JP2017003411A - Processing device, processing method and production method of wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、回転体を利用した処理装置、処理方法及び配線基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a processing apparatus, a processing method, and a wiring board manufacturing method using a rotating body.
ターンテーブルやインデックステーブル等の回転テーブル(回転体)を利用した処理装置が知られている。このような処理装置は、処理対象であるワーク(例えば、電子部品や配線基板等)を保持する保持部を回転テーブルに複数設け、搬入、検査、加工、搬出といった処理を並行してできるように構成されている。つまり、複数の処理を並行して行うことができるため、ワーク処理のスループットが向上する。 2. Description of the Related Art Processing apparatuses that use a rotating table (rotating body) such as a turntable or an index table are known. Such a processing apparatus is provided with a plurality of holding units for holding a workpiece to be processed (for example, an electronic component or a wiring board) on a rotary table so that processes such as loading, inspection, processing, and unloading can be performed in parallel. It is configured. That is, since a plurality of processes can be performed in parallel, the throughput of the work process is improved.
近年では、電子部品や配線基板等のワークの微細化進んでおり、ワークの処理位置の位置合わせ(補正)が重要となっている。このため、従来から種々の補正方法が提案されている。例えば、回転テーブルに被検査基板(ワーク)を固定する保持手段を複数設け、回転テーブルを所定の角度ずつ回転駆動することにより順次、位置ズレ検出位置、検査位置及び搬出位置に搬送して、ワークの並行処理を行う処理装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 In recent years, miniaturization of workpieces such as electronic components and wiring boards has progressed, and alignment (correction) of workpiece processing positions has become important. For this reason, various correction methods have been conventionally proposed. For example, a plurality of holding means for fixing the substrate to be inspected (workpiece) are provided on the rotary table, and the rotary table is rotated and driven by a predetermined angle so that the rotary table is sequentially conveyed to the position deviation detection position, the inspection position, and the unloading position. Have been proposed (see, for example, Patent Document 1).
この補正方法では、位置ズレ検出位置において、位置ズレ検出手段により基準位置からのズレ量が検出される。そして、位置ズレ検出位置から検査位置に被検査基板が搬送されると、位置ズレ検出位置で検出される基準位置からのズレ量に基づいて検査冶具と被検査基板との相対位置が補正されて、この検査治具を介して被検査基板の配線の検査が行われる。 In this correction method, the amount of deviation from the reference position is detected by the position deviation detection means at the position deviation detection position. When the substrate to be inspected is transferred from the position deviation detection position to the inspection position, the relative position between the inspection jig and the board to be inspected is corrected based on the amount of deviation from the reference position detected at the position deviation detection position. The wiring of the board to be inspected is inspected through this inspection jig.
しかしながら、実際の処理装置では、主に組み付け精度や部品精度により生じる機械的誤差が存在するため、例えば、回転テーブルが真円を描かずに偏心して回転する。このため、特許文献1に提案されるように、検査位置の手前で位置ズレ検出を行い、位置ズレ検出位置で検出される基準位置からの位置ズレ量に基づいて検査治具と被検査基板との相対位置を補正する方法では、上記機械的誤差による位置ズレを補正することができない。上述したように、近年では、電子部品や配線基板等のワークの微細化進んでいるため、このような機械的誤差による位置ズレが問題となる。
However, in an actual processing apparatus, there is a mechanical error mainly caused by assembly accuracy and component accuracy. For example, the rotary table rotates eccentrically without drawing a perfect circle. For this reason, as proposed in
本発明は、上記の事情に対処してなされたものであり、機械的誤差に起因する位置ズレを補正できる処理装置、処理方法及び配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in response to the above-described circumstances, and an object thereof is to provide a processing apparatus, a processing method, and a wiring board manufacturing method capable of correcting a positional shift caused by a mechanical error.
