JP2016224118A - Display device - Google Patents

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淳 羽成
Atsushi Hanari
淳 羽成
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure suitable for achieving narrow frame of a display device.SOLUTION: A display device includes: a pixel region provided with a first substrate having flexibility, a transistor provided on the first face of the first substrate, a flat layer provided on the transistor, a pixel electrode connected with the transistor on the flat layer electrically, and a bank layer that makes the inside region of the pixel electrode exposed to cover a peripheral section and the outside region of the peripheral section; and a first region on which the flat layer and the bank layer are provided while being extended from the pixel region and having an opening that separates the flat layer and the bank layer along at least one side of the pixel region. The first substrate includes a second region having a thin substrate thickness on a second face opposite to the first face. The second region overlaps with the first region.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は表示装置に関する。本発明の一実施形態は、可撓性基板を用いた表示装置の屈曲部の構成に関する。   The present invention relates to a display device. One embodiment of the present invention relates to a structure of a bent portion of a display device using a flexible substrate.

平板状の表示パネルは、各種電子機器に組み込まれている。例えば、スマートフォンと呼ばれる携帯型の電子機器は、本体の一面に表示画面が設けられており、筐体に占める画面の割合が外観に与える印象を左右する要因となっている。このような電子機器におけるデザインの傾向は、本体前面において表示画面が露出する面積を大きくし、筐体が表示画面を囲む周辺領域(これを「額縁領域」ともいう。)を狭くすることで、スマートな外観を形成しようとすることにある。表示画面の周辺領域を狭くし、スリムな形態にすることを、表示パネルの「狭額縁化」と呼ばれる場合もある。   Flat display panels are incorporated in various electronic devices. For example, a portable electronic device called a smartphone is provided with a display screen on one surface of the main body, and the ratio of the screen to the housing is a factor that affects the impression given to the appearance. The trend of design in such electronic devices is to increase the area where the display screen is exposed on the front surface of the main body, and to narrow the peripheral area (also referred to as “frame area”) surrounding the display screen. In trying to create a smart appearance. Narrowing the peripheral area of the display screen to make it slim is sometimes called “narrowing the frame” of the display panel.

表示パネルは、基板の中央側に複数の画素が配列する画素領域が配置され、当該画素領域の外側に駆動回路が配置されている。表示パネルにおいて画素領域以外の部分は、非表示領域となるため、例えば駆動回路が配置される領域は外面に露出させず筐体で覆われている。したがって、表示パネルにおいて狭額縁化を図るということは、画素領域以外の領域の幅を狭めることを意味している。   In the display panel, a pixel region in which a plurality of pixels are arranged is arranged on the center side of the substrate, and a drive circuit is arranged outside the pixel region. Since a portion other than the pixel region in the display panel becomes a non-display region, for example, a region where the drive circuit is arranged is covered with a housing without being exposed to the outer surface. Therefore, narrowing the frame in the display panel means reducing the width of the region other than the pixel region.

表示パネルの狭額縁化を図るには、駆動回路が占める面積を縮小すれば良いが、それには限界がある。そこで、駆動回路が配置される領域を折り曲げて狭額縁化を図る技術が開示されている。例えば、可撓性を有するステンレス基板やプラスチック基板を用い、表示領域の外側部分で基板を折り曲げた表示装置が開示されている(特許文献1乃至4参照)。また、基板を湾曲させる部分の基板厚小さくし、湾曲させやすくしたフレキシブル表示パネルが開示されている(特許文献5及び6参照)。   In order to narrow the frame of the display panel, the area occupied by the drive circuit may be reduced, but there is a limit to this. Therefore, a technique for narrowing the frame by bending a region where the drive circuit is disposed is disclosed. For example, a display device is disclosed in which a flexible stainless steel substrate or plastic substrate is used and the substrate is bent at an outer portion of the display region (see Patent Documents 1 to 4). In addition, a flexible display panel is disclosed in which the substrate thickness at a portion where the substrate is bent is reduced to facilitate bending (see Patent Documents 5 and 6).

特開2011−209405号公報JP 2011-209405 A 特開2012−128006号公報JP 2012-128006 A 特開2011−034066号公報JP 2011-034066 A 特開2014−197181号公報JP 2014-197181 A 特開2010−256660号公報JP 2010-256660 A 特開2010−282183号公報JP 2010-282183 A

しかしながら、特許文献1乃至4で開示されるように、可撓性基板を用いたとしても、屈曲部では基板の表裏で圧縮応力と引っ張り応力が作用して、屈曲部分の位置を正確に制御することが困難である。表示パネルにおいて屈曲部の位置が定まらないと、製品形状が安定しないという問題がある。   However, as disclosed in Patent Documents 1 to 4, even when a flexible substrate is used, the bending portion is subjected to compressive stress and tensile stress on the front and back of the substrate to accurately control the position of the bending portion. Is difficult. If the position of the bent portion is not fixed in the display panel, there is a problem that the product shape is not stable.

一方、特許文献5及び6で開示されるように、表示パネルにおいて屈曲部の基板厚を小さくすることが開示されている。しかし、基板上に配設されるトランジスタ等の素子及び配線、並びに層間絶縁膜等の内部構造については何ら考慮されていない。また、特許文献5及び6で開示される表示パネルは、狭額縁化について言及されていない。   On the other hand, as disclosed in Patent Documents 5 and 6, it is disclosed to reduce the substrate thickness of the bent portion in the display panel. However, no consideration is given to the elements such as transistors and wirings disposed on the substrate and the internal structure such as the interlayer insulating film. In addition, the display panels disclosed in Patent Documents 5 and 6 do not mention narrow frame.

このような状況に鑑み、本発明の一実施形態は、表示装置の狭額縁化を図るのに適した構造を提供することを目的の一つとする。   In view of such circumstances, an embodiment of the present invention has an object to provide a structure suitable for narrowing the frame of a display device.

本発明の一実施形態によれば、可撓性を有する第1基板と、第1基板の第1面に設けられたトランジスタと、トランジスタ上に設けられた平坦化層と、平坦化層上でトランジスタと電気的に接続された画素電極と、画素電極の内側領域を露出させ周縁部及び周縁部より外側領域を覆うバンク層とを有する画素領域と、平坦化層及びバンク層が画素領域から延長して設けられ画素領域の少なくとも一辺に沿って平坦化層及びバンク層を分離する開口部を有する第1領域と、を有し、第1基板は、第1面とは反対側の第2面において基板厚が薄い第2領域を有し、第2領域は第1領域と重なる表示装置が提供される。   According to an embodiment of the present invention, a flexible first substrate, a transistor provided on the first surface of the first substrate, a planarization layer provided on the transistor, and a planarization layer A pixel region having a pixel electrode electrically connected to the transistor, a bank layer that exposes an inner region of the pixel electrode and covers a peripheral portion and an outer region from the peripheral portion, and a planarization layer and a bank layer extend from the pixel region And a first region having an opening for separating the planarization layer and the bank layer along at least one side of the pixel region, and the first substrate has a second surface opposite to the first surface. The display device includes a second region having a thin substrate thickness, and the second region overlaps the first region.

本実施形態に係る表示装置の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the display apparatus which concerns on this embodiment.

