JP2017121777A - Protection film laminate - Google Patents

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達希 萩原
Tatsuki Hagiwara
達希 萩原
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protection film laminate having enhanced release stability even with making a slit with a state that a protection film is adhered to a thin substrate film.SOLUTION: There is provided a protection film laminate 1 having a protection film 4 adhered to a substrate film 2 releasably and 90° release force at width both terminals in a range of 20 to 80% based on 90° release force of a center part when the protection film 4 is released from the substrate film 2. There is provided a protection film laminate 1, in which tensile strength of the substrate film 2 is 0.10 N or less and thickness is 20 μm or less. There is provided a protection film laminate 1, in which the substrate film 2 has an embossment with 10 to 500/mof salient having height of 1 to 10 μm in a region within 5% of width length from both terminals in the width direction of the film on a surface laminated with the protection film 4.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、プロテクトフィルム積層体に関する。より詳しくは、本発明は、薄膜な基材フィルムにプロテクトフィルムを貼合した状態でスリットしても、剥離安定性が向上したプロテクトフィルム積層体に関する。   The present invention relates to a protective film laminate. More specifically, the present invention relates to a protective film laminate having improved peel stability even when slitting in a state where the protective film is bonded to a thin base film.

基材フィルムにプロテクトフィルムが剥離可能に貼合されたプロテクトフィルム積層体の場合、当該基材フィルムが薄膜になると、基材フィルムからプロテクトフィルムを剥離するときに、フィルム端部で剥離性の悪い箇所が発生し、基材フィルムが折れたり切れたりする等の問題が発生した。   In the case of a protective film laminate in which the protective film is peelably bonded to the base film, when the base film becomes a thin film, when the protective film is peeled from the base film, the peelability is poor at the film edge. A portion was generated, and problems such as breakage or cutting of the base film occurred.

特に、特許文献1に記載されているような、基材フィルムにプロテクトフィルムを貼合した状態でスリットした際に、刃の押圧により、プロテクトフィルム又は基材フィルムが押し込まれるため、切断面に大きな圧力がかかり、基材フィルムとプロテクトフィルム端部が強く密着してしまうことが原因と推定される。   In particular, as described in Patent Document 1, when slitting in a state where the protective film is bonded to the base film, the protective film or the base film is pushed in by pressing of the blade, so that the cut surface is large. It is presumed that the pressure is applied and the base film and the edge of the protective film are in close contact with each other.

対策として、プロテクトフィルムを貼合する前に基材フィルムを所望の幅でスリットしたり、基材フィルム端部にはプロテクトフィルムを貼らないことが考えられるが、当該態様ではスリット時での基材フィルムの破断が増加する傾向がみられた。   As a countermeasure, it is conceivable that the base film is slit at a desired width before the protective film is bonded, or the protective film is not pasted at the end of the base film, but in this aspect, the base material at the time of slitting is considered. There was a tendency for film breakage to increase.

また、プロテクトフィルムの粘着力を端部と中央部で変化させる技術が開示されているが(例えば、特許文献2参照。)、特殊なプロテクトフィルムが必要となり、コストが上がってしまうという問題がある。   Further, although a technique for changing the adhesive strength of the protective film between the end portion and the central portion is disclosed (for example, refer to Patent Document 2), there is a problem that a special protective film is required and the cost is increased. .

特開2012−181276号公報JP 2012-181276 A 特開2013−29754号公報JP 2013-29754 A

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、薄膜な基材フィルムにプロテクトフィルムを貼合した状態でスリットしても、剥離時の安定性が向上したプロテクトフィルム積層体を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems and situations, and the solution is to protect the film with improved stability at the time of peeling even when the protective film is bonded to a thin base film. It is to provide a film laminate.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、基材フィルムにプロテクトフィルムが剥離可能に貼合されたプロテクトフィルム積層体であって、幅手両端部の前記基材フィルムとプロテクトフィル間の剥離力が、中央部の剥離力に対して特定の範囲内であることによって、薄膜な基材フィルムにプロテクトフィルムを貼合した状態でスリットしても、剥離時の安定性(本願では、「剥離安定性」という。)が向上したプロテクトフィルム積層体が得られることを見出した。   In order to solve the above problems, the present inventor is a protective film laminate in which a protective film is detachably bonded to a base film in the process of examining the cause of the above problems, Even if it is slit in a state where the protective film is bonded to a thin base film, the peeling force between the base film and the protective film is within a specific range with respect to the peeling force at the center. It has been found that a protective film laminate having improved stability at the time (referred to as “peeling stability” in the present application) can be obtained.

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.

1.基材フィルムにプロテクトフィルムが剥離可能に貼合されたプロテクトフィルム積層体であって、前記基材フィルムから前記プロテクトフィルムを剥離する際の、幅手両端部の90°剥離力が、中央部の90°剥離力に対して20〜80%の範囲内であることを特徴とするプロテクトフィルム積層体。   1. A protective film laminate in which a protective film is releasably bonded to a base film, and when the protective film is peeled from the base film, the 90 ° peeling force at both ends of the width is A protective film laminate characterized by being in a range of 20 to 80% with respect to 90 ° peeling force.

2.前記基材フィルムの引裂強さが、0.10N以下であることを特徴とする第1項に記載のプロテクトフィルム積層体。   2. 2. The protective film laminate according to claim 1, wherein the tear strength of the base film is 0.10 N or less.

3.前記基材フィルムの膜厚が、20μm以下であることを特徴とする第1項又は第2項に記載のプロテクトフィルム積層体。   3. The film thickness of the said base film is 20 micrometers or less, The protect film laminated body of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.

4.前記基材フィルムが、プロテクトフィルムと積層される面上に、フィルム幅手方向の両端部からフィルム幅手長の5%以内の領域に、高さが1〜10μmの範囲内であるエンボス部を有し、当該エンボス部の凸部が10〜500個/cmの範囲内であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載のプロテクトフィルム積層体。 4). On the surface on which the base film is laminated with the protective film, an embossed portion having a height in the range of 1 to 10 μm is provided in an area within 5% of the film width from both ends in the film width direction. and, protective film laminate according to any one of the first term, wherein the convex portion of the embossed portions is within the range of 10 to 500 pieces / cm 2 up to the third term.

5.前記プロテクトフィルムが、基材フィルムと積層される面上に、フィルム幅手方向の両端部からフィルム幅手長の5%以内の領域に、高さが1〜10μmの範囲内であるエンボス部を有し、当該エンボス部の凸部が10〜500個/cmの範囲内であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載のプロテクトフィルム積層体。 5. The protective film has an embossed portion having a height in the range of 1 to 10 μm in the region within 5% of the film width length from both ends in the film width direction on the surface laminated with the base film. and, protective film laminate according to any one of the first term, wherein the convex portion of the embossed portions is within the range of 10 to 500 pieces / cm 2 up to the third term.

本発明の上記手段により、薄膜な基材フィルムにプロテクトフィルムを貼合した状態でスリットしても、剥離安定性が向上したプロテクトフィルム積層体を提供することができる。   Even if it slits in the state which bonded the protective film to the thin base film by the said means of this invention, the protective film laminated body which improved peeling stability can be provided.

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。   The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.

本発明のプロテクトフィルム積層体は、基材フィルムにプロテクトフィルムが剥離可能に貼合されたプロテクトフィルム積層体であって、幅手両端部の前記基材フィルムとプロテクトフィル間の剥離力が、中央部の剥離力に対して20〜80%の範囲内であることを特徴とするものであり、中央部と端部にかかる剥離力の差を設けることによって、基材フィルムにプロテクトフィルムを貼合した状態でスリットして端部に高い圧力がかかった場合でも、端部の剥離安定性は保たれ、基材フィルムの破断が抑制されるものと推察される。   The protective film laminate of the present invention is a protective film laminate in which the protective film is releasably bonded to the base film, and the peeling force between the base film and the protective film at both ends of the width is the center. It is characterized by being in the range of 20 to 80% with respect to the peeling force of the part, and a protective film is bonded to the base film by providing a difference in peeling force between the center part and the end part. Even when slitting in this state and applying high pressure to the end portion, it is presumed that the peeling stability of the end portion is maintained and breakage of the base film is suppressed.

本発明のプロテクトフィルム積層体の断面図Sectional view of the protective film laminate of the present invention 本発明のプロテクトフィルム積層体をロール状に巻き取った例を示す模式図The schematic diagram which shows the example which wound up the protective film laminated body of this invention in roll shape エンボス部近傍の一例を示す部分断面図Partial sectional view showing an example of the vicinity of the embossed part エンボス加工装置の一例を示す模式図Schematic diagram showing an example of embossing equipment 本発明に適用可能な溶液流延法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程の一例を模式的に示した図The figure which showed typically an example of the dope preparation process of the solution casting method applicable to this invention, a casting process, and a drying process 本発明に適用可能な溶融流延法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程の一例を模式的に示した図The figure which showed typically an example of the dope preparation process of the melt casting method applicable to this invention, a casting process, and a drying process 液晶表示装置の構成の一例を示す模式図Schematic diagram showing an example of the configuration of a liquid crystal display device

本発明のプロテクトフィルム積層体は、基材フィルムにプロテクトフィルムが剥離可能に貼合されたプロテクトフィルム積層体であって、前記基材フィルムから前記プロテクトフィルムを剥離する際の、幅手両端部の90°剥離力が、中央部の90°剥離力に対して20〜80%の範囲内であることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。   The protective film laminate of the present invention is a protective film laminate in which a protective film is releasably bonded to a base film, and when the protective film is peeled off from the base film, The 90 ° peeling force is in the range of 20 to 80% with respect to the 90 ° peeling force at the center. This feature is a technical feature common to the claimed invention.

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記基材フィルムの引裂強さが、0.10N以下であることが、薄膜なフィルムであっても端部/中央部の剥離力を調整することによって、フィルム端部で剥離性の悪い箇所が発生し基材フィルムが折れたり切れたりすることを防ぎ、安定した剥離性を付与する観点からから、好ましい。   As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention, the tear strength of the base film is 0.10 N or less, even if it is a thin film, the edge / center portion is peeled off. By adjusting the force, it is preferable from the viewpoint of preventing a portion having poor releasability from occurring at the edge of the film and preventing the base film from being broken or cut, and imparting stable releasability.

また、前記基材フィルムの膜厚が、20μm以下であることが、薄型の偏光板や電子デバイス用途のフィルム材料を提供する観点から、好ましい。   Moreover, it is preferable from a viewpoint of providing the film material for a thin polarizing plate and an electronic device that the film thickness of the said base film is 20 micrometers or less.

本発明に係る端部の剥離力を調整するために、前記基材フィルムが、プロテクトフィルムと積層される面上に、フィルム幅手方向の両端部からフィルム幅手長の5%以内の領域に、高さが1〜10μmの範囲内であるエンボス部を有し、当該エンボス部の凸部が10〜500個/cm範囲内であることが、端部の剥離性を向上する観点から、好ましい。 In order to adjust the peeling force of the edge according to the present invention, the base film is on the surface laminated with the protective film, in an area within 5% of the film width from both ends in the film width direction, It is preferable from the viewpoint of improving the peelability of the end portion that the embossed portion has a height in the range of 1 to 10 μm and the convex portions of the embossed portion are in the range of 10 to 500 pieces / cm 2. .

また、前記プロテクトフィルムが、基材フィルムと積層される面上に、フィルム幅手方向の両端部からフィルム幅手長の5%以内の領域に、高さが1〜10μmの範囲内であるエンボス部を有し、当該エンボス部の凸部が10〜500個/cmの範囲内であることが、端部の剥離性を向上する観点から、好ましい。 Further, the embossed portion having a height in the range of 1 to 10 μm in a region within 5% of the film width length from both ends in the film width direction on the surface where the protect film is laminated with the base film. From the viewpoint of improving the peelability of the end portion, it is preferable that the convex portion of the embossed portion is in the range of 10 to 500 pieces / cm 2 .

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.

≪本発明のプロテクトフィルム積層体の概要≫
本発明のプロテクトフィルム積層体は、基材フィルムにプロテクトフィルムが剥離可能に貼合されたプロテクトフィルム積層体であって、前記基材フィルムから前記プロテクトフィルムを剥離する際の、幅手両端部の90°剥離力が、中央部の90°剥離力に対して20〜80%の範囲内であることを特徴とする。
≪Overview of the protective film laminate of the present invention≫
The protective film laminate of the present invention is a protective film laminate in which a protective film is releasably bonded to a base film, and when the protective film is peeled off from the base film, The 90 ° peeling force is in the range of 20 to 80% with respect to the 90 ° peeling force at the center.

本発明でいう「剥離可能」とは、具体的には基材フィルムとプロテクトフィルムとが、粘着剤を含有する粘着層等を介して貼合され、使用に際して前記プロテクトフィルムが粘着層とともに基材フィルムから剥離され、当該基材フィルムが偏光板加工や表示装置への加工の供される態様をいう。   In the present invention, “peelable” specifically means that the base film and the protective film are bonded via an adhesive layer containing an adhesive, and the protective film is used together with the adhesive layer when used. The mode which peels from a film and the said base film is used for a polarizing plate process or a process to a display apparatus is said.

プロテクトフィルムの基材フィルムに対する接着力は、後述するようにプロテクトフィルムが剥離可能な範囲内であれば特に限定されないが、接着力が小さすぎるとプロテクトフィルムが基材フィルムから容易に剥離してしまうため、適切な接着力を有することが好ましい。   The adhesive force of the protective film to the base film is not particularly limited as long as the protective film can be peeled as described later, but if the adhesive force is too small, the protective film easily peels from the base film. Therefore, it is preferable to have an appropriate adhesive force.

本発明でいうプロテクトフィルム積層体の「両端部」とは、幅手両端部の内側各5%以内の部位をいう。「中央部」とは、前記プロテクトフィルム積層体の幅手の半分の長さを中心に、幅手の長さの±5%の部位をいう。   The “both ends” of the protective film laminate referred to in the present invention refers to a portion within 5% of each inner side of the width ends. The “central portion” refers to a portion that is ± 5% of the width of the width of the protective film laminate, centering on half the width of the width.

本発明の「剥離力」とは、以下のように測定した剥離に要する力のことをいう。   The “peeling force” of the present invention refers to the force required for peeling measured as follows.

剥離力の測定は、まずプロテクトフィルム積層体の全幅について100mmの幅で試料採取し、23℃・55%RHの恒温槽中で24時間静置する。次いで当該試料から、幅手両端部の内側からそれぞれ幅手方向に25mm×長手方向に100mmの大きさの短冊状の試料をそれぞれ試料A及びBとして裁断採取する。同様に、幅手中央部が中心にくるよう幅手方向に25mm×長手方向に100mmの大きさの短冊状の試料を試料Cとして裁断採取する。この3点の試料を用いて、JIS−Z0237:2009(粘着テープ・粘着シート試験方法:「引き剥がし粘着力の測定方法6)に準拠し、90°引き剥がし試験を行うことによって求める。幅手両端部の剥離力は上記試料A及びBの2点の試料の平均値を算出する。   For the measurement of the peeling force, first, a sample with a width of 100 mm is taken with respect to the entire width of the protective film laminate, and left in a constant temperature bath at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours. Next, strip-shaped samples each having a size of 25 mm in the width direction and 100 mm in the longitudinal direction are cut and collected as samples A and B, respectively, from the inner sides of both ends of the width. Similarly, a strip-shaped sample having a size of 25 mm in the width direction and 100 mm in the longitudinal direction is cut and collected as a sample C so that the center portion of the width is centered. Using these three samples, it is determined by performing a 90 ° peel test in accordance with JIS-Z0237: 2009 (adhesive tape / adhesive sheet test method: “Measurement method 6 of peel adhesive strength”). For the peel force at both ends, the average value of the two samples A and B is calculated.

〈90°引き剥がし試験〉
23℃・55%RHの環境下で、90°引き剥がし試験を、市販の試験装置である、例えば、株式会社イマダ製90°剥離試験治具(P90‐200N)を用いて、いずれか一方のフィルムを固定した状態でもう一方のフィルムを、90°方向及び長手方向に300mm/minの速度で引っ張り、基材フィルムとプロテクトフィルムとを剥離するのに必要とされる最大荷重(N/25mm幅)を測定する。
<90 ° peeling test>
In an environment of 23 ° C. and 55% RH, a 90 ° peel test is performed using a commercially available test device, for example, a 90 ° peel test jig (P90-200N) manufactured by Imada Corporation. With the film fixed, the other film is pulled at a speed of 300 mm / min in the 90 ° direction and the longitudinal direction, and the maximum load (N / 25 mm width) required to peel off the base film and the protective film. ).

幅手両端部における前記基材フィルムからプロテクトフィルムを剥離する際の剥離力、及び中央部を剥離する際の剥離力を調整する手段としては、前記基材フィルムの端部の内側に、一般に「エンボス又はナーリング」と呼称される凹凸構造を付与すること、同様に前記プロテクトフィルムの端部の内側に凹凸構造を付与すること、また、前記基材フィルムの端部と中央部で膜厚を変化させ、端部の膜厚を厚くすること等の手段を適宜採用することができるが、より好ましくは、前記基材フィルムの端部の内側に凹凸構造(以下、エンボスという。)を付与することである。   As a means for adjusting the peeling force when peeling the protective film from the base film at both ends of the width, and the peeling force when peeling the central portion, the inside of the end portion of the base film is generally “ Giving a concavo-convex structure called “embossing or knurling”, similarly giving a concavo-convex structure inside the end of the protective film, and changing the film thickness at the end and center of the base film However, it is possible to appropriately adopt means such as increasing the film thickness of the end portion. More preferably, an uneven structure (hereinafter referred to as embossing) is provided on the inner side of the end portion of the base film. It is.

〈引裂強さ〉
また、本発明に係る基材フィルムは、引裂強さが0.10N以下であることが、薄膜なフィルムであっても端部/中央部の剥離力を調整することによって、フィルム端部で剥離性の悪い箇所が発生し基材フィルムが折れたり切れたりすることを防ぎ、安定した剥離性を付与する観点からから、好ましい。
<Tear strength>
In addition, the base film according to the present invention has a tear strength of 0.10 N or less, and even if it is a thin film, it can be peeled off at the film edge by adjusting the peeling force at the edge / center. It is preferable from the viewpoint of preventing occurrence of a bad part and causing the base film to be broken or cut and imparting stable peelability.

基材フィルムの23℃・55%RH下における引裂強さとしては、0.005N以上であることが好ましく、0.010N以上であることがより好ましく、0.050N以上であることが特に好ましい。   The tear strength of the base film at 23 ° C. and 55% RH is preferably 0.005 N or more, more preferably 0.010 N or more, and particularly preferably 0.050 N or more.

基材フィルムの引裂強さは、以下の方法で測定される。すなわち、基材フィルムを切り取って、幅50mm×長さ64mmのサンプルフィルムを得る。該サンプルフィルムを、23℃・55%RH下で24時間調湿した後、ISO6383/2−1983に準拠してエルメンドルフ引裂強さを測定する。エルメンドルフ引裂強さは、東洋精機(株)軽加重引裂き試験機を用いて測定され得る。引裂強さは、23℃・55%RH下で、フィルムの長さ方向(MD方向)に引き裂いた場合と、フィルムの幅方向(TD方向)に引き裂いた場合のそれぞれについて行い、それらの平均値として求められる。   The tear strength of the base film is measured by the following method. That is, the base film is cut out to obtain a sample film having a width of 50 mm and a length of 64 mm. The sample film is conditioned at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours, and then the Elmendorf tear strength is measured according to ISO 6383 / 2-1983. Elmendorf tear strength can be measured using a Toyo Seiki Co., Ltd. light weight tear tester. The tear strength is measured at 23 ° C. and 55% RH for each of the case where the film is torn in the length direction (MD direction) and the case in which the film is torn in the width direction (TD direction). As required.

基材フィルムの引裂強さは、例えば、シクロオレフィン系樹脂の分子量などで調整され、引裂強さを大きくするためには、例えば、シクロオレフィン系樹脂の分子量を大きくしたりすればよい。   The tear strength of the base film is adjusted by, for example, the molecular weight of the cycloolefin-based resin, and in order to increase the tear strength, for example, the molecular weight of the cycloolefin-based resin may be increased.

図1は、本発明のプロテクトフィルム積層体の断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the protective film laminate of the present invention.

本発明のプロテクトフィルム積層体1は、基材フィルム2上に、粘着層3を介してプロテクトフィルム4が積層されており、基材フィルム2及びプロテクトフィルム4は剥離可能である。   In the protective film laminate 1 of the present invention, a protective film 4 is laminated on a base film 2 via an adhesive layer 3, and the base film 2 and the protective film 4 can be peeled off.

プロテクトフィルム4は通常基材フィルム2の製造において、巻取り前に貼合され、プロテクトフィルム4が積層された状態で長尺ロール状に巻き取られ、基材フィルム表面の傷等からの保護層及びブロッキング防止層として機能する。   In the production of the base film 2, the protective film 4 is usually bonded before winding, and the protective film 4 is wound into a long roll in a state where the protective film 4 is laminated, and a protective layer from scratches on the surface of the base film. And it functions as an anti-blocking layer.

また、基材フィルム2が実際に偏光板や電子デバイスに使用される場合は、プロテクトフィルム4が基材フィルム2と積層された状態で、所定の大きさにスリットされ、その後剥離される。   Moreover, when the base film 2 is actually used for a polarizing plate or an electronic device, the protective film 4 is slit to a predetermined size in a state of being laminated with the base film 2 and then peeled off.

本発明の効果は、前記剥離時の剥離安定性を向上し、基材フィルムの破断等の故障を低減するものである。   The effect of the present invention is to improve the peeling stability at the time of peeling and to reduce failures such as breakage of the base film.

〔1〕剥離力を調整する手段
〔1.1〕エンボス加工
エンボス加工は、本発明に係る剥離力を調整する手段として好ましいばかりではなく、本発明に係るプロテクトフィルムを剥離した後、基材フィルムを加工するために搬送する際の搬送性を向上する観点からも、好ましい手段である。
[1] Means for adjusting the peeling force [1.1] Embossing Embossing is not only preferable as a means for adjusting the peeling force according to the present invention, but also after peeling the protective film according to the present invention, This is also a preferable means from the viewpoint of improving the transportability when transporting for processing.

本発明に係る端部の剥離力を調整するために、前記基材フィルムが、プロテクトフィルムと積層される面上に、基材フィルム幅手方向の両端部からフィルム幅手長の5%以内の領域に、高さが1〜10μmの範囲内であるエンボス部を有し、当該エンボス部の凸部が10〜500個/cmの範囲内であることが、端部の剥離性を向上する観点から、好ましい。より好ましくは50〜200個/cmの範囲内である。 In order to adjust the peeling force of the edge part which concerns on this invention, the said base film is the area | region within 5% of film width length from the both ends of a base film width direction on the surface laminated | stacked with a protective film. In view of improving the releasability of the end, it has an embossed portion having a height in the range of 1 to 10 μm, and the convex portions of the embossed portion are in the range of 10 to 500 pieces / cm 2. Therefore, it is preferable. More preferably, it is in the range of 50 to 200 / cm 2 .

また、前記プロテクトフィルムが、基材フィルムと積層される面上に、プロテクトフィルム幅手方向の両端部からフィルム幅手長の5%以内の領域に、高さが1〜10μmの範囲内であるエンボス部を有し、当該エンボス部の凸部が10〜500個/cmの範囲内であることが、端部の剥離性を向上する観点から、好ましい。より好ましくは50〜200個/cmの範囲内である。 Further, the embossing having a height in the range of 1 to 10 μm in the region within 5% of the film width length from both ends in the width direction of the protection film on the surface laminated with the base film. It has a section, that the convex portion of the embossed portions is within the range of 10 to 500 pieces / cm 2 is from the viewpoint of improving the releasability of the end, preferred. More preferably, it is in the range of 50 to 200 / cm 2 .

