JP2017016017A - Optical waveguide and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光通信,光情報処理,位置センサ,その他一般光学の分野で用いられる光導波路およびその製法に関するものである。 The present invention relates to an optical waveguide used in the fields of optical communication, optical information processing, position sensors, and other general optics, and a method for manufacturing the same.
光導波路は、一般に、アンダークラッド層の表面に、線状の光路用コアが突出状にパターン形成されたものとなっている(例えば、特許文献1参照)。 In general, an optical waveguide has a linear optical path core formed in a protruding pattern on the surface of an under cladding layer (see, for example, Patent Document 1).
上記光路用コアのパターン形成は、まず、アンダークラッド層の表面に、コア形成用の感光性樹脂を塗布し、その感光性樹脂層を形成する。ついで、上記光路用コアのパターンに対応する開口パターンが形成されているフォトマスクを介して、上記感光性樹脂層を上記パターンに露光し、その露光部分を硬化させる。そして、現像液を用いて現像を行うことにより、未露光部分を溶解させて除去し、残存した上記露光部分を上記パターンの光路用コアに形成する。 In the pattern formation of the optical path core, first, a photosensitive resin for core formation is applied to the surface of the undercladding layer to form the photosensitive resin layer. Next, the photosensitive resin layer is exposed to the pattern through a photomask having an opening pattern corresponding to the pattern of the optical path core, and the exposed portion is cured. And by developing using a developing solution, an unexposed part is dissolved and removed, The remaining said exposed part is formed in the core for optical paths of the said pattern.
ところで、光導波路が用いられている電子光学機器では、光導波路と光学部品(光素子,レンズ等)との接続において、光路用コアの先端面から出射される光を効率よく光学部品に伝達させるためには、その光路用コアの高さを高くする方が有利であることが知られている。 By the way, in an electro-optical device in which an optical waveguide is used, light emitted from the distal end surface of the optical path core is efficiently transmitted to the optical component when the optical waveguide and the optical component (optical element, lens, etc.) are connected. Therefore, it is known that it is advantageous to increase the height of the optical path core.
また、最近、上記電子光学機器の小型化が進むに伴い、それに用いられている光導波路の幅を狭くすることが求められている。それを実現するためには、光路用コアの幅を狭くする必要がある。 Recently, as the above-mentioned electro-optical device is further reduced in size, it is required to reduce the width of the optical waveguide used therein. In order to realize this, it is necessary to narrow the width of the optical path core.
しかしながら、上記のように、光導波路の光路用コアを、高さを高くするとともに幅を狭くすると、現像工程後に、その光路用コアが倒伏している場合がある。倒伏した光路用コアは、光の伝播損失が大きい。 However, as described above, when the height of the optical path core of the optical waveguide is increased and the width is narrowed, the optical path core may fall down after the development process. The fallen optical path core has a large light propagation loss.
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、光路用コアが、高さが高くなっているとともに幅が狭くなっていても、その光路用コアが倒伏しない光導波路およびその製法の提供をその目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an optical waveguide in which the optical path core does not fall down even if the optical path core has a high height and a narrow width, and a method for manufacturing the same. Is the purpose.
上記の目的を達成するため、本発明は、アンダークラッド層と、このアンダークラッド層の表面に突出形成された光路用コアと、この光路用コアと隙間をあけた状態で、上記アンダークラッド層の表面に突出形成された、上記光路用コアの倒伏防止用のダミーコアとを備えている光導波路を第1の要旨とする。 In order to achieve the above object, the present invention provides an undercladding layer, an optical path core protrudingly formed on the surface of the undercladding layer, and a gap between the undercladding layer and the optical path core. The first gist is an optical waveguide provided with a dummy core for preventing the collapse of the above-mentioned optical path core, which protrudes from the surface.