上記目的を達成すべく、本発明に係る処理装置は、軸線を中心に回転する回転体と、回転体の軸線を中心とする円周上に所定の間隔で設けられ、処理対象であるワークを保持する保持部と、保持部により保持されるとともに所定の処理位置に位置するワークを処理する処理部とを備える処理装置であって、所定の処理位置におけるワークの位置である第1の位置及び所定の処理位置に位置するワークを保持する保持部の位置である第2の位置の少なくとも一方を記憶する記憶部と、第1の位置及び第2の位置の少なくとも一方の第1の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理部の位置及び保持部の位置の少なくとも一方を補正する第1の補正部と、を有することを特徴とする。 In order to achieve the above object, a processing apparatus according to the present invention includes a rotating body that rotates about an axis, and a workpiece that is provided at a predetermined interval on a circumference around the axis of the rotating body and that is a processing target. A processing apparatus comprising: a holding unit that holds; and a processing unit that processes a workpiece that is held by the holding unit and that is positioned at a predetermined processing position, wherein the first position is a position of the workpiece at the predetermined processing position; A storage unit that stores at least one of the second positions, which is a position of a holding unit that holds a workpiece positioned at a predetermined processing position, and a first reference position that is at least one of the first position and the second position. And a first correction unit that corrects at least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit based on the positional deviation amount.
本発明に係る処理装置によれば、所定の処理位置におけるワークの位置である第1の位置及び所定の処理位置に位置するワークを保持する保持部の位置である第2の位置の少なくとも一方を記憶する記憶部を備え、第1の位置及び第2の位置の少なくとも一方の第1の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理部の位置及び保持部の位置の少なくとも一方を補正しているので、処理装置の機械的誤差に起因する位置ズレを補正することができる。 According to the processing apparatus of the present invention, at least one of the first position that is the position of the workpiece at the predetermined processing position and the second position that is the position of the holding unit that holds the workpiece positioned at the predetermined processing position is determined. A storage unit for storing, and correcting at least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit based on a positional shift amount from at least one of the first position and the second position from the first reference position; Therefore, it is possible to correct the positional deviation caused by the mechanical error of the processing apparatus.
本発明に係る処理装置は、保持部及び保持部に保持されたワークの位置の少なくとも一方を検出する第1の位置検出器と、第1の位置検出器により測定された保持部の第3の位置及び保持部に保持されるワークの第4の位置の少なくとも一方の第2の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理部の位置及び保持部の位置の少なくとも一方を補正する第2の補正部と、を有することを特徴とする。 The processing apparatus according to the present invention includes a first position detector that detects at least one of the holding unit and the position of the workpiece held by the holding unit, and a third of the holding unit measured by the first position detector. A second correction unit that corrects at least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit based on the amount of positional deviation from the second reference position of at least one of the position and the fourth position of the workpiece held by the holding unit. And a correction unit.
本発明に係る処理装置によれば、保持部及び保持部に保持されたワークの位置の少なくとも一方を検出し、検出される保持部の第3の位置及び保持部に保持されるワークの第4の位置の少なくとも一方の第2の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理部の位置及び保持部の位置の少なくとも一方を補正しているので位置ズレをさらに精度よく補正することができる。また、再現性の低い位置ズレも補正することができる。 According to the processing apparatus of the present invention, at least one of the holding unit and the position of the workpiece held by the holding unit is detected, and the third position of the holding unit to be detected and the fourth of the workpiece held by the holding unit. Since at least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit is corrected based on the amount of positional deviation from at least one of the second reference positions, the positional deviation can be corrected with higher accuracy. In addition, it is possible to correct misalignment with low reproducibility.
本発明に係る処理方法は、軸線を中心に回転する回転体と、回転体の軸線を中心とする円周上に所定の間隔で設けられ、処理対象であるワークを保持する保持部と、保持部により保持されるとともに所定の処理位置に位置するワークを処理する処理部とを備える処理装置を用いた処理方法であって、所定の処理位置におけるワークの位置である第1の位置及び所定の処理位置に位置するワークを保持する保持部の位置である第2の位置の少なくとも一方の第1の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理部の位置及び保持部の位置の少なくとも一方を補正することを特徴とする。 A processing method according to the present invention includes a rotating body that rotates about an axis, a holding unit that holds a workpiece to be processed, provided at a predetermined interval on a circumference around the axis of the rotating body, and a holding A processing method using a processing apparatus that includes a processing unit that is held by a unit and that processes a workpiece positioned at a predetermined processing position, the first position being a position of the workpiece at the predetermined processing position, and a predetermined At least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit is determined based on the amount of displacement from the first reference position of at least one of the second positions, which is the position of the holding unit that holds the workpiece positioned at the processing position. It is characterized by correcting.
