JP2017095326A - M-CONTAINING SILICON MATERIAL, WHERE M IS AT LEAST ONE ELEMENT SELECTED FROM Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn OR Au, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - Google Patents

M-CONTAINING SILICON MATERIAL, WHERE M IS AT LEAST ONE ELEMENT SELECTED FROM Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn OR Au, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR Download PDF

Info

Publication number
JP2017095326A
JP2017095326A JP2015231331A JP2015231331A JP2017095326A JP 2017095326 A JP2017095326 A JP 2017095326A JP 2015231331 A JP2015231331 A JP 2015231331A JP 2015231331 A JP2015231331 A JP 2015231331A JP 2017095326 A JP2017095326 A JP 2017095326A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon material
polysilane
acid
containing silicon
active material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015231331A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6635292B2 (en
Inventor
彩人 井山
Ayato Iyama
彩人 井山
合田 信弘
Nobuhiro Aida
信弘 合田
敬史 毛利
Takashi Mori
敬史 毛利
正則 原田
Masanori Harada
正則 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Industries Corp
Original Assignee
Toyota Industries Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Industries Corp filed Critical Toyota Industries Corp
Priority to JP2015231331A priority Critical patent/JP6635292B2/en
Publication of JP2017095326A publication Critical patent/JP2017095326A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6635292B2 publication Critical patent/JP6635292B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/13Energy storage using capacitors

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel silicon material which functions as an anode active material.SOLUTION: There is provided an M-containing silicon material containing an M element, where M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au, having a crystal structure. There is provided a manufacturing method including a process for cooling a molten metal containing Ca, M and Si to obtain an M-containing calcium silicate, a process for reacting the M-containing calcium silicate with acid to obtain M-containing polysilane and a process of heating the M-containing polysilane at 300°C or more.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、M含有シリコン材料(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an M-containing silicon material (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, or Au) and a manufacturing method thereof.

シリコン材料は半導体、太陽電池、二次電池などの構成要素として用いられることが知られており、そして、近年、シリコン材料に関する研究が活発に行われている。   Silicon materials are known to be used as components of semiconductors, solar cells, secondary batteries and the like, and in recent years, research on silicon materials has been actively conducted.

例えば、非特許文献1には、CaSiを酸と反応させて層状ポリシランを合成することが記載されている。 For example, Non-Patent Document 1 describes that layered polysilane is synthesized by reacting CaSi 2 with an acid.

特許文献1には、CaSiを酸と反応させて層状ポリシランを合成することが記載されており、当該層状ポリシランを活物質として具備するリチウムイオン二次電池が好適な容量を示すことが記載されている。 Patent Document 1 describes that CaSi 2 is reacted with an acid to synthesize layered polysilane, and that a lithium ion secondary battery including the layered polysilane as an active material exhibits a suitable capacity. ing.

また、特許文献2には、珪素、アルミニウム、鉄、チタンからなる合金が記載されており、該合金を負極活物質としたリチウムイオン二次電池が記載されている。   Patent Document 2 describes an alloy made of silicon, aluminum, iron, and titanium, and describes a lithium ion secondary battery using the alloy as a negative electrode active material.

特許文献3には、CaSiを酸と反応させて層状ポリシランを合成し、当該層状ポリシランを300℃以上で加熱して水素を離脱させたシリコン材料を製造したこと、及び、当該シリコン材料を活物質として具備するリチウムイオン二次電池が好適な容量維持率を示すことが記載されている。 In Patent Document 3, a layered polysilane was synthesized by reacting CaSi 2 with an acid, and the layered polysilane was heated at 300 ° C. or higher to produce a silicon material from which hydrogen was released, and the silicon material was activated. It is described that the lithium ion secondary battery provided as a substance exhibits a suitable capacity maintenance rate.

また、本発明者らは、特許文献4にて、珪素、カルシウム及び銅からなる合金を製造し、当該合金を原料としてシリコン材料を製造したことを報告している。   Moreover, the present inventors have reported in Patent Document 4 that an alloy made of silicon, calcium and copper was manufactured, and a silicon material was manufactured using the alloy as a raw material.

特開2011−090806号公報JP 2011-090806 A 特表2009−517850号公報Special table 2009-517850 国際公開第2014/080608号International Publication No. 2014/080608 特願2014−110821号Japanese Patent Application No. 2014-110821

PHYSICAL REVIEW B, Volume48, 1993, p.8172-p.8189PHYSICAL REVIEW B, Volume48, 1993, p.8172-p.8189

上述したように、シリコン材料の研究が熱心に行われており、そして、半導体、太陽電池、二次電池などの技術分野において、新しいシリコン材料の提供が熱望されている。   As described above, research on silicon materials has been conducted eagerly, and provision of new silicon materials is eagerly desired in the technical fields such as semiconductors, solar cells, and secondary batteries.

本発明は、かかる事情に鑑みて為されたものであり、新しいシリコン材料及びその製造方法を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of this situation, and it aims at providing a new silicon material and its manufacturing method.

本発明者は、新しいシリコン材料を提供すべく、試行錯誤を繰り返して鋭意検討した。そして、Ca、Si及びSnを加熱して製造した溶湯を冷却したところ、特許文献4で得られたような3成分の合金ではなく、CaSiマトリックスにSn単体が分散しているものが得られることを発見した。そして、上記CaSiマトリックスからポリシランを合成し、さらに、ポリシランから水素を離脱させたシリコン材料を合成して、当該シリコン材料を試験したところ、当該シリコン材料が負極活物質として好適に機能することを本発明者は知見し、本発明を完成させた。 The present inventor has intensively studied through trial and error in order to provide a new silicon material. And when the molten metal manufactured by heating Ca, Si and Sn is cooled, not the three-component alloy obtained in Patent Document 4, but a material in which Sn alone is dispersed in a CaSi 2 matrix is obtained. I discovered that. Then, polysilane is synthesized from the CaSi 2 matrix, and further, a silicon material from which hydrogen is released from the polysilane is synthesized, and the silicon material is tested. The silicon material functions suitably as a negative electrode active material. The inventor has found out and completed the present invention.

すなわち、本発明のM含有シリコン材料は、結晶構造を有するM単体(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)を含有することを特徴とする。   That is, the M-containing silicon material of the present invention is characterized by containing M alone having a crystal structure (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, or Au).

本発明のM含有シリコン材料の製造方法は、
Ca、M(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)及びSiを含む溶湯を冷却してM含有珪化カルシウムを得る工程、
前記M含有珪化カルシウムを酸と反応させてM含有ポリシランを得る工程、
前記M含有ポリシランを300℃以上で加熱する工程、
を含むことを特徴とする。
The method for producing the M-containing silicon material of the present invention includes:
A step of cooling the molten metal containing Ca, M (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au) and Si to obtain M-containing calcium silicide,
Reacting the M-containing calcium silicide with an acid to obtain an M-containing polysilane;
Heating the M-containing polysilane at 300 ° C. or higher;
It is characterized by including.

本発明のM含有シリコン材料は、好適なシリコン材料となり得る。   The M-containing silicon material of the present invention can be a suitable silicon material.

実施例1のM含有シリコン材料のX線回折プロファイルである。2 is an X-ray diffraction profile of an M-containing silicon material of Example 1. FIG. 実施例1のM含有珪化カルシウムの粒子の断面の走査型電子顕微鏡画像である。2 is a scanning electron microscope image of a cross section of the M-containing calcium silicide particles of Example 1. FIG. 実施例1のM含有シリコン材料の粒子の断面の走査型電子顕微鏡画像である。2 is a scanning electron microscope image of a cross section of particles of the M-containing silicon material of Example 1. FIG. 評価例3におけるサイクル数と容量維持率との関係のグラフである。It is a graph of the relationship between the cycle number in Evaluation Example 3 and a capacity maintenance rate.

以下に、本発明を実施するための最良の形態を説明する。なお、特に断らない限り、本明細書に記載された数値範囲「x〜y」は、下限xおよび上限yをその範囲に含む。そして、これらの上限値および下限値、ならびに実施例中に列記した数値も含めてそれらを任意に組み合わせることで数値範囲を構成し得る。さらに数値範囲内から任意に選択した数値を上限、下限の数値とすることができる。   The best mode for carrying out the present invention will be described below. Unless otherwise specified, the numerical range “x to y” described in this specification includes the lower limit x and the upper limit y. The numerical range can be configured by arbitrarily combining these upper limit value and lower limit value and the numerical values listed in the examples. Furthermore, numerical values arbitrarily selected from the numerical value range can be used as upper and lower numerical values.

本発明のM含有シリコン材料は、結晶構造を有するM単体(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)を含有することを特徴とする。   The M-containing silicon material of the present invention is characterized by containing M alone having a crystal structure (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, or Au).

本発明のM含有シリコン材料の製造方法は、
Ca、M(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)及びSiを含む溶湯を冷却してM含有珪化カルシウムを得る工程、
前記M含有珪化カルシウムを酸と反応させてM含有ポリシランを得る工程、
前記M含有ポリシランを300℃以上で加熱する工程、
を含むことを特徴とする。
The method for producing the M-containing silicon material of the present invention includes:
A step of cooling the molten metal containing Ca, M (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au) and Si to obtain M-containing calcium silicide,
Reacting the M-containing calcium silicide with an acid to obtain an M-containing polysilane;
Heating the M-containing polysilane at 300 ° C. or higher;
It is characterized by including.

以下、M含有シリコン材料の製造方法に沿って、本発明を説明する。   Hereinafter, the present invention will be described along with a method for producing an M-containing silicon material.

