JP2017033369A - Light transmissive conductive material laminate - Google Patents

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直哉 西村
Naoya Nishimura
直哉 西村
武宣 吉城
Takenobu Yoshiki
武宣 吉城
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliable light transmissive conductive material laminate.SOLUTION: A light transmissive conductive material laminate comprises a light transmissive conductive material and a light transmissive functional material bonded together via an adhesive layer, the light transmissive conductive material having a dummy peripheral wiring section that surrounds a sensor section and peripheral wiring sections except where terminal sections are located and is not electrically connected to any of the sensor section, terminal sections, and peripheral wiring sections. An outer edge of the adhesive layer lies no less than 10 μm outside an outer edge of the dummy peripheral wiring section.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、信頼性に優れた光透過性導電材料積層体に関するものである。   The present invention relates to a light-transmitting conductive material laminate having excellent reliability.

スマートフォン、パーソナル・デジタル・アシスタント(PDA)、ノートPC、タブレットPC、OA機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。   In electronic devices such as smartphones, personal digital assistants (PDAs), notebook PCs, tablet PCs, OA devices, medical devices, and car navigation systems, touch panels are widely used as input means for these displays.

タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、抵抗膜方式、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式などがあり、上記したディスプレイ用途においては抵抗膜方式と投影型静電容量方式が好適に利用されている。抵抗膜方式のタッチパネルは、光透過性支持体上に光透過性導電層を有する光透過性導電材料を2枚利用し、これら光透過性導電材料をドットスペーサーを介して対向配置した構造をしており、タッチパネルの1点に力を加えることにより光透過性導電層同士が接触し、各光透過性導電層に印加された電圧をもう一方の光透過性導電層を通して測定することで、力の加えられた位置の検出を行うものである。一方、投影型静電容量方式のタッチパネルは、2層の光透過性導電層を有する光透過性導電材料を1枚、または1層の光透過性導電層を有する光透過性導電材料を2枚利用し、指等を接近させた際の光透過性導電層間の静電容量変化を検出し、指を接近させた位置の検出を行うものである。後者は可動部分がないため耐久性に優れる他、多点同時検出ができることから、スマートフォンやタブレットPCなどで、とりわけ広く利用されている。   The touch panel includes an optical method, an ultrasonic method, a resistance film method, a surface capacitance method, a projection capacitance method, and the like depending on the position detection method. An electric capacity method is preferably used. A resistive touch panel has a structure in which two light-transmitting conductive materials having a light-transmitting conductive layer on a light-transmitting support are used and these light-transmitting conductive materials are arranged to face each other via a dot spacer. By applying a force to one point on the touch panel, the light-transmitting conductive layers are brought into contact with each other, and the voltage applied to each light-transmitting conductive layer is measured through the other light-transmitting conductive layer. This is to detect the added position. On the other hand, the projected capacitive touch panel has one light transmissive conductive material having two light transmissive conductive layers or two light transmissive conductive materials having one light transmissive conductive layer. This is used to detect a change in capacitance between the light-transmitting conductive layers when a finger or the like is brought close to the position, and to detect the position where the finger is brought close. The latter has excellent durability because it has no moving parts, and can detect multiple points at the same time. Therefore, the latter is particularly widely used in smartphones and tablet PCs.

投影型静電容量方式のタッチパネルにおいては、光透過性導電層をパターニングし複数のセンサー部とすることで、多点同時検出や移動点の検出を可能にしている。このセンサー部が検出した静電容量の変化を電気信号として外部に取り出すため、光透過性導電材料が有する全てのセンサー部と、外部に電気信号を取り出すために設けられる端子部との間には、これらを電気的に接続する複数の周辺配線から構成される周辺配線部が設けられる。通常、前述した光透過性導電層はディスプレイ上に位置し、周辺配線部はディスプレイの外、いわゆる額縁部に位置する。従来、光透過性導電層の材料としてはITO(インジウム−錫酸化物)が用いられ、周辺配線の材料としてはアルミニウム、銀、モリブデン合金等の金属が用いられてきた。しかしながらITOは屈折率が大きく、光の表面反射が大きいため、全光線透過率が低下する問題や、可撓性が低いため屈曲した際にITOに亀裂が生じて電気抵抗値が高くなる問題があった。   In a projected capacitive touch panel, the light-transmitting conductive layer is patterned to form a plurality of sensor units, thereby enabling simultaneous detection of multiple points and detection of moving points. In order to extract the change in capacitance detected by the sensor unit to the outside as an electrical signal, between all the sensor units of the light-transmitting conductive material and the terminal unit provided to extract the electrical signal to the outside A peripheral wiring portion composed of a plurality of peripheral wirings that electrically connect them is provided. Usually, the above-described light-transmitting conductive layer is located on the display, and the peripheral wiring portion is located outside the display, that is, a so-called frame portion. Conventionally, ITO (indium-tin oxide) has been used as the material for the light-transmitting conductive layer, and metals such as aluminum, silver, and molybdenum alloys have been used as the material for the peripheral wiring. However, since ITO has a large refractive index and a large surface reflection of light, there is a problem that the total light transmittance is reduced, and because of low flexibility, there is a problem that the ITO is cracked when bent and the electric resistance value is increased. there were.

光透過性導電層としてITOを有する光透過性導電材料に代わり、光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する光透過性導電材料が数多く提案されている。例えば特開2007−287994号公報(特許文献1)、特開2007−287953号公報(特許文献2)には、光透過性支持体上に薄い触媒層および下地金属層を形成し、その上にレジストパターンを形成した後、めっき法によりレジスト開口部に金属層を積層し、最後にレジスト層およびレジスト層で保護された下地金属層を除去することにより、網目状金属細線パターンを形成するセミアディティブ法が開示されている。特開2014−197531号公報(特許文献3)には、光透過性支持体上に下地層と感光性レジスト層とをこの順に有する導電性材料前駆体に対し、感光性レジスト層面を任意のパターン状に露光後、現像し、露光したパターンのレジスト画像を形成した後、無電解めっきを行ってレジスト画像に被覆されていない下地層上に網目状金属細線パターンを形成し、その後レジスト画像を除去する光透過性導電材料の製造方法が開示されている。   Many light-transmitting conductive materials having a network metal fine wire pattern as a light-transmitting conductive layer have been proposed in place of the light-transmitting conductive material having ITO as the light-transmitting conductive layer. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-287994 (Patent Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-287993 (Patent Document 2), a thin catalyst layer and a base metal layer are formed on a light-transmitting support, and on that, After forming the resist pattern, a metal layer is deposited on the resist opening by plating, and finally the base metal layer protected by the resist layer and the resist layer is removed, thereby forming a semi-additive metal wire pattern. The law is disclosed. In JP-A-2014-197531 (Patent Document 3), a photosensitive resist layer surface is formed in an arbitrary pattern with respect to a conductive material precursor having a base layer and a photosensitive resist layer in this order on a light-transmitting support. After the exposure, develop and form a resist image of the exposed pattern, and then perform electroless plating to form a mesh metal fine line pattern on the underlayer not covered with the resist image, and then remove the resist image A manufacturing method of a light-transmitting conductive material is disclosed.

また、網目状金属細線パターンを有する光透過性導電材料の製造方法として、銀塩感光材料を導電材料前駆体として利用する方法も知られており、例えば直接現像方式を用いて光透過性支持体上に網目状金属細線パターンを形成する方法が特開2004−221564号公報(特許文献4)に開示され、特開2003−77350号公報(特許文献5)、特開2007−188655号公報(特許文献6)には、光透過性支持体上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する導電材料前駆体に、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させて網目状金属細線パターンを形成させる、銀塩拡散転写法が開示されている。   Further, as a method for producing a light-transmitting conductive material having a reticulated metal fine wire pattern, a method using a silver salt photosensitive material as a conductive material precursor is also known. For example, a light-transmitting support using a direct development method is known. JP-A-2004-221564 (Patent Document 4) discloses a method for forming a mesh-like fine metal wire pattern thereon, and JP-A-2003-77350 (Patent Document 5) and JP-A-2007-188655 (Patent Document). In Reference 6), a soluble silver salt forming agent and a reducing agent are allowed to act in an alkaline solution on a conductive material precursor having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order on a light-transmitting support. A silver salt diffusion transfer method for forming a reticulated metal fine line pattern is disclosed.

上記した、光透過性支持体上に網目状金属細線パターンを有する光透過性導電材料の、網目状金属細線パターンを有する側の面に粘着層が貼合され、さらに光透過性機能材料が貼合された光透過性導電材料積層体が知られている。例えば特開2014−198811号公報(特許文献7)にはタッチパネルセンサーと、粘着シート(粘着層)と、保護基板とをこの順で有するタッチパネル用積層体が開示されている。上記した光透過性導電材料積層体が有する網目状金属細線パターンの金属としては銅、銀といった貴金属が好適に用いられているが、これらはITOと比較して一般的に化学的安定性で見劣りする。そのため、光透過性支持体上に網目状金属細線パターンを有する光透過性導電材料を用い、これらに粘着層が貼合された光透過性導電材料積層体は、例えば大気中の硫化水素により網目状金属細線パターンを構成する金属が金属硫化物へ変化し、網目状金属細線パターンの抵抗値が変動したり、変色したりする場合があった。また、該光透過性導電材料積層体は、人間の汗に含まれる塩化物イオンにより網目状金属細線パターンを構成する金属が金属塩化物へ変化し、網目状金属細線パターンの抵抗値が変動したり、変色したりする場合があった。網目状金属細線パターンの抵抗値が変動すると、タッチセンサーとしての信頼性が著しく低下する。上記した硫化水素や塩化物イオンは前記した粘着層側面より浸透し、網目状金属細線パターンに影響を与えるものと考えられるが、近年は意匠性の観点からタッチパネルの狭額縁化が進められ、硫化水素や塩化物イオンが網目状金属細線パターンにとりわけ作用しやすくなっており、改善が求められていた。   An adhesive layer is bonded to the surface of the light-transmitting conductive material having a mesh-like metal fine line pattern on the light-transmitting support, and the light-transmitting functional material is stuck to the surface on the side having the mesh-like metal fine wire pattern. Combined light transmissive conductive material laminates are known. For example, JP-A-2014-198811 (Patent Document 7) discloses a laminate for a touch panel having a touch panel sensor, an adhesive sheet (adhesive layer), and a protective substrate in this order. As the metal of the network-like fine metal wire pattern of the light transmissive conductive material laminate described above, noble metals such as copper and silver are preferably used, but these are generally poor in chemical stability compared to ITO. To do. For this reason, a light-transmitting conductive material laminate using a light-transmitting conductive material having a mesh-like fine metal wire pattern on a light-transmitting support and having an adhesive layer bonded thereto is formed, for example, by hydrogen sulfide in the atmosphere. In some cases, the metal constituting the fine metal wire pattern changes to a metal sulfide, and the resistance value of the network fine metal wire pattern fluctuates or changes color. In the light-transmitting conductive material laminate, the metal constituting the reticulated metal fine wire pattern is changed to metal chloride by chloride ions contained in human sweat, and the resistance value of the reticulated metal fine wire pattern varies. Or discolored. When the resistance value of the mesh metal fine line pattern fluctuates, the reliability as a touch sensor is significantly lowered. The above-mentioned hydrogen sulfide and chloride ions permeate from the side surface of the adhesive layer described above and are thought to affect the network metal fine line pattern. However, in recent years, the touch panel has become narrower from the viewpoint of design, Hydrogen and chloride ions are particularly likely to act on the reticulated metal fine wire pattern, and improvement has been demanded.

