JP2017054141A - Optical laminate for front surface of in-cell touch panel liquid crystal element, and in-cell touch panel liquid crystal display device, and manufacturing method of the same - Google Patents

Optical laminate for front surface of in-cell touch panel liquid crystal element, and in-cell touch panel liquid crystal display device, and manufacturing method of the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an optical laminate for a front surface of an in-cell touch panel liquid crystal element capable of preventing white turbidity of a liquid crystal screen.SOLUTION: There is provided a manufacturing method of an optical laminate for a front surface of an in-cell touch panel liquid crystal element including the following steps of (a) to (c): (a) a step of laminating optical laminate forming members including a retardation plate and a polarizing film to form an optical laminate; (b) a step of forming a conductive layer on at least one member of the optical laminate forming members; and (c) a step of, while exposing a surface of the conductive layer, performing earth processing on the surface of the conductive layer.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、インセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体及びインセルタッチパネル液晶表示装置、並びにそれらの製造方法に関する。   The present invention relates to an optical laminate for a front surface of an in-cell touch panel liquid crystal element, an in-cell touch panel liquid crystal display device, and a manufacturing method thereof.

近年、スマートフォンを代表する携帯液晶端末、及びその他液晶表示装置には、タッチパネル機能が搭載されている。このようなタッチパネル機能を搭載した液晶表示装置は、従来は液晶表示装置上にタッチパネルを取り付けた外付け型が主流であった。
外付け型は、液晶表示装置とタッチパネルとを別々に製造した後に一体化するため、何れか一方に不良があっても片方は利用可能であり、歩留まりに優れるものであるが、厚みや重さが増えるという問題があった。
このような外付け型の問題(厚みや重さ)を解消するものとして、液晶表示装置の液晶素子と偏光板との間にタッチパネルを組み込んだ、いわゆるオンセル型の液晶表示装置が登場している。
そして、さらに近年では、オンセル型よりもさらに厚みや重さを低減するものとして、タッチ機能を液晶素子の中に組み込んだ、いわゆるインセル型の液晶表示装置が開発され始めている(特許文献1、2)。
2. Description of the Related Art In recent years, touch panel functions are mounted on portable liquid crystal terminals such as smartphones and other liquid crystal display devices. Conventionally, the liquid crystal display device equipped with such a touch panel function is mainly an external type in which a touch panel is mounted on the liquid crystal display device.
Since the external type is integrated after the liquid crystal display device and the touch panel are manufactured separately, one of them can be used even if there is a defect, and the yield is excellent. There was a problem that increased.
As a solution to such external problems (thickness and weight), a so-called on-cell type liquid crystal display device in which a touch panel is incorporated between the liquid crystal element and the polarizing plate of the liquid crystal display device has appeared. .
In recent years, a so-called in-cell type liquid crystal display device in which a touch function is incorporated in a liquid crystal element has been developed as a further reduction in thickness and weight than the on-cell type (Patent Documents 1 and 2). ).

特開2011−76602号公報JP 2011-76602 A 特開2011−222009号公報JP2011-222009A

インセル型の液晶表示装置は、タッチ機能を組み込んだ液晶素子上に、種々の機能を有するフィルム等を接着層を介して貼り合わせた光学積層体を設置した構成からなっている。種々の機能を有するフィルム等とは、例えば、位相差板、偏光膜、偏光膜の保護フィルム、カバーガラス等が挙げられる。   The in-cell type liquid crystal display device has a configuration in which an optical laminated body in which films having various functions are bonded to each other through an adhesive layer on a liquid crystal element incorporating a touch function. Examples of the film having various functions include a retardation plate, a polarizing film, a polarizing film protective film, a cover glass, and the like.

しかし、このような光学積層体を設置したインセルタッチパネル液晶表示装置は、指でタッチした際に、液晶画面が部分的に白濁するという問題があった。   However, the in-cell touch panel liquid crystal display device provided with such an optical laminate has a problem that the liquid crystal screen is partially clouded when touched with a finger.

本発明は、このような状況下になされたものであり、液晶画面の白濁を防止できる、インセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体及びインセルタッチパネル液晶表示装置、並びにそれらの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made under such circumstances, and provides an optical laminate for the front surface of an in-cell touch panel liquid crystal element, an in-cell touch panel liquid crystal display device, and a manufacturing method thereof, which can prevent liquid crystal screens from becoming clouded. For the purpose.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、従来の外付け型やオンセル型では、液晶素子より操作者側に位置していたタッチパネルが導電性部材として働いていたが、インセル型への切り替えにより、液晶素子よりも操作者側に導電性部材が存在しなくなることが白濁の原因であることを見出し、上記目的を達成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have worked as a conductive member in the conventional external type or on-cell type, the touch panel located on the operator side from the liquid crystal element. However, by switching to the in-cell type, it has been found that the absence of the conductive member on the operator side of the liquid crystal element is the cause of white turbidity, and the above object has been achieved.

すなわち、本発明のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法は、下記(a)〜(c)の工程を含んでなるものである。
(a)位相差板及び偏光膜を含む光学積層体形成部材を積層し、光学積層体とする工程
(b)前記光学積層体形成部材の少なくとも一つの部材に導電層を形成する工程
(c)前記導電層の表面が露出した状態で、前記導電層の表面からアース処理を行う工程
また、本発明のインセルタッチパネル型液晶表示装置の製造方法は、本発明のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法で得られた光学積層体の位相差フィルム側と、インセルタッチパネル液晶素子とを貼り合せる工程を行うものである。
また、本発明のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体は、位相差板及び偏光膜を含む光学積層体形成部材が積層されてなり、前記光学積層体形成部材の少なくとも一つの部材に導電層が形成されてなり、かつ前記導電層表面からアース処理がされてなるものである。
また、本発明のインセルタッチパネル型液晶表示装置は、本発明の光学積層体の位相差フィルム側と、インセルタッチパネル液晶素子とが貼り合わせられてなるものである
That is, the manufacturing method of the optical laminated body for the front surface of the in-cell touchscreen liquid crystal element of this invention comprises the process of following (a)-(c).
(A) Step of laminating an optical laminate forming member including a retardation plate and a polarizing film to form an optical laminate (b) Step of forming a conductive layer on at least one member of the optical laminate forming member (c) A step of performing a ground treatment from the surface of the conductive layer in a state where the surface of the conductive layer is exposed. The method for manufacturing the in-cell touch panel type liquid crystal display device of the present invention is an optical for the front surface of the in-cell touch panel liquid crystal element of the present invention. The step of bonding the phase difference film side of the optical laminate obtained by the laminate production method and the in-cell touch panel liquid crystal element is performed.
Also, the optical laminate for the front surface of the in-cell touch panel liquid crystal element of the present invention is formed by laminating an optical laminate forming member including a retardation plate and a polarizing film, and conductive with at least one member of the optical laminate forming member. A layer is formed, and the surface of the conductive layer is grounded.
In the in-cell touch panel type liquid crystal display device of the present invention, the retardation film side of the optical laminate of the present invention and the in-cell touch panel liquid crystal element are bonded together.

本発明のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法によれば、液晶画面の白濁を防止できる光学積層体を容易に製造することができる。   According to the method for producing an optical laminated body for the front surface of the in-cell touch panel liquid crystal element of the present invention, an optical laminated body capable of preventing white turbidity of a liquid crystal screen can be easily produced.

本発明のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の一実施形態を示す断面図。Sectional drawing which shows one Embodiment of the optical laminated body for the front surfaces of the in-cell touchscreen liquid crystal element of this invention. 本発明のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の他の実施形態を示す平面図。The top view which shows other embodiment of the optical laminated body for the front surfaces of the in-cell touchscreen liquid crystal element of this invention. 本発明のインセルタッチパネル液晶表示装置の一例を示す断面図。Sectional drawing which shows an example of the in-cell touchscreen liquid crystal display device of this invention. 第1導電層と第2導電層との通電状態を説明する断面図。Sectional drawing explaining the electricity supply state of a 1st conductive layer and a 2nd conductive layer.

[光学積層体の製造方法]
本発明のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法は、下記(a)〜(c)の工程を含むものである。
(a)位相差板及び偏光膜を含む光学積層体形成部材を積層し、光学積層体とする工程
(b)前記光学積層体形成部材の少なくとも一つの部材に導電層を形成する工程
(c)前記導電層の表面が露出した状態で、前記導電層の表面からアース処理を行う工程
[Method for producing optical laminate]
The manufacturing method of the optical laminated body for the front surfaces of the in-cell touchscreen liquid crystal element of this invention includes the process of following (a)-(c).
(A) Step of laminating an optical laminate forming member including a retardation plate and a polarizing film to form an optical laminate (b) Step of forming a conductive layer on at least one member of the optical laminate forming member (c) Performing a grounding process from the surface of the conductive layer with the surface of the conductive layer exposed.

<工程(a)>
工程(a)は、位相差板及び偏光膜を含む光学積層体形成部材を積層する工程である。
光学積層体形成部材としては、位相差板及び偏光膜が挙げられ、さらに必要に応じて用いられる偏光膜保護基材、表面保護基材等が挙げられる。
このような光学積層体形成部材は、各部材間を接着層等で接着することにより積層することができる。なお、偏光膜としてポリビニルアルコール系偏光膜(以下、「PVA系偏光膜」という場合もある)を用いた場合、PVA系偏光膜に水を付着させて接着性を発現させることにより、別途接着層を用いなくても積層することができる。
接着層は、ウレタン系、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、酢酸ビニル系、塩ビ・酢ビ共重合物、セルロース系等の接着剤を使用することができる。接着層の厚みは3〜25μm程度である
<Process (a)>
Step (a) is a step of laminating an optical laminate forming member including a retardation plate and a polarizing film.
Examples of the optical laminate-forming member include a retardation plate and a polarizing film, and further include a polarizing film protective substrate and a surface protective substrate that are used as necessary.
Such an optical laminated body forming member can be laminated by bonding each member with an adhesive layer or the like. When a polyvinyl alcohol polarizing film (hereinafter sometimes referred to as “PVA polarizing film”) is used as the polarizing film, a separate adhesive layer is obtained by attaching water to the PVA polarizing film to develop adhesiveness. It is possible to stack even without using.
For the adhesive layer, urethane-based, acrylic-based, polyester-based, epoxy-based, vinyl acetate-based, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, cellulose-based adhesive, and the like can be used. The thickness of the adhesive layer is about 3 to 25 μm.

光学積層体の積層順は特に制限されることはないが、位相差板が光学積層体の表面に位置するように積層することが好ましい。
また、光学積層体形成部材として、位相差板及び偏光膜に加えて偏光膜保護基材を用いる場合、位相差板、偏光膜、偏光膜保護基材の順となるように積層することが好ましい。
また、光学積層体形成部材として、位相差板及び偏光膜に加えて表面保護基材を用いる場合、位相差板、偏光膜、表面保護基材の順となるように光学積層体を積層することが好ましい。また、この際、表面保護基材は、光学積層体の最上層に位置するように積層することが好ましい。例えば、光学積層体形成部材として、位相差板及び偏光膜に加えて、偏光膜保護基材及び表面保護基材を用いる場合、位相差板、偏光膜、偏光膜保護基材、表面保護基材の順で積層し、かつ光学積層体の最上層に表面保護基材を位置させることが好ましい。
なお、このように積層した光学積層体は、光学積層体の位相差板側がインセルタッチパネル液晶素子側を向くようにして用いる。
光学積層体形成部材として例示した各部材の詳細は後述する。
The order of stacking of the optical laminate is not particularly limited, but it is preferable to laminate the retardation plate so that the retardation plate is positioned on the surface of the optical laminate.
Moreover, when using a polarizing film protective substrate in addition to the retardation plate and the polarizing film as the optical laminate forming member, it is preferable to laminate the retardation plate, the polarizing film, and the polarizing film protective substrate in this order. .
Moreover, when using a surface protective substrate in addition to the phase difference plate and the polarizing film as the optical layer forming member, the optical layered body is laminated in the order of the phase difference plate, the polarizing film, and the surface protective substrate. Is preferred. At this time, the surface protective substrate is preferably laminated so as to be positioned in the uppermost layer of the optical laminate. For example, in the case of using a polarizing film protective substrate and a surface protective substrate in addition to the retardation plate and the polarizing film as the optical laminate forming member, the retardation plate, the polarizing film, the polarizing film protective substrate, the surface protective substrate It is preferable that the surface protective base material is positioned in the uppermost layer of the optical laminate.
In addition, the optical laminated body laminated | stacked in this way is used so that the phase difference plate side of an optical laminated body may face the in-cell touchscreen liquid crystal element side.
The detail of each member illustrated as an optical laminated body formation member is mentioned later.

