JP2017012580A - Fundus imaging apparatus - Google Patents

Fundus imaging apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2017012580A
JP2017012580A JP2015134108A JP2015134108A JP2017012580A JP 2017012580 A JP2017012580 A JP 2017012580A JP 2015134108 A JP2015134108 A JP 2015134108A JP 2015134108 A JP2015134108 A JP 2015134108A JP 2017012580 A JP2017012580 A JP 2017012580A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aperture
light
fundus
scattered light
apertures
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015134108A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
山崎 裕司
Yuji Yamazaki
裕司 山崎
尚久 柴田
Naohisa Shibata
尚久 柴田
譲治 佐々木
Joji Sasaki
譲治 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nidek Co Ltd
Original Assignee
Nidek Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nidek Co Ltd filed Critical Nidek Co Ltd
Priority to JP2015134108A priority Critical patent/JP2017012580A/en
Publication of JP2017012580A publication Critical patent/JP2017012580A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To acquire a useful fundus image during a diagnosis of a fundus, using a simplified structure.SOLUTION: An imaging apparatus 1 comprises: a plurality of apertures As for scattered light spaced apart from one another relative to a first direction (X direction) on a fundus conjugate plane of a first imaging optical system 100b; and a control unit 800 for controlling the positions of the plurality of apertures As for scattered light in an integrated manner. The plurality of apertures As for scattered light include at least two apertures arranged in different positions relative to a direction (Y direction) orthogonal to the first direction. In the imaging apparatus 1, the apertures arranged on a light path (K1+K2) of the scattered light are switched between the two apertures, and also the arrangement of the two apertures on the light path of the scattered light is switched to two different positions relative to the first direction, so that the direction of the scattered light guided to a light receiving element 56 is switched to four directions different from one another.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本開示は、被検眼の眼底を撮影して眼底観察を行うための眼底撮影装置に関する。   The present disclosure relates to a fundus photographing apparatus for photographing the fundus of a subject's eye and performing fundus observation.

従来、眼底に対して2次元的にレーザ光を走査し、その反射光を受光することにより眼底像を得る眼底撮影装置が知られている。このような眼底撮影装置において、例えば、リング状開口と黒点板からなるリングアパーチャーが被検眼眼底と共役な位置に配置されることにより、観察部位における集光位置(焦点位置)からの反射光を制限し、その前後からくる散乱光を受光して画像化する手法(散乱光撮影)が知られている(特許文献1参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, a fundus photographing apparatus that obtains a fundus image by scanning laser light two-dimensionally over the fundus and receiving the reflected light is known. In such a fundus imaging apparatus, for example, a ring aperture made up of a ring-shaped opening and a black spot plate is arranged at a position conjugate with the fundus of the eye to be examined, so that reflected light from the condensing position (focal position) at the observation site can be obtained. There is a known technique (scattered light imaging) of limiting and receiving scattered light from before and after that and imaging it (see Patent Document 1).

特許文献1では、散乱光の通過領域を変更することによって、受光素子に導かれる散乱光の方向を切換える手法が記載されている。   Patent Document 1 describes a method of switching the direction of scattered light guided to a light receiving element by changing the passage region of scattered light.

特開2009−95632号公報JP 2009-95632 A

しかしながら、受光素子に導かれる散乱光の方向を、より多様化しようとすると、例えば、装置構成が複雑化しやすくなってしまう。   However, if the direction of scattered light guided to the light receiving element is to be more diversified, for example, the apparatus configuration is likely to be complicated.

本開示は、従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、眼底の診断において有用な眼底画像を、簡単な構成で得ることができる眼底撮影装置を提供することを技術課題とする。   The present disclosure has been made in view of the problems of the prior art, and an object of the present disclosure is to provide a fundus imaging apparatus that can obtain a fundus image useful in fundus diagnosis with a simple configuration.

本開示の第1態様に係る眼底撮影装置は、レーザ光を眼底の観察面に集光させるための光学部材,及び,前記眼底に対してレーザ光を2次元的に走査する走査手段,を有する照射光学系と、前記眼底にて反射した前記レーザ光の反射光を受光素子で受光することにより撮影画像を得る撮影光学系と、前記撮影光学系の眼底共役面において、前記撮影光軸と直交する第1方向に関して互いに間隔を空けて設けられた複数のアパーチャと、前記複数のアパーチャの位置を一体的に制御する制御手段と、を備え、前記複数のアパーチャは、第1アパーチャと、前記第1方向と直交する方向に関して前記第1アパーチャとは異なる位置に配置される第2アパーチャとを少なくとも含み、前記制御手段は、前記複数のアパーチャを前記第1方向に移動させて、前記観察面の集光点の前後にて散乱された散乱光の光路上に配置するアパーチャを前記第1アパーチャおよび前記第2アパーチャの間で切換え、更に、前記散乱光の光路上における前記第1アパーチャおよび前記第2アパーチャの配置を前記第1方向に関して異なる2つの位置にそれぞれ切換えることで、前記受光素子へ導かれる前記散乱光の向きを、互いに異なる4方向に切り替える。   A fundus imaging apparatus according to a first aspect of the present disclosure includes an optical member for condensing laser light on an observation surface of the fundus, and a scanning unit that two-dimensionally scans the fundus with the laser light. An irradiation optical system, a photographing optical system that obtains a photographed image by receiving reflected light of the laser beam reflected by the fundus, and a fundus conjugate plane of the photographing optical system that is orthogonal to the photographing optical axis. A plurality of apertures spaced apart from each other with respect to the first direction, and control means for integrally controlling the positions of the plurality of apertures, the plurality of apertures including the first aperture and the first aperture At least a second aperture arranged at a position different from the first aperture with respect to a direction orthogonal to one direction, and the control means moves the plurality of apertures in the first direction. The aperture arranged on the optical path of the scattered light scattered before and after the condensing point of the observation surface is switched between the first aperture and the second aperture, and the aperture on the optical path of the scattered light is further changed. By switching the arrangement of the first aperture and the second aperture to two different positions with respect to the first direction, the direction of the scattered light guided to the light receiving element is switched to four different directions.

本開示の眼底撮影装置によれば、眼底の診断において有用な眼底画像を、簡単な構成で得ることができる。   According to the fundus imaging apparatus of the present disclosure, a fundus image useful in fundus diagnosis can be obtained with a simple configuration.

本実施形態の撮影装置の光学系を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the optical system of the imaging device of this embodiment. 複数のアパーチャが設けられる眼底共役面を、それよりも被検眼側(図1のレンズ53側)から見た場合の図である。It is a figure at the time of seeing the fundus conjugate surface where a plurality of apertures are provided from the eye side to be examined (the lens 53 side in FIG. 1). 遮光ユニットを、それよりも被検眼側(図1のレンズ53側)から見た場合の図である。It is a figure at the time of seeing a light-shielding unit from the to-be-tested eye side (the lens 53 side of FIG. 1) rather than it. 図2に示した眼底共役面に対し、本実施形態において各アパーチャが置かれる位置を点線で示した図である。It is the figure which showed the position where each aperture is placed in this embodiment with the dotted line with respect to the fundus conjugate plane shown in FIG. 散乱光用アパーチャが、光軸L2と交差する各方向にシフトした場合において、光路上のアパーチャを通過する散乱光の成分(眼底の集光点に対する散乱方向)を、シフト方向毎に示した図であり、それぞれの図は、光軸方向から見た図である。FIG. 5 is a diagram showing, for each shift direction, components of scattered light passing through the aperture on the optical path (scattering direction with respect to the condensing point of the fundus) when the scattered light aperture is shifted in each direction intersecting the optical axis L2. Each figure is a figure seen from the optical axis direction. 本実施形態の撮影装置の制御系を示したブロック図である。It is the block diagram which showed the control system of the imaging device of this embodiment. 絞り設定コントローラの一例を示した図である。It is the figure which showed an example of the aperture setting controller. (a)は、0°の位置に乱光用アパーチャが配置されて得られた第1眼底画像、(b)は、180°の位置に乱光用アパーチャが配置されて得られた第1眼底画像、(c)は、(a)の画像と(b)の画像との合成画像、を、それぞれ模式的に示した図である。(A) is a first fundus image obtained by arranging an irregular light aperture at a position of 0 °, and (b) is a first fundus image obtained by arranging an irregular light aperture at a position of 180 °. Image (c) is a diagram schematically showing a composite image of the image (a) and the image (b).

以下、図面を参照して、本開示の典型的な実施形態を説明する。本実施形態に係る撮影装置1は、眼底に対して2次元的にレーザ光を走査し、その反射光を受光することにより眼底像を得る眼底撮影装置(より詳細には、走査型レーザー検眼鏡)である。特に、本実施形態では、被検眼Eの波面収差を補正した状態で被検眼Eの眼底像を撮影する波面収差補償付の装置(AO−SLO)を、撮影装置1として例示し、その説明を行う。   Hereinafter, exemplary embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. The imaging apparatus 1 according to the present embodiment scans the fundus two-dimensionally with laser light and receives the reflected light to obtain a fundus image (more specifically, a scanning laser ophthalmoscope). ). In particular, in the present embodiment, an apparatus (AO-SLO) with wavefront aberration compensation that captures a fundus image of the eye E with the wavefront aberration of the eye E corrected is illustrated as an imaging apparatus 1 and the description thereof will be given. Do.

<光学系の概略説明>
初めに、図1を参照して、撮影装置1の光学系について説明する。本実施形態の撮影装置1は、眼底撮像光学系100と、波面収差検出光学系(以下、収差検出光学系と記載する。)110と、収差補償ユニット20,30,72と、第2撮影ユニット200と、前眼部観察ユニット700と、を備える。
<Overview of optical system>
First, the optical system of the photographing apparatus 1 will be described with reference to FIG. The imaging apparatus 1 of the present embodiment includes a fundus imaging optical system 100, a wavefront aberration detection optical system (hereinafter referred to as an aberration detection optical system) 110, aberration compensation units 20, 30, and 72, and a second imaging unit. 200 and an anterior ocular segment observation unit 700.

<眼底撮像光学系>
眼底撮像光学系100は、被検眼Eにレーザー光(照明光)を投光すると共に、レーザー光の眼底による反射光を受光して被検眼Eの眼底像を撮影する。被検眼Eの眼底は、眼底撮像光学系100によって、高解像度(高分解能)・高倍率で撮影される。以下のように、眼底撮像光学系100は、例えば、共焦点光学系を用いた走査型レーザー検眼鏡の構成を有してもよい。眼底撮像光学系100は、第1照明光学系100a(照射光学系)と、第1撮影光学系100bと、を備える。また、本実施形態において、収差補償ユニット20,30,72は、被検眼Eの収差を補正するために眼底撮像光学系100に配置される。
<Fundus imaging optical system>
The fundus imaging optical system 100 projects laser light (illumination light) on the eye E and receives reflected light from the fundus of the laser light to capture a fundus image of the eye E. The fundus of the eye E is photographed by the fundus imaging optical system 100 with high resolution (high resolution) and high magnification. As described below, the fundus imaging optical system 100 may have a configuration of a scanning laser ophthalmoscope using a confocal optical system, for example. The fundus imaging optical system 100 includes a first illumination optical system 100a (irradiation optical system) and a first imaging optical system 100b. In the present embodiment, the aberration compensation units 20, 30, and 72 are arranged in the fundus imaging optical system 100 in order to correct the aberration of the eye E.

第1照明光学系100aは、レーザ光を眼底の観察面に集光させるための光学部材を有する。このような光学部材は、例えば、レンズ系であってもよいし、ミラー系であってもよいし、両者の組合せであってもよい。また、眼底に対してレーザ光を2次元的に走査する走査手段(光スキャナー)を有している。第1照明光学系100aは、被検眼Eにレーザー光を照射すると共にレーザー光を眼底上で走査することによって、眼底を2次元的に照明する。   The first illumination optical system 100a has an optical member for condensing laser light on the observation surface of the fundus. Such an optical member may be, for example, a lens system, a mirror system, or a combination of both. In addition, it has scanning means (optical scanner) for two-dimensionally scanning the fundus with the laser beam. The first illumination optical system 100a illuminates the fundus two-dimensionally by irradiating the eye E with laser light and scanning the laser light on the fundus.