まず、Ca、M(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)及びSiを含む溶湯を冷却してM含有珪化カルシウムを得る工程(以下、第一工程ということがある。)について説明する。第一工程で用いられるCa、M及びSiとしては、元素単体又はこれら元素の合金が好ましい。CaSiを原料として用いてもよい。 First, a step of cooling the molten metal containing Ca, M (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, or Au) and obtaining M-containing calcium silicide (hereinafter referred to as the first) (Sometimes referred to as a process). As Ca, M, and Si used in the first step, elemental elements or alloys of these elements are preferable. CaSi 2 may be used as a raw material.

MはSiと化合物を形成しない金属である。換言すると、Mは、Si単体及びM単体と、MSiなる化合物とで熱力学的な安定性を比較した場合、Si単体及びM単体の方が安定な金属である。Sn、Pb、Sb、Bi、In、Zn及びAuは、いずれもこの条件を満足する金属である。さらに、Sn、Pb、Sb、Bi、In、Zn及びAuは、いずれも電池の負極活物質として機能することが報告されており、本発明のM含有シリコン材料を、電池の負極活物質として用いる場合に有利である。   M is a metal that does not form a compound with Si. In other words, when comparing the thermodynamic stability between Si and M alone and a compound of MSi, M is a more stable metal. Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, and Au are all metals that satisfy this condition. Furthermore, Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, and Au are all reported to function as a negative electrode active material for a battery, and the M-containing silicon material of the present invention is used as a negative electrode active material for a battery. Is advantageous in some cases.

Ca、M及びSiはそれぞれを単独で溶融させた上で混合して溶湯としてもよいし、2者を混合して溶融させた上で残りの1者を混合して溶湯としてもよく、また、3者を混合して溶融させてもよい。Caの融点は842℃、Siの融点は1410℃であり、Mの融点はSnが232℃、Pbが327℃、Sbが631℃、Biが272℃、Inが157℃、Znが420℃、Auが1064℃である。そして、Caは沸点が1484℃であり、かつ飛散しやすい軽金属であるから、Caの減少を抑制するために、Caの沸点より低い温度で溶湯とするのがよい。また、CaSiの融点は1020℃であるから、CaSiを溶融させた上で、Mを混合して溶湯としてもよい。溶湯においては、所望のM含有珪化カルシウムの組成に沿って、Ca、M及びSiの配合量を決定すればよい。Caや沸点が低い金属を用いる場合は、第一工程で減少し得ることを考慮して、所望のM含有珪化カルシウムの組成よりも量を増加して配合するのが好ましい。特に、Znは沸点が907℃であるため、Znを用いる場合はZnの気化を抑制できる加圧型の装置や気密度を変化できる装置を用いることが好ましい。 Each of Ca, M and Si may be melted separately and mixed to form a molten metal, or the two may be mixed and melted, and the remaining one may be mixed to form a molten metal. Three members may be mixed and melted. The melting point of Ca is 842 ° C., the melting point of Si is 1410 ° C., the melting point of M is Sn 232 ° C., Pb is 327 ° C., Sb is 631 ° C., Bi is 272 ° C., In is 157 ° C., Zn is 420 ° C. Au is 1064 ° C. And since Ca is a light metal which has a boiling point of 1484 ° C. and easily scatters, it is preferable to use molten metal at a temperature lower than the boiling point of Ca in order to suppress a decrease in Ca. Further, since the melting point of CaSi 2 is 1020 ° C., after melting CaSi 2 , M may be mixed to form a molten metal. In a molten metal, what is necessary is just to determine the compounding quantity of Ca, M, and Si along the composition of desired M containing calcium silicide. In the case where Ca or a metal having a low boiling point is used, it is preferable that the amount is increased more than the composition of the desired M-containing calcium silicide considering that it can be reduced in the first step. In particular, since Zn has a boiling point of 907 ° C., when using Zn, it is preferable to use a pressure type device capable of suppressing the vaporization of Zn or a device capable of changing the air density.

第一工程の加熱装置としては、例えば、高周波誘導加熱装置、電気炉、ガス炉を使用することができる。溶湯工程は、加圧又は減圧条件下としてもよいし、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下としてもよい。   As the heating device in the first step, for example, a high frequency induction heating device, an electric furnace, or a gas furnace can be used. The molten metal process may be performed under pressure or reduced pressure, or in an inert gas atmosphere such as argon.

MがSn、Pb、Sb、Bi、In又はZnの場合は、前記溶湯を冷却すると、まず、層状結晶のCaSiが形成され、その後、CaSiのマトリックス中に、M単体が結晶として析出して、M含有珪化カルシウムが製造されると推定される。MがAuの場合は、前記溶湯を冷却すると、まず、溶液状態のCaSi中にAu単体が結晶として分散状態で析出し、その後、CaSiが結晶となり、M含有珪化カルシウムが製造されると推定される。M単体は、CaSiのマトリックス中に均一に分散している状態が好ましい。 When M is Sn, Pb, Sb, Bi, In, or Zn, when the molten metal is cooled, first, layered crystals of CaSi 2 are formed, and then M alone precipitates as crystals in the CaSi 2 matrix. Thus, it is estimated that M-containing calcium silicide is produced. When M is Au, when the molten metal is cooled, first, Au alone is precipitated in a dispersed state in CaSi 2 in a solution state, and then CaSi 2 becomes a crystal and M-containing calcium silicide is produced. Presumed. It is preferable that the M simple substance is uniformly dispersed in the CaSi 2 matrix.

M含有珪化カルシウムを組成式で表わすとCaMSi(0<e<1.2、1.2≦f≦3)となる。なお、上記組成式において、不可避の不純物等については考慮していない。珪化カルシウムの理想的な組成式では、f=2を満たすことになるが、M含有珪化カルシウム中にSi単体やCaSiなどが存在していても良いため、上記の組成式となる。 When the M-containing calcium silicide is expressed by a composition formula, CaM e Si f (0 <e <1.2, 1.2 ≦ f ≦ 3) is obtained. Note that inevitable impurities and the like are not considered in the above composition formula. In an ideal composition formula of calcium silicide, f = 2 is satisfied. However, since Si alone or CaSi may be present in the M-containing calcium silicide, the above composition formula is obtained.

eの値が大きすぎると、CaSiのマトリックス中にMが存在している状態が保てなくなるおそれがある。 If the value of e is too large, the state where M is present in the CaSi 2 matrix may not be maintained.

fの値が小さすぎると、CaSiのマトリックス中にMが存在している状態が保てなくなるおそれがある。また、Caの量が相対的に高くなり、M含有珪化カルシウムにおいて層状でないCa14Si19が存在することになり、本発明のM含有シリコン材料の性能に悪影響を及ぼすおそれがある。fの値が大きすぎると、Si単体の量が多くなりすぎ、本発明のM含有シリコン材料の性能に悪影響を及ぼすおそれがある。 If the value of f is too small, the state in which M is present in the CaSi 2 matrix may not be maintained. Moreover, the amount of Ca becomes relatively high, and Ca 14 Si 19 that is not layered in the M-containing calcium silicide exists, which may adversely affect the performance of the M-containing silicon material of the present invention. If the value of f is too large, the amount of Si alone becomes too large, which may adversely affect the performance of the M-containing silicon material of the present invention.

好ましいe、fの範囲として、0.1≦e≦1、0.3≦e≦0.9、0.5≦e≦0.8、1.7≦f≦2.7、1.8≦f≦2.5、1.9≦f≦2.3を例示できる。   Preferred e and f ranges are 0.1 ≦ e ≦ 1, 0.3 ≦ e ≦ 0.9, 0.5 ≦ e ≦ 0.8, 1.7 ≦ f ≦ 2.7, 1.8 ≦. For example, f ≦ 2.5 and 1.9 ≦ f ≦ 2.3.

得られたM含有珪化カルシウムを粉砕してもよく、さらに分級してもよい。   The obtained M-containing calcium silicide may be pulverized or further classified.

次に、前記M含有珪化カルシウムを酸と反応させてM含有ポリシランを得る工程(以下、第二工程ということがある。)について説明する。第二工程においては、M含有珪化カルシウムを構成する層状のCaSiのうちCaが酸のHで置換されつつ、SiがSi−H結合を形成する。M含有ポリシランは、原料のM含有珪化カルシウムのCaSiによるSi層の基本骨格が維持されているため、層状をなす。 Next, a process of obtaining M-containing polysilane by reacting the M-containing calcium silicide with an acid (hereinafter sometimes referred to as a second process) will be described. In the second step, Si forms Si—H bonds while Ca is substituted with acid H in the layered CaSi 2 constituting the M-containing calcium silicide. The M-containing polysilane has a layer shape because the basic skeleton of the Si layer of CaSi 2 of the raw material M-containing calcium silicide is maintained.

酸としては、フッ化水素酸、塩化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、蟻酸、酢酸、メタンスルホン酸、テトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロヒ素酸、フルオロアンチモン酸、ヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロゲルマン酸、ヘキサフルオロスズ(IV)酸、トリフルオロ酢酸、ヘキサフルオロチタン酸、ヘキサフルオロジルコニウム酸、トリフルオロメタンスルホン酸、フルオロスルホン酸が例示される。これらの酸を単独又は併用して使用すれば良い。   Acids include hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, formic acid, acetic acid, methanesulfonic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoro Examples include arsenic acid, fluoroantimonic acid, hexafluorosilicic acid, hexafluorogermanic acid, hexafluorotin (IV) acid, trifluoroacetic acid, hexafluorotitanic acid, hexafluorozirconic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and fluorosulfonic acid The These acids may be used alone or in combination.

