JP2017024195A - mirror - Google Patents

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JP2017024195A JP2015142293A JP2015142293A JP2017024195A JP 2017024195 A JP2017024195 A JP 2017024195A JP 2015142293 A JP2015142293 A JP 2015142293A JP 2015142293 A JP2015142293 A JP 2015142293A JP 2017024195 A JP2017024195 A JP 2017024195A
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淳仁 長田
Atsuhito Nagata
淳仁 長田
達士 菅原
Tatsushi Sugawara
達士 菅原
アル ビルニ アハマド
Al Biruni Ahmad
アル ビルニ アハマド
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mirror which can prevent occurrence of warpage of a substrate, makes a surface of the substrate on a side where a reflection layer is formed less likely to deteriorate, makes the surface of the substrate on a side where light is incident less likely to deteriorate, and is excellent in long-term reliability.SOLUTION: There is provided a mirror which includes a resin substrate, and has a first hard coat layer and a reflection layer formed sequentially from the side of a first main surface of the substrate, and a second hard coat layer and a ceramic layer formed sequentially from the side of a second main surface side facing the first main surface of the substrate; and is structure so as to reflect light having passed through the inside of the substrate by the reflection layer, where a thickness difference between the first hard coat layer and the second hard coat layer formed on both main surfaces of the substrate is represented by formula (1): -3≤[thickness of first hard coat layer-thickness of second hard coat layer)/thickness of first hard coat layer]×100≤3.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、ミラーに関する。 The present invention relates to a mirror.

特許文献1には、樹脂基板の表面に金属反射層を有し、さらに上記金属反射層上にハードコート層を有する複合フィルムであって、上記ハードコート層がポリシラザンとシロキサン化合物とを含有する硬化性組成物の硬化物である複合フィルムが開示されている。 Patent Document 1 discloses a composite film having a metal reflective layer on the surface of a resin substrate and further having a hard coat layer on the metal reflective layer, wherein the hard coat layer contains polysilazane and a siloxane compound. A composite film that is a cured product of the adhesive composition is disclosed.

図3は、特許文献1に開示された複合フィルムを模式的に示す断面図であり、この複合フィルム100では、樹脂基材101上に、順次、金属反射層102及びハードコート層103が形成されており、ミラーとして使用されると考えられる。その場合、太陽光等の光は、樹脂基材101を通過した後金属反射層102が形成されている樹脂基材101の裏面で反射され、樹脂基材101の内部を通過した後、空気中に出る。従って、樹脂基材101と金属反射層102とがしっかり密着するとともに、平坦であることが要求される。 FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the composite film disclosed in Patent Document 1. In this composite film 100, the metal reflective layer 102 and the hard coat layer 103 are sequentially formed on the resin base material 101. It is considered to be used as a mirror. In that case, light such as sunlight is reflected on the back surface of the resin base material 101 on which the metal reflective layer 102 is formed after passing through the resin base material 101, passes through the inside of the resin base material 101, and then in the air. Get out. Therefore, the resin base material 101 and the metal reflective layer 102 are required to be in close contact and flat.

特開2013−230561号公報JP 2013-230561 A

しかしながら、樹脂基材101上に、直接、金属反射層102が形成されていると、金属により樹脂基材101の表面が劣化し易く、樹脂基材101の表面に凹凸等が形成され易いため、ミラーとしての特性が低下し易いという問題があった。
また、樹脂基材101の片側のみにハードコート層103を形成すると、ガラス等に比べてその強度が低い樹脂基材101に反りが発生しやすいという問題があった。
However, when the metal reflective layer 102 is directly formed on the resin base material 101, the surface of the resin base material 101 is likely to be deteriorated by the metal, and unevenness or the like is easily formed on the surface of the resin base material 101. There was a problem that the characteristics as a mirror were liable to deteriorate.
Further, when the hard coat layer 103 is formed only on one side of the resin base material 101, there is a problem that the resin base material 101 having a lower strength than glass or the like is likely to warp.

本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、光が入射する側の基体表面とは反対の基体面側に反射層が形成されたミラーであって、基体に反りが発生するのを防止することができ、反射層が形成された側の基体の表面が劣化しにくく、光が入射する側の基体表面も劣化しにくく、長期信頼性に優れるミラーを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is a mirror in which a reflective layer is formed on a substrate surface side opposite to a substrate surface on which light is incident, and the substrate is warped. It is possible to prevent the occurrence of the occurrence of the mirror, the surface of the base on which the reflective layer is formed is hardly deteriorated, the surface of the base on which light is incident is hardly deteriorated, and a mirror having excellent long-term reliability is provided. Objective.

上記課題を解決するための本発明のミラーは、樹脂製の基体と、上記基体の第1の主面側に順次形成された、第1ハードコート層及び反射層と、上記基体の第1の主面に対向する第2の主面側に順次形成された、第2ハードコート層及びセラミック層とからなり、上記基体の内部を通過した光を上記反射層で反射するように構成されたミラーであって、上記基体の両主面に形成された上記第1ハードコート層と上記第2ハードコート層との厚さの差は、下記の(1)式で表されることを特徴とする。
−3≦[(第1ハードコート層の厚さ−第2ハードコート層の厚さ)/第1ハードコート層の厚さ]×100≦3・・・(1)
A mirror of the present invention for solving the above-described problems is a resin base, a first hard coat layer and a reflective layer formed sequentially on the first main surface side of the base, and a first base of the base. A mirror composed of a second hard coat layer and a ceramic layer sequentially formed on the second main surface side facing the main surface, and configured to reflect the light that has passed through the inside of the substrate by the reflection layer. The difference in thickness between the first hard coat layer and the second hard coat layer formed on both main surfaces of the substrate is expressed by the following formula (1). .
−3 ≦ [(thickness of first hard coat layer−thickness of second hard coat layer) / thickness of first hard coat layer] × 100 ≦ 3 (1)

本発明のミラーは、通常のミラーと同様、基体内部を通過した光を上記反射層で反射するように構成されているが、基体の両主面にハードコート層が形成されているので、基体の表面が傷つくのを防止することができる。また、基体の両側に形成された2つのハードコート層の厚さには、上記(1)式に表されているように殆ど差がないので、ミラーに反りが発生するのを防止することができる。また、上記基体の第1の主面側に直接反射層が形成されていると、基体が反射層の形成時の環境、例えば温度により劣化するおそれがあるが、上記基体の第1の主面側には、第1ハードコート層を介して反射層が形成されているので、反射層により基体が劣化するおそれがない。さらに、上記基体の第2の主面側の最外層には、より耐摩耗性や機械的特性に優れるセラミック層が形成されているので、耐久性に優れ、ミラーとして、長期信頼性を有する。
また、第1の主面側に形成された第1ハードコート層は、基体及び反射層との密着性にも優れる。
The mirror of the present invention is configured to reflect the light that has passed through the inside of the substrate by the reflection layer, as in the case of a normal mirror, but since the hard coat layers are formed on both main surfaces of the substrate, It is possible to prevent the surface of the skin from being damaged. Further, since there is almost no difference in the thickness of the two hard coat layers formed on both sides of the base as shown in the above formula (1), it is possible to prevent the mirror from warping. it can. Further, when the reflective layer is formed directly on the first main surface side of the base, the base may be deteriorated by the environment when the reflective layer is formed, for example, temperature, but the first main surface of the base Since the reflection layer is formed on the side through the first hard coat layer, there is no possibility that the substrate is deteriorated by the reflection layer. Furthermore, the outermost layer on the second main surface side of the substrate is formed with a ceramic layer having more excellent wear resistance and mechanical properties, so that it has excellent durability and long-term reliability as a mirror.
Moreover, the 1st hard-coat layer formed in the 1st main surface side is excellent also in adhesiveness with a base | substrate and a reflection layer.

上記第1ハードコート層と上記第2ハードコート層との厚さの差が、上記(1)式の範囲を外れた場合、すなわち、下記の(2)式、又は、(3)式で表される場合には、基体に反りが発生しやすくなる。
−3>[(第1ハードコート層の厚さ−第2ハードコート層の厚さ)/第1ハードコート層の厚さ]×100・・・(2)
[(第1ハードコート層の厚さ−第2ハードコート層の厚さ)/第1ハードコート層の厚さ]×100>3・・・(3)
When the difference in thickness between the first hard coat layer and the second hard coat layer is out of the range of the above formula (1), that is, expressed by the following formula (2) or (3) In this case, the substrate is likely to warp.
−3> [(thickness of first hard coat layer−thickness of second hard coat layer) / thickness of first hard coat layer] × 100 (2)
[(Thickness of first hard coat layer−thickness of second hard coat layer) / thickness of first hard coat layer] × 100> 3 (3)

本発明のミラーにおいて、上記第1ハードコート層及び上記第2ハードコート層は、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリカハイブリッドコンポジットからなることが好ましい。
上記ミラーにおいて、上記第1ハードコート層及び上記第2ハードコート層が、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリカハイブリッドコンポジットからなるものであると、上記基体との密着性に優れるとともに、基体に反りが発生するのを確実に防止することができる。
In the mirror of the present invention, the first hard coat layer and the second hard coat layer are preferably made of silicone resin, acrylic resin, or silica hybrid composite.
In the mirror, when the first hard coat layer and the second hard coat layer are made of a silicone-based resin, an acrylic resin, or a silica hybrid composite, the substrate has excellent adhesion to the substrate, and the substrate It is possible to reliably prevent warping from occurring.

