JP2017027832A - X-ray generation device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、X線発生装置に係り、特にX線発生のためのフィラメントの電流制御を行うX線発生装置に関する。 The present invention relates to an X-ray generator, and more particularly to an X-ray generator that controls filament current for X-ray generation.
X線を使用して被検体を撮影する医療用X線装置などに使用されるX線発生装置は、陰極と陽極とを真空外囲器内に封入し、さらに、真空外囲器を絶縁油が封入されたX線管と、X線管内の制御を行う制御回路から構成される。 An X-ray generator used in a medical X-ray apparatus for imaging a subject using X-rays encloses a cathode and an anode in a vacuum envelope, and further insulates the vacuum envelope with insulating oil. Is comprised of an X-ray tube in which is sealed, and a control circuit for controlling the inside of the X-ray tube.
このようなX線発生装置にて透視画像を見ながらX線写真を撮影する場合、X線撮影スイッチを押した後にフィラメントの加熱が開始される。フィラメントが所定温度に上がると、フィラメント表面より熱電子が出射される。 When taking an X-ray picture while viewing a fluoroscopic image with such an X-ray generator, heating of the filament is started after the X-ray photography switch is pressed. When the filament rises to a predetermined temperature, thermoelectrons are emitted from the filament surface.
フィラメント温度が所定温度以上に上昇してから、陰極と陽極間に高電圧(管電圧)を印加すると、陰極で発生した前記熱電子が陽極に向かって加速され、陰極と陽極との間に管電流が流れる。管電流をセンシングし、管電流が一定となるようフィラメントへの加熱量を制御することで、安定したX線量を出力することができ、安定したX線撮影をすることができる。 When a high voltage (tube voltage) is applied between the cathode and the anode after the filament temperature rises above a predetermined temperature, the thermoelectrons generated at the cathode are accelerated toward the anode, and the tube is placed between the cathode and the anode. Current flows. By sensing the tube current and controlling the heating amount to the filament so that the tube current becomes constant, a stable X-ray dose can be output, and stable X-ray imaging can be performed.
X線撮影スイッチを押してからX線が出力するまでの時間は、フィラメントが所定温度以上に上昇するになるまでにかかる時間が支配的である。このため、所定温度になるまでの時間が長いと、X線撮影スイッチを押してからX線の出力までにタイムラグが発生することとなり、意図した瞬間の写真を撮影することが困難となる。 The time from when the X-ray imaging switch is pressed until the X-ray is output is dominant in the time it takes for the filament to rise above a predetermined temperature. For this reason, if the time until the predetermined temperature is reached is long, a time lag occurs between the time when the X-ray imaging switch is pressed and the time when the X-ray is output, and it becomes difficult to take a photograph at the intended moment.
そこで従来、フィラメントが所定温度になるまでの時間を短縮するため、X線撮影スイッチを押した直後のフィラメント加熱量を過剰にするものがあった。例えば特許文献1では、デジタル回路部に、曝射準備期間中にオーバーシュート電圧を発生させるためのオーバーシュート生成部をもたせている。これにより、曝射準備期間中に十分なフィラメント加熱を行うことができるようになり、曝射準備時間の短縮を図っている。
Therefore, conventionally, in order to shorten the time until the filament reaches a predetermined temperature, there has been an excessive heating amount of the filament immediately after the X-ray imaging switch is pressed. For example, in
しかしながら、特許文献1のように、オーバーシュート生成部により過剰な電圧にてフィラメントにフィラメント電流を流す場合、管電流が流れフィラメント加熱量の制御が始まるまでは、フィラメントが必要以上の温度となる可能性がある。フィラメントを高温状態に保つと劣化するため、フィラメントを短寿命化するおそれがあった。一方、これを避けるために、X線撮影スイッチを押した直後のフィラメント加熱量を抑えると、X線撮影スイッチを押してからX線が出力するまでの時間が長くなってしまう。
However, as in
本発明の目的は、フィラメント寿命に影響を与えることなく、X線撮影スイッチを押してからX線出力までのタイムラグを短縮することが可能なX線発生装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide an X-ray generator capable of shortening the time lag from pressing an X-ray imaging switch to X-ray output without affecting the filament life.