酸として、フッ素アニオンを生じ得る酸を採用するのが好ましい場合がある。当該酸を採用することにより、M含有ポリシランに生じ得るSi−O結合やSiと他の酸のアニオンとの結合(例えば、塩酸の場合にはSi−Cl結合)を減少することができる。なお、M含有ポリシランにSi−O結合やSi−Cl結合が存在すると、次工程を経ても、M含有シリコン材料にSi−O結合やSi−Cl結合が存在する場合がある。そして、Si−O結合やSi−Cl結合を有するM含有シリコン材料を負極活物質として採用したリチウムイオン二次電池においては、Si−O結合やSi−Cl結合がリチウムイオンの移動をある程度阻害すると推定される。   As the acid, it may be preferable to employ an acid capable of generating a fluorine anion. By adopting the acid, Si—O bonds that can occur in the M-containing polysilane and bonds between Si and anions of other acids (for example, Si—Cl bond in the case of hydrochloric acid) can be reduced. In addition, when a Si-O bond and a Si-Cl bond exist in M containing polysilane, a Si-O bond and a Si-Cl bond may exist in M containing silicon material even if it passes through the following process. In a lithium ion secondary battery employing an M-containing silicon material having a Si—O bond or a Si—Cl bond as a negative electrode active material, if the Si—O bond or the Si—Cl bond inhibits the migration of lithium ions to some extent. Presumed.

第二工程において、酸は、モル比にてM含有珪化カルシウムに含まれるCaよりも過剰に用いるのが好ましい。第二工程は無溶媒で行ってもよいが、目的物の分離やCaClなどの副生物の除去の観点から溶媒として水を採用するのが好ましい。すなわち、酸は水溶液として用いることが好ましい。また、Mの種類に因っては、Mが酸と反応してMイオンとなり、酸の水溶液に溶出する場合がある。Mの溶出を抑制するには、酸の水溶液は、その濃度が低濃度のものが好ましい。 In the second step, the acid is preferably used in excess of Ca contained in the M-containing calcium silicide in a molar ratio. The second step may be performed without a solvent, but it is preferable to employ water as a solvent from the viewpoint of separation of the target product and removal of by-products such as CaCl 2 . That is, the acid is preferably used as an aqueous solution. In addition, depending on the type of M, M may react with an acid to form M ions, which may be eluted into an acid aqueous solution. In order to suppress the elution of M, the acid aqueous solution preferably has a low concentration.

第二工程の反応条件は、真空などの減圧条件又は不活性ガス雰囲気下とすることが好ましく、また、氷浴などの室温以下の温度条件とするのが好ましい。第二工程の反応時間は適宜設定すれば良い。   The reaction conditions in the second step are preferably reduced pressure conditions such as vacuum or an inert gas atmosphere, and are preferably temperature conditions of room temperature or lower such as an ice bath. What is necessary is just to set the reaction time of a 2nd process suitably.

酸として塩酸を用いた場合の第二工程の化学反応を理想的な反応式で示すと以下のとおりとなる。
3CaSi+6HCl→Si+3CaCl
上記反応式において、Siが理想的なポリシランに該当する。
The chemical reaction of the second step when hydrochloric acid is used as the acid is shown as an ideal reaction formula as follows.
3CaSi 2 + 6HCl → Si 6 H 6 + 3CaCl 2
In the above reaction formula, Si 6 H 6 corresponds to an ideal polysilane.

第二工程においては、水存在下で行われるのが好ましく、そしてSiは水と反応し得るため、通常は、ポリシランがSiなる化合物で得られることはほとんどなく、Si(OH)(Xは酸のアニオン由来の元素若しくは基、s+t+u=6、0<s<6、0<t<6、0<u<6)で表される化合物として得られる。なお、ここでは、ポリシランに残存し得るCaなどの不可避不純物については、考慮していない。 In the second step, it is preferably carried out in the presence of water, and because Si 6 H 6 is capable of reacting with water, will usually be obtained with compounds polysilane is Si 6 H 6 hardly, Si 6 Obtained as a compound represented by H s (OH) t X u (X is an element or group derived from an anion of acid, s + t + u = 6, 0 <s <6, 0 <t <6, 0 <u <6) . Here, inevitable impurities such as Ca that can remain in the polysilane are not considered.

したがって、M含有ポリシランを組成式で表わすと、MSi(OH)(Xは酸のアニオン由来の元素若しくは基、0<e<1.2、1.2≦f≦3、0<a<f、0<b<f、0<c<f、a+b+c≦f)となる。 Therefore, when the M-containing polysilane is represented by a composition formula, M e Si f H a (OH) b X c (X is an element or group derived from an anion of an acid, 0 <e <1.2, 1.2 ≦ f ≦ 3, 0 <a <f, 0 <b <f, 0 <c <f, a + b + c ≦ f).

理解を容易にするために、M含有ポリシランにおけるM及びSiのみの組成式を示すと、MSi(0<e<1.2、1.2≦f≦3)となる。好ましいe及びfの範囲として、0.1≦e≦1、0.3≦e≦0.9、0.5≦e≦0.8、1.7≦f≦2.7、1.8≦f≦2.5、1.9≦f≦2.3を例示できる。 For ease of understanding, indicating composition formula of only M and Si in M-containing polysilane, and M e Si f (0 <e <1.2,1.2 ≦ f ≦ 3). Preferred ranges of e and f are 0.1 ≦ e ≦ 1, 0.3 ≦ e ≦ 0.9, 0.5 ≦ e ≦ 0.8, 1.7 ≦ f ≦ 2.7, 1.8 ≦ For example, f ≦ 2.5 and 1.9 ≦ f ≦ 2.3.

第二工程における酸処理で、Mは若干溶出する場合があるものの、Mの結晶状態はM含有ポリシランにおいても維持される。M単体は、ポリシランのマトリックス中に均一に分散している状態が好ましい。   In the acid treatment in the second step, although M may be slightly eluted, the crystalline state of M is maintained even in the M-containing polysilane. It is preferable that M alone is uniformly dispersed in the polysilane matrix.

次に、前記M含有ポリシランを300℃以上で加熱する工程(以下、第三工程ということがある。)について説明する。第三工程は、前記M含有ポリシランを300℃以上で加熱し、水素や水などを離脱させ、M含有シリコン材料を得るものである。そして、M含有シリコン材料には、Mが結晶状態で存在する。M含有シリコン材料において、Mはシリコンのマトリックス中に均一に分散している状態が好ましい。   Next, a step of heating the M-containing polysilane at 300 ° C. or higher (hereinafter sometimes referred to as a third step) will be described. In the third step, the M-containing polysilane is heated at 300 ° C. or higher to release hydrogen, water, and the like, thereby obtaining an M-containing silicon material. In the M-containing silicon material, M exists in a crystalline state. In the M-containing silicon material, it is preferable that M is uniformly dispersed in the silicon matrix.

第三工程の化学反応を理想的な反応式で示すと以下のとおりとなる。
Si→6Si+3H
The chemical reaction in the third step is represented by an ideal reaction formula as follows.
Si 6 H 6 → 6Si + 3H 2

ただし、第三工程に実際に用いられるM含有ポリシランはMSi(OH)(Xは酸のアニオン由来の元素若しくは基、0<e<1.2、1.2≦f≦3、0<a<f、0<b<f、0<c<f、a+b+c≦f)で表されるものであり、さらに不可避不純物も含有するため、実際に得られるM含有シリコン材料は、MSi(Xは酸のアニオン由来の元素若しくは基、0<e<1.2、1.2≦f≦3、0≦p<a、0≦q≦b、0≦r≦c、p+q+r≦f、ただしa、b、cはM含有ポリシランの組成式で定義される。)で表され、さらに不可避不純物も含有するものとなる。 However, M-containing polysilane actually used in the third step M e Si f H a (OH ) b X c (X is an anion derived from an element or group of acid, 0 <e <1.2,1.2 ≦ f ≦ 3, 0 <a <f, 0 <b <f, 0 <c <f, a + b + c ≦ f), and also contains inevitable impurities, so that the actually obtained M-containing silicon material is, M e Si f H p O q X r (X is an anion derived from an element or group of acid, 0 <e <1.2,1.2 ≦ f ≦ 3,0 ≦ p <a, 0 ≦ q ≦ b, 0.ltoreq.r.ltoreq.c, p + q + r.ltoreq.f, where a, b and c are defined by the composition formula of the M-containing polysilane), and further contain inevitable impurities.

上記M含有シリコン材料の組成式において、pは0≦p<0.5の範囲内が好ましく、0≦p<0.3の範囲内がより好ましく、0≦p<0.1の範囲内がさらに好ましく、p=0が最も好ましい。上記M含有シリコン材料の組成式において、qは0≦q<0.7の範囲内が好ましく、0≦q<0.5の範囲内がより好ましく、0≦q<0.3の範囲内がさらに好ましく、0≦q≦0.2の範囲内が特に好ましい。上記M含有シリコン材料の組成式において、rは0≦r<0.7の範囲内が好ましく、0≦r<0.5の範囲内がより好ましく、0≦r<0.3の範囲内がさらに好ましく、0≦r≦0.2の範囲内が特に好ましい。   In the composition formula of the M-containing silicon material, p is preferably in the range of 0 ≦ p <0.5, more preferably in the range of 0 ≦ p <0.3, and in the range of 0 ≦ p <0.1. More preferably, p = 0 is most preferable. In the composition formula of the M-containing silicon material, q is preferably in the range of 0 ≦ q <0.7, more preferably in the range of 0 ≦ q <0.5, and in the range of 0 ≦ q <0.3. More preferably, the range of 0 ≦ q ≦ 0.2 is particularly preferable. In the composition formula of the M-containing silicon material, r is preferably in the range of 0 ≦ r <0.7, more preferably in the range of 0 ≦ r <0.5, and in the range of 0 ≦ r <0.3. More preferably, the range of 0 ≦ r ≦ 0.2 is particularly preferable.