上記した問題に対し、例えば特開2014−29671号公報(特許文献8)では、銀を含有する第1電極パターンと、粘着性絶縁層と、第2電極パターンとをこの順で備えるタッチパネル用導電性フィルムが開示され、該粘着性絶縁層に特定の酸価を有する粘着性絶縁材料と共にトリアゾール化合物やテトラゾール化合物などの金属腐食防止剤を用いることで、タッチパネルの動作不良の発生が抑制されることが記載されるが、十分満足できるものではなかった。   For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-29671 (Patent Document 8), the conductive material for a touch panel provided with a first electrode pattern containing silver, an adhesive insulating layer, and a second electrode pattern in this order. An adhesive film is disclosed, and by using a metal corrosion inhibitor such as a triazole compound or a tetrazole compound together with an adhesive insulating material having a specific acid value in the adhesive insulating layer, occurrence of malfunction of the touch panel is suppressed. However, it was not satisfactory.

一方、特開2015−14964号公報(特許文献9)、特開2015−69525号公報(特許文献10)にはタッチパネルの意匠性の改善(加飾層内での周辺配線の見え方)や、加飾層を厚くした時の段差に伴う断線の改善を目的として、ITO等の透明導電性材料からなる透明導電層をパターニングした光透過性導電層の周辺の額縁部に、周辺配線部とダミー周辺配線部を設けることが開示されている。また特開2014−63467号公報(特許文献11)にはタッチパネル製造工程における物理的、熱的な損傷から周辺配線部の保護を目的とし、タッチパネルの額縁部に周辺配線部と、その外側に周辺配線部を構成する周辺配線の長さ方向に沿って、金属からなるガードラインを設けることが開示されている。   On the other hand, in JP2015-14964A (Patent Document 9) and JP2015-69525A (Patent Document 10), improvement in the design of the touch panel (how the peripheral wiring looks in the decorative layer), In order to improve the disconnection caused by the step when the decorative layer is thickened, the peripheral wiring portion and the dummy are formed on the frame portion around the light-transmitting conductive layer patterned with the transparent conductive layer made of a transparent conductive material such as ITO. It is disclosed that a peripheral wiring portion is provided. Japanese Patent Laying-Open No. 2014-63467 (Patent Document 11) aims to protect the peripheral wiring portion from physical and thermal damage in the touch panel manufacturing process, and includes a peripheral wiring portion on the frame portion of the touch panel and a peripheral portion on the outside thereof. It is disclosed that a guard line made of metal is provided along the length direction of the peripheral wiring constituting the wiring portion.

特開2007−287994号公報JP 2007-287994 A 特開2007−287953号公報JP 2007-287953 A 特開2014−197531号公報JP 2014-197531 A 特開2004−221564号公報JP 2004-221564 A 特開2003−77350号公報JP 2003-77350 A 特開2007−188655号公報JP 2007-188655 A 特開2014−198811号公報JP 2014-198811 A 特開2014−29671号公報JP 2014-29671 A 特開2015−14964号公報JP2015-14964A 特開2015−69525号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-69525 特開2014−63467号公報JP 2014-63467 A

本発明の課題は、信頼性に優れた光透過性導電材料積層体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a light-transmitting conductive material laminate excellent in reliability.

本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
(1)光透過性導電材料と光透過性機能材料とが粘着層を介して貼合された光透過性導電材料積層体であって、該光透過性導電材料は光透過性支持体上に網目状金属細線パターンを有するセンサー部と、端子部と、該センサー部と端子部とを電気的に接続する周辺配線部を少なくとも有し、さらに該センサー部および周辺配線部を端子部以外の箇所で取り囲み、かつ該センサー部、端子部、および周辺配線部のいずれとも電気的に接続しないダミー周辺配線部を有し、該粘着層の外縁が該ダミー周辺配線部の外縁よりも10μm以上外側に位置することを特徴とする光透過性導電材料積層体。
(2)ダミー周辺配線部が網目状金属細線パターンを有することを特徴とする、上記(1)記載の光透過性導電材料積層体。
The above object of the present invention is achieved by the following invention.
(1) A light transmissive conductive material laminate in which a light transmissive conductive material and a light transmissive functional material are bonded via an adhesive layer, wherein the light transmissive conductive material is disposed on a light transmissive support. It has at least a sensor part having a mesh-like metal fine line pattern, a terminal part, and a peripheral wiring part that electrically connects the sensor part and the terminal part, and the sensor part and the peripheral wiring part are located at locations other than the terminal part. And a dummy peripheral wiring part that is not electrically connected to any of the sensor part, the terminal part, and the peripheral wiring part, and the outer edge of the adhesive layer is 10 μm or more outside the outer edge of the dummy peripheral wiring part A light-transmitting conductive material laminate, characterized by being positioned.
(2) The light transmissive conductive material laminate according to (1) above, wherein the dummy peripheral wiring portion has a mesh-like metal fine line pattern.

本発明により、信頼性に優れた光透過性導電材料積層体を提供することができる。   According to the present invention, a light-transmitting conductive material laminate having excellent reliability can be provided.

本発明の光透過性導電材料積層体を構成する光透過性導電材料の一例を示す概略図Schematic which shows an example of the light transmissive conductive material which comprises the light transmissive conductive material laminated body of this invention 本発明の光透過性導電材料積層体を構成する光透過性導電材料の別の一例を示す概略図Schematic which shows another example of the light transmissive conductive material which comprises the light transmissive conductive material laminated body of this invention. 単独のダミー周辺配線部によってセンサー部と周辺配線部を端子部以外の箇所で取り囲んだ例を示す概略図Schematic showing an example in which the sensor part and the peripheral wiring part are surrounded by a part other than the terminal part by a single dummy peripheral wiring part. ダミー周辺配線部が金属線分が平行に並んだ集合体である一例を示す概略図Schematic showing an example in which the dummy peripheral wiring part is an assembly in which metal line segments are arranged in parallel 金属線分が平行に並んだ集合体をダミー周辺配線とした場合の、周辺配線またはアース配線との角度を説明するための拡大図Enlarged view for explaining the angle with the peripheral wiring or ground wiring when the assembly with metal line segments arranged in parallel is used as dummy peripheral wiring ダミー周辺配線部が網目状金属細線パターンである場合の一例を示す概略図Schematic showing an example when the dummy peripheral wiring part is a mesh-like metal fine line pattern 実施例で使用したポジ型透過原稿4Positive-type transparent original 4 used in the example

以下、本発明について図面を用いて説明する。本発明の光透過性導電材料積層体は、光透過性導電材料と光透過性機能材料とが粘着層を介して貼合されたものである。   The present invention will be described below with reference to the drawings. The light transmissive conductive material laminate of the present invention is obtained by bonding a light transmissive conductive material and a light transmissive functional material via an adhesive layer.

本発明の光透過性導電材料積層体(以下、本発明の積層体とも記載)を構成する光透過性導電材料について詳述する。本発明の積層体が有する光透過性導電材料は、光透過性支持体上に網目状金属細線パターンを有するセンサー部と、端子部と、該センサー部と端子部とを電気的に接続する周辺配線部を少なくとも有し、さらに該センサー部および周辺配線部を端子部以外の箇所で取り囲み、かつ該センサー部、端子部、および周辺配線部のいずれとも電気的に接続しないダミー周辺配線部を有する。   The light transmissive conductive material constituting the light transmissive conductive material laminate of the present invention (hereinafter also referred to as the laminate of the present invention) will be described in detail. The light-transmitting conductive material included in the laminate of the present invention includes a sensor unit having a mesh-like metal fine line pattern on a light-transmitting support, a terminal unit, and a periphery that electrically connects the sensor unit and the terminal unit. It has at least a wiring part, and further includes a dummy peripheral wiring part that surrounds the sensor part and the peripheral wiring part at a place other than the terminal part and is not electrically connected to any of the sensor part, the terminal part, and the peripheral wiring part .

