JP2017062423A - Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。 The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge, and an image forming apparatus.
特許文献1には、導電性支持体上に中間層を介して感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が特定の単位成分を有するポリアミド樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体が開示されている。 Patent Document 1 discloses an electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer through an intermediate layer on a conductive support, wherein the intermediate layer contains a polyamide resin having a specific unit component. The body is disclosed.
特許文献2には、感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写して画像を形成する画像形成装置において、前記感光体は、導電性基材と、前記導電性基材の周囲に形成された中間層と、前記中間層の周囲に形成された感光層と、を有し、前記中間層は、平均粒径が100nm以下の金属酸化物微粒子をバインダ樹脂中に含有することを特徴とする画像形成装置が開示されている。 In Patent Document 2, in an image forming apparatus that forms an image by transferring a toner image formed on a photoconductor to a recording medium, the photoconductor is formed around a conductive base material and the conductive base material. The intermediate layer and a photosensitive layer formed around the intermediate layer, wherein the intermediate layer contains metal oxide fine particles having an average particle size of 100 nm or less in a binder resin. An image forming apparatus is disclosed.
特許文献3には、導電性基体上に光導電層を設けた電子写真感光体において、導電性基体と光導電層との間に白色顔料と結着剤樹脂を主成分とし、かつ白色顔料と結着剤樹脂の使用割合が容量比で1/1〜3/1の範囲にある中間層を設けると共に、導電性基体と該中間層との間に結着剤樹脂による下引層を設けたことを特徴とする電子写真感光体が開示されている。 In Patent Document 3, in an electrophotographic photosensitive member in which a photoconductive layer is provided on a conductive substrate, a white pigment and a binder resin are main components between the conductive substrate and the photoconductive layer, and the white pigment and An intermediate layer having a binder resin usage ratio in the range of 1/1 to 3/1 by volume ratio was provided, and an undercoat layer was formed between the conductive substrate and the intermediate layer. An electrophotographic photosensitive member is disclosed.
特許文献4には、導電性基体と、該基体上に形成された中間層と、該中間層上に形成された感光層とを備える電子写真感光体であって、前記中間層が、金属酸化物微粒子及び結着樹脂を含有し、28℃、85%RHで106V/mの電場を印加したときの体積抵抗が108〜1013Ω・cmであり、且つ15℃、15%RHで106V/mの電場を印加したときの体積抵抗が28℃、85%RHで106V/mの電場を印加したときの体積抵抗の500倍以下であることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。 Patent Document 4 discloses an electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate, an intermediate layer formed on the substrate, and a photosensitive layer formed on the intermediate layer, wherein the intermediate layer is a metal oxide. And a volume resistance of 10 8 to 10 13 Ω · cm when an electric field of 10 6 V / m is applied at 28 ° C. and 85% RH, and 15 ° C. and 15% RH The volume resistance when an electric field of 10 6 V / m is applied at 28 ° C. and 85% RH is 500 times or less of the volume resistance when an electric field of 10 6 V / m is applied. A photoreceptor is disclosed.
特許文献5には、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備え、前記電子写真感光体の外周面を所定方向に移動させながら帯電、露光、現像及び転写を行う画像形成装置であって、帯電から現像までに要する時間が可変となるように、前記電子写真感光体の外周面の移動速度を制御する制御手段を更に備え、前記電子写真感光体が少なくとも下引層と感光層を有し、前記下引層が少なくとも金属酸化物微粒子と該金属酸化物微粒子と反応可能な基を有するアクセプター性化合物とを含有することを特徴とする画像形成装置が開示されている。 Patent Document 5 includes an electrophotographic photosensitive member, a charging unit, an exposing unit, a developing unit, and a transferring unit, and an image that is charged, exposed, developed, and transferred while moving the outer peripheral surface of the electrophotographic photosensitive member in a predetermined direction. The forming apparatus further comprises control means for controlling the moving speed of the outer peripheral surface of the electrophotographic photosensitive member so that the time required from charging to development is variable, and the electrophotographic photosensitive member is at least an undercoat layer And an photosensitive layer, and the undercoat layer contains at least a metal oxide fine particle and an acceptor compound having a group capable of reacting with the metal oxide fine particle. .
特許文献6には、導電性支持体上に電荷発生層及び電荷移動層を有する感光層を設けてなる電子写真感光体において、該電荷移動層のバインダー樹脂として、特定の繰り返し構造単位を有する変性ポリカーボネート樹脂を主成分として含有することを特徴とする電子写真感光体が開示されている。 In Patent Document 6, in an electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer having a charge generation layer and a charge transfer layer is provided on a conductive support, a modification having a specific repeating structural unit as a binder resin of the charge transfer layer. An electrophotographic photosensitive member containing a polycarbonate resin as a main component is disclosed.
特許文献7には、導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、表面層がフッ素系ブロックポリマーを含有していることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。 Patent Document 7 discloses an electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive support, wherein the surface layer contains a fluorine-based block polymer.
非特許文献1、非特許文献2には、高分子量の結着樹脂、電荷輸送材料、無機フィラー、その他添加剤を用いた感光体が開示されている。 Non-Patent Document 1 and Non-Patent Document 2 disclose photoreceptors using a high molecular weight binder resin, a charge transport material, an inorganic filler, and other additives.
本発明は、下引層が、電子受容性化合物として、後述する式(1−1)、(1−2)又は(1−14)で表される電子受容性化合物のみを含む場合に比べ、画像形成を繰り返した場合に前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生が抑制される電子写真感光体を提供することを目的とする。 In the present invention, the undercoat layer includes, as an electron-accepting compound, only an electron-accepting compound represented by the formula (1-1), (1-2), or (1-14) described later, An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member in which occurrence of an afterimage phenomenon (ghost) caused by a history of a previous image remaining when image formation is repeated is suppressed.
上記目的を達成するため、以下の発明が提供される。
請求項1に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に配置され、下記一般式(A)で表される電子受容性化合物及び樹脂を含有する下引層と、
前記下引層上に配置された感光層と、
を有する電子写真感光体。
In order to achieve the above object, the following invention is provided.
The invention according to claim 1
A conductive substrate;
An undercoat layer disposed on the conductive substrate and containing an electron-accepting compound represented by the following general formula (A) and a resin;
A photosensitive layer disposed on the undercoat layer;
An electrophotographic photosensitive member having:
一般式(A)中、X1及びX2はそれぞれ独立に酸素原子又は=C(CN)2を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、R8は炭素数が4以上20以下のアルキレン基を表す。 In general formula (A), X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or ═C (CN) 2 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 are each Independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and R 8 represents an alkylene group having 4 to 20 carbon atoms.
請求項2に係る発明は、
前記下引層が、金属酸化物粒子を含有し、前記金属酸化物粒子100質量部に対して前記一般式(A)で表される電子受容性化合物を1質量部以上5質量部以下含有する請求項1記載の電子写真感光体。
The invention according to claim 2
The undercoat layer contains metal oxide particles and contains 1 to 5 parts by mass of the electron-accepting compound represented by the general formula (A) with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
請求項3に係る発明は、
前記感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とを有し、電子写真感光体の最表面層が、フッ素樹脂を含有する請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体。
The invention according to claim 3
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the photosensitive layer has a charge generation layer and a charge transport layer, and the outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member contains a fluororesin.
請求項4に係る発明は、
請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
The invention according to claim 4
The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 3,
A process cartridge that can be attached to and detached from an image forming apparatus.
請求項5に係る発明は、
請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
The invention according to claim 5
The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 3,
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image to the surface of the recording medium;
An image forming apparatus comprising:
請求項1に係る発明によれば、電子受容性化合物として、後述する式(1−1)、(1−2)又は(1−14)で表される電子受容性化合物のみを含む場合に比べ、画像形成を繰り返した場合にゴーストの発生が抑制される電子写真感光体が提供される。 According to the first aspect of the present invention, the electron-accepting compound includes only the electron-accepting compound represented by the formula (1-1), (1-2) or (1-14) described later. An electrophotographic photosensitive member is provided in which ghosting is suppressed when image formation is repeated.
請求項2に係る発明によれば、前記下引層が、金属酸化物粒子を含有し、前記金属酸化物粒子100質量部に対して前記一般式(A)で表される電子受容性化合物を1質量部未満で含有する場合に比べ、画像形成を繰り返した場合にゴーストの発生が抑制される電子写真感光体が提供される。 According to the invention of claim 2, the undercoat layer contains metal oxide particles, and the electron-accepting compound represented by the general formula (A) with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles. An electrophotographic photosensitive member is provided in which the occurrence of ghost is suppressed when image formation is repeated as compared with the case where the content is less than 1 part by mass.
請求項3に係る発明によれば、前記感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とを有し、電子写真感光体の最表面層が、フッ素樹脂を含有しない場合に比べ、長寿命の電子写真感光体が提供される。 According to the invention of claim 3, the photosensitive layer has a charge generation layer and a charge transport layer, and the outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member does not contain a fluororesin. A photographic photoreceptor is provided.
請求項4又は請求項5に係る発明によれば、下引層が、電子受容性化合物として、後述する式(1−1)、(1−2)又は(1−14)で表される電子受容性化合物のみを含む電子写真感光体を備える場合に比べ、画像形成を繰り返した場合にゴーストの発生が抑制されるプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。 According to the invention which concerns on Claim 4 or Claim 5, an undercoat layer is an electron represented by the formula (1-1), (1-2) or (1-14) mentioned later as an electron-accepting compound. There is provided a process cartridge or an image forming apparatus in which the occurrence of ghost is suppressed when image formation is repeated as compared with a case where an electrophotographic photoreceptor containing only a receptive compound is provided.
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。 Hereinafter, the electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment will be described in detail with reference to the drawings. Note that the reference numerals are omitted.