<工程(b)>
工程(b)は、光学積層体形成部材の少なくとも一つの部材に導電層を形成する工程である。導電層は、光学積層体形成部材の一の部材に形成すれば足りるが、二以上の部材に形成しても構わない。また、導電層は、光学積層体形成部材の何れの面側に形成してもよい。つまり、導電層は、光学積層体の任意の位置に形成すればよい。
このような導電層は、従来の外付け型やオンセル型において、導電性部材として働いていたタッチパネルの代替的役割を有するものである。導電層が液晶素子より操作者側に位置することにより、タッチした際の静電気により、液晶画面が部分的に白濁することを防止できる。
<Step (b)>
Step (b) is a step of forming a conductive layer on at least one member of the optical laminate forming member. The conductive layer only needs to be formed on one member of the optical laminate forming member, but may be formed on two or more members. Further, the conductive layer may be formed on any surface side of the optical laminate forming member. That is, the conductive layer may be formed at an arbitrary position of the optical laminate.
Such a conductive layer has an alternative role of a touch panel that has been working as a conductive member in a conventional external type or on-cell type. Since the conductive layer is positioned closer to the operator than the liquid crystal element, it is possible to prevent the liquid crystal screen from becoming partially cloudy due to static electricity when touched.

導電層を形成する具体的位置としては、例えば、位相差板の偏光膜側の面、位相差板の偏光膜側とは反対側の面、偏光膜保護基材の偏光膜側の面、偏光膜保護基材の偏光膜とは反対側の面、表面保護基材の偏光膜側の面、表面保護基材の偏光膜側とは反対側の面等が挙げられる。
導電層は、光学積層体の表面に位置するように形成することが好ましく、特に、インセルタッチパネル液晶素子に面する側の表面に位置するように形成することが好ましい。光学積層体の表面に位置するように導電層を形成することにより、後述する工程(c)を工程(a)及び工程(b)の完了後に行うことができるため、アース処理がその後の工程で悪影響を受けることを防止できる。特にインセルタッチパネル液晶素子に面する側の表面に位置するように導電層を形成することにより、インセルタッチパネル液晶素子に光学積層体を貼り合わせた際に導電層がむき出しになることがなく、導電性の長期的維持を図ることができる。
このように、インセルタッチパネル液晶素子に面する側の表面に位置するように導電層を形成するためには、位相差板上に導電層を形成した後、当該導電層が表面に位置するように他の部材(偏光膜等)と積層する手段や、位相差板及び偏光膜を含む光学積層体形成部材を位相差板が表面に位置するように積層した後、位相差板上に導電層を形成する手段が挙げられる。
Specific positions for forming the conductive layer include, for example, the surface of the retardation film on the polarizing film side, the surface of the retardation film opposite to the polarizing film side, the surface of the polarizing film protective substrate on the polarizing film side, and the polarization Examples include the surface of the film protective substrate opposite to the polarizing film, the surface of the surface protective substrate on the polarizing film side, the surface of the surface protective substrate opposite to the polarizing film side, and the like.
The conductive layer is preferably formed so as to be located on the surface of the optical laminate, and particularly preferably formed so as to be located on the surface facing the in-cell touch panel liquid crystal element. By forming the conductive layer so as to be positioned on the surface of the optical layered body, the step (c) described later can be performed after the completion of the step (a) and the step (b). It can prevent being adversely affected. In particular, by forming the conductive layer so as to be located on the surface facing the in-cell touch panel liquid crystal element, the conductive layer is not exposed when the optical laminate is bonded to the in-cell touch panel liquid crystal element. Can be maintained over the long term.
As described above, in order to form the conductive layer so as to be positioned on the surface facing the in-cell touch panel liquid crystal element, after forming the conductive layer on the retardation plate, the conductive layer is positioned on the surface. After laminating the optical laminate forming member including means for laminating with other members (polarizing film, etc.) and the retardation plate and the polarizing film so that the retardation plate is located on the surface, the conductive layer is placed on the retardation plate. A means for forming is mentioned.

工程(b)を行うタイミングは、導電層を形成する部材の光学積層体中の位置や、該部材の何れ側の面に導電層を形成するかによって異なり、工程(a)の前、工程(a)の途中、工程(a)の後の何れかのタイミングの中から適宜選択して決定することができる。   The timing of performing the step (b) varies depending on the position of the member forming the conductive layer in the optical laminate and on which side of the member the conductive layer is formed, before the step (a), the step ( In the middle of a), it can be determined by appropriately selecting from any timing after step (a).

導電層は、光学積層体形成部材上に後述する導電層形成組成物を塗布、乾燥必要に応じて硬化すること、あるいは、別の部材に形成した導電層を、光学積層体形成部材に転写すること等により、形成することができる。   The conductive layer is formed by applying a conductive layer forming composition to be described later on the optical laminate-forming member and curing it as necessary, or transferring the conductive layer formed on another member to the optical laminate-forming member. It can be formed.

(導電層の構成)
導電層は、タッチした際の静電気を逃がし、液晶画面の白濁を防止する役割を有するが、あまりに逃がしすぎると、インセルタッチパネルが静電容量式の場合、タッチパネルの動作に支障をきたすおそれがある。このため、導電層の表面抵抗率は、1.0×10〜2.0×10Ω/□であることが好ましい。
(Configuration of conductive layer)
The conductive layer has a role of releasing static electricity when touched and preventing white turbidity of the liquid crystal screen. However, when the in-cell touch panel is a capacitive type, there is a possibility that the operation of the touch panel may be hindered. For this reason, it is preferable that the surface resistivity of the conductive layer is 1.0 × 10 8 to 2.0 × 10 9 Ω / □.

導電層は、導電剤及び必要に応じて使用されるバインダー樹脂組成物や希釈溶剤を含む導電層形成組成物から形成されてなるものである。
導電剤としては、第4級アンモニウム塩、リチウム塩等のイオン伝導型導電剤、金属微粒子、金属酸化物微粒子、カーボンナノチューブ、コーティング微粒子、ポリエチレンジオキシチオフェン系粒子等の電子伝導型導電剤が挙げられ、湿度による影響を受けにくい電子伝導型の導電剤が好適に使用される。また、電子伝導型導電剤の中でも、長期保管、耐熱性、耐湿熱性、耐光性が良好である、という観点から金属酸化物微粒子が好ましい。
The conductive layer is formed from a conductive layer forming composition containing a conductive agent and, if necessary, a binder resin composition and a diluting solvent.
Examples of the conductive agent include ion conductive conductive agents such as quaternary ammonium salts and lithium salts, and electronic conductive conductive agents such as metal fine particles, metal oxide fine particles, carbon nanotubes, coating fine particles, and polyethylene dioxythiophene particles. Therefore, an electron conductive type conductive agent that is not easily affected by humidity is preferably used. Among the electron conductive type conductive agents, metal oxide fine particles are preferable from the viewpoint of long-term storage, heat resistance, moist heat resistance, and light resistance.

金属微粒子を構成する金属としては特に限定されず、例えば、Au、Ag、Cu、Al、Fe、Ni、Pd、Pt等が挙げられる。
金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては特に限定されず、例えば、酸化錫(SnO)、酸化アンチモン(Sb)、アンチモン錫酸化物(ATO)、インジウム錫酸化物(ITO)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、フッ素化酸化スズ(FTO)、ZnO等が挙げられる。
コーティング微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層が形成された構成の従来公知の微粒子が挙げられる。コア微粒子としては特に限定されず、例えば、コロイダルシリカ微粒子、酸化ケイ素微粒子等の無機微粒子、フッ素樹脂微粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー微粒子、有機質無機質複合体粒子等の微粒子が挙げられる。また、導電性被覆層を構成する材料としては特に限定されず、例えば、上述した金属又はこれらの合金や、上述した金属酸化物等が挙げられる。
The metal constituting the metal fine particle is not particularly limited, and examples thereof include Au, Ag, Cu, Al, Fe, Ni, Pd, and Pt.
The metal oxide constituting the metal oxide fine particles is not particularly limited. For example, tin oxide (SnO 2 ), antimony oxide (Sb 2 O 5 ), antimony tin oxide (ATO), indium tin oxide (ITO) , Aluminum zinc oxide (AZO), fluorinated tin oxide (FTO), ZnO and the like.
The coating fine particles are not particularly limited, and examples thereof include conventionally known fine particles having a configuration in which a conductive coating layer is formed on the surface of core fine particles. The core fine particles are not particularly limited, and examples thereof include inorganic fine particles such as colloidal silica fine particles and silicon oxide fine particles, fine polymer particles such as fluororesin fine particles, acrylic resin particles, and silicone resin particles, and fine particles such as organic inorganic composite particles. . Moreover, it does not specifically limit as a material which comprises a conductive coating layer, For example, the metal mentioned above or these alloys, the metal oxide mentioned above, etc. are mentioned.

電子伝導型導電剤は、平均粒子径が6〜40nmであることが好ましい。6nm以上とすることにより、電子伝導型導電剤どうしが導電層中で接触しやすくなるため、十分な導電性を付与するための導電剤の添加量を抑えることができ、40nm以下とすることにより、透明性やその他の層との間の密着性が損なわれることを防止することができる。電子伝導型導電剤の平均粒子径のより好ましい下限は7nm、より好ましい上限は20nmである。なお、電子伝導型導電剤の平均粒子径は、TEM観察を行い、10個の電子伝導型導電剤の粒子径を測定し、得られた値を平均化した値である。   The electron conductive conductive agent preferably has an average particle size of 6 to 40 nm. By setting the thickness to 6 nm or more, the electron conductive conductive agents can easily come into contact with each other in the conductive layer. Therefore, the amount of the conductive agent added to impart sufficient conductivity can be suppressed. Further, it is possible to prevent the transparency and the adhesion between other layers from being impaired. The more preferable lower limit of the average particle diameter of the electron conduction type conductive agent is 7 nm, and the more preferable upper limit is 20 nm. The average particle diameter of the electron conductive conductive agent is a value obtained by TEM observation and measuring the particle diameter of ten electron conductive conductive agents and averaging the obtained values.

電子伝導型導電剤は、鎖状又は針状であることが好ましい。このような形状の電子伝導型導電剤は、導電層に変形(硬化収縮あるいは温湿度による伸縮)が多少生じた場合であっても、導電層の表面抵抗率の変動を少なくすることができる。   The electron conduction type conductive agent is preferably chain-like or needle-like. The electron conductive conductive agent having such a shape can reduce the fluctuation of the surface resistivity of the conductive layer even when the conductive layer is somewhat deformed (curing shrinkage or expansion / contraction due to temperature and humidity).

導電層における電子伝導型導電剤の含有量としては、使用する電子伝導型導電剤の種類、形状及び大きさ等に応じて適宜調整されるが、例えば、後述するバインダー樹脂100質量部に対して、100〜300質量部であることが好ましい。100質量部以上とすることにより、導電層の表面抵抗率を2.0×10Ω/□以下にしやすくでき、300質量部以下とすることにより、導電層の表面抵抗率を1.0×10Ω/□以上にしやすくできる。
なお、電子伝導型導電剤の含有量のより好ましい下限は150質量部であり、より好ましい上限は250質量部である。
The content of the electron conductive conductive agent in the conductive layer is appropriately adjusted according to the type, shape, size, and the like of the electron conductive conductive agent to be used. For example, for 100 parts by mass of the binder resin described later 100 to 300 parts by mass is preferable. By setting it to 100 parts by mass or more, the surface resistivity of the conductive layer can be easily reduced to 2.0 × 10 9 Ω / □ or less, and by setting it to 300 parts by mass or less, the surface resistivity of the conductive layer is 1.0 × It can be easily increased to 10 8 Ω / □ or more.
In addition, the minimum with more preferable content of an electron-conduction type electrically conductive agent is 150 mass parts, and a more preferable upper limit is 250 mass parts.

