JP2017091980A - Discharge plasma sintering device and continuous type discharge plasma sintering device - Google Patents

Discharge plasma sintering device and continuous type discharge plasma sintering device Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a discharge plasma sintering device and a continuous type discharge plasma sintering device, capable of obtaining sintered articles whose characteristic deviation is small without flowing excessive pulse current.SOLUTION: A discharge plasma sintering device includes: discharge plasma sintering means for arranging a cartridge 11 composed of a molding die and upper/lower punches inserted into the molding die in a sintering room 13 by including a chamber 12 and the cylindrical sintering room 13 constructed by a thermal insulation material installed in the chamber, compressing a raw material in the molding die using the upper/lower punches, and sintering the raw material by flowing pulse-shaped current between the upper/lower punches; and means for performing high-frequency induction heating of the molding die or the raw material outside of the sintering room 13.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は粉末状の原料を焼結する焼結装置に関し、特に、放電プラズマ焼結手段を用いた放電プラズマ焼結装置および連続型放電プラズマ焼結装置に関する。   The present invention relates to a sintering apparatus that sinters a powdery raw material, and more particularly to a discharge plasma sintering apparatus and a continuous discharge plasma sintering apparatus using a discharge plasma sintering means.

放電プラズマ焼結は、圧縮された粉体粒子間に低電圧でパルス状の大電流を流したときに放電現象により瞬時に発生する放電プラズマを焼結に応用するものである。従来の加圧と加熱のみによる焼結方法に比べ、200〜500℃ほど低い温度で、しかも数分程度という短い時間で焼結できるという特徴がある。粒子表面のみの発熱による急速昇温が可能であるため、出発原料の粒成長を抑制することができ、短時間で緻密な焼結体を得ることができる。粉体の破壊を阻止できるため従来の一般的な焼結方法では難しい材料にも適用でき、熱電材料や磁性材料でも使われ始めている。   In the discharge plasma sintering, a discharge plasma generated instantaneously by a discharge phenomenon when a pulsed large current is passed between compressed powder particles is applied to the sintering. Compared to a conventional sintering method using only pressurization and heating, it has a feature that it can be sintered at a temperature as low as 200 to 500 ° C. and in a short time of about several minutes. Since rapid temperature rise by heat generation only on the particle surface is possible, grain growth of the starting material can be suppressed, and a dense sintered body can be obtained in a short time. Since it can prevent the destruction of the powder, it can be applied to materials that are difficult to obtain by conventional general sintering methods, and it is beginning to be used in thermoelectric materials and magnetic materials.

従来の放電プラズマ焼結装置は、成形ダイとその成形ダイに挿入される上パンチおよび下パンチとからなるカートリッジを真空チェンバー内に配置し、成形ダイの中の粉末原料を上下パンチにより数トンの圧力を加えて圧縮し、上下パンチと成形ダイを通じてパルス状電流を流すことにより粉末原料を焼結させるものである。従来の放電プラズマ焼結装置の一例が特許文献1に記載されている。   In the conventional spark plasma sintering apparatus, a cartridge composed of a forming die and an upper punch and a lower punch inserted in the forming die is arranged in a vacuum chamber, and the powder raw material in the forming die is several tons by upper and lower punches. The powder raw material is sintered by compressing it by applying pressure and passing a pulsed current through the upper and lower punches and the forming die. An example of a conventional spark plasma sintering apparatus is described in Patent Document 1.

特開2001−348277号公報JP 2001-348277 A

従来の放電プラズマ焼結装置では、パルス電流を流した場合、上パンチから粉末原料を経由して下パンチに流れる電流と、上パンチから成形ダイを経由して下パンチに流れる電流とが存在する。原料を経由した電流は放電プラズマ焼結に直接的に寄与し、成形ダイを経由した電流は原料温度を上げる役割をする。原料を経由する電流と成形ダイを経由する電流の割合は、粉末原料の抵抗率、成形ダイとパンチの形状によって決まるが、粉末原料の抵抗率はプレス状態で変わり、パンチの先端の形状は原料との反応などで損傷するため経時的に変形する。そのため、このように放電プラズマ焼結と加熱の両方の機能をパルス通電のみにより実現する従来の方法では、温度制御と放電プラズマ制御の両方を安定して行うことが難しく、品質にばらつきが生じていた。   In a conventional spark plasma sintering apparatus, when a pulse current is applied, there is a current flowing from the upper punch to the lower punch via the powder raw material and a current flowing from the upper punch to the lower punch via the forming die. . The current passing through the raw material directly contributes to the discharge plasma sintering, and the current passing through the forming die serves to raise the raw material temperature. The ratio of the current passing through the raw material and the current passing through the forming die is determined by the resistivity of the powder raw material and the shape of the forming die and punch, but the resistivity of the powder raw material varies depending on the pressed state, and the shape of the tip of the punch is the raw material Deformation over time due to damage due to reaction with. For this reason, it is difficult to stably perform both temperature control and discharge plasma control in the conventional method in which both functions of discharge plasma sintering and heating are realized only by pulse energization, resulting in variations in quality. It was.

また、従来の真空チェンバーは保温機能が無いため、パンチを経由してサーボプレスシャフトから逃げる熱と成形ダイから放熱する熱を補うために、更に余分な電力を必要とし、このため大きなパルス電流が必要となる。さらに、高温で長時間の焼結を行う場合は、パンチと成形ダイおよび焼結原料のみ温度が上がるわけではなく、パルス電流が流れる全ての部分で温度が上昇するため、余分な部分の過熱を押さえるため大掛かりな冷却システムが必要となる。   In addition, since the conventional vacuum chamber does not have a heat retaining function, extra power is required to compensate for the heat escaping from the servo press shaft via the punch and the heat radiating from the forming die. Necessary. Furthermore, when sintering at high temperatures for a long time, the temperature does not rise only for the punch, the forming die, and the sintering raw material, but the temperature rises in all parts where the pulse current flows. A large cooling system is required to hold down.

そこで、本発明は、係る問題を解決するためになされたものであり、過大なパルス電流を流すことなく、特性ばらつきの少ない良好な焼結体を得ることが可能な放電プラズマ焼結装置および連続型放電プラズマ焼結装置を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made to solve such a problem, and a discharge plasma sintering apparatus and a continuous apparatus capable of obtaining a good sintered body with little characteristic variation without flowing an excessive pulse current. An object of the present invention is to provide a type discharge plasma sintering apparatus.

上記課題を解決するために、第1の観点では、本発明の放電プラズマ焼結装置は、チェンバーと該チェンバー内に設置された断熱材により構成した円筒状の焼結室とを備え、成形ダイと該成形ダイに挿入される上パンチおよび下パンチとからなるカートリッジを前記焼結室内に配置し、前記成形ダイの中の原料を前記の上下パンチを使用して圧縮し、前記の上下パンチ間にパルス状電流を流して焼結させる放電プラズマ焼結手段と、前記焼結室の外側に前記成形ダイまたは前記原料を高周波誘導加熱する手段とを備えたことを特徴とする。このように、断熱材により構成した円筒状の焼結室を用いることで従来よりも保温性能が向上し、さらにパルス通電による加熱に加えて高周波誘導加熱することにより、パルス電流を最小限に抑えてパルス電源を小型化することができる。また、高周波誘導加熱を併用することで必要な部分のみ集中的に温度上昇させることが可能となり、パンチと粉末原料境界での異常発熱を抑えてパンチ先端の損傷を抑えることができる。断熱材の一例としてはカーボンフェルト等からなる成型断熱材を用いることができる。なお、上記のチェンバーは真空引きと水冷の機能が必要であり、例えばステンレス製の水冷チェンバーなどを用いることができる。石英製のチェンバーも考えられるが、金属製の方が機密性能が得やすく、製造も容易である。なお成形ダイに挿入される原料は粉末原料や粉末原料を成形プレスして作成した原料ペレットなどである。   In order to solve the above-mentioned problem, in a first aspect, the discharge plasma sintering apparatus of the present invention includes a chamber and a cylindrical sintering chamber constituted by a heat insulating material installed in the chamber, and a molding die. And a cartridge composed of an upper punch and a lower punch inserted into the molding die are disposed in the sintering chamber, and the raw material in the molding die is compressed using the upper and lower punches, and between the upper and lower punches. A discharge plasma sintering means for causing a pulsed current to flow through and sintering means, and a means for high-frequency induction heating the forming die or the raw material outside the sintering chamber. In this way, heat insulation performance is improved by using a cylindrical sintering chamber made of a heat insulating material, and pulse current is minimized by high-frequency induction heating in addition to heating by pulse energization. Thus, the pulse power supply can be reduced in size. Further, by using the high frequency induction heating together, it becomes possible to increase the temperature intensively only at a necessary portion, and it is possible to suppress abnormal heat generation at the boundary between the punch and the powder raw material and suppress damage to the punch tip. As an example of the heat insulating material, a molded heat insulating material made of carbon felt or the like can be used. Note that the above-described chamber needs functions of evacuation and water cooling. For example, a water-cooled chamber made of stainless steel can be used. Quartz chambers are also conceivable, but metal is easier to obtain confidential performance and easier to manufacture. The raw material to be inserted into the molding die is a powder raw material or a raw material pellet produced by molding and pressing the powder raw material.

第2の観点では、本発明は、前記第1の観点のプラズマ焼結装置において、前記成形ダイは上下方向の中央部に絶縁体または高抵抗体からなる層状部分を有することを特徴とする。導電性粉末原料を焼結する場合には、これにより、粉末原料にほぼ集中して通電させることが可能となり、加熱を兼ねて成形ダイにも通電する場合よりもはるかに少ないパルス電流で焼結が得られるようになる。   According to a second aspect, in the plasma sintering apparatus of the first aspect, the present invention is characterized in that the forming die has a layered portion made of an insulator or a high-resistance body at the center in the vertical direction. In the case of sintering conductive powder raw material, it is possible to energize the powder raw material almost concentrated, and sintering with much less pulse current than when the molding die is energized also for heating. Can be obtained.