また、本発明は、アンダークラッド層を準備する工程と、このアンダークラッド層の表面に、コア形成用の感光性樹脂層を形成する工程と、光路用コアのパターン、およびその光路用コアと隙間をあけた状態で形成される、その光路用コアの倒伏防止用のダミーコアのパターンに対応する開口パターンが形成されているフォトマスクを介して、上記感光性樹脂層を上記パターンに露光する工程と、現像液を用い、未露光部分を溶解させて除去し、残存した上記露光部分を上記パターンの光路用コアおよびダミーコアに形成する現像工程とを備えている光導波路の製法を第2の要旨とする。 The present invention also includes a step of preparing an undercladding layer, a step of forming a photosensitive resin layer for forming a core on the surface of the undercladding layer, a pattern of an optical path core, and a gap between the optical path core and the optical path core. A step of exposing the photosensitive resin layer to the pattern through a photomask formed with an opening pattern corresponding to the pattern of the dummy core for preventing the collapse of the optical path core formed with The second gist is a method for producing an optical waveguide comprising a developing step of dissolving and removing an unexposed portion using a developer and forming the remaining exposed portion on the optical path core and dummy core of the pattern. To do.
本発明者らは、光導波路において、光路用コアが、高さが高くなっているとともに幅が狭くなっていても、その光路用コアが倒伏しないようにすべく、まず、従来技術において、光路用コアが倒伏する原因を追究した。その結果、その原因は、現像工程での現像液による荷重であることが判明した。すなわち、先に述べたように、コア形成用の感光性樹脂層を露光した後の現像工程では、未露光部分を現像液により溶解させて除去するが、その際、形成された光路用コアに、上記現像液の流れが当たる。上記光路用コアは高さが高いことから、その流れを受ける面積が大きく、その分、上記光路用コアにかかる荷重が大きくなっている。しかも、上記光路用コアは幅が狭いことから、その荷重に耐えることが困難となっている。そのため、光路用コアは、上記のように倒伏するのである。 In order to prevent the optical path core from falling down even if the optical path core is high in height and narrow in the optical waveguide, first, in the prior art, the optical path core Investigated the cause of the collapse of the core. As a result, it has been found that the cause is a load caused by the developer in the development process. That is, as described above, in the development process after exposing the photosensitive resin layer for core formation, the unexposed part is dissolved and removed with a developer, and the formed optical path core is then removed. The flow of the developer hits. Since the optical path core has a high height, the area receiving the flow is large, and the load applied to the optical path core is increased accordingly. In addition, since the optical path core is narrow, it is difficult to withstand the load. For this reason, the optical path core falls down as described above.
そこで、本発明者らは、現像工程において、形成された光路用コアが現像液の流れの影響を受けにくくすべく、ダミーコアを、光路用コアと隙間をあけた状態で、上記アンダークラッド層の表面に突出形成することを着想した。すなわち、コア形成用の感光性樹脂層を、光路用コアのパターンに露光する際に、それと同時に、上記ダミーコアのパターンに露光し、その後の現像工程で、光路用コアとともに、その光路用コアの両側または片側に、上記ダミーコアを形成するようにした。その他の場合として、光路用コアが複数本並列に形成され、隣り合う光路用コアと光路用コアとの間の隙間が狭い(例えば50μm未満)場合は、それら光路用コアからなる光路用コア群の外側に、その光路用コア群の両側の光路用コアと隙間をあけた状態で、上記ダミーコアを形成するようにした。 In view of this, the inventors of the present invention, in the development process, in order to make the formed optical path core less susceptible to the flow of the developer, the dummy core is formed with a gap from the optical path core. Inspired to form protrusions on the surface. That is, when the photosensitive resin layer for forming the core is exposed to the pattern of the optical path core, at the same time, it is exposed to the pattern of the dummy core, and in the subsequent development process, along with the optical path core, the optical path core The dummy core is formed on both sides or one side. In other cases, when a plurality of optical path cores are formed in parallel and a gap between adjacent optical path cores and the optical path core is narrow (for example, less than 50 μm), the optical path core group including these optical path cores The dummy core is formed on the outside of the optical path core with a gap from the optical path cores on both sides of the optical path core group.
