JP2016214121A - Cell culture vessel and method for producing cell sheet - Google Patents

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Yuichi Tanaka
裕一 田中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cell culture vessel which makes it possible to obtain a cell sheet by cell culture, and also easily peel the obtained cell sheet.SOLUTION: A cell culture vessel comprises a support comprising plastic having a hydrophilic treated face, a silicon oxide layer disposed on the hydrophilic treated face of the support, and a hydrophobic polysiloxane layer disposed on the silicon oxide layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、細胞培養容器及び該細胞培養容器を用いた細胞シートの製造方法に関する。   The present invention relates to a cell culture container and a method for producing a cell sheet using the cell culture container.

再生医療技術の一つとして、細胞を移植する手法がある。移植のための細胞の形態としては、細胞をシート状に培養して得られる細胞シートが挙げられる。細胞シートとは、細胞間結合で細胞同士が少なくとも1層で連結されたシート状の細胞集合体である。細胞シートはシャーレなどの支持体上で細胞培養を行うことにより得られるが、一般的に、支持体上で形成された細胞シートは接着分子などを介して支持体表面と強固に結合しているため、細胞間の結合を壊さずに支持体から細胞シートを剥離することは容易ではない。そこで、細胞シートを容易にかつ細胞のダメージが少なく回収できる技術について研究が行われている。   One technique for regenerative medicine is to transplant cells. Examples of the cell form for transplantation include a cell sheet obtained by culturing cells in a sheet form. The cell sheet is a sheet-like cell aggregate in which cells are connected by at least one layer by intercellular bonding. Cell sheets can be obtained by culturing cells on a support such as a petri dish. In general, cell sheets formed on a support are firmly bonded to the support surface via adhesion molecules and the like. Therefore, it is not easy to peel the cell sheet from the support without breaking the bond between cells. Therefore, research is being conducted on a technique that can easily recover a cell sheet with little damage to cells.

非特許文献1には、温度応答性ポリマーが表面に塗布された培養用容器が開示されている。非特許文献1では、該培養用容器を用いて細胞を培養した後に低温処理を施して細胞シートを回収する方法が記載されている。この方法では剥離の際に酵素を用いないため、細胞間結合を維持しつつ、かつ治療に有効な細胞外マトリックスを失う事無く細胞シートを得ることができると記載されている。   Non-Patent Document 1 discloses a culture vessel in which a temperature-responsive polymer is applied to the surface. Non-Patent Document 1 describes a method of recovering a cell sheet by performing low-temperature treatment after culturing cells using the culture vessel. According to this method, since an enzyme is not used for peeling, it is described that a cell sheet can be obtained without losing an extracellular matrix effective for treatment while maintaining an intercellular bond.

しかし、非特許文献1に記載の方法では、特に細胞シートを剥離させるための低温処理に長く時間が掛かる場合、細胞にダメージを与えてしまう場合がある。また、接着力の強い細胞では、低温処理で剥離することにより細胞シートを得るためには、継代培養を行って細胞接着力を意図的に弱める必要がある場合がある。   However, in the method described in Non-Patent Document 1, there is a case where cells are damaged particularly when the low temperature treatment for peeling the cell sheet takes a long time. Moreover, in the case of cells with strong adhesive strength, it may be necessary to intentionally weaken the cell adhesive strength by performing subculture in order to obtain a cell sheet by peeling off at low temperature treatment.

そこで、細胞シートが形成された後に特別な処理を施すことなく容易に細胞シートを剥離できる表面を有する培養用容器の研究が行われている。   Therefore, research has been conducted on a culture container having a surface on which a cell sheet can be easily peeled off without special treatment after the cell sheet is formed.

特許文献1には、細胞接着性領域及び細胞非接着性領域を有する表面上に細胞を播種することで、特別な処理を必要とせずに容易に剥離可能な細胞シートを得る方法が開示されている。
特許文献2には、高密度播種による細胞シートの形成方法が開示されている。
Patent Document 1 discloses a method of obtaining a cell sheet that can be easily detached without requiring special treatment by seeding cells on a surface having a cell adhesive region and a cell non-adhesive region. Yes.
Patent Document 2 discloses a method for forming a cell sheet by high-density seeding.

特許文献3には、支持体である高分子含水ゲル層、及び細胞培養面側最表面層に細胞接着性ゲル層を有し、該高分子含水ゲル層と該細胞接着性ゲル層との間にアニオン性合成ポリマー及び多価金属イオンを含むゲル層を有する細胞培養担体が開示されている。また、該細胞培養担体の上で細胞を培養して細胞シートを形成する方法が開示されている。   Patent Document 3 has a polymer hydrous gel layer as a support and a cell adhesive gel layer on the cell culture surface side outermost surface layer, and the polymer hydrous gel layer and the cell adhesive gel layer are interposed between them. Discloses a cell culture carrier having a gel layer containing an anionic synthetic polymer and a polyvalent metal ion. Also disclosed is a method of culturing cells on the cell culture carrier to form a cell sheet.

特許文献4には、少なくともキトサンを含むゲル上にアニオン性多糖類、多価金属イオン及び水溶性高分子を含むゲル層を有する細胞培養担体が開示されている。また、該細胞培養担体の上で細胞を培養して得られた細胞シートを、ゲル層を溶解することにより回収する方法が開示されている。   Patent Document 4 discloses a cell culture carrier having a gel layer containing an anionic polysaccharide, a polyvalent metal ion, and a water-soluble polymer on a gel containing at least chitosan. Also disclosed is a method of recovering a cell sheet obtained by culturing cells on the cell culture carrier by dissolving a gel layer.

特許文献5には、培養溶液に加えられた細胞に底面方向への遠心力を作用させながら細胞培養を行い、細胞シートを得る方法が開示されている。   Patent Document 5 discloses a method of obtaining a cell sheet by culturing cells while applying a centrifugal force in the bottom direction to cells added to the culture solution.

特開2014−138557号公報JP 2014-138557 A 国際公開第2011/142364号International Publication No. 2011/142364 特開2006−217878号公報JP 2006-217878 A 特開2007−259735号公報JP 2007-259735 A 特開2010−161952号公報JP 2010-161952 A

日本臨牀、大和ら、64巻2号、335〜341ページ、2006年Japan Linyi, Yamato et al., Vol. 64, No. 2, pp. 335-341, 2006

しかしながら、特許文献1の方法では、細胞接着性領域及び細胞非接着性領域の微細パターンを形成するために、コストが増加する傾向にあり、また、培養容器の品質管理が難しい場合がある。   However, in the method of Patent Document 1, since a fine pattern of a cell adhesive region and a cell non-adhesive region is formed, the cost tends to increase, and quality control of the culture vessel may be difficult.

特許文献2の方法では、細胞の種類が上皮又は内皮細胞に限定されており、汎用性が乏しいという問題がある。   In the method of Patent Document 2, the type of cells is limited to epithelial or endothelial cells, and there is a problem that versatility is poor.

特許文献3の方法では、細胞シートからゲル層を剥離する際に、可溶化処理やピンセットによるゲル層の除去処理が行われており、作業が煩雑になる。また、細胞シートに化学的又は物理的にダメージを与える可能性がある。   In the method of Patent Document 3, when the gel layer is peeled from the cell sheet, a solubilization process or a gel layer removal process using tweezers is performed, which makes the operation complicated. In addition, the cell sheet may be chemically or physically damaged.

特許文献4の方法でも、特許文献3の方法と同様に、ゲル層を溶解させる際に細胞シートにダメージを与える可能性がある。   Even in the method of Patent Document 4, similarly to the method of Patent Document 3, there is a possibility that the cell sheet is damaged when the gel layer is dissolved.

特許文献5の方法では、細胞を遠心力により容器底面に集積させる前に、培養した細胞をトリプシンなどの酵素で処理する必要があるため、細胞外マトリックスが一旦失われるという問題があり、また、操作が煩雑になる。   In the method of Patent Document 5, since it is necessary to treat the cultured cells with an enzyme such as trypsin before the cells are accumulated on the bottom of the container by centrifugal force, there is a problem that the extracellular matrix is once lost, Operation becomes complicated.

そこで、本発明の目的は、細胞の培養により細胞シートを得ることができ、かつ得られた細胞シートを容易に剥離することができる細胞培養容器を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a cell culture container that can obtain a cell sheet by culturing cells and can easily peel the obtained cell sheet.

(1)親水性処理面を有するプラスチックを含む支持体と、
前記支持体の親水性処理面の上に配置された酸化ケイ素層と、
該酸化ケイ素層の上に配置された疎水性ポリシロキサン層と、
を含む細胞培養容器。
(2)前記疎水性ポリシロキサン層は、下記式(1)で表されるケイ素化合物を用いて形成される、(1)に記載の細胞培養容器;
(R(R4−p−qSi(Y) ・・・・(1)
(式(1)中、Yは、独立に、加水分解によりシラノール基を生成可能な基であり、pは1又は2であり、qは2又は3であり、p+qは3又は4であり、Rは、独立に、ケイ素原子に直結した炭素原子を含み且つ疎水性基を含む有機基であり、Rはケイ素原子に直結した炭素原子を含む有機基である)。
(3)疎水性基が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、フェニル基、グリシドキシ基、エポキシ基、又はエポキシシクロヘキシル基である、(2)に記載の細胞培養容器。
(4)前記酸化ケイ素層の厚さが1μm以上350μm以下である、(1)乃至(3)のいずれかに記載の細胞培養容器。
(5)前記酸化ケイ素層の厚さが10μm以上120μm以下である、(1)乃至(3)のいずれかに記載の細胞培養容器。
(6)前記酸化ケイ素層が化学蒸着法により形成される、(1)乃至(5)のいずれかに記載の細胞培養容器。
(7)(1)乃至(6)のいずれかに記載の細胞培養容器を用いて細胞シートを製造する方法。
(1) a support comprising a plastic having a hydrophilic treated surface;
A silicon oxide layer disposed on the hydrophilic treated surface of the support;
A hydrophobic polysiloxane layer disposed on the silicon oxide layer;
A cell culture vessel.
(2) The cell culture container according to (1), wherein the hydrophobic polysiloxane layer is formed using a silicon compound represented by the following formula (1);
(R 1 ) p (R 2 ) 4-pq Si (Y) q (1)
(In formula (1), Y is independently a group capable of generating a silanol group by hydrolysis, p is 1 or 2, q is 2 or 3, and p + q is 3 or 4. R 1 is independently an organic group containing a carbon atom directly attached to a silicon atom and containing a hydrophobic group, and R 2 is an organic group containing a carbon atom directly attached to a silicon atom).
(3) The hydrophobic group is a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, vinyl group, styryl group, acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, phenyl group, glycidoxy group, epoxy group, or The cell culture container according to (2), which is an epoxycyclohexyl group.
(4) The cell culture container according to any one of (1) to (3), wherein the silicon oxide layer has a thickness of 1 μm to 350 μm.
(5) The cell culture container according to any one of (1) to (3), wherein the silicon oxide layer has a thickness of 10 μm to 120 μm.
(6) The cell culture container according to any one of (1) to (5), wherein the silicon oxide layer is formed by a chemical vapor deposition method.
(7) A method for producing a cell sheet using the cell culture container according to any one of (1) to (6).

