JP2017037975A - Manufacturing method of printed circuit board - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a printed circuit board capable of providing a pattern electrode at lower cost and more easily and capable of easily manufacturing even a printed circuit board of a relatively large area.SOLUTION: The manufacturing method of a printed circuit board includes: providing a mask 12 on a metal film 10b, formed on a substrate; and chemically etching an exposed part thereof to provide a pattern electrode. The mask 12 is provided by disposing a wire mesh on the metal film, providing a mask solution, and interposing it between the metal film 10b and the mesh to harden the mask solution.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、プリント基板の製造方法に関し、特に、パターン電極を有するプリント基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board, and more particularly to a method for manufacturing a printed circuit board having a pattern electrode.

電子部品をその上に固定しこれらの間に配線を与えるプリント基板がある。例えば、フェノール樹脂やエポキシ樹脂からなる絶縁基板上にCu(銅)箔からなる金属膜を与えた積層基板を用意し、この金属膜を所定のパターンを象るように削り取って配線パターンを与える。金属膜の削り取りには、高精度なパターンを得られる感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法と併せて、化学的なエッチング法が用いられ得る。特に、金属膜にCuを使用した場合、Ag(銀)などと比べて酸化されやすいため、このようなフォトリソグラフィ法が多く採用されている。   There is a printed circuit board on which electronic components are fixed and wiring is provided between them. For example, a laminated substrate in which a metal film made of Cu (copper) foil is provided on an insulating substrate made of a phenol resin or an epoxy resin is prepared, and the metal film is scraped off in a predetermined pattern to give a wiring pattern. For etching the metal film, a chemical etching method can be used in combination with a photolithography method using a photosensitive resin capable of obtaining a highly accurate pattern. In particular, when Cu is used for the metal film, it is more likely to be oxidized than Ag (silver) or the like, and such a photolithography method is often employed.

ところで、赤外線リモコンのスイッチやパソコンのキーボードなどの入力装置のプリント基板として、メッシュ状にパターン電極を配置したプリント基板が用いられている。また、近年では、液晶パネルや有機エレクトロルミネッセンスパネルなどの画像表示用パネル、太陽電池パネル、また、携帯電話やタブレット端末などの各種入力装置として、パターン電極とともに透明電極を組み合わせた透明電極プリント基板も広く用いられている。かかるプリント基板のパターン電極についてもその多くはフォトリソグラフィ法によって製造されている。   By the way, a printed circuit board in which pattern electrodes are arranged in a mesh shape is used as a printed circuit board for an input device such as a switch of an infrared remote controller or a keyboard of a personal computer. In recent years, transparent electrode printed boards that combine transparent electrodes with pattern electrodes as image display panels such as liquid crystal panels and organic electroluminescence panels, solar battery panels, and various input devices such as mobile phones and tablet terminals are also available. Widely used. Many of the patterned electrodes of such printed circuit boards are also manufactured by photolithography.

例えば、特許文献1では、透明基材の一方の面に導電性金属メッシュ層を埋設した透明導電層を積層してなる透明電極基板を開示している。かかる導電性金属メッシュ層は、透明基材の一方の面に第1の透明導電層を形成させ、この上に導電性金属層を膜状に形成するとともにこれをフォトリソグラフィ法でパターニング処理して得られるとしている。なお、導電性金属層の上には第2の透明導電層が形成されて透明電極基板を構成している。典型的には、メッシュ開口部のピッチは0.1〜10mm、線幅は10nm〜1000μmとしている。   For example, Patent Document 1 discloses a transparent electrode substrate formed by laminating a transparent conductive layer in which a conductive metal mesh layer is embedded on one surface of a transparent substrate. Such a conductive metal mesh layer is formed by forming a first transparent conductive layer on one surface of a transparent substrate, forming a conductive metal layer in a film shape on the first transparent conductive layer, and patterning it by a photolithography method. It is supposed to be obtained. A second transparent conductive layer is formed on the conductive metal layer to constitute a transparent electrode substrate. Typically, the mesh opening pitch is 0.1 to 10 mm, and the line width is 10 nm to 1000 μm.