理解を容易にするために、M含有シリコン材料におけるM及びSiのみの組成式を示すと、MSi(0<e<1.2、1.2≦f≦3)となる。好ましいe及びfの範囲として、0.1≦e≦1、0.3≦e≦0.9、0.5≦e≦0.8、1.7≦f≦2.7、1.8≦f≦2.5、1.9≦f≦2.3を例示できる。 For ease of understanding, indicating composition formula of only M and Si in M-containing silicon material, the M e Si f (0 <e <1.2,1.2 ≦ f ≦ 3). Preferred ranges of e and f are 0.1 ≦ e ≦ 1, 0.3 ≦ e ≦ 0.9, 0.5 ≦ e ≦ 0.8, 1.7 ≦ f ≦ 2.7, 1.8 ≦ For example, f ≦ 2.5 and 1.9 ≦ f ≦ 2.3.

第三工程は、通常の大気下よりも酸素含有量の少ない非酸化性雰囲気下で行われるのが好ましい。非酸化性雰囲気としては、真空を含む減圧雰囲気、不活性ガス雰囲気を例示できる。加熱温度は、350℃〜950℃の範囲内が好ましく、400℃〜800℃の範囲内がより好ましい。加熱温度が低すぎると水素の離脱が十分でない場合があり、また、加熱温度が高すぎるとエネルギーの無駄になる。   The third step is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere having a lower oxygen content than in normal air. Examples of the non-oxidizing atmosphere include a reduced pressure atmosphere including a vacuum and an inert gas atmosphere. The heating temperature is preferably in the range of 350 ° C to 950 ° C, more preferably in the range of 400 ° C to 800 ° C. If the heating temperature is too low, hydrogen may not be released sufficiently, and if the heating temperature is too high, energy is wasted.

また、Mの種類に因っては、沸点が低いものも存在する。よって、Mの減少を防ぐために、第三工程の加熱温度は、Mの沸点より低い温度で行うことが好ましい。   In addition, depending on the type of M, there are those having a low boiling point. Therefore, in order to prevent a decrease in M, the heating temperature in the third step is preferably performed at a temperature lower than the boiling point of M.

加熱時間は加熱温度に応じて適宜設定すれば良い。反応系外に抜けていく水素などの量を測定しながら加熱時間を決定するのが好ましい。加熱温度及び加熱時間を適宜選択することにより、製造されるM含有シリコン材料に含まれるアモルファスシリコン及びシリコン結晶子の割合、並びに、シリコン結晶子の大きさを調製することもできる。加熱温度及び加熱時間を適宜選択することにより、製造されるM含有シリコン材料に含まれるアモルファスシリコン及びシリコン結晶子を含むナノ水準の厚みの層の形状を調製することもできる。   What is necessary is just to set a heating time suitably according to heating temperature. It is preferable to determine the heating time while measuring the amount of hydrogen or the like that escapes from the reaction system. By appropriately selecting the heating temperature and the heating time, the ratio of amorphous silicon and silicon crystallites contained in the produced M-containing silicon material and the size of the silicon crystallites can also be adjusted. By appropriately selecting the heating temperature and the heating time, the shape of the nano-level layer containing amorphous silicon and silicon crystallites contained in the produced M-containing silicon material can be prepared.

シリコン結晶子のサイズとしては、ナノサイズのものが好ましい。具体的には、シリコン結晶子サイズは、0.5nm〜300nmの範囲内が好ましく、1nm〜100nmの範囲内がより好ましく、1nm〜50nmの範囲内がさらに好ましく、1nm〜10nmの範囲内が特に好ましい。シリコン結晶子サイズは、シリコン材料に対してX線回折測定(XRD測定)を行い、得られたXRDチャートのSi(111)面の回折ピークの半値幅を用いたシェラーの式から算出される。 The size of the silicon crystallite is preferably nano-sized. Specifically, the silicon crystallite size is preferably in the range of 0.5 nm to 300 nm, more preferably in the range of 1 nm to 100 nm, still more preferably in the range of 1 nm to 50 nm, and particularly in the range of 1 nm to 10 nm. preferable. The silicon crystallite size is calculated from Scherrer's equation using X-ray diffraction measurement (XRD measurement) on the silicon material and using the half width of the diffraction peak of the Si (111) plane of the obtained XRD chart.

第三工程により、複数枚の板状シリコン体が厚さ方向に積層されてなる構造を有するM含有シリコン材料を得ることができる。 By the third step, an M-containing silicon material having a structure in which a plurality of plate-like silicon bodies are laminated in the thickness direction can be obtained.

M含有シリコン材料を二次電池の活物質として使用することを考慮すると、リチウムイオンなどの電荷担体の効率的な挿入及び脱離反応のためには、上記板状シリコン体は厚さが10nm〜100nmの範囲内のものが好ましく、20nm〜50nmの範囲内のものがより好ましい。また、板状シリコン体の長軸方向の長さは、0.1μm〜50μmの範囲内のものが好ましい。また、板状シリコン体は、(長軸方向の長さ)/(厚さ)が2〜1000の範囲内であるのが好ましい。 Considering the use of M-containing silicon material as the active material of the secondary battery, the plate-like silicon body has a thickness of 10 nm to 10 nm for efficient insertion and desorption reaction of charge carriers such as lithium ions. The thing within the range of 100 nm is preferable, and the thing within the range of 20 nm-50 nm is more preferable. The length of the plate-like silicon body in the major axis direction is preferably in the range of 0.1 μm to 50 μm. The plate-like silicon body preferably has a (length in the major axis direction) / (thickness) range of 2 to 1000.

得られたM含有シリコン材料を粉砕してもよく、さらに分級してもよい。一般的なレーザー回折式粒度分布測定装置で測定した場合における、M含有シリコン材料の粒子の好ましい粒度分布としては、平均粒子径(D50)が1〜40μmの範囲内であることを例示でき、より好ましくは平均粒子径(D50)が1〜30μmの範囲内であることを例示できる。   The obtained M-containing silicon material may be pulverized or further classified. As a preferable particle size distribution of the particles of the M-containing silicon material when measured with a general laser diffraction type particle size distribution measuring device, it can be exemplified that the average particle diameter (D50) is in the range of 1 to 40 μm. Preferably, it can be exemplified that the average particle diameter (D50) is in the range of 1 to 30 μm.

本発明のM含有シリコン材料は、リチウムイオン二次電池などの二次電池、電気二重層コンデンサ及びリチウムイオンキャパシタなどの蓄電装置の負極活物質として使用することができる。また、本発明のM含有シリコン材料は、例えばCMOS、半導体メモリ及び太陽電池などの材料や、光触媒材料などとしても利用することができる。   The M-containing silicon material of the present invention can be used as a negative electrode active material for power storage devices such as secondary batteries such as lithium ion secondary batteries, electric double layer capacitors, and lithium ion capacitors. Further, the M-containing silicon material of the present invention can also be used as a material such as a CMOS, a semiconductor memory and a solar cell, or a photocatalytic material.

本発明のM含有シリコン材料は金属Mの単体を含むため、本発明のM含有シリコン材料を蓄電装置の負極活物質として用いた際には、金属Mの単体の存在により、本発明のM含有シリコン材料の導電率が増加することが期待できる。さらに、金属Mの単体は、リチウムイオンの拡散係数がシリコンと比較して大きいため、本発明のM含有シリコン材料を具備する蓄電装置においては、急速充放電も可能であると推察される。   Since the M-containing silicon material of the present invention contains a simple substance of metal M, when the M-containing silicon material of the present invention is used as a negative electrode active material of a power storage device, the presence of the M of the present invention is due to the presence of the simple substance of metal M. It can be expected that the conductivity of the silicon material will increase. Furthermore, since the simple substance of the metal M has a lithium ion diffusion coefficient larger than that of silicon, it is presumed that rapid charging / discharging is possible in the power storage device including the M-containing silicon material of the present invention.

以下、蓄電装置の代表例として、M含有シリコン材料を負極活物質として具備する本発明のリチウムイオン二次電池について説明する。本発明のリチウムイオン二次電池は、正極、M含有シリコン材料を負極活物質として具備する負極、電解液及びセパレータを具備する。   Hereinafter, as a typical example of the power storage device, a lithium ion secondary battery of the present invention including an M-containing silicon material as a negative electrode active material will be described. The lithium ion secondary battery of the present invention includes a positive electrode, a negative electrode including an M-containing silicon material as a negative electrode active material, an electrolytic solution, and a separator.

正極は、集電体と、集電体の表面に結着させた正極活物質層を有する。   The positive electrode has a current collector and a positive electrode active material layer bound to the surface of the current collector.