[電子写真感光体]
本実施形態に係る電子写真感光体(以下、「感光体」と称することがある)は、前記導電性基体上に配置され、下記一般式(A)で表される電子受容性化合物及び樹脂を含有する下引層と、前記下引層上に配置された感光層と、を有する。
[Electrophotographic photoreceptor]
An electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment (hereinafter sometimes referred to as “photoreceptor”) is disposed on the conductive substrate, and includes an electron-accepting compound and a resin represented by the following general formula (A). An undercoat layer containing the photosensitive layer, and a photosensitive layer disposed on the undercoat layer.
一般式(A)中、X1及びX2はそれぞれ独立に酸素原子又は=C(CN)2を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、R8は炭素数が4以上20以下のアルキレン基を表す。 In general formula (A), X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or ═C (CN) 2 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 are each Independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and R 8 represents an alkylene group having 4 to 20 carbon atoms.
本実施形態に係る電子写真感光体を用いることで、画像形成を繰り返した場合に前画像の履歴が残ることで生じる残像現象(ゴースト)の発生が抑制される。その理由は以下のように考えられる。
電子写真感光体は、繰り返し使用後、下引層の残留電位の上昇により、ゴーストやカブリ(トナーが非画像部に付着する現象)といった画質異常が生じることにより寿命を迎えることが多い。
従来の電子写真感光体では、下引層の残留電位の上昇を抑制すべく、例えば、アリザリン等のアントラキノン系の電子受容性化合物が用いられている。一方、一般式(A)で表される電子受容性化合物はアントラキノン系の電子受容性化合物よりも電荷輸送能が高く、本実施形態に係る電子写真感光体は、下引層が一般式(A)で表される電子受容性化合物を含むことで、残留電位の上昇が効果的に抑制され、画像形成を繰り返した場合でもゴーストの発生が抑制されると考えられる。
By using the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment, the occurrence of an afterimage phenomenon (ghost) caused by the history of the previous image remaining when image formation is repeated is suppressed. The reason is considered as follows.
An electrophotographic photoreceptor often reaches the end of its life after repeated use due to an increase in the residual potential of the undercoat layer, resulting in image quality anomalies such as ghosts and fog (a phenomenon in which toner adheres to non-image areas).
In conventional electrophotographic photoreceptors, for example, an anthraquinone electron-accepting compound such as alizarin is used to suppress an increase in the residual potential of the undercoat layer. On the other hand, the electron-accepting compound represented by the general formula (A) has a higher charge transport ability than the anthraquinone-based electron-accepting compound, and the electrophotographic photoreceptor according to this embodiment has an undercoat layer represented by the general formula (A It is considered that the increase in residual potential is effectively suppressed, and the occurrence of ghost is suppressed even when image formation is repeated.
図1乃至図6は、本実施形態に係る感光体の層構成の例を示す概略図である。図1に示す感光体は、導電性基材1と、導電性基材1の上に形成された下引層2と、下引層2の上に形成された単層型(機能一体型)の感光層3と、から構成されている。単層型の感光層3は、例えば、樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料とを含んで構成されている。
また、図2に示すように、感光層3は電荷発生層31と電荷輸送層32とが積層された積層型(機能分離型)の感光層でもよい。電荷発生層31は例えば樹脂と電荷発生材料とを含んで構成され、電荷輸送層32は例えば樹脂と電荷輸送材料とを含んで構成されている。
1 to 6 are schematic views showing examples of the layer structure of the photoreceptor according to the present embodiment. The photoreceptor shown in FIG. 1 includes a conductive substrate 1, an undercoat layer 2 formed on the conductive substrate 1, and a single layer type (functional integrated type) formed on the undercoat layer 2. Photosensitive layer 3. The single-layer type photosensitive layer 3 includes, for example, a resin, a charge generation material, and a charge transport material.
As shown in FIG. 2, the photosensitive layer 3 may be a laminated type (function separation type) photosensitive layer in which a charge generation layer 31 and a charge transport layer 32 are laminated. The charge generation layer 31 includes, for example, a resin and a charge generation material, and the charge transport layer 32 includes, for example, a resin and a charge transport material.
さらに、本実施形態に係る電子写真感光体は、図3及び図4に示すように、感光層3上又は電荷輸送層32上に保護層5を設けてもよい。また、図5及び図6に示すように、下引層2と感光層3との間又は下引層2と電荷発生層31との間に中間層4を設けてもよい。 Furthermore, the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment may be provided with a protective layer 5 on the photosensitive layer 3 or the charge transport layer 32 as shown in FIGS. 5 and 6, an intermediate layer 4 may be provided between the undercoat layer 2 and the photosensitive layer 3 or between the undercoat layer 2 and the charge generation layer 31.
なお、中間層4は、下引層2と感光層3との間又は下引層2と電荷発生層31との間に設けた態様を示しているが、導電性基材1と下引層2との間に設けてもよい。無論、中間層4を設けない態様であってもよい。 In addition, although the intermediate | middle layer 4 has shown the aspect provided between the undercoat layer 2 and the photosensitive layer 3, or between the undercoat layer 2 and the electric charge generation layer 31, the electroconductive base material 1 and an undercoat layer are shown. 2 may be provided. Of course, the aspect which does not provide the intermediate | middle layer 4 may be sufficient.
次に、本実施形態に係る電子写真感光体の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。代表例として、積層型の感光層を備えた電子写真感光体について主に説明する。 Next, each element of the electrophotographic photosensitive member according to this embodiment will be described. Note that the reference numerals are omitted. As a representative example, an electrophotographic photoreceptor provided with a laminated photosensitive layer will be mainly described.
(導電性基体)
導電性基体としては、例えば、金属(アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等)又は合金(ステンレス鋼等)を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物(例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等)、金属(例えばアルミニウム、パラジウム、金等)又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
(Conductive substrate)
Examples of the conductive substrate include metal plates (eg, aluminum, copper, zinc, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, platinum, etc.) or alloys (stainless steel, etc.), metal drums, metal belts, etc. Is mentioned. In addition, as the conductive substrate, for example, paper, resin film, belt, etc. coated, vapor-deposited or laminated with a conductive compound (for example, conductive polymer, indium oxide, etc.), metal (for example, aluminum, palladium, gold, etc.) or an alloy, etc. Also mentioned. Here, “conductive” means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm.
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。 When the electrophotographic photosensitive member is used in a laser printer, the surface of the conductive substrate has a center line average roughness Ra of 0.04 μm or more and 0.5 μm for the purpose of suppressing interference fringes generated when laser light is irradiated. The surface is preferably roughened below. When non-interfering light is used as a light source, roughening for preventing interference fringes is not particularly required, but it is suitable for extending the life because it suppresses generation of defects due to irregularities on the surface of the conductive substrate.
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。 As a roughening method, for example, wet honing performed by suspending an abrasive in water and spraying it on a support, centerless grinding in which a conductive substrate is pressed against a rotating grindstone, and grinding is continuously performed, Anodizing treatment etc. are mentioned.
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。 As a roughening method, without roughening the surface of the conductive substrate, conductive or semiconductive powder is dispersed in the resin to form a layer on the surface of the conductive substrate. The method of roughening by the particle | grains disperse | distributed in a layer is also mentioned.
陽極酸化による粗面化処理は、金属製(例えばアルミニウム製)の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。 In the roughening treatment by anodic oxidation, a metal (for example, aluminum) conductive substrate is used as an anode, and an oxide film is formed on the surface of the conductive substrate by anodizing in an electrolyte solution. Examples of the electrolyte solution include a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution. However, the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active as it is, easily contaminated, and has a large resistance fluctuation due to the environment. Therefore, the pores of the oxide film are blocked by the volume expansion due to the hydration reaction in pressurized water vapor or boiling water (a metal salt such as nickel may be added) against the porous anodic oxide film, and more stable hydration oxidation It is preferable to perform a sealing treatment for changing to a product.
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、0.3μm以上15μm以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。 The thickness of the anodized film is preferably, for example, 0.3 μm or more and 15 μm or less. When this film thickness is within the above range, the barrier property against implantation tends to be exhibited, and the increase in residual potential due to repeated use tends to be suppressed.
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲がよい。処理温度は例えば42℃以上48℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が好ましい。
The conductive substrate may be treated with an acidic treatment liquid or boehmite treatment.
The treatment with the acidic treatment liquid is performed as follows, for example. First, an acidic treatment liquid containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is prepared. The mixing ratio of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid in the acidic treatment liquid is, for example, in the range of 10% by mass to 11% by mass of phosphoric acid, in the range of 3% by mass to 5% by mass of chromic acid, The concentration of these acids is preferably in the range of 13.5% by mass or more and 18% by mass or less. The treatment temperature is preferably 42 ° C. or higher and 48 ° C. or lower, for example. The film thickness is preferably from 0.3 μm to 15 μm.
ベーマイト処理は、例えば90℃以上100℃以下の純水中に5分から60分間浸漬すること、又は90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分から60分間接触させて行う。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。 The boehmite treatment is performed, for example, by immersing in pure water of 90 ° C. or higher and 100 ° C. or lower for 5 minutes to 60 minutes, or by contacting with heated steam of 90 ° C. or higher and 120 ° C. or lower for 5 minutes to 60 minutes. The film thickness is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This may be further anodized using an electrolyte solution with low film solubility such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate, etc. Good.
(下引層)
本実施形態における下引層は、下記一般式(A)で表される電子受容性化合物(以下、「第1電子受容性化合物」という場合がある。)及び樹脂を含有し、好ましくは、さらに金属酸化物粒子等の無機粒子、シリコーン樹脂粒子等の有機粒子等を含有する。
(Undercoat layer)
The undercoat layer in the present embodiment contains an electron-accepting compound represented by the following general formula (A) (hereinafter sometimes referred to as “first electron-accepting compound”) and a resin, It contains inorganic particles such as metal oxide particles, organic particles such as silicone resin particles, and the like.
一般式(A)中、X1及びX2はそれぞれ独立に酸素原子又は=C(CN)2を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、R8は炭素数が4以上20以下のアルキレン基を表す。 In general formula (A), X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or ═C (CN) 2 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 are each Independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and R 8 represents an alkylene group having 4 to 20 carbon atoms.