一般的に、フォトリソグラフィ法は、レジストの塗布、パターン露光、余分なマスク(レジスト)を除去する洗浄、エッチング、及びマスクの剥離といった多くの工程を経るため、比較的高価なプロセスとなる。また、パターン電極を配置したプリント基板のように、より大きな面積に配線パターンを与えることが難しい。また、透明基材によってはその上でエッチングを施すことが難しい場合もある。   In general, the photolithography method is a relatively expensive process because it involves many steps such as resist application, pattern exposure, cleaning to remove an unnecessary mask (resist), etching, and mask peeling. Moreover, it is difficult to give a wiring pattern to a larger area like a printed circuit board on which pattern electrodes are arranged. Further, depending on the transparent substrate, it may be difficult to perform etching thereon.

そこで、例えば、特許文献2では、絶縁性を有する透明粘着剤層に細線状の導電性線状部材の一部を埋設しメッシュ状に配置した静電容量型タッチパネル用電極シートが開示されている。透明粘着剤層はディスプレイ等の前面に貼付されて用いられ、このパターン部上から操作者による手やペン等の圧力が加わることで、画面位置の情報を感知されて外部へ情報信号が出力されるとしている。この網目状のパターン電極を形成する導電性線状部材は、光透過性を与えるように細線状であり、幅1〜50μmでライン間隔を50〜2000μmとすることを述べている。   Thus, for example, Patent Document 2 discloses an electrode sheet for a capacitive touch panel in which a part of a thin wire-like conductive linear member is embedded in a transparent adhesive layer having insulation and arranged in a mesh shape. . The transparent adhesive layer is attached to the front surface of a display, etc., and when the pressure of the operator's hand, pen, etc. is applied from this pattern part, the information on the screen position is sensed and an information signal is output to the outside. It is supposed to. It is stated that the conductive linear member forming the mesh-shaped pattern electrode is thin to give light transmission, has a width of 1 to 50 μm, and a line interval of 50 to 2000 μm.

特開2012−142500号公報JP 2012-142500 A 特開2012−123570号公報JP 2012-123570 A

基板上に形成された金属膜の上にマスクを付与しその露出部を化学的にエッチングしてパターン電極を与えるフォトリソグラフィ法によるプリント基板の製造方法において、上記したようなマスクの塗布、パターン露光、洗浄、及び最終的なマスクの除去の工程を簡易に与えることが望まれる。特に、繰り返しパターンとなるパターン電極を有するプリント基板の製造方法においてその要求が高い。   In the method of manufacturing a printed circuit board by a photolithography method in which a mask is provided on a metal film formed on a substrate and the exposed portion is chemically etched to provide a pattern electrode, the above-described mask coating and pattern exposure are performed. It is desirable to simply provide the steps of cleaning, and final mask removal. In particular, there is a high demand for a method of manufacturing a printed circuit board having a pattern electrode that becomes a repeated pattern.

本発明は、以上のような状況に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、より安価で簡便にパターン電極を与え得るプリント基板の製造方法であり、しかも、比較的大面積のプリント基板であっても容易に製造可能な方法の提供にある。   The present invention has been made in view of the situation as described above, and its object is a method for manufacturing a printed circuit board that can provide a pattern electrode at a lower cost and with a relatively large area. The present invention provides a method that can be easily manufactured even for a printed circuit board.