図1は本発明の光透過性導電材料積層体を構成する光透過性導電材料の一例を示す概略図である。図1において本発明の積層体を構成する光透過性導電材料1は光透過性支持体2の上にセンサー部11を有する。センサー部11は、図中x方向に伸びた、網目状金属細線パターンを有する複数のセンサー(例えば11a、11b、11c等)が、図中y方向に並ぶことで形成される。さらに光透過性導電材料は図中y方向において、センサー部11の視認性を低下させる目的で、前記したセンサー11a〜11c等とy方向において交互に並び、網目状金属細線パターンを有する複数のダミーセンサー12a〜12c等から構成されるダミーセンサー部12を有することが好ましい。ダミーセンサー部12は該センサー部11、周辺配線部13、13′と電気的に接続しない。   FIG. 1 is a schematic view showing an example of a light transmissive conductive material constituting the light transmissive conductive material laminate of the present invention. In FIG. 1, the light transmissive conductive material 1 constituting the laminate of the present invention has a sensor portion 11 on a light transmissive support 2. The sensor unit 11 is formed by arranging a plurality of sensors (for example, 11a, 11b, 11c, etc.) having a mesh-like metal fine line pattern extending in the x direction in the drawing in the y direction in the drawing. Further, the light-transmitting conductive material is alternately arranged in the y direction with the aforementioned sensors 11a to 11c in order to reduce the visibility of the sensor unit 11 in the y direction in the figure, and a plurality of dummy having a mesh-like metal fine line pattern. It is preferable to have the dummy sensor part 12 comprised from the sensors 12a-12c. The dummy sensor unit 12 is not electrically connected to the sensor unit 11 and the peripheral wiring units 13 and 13 ′.

周辺配線部13および周辺配線部13′は、センサー部11と端子部14および端子部14′を電気的に接続する複数の周辺配線(図中13a、13b、13c、13′a、13′b、13′c等)から構成される。端子部14および端子部14′は、センサー部11と外部とを電気的に接続するための部分であり、センサー部11が有するセンサーの数に応じて(更に後述するアース配線15が接続される端子も含めて)複数の端子(図中14a、14b、14c、14′a、14′b、14′c等)から構成される。センサー11aは周辺配線13aおよび周辺配線13′aを介し端子14aおよび端子14′aに電気的に接続されており、センサー11aで検出された静電容量変化は端子14aおよび端子14′aを通して電気信号として外部に取り出される。アース配線15は、外部のノイズがセンサー部11に影響することを防ぐために好ましく設けられるもので、端子部14および端子部14′と電気的に接続している。   The peripheral wiring part 13 and the peripheral wiring part 13 'are a plurality of peripheral wirings (13a, 13b, 13c, 13'a, 13'b in the figure) that electrically connect the sensor part 11, the terminal part 14 and the terminal part 14'. , 13'c, etc.). The terminal portion 14 and the terminal portion 14 ′ are portions for electrically connecting the sensor portion 11 and the outside, and are connected to a ground wiring 15 to be described later according to the number of sensors included in the sensor portion 11. It includes a plurality of terminals (including terminals 14a, 14b, 14c, 14'a, 14'b, 14'c, etc.). The sensor 11a is electrically connected to the terminal 14a and the terminal 14'a via the peripheral wiring 13a and the peripheral wiring 13'a, and the capacitance change detected by the sensor 11a is electrically transmitted through the terminal 14a and the terminal 14'a. It is taken out as a signal. The ground wiring 15 is preferably provided in order to prevent external noise from affecting the sensor unit 11, and is electrically connected to the terminal unit 14 and the terminal unit 14 '.

図1においてダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′は、センサー部11、周辺配線部13および周辺配線部13′、およびアース配線15を、端子部14および端子部14′以外の箇所で取り囲み、かつ該ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′はセンサー部11、周辺配線部13および周辺配線部13′、端子部14および端子部14′、アース配線15のいずれとも電気的に接続しない。ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の幅は特に限定されないが、本発明の積層体の信頼性の観点から、これら周辺配線部の幅は10μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましく、50μm以上が特に好ましい。ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の幅の上限は特に限定されないが、通常はタッチパネルの大きさ(額縁部の幅)で制限され、30mm以下であることが好ましい。ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の幅は均一であってもよく、不均一であってもよい。前述した図1では、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の幅が均一である場合の光透過性導電材料の一例を示した。   In FIG. 1, dummy peripheral wiring portion 16 and dummy peripheral wiring portion 16 ′ include sensor portion 11, peripheral wiring portion 13 and peripheral wiring portion 13 ′, and ground wiring 15 at locations other than terminal portion 14 and terminal portion 14 ′. The dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are electrically connected to the sensor portion 11, the peripheral wiring portion 13 and the peripheral wiring portion 13 ′, the terminal portion 14 and the terminal portion 14 ′, and the ground wiring 15. Do not connect. The widths of the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are not particularly limited, but from the viewpoint of the reliability of the laminate of the present invention, the width of these peripheral wiring portions is preferably 10 μm or more, more preferably 30 μm or more. 50 μm or more is particularly preferable. The upper limit of the width of the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ is not particularly limited, but is usually limited by the size of the touch panel (the width of the frame portion) and is preferably 30 mm or less. The widths of the dummy peripheral wiring part 16 and the dummy peripheral wiring part 16 'may be uniform or non-uniform. In FIG. 1 described above, an example of the light transmissive conductive material in the case where the widths of the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are uniform is shown.

一方、図2は本発明の光透過性導電材料積層体を構成する光透過性導電材料の別の一例を示す概略図であり、ダミー周辺配線部の幅が不均一である場合の光透過性導電材料の一例を示した。図2においては、ダミー周辺配線部16と、端子部14と端子部14′との間に位置するダミー周辺配線部16′の線幅が異なっており、ダミー周辺配線部16′の線幅の方が広くなっている。また図示はしないが、ダミー周辺配線部16の線幅の方が広くなっていてもよい。また上記した図1および図2は、複数のダミー周辺配線部によって、センサー部と周辺配線部を端子部以外の箇所で取り囲んだ例でもある。このようにダミー周辺配線部は複数の領域に分裂して存在していてもよく、単独の領域として存在していてもよい。図3には、単独のダミー周辺配線部によってセンサー部と周辺配線部を端子部以外の箇所で取り囲んだ例を示した。なお上記した図1〜図3では、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の形状はいずれも直線状であるが、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′は湾曲あるいは蛇行していてもよく、また波線状であってもよい。なおダミー周辺配線部によって、センサー部と周辺配線部を端子部以外の箇所で取り囲むにあたり、ダミー周辺配線部の総延長は、光透過性導電材料の端子部以外の周囲長さに対して、少なくとも80%以上であることが好ましく、より好ましくは95%以上である。ただし後述するように、ダミー周辺配線部の形状が、金属線分の集合体である場合においても、該金属線分間の間隔が500μm以下であれば、本発明においては該金属線分の集合体により形成されるダミー周辺配線部も、連続しているダミー周辺配線部とみなす。   On the other hand, FIG. 2 is a schematic view showing another example of the light transmissive conductive material constituting the light transmissive conductive material laminate of the present invention, and the light transmissive property when the width of the dummy peripheral wiring portion is non-uniform. An example of the conductive material is shown. In FIG. 2, the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 'located between the terminal portion 14 and the terminal portion 14' have different line widths. Is wider. Although not shown, the dummy peripheral wiring portion 16 may have a wider line width. 1 and 2 described above are also examples in which the sensor portion and the peripheral wiring portion are surrounded by a plurality of dummy peripheral wiring portions at locations other than the terminal portions. As described above, the dummy peripheral wiring portion may be divided into a plurality of regions or may be present as a single region. FIG. 3 shows an example in which the sensor portion and the peripheral wiring portion are surrounded by portions other than the terminal portion by a single dummy peripheral wiring portion. 1 to 3, the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 'are both linear, but the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16' are curved or meandering. It may be wavy or wavy. In addition, when surrounding the sensor unit and the peripheral wiring part at a place other than the terminal part by the dummy peripheral wiring part, the total extension of the dummy peripheral wiring part is at least with respect to the peripheral length other than the terminal part of the light transmissive conductive material. It is preferably 80% or more, more preferably 95% or more. However, as will be described later, even when the shape of the dummy peripheral wiring portion is an assembly of metal line segments, if the interval between the metal line segments is 500 μm or less, the assembly of the metal line segments is used in the present invention. The dummy peripheral wiring portion formed by the above is also regarded as a continuous dummy peripheral wiring portion.

図1〜図3にて、破線で示すのは光透過性導電材料を、光透過性機能材料と貼合する際に用いる粘着層の外縁17であり、この破線自体は光透過性導電材料1上には存在しない。本発明の積層体において、光透過性導電材料の外縁17で示す領域よりも内側は粘着層で被覆される。外縁17は、ダミー周辺配線部16の外縁よりも10μm以上外側に位置する。外縁17の位置がダミー周辺配線部16の外縁より一部でも10μm未満の位置に存在すると、本発明の積層体の信頼性が不足する場合がある。よって粘着層の外縁17は、ダミー周辺配線部16の全外縁にわたって10μm以上外側に位置することが好ましい。   In FIG. 1 to FIG. 3, a broken line indicates an outer edge 17 of the adhesive layer used when the light-transmitting conductive material is bonded to the light-transmitting functional material, and the broken line itself indicates the light-transmitting conductive material 1. Does not exist above. In the laminate of the present invention, the inner side of the region indicated by the outer edge 17 of the light-transmitting conductive material is covered with an adhesive layer. The outer edge 17 is located at least 10 μm outside the outer edge of the dummy peripheral wiring portion 16. If the position of the outer edge 17 is at least a position less than 10 μm from the outer edge of the dummy peripheral wiring portion 16, the reliability of the laminate of the present invention may be insufficient. Therefore, it is preferable that the outer edge 17 of the adhesive layer is located outside by 10 μm or more across the entire outer edge of the dummy peripheral wiring portion 16.