以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes and should not be construed as being limited to the description of the embodiments exemplified below. In order to clarify the description, the drawings may be schematically represented with respect to the width, thickness, shape, and the like of each part as compared to actual aspects, but are merely examples and limit the interpretation of the present invention. It is not a thing. In addition, in the present specification and each drawing, elements similar to those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted as appropriate.

本明細書において、ある部材又は領域が他の部材又は領域の「上に(又は下に)」あるとする場合、特段の限定がない限りこれは他の部材又は領域の直上(又は直下)にある場合のみでなく他の部材又は領域の上方(又は下方)にある場合を含み、すなわち、他の部材又は領域の上方(又は下方)において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。   In this specification, when a certain member or region is “on (or below)” another member or region, this is directly above (or directly below) the other member or region unless otherwise specified. Including not only in some cases but also above (or below) other members or regions, that is, when other components are included above (or below) other members or regions .

<表示装置の平面的な構成>
図1は、本実施形態に係る表示装置100の構成を説明する平面図であり、基板を屈曲させる前の一態様を示す。表示装置100は、第1基板102に画素122が配列する画素領域106が設けられている。画素領域106の外側領域には額縁領域108がある。額縁領域108は、第1駆動回路124、第2駆動回路126、第1配線延伸部領域128、第2配線延伸領域130、シール材134を含んでいる。また、第1基板102の一端部には端子部136が設けられている。端子部136と第1駆動回路124および第2駆動回路126は図示しない回路および配線によって接続されている。
<Planar configuration of display device>
FIG. 1 is a plan view for explaining the configuration of the display device 100 according to the present embodiment, and shows one mode before the substrate is bent. The display device 100 is provided with a pixel region 106 in which pixels 122 are arranged on a first substrate 102. There is a frame area 108 outside the pixel area 106. The frame region 108 includes a first drive circuit 124, a second drive circuit 126, a first wiring extension region 128, a second wiring extension region 130, and a sealing material 134. A terminal portion 136 is provided at one end of the first substrate 102. The terminal portion 136 is connected to the first drive circuit 124 and the second drive circuit 126 by a circuit and wiring (not shown).

画素領域106と、第1駆動回路124及び第2駆動回路126とは、それぞれ配線によって接続される。画素領域106は、画素122以外に走査信号線、映像信号線と呼ばれる配線が設けられている。画素領域106の各画素122は、これらの配線により第1駆動回路124、第2駆動回路126と接続されている。例えば、第1駆動回路124は、画素領域106に走査信号を出力する駆動回路であり、第2駆動回路126は画素領域106に映像信号を出力する駆動回路である。図1は、画素領域106と第1駆動回路124との間に第1配線延伸領域128が、画素領域106と第2駆動回路126との間に第2配線延伸領域130を有する態様を示す。   The pixel region 106 is connected to the first drive circuit 124 and the second drive circuit 126 by wiring. In the pixel region 106, wirings called scanning signal lines and video signal lines are provided in addition to the pixels 122. Each pixel 122 in the pixel region 106 is connected to the first drive circuit 124 and the second drive circuit 126 by these wirings. For example, the first drive circuit 124 is a drive circuit that outputs a scanning signal to the pixel region 106, and the second drive circuit 126 is a drive circuit that outputs a video signal to the pixel region 106. FIG. 1 shows a mode in which a first wiring extending region 128 is provided between the pixel region 106 and the first driving circuit 124, and a second wiring extending region 130 is provided between the pixel region 106 and the second driving circuit 126.

表示装置100は、第1基板102に対向した第2基板104が設けられている。第2基板104は、画素領域106、第1駆動回路124及び第1配線延伸領域128を覆い、第1基板102と間隙をもって設けられている。第2基板104の外周部に沿ってシール材134が設けられ、このシール材134によって第1基板102と第2基板104とは接着されている。   The display device 100 is provided with a second substrate 104 facing the first substrate 102. The second substrate 104 covers the pixel region 106, the first drive circuit 124, and the first wiring extension region 128, and is provided with a gap from the first substrate 102. A sealing material 134 is provided along the outer periphery of the second substrate 104, and the first substrate 102 and the second substrate 104 are bonded together by the sealing material 134.

第1基板102及び第2基板104は可撓性を有する基板部材が用いられる。例えば、基板部材として樹脂材料が用いられる。樹脂材料としては、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子材料を用いるのが好ましく、例えば、ポリイミドが用いられる。具体的には、第1基板102及び第2基板104の一方又は双方に、ポリイミドをシート状に成形したフィルム基板を用いることができる。   As the first substrate 102 and the second substrate 104, a flexible substrate member is used. For example, a resin material is used as the substrate member. As the resin material, it is preferable to use a polymer material containing an imide bond in the repeating unit. For example, polyimide is used. Specifically, a film substrate in which polyimide is formed into a sheet shape can be used for one or both of the first substrate 102 and the second substrate 104.

なお、第1基板102及び第2基板104に適用可能な他の基板部材として、金属の薄板基板、金属の薄板に樹脂フィルムを貼り合わせた複合基板、ガラスの薄板基板に樹脂フィルムを貼り合わせた複合基板を適用することができる。   As other substrate members applicable to the first substrate 102 and the second substrate 104, a metal thin plate substrate, a composite substrate obtained by bonding a resin film to a metal thin plate, and a resin film bonded to a glass thin plate substrate. A composite substrate can be applied.

図1において、表示装置100が折り曲げられる屈曲部120を、A1−B1線及びA2−B2線で示す。屈曲部120は画素領域106の一辺に沿って設けられている。屈曲部120は画素領域106と第1駆動回路124との間の第1配線延伸領域128に位置している。第1基板102と第2基板104とはシール材134により接着されているので、屈曲部120において第1基板と第2基板104とが同じ方向に屈曲する。なお、図1は、屈曲部120として、A1−B1線及びA2−B2線の2つを示すが、一方のみであってもよい。また、屈曲部は、画素領域106と第2駆動回路126の間の第2配線延伸領域130に位置していてもよい。   In FIG. 1, a bent portion 120 where the display device 100 is bent is indicated by an A1-B1 line and an A2-B2 line. The bent portion 120 is provided along one side of the pixel region 106. The bent portion 120 is located in the first wiring extension region 128 between the pixel region 106 and the first drive circuit 124. Since the first substrate 102 and the second substrate 104 are bonded by the sealing material 134, the first substrate and the second substrate 104 bend in the same direction at the bent portion 120. 1 shows two of the A1-B1 line and the A2-B2 line as the bent portion 120, but only one of them may be provided. Further, the bent portion may be located in the second wiring extension region 130 between the pixel region 106 and the second drive circuit 126.

図1で示すように、屈曲部120を配線延伸領域と重なる領域に配置することにより、基板が折り曲げられる部分が配線延伸領域に限定される。そのため、第1基板102及び第2基板104を折り曲げても、画素領域106、第1駆動回路124、第2駆動回路126に、応力の影響を与えないようにすることができる。すなわち、画素領域106、第1駆動回路124、第2駆動回路126に含まれるトランジスタ等の素子に、曲げ応力が直接作用しないようにすることができる。   As shown in FIG. 1, by arranging the bent portion 120 in a region overlapping with the wiring extension region, a portion where the substrate is bent is limited to the wiring extension region. Therefore, even if the first substrate 102 and the second substrate 104 are bent, the pixel region 106, the first driver circuit 124, and the second driver circuit 126 can be prevented from being affected by stress. That is, bending stress can be prevented from acting directly on elements such as transistors included in the pixel region 106, the first drive circuit 124, and the second drive circuit 126.