集電体は、リチウムイオン二次電池の放電又は充電の間、電極に電流を流し続けるための化学的に不活性な電子伝導体をいう。集電体としては、銀、銅、金、アルミニウム、タングステン、コバルト、亜鉛、ニッケル、鉄、白金、錫、インジウム、チタン、ルテニウム、タンタル、クロム、モリブデンから選ばれる少なくとも一種、並びにステンレス鋼などの金属材料を例示することができる。集電体は公知の保護層で被覆されていても良い。集電体の表面を公知の方法で処理したものを集電体として用いても良い。   The current collector refers to a chemically inert electronic conductor that keeps a current flowing through an electrode during discharge or charging of a lithium ion secondary battery. As the current collector, at least one selected from silver, copper, gold, aluminum, tungsten, cobalt, zinc, nickel, iron, platinum, tin, indium, titanium, ruthenium, tantalum, chromium, molybdenum, and stainless steel, etc. Metal materials can be exemplified. The current collector may be covered with a known protective layer. What collected the surface of the electrical power collector by the well-known method may be used as an electrical power collector.

集電体は箔、シート、フィルム、線状、棒状、メッシュなどの形態をとることができる。そのため、集電体として、例えば、銅箔、ニッケル箔、アルミニウム箔、ステンレス箔などの金属箔を好適に用いることができる。集電体が箔、シート、フィルム形態の場合は、その厚みが1μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。   The current collector can take the form of a foil, a sheet, a film, a linear shape, a rod shape, a mesh, or the like. Therefore, for example, a metal foil such as a copper foil, a nickel foil, an aluminum foil, and a stainless steel foil can be suitably used as the current collector. When the current collector is in the form of foil, sheet or film, the thickness is preferably in the range of 1 μm to 100 μm.

正極活物質層は正極活物質、並びに必要に応じて導電助剤及び/又は結着剤を含む。   The positive electrode active material layer includes a positive electrode active material and, if necessary, a conductive additive and / or a binder.

正極活物質としては、層状化合物のLiNiCoMn(0.2≦a≦2、b+c+d+e=1、0≦e<1、DはLi、Fe、Cr、Cu、Zn、Ca、Mg、S、Si、Na、K、Al、Zr、Ti、P、Ga、Ge、V、Mo、Nb、W、Laから選ばれる少なくとも1の元素、1.7≦f≦3)、LiMnOを挙げることができる。また、正極活物質として、LiMn等のスピネル、及びスピネルと層状化合物の混合物で構成される固溶体、LiMPO、LiMVO又はLiMSiO(式中のMはCo、Ni、Mn、Feのうちの少なくとも一種から選択される)などで表されるポリアニオン系化合物を挙げることができる。さらに、正極活物質として、LiFePOFなどのLiMPOF(Mは遷移金属)で表されるタボライト系化合物、LiFeBOなどのLiMBO(Mは遷移金属)で表されるボレート系化合物を挙げることができる。正極活物質として用いられるいずれの金属酸化物も上記の各組成式を基本組成とすればよく、基本組成に含まれる金属元素を他の金属元素で置換したものも正極活物質として使用可能である。また、正極活物質として、充放電に寄与するリチウムイオンを含まない正極活物質材料、たとえば、硫黄単体、硫黄と炭素を複合化した化合物、TiSなどの金属硫化物、V、MnOなどの酸化物、ポリアニリン及びアントラキノン並びにこれら芳香族を化学構造に含む化合物、共役二酢酸系有機物などの共役系材料、その他公知の材料を用いることもできる。さらに、ニトロキシド、ニトロニルニトロキシド、ガルビノキシル、フェノキシルなどの安定なラジカルを有する化合物を正極活物質として採用してもよい。リチウムを含まない正極活物質材料を用いる場合には、正極および/または負極に、公知の方法により、予めイオンを添加させておく必要がある。ここで、当該イオンを添加するためには、金属または当該イオンを含む化合物を用いればよい。 As the positive electrode active material, the layered compound Li a Ni b Co c Mn d De O f (0.2 ≦ a ≦ 2, b + c + d + e = 1, 0 ≦ e <1, D is Li, Fe, Cr, Cu, At least one element selected from Zn, Ca, Mg, S, Si, Na, K, Al, Zr, Ti, P, Ga, Ge, V, Mo, Nb, W, La, 1.7 ≦ f ≦ 3 ), Li 2 MnO 3 . Further, as a positive electrode active material, a solid solution composed of a spinel such as LiMn 2 O 4 and a mixture of a spinel and a layered compound, LiMPO 4 , LiMVO 4 or Li 2 MSiO 4 (wherein M is Co, Ni, Mn, And a polyanionic compound represented by (selected from at least one of Fe). Furthermore, as the positive electrode active material, tavorite compound (the M a transition metal) LiMPO 4 F, such as LiFePO 4 F represented by, Limbo 3 such LiFeBO 3 (M is a transition metal) include borate-based compound represented by be able to. Any metal oxide used as the positive electrode active material may have the above-described composition formula as a basic composition, and those obtained by substituting the metal elements contained in the basic composition with other metal elements can also be used as the positive electrode active material. . Further, as a positive electrode active material, a positive electrode active material that does not contain lithium ions that contribute to charge / discharge, for example, sulfur alone, a compound in which sulfur and carbon are combined, a metal sulfide such as TiS 2 , V 2 O 5 , MnO 2 and other oxides, polyaniline and anthraquinone, compounds containing these aromatics in the chemical structure, conjugated materials such as conjugated diacetate-based organic substances, and other known materials can also be used. Further, a compound having a stable radical such as nitroxide, nitronyl nitroxide, galvinoxyl, phenoxyl, etc. may be adopted as the positive electrode active material. When using a positive electrode active material that does not contain lithium, it is necessary to add ions to the positive electrode and / or the negative electrode in advance by a known method. Here, in order to add the ion, a metal or a compound containing the ion may be used.

導電助剤は、電極の導電性を高めるために添加される。そのため、導電助剤は、電極の導電性が不足する場合に任意に加えればよく、電極の導電性が十分に優れている場合には加えなくても良い。導電助剤としては化学的に不活性な電子高伝導体であれば良く、炭素質微粒子であるカーボンブラック、黒鉛、アセチレンブラック、ケッチェンブラック(登録商標)、気相法炭素繊維(Vapor Grown Carbon Fiber:VGCF)、および各種金属粒子などが例示される。これらの導電助剤を単独または二種以上組み合わせて活物質層に添加することができる。   The conductive assistant is added to increase the conductivity of the electrode. Therefore, the conductive auxiliary agent may be added arbitrarily when the electrode conductivity is insufficient, and may not be added when the electrode conductivity is sufficiently excellent. The conductive auxiliary agent may be any chemically inert electronic high conductor, such as carbon black, graphite, acetylene black, ketjen black (registered trademark), vapor grown carbon fiber (Vapor Grown Carbon). Fiber: VGCF) and various metal particles are exemplified. These conductive assistants can be added to the active material layer alone or in combination of two or more.

活物質層中の導電助剤の配合割合は、質量比で、活物質:導電助剤=1:0.005〜1:0.5であるのが好ましく、1:0.01〜1:0.2であるのがより好ましく、1:0.03〜1:0.1であるのがさらに好ましい。導電助剤が少なすぎると効率のよい導電パスを形成できず、また、導電助剤が多すぎると活物質層の成形性が悪くなるとともに電極のエネルギー密度が低くなるためである。   The blending ratio of the conductive additive in the active material layer is preferably a mass ratio of active material: conductive additive = 1: 0.005 to 1: 0.5, and 1: 0.01 to 1: 0. .2 is more preferable, and 1: 0.03 to 1: 0.1 is even more preferable. This is because if the amount of the conductive auxiliary is too small, an efficient conductive path cannot be formed, and if the amount of the conductive auxiliary is too large, the moldability of the active material layer is deteriorated and the energy density of the electrode is lowered.

結着剤は、活物質や導電助剤を集電体の表面に繋ぎ止め、電極中の導電ネットワークを維持する役割を果たすものである。結着剤としては、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素ゴム等の含フッ素樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン等の熱可塑性樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド等のイミド系樹脂、アルコキシシリル基含有樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸等のアクリル系樹脂、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸アンモニウム等のアルギン酸塩、水溶性セルロースエステル架橋体、デンプン−アクリル酸グラフト重合体を例示することができる。これらの結着剤を単独で又は複数で採用すれば良い。   The binder plays a role of securing an active material or a conductive auxiliary agent to the surface of the current collector and maintaining a conductive network in the electrode. Examples of the binder include fluorine-containing resins such as polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, and fluororubber, thermoplastic resins such as polypropylene and polyethylene, imide resins such as polyimide and polyamideimide, alkoxysilyl group-containing resins, poly ( Examples include acrylic resins such as (meth) acrylic acid, styrene-butadiene rubber (SBR), carboxymethylcellulose, alginate such as sodium alginate, ammonium alginate, water-soluble cellulose ester crosslinked product, starch-acrylic acid graft polymer. it can. These binders may be used singly or in plural.

活物質層中の結着剤の配合割合は、質量比で、活物質:結着剤=1:0.001〜1:0.3であるのが好ましく、1:0.005〜1:0.2であるのがより好ましく、1:0.01〜1:0.15であるのがさらに好ましい。結着剤が少なすぎると電極の成形性が低下し、また、結着剤が多すぎると電極のエネルギー密度が低くなるためである。   The blending ratio of the binder in the active material layer is preferably a mass ratio of active material: binder = 1: 0.001 to 1: 0.3, and 1: 0.005 to 1: 0. .2 is more preferable, and 1: 0.01 to 1: 0.15 is still more preferable. This is because when the amount of the binder is too small, the moldability of the electrode is lowered, and when the amount of the binder is too large, the energy density of the electrode is lowered.