本発明において周辺配線部13、周辺配線部13′、端子部14、端子部14′、アース配線15、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′は、前述したセンサー部11やダミーセンサー部12を構成する網目状金属細線パターンと同様に、金属から構成されることが好ましい。かかる金属としては金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、およびこれらの複合材を例示できる。本発明においては生産性の観点から、センサー部11やダミーセンサー部12を構成する網目状金属細線パターン、周辺配線部13、周辺配線部13′、端子部14、端子部14′、アース配線15、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′は、全て同じ金属から構成されることが好ましく、また生産性の観点から同時に形成されることが好ましい。その形成方法は特に限定されず、例えば特開2003−77350号公報や特開2005−250169号公報に記載されている銀塩拡散転写法を用いる方法、同方法を用いさらに得られた銀画像に無電解めっきを施す方法、スクリーン印刷やインクジェット印刷等により導電性インキを印刷する方法、無電解めっき、蒸着、スパッタ、金属箔の貼合等により金属層を形成し、その上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去を施す方法等、公知の方法を用いることができる。中でもセンサー部11とダミーセンサー部12が有する網目状金属細線パターンを微細化することが容易な銀塩拡散転写法を用いることが特に好ましい。センサー部11やダミーセンサー部12を構成する網目状金属細線パターン、周辺配線部13、周辺配線部13′、端子部14、端子部14′、アース配線15、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を構成する金属の厚みは0.05〜5μmが好ましく、より好ましくは0.08〜1μmである。   In the present invention, the peripheral wiring section 13, the peripheral wiring section 13 ', the terminal section 14, the terminal section 14', the ground wiring 15, the dummy peripheral wiring section 16 and the dummy peripheral wiring section 16 'are the sensor section 11 and the dummy sensor section described above. Similarly to the mesh-like fine metal wire pattern that constitutes 12, it is preferably made of metal. Examples of such metals include gold, silver, copper, nickel, aluminum, and composite materials thereof. In the present invention, from the viewpoint of productivity, a mesh metal fine wire pattern, a peripheral wiring portion 13, a peripheral wiring portion 13 ', a terminal portion 14, a terminal portion 14', and a ground wiring 15 constituting the sensor portion 11 and the dummy sensor portion 12 are used. The dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are preferably all made of the same metal, and are preferably formed simultaneously from the viewpoint of productivity. The formation method is not particularly limited. For example, a method using a silver salt diffusion transfer method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-77350 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-250169, and a silver image further obtained by using the method are used. A method of applying electroless plating, a method of printing conductive ink by screen printing, ink jet printing, etc., forming a metal layer by electroless plating, vapor deposition, sputtering, bonding of metal foil, etc., and forming a resist film thereon In addition, a known method such as exposure, development, etching, or a method of removing the resist layer can be used. In particular, it is particularly preferable to use a silver salt diffusion transfer method in which it is easy to make a fine mesh-like metal line pattern of the sensor unit 11 and the dummy sensor unit 12. Mesh-like fine metal wire pattern constituting sensor unit 11 and dummy sensor unit 12, peripheral wiring unit 13, peripheral wiring unit 13 ', terminal unit 14, terminal unit 14', ground wiring 15, dummy peripheral wiring unit 16 and dummy peripheral wiring The thickness of the metal constituting the portion 16 ′ is preferably 0.05 to 5 μm, more preferably 0.08 to 1 μm.

ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の形状は特に限定されず、ベタパターン(領域内の全ての範囲に金属が存在するパターン)であってもよく、金属細線パターンであってもよい。ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を構成する金属の比表面積が大きい方が、本発明の積層体の信頼性をより高めることが可能であり、このような観点から、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の形状は金属細線パターンであることが好ましい。金属細線パターンとしては、金属線分が平行に並んだ集合体(金属線分間に交点が存在しない集合体)や、網目状金属細線パターンを例示できる。金属線分が平行に並んだ集合体における該金属線分間の間隔は、10〜500μmであることが本発明の積層体の信頼性の観点から好ましく、更に好ましくは20〜400μmである。本発明の積層体の信頼性の観点から、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′は網目状金属細線パターンであることが特に好ましい。前述した図1、図2、図3では、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′がベタパターンである場合の光透過性導電材料の一例を示した。   The shapes of the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are not particularly limited, and may be a solid pattern (a pattern in which metal exists in the entire range in the region) or a metal thin line pattern. . The larger the specific surface area of the metal constituting the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′, the higher the reliability of the laminate of the present invention can be increased. The shape of the portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 'is preferably a metal fine line pattern. Examples of the metal fine line pattern include an aggregate in which metal line segments are arranged in parallel (an aggregate in which no intersection exists between the metal line segments) and a mesh-like metal fine line pattern. The interval between the metal line segments in the aggregate in which the metal line segments are arranged in parallel is preferably 10 to 500 μm from the viewpoint of the reliability of the laminate of the present invention, and more preferably 20 to 400 μm. From the viewpoint of the reliability of the laminated body of the present invention, it is particularly preferable that the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ have a mesh-like fine metal wire pattern. 1, 2, and 3 described above, an example of the light transmissive conductive material in the case where the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are solid patterns is shown.

図4には、ダミー周辺配線部が金属線分が平行に並んだ集合体である一例を示した。また図5には、金属線分が平行に並んだ集合体をダミー周辺配線部とした場合の、周辺配線またはアース配線との角度を説明するための拡大図を示した。   FIG. 4 shows an example in which the dummy peripheral wiring portion is an aggregate in which metal line segments are arranged in parallel. FIG. 5 shows an enlarged view for explaining an angle with the peripheral wiring or the ground wiring when an assembly in which metal line segments are arranged in parallel is used as a dummy peripheral wiring portion.

図5において一点鎖線は、金属線分が平行に並んだ集合体をダミー周辺配線部とした場合の、周辺配線またはアース配線との角度を説明するため記載したものであり、一点鎖線自体は光透過性導電材料1上に存在しない。図5において一点鎖線100は、ダミー周辺配線部16内において平行に並ぶ金属線分をそのまま延長した線であり、かかる一点鎖線100とアース配線15との間で形成される角18、および/またはかかる一点鎖線100と周辺配線部13を構成する周辺配線との間で形成される角18′の角度は、本発明の積層体の信頼性の観点から、10〜80°であることが好ましく、15〜70°であることがより好ましく、更には20〜60°が特に好ましい。ダミー周辺配線部16の金属細線パターンを構成する金属線分は互いに平行であっても、また非平行であってもよいが、非平行である場合、ダミー周辺配線部を形成する金属線分の全体の60%が、上記した角度の範囲内であることが好ましい。また本発明の積層体の信頼性の観点から、ダミー周辺配線部16の金属細線パターンを構成する金属線分は互いに平行であることが好ましい。前述した図4、図5では、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の金属細線パターンを構成する金属線分が互いに平行で、角18が45°である場合の光透過性導電材料の一例を示した。ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の金属細線パターン、あるいは金属線分が平行あるいは非平行に並んだ集合体を構成する金属線分の線幅は1〜1000μmであることが好ましく、更に好ましくは3〜500μmである。   In FIG. 5, the alternate long and short dash line is described for explaining the angle with the peripheral wiring or the ground wiring when an assembly in which metal line segments are arranged in parallel is used as a dummy peripheral wiring portion. It does not exist on the transparent conductive material 1. In FIG. 5, an alternate long and short dash line 100 is a line obtained by extending metal lines arranged in parallel in the dummy peripheral wiring portion 16 as it is, and a corner 18 formed between the alternate long and short dash line 100 and the ground wiring 15 and / or From the viewpoint of the reliability of the laminate of the present invention, the angle 18 ′ formed between the alternate long and short dash line 100 and the peripheral wiring constituting the peripheral wiring portion 13 is preferably 10 to 80 °. The angle is more preferably 15 to 70 °, and further preferably 20 to 60 °. The metal line segments constituting the metal fine line pattern of the dummy peripheral wiring portion 16 may be parallel to each other or non-parallel, but when they are non-parallel, the metal line segments forming the dummy peripheral wiring portion are It is preferable that 60% of the whole is within the range of the angle described above. Further, from the viewpoint of the reliability of the laminate of the present invention, it is preferable that the metal line segments constituting the metal fine line pattern of the dummy peripheral wiring portion 16 are parallel to each other. 4 and 5 described above, the light transmissive conductive material in the case where the metal line segments constituting the metal fine line pattern of the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 'are parallel to each other and the angle 18 is 45 °. An example was given. It is preferable that the metal line segments constituting the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ or the metal line segments constituting the aggregate in which the metal line segments are arranged in parallel or non-parallel are 1-1000 μm, More preferably, it is 3-500 micrometers.

図6は、ダミー周辺配線部が網目状金属細線パターンである場合の一例を示した。かかる網目状金属細線パターンは、複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状を有することが本発明の積層体の信頼性の観点から好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形などのn角形、星形などを組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは2種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形などに代表される不規則幾何学形状も好ましい網目状金属細線パターンの形状の一つである。図6では、単位格子として正方形を利用してダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を形成している。本発明の積層体の信頼性の観点から、ダミー周辺配線部における金属細線の線幅は1〜1000μmであることが好ましく、更に好ましくは3〜500μmであり、単位格子の繰り返し間隔は50〜1000μm以下が好ましく、更に好ましくは50〜600μmである。   FIG. 6 shows an example in which the dummy peripheral wiring portion is a mesh metal fine line pattern. It is preferable from the viewpoint of the reliability of the laminate of the present invention that the mesh-like metal fine line pattern has a geometric shape in which a plurality of unit cells are arranged in a mesh. Examples of unit cell shapes include triangles such as regular triangles, isosceles triangles, and right triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids, and other squares, hexagons, octagons, dodecagons, decagons, etc. The shape which combined n square shape, star shape, etc. of these is mentioned, Moreover, the repetition of these shapes independently, or the combination of two or more types of multiple shapes is mentioned. Among them, the shape of the unit cell is preferably a square or a rhombus. Irregular geometric shapes represented by Voronoi graphics, Delaunay graphics, Penrose tile graphics, etc. are also one of the preferred mesh-like metal fine line pattern shapes. In FIG. 6, a dummy peripheral wiring portion 16 and a dummy peripheral wiring portion 16 ′ are formed using a square as a unit lattice. From the viewpoint of the reliability of the laminate of the present invention, the line width of the fine metal wires in the dummy peripheral wiring portion is preferably 1 to 1000 μm, more preferably 3 to 500 μm, and the unit cell repeat interval is 50 to 1000 μm. The following is preferable, More preferably, it is 50-600 micrometers.