その結果、上記ダミーコアを光路用コアの両側に形成する場合は、その光路用コアの両側からの現像液の流れを、上記両側のダミーコアが受け止め、光路用コアが現像液の流れの影響を受けにくくなり、光路用コアの倒伏が防止されることを突き止めた。 As a result, when the dummy core is formed on both sides of the optical path core, the flow of developer from both sides of the optical path core is received by the dummy core on both sides, and the optical path core is affected by the flow of developer. It became difficult to prevent the fall of the core for the optical path.
一方、上記ダミーコアを光路用コアの片側に形成する場合は、そのダミーコアが形成されている片側からの現像液の流れを、上記片側のダミーコアが受け止め、光路用コアがその片側からの現像液の流れの影響を受けにくくなり、その片側からの現像液の流れによる光路用コアの倒伏が防止されることを突き止めた。上記ダミーコアが形成されていないもう一方の片側からの現像液の流れは、光路用コアが受けるため、その光路用コアが反対側の上記ダミーコア側に倒伏しようとするものの、その光路用コアが倒伏しないよう、上記ダミーコアが上記光路用コアを支え、現像工程が終えた後に、上記光路用コアが自己の復元力により元の起立状態に戻ることも突き止めた。 On the other hand, when the dummy core is formed on one side of the optical path core, the flow of the developer from one side where the dummy core is formed is received by the dummy core on one side, and the optical path core receives the developer from the one side. It has been found that the optical path core is prevented from falling down due to the flow of the developer from one side, which is less affected by the flow. The flow of the developer from the other side where the dummy core is not formed is received by the optical path core, so the optical path core tries to fall down on the opposite side of the dummy core, but the optical path core falls down. In order to prevent this, the dummy core supported the optical path core, and after the development process was completed, it was also found that the optical path core returned to its original standing state by its own restoring force.
さらに、上記ダミーコアを上記光路用コア群の両側に形成する場合は、その光路用コア群の両側からの現像液の流れを、上記両側のダミーコアが受け止め、光路用コア群が現像液の流れの影響を受けにくくなる。しかも、光路用コア群内では、隣り合う光路用コアと光路用コアとの間の隙間が狭いことから、光路用コア群内の光路用コアは、現像液の流れの影響をより一層受けにくく、倒伏が防止されることを突き止めた。 Further, when the dummy core is formed on both sides of the optical path core group, the flow of the developer from both sides of the optical path core group is received by the dummy core on the both sides, and the optical path core group receives the flow of the developer. Less affected. Moreover, since the gap between the adjacent optical path cores and the optical path core is narrow in the optical path core group, the optical path cores in the optical path core group are much less susceptible to the flow of the developer. And found out that lodging was prevented.
このように、光路用コアと隙間をあけて形成された上記ダミーコアが、光路用コアの倒伏防止用として作用することを見出し、本発明に到達した。 As described above, the present inventors have found that the dummy core formed with a gap from the optical path core acts to prevent the collapse of the optical path core, and have reached the present invention.
本発明の光導波路は、光路用コアと隙間をあけて、その光路用コアの倒伏防止用のダミーコアが、アンダークラッド層の表面に突出形成されているため、現像工程での現像液の流れによる光路用コアの倒伏を防止することができる。そのため、本発明の光導波路は、光路用コアの倒伏による光の伝播損失がなく、光の伝播が安定した信頼性のある光導波路とすることができる。 The optical waveguide of the present invention has a gap with the optical path core, and a dummy core for preventing the collapse of the optical path core is formed on the surface of the under cladding layer. The fall of the optical path core can be prevented. Therefore, the optical waveguide of the present invention is free from light propagation loss due to the collapse of the optical path core, and can be a reliable optical waveguide with stable light propagation.
