JP2017118111A - Silicone-based cured product, composition for silicone-based cured product, and semiconductor light-emitting device - Google Patents

Silicone-based cured product, composition for silicone-based cured product, and semiconductor light-emitting device Download PDF

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寛 岩脇
Hiroshi Iwawaki
寛 岩脇
建太朗 増井
Kentaro Masui
建太朗 増井
中島 秀明
Hideaki Nakajima
秀明 中島
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a silicone-based cured product enhanced in cracking resistance; a composition for a silicone-based cured product, which can provide the cured product; and a semiconductor light-emitting device including the cured product.SOLUTION: A silicone-based cured product is a cured product of (A) a bifunctional thermosetting silicone resin and (B) a multifunctional thermosetting silicone resin. According to solid Si-nuclear magnetic resonance spectra, a terminal silicon content, which is a rate of silicon atoms included in terminal silicon to all of silicon atoms included the cured product, calculated from a peak selected from a group consisting of (1) a peak of which the peak top position is in a chemical shift region of -40 to 0 ppm, and (2) a peak of which the peak top position is in a chemical shift region of -80 to -40 ppm (exclusive -40 ppm) is less than 0.1 mass%.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、シリコーン系硬化物、シリコーン系硬化物用組成物、及び半導体発光装置に関する。   The present invention relates to a silicone-based cured product, a composition for a silicone-based cured product, and a semiconductor light emitting device.

近年、UV(紫外)−LEDが市場に出回り始めている。UV−LEDの封止には石英ガラスが一般的に用いられている。しかしながら、石英ガラスは高価であり、また、屈折率の関係からUV光の取出し効率が低いという問題があった。そこで、UV−LEDを、エポキシ樹脂や付加反応型シリコーン樹脂等の樹脂で封止することが検討されてきた。しかしながら、UV−LEDをこれらの樹脂で封止した場合、UV光の透過性が低く、また、樹脂の劣化が激しいという問題があった。   In recent years, UV (ultraviolet) -LEDs have started to appear on the market. Quartz glass is generally used for sealing the UV-LED. However, quartz glass is expensive, and there is a problem that UV light extraction efficiency is low due to the refractive index. Therefore, it has been studied to seal the UV-LED with a resin such as an epoxy resin or an addition reaction type silicone resin. However, when the UV-LED is sealed with these resins, there is a problem that UV light transmittance is low and the resin is severely deteriorated.

上記問題を解決するシリコーン系封止材組成物として縮合型シリコーン樹脂を用いた封止材が提案されている。例えば、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(C)硬化触媒を含有してなるシリコーン系封止材組成物であって、80℃において(A)と(B)とは相溶しない、シリコーン系封止材組成物が提案されている(特許文献1参照)。   As a silicone-based sealing material composition that solves the above problems, a sealing material using a condensation type silicone resin has been proposed. For example, a silicone-based encapsulant composition comprising (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (C) a curing catalyst at 80 ° C. ( A silicone-based sealing material composition in which A) and (B) are incompatible with each other has been proposed (see Patent Document 1).

特許文献1のシリコーン系封止材組成物は、80℃において(A)と(B)とが相溶しないことにより、溶融した系内で(A)と(B)とが相分離し、また、(B)の密度が(A)の密度より高いことから、主に(B)成分が、液化した封止材組成物中で沈降して底部のリード電極付近に集まり、そこで高度の架橋反応を起こすことで、リード電極の表面をガスバリア性の高い層で覆うことを特徴としている。   In the silicone-based sealing material composition of Patent Document 1, (A) and (B) are incompatible with each other at 80 ° C., so that (A) and (B) are phase-separated in the melted system. Since the density of (B) is higher than the density of (A), the component (B) mainly settles in the liquefied encapsulant composition and gathers in the vicinity of the lead electrode at the bottom, where there is a high degree of crosslinking reaction. In this case, the surface of the lead electrode is covered with a layer having a high gas barrier property.

特開2012−238636号公報JP 2012-238636 A

しかしながら、特許文献1に記載のシリコーン系封止材組成物が硬化してなる封止材は、耐クラック性が十分ではない場合があった。   However, the sealing material obtained by curing the silicone-based sealing material composition described in Patent Document 1 may not have sufficient crack resistance.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、耐クラック性が向上したシリコーン系硬化物、前記硬化物を与えるシリコーン系硬化物用組成物及び前記硬化物を備えた半導体発光装置の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a silicone-based cured product with improved crack resistance, a composition for a silicone-based cured product that provides the cured product, and a semiconductor light emitting device including the cured product. With the goal.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下のように本発明に至った。すなわち、本発明の一態様は、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂及び(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂の硬化物であって、固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、(1)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあるピーク、及び、(2)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあるピークからなる群より選ばれるピークから計算され、前記硬化物に含まれる全ケイ素原子に対する末端ケイ素に含まれるケイ素原子の比率である末端ケイ素含有率が0.1質量%未満である、シリコーン系硬化物を提供する。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have reached the present invention as follows. That is, one embodiment of the present invention is a cured product of (A) a bifunctional thermosetting silicone resin and (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (1) a peak in a solid Si-nuclear magnetic resonance spectrum. Calculated from a peak selected from the group consisting of a peak in the region where the top position is chemical shift −40 ppm to 0 ppm and (2) a peak in the region where the peak top position is chemical shift −80 ppm to −40 ppm. A silicone-based cured product having a terminal silicon content, which is a ratio of silicon atoms contained in terminal silicon with respect to all silicon atoms contained in the cured product, is less than 0.1% by mass.

本発明の一態様において、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(C)硬化触媒、を含有する組成物を硬化してなる硬化物であって、固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、(1)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.5ppm以上3.0ppm以下であるピーク、及び、(2)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあり、ピークの半値幅が1.0ppm以上5.0ppm以下であるピークからなる群より選ばれるピークから計算され、前記硬化物に含まれる全ケイ素原子に対する末端ケイ素に含まれるケイ素原子の比率である末端ケイ素含有率が0.1質量%未満であってもよい。   One embodiment of the present invention is a cured product obtained by curing a composition containing (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (C) a curing catalyst. In the solid Si-nuclear magnetic resonance spectrum, (1) the peak top position is in the region of chemical shift −40 ppm or more and 0 ppm or less, and the peak half width is 0.5 ppm or more and 3.0 ppm or less, and (2) The peak top position is in a region where the chemical shift is −80 ppm or more and less than −40 ppm, and the half value width of the peak is calculated from a peak selected from the group consisting of peaks of 1.0 ppm or more and 5.0 ppm or less. Even if the terminal silicon content, which is the ratio of the silicon atoms contained in the terminal silicon to the total silicon atoms contained in the product, is less than 0.1% by mass There.

本発明の一態様において、(C)がリン酸系触媒であってもよい。   In one embodiment of the present invention, (C) may be a phosphoric acid catalyst.

本発明の一態様において、(A)及び(B)の合計を基準(100質量%)とした(B)の割合が、20質量%以上80質量%未満であり、(B)の官能数が2.5〜3.5であり、(B)を構成する繰り返し単位の50%以上は三官能型であり、(A)及び(B)及び(C)の合計を基準(100質量%)とした(C)の割合が1.0質量%以上3.0質量%未満であってもよい。
なお、本明細書において「官能数」とは、官能基数のことである。
In one embodiment of the present invention, the ratio of (B) based on the sum of (A) and (B) (100% by mass) is 20% by mass or more and less than 80% by mass, and the functional number of (B) is It is 2.5 to 3.5, and 50% or more of the repeating units constituting (B) are trifunctional, and the sum of (A), (B) and (C) is the standard (100% by mass). The ratio of (C) may be 1.0 mass% or more and less than 3.0 mass%.
In the present specification, “functional number” refers to the number of functional groups.

本発明の一態様において、(A)及び(B)の合計を基準(100質量%)とした(B)の割合が、30質量%以上60質量%未満であってもよい。   In one embodiment of the present invention, the ratio of (B) based on the sum of (A) and (B) as a reference (100% by mass) may be 30% by mass or more and less than 60% by mass.

本発明の一態様において、(A)、(B)及び(C)の合計を基準(100質量%)とした(C)の割合が1.2質量%以上2.0質量%未満であってもよい。   In one embodiment of the present invention, the ratio of (C) based on the sum of (A), (B), and (C) (100% by mass) is 1.2% by mass or more and less than 2.0% by mass. Also good.

本発明の一態様において、(A)、(B)及び(C)の合計の含有割合が90質量%以上であってもよい。   In one embodiment of the present invention, the total content of (A), (B), and (C) may be 90% by mass or more.

本発明の一態様において、前記シリコーン系硬化物は、封止用途で使用されるシリコーン系封止材であってもよい。   1 aspect of this invention WHEREIN: The silicone type sealing material used for a sealing use may be sufficient as the said silicone type hardened | cured material.

本発明の別の一態様は、基材と、前記基材に配置された半導体発光素子と、前記半導体発光素子の少なくとも一部を封止する第一態様のシリコーン系硬化物と、を有する半導体発光装置を提供する。   Another aspect of the present invention is a semiconductor comprising a base material, a semiconductor light emitting element disposed on the base material, and a silicone-based cured material according to the first aspect that seals at least a part of the semiconductor light emitting element. A light emitting device is provided.

本発明の一態様において、前記半導体発光素子の発光波長が紫外線領域であってもよい。   In one aspect of the present invention, the emission wavelength of the semiconductor light emitting device may be in the ultraviolet region.

本発明の別の一態様は、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂及び(C)硬化触媒を含有する組成物であって、(A)及び(B)の合計を基準(100質量%)とした(B)の割合が、20質量%以上70質量%未満であり、(A)、(B)及び(C)の合計を基準とした(C)の割合が1.0質量%以上3.0質量%未満であり、(B)の官能数が2.5〜3.5であり、(B)を構成する繰り返し単位の50%以上は三官能型である、シリコーン系硬化物用組成物を提供する。   Another aspect of the present invention is a composition comprising (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin and (C) a curing catalyst, wherein (A) and ( The ratio of (B) based on the sum of B) (100% by mass) is 20% by mass or more and less than 70% by mass and is based on the sum of (A), (B) and (C) (C ) Is 1.0 mass% or more and less than 3.0 mass%, the functional number of (B) is 2.5 to 3.5, and 50% or more of the repeating units constituting (B) are three Provided is a composition for a silicone-based cured product that is a functional type.

本発明の一態様において、(C)がリン酸系触媒であってもよい。   In one embodiment of the present invention, (C) may be a phosphoric acid catalyst.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下のように本発明に至った。すなわち、本発明の一態様は、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(C)硬化触媒、を含有する組成物を硬化してなる硬化物であって、固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、(1)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.5ppm以上3.0ppm以下であるピーク、及び、(2)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあり、ピークの半値幅が1.0ppm以上5.0ppm以下であるピークからなる群より選ばれるピークから計算される末端ケイ素含有率が、前記硬化物の総質量に対して0.1質量%未満である、シリコーン系硬化物を提供する。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have reached the present invention as follows. That is, one embodiment of the present invention is a cured product obtained by curing a composition containing (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (C) a curing catalyst. In the solid Si-nuclear magnetic resonance spectrum, (1) the peak top position is in the region of chemical shift −40 ppm or more and 0 ppm or less, and the peak half-value width is 0.5 ppm or more and 3.0 ppm or less, And (2) the peak top position is in the region where the chemical shift is −80 ppm or more and less than −40 ppm, and the peak half-value width is calculated from a peak selected from the group consisting of peaks of 1.0 ppm or more and 5.0 ppm or less. A silicone-based cured product having a terminal silicon content of less than 0.1% by mass with respect to the total mass of the cured product is provided.

本発明の第一態様において、(A)及び(B)の合計を基準(100質量%)とした(B)の割合が、20質量%以上80質量%未満であり、(B)の官能数が2.5〜3.5であり、(B)を構成する繰り返し単位の50%以上は三官能型であり、(A)及び(B)及び(C)の合計を基準(100質量%)とした(C)の割合が1.0質量%以上3.0質量%未満であってもよい。   1st aspect of this invention WHEREIN: The ratio of (B) which made the sum total of (A) and (B) the standard (100 mass%) is 20 mass% or more and less than 80 mass%, and the functional number of (B) Is 2.5 to 3.5, 50% or more of the repeating units constituting (B) are trifunctional, and based on the total of (A), (B) and (C) (100% by mass) The ratio of (C) may be 1.0 mass% or more and less than 3.0 mass%.

本発明の第一態様において、(A)及び(B)の合計を基準(100質量%)とした(B)の割合が、30質量%以上60質量%未満であってもよい。   In the first aspect of the present invention, the ratio of (B) based on the sum of (A) and (B) as a reference (100% by mass) may be 30% by mass or more and less than 60% by mass.

本発明の第一態様において、(A)及び(B)及び(C)の合計を基準(100質量%)とした(C)の割合が1.2質量%以上2.0質量%未満であってもよい。   In the first aspect of the present invention, the ratio of (C) based on the sum of (A), (B), and (C) (100 mass%) was 1.2 mass% or more and less than 2.0 mass%. May be.

本発明の第一態様において、(A)及び(B)及び(C)の合計の含有割合が90質量%以上であってもよい。   In the first aspect of the present invention, the total content of (A), (B), and (C) may be 90% by mass or more.

本発明の第一態様において、前記シリコーン系硬化物は、封止用途で使用されるシリコーン系封止材であってもよい。   1st aspect of this invention WHEREIN: The silicone type sealing material used for a sealing use may be sufficient as the said silicone type hardened | cured material.

本発明の第二態様は、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(C)硬化触媒、を含有する組成物を硬化してなるシリコーン系硬化物の製造方法であって、前記組成物を基材に塗布する前に、40℃〜100℃の範囲で前記組成物を加熱する工程を経由する、シリコーン系硬化物の製造方法を提供する。   The second aspect of the present invention is a silicone-based curing obtained by curing a composition containing (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (C) a curing catalyst. It is a manufacturing method of a thing, Comprising: Before apply | coating the said composition to a base material, the manufacturing method of the silicone type hardened | cured material which goes through the process of heating the said composition in the range of 40 to 100 degreeC is provided.

