水添SBS)、水添スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(水添SIS)、及び水添スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(水添SEBS)等を挙げることができる。また、耐熱性を向上させる場合には、上記熱可塑性樹脂として、分子内に加水分解性基を有している樹脂を選択することが好ましい。これらは単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(B component: thermoplastic resin)
The photocurable adhesive which concerns on this embodiment contains the thermoplastic resin which is solid at normal temperature (23 degreeC). Examples of thermoplastic resins include acrylic polymers, methacrylic polymers, polyvinyl acetate, polystyrene derivatives, polyisobutene, polyolefins, polyalkylene oxides, polyurethanes, polyamides, natural rubber, polybutadiene, polyesters, and polycarbonates. , Wax, epoxy resin, polyisoprene, nitrobutadiene rubber (NBR), styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), styrene-ethylene-butylene-styrene Block copolymer (SEBS), hydrogenated nitrobutadiene rubber (hydrogenated NBR), hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (hydrogenated SBS), hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer (Hydrogenated SIS), and hydrogenated styrene - ethylene - butylene - styrene block copolymer (hydrogenated SEBS) and the like. In order to improve heat resistance, it is preferable to select a resin having a hydrolyzable group in the molecule as the thermoplastic resin. These may be used alone or in combination of two or more.

熱可塑性樹脂として好ましくは、(B−1)(メタ)アクリル酸エステル系(共)重合体を用いることができる。また、本実施形態に係る熱可塑性樹脂がA成分を含む場合、熱可塑性樹脂は、常温で流動性を有するA成分に混合することで混合物を固形状にする樹脂であれば、様々な樹脂を用いることができる。本実施形態においては、(B−1)(メタ)アクリル酸エステル系(共)重合体、及び/又は(B−2)粘着付与樹脂が、A成分との相溶性や接着性等のその他の物性バランスを確保する観点から特に好ましい。   Preferably, (B-1) (meth) acrylic acid ester (co) polymer can be used as the thermoplastic resin. In addition, when the thermoplastic resin according to the present embodiment includes the component A, the thermoplastic resin may be various resins as long as the mixture is mixed with the component A having fluidity at room temperature to solidify the mixture. Can be used. In this embodiment, the (B-1) (meth) acrylic acid ester-based (co) polymer and / or (B-2) tackifier resin has other compatibility such as compatibility with the A component and adhesiveness. This is particularly preferable from the viewpoint of securing a balance of physical properties.

[(B−1)(メタ)アクリル酸エステル系(共)重合体]
(メタ)アクリル酸エステル系(共)重合体(B−1)(以下、(共)重合体(B−1)と記載する場合もある。)は、繰り返し単位として1種の(メタ)アクリル酸エステル系化合物からなる重合体、繰り返し単位として複数の(メタ)アクリル酸エステル系化合物からなる共重合体、及び繰り返し単位として1種又は複数種の(メタ)アクリル酸エステル系化合物と、これと共重合可能な化合物とからなる共重合体を含む。なお、「(メタ)アクリル酸エステル」との記載は、アクリル酸エステル、及び/又はメタクリル酸エステルを示す。
[(B-1) (Meth) acrylic ester (co) polymer]
(Meth) acrylic acid ester-based (co) polymer (B-1) (hereinafter sometimes referred to as (co) polymer (B-1)) is one type of (meth) acrylic as a repeating unit. A polymer composed of an acid ester compound, a copolymer composed of a plurality of (meth) acrylic acid ester compounds as repeating units, and one or more (meth) acrylic acid ester compounds as repeating units, and A copolymer comprising a copolymerizable compound. In addition, description with "(meth) acrylic acid ester" shows acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester.

(メタ)アクリル酸エステル系化合物からなる重合体の主鎖を構成する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとしては、各種のモノマーを用いることができる。例えば、アクリル酸等の(メタ)アクリル酸系モノマー;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ステアリル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー;脂環式(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;芳香族(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸2−メトキシエチル等の(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;γ−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)ジメトキシメチルシラン等のシリル基含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリル酸の誘導体;フッ素含有(メタ)アクリル酸エステル系モノマー等が挙げられる。なお、本実施形態において、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸を表す。これらは、単独で用いても、複数を共重合させてもよい。また、1種又は2種以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを用い、必要に応じて他の(メタ)アクリル酸モノマーを併用した(メタ)アクリル酸エステル系重合体を用いることもできる。   Various monomers can be used as the (meth) acrylic acid ester monomer constituting the main chain of the polymer composed of the (meth) acrylic acid ester compound. For example, (meth) acrylic acid monomers such as acrylic acid; (meth) acrylic acid methyl, (meth) acrylic acid ethyl, (meth) acrylic acid n-butyl, (meth) acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth) acrylic (Meth) acrylic acid alkyl ester monomers such as stearyl acid; alicyclic (meth) acrylic acid ester monomers; aromatic (meth) acrylic acid ester monomers; (meth) acrylic acid 2-methoxyethyl (meta) ) Acrylic ester monomers; silyl group-containing (meth) acrylic ester monomers such as γ- (methacryloyloxypropyl) trimethoxysilane, γ- (methacryloyloxypropyl) dimethoxymethylsilane; (meth) acrylic acid derivatives; Fluorine-containing (meth) acrylic acid ester monomers It is. In the present embodiment, (meth) acrylic acid represents acrylic acid and / or methacrylic acid. These may be used alone or may be copolymerized. Moreover, the (meth) acrylic acid ester-type polymer which used the 1 type (s) or 2 or more types (meth) acrylic-acid alkylester monomer, and used together with the other (meth) acrylic acid monomer as needed can also be used.

(メタ)アクリル酸エステル系(共)重合体(B−1)の主鎖骨格は、実質的に1種又は2種以上の(メタ)アクリル酸エステル化合物から構成される。ここで、「実質的に」とは、(共)重合体(B−1)中に存在する(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰り返し単位の割合が50%を超えることを意味する。また、(共)重合体(B−1)中に存在する(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰り返し単位の割合は、70%以上が好ましい。   The main chain skeleton of the (meth) acrylate (co) polymer (B-1) is substantially composed of one or more (meth) acrylate compounds. Here, “substantially” means that the proportion of the repeating unit derived from the (meth) acrylic acid ester compound present in the (co) polymer (B-1) exceeds 50%. Moreover, 70% or more of the ratio of the repeating unit derived from the (meth) acrylic acid ester compound which exists in (co) polymer (B-1) is preferable.

更に、(メタ)アクリル酸エステル化合物の中では、相溶性、安定性の観点から、分子鎖が実質的に(b−1)炭素数1〜8のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル化合物と、(b−2)炭素数10以上のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル化合物とからなる共重合体(以下、(共)重合体(B−1)−aと記載する場合もある)が好ましい。   Furthermore, among the (meth) acrylic acid ester compounds, from the viewpoint of compatibility and stability, the molecular chain is substantially (b-1) a (meth) acrylic acid ester compound having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. And a copolymer (hereinafter referred to as (co) polymer (B-1) -a) (b-2) a (meth) acrylic acid ester compound having an alkyl group having 10 or more carbon atoms. ) Is preferred.

(共)重合体(B−1)−aにおける(b−1)炭素数1〜8のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル化合物は、一般式(5):
CH=C(R)COOR (5)
(式中Rは水素原子又はメチル基、Rは炭素数1〜8のアルキル基を示す)で示される。一般式(5)中に記載のRとしては、例えば、炭素数1〜8、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜2のアルキル基が挙げられる。なお、(共)重合体(B−1)−a中のRは、1種類のアルキル基であっても、2種類以上のアルキル基であってもよい。
The (co) polymer (B-1) -a (b-1) (meth) acrylic acid ester compound having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is represented by the general formula (5):
CH 2 = C (R 6 ) COOR 7 (5)
(Wherein R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 7 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms). Examples of R 7 described in the general formula (5) include alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, and more preferably 1 to 2 carbon atoms. Note that R 7 in the (co) polymer (B-1) -a may be one type of alkyl group or two or more types of alkyl groups.

また、(共)重合体(B−1)−aにおける(b−2)炭素数10以上のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル化合物は、一般式(6):
CH=C(R)COOR (6)
(式中Rは一般式(5)の表記と同じ。Rは炭素数10以上のアルキル基を示す。)で示される化合物である。
In addition, the (b-2) (meth) acrylic acid ester compound having an alkyl group having 10 or more carbon atoms in the (co) polymer (B-1) -a has the general formula (6):
CH 2 = C (R 6 ) COOR 8 (6)
(Wherein R 6 is the same as in the general formula (5). R 8 represents an alkyl group having 10 or more carbon atoms).

一般式(6)中に記載のRとしては、例えば、ラウリル基、トリデシル基、セチル基、ステアリル基、炭素数22のアルキル基、ビフェニル基等の炭素数10以上、好ましくは10〜30、より好ましくは10〜20の長鎖アルキル基が挙げられる。なお、(共)重合体(B−1)−a中のRは、1種類のアルキル基であっても、2種類以上のアルキル基であってもよい。 As R 8 described in the general formula (6), for example, a lauryl group, a tridecyl group, a cetyl group, a stearyl group, an alkyl group having 22 carbon atoms, a carbon number of 10 or more, such as a biphenyl group, preferably 10-30, More preferably, a 10-20 long-chain alkyl group is mentioned. In addition, R 8 in the (co) polymer (B-1) -a may be one type of alkyl group or two or more types of alkyl groups.

(共)重合体(B−1)−aの分子鎖は実質的に(b−1)及び(b−2)の化合物からなる。ここで、実質的に(b−1)及び(b−2)の化合物からなるとは、(共)重合体(B−1)−a中に存在する(b−1)及び(b−2)の化合物由来の繰り返し単位の割合が50%を超えることを意味する。   The molecular chain of the (co) polymer (B-1) -a consists essentially of the compounds (b-1) and (b-2). Here, substantially consisting of the compounds (b-1) and (b-2) means that (b-1) and (b-2) existing in the (co) polymer (B-1) -a. It means that the ratio of the repeating unit derived from the compound exceeds 50%.

(共)重合体(B−1)−a中に存在する(b−1)及び(b−2)の化合物由来の繰り返し単位の割合は70%以上が好ましい。(共)重合体(B−1)−a中に存在する(b−1)及び(b−2)の化合物由来の繰り返し単位の割合が50%未満になると架橋性ケイ素基を有する有機重合体(A)と(共)重合体(B−1)−aとの相溶性が低下し、白濁する傾向があり、硬化物の接着特性が低下する傾向がある。   The proportion of repeating units derived from the compounds (b-1) and (b-2) present in the (co) polymer (B-1) -a is preferably 70% or more. An organic polymer having a crosslinkable silicon group when the proportion of repeating units derived from the compounds (b-1) and (b-2) present in the (co) polymer (B-1) -a is less than 50%. There is a tendency that the compatibility between (A) and the (co) polymer (B-1) -a is lowered, and there is a tendency to become cloudy and the adhesive properties of the cured product are lowered.

また、(共)重合体(B−1)−a中に存在する(b−1)、(b−2)の化合物由来の繰り返し単位の割合は、重量比((b−1)由来:(b−2)由来)で95:5〜40:60が好ましく、90:10〜60:40がより好ましい。割合が95:5より大きくなると相溶性が低下し、40:60より小さくなるとコスト的に不利になる傾向がある。   Moreover, the ratio of the repeating unit derived from the compounds (b-1) and (b-2) present in the (co) polymer (B-1) -a is a weight ratio (derived from (b-1) :( b-2)) is preferably 95: 5 to 40:60, more preferably 90:10 to 60:40. When the ratio is larger than 95: 5, the compatibility is lowered, and when it is smaller than 40:60, the cost tends to be disadvantageous.

更に、(共)重合体(B−1)中には、(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰り返し単位に加えて、これらと共重合性を有する化合物由来の繰り返し単位を含むこともできる。(メタ)アクリル酸エステル化合物と共重合性を有する化合物としては、例えば、アクリル酸、アミド基、エポキシ基、アミノ基を含む化合物、その他アクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、アルキルビニルエーテル、塩化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、エチレン等に起因する化合物が挙げられる。   Further, in the (co) polymer (B-1), in addition to the repeating unit derived from the (meth) acrylic acid ester compound, a repeating unit derived from a compound copolymerizable with these can also be included. Examples of the compound having copolymerizability with the (meth) acrylic acid ester compound include compounds containing acrylic acid, amide group, epoxy group, amino group, other acrylonitrile, styrene, α-methylstyrene, alkyl vinyl ether, vinyl chloride, Examples thereof include compounds derived from vinyl acetate, vinyl propionate, ethylene and the like.

(共)重合体(B−1)成分の分子量は、例えば、GPCにおけるポリスチレン換算での数平均分子量が500〜100,000であることが好ましく、1,000〜50,000であることがより好ましく、取扱いが容易なこと、粘着特性に優れること等から2,000〜20,000が特に好ましい。   As for the molecular weight of the (co) polymer (B-1) component, for example, the number average molecular weight in terms of polystyrene in GPC is preferably 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 50,000. 2,000 to 20,000 is particularly preferable because of easy handling and excellent adhesive properties.

(共)重合体(B−1)の製造方法としては、例えば、ラジカル反応による溶液重合法や塊重合法等が挙げられる。なお、(共)重合体(B−1)は、得られる硬化物の接着強度や耐熱性が優れることから、一般式(1)で表される架橋性ケイ素基を有していることが好ましい。一般式(1)で示される架橋性ケイ素基としては、例えば、活性が高く良好な硬化性を得る観点から、ジメトキシメチルシリル基、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基が好ましく、大気中で高温溶融した場合にゲル化物を生成しにくい観点からジメトキシメチルシリル基がより好ましい。   Examples of the method for producing the (co) polymer (B-1) include a solution polymerization method using a radical reaction and a bulk polymerization method. In addition, it is preferable that the (co) polymer (B-1) has a crosslinkable silicon group represented by the general formula (1) because the cured product obtained has excellent adhesive strength and heat resistance. . As the crosslinkable silicon group represented by the general formula (1), for example, from the viewpoint of obtaining high activity and good curability, a dimethoxymethylsilyl group, a trimethoxysilyl group, and a triethoxysilyl group are preferable. A dimethoxymethylsilyl group is more preferable from the viewpoint of hardly forming a gelled product when melted.