本発明のミラーにおいて、上記セラミック層は、上記第2ハードコート層の表面を覆うとともに、上記第2ハードコート層の側面及び少なくとも基体の側面の一部を覆っていることが好ましい。
上記ミラーにおいて、上記セラミック層は、上記第2ハードコート層の表面を覆うとともに、上記第2ハードコート層の側面及び少なくとも基体の側面の一部を覆っていると、基体側面から水分等が侵入して基体表面やハードコート層が劣化するのを防止することができる。
In the mirror according to the aspect of the invention, it is preferable that the ceramic layer covers the surface of the second hard coat layer and covers the side surface of the second hard coat layer and at least a part of the side surface of the base.
In the mirror, when the ceramic layer covers the surface of the second hard coat layer, and covers the side surface of the second hard coat layer and at least a part of the side surface of the substrate, moisture or the like enters from the side surface of the substrate. Thus, deterioration of the substrate surface and the hard coat layer can be prevented.

本発明のミラーにおいて、上記基体の第1の主面側に順次形成された、上記第1ハードコート層及び上記反射層の側面を含む周囲全体は、被覆樹脂層により覆われており、さらに少なくとも上記基体の側面の一部も上記被覆樹脂層により覆われていることが好ましい。
上記ミラーにおいて、上記第1ハードコート層及び上記反射層の側面を含む周囲全体が、被覆樹脂層により覆われており、さらに少なくとも上記基体の側面の一部も上記被覆樹脂層により覆われていると、基体側面から空気や水分等が侵入してハードコート層や反射層が劣化するのを防止することができる。
In the mirror of the present invention, the entire periphery including the side surfaces of the first hard coat layer and the reflective layer, which are sequentially formed on the first main surface side of the substrate, is covered with a coating resin layer, and at least It is preferable that a part of the side surface of the substrate is also covered with the coating resin layer.
In the mirror, the entire periphery including the side surfaces of the first hard coat layer and the reflective layer is covered with a coating resin layer, and at least a part of the side surface of the base is also covered with the coating resin layer. Then, it is possible to prevent the hard coat layer and the reflective layer from deteriorating due to the entry of air, moisture or the like from the side surface of the substrate.

上記被覆樹脂は、基体の側面の全体を覆っていてもよく、基体の側面を覆うセラミック層をさらに覆うように形成されていてもよい。この場合、より確実にハードコート層や反射層の劣化を防止することができる。 The coating resin may cover the entire side surface of the substrate, or may be formed to further cover the ceramic layer covering the side surface of the substrate. In this case, it is possible to more reliably prevent the hard coat layer and the reflective layer from being deteriorated.

本発明のミラーにおいて、上記セラミック層は、SiC、WC、TiC、TaC、ZrC、VC、HfC、BC、MoC、NbC、Cr、Si、TiN、AlN、BN、ZrN、TaN、NbN、CrN、VN及びHfNからなる群から選択された少なくとも一種からなるセラミック層であることが好ましい。 In the mirror of the present invention, the ceramic layer includes SiC, WC, TiC, TaC, ZrC, VC, HfC, B 4 C, Mo 2 C, NbC, Cr 3 C 2 , Si 3 N 4 , TiN, AlN, BN. A ceramic layer made of at least one selected from the group consisting of ZrN, TaN, NbN, Cr 2 N, VN and HfN is preferable.

上記した炭化物セラミックス又は窒化物セラミックス等の非酸化物系セラミックスは、一般に水や有機材料などに対するぬれ性が悪いことで知られている。このためゴミ等の異物をミラー側面に集めにくく、例えばミラー施工時等に異物のかみ込みによるミラー損傷を起こしにくいので信頼性の高いシステムの実現が可能となる。特にSiCは半導体の性質を持ち、静電気による ホコリ、ゴミを集めにくいので、SiCを用いた場合には、上記した効果が顕著である。 Non-oxide ceramics such as the above-mentioned carbide ceramics or nitride ceramics are generally known for their poor wettability with respect to water and organic materials. For this reason, it is difficult for foreign matters such as dust to be collected on the side surface of the mirror, and for example, it is difficult to cause mirror damage due to foreign matter biting during construction of the mirror, so that a highly reliable system can be realized. In particular, SiC has the properties of a semiconductor, and it is difficult to collect dust and dust due to static electricity. Therefore, when SiC is used, the above-described effects are remarkable.

本発明のミラーにおいて、上記ハードコート層は、透光性のフィラーを含むことが好ましい。
上記ミラーにおいて、ハードコート層に上記フィラーが含まれていると、耐候性を改善することができる。特に、耐候性を改善するうえで、光が通過する第2ハードコート層に上記フィラーが含まれていることが望ましい。
また、ハードコート層に上記フィラーが含まれていると、ハードコート層の機械的特性が改善され、ミラーが破壊されにくくなるとともに、基体に反りも発生しにくくなる。
In the mirror of the present invention, the hard coat layer preferably contains a translucent filler.
In the mirror, when the hard coat layer contains the filler, the weather resistance can be improved. In particular, in order to improve the weather resistance, it is desirable that the filler is contained in the second hard coat layer through which light passes.
Further, when the filler is contained in the hard coat layer, the mechanical properties of the hard coat layer are improved, the mirror is not easily broken, and the substrate is less likely to warp.

本発明のミラーにおいて、上記セラミック層は、SiCからなることが好ましい。
上記ミラーにおいて、SiCは、機械的特性、耐久性に優れるとともに、耐熱性、熱伝導性にも優れているので、セラミック層として、より好適に使用することができる。
In the mirror of the present invention, the ceramic layer is preferably made of SiC.
In the above mirror, SiC is excellent in mechanical properties and durability, and is excellent in heat resistance and thermal conductivity, and therefore can be more suitably used as a ceramic layer.

本発明のミラーにおいて、上記ハードコート層の厚さは、1〜10μmであることが好ましい。
上記ミラーにおいて、上記ハードコート層の厚さが1〜10μmであると、ミラーの反りをより確実に防止することができる。
上記ハードコート層の厚さが1μm未満であると、ハードコート層が薄すぎるため、ミラーに反りが発生するのを防止するのが難しくなり、一方、ハードコート層の厚さが10μmを超えると、ハードコート層が厚すぎるため、ミラーとしての特性が劣化し易くなる。
In the mirror of the present invention, the thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 10 μm.
In the mirror, when the thickness of the hard coat layer is 1 to 10 μm, the mirror can be more reliably prevented from warping.
When the thickness of the hard coat layer is less than 1 μm, it is difficult to prevent the mirror from warping because the hard coat layer is too thin. On the other hand, when the thickness of the hard coat layer exceeds 10 μm Since the hard coat layer is too thick, the characteristics as a mirror are easily deteriorated.

本発明のミラーにおいて、上記セラミック層の厚さは、10〜500nmであることが好ましい。
本発明のミラーにおいて、上記セラミック層の厚さが10〜500nmであると、スパッタリング等により比較的容易に形成することができ、要求される機械的特性や耐久性の条件を充分に満たすことができる。
In the mirror of the present invention, the thickness of the ceramic layer is preferably 10 to 500 nm.
In the mirror of the present invention, when the thickness of the ceramic layer is 10 to 500 nm, it can be formed relatively easily by sputtering or the like, and sufficiently satisfies the required mechanical properties and durability conditions. it can.

上記セラミック層の厚さが、10nm未満であると、セラミック層の厚さが薄すぎるため、機械的特性や耐久性が不充分となる。
一方、上記セラミック層の厚さを、500nmを超えて厚くしても、特性に大きな変化はなく、そのような厚さのセラミック層を形成することが難しく、時間もかかるため、工程タクトが長くなりミラーが高価なものとなる。
If the thickness of the ceramic layer is less than 10 nm, the thickness of the ceramic layer is too thin, so that the mechanical properties and durability are insufficient.
On the other hand, even if the thickness of the ceramic layer exceeds 500 nm, there is no significant change in characteristics, and it is difficult to form a ceramic layer with such a thickness, and it takes time, so the process tact is long. The mirror becomes expensive.

本発明のミラーにおいて、上記反射層は、Ag、Au、Al、Cr、Ni及びPtからなる群から選択された少なくとも一種からなることが好ましい。 In the mirror of the present invention, the reflective layer is preferably made of at least one selected from the group consisting of Ag, Au, Al, Cr, Ni, and Pt.

本発明のミラーにおいて、上記反射層がAg、Au、Al、Cr、Ni及びPtからなる群から選択された少なくとも一種からなると、反射層としての特性を充分に発揮することができる。 In the mirror of the present invention, when the reflective layer is made of at least one selected from the group consisting of Ag, Au, Al, Cr, Ni and Pt, the characteristics as the reflective layer can be sufficiently exhibited.

図1は、第1の本発明のミラーの一例を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the mirror of the first aspect of the present invention. 図2は、第2の本発明のミラーの一例を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of the mirror of the second aspect of the present invention. 図3は、特許文献1に開示された複合フィルムを模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the composite film disclosed in Patent Document 1. As shown in FIG.