バインダー樹脂組成物としては、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂組成物、電離放射線硬化型樹脂組成物が挙げられ、これらを適宜組み合わせて用いることができる。バインダー樹脂組成物は接着性を有するものであってもよく、接着性を有する場合、別途接着層を形成することなく、インセルタッチパネル液晶素子に貼り合せることができる。バインダー樹脂組成物の中で熱可塑性樹脂は、導電層の変形(硬化収縮あるいは温湿度による伸縮)を原因とする表面抵抗率の変化を起こりづらくでき、導電層の表面抵抗率に経時安定性を付与できる点で好適である。
なお、熱可塑性樹脂は、後述する第1導電層で例示する熱可塑性樹脂を用いることができ、熱硬化型樹脂組成物及び電離放射線硬化型樹脂組成物は、表面保護基材の硬化層として例示した熱硬化型樹脂組成物、電離放射線硬化型樹脂組成物の単独あるいは混合物を用いることができる。
Examples of the binder resin composition include thermoplastic resins, thermosetting resin compositions, and ionizing radiation curable resin compositions, which can be used in appropriate combination. The binder resin composition may have adhesiveness, and when it has adhesiveness, it can be bonded to the in-cell touch panel liquid crystal element without forming an additional adhesive layer. In the binder resin composition, the thermoplastic resin can hardly change the surface resistivity due to deformation (curing shrinkage or expansion / contraction due to temperature and humidity) of the conductive layer, and the surface resistivity of the conductive layer is stable over time. It is preferable in that it can be given.
In addition, the thermoplastic resin illustrated in the 1st conductive layer mentioned later can be used for a thermoplastic resin, and a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition are illustrated as a cured layer of a surface protection base material. A single thermosetting resin composition or ionizing radiation curable resin composition or a mixture thereof can be used.

導電層は、2層以上の構成からなるものであってもよい(図1、図4)。導電層を2層構造とすることにより、導電層の表面抵抗率が経時的に安定しやすくなる点で好適である。導電層1を2層構成とする場合、一方を第1導電層11、他方を第2導電層12として、各導電層を以下のように構成することが好ましい(図1、図4)。   The conductive layer may be composed of two or more layers (FIGS. 1 and 4). A two-layer structure of the conductive layer is preferable in that the surface resistivity of the conductive layer is easily stabilized over time. When the conductive layer 1 has a two-layer configuration, it is preferable to configure each conductive layer as follows, with one as the first conductive layer 11 and the other as the second conductive layer 12 (FIGS. 1 and 4).

第1導電層の導電剤、バインダー樹脂は、上述したものを用いることができる。第1導電層の導電剤は、電子伝導型導電剤が好ましく、その中でも、金属微粒子、金属酸化物微粒子がより好ましい。また、第1導電層の電子伝導型導電剤の平均粒子径、含有量は、上述した範囲が好ましい。   What was mentioned above can be used for the electrically conductive agent and binder resin of a 1st conductive layer. The conductive agent of the first conductive layer is preferably an electron conductive type conductive agent, and among them, metal fine particles and metal oxide fine particles are more preferable. Moreover, the range mentioned above is preferable about the average particle diameter and content of the electron conductive type conductive agent of a 1st conductive layer.

第1導電層のバインダー樹脂は、熱可塑性樹脂が好適である。熱可塑性樹脂を用いることにより、第1導電層の変形(硬化収縮あるいは温湿度による伸縮)を原因とする表面抵抗率の変化が起こりづらくすることができ、導電層の表面抵抗率に経時安定性を付与できる点で好適である。
熱可塑性樹脂は、分子中に反応性官能基を有さないことが好ましい。分子中に反応性官能基を有すると、該反応性官能基が反応して導電層に硬化収縮が生じ、表面抵抗率が変化してしまうことがある。なお、反応性基としては、アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を有する官能基、エポキシ環、オキセタン環等の環状エーテル基、ラクトン環等の開環重合基、ウレタンを形成するイソシアネート基等が挙げられる。なお、これらの反応性官能基は、導電層に硬化収縮による表面抵抗率の変化を起こさせない程度であれば含まれていてもよい。
The binder resin for the first conductive layer is preferably a thermoplastic resin. By using a thermoplastic resin, it is possible to make it difficult for the surface resistivity to change due to deformation (curing shrinkage or expansion / contraction due to temperature and humidity) of the first conductive layer, and the surface resistivity of the conductive layer is stable over time. It is suitable at the point which can provide.
The thermoplastic resin preferably has no reactive functional group in the molecule. If the molecule has a reactive functional group, the reactive functional group may react to cause curing shrinkage in the conductive layer, which may change the surface resistivity. Reactive groups include functional groups having unsaturated double bonds such as acryloyl groups and vinyl groups, cyclic ether groups such as epoxy rings and oxetane rings, ring-opening polymerizable groups such as lactone rings, and isocyanates that form urethane. Groups and the like. These reactive functional groups may be included as long as they do not cause the surface resistivity to change due to curing shrinkage in the conductive layer.

熱可塑性樹脂は、側鎖を有するものであることが好ましい。側鎖を有する熱可塑性樹脂は、該側鎖が立体障害となって導電層中で動き難くなり、表面抵抗率の経時安定性に優れたものとすることができる。側鎖は、任意の構造を有するものでよいが、分子中に上述した反応性官能基を有さないことが好ましい。   The thermoplastic resin preferably has a side chain. The thermoplastic resin having a side chain can be made to have excellent surface resistivity stability with time because the side chain is sterically hindered and hardly moves in the conductive layer. The side chain may have any structure, but preferably does not have the above-described reactive functional group in the molecule.

熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が80〜120℃であることが好ましい。ガラス転移温度を80℃以上とすることにより、熱可塑性樹脂が柔らかいことを原因とする表面抵抗率の不安定化を防止でき、ガラス転移温度を120℃以下とすることにより、熱可塑性樹脂が硬くなることによるほかの部材との密着性の低下を防止できる。ガラス転移温度のより好ましい下限は90℃、より好ましい上限は110℃である。   The thermoplastic resin preferably has a glass transition temperature of 80 to 120 ° C. By making the glass transition temperature 80 ° C. or higher, destabilization of the surface resistivity due to the softness of the thermoplastic resin can be prevented, and by making the glass transition temperature 120 ° C. or lower, the thermoplastic resin is harder. It is possible to prevent a decrease in adhesion with other members. A more preferable lower limit of the glass transition temperature is 90 ° C., and a more preferable upper limit is 110 ° C.

熱可塑性樹脂としては、具体的には、電子伝導型導電剤のブリードアウトを防止しやすいといった特性を有することから、ポリメチルメタクリレートが好適に用いられる。   Specifically, polymethylmethacrylate is preferably used as the thermoplastic resin because it has a characteristic that it is easy to prevent bleed-out of the electron conductive conductive agent.

第2導電層は、第1導電層まで達した光学積層体の表面に生じた静電気を、さらに厚み方向に流して、後述するアースを可能とする役割を有するものである。
したがって、第1導電層が面方向(X方向、Y方向)及び厚み方向(z方向)への導電性を有しているのに対して、第2導電層は、厚み方向の導電性を有していれば足り、面方向の導電性は必ずしも必要ないという点で、第2導電層は第1導電層と役割が相違している。
The second conductive layer has a role of allowing the static electricity generated on the surface of the optical layered body reaching the first conductive layer to flow further in the thickness direction to enable grounding to be described later.
Therefore, the first conductive layer has conductivity in the plane direction (X direction, Y direction) and the thickness direction (z direction), whereas the second conductive layer has conductivity in the thickness direction. The second conductive layer has a role different from that of the first conductive layer in that the conductivity in the plane direction is not always necessary.

第2導電層は、導通微粒子121を含むように構成することが好ましい(図4)。導通微粒子は、第2導電層の表面と第1導電層との間の導通を取り、第2導電層を所定の表面抵抗率にする役割を有する。このような導通微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング微粒子が好適に用いられる。コーティング微粒子を構成する材料としては、上述した導電層のコーティング微粒子と同様のものを用いることができる。なお、第1導電層からの導通を良好にする観点から、導通微粒子は金メッキ微粒子が好適である。   The second conductive layer is preferably configured to include conductive fine particles 121 (FIG. 4). The conductive fine particles have a role of establishing conduction between the surface of the second conductive layer and the first conductive layer, and making the second conductive layer have a predetermined surface resistivity. Such conductive fine particles are not particularly limited, and for example, coated fine particles in which a conductive coating layer is formed on the surface of the core fine particles are preferably used. As the material constituting the coating fine particles, the same material as the coating fine particles of the conductive layer described above can be used. From the viewpoint of improving conduction from the first conductive layer, the conductive fine particles are preferably gold-plated fine particles.

第2導電層は、導通微粒子と硬化型樹脂組成物とを含む、第2導電層形成組成物から形成されることが好ましい。第2導電層形成組成物が硬化型樹脂組成物を含むことにより、第1導電層の硬度不足を第2導電層が補うことができ、導電層全体としての耐久性を良好にし、表面抵抗率の経時安定性を良好にできる。また、第2導電層形成組成物には、熱可塑性樹脂を含むことがさらに好ましい。
硬化型樹脂組成物としては、後述する表面保護基材の硬化層の説明で例示する熱硬化型樹脂組成物、電離放射線硬化型樹脂組成物の単独あるいは混合物を用いることができる。
熱可塑性樹脂は、第1導電層との密着性の観点から、第1導電層に含有される熱可塑性樹脂と同種であることが好ましい。
なお、硬化型樹脂組成物と熱可塑性樹脂とを併用する場合、硬化型樹脂組成物100質量部に対して、熱可塑性樹脂を10〜70質量部とすることが好ましく、20〜60質量部とすることがより好ましい。
The second conductive layer is preferably formed from a second conductive layer forming composition containing conductive fine particles and a curable resin composition. When the second conductive layer forming composition contains the curable resin composition, the second conductive layer can compensate for the lack of hardness of the first conductive layer, the durability of the entire conductive layer is improved, and the surface resistivity is increased. The stability over time can be improved. Moreover, it is more preferable that the second conductive layer forming composition contains a thermoplastic resin.
As a curable resin composition, the thermosetting resin composition illustrated by description of the cured layer of the surface protection base material mentioned later, and an ionizing radiation curable resin composition individually or in mixture can be used.
The thermoplastic resin is preferably the same type as the thermoplastic resin contained in the first conductive layer from the viewpoint of adhesion with the first conductive layer.
In addition, when using together a curable resin composition and a thermoplastic resin, it is preferable that a thermoplastic resin shall be 10-70 mass parts with respect to 100 mass parts of curable resin compositions, and 20-60 mass parts. More preferably.

導通微粒子の平均粒子径は、所定の表面抵抗率とするため、第2導電層の厚みと同等か、超える大きさであることが好ましい。具体的には、導通微粒子の平均粒子径は、第2導電層の厚みに対して、0.4〜2.0倍であることが好ましく、0.5〜1.6倍であることがより好ましい。0.4倍以上とすることにより、第1導電層からの導通を良好にすることができ、2.0倍以下とすることにより、導通微粒子が第2導電層から脱落することを防止できる。   The average particle diameter of the conductive fine particles is preferably equal to or larger than the thickness of the second conductive layer in order to obtain a predetermined surface resistivity. Specifically, the average particle diameter of the conductive fine particles is preferably 0.4 to 2.0 times, more preferably 0.5 to 1.6 times the thickness of the second conductive layer. preferable. By setting it to 0.4 times or more, conduction from the first conductive layer can be improved, and by setting it to 2.0 times or less, it is possible to prevent the conductive fine particles from dropping from the second conductive layer.

導通微粒子の含有量としては、第2導電層における樹脂成分100質量部に対して、0.5〜2.0質量部であることが好ましい。0.5質量部以上とすることにより、第1導電層からの導通を良好にすることができ、2.0質量部以下とすることにより、第2導電層の被膜性及び硬度の低下を防止できる。導通微粒子の含有量のより好ましい上限は1.5質量部である。   The content of the conductive fine particles is preferably 0.5 to 2.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component in the second conductive layer. By setting it to 0.5 parts by mass or more, conduction from the first conductive layer can be improved, and by setting it to 2.0 parts by mass or less, deterioration of the coating properties and hardness of the second conductive layer is prevented. it can. A more preferable upper limit of the content of the conductive fine particles is 1.5 parts by mass.