次に、本実施形態に係る表示装置100の詳細を、図1中に示すC−D線に沿った断面模式図を参照して説明する。   Next, details of the display device 100 according to the present embodiment will be described with reference to a schematic cross-sectional view taken along line CD in FIG.

<表示装置の断面構造>
図2は、表示装置100の断面図を示す。また、図3は、画素領域106における画素122の詳細を説明する断面図である。以下の説明では、図2及び図3を適宜参照して説明する。
<Cross-sectional structure of display device>
FIG. 2 is a cross-sectional view of the display device 100. FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating details of the pixel 122 in the pixel region 106. The following description will be given with reference to FIGS. 2 and 3 as appropriate.

図2で示すように、表示装置100は、第1基板102及び第2基板104の端から、封止領域110、駆動回路領域112、第1配線延伸領域128、画素領域106を含んでいる。このうち、封止領域110、駆動回路領域112、第1配線延伸領域128が額縁領域108に相当する。   As illustrated in FIG. 2, the display device 100 includes a sealing region 110, a drive circuit region 112, a first wiring extension region 128, and a pixel region 106 from the ends of the first substrate 102 and the second substrate 104. Among these, the sealing region 110, the drive circuit region 112, and the first wiring extension region 128 correspond to the frame region 108.

画素領域106において、第1基板102の一方の面(以下、「第1面」ともいう。)には、トランジスタ138、発光素子140、第1容量素子142、第2容量素子144が設けられている。これらの素子の詳細は、図3に示される。   In the pixel region 106, a transistor 138, a light emitting element 140, a first capacitor element 142, and a second capacitor element 144 are provided on one surface (hereinafter, also referred to as “first surface”) of the first substrate 102. Yes. Details of these elements are shown in FIG.

図3で示すように、発光素子140はトランジスタ138と接続されている。トランジスタ138は発光素子140の発光を制御する。第1容量素子142はトランジスタ138のゲート電位を保持し、第2容量素子144は発光素子140に流れる電流量を調整するために設けられている。   As shown in FIG. 3, the light emitting element 140 is connected to the transistor 138. The transistor 138 controls light emission of the light emitting element 140. The first capacitor element 142 holds the gate potential of the transistor 138, and the second capacitor element 144 is provided to adjust the amount of current flowing through the light emitting element 140.

トランジスタ138は、半導体層146、ゲート絶縁層148、ゲート電極150が積層された構造を有している。半導体層146は、非晶質又は多結晶のシリコン、若しくは酸化物半導体などで形成される。ソース・ドレイン電極156は、第1絶縁層154を介して、ゲート電極150の上層に設けられている。ソース・ドレイン電極156の上層には平坦化層としての第2絶縁層158が設けられている。そして、第2絶縁層158の上面に発光素子140が設けられている。第2絶縁層158は、ソース・ドレイン電極156及び、第1絶縁層154に設けられたコンタクトホール、ゲート電極150及び半導体層146の形状に伴う第1絶縁層154の凹凸を埋設し、略平坦な表面を有している。第2絶縁層158は、無機絶縁層の表面をエッチング加工、化学的機械研摩加工することで形成された平坦表面、またはアクリル、ポリイミドなどの前駆体を含む組成物を塗布又は堆積し、レベリングされた平坦表面を有していてもよい。   The transistor 138 has a structure in which a semiconductor layer 146, a gate insulating layer 148, and a gate electrode 150 are stacked. The semiconductor layer 146 is formed using amorphous or polycrystalline silicon, an oxide semiconductor, or the like. The source / drain electrodes 156 are provided on the upper layer of the gate electrode 150 with the first insulating layer 154 interposed therebetween. A second insulating layer 158 as a planarizing layer is provided on the source / drain electrode 156. A light emitting element 140 is provided on the upper surface of the second insulating layer 158. The second insulating layer 158 buryes the unevenness of the first insulating layer 154 in accordance with the shapes of the source / drain electrodes 156 and the contact holes provided in the first insulating layer 154, the gate electrode 150 and the semiconductor layer 146, and is substantially flat Has a good surface. The second insulating layer 158 is coated and deposited with a flat surface formed by etching or chemical mechanical polishing on the surface of the inorganic insulating layer, or a composition containing a precursor such as acrylic or polyimide, and is leveled. It may have a flat surface.

第1容量素子142は、ゲート絶縁層148を誘電体層として、半導体層146と第1容量電極152が重畳する領域、第1絶縁層154を誘電体層としてソース・ドレイン電極156と第1容量電極152とが挟まれた領域に形成される。   The first capacitor element 142 includes a gate insulating layer 148 as a dielectric layer, a region where the semiconductor layer 146 and the first capacitor electrode 152 overlap, and a source / drain electrode 156 and a first capacitor as the first insulating layer 154 as a dielectric layer. It is formed in a region where the electrode 152 is sandwiched.

発光素子140は、トランジスタ138と電気的に接続される画素電極164、有機層166、対向電極168が積層された構造を有している。発光素子140は2端子素子であり、画素電極164と対向電極168との間の電位を制御することで発光が制御される。また、画素領域106には、画素電極164の周縁部を覆い内側領域を露出するようにバンク層170が設けられている。対向電極168は、有機層166の上面に設けられ、画素電極164上からバンク層170の上面部にかけて設けられている。なお、バンク層170は、画素電極164の周縁部を覆うと共に、画素電極164の端部で滑らかな段差を形成するために、有機樹脂材料で形成される。有機樹脂材料としては、アクリルやポリイミドなどが用いられる。   The light-emitting element 140 has a structure in which a pixel electrode 164 electrically connected to the transistor 138, an organic layer 166, and a counter electrode 168 are stacked. The light-emitting element 140 is a two-terminal element, and light emission is controlled by controlling the potential between the pixel electrode 164 and the counter electrode 168. Further, a bank layer 170 is provided in the pixel region 106 so as to cover the peripheral portion of the pixel electrode 164 and expose the inner region. The counter electrode 168 is provided on the upper surface of the organic layer 166, and is provided from the pixel electrode 164 to the upper surface portion of the bank layer 170. Note that the bank layer 170 is formed of an organic resin material so as to cover the periphery of the pixel electrode 164 and to form a smooth step at the end of the pixel electrode 164. As the organic resin material, acrylic, polyimide, or the like is used.