第3の観点では、本発明は、前記第1または第2の観点のプラズマ焼結装置において、前記焼結室内に装着された前記カートリッジの上パンチまたは下パンチを押圧するプレスシャフトを有するプレス装置を前記焼結室の上方または下方に設置し、前記カートリッジを挟んで前記プレスシャフトと対峙する前記焼結室の下方または上方に前記カートリッジの下パンチまたは上パンチを保持するプレス台を設置し、前記プレスシャフトの先端の上パンチまたは下パンチと接する部分および前記プレス台の下パンチまたは上パンチと接する部分の材料はカーボンであることを特徴とする。本観点の発明では、プレス装置のプレスシャフトとプレス台の間にカートリッジを挟んで押圧する。この場合、プレスシャフトを上方から押しても、または下方から押してもよい。また、プレスシャフトおよびプレス台の上下パンチとの接触部分にカーボン材料を用いている。これにより、プレスシャフトおよびプレス台をすべて金属材料で構成する場合に比べて、カートリッジの熱による破損を防ぐことができる。一方、カーボンは導電材料であるが電流を流しやすくするためには金属の方が望ましい。本観点の発明では2つの材料の組み合わせを用いることができる。なお、プレス装置としては油圧プレス装置やサーボプレス装置などを使用できる。   In a third aspect, the present invention relates to the plasma sintering apparatus according to the first or second aspect, wherein the press apparatus includes a press shaft that presses the upper punch or the lower punch of the cartridge mounted in the sintering chamber. Is installed above or below the sintering chamber, and a press stand for holding the lower punch or the upper punch of the cartridge is installed below or above the sintering chamber facing the press shaft across the cartridge, The material of the portion in contact with the upper punch or the lower punch at the tip of the press shaft and the portion in contact with the lower punch or the upper punch of the press table is carbon. In the invention of this aspect, the cartridge is pressed between the press shaft and the press stand of the press device. In this case, the press shaft may be pushed from above or from below. Moreover, the carbon material is used for the contact part with a press shaft and the upper and lower punches of a press stand. Thereby, compared with the case where a press shaft and a press stand are all comprised with a metal material, the damage by the heat | fever of a cartridge can be prevented. On the other hand, although carbon is a conductive material, a metal is desirable for facilitating the flow of current. In the invention of this aspect, a combination of two materials can be used. In addition, as a press apparatus, a hydraulic press apparatus, a servo press apparatus, etc. can be used.

第4の観点では、本発明は、チェンバーと該チェンバー内に設置された断熱材により構成した円筒状の焼結室とを備え、成形ダイと該成形ダイに挿入される上パンチおよび下パンチとからなるカートリッジを前記焼結室内に配置し、前記成形ダイの中の粉末原料を前記の上下パンチを使用して圧縮し、前記の上下パンチ間にパルス状電流を流して焼結させる放電プラズマ焼結手段と、前記焼結室の外側に前記成形ダイまたは前記粉末原料を高周波誘導加熱する手段とを備え、焼結前のカートリッジを収納する予備室と、焼結後のカートリッジを収納し冷却する冷却室と、少なくとも1つの装着室とを備え、前記装着室は、前記焼結前または焼結後のカートリッジを収納する少なくとも2つのカートリッジ収納部と、該カートリッジ収納部を、前記焼結前のカートリッジの前記予備室からの搬出位置から前記焼結室への搬入位置に移動するカートリッジ収納部移動機構または前記焼結後のカートリッジの前記焼結室からの搬出位置から前記冷却室への搬入位置に移動するカートリッジ収納部移動機構の少なくとも一方を備え、前記チェンバー、前記装着室、前記予備室および前記冷却室はそれぞれ独立して真空引きが可能であって、前記予備室と前記装着室との間、前記装着室と前記チェンバーとの間、および前記装着室と前記冷却室との間にはそれぞれ真空状態を保持して開閉可能なシャッターを有することを特徴とする連続型放電プラズマ焼結装置を提供する。   In a fourth aspect, the present invention comprises a chamber and a cylindrical sintering chamber constituted by a heat insulating material installed in the chamber, and includes a molding die, an upper punch and a lower punch inserted into the molding die. Discharge plasma sintering in which a cartridge comprising the above is placed in the sintering chamber, the powder raw material in the forming die is compressed using the upper and lower punches, and a pulsed current is passed between the upper and lower punches. And a means for high-frequency induction heating the forming die or the powder raw material outside the sintering chamber, and a preliminary chamber for storing a cartridge before sintering, and a cartridge after sintering for cooling. A cooling chamber and at least one mounting chamber, the mounting chamber including at least two cartridge storage portions for storing the cartridge before or after sintering, and the cartridge storage portion; The cartridge storage unit moving mechanism that moves the unsintered cartridge from the unloading position from the preliminary chamber to the unloading position to the sintering chamber or the uncooled cartridge from the unloading position from the sintering chamber. At least one of a cartridge storage unit moving mechanism that moves to a loading position into the chamber, and the chamber, the mounting chamber, the spare chamber, and the cooling chamber can be evacuated independently, A continuous type comprising a shutter that can be opened and closed while maintaining a vacuum state between the mounting chamber, between the mounting chamber and the chamber, and between the mounting chamber and the cooling chamber. A spark plasma sintering apparatus is provided.

上記の第1乃至第3の観点のプラズマ放電焼結装置を用いて焼結作業を行う場合、粉末原料を入れたカートリッジをチェンバー内の焼結室に搬入した後、チェンバーを真空状態にして焼結を行う必要があり、焼結後にカートリッジを取り出す時は真空状態でカートリッジを十分に冷却した後に大気中に取り出す必要がある。そこで連続して焼結作業を行う場合、チェンバーの真空引きに要する作業時間と焼結後の冷却に要する作業時間が1回の焼結作業ごとに必要となるため、原料の焼結に必要な時間以外に多くの時間を要してしまう。   When performing the sintering operation using the plasma discharge sintering apparatus according to the first to third aspects, after the cartridge containing the powder raw material is carried into the sintering chamber in the chamber, the chamber is evacuated and sintered. When the cartridge is taken out after sintering, it is necessary to sufficiently cool the cartridge in a vacuum state and take it out to the atmosphere. Therefore, when performing a continuous sintering operation, an operation time required for evacuation of the chamber and an operation time required for cooling after sintering are required for each sintering operation. It takes a lot of time other than time.

本観点の発明はこのような連続的な焼結作業に要する時間を大幅に削減することを可能にするものである。本観点の発明によれば、粉末原料を入れたカートリッジは先ず予備室に搬入され、搬入後、その予備室が真空引きされる。その後、真空状態に保たれた装着室のシャッターが開けられその中のカートリッジ収納部に搬入され、装着室のシャッターを閉じる。その後、カートリッジ収納部移動機構により焼結室への搬入位置に移動してチェンバーのシャッターが開けられチェンバー内の焼結室に搬入され、チェンバーのシャッターを閉じる。この搬入作業時は装着室、チェンバー共に真空状態に保たれているので、チェンバーのカートリッジ搬入ごとの真空引きは不要となる。また、焼結後の装着室への搬出も真空状態が保たれた状態で行い、その後、真空状態の冷却室に搬入されて、そこで冷却される。すなわち、焼結後のカートリッジの冷却と次のカートリッジの焼結作業を同時に行うことが可能となる。また、予備室への新たなカートリッジの搬入も同時に行うことが可能となる。これにより連続的な焼結作業に要する時間を大幅に削減することが可能となる。なお、カートリッジを予備室からチェンバー内の焼結室に搬入するための装着室と焼結後のカートリッジを焼結室から冷却室に搬出するための装着室を焼結室の上下に別々に設けてもよく、または、装着室は焼結室の上下の一方に1つ設け、その中で上記の搬入、搬出の両方を行うようにしてもよい。   The invention of this aspect makes it possible to greatly reduce the time required for such a continuous sintering operation. According to the invention of this aspect, the cartridge containing the powder raw material is first carried into the spare chamber, and after the carry-in, the spare chamber is evacuated. After that, the shutter of the mounting chamber kept in a vacuum state is opened and loaded into the cartridge housing portion therein, and the shutter of the mounting chamber is closed. Thereafter, the cartridge storage unit moving mechanism moves to a loading position into the sintering chamber, the chamber shutter is opened, and the chamber shutter is loaded into the sintering chamber, and the chamber shutter is closed. During the loading operation, the mounting chamber and the chamber are both kept in a vacuum state, so that evacuation is not required every time the chamber cartridge is loaded. Further, the unloading to the mounting chamber after sintering is performed in a state where the vacuum state is maintained, and thereafter, the unloading is carried into the cooling chamber in the vacuum state and cooled there. In other words, the cooling of the cartridge after sintering and the sintering operation of the next cartridge can be performed simultaneously. Also, a new cartridge can be carried into the spare chamber at the same time. As a result, the time required for the continuous sintering operation can be greatly reduced. In addition, a mounting chamber for carrying the cartridge from the preliminary chamber into the sintering chamber in the chamber and a mounting chamber for carrying the sintered cartridge from the sintering chamber to the cooling chamber are provided separately above and below the sintering chamber. Alternatively, one mounting chamber may be provided on one of the upper and lower sides of the sintering chamber, and both the above loading and unloading may be performed therein.

