JP2016504740A - レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
線量エラーパケット=線量ターゲット−ΣEUVパケット
前のサーボ値+(利得×蓄積線量エラー)
ここで、前のサーボ値はステップ601で設定した線量サーボ値である。利得は好ましくは1.0である。利得は0.01から100の間の範囲とすることができる。
現在の線量エラー=EUV現在の小滴−線量ターゲット
現時点までのバーストエラー+(利得×現在の線量エラー)
ここで、現時点までのバーストエラーは、バースト内でのそれまでの小滴から蓄積された線量エラーの現時点までの合計である。すなわち、現時点までのバーストエラーは、直前の小滴107についてステップ905で求められた蓄積バーストエラーである。現時点までのバーストエラーは、現在の小滴がバースト内の最初の小滴である場合はゼロに設定される。
現在の線量エラー=線量ターゲット−EUV現在の小滴
Claims (16)
- 1つ以上のパケット内でエネルギ線量ターゲットを発生させるEUV光源のストロボ発射の間に生成されるエネルギ線量を調節する方法であって、
(a)レーザコントローラによって、現在のパケットについての線量サーボ値を設定することと、
(b)前記レーザコントローラによって、前記現在のパケットの間に小滴を照射するようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングを調整することと、
(c)前記小滴の照射によって発生したEUVエネルギを検知することと、
(d)前記レーザコントローラによって、前記検知したEUVエネルギを、前記現在のパケットの間の1つ以上の先行する小滴の照射により発生したEUVエネルギと合わせて蓄積することと、
(e)前記現在のパケット内の前記蓄積されたEUVエネルギが、前記エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づく調整された線量ターゲット未満である場合、ステップ(b)、(c)、及び(d)を繰り返すことと、
(f)前記レーザコントローラによって、前記現在のパケットの間に別の小滴を照射しないように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングをずらすことと、
を備える、方法。 - 前記調整された線量ターゲットが、前記線量ターゲットに前記線量サーボ値を足したものに等しい、請求項1に記載の方法。
- (g)前記レーザコントローラによって、前記現在のパケットについての線量エラーを計算することと、
(h)前記レーザコントローラによって、前記現在のパケットについての前記線量エラーを、1つ以上の先行するパケットについての線量エラーと合わせて蓄積することと、
(i)前記レーザコントローラによって、前記エネルギ線量ターゲット及び前記蓄積された線量エラーに基づいて次のパケットについての新しい調整された線量ターゲットを計算することと、
(j)前記レーザコントローラによって、前記次のパケットについての新しい線量サーボ値を計算することと、
(k)前記次のパケットについてステップ(a)から(j)を繰り返すことであって、前記次のパケットについての前記調整された線量ターゲットが前記新しい調整された線量ターゲットであり、前記次のパケットについての前記線量サーボ値が前記新しい線量サーボ値である、ことと、
を更に備える、請求項1に記載の方法。 - 前記現在のパケットについての前記線量エラーが、前記現在のパケットについての前記線量ターゲットから前記現在のパケットについての前記蓄積されたEUVエネルギを引いたものに等しい、請求項3に記載の方法。
- 前記蓄積された線量エラーが、前記現在のパケットについての前記線量エラー及び1つ以上の先行するパケットについての前記線量エラーを含む、請求項3に記載の方法。
- 1つ以上のパケット内でエネルギ線量ターゲットを発生させるEUV光源のストロボバースト発射の間に生成されるエネルギ線量を調節するシステムであって、
トリガを受信した場合にレーザビームをパルス発生させる駆動レーザと、
小滴の照射によって発生したEUVエネルギを検知するセンサと、
(a)現在のパケットについての線量サーボ値を設定し、
(b)前記現在のパケットの間に小滴を照射するように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングを調整し、
(c)前記小滴の照射により発生した検知されたEUVエネルギを、前記現在のパケットの間の1つ以上の先行する小滴の照射により発生したEUVエネルギと合わせて蓄積し、
(d)前記現在のパケット内の前記蓄積されたEUVエネルギが、前記エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づく調整された線量ターゲット未満である場合、ステップ(b)及び(c)を繰り返し、
(e)前記現在のパケットの間に別の小滴を照射しないように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングをずらす、
コントローラと、
を備える、システム。 - 前記調整された線量ターゲットが、前記線量ターゲットに前記線量サーボ値を足したものに等しい、請求項6に記載のシステム。
- 前記コントローラが、更に、
(f)前記現在のパケットについての線量エラーを計算し、
(g)前記現在のパケットについての前記線量エラーを、1つ以上の先行するパケットについての線量エラーと合わせて蓄積し、
(h)前記エネルギ線量ターゲット及び前記蓄積された線量エラーに基づいて次のパケットについての新しい調整された線量ターゲットを計算し、
(i)前記次のパケットについての新しい線量サーボ値を計算し、
(j)前記次のパケットについてステップ(a)から(i)を繰り返し、前記次のパケットについての前記調整された線量ターゲットが前記新しい調整された線量ターゲットであり、前記次のパケットについての前記線量サーボ値が前記新しい線量サーボ値である、請求項6に記載のシステム。 - 前記現在のパケットについての前記線量エラーが、前記現在のパケットについての前記線量ターゲットから前記現在のパケットについての前記蓄積されたEUVエネルギを引いたものに等しい、請求項8に記載のシステム。
- 前記蓄積された線量エラーが、前記現在のパケットについての前記線量エラー及び1つ以上の先行するパケットについての前記線量エラーを含む、請求項8に記載のシステム。
- EUV光源の連続バーストモードの間に生成されるエネルギ線量を調節する方法であって、
(a)所定のエネルギ線量ターゲットを有するバーストを開始することと、
(b)前記レーザコントローラによって、前記バーストの間に小滴を照射するようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングを調整することと、
(c)前記小滴によって発生したEUVエネルギを検知することと、
(d)前記レーザコントローラによって、前記検知したEUVエネルギ及び前記エネルギ線量ターゲットに基づいて前記小滴についての現在の線量エラーを計算することと、
(e)前記レーザコントローラによって、前記現在の線量エラー及び前記バーストの間の1つ以上の先行する小滴について計算された現時点までのバーストエラーに基づくバーストエラーを蓄積することと、
(f)前記バーストが終了しておらず、前記蓄積されたバーストエラーが閾値バーストエラー未満である場合、ステップ(b)からステップ(e)を繰り返すことと、