本発明によるプリント基板の製造方法は、基板上に形成された金属膜の上にマスクを付与しその露出部を化学的にエッチングしてパターン電極を与えるプリント基板の製造方法であって、前記金属膜の上に丸断面のワイヤからなるワイヤメッシュを配置しマスク溶液を与えて前記金属膜と前記メッシュとの間に介在させ、前記マスク溶液を硬化させてマスクを付与することを特徴とする。   A method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention is a method for manufacturing a printed circuit board in which a mask is provided on a metal film formed on a substrate and the exposed portion is chemically etched to provide a patterned electrode. A wire mesh made of a wire having a round cross section is disposed on the film, a mask solution is provided and interposed between the metal film and the mesh, and the mask solution is cured to provide a mask.

かかる発明によれば、丸断面のワイヤからなるワイヤメッシュを基板上に配置するだけで、毛細管現象によりワイヤメッシュに沿って自動的にマスク溶液が基板上に配置されるとともに剥離が容易であるので、より安価で簡便にマスクを基板上に形成できる。結果として、より安価で簡便にパターン電極を有するプリント基板を製造し得る。また、比較的大面積のプリント基板であっても容易に製造可能である。   According to this invention, the mask solution is automatically arranged on the substrate along the wire mesh by capillary action and is easily peeled off simply by arranging the wire mesh composed of the wire having a round cross section on the substrate. Therefore, the mask can be formed on the substrate more inexpensively and easily. As a result, a printed board having a pattern electrode can be manufactured more inexpensively and easily. Moreover, even a printed circuit board having a relatively large area can be easily manufactured.

上記した発明において、前記マスク溶液は、PVA水溶液であることを特徴としてもよい。更に、前記PVA水溶液は、更にアクリル樹脂を含むことを特徴としてもよい。かかる発明によれば、金属膜の化学的なエッチングのためのマスクを確実にできるとともに、エッチング後の最終的なマスクの除去を簡便にできる。結果として、より安価で簡便にパターン電極を有するプリント基板を製造し得る。   In the above-described invention, the mask solution may be a PVA aqueous solution. Furthermore, the PVA aqueous solution may further contain an acrylic resin. According to this invention, a mask for chemical etching of the metal film can be ensured, and removal of the final mask after etching can be simplified. As a result, a printed board having a pattern electrode can be manufactured more inexpensively and easily.

上記した発明において、前記ワイヤメッシュは、格子状に編み込んだ線材からなることを特徴としてもよい。線材の基板上でのウェービングにより、ワイヤメッシュに沿ったマスク溶液の配置がより確実且つ簡便にできて、結果として、より安価で簡便にパターン電極を有するプリント基板を製造し得る。また、比較的大面積のプリント基板であっても容易に製造可能である。   In the above-described invention, the wire mesh may be made of a wire knitted in a lattice shape. By waving the wire on the substrate, the arrangement of the mask solution along the wire mesh can be more reliably and easily performed. As a result, a printed substrate having a pattern electrode can be manufactured more inexpensively and easily. Moreover, even a printed circuit board having a relatively large area can be easily manufactured.

上記した発明において、前記金属膜は、Cuからなることを特徴としてもよい。比較的酸化しやすいCuであってもこれを劣化させること無く、結果として、より安価で簡便にパターン電極を有するプリント基板を製造し得る。   In the above-described invention, the metal film may be made of Cu. Even Cu that is relatively easy to oxidize does not deteriorate this, and as a result, a printed circuit board having a pattern electrode can be manufactured more inexpensively and easily.

本発明によるプリント基板の製造方法のフロー図である。It is a flowchart of the manufacturing method of the printed circuit board by this invention. ブランク基板の斜視図である。It is a perspective view of a blank substrate. 本発明によるプリント基板の製造方法の1工程における断面図である。It is sectional drawing in 1 process of the manufacturing method of the printed circuit board by this invention. メッシュの平面図である。It is a top view of a mesh. メッシュの近接点を示す平面図である。It is a top view which shows the proximity | contact point of a mesh. 本発明によるプリント基板の製造方法における基板の平面図である。It is a top view of the board | substrate in the manufacturing method of the printed circuit board by this invention. 本発明によるプリント基板の製造方法の1工程における写真である。It is the photograph in 1 process of the manufacturing method of the printed circuit board by this invention. 本発明によるプリント基板の製造方法の1工程における断面図である。It is sectional drawing in 1 process of the manufacturing method of the printed circuit board by this invention.