第5の観点では、本発明は、前記第4の観点の連続型放電プラズマ焼結装置において、前記成形ダイは上下方向の中央部に絶縁体または高抵抗体からなる層状部分を有することを特徴とする。導電性粉末原料を焼結する場合には、これにより、粉末原料にほぼ集中して通電させることが可能となり、加熱を兼ねて成形ダイにも通電する場合よりもはるかに少ないパルス電流で焼結が得られるようになる。   In a fifth aspect, the present invention provides the continuous discharge plasma sintering apparatus according to the fourth aspect, wherein the forming die has a layered portion made of an insulator or a high-resistance body at the center in the vertical direction. And In the case of sintering conductive powder raw material, it is possible to energize the powder raw material almost concentrated, and sintering with much less pulse current than when the molding die is energized also for heating. Can be obtained.

第6の観点では、本発明は、前記第4または第5の観点の連続型放電プラズマ焼結装置において、1つの前記装着室を有し、該装着室は、前記カートリッジ収納部を、前記焼結前のカートリッジの前記予備室からの搬出位置から前記焼結室への搬入位置に移動し、かつ、前記焼結後のカートリッジの前記焼結室からの搬出位置から前記冷却室への搬入位置に移動するカートリッジ収納部移動機構を備え、前記焼結室内に装着された前記カートリッジの上パンチを押圧するプレスシャフトを有するプレス装置を前記焼結室の上方に設置し、前記焼結室の下方に前記カートリッジの下パンチを保持するプレス台を設置し、該プレス台は制御により前記焼結室と前記装着室間で前記カートリッジを移動させることが可能なプレス台移動機構を有することを特徴とする。   According to a sixth aspect, the present invention provides the continuous discharge plasma sintering apparatus according to the fourth or fifth aspect, wherein the mounting chamber has one mounting chamber, and the mounting chamber includes the cartridge housing portion and the sintering chamber. The cartridge before unloading moves from the unloading position from the preliminary chamber to the loading position into the sintering chamber, and the unloading position of the cartridge after sintering from the sintering chamber to the cooling chamber. A pressing device having a press shaft that presses the upper punch of the cartridge mounted in the sintering chamber is provided above the sintering chamber, and is provided below the sintering chamber. A press stand for holding the lower punch of the cartridge, and the press stand has a press stand moving mechanism capable of moving the cartridge between the sintering chamber and the mounting chamber under control. And wherein the door.

本観点の発明においては、装着室は1つであり、下パンチをプレス台で支えながらプレス装置のプレスシャフトにより上パンチを押圧して粉末原料を圧縮して放電プラズマにより焼結させ、焼結後プレス台を上下方向に移動して焼結後のカートリッジを装着室に戻すことができる。装着室が焼却室の上方に配置されているときは上方より搬入、搬出を行い、装着室が焼却室の下方に配置されているときは下方より搬入、搬出を行う。   In the invention of this aspect, there is one mounting chamber, the upper punch is pressed by the press shaft of the press device while the lower punch is supported by the press stand, the powder raw material is compressed and sintered by the discharge plasma, and sintered. The rear press table can be moved up and down to return the sintered cartridge to the mounting chamber. When the mounting chamber is arranged above the incineration chamber, it is carried in and out from above, and when the mounting chamber is arranged below the incineration chamber, it is carried in and out from below.

第7の観点では、本発明は、前記第6の観点の連続型放電プラズマ焼結装置において、前記焼結室の上方に前記装着室が配置され、前記装着室の上方に前記予備室が配置され、前記装着室の下方に前記冷却室が配置されていることを特徴とする。本観点の発明では、例えば以下のような焼結作業を行う配置が可能となる。先ず、予備室にその上方から原料を入れたカートリッジを挿入して予備室を真空引きし、その位置からシャッターを開けてその真下の装着室内のカートリッジ収納部に移動させてシャッターを閉じ、水平面内でカートリッジ収納部を焼結室の真上に移動してシャッターを開けてカートリッジを焼結室内に移動させる。焼結後は、カートリッジを焼結室の真上の装着室内のカートリッジ収納部に移動させ、そのカートリッジ収納部を冷却室の真上にある搬入位置に移動させるとともにもう一つのカートリッジ収納部に収納された新しい原料を入れたカートリッジを焼却室の真上に移動する。その後、焼結後のカートリッジを冷却室に搬入し、焼結前のカートリッジを焼結室に搬入してシャッターを閉じる。   In a seventh aspect, the present invention provides the continuous discharge plasma sintering apparatus according to the sixth aspect, wherein the mounting chamber is disposed above the sintering chamber, and the preliminary chamber is disposed above the mounting chamber. The cooling chamber is arranged below the mounting chamber. In the invention of this aspect, for example, an arrangement for performing the following sintering operation is possible. First, a cartridge containing raw materials is inserted into the spare chamber from above, and the spare chamber is evacuated. From the position, the shutter is opened and moved to the cartridge storage section in the mounting chamber immediately below, and the shutter is closed. Then, the cartridge housing is moved directly above the sintering chamber, the shutter is opened, and the cartridge is moved into the sintering chamber. After sintering, the cartridge is moved to the cartridge storage section in the mounting chamber directly above the sintering chamber, and the cartridge storage section is moved to the loading position directly above the cooling chamber and stored in another cartridge storage section. The cartridge containing the new raw material is moved directly above the incineration chamber. Thereafter, the cartridge after sintering is carried into the cooling chamber, the cartridge before sintering is carried into the sintering chamber, and the shutter is closed.

第8の観点では、本発明は、前記第7の観点の連続型放電プラズマ焼結装置において、前記カートリッジ収納部移動機構は回転機構であって、前記少なくとも2つのカートリッジ収納部は前記回転機構の回転軸に対象に配置されていることを特徴とする。例えば、予備室と冷却室を装着室を挟んで上下に配置し、回転軸に対して180度対称な位置に2つのカートリッジ収納部を設け、一方のカートリッジ収納部が焼結室の真上にあるとき、他方のカートリッジ収納部は予備室と冷却室の間に位置するようにすることができる。   In an eighth aspect, the present invention provides the continuous discharge plasma sintering apparatus according to the seventh aspect, wherein the cartridge housing portion moving mechanism is a rotating mechanism, and the at least two cartridge housing portions are the rotating mechanism. It is arrange | positioned at the object on the rotating shaft. For example, a preliminary chamber and a cooling chamber are arranged above and below the mounting chamber, two cartridge storage portions are provided at positions 180 degrees symmetrical to the rotation axis, and one cartridge storage portion is directly above the sintering chamber. In some cases, the other cartridge housing can be located between the reserve chamber and the cooling chamber.

第9の観点では、本発明は、前記第8の観点の連続型放電プラズマ焼結装置において、前記装着室は少なくとも4つのカートリッジ収納部を備えることを特徴とする。本観点の発明では、4つ以上のカートリッジ収納部を備え、それらを順次回転させて移動することにより予備室、冷却室との間でカートリッジの搬入搬出を複数個まとめて行うことが可能となり、1回の焼結ごとに行う必要がなくなるので、より効率的な連続した焼結作業が可能となる。なお、カートリッジ収納部の数は、例えば6個、8個、10個など、装置形状などが許容される範囲内で任意に設定できる。   In a ninth aspect, the present invention provides the continuous discharge plasma sintering apparatus according to the eighth aspect, wherein the mounting chamber includes at least four cartridge storage portions. In the invention of this aspect, it is possible to perform a plurality of cartridge loading / unloading operations between the preliminary chamber and the cooling chamber by providing four or more cartridge storage portions and moving them by sequentially rotating them. Since it is not necessary to carry out each time of sintering, a more efficient continuous sintering operation becomes possible. Note that the number of cartridge storage units can be arbitrarily set within a range in which the shape of the apparatus is allowed, such as 6, 8, 10, and the like.

以上のように、本発明では、過大なパルス電流を流すことなく、特性ばらつきの少ない良好な焼結体を得ることが可能な放電プラズマ焼結装置および連続型放電プラズマ焼結装置が得られる。   As described above, according to the present invention, there can be obtained a discharge plasma sintering apparatus and a continuous discharge plasma sintering apparatus capable of obtaining a good sintered body with little characteristic variation without flowing an excessive pulse current.

実施例1に係る放電プラズマ焼結装置の焼結炉の概略を示す模式的な断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a sintering furnace of a discharge plasma sintering apparatus according to Example 1. FIG. カートリッジの構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a cartridge. 中央に絶縁体層を設けた成形ダイからなるカートリッジの構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the cartridge which consists of a shaping | molding die which provided the insulator layer in the center. 実施例2に係る連続型放電プラズマ焼結装置の焼結炉の概略を示す模式的な断面図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a sintering furnace of a continuous discharge plasma sintering apparatus according to Example 2. カートリッジ収納部の配置を示す上面図。The top view which shows arrangement | positioning of a cartridge accommodating part. 焼結作業と同時に次の原料を入れたカートリッジを予備室に移動した状態の焼結炉の概略を示す模式的な断面図。The typical sectional view showing the outline of the sintering furnace of the state where the cartridge which put the next raw material into the preliminary chamber was moved simultaneously with the sintering operation. 焼結作業終了後、次のカートリッジを焼結室上に移動した状態の焼結炉の概略を示す模式的な断面図。The typical sectional view showing the outline of the sintering furnace in the state where the next cartridge was moved onto the sintering chamber after the end of the sintering operation. 連続型放電プラズマ焼結装置の焼結炉の変形例の概略を示す模式的な平面図。The typical top view which shows the outline of the modification of the sintering furnace of a continuous type discharge plasma sintering apparatus.