第1照明光学系100aは、光源11(第1光源)から眼底に到るまでの光路において、光源11、レンズ12、偏光ビームスプリッタ(PBS)14、ビームスプリッタ(BS)71、凹面ミラー16、凹面ミラー17、平面ミラー18、収差補償ユニット72(波面補償デバイス72)、ビームスプリッタ(BS)75、凹面ミラー21、凹面ミラー22、走査部25、凹面ミラー26、凹面ミラー27、平面ミラー28、収差補償ユニット30(乱視補正部30)、レンズ32、平面ミラー33、収差補償ユニット20(視度補正部20)、平面ミラー35、凹面ミラー36、偏向部400、ダイクロイックミラー90、凹面ミラー41、平面ミラー42、平面ミラー43、および、凹面ミラー45、を有する。   The first illumination optical system 100a includes a light source 11, a lens 12, a polarization beam splitter (PBS) 14, a beam splitter (BS) 71, a concave mirror 16, in an optical path from the light source 11 (first light source) to the fundus. Concave mirror 17, flat mirror 18, aberration compensation unit 72 (wavefront compensation device 72), beam splitter (BS) 75, concave mirror 21, concave mirror 22, scanning unit 25, concave mirror 26, concave mirror 27, flat mirror 28, Aberration compensation unit 30 (astigmatism correction unit 30), lens 32, plane mirror 33, aberration compensation unit 20 (diopter correction unit 20), plane mirror 35, concave mirror 36, deflection unit 400, dichroic mirror 90, concave mirror 41, It has a plane mirror 42, a plane mirror 43, and a concave mirror 45.

光源11は、レーザー光を出射する。本実施形態において、レーザー光は、被検眼Eに視認されにくい近赤外域の波長を出射してもよい。光源11は、収束性の高い特性を持つスポット光を出射するものであればよく、例えば、SLDであってもよいし、半導体レーザー等であってもよい。   The light source 11 emits laser light. In the present embodiment, the laser light may emit a near-infrared wavelength that is difficult to be visually recognized by the eye E. The light source 11 may be any light source that emits spot light having a highly convergent characteristic. For example, the light source 11 may be an SLD or a semiconductor laser.

光源11から出射されたレーザー光は、レンズ12により平行光とされた後、PBS14、BS71、凹面ミラー16,17、平面ミラー18を介して、波面補償デバイス72に入射する。本実施形態において、レーザー光は、PBS14を通過することによって、S偏光成分のみの光束とされる。波面補償デバイス72は、入射光の波面を制御することによって、被検眼Eの高次収差を補正する。波面補償デバイス72の詳細構成については後述する。本実施形態において、レーザー光は、波面補償デバイス72からBS75に導かれた後、凹面ミラー21、凹面ミラー22にて反射され、走査部25に向かう。   The laser light emitted from the light source 11 is converted into parallel light by the lens 12 and then enters the wavefront compensation device 72 via the PBS 14, BS 71, concave mirrors 16 and 17, and the flat mirror 18. In the present embodiment, the laser light passes through the PBS 14 and becomes a light beam having only an S-polarized component. The wavefront compensation device 72 corrects higher-order aberrations of the eye E by controlling the wavefront of the incident light. The detailed configuration of the wavefront compensation device 72 will be described later. In the present embodiment, the laser beam is guided from the wavefront compensation device 72 to the BS 75, reflected by the concave mirror 21 and the concave mirror 22, and travels toward the scanning unit 25.

本実施形態において、走査部25は、レーザー光を眼底上で2次元的に走査するために偏向部400と共に使用される。走査部25は、レーザー光の主走査に使用されるレゾナントミラーである。レーザー光は、走査部25によって、眼底上でX方向に走査される。   In the present embodiment, the scanning unit 25 is used together with the deflecting unit 400 in order to scan laser light two-dimensionally on the fundus. The scanning unit 25 is a resonant mirror used for main scanning of laser light. The laser light is scanned in the X direction on the fundus by the scanning unit 25.

走査部25を経た光は、凹面ミラー26,27、平面ミラー28を介して、乱視補正部30へ入射される。   The light that has passed through the scanning unit 25 enters the astigmatism correction unit 30 through the concave mirrors 26 and 27 and the plane mirror 28.

乱視補正部30は、被検眼Eの収差における乱視成分(2次)を補正するためのユニットである。乱視補正部30としては、クロスシリンダレンズを備える構成など、様々な構成が考えられる。乱視補正部30は、被検眼Eについて測定された乱視成分を示す値に応じて、被検眼Eにおける乱視成分を補正してもよい。   The astigmatism correction unit 30 is a unit for correcting an astigmatism component (secondary) in the aberration of the eye E to be examined. As the astigmatism correction unit 30, various configurations such as a configuration including a cross cylinder lens are conceivable. The astigmatism correction unit 30 may correct the astigmatism component in the eye E according to a value indicating the astigmatism component measured for the eye E.

乱視補正部30を経たレーザー光は、その後、レンズ32、平面ミラー33を介して、視度補正部20へ入射される。   The laser light that has passed through the astigmatism correction unit 30 is then incident on the diopter correction unit 20 via the lens 32 and the plane mirror 33.

視度補正部20は、視度補正を行うためのユニットである。視度補正部20は、例えば、光学系の光路長を調節することによって、視度(つまり、被検眼Eの収差のデフォーカス成分)を補正する構成であってもよい。   The diopter correction unit 20 is a unit for performing diopter correction. For example, the diopter correction unit 20 may be configured to correct the diopter (that is, the defocus component of the aberration of the eye E) by adjusting the optical path length of the optical system.

視度補正部20から平面ミラー35へ導かれた照明光は、凹面ミラー36に反射され、偏向部400に向かう。   The illumination light guided from the diopter correction unit 20 to the plane mirror 35 is reflected by the concave mirror 36 and travels toward the deflection unit 400.

偏向部400は、光源11から出射されたレーザー光を眼底上で上下方向(Y方向)に走査する。さらに、偏向部400は、眼底におけるレーザー光の走査範囲を移動させるためにも使用される。例えば、本実施形態において、偏向部400は、レーザー光を偏向する方向が異なる2つの光スキャナ(具体例としては、XガルバノミラーおよびYガルバノミラー)を有していてもよい。   The deflecting unit 400 scans the laser light emitted from the light source 11 in the vertical direction (Y direction) on the fundus. Furthermore, the deflecting unit 400 is also used to move the scanning range of the laser light on the fundus. For example, in the present embodiment, the deflecting unit 400 may include two optical scanners (specifically, an X galvanometer mirror and a Y galvanometer mirror) having different directions of deflecting laser light.

偏向部400を経た光は、ダイクロイックミラー90、凹面ミラー41、平面ミラー42,43、および凹面ミラー45を経て、被検眼Eの瞳孔内に導かれる。このとき、レーザー光は、眼底の観察面上で集光する。眼底上では、前述したように、走査部25および偏向部400の動作によって、レーザー光が2次元的に走査される。   The light that has passed through the deflecting unit 400 is guided into the pupil of the eye E through the dichroic mirror 90, the concave mirror 41, the plane mirrors 42 and 43, and the concave mirror 45. At this time, the laser light is collected on the observation surface of the fundus. As described above, the laser beam is two-dimensionally scanned on the fundus by the operations of the scanning unit 25 and the deflecting unit 400.

また、ダイクロイックミラー90は、後述する第2撮影ユニット200からの光束を透過させ、光源11および後述する光源76からの光束を反射させる特性を持つ。なお、光源11および光源76の出射端と被検眼Eの眼底とは共役とされている。このようにして、第1照明光学系100aが形成される。   Further, the dichroic mirror 90 has a characteristic of transmitting a light beam from the second photographing unit 200 described later and reflecting a light beam from the light source 11 and a light source 76 described later. Note that the emission ends of the light sources 11 and 76 and the fundus of the eye E are conjugate. In this way, the first illumination optical system 100a is formed.

次に、第1撮影光学系100bを説明する。第1撮影光学系100bは、眼底に照射されたレーザー光の反射光を受光素子56によって受光する。撮影装置1は、第1眼底画像(細胞画像、AO−SLO画像)を、受光素子56からの信号に基づいて取得する。第1撮影光学系100bは、被検眼EからBS71までの光路を、第1照明光学系100aと共用する。また、第1撮影光学系100は、BS71の反射側光路に配置された要素、即ち、平面ミラー51、PBS52、レンズ53、遮光ユニット54、レンズ55、および、受光素子56を有している。なお、本実施形態では、受光素子56はAPD(アバランシェフォトダイオード)が用いられている。   Next, the first photographing optical system 100b will be described. The first imaging optical system 100 b receives the reflected light of the laser light irradiated on the fundus by the light receiving element 56. The imaging device 1 acquires a first fundus image (cell image, AO-SLO image) based on a signal from the light receiving element 56. The first imaging optical system 100b shares the optical path from the eye E to the BS 71 with the first illumination optical system 100a. Further, the first photographing optical system 100 includes elements arranged in the reflection side optical path of the BS 71, that is, a plane mirror 51, a PBS 52, a lens 53, a light shielding unit 54, a lens 55, and a light receiving element 56. In this embodiment, the light receiving element 56 is an APD (avalanche photodiode).

<遮光ユニットの詳細構成>
本実施形態において、遮光ユニット54は、アパーチャの位置を、眼底共役面K上において2次元的にシフトさせる。このアパーチャは、観察面の集光点からの反射光、およびその集光点の前後で散乱された散乱光の少なくともいずれかを受光素子56へ導くために利用される。
<Detailed configuration of shading unit>
In the present embodiment, the light shielding unit 54 shifts the position of the aperture two-dimensionally on the fundus conjugate plane K. This aperture is used to guide to the light receiving element 56 at least one of reflected light from the condensing point on the observation surface and scattered light scattered before and after the condensing point.

本実施形態における遮光ユニット54は、遮光部材500と、移動機構510と、を有する。遮光部材500は、第1撮影光学系100bの光路において、撮影光軸L2と直交し、且つ、眼底における観察面の集光点との共役点を含む面(つまり、眼底共役面K)に置かれる。特に、本実施形態では、第1撮影光学系100bの光路のなかでも、第1照明光学系100aとの共通光路から外れた位置に、遮光ユニット54は配置される。   The light shielding unit 54 in this embodiment includes a light shielding member 500 and a moving mechanism 510. The light blocking member 500 is placed on a plane (that is, a fundus conjugate plane K) that is orthogonal to the imaging optical axis L2 and includes a conjugate point with a condensing point of the observation plane on the fundus in the optical path of the first imaging optical system 100b. It is burned. In particular, in the present embodiment, the light shielding unit 54 is disposed at a position deviating from the common optical path with the first illumination optical system 100a in the optical path of the first imaging optical system 100b.

移動機構510は、遮光部材500を、撮影光軸L2と直交する一方向(図1の例では、X方向)に変位させる。本実施形態において、遮光部材500は、X方向(本実施形態における撮影光軸と直交する第1方向)に関して互いに間隔を空けて設けられた複数のアパーチを有している。複数のアパーチャには、少なくとも、散乱光撮影用の散乱光用アパーチャAsと、反射光撮影用の共焦点用アパーチャAcと、が含まれる。本実施形態の遮光部材500は、散乱光用アパーチャAsを複数有しており、共焦点用アパーチャAcを、1つ有している(図3参照)。   The moving mechanism 510 displaces the light shielding member 500 in one direction (X direction in the example of FIG. 1) orthogonal to the photographing optical axis L2. In the present embodiment, the light shielding member 500 has a plurality of apertures that are spaced from each other with respect to the X direction (a first direction orthogonal to the photographing optical axis in the present embodiment). The plurality of apertures include at least a scattered light aperture As for scattered light imaging and a confocal aperture Ac for reflected light imaging. The light blocking member 500 of the present embodiment has a plurality of scattered light apertures As and one confocal aperture Ac (see FIG. 3).