(共)重合体(B−1)に反応性ケイ素基を導入する方法としては、種々の方法が挙げられ、例えば、(i)重合性不飽和結合と反応性ケイ素基を有する化合物とを化合物(b−1)及び(b−2)と共に共重合させる方法、(ii)重合性不飽和結合と反応性官能基(以下Y’基という)とを有する化合物(例えば、アクリル酸)を化合物(b−1)及び(b−2)と共に共重合させた後、生成した共重合体を架橋性ケイ素基及びY’基と反応し得る官能基(以下Y’’基という)を有する化合物(例えば、イソシアネート基と−Si(OCH)基を有する化合物)と反応させる方法、(iii)連鎖移動剤として架橋性ケイ素基を有するメルカプタンの存在下、化合物(b−1)及び(b−2)を共重合させる方法、(iv)架橋性ケイ素基を有するアゾビスニトリル化合物やジスルフィド化合物を開始剤として化合物(b−1)及び(b−2)を共重合させる方法、(v)リビングラジカル重合法により化合物(b−1)及び(b−2)を重合させ、分子末端に架橋性ケイ素基を導入する方法等が挙げられる。 As a method for introducing a reactive silicon group into the (co) polymer (B-1), various methods may be mentioned. For example, (i) a compound having a polymerizable unsaturated bond and a reactive silicon group is compounded. A method of copolymerizing with (b-1) and (b-2), (ii) a compound (for example, acrylic acid) having a polymerizable unsaturated bond and a reactive functional group (hereinafter referred to as Y ′ group) as a compound ( After copolymerization with b-1) and (b-2), a compound having a functional group capable of reacting with the crosslinkable silicon group and Y ′ group (hereinafter referred to as Y ″ group) (for example, , A method of reacting an isocyanate group and a compound having —Si (OCH 3 ) group), (iii) compounds (b-1) and (b-2) in the presence of a mercaptan having a crosslinkable silicon group as a chain transfer agent (Iv) crosslinkable silicon A method in which the compounds (b-1) and (b-2) are copolymerized using an azobisnitrile compound or a disulfide compound having an initiator, and (v) a compound (b-1) or (b-2) by a living radical polymerization method. And the like, and a crosslinkable silicon group is introduced at the molecular terminal.

(共)重合体(B−1)中の架橋性ケイ素基の数は、特に限定されず、接着力への効果、コストの観点から、(共)重合体(B−1)1分子中に平均0.1個以上4.0個以下が好ましく、0.5個以上2.0個以下がより好ましい。   The number of crosslinkable silicon groups in the (co) polymer (B-1) is not particularly limited, and from the viewpoint of the effect on adhesive strength and cost, the (co) polymer (B-1) in one molecule. The average is preferably 0.1 or more and 4.0 or less, and more preferably 0.5 or more and 2.0 or less.

[(B−2)粘着付与樹脂]
粘着付与樹脂としては、特に制限はなく通常用いられる樹脂が挙げられる。具体例としては、テルペン樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水素添加テルペン樹脂、水素添加芳香族変性テルペン樹脂、テルペン類をフェノール類と共重合させたテルペン−フェノール樹脂、フェノール樹脂、水素添加テルペンフェノール樹脂、変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、キシレン−フェノール樹脂、シクロペンタジエン樹脂、シクロペンタジエン−フェノール樹脂;α−メチルスチレン単一重合樹脂、スチレン系単一重合樹脂等の低分子量スチレン系樹脂;α−メチルスチレン/スチレン共重合系樹脂、スチレン系モノマー/脂肪族系モノマー共重合系樹脂、スチレン系モノマー/α−メチルスチレン/脂肪族系モノマー共重合系樹脂、スチレン系モノマー/芳香族系モノマー共重合系樹脂等のスチレン共重合体樹脂;石油樹脂(例えば、C5系炭化水素樹脂、C9系炭化水素樹脂、C5、C9炭化水素共重合樹脂、C5、C9炭化水素、フェノール共重合樹脂等)、水添石油樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
[(B-2) Tackifying resin]
The tackifying resin is not particularly limited and includes resins that are usually used. Specific examples include terpene resins, aromatic modified terpene resins, hydrogenated terpene resins, hydrogenated aromatic modified terpene resins, terpene-phenol resins obtained by copolymerizing terpenes with phenols, phenol resins, hydrogenated terpene phenol resins. , Modified phenolic resin, xylene resin, xylene-phenolic resin, cyclopentadiene resin, cyclopentadiene-phenolic resin; α-methylstyrene single-polymerized resin, styrene-based single-polymerized resin, etc., low molecular weight styrene-based resin; α-methylstyrene / Styrene copolymer resin, styrene monomer / aliphatic monomer copolymer resin, styrene monomer / α-methylstyrene / aliphatic monomer copolymer resin, styrene monomer / aromatic monomer copolymer resin Styrene copolymer resins such as petroleum resin ( In example, C5 hydrocarbon resins, C9 hydrocarbon resins, C5, C9 hydrocarbon copolymer resins, C5, C9 hydrocarbons, such as phenol copolymer resin), hydrogenated petroleum resins. These may be used alone or in combination of two or more.

ここで、粘着付与樹脂は、被着体の極性に合わせた極性を有する樹脂を選択することが好ましい。例えば、極性の低い被着体に本実施の形態に係る光硬化性接着剤を用いる場合は、極性の低い粘着付与樹脂を用いることが好ましく、極性の高い被着体に本実施の形態に係る光硬化性接着剤を用いる場合は、極性の高い粘着付与樹脂を用いることが好ましい。極性が高い被着体から極性の低い被着体まで幅広い被着体に本実施の形態に係る光硬化性接着剤を用いる場合には、極性の低い粘着付与樹脂と極性の高い粘着付与樹脂とを混合して用いることが好ましい。   Here, as the tackifier resin, it is preferable to select a resin having a polarity that matches the polarity of the adherend. For example, when the photocurable adhesive according to the present embodiment is used for an adherend having a low polarity, it is preferable to use a tackifying resin having a low polarity, and the adherend having a high polarity is related to the present embodiment. When using a photocurable adhesive, it is preferable to use a highly polar tackifying resin. When using the photocurable adhesive according to the present embodiment for a wide range of adherends from high polarity adherends to low polarity adherends, a low polarity tackifier resin and a high polarity tackifier resin; It is preferable to mix and use.

そして、粘着付与樹脂としては、架橋性ケイ素基を有する有機重合体との相溶性がよい観点からは、テルペンフェノール樹脂、スチレン共重合体樹脂が好ましい。また、架橋性ケイ素基を有する有機重合体と相溶性が悪いものの極性の低い被着体との密着性を向上させる観点からは、水素添加芳香族変性テルペン樹脂を少量添加してもよい。粘着付与樹脂としては、加熱安定性の観点からは、光硬化性接着剤の調製時の加熱安定性(すなわち、実質的にゲル化しない安定性)、及び使用時の加熱安定性を確保若しくは向上させるテルペンフェノール樹脂、低分子量スチレン系樹脂、スチレン共重合体樹脂がより好ましい。また、テルペンフェノール樹脂、低分子量スチレン系樹脂、スチレン系モノマー/脂肪族系モノマー共重合体樹脂、スチレン系モノマー/α−メチルスチレン/脂肪族系モノマー共重合体樹脂、スチレン系モノマー/インデン/脂肪族系モノマー共重合体樹脂がより好ましく、テルペンフェノール樹脂、スチレン系モノマー/脂肪族系モノマー共重合体樹脂が特に好ましい。そして、粘着付与樹脂としては、加熱安定性と共に粘着力が優れている観点からは、テルペンフェノール樹脂が最も好ましい。   And as a tackifier resin, a terpene phenol resin and a styrene copolymer resin are preferable from a viewpoint with good compatibility with the organic polymer which has a crosslinkable silicon group. Moreover, from the viewpoint of improving the adhesion between the organic polymer having a crosslinkable silicon group and poor adherence but having a low polarity, a small amount of hydrogenated aromatic modified terpene resin may be added. As a tackifying resin, from the viewpoint of heat stability, heat stability during preparation of a photocurable adhesive (ie, stability that does not substantially gel) and heat stability during use are ensured or improved. More preferred are terpene phenol resins, low molecular weight styrene resins, and styrene copolymer resins. Also, terpene phenol resin, low molecular weight styrene resin, styrene monomer / aliphatic monomer copolymer resin, styrene monomer / α-methylstyrene / aliphatic monomer copolymer resin, styrene monomer / indene / fatty An aromatic monomer copolymer resin is more preferable, and a terpene phenol resin and a styrene monomer / aliphatic monomer copolymer resin are particularly preferable. And as a tackifier resin, the terpene phenol resin is the most preferable from a viewpoint which is excellent in adhesive strength with heat stability.

粘着付与樹脂(B−2)の使用量は、(A)成分100質量部に対して10〜200質量部が好ましく、10〜150質量部がより好ましい。10質量部未満では粘着力が不十分であり、150質量部より多いと硬化物が硬くなりすぎて粘着力が不十分であり、また粘度が高くなり作業性が低下してしまう。   10-200 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (A) component, and, as for the usage-amount of tackifying resin (B-2), 10-150 mass parts is more preferable. When the amount is less than 10 parts by mass, the adhesive strength is insufficient. When the amount is more than 150 parts by mass, the cured product becomes too hard and the adhesive strength is insufficient, and the viscosity increases and the workability decreases.

(C成分:光潜在性硬化樹脂)
光潜在性硬化触媒としては、80℃〜100℃程度の高温でも光硬化性接着剤の硬化を実質的に進行させない化合物を用いることができ、光の照射により酸又は塩基が発生する化合物であることが特に好ましい。湿分阻害や被着体にサビを生じない点から光の照射により塩基が発生する化合物であることが好ましい。具体的に(C)光潜在性硬化触媒としては、光潜在性の化合物と共に用いられる(C1)Si−F結合を有するケイ素化合物、及び(D)光塩基発生剤からなる群から選択される少なくとも1つの化合物が挙げられる。(C1)Si−F結合を有するケイ素化合物としては、Si−F結合を有するケイ素基(以下、フルオロシリル基と称することがある)を含む様々な化合物を用いることができる。(C1)成分のケイ素化合物として無機化合物及び有機化合物のいずれも用いることができる。本実施の形態では、フルオロシリル基を有する有機化合物が好ましく、フルオロシリル基を有する有機重合体が、安全性が高くより好適である。また、配合物が低粘度となる点からフルオロシリル基を有する低分子有機ケイ素化合物が好ましい。
(C component: photolatent curable resin)
As the photolatent curing catalyst, a compound that does not substantially cure the curing of the photocurable adhesive even at a high temperature of about 80 ° C. to 100 ° C. can be used, and is a compound that generates an acid or a base by irradiation with light. It is particularly preferred. A compound that generates a base upon irradiation with light is preferred because it does not inhibit moisture or cause rust on the adherend. Specifically, the (C) photolatent curing catalyst is at least selected from the group consisting of (C1) a silicon compound having a Si—F bond used together with a photolatent compound, and (D) a photobase generator. One compound is mentioned. (C1) As the silicon compound having a Si—F bond, various compounds including a silicon group having a Si—F bond (hereinafter sometimes referred to as a fluorosilyl group) can be used. As the silicon compound as the component (C1), any of inorganic compounds and organic compounds can be used. In the present embodiment, an organic compound having a fluorosilyl group is preferable, and an organic polymer having a fluorosilyl group is more preferable because of high safety. Moreover, the low molecular organosilicon compound which has a fluoro silyl group from the point from which a compound becomes low viscosity is preferable.

(C1)Si−F結合を有するケイ素化合物は光潜在性の化合物と共に用いることで、(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体の硬化触媒として作用する。(C1)Si−F結合を有するケイ素化合物としては、Si−F結合を有するケイ素基(以下、フルオロシリル基と称することがある)を含む様々な化合物を用いることができ、特に制限はなく、低分子化合物及び高分子化合物のいずれも用いることができる。フルオロシリル基を有する有機ケイ素化合物が好ましく、フルオロシリル基を有する有機重合体が、安全性が高くより好適である。また、配合物が低粘度となる点からフルオロシリル基を有する低分子有機ケイ素化合物が好ましい。   (C1) A silicon compound having a Si—F bond is used together with a photolatent compound to act as a curing catalyst for (A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer. (C1) As the silicon compound having a Si-F bond, various compounds including a silicon group having a Si-F bond (hereinafter sometimes referred to as a fluorosilyl group) can be used, and there is no particular limitation. Either a low molecular compound or a high molecular compound can be used. An organosilicon compound having a fluorosilyl group is preferable, and an organic polymer having a fluorosilyl group is more preferable because of high safety. Moreover, the low molecular organosilicon compound which has a fluoro silyl group from the point from which a compound becomes low viscosity is preferable.

(C1)Si−F結合を有するケイ素化合物としては、具体的には、式(7)で示されるWO2015−088021号公報に記載のフルオロシラン類、式(8)で示されるWO2015−088021号公報に記載のフルオロシリル基を有する化合物(以下、フッ素化化合物とも称する)、及びWO2015−088021号公報に記載のフルオロシリル基を有する有機重合体(以下、フッ素化ポリマーとも称する)等が好適な例として挙げられる。   (C1) Specific examples of the silicon compound having a Si—F bond include fluorosilanes described in WO2015-088021 represented by formula (7), and WO2015-088021 represented by formula (8). Preferred examples include compounds having a fluorosilyl group described below (hereinafter also referred to as fluorinated compounds) and organic polymers having a fluorosilyl group described in WO2015-088021 (hereinafter also referred to as fluorinated polymers). As mentioned.

4−dSiF ・・・(7)
(式(7)において、Rはそれぞれ独立して、置換若しくは非置換の炭素数が1〜20の炭化水素基、又はR10SiO−(R10はそれぞれ独立に、炭素数が1〜20の置換若しくは非置換の炭化水素基、又はフッ素原子である)で示されるオルガノシロキシ基のいずれかを示す。dは1〜3のいずれかであり、dが3であることが好ましい。R及びR10が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。)
R 9 4-d SiF d (7)
(In Formula (7), each R 9 is independently a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R 10 SiO— (R 10 is independently each having 1 to 20 carbon atoms. Or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, or a fluorine atom), d is any one of 1 to 3, and d is preferably 3. R 9 And when there are a plurality of R 10 s , they may be the same or different.)

−SiF ・・・(8)
(式(8)中、R及びdはそれぞれ式(7)と同一であり、Zはそれぞれ独立して水酸基又はフッ素を除く他の加水分解性基であり、eは0〜2のいずれかであり、fは0〜2のいずれかであり、d+e+fは3である。R、R10及びZが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。)
-SiF d R 9 e Z f (8)
(In Formula (8), R < 9 > and d are respectively the same as Formula (7), Z is respectively independently the other hydrolysable group except a hydroxyl group or a fluorine, and e is either 0-2. F is any one of 0 to 2, and d + e + f is 3. When a plurality of R 9 , R 10 and Z are present, they may be the same or different.

式(7)で示されるフルオロシラン類としては、式(7)で示されるフルオロシラン類が挙げられる。例えば、フルオロジメチルフェニルシラン、ビニルトリフルオロシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、オクタデシルトリフルオロシラン等が挙げられる。   Examples of the fluorosilanes represented by the formula (7) include fluorosilanes represented by the formula (7). Examples thereof include fluorodimethylphenylsilane, vinyl trifluorosilane, γ-methacryloxypropyl trifluorosilane, octadecyl trifluorosilane, and the like.