有機層166は、有機エレクトロルミネセンス材料などの発光材料を含む層である。有機層166は、低分子系又は高分子系の有機材料を用いて形成される。低分子系の有機材料を用いる場合、有機層166は発光性の有機材料を含む発光層に加え、当該発光層を挟むように正孔注入層や電子注入層、さらに正孔輸送層や電子輸送層等含んで構成されていてもよい。例えば、有機層166は、発光層をホール注入層と電子注入層とで挟んだ構造とすることができる。また、有機層166は、ホール注入層と電子注入層に加え、ホール輸送層、電子輸送層、ホールブロック層、電子ブロック層などを適宜付加されていていてもよい。   The organic layer 166 is a layer including a light emitting material such as an organic electroluminescent material. The organic layer 166 is formed using a low molecular weight or high molecular weight organic material. In the case of using a low molecular weight organic material, the organic layer 166 is not only a light emitting layer containing a light emitting organic material, but also a hole injection layer, an electron injection layer, a hole transport layer, and an electron transport so as to sandwich the light emitting layer. You may be comprised including a layer etc. For example, the organic layer 166 can have a structure in which a light emitting layer is sandwiched between a hole injection layer and an electron injection layer. In addition to the hole injection layer and the electron injection layer, the organic layer 166 may include a hole transport layer, an electron transport layer, a hole block layer, an electron block layer, and the like as appropriate.

なお、本実施形態は、発光素子140は、有機層166で発光した光を対向電極168側に放射する、いわゆるトップエミッション型の構造を例示する。有機層166がホール注入層、発光層、電子注入層の順に積層される場合、画素電極164は正孔注入性に優れるITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)やIZO(Indium Zinc Oxide:酸化インジウム亜鉛)を用いることが好ましい。ITOは透光性導電材料の一種であり、可視光帯域の透過率が高い反面、反射率は極めて低い特性を有している。そのため画素電極164に光を反射する機能を付加するため、アルミニウム(Al)や銀(Ag)等の金属層を積層させることが好ましい。または、図3で示すように、ITOなどで形成される画素電極164の下に第3絶縁層162及び第2容量電極160を設けて第2容量素子144とし、第2容量電極160を金属材料で形成して反射板の機能を兼ね備えるようにしてもよい。   In the present embodiment, the light emitting element 140 exemplifies a so-called top emission type structure in which light emitted from the organic layer 166 is emitted to the counter electrode 168 side. When the organic layer 166 is laminated in the order of a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer, the pixel electrode 164 is made of ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) which has excellent hole injection properties. Zinc) is preferably used. ITO is a kind of translucent conductive material, and has high transmittance in the visible light band, but has extremely low reflectance. Therefore, in order to add a function of reflecting light to the pixel electrode 164, it is preferable to stack a metal layer such as aluminum (Al) or silver (Ag). Alternatively, as shown in FIG. 3, a third insulating layer 162 and a second capacitor electrode 160 are provided under a pixel electrode 164 made of ITO or the like to form a second capacitor 144, and the second capacitor electrode 160 is made of a metal material. It may be formed by combining the function of a reflector.

対向電極168は、有機層166で発光した光を透過させるため、透光性を有しかつ導電性を有するITO(酸化スズ添加酸化インジウム)やIZO(酸化インジウム・酸化亜鉛)等の透明導電膜で形成されていることが好ましい。   Since the counter electrode 168 transmits light emitted from the organic layer 166, the transparent electrode such as ITO (tin oxide-added indium oxide) or IZO (indium oxide / zinc oxide) having translucency and conductivity is used. It is preferable that it is formed.

発光素子140の上には封止層172が設けられている。封止層172は発光素子140を覆い、水分等の浸入を防ぐために設けられる。封止層172としては、窒化シリコンや酸化アルミニウムなどの被膜により透光性を有するものとすることが好ましい。また、封止層172の上部には第2基板104との間に充填材が設けられていてもよい。第2基板104には、遮光層182、カラーフィルタ層184が設けられている。発光素子140から白色光が出射されるとき、カラーフィルタ層184を設けることによって、表示装置100はカラー表示をすることが可能となる。   A sealing layer 172 is provided over the light-emitting element 140. The sealing layer 172 covers the light emitting element 140 and is provided to prevent entry of moisture and the like. The sealing layer 172 preferably has a light-transmitting property with a film such as silicon nitride or aluminum oxide. In addition, a filler may be provided between the second substrate 104 and the upper portion of the sealing layer 172. The second substrate 104 is provided with a light shielding layer 182 and a color filter layer 184. By providing the color filter layer 184 when white light is emitted from the light emitting element 140, the display device 100 can perform color display.

図2において、第1配線延伸領域128は配線176が設けられている。また、第1配線延伸領域128には、第2絶縁層158を貫通する開口部174が設けられ、その開口部に沿って第3絶縁層162が設けられている。開口部174は、画素領域106の少なくとも一辺に沿って設けられ、第2絶縁層158を画素領域106の側にある領域と、駆動回路領域112の側にある領域とに分離している。また、バンク層170も開口部174によって、同様に分断されている。バンク層170の上面を覆うように設けられる対向電極168は、画素領域106から延長され、開口部174に沿って設けられ、駆動回路領域112に亘って連続する領域を含んでいる。さらに、対向電極168の全面を覆うように封止層172が設けられている。   In FIG. 2, the first wiring extension region 128 is provided with a wiring 176. The first wiring extension region 128 is provided with an opening 174 that penetrates the second insulating layer 158, and a third insulating layer 162 is provided along the opening. The opening 174 is provided along at least one side of the pixel region 106 and separates the second insulating layer 158 into a region on the pixel region 106 side and a region on the driver circuit region 112 side. Further, the bank layer 170 is similarly divided by the opening 174. The counter electrode 168 provided so as to cover the upper surface of the bank layer 170 extends from the pixel region 106, is provided along the opening 174, and includes a region continuous over the drive circuit region 112. Further, a sealing layer 172 is provided so as to cover the entire surface of the counter electrode 168.

第1配線延伸領域128は、有機樹脂材料で形成される第2絶縁層158及びバンク層170を分断する開口部174を有し、その側面及び底面を被覆するように無機材料で形成される第3絶縁層及び対向電極168が配設されることで、封止構造が設けられている。第3絶縁層162と対向電極168とは、第2絶縁層158及びバンク層170に形成された開口部174の底部において密接するように設けられている。このように有機樹脂材料で形成される第2絶縁層やバンク層170を、無機材料の層により挟み込むことで、封止領域110側から画素領域106への水分等の浸入を防ぐことができる。すなわち、この封止構造により、有機樹脂材料で形成される第2絶縁層158やバンク層170を通って、水分等が画素領域106に領域に浸入するのを防止することができる。   The first wiring extension region 128 has an opening 174 that divides the second insulating layer 158 and the bank layer 170 formed of an organic resin material, and is formed of an inorganic material so as to cover the side surface and the bottom surface thereof. By providing the three insulating layers and the counter electrode 168, a sealing structure is provided. The third insulating layer 162 and the counter electrode 168 are provided in close contact with each other at the bottom of the opening 174 formed in the second insulating layer 158 and the bank layer 170. By interposing the second insulating layer or the bank layer 170 formed of an organic resin material in this manner with an inorganic material layer, intrusion of moisture or the like from the sealing region 110 side to the pixel region 106 can be prevented. That is, with this sealing structure, moisture or the like can be prevented from entering the pixel region 106 through the second insulating layer 158 or the bank layer 170 formed of an organic resin material.