エンボス部とは、長尺状フィルムを巻き取る前に、巻き取られたフィルム同士の裏面と表面が完全に面同士密着するのを防止するために、フィルムに微小の連続した凹凸からなる一定の幅の文様をつけたものである。フィルムの一面(例えば上面)を凸状に突出させた際、当該フィルムの他面(例えば下面)に前記凸状に対応して相対的に凹状が形成される。   The embossed part is a constant film consisting of minute continuous irregularities on the film in order to prevent the back and front surfaces of the wound films from coming into close contact with each other before winding the long film. It is a pattern with a width. When one surface (for example, the upper surface) of the film is protruded in a convex shape, a relatively concave shape is formed on the other surface (for example, the lower surface) of the film corresponding to the convex shape.

これにより、巻き取ったフィルム同士が完全に接着して、又は部分的に接着してフィルムの表面の状態に影響を与え、故障を引き起こすのを防ぐ役割を果たす。また、特に本発明では、本発明に係る剥離力を調整する手段として有効である。   Thus, the wound films are completely or partially adhered to each other to affect the surface condition of the film and prevent a failure from occurring. In particular, the present invention is effective as a means for adjusting the peeling force according to the present invention.

図2は、プロテクトフィルム積層体をロール状に巻き取った例を示す模式図である。図2では、基材フィルム側にエンボス部を形成している例を示すために、プロテクトフィルムは省略して示しているが、実際は基材フィルムとプロテクトフィルムは粘着層等を介して積層されて巻き取られる。   FIG. 2 is a schematic view showing an example in which the protective film laminate is wound into a roll shape. In FIG. 2, in order to show an example in which the embossed portion is formed on the base film side, the protective film is omitted, but actually, the base film and the protective film are laminated via an adhesive layer or the like. It is wound up.

ロール状に巻き取ったプロテクトフィルム積層体10は、巻芯12と、その周囲に、フィルムの長さ方向に巻き取られた基材フィルム14とを有する。そして、プロテクトフィルム積層体10において、積層される基材フィルム14とプロテクトフィルムの密着を抑制するために、長尺状の基材フィルム14の幅手方向両端部には、エンボス部16が形成されている。   The protective film laminate 10 wound up in a roll has a core 12 and a base film 14 wound around the core 12 in the length direction of the film. In the protect film laminate 10, embossed portions 16 are formed at both ends in the width direction of the long base film 14 in order to suppress adhesion between the base film 14 and the protect film to be laminated. ing.

図3は、基材フィルムのエンボス部近傍の一例を示す断面図である。図3に示されるように、エンボス部16を構成する凸部16Aの高さDは、好ましくは1〜10μmの範囲内であり、より好ましくは1.5〜5μmの範囲内である。凸部16Aの高さDとは、フィルム面F(エンボスが形成されていない部分のフィルム面)から凸部16Aの頂点までの高さをいう。凸部16Aの高さが1μm未満であると、基材フィルムとプロテクトフィルムが密着しやすいため、好ましくない。一方、凸部16Aの高さが10μmを超えると、薄膜フィルムにおいて当該高さを有する凸部形成が難しく、かつ、ロール体の幅手方向中央部がたわみやすくなり、基材フィルムとしての平面性が保ちにくい。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the vicinity of the embossed portion of the base film. As shown in FIG. 3, the height D 0 of the convex portion 16A constituting the embossed portion 16 is preferably in the range of 1 to 10 μm, and more preferably in the range of 1.5 to 5 μm. The height D 0 of the convex portion 16A refers to the height from the film surface F (the film surface where the emboss is not formed) to the apex of the convex portion 16A. If the height of the convex portion 16A is less than 1 μm, the base film and the protective film are likely to adhere to each other, which is not preferable. On the other hand, when the height of the convex portion 16A exceeds 10 μm, it is difficult to form the convex portion having the height in the thin film, and the central portion in the width direction of the roll body is easily bent, and the flatness as the base film Is hard to keep.

エンボス部16の凸部の高さD(図3におけるD)は、厚さ測定機で測定する。厚さ測定機は、例えば、定圧厚さ測定機(株式会社テクロックPG−02)を用いることができる。 The height D 0 of the convex portion of the embossed portion 16 (D 0 in FIG. 3) is measured by a thickness measuring instrument. As the thickness measuring machine, for example, a constant pressure thickness measuring machine (TECLOCK PG-02 Co., Ltd.) can be used.

エンボス部である凸部16Aは、基材フィルムの両端部からフィルム幅長の5%以内の領域に形成されることが、基材フィルムの有効面積を確保する観点から好ましい。   It is preferable from the viewpoint of ensuring the effective area of the base film that the convex part 16A which is an embossed part is formed in a region within 5% of the film width from both ends of the base film.

エンボス部の凸部の数は、高さが1〜10μmの範囲内の凸部の個数として、10個/cm以上であることが、凸部による裁断時の圧力を緩和し、端部の剥離性を向上する観点から、好ましい。より好ましくは、20〜200個/cmの範囲内である。 The number of convex portions of the embossed portion is 10 pieces / cm 2 or more as the number of convex portions having a height in the range of 1 to 10 μm to relieve the pressure at the time of cutting by the convex portions, and From the viewpoint of improving peelability, it is preferable. More preferably, it is in the range of 20 to 200 pieces / cm 2 .

当該凸部の数は、WYKO社製NT3300を用いた場合、例えば対物レンズ50倍、イメージズーム1.0倍で、前記エンボス部の表面を測定し、単位面積(1cm)あたりの平均個数として求めることができる。 When the NT3300 manufactured by WYKO is used, the number of the convex portions is measured by measuring the surface of the embossed portion with, for example, an objective lens 50 × and an image zoom 1.0 ×, and the average number per unit area (1 cm 2 ) Can be sought.

凸部16Aの幅wは、0.05〜5mm程度とすることができる。凸部16Aの幅wとは、エンボス部16の断面において、凸部16Aが、フィルム面Fと交わる2点間の距離として表される。凸部16Aと凸部16Aの間隔bは、0.1〜5mmの範囲であることが好ましく、0.5〜2mmの範囲であることがより好ましい。凸部16Aと凸部16Aの間隔bは、エンボス部16の断面において、2つの凸部16Aが、それぞれフィルム面Fと交わる点同士の距離で表される。   The width w of the convex portion 16A can be about 0.05 to 5 mm. The width w of the convex portion 16 </ b> A is expressed as a distance between two points where the convex portion 16 </ b> A intersects the film surface F in the cross section of the embossed portion 16. The distance b between the convex portion 16A and the convex portion 16A is preferably in the range of 0.1 to 5 mm, and more preferably in the range of 0.5 to 2 mm. The interval b between the convex portions 16A and the convex portions 16A is represented by the distance between the points at which the two convex portions 16A intersect the film surface F in the cross section of the embossed portion 16.

図2において、エンボス部16の幅Wは、基材フィルムの幅に対して0.12〜2.1%の範囲であることが好ましい。具体的には、エンボス部16の幅Wは、基材フィルムの幅の大きさにもよるが、5〜25mmの範囲とし、好ましくは10〜20mmの範囲とする。エンボス部16の幅Wが上記範囲内であれば、基材フィルムとして使用できる面積を確保しやすい。   In FIG. 2, the width W of the embossed portion 16 is preferably in the range of 0.12 to 2.1% with respect to the width of the base film. Specifically, the width W of the embossed portion 16 is in the range of 5 to 25 mm, preferably in the range of 10 to 20 mm, although it depends on the width of the base film. If the width W of the embossed portion 16 is within the above range, it is easy to ensure an area that can be used as a base film.

〈フィルムの幅手方向両端部にエンボス加工を施す工程〉
基材フィルム又はプロテクトフィルムの幅手方向両端部にエンボス加工を施す。図4は、基材フィルムを用いてエンボス加工するエンボス加工装置20の一例を示す模式図である。図4に示されるように、エンボス加工装置は、エンボスローラー22と、基材フィルム14を介してエンボスローラー22と対向配置されたバックローラー24とを有する。
<Process for embossing both ends of the film in the width direction>
Embossing is performed on both ends of the base film or the protective film in the width direction. FIG. 4 is a schematic diagram illustrating an example of an embossing apparatus 20 that performs embossing using a base film. As shown in FIG. 4, the embossing apparatus includes an embossing roller 22 and a back roller 24 disposed so as to face the embossing roller 22 with the base film 14 interposed therebetween.

エンボスローラー22のローラー径は、30〜60cmの範囲であることが好ましく、30〜50cmの範囲であることがより好ましい。エンボスローラーのローラー径が60cm超であると、(エンボスローラーの内部に配置される)熱源とエンボスローラーの表面との距離が大きすぎるため、エンボスローラーの表面において温度ムラが生じることがある。そのため、形成されるエンボス部に弾性率が高い部分と低い部分とが生じ、弾性率が低い部分がつぶれやすい。一方、エンボスローラーのローラー径が30cm未満であると、回転軸がブレやすく;形成されるエンボスの凸部の高さがばらつきやすい。設定した高さよりも高く形成されたエンボス部は、つぶれやすい傾向がある。   The roller diameter of the embossing roller 22 is preferably in the range of 30 to 60 cm, and more preferably in the range of 30 to 50 cm. When the roller diameter of the embossing roller is more than 60 cm, the distance between the heat source (arranged inside the embossing roller) and the surface of the embossing roller is too large, and temperature unevenness may occur on the surface of the embossing roller. Therefore, a portion having a high elastic modulus and a portion having a low elastic modulus are generated in the embossed portion to be formed, and a portion having a low elastic modulus is easily crushed. On the other hand, when the roller diameter of the embossing roller is less than 30 cm, the rotation axis is likely to be shaken; the height of the convex portion of the embossing formed tends to vary. The embossed part formed higher than the set height tends to be crushed.

バックローラーの材質は、エンボス部が形成されたフィルムを均一に冷却させるためなどから、金属製であることが好ましい。金属の種類は、例えばSUS、チタン、ステンレス、クロム、銅などが好ましい。金属製のバックローラーは、例えばゴム製のバックローラーよりも、フィルムを均一に冷却しやすいため、高い強度(高い弾性率)を有するエンボス部を形成することができる。   The material of the back roller is preferably made of metal in order to uniformly cool the film on which the embossed portion is formed. As the metal type, for example, SUS, titanium, stainless steel, chromium, copper and the like are preferable. A metal back roller can form an embossed portion having high strength (high elastic modulus) because it is easier to cool the film more uniformly than, for example, a rubber back roller.

エンボスローラー22とバックローラー24との間のクリアランスは、1〜30μm程度とし、好ましくは1〜15μm程度としうる。エンボスローラー22とバックローラー24とによるニップ圧は、100〜10000Pa程度としうる。   The clearance between the embossing roller 22 and the back roller 24 can be about 1 to 30 μm, preferably about 1 to 15 μm. The nip pressure between the embossing roller 22 and the back roller 24 can be about 100 to 10,000 Pa.

そして、エンボスローラー22とバックローラー24とで、フィルム14の幅手方向両端部をニップして、フィルムの幅手方向両端部にエンボス加工を施す。
エンボスローラー22の表面温度は、150〜350℃の範囲とすることが好ましく、160〜300℃の範囲とすることがより好ましい。エンボスローラー22の表面温度が150〜350℃の範囲内であれば、フィルムを十分に溶融させることができ、冷却して強度の高いエンボス部を形成しやすい。また、フィルムが溶融しすぎることもなく、フィルムの溶融物のエンボスローラーへの貼り付きを防ぐことができる。
Then, the embossing roller 22 and the back roller 24 nip both ends in the width direction of the film 14 to emboss both ends in the width direction of the film.
The surface temperature of the embossing roller 22 is preferably in the range of 150 to 350 ° C, and more preferably in the range of 160 to 300 ° C. If the surface temperature of the embossing roller 22 is in the range of 150 to 350 ° C., the film can be sufficiently melted, and it is easy to form an embossed portion with high strength by cooling. Moreover, the film does not melt too much, and sticking of the melt of the film to the embossing roller can be prevented.

バックローラー24の表面温度は、エンボスローラー22の表面温度にもよるが、30〜100℃の範囲とすることが好ましく、50〜80℃の範囲とすることがより好ましい。バックローラーの表面温度が50〜100℃の範囲内であると、フィルムが急速に冷却されず、弾性率の高いエンボス部が得られる。また、フィルムの熱膨張を抑制して、エンボス部付近のフィルムの表裏面の波打ちを防止することができる。エンボス部付近のフィルムの表裏面の波打ちが生じると、フィルム同士が貼りつきやすく、フィルムが裂けやすくなる。   The surface temperature of the back roller 24 depends on the surface temperature of the embossing roller 22, but is preferably in the range of 30 to 100 ° C., more preferably in the range of 50 to 80 ° C. When the surface temperature of the back roller is in the range of 50 to 100 ° C., the film is not rapidly cooled, and an embossed portion having a high elastic modulus is obtained. Moreover, the thermal expansion of the film can be suppressed, and the undulation of the front and back surfaces of the film near the embossed portion can be prevented. When the undulations of the front and back surfaces of the film near the embossed portion occur, the films are likely to stick to each other and the film is easily torn.

エンボス加工時のフィルムの搬送速度は、80〜120m/分の範囲であることが好ましく、90〜120m/分の範囲であることがより好ましい。フィルムの搬送速度が80〜120m/分の範囲であると、生産性が高くでき、エンボスローラーの圧力や、エンボスローラーやバックローラーの熱がフィルムに均一に伝わりやすく、それにより、強度の高いエンボス部が得られる。   The film conveyance speed during embossing is preferably in the range of 80 to 120 m / min, and more preferably in the range of 90 to 120 m / min. When the film conveyance speed is in the range of 80 to 120 m / min, the productivity can be increased, and the pressure of the embossing roller and the heat of the embossing roller and the back roller are easily transferred to the film, thereby providing high embossing strength. Part is obtained.

〔1.2〕フィルム端部及び中央部の膜厚変化
幅手両端部の前記基材フィルムとプロテクトフィル間の剥離力と中央部の剥離力を調整する手段として、前記基材フィルムの端部と中央部で膜厚を変化させ、端部の膜厚を厚くすることを採用することもできる。
[1.2] Film thickness change at film end and center part As means for adjusting the peeling force between the base film and the protective film at both ends of the width and the peeling force at the center part, the edge part of the base film It is also possible to change the film thickness at the center and increase the film thickness at the end.

基材フィルムの端部の膜厚を中央部の膜厚に対して、5%以上、好ましくは5〜20%の範囲内で厚くすることで端部の弾性率を高くすることができ、プロテクトフィルムが貼合した状態でスリットして端部に高い圧力がかかった場合でも、圧力を緩和することができ、端部の剥離安定性を向上することができる。より好ましくは、7〜15%の範囲内である。   By increasing the film thickness at the edge of the base film within the range of 5% or more, preferably 5 to 20% of the film thickness at the center, the elastic modulus of the edge can be increased and protected. Even when the film is bonded and slits and a high pressure is applied to the end portion, the pressure can be relaxed and the peeling stability of the end portion can be improved. More preferably, it is in the range of 7 to 15%.

前記基材フィルムの端部と中央部で膜厚を変化させるには、ドープの流延時の流量を端部と中央部とで別個に調整することで行うことが好ましい。又は、延伸処理時に端部と中央部の温度を変化させて調整することもできるが、好ましくは流延量を調整する方法である。   In order to change the film thickness at the end portion and the center portion of the base film, it is preferable to adjust the flow rate at the time of casting the dope separately at the end portion and the center portion. Alternatively, it can be adjusted by changing the temperature of the end and the center during the stretching treatment, but it is preferable to adjust the casting amount.

〔2〕プロテクトフィルム
本発明に係るプロテクトフィルムとは、粘着層等を介して剥離可能なフィルムをいい、本発明に係る基材フィルム表面の保護やロール形状に巻き取る際の巻き姿などを調整するために用いる樹脂フィルムをいう。
[2] Protect film The protect film according to the present invention refers to a film that can be peeled off through an adhesive layer or the like, and adjusts the surface of the base film according to the present invention or the winding shape when wound into a roll shape. This is a resin film used for the purpose.

プロテクトフィルムとして用いられるフィルムの材質は特に制限されるものではなく、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィン系フィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム等のシクロオレフィン系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、フィルム物性及びコストの点からは、ポリエチレンフィルム及びポリエステルフィルムが好ましい。   The material of the film used as the protective film is not particularly limited. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene film Polyolefin films such as polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, norbornene resin film and other cycloolefin films, polymethylpentene film, polyether Ketone film, polyetherketoneimide film, polyamide film, fluororesin film, nylon Irumu, polymethyl methacrylate film, and acrylic films. Among these, a polyethylene film and a polyester film are preferable from the viewpoint of film properties and cost.

プロテクトフィルム中には、公知の可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤及びマット剤等を含有することができる。   The protective film can contain a known plasticizer, ultraviolet absorber, antioxidant, matting agent, and the like.

本発明に用いられるプロテクトフィルムの厚さは、好ましくは10〜100μm、更に好ましくは15〜70μmである。プロテクトフィルムが10μm未満の場合は、基材フィルムを保護する性能が低くなり、また巻き取る際にシワになりやすく、また、100μmを超えるとプロテクトフィルム積層体ロール体の巻きが大きくなり、重量が増すため保管や輸送上ハンドリング性に支障が出る場合がある。   The thickness of the protective film used in the present invention is preferably 10 to 100 μm, more preferably 15 to 70 μm. When the protective film is less than 10 μm, the performance of protecting the base film is low, and when it is wound, it tends to be wrinkled, and when it exceeds 100 μm, the winding of the protective film laminate roll body becomes large and the weight is increased. Therefore, handling and handling may be hindered during storage and transportation.

プロテクトフィルムは基材フィルムの表面に剥離可能に貼合される。プロテクトフィルムの基材フィルムに対する接着力は、プロテクトフィルムを剥離可能な範囲内であれば特に限定されないが、接着力が小さすぎるとプロテクトフィルムが基材フィルムから容易に剥離してしまうため好ましくない。したがって、接着力としては、例えば、90°引き剥がし試験において、0.03N/25mm以上であることが好ましく、より好ましくは0.05N/25mm以上である。   The protective film is detachably bonded to the surface of the base film. The adhesive force of the protective film to the base film is not particularly limited as long as the protective film is within the range where the protective film can be peeled off. However, if the adhesive force is too small, the protective film is easily peeled off from the base film. Accordingly, the adhesive strength is preferably 0.03 N / 25 mm or more, and more preferably 0.05 N / 25 mm or more, for example, in a 90 ° peeling test.

プロテクトフィルムは、後述する溶液流延製膜法又は溶融流延製膜法によって製造できる他、市販品を用いることもできる。   The protective film can be manufactured by a solution casting film forming method or a melt casting film forming method, which will be described later, or a commercially available product can be used.

プロテクトフィルムは市販品として容易に入手することができ、市販品の例を挙げると、藤森工業(株)から販売されている「マスタック」、(株)サンエー化研から販売されている「サニテクト」、日東電工(株)から販売されている「イーマスク」、東レフィルム加工(株)から販売されている「トレテック」などが挙げられる。   Protective films are easily available as commercial products. Examples of commercial products include “Masstack” sold by Fujimori Kogyo Co., Ltd. and “Sanitect” sold by Sanei Kaken Co., Ltd. "Emask" sold by Nitto Denko Corporation, "Tretec" sold by Toray Film Processing Co., Ltd., and the like.

また、プロテクトフィルムは、粘着層を有していてもよく、粘着層は、コーティングにより粘着層を形成するものと、共押し出しにより自己粘着層を形成するものがあるが、プロテクトフィルムに応じて適宜選択される。   The protective film may have an adhesive layer. The adhesive layer may be an adhesive layer formed by coating or a self-adhesive layer formed by coextrusion. Selected.

粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤などを挙げることができる。なお、粘着剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよいそれらの中でも、耐熱性、生産性の観点からアクリル系粘着剤が好ましい。   Examples of the pressure-sensitive adhesive include a rubber-based pressure-sensitive adhesive, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a polyvinyl ether-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, and a silicone-based pressure-sensitive adhesive. In addition, an acrylic adhesive is preferable from a heat resistant and productivity viewpoint among those which may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

粘着層の厚さは、好ましくは2〜20μmの範囲、より好ましくは5〜15μmの範囲であることが好ましい。粘着層の厚さが20μmより厚いと、基材フィルムと貼り合わせて剥がす際に、糊残りが発生しやすい問題、プロテクトフィルムの繰り出し張力が高くなり、基材フィルムとの貼り合わせの際にしわや傷が生じやすくなる可能性がある。また、2μmより薄いと、粘着力が低くなってプロテクトフィルムの浮きや剥がれが発生する可能性がある。   The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 2 to 20 μm, more preferably in the range of 5 to 15 μm. If the thickness of the adhesive layer is greater than 20 μm, there is a problem that adhesive residue is likely to occur when the substrate film is peeled off and the tension of the protective film is high, and the wrinkle on the substrate film is increased. Or scratches may occur. On the other hand, if the thickness is less than 2 μm, the adhesive strength is low, and the protective film may be lifted or peeled off.

プロテクトフィルムは、異物の混入を防ぐ目的や、巻き取りシワを抑制する目的で、粘着層面にセパレーターを用いる構成で製造される場合がある。その場合、粘着層面と、セパレーターの剥離力を軽くする目的や、剥離帯電を抑制する目的で、セパレーターへ離形処理を行うことが一般的である。離形剤としては、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーン系、フッ化アルキルなどのフッ素系、長鎖アルキルなどが用いられる。その中でも、離形性、加工性が良好である理由で、シリコーン系が好適に用いられる。   The protective film may be manufactured with a configuration in which a separator is used on the surface of the adhesive layer for the purpose of preventing the entry of foreign matters and the purpose of suppressing winding wrinkles. In that case, it is common to perform a release treatment on the separator for the purpose of reducing the peeling force between the adhesive layer surface and the separator or for suppressing the peeling charge. As the release agent, silicone type such as polydimethylsiloxane, fluorine type such as alkyl fluoride, and long chain alkyl are used. Among these, a silicone type is preferably used because of its good releasability and workability.

〔3〕基材フィルム
本発明に係る基材フィルムは、膜厚が5〜40μmの範囲内である薄膜な光学フィルムであることが好ましい。特に、偏光板や電子デバイスの薄型化には、前記膜厚が20μm以下であることが好ましい。
[3] Base Film The base film according to the present invention is preferably a thin optical film having a thickness in the range of 5 to 40 μm. In particular, the thickness is preferably 20 μm or less for thinning a polarizing plate or an electronic device.

本発明に係る基材フィルムは、偏光板の偏光子保護フィルムや位相差フィルム等に用いられることが好ましい。また、例えば、λ/4位相差フィルムである場合は、偏光子に貼合されることで円偏光板を形成し、例えば有機エレクトロルミネッセンス表示装置の反射防止フィルムとして使用することができる。   The base film according to the present invention is preferably used for a polarizer protective film, a retardation film or the like of a polarizing plate. For example, in the case of a λ / 4 retardation film, a circularly polarizing plate is formed by being bonded to a polarizer, and can be used as, for example, an antireflection film of an organic electroluminescence display device.

本発明に係る基材フィルムとしては、セルロースエステルフィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム等のシクロオレフィンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、シクロオレフィンフィルム、セルロースエステルフィルム及びアクリルフィルムが好ましい。   Examples of the substrate film according to the present invention include cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyether sulfone) film, polyethylene film, polyolefin film such as polypropylene film, cellophane, and polyvinylidene chloride film. , Polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, cycloolefin film such as norbornene resin film, polymethylpentene film, polyether ketone film, polyether ketone imide film, polyamide film, fluororesin film, Nylon film, polymethyl methacrylate film, acrylic film, etc. Rukoto can. Among these, a cycloolefin film, a cellulose ester film, and an acrylic film are preferable.

以下、基材フィルムの詳細を説明するが、添加剤、製造方法に関しては、シクロオレフィンフィルムの項で説明する。以下、本発明に係る基材フィルムを、シクロオレフィンフィルムという場合がある。   Hereinafter, although the detail of a base film is demonstrated, regarding an additive and a manufacturing method, it explains in the term of a cycloolefin film. Hereinafter, the base film according to the present invention may be referred to as a cycloolefin film.