本発明により、細胞の培養により細胞シートを得ることができ、かつ得られた細胞シートを容易に剥離することができる細胞培養容器を提供することができる。また、本発明により、該細胞培養容器を用いた細胞シートの製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a cell culture container capable of obtaining a cell sheet by culturing cells and easily peeling the obtained cell sheet. In addition, according to the present invention, a method for producing a cell sheet using the cell culture container can be provided.

本実施形態に係る細胞培養容器の構成を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the structure of the cell culture container which concerns on this embodiment. 実施例1においてFT−IR装置を用いて酸化ケイ素層の赤外吸収スペクトルを測定した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having measured the infrared absorption spectrum of the silicon oxide layer using the FT-IR apparatus in Example 1. FIG. 実施例1においてXPS測定により表面分析を行った結果を示すグラフである。4 is a graph showing the results of surface analysis performed by XPS measurement in Example 1. 実施例1及び比較例1〜4で作製した細胞培養ディッシュ(E1)及び(C1)〜(C4)の層構成を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the layer structure of the cell culture dish (E1) and (C1)-(C4) produced in Example 1 and Comparative Examples 1-4. 評価1にて、実施例1の細胞培養ディッシュ(E1)を用いた細胞培養により得られた細胞シートを示す画像である。It is an image which shows the cell sheet obtained by the cell culture using the cell culture dish (E1) of Example 1 in Evaluation 1. 評価1にて、細胞培養ディッシュ(E1)及び(C1)〜(C2)を用いた細胞培養により得られた細胞シートにおける細胞状態を示す写真である。It is a photograph which shows the cell state in the cell sheet obtained by the cell culture using the cell culture dishes (E1) and (C1) to (C2) in Evaluation 1. 評価3にて、細胞培養ディッシュ(E1)を用いた細胞培養により得られた細胞シートを染色した結果を示す画像である。It is an image which shows the result of having dye | stained the cell sheet obtained by the cell culture using the cell culture dish (E1) in the evaluation 3. FIG. 評価6におけるXPS測定の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of the XPS measurement in evaluation 6.

[細胞培養容器]
本発明に係る細胞培養容器は、親水性処理面を有するプラスチックを含む支持体と、前記支持体の親水性処理面の上に配置された酸化ケイ素層と、該酸化ケイ素層の上に配置された疎水性ポリシロキサン層と、を含む。
[Cell culture vessel]
The cell culture container according to the present invention includes a support including a plastic having a hydrophilic treatment surface, a silicon oxide layer disposed on the hydrophilic treatment surface of the support, and a silicon oxide layer disposed on the silicon oxide layer. And a hydrophobic polysiloxane layer.

本発明に係る細胞培養容器は、細胞接着性を有するため、細胞を培養することによって細胞シートを得ることができる。また、本発明の細胞培養容器は、適度な細胞接着性を有するため、培養して得られた細胞シートを容易に剥離することができる。具体的には、細胞を培養して得られた細胞シートに、意図的な揺動やピペッティングにより水流を細胞シートに与えることによって細胞シートを接着面から容易に剥離することができる。また、ピンセットなどの器具を用いて細胞シートの端部を摘まんで容易に剥離することもできる。   Since the cell culture container according to the present invention has cell adhesiveness, a cell sheet can be obtained by culturing cells. Moreover, since the cell culture container of this invention has moderate cell adhesiveness, the cell sheet obtained by culture | cultivation can be peeled easily. Specifically, the cell sheet can be easily peeled off from the adhesive surface by applying a water flow to the cell sheet obtained by culturing the cells by intentional rocking or pipetting. Moreover, it can also peel easily by picking the edge part of a cell sheet using instruments, such as tweezers.

本実施形態の細胞培養容器は、好ましくは、コンフルエント状態になるまで細胞を培養することができる。また、本実施形態の細胞培養容器は、より好ましくは、コンフルエント状態になるまで細胞を培養することができ、かつコンフルエント状態に達するまで細胞を培養した際に、細胞シートが何の操作もせず又は容器の振とうによって容器の接着面から剥離する。これは、細胞が増殖してコンフルエント状態に達すると、細胞間に働く収縮力が細胞シートと容器の接着面との間の接着力よりも強くなり、細胞シートが接着面から剥離するものと考えられる。そのため、好ましい本実施形態の細胞培養容器によれば、細胞接着が均一に行われて均一なコンフルエント状態が達成され、損傷が極めて少ない細胞シートが得られる。   The cell culture container of the present embodiment is preferably capable of culturing cells until it becomes confluent. In the cell culture container of the present embodiment, more preferably, the cells can be cultured until they reach a confluent state, and when the cells are cultured until they reach a confluent state, the cell sheet does not perform any operation or It peels from the adhesive surface of the container by shaking the container. This is because when the cells proliferate and reach a confluent state, the contraction force acting between the cells becomes stronger than the adhesion force between the cell sheet and the adhesion surface of the container, and the cell sheet peels off from the adhesion surface. It is done. Therefore, according to the preferred cell culture container of this embodiment, cell adhesion is performed uniformly, a uniform confluent state is achieved, and a cell sheet with very little damage is obtained.

本実施形態の細胞培養容器の構成について、図1を参照して説明する。図1(A)は、本実施形態の細胞培養容器の層構成を示す概略断面図である。細胞培養容器は、親水性処理面を有するプラスチックを含む支持体3を有し、該支持体3の親水性処理面の上には、酸化ケイ素層2が配置されている。酸化ケイ素層2の上には、疎水性ポリシロキサン層1が配置されている。支持体3は細胞培養容器の外壁の少なくとも一部を構成する部材とすることができる。また、支持体3は、外壁を構成する部材とは異なる部材とすることもできる。図1(B)は、ディッシュ型の形態を有する本実施形態の細胞培養容器の模式的断面図を示す。図1(B)では、ディッシュ型のプラスチック製の容器が支持体3として機能している。図1(B)において、支持体3が外壁の側壁及び底壁を構成しており、支持体3の底壁の上面全体に酸化ケイ素層2が配置され、該酸化ケイ素層2の上面全体に疎水性ポリシロキサン層1が配置されている。疎水性ポリシロキサン層1の上面は、容器内部の培養液が配置される空間(培養部)に接している。また、支持体3の底壁の上面は、親水性処理が施されている。また、図1には図示していないが、細胞培養容器は、適切な大きさの蓋を有することができる。細胞培養容器は、該蓋で閉じられた際に、液密になることが好ましい。なお、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
以下、本発明の各構成要素について説明する。
The structure of the cell culture container of this embodiment is demonstrated with reference to FIG. FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing the layer configuration of the cell culture container of the present embodiment. The cell culture container has a support 3 containing plastic having a hydrophilic treatment surface, and a silicon oxide layer 2 is disposed on the hydrophilic treatment surface of the support 3. A hydrophobic polysiloxane layer 1 is disposed on the silicon oxide layer 2. The support 3 can be a member constituting at least a part of the outer wall of the cell culture container. Moreover, the support body 3 can also be made into a member different from the member which comprises an outer wall. FIG. 1 (B) shows a schematic cross-sectional view of the cell culture container of the present embodiment having a dish shape. In FIG. 1B, a dish-type plastic container functions as the support 3. In FIG. 1 (B), the support body 3 constitutes the side wall and the bottom wall of the outer wall, and the silicon oxide layer 2 is disposed on the entire top surface of the bottom wall of the support body 3. A hydrophobic polysiloxane layer 1 is disposed. The upper surface of the hydrophobic polysiloxane layer 1 is in contact with a space (culture part) in which the culture solution inside the container is arranged. Further, the upper surface of the bottom wall of the support 3 is subjected to a hydrophilic treatment. Although not shown in FIG. 1, the cell culture container can have a lid of an appropriate size. The cell culture container is preferably liquid-tight when closed with the lid. Note that the present invention is not limited to this embodiment.
Hereinafter, each component of the present invention will be described.

(支持体)
支持体3は、細胞と培養液を保持できる構造であることが好ましい。典型的には、図1(B)に示すように、細胞と培養液を保持することが可能なように、円形の底板と、該底板の周縁から上方に立設された側壁とを備える皿状の形状であってもよいし、細胞及び培養液を保持することが可能な他の形状であってもよい。より具体的には、支持体は、シャーレ、フラスコ、ビーカー、ウェルプレート、又は管などの形状であることができる。また、支持体が支持体単独で細胞と培養液を保持できる構造であることは必須ではない。
(Support)
The support 3 preferably has a structure capable of holding cells and a culture solution. Typically, as shown in FIG. 1 (B), a dish having a circular bottom plate and a side wall erected upward from the periphery of the bottom plate so as to hold cells and culture medium The shape may be a shape, or may be another shape capable of holding a cell and a culture solution. More specifically, the support can be in the shape of a petri dish, a flask, a beaker, a well plate, a tube, or the like. In addition, it is not essential that the support has a structure capable of holding cells and culture medium by the support alone.

支持体は、親水性処理面を有するプラスチックを含んで構成される。プラスチックとしては、例えば、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、環状ポリオレフィン、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。これらのうち、ポリスチレンが好ましい。   The support is configured to include a plastic having a hydrophilic treatment surface. Examples of the plastic include polystyrene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene, cyclic polyolefin, acrylic resin, and polyethylene terephthalate. Of these, polystyrene is preferred.

支持体は、親水性処理を施して形成された親水性処理面を表面に有する。親水性処理は、プラスチックの表面を親水性に改質できる処理であれば特に制限されるものではない。そのような表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、UVオゾン処理、電子線照射処理、又はレーザー処理などが挙げられる。   The support has on its surface a hydrophilic treated surface formed by performing a hydrophilic treatment. The hydrophilic treatment is not particularly limited as long as the treatment can modify the surface of the plastic to be hydrophilic. Examples of such surface treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, UV ozone treatment, electron beam irradiation treatment, and laser treatment.

親水性処理面を有する支持体は、市販されているものを用いてもよく、例えば、NuncTM細胞培養ディッシュ(商品名、Thermo Fisher Scientific社製)、Falconセルカルチャーディッシュ(Corning社製)、細胞培養用シャーレ(住友ベークライト社製)、又は組織培養用ディッシュ(旭硝子社製)として市販されている。 A commercially available support having a hydrophilic treatment surface may be used, for example, a Nunc cell culture dish (trade name, manufactured by Thermo Fisher Scientific), a Falcon cell culture dish (manufactured by Corning), a cell, and the like. It is commercially available as a petri dish for culture (manufactured by Sumitomo Bakelite) or a dish for tissue culture (manufactured by Asahi Glass).

また、親水性処理面を有する支持体は、例えば、親水性処理が施されていない未処理のプラスチック製の支持体に親水性処理を施すことにより用意することもできる。未処理の支持体としては、例えば、NuncTMペトリディッシュ(商品名、Thermo Fisher Scientific社製)、Falconペトリディッシュ(Corning社製)、浮遊培養用シャーレ(住友ベークライト社製)、又は無処理ディッシュ(旭硝子社製)を用いることができる。 Moreover, the support body which has a hydrophilic treatment surface can also be prepared by performing a hydrophilic treatment to the support body made from an untreated plastic which has not been subjected to the hydrophilic treatment, for example. As an untreated support, for example, Nunc Petri dish (trade name, manufactured by Thermo Fisher Scientific), Falcon Petri dish (Corning), suspension culture dish (Sumitomo Bakelite), or untreated dish ( Asahi Glass Co., Ltd.) can be used.