そして、本発明の光導波路の製法は、アンダークラッド層の表面に形成したコア形成用の感光性樹脂層をパターン露光することにより、その露光部分を光路用コア、およびその光路用コアと隙間をあけた、その光路用コアの倒伏防止用のダミーコアに形成するため、現像工程での現像液の流れによる光路用コアの倒伏を防止することができる。そのため、光の伝播が安定した信頼性のある本発明の光導波路を作製することができる。 And the manufacturing method of the optical waveguide of the present invention is such that the photosensitive resin layer for forming the core formed on the surface of the under cladding layer is subjected to pattern exposure so that the exposed portion is separated from the core for the optical path and the gap with the core for the optical path. Since the optical path core is formed in the dummy core for preventing the fall of the optical path core, the fall of the optical path core due to the flow of the developer in the development process can be prevented. Therefore, a reliable optical waveguide of the present invention with stable light propagation can be produced.
特に、上記光路用コアの高さと幅の比(光路用コア高さ/光路用コア幅)が2.5を超えている場合には、光路用コアが、高さがより高くなっているとともに幅がより狭くなっている。そのため、光路用コアと光学部品との間の光伝播効率により一層優れているとともに、光導波路の幅を狭くして、その光導波路を用いる電子光学機器の小型化をより一層図ることができる。 In particular, when the optical path core height / width ratio (optical path core height / optical path core width) exceeds 2.5, the optical path core has a higher height. The width is narrower. For this reason, the optical propagation efficiency between the optical path core and the optical component is further improved, and the width of the optical waveguide can be reduced to further reduce the size of the electro-optical device using the optical waveguide.
また、上記のように光路用コアの高さと幅の比(光路用コア高さ/光路用コア幅)が2.5を超えている場合には、その光路用コアは、倒伏しやすくなるものの、アンダークラッド層の表面に形成される上記光路用コアが1本である場合、およびその光路用コアが複数本であって、隣り合う光路用コアと光路用コアとの間の隙間が50μm以上である場合は、その光路用コアの両側に、その光路用コアと50μm未満の隙間をあけて、上記ダミーコアを、その高さと幅の比(ダミーコア高さ/ダミーコア幅)を2.5以下に設定して形成することにより、上記光路用コアの倒伏を防止することができる。 In addition, when the ratio of the optical path core height to the width (optical path core height / optical path core width) exceeds 2.5 as described above, the optical path core is likely to fall down. When the number of the optical path cores formed on the surface of the under cladding layer is one, and the number of the optical path cores is plural, the gap between the adjacent optical path cores and the optical path core is 50 μm or more. In this case, a gap of less than 50 μm from the optical path core is formed on both sides of the optical path core, and the ratio of the height to the width (dummy core height / dummy core width) is set to 2.5 or less. By setting and forming, the fall of the said core for optical paths can be prevented.
また、上記光路用コアの高さと幅の比(光路用コア高さ/光路用コア幅)が2.5を超え、その光路用コアが複数本並列されており、隣り合う光路用コアと光路用コアとの間の隙間が50μm未満である場合には、上記光路用コアからなる光路用コア群の外側に、その光路用コア群の両側の光路用コアと50μm未満の隙間をあけて、上記ダミーコアを、その高さと幅の比(ダミーコア高さ/ダミーコア幅)を2.5以下に設定して形成することにより、上記光路用コア群内の光路用コアの倒伏を防止することができる。 Further, the ratio of the height and width of the optical path core (optical path core height / optical path core width) exceeds 2.5, and a plurality of the optical path cores are arranged in parallel, and the adjacent optical path core and optical path When the gap between the optical path cores is less than 50 μm, the optical path cores on both sides of the optical path core group are opened outside the optical path core group consisting of the optical path cores, and a gap of less than 50 μm is provided. By forming the dummy core with the ratio of height to width (dummy core height / dummy core width) set to 2.5 or less, it is possible to prevent the fall of the optical path core in the optical path core group. .