本発明の第三態様は、基材と、前記基材に配置された半導体発光素子と、前記半導体発光素子の少なくとも一部を封止する第一態様のシリコーン系硬化物と、を有する半導体発光装置を提供する。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor light emitting device comprising: a base material; a semiconductor light emitting element disposed on the base material; and a silicone-based cured product according to the first aspect that seals at least a part of the semiconductor light emitting element. Providing equipment.

本発明の第三態様において、前記半導体発光素子の発光波長が紫外線領域であってもよい。   In the third aspect of the present invention, the emission wavelength of the semiconductor light emitting device may be in an ultraviolet region.

本発明の第四態様は、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂を含有する組成物であって、(A)及び(B)の合計を基準(100質量%)とした(B)の割合が、20質量%以上70質量%未満であり、(B)の官能数が2.5〜3.5であり、(B)を構成する繰り返し単位の50%以上は三官能型である、シリコーン系硬化物用組成物を提供する。   A fourth aspect of the present invention is a composition containing (A) a bifunctional thermosetting silicone resin and (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, which is based on the sum of (A) and (B). The proportion of (B) as (100% by mass) is 20% by mass or more and less than 70% by mass, the functional number of (B) is 2.5 to 3.5, and the repeating unit constituting (B) Provided is a composition for a silicone-based cured product in which 50% or more of the trifunctional type is trifunctional.

本発明に係るシリコーン系硬化物用組成物は、耐クラック性が向上したシリコーン系硬化物を与えるため有用である。また、本発明に係る半導体発光装置に備えられたシリコーン系硬化物は耐クラック性が向上しているため、発光素子の封止材の用途に有用である。   The composition for a silicone-based cured product according to the present invention is useful because it provides a silicone-based cured product having improved crack resistance. Moreover, since the silicone type hardened | cured material with which the semiconductor light-emitting device which concerns on this invention was equipped has improved crack resistance, it is useful for the use of the sealing material of a light emitting element.

第一実施形態に係る半導体発光装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a semiconductor light emitting device according to a first embodiment. 実施例で作製したシリコーン系硬化物の29Si−NMRスペクトルである。It is a 29 Si-NMR spectrum of the silicone type hardened | cured material produced in the Example.

以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内であれば種々に変更して実施することができる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.

<シリコーン系硬化物>
第一実施形態において、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂及び(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂の硬化物であって、固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、(1)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあるピーク、及び、(2)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあるピークからなる群より選ばれるピークから計算され、前記硬化物に含まれる全ケイ素原子に対する末端ケイ素に含まれるケイ素原子の比率である末端ケイ素含有率が0.1質量%未満である、シリコーン系硬化物を提供する。
また、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(C)硬化触媒、を含有する組成物を硬化してなる硬化物であって、その硬化物の固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、(1)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.5ppm以上、3.0ppm以下であるピーク、及び、(2)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあり、ピークの半値幅が1.0ppm以上5.0ppm以下であるピークからなる群より選ばれるピークから計算され、前記硬化物に含まれる全ケイ素原子に対する末端ケイ素に含まれるケイ素原子の比率である末端ケイ素含有率が0.1質量%未満であるシリコーン系硬化物を提供する。以下、本実施形態の各構成について説明する。
<Silicone-based cured product>
In the first embodiment, (A) a bifunctional thermosetting silicone resin and (B) a cured product of a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (1) the position of the peak top in the solid Si-nuclear magnetic resonance spectrum Is calculated from a peak selected from the group consisting of a peak in the region where the chemical shift is −40 ppm or more and 0 ppm or less, and (2) the peak top position is in the region where the chemical shift is −80 ppm or more and less than −40 ppm. Provided is a silicone-based cured product having a terminal silicon content, which is a ratio of silicon atoms contained in terminal silicon to total silicon atoms contained in the product, of less than 0.1% by mass.
A cured product obtained by curing a composition containing (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (C) a curing catalyst, the cured product In the solid Si-nuclear magnetic resonance spectrum of (1), the peak top position is in the region of chemical shift −40 ppm or more and 0 ppm or less, and the peak half width is 0.5 ppm or more and 3.0 ppm or less, and (2) The peak top position is in a region where the chemical shift is −80 ppm or more and less than −40 ppm, and the half value width of the peak is calculated from a peak selected from the group consisting of peaks of 1.0 ppm or more and 5.0 ppm or less. Silico with a terminal silicon content of less than 0.1% by mass, which is the ratio of silicon atoms contained in terminal silicon to all silicon atoms contained in the product It provides a system cured product. Hereinafter, each configuration of the present embodiment will be described.

本実施形態の硬化物は、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(C)硬化触媒、を含有する組成物を硬化させて得られる。このような組成物として、後述するシリコーン系硬化物用組成物を用いることが出来る。この硬化物の固体29Si−NMRを公知方法によって測定することにより、前記(1)又は(2)の条件を満たす、少なくとも1本のピークが観測される。 The cured product of this embodiment is obtained by curing a composition containing (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (C) a curing catalyst. As such a composition, the composition for silicone type hardened | cured material mentioned later can be used. By measuring the solid 29 Si-NMR of the cured product by a known method, at least one peak satisfying the condition (1) or (2) is observed.

前記(1)の条件を満たすピークには、酸素原子が2つ結合し、且つ、酸素原子以外の原子(通常は炭素原子)が2つ結合した、一般にDサイトと呼ばれるケイ素原子の存在比率を示す単数又は複数のピークが含まれる。ここで、仮に前記硬化物にシラノール基が含まれる場合、前記酸素原子2つのうち1つに水素原子が結合したシラノール基(Si−OH)の存在比率を示す単数又は複数のピークが、前記Dサイトに由来するピークと共に、観測される。   In the peak satisfying the condition (1), the abundance ratio of silicon atoms, generally called D sites, in which two oxygen atoms are bonded and two atoms other than oxygen atoms (usually carbon atoms) are bonded. One or more peaks are included. Here, if the cured product contains a silanol group, the peak or peaks indicating the abundance ratio of a silanol group (Si—OH) in which a hydrogen atom is bonded to one of the two oxygen atoms is the D Observed with peaks originating from the site.

前記(2)の条件を満たすピークには、酸素原子が3つ結合し、且つ、酸素原子以外の原子(通常は炭素原子)が1つ結合した、一般にTサイトと呼ばれるケイ素原子の存在比率を示す単数又は複数のピークが含まれる。ここで、仮に前記硬化物にシラノール基が含まれる場合、前記酸素原子3つのうち1つまたは2つに水素原子が結合したシラノール基(Si−OH)の存在比率を示す単数又は複数のピークが、前記Tサイトに由来するピークと共に、観測される。   In the peak satisfying the condition (2), the abundance ratio of silicon atoms, generally called T sites, in which three oxygen atoms are bonded and one atom other than oxygen atoms (usually carbon atoms) is bonded. One or more peaks are included. Here, if the cured product contains a silanol group, one or more peaks indicating the abundance ratio of a silanol group (Si—OH) in which a hydrogen atom is bonded to one or two of the three oxygen atoms are present. Are observed together with peaks derived from the T site.

本実施形態において、末端ケイ素とは、水酸基、アルコキシ基等の酸素原子を有する架橋性の反応性基が当該酸素原子を介してケイ素原子に結合しているケイ素を意味する。
固体29Si−NMRにおいて、末端ケイ素の存在比率を示す単数又は複数のピークは、通常、D1、T1又はT2のピークとして観測される。
In the present embodiment, terminal silicon means silicon in which a crosslinkable reactive group having an oxygen atom such as a hydroxyl group or an alkoxy group is bonded to a silicon atom via the oxygen atom.
In solid-state 29 Si-NMR, one or more peaks indicating the abundance ratio of terminal silicon are usually observed as peaks of D1, T1, or T2.

D1のピークは、2つの酸素原子が結合し、そのうちの1つの酸素原子が上記の反応性基を構成している、ケイ素原子に由来する。残りの1つの酸素原子は、通常、他のケイ素原子と結合している。
T1のピークは、3つの酸素原子が結合し、そのうちの2つの酸素原子が上記の反応性基を構成している、ケイ素原子に由来する。残りの1つの酸素原子は、通常、他のケイ素原子と結合している。
T2のピークは、3つの酸素原子が結合し、そのうちの1つの酸素原子が上記の反応性基を構成している、ケイ素原子に由来する。残りの2つの酸素原子は、通常、他のケイ素原子と結合している。
The peak of D1 is derived from a silicon atom in which two oxygen atoms are bonded, and one of the oxygen atoms constitutes the reactive group. The remaining one oxygen atom is usually bonded to another silicon atom.
The peak of T1 is derived from a silicon atom in which three oxygen atoms are bonded and two of them constitute the reactive group. The remaining one oxygen atom is usually bonded to another silicon atom.
The peak of T2 is derived from a silicon atom in which three oxygen atoms are bonded, and one of these oxygen atoms constitutes the reactive group. The remaining two oxygen atoms are usually bonded to other silicon atoms.

従って、本実施形態の硬化物における末端ケイ素の含有率は、以下の様に求められる。
まず、本実施形態の硬化物の固体29Si−NMRを測定して得られたスペクトルのチャートにおいて、ケイ素原子に対応する全シグナル面積に対する末端ケイ素に由来するシグナル面積の比率を算出する。算出された比率(末端ケイ素の比率)は、前記硬化物に含まれる全ケイ素原子に対する、末端ケイ素に含まれる(末端ケイ素として存在している)ケイ素原子の比率である。
Therefore, the content of terminal silicon in the cured product of the present embodiment is obtained as follows.
First, in the spectrum chart obtained by measuring solid 29 Si-NMR of the cured product of this embodiment, the ratio of the signal area derived from terminal silicon to the total signal area corresponding to silicon atoms is calculated. The calculated ratio (ratio of terminal silicon) is the ratio of silicon atoms contained in terminal silicon (present as terminal silicon) to all silicon atoms contained in the cured product.

固体29Si−NMR測定で得られたスペクトル解析において、ケイ素原子に対応するシグナル面積、末端ケイ素に対応するシグナル面積を求める方法は特に制限されず、公知方法が適用できる。具体的には、NMR測定装置に通常付属している解析装置を使用して、測定対象のシグナルについて積分値を求めることにより、目的のシグナルの面積を求めることができる。上記NMR測定において、ケイ素原子に結合する原子、官能基及び置換基の構造等は、公知のデータベースや文献を参考にすることで決定することができる。 In the spectrum analysis obtained by the solid 29 Si-NMR measurement, the method for obtaining the signal area corresponding to the silicon atom and the signal area corresponding to the terminal silicon is not particularly limited, and a known method can be applied. Specifically, the area of the target signal can be obtained by obtaining an integral value for the signal to be measured using an analyzer that is normally attached to the NMR measuring apparatus. In the NMR measurement described above, the structure of atoms, functional groups, and substituents bonded to silicon atoms can be determined by referring to known databases and literatures.

固体29Si−NMR測定で得られたスペクトルが多くのノイズを含む場合、スペクトルのスムージング処理を行ってもよい。例えば、得られたスペクトルをまずフーリエ変換し、100Hz以上の高周波成分を除いた後に逆フーリエ変換するなどの方法により、スムージング処理を行うことができる。 When the spectrum obtained by solid-state 29 Si-NMR measurement includes a lot of noise, a spectrum smoothing process may be performed. For example, the obtained spectrum can be first subjected to Fourier transform, smoothing processing can be performed by a method such as inverse Fourier transform after removing a high frequency component of 100 Hz or higher.

互いに異なる化学的な環境に置かれた各ケイ素原子に由来するシグナル同士が重ならずに独立して観測される場合には、測定対象のケイ素原子に対応するシグナルの両側のベースライン上で、積分の始点と終点とを設定し、シグナル面積が求められる。   When signals derived from silicon atoms placed in different chemical environments are observed independently without overlapping, on the baselines on both sides of the signal corresponding to the silicon atom to be measured, The start and end points of integration are set and the signal area is obtained.

前記各ケイ素原子に由来するシグナル同士が重なって観測される場合には、NMR装置に通常付属している波形分離処理ソフトウェアを用いて、重なったシグナルを分離することによって、各々のケイ素原子に対応するシグナルの面積を求める。例えば、Gauss関数をフィット関数として用い、重畳した複数のシグナルを波形分離した後に、上述のシグナル同士が独立して観測される場合と同様に積分の始点と終点とを設定して、シグナル面積が求められる。   When signals derived from each of the silicon atoms are observed to overlap each other, the overlapping signals are separated by using the waveform separation processing software that is usually attached to the NMR apparatus, thereby corresponding to each silicon atom. Obtain the area of the signal to be transmitted. For example, using a Gauss function as a fit function and separating a plurality of superimposed signals into waveforms, the integration start point and end point are set in the same manner as when the above signals are observed independently, and the signal area is Desired.

末端ケイ素含有率は、本実施形態の硬化物の物性を向上させるうえで有用な指標である。シリコーン樹脂のケイ素原子に結合している酸素原子がさらに他のケイ素原子に結合せずに、水素原子またはアルキル基と結合して、末端ケイ素が形成されている場合、当該末端ケイ素が形成された箇所では樹脂の網目構造が形成されていない。つまり、硬化物を構成する樹脂の網目構造中において、末端ケイ素の周辺領域は局所的に分子運動が高い領域になり易い。本発明者らは、硬化物中の末端ケイ素含有率が0.1質量%未満であると、当該硬化物の温度変化耐久性及び耐クラック性が向上し得ることを見出した。この詳細なメカニズムは未解明であるが、硬化物内部の網目構造中において、局所的な高運動領域の発生を抑制し、樹脂の局所的な分子運動が著しく制限されることが要因として推測される。   The terminal silicon content is a useful index for improving the physical properties of the cured product of the present embodiment. When the terminal silicon is formed when the oxygen atom bonded to the silicon atom of the silicone resin is bonded to a hydrogen atom or an alkyl group without being bonded to another silicon atom, the terminal silicon is formed. The resin network structure is not formed at the locations. That is, in the network structure of the resin constituting the cured product, the peripheral region of the terminal silicon tends to be a region where the molecular motion is locally high. The present inventors have found that the temperature change durability and crack resistance of the cured product can be improved when the terminal silicon content in the cured product is less than 0.1% by mass. Although this detailed mechanism is not yet elucidated, it is presumed that the local molecular motion of the resin is remarkably restricted by suppressing the generation of local high-motion regions in the network structure inside the cured product. The

したがって、本実施形態の硬化物の末端ケイ素含有率は0.1質量%未満であり、小さい程好ましく、0質量%であることがより好ましい。ここで、末端ケイ素含有率が0質量%とは、固体29Si−NMRスペクトルにおいて、末端ケイ素を構成するケイ素原子が検出されない状態、即ち末端ケイ素に対応するシグナルが検出限界未満である状態をいう。
本実施形態の硬化物における末端ケイ素含有率が0.1質量%未満であると、当該硬化物の温度変化耐久性及び耐クラック性が向上し得る。
Therefore, the terminal silicon content of the cured product of the present embodiment is less than 0.1% by mass, preferably as small as possible, and more preferably 0% by mass. Here, the terminal silicon content of 0% by mass refers to a state in which the silicon atom constituting the terminal silicon is not detected in the solid 29 Si-NMR spectrum, that is, the signal corresponding to the terminal silicon is less than the detection limit. .
When the terminal silicon content in the cured product of the present embodiment is less than 0.1% by mass, the temperature change durability and crack resistance of the cured product can be improved.