〔3.1〕シクロオレフィンフィルム
シクロオレフィンフィルムに用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、種々のシクロオレフィン単量体の重合体を用いることができるが、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体を単独重合又は共重合して得られる重合体を用いることが好ましい。
[3.1] Cycloolefin film As the cycloolefin resin used in the cycloolefin film, polymers of various cycloolefin monomers can be used, but cycloolefin monomers having a norbornene skeleton are homopolymerized. Alternatively, it is preferable to use a polymer obtained by copolymerization.

中でも極性基を有するシクロオレフィン単量体を単独重合又は共重合して得られる重合体を用いることが、好ましい。   Among them, it is preferable to use a polymer obtained by homopolymerizing or copolymerizing a cycloolefin monomer having a polar group.

以下において、本発明で用いられるシクロオレフィン単量体の説明をする。   Hereinafter, the cycloolefin monomer used in the present invention will be described.

本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、例えば、下記式で表される単量体由来の(共)重合体が挙げられる。   Examples of the cycloolefin resin used in the present invention include a (co) polymer derived from a monomer represented by the following formula.

Figure 2017121777
(式中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基又は極性基を表し、置換若しくは非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子又はケイ素原子を有する連結基を介して結合していても良い。RとR又はRとRの二つが結合して2価の炭化水素基を形成していても良く、炭素環又は複素環を形成していても良い。複数のR〜Rの各々は同一であっても異なっていても良い。ただし、R〜Rの少なくとも一つは極性基である。p及びmは、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。)
極性基としては、例えば、ヒドロキシ基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数1〜10のアシルオキシ基、炭素原子数2〜10のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アミノ基、アシル基、炭素原子数1〜10のアルコキシシリル基、スルホニル含有基及びカルボキシ基等が挙げられる。これらの極性基について、更に具体的に説明すると、上記アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられ;アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ;アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ;アリールオキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ;トリオルガノシロキシ基としては、例えばトリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等が挙げられ;トリオルガノシリル基としては、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等が挙げられ;アミノ基としては、例えば第1級アミノ基が挙げられ;アルコキシシリル基としては、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
Figure 2017121777
(Wherein R 1 to R 4 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or a polar group, and the number of substituted or unsubstituted carbon atoms. The hydrocarbon group of 1 to 30 may be bonded via a linking group having an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom, and two of R 1 and R 2 or R 3 and R 4 are bonded. May form a divalent hydrocarbon group, may form a carbocycle or a heterocycle, and each of the plurality of R 1 to R 4 may be the same or different. And at least one of R 1 to R 4 is a polar group, and p and m each independently represent an integer of 0 or more.)
Examples of the polar group include a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, and an amide. Groups, imide ring-containing groups, triorganosiloxy groups, triorganosilyl groups, amino groups, acyl groups, alkoxysilyl groups having 1 to 10 carbon atoms, sulfonyl-containing groups, and carboxy groups. These polar groups will be described in more detail. Examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group; examples of the acyloxy group include an alkylcarbonyloxy group such as an acetoxy group and a propionyloxy group; Arylcarbonyloxy groups such as benzoyloxy groups; examples of alkoxycarbonyl groups include methoxycarbonyl groups and ethoxycarbonyl groups; examples of aryloxycarbonyl groups include phenoxycarbonyl groups, naphthyloxycarbonyl groups, and fullerenes. Examples of the triorganosiloxy group include a trimethylsiloxy group and a triethylsiloxy group; examples of the triorganosilyl group include an example of the triorganosilyl group. In trimethylsilyl group, triethylsilyl group and the like; examples of the amino group, for example a primary amino group and the like; the alkoxysilyl group, for example a trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group, and the like.

これらの中でも、アルコキシカルボニル基が好ましく、メトキシカルボニル基がより好ましい。   Among these, an alkoxycarbonyl group is preferable and a methoxycarbonyl group is more preferable.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.

炭素原子数1〜30の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基;フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の芳香族基等が挙げられる。これらの炭化水素基は置換されていても良く、置換基としては例えばフッ素原子、塩素原子及び臭素原子等のハロゲン原子、フェニルスルホニル基等が挙げられる。   Examples of the hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include alkyl groups such as methyl group, ethyl group and propyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; alkenyl groups such as vinyl group, allyl group and propenyl group. Groups; aromatic groups such as phenyl, biphenyl, naphthyl, and anthracenyl groups; These hydrocarbon groups may be substituted, and examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom, phenylsulfonyl group and the like.

また、置換又は非置換の炭素原子数1〜30の炭化水素基は、直接環構造に結合していても良いし、連結基(linkage)を介して結合していても良い。連結基としては、例えば式:−(CH−(mは1〜10の整数)で表されるアルキレン基等の炭素原子数1〜10の2価の炭化水素基、又は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基が挙げられる。酸素原子、窒素原子、イオウ原子又はケイ素原子を含む連結基の具体例としては、カルボニル基[−CO−]、カルボニルオキシ基[−COO−]、オキシカルボニル基[−OCO−]、スルホニル基[−SO−]、エーテル結合[−O−]、チオエーテル結合[−S−]、イミノ基[−NH−]、アミド結合[−NHCO−、−CONH−]、シロキサン結合[−OSi(R)−(式中、Rはメチル基、エチル基等のアルキル基)]、及びこれらの基が2種以上連結されてなる基等が挙げられる。 The substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms may be directly bonded to the ring structure or may be bonded via a linking group. Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms such as an alkylene group represented by the formula: — (CH 2 ) m — (m is an integer of 1 to 10), or an oxygen atom. , A linking group containing a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom. Specific examples of the linking group containing an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a silicon atom include a carbonyl group [—CO—], a carbonyloxy group [—COO—], an oxycarbonyl group [—OCO—], a sulfonyl group [ —SO 2 —], ether bond [—O—], thioether bond [—S—], imino group [—NH—], amide bond [—NHCO—, —CONH—], siloxane bond [—OSi (R 2 )-(Wherein R is an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group)], and a group in which two or more of these groups are linked.

とR又はRとRの二つが結合して2価の炭化水素基を形成しても良く、炭素環又は複素環を形成しても良いが形成していない方が好ましい。炭素環又は複素環は、単環構造であっても多環構造であっても良く、当該炭素環又は当該複素環は芳香環であっても非芳香環であっても良いが、非芳香族環の方が好ましい。 Two of R 1 and R 2 or R 3 and R 4 may be bonded to form a divalent hydrocarbon group, which may form a carbocyclic or heterocyclic ring, but is preferably not formed. The carbocyclic or heterocyclic ring may be a monocyclic structure or a polycyclic structure, and the carbocyclic ring or the heterocyclic ring may be an aromatic ring or a non-aromatic ring. A ring is preferred.

〜Rの少なくとも一つは極性基であり、R〜Rの極性基以外の基は、水素原子であることが好ましい。 At least one of R 1 to R 4 is a polar group, and the group other than the polar group of R 1 to R 4 is preferably a hydrogen atom.

また、mが0〜3の整数、pが0〜3の整数であることが好ましく、m+p=0〜4であることがより好ましく、m+p=0〜2であることが更に好ましく、m=1、p=0である特に好ましい。   Further, m is preferably an integer of 0 to 3, p is preferably an integer of 0 to 3, more preferably m + p = 0 to 4, more preferably m + p = 0 to 2, and m = 1. , P = 0 is particularly preferred.

m=1、p=0である特定単量体は、得られるシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度が高くかつ機械的強度も優れたものとなる点で好ましい。   The specific monomer with m = 1 and p = 0 is preferable in that the resulting cycloolefin resin has a high glass transition temperature and excellent mechanical strength.

上記式で表される(共)重合体の生成に用いられる共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエン等のシクロオレフィンを挙げることができる。   Specific examples of the copolymerizable monomer used for producing the (co) polymer represented by the above formula include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, and dicyclopentadiene.

シクロオレフィンの炭素原子数としては、4〜20の範囲内が好ましく、更に好ましくは5〜12の範囲内である。   The number of carbon atoms in the cycloolefin is preferably in the range of 4-20, more preferably in the range of 5-12.

本発明において、シクロオレフィン系樹脂は1種単独で、又は2種以上を併用することができる。   In this invention, cycloolefin type resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂の好ましい分子量は、下記ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は8000〜100000、更に好ましくは10000〜80000、特に好ましくは12000〜50000であり、重量平均分子量(Mw)は20000〜300000、更に好ましくは30000〜250000、特に好ましくは40000〜200000の範囲のものが好適である。   The preferred molecular weight of the cycloolefin-based resin used in the present invention is a polystyrene-reduced number average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) described below of 8000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80000, particularly preferably. The weight average molecular weight (Mw) is 12000 to 50000, preferably 20000 to 300000, more preferably 30000 to 250,000, and particularly preferably 40000 to 200000.

上記重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定する。   The weight average molecular weight Mw and the number average molecular weight Mn are measured using gel permeation chromatography (GPC).

測定条件は以下のとおりである。   The measurement conditions are as follows.

溶媒: ジクロロメタン
カラム: Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=500〜1000000の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
Solvent: Dichloromethane Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 500 to 1,000,000 calibration curves with 13 samples were used. Thirteen samples are used at approximately equal intervals.

数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることによって、シクロオレフィン樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性、及び本発明の基材フィルムとしての成形加工性が良好となる。   When the number average molecular weight and the weight average molecular weight are in the above ranges, the heat resistance, water resistance, chemical resistance, mechanical properties of the cycloolefin resin, and moldability as a base film of the present invention are improved.

本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)としては、通常、110℃以上、好ましくは110〜350℃、更に好ましくは120〜250℃、特に好ましくは120〜220℃の範囲内である。Tgを110℃以上とすると、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷等の二次加工により変形が起こりにくいため好ましい。一方、Tgを350℃以下とすると、成形加工が困難になる場合を回避し、成形加工時の熱によって樹脂が劣化する可能性を抑制することができる。   The glass transition temperature (Tg) of the cycloolefin resin used in the present invention is usually 110 ° C. or higher, preferably 110 to 350 ° C., more preferably 120 to 250 ° C., particularly preferably 120 to 220 ° C. It is. Tg of 110 ° C. or higher is preferred because deformation hardly occurs due to use under high temperature conditions or secondary processing such as coating or printing. On the other hand, when Tg is 350 ° C. or lower, it is possible to avoid the case where the molding process becomes difficult, and to suppress the possibility that the resin deteriorates due to heat during the molding process.

また、シクロオレフィン系樹脂としては、市販品を好ましく用いることができる。市販品の例としては、JSR(株)からアートン(Arton:登録商標)G、アートンF、アートンR、及びアートンRXという商品名で市販されており、これらを使用できる。   Moreover, as a cycloolefin-type resin, a commercial item can be used preferably. Examples of commercially available products are commercially available from JSR Corporation under the trade names of Arton (registered trademark) G, Arton F, Arton R, and Arton RX, and these can be used.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムには、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤、位相差上昇剤、帯電防止剤、剥離剤などを含んでもよく、以下に主要な添加剤の詳細を記す。   The cycloolefin film according to the present invention may contain a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a matting agent, a retardation increasing agent, an antistatic agent, a release agent, and the like. Details of main additives are described below. I write.

[可塑剤]
本発明において可塑剤として、ポリエステル、多価アルコールエステル、多価カルボン酸エステル(フタル酸エステルを含む)、グリコレート化合物、及びエステル系化合物(脂肪酸エステル化合物やリン酸エステル化合物などを含む)が含まれる。これらは、単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
[Plasticizer]
In the present invention, the plasticizer includes polyester, polyhydric alcohol ester, polyvalent carboxylic acid ester (including phthalic acid ester), glycolate compound, and ester-based compound (including fatty acid ester compound and phosphate ester compound). It is. These may be used alone or in combination of two or more.

中でも、ポリエステルを用いることが好ましく、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含むポリエステルであることが好ましい。   Among these, polyester is preferably used, and polyester including a repeating unit obtained by reacting dicarboxylic acid and diol is preferable.

ポリエステルを構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸又は脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、一種類であっても、二種類以上の混合物であってもよい。   The dicarboxylic acid constituting the polyester is an aromatic dicarboxylic acid, an aliphatic dicarboxylic acid or an alicyclic dicarboxylic acid, preferably an aromatic dicarboxylic acid. The dicarboxylic acid may be one kind or a mixture of two or more kinds.

ポリエステルを構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオール又は脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数1〜4のジオールである。ジオールは、一種類であっても、二種類以上の混合物であってもよい。   The diol constituting the polyester is an aromatic diol, an aliphatic diol or an alicyclic diol, preferably an aliphatic diol, more preferably a diol having 1 to 4 carbon atoms. The diol may be one type or a mixture of two or more types.

中でも、ポリエステルは、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数1〜4のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数1〜4のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。   Among them, the polyester preferably contains a repeating unit obtained by reacting at least a dicarboxylic acid containing an aromatic dicarboxylic acid and a diol having 1 to 4 carbon atoms, and contains an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic dicarboxylic acid. More preferably, it contains a repeating unit obtained by reacting a dicarboxylic acid with a diol having 1 to 4 carbon atoms.

ポリエステルの分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよいが、フィルムの透湿性を低減する観点からは、封止されていることが好ましい。   Both ends of the polyester molecule may or may not be sealed, but are preferably sealed from the viewpoint of reducing the moisture permeability of the film.

ポリエステルは、下記一般式(I)又は(II)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。下記式において、nは1以上の整数である。   The polyester is preferably a compound having a structure represented by the following general formula (I) or (II). In the following formula, n is an integer of 1 or more.

一般式(I)
B−(G−A)−G−B
一般式(II)
C−(A−G)−A−C
一般式(I)及び(II)のAは、炭素原子数3〜20(好ましくは4〜12)のアルキレンジカルボン酸から誘導される2価の基、炭素原子数4〜20(好ましくは4〜12)のアルケニレンジカルボン酸から誘導される2価の基、又は炭素原子数8〜20(好ましくは8〜12)のアリールジカルボン酸から誘導される2価の基を表す。
Formula (I)
B- (GA) n -GB
Formula (II)
C- (A-G) n -A-C
A in the general formulas (I) and (II) is a divalent group derived from an alkylene dicarboxylic acid having 3 to 20 carbon atoms (preferably 4 to 12 carbon atoms), and has 4 to 20 carbon atoms (preferably 4 to 4 carbon atoms). 12) a divalent group derived from an alkenylene dicarboxylic acid or a divalent group derived from an aryl dicarboxylic acid having 8 to 20 carbon atoms (preferably 8 to 12).

Aにおける炭素原子数3〜20のアルキレンジカルボン酸から誘導される2価の基の例には、1,2−エタンジカルボン酸(コハク酸)、1,3−プロパンジカルボン酸(グルタル酸)、1,4−ブタンジカルボン酸(アジピン酸)、1,5−ペンタンジカルボン酸(ピメリン酸)、1,8−オクタンジカルボン酸(セバシン酸)などから誘導される2価の基が含まれる。Aにおける炭素原子数4〜20のアルケニレンジカルボン酸から誘導される2価の基の例には、マレイン酸、フマル酸などから誘導される2価の基が含まれる。Aにおける炭素原子数8〜20のアリールジカルボン酸から誘導される2価の基の例には、1,2−ベンゼンジカルボン酸(フタル酸)、1,3−ベンゼンジカルボン酸、1,4−ベンゼンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸などから誘導される2価の基が含まれる。   Examples of the divalent group derived from an alkylenedicarboxylic acid having 3 to 20 carbon atoms in A include 1,2-ethanedicarboxylic acid (succinic acid), 1,3-propanedicarboxylic acid (glutaric acid), 1 , 4-butanedicarboxylic acid (adipic acid), 1,5-pentanedicarboxylic acid (pimelic acid), 1,8-octanedicarboxylic acid (sebacic acid) and the like are included. Examples of the divalent group derived from alkenylene dicarboxylic acid having 4 to 20 carbon atoms in A include a divalent group derived from maleic acid, fumaric acid and the like. Examples of the divalent group derived from aryl dicarboxylic acid having 8 to 20 carbon atoms in A include 1,2-benzenedicarboxylic acid (phthalic acid), 1,3-benzenedicarboxylic acid, 1,4-benzene. Divalent groups derived from naphthalenedicarboxylic acid such as dicarboxylic acid and 1,5-naphthalenedicarboxylic acid are included.

Aは、一種類であっても、二種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Aは、炭素原子数4〜12のアルキレンジカルボン酸と炭素原子数8〜12のアリールジカルボン酸との組み合わせが好ましい。   A may be one type or two or more types may be combined. Among these, A is preferably a combination of an alkylene dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms and an aryl dicarboxylic acid having 8 to 12 carbon atoms.

一般式(I)及び(II)のGは、炭素原子数2〜20(好ましくは2〜12)のアルキレングリコールから誘導される2価の基、炭素原子数6〜20(好ましくは6〜12)のアリールグリコールから誘導される2価の基、又は炭素原子数4〜20(好ましくは4〜12)のオキシアルキレングリコールから誘導される2価の基を表す。   G in the general formulas (I) and (II) is a divalent group derived from an alkylene glycol having 2 to 20 (preferably 2 to 12) carbon atoms, and has 6 to 20 (preferably 6 to 12) carbon atoms. ) Or a divalent group derived from an oxyalkylene glycol having 4 to 20 (preferably 4 to 12) carbon atoms.

Gにおける炭素原子数2〜20のアルキレングリコールから誘導される2価の基の例には、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、及び1,12−オクタデカンジオール等から誘導される2価の基が含まれる。   Examples of the divalent group derived from an alkylene glycol having 2 to 20 carbon atoms in G include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1, 3-butanediol, 1,2-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol ( Neopentyl glycol), 2,2-diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylol) Heptane), 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol 2 derived from 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-octadecanediol, and the like Valent groups are included.

Gにおける炭素原子数6〜20のアリールグリコールから誘導される2価の基の例には、1,2−ジヒドロキシベンゼン(カテコール)、1,3−ジヒドロキシベンゼン(レゾルシノール)、1,4−ジヒドロキシベンゼン(ヒドロキノン)などから誘導される2価の基が含まれる。Gにおける炭素原子数が4〜12のオキシアルキレングリコールから誘導される2価の基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどから誘導される2価の基が含まれる。   Examples of the divalent group derived from aryl glycol having 6 to 20 carbon atoms in G include 1,2-dihydroxybenzene (catechol), 1,3-dihydroxybenzene (resorcinol), 1,4-dihydroxybenzene. Divalent groups derived from (hydroquinone) and the like are included. Examples of the divalent group derived from oxyalkylene glycol having 4 to 12 carbon atoms in G are derived from diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like. Divalent groups are included.

Gは、一種類であっても、二種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Gは、炭素原子数2〜12のアルキレングリコールであることが好ましい。   G may be one type or two or more types may be combined. Among these, G is preferably an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms.

一般式(I)のBは、芳香環含有モノカルボン酸又は脂肪族モノカルボン酸から誘導される1価の基である。   B in the general formula (I) is a monovalent group derived from an aromatic ring-containing monocarboxylic acid or an aliphatic monocarboxylic acid.

芳香環含有モノカルボン酸から誘導される1価の基における芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基などを介してカルボキシ基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される1価の基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、3−フェニルプロピオン酸などから誘導される1価の基が含まれる。   The aromatic ring-containing monocarboxylic acid in the monovalent group derived from the aromatic ring-containing monocarboxylic acid is a carboxylic acid containing an aromatic ring in the molecule, and not only those in which the aromatic ring is directly bonded to a carboxy group, Also included are those in which an aromatic ring is bonded to a carboxy group via an alkylene group or the like. Examples of monovalent groups derived from aromatic ring-containing monocarboxylic acids include benzoic acid, para-tert-butyl benzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, p-toluic acid, dimethyl benzoic acid, ethyl benzoic acid, and normal propyl benzoic acid. Monovalent groups derived from aminobenzoic acid, acetoxybenzoic acid, phenylacetic acid, 3-phenylpropionic acid, and the like.

脂肪族モノカルボン酸から誘導される1価の基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される1価の基が含まれる。中でも、アルキル部分の炭素原子数が1〜3であるアルキルモノカルボン酸から誘導される1価の基が好ましく、アセチル基(酢酸から誘導される1価の基)がより好ましい。   Examples of monovalent groups derived from aliphatic monocarboxylic acids include monovalent groups derived from acetic acid, propionic acid, butanoic acid, caprylic acid, caproic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, stearic acid, oleic acid and the like. Is included. Among these, a monovalent group derived from an alkyl monocarboxylic acid having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl portion is preferable, and an acetyl group (a monovalent group derived from acetic acid) is more preferable.

一般式(II)のCは、芳香環含有モノアルコール又は脂肪族モノアルコールから誘導される1価の基である。   C in the general formula (II) is a monovalent group derived from an aromatic ring-containing monoalcohol or an aliphatic monoalcohol.

芳香環含有モノアルコールは、分子内に芳香環を含有するアルコールであり、芳香環がOH基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基などを介してOH基と結合したものも含む。芳香環含有モノアルコールから誘導される1価の基の例には、ベンジルアルコール、3−フェニルプロパノールなどから誘導される1価の基が含まれる。   An aromatic ring-containing monoalcohol is an alcohol containing an aromatic ring in the molecule, and includes not only those in which an aromatic ring is directly bonded to an OH group, but also those in which an aromatic ring is bonded to an OH group via an alkylene group or the like. . Examples of the monovalent group derived from an aromatic ring-containing monoalcohol include a monovalent group derived from benzyl alcohol, 3-phenylpropanol or the like.

脂肪族モノアルコールから誘導される1価の基の例には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、オクタノール、イソオクタノール、2−エチルヘキシルアルコール、ノニルアルコール、イソノニルアルコール、tert−ノニルアルコール、デカノール、ドデカノール、ドデカヘキサノール、ドデカオクタノール、アリルアルコール、オレイルアルコールなどから誘導される1価の基が含まれる。中でも、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどの炭素原子数1〜3のアルコールから誘導される1価の基が好ましい。   Examples of monovalent groups derived from aliphatic monoalcohols include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, pentanol, isopentanol, hexanol, isohexanol, cyclohexyl alcohol, octanol, isooctanol, Monovalent groups derived from 2-ethylhexyl alcohol, nonyl alcohol, isononyl alcohol, tert-nonyl alcohol, decanol, dodecanol, dodecahexanol, dodecaoctanol, allyl alcohol, oleyl alcohol and the like are included. Among these, monovalent groups derived from alcohols having 1 to 3 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol, and isopropanol are preferable.

ポリエステルの重量平均分子量は、500〜3000の範囲であることが好ましく、600〜2000の範囲であることがより好ましい。重量平均分子量が上記範囲内であれば、本発明に用いられるポリエステルの基材フィルムからの耐染みだし性を満たし、目的の効果を得ることができる。重量平均分子量は前記ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定することができる。   The weight average molecular weight of the polyester is preferably in the range of 500 to 3000, and more preferably in the range of 600 to 2000. If the weight average molecular weight is within the above range, the bleed resistance from the polyester base film used in the present invention can be satisfied, and the desired effect can be obtained. The weight average molecular weight can be measured by the gel permeation chromatography (GPC).

上記ポリエステルは、シクロオレフィンフィルムに1〜20質量%の範囲で含有させることが好ましく、3〜15質量%の範囲で含有させることがより好ましい。   The polyester is preferably contained in the cycloolefin film in the range of 1 to 20% by mass, and more preferably in the range of 3 to 15% by mass.

[紫外線吸収剤]
本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、偏光板や液晶表示装置に照射される不要な紫外線を遮蔽するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
[Ultraviolet absorber]
The cycloolefin film according to the present invention preferably contains an ultraviolet absorber in order to shield unnecessary ultraviolet rays irradiated to the polarizing plate and the liquid crystal display device.

紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号公報、特開平8−337574号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。   Examples of ultraviolet absorbers include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, and the like, but less benzotriazole compounds. Compounds are preferred. In addition, ultraviolet absorbers described in JP-A-10-182621 and JP-A-8-337574 and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A-6-148430 are also preferably used.

