JP2017064602A - Siloxane compound removal facility - Google Patents

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雄太 入江
Yuta Irie
雄太 入江
誠 茂田
Makoto Shigeta
誠 茂田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a siloxane compound removal facility which can efficiently remove a siloxane compound in a low concentration and which can be easily made.SOLUTION: A siloxane compound removal facility comprises: a siloxane compound removal chemical filter which uses, as an absorbent, an inorganic silica porous material that has 7 or less of the pH of a mixture (content: 5 wt.%) when mixed with pure water; and an inhibitory substance removal chemical filter installed on an upstream side of the siloxane compound removal chemical filter which removes an inhibitory substance causing degradation in performance of a siloxane compound removal ability of the siloxane compound removal chemical filter.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、シロキサン化合物を流体中(特に、空気中)から除去するための設備に関する。また、本発明は、該設備を用いた流体浄化方法に関する。   The present invention relates to an installation for removing a siloxane compound from a fluid (particularly in the air). The present invention also relates to a fluid purification method using the equipment.

生活環境において、あらゆる環境下にシロキサン化合物が存在している。例えば、環状シロキサン化合物は、一般家庭、クリーンルーム内等の建物内に存在するパッキング部やシール材、建築現場等で使用される接着剤、シャンプー、化粧品等、生活環境内に存在するあらゆる物質に用いられている。   In living environments, siloxane compounds exist in all environments. For example, cyclic siloxane compounds are used for packing materials and sealing materials present in buildings such as ordinary households and clean rooms, adhesives used in construction sites, shampoos, cosmetics, etc., for all substances present in the living environment. It has been.

また、半導体製造プロセスの露光工程において、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)のようなジシラザン化合物が、フォトレジスト密着剤として使用されることが知られている。HMDSは、例えばガスとしてウエハ表面に吹き付けられることにより、ウエハ表面の水酸基をトリメチルシラノール基に置換させることで、ウエハ表面を疎水化させて、ウエハ表面のレジスト剤との密着性を向上させている。しかしながら、空気中に環状シロキサン化合物が存在する場合、環状シロキサン化合物がウエハ表面に付着すると半導体の特性を変えてしまい、低濃度でも製品歩留まりを低下させるおそれがある。   In addition, it is known that a disilazane compound such as hexamethyldisilazane (HMDS) is used as a photoresist adhesive in the exposure process of the semiconductor manufacturing process. HMDS, for example, is sprayed as a gas on the wafer surface to replace the hydroxyl group on the wafer surface with a trimethylsilanol group, thereby hydrophobizing the wafer surface and improving the adhesion with the resist agent on the wafer surface. . However, when a cyclic siloxane compound is present in the air, if the cyclic siloxane compound adheres to the wafer surface, the characteristics of the semiconductor are changed, and the product yield may be reduced even at a low concentration.

環状シロキサン化合物の除去には、通常、吸着剤として活性炭を用いたケミカルフィルタが使用されている。活性炭を用いた吸着剤としては、例えば、平均細孔径が異なる2種類の活性炭を有するシロキサン除去用活性炭が知られている(特許文献1参照)。   In order to remove the cyclic siloxane compound, a chemical filter using activated carbon as an adsorbent is usually used. As an adsorbent using activated carbon, for example, activated carbon for removing siloxane having two types of activated carbons having different average pore diameters is known (see Patent Document 1).

また、活性炭の他に、環状シロキサン化合物の吸着剤として、スルホン酸基等の酸性官能基が導入された樹脂又は多孔質材料が使用されている。このような吸着剤としては、例えば、スルホン酸基を有する樹脂を含むシロキサン除去剤(特許文献2参照)、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させた多孔質物質(特許文献3、4参照)、平均細孔直径が3〜20nmの無機多孔質体に解離指数が2.2以下で、分子量が1000以下である酸性化合物を含有したシロキサン除去剤(特許文献5参照)等が知られている。吸着剤として、このような酸性官能基が導入された樹脂又は多孔質材料を用いると、シロキサン類を選択的に効率良く除去できると記載されている。   In addition to activated carbon, resins or porous materials into which acidic functional groups such as sulfonic acid groups are introduced are used as adsorbents for cyclic siloxane compounds. As such an adsorbent, for example, a siloxane remover containing a resin having a sulfonic acid group (see Patent Document 2), a porous material in which a sulfonic acid group-modified metal oxide sol is attached to a porous material (Patent Document) 3, 4), an inorganic porous material having an average pore diameter of 3 to 20 nm, a siloxane remover containing an acidic compound having a dissociation index of 2.2 or less and a molecular weight of 1000 or less (see Patent Document 5), etc. It has been known. It is described that siloxanes can be selectively and efficiently removed by using a resin or a porous material into which such an acidic functional group is introduced as an adsorbent.

特開2005−177737号公報JP 2005-177737 A 特開2011−212565号公報JP 2011-212565 A 特開2013−103153号公報JP 2013-103153 A 特開2013−103154号公報JP2013-103154A 特開2015−44175号公報JP-A-2015-44175

しかしながら、上記特許文献1のように、吸着剤として活性炭を用いた場合、一旦吸着されたシロキサン類が脱離することがあった。   However, as in Patent Document 1, when activated carbon is used as the adsorbent, siloxanes once adsorbed may be desorbed.

また、環状シロキサン化合物は、通常の環境においては有機ガス成分等の他のガス成分と共に大気中に存在することが多い。このため、他のガス成分が多く存在する場合、上記特許文献1に記載のような、活性炭を用いた吸着剤では、環状シロキサン化合物の除去と他のガス成分の除去とは競合になるため、環状シロキサン化合物の除去効率(除去性能、又は除去能力)は他のガス成分の存在量に応じて変動する。さらに、他のガス成分が大気中に存在する量は日々異なることが多い。このため、活性炭が除去する環状シロキサン化合物の量が日々変動するため、活性炭を用いた吸着剤や該吸着剤を用いたフィルタの残り寿命の予測が困難であった。   In addition, the cyclic siloxane compound is often present in the atmosphere together with other gas components such as an organic gas component in a normal environment. For this reason, when there are many other gas components, in the adsorbent using activated carbon as described in Patent Document 1, the removal of the cyclic siloxane compound and the removal of the other gas components are competing, The removal efficiency (removal performance or removal capability) of the cyclic siloxane compound varies depending on the amount of other gas components present. Furthermore, the amount of other gas components present in the atmosphere often varies from day to day. For this reason, since the quantity of the cyclic siloxane compound which activated carbon removes fluctuates every day, it was difficult to predict the remaining life of the adsorbent using activated carbon and the filter using the adsorbent.

特許文献2では、強酸型イオン交換樹脂を用いている。しかしながら、スルホン酸基を有する樹脂はシロキサン化合物の吸着能力が低いのが通常であり、多孔質担体への担持の有無に関わらず、シロキサン類ガスを十分に除去できないという問題がある。さらに、樹脂は分子量が大きいため、スルホン酸基の近傍には常に樹脂が存在しているが、前記樹脂はシロキサン化合物の吸着能力が低く、スルホン酸基とシロキサン化合物との反応の進行が遅くなり、脱離してしまうという問題がある。   In Patent Document 2, a strong acid ion exchange resin is used. However, a resin having a sulfonic acid group usually has a low adsorption capability of the siloxane compound, and there is a problem that the siloxane gas cannot be sufficiently removed regardless of whether the resin is supported on the porous carrier. Furthermore, since the resin has a large molecular weight, the resin is always present in the vicinity of the sulfonic acid group, but the resin has a low adsorption ability of the siloxane compound, and the reaction between the sulfonic acid group and the siloxane compound proceeds slowly. There is a problem of detachment.

また、特許文献2では、強酸型イオン交換樹脂により環状シロキサン類を重合させて吸着しており、特許文献5では、吸着したシロキサン類ガスが酸性化合物により活性化され、活性化されていないシロキサン類ガスと反応させて吸着している。このように、引用文献2及び5には、シロキサン化合物同士を反応させて吸着することが記載されている。しかし、空気中のシロキサン化合物の濃度が極めて低濃度の場合には、シロキサン化合物同士の反応が起こりにくいため、この方法では除去効率が必ずしも十分とは言えない。   In Patent Document 2, cyclic siloxanes are polymerized and adsorbed by a strong acid ion exchange resin, and in Patent Document 5, the adsorbed siloxane gas is activated by an acidic compound and is not activated. Adsorbed by reacting with gas. Thus, cited documents 2 and 5 describe that siloxane compounds react with each other and adsorb. However, when the concentration of the siloxane compound in the air is very low, the reaction between the siloxane compounds hardly occurs, and this method does not necessarily provide sufficient removal efficiency.

特許文献3及び4では、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させたものを用いている。しかし、このようなスルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを得るためには煩雑な工程により作製する必要があり、シロキサン化合物を効率よく除去できる吸着剤やケミカルフィルタを容易に得ることができない。   In Patent Documents 3 and 4, a material obtained by attaching a sulfonic acid group-modified metal oxide sol to a porous material is used. However, in order to obtain such a sulfonic acid group-modified metal oxide sol, it is necessary to prepare by a complicated process, and an adsorbent and a chemical filter that can efficiently remove a siloxane compound cannot be easily obtained.

このため、シロキサン化合物を低濃度環境下で効率よく除去することができ、容易に得ることができるケミカルフィルタが求められているのが現状である。   For this reason, the present condition is that the chemical filter which can remove a siloxane compound efficiently in a low concentration environment and can be obtained easily is calculated | required.

従って、本発明の目的は、シロキサン化合物を低濃度環境下で効率的に除去可能であり、容易に得ることができるシロキサン化合物除去設備を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、さらに、シロキサン化合物を選択的に除去可能なシロキサン化合物除去設備を提供することにある。また、本発明の他の目的は、流体中(特に、空気中)に存在するシロキサン化合物を効率的に除去できる流体浄化方法を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a siloxane compound removal facility that can efficiently remove a siloxane compound in a low concentration environment and can be easily obtained.
Another object of the present invention is to provide a siloxane compound removal facility capable of selectively removing a siloxane compound. Another object of the present invention is to provide a fluid purification method capable of efficiently removing a siloxane compound present in a fluid (particularly in the air).

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、純水との水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタと、その上流に設置された、前記シロキサン化合物除去用ケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させる阻害物質を除去するケミカルフィルタとを有する設備によれば、流体中(特に、空気中)のシロキサン化合物を極めて効率よく除去できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成させたものである。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that a siloxane compound removing chemical filter using an inorganic silica-based porous material having a pH of 7 or less as a water mixture with pure water as an adsorbent, According to the equipment having the chemical filter for removing an inhibitory substance that reduces the siloxane compound removal ability of the siloxane compound removal chemical filter installed upstream thereof, the siloxane compound in the fluid (especially in the air) We found that it can be removed efficiently. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明は、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタと、前記シロキサン化合物除去用ケミカルフィルタの上流に設置された、前記シロキサン化合物除去用ケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させる阻害物質を除去する阻害物質除去用ケミカルフィルタとを有することを特徴とするシロキサン化合物除去設備を提供する。   That is, the present invention is a siloxane compound removal chemical filter using an inorganic silica-based porous material having a pH of 7 or less as a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water as an adsorbent, A siloxane compound having an inhibitor removal chemical filter installed upstream of the siloxane compound removal chemical filter, which removes an inhibitor that lowers the siloxane compound removal ability of the siloxane compound removal chemical filter. Provide removal equipment.

前記阻害物質除去用ケミカルフィルタは、塩基性物質除去用ケミカルフィルタ及びシラノール化合物除去用ケミカルフィルタからなる群より選ばれた少なくとも1種であってもよい。   The inhibitor removing chemical filter may be at least one selected from the group consisting of a basic substance removing chemical filter and a silanol compound removing chemical filter.

前記無機シリカ系多孔質材料は、ゼオライト、シリカゲル、シリカアルミナ、ケイ酸アルミニウム、多孔質ガラス、珪藻土、含水ケイ酸マグネシウム質粘土鉱物、アロフェン、イモゴライト、酸性白土、活性白土、活性ベントナイト、メソポーラスシリカ、アルミノケイ酸塩、ヒュームドシリカ、フライアッシュ、及びクリンカアッシュからなる群より選ばれた少なくとも1種の無機シリカ系多孔質材料であってもよい。   The inorganic silica-based porous material is zeolite, silica gel, silica alumina, aluminum silicate, porous glass, diatomaceous earth, hydrous magnesium silicate clay mineral, allophane, imogolite, acidic clay, activated clay, activated bentonite, mesoporous silica, It may be at least one inorganic silica-based porous material selected from the group consisting of aluminosilicate, fumed silica, fly ash, and clinker ash.

前記吸着剤として、前記水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料とともに、他の吸着剤を用いてもよい。   As the adsorbent, another adsorbent may be used together with the inorganic silica-based porous material whose pH of the water mixture (content ratio: 5 wt%) is 7 or less.

前記無機シリカ系多孔質材料として、水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である、合成ゼオライト、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、及び活性白土からなる群より選ばれた少なくとも1種を、吸着剤の総重量に対して、10重量%以上含んでいてもよい。   As the inorganic silica-based porous material, at least one selected from the group consisting of synthetic zeolite, diatomaceous earth, silica gel, acid clay, and activated clay whose pH of the water mixture (content ratio: 5 wt%) is 7 or less. , 10% by weight or more based on the total weight of the adsorbent may be contained.

前記無機シリカ系多孔質材料として水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である合成ゼオライトを含み、前記合成ゼオライトが、A型、フェリエライト、MCM−22、ZSM−5、ZSM−11、SAPO−11、モルデナイト、ベータ型、X型、Y型、L型、チャバザイト、及びオフレタイトからなる群より選ばれた少なくとも1種の骨格構造を有する合成ゼオライトであってもよい。   The inorganic silica-based porous material includes a synthetic zeolite having a water mixture (content ratio: 5 wt%) having a pH of 7 or less, and the synthetic zeolite is A-type, ferrierite, MCM-22, ZSM-5, ZSM- 11, synthetic zeolite having at least one kind of framework structure selected from the group consisting of SAPO-11, mordenite, beta type, X type, Y type, L type, chabazite, and offretite.

また、本発明は、前記のシロキサン化合物除去設備を用いてシロキサン化合物を除去することを特徴とする流体浄化方法を提供する。   Moreover, this invention provides the fluid purification | cleaning method characterized by removing a siloxane compound using the said siloxane compound removal equipment.

本発明のシロキサン化合物除去設備によれば、一旦吸着したシロキサン化合物が再度脱離しないため、活性炭と比較して除去効果が長時間持続する。また、シロキサン化合物の除去にあたりシロキサン化合物同士を反応させる必要が無いため、低濃度環境下でも効率よく除去できる。さらに、シロキサン化合物除去能を低下させるような阻害物質によってシロキサン化合物除去能が低下することがないため、シロキサン化合物の除去効果が長時間持続する。また、吸着剤、ケミカルフィルタ、及びシロキサン化合物除去設備が、煩雑な工程を経る必要がなく作製することができ、容易に得ることができる。   According to the siloxane compound removal equipment of the present invention, the once-adsorbed siloxane compound does not desorb again, so that the removal effect lasts longer than that of activated carbon. Moreover, since it is not necessary to react siloxane compounds in the removal of a siloxane compound, it can remove efficiently also in a low concentration environment. Furthermore, the removal effect of the siloxane compound lasts for a long time because the siloxane compound removal ability is not lowered by an inhibitor that lowers the siloxane compound removal ability. Further, the adsorbent, the chemical filter, and the siloxane compound removal equipment can be produced without the need for complicated processes and can be easily obtained.

さらに、他に、本発明のシロキサン化合物除去設備によれば、シロキサン化合物を選択的に除去しやすい。このため、シロキサン化合物と共に他のガス成分が存在する環境下であってもシロキサン化合物を効率的に除去しやすい。また、これにより、シロキサン化合物除去設備の残り寿命の予測が比較的容易となる。   Furthermore, according to the siloxane compound removal equipment of the present invention, it is easy to selectively remove the siloxane compound. For this reason, it is easy to efficiently remove the siloxane compound even in an environment where other gas components exist together with the siloxane compound. This also makes it relatively easy to predict the remaining life of the siloxane compound removal equipment.

さらに、本発明のシロキサン化合物除去設備によれば、特に、空気中のシロキサン化合物を極めて効率よく除去することができるため、吸着剤の使用量をごく少量とすることができ、また、フィルタ基材の枚数も削減することができ、省エネルギー、低コスト、省スペースとすることができる傾向がある。   Further, according to the siloxane compound removal equipment of the present invention, in particular, since the siloxane compound in the air can be removed extremely efficiently, the amount of the adsorbent used can be made very small, and the filter base material can be used. The number of sheets can be reduced, and there is a tendency that energy saving, low cost, and space saving can be achieved.

実施例で用いた通気試験装置の概略図である。It is the schematic of the aeration test apparatus used in the Example. 実施例で用いた通気試験装置の部分概略断面図である。It is a partial schematic sectional drawing of the aeration test apparatus used in the Example. 実施例1の通気試験結果を示すグラフ(ゼオライトの水混合物のpHと除去効率の関係)である。It is a graph (relationship between pH of a water mixture of zeolite and removal efficiency) showing aeration test results of Example 1. 実施例1の通気試験結果を示すグラフ(シリカゲル、酸性白土、活性白土、及び珪藻土の水混合物のpHと除去効率の関係)である。It is a graph (Relationship between pH and removal efficiency of water mixture of silica gel, acid clay, activated clay, and diatomaceous earth) showing the results of the aeration test of Example 1. 実施例4の通気試験結果を示すグラフ(ゼオライト及び珪藻土の水混合物のpHと除去効率の関係)である。It is a graph (relationship between pH and removal efficiency of water mixture of zeolite and diatomaceous earth) showing the aeration test result of Example 4. 実施例6の通気試験結果を示すグラフ(合成ゼオライトのアンモニア処理前後の除去効率(時間変化))である。It is a graph (removal efficiency (time change) before and after ammonia treatment of synthetic zeolite) showing aeration test results of Example 6. 実施例7の通気試験結果を示すグラフ(シリカゲル、活性白土、及び珪藻土のアンモニア処理前後の除去効率(時間変化))である。It is a graph (The removal efficiency (time change) before and behind ammonia treatment of silica gel, activated clay, and diatomaceous earth) which shows the aeration test result of Example 7. 実施例8の通気試験結果を示すグラフ(合成ゼオライトのTMS処理前後の除去効率(時間変化))である。It is a graph which shows the ventilation test result of Example 8 (removal efficiency (time change) before and after the TMS process of synthetic zeolite).

本発明のシロキサン化合物除去設備は、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタと、前記シロキサン化合物除去用ケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させる阻害物質を除去する阻害物質除去用ケミカルフィルタとを少なくとも有する。本明細書では、上記「純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタ」を、「本発明のケミカルフィルタ」と称する場合がある。また、本明細書において、上記「シロキサン化合物除去用ケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させる阻害物質を除去する阻害物質除去用ケミカルフィルタ」、即ち「本発明のケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させる阻害物質を除去する阻害物質除去用ケミカルフィルタ」を、単に「阻害物質除去用ケミカルフィルタ」と称する場合がある。   The siloxane compound removing equipment of the present invention is a siloxane compound removing chemical using an inorganic silica porous material having a pH of 7 or less as a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water as an adsorbent. A filter, and an inhibitor removal chemical filter that removes an inhibitor that lowers the siloxane compound removal ability of the siloxane compound removal chemical filter. In the present specification, the above-mentioned “chemical filter for removing a siloxane compound using an inorganic silica-based porous material having a pH of 7 or less as a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water” as an adsorbent. May be referred to as “the chemical filter of the present invention”. Further, in the present specification, the above-mentioned “chemical filter for removing an inhibitory substance that removes an inhibitor that lowers the ability to remove a siloxane compound of a chemical filter for removing a siloxane compound”, that is, “the ability to remove a siloxane compound of a chemical filter of the present invention is reduced. The “inhibitory substance removing chemical filter for removing the inhibiting substance” may be simply referred to as “inhibitory substance removing chemical filter”.

[本発明のケミカルフィルタ]
本発明のケミカルフィルタは、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いているシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタである。なお、本明細書では、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を用いた吸着剤を、「本発明の吸着剤」と称する場合がある。また、本明細書において、「水混合物のpH」は、特に断りのない限り、「水混合物(含有割合:5wt%)のpH」を言うものとする。
[Chemical filter of the present invention]
The chemical filter of the present invention is a siloxane compound removing chemical filter using an inorganic silica-based porous material whose pH of a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water is 7 or less as an adsorbent. It is. In the present specification, an adsorbent using an inorganic silica-based porous material whose pH of a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water is 7 or less is referred to as “the adsorbent of the present invention. May be called. In the present specification, “pH of water mixture” means “pH of water mixture (content ratio: 5 wt%)” unless otherwise specified.

(本発明の吸着剤)
本発明のケミカルフィルタは、無機シリカ系多孔質材料を必須の吸着剤として用いている。上記無機シリカ系多孔質材料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
(Adsorbent of the present invention)
The chemical filter of the present invention uses an inorganic silica-based porous material as an essential adsorbent. As for the said inorganic silica type porous material, only 1 type may be used and 2 or more types may be used.

上記無機シリカ系多孔質材料は、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下(例えば、3〜7)であり、好ましくは7未満(例えば、3以上7未満)、より好ましくは3〜6.5、さらに好ましくは4〜6である。上記pHが7以下であることにより、シロキサン化合物を高効率で除去することができる。   The inorganic silica-based porous material has a pH of a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water of 7 or less (for example, 3 to 7), preferably less than 7 (for example, 3 or more). Less than 7), more preferably 3 to 6.5, and still more preferably 4 to 6. When the pH is 7 or less, the siloxane compound can be removed with high efficiency.

本明細書において、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHとは、水混合物全体に対して、当該水混合物中に混合させる物質(対象物質)の含有割合が5wt%である条件で測定したときのpHをいう。例えば、無機シリカ系多孔質材料の、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHは、無機シリカ系多孔質材料の含有割合が5wt%である条件で測定したときのpHである。上記水混合物のpHは、例えば、pH測定器を用いて測定することができる。なお、上記無機シリカ系多孔質材料に添着剤等を添着したものを本発明の吸着剤として用いる場合、上記「純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpH」は、添着剤等を添着する前の状態(即ち、添着剤等を添着していない状態)の無機シリカ系多孔質材料の、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHを言うものとする。   In this specification, the pH of the water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water is the content ratio of the substance (target substance) mixed in the water mixture with respect to the entire water mixture. The pH when measured under the condition of 5 wt%. For example, when the pH of the water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing the inorganic silica porous material with pure water is measured under the condition that the content ratio of the inorganic silica porous material is 5 wt%. PH. The pH of the water mixture can be measured using, for example, a pH meter. In addition, when using the above-described inorganic silica-based porous material with an additive or the like as the adsorbent of the present invention, the above “pH of water mixture obtained by mixing with pure water (content ratio: 5 wt%)” is A water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing inorganic silica based porous material in a state before adhering an additive or the like (that is, no adhering agent or the like) with pure water. Let us say pH.

本明細書において、水混合物(含有割合:5wt%)は、例えば、以下の「水混合物(含有割合:5wt%)の作製方法」によって作製することができる。   In the present specification, the water mixture (content ratio: 5 wt%) can be produced, for example, by the following “method for producing water mixture (content ratio: 5 wt%)”.