ところで、硬化前に水酸基及びアルコキシ基等の反応性基を側鎖に有さないシリコーン樹脂のみを用いて硬化物が得られると仮定すれば、理論的には末端ケイ素含有率がゼロの硬化物が得られる。しかし、側鎖に反応性基を有さないシリコーン樹脂を硬化させても、樹脂同士が化学的に架橋しないため、網目構造が形成されず、望む物性の硬化物は得難い。   By the way, if it is assumed that a cured product can be obtained using only a silicone resin that does not have a reactive group such as a hydroxyl group and an alkoxy group in the side chain before curing, a cured product having theoretically zero terminal silicon content. Is obtained. However, even when a silicone resin having no reactive group in the side chain is cured, the resins are not chemically cross-linked, so that a network structure is not formed and a cured product having desired physical properties is difficult to obtain.

したがって、本実施形態の硬化物を得る原料として、後述する様に(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂(以下、(A)成分と呼ぶことがある。)と、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂(以下、(B)成分と呼ぶことがある。)を併用し、(A)成分及び(B)成分の少なくとも一方がシラノール基を構成する水酸基またはアルコキシ基を有することが好ましい。(A)成分及び(B)成分の配合量を調整することにより、硬化反応において末端ケイ素のほとんど全てを架橋させて、実質的に末端ケイ素を含まない硬化物を得ることができる。   Therefore, as a raw material for obtaining the cured product of the present embodiment, as will be described later, (A) a bifunctional thermosetting silicone resin (hereinafter sometimes referred to as component (A)), and (B) a polyfunctional thermosetting. It is preferable that a reactive silicone resin (hereinafter sometimes referred to as the component (B)) is used in combination, and at least one of the component (A) and the component (B) has a hydroxyl group or an alkoxy group constituting a silanol group. By adjusting the blending amounts of the component (A) and the component (B), almost all of the terminal silicon can be cross-linked in the curing reaction to obtain a cured product substantially free of terminal silicon.

本実施形態の硬化物の固体29Si−NMR測定において、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂に対応するスペクトルは前記(1)の条件を満たすことが好ましく、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂に対応するスペクトルは前記(2)の条件を満たすことが好ましい。 In the solid 29 Si-NMR measurement of the cured product of this embodiment, it is preferable that the spectrum corresponding to (A) the bifunctional thermosetting silicone resin satisfies the above condition (1), and (B) the polyfunctional thermosetting. The spectrum corresponding to the silicone resin preferably satisfies the condition (2).

前記(1)及び(2)の条件において、ピークトップのケミカルシフトの位置は、ケイ素原子に結合する、酸素原子の個数及び酸素原子が構成する官能基の種類によって主に決定される。一方、ピークの半値幅はケイ素原子のシロキサン結合角の分布に影響され、硬化物の内部応力を反映する。つまり、ピークの半値幅が大きいことは、シロキサン結合角に種々の歪みが加わっていることを示す。   In the conditions (1) and (2), the position of the chemical shift at the peak top is mainly determined by the number of oxygen atoms bonded to the silicon atom and the type of functional group constituted by the oxygen atom. On the other hand, the half width of the peak is influenced by the distribution of siloxane bond angles of silicon atoms and reflects the internal stress of the cured product. That is, a large peak half width indicates that various strains are added to the siloxane bond angle.

したがって、本実施形態の硬化物の内部応力を低減し、温度変化耐久性及び耐クラック性を向上させる観点から、前記(1)の条件におけるピークの半値幅は、0.5ppm以上3.0ppm以下であることが好ましく、0.5ppm以上2.0ppm以下であることがより好ましい。同様の観点から、前記(2)の条件におけるピークの半値幅は、1.0ppm以上5.0ppm以下であることが好ましく、1.0ppm以上4.0ppm以下であることがより好ましい。   Therefore, from the viewpoint of reducing the internal stress of the cured product of the present embodiment and improving the temperature change durability and crack resistance, the half width of the peak in the condition (1) is 0.5 ppm or more and 3.0 ppm or less. It is preferable that it is 0.5 ppm or more and 2.0 ppm or less. From the same viewpoint, the half width of the peak under the condition (2) is preferably 1.0 ppm or more and 5.0 ppm or less, and more preferably 1.0 ppm or more and 4.0 ppm or less.

<シリコーン系硬化物用組成物>
第二実施形態において、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂及び(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂を含有する組成物を提供する。以下、本実施形態の組成物の各構成を説明する。
<Composition for silicone-based cured product>
In 2nd embodiment, the composition containing (A) bifunctional thermosetting silicone resin and (B) polyfunctional thermosetting silicone resin is provided. Hereinafter, each structure of the composition of this embodiment is demonstrated.

[(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂]
本明細書において、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂((A)成分)とは、シロキサン結合を主鎖とする有機性重合体であり、以下に示す一般組成式(F3)で表される化合物の平均の官能数が、約2になるものをいう。前記平均の官能数は通常2.5未満であり、好ましくは2.4以下であり、より好ましくは1.8以上2.2以下である。
[(A) Bifunctional thermosetting silicone resin]
In this specification, (A) bifunctional thermosetting silicone resin (component (A)) is an organic polymer having a siloxane bond as the main chain, and is represented by the following general composition formula (F3). The average functional number of the compound is about 2. The average functional number is usually less than 2.5, preferably 2.4 or less, more preferably 1.8 or more and 2.2 or less.

(RSiO1/2(RSiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2 …(F3) (R 1 R 2 R 3 SiO 1/2 ) M (R 4 R 5 SiO 2/2 ) D (R 6 SiO 3/2 ) T (SiO 4/2 ) Q (F3)

上記式(F3)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水酸基、アルコキシ基等の架橋反応可能な反応性基、アルキル基、フェニル基等の炭化水素基又はハロゲン原子である。
前記アルキル基及び前記アルコキシ基を構成するアルキル基は、炭素数1〜5の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基であることが好ましく、炭素数1〜3の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。R〜Rがハロゲン原子である場合、これらのハロゲン原子は、上記式(F3)における酸素原子と見なして官能数をカウントする。
In the formula (F3), R 1 to R 6 are each independently a reactive group capable of a crosslinking reaction such as a hydroxyl group or an alkoxy group, a hydrocarbon group such as an alkyl group or a phenyl group, or a halogen atom.
The alkyl group constituting the alkyl group and the alkoxy group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and preferably a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferred. When R 1 to R 6 are halogen atoms, these halogen atoms are regarded as oxygen atoms in the above formula (F3), and the functional number is counted.

上記式(F3)中、M、D、TおよびQは0以上1未満であり、M+D+T+Q=1を満足する数である。上記式(F3)で表されるポリオルガノシロキサンを構成する繰り返し単位は、一官能型[R,R,R−SiO0.5](トリオルガノシルヘミオキサン)、二官能型[R,R−SiO](ジオルガノシロキサン)、三官能型[R−SiO1.5](オルガノシルセスキオキサン)、四官能型[SiO](シリケート)(但し、ここでは簡略化のため、R〜RをまとめてRと示している。)であり、これら4種の繰り返し単位の構成比率によって、ポリオルガノシロキサンとしての官能数が定まる。 In the above formula (F3), M, D, T, and Q are 0 or more and less than 1, and M + D + T + Q = 1. The repeating unit constituting the polyorganosiloxane represented by the formula (F3) is monofunctional [R, R, R—SiO 0.5 ] (triorganosylhemioxane), bifunctional [R, R. —SiO] (diorganosiloxane), trifunctional [R—SiO 1.5 ] (organosilsesquioxane), tetrafunctional [SiO 2 ] (silicate) (however, for simplification, R 1 shows the R collectively to R 6.) a and, depending on the configuration ratio of these 4 kinds of repeating units, the functional number of the polyorganosiloxane is determined.

上記式(F3)のポリオルガノシロキサンの官能数は、下記式(F4)によって算出される。
官能数=(1×M+2×D+3×T+4×Q)/(M+D+T+Q) …(F4)
The functional number of the polyorganosiloxane of the above formula (F3) is calculated by the following formula (F4).
Functional number = (1 × M + 2 × D + 3 × T + 4 × Q) / (M + D + T + Q) (F4)

典型的な二官能熱硬化性シリコーン樹脂として、上記式(F3)において、二官能型の(RSiO2/2)の繰り返し単位、すなわちジオルガノシロキサン構造(−O−Si(R)(R)−O−)、のみからなるポリオルガノシロキサンが例示できる。この(A)成分の官能数は2.0である。 As a typical bifunctional thermosetting silicone resin, in the above formula (F3), a bifunctional (R 4 R 5 SiO 2/2 ) repeating unit, that is, a diorganosiloxane structure (—O—Si (R 4) ) (R 5 ) —O—), a polyorganosiloxane composed of only. This (A) component has a functional number of 2.0.

本実施形態においては、上記典型的な二官能熱硬化性シリコーン樹脂だけでなく、平均の官能数が約2である公知の二官能熱硬化性シリコーン樹脂を用いることができる。
本実施形態の(A)成分としては、両末端に水酸基を含有するジオルガノポリシロキサンが好ましい。
In this embodiment, not only the typical bifunctional thermosetting silicone resin but also a known bifunctional thermosetting silicone resin having an average functionality of about 2 can be used.
As the component (A) of this embodiment, diorganopolysiloxane containing hydroxyl groups at both ends is preferable.

(A)成分の重量平均分子量Mwは、例えば300〜10000であってもよく、例えば500〜4500であってもよく、例えば800〜4500であってもよい。前記重量平均分子量が小さすぎる場合、熱硬化時の揮発量が大きくなり、(A)成分が十分に硬化物中に含まれなくなる恐れがある。また、前記重量平均分子量が大きすぎる場合には、(B)成分との相溶性が悪化する恐れがある。   300-10000 may be sufficient as the weight average molecular weight Mw of (A) component, for example, 500-4500 may be sufficient, for example, 800-4500 may be sufficient as it. When the said weight average molecular weight is too small, the volatilization amount at the time of thermosetting becomes large, and there exists a possibility that (A) component may not fully be contained in hardened | cured material. Moreover, when the said weight average molecular weight is too large, there exists a possibility that compatibility with (B) component may deteriorate.

重量平均分子量は、一般的にゲルパーメーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定した値を用いることができる。具体的には、測定対象の高分子サンプルを可溶性の溶媒に溶かした後、細孔(ポア)が数多く存在する充てん剤を用いたカラム内に移動相溶液と共に通液し、カラム内で分子量の大小によって分離させ、それを示差屈折率計やUV計、粘度計、光散乱検出器等を検出器として用いて検出する。重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算値で表示することが一般的である。本明細書における重量平均分子量は、この標準ポリスチレン換算値で表示されたものである。使用するカラムは、想定される分子量にしたがって適宜選択すればよい。   As the weight average molecular weight, a value generally measured by a gel permeation chromatography (GPC) method can be used. Specifically, after the polymer sample to be measured is dissolved in a soluble solvent, the solution is passed along with the mobile phase solution through a column using a filler having a large number of pores, and the molecular weight of the sample is measured. They are separated according to size and detected using a differential refractometer, UV meter, viscometer, light scattering detector or the like as a detector. In general, the weight average molecular weight is expressed in terms of standard polystyrene. The weight average molecular weight in this specification is indicated by this standard polystyrene conversion value. The column to be used may be appropriately selected according to the assumed molecular weight.

GPC測定において、シリコーン樹脂又はシリコーンオリゴマーを溶解させるために使用する溶媒としては、GPC測定に用いる移動相溶媒と同一溶媒が好ましく、具体的にはテトラヒドロフラン、クロロホルム、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられる。   In the GPC measurement, the solvent used for dissolving the silicone resin or the silicone oligomer is preferably the same solvent as the mobile phase solvent used in the GPC measurement, specifically tetrahydrofuran, chloroform, toluene, xylene, dichloromethane, dichloroethane, methanol. , Ethanol, isopropyl alcohol and the like.

[(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂]
本明細書において、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂((B)成分)とは、前記式(F3)において、官能数が2を超え、前記組成物に共に含まれる(A)成分の官能数よりも大きい官能数を有する熱硬化性シリコーン樹脂を意味する。本実施形態における好適な多官能熱硬化性シリコーン樹脂としては、官能数が2.5〜3.5であり、水酸基及びアルコキシ基のうち少なくとも一方を有するものが挙げられる。
[(B) Multifunctional thermosetting silicone resin]
In the present specification, (B) the polyfunctional thermosetting silicone resin (component (B)) means that the component (A) in the formula (F3) exceeds 2 and is included in the composition. It means a thermosetting silicone resin having a functional number greater than the functional number. Suitable polyfunctional thermosetting silicone resins in the present embodiment include those having a functional number of 2.5 to 3.5 and having at least one of a hydroxyl group and an alkoxy group.