上述したように、第2導電層は、厚み方向の導電性を有していれば足り、面方向の導電性は必ずしも必要ないことから、第2導電層固有の抵抗率は高いものであってもよい。ただし、液晶画面の白濁を効果的に防止しつつ、静電容量式タッチパネルの動作性を良好にするために、第1導電層及び第2導電層を積層した状態において、第2導電層の表面で測定した表面抵抗率が、1.0×10〜2.0×10Ω/□であることが好ましい。
また、その際、第1導電層上の表面抵抗率は、1.0×10〜2.0×10Ω/□であることが好ましい。第1導電層の表面抵抗率が1.0×10未満であると、仮に第2導電層を積層した状態での表面抵抗率が1.0×10以上であったとしても、静電容量式タッチパネルの動作性に悪影響が生じやすくなる。また、第1導電層の表面抵抗率が2.0×10を超えると、第2導電層を積層した状態での表面抵抗率を2.0×10以下とすることができず、液晶画面の白濁を効果的に防止できなくなる。
As described above, the second conductive layer only needs to have conductivity in the thickness direction, and the conductivity in the surface direction is not necessarily required. Therefore, the resistivity specific to the second conductive layer is high. Also good. However, in order to improve the operability of the capacitive touch panel while effectively preventing white turbidity of the liquid crystal screen, the surface of the second conductive layer in the state where the first conductive layer and the second conductive layer are laminated. It is preferable that the surface resistivity measured by 1 is 1.0 × 10 8 to 2.0 × 10 9 Ω / □.
At that time, the surface resistivity on the first conductive layer is preferably 1.0 × 10 8 to 2.0 × 10 9 Ω / □. If the surface resistivity of the first conductive layer is less than 1.0 × 10 8 , even if the surface resistivity in the state where the second conductive layer is laminated is 1.0 × 10 8 or more, The operability of the capacitive touch panel is likely to be adversely affected. Moreover, when the surface resistivity of the first conductive layer exceeds 2.0 × 10 9 , the surface resistivity in a state where the second conductive layer is laminated cannot be made 2.0 × 10 9 or less, and the liquid crystal The cloudiness of the screen cannot be effectively prevented.

導電層の厚みは0.1〜10μmであることが好ましく、0.5〜8μmであることがより好ましい。
なお、導電層が2層構造の場合、表面抵抗率の経時安定性の観点から、第1導電層と第2導電層との合計厚みを上記範囲とし、かつ第1導電層よりも第2導電層の厚みを厚くすることが好ましい。また、[第2導電層の厚み]/[第1導電層の厚み]の比が、1.5〜50であることが好ましく、5〜30であることがより好ましく、10〜20であることがさらに好ましい。
導電層の厚みは、断面を電子顕微鏡(例えば、SEM、TEM、STEM等)を用いて観測し、測定した値である。
The thickness of the conductive layer is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 8 μm.
When the conductive layer has a two-layer structure, the total thickness of the first conductive layer and the second conductive layer is within the above range and the second conductive layer is more conductive than the first conductive layer from the viewpoint of temporal stability of the surface resistivity. It is preferable to increase the thickness of the layer. The ratio of [thickness of second conductive layer] / [thickness of first conductive layer] is preferably 1.5 to 50, more preferably 5 to 30, and 10 to 20. Is more preferable.
The thickness of the conductive layer is a value obtained by observing and measuring a cross section using an electron microscope (for example, SEM, TEM, STEM, etc.).

導電層は、導電層を構成する組成物及び必要に応じて添加する溶媒等からなる導電層形成組成物を、位相差板や表面保護基材上に、塗布、乾燥し、必要に応じて硬化することにより形成することができる。導電層を形成するタイミングは、光学積層体を積層する前であっても後であってもよい。
なお、導電層が2層からなる場合、第2導電層が第1導電層よりもインセルタッチパネル液晶素子側となるように形成することが好ましい。
For the conductive layer, a conductive layer forming composition comprising a composition constituting the conductive layer and a solvent to be added as necessary is applied on a retardation plate or a surface protective substrate, dried, and cured as necessary. Can be formed. The timing for forming the conductive layer may be before or after the optical laminate is laminated.
In addition, when a conductive layer consists of two layers, it is preferable to form so that a 2nd conductive layer may become an in-cell touchscreen liquid crystal element side rather than a 1st conductive layer.

工程(a)及び工程(b)は、ロールツーロールで行うことが好ましい。両工程をロールツーロールで行うことにより、生産性を良好にすることができる。   It is preferable to perform a process (a) and a process (b) by roll to roll. Productivity can be made favorable by performing both processes by roll-to-roll.

<工程(c)>
工程(c)では、導電層の表面が露出した状態で、導電層の表面からアース処理を行う。アース処理を行うことにより、液晶の白濁をより効果的に防止することができる。また、導電層の表面が露出した状態でアース処理を行うことにより、有効かつ効率的なアース処理を行うことができる。
導電層が上述した第1導電層、第2導電層の2層構造からなる場合、第2導電層の表面からアース処理を行うことが好ましい。
<Step (c)>
In the step (c), grounding is performed from the surface of the conductive layer with the surface of the conductive layer exposed. By performing the grounding treatment, it is possible to more effectively prevent liquid crystal white turbidity. Moreover, effective and efficient grounding can be performed by performing grounding with the surface of the conductive layer exposed.
When the conductive layer has the above-described two-layer structure of the first conductive layer and the second conductive layer, it is preferable to perform the grounding process from the surface of the second conductive layer.

工程(c)を行うタイミングは、少なくとも工程(b)の後であるが、工程(a)との関係では、光学積層体中の導電層の位置により、工程(a)の前、工程(a)の途中、工程(a)の後の何れかのタイミングの中から適宜選択して決定することができる。例えば、導電層が光学積層体の表面に位置する場合には、工程(a)の前、工程(a)の途中、工程(a)の後の何れのタイミングであってもよい。また、例えば導電層が光学積層体の内側に位置する場合、工程(c)を行うタイミングは、工程(a)の前又は工程(a)の途中のタイミングとすることが好ましい。
なお、アース処理がその後の工程で悪影響を受けることを防止する観点から、工程(c)は、工程(a)及び(b)の後で行うことが好ましい。
The timing of performing the step (c) is at least after the step (b), but in the relationship with the step (a), depending on the position of the conductive layer in the optical laminate, the step (a) ) Can be selected and determined as appropriate from any timing after step (a). For example, when the conductive layer is located on the surface of the optical layered body, it may be at any timing before the step (a), during the step (a), or after the step (a). For example, when the conductive layer is located inside the optical layered body, the timing of performing the step (c) is preferably set to the timing before the step (a) or in the middle of the step (a).
In addition, it is preferable to perform a process (c) after a process (a) and (b) from a viewpoint of preventing that an earth process receives a bad influence in a subsequent process.

アース処理は、図1、2のように、導電層1の表面を他の導電性部材6に接続する手法が挙げられる。この際、導電層1の表面と、他の導電性部材6とは、導線7を介して接続されていることが好ましい。また、導線7は、銀ペースト、カーボンテープ、金属テープ等の導電性接着材料8により導電層1表面に固着されていることが好ましい。
アース処理は、導電層1の表面の1箇所であってもよいし、複数個所であってもよい。また、他の導電性部材6は、光学特性に影響を与えない観点から、光学積層体10の有効面積外(インセルタッチパネル液晶表示装置とした場合、画像を視認できる範囲外)の場所となる、導電層1の外縁や、光学積層体10の系外に設置することが好ましい。
なお、導電層1が上述した第1導電層11、第2導電層12の2層構造からなる場合、第2導電層12上の導電性接着材料の面積を1mm〜1cmとすることが好ましい。該面積を1mm以上とすることにより、第2導電層12中の複数の導通微粒子が導電性接着材料に接触し、アース処理をより有効なものとすることができ、該面積を1cm以下とすることにより、外側からアース部分を視認出来ないようにできる。
Examples of the grounding process include a method of connecting the surface of the conductive layer 1 to another conductive member 6 as shown in FIGS. At this time, it is preferable that the surface of the conductive layer 1 and the other conductive member 6 are connected to each other through a conductive wire 7. Moreover, it is preferable that the conducting wire 7 is fixed to the surface of the conductive layer 1 with a conductive adhesive material 8 such as a silver paste, a carbon tape, or a metal tape.
The ground treatment may be performed at one place on the surface of the conductive layer 1 or at a plurality of places. In addition, the other conductive member 6 is a place outside the effective area of the optical laminate 10 (outside the range in which an image can be visually recognized in the case of an in-cell touch panel liquid crystal display device) from the viewpoint of not affecting the optical characteristics. It is preferable to install the outer periphery of the conductive layer 1 or the optical laminate 10 outside the system.
In addition, when the conductive layer 1 has the two-layer structure of the first conductive layer 11 and the second conductive layer 12 described above, the area of the conductive adhesive material on the second conductive layer 12 may be 1 mm 2 to 1 cm 2. preferable. By setting the area to 1 mm 2 or more, a plurality of conductive fine particles in the second conductive layer 12 can come into contact with the conductive adhesive material, and grounding can be made more effective, and the area can be reduced to 1 cm 2 or less. By doing so, it is possible to make the ground portion invisible from the outside.

導電層の表面と接続又は密着する他の導電性部材は、アース処理をより効果的にする観点から、体積抵抗率が1.0×10Ωm以下であることが好ましく、1.0×10Ωm以下であることがより好ましく、1.0Ωm以下であることがさらに好ましく、1.0×10−3Ωm以下であることが特に好ましい。
このような他の導電性部材としては、ケイ素、炭素、鉄、アルミニウム、銅、金、銀や、ニクロム等の合金等が挙げられる。
The other conductive member that is connected to or in close contact with the surface of the conductive layer preferably has a volume resistivity of 1.0 × 10 6 Ωm or less from the viewpoint of making the ground treatment more effective. It is more preferably 3 Ωm or less, further preferably 1.0 Ωm or less, and particularly preferably 1.0 × 10 −3 Ωm or less.
Examples of such other conductive members include silicon, carbon, iron, aluminum, copper, gold, silver, and alloys such as nichrome.

工程(a)及び(b)と、工程(c)との間においては、光学積層体を任意の大きさに切断する工程を有することが好ましい。
また、上記切断工程は、導電層が光学積層体の最表面の位置となるようにして工程(a)及び工程(b)を行った後に実施することが好ましい。さらに、この際、工程(a)及び工程(b)をロールツーロールで行うことが好ましい。このような工程を取ることにより、製造をより効率化することができる。
導電層を光学積層体の最表面に位置させるには、まず光学積層体を作製し、得られた光学積層体の最表面に導電層を形成する手法や、光学積層体の最表面に位置する部材(位相差板等)上に導電層を形成した後、該導電層が最表面となるように他の部材と積層する手法が挙げられる。
光学積層体を切断するには、レーザー切削や、型抜き加工、裁断等の従来公知である手法を用いることができる。
Between the steps (a) and (b) and the step (c), it is preferable to have a step of cutting the optical layered body into an arbitrary size.
Moreover, it is preferable to implement the said cutting process, after performing a process (a) and a process (b) so that a conductive layer may become the position of the outermost surface of an optical laminated body. Furthermore, at this time, it is preferable to perform the step (a) and the step (b) by roll-to-roll. By taking such a process, manufacturing can be made more efficient.
In order to position the conductive layer on the outermost surface of the optical layered body, an optical layered body is first prepared, and a method of forming the conductive layer on the outermost surface of the obtained optical layered body, or the outermost surface of the optical layered body is positioned. A method of forming a conductive layer on a member (such as a phase difference plate) and then laminating with another member so that the conductive layer becomes the outermost surface can be mentioned.
In order to cut the optical layered body, conventionally known methods such as laser cutting, die cutting, and cutting can be used.

<光学積層体形成部材>
(位相差板)
位相差板は、少なくとも位相差層を有する構成からなる。位相差層としては、延伸ポリカーボネートフィルム、延伸ポリエステルフィルム、延伸環状オレフィンフィルム等の延伸フィルムの態様、屈折率異方性材料を含有する層の態様があげられる。前者と後者の態様では、リタデーションの制御及び薄型化の観点から、後者の態様が好ましい。
屈折率異方性材料を含有する層(以下、「異方性材料含有層」という場合もある)は、当該層の単独で位相差板を構成するものであっても、樹脂フィルム上に異方性材料含有層を有する構成であってもよい。
<Optical laminate forming member>
(Phase difference plate)
The retardation plate has a configuration having at least a retardation layer. Examples of the retardation layer include a stretched film such as a stretched polycarbonate film, a stretched polyester film, and a stretched cyclic olefin film, and a layer containing a refractive index anisotropic material. In the former and latter modes, the latter mode is preferable from the viewpoint of retardation control and thinning.
A layer containing a refractive index anisotropic material (hereinafter sometimes referred to as an “anisotropic material-containing layer”) may be formed on the resin film even if it constitutes a retardation plate by itself. The structure which has an anisotropic material content layer may be sufficient.

樹脂フィルムを構成する樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、(メタ)アクロニトリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂等が挙げられ、これらのうち1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、寸法安定性及び光学的安定性の観点から、シクロオレフィン系樹脂が好ましい。
屈折率異方性材料としては、棒状化合物、円盤状化合物及び液晶分子等が挙げられる。
The resins constituting the resin film include polyester resins, polyolefin resins, (meth) acrylic resins, polyurethane resins, polyether sulfone resins, polycarbonate resins, polysulfone resins, polyether resins, and polyethers. Examples include ketone-based resins, (meth) acrylonitrile-based resins, cycloolefin-based resins, and the like, and one or more of these can be used. Among these, cycloolefin resins are preferable from the viewpoints of dimensional stability and optical stability.
Examples of the refractive index anisotropic material include rod-like compounds, discotic compounds, and liquid crystal molecules.