本実施形態では、第2絶縁層158及びバンク層170を分離する開口部174が設けられた領域を「第1領域114」ともいう。また、第2絶縁層及びバンク層170を分断する開口部174と、この開口部174に沿って設けられる対向電極168及び封止層172による積層構造は、有機層166への水分の浸入を防ぐことから、「水分遮断領域」又は「水分遮断構造」とも呼ばれる。   In the present embodiment, a region provided with the opening 174 that separates the second insulating layer 158 and the bank layer 170 is also referred to as a “first region 114”. Further, the stacked structure of the opening 174 that divides the second insulating layer and the bank layer 170 and the counter electrode 168 and the sealing layer 172 provided along the opening 174 prevents moisture from entering the organic layer 166. Therefore, it is also referred to as “moisture blocking region” or “moisture blocking structure”.

なお、第1配線延伸領域128は、画素領域106と駆動回路領域112との間に設けられているが、他の形態として、駆動回路領域112の一部に第1配線延伸領域128が設けられていてもよい。   The first wiring extension region 128 is provided between the pixel region 106 and the drive circuit region 112. However, as another form, the first wiring extension region 128 is provided in a part of the drive circuit region 112. It may be.

第1基板102は、第1面とは反対側の面(以下、「第2面」ともいう。)に基板の厚さが異なる領域(以下、この領域を「第2領域116」ともいう。)を含んでいる。第2領域116は、第1領域と少なくとも一部が重なるように設けられている。例えば、第2領域116は、第1領域114に対して幅広に設けられていてもよい。第1基板102において、第2領域116は、他の領域と比べて基板の厚さが薄くなっている。すなわち、第1基板102の画素領域106における基板厚に比べて、第2領域116の基板厚は薄くなっている。   The first substrate 102 has a region (hereinafter, this region is also referred to as a “second region 116”) having a substrate thickness different from a surface opposite to the first surface (hereinafter also referred to as a “second surface”). ) Is included. The second region 116 is provided so as to at least partially overlap the first region. For example, the second region 116 may be provided wider than the first region 114. In the first substrate 102, the second region 116 is thinner than the other regions. That is, the substrate thickness of the second region 116 is smaller than the substrate thickness of the pixel region 106 of the first substrate 102.

第2領域116は、第1基板102の第2面に設けられた凹状の溝を有していてもよい。第2領域116において、凹溝は第1基板102を貫通しない程度の深さを有している。例えば、第2領域116における板厚は、第1基板102の他の領域の板厚に対して、20%〜80%の割合で薄板化されていてもよい。例えば、第2領域116における板厚は、第1基板102の他の領域の厚さに対して、0.5倍の厚さを有していてもよい。   The second region 116 may have a concave groove provided on the second surface of the first substrate 102. In the second region 116, the concave groove has a depth that does not penetrate the first substrate 102. For example, the plate thickness in the second region 116 may be thinned at a rate of 20% to 80% with respect to the plate thickness in the other region of the first substrate 102. For example, the plate thickness in the second region 116 may be 0.5 times the thickness of the other region of the first substrate 102.

駆動回路領域112は、トランジスタ138が設けられ、回路が形成されている。対向電極168が下層の配線178と電気的に接続されるコンタクト部180が含まれていてもよい。対向電極168は配線178と接続されることで、一定の電位に制御される。また、駆動回路領域112には、画素領域106に設けられているトランジスタ138と同じ構造を有するトランジスタによって信号処理回路が形成されている。   In the driver circuit region 112, a transistor 138 is provided to form a circuit. A contact portion 180 in which the counter electrode 168 is electrically connected to the lower wiring 178 may be included. The counter electrode 168 is controlled to a constant potential by being connected to the wiring 178. In the driver circuit region 112, a signal processing circuit is formed using a transistor having the same structure as the transistor 138 provided in the pixel region 106.

封止領域110にはシール材134が設けられている。シール材134は第1基板102と第2基板104とを接着している。シール材134により第1基板102と第2基板104との間の領域は大気と遮断され、その中に画素領域106は封入される。   A sealing material 134 is provided in the sealing region 110. The sealing material 134 bonds the first substrate 102 and the second substrate 104. A region between the first substrate 102 and the second substrate 104 is blocked from the atmosphere by the sealing material 134, and the pixel region 106 is sealed therein.

第2基板104は第1基板102と対向配置され、封止領域110、駆動回路領域112、第1配線延伸領域128、画素領域106を覆うように設けられている。第2基板104が第1基板102の第1面と対向する面(以下、「第3面」ともいう。)には、カラーフィルタ層184、遮光層182が設けられていてもよい。   The second substrate 104 is disposed to face the first substrate 102 and is provided so as to cover the sealing region 110, the drive circuit region 112, the first wiring extension region 128, and the pixel region 106. A color filter layer 184 and a light shielding layer 182 may be provided on a surface (hereinafter, also referred to as “third surface”) of the second substrate 104 facing the first surface of the first substrate 102.

また、第2基板104は、第3面と反対側の面(以下、「第4面」ともいう。)に、基板の厚さが異なる領域(以下、この領域を「第3領域118」ともいう。)を含んでいる。第3領域118は、第1領域と少なくとも一部が重なるように設けられている。別言すれば、第3領域118は、第2領域と重なるように設けられている。第2基板104において、第3領域118は、他の領域と比べて基板の厚さが薄くなっている。すなわち、第2基板104の画素領域106における基板厚に比べて、第3領域118の基板厚は薄くなっている。   In addition, the second substrate 104 has a surface (hereinafter, also referred to as “fourth surface”) opposite to the third surface and a region having a different substrate thickness (hereinafter, referred to as “third region 118”). Say.) The third region 118 is provided so as to at least partially overlap the first region. In other words, the third region 118 is provided so as to overlap the second region. In the second substrate 104, the third region 118 has a smaller substrate thickness than other regions. That is, the substrate thickness of the third region 118 is smaller than the substrate thickness of the pixel region 106 of the second substrate 104.

本実施形態において、表示装置100は、第1基板102の第2領域と、第2基板104の第3領域とに基板の厚さが薄い凹溝が設けられている。第2領域116及び第3領域118は、基板の厚さを意図的に調整する領域であることから、本発明においては「基板厚調整領域」ともいう。図2は、この基板厚調整領域を、第1基板102及び第2基板104の双方に設ける態様を示す。しかし本発明はこれに限定されず、基板厚調整領域を第1基板102又は第2基板104の一方に設けるようにしてもよい。   In the present embodiment, the display device 100 is provided with a concave groove having a thin substrate thickness in the second region of the first substrate 102 and the third region of the second substrate 104. Since the second region 116 and the third region 118 are regions for intentionally adjusting the thickness of the substrate, they are also referred to as “substrate thickness adjusting regions” in the present invention. FIG. 2 shows a mode in which this substrate thickness adjustment region is provided on both the first substrate 102 and the second substrate 104. However, the present invention is not limited to this, and the substrate thickness adjustment region may be provided on one of the first substrate 102 and the second substrate 104.

図4は、第1基板102及び第2基板104を屈曲部120において、第1基板102の第2面側に屈曲させた一例を示す。第1基板102及び第2基板104を屈曲させることで、駆動回路領域112は画素領域106の背面側に配置される。屈曲部120において第1基板102及び第2基板104は屈曲する。しかし、屈曲部120にはトランジスタ等の素子は設けられておらず、配線176が設けられている。配線176は、アルミニウム等の金属材料で形成されており、可塑性を有するので基板を屈曲させた場合でも導電性が低下することはない。   FIG. 4 shows an example in which the first substrate 102 and the second substrate 104 are bent at the bent portion 120 toward the second surface side of the first substrate 102. By bending the first substrate 102 and the second substrate 104, the drive circuit region 112 is disposed on the back side of the pixel region 106. The first substrate 102 and the second substrate 104 are bent at the bent portion 120. However, an element such as a transistor is not provided in the bent portion 120, and a wiring 176 is provided. The wiring 176 is formed of a metal material such as aluminum and has plasticity, so that the conductivity is not lowered even when the substrate is bent.