本発明の1つの実施例としてのプリント基板の製造方法について、図1に沿って、適宜、図2乃至図8を参照しつつ、説明する。   A method of manufacturing a printed circuit board as one embodiment of the present invention will be described along FIG. 1 with reference to FIGS. 2 to 8 as appropriate.

図2に示すように、基材10aの上にパターン電極を与えるための金属膜10bを積層させたブランク基板10を準備する(図1、S1)。   As shown in FIG. 2, a blank substrate 10 is prepared in which a metal film 10b for providing a pattern electrode is laminated on a base material 10a (FIG. 1, S1).

基材10aは、特に、材質を限定されないが、エポキシ樹脂やフェノール樹脂からなり、後述するエッチング液に対して化学的に安定なものであることが望ましい。また、金属膜10bは、導電性の金属からなり、一般的には、Cu又はCu合金からなることが好ましい。   The base material 10a is not particularly limited in material, but is preferably made of an epoxy resin or a phenol resin and chemically stable with respect to an etching solution described later. The metal film 10b is made of a conductive metal, and is generally preferably made of Cu or a Cu alloy.

図3に示すように、ブランク基板10を金属膜10bを上になるように水平に配置し、この上にメッシュ20を配置する(図1、S2)。   As shown in FIG. 3, the blank substrate 10 is horizontally arranged with the metal film 10b on top, and the mesh 20 is arranged thereon (FIG. 1, S2).

図4に示すように、メッシュ20は、丸断面のワイヤからなる縦糸20aと横糸20bとを交互に上下に重ねて格子状に平編みしたワイヤメッシュであることが好ましい。縦糸20aと横糸20bとを交互に上下に重ねることで、それぞれの糸が波状になって組み合わせられるのである。かかるメッシュ20をブランク基板10の上に配置すると、図3に示すように、横糸20bが一定間隔でブランク基板10に近接する近接点Aを有し、同様に、縦糸20aについてもこれに沿って近接点Aを所定間隔で有する。すなわち、図5に示すように、近接点Aは基板10の表面にドット状に分散するのである。これについては更に後述する。   As shown in FIG. 4, the mesh 20 is preferably a wire mesh in which warp yarns 20a and weft yarns 20b made of a wire having a round cross section are alternately stacked one above the other and flat knitted in a lattice shape. By alternately superposing the warp yarn 20a and the weft yarn 20b vertically, the respective yarns are combined in a wave shape. When the mesh 20 is arranged on the blank substrate 10, as shown in FIG. 3, the weft 20b has a proximity point A that is close to the blank substrate 10 at regular intervals. Similarly, the warp 20a is also along this. Proximity points A are provided at predetermined intervals. That is, as shown in FIG. 5, the proximity points A are dispersed in the form of dots on the surface of the substrate 10. This will be further described later.

次に、メッシュ20の上からブランク基板10に金属膜10bのエッチングのためのマスク12’(図5参照)を与えるマスク溶液12を滴下する(図1、S3)。このとき、マスク溶液12は毛細管現象によりブランク基板10の上に拡がりつつ、メッシュ20に沿って隣接する近接点Aを順に接続するようにして、金属膜10bとの間に介在する。これについては後述する。   Next, a mask solution 12 that gives a mask 12 '(see FIG. 5) for etching the metal film 10b is dropped onto the blank substrate 10 from above the mesh 20 (FIG. 1, S3). At this time, the mask solution 12 spreads on the blank substrate 10 by a capillary phenomenon, and is adjacent to the adjacent point A along the mesh 20 so as to be connected between the metal film 10b. This will be described later.