屈折率異方性材料を用いる場合、屈折率異方性材料の配向方向により、種々のタイプの位相差板とすることができる。
例えば、屈折率異方性材料の光軸が異方性材料含有層の法線方向を向くとともに常光線屈折率よりも大きな異常光線屈折率を異方性材料含有層の法線方向に有する、いわゆる正のCプレートが挙げられる。
また別の態様では、屈折率異方性材料の光軸が異方性材料含有層と並行するとともに常光線屈折率よりも大きな異常光線屈折率を異方性材料含有層の面内方向に有する、いわゆる正のAプレートであってもよい。
またさらには、液晶分子の光軸を異方性材料含有層と並行として、法線方向に螺旋構造をとったコレステリック配向とすることにより、異方性材料含有層全体として常光線屈折率よりも小さな異常光線屈折率を位相差層の法線方向とした、いわゆる負のCプレートであってもよい。
さらには、負の複屈折異方性を有するディスコティック液晶を、その光軸を異方性材料含有層の面内方向に有する、負のAプレートとすることも可能である。
またさらに異方性材料含有層は、該層に対して斜めであってもよく、またはその角度が層に垂直な方向で変化しているハイブリッド配向プレートであってもよい。
このような種々のタイプの位相差板は、例えば、特開2009−053371号公報に記載の方法により製造することができる。
When the refractive index anisotropic material is used, various types of retardation plates can be formed depending on the orientation direction of the refractive index anisotropic material.
For example, the optical axis of the refractive index anisotropic material is oriented in the normal direction of the anisotropic material-containing layer and has an extraordinary ray refractive index larger than the ordinary ray refractive index in the normal direction of the anisotropic material-containing layer. There is a so-called positive C plate.
In another aspect, the optical axis of the refractive index anisotropic material is parallel to the anisotropic material-containing layer and has an extraordinary ray refractive index larger than the ordinary ray refractive index in the in-plane direction of the anisotropic material-containing layer. A so-called positive A plate may be used.
Furthermore, by making the optical axis of the liquid crystal molecules parallel to the anisotropic material-containing layer and adopting a cholesteric orientation having a spiral structure in the normal direction, the anisotropic material-containing layer as a whole is more than the ordinary refractive index. A so-called negative C plate having a small extraordinary ray refractive index in the normal direction of the retardation layer may be used.
Furthermore, the discotic liquid crystal having negative birefringence anisotropy may be a negative A plate having its optical axis in the in-plane direction of the anisotropic material-containing layer.
Further, the anisotropic material-containing layer may be oblique to the layer, or may be a hybrid alignment plate whose angle changes in a direction perpendicular to the layer.
Such various types of retardation plates can be manufactured by, for example, a method described in JP-A-2009-053371.

位相差板は、上述した正もしくは負のCプレートやAプレート、またはハイブリッド配向プレートのいずれか一つのプレートからなるものであってもよいが、これらの1種又は2種以上を組み合わせた二以上のプレートからなるものであってもよい。例えば、インセルタッチパネルの液晶素子がVA方式の場合、正のAプレートと負のCプレートを組み合わせて用いることが好ましく、IPS方式の場合、正のCプレートと正のAプレートや2軸プレートを組み合わせて用いることが好ましいが、視野角を補償できるものであればどの組み合わせでも良く、様々な組み合わせが考えられ、適宜選択することができる。
なお、位相差板を二以上のプレートからなるものとする場合、薄型化の観点から、一つのプレートを延伸フィルムとして、当該延伸フィルム上に異方性材料含有層(他のプレート)を積層する態様が好ましい。
The retardation plate may be composed of any one of the above-described positive or negative C plate, A plate, or hybrid alignment plate, but two or more of these one or a combination of two or more thereof. It may consist of the following plate. For example, when the liquid crystal element of the in-cell touch panel is a VA system, it is preferable to use a combination of a positive A plate and a negative C plate. In the case of an IPS system, the positive C plate is combined with a positive A plate or a biaxial plate. However, any combination can be used as long as the viewing angle can be compensated, and various combinations are conceivable and can be appropriately selected.
When the retardation plate is composed of two or more plates, from the viewpoint of thinning, one plate is used as a stretched film, and an anisotropic material-containing layer (other plate) is laminated on the stretched film. Embodiments are preferred.

位相差板は、樹脂フィルム上に異方性材料含有層を有する構成の場合、樹脂フィルム側が偏光膜側を向くように配置することが好ましい。このような向きで配置することにより、位相差板の樹脂フィルムを、偏光膜の背面保護フィルムとして機能させることができ、光学積層体の厚みを低減することができる。   In the case where the retardation plate has an anisotropic material-containing layer on the resin film, the retardation plate is preferably arranged so that the resin film side faces the polarizing film side. By arrange | positioning in such an orientation, the resin film of a phase difference plate can be functioned as a back surface protective film of a polarizing film, and the thickness of an optical laminated body can be reduced.

位相差板の厚みは、15〜80μmが好ましく、20〜60μmがより好ましい。なお、位相差板を二以上のプレートからなるものとする場合、一つのプレートを延伸フィルムとして、当該延伸フィルム上に異方性材料含有層(他のプレート)を積層する態様とすることにより、上記厚み範囲内にしやすくできる。   The thickness of the retardation plate is preferably 15 to 80 μm, and more preferably 20 to 60 μm. In addition, when the retardation plate is composed of two or more plates, by setting one plate as a stretched film and laminating an anisotropic material-containing layer (other plate) on the stretched film, It can be easily within the above thickness range.

(偏光膜)
偏光膜は、位相差板と表面保護基材との間に位置するものである。
偏光膜としては、特定の振動方向をもつ光のみを透過する機能を有する偏光膜であれば如何なるものでもよく、例えばPVA系フィルムなどを延伸し、ヨウ素や二色性染料などで染色したPVA系偏光膜、PVAの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物などのポリエン系偏光膜、コレステリック液晶を用いた反射型偏光膜、薄膜結晶フィルム系偏光膜等が挙げられる。これらの中でも、水により接着性を発現し、別途接着層を設けることなく、位相差板や表面保護基材を接着することができる、PVA系偏光膜が好適である。
(Polarizing film)
A polarizing film is located between a phase difference plate and a surface protection base material.
As the polarizing film, any polarizing film having a function of transmitting only light having a specific vibration direction may be used. For example, a PVA film obtained by stretching a PVA film and dyeing with iodine or a dichroic dye is used. Examples include polarizing films, polyene polarizing films such as PVA dehydrated products and polyvinyl chloride dehydrochlorinated products, reflective polarizing films using cholesteric liquid crystals, and thin film crystalline film polarizing films. Among these, a PVA polarizing film that exhibits adhesiveness with water and can adhere a retardation plate or a surface protective substrate without providing an additional adhesive layer is preferable.

PVA系偏光膜としては、例えば、PVA系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸したものが挙げられる。これらの中でも、接着性の観点から、PVA系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光膜が好適に用いられる。
PVA系フィルムを構成するPVA系樹脂は、ポリ酢酸ビニルをケン化してなるものである。
Examples of PVA polarizing films include hydrophilic polymer films such as PVA films, partially formalized polyvinyl alcohol films, and ethylene / vinyl acetate copolymer partially saponified films, as well as two types of iodine and dichroic dyes. A uniaxially stretched product by adsorbing a chromatic substance can be mentioned. Among these, from the viewpoint of adhesiveness, a polarizing film composed of a PVA film and a dichroic substance such as iodine is preferably used.
The PVA resin constituting the PVA film is formed by saponifying polyvinyl acetate.

偏光膜の厚みは、2〜50μmが好ましく、3〜30μmがより好ましい。   The thickness of the polarizing film is preferably 2 to 50 μm, more preferably 3 to 30 μm.

(偏光膜保護基材)
偏光膜保護基材は、偏光膜の保護目的で用いられるものであり、偏光膜の両面に位置しても良いが、偏光膜の位相差板とは反対側の面に位置させることが好ましい。偏光膜の一方の面に位相差板を有し、反対側の面に偏光膜保護基材を有することにより、部材の削減を図ることができる。
このような偏光膜保護基材としては、トリアセチルセルロースフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、環状オレフィンフィルム、ポリエステルフィルム等の透明プラスチックフィルムが挙げられる。なお、透明プラスチックフィルムとして、リタデーション値3000〜30000nmのプラスチックフィルムや、1/4波長位相差のプラスチックフィルム等の光学異方性基材を用いることにより、偏光サングラスを通して観察した際の視認性を良好にできる点で好適である。なお、偏光サングラスを通しての視認性が良好とは、液晶表示素子の前面に光学積層体を配置した際に、表示画面に色の異なるムラ(以下、「ニジムラ」ともいう)が観察されないことをいう。
偏光膜保護基材の厚みは、4〜500μmが好ましく、4〜250μmがより好ましい。
(Polarizing film protective substrate)
The polarizing film protective substrate is used for the purpose of protecting the polarizing film, and may be located on both sides of the polarizing film, but is preferably located on the opposite side of the polarizing film from the retardation plate. By having the retardation film on one surface of the polarizing film and having the polarizing film protective substrate on the opposite surface, the number of members can be reduced.
Examples of such a polarizing film protective substrate include transparent plastic films such as a triacetyl cellulose film, an acrylic resin film, a polycarbonate film, a cyclic olefin film, and a polyester film. In addition, by using an optically anisotropic substrate such as a plastic film having a retardation value of 3000 to 30000 nm or a plastic film having a quarter wavelength retardation as the transparent plastic film, the visibility when observed through polarized sunglasses can be improved. This is preferable in terms of points. In addition, the visibility through polarized sunglasses means that unevenness of different colors (hereinafter also referred to as “NIJIMURA”) is not observed on the display screen when the optical layered body is disposed on the front surface of the liquid crystal display element. .
The thickness of the polarizing film protective substrate is preferably 4 to 500 μm, and more preferably 4 to 250 μm.

(表面保護基材)
表面保護基材は、光学積層体の表面(偏光膜を基準として、偏光膜の位相差板とは反対側の光学積層体の表面)に位置し、光学積層体にコシを付与するとともに、光学積層体の表面を保護する役割を有する。なお、表面保護フィルムを偏光膜と接して用いることにより、偏光膜の保護機能を果たすこともできる。
表面保護基材としては、カバーガラス、プラスチック板、積層プラスチックフィルム等が挙げられる。これらの中でも、ロールツーロールの生産に適する積層プラスチックフィルムが好適である。
カバーガラスは従来公知のものを用いることができ、厚みは0.3〜1.0mmが好ましく、0.3〜0.7mmがより好ましい。
プラスチック板は従来公知のものを用いることができ、厚みは0.3〜2.0mmが好ましく、0.3〜1.0mmがより好ましい。
積層プラスチックフィルムは、ポリエステルフィルム等の透明プラスチックフィルムの片面又は両面に、熱硬化型樹脂組成物、電離放射線硬化型樹脂組成物等の硬化型樹脂組成物から形成されてなる硬化層を有するもの、ポリエステルフィルム等の透明プラスチックフィルムの複数枚を接着層を介して積層したもの等が挙げられる。積層プラスチックフィルムの厚みは、60〜250μmが好ましく、60〜150μmがより好ましい。なお、積層プラスチックフィルムを構成する透明プラスチックフィルムとして、リタデーション値3000〜30000nmのプラスチックフィルムや、1/4波長位相差のプラスチックフィルム等の光学異方性基材を用いることにより、偏光サングラスを通して観察した際のニジムラを防止できる点で好適である。
(Surface protective substrate)
The surface protective substrate is located on the surface of the optical laminate (the surface of the optical laminate opposite to the retardation film of the polarizing film with respect to the polarizing film), and gives the stiffness to the optical laminate, It has a role which protects the surface of a laminated body. The protective function of the polarizing film can also be achieved by using the surface protective film in contact with the polarizing film.
Examples of the surface protective substrate include cover glass, plastic plate, laminated plastic film and the like. Among these, a laminated plastic film suitable for roll-to-roll production is preferable.
A conventionally known cover glass can be used, and the thickness is preferably 0.3 to 1.0 mm, more preferably 0.3 to 0.7 mm.
A conventionally known plastic plate can be used, and the thickness is preferably 0.3 to 2.0 mm, more preferably 0.3 to 1.0 mm.
The laminated plastic film has a cured layer formed from a curable resin composition such as a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition on one or both sides of a transparent plastic film such as a polyester film, Examples include a laminate of a plurality of transparent plastic films such as a polyester film via an adhesive layer. The thickness of the laminated plastic film is preferably 60 to 250 μm, more preferably 60 to 150 μm. In addition, as a transparent plastic film which comprises a laminated plastic film, when using optically anisotropic base materials, such as a plastic film with a retardation value of 3000-30000 nm, and a plastic film of 1/4 wavelength phase difference, when observing through polarized sunglasses It is suitable in that it can prevent nitjira.