負極は、集電体と、集電体の表面に結着させた負極活物質層を有する。集電体については、正極で説明したものを適宜適切に採用すれば良い。負極活物質層は負極活物質、並びに必要に応じて導電助剤及び/又は結着剤を含む。   The negative electrode has a current collector and a negative electrode active material layer bound to the surface of the current collector. What is necessary is just to employ | adopt suitably what was demonstrated with the positive electrode about a collector. The negative electrode active material layer includes a negative electrode active material and, if necessary, a conductive additive and / or a binder.

負極活物質としては、M含有シリコン材料を用いればよく、M含有シリコン材料のみを採用してもよいし、M含有シリコン材料と公知の負極活物質を併用してもよい。M含有シリコン材料を炭素で被覆したものを負極活物質として用いてもよい。   As the negative electrode active material, an M-containing silicon material may be used, and only the M-containing silicon material may be employed, or an M-containing silicon material and a known negative electrode active material may be used in combination. A material in which an M-containing silicon material is coated with carbon may be used as the negative electrode active material.

負極に用いる導電助剤及び結着剤については、正極で説明したものを同様の配合割合で適宜適切に採用すれば良い。   About the conductive support agent and binder used for a negative electrode, what was demonstrated in the positive electrode should just be employ | adopted suitably suitably with the same mixture ratio.

集電体の表面に活物質層を形成させるには、ロールコート法、ダイコート法、ディップコート法、ドクターブレード法、スプレーコート法、カーテンコート法などの従来から公知の方法を用いて、集電体の表面に活物質を塗布すればよい。具体的には、活物質、溶剤、並びに必要に応じて結着剤及び/又は導電助剤を混合し、スラリーを調製する。上記溶剤としては、N−メチル−2−ピロリドン、メタノール、メチルイソブチルケトン、水を例示できる。該スラリーを集電体の表面に塗布後、乾燥する。電極密度を高めるべく、乾燥後のものを圧縮しても良い。   In order to form an active material layer on the surface of the current collector, a current collecting method such as a roll coating method, a die coating method, a dip coating method, a doctor blade method, a spray coating method, or a curtain coating method can be used. An active material may be applied to the surface of the body. Specifically, an active material, a solvent, and, if necessary, a binder and / or a conductive aid are mixed to prepare a slurry. Examples of the solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, methanol, methyl isobutyl ketone, and water. The slurry is applied to the surface of the current collector and then dried. In order to increase the electrode density, the dried product may be compressed.

電解液は、非水溶媒と非水溶媒に溶解した電解質とを含んでいる。   The electrolytic solution includes a nonaqueous solvent and an electrolyte dissolved in the nonaqueous solvent.

非水溶媒としては、環状エステル類、鎖状エステル類、エーテル類等が使用できる。環状エステル類としては、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ガンマブチロラクトン、ビニレンカーボネート、2−メチル−ガンマブチロラクトン、アセチル−ガンマブチロラクトン、ガンマバレロラクトンを例示できる。鎖状エステル類としては、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、エチルメチルカーボネート、プロピオン酸アルキルエステル、マロン酸ジアルキルエステル、酢酸アルキルエステル等を例示できる。エーテル類としては、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、1,2−ジブトキシエタンを例示できる。非水溶媒としては、上記具体的な溶媒の化学構造のうち一部又は全部の水素がフッ素に置換した化合物を採用しても良い。   As the non-aqueous solvent, cyclic esters, chain esters, ethers and the like can be used. Examples of cyclic esters include ethylene carbonate, propylene carbonate, butylene carbonate, gamma butyrolactone, vinylene carbonate, 2-methyl-gamma butyrolactone, acetyl-gamma butyrolactone, and gamma valerolactone. Examples of chain esters include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, dibutyl carbonate, dipropyl carbonate, ethyl methyl carbonate, propionic acid alkyl ester, malonic acid dialkyl ester, and acetic acid alkyl ester. Examples of ethers include tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, and 1,2-dibutoxyethane. As the non-aqueous solvent, a compound in which part or all of hydrogen in the chemical structure of the specific solvent is substituted with fluorine may be employed.

電解質としては、LiClO、LiAsF、LiPF、LiBF、LiCFSO、LiN(CFSO等のリチウム塩を例示できる。 Examples of the electrolyte include lithium salts such as LiClO 4 , LiAsF 6 , LiPF 6 , LiBF 4 , LiCF 3 SO 3 , and LiN (CF 3 SO 2 ) 2 .

電解液としては、エチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、プロピレンカーボネート、ジエチルカーボネートなどの非水溶媒に、LiClO、LiPF、LiBF、LiCFSOなどのリチウム塩を0.5mol/Lから1.7mol/L程度の濃度で溶解させた溶液を例示できる。 As an electrolytic solution, 0.5 mol / L to 1.7 mol of a lithium salt such as LiClO 4 , LiPF 6 , LiBF 4 , LiCF 3 SO 3 in a nonaqueous solvent such as ethylene carbonate, dimethyl carbonate, propylene carbonate, and diethyl carbonate. A solution dissolved at a concentration of about / L can be exemplified.

セパレータは、正極と負極とを隔離し、両極の接触による短絡を防止しつつ、リチウムイオンを通過させるものである。セパレータとしては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアラミド(Aromatic polyamide)、ポリエステル、ポリアクリロニトリル等の合成樹脂、セルロース、アミロース等の多糖類、フィブロイン、ケラチン、リグニン、スベリン等の天然高分子、セラミックスなどの電気絶縁性材料を1種若しくは複数用いた多孔体、不織布、織布などを挙げることができる。また、セパレータは多層構造としてもよい。   The separator separates the positive electrode and the negative electrode and allows lithium ions to pass while preventing a short circuit due to contact between the two electrodes. As separators, natural resins such as polytetrafluoroethylene, polypropylene, polyethylene, polyimide, polyamide, polyaramid (Aromatic polymer), polyester, polyacrylonitrile and other polysaccharides, cellulose, amylose and other polysaccharides, fibroin, keratin, lignin and suberin Examples thereof include porous bodies, nonwoven fabrics, and woven fabrics using one or more electrically insulating materials such as polymers and ceramics. The separator may have a multilayer structure.

次に、リチウムイオン二次電池の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of a lithium ion secondary battery is demonstrated.

正極および負極に必要に応じてセパレータを挟装させ電極体とする。電極体は、正極、セパレータ及び負極を重ねた積層型、又は、正極、セパレータ及び負極を捲いた捲回型のいずれの型にしても良い。正極の集電体および負極の集電体から、外部に通ずる正極端子および負極端子までの間を、集電用リード等を用いて接続した後に、電極体に電解液を加えてリチウムイオン二次電池とするとよい。また、本発明のリチウムイオン二次電池は、電極に含まれる活物質の種類に適した電圧範囲で充放電を実行されればよい。   A separator is sandwiched between the positive electrode and the negative electrode as necessary to form an electrode body. The electrode body may be either a stacked type in which the positive electrode, the separator and the negative electrode are stacked, or a wound type in which the positive electrode, the separator and the negative electrode are sandwiched. After connecting the current collector of the positive electrode and the current collector of the negative electrode to the positive electrode terminal and the negative electrode terminal that communicate with the outside using a lead for current collection, etc., an electrolyte is added to the electrode body and a lithium ion secondary Use batteries. Moreover, the lithium ion secondary battery of this invention should just be charged / discharged in the voltage range suitable for the kind of active material contained in an electrode.

本発明のリチウムイオン二次電池の形状は特に限定されるものでなく、円筒型、角型、コイン型、ラミネート型等、種々の形状を採用することができる。   The shape of the lithium ion secondary battery of the present invention is not particularly limited, and various shapes such as a cylindrical shape, a square shape, a coin shape, and a laminate shape can be adopted.

本発明のリチウムイオン二次電池は、車両に搭載してもよい。車両は、その動力源の全部あるいは一部にリチウムイオン二次電池による電気エネルギーを使用している車両であればよく、たとえば、電気車両、ハイブリッド車両などであるとよい。車両にリチウムイオン二次電池を搭載する場合には、リチウムイオン二次電池を複数直列に接続して組電池とするとよい。リチウムイオン二次電池を搭載する機器としては、車両以外にも、パーソナルコンピュータ、携帯通信機器など、電池で駆動される各種の家電製品、オフィス機器、産業機器などが挙げられる。さらに、本発明のリチウムイオン二次電池は、風力発電、太陽光発電、水力発電その他電力系統の蓄電装置及び電力平滑化装置、船舶等の動力及び/又は補機類の電力供給源、航空機、宇宙船等の動力及び/又は補機類の電力供給源、電気を動力源に用いない車両の補助用電源、移動式の家庭用ロボットの電源、システムバックアップ用電源、無停電電源装置の電源、電動車両用充電ステーションなどにおいて充電に必要な電力を一時蓄える蓄電装置に用いてもよい。   The lithium ion secondary battery of the present invention may be mounted on a vehicle. The vehicle may be a vehicle that uses electric energy from a lithium ion secondary battery for all or a part of its power source, and may be, for example, an electric vehicle or a hybrid vehicle. When a lithium ion secondary battery is mounted on a vehicle, a plurality of lithium ion secondary batteries may be connected in series to form an assembled battery. Examples of devices equipped with lithium ion secondary batteries include various home appliances driven by batteries such as personal computers and portable communication devices, office devices, and industrial devices in addition to vehicles. Furthermore, the lithium ion secondary battery of the present invention includes wind power generation, solar power generation, hydroelectric power generation and other power system power storage devices and power smoothing devices, power supplies for ships and / or auxiliary power supply sources, aircraft, Power supply for spacecraft and / or auxiliary equipment, auxiliary power supply for vehicles that do not use electricity as a power source, power supply for mobile home robots, power supply for system backup, power supply for uninterruptible power supply, You may use for the electrical storage apparatus which stores temporarily the electric power required for charge in the charging station for electric vehicles.

