JP2016532947A - 構図変更方法、構図変更装置、端末、プログラム及び記録媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
オリジナル画像の顕著性モデルを構築するステップと、
上記顕著性モデルに基づいて、上記オリジナル画像における各画素点の顕著性値を計算するステップと、
各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度、及び目標画像の目標解像度に基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うステップと、を含む。
上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、各画素点の初期シフトベクトルを計算するステップと、
各画素点について、上記画素点の顕著性値及び上記画素点の初期シフトベクトルに基づいて、上記画素点の最終シフトベクトルを計算するステップと、
各最終シフトベクトルに基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うステップと、を含む。
上記画素点の顕著性値に基づいて、上記顕著性値と負の相関関係を有する上記画素点の歪み係数を計算するステップと、
上記歪み係数を上記初期シフトベクトルに掛けて、上記最終シフトベクトルを取得するステップと、を含む。
上記オリジナル解像度に基づいて、オリジナル画像領域を特定し、上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、目標画像領域を特定するステップと、
上記オリジナル画像領域において、所定数の第1の特徴点を選択し、上記目標画像領域において、上記第1の特徴点に対応する所定数の第2の特徴点を選択するステップと、
各第1の特徴点と対応する第2の特徴点との間の参照シフトベクトルを計算するステップと、
各画素点について、n(n≧3)個の第1の特徴点により囲まれる閉鎖領域に位置する上記画素点と上記n個の第1の特徴点との間の相対的位置を計算し、上記相対的位置及び上記n個の第1の特徴点に対応するn個の参照シフトベクトルに基づいて、上記画素点の初期シフトベクトルを計算するステップと、を含む。
オリジナル画像の顕著性モデルを構築するためのモデル構築モジュールと、
上記モデル構築モジュールにより構築された上記顕著性モデルに基づいて、上記オリジナル画像における各画素点の顕著性値を計算するための数値計算モジュールと、
上記数値計算モジュールにより算出された各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度、及び目標画像の目標解像度に基づいて、目標画像に対して構図変更を行うための画像リターゲティングモジュールと、を含む。
上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、各画素点の初期シフトベクトルを計算するための第1の計算ユニットと、
各画素点について、上記画素点の顕著性値及び上記第1の計算ユニットにより算出された上記画素点の初期シフトベクトルに基づいて、上記画素点の最終シフトベクトルを計算するための第2の計算ユニットと、
上記第2の計算ユニットにより算出された各最終シフトベクトルに基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うための画像リターゲティングユニットと、を含む。
上記画素点の顕著性値に基づいて、上記顕著性値と負の相関関係を有する上記画素点の歪み係数を計算するための第1の計算サブユニットと、
上記第1の計算サブユニットにより算出された上記歪み係数を上記初期シフトベクトルに掛けて、上記最終シフトベクトルを取得するための第2の計算サブユニットと、を含む。
上記オリジナル解像度に基づいて、オリジナル画像領域を特定し、上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、目標画像領域を特定するための領域特定サブユニットと、
上記領域特定サブユニットにより特定された上記オリジナル画像領域において、所定数の第1の特徴点を選択し、上記領域特定サブユニットにより特定された上記目標画像領域において、上記第1の特徴点に対応する所定数の第2の特徴点を選択するための特徴点選択サブユニットと、
上記特徴点選択サブユニットにより選択された各第1の特徴点と対応する第2の特徴点との間の参照シフトベクトルを計算するための第3の計算サブユニットと、
各画素点について、n(n≧3)個の第1の特徴点により囲まれる閉鎖領域に位置する上記画素点と上記n個の第1の特徴点との間の相対的位置を計算し、上記相対的位置及び上記第3の計算サブユニットにより算出された上記n個の第1の特徴点に対応するn個の参照シフトベクトルに基づいて、上記画素点の初期シフトベクトルを計算するための第4計算サブユニットと、を含む。
プロセッサと、
プロセッサが実行可能な指令を記憶するためのメモリとを含み、
上記プロセッサは、
オリジナル画像の顕著性モデルを構築し、
上記顕著性モデルに基づいて、上記オリジナル画像における各画素点の顕著性値を計算し、
各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度及び目標画像の目標解像度に基づいて上記目標画像に対して構図変更を行うように配置される。
上記プロセッサは、
オリジナル画像の顕著性モデルを構築し、
上記顕著性モデルに基づいて、上記オリジナル画像における各画素点の顕著性値を計算し、
各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度、及び目標画像の目標解像度に基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うように配置される。
プロセッサと、
プロセッサが実行可能な指令を記憶するためのメモリとを含み、
上記プロセッサは、
オリジナル画像の顕著性モデルを構築し、
上記顕著性モデルに基づいて、上記オリジナル画像における各画素点の顕著性値を計算し、
各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度及び目標画像の目標解像度に基づいて上記目標画像に対して構図変更を行うように配置される。
本開示実施例の第4の方面によると、プロセッサに実行されることにより、上記構図変更方法を実現するプログラムを提供する。