熱硬化型性樹脂組成物としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の硬化型樹脂と、必要に応じて添加する硬化剤を含んでなるもの、あるいは、前記硬化性樹脂を構成するモノマーと、硬化剤を含んでなるもの等が挙げられる。   The thermosetting resin composition includes a curable resin such as an acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, and a curing agent added as necessary. Or a monomer comprising the curable resin and a curing agent.

電離放射線硬化型樹脂組成物としては、電離放射線(紫外線または電子線)の照射によって架橋硬化することができる光重合性プレポリマーを用いることができ、この光重合性プレポリマーとしては、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、架橋硬化することにより3次元網目構造となる(メタ)アクリル系プレポリマーが特に好ましく使用される。この(メタ)アクリル系プレポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ポリフルオロアルキル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等が使用でき、反応性に優れるアクリル系プレポリマーが好適である。これらの(メタ)アクリル系プレポリマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性を向上させ硬化層の硬度をより向上させるために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。   As the ionizing radiation curable resin composition, a photopolymerizable prepolymer that can be crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet ray or electron beam) can be used. A (meth) acrylic prepolymer having two or more (meth) acryloyl groups and having a three-dimensional network structure by crosslinking and curing is particularly preferably used. Examples of the (meth) acrylic prepolymer include urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, polyfluoroalkyl (meth) acrylate, and silicone (meth) acrylate. An acrylic prepolymer that can be used and has excellent reactivity is preferred. These (meth) acrylic prepolymers can be used alone, but it is preferable to add a photopolymerizable monomer in order to improve the crosslinkability and further improve the hardness of the cured layer.

光重合性モノマーとしては、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能アクリルモノマー、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の2官能アクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチルプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリルモノマー等の1種若しくは2種以上が使用され、多官能アクリルモノマーを用いることが好適である。   Examples of the photopolymerizable monomer include monofunctional acrylic monomers such as 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, 1,6- Bifunctional acrylic monomers such as hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and other polyfunctional (meth) acrylic mono Is used one or more types of chromatography such, it is preferable to use a polyfunctional acrylic monomer.

電離放射線硬化型樹脂組成物は、光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他、紫外線照射によって硬化させる場合には、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を用いることが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等があげられる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどがあげられる。
また、電離放射線硬化方樹脂組成物中には、硬化後の硬度を向上させるために無機粒子を含有していてもよい。
In addition to the photopolymerizable prepolymer and the photopolymerizable monomer, the ionizing radiation curable resin composition preferably uses an additive such as a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator when it is cured by ultraviolet irradiation.
Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, benzoin, benzylmethyl ketal, benzoylbenzoate, α-acyloxime ester, thioxanthone and the like.
Further, the photopolymerization accelerator can reduce the polymerization obstacle due to air at the time of curing and increase the curing speed. For example, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, and the like. can give.
The ionizing radiation curable resin composition may contain inorganic particles in order to improve the hardness after curing.

積層プラスチックフィルムの硬化層は、工程(a)や、上述した切断工程の段階で半硬化の状態であってもよい。硬化層が半硬化の状態であると、光学積層体を切断しやすい点で好適である。また、積層プラスチックフィルムが、透明プラスチックフィルムの片面又は両面に、熱硬化型樹脂組成物又は電離放射線硬化型樹脂組成物から形成されてなる硬化層を有するタイプである場合、硬化層が半硬化の状態であると、当該硬化層と別の部材(例えば、偏光膜)との接着性を良好にできる点で好適である。   The cured layer of the laminated plastic film may be in a semi-cured state at the stage of the step (a) or the cutting step described above. When the cured layer is in a semi-cured state, it is preferable in that the optical laminate can be easily cut. In addition, when the laminated plastic film is a type having a cured layer formed from a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition on one or both sides of a transparent plastic film, the cured layer is semi-cured. The state is preferable in that the adhesiveness between the cured layer and another member (for example, a polarizing film) can be improved.

表面保護基材の光学積層体の表面(偏光膜を基準として、偏光膜の位相差板とは反対側の光学積層体の表面)となる面には、機能層を有していても良い。機能層としては、反射防止層、防眩層、耐指紋層、防汚層、耐擦傷性層、抗菌層等が挙げられる。また、これら機能層は、熱硬化型樹脂組成物又は電離放射線硬化型樹脂組成物から形成されてなるものが好ましく、電離放射線硬化型樹脂組成物から形成されてなるものがより好ましい。   A functional layer may be provided on the surface that is the surface of the optical laminate of the surface protective substrate (the surface of the optical laminate opposite to the retardation film of the polarizing film with respect to the polarizing film). Examples of the functional layer include an antireflection layer, an antiglare layer, an anti-fingerprint layer, an antifouling layer, an abrasion resistant layer, and an antibacterial layer. These functional layers are preferably formed from a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition, and more preferably formed from an ionizing radiation curable resin composition.

<インセルタッチパネル液晶素子>
インセルタッチパネル液晶素子は、2枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。なお、インセルタッチパネル液晶素子の液晶の表示方式としては、IPS方式、VA方式、マルチドメイン方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等が挙げられる。
インセルタッチパネル液晶素子は、例えば、特開2011−76602号公報、特開2011−222009号公報に記載されている。
<In-cell touch panel liquid crystal device>
The in-cell touch panel liquid crystal element is a liquid crystal element in which a liquid crystal is sandwiched between two glass substrates, and a touch panel function such as a resistive film type, a capacitance type, and an optical type is incorporated therein. Examples of the liquid crystal display method of the in-cell touch panel liquid crystal element include an IPS method, a VA method, a multi-domain method, an OCB method, an STN method, and a TSTN method.
In-cell touch panel liquid crystal elements are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2011-76602 and 2011-222009.

[インセルタッチパネル液晶表示装置の製造方法]
本発明のインセルタッチパネル液晶表示装置の製造方法は、上述した本発明のインセルタッチパネル液晶表示の前面用の光学積層体製造方法で得られた光学積層体の位相差フィルム側と、インセルタッチパネル液晶素子側とを貼り合わせる工程を行うものである。
インセルタッチパネル液晶素子と、光学積層体とは、例えば、接着層を介して貼り合せることができる。
接着層は、ウレタン系、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、酢酸ビニル系、塩ビ・酢ビ共重合物、セルロース系等の接着剤を使用することができる。接着層の厚みは10〜25μm程度である。
[Method of manufacturing in-cell touch panel liquid crystal display device]
The manufacturing method of the in-cell touch panel liquid crystal display device of the present invention is the retardation film side of the optical laminate obtained by the above-described optical laminate manufacturing method for the front surface of the in-cell touch panel liquid crystal display of the present invention, and the in-cell touch panel liquid crystal element side. The process which bonds together is performed.
The in-cell touch panel liquid crystal element and the optical laminate can be bonded to each other through an adhesive layer, for example.
For the adhesive layer, urethane-based, acrylic-based, polyester-based, epoxy-based, vinyl acetate-based, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, cellulose-based adhesive, and the like can be used. The thickness of the adhesive layer is about 10 to 25 μm.

[インセルタッチパネル液晶表示素子の前面用の光学積層体]
本発明のインセルタッチパネル液晶表示素子の前面用の光学積層体(以下、「本発明の光学積層体」という)は、位相差板及び偏光膜を含む光学積層体形成部材が積層されてなり、前記光学積層体形成部材の少なくとも一つの部材に導電層が形成されてなり、かつ前記導電層表面からアース処理がされてなるものである。
本発明の光学積層体の構成要件の実施の形態は、上述したとおりである。
[Optical Laminate for Front of In-cell Touch Panel Liquid Crystal Display]
The optical laminate for the front surface of the in-cell touch panel liquid crystal display element of the present invention (hereinafter referred to as “optical laminate of the present invention”) is formed by laminating an optical laminate forming member including a retardation plate and a polarizing film, A conductive layer is formed on at least one member of the optical layered body forming member, and grounding is performed from the surface of the conductive layer.
The embodiment of the constituent requirements of the optical layered body of the present invention is as described above.

[インセルタッチパネル液晶表示装置]
本発明のインセルタッチパネル液晶表示装置は、上述した本発明の光学積層体の位相差フィルム側と、インセルタッチパネル液晶素子側とが貼り合わせられてなるものである。
本発明の光学積層体の構成要件、およびインセルタッチパネル液晶素子の実施の形態は、上述したとおりである。
[In-cell touch panel liquid crystal display]
The in-cell touch panel liquid crystal display device of the present invention is formed by bonding the retardation film side of the optical laminate of the present invention described above and the in-cell touch panel liquid crystal element side.
The structural requirements of the optical laminate of the present invention and the embodiment of the in-cell touch panel liquid crystal element are as described above.

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited at all by these examples.

<接着層の構成>
実施例で用いる接着層としては、アクリル系接着剤(東洋インキ製造社製、オリバインBPS1109)を100部、硬化剤(東洋インキ製造社製、オリバインBHS8515)を2.5部及び希釈溶剤からなる接着層A塗布液を、塗布、乾燥することにより形成したものを用いた。
<Configuration of adhesive layer>
As an adhesive layer used in the Examples, an adhesive composed of 100 parts of an acrylic adhesive (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., Olivevine BPS1109), 2.5 parts of a curing agent (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., Olivevine BHS8515) and a diluent solvent. A layer A coating solution formed by coating and drying was used.

<インセルタッチパネル液晶素子>
市販の液晶表示装置(ソニーエリクソン社製、エクスペリアP)に組み込まれている、静電容量式のインセルタッチパネル液晶素子を準備した。
<In-cell touch panel liquid crystal device>
A capacitance-type in-cell touch panel liquid crystal element incorporated in a commercially available liquid crystal display device (manufactured by Sony Ericsson, Expert P) was prepared.

<位相差フィルム>
位相差フィルムとして、JSR社製の延伸環状オレフィンフィルム(アートン、膜厚28μm、リタデーション値100nm)を準備した。
<Phase difference film>
As a retardation film, a stretched cyclic olefin film (Arton, film thickness 28 μm, retardation value 100 nm) manufactured by JSR was prepared.

<偏光膜の作製>
厚み80μmのポリビニルアルコールフィルムを、速度比の異なるロール間において、30℃、0.3%濃度のヨウ素溶液中で1分間染色しながら、3倍まで延伸した。その後、60℃、4%濃度のホウ酸、10%濃度のヨウ化カリウムを含む水溶液中に0.5分間浸漬しながら総合延伸倍率が6倍まで延伸した。次いで、30℃、1.5%濃度のヨウ化カリウムを含む水溶液中に10秒間浸漬することで洗浄した後、50℃で4分間乾燥を行い、厚み20μmの偏光膜を得た。
<Preparation of polarizing film>
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was stretched up to 3 times while being dyed for 1 minute in an iodine solution of 0.3% concentration at 30 ° C. between rolls having different speed ratios. Thereafter, the total draw ratio was stretched to 6 times while being immersed in an aqueous solution containing 60% at 4% concentration of boric acid and 10% concentration of potassium iodide for 0.5 minutes. Next, after washing by immersing in an aqueous solution containing potassium iodide at 30 ° C. and 1.5% concentration for 10 seconds, drying was performed at 50 ° C. for 4 minutes to obtain a polarizing film having a thickness of 20 μm.