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。本発明の要旨を逸脱しない範囲において、当業者が行い得る変更、改良等を施した種々の形態にて実施することができる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment. The present invention can be implemented in various forms without departing from the gist of the present invention, with modifications and improvements that can be made by those skilled in the art.

以下に、実施例および比較例などを示し、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, this invention is not limited by these Examples.

(実施例1)
以下のとおり、実施例1のM含有珪化カルシウム、M含有ポリシラン、M含有シリコン材料、リチウムイオン二次電池を製造した。
Example 1
The M-containing calcium silicide, the M-containing polysilane, the M-containing silicon material, and the lithium ion secondary battery of Example 1 were manufactured as follows.

・第一工程
塊状のCaを4.59g(0.1145モル)、粉末状のSnを5.82g(0.0490モル)及び粉末状のSiを4.59g(0.1634モル)秤量し、炭素坩堝に入れて、高周波誘導加熱装置にて、アルゴンガス雰囲気下、坩堝を約1000℃で加熱してCa、Sn及びSiを含む溶湯とした。前記溶湯を所定の鋳型に注湯して冷却し、珪化カルシウムのマトリックス中にSnを含有するSn含有珪化カルシウムを得た。得られたSn含有珪化カルシウムを乳鉢で粉砕し、目開き53μmの篩にかけた。目開き53μmの篩を通過したSn含有珪化カルシウムを実施例1のM含有珪化カルシウムとした。
First Step: Weigh 4.59 g (0.1145 mol) of massive Ca, 5.82 g (0.0490 mol) of powdered Sn, and 4.59 g (0.1634 mol) of powdered Si, In a carbon crucible, the crucible was heated at about 1000 ° C. in an argon gas atmosphere by a high frequency induction heating device to obtain a molten metal containing Ca, Sn, and Si. The molten metal was poured into a predetermined mold and cooled to obtain Sn-containing calcium silicide containing Sn in the calcium silicide matrix. The obtained Sn-containing calcium silicide was pulverized in a mortar and passed through a sieve having an opening of 53 μm. The Sn-containing calcium silicide that passed through a sieve having a mesh size of 53 μm was used as the M-containing calcium silicide of Example 1.

・第二工程
氷浴中の2.5質量%HCl水溶液100mLに、アルゴンガス雰囲気下、上記実施例1のM含有珪化カルシウム5gを加え、1.5時間撹拌した。反応液を濾過し、残渣を蒸留水及びアセトンで洗浄し、さらに、室温で12時間以上減圧乾燥して3gのSn含有ポリシランを得た。これを実施例1のM含有ポリシランとした。
Second Step 5 g of the M-containing calcium silicide of Example 1 was added to 100 mL of 2.5 mass% HCl aqueous solution in an ice bath under an argon gas atmosphere, and stirred for 1.5 hours. The reaction solution was filtered, the residue was washed with distilled water and acetone, and further dried under reduced pressure at room temperature for 12 hours or more to obtain 3 g of Sn-containing polysilane. This was designated M-containing polysilane of Example 1.

・第三工程
上記実施例1のM含有ポリシランをアルゴンガス雰囲気下、900℃で1時間加熱し、Sn含有シリコン材料を得た。Sn含有シリコン材料を乳鉢で粉砕して、目開き20μmの篩にかけた。目開き20μmの篩を通過したSn含有シリコン材料を実施例1のM含有シリコン材料とした。
Third Step The M-containing polysilane of Example 1 was heated at 900 ° C. for 1 hour in an argon gas atmosphere to obtain a Sn-containing silicon material. The Sn-containing silicon material was pulverized in a mortar and passed through a sieve having an opening of 20 μm. The Sn-containing silicon material that passed through a sieve having an opening of 20 μm was used as the M-containing silicon material of Example 1.

・リチウムイオン二次電池製造工程
実施例1のM含有シリコン材料を用いて、以下のとおり、実施例1のリチウムイオン二次電池を製造した。
-Lithium ion secondary battery manufacturing process Using the M containing silicon material of Example 1, the lithium ion secondary battery of Example 1 was manufactured as follows.

負極活物質として実施例1のM含有シリコン材料を45質量部、さらに負極活物質として黒鉛を40質量部、結着剤としてポリアミドイミドを10質量部、導電助剤としてアセチレンブラックを5質量部及び適量のN−メチル−2−ピロリドンを混合してスラリーとした。   45 parts by mass of the M-containing silicon material of Example 1 as the negative electrode active material, 40 parts by mass of graphite as the negative electrode active material, 10 parts by mass of polyamideimide as the binder, 5 parts by mass of acetylene black as the conductive auxiliary agent, and An appropriate amount of N-methyl-2-pyrrolidone was mixed to form a slurry.

集電体として厚さ20μmの電解銅箔を準備した。該銅箔の表面に、ドクターブレードを用いて上記スラリーが膜状になるように塗布した。スラリーが塗布された銅箔を80℃で20分間乾燥することでN−メチル−2−ピロリドンを揮発により除去し、その結果、表面に負極活物質層が形成された銅箔を得た。該銅箔を負極活物質層の厚みが20μmとなるように、ロールプレス機で圧縮して接合物を得た。この接合物を200℃で2時間減圧加熱乾燥し、負極とした。   An electrolytic copper foil having a thickness of 20 μm was prepared as a current collector. The slurry was applied to the surface of the copper foil using a doctor blade so as to form a film. The copper foil coated with the slurry was dried at 80 ° C. for 20 minutes to remove N-methyl-2-pyrrolidone by volatilization. As a result, a copper foil having a negative electrode active material layer formed on the surface was obtained. The copper foil was compressed with a roll press so that the negative electrode active material layer had a thickness of 20 μm to obtain a bonded product. This joined product was dried by heating under reduced pressure at 200 ° C. for 2 hours to obtain a negative electrode.

負極を径11mmに裁断し、評価極とした。金属リチウム箔を径13mmに裁断し対極とした。セパレータとしてガラスフィルター(ヘキストセラニーズ社)及び単層ポリプロピレンであるcelgard2400(ポリポア株式会社)を準備した。また、エチレンカーボネート50容量部及びジエチルカーボネート50容量部を混合した溶媒にLiPF6を1mol/Lで溶解した電解液を準備した。対極、ガラスフィルター、celgard2400、評価極の順に、2種のセパレータを対極と評価極で挟持し電極体とした。この電極体をコイン型電池ケースCR2032(宝泉株式会社)に収容し、さらに電解液を注入して、コイン型電池を得た。これを実施例1のリチウムイオン二次電池とした。 The negative electrode was cut into a diameter of 11 mm and used as an evaluation electrode. A metal lithium foil was cut to a diameter of 13 mm to make a counter electrode. As a separator, a glass filter (Hoechst Celanese) and celgard 2400 (Polypore Corporation), which is a single-layer polypropylene, were prepared. It was also prepared an electrolyte solution obtained by dissolving LiPF 6 at 1 mol / L in a solvent obtained by mixing 50 parts by volume of ethylene carbonate and diethyl carbonate 50 parts by volume. Two kinds of separators were sandwiched between the counter electrode and the evaluation electrode in the order of the counter electrode, the glass filter, celgard 2400, and the evaluation electrode, thereby forming an electrode body. This electrode body was accommodated in a coin-type battery case CR2032 (Hosen Co., Ltd.), and an electrolyte was further injected to obtain a coin-type battery. This was designated as the lithium ion secondary battery of Example 1.

(比較例1)
第一工程を行わず、第二工程において実施例1のM含有珪化カルシウムに代えてCaSiを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、比較例1のリチウムイオン二次電池を製造した。
(Comparative Example 1)
The lithium ion secondary battery of Comparative Example 1 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that CaSi 2 was used in place of the M-containing calcium silicide of Example 1 in the second process without performing the first process. did.

(評価例1)
粉末X線回折装置にて、実施例1のM含有珪化カルシウム、M含有ポリシラン及びM含有シリコン材料のX線回折を測定した。いずれのX線回折プロファイルからも、Sn結晶のピークが観察された。図1に、実施例1のM含有シリコン材料のX線回折プロファイルを示す。図1において、●を付したピークがSn結晶のピークである。図1のX線回折プロファイルからは、Sn結晶のピークとともに、28度付近にナノサイズのシリコン結晶子を示すブロードなピークが確認できた。また、実施例1のM含有珪化カルシウムのX線回折プロファイルからは、Sn結晶のピークとともに、CaSi結晶を示すピークが確認できた。
(Evaluation example 1)
The X-ray diffraction of the M-containing calcium silicide, M-containing polysilane and M-containing silicon material of Example 1 was measured with a powder X-ray diffractometer. From any X-ray diffraction profile, a peak of Sn crystal was observed. FIG. 1 shows an X-ray diffraction profile of the M-containing silicon material of Example 1. In FIG. 1, the peak marked with ● is the peak of Sn crystal. From the X-ray diffraction profile of FIG. 1, a broad peak showing nano-sized silicon crystallites was confirmed at around 28 degrees along with the Sn crystal peak. In addition, from the X-ray diffraction profile of the M-containing calcium silicide of Example 1, a peak indicating the CaSi 2 crystal was confirmed together with the peak of the Sn crystal.