一般式(A)中、X1及びX2は電子輸送能の観点で =C(CN)2であることが好ましい。 In general formula (A), X 1 and X 2 are preferably ═C (CN) 2 from the viewpoint of electron transport ability.
一般式(A)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中でもフッ素原子、又は塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。 In the general formula (A), examples of the halogen atom represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. It is done. Among these, a fluorine atom or a chlorine atom is preferable, and a chlorine atom is more preferable.
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7に置換する官能基は、樹脂との溶解性や、結晶の析出、電子輸送能等を考慮して選択すればよい。例えば、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子など)を置換させると、電子輸送能が向上しやすくなる。また、例えば、アルキル基を置換させると、結晶析出を抑制しやすくなり、さらに、ポリカーボネート樹脂等の芳香環を持つ樹脂との溶解性が向上しやすくなる。 The functional group substituted for R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 may be selected in consideration of solubility in the resin, crystal precipitation, electron transport ability, and the like. . For example, when a halogen atom (a chlorine atom, a fluorine atom, or the like) is substituted, the electron transport ability is easily improved. Further, for example, when an alkyl group is substituted, crystal precipitation is easily suppressed, and further, solubility with a resin having an aromatic ring such as a polycarbonate resin is easily improved.
一般式(A)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状、又は分岐状で、炭素数1以上20以下のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、イソヘプチル基、sec−ヘプチル基、tert−ヘプチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、イソノニル基、sec−ノニル基、tert−ノニル基、イソデシル基、sec−デシル基、tert−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基の炭素数は、1以上4以下がより好ましく、1以上3以下がさらに好ましい。
In the general formula (A), examples of the alkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 are linear or branched and have 1 to 20 carbon atoms. The following alkyl groups are mentioned. Examples of the linear alkyl group include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and n-nonyl. Group, n-decyl group and the like.
Examples of the branched alkyl group include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, isohexyl group, sec-hexyl group, tert-hexyl group, Isoheptyl group, sec-heptyl group, tert-heptyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, isononyl group, sec-nonyl group, tert-nonyl group, isodecyl group, sec-decyl group, tert-decyl Groups and the like. Among these, the carbon number of the alkyl group is more preferably 1 or more and 4 or less, and further preferably 1 or more and 3 or less.
一般式(A)中、R8が示す炭素数4以上20以下のアルキレン基は、直鎖状、又は分岐状のアルキレン基が挙げられる。例えば、n−ブチレン基、イソブチレン基、sec−ブチレン基、tert−ブチレン基、n−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、tert−ペンチレン基、n−ヘキシレン、n−ペプチレン、n−オクチレン、n−ノニレン基、n−デシレン基、n−ウンデシレン基、n−ドデシレン基等が挙げられる。その他、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、オクタデシレン基、エイコシレン基等が挙げられる。これらの中でも、樹脂との溶解性の観点から、炭素数6以上12以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基が好ましい。 In the general formula (A), examples of the alkylene group having 4 to 20 carbon atoms represented by R 8 include a linear or branched alkylene group. For example, n-butylene group, isobutylene group, sec-butylene group, tert-butylene group, n-pentylene group, isopentylene group, neopentylene group, tert-pentylene group, n-hexylene, n-peptylene, n-octylene, n- Nonylene group, n-decylene group, n-undecylene group, n-dodecylene group and the like can be mentioned. In addition, a tridecylene group, a tetradecylene group, a pentadecylene group, a hexadecylene group, an octadecylene group, an eicosylene group, and the like can be given. Among these, from the viewpoint of solubility with a resin, a linear or branched alkylene group having 6 to 12 carbon atoms is preferable.
一般式(A)で表される電子受容性化合物(第1電子受容性化合物)について、以下に例示化合物を示すが、これらに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物(A−番号)と以下表記する。具体的には、例えば、(A−15)は「例示化合物(A−15)」と以下表記する。 Although an exemplary compound is shown below about the electron-accepting compound (1st electron-accepting compound) represented by general formula (A), it is not necessarily limited to these. In addition, the following exemplary compound numbers are described as an exemplary compound (A-number) below. Specifically, for example, (A-15) is represented below as “Exemplary Compound (A-15)”.
上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。「Bu」はブチル基を、「t−Bu」はtert−ブチル基を、「Cl」は塩素原子を、「Me」はメチル基をそれぞれ表す。 Abbreviations in the above exemplified compounds have the following meanings. “Bu” represents a butyl group, “t-Bu” represents a tert-butyl group, “Cl” represents a chlorine atom, and “Me” represents a methyl group.
下引層における第1電子受容性化合物の含有量としては、ゴーストの発生を抑制する観点から、0.01質量%以上が好ましく、0.1質量%以上がより好ましく、1質量%以上がさらに好ましい。一方、導電路形成の観点から、下引層における第1電子受容性化合物の含有量は、25質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましい。
なお、下引層における第1電子受容性化合物は、1種単独で含まれていてもよいし、2種以上が含まれていてもよい。第1電子受容性化合物が2種以上含まれている場合は、合計の含有量が上記範囲であることが好ましい。
The content of the first electron-accepting compound in the undercoat layer is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more from the viewpoint of suppressing the occurrence of ghost. preferable. On the other hand, from the viewpoint of forming a conductive path, the content of the first electron-accepting compound in the undercoat layer is preferably 25% by mass or less, and more preferably 20% by mass or less.
In addition, the 1st electron-accepting compound in an undercoat layer may be contained individually by 1 type, and 2 or more types may be contained. When 2 or more types of 1st electron-accepting compounds are contained, it is preferable that total content is the said range.
本実施形態における下引層は、電子受容性化合物として少なくとも一般式(A)で表される電子受容性化合物(第1電子受容性化合物)を含有するが、一般式(A)で表される電子受容性化合物以外の電子受容性化合物(以下、「第2電子受容性化合物」と記す場合がある。)を含有してもよい。 The undercoat layer in the present embodiment contains at least the electron accepting compound (first electron accepting compound) represented by the general formula (A) as the electron accepting compound, and is represented by the general formula (A). An electron-accepting compound other than the electron-accepting compound (hereinafter sometimes referred to as “second electron-accepting compound”) may be contained.
第2電子受容性化合物としては、好ましくは酸性基を持つ電子受容性化合物が適用される。この酸性基としては、水酸基(フェノール水酸基)、カルボキシル基、スルホニル基等が挙げられる。
第2電子受容性化合物として具体的には、例えば、キノン系、アントラキノン系、クマリン系、フタロシアニン系、トリフェニルメタン系、アントシアニン系、フラボン系、フラーレン系、ルテニウム錯体、キサンテン系、ベンゾキサジン系、ポルフィリン系の化合物が挙げられる。
特に、第2電子受容性化合物としては、ハーフトーン画像の濃度ムラを抑制すると共に、材料の安全性、入手性、電子輸送能力を考慮すると、アントラキノン系の材料(アントラキノン誘導体)が望ましく、特に下記一般式(1)で表される化合物であるが望ましい。なお、アントラキノン誘導体とは、アントラキノン骨格を有する化合物を意味する。
これらの中でも、一般式(1)で表される化合物のうち、R11及びR12が各々独立に炭素数1以上10以下のアルコキシ基を示す化合物がよい。
As the second electron-accepting compound, an electron-accepting compound having an acidic group is preferably used. Examples of the acidic group include a hydroxyl group (phenolic hydroxyl group), a carboxyl group, and a sulfonyl group.
Specific examples of the second electron-accepting compound include quinone, anthraquinone, coumarin, phthalocyanine, triphenylmethane, anthocyanin, flavone, fullerene, ruthenium complex, xanthene, benzoxazine, porphyrin. Compounds of the system.
In particular, the second electron-accepting compound is preferably an anthraquinone-based material (anthraquinone derivative) in consideration of suppressing the density unevenness of the halftone image and considering the safety, availability, and electron transport capability of the material. Although it is a compound represented by General formula (1), it is desirable. An anthraquinone derivative means a compound having an anthraquinone skeleton.
Among these, among the compounds represented by the general formula (1), a compound in which R 11 and R 12 each independently represents an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms is preferable.
一般式(1)中、n1及びn2は、各々独立に0以上3以下の整数を表す。但し、n1及びn2の少なくとも一方は、各々独立に1以上3以下の整数を表す(つまり、n1及びn2が同時に0を表さない)。m1及びm2は、各々独立に0又は1の整数を示す。R11及びR12は、各々独立に炭素数1以上10以下のアルキル基、又は炭素数1以上10以下のアルコキシ基を表す。 In general formula (1), n1 and n2 each independently represent an integer of 0 or more and 3 or less. However, at least one of n1 and n2 independently represents an integer of 1 or more and 3 or less (that is, n1 and n2 do not simultaneously represent 0). m1 and m2 each independently represent an integer of 0 or 1. R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.
また、第2電子受容性化合物としては、下記一般式(2)で表される化合物であってもよい。 The second electron-accepting compound may be a compound represented by the following general formula (2).
一般式(2)中、n1、n2、n3、及びn4は、各々独立に0以上3以下の整数を表す。m1及びm2は、各々独立に0又は1の整数を示す。n1及びn2の少なくとも一方は、各々独立に1以上3以下の整数を表す(つまり、n1及びn2が同時に0を表さない)。n3及びn4の少なくとも一方は、各々独立に1以上3以下の整数を表す(つまり、n3及びn4が同時に0を表さない)。rは、2以上10以下の整数を示す。R11及びR12は、各々独立に炭素数1以上10以下のアルキル基、又は炭素数1以上10以下のアルコキシ基を表す。 In general formula (2), n1, n2, n3, and n4 each independently represent an integer of 0 or more and 3 or less. m1 and m2 each independently represent an integer of 0 or 1. At least one of n1 and n2 independently represents an integer of 1 or more and 3 or less (that is, n1 and n2 do not simultaneously represent 0). At least one of n3 and n4 each independently represents an integer of 1 or more and 3 or less (that is, n3 and n4 do not simultaneously represent 0). r represents an integer of 2 or more and 10 or less. R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.
