JP2017114719A - X ray absorbing glass and photosensitive paste containing the same - Google Patents

X ray absorbing glass and photosensitive paste containing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X ray absorbing glass which is transparent to visible lights, contains a large amount of Ba as an element absorbing X ray, and is suitable for a partition material of a scintillator panel using a photosensitive paste low in refractive index, and a photosensitive paste containing the X ray absorbing glass.SOLUTION: There is provided an X ray absorbing glass, containing, by cation %, Siof 18 to 40%, Bof 18 to 46%, Alof 8 to 20%, Baof 5 to 25%, as cation components, and, by anion %, Oof 52 to 90% and Fof 10 to 48%, as anion components. Refractive index by g ray is preferably 1.52 to 1.62, further preferably 1.55 to 1.60 and absorption index to X ray of 100 keV is 1.0 cmor more, preferably 1.3 cmor more. There is provided a photosensitive glass paste containing photopolymerizable polyfunctional monomer or oligomer, a photopolymerization initiator, and the X ray absorbing glass with 50% particle diameter in a particle size distribution based on volume of 0.1 to 10 μm.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、X線吸収ガラス及び感光性ペーストに関する。   The present invention relates to an X-ray absorbing glass and a photosensitive paste.

従来より、医療用途、検査用途等にはX線透過画像が用いられている。このX線透過画像としては、X線により感光したフィルムを現像することによって得られるアナログ画像が主として利用されている。これに対し、近年では、デジタル画像方式としてフラットパネル型の放射線ディテクタ(放射線検出装置)が開発されている。   Conventionally, X-ray transmission images have been used for medical applications, inspection applications, and the like. As this X-ray transmission image, an analog image obtained by developing a film exposed to X-rays is mainly used. On the other hand, in recent years, flat panel type radiation detectors (radiation detection devices) have been developed as digital image systems.

フラットパネル型の放射線ディテクタにおいては、放射線を可視光に変換するために、シンチレータパネルが使用される。シンチレータパネルは、ヨウ化セシウム等のX線形交替部(シンチレータ層)を含み、照射されたX線に応じて、該X線蛍光体が可視光を発光し、その可視光をTFT又はCCDで電気信号に変換し、デジタル画像情報として得るものである。   In a flat panel type radiation detector, a scintillator panel is used to convert radiation into visible light. The scintillator panel includes an X linear alternation part (scintillator layer) such as cesium iodide. The X-ray phosphor emits visible light according to the irradiated X-ray, and the visible light is electrically converted by a TFT or CCD. It is converted into a signal and obtained as digital image information.

このような放射線ディテクタとしては、より高精細な画像を得るためには隔壁で仕切られたセル内に蛍光体を充填した構造においてガラス粉末を含有した感光性ペーストで隔壁を形成されたものが提案されている(特許文献1)。   As such a radiation detector, in order to obtain a higher-definition image, a structure in which barrier ribs are formed with a photosensitive paste containing glass powder in a structure in which phosphors are filled in cells partitioned by barrier ribs is proposed. (Patent Document 1).

感光性ペーストを用いる場合、1)低融点ガラス粉末と感光性有機成分を含有し、場合により隔壁の形状を整え、熱膨張係数を調整するためのフィラー(結晶であっても高融点ガラスであってもよい)も含有させた感光性ペーストをガラス基板上に塗布し、感光性ペースト塗布膜を形成する工程、2)得られた感光性ペースト塗布膜を所定の開口部を有するフォトマスクを介して露光する露光工程、3)露光後の感光性ペースト塗布膜の現像液に可溶な部分を溶解除去する現像工程、4)現像後の感光性ペースト塗布膜パターンを高温に加熱して有機成分を除去するとともに低融点ガラスを軟化及び焼結させ、隔壁を形成する工程によって隔壁形成が行われている。   When using a photosensitive paste, 1) a filler containing a low melting glass powder and a photosensitive organic component, optionally adjusting the shape of the partition wall and adjusting the thermal expansion coefficient (even a crystal is a high melting glass. And a photosensitive paste containing film may be applied on a glass substrate to form a photosensitive paste coating film, and 2) the obtained photosensitive paste coating film may be passed through a photomask having a predetermined opening. 3) Development process for dissolving and removing the portion of the photosensitive paste coating film after exposure that is soluble in the developer, 4) Organic component by heating the photosensitive paste coating film pattern after development to high temperature The partition wall is formed by a process of removing the glass and softening and sintering the low melting point glass to form the partition wall.

また、X線撮像装置において、X線がCCD素子に直接入射するとCCD素子の破壊や画像へのノイズの発生が起こりうることが知られている(特許文献2)。   Further, it is known that in an X-ray imaging apparatus, when X-rays are directly incident on a CCD element, the destruction of the CCD element and the generation of noise on the image may occur (Patent Document 2).

また、各種元素によるX線の質量吸収係数はNISTが公表しているデータが知られている(非特許文献1)。   Further, data published by NIST is known for the mass absorption coefficient of X-rays by various elements (Non-patent Document 1).

国際公開WO2012/161304号International Publication WO2012 / 161304 特開2000−329898号公報JP 2000-329898 A

J. H. Hubbell and S. M. Seltzer 、Tables of X-Ray Mass Attenuation Coefficients and Mass Energy-Absorption Coefficients from 1 keV to 20 MeV for Elements Z = 1 to 92 and 48 Additional Substances of Dosimetric Interest 、[online]、Last updated: May 19, 2015、Radiation Physics Division, PML, NIST、[平成27年12月21日検索]、インターネット<URL:http://www.nist.gov/pml/data/xraycoef/#>JH Hubbell and SM Seltzer, Tables of X-Ray Mass Attenuation Coefficients and Mass Energy-Absorption Coefficients from 1 keV to 20 MeV for Elements Z = 1 to 92 and 48 Additional Substances of Dosimetric Interest, [online], Last updated: May 19 , 2015, Radiation Physics Division, PML, NIST, [Search on December 21, 2015], Internet <URL: http://www.nist.gov/pml/data/xraycoef/#>

シンチレータパネルにおける隔壁材料は蛍光体ではないため可視光を発することはないが、同時にX線の吸収をすることもない。すると、隔壁を透過したX線が直接TFTやCCDに影響を与え、信号にノイズを生じさせ、画像のコントラスト低下を引き起こしてしまうおそれがある。特に、感光性ペースト法においては有機成分に合わせた低屈折率・高透過率のガラスが求められることから、必然的に重元素含有率の低いガラスとなり、X線を透過しやすいガラスとなっている。   The barrier rib material in the scintillator panel is not a phosphor, so it does not emit visible light, but does not absorb X-rays at the same time. Then, the X-rays that have passed through the partition wall directly affect the TFT and the CCD, causing noise in the signal, which may cause a reduction in image contrast. In particular, the photosensitive paste method requires a glass having a low refractive index and a high transmittance in accordance with the organic component, so that it is inevitably a glass having a low heavy element content, and a glass that is easy to transmit X-rays. Yes.