水混合物(含有割合:5wt%)の作製方法
上記水混合物(含有割合:5wt%)は、例えば、含有割合が5wt%となるように、水混合物のpHの測定の対象とするサンプル(「対象サンプル」と称する場合がある)を純水に混合し、十分に撹拌したのち静置して作製することができる。上記水混合物の作製には純水を使用するが、有機溶媒と純水との混合溶媒を使用してもよい。ただし、有機溶媒を使用する場合、有機溶媒の種類や濃度によっては酸解離定数が大きく変動するため、一般的に、アルコールなどの水溶性の有機溶媒であって、pHに大きな影響を与えない範囲の濃度とする。なお、上記「wt%」は、「重量%」と同一の意味である。含有割合が5wt%である水混合物を作製するには、具体的には、例えば、対象サンプルを、秤などを用いて5g計り取り、さらに純水を加え、全体を100gとし、液を十分に撹拌することで作製することができる。例えば、無機シリカ系多孔質材料の水混合物(含有割合:5wt%)は、無機シリカ系多孔質材料を上記対象サンプルとして作製することができる。
Preparation method of water mixture (content ratio: 5 wt%) The above water mixture (content ratio: 5 wt%) is, for example, a sample (“object” for measuring the pH of the water mixture so that the content ratio is 5 wt%. The sample may be referred to as “sample”) and mixed with pure water, stirred sufficiently, and allowed to stand for preparation. Although pure water is used for preparation of the water mixture, a mixed solvent of an organic solvent and pure water may be used. However, when an organic solvent is used, the acid dissociation constant varies greatly depending on the type and concentration of the organic solvent. Therefore, it is generally a water-soluble organic solvent such as alcohol and does not have a large effect on pH. Concentration. The “wt%” has the same meaning as “wt%”. In order to prepare a water mixture having a content ratio of 5 wt%, specifically, for example, 5 g of the target sample is weighed using a scale, and pure water is added to make the whole 100 g, and the liquid is sufficiently mixed. It can be produced by stirring. For example, the inorganic silica-based porous material water mixture (content ratio: 5 wt%) can be produced using the inorganic silica-based porous material as the target sample.

上記無機シリカ系多孔質材料は、特に限定されないが、比表面積(BET比表面積)が10m2/g以上(例えば、10〜800m2/g)であってもよく、好ましくは50m2/g以上(例えば、50〜750m2/g)、より好ましくは100m2/g以上(例えば、100〜700m2/g)である。 The inorganic silica-based porous material is not particularly limited, but the specific surface area (BET specific surface area) may be 10 m 2 / g or more (for example, 10 to 800 m 2 / g), preferably 50 m 2 / g or more. (For example, 50 to 750 m 2 / g), more preferably 100 m 2 / g or more (for example, 100 to 700 m 2 / g).

上記無機シリカ系多孔質材料は、特に限定されないが、多孔質材料中のSiO2の含有量が5重量%以上(例えば、5〜100重量%)であってもよく、好ましくは50重量%以上、より好ましくは65重量%以上、さらに好ましくは75重量%以上である無機シリカ系多孔質材料などが挙げられる。 The inorganic silica-based porous material is not particularly limited, but the content of SiO 2 in the porous material may be 5% by weight or more (for example, 5 to 100% by weight), preferably 50% by weight or more. More preferred are inorganic silica-based porous materials that are 65% by weight or more, and more preferably 75% by weight or more.

上記無機シリカ系多孔質材料としては、特に限定されないが、例えば、ゼオライト(例えば、合成ゼオライト、天然ゼオライト等)、シリカゲル、シリカアルミナ、ケイ酸アルミニウム、多孔質ガラス、珪藻土、含水ケイ酸マグネシウム質粘土鉱物(例えば、タルク)、アロフェン、イモゴライト、酸性白土、活性白土、活性ベントナイト、メソポーラスシリカ、アルミノケイ酸塩、ヒュームドシリカ、フライアッシュ、クリンカアッシュなどが挙げられる。吸着剤として上記無機シリカ系多孔質材料を用いることにより、シロキサン化合物を高効率で除去することができる。中でも、ゼオライト、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、活性白土が好ましく、より好ましくは合成ゼオライト、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、活性白土である。吸着剤としてゼオライト(特に、合成ゼオライト)、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、又は活性白土を用いると、より長期間に亘ってシロキサン化合物を効率よく除去し続けることができる。中でも、無機シリカ系多孔質材料としてゼオライト(特に、合成ゼオライト)、シリカゲルを用いた場合、直鎖状シロキサン化合物及び環状シロキサン化合物両方のシロキサン化合物の除去効率が顕著に優れる傾向がある。また、無機シリカ系多孔質材料としてシリカゲル、珪藻土を用いた場合、該シロキサン化合物をより選択的に除去することができる傾向がある。上記無機シリカ系多孔質材料は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。なお、上記合成ゼオライトには、人工ゼオライトが含まれるものとする。   The inorganic silica-based porous material is not particularly limited. For example, zeolite (for example, synthetic zeolite, natural zeolite, etc.), silica gel, silica alumina, aluminum silicate, porous glass, diatomaceous earth, hydrous magnesium silicate clay Minerals (for example, talc), allophane, imogolite, acid clay, activated clay, activated bentonite, mesoporous silica, aluminosilicate, fumed silica, fly ash, clinker ash and the like can be mentioned. By using the inorganic silica-based porous material as the adsorbent, the siloxane compound can be removed with high efficiency. Among these, zeolite, diatomaceous earth, silica gel, acidic clay, and activated clay are preferable, and synthetic zeolite, diatomaceous earth, silica gel, acidic clay, and activated clay are more preferable. When zeolite (particularly synthetic zeolite), diatomaceous earth, silica gel, acidic clay, or activated clay is used as the adsorbent, the siloxane compound can be efficiently removed over a longer period of time. In particular, when zeolite (particularly synthetic zeolite) or silica gel is used as the inorganic silica-based porous material, the removal efficiency of both the linear siloxane compound and the cyclic siloxane compound tends to be remarkably excellent. In addition, when silica gel or diatomaceous earth is used as the inorganic silica-based porous material, the siloxane compound tends to be more selectively removed. Only 1 type may be used for the said inorganic silica type porous material, and 2 or more types may be used for it. The synthetic zeolite includes artificial zeolite.

上記ゼオライトは、主にケイ素元素(Si)、アルミニウム元素(Al)、及び酸素元素(O)から構成される骨格を有する多孔質材料であるが、当該骨格中の一部又は全部のアルミニウム元素(Al)を、鉄元素(Fe)、ホウ素元素(B)、ガリウム元素(Ga)等の3価の金属元素;亜鉛元素(Zn)等の2価の金属元素に置き換えたものであってもよい。   The zeolite is a porous material having a skeleton mainly composed of silicon element (Si), aluminum element (Al), and oxygen element (O), but a part or all of aluminum element ( Al) may be replaced with a trivalent metal element such as iron element (Fe), boron element (B), gallium element (Ga); or a divalent metal element such as zinc element (Zn). .

上記ゼオライトの細孔構造は、特に限定されない。ゼオライトの員環数は、特に限定されないが、例えば4〜20、好ましくは8〜20、より好ましくは8〜12である。なお、ゼオライトの員環数は、一般的に細孔環構造中のO原子数で表す。また、ゼオライトの細孔接続(channel system)は、特に限定されないが、1〜3次元が好ましく、より好ましくは3次元である。特に、員環数が12であり、細孔接続が3次元である細孔構造を有するゼオライト(特に、合成ゼオライト)が好ましい。   The pore structure of the zeolite is not particularly limited. Although the number of member rings of zeolite is not specifically limited, For example, it is 4-20, Preferably it is 8-20, More preferably, it is 8-12. The number of member rings of zeolite is generally represented by the number of O atoms in the pore ring structure. Moreover, the pore connection (channel system) of zeolite is not particularly limited, but is preferably 1 to 3 dimensions, and more preferably 3 dimensions. In particular, a zeolite (particularly a synthetic zeolite) having a pore structure with 12 member rings and three-dimensional pore connection is preferable.

上記合成ゼオライトとしては、特に限定されないが、例えば、A型、フェリエライト、MCM−22、ZSM−5、ZSM−11、SAPO−11、モルデナイト、ベータ型、X型、Y型、L型、チャバザイト、オフレタイト等の骨格構造を有する合成ゼオライトなどが挙げられる。なお、上記合成ゼオライトは、1種の骨格構造のゼオライトを使用してもよいし、2種以上のゼオライトを組み合わせて使用してもよい。また、合成ゼオライトの形状は、粉末状に作製されたものでもよいし、膜状に作製されたものを使用してもよい。   Although it does not specifically limit as said synthetic zeolite, For example, A type, ferrierite, MCM-22, ZSM-5, ZSM-11, SAPO-11, mordenite, beta type, X type, Y type, L type, chabazite And synthetic zeolite having a skeletal structure such as offretite. In addition, the said synthetic zeolite may use the zeolite of 1 type of frame structure, and may use it in combination of 2 or more types of zeolite. Moreover, the synthetic zeolite may be prepared in a powder form or may be used in a film form.

上記人工ゼオライトとしては、例えば、一般に、石炭火力発電所から排出される石炭灰や製紙工場から排出される製紙スラッジ焼却灰など、ケイ素やアルミニウムを含む廃棄物から製造されたゼオライトなどが挙げられる。上記人工ゼオライトは、1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of the artificial zeolite generally include zeolite produced from waste containing silicon and aluminum, such as coal ash discharged from a coal-fired power plant and papermaking sludge incinerated ash discharged from a paper mill. The artificial zeolite may be used alone or in combination of two or more.

上記天然ゼオライトとしては、特に限定されないが、例えば、クリノプチロライト(斜プチロル沸石)、モルデナイト(モルデン沸石)、菱沸石、ナトロライト、ゴンナルダイト、エディングトナイト、アナルシム、リューサイト、ユガワラライト、ギスモンダイン、ポーリンジャイト、フィリップサイト、チャバザイト、エリオナイト、ホージャサイト、フェリエライト、ミューティナアイト、チェルニヒアイト、ヒューランダイト、スティルバイト、コウレサイト、アルミノケイ酸塩、ベリロケイ酸塩(ロギアナイト、シャンハライト等)、ジンコケイ酸塩(ガウルタイト)などが挙げられる。上記天然ゼオライトは、1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The natural zeolite is not particularly limited, and examples thereof include clinoptilolite (clinoptilolite), mordenite (mordenite), chabazite, natrolite, gonnardite, edding tonite, analsim, leucite, yugawaralite, gismondine, porinite. , Philipsite, Chabazite, Elionite, Haujasite, Ferrierite, Mutinaite, Chernihito, Huerudite, Stillebite, Koureite, Aluminosilicate, Berylsilicate (Rogianite, Shanhalite, etc.), Zinccosilicate (Gaultite) ) And the like. The natural zeolite may be used alone or in combination of two or more.

上記ゼオライトは、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下(例えば、3〜7)であり、好ましくは7未満(例えば、3以上7未満)、より好ましくは3〜6.8、さらに好ましくは3.5〜6.7、特に好ましくは4〜6.5である。なお、ゼオライトの水混合物(含有割合:5wt%)は、上記「水混合物(含有割合:5wt%)の作製方法」により、ゼオライトを対象サンプルとして作製することができる。   The zeolite has a pH of a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water of 7 or less (for example, 3 to 7), preferably less than 7 (for example, 3 or more and less than 7), more Preferably it is 3-6.8, More preferably, it is 3.5-6.7, Most preferably, it is 4-6.5. In addition, the water mixture (content ratio: 5 wt%) of zeolite can be prepared using zeolite as a target sample by the above “method for preparing water mixture (content ratio: 5 wt%)”.

上記合成ゼオライトにおけるSiO2とAl23の比(モル比)[SiO2/Al23]は、特に限定されないが、シロキサン化合物の除去効率の観点から、4〜2000であってもよく、好ましくは5〜1500、より好ましくは10〜1000、さらに好ましくは12〜600である。上記[SiO2/Al23]は、ゼオライトの親水性或いは疎水性を示す指標と考えられる。[SiO2/Al23]が高い(即ち、シリカ比が高くアルミナ比が低い)と、疎水性が高くなる傾向がある。一方、[SiO2/Al23]が低い(即ち、シリカ比が低くアルミナ比が高い)と、親水性が高くなる傾向がある。親水性が高すぎる(即ち、疎水性が低すぎる)と、骨格表面が水分子で覆われ、疎水性のシロキサン化合物が吸着サイト(吸着する場所)へ近づきにくくなる。親水性が低すぎる(即ち、疎水性が高すぎる)と、ゼオライト中の酸点が少なくなり、シロキサン化合物の除去効率が低下する傾向がある。このため、例えば、[SiO2/Al23]を上記範囲内とすることにより、ゼオライトの親水性或いは疎水性を適宜調節でき、シロキサン化合物の除去効率がより優れるようにすることができる。中でも、シロキサン化合物が環状シロキサン化合物である場合、上記合成ゼオライトは疎水性が高いことが好ましく[SiO2/Al23]が高い方が好ましい。 The ratio (molar ratio) [SiO 2 / Al 2 O 3 ] of SiO 2 and Al 2 O 3 in the synthetic zeolite is not particularly limited, but may be 4 to 2000 from the viewpoint of the removal efficiency of the siloxane compound. , Preferably 5 to 1500, more preferably 10 to 1000, still more preferably 12 to 600. The above [SiO 2 / Al 2 O 3 ] is considered as an index indicating the hydrophilicity or hydrophobicity of zeolite. When [SiO 2 / Al 2 O 3 ] is high (that is, the silica ratio is high and the alumina ratio is low), the hydrophobicity tends to increase. On the other hand, when [SiO 2 / Al 2 O 3 ] is low (that is, the silica ratio is low and the alumina ratio is high), the hydrophilicity tends to be high. If the hydrophilicity is too high (that is, the hydrophobicity is too low), the surface of the skeleton is covered with water molecules, and it becomes difficult for the hydrophobic siloxane compound to approach the adsorption site (adsorption site). If the hydrophilicity is too low (that is, the hydrophobicity is too high), the acid sites in the zeolite are reduced, and the removal efficiency of the siloxane compound tends to decrease. For this reason, for example, by setting [SiO 2 / Al 2 O 3 ] within the above range, the hydrophilicity or hydrophobicity of the zeolite can be appropriately adjusted, and the removal efficiency of the siloxane compound can be further improved. Among these, when the siloxane compound is a cyclic siloxane compound, the synthetic zeolite preferably has high hydrophobicity, and [SiO 2 / Al 2 O 3 ] is more preferable.

上記ゼオライトは、特に限定されないが、骨格構造中に陽イオンを含んでいてもよい。上記陽イオンとしては、特に限定されないが、例えば、水素イオン(H+);アンモニウムイオン(NH4 +);アルキル置換のアンモニウムイオン(例えば、メチルアンモニウムイオン((CH3)H3+)、ジメチルアンモニウムイオン((CH322+)、トリメチルアンモニウムイオン((CH33HN+)、テトラメチルアンモニウムイオン((CH34+)等);アリール又はアラルキル置換のアンモニウムイオン;リチウムイオン(Li+)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)等のアルカリ金属イオン;マグネシウムイオン(Mg2+)、カルシウムイオン(Ca2+)、バリウムイオン(Ba2+)等のアルカリ土類金属イオン;亜鉛イオン(Zn2+)、スズイオン(Sn2+、Sn4+)、鉄イオン(Fe2+、Fe3+)、白金イオン(Pt2+)、パラジウムイオン(Pd2+)、チタンイオン(Ti3+)、銀イオン(Ag+)、銅イオン(Cu+、Cu2+)、マンガンイオン(Mn2+、Mn4+)、コバルトイオン(Co2+)等の遷移金属イオン;ガリウムイオン(Ga+)などが挙げられる。上記陽イオンは1種のみ含まれていてもよいし、2種以上含まれていてもよい。上記ゼオライト中の上記陽イオンの含有量は特に限定されない。特に、プロトン型ゼオライトと呼ばれる、骨格構造中に含まれている陽イオンとして水素イオン(H+)の含有率が多いゼオライトが好ましい。 The zeolite is not particularly limited, but may contain a cation in the framework structure. Examples of the cation include, but are not limited to, hydrogen ion (H + ); ammonium ion (NH 4 + ); alkyl-substituted ammonium ion (for example, methylammonium ion ((CH 3 ) H 3 N + )) Dimethylammonium ion ((CH 3 ) 2 H 2 N + ), trimethylammonium ion ((CH 3 ) 3 HN + ), tetramethylammonium ion ((CH 3 ) 4 N + ), etc.); aryl or aralkyl-substituted ammonium Ions; alkali metal ions such as lithium ion (Li + ), sodium ion (Na + ), potassium ion (K + ); magnesium ion (Mg 2+ ), calcium ion (Ca 2+ ), barium ion (Ba 2+) ) an alkaline earth metal such as ion; zinc ion (Zn 2+), tin ions (Sn 2+, Sn 4+), Ions (Fe 2+, Fe 3+), a platinum ion (Pt 2+), palladium ion (Pd 2+), titanium ions (Ti 3+), silver ions (Ag +), copper ion (Cu +, Cu 2 + ), Manganese ions (Mn 2+ , Mn 4+ ), transition metal ions such as cobalt ions (Co 2+ ); gallium ions (Ga + ) and the like. One kind of the cation may be contained, or two or more kinds may be contained. The content of the cation in the zeolite is not particularly limited. In particular, a zeolite called a proton type zeolite having a high content of hydrogen ions (H + ) as cations contained in the skeleton structure is preferable.

なお、上記ゼオライトの比表面積(BET比表面積)、平均粒子径(平均粒径)、平均細孔径(直径)、全細孔容積などは、特に限定されない。また、上記ゼオライトは、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。   The specific surface area (BET specific surface area), average particle diameter (average particle diameter), average pore diameter (diameter), total pore volume, etc. of the zeolite are not particularly limited. Moreover, the said zeolite may use only 1 type and may use 2 or more types.

上記ゼオライトとして、天然ゼオライト又は合成ゼオライトを酸処理して得られる酸処理物、天然ゼオライト又は合成ゼオライトを水熱処理して得られる水熱処理物、アンモニウム型ゼオライトを焼成処理して得られるアンモニウム処理物、プロトン型ゼオライトを用いてもよい。   As the zeolite, an acid-treated product obtained by acid treatment of natural zeolite or synthetic zeolite, a hydrothermal treatment product obtained by hydrothermal treatment of natural zeolite or synthetic zeolite, an ammonium-treated product obtained by calcining ammonium type zeolite, Proton type zeolite may be used.

上記酸処理物及び上記水熱処理物は、酸処理における酸又は水熱処理における加熱水蒸気によってゼオライト中の陽イオンとアルミニウム元素が脱離することによってゼオライト中のシラノール基が増加するためと推測されるが、水混合物のpHが7以下となり、シロキサン化合物の除去効率が高くなる。   The acid-treated product and the hydrothermally treated product are presumed to be because silanol groups in the zeolite increase due to desorption of cations and aluminum elements in the zeolite by acid in acid treatment or heated steam in hydrothermal treatment. The pH of the water mixture becomes 7 or less, and the removal efficiency of the siloxane compound is increased.

上記プロトン型ゼオライトとしては、例えば、天然ゼオライトや合成ゼオライト中の水素イオン以外の全陽イオン(例えば、金属イオン、アンモニウムイオン等)のうちの少なくとも一部の陽イオンを水素イオンに置き換えたもの、水素イオンを多く含むように作製された合成ゼオライトなどが挙げられる。また、上記プロトン型ゼオライトは、例えば、天然ゼオライト又は合成ゼオライト中のナトリウムイオンなどの陽イオンをアンモニウムイオンにイオン交換した後、焼成する方法などを用いて作製することもできる。なお、一般的には、ゼオライト中の陽イオンを水素イオンに置き換えられたものをプロトン型ゼオライトと称されており、上記プロトン型ゼオライトは、ゼオライト中の少なくとも一部の陽イオンが水素イオンに置き換えられていればよく、ゼオライト中の全ての陽イオンが水素イオンに置き換えられているものには限定されない。   Examples of the proton type zeolite include, for example, at least a part of cations other than hydrogen ions in natural zeolite or synthetic zeolite (for example, metal ions, ammonium ions, etc.) replaced with hydrogen ions, Examples thereof include synthetic zeolite prepared so as to contain a large amount of hydrogen ions. The proton-type zeolite can also be produced by, for example, a method in which a cation such as sodium ion in natural zeolite or synthetic zeolite is ion-exchanged with ammonium ion and then calcined. In general, a proton type zeolite in which the cation in the zeolite is replaced with a hydrogen ion is called a proton type zeolite. In the above proton type zeolite, at least a part of the cation in the zeolite is replaced with a hydrogen ion. It is not limited to those in which all cations in the zeolite are replaced with hydrogen ions.

プロトン型ゼオライトは、触媒として用いることはあるが、吸着剤として用いることは一般的ではない。なお、ゼオライトが吸着剤として使用される場合もあると思われるが、吸着剤として使用されるゼオライトは塩基性のもの、即ち水混合物のpHが7を超えるものがほとんどである。ゼオライトが吸着剤として使用されている具体的な態様としては、例えばモレキュラーシーブが有名であるが、モレキュラーシーブが除去する物質は水であり、これは、ゼオライトの分子ふるい機能やゼオライト中に存在するNaイオン等の金属イオンに水が配位することによって主に除去するものである。このようにゼオライト中のNaイオンを利用する場合、使用するゼオライトの水混合物のpHは7を超える。さらに、固体酸型ゼオライトが吸着剤として使用されている例は極めて希である。例えば、固体酸型ゼオライトの酸、及びイオン交換能を利用して中和反応によりアンモニア等の塩基性化合物を除去するものがある。しかしながら、除去対象は無機化合物や塩基性化合物に限られているのが現状である。即ち、有機化合物であるシロキサン化合物の除去に水混合物のpHが7以下であるゼオライトを用いることはこれまでに例がない。   Although proton type zeolite is sometimes used as a catalyst, it is not generally used as an adsorbent. Note that zeolite may be used as an adsorbent, but most of the zeolite used as the adsorbent is basic, that is, the pH of the water mixture exceeds 7. As a specific embodiment in which zeolite is used as an adsorbent, for example, molecular sieve is well known, but the substance removed by molecular sieve is water, which is present in the molecular sieving function of zeolite and in zeolite. It is mainly removed by coordinating water to metal ions such as Na ions. Thus, when utilizing Na ion in zeolite, the pH of the water mixture of zeolite used exceeds 7. Furthermore, examples in which solid acid zeolite is used as an adsorbent are very rare. For example, there is one that removes a basic compound such as ammonia by a neutralization reaction utilizing the acid of the solid acid type zeolite and ion exchange ability. However, the removal target is currently limited to inorganic compounds and basic compounds. That is, there has been no example of using a zeolite whose pH of the water mixture is 7 or less to remove the siloxane compound which is an organic compound.

上記酸性白土としては、特に限定されず、各地で産出される酸性白土を用いることができる。例えば、新潟県産の酸性白土、山形県産の酸性白土などが挙げられる。上記酸性白土は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。   The acid clay is not particularly limited, and acid clay produced in various places can be used. Examples include acid clay from Niigata Prefecture and acid clay from Yamagata Prefecture. Only 1 type may be used for the said acid clay, and 2 or more types may be used for it.

上記活性白土は、上記酸性白土を酸処理することによって得られ、例えば、上記酸性白土を硫酸等の鉱酸でモンモリロナイトの基本構造の全部を破壊しない程度に酸処理することにより、MgやFeの酸化物等の金属酸化物が溶出し、比表面積や細孔容積を増大させたものなどが挙げられる。上記活性白土は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。   The activated clay is obtained by acid-treating the acid clay. For example, the acid clay is acid-treated with a mineral acid such as sulfuric acid so as not to destroy all of the basic structure of montmorillonite. Examples include those in which a metal oxide such as an oxide is eluted and the specific surface area and pore volume are increased. Only 1 type may be used for the said activated clay, and 2 or more types may be used for it.