ここで、一般式(1)及び(2)中、R11及びR12が表す炭素数1以上10以下のアルキル基としては、直鎖状、又は分枝状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。炭素数1以上10以下のアルキル基としては、望ましくは1以上8以下のアルキル基、より望ましくは1以上6以下のアルキル基である。
R11及びR12が表す炭素数1以上10以下のアルコキシ基(アルコキシル基)としては、直鎖状、又は分枝状のいずれでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。炭素数1以上10以下のアルコキシ基としては、望ましくは1以上8以下のアルコキシル基、より望ましくは1以上6以下のアルコキシル基である。
Here, in the general formulas (1) and (2), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 11 and R 12 may be linear or branched, for example, a methyl group , Ethyl group, propyl group, isopropyl group and the like. The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
The alkoxy group (alkoxyl group) having 1 to 10 carbon atoms represented by R 11 and R 12 may be either linear or branched, for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group Etc. The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms is preferably an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms.
第2電子受容性化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the second electron-accepting compound are shown below, but are not limited thereto.
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗(体積抵抗率)102Ωcm以上1011Ωcm以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
Examples of the inorganic particles include inorganic particles having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ωcm or more and 10 11 Ωcm or less.
Among these, as the inorganic particles having the resistance value, for example, metal oxide particles such as tin oxide particles, titanium oxide particles, zinc oxide particles, and zirconium oxide particles are preferable, and zinc oxide particles are particularly preferable.
無機粒子のBET法による比表面積は、例えば、10m2/g以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、50nm以上2000nm以下(好ましくは60nm以上1000nm以下)がよい。
The specific surface area of the inorganic particles by the BET method is preferably 10 m 2 / g or more, for example.
The volume average particle diameter of the inorganic particles is, for example, preferably from 50 nm to 2000 nm (preferably from 60 nm to 1000 nm).
無機粒子の含有量は、例えば、樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが好ましく、より好ましくは40質量%以上80質量%以下である。 For example, the content of the inorganic particles is preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less with respect to the resin.
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを2種以上混合して用いてもよい。 The inorganic particles may be subjected to a surface treatment. Two or more inorganic particles having different surface treatments or particles having different particle diameters may be mixed and used.
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。 Examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, and a surfactant. In particular, a silane coupling agent is preferable, and an amino group-containing silane coupling agent is more preferable.
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the silane coupling agent having an amino group include 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-2- (aminoethyl) -3-amino. Examples include, but are not limited to, propylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, and the like.
シランカップリング剤は、2種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Two or more silane coupling agents may be used in combination. For example, a silane coupling agent having an amino group and another silane coupling agent may be used in combination. Other silane coupling agents include, for example, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycol. Sidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, and the like, but are not limited thereto. It is not a thing.
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。 The surface treatment method using the surface treatment agent may be any method as long as it is a known method, and may be either a dry method or a wet method.
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が好ましい。 The treatment amount of the surface treatment agent is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the inorganic particles, for example.
ここで、下引層は、無機粒子と共に前記電子受容性化合物(第1電子受容性化合物、必要に応じて第2電子受容性化合物)を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。 Here, the undercoat layer contains the electron-accepting compound (first electron-accepting compound and, if necessary, the second electron-accepting compound) together with the inorganic particles. It is good from the viewpoint of improving the nature.
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。 The electron-accepting compound may be dispersed and included in the undercoat layer together with the inorganic particles, or may be included in a state of being attached to the surface of the inorganic particles.
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。 Examples of the method for attaching the electron accepting compound to the surface of the inorganic particles include a dry method and a wet method.
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。 In the dry method, for example, while stirring inorganic particles with a mixer having a large shearing force or the like, an electron-accepting compound dissolved directly or in an organic solvent is dropped and sprayed with dry air or nitrogen gas. It is a method of adhering to the surface of inorganic particles. When the electron-accepting compound is dropped or sprayed, it is preferably performed at a temperature not higher than the boiling point of the solvent. After dropping or spraying the electron-accepting compound, baking may be performed at 100 ° C. or higher. The baking is not particularly limited as long as it is a temperature and time for obtaining electrophotographic characteristics.
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。 In the wet method, for example, an electron-accepting compound is added while dispersing inorganic particles in a solvent by stirring, ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, etc., and after stirring or dispersing, the solvent is removed to remove electrons. This is a method of attaching a receptive compound to the surface of inorganic particles. The solvent removal method is distilled off by filtration or distillation, for example. After removing the solvent, baking may be performed at 100 ° C. or higher. The baking is not particularly limited as long as it is a temperature and time for obtaining electrophotographic characteristics. In the wet method, the water content of the inorganic particles may be removed before adding the electron-accepting compound. Examples thereof include a method of removing while stirring and heating in a solvent, and a method of removing by azeotropic distillation with a solvent. Can be mentioned.
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。 The attachment of the electron-accepting compound may be performed before or after the surface treatment with the surface treatment agent is performed on the inorganic particles, or may be performed simultaneously with the attachment of the electron-accepting compound and the surface treatment with the surface treatment agent.
下引層が、金属酸化物粒子を含有する場合、電子受容性化合物の合計含有量(第1電子受容性化合物及び第2電子受容性化合物を含む場合はそれらの合計含有量)は、化学反応又は吸着する相手である金属酸化物粒子の表面積及び含有量と、各材料の電子輸送能力から決められるが、通常は0.01質量%以上20質量%以下の範囲がよく、より望ましくは0.1質量%以上10質量%以下の範囲である。電子受容性化合物の含有量が0.1質量%以上であると電子受容性化合物の効果が発現し易い。また、電子受容性化合物の含有量が20質量%以下であると金属酸化物粒子同士の凝集が抑制され、金属酸化物粒子が下引層内で分布が均等になり易く、良好な導電路を形成し易い。そのため、残留電位の上昇が抑制され、ゴーストの発生が効果的に抑制される。 When the undercoat layer contains metal oxide particles, the total content of electron-accepting compounds (the total content of the first electron-accepting compound and the second electron-accepting compound when they are included) is a chemical reaction Alternatively, it is determined from the surface area and content of the metal oxide particles to be adsorbed and the electron transport ability of each material, but it is usually in the range of 0.01% by mass or more and 20% by mass or less. It is the range of 1 mass% or more and 10 mass% or less. When the content of the electron accepting compound is 0.1% by mass or more, the effect of the electron accepting compound is easily exhibited. Further, when the content of the electron-accepting compound is 20% by mass or less, aggregation of the metal oxide particles is suppressed, and the distribution of the metal oxide particles tends to be uniform in the undercoat layer, and a good conductive path is obtained. Easy to form. Therefore, the increase in residual potential is suppressed, and the occurrence of ghost is effectively suppressed.
また、ゴーストの発生をより効果的に抑制する観点から、金属酸化物粒子100質量部に対して一般式(A)で表される電子受容性化合物(第1電子受容性化合物)を1質量部以上5質量部以下含有することが好ましく、1.5質量部以上4.5質量部以下含有することがより好ましい。なお、下引層が2種以上の第1電子受容性化合物を含む場合は、金属酸化物粒子100質量部に対する2種以上の第1電子受容性化合物の合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。 Moreover, from a viewpoint of suppressing generation | occurrence | production of a ghost more effectively, 1 mass part of electron-accepting compounds (1st electron-accepting compound) represented by general formula (A) with respect to 100 mass parts of metal oxide particles are used. The content is preferably 5 parts by mass or less, more preferably 1.5 parts by mass or more and 4.5 parts by mass or less. When the undercoat layer contains two or more kinds of first electron-accepting compounds, the total content of the two or more kinds of first electron-accepting compounds with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles may be in the above range. preferable.
下引層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物;ジルコニウムキレート化合物;チタニウムキレート化合物;アルミニウムキレート化合物;チタニウムアルコキシド化合物;有機チタニウム化合物;シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂(例えばポリアニリン等)等も挙げられる。
Examples of the resin used for the undercoat layer include acetal resins (eg, polyvinyl butyral), polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, casein resins, polyamide resins, cellulose resins, gelatin, polyurethane resins, polyester resins, unsaturated polyester resins, Methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, urethane resin , Known polymer compounds such as alkyd resins and epoxy resins; zirconium chelate compounds; titanium chelate compounds; aluminum chelate compounds; titanium alkoxide compounds; Machine titanium compound; known materials such as a silane coupling agent.
Examples of the resin used for the undercoat layer include a charge transporting resin having a charge transporting group and a conductive resin (for example, polyaniline).
これらの中でも、下引層に用いる樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
Among these, as the resin used for the undercoat layer, a resin insoluble in the upper layer coating solvent is suitable, and in particular, a urea resin, a phenol resin, a phenol-formaldehyde resin, a melamine resin, a urethane resin, an unsaturated polyester resin, Thermosetting resins such as alkyd resins and epoxy resins; at least one resin selected from the group consisting of polyamide resins, polyester resins, polyether resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl alcohol resins and polyvinyl acetal resins and a curing agent Resins obtained by reaction with are preferred.
When two or more of these resins are used in combination, the mixing ratio is set as necessary.
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
The undercoat layer may contain various additives for improving electrical characteristics, improving environmental stability, and improving image quality.
Additives include known materials such as electron transport pigments such as polycyclic condensation systems and azo systems, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, and silane coupling agents. It is done. The silane coupling agent is used for the surface treatment of the inorganic particles as described above, but may be further added to the undercoat layer as an additive.
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent as the additive include vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (Aminoethyl) -3-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。 Examples of the zirconium chelate compound include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。 Examples of the titanium chelate compound include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, and titanium lactate ammonium salt. , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。 Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。 These additives may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.
下引層は、ビッカース硬度が35以上であることがよい。
下引層の表面粗さ(十点平均粗さ)は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの1/(4n)(nは上層の屈折率)から(1/2)λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
The undercoat layer preferably has a Vickers hardness of 35 or more.
The surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer is from 1 / (4n) (n is the refractive index of the upper layer) of the exposure laser wavelength λ used to suppress the moire image (1/2). ) It is preferable that the adjustment is made up to λ.
Resin particles or the like may be added to the undercoat layer for adjusting the surface roughness. Examples of the resin particles include silicone resin particles and cross-linked polymethyl methacrylate resin particles. Further, the surface of the undercoat layer may be polished for adjusting the surface roughness. Examples of the polishing method include buffing, sandblasting, wet honing, and grinding.
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。 There is no particular limitation on the formation of the undercoat layer, and a well-known formation method is used. For example, a coating film for forming an undercoat layer in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried. And heating as necessary.
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
Solvents for preparing the coating solution for forming the undercoat layer include known organic solvents such as alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone solvents, ketone alcohol solvents, ether solvents. Examples include solvents and ester solvents.
Specific examples of these solvents include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, Examples include ordinary organic solvents such as n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene.
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。 Examples of the dispersion method of the inorganic particles when preparing the coating liquid for forming the undercoat layer include known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker.
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Examples of the method for applying the coating liquid for forming the undercoat layer onto the conductive substrate include, for example, a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain coating method. The usual methods such as these are mentioned.
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上50μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the undercoat layer is, for example, preferably set in the range of 15 μm or more, more preferably 20 μm or more and 50 μm or less.
(中間層)
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
(Middle layer)
Although illustration is omitted, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer.
An intermediate | middle layer is a layer containing resin, for example. Examples of the resin used for the intermediate layer include an acetal resin (for example, polyvinyl butyral), polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, casein resin, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, Polymer compounds such as polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, and the like can be given.
The intermediate layer may be a layer containing an organometallic compound. Examples of the organometallic compound used for the intermediate layer include organometallic compounds containing metal atoms such as zirconium, titanium, aluminum, manganese, and silicon.
The compounds used for these intermediate layers may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。 Among these, the intermediate layer is preferably a layer containing an organometallic compound containing a zirconium atom or a silicon atom.
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
The formation of the intermediate layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. For example, a coating film of an intermediate layer forming coating solution in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried and necessary. It is performed by heating according to.
As the coating method for forming the intermediate layer, usual methods such as a dip coating method, a push-up coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a blade coating method, a knife coating method, and a curtain coating method are used.
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上3μm以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。 For example, the thickness of the intermediate layer is preferably set in a range of 0.1 μm to 3 μm. An intermediate layer may be used as the undercoat layer.
(電荷発生層)
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、LED(Light Emitting Diode)、有機EL(Electro−Luminescence)イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
(Charge generation layer)
The charge generation layer is, for example, a layer containing a charge generation material and a resin. The charge generation layer may be a vapor deposition layer of a charge generation material. The vapor-deposited layer of the charge generation material is suitable when an incoherent light source such as an LED (Light Emitting Diode) or an organic EL (Electro-Luminescence) image array is used.
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料;ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;ペリレン顔料;ピロロピロール顔料;フタロシアニン顔料;酸化亜鉛;三方晶系セレン等が挙げられる。 Examples of the charge generating material include azo pigments such as bisazo and trisazo; fused aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; perylene pigments; pyrrolopyrrole pigments; phthalocyanine pigments; zinc oxide;
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平5−263007号公報、特開平5−279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン;特開平5−98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン;特開平5−140472号公報、特開平5−140473号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン;特開平4−189873号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。 Among these, in order to cope with near-infrared laser exposure, it is preferable to use a metal phthalocyanine pigment or a metal-free phthalocyanine pigment as the charge generation material. Specifically, for example, hydroxygallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-263007, JP-A-5-279591, etc .; chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181; More preferred are dichlorotin phthalocyanines disclosed in JP-A No. 140472, JP-A No. 5-140473 and the like; and titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A No. 4-189873.
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;チオインジゴ系顔料;ポルフィラジン化合物;酸化亜鉛;三方晶系セレン;特開2004−78147号公報、特開2005−181992号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。 On the other hand, in order to cope with laser exposure in the near-ultraviolet region, as the charge generation material, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; thioindigo pigments; porphyrazine compounds; zinc oxide; trigonal selenium; Bisazo pigments and the like disclosed in 2004-78147 and JP-A-2005-181992 are preferred.
450nm以上780nm以下に発光の中心波長があるLED,有機ELイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を20μm以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のp−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。 The above-described charge generation material may also be used in the case of using an incoherent light source such as an LED having a central wavelength of light emission of 450 nm to 780 nm and an organic EL image array. However, from the viewpoint of resolution, the photosensitive layer is 20 μm or less. When the thin film is used, the electric field strength in the photosensitive layer is increased, and a charge decrease due to charge injection from the substrate, that is, an image defect called a black spot is likely to occur. This becomes conspicuous when a charge generating material that easily generates a dark current is used in a p-type semiconductor such as trigonal selenium or a phthalocyanine pigment.
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のn−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。n−型の電荷発生材料としては、例えば、特開2012−155282号公報の段落[0288]〜[0291]に記載された化合物(CG−1)〜(CG−27)が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、n−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn−型とする。
On the other hand, when an n-type semiconductor such as a condensed ring aromatic pigment, perylene pigment, azo pigment or the like is used as the charge generation material, dark current hardly occurs and even a thin film can suppress image defects called black spots. . Examples of the n-type charge generation material include compounds (CG-1) to (CG-27) described in paragraphs [0288] to [0291] of JP2012-155282A. It is not limited.
The n-type determination is performed by using a time-of-flight method that is usually used, and is determined by the polarity of the flowing photocurrent, and an n-type is more likely to flow electrons as carriers than holes.
電荷発生層に用いる樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、樹脂としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。
これらの樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。
The resin used for the charge generation layer is selected from a wide range of insulating resins, and the resin may be selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, and polysilane. Good.
Examples of the resin include polyvinyl butyral resin, polyarylate resin (polycondensate of bisphenols and aromatic divalent carboxylic acid, etc.), polycarbonate resin, polyester resin, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyamide resin. , Acrylic resin, polyacrylamide resin, polyvinyl pyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, casein, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, and the like. Here, “insulating” means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more.
These resins are used alone or in combination of two or more.
なお、電荷発生材料と樹脂の配合比は、質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが好ましい。 The mixing ratio of the charge generation material and the resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10 by mass ratio.
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 In addition, the charge generation layer may contain a known additive.
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。 The formation of the charge generation layer is not particularly limited, and a known formation method is used. For example, a coating film of a charge generation layer forming coating solution in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried. And heating as necessary. The charge generation layer may be formed by vapor deposition of a charge generation material. Formation of the charge generation layer by vapor deposition is particularly suitable when a condensed ring aromatic pigment or perylene pigment is used as the charge generation material.
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いる。 Solvents for preparing the charge generation layer forming coating solution include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, n-acetate. -Butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more.
電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下、更に好ましくは0.15μm以下にすることが有効である。
Examples of a method for dispersing particles (for example, a charge generation material) in a coating solution for forming a charge generation layer include, for example, a media disperser such as a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, a stirring, an ultrasonic disperser, etc. Medialess dispersers such as roll mills and high-pressure homogenizers are used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which a dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high pressure state, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high pressure state.
In this dispersion, it is effective that the average particle size of the charge generation material in the coating solution for forming the charge generation layer is 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.15 μm or less. .
電荷発生層形成用塗布液を下引層上(又は中間層上)に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Examples of methods for applying the charge generation layer forming coating solution on the undercoat layer (or on the intermediate layer) include blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, and air knife coating. And usual methods such as a curtain coating method.
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上5.0μm以下、より好ましくは0.2μm以上2.0μm以下の範囲内に設定される。 The film thickness of the charge generation layer is, for example, preferably set in the range of 0.1 μm to 5.0 μm, more preferably 0.2 μm to 2.0 μm.
(電荷輸送層)
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
(Charge transport layer)
The charge transport layer is, for example, a layer containing a charge transport material and a resin. The charge transport layer may be a layer containing a polymer charge transport material.
電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物;キサントン系化合物;ベンゾフェノン系化合物;シアノビニル系化合物;エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は1種を単独で又は2種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of charge transport materials include quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl and anthraquinone; tetracyanoquinodimethane compounds; fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone; xanthone compounds; benzophenone compounds A cyanovinyl compound; an electron transporting compound such as an ethylene compound; Examples of the charge transporting material include hole transporting compounds such as triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, and hydrazone compounds. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more, but are not limited thereto.
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体が好ましい。 As the charge transport material, from the viewpoint of charge mobility, a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2) are preferable.
構造式(a−1)中、ArT1、ArT2、及びArT3は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−C6H4−C(RT4)=C(RT5)(RT6)、又は−C6H4−CH=CH−CH=C(RT7)(RT8)を示す。RT4、RT5、RT6、RT7、及びRT8は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In Structural Formula (a-1), Ar T1 , Ar T2 , and Ar T3 are each independently a substituted or unsubstituted aryl group, —C 6 H 4 —C (R T4 ) ═C (R T5 ) (R T6), or -C 6 H 4 -CH = CH- CH = C (R T7) shows the (R T8). R T4 , R T5 , R T6 , R T7 , and R T8 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
Examples of the substituent for each group include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the substituent of each group also include a substituted amino group substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
構造式(a−2)中、RT91及びRT92は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は炭素数1以上5以下のアルコキシ基を示す。RT101、RT102、RT111及びRT112は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−C(RT12)=C(RT13)(RT14)、又は−CH=CH−CH=C(RT15)(RT16)を示し、RT12、RT13、RT14、RT15及びRT16は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Tm1、Tm2、Tn1及びTn2は各々独立に0以上2以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In Structural Formula (a-2), R T91 and R T92 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. R T101 , R T102 , R T111 and R T112 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. A substituted amino group, a substituted or unsubstituted aryl group, —C (R T12 ) ═C (R T13 ) (R T14 ), or —CH═CH— CH═C (R T15 ) (R T16 ), R T12 , R T13 , R T14 , R T15 and R T16 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Tm1, Tm2, Tn1, and Tn2 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less.