そこで、本発明の目的は、感光性ペーストに用いるに適した低屈折率とX線吸収に適した重元素含有率の高さとを両立したガラスを提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a glass having both a low refractive index suitable for use in a photosensitive paste and a high heavy element content suitable for X-ray absorption.

本発明者は、Si、B、Al、Ba、O、Fを含有するガラスにおいて特定の組成範囲に制御することで、ガラスの失透や分相を抑えて透明なガラスを得ることができ、重元素Baの含有率を高くでき、かつ屈折率を低くすることができることを見出し、更に検討を加えて本発明を完成するに至った。すなわち、本発明のX線吸収ガラスと感光性ペーストは以下のように構成されている。   The present inventor can obtain a transparent glass by suppressing devitrification and phase separation of the glass by controlling to a specific composition range in the glass containing Si, B, Al, Ba, O, F, The inventors have found that the content of the heavy element Ba can be increased and the refractive index can be decreased, and further studies have been made to complete the present invention. That is, the X-ray absorption glass and photosensitive paste of the present invention are configured as follows.

(1)本発明に従ったX線吸収ガラスは、カチオン成分としてSi4+、B3+、Al3+、Ba2+を含有し、カチオン%で、Si4+ 18〜40%、B3+ 18〜46%、Al3+ 8〜20%、Ba2+ 5〜25%であり、アニオン成分としてO2−、Fを含有し、アニオン%で、O2− 52〜90%、F 10〜48%である。 (1) The X-ray absorption glass according to the present invention contains Si 4+ , B 3+ , Al 3+ and Ba 2+ as cation components, and is cation%, Si 4+ 18 to 40%, B 3+ 18 to 46%, Al 3+ is 8 to 20%, Ba 2+ is 5 to 25%, O 2− and F are contained as anion components, and an anion% is O 2 −52 to 90% and F 10 to 48%.

(2)本発明に従ったX線吸収ガラスは、g線における屈折率が1.52〜1.62であることが好ましい。   (2) The X-ray absorbing glass according to the present invention preferably has a refractive index of 1.52 to 1.62 at g-ray.

(3)本発明に従ったX線吸収ガラスは、100keVのX線に対する線吸収係数が1.0cm−1以上であることが好ましい。 (3) The X-ray absorption glass according to the present invention preferably has a linear absorption coefficient with respect to 100 keV X-ray of 1.0 cm −1 or more.

(4)本発明に従ったX線吸収ガラスは、カチオン%で、Si4+ 21〜36%、B3+ 21〜43%、Al3+ 11〜17%、Ba2+ 13〜22%であり、アニオン%で、O2− 58〜86%、F 14〜42%であり、X線吸収係数が1.3cm−1以上であり、g線における屈折率が1.55〜1.60であることが好ましい。 (4) X-ray absorption glass according to the present invention is cation%, Si 4+ 21-36%, B 3+ 21-43%, Al 3+ 11-17%, Ba 2+ 13-22%, anion% in, O 2- 58~86%, F - is 14 to 42%, X-ray absorption coefficient is not less 1.3 cm -1 or more, the refractive index at the g-line is to be 1.55 to 1.60 preferable.

(5)本発明に従ったX線吸収ガラスは、50℃〜400℃における熱膨張係数が60〜100×10−7/Kであることが好ましい。 (5) The X-ray absorption glass according to the present invention preferably has a thermal expansion coefficient at 50 to 400 ° C. of 60 to 100 × 10 −7 / K.

(6)本発明に従ったX線吸収ガラスは、カチオン成分としてアルカリ金属イオンを含有し、アルカリ金属イオンの合計の含有率が、カチオン%で、3〜21%であり、軟化点が500〜700℃であることが好ましい。   (6) The X-ray absorption glass according to the present invention contains alkali metal ions as a cation component, the total content of alkali metal ions is 3 to 21% in terms of cation%, and the softening point is 500 to 500%. It is preferable that it is 700 degreeC.

(7)本発明に従ったX線吸収ガラスは、カチオン成分としてLiを含有し、カチオン%で、Li 3〜21%であり、軟化点が500〜700℃であることが好ましい。 (7) The X-ray absorption glass according to the present invention preferably contains Li + as a cation component, is cation%, Li + is 3 to 21%, and has a softening point of 500 to 700 ° C.

(8)本発明に従ったX線吸収ガラスは、カチオン成分としてアルカリ金属イオンの合計の含有率が、カチオン%で、0〜5%であり、軟化点が650〜850℃であることが好ましい。   (8) In the X-ray absorption glass according to the present invention, the total content of alkali metal ions as the cation component is preferably 0 to 5% in cation%, and the softening point is preferably 650 to 850 ° C. .

(9)本発明に従ったX線吸収ガラスは、Pb2+を実質的に含有しないことが好ましい。 (9) It is preferable that the X-ray absorption glass according to the present invention does not substantially contain Pb 2+ .

(10)本発明に従ったX線吸収ガラスは、体積基準の粒度分布における50%粒子径が0.1〜10μmであり、感光性ガラスペースト用であることが好ましい。   (10) The X-ray absorption glass according to the present invention has a 50% particle size in a volume-based particle size distribution of 0.1 to 10 μm, and is preferably used for a photosensitive glass paste.

(11)本発明に従った感光性ペーストは、光重合性多官能モノマー又はオリゴマー、光重合開始剤、及び、(10)のX線吸収ガラスを含む。   (11) The photosensitive paste according to the present invention includes a photopolymerizable polyfunctional monomer or oligomer, a photopolymerization initiator, and the X-ray absorbing glass of (10).

本発明のX線吸収ガラスは、可視光に対して透明であり、X線を吸収する元素としてBaを多く含有し、かつ屈折率が低いため感光性ペースト法を用いたシンチレータパネルの隔壁材料に適している。   The X-ray absorbing glass of the present invention is transparent to visible light, contains a large amount of Ba as an element that absorbs X-rays, and has a low refractive index, so that it can be used as a partition material for a scintillator panel using a photosensitive paste method. Is suitable.

本発明のX線吸収ガラスをシンチレータ用隔壁に用いた放射線検出装置の概略図である。It is the schematic of the radiation detection apparatus which used the X-ray absorption glass of this invention for the partition for scintillators.