上記酸性白土及び上記活性白土は、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下(例えば、3〜7)であり、好ましくは7未満(例えば、3以上7未満)、より好ましくは3〜6.5、さらに好ましくは3.2〜5、特に好ましくは3.5〜4.7である。なお、酸性白土の水混合物(含有割合:5wt%)及び活性白土の水混合物(含有割合:5wt%)は、上記「水混合物(含有割合:5wt%)の作製方法」により、酸性白土又は活性白土を対象サンプルとして作製することができる。   The acidic clay and the activated clay have a pH of a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water of 7 or less (for example, 3 to 7), preferably less than 7 (for example, 3 or more). Less than 7), more preferably 3 to 6.5, even more preferably 3.2 to 5, and particularly preferably 3.5 to 4.7. In addition, the acidic white clay water mixture (content ratio: 5 wt%) and the activated white clay water mixture (content ratio: 5 wt%) are either acidic white clay or active according to the above “method for preparing water mixture (content ratio: 5 wt%)”. White clay can be produced as a target sample.

上記珪藻土としては、特に限定されず、各地で産出される珪藻土を用いることができる。例えば、北海道稚内産の珪藻土(珪藻頁岩)、秋田県綴子産の珪藻土、岡山県蒜山産の珪藻土、大分県九重産の珪藻土、石川県能登産の珪藻土(珪藻泥岩)などのいずれの珪藻土であってもよい。中でも、北海道稚内産の珪藻土が好ましい。上記珪藻土は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。   The diatomaceous earth is not particularly limited, and diatomaceous earth produced in various places can be used. For example, diatomaceous earth (diatom shale) from Wakkanai, Hokkaido, diatomaceous earth from Tsukiko, Akita Prefecture, diatomaceous earth from Ulsan, Okayama Prefecture, diatomaceous earth from Kuju, Oita Prefecture, diatomaceous earth (diatomaceous mudstone) from Noto, Ishikawa Prefecture, etc. May be. Of these, diatomaceous earth produced in Wakkanai, Hokkaido is preferred. Only 1 type may be used for the said diatomaceous earth, and 2 or more types may be used for it.

上記珪藻土は、純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下(例えば、3〜7)であり、好ましくは7未満(例えば、3以上7未満)、より好ましくは3〜6.7、さらに好ましくは3.2〜6.5、特に好ましくは3.5〜6.2である。なお、珪藻土の水混合物(含有割合:5wt%)は、上記「水混合物(含有割合:5wt%)の作製方法」により、珪藻土を対象サンプルとして作製することができる。   The diatomaceous earth has a pH of a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water of 7 or less (for example, 3 to 7), preferably less than 7 (for example, 3 or more and less than 7), more Preferably it is 3-6.7, More preferably, it is 3.2-6.5, Most preferably, it is 3.5-6.2. In addition, the water mixture (content rate: 5 wt%) of diatomaceous earth can be produced using diatomaceous earth as a target sample by the above-described “method for producing water mixture (content rate: 5 wt%)”.

合成ゼオライト、酸性白土、活性白土、珪藻土以外の無機シリカ系多孔質材料(「その他の無機シリカ系多孔質材料」と称する場合がある)は、純水に混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下(例えば、3〜7)であり、好ましくは7未満(例えば、3以上7未満)、より好ましくは3〜6.5、さらに好ましくは3.5〜6.3、特に好ましくは4〜6である。なお、その他の無機シリカ系多孔質材料の水混合物(含有割合:5wt%)は、上記「水混合物(含有割合:5wt%)の作製方法」により、その他の無機シリカ系多孔質材料を対象サンプルとして作製することができる。   Inorganic silica-based porous materials other than synthetic zeolite, acid clay, activated clay, and diatomaceous earth (sometimes referred to as “other inorganic silica-based porous materials”) are mixed with pure water (content ratio) : 5 wt%) is 7 or less (for example, 3 to 7), preferably less than 7 (for example, 3 or more and less than 7), more preferably 3 to 6.5, and still more preferably 3.5 to 6. 3, particularly preferably 4-6. In addition, the water mixture (content ratio: 5 wt%) of other inorganic silica-based porous materials is the target sample of other inorganic silica-based porous materials according to the above “method for preparing water mixture (content ratio: 5 wt%)”. Can be produced.

合成ゼオライト以外の無機シリカ系多孔質材料において、SiO2の含有量は、特に限定されないが、無機シリカ系多孔質材料の総重量(100重量%)に対して、50重量%以上(例えば、50〜100重量%)であってもよく、好ましくは60重量%以上、より好ましくは70重量%以上である。 In the inorganic silica-based porous material other than the synthetic zeolite, the content of SiO 2 is not particularly limited, but is 50% by weight or more (for example, 50% by weight based on the total weight (100% by weight) of the inorganic silica-based porous material). ˜100 wt%), preferably 60 wt% or more, more preferably 70 wt% or more.

上記無機シリカ系多孔質材料は、特に限定されないが、添着剤等が添着されていないことが好ましい。即ち、上記無機シリカ系多孔質材料には、添着剤等が添着された無機シリカ系多孔質材料が除かれることが好ましい。上記添着剤としては、酸性物質の添着剤や塩基性物質の添着剤、酸化剤などが挙げられる。例えば、酸性物質の添着剤を添着すると、上記無機シリカ系多孔質材料の骨格が変化するおそれや、細孔が酸性物質で埋められるおそれがある。   Although the said inorganic silica type porous material is not specifically limited, It is preferable that the additive etc. are not attached. That is, it is preferable that the inorganic silica-based porous material to which an additive or the like is added is excluded from the inorganic silica-based porous material. Examples of the additive include an acidic substance additive, a basic substance additive, and an oxidizing agent. For example, when an acidic substance additive is added, the skeleton of the inorganic silica-based porous material may be changed, or the pores may be filled with the acidic substance.

本発明の吸着剤は、特に限定されないが、必要に応じて、上記水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料以外の吸着剤(他の吸着剤)を含んでいてもよい。即ち、本発明の吸着剤として、上記水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料とともに、他の吸着剤を用いてもよい。上記他の吸着剤としては、例えば、上記水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料以外の多孔質材料、その他のシリカ、粘土鉱物、活性炭、アルミナ、ガラスなどが挙げられる。吸着剤として上記他の吸着剤を併用することで、本発明の効果に加えて、他の吸着剤の効果を有するケミカルフィルタとすることもできる。   The adsorbent of the present invention is not particularly limited, but may contain an adsorbent (other adsorbent) other than the inorganic silica-based porous material whose pH of the water mixture is 7 or less, if necessary. That is, as the adsorbent of the present invention, other adsorbents may be used together with the inorganic silica-based porous material whose pH of the water mixture is 7 or less. Examples of the other adsorbent include porous materials other than inorganic silica-based porous materials whose pH of the water mixture is 7 or less, other silicas, clay minerals, activated carbon, alumina, and glass. By using the other adsorbents as the adsorbent, in addition to the effects of the present invention, a chemical filter having the effects of other adsorbents can be obtained.

本発明の吸着剤中(全吸着剤中)の上記水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料の含有量は、特に限定されないが、シロキサン化合物の除去効率の観点から、吸着剤の総重量(100重量%)に対して、10重量%以上(例えば、10〜100重量%)が好ましく、より好ましくは30重量%以上、さらに好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上である。   The content of the inorganic silica-based porous material in which the pH of the water mixture in the adsorbent of the present invention (in all adsorbents) is 7 or less is not particularly limited, but from the viewpoint of the removal efficiency of the siloxane compound, the adsorbent Is preferably 10% by weight or more (for example, 10 to 100% by weight), more preferably 30% by weight or more, further preferably 50% by weight or more, and particularly preferably 70% by weight. That's it.

本発明の吸着剤は、中でも、水混合物のpHが7以下の無機シリカ系多孔質材料として、ゼオライト(特に、合成ゼオライト)、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、又は活性白土を、吸着剤の総重量(100重量%)に対して10重量%以上(例えば、10〜100重量%、好ましくは50重量%以上、より好ましくは70重量%以上)含有することが好ましい。なお、上記無機シリカ系多孔質材料として、ゼオライト(特に、合成ゼオライト)、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、及び活性白土のうちの2以上を含む場合、上記含有量は、上記2以上の合計の含有量である。   Among the adsorbents of the present invention, zeolite (particularly, synthetic zeolite), diatomaceous earth, silica gel, acidic clay, or activated clay is used as the inorganic silica-based porous material having a water mixture having a pH of 7 or less, and the total weight of the adsorbent. The content is preferably 10% by weight or more (for example, 10 to 100% by weight, preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more) with respect to (100% by weight). When the inorganic silica-based porous material includes two or more of zeolite (particularly synthetic zeolite), diatomaceous earth, silica gel, acidic clay, and activated clay, the content is the total content of the two or more. Amount.

本発明のケミカルフィルタは、水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたものであれば、特に限定されない。上記ケミカルフィルタとしては、例えば、フィルタ基材に本発明の吸着剤が付着(固着)されているケミカルフィルタが挙げられる。なお、本発明の吸着剤がバインダとしての機能も有するものである場合、バインダを用いずに吸着剤をフィルタ基材に付着させることもできるが、本発明の吸着剤はバインダを用いてフィルタ基材に付着されていることが好ましい。即ち、上記ケミカルフィルタは、フィルタ基材に、バインダを用いずに本発明の吸着剤が付着されている(あるいは、本発明の吸着剤のみが付着されている)ケミカルフィルタであってもよいが、フィルタ基材に本発明の吸着剤がバインダを用いて付着されているケミカルフィルタであることが好ましい。   The chemical filter of this invention will not be specifically limited if the inorganic silica type porous material whose pH of a water mixture (content rate: 5 wt%) is 7 or less is used as an adsorbent. Examples of the chemical filter include a chemical filter in which the adsorbent of the present invention is attached (fixed) to a filter base material. In addition, when the adsorbent of the present invention also has a function as a binder, the adsorbent can be attached to the filter base material without using a binder, but the adsorbent of the present invention uses a binder to filter base. It is preferable that it adheres to the material. That is, the chemical filter may be a chemical filter in which the adsorbent of the present invention is attached to the filter substrate without using a binder (or only the adsorbent of the present invention is attached). A chemical filter in which the adsorbent of the present invention is attached to a filter base material using a binder is preferable.

本発明の吸着剤は、特に限定されないが、ペレット化されていてもよい。即ち、本発明の吸着剤は、ペレット化された吸着剤であってもよい。即ち、本発明のケミカルフィルタは、ペレット化された本発明の吸着剤を含んでもよい。上記ペレット化は、例えば、本発明の吸着剤の粉末を、上記バインダを用いて造粒して行うことができる。   The adsorbent of the present invention is not particularly limited, but may be pelletized. That is, the adsorbent of the present invention may be a pelletized adsorbent. That is, the chemical filter of the present invention may contain the pelletized adsorbent of the present invention. The pelletization can be performed, for example, by granulating the adsorbent powder of the present invention using the binder.

(フィルタ基材)
上記フィルタ基材としては、特に限定されず、ケミカルフィルタのフィルタ基材として一般に用いられるものを使用できる。上記フィルタ基材としては、例えば、有機繊維や無機繊維等の繊維から構成される繊維状基材(織布あるいは不織布)、紙、ポリウレタンフォーム等から構成される発泡体、耐火性金属酸化物や耐火性無機物(例えば、アルミニウム等の金属、セラミックスなど)を使用したフィルタ基材などが挙げられる。上記繊維状基材の織布の形状は特に限定されず、例えば、メッシュ状に繊維を織ったものなどが挙げられる。中でも、上記フィルタ基材として、繊維状基材が好ましい。
(Filter base material)
It does not specifically limit as said filter base material, What is generally used as a filter base material of a chemical filter can be used. Examples of the filter base material include fibrous base materials (woven fabric or non-woven fabric) composed of fibers such as organic fibers and inorganic fibers, foams composed of paper, polyurethane foam, refractory metal oxides, and the like. Examples thereof include a filter base material using a refractory inorganic material (for example, a metal such as aluminum, ceramics, etc.). The shape of the woven fabric of the fibrous base material is not particularly limited, and examples thereof include those in which fibers are woven in a mesh shape. Among these, a fibrous substrate is preferable as the filter substrate.

上記繊維状基材における繊維としては、例えば、シリカアルミナ繊維、シリカ繊維、アルミナ繊維、ムライト繊維、ガラス繊維、ロックウール繊維、炭素繊維等の無機繊維;ポリエチレン繊維、ポリプロピレン繊維、ナイロン繊維、ポリエステル繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート繊維等)、ポリテトラフルオロエチレン繊維、ポリビニルアルコール繊維、アラミド繊維、パルプ繊維、レーヨン繊維等の有機繊維などが挙げられる。上記の中でも、ケミカルフィルタの強度を高める観点、及び繊維からのアウトガスなどによる汚染が少ない観点から、無機繊維が好ましく、より好ましくはガラス繊維である。即ち、上記フィルタ基材としては、ガラス繊維を用いた繊維状基材(ガラスクロス(ガラス布))が好ましい。上記繊維は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。また、上記無機繊維及び上記有機繊維の形状は特に限定されない。   Examples of the fiber in the fibrous base material include inorganic fibers such as silica alumina fiber, silica fiber, alumina fiber, mullite fiber, glass fiber, rock wool fiber, and carbon fiber; polyethylene fiber, polypropylene fiber, nylon fiber, and polyester fiber. (For example, polyethylene terephthalate fiber, etc.), polytetrafluoroethylene fiber, polyvinyl alcohol fiber, aramid fiber, pulp fiber, rayon fiber, and other organic fibers. Among these, inorganic fibers are preferable, and glass fibers are more preferable from the viewpoint of increasing the strength of the chemical filter and less contamination due to outgas from the fibers. That is, as the filter substrate, a fibrous substrate (glass cloth (glass cloth)) using glass fibers is preferable. The said fiber may use only 1 type and may use it in combination of 2 or more type. Moreover, the shape of the said inorganic fiber and the said organic fiber is not specifically limited.

(バインダ)
上記バインダは、吸着剤のフィルタ基材への付着を促進させることや、吸着剤のペレット化に使用することができる。上記バインダとしては、特に限定されず、公知乃至慣用のフィルタ用(例えば、エアフィルタ用、ケミカルフィルタ用等)のバインダを用いることができる。上記バインダとしては、有機バインダであってもよいし、無機バインダであってもよい。上記バインダは、特に限定されないが、無機バインダであることが好ましい。上記バインダは、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。
(Binder)
The binder can be used for promoting adhesion of the adsorbent to the filter base material or pelletizing the adsorbent. The binder is not particularly limited, and a known or commonly used binder for a filter (for example, for an air filter or a chemical filter) can be used. The binder may be an organic binder or an inorganic binder. The binder is not particularly limited, but is preferably an inorganic binder. The said binder may use only 1 type and may use 2 or more types.

上記バインダは、酸性であってもよいし、塩基性であってもよいが、酸性であることが好ましい。上記バインダが酸性であると、シロキサン化合物の除去効率が塩基性のバインダを使用したときより上昇する傾向がある。酸性のバインダは、純水に混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下(例えば、3〜7)であり、好ましくは7未満(例えば、3以上7未満)、より好ましくは3〜6.8、さらに好ましくは3.5〜6.7、特に好ましくは4〜6.5である。なお、バインダの水混合物(含有割合:5wt%)は、上記「水混合物(含有割合:5wt%)の作製方法」により、バインダを対象サンプルとして作製することができる。なお、上記バインダがコロイダルシリカなど溶媒を含むバインダである場合、上記含有割合は、上記水混合物に対する、上記バインダ中の固形分の含有割合である。   The binder may be acidic or basic, but is preferably acidic. If the binder is acidic, the removal efficiency of the siloxane compound tends to be higher than when a basic binder is used. The acidic binder has a pH of a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water of 7 or less (for example, 3 to 7), preferably less than 7 (for example, 3 or more and less than 7), More preferably, it is 3-6.8, More preferably, it is 3.5-6.7, Most preferably, it is 4-6.5. In addition, the water mixture (content ratio: 5 wt%) of the binder can be manufactured using the binder as a target sample by the above-described “method for manufacturing the water mixture (content ratio: 5 wt%)”. In addition, when the said binder is a binder containing solvents, such as colloidal silica, the said content rate is a content rate of the solid content in the said binder with respect to the said water mixture.

上記有機バインダとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、メタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂、ABS樹脂、PET等のポリエステル系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等のセルロース、アラビヤゴムなどが挙げられる。上記有機バインダは、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。   Examples of the organic binder include polyethylene resins, polypropylene resins, acrylic resins such as methyl methacrylate, ABS resins, polyester resins such as PET, phenol resins, epoxy resins, urethane resins, vinyl acetate resins, and polyvinyl resins. Examples thereof include cellulose such as alcohol and carboxymethylcellulose, and arabic gum. The said organic binder may use only 1 type and may use 2 or more types.

上記無機バインダとしては、上記無機シリカ系多孔質材料の表面を完全に覆わない粒子状のものが好ましく、例えば、ケイ酸ソーダ、シリカゾル、アルミナゾル、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、コロイド状酸化スズ、コロイド状酸化チタンなどの無機酸化物粒子等が挙げられ、中でも、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、コロイド状酸化スズ、コロイド状酸化チタン等のコロイド状の無機酸化物粒子などが好ましく挙げられる。中でも、コロイダルシリカが好ましい。上記無機バインダは、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。   The inorganic binder is preferably in the form of particles that do not completely cover the surface of the inorganic silica-based porous material. For example, sodium silicate, silica sol, alumina sol, colloidal silica, colloidal alumina, colloidal tin oxide, colloidal Examples thereof include inorganic oxide particles such as titanium oxide. Among them, colloidal inorganic oxide particles such as colloidal silica, colloidal alumina, colloidal tin oxide and colloidal titanium oxide are preferable. Of these, colloidal silica is preferable. The said inorganic binder may use only 1 type and may use 2 or more types.

上記無機バインダの平均粒子径(一次粒子径)、比表面積(BET比表面積)、平均細孔径(直径)、全細孔容積などは、特に限定されない。   The average particle diameter (primary particle diameter), specific surface area (BET specific surface area), average pore diameter (diameter), total pore volume, and the like of the inorganic binder are not particularly limited.

(ケミカルフィルタの構造)
本発明のケミカルフィルタが有する構造は、特に限定されず、ハニカム構造、プリーツ構造、ペレット充填構造、三次元網目構造、シート包装構造などが挙げられる。これらの中でも、ハニカム構造、プリーツ構造、三次元網目構造が好ましく、圧力損失を抑制する観点から、ハニカム構造が特に好ましい。本発明の吸着剤として、ペレット化された吸着剤(ペレット)を用いる場合は、特に限定されないが、プリーツ構造、ペレット充填構造、又は三次元網目構造であることが好ましい。本発明のケミカルフィルタは、1種の構造のみを有していてもよいし、2種以上の構造を組み合わせて有していてもよい。
(Chemical filter structure)
The structure of the chemical filter of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a honeycomb structure, a pleat structure, a pellet filling structure, a three-dimensional network structure, and a sheet packaging structure. Among these, a honeycomb structure, a pleated structure, and a three-dimensional network structure are preferable, and a honeycomb structure is particularly preferable from the viewpoint of suppressing pressure loss. When the pelletized adsorbent (pellet) is used as the adsorbent of the present invention, it is not particularly limited, but a pleated structure, a pellet filling structure, or a three-dimensional network structure is preferable. The chemical filter of the present invention may have only one type of structure, or may have a combination of two or more types of structures.

上記ハニカム構造には、いわゆる蜂の巣状の構造の他、例えば、断面が格子状、円形状、波形状、多角形状、不定形状、全部あるいは一部に曲面を有する形状などであって、流体(特に、空気)が構造体の要素となるセルを通過し得る構造が全て含まれる。   In addition to the so-called honeycomb structure, the honeycomb structure includes, for example, a lattice shape, a circular shape, a wave shape, a polygonal shape, an indefinite shape, a shape having a curved surface in whole or in part, and a fluid (particularly , Air) includes all structures that can pass through the cells that are the elements of the structure.

上記ハニカム構造としては、例えば、コルゲート加工によって成形されたコルゲート状のシートと平坦状のシートが交互に積層して得られる構造(コルゲート状ハニカム構造)、プリーツ形状のシートと平坦状のシートからなる構造であって、通気方向に対して、プリーツ形状のシートと直角に平坦状のシートを順に積層した構造などが挙げられる。   Examples of the honeycomb structure include a structure obtained by alternately laminating corrugated sheets and flat sheets formed by corrugating (corrugated honeycomb structure), and includes a pleated sheet and a flat sheet. Examples of the structure include a structure in which a pleated sheet and a flat sheet are sequentially laminated at right angles to the ventilation direction.

ハニカム構造を有する本発明のケミカルフィルタとしては、例えば、繊維状基材を用いたフィルタ基材がコルゲート状ハニカム構造を有するケミカルフィルタ、繊維状基材を用いたフィルタ基材が蜂の巣状の構造を有するケミカルフィルタ、アルミニウム等の金属製のフィルタ基材が蜂の巣状の構造を有するケミカルフィルタなどが挙げられる。   As the chemical filter of the present invention having a honeycomb structure, for example, a filter base material using a fibrous base material has a corrugated honeycomb structure, and a filter base material using a fibrous base material has a honeycomb structure. Examples thereof include a chemical filter having a honeycomb structure in which a metal filter substrate made of metal such as aluminum has a honeycomb structure.

上記プリーツ構造には、例えば、限られたスペースの中でろ過面積を効率的に拡大することを目的として、波形あるいはV字型が連続するように加工されたジャバラ形状を有する構造が含まれる。   The pleated structure includes, for example, a structure having a bellows shape processed so that a waveform or a V shape is continuous in order to efficiently expand a filtration area in a limited space.

上記ペレット充填構造は、例えば、上記ペレット化された吸着剤を、流体(特に、気体)が内部を通過できる構造のケーシング内に充填した構造が挙げられる。また、吸着剤の粉末の粒径が、ケーシング内で保持できる程度に大きい粒径を有する場合は、上記ペレット充填構造の代わりに、ペレット化せず、粉末のままでもケーシング内に充填した構造とすることもできる。   Examples of the pellet filling structure include a structure in which the pelletized adsorbent is filled in a casing having a structure in which a fluid (particularly gas) can pass therethrough. In addition, when the particle size of the adsorbent powder is large enough to be held in the casing, instead of the pellet filling structure, the powder is not pelletized and the powder is filled in the casing. You can also

上記三次元網目構造は、例えば、上記ポリウレタンフォーム等から構成される発泡体や、ガラス繊維(グラスウール等)やロックウール繊維、あるいは上記繊維状基材の繊維を立体的に加工して作製した網目構造体のフィルタ基材を有する構造、あるいは針状繊維化されたポリテトラフルオロエチレンなどが好ましく例示される。   The three-dimensional network structure is, for example, a mesh formed by three-dimensionally processing a foam composed of the polyurethane foam or the like, glass fiber (glass wool or the like), rock wool fiber, or fiber of the fibrous base material. A structure having a filter base material of the structure or polytetrafluoroethylene made into needle-like fibers is preferably exemplified.