(発明の詳細な説明)
以下、本発明のミラーについて詳述する。
(Detailed description of the invention)
Hereinafter, the mirror of the present invention will be described in detail.

本発明のミラーは、樹脂製の基体と、上記基体の第1の主面側に順次形成された、第1ハードコート層及び反射層と、上記第1の主面に対向する第2の主面側に順次形成された、第2ハードコート層及びセラミック層とからなり、上記基体の内部を通過した光を上記反射層で反射するように構成されたミラーであって、
上記基体の両主面に形成された上記第1ハードコート層と上記第2ハードコート層との厚さの差は、下記の(1)式であらわされることを特徴とする。
−3≦[(第1ハードコート層の厚さ−第2ハードコート層の厚さ)/第1ハードコート層の厚さ]×100≦3・・・(1)
The mirror of the present invention includes a resin base, a first hard coat layer and a reflective layer formed in order on the first main surface side of the base, and a second main surface facing the first main surface. A mirror composed of a second hard coat layer and a ceramic layer sequentially formed on the surface side, and configured to reflect light that has passed through the inside of the substrate by the reflection layer;
The difference in thickness between the first hard coat layer and the second hard coat layer formed on both main surfaces of the substrate is expressed by the following equation (1).
−3 ≦ [(thickness of first hard coat layer−thickness of second hard coat layer) / thickness of first hard coat layer] × 100 ≦ 3 (1)

本発明のミラーは、基体の両主面にハードコート層が形成されているので、基体の表面が傷つくのを防止することができる。また、形成されたハードコート層の厚さには、上記のように殆ど差がないので、ミラーに反りが発生するのを防止することができる。また、上記基体の第1の主面側に直接反射層が形成されていると、基体が反射層の形成時の環境、例えば温度により劣化するおそれがあるが、上記基体の第1の主面側には、第1ハードコート層を介して反射層が形成されているので、反射層により基体が劣化するおそれがない。さらに、上記基体の第2の主面側には、最外層により耐摩耗性や機械的特性に優れるセラミック層が形成されているので、耐久性に優れ、ミラーとして、長期信頼性を有する。また、第1の主面側に形成された第1ハードコート層は、基体及び反射層との密着性にも優れる。 In the mirror of the present invention, since the hard coat layers are formed on both main surfaces of the substrate, the surface of the substrate can be prevented from being damaged. Further, since there is almost no difference in the thickness of the formed hard coat layer as described above, it is possible to prevent the mirror from warping. Further, when the reflective layer is formed directly on the first main surface side of the base, the base may be deteriorated by the environment when the reflective layer is formed, for example, temperature, but the first main surface of the base Since the reflection layer is formed on the side through the first hard coat layer, there is no possibility that the substrate is deteriorated by the reflection layer. Further, since the ceramic layer having excellent wear resistance and mechanical properties is formed on the second main surface side of the substrate by the outermost layer, it is excellent in durability and has long-term reliability as a mirror. Moreover, the 1st hard-coat layer formed in the 1st main surface side is excellent also in adhesiveness with a base | substrate and a reflection layer.

本発明のミラーとして、以下のような構成のものが挙げられる。
第1の本発明のミラーは、基体と、基体の第1の主面側に順次形成された第1ハードコート層及び反射層と、第1ハードコート層の側面及び反射層の主面と側面とを含む周囲全体を覆うとともに、さらに基体の側面を覆う被覆樹脂層と、基体の第1の主面に対向する第2の主面側に順次形成された、第2ハードコート層及びセラミック層とからなる。
上記構成のミラーにおいて、セラミック層は、第2ハードコート層の主面に形成されているが、セラミック層は、第2ハードコート層の周囲全体を覆うとともに、基体の側面の一部又は全体に形成されていてもよい。
Examples of the mirror of the present invention include the following configurations.
The mirror according to the first aspect of the present invention includes a base, a first hard coat layer and a reflective layer sequentially formed on the first main surface side of the base, a side surface of the first hard coat layer, and a main surface and side surfaces of the reflective layer. And a second hard coat layer and a ceramic layer which are sequentially formed on the second main surface side facing the first main surface of the substrate. It consists of.
In the mirror having the above-described configuration, the ceramic layer is formed on the main surface of the second hard coat layer, and the ceramic layer covers the entire periphery of the second hard coat layer and covers a part of or the entire side surface of the substrate. It may be formed.

上記した第1の本発明のミラーの形状、構造等について、さらに詳述する。
図1は、第1の本発明のミラーの一例を模式的に示す断面図である。
図1に示すミラー10は、基体11と、基体11の第1の主面11a側に順次形成された第1ハードコート層12及び反射層13と、第1ハードコート層12の側面12b及び反射層13の主面13aと側面13bとを覆うとともに、さらに基体11の側面11cを覆う被覆樹脂層14と、
基体11の第1の主面11aに対向する第2の主面11b側に順次形成された、第2ハードコート層15及びセラミック層16とからなる。
The shape, structure and the like of the above-described first mirror of the present invention will be further described in detail.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the mirror of the first aspect of the present invention.
A mirror 10 shown in FIG. 1 includes a base 11, a first hard coat layer 12 and a reflective layer 13 that are sequentially formed on the first main surface 11a side of the base 11, and a side surface 12b of the first hard coat layer 12 and a reflection. A covering resin layer 14 that covers the main surface 13a and the side surface 13b of the layer 13 and further covers the side surface 11c of the substrate 11;
It consists of a second hard coat layer 15 and a ceramic layer 16 which are sequentially formed on the second main surface 11b side facing the first main surface 11a of the substrate 11.

上記基体では、入射した光がセラミック層、第2ハードコート層及び基体の内部を通過し、光が入射した側の基体表面とは反対の基体面側に形成された反射層で反射され、再度、反射光が基体の内部、第2ハードコート層及びセラミック層を通過し、セラミック層の表面から出射する。第1の本発明のミラーでは、この出射した光を利用することとなるので、出射した光(反射光)が入射した光と比較して減衰が少なく、充分な強度を有することが望ましい。 In the substrate, incident light passes through the ceramic layer, the second hard coat layer, and the inside of the substrate, and is reflected by the reflective layer formed on the substrate surface side opposite to the substrate surface on which the light is incident. The reflected light passes through the inside of the substrate, the second hard coat layer and the ceramic layer and is emitted from the surface of the ceramic layer. Since the emitted light is used in the mirror of the first aspect of the present invention, it is desirable that the emitted light (reflected light) is less attenuated than the incident light and has sufficient intensity.

第1の本発明のミラーを構成する基体は、樹脂からなるが、上記基体は、240nmを超え、2600nm未満の範囲の波長の光を85%以上通す透光性を有することが望ましく、上記波長範囲の光を、90%以上通すことがより望ましい。
基体の厚さは、0.1〜2.0mmであることが望ましい。
The substrate constituting the mirror of the first aspect of the present invention is made of a resin, and the substrate preferably has a light-transmitting property that allows light having a wavelength in the range of more than 240 nm and less than 2600 nm to pass through at least 85%. It is more desirable to pass 90% or more of light in the range.
The thickness of the substrate is preferably 0.1 to 2.0 mm.

基体を構成する透光性樹脂としては、ポリ塩化ビニール(PVC)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、アクリル樹脂(PMMA)等が挙げられる。これらの中では、ポリカーボネート(PC)等が好ましい。 Examples of the translucent resin constituting the substrate include polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), and acrylic resin (PMMA). Of these, polycarbonate (PC) is preferred.

第1の本発明のミラーにおいて、基体表面の表面粗さRzJISは、1〜50nmが望ましい。上記した表面粗さRzJISは、JIS B 0601(2001)で定義される十点平均粗さである。
上記基体表面の表面粗さRzJISが1nm未満であると、基体の表面積が小さくなるため、基体と反射層との密着性が充分に得られにくくなる。一方、基体表面の表面粗さRzJISが50nmを超えると、基体表面に平坦な反射層が形成されにくくなり、ミラーとしての特性が劣化する。
なお、基体表面の表面粗さRzJISは、レーザー顕微鏡(キーエンス社製VK−X200violet仕様)を用いて表面の輪郭曲線を測定した後、JIS B 0601(2001)に準拠して、走査距離は30μmとして測定することができる。
In the mirror of the first aspect of the present invention, the surface roughness RzJIS of the substrate surface is preferably 1 to 50 nm. The surface roughness RzJIS described above is a ten-point average roughness defined by JIS B 0601 (2001).
When the surface roughness RzJIS of the substrate surface is less than 1 nm, the surface area of the substrate becomes small, and it becomes difficult to obtain sufficient adhesion between the substrate and the reflective layer. On the other hand, when the surface roughness RzJIS of the substrate surface exceeds 50 nm, it becomes difficult to form a flat reflective layer on the substrate surface, and the characteristics as a mirror deteriorate.
The surface roughness RzJIS of the substrate surface was measured by measuring the surface contour curve using a laser microscope (VK-X200 violet specification manufactured by Keyence Corporation), and then scanning distance was set to 30 μm in accordance with JIS B 0601 (2001). Can be measured.