(B)成分が有する水酸基及びアルコキシ基の合計数は特に制限されず、(B)成分を構成するケイ素原子100個当たり、例えば1〜75個であり、例えば5〜50個であってもよく、例えば10〜30個であってもよい。硬化時における基板との密着性を高める観点、及び、反応点を多くして(A)成分との架橋を形成する反応を十分に進行させる観点から、水酸基及びアルコキシ基の合計数は1個以上が好ましい。縮合反応を制御し、クラックの原因となる硬化時の体積収縮を制御する観点から、水酸基及びアルコキシ基の合計数は、75個以下が好ましい。反応性を高める観点から、前記アルコキシ基よりも水酸基の方が好ましい。
(B)成分としては、繰り返し単位のうち50%以上(モル分率)が三官能型である、多官能熱硬化性シリコーン樹脂が好ましい。
The total number of hydroxyl groups and alkoxy groups possessed by component (B) is not particularly limited, and is, for example, 1 to 75, for example, 5 to 50 per 100 silicon atoms constituting component (B). For example, 10-30 may be sufficient. The total number of hydroxyl groups and alkoxy groups is 1 or more from the viewpoint of increasing the adhesion with the substrate during curing and from the viewpoint of sufficiently increasing the reaction point to form a cross-linking reaction with the component (A). Is preferred. The total number of hydroxyl groups and alkoxy groups is preferably 75 or less from the viewpoint of controlling the condensation reaction and controlling volume shrinkage at the time of curing that causes cracks. From the viewpoint of increasing the reactivity, a hydroxyl group is preferable to the alkoxy group.
As the component (B), a polyfunctional thermosetting silicone resin in which 50% or more (molar fraction) of the repeating units is trifunctional is preferable.

典型的な三官能熱硬化性シリコーン樹脂として、前記式(F3)において、三官能型の(RSiO3/2)の繰り返し単位、すなわちオルガノシルセスキオキサン構造(−O−Si(O−)(R)−O−)、のみからなるポリオルガノシロキサンが例示できる。
この(B)成分の官能数は3.0である。
As a typical trifunctional thermosetting silicone resin, in the formula (F3), a trifunctional (R 6 SiO 3/2 ) repeating unit, that is, an organosilsesquioxane structure (—O—Si (O— ) (R 6 ) —O—).
The functional number of this (B) component is 3.0.

本実施形態においては、上記典型的な三官能熱硬化性シリコーン樹脂だけでなく、平均の官能数が約3である公知の三官能熱硬化性シリコーン樹脂を用いることができる。   In the present embodiment, not only the above-described typical trifunctional thermosetting silicone resin but also a known trifunctional thermosetting silicone resin having an average functional number of about 3 can be used.

(B)成分の重量平均分子量Mwは、例えば1000〜20000であってもよく、2000〜10000であってもよい。前記重量平均分子量が小さすぎる場合、熱硬化時の収縮量が大きくなりクラックが発生し易くなる恐れがある。また、前記重量平均分子量が大きすぎる場合には、(A)成分との相溶性が悪化する恐れがある。(B)成分の重量平均分子量の測定は、前述した方法で行うことができる。   (B) The weight average molecular weight Mw of a component may be 1000-20000, for example, and 2000-10000 may be sufficient as it. If the weight average molecular weight is too small, the amount of shrinkage at the time of thermosetting becomes large and cracks are likely to occur. Moreover, when the said weight average molecular weight is too large, there exists a possibility that compatibility with (A) component may deteriorate. The measurement of the weight average molecular weight of (B) component can be performed by the method mentioned above.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物は、(A)成分及び(B)成分に加えて、(C)硬化触媒(以下、(C)成分と呼ぶことがある。)を含有していてもよい。(C)成分を含むシリコーン系硬化物用組成物は、(A)、(B)及び(C)成分を含む一液型(単剤型)の組成物であってもよいし、(A)成分及び(B)成分が第一の組成物を構成し、(C)成分が第二の組成物を構成する、二液型(二剤型)の組成物であってもよい。ここで、各組成物は液状であることが好ましい。通常、二液型の組成物は、硬化前に各組成物が混合された状態で硬化される。   In addition to the component (A) and the component (B), the composition for a silicone-based cured product of the present embodiment contains (C) a curing catalyst (hereinafter sometimes referred to as the component (C)). Also good. The composition for a silicone-based cured product containing the component (C) may be a one-component (single agent type) composition containing the components (A), (B) and (C), or (A). A two-component (two-agent type) composition in which the component and the component (B) constitute the first composition and the component (C) constitutes the second composition may be used. Here, each composition is preferably liquid. Usually, a two-component composition is cured in a state where the respective compositions are mixed before curing.

第一の組成物及び第二の組成物には、各成分の濃度の調整、操作性の向上、粘度の調整等の目的で、希釈用の有機溶剤を添加してもよい。有機溶剤の種類や使用量は、その目的に応じて適宜定めればよい。例えば、液状組成物の沸点が40〜250℃、好ましくは100〜230℃となるように有機溶剤を選択することができる。前記組成物の総量における有機溶媒の含有率は、30質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることがさらに好ましい。   An organic solvent for dilution may be added to the first composition and the second composition for the purpose of adjusting the concentration of each component, improving operability, adjusting the viscosity, and the like. What is necessary is just to determine suitably the kind and usage-amount of an organic solvent according to the objective. For example, the organic solvent can be selected so that the boiling point of the liquid composition is 40 to 250 ° C, preferably 100 to 230 ° C. The content of the organic solvent in the total amount of the composition is preferably 30% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 5% by mass or less.

[(C)硬化触媒]
(C)成分である硬化触媒としては、シリコーン樹脂の縮合反応を促進し得るものであれば特に制限はない。例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、蟻酸、酢酸、蓚酸、クエン酸、プロピオン酸、酪酸、乳酸、コハク酸等の有機酸;水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等のアルカリ性化合物;金属成分としてスズ(Sn)、亜鉛(Zn)、鉄(Fe)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ビスマス(Bi)、ハフニウム(Hf)、イットリウム(Y)、アルミニウム(Al)、ホウ素(B)及びガリウム(Ga)からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む有機錯体又は有機酸塩等の有機金属化合物触媒等が挙げられる。
[(C) Curing catalyst]
The curing catalyst as component (C) is not particularly limited as long as it can accelerate the condensation reaction of the silicone resin. For example, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as formic acid, acetic acid, succinic acid, citric acid, propionic acid, butyric acid, lactic acid and succinic acid; ammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, hydroxylated Alkaline compounds such as tetraethylammonium; tin (Sn), zinc (Zn), iron (Fe), titanium (Ti), zirconium (Zr), bismuth (Bi), hafnium (Hf), yttrium (Y) as metal components, Examples thereof include organic metal compound catalysts such as organic complexes or organic acid salts containing at least one metal selected from the group consisting of aluminum (Al), boron (B), and gallium (Ga).

なかでもシリコーン成分との相溶性や硬化促進性の観点から、リン酸系触媒が好ましい。リン酸系触媒としては、以下の式(C−1)又は(C−2)で表される化合物が挙げられる。式中、Mは、対カチオンを表す。*は他の原子又は原子団を表す。nは0〜2の整数である。Mが複数ある場合、複数のMは、それぞれ同一でもよく、互いに異なっていてもよい。*が複数ある場合、複数の*は、それぞれ同一でもよく、互いに異なっていてもよい。上記対カチオンとしては、例えば、水素イオンが挙げられる。*の表す原子又は原子団としては、例えば−OR、R等が挙げられる。ここで、Rは一価の有機基を表す。リン酸系触媒としては、具体的には、リン酸、亜リン酸、リン酸エステル、亜リン酸エステル等が挙げられる。これらの中でも、透明性が高く、末端ケイ素含有率が0.1質量%未満である硬化物が得られ易い観点から、リン酸が好ましい。   Of these, a phosphoric acid catalyst is preferred from the viewpoint of compatibility with the silicone component and curing acceleration. Examples of the phosphoric acid catalyst include compounds represented by the following formula (C-1) or (C-2). In the formula, M represents a counter cation. * Represents another atom or atomic group. n is an integer of 0-2. When there are a plurality of M, the plurality of M may be the same or different from each other. When there are a plurality of *, the plurality of * may be the same or different from each other. Examples of the counter cation include a hydrogen ion. Examples of the atom or atomic group represented by * include —OR and R. Here, R represents a monovalent organic group. Specific examples of the phosphoric acid catalyst include phosphoric acid, phosphorous acid, phosphoric acid ester, phosphorous acid ester and the like. Among these, phosphoric acid is preferable from the viewpoint of high transparency and easy to obtain a cured product having a terminal silicon content of less than 0.1% by mass.

Figure 2017118111
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硬化触媒を所定の濃度で前記組成物に均一に溶解し易くするために、硬化触媒をシリコーンモノマーやシリコーンオリゴマー等によって希釈した状態で前記組成物に添加してもよい。硬化触媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。また、その他の反応促進剤や反応抑制剤と併用してもよい。   In order to easily dissolve the curing catalyst at a predetermined concentration in the composition, the curing catalyst may be added to the composition in a state diluted with a silicone monomer or a silicone oligomer. A curing catalyst may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio. Moreover, you may use together with another reaction accelerator and reaction inhibitor.

硬化触媒の量は、硬化反応時の加熱温度、反応時間、触媒の種類等を考慮して、適宜調整することができる。本実施形態の硬化物の末端ケイ素含有率を0.1質量%未満にする観点から、(C)成分である硬化触媒の量は、(A)成分と(B)成分との合計質量を基準(100質量%)として、0.001〜5.0質量%であることが好ましく、1.0〜3.0質量%であることがより好ましい。ここで記載する硬化触媒の量は、前記(A)成分及び(B)成分及び(C)成分の合計質量を100質量%とした時の、触媒として作用する酸、塩基、金属化合物等の(C)成分の合計質量の比率(質量%)を表す。したがって、硬化触媒を溶媒で希釈して用いた場合においては、その溶媒の質量は硬化触媒の量に含まれない。   The amount of the curing catalyst can be appropriately adjusted in consideration of the heating temperature during the curing reaction, the reaction time, the type of catalyst, and the like. From the viewpoint of making the terminal silicon content of the cured product of this embodiment less than 0.1% by mass, the amount of the curing catalyst that is the component (C) is based on the total mass of the component (A) and the component (B). (100% by mass) is preferably 0.001 to 5.0% by mass, and more preferably 1.0 to 3.0% by mass. The amount of the curing catalyst described here is an acid, a base, a metal compound, etc. that act as a catalyst when the total mass of the component (A), the component (B), and the component (C) is 100% by mass ( C) The ratio (mass%) of the total mass of a component is represented. Therefore, when the curing catalyst is diluted with a solvent, the mass of the solvent is not included in the amount of the curing catalyst.

硬化触媒として有機金属化合物触媒を使用する場合には、硬化触媒の量は、(A)成分と(B)成分と(C)成分との合計質量を基準(100質量%)として0.001〜0.5質量%(金属原子換算)であることが好ましく、0.003〜0.2質量%がより好ましい。有機金属化合物触媒の含有量は、その金属成分の高周波誘導結合プラズマ(ICP)分析により測定できる。   When an organometallic compound catalyst is used as the curing catalyst, the amount of the curing catalyst is 0.001 to 0.001 based on the total mass of the component (A), the component (B), and the component (C) (100% by mass). The content is preferably 0.5% by mass (in terms of metal atoms), more preferably 0.003 to 0.2% by mass. The content of the organometallic compound catalyst can be measured by high frequency inductively coupled plasma (ICP) analysis of the metal component.

硬化触媒としてリン酸系触媒を用いる場合には、硬化触媒の量は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分との合計量を基準(100質量%)として0.1以上3.0質量%未満であることが好ましく、1.0以上3.0質量%未満がより好ましく、1.2以上2.0質量%未満がさらに好ましい。上記好適な範囲の触媒量であると、末端ケイ素含有率が0.1質量%未満である硬化物が得られ易い。   When a phosphoric acid catalyst is used as the curing catalyst, the amount of the curing catalyst is 0.1 or more and 3 based on the total amount (100% by mass) of the component (A), the component (B) and the component (C). It is preferably less than 0.0% by mass, more preferably 1.0 or more and less than 3.0% by mass, and even more preferably 1.2 or more and less than 2.0% by mass. When the catalyst amount is in the preferred range, a cured product having a terminal silicon content of less than 0.1% by mass is easily obtained.

硬化触媒は、硬化反応を行う直前に(A)成分及び(B)成分を含む組成物に添加してもよいし、(A)成分又は(B)成分の何れか一方のみを含む組成物に(C)硬化触媒を予め添加しておき、硬化時に(A)〜(C)成分を全て含む組成物を調製してもよい。   The curing catalyst may be added to the composition containing the component (A) and the component (B) immediately before performing the curing reaction, or the composition containing only one of the component (A) or the component (B). (C) A curing catalyst may be added in advance, and a composition containing all of the components (A) to (C) during curing may be prepared.

[(D)その他の成分]
本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物は、更に他の成分(以下、(D)成分と呼ぶことがある。)を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、前記(A)成分及び(B)成分以外の任意の樹脂成分、シリコーンオリゴマー、無機粒子、蛍光体、シランカップリング剤、改質用シリコーン化合物、消泡剤、その他の添加剤等が挙げられる。
[(D) Other ingredients]
The composition for a silicone-based cured product of the present embodiment may further contain other components (hereinafter sometimes referred to as (D) component). Examples of other components include any resin component other than the components (A) and (B), silicone oligomers, inorganic particles, phosphors, silane coupling agents, modifying silicone compounds, antifoaming agents, and others. And the like.

(A)成分、(B)成分及び(D)成分の混合方法は特に限定されず、2種類以上の高分子を混合する際に通常行われる公知方法のいずれを用いてもよい。例えば、(A)成分、(B)成分及び(D)成分を有機溶媒に溶解又は分散することによって混合することができる。 The mixing method of (A) component, (B) component, and (D) component is not specifically limited, You may use any of the well-known methods normally performed when mixing 2 or more types of polymer | macromolecule. For example, (A) component, (B) component, and (D) component can be mixed by dissolving or dispersing in an organic solvent.