親水性処理により、プラスチック表面に存在する親水性官能基(例えばヒドロキシ基やカルボニル基)が増えるものと考えられる。本実施形態において、プラスチック製の支持体の表面が親水性処理されることにより、細胞の接着性が向上する。本実施形態では、支持体の上に酸化ケイ素層及び疎水性ポリシロキサン層が設けられているため、支持体の親水性処理面が直接培養液に接してはいない。しかし、この支持体の表面が親水性処理されていることにより、培養液中に含まれるタンパク質などの細胞間マトリックスの材料となる栄養素が接着面に集まり易くなり、結果として、未処理の支持体を用いる場合に比べて細胞の接着性が向上するものと考えられる。また、支持体の表面が親水性処理されていることにより、酸化ケイ素層が支持体表面上に付加され易くなるものと考えられる。   It is considered that the hydrophilic functional group (for example, a hydroxy group or a carbonyl group) present on the plastic surface is increased by the hydrophilic treatment. In the present embodiment, the surface of the plastic support is subjected to a hydrophilic treatment, whereby the adhesiveness of the cells is improved. In this embodiment, since the silicon oxide layer and the hydrophobic polysiloxane layer are provided on the support, the hydrophilic treatment surface of the support is not in direct contact with the culture solution. However, the surface of the support is hydrophilically treated, so that nutrients that are the materials of the intercellular matrix such as proteins contained in the culture solution are easily collected on the adhesion surface. As a result, the untreated support It is considered that the adhesiveness of the cells is improved as compared with the case of using. Further, it is considered that the silicon oxide layer is easily added on the surface of the support because the surface of the support is subjected to hydrophilic treatment.

親水性処理面の静的水接触角は、70°未満であることが好ましい。例えば、親水性処理されたポリスチレンの静的水接触角は、64°である。なお、水接触角は、温度25℃、湿度30%、大気圧下で、マイクロシリンジから水を滴下して1分以内に接触角測定器を用いて測定した値を用いることができきる。また、接触角測定器としては例えば、協和界面科学(株)製CA−Z型を用いることができる。   The static water contact angle of the hydrophilic treated surface is preferably less than 70 °. For example, the static water contact angle of hydrophilically treated polystyrene is 64 °. In addition, the water contact angle can use the value measured using the contact angle measuring device within 1 minute after dripping water from a micro syringe under the temperature of 25 degreeC, 30% of humidity, and atmospheric pressure. Moreover, as a contact angle measuring device, Kyowa Interface Science Co., Ltd. CA-Z type can be used, for example.

(酸化ケイ素層)
酸化ケイ素層は、支持体の親水性処理面の上に配置される。
酸化ケイ素層は、特に制限されるものではないが、例えば、化学蒸着法(CVD法)又はスパッタリング法により形成することができ、化学蒸着法により形成することが好ましい。化学蒸着法の中でも、比較的低い温度で酸化ケイ素層を形成することができるプラズマCVD法を用いることが好ましい。すなわち、有機ケイ素化合物及び不活性ガスを原料として低温真空プラズマCVD法によって酸化ケイ素層を形成することが好ましい。低温真空プラズマCVD法は、支持体を加熱する必要がなく、また、例えば10℃以上70℃以下の低温で成膜が可能である。低温真空プラズマCVD法で成膜する場合は、成膜前の成膜室(真空チャンバー)内を1×10−5Pa以上1×10−3Pa以下の真空度に一定時間保つことが好ましい。
(Silicon oxide layer)
The silicon oxide layer is disposed on the hydrophilic treated surface of the support.
The silicon oxide layer is not particularly limited, but can be formed by, for example, chemical vapor deposition (CVD) or sputtering, and is preferably formed by chemical vapor deposition. Among chemical vapor deposition methods, it is preferable to use a plasma CVD method capable of forming a silicon oxide layer at a relatively low temperature. That is, it is preferable to form a silicon oxide layer by a low temperature vacuum plasma CVD method using an organosilicon compound and an inert gas as raw materials. The low temperature vacuum plasma CVD method does not need to heat the support and can form a film at a low temperature of, for example, 10 ° C. or more and 70 ° C. or less. In the case of forming a film by a low temperature vacuum plasma CVD method, it is preferable to keep the inside of a film formation chamber (vacuum chamber) before film formation at a vacuum degree of 1 × 10 −5 Pa or more and 1 × 10 −3 Pa or less for a certain time.

真空プラズマCVD法としては、容量結合型プラズマCVD法、誘導結合型プラズマCVD法、ECR(電子サイクロトロン共鳴)プラズマCVD法などが挙げられる。これらの中でも、誘導結合型プラズマCVD法を用いることが好ましい。誘導結合型プラズマCVD法は、均一で高密度のプラズマを生成でき、良質な酸化ケイ素層を作製でき、支持体との密着性に優れる良質な酸化ケイ素層を形成することができる。   Examples of the vacuum plasma CVD method include a capacitively coupled plasma CVD method, an inductively coupled plasma CVD method, and an ECR (electron cyclotron resonance) plasma CVD method. Among these, it is preferable to use an inductively coupled plasma CVD method. The inductively coupled plasma CVD method can generate a uniform and high-density plasma, can produce a high-quality silicon oxide layer, and can form a high-quality silicon oxide layer having excellent adhesion to a support.

原料ガスとしての有機ケイ素化合物としては、特に制限されるものではないが、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキサン、トリエチルトリメチルジシロキサンなどが挙げられる。真空プラズマ中で十分に分解されて容易に成膜できるという観点から、比較的低分子量のジシロキサン化合物を用いることが好ましい。また、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス、ネオンガス、クリプトンガス、又はキセノンガスなどを用いることができる。   Although it does not restrict | limit especially as an organosilicon compound as source gas, For example, hexamethyldisiloxane, tetramethyldisiloxane, triethyltrimethyldisiloxane etc. are mentioned. From the viewpoint of being sufficiently decomposed in vacuum plasma and being able to form a film easily, it is preferable to use a relatively low molecular weight disiloxane compound. As the inert gas, for example, argon gas, helium gas, neon gas, krypton gas, or xenon gas can be used.

有機ケイ素化合物とともに酸素ガスを反応室に供給してプラズマ放電させることにより、支持体の上に酸化ケイ素を蒸着させることができる。   By supplying oxygen gas together with the organosilicon compound to the reaction chamber to cause plasma discharge, silicon oxide can be deposited on the support.

また、スパッタリング法としては、例えば、DC(直流)スパッタリング方式、AC(交流)スパッタリング方式、RF(高周波)スパッタリング方式などを用いることができる。これらのスパッタリング方式は2極スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法のいずれの方法であってもよい。さらに、これらの中でも、RFマグネトロンスパッタリング法又はACスパッタリング法は、プロセスが安定しており、装置構造が簡単な直流電源又は交流電源を使用するので操作し易く、膜厚制御の点で有利である。ターゲットとしては、ケイ素又はケイ素酸化物を主成分とするものが用いられる。   Moreover, as a sputtering method, DC (direct current) sputtering system, AC (alternating current) sputtering system, RF (high frequency) sputtering system, etc. can be used, for example. These sputtering methods may be either a bipolar sputtering method or a magnetron sputtering method. Further, among these, the RF magnetron sputtering method or the AC sputtering method is advantageous in terms of film thickness control because it uses a DC power source or an AC power source with a stable process and a simple apparatus structure. . As the target, one having silicon or silicon oxide as a main component is used.

酸化ケイ素層の厚さは、1μm以上350μm以下であることが好ましく、10μm以上120μm以下であることがより好ましく、15μm以上70μm以下であることがさらに好ましい。酸化ケイ素層の膜厚が1μm未満の場合、培養により形成される細胞シートと接着面との間の接着力が強くなり、細胞シートが剥離し難くなる傾向がある。また、酸化ケイ素層の膜厚が350μmよりも大きい場合、細胞接着性が低下し、細胞シートが形成され難くなる傾向がある。   The thickness of the silicon oxide layer is preferably 1 μm or more and 350 μm or less, more preferably 10 μm or more and 120 μm or less, and further preferably 15 μm or more and 70 μm or less. When the film thickness of the silicon oxide layer is less than 1 μm, the adhesive force between the cell sheet formed by culture and the adhesive surface becomes strong, and the cell sheet tends to be difficult to peel off. Moreover, when the film thickness of a silicon oxide layer is larger than 350 micrometers, there exists a tendency for cell adhesiveness to fall and to become difficult to form a cell sheet.

酸化ケイ素層の厚さを測定する方法としては、例えば、本実施例で用いた触針式段差計を用いる方法が挙げられる。また、その他にも、光干渉膜厚計を用いる方法、反射率分光法による方法、光学及び電子顕微鏡などの各種顕微鏡を用いる方法、エリプソメトリーによる方法などが挙げられる。酸化ケイ素層の厚さは、例えば3〜10点での厚さの平均値として示すことが望ましい。   As a method for measuring the thickness of the silicon oxide layer, for example, a method using the stylus type step meter used in the present embodiment can be mentioned. Other examples include a method using an optical interference film thickness meter, a method using reflectance spectroscopy, a method using various microscopes such as an optical and electron microscope, and a method using ellipsometry. As for the thickness of a silicon oxide layer, it is desirable to show as an average value of the thickness in 3-10 points, for example.

酸化ケイ素層が支持体上に形成されたことを確認する方法としては、例えば、FT−IRを用いる方法や、X線光電子分析装置を用いた表面元素解析による方法などが挙げられる。   Examples of the method for confirming that the silicon oxide layer is formed on the support include a method using FT-IR and a method based on surface element analysis using an X-ray photoelectron analyzer.

(疎水性ポリシロキサン層)
疎水性ポリシロキサン層は、酸化ケイ素層の上に配置される。本実施形態において、疎水性ポリシロキサン層の表面が培養時に細胞と接触する領域(接着面)となることが好ましい。本実施形態では、接着面が疎水性となるため、培養により形成された細胞シートと疎水性ポリシロキサン層との間の接着力を適度な範囲とすることができ、細胞シートを容易に剥離することができる。また、疎水性ポリシロキサン層は細胞に対する毒性を持たないため、接着させた状態で細胞をコンフルエント状態に達するまで増殖させることができる。
(Hydrophobic polysiloxane layer)
The hydrophobic polysiloxane layer is disposed on the silicon oxide layer. In the present embodiment, it is preferable that the surface of the hydrophobic polysiloxane layer is a region (adhesion surface) that comes into contact with cells during culture. In this embodiment, since the adhesive surface becomes hydrophobic, the adhesive force between the cell sheet formed by culture and the hydrophobic polysiloxane layer can be in an appropriate range, and the cell sheet is easily peeled off. be able to. Further, since the hydrophobic polysiloxane layer has no toxicity to cells, the cells can be grown in a state of being adhered until they reach a confluent state.

疎水性ポリシロキサンは、シロキサン結合(Si−O−Si)の繰り返し単位からなるポリマーであり、疎水性基を有するシラノール化合物の縮合重合によって得ることができる。   Hydrophobic polysiloxane is a polymer composed of repeating units of siloxane bonds (Si—O—Si), and can be obtained by condensation polymerization of silanol compounds having a hydrophobic group.