上記基体の第1の主面側には、第1ハードコート層が形成され、上記基体の第2の主面側には、第2ハードコート層が形成されている。
上記第1ハードコート層及び上記第2ハードコート層は、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリカハイブリッドコンポジットからなることが好ましい。
A first hard coat layer is formed on the first main surface side of the substrate, and a second hard coat layer is formed on the second main surface side of the substrate.
The first hard coat layer and the second hard coat layer are preferably made of a silicone resin, an acrylic resin, or a silica hybrid composite.

シリコーン系樹脂は、4官能型のテトラアルコキシシランを主成分に、トリアルコキシシラン等を組み合わせたもので、最終的には、樹脂中にSiOの3次元的な構造が形成される。また、シリコーン系樹脂は、触媒を用いることにより、又は、加熱により硬化させることができる。シリコーン系樹脂からなるハードコート層は、SiOの3次元的な構造を有するので、硬く、耐摩耗性に優れている。 The silicone-based resin is a combination of tetrafunctional tetraalkoxysilane as a main component and trialkoxysilane or the like, and finally, a three-dimensional structure of SiO is formed in the resin. The silicone resin can be cured by using a catalyst or by heating. Since the hard coat layer made of silicone resin has a three-dimensional structure of SiO, it is hard and has excellent wear resistance.

アクリル系樹脂は、多官能モノマー/単官能モノマー/ポリマー系からなり、多官能モノマーの種類、量によって架橋度を制御したものである。多官能モノマーとしては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等が挙げられる。アクリル系樹脂からなるハードコート層は、紫外線により硬化させることができる。紫外線による硬化は、短時間で行うことができるという特徴を有している。 The acrylic resin is composed of a polyfunctional monomer / monofunctional monomer / polymer system, and the degree of crosslinking is controlled by the kind and amount of the polyfunctional monomer. Examples of the polyfunctional monomer include polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, and epoxy acrylate. The hard coat layer made of an acrylic resin can be cured by ultraviolet rays. Curing with ultraviolet rays has a feature that it can be performed in a short time.

シリカハイブリッドコンポジットとは、シリカゾル等の無機微粒子又は上記したシリコーン系樹脂を用いたSiOの3次元的な構造体とハードコート層の形成に用いられるアクリル系樹脂やその他の樹脂を組み合わせたものであり、ラジカル重合性のアクリロイル基(AC)、メタクリロイル基(MAC)、又は、カチオン重合性のオキセタニル基(OX)を有する樹脂を組み合わせることにより、紫外線等の光により硬化させることができる。 The silica hybrid composite is a combination of inorganic fine particles such as silica sol or the above-mentioned three-dimensional structure of SiO using a silicone resin and an acrylic resin or other resin used for forming a hard coat layer. Further, by combining a resin having a radical polymerizable acryloyl group (AC), a methacryloyl group (MAC), or a cationic polymerizable oxetanyl group (OX), it can be cured by light such as ultraviolet rays.

上記ハードコート層は、透光性のフィラーを含むことが好ましい。
ハードコート層が透光性のフィラーを含んでいると耐候性を改善させることができる。上記フィラーとしては、例えば、チタニア、インジウム−錫酸化物(ITO)、錫−アンチモン酸化物(ATO)、ガラス繊維等が挙げられる。上記フィラーは、製造時に凝集しやすいので、カップリング剤等の分散剤を用いてフィラーを分散させることが望ましい。
The hard coat layer preferably contains a translucent filler.
When the hard coat layer contains a translucent filler, the weather resistance can be improved. Examples of the filler include titania, indium-tin oxide (ITO), tin-antimony oxide (ATO), and glass fiber. Since the filler easily aggregates during production, it is desirable to disperse the filler using a dispersing agent such as a coupling agent.

基体の両主面に形成された第1ハードコート層と第2ハードコート層との厚さの差は、下記の(1)式で表される。
−3≦[(第1ハードコート層の厚さ−第2ハードコート層の厚さ)/第1ハードコート層の厚さ]×100≦3・・・(1)
The difference in thickness between the first hard coat layer and the second hard coat layer formed on both main surfaces of the substrate is expressed by the following formula (1).
−3 ≦ [(thickness of first hard coat layer−thickness of second hard coat layer) / thickness of first hard coat layer] × 100 ≦ 3 (1)

すなわち、上記(1)式によれば、第1ハードコート層の厚さを基準とすると、第2ハードコート層の厚さは、第1ハードコート層の厚さより厚い場合も、薄い場合もあるが、その差の絶対値は、3%より小さい。第1ハードコート層の厚さと第2ハードコート層の厚さは等しいことが望ましい。
第1ハードコート層の厚さと第2ハードコート層の厚さとを、上記のように設定することにより、基体に反りが発生するのを防止することができる。また、第1ハードコート層及び第2ハードコート層は、基体の表面を保護し、基体の表面が傷つき、鏡としての特性が劣化するのを防止することができる。
That is, according to the formula (1), the thickness of the second hard coat layer may be thicker or thinner than the thickness of the first hard coat layer, based on the thickness of the first hard coat layer. However, the absolute value of the difference is less than 3%. The thickness of the first hard coat layer is desirably equal to the thickness of the second hard coat layer.
By setting the thickness of the first hard coat layer and the thickness of the second hard coat layer as described above, it is possible to prevent the substrate from warping. Further, the first hard coat layer and the second hard coat layer can protect the surface of the substrate and prevent the surface of the substrate from being damaged and the properties as a mirror from being deteriorated.

第1ハードコート層及び第2ハードコート層は、240nmを超え、2600nm未満の範囲の波長の光を85%以上通す透光性を有することが望ましく、上記波長範囲の光を、90%以上通すことがより望ましい。 The first hard coat layer and the second hard coat layer preferably have a light-transmitting property that allows light having a wavelength in the range of more than 240 nm and less than 2600 nm to pass through at least 85%, and pass light in the above wavelength range through at least 90%. It is more desirable.

第1の本発明のミラーを構成する基体の第1の主面側に形成された、第1ハードコート層の主面には、反射層が形成されている。
反射層は、光を反射するミラーとしての機能を有するものであり、平坦性が要求される。
反射層は、Ag、Au、Al、Cr、Ni及びPtからなる群から選択された少なくとも一種からなるものであることが望ましい。これらのなかでは、Agが特に望ましい。
反射層の厚さは、50〜200nmが望ましい。
A reflective layer is formed on the main surface of the first hard coat layer formed on the first main surface side of the substrate constituting the mirror of the first invention.
The reflective layer has a function as a mirror that reflects light, and requires flatness.
The reflective layer is preferably made of at least one selected from the group consisting of Ag, Au, Al, Cr, Ni and Pt. Of these, Ag is particularly desirable.
The thickness of the reflective layer is desirably 50 to 200 nm.

反射層の基体表面側の表面は、ミラーとして機能するので、反射層の基体表面側の面の表面粗さRzJISは、1〜50nmが望ましい。
反射層の表面粗さRzJISを1nm未満とすると、ハードコート層との密着性が劣化し、一方、反射層の表面粗さRzJISが50nmを超えた値とすると、反射層の表面の凹凸が大きくなるため、反射層としての機能が低下してしまう。
Since the surface of the reflective layer on the substrate surface side functions as a mirror, the surface roughness RzJIS of the surface of the reflective layer on the substrate surface side is preferably 1 to 50 nm.
When the surface roughness RzJIS of the reflective layer is less than 1 nm, the adhesion with the hard coat layer is deteriorated. On the other hand, when the surface roughness RzJIS of the reflective layer is greater than 50 nm, the unevenness of the surface of the reflective layer is large. Therefore, the function as the reflective layer is deteriorated.

第1ハードコート層の側面及び反射層の主面及び側面を覆うとともに、さらに基体の側面を覆う被覆樹脂層を構成する樹脂としては、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、紫外線を吸収又は反射するように、黒色系の顔料を含むことが望ましい。
黒色系の顔料としては、例えば、黒鉛等の炭素系顔料、鉄の酸化物、銅とクロムの複合酸化物、銅、クロム、亜鉛の複合酸化物等が挙げられる。
Examples of the resin that constitutes the covering resin layer that covers the side surface of the first hard coat layer and the main surface and side surface of the reflective layer, and further covers the side surface of the substrate include silicone resins and epoxy resins. These resins desirably contain a black pigment so as to absorb or reflect ultraviolet rays.
Examples of black pigments include carbon pigments such as graphite, iron oxides, complex oxides of copper and chromium, and complex oxides of copper, chromium, and zinc.

反射層及び第1ハードコート層の周囲に被覆樹脂層を形成することにより、紫外線等によりハードコート層や反射層が劣化するのを防止することができるとともに、ハードコート層と基体との間及びハードコート層と反射層との間に空気や水蒸気等が侵入して、これらの層が劣化するのを防止することができる。 By forming the coating resin layer around the reflective layer and the first hard coat layer, it is possible to prevent the hard coat layer and the reflective layer from being deteriorated by ultraviolet rays or the like, and between the hard coat layer and the substrate and It can be prevented that air, water vapor, or the like enters between the hard coat layer and the reflective layer to deteriorate these layers.