本発明に従ったX線吸収ガラスは、カチオン成分としてSi4+、B3+、Al3+、Ba2+を含有し、カチオン%で、Si4+ 18〜40%、B3+ 18〜46%、Al3+ 8〜20%、Ba2+ 5〜25%であり、アニオン成分としてO2−、Fを含有し、アニオン%で、O2− 52〜90%、F 10〜48%である。 The X-ray absorption glass according to the present invention contains Si 4+ , B 3+ , Al 3+ , Ba 2+ as cation components, and is cation%, Si 4+ 18-40%, B 3+ 18-46%, Al 3+ 8. 20%, a Ba 2+ 5~25%, O 2-, F as an anion component - containing, anionic%, O 2-from 52 to 90%, F - is 10 to 48%.

以下、本発明のガラス組成物の各成分及びその含有量について説明する。本明細書中において、各成分の含有率は特に断りがない場合は、全てモル比に基づくカチオン%またはアニオン%で表示されるものとする。ここで、「カチオン%」および「アニオン%」とは、本発明の光学ガラスのガラス構成成分をカチオン成分およびアニオン成分に分離し、それぞれにおいて合計割合を100モル%として、ガラス中に含有される各成分を表記した組成である。   Hereinafter, each component of the glass composition of this invention and its content are demonstrated. In the present specification, unless otherwise specified, the content of each component is expressed in terms of cation% or anion% based on the molar ratio. Here, “cation%” and “anion%” are contained in the glass by separating the glass component of the optical glass of the present invention into a cation component and an anion component, and the total ratio is 100 mol% in each. It is the composition which described each component.

Si4+は必須成分である。Si4+はガラスのネットワークフォーマーであり、ガラスの安定性を高め、屈折率を低くする成分である。一方、含有量が多くなると粘性が高くなりガラスの溶融が困難になる。そのため、Si4+はカチオン%で18〜40%であり、好ましくは20〜37%であり、より好ましくは21〜36%である。 Si 4+ is an essential component. Si 4+ is a glass network former, and is a component that increases the stability of the glass and lowers the refractive index. On the other hand, when the content increases, the viscosity increases and it becomes difficult to melt the glass. Therefore, Si 4+ is 18 to 40% in terms of cation%, preferably 20 to 37%, and more preferably 21 to 36%.

3+は必須成分である。B3+はガラスのネットワークフォーマーであり、ガラスの安定性を高め、軟化点を下げ、熱膨張係数を高める成分である。一方、含有量が多くなると耐水性の悪化を招く。そのため、B3+はカチオン%で18〜46%であり、好ましくは20〜44%であり、より好ましくは21〜43%である。 B 3+ is an essential component. B 3+ is a glass network former, and is a component that increases the stability of the glass, lowers the softening point, and increases the coefficient of thermal expansion. On the other hand, when the content is increased, water resistance is deteriorated. Therefore, B3 + is 18 to 46% in terms of cation%, preferably 20 to 44%, and more preferably 21 to 43%.

Al3+は必須成分である。Al3+はガラスのネットワークフォーマーとして機能する。また、SiO、B、BaOはそれぞれ相互に混和し難い性質があり、これら3種を含むガラスは分相を起こしやすい。分相を起こすとガラスは白濁し、光を散乱するため、感光性ペーストに適さないガラスとなってしまう。Al3+を一定量以上添加することで分相を抑制することができる。一方でAl3+の含有量が多くなると失透しやすくなり、融点も高くなりガラスの溶融が困難になる。そのため、Al3+はカチオン%で8〜20%であり、好ましくは10〜18%であり、より好ましくは11〜17%である。 Al 3+ is an essential component. Al 3+ functions as a glass network former. In addition, SiO 2 , B 2 O 3 , and BaO have properties that are difficult to mix with each other, and glass containing these three types is likely to cause phase separation. When phase separation occurs, the glass becomes cloudy and scatters light, which makes the glass unsuitable for a photosensitive paste. The phase separation can be suppressed by adding a certain amount of Al 3+ or more. On the other hand, when the content of Al 3+ increases, devitrification tends to occur, the melting point becomes high, and it becomes difficult to melt the glass. Therefore, Al 3+ is 8 to 20% in terms of cation%, preferably 10 to 18%, and more preferably 11 to 17%.

Ba2+は必須成分である。Ba2+はX線を吸収する成分であり、屈折率を高める成分である。一方でBa2+の含有量が多くなると失透しやすくなり、融点も高くなりガラスの溶融が困難になる。そのため、Ba2+はカチオン%で5〜25%であり、好ましくは8〜23%であり、より好ましくは13〜22%である。 Ba 2+ is an essential component. Ba 2+ is a component that absorbs X-rays and is a component that increases the refractive index. On the other hand, when the content of Ba 2+ increases, devitrification is likely to occur, the melting point increases, and it becomes difficult to melt the glass. Therefore, Ba < 2+ > is 5-25% in cation%, Preferably it is 8-23%, More preferably, it is 13-22%.

2−は必須成分である。ガラスのネットワークフォーマーを結合する役目がある。一方でO2−の含有量が多くなると屈折率が高くなり、融点も高くなり溶融が困難になる。そのため、O2−はアニオン%で52〜90%であり、好ましくは56〜88%であり、より好ましくは58〜86%である。 O 2− is an essential component. It is responsible for combining glass network formers. On the other hand, when the content of O 2− increases, the refractive index increases, the melting point increases, and melting becomes difficult. Therefore, O 2− is 52 to 90% in anion%, preferably 56 to 88%, and more preferably 58 to 86%.

は必須成分である。Fは屈折率を下げ、熱膨張係数を高める成分である。一方でFの含有量が多くなると失透しやすくなる。熱膨張係数が高くなる。そのため、Fはアニオン%で10〜48%であり、好ましくは12〜44%であり、より好ましくは14〜42%である。 F - is an essential component. F is a component that lowers the refractive index and increases the thermal expansion coefficient. On the other hand, when the content of F increases, devitrification easily occurs. The thermal expansion coefficient becomes high. Therefore, F is 10 to 48% in anionic%, preferably 12 to 44%, more preferably 14 to 42%.

アルカリ金属イオン(Li、Na、K、Rb、Cs)は任意成分である。ガラスの軟化点を下げ、熱膨張係数を高める成分である。低温で軟化する低融点ガラスにしたい場合にはアルカリ金属イオンの合計量はカチオン%で3〜21%であり、好ましくは5〜19%であり、より好ましくは6〜18%である。一方、低温では軟化しないフィラーガラスにしたい場合にはアルカリ金属イオンの合計量はカチオン%で5%以下であり、好ましくは3%以下であり、より好ましくは1%以下である。 Alkali metal ions (Li + , Na + , K + , Rb + , Cs + ) are optional components. It is a component that lowers the softening point of glass and increases the coefficient of thermal expansion. When a low melting point glass softening at low temperature is desired, the total amount of alkali metal ions is 3 to 21% cation%, preferably 5 to 19%, and more preferably 6 to 18%. On the other hand, when filler glass that does not soften at low temperatures is desired, the total amount of alkali metal ions is 5% or less, preferably 3% or less, more preferably 1% or less in terms of cation%.