ここで、図2を参照して、眼底共役面Kを通過する光の光路について説明する。図2は、眼底共役面Kをレンズ53側から見た場合の図である。図2において、眼底共役面Kを通過する光の光路は、共焦点光路K1と、散乱光光路K2とに分けられる。共焦点光路K1は、観察面の集光点(集光位置)からの反射光が主に通過する光路であって、第1撮影光学系100bの光軸L2近傍に円状に形成される。散乱光光路K2は、集光点の前後から散乱された散乱光が主に通過する光路であって、第1撮影光学系の光軸L2を中心にリング状に形成される。眼底共役面Kを通過する光の光路(つまり、K1+K2)に対して、散乱光用アパーチャAsおよび共焦点用アパーチャAcのいずれか1つが、所期する位置に置かれる場合、他のアパーチャが光路外に配置されるように、遮光部材500における各アパーチャの設置間隔は設定されている。つまり、本実施形態では、眼底共役面Kに配置される1つのアパーチャを通過する光だけが受光素子56へと導かれ、それ以外の光は遮光部材500によって遮光される。   Here, an optical path of light passing through the fundus conjugate plane K will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram when the fundus conjugate surface K is viewed from the lens 53 side. In FIG. 2, the optical path of light passing through the fundus conjugate plane K is divided into a confocal optical path K1 and a scattered light optical path K2. The confocal optical path K1 is an optical path through which reflected light from a condensing point (condensing position) on the observation surface mainly passes, and is formed in a circular shape near the optical axis L2 of the first imaging optical system 100b. The scattered light path K2 is an optical path through which scattered light scattered mainly from before and after the condensing point passes, and is formed in a ring shape around the optical axis L2 of the first photographing optical system. When one of the scattered light aperture As and the confocal aperture Ac is placed at an intended position with respect to the optical path of light passing through the fundus conjugate plane K (that is, K1 + K2), the other aperture Are arranged outside the optical path, the interval between the apertures in the light shielding member 500 is set. That is, in the present embodiment, only the light passing through one aperture arranged on the fundus conjugate plane K is guided to the light receiving element 56, and the other light is blocked by the light blocking member 500.

詳細は後述するが、移動機構510によって遮光部材500の位置が適宜調整されることによって、共焦点用アパーチャAcは、共焦点光路K1上に配置される。この場合において、レーザー光の眼底反射光は、前述した第1照明光学系100aを逆に辿ると、BS71、平面ミラー51のそれぞれで反射され、PBS52にてS偏光の光だけ透過される。この透過光は、レンズ53を介して共焦点用アパーチャAcの開口(ピンホール)に焦点を結ぶ。開口で焦点を結んだ反射光は、レンズ55を経て受光素子56に受光される。なお、照明光の一部は角膜上で反射されるが、共焦点用アパーチャAcによって大部分が除去される。結果、受光素子56は、角膜反射の影響を抑えて、眼底からの反射光を受光できる。受光素子56の受光信号が画像処理部(例えば、制御部800)によって処理され、その結果として、第1眼底画像(AO−SLO画像ともいう)が生成される。ここでは、共焦点光路K1上に配置された共焦点用アパーチャAcによって、明視野像が得られる。第1眼底画像は、例えば、1°〜5°程度の画角で形成されてもよい。また、フォーカスが調整されることによって、血管を含む層、micro capillalyを含む層、視細胞層等の眼底の様々な層のいずれかに対して、眼底における集光点の共焦点領域が設定される。そして、共焦点領域が設定された層の画像が第1眼底画像として得られる。   Although details will be described later, the confocal aperture Ac is disposed on the confocal optical path K1 by appropriately adjusting the position of the light shielding member 500 by the moving mechanism 510. In this case, the fundus reflection light of the laser light is reflected by the BS 71 and the flat mirror 51 when passing back the first illumination optical system 100a described above, and only the S-polarized light is transmitted by the PBS 52. The transmitted light is focused on the opening (pinhole) of the confocal aperture Ac via the lens 53. The reflected light focused at the aperture is received by the light receiving element 56 through the lens 55. Although a part of the illumination light is reflected on the cornea, most of the illumination light is removed by the confocal aperture Ac. As a result, the light receiving element 56 can receive reflected light from the fundus while suppressing the influence of corneal reflection. A light reception signal of the light receiving element 56 is processed by an image processing unit (for example, the control unit 800), and as a result, a first fundus image (also referred to as an AO-SLO image) is generated. Here, a bright-field image is obtained by the confocal aperture Ac arranged on the confocal optical path K1. For example, the first fundus image may be formed with an angle of view of about 1 ° to 5 °. In addition, by adjusting the focus, the confocal region of the condensing point on the fundus is set for any of various layers of the fundus such as a layer containing blood vessels, a layer containing micro capillaly, and a photoreceptor layer. The Then, an image of the layer in which the confocal region is set is obtained as the first fundus image.

ここで、図3を参照して、遮光ユニット54の構成を詳細に説明する。図3は、レンズ53側から見たときの遮光ユニット54を示す。移動機構510は、遮光部材500を一方向に移動させる機構であればよく、種々の構成が考えられる。図3では、一例として、すべりねじ機構を利用する場合を示す。この場合、移動機構510は、例えば、モータ511(本実施形態の駆動部)と、ネジ軸512と、連結部513と、を含む。ネジ軸512は、モータ511の回転軸に連結されている。連結部513は、遮光部材500に固定されている。また、連結部513には、ネジ軸512に形成された雄ネジと螺合する雌ネジが形成されている。このような移動機構510では、ネジ軸512が回転することによって、遮光部材500は、連結部513と共にX方向に移動される。   Here, the configuration of the light shielding unit 54 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 3 shows the light shielding unit 54 when viewed from the lens 53 side. The moving mechanism 510 may be any mechanism that moves the light shielding member 500 in one direction, and various configurations are conceivable. FIG. 3 shows a case where a sliding screw mechanism is used as an example. In this case, the moving mechanism 510 includes, for example, a motor 511 (driving unit of the present embodiment), a screw shaft 512, and a connecting unit 513. The screw shaft 512 is connected to the rotation shaft of the motor 511. The connecting portion 513 is fixed to the light shielding member 500. In addition, the connecting portion 513 is formed with a female screw that is screwed with a male screw formed on the screw shaft 512. In such a moving mechanism 510, the light shielding member 500 is moved in the X direction together with the connecting portion 513 by rotating the screw shaft 512.

前述の通り、遮光部材500には、散乱光用アパーチャAsと、共焦点用アパーチャAcとが設けられている。共焦点用アパーチャAcは、Y方向(つまり、遮光部材500の移動方向であるX方向と、光軸L2との両方に直交する方向)に関して、光軸L2と同じ位置に形成される。本実施形態において、共焦点用アパーチャAcは、例えば、直径100μm程度の円形開口として、遮光部材500に形成されている。   As described above, the light shielding member 500 is provided with the scattered light aperture As and the confocal aperture Ac. The confocal aperture Ac is formed at the same position as the optical axis L2 in the Y direction (that is, the direction orthogonal to both the X direction as the moving direction of the light blocking member 500 and the optical axis L2). In the present embodiment, the confocal aperture Ac is formed in the light shielding member 500 as, for example, a circular opening having a diameter of about 100 μm.

また、複数の散乱光用アパーチャAsは、集光点の前後から散乱される散乱光のうち、受光素子56によって受光される散乱光の散乱方向を、様々な方向に変更するために利用される。本実施形態において、遮光部材500には、5つの散乱光用アパーチャAsが形成されている。   The plurality of scattered light apertures As are used to change the scattering direction of the scattered light received by the light receiving element 56 among the scattered light scattered from before and after the condensing point to various directions. . In the present embodiment, the light shielding member 500 is formed with five scattered light apertures As.

それぞれの散乱光用アパーチャAsは、例えば、直径500μm程度の円形開口として、それぞれ遮光部材500に形成されている。この円形開口の直径は、本実施形態における光路Kの半径と比べて小さい値となっている。散乱光用アパーチャAsを、このような直径の円形開口とすることで、受光素子56に導かれる散乱光に含まれる各光線の散乱方向のバラツキを抑制しつつ、まとまった光量の散乱光を受光素子56に受光させ易くなる。結果、良好な散乱光画像が得られやすくなる。但し、散乱光用アパーチャAsの形状は、円形以外の幾何学形状(例えば、半円形状(ナイフエッジ形状ともいう)、楕円、多角形等)であってもよい。   Each of the scattered light apertures As is formed in the light shielding member 500, for example, as a circular opening having a diameter of about 500 μm. The diameter of this circular opening is a smaller value than the radius of the optical path K in this embodiment. By setting the scattered light aperture As to be a circular opening having such a diameter, the scattered light of a collective amount of light is received while suppressing variations in the scattering direction of each light beam included in the scattered light guided to the light receiving element 56. The element 56 can easily receive light. As a result, a good scattered light image can be easily obtained. However, the shape of the scattered light aperture As may be a geometric shape other than a circle (for example, a semicircular shape (also referred to as a knife edge shape), an ellipse, a polygon, etc.).

また、各散乱光用アパーチャAsは、他のアパーチャとX方向に間隔を空けて配置されている。また、各散乱光用アパーチャAsは、Y方向に関して互いに異なる位置に形成されている。よって、本実施形態において、複数の散乱光用アパーチャAsの中には、Y方向に関して、集光点の共役点から離れた位置に形成されるアパーチャが、1つ以上含まれている。   Further, each of the scattered light apertures As is arranged with an interval in the X direction from other apertures. The scattered light apertures As are formed at different positions in the Y direction. Therefore, in the present embodiment, the plurality of scattered light apertures As include one or more apertures formed at positions away from the conjugation point of the condensing point in the Y direction.

駆動部511の駆動により遮光部材500がX方向に移動されることによって、散乱光用アパーチャAsおよび共焦点用アパーチャAcの中から1つを、眼底共役面Kを通過する光の光路(つまり、K1+K2)に対して切換えて配置できる。ここで、移動機構510には、センサ520(例えば、フォトセンサ、磁気センサ等)が設けられてる。センサ520は、遮光部材500の位置を検出する。例えば、センサ520は、所定の原点位置からの遮光部材500の変位を示す出力信号を出力するものであってもよい。第1撮影光学系100bの光路に対するアパーチャの配置を切換える場合、例えば、制御部800は、原点位置から目標位置までの変位と、センサ520からの信号が示す現在の変位と、の差分に応じた駆動量で、駆動部511を駆動させてもよい。   When the light shielding member 500 is moved in the X direction by driving the driving unit 511, one of the scattered light aperture As and the confocal aperture Ac is selected from the optical path of light passing through the fundus conjugate plane K (that is, K1 + K2) can be switched and arranged. Here, the moving mechanism 510 is provided with a sensor 520 (for example, a photo sensor, a magnetic sensor, or the like). The sensor 520 detects the position of the light shielding member 500. For example, the sensor 520 may output an output signal indicating the displacement of the light shielding member 500 from a predetermined origin position. When switching the arrangement of the aperture with respect to the optical path of the first imaging optical system 100b, for example, the control unit 800 responds to the difference between the displacement from the origin position to the target position and the current displacement indicated by the signal from the sensor 520. The drive unit 511 may be driven with a drive amount.

本実施形態では、制御部800が駆動部511を制御することで、遮光部材500のポジションが、9つのポジションに切換えられる。例えば、それぞれのポジションに関する情報(例えば、それぞれのポジションと原点位置との変位を示す情報)は、予め記憶部801に記憶されていてもよい。このとき、前述したように、このポジションに関する情報と、センサ520からの信号とに基づいて、駆動部511の駆動制御が行われてもよい。図3に示す符号Pd,P0°,P45°,P90°,P135°,P180°,P225°,P270°,P315°は、各ポジションにおける遮光部材500上の光軸L2の通過位置を示している。Pdに光軸L2が置かれる場合、共焦点用アパーチャAcは観察面における集光点との共焦点上に配置される。   In the present embodiment, the control unit 800 controls the drive unit 511 so that the position of the light shielding member 500 is switched to nine positions. For example, information regarding each position (for example, information indicating the displacement between each position and the origin position) may be stored in the storage unit 801 in advance. At this time, as described above, the drive control of the drive unit 511 may be performed based on the information regarding this position and the signal from the sensor 520. The symbols Pd, P0 °, P45 °, P90 °, P135 °, P180 °, P225 °, P270 °, and P315 ° shown in FIG. 3 indicate the passing position of the optical axis L2 on the light shielding member 500 at each position. . When the optical axis L2 is placed on Pd, the confocal aperture Ac is disposed on the confocal point with the condensing point on the observation surface.