均一に混合して、得られた混合溶液の安定性を向上させられる観点から、(A)成分、(B)成分及び(D)成分を揮発性及び溶解性が高い有機溶媒中に溶解した後、別の溶媒に置換することが好ましい。具体的には、まず、揮発性の高い有機溶媒(以下、有機溶媒P)中に(A)成分を投入し、有機溶媒Pの沸点付近の温度まで加熱し攪拌させることによって溶解させる。次いで、(B)成分を投入して同様に混合し、溶解させる。次いで、(D)成分を投入して同様に混合し、溶解させる。その後、有機溶媒Pよりも揮発性が低い溶媒(以下、溶媒Q)を投入し、加熱することによって、有機溶媒Pの濃度が1%以下になるまで有機溶媒Pを除去し、有機溶媒Pから溶媒Qへの溶媒置換を行うことができる。その際、より効率的に溶媒置換を行う手段として、混合溶液を含む容器内を減圧した状態で加熱してもよい。   From the viewpoint of improving the stability of the obtained mixed solution by uniformly mixing, after dissolving the component (A), the component (B) and the component (D) in an organic solvent having high volatility and solubility It is preferable to substitute another solvent. Specifically, first, the component (A) is put into a highly volatile organic solvent (hereinafter referred to as organic solvent P), and dissolved by heating to a temperature near the boiling point of the organic solvent P and stirring. Next, the component (B) is added, mixed and dissolved in the same manner. Next, the component (D) is added, mixed and dissolved in the same manner. Thereafter, a solvent having a lower volatility than the organic solvent P (hereinafter, solvent Q) is added and heated to remove the organic solvent P until the concentration of the organic solvent P becomes 1% or less. Solvent replacement with solvent Q can be performed. At that time, as a means for performing solvent replacement more efficiently, the inside of the container containing the mixed solution may be heated in a reduced pressure state.

上記溶媒置換の処理を行うことにより、(A)成分、(B)成分及び(D)成分を合成した際に使用した残存溶媒や未反応のまま残った水等を除去することができ、混合溶液の安定性の向上に有効である。   By performing the above solvent substitution treatment, the residual solvent used when synthesizing the component (A), the component (B), and the component (D), water remaining unreacted, etc. can be removed and mixed. It is effective for improving the stability of the solution.

有機溶媒Pとしては、沸点が100℃未満の有機溶媒が好ましい。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール等のアルコール系溶媒;ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン等の炭化水素系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等の酢酸エステル系溶媒;ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒が挙げられる。   As the organic solvent P, an organic solvent having a boiling point of less than 100 ° C. is preferable. Specifically, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and normal propyl alcohol; hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, and benzene; methyl acetate, ethyl acetate, and the like And acetate solvents such as dimethyl ether and tetrahydrofuran.

溶媒Qとしては、沸点が100℃以上の有機溶媒が好ましい。具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノベンジルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノベンジルエーテル等のグリコールエーテル系溶媒;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノヘキシルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルヘキシルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、エチレングリコールモノベンジルエーテルアセテート等の、前記記載のグリコールエーテル系溶媒に酢酸基を付加させた、グリコールエステル系溶媒等が挙げられる。   As the solvent Q, an organic solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher is preferable. Specifically, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monoethyl hexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether , Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monoethylhexyl ether, diethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol monobenzyl Ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monohexyl ether, propylene glycol monoethyl hexyl ether, propylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monobenzyl ether, dipropylene Glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoisopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monohexyl ether, dipropylene glycol monoethyl hexyl ether, dipropylene glycol monophenyl ether, dip Glycol ether solvents such as pyrene glycol monobenzyl ether; ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monohexyl ether acetate, ethylene glycol monoethylhexyl ether acetate, ethylene glycol monophenyl Examples include glycol ester solvents obtained by adding an acetic acid group to the above-described glycol ether solvents such as ether acetate and ethylene glycol monobenzyl ether acetate.

(無機粒子、蛍光体)
本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物には、硬化物の用途に応じて、種々の無機粒子、受光によって蛍光を発する蛍光体を含有させてもよい。例えば、本実施形態の硬化物が無機粒子及び蛍光体を含有すると、当該硬化物に入射した光が無機粒子によって散乱され、蛍光体を効果的に励起することができる。また、硬化前の前記組成物中に無機粒子を添加することによって、当該組成物中で蛍光体が沈降することを抑制したり、当該組成物の粘度を調整したりすることができる。また、無機粒子の添加によって、当該硬化物の光散乱性、屈折率、寸法安定性、機械的強度を改良することができる。
(Inorganic particles, phosphors)
The composition for a silicone-based cured product of the present embodiment may contain various inorganic particles and a phosphor that emits fluorescence by receiving light depending on the use of the cured product. For example, when the cured product of the present embodiment contains inorganic particles and a phosphor, light incident on the cured product is scattered by the inorganic particles, and the phosphor can be excited effectively. Moreover, by adding inorganic particles to the composition before curing, it is possible to suppress the precipitation of the phosphor in the composition or to adjust the viscosity of the composition. Further, the addition of inorganic particles can improve the light scattering property, refractive index, dimensional stability, and mechanical strength of the cured product.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物に蛍光体を配合する場合、蛍光体の沈降を抑制するために、予め当該組成物中に無機粒子を配合しておくことが好ましい。また、蛍光体が沈降する前に、蛍光体を配合した組成物を速やかに硬化させることが好ましい。   When a phosphor is blended in the silicone-based cured product composition of the present embodiment, it is preferable to blend inorganic particles in the composition in advance in order to suppress the precipitation of the phosphor. In addition, it is preferable that the composition containing the phosphor is rapidly cured before the phosphor is precipitated.

無機粒子の材料は特に制限されず、例えば、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、鉄、亜鉛等の酸化物、カーボンブラック、チタン酸バリウム、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム等が好ましい材料として挙げられる。これらの中でも、硬化物の光透過性を高める観点から、ケイ素の酸化物、チタンの酸化物、及びアルミニウムの酸化物よりが好ましい。さらに、UV光への吸収率が低いという観点からケイ素、アルミニウムの酸化物が好ましい。   The material of the inorganic particles is not particularly limited, and preferable examples include oxides such as silicon, titanium, zirconium, aluminum, iron, and zinc, carbon black, barium titanate, calcium silicate, and calcium carbonate. Among these, silicon oxide, titanium oxide, and aluminum oxide are preferable from the viewpoint of increasing the light transmittance of the cured product. Furthermore, oxides of silicon and aluminum are preferable from the viewpoint of low absorption of UV light.

無機粒子の形状は特に制限されず、例えば、略球状、板状、柱状、針状、ウィスカー状、繊維状が挙げられる。   The shape of the inorganic particles is not particularly limited, and examples thereof include a substantially spherical shape, a plate shape, a column shape, a needle shape, a whisker shape, and a fiber shape.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物が含む無機粒子の材料及び形状は、それぞれ1種類であってもよく、2種類以上であってもよい。また、2種類以上の粒径の無機粒子を含むことが好ましい。具体的には、一次粒子の平均粒子径が100〜500nmである無機粒子Aと、一次粒子の平均粒子径が100nm未満である無機粒子Bの少なくとも2種類を含むことがより好ましい。一次粒子の平均粒径が異なる2種類以上の無機粒子を含むことにより、光の散乱による蛍光体の励起効率がより向上し、蛍光体の沈降防止に一層の効果を発揮することができる。   One type or two or more types may be sufficient as the material and shape of the inorganic particle which the composition for silicone type hardened | cured materials of this embodiment contains, respectively. Moreover, it is preferable that the inorganic particle of 2 or more types of particle sizes is included. Specifically, it is more preferable to include at least two kinds of inorganic particles A whose primary particles have an average particle diameter of 100 to 500 nm and inorganic particles B whose primary particles have an average particle diameter of less than 100 nm. By including two or more types of inorganic particles having different average particle sizes of primary particles, the excitation efficiency of the phosphor due to light scattering is further improved, and a further effect can be exhibited in preventing the precipitation of the phosphor.

前記一次粒子の平均粒子径は、電子顕微鏡等を使用して無機粒子を観察する画像イメージング法等により求められる。具体的には、まず、測定対象である無機粒子を任意の溶媒に投入し、必要に応じて超音波等を照射して充分に分散させた分散液をスライドガラス等に滴下し、更に乾燥させて得た試料、或いは、接着テープの接着面に無機粒子を振りかけて、当該接着面に無機粒子を付着させて得た試料を準備する。次いで、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)等により当該試料を観察し、観察画像から無機粒子の寸法を求める。寸法の求め方としては、例えば、無機粒子の投影面積を求め、この面積に相当する円の直径を求めて、当該無機粒子の粒子径としてもよい。この場合、例えば100個以上の無機粒子について求めた粒子径の算術平均を、当該無機粒子の平均粒子径とすることができる。   The average particle diameter of the primary particles is determined by an image imaging method or the like in which inorganic particles are observed using an electron microscope or the like. Specifically, first, the inorganic particles to be measured are put into an arbitrary solvent, and if necessary, a dispersion liquid sufficiently dispersed by irradiating ultrasonic waves or the like is dropped onto a slide glass or the like and further dried. A sample obtained by sprinkling inorganic particles on the adhesive surface of the adhesive tape and attaching the inorganic particles to the adhesive surface is prepared. Next, the sample is observed with a scanning electron microscope (SEM), a transmission electron microscope (TEM), or the like, and the dimensions of the inorganic particles are obtained from the observed image. As a method for obtaining the dimensions, for example, the projected area of the inorganic particles may be obtained, the diameter of a circle corresponding to this area may be obtained, and the particle diameter of the inorganic particles may be obtained. In this case, for example, the arithmetic average of the particle diameters obtained for 100 or more inorganic particles can be used as the average particle diameter of the inorganic particles.

無機粒子の含有量には特に制限はなく、例えば、(A)成分及び(B)成分の合計を基準(100質量%)として、0.01〜10質量%であってもよく、0.1〜5質量%であってもよい。   There is no restriction | limiting in particular in content of an inorganic particle, For example, 0.01-10 mass% may be sufficient on the basis (100 mass%) of the sum total of (A) component and (B) component, 0.1 It may be ˜5% by mass.

また、蛍光体の組成や種類には特に制限はなく、例えば、波長570〜700nmの範囲で蛍光を発する赤色蛍光体、490〜570nmの範囲で蛍光を発する緑色蛍光体、420〜480nmの範囲で蛍光を発する青色蛍光体等が挙げられる。また、明るさや色度によって複数の蛍光体を混合させることもできる。蛍光体の含有量には特に制限はなく、発光素子の光量や、半導体発光装置として必要な色度や明るさによって適宜調整することができる。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the composition and kind of fluorescent substance, For example, the red fluorescent substance which emits fluorescence in the range of wavelength 570-700 nm, the green fluorescent substance which emits fluorescence in the range of 490-570 nm, in the range of 420-480 nm Examples thereof include blue phosphors that emit fluorescence. Also, a plurality of phosphors can be mixed depending on the brightness and chromaticity. There is no restriction | limiting in particular in content of a fluorescent substance, It can adjust suitably with the light quantity of a light emitting element, chromaticity and brightness required as a semiconductor light-emitting device.

(シランカップリング剤)
本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物を基材に接した状態で硬化させてシリコーン系硬化物を得る場合には、前記組成物にシランカップリング剤を添加することが好ましい。シランカップリング剤の添加によって、本実施形態の硬化物と、半導体発光素子や基板等の基材に対する密着性を向上させる効果がある。好適なシランカップリング剤としては、例えば、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリル基、アクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも一つ以上を有するシランカップリング剤が挙げられる。これらの中でもエポキシ基又はメルカプト基を含むカップリング剤がより好ましい。具体的には、例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が特に好ましいシランカップリング剤として挙げられる。
(Silane coupling agent)
When the silicone-based cured product of the present embodiment is cured in a state where it is in contact with the substrate to obtain a silicone-based cured product, it is preferable to add a silane coupling agent to the composition. The addition of the silane coupling agent has the effect of improving the adhesion of the cured product of the present embodiment to a substrate such as a semiconductor light emitting device or a substrate. Suitable silane coupling agents include, for example, at least one selected from the group consisting of vinyl group, epoxy group, styryl group, methacryl group, acrylic group, amino group, ureido group, mercapto group, sulfide group and isocyanate group. A silane coupling agent having Among these, a coupling agent containing an epoxy group or a mercapto group is more preferable. Specifically, for example, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldi Examples of particularly preferred silane coupling agents include ethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物におけるシランカップリング剤の含有量は、前記組成物の固形分100質量部に対して、例えば0.0001〜1.0質量部(固形分)であってもよく、例えば0.001〜0.5質量部であってもよい。   The content of the silane coupling agent in the silicone-based cured product composition of the present embodiment is, for example, 0.0001 to 1.0 part by mass (solid content) with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition. For example, 0.001-0.5 mass part may be sufficient.

シランカップリング剤は、本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物に予め配合されていてもよい。また、本実施形態の組成物を塗布する面、例えば半導体発光素子や基板の表面に予め当該シランカップリング剤を付着させてもよい。後者の場合、前記組成物をシランカップリング剤が付着した面に接した状態で硬化させることにより、前記組成物にシランカップリング剤が予め添加されていない場合においても、前記表面に対する硬化物の密着性を向上させることができる。   The silane coupling agent may be blended in advance in the silicone-based cured product composition of the present embodiment. In addition, the silane coupling agent may be attached in advance to the surface to which the composition of the present embodiment is applied, for example, the surface of a semiconductor light emitting device or a substrate. In the latter case, the composition is cured while being in contact with the surface to which the silane coupling agent is attached, so that the cured product with respect to the surface can be obtained even when no silane coupling agent is added to the composition in advance. Adhesion can be improved.

(改質用シリコーン化合物)
本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物は、(D)成分として、(A)成分及び(B)成分とは異なるシリコーン化合物である改質用シリコーン化合物を含んでいてもよい。
(Modifying silicone compound)
The silicone-based cured product composition of the present embodiment may contain a modifying silicone compound that is a silicone compound different from the component (A) and the component (B) as the component (D).