第1基板102は第2領域116が薄板化されており、第2基板104は第3領域118が薄板化されているため、約180度屈曲させても基板への応力が緩和される。なお、第1基板102及び第2基板104を屈曲させる角度は任意であり、約180度させてもよいし、例えば、90度の角度で屈曲させてもよい。   Since the second region 116 of the first substrate 102 is thinned and the third region 118 of the second substrate 104 is thinned, the stress on the substrate is relieved even if it is bent about 180 degrees. The angle at which the first substrate 102 and the second substrate 104 are bent is arbitrary, and may be approximately 180 degrees, or may be bent at an angle of 90 degrees, for example.

なお、表示装置100において、発光素子140からの光出射方向が第2基板104側である場合(トップエミッション型である場合)には、屈曲部120において駆動回路領域112を第1基板102側に折り曲げ、発光素子140からの光出射方向が第1基板102側である場合(ボトムエミッション型である場合)には、屈曲部120において駆動回路領域112を第2基板104側に折り曲げればよい。いずれにしても、図4で示すように、駆動回路領域112が画素領域106の背面側になるように屈曲させることで、表示装置100の狭額縁化を図ることができる。   In the display device 100, when the light emission direction from the light emitting element 140 is on the second substrate 104 side (in the case of a top emission type), the drive circuit region 112 is placed on the first substrate 102 side in the bent portion 120. When the light emission direction from the light emitting element 140 is the first substrate 102 side (in the case of a bottom emission type), the drive circuit region 112 may be bent to the second substrate 104 side at the bent portion 120. In any case, as shown in FIG. 4, the display device 100 can be narrowed by bending the drive circuit region 112 so as to be on the back side of the pixel region 106.

図5に示すように、基板厚調整領域としての第2領域116及び第3領域118に設けられる凹溝は複数設けられていてもよい。複数の凹溝を設けることで、屈曲部120において生じる曲げ応力を分散させることができる。また、第2領域116と第3領域118の幅(画素領域106と駆動回路領域112を繋ぐ長さ)は第1配線延伸領域128の長さで調整することができる。例えば、第2領域116と第3領域118の幅は、第1基板102及び第2基板104を屈曲させる曲率半径に応じて調整してもよい。   As shown in FIG. 5, a plurality of concave grooves provided in the second region 116 and the third region 118 as the substrate thickness adjustment region may be provided. By providing a plurality of concave grooves, the bending stress generated in the bent portion 120 can be dispersed. Further, the width of the second region 116 and the third region 118 (the length connecting the pixel region 106 and the drive circuit region 112) can be adjusted by the length of the first wiring extension region 128. For example, the widths of the second region 116 and the third region 118 may be adjusted according to the radii of curvature for bending the first substrate 102 and the second substrate 104.

第1基板102の第2領域116は、他の領域に比べて板厚が薄くなっているため、基板の剛性が相対的に低下する。第2基板の第3領域118についても同様である。表示装置100は、このような基板厚調整領域を含むことで、その部分で屈曲させることが容易となる。別言すれば、基板厚調整領域を屈曲部として、第1基板102及び第2基板104が屈曲する領域を指定することができる。   Since the second region 116 of the first substrate 102 is thinner than the other regions, the rigidity of the substrate is relatively lowered. The same applies to the third region 118 of the second substrate. Since the display device 100 includes such a substrate thickness adjustment region, the display device 100 can be easily bent at that portion. In other words, a region where the first substrate 102 and the second substrate 104 are bent can be designated with the substrate thickness adjustment region as a bent portion.

第1基板102及び第2基板104の双方にこの基板厚調整領域を設ける場合、当該領域の幅は同じ幅であればよい。また、基板を屈曲させたとき外側に位置する基板の基板厚調整領域の幅を、内側に位置する基板に対する基板厚調整領域の幅よりも幅広に設定してもよい。このように、外側に位置する基板の基板厚調整領域の幅を、内側よりも幅広に設定することにより、応力をより有効に緩和することができる。   In the case where the substrate thickness adjustment region is provided on both the first substrate 102 and the second substrate 104, the widths of the regions may be the same. Further, the width of the substrate thickness adjustment region of the substrate located outside when the substrate is bent may be set wider than the width of the substrate thickness adjustment region relative to the substrate located inside. As described above, the stress can be more effectively reduced by setting the width of the substrate thickness adjustment region of the substrate located on the outer side to be wider than that on the inner side.

さらに、第1領域114は、第2絶縁層158及びバンク層170が除去されており、表示装置100の内部構造においても一部の層が欠落した構造を有する。第2領域116は第1領域114と少なくとも一部が重なるように設けられている。第2領域116に重畳する第3領域118についても同様である。このように、第1領域114に対し、第2領域116や第3領域118が重畳するように設けることで、この重畳領域は、表示装置100の他の領域と比較して剛性が低下した領域とすることができる。別言すれば、第1領域114に対し、第2領域116や第3領域118が重畳する領域を屈曲部とし、表示装置100を折り曲げることができる。この場合において、第1領域114には配線176が存在するものの、トランジスタ等の素子が存在しないため、曲げ応力による信頼性の低下を防止することができる。   Further, the first region 114 has a structure in which the second insulating layer 158 and the bank layer 170 are removed, and a part of the layers is omitted in the internal structure of the display device 100. The second region 116 is provided so as to at least partially overlap the first region 114. The same applies to the third region 118 that overlaps the second region 116. As described above, by providing the second region 116 and the third region 118 so as to overlap the first region 114, the superimposed region is a region whose rigidity is lower than that of the other regions of the display device 100. It can be. In other words, it is possible to bend the display device 100 by using a region where the second region 116 or the third region 118 overlaps the first region 114 as a bent portion. In this case, although the wiring 176 is present in the first region 114, no element such as a transistor is present, so that a decrease in reliability due to bending stress can be prevented.

<表示装置の外観形状>
図6は、図2で説明される表示装置100の斜視図を示す。表示装置100は、第1基板102の第1面と第2基板104の第3面が対向して配置され、その間に画素領域106が設けられている。画素領域106は複数の画素が配列して表示画面を形成する。第1基板102の第2面には、基板の厚さが薄くなるように成形された第2領域116を有している。第2領域116は、画素領域106の一辺に沿って、第1基板102の一端から他端にかけて延びている。図6は、第1基板102において、第2領域116が、画素領域106の一辺と、当該一辺に対向し平行に延びる他の一辺とに設けられている態様を示す。
<Appearance of display device>
FIG. 6 shows a perspective view of the display device 100 described in FIG. In the display device 100, the first surface of the first substrate 102 and the third surface of the second substrate 104 are arranged to face each other, and the pixel region 106 is provided therebetween. In the pixel region 106, a plurality of pixels are arranged to form a display screen. On the second surface of the first substrate 102, there is a second region 116 formed so that the thickness of the substrate is reduced. The second region 116 extends from one end of the first substrate 102 to the other end along one side of the pixel region 106. FIG. 6 shows a mode in which the second region 116 is provided on one side of the pixel region 106 and another side extending opposite and parallel to the one side in the first substrate 102.