式(8)で示されるフルオロシリル基を有する化合物において、Zで示される加水分解性基としては、加水分解性が穏やかで取扱いやすいという観点からアルコキシ基が好ましく、Rとしては、メチル基が好ましい。 In the compound having a fluorosilyl group represented by the formula (8), the hydrolyzable group represented by Z is preferably an alkoxy group from the viewpoint of mild hydrolyzability and easy handling, and R 9 is a methyl group. preferable.

式(8)で表されるフルオロシリル基を例示すると、フッ素以外に加水分解性基を有さないケイ素基やRがメチル基であるフルオロシリル基が好ましく、トリフルオロシリル基がより好ましい。 When the fluorosilyl group represented by the formula (8) is exemplified, a silicon group having no hydrolyzable group other than fluorine or a fluorosilyl group in which R 9 is a methyl group are preferable, and a trifluorosilyl group is more preferable.

式(8)で示されるフルオロシリル基を有する化合物としては、特に限定されず、単分子化合物、高分子化合物のいずれも用いることができる。例えば、無機ケイ素化合物;ビニルジフルオロメトキシシラン、ビニルトリフルオロシラン、フェニルジフルオロメトキシシラン、フェニルトリフルオロシラン等の低分子有機ケイ素化合物;末端に式(8)で示されるフルオロシリル基を有するフッ素化ポリシロキサン等の高分子化合物が挙げられ、式(7)で示されるフルオロシラン類や、主鎖又は側鎖の末端に式(8)で示されるフルオロシリル基を有する重合体が好適である。   The compound having a fluorosilyl group represented by the formula (8) is not particularly limited, and either a monomolecular compound or a polymer compound can be used. For example, inorganic silicon compounds; low molecular organic silicon compounds such as vinyl difluoromethoxysilane, vinyl trifluorosilane, phenyldifluoromethoxysilane, and phenyltrifluorosilane; fluorinated poly having a fluorosilyl group represented by formula (8) Examples thereof include polymer compounds such as siloxane, and preferred are fluorosilanes represented by the formula (7) and polymers having a fluorosilyl group represented by the formula (8) at the end of the main chain or side chain.

フルオロシリル基を有する有機重合体(以下、フッ素化ポリマーとも称する)としては、Si−F結合を有する様々な有機重合体を用いることができる。   As the organic polymer having a fluorosilyl group (hereinafter also referred to as a fluorinated polymer), various organic polymers having a Si—F bond can be used.

フッ素化ポリマーは、フルオロシリル基、及び主鎖骨格が同種である単一の重合体、すなわち、1分子あたりのフルオロシリル基の数、その結合位置、及びフルオロシリル基が有するFの数、並びに主鎖骨格が同種である単一の重合体であってもよく、これらのいずれか、又は全てが異なる、複数の重合体の混合物であってもよい。これらのフッ素化ポリマーはいずれも、速硬化性を示す光硬化性接着剤の樹脂成分として好適に用いることができる。   The fluorinated polymer is a single polymer in which the main chain skeleton is the same as a fluorosilyl group, that is, the number of fluorosilyl groups per molecule, the bonding position thereof, and the number of Fs that the fluorosilyl group has, and The polymer may be a single polymer having the same main chain skeleton, or may be a mixture of a plurality of polymers, any or all of which are different. Any of these fluorinated polymers can be suitably used as a resin component of a photo-curing adhesive exhibiting rapid curability.

フッ素化ポリマーは直鎖状であってもよく、又は分岐を有してもよい。フッ素化ポリマーの数平均分子量は、GPCにおけるポリスチレン換算において3,000〜100,000が好ましく、より好ましくは3,000〜50,000であり、特に好ましくは3,000〜30,000である。数平均分子量が3,000未満では、硬化物の伸び特性の点で不都合な傾向があり、100,000を越えると、高粘度となるために作業性の点で不都合な傾向がある。   The fluorinated polymer may be linear or branched. The number average molecular weight of the fluorinated polymer is preferably 3,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 50,000, and particularly preferably 3,000 to 30,000 in terms of polystyrene in GPC. If the number average molecular weight is less than 3,000, the cured product tends to be disadvantageous in terms of elongation characteristics, and if it exceeds 100,000, the viscosity tends to be inconvenient because of high viscosity.

(C1)Si−F結合を有するケイ素化合物の配合割合は特に制限はないが、成分(C1)としてフッ素化ポリマー等の数平均分子量3,000以上の高分子化合物を用いる場合は、(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜80質量部が好ましく、0.01〜30質量部がより好ましく、0.05〜20質量部が更に好ましい。成分(C1)として数平均分子量3,000未満のフルオロシリル基を有する低分子化合物(例えば、式(7)で示されるフルオロシラン類や式(8)で示されるフルオロシリル基を有する低分子有機ケイ素化合物、フルオロシリル基を有する無機ケイ素化合物等)を用いる場合は、(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜10質量部が好ましく、0.05〜5質量部がより好ましい。   (C1) Although there is no restriction | limiting in particular in the mixture ratio of the silicon compound which has a Si-F bond, When using a high molecular compound with a number average molecular weight 3,000 or more, such as a fluorinated polymer, as a component (C1), (A) The amount is preferably 0.01 to 80 parts by weight, more preferably 0.01 to 30 parts by weight, and still more preferably 0.05 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the crosslinkable silicon group-containing organic polymer. A low molecular compound having a fluorosilyl group having a number average molecular weight of less than 3,000 as the component (C1) (for example, a low molecular organic compound having a fluorosilane group represented by the formula (7) or a fluorosilyl group represented by the formula (8) In the case of using a silicon compound, an inorganic silicon compound having a fluorosilyl group, etc., (A) 0.01 to 10 parts by mass is preferable with respect to 100 parts by mass of the crosslinkable silicon group-containing organic polymer. 5 parts by mass is more preferable.

硬化触媒として用いられる光塩基発生剤(D)とSi−F結合を有するケイ素化合物(C1)との配合割合は、(D):(C1)が質量比で1:0.008〜1:300が好ましく、1:0.016〜1:40がより好ましい。   The mixing ratio of the photobase generator (D) used as the curing catalyst and the silicon compound (C1) having a Si—F bond is such that (D) :( C1) is in a mass ratio of 1: 0.008 to 1: 300. Is preferable, and 1: 0.016 to 1:40 is more preferable.

光塩基発生剤(D)は、光を照射すると(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体の硬化触媒として作用する。光塩基発生剤(D)は、紫外線、電子線、X線、赤外線、及び可視光線等の活性エネルギー線の作用により塩基及び/又はラジカルを発生する。(1)紫外線・可視光・赤外線等の活性エネルギー線の照射により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、(2)分子内求核置換反応や転位反応等により分解してアミン類を放出する化合物、若しくは(3)紫外線・可視光・赤外線等のエネルギー線の照射により所定の化学反応を起こして塩基を放出する化合物等の公知の光塩基発生剤(D)を用いることができる。光塩基発生剤(D)から発生する塩基が(A)成分を硬化させる機能を有する。   The photobase generator (D) acts as a curing catalyst for the (A) crosslinkable silicon group-containing organic polymer when irradiated with light. The photobase generator (D) generates bases and / or radicals by the action of active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, X-rays, infrared rays, and visible rays. (1) Salts of organic acids and bases that are decarboxylated and decomposed by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, and infrared rays. (2) Decomposed amines by decomposition by intramolecular nucleophilic substitution reaction or rearrangement reaction. A known photobase generator (D) such as a compound to be released or (3) a compound that causes a predetermined chemical reaction to release a base by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays, visible light, and infrared rays can be used. The base generated from the photobase generator (D) has a function of curing the component (A).

光塩基発生剤(D)から発生する塩基としては、例えば、アミン化合物等の有機塩基が好ましく、例として、WO2015−088021号公報記載の第1級アルキルアミン類、第1級芳香族アミン類、第2級アルキルアミン類、2級アミノ基及び3級アミノ基を有するアミン類、第3級アルキルアミン類、第3級複素環式アミン、第3級芳香族アミン類、アミジン類、ホスファゼン誘導体が挙げられる。このうち、第3級アミノ基を有するアミン化合物が好ましく、強塩基であるアミジン類、ホスファゼン誘導体がより好ましい。アミジン類は非環状アミジン類及び環式アミジン類のいずれも用いることができ、環式アミジン類がより好ましい。これら塩基は単独で用いても、2種以上組み合わせてもよい。   As the base generated from the photobase generator (D), for example, an organic base such as an amine compound is preferable, and examples thereof include primary alkylamines, primary aromatic amines described in WO2015-088021, Secondary alkyl amines, amines having secondary amino groups and tertiary amino groups, tertiary alkyl amines, tertiary heterocyclic amines, tertiary aromatic amines, amidines, phosphazene derivatives Can be mentioned. Of these, amine compounds having a tertiary amino group are preferred, and amidines and phosphazene derivatives which are strong bases are more preferred. As the amidines, both acyclic amidines and cyclic amidines can be used, and cyclic amidines are more preferable. These bases may be used alone or in combination of two or more.

非環状アミジン類としては、例えば、WO2015−088021号公報記載のグアニジン系化合物、ビグアニド系化合物等が挙げられる。また、非環状アミジン化合物の中でも、例えば、WO2015−088021号公報記載のアリール置換グアニジン系化合物、若しくはアリール置換ビグアニド系化合物を発生する光塩基発生剤は、重合体(A)の触媒として用いた場合、表面の硬化性が良好となる傾向を示すこと、得られる硬化物の接着性が良好となる傾向を示すこと等から好ましい。   Examples of acyclic amidines include guanidine compounds and biguanide compounds described in WO2015-088021. Among the non-cyclic amidine compounds, for example, a photobase generator for generating an aryl-substituted guanidine compound or an aryl-substituted biguanide compound described in WO2015-088021 is used as a catalyst for the polymer (A). It is preferable because it shows a tendency to improve the curability of the surface, and a tendency to improve the adhesion of the resulting cured product.

環式アミジン類としては、例えば、WO2015−088021号公報記載の環式グアニジン系化合物、イミダゾリン系化合物、イミダゾール系化合物、テトラヒドロピリミジン系化合物、トリアザビシクロアルケン系化合物、ジアザビシクロアルケン系化合物が挙げられる。   Examples of cyclic amidines include cyclic guanidine compounds, imidazoline compounds, imidazole compounds, tetrahydropyrimidine compounds, triazabicycloalkene compounds, and diazabicycloalkene compounds described in WO2015-088021. It is done.

環式アミジン類のうち、工業的に入手が容易である点や、共役酸のpKa値が12以上であり、高い触媒活性を示す点から、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)が特に好適である。   Among the cyclic amidines, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene is obtained from the point that it is easily available industrially and the pKa value of the conjugate acid is 12 or more and exhibits high catalytic activity. -7 (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN) is particularly preferred.

光塩基発生剤(D)としては、様々な光塩基発生剤を用いることができる。活性エネルギー線の作用によりアミン化合物を発生する光潜在性アミン化合物が好ましい。光潜在性アミン化合物としては、活性エネルギー線の作用により第1級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第1級アミン、活性エネルギー線の作用により第2級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第2級アミン、及び活性エネルギー線の作用により第3級アミノ基を有するアミン化合物を発生する光潜在性第3級アミンのいずれも用いることができる。発生塩基が高い触媒活性を示す点からは、光潜在性第3級アミンがより好適である。   Various photobase generators can be used as the photobase generator (D). Photolatent amine compounds that generate amine compounds by the action of active energy rays are preferred. The photolatent amine compound includes a photolatent primary amine that generates an amine compound having a primary amino group by the action of active energy rays, and an amine compound having a secondary amino group by the action of active energy rays. Any of the photolatent secondary amine that is generated and the photolatent tertiary amine that generates an amine compound having a tertiary amino group by the action of active energy rays can be used. In view of the high catalytic activity of the generated base, a photolatent tertiary amine is more preferable.

光潜在性第1級アミン及び光潜在性第2級アミンとしては、例えば、WO2015/088021号公報記載のオルトニトロベンジルウレタン系化合物;ジメトキシベンジルウレタン系化合物;カルバミン酸ベンゾイン類;o−アシルオキシム類;o−カルバモイルオキシム類;N−ヒドロキシイミドカルバマート類;ホルムアニリド誘導体;芳香族スルホンアミド類;コバルトアミン錯体等が挙げられる。   Examples of the photolatent primary amine and photolatent secondary amine include, for example, orthonitrobenzylurethane compounds described in WO2015 / 088021, dimethoxybenzylurethane compounds, benzoin carbamates, o-acyloximes O-carbamoyl oximes; N-hydroxyimide carbamates; formanilide derivatives; aromatic sulfonamides; cobalt amine complexes and the like.

光潜在性第3級アミンとしては、例えば、WO2015−088021号公報記載のα−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体、ベンジルアミン誘導体、ベンジルアンモニウム塩誘導体、α−アミノアルケン誘導体、α−アンモニウムアルケン誘導体、アミンイミド類、光によりアミジンを発生するベンジルオキシカルボニルアミン誘導体、及びカルボン酸と3級アミンとの塩等が挙げられる。   Examples of the photolatent tertiary amine include α-aminoketone derivatives, α-ammonium ketone derivatives, benzylamine derivatives, benzylammonium salt derivatives, α-aminoalkene derivatives, α-ammonium alkene derivatives described in WO2015-088021. Amine imides, benzyloxycarbonylamine derivatives that generate amidine by light, and salts of carboxylic acids and tertiary amines.

α−アミノケトン化合物としては、例えば、5−ナフトイルメチル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(4’−ニトロ)フェナシル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン等のアミジン類を発生するα−アミノケトン化合物、4−(メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン(イルガキュア907)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン(イルガキュア369)、2−(4−メチルベンジル)−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン(イルガキュア379)等の一個の窒素原子で構成される第3級アミン基を有する第3級アミン類を発生するα−アミノケトン化合物が挙げられる。   Examples of the α-aminoketone compound include 5-naphthoylmethyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane and 5- (4′-nitro) phenacyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0]. Α-aminoketone compounds that generate amidines such as nonane, 4- (methylthiobenzoyl) -1-methyl-1-morpholinoethane (Irgacure 907), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) ) -Butanone (Irgacure 369), 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone (Irgacure 379), etc., a tertiary amine composed of one nitrogen atom Examples include α-aminoketone compounds that generate tertiary amines having a group.

α−アンモニウムケトン誘導体としては、例えば、1−ナフトイルメチル−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート、5−(4’−ニトロ)フェナシル−(5−アゾニア−1−アザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン)テトラフェニルボレート等が挙げられる。   Examples of the α-ammonium ketone derivatives include 1-naphthoylmethyl- (1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenylborate, 5- (4′-nitro) phenacyl- (5 -Azonia-1-azabicyclo [4.3.0] -5-nonene) tetraphenylborate and the like.