本発明に係る基材フィルムを、位相差フィルムのほかに、偏光板の偏光子保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶の表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。   When the substrate film according to the present invention is used as a polarizer protective film for a polarizing plate in addition to a retardation film, an ultraviolet absorber having a wavelength of 370 nm or less is used from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizer and liquid crystal. From the viewpoint of excellent absorbability and display properties of the liquid crystal, it is preferable to have a characteristic that absorbs less visible light having a wavelength of 400 nm or more.

紫外線吸収剤の添加量は、シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内であることが好ましく、0.5〜5.0質量%の範囲内であることがさらに好ましい。   The addition amount of the ultraviolet absorber is preferably in the range of 0.1 to 5.0% by mass, and more preferably in the range of 0.5 to 5.0% by mass with respect to the cycloolefin resin. preferable.

本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−[3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−[3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。   Benzotriazole-based UV absorbers useful in the present invention include, for example, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t -Butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butyl Phenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl] benzotriazole, 2,2 -Methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-3) -T-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, octyl-3 -[3-t-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-t-butyl-4-hydroxy-5- ( A mixture of 5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate can be mentioned, but is not limited thereto.

また、市販品として、「チヌビン(TINUVIN)109」、「チヌビン(TINUVIN)171」、「チヌビン(TINUVIN)326」、「チヌビン(TINUVIN)328」、「チヌビン(TINUVIN)928」(以上、商品名、BASFジャパン社製)を好ましく使用できる。   Further, as commercially available products, “TINUVIN 109”, “TINUVIN 171”, “TINUVIN 326”, “TINUVIN 328”, “TINUVIN 928” (above, trade names) , Manufactured by BASF Japan Ltd.) can be preferably used.

[酸化防止剤]
酸化防止剤は、例えば、シクロオレフィンフィルム中の残留溶媒のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等によりシクロオレフィンフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、フィルム中に含有させることが好ましい。
[Antioxidant]
Antioxidant has a role to delay or prevent the cycloolefin film from decomposing due to, for example, the residual solvent halogen in the cycloolefin film or the phosphoric acid of the phosphoric acid plasticizer, so it is contained in the film. It is preferable to make it.

このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート等を挙げることができる。   As such an antioxidant, a hindered phenol compound is preferably used. For example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di- -T-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3 -(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)- 1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octa Sil-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide) 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy Benzyl) -isocyanurate and the like.

特に、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。   In particular, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3 -(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is preferred. Further, for example, hydrazine-based metal deactivators such as N, N′-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine and tris (2,4-di- A phosphorus processing stabilizer such as t-butylphenyl) phosphite may be used in combination.

[マット剤]
本発明に係るシクロオレフィンフィルムには、フィルムの製膜時に、フィルム表面に凹凸を付与し、すべり性を確保し、安定な巻取り形状を達成するためにマット剤を含有することが好ましい。
[Matting agent]
The cycloolefin film according to the present invention preferably contains a matting agent in order to impart unevenness to the film surface during film formation, ensure slipperiness, and achieve a stable winding shape.

また、作製されたフィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化することを防止するためにも、当該マット剤は機能することができる。   In addition, the matting agent can function in order to prevent the produced film from being scratched or having deteriorated transportability when handled.

マット剤としては、無機化合物の微粒子や樹脂の微粒子が挙げられる。無機化合物の微粒子の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。   Examples of the matting agent include fine particles of an inorganic compound and fine particles of a resin. Examples of fine particles of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, silicic acid Examples thereof include magnesium and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.

微粒子の1次平均粒子径としては、20nm以下が好ましく、更に好ましくは、5〜16nmであり、特に好ましくは、5〜12nmである。   The primary average particle diameter of the fine particles is preferably 20 nm or less, more preferably 5 to 16 nm, and particularly preferably 5 to 12 nm.

これらの微粒子は0.1〜5μmの粒径の2次粒子を形成してシクロオレフィンフィルムに含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は0.1〜2μmであり、更に好ましくは0.2〜0.6μmである。これにより、フィルム表面に高さ0.1〜1.0μm程度の凹凸を形成し、これによってフィルム表面に適切な滑り性を与えることができる。
本発明に用いられる微粒子の1次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒子の観察を行い、粒子100個を観察し、粒子径を測定しその平均値をもって、1次平均粒子径とする。
These fine particles preferably form secondary particles having a particle size of 0.1 to 5 μm and are contained in the cycloolefin film, and a preferable average particle size is 0.1 to 2 μm, more preferably 0.2 to 0.6 μm. Thereby, the unevenness | corrugation about 0.1-1.0 micrometer high can be formed in the film surface, and this can give appropriate slipperiness to the film surface.
The primary average particle diameter of the fine particles used in the present invention is measured by observing the particles with a transmission electron microscope (magnification 500,000 to 2,000,000 times), observing 100 particles, measuring the particle diameter, and measuring the average. Let the value be the primary average particle size.

フィルム中のこれらの微粒子の含有量は、0.01〜1質量%の範囲内であることが好ましく、特に0.05〜0.5質量%の範囲内であることが好ましい。   The content of these fine particles in the film is preferably in the range of 0.01 to 1% by mass, and particularly preferably in the range of 0.05 to 0.5% by mass.

まあ、共流延法による多層構成の場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。   Well, in the case of a multilayer structure by the co-casting method, it is preferable to contain fine particles of this addition amount on the surface.

二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル株式会社製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Silicon dioxide fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). .

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル株式会社製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.

樹脂の微粒子の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン株式会社製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Examples of resin fine particles include silicone resin, fluororesin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) Are commercially available and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972V、アエロジルR812が、基材フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。   Among these, Aerosil 200V, Aerosil R972V, and Aerosil R812 are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the haze of the base film low.

本発明に係る基材フィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が0.2〜1.0の範囲内であることが好ましい。   In the base film which concerns on this invention, it is preferable that the dynamic friction coefficient of at least one surface is in the range of 0.2-1.0.

[位相差上昇剤]
本願でいう位相差上昇剤とは、シクロオレフィン系樹脂100質量部に対して当該化合物を3質量部含有した基材フィルムの厚さ方向のリターデーション値Rt(光波長590nm測定)が、未添加の基材フィルムと比べて1.1倍以上の値を示す機能を有する化合物をいう。
[Phase difference increasing agent]
The retardation increasing agent as used herein means that the retardation value Rt (measured at a light wavelength of 590 nm) in the thickness direction of the base film containing 3 parts by mass of the compound with respect to 100 parts by mass of the cycloolefin resin is not added. The compound which has a function which shows a 1.1 times or more value compared with the base film of this.

本発明に用いられる位相差上昇剤は、特に制限されるものではなく、例えば従来知られている、特開2006−113239号公報段落〔0143〕〜〔0179〕に記載の芳香族環を有する円盤状化合物(1,3,5−トリアジン系化合物等)、特開2006−113239号公報段落〔0106〕〜〔0112〕記載の棒状化合物、特開2012−214682号公報段落〔0118〕〜〔0133〕記載のピリミジン系化合物等を用いることができる。   The retardation increasing agent used in the present invention is not particularly limited. For example, a conventionally known disk having an aromatic ring described in paragraphs [0143] to [0179] of JP-A-2006-113239. -Like compounds (1,3,5-triazine compounds, etc.), rod-like compounds described in paragraphs [0106] to [0112] of JP-A-2006-113239, paragraphs [0118] to [0133] of JP-A-2012-214682 The described pyrimidine compounds and the like can be used.

本発明に用いられる位相差上昇剤に求められる特性としては、シクロオレフィン系樹脂との相溶性に優れること、フィルム薄膜化したときに位相差発現性に優れること、また耐析出性に優れること、高湿度下において水分の出入りに伴うリターデーション値変動耐性に優れることなどが挙げられるが、このような観点から位相差上昇剤を選択することが好ましい。   Properties required for the retardation increasing agent used in the present invention are excellent in compatibility with cycloolefin-based resins, excellent in retardation development when film-thinned, and excellent in precipitation resistance, Although it is mentioned that it is excellent in the retardation value fluctuation | variation tolerance accompanying moisture in / out of high humidity, it is preferable to select a phase difference raising agent from such a viewpoint.

位相差上昇剤のシクロオレフィンフィルム中への添加量は、シクロオレフィン系樹脂100質量部に対して、0.1〜10質量部の範囲内であることが好ましく、1〜5質量部であることがより好ましい。   The addition amount of the retardation increasing agent in the cycloolefin film is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass, and 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cycloolefin resin. Is more preferable.

[シクロオレフィンフィルムの物性]
本発明に係るシクロオレフィンフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、5〜40μmの範囲であり、最近の薄型化を考慮すると5〜35μmであることがより好ましく、20μm未満であることが特に好ましい。
[Physical properties of cycloolefin film]
The thickness of the cycloolefin film according to the present invention varies depending on the purpose of use, but is in the range of 5 to 40 μm, more preferably 5 to 35 μm in view of recent thinning, and particularly preferably less than 20 μm. preferable.

フィルム厚さの調製は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。以上のようにして得られシクロオレフィンフィルムの幅は0.5〜4mの範囲が好ましく、より好ましくは0.6〜3mの範囲、さらに好ましくは0.8〜2.5mである。長さは1ロールあたり100〜10000mの範囲で巻き取るのが好ましく、より好ましくは500〜9000mの範囲であり、さらに好ましくは1000〜8000mの範囲である。   The thickness of the film may be adjusted by adjusting the solid content concentration contained in the dope, the slit gap of the die base, the extrusion pressure from the die, the metal support speed, and the like. The width of the cycloolefin film obtained as described above is preferably in the range of 0.5 to 4 m, more preferably in the range of 0.6 to 3 m, and still more preferably in the range of 0.8 to 2.5 m. The length is preferably wound in the range of 100 to 10000 m per roll, more preferably in the range of 500 to 9000 m, and still more preferably in the range of 1000 to 8000 m.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムは使用するポリマー構造、添加剤の種類及び添加量、延伸時の残留溶媒量、延伸方向、延伸温度、延伸倍率、乾燥時の残留溶媒量などの工程条件を適宜調節することで所望の光学特性を実現することができる。   The cycloolefin film according to the present invention appropriately adjusts the process conditions such as polymer structure to be used, type and amount of additives, residual solvent amount during stretching, stretching direction, stretching temperature, stretching ratio, and residual solvent amount during drying. Thus, desired optical characteristics can be realized.

本明細書において、Ro、Rtは各々、23℃・55%RHの環境下で光波長590nmにおける面内のリターデーション値及び厚さ方向のリターデーション値を表す。   In the present specification, Ro and Rt each represent an in-plane retardation value and a retardation value in the thickness direction at an optical wavelength of 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH.

Roは、AXOMETRICS社製AxoScanにおいて波長590nmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Rtは、前記Ro、面内の遅相軸(AxoScanにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して+40°傾斜した方向から波長590nmの光を入射させて測定したリターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−40°傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて測定したリターデーション値の計三つの方向で測定したリターデーション値を基にAxoScanが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、AxoScanはn、n、nを算出し下記式(i)及び(ii)に基づいてリターデーション値を計算する。 Ro is measured by making light having a wavelength of 590 nm incident in the normal direction of the film in an AxoScan manufactured by AXOMETRICS. Rt was measured by allowing light having a wavelength of 590 nm to enter from a direction inclined by + 40 ° with respect to the normal direction of the film, using the Ro, in-plane slow axis (determined by AxoScan) as an inclination axis (rotation axis). The retardation value and the retardation value measured by making light of wavelength λ nm incident from a direction inclined −40 ° with respect to the film normal direction with the in-plane slow axis as the tilt axis (rotation axis). AxoScan is calculated based on the retardation value measured in the direction. Here, as the assumed value of the average refractive index, values in the polymer handbook (John Wiley & Sons, Inc.) and catalogs of various optical films can be used. Those whose average refractive index is not known can be measured with an Abbe refractometer. By inputting the assumed average refractive index values and thicknesses, AxoScan calculates the retardation value on the basis of the following equation to calculate the n x, n y, n z (i) and (ii).

式(i):Ro=(n−n)×d(nm)
式(ii):Rt={(n+n)/2−n}×d(nm)
(式中、Roはフィルム内の面内リターデーション値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向のリターデーション値を表す。また、dはシクロオレフィンフィルムの厚さ(nm)を表す。nは、フィルムの面内の最大の屈折率を表し、遅相軸方向の屈折率ともいう。nは、フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率を表す。nは、厚さ方向におけるフィルムの屈折率を表す。)
本発明に係るシクロオレフィンフィルムのリターデーション値は特に限定されるものではないが、VA型液晶表示装置用であれば、Roは30〜70nmの範囲であり、Rtが70〜200nmの範囲であると、光学補償フィルムとして好ましい。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d (nm)
Formula (ii): Rt = {(n x + n y ) / 2−n z } × d (nm)
(Wherein, Ro represents a plane retardation value of the film, Rt represents the thickness direction of the retardation value in the film. Further, d .n x representing a thickness (nm) of the cycloolefin film represents the maximum refractive index in the plane of the film, .n y referred to as a refractive index in a slow axis direction, .n z representing the refractive index of the direction perpendicular to the slow axis in the film plane, the thickness Represents the refractive index of the film in the vertical direction.)
Although the retardation value of the cycloolefin film according to the present invention is not particularly limited, Ro is in the range of 30 to 70 nm and Rt is in the range of 70 to 200 nm for a VA liquid crystal display device. And preferable as an optical compensation film.

また、IPS型液晶表示装置であれば、Roは0〜10nmの範囲であり、Rtは−10〜10nmの範囲であることが、光学補償フィルムとして好ましい。   In the case of an IPS liquid crystal display device, Ro is preferably in the range of 0 to 10 nm, and Rt is preferably in the range of -10 to 10 nm as the optical compensation film.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、高透明性であることがコントラスト向上や輝度向上の観点で好ましい。23℃・55%RHの環境下で調湿後測定される全光線透過率が80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上である。全光線透過率は、JIS7375:2008「プラスチック−全光線透過率及び全光線反射率の求め方」に従って測定することができる。   The cycloolefin film according to the present invention is preferably highly transparent from the viewpoint of improving contrast and improving luminance. The total light transmittance measured after humidity adjustment in an environment of 23 ° C. and 55% RH is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more. The total light transmittance can be measured according to JIS 7375: 2008 “Plastics—How to determine total light transmittance and total light reflectance”.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、25℃・60%RHにおける平衡含水率が3%以下であることが位相差変動やベンディングの観点で好ましく、1%以下であることがより好ましい。平衡含水率を3%以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。   In the cycloolefin film according to the present invention, the equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH is preferably 3% or less, and more preferably 1% or less from the viewpoint of phase fluctuation and bending. By setting the equilibrium moisture content to 3% or less, it is preferable to easily cope with a change in humidity and to hardly change the optical characteristics and dimensions.

平衡含水率は、試料フィルムを23℃・20%RHに調湿された部屋に4時間以上放置した後、23℃・80%RHに調湿された部屋に24時間放置し、サンプルを微量水分計(例えば(株)三菱化学アナリテック製、CA−20型)を用いて、温度150℃で水分を乾燥・気化させた後、カールフィッシャー法により定量する。   The equilibrium moisture content is determined by leaving the sample film in a room conditioned at 23 ° C. and 20% RH for 4 hours or more and then leaving it in a room conditioned at 23 ° C. and 80% RH for 24 hours. The moisture is dried and vaporized at a temperature of 150 ° C. using a meter (for example, CA-20 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.), and then quantified by the Karl Fischer method.

[シクロオレフィンフィルムの製造方法]
本発明に係るシクロオレフィンフィルムの製造方法は、溶液流延製膜法又は溶融流延製膜法を採用することができるが、溶液流延製膜法によって製造することが好ましい。また、後述するセルロースエステルフィルムやアクリルフィルムも同様な操作で製膜することが可能である。
[Method for producing cycloolefin film]
The cycloolefin film production method according to the present invention may employ a solution casting film forming method or a melt casting film forming method, but is preferably produced by a solution casting film forming method. Further, a cellulose ester film and an acrylic film described later can be formed by the same operation.

〈溶液流延製膜法〉
本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、少なくともシクロオレフィン系樹脂、及び添加剤を有機溶媒を用いてドープを調製する工程(ドープ調製工程)と、前記ドープを支持体上に流延してウェブ(流延膜ともいう。)を形成する工程(流延工程)と、支持体上でウェブから溶媒を蒸発させる工程(溶媒蒸発工程)、ウェブを支持体から剥離する工程(剥離工程)、得られたフィルムを乾燥させる工程(予備乾燥工程)、フィルムを延伸する工程(延伸工程)、延伸後のフィルムを更に乾燥させる工程(本乾燥工程)、得られたシクロオレフィンフィルムを巻取る工程(巻取り工程)によって製造されることが好ましい。また、本発明では上記シクロオレフィンフィルムの巻取り工程において、プロテクトフィルムとともに巻き取られることが好ましく、その際は当該プロテクトフィルム又はシクロオレフィンフィルムの剥離力を調整した手段を有する表面が接するように、巻き取られることが好ましい。
<Solution casting film forming method>
The cycloolefin film according to the present invention comprises a step of preparing a dope using at least a cycloolefin-based resin and an additive using an organic solvent (dope preparation step), and casting the dope onto a support to form a web (flow). A step of forming a film (casting step), a step of evaporating the solvent from the web on the support (solvent evaporation step), and a step of peeling the web from the support (peeling step). The process of drying the film (preliminary drying process), the process of stretching the film (stretching process), the process of further drying the stretched film (main drying process), and the process of winding up the obtained cycloolefin film (winding process) ). In the present invention, the cycloolefin film is preferably wound together with the protective film in the winding step of the cycloolefin film, and in that case, the surface having means for adjusting the peeling force of the protective film or the cycloolefin film is in contact. It is preferably wound up.

以上の工程を、図を用いて説明する。   The above steps will be described with reference to the drawings.

図5は、本発明に好ましい溶液流延製膜法のドープ調製工程、流延工程、乾燥工程及び巻取り工程の一例を模式的に示した図である。   FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of a dope preparation step, a casting step, a drying step, and a winding step of a solution casting film forming method preferable for the present invention.

分散機によって溶媒と本発明に用いられるシリカ粒子を分散させた微粒子分散液は仕込み釜141から濾過器144を通過しストック釜142にストックされる。一方主ドープであるシクロオレフィン系樹脂は溶媒とともに溶解釜101にて溶解され、適宜ストック釜142に保管されている微粒子分散液が添加されて混合され主ドープを形成する。得られた主ドープは、濾過器103、ストック釜104から濾過器6によって濾過され、合流管120によって添加剤が添加されて、混合機121で混合されて加圧ダイ130に液送される。   The fine particle dispersion in which the solvent and the silica particles used in the present invention are dispersed by the disperser passes from the charging kettle 141 through the filter 144 and is stocked in the stock kettle 142. On the other hand, the cycloolefin-based resin which is the main dope is dissolved in the dissolution vessel 101 together with the solvent, and the fine particle dispersion stored in the stock vessel 142 is added and mixed as appropriate to form the main dope. The obtained main dope is filtered from the filter 103 and the stock kettle 104 by the filter 6, the additive is added by the merge pipe 120, mixed by the mixer 121, and fed to the pressure die 130.

一方、添加剤(前記添加剤及びマット剤など)は、溶媒に溶解され、添加剤仕込み釜110から濾過器112を通過してストック釜113にストックされる。その後、濾過器115を通して導管116を経由して合流管120、混合機121によって主ドープと混合される。   On the other hand, additives (such as the additive and matting agent) are dissolved in a solvent, and are passed from the additive charging vessel 110 through the filter 112 and stocked in the stock vessel 113. After that, the main dope is mixed by the merging pipe 120 and the mixer 121 through the filter 115 and the conduit 116.

加圧ダイ130に液送された主ドープは、金属ベルト状の支持体131上に流延されてウェブ132を形成し、所定の乾燥後剥離位置133で剥離されフィルムを得る。剥離されたウェブ132は、多数の搬送ローラーに通しながら、所定の残留溶媒量になるまで乾燥された後、延伸装置134によって長手方向又は幅手方向に延伸される。延伸後、乾燥装置135によって所定の残留溶媒量になるまで、搬送ローラー136に通しながら乾燥し、巻取り装置137によって、ロール状に巻取られる。その際に、プロテクトフィルムロール138から繰り出したプロテクトフィルムをシクロオレフィンフィルムに積層しながら巻き取ることが好ましい。   The main dope fed to the pressure die 130 is cast on a metal belt-like support 131 to form a web 132, and peeled at a peeling position 133 after predetermined drying to obtain a film. The peeled web 132 is dried until it reaches a predetermined residual solvent amount while passing through a large number of conveying rollers, and then stretched in the longitudinal direction or the width direction by a stretching device 134. After stretching, the film is dried while passing through the transport roller 136 until the amount of the residual solvent reaches a predetermined amount by the drying device 135, and is wound into a roll by the winding device 137. In that case, it is preferable to wind up, laminating | stacking the protective film extended | stretched from the protective film roll 138 on a cycloolefin film.

以下、各工程について説明する。   Hereinafter, each step will be described.

(1)ドープ調製工程
シクロオレフィン系樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で当該シクロオレフィン系樹脂、添加剤、及びマット剤を撹拌しながら溶解しドープを調製する工程、又は当該シクロオレフィン系樹脂溶液に、前記添加剤、及びマット剤を混合して主溶解液であるドープを調製する工程である。
(1) Dope preparation step A step of preparing a dope by dissolving a cycloolefin resin, an additive, and a matting agent in an organic solvent mainly containing a good solvent for a cycloolefin resin while stirring the cycloolefin resin, an additive, and a matting agent. In this step, the additive and the matting agent are mixed with the cycloolefin-based resin solution to prepare a dope which is a main solution.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムを溶液流延法で製造する場合、ドープを形成するのに有用な有機溶媒は、シクロオレフィン系樹脂、添加剤を同時に溶解するものであることが好ましい。   When the cycloolefin film according to the present invention is produced by the solution casting method, the organic solvent useful for forming the dope is preferably one that simultaneously dissolves the cycloolefin resin and the additive.

用いられる有機溶媒として、以下の溶媒が好ましく用いられる。   As the organic solvent used, the following solvents are preferably used.

溶液流延法に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒;トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−ブタノールなどのアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、酢酸エチル、ジエチルエーテル;などが挙げられる。これら溶媒は1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of the solvent used in the solution casting method include chlorinated solvents such as chloroform and dichloromethane; aromatic solvents such as toluene, xylene, benzene, and mixed solvents thereof; methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, Examples include alcohol solvents such as 2-butanol; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, cyclohexanone, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), ethyl acetate, and diethyl ether. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

有機溶媒が良溶媒と貧溶媒の混合溶媒である場合、当該良溶媒は、例えば、塩素系有機溶媒としては、ジクロロメタン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等が挙げられ、中でもジクロロメタンであることが好ましい。   When the organic solvent is a mixed solvent of a good solvent and a poor solvent, the good solvent is, for example, dichloromethane as a chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, as a non-chlorine organic solvent, Methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3- Difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2, 2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, methanol, ethanol, n-propanol, iso-pro Nord, n- butanol, sec- butanol, tert- butanol and the like, is preferably Among them, dichloromethane.

本発明に用いられる貧溶媒はアルコール系溶媒であることが好ましく、メタノール、エタノール及びブタノールから選択されることが、剥離性を改善し、高速度流延を可能にする観点から好ましい。中でもエタノールが上記観点から好ましい。   The poor solvent used in the present invention is preferably an alcohol solvent, and is preferably selected from methanol, ethanol and butanol from the viewpoint of improving peelability and enabling high-speed casting. Of these, ethanol is preferred from the above viewpoint.

本発明では、混合溶媒であれば、前記良溶媒を溶媒全体量に対して55質量%以上を用いることが好ましく、より好ましくは70質量%以上、更に好ましくは80質量%以上用いることである。   In the present invention, if the solvent is a mixed solvent, the good solvent is preferably used in an amount of 55% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more based on the total amount of the solvent.