Examples of the substituent for each group include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the substituent of each group also include a substituted amino group substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
ここで、構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−C6H4−CH=CH−CH=C(RT7)(RT8)」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−CH=CH−CH=C(RT15)(RT16)」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。 Here, among the triarylamine derivative represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivative represented by the structural formula (a-2), in particular, “—C 6 H 4 —CH═CH—CH═ Triarylamine derivatives having “C (R T7 ) (R T8 )” and benzidine derivatives having “—CH═CH— CH═C (R T15 ) (R T16 )” are preferable from the viewpoint of charge mobility.
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、樹脂と併用してもよい。 As the polymer charge transporting material, known materials having charge transporting properties such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane are used. In particular, polyester-based polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293, JP-A-8-208820 and the like are particularly preferable. The polymeric charge transport material may be used alone or in combination with a resin.
電荷輸送層に用いる樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの樹脂は1種を単独で又は2種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と樹脂との配合比は、質量比で10:1から1:5までが好ましい。
The resin used for the charge transport layer is polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene chloride. -Acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly-N-vinyl Examples thereof include carbazole and polysilane. Among these, polycarbonate resin or polyarylate resin is suitable as the resin. These resins are used alone or in combination of two or more.
The mixing ratio of the charge transport material and the resin is preferably 10: 1 to 1: 5 by mass ratio.
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 In addition, the charge transport layer may contain a known additive.
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。 The formation of the charge transport layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. This is done by heating as necessary.
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、2−ブタノン等のケトン類;塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は2種以上混合して用いる。 Solvents for preparing the coating solution for forming the charge transport layer include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; ketones such as acetone and 2-butanone; methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Halogenated aliphatic hydrocarbons: Usual organic solvents such as cyclic or linear ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether. These solvents are used alone or in combination of two or more.
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Coating methods for applying the charge transport layer forming coating solution on the charge generation layer include blade coating method, wire bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, curtain A usual method such as a coating method may be mentioned.
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは5μm以上50μm以下、より好ましくは10μm以上30μm以下の範囲内に設定される。 The film thickness of the charge transport layer is, for example, preferably set in the range of 5 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 30 μm.
(保護層)
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜(架橋膜)で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記1)又は2)に示す層が挙げられる。
(Protective layer)
The protective layer is provided on the photosensitive layer as necessary. The protective layer is provided, for example, for the purpose of preventing chemical change of the photosensitive layer during charging or further improving the mechanical strength of the photosensitive layer.
Therefore, it is preferable to apply a layer composed of a cured film (crosslinked film) as the protective layer. Examples of these layers include the layers shown in 1) or 2) below.
1)反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層(つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層)
2)非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層(つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層)
1) A layer composed of a cured film of a composition containing a reactive group-containing charge transporting material having a reactive group and a charge transporting skeleton in the same molecule (that is, a polymer or cross-linking of the reactive group-containing charge transporting material) Layer containing body)
2) a layer composed of a cured film of a composition comprising a non-reactive charge transport material and a reactive group-containing non-charge transport material having a reactive group and having no charge transport skeleton (that is, A layer comprising a non-reactive charge transport material and a polymer or a cross-linked product of the reactive group-containing non-charge transport material)
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−OH、−OR[但し、Rはアルキル基を示す]、−NH2、−SH、−COOH、−SiRQ1 3−Qn(ORQ2)Qn[但し、RQ1は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、RQ2は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Qnは1〜3の整数を表す]等の周知の反応性基が挙げられる。 The reactive group of the reactive group-containing charge transport material includes a chain polymerizable group, an epoxy group, —OH, —OR [wherein R represents an alkyl group], —NH 2 , —SH, —COOH, —SiR. Q1 3-Qn (OR Q2 ) Qn [wherein R Q1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and R Q2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a trialkylsilyl group. Qn represents an integer of 1 to 3], and the like, and other well-known reactive groups.
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、ビニルフェニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。 The chain polymerizable group is not particularly limited as long as it is a functional group capable of radical polymerization. For example, it is a functional group having a group containing at least a carbon double bond. Specific examples include a group containing at least one selected from a vinyl group, a vinyl ether group, a vinyl thioether group, a vinyl phenyl group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and derivatives thereof. Among these, because of its excellent reactivity, the chain polymerizable group is a group containing at least one selected from a vinyl group, a vinylphenyl group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and derivatives thereof. Preferably there is.
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。 The charge transporting skeleton of the reactive group-containing charge transporting material is not particularly limited as long as it is a known structure in an electrophotographic photoreceptor, and examples thereof include triarylamine compounds, benzidine compounds, hydrazone compounds, and the like. And a structure conjugated from a nitrogen-containing hole transporting compound and conjugated with a nitrogen atom. Among these, a triarylamine skeleton is preferable.
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。 The reactive group-containing charge transport material having a reactive group and a charge transport skeleton, a non-reactive charge transport material, and a reactive group-containing non-charge transport material may be selected from well-known materials.
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 In addition, the protective layer may contain known additives.
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。 The formation of the protective layer is not particularly limited, and a well-known forming method is used. It is performed by performing a curing process such as heating as necessary.
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤;イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は2種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
Solvents for preparing the coating solution for forming the protective layer include aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; tetrahydrofuran And ether solvents such as dioxane; cellosolv solvents such as ethylene glycol monomethyl ether; alcohol solvents such as isopropyl alcohol and butanol. These solvents are used alone or in combination of two or more.
The protective layer forming coating solution may be a solventless coating solution.
保護層形成用塗布液を感光層(例えば電荷輸送層)上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 As a method for applying the coating solution for forming the protective layer on the photosensitive layer (for example, charge transport layer), dip coating method, push-up coating method, wire bar coating method, spray coating method, blade coating method, knife coating method, curtain coating method. Ordinary methods such as a method may be mentioned.
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは1μm以上20μm以下、より好ましくは2μm以上10μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the protective layer is, for example, preferably set in the range of 1 μm to 20 μm, more preferably 2 μm to 10 μm.
なお、保護層の有無に関わらず、表面の摩耗を抑制して長寿命とする観点から、最表面層がフッ素樹脂を含有することが好ましい。
最表面層に含み得るフッ素樹脂としては、例えば、4フッ化エチレン樹脂、3フッ化塩化エチレン樹脂、2フッ化2塩化エチレン樹脂、6フッ化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、及びこれらの共重合体が挙げられる。これらのフッ素含有樹脂粒子を1種類単独で用いてもよいし、2種類以上混合して用いてもよい。
Regardless of the presence or absence of the protective layer, it is preferable that the outermost surface layer contains a fluororesin from the viewpoint of suppressing the surface abrasion and extending the life.
Examples of the fluororesin that can be included in the outermost surface layer include, for example, a tetrafluoroethylene resin, a trifluorinated ethylene chloride resin, a difluorinated dichloroethylene resin, a hexafluoroethylene propylene resin, a vinyl fluoride resin, and a vinylidene fluoride resin. , And copolymers thereof. These fluorine-containing resin particles may be used alone or in combination of two or more.
フッ素含有樹脂粒子の粒径は平均1次粒径が100nm以上1000nm以下であることが望ましく、フッ素含有樹脂粒子の含有量は最表面層に対して5質量%以上15質量%以下であることが望ましい。フッ素含有樹脂粒子の平均1次粒径は、SEM(走査型電子顕微鏡)により観察し測定される値であり、無作為に選んだ25個のフッ素含有樹脂粒子について測定した平均値である。 The average particle size of the fluorine-containing resin particles is preferably 100 nm or more and 1000 nm or less, and the content of the fluorine-containing resin particles is 5% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the outermost surface layer. desirable. The average primary particle diameter of the fluorine-containing resin particles is a value observed and measured by SEM (scanning electron microscope), and is an average value measured for 25 randomly selected fluorine-containing resin particles.
(単層型感光層)
単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して10質量%以上85質量%以下がよく、好ましくは20質量%以上50質量%以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して5質量%以上50質量%以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、5μm以上50μm以下がよく、好ましくは10μm以上40μm以下である。
(Single layer type photosensitive layer)
The single-layer type photosensitive layer (charge generation / charge transport layer) is, for example, a layer containing a charge generation material, a charge transport material, and, if necessary, a resin and other well-known additives. Note that these materials are the same as those described for the charge generation layer and the charge transport layer.
In the single-layer type photosensitive layer, the content of the charge generating material is preferably 10% by mass or more and 85% by mass or less, and preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total solid content. In the single-layer type photosensitive layer, the content of the charge transport material is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less based on the total solid content.
The method for forming the single-layer type photosensitive layer is the same as the method for forming the charge generation layer and the charge transport layer.
The film thickness of the single-layer type photosensitive layer is, for example, from 5 μm to 50 μm, and preferably from 10 μm to 40 μm.
[画像形成装置(及びプロセスカートリッジ)]
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
[Image forming apparatus (and process cartridge)]
The image forming apparatus according to the present embodiment includes an electrophotographic photosensitive member, a charging unit that charges the surface of the electrophotographic photosensitive member, and an electrostatic latent image formation that forms an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member. Means, developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner to form a toner image, and transfer means for transferring the toner image to the surface of the recording medium; Is provided. The electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment is applied as the electrophotographic photosensitive member.
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置;トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置;トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置;電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。 The image forming apparatus according to the present embodiment includes an apparatus having fixing means for fixing a toner image transferred to the surface of a recording medium; direct transfer for directly transferring the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to the recording medium Type apparatus; intermediate transfer in which the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member is primarily transferred onto the surface of the intermediate transfer member, and the toner image transferred onto the surface of the intermediate transfer member is secondarily transferred onto the surface of the recording medium. Type of apparatus; apparatus with cleaning means for cleaning the surface of the electrophotographic photosensitive member after the toner image is transferred and before charging; after the toner image is transferred, the surface of the electrophotographic photosensitive member is irradiated with a charge eliminating light before charging. A known image forming apparatus such as an apparatus provided with an electrophotographic photoreceptor heating member for raising the temperature of the electrophotographic photoreceptor and reducing the relative temperature is applied.