ベンジルアミン誘導体としては、例えば、5−ベンジル−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(アントラセン−9−イル−メチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン、5−(ナフト−2−イル−メチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン等のベンジルアミン誘導体等が挙げられる。   Examples of benzylamine derivatives include 5-benzyl-1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane and 5- (anthracen-9-yl-methyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0]. Nonane, benzylamine derivatives such as 5- (naphth-2-yl-methyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane, and the like can be mentioned.

ベンジルアンモニウム塩誘導体としては、例えば、(9−アントリル)メチル1−アザビシクロ〔2.2.2〕オクタニウムテトラフェニルボレート、5−(9−アントリルメチル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−5−ノネニウムテトラフェニルボレート等が挙げられる。   Examples of benzylammonium salt derivatives include (9-anthryl) methyl 1-azabicyclo [2.2.2] octanium tetraphenylborate, 5- (9-anthrylmethyl) -1,5-diazabicyclo [4.3. .0] -5-nonenium tetraphenylborate and the like.

α−アミノアルケン誘導体としては、例えば、5−(2’−(2”−ナフチル)アリル)−1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノナン等が挙げられる。   Examples of the α-aminoalkene derivative include 5- (2 ′-(2 ″ -naphthyl) allyl) -1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonane.

α−アンモニウムアルケン誘導体としては、例えば、1−(2’−フェニルアリル)−(1−アゾニア−4−アザビシクロ[2,2,2]−オクタン)テトラフェニルボレート等が挙げられる。   Examples of the α-ammonium alkene derivative include 1- (2′-phenylallyl)-(1-azonia-4-azabicyclo [2,2,2] -octane) tetraphenylborate.

光によりアミジンを発生するベンジルオキシカルボニルアミン誘導体としては、WO2015−088021号公報記載のベンジルオキシカルボニルイミダゾール類、ベンジルオキシカルボニルグアニジン類、ジアミン誘導体等が挙げられる。   Examples of benzyloxycarbonylamine derivatives that generate amidine by light include benzyloxycarbonylimidazoles, benzyloxycarbonylguanidines, diamine derivatives, and the like described in WO2015-088021.

カルボン酸と3級アミンとの塩としては、WO2015−088021号公報記載のα−ケトカルボン酸アンモニウム塩、及びカルボン酸アンモニウム塩等が挙げられる。   Examples of the salt of a carboxylic acid and a tertiary amine include an α-ketocarboxylic acid ammonium salt and a carboxylic acid ammonium salt described in WO2015-088021.

光塩基発生剤(D)の中でも、発生塩基が高い触媒活性を示す点から光潜在性第3級アミンが好ましく、塩基の発生効率が高いこと及び組成物としての貯蔵安定性が良いこと等から、ベンジルアンモニウム塩誘導体、ベンジル置換アミン誘導体、α−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体が好ましい。特に、塩基の発生効率がより良いことから、α−アミノケトン誘導体、α−アンモニウムケトン誘導体がより好ましく、配合物に対する溶解性よりα−アミノケトン誘導体がより好ましい。α−アミノケトン誘導体の中でも発生塩基の塩基性の強さよりアミジン類を発生するα−アミノケトン化合物がよく、入手のしやすさより一個の窒素原子で構成される第3級アミン基を有する第3級アミン類を発生するα−アミノケトン化合物が挙げられる。   Among the photobase generators (D), photolatent tertiary amines are preferable from the viewpoint that the generated bases exhibit high catalytic activity, and the base generation efficiency is high and the storage stability as a composition is good. , Benzylammonium salt derivatives, benzyl-substituted amine derivatives, α-aminoketone derivatives and α-ammonium ketone derivatives are preferred. In particular, an α-aminoketone derivative and an α-ammonium ketone derivative are more preferable because the base generation efficiency is better, and an α-aminoketone derivative is more preferable than the solubility in the blend. Among α-aminoketone derivatives, α-aminoketone compounds that generate amidines from the basic strength of the generated base are preferable, and tertiary amines having a tertiary amine group composed of one nitrogen atom are more readily available. And α-aminoketone compounds that generate the same.

これら光塩基発生剤(D)は単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。光塩基発生剤(D)の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜50質量部が好ましく、0.1〜40質量部がより好ましく、0.2〜15質量部が更に好ましい。   These photobase generators (D) may be used alone or in combination of two or more. The mixing ratio of the photobase generator (D) is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) crosslinkable silicon group-containing organic polymer, and 0.1 to 40 A mass part is more preferable and 0.2-15 mass parts is still more preferable.

(その他の配合物質)
本実施の形態の光硬化性接着剤には、必要に応じて、(E)光によりアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物、シランカップリング剤(接着性付与剤)、光ラジカル開始剤、光増感剤、増量剤、希釈剤、可塑剤、水分吸収剤、(C)成分や(D)成分を除く他の縮合反応促進触媒、エポキシ基を有する化合物、ラジカル重合性の官能基を有する化合物、引張特性等を改善する物性調整剤、補強剤、着色剤、難燃剤、タレ防止剤、酸化防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、溶剤、香料、顔料、染料、ワックス、樹脂フィラー、導電性粉、熱伝導性粉、蛍光体等の各種の添加剤を加えてもよい。
(Other compounding substances)
The photocurable adhesive of this embodiment includes, as necessary, (E) a crosslinkable silicon group-containing compound that generates an amino group by light, a silane coupling agent (adhesion imparting agent), and a photoradical initiator. , Photosensitizers, extenders, diluents, plasticizers, moisture absorbers, other condensation reaction promoting catalysts excluding component (C) and (D), compounds having epoxy groups, radical polymerizable functional groups Compounds, property modifiers that improve tensile properties, reinforcing agents, colorants, flame retardants, anti-sagging agents, antioxidants, anti-aging agents, UV absorbers, solvents, fragrances, pigments, dyes, waxes, resin fillers Various additives such as conductive powder, heat conductive powder, and phosphor may be added.

本実施形態に係る配合物は、(E)光により、第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物を更に含むこともできる。(E)光により、第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物は、本実施形態に係る配合物に接着性を付与できるか、若しくは接着性を向上できる。これにより、本実施形態に係る配合物を接着剤用途として好適に用いることができる。   The formulation according to this embodiment further comprises (E) a crosslinkable silicon group-containing compound that generates one or more amino groups selected from the group consisting of primary amino groups and secondary amino groups by light. It can also be included. (E) The crosslinkable silicon group-containing compound that generates one or more amino groups selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by light adheres to the formulation according to this embodiment. Property can be imparted or adhesion can be improved. Thereby, the compound which concerns on this embodiment can be used suitably as an adhesive agent use.

(E)光により、第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物としては、光照射により、第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基と、架橋性ケイ素基とを有するアミノシラン化合物を発生する化合物であればいかなるものでも用いることができる。本実施形態において、光により、第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物を光アミノシラン発生化合物とも称する。   (E) The crosslinkable silicon group-containing compound that generates one or more amino groups selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by light may be a primary amino group by light irradiation. Any compound that generates an aminosilane compound having at least one amino group selected from the group consisting of a group and a secondary amino group and a crosslinkable silicon group can be used. In this embodiment, the crosslinkable silicon group-containing compound that generates one or more amino groups selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by light is also referred to as a photoaminosilane generating compound.

光照射により発生するアミノシラン化合物としては、架橋性ケイ素基、及び置換若しくは非置換のアミノ基を有する化合物が用いられる。置換アミノ基の置換基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。これらのうち、接着性が良好になる観点からは、アルキル基が好ましい。また、架橋性ケイ素基としては、加水分解性基が結合したケイ素含有基が好ましい。この中でも、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基が、加水分解性が穏やかで取り扱いやすいことから好ましい。アミノシラン化合物中、加水分解性基や水酸基は1個のケイ素原子に1〜3個の範囲で結合することができ、2個以上が好ましく、特に3個が好ましい。   As the aminosilane compound generated by light irradiation, a compound having a crosslinkable silicon group and a substituted or unsubstituted amino group is used. Examples of the substituent of the substituted amino group include an alkyl group, an aralkyl group, and an aryl group. Among these, an alkyl group is preferable from the viewpoint of improving adhesiveness. The crosslinkable silicon group is preferably a silicon-containing group to which a hydrolyzable group is bonded. Among these, alkoxy groups such as a methoxy group and an ethoxy group are preferable because they are mildly hydrolyzable and easy to handle. In the aminosilane compound, the hydrolyzable group and the hydroxyl group can be bonded to one silicon atom in the range of 1 to 3, preferably 2 or more, particularly preferably 3.

光照射により発生するアミノシラン化合物としては、特に限定されず、接着性の点から第一級アミノ基(−NH)を有するアミノシラン化合物が好ましく、入手性の点からγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシランが好ましく、接着性、硬化性よりγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランがより好ましい。 The aminosilane compound generated by light irradiation is not particularly limited, and an aminosilane compound having a primary amino group (—NH 2 ) is preferable from the viewpoint of adhesiveness, and γ-aminopropyltrimethoxysilane from the viewpoint of availability, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane are preferable, and γ-aminopropyltrimethoxysilane and γ-aminopropyl are preferable in terms of adhesiveness and curability. Triethoxysilane is more preferred.

光アミノシラン発生化合物としては、例えば、式(9)〜(10)で示されるWO2015−088021号公報記載の光官能基を有するケイ素化合物、芳香族スルホンアミド誘導体、O−アシルオキシム誘導体、及びtrans−O−クマル酸誘導体等が挙げられる。   Examples of the photoaminosilane generating compound include a silicon compound having an optical functional group described in WO2015-088021 represented by formulas (9) to (10), an aromatic sulfonamide derivative, an O-acyloxime derivative, and trans- Examples thereof include O-coumaric acid derivatives.

式(9)中、nは1〜3の整数であり、Yは水酸基又は加水分解性基を示し、アルコキシ基が好ましい。Yが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。R11は炭素数が1〜20の炭化水素基若しくは置換基を有する炭化水素基を示し、ビニル基、アリル基、炭素数が1〜10の非置換若しくは置換アルキル基、非置換若しくは置換アリール基が好ましい。R11が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。R12は水素原子又は有機基であり、水素原子、炭素数が1〜20の炭化水素基若しくは置換基を有する炭化水素基が好ましく、水素原子がより好ましい。hは1〜5の整数であり、jは1〜6個の整数である。R13は、h+j個の異なる炭素原子でケイ素原子及び窒素原子と結合する、置換又は非置換の炭化水素基、及び1以上のエーテル酸素原子を介して互いに結合した複数個の置換又は非置換の炭化水素基からなる群から選択されるh+j価の基であり、分子量は1,000以下である。R12及びR13はそれらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Zは酸素原子又は硫黄原子であり、酸素原子が好ましい。Qは光官能基を表す。 In formula (9), n is an integer of 1 to 3, Y represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and an alkoxy group is preferable. When a plurality of Y are present, they may be the same or different. R 11 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrocarbon group having a substituent, vinyl group, allyl group, unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, unsubstituted or substituted aryl group. Is preferred. When a plurality of R 11 are present, they may be the same or different. R 12 is a hydrogen atom or an organic group, preferably a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrocarbon group having a substituent, and more preferably a hydrogen atom. h is an integer of 1 to 5, and j is an integer of 1 to 6. R 13 is a substituted or unsubstituted hydrocarbon group bonded to a silicon atom and a nitrogen atom at h + j different carbon atoms, and a plurality of substituted or unsubstituted groups bonded to each other via one or more ether oxygen atoms. It is an h + j-valent group selected from the group consisting of hydrocarbon groups and has a molecular weight of 1,000 or less. R 12 and R 13 may combine with each other to form a cyclic structure, and may include a hetero atom bond. Z is an oxygen atom or a sulfur atom, preferably an oxygen atom. Q represents a photofunctional group.

式(10)中、n、Y、R11、Z、及びQは式(9)と同様である。R15は、置換又は非置換の炭化水素基、及び1以上のエーテル酸素原子を介して互いに結合した複数個の置換又は非置換の炭化水素基からなる群から選択される2価の基である。tは1以上の整数であり、1又は2が好ましい。tが2以上の場合、R14に結合するt個の基は同一でも異なっていてもよい。R14は水素原子又は有機基であり、水素原子又は置換若しくは非置換のt価の炭化水素基が好ましく、水素原子、置換若しくは非置換のt価のアルキル基がより好ましい。R14及びR15はそれらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。 In formula (10), n, Y, R 11 , Z, and Q are the same as in formula (9). R 15 is a divalent group selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted hydrocarbon group and a plurality of substituted or unsubstituted hydrocarbon groups bonded to each other via one or more ether oxygen atoms. . t is an integer of 1 or more, and 1 or 2 is preferable. When t is 2 or more, t groups bonded to R 14 may be the same or different. R 14 is a hydrogen atom or an organic group, preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted t-valent hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted t-valent alkyl group. R 14 and R 15 may be bonded to each other to form a cyclic structure, and may include a hetero atom bond.

光官能基Qとしては、公知の感光性基が挙げられ特に制限はないが、例えば、WO2015−088021号公報記載の環状構造を有する基、オキシム残基や置換されたこれらの基等が挙げられ、環状構造を有する基が好ましい。   The photofunctional group Q is a known photosensitive group and is not particularly limited. Examples thereof include a group having a cyclic structure described in WO2015-088021, an oxime residue, and these substituted groups. A group having a cyclic structure is preferred.

環状構造を有する基としては、例えば、WO2015−088021号公報記載の芳香族基や、複素環構造を有する基、置換されたこれらの基が挙げられ、芳香族基が好ましい。また、光官能性基中の基が互いに結合し、環状構造を形成してもよい。   Examples of the group having a cyclic structure include an aromatic group described in WO2015-088021, a group having a heterocyclic structure, and a substituted group, and an aromatic group is preferable. Further, groups in the photofunctional group may be bonded to each other to form a cyclic structure.

芳香族基としては、例えば、WO2015−088021号公報記載のo−ニトロベンジル基、WO2015−088021号公報記載のm−ニトロベンジル基、及びWO2015−088021号公報記載のp−ニトロベンジル基等のニトロベンジル基、並びにWO2015−088021号公報記載のベンジル基、及びベンゾイル基や置換されたこれらの基が挙げられ、ニトロベンジル基が好ましく、o−ニトロベンジル基及びp−ニトロベンジル基がより好ましく、o−ニトロベンジル基が特に好ましい。また、光官能性基中の基が互いに結合し、環状構造を形成してもよい。   Examples of the aromatic group include nitro such as o-nitrobenzyl group described in WO2015-088021, m-nitrobenzyl group described in WO2015-088021, and p-nitrobenzyl group described in WO2015-088021. Examples thereof include benzyl group, benzyl group described in WO2015-088021, and benzoyl group and substituted groups thereof, nitrobenzyl group is preferable, o-nitrobenzyl group and p-nitrobenzyl group are more preferable, o A nitrobenzyl group is particularly preferred. Further, groups in the photofunctional group may be bonded to each other to form a cyclic structure.