また、本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、アルコール系溶媒と水とを組み合わせて用いることが、フィルムの強度を上げるために好ましく用いることができる。水は全溶媒量に対して0.1〜1質量%含むことが好ましい。0.1質量%以上であれば、他のアルコール系溶媒やシクロオレフィン系樹脂や化合物Aと相互作用しやすくなるため好ましく、1質量%以内であれば疎水性の強いシクロオレフィン系樹脂のゲル化を抑制し、異物の発生を抑えることができる。   In addition, the cycloolefin film according to the present invention can be preferably used in combination with an alcohol solvent and water in order to increase the strength of the film. It is preferable to contain 0.1-1 mass% of water with respect to the total amount of solvent. If it is 0.1% by mass or more, it is preferable because it easily interacts with other alcohol solvents, cycloolefin resins, and compound A. If it is within 1% by mass, gelation of a highly hydrophobic cycloolefin resin is preferable. And the generation of foreign matter can be suppressed.

シクロオレフィン系樹脂及び添加剤の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−95544号公報、特開平9−95557号公報、又は特開平9−95538号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11−21379号公報に記載されている高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、0.8〜4MPaの範囲で行うことが溶解性の観点から好ましい。   For dissolving the cycloolefin-based resin and the additive, a method performed at normal pressure, a method performed below the boiling point of the main solvent, a method performed under pressure above the boiling point of the main solvent, JP-A-9-95544, JP-A-9 Various dissolution methods such as a method of performing a cooling dissolution method as described in JP-A-95557 or JP-A-9-95538 and a method of performing at a high pressure described in JP-A-11-21379 can be used. However, it is preferable to perform in 0.8-4MPa from a soluble viewpoint.

ドープ中のシクロオレフィン系樹脂の濃度は、10〜40質量%の範囲であることが好ましい。溶解中又は後のドープに化合物を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。   The concentration of the cycloolefin-based resin in the dope is preferably in the range of 10 to 40% by mass. After the compound is added to the dope during or after dissolution and dissolved and dispersed, it is filtered through a filter medium, defoamed, and sent to the next step with a liquid feed pump.

ドープの溶解温度は、特に限定されるものではないが、15〜50℃の範囲内で調製することが好ましい。溶解温度が、15℃以上であれば十分に樹脂や添加剤を溶解できるため、異物の少ないフィルムが得られる。また50℃以下であれば、得られるフィルムの着色を抑制できる観点から好ましい。   The melting temperature of the dope is not particularly limited, but it is preferably prepared within a range of 15 to 50 ° C. If the melting temperature is 15 ° C. or higher, the resin and additives can be sufficiently dissolved, so that a film with few foreign matters can be obtained. Moreover, if it is 50 degrees C or less, it is preferable from a viewpoint which can suppress coloring of the film obtained.

ドープの濾過については、好ましくはリーフディスクフィルターを具備する主な濾過器3で、ドープを例えば、90%捕集粒子径が微粒子の平均粒子径の10〜100倍の濾材で濾過することが好ましい。   For the dope filtration, it is preferable to filter the dope with a filter medium having a 90% collection particle diameter of 10 to 100 times the average particle diameter of the fine particles, for example, in the main filter 3 having a leaf disk filter. .

本発明において、濾過に使用する濾材は、絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると、濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行わなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。   In the present invention, the filter medium used for filtration preferably has a low absolute filtration accuracy. However, if the absolute filtration accuracy is too small, the filter medium is likely to be clogged, and the filter medium must be frequently replaced. There is a problem of lowering productivity.

このため、本発明において、シクロオレフィン系樹脂含有ドープに使用する濾材は、絶対濾過精度0.008mm以下のものが好ましく、0.001〜0.008mmの範囲が、より好ましく、0.003〜0.006mmの範囲の濾材がさらに好ましい。   For this reason, in the present invention, the filter medium used for the cycloolefin resin-containing dope preferably has an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less, more preferably in the range of 0.001 to 0.008 mm, and 0.003 to 0. A filter medium in the range of 0.006 mm is more preferable.

濾材の材質には、特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。   There are no particular restrictions on the material of the filter medium, and normal filter media can be used. However, plastic fiber filter media such as polypropylene and Teflon (registered trademark), and metal filter media such as stainless steel fibers are used to remove fibers. This is preferable.

本発明において、濾過の際のドープの流量が、10〜80kg/(h・m)、好ましくは20〜60kg/(h・m)であることが好ましい。ここで、濾過の際のドープの流量が、10kg/(h・m)以上であれば、効率的な生産性となり、濾過の際のドープの流量が、80kg/(h・m)以内であれば、濾材にかかる圧力が適正となり、濾材を破損させることがなく、好ましい。 In the present invention, the dope flow rate during filtration is preferably 10 to 80 kg / (h · m 2 ), more preferably 20 to 60 kg / (h · m 2 ). Here, if the flow rate of the dope at the time of filtration is 10 kg / (h · m 2 ) or more, it becomes efficient productivity, and the flow rate of the dope at the time of filtration is within 80 kg / (h · m 2 ). If so, the pressure applied to the filter medium is appropriate, and the filter medium is not damaged, which is preferable.

濾圧は、3500kPa以下であることが好ましく、3000kPa以下が、より好ましく、2500kPa以下であることがさらに好ましい。なお、濾圧は、濾過流量と濾過面積を適宜選択することで、コントロールできる。   The filtration pressure is preferably 3500 kPa or less, more preferably 3000 kPa or less, and even more preferably 2500 kPa or less. The filtration pressure can be controlled by appropriately selecting the filtration flow rate and the filtration area.

多くの場合、主ドープには返材が10〜50質量%程度含まれることがある。   In many cases, the main dope may contain about 10 to 50% by mass of the recycled material.

返材とは、例えば、シクロオレフィンフィルムを細かく粉砕した物で、シクロオレフィンフィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでフィルムの規定値を越えたシクロオレフィンフィルム原反が使用される。   Return material is, for example, a product obtained by finely pulverizing a cycloolefin film, which is generated when the cycloolefin film is formed, and has exceeded the specified value of the film due to the cut off parts on both sides of the film or due to scratches. A cycloolefin film stock is used.

また、ドープ調製に用いられる樹脂の原料としては、あらかじめシクロオレフィン系樹脂及びその他の化合物などをペレット化したものも、好ましく用いることができる。   Moreover, as a raw material of resin used for dope preparation, what pelletized cycloolefin type resin and other compounds previously can be used preferably.

(2)流延工程
(2.1)ドープの流延
ドープを、送液ポンプ(例えば、加圧型定量ギヤポンプ)を通して加圧ダイ130に送液し、無限に移送する無端の金属支持体131、例えば、ステンレスベルト、又は回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
(2) Casting step (2.1) Casting of dope An endless metal support 131 that feeds the dope through a liquid feed pump (for example, a pressurized metering gear pump) to the pressure die 130 and transfers it indefinitely. For example, the dope is cast from a pressure die slit at a casting position on a metal support such as a stainless steel belt or a rotating metal drum.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mの範囲、好ましくは1.3〜3mの範囲、さらに好ましくは1.5〜2.8mの範囲とすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶媒が沸騰して発泡しない温度以下、さらに好ましくは−30〜0℃の範囲に設定される。温度が高い方がウェブ(流延用金属支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブという。)の乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブの発泡等により平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃の範囲が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be in the range of 1-4 m, preferably in the range of 1.3-3 m, more preferably in the range of 1.5-2.8 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set in the range of −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam, more preferably in the range of −30 to 0 ° C. A higher temperature is preferable because the web (the dope is cast on a casting metal support and the formed dope film is called a web) can be dried at a higher speed. The flatness may deteriorate. A preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent.

金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing warm air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

ダイは、ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやTダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に2基以上設け、ドープ量を分割して積層してもよい。   The die is preferably a pressure die that can adjust the slit shape of the die portion of the die and easily make the film thickness uniform. Examples of the pressure die include a coat hanger die and a T die, and any of them is preferably used. The surface of the metal support is a mirror surface. In order to increase the film forming speed, two or more pressure dies may be provided on the metal support, and the dope amount may be divided and laminated.

(2.2)溶媒蒸発工程
ウェブを流延用金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程であり、後述する剥離時の残留溶媒量を制御する工程である。
(2.2) Solvent evaporation process It is the process of heating a web on the metal support body for casting, and evaporating a solvent, It is a process of controlling the residual solvent amount at the time of peeling mentioned later.

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率が良く好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを30〜100℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。30〜100℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。   To evaporate the solvent, there are a method of blowing air from the web side, a method of transferring heat from the back side of the support, a method of transferring heat from the front and back by radiant heat, etc. Is preferable. A method of combining them is also preferably used. The web on the support after casting is preferably dried on the support in an atmosphere of 30 to 100 ° C. In order to maintain the atmosphere at 30 to 100 ° C., it is preferable to apply hot air at this temperature to the upper surface of the web or heat by means such as infrared rays.

面品質、透湿性、剥離性の観点から、30〜180秒以内で当該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。   From the viewpoint of surface quality, moisture permeability, and peelability, it is preferable to peel the web from the support within 30 to 180 seconds.

(2.3)剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブはフィルムとして次工程に送られる。
(2.3) Peeling Step This is a step of peeling the web where the solvent has evaporated on the metal support at the peeling position. The peeled web is sent to the next process as a film.

金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは10〜40℃の範囲であり、さらに好ましくは11〜30℃の範囲である。   The temperature at the peeling position on the metal support is preferably in the range of 10 to 40 ° C, more preferably in the range of 11 to 30 ° C.

本発明では、前記溶媒蒸発工程でウェブ中の溶媒を蒸発するが、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの残留溶媒量は、15〜100質量%の範囲内とすることが好ましい。残留溶媒量の制御は、前記溶媒蒸発工程における乾燥温度及び乾燥時間で行うことが好ましい。   In this invention, although the solvent in a web is evaporated in the said solvent evaporation process, it is preferable that the residual solvent amount of the web on the metal support body in the time of peeling shall be in the range of 15-100 mass%. The residual solvent amount is preferably controlled by the drying temperature and drying time in the solvent evaporation step.

前記残留溶媒量が15質量%以上であると、支持体上での乾燥過程において、マット剤が厚さ方向に分布を持たずフィルム中に均一に分散した状態になるため、好ましい。   When the residual solvent amount is 15% by mass or more, the matting agent has no distribution in the thickness direction and is uniformly dispersed in the film in the drying process on the support, which is preferable.

また、前記残留溶媒量が100質量%以内であれば、フィルムが自己支持性を有し、フィルムの剥離不良を回避でき、ウェブの機械的強度も保持できることから剥離時の平面性が向上し、剥離張力によるツレや縦スジの発生を抑制できる。   Further, if the amount of the residual solvent is within 100% by mass, the film has self-supporting properties, can avoid poor peeling of the film, and can maintain the mechanical strength of the web, so that the flatness at the time of peeling is improved, Generation of slippage and vertical stripes due to peeling tension can be suppressed.

ウェブ又はフィルムの残留溶媒量は下記式(Z)で定義される。   The residual solvent amount of the web or film is defined by the following formula (Z).

式(Z)
残留溶媒量(%)=(ウェブ又はフィルムの加熱処理前質量−ウェブ又はフィルムの加熱処理後質量)/(ウェブ又はフィルムの加熱処理後質量)×100
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、115℃で1時間の加熱処理を行うことを表す。
Formula (Z)
Residual solvent amount (%) = (mass before heat treatment of web or film−mass after heat treatment of web or film) / (mass after heat treatment of web or film) × 100
Note that the heat treatment for measuring the residual solvent amount represents performing heat treatment at 115 ° C. for 1 hour.

金属支持体からウェブを剥離してフィルムとする際の剥離張力は、通常、196〜245N/mの範囲内であるが、剥離の際に皺が入りやすい場合、190N/m以下の張力で剥離することが好ましい。   The peeling tension when peeling the web from the metal support to form a film is usually in the range of 196 to 245 N / m. However, if wrinkles easily occur during peeling, the peeling tension is 190 N / m or less. It is preferable to do.

本発明においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃の範囲内とするのが好ましく、10〜40℃の範囲内がより好ましく、15〜30℃の範囲内とするのが最も好ましい。   In the present invention, the temperature at the peeling position on the metal support is preferably in the range of −50 to 40 ° C., more preferably in the range of 10 to 40 ° C., and in the range of 15 to 30 ° C. Is most preferred.

(3)乾燥及び延伸工程
乾燥工程は予備乾燥工程、本乾燥工程に分けて行うこともできる。
(3) Drying and stretching step The drying step can be divided into a preliminary drying step and a main drying step.

(3.1)予備乾燥工程
金属支持体からウェブ剥離して得られたフィルムは、予備乾燥させる。フィルムの予備乾燥は、フィルムを、上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のようにフィルムの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。
(3.1) Pre-drying process The film obtained by web peeling from the metal support is pre-dried. Preliminary drying of the film may be performed while the film is being transported by a number of rollers arranged above and below, or may be dried while being transported by fixing both ends of the film with clips like a tenter dryer. Good.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roller, microwaves, or the like, but it is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの予備乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点−5℃以下であって、30℃以上の温度で1分以上30分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は40〜150℃の範囲内、更に好ましくは50〜100℃の範囲内で乾燥が行われる。   The drying temperature in the web pre-drying step is preferably a glass transition point of the film of −5 ° C. or lower, and it is effective to perform heat treatment at a temperature of 30 ° C. or higher for 1 minute or longer and 30 minutes or shorter. Drying is carried out at a drying temperature in the range of 40 to 150 ° C, more preferably in the range of 50 to 100 ° C.

(3.2)延伸工程
本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、延伸装置134にて残留溶媒量下で延伸処理を行うことで、フィルム中の樹脂にシリカ粒子を均一に分散させたり、フィルムの平面性を向上したり、フィルム内の分子の配向を制御することで、所望の位相差値Ro及びRtを得ることができる。
(3.2) Stretching Step The cycloolefin film according to the present invention is subjected to stretching treatment with a stretching device 134 under a residual solvent amount, whereby silica particles are uniformly dispersed in the resin in the film, or the plane of the film Desirable retardation values Ro and Rt can be obtained by improving the property or controlling the orientation of molecules in the film.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムの製造方法では、当該フィルムを延伸する工程において、延伸開始時の残留溶媒量を1質量%以上15質量%未満とすることが好ましい。より好ましくは2〜10質量%の範囲内であり、前記残留溶媒量の範囲であると、延伸時に不均一な応力がフィルムにかかることを回避することができる。   In the method for producing a cycloolefin film according to the present invention, in the step of stretching the film, the residual solvent amount at the start of stretching is preferably 1% by mass or more and less than 15% by mass. More preferably, it is in the range of 2 to 10% by mass, and if it is in the range of the residual solvent amount, it can be avoided that non-uniform stress is applied to the film during stretching.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、長手方向(MD方向、流延方向ともいう。)及び/又は幅手方向(TD方向ともいう。)、及び/又は斜め方向に延伸することが好ましく、少なくとも延伸装置によって、幅手方向に延伸して製造することが好ましい。   The cycloolefin film according to the present invention is preferably stretched in the longitudinal direction (also referred to as MD direction or casting direction) and / or the width direction (also referred to as TD direction) and / or obliquely, and at least stretched. It is preferable to produce by stretching in the width direction with an apparatus.

延伸操作は多段階に分割して実施してもよい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。   The stretching operation may be performed in multiple stages. When biaxial stretching is performed, simultaneous biaxial stretching may be performed or may be performed stepwise. In this case, stepwise means that, for example, stretching in different stretching directions can be sequentially performed, stretching in the same direction is divided into multiple stages, and stretching in different directions is added to any one of the stages. Is also possible.

すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である:
・長手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→斜め方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。
Thus, for example, the following stretching steps are possible:
-Stretch in longitudinal direction-> Stretch in width direction-> Stretch in longitudinal direction-> Stretch in longitudinal direction-Stretch in width direction-> Stretch in width direction-> Stretch in longitudinal direction-> Stretch in longitudinal direction--Stretch in width direction-> Stretching in an oblique direction In addition, simultaneous biaxial stretching includes stretching in one direction and contracting the other while relaxing the tension.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、延伸後の膜厚が所望の範囲になるように長手方向及び/又は幅手方向に、好ましくは幅手方向に、フィルムのガラス転移温度をTgとしたときに、(Tg+5)〜(Tg+50)℃の温度範囲で延伸することが好ましい。上記温度範囲で延伸すると、位相差の調整がしやすく、また延伸応力を低下できるのでヘイズが低くなる。また、破断の発生を抑制し、平面性、フィルム自身の着色性に優れたシクロオレフィンフィルムが得られる。延伸温度は、(Tg+10)〜(Tg+40)℃の範囲で行うことが好ましい。   The cycloolefin film according to the present invention has a glass transition temperature Tg of the film in the longitudinal direction and / or the width direction, preferably in the width direction so that the film thickness after stretching is in a desired range. It is preferable to stretch in a temperature range of (Tg + 5) to (Tg + 50) ° C. When stretched in the above temperature range, the retardation can be easily adjusted, and the stretching stress can be reduced, so that the haze is lowered. Moreover, generation | occurrence | production of a fracture | rupture is suppressed and the cycloolefin film excellent in planarity and the coloring property of the film itself is obtained. The stretching temperature is preferably in the range of (Tg + 10) to (Tg + 40) ° C.

なお、ここでいうガラス転移温度Tgとは、市販の示差走査熱量測定器を用いて、昇温速度20℃/分で測定し、JIS K7121(1987)に従い求めた中間点ガラス転移温度(Tmg)である。具体的なフィルムのガラス転移温度Tgの測定方法は、JIS K7121(1987)に従って、セイコーインスツル(株)製の示差走査熱量計DSC220を用いて測定する。   In addition, the glass transition temperature Tg here is measured at a temperature rising rate of 20 ° C./min using a commercially available differential scanning calorimeter, and is determined at an intermediate glass transition temperature (Tmg) determined according to JIS K7121 (1987). It is. The specific method for measuring the glass transition temperature Tg of the film is measured using a differential scanning calorimeter DSC220 manufactured by Seiko Instruments Inc. according to JIS K7121 (1987).

本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、幅手方向及び長手方向の延伸倍率の総和で30%以上の倍率で延伸されていることが好ましい。より好ましくは50%以上である。   The cycloolefin film according to the present invention is preferably stretched at a ratio of 30% or more as the sum of the stretching ratios in the width direction and the longitudinal direction. More preferably, it is 50% or more.

フィルムの長手方向及び幅手方向においては、それぞれ1〜50%の範囲内の延伸率で延伸することが好ましい。特に当該延伸率の範囲は、元幅に対して10〜50%の範囲内で延伸することがさらに好ましい。本発明でいう延伸率とは、延伸前のフィルムの長手又は幅手の長さに対して、延伸後のフィルムの長手又は幅手の長さの比率(%)をいう。   In the longitudinal direction and the width direction of the film, the film is preferably stretched at a stretching ratio in the range of 1 to 50%. In particular, the stretching ratio is more preferably 10 to 50% of the original width. The stretching ratio in the present invention refers to the ratio (%) of the length or width of the film after stretching to the length or width of the film before stretching.

長手方向に延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。   There is no particular limitation on the method of stretching in the longitudinal direction. For example, a method in which a difference in peripheral speed is applied to a plurality of rolls, and the roll peripheral speed difference is used to stretch in the longitudinal direction, the both ends of the web are fixed with clips and pins, and the interval between the clips and pins is increased in the traveling direction. And a method of stretching in the longitudinal direction or a method of stretching in the longitudinal and lateral directions at the same time in the longitudinal and lateral directions. Of course, these methods may be used in combination.

幅手方向に延伸するには、例えば、特開昭62−46625号公報に示されているような乾燥全工程又は一部の工程を幅方向にクリップ又はピンでウェブの幅両端を幅保持しつつ乾燥させる方法(テンター方式と呼ばれる)、中でもクリップを用いるテンター方式、ピンを用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。   In order to stretch in the width direction, for example, the entire drying process or a part of the process as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-46625 is held in the width direction by holding the width ends of the web with clips or pins. A method of drying while drying (called a tenter method), a tenter method using a clip, and a pin tenter method using a pin are preferably used.

幅手方向への延伸に際し、フィルム幅手方向に100〜500%/minの延伸速度で延伸することが、好ましい。   When stretching in the width direction, it is preferable to stretch the film in the width direction at a stretching speed of 100 to 500% / min.

延伸速度は、特に250%/min以上であれば、平面性が向上し、またフィルムを高速で処理することができるため、生産適性の観点で好ましく、500%/min以内であれば、フィルムが破断することなく処理することができ、好ましい。   If the stretching speed is 250% / min or more, the planarity is improved and the film can be processed at a high speed, which is preferable from the viewpoint of production suitability. It can be processed without breaking, which is preferable.

好ましい延伸速度は、300〜400%/minの範囲内であり、低倍率の延伸時に有効である。延伸速度は下記式1によって定義されるものである。   A preferable stretching speed is in a range of 300 to 400% / min, and is effective at the time of stretching at a low magnification. The stretching speed is defined by the following formula 1.

式(D)
延伸速度(%/min)=[(d/d)−1]×100(%)/t
式(D)において、dは延伸後の本発明に係るシクロオレフィンフィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、dは延伸前のシクロオレフィンフィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、tは延伸に要する時間(min)である。
Formula (D)
Stretching speed (% / min) = [(d 1 / d 2 ) −1] × 100 (%) / t
In Formula (D), d 1 is the width dimension in the stretching direction of the cycloolefin film according to the present invention after stretching, d 2 is the width dimension in the stretching direction of the cycloolefin film before stretching, and t is This is the time (min) required for stretching.

本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、延伸することにより所望の位相差値を付与することができる。   The cycloolefin film according to the present invention can be provided with a desired retardation value by stretching.

延伸工程では、通常、延伸した後、保持・緩和が行われる。すなわち、本工程は、フィルムを延伸する延伸段階、フィルムを延伸状態で保持する保持段階及びフィルムを延伸した方向に緩和する緩和段階をこれらの順序で行うことが好ましい。保持段階では、延伸段階で達成された延伸率での延伸を、延伸段階における延伸温度で保持する。緩和段階では、延伸段階における延伸を保持段階で保持した後、延伸のための張力を解除することによって、延伸を緩和する。緩和段階は、延伸段階における延伸温度以下で行えば良い。   In the stretching step, usually, after stretching, holding and relaxation are performed. That is, in this step, it is preferable to perform a stretching step for stretching the film, a holding step for holding the film in a stretched state, and a relaxation step for relaxing the film in the stretched direction in this order. In the holding step, the drawing at the drawing rate achieved in the drawing step is held at the drawing temperature in the drawing step. In the relaxation stage, the stretching in the stretching stage is held in the holding stage, and then the stretching is relaxed by releasing the tension for stretching. The relaxation step may be performed at a temperature lower than the stretching temperature in the stretching step.

(3.3)乾燥工程
乾燥工程では、乾燥装置135によって延伸後のフィルムを加熱して乾燥させる。
(3.3) Drying Step In the drying step, the stretched film is heated and dried by the drying device 135.

フィルム中に含有する有機溶媒量を調整するのに、乾燥工程の条件を適宜調整して行うことが好ましい。   In order to adjust the amount of the organic solvent contained in the film, it is preferable to appropriately adjust the conditions of the drying step.

熱風等によりフィルムを加熱する場合、使用済みの熱風(溶媒を含んだエアーや濡れ込みエアー)を排気できるノズルを設置して、使用済み熱風の混入を防ぐ手段も好ましく用いられる。熱風温度は、40〜350℃の範囲がより好ましい。また、乾燥時間は5秒〜60分程度が好ましく、10秒〜30分がより好ましい。   When the film is heated with hot air or the like, a means for preventing the mixing of used hot air by installing a nozzle that can exhaust used hot air (air containing solvent or wet air) is also preferably used. The hot air temperature is more preferably in the range of 40 to 350 ° C. The drying time is preferably about 5 seconds to 60 minutes, more preferably 10 seconds to 30 minutes.