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。 In the case of an intermediate transfer type apparatus, the transfer means includes, for example, an intermediate transfer body on which a toner image is transferred to the surface, and a primary transfer that primarily transfers the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to the surface of the intermediate transfer body. A configuration including a transfer unit and a secondary transfer unit that secondarily transfers the toner image transferred onto the surface of the intermediate transfer member onto the surface of the recording medium is applied.
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式(液体現像剤を利用した現像方式)の画像形成装置のいずれであってもよい。 The image forming apparatus according to the present embodiment may be either a dry developing type image forming apparatus or a wet developing type (developing type using a liquid developer).
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造(プロセスカートリッジ)であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。 Note that in the image forming apparatus according to the present embodiment, for example, the portion including the electrophotographic photosensitive member may have a cartridge structure (process cartridge) that is detachable from the image forming apparatus. As the process cartridge, for example, a process cartridge including the electrophotographic photosensitive member according to this embodiment is preferably used. In addition to the electrophotographic photosensitive member, the process cartridge may include at least one selected from the group consisting of a charging unit, an electrostatic latent image forming unit, a developing unit, and a transfer unit.
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。 Hereinafter, an example of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described, but the present invention is not limited thereto. In addition, the main part shown to a figure is demonstrated and the description is abbreviate | omitted about others.
図7は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置100は、図7に示すように、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9(静電潜像形成手段の一例)と、転写装置40(一次転写装置)と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体50に転写されたトナー像を記録媒体(例えば用紙)に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体50、転写装置40(一次転写装置)、及び二次転写装置(不図示)が転写手段の一例に相当する。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an image forming apparatus according to the present embodiment.
As shown in FIG. 7, the image forming apparatus 100 according to this embodiment includes a process cartridge 300 including an electrophotographic photosensitive member 7, an exposure device 9 (an example of an electrostatic latent image forming unit), and a transfer device 40 (primary. Transfer device) and an intermediate transfer member 50. In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is disposed at a position where the electrophotographic photosensitive member 7 can be exposed from the opening of the process cartridge 300, and the transfer device 40 is interposed between the electrophotographic photosensitive member via the intermediate transfer member 50. 7, and a part of the intermediate transfer member 50 is disposed in contact with the electrophotographic photosensitive member 7. Although not shown, it also has a secondary transfer device that transfers the toner image transferred to the intermediate transfer member 50 to a recording medium (for example, paper). The intermediate transfer member 50, the transfer device 40 (primary transfer device), and the secondary transfer device (not shown) correspond to an example of a transfer unit.
図7におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8(帯電手段の一例)、現像装置11(現像手段の一例)、及びクリーニング装置13(クリーニング手段の一例)を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材の一例)131を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード131の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード131と併用してもよい。 In the process cartridge 300 in FIG. 7, an electrophotographic photosensitive member 7, a charging device 8 (an example of a charging unit), a developing device 11 (an example of a developing unit), and a cleaning device 13 (an example of a cleaning unit) are integrated in a housing. I support it. The cleaning device 13 includes a cleaning blade (an example of a cleaning member) 131, and the cleaning blade 131 is disposed so as to contact the surface of the electrophotographic photosensitive member 7. The cleaning member may be a conductive or insulating fibrous member instead of the cleaning blade 131, and may be used alone or in combination with the cleaning blade 131.
なお、図7には、画像形成装置として、潤滑材14を電子写真感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、及び、クリーニングを補助する繊維状部材133(平ブラシ状)を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。 In FIG. 7, as an image forming apparatus, a fibrous member 132 (roll shape) for supplying the lubricant 14 to the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 and a fibrous member 133 (flat brush shape) for assisting cleaning are shown. Examples are provided, but these are arranged as necessary.
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。 Hereinafter, each configuration of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described.
−帯電装置−
帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
-Charging device-
As the charging device 8, for example, a contact type charger using a conductive or semiconductive charging roller, a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, a charging tube or the like is used. Further, a non-contact type roller charger, a known charger such as a scorotron charger using a corona discharge or a corotron charger may be used.
−露光装置−
露光装置9としては、例えば、電子写真感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザや青色レーザとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
-Exposure device-
Examples of the exposure device 9 include optical system devices that expose the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 with light such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light in a predetermined image-like manner. The wavelength of the light source is set within the spectral sensitivity region of the electrophotographic photosensitive member. As the wavelength of the semiconductor laser, near infrared having an oscillation wavelength near 780 nm is the mainstream. However, the present invention is not limited to this wavelength, and an oscillation wavelength laser in the 600 nm range or a laser having an oscillation wavelength of 400 nm to 450 nm as a blue laser may be used. In addition, a surface-emitting type laser light source that can output a multi-beam is also effective for color image formation.
−現像装置−
現像装置11としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置11としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
-Developer-
Examples of the developing device 11 include a general developing device that performs development by bringing a developer into contact or non-contact with the developer. The developing device 11 is not particularly limited as long as it has the functions described above, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of attaching a one-component developer or a two-component developer to the electrophotographic photosensitive member 7 using a brush, a roller, or the like can be used. Among these, those using a developing roller holding the developer on the surface are preferable.
現像装置11に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。 The developer used in the developing device 11 may be a one-component developer including a toner alone or a two-component developer including a toner and a carrier. Further, the developer may be magnetic or non-magnetic. A well-known thing is applied for these developers.
−クリーニング装置−
クリーニング装置13は、クリーニングブレード131を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
-Cleaning device-
As the cleaning device 13, a cleaning blade type device including a cleaning blade 131 is used.
In addition to the cleaning blade method, a fur brush cleaning method and a simultaneous development cleaning method may be employed.
−転写装置−
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
-Transfer device-
As the transfer device 40, for example, a contact transfer charger using a belt, a roller, a film, a rubber blade, etc., or a known transfer charger such as a scorotron transfer charger using a corona discharge or a corotron transfer charger. Can be mentioned.
−中間転写体−
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
-Intermediate transfer member-
As the intermediate transfer member 50, a belt-like member (intermediate transfer belt) containing polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber or the like having semiconductivity is used. Further, as the form of the intermediate transfer member, a drum-like one may be used in addition to the belt-like.
図8は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図8に示す画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram illustrating another example of the image forming apparatus according to the present embodiment.
An image forming apparatus 120 shown in FIG. 8 is a tandem multicolor image forming apparatus equipped with four process cartridges 300. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for one color. The image forming apparatus 120 has the same configuration as that of the image forming apparatus 100 except that it is a tandem system.
以下、実施例により本実施形態を詳細に説明するが、本実施形態は、これら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の説明において、特に断りのない限り、「部」及び「%」はすべて質量基準である。 Hereinafter, although an embodiment explains this embodiment in detail, this embodiment is not limited to these examples at all. In the following description, “part” and “%” are all based on mass unless otherwise specified.
[表面処理例1]
酸化亜鉛(商品名:MZ−300 テイカ株式会社製)100質量部、シランカップリング剤として3−アミノプロピルトリエトキシシランの10重量%のトルエン溶液を10質量部、トルエン200質量部を混合、攪拌を行い、2時間還流を行った。その後10mmHgにてトルエンを減圧留去し、135℃で2時間焼き付け処理を行った。
[Surface treatment example 1]
100 parts by mass of zinc oxide (trade name: MZ-300 manufactured by Teika Co., Ltd.), 10 parts by mass of a 10% by weight toluene solution of 3-aminopropyltriethoxysilane as a silane coupling agent, and 200 parts by mass of toluene are mixed and stirred. And refluxed for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure at 10 mmHg, followed by baking at 135 ° C. for 2 hours.
[実施例1]
<電子写真感光体の作製>
(下引層の形成)
表面処理例1で表面処理した酸化亜鉛:33質量部、ブロック化イソシアネート(スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製):6質量部、第1電子受容性化合物として下記式(A−I)で表される電子受容性化合物(前記例示化合物(A−7)に相当):0.7質量部、メチルエチルケトン:25質量部を30分間混合した。
[Example 1]
<Production of electrophotographic photoreceptor>
(Formation of undercoat layer)
Zinc oxide surface-treated in surface treatment example 1: 33 parts by mass, blocked isocyanate (Sumijoule 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.): 6 parts by mass, represented by the following formula (AI) as the first electron-accepting compound The electron-accepting compound (corresponding to the exemplified compound (A-7)): 0.7 parts by mass and methyl ethyl ketone: 25 parts by mass were mixed for 30 minutes.
その後、ブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学工業社製):5質量部、シリコーン樹脂粒子(トスパール120、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製):3質量部、レベリング剤(シリコーンオイルSH29PA、東レダウコーニングシリコーン社製):0.01質量部を添加し、サンドミルにて2時間の分散を行い、分散液を得た。
さらに、この分散液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材1上に塗布し、180℃、30分の乾燥硬化を行い、厚さ20μmの下引層を得た。
Then, butyral resin (ESREC BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.): 5 parts by mass, silicone resin particles (Tospearl 120, manufactured by Momentive Performance Materials): 3 parts by mass, leveling agent (silicone oil SH29PA, Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.): 0.01 part by mass was added, and dispersion was performed for 2 hours with a sand mill to obtain a dispersion.
Further, this dispersion was applied onto the aluminum substrate 1 by a dip coating method, followed by drying and curing at 180 ° C. for 30 minutes to obtain an undercoat layer having a thickness of 20 μm.
(電荷発生層の形成)
次に、電荷発生材料として、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを用い、その15質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニオンカーバイト社製)10質量部、及びn−ブチルアルコール300質量部からなる混合物をサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液を、上記下引層上に浸漬塗布し、100℃、10分乾燥して、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
(Formation of charge generation layer)
Next, 15 parts by mass of hydroxygallium phthalocyanine is used as a charge generation material, 10 parts by mass of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by Nippon Union Carbide), and 300 parts by mass of n-butyl alcohol. The mixture consisting of was dispersed in a sand mill for 4 hours. The obtained dispersion was dip-coated on the undercoat layer and dried at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.