<光学積層体の物性測定及び評価>
以下のように、実施例及び比較例の光学積層体の物性測定及び評価を行った。結果を表1に示す。
[表面抵抗率]
JIS K6911に基づき、光学積層体の製造直後の導電層の表面抵抗率(Ω/□)を測定した。高抵抗率計ハイレスターUP MCP−HT450(三菱化学社製)を用い、プローブにはURSプローブ MCP−HTP14(三菱化学社製)を使用、温度25±4℃、湿度50±10%の環境下で500Vの印加電圧にて表面抵抗率(Ω/□)の測定を実施した。
なお、導電層が2層構造の場合、第2導電層上の表面抵抗率を測定した。
[表面抵抗率の経時安定性]
光学積層体を80℃で100時間保持した後の導電層の表面抵抗率(Ω/□)を測定し、(80℃100時間保持後の表面抵抗率)/(製造直後の表面抵抗率)の比を算出した。また、光学積層体の導電層の表面を100gの荷重をかけたスチールウール(No.0000)で10往復(ストローク100mm)擦り、導電層表面に擦傷痕が視認されるか否かについて目視で確認した。その結果、前記比が0.5以上3未満でかつ擦傷痕が観察されないものを「◎」、前記比が0.5以上3未満であるが擦傷痕が観察されたものを「〇」とした。
[液晶画面の白濁]
インセルタッチパネル液晶素子上に、実施例及び比較例の光学積層体を、厚み20μmの接着層を介して貼り合わせた。次いで、光学積層体の最表面の上に更に保護フィルム(ポリエチレン保護フィルムやPET保護フィルムなど既知の保護フィルム)を貼合した。次いで、貼合した保護フィルムを除去してすぐに液晶表示装置を駆動して手でタッチした際に白濁現象が発生するかどうかを目視により評価した。
○:白濁は視認出来ない
△:僅かに白濁が視認される場合もあるが、極めて微視的
×:白濁が目立って視認される
[ニジムラ]
インセルタッチパネル液晶素子上に、実施例及び比較例の光学積層体を、厚み20μmの接着層を介して貼り合わせ、画面を白表示もしくは略白表示にして、市販の偏光サングラス越しに、もしくは偏光板越しに様々な角度から目視でニジムラ(虹模様)が視認できるかどうかを評価した。
○:ニジ模様は視認出来ない
×:ニジ模様が視認される
[動作性]
インセルタッチパネル液晶素子上に、実施例及び比較例の光学積層体を、厚み20μmの接着層を介して貼り合わせた。次いで、光学積層体の最表面の上から手でタッチした際に液晶・タッチセンサーが不具合無く駆動しているかどうかを目視により評価した。
○:問題なく駆動している
△:僅かに動作不良が見られることがあるが駆動する
×:動作しない
<Measurement and evaluation of physical properties of optical laminate>
The physical property measurement and evaluation of the optical laminates of Examples and Comparative Examples were performed as follows. The results are shown in Table 1.
[Surface resistivity]
Based on JIS K6911, the surface resistivity (Ω / □) of the conductive layer immediately after the production of the optical laminate was measured. High resistivity meter Hi-Lester UP MCP-HT450 (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) is used, and URS probe MCP-HTP14 (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) is used as the probe, in an environment of temperature 25 ± 4 ° C and humidity 50 ± 10% The surface resistivity (Ω / □) was measured at an applied voltage of 500V.
When the conductive layer has a two-layer structure, the surface resistivity on the second conductive layer was measured.
[Stability of surface resistivity over time]
The surface resistivity (Ω / □) of the conductive layer after holding the optical laminate at 80 ° C. for 100 hours was measured, and (surface resistivity after holding at 80 ° C. for 100 hours) / (surface resistivity immediately after manufacture) The ratio was calculated. In addition, the surface of the conductive layer of the optical layered body is rubbed 10 times (stroke 100 mm) with steel wool (No. 0000) applied with a load of 100 g, and it is visually confirmed whether or not scratch marks are visible on the surface of the conductive layer. did. As a result, the ratio was 0.5 or more and less than 3 and no scratch marks were observed, “◎”, and the ratio was 0.5 or more and less than 3, but scratch marks were observed as “◯”. .
[LCD screen cloudy]
On the in-cell touch panel liquid crystal element, the optical laminates of Examples and Comparative Examples were bonded together through an adhesive layer having a thickness of 20 μm. Next, a protective film (a known protective film such as a polyethylene protective film or a PET protective film) was further bonded onto the outermost surface of the optical laminate. Next, whether the white turbidity phenomenon occurred when the liquid crystal display device was driven and touched by hand immediately after removing the bonded protective film was visually evaluated.
○: White turbidity is not visible Δ: Slight white turbidity may be visually recognized, but extremely microscopic ×: White turbidity is noticeable conspicuously [Nizimura]
The optical laminates of the example and the comparative example are bonded to the in-cell touch panel liquid crystal element through an adhesive layer having a thickness of 20 μm, and the screen is displayed in white or substantially white. It was evaluated whether or not Nijimura (rainbow pattern) can be visually observed from various angles.
○: The rainbow pattern is not visible ×: The rainbow pattern is visible [operability]
On the in-cell touch panel liquid crystal element, the optical laminates of Examples and Comparative Examples were bonded together through an adhesive layer having a thickness of 20 μm. Next, it was visually evaluated whether or not the liquid crystal / touch sensor was driven without any trouble when touched by hand from the uppermost surface of the optical laminate.
○: Driven without any problem Δ: Slightly malfunctioning may be seen, but drive ×: Not working

[実施例1]
(1)表面保護基材の作製
[最表面用硬化層塗布液の調整]
ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製、PET−30)と、ポリマー含有アクリレート樹脂(荒川化学社製、ビームセットDK−1)と、シリカ微粒子分散液(JSR社製、KZ6406)とを、前記3成分の固形分が順に50部、25部、25部となるようにメチルイソブチルケトン中に添加して攪拌し、溶液aを得た。
次いで、溶液aの固形分100部に対して、光重合開始剤(BASFジャパン社製、イルガキュア184)7質量部、光重合開始剤(BASFジャパン社製、ルシリンTPO)1.5質量部を添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が40質量%の溶液bを調製した。
次いで、溶液bの固形分100部に対し、レベリング剤(製品名メガファックRS71、DIC社製)を固形分比で0.4部添加して撹拌し、最表面用硬化層用組成物を調製した。
[裏面用硬化層塗布液の調整]
ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製、PET−30)と、ポリマー含有アクリレート樹脂(荒川化学社製、ビームセットDK−1)と、シリカ微粒子分散液(JSR社製、KZ6406)とを、前記3成分の固形分が順に50部、25部、25部となるようにメチルイソブチルケトン中に添加して攪拌し、溶液cを得た。
次いで、溶液cの固形分100部に対して、光重合開始剤(BASFジャパン社製、イルガキュア184)4質量部を添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が40質量%の溶液dを調製した。
次いで、レベリング剤(DIC社製、メガファックMCF350−5)及びブロッキング防止剤(CIKナノテック社製、SIRMIBK15WT%−E65)を、溶液dの固形分100部に対して、前記2成分の固形分が順に0.1部、1.5部となるように添加して撹拌し、裏面用硬化層用組成物を調製した。
[硬化層の形成]
厚み5.7μmの二軸延伸ポリエステルフィルム(東レ社製、ルミラー5N88、波長589.3nmの位相差が134.0nmである略1/4波長位相差フィルム)上にまず最表面用硬化層用組成物をスリットリバースコートにより、乾燥後の膜厚が50μmとなるよう塗布し塗膜を形成した。得られた塗膜を70℃で1分間乾燥させた後、紫外線照射量240mJ/cmで紫外線を照射して塗膜を硬化させ硬化層を形成した。次いで、逆面に裏面用硬化層用組成物をスリットリバースコートにより、乾燥後の膜厚50μmとなるよう塗布し塗膜を形成した。得られた塗膜を70℃で1分間乾燥させた後、紫外線照射量240mJ/cmで紫外線を照射して塗膜を硬化させ硬化層を形成し、表面保護基材を得た。
[Example 1]
(1) Preparation of surface protective base material [adjustment of outermost cured layer coating solution]
Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., PET-30), polymer-containing acrylate resin (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., Beam Set DK-1), silica fine particle dispersion (manufactured by JSR, KZ6406), It added in methyl isobutyl ketone and stirred so that solid content of 3 components might become 50 parts, 25 parts, and 25 parts in order, and the solution a was obtained.
Next, 7 parts by mass of a photopolymerization initiator (BASF Japan, Irgacure 184) and 1.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (BASF Japan, Lucyrin TPO) are added to 100 parts of the solid content of the solution a. Then, the mixture was stirred and dissolved to prepare a solution b having a final solid content of 40% by mass.
Next, 0.4 parts of a leveling agent (product name: Mega-Fac RS71, manufactured by DIC Corporation) is added to the solid content of the solution b at a solid content ratio and stirred to prepare a composition for the hardened layer for the outermost surface. did.
[Adjustment of the back surface cured layer coating solution]
Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., PET-30), polymer-containing acrylate resin (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., Beam Set DK-1), silica fine particle dispersion (manufactured by JSR, KZ6406), It added in methyl isobutyl ketone and stirred so that solid content of 3 components might become 50 parts, 25 parts, and 25 parts in order, and the solution c was obtained.
Next, 4 parts by mass of a photopolymerization initiator (BASF Japan Co., Ltd., Irgacure 184) is added to 100 parts by weight of the solution c, and the mixture is stirred and dissolved to obtain a solution d having a final solid content of 40% by mass. Prepared.
Subsequently, a leveling agent (manufactured by DIC, MegaFac MCF350-5) and an anti-blocking agent (manufactured by CIK Nanotech, SIRMIBK15WT% -E65) are added to 100 parts of the solid content of the solution d. It added and stirred so that it might become 0.1 part and 1.5 parts in order, and the composition for back surface cured layers was prepared.
[Formation of cured layer]
First, a composition for a hardened layer for the outermost surface on a biaxially stretched polyester film having a thickness of 5.7 μm (manufactured by Toray Industries Inc., Lumirror 5N88, approximately 1/4 wavelength retardation film having a wavelength difference of 134.0 nm at a wavelength of 589.3 nm). The product was applied by slit reverse coating so that the film thickness after drying was 50 μm to form a coating film. The obtained coating film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays at an ultraviolet irradiation amount of 240 mJ / cm 2 to cure the coating film to form a cured layer. Subsequently, the composition for back surface cured layers was apply | coated to the reverse surface by slit reverse coating so that it might become the film thickness of 50 micrometers after drying. The obtained coating film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays at an ultraviolet irradiation amount of 240 mJ / cm 2 to cure the coating film to form a cured layer, thereby obtaining a surface protective substrate.

(2)導電層の形成
DNPファインケミカル社製のHRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃)をプロピレングリコールモノメチルエーテル中に溶解させ、さらに日揮触媒化成社製のV3560(ATO分散液、ATO平均粒子径8nm)を添加して攪拌し、最終固形分8質量%、熱可塑性樹脂:ATOの比率が100:200(質量比)となるよう調整し、導電層用組成物を得た。
次いで、位相差フィルム上に、導電層用組成物を、スリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが0.3μmとなるように塗布、乾燥し、導電層を形成した。
(2) Formation of conductive layer HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C.) manufactured by DNP Fine Chemical Co. is dissolved in propylene glycol monomethyl ether, and JGC Catalysts & Chemicals V3560 (ATO dispersion, ATO average particle diameter of 8 nm) made by adding and stirring, adjusting the final solid content to 8% by mass, the ratio of thermoplastic resin: ATO to 100: 200 (mass ratio), conductive A layer composition was obtained.
Next, the conductive layer composition was applied onto the retardation film by slit reverse coating so that the dry coating thickness was 0.3 μm and dried to form a conductive layer.

(3)光学積層体の作製
上記にて作成した、導電層付き位相差フィルム、偏光膜、及び表面保護基材を、偏光膜に水を噴きつけながら、偏光膜の一方の面に導電層付き位相差フィルム、他方の面に表面保護基材で貼り合わせ、光学積層体を得た。なお、貼り合わせの際は、表面保護基材の背面硬化層側が偏光膜側を向くようにするとともに、導電層付き位相差フィルムの位相差フィルム側が偏光膜側を向くようにして行った。
また、得られた光学積層体の導電層表面の外縁部の1箇所に、銀ペーストを用いて導線を固着し、さらに導線を導電性部材(ニクロム、体積抵抗値1.5×10−6Ωm)に接続した。固着箇所の面積は2mmとした。
(3) Production of optical layered product The conductive film provided with the conductive layer on one surface of the polarizing film while spraying water on the polarizing film with the retardation film with the conductive layer, the polarizing film, and the surface protective substrate prepared above. The retardation film was bonded to the other surface with a surface protective substrate to obtain an optical laminate. In addition, the pasting was performed such that the back cured layer side of the surface protective substrate was directed to the polarizing film side, and the retardation film side of the retardation film with a conductive layer was directed to the polarizing film side.
In addition, a conductive wire is fixed to one portion of the outer edge portion of the surface of the conductive layer of the obtained optical layered body using a silver paste, and the conductive wire (Nichrome, volume resistance value 1.5 × 10 −6 Ωm) ). The area of the fixing part was 2 mm 2 .