また、加熱乾燥手段は熱風に制限されず、例えば、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、千鳥状に配置した搬送ローラー36でフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。乾燥温度は残留溶媒量、搬送における伸縮率等を考慮して、40〜350℃の範囲がより好ましい。   Further, the heating and drying means is not limited to hot air, and for example, infrared rays, heating rollers, microwaves, and the like can be used. From the viewpoint of simplicity, it is preferable to dry with hot air or the like while transporting the film with the transport rollers 36 arranged in a staggered manner. The drying temperature is more preferably in the range of 40 to 350 ° C. in consideration of the residual solvent amount, the expansion / contraction rate in conveyance, and the like.

乾燥工程においては、残留溶媒量が一般的には0.5質量%以下になるまで、フィルムを乾燥することが好ましい。   In the drying step, it is preferable to dry the film until the residual solvent amount is generally 0.5% by mass or less.

(4)巻取り工程
(4.1)エンボス加工
所定の熱処理又は冷却処理の後、巻取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはエンボス加工をすることが好ましい。エンボス加工は、前述の方法、装置によって行うことができる。
(4) Winding step (4.1) Embossing After a predetermined heat treatment or cooling treatment, it is preferable to provide a slitter before winding to cut off the end portion in order to obtain a good winding shape. Furthermore, it is preferable to emboss both width ends. Embossing can be performed by the method and apparatus described above.

(4.2)
良好な巻姿を得るために、巻き取る前にフィルム同士のブロッキングを防止する目的で、プロテクトフィルムを重ねて同時に巻き取る。
(4.2)
In order to obtain a good winding shape, a protective film is stacked and wound at the same time for the purpose of preventing blocking between films before winding.

(4.3)巻取り工程
フィルム中の残留溶媒量が2質量%以下となってからフィルムとして巻取る工程であり、残留溶媒量を好ましくは1質量%以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。
(4.3) Winding step This is a step of winding the film as a film after the amount of residual solvent in the film is 2% by mass or less. Good dimensional stability is achieved by setting the amount of residual solvent to preferably 1% by mass or less. Can be obtained.

巻取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。   As a winding method, a generally used method may be used, and there are a constant torque method, a constant tension method, a taper tension method, a program tension control method with a constant internal stress, and the like.

〈溶融流延製膜法〉
本発明に係るシクロオレフィンフィルムは、溶融流延製膜法(以下、溶融押出法ともいう。)によっても製造することができ、その一例を以下に示す。
<Melt casting method>
The cycloolefin film according to the present invention can also be produced by a melt casting film forming method (hereinafter also referred to as a melt extrusion method), an example of which is shown below.

溶融押出法を用いてシクロオレフィンフィルムを製造する方法は、ガラス転移温度以上の温度に加熱溶融したシクロオレフィン系樹脂をダイスからフィルム状に押し出してシクロオレフィンフィルムを形成する工程(A)と、前記シクロオレフィンフィルムを、製膜用支持体で受けて、フィルムを冷却する工程(B)を有する。ガラス転移温度以上の温度に加熱しているシクロオレフィン系樹脂は溶融しているが、そのシクロオレフィン系樹脂は、冷却されてガラス転移温度未満になり、硬化する。そのため、ガラス転移温度以上の柔らかいシクロオレフィン系樹脂をフィルム状に製膜し、その後、冷却して硬化させることにより、所望のシクロオレフィンフィルムを得ることができる。   The method of producing a cycloolefin film using the melt extrusion method includes a step (A) of forming a cycloolefin film by extruding a cycloolefin resin heated and melted to a temperature equal to or higher than a glass transition temperature from a die into a film shape, It has a process (B) which receives a cycloolefin film with a film-forming support and cools the film. The cycloolefin resin heated to a temperature equal to or higher than the glass transition temperature is melted, but the cycloolefin resin is cooled to below the glass transition temperature and cured. Therefore, a desired cycloolefin film can be obtained by forming a soft cycloolefin resin having a glass transition temperature or higher into a film and then cooling and curing.

シクロオレフィンフィルムの製造方法に係る、前記工程(A)及び(B)のうちの少なくとも工程(B)においては、樹脂フィルムの中央部領域と第一固定領域との間に第一伸張領域を設け、かつ樹脂フィルムの中央部領域と第二伸張領域との間に第二伸張領域を設けることが好ましい。したがって、工程(B)においてシクロオレフィンフィルムは、その幅方向において、第一固定領域、第一伸張領域、中央部領域、第二伸張領域及び第二固定領域をこの順に備える。また、前記の第一伸張領域及び第二伸張領域は、同一張力を与えられた場合、第一伸張領域及び第二伸張領域の伸び量が、中央部領域の伸び量より大きくなるように設けられている。   In at least the step (B) of the steps (A) and (B) according to the method for producing a cycloolefin film, a first extension region is provided between the central region of the resin film and the first fixing region. And it is preferable to provide a 2nd extending | stretching area | region between the center part area | region and 2nd extending | stretching area | region of a resin film. Therefore, in the step (B), the cycloolefin film includes a first fixing region, a first stretching region, a central region, a second stretching region, and a second fixing region in this order in the width direction. The first extension region and the second extension region are provided so that the extension amount of the first extension region and the second extension region is larger than the extension amount of the central region when the same tension is applied. ing.

このような構成を有することにより、シクロオレフィンフィルムの製造方法は、その中央部領域においてゼロに近い厚さ方向の位相差値Rtを有するシクロオレフィンフィルムを製造できる。   By having such a configuration, the cycloolefin film production method can produce a cycloolefin film having a thickness direction retardation value Rt close to zero in the central region.

次いで、図を交えて、溶融流延法によるシクロオレフィンフィルムの製造方法について説明する。   Next, a method for producing a cycloolefin film by a melt casting method will be described with reference to the drawings.

図6は、本発明に適用可能な溶融流延法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程の一例を模式的に示した図である。   FIG. 6 is a diagram schematically showing an example of a dope preparation process, a casting process, and a drying process of the melt casting method applicable to the present invention.

図6に示すように、シクロオレフィンフィルム(410)の製造装置(400)は、ダイス(510)と、支持体としてのキャストローラー(520)と、密着装置としての静電ピニング装置(531及び532)と、剥離装置としての剥離ローラー(540)と、トリミング装置(550)と、巻取り装置としての巻取り軸(560)とを備える。   As shown in FIG. 6, the cycloolefin film (410) manufacturing apparatus (400) includes a die (510), a cast roller (520) as a support, and an electrostatic pinning apparatus (531 and 532) as a contact device. ), A peeling roller (540) as a peeling device, a trimming device (550), and a winding shaft (560) as a winding device.

ダイス(510)は、図示しない樹脂供給装置からガラス転移温度以上の温度を有する単一の樹脂を、矢印A110で示すように供給されうるように設けられている。また、ダイス(510)は、このように供給された樹脂を、リップ(516)を通じてフィルム状に押し出して、溶融状態の樹脂からなる樹脂フィルム(420)を得られるように設けられている。 Die (510), a single resin having a glass transition temperature or higher from the resin supply device, not shown, is provided so as be fed as indicated by arrow A 110. The die (510) is provided so that the resin supplied in this way is extruded into a film shape through the lip (516) to obtain a resin film (420) made of a molten resin.

図6に示すように、キャストローラー(520)は、ダイス(510)から押し出されたシクロオレフィンフィルム(420)を受けうる支持面としての外周面(521)を有するローラーである。このキャストローラー(520)は、ダイス(510)に対向する位置に設けられている。   As shown in FIG. 6, the cast roller (520) is a roller having an outer peripheral surface (521) as a support surface that can receive the cycloolefin film (420) extruded from the die (510). The cast roller (520) is provided at a position facing the die (510).

また、キャストローラー(520)は、図示しない駆動装置から与えられる駆動力によって、矢印A120で示すように回転しうるように設けられている。そのため、キャストローラー(520)は、外周面(521)で受けたシクロオレフィンフィルム(420)を、当該キャストローラー(520)の回転によって搬送しうる構成を有している。 Further, the cast roller (520) is provided so as to be rotated as indicated by an arrow A 120 by a driving force applied from a driving device (not shown). Therefore, the cast roller (520) has the structure which can convey the cycloolefin film (420) received by the outer peripheral surface (521) by rotation of the said cast roller (520).

さらに、キャストローラー(520)は、温度調整が可能に設けられている。そのため、キャストローラー(520)は、外周面(521)で受けたシクロオレフィンフィルム(420)を、所望の温度に冷却しうる構成を有している。キャストローラー(520)の温度は、シクロオレフィンフィルム(420)がキャストローラー(520)の周面(521)で受けられてから剥離ローラー(540)によって剥離されるまでの期間において、シクロオレフィンフィルム(420)に含まれる樹脂のガラス転移温度未満にシクロオレフィンフィルム(420)を冷却できるように設定されている。   Furthermore, the cast roller (520) is provided so that temperature adjustment is possible. Therefore, the cast roller (520) has a configuration capable of cooling the cycloolefin film (420) received on the outer peripheral surface (521) to a desired temperature. The temperature of the cast roller (520) depends on the cycloolefin film (420) during the period from when the cycloolefin film (420) is received by the peripheral surface (521) of the cast roller (520) until it is peeled by the peeling roller (540). 420) is set so that the cycloolefin film (420) can be cooled below the glass transition temperature of the resin contained in 420).

剥離ローラー(540)は、キャストローラー(520)と平行に、矢印A140で示すように回転しうるように設けられている。また、この剥離ローラー(540)は、キャストローラー(520)によってシクロオレフィンフィルム(420)に含まれる樹脂のガラス転移温度未満まで冷却されたシクロオレフィンフィルム(420)を、キャストローラー(520)の外周面(521)から剥離できるように設けられている。さらに、剥離ローラー(540)は、剥離したシクロオレフィンフィルム(420)を、トリミング装置(550)に送り出しうるように設けられている。 The peeling roller (540) is provided so as to be rotatable in parallel with the cast roller (520) as indicated by an arrow A140 . Moreover, this peeling roller (540) is the outer periphery of the cast roller (520), the cycloolefin film (420) cooled to below the glass transition temperature of the resin contained in the cycloolefin film (420) by the cast roller (520). It is provided so that it can be peeled off from the surface (521). Furthermore, the peeling roller (540) is provided so that the peeled cycloolefin film (420) can be sent to the trimming device (550).

トリミング装置(550)は、剥離ローラー(540)によって剥離されたシクロオレフィンフィルム(420)から、少なくとも第一固定領域及び第二固定領域を切り除くための装置である。   The trimming device (550) is a device for cutting out at least the first fixed region and the second fixed region from the cycloolefin film (420) peeled by the peeling roller (540).

このトリミング装置(550)は、外周に刃を備えて対に設けられたトリミングナイフ(551及び552)を備える。トリミング装置(550)は、シクロオレフィンフィルム(420)から端部フィルム(428)を切り除いて残った中央部領域を含むシクロオレフィンフィルム(410)を、巻取り軸(560)に送り出しうるように設けられている。   This trimming device (550) includes trimming knives (551 and 552) provided in pairs with blades on the outer periphery. The trimming device (550) can feed the cycloolefin film (410) including the central region remaining after cutting the end film (428) from the cycloolefin film (420) to the winding shaft (560). Is provided.

巻取り軸(560)は、図示しない駆動装置によって、矢印A160で示すように回転しうるように設けられている。そのため、巻取り装置(560)は、トリミング装置(550)から送られてきたシクロオレフィンフィルム(410)を巻き取って、フィルムロール(430)を得られる構成を有する。 The winding shaft (560) is provided so as to be rotated as indicated by an arrow A 160 by a driving device (not shown). Therefore, the winding device (560) has a configuration in which a film roll (430) can be obtained by winding the cycloolefin film (410) sent from the trimming device (550).

以上のようにして、光学的な等方性を有するシクロオレフィンフィルム(410)が得られる。このシクロオレフィンフィルム(410)は、ゼロに近い厚さ方向の位相差値Rtを有する。また、シクロオレフィンフィルム(410)の面内方向の位相差値Roは、通常、ゼロに近い値となる。   As described above, a cycloolefin film (410) having optical isotropy is obtained. The cycloolefin film (410) has a thickness direction retardation value Rt close to zero. In addition, the in-plane retardation value Ro of the cycloolefin film (410) is usually close to zero.

溶融流延法を用いたシクロオレフィンフィルムの製造方法の詳細に関しては、例えば、特開2015−187629号公報に記載されている内容を参照することができる。   For details of the method for producing a cycloolefin film using the melt casting method, for example, the contents described in JP-A-2015-187629 can be referred to.

〔3.2〕セルロースエステルフィルム
本発明に係る基材フィルムは、セルロースエステルフィルムであることも好ましい。
[3.2] Cellulose ester film The substrate film according to the present invention is also preferably a cellulose ester film.

用いられるセルロースエステルには特に限定はないが、セルロースエステルとしては、炭素数2〜22程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。   Although the cellulose ester used is not particularly limited, the cellulose ester is a carboxylic acid ester having about 2 to 22 carbon atoms, and may be an aromatic carboxylic acid ester, and is particularly preferably a lower fatty acid ester of cellulose. .

セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味している。ヒドロキシ基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐してもよく、また環を形成してもよい。更に別の置換基が置換してもよい。同じ置換度である場合、前記炭素数が多いと複屈折性が低下するため、炭素数としては炭素数2〜6のアシル基の中で選択することが好ましい。前記セルロースエステルとしての炭素数が2〜4であることが好ましく、炭素数が2〜3であることがより好ましい。   The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. The acyl group bonded to the hydroxy group may be linear or branched, and may form a ring. Furthermore, another substituent may be substituted. When the degree of substitution is the same, birefringence decreases when the number of carbon atoms is large, and therefore, the number of carbon atoms is preferably selected from acyl groups having 2 to 6 carbon atoms. The cellulose ester preferably has 2 to 4 carbon atoms, more preferably 2 to 3 carbon atoms.

前記セルロースエステルは、混合酸由来のアシル基を用いることもでき、特に好ましくは炭素数が2と3、又は炭素数が2と4のアシル基を用いることができる。本実施形態で用いられるセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、又は、セルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基又はブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルを用いることができる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。本実施形態において好ましく用いられるセルロースエステルとしては、特にセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレートである。   The cellulose ester may be an acyl group derived from a mixed acid, and particularly preferably an acyl group having 2 and 3 carbon atoms or 2 and 4 carbon atoms. The cellulose ester used in this embodiment includes cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, or a mixture of cellulose having a propionate group or butyrate group bonded to an acetyl group such as cellulose acetate propionate butyrate. Fatty acid esters can be used. The butyryl group that forms butyrate may be linear or branched. Cellulose esters preferably used in this embodiment are cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate phthalate.

また、リターデーション値は、セルロースエステルの前記アシル基の種類とセルロース樹脂骨格のピラノース環へのアシル基の置換度等によって、適宜制御することができる。   The retardation value can be appropriately controlled depending on the kind of the acyl group of the cellulose ester and the degree of substitution of the acyl group with the pyranose ring of the cellulose resin skeleton.

本発明において好ましいセルロースエステルとしては、下記式(I)及び(II)を同時に満足するものが好ましい。   Preferred cellulose esters in the present invention are those that simultaneously satisfy the following formulas (I) and (II).

式(I) 2.0≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦Y≦2.0
上記式(I)及び式(II)において、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基又はブチリル基の置換度である。上記2式を満足するものは、優れた光学特性を示す偏光板用の偏光子保護フィルムを製造するのに適している。
Formula (I) 2.0 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ Y ≦ 2.0
In the above formulas (I) and (II), X is the substitution degree of the acetyl group, and Y is the substitution degree of the propionyl group or butyryl group. Those satisfying the above two formulas are suitable for producing a polarizer protective film for polarizing plates exhibiting excellent optical properties.

この中でも、特に、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。   Among these, triacetyl cellulose and cellulose acetate propionate are particularly preferably used.

好ましくは2.8≦X≦3.0のトリアセチルセルロースが用いられる。   Preferably, triacetyl cellulose satisfying 2.8 ≦ X ≦ 3.0 is used.

セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートでは、1.5≦X≦2.9であり、0.1≦Y≦1.5、2.8≦X+Y≦3.0であることが好ましい。アシル基の置換度の測定方法は、ASTM−D817−96に準じて測定することができる。   In cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate, 1.5 ≦ X ≦ 2.9, and preferably 0.1 ≦ Y ≦ 1.5, 2.8 ≦ X + Y ≦ 3.0. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to ASTM-D817-96.

前記アシル基の置換度が低過ぎると、セルロース樹脂の骨格を構成するピラノース環のヒドロキシ基に対して未反応部分が多くなり、当該ヒドロキシ基が多く残存することにより、リターデーションの湿度変化や偏光板用フィルムとして偏光子を保護する能力が低下してしまうことがあり、好ましくない。   If the substitution degree of the acyl group is too low, there will be more unreacted parts with respect to the hydroxy group of the pyranose ring constituting the skeleton of the cellulose resin, and a large amount of the hydroxy group will remain, resulting in changes in retardation humidity and polarization. Since the ability to protect a polarizer as a film for a board may fall, it is not preferable.

本発明で用いられるセルロースエステルの数平均分子量は、60000〜300000の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に70000〜200000のものが好ましく用いられる。   The number average molecular weight of the cellulose ester used in the present invention is preferably in the range of 60,000 to 300,000 because the mechanical strength of the resulting film is strong. Furthermore, the thing of 70000-200000 is used preferably.

セルロースエステルの数平均分子量は、高速液体クロマトグラフィーにより下記条件で測定することができる。   The number average molecular weight of cellulose ester can be measured under the following conditions by high performance liquid chromatography.

溶媒:アセトン
カラム:MPW×1(東ソー(株)製)
試料濃度:0.2(質量/容量)%
流量:1.0mL/分
試料注入量:300μL
標準試料:標準ポリスチレン
温度:23℃
セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。
Solvent: Acetone Column: MPW × 1 (manufactured by Tosoh Corporation)
Sample concentration: 0.2 (mass / volume)%
Flow rate: 1.0 mL / min Sample injection amount: 300 μL
Standard sample: Standard polystyrene Temperature: 23 ° C
The cellulose as a raw material for the cellulose ester is not particularly limited, and examples thereof include cotton linter, wood pulp, and kenaf. Moreover, the cellulose ester obtained from them can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively.

セルロースエステルは、セルロース原料のアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やジクロロメタン等の溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応が行われる。アシル化剤が酸クロライド(CHCOCl、CCOCl、CCOCl)の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には特開平10−45804号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。 Cellulose esters use organic acids such as acetic acid or solvents such as dichloromethane and protons such as sulfuric acid when the acylating agent of the cellulose raw material is an acid anhydride (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). The reaction is carried out using a sex catalyst. When the acylating agent is acid chloride (CH 3 COCl, C 2 H 5 COCl, C 3 H 7 COCl), the reaction is carried out using a basic compound such as an amine as a catalyst. Specifically, it can be synthesized with reference to the method described in JP-A-10-45804.

また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平10−45804号公報に記載の方法で得ることができる。   In the case of mixed acid cellulose ester, it can be obtained by the method described in JP-A-10-45804.

また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ないほうが好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄(Fe)分の含量、カルシウム(Ca)分含量、マグネシウム(Mg)分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置にて硫硝酸分解し、アルカリ溶融で前処理を行った後、ICP−AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用いて分析することができる。   Cellulose esters are also affected by trace metal components in cellulose esters. These are considered to be related to water used in the manufacturing process, but it is preferable that there are few components that can become insoluble nuclei, and metal ions such as iron, calcium, and magnesium contain organic acidic groups. Insoluble matter may be formed by salt formation with a possible polymer degradation product, etc., and it is preferable that the amount is small. Metal components such as iron (Fe) content, calcium (Ca) content, magnesium (Mg) content, etc. are pre-treated with alkali fusion by decomposing cellulose ester which has been absolutely dried with a micro digest wet cracking device. Can be analyzed using ICP-AES (Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometer).

上記説明したセルロースエステル樹脂の他に、セルロースエーテル樹脂、セルロースエーテルエステル樹脂などが挙げられる。   In addition to the cellulose ester resin described above, a cellulose ether resin, a cellulose ether ester resin, and the like can be given.

そのほかには、例えば、特開2011−56787号公報、特開2007−99876号公報、特開2005−83997号公報等に記載のセルロースエーテル樹脂、セルロースエーテルエステル樹脂も同様に用いることができる。   In addition, for example, cellulose ether resins and cellulose ether ester resins described in JP 2011-56787 A, JP 2007-99876 A, JP 2005-83997 A, and the like can be used in the same manner.

〔3.3〕アクリルフィルム
本発明に係る基材フィルムは、アクリルフィルムであることも好ましい。
[3.3] Acrylic film The base film according to the present invention is preferably an acrylic film.

本発明に用いることのできるアクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれ、アクリレート/メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル/メタクリレートエステルの(共)重合体が好ましい。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位が51〜99質量%、及びこれと共重合可能な他のアクリル樹脂の単量体単位が1〜50質量%からなるものが、高品位の光学フィルムを得るために好ましい。   Acrylic resins that can be used in the present invention include methacrylic resins, and acrylate / methacrylate derivatives, particularly (co) polymers of acrylate esters / methacrylate esters are preferred. Although it does not restrict | limit especially as an acrylic resin, The thing which consists of 51-99 mass% of methyl methacrylate units, and the monomer unit of the other acrylic resin copolymerizable with this consists of 1-50 mass%. It is preferable for obtaining a high-quality optical film.

本発明に用いられるアクリル樹脂において、メチルメタクリレート単位と共重合可能な他のアクリル樹脂の単量体としては、アルキル基の炭素数が2〜18のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が1〜18のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα,β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα,β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、N−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、又は2種以上の単量体を併用して共重合成分として用いることができる。   In the acrylic resin used in the present invention, as other acrylic resin monomers copolymerizable with the methyl methacrylate unit, alkyl methacrylate having 2 to 18 carbon atoms in the alkyl group, and having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl number. Alkyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid and other α, β-unsaturated acids, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid-containing divalent carboxylic acids, styrene, α-methylstyrene and other aromatic vinyl compounds , Α, β-unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile, maleic anhydride, maleimide, N-substituted maleimide, glutaric anhydride, and the like. These may be used alone or in combination of two or more monomers. It can be used in combination as a copolymerization component.

これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、s−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやn−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。   Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferable from the viewpoint of thermal decomposition resistance and fluidity of the copolymer. n-Butyl acrylate is particularly preferably used.

高温、高湿の環境にも性能変化の少ない透明性の高い光学フィルムを形成できるアクリル樹脂としては、共重合成分として脂環式アルキル基を含有するか、又は分子内環化により分子主鎖に環状構造を形成させたアクリル樹脂が好ましい。分子主鎖に環状構造を形成させたアクリル樹脂の例としては、例えば、特開2012−133078号公報に記載の段落番号〔0195〕〜同〔0202〕に記載のラクトン環含有重合体を含むアクリル系の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましい樹脂組成や合成方法は、例えば、特開2012−066538号公報及び特開2006−171464号公報に記載されている。また、他の好ましい態様として、グルタル酸無水物を共重合成分として含有する樹脂が挙げられ、共重合成分や具体的合成方法については、例えば、特開2004−070296号公報に記載されている。   As an acrylic resin that can form a highly transparent optical film with little performance change even in high-temperature and high-humidity environments, it contains an alicyclic alkyl group as a copolymerization component, or is converted into a molecular backbone by intramolecular cyclization An acrylic resin in which a ring structure is formed is preferable. Examples of the acrylic resin in which a cyclic structure is formed in the molecular main chain include, for example, an acrylic resin containing a lactone ring-containing polymer described in paragraphs [0195] to [0202] described in JP2012-133308A Thermoplastic resins of the type are mentioned, and preferable resin compositions and synthesis methods are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2012-0666538 and 2006-171464. Another preferred embodiment is a resin containing glutaric anhydride as a copolymerization component. The copolymerization component and a specific synthesis method are described in, for example, JP-A-2004-070296.