第1の本発明のミラーにおいて、第2ハードコート層の主面に形成されたセラミック層は、第2ハードコート層及び基体を外気雰囲気から保護するとともに、第2ハードコート層及び基体が傷つくのを防止する役割を果たす。
このため、セラミック層は、炭化物系セラミック又は窒化物系セラミックからなることが望ましい。
セラミック層が、炭化物系セラミック又は窒化物系セラミックからなるものであると、充分に硬く、耐摩耗性にも優れているので、過酷な条件でも被覆層の表面がより傷つきにくく、長期にわたる耐久性に優れる。また、ゴミ等の異物をミラーに集めにくく、信頼性の高いシステムの実現が可能となる。
In the mirror according to the first aspect of the present invention, the ceramic layer formed on the main surface of the second hard coat layer protects the second hard coat layer and the substrate from the outside atmosphere and damages the second hard coat layer and the substrate. Play a role in preventing.
For this reason, it is desirable that the ceramic layer is made of a carbide-based ceramic or a nitride-based ceramic.
If the ceramic layer is made of carbide ceramic or nitride ceramic, it is sufficiently hard and has excellent wear resistance, so the surface of the coating layer is less likely to be scratched even under harsh conditions, and long-term durability Excellent. In addition, it is difficult to collect foreign substances such as dust on the mirror, and a highly reliable system can be realized.

第1の本発明のミラーでは、セラミック層を構成する炭化物系セラミックとしては、SiC、WC、TiC、TaC、ZrC、VC、HfC、BC、MoC、NbC、Cr等が挙げられる。また、窒化物系セラミックとしては、Si、TiN、AlN、BN、ZrN、TaN、NbN、CrN、VN、HfN等が挙げられる。
また、第1の本発明のミラーでは、炭窒化物セラミックも、炭化物系セラミック又は窒化物系セラミックに含まれ、炭窒化物セラミックとしては、炭窒化タングステン等が挙げられる。
セラミック層は、これらの炭化物系セラミック及び窒化物系セラミックのうちの1種のみを含んでいてもよいし、2種以上の炭化物系セラミック及び窒化物系セラミックを含んでいてもよい。
これらの中では、硬度の高いセラミックが好ましく、ビッカース硬度が500〜10000HVであるセラミックが好ましい。また、セラミック層はSiCであることが好ましい。
In the mirror of the first aspect of the present invention, SiC, WC, TiC, TaC, ZrC, VC, HfC, B 4 C, Mo 2 C, NbC, Cr 3 C 2 and the like are used as the carbide-based ceramic constituting the ceramic layer. Can be mentioned. Examples of the nitride-based ceramic include Si 3 N 4 , TiN, AlN, BN, ZrN, TaN, NbN, Cr 2 N, VN, and HfN.
In the first mirror of the present invention, the carbonitride ceramic is also included in the carbide ceramic or nitride ceramic, and examples of the carbonitride ceramic include tungsten carbonitride.
The ceramic layer may include only one of these carbide ceramics and nitride ceramics, or may include two or more carbide ceramics and nitride ceramics.
Among these, a ceramic having a high hardness is preferable, and a ceramic having a Vickers hardness of 500 to 10,000 HV is preferable. The ceramic layer is preferably SiC.

また、第1の本発明のミラーでは、セラミック層は非晶質であることが好ましい。セラミック層が非晶質であると、セラミック層の厚さが薄い場合でも紫外線を吸収する作用を発現でき、ハードコート層や基体が紫外線により劣化するのを防止することができる。 In the first mirror of the present invention, the ceramic layer is preferably amorphous. When the ceramic layer is amorphous, an action of absorbing ultraviolet rays can be exhibited even when the ceramic layer is thin, and the hard coat layer and the substrate can be prevented from being deteriorated by the ultraviolet rays.

第1の本発明のミラーにおいて、セラミック層の厚さは10〜500nmであることが好ましく、10〜200nmであることがより好ましい。
セラミック層の厚さが上記範囲であると内部のハードコート層や基体が十分に保護され、耐摩耗性も充分に付与される。
セラミック層の厚さが10nm未満であると、セラミック層の厚さが薄すぎるため、機械的特性や耐久性が不充分となる。セラミック層の厚さが500nmを超えて厚くしても、特性に大きな変化はなく、そのような厚さのセラミック層を形成することが難しく、時間もかかるため、工程タクトが長くなりミラーが高価なものとなる。
In the mirror of the first aspect of the present invention, the thickness of the ceramic layer is preferably 10 to 500 nm, and more preferably 10 to 200 nm.
When the thickness of the ceramic layer is within the above range, the internal hard coat layer and the substrate are sufficiently protected, and sufficient wear resistance is imparted.
When the thickness of the ceramic layer is less than 10 nm, the thickness of the ceramic layer is too thin, so that the mechanical properties and durability are insufficient. Even if the thickness of the ceramic layer exceeds 500 nm, there is no significant change in the characteristics, and it is difficult to form a ceramic layer with such a thickness, and it takes time. It will be something.

第1の本発明のミラーにおいて、第1ハードコート層、第2ハードコート層、反射層、セラミック層及び被覆樹脂層の厚さは、例えば、レーザー顕微鏡を用いて測定することができる。
基体表面に第1ハードコート層、第2ハードコート層、反射層、セラミック層、又は、被覆樹脂層が形成された部分と上記した層が形成されていない部分がある試料を準備し、基体表面に上記した層が形成された部分と上記した層が形成されていない部分の境界の段差をまたぐようにレーザー顕微鏡を走査して、その段差の高さを測定することにより、第1ハードコート層、第2ハードコート層、反射層、セラミック層及び被覆樹脂層の厚さを測定することができる。
上記測定用試料は、第1ハードコート層、第2ハードコート層、反射層、セラミック層、被覆樹脂層の形成時に一部をマスキングして上記した層を形成することにより作製してもよいし、形成した上記層の一部を除去することによって作製してもよい。
In the mirror of the first aspect of the present invention, the thicknesses of the first hard coat layer, the second hard coat layer, the reflective layer, the ceramic layer, and the coating resin layer can be measured using, for example, a laser microscope.
Prepare a sample having a portion on which the first hard coat layer, the second hard coat layer, the reflective layer, the ceramic layer, or the coating resin layer is formed on the surface of the substrate and a portion on which the above-mentioned layer is not formed. The first hard coat layer is measured by scanning the laser microscope so as to cross the step at the boundary between the portion where the layer is formed and the portion where the layer is not formed, and measuring the height of the step. The thickness of the second hard coat layer, the reflective layer, the ceramic layer, and the coating resin layer can be measured.
The measurement sample may be prepared by masking a part of the first hard coat layer, the second hard coat layer, the reflective layer, the ceramic layer, and the coating resin layer to form the above-described layer. Alternatively, a part of the formed layer may be removed.

次に、第1の本発明のミラーの製造方法について説明する。なお、下記する工程は、必ずしも順次行う必要はなく、順番が前後してもよく、他の工程が挿入されてもよい。
(a)基体の準備
第1の本発明のミラーの製造方法では、はじめに、基体を準備する。
基体としては第1の本発明のミラーを構成する基体の説明で説明した材料を使用することができる。樹脂材料を基体として使用する場合、使用する用途に応じて任意の形状に切削加工、押出成形等により成形した材料を準備する。
Next, the manufacturing method of the mirror of 1st this invention is demonstrated. Note that the steps described below are not necessarily performed sequentially, the order may be changed, and other steps may be inserted.
(A) Preparation of substrate In the first method of manufacturing a mirror of the present invention, a substrate is first prepared.
As the substrate, the materials described in the description of the substrate constituting the mirror of the first invention can be used. When a resin material is used as a substrate, a material formed by cutting, extrusion molding or the like into an arbitrary shape is prepared according to the intended use.

また、基体の表面の不純物を除去するために洗浄処理を行うことが好ましい。
上記洗浄処理としては特に限定されず、従来公知の洗浄処理を用いることができ、具体的には、例えば、水やアルコール溶媒中で超音波洗浄を行う方法等を用いることができる。
また、スパッタリング装置内に基体を設置し、プラズマを発生させることによって基体の表面をプラズマ洗浄してもよい。この場合、プラズマ洗浄の後にそのまま塗布等の方法によりハードコート層を形成してもよい。
Further, it is preferable to perform a cleaning treatment in order to remove impurities on the surface of the substrate.
The cleaning process is not particularly limited, and a conventionally known cleaning process can be used. Specifically, for example, a method of performing ultrasonic cleaning in water or an alcohol solvent can be used.
Alternatively, the surface of the substrate may be plasma cleaned by installing the substrate in a sputtering apparatus and generating plasma. In this case, the hard coat layer may be formed by a method such as coating after plasma cleaning.

また、上記洗浄処理後には、必要に応じて、基体の表面の粗さを調整するために、基体の表面に鏡面化処理や粗化処理を施してもよい。具体的には、例えば、サンドブラスト処理、エッチング処理等の処理を施してもよい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
上記処理の後に、さらに洗浄処理を施してもよい。
基体を構成する材料や基体表面の好ましい表面粗さ等については、既に説明したので、ここでは、その説明を省略する。
In addition, after the cleaning treatment, a mirror surface treatment or a roughening treatment may be performed on the surface of the substrate in order to adjust the surface roughness of the substrate, if necessary. Specifically, for example, a process such as a sandblast process or an etching process may be performed. These may be used alone or in combination of two or more.
A washing process may be further performed after the above process.
Since the material constituting the substrate and the preferable surface roughness of the substrate surface have already been described, the description thereof is omitted here.