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1(a)は、本発明の光導波路の第1の実施の形態を示す平面図であり、図1(b)は、そのA−A断面図である。この実施の形態の光導波路は、アンダークラッド層1と、このアンダークラッド層1の表面に突出形成された線状の1本の光路用コア2と、この光路用コア2の両側に、その光路用コア2と50μm未満の隙間S1をあけた状態で、上記アンダークラッド層1の表面に突出形成された、上記光路用コア2の倒伏防止用のダミーコアDとを備えている。上記光路用コア2は、高さH1と幅W1の比(光路用コア高さH1/光路用コア幅W1)が2.5を超えており、上記ダミーコアDは、高さH2と幅W2の比(ダミーコア高さH2/ダミーコア幅W2)が2.5以下に設定されている。上記光路用コア2の倒伏防止用のダミーコアDを形成することが、本発明の大きな特徴である。なお、この実施の形態では、上記光路用コア2および上記ダミーコアDを被覆した状態で、上記アンダークラッド層1の表面に、オーバークラッド層3が形成されている。
FIG. 1A is a plan view showing a first embodiment of the optical waveguide of the present invention, and FIG. The optical waveguide according to this embodiment includes an
上記光導波路は、つぎのようにして作製される。 The optical waveguide is manufactured as follows.
まず、図2(a)に示すように、上記アンダークラッド層1を準備する。このアンダークラッド層1としては、感光性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を硬化させたもの、または樹脂フィルム等があげられる。上記アンダークラッド層1の高さは、例えば、10〜500μmの範囲内に設定される。
First, as shown in FIG. 2A, the under
ついで、図2(b)に示すように、上記アンダークラッド層1の表面に、コア形成用の感光性樹脂を塗布し、1層の感光性樹脂層2Aを形成する。
Next, as shown in FIG. 2B, a photosensitive resin for forming a core is applied to the surface of the
つぎに、図2(c)に示すように、上記感光性樹脂層2Aの上方に、上記光路用コア2および上記ダミーコアD〔図2(d)参照〕のパターンに対応する開口パターンが形成されている1枚の露光マスクMを位置決めする。そして、その露光マスクMを介して、上記感光性樹脂層2Aを露光する。その後、必要に応じて、上記感光性樹脂層2Aを加熱処理する。それにより、上記感光性樹脂層2Aの露光部分を硬化させる。
Next, as shown in FIG. 2C, an opening pattern corresponding to the pattern of the
つづいて、図2(d)に示すように、現像液を用いて現像を行うことにより、上記感光性樹脂層2A〔図2(c)参照〕の未露光部分を溶解させて除去し、上記露光部分をアンダークラッド層1の表面に残存させる。その後、必要に応じて、その残存した露光部分を加熱処理し、その残存した露光部分内に残る現像液を除去する。そして、その残存した露光部分を、上記パターンの光路用コア2およびダミーコアDに形成する。これら光路用コア2およびダミーコアDは、同時に形成され、同じ高さH1(H2)に形成される。その高さH1(H2)は、例えば、10〜100μmの範囲内に設定される。また、光路用コア2の幅W1は、例えば、3〜39μmの範囲内に設定され、ダミーコアDの幅W2は、例えば、5μm以上に設定される。
Subsequently, as shown in FIG. 2D, development is performed using a developer to dissolve and remove the unexposed portion of the
上記現像工程では、現像液の流れが発生するが、この実施の形態では、光路用コア2の両側に上記ダミーコアDが形成されているため、その光路用コア2の両側からの現像液の流れを、上記両側のダミーコアDが受け止め、光路用コア2が現像液の流れの影響を受けにくくなっている。それにより、上記光路用コア2の高さH1と幅W1の比(光路用コア高さH1/光路用コア幅W1)が2.5を超え、その光路用コア2が倒伏しやすくなっていても、その光路用コア2の倒伏が防止されている。このように、上記ダミーコアDにより上記光路用コア2の倒伏を防止することが、本発明の大きな特徴である。
In the developing process, a developer flow occurs. In this embodiment, the dummy core D is formed on both sides of the