本実施形態におけるシラノール化合物は、シラノール基(Si−OH)に加えて、ケイ素原子に直結した炭素原子を含み且つ疎水性基を含む有機基を有する。この有機基はポリシロキサンの側鎖となる。シラノール化合物は、好ましくは、下記式(1)で表される構造を有する。   In addition to a silanol group (Si—OH), the silanol compound in this embodiment has an organic group containing a carbon atom directly connected to a silicon atom and containing a hydrophobic group. This organic group becomes the side chain of the polysiloxane. The silanol compound preferably has a structure represented by the following formula (1).

(R(R4−p−qSi(OH) ・・・・(1)
(pは1又は2であり、qは2又は3であり、p+qは3又は4であり、Rは、独立に、ケイ素原子に直結した炭素原子を含み且つ疎水性基を含む有機基であり、Rはケイ素原子に直結した炭素原子を含む有機基である)。
(R 1 ) p (R 2 ) 4-pq Si (OH) q (1)
(P is 1 or 2, q is 2 or 3, p + q is 3 or 4, and R 1 is independently an organic group containing a carbon atom directly connected to a silicon atom and containing a hydrophobic group. And R 2 is an organic group containing a carbon atom directly connected to a silicon atom).

p=1かつq=2又は3であることが好ましく、p=1かつq=3であることがより好ましい。p+q=4である場合、Rは存在しない。 It is preferable that p = 1 and q = 2 or 3, and it is more preferable that p = 1 and q = 3. When p + q = 4, R 2 is not present.

は、好ましくは、ケイ素原子に直結した炭素原子を含む疎水性基からなる有機基であり、又は、ケイ素原子に直結した炭素原子を含むリンカー構造(例えばアルキレン基、アリール基)と該リンカー構造を介してケイ素原子と結合する疎水性基を有する有機基である。Rの炭素数は、例えば1〜20であり、好ましくは1〜15であり、より好ましくは1〜10であり、特に好ましくは1〜8である。リンカー構造の炭素数は、例えば1〜6であり、好ましくは1〜4である。リンカー構造としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、又はフェニレン基などが挙げられる。疎水性基としては、例えば、炭素数1〜6の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数2〜6の置換若しくは無置換のアルケニル基(例えばビニル基)、炭素数2〜6の置換若しくは無置換のアルキニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール基、グリシドキシ(グリシジルオキシ)基、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基などが挙げられる。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、又は環状であってもよい。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基の置換基としては、例えば、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜4のアルケニル基(例えばビニル基)、フェニル基などが挙げられる。疎水性基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、フェニル基、グリシドキシ(グリシジルオキシ)基、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基などが挙げられる。 R 1 is preferably an organic group composed of a hydrophobic group containing a carbon atom directly bonded to a silicon atom, or a linker structure (for example, an alkylene group or an aryl group) containing a carbon atom directly bonded to a silicon atom and the linker An organic group having a hydrophobic group bonded to a silicon atom through a structure. The number of carbon atoms of R 1 is, for example, 1 to 20, preferably from 1 to 15, more preferably 1 to 10, particularly preferably 1-8. Carbon number of a linker structure is 1-6, for example, Preferably it is 1-4. Examples of the linker structure include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, and a phenylene group. Examples of the hydrophobic group include a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms (for example, a vinyl group), a substituted or unsubstituted group having 2 to 6 carbon atoms. Examples include substituted alkynyl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, acryloyloxy groups, methacryloyloxy groups, substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 12 carbon atoms, glycidoxy (glycidyloxy) groups, epoxy groups, and epoxycyclohexyl groups. . The alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group may be linear, branched, or cyclic. Examples of the substituent for the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group or aryl group include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms (for example, a vinyl group), a phenyl group, and the like. Specific examples of hydrophobic groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, vinyl, styryl, acryloyl, methacryloyl, acryloyloxy, methacryloyloxy, phenyl, glycidoxy (glycidyloxy) groups , Epoxy group, epoxycyclohexyl group and the like.

の特に好ましい態様としては、3−メタクリロキシプロピル基、3−アクリロキシプロピル基、3−グリシドキシプロピル基、又は2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基が挙げられる。 Particularly preferred embodiments of R 1 include a 3-methacryloxypropyl group, a 3-acryloxypropyl group, a 3-glycidoxypropyl group, or a 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group.

は、ケイ素原子に直結した炭素原子を含む有機基であり、好ましくは、炭素数1〜6の置換若しくは無置換のアルキル基、又は炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール基である。アルキル基は直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、又は環状であってもよい。Rは、より好ましくは、炭素数が1〜6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基又はエチル基である。 R 2 is an organic group containing a carbon atom directly connected to a silicon atom, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms. is there. The alkyl group may be linear, branched, or cyclic. R 2 is more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group or an ethyl group.

前記シラノール化合物は、加水分解によりシラノール基(Si−OH)を生成可能な基を有するケイ素化合物(以下、シランカップリング剤とも称す)を、加水分解することにより生成することができる。このようなケイ素化合物は下記式(2)で表される構造を有する。   The silanol compound can be produced by hydrolyzing a silicon compound having a group capable of producing a silanol group (Si-OH) by hydrolysis (hereinafter also referred to as a silane coupling agent). Such a silicon compound has a structure represented by the following formula (2).

(R(R4−p−qSi(Y) ・・・・(2)
(Yは、独立に、加水分解によりシラノール基を生成可能な基であり、p、q、R、Rは、上述のシラノール化合物に関してそれぞれ定義したとおりである)。
(R 1 ) p (R 2 ) 4-pq Si (Y) q (2)
(Y is a group that can independently generate a silanol group by hydrolysis, and p, q, R 1 , and R 2 are as defined above for the silanol compound).

Yとしては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシ基若しくはアリールオキシ基により置換されたアルコキシ基、アルコキシ基若しくはアリールオキシ基により置換されたアリールオキシ基、又はアルキルカルボニルオキシ基などが挙げられる。Yは、炭素数1〜6のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基)、炭素数1〜6の、アルコキシ基により置換されたアルコキシ基(例えばメトキシエトキシ基)、炭素数1〜6のアルキルカルボニルオキシ基(例えばアセトキシ基)、又は塩素原子が好ましい。   Examples of Y include an alkoxy group, a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxy group substituted by an alkoxy group or an aryloxy group, an aryloxy group substituted by an alkoxy group or an aryloxy group, or an alkylcarbonyloxy group. Can be mentioned. Y is an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms substituted by an alkoxy group (for example, methoxyethoxy group) , An alkylcarbonyloxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, an acetoxy group) or a chlorine atom is preferable.

式(2)のケイ素化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらのうち、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、又は3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。   Examples of the silicon compound of the formula (2) include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycol. Sidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltri Examples include methoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Of these, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyl Methyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, or 3-acryloxypropyltrimethoxysilane are preferred.

また、その他にも、ケイ素化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、n−ペンチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシラン、ジ−n−プロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソプロピルジエトキシシラン、ジ−n−ブチルジメトキシシラン、ジ−n−ブチルジエトキシシラン、ジ−n−ペンチルジメトキシシラン、ジ−n−ペンチルジエトキシシラン、ジ−n−ヘキシルジメトキシシラン、ジ−n−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−n−シクロヘキシルジメトキシシラン、ジ−n−シクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどを挙げることができる。   Other silicon compounds include, for example, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxy. Silane, n-butyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, n-pentyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, Phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, -N-propyldiethoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, diisopropyldiethoxysilane, di-n-butyldimethoxysilane, di-n-butyldiethoxysilane, di-n-pentyldimethoxysilane, di-n-pentyldiethoxysilane , Di-n-hexyldimethoxysilane, di-n-hexyldiethoxysilane, di-n-cyclohexyldimethoxysilane, di-n-cyclohexyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and the like.

式(2)のケイ素化合物としては、シランカップリング剤として市販されている化合物を好適に使用することができる。また、式(2)のケイ素化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the silicon compound of the formula (2), a compound commercially available as a silane coupling agent can be suitably used. Moreover, the silicon compound of Formula (2) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

疎水性ポリシロキサン層を形成する際、式(2)のケイ素化合物を以下のように加水分解し、式(1)のシラノール化合物を生成することができる。加水分解の条件は、特に制限されるものではないが、例えば次の方法を採用することができる。まず、式(2)のケイ素化合物に希塩酸を添加し、基Yを加水分解する。希塩酸のpHは2.0〜3.0に調整するのが望ましい。ケイ素化合物に対する水分子のモル比は例えば2〜4である。この操作によって基Yはシラノール基へ変換され、式(1)のシラノール化合物が生成する。次いで、シラノール化合物を酸化ケイ素層の表面に適用し、縮合重合によりポリシロキサン層を形成する。式(1)のシラノール化合物は、塩基とともにアルコールに溶解させる。シラノール溶液中のシラノール化合物の濃度は0.1〜10%(v/v)の範囲となるように調整することが好ましい。塩基としては、例えばトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、又は4−ジメチルアミノピリジンなどを用いることができる。シラノール溶液中の塩基の濃度は0.1〜10%(v/v)の範囲となるように調整することが好ましい。アルコールとしては、例えば、エタノール、2−プロパノール、又はtert−ブチルアルコールなどを用いることができる。このシラノール化合物を含むシラノール溶液を酸化ケイ素層の表面に接触させ、10分〜24時間放置する。反応温度は例えば4〜80℃の範囲で設定できるが、特に室温(20〜25℃)であることが好ましい。以上の方法によって、酸化ケイ素層上に疎水性ポリシロキサン層を形成することができる。疎水性ポリシロキサン層の被覆密度は、例えば、シラノール化合物若しくは塩基の濃度、あるいはシラノール溶液を酸化ケイ素層表面に接触させる時間によって制御可能である。   When forming the hydrophobic polysiloxane layer, the silicon compound of formula (2) can be hydrolyzed as follows to produce a silanol compound of formula (1). Hydrolysis conditions are not particularly limited, but for example, the following method can be employed. First, dilute hydrochloric acid is added to the silicon compound of formula (2) to hydrolyze the group Y. The pH of the diluted hydrochloric acid is desirably adjusted to 2.0 to 3.0. The molar ratio of water molecules to silicon compound is, for example, 2-4. By this operation, the group Y is converted into a silanol group to produce a silanol compound of the formula (1). Next, a silanol compound is applied to the surface of the silicon oxide layer, and a polysiloxane layer is formed by condensation polymerization. The silanol compound of formula (1) is dissolved in alcohol together with a base. The concentration of the silanol compound in the silanol solution is preferably adjusted to be in the range of 0.1 to 10% (v / v). As the base, for example, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, or the like can be used. The concentration of the base in the silanol solution is preferably adjusted to be in the range of 0.1 to 10% (v / v). As the alcohol, for example, ethanol, 2-propanol, tert-butyl alcohol, or the like can be used. The silanol solution containing the silanol compound is brought into contact with the surface of the silicon oxide layer and left for 10 minutes to 24 hours. The reaction temperature can be set, for example, in the range of 4 to 80 ° C., but is preferably room temperature (20 to 25 ° C.). By the above method, a hydrophobic polysiloxane layer can be formed on the silicon oxide layer. The coating density of the hydrophobic polysiloxane layer can be controlled by, for example, the concentration of the silanol compound or base, or the time for which the silanol solution is brought into contact with the silicon oxide layer surface.

本実施形態において、疎水性ポリシロキサン層と酸化ケイ素層の間には、共有結合などの化学結合が形成されているものと考えられる。また、疎水ポリシロキサン層は、酸化ケイ素層の表面に、物理吸着により結合していてもよい。物理吸着はファンデルワールス力又は官能基間の相互作用により生じると考えられる。   In this embodiment, it is considered that a chemical bond such as a covalent bond is formed between the hydrophobic polysiloxane layer and the silicon oxide layer. The hydrophobic polysiloxane layer may be bonded to the surface of the silicon oxide layer by physical adsorption. Physical adsorption is thought to occur by van der Waals forces or interactions between functional groups.

疎水性ポリシロキサン層中のポリシロキサンの状態は必ずしも明らかではないが、一般的に、無機層の表面に対してポリシロキサンを付加させた場合は、表面(無機層と反対側)に有機基が配向すると考えられている。   The state of polysiloxane in the hydrophobic polysiloxane layer is not always clear, but in general, when polysiloxane is added to the surface of the inorganic layer, organic groups are present on the surface (opposite side of the inorganic layer). It is thought to be oriented.

疎水性ポリシロキサン層の表面が細胞シートに対して優れた剥離性を有することは、例えば上記非特許文献1に記載される温度応答性ポリマーが表面に塗布された培養容器において、低温処理により表面が疎水性になると、細胞が剥離し易くなる現象からも理解できる。   The surface of the hydrophobic polysiloxane layer has excellent releasability with respect to the cell sheet. For example, in a culture vessel in which the temperature-responsive polymer described in Non-Patent Document 1 is applied to the surface, the surface is obtained by low-temperature treatment. It can also be understood from the phenomenon that cells become easily detached when they become hydrophobic.

疎水性ポリシロキサン層の表面における静的水接触角は、好ましくは70°以上であり、より好ましくは80°以上である。   The static water contact angle on the surface of the hydrophobic polysiloxane layer is preferably 70 ° or more, more preferably 80 ° or more.

シランカップリング剤に関する製品情報から判断すると、無機物の酸化ケイ素層の上に形成される疎水性ポリシロキサン層の膜厚はnmオーダーになると考えられる。そのため、μmオーダーで形成される酸化ケイ素層の膜厚と比較して、疎水性ポリシロキサン層の膜厚は小さく、表面構造(酸化ケイ素層と疎水性ポリシロキサン層)の膜厚は、ほとんど酸化ケイ素層に由来すると考えてよい。   Judging from the product information regarding the silane coupling agent, the thickness of the hydrophobic polysiloxane layer formed on the inorganic silicon oxide layer is considered to be on the order of nm. Therefore, the thickness of the hydrophobic polysiloxane layer is small compared to the thickness of the silicon oxide layer formed on the order of μm, and the surface structure (silicon oxide layer and hydrophobic polysiloxane layer) is almost oxidized. It may be considered that it originates from the silicon layer.

[細胞シートの製造方法]
本実施形態の細胞培養容器を用いることにより、細胞シートを容易に得ることができる。
本実施形態に用いられる細胞としては接着性細胞であれば特に限定されない。そのような細胞としては、例えば、肝臓の実質細胞である肝細胞、クッパー細胞、血管内皮細胞や角膜内皮細胞などの内皮細胞、線維芽細胞、骨芽細胞、砕骨細胞、歯根膜由来細胞、表皮角化細胞などの表皮細胞、気管上皮細胞、消化管上皮細胞、子宮頸部上皮細胞、角膜上皮細胞などの上皮細胞、乳腺細胞、ペリサイト、平滑筋細胞や心筋細胞などの筋細胞、腎細胞、膵ランゲルハンス島細胞、末梢神経細胞や視神経細胞などの神経細胞、軟骨細胞、骨細胞などが挙げられる。これらの細胞は、組織や器官から直接採取した初代細胞でもよく、あるいは、それらを何代か継代させたものでもよい。さらにこれら細胞は、未分化細胞である胚性幹細胞、多分化能を有する間葉系幹細胞などの多能性幹細胞、単分化能を有する血管内皮前駆細胞などの単能性幹細胞、分化が終了した細胞の何れであってもよい。また、細胞は単一種を培養してもよいし、二種以上の細胞を共培養してもよい。
[Method for producing cell sheet]
By using the cell culture container of the present embodiment, a cell sheet can be easily obtained.
The cells used in this embodiment are not particularly limited as long as they are adherent cells. Examples of such cells include liver cells that are liver parenchymal cells, Kupffer cells, endothelial cells such as vascular endothelial cells and corneal endothelial cells, fibroblasts, osteoblasts, osteoclasts, periodontal ligament-derived cells, Epidermal cells such as epidermal keratinocytes, tracheal epithelial cells, gastrointestinal epithelial cells, cervical epithelial cells, epithelial cells such as corneal epithelial cells, mammary cells, pericytes, muscle cells such as smooth muscle cells and cardiomyocytes, kidneys Examples include cells, pancreatic islets of Langerhans, nerve cells such as peripheral nerve cells and optic nerve cells, chondrocytes, and bone cells. These cells may be primary cells collected directly from tissues or organs, or may be passaged from one generation to another. Furthermore, these cells are undifferentiated embryonic stem cells, pluripotent stem cells such as pluripotent mesenchymal stem cells, unipotent stem cells such as vascular endothelial progenitor cells that have unipotency, and differentiation has ended. Any of cells may be sufficient. In addition, the cells may be cultured as a single species, or two or more cells may be co-cultured.

培養液としては、当該技術分野で一般的に用いられる細胞培養用培地であれば特に制限なく用いることができる。例えば、用いる細胞の種類に応じて、MEM培地、BME培地、DME培地、αMEM培地、IMDM培地、ES培地、DM−160培地、Fisher培地、F12培地、WE培地及びRPMI1640培地などの、朝倉書店発行「日本組織培養学会編 組織培養の技術第三版」581頁に記載されているような基礎培地を用いることができる。さらに、基礎培地に血清(ウシ胎児血清など)、各種増殖因子、抗生物質、アミノ酸などを加えてもよい。また、Gibco無血清培地(インビトロジェン社)などの市販の無血清培地も用いることができる。最終的に得られる細胞組織体の臨床応用を考えると、動物由来成分を含まない培地を使用することが好ましい。   Any culture medium can be used without particular limitation as long as it is a cell culture medium generally used in the art. For example, depending on the type of cells used, published by Asakura Shoten, such as MEM medium, BME medium, DME medium, αMEM medium, IMDM medium, ES medium, DM-160 medium, Fisher medium, F12 medium, WE medium, and RPMI1640 medium A basal medium as described in "Tissue Culture Technology 3rd Edition" edited by the Japanese Society for Tissue Culture, page 581 can be used. Furthermore, serum (such as fetal bovine serum), various growth factors, antibiotics, amino acids, etc. may be added to the basal medium. A commercially available serum-free medium such as Gibco serum-free medium (Invitrogen) can also be used. Considering the clinical application of the finally obtained cell tissue, it is preferable to use a medium that does not contain animal-derived components.

細胞シートを形成させる観点から、細胞を培養容器内でコンフルエント状態にまで培養させることが好ましい。細胞を培養して細胞シートを形成する際、増殖しなくてもコンフルエント状態を達するのに十分な細胞数を予め播種することにより、コンフルエント状態の細胞シートを得てもよい。   From the viewpoint of forming a cell sheet, it is preferable to culture the cells to a confluent state in a culture vessel. When cells are cultured to form a cell sheet, a cell sheet in a confluent state may be obtained by previously seeding a sufficient number of cells to reach a confluent state without proliferating.

培養して得られた細胞シートは容易に剥離することができるため、ダメージがない若しくはほんどない細胞シートを得ることができる。得られる細胞シートは、再生医療への利用に適したものである。また、細胞シートを利用することでバイオセンサーなどの検出デバイスへの応用へも展開できる。   Since the cell sheet obtained by culturing can be easily peeled off, a cell sheet having no damage or almost no damage can be obtained. The obtained cell sheet is suitable for use in regenerative medicine. In addition, cell sheets can be used for application to detection devices such as biosensors.

以下に実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例によって限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited to the examples.

(実施例1)
蓋を外した状態の培養用ディッシュ(商品名:NuncTM細胞培養ディッシュ、カタログ番号:153066、Thermo Fisher Scientific社製、直径:3.5cm)をCVD蒸着装置(ANELVA社製、型番:PED−401)の中に配置した。該培養用ディッシュは、プラスチック(ポリスチレン)製であり、該ディッシュの底面はコロナ放電処理が施されており、親水性処理面が形成されている。なお、この親水性処理面の静的水接触角は64°であった。静的水接触角は、接触角測定器(協和界面科学社製、CA−Z型)を用いて、マイクロシリンジから水滴を滴下してから1分以内に測定することにより求めた。
Example 1
A culture dish (trade name: Nunc cell culture dish, catalog number: 153066, manufactured by Thermo Fisher Scientific, diameter: 3.5 cm) with a lid removed is a CVD deposition apparatus (manufactured by ANELVA, model number: PED-401) ). The culture dish is made of plastic (polystyrene), and the bottom surface of the dish is subjected to corona discharge treatment to form a hydrophilic treated surface. The static water contact angle of this hydrophilic treated surface was 64 °. The static water contact angle was determined by measuring within 1 minute after dropping a water droplet from a microsyringe using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science Co., Ltd., CA-Z type).

次いで、気化させたヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)及び酸素を含む混合ガスを、HMDSOの流量が3sccm(Standard cubic centimeter per minute)及び酸素の流量が50sccmとなるようにCVD蒸着装置(製品名:PED−401、ANELVA社製)内に供給し、圧力15Pa、電力100W及び18℃(チラー表示温度)の条件で、10分間化学蒸着反応を行い、ディッシュの底面に酸化ケイ素層が形成された培養用ディッシュ(以下、酸化ケイ素蒸着ディッシュ(1)とも称す)を得た。   Subsequently, the vaporized mixed gas containing hexamethyldisiloxane (HMDSO) and oxygen is converted into a CVD deposition apparatus (product name: PED) so that the flow rate of HMDSO is 3 sccm (Standard cubic centimeter per minute) and the flow rate of oxygen is 50 sccm. -401, manufactured by ANELVA) for chemical cultivation in which a chemical vapor deposition reaction was performed for 10 minutes under the conditions of pressure 15 Pa, power 100 W and 18 ° C. (chiller display temperature), and a silicon oxide layer was formed on the bottom of the dish A dish (hereinafter also referred to as a silicon oxide deposition dish (1)) was obtained.

酸化ケイ素層がディッシュの底面に形成されていることを、FT−IR装置(DIGILAB社製、型番:FTS−7000)を用いて確認した。酸化ケイ素層の赤外吸収スペクトルをFT−IR装置により測定すると、酸化ケイ素の非対称伸縮に由来するピーク(1075cm−1及び1150cm−1)が検出される。図2(A)は、酸化ケイ素層を形成する前のディッシュ底面を測定した結果であり、図2(B)は、酸化ケイ素層を形成した後のディッシュ底面を測定した結果である。図2(B)に示されるように、酸化ケイ素層の存在を示す目的ピークが検出され、ディッシュ底面に酸化ケイ素層が形成されていることがわかる。 It was confirmed using a FT-IR apparatus (manufactured by DIGILAB, model number: FTS-7000) that a silicon oxide layer was formed on the bottom surface of the dish. When the infrared absorption spectrum of the silicon oxide layer is measured by an FT-IR apparatus, peaks (1075 cm −1 and 1150 cm −1 ) derived from asymmetric stretching of silicon oxide are detected. FIG. 2A shows the result of measuring the bottom surface of the dish before forming the silicon oxide layer, and FIG. 2B shows the result of measuring the bottom surface of the dish after forming the silicon oxide layer. As shown in FIG. 2B, a target peak indicating the presence of the silicon oxide layer is detected, and it can be seen that the silicon oxide layer is formed on the bottom of the dish.