また、第2基板104の第3面には、基板の厚さが薄くなるように成形された第3領域118を有している。第3領域118は、画素領域106の一辺に沿って、第2基板104の一端から他端にかけて延びている。図6は、第2基板104において、第3領域118が、画素領域106の一辺と、当該一辺に対向し平行に延びる他の一辺とに設けられている態様を示す。   Further, the third surface of the second substrate 104 has a third region 118 formed so that the thickness of the substrate is reduced. The third region 118 extends from one end of the second substrate 104 to the other end along one side of the pixel region 106. FIG. 6 shows a mode in which the third region 118 is provided on one side of the pixel region 106 and the other side extending opposite to and parallel to the one side in the second substrate 104.

なお、第2領域116及び第3領域118において、板厚が薄い領域は、スリット状の凹溝として設けられている。しかし、本発明はこのような態様に限定されず、第2領域116及び第3領域118において、凹状の溝領域が列をなすように不連続に、離隔して配列されていてもよい。例えば、複数の微細な小孔が設けられた領域が、帯状に設けられていてもよい。また、第2領域116及び第3領域118には、スリット状の凹溝を複数本設けてもよい。   In the second region 116 and the third region 118, the thin region is provided as a slit-like groove. However, the present invention is not limited to such an embodiment, and in the second region 116 and the third region 118, the concave groove regions may be arranged discontinuously and spaced apart in a row. For example, a region in which a plurality of fine small holes are provided may be provided in a band shape. Further, the second region 116 and the third region 118 may be provided with a plurality of slit-shaped grooves.

図6中に示すE−F線に対応する断面構造を図7に示す。表示装置100は、画素領域106、第1配線延伸領域128、駆動回路領域112を有する。第1基板102は、第2領域116において、基板の板厚が他の領域に比べて薄くなるように成形されている。また、第2基板104は第3領域118において、基板の板厚が他の領域に比べて薄くなるように成形されている。第2領域116と第3領域118は重なるように設けられている。このように、第1基板102、第2基板104が部分的に薄板化された基板厚調整領域は、第1配線延伸領域128に含まれるように配置される。   FIG. 7 shows a cross-sectional structure corresponding to the line E-F shown in FIG. The display device 100 includes a pixel region 106, a first wiring extension region 128, and a drive circuit region 112. The first substrate 102 is formed in the second region 116 such that the thickness of the substrate is thinner than other regions. In addition, the second substrate 104 is formed in the third region 118 so that the thickness of the substrate is thinner than other regions. The second region 116 and the third region 118 are provided so as to overlap. As described above, the substrate thickness adjustment region in which the first substrate 102 and the second substrate 104 are partially thinned is arranged so as to be included in the first wiring extension region 128.

図8は、この基板厚調整領域において、第1基板102及び第2基板104を屈曲させた態様を示す。図8は、表示装置100において、駆動回路領域112を、画素領域106によって形成される表示画面と反対側の面(裏面側)に折り曲げる態様を示す。これにより駆動回路領域112が表示画面の裏面側に配置され、表示装置100の狭額縁化を図ることができる。すなわち本実施形態によれば、基板厚調整領域を優先的に屈曲させ、画素領域106や駆動回路領域112は屈曲しないようにすることができる。そのため、画素領域106や駆動回路領域112に曲げ応力が作用しないようにすることができる。また、表示装置100の屈曲する位置が特定されるので、製品形状を安定化させることができる。   FIG. 8 shows a mode in which the first substrate 102 and the second substrate 104 are bent in this substrate thickness adjustment region. FIG. 8 shows a mode in which the drive circuit region 112 is bent to a surface (back surface side) opposite to the display screen formed by the pixel region 106 in the display device 100. Accordingly, the drive circuit region 112 is disposed on the back side of the display screen, and the display device 100 can be narrowed. That is, according to the present embodiment, the substrate thickness adjustment region can be bent with priority, and the pixel region 106 and the drive circuit region 112 can be prevented from bending. Therefore, bending stress can be prevented from acting on the pixel region 106 and the drive circuit region 112. In addition, since the position where the display device 100 is bent is specified, the product shape can be stabilized.

なお、本実施形態において、基板厚調整領域としての第2領域116及び第3領域118を延伸させる方向は、一方向に限定されない。図9で示すように、画素領域106と第1駆動回路124との間に第2領域116a、第3領域118aを設けることに加え、これと交差する方向に第2領域116b、第3領域118bを設けてもよい。第2領域116b、第3領域118bは、同様に基板厚調整領域として作用することができる。   In the present embodiment, the direction in which the second region 116 and the third region 118 as the substrate thickness adjustment region are extended is not limited to one direction. As shown in FIG. 9, in addition to providing the second region 116a and the third region 118a between the pixel region 106 and the first drive circuit 124, the second region 116b and the third region 118b intersect with each other. May be provided. Similarly, the second region 116b and the third region 118b can function as substrate thickness adjustment regions.

図6で示すように、第1基板102に設ける第2領域116、第2基板104に設ける第3領域118は、基板の厚さを薄くする加工されている。このような形状は、基板をレーザ加工、研摩加工、エッチング加工によって成形することができる。また、最初から薄板領域が含まれるように基板を成型してもよい。また、図10で示すように、一定の厚さを有する第1基板102に対し第2領域116以外の領域が、第2基板104においては第3領域118以外の領域が厚くなるように、補強部材186a、補強部材186bを設けてもよい。図10に示すように、第1基板102や第2基板104に補強部材を設けることによって、基板厚調整領域を設けてもよい。例えば、可撓性を有する第1基板102に対して、第2領域116以外の領域に補強部材186aを設け、第2領域116が屈曲部となるようにすることができる。補強部材186aとしてはガラス、金属、プラスチック等であり第1基板102よりも硬質の板状部材を用いることができる。第2基板104おいても、第3領域118以外の領域に補強部材186cを設けることで、同様に屈曲部を特定することができる。なお、図10は一方向に屈曲部が設けられる態様を示すが、図9で示すように一方向及びこれと交差する方向にも屈曲部を設けてもよい。   As shown in FIG. 6, the second region 116 provided on the first substrate 102 and the third region 118 provided on the second substrate 104 are processed to reduce the thickness of the substrate. Such a shape can be formed by laser processing, polishing processing, or etching processing of the substrate. Further, the substrate may be molded from the beginning so that the thin plate region is included. Further, as shown in FIG. 10, the first substrate 102 having a constant thickness is reinforced so that the region other than the second region 116 and the region other than the third region 118 in the second substrate 104 are thicker. A member 186a and a reinforcing member 186b may be provided. As shown in FIG. 10, the substrate thickness adjustment region may be provided by providing a reinforcing member on the first substrate 102 or the second substrate 104. For example, a reinforcing member 186a can be provided in a region other than the second region 116 with respect to the flexible first substrate 102 so that the second region 116 becomes a bent portion. As the reinforcing member 186a, a plate-like member made of glass, metal, plastic or the like and harder than the first substrate 102 can be used. In the second substrate 104 as well, by providing the reinforcing member 186c in a region other than the third region 118, the bent portion can be similarly specified. Although FIG. 10 shows a mode in which the bent portion is provided in one direction, as shown in FIG. 9, the bent portion may be provided in one direction and in a direction intersecting with this.