また、P0°,P45°,P90°,P135°,P180°,P225°,P270°,P315°の各位置に光軸L2が置かれる場合、レンズ53側(つまり、被検眼側)から見て、いずれかの散乱光用アパーチャAsが、散乱光光路K2上において、光軸L2を中心とした0°,45°,90°,135°,180°,225°,270°,315°の各位置に配置される(図4参照)。本実施形態では、どの位置においても、散乱光光路K2上に配置される散乱光用アパーチャAsは、光軸L2から等距離(換言すれば、光軸L2を中心とする同一円周上)に配置されるように、制御部800は駆動部511を制御する。駆動制御の結果として、散乱光光路K2上で、散乱光用アパーチャAsが上記のどの位置に配置されても、撮影光軸方向から見た散乱光の方向以外は同様の撮影条件で、散乱光による第1眼底画像を得ることができる。散乱光光路K2上に散乱光用アパーチャAsが設定された場合、受光素子56へ導かれる散乱光の散乱箇所が強調された画像(暗視野画像)が得られる。眼底を細胞レベルで撮像するAO−SLOにおいては、このような散乱光撮影は、例えば、血管(より具体的には血管壁)、および、micro capillalyの観察、解析等において有用である。   Further, when the optical axis L2 is placed at each of the positions P0 °, P45 °, P90 °, P135 °, P180 °, P225 °, P270 °, and P315 °, it is viewed from the lens 53 side (that is, the eye side to be examined). Any one of the scattered light apertures As has 0 °, 45 °, 90 °, 135 °, 180 °, 225 °, 270 °, and 315 ° around the optical axis L2 on the scattered light optical path K2. It arrange | positions in a position (refer FIG. 4). In this embodiment, at any position, the scattered light aperture As disposed on the scattered light optical path K2 is equidistant from the optical axis L2 (in other words, on the same circumference around the optical axis L2). The control unit 800 controls the driving unit 511 so as to be arranged. As a result of the drive control, regardless of the position of the scattered light aperture As on the scattered light path K2, the scattered light has the same shooting conditions except for the direction of the scattered light viewed from the shooting optical axis direction. The first fundus image can be obtained. When the scattered light aperture As is set on the scattered light optical path K <b> 2, an image (dark field image) in which the scattered portion of the scattered light guided to the light receiving element 56 is emphasized is obtained. In AO-SLO that images the fundus at the cellular level, such scattered light imaging is useful in, for example, observation and analysis of blood vessels (more specifically, blood vessel walls) and micro capillaly.

複数の散乱光用アパーチャAsのうち、Y方向に関して光軸L2と同じ位置に形成されるアパーチャAs1は、光軸L2に対して、0°の位置と、180°の位置とに、切換えて配置される。アパーチャAs1は、P0°に光軸L2が配置される場合に、0°の位置に配置され、光軸L2の右側を通過する散乱光を受光素子56へと導く。この場合、図5(a)に示すように、眼底上の集光点前後から、0°の方向に散乱された散乱光が、アパーチャAs1を主に通過する。なお、図5では、実線で示す集光点からの矢印によって、散乱光光路K2上のアパーチャを通過する散乱光を示す。また、図5では、点線で示す矢印によって、遮光部材で遮光される散乱光を示す。アパーチャAs1は、P180°に光軸L2が配置される場合に、180°の位置に配置され、光軸L2の左側を通過する散乱光を受光素子56へと導く。この場合、図5(b)に示すように、眼底上の集光点前後から、180°の方向に散乱された散乱光が、アパーチャAs1を主に通過する。   Of the plurality of scattered light apertures As, the aperture As1 formed at the same position as the optical axis L2 with respect to the Y direction is switched to a position of 0 ° and a position of 180 ° with respect to the optical axis L2. Is done. The aperture As1 is disposed at a position of 0 ° when the optical axis L2 is disposed at P0 °, and guides scattered light passing through the right side of the optical axis L2 to the light receiving element 56. In this case, as shown in FIG. 5A, the scattered light scattered in the direction of 0 ° from the front and back of the condensing point on the fundus mainly passes through the aperture As1. In FIG. 5, the scattered light passing through the aperture on the scattered light optical path K2 is indicated by an arrow from the condensing point indicated by a solid line. Moreover, in FIG. 5, the scattered light shielded by the light shielding member is indicated by an arrow indicated by a dotted line. The aperture As1 is arranged at a position of 180 ° when the optical axis L2 is arranged at P180 °, and guides scattered light passing through the left side of the optical axis L2 to the light receiving element 56. In this case, as shown in FIG. 5B, the scattered light scattered in the direction of 180 ° from the front and back of the condensing point on the fundus mainly passes through the aperture As1.

複数の散乱光用アパーチャAsのうち、Y方向に関して光軸L2から離れた位置に形成されるアパーチャAs2は、光軸L2に対して、45°の位置と、135°の位置とに、切換えて配置される。アパーチャAs2は、P45°に光軸L2が配置される場合に、45°の位置に配置され、光軸L2の右上側を通過する散乱光を受光素子56へと導く。この場合、図5(c)に示すように、眼底上の集光点前後から、45°の方向に散乱された散乱光が、アパーチャAs2を主に通過する。また、アパーチャAs2は、P135°に光軸L2が配置される場合に、135°の位置に配置され、光軸L2の左上側を通過する散乱光を受光素子56へと導く。この場合、図5(d)に示すように、眼底上の集光点前後から、45°の方向に散乱された散乱光が、アパーチャAs2を主に通過する。このように、遮光部材54がX方向に変位されることによって、アパーチャAs2が、光軸L2に対して45°の位置と135°の位置とに、切換えて配置されることによって、受光素子56へ導かれる散乱光の向きが、X方向に関して反対向きに切り替わる。   Of the plurality of scattered light apertures As, the aperture As2 formed at a position away from the optical axis L2 in the Y direction is switched between a 45 ° position and a 135 ° position with respect to the optical axis L2. Be placed. The aperture As2 is arranged at a position of 45 ° when the optical axis L2 is arranged at P45 °, and guides scattered light passing through the upper right side of the optical axis L2 to the light receiving element 56. In this case, as shown in FIG. 5 (c), the scattered light scattered in the direction of 45 ° from around the focal point on the fundus mainly passes through the aperture As2. The aperture As2 is arranged at a position of 135 ° when the optical axis L2 is arranged at P135 °, and guides scattered light passing through the upper left side of the optical axis L2 to the light receiving element 56. In this case, as shown in FIG. 5 (d), scattered light scattered in the direction of 45 ° from around the focal point on the fundus mainly passes through the aperture As2. As described above, when the light shielding member 54 is displaced in the X direction, the aperture As2 is switched between the 45 ° position and the 135 ° position with respect to the optical axis L2, thereby the light receiving element 56. The direction of the scattered light guided to is switched to the opposite direction with respect to the X direction.

複数の散乱光用アパーチャAsのうち、アパーチャAs3は、Y方向に関してアパーチャAs2よりも更に光軸L2から離れた位置に形成されている。アパーチャAs3は、P90°に光軸L2が配置される場合に、90°の位置に配置され、光軸L2の上側を通過する散乱光を受光素子56へと導く。この場合、図5(e)に示すように、眼底上の集光点前後から、90°の方向に散乱された散乱光が、アパーチャAs3を主に通過する。   Among the plurality of scattered light apertures As, the aperture As3 is formed at a position further away from the optical axis L2 than the aperture As2 in the Y direction. The aperture As3 is arranged at a position of 90 ° when the optical axis L2 is arranged at P90 °, and guides the scattered light passing above the optical axis L2 to the light receiving element 56. In this case, as shown in FIG. 5 (e), scattered light scattered in the direction of 90 ° from around the focal point on the fundus mainly passes through the aperture As3.

複数の散乱光用アパーチャAsのうち、Y方向に関して光軸L2から離れた位置に形成されるアパーチャAs4は、光軸L2に対して、315°の位置と、225°の位置とに、切換えて配置される。アパーチャAs4は、P315°に光軸L2が配置される場合に、315°の位置に配置され、光軸L2の右下側を通過する散乱光を受光素子56へと導く。この場合、図5(f)に示すように、眼底上の集光点前後から、315°の方向に散乱された散乱光が、アパーチャAs4を主に通過する。また、アパーチャAs4は、P225°に光軸L2が配置される場合に、225°の位置に配置され、光軸L2の左下側を通過する散乱光を受光素子56へと導く。この場合、図5(g)に示すように、眼底上の集光点前後から、315°の方向に散乱された散乱光が、アパーチャAs4を主に通過する。このように、アパーチャAs4が、光軸L2に対して、315°の位置と、225°の位置とに、切換えて配置されることによって、受光素子56へ導かれる散乱光の向きが、X方向に関して反対向きに切り替わる。   Of the plurality of scattered light apertures As, the aperture As4 formed at a position away from the optical axis L2 in the Y direction is switched to a position of 315 ° and a position of 225 ° with respect to the optical axis L2. Be placed. The aperture As4 is arranged at a position of 315 ° when the optical axis L2 is arranged at P315 °, and guides the scattered light passing through the lower right side of the optical axis L2 to the light receiving element 56. In this case, as shown in FIG. 5 (f), the scattered light scattered in the direction of 315 ° from around the focal point on the fundus mainly passes through the aperture As4. The aperture As4 is arranged at a position of 225 ° when the optical axis L2 is arranged at P225 °, and guides scattered light passing through the lower left side of the optical axis L2 to the light receiving element 56. In this case, as shown in FIG. 5 (g), the scattered light scattered in the direction of 315 ° from before and after the condensing point on the fundus mainly passes through the aperture As4. As described above, the aperture As4 is switched between the position of 315 ° and the position of 225 ° with respect to the optical axis L2, so that the direction of the scattered light guided to the light receiving element 56 is changed in the X direction. Switch in the opposite direction.

複数の散乱光用アパーチャAsのうち、アパーチャAs5は、Y方向に関してアパーチャAs4よりも更に光軸L2から離れた位置に形成されている。アパーチャAs5は、P270°に光軸L2が配置される場合に、270°の位置に配置され、光軸L2の下側を通過する散乱光を受光素子56へと導く。この場合、図5(h)に示すように、眼底上の集光点前後から、270°の方向に散乱された散乱光が、アパーチャAs5を主に通過する。   Among the plurality of scattered light apertures As, the aperture As5 is formed at a position further away from the optical axis L2 than the aperture As4 in the Y direction. The aperture As5 is arranged at a position of 270 ° when the optical axis L2 is arranged at P270 °, and guides scattered light passing below the optical axis L2 to the light receiving element 56. In this case, as shown in FIG. 5 (h), the scattered light scattered in the direction of 270 ° from before and after the condensing point on the fundus mainly passes through the aperture As5.

このように、本実施形態では、遮光部材500の移動方向(X方向)と直交する方向に関して、互いに異なる位置に、2つ以上の散乱光用アパーチャAsが形成されている。遮光部材500が駆動部511によってX方向に変位されて、散乱光用アパーチャAsのうち、散乱光領域K2上に配置されるアパーチャが別のアパーチャに切換わることによって、散乱光領域K2上に配置される散乱光用アパーチャAsの位置が、Y方向に関してシフトされる。その結果、受光素子56へ導かれる散乱光の向きが、Y方向に関して変更される。特に、Y方向に関して、光軸L2を挟んで形成されるアパーチャ同士の間(つまり、As2,As3と、As4,As5と、の間)で、散乱光領域K2に配置されるアパーチャが切換ることで、受光素子56へ導かれる散乱光の向きが、Y方向に関して反対向きに切り替わる。   Thus, in this embodiment, two or more scattered light apertures As are formed at different positions with respect to the direction orthogonal to the moving direction (X direction) of the light shielding member 500. The light blocking member 500 is displaced in the X direction by the drive unit 511, and the aperture disposed on the scattered light region K2 in the scattered light aperture As is switched to another aperture, thereby being disposed on the scattered light region K2. The position of the scattered light aperture As is shifted with respect to the Y direction. As a result, the direction of the scattered light guided to the light receiving element 56 is changed with respect to the Y direction. In particular, with respect to the Y direction, the aperture arranged in the scattered light region K2 is switched between the apertures formed across the optical axis L2 (that is, between As2, As3 and As4, As5). Thus, the direction of the scattered light guided to the light receiving element 56 is switched to the opposite direction with respect to the Y direction.