上記シート包装構造は、例えば、不織布やPTFEなどのエアが通気するシートを任意の大きさの袋状に成型し、その内部に吸着剤を充填した構造等が挙げられる。また、吸着剤の粒径はシートの外に吸着剤の粒子が漏れないようにペレット化することもあるが、シート次第では粉末のまま使用することもできる。   Examples of the sheet packaging structure include a structure in which an air-permeable sheet such as a non-woven fabric or PTFE is molded into a bag of any size and filled with an adsorbent. Further, the particle size of the adsorbent may be pelletized so that the adsorbent particles do not leak out of the sheet, but depending on the sheet, it can be used as a powder.

(本発明のケミカルフィルタの製造方法)
本発明のケミカルフィルタの製造方法は、特に限定されず、公知乃至慣用の吸着剤を有するケミカルフィルタの製造方法を用いることができる。本発明のケミカルフィルタは、特に限定されないが、例えば、フィルタ基材に本発明の吸着剤を付着させる工程(吸着剤付着工程)を少なくとも有する。本発明のケミカルフィルタの製造方法は、特に限定されないが、上記吸着剤付着工程以外の工程(他の工程)を有していてもよい。また、上記フィルタ基材は、市販のフィルタ基材を購入してそのまま使用してもよい。
(Method for producing chemical filter of the present invention)
The manufacturing method of the chemical filter of this invention is not specifically limited, The manufacturing method of the chemical filter which has a well-known thru | or usual adsorption agent can be used. Although the chemical filter of this invention is not specifically limited, For example, it has at least the process (adsorbent adhesion process) which makes the adsorbent of this invention adhere to a filter base material. Although the manufacturing method of the chemical filter of this invention is not specifically limited, You may have processes (other processes) other than the said adsorption agent adhesion process. Moreover, the said filter base material may purchase a commercially available filter base material, and may use it as it is.

上記吸着剤付着工程において、本発明の吸着剤の付着は、例えば、上記フィルタ基材を、本発明の吸着剤、溶媒(例えば水など)、及び、必要に応じて上記バインダを含む懸濁液中に浸漬した後、懸濁液から取り出し、乾燥することにより行うことができる。上記懸濁液には、本発明の効果を損なわない範囲内で、沈降防止剤を含んでいてもよい。   In the adsorbent adhering step, the adsorbent of the present invention is adhered to, for example, the filter substrate, the adsorbent of the present invention, a solvent (for example, water), and a suspension containing the binder as necessary. After dipping in, it can be carried out by removing from the suspension and drying. The suspension may contain an antisettling agent as long as the effects of the present invention are not impaired.

本発明の吸着剤の付着は、他に、上記フィルタ基材に、上記溶媒と必要に応じて上記バインダを含む懸濁液中に浸漬した後、懸濁液から取り出し、乾燥し、その後、フィルタ基材表面に本発明の吸着剤を分散して付着させることにより行うこともできる。   In addition, the adsorbent of the present invention is attached to the filter base material after being immersed in a suspension containing the solvent and, if necessary, the binder, then taken out from the suspension, dried, and then filtered. It can also be carried out by dispersing and adsorbing the adsorbent of the present invention on the substrate surface.

本発明の吸着剤の付着は、他に、本発明の吸着剤と、上記溶媒と、必要に応じて上記バインダを含む混合溶液を、スプレー等を用いて上記フィルタ基材(特に、不織布)に塗布して付着させることにより行うこともできる。   In addition, the adsorbent of the present invention is attached to the filter base material (particularly, non-woven fabric) by spraying the mixed solution containing the adsorbent of the present invention, the solvent, and, if necessary, the binder. It can also be performed by applying and adhering.

本発明の吸着剤の付着は、他に、上記フィルタ基材に、本発明の吸着剤の粉末を造粒して製造したペレットを、接着剤等で付着させたり、フィルタ基材内部に充填したりして行うこともできる。本発明の吸着剤の粉末を造粒する際には、必要に応じて上記バインダを混合してもよい。本発明の吸着剤の粉末、上記バインダ及び溶媒(好ましくは水)を適量含んだ状態で混合すると、粘土状の粘性と可塑性を示すようになり、造粒が可能となる。   In addition, the adsorbent of the present invention can be attached to the above filter base material by adhering pellets produced by granulating the adsorbent powder of the present invention with an adhesive or filling the inside of the filter base material. It can also be done. When granulating the adsorbent powder of the present invention, the binder may be mixed as necessary. When the adsorbent powder of the present invention, the binder, and the solvent (preferably water) are mixed in an appropriate amount, the clay-like viscosity and plasticity are exhibited, and granulation becomes possible.

本発明の吸着剤の付着は、他に、針状繊維化されたポリテトラフルオロエチレン樹脂を用い、該針状繊維に本発明の吸着剤を捕捉させて担持させることにより行うこともできる。   In addition, the adsorbent of the present invention can be attached by using a polytetrafluoroethylene resin that has been made into acicular fibers and capturing and adsorbing the adsorbent of the present invention on the acicular fibers.

本発明の吸着剤は、他に、本発明の吸着剤がナノファイバー中に含有される状態で付着していてもよい。上記ナノファイバーとしては、公知乃至慣用のナノファイバーを用いることができる。また、上記ナノファイバーは、公知乃至慣用のナノファイバーの製造方法により作製することもできる。上記ナノファイバーの製造方法としては、例えば、エレクトロスピニング(ES)法(電解紡糸、静電紡糸)、メルトブロー法、複合溶融紡糸法などが挙げられる。上記ES法は、本発明の吸着剤をポリマー溶液に分散させた懸濁液に高電圧を与え、アース表面(例えば、表面が0電位のフィルタ基材(例えば、不織布など))にスプレーして行う。上記ES法では、懸濁液を高電圧でスプレーした際に、本発明の吸着剤を含有したナノファイバーが形成される。   In addition, the adsorbent of the present invention may be attached in a state where the adsorbent of the present invention is contained in nanofibers. As said nanofiber, well-known thru | or usual nanofiber can be used. Moreover, the said nanofiber can also be produced with the manufacturing method of well-known thru | or a usual nanofiber. Examples of the method for producing the nanofiber include an electrospinning (ES) method (electrospinning, electrostatic spinning), a melt blow method, a composite melt spinning method, and the like. In the ES method, a high voltage is applied to a suspension in which the adsorbent of the present invention is dispersed in a polymer solution, and the suspension is sprayed on a ground surface (for example, a filter substrate (for example, a non-woven fabric) having a zero surface potential). Do. In the ES method, when the suspension is sprayed at a high voltage, nanofibers containing the adsorbent of the present invention are formed.

また、吸着剤が付着しにくいフィルタ基材(例えば、金属製のフィルタ基材等)を用いたケミカルフィルタの場合、本発明の吸着剤の付着は、接着剤を用いてフィルタ基材に担持させて行ってもよい。   In the case of a chemical filter using a filter base material (for example, a metal filter base material) to which the adsorbent is difficult to adhere, the adsorbent of the present invention is attached to the filter base material using an adhesive. You may go.

なお、上記プリーツ構造のケミカルフィルタにおいて、本発明の吸着剤の付着は、例えば2枚の不織布製のフィルタ基材の間に、本発明の吸着剤の粉末やペレット化された吸着剤を、接着剤等を用いて挟み込むことにより行うこともできる。   In the pleated structure chemical filter, the adsorbent of the present invention is adhered to, for example, by adhering the adsorbent powder or pelletized adsorbent of the present invention between two non-woven filter substrates. It can also be performed by sandwiching with an agent or the like.

上記他の工程としては、例えば、フィルタ基材を加工する工程(フィルタ基材加工工程)などが挙げられる。なお、上記フィルタ基材加工工程と上記吸着剤付着工程の順序は、特に限定されないが、作業性の観点から、フィルタ基材加工工程、吸着剤付着工程の順が好ましい。   As said other process, the process (filter base material processing process) etc. which process a filter base material are mentioned, for example. The order of the filter base material processing step and the adsorbent attachment step is not particularly limited, but the order of the filter base material processing step and the adsorbent attachment step is preferable from the viewpoint of workability.

上記フィルタ基材加工工程としては、例えば、上述したように、フィルタ基材にコルゲート加工を施す工程、ハニカム構造を形成する工程、フィルタ基材に細孔を設ける工程などが挙げられる。上記フィルタ基材加工工程は、1工程のみを行ってもよいし、同一又は異なる2以上の工程を行ってもよい。上記フィルタ基材加工工程を2工程以上行う場合も、その順序は特に限定されない。   Examples of the filter base material processing step include a step of corrugating the filter base material, a step of forming a honeycomb structure, and a step of providing pores in the filter base material as described above. The said filter base-material process process may perform only 1 process, and may perform the same or different 2 or more processes. Also when performing the said filter base-material process process 2 steps or more, the order is not specifically limited.

また、本発明のケミカルフィルタは、抄紙法により製造されたケミカルフィルタであってもよい。上記抄紙法により製造されたケミカルフィルタは、例えば、繊維状基材及び本発明の吸着剤を少なくとも有するケミカルフィルタであって、上記繊維状基材を構成する繊維及び本発明の吸着剤を含有する懸濁液に凝集剤を加えることにより生成される物質(フロック)を湿式抄紙法でシート化した後、熱処理して得られる。   The chemical filter of the present invention may be a chemical filter manufactured by a papermaking method. The chemical filter manufactured by the papermaking method is, for example, a chemical filter having at least a fibrous base material and the adsorbent of the present invention, and contains the fibers constituting the fibrous base material and the adsorbent of the present invention. A substance (floc) produced by adding a flocculant to the suspension is formed into a sheet by a wet papermaking method and then heat-treated.

また、本発明のケミカルフィルタは、セラミック型のケミカルフィルタであってもよい。上記セラミック型のケミカルフィルタは、公知乃至慣用のセラミックス材料の加工方法により作製することができる。例えば、本発明の吸着剤を、セラミックス原料とともに成形及び焼成して製造することができる。具体的には、例えば、本発明の吸着剤、上記バインダ、造孔材、及び必要に応じて他のセラミックス原料を秤量及び混練を行って坏土を作製した後、この坏土をスクリュー式押出機等の押出機により押出加工し、成形体を作製する。得られた成形体を乾燥及び焼成して、多孔質のセラミック型のケミカルフィルタが得られる。上記セラミック型のケミカルフィルタは、特に限定されないが、ハニカム構造であるセラミック型のケミカルフィルタが好ましい。上記セラミック型のケミカルフィルタは、適宜、端面をダイヤモンドカッター、ダイヤモンドソー等の研削工具で、所定の長さに加工することもできる。   The chemical filter of the present invention may be a ceramic type chemical filter. The ceramic-type chemical filter can be produced by a known or common processing method for ceramic materials. For example, the adsorbent of the present invention can be produced by molding and firing together with a ceramic raw material. Specifically, for example, after preparing the clay by weighing and kneading the adsorbent of the present invention, the binder, the pore former, and other ceramic raw materials as required, the clay is extruded by screw type extrusion. Extrusion is performed by an extruder such as a machine to produce a molded body. The obtained molded body is dried and fired to obtain a porous ceramic type chemical filter. The ceramic type chemical filter is not particularly limited, but a ceramic type chemical filter having a honeycomb structure is preferable. The ceramic-type chemical filter can be processed into a predetermined length by a grinding tool such as a diamond cutter or a diamond saw as appropriate.

本発明のケミカルフィルタは、上記の中でも、表面に本発明の吸着剤が無機バインダにより付着された波形シートが、薄板シートを介して複数個積層されたハニカム構造を有するケミカルフィルタが特に好ましい。   Among the above, the chemical filter of the present invention is particularly preferably a chemical filter having a honeycomb structure in which a plurality of corrugated sheets each having the adsorbent of the present invention attached to its surface with an inorganic binder are laminated via thin sheet sheets.

特に限定されないが、本発明のケミカルフィルタにおいて、添着剤(例えば、酸性物質、塩基性物質、酸化剤等)が添着されている吸着剤を備えていないことが好ましい。即ち、本発明のケミカルフィルタには、添着剤が添着されている吸着剤を備えたものが除かれることが好ましい。   Although not particularly limited, it is preferable that the chemical filter of the present invention does not include an adsorbent to which an additive (for example, an acidic substance, a basic substance, an oxidizing agent, or the like) is attached. That is, the chemical filter of the present invention is preferably excluded from those having an adsorbent to which an additive is attached.

本発明のケミカルフィルタは、吸着剤として、水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を用いている。これにより、本発明のケミカルフィルタにおいて、固体酸として作用する無機シリカ系多孔質材料にはシラノール基(−Si−OH)が存在するため、該固体酸によってシロキサン化合物を加水分解し、化合物にシラノール基が形成されると推測される。このことにより、無機シリカ系多孔質材料中のシラノール基(−Si−OH)と、流体中(特に、空気中)のシロキサン化合物が加水分解して発生する該シラノール基とが脱水縮合することによってSi−O−Si結合が形成され、主に化学吸着によるものと推測されるが、シロキサン化合物を強固に吸着して除去しているものと思われ、一旦吸着したシロキサン化合物は脱離しにくくなっている。また、上記無機シリカ系多孔質材料と、吸着したシロキサン化合物との結合は、活性炭を用いた場合に比べて結合力が顕著に強力である。   The chemical filter of the present invention uses an inorganic silica-based porous material whose pH of the water mixture is 7 or less as an adsorbent. Thereby, in the chemical filter of the present invention, since the silanol group (-Si-OH) exists in the inorganic silica porous material that acts as a solid acid, the siloxane compound is hydrolyzed by the solid acid, and the compound is converted into silanol. It is assumed that a group is formed. As a result, the silanol group (—Si—OH) in the inorganic silica porous material and the silanol group generated by hydrolysis of the siloxane compound in the fluid (particularly in the air) are dehydrated and condensed. The Si-O-Si bond is formed and presumed to be mainly due to chemical adsorption, but it seems that the siloxane compound is strongly adsorbed and removed, and the once adsorbed siloxane compound becomes difficult to desorb. Yes. In addition, the bond between the inorganic silica-based porous material and the adsorbed siloxane compound is significantly stronger than the case where activated carbon is used.

このように、本発明のケミカルフィルタは、水混合物のpHが7以下の無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いることにより、シロキサン化合物を除去する。このため、活性炭等の吸着剤を用いた場合とは異なり、強固に結合している為、一旦吸着したシロキサン化合物を脱離しない。従って、吸着剤として活性炭を用いたケミカルフィルタよりも吸着容量が推定しやすく、寿命分析が比較的容易である。また、後述するように、高圧から常圧に戻した際も脱離しにくいため、本発明のシロキサン化合物除去設備において本発明のケミカルフィルタを圧力配管内に配置しても有用である。   As described above, the chemical filter of the present invention removes the siloxane compound by using an inorganic silica-based porous material having a water mixture having a pH of 7 or less as an adsorbent. For this reason, unlike the case of using an adsorbent such as activated carbon, the siloxane compound once adsorbed is not desorbed because it is firmly bonded. Therefore, the adsorption capacity is easier to estimate than the chemical filter using activated carbon as the adsorbent, and the life analysis is relatively easy. Further, as will be described later, since it is difficult to desorb even when the pressure is returned from high pressure to normal pressure, it is useful to dispose the chemical filter of the present invention in a pressure pipe in the siloxane compound removal equipment of the present invention.

また、上記特許文献2〜5には、酸性官能基が導入された樹脂又は多孔質材料を用いて環状シロキサン化合物を除去することが開示されている。しかしながら、上記酸性官能基としてのスルホン酸はプロトン酸であり、ゼオライト等の無機シリカ系多孔質材料における固体酸とは性質は全く異なる。これは、シロキサン化合物の除去においても同様である。上記特許文献2〜5では、上記酸性官能基はシロキサン化合物同士を反応させる役割を有している。これに対し、本発明においては、上述のように、無機シリカ系多孔質材料中のシラノール基(−Si−OH)と、シロキサン化合物が加水分解して発生したシラノール基との脱水縮合により吸着していると推測される。このように、酸性官能基が導入された多孔質材料と、本発明の吸着剤とは、吸着機構が全く異なる。そして、本発明のケミカルフィルタを有する本発明のシロキサン化合物除去設備を用いた場合は、シロキサン化合物同士の反応が必要ないため、流体中のシロキサン化合物の濃度が極めて低濃度である環境下であっても効率的にシロキサン化合物を除去することができる。   Patent Documents 2 to 5 disclose that a cyclic siloxane compound is removed using a resin or a porous material into which an acidic functional group is introduced. However, the sulfonic acid as the acidic functional group is a protonic acid, and the property is completely different from the solid acid in the inorganic silica-based porous material such as zeolite. The same applies to the removal of the siloxane compound. In the said patent documents 2-5, the said acidic functional group has a role which makes siloxane compounds react. On the other hand, in the present invention, as described above, it is adsorbed by dehydration condensation between the silanol group (—Si—OH) in the inorganic silica-based porous material and the silanol group generated by hydrolysis of the siloxane compound. I guess that. As described above, the adsorption mechanism is completely different between the porous material into which the acidic functional group is introduced and the adsorbent of the present invention. And when the siloxane compound removal equipment of the present invention having the chemical filter of the present invention is used, since the reaction between the siloxane compounds is not necessary, the environment is such that the concentration of the siloxane compound in the fluid is extremely low. Also, the siloxane compound can be removed efficiently.

また、上記特許文献2〜5では、酸性官能基が導入された樹脂又は多孔質材料が用いられている。このため、特許文献2〜5では、ケミカルフィルタを作製する際には、酸性官能基を導入する工程が必須となる。特に、特許文献3及び4で用いられている酸性化合物を作製する工程は極めて複雑である。これに対し、本発明の吸着剤として、酸性官能基が導入された樹脂又は多孔質材料を用いる必要はない。このため、本発明のケミカルフィルタは、樹脂又は多孔質材料に酸性化合物を添着する工程、及び、酸性化合物を製造する工程等を設ける必要は無く、容易に作製することができる。従って、本発明のシロキサン化合物除去設備は容易に作製することができる。   Moreover, in the said patent documents 2-5, resin or porous material into which the acidic functional group was introduce | transduced is used. For this reason, in patent documents 2-5, the process of introduce | transducing an acidic functional group becomes essential when producing a chemical filter. In particular, the process for producing an acidic compound used in Patent Documents 3 and 4 is extremely complicated. On the other hand, it is not necessary to use a resin or a porous material into which an acidic functional group is introduced as the adsorbent of the present invention. For this reason, the chemical filter of this invention does not need to provide the process of attaching an acidic compound to resin or a porous material, the process of manufacturing an acidic compound, etc., and can be produced easily. Therefore, the siloxane compound removal equipment of the present invention can be easily produced.

さらに、吸着剤として活性炭を用いたケミカルフィルタは、流体中のシロキサン化合物以外に有機ガス成分等の他のガス成分が存在する場合、シロキサン化合物の除去は上記有機ガス成分の除去と競合になる。このため、シロキサン化合物の除去効率は低下する。これに対し、本発明の吸着剤は、上述のように、主に無機シリカ系多孔質材料中のシラノール基によってシロキサン化合物を除去するためと推測されるが、上記有機ガス成分の除去と競合にはならず、シロキサン化合物を選択的に効率的に除去することができる傾向がある。   Furthermore, in the chemical filter using activated carbon as the adsorbent, when other gas components such as an organic gas component are present in addition to the siloxane compound in the fluid, the removal of the siloxane compound is competitive with the removal of the organic gas component. For this reason, the removal efficiency of a siloxane compound falls. In contrast, the adsorbent of the present invention is presumed to remove the siloxane compound mainly by the silanol group in the inorganic silica-based porous material as described above, but it is in competition with the removal of the organic gas component. In other words, the siloxane compound tends to be selectively and efficiently removed.

[阻害物質除去用ケミカルフィルタ]
上記阻害物質除去用ケミカルフィルタは、本発明のケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させる阻害物質を除去するためのケミカルフィルタである。上記阻害物質除去用ケミカルフィルタは、本発明のケミカルフィルタの上流に設置されている。
[Chemical filter for removing inhibitory substances]
The inhibitor removing chemical filter is a chemical filter for removing an inhibitor that lowers the siloxane compound removing ability of the chemical filter of the present invention. The inhibitor removing chemical filter is installed upstream of the chemical filter of the present invention.

上記阻害物質除去用ケミカルフィルタは、本発明のケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させる物質(阻害物質)を除去するケミカルフィルタであれば特に限定されない。このような阻害物質除去用ケミカルフィルタとしては、例えば、アンモニア、アミン等の塩基性物質を吸着する塩基性物質除去用ケミカルフィルタ;硫化水素、硫黄酸化物、窒素酸化物、有機酸等の酸性物質を吸着する酸性物質除去用ケミカルフィルタ;ベンゼン、トルエン、シクロヘキサノン等の有機物質を吸着する有機物質除去用ケミカルフィルタ;シラノール化合物を吸着するシラノール化合物除去用ケミカルフィルタなどが挙げられる。上記阻害物質除去用ケミカルフィルタとしては、中でも、塩基性物質除去用ケミカルフィルタ、シラノール化合物除去用ケミカルフィルタが好ましい。上記阻害物質除去用ケミカルフィルタが塩基性物質除去用ケミカルフィルタであると、本発明のケミカルフィルタにおける本発明の吸着剤中の無機シリカ系多孔質材料の酸性点を減少させる可能性がある塩基性物質を効率的に除去でき、本発明のケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させず、長く維持することができるため、好ましい。また、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタがシラノール化合物除去用ケミカルフィルタであると、本発明のケミカルフィルタにおける本発明の吸着剤中の無機シリカ系多孔質材料のシラノール基を減少させるシラノール化合物を効率的に除去でき、本発明のケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させず、長く維持することができるため、好ましい。   The chemical filter for removing the inhibitory substance is not particularly limited as long as it is a chemical filter that removes a substance (inhibitor substance) that reduces the siloxane compound removing ability of the chemical filter of the present invention. Examples of such chemical filters for removing inhibitory substances include basic substances removing chemical filters that adsorb basic substances such as ammonia and amines; acidic substances such as hydrogen sulfide, sulfur oxides, nitrogen oxides, and organic acids. Chemical filters for removing acidic substances that adsorb organic substances; Chemical filters for removing organic substances that adsorb organic substances such as benzene, toluene, and cyclohexanone; Chemical filters for removing silanol compounds that adsorb silanol compounds. As the chemical filter for removing the inhibitory substance, a chemical filter for removing a basic substance and a chemical filter for removing a silanol compound are particularly preferable. If the chemical filter for removing an inhibitory substance is a chemical filter for removing a basic substance, the basicity may reduce the acidic point of the inorganic silica porous material in the adsorbent of the present invention in the chemical filter of the present invention. It is preferable because the substance can be efficiently removed and the chemical filter of the present invention can be maintained for a long time without deteriorating the ability to remove the siloxane compound. Further, when the inhibitor removing chemical filter is a silanol compound removing chemical filter, a silanol compound that reduces silanol groups of the inorganic silica-based porous material in the adsorbent of the present invention in the chemical filter of the present invention is efficiently used. The chemical filter of the present invention is preferable because it can be maintained for a long time without deteriorating the ability to remove the siloxane compound.

上記シラノール化合物は、R4-nSi(OH)nで表されるように、シラノール基(−Si−OH)を少なくとも有する化合物である。上記nは、1〜3の整数であることが好ましい。上記Rは、水素原子;フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;置換基を有していてもよい炭化水素基(好ましくはアルキル基、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基)などが挙げられる。なお、Rが複数ある場合、複数のRのうちの2以上が同一であってもよいし、それぞれが異なっていてもよい。また、上記シラノール化合物は、揮発性を有するものが好ましい。上記シラノール化合物としては、特に、トリメチルシラノール(TMS)が好ましい。 The silanol compound is a compound having at least a silanol group (—Si—OH) as represented by R 4-n Si (OH) n . N is preferably an integer of 1 to 3. R represents a hydrogen atom; a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom; an optionally substituted hydrocarbon group (preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), and the like. It is done. When there are a plurality of Rs, two or more of the plurality of Rs may be the same or different. The silanol compound is preferably volatile. As the silanol compound, trimethylsilanol (TMS) is particularly preferable.