上記目的を達成するために本発明のX線発生装置は、陰極と陽極と前記陰極及び前記陽極を気密に収容する外容器とを有するX線管と、前記陰極と前記陽極との間に管電圧を印加する高電圧発生回路と、前記陰極が具備するフィラメントに対して電流を供給することでフィラメントを加熱するフィラメント加熱回路と、前記フィラメント加熱回路を制御するフィラメント電流制御部と、を有し、前記フィラメント電流制御部は、前記フィラメントの電流値及び電圧値に基づいて、前記フィラメントの電気抵抗を求め、前記電気抵抗が前記フィラメントの目標電気抵抗に到達した場合に前記陰極と前記陽極との間に前記管電圧を印加することを特徴とする。 In order to achieve the above object, an X-ray generator of the present invention includes an X-ray tube having a cathode, an anode, and an outer container that hermetically accommodates the cathode and the anode, and a tube between the cathode and the anode. A high voltage generating circuit for applying a voltage; a filament heating circuit for heating the filament by supplying current to the filament included in the cathode; and a filament current control unit for controlling the filament heating circuit. The filament current control unit obtains an electrical resistance of the filament based on a current value and a voltage value of the filament, and when the electrical resistance reaches a target electrical resistance of the filament, the cathode and the anode The tube voltage is applied between them.
本発明によれば、フィラメント寿命に影響を与えることなく、X線撮影スイッチを押してからX線出力までのタイムラグを短縮することができる。 According to the present invention, the time lag from the pressing of the X-ray imaging switch to the X-ray output can be shortened without affecting the filament life.
以下、本実施形態のX線発生装置1について図面を参照して説明する。
まず、X線発生装置1の概略構成を説明する。図1は、本実施形態のX線発生装置1の概略構成を示すブロック図である。
Hereinafter, the
First, a schematic configuration of the
図1に示すように、X線発生装置1は、陰極11及び陽極15を具備するX線管10と、陰極11と陽極15との間に管電圧を発生させ管電流を供給する高電圧発生回路20と、陰極11が具備するフィラメント12に対して電流を供給することでフィラメントを加熱するフィラメント加熱回路30と、高電圧発生回路20及びフィラメント加熱回路30を制御する制御部40と、を有する。制御部40には、操作者が各種の設定値を入力し又はX線の発生指令を出すなどの操作をする操作部50に接続されている。高電圧発生回路20及びフィラメント加熱回路30には、外部電源60から電流が供給される。また、フィラメント電流を制御する制御主体を切り替える制御切替回路70を有する。次に、各部の詳細構成について述べる。
As shown in FIG. 1, the
X線管10は、中点接地型であって、陰極11と陽極15を具備し、陰極11及び陽極15は気密に満たされた外容器18に収容される。外容器18は、金属で形成された金属部を有し、この金属部は、接地されている。外容器18内は、絶縁油で満たされる。X線管10内において、陰極11のフィラメント12から発生した熱電子が陽極15に設けたターゲットへ衝突することによりX線が発生する。
The
高電圧発生回路20は、X線管10の陰極11と陽極15との間に管電圧を印加する回路である。本実施形態では高電圧発生回路20として中点接地型の回路を例示して説明する。
The high
高電圧発生回路20は、整流回路21と、インバータ回路22とを有する。また、陰極11と接地された金属部との間に電圧を印加するための回路として、陰極側変圧器23a、陰極側高電圧整流回路24a、陰極側コンデンサ25aを有し、陽極15と接地された金属部との間に電圧を印加するための回路として、陽極側変圧器23b、陽極側高電圧整流回路24b、陽極側コンデンサ25bを有する。