本発明においてセンサー部11、およびダミーセンサー部12が有する網目状金属細線パターンは、複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状を有することがセンサーの感度、視認性(センサーの形状が見えにくい)等の観点から好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形などのn角形、星形などを組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは2種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形などに代表される不規則幾何学形状も好ましい網目状金属細線パターンの形状の一つである。   In the present invention, the mesh metal fine line pattern of the sensor unit 11 and the dummy sensor unit 12 has a geometric shape in which a plurality of unit lattices are arranged in a mesh pattern, so that the sensitivity and visibility of the sensor (the shape of the sensor can be seen). It is preferable from the standpoint of Examples of unit cell shapes include triangles such as regular triangles, isosceles triangles, and right triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids, and other squares, hexagons, octagons, dodecagons, decagons, etc. The shape which combined n square shape, star shape, etc. of these is mentioned, Moreover, the repetition of these shapes independently, or the combination of two or more types of multiple shapes is mentioned. Among them, the shape of the unit cell is preferably a square or a rhombus. Irregular geometric shapes represented by Voronoi graphics, Delaunay graphics, Penrose tile graphics, etc. are also one of the preferred mesh-like metal fine line pattern shapes.

センサー部11、およびダミーセンサー部12を構成する金属細線の線幅は20μm以下であることが視認性の観点から好ましく、更に好ましくは1〜10μmである。また単位格子の繰り返し間隔は50〜600μmであることがセンサーの感度、視認性の観点から好ましく、更に好ましくは50〜400μm以下である。センサー部11、およびダミーセンサー部12の開口率は85%以上であることが本発明の積層体の光透過性の観点から好ましく、88〜99%がより好ましい。   It is preferable from a viewpoint of visibility that the line width of the thin metal wire which comprises the sensor part 11 and the dummy sensor part 12 is 20 micrometers or less, More preferably, it is 1-10 micrometers. Moreover, it is preferable from a viewpoint of the sensitivity and visibility of a sensor that the repeating space | interval of a unit cell is 50-600 micrometers, More preferably, it is 50-400 micrometers. The aperture ratio of the sensor unit 11 and the dummy sensor unit 12 is preferably 85% or more from the viewpoint of light transmittance of the laminate of the present invention, and more preferably 88 to 99%.

センサー部11とダミーセンサー部12との導通を断つため、センサー部11とダミーセンサー部12との境界に位置する単位格子は断線部を有することが好ましい。この断線部の長さとしては30μm以下であることが視認性の観点から好ましく、3〜15μmであることがより好ましく、さらに好ましくは5〜12μmである。またダミーセンサー部12の内部にも複数の断線部を設けることが、良好なセンサーの感度が得られる観点から好ましい。ダミーセンサー部の内部における断線部分の長さは30μm以下であることが視認性の観点から好ましく、より好ましくは3〜15μmである。またダミーセンサー部12は、センサー部11の視認性を低下させる目的から、センサー部11と同じ形状の単位格子からなることが好ましい。なお、ダミーセンサー部12の単位格子が断線部を含む場合、センサー部の単位格子との形状比較において、該断線部の存在に伴う形状の変化は含めないものとする。断線部を設ける方法としては、単位格子を構成する金属細線に直交するように格子の一部に断線部を設けてもよいし、あるいは単位格子を構成する金属細線を斜めに断線させる断線部を設けてもよい。ダミーセンサー部12の金属細線の線幅はセンサー部11の金属細線と同じ線幅か、あるいはダミーセンサー部12の断線部分の面積に相当する分だけ、太くすることが視認性の観点から好ましい。またセンサー部11とダミーセンサー部12の全光線透過率の差は0〜1%であることが視認性の観点から好ましい。   In order to cut off the electrical connection between the sensor unit 11 and the dummy sensor unit 12, it is preferable that the unit cell positioned at the boundary between the sensor unit 11 and the dummy sensor unit 12 has a disconnected portion. The length of the disconnected portion is preferably 30 μm or less from the viewpoint of visibility, more preferably 3 to 15 μm, and further preferably 5 to 12 μm. In addition, it is preferable to provide a plurality of disconnections in the dummy sensor unit 12 from the viewpoint of obtaining good sensor sensitivity. From the viewpoint of visibility, the length of the broken portion inside the dummy sensor portion is preferably 30 μm or less, and more preferably 3 to 15 μm. Moreover, it is preferable that the dummy sensor part 12 consists of a unit lattice of the same shape as the sensor part 11 for the purpose of reducing the visibility of the sensor part 11. In addition, when the unit grid of the dummy sensor unit 12 includes a disconnected portion, the shape change due to the presence of the disconnected portion is not included in the shape comparison with the unit grid of the sensor unit. As a method of providing the disconnection part, a disconnection part may be provided in a part of the grid so as to be orthogonal to the fine metal wire constituting the unit grid, or a disconnection part for obliquely disconnecting the fine metal wire constituting the unit grid may be provided. It may be provided. It is preferable from the viewpoint of visibility that the line width of the fine metal wire of the dummy sensor portion 12 is thicker by the same width as the fine metal wire of the sensor portion 11 or the area corresponding to the broken portion of the dummy sensor portion 12. Moreover, it is preferable from a viewpoint of visibility that the difference of the total light transmittance of the sensor part 11 and the dummy sensor part 12 is 0 to 1%.

本発明において、周辺配線部13および周辺配線部13′を構成する周辺配線の線幅は5〜200μmであることが好ましく、更に好ましくは10〜100μmである。周辺配線の長さは、タッチパネルの画面の大きさによって異なるが、一般的に1〜3000mmである。一方、周辺配線部13および周辺配線部13′における個々の周辺配線間の最短距離は5〜150μmであることが好ましく、10〜70μmであることがより好ましく、10〜50μmであることが特に好ましい。周辺配線の線幅および周辺配線間の最短距離を調整することで、額縁部をより狭くすることが可能となる。アース配線15の線幅は、周辺配線部13および周辺配線部13′を構成する周辺配線の線幅と同じか、もしくはそれより太い方が本発明のセンサーの耐ノイズ性の観点から好ましい。アース配線の長さは、タッチパネルの画面の大きさによって異なるが、一般的に5〜6000mmである。   In the present invention, the line width of the peripheral wiring constituting the peripheral wiring portion 13 and the peripheral wiring portion 13 ′ is preferably 5 to 200 μm, more preferably 10 to 100 μm. The length of the peripheral wiring varies depending on the screen size of the touch panel, but is generally 1 to 3000 mm. On the other hand, the shortest distance between individual peripheral wires in the peripheral wiring portion 13 and the peripheral wiring portion 13 ′ is preferably 5 to 150 μm, more preferably 10 to 70 μm, and particularly preferably 10 to 50 μm. . By adjusting the line width of the peripheral wiring and the shortest distance between the peripheral wirings, the frame portion can be made narrower. The line width of the ground wiring 15 is preferably the same as or larger than the line width of the peripheral wiring constituting the peripheral wiring portion 13 and the peripheral wiring portion 13 ′ from the viewpoint of noise resistance of the sensor of the present invention. The length of the ground wiring varies depending on the screen size of the touch panel, but is generally 5 to 6000 mm.

本発明では、前述した図1に示したように、端子部14および端子部14′は、周辺配線部13および周辺配線部13′およびアース配線15と接続される。該端子部14および端子部14′にFPC配線などをボンディングしてIC回路に接続することで、電気信号をIC回路に受け渡すことが可能となる。端子部14および端子部14′が有する複数の端子の形状には長方形、角丸長方形、円、楕円など公知の形状を用いることができる。   In the present invention, as shown in FIG. 1 described above, the terminal portion 14 and the terminal portion 14 ′ are connected to the peripheral wiring portion 13, the peripheral wiring portion 13 ′, and the ground wiring 15. An electric signal can be transferred to the IC circuit by bonding an FPC wiring or the like to the terminal portion 14 and the terminal portion 14 'and connecting it to the IC circuit. A known shape such as a rectangle, a rounded rectangle, a circle, or an ellipse can be used as the shape of the terminals of the terminal portion 14 and the terminal portion 14 '.

本発明において、光透過性導電材料が有する光透過性支持体としては、プラスチック、ガラス、ゴム、セラミックス等が好ましく用いられる。これら光透過性支持体は全光線透過率が60%以上であるものが好ましい。プラスチックの中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で、好適に用いられる。光透過性支持体として使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。また樹脂フィルムの厚さは25〜300μmであることが好ましい。また該光透過性支持体は、易接着層、ハードコート層、反射防止層、粘着層、防眩層等公知の層を有していてもよい。   In the present invention, plastic, glass, rubber, ceramics and the like are preferably used as the light transmissive support that the light transmissive conductive material has. These light transmissive supports preferably have a total light transmittance of 60% or more. Among plastics, a resin film having flexibility is preferably used because it is easy to handle. Specific examples of the resin film used as the light transmissive support include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resins, epoxy resins, fluororesins, silicone resins, polycarbonate resins, Examples include acetate resin, triacetate resin, polyarylate resin, polyvinyl chloride, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, and cyclic polyolefin resin. Moreover, it is preferable that the thickness of a resin film is 25-300 micrometers. The light-transmitting support may have a known layer such as an easy adhesion layer, a hard coat layer, an antireflection layer, an adhesive layer, or an antiglare layer.

また、本発明の積層体を構成する光透過性導電材料は、センサー部、ダミーセンサー部等を有する側の面、あるいはその反対側の面に、ハードコート層、反射防止層、防眩層など公知の層を有することができる。   Further, the light-transmitting conductive material constituting the laminate of the present invention has a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, etc. on the surface having the sensor portion, the dummy sensor portion, etc., or the opposite surface. It can have a known layer.