上記阻害物質除去用ケミカルフィルタとしては、上記阻害物質を除去するケミカルフィルタであればよく、阻害物質除去用ケミカルフィルタを構成する材質や形状等は特に限定されない。   The chemical filter for removing the inhibitory substance may be any chemical filter that removes the inhibitory substance, and the material and shape of the chemical filter for removing the inhibitory substance are not particularly limited.

例えば、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタが吸着剤やイオン交換樹脂を有する場合、上記吸着剤やイオン交換樹脂としては特に限定されず、除去する阻害物質の種類によって適宜選択することができる。上記吸着剤やイオン交換樹脂としては、公知乃至慣用のケミカルフィルタに用いられる吸着剤(例えば、活性炭など)やイオン交換樹脂などを使用することができる。また、上記吸着剤は、無添着であってもよく、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基性物質;リン酸、硫酸、硫酸塩、硝酸、硝酸塩等の酸性物質などが添着されていてもよい。また、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタは、上記吸着剤や上記イオン交換樹脂を有するものには限定されず、例えば、イオン交換機能を有するフィルタ基材(例えば、イオン交換機能を有する不織布等)を用いたケミカルフィルタであってもよい。   For example, when the chemical filter for removing an inhibitory substance has an adsorbent or an ion exchange resin, the adsorbent or the ion exchange resin is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the kind of the inhibitor to be removed. Examples of the adsorbent and ion exchange resin include adsorbents (for example, activated carbon) and ion exchange resins that are used in known or conventional chemical filters. Further, the adsorbent may be non-added, and basic substances such as potassium hydroxide, sodium hydroxide and potassium carbonate; acidic substances such as phosphoric acid, sulfuric acid, sulfate, nitric acid and nitrate are attached. It may be. The inhibitor removing chemical filter is not limited to the one having the adsorbent or the ion exchange resin, and includes, for example, a filter base material having an ion exchange function (for example, a nonwoven fabric having an ion exchange function). The chemical filter used may be used.

上記阻害物質除去用ケミカルフィルタにおける吸着剤としては、具体的には、上記阻害物質が塩基性物質である場合は酸性物質が添着された吸着剤(特に、酸性物質が添着された活性炭)が、上記阻害物質が酸性物質である場合は塩基性物質が添着された吸着剤(特に、塩基性物質が添着された活性炭)が、上記阻害物質が有機物質である場合は無添着の吸着剤(特に、無添着の活性炭)が、上記阻害物質がシラノール化合物である場合は無添着又は酸性物質が添着された吸着剤(特に、酸性物質が添着された活性炭、無添着の活性炭)がそれぞれ好ましい。なお、上記無添着の吸着剤は、有機物質又はシラノール化合物の除去が極端に阻害されない程度に添着剤が添着されていてもよい。   As the adsorbent in the chemical filter for removing the inhibitory substance, specifically, when the inhibitory substance is a basic substance, an adsorbent to which an acidic substance is attached (particularly, activated carbon to which an acidic substance is attached) When the inhibitor is an acidic substance, an adsorbent to which a basic substance is attached (particularly, activated carbon to which a basic substance is attached) is used. In the case where the inhibitory substance is a silanol compound, adsorbents with no addition or with an acidic substance (particularly, activated carbon with an acidic substance or no addition of activated carbon) are preferred. Note that the non-adsorbing adsorbent may have an adsorbing agent added to such an extent that removal of the organic substance or silanol compound is not significantly inhibited.

上記阻害物質除去用ケミカルフィルタの構造は、特に限定されず、例えば、本発明のケミカルフィルタの構造として例示及び説明された構造が挙げられる。   The structure of the inhibitor removing chemical filter is not particularly limited, and examples thereof include those illustrated and described as the structure of the chemical filter of the present invention.

[本発明のシロキサン化合物除去設備]
本発明のシロキサン化合物除去設備は、本発明のケミカルフィルタを有する。本発明のケミカルフィルタは、ケミカルフィルタ中に水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料の表面が存在することにより、固体酸として作用する無機シリカ系多孔質材料によってシロキサン化合物が加水分解され、これが無機シリカ系多孔質材料中に多数存在するシラノール基と脱水縮合してシロキサン結合を形成され、シロキサン化合物を強固に吸着することにより、シロキサン化合物を効果的に除去できるものと推測される。なお、吸着剤として他の吸着剤を併用した場合であっても、ケミカルフィルタ内に水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料の表面が存在するため、シロキサン化合物を効果的に除去できるという効果を維持することができる。このため、本発明のケミカルフィルタを有する本発明のシロキサン化合物除去設備は、シロキサン化合物を効率的に除去することができる。
[Siloxane Compound Removal Equipment of the Present Invention]
The siloxane compound removal equipment of the present invention has the chemical filter of the present invention. In the chemical filter of the present invention, the presence of the surface of the inorganic silica-based porous material having a pH of 7 or less in the water mixture in the chemical filter allows the siloxane compound to be hydrolyzed by the inorganic silica-based porous material that acts as a solid acid. It is estimated that the siloxane compound can be effectively removed by decomposing and dehydrating and condensing with many silanol groups present in the inorganic silica porous material to form a siloxane bond and adsorbing the siloxane compound firmly. The Even when another adsorbent is used in combination as the adsorbent, the surface of the inorganic silica-based porous material having a pH of the water mixture of 7 or less exists in the chemical filter. The effect that it can be removed can be maintained. For this reason, the siloxane compound removal equipment of the present invention having the chemical filter of the present invention can efficiently remove the siloxane compound.

さらに、本発明のシロキサン化合物除去設備は、本発明のケミカルフィルタの上流に、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタを有する。本発明のケミカルフィルタは、吸着する物質によっては、シロキサン化合物除去能が低下するおそれがある。このため、本発明のシロキサン化合物除去システムは、本発明のケミカルフィルタの上流に、シロキサン化合物除去能が低下させる物質(阻害物質)を除去するケミカルフィルタを有することで、阻害物質が上記阻害物質除去用ケミカルフィルタに除去されることにより、阻害物質によって本発明のケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させず、長く維持することができる。   Furthermore, the siloxane compound removal equipment of the present invention has the inhibitor removing chemical filter upstream of the chemical filter of the present invention. In the chemical filter of the present invention, the siloxane compound removing ability may be lowered depending on the substance to be adsorbed. For this reason, the siloxane compound removal system of the present invention has a chemical filter that removes a substance (inhibitor substance) that lowers the siloxane compound removal ability upstream of the chemical filter of the present invention, so that the inhibitor substance removes the inhibitor substance. By being removed by the chemical filter for use, the inhibitor can reduce the siloxane compound removing ability of the chemical filter of the present invention and can be maintained for a long time.

本発明のシロキサン化合物除去設備は、特に限定されないが、本発明のケミカルフィルタ及び上記阻害物質除去用ケミカルフィルタ以外のケミカルフィルタ(他のケミカルフィルタ)を有していてもよい。この場合、本発明のシロキサン化合物除去設備は、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタの次に本発明のケミカルフィルタを有していてもよいし、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタと本発明のケミカルフィルタの間に上記他のケミカルフィルタを有していてもよい。   The siloxane compound removal facility of the present invention is not particularly limited, but may have a chemical filter (other chemical filter) other than the chemical filter of the present invention and the above-described inhibitor removal chemical filter. In this case, the siloxane compound removing equipment of the present invention may have the chemical filter of the present invention next to the chemical filter for removing the inhibitor, or the chemical filter for removing the inhibitor and the chemical filter of the present invention. You may have the said other chemical filter in between.

本発明のシロキサン化合物除去設備は、本発明のケミカルフィルタ及び阻害物質除去用ケミカルフィルタを、それぞれ、1つのみ有していてもよいし、2以上を有していてもよい。また、阻害物質除去用ケミカルフィルタを2以上有する場合、2以上の阻害物質除去用ケミカルフィルタは、同一の阻害物質を除去するものであってもよいし、異なる阻害物質を除去するものであってもよい。また、阻害物質除去用ケミカルフィルタを2以上有する場合、少なくとも1つの阻害物質除去用ケミカルフィルタが、本発明のケミカルフィルタの上流に位置していればよい。   The siloxane compound removal equipment of the present invention may have only one chemical filter or inhibitor removal chemical filter of the present invention, or may have two or more. Further, when two or more chemical filters for removing an inhibitory substance are included, the two or more chemical filters for removing an inhibitory substance may remove the same inhibitory substance or remove different inhibitory substances. Also good. Further, when two or more inhibitory substance removal chemical filters are provided, it is only necessary that at least one inhibitory substance removal chemical filter is located upstream of the chemical filter of the present invention.

本発明のシロキサン化合物除去設備において、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタの位置は、本発明のケミカルフィルタの上流であればよい。即ち、本発明のシロキサン化合物除去設備は、シロキサン化合物を含む流体(特に、空気)が、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタを通過した後に本発明のケミカルフィルタを通過するような構造を有していればよい。従って、本発明のシロキサン化合物除去設備において、各ケミカルフィルタ(本発明のケミカルフィルタ、阻害物質除去用ケミカルフィルタ等)は、一部又は全部が隔離して配置されていてもよいし、一部又は全部が連続して(例えば、積層して)配置されていてもよい。一部又は全部が隔離して配置されている場合、隔離の間隔は特に限定されない。一部又は全部が連続して配置されている例としては、例えば、後述の、一部又は全部のケミカルフィルタがまとめて枠入れされたケミカルフィルタ(パネル型フィルタ、セル型フィルタ、配管用ケミカルフィルタ等)などが挙げられる。一部又は全部が隔離して配置されている例としては、例えば、一部又は全部のケミカルフィルタがそれぞれで枠入れされたケミカルフィルタであり、それぞれの枠入れされたケミカルフィルタが一つの長い流路に隔離して配置されている装置などが挙げられる。また、上記阻害物質除去用ケミカルフィルタは、本発明のケミカルフィルタの直前に設置されていてもよいし、上記シロキサン化合物を含む流体(特に、空気)が通過する通路において本発明のケミカルフィルタの上流に、本発明のケミカルフィルタから離れて設置されていてもよい。   In the siloxane compound removal facility of the present invention, the position of the inhibitor removing chemical filter may be upstream of the chemical filter of the present invention. That is, the siloxane compound removal equipment of the present invention has a structure in which a fluid (particularly air) containing a siloxane compound passes through the chemical filter of the present invention after passing through the chemical filter for removing an inhibitory substance. That's fine. Therefore, in the siloxane compound removal facility of the present invention, each chemical filter (the chemical filter of the present invention, the chemical filter for removing an inhibitory substance, etc.) may be partially or entirely disposed separately, All may be arranged continuously (for example, stacked). In the case where a part or all of them are arranged separately, the separation interval is not particularly limited. As an example in which a part or the whole is continuously arranged, for example, a chemical filter (a panel type filter, a cell type filter, a chemical filter for piping, which will be described later) a part or all of the chemical filter is collectively framed. Etc.). As an example in which a part or all of the chemical filters are arranged separately, for example, a chemical filter in which some or all of the chemical filters are respectively framed, and each of the framed chemical filters has one long flow. For example, a device that is arranged on the road in isolation. The inhibitor removing chemical filter may be installed immediately before the chemical filter of the present invention, or upstream of the chemical filter of the present invention in a passage through which a fluid (particularly air) containing the siloxane compound passes. In addition, it may be installed away from the chemical filter of the present invention.

本発明のシロキサン化合物除去設備の使用方法としては、例えば、通気ファンなどの動力を用いて、阻害物質除去用ケミカルフィルタ及び本発明のケミカルフィルタをこの順に備えた装置の内部へ、除去対象の物質を含む空気を強制的に導入し、その除去対象の物質を除去する通気法の他に、阻害物質除去用ケミカルフィルタ及び本発明のケミカルフィルタをこの順に備えた装置の内部へ動力を用いて空気を導入するのではなく、自然拡散や自然対流のみの接触で除去対象の物質の除去を行う静置法が挙げられる。即ち、本発明のシロキサン化合物除去設備は、通気法あるいは静置法のいずれでも使用することができる。上記通気法を用いたシロキサン化合物除去設備としては、例えば、通気ファン(例えば、空気を取り込む装置、空気を排出する装置など)と本発明のケミカルフィルタと阻害物質除去用ケミカルフィルタとが一体なったユニット(「ファンフィルタユニット(FFU)」と称する場合がある)が挙げられる。また、上記FFUは、天井やクリーンブースに取りつけたり、ダクトの途中に設けたりすることができる。   As a method of using the siloxane compound removal equipment of the present invention, for example, using a power such as a ventilation fan, the substance to be removed is introduced into the inside of the apparatus equipped with the chemical filter for removing the inhibitor and the chemical filter of the present invention in this order. In addition to the aeration method that forcibly introduces air containing air and removes the substance to be removed, air is used to power the inside of the apparatus equipped with the chemical filter for removing the inhibitory substance and the chemical filter of the present invention in this order. Rather than introducing the method, there is a stationary method in which the substance to be removed is removed by contact only with natural diffusion or natural convection. That is, the siloxane compound removal equipment of the present invention can be used in either the ventilation method or the stationary method. As the siloxane compound removal equipment using the ventilation method, for example, a ventilation fan (for example, a device for taking in air or a device for discharging air), the chemical filter of the present invention, and the chemical filter for removing an inhibitory substance are integrated. A unit (sometimes referred to as a “fan filter unit (FFU)”). The FFU can be attached to a ceiling or a clean booth, or provided in the middle of a duct.

本発明のシロキサン化合物除去設備において、各ケミカルフィルタ(本発明のケミカルフィルタ、阻害物質除去用ケミカルフィルタ等)は、それぞれ、枠入れされた状態のケミカルフィルタ(枠入れされたケミカルフィルタ)であってもよい。また、本発明のシロキサン化合物除去設備における全てのケミカルフィルタが枠入れされたケミカルフィルタであってもよいし、一部のケミカルフィルタが枠入れされたケミカルフィルタであってもよい。また、ケミカルフィルタ毎に枠入れされていてもよいし、一部又は全部のケミカルフィルタがまとめて一つに枠入れされていてもよい。   In the siloxane compound removal equipment of the present invention, each chemical filter (the chemical filter of the present invention, the chemical filter for removing an inhibitory substance, etc.) is a chemical filter (framed chemical filter) in a framed state. Also good. Moreover, the chemical filter in which all the chemical filters in the siloxane compound removal equipment of the present invention are framed may be used, or a chemical filter in which some chemical filters are framed may be used. Further, it may be framed for each chemical filter, or a part or all of the chemical filters may be collectively framed.

上記枠入れされたケミカルフィルタは、例えば、フィルタ基材に吸着剤が付着しているケミカルフィルタ(濾材)を枠に入れて得られる。上記枠入れされたケミカルフィルタとしては、例えば、パネル型フィルタ、セル型フィルタ、配管用ケミカルフィルタなどが挙げられる。なお、上記濾材及び上記枠入れされたケミカルフィルタの両方が本明細書におけるケミカルフィルタに相当する。   The framed chemical filter is obtained, for example, by putting a chemical filter (filter medium) in which an adsorbent is attached to a filter base material. Examples of the framed chemical filter include a panel type filter, a cell type filter, a piping chemical filter, and the like. In addition, both the said filter medium and the said framed chemical filter correspond to the chemical filter in this specification.

上記パネル型フィルタとしては、例えば、額縁のように、板状の濾材の縁を枠にはめ込んだケミカルフィルタが挙げられる。上記パネル型フィルタは、一般的に、板状の濾材の厚み方向にシロキサン化合物を含む流体を通過させるように使用される。枠の形状は、特に限定されず、使用態様によって適宜選択することができる。上記枠の形状としては、例えば、多角形状(例えば、三角形状、四角形状、六角形状、額縁形状等)、円形状、楕円形状、多角形の一部又は全部の角が丸められた形状、これらの形状を組み合わせた形状などが挙げられる。また、上記板状の濾材は、1枚のみを用いてもよいし、複数の濾材を重ねたものを用いてもよい。   Examples of the panel type filter include a chemical filter in which the edge of a plate-shaped filter medium is fitted in a frame like a frame. The panel type filter is generally used so that a fluid containing a siloxane compound is allowed to pass in the thickness direction of a plate-shaped filter medium. The shape of the frame is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the usage mode. Examples of the shape of the frame include a polygonal shape (for example, a triangular shape, a quadrangular shape, a hexagonal shape, a frame shape, etc.), a circular shape, an elliptical shape, a shape in which some or all of the corners of the polygon are rounded, The shape etc. which combined these shapes are mentioned. Further, the plate-shaped filter medium may be a single sheet, or may be a stack of a plurality of filter mediums.

上記セル型フィルタとしては、例えば、六面体形状(立方体、直方体等)等のセルの内部に、シロキサン化合物を含む流体が濾材を通過するように濾材が配置されたフィルタが挙げられる。上記セル型フィルタとしては、例えば、濾材が、連続したV字型となるように一連の折り曲げ部を有し、該折り曲げ部が通気方向と対向するように配置されているケミカルフィルタが挙げられる。なお、上記セル型フィルタは、上記の各折り曲げ部が切断された状態、即ち複数の濾材がV字構造となるように、屏風状に配置したケミカルフィルタであってもよい。なお、濾材をV字構造となるように配置したセル型フィルタでは、シロキサン化合物を含む流体が、V字構造となるように配置されている濾材の厚み方向に通過するように配置されている。   Examples of the cell type filter include a filter in which a filtering medium is arranged inside a cell having a hexahedral shape (cube, rectangular parallelepiped, etc.) so that a fluid containing a siloxane compound passes through the filtering medium. Examples of the cell-type filter include a chemical filter in which the filter medium has a series of bent portions so that the filter medium has a continuous V shape, and the bent portions are arranged to face the aeration direction. The cell type filter may be a chemical filter arranged in a folding screen so that each of the bent portions is cut, that is, a plurality of filter media have a V-shaped structure. In the cell type filter in which the filter medium is arranged to have a V-shaped structure, the fluid containing the siloxane compound is arranged to pass in the thickness direction of the filter medium arranged to have the V-shaped structure.

上記配管用ケミカルフィルタとしては、例えば、筒状(例えば、円筒状、角筒状等)等の配管の内部の一部に濾材が詰められたケミカルフィルタが挙げられる。なお、濾材が詰められている部分においては、シロキサン化合物を含む流体全てが濾材を通過するように、筒状の配管の断面の全面に濾材が詰められていることが好ましい。上記配管用ケミカルフィルタは、圧力配管中に好ましく用いることができる。   Examples of the pipe chemical filter include a chemical filter in which a filter medium is packed in a part of a pipe (for example, a cylinder, a square cylinder, etc.). In the portion where the filter medium is packed, it is preferable that the filter medium is packed over the entire cross-section of the tubular pipe so that all the fluid containing the siloxane compound passes through the filter medium. The chemical filter for piping can be preferably used in pressure piping.

本発明のシロキサン化合物除去設備において、各ケミカルフィルタが隔離して配置されている場合、各ケミカルフィルタが設置されている環境は同じであってもよいし、それぞれで異なっていてもよい。   In the siloxane compound removal equipment of the present invention, when each chemical filter is disposed separately, the environment in which each chemical filter is installed may be the same or different.

(本発明のシロキサン化合物除去設備の使用環境)
本発明のシロキサン化合物除去設備は、ケミカルフィルタが使用できる様々な環境において使用することができる。例えば、本発明のケミカルフィルタは、活性炭が使用できない高温環境下や、様々な濃度環境下、湿度環境下等の環境下でも使用することができるため、本発明のシロキサン化合物除去設備における本発明のケミカルフィルタはこれらの環境下でも使用することができる。
(Usage environment of the siloxane compound removal equipment of the present invention)
The siloxane compound removal equipment of the present invention can be used in various environments where chemical filters can be used. For example, the chemical filter of the present invention can be used in a high-temperature environment where activated carbon cannot be used, or in an environment such as various concentration environments and humidity environments. The chemical filter can be used in these environments.

本発明のケミカルフィルタは、幅広い温度環境下(例えば、0〜500℃の環境下)で使用できる。吸着剤として活性炭を用いたケミカルフィルタは、高温環境下では活性炭が徐々に酸化することにより、賦活が進行し細孔が広がることで、除去性能が低下するため、使用することができない。また、樹脂等の有機物を用いた吸着剤は、高温環境下では樹脂の溶融や発火が起こったり、40℃を超える環境下では劣化が進行するため、高温環境下で使用することができない。これに対し、本発明のシロキサン化合物除去設備における本発明のケミカルフィルタは、吸着剤として活性炭を用いることを必須としないため、高温環境下を含む広い温度環境下で使用することができる。本発明のシロキサン化合物除去設備における本発明のケミカルフィルタが使用される環境の温度は、特に限定されないが、10〜300℃が好ましく、より好ましくは15〜100℃、さらに好ましくは15〜50℃である。   The chemical filter of the present invention can be used in a wide temperature environment (for example, an environment of 0 to 500 ° C.). A chemical filter using activated carbon as an adsorbent cannot be used because the activated carbon gradually oxidizes in a high-temperature environment, the activation progresses and the pores widen, and the removal performance decreases. In addition, an adsorbent using an organic substance such as a resin cannot be used in a high temperature environment because the resin melts or ignites in a high temperature environment or progresses in an environment exceeding 40 ° C. On the other hand, since the chemical filter of the present invention in the siloxane compound removal facility of the present invention does not necessarily use activated carbon as an adsorbent, it can be used in a wide temperature environment including a high temperature environment. Although the temperature of the environment where the chemical filter of this invention is used in the siloxane compound removal equipment of this invention is not specifically limited, 10-300 degreeC is preferable, More preferably, it is 15-100 degreeC, More preferably, it is 15-50 degreeC. is there.

さらに、吸着剤として活性炭を用いたケミカルフィルタは、物理吸着によりシロキサン化合物を除去することにより、高温環境下では、シロキサン化合物の分子運動が活発化するためと推測されるが、シロキサン化合物の除去効率が低下する傾向がある。これに対し、本発明の吸着剤は、主に化学吸着のように強固な結合でシロキサン化合物を除去すると考えられるため、高温環境下であっても効率的にシロキサン化合物を除去することができる。   In addition, chemical filters using activated carbon as an adsorbent are thought to activate the molecular motion of the siloxane compound in a high-temperature environment by removing the siloxane compound by physical adsorption. Tends to decrease. On the other hand, since the adsorbent of the present invention is considered to remove the siloxane compound with a strong bond mainly as in chemical adsorption, the siloxane compound can be efficiently removed even in a high temperature environment.

本発明のケミカルフィルタは、結露しない範囲内で幅広い湿度環境下(例えば、相対湿度0〜99%RHの環境下)で使用できる。このため、本発明のシロキサン化合物除去設備において本発明のケミカルフィルタは、ドライエア中やN2ガス等の不活性ガスによるパージガス中のシロキサン化合物も効率的に除去することができる。本発明のシロキサン化合物除去設備において本発明のケミカルフィルタが使用される相対湿度は、特に限定されないが、0〜95%RHが好ましく、より好ましくは0〜60%RH、さらに好ましくは0〜40%RHである。 The chemical filter of the present invention can be used in a wide range of humidity environments (for example, in an environment with a relative humidity of 0 to 99% RH) as long as no condensation occurs. For this reason, in the siloxane compound removal equipment of the present invention, the chemical filter of the present invention can also efficiently remove siloxane compounds in dry air or purge gas with an inert gas such as N 2 gas. The relative humidity at which the chemical filter of the present invention is used in the siloxane compound removal equipment of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0 to 95% RH, more preferably 0 to 60% RH, and still more preferably 0 to 40%. RH.