また、本実施形態では、5つの散乱光用アパーチャAsのうち、As1,As2,As4については、散乱光領域K2上での位置がX方向に関して切替わることで、受光素子56へ導かれる散乱光の向きが、Y方向に関して変更される。特に、本実施形態において、アパーチャAs1,As2,As4は、それぞれ、X方向に関して光軸L2を挟む2つの位置に切換えられる。これにより、それぞれのアパーチャAs1,As2,As4の変位によって、受光素子56へ導かれる散乱光の向きは、Y方向に関して反対向きに切り替わる。よって前述したように、散乱光領域K2上でのアパーチャAs1,As2,As4の配置を、X方向に関して異なる2つの位置にそれぞれ切り替えることで、受光素子56へ導かれる散乱光の向きを、アパーチャごとに2方向ずつ、つまり、6方向の異なる向きに切り替えることができる。また、本実施形態では、更に、X方向に関して光軸L2と同じ位置に配置されるアパーチャAs3,As5を加えて、合計5つのアパーチャで、8方向の切替を実現している。このように、本実施形態では、散乱光用アパーチャAs1,As2,As4が、それぞれ異なる2方向での散乱光撮影において兼用されるので、遮光部材500に設けるアパーチャの数を抑制できる。その結果として、遮光ユニット54、および、装置全体の大型化が抑制されやすい。     In the present embodiment, among the five scattered light apertures As, As1, As2 and As4 are scattered light guided to the light receiving element 56 by switching the position on the scattered light region K2 with respect to the X direction. Is changed with respect to the Y direction. In particular, in the present embodiment, the apertures As1, As2, and As4 are respectively switched to two positions that sandwich the optical axis L2 in the X direction. Thereby, the direction of the scattered light guided to the light receiving element 56 is switched to the opposite direction with respect to the Y direction by the displacement of the respective apertures As1, As2, and As4. Therefore, as described above, the orientation of the scattered light guided to the light receiving element 56 is changed for each aperture by switching the positions of the apertures As1, As2, and As4 on the scattered light region K2 to two different positions in the X direction. Can be switched to two different directions, that is, six different directions. Further, in the present embodiment, addition of apertures As3 and As5 arranged at the same position as the optical axis L2 with respect to the X direction, switching in eight directions is realized with a total of five apertures. As described above, in the present embodiment, the scattered light apertures As1, As2, and As4 are also used in scattered light imaging in two different directions, so that the number of apertures provided in the light shielding member 500 can be suppressed. As a result, an increase in size of the light shielding unit 54 and the entire apparatus is easily suppressed.

また、散乱光領域K2上で散乱光用アパーチャAsの位置を、X方向およびY方向の各方向にシフトさせるうえで、駆動部511は、遮光部材500を1方向に移動させる機能を有していればよく、必ずしも2次元的に移動させる機能は必要とされない。故に、散乱光領域K2上でのアパーチャの2次元的なシフトを、簡単な構成で行うことができる。また、散乱光領域K2上でのアパーチャの2次元的なシフトを、より簡潔な駆動制御によって実現できる。   Further, in order to shift the position of the scattered light aperture As in the X direction and the Y direction on the scattered light region K2, the driving unit 511 has a function of moving the light shielding member 500 in one direction. The function of moving in two dimensions is not necessarily required. Therefore, a two-dimensional shift of the aperture on the scattered light region K2 can be performed with a simple configuration. Further, the two-dimensional shift of the aperture on the scattered light region K2 can be realized by simpler drive control.

<その他の光学系>
第2撮影ユニット200は、第1撮影ユニット100の画角よりも広画角の眼底画像(第2眼底画像)を取得するためのユニットである。第2眼底画像は、例えば、第1眼底画像を得るための位置指定、および位置確認用の画像として用いられる。本実施形態の第2撮影ユニット200は、被検眼Eの眼底画像を広画角(例えば20度〜60度程度)でリアルタイムに取得および観察できる構成であることが好ましい。例えば、第2撮影ユニット200として、既存の眼底カメラの観察・撮影光学系、および走査型レーザー検眼鏡(Scanning Laser Ophthalmoscope:SLO)の光学系および制御系が利用されてもよい。
<Other optical systems>
The second photographing unit 200 is a unit for obtaining a fundus image (second fundus image) having a wider angle of view than the angle of view of the first photographing unit 100. The second fundus image is used, for example, as an image for position designation and position confirmation for obtaining the first fundus image. The second imaging unit 200 of the present embodiment preferably has a configuration capable of acquiring and observing a fundus image of the eye E to be examined in real time with a wide angle of view (for example, about 20 to 60 degrees). For example, as the second imaging unit 200, an observation / imaging optical system of an existing fundus camera and an optical system and a control system of a scanning laser ophthalmoscope (SLO) may be used.

前眼部観察ユニット700は、被検眼Eの前眼部を可視光にて照明し、前眼部正面像を撮像するユニットである。前眼部観察ユニット700にて撮像された画像は、モニタ850に出力される。前眼部観察ユニット700によって取得される前眼部画像は、撮影部500と被検眼Eとのアライメントに利用される。なお、ダイクロイックミラー95は、第2撮影ユニット200からの光束を透過させ、前眼部観察ユニット700からの光束を反射させる特性を持つ。   The anterior segment observation unit 700 is a unit that illuminates the anterior segment of the eye E with visible light and captures a front image of the anterior segment. An image captured by the anterior segment observation unit 700 is output to the monitor 850. The anterior ocular segment image acquired by the anterior ocular segment observation unit 700 is used for alignment between the imaging unit 500 and the eye E to be examined. The dichroic mirror 95 has a characteristic of transmitting the light beam from the second photographing unit 200 and reflecting the light beam from the anterior ocular segment observation unit 700.

次に、収差検出光学系110について説明する。収差検出光学系110は、波面センサ73を有する。また、収差検出光学系110は、被検眼Eの眼底に測定光を投光し、測定光の眼底反射光を、指標パターン像として波面センサ73にて受光(検出)する。収差検出光学系110は、一部の光学素子を第1照明光学系100aおよび第1撮影光学系100bの光路上(本実施形態では、共通光路上)に持ち、光学系100a,100bと光路を一部共用している。つまり、本実施形態の収差検出光学系110は、光学系100a,100bの光路上に配置されたBS71から凹面ミラー45までを、光学系100a,100bと共用する。更に、収差検出光学系110は、光源76、レンズ77、PBS78、BS75、BS71、ダイクロイックミラー86、PBS85、レンズ84、平面ミラー83、レンズ82、を有する。   Next, the aberration detection optical system 110 will be described. The aberration detection optical system 110 includes a wavefront sensor 73. The aberration detection optical system 110 projects measurement light onto the fundus of the eye E, and receives (detects) the fundus reflection light of the measurement light as an index pattern image with the wavefront sensor 73. The aberration detection optical system 110 has a part of optical elements on the optical path of the first illumination optical system 100a and the first photographing optical system 100b (in the present embodiment, on the common optical path), and the optical paths of the optical systems 100a and 100b. Some are shared. That is, the aberration detection optical system 110 of the present embodiment shares the BS 71 to the concave mirror 45 arranged on the optical path of the optical systems 100a and 100b with the optical systems 100a and 100b. Further, the aberration detection optical system 110 includes a light source 76, a lens 77, PBS 78, BS 75, BS 71, a dichroic mirror 86, a PBS 85, a lens 84, a plane mirror 83, and a lens 82.

光源76は、測定光を発する。光源76からの測定光は、レンズ77,PBS78を経て、BS75によって反射される。これにより、光源76からの光は、第1照明光学系100aの光路に導かれる。そして、結果として、測定光は、第1照明光学系100aの光路を経て被検眼Eの眼底に集光される。   The light source 76 emits measurement light. Measurement light from the light source 76 is reflected by the BS 75 through the lens 77 and the PBS 78. Thereby, the light from the light source 76 is guided to the optical path of the first illumination optical system 100a. As a result, the measurement light is condensed on the fundus of the eye E through the optical path of the first illumination optical system 100a.

測定光は、眼底の集光位置(例えば、網膜表面)にて反射される。測定光の眼底反射光は、第1照明光学系100aの光路(つまり、第1撮影光学系100bの光路)を、投光時とは逆に辿る。途中、測定光は、波面補償デバイス72によって反射される。その後、測定光は、BS71によって反射されることによって、第1照明光学系100aの光路を外れる。更にその後、測定光は、ダイクロイックミラー86によって反射され、PBS85、レンズ84、平面ミラー83、レンズ82を経て、波面センサ73へと導かれる。   The measurement light is reflected at the condensing position of the fundus (for example, the retina surface). The fundus reflection light of the measurement light follows the optical path of the first illumination optical system 100a (that is, the optical path of the first photographing optical system 100b) in the opposite direction to that during projection. On the way, the measurement light is reflected by the wavefront compensation device 72. Thereafter, the measurement light is reflected by the BS 71, thereby deviating from the optical path of the first illumination optical system 100a. Thereafter, the measurement light is reflected by the dichroic mirror 86 and guided to the wavefront sensor 73 through the PBS 85, the lens 84, the plane mirror 83, and the lens 82.

波面センサ73は、被検眼Eの波面収差を検出するために、収差測定用の測定光の眼底反射光を受光する。波面センサ73としては、低次収差および高次収差を含む波面収差を検出できる素子(より詳細には、ハルトマンシャック検出器、および、光強度の変化を検出する波面曲率センサ等)等が利用されてもよい。波面センサ73によって検出される被検眼Eの収差情報は、波面補償デバイス72の制御に利用される。   The wavefront sensor 73 receives fundus reflection light of measurement light for aberration measurement in order to detect wavefront aberration of the eye E. As the wavefront sensor 73, an element that can detect wavefront aberration including low-order aberration and high-order aberration (more specifically, a Hartmann Shack detector, a wavefront curvature sensor that detects a change in light intensity, and the like) is used. May be. The aberration information of the eye E detected by the wavefront sensor 73 is used to control the wavefront compensation device 72.

波面補償デバイス72は、眼底撮像光学系100の光路中(本実施形態では、眼底撮像光学系100と収差検出光学系110との共通光路中)に配置される。本実施形態において、波面補償デバイス72の反射面は、被検眼Eの瞳と略共役となる位置に配置される。波面補償デバイス72は、入射光の波面を制御して被検眼Eの波面収差を補償する。波面補償デバイス72は、例えば、波面の位相を変調することで、波面を補償する構成でもよい。また、例えば、波面の各部分に対して光路長差を与えることで、波面を補償する構成であってもよい。また、これら両方の方法を併用する構成でもよいし、勿論、他の構成であってもよい。より具体的には、LCOS(Liquid Crystal On Silicon)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems 更に、典型的には、その1形態であるデフォーマブルミラー)等が波面補償デバイス72として使用されてもよい。   The wavefront compensation device 72 is disposed in the optical path of the fundus imaging optical system 100 (in the present embodiment, in the common optical path of the fundus imaging optical system 100 and the aberration detection optical system 110). In the present embodiment, the reflection surface of the wavefront compensation device 72 is disposed at a position substantially conjugate with the pupil of the eye E to be examined. The wavefront compensation device 72 compensates the wavefront aberration of the eye E by controlling the wavefront of the incident light. For example, the wavefront compensation device 72 may be configured to compensate the wavefront by modulating the phase of the wavefront. Further, for example, a configuration in which the wavefront is compensated by giving an optical path length difference to each part of the wavefront may be employed. Moreover, the structure which uses both these methods together may be sufficient, and of course, another structure may be sufficient. More specifically, LCOS (Liquid Crystal On Silicon), MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), and typically, a deformable mirror that is one form thereof may be used as the wavefront compensation device 72.