以下、図面を参照して本発明の放電プラズマ焼結装置および連続型放電プラズマ焼結装置を実施例により詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一符号を付し、その重複した説明を省略する。   Hereinafter, the discharge plasma sintering apparatus and continuous discharge plasma sintering apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.

図1は実施例1に係る放電プラズマ焼結装置の焼結炉の概略を示す模式的な断面図である。本実施例の放電プラズマ焼結装置は、電気制御盤と焼結炉1とから成り、図1は焼結炉1を示している。焼結炉1は放電プラズマ焼結手段と高周波誘導加熱手段の両方を備え、電気制御盤は、放電プラズマ焼結のためにパルス電流を発生するインバーター制御パルス電源と、高周波誘導加熱のための高周波発振器電源と、サーボプレス電源とで構成されている。焼結炉1は、チェンバー12とチェンバー12内に設置された断熱材により構成した円筒状の焼結室13と、チャンバー12の内部に挿入される原料を保持したカートリッジ11に圧力を加えるためのシャフト17を備えたサーボプレス16、チャンバー12内の気体を排出するための真空ポンプ18、その他、図示を省略するが、アルゴンガスの導入部および流量計などを備えている。また、高周波誘導加熱のための誘導加熱コイル19を備えている。また、チャンバー12は、シャフト17をチャンバー12内に挿入した状態、および引き上げた状態のいずれも真空状態を保持可能となる構造を有している。また、カートリッジ11の下側には圧力を支えるプレス台20が配置され、プレス台20はプレス台シャフト21を介してプレス台20を上下に移動させるプレス台移動機構22に結合している。焼結後にそのプレス台20を上方に移動してチェンバー12の上部より焼結体を取り出す構成である。焼結室13の断熱材としてはカーボンフェルト等からなる成型断熱材を用いている。   1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a sintering furnace of a discharge plasma sintering apparatus according to Example 1. FIG. The discharge plasma sintering apparatus according to this embodiment includes an electric control panel and a sintering furnace 1, and FIG. 1 shows the sintering furnace 1. The sintering furnace 1 includes both discharge plasma sintering means and high-frequency induction heating means, and the electric control panel includes an inverter-controlled pulse power source that generates a pulse current for discharge plasma sintering, and a high-frequency for high-frequency induction heating. It is composed of an oscillator power supply and a servo press power supply. The sintering furnace 1 is for applying pressure to a chamber 12 and a cylindrical sintering chamber 13 constituted by a heat insulating material installed in the chamber 12 and a cartridge 11 holding a raw material inserted into the chamber 12. Although not shown, the servo press 16 provided with the shaft 17, the vacuum pump 18 for discharging the gas in the chamber 12, and an argon gas introduction unit and a flow meter are provided. Moreover, the induction heating coil 19 for high frequency induction heating is provided. The chamber 12 has a structure that can maintain a vacuum state in both the state where the shaft 17 is inserted into the chamber 12 and the state where the shaft 17 is pulled up. A press table 20 that supports pressure is disposed below the cartridge 11, and the press table 20 is coupled to a press table moving mechanism 22 that moves the press table 20 up and down via a press table shaft 21. After the sintering, the press stand 20 is moved upward to take out the sintered body from the upper part of the chamber 12. As the heat insulating material for the sintering chamber 13, a molded heat insulating material made of carbon felt or the like is used.

シャフト17の先端の上パンチと接するシャフト下端部分23および前記プレス台の下パンチと接するプレス台上端部分24はカーボンを材料として構成されている。シャフトおよびプレス台の他の部分はステンレスなどの金属である。   The shaft lower end portion 23 in contact with the upper punch at the tip of the shaft 17 and the press table upper end portion 24 in contact with the lower punch in the press table are made of carbon. The other parts of the shaft and press stand are metal such as stainless steel.

図2はカートリッジ11の構成を示す断面図である。カートリッジ11は成形ダイ41と成形ダイ41に挿入される上パンチ42および下パンチ43とからなる。放電プラズマ焼結では、成形ダイ41の中の粉末原料44をサーボプレス16のシャフト17により上下パンチ42、43間に圧力を加えて圧縮し、その後上下パンチ42、43間にパルス状電流を流して焼結させる。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the cartridge 11. The cartridge 11 includes a forming die 41 and an upper punch 42 and a lower punch 43 that are inserted into the forming die 41. In the spark plasma sintering, the powder raw material 44 in the molding die 41 is compressed by applying pressure between the upper and lower punches 42 and 43 by the shaft 17 of the servo press 16, and then a pulsed current is passed between the upper and lower punches 42 and 43. And sinter.

次に、本実施例の焼結装置を用いてMgSi(マグネシウムシリサイド)を焼結する場合について詳細に説明する。この場合、カートリッジ11は、外径50mm、内径20mm、高さ60mmの成形ダイ41と、外径20mm、高さ35mmの先端部と外径75mm、高さ8mmの基部を炭素材で一体に形成した上パンチ42、およびそれと同一の下パンチ43とで構成した。 Next, the case where Mg 2 Si (magnesium silicide) is sintered using the sintering apparatus of the present embodiment will be described in detail. In this case, the cartridge 11 is integrally formed of a carbon material with a forming die 41 having an outer diameter of 50 mm, an inner diameter of 20 mm, and a height of 60 mm, and a distal end portion having an outer diameter of 20 mm and a height of 35 mm and a base portion having an outer diameter of 75 mm and a height of 8 mm. The upper punch 42 and the same lower punch 43 are used.

切削粉状のMg(マグネシウム)とSi(シリコン)を所定の比率で3g秤量し、この粉末原料をカートリッジ11の成形ダイ41に充填して本装置で焼結を行った。   3 g of powdered Mg (magnesium) and Si (silicon) were weighed at a predetermined ratio, and this powder raw material was filled in the forming die 41 of the cartridge 11 and sintered by this apparatus.

まず、粉末原料44を充填したカートリッジ11を本焼結装置の焼結炉1にセットして、真空ポンプ18で1Pa以下に排気した後Arガスで置換する。Arガスを5l/min流した状態で、サーボプレス16で加圧し、圧縮圧力を20MPa/cmに維持した。この状態で、高周波誘導加熱電源を入れ4KWで30秒加熱して450℃まで温度を上げた。その後、高周波誘導加熱電源の出力を3KWとし、放電プラズマ焼結のパルス通電を、電流1300A、パルス幅150msecのON状態と、電流0A、パルス幅10msecのOFF状態との繰り返しで850℃まで昇温させて3分間保持した。その後、加圧を開放して電源を切った。 First, the cartridge 11 filled with the powder raw material 44 is set in the sintering furnace 1 of the main sintering apparatus, evacuated to 1 Pa or less by the vacuum pump 18, and then replaced with Ar gas. With Ar gas flowing at 5 l / min, the servo press 16 was used to maintain the compression pressure at 20 MPa / cm 2 . In this state, a high frequency induction heating power source was turned on and heated at 4 KW for 30 seconds to raise the temperature to 450 ° C. Thereafter, the output of the high frequency induction heating power supply is set to 3 kW, and the pulse energization of the discharge plasma sintering is increased to 850 ° C. by repeating the ON state with a current of 1300 A and a pulse width of 150 msec and the OFF state of a current of 0 A and a pulse width of 10 msec. Held for 3 minutes. Thereafter, the pressure was released and the power was turned off.

上記のようなパルス通電と高周波誘導加熱による焼結により、外径20mm、高さ5mmのMgSi焼結体が得られた。得られた焼結体は密度が96%以上であった。同様な条件で、放電プラズマ焼結のパルス通電のみで実施した場合は得られた焼結体の密度は92%となり、高周波誘導加熱だけでは焼結体の密度は80%程しか得られなかった。この結果、パルス通電と高周波誘導加熱の両方を用いた本発明の効果が確認できた。 An Mg 2 Si sintered body having an outer diameter of 20 mm and a height of 5 mm was obtained by the above-described pulse energization and sintering by high-frequency induction heating. The obtained sintered body had a density of 96% or more. Under the same conditions, when the discharge plasma sintering was carried out only by pulse energization, the density of the obtained sintered body was 92%, and the density of the sintered body was only about 80% by high frequency induction heating alone. . As a result, the effect of the present invention using both pulse energization and high frequency induction heating was confirmed.

また、本実施例においては、上下方向の中央部に絶縁体または高抵抗体からなる層状部分を有する成形ダイを用いたカートリッジを使用することができる。図3はこのように中央に絶縁体層45を設けた成形ダイ46からなるカートリッジの構成を示す断面図である。導電性粉末原料を焼結する場合に図3のカートリッジ11aを使用することにより、粉末原料にほぼ集中して通電させることが可能となり、加熱を兼ねて成形ダイにも通電する場合よりもはるかに少ないパルス電流で焼結が得られるようになる。   In the present embodiment, a cartridge using a molding die having a layered portion made of an insulator or a high-resistance material at the center in the vertical direction can be used. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of the cartridge composed of the forming die 46 having the insulating layer 45 provided at the center in this way. When the conductive powder raw material is sintered, the cartridge 11a shown in FIG. 3 can be used so that the powder raw material can be energized in a concentrated manner, much more than when the molding die is energized also for heating. Sintering can be obtained with a small pulse current.