改質用シリコーン化合物としては、工業的に市販されている一般的なシリコーン化合物を挙げることができる。改質用シリコーン化合物を加えることにより、例えば、シリコーン系硬化物に柔軟性を付与することができる。   Examples of the modifying silicone compound include general silicone compounds commercially available on the market. By adding the modifying silicone compound, for example, flexibility can be imparted to the silicone-based cured product.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物における改質用シリコーン化合物の含有量は、前記組成物の固形分100質量部に対して、例えば0.1〜20質量部(固形分)であってもよく、例えば0.5〜10質量部であってもよい。   The content of the modifying silicone compound in the silicone-based cured product composition of the present embodiment is, for example, 0.1 to 20 parts by mass (solid content) with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition. For example, 0.5-10 mass parts may be sufficient.

(消泡剤)
本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物には消泡剤を添加してもよい。消泡剤の添加によって、前記組成物の混合時に気泡が発生することを抑制することができる。前記組成物における消泡剤の含有量は、前記組成物の固形分100質量部に対して、例えば0.01〜3質量部(固形分)であってもよく、例えば0.01〜1質量部であってもよい。
(Defoamer)
You may add an antifoamer to the composition for silicone type hardened | cured materials of this embodiment. By adding an antifoaming agent, it is possible to suppress the generation of bubbles when the composition is mixed. The content of the antifoaming agent in the composition may be, for example, 0.01 to 3 parts by mass (solid content) with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition, for example 0.01 to 1 mass. Part.

[シリコーン系硬化物用組成物における各成分の配合割合]
本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物における好適な配合割合として、(A)成分及び(B)成分の合計質量を基準(100質量%)とした(B)成分の割合が、20質量%以上80質量%未満であり、(B)成分の平均の官能数が2.5〜3.5であり、(B)成分を構成する繰り返し単位の50%以上(モル分率)は三官能型であり、(A)、(B)及び(C)成分の合計質量を基準(100質量%)とした(C)成分の割合が1.0質量%以上3.0質量%未満である、配合割合が例示できる。
[Mixing ratio of each component in the composition for silicone-based cured product]
As a suitable blending ratio in the composition for a silicone-based cured product of the present embodiment, the ratio of the component (B) based on the total mass of the component (A) and the component (B) (100% by mass) is 20% by mass. Is less than 80% by mass, the average functionality of the component (B) is 2.5 to 3.5, and 50% or more (molar fraction) of the repeating units constituting the component (B) is trifunctional. The proportion of the component (C) based on the total mass of the components (A), (B) and (C) (100% by mass) is 1.0% by mass or more and less than 3.0% by mass. The ratio can be exemplified.

上記の好適な配合割合の組成物は、硬化時の架橋反応の効率が良いため、得られる硬化物の末端ケイ素含有率が0.1質量%未満になり易い。さらに、(A)成分と(B)成分の比率が上記であると、上記硬化物の温度変化耐久性及び耐クラック性が一層向上する。   Since the composition of the above-mentioned suitable blending ratio has good efficiency of the crosslinking reaction at the time of curing, the terminal silicon content of the obtained cured product tends to be less than 0.1% by mass. Furthermore, when the ratio of the component (A) to the component (B) is as described above, the temperature change durability and crack resistance of the cured product are further improved.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物を硬化して得られる硬化物の末端ケイ素含有率を0.1質量%未満にすることを容易にする観点、及び上記硬化物の温度変化耐久性及び耐クラック性をより一層向上させる観点から、前記組成物における、(A)成分及び(B)成分の合計質量を基準(100質量%)とした(B)成分の割合は、20質量%以上80質量%未満であることが好ましく、20質量%以上70質量%未満であることがより好ましく、30質量%以上60質量%以下であることがさらに好ましい。   From the viewpoint of easily making the terminal silicon content of the cured product obtained by curing the silicone-based cured product composition of the present embodiment less than 0.1% by mass, and the temperature change durability of the cured product, From the viewpoint of further improving the crack resistance, the proportion of the component (B) in the composition based on the total mass of the component (A) and the component (B) (100% by mass) is 20% by mass or more and 80%. The content is preferably less than mass%, more preferably from 20 mass% to less than 70 mass%, and even more preferably from 30 mass% to 60 mass%.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物を硬化して得られる硬化物の末端ケイ素含有率を0.1質量%未満にすることを容易にする観点、及び上記硬化物の温度変化耐久性及び耐クラック性をより一層向上させる観点から、前記組成物における、(A)成分及び(B)成分及び(C)成分の合計質量を基準(100質量%)とした(C)成分の割合が、1.0質量%以上3.0質量%未満であることが好ましく、1.2質量%以上2.0質量%未満であることがより好ましい。   From the viewpoint of easily making the terminal silicon content of the cured product obtained by curing the silicone-based cured product composition of the present embodiment less than 0.1% by mass, and the temperature change durability of the cured product, From the viewpoint of further improving the crack resistance, the ratio of the component (C) based on the total mass of the component (A), the component (B), and the component (C) in the composition (100% by mass) It is preferable that it is 1.0 mass% or more and less than 3.0 mass%, and it is more preferable that it is 1.2 mass% or more and less than 2.0 mass%.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物を硬化して得られる硬化物の末端ケイ素含有率を0.1質量%未満にすることを容易にする観点、及び上記硬化物の温度変化耐久性及び耐クラック性をより一層向上させる観点から、前記組成物の総質量に対する、(A)成分及び(B)成分及び(C)成分の合計の含有割合が90質量%以上であることが好ましい。   From the viewpoint of easily making the terminal silicon content of the cured product obtained by curing the silicone-based cured product composition of the present embodiment less than 0.1% by mass, and the temperature change durability of the cured product, From the viewpoint of further improving crack resistance, the total content of the component (A), the component (B), and the component (C) with respect to the total mass of the composition is preferably 90% by mass or more.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物を硬化させて得られるシリコーン系硬化物は、末端ケイ素含有率が極めて低いためUV光による劣化が少なく、温度変化耐久性及び耐クラック性に優れている。また、(C)成分及び(D)成分がUV光を吸収し難い場合には、当該硬化物のUV光の透過性は高い。したがって、本実施形態の硬化物は、光源装置における光源の封止用途に使用されるシリコーン系封止材として好適である。また、石英ガラスで封止されたUV−LEDと比較して、UV光の取出し効率が高く安価であるため、本実施形態の硬化物は、UV−LEDの封止材として好適である。   The silicone-based cured product obtained by curing the composition for a silicone-based cured product of the present embodiment has a very low terminal silicon content, so there is little deterioration due to UV light, and excellent temperature change durability and crack resistance. . Moreover, when the component (C) and the component (D) are difficult to absorb UV light, the cured product has high UV light transmittance. Therefore, the cured product of the present embodiment is suitable as a silicone-based sealing material used for sealing a light source in a light source device. In addition, since the UV light extraction efficiency is high and inexpensive compared to the UV-LED sealed with quartz glass, the cured product of this embodiment is suitable as a sealing material for the UV-LED.

本実施形態の硬化物がシリコーン系封止材として使用される場合、本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物において、硬化時の当該組成物の総量に対して(B)成分の含有量は0.5質量%以上100質量%未満であることが好ましい。(B)成分の含有量が0.5質量%未満では、シリコーン系封止材のガスバリア性が不十分となり、リード電極の光沢保持性が低下する傾向がある。また、架橋が不十分となって良好な硬度が得られない可能性がある。一方、(B)成分が100質量%であると、硬化速度が著しく速くなるため、硬化反応を制御することが難しくなり、硬化後の硬度が高くなり過ぎて、当該シリコーン系封止材の耐クラック性が低下する傾向がある。   When the cured product of the present embodiment is used as a silicone-based sealing material, in the silicone-based cured product composition of the present embodiment, the content of the component (B) is relative to the total amount of the composition at the time of curing. It is preferable that it is 0.5 mass% or more and less than 100 mass%. When the content of the component (B) is less than 0.5% by mass, the gas barrier property of the silicone-based sealing material becomes insufficient, and the gloss retention of the lead electrode tends to decrease. Moreover, there is a possibility that good hardness cannot be obtained due to insufficient crosslinking. On the other hand, when the component (B) is 100% by mass, the curing rate is remarkably increased, so that it becomes difficult to control the curing reaction, the hardness after curing becomes too high, and the silicone-based sealing material has a resistance to resistance. There exists a tendency for crack property to fall.

[シリコーン系硬化物の製造方法]
第三実施形態において、前記シリコーン系硬化物用組成物を硬化して、シリコーン系硬化物を製造する方法として、例えば、(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(C)硬化触媒、を含有する組成物を基材に塗布する前に、40℃〜100℃の範囲で前記組成物を加熱する工程を経由する、シリコーン系硬化物の製造方法を提供する。
[Method for producing silicone-based cured product]
In the third embodiment, the method for producing a silicone-based cured product by curing the silicone-based cured product composition includes, for example, (A) a bifunctional thermosetting silicone resin and (B) a polyfunctional thermosetting. Before applying a composition containing a silicone resin and (C) a curing catalyst to a substrate, a method for producing a silicone-based cured product through a step of heating the composition in the range of 40 ° C. to 100 ° C. I will provide a.

前記加熱の処理時間としては、高温であれば短時間でよく、低温であれば長時間を要し、例えば、1分間〜2時間程度が好ましく、10分間〜1時間程度がより好ましい。前記加熱中に、当該組成物を穏やかに撹拌することが好ましい。また、前記加熱によって硬化が進行するため、前記加熱に続いて、速やかに当該組成物を基材に塗布し、本硬化させることが好ましい。   The heating treatment time may be short if the temperature is high, and requires a long time if the temperature is low. For example, it is preferably about 1 minute to 2 hours, and more preferably about 10 minutes to 1 hour. It is preferable to gently stir the composition during the heating. Moreover, since hardening progresses by the said heating, following the said heating, it is preferable to apply | coat the said composition to a base material rapidly and to make this harden | cure.

前記加熱によって、当該組成物の基材に対する塗布性が向上するとともに、硬化後の末端ケイ素含有率が0.1質量%未満になり易い。このメカニズムは未解明であるが、本硬化の前に前記加熱を行うことによって、組成物中のシリコーン樹脂同士が互いに架橋反応し易い状態に配置されることが一因として推測される。   The heating improves the applicability of the composition to the substrate, and the terminal silicon content after curing tends to be less than 0.1% by mass. Although this mechanism has not been elucidated, it is presumed as a cause that the silicone resins in the composition are easily placed in a cross-linking reaction by performing the heating before the main curing.

本実施形態のシリコーン系硬化物用組成物を本硬化させる条件としては、例えば室温〜250℃、5分間〜6時間で加熱する方法が挙げられる。例えば、前記組成物に(C)硬化触媒を加えた後、前記加熱の工程を経て、基材に塗布し、更に、250℃以下の温度の雰囲気内、例えば40〜200℃の雰囲気内、に放置することによって本硬化させる方法が挙げられる。   As conditions for carrying out the main curing of the composition for a silicone-based cured product of this embodiment, for example, a method of heating at room temperature to 250 ° C. for 5 minutes to 6 hours can be mentioned. For example, after adding the (C) curing catalyst to the composition, it is applied to the substrate through the heating step, and further in an atmosphere at a temperature of 250 ° C. or lower, for example, in an atmosphere at 40 to 200 ° C. The method of making it harden | cure by leaving to stand is mentioned.

また、本硬化させる方法として、前記組成物中に存在し得る溶媒や水を除去し、シリコーン樹脂の縮合反応速度を制御するために、例えば、40〜60℃で5〜30分間、次いで60〜100℃で10〜60分間、その後140〜200℃で30分間〜5時間というように、段階的に硬化させてもよい。   Moreover, as a method of this hardening, in order to remove the solvent and water which may exist in the said composition, and control the condensation reaction rate of a silicone resin, for example, it is 5-30 minutes at 40-60 degreeC, and then 60- You may make it harden | cure in steps, such as 10 to 60 minutes at 100 degreeC, and 30 minutes to 5 hours after that at 140-200 degreeC.

[半導体発光装置]
第四実施形態において、基材と、前記基材に配置された半導体発光素子と、前記半導体発光素子の少なくとも一部を封止する前記シリコーン系硬化物と、を有する半導体発光装置を提供する。以下、図面を参照して説明する。
[Semiconductor light emitting device]
In 4th embodiment, the semiconductor light-emitting device which has a base material, the semiconductor light-emitting device arrange | positioned at the said base material, and the said silicone type hardened | cured material which seals at least one part of the said semiconductor light-emitting device is provided. Hereinafter, description will be given with reference to the drawings.

図1は、本実施形態の半導体発光装置100の断面図である。半導体発光装置100は、基板110と、基板上に配置された半導体発光素子120と、半導体発光素子120を封止する封止部130とを備える。封止部130は、前記シリコーン系硬化物用組成物を硬化してなるシリコーン系硬化物によって構成されたシリコーン系封止材である。半導体発光素子120は、基板110と封止部130とによって覆われて、密封されており、外気から隔離されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the semiconductor light emitting device 100 of this embodiment. The semiconductor light emitting device 100 includes a substrate 110, a semiconductor light emitting element 120 disposed on the substrate, and a sealing portion 130 that seals the semiconductor light emitting element 120. The sealing part 130 is a silicone-based sealing material constituted by a silicone-based cured product obtained by curing the composition for a silicone-based cured product. The semiconductor light emitting device 120 is covered and sealed by the substrate 110 and the sealing portion 130 and is isolated from the outside air.

封止部130は、基板110に対して垂直な方向において不連続な面を有しない。不連続面の有無は、例えば、X線CT測定を行うことにより判別することができる。X線CTでは電子密度により散乱強度が異なるため、材料の不連続面があればCT画像の濃淡に現れる。   The sealing unit 130 does not have a discontinuous surface in a direction perpendicular to the substrate 110. The presence or absence of a discontinuous surface can be determined, for example, by performing X-ray CT measurement. In X-ray CT, since the scattering intensity varies depending on the electron density, if there is a discontinuous surface of the material, it appears in the density of the CT image.