アルカリ金属イオンの中でもLiは熱膨張係数を高める効果が比較的弱いイオンであるため、低い軟化点と低い熱膨張係数を両立させたい場合にはLiを含有させることが好ましい。低温で軟化する低融点ガラスにしたい場合にはLiはカチオン%で3〜21%であり、好ましくは5〜19%であり、より好ましくは6〜18%である。一方、低温では軟化しないフィラーガラスにしたい場合にはLiはカチオン%で6%以下であり、好ましくは4%以下であり、より好ましくは2%以下である。 Among the alkali metal ions, Li + is an ion that has a relatively weak effect of increasing the thermal expansion coefficient. Therefore, when it is desired to achieve both a low softening point and a low thermal expansion coefficient, it is preferable to include Li + . When a low melting point glass that softens at a low temperature is desired, Li + is 3 to 21% cation%, preferably 5 to 19%, and more preferably 6 to 18%. On the other hand, when a filler glass that does not soften at a low temperature is desired, Li + is 6% or less in cation%, preferably 4% or less, and more preferably 2% or less.

Mg2+、Ca2+、Sr2+は任意成分である。ガラスを安定化させ、屈折率を高める成分である。一方でこれらの含有量が多くなると失透しやすくなり、融点も高くなりガラスの溶融が困難になる。そのため、Mg2+、Ca2+、Sr2+の合計はカチオン%で好ましくは15%以下であり、より好ましくは10%以下であり、更に好ましくは5%以下である。 Mg 2+ , Ca 2+ and Sr 2+ are optional components. It is a component that stabilizes the glass and increases the refractive index. On the other hand, if these contents increase, it will become easy to devitrify, melting | fusing point will also become high, and it will become difficult to fuse | melt glass. Therefore, the total of Mg 2+ , Ca 2+ and Sr 2+ is cation%, preferably 15% or less, more preferably 10% or less, and further preferably 5% or less.

La3+、Gd3+、Yb3+、Hf4+、Ta5+は任意成分である。これらは重元素イオンでありX線を吸収する上、ガラスを着色することもない。一方でこれらの含有量が多くなると屈折率は高くなり、失透しやすくなり、融点も高くなりガラスの溶融が困難になる。そのため、La3+、Gd3+、Yb3+、Hf4+、Ta5+の合計はカチオン%で好ましくは15%以下であり、より好ましくは10%以下であり、更に好ましくは5%以下である。 La 3+ , Gd 3+ , Yb 3+ , Hf 4+ and Ta 5+ are optional components. These are heavy element ions that absorb X-rays and do not color the glass. On the other hand, when these contents increase, the refractive index increases, the glass tends to devitrify, the melting point increases, and it becomes difficult to melt the glass. Therefore, the total of La 3+ , Gd 3+ , Yb 3+ , Hf 4+ , Ta 5+ is cation%, preferably 15% or less, more preferably 10% or less, and further preferably 5% or less.

その他の元素も本件発明のガラスの特性を損なわない範囲で加えることができる。5族〜11族の遷移金属イオン(但しTa5+を除く)は着色を生じ透明性を損なうおそれがある。Pb2+は環境有害成分であり実質的に含有しないことが好ましい。ここで、「実質的に含有しない」とは不可避的に不純物として含有する場合であっても質量濃度で1000ppm未満であることをいう。より好ましくはPb2+は100ppm未満である。 Other elements can be added as long as the characteristics of the glass of the present invention are not impaired. Transition metal ions of Group 5 to Group 11 (excluding Ta 5+ ) may cause coloration and impair transparency. Pb 2+ is an environmentally harmful component and is preferably not substantially contained. Here, “substantially does not contain” means that it is less than 1000 ppm in terms of mass concentration even if it is inevitably contained as an impurity. More preferably Pb 2+ is less than 100 ppm.

そのため、Si4+、B3+、Al3+、Ba2+、Li、Na、K、Rb、Cs、Mg2+、Ca2+、Sr2+、La3+、Gd3+、Yb3+、Hf4+、Ta5+の合計はカチオン%で好ましくは90%以上であり、より好ましくは97%以上であり、更に好ましくは99%以上である。 Therefore, Si 4+ , B 3+ , Al 3+ , Ba 2+ , Li + , Na + , K + , Rb + , Cs + , Mg 2+ , Ca 2+ , Sr 2+ , La 3+ , Gd 3+ , Yb 3+ , Hf 4+ , The total of Ta 5+ is cation%, preferably 90% or more, more preferably 97% or more, and further preferably 99% or more.

アニオンであるCl、Br、Iは化学的耐久性を損なうおそれがある。
そのため、O2−、F、の合計はアニオン%で好ましくは90%以上であり、より好ましくは97%以上であり、更に好ましくは99%以上である。
Anions such as Cl , Br and I may impair chemical durability.
Therefore, the total of O 2− and F is preferably 90% or more, more preferably 97% or more, and further preferably 99% or more in terms of anion%.

本発明のガラスのX線吸収能力は式1により算出する線吸収係数μ(cm−1)により表される。ここでρglassはガラスの密度(g/cm)、wはガラス中の元素iの質量分率、(μen/ρ)は元素iの質量吸収係数(cm/g)である。

Figure 2017114719
The X-ray absorption capacity of the glass of the present invention is represented by the linear absorption coefficient μ (cm −1 ) calculated by Equation 1. Here, ρ glass is the glass density (g / cm 3 ), w i is the mass fraction of element i in the glass, and (μ en / ρ) i is the mass absorption coefficient (cm 2 / g) of element i. .
Figure 2017114719

質量吸収係数はNISTが公表しているデータ(非特許文献1)を用いることができる。例えば、X線のエネルギーが100keVであるときの質量吸収係数は表1の通りである。 As the mass absorption coefficient, data published by NIST (Non-Patent Document 1) can be used. For example, Table 1 shows the mass absorption coefficient when the energy of X-rays is 100 keV.

Figure 2017114719
Figure 2017114719

本発明のガラスの100keVにおける線吸収係数μ(cm−1)は1.0以上であることが好ましく、1.3以上であることがより好ましい。 The linear absorption coefficient μ (cm −1 ) at 100 keV of the glass of the present invention is preferably 1.0 or more, and more preferably 1.3 or more.

本発明のガラスのg線(約436nm)における屈折率は、感光性ペーストを露光する際の光散乱を抑制するため、感光性ペーストに用いられる有機成分と同等の値であると良い。したがって屈折率の値は好ましくは1.520〜1.620、より好ましくは1.530〜1.610、更に好ましくは1.540〜1.600である。   The refractive index at g-line (about 436 nm) of the glass of the present invention is preferably the same value as the organic component used in the photosensitive paste in order to suppress light scattering when the photosensitive paste is exposed. Therefore, the value of the refractive index is preferably 1.520 to 1.620, more preferably 1.530 to 1.610, and still more preferably 1.540 to 1.600.