本発明に係る処理方法によれば、所定の処理位置におけるワークの位置である第1の位置及び所定の処理位置に位置するワークを保持する保持部の位置である第2の位置の少なくとも一方の第1の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理部の位置及び保持部の位置の少なくとも一方を補正しているので、機械的誤差に起因する位置ズレを補正することができる。 According to the processing method of the present invention, at least one of the first position that is the position of the workpiece at the predetermined processing position and the second position that is the position of the holding unit that holds the workpiece positioned at the predetermined processing position. Since at least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit is corrected based on the amount of positional deviation from the first reference position, it is possible to correct the positional deviation caused by a mechanical error.
本発明に係る配線基板の製造方法は、上記処理方法を用いることを特徴とする。 A manufacturing method of a wiring board according to the present invention is characterized by using the above processing method.
本発明に係る配線基板の製造方法によれば、機械的誤差に起因する配線基板の処理位置の位置ズレを補正することができる。このため、位置ズレに起因する不具合、例えば、電気特性検査等において、検査プローブが配線基板の端子と正常に当接しないといった不具合を抑制することができる。 According to the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, it is possible to correct the positional deviation of the processing position of the wiring board due to a mechanical error. For this reason, inconveniences caused by misalignment, for example, inconveniences such that the inspection probe does not normally come into contact with the terminals of the wiring board in electrical characteristic inspection or the like can be suppressed.
以上説明したように、本発明によれば、機械精度に起因する位置ズレを補正できる処理装置、処理方法及び配線基板の製造方法を提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a processing apparatus, a processing method, and a wiring board manufacturing method capable of correcting a positional shift caused by mechanical accuracy.
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明では、処理対象として配線基板を例に実施形態について説明するが、処理対象は、配線基板に限られない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, an embodiment will be described using a wiring board as an example of a processing target, but the processing target is not limited to a wiring board.
図1は、実施形態に係る処理装置100の平面図である。図2は、図1の処理装置100の正面図である。処理装置100は、回転テーブル110、搬入機構120、位置検出機構130、複数の処理機構140、搬出機構150、制御装置160を備える。
FIG. 1 is a plan view of a
回転テーブル110は、軸線Cを中心に回転する回転体であり、図示しないモータ等からの駆動力を受けて所定の角度(本実施形態では、45度ステップ)で時計回りに回転動作する。回転テーブル110の周縁部には、45度毎に配線基板1を保持する保持部111〜118が設けられている。保持部111〜118は、処置装置100の処理対象である配線基板1(ワーク)を保持する。なお、処理装置100が備える保持部の数は、任意であり、8つに限られない。
The rotary table 110 is a rotating body that rotates about an axis C, and rotates clockwise at a predetermined angle (45 degrees step in the present embodiment) in response to a driving force from a motor or the like (not shown). At the periphery of the
搬入機構120は、処理位置L1に設けられており、図示しない容器もしくは前工程より配線基板1を取り出し、回転テーブル110の回転により処理位置L1に順次移動してくる保持部111〜118上に取り出した配線基板1を載置する。
The carry-in
位置検出機構130は、処理位置L2に設けられており、回転テーブル110の回転により処理位置L2に順次移動してくる保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)を検出する。ここで、保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)とは、例えば、配線基板1の位置決めマークを記した位置のことである。
The
位置検出機構130は、CCD(Charge-Coupled Device)イメージセンサやCMOS(Complementary MOS)イメージセンサ等の固体撮像素子を備え、処理位置L2に位置する保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)を含む領域を撮像する。次に、位置検出機構130は、固体撮像素子で撮像された画像データから保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)を検出する。
The
具体的には、位置検出機構130は、固体撮像素子で撮像された画像データを二値化して、エッジを検出した後、パターンマッチング等の手法を用いて、保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)を認識した後、認識した第4の位置の座標(X4、Y4、θ4)を検出する。
Specifically, the
本実施形態では、位置の座標を表すのに横方向(X軸方向)、縦方向(Y軸方向)及び回転方向(θ軸方向)を用いるが、他の座標系(例えば、極座標系)を用いてもよい。また、第4の位置に位置決めマークを記す以外にも、特徴的な形状を有する領域(例えば、角部)の座標を第4の位置として、位置検出機構130で検出するようにしてもよい。
In this embodiment, the horizontal direction (X-axis direction), the vertical direction (Y-axis direction), and the rotation direction (θ-axis direction) are used to represent the coordinates of the position, but other coordinate systems (for example, polar coordinate systems) are used. It may be used. In addition to marking the positioning mark at the fourth position, the
さらに、上記説明では、エッジを検出するために、撮像した画像データを二値化しているが、エッジの検出には、他の公知の手法、例えば、ラプラシアン変換(2次微分)、テンプレートマッチング等の手法を用いるようにしてもよい。 Further, in the above description, the captured image data is binarized in order to detect the edge, but other known methods such as Laplacian transformation (secondary differentiation), template matching, and the like are used for edge detection. The method may be used.