また、テープにより仮止めしたシリコンウェハを蒸着装置内に同時に入れておき、蒸着反応後、テープを剥がして現れた蒸着面の段差を触針式段差計DekTakII(製品名、アルバック社製)を用いて3点で測定してその平均値を算出することにより、酸化ケイ素層の膜厚を測定した。酸化ケイ素層の膜厚は、60μmであった。   In addition, a silicon wafer temporarily fixed with a tape is placed in the vapor deposition apparatus at the same time, and after the vapor deposition reaction, the level difference on the vapor deposition surface that appears after peeling off the tape is measured using a stylus type step gauge DekTakII (product name, manufactured by ULVAC). The film thickness of the silicon oxide layer was measured by measuring at three points and calculating the average value. The film thickness of the silicon oxide layer was 60 μm.

次に、酸化ケイ素蒸着ディッシュ(1)の底面に、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(3−MPTS)を用い、以下の手順により、疎水性ポリシロキサン層を形成した。まず、2.0mlのシランカップリング剤(製品名:KBM−503、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学社製)に1.0mlの塩酸(pH2.4)を加え、室温にて10分間撹拌し、加水分解反応を行った。得られた溶液を100mlの2−プロパノール(純正化学社製)に加え、さらに500μlのトリエチルアミン(関東化学社)をそこに加えて撹拌し、シラノール溶液(1)を調製した。次いで、3mlのシラノール溶液(1)を、酸化ケイ素蒸着ディッシュ(1)の底面に塗布し、室温で135分間静置し、縮合反応を行った。ポリシロキサン層を形成した後、純水により表面を洗浄してから窒素エアーブローにより水滴を除去し、その後、80℃のオーブンにて15分間乾燥処理を行った。これにより、酸化ケイ素層の上に疎水性ポリシロキサン層が形成された細胞培養ディッシュ(E1)を作製した。   Next, a hydrophobic polysiloxane layer was formed on the bottom surface of the silicon oxide vapor-deposited dish (1) using 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (3-MPTS) by the following procedure. First, 1.0 ml of hydrochloric acid (pH 2.4) was added to 2.0 ml of a silane coupling agent (product names: KBM-503, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) The mixture was stirred for a minute to conduct a hydrolysis reaction. The obtained solution was added to 100 ml of 2-propanol (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.), and further 500 μl of triethylamine (Kanto Chemical Co., Inc.) was added thereto and stirred to prepare a silanol solution (1). Next, 3 ml of silanol solution (1) was applied to the bottom surface of the silicon oxide vapor-deposited dish (1) and allowed to stand at room temperature for 135 minutes to conduct a condensation reaction. After forming the polysiloxane layer, the surface was washed with pure water, water droplets were removed by nitrogen air blow, and then a drying treatment was performed in an oven at 80 ° C. for 15 minutes. This produced the cell culture dish (E1) in which the hydrophobic polysiloxane layer was formed on the silicon oxide layer.

ポリシロキサン層が形成されているかどうかを確認するために、得られた酸化ケイ素蒸着ディッシュ(1)及び細胞培養ディッシュ(E1)について、XPSによる表面分析を以下の手順に従って行った。まず、ディッシュ底面を超音波カッターにより適当な大きさに切ってサンプルを用意した。次いで、該サンプルについて、X線光電子分析装置(島津製作所社製、製品名:ESCA−3400)を用いて、C1s、O1s、Si2pのそれぞれのスペクトルを取得した。そして、それぞれのスペクトルの面積を計算した上で、その面積比を算出し、比較を行った。図3に、XPS測定による元素比の計算結果を示す。図3に示されるように、C1s、O1s、Si2pの値が酸化ケイ素蒸着ディッシュ(1)及び細胞培養ディッシュ(E1)の間で差があり、酸化ケイ素蒸着ディッシュ(1)の表面にポリシロキサン層が形成されていることが確認された。なお、図3において、エラーバーは標準偏差を示している。   In order to confirm whether or not a polysiloxane layer was formed, surface analysis by XPS was performed on the obtained silicon oxide vapor-deposited dish (1) and cell culture dish (E1) according to the following procedure. First, a sample was prepared by cutting the dish bottom to an appropriate size with an ultrasonic cutter. Subsequently, about this sample, each spectrum of C1s, O1s, and Si2p was acquired using the X-ray photoelectron analyzer (The product name: ESCA-3400 by Shimadzu Corporation Corp.). And after calculating the area of each spectrum, the area ratio was calculated and compared. In FIG. 3, the calculation result of the element ratio by XPS measurement is shown. As shown in FIG. 3, the values of C1s, O1s and Si2p are different between the silicon oxide deposition dish (1) and the cell culture dish (E1), and the polysiloxane layer is formed on the surface of the silicon oxide deposition dish (1). It was confirmed that was formed. In FIG. 3, error bars indicate standard deviation.

(比較例1)
酸化ケイ素層を形成する前の製品である培養用ディッシュ(商品名:NuncTM細胞培養ディッシュ、Thermo Fisher Scientific社製、直径:3.5cm)を細胞培養ディッシュ(C1)とした。
(Comparative Example 1)
A culture dish (trade name: Nunc cell culture dish, manufactured by Thermo Fisher Scientific, diameter: 3.5 cm), which was a product before forming the silicon oxide layer, was used as the cell culture dish (C1).

(比較例2)
実施例1における酸化ケイ素蒸着ディッシュ(1)を細胞培養ディッシュ(C2)とした。
(Comparative Example 2)
The silicon oxide deposition dish (1) in Example 1 was used as the cell culture dish (C2).

(比較例3)
培養用ディッシュ(商品名:NuncTM細胞培養ディッシュ、Thermo Fisher Scientific社製、直径:3.5cm)に酸化ケイ素層を形成せずに上述のシラノール溶液(1)を塗布して疎水性ポリシロキサン層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして、細胞培養ディッシュ(C3)を作製した。換言すると、比較例3では、培養用ディッシュの底面に3mlのシラノール溶液(1)を塗布し、室温で135分間静置し、洗浄及び乾燥処理を行い、細胞培養ディッシュ(C3)を作製した。
(Comparative Example 3)
Hydrophobic polysiloxane layer by applying the above silanol solution (1) to a culture dish (trade name: Nunc cell culture dish, manufactured by Thermo Fisher Scientific, diameter: 3.5 cm) without forming a silicon oxide layer A cell culture dish (C3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the above was formed. In other words, in Comparative Example 3, 3 ml of the silanol solution (1) was applied to the bottom surface of the culture dish, allowed to stand at room temperature for 135 minutes, washed and dried to produce a cell culture dish (C3).

(比較例4)
表面に親水性処理が施されていない未処理の培養用ディッシュ(商品名:NuncTMペトリディッシュ、未処理ポリスチレン、Thermo Fisher Scientific社製、静的水接触角:90°)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして細胞培養ディッシュ(C4)を作製した。
(Comparative Example 4)
Except for using an untreated culture dish (trade name: Nunc Petri dish, untreated polystyrene, manufactured by Thermo Fisher Scientific, static water contact angle: 90 °) whose surface was not subjected to hydrophilic treatment. A cell culture dish (C4) was prepared in the same manner as in Example 1.

実施例1及び比較例1〜4で作製した細胞培養ディッシュ(E1)及び(C1)〜(C4)の層構成の概略図を図4に示す。なお、図4(A)が実施例1の細胞培養ディッシュ(E1)の層構成、図4(B)が比較例1の細胞培養ディッシュ(C1)の層構成、図4(C)が比較例2の細胞培養ディッシュ(C2)の層構成、図4(D)が比較例3の細胞培養ディッシュ(C3)の層構成、図4(E)が比較例4の細胞培養ディッシュ(C4)の層構成を示す。符号1はポリシロキサン層、符号2は酸化ケイ素層、符号3は表面が親水性処理された支持体(ポリスチレン製)、符号4は表面が未処理の支持体(ポリスチレン製)を示す。   A schematic diagram of the layer structure of the cell culture dishes (E1) and (C1) to (C4) prepared in Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 is shown in FIG. 4A is a layer configuration of the cell culture dish (E1) of Example 1, FIG. 4B is a layer configuration of the cell culture dish (C1) of Comparative Example 1, and FIG. 4C is a comparative example. 4 is a layer configuration of the cell culture dish (C3) of Comparative Example 3, and FIG. 4E is a layer of the cell culture dish (C4) of Comparative Example 4. The configuration is shown. Reference numeral 1 denotes a polysiloxane layer, reference numeral 2 denotes a silicon oxide layer, reference numeral 3 denotes a support (made of polystyrene) whose surface is subjected to hydrophilic treatment, and reference numeral 4 denotes a support (made of polystyrene) whose surface is not processed.

<評価1>
得られた細胞培養ディッシュ(E1)及び(C1)〜(C4)を用いて細胞を培養した場合における細胞シートの形成能(細胞増殖能)及び細胞シートの剥離性を以下の手順に従って評価した。
<Evaluation 1>
When the cells were cultured using the obtained cell culture dishes (E1) and (C1) to (C4), the ability to form a cell sheet (cell proliferation ability) and the peelability of the cell sheet were evaluated according to the following procedure.

それぞれの細胞培養ディッシュにマウス線維芽細胞であるHH細胞(接着性細胞)を3〜5×10個播種し、10体積%でウシ胎児血清(FBS)を含むDMEM培地中で、37℃で7〜10日間培養した。そして、細胞シートの形成能及びシートの剥離性について評価した。 Each cell culture dish was seeded with 3 to 5 × 10 5 mouse fibroblast HH cells (adherent cells), and 10% by volume in DMEM medium containing fetal bovine serum (FBS) at 37 ° C. Cultured for 7-10 days. Then, the cell sheet forming ability and the sheet peelability were evaluated.

細胞シートの形成能については、以下の判断基準に従って評価した。
○:細胞が90%コンフルエント状態に達するまで増殖し、細胞シートを形成する。
×:細胞が90%コンフルエント状態に達するまで増殖できない。
なお、90%コンフルエント状態とは、容器の接着面の90%以上が増殖した細胞で覆われている状態を指し、顕微鏡で接着面を観察することにより判断できる。また、顕微鏡でイメージ画像を取得し、ソフトを用いたイメージ解析によっても定量的に判断することができる。なお、90%コンフルエント状態にまで細胞が増殖できれば、必然的に細胞シートが形成されていることになる。
The ability to form cell sheets was evaluated according to the following criteria.
○: The cells proliferate until they reach 90% confluence to form a cell sheet.
×: Cannot proliferate until cells reach 90% confluence.
The 90% confluent state refers to a state in which 90% or more of the adhesion surface of the container is covered with grown cells, and can be determined by observing the adhesion surface with a microscope. It is also possible to quantitatively determine by acquiring an image with a microscope and performing image analysis using software. In addition, if a cell can proliferate to a 90% confluent state, the cell sheet will inevitably be formed.