(b)ハードコート層の形成
ハードコート層を形成する際には、予め、ハードコート層として機能するフィルムを作製しておき、このフィルムを基体に貼り付けることにより、ハードコート層を形成してもよい。
また、ハードコート層の原料であるモノマー又はポリマー、溶剤、フィラー等を混合してハードコート用組成物を調製した後、このハードコート用組成物を基体に塗布し、加熱、紫外線照射等により塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成してもよい。
ハードコート層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の塗布方法が挙げられる。
第1ハードコート層及び第2ハードコート層の材料や組成は、同じであることが望ましく、硬化後の厚さが上記(1)式を満足するように、第1ハードコート層及び第2ハードコート層を形成する。
(B) Formation of a hard coat layer When forming a hard coat layer, a film functioning as a hard coat layer is prepared in advance, and the hard coat layer is formed by pasting this film on a substrate. Also good.
Also, after preparing a hard coat composition by mixing a monomer or polymer that is a raw material of the hard coat layer, a solvent, a filler, etc., the hard coat composition is applied to a substrate and then applied by heating, ultraviolet irradiation, or the like. The layer may be cured to form a hard coat layer.
Examples of the method for applying the hard coat layer composition include spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coating, gravure coating, and die coating.
It is desirable that the materials and compositions of the first hard coat layer and the second hard coat layer are the same, and the first hard coat layer and the second hard coat layer so that the thickness after curing satisfies the above formula (1). A coat layer is formed.

(c)反射層の形成
第1の本発明のミラーの製造方法では、PVD(物理蒸着)法等を用いて、反射層をハードコート層の主面に形成する。
具体的なPVD(物理蒸着)法としては、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、分子線エピタキシー法等の蒸着法、イオンめっき法、イオンビームデポジション法、スパッタリング法等が挙げられる。
これらの方法のなかでは、スパッタリング法が望ましく、Ag、Au等の材料は金属であり、導電性を有するので、DC(直流)スパッタリング法がより望ましい。
(C) Formation of reflective layer In the mirror manufacturing method of the first aspect of the present invention, the reflective layer is formed on the main surface of the hard coat layer by using a PVD (physical vapor deposition) method or the like.
Specific PVD (physical vapor deposition) methods include, for example, vapor deposition methods such as resistance heating vapor deposition, electron beam vapor deposition, and molecular beam epitaxy, ion plating, ion beam deposition, and sputtering.
Among these methods, the sputtering method is desirable, and the material such as Ag and Au is a metal and has conductivity, so that the DC (direct current) sputtering method is more desirable.

(d)セラミック層の形成
第1の本発明のミラーの製造方法では、第1ハードコート層の主面にセラミック層を形成する。
セラミック層の形成は、反射層の形成と同様に、PVD(物理蒸着)法により行うことができる。
物理蒸着法によりセラミック層を形成する場合、基体の温度が高温にならず、基体に樹脂材料を用いた場合であっても、樹脂材料の耐熱温度以下の温度でセラミック層を形成することができるので、セラミック層の形成方法として適している。
具体的には、物理蒸着を5〜200℃で行うことが好ましい。この温度はチャンバー内の設定温度であり、常温(25℃±15℃)であることも好ましい。
(D) Formation of Ceramic Layer In the first method for manufacturing a mirror of the present invention, a ceramic layer is formed on the main surface of the first hard coat layer.
The ceramic layer can be formed by a PVD (physical vapor deposition) method, similarly to the formation of the reflective layer.
When the ceramic layer is formed by physical vapor deposition, the temperature of the substrate does not become high, and the ceramic layer can be formed at a temperature lower than the heat resistant temperature of the resin material even when a resin material is used for the substrate. Therefore, it is suitable as a method for forming a ceramic layer.
Specifically, physical vapor deposition is preferably performed at 5 to 200 ° C. This temperature is a set temperature in the chamber, and is preferably room temperature (25 ° C. ± 15 ° C.).

第1の本発明のミラーの製造方法では、物理蒸着法は、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング、又は、イオンビーム蒸着により行われることが好ましい。
これらの中でもスパッタリングにより行われることがより好ましく、スパッタリングは、マグネトロンスパッタリング、イオンビームスパッタリング、2極スパッタリング、反応性スパッタリング、又は、ECRスパッタリングであることが好ましい。
特に、RF(交流、高周波)スパッタリングであることが好ましく、RFマグネトロンスパッタリングであることがより好ましい。
RFスパッタリングであると、絶縁体であるセラミックターゲットについてもスパッタリングが可能であり、マグネトロンスパッタリングとすることによって成膜速度を速くすることができる。
In the mirror manufacturing method of the first aspect of the present invention, the physical vapor deposition method is preferably performed by sputtering, vacuum vapor deposition, ion plating, or ion beam vapor deposition.
Of these, sputtering is more preferable, and sputtering is preferably magnetron sputtering, ion beam sputtering, bipolar sputtering, reactive sputtering, or ECR sputtering.
In particular, RF (alternating current, high frequency) sputtering is preferable, and RF magnetron sputtering is more preferable.
When RF sputtering is used, sputtering is also possible for a ceramic target that is an insulator, and the film formation rate can be increased by using magnetron sputtering.

RFマグネトロンスパッタリングによる物理蒸着を行う場合には、スパッタリング装置にセラミック層の材料となるターゲットを設置して、反射層が形成された基体をチャンバー内に載置し、チャンバー内をアルゴン雰囲気としてチャンバー内の圧力を例えば0.2〜1.2Paに減圧する。
そして、高周波電圧を印加してスパッタリングを所定時間行い、所定の厚さのセラミック層を第2ハードコート層の主面に形成する。
When physical vapor deposition by RF magnetron sputtering is performed, a target to be a material of a ceramic layer is set in a sputtering apparatus, a substrate on which a reflective layer is formed is placed in a chamber, and the inside of the chamber is set to an argon atmosphere. Is reduced to, for example, 0.2 to 1.2 Pa.
Then, high frequency voltage is applied and sputtering is performed for a predetermined time to form a ceramic layer having a predetermined thickness on the main surface of the second hard coat layer.

(e)被覆樹脂層の形成
被覆樹脂層の原料であるモノマー又はポリマー、溶剤、顔料等を混合して被覆樹脂層用組成物を調製した後、反射層の主面と側面、ハードコート層の側面、及び、基体の側面に被覆樹脂層用組成物を塗布するか、又は、被覆樹脂層用組成物中に基体、ハードコート層、及び、反射層をディップし、被覆樹脂層用組成物の層を形成し、乾燥させた後、硬化させて被覆樹脂層を形成する。
(E) Formation of coating resin layer After preparing a composition for a coating resin layer by mixing a monomer or polymer, a solvent, a pigment, or the like, which is a raw material of the coating resin layer, the main surface and side surfaces of the reflective layer, the hard coating layer The composition for the coating resin layer is applied to the side surface and the side surface of the substrate, or the substrate, the hard coat layer, and the reflective layer are dipped in the composition for the coating resin layer, A layer is formed, dried, and then cured to form a coating resin layer.

第1の本発明のミラーは、耐紫外線性及び耐摩耗性が必要な用途に使用することができ、例えば、自動車、航空機、船舶、鉄道、自転車、2輪車等のミラーや、太陽熱発電のミラー(集光)等の用途に使用することができる。下記する第2の本発明のミラーの用途も同様である。 The mirror of the first aspect of the present invention can be used for applications that require ultraviolet resistance and wear resistance. For example, mirrors for automobiles, aircraft, ships, railways, bicycles, two-wheeled vehicles, etc. It can be used for purposes such as mirroring (condensing). The same applies to the use of the mirror of the second invention described below.

本発明のミラーは、上記した構成以外の構成のものであってもよい。以下に、第2の本発明のミラーについて説明する。
第2の本発明のミラーは、基体と、基体の第1の主面側に順次形成された第1ハードコート層及び反射層と、第1ハードコート層の側面及び反射層の主面及び側面を覆うとともに、さらに基体の側面を覆う被覆樹脂層と、基体の第1の主面に対向する第2の主面側に順次形成された、第2ハードコート層及びセラミック層とからなり、セラミック層は、第2ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の一部を覆って形成されている。
セラミック層は、第2ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の全部を覆って形成されていてもよい。
上記した例では、セラミック層が、第2ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の一部を覆って形成されているほかは、第1の本発明のミラーと同様に構成されている。
The mirror of the present invention may have a configuration other than the configuration described above. The mirror of the second aspect of the present invention will be described below.
The mirror of the second aspect of the present invention includes a base, a first hard coat layer and a reflective layer sequentially formed on the first main surface side of the base, side surfaces of the first hard coat layer, and main surfaces and side surfaces of the reflective layer. And a coating resin layer that covers the side surface of the substrate, and a second hard coat layer and a ceramic layer that are sequentially formed on the second main surface side facing the first main surface of the substrate. The layer covers the main surface and the side surface of the second hard coat layer and covers a part of the side surface of the substrate.
The ceramic layer may be formed so as to cover the main surface and the side surface of the second hard coat layer and to cover the entire side surface of the substrate.
In the above example, the ceramic layer covers the main surface and the side surface of the second hard coat layer and is formed to cover a part of the side surface of the substrate, and has the same configuration as the mirror of the first invention. Has been.