(電荷輸送層の形成)
さらに、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1、1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン 200質量部とビスフェノールZポリカーボネート樹脂(分子量4万)280質量部とをテトラヒドロフラン2000質量部を加えて溶解した後、4フッ化エチレン樹脂(ダイキン工業社製:ルブロンL5 平均粒径300nm)50質量部、シリカ粒子(日本アエロジル社製:R104)15質量部、及びフッ素系くし形ポリマー(東亜合成社製:GF400)1質量部を加え、ホモジナイザー(IKA社製:ウルトラタラックス)を用いて5000rpmで3時間分散して塗布液を作製した。得られた塗布液を電荷発生層上に塗布し、130℃、30分の乾燥を行うことにより膜厚25μmの電荷輸送層を形成した。
これにより、実施例1の感光体1を得た。
(Formation of charge transport layer)
Furthermore, 200 parts by mass of N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′] biphenyl-4,4′-diamine and bisphenol Z polycarbonate resin (molecular weight 40,000) 280 After dissolving 2000 parts by mass of tetrahydrofuran with 2000 parts by mass of tetrahydrofuran, 50 parts by mass of tetrafluoroethylene resin (manufactured by Daikin Industries, Ltd .: Lubron L5 average particle size 300 nm), 15 parts by mass of silica particles (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd .: R104) And 1 part by mass of a fluorine-based comb polymer (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd .: GF400) were added and dispersed at 5000 rpm for 3 hours using a homogenizer (manufactured by IKA: Ultra Tarrax) to prepare a coating solution. The obtained coating solution was applied onto the charge generation layer and dried at 130 ° C. for 30 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 25 μm.
Thereby, the photoreceptor 1 of Example 1 was obtained.
[評価]
以上のようにして得られた感光体を富士ゼロックス社製複写機DocuCentreC5570に搭載し、図9に示す35%濃度のハーフトーン画像を形成してゴースト及びカブリの発生について評価した。なお、画像はそれぞれ100万枚出力し、初期(1枚目)と100万枚目の画像についてそれぞれ評価した。
[Evaluation]
The photoreceptor obtained as described above was mounted on a Fuji Xerox Copier DocuCentre C5570, and a halftone image of 35% density shown in FIG. 9 was formed to evaluate the occurrence of ghost and fog. One million images were output, and the initial (first image) and millionth images were evaluated.
−ゴースト評価−
10℃、湿度15%の条件下にて、ゴースト評価用の画像として図9に示すハーフトーン画像を形成した後、次のサイクルで全面ハーフトーン画像を印字し、ハーフトーン画像上に浮き出たゴースト画像を以下の基準に基づいて評価した。結果を表1に示す。
G1:発生なし
G2:極軽微に発生
G3:軽微に発生。実使用上問題なし
G4:軽微に発生。実使用上問題あり
G5:発生
-Ghost evaluation-
After forming the halftone image shown in FIG. 9 as an image for ghost evaluation under the conditions of 10 ° C. and 15% humidity, the entire halftone image is printed in the next cycle, and the ghost is raised on the halftone image. Images were evaluated based on the following criteria. The results are shown in Table 1.
G1: No occurrence G2: Very slight occurrence G3: Minor occurrence No problem in actual use G4: Minor occurrence. There is a problem in actual use G5: Occurrence
−カブリ評価−
温度20℃、湿度25%の条件下にて画像を出力し、カブリの程度を目視により以下の基準にて評価した。結果を表1に示す。
G1:発生なし
G2:極軽微に発生
G3:軽微に発生。実使用上問題なし
G4:軽微に発生。実使用上問題あり
G5:発生
-Fog evaluation-
An image was output under conditions of a temperature of 20 ° C. and a humidity of 25%, and the degree of fogging was visually evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
G1: No occurrence G2: Very slight occurrence G3: Minor occurrence No problem in actual use G4: Minor occurrence. There is a problem in actual use G5: Occurrence
[実施例2乃至3]
実施例1における下引層の形成において、式(A−I)で表される電子受容性化合物0.7質量部に代えて、表1に示す添加量で式(A−I)で表される電子受容性化合物及び第2電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例1と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
[Examples 2 to 3]
In the formation of the undercoat layer in Example 1, in place of 0.7 part by mass of the electron-accepting compound represented by the formula (AI), the addition amount shown in Table 1 is represented by the formula (AI). A photoconductor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the electron accepting compound and the second electron accepting compound were used.
[実施例4乃至6]
実施例1における下引層の形成において、第1電子受容性化合物として式(A−I)で表される電子受容性化合物0.7質量部に代えて、表1に示す添加量で下記式(A−II)で表される電子受容性化合物(前記例示化合物(A−3)に相当)及び第2電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例1と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
[Examples 4 to 6]
In the formation of the undercoat layer in Example 1, in place of 0.7 part by mass of the electron accepting compound represented by the formula (AI) as the first electron accepting compound, the following formula is used in the addition amount shown in Table 1. A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the electron accepting compound represented by (A-II) (corresponding to the exemplified compound (A-3)) and the second electron accepting compound were used. And evaluated.
[比較例1乃至3]
実施例1における下引層の形成において、式(A−I)で表される電子受容性化合物に代えて、表1に示す電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例1と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
[Comparative Examples 1 to 3]
In the formation of the undercoat layer in Example 1, in the same manner as in Example 1 except that the electron accepting compound shown in Table 1 was used instead of the electron accepting compound represented by the formula (AI). A photoconductor was prepared and evaluated.
[実施例7乃至8]
実施例1における下引層の形成において、式(A−I)で表される電子受容性化合物0.7質量部に代えて、表1に示す添加量で下記式(A−III)で表される電子受容性化合物(前記例示化合物(A−31)に相当)及び第2電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例1と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
[Examples 7 to 8]
In the formation of the undercoat layer in Example 1, in place of 0.7 part by mass of the electron-accepting compound represented by the formula (AI), the addition amount shown in Table 1 is used to represent the following formula (A-III). A photoreceptor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the electron-accepting compound (corresponding to the exemplified compound (A-31)) and the second electron-accepting compound were used.
[実施例9乃至10]
実施例1における下引層の形成において、式(A−I)で表される電子受容性化合物0.7質量部に代えて、表1に示す添加量で下記式(A−IV)で表される電子受容性化合物(前記例示化合物(A−12)に相当)及び第2電子受容性化合物を用いたこと以外は実施例1と同様にして感光体を作製し、評価を行った。
[Examples 9 to 10]
In the formation of the undercoat layer in Example 1, instead of 0.7 part by mass of the electron-accepting compound represented by the formula (AI), the addition amount shown in Table 1 is used to represent the following formula (A-IV). A photoconductor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the electron-accepting compound (corresponding to the exemplified compound (A-12)) and the second electron-accepting compound were used.
上記結果から、下引層が一般式(A)で表される電子受容性化合物(第1電子受容性化合物)を含む電子写真感光体を用いた場合、画像形成を繰り返した場合のゴーストの発生が抑制され、特に金属酸化物粒子100質量部に対して第1電子受容性化合物を1質量部以上5質量部以下の範囲で含有する電子写真感光体(実施例1、2、4、5、7、9)ではゴーストの発生が顕著に抑制されることがわかる。
また、実施例3と実施例6では、実施例6よりも実施例3の方が100万枚印刷後のカブリの発生が抑制されている。これは、第1電子受容性化合物の電子吸引性基が相違するためと考えられる。
From the above results, when an electrophotographic photosensitive member in which the undercoat layer contains an electron accepting compound (first electron accepting compound) represented by the general formula (A) is used, ghosting occurs when image formation is repeated. In particular, an electrophotographic photosensitive member (Examples 1, 2, 4, 5, 7 and 9) show that the occurrence of ghost is remarkably suppressed.
Further, in Example 3 and Example 6, the occurrence of fog after printing 1 million sheets is suppressed in Example 3 than in Example 6. This is presumably because the electron-withdrawing groups of the first electron-accepting compound are different.
1 導電性基材、2 下引層、3 感光層、4 中間層、5 保護層、7 電子写真感光体、8 帯電装置、9 露光装置、11 現像装置、13 クリーニング装置、14 潤滑材、31 電荷発生層、32 電荷輸送層、40 転写装置、50 中間転写体、100 画像形成装置、120 画像形成装置、300 プロセスカートリッジ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive base material, 2 Undercoat layer, 3 Photosensitive layer, 4 Intermediate layer, 5 Protective layer, 7 Electrophotographic photosensitive member, 8 Charging apparatus, 9 Exposure apparatus, 11 Developing apparatus, 13 Cleaning apparatus, 14 Lubricant, 31 Charge generation layer, 32 Charge transport layer, 40 Transfer device, 50 Intermediate transfer member, 100 Image forming device, 120 Image forming device, 300 Process cartridge
Claims (5)
前記導電性基体上に配置され、下記一般式(A)で表される電子受容性化合物及び樹脂を含有する下引層と、
前記下引層上に配置された感光層と、
を有する電子写真感光体。
[一般式(A)中、X1及びX2はそれぞれ独立に酸素原子又は=C(CN)2を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、R8は炭素数が4以上20以下のアルキレン基を表す。] A conductive substrate;
An undercoat layer disposed on the conductive substrate and containing an electron-accepting compound represented by the following general formula (A) and a resin;
A photosensitive layer disposed on the undercoat layer;
An electrophotographic photosensitive member having:
[In General Formula (A), X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or ═C (CN) 2 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 are Each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and R 8 represents an alkylene group having 4 to 20 carbon atoms. ]
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。 The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 3,
A process cartridge that can be attached to and detached from an image forming apparatus.
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。 The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 3,
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image to the surface of the recording medium;
An image forming apparatus comprising:
Priority Applications (1)
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