マスク溶液12は、メッシュ20に沿ってブランク基板10の上に拡がるような液体であって、且つ、硬化してマスク12’として機能するものである。ここでは、ポリビニルアルコール(PVA:polyvinyl alcohol)1wt%水溶液であり、更にアクリル樹脂を含むことが好ましい。   The mask solution 12 is a liquid that spreads on the blank substrate 10 along the mesh 20, and cures to function as a mask 12 '. Here, it is a 1 wt% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA), and preferably further contains an acrylic resin.

次に、図6(a)に示すように、マスク溶液12を室温で十分に乾燥し硬化させ、マスク12’を金属膜10bの上に形成する(図1、S4)。そして、メッシュ20をマスク12’から除去する(図1、S5)。   Next, as shown in FIG. 6A, the mask solution 12 is sufficiently dried and cured at room temperature to form a mask 12 'on the metal film 10b (FIG. 1, S4). Then, the mesh 20 is removed from the mask 12 '(S5 in FIG. 1).

ここで、メッシュ20が上記したようなワイヤメッシュであると縦糸20a及び横糸20bとが波状になって組み合わせられているため、メッシュ20をマスク12’から脱離させやすいのである。図7には、4.7μmの直径(線幅)のワイヤにより一辺52μmの格子状としたメッシュ20を用い、基板10の上にマスク12’を与えた状態を示した。マスク12’の間には金属膜10bが露出している。   Here, if the mesh 20 is a wire mesh as described above, the warp yarn 20a and the weft yarn 20b are combined in a wavy shape, so that the mesh 20 can be easily detached from the mask 12 '. FIG. 7 shows a state in which a mask 12 ′ is provided on the substrate 10 using a mesh 20 having a lattice shape with a side of 52 μm by a wire having a diameter (line width) of 4.7 μm. The metal film 10b is exposed between the masks 12 '.

次に、マスク12’から露出する金属膜10bの露出部分をエッチング液で化学的にエッチングする(図1、S6)。   Next, the exposed portion of the metal film 10b exposed from the mask 12 'is chemically etched with an etchant (FIG. 1, S6).

エッチング液は、Cu又はCu合金からなる金属膜10bであれば、塩化鉄1wt%メタノール液などを用い得る。また、エッチング液は、マスク12’の硬化状態に大きな影響を与えることなく、金属膜10bをエッチング除去でき得るものである。エッチング液は、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等の公知のものを用い得るが、PVAとの組み合わせにおいて、水をなるべく含まないことが好ましい。   If the etching solution is a metal film 10b made of Cu or a Cu alloy, an iron chloride 1 wt% methanol solution or the like can be used. Further, the etching solution can etch away the metal film 10b without greatly affecting the cured state of the mask 12 '. As the etching solution, known ones such as sodium persulfate and potassium persulfate can be used, but it is preferable to contain water as little as possible in combination with PVA.

図6(b)に示すように、マスク12’を所定の溶媒で除去し、更に基板10を洗浄すると、基材10aの上にメッシュ20を転写したパターン電極を有する基板10が得られる(図1、S7)。   As shown in FIG. 6B, when the mask 12 ′ is removed with a predetermined solvent and the substrate 10 is further washed, the substrate 10 having the pattern electrode in which the mesh 20 is transferred onto the base material 10a is obtained (FIG. 6B). 1, S7).

ところで、マスク溶液12を滴下するステップS3において、図5に示したように、メッシュ20のワイヤ20(20a及び20b)がウェーブ(波)状にブランク基板10上に配置され、近接点Aが一定間隔で格子状に配置される。マスク溶液12は1つの近接点Aから隣接する近接点Aへと毛細管現象により流動し、結果として、マスク溶液12はメッシュ20に沿って配置されるのである。   By the way, in step S3 in which the mask solution 12 is dropped, as shown in FIG. 5, the wires 20 (20a and 20b) of the mesh 20 are arranged on the blank substrate 10 in a wave shape, and the proximity point A is constant. Arranged in a grid at intervals. The mask solution 12 flows from one proximity point A to the adjacent proximity point A by capillary action, and as a result, the mask solution 12 is arranged along the mesh 20.