複数の処理機構140は、それぞれ処理位置L3〜L7に設けられ、電気特性検査や外観検査等、所定の処理を行う。なお、図2には、処理機構140の例として電気特性検査用の処理機構を示した。
The plurality of
電気特性検査用の処理機構140は、配線基板1の表面に設けられた複数の接続端子とそれぞれ当接する複数の検査プローブP1を有する上冶具141と、配線基板1の裏面に設けられた複数の接続端子とそれぞれ当接する複数の検査プローブP2を有する下冶具142とを備える。また、処理機構140は、上冶具141を駆動する第1の駆動部143と、下治具142を駆動する第2の駆動部144とを備える。
A
第1の駆動部143は、上冶具141を上下方向(Z軸方向)、横方向(X軸方向)、縦方向(Y軸方向)及び回転方向(θ軸方向)に駆動する。また、第2の駆動部144は、下冶具142を上下方向(Z軸方向)、横方向(X軸方向)、縦方向(Y軸方向)及び回転方向(θ軸方向)に駆動する。
The
処理機構140は、第1の駆動部143及び第2の駆動部144により上冶具141及び下冶具142を上下方向(Z軸方向)に駆動し、検査プローブP1,P2を配線基板1に当接させて電気特性検査を行う。この際、処理機構140は、第1の駆動部143及び第2の駆動部144は、上冶具141及び下冶具142を横方向(X軸方向)、縦方向(Y軸方向)及び回転方向(θ軸方向)にそれぞれ駆動し、位置ズレを補正する。
The
搬出機構150は、処理位置L8に設けられており、回転テーブル110の回転により処理位置L8に順次移動してくる保持部111〜118上に載置されている配線基板1をピックアップして図示しない容器へ収納するか、あるいは後工程へ受け渡す。
The carry-out
制御装置160は、例えば、パーソナルコンピュータ(PC)であり、処理装置100を制御する。図3は、制御装置160の機能ブロック図である。制御装置160は、通信部161と、記憶部162と、第1の補正部163と、第2の補正部164と、制御部165とを備える。なお、図3に示す機能は、メモリに記憶されているプログラムがCPU等の演算装置に読み込まれることにより実現される。
The
通信部161は、位置検出機構130で検出される処理位置L2に位置する保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)の座標(X4、Y4、θ4)を受信する。
The
記憶部162には、処理位置L3〜L7における配線基板1を保持する保持部111〜118の位置(第2の位置)の座標(X2、Y2、θ2)と、処理位置L3〜L7における配線基板1を保持する保持部111〜118の基準位置(第1の基準位置)の座標(XR1、YR1、θR1)と、処理位置L2における保持部111〜118に保持される配線基板1の基準位置(第2の基準位置)の座標(XR2、YR2、θR2)が記憶されている。
The
さらに、記憶部162には、保持部111〜118の位置(第2の位置)の座標(X2、Y2、θ2)と第1の基準位置の座標(XR1、YR1、θR1)との位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)が記憶されている。この位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)は、後述する第1の補正部163が処理機構140による処理位置を補正する際に利用される。
Further, the
ここで、保持部111〜118の位置(第2の位置)は、各処理位置L3〜L7において、処理機構140に換えて取り付けられた位置検出機構により予め測定された各保持部111〜118の位置決めマークを記した位置のことである。保持部111〜118の位置(第2の位置)は、処理位置L3〜L7ごとに保持部111〜118の数だけある。すなわち、記憶部162には、保持部111〜118の位置(第2の位置)の座標(X2、Y2、θ2)は、全部で40個記憶されている。
Here, the positions of the holding units 111 to 118 (second positions) are the positions of the holding units 111 to 118 measured in advance by the position detection mechanism attached in place of the
近年では、工場の生産性効率化のため高スループットだけでなく、フットプリント(設置面積)の狭い処理装置が求められている。このため、各処理位置L3〜L7には、処理機構140以外の機構を設けるスペースが確保することが難しく、保持部111〜118の位置(第2の位置)を検出する位置検出装置を処理機構140とは別に各処理位置L3〜L7に設けることはできない。
In recent years, in order to improve the productivity of factories, not only high throughput but also a processing apparatus with a small footprint (installation area) has been demanded. For this reason, it is difficult to secure a space for providing a mechanism other than the
このため、本実施形態では、各処理位置L3〜L7において、処理機構140に換えて位置検出機構を取り付けて各保持部111〜118の位置(第2の位置)の座標を予め測定することにより課題である機械的誤差を補正するようにしている。なお、この方法で補正できるのは、再現性の高い位置ズレである。
For this reason, in the present embodiment, in each of the processing positions L3 to L7, a position detection mechanism is attached instead of the