そして、図2(e)に示すように、上記光路用コア2および上記ダミーコアDを被覆するよう、上記アンダークラッド層1の表面に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を塗布した後、それを硬化させ、オーバークラッド層3に形成する。このオーバークラッド層3の、光路用コア2の頂面からの高さは、例えば、1〜1000μmの範囲内に設定される。このようにして、上記光導波路を作製することができる。
Then, as shown in FIG. 2E, a photosensitive resin or a thermosetting resin for forming an over clad layer is formed on the surface of the under clad
図3(a)は、本発明の光導波路の第2の実施の形態を示す平面図であり、図3(b)は、そのB−B断面図である。この実施の形態の光導波路は、図1(a),(b)に示す第1の実施の形態において、アンダークラッド層1の表面に形成される光路用コア2が複数本であり、隣り合う光路用コア2と光路用コア2との間の隙間S2が50μm以上に設定されている。そして、各光路用コア2の両側に、その光路用コア2と50μm未満の隙間S1をあけて、その光路用コア2の倒伏防止用の上記ダミーコアDが形成されている。それ以外の部分は、上記第1の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。そして、上記第1の実施の形態と同様の作用・効果を奏する。
FIG. 3A is a plan view showing a second embodiment of the optical waveguide of the present invention, and FIG. 3B is a BB cross-sectional view thereof. In the optical waveguide of this embodiment, a plurality of
なお、上記第1および第2の実施の形態では、光路用コア2の両側に上記ダミーコアDを形成したが、光路用コア2の片側のみに上記ダミーコアDを形成してもよい。この場合、上記ダミーコアDが形成されていないもう一方の片側からの現像液の流れを、光路用コア2が受けるため、その光路用コア2が反対側の上記ダミーコアD側に倒伏しようとするものの、その光路用コア2が倒伏しないよう、上記ダミーコアDが上記光路用コア2を支える。そして、現像工程が終えた後に、上記光路用コア2が自己の復元力により元の起立状態に戻る。
In the first and second embodiments, the dummy core D is formed on both sides of the
図4(a)は、本発明の光導波路の第3の実施の形態を示す平面図であり、図4(b)は、そのC−C断面図である。この実施の形態の光導波路は、アンダークラッド層1の表面に形成される光路用コア2が複数本であり、隣り合う光路用コア2と光路用コア2との間の隙間S2が50μm未満に設定されており、複数本の光路用コア2が並列に形成されている。そして、それら光路用コア2からなる光路用コア群20の外側に、その光路用コア群20の両側の光路用コア2と50μm未満の隙間S1をあけて、上記光路用コア2の倒伏防止用の上記ダミーコアDが形成されている。それ以外の部分は、上記第1の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。
FIG. 4A is a plan view showing a third embodiment of the optical waveguide of the present invention, and FIG. 4B is a sectional view taken along the line CC in FIG. The optical waveguide of this embodiment has a plurality of
この実施の形態では、上記光路用コア群20の両側に上記ダミーコアDが形成されているため、その光路用コア群20の両側からの現像液の流れを、上記両側のダミーコアDが受け止め、光路用コア群20が現像液の流れの影響を受けにくくなっている。しかも、光路用コア群20内では、隣り合う光路用コア2と光路用コア2との間の隙間S2が狭い(50μm未満)ことから、光路用コア群20内の光路用コア2は、現像液の流れの影響をより一層受けにくくなっているため、光路用コア2の倒伏が防止されている。
In this embodiment, since the dummy core D is formed on both sides of the optical
上記各実施の形態の光導波路は、光電気混載基板,位置センサ等に用いられる光導波路として採用することができる。 The optical waveguide of each of the above embodiments can be employed as an optical waveguide used for an opto-electric hybrid board, a position sensor and the like.