[実施例2]
実施例1の導電層(第1導電層)上に、下記手法により第2導電層を形成した以外は、実施例1と同様にして光学積層体を作製した。
(第2導電層の形成)
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)と、DNPファインケミカル社製のHRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂)とを、前記2成分の固形分が順に70部、30部となるように、メチルエチルケトン(MEK)/イソプロパノール(IPA)の混合溶剤中に添加して攪拌し溶解させて、溶液eを得た。
次いで、溶液eの固形分100部に対して、光重合開始剤(BASFジャパン社製、イルガキュア184)を4質量部、レベリング剤(大日精化工業社製、10−301(TL))を0.2部添加し攪拌し、溶液fを調製した。
次いで、溶液fの樹脂成分100質量部に、導通微粒子分散液(DNPファインケミカル社製、ブライト分散液、導通微粒子の平均粒子径4.6μm、固形分25%)を0.83質量部添加して攪拌を行い、最後に紫外線吸収剤(BASFジャパン社製、TINUVI477)を溶液fの固形分100部に対して6部となるよう添加して攪拌し、総固形分25%の第2導電層用組成物を得た。
この第2導電層用組成物を先に形成した導電層(第1導電層)上にスリットリバースコートにより、乾燥塗布量6g/mとなるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を70℃で1分間乾燥させた後、紫外線照射量80mJ/cmで紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み5μmの第2導電層を形成し光学積層体を得た。
[Example 2]
An optical laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the second conductive layer was formed by the following method on the conductive layer (first conductive layer) of Example 1.
(Formation of second conductive layer)
Pentaerythritol triacrylate (PETA) and HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin) manufactured by DNP Fine Chemical Co., methyl ethyl ketone (MEK) so that the solid content of the two components is 70 parts and 30 parts, respectively. Was added to a mixed solvent of / isopropanol (IPA), stirred and dissolved to obtain a solution e.
Next, 4 parts by mass of a photopolymerization initiator (BASF Japan, Irgacure 184) and leveling agent (10-301 (TL), manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) are 0 with respect to 100 parts of the solid content of the solution e. 2 parts were added and stirred to prepare solution f.
Next, 0.83 parts by mass of conductive fine particle dispersion (DNP Fine Chemical Co., Ltd., Bright dispersion, conductive fine particle average particle diameter 4.6 μm, solid content 25%) is added to 100 parts by mass of the resin component of solution f. Stirring is performed, and finally an ultraviolet absorber (TINSFI477, manufactured by BASF Japan Ltd.) is added to 6 parts with respect to 100 parts of the solid content of the solution f and stirred, for the second conductive layer having a total solid content of 25%. A composition was obtained.
The composition for the second conductive layer was applied on the conductive layer (first conductive layer) previously formed by slit reverse coating so as to have a dry coating amount of 6 g / m 2 to form a coating film. After drying the obtained coating film at 70 ° C. for 1 minute, the coating film is cured by irradiating with ultraviolet rays at an ultraviolet irradiation amount of 80 mJ / cm 2 to form a second conductive layer having a thickness of 5 μm to obtain an optical laminate. It was.

[実施例3]
実施例2の第1導電層を、乾燥塗布厚み1.0μm、第2導電層を、乾燥塗布量4g/m、厚み3μmに変更した以外は、実施例2と同様にして光学積層体を得た。
[Example 3]
An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 2 except that the first conductive layer of Example 2 was changed to a dry coating thickness of 1.0 μm, and the second conductive layer was changed to a dry coating amount of 4 g / m 2 and a thickness of 3 μm. Obtained.

[実施例4]
実施例1において、導電層用組成物の熱可塑性樹脂:ATOの比率を、100:400に変更し、乾燥塗布厚みを1μmに変更した以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
[Example 4]
In Example 1, the optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the thermoplastic resin: ATO of the composition for the conductive layer was changed to 100: 400 and the dry coating thickness was changed to 1 μm. It was.

[実施例5]
実施例2の第2導電層を、乾燥塗布量10g/m、厚み9μmに変更した以外は、実施例2と同様にして光学積層体を得た。
[Example 5]
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 2 except that the second conductive layer of Example 2 was changed to a dry coating amount of 10 g / m 2 and a thickness of 9 μm.

[実施例6]
実施例2の第2導電層を、乾燥塗布量13g/m、厚み12μmに変更した以外は、実施例2と同様にして光学積層体を得た。
[Example 6]
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 2 except that the second conductive layer of Example 2 was changed to a dry coating amount of 13 g / m 2 and a thickness of 12 μm.

[比較例1]
導電層を形成せず、厚み5.7μmのポリエステルフィルムを、厚み23μmの非光学異方性ポリエステルフィルム(三菱樹脂社製、T600E25N)に変更した以外は、実施例1と同様にして、光学積層体を作製した。
[比較例2]
導電層を形成せず、厚み5.7μmのポリエステルフィルムを、厚み25μmのトリアセチルセルロースフィルム(コニカミノルタ社製、KC2UASW)に変更した以外は、実施例1と同様にして、光学積層体を作製した。
[Comparative Example 1]
The optical lamination was performed in the same manner as in Example 1 except that the conductive layer was not formed and the polyester film having a thickness of 5.7 μm was changed to a non-optical anisotropic polyester film having a thickness of 23 μm (T600E25N, manufactured by Mitsubishi Plastics). The body was made.
[Comparative Example 2]
An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the conductive layer was not formed and the polyester film having a thickness of 5.7 μm was changed to a triacetyl cellulose film having a thickness of 25 μm (KC2UASW, manufactured by Konica Minolta). did.

表1から明らかなように、実施例1〜6の光学積層体は、ニジムラ及び液晶の白濁を防止でき、かつ表面抵抗率の経時安定性及びインセルタッチパネルの動作性に優れるものであった。また、実施例1〜6の光学積層体の製造方法は、導電層を露出した状態でアース処理を行うものであるため、光学積層体を容易に製造できるものであった。特に、実施例1〜3及び5の光学積層体は、導電層の表面抵抗率が1.0×10〜2.0×10Ω/□の範囲であることから、ニジムラ及び液晶の白濁を完全に抑えつつ、動作性にも優れるものであった。 As can be seen from Table 1, the optical laminates of Examples 1 to 6 were able to prevent white turbidity of Nizimura and liquid crystals, and were excellent in surface resistivity stability over time and in-cell touch panel operability. Moreover, since the manufacturing method of the optical laminated body of Examples 1-6 performs an earth process in the state which exposed the conductive layer, it could manufacture an optical laminated body easily. In particular, in the optical laminates of Examples 1 to 3 and 5, the surface resistivity of the conductive layer is in the range of 1.0 × 10 8 to 2.0 × 10 9 Ω / □. It was excellent in operability while completely suppressing the above.

1:導電層
11:第1導電層
12:第2導電層
121:導通微粒子
2:位相差板
3:偏光膜
4:表面保護基材
5:接着層
6:導電性部材
7:導線
8:導電性接着材料
10:光学積層体
20:インセルタッチパネル液晶素子
30:インセルタッチパネル液晶表示装置
1: Conductive layer 11: First conductive layer 12: Second conductive layer 121: Conductive fine particles 2: Phase difference plate 3: Polarizing film 4: Surface protective substrate 5: Adhesive layer 6: Conductive member 7: Conductor 8: Conductive Adhesive material 10: optical laminate 20: in-cell touch panel liquid crystal element 30: in-cell touch panel liquid crystal display device

Claims (13)

下記(a)〜(c)の工程を含む、インセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法。
(a)位相差板及び偏光膜を含む光学積層体形成部材を積層し、光学積層体とする工程
(b)前記光学積層体形成部材の少なくとも一つの部材に導電層を形成する工程
(c)前記導電層の表面が露出した状態で、前記導電層の表面からアース処理を行う工程
The manufacturing method of the optical laminated body for the front surfaces of an in-cell touchscreen liquid crystal element including the process of following (a)-(c).
(A) Step of laminating an optical laminate forming member including a retardation plate and a polarizing film to form an optical laminate (b) Step of forming a conductive layer on at least one member of the optical laminate forming member (c) Performing a grounding process from the surface of the conductive layer with the surface of the conductive layer exposed.
前記工程(b)において、位相差フィルムの偏光フィルム側に位置する面とは反対側の面上に導電層を形成する、請求項1記載のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法。   The manufacturing of the optical laminated body for the front surface of the in-cell touch-panel liquid crystal element of Claim 1 which forms a conductive layer on the surface on the opposite side to the surface located in the polarizing film side of retardation film in the said process (b). Method. 前記光学積層体形成部材が表面保護基材を含み、前記工程(a)において、位相差板、偏光膜及び表面保護基材がこの順になるように、かつ表面保護基材が最上層となるように積層する、請求項1又は2に記載のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法。   The optical laminate-forming member includes a surface protective substrate, and in the step (a), the retardation plate, the polarizing film, and the surface protective substrate are in this order, and the surface protective substrate is the uppermost layer. The manufacturing method of the optical laminated body for the front surfaces of the in-cell touchscreen liquid crystal element of Claim 1 or 2 laminated | stacked on. 前記導電層の表面抵抗率が、1.0×10〜2.0×10Ω/□である、請求項1〜3の何れかに記載のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法。 The optical laminated body for the front surface of the in-cell touch panel liquid crystal element according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive layer has a surface resistivity of 1.0 x 10 8 to 2.0 x 10 9 Ω / □. Manufacturing method. 前記導電層が第1導電層、第2導電層の2層構造である、請求項1〜4の何れかに記載のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法。   The manufacturing method of the optical laminated body for the front surfaces of the in-cell touchscreen liquid crystal element in any one of Claims 1-4 whose said conductive layer is a 2 layer structure of a 1st conductive layer and a 2nd conductive layer. 前記工程(a)の積層体を作製する工程をロールツーロールで行う、請求項1〜5の何れかに記載の液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法。   The manufacturing method of the optical laminated body for the front surfaces of the liquid crystal element in any one of Claims 1-5 which performs the process of producing the laminated body of the said process (a) by roll-to-roll. 導電層が光学積層体の最表面の位置となるようにして前記工程(a)及び工程(b)を行い、当該段階での光学積層体を任意の大きさに切断した後、前記工程(c)を行う、請求項1〜6の何れかに記載の液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法。   The step (a) and the step (b) are performed so that the conductive layer is positioned on the outermost surface of the optical laminate, and the optical laminate at this stage is cut into an arbitrary size, and then the step (c The manufacturing method of the optical laminated body for the front surfaces of the liquid crystal element in any one of Claims 1-6. 前記インセルタッチパネル液晶素子が、静電容量式のインセルタッチパネル液晶素子である、請求項1〜7の何れかに記載のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体の製造方法。   The manufacturing method of the optical laminated body for the front surfaces of the in-cell touchscreen liquid crystal element in any one of Claims 1-7 whose said in-cell touchscreen liquid crystal element is a capacitance-type in-cell touchscreen liquid crystal element. 請求項1〜8の何れかに記載の製造方法で得られた光学積層体の位相差フィルム側と、インセルタッチパネル液晶素子とを貼り合わせる工程を行う、インセルタッチパネル液晶表示装置の製造方法。   The manufacturing method of the in-cell touchscreen liquid crystal display device which performs the process of bonding the phase difference film side of the optical laminated body obtained by the manufacturing method in any one of Claims 1-8, and an in-cell touchscreen liquid crystal element. 位相差板及び偏光膜を含む光学積層体形成部材が積層されてなり、前記光学積層体形成部材の少なくとも一つの部材に導電層が形成されてなり、かつ前記導電層の表面からアース処理がされてなる、インセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体。   An optical laminate forming member including a retardation plate and a polarizing film is laminated, and a conductive layer is formed on at least one member of the optical laminate forming member, and a ground treatment is performed from the surface of the conductive layer. An optical laminate for the front surface of an in-cell touch panel liquid crystal element. 前記導電層の表面抵抗率が、1.0×10〜2.0×10Ω/□である、請求項10に記載のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体。 The optical laminated body for the front surface of the in-cell touch-panel liquid crystal element of Claim 10 whose surface resistivity of the said conductive layer is 1.0 * 10 < 8 > -2.0 * 10 < 9 > ohm / square. 前記導電層が第1導電層、第2導電層の2層構造である、請求項10又は11に記載のインセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体。   The optical laminate for a front surface of an in-cell touch panel liquid crystal element according to claim 10 or 11, wherein the conductive layer has a two-layer structure of a first conductive layer and a second conductive layer. 請求項10〜12の何れかに記載の光学積層体の位相差フィルム側と、インセルタッチパネル液晶素子とが貼り合わせられてなる、インセルタッチパネル液晶表示装置。   An in-cell touch panel liquid crystal display device, wherein the retardation film side of the optical laminate according to claim 10 and an in-cell touch panel liquid crystal element are bonded together.
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