複素環構造を有する基としては、例えば、WO2015−088021号公報記載のクマリン誘導体残基、及びイミド基や置換されたこれらの基等が挙げられる。   Examples of the group having a heterocyclic structure include a coumarin derivative residue described in WO2015-088021, an imide group, and these substituted groups.

光官能基Qがo−ニトロベンジル基である−OQ基としては、例えば、(2,6−ジニトロベンジル)オキシ基、(2−ニトロベンジル)オキシ基、(3,4−ジメトキシ−2−ニトロベンジル)オキシ基等のニトロベンジルオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is an o-nitrobenzyl group include (2,6-dinitrobenzyl) oxy group, (2-nitrobenzyl) oxy group, (3,4-dimethoxy-2-nitro). And nitrobenzyloxy groups such as (benzyl) oxy group.

光官能基Qがp−ニトロベンジル基である−OQ基としては、例えば、(2,4−ジニトロベンジル)オキシ基、(4−ニトロベンジル)オキシ基、[1−(4−ニトロナフタレン)メチル]オキシ基等のニトロベンジルオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is a p-nitrobenzyl group include (2,4-dinitrobenzyl) oxy group, (4-nitrobenzyl) oxy group, and [1- (4-nitronaphthalene) methyl. Nitrobenzyloxy group such as oxy group.

光官能基Qがベンジル基である−OQ基としては、例えば、3,5−ジメトキシベンジルオキシ基、[1−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチルエチル]オキシ基、9−アントリルメチルオキシ基、9ーファナントリルメチルオキシ基、1-ピレニルメチルオキシ基、[1−(アントラキノン−2−イル)エチル]オキシ基、9−フェニルキサンテン−9−イルオキシ基等のベンジルオキシ基が挙げられる。   Examples of the —OQ group in which the photofunctional group Q is a benzyl group include 3,5-dimethoxybenzyloxy group, [1- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methylethyl] oxy group, and 9-anthryl. Benzyloxy groups such as methyloxy group, 9-phananthrylmethyloxy group, 1-pyrenylmethyloxy group, [1- (anthraquinone-2-yl) ethyl] oxy group, 9-phenylxanthen-9-yloxy group Can be mentioned.

式(9)及び(10)中、ZQ基を除いた残基としては、例えば、3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基等のモノアミノカルボニル基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基、N,N’−ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基等のジアミノカルボニル基;N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]ジエチレントリアミノカルボニル基等のトリアミノカルボニル基等のアミノカルボニル基が挙げられる。   In the formulas (9) and (10), examples of the residue excluding the ZQ group include 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl group, 3- (methyl Monoaminocarbonyl groups such as dimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group and 3- (methyldiethoxysilyl) propylaminocarbonyl group; N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group, N, N′-bis Examples include diaminocarbonyl groups such as [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group; and aminocarbonyl groups such as triaminocarbonyl group such as N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] diethylenetriaminocarbonyl group. .

アミノカルボニル基のなかでも、接着性の点からアミノ基(−NH)を有するアミノカルボニル基が好ましく、3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(メチルジメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミノカルボニル基がより好ましく、接着性、硬化性より3−(トリメトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基、3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノカルボニル基が最も好ましい。 Among aminocarbonyl groups, an aminocarbonyl group having an amino group (—NH 2 ) is preferable from the viewpoint of adhesion, and 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group and 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl group are preferable. , 3- (methyldimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group and N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediaminocarbonyl group are more preferable, and 3- (trimethoxysilyl) propylaminocarbonyl group is more preferable than adhesiveness and curability. 3- (triethoxysilyl) propylaminocarbonyl group is most preferred.

光アミノシラン発生化合物の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性ケイ素基含有有機重合体100質量部に対して、0.01〜50質量部が好ましく、0.1〜30質量部がより好ましく、0.1〜20質量部が更に好ましい。これら光アミノシラン発生化合物は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Although there is no restriction | limiting in particular in the mixture ratio of a photoaminosilane generating compound, 0.01-50 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (A) crosslinkable silicon group containing organic polymer, and 0.1-30 mass parts is 0.1-30 mass parts. More preferably, 0.1-20 mass parts is still more preferable. These photoaminosilane generating compounds may be used alone or in combination of two or more.

本実施形態に係る配合物にシランカップリング剤を配合することにより、金属、プラスチック、ガラス等、全般的な被着体に対する本実施形態に係る配合物の接着性を向上させることができる。   By mix | blending a silane coupling agent with the compound which concerns on this embodiment, the adhesiveness of the compound which concerns on this embodiment with respect to general adherends, such as a metal, a plastics, glass, can be improved.

シランカップリング剤としては、例えば、アミノ基含有シラン類;ケチミン型シラン類;エポキシ基含有シラン類;メルカプト基含有シラン類;ビニル型不飽和基含有シラン類;塩素原子含有シラン類;イソシアネート含有シラン類;アルキルシラン類;フェニル基含有シラン類;イソシアヌレート基含有シラン類等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、アミノ基含有シラン類と前記のシラン類を含むエポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物、(メタ)アクリロイル基含有化合物とを反応させて、アミノ基を変性した変性アミノ基含有シラン類を用いてもよい。   Examples of silane coupling agents include amino group-containing silanes; ketimine type silanes; epoxy group-containing silanes; mercapto group-containing silanes; vinyl type unsaturated group-containing silanes; chlorine atom-containing silanes; Alkyl silanes; phenyl group-containing silanes; isocyanurate group-containing silanes, and the like, but are not limited thereto. Also, modified amino group-containing silanes in which amino groups are modified by reacting amino group-containing silanes with epoxy group-containing compounds, isocyanate group-containing compounds, and (meth) acryloyl group-containing compounds containing the above silanes are used. May be.

また、被着体が金属製の場合であってテルペン系粘着付与樹脂を用いた場合に、時間経過による粘着力の低下を抑制する観点から、粘着付与樹脂と架橋性ケイ素基を有する有機重合体とを架橋させることを目的としてシランカップリング剤を添加してもよい。フェノールやカルボン酸を含有する粘着付与樹脂を用いた場合、例えば、エポキシシランを添加することで、架橋性ケイ素基を有する有機重合体と粘着付与樹脂とを架橋させることができ、粘着力の向上、耐熱クリープの改善、粘着付与樹脂の経時での移動による粘着力の変化を抑制できる。   In addition, when the adherend is made of metal and a terpene-based tackifying resin is used, an organic polymer having a tackifying resin and a crosslinkable silicon group is used from the viewpoint of suppressing a decrease in the adhesive strength over time. A silane coupling agent may be added for the purpose of crosslinking. When a tackifying resin containing phenol or carboxylic acid is used, for example, by adding epoxysilane, the organic polymer having a crosslinkable silicon group and the tackifying resin can be cross-linked, thereby improving the adhesive strength. , Improvement of heat-resistant creep, and change in adhesive force due to movement of the tackifier resin over time can be suppressed.

シランカップリング剤の配合割合は特に制限はないが、(A)架橋性ケイ素基を有する有機重合体100質量部に対して、0.2〜20質量部が好ましく、0.3〜15質量部がより好ましく、0.5〜10質量部が更に好ましい。これらシランカップリング剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The blending ratio of the silane coupling agent is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 20 parts by weight, and 0.3 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) organic polymer having a crosslinkable silicon group. Is more preferable, and 0.5-10 mass parts is still more preferable. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

光ラジカル開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体等のアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸S−フェニル類、チタノセン類、及びこれらを高分子量化した誘導体が挙げられる。   Examples of the photoradical initiator include arylalkyl ketones such as benzoin ether derivatives and acetophenone derivatives, oxime ketones, acylphosphine oxides, thiobenzoic acid S-phenyls, titanocenes, and derivatives obtained by increasing the molecular weight thereof. Is mentioned.

本実施形態に係る配合物は、希釈剤を更に含有できる。希釈剤を配合することにより、粘度等の物性を調整できる。希釈剤としては、様々な希釈剤を用いることができ、特に制限はない。例えば、ノルマルパラフィン、イソパラフィン等の飽和炭化水素系溶剤、HSダイマー(豊国製油株式会社商品名)等のα−オレフィン誘導体、芳香族炭化水素系溶剤、ダイアセトンアルコール等のアルコール系溶剤、エステル系溶剤、クエン酸アセチルトリエチル等のクエン酸エステル系溶剤、ケトン系溶剤等の各種溶剤が挙げられる。   The formulation according to this embodiment can further contain a diluent. By blending a diluent, physical properties such as viscosity can be adjusted. As the diluent, various diluents can be used, and there is no particular limitation. For example, saturated hydrocarbon solvents such as normal paraffin and isoparaffin, α-olefin derivatives such as HS dimer (product name of Toyokuni Oil Co., Ltd.), aromatic hydrocarbon solvents, alcohol solvents such as diacetone alcohol, ester solvents And various solvents such as citrate ester solvents such as acetyltriethyl citrate and ketone solvents.

希釈剤の引火点に特に制限はないが、得られる本実施形態に係る配合物の安全性を考慮すると、本実施形態に係る配合物の引火点は高い方が望ましく、本実施形態に係る配合物からの揮発物質は少ない方が好ましい。そのため、希釈剤の引火点は60℃以上であることが好ましく、70℃以上であることがより好ましい。2種以上の希釈剤を混合する場合、混合した希釈剤の引火点が70℃以上であることが好ましい。なお、一般的に引火点が高い希釈剤は本実施形態に係る配合物に対する希釈効果が低くなる傾向があるので、引火点は250℃以下であることが好適である。   There is no particular limitation on the flash point of the diluent, but considering the safety of the resulting composition according to this embodiment, it is desirable that the flash point of the composition according to this embodiment is higher, the composition according to this embodiment It is preferable that there are few volatile substances from a thing. Therefore, the flash point of the diluent is preferably 60 ° C. or higher, and more preferably 70 ° C. or higher. When mixing 2 or more types of diluents, it is preferable that the flash point of the mixed diluent is 70 degreeC or more. In general, since a diluent having a high flash point tends to have a low dilution effect on the formulation according to the present embodiment, the flash point is preferably 250 ° C. or lower.

本実施形態に係る配合物の安全性、希釈効果の双方を考慮すると、希釈剤としては飽和炭化水素系溶剤が好適であり、ノルマルパラフィン、イソパラフィンがより好適である。ノルマルパラフィン、イソパラフィンの炭素数は10〜16であることが好ましい。   Considering both the safety and the dilution effect of the formulation according to this embodiment, a saturated hydrocarbon solvent is preferable as the diluent, and normal paraffin and isoparaffin are more preferable. The normal paraffin and isoparaffin preferably have 10 to 16 carbon atoms.

希釈剤の配合割合は特に制限はないが、配合による塗布作業性向上と物性低下とのバランスの観点から、本実施形態に係る配合物の単位重量に対し、希釈剤を0〜25%配合することが好ましく、0.1〜15%配合することがより好ましく、1〜7%配合することが更に好ましい。希釈剤は単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   The mixing ratio of the diluent is not particularly limited, but 0 to 25% of the diluent is blended with respect to the unit weight of the blend according to the present embodiment from the viewpoint of the balance between the improvement of coating workability and the decrease in physical properties due to blending. It is preferable that 0.1 to 15% is added, and 1 to 7% is more preferable. A diluent may be used independently or may use 2 or more types together.

(C)成分や(D)を除く他の縮合反応促進触媒としては、様々な縮合反応促進触媒を用いることができ、特に制限はない。例えば、有機金属化合物、酸やアミン等の塩基が挙げられる。有機金属化合物の例としては、有機錫化合物;ジアルキルスズオキサイド;ジブチル錫オキサイドとフタル酸エステルとの反応物等;チタン酸エステル類;有機アルミニウム化合物類;チタンテトラアセチルアセトナート等のキレート化合物類;有機酸ビスマス、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素の錯体、フッ素化剤、及び多価フルオロ化合物のアルカリ金属塩等が挙げられる。シラノール縮合触媒としては、様々なその他の酸性触媒及び塩基性触媒等が挙げられる。しかしながら、有機錫化合物は添加量に応じて、得られる本実施形態に係る配合物の毒性が強くなる場合がある。本実施形態では(C)成分や(D)成分が縮合反応促進触媒として作用するため、これらを除く他の硬化触媒を用いる場合は、本実施形態の目的や効果を達成できる範囲で用いることが好ましい。   As the other condensation reaction promoting catalyst excluding component (C) and (D), various condensation reaction promoting catalysts can be used, and there is no particular limitation. For example, organic metal compounds, bases such as acids and amines can be mentioned. Examples of organometallic compounds include: organotin compounds; dialkyltin oxides; reactants of dibutyltin oxide and phthalates; titanates; organoaluminum compounds; chelate compounds such as titanium tetraacetylacetonate; Examples include organic acid bismuth, boron trifluoride, boron trifluoride complexes, fluorinating agents, and alkali metal salts of polyvalent fluoro compounds. Examples of the silanol condensation catalyst include various other acidic catalysts and basic catalysts. However, the toxicity of the compound according to the present embodiment obtained may be increased depending on the amount of the organotin compound added. In this embodiment, since the component (C) and the component (D) act as a condensation reaction promoting catalyst, when using a curing catalyst other than these, it is used within a range in which the object and effect of this embodiment can be achieved. preferable.

また、エポキシ基を有する化合物としては、例えば、ビスフェノールA系エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA系エポキシ樹脂、ビスフェノールF系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族環式エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、ゴム変成エポキシ樹脂、ウレタン変成エポキシ樹脂、グリシジルエステル系化合物、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化SBS(SBSは、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体を示す。)等が挙げられる。エポキシ基を有する化合物を添加剤として更に用いた場合、本実施形態に係る配合物は、硬化後に高い接着性、及び耐久性を発現し、特に芳香環を有する被着体に効果がある。また、アミノシラン化合物と併用することで、更に接着性の向上に効果がある。   Examples of the compound having an epoxy group include bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, aliphatic cyclic epoxy resin, brominated epoxy resin, and rubber. Examples include modified epoxy resins, urethane modified epoxy resins, glycidyl ester compounds, epoxidized polybutadiene, and epoxidized SBS (SBS represents a styrene-butadiene-styrene copolymer). When a compound having an epoxy group is further used as an additive, the formulation according to this embodiment exhibits high adhesion and durability after curing, and is particularly effective for adherends having an aromatic ring. In addition, when used in combination with an aminosilane compound, the adhesiveness is further improved.