The high
この構成により、管電圧制御部41の指令に応じて管電圧を印加する際には、商用の外部電源60の交流を整流回路21で一旦直流に変換し、当該直流の電流をインバータ回路22によって、商用電源よりも高い周波数の交流電流に変換する。その後は陰極側と陽極側に分岐し、陰極側変圧器23a及び陽極側変圧器23bによって所定の管電圧が得られる電圧に昇圧して、これを陰極側高電圧整流回路24a及び陽極側高電圧整流回路24bによって直流の高電圧の管電圧に変換し、これを陰極側コンデンサ25a及び陽極側コンデンサ25bにて平滑させてから、陰極11と金属部との間、及び、陽極15と金属部との間に管電圧を印加する。
With this configuration, when a tube voltage is applied in accordance with a command from the tube
また、高電圧発生回路20は、陽極15に接続された抵抗R1、抵抗R1と接地点との間に接続された抵抗R2を有する電位検出回路26を有する。電位検出回路26には、管電圧制御部41と、管電流制御部42とが接続される。管電圧制御部41は、インバータ回路22を制御して管電圧の制御を行い、管電流制御部42は制御切替回路70を介して後述のインバータ32を制御してフィラメント12に流れる管電流を制御する。
Further, the high
この構成により、管電圧が印加された後、電位検出回路26が陽極15の電位および管電流を検出し、この検出結果を管電圧制御部41及び管電流制御部42に伝達する。これにより、高電圧発生回路20における管電圧及び管電流の制御がなされる。
With this configuration, after the tube voltage is applied, the
フィラメント加熱回路30は、陰極11のフィラメント12を加熱するための電流を供給するための回路として、整流回路31、インバータ32、変圧器33を有する。この構成により、外部電源60の交流を整流回路31にて直流に変換し、これをインバータ32で高周波の交流に変換する。この交流を変圧器33に入力し、変圧器33からの出力をフィラメント12に供給することでフィラメント12に電流を供給してを加熱する。
The
また、フィラメント加熱回路30は、陰極11のフィラメント電流を検出するフィラメント電流検出回路34と、フィラメント電圧を検出するフィラメント電圧検出回路35を有する。フィラメント電圧検出回路35は、陰極11の一方の端子に接続される抵抗R3、抵抗R3と接地点との間に接続される抵抗R4、陰極11の他方の端子に接続される抵抗R5、抵抗R5と接地点との間に接続される抵抗R6を有する。ここで、本実施形態のフィラメント電流検出回路34は、変圧器33よりもフィラメント12の側に設けられている。ただし、必ずしもフィラメント電流検出回路34の設置位置はこの位置に限らず、フィラメント電流検出回路34を変圧器33よりもインバータ32側に設置する構成にすることも可能である。
The
また、フィラメント加熱回路30は、フィラメント電流を制御しフィラメント12を加熱するフィラメント電流制御部43を有する。この構成により、フィラメント電流制御部43は、フィラメント電流検出回路34及びフィラメント電圧検出回路35から検出した陰極11側の電流値及び電圧値に基づいて、フィラメント電流を制御し、フィラメント12の加熱を行う。
The
制御部40は、操作部50によって操作者が設定した値を読み込み、管電圧制御部41、管電流制御部42、フィラメント電流制御部43及び制御切替回路70の動作制御を行う。制御部40、管電圧制御部41、管電流制御部42、フィラメント電流制御部43は、いずれもCPUとメモリを有し、予めメモリに格納されたプログラムをCPUが読み込んで実行することにより、ソフトウエアによりその動作を実現することも可能であるし、アナログ回路やASIC等のハードウエア構成により実現することも可能である。
The
操作部50は、操作者がX線発生に必要な情報、例えば、検査日時、X線発生条件などの入力、および、X線撮影開始の指示をするための装置である。X線発生装置が、X線透視撮影装置に搭載される場合、操作部50は、具体的にはキーボードやポインティングデバイスや、透視開始を指示するスイッチや、撮影開示を指示する曝射スイッチを含む。操作部50に入力された情報は、制御部40のメモリのみならず、必要に応じて、管電圧制御部41、管電流制御部42又はフィラメント電流制御部43のメモリにも伝達される。
The
例えば、フィラメント12の目標温度TAを操作者が操作部50に入力すると、制御部40は目標温度TAの情報をフィラメント電流制御部43のメモリに格納する。このため、操作部50は目標温度受付部として機能する。
For example, when the operator inputs the target temperature TA of the
制御切替回路70は、2つのスイッチSW1,SW2を有し、選択的に切替可能な回路である。スイッチSW1を選択した場合には、フィラメント電流制御部43からの制御信号がインバータ32に伝達され、スイッチSW2を選択した場合には、フィラメント電流制御部43からの制御信号がインバータ32に伝達される。