なお、以上の説明では、収差検出用光源として、眼底撮影用の光源11(第1光源)とは異なる波長の光を出射する光源71を用いた。しかし、眼底撮影用の光源11を、収差検出用の(つまり、測定光を発する)光源と兼用してもよい。   In the above description, the light source 71 that emits light having a wavelength different from that of the light source 11 (first light source) for fundus photographing is used as the aberration detection light source. However, the light source 11 for fundus photography may also be used as a light source for detecting aberrations (that is, emitting measurement light).

なお、以上説明した本実施形態では、波面センサ(より詳細には、そのマイクロレンズアレイ)および波面補償デバイスを被検眼Eの瞳共役としたが、被検眼Eの前眼部の所定部位と略共役な位置であればよく、例えば、角膜共役であってもよい。   In the present embodiment described above, the wavefront sensor (more specifically, its microlens array) and the wavefront compensation device are used as the pupil conjugate of the eye E. It may be a conjugate position, and may be, for example, a corneal conjugate.

<制御系の概略説明>
次に、図6を参照して、本実施形態における撮影装置1の制御系を説明する。撮影装置1は、演算制御部800(以下、制御部800と省略する)を有している。制御部800は、撮影装置1の装置全体の制御を行うプロセッサ(例えば、CPU)である。本実施形態において、制御部800には、記憶部801、操作部802、モニタ850、が電気的に接続される。また、制御部800には、光源11、走査部25、視度補正部20、乱視補正部30、受光素子56、波面補償デバイス72、波面センサ73、光源76、第2撮影ユニット200、偏向部400、駆動機構510、前眼部観察ユニット700が電気的に接続される。
<Overview of control system>
Next, with reference to FIG. 6, a control system of the photographing apparatus 1 in the present embodiment will be described. The photographing apparatus 1 includes an arithmetic control unit 800 (hereinafter abbreviated as the control unit 800). The control unit 800 is a processor (for example, a CPU) that controls the entire apparatus of the photographing apparatus 1. In the present embodiment, a storage unit 801, an operation unit 802, and a monitor 850 are electrically connected to the control unit 800. The control unit 800 includes a light source 11, a scanning unit 25, a diopter correction unit 20, an astigmatism correction unit 30, a light receiving element 56, a wavefront compensation device 72, a wavefront sensor 73, a light source 76, a second imaging unit 200, and a deflection unit. 400, the drive mechanism 510, and the anterior ocular segment observation unit 700 are electrically connected.

記憶部801は、各種の制御プログラムおよび固定データを格納する。また、記憶部801には、撮影装置1によって撮影された画像、一時データ等が記憶されてもよい。   The storage unit 801 stores various control programs and fixed data. Further, the storage unit 801 may store an image captured by the imaging device 1, temporary data, and the like.

制御部800は、操作部802から出力される操作信号に基づいて、第1撮影ユニット100等の上記の各部材を制御する。操作部802は、タッチパネルやマウスなどのポインティングデバイスであってもよいし、キーボード等であってもよい。例えば、制御部800は、モニタ850上に、絞り設定コントローラ860(図7参照)を表示させてもよい。そして、操作部802を介して、第1撮影光学系100bの光路に配置されるアパーチャを、散乱光用アパーチャAsと共焦点用アパーチャAcとの中から、検者が選択するようにしてもよい。例えば、図7に示す絞り設定コントローラ860は、散乱光用アパーチャ設定ボタン862と、共焦点用アパーチャ設定ボタン861とを有している。複数のボタンのうち、いずれか1つが選択されることによって、選択されたボタンと対応するアパーチャが、第1撮影光学系100bの光路に配置される。また、本実施形態では、絞り設定コントローラ860によって、第1撮影光学系100bの光路に配置されるアパーチャの種類、および、光軸L2に対するアパーチャの配置が、グラフィカルに示されてもよい。例えば、制御部800は、検者に選択されたボタンに、選択済みであることを示す識別情報を付して表示してもよい。   The control unit 800 controls each member described above such as the first imaging unit 100 based on the operation signal output from the operation unit 802. The operation unit 802 may be a pointing device such as a touch panel or a mouse, or a keyboard. For example, the control unit 800 may display an aperture setting controller 860 (see FIG. 7) on the monitor 850. Then, the examiner may select the aperture arranged in the optical path of the first imaging optical system 100b from the scattered light aperture As and the confocal aperture Ac via the operation unit 802. . For example, the aperture setting controller 860 shown in FIG. 7 has a scattered light aperture setting button 862 and a confocal aperture setting button 861. When any one of the plurality of buttons is selected, an aperture corresponding to the selected button is arranged in the optical path of the first imaging optical system 100b. In the present embodiment, the aperture setting controller 860 may graphically indicate the type of aperture arranged in the optical path of the first imaging optical system 100b and the arrangement of the aperture with respect to the optical axis L2. For example, the control unit 800 may display the button selected by the examiner with identification information indicating that the button has been selected.

<装置の動作>
次に、上記のような構成を備える撮影装置1について、その動作を説明する。制御部800は、光源11の点灯、および、走査部25および偏向部400による眼底の2次元的な走査を実行する。そして、制御部800は、走査の結果として受光素子56から出力される受光信号に基づいて形成される第1眼底画像を、随時モニタ850に表示させる。つまり、モニタ850には、第1眼底画像の観察画像(ライブ画像)が表示される。初期状態では、共焦点用アパーチャAcが光軸L2上に配置されていてもよい。このとき、制御部800は、波面補償制御を実行してもよい。即ち、制御部800は、光源76からの測定光の投光と波面センサ73での受光とを行って、被検眼Eの波面検出を行い、更に、波面検出結果に基づいて収差補償ユニット20,30,72を駆動させてもよい。また、撮影に際してアライメントが自動又は手動で行われる。例えば、手動アライメントでは、検者は、図示無きジョイスティック等を操作することによって、被検眼の眼底にレーザ光が照射され、所望する画像が表示されるように装置を駆動させる。本実施形態では、例えば、網膜および脈絡膜等における血管を有する層の画像が得られるように、アライメントが調整されてもよい。アライメント完了後、第1眼底画像の撮影(キャプチャー)が行われる。
<Operation of the device>
Next, the operation of the photographing apparatus 1 having the above configuration will be described. The control unit 800 performs lighting of the light source 11 and two-dimensional scanning of the fundus by the scanning unit 25 and the deflecting unit 400. Then, the control unit 800 causes the monitor 850 to display the first fundus image formed based on the light reception signal output from the light receiving element 56 as a result of scanning. That is, the monitor 850 displays an observation image (live image) of the first fundus image. In the initial state, the confocal aperture Ac may be disposed on the optical axis L2. At this time, the control unit 800 may execute wavefront compensation control. That is, the control unit 800 performs projection of measurement light from the light source 76 and reception of light by the wavefront sensor 73 to detect the wavefront of the eye E, and further, based on the wavefront detection result, the aberration compensation unit 20, 30 and 72 may be driven. In addition, alignment is performed automatically or manually when photographing. For example, in manual alignment, the examiner operates a joystick (not shown) to irradiate the fundus of the subject's eye with laser light and drive the apparatus so that a desired image is displayed. In the present embodiment, for example, the alignment may be adjusted so that an image of a layer having blood vessels in the retina and the choroid can be obtained. After the alignment is completed, the first fundus image is captured (captured).

<連続シフト撮影>
連続シフト撮影は、光路上におけるアパーチャの位置を、少なくとも2つ以上の異なる位置へと自動的に切換え、アパーチャの位置毎に第1眼底画像の撮影を実行する撮影シーケンスである。例えば、共焦点光路K1に共焦点用アパーチャAcを配置して行われる共焦点撮影と、散乱光光路K2における上述の8つの位置に散乱光用アパーチャAsを切換え配置して行われる散乱光撮影と、が連続的に実行されるものであってもよい。この場合、制御部800は、光軸L2がPd,P0°,P45°,P90°,P135°,P180°,P225°,P270°,P315°の各位置に光軸L2が順次配置されるように、遮光部材500のポジションを順次切換え、それぞれのポジションにおいて、第1眼底画像の撮影を実行してもよい。撮影の結果得られた第1眼底画像は、記憶部801に記憶される。この場合、一連の連続シフト撮影で得られた画像は、例えば、同一のフォルダに保存したり、共通の情報を画像データに付すことで、互いに対応づけるようにしてもよい。また、撮影結果は、光軸L2に対するアパーチャの位置ごとに、モニタ850上で並べて表示されてもよい。
<Continuous shift shooting>
Continuous shift imaging is an imaging sequence in which the aperture position on the optical path is automatically switched to at least two different positions, and the first fundus image is captured for each aperture position. For example, confocal imaging performed by placing the confocal aperture Ac in the confocal optical path K1, and scattered light imaging performed by switching and arranging the scattered light aperture As at the eight positions in the scattered light optical path K2. , May be executed continuously. In this case, the control unit 800 causes the optical axis L2 to be sequentially arranged at positions of Pd, P0 °, P45 °, P90 °, P135 °, P180 °, P225 °, P270 °, and P315 °. Alternatively, the positions of the light shielding member 500 may be sequentially switched, and the first fundus image may be captured at each position. The first fundus image obtained as a result of imaging is stored in the storage unit 801. In this case, the images obtained by a series of continuous shift imaging may be associated with each other, for example, by storing them in the same folder or attaching common information to the image data. Further, the photographing results may be displayed side by side on the monitor 850 for each aperture position with respect to the optical axis L2.

<血管壁強調撮影>
血管壁強調撮影は、第1眼底画像に基づいて取得される血管走行の方向に対して交差する方向へ散乱光用アパーチャAsをシフトさせる制御を行い、新たに第1眼底画像の撮影を実行する撮影シーケンスである。
<Vessel wall enhancement photography>
In the blood vessel wall-enhanced imaging, control is performed to shift the scattered light aperture As in a direction intersecting the direction of blood vessel travel acquired based on the first fundus image, and a new first fundus image is captured. This is a shooting sequence.

血管走行の方向は、例えば、制御部800が第1眼底画像に対して血管の検出処理を行い、その検出結果として取得されるものであってもよい。また、モニタ850に表示される第1眼底画像を観察した検者が操作部802を介して血管走行の方向を、装置に対して入力し、これによる入力信号として、血管走行の方向を制御部800が取得してもよい。例えば、モニタ850の第1眼底画像上で、血管壁を強調したい血管を、ポインティングデバイスでなぞったり、血管上の2点を選択することで、血管走行の方向が入力されるようにしてもよい。   The direction of blood vessel travel may be acquired, for example, by the control unit 800 performing blood vessel detection processing on the first fundus image and detecting the detection result. Further, the examiner who observed the first fundus image displayed on the monitor 850 inputs the direction of blood vessel travel to the apparatus via the operation unit 802, and the direction of blood vessel travel is controlled by the control unit as an input signal thereby. 800 may be acquired. For example, on the first fundus image of the monitor 850, the blood vessel traveling direction may be input by tracing the blood vessel whose blood vessel wall is to be emphasized with a pointing device or by selecting two points on the blood vessel. .