なお、上記各実施の形態では、光路用コア2およびダミーコアDを被覆するオーバークラッド層3を形成したが、そのオーバークラッド層3を形成することなく、エアクラッドとしてもよい。
In each of the above embodiments, the over
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。但し、本発明は、実施例に限定されるものではない。 Next, examples will be described together with comparative examples. However, the present invention is not limited to the examples.
〔アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料〕
成分a:エポキシ樹脂(ADEKA社製、EP4080E)100重量部。
成分b:光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI101A)2重量部。
これら成分a,bを混合することにより、アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料を調製した。
[Formation material of under clad layer and over clad layer]
Component a: 100 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by ADEKA, EP4080E).
Component b: 2 parts by weight of a photoacid generator (manufactured by Sun Apro, CPI101A).
By mixing these components a and b, a material for forming the under cladding layer and the over cladding layer was prepared.
〔光路用コアおよびダミーコアの形成材料〕
成分c:エポキシ樹脂(ダイセル社製、EHPE3150)75重量部。
成分d:エポキシ樹脂(東都化成社製、KI−3000−4)25重量部。
成分e:光酸発生剤(ADEKA社製、SP170)1重量部。
成分f:乳酸エチル(和光純薬工業社製、溶剤)50重量部。
これら成分c〜fを混合することにより、光路用コアおよびダミーコアの形成材料を調製した。
[Material for forming optical path core and dummy core]
Component c: 75 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by Daicel, EHPE3150).
Component d: 25 weight part of epoxy resins (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., KI-3000-4).
Component e: 1 part by weight of a photoacid generator (manufactured by ADEKA, SP170).
Component f: 50 parts by weight of ethyl lactate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., solvent).
The components for forming the optical path core and the dummy core were prepared by mixing these components cf.
〔実施例1〕
上記各形成材料を用いて、上記第1の実施の形態と同様にして、図1(a),(b)に示す光導波路を作製した。その光導波路の光路用コア等の寸法,弾性率,屈折率を下記の表1に示す。また、光路用コアとダミーコアとの間の隙間を20μmとした。
[Example 1]
Using the respective forming materials, the optical waveguides shown in FIGS. 1A and 1B were produced in the same manner as in the first embodiment. The dimensions, elastic modulus, and refractive index of the optical waveguide core of the optical waveguide are shown in Table 1 below. The gap between the optical path core and the dummy core was 20 μm.
〔実施例2〕
上記実施例1において、光路用コアとダミーコアとの間の隙間を40μmとした。それ以外の部分は、上記実施例1と同様とした。
[Example 2]
In Example 1 above, the gap between the optical path core and the dummy core was set to 40 μm. The other parts were the same as in Example 1 above.
〔実施例3〕
上記各形成材料を用いて、上記第2の実施の形態と同様にして、図3(a),(b)に示す光導波路を作製した。その光導波路の光路用コア等の寸法,弾性率,屈折率は、上記実施例1と同様とした(上記表1参照)。また、光路用コアとダミーコアとの間の隙間を20μm、隣り合う光路用コアと光路用コアとの間の隙間を500μmとした。
Example 3
Using the respective forming materials, optical waveguides shown in FIGS. 3A and 3B were produced in the same manner as in the second embodiment. The dimensions, elastic modulus, and refractive index of the optical path core of the optical waveguide were the same as in Example 1 (see Table 1 above). Further, the gap between the optical path core and the dummy core was 20 μm, and the gap between the adjacent optical path core and the optical path core was 500 μm.