(g)前記バーストが終了しておらず、前記蓄積されたバーストエラーが前記閾値バーストエラー以上である場合、前記レーザコントローラによって、前記次の小滴を照射しないように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングをずらすことと、
(h)前記バーストが終了するまでステップ(c)からステップ(g)を繰り返すことと、
を備える、方法。 - 前記現在の線量エラーが、前記検知したEUVエネルギと前記エネルギ線量ターゲットとの間の差である、請求項11に記載の方法。
- 前記蓄積されたバーストエラーが、
現時点までのバーストエラー+(利得×線量エラー)
に等しい、請求項12に記載の方法。 - エネルギ線量ターゲットを発生させるEUV光源の連続バースト発射の間に生成されるエネルギ線量を調節するシステムであって、
トリガを受信した場合にレーザビームをパルス発生させる駆動レーザと、
小滴の照射によって発生したEUVエネルギを検知するセンサと、
(a)前記バーストの間に小滴を照射するように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングを調整し、
(b)前記検知したEUVエネルギ及び前記エネルギ線量ターゲットに基づいて前記小滴についての現在の線量エラーを計算し、
(c)前記現在の線量エラー及び前記バーストの間の1つ以上の先行する小滴について計算された現時点までのバーストエラーに基づくバーストエラーを蓄積し、
(d)前記バーストが終了しておらず、前記蓄積されたバーストエラーが閾値バーストエラー未満である場合、ステップ(a)からステップ(c)を繰り返し、
(e)前記バーストが終了しておらず、前記蓄積されたバーストエラーが閾値バーストエラー以上である場合、前記次の小滴を照射しないように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングをずらし、
(f)前記バーストが終了するまでステップ(b)からステップ(e)を繰り返す、
コントローラと、
を備える、システム。 - 前記現在の線量エラーが、前記検知したEUVエネルギと前記エネルギ線量ターゲットとの間の差である、請求項14に記載のシステム。
- 前記蓄積されたバーストエラーが、
現時点までのバーストエラー+(利得×線量エラー)
に等しい、請求項15に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/738,923 | 2013-01-10 | ||
US13/738,923 US8872123B2 (en) | 2013-01-10 | 2013-01-10 | Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing |
US13/738,918 | 2013-01-10 | ||
US13/738,918 US8872122B2 (en) | 2013-01-10 | 2013-01-10 | Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing |
PCT/US2013/075870 WO2014109876A1 (en) | 2013-01-10 | 2013-12-17 | Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018124217A Division JP6654220B2 (ja) | 2013-01-10 | 2018-06-29 | レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016504740A true JP2016504740A (ja) | 2016-02-12 |
JP6412015B2 JP6412015B2 (ja) | 2018-10-24 |
Family
ID=51167291
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015552647A Active JP6412015B2 (ja) | 2013-01-10 | 2013-12-17 | レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法 |
JP2018124217A Active JP6654220B2 (ja) | 2013-01-10 | 2018-06-29 | レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018124217A Active JP6654220B2 (ja) | 2013-01-10 | 2018-06-29 | レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6412015B2 (ja) |
KR (1) | KR102061078B1 (ja) |
TW (1) | TWI618453B (ja) |
WO (1) | WO2014109876A1 (ja) |
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-
2013
- 2013-12-13 TW TW102146093A patent/TWI618453B/zh active
- 2013-12-17 JP JP2015552647A patent/JP6412015B2/ja active Active
- 2013-12-17 WO PCT/US2013/075870 patent/WO2014109876A1/en active Application Filing
- 2013-12-17 KR KR1020157017346A patent/KR102061078B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-06-29 JP JP2018124217A patent/JP6654220B2/ja active Active
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JP7240313B2 (ja) | 2016-11-04 | 2023-03-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 可変幅レーザパルスを使用したドーズ量制御及びレーザ安定化を伴うeuv lpp源 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014109876A1 (en) | 2014-07-17 |
KR102061078B1 (ko) | 2019-12-31 |
TW201433216A (zh) | 2014-08-16 |
JP6654220B2 (ja) | 2020-02-26 |
JP6412015B2 (ja) | 2018-10-24 |
KR20150104562A (ko) | 2015-09-15 |
JP2018185523A (ja) | 2018-11-22 |
TWI618453B (zh) | 2018-03-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170712 |
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