本実施形態では、制御部800によって取得された血管走行の方向に対し、垂直方向に近い方向に散乱された散乱光が受光素子56へ導かれるように、散乱光用アパーチャAsの位置決め制御が行われる。例えば、血管走行の方向が、斜め30°である場合、斜め30°に対して垂直に近い、光軸L2に対し135°の位置と、315°の位置とのいずれか一方に散乱光用アパーチャを配置する。また、制御部800は、散乱光用アパーチャAsの位置決め制御後に、受光素子56からの受光信号に基づく第1眼底画像の撮影(キャプチャー)を、自動的に行ってもよい。これにより、走行方向が取得された血管において、一方の側面における血管壁が強調された(例えば、血管壁の外壁と内壁とが明瞭化された)第1眼底画像が、記憶部に記憶される。更に、制御部800は、駆動部511を制御して散乱光用アパーチャAsの位置を、撮影光軸L2に対して対称な位置に移動させてもよい(例えば、135°から315°の位置に移動させる)。そして、移動後の位置において、制御部800が更に第1眼底画像をキャプチャーしてもよい。その結果、血管走行の方向が取得された血管において、他方の側面における血管壁が強調された第1眼底画像が記憶部に記憶される。このようにして、血管走行の方向が取得された血管において、血管壁が片側ずつ強調された2種類の第1眼底画像を、一連の撮影シーケンスで取得することができる。これにより、血管壁の観察および解析に適した画像を、効率良く撮影することができる。   In the present embodiment, the positioning control of the scattered light aperture As is performed so that the scattered light scattered in the direction close to the vertical direction with respect to the direction of blood vessel travel acquired by the control unit 800 is guided to the light receiving element 56. Is called. For example, when the direction of blood vessel travel is 30 ° obliquely, the scattered light aperture is located at one of the positions 135 ° and 315 ° close to the optical axis L2, which is nearly perpendicular to the oblique 30 °. Place. The control unit 800 may automatically capture (capture) the first fundus image based on the light reception signal from the light receiving element 56 after the positioning control of the scattered light aperture As. Thereby, in the blood vessel in which the traveling direction is acquired, the first fundus image in which the blood vessel wall on one side surface is emphasized (for example, the outer wall and the inner wall of the blood vessel wall are clarified) is stored in the storage unit. . Further, the control unit 800 may control the driving unit 511 to move the position of the scattered light aperture As to a position symmetrical to the imaging optical axis L2 (for example, from 135 ° to 315 °). Move). Then, the control unit 800 may further capture the first fundus image at the position after the movement. As a result, the first fundus image in which the blood vessel wall on the other side surface is emphasized is stored in the storage unit in the blood vessel for which the direction of blood vessel travel has been acquired. In this way, two types of first fundus images in which the blood vessel wall is emphasized on each side in the blood vessel from which the direction of blood vessel travel has been acquired can be acquired in a series of imaging sequences. Thereby, an image suitable for observation and analysis of the blood vessel wall can be efficiently captured.

また、制御部800は、更に、血管壁が片側ずつ強調された2種類の第1眼底画像を、合成することによって、血管壁の両側が強調された画像(本実施形態における強調画像)を生成してもよい。例えば、図8(a)に、0°の位置に乱光用アパーチャAsが配置されることによって、右側の血管壁Wrが強調された第1眼底画像を示す。また、図8(b)に、180°の位置に乱光用アパーチャAsが配置されることによって、左側の血管壁Wlが強調された第1眼底画像を示す。そして、それら2つの第1眼底画像の合成の結果として、図8(c)に示すように、左右両方の血管壁Wr,Wlが強調された合成画像が得られる。なお、合成の際、2種類の第1眼底画像は、互いに位置合わが行われたうえで、合成されてもよい。合成された画像によって、血管壁の観察および解析を、一層良好に行うことができる。   Further, the control unit 800 generates an image in which both sides of the blood vessel wall are emphasized (enhanced image in the present embodiment) by combining the two types of first fundus images in which the blood vessel wall is emphasized on each side. May be. For example, FIG. 8A shows a first fundus image in which the right-side blood vessel wall Wr is emphasized by arranging the disturbance light aperture As at a position of 0 °. FIG. 8B shows a first fundus image in which the left-side blood vessel wall Wl is emphasized by arranging the turbulent light aperture As at a position of 180 °. As a result of the synthesis of the two first fundus images, a synthesized image in which both the left and right blood vessel walls Wr and Wl are emphasized is obtained as shown in FIG. At the time of synthesis, the two types of first fundus images may be synthesized after being aligned with each other. Observation and analysis of the blood vessel wall can be performed more satisfactorily by the synthesized image.

<手動シフト撮影>
前述したように、検者は、絞り設定コントローラ860を用いて第1撮影光学系100bの光路(つまり、K1+K2)に配置されるアパーチャの位置および種別を手動で選択できる。検者は、モニタ850に表示される第1眼底画像を確認しながら、操作部802を操作することによって、光路上に配置するアパーチャを選択する。これによって、検者の選択に応じたアパーチャが光路上に配置される。そして、撮影スイッチ等を操作することによって、制御部800に第1眼底画像の撮影を実行させる。
<Manual shift shooting>
As described above, the examiner can manually select the position and type of the aperture arranged in the optical path (that is, K1 + K2) of the first imaging optical system 100b using the aperture setting controller 860. While checking the first fundus image displayed on the monitor 850, the examiner operates the operation unit 802 to select an aperture to be arranged on the optical path. Thereby, the aperture according to the selection of the examiner is arranged on the optical path. Then, by operating a photographing switch or the like, the control unit 800 causes the first fundus image to be photographed.

<変形例>
以上、実施形態に基づき説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されることなく、様々な変形が可能である。
<Modification>
As mentioned above, although demonstrated based on embodiment, this indication is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible.

例えば、上記実施形態では、各アパーチャが一つの部材(つまり、遮光部材500)に形成され、これにより、各アパーチャの位置を、制御部800が一体的に制御する。しかし、必ずしもこれに限られるものではない。例えば、各アパーチャは、それぞれ別部材として独立に形成されていてもよい。このような各アパーチャを、同一の変位量および方向で移動させる制御によって、各アパーチャの位置が一体的に制御されてもよい。   For example, in the above-described embodiment, each aperture is formed in one member (that is, the light shielding member 500), whereby the control unit 800 integrally controls the position of each aperture. However, it is not necessarily limited to this. For example, each aperture may be independently formed as a separate member. The position of each aperture may be integrally controlled by controlling such apertures to move with the same displacement amount and direction.

また、例えば、上記実施形態では、遮光部材500の移動方向と直交する方向に関して異なる位置に形成された5つの散乱光用アパーチャAsを用いて、受光素子56へ導かれる散乱光の散乱方向を、8方向の中から切り替える場合について説明した。しかし、必ずしもこれに限られるものではない。遮光部材500には、5つ未満、或いは、5つより多くの散乱光用アパーチャが形成された構成であってもよい。例えば、上記実施形態におけるアパーチャA1,As2,As4のうち、少なくとも2つだけが形成されており、制御部800が、それら2つのアパーチャを、散乱光光路K2上の2つの位置でそれぞれ変位させることにより、受光素子56へ導かれる散乱光の散乱方向を、互いに異なる4方向に切り替えるようにしてもよい。   Further, for example, in the above-described embodiment, the scattering direction of the scattered light guided to the light receiving element 56 using the five scattered light apertures As formed at different positions with respect to the direction orthogonal to the moving direction of the light shielding member 500 is expressed as follows: The case of switching from eight directions has been described. However, it is not necessarily limited to this. The light shielding member 500 may have a configuration in which less than five or more than five scattered light apertures are formed. For example, at least two of the apertures A1, As2, and As4 in the above embodiment are formed, and the control unit 800 displaces these two apertures at two positions on the scattered light optical path K2, respectively. Thus, the scattering direction of the scattered light guided to the light receiving element 56 may be switched to four different directions.

また、上記実施形態では、アパーチャA1,As2,As4を、散乱光光路K2上の2つの位置の間でそれぞれ変位させる場合について説明したが、3つ以上の位置の間でそれぞれ変位させてもよい。光軸L2に対するアパーチャの位置関係に応じて、受光素子56へ導かれる散乱光の方向が変わるので、更に、異なる方向の散乱光を、選択的に受光素子56へ導くことができる。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the case where the apertures A1, As2, and As4 were respectively displaced between two positions on the scattered light optical path K2, they may be respectively displaced between three or more positions. . Since the direction of the scattered light guided to the light receiving element 56 changes according to the positional relationship of the aperture with respect to the optical axis L2, the scattered light in a different direction can be selectively guided to the light receiving element 56.

また、上記実施形態では、共焦点用アパーチャAcが1つだけ設けられていた。その結果、共焦点用アパーチャAcの直径を変更することはできなかった。しかし、必ずしもこれに限られるものではなく、撮影装置1は、共焦点用アパーチャAcの直径を変更できる構成であってもよい。この場合、遮光部材54等に、互いに径の異なる複数の共焦点用アパーチャAcを設けてもよい。そして、遮光部材54を移動させることによって、共焦点領域K1に配置する共焦点用アパーチャAcの径を切換えてもよい。その結果、見え方の異なる明視野像が得られる。   In the above embodiment, only one confocal aperture Ac is provided. As a result, the diameter of the confocal aperture Ac could not be changed. However, the present invention is not necessarily limited to this, and the imaging apparatus 1 may be configured to change the diameter of the confocal aperture Ac. In this case, a plurality of confocal apertures Ac having different diameters may be provided on the light shielding member 54 or the like. Then, by moving the light shielding member 54, the diameter of the confocal aperture Ac arranged in the confocal region K1 may be switched. As a result, bright field images having different appearances can be obtained.

また、上記実施形態では、撮影装置1の光学系に設けられた波面センサ73を用いて被検眼Eの波面収差を測定する場合について説明した。しかし、撮影装置1は、被検眼Eの波面収差を眼底からの反射光に基づいて測定する構成を備えていればよく、必ずしも波面センサ73が設けられていなくてもよい。例えば、PhaseDiversity法を用いて、波面収差を測定する場合が考えられる。この方法は、対象の光学系(ここでは、被検眼E)に、PhaseDiversityと呼ばれる既知の波面収差を持つ測定光をわざと与え、その際に得られる画像に対し、所定の画像処理を行うことによって、対象の光学系における波面収差を推定するものである。この場合、例えば、眼底撮像光学系100に設けられた受光素子56を、波面収差検出用の検出器として利用できる。つまり、この場合、眼底撮像光学系100は、収差検出光学系110と共用できる。勿論、検出器は、受光素子56とは別体に設けられていてもよい。なお、PhaseDiversityを持つ測定光は、例えば、波面補償デバイス73を所定の状態に制御することによって、生成できる。勿論、他の手法で生成されてもよい。   In the above embodiment, the case where the wavefront aberration of the eye E is measured using the wavefront sensor 73 provided in the optical system of the imaging apparatus 1 has been described. However, the imaging apparatus 1 only needs to have a configuration for measuring the wavefront aberration of the eye E based on the reflected light from the fundus, and the wavefront sensor 73 is not necessarily provided. For example, a case where the wavefront aberration is measured using the Phase Diversity method is conceivable. In this method, measurement light having a known wavefront aberration called Phase Diversity is intentionally given to a target optical system (here, eye E), and predetermined image processing is performed on an image obtained at that time. The wavefront aberration in the target optical system is estimated. In this case, for example, the light receiving element 56 provided in the fundus imaging optical system 100 can be used as a detector for wavefront aberration detection. That is, in this case, the fundus imaging optical system 100 can be shared with the aberration detection optical system 110. Of course, the detector may be provided separately from the light receiving element 56. Note that measurement light having Phase Diversity can be generated by controlling the wavefront compensation device 73 to a predetermined state, for example. Of course, it may be generated by other methods.

また、上記実施形態では、波面補償付の装置において、散乱光撮影を行うための構成を例示したが、本開示は、必ずしも波面補償付の装置に限定されるものではない。例えば、上記の遮光ユニット54の構成、および、遮光ユニット54に対する制御部800の制御は、波面補償を持たない眼底撮影装置に対して適用されてもよい。   In the above-described embodiment, the configuration for performing scattered light imaging in the apparatus with wavefront compensation is illustrated, but the present disclosure is not necessarily limited to the apparatus with wavefront compensation. For example, the configuration of the light shielding unit 54 and the control of the control unit 800 for the light shielding unit 54 may be applied to a fundus imaging apparatus that does not have wavefront compensation.