また、水混合物のpHが7以下の無機シリカ系多孔質材料としてpHが7以下のゼオライトを用いる場合、当該ゼオライト中の水素イオン量が多くその他の陽イオン量が比較的少なくなっており、ゼオライトの疎水性が比較的高いため、高湿度環境下であっても流体中の水分を吸着しにくく、湿度に対する影響を受けにくい。このため、高湿環境下であっても効率的にシロキサン化合物を除去することができる。   When a zeolite having a pH of 7 or less is used as the inorganic silica-based porous material having a pH of 7 or less in the water mixture, the amount of hydrogen ions in the zeolite is large and the amount of other cations is relatively small. Because of its relatively high hydrophobicity, it is difficult to adsorb moisture in the fluid even in a high humidity environment, and is less susceptible to humidity. For this reason, the siloxane compound can be efficiently removed even in a high humidity environment.

本発明のケミカルフィルタは、幅広い圧力環境下(例えば、10-11〜100MPaの環境下)で使用できる。吸着剤として活性炭を用いたケミカルフィルタは、高圧環境下では、除去対象物質の濃度が高くなるため除去効率が高くなるが、常圧に戻した際に、圧力により過剰に付着していた物質が脱離する傾向がある。これに対し、本発明のケミカルフィルタは、シロキサン化合物を強固に吸着して除去するため、高圧環境下で使用した後常圧に戻した際にも脱離することがない。このため、本発明のシロキサン化合物除去設備において本発明のケミカルフィルタは、高圧環境下を含む広い圧力環境下で使用することができる。本発明のケミカルフィルタが使用される環境の圧力は、特に限定されないが、10-7〜1MPaが好ましく、より好ましくは10-4〜1MPa、さらに好ましくは0.05〜1MPaである。このため、本発明のシロキサン化合物除去設備において本発明のケミカルフィルタは、圧力配管内でも好ましく使用できる。なお、一つの圧力配管内に、本発明のケミカルフィルタ及び阻害物質除去用ケミカルフィルタを有していてもよい。 The chemical filter of the present invention can be used under a wide pressure environment (for example, an environment of 10 −11 to 100 MPa). The chemical filter using activated carbon as the adsorbent increases the removal efficiency because the concentration of the substance to be removed increases under a high-pressure environment. There is a tendency to detach. On the other hand, the chemical filter of the present invention strongly adsorbs and removes the siloxane compound, and therefore does not desorb when used under a high pressure environment and then returned to normal pressure. For this reason, the chemical filter of the present invention can be used in a wide pressure environment including a high pressure environment in the siloxane compound removal facility of the present invention. Although the pressure of the environment where the chemical filter of this invention is used is not specifically limited, 10 < -7 > -1MPa is preferable, More preferably, it is 10 < -4 > -1MPa, More preferably, it is 0.05-1MPa. For this reason, the chemical filter of this invention can be preferably used also in pressure piping in the siloxane compound removal equipment of this invention. In addition, you may have the chemical filter of this invention and the chemical filter for inhibitory substance removal in one pressure piping.

本発明のケミカルフィルタは、幅広い範囲のシロキサン化合物の濃度環境下(例えば、0.001ppb〜10ppm)でも好ましく使用することができる。また、本発明のケミカルフィルタは、流体中のシロキサン化合物の濃度が極めて低い環境下(例えば、1桁ppb以下)でもシロキサン化合物を高効率に除去することができる。特に、本発明のシロキサン化合物除去設備(特に、本発明のケミカルフィルタ)は、流体中(特に、空気中)のシロキサン化合物の濃度が100ppb以下(好ましくは、50ppb以下、より好ましくは10ppb以下)の極めて低濃度の環境下で好ましく使用することができる。なお、特に限定されないが、上記流体中のシロキサン化合物の濃度は、0.001ppb以上であることが好ましい。   The chemical filter of the present invention can be preferably used even in a wide range of siloxane compound concentration environments (for example, 0.001 ppb to 10 ppm). In addition, the chemical filter of the present invention can remove the siloxane compound with high efficiency even in an environment where the concentration of the siloxane compound in the fluid is extremely low (for example, 1 digit ppb or less). In particular, the siloxane compound removal equipment of the present invention (particularly the chemical filter of the present invention) has a concentration of the siloxane compound in the fluid (particularly in the air) of 100 ppb or less (preferably 50 ppb or less, more preferably 10 ppb or less). It can be preferably used in an extremely low concentration environment. Although not particularly limited, the concentration of the siloxane compound in the fluid is preferably 0.001 ppb or more.

なお、本発明のシロキサン化合物除去設備(特に、本発明のケミカルフィルタ)を流体中のシロキサン化合物の濃度が極めて低い環境下で使用する場合、当該環境の温度は、特に限定されないが、0〜500℃が好ましく、より好ましくは15〜50℃である。   In addition, when using the siloxane compound removal equipment of the present invention (particularly, the chemical filter of the present invention) in an environment where the concentration of the siloxane compound in the fluid is extremely low, the temperature of the environment is not particularly limited, but is 0 to 500. ° C is preferred, more preferably 15 to 50 ° C.

本発明のケミカルフィルタは、様々な風速の環境下(例えば、ろ過風速が0〜5m/s)で使用できる。特に、高風速環境下(例えば、ろ過風速が1〜5m/sの環境下)でも使用できる。吸着剤として活性炭を用いたケミカルフィルタは、通過する空気の風速が速いほど除去効率が低下する傾向がある。これに対し、本発明のケミカルフィルタは、高風速環境下であってもシロキサン化合物を効率的に除去することができる。本発明のシロキサン化合物除去設備において本発明のケミカルフィルタが使用される環境の風速は、特に限定されないが、ろ過風速が0〜5m/sが好ましく、より好ましくはろ過風速が0〜3m/s、さらに好ましくはろ過風速が0〜1m/sである。   The chemical filter of the present invention can be used under various wind speed environments (for example, the filtration wind speed is 0 to 5 m / s). In particular, it can be used even in a high wind speed environment (for example, in an environment where the filtration wind speed is 1 to 5 m / s). A chemical filter using activated carbon as an adsorbent tends to have lower removal efficiency as the wind speed of the passing air is higher. On the other hand, the chemical filter of the present invention can efficiently remove the siloxane compound even under a high wind speed environment. Although the wind speed of the environment in which the chemical filter of the present invention is used in the siloxane compound removal facility of the present invention is not particularly limited, the filtration wind speed is preferably 0 to 5 m / s, more preferably the filtration wind speed is 0 to 3 m / s, More preferably, the filtration wind speed is 0 to 1 m / s.

また、本発明のシロキサン化合物除去設備(特に、本発明のケミカルフィルタ)は、シロキサン化合物以外のガスの含有量が低い環境下(低ガス環境下)、空気の濃度が薄い環境下(例えば、真空環境下)であっても使用することができる。また、本発明のケミカルフィルタは吸着剤として活性炭を用いることを必須としないため、本発明のシロキサン化合物除去設備において本発明のケミカルフィルタは、難燃性が求められる環境下において好ましく使用することができる。   Moreover, the siloxane compound removal equipment of the present invention (particularly, the chemical filter of the present invention) is used in an environment where the content of gas other than the siloxane compound is low (low gas environment) and in an environment where the concentration of air is low (for example, vacuum It can be used even in the environment). In addition, since the chemical filter of the present invention does not necessarily use activated carbon as an adsorbent, the chemical filter of the present invention is preferably used in an environment where flame retardancy is required in the siloxane compound removal facility of the present invention. it can.

本発明のシロキサン化合物除去設備は、シロキサン化合物を除去するための設備である。上記シロキサン化合物は、分子内にSi−O−Si骨格を少なくとも有する化合物である。シロキサン化合物としては、例えば、環状シロキサン化合物(例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等のD3〜D20の環状シロキサン化合物等)、直鎖状シロキサン化合物(例えば、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン等のケイ素原子数が2〜20の直鎖状シロキサン化合物等)、分岐鎖状シロキサン化合物などが挙げられる。中でも、環状シロキサン化合物、直鎖状シロキサン化合物が好ましい。また、シロキサン化合物は、揮発性を有するものが好ましい。   The siloxane compound removal equipment of the present invention is equipment for removing a siloxane compound. The siloxane compound is a compound having at least a Si—O—Si skeleton in the molecule. Examples of the siloxane compound include cyclic siloxane compounds (for example, D3-D20 cyclic siloxane compounds such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, etc.), linear siloxane compounds (for example, Straight chain siloxane compounds having 2 to 20 silicon atoms such as hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, decamethyltetrasiloxane, etc.), branched siloxane compounds, and the like. Among these, a cyclic siloxane compound and a linear siloxane compound are preferable. The siloxane compound is preferably volatile.

[流体浄化方法]
さらに、本発明のシロキサン化合物除去設備を用いて流体中のシロキサン化合物を除去することによって、流体を浄化することができる。このように、本発明のシロキサン化合物除去設備を用いて流体中のシロキサン化合物を除去して流体を浄化する方法を、「本発明の流体浄化方法」と称する場合がある。このため、本発明のシロキサン化合物除去設備は、流体中(例えば、空気中)のシロキサン化合物を除去するため適宜な場所で設置できる。例えば、本発明のシロキサン化合物除去設備は、一般家庭、クリーンルーム内等の建物内の設備、磁気ディスク記憶装置内部の設備(例えば、HDD内部の設備)、建築現場の設備、下水処理場の設備、埋め立て地の設備など、シロキサン化合物の除去が求められている用途として、特に好ましく用いることができる。クリーンルーム内の設備としては、特に、露光装置の内部設備、塗布現像装置の内部設備、半導体チップの切削加工工程周辺の設備、液晶ディスプレイの製造工程周辺の設備等の半導体製造工程周辺の設備が好ましい。
[Fluid purification method]
Furthermore, the fluid can be purified by removing the siloxane compound in the fluid using the siloxane compound removal equipment of the present invention. As described above, the method for removing the siloxane compound in the fluid using the siloxane compound removing equipment of the present invention and purifying the fluid may be referred to as “the fluid purification method of the present invention”. For this reason, the siloxane compound removal equipment of the present invention can be installed at an appropriate place in order to remove the siloxane compound in the fluid (for example, in the air). For example, the siloxane compound removal equipment of the present invention includes equipment in buildings such as ordinary households and clean rooms, equipment in magnetic disk storage devices (for example, equipment in HDDs), equipment in construction sites, equipment in sewage treatment plants, It can be particularly preferably used as an application where removal of the siloxane compound is required, such as a facility in a landfill. As equipment in the clean room, equipment around the semiconductor manufacturing process, such as equipment inside the exposure apparatus, equipment inside the coating and developing apparatus, equipment around the semiconductor chip cutting process, equipment around the liquid crystal display manufacturing process, etc. are particularly preferable. .

上記クリーンルーム(例えば、ガス状汚染物質が制御されたクリーンルーム、特に、半導体の製造工場のクリーンルームなど)では、シロキサン化合物等の様々なガス状有機化合物が存在している。シロキサン化合物は、半導体のシリコンウエハ表面や液晶ガラス基板表面に吸着し、これら製品に不具合を生じさせることがある。また、上記下水処理場において、消化槽から発生する消化ガスには、シャンプーや化粧品に含まれるシリコーンオイルに起因する微量のシロキサン化合物が含まれている。さらに、上記埋め立て地においては、埋め立てに使用する泥(活性汚泥など)中のバイオガスに含まれるシロキサン化合物やシラノール化合物が問題となることがあった。従って、本発明のシロキサン化合物除去設備は、このような用途の流体(特に、空気)浄化に特に好ましく使用することができる。   In the clean room (for example, a clean room in which gaseous pollutants are controlled, particularly a clean room in a semiconductor manufacturing factory), various gaseous organic compounds such as siloxane compounds exist. Siloxane compounds may be adsorbed on the surface of a semiconductor silicon wafer or the surface of a liquid crystal glass substrate, causing problems in these products. In the above sewage treatment plant, the digestion gas generated from the digester contains a trace amount of siloxane compounds resulting from silicone oil contained in shampoos and cosmetics. Furthermore, in the above landfill, siloxane compounds and silanol compounds contained in biogas in mud (active sludge and the like) used for landfill may be problematic. Therefore, the siloxane compound removal equipment of the present invention can be particularly preferably used for fluid (particularly air) purification for such applications.

また、ガスセンサ、反応触媒等のシロキサン化合物による被毒の回避が求められる用途にも好ましく使用することができる。その他にも、各種分析装置の周辺、ガス供給ライン、細胞再生加工が行われる周辺、微細孔加工が行われる周辺、原子力プラント等にも用いることができる。また、シロキサン化合物は、燃料電池の起電力を低下させるおそれがあるため、燃料電池の製造工程等でも好ましく用いることができる。さらに、シロキサン化合物は、ガスタービン、ボイラーのバーナーや、熱交換器等に堆積して効率を低下させたり、不調や故障の発生要因となるおそれがあるため、このような場所で用いることもできる。   Moreover, it can be preferably used also for applications that require avoidance of poisoning by siloxane compounds such as gas sensors and reaction catalysts. In addition, it can also be used in the vicinity of various analyzers, gas supply lines, the periphery where cell regeneration processing is performed, the periphery where micropore processing is performed, a nuclear power plant, and the like. In addition, since the siloxane compound may reduce the electromotive force of the fuel cell, it can be preferably used in the manufacturing process of the fuel cell. Furthermore, siloxane compounds can accumulate in gas turbines, boiler burners, heat exchangers, etc., reducing efficiency and causing malfunctions and failures, so they can also be used in such locations. .

本発明のシロキサン化合物除去設備が、シロキサン化合物を選択的に除去可能な場合(例えば、阻害物質除去用ケミカルフィルタが、ガスセンサが検知すべきガスを除去しない場合)、本発明のシロキサン化合物除去設備は、上記の中でも、ガスセンサ用途に用いることが特に好ましい。一般家庭などでは、プロパンやブタンを検知するためのセンサ(検知器)として、ガスセンサが用いられている。このようなガスセンサは、検知部の表面にシロキサン化合物が付着するとセンサの感度が低下し、検知能力に影響を及ぼすことが知られている。シロキサン化合物からセンサを保護するために、ガスセンサには、シロキサン化合物を吸着するためのフィルタが取りつけられている。上記フィルタには、一般的に、吸着剤として活性炭が用いられているが、このような吸着剤を用いたフィルタは、プロパンやブタンなどのガスセンサで検知する必要があるガスまでも吸着してしまうため、ガスセンサが作動しにくい場合がある。これに対し、本発明のシロキサン化合物除去設備における本発明のケミカルフィルタは、シロキサン化合物を選択的に高効率で除去することができる。このため、本発明のシロキサン化合物除去設備は、ガスセンサ用途(好ましくは、ガスセンサ内の検知器の上流側に設置する用途)として用いられることが特に好ましい。   When the siloxane compound removal equipment of the present invention can selectively remove the siloxane compound (for example, when the chemical filter for removing the inhibitor does not remove the gas to be detected by the gas sensor), the siloxane compound removal equipment of the present invention Of these, the use for gas sensor is particularly preferable. In general households, gas sensors are used as sensors (detectors) for detecting propane and butane. In such a gas sensor, it is known that when a siloxane compound adheres to the surface of the detection unit, the sensitivity of the sensor is lowered and the detection capability is affected. In order to protect the sensor from the siloxane compound, a filter for adsorbing the siloxane compound is attached to the gas sensor. In general, activated carbon is used as an adsorbent in the filter. However, a filter using such an adsorbent adsorbs even a gas that needs to be detected by a gas sensor such as propane or butane. Therefore, the gas sensor may be difficult to operate. On the other hand, the chemical filter of the present invention in the siloxane compound removal facility of the present invention can selectively remove the siloxane compound with high efficiency. For this reason, it is especially preferable that the siloxane compound removal equipment of the present invention is used as a gas sensor application (preferably an application installed on the upstream side of the detector in the gas sensor).

本発明のシロキサン化合物除去設備がガスセンサ用途の設備である場合、本発明のシロキサン化合物除去設備は、ガスセンサを使用することができる場所、例えば、一般家庭、食堂、調理場など、プロパン、ブタンなどの炭化水素ガスが存在する可能性のある場所で使用することができる。本発明のシロキサン化合物除去設備は、さらに具体的には、ガスセンサのガス検知部の直前に設けて使用することが好ましい。その他に、ガスセンサが設置されている空間内に本発明のシロキサン化合物除去設備を設置し、自然拡散や自然対流のみの接触で除去対象のシロキサン化合物の除去を行う静置法が挙げられる。   When the siloxane compound removal facility of the present invention is a facility for gas sensor application, the siloxane compound removal facility of the present invention can be used in places where gas sensors can be used, such as ordinary households, canteens, kitchens, propane, butane, etc. It can be used where hydrocarbon gas may be present. More specifically, it is preferable that the siloxane compound removal equipment of the present invention is provided and used immediately before the gas detection part of the gas sensor. In addition, there is a stationary method in which the siloxane compound removal equipment of the present invention is installed in the space where the gas sensor is installed, and the siloxane compound to be removed is removed by contact with only natural diffusion or natural convection.

[ガスセンサ]
本発明のシロキサン化合物除去設備は、ガスセンサの内部に用いることで、ガスセンサとすることができる。本発明のシロキサン化合物除去設備を備えたガスセンサを、「本発明のガスセンサ」と称する場合がある。本発明のガスセンサは、内部に本発明のケミカルフィルタを有する本発明のシロキサン化合物除去設備を備えている。特に、本発明のガスセンサにおいて、本発明のシロキサン化合物除去設備は、ガス検知部の直前に備えられていることが好ましい。本発明のガスセンサによれば、本発明のシロキサン化合物除去設備中の内部ケミカルフィルタとして、水混合物のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いた本発明のケミカルフィルタが用いられているため、活性炭を吸着剤とする従来のガスセンサ用ケミカルフィルタを用いたガスセンサと比較して、空気中のシロキサン化合物を効率よく除去できる。特に、シロキサン化合物の除去効率は短時間で低下することはなく、活性炭のようにシロキサン化合物を脱離することがない。このため、空気中のシロキサン化合物に起因するガスセンサのガス検知機能の低下を顕著に抑制できる。また、プロパン、ブタン等の炭化水素ガスの吸着性が低く、ガスセンサの作動を妨げない。さらに、シロキサン化合物が吸着剤から脱離してガスセンサ内のセンサの感度を低下させることが無いため、空気中のシロキサン化合物に起因するセンサの故障を顕著に抑制できる。
[Gas sensor]
The siloxane compound removal equipment of the present invention can be used as a gas sensor by being used inside the gas sensor. The gas sensor provided with the siloxane compound removal equipment of the present invention may be referred to as “the gas sensor of the present invention”. The gas sensor of the present invention includes the siloxane compound removal facility of the present invention having the chemical filter of the present invention inside. In particular, in the gas sensor of the present invention, the siloxane compound removal equipment of the present invention is preferably provided immediately before the gas detection unit. According to the gas sensor of the present invention, as the internal chemical filter in the siloxane compound removal equipment of the present invention, the chemical filter of the present invention using an inorganic silica-based porous material whose pH of the water mixture is 7 or less as an adsorbent is used. Therefore, the siloxane compound in the air can be efficiently removed as compared with a gas sensor using a conventional chemical filter for gas sensor using activated carbon as an adsorbent. In particular, the removal efficiency of the siloxane compound does not decrease in a short time, and the siloxane compound is not desorbed like activated carbon. For this reason, the fall of the gas detection function of the gas sensor resulting from the siloxane compound in air can be suppressed notably. In addition, the adsorptivity of hydrocarbon gas such as propane and butane is low and does not hinder the operation of the gas sensor. Furthermore, since the siloxane compound is not desorbed from the adsorbent and the sensitivity of the sensor in the gas sensor is not lowered, sensor failure due to the siloxane compound in the air can be remarkably suppressed.

以下に、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は、それらに何ら制限されるものではない。なお、「ppb」は、特に断りのない限り、重量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to them. “Ppb” is based on weight unless otherwise specified.

なお、以下の実施例1〜5で使用したVOCには、試験サンプルのシロキサン化合物除去能を低下させる阻害物質は含まれていない。即ち、以下の実施例1〜5は、シロキサン化合物除去用ケミカルフィルタの上流に、阻害物質除去用ケミカルフィルタが設けられている場合を想定したものである。   In addition, the VOC used in the following Examples 1 to 5 does not contain an inhibitor that reduces the ability of the test sample to remove the siloxane compound. That is, Examples 1 to 5 below are based on the assumption that an inhibitor removal chemical filter is provided upstream of the siloxane compound removal chemical filter.

実施例1
図1に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。実施例1では、2本のアクリル製の円筒状の試験カラム(内径50mm、長さ30cm)1を直列につないだものを6系列並列に配置し、カラムの上流側にガス供給用のチューブ2を取り付け、カラムの下流側に、流量計3、流量調整バルブ4、ポンプ5をこの順に取り付けた。直列につないだ2本のカラムの間に不織布6を挟み、不織布6上に試験サンプル(吸着剤)7を5mm厚で敷き、試験サンプルのろ過風速が5cm/sとなるように流量を調整したエアを流した。カラムに流すエアは、恒温恒湿槽を用いて温度23℃、湿度50%に調整した空気に、オクタメチルシクロテトラシロキサン(D4)200ppbを混ぜて使用した。上記通気試験装置の概略断面図(1系列分)を図2に示す。
試験サンプル(吸着剤)として、表1に示す水混合物(含有割合:5wt%)のpHが異なる複数のゼオライト、並びに、表2に示す水混合物(含有割合:5wt%)のpHが異なる複数のシリカゲル、酸性白土、活性白土及び珪藻土を用いた。試験サンプル6つごとに除去効率の測定を行い、測定を行う6つの試験サンプルをそれぞれ、6系列並列に配置したそれぞれのカラム1に用いた。なお、天然ゼオライトBは、天然ゼオライトAのクエン酸処理物である。
通気試験開始後3日目に、カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をATD(加熱脱着装置)−GC/MSによるガス分析に付し、D4のガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のD4のガス濃度からD4の除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの水混合物のpHと除去効率の関係のグラフを作成した。
除去効率(%)={(上流側のガス濃度−下流側のガス濃度)/上流側のガス濃度}×100
結果を表1、表2、図3(ゼオライト)、及び図4(シリカゲル、酸性白土、活性白土、珪藻土)に示す。図4中、四角印(□)はシリカゲルのデータ、三角印(△)は酸性白土のデータ、丸印(○)は活性白土のデータ、バツ印(×)珪藻土のデータをそれぞれ示す。グラフの横軸は試験サンプルの水混合物のpH、縦軸は除去効率(%)である。
Example 1
The gas removal efficiency of the adsorbent was measured using an aeration test apparatus as shown in FIG. In Example 1, two series of acrylic cylindrical test columns (inner diameter: 50 mm, length: 30 cm) 1 connected in series are arranged in parallel in six lines, and a gas supply tube 2 is arranged upstream of the column. The flow meter 3, the flow rate adjusting valve 4, and the pump 5 were attached in this order on the downstream side of the column. The nonwoven fabric 6 was sandwiched between two columns connected in series, a test sample (adsorbent) 7 was laid on the nonwoven fabric 6 with a thickness of 5 mm, and the flow rate was adjusted so that the filtration wind speed of the test sample was 5 cm / s. Air was blown. The air flowing through the column was mixed with 200 ppb of octamethylcyclotetrasiloxane (D4) in air adjusted to a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% using a constant temperature and humidity chamber. A schematic cross-sectional view (for one series) of the aeration test apparatus is shown in FIG.
As a test sample (adsorbent), a plurality of zeolites having different pHs in the water mixture (content ratio: 5 wt%) shown in Table 1, and a plurality of water mixtures (content ratio: 5 wt%) shown in Table 2 having different pH values. Silica gel, acid clay, activated clay and diatomaceous earth were used. The removal efficiency was measured for every six test samples, and each of the six test samples to be measured was used for each column 1 arranged in parallel in six series. Natural zeolite B is a citric acid-treated product of natural zeolite A.
On the third day after the start of the aeration test, air on the upstream and downstream sides of the column is collected by an adsorption tube, and the adsorption tube that collects the air is subjected to gas analysis by ATD (heat desorption device) -GC / MS. The gas concentration of D4 was measured. The removal efficiency of D4 was calculated from the measured D4 gas concentration on the upstream side and downstream side of the column by the following formula, and a graph of the relationship between the pH of the water mixture of the test sample and the removal efficiency was created.
Removal efficiency (%) = {(Upstream gas concentration−Downstream gas concentration) / Upstream gas concentration} × 100
The results are shown in Table 1, Table 2, FIG. 3 (zeolite), and FIG. 4 (silica gel, acid clay, activated clay, diatomaceous earth). In FIG. 4, square marks (□) indicate silica gel data, triangle marks (Δ) indicate acid clay data, circle marks (◯) indicate active clay data, and cross marks (×) diatomaceous earth data. The horizontal axis of the graph is the pH of the water mixture of the test sample, and the vertical axis is the removal efficiency (%).