第1の基準位置は、各処理位置L3〜L7における各保持部111〜118の基準となる位置(機械的原点)のことである。第1の基準位置は、処理位置L3〜L7ごとに保持部111〜118の数だけある。すなわち、記憶部162には、第1の基準位置の座標(XR1、YR1、θR1)が全部で40個記憶されている。
The first reference position is a position (mechanical origin) that serves as a reference for the holding units 111 to 118 at the processing positions L3 to L7. There are as many first reference positions as the holding units 111 to 118 for each of the processing positions L3 to L7. That is, the
第2の基準位置は、処理位置L2における各保持部111〜118に保持される配線基板1の基準となる位置(機械的原点)のことである。第2の基準位置は、保持部111〜118の数だけある。すなわち、記憶部162には、第2の基準位置の座標(XR2、YR2、θR2)は、全部で8個記憶されている。
The second reference position is a position (mechanical origin) serving as a reference for the
第1の補正部163は、記憶部162に記憶されている保持部111〜118の位置(第2の位置)と第1の基準位置との位置ズレ量に基づいて処理機構140による処理位置を補正する。具体的には、第1の補正部163は、処理位置L3〜L7と保持部111〜118との組み合わせを確認し、記憶部162を参照して対応する組み合わせの位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)を取得する。
The
次に、第1の補正部163は、取得した位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)分だけ、処理機構140の位置をずらすように制御部165に指示する。例えば、処理位置L3に保持部111が位置する場合、第1の補正部163は、記憶部162に記憶されている位置ズレ量の組み合わせから処理位置L3、保持部111の組み合わせの位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)を取得して、該位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)分だけ処理機構140の位置をずらすように制御部165に指示する。
Next, the
また、第2の補正部164は、処理位置L2に設けられた位置検出機構130により検出される保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)と、記憶部162に記憶されている第2の基準位置との位置ズレ量に基づいて処理機構140の位置を補正する。具体的には、第2の補正部164は、処理位置L2に設けられた位置検出機構130により検出される保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)の座標(X4、Y4、θ4)と記憶部162に記憶されている第2の基準位置の座標(XR2、YR2、θR2)との位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)を保持部111〜118毎に算出し、算出した位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)分だけ、処理機構140の位置をずらすように制御部165に指示する。この補正により、再現性の低い位置ズレについても補正することができるため、位置ズレをさらに精度よく補正することができる。
Further, the
ここで、位置検出機構130は、回転テーブル110が45度ステップで回転する度に、保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)を検出する。このため、位置検出機構130で検出される各保持部111〜118に保持される配線基板1の位置(第4の位置)の座標(X4、Y4、θ4)は、回転テーブル110が一回転(360度)するたびに更新される。
Here, the
制御部165は、処理装置100全体の動作を制御する。また、制御部165は、第1の補正部163及び第2の補正部164からの指示に基づいて、処理位置L3〜L7に設けられた処理機構140の位置を補正する。
The
ここで、処理機構140の位置を補正するとは、例えば、処理機構140が電気特性検査用である場合、駆動部143及び駆動部144により上冶具141及び下冶具142の横方向(X軸方向)方向、縦方向(Y軸方向)方向及び回転方向(θ軸方向)方向の位置ズレを補正することをいう。
Here, the correction of the position of the
(配線基板の製造方法)
図4は、実施形態に係る処理装置100の動作を示すフローチャート図である。以下、図1〜図4を参照して、処理装置100による配線基板1の製造方法について説明する。ここで、処理装置100の動作は、制御部165からの指示により制御される。なお、以下では、処理位置L1に保持部111が位置した状態からの処理装置100の動作について説明を行う。
(Method for manufacturing a wiring board)
FIG. 4 is a flowchart illustrating the operation of the
初めに、搬入機構120は、図示しない容器もしくは前工程より配線基板1を取り出し、処理位置L1に位置する保持部111上に取り出した配線基板1を載置する(ステップS101)。次に、回転テーブル110が図示しないモータ等からの駆動力を受けて45度回転する(ステップS102)。