上記した第2の本発明のミラーの形状、構造等について、さらに詳述する。
図2は、第2の本発明のミラーの一例を模式的に示す断面図である。
図2に示すミラー20は、基体21と、基体21の第1の主面21a側に順次形成された第1ハードコート層22及び反射層23と、第1ハードコート層22の側面22b及び反射層23の主面23a及び側面23bを覆うとともに、さらに基体21の側面21cを覆う被覆樹脂層24と、基体21の第1の主面21aに対向する第2の主面21b側に順次形成された、第2ハードコート層25及びセラミック層26とからなり、セラミック層26は、第2ハードコート層25の主面25a及び側面25bを覆うとともに、基体21の側面21bの一部を覆って形成されている。
なお、反射層23は、第1ハードコート層22の主面22aに形成されている。
The shape, structure, etc. of the above-described mirror of the second aspect of the present invention will be further described in detail.
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of the mirror of the second aspect of the present invention.
The mirror 20 shown in FIG. 2 includes a base 21, a first hard coat layer 22 and a reflective layer 23 that are sequentially formed on the first main surface 21 a side of the base 21, a side 22 b of the first hard coat layer 22, and a reflective surface. The covering resin layer 24 covers the main surface 23a and the side surface 23b of the layer 23, and further covers the side surface 21c of the base body 21, and is formed on the second main surface 21b side facing the first main surface 21a of the base body 21 sequentially. The ceramic layer 26 includes the second hard coat layer 25 and the ceramic layer 26. The ceramic layer 26 covers the main surface 25a and the side surface 25b of the second hard coat layer 25 and covers a part of the side surface 21b of the base 21. Has been.
The reflective layer 23 is formed on the main surface 22 a of the first hard coat layer 22.

第2の本発明のミラーでは、セラミック層が、第2ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の一部を覆って形成されているほかは、第1の本発明のミラーと同様に構成されている。なお、セラミック層は、基体の側面の一部を覆うとともに、被覆樹脂層の側面の一部を覆っていてもよく、被覆樹脂層は、基体の側面の一部を覆うとともに、セラミック層の側面の一部を覆っていてもよい。
第2の本発明の基体、第1ハードコート層、反射層、被覆樹脂層、及び、第2ハードコート層は、第1の本発明のミラーと同様に構成されており、本発明のミラーの製造方法の一部である上記した層の形成方法も第1の本発明のミラーの場合と同様であるので、上記した層及びその形成方法の詳しい説明は、省略することとする。
In the mirror of the second invention, the ceramic layer covers the main surface and side surfaces of the second hard coat layer and covers part of the side surface of the substrate. It is configured in the same way. The ceramic layer may cover a part of the side surface of the substrate and may cover a part of the side surface of the coating resin layer. The coating resin layer covers a part of the side surface of the substrate and the side surface of the ceramic layer. You may cover a part of.
The substrate, the first hard coat layer, the reflective layer, the coating resin layer, and the second hard coat layer of the second invention are configured in the same manner as the mirror of the first invention. Since the above-described layer forming method, which is a part of the manufacturing method, is the same as the case of the mirror of the first aspect of the present invention, detailed description of the above-described layer and the forming method will be omitted.

第2の本発明のミラーを構成するセラミック層の材料や特性等は、第1の本発明のミラーを構成するセラミック層の材料と同様であるので、これらの説明は、省略することとする。
第2の本発明のミラーにおいて、セラミック層の厚さは10〜500nmであることが好ましく、10〜200nmであることがより好ましい。
セラミック層の厚さが上記範囲であり、セラミック層が第2ハードコート層の表面を覆うとともに、第2ハードコート層の側面及び少なくとも基体の側面の一部を覆っていると、内部のハードコート層や基体が十分に保護され、耐摩耗性も充分に付与される。また、基体側面から水分等が侵入して基体表面やハードコート層が劣化するのを防止することができる。
Since the material, characteristics, etc. of the ceramic layer constituting the mirror of the second invention are the same as those of the ceramic layer constituting the mirror of the first invention, description thereof will be omitted.
In the mirror of the second aspect of the present invention, the thickness of the ceramic layer is preferably 10 to 500 nm, and more preferably 10 to 200 nm.
When the thickness of the ceramic layer is in the above range and the ceramic layer covers the surface of the second hard coat layer and covers the side surface of the second hard coat layer and at least a part of the side surface of the substrate, The layer and the substrate are sufficiently protected, and sufficient wear resistance is imparted. In addition, it is possible to prevent moisture or the like from entering from the side surface of the substrate and deteriorating the surface of the substrate or the hard coat layer.

セラミック層の厚さが10nm未満であると、セラミック層の厚さが薄すぎるため、機械的特性や耐久性が不充分となる。セラミック層の厚さが500nmを超えて厚くしても、特性に大きな変化はなく、そのような厚さのセラミック層を形成することが難しく、時間もかかるため、工程タクトが長くなりミラーが高価なものとなる。 When the thickness of the ceramic layer is less than 10 nm, the thickness of the ceramic layer is too thin, so that the mechanical properties and durability are insufficient. Even if the thickness of the ceramic layer exceeds 500 nm, there is no significant change in the characteristics, and it is difficult to form a ceramic layer with such a thickness, and it takes time. It will be something.

第2の本発明におけるセラミック層の形成方法は、第1の本発明におけるセラミック層の形成方法とほぼ同様であるが、スパッタリングの際、セラミック層は、第2ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の一部を覆って形成される必要があるので、ターゲットの大きさを第1の本発明の場合よりも大きく設定することが望ましい。 The method for forming the ceramic layer in the second aspect of the present invention is substantially the same as the method for forming the ceramic layer in the first aspect of the present invention. However, during sputtering, the ceramic layer forms the main surface and side surfaces of the second hard coat layer. Since it is necessary to cover and to cover part of the side surface of the substrate, it is desirable to set the size of the target larger than in the case of the first aspect of the present invention.

なお、第1の本発明のミラーや第2の本発明のミラーにおいて、上記被覆樹脂層は、必ず形成する必要はなく、被覆樹脂層がなくてもよい。また、単に、本発明のミラーという場合には、第1の本発明のミラー及び第2の本発明のミラーの両方を含んだ発明を意味している。 In the mirror of the first invention and the mirror of the second invention, the coating resin layer is not necessarily formed, and the coating resin layer may not be provided. In addition, simply referring to the mirror of the present invention means an invention including both the mirror of the first invention and the mirror of the second invention.

以下に、本発明のミラーの作用効果について列挙する。
(1)本発明のミラーは、通常のミラーと同様、基体内部を通過した光を前記反射層で反射するように構成されているが、基体の両主面にハードコート層が形成されているので、基体の表面が傷つくのを防止することができる。
The effects of the mirror of the present invention are listed below.
(1) The mirror of the present invention is configured to reflect the light that has passed through the inside of the substrate by the reflection layer, as in the case of a normal mirror, but hard coat layers are formed on both main surfaces of the substrate. Therefore, it is possible to prevent the surface of the substrate from being damaged.

(2)本発明のミラーでは、基体の両側に形成された形成された2つのハードコート層の厚さには、上記(1)式に示されているように殆ど差がないので、ミラーに反りが発生するのを防止することができる。 (2) In the mirror of the present invention, there is almost no difference in the thickness of the two hard coat layers formed on both sides of the substrate as shown in the above formula (1). Warpage can be prevented from occurring.

(3)上記基体の第1の主面側に直接反射層が形成されていると、基体が反射層の形成時の環境、例えば温度により劣化するおそれがあるが、本発明のミラーでは、基体の第1の主面側に、第1ハードコート層を介して反射層が形成されているので、反射層により基体が劣化するおそれがない。 (3) If the reflective layer is formed directly on the first main surface side of the substrate, the substrate may be deteriorated by the environment at the time of forming the reflective layer, for example, the temperature. Since the reflective layer is formed on the first main surface side via the first hard coat layer, there is no possibility that the substrate is deteriorated by the reflective layer.

(4)本発明のミラーでは、第2の主面側の最外層には、より耐摩耗性や機械的特性に優れるセラミック層が形成されているので、耐久性に優れ、ミラーとして、長期信頼性を有する。 (4) In the mirror of the present invention, the outermost layer on the second main surface side is formed with a ceramic layer having higher wear resistance and mechanical properties. Have sex.

(実施例)
以下、本発明をより具体的に開示した実施例を示す。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。
(Example)
Examples in which the present invention is disclosed more specifically are shown below. In addition, this invention is not limited only to these Examples.

(実施例1)
ハードコート層用組成物として、シリコーン樹脂を含む液状の組成物を用意し、まず、鏡面加工された厚さ2mm、縦300mm、横300mmのアクリル樹脂製の基体の第1の主面にフローコート法により被膜を形成し、乾燥した後、熱硬化することにより硬化させ、厚さが5μmの第1ハードコート層を形成した。
Example 1
A liquid composition containing a silicone resin is prepared as a hard coat layer composition. First, a flow coat is applied to the first main surface of a mirror-finished acrylic resin substrate having a thickness of 2 mm, a length of 300 mm, and a width of 300 mm. A film was formed by the method, dried, and then cured by thermal curing to form a first hard coat layer having a thickness of 5 μm.