The
次に、本実施形態の特徴的な構成及び動作を説明する。まず、陰極11が具備するフィラメント12の具体的な支持構造を図2を用いて説明する。図2は、本実施形態の陰極11の詳細構成を示す説明図であり、(a)が陰極11の概略構成図、(b)が図2(a)におけるA部の組立時の拡大斜視図である。図2(a)に示すように、陰極11は、タングステンにより構成され熱電子を発生させるコイル状に巻いたフィラメント12の線状の両端部をフィラメント支持部13に対して固定することで構成される。
Next, a characteristic configuration and operation of the present embodiment will be described. First, a specific support structure of the
フィラメント12の両端部をフィラメント支持部13に対して組み付ける場合、図2(b)に示すように、フィラメント12とフィラメント支持部13との間に、タングステンより融点の低い溶融しやすい金属により構成される中間部材14を介挿する。そして、中間部材14を高温で溶融させることにより、中間部材14がフィラメント12及びフィラメント支持部13に対して一体となる。こうして、フィラメント12とフィラメント支持部13が導通状態で固定される。
When assembling both ends of the
次に、フィラメント電流制御部43の詳細構成を説明する。図3は、本実施形態のフィラメント電流制御部43の詳細構成を示すブロック図である。ここでは、フィラメント電流制御部43は、ソフトウエアにより動作を実現するため、CPU43aと、メモリ43bとを有する。
Next, a detailed configuration of the filament
また、フィラメント電流制御部43は、フィラメント電流検出回路34からの電流を検出する電流計43cと、電流計43cからのアナログ信号をデジタル変換するA/D変換器43dとを有し、フィラメント電流検出回路34からの電流値をCPU43aに伝達する。また、フィラメント電圧検出回路35からの電圧を検出する電圧計43eと、電圧計43eからのアナログ信号をデジタル変換するA/D変換器43fとを有し、フィラメント電圧検出回路35からの電圧値をCPU43aに伝達する。CPU43aは、A/D変換器43d及びA/D変換器43fによりデジタル変換された電流信号及び電圧信号に基づいて制御信号を発生し、D/A変換器43gによってアナログ信号に変換してから制御切替回路70へ信号を伝達する。
The filament
本実施形態のフィラメント電流制御部43による制御は、操作者が操作部50により設定したフィラメント12の目標温度TAに、短時間で且つ過剰な昇温がないように達するようにフィードバック制御する。具体的には、操作者が設定したフィラメント12の目標温度TAがメモリ43bに格納されると、CPU43aは、目標温度TAに対応するフィラメント12の電気抵抗RTを、下記の式1を用いて求め、メモリ43bに格納する。なお、目標温度TAは、少なくとも、フィラメント12から熱電子が出射される温度であることが必要である。
The control by the filament
ρ=1.77(T/1000)2+26.52(T/1000)−3.44 [×10−8Ωm]
RT=ρ・L/S …(式1)
なお、式1において、ρは、フィラメント12の材質であるタングステンの比抵抗、Lは、フィラメントの長さ、Sは、フィラメント12の断面積である。
ρ = 1.77 (T / 1000) 2 +26.52 (T / 1000) −3.44 [× 10 −8 Ωm]
R T = ρ · L / S (Formula 1)
In
また、設定可能な目標温度TAごとに、対応する電気抵抗RTを予め求めてテーブル等としてメモリ43bに予め格納しておき、CPU43aが操作者が設定したフィラメント12の目標温度TAに対応する電気抵抗RTをテーブルから選択する構成にすることも可能である。
Further, for each target temperature TA that can be set, the corresponding electrical resistance RT is obtained in advance and stored in the
本実施形態のCPU43aは、フィラメント電流検出回路34から得られた電流値と、フィラメント電圧検出回路35から得られた電圧値からフィラメント12の電気抵抗Rを求める。そして、測定した電気抵抗Rが目標電気抵抗RTに到達したか否かで、フィラメント12が目標温度TAに達したか否かを判定する。
The
以下、図4を用いて、本実施形態のフィラメント電流制御の動作を具体的に説明する。 Hereinafter, the filament current control operation of the present embodiment will be specifically described with reference to FIG.