次に本発明の積層体を構成する光透過性機能材料について詳述する。本発明を構成する光透過性機能材料としては、前述の光透過性導電材料や、化学強化ガラス、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート等の各種光透過性樹脂からなるフィルム、および上記したガラスやフィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、反射防止層、防眩層、偏光層等の公知の光透過性機能層を有する材料が例示できる。   Next, the light transmissive functional material constituting the laminate of the present invention will be described in detail. The light transmissive functional material constituting the present invention is composed of the above light transmissive conductive material, glass such as chemically tempered glass, soda glass, quartz glass, and alkali-free glass, and various light transmissive resins such as polyethylene terephthalate. Examples thereof include a film and a material having a known light-transmitting functional layer such as a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and a polarizing layer on at least one surface of the glass or film described above.

次に、本発明の積層体を構成する粘着層について詳述する。本発明の積層体の光透過性の観点から、粘着層は全光線透過率が90%以上であることが好ましく、特に好ましくは95%以上である。同様の観点から、粘着層のヘイズは0〜3%が好ましく、特に好ましくは0〜2%である。粘着層の形成には公知の粘着性を有する物質を用いることができる。具体的には、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤等が例示できる。中でもアクリル系粘着剤は耐候性や透明性に優れることから、本発明の積層体の信頼性や光透過性の観点から特に好ましい。   Next, the adhesion layer which comprises the laminated body of this invention is explained in full detail. From the viewpoint of light transmittance of the laminate of the present invention, the adhesive layer preferably has a total light transmittance of 90% or more, and particularly preferably 95% or more. From the same viewpoint, the haze of the adhesive layer is preferably 0 to 3%, particularly preferably 0 to 2%. A known adhesive substance can be used for forming the adhesive layer. Specific examples include natural rubber adhesives, synthetic rubber adhesives, acrylic adhesives, urethane adhesives, and silicone adhesives. Among these, acrylic pressure-sensitive adhesives are particularly preferable from the viewpoints of reliability and light transmittance of the laminate of the present invention because they are excellent in weather resistance and transparency.

粘着層の形成方法は限定されず、特開平9−251159号公報や特開2011−74308号公報等に例示されているようなアクリル系粘着剤を使用した粘着テープを光透過性導電材料上に貼合する方法、特開2009−48214号公報、特開2010−257208号公報、特開2012−46658号公報等に例示されているような硬化型樹脂を光透過性導電材料上に付与し硬化させる方法、等の方法が例示できる。上記した粘着テープ、硬化型樹脂はともに市販されており、前者では住友スリーエム(株)製高透明性接着剤転写テープ(8171CL/8172CL/8146−1/8146−2/8146−3/8146−4等)、日東電工(株)製光学用透明粘着シート(LUCIACS CS9621T/CS9622T/CS3623等)、積水化学工業(株)製高透明両面テープ5400シリーズ(5402/5405等)、リンテック(株)製光学粘着シートMOシリーズ(MO−T015、MO−3014等)等が例示でき、後者ではヘンケルジャパン(株)製紫外線硬化型光学透明接着剤Loctite LOCAシリーズ(Loctite3192、3193、3195、5192等)を例示でき、いずれも好ましく用いることができる。   The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not limited, and a pressure-sensitive adhesive tape using an acrylic pressure-sensitive adhesive as exemplified in JP-A-9-251159, JP-A-2011-74308 and the like is formed on the light-transmitting conductive material. A method of pasting, applying a curable resin as exemplified in JP2009-48214A, JP2010-257208A, JP2012-46658A, etc. on a light-transmitting conductive material and curing The method of making it etc. can be illustrated. Both the above-mentioned adhesive tape and curable resin are commercially available. In the former case, a highly transparent adhesive transfer tape (8171CL / 8172CL / 8146-1 / 8146-2 / 8146-3 / 8146-4) manufactured by Sumitomo 3M Limited is used. Etc.), transparent adhesive sheet for optics (LUCIACS CS9621T / CS9622T / CS3623, etc.) manufactured by Nitto Denko Corporation, highly transparent double-sided tape 5400 series (5402/5405, etc.) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., optics manufactured by Lintec Corporation Adhesive sheets MO series (MO-T015, MO-3014, etc.) can be exemplified, and the latter can be exemplified by UV-curable optical transparent adhesives Loctite LOCA series (Loctit 3192, 3193, 3195, 5192 etc.) manufactured by Henkel Japan K.K. Any of these can be preferably used. .

粘着層の厚みは特に限定されないが、薄すぎると光透過性導電材料表面の凹凸へ追従しきれず気泡が入る場合があり、また厚すぎると本発明の積層体の光透過性が損なわれる場合がある。よって5〜200μmが好ましく、より好ましくは10〜175μmである。   The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but if it is too thin, it may not be able to follow the irregularities on the surface of the light-transmitting conductive material and bubbles may enter, and if it is too thick, the light transmittance of the laminate of the present invention may be impaired. is there. Therefore, 5-200 micrometers is preferable, More preferably, it is 10-175 micrometers.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.

<光透過性導電材料Aの作製>
光透過性支持体として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なおこの光透過性支持体の全光線透過率は91%であった。
<Preparation of light transmissive conductive material A>
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm was used as the light transmissive support. The total light transmittance of this light transmissive support was 91%.

次に下記組成の物理現像核層を光透過性支持体上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。   Next, a physical development nucleus layer having the following composition was coated on a light-transmitting support and dried to provide a physical development nucleus layer.

<硫化パラジウムゾルの調製>
A液 塩化パラジウム 5g
塩酸 40ml
蒸留水 1000ml
B液 硫化ソーダ 8.6g
蒸留水 1000ml
A液とB液を撹拌しながら混合し、30分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
<Preparation of palladium sulfide sol>
Liquid A Palladium chloride 5g
Hydrochloric acid 40ml
1000ml distilled water
B liquid sodium sulfide 8.6g
1000ml distilled water
Liquid A and liquid B were mixed with stirring, and 30 minutes later, the solution was passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain palladium sulfide sol.

<物理現像核層組成/1mあたり>
前記硫化パラジウムゾル 0.4mg
2質量%グリオキザール水溶液 0.2ml
界面活性剤(S−1) 4mg
デナコールEX−830 50mg
(ナガセケムテックス(株)製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル)
10質量%SP−200水溶液 0.5mg
((株)日本触媒製ポリエチレンイミン;平均分子量10,000)
<Physical development nuclei layer composition / 1 m 2 per>
The palladium sulfide sol 0.4mg
0.2% aqueous 2 mass% glyoxal solution
Surfactant (S-1) 4mg
Denacol EX-830 50mg
(Polyethylene glycol diglycidyl ether manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
10 mass% SP-200 aqueous solution 0.5 mg
(Nippon Shokubai Polyethyleneimine; average molecular weight 10,000)

続いて、光透過性支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核液層の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料1を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀95モル%と臭化銀5モル%で、平均粒径が0.15μmになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀1gあたり0.5gのゼラチンを含む。   Subsequently, an intermediate layer, a silver halide emulsion layer, and a protective layer having the following composition are coated on the physical development nuclei solution layer in order from the side closest to the light-transmitting support and dried. Obtained. The silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method for photographic silver halide emulsions. This silver halide emulsion was prepared with 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide, and an average grain size of 0.15 μm. The silver halide emulsion thus obtained was subjected to gold sulfur sensitization using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per gram of silver.

<中間層組成/1mあたり>
ゼラチン 0.5g
界面活性剤(S−1) 5mg
染料1 5mg
<Intermediate layer composition / per 1 m 2 >
Gelatin 0.5g
Surfactant (S-1) 5mg
Dye 1 5mg

<ハロゲン化銀乳剤層組成/1mあたり>
ゼラチン 0.5g
ハロゲン化銀乳剤 3.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg
界面活性剤(S−1) 20mg
<Silver halide emulsion layer composition / 1m 2 per>
Gelatin 0.5g
Silver halide emulsion 3.0g Silver equivalent 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole 3mg
Surfactant (S-1) 20mg

<保護層組成/1mあたり>
ゼラチン 1g
不定形シリカマット剤(平均粒径3.5μm) 10mg
界面活性剤(S−1) 10mg
<Protective layer composition / per 1 m 2 >
1g of gelatin
Amorphous silica matting agent (average particle size 3.5μm) 10mg
Surfactant (S-1) 10mg

このようにして得た銀塩感光材料1と、図1に示した図形からなるポジ型透過原稿1とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、ポジ型透過原稿1において、センサー部11は線幅5μm、一辺300μmで狭い方の角度が60°の菱形の単位格子からなる網目状細線パターンを有する。ダミーセンサー部12は前記したセンサー部11と同じ菱形の単位格子からなるが、菱形の辺の中央で長さ5μmの断線部を有し、またセンサー部11とダミーセンサー部12との境界に位置する単位格子において、菱形の中央に長さ10μmの断線部を有している。なおセンサー部11とダミーセンサー部12との間の全光線透過率の差は0.05%である。周辺配線部13および周辺配線部13′と、端子部14および端子部14′、およびアース配線15は全てベタパターンにより構成されている。周辺配線部13および周辺配線部13′を構成する周辺配線の線幅は全て20μmであり、隣接する周辺配線間の最短距離は20μmである。またアース配線15の線幅は30μmである。ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′もベタパターンにより構成されており、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の幅はいずれも600μmである。   The silver salt light-sensitive material 1 obtained in this way and the positive transmission original 1 made of the figure shown in FIG. 1 are brought into close contact with each other through a resin filter that cuts light of 400 nm or less with a contact printer using a mercury lamp as a light source. And exposed. In the positive-type transparent original 1, the sensor unit 11 has a mesh-like fine line pattern made of rhomboid unit cells having a line width of 5 μm, a side of 300 μm, and a narrow angle of 60 °. The dummy sensor unit 12 is composed of the same rhomboid unit cell as the sensor unit 11 described above, but has a disconnection portion having a length of 5 μm at the center of the rhombus side, and is located at the boundary between the sensor unit 11 and the dummy sensor unit 12. In the unit cell to be cut, a disconnection portion having a length of 10 μm is provided at the center of the rhombus. The difference in total light transmittance between the sensor unit 11 and the dummy sensor unit 12 is 0.05%. Peripheral wiring portion 13 and peripheral wiring portion 13 ', terminal portion 14 and terminal portion 14', and ground wiring 15 are all configured by a solid pattern. The line widths of the peripheral wirings constituting the peripheral wiring part 13 and the peripheral wiring part 13 ′ are all 20 μm, and the shortest distance between adjacent peripheral wirings is 20 μm. The line width of the ground wiring 15 is 30 μm. The dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 'are also configured by a solid pattern, and the widths of the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16' are both 600 μm.