ラジカル重合性の官能基を有する化合物としては、ラジカル重合性のビニル基、ビニリデン基、及びビニレン基からなる群から選択される少なくとも1つの基を有する有機化合物を用いることができる。特に、ビニル基を有する有機化合物を用いることが好ましい。一例として、反応性向上の観点から、ラジカル重合性の官能基は、アクリロイル基、及びメタクリロイル基からなる群から選択される少なくとも1つの基であることが好ましい。有機化合物として、例えば、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、及び窒素原子にビニル基が直接結合したN−ビニル化合物を用いることができる。ラジカル重合性の官能基を有する化合物を更に添加した場合、光照射直後の剥離強度を高めることができる。   As the compound having a radical polymerizable functional group, an organic compound having at least one group selected from the group consisting of a radical polymerizable vinyl group, vinylidene group, and vinylene group can be used. In particular, it is preferable to use an organic compound having a vinyl group. As an example, from the viewpoint of improving reactivity, the radical polymerizable functional group is preferably at least one group selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group. As the organic compound, for example, a compound having a (meth) acryloyl group and an N-vinyl compound in which a vinyl group is directly bonded to a nitrogen atom can be used. When a compound having a radical polymerizable functional group is further added, the peel strength immediately after light irradiation can be increased.

樹脂フィラーとしては、有機樹脂等からなる粒子状のフィラーを用いることができる。例えば、樹脂フィラーとして、ポリアクリル酸エチル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂系、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等の有機質微粒子を用いることができる。   As the resin filler, a particulate filler made of an organic resin or the like can be used. For example, as the resin filler, organic fine particles such as polyethyl acrylate resin, polyurethane resin, polyethylene resin, polypropylene resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, phenol resin, acrylic resin, and styrene resin can be used.

樹脂フィラー(樹脂微粉末)は、単量体(例えば、メタクリル酸メチル)等を懸濁重合させること等によって容易に得られる真球状のフィラーが好適である。また、樹脂フィラーは、組成物に充填材として好適に含有されるので、球状の架橋樹脂フィラーが好ましい。   The resin filler (resin fine powder) is preferably a true spherical filler that can be easily obtained by suspension polymerization of a monomer (for example, methyl methacrylate) or the like. Moreover, since a resin filler is suitably contained as a filler in the composition, a spherical crosslinked resin filler is preferable.

樹脂フィラーとしては、(A)成分に対する相溶性が良い点でウレタン樹脂系フィラー、アクリル樹脂系フィラーが好ましく、ウレタン樹脂系フィラーがより好ましい。   As the resin filler, a urethane resin filler and an acrylic resin filler are preferable, and a urethane resin filler is more preferable in terms of good compatibility with the component (A).

樹脂フィラーの平均粒子径は1〜150μmが好ましく、2〜30μmが更に好ましい。本実施形態において平均粒子径はレーザー回折散乱法により測定される50%累積粒径である。平均粒子径が1μmより小さいと、系中に分散しにくくなる場合がある。また、150μmより大きいとアプリケーションのノズルで詰まりやすくなる傾向がある。   The average particle diameter of the resin filler is preferably 1 to 150 μm, and more preferably 2 to 30 μm. In this embodiment, the average particle diameter is a 50% cumulative particle diameter measured by a laser diffraction scattering method. If the average particle size is smaller than 1 μm, it may be difficult to disperse in the system. On the other hand, if it is larger than 150 μm, it tends to be clogged with an application nozzle.

樹脂フィラーの配合割合は、(A)成分100質量部に対して、0.5〜200質量部が好ましく、1〜50質量部がより好ましい。樹脂フィラーは、単独で用いても、2種以上を併用してもよい。なお、本実施形態に係る配合物を遮光性が要求される用途に用いる場合は、樹脂フィラーが黒色の樹脂フィラーを含むことが好ましい。平均粒子径1〜150μmの黒色の樹脂フィラーを用いることにより、単一波長のLEDランプ等を用いた場合においても良好な深部硬化性を得ることができ、優れた遮光性と深部硬化性とを達成できる。   0.5-200 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (A) component, and, as for the compounding ratio of the resin filler, 1-50 mass parts is more preferable. A resin filler may be used independently or may use 2 or more types together. In addition, when using the compound which concerns on this embodiment for the use as which light-shielding property is requested | required, it is preferable that a resin filler contains a black resin filler. By using a black resin filler having an average particle diameter of 1 to 150 μm, good deep curability can be obtained even when a single wavelength LED lamp or the like is used, and excellent light shielding properties and deep curability are obtained. Can be achieved.

本実施の形態に係る光硬化性接着剤を製造する方法は特に制限はなく、例えば、成分(B)、及び(C)を所定量配合し、また必要に応じて成分(A)及び/又は他の配合物質を配合し、加熱脱気攪拌することにより製造できる。各成分及び他の配合物質の配合順は特に制限はなく、適宜決定できる。   The method for producing the photocurable adhesive according to the present embodiment is not particularly limited. For example, a predetermined amount of components (B) and (C) is blended, and if necessary, components (A) and / or It can be produced by blending other compounding substances and stirring with heat deaeration. The order of blending each component and other compounding substances is not particularly limited and can be determined as appropriate.

本実施の形態に係る光硬化性接着剤は、必要に応じて1液型とすることもできるし、2液型とすることもできるが、特に1液型として好適に用いることができる。   The photocurable adhesive according to the present embodiment can be a one-component type or a two-component type as required, but can be suitably used particularly as a one-component type.

本実施の形態に係る光硬化性接着剤を用いる場合、光照射の条件としては特に制限はないが、硬化時に活性エネルギー線を照射する場合、活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線等の光線、X線、γ線等の電磁波の他、電子線、プロトン線、中性子線等を用いることができる。硬化速度、照射装置の入手のしやすさ及び価格、太陽光や一般照明下での取扱いの容易性等から紫外線又は電子線照射による硬化が好ましく、紫外線照射による硬化がより好ましい。なお、紫外線には、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)、i線(波長365nm)等も含まれる。活性エネルギー線源としては、特に限定されないが、用いる光塩基発生剤の性質に応じて、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、電子線照射装置、ハロゲンランプ、発光ダイオード、半導体レーザー、メタルハライド等が挙げられる。   When using the photocurable adhesive according to the present embodiment, the light irradiation conditions are not particularly limited, but when irradiating active energy rays during curing, the active energy rays include ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, and the like. In addition to electromagnetic waves such as X-rays, X-rays and γ-rays, electron beams, proton beams, neutron beams and the like can be used. Curing by ultraviolet ray or electron beam irradiation is preferred, and curing by ultraviolet ray irradiation is more preferred from the viewpoint of curing speed, availability and price of the irradiation device, ease of handling under sunlight or general illumination, and the like. The ultraviolet ray includes g-line (wavelength 436 nm), h-line (wavelength 405 nm), i-line (wavelength 365 nm), and the like. The active energy ray source is not particularly limited, and includes, for example, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, an electron beam irradiation device, a halogen lamp, a light-emitting diode, a semiconductor laser, and a metal halide depending on the properties of the photobase generator used. .

照射エネルギーとしては、例えば紫外線の場合、10〜20,000mJ/cmが好ましく、50〜10,000mJ/cmがより好ましい。10mJ/cm未満では硬化性が不十分となる場合があり、20,000mJ/cmより大きいと、必要以上に光照射しても時間とコストが無駄となり、基材を傷めてしまう場合がある。 The irradiation energy, for example, in the case of UV, preferably 10~20,000mJ / cm 2, 50~10,000mJ / cm 2 is more preferable. If it is less than 10 mJ / cm 2 , the curability may be insufficient, and if it is greater than 20,000 mJ / cm 2 , even if light is irradiated more than necessary, time and cost may be wasted and the substrate may be damaged. is there.

本実施形態に係る光硬化性接着剤の硬化方法は、例えば、以下の通りである。まず、熱可塑性樹脂と光潜在性硬化触媒と、必要に応じて架橋性ケイ素基を有する有機重合体、及び/又は他の配合物質を含有する光硬化性接着剤を調製する(調製工程)。次に、光硬化性接着剤を50℃以上に加熱する(加熱工程)。そして、加熱された光硬化性接着剤を所定の被着体に塗布する(塗布工程)。続いて、被着体に塗布された光硬化性接着剤に光を照射して硬化させる(硬化工程)。これにより、本実施の形態に係る光硬化性接着剤が硬化する。   The photocurable adhesive curing method according to the present embodiment is, for example, as follows. First, a photocurable adhesive containing a thermoplastic resin, a photolatent curing catalyst, an organic polymer having a crosslinkable silicon group, and / or other compounding substances as necessary is prepared (preparation step). Next, the photocurable adhesive is heated to 50 ° C. or higher (heating step). And the heated photocurable adhesive agent is apply | coated to a predetermined to-be-adhered body (application | coating process). Subsequently, the photocurable adhesive applied to the adherend is cured by irradiating light (curing step). Thereby, the photocurable adhesive which concerns on this Embodiment hardens | cures.

また、加熱工程において、加熱により光硬化性接着剤の粘度が予め定められた粘度範囲に入るのであれば、加熱温度は50℃以上でも50℃未満であってもよい。予め定められた粘度範囲は、光硬化性接着剤の吐出時における粘度が0.1〜1,000Pa・sが好ましく、0.1〜500Pa・sがより好ましい。粘度は、加温しながら粘度測定できるレオメーターを用いて測定できる。本実施形態における粘度の値は、BROOKFIELD社製、RHEOMETER、RST、せん断速度:20s−1、ギャップ:0.175mm1、プレート:パラレルプレート(φ:25mm)を用いて測定した値を用いる。 Further, in the heating step, the heating temperature may be 50 ° C. or more and less than 50 ° C. as long as the viscosity of the photocurable adhesive is within a predetermined viscosity range by heating. The viscosity range determined in advance is preferably 0.1 to 1,000 Pa · s, more preferably 0.1 to 500 Pa · s when the photocurable adhesive is discharged. The viscosity can be measured using a rheometer that can measure the viscosity while heating. As the viscosity value in the present embodiment, a value measured using a BROOKFIELD, RHEOMETER, RST, shear rate: 20 s −1 , gap: 0.175 mm1, plate: parallel plate (φ: 25 mm) is used.

本実施形態に係る光硬化性接着剤を用いる場合、被着体への塗布方法は特に制限はないが、スクリーン印刷、ステンシル印刷、ロール印刷、ダイコーター、スプレー塗布、スピンコート等の塗布方法が好適に用いられる。被着体への塗布厚さは薄い方が硬化させ易く、500μm以下、好ましくは200μm以下が好ましい。   When using the photocurable adhesive according to the present embodiment, there are no particular restrictions on the method of application to the adherend, but there are application methods such as screen printing, stencil printing, roll printing, die coater, spray coating, and spin coating. Preferably used. The thinner the coating thickness on the adherend, the easier it is to cure, and it is 500 μm or less, preferably 200 μm or less.

また、本実施形態に係る光硬化性接着剤は熱安定性が高いので、ホットメルト若しくはウォームメルト用に用いることができる。例えば、本実施形態に係る光硬化性接着剤は、ホットメルトディスペンサー、ホットメルトガン、又は温調ユニットが搭載されたディスペンサーを用いて所定の被着体に塗布できる。また、第1の被着体に光硬化性粘着剤を塗布した後、光硬化性粘着剤に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線が照射された光硬化性粘着剤を挟む位置で第2の被着体を第1の被着体に貼り合わせることができる。また、第1の被着体に塗布された光硬化性粘着剤に活性エネルギー線を照射した後、光硬化性粘着剤が未硬化状態でも第2の被着体に第1の被着体を貼り合わせることもできる。更に、第1の被着体に塗布された光硬化性粘着剤に活性エネルギー線を照射した後、光硬化性粘着剤が硬化した後に第2の被着体に第1の被着体を貼り合わせることもできる。   In addition, since the photocurable adhesive according to the present embodiment has high thermal stability, it can be used for hot melt or warm melt. For example, the photocurable adhesive according to the present embodiment can be applied to a predetermined adherend using a hot melt dispenser, a hot melt gun, or a dispenser equipped with a temperature control unit. Moreover, after apply | coating a photocurable adhesive to a 1st to-be-adhered body, an active energy ray is irradiated to a photocurable adhesive, and the 2nd in the position which pinches | interposes the photocurable adhesive with which the active energy ray was irradiated. The adherend can be bonded to the first adherend. In addition, after irradiating the photocurable adhesive applied to the first adherend with active energy rays, the first adherend is applied to the second adherend even when the photocurable adhesive is uncured. It can also be pasted together. Further, after irradiating the photocurable adhesive applied to the first adherend with active energy rays, the photocurable adhesive is cured, and then the first adherend is attached to the second adherend. It can also be combined.

本実施形態に係る光硬化性接着剤を用いるホットメルト若しくはウォームメルトは、所定の被着体に光硬化性接着剤を塗布できるので、各種粘着テープ・ラベル類、携帯電子機器用、自動車用、自動車内装用、OA用、家電用、建築・建材用、電子部品、パネル用、リワークやリペアを要する用途用、保護用、防湿用、光造形法による立体造形物形成用、コーティング用、貼り合わせ時に塗布形状の維持を要する用途用、テレビ等の画像表示装置の貼り合わせ用、仮固定性を要する用途用等に好適に用いることができる。特に、携帯型電子機器等の画像表示部と筐体とを貼り合わせる場合に好適である。本実施形態に係る光硬化性接着剤は、貼り合わせ強度が高いことから、貼り合わせ箇所を狭幅化できる。また、貼り合わせ箇所が狭幅であっても、強固な接着性を有していることから、防水性にも優れる。一般的に、画像表示部と筐体とを接合した後、電子機器の良否が判定される。この良否判定において、不良の場合、画像表示部を筐体から剥離して不良品の修理や交換をすることがコスト面から好ましい。そこで、本実施形態に係る光硬化性接着剤を用いた場合、加温等で容易にリワークできるので、高価な画像表示部と筐体とを回収し再利用できる。   Hot melt or warm melt using the photocurable adhesive according to the present embodiment can apply the photocurable adhesive to a predetermined adherend, so various adhesive tapes and labels, for portable electronic devices, for automobiles, For automotive interiors, OA, home appliances, construction / building materials, electronic parts, panels, applications that require rework or repair, protection, moisture prevention, 3D object formation by stereolithography, coating, bonding It can be suitably used for applications that sometimes require the application shape to be maintained, for bonding image display devices such as televisions, and for applications that require temporary fixability. In particular, it is suitable when an image display unit such as a portable electronic device is attached to a housing. Since the photocurable adhesive which concerns on this embodiment has high bonding intensity | strength, it can narrow a bonding location. Moreover, even if a bonding location is narrow, since it has strong adhesiveness, it is excellent also in waterproofness. Generally, after joining the image display unit and the housing, the quality of the electronic device is determined. In this pass / fail judgment, in the case of a defect, it is preferable from the viewpoint of cost that the image display unit is detached from the housing to repair or replace the defective product. Therefore, when the photocurable adhesive according to the present embodiment is used, it can be easily reworked by heating or the like, so that the expensive image display unit and the housing can be collected and reused.