操作部50の曝射スイッチが操作者によってONにされ、X線発生が指示されると、制御部40からフィラメント電流制御部43に制御信号が伝達され、フィラメント電流制御部43がフィラメント電流の供給を開始する(ステップS1)。フィラメント12に電流が流れることにより、フィラメント12の加熱が開始する。
When the exposure switch of the
フィラメント12を通過したフィラメント電流は、フィラメント電流検出回路34および電流系43cによって検出される。また、フィラメント電圧検出回路35および電圧計43eは、フィラメント12の電圧値を検出する。これらの電流値及び電圧値は、フィラメント電流制御部43のメモリ43bに格納される。フィラメント電流制御部43は、前記電流値及び当該電圧値からフィラメント抵抗値Rを算出する(ステップS2)。
The filament current that has passed through the
次に、フィラメント電流制御部43は、測定した電気抵抗Rと目標電気抵抗RTとを比較する。そして、電気抵抗Rが目標電気抵抗RTに到達しているか否かを判定する(ステップS4)。
Next, the filament
電気抵抗Rが目標電気抵抗RTに到達していない場合、フィラメント電流制御部43は、目標電気抵抗RTに到達するまでフィードバック制御を行う(ステップS5)。なお、フィードバック制御は、比例制御であっても、または比例制御に積分制御を加えたものであってもよい。
When the electrical resistance R has not reached the target electrical resistance RT , the filament
電気抵抗Rが目標電気抵抗RTに到達した場合、フィラメント電流制御部43は、制御部40にその旨を出力する。この旨を受けた制御部40は、管電圧制御部41に対して管電圧を印加するように指令を出す(ステップS6)。同時に、制御部40は、制御切替回路70をスイッチSW1からスイッチSW2に切替える。これにより、フィラメント電流制御部43によるフィラメント電流制御が、管電流制御部42による管電流制御に切り替わる(ステップS7)。
When the electrical resistance R reaches the target electrical resistance RT , the filament
その後、管電圧制御部41による管電圧制御及び管電流制御部42による管電流制御が行われる(ステップS8)。すなわち、フィラメント12への電流制御は、フィラメント電流制御部43で行わず、管電流制御部42により行われる。これは、管電圧制御部41が制御部40から電圧の印加を終了する指令を受取るまで行われる(ステップS9)。管電圧の印加を終了する指令を管電圧制御部41が制御部40から受取ると、X線発生の制御は終了する。
Thereafter, tube voltage control by the tube
以上のような構成、及び動作により、本実施形態のX線発生装置1には、以下の効果が認められる。まず、フィラメント電流制御部43は、フィラメント12の電流値及び電圧値に基づいてフィラメント12の電気抵抗Rを求め、求められた電気抵抗Rが、フィラメント12の目標電気抵抗RTに到達した場合に陰極11と陽極15との間に管電圧を発生させる制御を行っている。ここで、目標電気抵抗RTは、フィラメント12の目標温度TAに対応しているため、実質的に目標温度TAに達しているか否かを判断することができる。
With the configuration and operation as described above, the following effects are recognized in the
これによって制御された場合の管電圧、管電流、フィラメント温度、フィラメント電流の相関関係について具体的にグラフを用いて説明する。図5は、X線発生装置をX線撮影装置に適用した場合における本実施形態と比較例の比較結果を示すグラフである。(a)が本実施形態の結果を示すグラフ、(b)が比較例の結果を示すグラフである。図において、上図は管電圧と管電流との関係を示す図であり、下図はフィラメント電流とフィラメント温度との関係を示している。上図と下図とは時間的に相関関係がある。 A correlation between the tube voltage, the tube current, the filament temperature, and the filament current when controlled by this will be specifically described using a graph. FIG. 5 is a graph showing a comparison result between this embodiment and a comparative example when the X-ray generator is applied to an X-ray imaging apparatus. (A) is a graph which shows the result of this embodiment, (b) is a graph which shows the result of a comparative example. In the figure, the upper diagram shows the relationship between tube voltage and tube current, and the lower diagram shows the relationship between filament current and filament temperature. The upper diagram and the lower diagram have a temporal correlation.