本発明のガラスの軟化点(後述する測定条件におけるDTAの軟化点)は、低温で軟化する低融点ガラスとする場合には500〜700℃とする。このようにすることにより、隔壁に用いる低融点ガラスとして優れたものとなる。隔壁作製プロセスを低温で行うには軟化点は650℃以下であることが好ましい。軟化点は上記した各成分の特徴に基づいて適宜調整することができる。   The softening point of the glass of the present invention (DTA softening point under the measurement conditions described later) is 500 to 700 ° C. when it is a low-melting glass that softens at low temperatures. By doing in this way, it becomes the thing excellent as low melting glass used for a partition. In order to perform the partition wall manufacturing process at a low temperature, the softening point is preferably 650 ° C. or lower. The softening point can be appropriately adjusted based on the characteristics of each component described above.

一方でフィラーガラスとする場合に適した軟化点は、これと組み合わせる低融点ガラスの軟化点により定まる。フィラーガラスの軟化点は低融点ガラスよりも50℃以上高ければよい。多くの低融点ガラスと適合するフィラーガラスとして好ましい軟化点は、650〜850℃である。このようにすることにより、低温では軟化しないため、低融点ガラスと組み合わせるフィラー用ガラスとして優れている。   On the other hand, the softening point suitable for the filler glass is determined by the softening point of the low melting point glass combined therewith. The softening point of filler glass should just be 50 degreeC or more higher than low melting glass. A preferred softening point for filler glass compatible with many low melting glass is 650-850 ° C. By doing in this way, since it does not soften at low temperature, it is excellent as glass for fillers combined with low melting glass.

本発明のガラスの熱膨張係数は特に限定されない。シンチレータパネルの基板材料の熱膨張係数は各種異なった値であり、低融点ガラスとフィラーとを混合した結果の熱膨張係数が、シンチレータパネルの基板材料と近い熱膨張係数であれば良いためである。例えば、ソーダライムガラス基板の熱膨張係数は約90×10−7/K、アルミナ基板の熱膨張係数は約70×10−7/Kである。多くの基板材料と適合するガラスとして好ましい熱膨張係数は(60〜100)×10−7/Kである。 The thermal expansion coefficient of the glass of the present invention is not particularly limited. This is because the thermal expansion coefficient of the substrate material of the scintillator panel has various values, and the thermal expansion coefficient as a result of mixing the low melting point glass and the filler may be a thermal expansion coefficient close to the substrate material of the scintillator panel. . For example, the soda lime glass substrate has a thermal expansion coefficient of about 90 × 10 −7 / K, and the alumina substrate has a thermal expansion coefficient of about 70 × 10 −7 / K. The preferred coefficient of thermal expansion for glass compatible with many substrate materials is (60-100) × 10 −7 / K.

本発明におけるガラスは、慣用の方法で製造することができる。材料としては、本発明におけるガラスの各成分の供給源となる化合物を出発原料として使用すればよい。例えばBのためにHBO、B等を用いることができる。また例えばAlのためにAl(OH)、Al、AlF等を用いることができる。他の成分についても、SiO、BaCO、LiCO等のように、各種酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩等、ガラスの製造で通常に用いられる出発原料を採用することができる。そして、これらを所定の割合で含有する混合物を出発原料として用いて混合物の溶融を行う。 The glass in the present invention can be produced by a conventional method. As a material, a compound serving as a supply source of each component of the glass in the present invention may be used as a starting material. For example B 2 H 3 BO 3 for O 3, B 2 O 3 or the like can be used. Also it is possible to use Al (OH) 3, Al 2 O 3, AlF 3 , etc. For example Al 2 O 3. As for other components, it is possible to employ starting materials usually used in the production of glass, such as various oxides, hydroxides, carbonates, nitrates, etc., such as SiO 2 , BaCO 3 , Li 2 CO 3. it can. And a mixture containing these in a predetermined ratio is used as a starting material, and the mixture is melted.

本発明のガラスは、例えば、原料化合物を混合することにより混合物を得る第1工程及び得られた混合物を溶融することにより溶融物を得る第2工程を含む慣用の製造方法によって、製造できる。   The glass of the present invention can be produced, for example, by a conventional production method including a first step of obtaining a mixture by mixing raw material compounds and a second step of obtaining a melt by melting the obtained mixture.

第1工程では、意図するガラスの組成・比率となるように前記出発原料を秤量し、混合することにより混合物を調製する。この場合、各成分の原料の混合順序等は特に制限されず、同時に配合してもよく、特定の化合物順に配合してもよい。原料は、通常は粉末の形態でガラス溶融炉に供給される。そのための原料粉末は、各成分を含む原料を慣用の方法で粉砕、混合等することにより得ることができる。   In the first step, the starting material is weighed so as to have the intended composition and ratio of the glass and mixed to prepare a mixture. In this case, the order of mixing the raw materials of each component is not particularly limited, and may be blended at the same time or may be blended in a specific compound order. The raw material is usually supplied to the glass melting furnace in the form of powder. The raw material powder for that purpose can be obtained by pulverizing, mixing, etc., the raw material containing each component by a conventional method.

第2工程では、上記の混合物を溶融することにより溶融物を得る。溶融に際しては、原料の組成に応じてガラス溶融温度を設定すればよいが、通常は1300〜1600℃程度とすればよい。得られた溶融物は、必要に応じて、溶融物からそのまま粉末を製造する工程に供してもよい。例えば、溶融物を冷却ロールにて冷却しながらフレーク状粉末を得ることができる。また溶融物を冷却した後、必要に応じて粉砕、分級等の処理をすることにより粉末を得ることもできる。このように本発明のガラスは、粉末状として好適に提供することができる。   In the second step, a melt is obtained by melting the above mixture. At the time of melting, the glass melting temperature may be set according to the composition of the raw material, but usually it may be about 1300 to 1600 ° C. The obtained melt may be subjected to a process for producing a powder as it is from the melt as necessary. For example, a flaky powder can be obtained while cooling the melt with a cooling roll. Moreover, after cooling a melt, a powder can also be obtained by processes, such as a grinding | pulverization and a classification, as needed. Thus, the glass of the present invention can be suitably provided as a powder.

本発明において「X%粒子径」とは、レーザー回折・散乱式粒度分布計を用いて測定した体積基準の粒度分布において小粒子径側から数えて累積X%となる粒子径をいう。また、本発明において「最大粒子径」の語は、99.9%粒子径をいう。   In the present invention, the “X% particle size” refers to a particle size that is cumulative X% counted from the small particle size side in a volume-based particle size distribution measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution meter. In the present invention, the term “maximum particle diameter” refers to a 99.9% particle diameter.

本発明においてガラスを粉末状とする場合、50%粒子径(D50)は、限定的ではないが、通常は50μm以下の範囲内において使用形態、用途等に応じて適宜調節することできる。例えばガラスの粉末を用いてペーストを調製する場合は、次に述べる粒度に調整すればよい。 In the present invention, when the glass is powdered, the 50% particle size (D 50 ) is not limited, but can be appropriately adjusted in accordance with the use form, application, etc., usually within a range of 50 μm or less. For example, when a paste is prepared using glass powder, the particle size may be adjusted as described below.

本発明におけるガラス粉末を用いて感光性ペーストを調製することができる。即ち、バインダーの少なくとも1種と溶剤とガラス粉末とを用い、主としてバインダーポリマー、光重合性多官能モノマー(又はオリゴマー)、光重合開始剤、その他の添加物からなるビヒクル中に、ガラス粉末を均一に分散させればよい。   A photosensitive paste can be prepared using the glass powder in the present invention. That is, using at least one binder, a solvent, and glass powder, the glass powder is uniformly distributed in a vehicle mainly composed of a binder polymer, a photopolymerizable polyfunctional monomer (or oligomer), a photopolymerization initiator, and other additives. What is necessary is just to disperse.

本発明においてガラス粉末の50%粒子径(D50)は、特に限定されないが、通常は0.1〜10μmとし、特に0.5〜5μmとすることが好ましい。50%粒子径が0.1μm未満である場合には、ペーストを作製する際、樹脂分が多く必要となり、焼成前後での体積収縮の程度が大きくなるほか、粒子の強固な凝集によりペースト中での分散性が悪化する恐れがある。50%粒子径が10μm以上では線幅の細いパターンを作製することが困難になる。 In the present invention, the 50% particle diameter (D 50 ) of the glass powder is not particularly limited, but is usually 0.1 to 10 μm, and particularly preferably 0.5 to 5 μm. When the 50% particle size is less than 0.1 μm, a large amount of resin is required when preparing the paste, the degree of volume shrinkage before and after firing is increased, and the particles are strongly agglomerated in the paste. The dispersibility of the material may deteriorate. When the 50% particle diameter is 10 μm or more, it becomes difficult to produce a pattern having a narrow line width.

また前記粉末の最大粒子径も、限定的ではないが、通常は30μm以下とし、好ましくは20μm以下、より好ましくは15μm以下である。   The maximum particle size of the powder is not limited, but is usually 30 μm or less, preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less.

前記ガラス粉末のペースト中での濃度は、特に制限されないが、通常はペースト中60〜90重量%程度の範囲内で適宜設定することができる。   Although the density | concentration in the paste of the said glass powder is not restrict | limited in particular, Usually, it can set suitably within the range of about 60 to 90 weight% in a paste.

前記バインダーポリマーとしては、主成分であるメチルメタアクリレートと各種アクリレート、メタアクリレート、アクリルアミド、スチレン、アクリロニトリル等とアクリル酸、メタクリル酸等との共重合体及びこれにさらに各種不飽和基を付加させたもの等が挙げられる。また、前記光重合性多官能モノマー(又はオリゴマー)としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトール(トリ〜ヘキサ)アクリレート等が挙げられる。これら光重合性多官能モノマー(又はオリゴマー)は、1種のみでは特性(感度、解像度、接着性、パターニング性、現像性等)のバランスがとり難い場合があるため、2種以上を混合して使用することが好ましい。   As the binder polymer, a copolymer of methyl methacrylate as a main component and various acrylates, methacrylate, acrylamide, styrene, acrylonitrile, etc. and acrylic acid, methacrylic acid, etc., and various unsaturated groups were further added thereto. And the like. Examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer (or oligomer) include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polyalkylene glycol di (meth) acrylate, (Di) pentaerythritol (tri-hexa) acrylate and the like. Since these photopolymerizable polyfunctional monomers (or oligomers) may be difficult to balance the characteristics (sensitivity, resolution, adhesiveness, patterning property, developability, etc.) with only one kind, mix two or more kinds. It is preferable to use it.

光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン系、チオキサントン系、アンスラキノン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系等が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone series, thioxanthone series, anthraquinone series, acetophenone series, and benzoin ether series.

その他、感光性ガラスペーストの調製においては、必要に応じて熱重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、増感剤、分散剤、溶剤等を添加物として加えることができる。   In addition, in the preparation of the photosensitive glass paste, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a thickener, a sensitizer, a dispersant, a solvent, and the like can be added as additives as necessary.

その他、ガラスペーストの調製においては、必要に応じて常法により、可塑剤、増粘剤、分散剤、溶剤等を添加物として適宜加えることができる。   In addition, in the preparation of the glass paste, a plasticizer, a thickener, a dispersant, a solvent, and the like can be appropriately added as an additive by a conventional method as necessary.

本発明のX線吸収ガラスの用途は限定的ではないが、好ましくは感光性ペースト法による構造体の形成に用いる。本発明では、この中でも、特に放射線検出装置のシンチレータパネルにおいて蛍光体を収容(格納)する隔壁を形成するために本発明のX線吸収ガラスを好適に用いることができる。   The use of the X-ray absorbing glass of the present invention is not limited, but it is preferably used for forming a structure by a photosensitive paste method. In the present invention, among these, the X-ray absorption glass of the present invention can be preferably used in order to form a partition for housing (storing) a phosphor in a scintillator panel of a radiation detection apparatus.

図1には、放射線検出装置の構造の概略図を示す。この放射線検出装置10は、放射線透過性基板11上に緩衝層16を介して隔壁13が形成されており、隔壁で囲まれた領域(セル)に蛍光体(シンチレータ)12が収容され、さらにその上に光電変換層(図示せず)を有する出力基板15が設けられている。シンチレータパネル14は、図1に示すように、放射線透過性基板11、蛍光体12及び隔壁13から構成されている。図1では、より効果的に隔壁を形成するための緩衝層16が設けられているが、緩衝層16が省略された構造であっても良い。また、図1では、隔壁は、各セルの側面のみに形成されているが、必要に応じて各セルの底面も隔壁で構成することもできる。   FIG. 1 shows a schematic diagram of the structure of the radiation detection apparatus. In this radiation detection apparatus 10, a partition wall 13 is formed on a radiation transmissive substrate 11 via a buffer layer 16, and a phosphor (scintillator) 12 is accommodated in a region (cell) surrounded by the partition wall. An output substrate 15 having a photoelectric conversion layer (not shown) is provided thereon. As shown in FIG. 1, the scintillator panel 14 includes a radiation transmissive substrate 11, a phosphor 12, and a partition wall 13. In FIG. 1, the buffer layer 16 for forming the partition wall more effectively is provided, but a structure in which the buffer layer 16 is omitted may be used. In FIG. 1, the partition walls are formed only on the side surfaces of each cell. However, the bottom surfaces of each cell can also be configured by the partition walls as necessary.