次に、本実施例の放電プラズマ焼結装置を用いてAl(酸化アルミニウム)を焼結する場合について詳細に説明する。この場合、カートリッジ11は、外径39mm、内径20mm、高さ68mmの成形ダイ41と、外径20mm、高さ35mmの先端部と外径50mm、高さ8mmの基部を炭素材で一体に形成した上パンチ42および下パンチ43とで構成した。 It will be described in detail for the case of sintering the Al 2 O 3 (aluminum oxide) with a discharge plasma sintering apparatus of the present embodiment. In this case, the cartridge 11 is integrally formed of a carbon material with a molding die 41 having an outer diameter of 39 mm, an inner diameter of 20 mm, and a height of 68 mm, and a tip portion having an outer diameter of 20 mm and a height of 35 mm and a base portion of an outer diameter of 50 mm and a height of 8 mm. The upper punch 42 and the lower punch 43 are configured.

切削粉状のAl(アルミニウム)を3g秤量し、この粉末原料をカートリッジ11の成形ダイ41に充填して本装置で焼結を行った。   3 g of cutting powdery Al (aluminum) was weighed, and this powder raw material was filled in the forming die 41 of the cartridge 11 and sintered in this apparatus.

まず、粉末原料44を充填したカートリッジ11を本焼結装置の焼結炉1にセットして高周波誘導加熱部分に配置し、真空ポンプ18で1Pa以下に排気した後Arガスで置換する。Arガスを5l/min流した状態で、サーボプレス16で加圧し、圧縮圧力を20MPa/cmに維持した。この状態で、高周波誘導加熱電源を入れ4KWで30秒加熱して450℃まで温度を上げた。その後、高周波誘導加熱電源の出力を4KWとし、放電プラズマ焼結のパルス通電を、電流1700A、パルス幅150msecのON状態と、電流0A、パルス幅10msecのOFF状態との繰り返しで1200℃まで昇温させて3分間保持した。その後、加圧を開放して電源を切った。 First, the cartridge 11 filled with the powder raw material 44 is set in the sintering furnace 1 of the main sintering apparatus and placed in the high-frequency induction heating portion, evacuated to 1 Pa or less by the vacuum pump 18 and then replaced with Ar gas. With Ar gas flowing at 5 l / min, the servo press 16 was used to maintain the compression pressure at 20 MPa / cm 2 . In this state, a high frequency induction heating power source was turned on and heated at 4 KW for 30 seconds to raise the temperature to 450 ° C. Thereafter, the output of the high frequency induction heating power source is set to 4 kW, and the pulse energization of the discharge plasma sintering is raised to 1200 ° C. by repeating the ON state with a current of 1700 A and a pulse width of 150 msec and the OFF state of a current of 0 A and a pulse width of 10 msec. Held for 3 minutes. Thereafter, the pressure was released and the power was turned off.

上記のようなパルス通電と高周波誘導加熱による焼結により、外径20mm、高さ3mmのAl焼結体が得られた。得られた焼結体は密度が77%であり、放電プラズマ焼結のパルス通電のみで焼結した焼結体の密度や高周波誘導加熱だけで焼結した焼結体の密度に比べて高い密度が得られた。 An Al 2 O 3 sintered body having an outer diameter of 20 mm and a height of 3 mm was obtained by the above-described pulse energization and sintering by high-frequency induction heating. The obtained sintered body has a density of 77%, which is higher than the density of the sintered body sintered only by pulsed current of discharge plasma sintering and the density of the sintered body sintered only by high frequency induction heating. was gotten.

図4は本発明の実施例2に係る連続型放電プラズマ焼結装置の焼結炉の概略を示す模式的な断面図である。本実施例の連続型放電プラズマ焼結装置は、実施例1と同様に電気制御盤等と焼結炉2とから成り、図4は焼結炉2を示している。本実施例の連続型放電プラズマ焼結装置の焼結を行う部分の基本的な構成は実施例1と同様である。すなわち、本実施例の焼結炉2も、チェンバー12とチェンバー12内に設置された断熱材により構成した円筒状の焼結室13と、チャンバー12の内部に挿入される原料を保持したカートリッジに圧力を加えるためのシャフト17を備えたサーボプレス、チャンバー12内の気体を排出するための真空ポンプなどを備えている。また、高周波誘導加熱のための誘導加熱コイル19を備えている。また、チャンバー12は、シャフト17をチャンバー12内に挿入した状態、および引き上げた状態のいずれも真空状態を保持可能となる構造を有している。また、カートリッジの下側には圧力を支えるプレス台20が配置され、プレス台20はプレス台シャフト21を介してプレス台20を上下に移動させるプレス台移動機構に結合している。焼結後にそのプレス台20を上方に移動してチェンバー12の上部より焼結体を取り出す構成である。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a sintering furnace of a continuous discharge plasma sintering apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. The continuous type discharge plasma sintering apparatus of the present embodiment is composed of an electric control panel and the like and the sintering furnace 2 as in the first embodiment, and FIG. The basic configuration of the portion for sintering in the continuous discharge plasma sintering apparatus of the present embodiment is the same as that of the first embodiment. That is, the sintering furnace 2 of the present embodiment also has a cylindrical sintering chamber 13 constituted by the chamber 12 and a heat insulating material installed in the chamber 12, and a cartridge holding the raw material inserted into the chamber 12. The servo press provided with the shaft 17 for applying a pressure, the vacuum pump for discharging | emitting the gas in the chamber 12, etc. are provided. Moreover, the induction heating coil 19 for high frequency induction heating is provided. The chamber 12 has a structure that can maintain a vacuum state in both the state where the shaft 17 is inserted into the chamber 12 and the state where the shaft 17 is pulled up. A press table 20 that supports pressure is disposed below the cartridge, and the press table 20 is coupled to a press table moving mechanism that moves the press table 20 up and down via a press table shaft 21. After the sintering, the press stand 20 is moved upward to take out the sintered body from the upper part of the chamber 12.

但し、本実施例においては、図4に示すように、焼結炉2は、焼結前のカートリッジ11を収納する予備室31と、焼結後のカートリッジを収納し冷却する冷却室32と、1つの装着室33とを備え、装着室33は、焼結前および焼結後のカートリッジを収納する8個のカートリッジ収納部34a〜34hと、それらのカートリッジ収納部を、焼結前のカートリッジの予備室31からの搬出位置から焼結室13への搬入位置に移動し、かつ、焼結後のカートリッジの焼結室13からの搬出位置から冷却室32への搬入位置に移動するカートリッジ収納部移動機構を備えている。また、図4に示すように、焼結室13の上方に装着室33が配置され、装着室33の上方に予備室31が配置され、装着室33の下方に冷却室32が配置されている。カートリッジ収納部移動機構は回転機構であって、回転モータ35の回転軸36に対して8個のカートリッジ収納部34a〜34hを対象に配置している。図5はカートリッジ収納部の配置を示す上面図である。図4および図5は予備室31からの搬出位置のカートリッジ収納部34aにカートリッジ11が収納されている場合を示す。   However, in this embodiment, as shown in FIG. 4, the sintering furnace 2 includes a preliminary chamber 31 for storing the cartridge 11 before sintering, a cooling chamber 32 for storing and cooling the cartridge after sintering, The mounting chamber 33 includes eight cartridge storage portions 34a to 34h for storing the cartridges before and after sintering, and the cartridge storage portions for the cartridges before sintering. A cartridge storage unit that moves from the carry-out position from the preliminary chamber 31 to the carry-in position to the sintering chamber 13 and moves from the carry-out position of the sintered cartridge from the sintering chamber 13 to the carry-in position to the cooling chamber 32. A moving mechanism is provided. As shown in FIG. 4, the mounting chamber 33 is disposed above the sintering chamber 13, the spare chamber 31 is disposed above the mounting chamber 33, and the cooling chamber 32 is disposed below the mounting chamber 33. . The cartridge storage portion moving mechanism is a rotation mechanism, and eight cartridge storage portions 34 a to 34 h are arranged with respect to the rotation shaft 36 of the rotation motor 35. FIG. 5 is a top view showing the arrangement of the cartridge storage portion. 4 and 5 show a case where the cartridge 11 is stored in the cartridge storage portion 34a at the position where the cartridge 11 is unloaded from the preliminary chamber 31. FIG.

チェンバー12、装着室33、予備室31および冷却室32は真空ポンプに接続され、それぞれに設けられた真空ポンプとの間の真空バルブを開閉することにより独立して真空引きが可能であるように設定されている。予備室31と装着室33との間にはシャッター26、装着室33とチェンバー12との間にはシャッター27、および装着室33と冷却室32との間にはシャッター28を備え、それらのシャッターは、それぞれの部屋の真空状態を保持して開閉可能なシャッターである。   The chamber 12, the mounting chamber 33, the preliminary chamber 31, and the cooling chamber 32 are connected to a vacuum pump, and can be evacuated independently by opening and closing a vacuum valve between the chamber 12 and the vacuum chamber. Is set. A shutter 26 is provided between the preliminary chamber 31 and the mounting chamber 33, a shutter 27 is provided between the mounting chamber 33 and the chamber 12, and a shutter 28 is provided between the mounting chamber 33 and the cooling chamber 32. Is a shutter that can be opened and closed while maintaining the vacuum state of each room.

次に本実施例の連続型放電プラズマ焼結装置により焼結作業を連続して行う場合について説明する。先ず、粉末原料を入れたカートリッジ11aを予備室31の上に設けた外部ホルダー38にセットし、予備室31の上部に設けたシャッター25を開けてそのカートリッジ11aを予備室31の内部ホルダー39の中に移動する。次に予備室31を装着室31の真空度と同じ程度まで真空引きし、装着室31との間のシャッター26を開け、カートリッジ11aを内部ホルダー39よりその真下にある装着室33内のカートリッジ収納部34aに移動し、装着室31との間のシャッター26を閉じる。図3はこの時の状態を示している。   Next, a case where the sintering operation is continuously performed by the continuous discharge plasma sintering apparatus of the present embodiment will be described. First, the cartridge 11 a containing the powder raw material is set in the external holder 38 provided on the preliminary chamber 31, the shutter 25 provided on the upper portion of the preliminary chamber 31 is opened, and the cartridge 11 a is inserted into the internal holder 39 of the preliminary chamber 31. Move in. Next, the preliminary chamber 31 is evacuated to the same degree as the degree of vacuum of the mounting chamber 31, the shutter 26 is opened with the mounting chamber 31, and the cartridge 11 a is stored in the cartridge in the mounting chamber 33 directly below the internal holder 39. It moves to the part 34a and closes the shutter 26 between the mounting chambers 31. FIG. 3 shows the state at this time.