図5(a)に示すように、本実施形態のフィラメント電流制御部43は、フィラメント12の温度が目標温度TAに達したことを電気抵抗Rにより検出した直後に管電圧を印加し、管電流を流すことができる。このため、フィラメントが充分な熱電子を出射する所定温度に操作者が目標温度TAを設定していれば、所定温度に到達した直後に管電流が流れ、フィラメントの負担が少ない。よって、フィラメントの高温状態が継続することを防止でき、フィラメントを長寿命化することができる。一方、比較例は、管電圧をかける前に、フィラメントが目標温度以上に十分に加熱されるように過剰な電流を供給する。このため、図5(b)に示すように、管電流が流れる前に、フィラメント温度が過剰に昇温し、フィラメントに負担がかかる。
As shown in FIG. 5 (a), the filament
また、本実施形態では、目標電気抵抗RTに達した直後に、管電圧を発生させるように制御を行うことができるため、所定温度に達してから管電圧を印加するまでの時間のロスがなく、X線撮影スイッチを押してからX線出力までのタイムラグを短縮することができる。 Further, in the present embodiment, control can be performed so as to generate a tube voltage immediately after reaching the target electric resistance RT , so there is a loss of time until the tube voltage is applied after reaching a predetermined temperature. In addition, the time lag from the pressing of the X-ray imaging switch to the X-ray output can be shortened.
また、目標温度TAを操作者から受け付ける操作部50を有することで、所望の目標温度TAを操作者が自由に設定することができ、フィラメント12を所望の温度にまで加熱できる。
In addition, since the
また、フィラメント加熱回路30は、整流回路31と、インバータ32と、変圧器33と、フィラメント12の電流値を検出するフィラメント電流検出回路34と、フィラメント12の電圧値を検出するフィラメント電圧検出回路35と、を有する。このように、フィラメント電流検出回路34とフィラメント電圧検出回路35があることで、フィラメント12の抵抗値を求め、当該抵抗値からフィラメント12の材質であるタングステンの電気抵抗値特性から、フィラメント12の温度を求めることができる。
The
また、フィラメント電流検出回路34は、変圧器33よりもフィラメント12の側に設けられている。変圧器33よりもフィラメント12側にフィラメント電流検出回路34があることで、フィラメント12の電流値を直接計測することができ、正確な電流値を測ることができる。
The filament
また、フィラメント12は、フィラメント12の端部を支持するフィラメント支持部13に対して、フィラメント12とフィラメント支持部13との間に介挿した中間部材14を溶融することで固定される。このように、中間部材14を介挿してこれを高温で溶融させることにより、中間部材14をフィラメント12及びフィラメント支持部13に対して一体とすると、フィラメント12とフィラメント支持部13との導通が確実になるため、組立時の抵抗値のばらつきを抑制することができる。このため、フィラメント温度を正確にフィラメント加熱回路30に伝達することができる。
The
なお、本実施形態のX線発生装置1は、X線透視撮影装置に限らず、X線を用いる他の装置、例えば、X線CT装置やX線撮影装置等に用いることももちろん可能である。
Note that the
1…X線発生装置、10…X線管、11…陰極、12…フィラメント、13…フィラメント支持部、14…中間部材、15…陽極、20…高電圧発生回路、30…フィラメント加熱回路、31…整流回路、32…インバータ、33…変圧器、34…フィラメント電流検出回路、35…フィラメント電圧検出回路、40…制御部、41…管電圧制御部、42…管電流制御部、43…フィラメント電流制御部、70…制御切替回路
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記陰極と前記陽極との間に管電圧を印加する高電圧発生回路と、
前記陰極が具備するフィラメントに対して電流を供給することでフィラメントを加熱するフィラメント加熱回路と、
前記フィラメント加熱回路を制御するフィラメント電流制御部と、
を有し、
前記フィラメント電流制御部は、前記フィラメントの電流値及び電圧値に基づいて、前記フィラメントの電気抵抗を求め、前記電気抵抗が前記フィラメントの目標電気抵抗に到達した場合に前記陰極と前記陽極との間に前記管電圧を発生させることを特徴とするX線発生装置。 An X-ray tube having a cathode, an anode, and an outer container that hermetically accommodates the cathode and the anode;
A high voltage generating circuit for applying a tube voltage between the cathode and the anode;
A filament heating circuit for heating the filament by supplying current to the filament of the cathode;