本実施形態に係る光硬化性接着剤は電子回路、電子部品、建材、自動車等の様々な製品に好適に利用可能である。   The photocurable adhesive according to this embodiment can be suitably used for various products such as electronic circuits, electronic components, building materials, automobiles, and the like.

本実施形態に係る光硬化性接着剤は、所定の被着体の表面に塗工等することができる。また、本実施形態に係る光硬化性接着剤は、各種部材の固定に用いることができる粘着テープを構成する粘着剤層の形成に用いることができる。粘着テープとしては、例えば、不織布基材、発泡体基材、及び/又は樹脂フィルム基材等の片面又は両面に粘着剤層を備える粘着テープ、及び粘着剤層のみから構成される基材レスの粘着テープ等が挙げられる。基材の片面又は両面に粘着剤層を備える粘着テープとして光硬化性接着剤を用いる場合は、粘着剤層の厚さは10μm〜150μmであることが好ましく、20μm〜100μmであることがより好ましい。また、基材レスの粘着テープとして光硬化性接着剤を用いる場合は、光硬化性接着剤から形成される粘着剤層の厚さは、10μm〜300μmであることが好ましく、20μm〜250μmであることがより好ましい。   The photocurable adhesive according to this embodiment can be applied to the surface of a predetermined adherend. Moreover, the photocurable adhesive which concerns on this embodiment can be used for formation of the adhesive layer which comprises the adhesive tape which can be used for fixation of various members. As an adhesive tape, for example, a nonwoven fabric substrate, a foam substrate, and / or an adhesive tape having an adhesive layer on one or both sides, such as a resin film substrate, and a substrate-less material composed only of an adhesive layer An adhesive tape etc. are mentioned. When using a photocurable adhesive as an adhesive tape provided with an adhesive layer on one or both sides of the substrate, the thickness of the adhesive layer is preferably 10 μm to 150 μm, and more preferably 20 μm to 100 μm. . Moreover, when using a photocurable adhesive as a base material-less adhesive tape, it is preferable that the thickness of the adhesive layer formed from a photocurable adhesive is 10 micrometers-300 micrometers, and is 20 micrometers-250 micrometers. It is more preferable.

本実施形態に係る光硬化性接着剤は、例えば、ドラムメルター等で加熱し、粘度を低下させて所定の被着体の表面に塗布できる。また、本実施形態に係る粘着テープは、基材と、基材の表面に設けられ、光硬化性接着剤から構成される粘着剤層とを備える。粘着剤層は、基材の片面又は両面に、光硬化性接着剤をロールコーターやダイコーター等を用いて塗布し、UV照射して乾燥することで製造できる。また、粘着テープは、予め離型ライナーの表面にロールコーター等を用いて光硬化性接着剤を塗布し、UV照射して乾燥することで粘着剤層を形成し、次に、粘着剤層を基材の片面又は両面に貼り合せる転写法によって製造することができる。また、基材レスの粘着テープは、予め離型ライナーの表面にロールコーター等を用いて光硬化性接着剤を塗布し、UV照射して乾燥することで製造できる。   The photocurable adhesive according to the present embodiment can be applied to the surface of a predetermined adherend by heating with a drum melter or the like to reduce the viscosity. Moreover, the adhesive tape which concerns on this embodiment is provided with the base material and the adhesive layer which is provided in the surface of a base material and is comprised from a photocurable adhesive agent. The pressure-sensitive adhesive layer can be produced by applying a photocurable adhesive on one side or both sides of a substrate using a roll coater, a die coater, or the like, and drying by UV irradiation. The pressure-sensitive adhesive tape is preliminarily coated with a photo-curable adhesive on the surface of the release liner using a roll coater, etc., and dried by UV irradiation to form a pressure-sensitive adhesive layer. It can be manufactured by a transfer method in which the substrate is bonded to one side or both sides. Further, the baseless pressure-sensitive adhesive tape can be produced by applying a photocurable adhesive to the surface of the release liner in advance using a roll coater or the like, and drying by UV irradiation.

粘着テープを構成する基材としては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等のプラスチックフィルム等の樹脂基材、不織布基材、発泡体基材、布、紙等が挙げられる。樹脂基材としては、光硬化性接着剤から形成される粘着剤層の投錨効果を向上させる観点から、コロナ処理、アンカーコート処理等が施された樹脂基材を用いることができる。   Examples of the base material constituting the adhesive tape include resin base materials such as polyester films, polyethylene films, polypropylene films, plastic films such as polyvinyl chloride films, non-woven base materials, foam base materials, cloths, and papers. It is done. As the resin base material, a resin base material subjected to corona treatment, anchor coat treatment, or the like can be used from the viewpoint of improving the anchoring effect of the pressure-sensitive adhesive layer formed from the photocurable adhesive.

基材の厚さは、1μm〜500μmであることが、優れたテープの加工性と被着体への優れた追従性とを付与する効果を奏する観点からより好ましい。また、粘着テープは、基材及び粘着剤層の他に、必要に応じて他の層を有していてもよい。他の層としては、例えば、粘着テープの寸法安定性、良好な引張強さ、及び/又はリワーク適性等を付与する観点から、ポリエステルフィルム等のラミネート層、遮光層、光反射層、金属層等の熱伝導層が挙げられる。   The thickness of the substrate is more preferably 1 μm to 500 μm from the viewpoint of providing the effect of imparting excellent tape workability and excellent followability to the adherend. Moreover, the adhesive tape may have another layer as needed other than a base material and an adhesive layer. Other layers include, for example, a laminate layer such as a polyester film, a light shielding layer, a light reflecting layer, a metal layer, etc. from the viewpoint of imparting dimensional stability, good tensile strength, and / or reworkability of the adhesive tape. The heat conductive layer can be mentioned.

離型ライナーとしては、粘着剤層からの剥離が容易であれば特に制限はなく、例えば、フッ素化合物、シリコーン等を用いて表面に離型処理が施された樹脂フィルム(例えば、PET等のポリエステルフィルム)等を用いることができる。   The release liner is not particularly limited as long as it can be easily removed from the pressure-sensitive adhesive layer. For example, a resin film (for example, polyester such as PET) having a release treatment applied to the surface using a fluorine compound, silicone, or the like. Film) or the like.

本実施の形態に係る粘着テープは、所定の被着体に当該テープを貼りつける用途に用いることができ、例えば、各種粘着テープ・ラベル類、携帯電子機器用、自動車用、自動車内装用、OA用、家電用、建築・建材用、電子部品等の様々な製品に好適に用いることができる。   The pressure-sensitive adhesive tape according to the present embodiment can be used for affixing the tape to a predetermined adherend. For example, various pressure-sensitive adhesive tapes / labels, portable electronic devices, automobiles, automobile interiors, OA It can be suitably used for various products such as home appliances, home appliances, construction / building materials, and electronic parts.

以下に実施例を挙げて本実施形態に係る光硬化性接着剤を更に具体的に説明する。   The photocurable adhesive according to this embodiment will be described more specifically with reference to the following examples.

1)数平均分子量の測定
数平均分子量は、特に指定がない限りゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により下記条件で測定した。実施例の説明において、かかる測定条件でGPCにより測定し、標準ポリスチレンで換算した最大頻度の分子量を数平均分子量と称する。
・分析装置:Alliance(Waters社製)、2410型示差屈折検出器(Waters社製)、996型多波長検出器(Waters社製)、Milleniamデータ処理装置(Waters社製)
・カラム:PlgelGUARD+5μmMixed−C×3本(50×7.5mm,300×7.5mm:PolymerLab社製)
・流速:1mL/分
・換算したポリマー:ポリスチレン
・測定温度:40℃
・GPC測定時の溶媒:THF
1) Measurement of number average molecular weight The number average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions unless otherwise specified. In the description of the examples, the molecular weight of the maximum frequency measured by GPC under such measurement conditions and converted with standard polystyrene is referred to as the number average molecular weight.
・ Analyzer: Alliance (manufactured by Waters), 2410 type differential refraction detector (manufactured by Waters), 996 type multi-wavelength detector (manufactured by Waters), Millenium data processor (manufactured by Waters)
Column: PlgelGUARD + 5 μmMixed-C × 3 (50 × 7.5 mm, 300 × 7.5 mm: manufactured by PolymerLab)
-Flow rate: 1 mL / min-Converted polymer: polystyrene-Measurement temperature: 40 ° C
・ Solvent for GPC measurement: THF

(合成例1)末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A1の合成
エチレングリコールを開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテート−グライム錯体触媒の存在下、プロピレンオキシドを反応させ、ポリオキシプロピレンジオールを得た。WO2015−088021の合成例2の方法に準じ、得られたポリオキシプロピレンジオールの末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得た。この末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体に対し、水素化ケイ素化合物であるトリメトキシシランを白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液を添加して反応させ、末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A1を得た。
(Synthesis Example 1) Synthesis of polyoxyalkylene polymer A1 having a trimethoxysilyl group at its terminal Polyoxypropylene was reacted with propylene oxide in the presence of zinc hexacyanocobaltate-glyme complex catalyst using ethylene glycol as an initiator. Diol was obtained. According to the method of Synthesis Example 2 of WO2015-088021, a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the end of the obtained polyoxypropylene diol was obtained. This polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the end is reacted with trimethoxysilane, which is a silicon hydride compound, by adding a platinum vinyl siloxane complex isopropanol solution to react with the polyoxyalkylene having a trimethoxysilyl group at the end. A polymer A1 was obtained.

得られた末端にトリメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A1の分子量をGPCにより測定した結果、ピークトップ分子量は25000、分子量分布1.3であった。H−NMR測定により末端のトリメトキシシリル基は1分子あたり1.7個であった。 As a result of measuring the molecular weight of the obtained polyoxyalkylene polymer A1 having a trimethoxysilyl group by GPC, the peak top molecular weight was 25,000 and the molecular weight distribution was 1.3. According to 1 H-NMR measurement, the number of terminal trimethoxysilyl groups was 1.7 per molecule.

(合成例2)トリメトキシシリル基を有するシリル基を有する(メタ)アクリル系重合体B1の合成
メチルメタクリレート70.00g、2−エチルヘキシルメタクリレート30.00g、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン12.00g、及び金属触媒としてのチタノセンジクライド0.10g、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン8.60g重合停止剤としてのベンゾキノン溶液(95%THF溶液)20.00gを用いて、WO2015−088021の合成例4の方法に準じ、トリメトキシシリル基を有する(メタ)アクリル系重合体B1を得た。(メタ)アクリル系重合体A2のピークトップ分子量は4,000、分子量分布は2.4であった。H−NMR測定により含有されるトリメトキシシリル基は1分子あたり2.00個であった。
(Synthesis Example 2) Synthesis of (meth) acrylic polymer B1 having a silyl group having a trimethoxysilyl group Methyl methacrylate 70.00 g, 2-ethylhexyl methacrylate 30.00 g, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane 12.00 g , And titanocene diclyde 0.10 g as a metal catalyst, 8.60 g of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and 20.00 g of a benzoquinone solution (95% THF solution) as a polymerization terminator, Synthesis Example 4 of WO2015-088021 According to the method, a (meth) acrylic polymer B1 having a trimethoxysilyl group was obtained. The (meth) acrylic polymer A2 had a peak top molecular weight of 4,000 and a molecular weight distribution of 2.4. The number of trimethoxysilyl groups contained by 1 H-NMR measurement was 2.00 per molecule.

(合成例3)フッ素化ポリマーC1の合成
分子量約2,000のポリオキシプロピレンジオールを開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテート−グライム錯体触媒の存在下、プロピレンオキシドを反応させてポリオキシプロピレンジオールを得た。WO2015−088021の合成例2の方法に準じ、得られたポリオキシプロピレンジオールの末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体を得た。この末端にアリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体に対し、水素化ケイ素化合物であるメチルジメトキシシランを白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液を添加して反応させ、末端にメチルジメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A3を得た。
得られた末端にメチルジメトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体A3の分子量をGPCにより測定した結果、ピークトップ分子量は15000、分子量分布1.3であった。H−NMR測定により末端のメチルジメトキシシリル基は1分子あたり1.7個であった。
(Synthesis Example 3) Synthesis of fluorinated polymer C1 Polyoxypropylene diol having a molecular weight of about 2,000 is used as an initiator, and polyoxypropylene diol is obtained by reacting propylene oxide in the presence of a zinc hexacyanocobaltate-glyme complex catalyst. It was. According to the method of Synthesis Example 2 of WO2015-088021, a polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the end of the obtained polyoxypropylene diol was obtained. The polyoxyalkylene polymer having an allyl group at the terminal is reacted with methyldimethoxysilane, which is a silicon hydride compound, by adding a platinum vinylsiloxane complex isopropanol solution, and the polyoxyalkylene having a methyldimethoxysilyl group at the terminal is reacted. A polymer A3 was obtained.
As a result of measuring the molecular weight of the obtained polyoxyalkylene polymer A3 having a methyldimethoxysilyl group by GPC, the peak top molecular weight was 15000 and the molecular weight distribution was 1.3. According to 1 H-NMR measurement, the number of terminal methyldimethoxysilyl groups was 1.7 per molecule.

次に、BFジエチルエーテル錯体2.4g、脱水メタノール1.6g、重合体A3を100g、トルエン5gを用い、WO2015−088021の合成例4の方法に準じ、末端にフルオロシリル基を有するポリオキシアルキレン系重合体(以下、フッ素化ポリマーC1と称する)を得た。得られたフッ素化ポリマーC1のH−NMRスペクトルを測定したところ、原料である重合体のシリルメチレン(−CH−Si)に対応するピーク(m,0.63ppm)が消失し、低磁場側(0.7ppm〜)にブロードピークが現れた。 Next, 2.4 g of BF 3 diethyl ether complex, 1.6 g of dehydrated methanol, 100 g of polymer A3, and 5 g of toluene, and a polyoxy having a fluorosilyl group at the terminal according to the method of Synthesis Example 4 of WO2015-088021 An alkylene polymer (hereinafter referred to as fluorinated polymer C1) was obtained. When the 1 H-NMR spectrum of the obtained fluorinated polymer C1 was measured, the peak (m, 0.63 ppm) corresponding to silylmethylene (—CH 2 —Si) of the polymer as a raw material disappeared, and the low magnetic field A broad peak appeared on the side (0.7 ppm to).

(合成例4)光によりアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物E1の合成
フラスコに2−ニトロベンジルアルコール15.3部とトルエン344部とを加え、約113℃で60分間還流した。その後、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン20.5部を滴下し、5時間撹拌し、合成物(下記式(9)で示される光によりアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物。以下光アミノシラン発生化合物E1と称する。)を得た。光アミノシラン発生化合物E1のIRスペクトル測定の結果、−N=C=O結合は検出されなかった。
(Synthesis example 4) Synthesis | combination of the crosslinkable silicon group containing compound E1 which produces | generates an amino group by light 15.2-part 2-nitrobenzyl alcohol and 344 parts toluene were added to the flask, and it recirculate | refluxed at about 113 degreeC for 60 minutes. Thereafter, 20.5 parts of 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane was added dropwise and stirred for 5 hours to produce a compound (a crosslinkable silicon group-containing compound that generates an amino group by light represented by the following formula (9). Referred to as generating compound E1). As a result of IR spectrum measurement of the photoaminosilane generating compound E1, no —N═C═O bond was detected.