図1の隔壁において、隔壁を構成する材質以外の構成・構造自体は、公知又は市販の放射線検出装置(あるいはシンチレータパネル)と同様とすることができる。   In the partition wall shown in FIG. 1, the configuration / structure itself other than the material constituting the partition wall can be the same as that of a known or commercially available radiation detector (or scintillator panel).

以下、実施例を参照して本発明の特徴をより具体的に説明するが、本発明がそれらの実施例に限定されることは意図しない。
〔出発原料〕
実施例及び比較例のガラス組成物を作製するために用いた出発原料は、以下の通りである:SiO、HBO、Al(OH)、AlF、BaCO、BaF、LiCO、KCO、及びYb
Hereinafter, the features of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not intended to be limited to these examples.
[Starting materials]
The starting materials used to make the glass compositions of Examples and Comparative Examples are as follows: SiO 2, H 3 BO 3 , Al (OH) 3, AlF 3, BaCO 3, BaF 2, Li 2 CO 3, K 2 CO 3 , and Yb 2 O 3.

〔ガラスの製造〕
酸化物及びフッ化物基準のモル%で、表2にそれぞれ示した組成となり、100gのガラスが得られるように上記出発原料を調合し、混合した後、500ccの白金質のルツボを用いて1300〜1400℃の温度で1〜2時間溶融した。融液をステンレススチール製の冷却ロールにて急冷し、厚さ0.3〜0.6mmのガラスフレークを作製した。次いでこのガラスフレークを粉砕し、気流分級により、平均粒径(D50)1〜4μm、最大粒径20μm以下の粉末ガラスを得た。なお、粉末ガラスの粒径はレーザー散乱式粒度分布測定機を用いて測定し、それにより気流分級条件を求めた。
[Production of glass]
The above starting materials were prepared and mixed so as to obtain 100 g of glass in mol% based on oxide and fluoride, respectively, and 1300 g using a 500 cc platinum crucible. It melted at a temperature of 1400 ° C. for 1-2 hours. The melt was quenched with a stainless steel cooling roll to produce glass flakes having a thickness of 0.3 to 0.6 mm. Next, the glass flakes were pulverized, and powder glass having an average particle diameter (D 50 ) of 1 to 4 μm and a maximum particle diameter of 20 μm or less was obtained by air classification. In addition, the particle size of the powder glass was measured using a laser scattering type particle size distribution measuring machine, thereby obtaining the air classification conditions.

また、同様にして溶融した融液をカーボン製の型に流し出し、徐冷した後、所定形状に切り出して屈折率測定、又は熱膨張係数測定用の試験片とした。   Similarly, the melt melt was poured into a carbon mold, slowly cooled, cut into a predetermined shape, and used as a test piece for refractive index measurement or thermal expansion coefficient measurement.

なお、酸化物及びフッ化物基準のモル%をカチオン%、アニオン%に換算した値も表2に示す。   Table 2 also shows values obtained by converting mol% on the oxide and fluoride basis into cation% and anion%.

〔各評価試料の作製〕
1.屈折率:溶融して得られた上記ガラスを7mm以上×7mm以上×7mm以上の直方体状に加工し、屈折率測定用試料とした。
2.ガラスの示差熱分析:気流分級により得られた上記粉末ガラスを示差熱分析(DTA)用試料とした。
3.ガラスの熱膨張係数測定:溶融して得られた上記ガラスを5mm径×15mm長のロッド状に加工し、熱膨張係数測定用試料とした。
[Preparation of each evaluation sample]
1. Refractive index: The glass obtained by melting was processed into a rectangular parallelepiped shape of 7 mm or more × 7 mm or more × 7 mm or more to obtain a sample for refractive index measurement.
2. Differential thermal analysis of glass: The powdered glass obtained by airflow classification was used as a sample for differential thermal analysis (DTA).
3. Measurement of thermal expansion coefficient of glass: The glass obtained by melting was processed into a rod shape having a diameter of 5 mm and a length of 15 mm to obtain a sample for measuring a thermal expansion coefficient.

〔各物性の評価方法〕
1.屈折率
各ガラスのヘリウムg線における屈折率を、精密屈折計(型名「KPR200」、(株)島津デバイス製造製)を用いて、Vブロック法により測定した。
[Evaluation methods for each physical property]
1. Refractive Index The refractive index of each glass at the helium g line was measured by a V-block method using a precision refractometer (model name “KPR200”, manufactured by Shimadzu Corporation).

2.密度
各ガラスの密度を、それらのバルクを用いてアルキメデス法により測定した。
2. Density The density of each glass was measured by the Archimedes method using their bulk.

3.ガラス転移点、屈伏点、軟化点
各ガラスの粉末状試料の約50mgを白金セルに入れ、アルミナ粉末を標準試料として、大気雰囲気下に、示差熱分析装置(型名「TG−8120」、(株)リガク製)を用いて室温から20K/分の昇温速度でDTA曲線を得た。最初の吸熱ピークの開始点(外挿点)をガラス転移点とし、その吸熱ピークの頂点(外挿点)の温度を屈伏点とした。第2の吸熱ピークの開始点(外挿点)を軟化点とした。
3. Glass transition point, yield point, softening point Approximately 50 mg of each glass powder sample is put in a platinum cell, and alumina powder is used as a standard sample in a differential thermal analyzer (model name “TG-8120”, ( DTA curve was obtained from room temperature at a heating rate of 20 K / min. The starting point (extrapolated point) of the first endothermic peak was defined as the glass transition point, and the temperature at the apex (extrapolated point) of the endothermic peak was defined as the yield point. The starting point (extrapolated point) of the second endothermic peak was taken as the softening point.

4.熱膨張係数(α)
各ガラス及びガラス焼成物の実施例及び比較例のロッド状試料と石英ガラスにより形成された標準試料とを、熱機械測定装置(型名「TMA8310」、(株)リガク製)を用いて、室温から10K/分で昇温して熱膨張曲線の測定を行い、50℃〜400℃までに観測される熱膨張係数の値を平均して各試料の熱膨張係数とした。
4). Thermal expansion coefficient (α)
Using the thermomechanical measuring device (model name “TMA8310”, manufactured by Rigaku Co., Ltd.), the rod-shaped samples of Examples and Comparative Examples of each glass and glass fired product and a standard sample formed of quartz glass were used at room temperature. Then, the temperature was increased at 10 K / min and the thermal expansion curve was measured, and the thermal expansion coefficient values observed from 50 ° C. to 400 ° C. were averaged to obtain the thermal expansion coefficient of each sample.