First, the carry-in
次に、位置検出機構130は、処理位置L2に位置する保持部111の所定位置を含む領域を撮像し、固体撮像素子で撮像された画像データから保持部111の所定位置を検出する(ステップS103)。また、処理位置L1では、搬入機構120により保持部112上に配線基板1が載置される。次に、回転テーブル110が図示しないモータ等からの駆動力を受けて45度回転する(ステップS104)。
Next, the
次に、第1の補正部163は、記憶部162に記憶されている処理位置L3における保持部111の位置(第2の位置)と第1の基準位置との位置ズレ量に基づいて、処理位置L3における処理機構140の位置を補正する(ステップS105)。
Next, the
次に、第2の補正部164は、ステップS103で位置検出機構130により検出される保持部111に保持される配線基板1の位置(第4の位置)と、記憶部162に記憶されている第2の基準位置との位置ズレ量に基づいて、処理位置L3における処理機構140の位置を補正する(ステップS106)。
Next, the
制御部165は、第1の補正部163及び第2の補正部164から指示に基づいて、処理位置L3に設けられた処理機構140の位置を補正した後、処理機構140による処理が実行される(ステップS107)。また、処理位置L1では、搬入機構120により保持部113上に配線基板1が載置される。また、処理位置L2では、位置検出機構130により処理位置L2に位置する保持部112に保持される配線基板1の位置(第4の位置)が検出される。
Based on instructions from the
その後も回転テーブル110が回転する毎に、処理位置L1では、搬入機構120により保持部114〜117上に配線基板1が載置され、処理位置L2では、位置検出機構130により処理位置L2に位置する保持部114〜116に保持される配線基板1の位置(第4の位置)が検出され、処理位置L3〜処理位置L7では、処理機構140の位置が補正された後、配線基板1の処理が行われる。
Thereafter, each time the
そして、保持部111が処理位置L8に到達すると、搬出機構150は、保持部111上に載置されている配線基板1をピックアップして図示しない容器へ収納するか、あるいは後工程へ受け渡す(ステップS108)。
When the holding unit 111 reaches the processing position L8, the carry-out
制御部165は、処理対象である全ての配線基板1の処理が終了したかを確認し(ステップS109)、終了していない場合(ステップS109のNo)、ステップS101〜S108の動作を継続し、終了している場合(ステップS109のYes)、動作を終了する。
The
なお、上記説明では、第1の補正部163は、保持部111〜118の所定位置(第2の位置)と第1の基準位置との位置ズレ量に基づいて処理位置を補正しているが、保持部111〜118に保持される配線基板1(ワーク)の所定位置(第1の位置)と第1の基準位置との位置ズレ量に基づいて処理位置を補正するようにしてもよい。また、保持部111〜118の所定位置(第2の位置)と第1の基準位置との位置ズレ量及び保持部111〜118に保持される配線基板1(ワーク)の所定位置(第1の位置)と第1の基準位置との位置ズレ量の両方に基づいて処理位置を補正するようにしてもよい。
In the above description, the
また、第2の補正部154は、保持部111〜118に保持される配線基板1の所定位置(第4の位置)と第2の基準位置との位置ズレ量に基づいて処理位置を補正しているが、保持部111〜118の所定位置(第3の位置)と第2の基準位置との位置ズレ量に基づいて処理位置を補正するようにしてもよい。また、保持部111〜118の所定位置(第3の位置)と第2の基準位置との位置ズレ量及び保持部111〜118に保持される配線基板1(ワーク)の所定位置(第4の位置)と第2の基準位置との位置ズレ量の両方に基づいて処理位置を補正するようにしてもよい。
Further, the second correction unit 154 corrects the processing position based on the amount of positional deviation between the predetermined position (fourth position) of the
また、上記実施形態では、処理機構140の位置を補正しているが、保持部111〜118の位置を補正するように構成してもよい。また、処理機構140の位置及び保持部111〜118の位置の両方を補正するように構成してもよい。また、記憶部162に、保持部111〜118の位置(第2の位置)の座標(X2、Y2、θ2)と第1の基準位置の座標(XR1、YR1、θR1)との位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)を記憶せずに、上記位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)を第1の補正部163で算出するようにしてもよい。
In the above embodiment, the position of the
また、記憶部162には、処理位置L3〜L7における配線基板1を保持する保持部111〜118の位置(第2の位置)の座標(X2、Y2、θ2)及び処理位置L3〜L7における配線基板1を保持する保持部111〜118の基準位置(第1の基準位置)の座標(XR1、YR1、θR1)を記憶せずに、保持部111〜118の位置(第2の位置)の座標(X2、Y2、θ2)と第1の基準位置の座標(XR1、YR1、θR1)との位置ズレ量(ΔX1、ΔY1、Δθ1)及び処理位置L2における保持部111〜118に保持される配線基板1の基準位置(第2の基準位置)の座標(XR2、YR2、θR2)のみを記憶するようにしてもよい。
In the