A filament current controller for controlling the filament heating circuit;
Have
The filament current control unit obtains an electrical resistance of the filament based on a current value and a voltage value of the filament, and when the electrical resistance reaches a target electrical resistance of the filament, between the cathode and the anode An X-ray generator that generates the tube voltage.
前記目標電気抵抗は、前記フィラメントの目標温度と前記フィラメントを構成する材質の比抵抗とに基づいて設定されることを特徴とするX線発生装置。 The X-ray generator according to claim 1,
The X-ray generator according to claim 1, wherein the target electric resistance is set based on a target temperature of the filament and a specific resistance of a material constituting the filament.
前記フィラメント電流制御部は、前記電気抵抗が前記目標電気抵抗を超えないようにフィードバック制御を行うことを特徴とするX線発生装置。 The X-ray generator according to claim 2,
The filament current control unit performs feedback control so that the electrical resistance does not exceed the target electrical resistance.
前記目標電気抵抗に対応する目標温度を操作者から受け付ける目標温度受付部を有することを特徴とするX線発生装置。 The X-ray generator according to claim 3,
An X-ray generator, comprising: a target temperature receiving unit that receives a target temperature corresponding to the target electric resistance from an operator.
前記フィラメント加熱回路は、
外部電源の交流を直流に変換する整流回路と、当該直流を高周波の交流に変換するインバータと、当該高周波の交流を変圧する変圧器と、前記フィラメントの電流値を検出するフィラメント電流検出回路と、前記フィラメントの電圧値を検出するフィラメント電圧検出回路と、を有することを特徴とするX線発生装置。 The X-ray generator according to claim 1,
The filament heating circuit
A rectifier circuit that converts alternating current of the external power source into direct current, an inverter that converts the direct current into high frequency alternating current, a transformer that transforms the high frequency alternating current, a filament current detection circuit that detects a current value of the filament, An X-ray generator comprising: a filament voltage detection circuit that detects a voltage value of the filament.
前記フィラメント電流検出回路は、前記変圧器よりも前記フィラメントの側に設けられていることを特徴とするX線発生装置。 In the X-ray generator according to claim 5,
The X-ray generator according to claim 1, wherein the filament current detection circuit is provided closer to the filament than the transformer.
前記フィラメントは、前記フィラメントの端部を支持するフィラメント支持部に対して、前記フィラメントと前記フィラメント支持部との間に介挿した中間部材を溶融することで固定されている
ことを特徴とするX線発生装置。 The X-ray generator according to claim 1,
The filament is fixed by melting an intermediate member interposed between the filament and the filament support portion with respect to a filament support portion that supports an end portion of the filament X Line generator.
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