1 撮影装置
56 受光素子
100a 第1照明光学系
100b 第1撮影光学系
As 散乱光用アパーチャ
K 眼底共役面
L1 撮影光軸
1 photographing device 56 light receiving element 100a first illumination optical system 100b first photographing optical system As scattered light aperture K fundus conjugate plane L1 photographing optical axis

Claims (10)

レーザ光を眼底の観察面に集光させるための光学部材,及び,前記眼底に対してレーザ光を2次元的に走査する走査手段,を有する照射光学系と、前記眼底にて反射した前記レーザ光の反射光を受光素子で受光することにより撮影画像を得る撮影光学系と、
前記撮影光学系の眼底共役面において、前記撮影光軸と直交する第1方向に関して互いに間隔を空けて設けられた複数のアパーチャと、
前記複数のアパーチャの位置を一体的に制御する制御手段と、を備え、
前記複数のアパーチャは、第1アパーチャと、前記第1方向と直交する方向に関して前記第1アパーチャとは異なる位置に配置される第2アパーチャとを少なくとも含み、
前記制御手段は、前記複数のアパーチャを前記第1方向に移動させて、前記観察面の集光点の前後にて散乱された散乱光の光路上に配置するアパーチャを前記第1アパーチャおよび前記第2アパーチャの間で切換え、更に、前記散乱光の光路上における前記第1アパーチャおよび前記第2アパーチャの配置を前記第1方向に関して異なる2つの位置にそれぞれ切換えることで、前記受光素子へ導かれる前記散乱光の向きを、互いに異なる4方向に切り替える眼底撮影装置。
An irradiation optical system having an optical member for condensing laser light on the observation surface of the fundus and scanning means for two-dimensionally scanning the laser light with respect to the fundus, and the laser reflected by the fundus A photographing optical system that obtains a photographed image by receiving reflected light of the light with a light receiving element;
A plurality of apertures spaced from each other with respect to a first direction orthogonal to the imaging optical axis on the fundus conjugate plane of the imaging optical system;
Control means for integrally controlling the positions of the plurality of apertures,
The plurality of apertures includes at least a first aperture and a second aperture disposed at a position different from the first aperture with respect to a direction orthogonal to the first direction;
The control means moves the plurality of apertures in the first direction, and arranges the apertures arranged on the optical path of the scattered light scattered before and after the condensing point of the observation surface. Switching between two apertures, and further switching the positions of the first aperture and the second aperture on the optical path of the scattered light to two different positions with respect to the first direction, respectively, thereby guiding the light receiving element. A fundus imaging apparatus that switches the direction of scattered light in four different directions.
前記第1アパーチャと、前記第2アパーチャとは、前記第2方向に関して前記撮影光軸を挟む位置関係に形成されており、
前記制御手段は、前記散乱光の光路上に配置されるアパーチャを前記第1アパーチャと前記第2アパーチャとの間で切換えることで、前記受光素子へ導かれる前記散乱光の向きを前記第2方向に関して反対向きに切り替え、
更に、前記散乱光の光路上における前記第1アパーチャまたは前記第2アパーチャの配置を、前記第1方向に関して前記撮影光軸を挟む2つの位置に切換えることで、前記受光素子へ導かれる前記散乱光の向きを、前記第1方向に関して反対向きに切り替える請求項1記載の眼底撮影装置。
The first aperture and the second aperture are formed in a positional relationship sandwiching the imaging optical axis with respect to the second direction,
The control means switches the aperture arranged on the optical path of the scattered light between the first aperture and the second aperture, thereby changing the direction of the scattered light guided to the light receiving element in the second direction. Switch in the opposite direction with respect to
Further, the scattered light guided to the light receiving element by switching the arrangement of the first aperture or the second aperture on the optical path of the scattered light to two positions sandwiching the imaging optical axis with respect to the first direction. The fundus imaging apparatus according to claim 1, wherein the direction is switched to an opposite direction with respect to the first direction.
前記複数のアパーチャは、前記第2方向に関して前記撮影光軸と同じ位置に形成された第3アパーチャを、更に含み、
前記制御手段は、前記第3アパーチャを、前記散乱光の光路上において互いに異なる2つの位置であって,前記第1方向に関して前記撮影光軸を挟む2つの位置に切換えることで、前記受光素子へ導かれる前記散乱光の向きを、前記4方向とは更に異なる2方向に切換える請求項2記載の眼底撮影装置。
The plurality of apertures further includes a third aperture formed at the same position as the imaging optical axis in the second direction,
The control means switches the third aperture to two positions which are different from each other on the optical path of the scattered light and sandwich the photographing optical axis with respect to the first direction. The fundus photographing apparatus according to claim 2, wherein the direction of the guided scattered light is switched to two directions further different from the four directions.
前記複数のアパーチャは、前記第2方向に関して前記撮影光軸から離れて形成される第4アパーチャと、前記第2方向に関して前記第4アパーチャと前記撮影光軸を挟んで配置される第5アパーチャと、を更に含み、
前記制御手段は、前記第4アパーチャおよび前記第5アパーチャを、前記散乱光の光路上において前記第1方向に関して前記撮影光軸と同じ位置へ配置することで、前記受光素子へ導かれる前記散乱光の向きを前記4方向とは更に異なる2方向に切換える請求項2又は3記載の眼底撮影装置。
The plurality of apertures include a fourth aperture formed away from the imaging optical axis with respect to the second direction, and a fifth aperture disposed with the imaging optical axis sandwiched between the fourth aperture with respect to the second direction. Further including
The control means arranges the fourth aperture and the fifth aperture at the same position as the imaging optical axis with respect to the first direction on the optical path of the scattered light, and thereby the scattered light guided to the light receiving element. The fundus imaging apparatus according to claim 2 or 3, wherein the direction of the eye is switched to two directions further different from the four directions.
前記複数のアパーチャは、前記光路の半径に対して小さな直径の円形開口としてそれぞれ形成されている請求項1から4のいずれかに記載の眼底撮影装置。   The fundus imaging apparatus according to claim 1, wherein the plurality of apertures are each formed as a circular opening having a small diameter with respect to a radius of the optical path. 前記制御手段は、前記複数のアパーチャのうち前記光路上に配置するアパーチャを、前記撮影光軸を中心とする円周上に配置させる請求項1から5のいずれかに記載の眼底撮影装置。   The fundus imaging apparatus according to claim 1, wherein the control unit arranges an aperture arranged on the optical path among the plurality of apertures on a circumference centered on the imaging optical axis. 前記制御手段は、
前記撮影画像に含まれる血管の走行方向に関する情報を前記撮影画像に基づいて取得し、
取得された前記走行方向と交差する方向への前記散乱光が前記受光素子に導かれるように、前記複数のアパーチャの位置決め制御を行い、前記位置決め制御後の前記受光素子からの受光信号による第2の前記撮影画像をキャプチャーする請求項1記載の眼底撮影装置。
The control means includes
Obtaining information on the running direction of blood vessels included in the captured image based on the captured image,
Positioning control of the plurality of apertures is performed so that the scattered light in the direction intersecting the acquired traveling direction is guided to the light receiving element, and a second light reception signal from the light receiving element after the positioning control is performed. The fundus imaging apparatus according to claim 1, wherein the captured image is captured.
前記第1アパーチャと、前記第2アパーチャとは、前記第2方向に関して前記撮影光軸を挟む位置関係に形成されており、
前記制御手段は、前記位置決め制御において前記第1アパーチャおよび前記第2アパーチャのうち一方が前記散乱光の光路上に配置される場合には、前記撮影画像のキャプチャー後に、他方のアパーチャを前記散乱光の光路上に配置するように第2の位置決め制御を行い、第2の位置決め制御後の前記受光素子からの受光信号による第3の撮影画像を更にキャプチャーする請求項7記載の眼底撮影装置。
The first aperture and the second aperture are formed in a positional relationship sandwiching the imaging optical axis with respect to the second direction,
In the positioning control, when one of the first aperture and the second aperture is arranged on the optical path of the scattered light in the positioning control, the control means moves the other aperture to the scattered light after the captured image is captured. The fundus imaging apparatus according to claim 7, wherein the second positioning control is performed so as to be disposed on the optical path, and a third captured image based on a light reception signal from the light receiving element after the second positioning control is further captured.
前記制御手段は、前記第2の撮影画像と前記第3の撮影画像とを合成することによって、血管壁が強調された強調画像を得る請求項8記載の眼底撮影装置。   The fundus imaging apparatus according to claim 8, wherein the control unit obtains an enhanced image in which a blood vessel wall is enhanced by synthesizing the second captured image and the third captured image. 前記撮影光学系の光路中に配置され、入射光の波面を制御して前記被検眼の波面収差を補償する波面補償デバイスと、
前記被検眼の波面収差を、前記眼底からの反射光に基づいて測定する波面収差測定手段と、
前記波面収差に基づいて前記波面補償デバイスを駆動させる波面補償デバイス制御手段と、を備え、
前記複数のアパーチャのうち前記光路上に配置されるアパーチャによって方向が制限された散乱光による細胞レベルの眼底画像を、前記撮影画像として得る請求項1から9の何れかに記載の眼底撮影装置。
A wavefront compensation device that is disposed in the optical path of the imaging optical system and that controls the wavefront of incident light to compensate the wavefront aberration of the eye to be examined;
Wavefront aberration measuring means for measuring the wavefront aberration of the eye to be examined based on reflected light from the fundus;
Wavefront compensation device control means for driving the wavefront compensation device based on the wavefront aberration, and
The fundus imaging apparatus according to any one of claims 1 to 9, wherein a fundus image at a cell level by scattered light whose direction is limited by an aperture arranged on the optical path among the plurality of apertures is obtained as the captured image.
JP2015134108A 2015-07-03 2015-07-03 Fundus imaging apparatus Pending JP2017012580A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015134108A JP2017012580A (en) 2015-07-03 2015-07-03 Fundus imaging apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015134108A JP2017012580A (en) 2015-07-03 2015-07-03 Fundus imaging apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017012580A true JP2017012580A (en) 2017-01-19

Family

ID=57827415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015134108A Pending JP2017012580A (en) 2015-07-03 2015-07-03 Fundus imaging apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017012580A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018117557A (en) * 2017-01-24 2018-08-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 Image generation device and image generation method
WO2018180730A1 (en) * 2017-03-27 2018-10-04 キヤノン株式会社 Ophthalmic imaging device and method for controlling same
JP7435961B2 (en) 2020-03-27 2024-02-21 興和株式会社 fundus imaging device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018117557A (en) * 2017-01-24 2018-08-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 Image generation device and image generation method
WO2018180730A1 (en) * 2017-03-27 2018-10-04 キヤノン株式会社 Ophthalmic imaging device and method for controlling same
JP2018161404A (en) * 2017-03-27 2018-10-18 キヤノン株式会社 Ophthalmic imaging apparatus and method of controlling the same
US11147450B2 (en) 2017-03-27 2021-10-19 Canon Kabushiki Kaisha Ophthalmic imaging apparatuses and method for the same
JP7435961B2 (en) 2020-03-27 2024-02-21 興和株式会社 fundus imaging device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5845608B2 (en) Ophthalmic imaging equipment
JP5259484B2 (en) Fundus photographing device
JP5038703B2 (en) Ophthalmic equipment
JP6039908B2 (en) IMAGING DEVICE AND IMAGING DEVICE CONTROL METHOD
US9370303B2 (en) Ophthalmologic apparatus and method for controlling the same
WO2017135015A1 (en) Ophthalmological device and ophthalmological inspection system
JP6775302B2 (en) Ophthalmologic imaging equipment
US11147450B2 (en) Ophthalmic imaging apparatuses and method for the same
JP2018068732A (en) Ophthalmologic apparatus
WO2017104162A1 (en) Ophthalmic device
JP2013063216A (en) Image processing apparatus and image processing method
US10433721B2 (en) Ophthalmic apparatus and control method for the same
JP2017213062A (en) Ophthalmologic imaging apparatus
JP2017169671A (en) Ophthalmologic imaging apparatus
JP6422629B2 (en) Fundus photographing device
JP5545984B2 (en) Fundus imaging device with wavefront compensation
JP2017012580A (en) Fundus imaging apparatus
JP2016067764A (en) Fundus photographing apparatus with wavefront compensation
JP2017148097A (en) Ophthalmology imaging device
US20170340203A1 (en) Imaging apparatus and control method for the same
JP2017169672A (en) Ophthalmologic photographing apparatus
JP6839902B2 (en) Ophthalmic microscope
JP2012223428A (en) Ophthalmic apparatus
JP6842280B2 (en) Ophthalmologic imaging equipment
JP6736304B2 (en) Ophthalmic imaging device