次にカートリッジ収納部移動機構の回転モータ35を180度回転させてカートリッジ収納部34aを回転軸37に対して対称な位置であって焼結室13への搬入位置であるカートリッジ収納部34eがあった位置に移動する。その後、装着室33とチェンバー12との間のシャッター27を開け、プレス台20を上方に移動してプレス台20の上にカートリッジ11aを載せ、焼却室13の焼結を行う所定の位置にカートリッジ11aが配置されるようにプレス台20を下に移動する。次に上からシャフト17を下げてカートリッジ収納部34aを貫通して焼却室13に挿入し、カートリッジ11aの上下パンチ間の粉末原料に所定の圧力を加える。この作業と同時に予備室31との間のシャッター26を開けて次の原料を入れたカートリッジ11bを装着室33内のカートリッジ収納部に移動する。   Next, the rotation motor 35 of the cartridge storage unit moving mechanism is rotated 180 degrees so that the cartridge storage unit 34e is located at a position symmetrical to the rotation axis 37 and is carried into the sintering chamber 13. Move to the desired position. Thereafter, the shutter 27 between the mounting chamber 33 and the chamber 12 is opened, the press table 20 is moved upward, the cartridge 11a is placed on the press table 20, and the cartridge is placed at a predetermined position where the incineration chamber 13 is sintered. The press table 20 is moved downward so that 11a is arranged. Next, the shaft 17 is lowered from above and inserted into the incineration chamber 13 through the cartridge housing portion 34a, and a predetermined pressure is applied to the powder raw material between the upper and lower punches of the cartridge 11a. Simultaneously with this operation, the shutter 26 between the preliminary chamber 31 is opened, and the cartridge 11b containing the next raw material is moved to the cartridge storage portion in the mounting chamber 33.

図6は、上記のように、焼結作業と同時に次の原料を入れたカートリッジを予備室に移動した状態の焼結炉の概略を示す模式的な断面図である。本実施例においても、焼結室13やチェンバー12、カートリッジの構成や形状を実施例1と同様に設定すれば、焼結の際のArガスの導入や圧力設定、高周波誘導加熱の条件設定、放電プラズマ焼結の圧力や通電などの条件はすべて実施例1と同じ条件に設定して焼結を行うことが可能である。   FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the outline of the sintering furnace in a state where the cartridge containing the next raw material is moved to the preliminary chamber simultaneously with the sintering operation as described above. Also in this example, if the configuration and shape of the sintering chamber 13, the chamber 12, and the cartridge are set in the same manner as in Example 1, introduction of Ar gas and pressure setting during sintering, setting of conditions for high-frequency induction heating, It is possible to perform sintering by setting all the conditions such as the pressure and electric current of the discharge plasma sintering to the same conditions as in the first embodiment.

焼結終了後は、シャフト17を上げ、プレス台20を上昇させて装着室33内の元のカートリッジ収納部34aに焼結後のカートリッジ11aを収納する。次にカートリッジ収納部移動機構の回転モータ35を180度回転させて焼結後のカートリッジ11aを収納したカートリッジ収納部34aを焼結室13からの搬出位置から回転軸37に対して対称な位置であって装着室33の下方に配置した冷却室32への搬入位置に移動する。このとき、同時に次の原料を入れたカートリッジ11bが焼結室13への搬入位置に移動する。その後、予め装着室33と同程度に真空引きされた冷却室32と装着室33との間のシャッター28を開け、焼結後のカートリッジ11aを冷却室32内に搬入し、シャッター28を閉じる。次に、装着室33の真空度と同じ程度まで真空引きされた予備室31と装着室33との間のシャッター26を開け、次の原料を入れたカートリッジ11cをその真下にある装着室31内のカートリッジ収納部34aに移動し、装着室33との間のシャッター26を閉じる。図7はこのように焼結作業が終了後、次のカートリッジを焼結室上に移動した状態の焼結炉の概略を示す模式的な断面図である。この後、カートリッジ11bを焼結室13に搬入してカートリッジ11aと同様な上述の焼結作業により焼結を行う。なお、冷却室32内のカートリッジは所定時間の冷却後、冷却室32の下のシャッター29を開けて回収箱37に搬入される。   After the completion of sintering, the shaft 17 is raised and the press table 20 is raised to store the sintered cartridge 11a in the original cartridge storage portion 34a in the mounting chamber 33. Next, the rotation of the rotation motor 35 of the cartridge storage unit moving mechanism is rotated 180 degrees so that the cartridge storage unit 34a storing the sintered cartridge 11a is located symmetrically with respect to the rotation shaft 37 from the unloading position from the sintering chamber 13 Then, it moves to the carry-in position to the cooling chamber 32 disposed below the mounting chamber 33. At this time, the cartridge 11b containing the next raw material moves to the carrying-in position to the sintering chamber 13 at the same time. Thereafter, the shutter 28 between the cooling chamber 32 and the mounting chamber 33 evacuated to the same degree as the mounting chamber 33 is opened, the sintered cartridge 11a is carried into the cooling chamber 32, and the shutter 28 is closed. Next, the shutter 26 between the preparatory chamber 31 and the mounting chamber 33 evacuated to the same degree as the degree of vacuum of the mounting chamber 33 is opened, and the cartridge 11c containing the next raw material is placed in the mounting chamber 31 directly below the same. And the shutter 26 between the mounting chamber 33 is closed. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an outline of the sintering furnace in a state where the next cartridge is moved onto the sintering chamber after the sintering operation is completed as described above. Thereafter, the cartridge 11b is carried into the sintering chamber 13 and sintered by the above-described sintering operation similar to that of the cartridge 11a. The cartridge in the cooling chamber 32 is cooled for a predetermined time, and then the shutter 29 under the cooling chamber 32 is opened and carried into the collection box 37.

本実施例の連続型放電プラズマ焼結装置では、上記のような操作の繰り返しにより、焼結後のカートリッジの冷却、次のカートリッジの焼結作業、予備室への新たなカートリッジの搬入を同時に行うことが可能となり、連続的な焼結作業に要する時間を大幅に削減することが可能となる。   In the continuous discharge plasma sintering apparatus of the present embodiment, by repeating the above operation, the cartridge after sintering is cooled, the next cartridge is sintered, and a new cartridge is carried into the preliminary chamber. This makes it possible to significantly reduce the time required for continuous sintering operations.

本実施例において、8個のカートリッジ収納部34a〜34hのすべてを有効に利用することができる。予備室31を8個のカートリッジを収納できるように設定し、装着室33との間のシャッター26を開けた時にカートリッジ収納部34a〜34hを回転させながら順に各カートリッジ収納部にカートリッジを収納することにより、8個の原料を入れたカートリッジをカートリッジ収納部に収納する。次に、1つを焼結室13の所定の位置に配置して焼結作業を行い、焼結後に元のカートリッジ収納部に戻して収納する。次にカートリッジ収納部移動機構の回転モータ35を1/8回転して次のカートリッジを焼結室13に入れ焼結する。これを順次繰り返すことにより、8個のカートリッジの焼結を終了させた後、冷却室32との間のシャッター28を開けて8個のカートリッジを冷却室32に搬入する。このような工程により、8個のカートリッジの装着室33への搬入および冷却室32への搬出をそれぞれ1回のシャッターの開閉により行うことができ、さらに作業の効率化が得られる。なお、8個のカートリッジ収納部のすべてにカートリッジを収納して、1回の焼結ごとにカートリッジを1個づつ装着室33への搬入および冷却室32への搬出を行ってもよい。   In the present embodiment, all of the eight cartridge storage portions 34a to 34h can be used effectively. The spare chamber 31 is set to store eight cartridges, and when the shutter 26 between the mounting chamber 33 is opened, the cartridges are sequentially stored in the cartridge storage portions while rotating the cartridge storage portions 34a to 34h. Thus, the cartridge containing eight raw materials is stored in the cartridge storage section. Next, one is placed at a predetermined position in the sintering chamber 13 to perform a sintering operation, and after the sintering, it is returned to the original cartridge storage portion and stored. Next, the rotation motor 35 of the cartridge storage unit moving mechanism is rotated by 1/8, and the next cartridge is put into the sintering chamber 13 and sintered. By repeating this sequentially, the sintering of the eight cartridges is completed, and then the shutter 28 between the cooling chamber 32 is opened and the eight cartridges are carried into the cooling chamber 32. Through such a process, the eight cartridges can be carried into the mounting chamber 33 and carried out into the cooling chamber 32 by opening and closing the shutter once, and the work efficiency can be further improved. Alternatively, the cartridges may be stored in all of the eight cartridge storage units, and the cartridges may be loaded into the mounting chamber 33 and discharged into the cooling chamber 32 one by one for each sintering.