5.線吸収係数(μ)
各ガラスの組成を質量分率に換算し、密度の実測値、100keVにおける質量吸収係数の文献値を用いて算出した。
5. Linear absorption coefficient (μ)
The composition of each glass was converted into a mass fraction and calculated using the measured density value and the literature value of the mass absorption coefficient at 100 keV.

〔物性の評価〕
各実施例及び比較例で得られたサンプルを用いて各物性をそれぞれ測定した。結果を表2に示す。
[Evaluation of physical properties]
Each physical property was measured using the samples obtained in each Example and Comparative Example. The results are shown in Table 2.

Figure 2017114719
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表2に示すとおり、本発明の実施例のガラスは透明であり、屈折率が1.52〜1.62の範囲内にあり、感光性ペースト法に適している。更に、実施例1〜10は軟化点が低く、低融点ガラスとして適している。実施例11〜13は軟化点が高く、フィラーガラスに適している。一方、比較例1、2のガラスは分相によって白濁しており、感光性ペースト法に適さない。比較例3のガラスは線吸収係数が小さい点でX線吸収に適さない。比較例4のガラスは屈折率が高い点で感光性ペースト法に適さない。   As shown in Table 2, the glass of the example of the present invention is transparent, has a refractive index in the range of 1.52 to 1.62, and is suitable for the photosensitive paste method. Further, Examples 1 to 10 have low softening points and are suitable as low melting point glasses. Examples 11 to 13 have high softening points and are suitable for filler glass. On the other hand, the glasses of Comparative Examples 1 and 2 are cloudy due to phase separation and are not suitable for the photosensitive paste method. The glass of Comparative Example 3 is not suitable for X-ray absorption because it has a small linear absorption coefficient. The glass of Comparative Example 4 is not suitable for the photosensitive paste method because of its high refractive index.

本発明のX線吸収ガラスは、感光性ペースト法に用いることができ、特に、シンチレータパネルの製造に有用である。 The X-ray absorption glass of the present invention can be used for a photosensitive paste method, and is particularly useful for the production of a scintillator panel.

10 放射線検出装置
11 放射線透過性基板
12 シンチレータ(蛍光体)
13 隔壁
14 シンチレータパネル
15 出力基板
16 緩衝層

10 radiation detector 11 radiation transmissive substrate 12 scintillator (phosphor)
13 Bulkhead
14 Scintillator panel 15 Output board 16 Buffer layer

Claims (11)

カチオン成分としてSi4+、B3+、Al3+、Ba2+を含有し、
カチオン%で、
Si4+ 18〜40%、
3+ 18〜46%、
Al3+ 8〜20%、
Ba2+ 5〜25%、
であり、
アニオン成分としてO2−、Fを含有し、
アニオン%で、
2− 52〜90%、
10〜48%である、X線吸収ガラス。
Containing Si 4+ , B 3+ , Al 3+ , Ba 2+ as a cation component,
% Cation,
Si 4+ 18-40%,
B 3+ 18-46%,
Al 3+ 8-20%,
Ba 2+ 5-25%,
And
Containing O 2− and F as anionic components,
Anion%
O 2- 52-90%,
F X-ray absorbing glass that is 10% to 48%.
g線における屈折率が1.52〜1.62である、請求項1に記載のX線吸収ガラス。   The X-ray absorption glass of Claim 1 whose refractive index in g line | wire is 1.52-1.62. 100keVのX線に対する線吸収係数が1.0cm−1以上である請求項1または請求項2に記載のX線吸収ガラス。 The X-ray absorption glass according to claim 1 or 2, wherein a linear absorption coefficient for 100 keV X-rays is 1.0 cm -1 or more. カチオン%で、
Si4+ 21〜36%、
3+ 21〜43%、
Al3+ 11〜17%、
Ba2+ 13〜22%、
であり、
アニオン%で、
2− 58〜86%、
14〜42%であり、
X線吸収係数が1.3cm−1以上であり、
g線における屈折率が1.55〜1.60である、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のX線吸収ガラス。
% Cation,
Si 4+ 21-36%,
B 3+ 21-43%,
Al 3+ 11-17%,
Ba 2+ 13-22%,
And
Anion%
O 2 58-86%,
F - 14-42%,
The X-ray absorption coefficient is 1.3 cm −1 or more,
X-ray absorption glass of any one of Claim 1- Claim 3 whose refractive index in g line | wire is 1.55-1.60.
50℃〜400℃における熱膨張係数が60〜100×10−7/Kである請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のX線吸収ガラス。 The X-ray absorption glass according to any one of claims 1 to 4, wherein a thermal expansion coefficient at 50 ° C to 400 ° C is 60 to 100 × 10 -7 / K. カチオン成分としてアルカリ金属イオンを含有し、アルカリ金属イオンの合計の含有率が、カチオン%で、3〜21%であり、軟化点が500〜700℃である、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のX線吸収ガラス。   The alkali metal ion is contained as a cation component, the total content of alkali metal ions is 3 to 21% in terms of cation%, and the softening point is 500 to 700 ° C. The X-ray absorption glass of any one of Claims. カチオン成分としてLiを含有し、カチオン%で、Li 3〜21%であり、軟化点が500〜700℃である、請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載のX線吸収ガラス。 Containing Li + as a cationic component, in cation percent, Li + 3 to 21%, a softening point of 500 to 700 ° C., X-ray according to any one of claims 1 to 6 Absorption glass. カチオン成分としてアルカリ金属イオンの合計の含有率が、カチオン%で、0〜5%であり、軟化点が650〜850℃である、請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載のX線吸収ガラス。   The total content of alkali metal ions as a cation component is 0 to 5% in terms of cation%, and the softening point is 650 to 850 ° C, according to any one of claims 1 to 7. X-ray absorption glass. Pb2+を実質的に含有しない請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載のX線吸収ガラス。 X-ray absorption glass of any one of Claim 1- Claim 8 which does not contain Pb2 + substantially. 体積基準の粒度分布における50%粒子径が0.1〜10μmであり、感光性ガラスペースト用の、請求項1から請求項9までのいずれか1項に記載のX線吸収ガラス。   The X-ray absorption glass according to any one of claims 1 to 9, wherein a 50% particle diameter in a volume-based particle size distribution is from 0.1 to 10 µm, and is used for a photosensitive glass paste. 光重合性多官能モノマー又はオリゴマー、光重合開始剤、及び、請求項10に記載のX線吸収ガラスを含んでなる感光性ペースト。 A photosensitive paste comprising a photopolymerizable polyfunctional monomer or oligomer, a photopolymerization initiator, and the X-ray absorbing glass according to claim 10.
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