さらに、すべての処理位置L3〜L7に処理装置140を設ける必要はない。また、配線基板1の保持部111〜118への載置及び保持部111〜118からのピックアップを同一の処理位置(例えば、処理位置L1)で行うようにしてもよい。
Furthermore, it is not necessary to provide the
以上のように、本実施形態に係る処理装置100は、軸線Cを中心に回転する回転テーブル110と、回転テーブル110の軸線Cを中心とする円周上に所定の間隔で設けられ、処理対象である配線基板1を保持する保持部111〜118と、保持部111〜118により保持されるとともに所定の処理位置L3〜L7に位置する配線基板1を処理する処理機構140とを備える処理装置であって、所定の処理位置L3〜L7における配線基板1の位置である第1の位置及び所定の処理位置L3〜L7に位置する配線基板1を保持する保持部111〜118の位置である第2の位置の少なくとも一方を記憶する記憶部162と、第1の位置及び第2の位置の少なくとも一方の第1の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理機構140の位置及び保持部111〜118の位置の少なくとも一方を補正する第1の補正部163と、を有している。このため、処理装置100の機械的誤差に起因する位置ズレを精度よく補正することができる。
As described above, the
また、本実施形態に係る処理装置100は、保持部111〜118及び保持部111〜118に保持された配線基板1の位置の少なくとも一方を検出する第1の位置検出機構130と、第1の位置検出機構130により測定された保持部111〜118の第3の位置及び保持部111〜118に保持される配線基板1の第4の位置の少なくとも一方の第2の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理機構140の位置及び保持部111〜118の位置の少なくとも一方を補正する第2の補正部164とを有している。このため、位置ズレをさらに精度よく補正することができる。また、再現性の低い位置ズレも補正することができる。
Further, the
また、本実施形態に係る処理方法は、軸線Cを中心に回転する回転テーブル110と、回転テーブル110の軸線Cを中心とする円周上に所定の間隔で設けられ、処理対象である配線基板1を保持する保持部111〜118と、保持部111〜118により保持されるとともに所定の処理位置に位置する配線基板1を処理する処理機構140とを備える処理装置100を用いた処理方法であって、所定の処理位置L3〜L7における配線基板1の位置である第1の位置及び所定の処理位置L3〜L7に位置する配線基板1を保持する保持部111〜118の位置である第2の位置の少なくとも一方の第1の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、処理機構の位置及び保持部111〜118の位置の少なくとも一方を補正する。
In addition, the processing method according to the present embodiment includes a rotating table 110 that rotates about the axis C, and a wiring board that is provided at predetermined intervals on a circumference centered on the axis C of the rotating table 110 and is a processing target. 1 is a processing method using a
このため、機械的誤差に起因する位置ズレを補正することができる。この結果、位置ズレに起因する不具合、例えば、電気特性検査等において、検査プローブP1,P2が配線基板1の端子と正常に当接しないといった不具合を抑制することができる。
For this reason, it is possible to correct a positional shift caused by a mechanical error. As a result, it is possible to suppress problems caused by misalignment, for example, problems such that the inspection probes P1 and P2 do not normally come into contact with the terminals of the
(他の実施形態)
なお、上記実施形態は、本発明の一例であり、発明の範囲を限定することを意図するものではない。上記実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を変更しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。
(Other embodiments)
In addition, the said embodiment is an example of this invention and does not intend limiting the range of invention. The above embodiment can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention.
100…処理装置
110…回転テーブル
111〜118…保持部
120…搬入機構
130…位置検出機構
140…処理機構
150…搬出機構
160…制御装置
161…通信部
162…記憶部
163…第1の補正部
164…第2の補正部
165…制御部
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記所定の処理位置における前記ワークの位置である第1の位置及び前記所定の処理位置に位置する前記ワークを保持する前記保持部の位置である第2の位置の少なくとも一方を記憶する記憶部と、