なお、本実施例において、外部ホルダー38や予備室31および冷却室32の内部ホルダー39は円筒状のケース等で構成でき、そのホルダー内でのカートリッジの下方向への移動は手動や電動の移動機構などを用いて行うことができる。予備室31から装着室33内へのカートリッジの移動や装着室33から冷却室32内へのカートリッジの移動も同様に手動や電動の移動機構などを用いて行うことができる。   In this embodiment, the external holder 38, the spare chamber 31 and the internal holder 39 of the cooling chamber 32 can be constituted by a cylindrical case or the like, and the downward movement of the cartridge within the holder can be performed manually or electrically. It can be performed using a mechanism or the like. The movement of the cartridge from the spare chamber 31 into the mounting chamber 33 and the movement of the cartridge from the mounting chamber 33 into the cooling chamber 32 can be similarly performed using a manual or electric moving mechanism.

次に、本実施例の連続型放電プラズマ焼結装置を用いてMgSi(マグネシウムシリサイド)を焼結する場合について詳細に説明する。成形ダイの形状は外径50mm、内径22mm、高さ60mmである。上下パンチはそれぞれ外径22mm、高さ35mmであり、炭素材で形成した。 Next, the case where Mg 2 Si (magnesium silicide) is sintered using the continuous discharge plasma sintering apparatus of the present embodiment will be described in detail. The forming die has an outer diameter of 50 mm, an inner diameter of 22 mm, and a height of 60 mm. The upper and lower punches each had an outer diameter of 22 mm and a height of 35 mm, and were made of a carbon material.

粉末原料をチャージすることが難しいのと、成形時に横方向に押しつぶされて成形ダイ内で詰まることがあるため、切削粉状のMgとSiを所定の比率で3g秤量し、この粉末原料を黒鉛シートで覆った状態で外径21mm、厚さ7mm程度の形状になるよう予め成形プレスした原料ペレットを準備し、成形ダイ内の上下パンチ間に充填してカートリッジを構成し本装置で焼結を行った。   It is difficult to charge the powder raw material, and it may be crushed in the lateral direction at the time of molding and clogged in the molding die. Therefore, 3 g of powdered Mg and Si are weighed at a predetermined ratio, and this powder raw material is graphite. Prepare raw material pellets that have been pre-pressed to form a shape with an outer diameter of 21 mm and a thickness of about 7 mm when covered with a sheet, fill the space between the upper and lower punches in the molding die, configure the cartridge, and sinter with this device went.

まず、原料ペレットを充填した1個目のカートリッジを本焼結装置の焼結炉2にセットして、真空ポンプで1Pa以下に排気した後Arガスで置換する。Arガスを5l/min流した状態で、サーボプレスで加圧し、圧縮圧力を20MPa/cmに維持した。この状態で、高周波誘導加熱電源を入れ4KWで30秒加熱して450℃まで温度を上げた。その後、高周波誘導加熱電源の出力を3KWとし、放電プラズマ焼結のパルス通電を、電流800A、パルス幅150msecのON状態と、電流0A、パルス幅10msecのOFF状態との繰り返しで850℃まで昇温させて3分間保持した。その後、加圧を開放して電源を切って1個目の焼結を終了した。 First, the first cartridge filled with the raw material pellets is set in the sintering furnace 2 of the main sintering apparatus, evacuated to 1 Pa or less with a vacuum pump, and then replaced with Ar gas. In a state of flowing Ar gas at 5 l / min, pressurization was performed with a servo press, and the compression pressure was maintained at 20 MPa / cm 2 . In this state, a high frequency induction heating power source was turned on and heated at 4 KW for 30 seconds to raise the temperature to 450 ° C. Thereafter, the output of the high frequency induction heating power supply is set to 3 kW, and the pulse energization of the discharge plasma sintering is raised to 850 ° C. by repeating the ON state with a current of 800 A and a pulse width of 150 msec and the OFF state of a current of 0 A and a pulse width of 10 msec. Held for 3 minutes. Thereafter, the pressure was released and the power supply was turned off to finish the first sintering.

次に、シャフト17を焼結室13から抜いてプレス台20を移動して焼結後のカートリッジを装着室33内のカートリッジ収納部に戻し、カートリッジ収納部移動機構を回転し、原料ペレットを挟んだ次のカートリッジを焼結室13に挿入した。これを繰り返し同じ条件で装着室に収納した8個のカートリッジの焼結を行った。   Next, the shaft 17 is removed from the sintering chamber 13, the press table 20 is moved, the sintered cartridge is returned to the cartridge storage section in the mounting chamber 33, the cartridge storage section moving mechanism is rotated, and the raw material pellets are sandwiched. The next cartridge was inserted into the sintering chamber 13. This was repeated and the eight cartridges housed in the mounting chamber were sintered under the same conditions.

上記の連続的な焼結作業により、外径20mm、高さ5mmの焼結体が8個得られ、得られた8個の焼結体はすべて密度が96%以上であった。   By the above continuous sintering operation, eight sintered bodies having an outer diameter of 20 mm and a height of 5 mm were obtained, and the density of all the obtained eight sintered bodies was 96% or more.

(変形例)
図8は本発明の実施例2に係る連続型放電プラズマ焼結装置の焼結炉の変形例の概略を示す模式的な平面図である。図8に示す焼結炉3は、図4に示した焼結炉2とチェンバーや焼結室などの構成は同じであるが、装着室、予備室、冷却室の配置やカートリッジ収納部移動機構、カートリッジ収納部の数などが異なっている。図7において、チェンバー50の両側に予備室51と冷却室52が配置され、それらの両方のカートリッジの搬入口を覆うような形状の装着室53が配置される。装着室53はチェンバー50の上方に配置されるが、予備室51、冷却室52は装着室53の上方または下方のいずれに配置してもよい。2つのカートリッジ収納部54a、54bを保持するカートリッジ収納部移動機構55は、横に平行移動し、カートリッジ収納部54aが予備室51からのカートリッジの搬出口にあるときカートリッジ収納部54bは焼結室への搬入口に位置し、カートリッジ収納部54aが焼結室への搬入口に移動したときにはカートリッジ収納部54bは冷却室52への搬入口に位置するように設定されている。
(Modification)
FIG. 8 is a schematic plan view showing an outline of a modification of the sintering furnace of the continuous discharge plasma sintering apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. The sintering furnace 3 shown in FIG. 8 has the same configuration as the sintering furnace 2 shown in FIG. 4 such as the chamber and the sintering chamber, but is equipped with a mounting chamber, a spare chamber, a cooling chamber, and a cartridge storage unit moving mechanism. The number of cartridge storage units is different. In FIG. 7, a preliminary chamber 51 and a cooling chamber 52 are arranged on both sides of the chamber 50, and a mounting chamber 53 having a shape that covers the carry-in ports of both cartridges is arranged. Although the mounting chamber 53 is disposed above the chamber 50, the preliminary chamber 51 and the cooling chamber 52 may be disposed either above or below the mounting chamber 53. The cartridge storage portion moving mechanism 55 that holds the two cartridge storage portions 54a and 54b moves in parallel in the horizontal direction, and when the cartridge storage portion 54a is at the outlet of the cartridge from the spare chamber 51, the cartridge storage portion 54b is in the sintering chamber. When the cartridge storage portion 54a is moved to the entrance to the sintering chamber, the cartridge storage portion 54b is set to be positioned at the entrance to the cooling chamber 52.

原料を入れたカートリッジを予備室51からカートリッジ収納部54aに搬入し、同時に焼結後のカートリッジを焼結室からカートリッジ収納部54bに搬入し、その後カートリッジ収納部移動機構55を左に移動させることにより焼結後のカートリッジを冷却室に搬入し、新たなカートリッジを焼結室に搬入する。その後、サーボプレスのシャフトをカートリッジ収納部54aを貫通させて下げて焼結室に挿入し焼結作業を行う。焼結後、シャフトを上げ、カートリッジ収納部移動機構55を右に移動させて図8の配置に戻し、上記のように焼結後のカートリッジの搬出と、かつ新たなカートリッジの搬入を行う。以上の作業を繰り返し連続的な焼結を行うことができる。   The cartridge containing the raw material is carried from the spare chamber 51 to the cartridge housing portion 54a, and at the same time, the sintered cartridge is carried from the sintering chamber to the cartridge housing portion 54b, and then the cartridge housing portion moving mechanism 55 is moved to the left. The cartridge after sintering is carried into the cooling chamber, and a new cartridge is carried into the sintering chamber. Thereafter, the shaft of the servo press is lowered through the cartridge housing portion 54a and inserted into the sintering chamber to perform the sintering operation. After the sintering, the shaft is raised, the cartridge accommodating portion moving mechanism 55 is moved to the right to return to the arrangement shown in FIG. 8, and the sintered cartridge is carried out and a new cartridge is carried in as described above. Continuous sintering can be performed by repeating the above operations.

なお、本発明は上記の実施例に限定されるものではないことは言うまでもなく、目的とする焼結体の種類や形状などに応じて変更可能である。例えば、焼結室を構成する断熱材としてはカーボンフェルト以外にもグラスファイバー、アルミナフェルト、ジルコニアフェルトなどによる成型断熱材を用いることができる。焼結装置の各部の構造、形状、材質なども目的とする焼結体の種類や形状に合わせて変更可能である。また、焼結体の種類や使用する焼結装置の各部の構造や形状などによって、温度などの焼結条件も最適化することが望ましい。   Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be changed according to the type and shape of the intended sintered body. For example, as the heat insulating material constituting the sintering chamber, a molded heat insulating material such as glass fiber, alumina felt, zirconia felt or the like can be used in addition to the carbon felt. The structure, shape, material, and the like of each part of the sintering apparatus can be changed according to the type and shape of the target sintered body. Further, it is desirable to optimize the sintering conditions such as the temperature depending on the kind of the sintered body and the structure and shape of each part of the sintering apparatus to be used.