本発明においては、ドープ中の有機溶媒の含有量を少なくでき、乾燥時間の短縮ができ、かつ形成するフィルムの面状に優れるという観点から、本発明に用いられるアクリル樹脂の重量平均分子量(Mw)としては、80000以上であることが好ましい。また、積層したときのフィルム面状を更に改良することができる観点から、アクリル樹脂の重量平均分子量としては、100000〜4000000の範囲であることが好ましい。   In the present invention, the weight average molecular weight (Mw) of the acrylic resin used in the present invention can be reduced from the viewpoint that the content of the organic solvent in the dope can be reduced, the drying time can be shortened, and the surface shape of the film to be formed is excellent. ) Is preferably 80,000 or more. Moreover, from the viewpoint of further improving the film surface shape when laminated, the weight average molecular weight of the acrylic resin is preferably in the range of 100,000 to 4000000.

アクリル樹脂の重量平均分子量の上限は、粘度が過度に高くなることなく溶液流延適性を維持でき、また、ドープ調製時に有機溶媒や添加剤との相溶性を確保することができるという理由から、上限としては4000000とすることが好ましい。   The upper limit of the weight average molecular weight of the acrylic resin can maintain the solution casting suitability without excessively increasing the viscosity, and can ensure compatibility with organic solvents and additives during dope preparation. The upper limit is preferably 4000000.

アクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。   The weight average molecular weight of the acrylic resin can be measured by gel permeation chromatography.

アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、又は溶液重合等の公知の方法を用いることができる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of an acrylic resin, Well-known methods, such as suspension polymerization, emulsion polymerization, block polymerization, or solution polymerization, can be used.

また、本発明においては、本発明に用いられるアクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット60N、80N(以上、旭化成ケミカルズ(株)製)、ダイヤナールBR52、BR80、BR83、BR85、BR88(以上、三菱レイヨン(株)製)、KT75(電気化学工業(株)製)等が挙げられる。このような市販品のアクリル樹脂は、2種以上を併用することもできる。   Moreover, in this invention, as an acrylic resin used for this invention, a commercially available thing can also be used. For example, Delpet 60N, 80N (above, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), Dialnal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (above, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), KT75 (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) Etc. Two or more kinds of such commercially available acrylic resins can be used in combination.

〔4〕偏光板
本発明に係る基材フィルムは、偏光板の偏光子を保護する偏光子保護フィルムに好適に用いることができる。
[4] Polarizing plate The base film according to the present invention can be suitably used for a polarizer protective film for protecting a polarizer of a polarizing plate.

〔4.1〕偏光子
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。
[4.1] Polarizer A polarizer is an element that passes only light having a plane of polarization in a certain direction, and examples thereof include a polyvinyl alcohol polarizing film.

ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。   The polyvinyl alcohol polarizing film includes those obtained by dyeing iodine on a polyvinyl alcohol film and those obtained by dyeing a dichroic dye.

偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。   The polarizer can be obtained by uniaxially stretching a polyvinyl alcohol film and then dyeing or dyeing the polyvinyl alcohol film, and then uniaxially stretching, and preferably by further performing a durability treatment with a boron compound.

偏光子の膜厚は、5〜30μmの範囲内が好ましく、5〜15μmの範囲内であることがより好ましい。   The film thickness of the polarizer is preferably in the range of 5 to 30 μm, and more preferably in the range of 5 to 15 μm.

ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、ケン化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開2011−100161号公報、特許第4691205号公報、特許第4804589号公報に記載の方法で、偏光子を作製し本発明の光学と貼り合わせて偏光板を作製することが好ましい。   Examples of the polyvinyl alcohol film include ethylene unit content of 1 to 4 mol%, polymerization degree of 2000 to 4000, and saponification degree of 99.0 to 99 described in JP2003-248123A, JP2003-342322A, and the like. 99 mol% ethylene-modified polyvinyl alcohol is preferably used. Moreover, it is preferable to produce a polarizing plate by producing a polarizer by the method described in JP 2011-1000016 A, JP 4691205 A, and JP 4804589 A, and laminating it with the optics of the present invention.

〔4.2〕接着剤
[水糊]
本発明に用いられる偏光板は、本発明に係る基材フィルムを完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液(水糊)を用いて偏光子に貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。
[4.2] Adhesive [Water glue]
In the polarizing plate used in the present invention, the base film according to the present invention is preferably bonded to a polarizer using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution (water glue). Another polarizing plate protective film can be bonded to the other surface.

例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC6UA、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC8UX−RHA、KC8UXW−RHA−C、KC8UXW−RHA−NC、KC4UXW−RHA−NC、以上コニカミノルタ(株)製)が好ましく用いられる。   For example, as a conventional polarizing plate protective film, a commercially available cellulose ester film (for example, Konica Minoltak KC8UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC6UY, KC6UA, KC4UY, KC4UE, KC8UE, KC8UE, KC8UE, KC8UE, KC8UE, RHA, KC8UXW-RHA-C, KC8UXW-RHA-NC, KC4UXW-RHA-NC, manufactured by Konica Minolta, Inc.) are preferably used.

[活性エネルギー線硬化性接着剤]
また、本発明に用いられる偏光板においては、本発明に係る基材フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化性接着剤により貼合されていることが好ましい。
[Active energy ray curable adhesive]
Moreover, in the polarizing plate used for this invention, it is preferable that the base film and polarizer which concern on this invention are bonded by the active energy ray hardening adhesive.

活性エネルギー線硬化性接着剤は、下記紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましい。   As the active energy ray curable adhesive, the following ultraviolet curable adhesive is preferably used.

偏光板用の紫外線硬化型接着剤組成物としては、光ラジカル重合を利用した光ラジカル重合型組成物、光カチオン重合を利用した光カチオン重合型組成物、並びに特開2008−009329号公報に記載の光ラジカル重合及び光カチオン重合を併用したハイブリッド型組成物好ましく用いられる。   As an ultraviolet curable adhesive composition for polarizing plates, a photo radical polymerization type composition using photo radical polymerization, a photo cation polymerization type composition using photo cation polymerization, and JP-A-2008-009329 are described. The hybrid type composition using both photo radical polymerization and photo cation polymerization is preferably used.

また、光カチオン重合型組成物としては、特開2011−028234号公報に開示されているような、(α)カチオン重合性化合物、(β)光カチオン重合開始剤、(γ)380nmより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び(δ)ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する紫外線硬化型接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の紫外線硬化型接着剤が用いられてもよい。   Moreover, as a photocationic polymerization type composition, as disclosed in JP 2011-08234 A, (α) a cationic polymerizable compound, (β) a photocationic polymerization initiator, and (γ) a wavelength longer than 380 nm. And an ultraviolet curable adhesive composition containing each component of a photosensitizer exhibiting maximum absorption in the light of (δ) and a naphthalene-based photosensitization aid. However, other ultraviolet curable adhesives may be used.

偏光板保護フィルムと偏光子とは、コロナ処理等の前処理を行い、紫外線硬化型接着剤を塗布し、貼合した後、紫外線を照射して硬化させる。紫外線の照射条件は、本発明に適用する紫外線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で50〜1500mJ/cmの範囲であることが好ましく、100〜500mJ/cmの範囲であるのがさらに好ましい。 The polarizing plate protective film and the polarizer are subjected to pretreatment such as corona treatment, an ultraviolet curable adhesive is applied and bonded, and then cured by irradiation with ultraviolet rays. Any appropriate conditions can be adopted as the ultraviolet irradiation conditions as long as the ultraviolet curable adhesive applied to the present invention can be cured. Preferably the dose of ultraviolet rays in the range of 50~1500mJ / cm 2 in accumulated light quantity, and even more preferably in the range of 100 to 500 mJ / cm 2.

〔5〕液晶表示装置
上記本発明に係る基材フィルムを貼合した偏光板を、液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。
[5] Liquid crystal display device By using the polarizing plate bonded with the base film according to the present invention for a liquid crystal display device, various liquid crystal display devices with excellent visibility can be produced.

本発明に用いられる偏光板は、STN、TN、OCB、HAN、VA(MVA、PVA)、IPS、OCBなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはIPS型液晶表示装置である。   The polarizing plate used in the present invention can be used for liquid crystal display devices of various drive systems such as STN, TN, OCB, HAN, VA (MVA, PVA), IPS, OCB and the like. An IPS liquid crystal display device is preferable.

液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の2枚の偏光板が用いられるが、本発明の偏光板を両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。   In the liquid crystal display device, usually two polarizing plates, a polarizing plate on the viewing side and a polarizing plate on the backlight side, are used, but it is also preferable to use the polarizing plate of the present invention as both polarizing plates. It is also preferable to use as.

IPS型液晶表示装置における上記偏光板の貼合の向きは、特開2005−234431号公報を参照して行うことができるが、液晶表示装置の種類(テレビジョン、スマートフォン、タブレット等)によって最適な方向で貼合される。   The direction of bonding of the polarizing plate in the IPS liquid crystal display device can be performed with reference to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-234431, and is optimal depending on the type of the liquid crystal display device (television, smartphone, tablet, etc.). Bonded in direction.

本発明に用いる液晶セルは、液晶層と、前記液晶層を挟持する一対の基板とを含み、前記一対の基板の厚さが0.075〜0.125mmの範囲内のガラス基板であることが、液晶表示装置の薄型化、軽量化の観点から好ましい。   The liquid crystal cell used in the present invention includes a liquid crystal layer and a pair of substrates sandwiching the liquid crystal layer, and the pair of substrates is a glass substrate having a thickness in the range of 0.075 to 0.125 mm. From the viewpoint of reducing the thickness and weight of the liquid crystal display device, it is preferable.

図7は、上記説明した本発明に用いられる偏光板201A及び201Bを液晶セル201Cの両面に配置した液晶表示装置200の構成の一例を示す概略断面図である。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of the liquid crystal display device 200 in which the polarizing plates 201A and 201B used in the present invention described above are arranged on both surfaces of the liquid crystal cell 201C.

図7において、液晶層207の両面を、透明基材としてガラス基板208A及び208Bで挟持して液晶セル201Cを構成し、それぞれのガラス基板208A及び208Bのそれぞれの表面に、粘着層206を介して、図7に示す構成の偏光板201A及び201Bが配置されて、液晶表示装置200を構成している。   In FIG. 7, both surfaces of the liquid crystal layer 207 are sandwiched between glass substrates 208A and 208B as transparent base materials to form a liquid crystal cell 201C, and the respective surfaces of the respective glass substrates 208A and 208B are provided with adhesive layers 206 therebetween. The polarizing plates 201A and 201B having the configuration shown in FIG. 7 are arranged to constitute the liquid crystal display device 200.

当該偏光板201A及び201Bにおいて、本発明では、少なくとも他の偏光板保護フィルムが、202A及び202Bの位置に、本発明に係るシクロオレフィンフィルムが205A及び205Bの位置に貼合されていることが好ましい。その場合、本発明に係るシクロオレフィンフィルムはそれぞれ紫外線硬化型接着剤203B及び203Dによって偏光子204A及び204Bに貼合されている。特に、液晶層207は、IPS型であることが液晶表示装置として好ましい。   In the polarizing plates 201A and 201B, in the present invention, it is preferable that at least another polarizing plate protective film is bonded at the positions 202A and 202B, and the cycloolefin film according to the present invention is bonded at the positions 205A and 205B. . In that case, the cycloolefin film according to the present invention is bonded to the polarizers 204A and 204B by ultraviolet curable adhesives 203B and 203D, respectively. In particular, the liquid crystal layer 207 is preferably an IPS type liquid crystal display device.

液晶セル201Cは、液晶物質の両面を配向膜、透明電極及びガラス基板(208A及び208B)が配置されて構成している。   The liquid crystal cell 201C is configured by arranging an alignment film, a transparent electrode, and glass substrates (208A and 208B) on both surfaces of a liquid crystal substance.

液晶セル201Cに用いることのできるガラス基板208A及び208Bを構成する材質としては、例えば、ソーダライムガラス、ケイ酸塩ガラスなどが挙げられ、ケイ酸塩ガラスであることが好ましく、具体的には、シリカガラス又はホウケイ酸ガラスであることがより好ましい。   Examples of the material constituting the glass substrates 208A and 208B that can be used for the liquid crystal cell 201C include soda lime glass and silicate glass, and is preferably silicate glass. Silica glass or borosilicate glass is more preferable.

ガラス基板を構成するガラスは、アルカリ成分を実質的に含有していない無アルカリガラスであること、具体的には、アルカリ成分の含有量が1000ppm以下であるガラスであることが好ましい。ガラス基板中のアルカリ成分の含有量は、500ppm以下であることが好ましく、300ppm以下であることがより好ましい。アルカリ成分を含有するガラス基材は、フィルム表面で陽イオンの置換が発生し、ソーダ吹きの現象が生じやすい。それにより、フィルム表層の密度が低下しやすく、ガラス基板が破損しやすいからである。   The glass constituting the glass substrate is preferably a non-alkali glass that does not substantially contain an alkali component, specifically, a glass having an alkali component content of 1000 ppm or less. The content of the alkali component in the glass substrate is preferably 500 ppm or less, and more preferably 300 ppm or less. In a glass substrate containing an alkali component, substitution of cations occurs on the film surface, and soda blowing phenomenon tends to occur. Thereby, the density of the film surface layer is likely to decrease, and the glass substrate is easily damaged.

液晶表示装置を構成する液晶セルのガラス基板208A及び208Bの厚さは、0.075〜0.125mmの範囲内であることが好ましい。このような厚さとすることは、液晶表示装置の薄型化形成に寄与することができる点で好ましい。   The thickness of the glass substrates 208A and 208B of the liquid crystal cell constituting the liquid crystal display device is preferably in the range of 0.075 to 0.125 mm. Such a thickness is preferable in that it can contribute to the thinning of the liquid crystal display device.

ガラス基板は、公知の方法、例えばフロート法、ダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法などにより成形されうる。中でも、成形時にガラス基材の表面が成形部材と接触せず、得られるガラス基材の表面に傷がつきにくいことなどから、オーバーフローダウンドロー法が好ましい。   The glass substrate can be formed by a known method such as a float method, a down draw method, an overflow down draw method or the like. Among these, the overflow downdraw method is preferable because the surface of the glass substrate does not come into contact with the molded member during molding and the surface of the glass substrate to be obtained is hardly damaged.

また、このようなガラス基板は、市販品としても入手することができ、例えば、日本電気硝子社製のガラス基材(厚さ100〜200μm)等を挙げることができる。   Moreover, such a glass substrate can be obtained also as a commercial item, for example, the glass substrate (thickness 100-200 micrometers) by Nippon Electric Glass Co., Ltd. etc. can be mentioned.

また、図7に示すような偏光板201A、201Bと、液晶セル201Cを構成するガラス基板208A、208Bとは、粘着層206を介して接着されている。   In addition, polarizing plates 201A and 201B as shown in FIG. 7 and glass substrates 208A and 208B constituting the liquid crystal cell 201C are bonded via an adhesive layer 206.

粘着層としては、両面テープ、例えば、リンテック社製の厚さ25μmの両面テープ(基材レステープ MO−3005C)等や、又は前記活性光線硬化型樹脂層の形成に用いる組成物を適用することができる。   As the adhesive layer, a double-sided tape, for example, a 25 μm-thick double-sided tape (baseless tape MO-3005C) manufactured by Lintec Corporation, or the composition used for forming the actinic ray curable resin layer is applied. Can do.

本発明の偏光板が用いられた液晶表示装置は、本発明の効果以外にも、層間の密着性に優れ、退色耐性、表示画像のエッグムラ耐性等に優れる利点を有する。   In addition to the effects of the present invention, the liquid crystal display device using the polarizing plate of the present invention has advantages such as excellent adhesion between layers, excellent resistance to fading, resistance to egg unevenness of display images, and the like.

偏光板の位相差フィルム側の表面と、液晶セルの少なくとも一方の表面との貼合は、公知の手法により行われる。場合によっては、接着層を介して貼合されてもよい。   Bonding between the surface of the polarizing plate on the side of the retardation film and at least one surface of the liquid crystal cell is performed by a known method. Depending on the case, it may be bonded through an adhesive layer.

本発明の偏光板を用いることで、特に画面が30型以上の大画面の液晶表示装置であっても、パネルベンドが抑制され、表示ムラ、正面コントラストなど視認性に優れ、薄膜で軽量化された液晶表示装置を得ることができる。   By using the polarizing plate of the present invention, panel bend is suppressed even in a large-screen liquid crystal display device having a screen size of 30 type or more, and visibility such as display unevenness and front contrast is excellent. A liquid crystal display device can be obtained.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass part" or "mass%" is represented.

実施例1
<プロテクトフィルム積層体101の作製>
〈基材フィルム101の作製〉
(微粒子分散液の調製)
シリカ微粒子(アエロジルR812 日本アエロジル(株)製) 11質量%
ジクロロメタン 89質量%
以上をディゾルバーで50分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液1を調製した。
Example 1
<Preparation of Protective Film Laminate 101>
<Preparation of base film 101>
(Preparation of fine particle dispersion)
Silica fine particles (Aerosil R812, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 11% by mass
Dichloromethane 89% by mass
The above was stirred and mixed with a dissolver for 50 minutes, and then dispersed using a Manton Gorin disperser to prepare a fine particle dispersion 1.

(微粒子添加液1の調製)
溶解タンクにジクロロメタンを入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液を50質量%となるようにゆっくりと添加し、アトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過して、微粒子添加液1を調製した。
(Preparation of fine particle additive solution 1)
Dichloromethane was placed in a dissolution tank, and the fine particle dispersion prepared above was slowly added to 50% by mass with sufficient stirring of the dichloromethane, followed by dispersion with an attritor. This was filtered through Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle additive solution 1.

(ドープの調製)
ジクロロメタン及びエタノールの入った加圧溶解タンクに、シクロオレフィン系樹脂:JSR(株)製ARTON G7810(重量平均分子量:ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算のMwとして13万)、及び添加剤を撹拌しながら投入した。次いで、微粒子添加液を下記記載の添加量になるように添加した後、25℃の溶解温度で3時間撹拌しながら、完全に溶解した。その後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、ドープを調製した。ドープの組成を下記に示す。
(Preparation of dope)
In a pressure dissolution tank containing dichloromethane and ethanol, cycloolefin resin: ARTON G7810 manufactured by JSR Corporation (weight average molecular weight: 130,000 as Mw in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC)), and The additive was added with stirring. Subsequently, the fine particle addition solution was added so as to have the following addition amount, and then completely dissolved while stirring at a dissolution temperature of 25 ° C. for 3 hours. Thereafter, Azumi Filter Paper No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. The dope was prepared by filtration using 244. The composition of the dope is shown below.

シクロオレフィン系樹脂1(G7810) 100質量%
ジクロロメタン 420質量%
エタノール 40質量%
微粒子添加液1 固形分としてフィルム中で0.50質量%になる量を添加
バンド流延装置を用い、前記調製したドープをステンレス製の流延支持体(支持体温度22℃)に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略20質量%の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が10質量%の状態で、125℃の温度下で幅方向に1.01倍(1%)延伸しつつ乾燥した。
Cycloolefin resin 1 (G7810) 100% by mass
Dichloromethane 420% by mass
Ethanol 40% by mass
Fine particle additive 1 Addition of 0.50% by mass in the film as solid content Using a band casting apparatus, the prepared dope was cast on a stainless steel casting support (support temperature 22 ° C.). . The dope is peeled off in a state where the amount of residual solvent in the dope is about 20% by mass, both ends in the width direction of the film are held by a tenter, and the amount of residual solvent is 10% by mass in the width direction at 125 ° C. It was dried while being stretched by 0.01 times (1%).

その後、120℃、140℃の乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、1.3m幅にスリットし、フィルム両端から20mmの位置に幅10mm、高さ3μm、凸部の個数が10個/cmとなるようにエンボス加工を施した後、市販のポリエチレン製のプロテクトフィルム(東レ加工フィルム株式会社製R7832C、膜厚50μm、PEと略記)を、貼合しながら、50m/秒の速度で巻取り、プロテクトフィルム積層体101を作製した。基材フィルム(表中、COP1と表記)の厚さは20μm、長さは4000mであり、プロテクトフィルムの厚さは50μmであった。 Thereafter, drying is completed while transporting the drying zone at 120 ° C. and 140 ° C. with a large number of rollers, slitting to 1.3 m width, width 10 mm, height 3 μm, and the number of convex portions at a position 20 mm from both ends of the film. After embossing to 10 pieces / cm 2 , a commercially available polyethylene protective film (Toray Processing Film Co., Ltd. R7832C, film thickness 50 μm, abbreviated as PE) was bonded to the film while being bonded at 50 m / second. The protective film laminate 101 was produced by winding at a speed of. The thickness of the base film (denoted as COP1 in the table) was 20 μm, the length was 4000 m, and the thickness of the protective film was 50 μm.

なお、エンボス加工は、以下の条件で行った。   The embossing was performed under the following conditions.

(エンボス加工条件)
エンボスローラー:
材質:ステンレス製
ローラー径:30cm
表面温度:長手方向に対して右エンボスローラー 180℃
長手方向に対して左エンボスローラー 180℃
バックローラー:
材質:金属製(ステンレス製)
温度:60℃
フィルムの搬送速度:50m/分
搬送張力:120N/m
エンボスローラーとバックローラーとのクリアランス:27μm
エンボスローラーとバックローラーとによるニップ圧:150Pa
<プロテクトフィルム積層体102〜112の作製>
プロテクトフィルム積層体101の作製において、基材フィルムの厚さ、エンボスの高さ/個数を表1のように変化させた以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体102〜112を作製した。
(Embossing conditions)
Embossed roller:
Material: Stainless steel Roller diameter: 30cm
Surface temperature: Right embossing roller 180 ℃ in the longitudinal direction
Left embossing roller 180 ℃ in the longitudinal direction
Back roller:
Material: Metal (stainless steel)
Temperature: 60 ° C
Film transport speed: 50 m / min Transport tension: 120 N / m
Clearance between emboss roller and back roller: 27μm
Nip pressure between emboss roller and back roller: 150Pa
<Preparation of protective film laminates 102-112>
In the production of the protective film laminate 101, protective film laminates 102 to 112 were produced in the same manner except that the thickness of the base film and the height / number of embossments were changed as shown in Table 1.

<プロテクトフィルム積層体113及び114の作製>
プロテクトフィルム積層体102の作製において、基材フィルムにはエンボス加工せず、プロテクトフィルム側に、フィルム両端に幅10mm、高さ3μm、凸部の個数が100個/cmとなるようにエンボス加工を施した以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体113を作製した。同様にエンボスの高さを5μmに調整したプロテクトフィルム積層体114を作製した。
<Preparation of Protective Film Laminates 113 and 114>
In the production of the protective film laminate 102, the base film is not embossed, but on the protective film side, the embossing is performed so that the width of the film is 10 mm, the height is 3 μm, and the number of protrusions is 100 / cm 2. A protective film laminate 113 was produced in the same manner except that the above was applied. Similarly, a protective film laminate 114 having an embossed height adjusted to 5 μm was produced.

<プロテクトフィルム積層体115の作製>
プロテクトフィルム積層体101の作製において、基材フィルムにエンボス加工せず、ダイスの流量を端部と中央部で変化させて、中央部の膜厚が端部よりも3μm薄くなるように変化させた以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体115を作製した。
<Preparation of Protective Film Laminate 115>
In the production of the protective film laminate 101, the base film was not embossed, and the flow rate of the dice was changed between the end and the center so that the thickness of the center was 3 μm thinner than the end. A protective film laminate 115 was produced in the same manner except for the above.

<プロテクトフィルム積層体116の作製>
プロテクトフィルム積層体101の作製において、基材フィルムにエンボス加工しなかった以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体116を作製した。
<Preparation of Protective Film Laminate 116>
In the production of the protective film laminate 101, a protective film laminate 116 was produced in the same manner except that the base film was not embossed.

以上のプロテクトフィルム積層体101〜116を用いて以下の評価を行った。   The following evaluation was performed using the above protective film laminated bodies 101-116.