Figure 2017064602
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Figure 2017064602
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表1、表2、図3、及び図4に示されるように、水混合物のpHが7以下のゼオライト、シリカゲル、活性白土、珪藻土等の無機シリカ系多孔質材料は、水混合物のpHが7を超える無機シリカ系多孔質材料に比べて、D4の除去効率が著しく大きい。   As shown in Table 1, Table 2, FIG. 3, and FIG. 4, inorganic silica-based porous materials such as zeolite, silica gel, activated clay, diatomaceous earth and the like whose water mixture has a pH of 7 or less have a pH of the water mixture of 7 The removal efficiency of D4 is remarkably large as compared with an inorganic silica-based porous material exceeding 50.

比較例1
試験サンプル(吸着剤)として、酸性イオン交換樹脂(スルホン酸基含有)を使用したこと以外は実施例1と同様にして、図1に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。
通気試験開始後3日目に、カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をATD(加熱脱着装置)−GC/MSによるガス分析に付し、D4のガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のD4のガス濃度からD4の除去効率を下記式で算出した。
除去効率(%)={(上流側のガス濃度−下流側のガス濃度)/上流側のガス濃度}×100
その結果、酸性イオン交換樹脂を用いた場合のD4の除去効率は0%であった。
Comparative Example 1
As in the case of Example 1 except that an acidic ion exchange resin (containing a sulfonic acid group) was used as a test sample (adsorbent), gas removal of the adsorbent was performed using a ventilation test apparatus as shown in FIG. Efficiency was measured.
On the third day after the start of the aeration test, air on the upstream and downstream sides of the column is collected by an adsorption tube, and the adsorption tube that collects the air is subjected to gas analysis by ATD (heat desorption device) -GC / MS. The gas concentration of D4 was measured. The removal efficiency of D4 was calculated by the following formula from the measured D4 gas concentration on the upstream side and downstream side of the column.
Removal efficiency (%) = {(Upstream gas concentration−Downstream gas concentration) / Upstream gas concentration} × 100
As a result, the removal efficiency of D4 when using an acidic ion exchange resin was 0%.

実施例2
実施例1の通気試験の終了後の一部の試験サンプルについて、アセトンによる抽出試験を行った。上記の一部の試験サンプルを30mlのアセトン溶媒に入れ、2時間振とうした。その後、上澄み液をGC−FID分析に付した。D4のGC−FIDで測定した面積値を表3に示した。なお、比較対象として、ヤシ殻活性炭(フタムラ化学(株)製、商品名「太閤CB」、水混合物のpH:10.17)、及び酸添着活性炭(上記ヤシ殻活性炭に硫酸水素カリウムを添着したもの、添着剤の活性炭に対する添着量:6重量%、水混合物のpH:2.61)、薬品賦活活性炭(フタムラ化学(株)製、商品名「太閤S」、水混合物のpH:4.48)を吸着剤として、実施例1と同様の通気試験を行った後、上記試験サンプルと同様にD4のGC−FIDで測定した面積値を表3に示した。なお、表3に示す面積値は、ヤシ殻活性炭の面積値を100(体積換算)とした場合の数値である。
Example 2
An extraction test with acetone was performed on some test samples after the completion of the aeration test of Example 1. Some of the above test samples were placed in 30 ml acetone solvent and shaken for 2 hours. Thereafter, the supernatant was subjected to GC-FID analysis. Table 3 shows area values measured by GC-FID of D4. For comparison, coconut shell activated carbon (manufactured by Phutamura Chemical Co., Ltd., trade name “Taiko CB”, pH of water mixture: 10.17), and acid impregnated activated carbon (potassium hydrogen sulfate was impregnated with the coconut shell activated carbon). The amount of the additive added to the activated carbon is 6% by weight, the pH of the water mixture is 2.61, and the chemical activated carbon (Futamura Chemical Co., Ltd., trade name “Dazai S”). The pH of the water mixture is 4.48. ) Was used as an adsorbent, and the same air permeability test as in Example 1 was performed. Then, the area values measured by GC-FID of D4 are shown in Table 3 in the same manner as the above test sample. In addition, the area value shown in Table 3 is a numerical value when the area value of the coconut shell activated carbon is 100 (volume conversion).

Figure 2017064602
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表3に示されるように、ヤシ殻活性炭、酸添着活性炭、薬品賦活活性炭の場合は、吸着されたD4はアセトン抽出により脱離するが、水混合物のpHが7以下のゼオライト、シリカゲル、活性白土、珪藻土等の無機シリカ系多孔質材料の場合は、吸着されたD4はアセトン抽出によって脱離しない。このことから、D4は水混合物のpHが7以下の無機多孔質シリカ系材料に、活性炭と比較して極めて強い力で吸着していることが分かる。   As shown in Table 3, in the case of coconut shell activated carbon, acid-impregnated activated carbon, and chemical activated activated carbon, adsorbed D4 is desorbed by acetone extraction, but the water mixture has a pH of 7 or less, zeolite, silica gel, activated clay. In the case of an inorganic silica-based porous material such as diatomaceous earth, the adsorbed D4 is not desorbed by acetone extraction. From this, it can be seen that D4 is adsorbed to an inorganic porous silica-based material whose pH of the water mixture is 7 or less with an extremely strong force as compared with activated carbon.

実施例3
実施例1の通気試験の終了後の一部の試験サンプル(合成ゼオライトD、合成ゼオライトI、シリカゲルB、活性白土A、及び珪藻土A)それぞれについて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ分析を行った。上記試験サンプル0.5gと、テトラヒドロフラン(THF)1gとを混合して溶出処理し、濾別した後、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより分子量を測定した。すなわち、分子量測定装置(CO−8020 UV−8020 RI−9202 DP−8020、東ソー(株)製)に、充填剤入りカラム(showdex KE−806M 804 802、昭和電工(株)製)を装着し、溶出液としTHF(安定剤無添加のTHF、和光純薬(株)製)を用い、カラム温度40℃で1.0mL/分で測定した。その結果、重量平均分子量が数百のピークは検出されたが、それより大きな、重量平均分子量が数十万のものは検出されなかった。
この結果から、本発明の吸着剤は、特許文献2及び5に記載の発明のようにシロキサン化合物を重合して吸着しているのではなく、無機シリカ系多孔質材料とシロキサン化合物を直接反応させて除去していることが分かる。
Example 3
Gel permeation chromatography analysis was performed on each of some test samples (synthetic zeolite D, synthetic zeolite I, silica gel B, activated clay A, and diatomaceous earth A) after completion of the aeration test of Example 1. 0.5 g of the above test sample and 1 g of tetrahydrofuran (THF) were mixed and eluted, filtered, and the molecular weight was measured by gel permeation chromatography. That is, a molecular weight measuring device (CO-8020 UV-8020 RI-9202 DP-8020, manufactured by Tosoh Corporation) is equipped with a column with a filler (showdex KE-806M 804 802, Showa Denko Corporation), The eluent was THF (THF without a stabilizer, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and measurement was performed at a column temperature of 40 ° C. at 1.0 mL / min. As a result, a peak having a weight average molecular weight of several hundreds was detected, but a larger peak having a weight average molecular weight of several hundred thousand was not detected.
From this result, the adsorbent of the present invention does not polymerize and adsorb the siloxane compound as in the inventions described in Patent Documents 2 and 5, but directly reacts the inorganic silica porous material with the siloxane compound. You can see that it has been removed.

実施例4
カラムに流すエアとして、恒温恒湿槽を用いて温度23℃、湿度50%に調整した空気に、デカメチルテトラシロキサン60ppbを混ぜたものを使用したこと以外は実施例1と同様にして、図1に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。なお、試験サンプル(吸着剤)として、表4に示す水混合物(含有割合:5wt%)のpHが異なる複数のゼオライト及び珪藻土を用いた。
通気試験開始後3日目に、カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をATD(加熱脱着装置)−GC/MSによるガス分析に付し、デカメチルテトラシロキサンのガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のデカメチルテトラシロキサンのガス濃度からデカメチルテトラシロキサンの除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの水混合物のpHと除去効率の関係のグラフを作成した。
除去効率(%)={(上流側のガス濃度−下流側のガス濃度)/上流側のガス濃度}×100
結果を表4及び図5に示す。図5中、菱形(◇)はゼオライトのデータ、バツ印(×)は珪藻土のデータをそれぞれ示す。グラフの横軸は試験サンプルの水混合物のpH、縦軸は除去効率(%)である。
Example 4
As the air flowing through the column, in the same manner as in Example 1, except that air adjusted to a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% using a constant temperature and humidity chamber was mixed with 60 ppb decamethyltetrasiloxane. 1 was used to measure the gas removal efficiency of the adsorbent. In addition, the several zeolite and diatomaceous earth from which pH of the water mixture (content rate: 5 wt%) shown in Table 4 differs were used as a test sample (adsorbent).
On the third day after the start of the aeration test, air on the upstream and downstream sides of the column is collected by an adsorption tube, and the adsorption tube that collects the air is subjected to gas analysis by ATD (heat desorption device) -GC / MS. The gas concentration of decamethyltetrasiloxane was measured. The removal efficiency of decamethyltetrasiloxane was calculated from the gas concentration of decamethyltetrasiloxane on the upstream side and downstream side of the measured column by the following formula, and a graph of the relationship between the pH of the water mixture of the test sample and the removal efficiency was created.
Removal efficiency (%) = {(Upstream gas concentration−Downstream gas concentration) / Upstream gas concentration} × 100
The results are shown in Table 4 and FIG. In FIG. 5, rhombuses (◇) indicate zeolite data, and crosses (×) indicate diatomaceous earth data. The horizontal axis of the graph is the pH of the water mixture of the test sample, and the vertical axis is the removal efficiency (%).

Figure 2017064602
Figure 2017064602

表4及び図5に示されるように、水混合物のpHが7以下のゼオライト、珪藻土等の無機シリカ系多孔質材料は、水混合物のpHが7を超える無機シリカ系多孔質材料に比べて、デカメチルテトラシロキサンの除去効率が著しく大きい。   As shown in Table 4 and FIG. 5, the inorganic silica-based porous material such as zeolite or diatomaceous earth whose pH of the water mixture is 7 or less is higher than the inorganic silica-based porous material whose pH of the water mixture exceeds 7. The removal efficiency of decamethyltetrasiloxane is remarkably large.

実施例5
カラムに流すエアとして、恒温恒湿槽を用いて温度23℃、湿度50%に調整した空気に、n−ヘキサン100ppb、トルエン100ppbを混ぜたものを使用したこと以外は実施例1と同様にして、図1に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。なお、試験サンプル(吸着剤)として、表5に示す活性炭及び水混合物(含有割合:5wt%)のpHが異なる複数の無機シリカ系多孔質材料を用いた。
通気試験開始後3日目に、カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をATD(加熱脱着装置)−GC/MSによるガス分析に付し、n−ヘキサン及びトルエンそれぞれのガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のn−ヘキサン及びトルエンのガス濃度からそれぞれのガス成分の除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの水混合物のpHと除去効率の関係のグラフを作成した。
除去効率(%)={(上流側のガス濃度−下流側のガス濃度)/上流側のガス濃度}×100
結果を表5に示す。
Example 5
The air flowed through the column was the same as in Example 1 except that air adjusted to a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% using a constant temperature and humidity chamber was mixed with 100 ppb of n-hexane and 100 ppb of toluene. The gas removal efficiency of the adsorbent was measured using an aeration test apparatus as shown in FIG. In addition, the some inorganic silica type porous material from which pH of the activated carbon and water mixture (content rate: 5 wt%) shown in Table 5 differs was used as a test sample (adsorbent).
On the third day after the start of the aeration test, air on the upstream and downstream sides of the column is collected by an adsorption tube, and the adsorption tube that collects the air is subjected to gas analysis by ATD (heat desorption device) -GC / MS. The gas concentrations of n-hexane and toluene were measured. The removal efficiency of each gas component was calculated from the measured gas concentrations of n-hexane and toluene on the upstream side and downstream side of the column by the following formula, and a graph of the relationship between the pH of the water mixture of the test sample and the removal efficiency was created. .
Removal efficiency (%) = {(Upstream gas concentration−Downstream gas concentration) / Upstream gas concentration} × 100
The results are shown in Table 5.

Figure 2017064602
Figure 2017064602

表5に示されるように、水混合物のpHが7以下の無機シリカ系多孔質材料を用いた場合は、n−ヘキサン、トルエン等の有機化合物の除去効率は比較的低い。このため、シロキサン化合物を選択的に除去することができる。   As shown in Table 5, when an inorganic silica-based porous material having a pH of the water mixture of 7 or less is used, the removal efficiency of organic compounds such as n-hexane and toluene is relatively low. For this reason, a siloxane compound can be selectively removed.

実施例6
(合成ゼオライトのアンモニア処理物の作製例)
図1に示すような通気試験装置を用いて、合成ゼオライトのアンモニア処理物を作製した。すなわち、2本のアクリル製の円筒状の試験カラム(内径50mm、長さ30cm)1を直列につないだものを6系列並列に配置し、カラムの上流側にガス供給用のチューブ2を取り付け、カラムの下流側に、流量計3、流量調整バルブ4、ポンプ5をこの順に取り付けた。直列につないだ2本のカラムの間に不織布6を挟み、不織布6上に試験サンプル7の代わりにアンモニア処理を行うためのゼオライトを2.5mm厚(かさ容積:4.8mL)で敷き、ゼオライトのろ過風速が3.0cm/sとなるように流量を調整した、アンモニアガスを含むエアを流した。
上記アンモニア処理を行うゼオライトとして、合成ゼオライトL(水混合物のpH:5.25、骨格構造:モルデナイト、比表面積:450m2、[SiO2/Al23]:240)、上記合成ゼオライトG、上記合成ゼオライトC、及び合成ゼオライトM(水混合物のpH:4.52、骨格構造:ベータ型、比表面積:400m2、[SiO2/Al23]:500)を用いた。アンモニア処理を行う4つの合成ゼオライトをそれぞれ、6系列並列に配置したカラムのうちの4つのカラム1にそれぞれ用いた。
各カラムの上流側と下流側のアンモニアガスを含むエアを捕集し、アンモニアガスの濃度をそれぞれ測定した。上流側のアンモニアガスの濃度は5.5ppmであった。アンモニアガスを含むエアの通気開始から12時間後、各カラムの下流側のアンモニアガスの濃度が上流側と同じ5.5ppmになったことが確認できたため、各合成ゼオライトへのアンモニア処理が完了したものと判断し、アンモニアガスを含むエアの通気を終了した。このようにして合成ゼオライトのアンモニア処理物を作製した。なお、アンモニアガスの濃度は、(株)ガステック製検知管3Lを用いて測定した。
Example 6
(Production example of ammonia-treated product of synthetic zeolite)
Using an aeration test apparatus as shown in FIG. 1, an ammonia-treated product of synthetic zeolite was produced. That is, two acrylic cylindrical test columns (inner diameter 50 mm, length 30 cm) 1 connected in series are arranged in 6 series in parallel, and a gas supply tube 2 is attached to the upstream side of the column, On the downstream side of the column, a flow meter 3, a flow rate adjustment valve 4, and a pump 5 were attached in this order. A nonwoven fabric 6 is sandwiched between two columns connected in series, and zeolite for performing ammonia treatment is placed on the nonwoven fabric 6 in place of the test sample 7 in a thickness of 2.5 mm (bulk volume: 4.8 mL). The air containing ammonia gas was flowed so that the flow rate was adjusted to 3.0 cm / s.
Synthetic zeolite L (pH of water mixture: 5.25, skeleton structure: mordenite, specific surface area: 450 m 2 , [SiO 2 / Al 2 O 3 ]: 240), the above-mentioned synthetic zeolite G, The synthetic zeolite C and the synthetic zeolite M (pH of water mixture: 4.52, framework structure: beta type, specific surface area: 400 m 2 , [SiO 2 / Al 2 O 3 ]: 500) were used. Four synthetic zeolites to be treated with ammonia were respectively used in four columns 1 among six columns arranged in parallel.
Air containing ammonia gas on the upstream side and downstream side of each column was collected, and the concentration of ammonia gas was measured. The concentration of upstream ammonia gas was 5.5 ppm. After 12 hours from the start of aeration of air containing ammonia gas, it was confirmed that the concentration of ammonia gas on the downstream side of each column was 5.5 ppm, which was the same as that on the upstream side, so the ammonia treatment to each synthetic zeolite was completed. As a result, the ventilation of air containing ammonia gas was terminated. In this way, an ammonia-treated product of synthetic zeolite was produced. In addition, the density | concentration of ammonia gas was measured using 3 L of detection tubes by Gastec Corporation.

(D4通気試験)
不織布6上に4.8mLの試験サンプル(吸着剤)7を2.5mm厚で敷き、カラムに流すエアとして、恒温恒湿槽を用いて温度23℃、湿度50%に調整した空気に、D4を30ppb混ぜたものを使用し、試験サンプルのろ過風速が3.0cm/sとなるように流量を調整したエアを流したこと以外は、実施例1と同様にして、図1に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。
試験サンプル(吸着剤)として、表6に示す合成ゼオライトL、合成ゼオライトG、合成ゼオライトC、合成ゼオライトM、上記合成ゼオライトLのアンモニア処理物、上記合成ゼオライトGのアンモニア処理物、上記合成ゼオライトCのアンモニア処理物、及び上記合成ゼオライトMのアンモニア処理物を用いた。試験サンプルの重量は、それぞれ、合成ゼオライトL及びそのアンモニア処理物が1.9g、合成ゼオライトG及びそのアンモニア処理物が2.0g、合成ゼオライトC及びそのアンモニア処理物が1.9g、合成ゼオライトM及びそのアンモニア処理物が3.2gであった。なお、試験サンプルとして合成ゼオライトのアンモニア処理物を用いた場合は、阻害物質除去用フィルタを有しないシロキサン化合物除去設備を使用した場合(即ち、阻害物質である塩基性ガスのアンモニアを阻害物質除去用フィルタにより除去されない場合)を想定したものである。
カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をATD(加熱脱着装置)−GC/MSによるガス分析に付し、D4のガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のD4のガス濃度からD4の除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの時間変化のグラフを作成した。
除去効率(%)={(上流側のガス濃度−下流側のガス濃度)/上流側のガス濃度}×100
結果を表6及び図6に示す。図6中、丸印(○)は合成ゼオライトLのデータ、三角印(△)は合成ゼオライトGのデータ、菱形印(◇)は合成ゼオライトCのデータ、四角印(□)は合成ゼオライトMのデータをそれぞれ示す。なお、白抜きは未処理物を示し、黒塗りはアンモニア処理物を示す。また、図6中、グラフの横軸は経過日数(日)、縦軸は除去効率(%)である。
(D4 ventilation test)
A 4.8 mL test sample (adsorbent) 7 is laid on the non-woven fabric 6 in a thickness of 2.5 mm, and air that is adjusted to a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% using a thermostatic chamber is used as D4. As shown in FIG. 1, in the same manner as in Example 1, except that 30 ppb was used and air whose flow rate was adjusted so that the filtration wind speed of the test sample was 3.0 cm / s was passed. The gas removal efficiency of the adsorbent was measured using an aeration test apparatus.
As test samples (adsorbents), synthetic zeolite L, synthetic zeolite G, synthetic zeolite C, synthetic zeolite M, ammonia-treated product of synthetic zeolite L, ammonia-treated product of synthetic zeolite G, synthetic zeolite C shown in Table 6 And the above-mentioned ammonia-treated product of synthetic zeolite M were used. The weights of the test samples were 1.9 g of synthetic zeolite L and its ammonia-treated product, 2.0 g of synthetic zeolite G and its ammonia-treated product, 1.9 g of synthetic zeolite C and its ammonia-treated product, and synthetic zeolite M, respectively. And its ammonia-treated product was 3.2 g. In addition, when an ammonia-treated product of synthetic zeolite is used as a test sample, a siloxane compound removal facility that does not have an inhibitor removal filter is used (that is, the basic substance ammonia, which is an inhibitor, is used to remove the inhibitor). It is assumed that the filter is not removed.
The upstream and downstream air of the column was collected by an adsorption tube, and the adsorption tube which collected the air was subjected to gas analysis by ATD (heat desorption device) -GC / MS, and the gas concentration of D4 was measured. The removal efficiency of D4 was calculated from the measured D4 gas concentration on the upstream side and downstream side of the column by the following formula, and a graph of the time change of the test sample was created.
Removal efficiency (%) = {(Upstream gas concentration−Downstream gas concentration) / Upstream gas concentration} × 100
The results are shown in Table 6 and FIG. In FIG. 6, circles (◯) indicate data for synthetic zeolite L, triangles (Δ) indicate data for synthetic zeolite G, diamonds (◇) indicate data for synthetic zeolite C, and squares (□) indicate data for synthetic zeolite M. Data are shown respectively. In addition, white indicates an untreated product, and black indicates an ammonia-treated product. In FIG. 6, the horizontal axis of the graph represents elapsed days (days) and the vertical axis represents removal efficiency (%).

上記GC/MSの測定には、日本電子(株)製、商品名「JMS−Q1000GC MKII」を用いた。   For measurement of the GC / MS, a product name “JMS-Q1000GC MKII” manufactured by JEOL Ltd. was used.

Figure 2017064602
Figure 2017064602

表6及び図6に示されるように、水混合物のpHが7以下である合成ゼオライトを用い、当該合成ゼオライトが塩基性ガスであるアンモニアを付着させていない場合は、水混合物のpHが7以下である合成ゼオライトがアンモニア処理されている場合に比べて、日数が経過してもD4の除去効率が著しく大きい。即ち、水混合物のpHが7以下である合成ゼオライトを吸着剤として用いたシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタの上流に阻害物質除去用ケミカルフィルタを有する場合は、阻害物質除去用ケミカルフィルタを有しない場合に比べて、日数が経過してもD4の除去効率が著しく大きいことが明らかである。   As shown in Table 6 and FIG. 6, when a synthetic zeolite whose pH of the water mixture is 7 or less is used and the synthetic zeolite is not attached with ammonia which is a basic gas, the pH of the water mixture is 7 or less. Compared with the case where the synthetic zeolite is treated with ammonia, the removal efficiency of D4 is remarkably large even if the number of days elapses. That is, in the case of having an inhibitor removal chemical filter upstream of a siloxane compound removal chemical filter using synthetic zeolite whose pH of the water mixture is 7 or less as an adsorbent, when no inhibitor removal chemical filter is provided. In comparison, it is clear that the removal efficiency of D4 is remarkably large even after days.