(実施例1)
フラスコに、表1に示す配合割合にて(A)架橋性ケイ素基を有する有機重合体、(B)熱可塑性樹脂を投入し、120℃で減圧撹拌し、熱可塑性樹脂を溶解させた。その後、(C)Si−F結合を有するケイ素化合物、及び(D)光塩基発生剤を投入し、減圧撹拌し、実施例1に係る光硬化性接着剤を得た。得られた組成物の特性を下記の方法で評価した。評価結果を表1に示す。また、光照射後の硬化性を評価する試料において光照射で硬化したものは光硬化性接着剤として使用できる粘着性を有していた。
Example 1
Into the flask, (A) an organic polymer having a crosslinkable silicon group and (B) a thermoplastic resin were added at a blending ratio shown in Table 1, and the mixture was stirred under reduced pressure at 120 ° C. to dissolve the thermoplastic resin. Thereafter, (C) a silicon compound having a Si—F bond and (D) a photobase generator were added, and the mixture was stirred under reduced pressure to obtain a photocurable adhesive according to Example 1. The characteristics of the obtained composition were evaluated by the following methods. The evaluation results are shown in Table 1. Moreover, what was hardened | cured by light irradiation in the sample which evaluates sclerosis | hardenability after light irradiation had adhesiveness which can be used as a photocurable adhesive agent.

表1において、各配合物質の配合量はgで示され、その他の配合物質の詳細は下記の通りである。
(A成分:架橋性ケイ素基含有有機重合体)
*1 A1 ポリオキシアルキレン系重合体:合成例1で合成した重合体A1
(B成分:熱可塑性樹脂)
*2 B1 (メタ)アクリル系重合体:合成例2で合成したシリル基を有する(メタ)アクリル系重合体B1
*3 B2 テルペンフェノール樹脂:商品名「YSポリスターT130」、ヤスハラケミカル社製
(C成分:Si−F結合を有するケイ素化合物)
*4 C1 フッ素化ポリマー:合成例3で合成したフッ素化ポリマーC1
(D成分:光塩基発生剤)
*5 光塩基発生剤D1:4 2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、商品名「IRGACURE379EG」の50%PC溶液、BASF社製
(D’成分:(C)成分や(D)成分を除く他のシラノール縮合反応促進触媒)
*6 D’1:三フッ化ホウ素の錯体:三フッ化ホウ素モノエチルアミン 10%PC溶液
*7 D’2:三級アミン:1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7、商品名「DBU」、サンアプロ株式会社製
*8 D’3:チタニウムアルコキシド:チタニウムテトラブトキシド、東京化成工業株式会社製
*9 D’4:アルミキレート:商品名「アルミキレートD」、川研ファインケミカル株式会社製
*10 D’5:スズ触媒:商品名「ネオスタン U−100」、日東化成工業株式会社製
(E成分:光アミノシラン発生剤)
*11 E1:光アミノシラン発生剤:合成例4で合成した光アミノシラン発生化合物E1
In Table 1, the compounding amount of each compounding substance is indicated by g, and details of other compounding substances are as follows.
(Component A: Crosslinkable silicon group-containing organic polymer)
* 1 A1 Polyoxyalkylene polymer: Polymer A1 synthesized in Synthesis Example 1
(B component: thermoplastic resin)
* 2 B1 (meth) acrylic polymer: (meth) acrylic polymer B1 having a silyl group synthesized in Synthesis Example 2
* 3 B2 Terpene phenol resin: Trade name “YS Polystar T130”, manufactured by Yasuhara Chemical Co., Ltd. (C component: silicon compound having Si—F bond)
* 4 C1 fluorinated polymer: fluorinated polymer C1 synthesized in Synthesis Example 3
(D component: photobase generator)
* 5 Photobase generator D1: 4 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone, trade name “IRGACURE 379EG” 50% PC solution, manufactured by BASF (D 'component: (C) component and other silanol condensation reaction accelerating catalysts excluding component (D))
* 6 D'1: Boron trifluoride complex: Boron trifluoride monoethylamine 10% PC solution * 7 D'2: Tertiary amine: 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7, product Name “DBU”, San Apro Co., Ltd. * 8 D′ 3: Titanium alkoxide: Titanium tetrabutoxide, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. * 9 D′ 4: Aluminum chelate: Trade name “Aluminum Chelate D”, Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. * 10 D'5: Tin catalyst: Trade name "Neostan U-100", manufactured by Nitto Kasei Kogyo Co., Ltd. (E component: photoaminosilane generator)
* 11 E1: Photoaminosilane generator: Photoaminosilane generating compound E1 synthesized in Synthesis Example 4

1)加熱時安定性(UV未照射時の加熱安定性試験)
直径100mm、高さ1mmの円筒形容器に厚みが1mmになるように光硬化性接着剤を注ぎ、暗室下100℃の環境下において、5分ごとに指触にて光硬化性接着剤の状態を確認した。5h以上で指触後の指に付着物が残る場合を〇(すなわち、光硬化性接着剤が液状を示す場合)、5h未満で指に付着物が残らない場合を×(すなわち、光硬化性接着剤がゲル状、若しくは固体状を示す場合)とした。なお、表1のUV未照射時の加熱安定性試験の欄においては、上段に試験結果が得られた時点の加熱継続時間、下段に試験結果を示す。例えば、実施例1においては、100℃で5時間の加熱後においても光硬化性接着剤は液状を示す一方、比較例1においては100℃で40分の加熱で組成物がゲル化したことを示す。
1) Stability during heating (heating stability test when UV is not irradiated)
A photocurable adhesive is poured into a cylindrical container having a diameter of 100 mm and a height of 1 mm so that the thickness is 1 mm, and the state of the photocurable adhesive is touched with a finger every 5 minutes in an environment of 100 ° C. in a dark room. It was confirmed. A case where the deposit remains on the finger after touching for 5 hours or longer (that is, when the photocurable adhesive exhibits a liquid state). The adhesive was gel or solid). In addition, in the column of the heating stability test at the time of UV non-irradiation in Table 1, the heating duration time when the test result is obtained is shown in the upper row, and the test result is shown in the lower row. For example, in Example 1, the photocurable adhesive remains liquid even after heating at 100 ° C. for 5 hours, whereas in Comparative Example 1, the composition gelled by heating at 100 ° C. for 40 minutes. Show.

2)表面硬化性試験
PETフィルム上に厚みが200μmになるように光硬化性接着剤を塗布し、UV照射[照射条件:UV−LED365nm、照度:1000mW/cm、積算光量:3000mJ/cm]後直ちに、暗室下23℃50%RHの環境下において、1分ごとに指触にて表面が硬化するまでの時間を測定した。D’成分が配合された、比較例1〜5の試料については塗布後、暗室下23℃50%RHの環境下において、1分ごとに指触にて表面が硬化するまでの時間を測定した。表1の表面硬化性試験の欄においては、上段に光硬化性接着剤が硬化するまでの時間を示し、下段に評価結果を示す。表面硬化時間が1時間未満の場合「○」と評価し、1時間以上の場合を「×」と評価した。
2) Surface Curability Test A photocurable adhesive was applied on a PET film so as to have a thickness of 200 μm, and UV irradiation [irradiation conditions: UV-LED 365 nm, illuminance: 1000 mW / cm 2 , integrated light quantity: 3000 mJ / cm 2 Immediately after that, the time until the surface was cured by finger touch was measured every minute in an environment of 23 ° C. and 50% RH in a dark room. About the sample of Comparative Examples 1-5 which mix | blended D 'component, after application | coating, in the environment of 23 degreeC 50% RH under dark room, the time until the surface hardens | cures with a finger touch every minute was measured. . In the column of the surface curability test in Table 1, the time until the photocurable adhesive is cured is shown in the upper part, and the evaluation result is shown in the lower part. When the surface hardening time was less than 1 hour, it was evaluated as “◯”, and when it was 1 hour or more, it was evaluated as “x”.

(比較例1〜7)
表1に示すように配合を変更した以外は実施例1と同様の方法で粘着剤を調製し、特性を評価した。その結果を表1に示す。
(Comparative Examples 1-7)
A pressure-sensitive adhesive was prepared in the same manner as in Example 1 except that the formulation was changed as shown in Table 1, and the characteristics were evaluated. The results are shown in Table 1.

表1に示すように、実施例に係る光硬化性接着剤は、高温に加熱しても硬化が進行せず、すなわち加熱時の安定性に優れるにもかかわらず、光照射によって速やかに架橋反応が進行することが示された。   As shown in Table 1, the photo-curing adhesives according to the examples do not proceed with curing even when heated to a high temperature, that is, they are rapidly cross-linked by light irradiation despite excellent stability during heating. Was shown to progress.

以上、本発明の実施の形態及び実施例を説明したが、上記に記載した実施の形態及び実施例は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。また、実施の形態及び実施例の中で説明した特徴の組合せの全てが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない点に留意すべきである。   While the embodiments and examples of the present invention have been described above, the embodiments and examples described above do not limit the invention according to the claims. It should be noted that not all combinations of features described in the embodiments and examples are necessarily essential to the means for solving the problems of the invention.

Claims (13)

熱可塑性樹脂、及び光潜在性硬化触媒を含有する光硬化性接着剤を50℃以上に加熱する加熱工程と、
加熱された前記光硬化性接着剤を被着体に塗布する塗布工程と、
前記被着体に塗布された前記光硬化性接着剤に光を照射して硬化させる硬化工程と
を備える光硬化性接着剤の硬化方法。
A heating step of heating a thermoplastic resin and a photocurable adhesive containing a photolatent curing catalyst to 50 ° C. or higher;
An application step of applying the heated photocurable adhesive to an adherend;
A curing method of a photocurable adhesive comprising: a curing step of irradiating and curing the photocurable adhesive applied to the adherend.
前記光硬化性接着剤が、架橋性ケイ素基を有する有機重合体を更に含有する請求項1に記載の光硬化性接着剤の硬化方法。   The method for curing a photocurable adhesive according to claim 1, wherein the photocurable adhesive further contains an organic polymer having a crosslinkable silicon group. 前記光潜在性硬化触媒が、光潜在性の化合物と共に用いられるSi−F結合を有するケイ素化合物、及び光塩基発生剤からなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含む請求項1又は2に記載の光硬化性接着剤の硬化方法。   The photolatent curing catalyst includes at least one compound selected from the group consisting of a silicon compound having a Si-F bond used together with a photolatent compound and a photobase generator. Curing method of photo-curable adhesive. 前記光硬化性接着剤が、光により第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物を更に含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の光硬化性接着剤の硬化方法。   The said photocurable adhesive agent further contains the crosslinkable silicon group containing compound which produces | generates 1 or more types of amino groups selected from the group which consists of a primary amino group and a secondary amino group with light. The hardening method of the photocurable adhesive agent of any one of -3. 熱可塑性樹脂、及び光潜在性硬化触媒を含有する光硬化性接着剤を、前記光硬化性接着剤の粘度が0.1〜1,000Pa・sになるまで加熱する加熱工程と、
加熱された前記光硬化性接着剤を被着体に塗布する塗布工程と、
前記被着体に塗布された前記光硬化性接着剤に光を照射して硬化させる硬化工程と
を備える光硬化性接着剤の硬化方法。
A heating step of heating a thermoplastic resin and a photocurable adhesive containing a photolatent curing catalyst until the viscosity of the photocurable adhesive becomes 0.1 to 1,000 Pa · s;
An application step of applying the heated photocurable adhesive to an adherend;
A curing method of a photocurable adhesive comprising: a curing step of irradiating and curing the photocurable adhesive applied to the adherend.
前記光硬化性接着剤が、架橋性ケイ素基を有する有機重合体を更に含有する請求項5に記載の光硬化性接着剤の硬化方法。   The method for curing a photocurable adhesive according to claim 5, wherein the photocurable adhesive further contains an organic polymer having a crosslinkable silicon group. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光硬化性接着剤の硬化方法で得られる光硬化性接着剤の硬化物。   Hardened | cured material of the photocurable adhesive obtained by the hardening method of the photocurable adhesive of any one of Claims 1-6. 熱可塑性樹脂と、
光潜在性硬化触媒と
を含有する加熱塗布に用いる光硬化性接着剤。
A thermoplastic resin;
A photocurable adhesive used for heat application containing a photolatent curing catalyst.
架橋性ケイ素基を有する有機重合体を更に含有する請求項8に記載の光硬化性接着剤。   The photocurable adhesive according to claim 8, further comprising an organic polymer having a crosslinkable silicon group. 前記光潜在性硬化触媒が、光潜在性の化合物と共に用いられるSi−F結合を有するケイ素化合物、及び光塩基発生剤からなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含む請求項8又は9に記載の光硬化性接着剤。   10. The photolatent curing catalyst includes at least one compound selected from the group consisting of a silicon compound having a Si-F bond used together with a photolatent compound, and a photobase generator. Light curable adhesive. 前記架橋性ケイ素基を有する有機重合体が、分子内に架橋性ケイ素基と光ラジカル重合性のビニル基とを有する重合体(但し、Si−F結合を有するものを除く)、及び前記分子内に架橋性ケイ素基と光ラジカル重合性のビニル基とを有する重合体以外の架橋性ケイ素基を有する有機重合体からなる群から選択される1種以上の重合体である請求項9又は10に記載の光硬化性接着剤。   The organic polymer having a crosslinkable silicon group is a polymer having a crosslinkable silicon group and a photoradically polymerizable vinyl group in the molecule (excluding those having a Si-F bond), and the molecule The polymer according to claim 9 or 10, wherein the polymer is one or more polymers selected from the group consisting of organic polymers having a crosslinkable silicon group other than a polymer having a crosslinkable silicon group and a radically polymerizable vinyl group. The photocurable adhesive of description. 光により第一級アミノ基及び第二級アミノ基からなる群から選択される1種以上のアミノ基を生成する架橋性ケイ素基含有化合物を更に含有する請求項8〜11のいずれか1項に記載の光硬化性接着剤。   The crosslinkable silicon group-containing compound that further generates one or more amino groups selected from the group consisting of a primary amino group and a secondary amino group by light is further contained. The photocurable adhesive of description. 請求項8〜12のいずれか1項に記載の光硬化性接着剤を用いて形成される製品。   The product formed using the photocurable adhesive agent of any one of Claims 8-12.
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WO2020196228A1 (en) * 2019-03-28 2020-10-01 株式会社カネカ Curable composition and cured product

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