次に、基体の第2の主面に対しても、同様の方法を用い、厚さが5μmの第2ハードコート層を形成した。 Next, a second hard coat layer having a thickness of 5 μm was formed on the second main surface of the substrate using the same method.

次に、両面に第1ハードコート層及び第2ハードコート層が形成された基体を、スパッタリング装置に搬入し、1×10−5Paとなるまで排気し、DC電源を用い、200Wで120nmの厚さのAg膜(反射層)を、第1ハードコート層の主面に形成した。 Next, the substrate on which the first hard coat layer and the second hard coat layer are formed on both sides is carried into a sputtering apparatus, evacuated to 1 × 10 −5 Pa, using a DC power source at 200 W and 120 nm. A thick Ag film (reflection layer) was formed on the main surface of the first hard coat layer.

さらに、SiCターゲットを使用し、RF電源を用いて500Wで、20nmの厚さのSiC膜(セラミック層)を形成した。SiC膜を形成する際には、大きいターゲットを用い、SiC膜(セラミック層)が第2ハードコート層の主面及び側面(第2ハードコート層の全体)を覆い、かつ、基体の側面の一部を覆うように、SiC膜(セラミック層)を形成した。 Furthermore, a SiC film (ceramic layer) having a thickness of 20 nm was formed using an SiC target at 500 W using an RF power source. When forming the SiC film, a large target is used, and the SiC film (ceramic layer) covers the main surface and side surfaces of the second hard coat layer (the entire second hard coat layer), and one side surface of the substrate. A SiC film (ceramic layer) was formed so as to cover the part.

次に、第1の主面側に第1ハードコート層及び反射層が順次形成され、第2の主面側に第2ハードコート層及びセラミック層が順次形成された基体を、カーボンブラックが添加されたエポキシ樹脂を含む被覆樹脂層形成用の液状の組成物にディップし、引き上げて乾燥し、加熱して硬化させることにより、基体の第1の主面側に順次形成された、第1ハードコート層及び反射層の側面を含む周囲全体を覆うとともに、セラミック層で覆われていない基体の側面を覆う被覆樹脂層を形成し、ミラーの製造を終了した。 Next, carbon black is added to the base on which the first hard coat layer and the reflective layer are sequentially formed on the first main surface side, and the second hard coat layer and the ceramic layer are sequentially formed on the second main surface side. The first hard layer is sequentially formed on the first main surface side of the substrate by dipping into a liquid composition for forming a coating resin layer containing an epoxy resin, lifting, drying, heating and curing. The coating resin layer covering the entire periphery including the side surfaces of the coat layer and the reflective layer and covering the side surface of the substrate not covered with the ceramic layer was formed, and the manufacture of the mirror was completed.

上記方法により製造したミラーは、基体の第1の主面側に第1ハードコート層及び反射層が順次形成され、基体の第2の主面側に第2ハードコート層及びセラミック層が順次形成されている。また、被覆樹脂層が、第1ハードコート層及び反射層の側面を含む周囲全体を覆うとともに、セラミック層で覆われていない基体の側面を覆っており、セラミック層は、第2ハードコート層の主面及び側面(第2ハードコート層の全体)を覆い、かつ、基体の側面の一部を覆っている。なお、各層の厚さは、レーザー顕微鏡を用いて測定した。 In the mirror manufactured by the above method, the first hard coat layer and the reflective layer are sequentially formed on the first main surface side of the substrate, and the second hard coat layer and the ceramic layer are sequentially formed on the second main surface side of the substrate. Has been. The covering resin layer covers the entire periphery including the side surfaces of the first hard coat layer and the reflective layer, and covers the side surface of the substrate not covered with the ceramic layer. The ceramic layer is formed of the second hard coat layer. The main surface and the side surface (the entire second hard coat layer) are covered, and a part of the side surface of the substrate is covered. The thickness of each layer was measured using a laser microscope.

10、20 ミラー
11、21 基体
11a、21a 基体の第1の主面
11b、21b 基体の第2の主面
11c、21c 基体の側面
12、22 第1ハードコート層
12a、22a 第1ハードコート層の主面
12b、22b 第1ハードコート層の側面
13、23 反射層
13a、23a 反射層の主面
13b、23b 反射層の側面
14、24 被覆樹脂層
15、25 第2ハードコート層
15a、25a 第2ハードコート層の主面
15b、25b 第2ハードコート層の側面
16、26 セラミック層
10, 20 Mirror 11, 21 Base 11a, 21a First main surface 11b, 21b Second main surface of the base
11c, 21c Side surfaces 12, 22 of the first hard coat layer 12a, 22a Main surfaces 12b, 22b of the first hard coat layer Side surfaces 13, 23 of the first hard coat layer Reflective layers 13a, 23a Main surface 13b of the reflective layer, 23b Side surfaces 14 and 24 of the reflective layer 15 Coating resin layers 15 and 25 Second hard coat layers 15a and 25a Main surfaces 15b and 25b of the second hard coat layer Side surfaces 16 and 26 of the second hard coat layer Ceramic layer

Claims (10)

樹脂製の基体と、前記基体の第1の主面側に順次形成された、第1ハードコート層及び反射層と、前記基体の第1の主面に対向する第2の主面側に順次形成された、第2ハードコート層及びセラミック層とからなり、前記基体の内部を通過した光を前記反射層で反射するように構成されたミラーであって、
前記基体の両主面に形成された前記第1ハードコート層と前記第2ハードコート層との厚さの差は、下記の(1)式で表されることを特徴とするミラー。
−3≦[(第1ハードコート層の厚さ−第2ハードコート層の厚さ)/第1ハードコート層の厚さ]×100≦3・・・(1)
A resin base, a first hard coat layer and a reflective layer sequentially formed on the first main surface side of the base, and a second main surface side facing the first main surface of the base sequentially A mirror composed of a second hard coat layer and a ceramic layer formed, and configured to reflect the light that has passed through the inside of the substrate by the reflective layer;
A mirror characterized in that a difference in thickness between the first hard coat layer and the second hard coat layer formed on both main surfaces of the substrate is expressed by the following equation (1).
−3 ≦ [(thickness of first hard coat layer−thickness of second hard coat layer) / thickness of first hard coat layer] × 100 ≦ 3 (1)
前記第1ハードコート層及び前記第2ハードコート層は、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリカハイブリッドコンポジットからなる請求項1に記載のミラー。 The mirror according to claim 1, wherein the first hard coat layer and the second hard coat layer are made of a silicone resin, an acrylic resin, or a silica hybrid composite. 前記セラミック層は、前記第2ハードコート層の表面を覆うとともに、前記第2ハードコート層の側面及び少なくとも基体の側面の一部を覆っている請求項1又は2に記載のミラー。 3. The mirror according to claim 1, wherein the ceramic layer covers a surface of the second hard coat layer and covers a side surface of the second hard coat layer and at least a part of a side surface of the substrate. 前記基体の第1の主面側に順次形成された、前記第1ハードコート層及び前記反射層の側面を含む周囲全体は、被覆樹脂層により覆われており、さらに少なくとも前記基体の側面の一部も前記被覆樹脂層により覆われている請求項1〜3のいずれかに記載のミラー。 The entire periphery including the side surfaces of the first hard coat layer and the reflective layer, which are sequentially formed on the first main surface side of the substrate, is covered with a coating resin layer, and at least one of the side surfaces of the substrate. The mirror according to claim 1, wherein the part is also covered with the coating resin layer. 前記セラミック層は、SiC、WC、TiC、TaC、ZrC、VC、HfC、BC、MoC、NbC、Cr、Si、TiN、AlN、BN、ZrN、TaN、NbN、CrN、VN及びHfNからなる群から選択された少なくとも一種からなるセラミック層である請求項1〜4のいずれかに記載のミラー。 The ceramic layer is made of SiC, WC, TiC, TaC, ZrC, VC, HfC, B 4 C, Mo 2 C, NbC, Cr 3 C 2 , Si 3 N 4 , TiN, AlN, BN, ZrN, TaN, NbN. The mirror according to claim 1, which is a ceramic layer made of at least one selected from the group consisting of Cr 2 N, VN, and HfN. 前記ハードコート層は、透光性のフィラーを含む請求項1〜5のいずれかに記載のミラー。 The said hard-coat layer is a mirror in any one of Claims 1-5 containing a translucent filler. 前記セラミック層は、SiCからなる請求項5又は6に記載のミラー。 The mirror according to claim 5 or 6, wherein the ceramic layer is made of SiC. 前記ハードコート層の厚さは、1〜10μmである請求項1〜7のいずれかに記載のミラー。 The mirror according to claim 1, wherein the hard coat layer has a thickness of 1 to 10 μm. 前記セラミック層の厚さは、10〜500nmである請求項1〜8のいずれかに記載のミラー。 The mirror according to claim 1, wherein the ceramic layer has a thickness of 10 to 500 nm. 前記反射層は、Ag、Au、Al、Cr、Ni及びPtからなる群から選択された少なくとも一種からなる請求項1〜9のいずれかに記載のミラー。 The mirror according to claim 1, wherein the reflective layer is made of at least one selected from the group consisting of Ag, Au, Al, Cr, Ni, and Pt.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106646703A (en) * 2017-02-09 2017-05-10 吉林大学 Novel silver-introduced hafnium-nitride-membrane high-infrared-reflection durable material

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