前記第1の位置及び前記第2の位置の少なくとも一方の第1の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、前記処理部の位置及び前記保持部の位置の少なくとも一方を補正する第1の補正部と、
を有することを特徴とする処理装置。 A rotating body that rotates about an axis, a holding unit that holds a workpiece that is a processing target, is provided on a circumference around the axis of the rotating body, and is held by the holding unit And a processing unit that processes the workpiece located at a predetermined processing position,
A storage unit that stores at least one of a first position that is the position of the workpiece at the predetermined processing position and a second position that is a position of the holding unit that holds the workpiece positioned at the predetermined processing position; ,
A first correction that corrects at least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit based on a positional deviation amount from a first reference position of at least one of the first position and the second position. And
A processing apparatus comprising:
を有することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。 A first position detector for detecting at least one of the holding portion and the position of the workpiece held by the holding portion; a third position of the holding portion measured by the first position detector; A second correction unit that corrects at least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit based on a positional shift amount from at least one second reference position of at least one of the fourth positions of the workpiece held by the holding unit; The correction part of
The processing apparatus according to claim 1, further comprising:
前記所定の処理位置における前記ワークの位置である第1の位置及び前記所定の処理位置に位置する前記ワークを保持する前記保持部の位置である第2の位置の少なくとも一方の第1の基準位置からの位置ズレ量に基づいて、前記処理部の位置及び前記保持部の位置の少なくとも一方を補正することを特徴とする処理方法。 A rotating body that rotates about an axis, a holding unit that holds a workpiece that is a processing target, is provided on a circumference around the axis of the rotating body, and is held by the holding unit And a processing method using a processing apparatus including a processing unit that processes the workpiece located at a predetermined processing position,
The first reference position of at least one of the first position that is the position of the workpiece at the predetermined processing position and the second position that is the position of the holding unit that holds the work positioned at the predetermined processing position. A processing method comprising: correcting at least one of the position of the processing unit and the position of the holding unit based on a positional deviation amount from the position.
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