封止部130を構成する前記シリコーン系封止材は、UV光の透過性が高く、UV光による劣化が少なく、温度変化耐久性及び耐クラック性に優れている。また、石英ガラスによって構成された封止部と比べて、UV光の透過性は同等であり、光の取出し効率が高く安価である。したがって、本実施形態の半導体発光素子がUV−LEDであると、封止部130を構成するシリコーン系封止材の上記特性を活用できるため、好ましい。   The silicone-based encapsulant constituting the encapsulating part 130 has high UV light permeability, little deterioration due to UV light, and excellent temperature change durability and crack resistance. Moreover, compared with the sealing part comprised with quartz glass, the transmittance | permeability of UV light is equivalent, and the extraction efficiency of light is high and cheap. Therefore, it is preferable that the semiconductor light emitting device of the present embodiment is a UV-LED because the above characteristics of the silicone-based sealing material constituting the sealing portion 130 can be utilized.

本実施形態の半導体発光装置を構成する発光素子及び基板としては公知のものが適用できる。発光素子の発光波長は、紫外線領域(例えば10〜400nm)であってもよいし、可視光領域(例えば400nm超830nm未満)であってもよいし、赤外線領域(例えば830nm以上1000μm以下)であってもよい。   Known light-emitting elements and substrates constituting the semiconductor light-emitting device of this embodiment can be applied. The emission wavelength of the light emitting element may be in the ultraviolet region (for example, 10 to 400 nm), in the visible light region (for example, more than 400 nm and less than 830 nm), or in the infrared region (for example, 830 nm to 1000 μm). May be.

以下、実験例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実験例に限定されるものではない。   Hereinafter, although an experiment example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the following experiment example.

後述する実験例に示す各測定の測定条件について下記に示す。   The measurement conditions for each measurement shown in the experimental examples described later are shown below.

29Si−NMR測定条件>
装置名 :Agilent社製 400−MR
観測核 :29Si
観測周波数 :79.42MHz
測定温度 :室温
測定溶媒 :CDCl
パルス幅 :8.40μsec(45°)
パルス繰り返し時間:15.0sec
積算回数 :4000回
試料濃度(試料/測定溶媒):300mg/0.6ml
<29 Si-NMR measurement conditions>
Device name: 400-MR manufactured by Agilent
Observation nucleus: 29 Si
Observation frequency: 79.42 MHz
Measurement temperature: room temperature Measurement solvent: CDCl 3
Pulse width: 8.40 μsec (45 °)
Pulse repetition time: 15.0 sec
Integration count: 4000 times Sample concentration (sample / measuring solvent): 300 mg / 0.6 ml

<GPC測定条件>
装置名 :東ソー社製HLC−8120 GPC
カラム :TSKgel MultiporeHXL−M×3本
流量 :1.0ml/分
検出条件 :RI
濃度 :100mg+5ml(THF)
注入量 :100μl
カラム温度 :40℃
溶離液 :THF
<GPC measurement conditions>
Device name: HLC-8120 GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: TSKgel Multipore HXL-M × 3 Flow rate: 1.0 ml / min Detection condition: RI
Concentration: 100 mg + 5 ml (THF)
Injection volume: 100 μl
Column temperature: 40 ° C
Eluent: THF

<ヒートショック試験>
装置名 :エスペック社製 小型冷熱衝撃装置TSE−11−A
冷熱温度 :−30℃ ⇔ 90℃
保持時間 :30分
昇温・降温速度 :140/2(℃/分)
サイクル数 :100サイクル
<Heat shock test>
Device name: Small spec thermal shock device TSE-11-A manufactured by Espec
Cold temperature: -30 ° C ⇔ 90 ° C
Holding time: 30 minutes Temperature increase / decrease rate: 140/2 (° C / min)
Number of cycles: 100 cycles

<UV照射試験>
装置名 :ウシオ電機社製 スポットキュアSP9−250DB 均一照射光学ユニット付き
測定温度 :室温
照射強度 :30μW/cm
照射時間 :100時間
<UV irradiation test>
Device name: Spot cure SP9-250DB manufactured by Ushio Electric Co., Ltd. With uniform irradiation optical unit Measurement temperature: Room temperature Irradiation intensity: 30 μW / cm 2
Irradiation time: 100 hours

<貯蔵弾性率の測定>
装置名 :TAインスツルメント社製 DMA Q800
測定周波数 :10Hz
測定温度 :−50℃から250℃
昇温速度 :5℃/分
測定雰囲気 :窒素
試料サイズ :4.8mm×20mm×0.3mm
<Measurement of storage modulus>
Device name: DMA Q800, manufactured by TA Instruments
Measurement frequency: 10Hz
Measurement temperature: -50 ° C to 250 ° C
Temperature increase rate: 5 ° C./min Measurement atmosphere: Nitrogen Sample size: 4.8 mm × 20 mm × 0.3 mm

[実施例1]
樹脂A(官能数2)及び樹脂B(官能数3)を、60:40の質量比で配合したシリコーン系硬化物用組成物を熱硬化させてシリコーン系硬化物を作製した。
具体的には、オイルバス内に設置した還留器付きフラスコ内に、40.0gの下記樹脂B(重量平均分子量=3500)と、22.2gのイソプロピルアルコールを投入し、液温80〜85℃でイソプロピルアルコールを還流させながら攪拌し、樹脂を充分に溶解させた。
[Example 1]
A silicone-based cured product was prepared by thermally curing a composition for a silicone-based cured product in which resin A (functional number 2) and resin B (functional number 3) were blended at a mass ratio of 60:40.
Specifically, 40.0 g of the following resin B (weight average molecular weight = 3500) and 22.2 g of isopropyl alcohol are put into a flask with a return apparatus installed in an oil bath, and the liquid temperature is 80 to 85. The mixture was stirred while refluxing isopropyl alcohol at a temperature to sufficiently dissolve the resin.

Figure 2017118111
Figure 2017118111

次いで、上記樹脂Bの溶液に、下記式(A−1)で表される樹脂A(重量平均分子量=2100、高分子量側5%分画分子量=4609)を60.0g投入し、1時間以上攪拌し溶解させて、樹脂A及び樹脂Bを含む組成物を得た。   Next, 60.0 g of the resin A represented by the following formula (A-1) (weight average molecular weight = 2100, high molecular weight side 5% fractional molecular weight = 4609) is added to the resin B solution for 1 hour or more. The composition containing resin A and resin B was obtained by stirring and dissolving.

Figure 2017118111
[式中、Meはメチル基であり、nは1以上の整数を表す。]
Figure 2017118111
[In the formula, Me represents a methyl group, and n represents an integer of 1 or more. ]

得られた組成物に、シランカップリング剤として0.026gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを加えた後、エバポレーターにセットし、当該組成物の温度が80℃、圧力が4kPaの条件に放置し、当該組成物中のイソプロピルアルコール濃度が1質量%以下になるまでイソプロピルアルコールを留去した。   After adding 0.026 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent to the obtained composition, it was set in an evaporator, and the temperature of the composition was 80 ° C. and the pressure was 4 kPa. The isopropyl alcohol was distilled off until the isopropyl alcohol concentration in the composition was 1% by mass or less.

硬化触媒として15質量%のリン酸を含む、下記式(D−1)で表されるシリコーンオリゴマー(n=3〜7の整数を表す。)からなる添加剤を準備した。   The additive which consists of a silicone oligomer (n represents the integer of 3-7) represented by a following formula (D-1) containing 15 mass% phosphoric acid as a curing catalyst was prepared.

Figure 2017118111
Figure 2017118111

イソプロピルアルコールを留去して得た上記の組成物に、10質量%となるように上記の添加剤を投入し、充分に攪拌混合して、目的のシリコーン系硬化物用組成物を得た。ここで、前記組成物中の樹脂A、樹脂B及び硬化触媒の合計の質量(100質量%)に対する硬化触媒の濃度は1.5質量%であった。   The above-mentioned additive was added to the above composition obtained by distilling off isopropyl alcohol so as to be 10% by mass, and the mixture was sufficiently stirred and mixed to obtain the desired composition for a silicone-based cured product. Here, the concentration of the curing catalyst with respect to the total mass (100 mass%) of the resin A, the resin B and the curing catalyst in the composition was 1.5 mass%.

(シリコーン系硬化物の作製)
得られたシリコーン系硬化物用組成物1.2gをアルミニウム製のカップに入れ、オーブン内で10分間かけて40℃に昇温後10分間放置し、続いて0.5時間かけて150℃に昇温後5時間放置し、シリコーン系硬化物用組成物を熱硬化(本硬化)させて、目的のシリコーン系硬化物を得た。
(Production of silicone-based cured product)
1.2 g of the obtained composition for a silicone-based cured product is put into an aluminum cup, heated in an oven for 10 minutes to 40 ° C. and then left for 10 minutes, and then heated to 150 ° C. for 0.5 hour. After the temperature rise, the composition was allowed to stand for 5 hours, and the composition for a silicone-based cured product was cured by heat (main curing) to obtain a desired silicone-based cured product.

得られたシリコーン系硬化物を29Si−NMRで測定したところ、末端ケイ素ピークは観測されなかった。つまり、得られたシリコーン系硬化物に末端ケイ素が含まれていたとしても、その含有率は0.1質量%未満であり、検出限界(定量下限)未満の含有量であった。29Si−NMRスペクトルを図2に示す。図2における「SSB」の矢印は、スピニングサイドバンドを指している。 When the obtained silicone-based cured product was measured by 29 Si-NMR, a terminal silicon peak was not observed. That is, even if terminal silicon was contained in the obtained silicone-based cured product, the content was less than 0.1% by mass, and the content was less than the detection limit (quantitative lower limit). The 29 Si-NMR spectrum is shown in FIG. The arrow “SSB” in FIG. 2 indicates the spinning sideband.

一方、ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.5ppm以上3.0ppm以下であるピーク(ピーク群A)が複数観測された。また、ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあり、ピークの半値幅が1.0ppm以上5.0ppm以下であるピーク(ピーク群B)が複数観測された。測定で得られたNMRチャートにおいて、ピーク群Aとピーク群Bのシグナル面積の比は、概ね6:4であった。   On the other hand, a plurality of peaks (peak group A) in which the peak top position is in the region where the chemical shift is −40 ppm to 0 ppm and the half width of the peak is 0.5 ppm to 3.0 ppm are observed. Further, a plurality of peaks (peak group B) in which the peak top position was in the region where the chemical shift was −80 ppm or more and less than −40 ppm and the half width of the peak was 1.0 ppm or more and 5.0 ppm or less were observed. In the NMR chart obtained by the measurement, the ratio of the signal areas of the peak group A and the peak group B was approximately 6: 4.

(半導体発光装置の作製)
上記で調製したシリコーン系硬化物用組成物の所定量を、オーブン内で10分間かけて40℃に昇温後10分間放置した後、速やかに半導体発光素子を備えた基板の上に塗布して、前記半導体素子を封止した。この際、組成物の塗布性が優れていたため、封止が容易であった。続いて、0.5時間かけて150℃に昇温後5時間放置し、本硬化させることによって、目的の半導体発光装置を得た。
ここで、前記基板として、電極用基板を金メッキした3.5mm×3.5mmサイズの基板(LTCC製)を用いた。
(Production of semiconductor light emitting device)
A predetermined amount of the composition for a silicone-based cured product prepared above was heated to 40 ° C. in an oven for 10 minutes and then allowed to stand for 10 minutes, and then quickly applied onto a substrate equipped with a semiconductor light emitting device. The semiconductor element was sealed. At this time, since the coating property of the composition was excellent, sealing was easy. Subsequently, the temperature was raised to 150 ° C. over 0.5 hours, and then left for 5 hours to be fully cured, thereby obtaining a target semiconductor light emitting device.
Here, as the substrate, a substrate of 3.5 mm × 3.5 mm size (manufactured by LTCC) in which an electrode substrate was gold-plated was used.

(ヒートショック試験)
作製した半導体発光装置について、−30℃で30分保持し、2分かけて90℃まで昇温し、90℃で30分保持し、2分かけて−30℃まで降温する、という温度サイクルを100回繰り返すヒートショック試験を行い、チップ直上の封止部のクラックの発生について顕微鏡観察により評価した。その結果、クラックは発生しなかった。
(Heat shock test)
About the produced semiconductor light-emitting device, the temperature cycle which hold | maintains at -30 degreeC for 30 minutes, heats up to 90 degreeC over 2 minutes, hold | maintains at 90 degreeC for 30 minutes, and falls to -30 degreeC over 2 minutes. A heat shock test repeated 100 times was performed, and the occurrence of cracks in the sealing portion immediately above the chip was evaluated by microscopic observation. As a result, no crack was generated.

[実施例2]
樹脂Aと樹脂Bの配合を50:50(質量比)に変更した以外は、実施例1と同様に、シリコーン系硬化物用組成物を調製し、シリコーン系硬化物及び半導体発光装置を作製した。
実施例2で得たシリコーン系硬化物の固体29Si−NMRを測定したところ、ピーク群Aとピーク群Bのシグナル面積の比が概ね5:5であった以外は、実施例1のNMR測定の結果と同様の結果が得られた。また、末端ケイ素含有率は0.1質量%未満であった。
実施例2で得た半導体装置のヒートショック試験を実施例1と同様に行ったところ、封止部にクラックは発生しなかった。
[Example 2]
Except having changed the compounding of resin A and resin B into 50:50 (mass ratio), the composition for silicone type hardened | cured materials was prepared similarly to Example 1, and the silicone type hardened | cured material and the semiconductor light-emitting device were produced. .
The solid 29 Si-NMR of the silicone-based cured product obtained in Example 2 was measured, and the NMR measurement of Example 1 was performed except that the ratio of the signal area of peak group A and peak group B was approximately 5: 5. The same result as in the above was obtained. The terminal silicon content was less than 0.1% by mass.
When the heat shock test of the semiconductor device obtained in Example 2 was performed in the same manner as in Example 1, no cracks occurred in the sealing portion.

[比較例1]
前記樹脂A及び樹脂Bを、25:75の質量比で用いたシリコーン系硬化物用組成物を熱硬化させてシリコーン系硬化物及び半導体発光装置を作製した。
具体的には、オイルバス内に設置した還留器付きフラスコ内に、75.0gの前記樹脂B(重量平均分子量=3500)と、22.2gのイソプロピルアルコールを投入し、液温が80〜85℃でイソプロピルアルコールを還流させながら攪拌して樹脂を充分に溶解させた。
[Comparative Example 1]
A silicone-based cured product and a semiconductor light emitting device were prepared by thermally curing a composition for a silicone-based cured product using the resin A and the resin B in a mass ratio of 25:75.
Specifically, 75.0 g of the resin B (weight average molecular weight = 3500) and 22.2 g of isopropyl alcohol are put into a flask with a return apparatus installed in an oil bath, and the liquid temperature is 80 to 80%. The resin was sufficiently dissolved by stirring while refluxing isopropyl alcohol at 85 ° C.