1、2 焼結炉
11、11a、11b、11c カートリッジ
12、50 チャンバー
13 焼結室
16 サーボプレス
17 シャフト
18 真空ポンプ
19 誘導加熱コイル
20 プレス台
21 プレス台シャフト
22 プレス台移動機構
23 シャフト下端部分
24 プレス台上端部分
25、26、27、28 シャッター
31、51 予備室
32、52 冷却室
33、53 装着室
34a〜34h、54a、54b カートリッジ収納部
35 モーター
36 回転軸
37 回収箱
38 外部ホルダー
39 内部ホルダー
41、46 成形ダイ
42 上パンチ
43 下パンチ
44 粉末原料
45 絶縁層
55 カートリッジ収納部移動機構
1, 2 Sintering furnace 11, 11a, 11b, 11c Cartridge 12, 50 Chamber 13 Sintering chamber 16 Servo press 17 Shaft 18 Vacuum pump 19 Induction heating coil 20 Press stand 21 Press stand shaft 22 Press stand moving mechanism 23 Lower end portion of shaft 24 Press stand upper end portion 25, 26, 27, 28 Shutter 31, 51 Preliminary chamber 32, 52 Cooling chamber 33, 53 Mounting chamber 34a-34h, 54a, 54b Cartridge storage unit 35 Motor 36 Rotating shaft 37 Collection box 38 External holder 39 Inner holders 41 and 46 Molding die 42 Upper punch 43 Lower punch 44 Powder raw material 45 Insulating layer 55 Cartridge housing part moving mechanism

Claims (9)

チェンバーと該チェンバー内に設置された断熱材により構成した円筒状の焼結室とを備え、成形ダイと該成形ダイに挿入される上パンチおよび下パンチとからなるカートリッジを前記焼結室内に配置し、前記成形ダイの中の原料を前記の上下パンチを使用して圧縮し、前記の上下パンチ間にパルス状電流を流して焼結させる放電プラズマ焼結手段と、前記焼結室の外側に前記成形ダイまたは前記原料を高周波誘導加熱する手段とを備えたことを特徴とする放電プラズマ焼結装置。   A chamber and a cylindrical sintering chamber constituted by a heat insulating material installed in the chamber are provided, and a cartridge comprising a molding die and an upper punch and a lower punch inserted in the molding die is disposed in the sintering chamber. And a discharge plasma sintering means for compressing the raw material in the forming die using the upper and lower punches and passing a pulsed current between the upper and lower punches to sinter, and on the outside of the sintering chamber. A discharge plasma sintering apparatus comprising: a means for high-frequency induction heating the forming die or the raw material. 前記成形ダイは上下方向の中央部に絶縁体または高抵抗体からなる層状部分を有することを特徴とする請求項1に記載の放電プラズマ焼結装置。   2. The discharge plasma sintering apparatus according to claim 1, wherein the forming die has a layered portion made of an insulator or a high-resistance material at a central portion in a vertical direction. 前記焼結室内に装着された前記カートリッジの上パンチまたは下パンチを押圧するプレスシャフトを有するプレス装置を前記焼結室の上方または下方に設置し、前記カートリッジを挟んで前記プレスシャフトと対峙する前記焼結室の下方または上方に前記カートリッジの下パンチまたは上パンチを保持するプレス台を設置し、前記プレスシャフトの先端の上パンチまたは下パンチと接する部分および前記プレス台の下パンチまたは上パンチと接する部分の材料はカーボンであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の放電プラズマ焼結装置。   A press apparatus having a press shaft that presses an upper punch or a lower punch of the cartridge mounted in the sintering chamber is installed above or below the sintering chamber, and faces the press shaft across the cartridge. A press stand for holding the lower punch or the upper punch of the cartridge is installed below or above the sintering chamber, and a portion in contact with the upper punch or the lower punch at the tip of the press shaft and the lower punch or the upper punch of the press stand; The discharge plasma sintering apparatus according to claim 1 or 2, wherein the material of the contacting portion is carbon. チェンバーと該チェンバー内に設置された断熱材により構成した円筒状の焼結室とを備え、成形ダイと該成形ダイに挿入される上パンチおよび下パンチとからなるカートリッジを前記焼結室内に配置し、前記成形ダイの中の原料を前記の上下パンチを使用して圧縮し、前記の上下パンチ間にパルス状電流を流して焼結させる放電プラズマ焼結手段と、前記焼結室の外側に前記成形ダイまたは前記原料を高周波誘導加熱する手段とを備え、焼結前のカートリッジを収納する予備室と、焼結後のカートリッジを収納し冷却する冷却室と、少なくとも1つの装着室とを備え、前記装着室は、前記焼結前および焼結後のカートリッジを収納する少なくとも2つのカートリッジ収納部と、該カートリッジ収納部を、前記焼結前のカートリッジの前記予備室からの搬出位置から前記焼結室への搬入位置に移動するカートリッジ収納部移動機構または前記焼結後のカートリッジの前記焼結室からの搬出位置から前記冷却室への搬入位置に移動するカートリッジ収納部移動機構の少なくとも一方を備え、前記チェンバー、前記装着室、前記予備室および前記冷却室はそれぞれ独立して真空引きが可能であって、前記予備室と前記装着室との間、前記装着室と前記チェンバーとの間、および前記装着室と前記冷却室との間にはそれぞれ真空状態を保持して開閉可能なシャッターを有することを特徴とする連続型放電プラズマ焼結装置。   A chamber and a cylindrical sintering chamber constituted by a heat insulating material installed in the chamber are provided, and a cartridge comprising a molding die and an upper punch and a lower punch inserted in the molding die is disposed in the sintering chamber. And a discharge plasma sintering means for compressing the raw material in the forming die using the upper and lower punches and passing a pulsed current between the upper and lower punches to sinter, and on the outside of the sintering chamber. Means for high-frequency induction heating of the forming die or the raw material, and includes a preliminary chamber for storing a cartridge before sintering, a cooling chamber for storing and cooling the cartridge after sintering, and at least one mounting chamber. The mounting chamber includes at least two cartridge storage portions for storing the pre-sintered and post-sintered cartridges, and the cartridge storage portion is used as the spare for the cartridge before the sintering. Cartridge storage part moving mechanism for moving from the unloading position to the sintering chamber from the unloading position or the cartridge housing for moving the sintered cartridge from the unloading position from the sintering chamber to the unloading position to the cooling chamber The chamber, the mounting chamber, the spare chamber, and the cooling chamber can be evacuated independently, and the mounting chamber is provided between the spare chamber and the mounting chamber. A continuous discharge plasma sintering apparatus comprising a shutter that can be opened and closed while maintaining a vacuum state between the chamber and the chamber, and between the mounting chamber and the cooling chamber. 前記成形ダイは上下方向の中央部に絶縁体または高抵抗体からなる層状部分を有することを特徴とする請求項4に記載の連続型放電プラズマ焼結装置。   5. The continuous discharge plasma sintering apparatus according to claim 4, wherein the forming die has a layered portion made of an insulator or a high-resistance material at a central portion in a vertical direction. 1つの前記装着室を有し、該装着室は、前記カートリッジ収納部を、前記焼結前のカートリッジの前記予備室からの搬出位置から前記焼結室への搬入位置に移動し、かつ、前記焼結後のカートリッジの前記焼結室からの搬出位置から前記冷却室への搬入位置に移動するカートリッジ収納部移動機構を備え、前記焼結室内に装着された前記カートリッジの上パンチを押圧するプレスシャフトを有するプレス装置を前記焼結室の上方に設置し、前記焼結室の下方に前記カートリッジの下パンチを保持するプレス台を設置し、該プレス台は制御により前記焼結室と前記装着室間で前記カートリッジを移動させることが可能なプレス台移動機構を有することを特徴とする請求項4または請求項5に記載の連続型放電プラズマ焼結装置。   One mounting chamber, and the mounting chamber moves the cartridge housing portion from the unloading position of the pre-sintering cartridge from the preliminary chamber to the loading position of the sintering chamber; and A press that presses the upper punch of the cartridge mounted in the sintering chamber, and includes a cartridge storage unit moving mechanism that moves the cartridge after sintering from a position where the cartridge is unloaded from the sintering chamber to a position where it is loaded into the cooling chamber. A press apparatus having a shaft is installed above the sintering chamber, and a press stand for holding a lower punch of the cartridge is installed below the sintering chamber, and the press stand is attached to the sintering chamber by control. 6. The continuous discharge plasma sintering apparatus according to claim 4, further comprising a press table moving mechanism capable of moving the cartridge between chambers. 前記焼結室の上方に前記装着室が配置され、前記装着室の上方に前記予備室が配置され、前記装着室の下方に前記冷却室が配置されていることを特徴とする請求項6に記載の連続型放電プラズマ焼結装置。   The mounting chamber is disposed above the sintering chamber, the preliminary chamber is disposed above the mounting chamber, and the cooling chamber is disposed below the mounting chamber. The continuous discharge plasma sintering apparatus as described. 前記カートリッジ収納部移動機構は回転機構であって、前記少なくとも2つのカートリッジ収納部は前記回転機構の回転軸に対象に配置されていることを特徴とする請求項7に記載の連続型放電プラズマ焼結装置。   8. The continuous discharge plasma sintering according to claim 7, wherein the cartridge housing part moving mechanism is a rotating mechanism, and the at least two cartridge housing parts are arranged on a rotating shaft of the rotating mechanism. Bonding device. 前記装着室は少なくとも4つのカートリッジ収納部を備えることを特徴とする請求項8に記載の連続型放電プラズマ焼結装置。   The continuous discharge plasma sintering apparatus according to claim 8, wherein the mounting chamber includes at least four cartridge storage units.
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