実施例7
(シリカゲル、活性白土、珪藻土のアンモニア処理物の作製例)
図1に示すような通気試験装置を用いて、シリカゲル、活性白土、及び珪藻土のアンモニア処理物を作製した。すなわち、2本のアクリル製の円筒状の試験カラム(内径50mm、長さ30cm)1を直列につないだものを6系列並列に配置し、カラムの上流側にガス供給用のチューブ2を取り付け、カラムの下流側に、流量計3、流量調整バルブ4、ポンプ5をこの順に取り付けた。直列につないだ2本のカラムの間に不織布6を挟み、不織布6上に試験サンプル7の代わりにアンモニア処理を行うための無機シリカ系多孔質材料を2.5mm厚(かさ容積:4.8mL)で敷き、無機シリカ系多孔質材料のろ過風速が3.0cm/sとなるように流量を調整した、アンモニアガスを含むエアを流した。
上記アンモニア処理を行う無機シリカ系多孔質材料して、表2に示すシリカゲルB、活性白土A、及び珪藻土Aを用いた。アンモニア処理を行う3つの無機シリカ系多孔質材料をそれぞれ、6系列並列に配置したカラムのうちの3つのカラム1にそれぞれ用いた。
各カラムの上流側と下流側のアンモニアガスを含むエアを捕集し、アンモニアガスの濃度をそれぞれ測定した。上流側のアンモニアガスの濃度は5.5ppmであった。アンモニアガスを含むエアの通気開始から12時間後、各カラムの下流側のアンモニアガスの濃度が上流側と同じ5.5ppmになったことが確認できたため、各無機シリカ系多孔質材料へのアンモニア処理が完了したものと判断し、アンモニアガスを含むエアの通気を終了した。このようにしてシリカゲルのアンモニア処理物、活性白土のアンモニア処理物、及び珪藻土のアンモニア処理物を作製した。なお、アンモニアガスの濃度は、(株)ガステック製検知管3Lを用いて測定した。
Example 7
(Production example of ammonia-treated product of silica gel, activated clay, diatomaceous earth)
Using an aeration test apparatus as shown in FIG. 1, ammonia-treated products of silica gel, activated clay, and diatomaceous earth were prepared. That is, two acrylic cylindrical test columns (inner diameter 50 mm, length 30 cm) 1 connected in series are arranged in 6 series in parallel, and a gas supply tube 2 is attached to the upstream side of the column, On the downstream side of the column, a flow meter 3, a flow rate adjustment valve 4, and a pump 5 were attached in this order. A nonwoven fabric 6 is sandwiched between two columns connected in series, and an inorganic silica-based porous material for carrying out ammonia treatment instead of the test sample 7 on the nonwoven fabric 6 is 2.5 mm thick (bulk volume: 4.8 mL). ), And air containing ammonia gas was flowed so that the flow rate of the inorganic silica-based porous material was adjusted to 3.0 cm / s.
Silica gel B, activated clay A, and diatomaceous earth A shown in Table 2 were used as the inorganic silica-based porous material for the ammonia treatment. Three inorganic silica-based porous materials to be treated with ammonia were respectively used for three columns 1 out of six columns arranged in parallel.
Air containing ammonia gas on the upstream side and downstream side of each column was collected, and the concentration of ammonia gas was measured. The concentration of upstream ammonia gas was 5.5 ppm. After 12 hours from the start of aeration of air containing ammonia gas, it was confirmed that the concentration of ammonia gas on the downstream side of each column was 5.5 ppm, the same as that on the upstream side, so ammonia to each inorganic silica-based porous material Judging that the treatment was completed, the ventilation of air containing ammonia gas was terminated. In this way, an ammonia-treated product of silica gel, an ammonia-treated product of activated clay, and an ammonia-treated product of diatomaceous earth were produced. In addition, the density | concentration of ammonia gas was measured using 3 L of detection tubes by Gastec Corporation.

(D4通気試験)
不織布6上に4.8mLの試験サンプル(吸着剤)7を2.5mm厚で敷き、カラムに流すエアとして、恒温恒湿槽を用いて温度23℃、湿度50%に調整した空気に、D4を30ppb混ぜたものを使用し、試験サンプルのろ過風速が3.0cm/sとなるように流量を調整したエアを流したこと以外は、実施例1と同様にして、図1に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。
試験サンプル(吸着剤)として、表2に示すシリカゲルB、活性白土A、珪藻土A、上記シリカゲルBのアンモニア処理物、上記活性白土Aのアンモニア処理物、及び上記珪藻土Aのアンモニア処理物を用いた。試験サンプルの重量は、それぞれ、シリカゲルB及びそのアンモニア処理物が0.7g、活性白土A及びそのアンモニア処理物が3.9g、珪藻土A及びそのアンモニア処理物が3.0gであった。なお、試験サンプルとして無機シリカ系多孔質材料のアンモニア処理物を用いた場合は、阻害物質除去用フィルタを有しないシロキサン化合物除去設備を使用した場合(即ち、阻害物質である塩基性ガスのアンモニアを阻害物質除去用フィルタにより除去されない場合)を想定したものである。
カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をATD(加熱脱着装置)−GC/MSによるガス分析に付し、D4のガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のD4のガス濃度からD4の除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの時間変化のグラフを作成した。
除去効率(%)={(上流側のガス濃度−下流側のガス濃度)/上流側のガス濃度}×100
結果を表7及び図7に示す。図7中、丸印(○)はシリカゲルBのデータ、三角印(△)は活性白土Aのデータ、四角印(□)は珪藻土Aのデータをそれぞれ示す。なお、白抜きは未処理物を示し、黒塗りはアンモニア処理物を示す。また、図7中、グラフの横軸は経過日数(日)、縦軸は除去効率(%)である。
(D4 ventilation test)
A 4.8 mL test sample (adsorbent) 7 is laid on the non-woven fabric 6 in a thickness of 2.5 mm, and air that is adjusted to a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% using a thermostatic chamber is used as D4. As shown in FIG. 1, in the same manner as in Example 1, except that 30 ppb was used and air whose flow rate was adjusted so that the filtration wind speed of the test sample was 3.0 cm / s was passed. The gas removal efficiency of the adsorbent was measured using an aeration test apparatus.
As a test sample (adsorbent), silica gel B, activated clay A, diatomaceous earth A, ammonia-treated product of silica gel B, ammonia-treated product of active clay A, and ammonia-treated product of diatomaceous earth A shown in Table 2 were used. . The weights of the test samples were 0.7 g for silica gel B and its ammonia-treated product, 3.9 g for activated clay A and its ammonia-treated product, and 3.0 g for diatomaceous earth A and its ammonia-treated product, respectively. In addition, when an ammonia-treated product of an inorganic silica-based porous material is used as a test sample, a siloxane compound removal facility that does not have an inhibitor removal filter is used (that is, the basic gas ammonia as an inhibitor is removed). It is assumed that the substance is not removed by the inhibitor removal filter.
The upstream and downstream air of the column was collected by an adsorption tube, and the adsorption tube which collected the air was subjected to gas analysis by ATD (heat desorption device) -GC / MS, and the gas concentration of D4 was measured. The removal efficiency of D4 was calculated from the measured D4 gas concentration on the upstream side and downstream side of the column by the following formula, and a graph of the time change of the test sample was created.
Removal efficiency (%) = {(Upstream gas concentration−Downstream gas concentration) / Upstream gas concentration} × 100
The results are shown in Table 7 and FIG. In FIG. 7, circles (◯) indicate data for silica gel B, triangles (Δ) indicate data for activated clay A, and squares (□) indicate data for diatomaceous earth A. In addition, white indicates an untreated product, and black indicates an ammonia-treated product. In FIG. 7, the horizontal axis of the graph represents elapsed days (days), and the vertical axis represents removal efficiency (%).

Figure 2017064602
Figure 2017064602

表7及び図7に示されるように、水混合物のpHが7以下であるシリカゲル、活性白土、及び珪藻土を用い、これらの無機シリカ系多孔質材料が塩基性ガスであるアンモニアを付着させていない場合は、水混合物のpHが7以下であるシリカゲル、活性白土、及び珪藻土がアンモニア処理されている場合に比べて、日数が経過してもD4の除去効率が著しく大きい。即ち、水混合物のpHが7以下であるシリカゲル、活性白土、及び珪藻土を吸着剤として用いたシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタの上流に阻害物質除去用ケミカルフィルタを有する場合は、阻害物質除去用ケミカルフィルタを有しない場合に比べて、日数が経過してもD4の除去効率が著しく大きいことが明らかである。   As shown in Table 7 and FIG. 7, silica gel, activated clay, and diatomaceous earth whose pH of the water mixture is 7 or less are used, and these inorganic silica-based porous materials do not attach ammonia, which is a basic gas. In this case, the removal efficiency of D4 is remarkably large even when the number of days elapses, compared with the case where the silica gel, activated clay, and diatomaceous earth whose pH of the water mixture is 7 or less are treated with ammonia. That is, when a chemical filter for removing an inhibitory substance is provided upstream of a chemical filter for removing a siloxane compound using silica gel, activated clay, and diatomaceous earth having a pH of 7 or less as an adsorbent, the inhibitory substance removing chemical filter It is clear that the removal efficiency of D4 is remarkably large even if the number of days elapses, compared with the case where there is no.

実施例8
(合成ゼオライトのTMS処理物の作製例)
図1に示すような通気試験装置を用いて、合成ゼオライトのTMS処理物を作製した。すなわち、2本のアクリル製の円筒状の試験カラム(内径50mm、長さ30cm)1を直列につないだものを6系列並列に配置し、カラムの上流側にガス供給用のチューブ2を取り付け、カラムの下流側に、流量計3、流量調整バルブ4、ポンプ5をこの順に取り付けた。直列につないだ2本のカラムの間に不織布6を挟み、不織布6上に試験サンプル7の代わりにアンモニア処理を行うためのゼオライトを2.5mm厚(かさ容積:4.8mL)で敷き、ゼオライトのろ過風速が3.0cm/sとなるように流量を調整した、TMSガスを含むエアを流した。
上記TMS処理を行うゼオライトとして、上記合成ゼオライトL、上記合成ゼオライトG、上記合成ゼオライトC、及び上記合成ゼオライトMを用いた。TMS処理を行う4つの合成ゼオライトをそれぞれ、6系列並列に配置したカラムのうちの4つのカラム1にそれぞれ用いた。
各カラムの上流側と下流側のTMSガスを含むエアを捕集し、TMSガスの濃度をそれぞれ測定した。上流側のTMSガスの濃度は5.0ppmであった。TMSガスを含むエアの通気開始から12時間後、各カラムの下流側のTMSガスの濃度が上流側と同じ5.0ppmになったことが確認できたため、各合成ゼオライトへのTMS処理が完了したものと判断し、TMSガスを含むエアの通気を終了した。このようにして合成ゼオライトのTMS処理物を作製した。なお、TMSガスの濃度は、GC−FIDを用いて測定した。
Example 8
(Example of production of TMS-treated synthetic zeolite)
A TMS-treated product of synthetic zeolite was prepared using an aeration test apparatus as shown in FIG. That is, two acrylic cylindrical test columns (inner diameter 50 mm, length 30 cm) 1 connected in series are arranged in 6 series in parallel, and a gas supply tube 2 is attached to the upstream side of the column, On the downstream side of the column, a flow meter 3, a flow rate adjustment valve 4, and a pump 5 were attached in this order. A nonwoven fabric 6 is sandwiched between two columns connected in series, and zeolite for performing ammonia treatment is placed on the nonwoven fabric 6 in place of the test sample 7 in a thickness of 2.5 mm (bulk volume: 4.8 mL). The air containing TMS gas was flowed with the flow rate adjusted to be 3.0 cm / s.
As the zeolite to be subjected to the TMS treatment, the synthetic zeolite L, the synthetic zeolite G, the synthetic zeolite C, and the synthetic zeolite M were used. Four synthetic zeolites to be subjected to TMS treatment were respectively used for four columns 1 of six columns arranged in parallel.
Air containing TMS gas on the upstream side and downstream side of each column was collected, and the concentration of TMS gas was measured. The concentration of the upstream TMS gas was 5.0 ppm. 12 hours after the start of aeration of air containing TMS gas, it was confirmed that the concentration of TMS gas on the downstream side of each column was 5.0 ppm, which was the same as that on the upstream side, so that the TMS treatment for each synthetic zeolite was completed. As a result, the ventilation of the air containing TMS gas was terminated. In this way, a TMS-treated product of synthetic zeolite was produced. In addition, the density | concentration of TMS gas was measured using GC-FID.

(D4通気試験)
不織布6上に4.8mLの試験サンプル(吸着剤)7を2.5mm厚で敷き、カラムに流すエアとして、恒温恒湿槽を用いて温度23℃、湿度50%に調整した空気に、D4を30ppb混ぜたものを使用し、試験サンプルのろ過風速が3.0cm/sとなるように流量を調整したエアを流したこと以外は、実施例1と同様にして、図1に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。
試験サンプル(吸着剤)として、表8に示す合成ゼオライトL、合成ゼオライトG、合成ゼオライトC、合成ゼオライトM、上記合成ゼオライトLのTMS処理物、上記合成ゼオライトGのTMS処理物、上記合成ゼオライトCのTMS処理物、及び上記合成ゼオライトMのTMS処理物を用いた。試験サンプルの重量は、それぞれ、合成ゼオライトL及びそのTMS処理物が1.9g、合成ゼオライトG及びそのTMS処理物が2.0g、合成ゼオライトC及びそのTMS処理物が1.9g、合成ゼオライトM及びそのTMS処理物が3.2gであった。なお、試験サンプルとして合成ゼオライトのTMS処理物を用いた場合は、阻害物質除去用フィルタを有しないシロキサン化合物除去設備を使用した場合(即ち、阻害物質であるシラノール化合物のTMSを阻害物質除去用フィルタにより除去されない場合)を想定したものである。
カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をATD(加熱脱着装置)−GC/MSによるガス分析に付し、D4のガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のD4のガス濃度からD4の除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの時間変化のグラフを作成した。
除去効率(%)={(上流側のガス濃度−下流側のガス濃度)/上流側のガス濃度}×100
結果を表8及び図8に示す。図8中、丸印(○)は合成ゼオライトLのデータ、三角印(△)は合成ゼオライトGのデータ、菱形印(◇)は合成ゼオライトCのデータ、四角印(□)は合成ゼオライトMのデータをそれぞれ示す。なお、白抜きは未処理物を示し、黒塗りはTMS処理物を示す。また、図8中、グラフの横軸は経過日数(日)、縦軸は除去効率(%)である。
(D4 ventilation test)
A 4.8 mL test sample (adsorbent) 7 is laid on the non-woven fabric 6 in a thickness of 2.5 mm, and air that is adjusted to a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% using a thermostatic chamber is used as D4. As shown in FIG. 1, in the same manner as in Example 1, except that 30 ppb was used and air whose flow rate was adjusted so that the filtration wind speed of the test sample was 3.0 cm / s was passed. The gas removal efficiency of the adsorbent was measured using an aeration test apparatus.
As test samples (adsorbents), synthetic zeolite L, synthetic zeolite G, synthetic zeolite C, synthetic zeolite M, TMS-treated product of synthetic zeolite L, TMS-treated product of synthetic zeolite G, synthetic zeolite C shown in Table 8 The TMS-treated product of the above and the TMS-treated product of the above synthetic zeolite M were used. The weights of the test samples were 1.9 g of synthetic zeolite L and its TMS-treated product, 2.0 g of synthetic zeolite G and its TMS-treated product, 1.9 g of synthetic zeolite C and its TMS-treated product, and synthetic zeolite M, respectively. And the TMS processed product was 3.2 g. In addition, when a TMS-treated product of synthetic zeolite is used as a test sample, when a siloxane compound removal facility that does not have an inhibitor removal filter is used (that is, the TMS of the silanol compound, which is an inhibitor, is removed) Is assumed to be removed).
The upstream and downstream air of the column was collected by an adsorption tube, and the adsorption tube which collected the air was subjected to gas analysis by ATD (heat desorption device) -GC / MS, and the gas concentration of D4 was measured. The removal efficiency of D4 was calculated from the measured D4 gas concentration on the upstream side and downstream side of the column by the following formula, and a graph of the time change of the test sample was created.
Removal efficiency (%) = {(Upstream gas concentration−Downstream gas concentration) / Upstream gas concentration} × 100
The results are shown in Table 8 and FIG. In FIG. 8, circles (◯) indicate data for synthetic zeolite L, triangles (Δ) indicate data for synthetic zeolite G, diamonds (◇) indicate data for synthetic zeolite C, and squares (□) indicate data for synthetic zeolite M. Data are shown respectively. In addition, white indicates an unprocessed object, and black indicates a TMS processed object. In FIG. 8, the horizontal axis of the graph is the elapsed days (days), and the vertical axis is the removal efficiency (%).

上記GC/MSの測定には、日本電子(株)製、商品名「JMS−Q1000GC MKII」を用いた。   For measurement of the GC / MS, a product name “JMS-Q1000GC MKII” manufactured by JEOL Ltd. was used.

Figure 2017064602
Figure 2017064602

表8及び図8に示されるように、水混合物のpHが7以下である合成ゼオライトを用い、当該合成ゼオライトがシラノール化合物であるTMSを付着させていない場合は、水混合物のpHが7以下である合成ゼオライトがTMS処理されている場合に比べて、日数が経過してもD4の除去効率が大きい。即ち、水混合物のpHが7以下である合成ゼオライトを吸着剤として用いたシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタの上流に阻害物質除去用ケミカルフィルタを有する場合は、阻害物質除去用ケミカルフィルタを有しない場合に比べて、日数が経過してもD4の除去効率が大きいことが明らかである。   As shown in Table 8 and FIG. 8, when a synthetic zeolite having a pH of 7 or less in the water mixture is used and the synthetic zeolite does not adhere TMS which is a silanol compound, the pH of the water mixture is 7 or less. Compared with the case where a certain synthetic zeolite is treated with TMS, the removal efficiency of D4 is large even if the number of days elapses. That is, in the case of having an inhibitor removal chemical filter upstream of a siloxane compound removal chemical filter using synthetic zeolite whose pH of the water mixture is 7 or less as an adsorbent, when no inhibitor removal chemical filter is provided. In comparison, it is clear that the removal efficiency of D4 is large even after days.

1 カラム
2 チューブ
3 流量計
4 流量調整バルブ
5 ポンプ
6 不織布
7 試験サンプル(吸着剤)
1 Column 2 Tube 3 Flowmeter 4 Flow Control Valve 5 Pump 6 Nonwoven Fabric 7 Test Sample (Adsorbent)

Claims (7)

純水と混合させて得られる水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたシロキサン化合物除去用ケミカルフィルタと、前記シロキサン化合物除去用ケミカルフィルタの上流に設置された、前記シロキサン化合物除去用ケミカルフィルタのシロキサン化合物除去能を低下させる阻害物質を除去する阻害物質除去用ケミカルフィルタとを有することを特徴とするシロキサン化合物除去設備。   A siloxane compound removing chemical filter using an inorganic silica-based porous material having a pH of 7 or less as a water mixture (content ratio: 5 wt%) obtained by mixing with pure water as an adsorbent, and the siloxane compound removing chemical A siloxane compound removal facility, comprising an inhibitor removal chemical filter installed upstream of a filter for removing an inhibitor that reduces the siloxane compound removal ability of the siloxane compound removal chemical filter. 前記阻害物質除去用ケミカルフィルタが、塩基性物質除去用ケミカルフィルタ及びシラノール化合物除去用ケミカルフィルタからなる群より選ばれた少なくとも1種である、請求項1に記載のシロキサン化合物除去設備。   The siloxane compound removing equipment according to claim 1, wherein the inhibitor removing chemical filter is at least one selected from the group consisting of a basic substance removing chemical filter and a silanol compound removing chemical filter. 前記無機シリカ系多孔質材料が、ゼオライト、シリカゲル、シリカアルミナ、ケイ酸アルミニウム、多孔質ガラス、珪藻土、含水ケイ酸マグネシウム質粘土鉱物、アロフェン、イモゴライト、酸性白土、活性白土、活性ベントナイト、メソポーラスシリカ、アルミノケイ酸塩、ヒュームドシリカ、フライアッシュ、及びクリンカアッシュからなる群より選ばれた少なくとも1種の無機シリカ系多孔質材料である、請求項1又は2に記載のシロキサン化合物除去設備。   The inorganic silica-based porous material is zeolite, silica gel, silica alumina, aluminum silicate, porous glass, diatomaceous earth, hydrous magnesium silicate clay mineral, allophane, imogolite, acidic clay, activated clay, activated bentonite, mesoporous silica, The siloxane compound removal equipment according to claim 1 or 2, which is at least one inorganic silica-based porous material selected from the group consisting of aluminosilicate, fumed silica, fly ash, and clinker ash. 前記吸着剤として、前記水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である無機シリカ系多孔質材料とともに、他の吸着剤を用いた、請求項1〜3の何れか1項に記載のシロキサン化合物除去設備。   4. The adsorbent according to claim 1, wherein another adsorbent is used together with the inorganic silica-based porous material having a pH of 7 or less as the water mixture (content ratio: 5 wt%) as the adsorbent. Siloxane compound removal equipment. 前記無機シリカ系多孔質材料として、水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である、合成ゼオライト、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、及び活性白土からなる群より選ばれた少なくとも1種を、吸着剤の総重量に対して、10重量%以上含む、請求項1〜4の何れか1項に記載のシロキサン化合物除去設備。   As the inorganic silica-based porous material, at least one selected from the group consisting of synthetic zeolite, diatomaceous earth, silica gel, acid clay, and activated clay whose pH of the water mixture (content ratio: 5 wt%) is 7 or less. The siloxane compound removal equipment according to any one of claims 1 to 4, comprising 10% by weight or more based on the total weight of the adsorbent. 前記無機シリカ系多孔質材料として水混合物(含有割合:5wt%)のpHが7以下である合成ゼオライトを含み、前記合成ゼオライトが、A型、フェリエライト、MCM−22、ZSM−5、ZSM−11、SAPO−11、モルデナイト、ベータ型、X型、Y型、L型、チャバザイト、及びオフレタイトからなる群より選ばれた少なくとも1種の骨格構造を有する合成ゼオライトである、請求項1〜5の何れか1項に記載のシロキサン化合物除去設備。   The inorganic silica-based porous material includes a synthetic zeolite having a water mixture (content ratio: 5 wt%) having a pH of 7 or less, and the synthetic zeolite is A-type, ferrierite, MCM-22, ZSM-5, ZSM- 11. A synthetic zeolite having at least one skeleton structure selected from the group consisting of 11, SAPO-11, mordenite, beta type, X type, Y type, L type, chabazite, and offretite. The siloxane compound removal equipment according to any one of the above. 請求項1〜6の何れか1項に記載のシロキサン化合物除去設備を用いてシロキサン化合物を除去することを特徴とする流体浄化方法。   A fluid purification method, wherein the siloxane compound is removed by using the siloxane compound removal equipment according to any one of claims 1 to 6.
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