その後、下記拡散転写現像液中に20℃で60秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を40℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。このようにして光透過性導電材料Aを得た。共焦点顕微鏡(レーザーテック(株)製、オプテリクスC130)を用いた観察の結果、得られた光透過性導電材料Aの線幅、線間隔はポジ型透過原稿1と同じであった。またセンサー部11およびダミーセンサー部12を構成する網目状金属細線パターンの厚み、および周辺配線部13および周辺配線部13′、端子部14および端子部14′、アース配線15、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の厚みを、同じく共焦点顕微鏡で調べたところ、いずれも0.10μmであった。   Thereafter, the film was immersed in the following diffusion transfer developer at 20 ° C. for 60 seconds, and then the silver halide emulsion layer, intermediate layer, and protective layer were washed away with warm water at 40 ° C. and dried. In this way, a light transmissive conductive material A was obtained. As a result of observation using a confocal microscope (Latertech Co., Ltd., Optics C130), the line width and line spacing of the obtained light-transmitting conductive material A were the same as those of the positive-type transmission original 1. Further, the thickness of the mesh-like metal thin wire pattern constituting the sensor unit 11 and the dummy sensor unit 12, the peripheral wiring unit 13 and the peripheral wiring unit 13 ', the terminal unit 14 and the terminal unit 14', the ground wiring 15, and the dummy peripheral wiring unit 16 When the thickness of the dummy peripheral wiring portion 16 ′ was also examined with a confocal microscope, it was found to be 0.10 μm.

<拡散転写現像液組成>
水酸化カリウム 25g
ハイドロキノン 18g
1−フェニル−3−ピラゾリドン 2g
亜硫酸カリウム 80g
N−メチルエタノールアミン 15g
臭化カリウム 1.2g
全量を水で1000ml
pH=12.2に調整する。
<Diffusion transfer developer composition>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
N-methylethanolamine 15g
Potassium bromide 1.2g
Total volume 1000ml with water
Adjust to pH = 12.2.

<光透過性導電材料Bの作製>
銀塩感光材料1と、図4に示した図形からなるポジ型透過原稿2とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、ポジ型透過原稿2において、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′は線幅30μm、繰り返し間隔30μmの線分が平行に並んだ細線パターンであり、平行に並ぶ線分をそのまま延長した線とアース配線15との間で形成される角18、および、平行に並ぶ線分をそのまま延長した線と周辺配線部13を構成する周辺配線との間で形成される角18′の角度はいずれも45°であり、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の幅はいずれも600μmである。ポジ型透過原稿2は、上記したダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を設けた以外は全てポジ型透過原稿1と同じである。露光後、光透過性導電材料Aと同様にして光透過性導電材料Bを得た。共焦点顕微鏡を用いた観察の結果、得られた光透過性導電材料Bの線幅、線間隔はポジ型透過原稿2と同じであった。またセンサー部11およびダミーセンサー部12を構成する網目状金属細線パターンの厚み、および周辺配線部13および周辺配線部13′を構成する周辺配線、端子部14および端子部14′アース配線15、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を構成する金属細線パターンの厚みを同じく共焦点顕微鏡で調べたところ、いずれも0.10μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material B>
The silver salt light-sensitive material 1 and the positive-type transmission original 2 having the figure shown in FIG. 4 were brought into close contact with each other and exposed through a resin filter that cut light of 400 nm or less with a contact printer using a mercury lamp as a light source. In the positive transparent original 2, the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 'are thin line patterns in which line segments with a line width of 30 μm and a repetition interval of 30 μm are arranged in parallel, and the parallel line segments are extended as they are. The angle 18 formed between the ground line 15 and the ground wiring 15, and the angle 18 ′ formed between the line formed by extending parallel line segments as they are and the peripheral wiring constituting the peripheral wiring portion 13. Are 45 °, and the widths of the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are both 600 μm. The positive transmission original 2 is the same as the positive transmission original 1 except that the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are provided. After the exposure, a light transmissive conductive material B was obtained in the same manner as the light transmissive conductive material A. As a result of observation using a confocal microscope, the line width and line interval of the obtained light-transmitting conductive material B were the same as those of the positive-type transmission original 2. Further, the thickness of the mesh-like metal fine line pattern constituting the sensor part 11 and the dummy sensor part 12, the peripheral wiring constituting the peripheral wiring part 13 and the peripheral wiring part 13 ', the terminal part 14 and the terminal part 14' ground wiring 15, the dummy When the thickness of the fine metal wire pattern constituting the peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ was also examined with a confocal microscope, both were 0.10 μm.

<光透過性導電材料Cの作製>
銀塩感光材料1と、図6に示した図形からなるポジ型透過原稿3とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、ポジ型透過原稿3において、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′は線幅10μm、一辺200μmの正方形の単位格子からなる網目状細線パターンを有し、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′の幅はいずれも600μmである。ポジ型透過原稿3は、上記したダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を設けた以外は全てポジ型透過原稿1と同じである。露光後、光透過性導電材料Aと同様にして光透過性導電材料Cを得た。共焦点顕微鏡を用いた観察の結果、得られた光透過性導電材料Cの線幅、線間隔はポジ型透過原稿3と同じであった。またセンサー部11、ダミーセンサー部12、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を構成する網目状金属細線パターンの厚み、周辺配線部13および周辺配線部13′を構成する周辺配線、端子部14および端子部14′、アース配線15の厚みを同じく共焦点顕微鏡で調べたところ、いずれも0.10μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material C>
The silver salt photosensitive material 1 and the positive-type transparent original 3 having the figure shown in FIG. 6 were brought into close contact with each other, and exposed through a resin filter that cut light of 400 nm or less with a contact printer using a mercury lamp as a light source. In the positive-type transparent original 3, the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ have a mesh-like fine line pattern made up of a square unit grid having a line width of 10 μm and a side of 200 μm. The widths of the peripheral wiring portions 16 ′ are all 600 μm. The positive-type transparent original 3 is the same as the positive-type transparent original 1 except that the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′ are provided. After the exposure, a light transmissive conductive material C was obtained in the same manner as the light transmissive conductive material A. As a result of observation using a confocal microscope, the line width and line interval of the obtained light-transmitting conductive material C were the same as those of the positive-type transmission original 3. Further, the thickness of the mesh-like metal fine line pattern constituting the sensor part 11, the dummy sensor part 12, the dummy peripheral wiring part 16 and the dummy peripheral wiring part 16 ', the peripheral wiring and terminals constituting the peripheral wiring part 13 and the peripheral wiring part 13' When the thicknesses of the portion 14, the terminal portion 14 ', and the ground wiring 15 were similarly examined with a confocal microscope, they were all 0.10 μm.

<光透過性導電材料Dの作製>
銀塩感光材料1と、図7に示したポジ型透過原稿4とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、ポジ型透過原稿4はダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を有さないこと以外は全てポジ型透過原稿1と同じである。露光後、光透過性導電材料Aと同様にして光透過性導電材料Dを得た。共焦点顕微鏡を用いた観察の結果、得られた光透過性導電材料Dの線幅、線間隔はポジ型透過原稿4と同じであった。またセンサー部11およびダミーセンサー部12を構成する網目状金属細線パターンの厚み、周辺配線部13および周辺配線部13′を構成する周辺配線、端子部14および端子部14′、アース配線15の厚みを同じく共焦点顕微鏡で調べたところ、いずれも0.10μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material D>
The silver salt photosensitive material 1 and the positive transmission original 4 shown in FIG. 7 were brought into close contact with each other and exposed through a resin filter that cut light of 400 nm or less with a contact printer using a mercury lamp as a light source. The positive-type transparent original 4 is the same as the positive-type transparent original 1 except that it does not have the dummy peripheral wiring portion 16 and the dummy peripheral wiring portion 16 ′. After the exposure, a light transmissive conductive material D was obtained in the same manner as the light transmissive conductive material A. As a result of observation using a confocal microscope, the line width and line interval of the obtained light-transmitting conductive material D were the same as those of the positive-type transmission original 4. Further, the thickness of the mesh-like metal fine wire pattern constituting the sensor part 11 and the dummy sensor part 12, the peripheral wiring constituting the peripheral wiring part 13 and the peripheral wiring part 13 ', the thickness of the terminal part 14 and the terminal part 14', and the ground wiring 15 Were similarly examined with a confocal microscope and found to be 0.10 μm.