本開示実施例の第5の方面によると、上記プログラムを記録した記録媒体を提供する。
Claims (11)
- オリジナル画像の顕著性モデルを構築するステップと、
上記顕著性モデルに基づいて、上記オリジナル画像における各画素点の顕著性値を計算するステップと、
各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度、及び目標画像の目標解像度に基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うステップと、を含む
ことを含むことを特徴とする構図変更方法。 - 上記各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度、及び目標画像の目標解像度に基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うステップは、
上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、各画素点の初期シフトベクトルを計算するステップと、
各画素点について、上記画素点の顕著性値及び上記画素点の初期シフトベクトルに基づいて、上記画素点の最終シフトベクトルを計算するステップと、
各最終シフトベクトルに基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うステップと、を含む
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 上記画素点の顕著性値及び上記画素点の初期シフトベクトルに基づいて、上記画素点の最終シフトベクトルを計算するステップは、
上記画素点の顕著性値に基づいて、上記顕著性値と負の相関関係を有する上記画素点の歪み係数を計算するステップと、
上記歪み係数を上記初期シフトベクトルに掛けて、上記最終シフトベクトルを取得するステップと、を含む
ことを特徴とする請求項2に記載の方法。 - 上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、各画素点の初期シフトベクトルを計算するステップは、
上記オリジナル解像度に基づいて、オリジナル画像領域を特定し、上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、目標画像領域を特定するステップと、
上記オリジナル画像領域において、所定数の第1の特徴点を選択し、上記目標画像領域において、上記第1の特徴点に対応する所定数の第2の特徴点を選択するステップと、
各第1の特徴点と対応する第2の特徴点との間の参照シフトベクトルを計算するステップと、
各画素点について、n(n≧3)個の第1の特徴点により囲まれる閉鎖領域に位置する上記画素点と上記n個の第1の特徴点との間の相対的位置を計算し、上記相対的位置及び上記n個の第1の特徴点に対応するn個の参照シフトベクトルに基づいて、上記画素点の初期シフトベクトルを計算するステップと、を含む
ことを特徴とする請求項2〜4の何れか1項に記載の方法。 - オリジナル画像の顕著性モデルを構築するためのモデル構築モジュールと、
上記モデル構築モジュールにより構築された上記顕著性モデルに基づいて、上記オリジナル画像における各画素点の顕著性値を計算するための数値計算モジュールと、
上記数値計算モジュールにより算出された各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度、及び目標画像の目標解像度に基づいて、目標画像に対して構図変更を行うための画像リターゲティングモジュールと、を含む
ことを特徴とする構図変更装置。 - 上記画像リターゲティングモジュールは、
上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、各画素点の初期シフトベクトルを計算するための第1の計算ユニットと、
各画素点について、上記画素点の顕著性値及び上記第1の計算ユニットにより算出された上記画素点の初期シフトベクトルに基づいて、上記画素点の最終シフトベクトルを計算するための第2の計算ユニットと、
上記第2の計算ユニットにより算出された各最終シフトベクトルに基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うための画像リターゲティングユニットと、を含む
ことを特徴とする請求項6に記載の装置。 - 上記第2の計算ユニットは、
上記画素点の顕著性値に基づいて、上記顕著性値と負の相関関係を有する上記画素点の歪み係数を計算するための第1の計算サブユニットと、
上記第1の計算サブユニットにより算出された上記歪み係数を上記初期シフトベクトルに掛けて、上記最終シフトベクトルを取得するための第2の計算サブユニットと、を含む
ことを特徴とする請求項7に記載の装置。 - 上記第1の計算ユニットは、
上記オリジナル解像度に基づいて、オリジナル画像領域を特定し、上記オリジナル解像度及び上記目標解像度に基づいて、目標画像領域を特定するための領域特定サブユニットと、
上記領域特定サブユニットにより特定された上記オリジナル画像領域において、所定数の第1の特徴点を選択し、上記領域特定サブユニットにより特定された上記目標画像領域において、上記第1の特徴点に対応する所定数の第2の特徴点を選択するための特徴点選択サブユニットと、
上記特徴点選択サブユニットにより選択された各第1の特徴点と対応する第2の特徴点との間の参照シフトベクトルを計算するための第3の計算サブユニットと、
各画素点について、n(n≧3)個の第1の特徴点により囲まれる閉鎖領域に位置する上記画素点と上記n個の第1の特徴点との間の相対的位置を計算し、上記相対的位置及び上記第3の計算サブユニットにより算出された上記n個の第1の特徴点に対応するn個の参照シフトベクトルに基づいて、上記画素点の初期シフトベクトルを計算するための第4計算サブユニットと、を含む
ことを特徴とする請求項7〜9の何れか1項に記載の装置。 - プロセッサと、
プロセッサが実行可能な指令を記憶するためのメモリとを含み、
上記プロセッサは、
オリジナル画像の顕著性モデルを構築し、
上記顕著性モデルに基づいて、上記オリジナル画像における各画素点の顕著性値を計算し、
各画素点の顕著性値、上記オリジナル画像のオリジナル解像度及び目標画像の目標解像度に基づいて、上記目標画像に対して構図変更を行うように配置される
ことを特徴とする端末。
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