細胞が90%コンフルエント状態まで増殖し、細胞シートを形成した細胞培養ディッシュについて、細胞シートの剥離性を評価した。細胞シートの剥離性については、以下の判断基準に従って評価した。
A:細胞シートが、ディッシュを揺らすことより、接着面から剥離する。
B:細胞シートをピペッティングによる水流により剥離することができる。
C:細胞シートをピペッティングによる水流により剥離できないが、ピンセットを用いて把持することにより剥離できる。
D:細胞シートをピンセットを用いて把持しても剥離できない。
The peelability of the cell sheet was evaluated for the cell culture dish in which the cells grew to 90% confluence and formed the cell sheet. The peelability of the cell sheet was evaluated according to the following criteria.
A: The cell sheet peels from the adhesive surface by shaking the dish.
B: The cell sheet can be detached by a water flow by pipetting.
C: The cell sheet cannot be peeled off by a water flow by pipetting, but can be peeled off by grasping with a tweezers.
D: Even if the cell sheet is gripped with tweezers, it cannot be peeled off.

結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

Figure 2016214121
Figure 2016214121

実施例1の細胞培養ディッシュ(E1)では、細胞をコンフルエント状態にまで増殖することができ、ディッシュを揺らしただけで、形成された細胞シートが接着面から剥離した。得られた細胞シートの写真を図5に示す。   In the cell culture dish (E1) of Example 1, the cells could be grown to a confluent state, and the formed cell sheet peeled off the adhesive surface only by shaking the dish. A photograph of the obtained cell sheet is shown in FIG.

比較例1の細胞培養ディッシュ(C1)において、細胞が底面に接着して増殖し、90%コンフルエント状態に達したが、細胞シートを接着面から剥離できなかった。   In the cell culture dish (C1) of Comparative Example 1, cells adhered to the bottom surface and proliferated and reached a 90% confluent state, but the cell sheet could not be peeled from the adhesive surface.

図6に、細胞培養ディッシュ(E1)及び(C1)〜(C2)を用いて培養した場合における細胞状態を示す写真を示す。図6の写真に示されるように、実施例1の細胞培養ディッシュ(E1)及び比較例1の細胞培養ディッシュ(C1)では細胞が90%以上のコンフルエント状態に達した。しかし、比較例2の酸化ケイ素層が最表面に存在する細胞培養ディッシュ(C2)においては、培養途中で細胞が死滅し、90%のコンフルエントの状態に至らなかった。図6(C)からも、細胞培養ディッシュ(C2)では、底面に接着した細胞数が細胞培養ディッシュ(E1)や細胞培養ディッシュ(C1)と比較して少ないことがわかる。そのため、最表面に酸化ケイ素層が存在する細胞培養ディッシュは細胞培養に適さないことが示唆された。なお、酸化ケイ素の細胞への毒性を示唆する文献として(Yang et al., Particle and Fiber Toxicology 7巻 1 2010年)が挙げられ、該文献ではSiOのナノ粒子の毒性について言及されている。 In FIG. 6, the photograph which shows the cell state at the time of culture | cultivating using cell culture dish (E1) and (C1)-(C2) is shown. As shown in the photograph of FIG. 6, in the cell culture dish (E1) of Example 1 and the cell culture dish (C1) of Comparative Example 1, the cells reached a confluent state of 90% or more. However, in the cell culture dish (C2) in which the silicon oxide layer of Comparative Example 2 was present on the outermost surface, the cells died during the culture and did not reach 90% confluence. FIG. 6C also shows that in the cell culture dish (C2), the number of cells adhered to the bottom surface is smaller than that in the cell culture dish (E1) and the cell culture dish (C1). Therefore, it was suggested that a cell culture dish having a silicon oxide layer on the outermost surface is not suitable for cell culture. In addition, as a document suggesting the toxicity of silicon oxide to cells (Yang et al., Particle and Fiber Toxicology, Vol. 7, 1 2010), the document mentions the toxicity of SiO 2 nanoparticles.

比較例3の細胞培養ディッシュ(C3)においては、細胞が底面に接着して増殖し、90%以上のコンフルエント状態に達したが、細胞シートをピンセットを用いても剥離できなかった。そのため、親水性処理面を有するプラスチック製の支持体上に単に疎水性ポリシロキサン層を形成しただけでは、良好な細胞シートの剥離性を得ることができないことがわかる。すなわち、良好な細胞シート剥離性を得るためには、酸化ケイ素層が必要となることがわかる。   In the cell culture dish (C3) of Comparative Example 3, the cells grew while adhering to the bottom surface, and reached a confluent state of 90% or more, but the cell sheet could not be peeled off using tweezers. Therefore, it can be seen that it is not possible to obtain good cell sheet detachability simply by forming a hydrophobic polysiloxane layer on a plastic support having a hydrophilic treated surface. That is, it can be seen that a silicon oxide layer is required to obtain good cell sheet peelability.

この理由の推測は以下の通りである。親水性処理面を有する支持体の上に直接疎水性ポリシロキサン層を形成すると、培養液中に含まれるタンパク質が接着面に比較的多く集まり、接着面に対する接着力が比較的強い細胞シートが形成されてしまう。一方、支持体の親水性処理面と疎水性ポリシロキサン層との間に酸化ケイ素層を配置することにより、親水性処理面と接着面との距離を適度に広げることができ、接着面に集まるタンパク質を比較的少なくすることができる。そのため、接着面に対する接着力が比較的弱い細胞シートを形成することができると考えられる。また、酸化ケイ素層がプライマー層としても機能し、疎水性ポリシロキサン層を効率的に高密度に形成することができるため、接着面の疎水性が向上するものと考えられる。以上の理由により、本実施形態の細胞培養容器は、細胞シート形成能及び優れた細胞シートの剥離性を両立できるものと考えられる。なお、以上の理由は推測であり、本発明を制限するものではない。   The reason for this is as follows. When a hydrophobic polysiloxane layer is formed directly on a support having a hydrophilic treatment surface, a relatively large amount of proteins contained in the culture solution gathers on the adhesion surface, and a cell sheet having a relatively strong adhesion to the adhesion surface is formed. Will be. On the other hand, by disposing a silicon oxide layer between the hydrophilic treatment surface of the support and the hydrophobic polysiloxane layer, the distance between the hydrophilic treatment surface and the adhesion surface can be appropriately increased, and gather on the adhesion surface. Protein can be relatively low. Therefore, it is considered that a cell sheet having a relatively weak adhesion to the adhesion surface can be formed. In addition, the silicon oxide layer also functions as a primer layer, and the hydrophobic polysiloxane layer can be efficiently formed at a high density, which is considered to improve the hydrophobicity of the adhesive surface. For the above reasons, it is considered that the cell culture container of the present embodiment can achieve both the cell sheet forming ability and the excellent peelability of the cell sheet. In addition, the above reason is estimation and does not restrict | limit this invention.

比較例4の細胞培養ディッシュ(C4)においては、細胞が接着しなかった。これにより、細胞が接着して増殖するためには、支持体の表面に親水性処理が施されていることが必要であることがわかる。支持体の表面に親水性処理が施されていると、培養液中に含まれるタンパク質などの栄養素を接着面に引きつけ易くなり、形成される細胞シートの細胞接着性を向上できるものと考えられる。   In the cell culture dish (C4) of Comparative Example 4, cells did not adhere. Thereby, in order for a cell to adhere | attach and to proliferate, it turns out that the hydrophilic treatment is required for the surface of the support body. If the surface of the support is subjected to a hydrophilic treatment, nutrients such as proteins contained in the culture solution can be easily attracted to the adhesion surface, and the cell adhesion of the formed cell sheet can be improved.

<評価2>
細胞培養ディッシュに播種する細胞数を増やすことにより、細胞を増殖させなくても細胞シートを回収できるかどうかについて、以下の手順により確認した。
<Evaluation 2>
Whether the cell sheet can be recovered without increasing the number of cells seeded in the cell culture dish was confirmed by the following procedure.

上述の評価1と同じ培養条件で、HH細胞を培養用ディッシュ(Thermo Fisher Scientific社製、商品名:NuncTM細胞培養ディッシュ、直径10cm)中で培養した。次いで、HH細胞をトリプシン処理を施してから回収し、ディッシュの大きさに対して過剰量である2.5×10個のHH細胞を、細胞培養ディッシュ(E1)及び(C1)〜(C4)のそれぞれに播種した。次いで、HH細胞を播種した細胞培養ディッシュ(E1)及び(C1)〜(C4)を37℃でインキュベートし、培養をさらに4日間行った。その後、細胞シートの形成能及び細胞シートの剥離性について、上記判断基準に従って評価した。結果を表2に示す。 Under the same culture conditions as in Evaluation 1 above, HH cells were cultured in a culture dish (manufactured by Thermo Fisher Scientific, trade name: Nunc cell culture dish, diameter 10 cm). Next, the HH cells were collected after trypsin treatment, and 2.5 × 10 6 HH cells, which were in excess of the dish size, were collected from the cell culture dishes (E1) and (C1) to (C4). ). Subsequently, the cell culture dishes (E1) and (C1) to (C4) seeded with HH cells were incubated at 37 ° C., and further cultured for 4 days. Thereafter, the cell sheet forming ability and the cell sheet peelability were evaluated according to the above criteria. The results are shown in Table 2.

Figure 2016214121
Figure 2016214121

また、比較例2の細胞培養ディッシュ(C2)を用いた場合においては、細胞が接着せず、細胞シートが形成されなかった。すなわち、酸化ケイ素層が最表面に存在する細胞培養ディッシュ(C2)を用いた場合は、接着する細胞数が少なくなる傾向が認められた。酸化ケイ素層が最表面に存在する場合は、細胞接着性が低下するものと考えられる。   Further, when the cell culture dish (C2) of Comparative Example 2 was used, the cells did not adhere and a cell sheet was not formed. That is, when the cell culture dish (C2) having the silicon oxide layer on the outermost surface was used, the number of cells to be adhered tended to decrease. When the silicon oxide layer is present on the outermost surface, the cell adhesiveness is considered to decrease.

<評価3>
細胞培養ディッシュ(E1)を用いて評価1で得られた細胞シートについて、該細胞シートを構成する細胞の生死を判定するために、以下の細胞染色による解析を行った。
<Evaluation 3>
The cell sheet obtained in Evaluation 1 using the cell culture dish (E1) was analyzed by the following cell staining in order to determine the viability of the cells constituting the cell sheet.

まず、細胞シートをリン酸緩衝液(PBS)により洗浄した。その後、PBSにより希釈した生細胞を濃度1μg/mlのCalcein−AM(商品名、同仁堂化学社製)で染色し、死細胞を濃度1μg/mlのPI(Propidium Iodide;同仁堂化学社製)で染色し、細胞核を濃度1/1000に希釈したHoechst33342(商品名、Molecular Probes社製)により染色した。染色は、37℃インキュベーター内で15分間静置させることにより行った。染色後、PBSで洗浄し、その後、共焦点顕微鏡(Carl Zeiss社)を用いて観察し、画像を取得した。   First, the cell sheet was washed with a phosphate buffer (PBS). Thereafter, live cells diluted with PBS are stained with Calcein-AM (trade name, manufactured by Dojindo Chemical Co., Ltd.) at a concentration of 1 μg / ml, and dead cells are stained with PI (Propidium Iodide; manufactured by Dojindo Chemical Co., Ltd.) at a concentration of 1 μg / ml. The cell nuclei were stained with Hoechst 33342 (trade name, manufactured by Molecular Probes) diluted to a 1/1000 concentration. Staining was performed by allowing to stand in a 37 ° C. incubator for 15 minutes. After staining, the plate was washed with PBS, and then observed with a confocal microscope (Carl Zeiss) to obtain an image.