また、図8に示すように、マスク溶液12は、表面張力によりメッシュ20のワイヤ20a(20b)に沿って拡がろうとして、基板10上から排除され、結果として、マスク溶液12はメッシュ20に沿って配置されるとともに、これを硬化させたマスク12’は基板10上に比較的高い壁面を形成するのである。   Further, as shown in FIG. 8, the mask solution 12 is removed from the substrate 10 in an attempt to spread along the wires 20 a (20 b) of the mesh 20 due to surface tension. As a result, the mask solution 12 is applied to the mesh 20. The mask 12 ′, which is disposed along and cured, forms a relatively high wall surface on the substrate 10.

以上述べてきた実施例によれば、基板10上に形成された金属膜10bの上にマスク12’を付与しその露出部を化学的にエッチングしてパターン電極を与えるフォトリソグラフィ法によるプリント基板の製造方法において、工程を簡易に与えることができる。特に、格子状電極のような繰り返しパターンとなるパターン電極を大面積であっても非常に簡易に且つ安価に与えることができる。また、比較的酸化しやすいCuであってもこれを劣化させること無くパターン電極を与えることができる。   According to the embodiment described above, a mask 12 'is provided on the metal film 10b formed on the substrate 10, and the exposed portion is chemically etched to provide a pattern electrode. In a manufacturing method, a process can be given simply. In particular, a pattern electrode having a repetitive pattern such as a grid electrode can be provided very easily and inexpensively even if it has a large area. Moreover, even if it is Cu which is comparatively easy to oxidize, a pattern electrode can be given without deteriorating this.

ここまで本発明による代表的実施例及びこれに基づく改変例について説明したが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。当業者であれば、添付した特許請求の範囲を逸脱することなく、種々の代替実施例を見出すことができるだろう。   So far, representative examples and modified examples based on the examples have been described, but the present invention is not necessarily limited thereto. Those skilled in the art will recognize a variety of alternative embodiments without departing from the scope of the appended claims.

10 基板
10a 基材
10b 金属膜
12 マスク溶液
12’ マスク
20 メッシュ

DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 10a Base material 10b Metal film 12 Mask solution 12 'Mask 20 Mesh

Claims (5)

基板上に形成された金属膜の上にマスクを付与しその露出部を化学的にエッチングしてパターン電極を与えるプリント基板の製造方法であって、
前記金属膜の上に丸断面のワイヤからなるワイヤメッシュを配置しマスク溶液を与えて前記金属膜と前記メッシュとの間に介在させ、前記マスク溶液を硬化させてマスクを付与することを特徴とするプリント基板の製造方法。
A method of manufacturing a printed circuit board that provides a pattern electrode by applying a mask on a metal film formed on a substrate and chemically etching the exposed portion,
A wire mesh composed of a wire having a round cross section is disposed on the metal film, a mask solution is provided and interposed between the metal film and the mesh, and the mask solution is cured to provide a mask. A printed circuit board manufacturing method.
前記マスク溶液は、PVA水溶液であることを特徴とする請求項1記載のプリント基板の製造方法。   The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein the mask solution is a PVA aqueous solution. 前記PVA水溶液は、更にアクリル樹脂を含むことを特徴とする請求項2記載のプリント基板の製造方法。   The printed circuit board manufacturing method according to claim 2, wherein the PVA aqueous solution further contains an acrylic resin. 前記ワイヤメッシュは、格子状に編み込んだ線材からなることを特徴とする請求項1乃至3のうちの1つに記載のプリント基板の製造方法。   4. The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein the wire mesh is made of a wire knitted in a lattice shape. 前記金属膜は、Cuからなることを特徴とする請求項1乃至4のうちの1つに記載のプリント基板の製造方法。

The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein the metal film is made of Cu.

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