〔実施例4〕
上記各形成材料を用いて、上記第3の実施の形態と同様にして、図4(a),(b)に示す光導波路を作製した。その光導波路の光路用コア等の寸法,弾性率,屈折率は、上記実施例1と同様とした(上記表1参照)。また、光路用コア群の両側の光路用コアとダミーコアとの間の隙間を20μm、光路用コア群の隣り合う光路用コアと光路用コアとの間の隙間を40μmとした。
Example 4
Using the respective forming materials, optical waveguides shown in FIGS. 4A and 4B were produced in the same manner as in the third embodiment. The dimensions, elastic modulus, and refractive index of the optical path core of the optical waveguide were the same as in Example 1 (see Table 1 above). The gap between the optical path core and the dummy core on both sides of the optical path core group was 20 μm, and the gap between the adjacent optical path core and optical path core in the optical path core group was 40 μm.
〔比較例1〕
上記実施例1において、ダミーコアを形成しないものを比較例1とした。それ以外の部分は、上記実施例1と同様とした。
[Comparative Example 1]
In Example 1 described above, a dummy core was not formed as Comparative Example 1. The other parts were the same as in Example 1 above.
〔比較例2〕
上記実施例2において、ダミーコアを形成しないものを比較例2とした。それ以外の部分は、上記実施例2と同様とした。
[Comparative Example 2]
In Example 2 described above, no dummy core was formed as Comparative Example 2. The other parts were the same as in Example 2 above.
〔比較例3〕
上記実施例3において、ダミーコアを形成しないものを比較例3とした。それ以外の部分は、上記実施例3と同様とした。
[Comparative Example 3]
In Example 3 described above, no dummy core was formed as Comparative Example 3. The other parts were the same as in Example 3 above.
〔比較例4〕
上記実施例4において、ダミーコアを形成しないものを比較例4とした。それ以外の部分は、上記実施例4と同様とした。
[Comparative Example 4]
In Example 4 described above, no dummy core was formed as Comparative Example 4. The other parts were the same as in Example 4 above.
上記実施例1〜4および比較例1〜4の光導波路を作製した結果、比較例1〜3では、光路用コアを形成するための現像工程後に、その光路用コアが倒伏しており、比較例4では、光路用コア群の両側の光路用コアが倒伏してした。それに対し、実施例1〜4では、光路用コアの上記倒伏はなかった。このことから、実施例1〜4において形成したダミーコアが光路用コアの倒伏を防止していることがわかる。 As a result of producing the optical waveguides of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, in Comparative Examples 1 to 3, the optical path core was overlaid after the development process for forming the optical path core. In Example 4, the optical path cores on both sides of the optical path core group were lying down. On the other hand, in Examples 1-4, there was no above-mentioned lodging of the core for optical paths. From this, it can be seen that the dummy core formed in Examples 1 to 4 prevents the fall of the optical path core.
本発明の光導波路およびその製法は、光路用コアが、高さが高くなっているとともに幅が狭くなっていても、その光路用コアが倒伏しないようにする場合に利用可能である。 The optical waveguide of the present invention and the manufacturing method thereof can be used when the optical path core is prevented from falling down even if the optical path core is high in height and narrow in width.
1 アンダークラッド層
2 光路用コア
D ダミーコア
1 Under
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015134359A JP2017016017A (en) | 2015-07-03 | 2015-07-03 | Optical waveguide and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015134359A JP2017016017A (en) | 2015-07-03 | 2015-07-03 | Optical waveguide and method for manufacturing the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2017016017A true JP2017016017A (en) | 2017-01-19 |
Family
ID=57827976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015134359A Pending JP2017016017A (en) | 2015-07-03 | 2015-07-03 | Optical waveguide and method for manufacturing the same |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2017016017A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2019093460A1 (en) * | 2017-11-09 | 2020-11-19 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Optical waveguide and its manufacturing method |
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- 2015-07-03 JP JP2015134359A patent/JP2017016017A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2019093460A1 (en) * | 2017-11-09 | 2020-11-19 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Optical waveguide and its manufacturing method |
WO2023074482A1 (en) * | 2021-10-26 | 2023-05-04 | 住友ベークライト株式会社 | Optical waveguide manufacturing method |
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