図7に、取得した画像を示す。図7(A)はCalcein−AMにより染色した生細胞の画像であり、図7(B)はPIにより染色した死細胞の画像であり、図7(C)はHoechstにより染色した細胞核の画像である。図7(D)はこれら3つの画像を重ね合わせた画像であり、図7(D)より、図7(A)の生細胞と図7(C)の細胞核が重なっていることがわかる。この結果より、得られた細胞シートは、多くの生細胞から構成されており、細胞死のために浮遊した構造物では無いことが証明された。   FIG. 7 shows the acquired image. Fig. 7 (A) is an image of a living cell stained with Calcein-AM, Fig. 7 (B) is an image of a dead cell stained with PI, and Fig. 7 (C) is an image of a cell nucleus stained with Hoechst. is there. FIG. 7D is an image obtained by superimposing these three images. From FIG. 7D, it can be seen that the living cells in FIG. 7A and the cell nuclei in FIG. 7C overlap. From this result, it was proved that the obtained cell sheet was composed of many living cells and was not a floating structure due to cell death.

(実施例2)
シランカップリング剤(製品名:KBM−503、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学社製)の代わりにシランカップリング剤(製品名:A−187、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、モメンティブパフォーマンスマテリアル社製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、細胞培養ディッシュ(E2)を作製した。
(Example 2)
A silane coupling agent (product name: A-187, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane) instead of a silane coupling agent (product name: KBM-503, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) A cell culture dish (E2) was produced in the same manner as in Example 1 except that Momentive Performance Material was used.

(実施例3)
シランカップリング剤(製品名:KBM−503、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学社製)の代わりにシランカップリング剤(製品名:KBM−5103、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学社製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、細胞培養ディッシュ(E3)を作製した。
Example 3
Instead of a silane coupling agent (product name: KBM-503, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), a silane coupling agent (product name: KBM-5103, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, A cell culture dish (E3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

(比較例5)
シランカップリング剤(製品名:KBM−503、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学社製)の代わりにアミノシランであるシランカップリング剤(製品名:KBM−903、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学社製)を用いて細胞培養ディッシュ(C5)を作製した。比較例5では、加水分解処理は行わず、1mlの上記アミノシランを撹拌下の50mlの2−プロパノールに滴下し、さらに250μlのトリエチルアミンを添加し、シラノール溶液を調製した。次いで、実験例1と同様にして、3mlのシラノール溶液を酸化ケイ素層蒸着ディッシュ(1)の底面に塗布し、室温で135分間静置し、縮合反応を行った。反応後、洗浄、乾燥工程を行い、細胞培養ディッシュ(C5)を作製した。
(Comparative Example 5)
A silane coupling agent (product name: KBM-903, 3-aminopropyltrimethoxy) which is an aminosilane instead of a silane coupling agent (product name: KBM-503, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) A cell culture dish (C5) was prepared using Silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). In Comparative Example 5, 1 ml of the above aminosilane was added dropwise to 50 ml of 2-propanol with stirring, and 250 μl of triethylamine was further added to prepare a silanol solution. Next, in the same manner as in Experimental Example 1, 3 ml of a silanol solution was applied to the bottom surface of the silicon oxide layer deposition dish (1) and allowed to stand at room temperature for 135 minutes to perform a condensation reaction. After the reaction, washing and drying steps were performed to prepare a cell culture dish (C5).

なお、上記アミノシランにより形成されるポリシロキサン層の表面は親水性となる。
また、細胞培養ディッシュ(E2)〜(E3)及び(C5)において酸化ケイ素層の表面にポリシロキサン層が形成されていることを、実施例1と同じように、XPS測定によって確認した。
In addition, the surface of the polysiloxane layer formed of the aminosilane is hydrophilic.
Further, as in Example 1, it was confirmed by XPS measurement that a polysiloxane layer was formed on the surface of the silicon oxide layer in the cell culture dishes (E2) to (E3) and (C5).

<評価4>
上述の評価1に記載の方法に従い、細胞シートの形成能及び細胞シートの剥離性について評価した。結果を表3に示す。
<Evaluation 4>
According to the method described in Evaluation 1 above, the cell sheet forming ability and the cell sheet peelability were evaluated. The results are shown in Table 3.

Figure 2016214121
Figure 2016214121

これらの実施例2〜3及び比較例5より、疎水性ポリシロキサン層により細胞シートの剥離性を向上することができることがわかる。   From these Examples 2-3 and Comparative Example 5, it can be seen that the release property of the cell sheet can be improved by the hydrophobic polysiloxane layer.

<実施例4〜10>
CVD反応時間を調整して所定の膜厚を有する酸化ケイ素層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして、細胞培養ディッシュ(E4)〜(E10)を作製した。なお、実施例8は実施例1に相当する。
<評価5>
また、作製した細胞培養ディッシュ(E4)〜(E10)について、上述の評価1に従って細胞シートの形成能及び細胞シートの剥離性について評価した。結果を表4に示す。
<Examples 4 to 10>
Cell culture dishes (E4) to (E10) were produced in the same manner as in Example 1 except that the silicon oxide layer having a predetermined film thickness was formed by adjusting the CVD reaction time. Example 8 corresponds to Example 1.
<Evaluation 5>
In addition, the formed cell culture dishes (E4) to (E10) were evaluated for the ability to form a cell sheet and the peelability of the cell sheet according to Evaluation 1 described above. The results are shown in Table 4.

Figure 2016214121
Figure 2016214121

以上の結果より、酸化ケイ素層の厚さは、10μm以上120μm以下であることが好ましく、15μm以上70μm以下であることがより好ましい。   From the above results, the thickness of the silicon oxide layer is preferably 10 μm or more and 120 μm or less, and more preferably 15 μm or more and 70 μm or less.

<評価6>
また、別に、実施例4、5及び9の酸化ケイ素層の形成工程まで行ったディッシュをそれぞれ作製し、得られたサンプルについてX線光電子分析装置(島津製作所社製、製品名:ESCA−3400)を用いて、C1s、O1s、Si2pのそれぞれのスペクトルを取得した。図8にその結果を示し、それぞれのサンプル表面において膜組成の有意な差は見られなかった。
<Evaluation 6>
Separately, dishes that were made up to the steps of forming the silicon oxide layers of Examples 4, 5 and 9 were prepared, and X-ray photoelectron analyzers (manufactured by Shimadzu Corporation, product name: ESCA-3400) were obtained for the obtained samples. Each spectrum of C1s, O1s, and Si2p was acquired using. The results are shown in FIG. 8, and no significant difference in film composition was observed on each sample surface.

<実施例11>
細胞培養ディッシュ(1)に、ウシ血管内皮細胞のB23細胞(接着性細胞)を3×10個播種し、10体積%でウシ胎児血清(FBS)を含むDMEM培地中で、37℃で培養した。その結果、7日間の培養により90%にコンフルエント状態に達した。形成された細胞シートは容易に剥離できた。
<Example 11>
The cell culture dish (1) is seeded with 3 × 10 5 bovine vascular endothelial B23 cells (adherent cells) and cultured at 37 ° C. in DMEM medium containing 10% by volume of fetal bovine serum (FBS). did. As a result, it reached 90% confluence after 7 days of culture. The formed cell sheet could be easily detached.

1 疎水性ポリシロキサン層
2 酸化ケイ素層
3 支持体(表面処理済)
4 支持体(表面未処理)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hydrophobic polysiloxane layer 2 Silicon oxide layer 3 Support body (surface-treated)
4 Support (untreated surface)

Claims (7)

親水性処理面を有するプラスチックを含む支持体と、
前記支持体の親水性処理面の上に配置された酸化ケイ素層と、
該酸化ケイ素層の上に配置された疎水性ポリシロキサン層と、
を含む細胞培養容器。
A support comprising a plastic having a hydrophilic treated surface;
A silicon oxide layer disposed on the hydrophilic treated surface of the support;
A hydrophobic polysiloxane layer disposed on the silicon oxide layer;
A cell culture vessel.
前記疎水性ポリシロキサン層は、下記式(1)で表されるケイ素化合物を用いて形成される、請求項1に記載の細胞培養容器;
(R(R4−p−qSi(Y) ・・・・(1)
(式(1)中、Yは、独立に、加水分解によりシラノール基を生成可能な基であり、pは1又は2であり、qは2又は3であり、p+qは3又は4であり、Rは、独立に、ケイ素原子に直結した炭素原子を含み且つ疎水性基を含む有機基であり、Rはケイ素原子に直結した炭素原子を含む有機基である)。
The cell culture container according to claim 1, wherein the hydrophobic polysiloxane layer is formed using a silicon compound represented by the following formula (1).
(R 1 ) p (R 2 ) 4-pq Si (Y) q (1)
(In formula (1), Y is independently a group capable of generating a silanol group by hydrolysis, p is 1 or 2, q is 2 or 3, and p + q is 3 or 4. R 1 is independently an organic group containing a carbon atom directly attached to a silicon atom and containing a hydrophobic group, and R 2 is an organic group containing a carbon atom directly attached to a silicon atom).
疎水性基が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、フェニル基、グリシドキシ基、エポキシ基、又はエポキシシクロヘキシル基である、請求項2に記載の細胞培養容器。   Hydrophobic group is methyl, ethyl, propyl, butyl, vinyl, styryl, acryloyl, methacryloyl, acryloyloxy, methacryloyloxy, phenyl, glycidoxy, epoxy, or epoxycyclohexyl The cell culture container according to claim 2, wherein 前記酸化ケイ素層の厚さが1μm以上350μm以下である、請求項1乃至3のいずれかに記載の細胞培養容器。   The cell culture container according to any one of claims 1 to 3, wherein the silicon oxide layer has a thickness of 1 µm to 350 µm. 前記酸化ケイ素層の厚さが10μm以上120μm以下である、請求項1乃至3のいずれかに記載の細胞培養容器。   The cell culture container according to any one of claims 1 to 3, wherein a thickness of the silicon oxide layer is 10 µm or more and 120 µm or less. 前記酸化ケイ素層が化学蒸着法により形成される、請求項1乃至5のいずれかに記載の細胞培養容器。   The cell culture container according to claim 1, wherein the silicon oxide layer is formed by a chemical vapor deposition method. 請求項1乃至6のいずれかに記載の細胞培養容器を用いて細胞シートを製造する方法。

The method to manufacture a cell sheet using the cell culture container in any one of Claims 1 thru | or 6.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101754153B1 (en) 2017-02-23 2017-07-06 한국해양바이오클러스터 주식회사 A culture device for improving the recovery of bacteria of odorless microorganisms and a method for producing the same
WO2018181760A1 (en) * 2017-03-30 2018-10-04 大阪ガスケミカル株式会社 Cell culturing substrate, production method therefor, and method for culturing cells
KR102632873B1 (en) * 2023-05-02 2024-02-06 호서대학교 산학협력단 Cell culture ware with improved cell culture performance

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