<光透過性導電材料積層体1〜4の作製>
リンテック(株)製光学粘着シート MO−T015(粘着層厚み50μm)を用意し、光透過性導電材料Aのセンサー部11、ダミーセンサー部12、周辺配線部13および周辺配線部13′、ダミー周辺配線部16およびダミー周辺配線部16′を被覆する大きさに裁断し、光透過性導電材料A上のセンサー部11、ダミーセンサー部12、周辺配線部13、13′、ダミー周辺配線部16を被覆するように貼合して粘着層を形成し、さらに無アルカリガラス(コーニングジャパン(株)製イーグル2000)を貼合して光透過性導電材料積層体1を得た。また上記した光透過性導電材料積層体1の作製において、光透過性導電材料Aに代わり、光透過性導電材料B、あるいは光透過性導電材料Cを用いる以外は同様にして光透過性導電材料積層体2、および光透過性導電材料積層体3を得た。更に上記した光透過性導電材料積層体1の作製において、光透過性導電材料Aに代わり、光透過性導電材料Dを用いる以外は同様にして光透過性導電材料積層体4を得た。なお、光透過性導電材料積層体1〜3が有する粘着層の外縁と、ダミー周辺配線部16またはダミー周辺配線部16′の外縁との最短距離を共焦点顕微鏡で調べたところ、いずれも20μmであった。また光透過性導電材料積層体1〜4の断面を共焦点顕微鏡で観察したところ、粘着層の厚みは50μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material laminates 1-4>
An optical adhesive sheet MO-T015 (adhesive layer thickness 50 μm) manufactured by Lintec Co., Ltd. is prepared, and the sensor part 11, the dummy sensor part 12, the peripheral wiring part 13 and the peripheral wiring part 13 ′ of the light-transmitting conductive material A, and the dummy periphery The wiring part 16 and the dummy peripheral wiring part 16 'are cut to a size covering them, and the sensor part 11, the dummy sensor part 12, the peripheral wiring parts 13, 13', and the dummy peripheral wiring part 16 on the light transmissive conductive material A are cut. The pressure-sensitive adhesive layer was formed by bonding so as to cover, and non-alkali glass (Eagle 2000 manufactured by Corning Japan Co., Ltd.) was further bonded to obtain a light-transmitting conductive material laminate 1. In the production of the light transmissive conductive material laminate 1 described above, the light transmissive conductive material is similarly used except that the light transmissive conductive material B or the light transmissive conductive material C is used instead of the light transmissive conductive material A. A laminate 2 and a light transmissive conductive material laminate 3 were obtained. Further, in the production of the light transmissive conductive material laminate 1 described above, a light transmissive conductive material laminate 4 was obtained in the same manner except that the light transmissive conductive material D was used instead of the light transmissive conductive material A. When the shortest distance between the outer edge of the adhesive layer of the light-transmissive conductive material laminates 1 to 3 and the outer edge of the dummy peripheral wiring portion 16 or the dummy peripheral wiring portion 16 ′ was examined with a confocal microscope, all were 20 μm. Met. Moreover, when the cross section of the transparent conductive material laminated bodies 1-4 was observed with the confocal microscope, the thickness of the adhesion layer was 50 micrometers.

<光透過性導電材料積層体5〜9の作製>
前記光学粘着シートを光透過性導電材料積層体1に貼合したものよりも小さく裁断し、それを光透過性導電材料Aに貼合して粘着層を形成し、さらに無アルカリガラスを貼合し、光透過性導電材料積層体5を得た。以降、貼合する前記光学粘着シートを段階的に小さく裁断し、それぞれ光透過性導電材料Aに貼合して粘着層を形成し、さらに無アルカリガラスを貼合し、光透過性導電材料積層体6〜9を得た。光透過性導電材料積層体5〜7の粘着層の外縁と、ダミー周辺配線部16の外縁との最短距離を共焦点顕微鏡で調べたところ、それぞれ15μm、10μm、5μmであった。光透過性導電材料積層体8の粘着層の外縁と、ダミー周辺配線部16の外縁は完全に重なっており、最短距離は0μmであった。光透過性導電材料積層体9では、ダミー周辺配線部16が粘着層から一部露出していた。光透過性導電材料積層体5〜9の断面を共焦点顕微鏡で観察したところ、粘着層の厚みは50μmであった。
<Preparation of light transmissive conductive material laminates 5 to 9>
The optical pressure-sensitive adhesive sheet is cut to be smaller than the one bonded to the light-transmitting conductive material laminate 1, and then bonded to the light-transmitting conductive material A to form an adhesive layer, and further, non-alkali glass is bonded. Thus, a light transmissive conductive material laminate 5 was obtained. Thereafter, the optical pressure-sensitive adhesive sheet to be bonded is cut into small steps step by step, respectively bonded to the light-transmissive conductive material A to form a pressure-sensitive adhesive layer, and further, alkali-free glass is bonded to the light-transmissive conductive material laminate. Body 6-9 was obtained. When the shortest distance between the outer edge of the adhesive layer of the light transmissive conductive material laminates 5 to 7 and the outer edge of the dummy peripheral wiring portion 16 was examined with a confocal microscope, they were 15 μm, 10 μm, and 5 μm, respectively. The outer edge of the adhesive layer of the light transmissive conductive material laminate 8 and the outer edge of the dummy peripheral wiring portion 16 completely overlap each other, and the shortest distance was 0 μm. In the light transmissive conductive material laminate 9, the dummy peripheral wiring portion 16 was partially exposed from the adhesive layer. When the cross sections of the light transmissive conductive material laminates 5 to 9 were observed with a confocal microscope, the thickness of the adhesive layer was 50 μm.

<断線が生じた積層体数>
上記した手順を繰り返し、光透過性導電材料積層体1〜9をそれぞれ30枚用意した。全ての光透過性導電材料積層体の端子部14および端子部14′をマスキングテープにより一時的に封止したうえで、JIS−Z2371に準じ、スガ試験機(株)製塩水噴霧試験装置内に入れ、72時間の中性塩水噴霧試験を実施した。試験に使用した塩化ナトリウム水溶液の塩化ナトリウム濃度は50g/L、試験時の水温は35℃であった。試験後、マスキングテープを剥離し、端子部14および端子部14′のうち、それぞれ対応する端子間での導通を調べ、センサーおよび/または周辺配線にて断線が発生した光透過性導電材料積層体の枚数を調べた。この結果を表1に示す。
<Number of laminates with disconnection>
The above procedure was repeated to prepare 30 light transmissive conductive material laminates 1 to 9 each. After temporarily sealing the terminal portion 14 and the terminal portion 14 'of all the light-transmitting conductive material laminates with a masking tape, in accordance with JIS-Z2371, the salt spray tester manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. And a neutral salt spray test was conducted for 72 hours. The sodium chloride concentration of the sodium chloride aqueous solution used for the test was 50 g / L, and the water temperature during the test was 35 ° C. After the test, the masking tape was peeled off, and the conduction between the corresponding terminals of the terminal portion 14 and the terminal portion 14 ′ was examined, and the light-transmitting conductive material laminate in which disconnection occurred in the sensor and / or peripheral wiring I checked the number of sheets. The results are shown in Table 1.

<センサー部、ダミーセンサー部の変色>
上記した中性塩水噴霧試験後の光透過性導電材料積層体1〜9の各30枚のうち、任意に選んだ1枚について、共焦点顕微鏡を用いて、センサー部およびダミーセンサー部の網目状金属細線パターンの変色の有無を調べた。この結果を表1に示す。
<Discoloration of sensor part and dummy sensor part>
Of the 30 light-transmitting conductive material laminates 1 to 9 after the neutral salt spray test described above, one arbitrarily selected sheet is formed into a mesh shape of the sensor unit and the dummy sensor unit using a confocal microscope. The presence or absence of discoloration of the fine metal line pattern was examined. The results are shown in Table 1.

<センサー部およびダミーセンサー部以外の箇所の変色>
上記した中性塩水噴霧試験後の光透過性導電材料積層体1〜9の各30枚のうち、任意に選んだ1枚について、共焦点顕微鏡を用いて、ダミー周辺配線部、アース配線部、および周辺配線部の変色の有無を調べた。この結果を表1に示す。
<Discoloration at locations other than the sensor and dummy sensor>
Of the 30 light-transmitting conductive material laminates 1 to 9 after the neutral salt spray test described above, a dummy peripheral wiring part, a ground wiring part, And the presence or absence of discoloration of the peripheral wiring part was investigated. The results are shown in Table 1.

表1の結果から、本発明の有効性が判る。   From the results in Table 1, the effectiveness of the present invention can be seen.

1 光透過性導電材料
2 光透過性支持体
11 センサー部
11a、11b、11c センサー
12 ダミーセンサー部
12a、12b、12c ダミーセンサー
13、13′ 周辺配線部
13a、13b、13c、13′a、13′b、13′c 周辺配線
14、14′ 端子部
14a、14b、14c、14′a、14′b、14′c 端子
15 アース配線
16 ダミー周辺配線部
17 外縁
18 角
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light transmissive conductive material 2 Light transmissive support body 11 Sensor part 11a, 11b, 11c Sensor 12 Dummy sensor part 12a, 12b, 12c Dummy sensor 13, 13 'Peripheral wiring part 13a, 13b, 13c, 13'a, 13 'B, 13'c Peripheral wiring 14, 14' Terminal portions 14a, 14b, 14c, 14'a, 14'b, 14'c Terminal 15 Ground wiring 16 Dummy peripheral wiring portion 17 Outer edge 18 corner

Claims (2)

光透過性導電材料と光透過性機能材料とが粘着層を介して貼合された光透過性導電材料積層体であって、該光透過性導電材料は光透過性支持体上に網目状金属細線パターンを有するセンサー部と、端子部と、該センサー部と端子部とを電気的に接続する周辺配線部を少なくとも有し、さらに該センサー部および周辺配線部を端子部以外の箇所で取り囲み、かつ該センサー部、端子部、および周辺配線部のいずれとも電気的に接続しないダミー周辺配線部を有し、該粘着層の外縁が該ダミー周辺配線部の外縁よりも10μm以上外側に位置することを特徴とする光透過性導電材料積層体。   A light transmissive conductive material laminate in which a light transmissive conductive material and a light transmissive functional material are bonded via an adhesive layer, wherein the light transmissive conductive material is a mesh-like metal on a light transmissive support. At least a sensor part having a thin line pattern, a terminal part, and a peripheral wiring part for electrically connecting the sensor part and the terminal part, and further surrounding the sensor part and the peripheral wiring part at a place other than the terminal part, And having a dummy peripheral wiring portion that is not electrically connected to any of the sensor portion, the terminal portion, and the peripheral wiring portion, and the outer edge of the adhesive layer is located at least 10 μm outside the outer edge of the dummy peripheral wiring portion. A light transmissive conductive material laminate characterized by the above. ダミー周辺配線部が網目状金属細線パターンを有することを特徴とする、前記請求項1記載の光透過性導電材料積層体。   2. The light-transmitting conductive material laminate according to claim 1, wherein the dummy peripheral wiring portion has a mesh-like fine metal wire pattern.
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