次いで、前記樹脂Bの溶液に、前記樹脂Aを25.0g投入し、1時間以上攪拌し溶解させて、樹脂A及び樹脂Bを含む組成物を得た。得られた組成物に、溶媒として11.1gの酢酸2−ブトキシエチルを加え、シランカップリング剤として0.033gの3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを加えた後、エバポレーターにセットし、当該組成物の温度が80℃、圧力が4kPaの条件に放置し、当該組成物中のイソプロピルアルコール濃度が1質量%以下になるまでイソプロピルアルコールを留去した。   Next, 25.0 g of the resin A was added to the solution of the resin B, and the mixture was stirred and dissolved for 1 hour or longer to obtain a composition containing the resin A and the resin B. After adding 11.1 g of 2-butoxyethyl acetate as a solvent and 0.033 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent, the resulting composition was set in an evaporator, The composition was allowed to stand at a temperature of 80 ° C. and a pressure of 4 kPa, and isopropyl alcohol was distilled off until the isopropyl alcohol concentration in the composition became 1% by mass or less.

硬化触媒として15質量%のリン酸を含む、前記式(D−1)で表されるシリコーンオリゴマー(n=3〜7の整数を表す。)からなる添加剤を準備した。この添加剤を、前記イソプロピルアルコールを留去した組成物に、2質量%となるように投入し、充分に攪拌混合して、シリコーン系硬化物用組成物を得た。ここで、前記組成物中の樹脂A、樹脂B及び硬化触媒の合計の質量(100質量%)に対する硬化触媒の濃度は0.3質量%であった。   The additive which consists of a silicone oligomer (n represents the integer of 3-7) represented by the said Formula (D-1) containing 15 mass% phosphoric acid as a curing catalyst was prepared. This additive was added to the composition obtained by distilling off the isopropyl alcohol so as to be 2% by mass and sufficiently stirred and mixed to obtain a composition for a silicone-based cured product. Here, the concentration of the curing catalyst with respect to the total mass (100 mass%) of the resin A, the resin B and the curing catalyst in the composition was 0.3 mass%.

(シリコーン系硬化物の作製)
上記のシリコーン系硬化物用組成物1.2gをアルミニウム製のカップに入れ、オーブン内で10分間かけて40℃に昇温後10分間放置し、続いて0.5時間かけて150℃に昇温後5時間放置し、シリコーン系硬化物用組成物を熱硬化させて、シリコーン系硬化物を得た。
(Production of silicone-based cured product)
1.2 g of the above composition for a silicone-based cured product is placed in an aluminum cup, heated to 40 ° C. over 10 minutes in an oven and left for 10 minutes, and then heated to 150 ° C. over 0.5 hours. The composition was allowed to stand for 5 hours after warming, and the silicone-based cured product composition was thermally cured to obtain a silicone-based cured product.

得られたシリコーン系封止材を29Si−NMRで測定したところ、末端ケイ素の存在を示すピークが観測された。前述した方法により末端ケイ素含有率を算出したところ、約5質量%であった。 When the obtained silicone sealing material was measured by 29 Si-NMR, a peak indicating the presence of terminal silicon was observed. When the terminal silicon content was calculated by the method described above, it was about 5% by mass.

(半導体発光装置の作製)
上記で調製した比較例1のシリコーン系硬化物用組成物の所定量を、オーブン内で10分間かけて40℃に昇温後10分間放置した後、速やかに半導体発光素子を備えた前記基板の上に塗布して、前記半導体素子を封止した。続いて、0.5時間かけて150℃に昇温後5時間放置し、本硬化させることによって、比較例1の半導体発光装置を得た。
(Production of semiconductor light emitting device)
A predetermined amount of the composition for a silicone-based cured product of Comparative Example 1 prepared above was heated to 40 ° C. in an oven for 10 minutes and then allowed to stand for 10 minutes. The semiconductor element was sealed by coating on the top. Subsequently, the semiconductor light emitting device of Comparative Example 1 was obtained by raising the temperature to 150 ° C. over 0.5 hours and allowing it to stand for 5 hours, followed by main curing.

(ヒートショック試験)
比較例1の半導体発光素子について、実施例1と同様の方法でヒートショック試験を行った。その結果、クラックの発生が観察された。
(Heat shock test)
For the semiconductor light emitting device of Comparative Example 1, a heat shock test was performed in the same manner as in Example 1. As a result, generation of cracks was observed.

<耐クラック性の比較評価>
以上のヒートショック試験の結果から、末端ケイ素含有率が0.1質量%未満である実施例1〜2のシリコーン系硬化物は、末端ケイ素含有率が5質量%程度である比較例1の硬化物よりも、耐クラック性及び温度変化耐久性が向上していることが分かった。
<Comparison evaluation of crack resistance>
From the result of the above heat shock test, the silicone-based cured products of Examples 1 and 2 having a terminal silicon content of less than 0.1% by mass are cured in Comparative Example 1 in which the terminal silicon content is about 5% by mass. It was found that the crack resistance and the temperature change durability were improved as compared with the product.

実施例1〜2の各シリコーン系硬化物について、貯蔵弾性率(MPa)をそれぞれ測定したところ、実施例1(二官能の樹脂A:多官能の樹脂B=60:40(質量比))の硬化物の方が、実施例2(二官能の樹脂A:多官能の樹脂B=50:50(質量比))の硬化物よりも低かった。この結果から、実施例1の硬化物の耐クラック性がより優れているといえる。   About each silicone type hardened | cured material of Examples 1-2, when storage elastic modulus (MPa) was measured, respectively, Example 1 (bifunctional resin A: polyfunctional resin B = 60: 40 (mass ratio)). The cured product was lower than the cured product of Example 2 (bifunctional resin A: polyfunctional resin B = 50: 50 (mass ratio)). From this result, it can be said that the cured product of Example 1 is more excellent in crack resistance.

実施例1〜2及び比較例1の各シリコーン系硬化物について、紫外線(UV)を連続的に100時間照射する試験を行ったところ、比較例1のシリコーン系硬化物には多くのクラックが発生した。一方、実施例1〜2の各シリコーン系硬化物にはクラックが発生しなかった。よって、実施例1〜2のシリコーン系硬化物は、比較例1よりもUV耐久性が向上していることが分かった。   About each silicone type hardened | cured material of Examples 1-2 and the comparative example 1, when the test which irradiates an ultraviolet-ray (UV) continuously for 100 hours was performed, many cracks generate | occur | produce in the silicone type hardened | cured material of the comparative example 1 did. On the other hand, no crack occurred in each silicone-based cured product of Examples 1-2. Therefore, it turned out that UV durability is improving the silicone type hardened | cured material of Examples 1-2 compared with the comparative example 1. FIG.

本発明に係るシリコーン系硬化物用組成物は、耐クラック性が向上したシリコーン系硬化物を与えるため有用である。また、本発明に係るシリコーン系硬化物は、耐クラック性が向上しているため、半導体発光装置の封止材用途に有用である。   The composition for a silicone-based cured product according to the present invention is useful because it provides a silicone-based cured product having improved crack resistance. Moreover, since the silicone-based cured product according to the present invention has improved crack resistance, it is useful for sealing material applications in semiconductor light-emitting devices.

100…半導体発光装置、110…基板、120…半導体発光素子、130…封止部、
130a…半導体発光素子近傍、130b…封止部表面近傍
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Semiconductor light-emitting device, 110 ... Board | substrate, 120 ... Semiconductor light-emitting device, 130 ... Sealing part,
130a ... Semiconductor light emitting element vicinity, 130b ... Seal surface surface vicinity

Claims (12)

(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂及び(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂の硬化物であって、
固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、
(1)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあるピーク、及び、
(2)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあるピークからなる群より選ばれるピークから計算され、前記硬化物に含まれる全ケイ素原子に対する末端ケイ素に含まれるケイ素原子の比率である末端ケイ素含有率が0.1質量%未満である、シリコーン系硬化物。
A cured product of (A) a bifunctional thermosetting silicone resin and (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin,
In the solid Si-nuclear magnetic resonance spectrum,
(1) The peak where the peak top position is in the region of chemical shift −40 ppm or more and 0 ppm or less, and
(2) The peak top position is calculated from a peak selected from the group consisting of peaks in the region where the chemical shift is −80 ppm or more and less than −40 ppm, and the silicon atoms contained in the terminal silicon with respect to all silicon atoms contained in the cured product A silicone-based cured product having a terminal silicon content ratio of less than 0.1% by mass.
(A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂、及び(C)硬化触媒、を含有する組成物を硬化してなる硬化物であって、
固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、
(1)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.5ppm以上3.0ppm以下であるピーク、及び、
(2)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあり、ピークの半値幅が1.0ppm以上5.0ppm以下であるピークからなる群より選ばれるピークから計算され、前記硬化物に含まれる全ケイ素原子に対する末端ケイ素に含まれるケイ素原子の比率である末端ケイ素含有率が0.1質量%未満である、請求項1に記載のシリコーン系硬化物。
A cured product obtained by curing a composition containing (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin, and (C) a curing catalyst,
In the solid Si-nuclear magnetic resonance spectrum,
(1) The peak top position is in the region of chemical shift −40 ppm or more and 0 ppm or less, and the peak half width of the peak is 0.5 ppm or more and 3.0 ppm or less, and
(2) The peak top position is in a region where the chemical shift is −80 ppm or more and less than −40 ppm, and the half value width of the peak is calculated from a peak selected from the group consisting of peaks of 1.0 ppm or more and 5.0 ppm or less. The silicone-based cured product according to claim 1, wherein a terminal silicon content, which is a ratio of silicon atoms contained in terminal silicon to total silicon atoms contained in the product, is less than 0.1% by mass.
前記(C)がリン酸系触媒である請求項2に記載のシリコーン系硬化物。   The silicone-based cured product according to claim 2, wherein (C) is a phosphoric acid-based catalyst. 前記組成物における、
(A)及び(B)の合計を基準とした(B)の割合が、20質量%以上80質量%未満であり、
(B)の官能数が2.5〜3.5であり、
(B)を構成する繰り返し単位の50%以上は三官能型であり、
(A)、(B)及び(C)の合計を基準とした(C)の割合が1.0質量%以上3.0質量%未満である、請求項3に記載のシリコーン系硬化物。
In the composition,
The ratio of (B) based on the sum of (A) and (B) is 20% by mass or more and less than 80% by mass,
The functional number of (B) is 2.5 to 3.5,
50% or more of the repeating units constituting (B) are trifunctional,
The silicone-based cured product according to claim 3, wherein the ratio of (C) based on the sum of (A), (B), and (C) is 1.0% by mass or more and less than 3.0% by mass.
前記組成物における、
(A)及び(B)の合計を基準とした(B)の割合が、30質量%以上60質量%未満である、請求項2〜4のいずれか一項に記載のシリコーン系硬化物。
In the composition,
The silicone-based cured product according to any one of claims 2 to 4, wherein a ratio of (B) based on the sum of (A) and (B) is 30% by mass or more and less than 60% by mass.
前記組成物における、
(A)、(B)及び(C)の合計を基準とした(C)の割合が1.2質量%以上2.0質量%未満である、請求項2〜5のいずれか一項に記載のシリコーン系硬化物。
In the composition,
The ratio of (C) based on the sum of (A), (B) and (C) is 1.2% by mass or more and less than 2.0% by mass, according to any one of claims 2 to 5. Silicone-based cured product.
前記組成物の総質量に対する、
(A)、(B)及び(C)の合計の含有割合が90質量%以上である、請求項2〜6のいずれか一項に記載のシリコーン系硬化物。
With respect to the total mass of the composition,
The silicone-based cured product according to any one of claims 2 to 6, wherein the total content ratio of (A), (B), and (C) is 90% by mass or more.
封止用途で使用されるシリコーン系封止材である、請求項2〜7のいずれか一項に記載のシリコーン系硬化物。   The silicone-based cured product according to any one of claims 2 to 7, which is a silicone-based sealing material used in a sealing application. 基材と、前記基材に配置された半導体発光素子と、前記半導体発光素子の少なくとも一部を封止する請求項8に記載のシリコーン系硬化物と、を有する、半導体発光装置。   The semiconductor light-emitting device which has a base material, the semiconductor light-emitting device arrange | positioned at the said base material, and the silicone type hardened | cured material of Claim 8 which seals at least one part of the said semiconductor light-emitting device. 前記半導体発光素子の発光波長が紫外線領域である、請求項9に記載の半導体発光装置。   The semiconductor light emitting device according to claim 9, wherein an emission wavelength of the semiconductor light emitting element is in an ultraviolet region. (A)二官能熱硬化性シリコーン樹脂、(B)多官能熱硬化性シリコーン樹脂及び(C)硬化触媒を含有する組成物であって、
(A)及び(B)の合計を基準とした(B)の割合が、20質量%以上70質量%未満であり、
(A)、(B)及び(C)の合計を基準とした(C)の割合が1.0質量%以上3.0質量%未満であり、
(B)の官能数が2.5〜3.5であり、
(B)を構成する繰り返し単位の50%以上は三官能型である、
シリコーン系硬化物用組成物。
A composition containing (A) a bifunctional thermosetting silicone resin, (B) a polyfunctional thermosetting silicone resin and (C) a curing catalyst,
The ratio of (B) based on the sum of (A) and (B) is 20% by mass or more and less than 70% by mass,
The ratio of (C) based on the sum of (A), (B) and (C) is 1.0 mass% or more and less than 3.0 mass%,
The functional number of (B) is 2.5 to 3.5,
50% or more of the repeating units constituting (B) are trifunctional.
Composition for silicone-based cured product.
前記(C)がリン酸系触媒である請求項11に記載のシリコーン系硬化物用組成物。   The composition for a silicone-based cured product according to claim 11, wherein (C) is a phosphoric acid-based catalyst.
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