≪評価≫
〔1〕基材フィルムの引裂強さ
基材フィルムの引裂強さを、以下の方法で測定した。
≪Evaluation≫
[1] Tear strength of base film The tear strength of the base film was measured by the following method.

基材フィルムを切り取って、幅50mm×長さ64mmのサンプルフィルムを得、該サンプルフィルムを、23℃・55%RH下で24時間調湿した後、ISO6383/2−1983に準拠してエルメンドルフ引裂強さを測定した。エルメンドルフ引裂強さは、東洋精機(株)軽加重引裂き試験機を用いた。引裂強さは、23℃・55%RH下で、フィルムの長さ方向(MD方向)に引き裂いた場合と、フィルムの幅方向(TD方向)に引き裂いた場合のそれぞれについて行い、それらの平均値として求めた。   A base film is cut out to obtain a sample film having a width of 50 mm and a length of 64 mm. After the sample film is conditioned at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours, it is subjected to Elmendorf tearing in accordance with ISO 6383 / 2-1983. Strength was measured. Elmendorf tear strength was measured using a light weight tear tester by Toyo Seiki Co., Ltd. The tear strength is measured at 23 ° C. and 55% RH for each of the case where the film is torn in the length direction (MD direction) and the case in which the film is torn in the width direction (TD direction). As sought.

〔2〕エンボス部の高さ及び単位面積あたりの個数
エンボス部の凸部の高さは、定圧厚さ測定機(株式会社テクロックPG−02)を用いて測定した。
[2] Height of embossed part and number per unit area The height of the convex part of the embossed part was measured using a constant pressure thickness measuring machine (TECROKE PG-02 Co., Ltd.).

当該凸部の数は、WYKO社製NT3300を用いて、対物レンズ50倍、イメージズーム1.0倍で、前記エンボス部の表面を測定し、単位面積(1cm)あたりの平均個数として求めた。 The number of the convex portions was obtained as an average number per unit area (1 cm 2 ) by measuring the surface of the embossed portion using an NT3300 manufactured by WYKO with an objective lens of 50 times and an image zoom of 1.0 times. .

〔3〕端部と中央部の剥離力
剥離力の測定は、まずプロテクトフィルム積層体の全幅について100mmの幅で試料採取し、23℃・55%RHの恒温槽中で24時間静置する。次いで当該試料から、幅手両端部の内側からそれぞれ幅手方向に25mm×長手方向に100mmの大きさの短冊状の試料をそれぞれ試料A及びBとして裁断採取する。同様に、幅手中央部が中心にくるよう幅手方向に25mm×長手方向に100mmの大きさの短冊状の試料を試料Cとして裁断採取した。この3点の試料を用いて、JIS−Z0237:2009(粘着テープ・粘着シート試験方法:「引き剥がし粘着力の測定方法6)に準拠し、90°引き剥がし試験を行うことによって求めた。幅手両端部の剥離力は上記試料A及びBの2点の平均値を算出した。
[3] Peeling force at end and center The peeling force is measured by first collecting a sample with a width of 100 mm over the entire width of the protective film laminate, and allowing it to stand for 24 hours in a constant temperature bath at 23 ° C. and 55% RH. Next, strip-shaped samples each having a size of 25 mm in the width direction and 100 mm in the longitudinal direction are cut and collected as samples A and B, respectively, from the inner sides of both ends of the width. Similarly, a strip-shaped sample having a size of 25 mm in the width direction and 100 mm in the longitudinal direction was cut and collected as Sample C so that the center portion of the width was centered. Using these three samples, the width was determined by performing a 90 ° peeling test in accordance with JIS-Z0237: 2009 (Adhesive tape / adhesive sheet test method: “Measurement method 6 of peel adhesive strength”). For the peeling force at both ends of the hand, the average value of the two points of the samples A and B was calculated.

〈90°引き剥がし試験〉
23℃・55%RHの環境下で、90°引き剥がし試験を、市販の試験装置である株式会社イマダ製90°剥離試験治具(P90‐200N)を用いて、いずれか一方のフィルムを固定した状態でもう一方のフィルムを、90°方向及び長手方向に300mm/minの速度で引っ張り、基材フィルムとプロテクトフィルムとを剥離するのに必要とされる最大荷重(N/25mm幅)を求めた。
<90 ° peeling test>
In an environment of 23 ° C and 55% RH, a 90 ° peel test is performed, and either film is fixed using a 90 ° peel test jig (P90-200N) manufactured by Imada Co., Ltd. In this state, the other film is pulled at a speed of 300 mm / min in the 90 ° direction and the longitudinal direction, and the maximum load (N / 25 mm width) required to peel off the base film and the protective film is obtained. It was.

〔4〕剥離安定性
作製したプロテクトフィルム積層体101〜116を用いて以下の評価を行った。
[4] Peeling stability The following evaluation was performed using the produced protective film laminates 101 to 116.

基材フィルムにプロテクトフィルムが貼合されているプロテクトフィルム積層体の状態で、端部を丸刃(刃物径:直径98mm、刃厚:2mm、刃先角:40°)のスリッターによってスリットした後、幅手方向に幅手×100mmの矩形のサンプルを10点採取し、一方の端部から手作業によって、基材フィルムとプロテクトフィルムを剥離したときの状態を以下のランク分けによって行い、剥離安定性を評価した。   In the state of the protective film laminate in which the protective film is bonded to the base film, the end is slit with a slitter with a round blade (blade diameter: diameter 98 mm, blade thickness: 2 mm, cutting edge angle: 40 °), Ten rectangular samples of width x 100 mm are collected in the width direction, and the state when the base film and the protective film are peeled off manually from one end is performed according to the following ranking, and peeling stability Evaluated.

◎:10点の試料においてフィルム端部から中央部まで容易に剥離できる
○:10点中、1〜2点において、フィルム端部にひっかかりがあるが、中央部まで剥離できる
△:10点中、3〜5点において、フィルム端部にひっかかりがあり、フィルムが千切れる場合がある
×:10点中、6点以上において、フィルム端部にひっかかりがあり、フィルムが千切れる場合がある
以上のプロテクトフィルム積層体の構成及び評価結果を、下記表1及び2に示した。
A: The film can be easily peeled from the film edge to the center in 10 samples. ○: The film edge is caught at 1 to 2 points out of 10 points, but can be peeled to the center. Δ: Of 10 points. At 3 to 5 points, there is a case where the film edge is caught and the film may be cut off. ×: At 6 points or more out of 10 points, the film edge may be caught and the film may be broken up. The composition and evaluation results of the film laminate are shown in Tables 1 and 2 below.

Figure 2017121777
Figure 2017121777

Figure 2017121777
Figure 2017121777

表1及び2の結果から、本発明のプロテクトフィルム積層体は、比較例に対して、フィルム端部から中央部まで剥離が可能であり、基材フィルムとプロテクトフィルムを積層した状態での、スリットによる端部の密着性を低減できることが分かった。   From the results of Tables 1 and 2, the protective film laminate of the present invention can be peeled from the film end to the center with respect to the comparative example, and the slit in a state where the base film and the protective film are laminated. It was found that the adhesion of the end due to can be reduced.

また、エンボス加工はプロテクトフィルムよりも基材フィルムに加工した方が、より効果的であった。   In addition, embossing was more effective when processed into a base film than a protective film.

また、基材フィルムが厚いプロテクトフィルム積層体104は、巻き取りの際に重量がかさみ、エンボス部がやや潰れた影響か、場所によって剥離性にばらつきが生じ、剥離安定性がやや劣る結果であった。   In addition, the protective film laminate 104 having a thick base film is heavy in winding, and the embossed part is slightly crushed, or the peelability varies depending on the location, resulting in slightly poor peel stability. It was.

また、エンボス部の凸部高さが大であるプロテクトフィルム積層体105は、エンボス部形成にばらつきが生じたためか、場所によって剥離性にばらつきが生じ、剥離安定性が劣る結果であった。   In addition, the protective film laminate 105 having a large convex portion height of the embossed part was caused by variations in the formation of the embossed part, resulting in variations in peelability depending on the location, resulting in poor peel stability.

実施例2
以下の樹脂及び添加剤を準備した。
Example 2
The following resins and additives were prepared.

〈シクロオレフィン系樹脂2及び3の合成〉
シクロオレフィン系樹脂2(表中、COP2と表記):以下の手順にて合成した。
<Synthesis of cycloolefin-based resins 2 and 3>
Cycloolefin resin 2 (denoted as COP2 in the table): Synthesized by the following procedure.

8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン(DNM)75質量%、ジシクロペンタジエン(DCP)24質量%、2−ノルボルネン1質量%、分子量調節剤の1−ヘキセン9部及びトルエン200部を、窒素置換した反応容器に仕込んで110℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム0.005部、メタノール変性WCl6(無水メタノール:PhPOCl:WCl
=103:630:427質量比)0.005部を加え1時間反応させることにより重合体を得た。得られた重合体の溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを200部加えた。次に、水素添加触媒であるRuHCl(CO)[P(C)]を0.006部添加し、90℃まで加熱した後、水素ガスを反応器へ投入し、圧力を10MPaとした。その後、圧力を10MPaに保ったまま、165℃、3時間の反応を行った。反応終了後、多量のメタノール溶液に沈殿させ、更に沈殿物をトルエン及びメタノールを用いて再沈殿精製して、水素結合受容性基としてメトキシカルボニル基を有する単量体を75質量%保有するシクロオレフィン系樹脂2(重量平均分子量7万)を得た。
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5. 17,10] -3-dodecene (DNM) 75% by mass, dicyclopentadiene (DCP) 24% by mass, 2-norbornene 1% by mass, molecular weight regulator 1-hexene 9 parts and toluene 200 parts were replaced with nitrogen. The reaction vessel was charged and heated to 110 ° C. To this, 0.005 part of triethylaluminum, methanol-modified WCl6 (anhydrous methanol: PhPOCl 2 : WCl
6 = 103: 630: 427 mass ratio) 0.005 part was added and reacted for 1 hour to obtain a polymer. The obtained polymer solution was put into an autoclave, and 200 parts of toluene was further added. Next, 0.006 part of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 )] 3 as a hydrogenation catalyst was added and heated to 90 ° C., then hydrogen gas was charged into the reactor, and the pressure was set to 10 MPa. did. Thereafter, the reaction was carried out at 165 ° C. for 3 hours while maintaining the pressure at 10 MPa. After completion of the reaction, the product is precipitated in a large amount of methanol solution, and the precipitate is purified by reprecipitation using toluene and methanol, and a cycloolefin having 75% by mass of a monomer having a methoxycarbonyl group as a hydrogen bond accepting group System resin 2 (weight average molecular weight 70,000) was obtained.

同様にして、反応時間を調整して、重量平均分子量18万のシクロオレフィン系樹脂3(表中、COP3と表記)を得た。   Similarly, the reaction time was adjusted to obtain cycloolefin resin 3 (indicated as COP3 in the table) having a weight average molecular weight of 180,000.

〈セルロースアシレート〉
トリアセチルセルロース(表中、TACと表記):アセチル基置換度=2.9、重量平均分子量20万
〈アクリル系樹脂(表中、アクリルと表記)〉
特開2000−128911号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。具体的には、撹拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び還流冷却管を備えたフラスコにモノマーとしてメチルアクリレート(MMA)を投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換し、アクリル系樹脂を得た。
<Cellulose acylate>
Triacetyl cellulose (denoted as TAC in the table): Degree of acetyl group substitution = 2.9, weight average molecular weight 200,000 <Acrylic resin (denoted as acrylic in the table)>
Bulk polymerization was performed by the polymerization method described in JP-A No. 2000-128911. Specifically, methyl acrylate (MMA) is introduced as a monomer into a flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer, an inlet, and a reflux condenser, and nitrogen gas is introduced and the flask is filled with nitrogen gas. Substitution was performed to obtain an acrylic resin.

次いで、チオグリセロール添加後、4時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン5質量%テトラヒドロフラン溶液20質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、80℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、GPCを用いて測定した重量平均分子量が14万であるアクリル系樹脂であるポリメチルメタクリレートを得た。   Subsequently, after addition of thioglycerol, polymerization was carried out for 4 hours, the contents were returned to room temperature, and 20 parts by mass of a 5% by mass benzoquinone tetrahydrofuran solution was added thereto to terminate the polymerization. The contents were transferred to an evaporator, and tetrahydrofuran, residual monomer and residual thioglycerol were removed under reduced pressure at 80 ° C. to obtain polymethyl methacrylate which is an acrylic resin having a weight average molecular weight of 140,000 measured using GPC. .

〈ポリエステル〉
ポリエステル1は、以下の手順にて合成した。
<polyester>
Polyester 1 was synthesized by the following procedure.

1,2−プロパンジオール251g、無水フタル酸278g、アジピン酸91g、安息香酸610g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中230℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。15時間脱水縮合反応させ、反応終了後200℃で未反応の1,2−プロパンジオールを減圧留去することにより、芳香族末端封止のポリエステル1を得た。酸価0.10、重量平均分子量450であった。   251 g of 1,2-propanediol, 278 g of phthalic anhydride, 91 g of adipic acid, 610 g of benzoic acid, 0.191 g of tetraisopropyl titanate as an esterification catalyst, 2 L four-neck equipped with a thermometer, a stirrer, and a slow cooling tube The flask is charged and gradually heated with stirring until it reaches 230 ° C. in a nitrogen stream. After dehydration condensation reaction for 15 hours, unreacted 1,2-propanediol was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. after completion of the reaction to obtain an aromatic end-capped polyester 1. The acid value was 0.10 and the weight average molecular weight was 450.

〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤1として、BASFジャパン(株)製TINUVIN928を用いた。
<Ultraviolet absorber>
As UV absorber 1, TINUVIN 928 manufactured by BASF Japan Ltd. was used.

<プロテクトフィルム積層体201の作製>
〈基材フィルム201の作製〉
基材フィルム102の作製において、下記ドープを用いた以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体201を作製した。
<Production of Protective Film Laminate 201>
<Preparation of base film 201>
A protective film laminate 201 was produced in the same manner as in the production of the base film 102 except that the following dope was used.

(ドープの調製)
ジクロロメタン及びエタノールの入った加圧溶解タンクに、シクロオレフィン系樹脂2及び添加剤を撹拌しながら投入した。次いで、微粒子添加液1を下記記載の添加量になるように添加した後、25℃の溶解温度で3時間撹拌しながら、完全に溶解した。その後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、ドープを調製した。ドープの組成を下記に示す。
(Preparation of dope)
The cycloolefin resin 2 and the additive were added to a pressure dissolution tank containing dichloromethane and ethanol with stirring. Subsequently, after adding the fine particle addition liquid 1 so that it may become the following addition amount, it melt | dissolved completely, stirring for 3 hours at the melting temperature of 25 degreeC. Thereafter, Azumi Filter Paper No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. The dope was prepared by filtration using 244. The composition of the dope is shown below.

シクロオレフィン系樹脂2 100質量%
ジクロロメタン 420質量%
エタノール 40質量%
微粒子添加液1 固形分としてフィルム中で0.50質量%になる量を添加
ポリエステル1 8質量%
紫外線吸収剤1 2質量%
<プロテクトフィルム積層体202の作製>
〈基材フィルム202の作製〉
基材フィルム201の作製において、樹脂を上記シクロオレフィン系樹脂3を用いた以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体202を作製した。
Cycloolefin resin 2 100% by mass
Dichloromethane 420% by mass
Ethanol 40% by mass
Fine particle additive 1 Add an amount of 0.50% by mass in the film as solid content Polyester 1 8% by mass
UV absorber 1 2% by mass
<Preparation of Protective Film Laminate 202>
<Preparation of base film 202>
A protective film laminate 202 was produced in the same manner as in the production of the base film 201 except that the cycloolefin resin 3 was used as the resin.

<プロテクトフィルム積層体203の作製>
〈基材フィルム203の作製〉
基材フィルム201の作製において、下記ドープを用いた以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体203を作製した。
<Preparation of Protective Film Laminate 203>
<Preparation of base film 203>
A protective film laminate 203 was produced in the same manner as in the production of the base film 201 except that the following dope was used.

(ドープの調製)
エタノールの入った加圧溶解タンクに、セルロースアシレート(TAC)及び添加剤を撹拌しながら投入した。次いで、微粒子添加液を下記記載の添加量になるように添加した後、50℃の溶解温度で3時間加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。その後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、ドープを調製した。ドープの組成を下記に示す。
(Preparation of dope)
Cellulose acylate (TAC) and additives were added to a pressurized dissolution tank containing ethanol with stirring. Subsequently, the fine particle addition solution was added so as to have the following addition amount, and then heated at a dissolution temperature of 50 ° C. for 3 hours, and completely dissolved while stirring. Thereafter, Azumi Filter Paper No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. The dope was prepared by filtration using 244. The composition of the dope is shown below.

セルロースアシレート(TAC) 100質量%
ジクロロメタン 420質量%
エタノール 40質量%
微粒子添加液1 固形分としてフィルム中で0.50質量%になる量を添加
ポリエステル1 8質量%
紫外線吸収剤1 2質量%
<プロテクトフィルム積層体204の作製>
〈基材フィルム204の作製〉
基材フィルム203の作製において、樹脂をTACの代わりに上記アクリル樹脂を用いた以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体204を作製した。
Cellulose acylate (TAC) 100% by mass
Dichloromethane 420% by mass
Ethanol 40% by mass
Fine particle additive 1 Add an amount of 0.50% by mass in the film as solid content Polyester 1 8% by mass
UV absorber 1 2% by mass
<Preparation of Protective Film Laminate 204>
<Preparation of base film 204>
A protective film laminate 204 was produced in the same manner as in the production of the base film 203 except that the acrylic resin was used instead of TAC.

<プロテクトフィルム積層体205の作製>
プロテクトフィルム積層体102の作製において、プロテクトフィルムを、東レ株式会社製ポリエチレンテレフタレートフィルム(表中、PETと表記):ルミラー(登録商標)(U403)、膜厚30μmに代えた以外は同様にして、プロテクトフィルム積層体205を作製した。
<Preparation of Protective Film Laminate 205>
In the production of the protective film laminate 102, the protective film was made in the same manner except that the polyethylene terephthalate film manufactured by Toray Industries, Inc. (denoted as PET in the table): Lumirror (registered trademark) (U403), with a film thickness of 30 μm, A protective film laminate 205 was produced.

以上作製したプロテクトフィルム積層体201〜205を用いて、実施例1と同様な剥離安定性の試験を行い、結果を表3に示した。   Using the produced protective film laminates 201 to 205, the same peel stability test as in Example 1 was performed, and the results are shown in Table 3.

Figure 2017121777
Figure 2017121777

本発明のプロテクトフィルム積層体201〜205はいずれも、剥離安定性に優れることが分かった。   It turned out that all the protection film laminated bodies 201-205 of this invention are excellent in peeling stability.

また、重量平均分子量がやや低いシクロオレフィン系樹脂を基材フィルムに用いたプロテクトフィルム積層体201は、基材フィルムの引裂強さがやや低いためか、剥離安定がやや劣る傾向にあった。   Further, the protective film laminate 201 using a cycloolefin resin having a slightly lower weight average molecular weight as the base film had a tendency to be slightly inferior in peeling stability because the tear strength of the base film was slightly low.

1 プロテクトフィルム積層体
2 基材フィルム
3 粘着層
4 プロテクトフィルム
10 プロテクトフィルム積層体
12 巻芯
14 基材フィルム
20 エンボス加工装置
22 エンボスローラー
24 バックローラー
101 溶解釜
103、106、112、115 濾過器
104、113 ストック釜
102、105、111、114 送液ポンプ
108、116 導管
110 添加剤仕込釜
120 合流管
121 混合機
130 加圧ダイ
131 金属支持体
132 ウェブ
133 剥離位置
134 延伸装置
135 乾燥装置
136 搬送ローラー
137 巻取り装置
138 プロテクトフィルムロール
141 仕込釜
142 ストック釜
143 ポンプ
200 液晶表示装置
201A、201B 偏光板
201C 液晶セル
203A、203B、203C、203D 紫外線硬化型接着剤
202A、202B 偏光板保護フィルム
204A、204B 偏光子
205A、205B 偏光板保護フィルム(シクロオレフィンフィルム)
206 粘着層
207 液晶層
208A、208B ガラス基板
400 製造装置
410、420 シクロオレフィンフィルム
430 フィルムロール
510 ダイス
516 リップ
520 キャストローラー
521 外周面
531、532 静電ピニング装置
540 剥離ローラー
550 トリミング装置
551、552 トリミングナイフ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Protect film laminated body 2 Base film 3 Adhesive layer 4 Protect film 10 Protect film laminated body 12 Core 14 Base film 20 Embossing apparatus 22 Emboss roller 24 Back roller 101 Melting pot 103, 106, 112, 115 Filter 104 , 113 Stock pots 102, 105, 111, 114 Liquid feed pumps 108, 116 Conduit 110 Additive charging pot 120 Merge pipe 121 Mixer 130 Pressure die 131 Metal support 132 Web 133 Peeling position 134 Stretching device 135 Drying device 136 Conveyance Roller 137 Winding device 138 Protective film roll 141 Preparation kettle 142 Stock kettle 143 Pump 200 Liquid crystal display device 201A, 201B Polarizing plate 201C Liquid crystal cell 203A, 203B, 203 , 203D ultraviolet curing adhesive 202A, 202B polarizing plate protective film 204A, 204B polarizer 205A, 205B polarizing plate protective film (cycloolefin film)
206 Adhesive layer 207 Liquid crystal layer 208A, 208B Glass substrate 400 Manufacturing apparatus 410, 420 Cycloolefin film 430 Film roll 510 Dies 516 Lip 520 Cast roller 521 Outer peripheral surface 531 532 Electrostatic pinning device 540 Peeling roller 550 Trimming device 551, 552 Trimming knife

Claims (5)

基材フィルムにプロテクトフィルムが剥離可能に貼合されたプロテクトフィルム積層体であって、前記基材フィルムから前記プロテクトフィルムを剥離する際の、幅手両端部の90°剥離力が、中央部の90°剥離力に対して20〜80%の範囲内であることを特徴とするプロテクトフィルム積層体。   A protective film laminate in which a protective film is releasably bonded to a base film, and when the protective film is peeled from the base film, the 90 ° peeling force at both ends of the width is A protective film laminate characterized by being in a range of 20 to 80% with respect to 90 ° peeling force. 前記基材フィルムの引裂き強さが、0.10N以下であることを特徴とする請求項1に記載のプロテクトフィルム積層体。   The protective film laminate according to claim 1, wherein the tear strength of the base film is 0.10 N or less. 前記基材フィルムの膜厚が、20μm以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプロテクトフィルム積層体。 The film thickness of the said base film is 20 micrometers or less, The protect film laminated body of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned. 前記基材フィルムが、プロテクトフィルムと積層される面上に、フィルム幅手方向の両端部からフィルム幅手長の5%以内の領域に、高さが1〜10μmの範囲内であるエンボス部を有し、当該エンボス部の凸部が10〜500個/cmの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載のプロテクトフィルム積層体。 On the surface on which the base film is laminated with the protective film, an embossed portion having a height in the range of 1 to 10 μm is provided in an area within 5% of the film width from both ends in the film width direction. and, protective film laminate according to any one of claims 1 to 3 in which the convex portion of the embossed portion is being in the range of 10 to 500 pieces / cm 2. 前記プロテクトフィルムが、基材フィルムと積層される面上に、フィルム幅手方向の両端部からフィルム幅手長の5%以内の領域に、高さが1〜10μmの範囲内であるエンボス部を有し、当該エンボス部の凸部が10〜500個/cmの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載のプロテクトフィルム積層体。 The protective film has an embossed portion having a height in the range of 1 to 10 μm in the region within 5% of the film width length from both ends in the film width direction on the surface laminated with the base film. and, protective film laminate according to any one of claims 1 to 3 in which the convex portion of the embossed portion is being in the range of 10 to 500 pieces / cm 2.
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