以上のように、本発明の一実施形態によれば、表示装置の一部に基板厚を調整した領域を設けることで、基板を折り曲げる位置を特定することが容易となり、製品形状を安定化することができる。また、基板の屈曲部で基板に生じる表裏の応力差を小さくすることができ、表示装置の信頼性の低下を防止することができる。   As described above, according to an embodiment of the present invention, by providing a region in which the substrate thickness is adjusted in a part of the display device, it is easy to specify the position where the substrate is bent, and the product shape is stabilized. be able to. In addition, a difference in stress between the front and back surfaces of the substrate at the bent portion of the substrate can be reduced, and a reduction in the reliability of the display device can be prevented.

100・・・表示装置、102・・・第1基板、104・・・第2基板、106・・・画素領域、108・・・額縁領域、110・・・封止領域、112・・・駆動回路領域、114・・・第1領域、116・・・第2領域、118・・・第3領域、120・・・屈曲部、122・・・画素、124・・・第1駆動回路、126・・・第2駆動回路、128・・・第1配線延伸領域、130・・・第2配線延伸領域、134・・・シール材、136・・・端子部、138・・・トランジスタ、140・・・発光素子、142・・・第1容量素子、144・・・第2容量素子、146・・・半導体層、148・・・ゲート絶縁層、150・・・ゲート電極、152・・・第1容量電極、154・・・第1絶縁層、156・・・ソース・ドレイン電極、158・・・第2絶縁層、160・・・第2容量電極、162・・・第3絶縁層、164・・・画素電極、166・・・有機層、168・・・対向電極、170・・・バンク層、172・・・封止層、174・・・開口部、176・・・配線、178・・・配線、180・・・コンタクト部、182・・・遮光層、184・・・カラーフィルタ層、186・・・補強部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Display apparatus, 102 ... 1st board | substrate, 104 ... 2nd board | substrate, 106 ... Pixel area, 108 ... Frame area, 110 ... Sealing area, 112 ... Drive Circuit area 114... First area 116... Second area 118. Third area 120. Bending portion 122. ... Second drive circuit, 128 ... first wiring extension region, 130 ... second wiring extension region, 134 ... seal material, 136 ... terminal portion, 138 ... transistor, 140. ..Light emitting element, 142... First capacitor element, 144... Second capacitor element, 146... Semiconductor layer, 148... Gate insulating layer, 150. 1 capacitor electrode, 154... First insulating layer, 156... Source / drain Pole, 158 ... second insulating layer, 160 ... second capacitor electrode, 162 ... third insulating layer, 164 ... pixel electrode, 166 ... organic layer, 168 ... counter electrode, 170 ... bank layer, 172 ... sealing layer, 174 ... opening, 176 ... wiring, 178 ... wiring, 180 ... contact part, 182 ... light shielding layer, 184 ... ..Color filter layers, 186 ... reinforcing members

Claims (15)

可撓性を有する第1基板と、
前記第1基板の第1面に設けられたトランジスタと、前記トランジスタ上に設けられた平坦化層と、前記平坦化層上で前記トランジスタと電気的に接続された画素電極と、前記画素電極の内側領域を露出させ周縁部及び周縁部より外側領域を覆うバンク層と、を有する画素領域と、
前記平坦化層及び前記バンク層が前記画素領域から延長して設けられ、前記画素領域の少なくとも一辺に沿って前記平坦化層及び前記バンク層を分離する開口部を有する第1領域と、
を有し、
前記第1基板は、前記第1面とは反対側の第2面において基板厚が薄い第2領域を有し、前記第2領域は前記第1領域と重なることを特徴とする表示装置。
A flexible first substrate;
A transistor provided on the first surface of the first substrate; a planarization layer provided on the transistor; a pixel electrode electrically connected to the transistor on the planarization layer; A pixel region having an inner region exposed and a bank layer covering a peripheral portion and an outer region from the peripheral portion; and
A first region having an opening for separating the planarization layer and the bank layer along at least one side of the pixel region, the planarization layer and the bank layer extending from the pixel region;
Have
The display device according to claim 1, wherein the first substrate has a second region having a thin substrate thickness on a second surface opposite to the first surface, and the second region overlaps the first region.
前記画素領域は、前記画素電極上に設けられた発光材料を含む有機層と、前記有機層上に設けられた対向電極とを有する、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the pixel region includes an organic layer including a light emitting material provided on the pixel electrode, and a counter electrode provided on the organic layer. 前記第1基板の前記第1面に対向し、間隙をもって配置された可撓性を有する第2基板を有し、
前記第2基板は、前記第1基板と対向する面と反対側の面に基板厚が薄い第3領域を有し、前記第3領域は、前記第2領域と重なる、請求項1に記載の表示装置。
A second flexible substrate disposed opposite to the first surface of the first substrate and having a gap;
2. The second substrate according to claim 1, wherein the second substrate has a third region having a thin substrate thickness on a surface opposite to the surface facing the first substrate, and the third region overlaps the second region. Display device.
前記第2基板は、前記第1基板の前記第1面と対向する面に、前記画素電極に対応してカラーフィルタ層が設けられている、請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein the second substrate is provided with a color filter layer corresponding to the pixel electrode on a surface facing the first surface of the first substrate. 前記第1基板と前記第2基板との間に充填材を有する、請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, further comprising a filler between the first substrate and the second substrate. 前記第2領域は、前記第1基板の一端辺から対向する他の一端辺にかけて設けられ、前記第2領域に沿って、前記第1基板が屈曲している、請求項1に記載の表示装置。   2. The display device according to claim 1, wherein the second region is provided from one end side of the first substrate to another opposite end side, and the first substrate is bent along the second region. . 前記第3領域は、前記第2基板の一端辺から対向する他の一端辺にかけて設けられ、前記第3領域に沿って、前記第1基板及び前記第2基板が屈曲している、請求項3に記載の表示装置。   The third region is provided from one end side of the second substrate to another end side facing the second substrate, and the first substrate and the second substrate are bent along the third region. The display device described in 1. 前記第2領域は、凹溝を含む、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the second region includes a concave groove. 前記第2領域は、複数の凹溝を含む、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the second region includes a plurality of concave grooves. 前記第2領域は、凹溝が離隔して設けられている、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the second region is provided with recessed grooves. 前記第3領域は、凹溝を含む、請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein the third region includes a concave groove. 前記第3領域は、複数の凹溝を含む、請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein the third region includes a plurality of concave grooves. 前記第3領域は、凹溝が離隔して設けられている、請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein in the third region, recessed grooves are provided apart from each other. 前記第1基板は、前記第2領域の外側領域に駆動回路を含む、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the first substrate includes a drive circuit in an outer region of the second region. 前記第1基板は、前記第2領域の外側領域に封止領域を含む、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the first substrate includes a sealing region in an outer region of the second region.
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