(評価例2)
実施例1のM含有珪化カルシウム及びM含有シリコン材料の粒子の断面につき、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、さらに、エネルギー分散型X線分析法(EDX)で元素分析を行った。図2に、実施例1のM含有珪化カルシウムのSEM像を示し、図3に、実施例1のM含有シリコン材料のSEM像を示す。EDXの結果から、図2のSEM像において、CaとSiが全体に存在すること、淡色はSnであることが確認できた。同様に、EDXの結果から、図3のSEM像において、Siが全体に存在すること、Snは全体に点状に分散して存在することが確認できた。
(Evaluation example 2)
The cross sections of the particles of M-containing calcium silicide and M-containing silicon material of Example 1 were observed with a scanning electron microscope (SEM), and further elemental analysis was performed with energy dispersive X-ray analysis (EDX). FIG. 2 shows an SEM image of the M-containing calcium silicide of Example 1, and FIG. 3 shows an SEM image of the M-containing silicon material of Example 1. From the result of EDX, it was confirmed in the SEM image of FIG. 2 that Ca and Si were present throughout and that the light color was Sn. Similarly, from the results of EDX, it was confirmed that Si was present throughout the SEM image of FIG. 3 and that Sn was present dispersed in the form of dots throughout.

(評価例3)
実施例1及び比較例1のリチウムイオン二次電池それぞれ3個につき、対極に対する評価極の電圧が0.01Vになるまで0.2mAで放電を行い、対極に対する評価極の電圧が1Vになるまで0.5mAで充電を行う充放電サイクルを50サイクル行った。(各サイクルの充電容量/初回充電容量)×100を容量維持率(%)として算出した。結果を図4に示す。
(Evaluation example 3)
For each of the three lithium ion secondary batteries of Example 1 and Comparative Example 1, discharge was performed at 0.2 mA until the voltage of the evaluation electrode with respect to the counter electrode reached 0.01 V, and until the voltage of the evaluation electrode with respect to the counter electrode reached 1 V 50 charge / discharge cycles for charging at 0.5 mA were performed. (Capacity of each cycle / initial charge capacity) × 100 was calculated as a capacity maintenance rate (%). The results are shown in FIG.

なお、評価例3では、評価極にLiを吸蔵させることを放電といい、評価極からLiを放出させることを充電という。   In Evaluation Example 3, occlusion of Li in the evaluation electrode is called discharge, and discharging Li from the evaluation electrode is called charging.

図4から、実施例1のリチウムイオン二次電池の容量維持率は、比較例1のリチウムイオン二次電池の容量維持率よりも著しく優れていることがわかる。この結果の主な理由は、実施例1のリチウムイオン二次電池に用いたM含有シリコン材料のMが、活物質の導電性を向上させたこと、およびリチウムイオンの拡散速度を向上させたことにより、負極活物質中のリチウムイオンの脱挿入が効率よく進行したためであると考察される。本発明のM含有シリコン材料が好適なシリコン材料であることが裏付けられた。   FIG. 4 shows that the capacity retention rate of the lithium ion secondary battery of Example 1 is significantly superior to the capacity retention rate of the lithium ion secondary battery of Comparative Example 1. The main reason for this result was that M of the M-containing silicon material used in the lithium ion secondary battery of Example 1 improved the conductivity of the active material and improved the diffusion rate of lithium ions. Therefore, it is considered that the lithium ion desorption / insertion in the negative electrode active material proceeded efficiently. It was confirmed that the M-containing silicon material of the present invention is a suitable silicon material.

Claims (10)

Ca、M(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)及びSiを含む溶湯を冷却してM含有珪化カルシウムを得る工程、
前記M含有珪化カルシウムを酸と反応させてM含有ポリシランを得る工程、
前記M含有ポリシランを300℃以上で加熱する工程、
を含むことを特徴とするM含有シリコン材料の製造方法。
A step of cooling the molten metal containing Ca, M (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au) and Si to obtain M-containing calcium silicide,
Reacting the M-containing calcium silicide with an acid to obtain an M-containing polysilane;
Heating the M-containing polysilane at 300 ° C. or higher;
A method for producing an M-containing silicon material, comprising:
前記M含有珪化カルシウム、前記M含有ポリシラン及び/又は前記M含有シリコン材料に含まれるMが、M単体の結晶構造を有する、請求項1に記載のM含有シリコン材料の製造方法。   The method for producing an M-containing silicon material according to claim 1, wherein M contained in the M-containing calcium silicide, the M-containing polysilane, and / or the M-containing silicon material has a crystal structure of M alone. 結晶構造を有するM単体(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)を含有することを特徴とするM含有珪化カルシウム。   An M-containing calcium silicide containing M alone having a crystal structure (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, or Au). 珪化カルシウムのマトリックス中にMを含有する、請求項3に記載のM含有珪化カルシウム。   The M-containing calcium silicide according to claim 3, wherein M is contained in the calcium silicide matrix. 結晶構造を有するM単体(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)を含有することを特徴とするM含有ポリシラン。   An M-containing polysilane containing M alone having a crystal structure (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, or Au). ポリシランのマトリックス中にMを含有する、請求項5に記載のM含有ポリシラン。   6. The M-containing polysilane according to claim 5, wherein M is contained in the polysilane matrix. 結晶構造を有するM単体(MはSn、Pb、Sb、Bi、In、Zn又はAuから選択される少なくとも一元素)を含有することを特徴とするM含有シリコン材料。   An M-containing silicon material containing M alone (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn, or Au) having a crystal structure. シリコンのマトリックス中にMを含有する、請求項7に記載のM含有シリコン材料。   The M-containing silicon material according to claim 7, wherein M is contained in a silicon matrix. 前記M含有シリコン材料は、複数枚の板状シリコン体が厚さ方向に積層されてなる構造を有する粒子である、請求項7又は8に記載のM含有シリコン材料。   The M-containing silicon material according to claim 7 or 8, wherein the M-containing silicon material is a particle having a structure in which a plurality of plate-like silicon bodies are laminated in a thickness direction. 請求項7〜9のいずれかに記載のM含有シリコン材料を具備する蓄電装置。   A power storage device comprising the M-containing silicon material according to claim 7.
JP2015231331A 2015-11-27 2015-11-27 M-containing silicon material (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au) and method for producing the same Expired - Fee Related JP6635292B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015231331A JP6635292B2 (en) 2015-11-27 2015-11-27 M-containing silicon material (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au) and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015231331A JP6635292B2 (en) 2015-11-27 2015-11-27 M-containing silicon material (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au) and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017095326A true JP2017095326A (en) 2017-06-01
JP6635292B2 JP6635292B2 (en) 2020-01-22

Family

ID=58803261

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015231331A Expired - Fee Related JP6635292B2 (en) 2015-11-27 2015-11-27 M-containing silicon material (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au) and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6635292B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113488376A (en) * 2021-07-21 2021-10-08 山东大学深圳研究院 Two-dimensional silicon dioxide and preparation method and application thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113488376A (en) * 2021-07-21 2021-10-08 山东大学深圳研究院 Two-dimensional silicon dioxide and preparation method and application thereof
CN113488376B (en) * 2021-07-21 2024-04-16 山东大学深圳研究院 Two-dimensional silicon dioxide and preparation method and application thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP6635292B2 (en) 2020-01-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6288285B2 (en) MSix (M is at least one element selected from Group 3 to 9 elements, where 1/3 ≦ x ≦ 3) containing silicon material and manufacturing method thereof
JPWO2016031126A1 (en) Method for producing carbon-coated silicon material
WO2015182116A1 (en) Nano-silicon material, method for producing same and negative electrode of secondary battery
WO2016199358A1 (en) Silicon material and production method thereof
JP6926873B2 (en) Al and O-containing silicon material
JP6724927B2 (en) Silicon material manufacturing method
JP6436234B2 (en) CaSi2-containing composition and method for producing silicon material
JP6252864B2 (en) Method for producing silicon material
JP6635292B2 (en) M-containing silicon material (M is at least one element selected from Sn, Pb, Sb, Bi, In, Zn or Au) and method for producing the same
JP7131258B2 (en) Composite particle manufacturing method
JP7135673B2 (en) Composite particle manufacturing method
JP6642822B2 (en) MSix (M is at least one element selected from Group 3 to 9 elements, where 1/3 ≦ x ≦ 3) -containing silicon material and method for producing the same
JP2017007908A (en) Silicon material and manufacturing method thereof, and secondary battery possessing silicon material
JP2020053308A (en) Composite particles
US10217990B2 (en) Silicon material and negative electrode of secondary battery
JP6859930B2 (en) Al-containing silicon material
JP2016219354A (en) Negative electrode including crystalline silicon powder and amorphous silicon powder
JP2018058746A (en) Process for manufacturing silicon material coated with carbon
JP2018032602A (en) Method of producing negative electrode material
WO2019053983A1 (en) Negative electrode active material containing al-containing silicon material
WO2019053984A1 (en) Negative electrode active substance comprising al-containing silicon material
JP2020102383A (en) Negative electrode active material
JP2019052077A (en) Al-containing silicon material
JP2020061246A (en) Negative electrode material containing Si and TiC
JP2019179718A (en) Positive electrode active material

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180802

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190509

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190516

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190611

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191121

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191204

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6635292

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees