JP2016204636A - Zwitterion type borate salt and curable resin composition containing the same - Google Patents

Zwitterion type borate salt and curable resin composition containing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2016204636A
JP2016204636A JP2016063049A JP2016063049A JP2016204636A JP 2016204636 A JP2016204636 A JP 2016204636A JP 2016063049 A JP2016063049 A JP 2016063049A JP 2016063049 A JP2016063049 A JP 2016063049A JP 2016204636 A JP2016204636 A JP 2016204636A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
synthesis
compound
borate salt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016063049A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
篤志 白石
Atsushi Shiraishi
篤志 白石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Chemical Industries Ltd filed Critical Sanyo Chemical Industries Ltd
Publication of JP2016204636A publication Critical patent/JP2016204636A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Polyamides (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a borate salt excellent in stability and excellent in solubility to a curable resin or a polymerizable monomer when blended with the curable resin or the polymerizable monomer.SOLUTION: A zwitterion type borate salt represented by the general formula (1) and curable resin composition containing the zwitterion type borate salt and a curable compound are used. In general formula (1), Y is preferably a group represented by the general formula (2) or a group represented by the general formula (3), Ris preferably an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. The curable compound is a compound (J) having two or more glycidyl groups in a molecule and, preferably, further contains a compound (K) having two or more active hydrogen-containing groups in a molecule or acid anhydride (L).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、両性イオン型ボレート塩に関する。さらに詳しくは加熱または光照射によって硬化させる材料、例えば光照射によって硬化させた場合に露光部と未露光部の現像液への溶解性差を利用してパターン等を形成する製品及び部材(例えば、電子部品、光学製品、光学部品の形成材料、層形成材料または接着剤等)等の製造に好適に用いられる両性イオン型ボレート塩、及びこれを含んでなる低温硬化性に優れる硬化性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to zwitterionic borate salts. More specifically, materials and materials that are cured by heating or light irradiation, such as products and members that form a pattern or the like using the difference in solubility in the developer between the exposed and unexposed areas when cured by light irradiation (for example, electronic Parts, optical products, optical component forming materials, layer forming materials, adhesives, etc.) and the like, and a curable resin composition excellent in low-temperature curability comprising the same .

エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂と架橋剤からなる硬化性組成物はIC封止材料等の電気・電子材料として用いられており、硬化に用いる触媒としてはイミダゾール及びアミジン等のアニオン硬化触媒が用いられており、硬化性の優れた触媒は安定性を確保するために冷蔵保管する必要があった。
硬化性と保存性に優れたアニオン潜在性触媒として、ボレート塩として一分子中にホスホニウムカチオンとホウ素アニオンとを有する両性ボレート塩が知られている(特許文献1参照)。
A curable composition comprising a thermosetting resin such as an epoxy resin and a crosslinking agent is used as an electric / electronic material such as an IC sealing material, and an anion curing catalyst such as imidazole or amidine is used as a catalyst for curing. Therefore, a catalyst having excellent curability has to be stored refrigerated in order to ensure stability.
As an anion latent catalyst excellent in curability and storage stability, an amphoteric borate salt having a phosphonium cation and a boron anion in one molecule is known as a borate salt (see Patent Document 1).

しかしながら、特許文献1に記載のボレート塩は硬化性樹脂や重合性モノマーと配合させた場合に硬化性樹脂や重合性モノマーへの溶解性が低いことや、感光性ポリイミドに環化反応によるイミド化反応を十分に進行させるには300℃以上の温度での加熱が必要となりポリイミド膜のクラックの発生が問題となる場合があった。   However, the borate salt described in Patent Document 1 has low solubility in a curable resin or a polymerizable monomer when mixed with a curable resin or a polymerizable monomer, or imidization by a cyclization reaction into a photosensitive polyimide. In order to sufficiently advance the reaction, heating at a temperature of 300 ° C. or higher is required, and the occurrence of cracks in the polyimide film sometimes becomes a problem.

特開2000−128912号公報JP 2000-128912 A

本発明の目的は、安定性に優れ、硬化性樹脂や重合性モノマーと配合させた場合の硬化性樹脂や重合性モノマーへの溶解性に優れたボレート塩を提供すること、従来よりも低い温度で反応が進行して良好なパターン形成性を有する硬化性樹脂組成物を提供することことにある。   An object of the present invention is to provide a borate salt that is excellent in stability and has excellent solubility in a curable resin or a polymerizable monomer when blended with a curable resin or a polymerizable monomer, and at a lower temperature than before. It is to provide a curable resin composition having a good pattern forming property due to the progress of the reaction.

本発明者は、前記問題点を解決すべく鋭意検討の結果、新規なボレート塩を見出すに至った。
すなわち本発明は、一般式(1)で表される両性イオン型ボレート塩及び前記両性イオン型ボレート塩と硬化性化合物を含む硬化性樹脂組成物である。
[式(1)中、Rはそれぞれ独立して、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数2〜18のアルキニル基、炭素数7〜24のアラルキル基若しくは炭素数6〜18のアリール基又はこれらの基が有する少なくとも一つの水素原子が酸素原子を有する基、硫黄原子を有する基、窒素原子を有する基若しくはハロゲノ基で置換された基であり、Aは4価共有結合窒素原子を有する基であり、Bはアニオン性ホウ素原子であり、YはAが有する4価共有結合窒素原子とアニオン性ホウ素原子とを結合する二価の有機基である。]
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found a new borate salt.
That is, this invention is a curable resin composition containing the zwitterionic borate salt represented by the general formula (1) and the zwitterionic borate salt and a curable compound.
[In formula (1), each R 1 is independently an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 24 carbon atoms. Or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms or a group in which at least one hydrogen atom of these groups has an oxygen atom, a group having a sulfur atom, a group having a nitrogen atom, or a halogeno group, + Is a group having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom, B is an anionic boron atom, and Y is a divalent organic group that bonds a tetravalent covalently bonded nitrogen atom and an anionic boron atom that A + has. It is. ]

本発明により得られるボレート塩は硬化性樹脂や重合性モノマーと配合させた場合の貯蔵安定性・溶解性に優れ、加熱または光照射によって硬化させる場合優れた硬化性を示し、これを含む硬化性樹脂組成物は、従来よりも低い温度で反応が進行して優れたパターン形成性を有する。   The borate salt obtained by the present invention is excellent in storage stability and solubility when blended with a curable resin or a polymerizable monomer, and exhibits excellent curability when cured by heating or light irradiation, and includes such curability. The resin composition has an excellent pattern forming property because the reaction proceeds at a temperature lower than conventional ones.

本発明のボレート塩は一般式(1)で表される。   The borate salt of the present invention is represented by the general formula (1).

はそれぞれ独立して、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数2〜18のアルキニル基、炭素数7〜24のアラルキル基若しくは炭素数6〜18のアリール基又はこれらの基が有する少なくとも一つの水素原子が酸素原子を有する基、硫黄原子を有する基、窒素原子を有する基若しくはハロゲノ基で置換された基であり、Aは4価共有結合窒素原子を有する基であり、Bはアニオン性ホウ素原子であり、YはAが有する4価共有結合窒素原子とアニオン性ホウ素原子とを結合する二価の有機基である。 Each R 1 is independently an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 24 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms. An aryl group or at least one hydrogen atom of these groups is a group having an oxygen atom, a group having a sulfur atom, a group having a nitrogen atom or a group substituted with a halogeno group, and A + is a tetravalent covalently bonded nitrogen A group having an atom, B is an anionic boron atom, and Y is a divalent organic group for bonding a tetravalent covalently bonded nitrogen atom and an anionic boron atom of A + .

炭素数1〜18のアルキル基としては、直鎖アルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基及びn−オクタデシル基等)、分岐アルキル基(イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基及び1,1,3,3−テトラメチルブチル基等)、シクロアルキル基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等)及び架橋環式アルキル基(ノルボルニル基、アダマンチル基及びピナニル基等)等が挙げられる。中でも好ましくは原料の入手しやすさ等の観点から、メチル基、エチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基である。   Examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include linear alkyl groups (methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-decyl group). Group, n-dodecyl group, n-tetradecyl group, n-hexadecyl group, n-octadecyl group, etc.), branched alkyl group (isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group and 1,1,3,3-tetramethylbutyl group), cycloalkyl group (cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.) and bridged cyclic Examples thereof include an alkyl group (such as a norbornyl group, an adamantyl group, and a pinanyl group). Of these, methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, n-octyl, isopropyl, sec-butyl, tert-butyl, neopentyl are preferred from the viewpoint of availability of raw materials. , A cyclopentyl group and a cyclohexyl group.

炭素数2〜18のアルケニル基としては、直鎖又は分岐のアルケニル基(ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基及び2−メチル−2−プロペニル基等)、シクロアルケニル基(2−シクロヘキセニル基及び3−シクロヘキセニル基等)及びアリールアルケニル基(スチリル基及びシンナミル基等)が挙げられる。中でも好ましくは原料入手しやすさ等の観点から、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、3−シクロヘキセニル基、スチリル基及びシンナミル基である。   Examples of the alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms include linear or branched alkenyl groups (vinyl group, allyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group and 2-methyl-2-propenyl group), cycloalkenyl groups (2-cyclohexenyl group and 3- Cyclohexenyl group, etc.) and arylalkenyl groups (styryl group, cinnamyl group, etc.). Among these, a vinyl group, an allyl group, a 1-propenyl group, a 1-butenyl group, a 3-cyclohexenyl group, a styryl group, and a cinnamyl group are preferable from the viewpoint of easy availability of raw materials.

炭素数2〜18のアルキニル基としては、直鎖又は分岐のアルキニル基(エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1,1−ジメチル−2−プロピニル基、1−ぺンチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−メチル−2−ブチニル基、3−メチル−1−ブチニル基、1−ヘキシニル基、1−デシニル基、2−デシニル基、8−デシニル基、1−ドデシニル基、2−ドデシニル基及び10−ドデシニル基
等)及びアリールアルキニル基(フェニルエチニル基等)等が挙げられる。中でも好ましくは原料の入手しやすさ等の観点から、1−プロピニル基、1−ブチニル基、1−ヘキシニル基及びフェニルエチニル基である。
Examples of the alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms include linear or branched alkynyl groups (ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-methyl 2-propynyl group, 1,1-dimethyl-2-propynyl group, 1-pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-methyl-2-butynyl group, 3-methyl -1-butynyl group, 1-hexynyl group, 1-decynyl group, 2-decynyl group, 8-decynyl group, 1-dodecynyl group, 2-dodecynyl group and 10-dodecynyl group) and arylalkynyl groups (phenylethynyl group) Etc.). Among these, 1-propynyl group, 1-butynyl group, 1-hexynyl group and phenylethynyl group are preferable from the viewpoint of easy availability of raw materials.

炭素数6〜18のアリール基としては、単環式アリール基(フェニル基等)、縮合多環式アリール基(ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、アントラキノリル基、フルオレニル基及びナフトキノリル基等)、芳香族複素環炭化水素基[単環式複素環炭化水素基(チエニル基、フラニル基、ピラニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基及びピラジニル基等)並びに縮合多環式複素環炭化水素基(インドリル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、イソベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、アクリジニル基、フェノチアジニル基、フェナジニル基、キサンテニル基、チアントレニル基、フェノキサジニル基、フェノキサチイニル基、クロマニル基、イソクロマニル基、クマリニル基、ジベンゾチエニル基、キサントニル基、チオキサントニル基及びジベンゾフラニル基等)]等が挙げられる。中でも好ましくは原料の入手しやすさ等の観点から、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、チエニル基、ピリジル基、インドリル基、キノリル基、キノキサリニル基、カルバゾリル基、キサンテニル基、チアントレニル基、クマリニル基、キサントニル基及び、チオキサントニル基である。   Examples of the aryl group having 6 to 18 carbon atoms include monocyclic aryl groups (such as phenyl groups), condensed polycyclic aryl groups (such as naphthyl group, anthracenyl group, phenanthrenyl group, anthraquinolyl group, fluorenyl group, and naphthoquinolyl group), aromatic Heterocyclic hydrocarbon groups [monocyclic heterocyclic hydrocarbon groups (thienyl group, furanyl group, pyranyl group, pyrrolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, pyridyl group, pyrimidyl group and pyrazinyl group, etc.) and condensed polycyclic heterocycles Ring hydrocarbon group (indolyl group, benzofuranyl group, isobenzofuranyl group, benzothienyl group, isobenzothienyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, quinoxalinyl group, quinazolinyl group, carbazolyl group, acridinyl group, phenothiazinyl group, phenazinyl group , Xanthenyl group, thiantenyl group, Nokisajiniru group, phenoxathiinyl group, chromanyl group, isochromanyl group, coumarinyl group, dibenzothienyl group, Kisantoniru group, Chiokisantoniru group and dibenzofuranyl group)], and the like. Among them, from the viewpoint of availability of raw materials, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, thienyl group, pyridyl group, indolyl group, quinolyl group, quinoxalinyl group, carbazolyl group, xanthenyl group, thiantenyl group, coumarinyl group, A xanthonyl group and a thioxanthonyl group.

炭素数7〜24のアラルキル基としては、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニルプロピル基、2−フェニルプロピル基、3−フェニルプロピル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、9−アントラセニルメチル基、9−アントラセニルエチル基、2−チアントレニルエチル基、3−チオキサントニルメチル基、3−チオキサントニルエチル基、3−カルバゾリルメチル基及び3−カルバゾリルエチル基等が挙げられる。中でも好ましくは原料の入手しやすさ等の観点から、ベンジル基、2−フェニルエチル基、2−フェニルプロピル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、9−アントラセニルメチル基、2−チアントレニルエチル基、3−チオキサントニルメチル基及び3−カルバゾリルエチル基である。   Examples of the aralkyl group having 7 to 24 carbon atoms include benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylpropyl group, 2-phenylpropyl group, 3-phenylpropyl group, 1-naphthylmethyl group, 2-naphthylmethyl group, 9-anthracenylmethyl group, 9-anthracenylethyl group, 2-thanthrenylethyl group, 3-thioxanthonylmethyl group, 3-thioxanthonylethyl group, 3-carbazolyl And a rumethyl group and a 3-carbazolylethyl group. Of these, from the viewpoint of easy availability of raw materials, benzyl group, 2-phenylethyl group, 2-phenylpropyl group, 1-naphthylmethyl group, 2-naphthylmethyl group, 9-anthracenylmethyl group, 2 -Thiantenylethyl group, 3-thioxanthonylmethyl group and 3-carbazolylethyl group.

これらの基が有する少なくとも1つの水素原子を置換する硫黄原子を有する基、酸素原子を有する基、窒素原子を有する基及びハロゲノ基のうち、硫黄原子を有する基、酸素原子を有する基及び窒素原子を有する基としては、ニトロ基(−NO)、水酸基(−OH)、シアノ基(−CN)、アミノ基(−NH)、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数2〜15のアシル基、炭素数2〜15のアシロキシ基、炭素数1〜8のアルキルチオ基、炭素数6〜14のアリールチオ基及び炭素数1〜28の置換アミノ基が挙げられる。 Among these groups, a group having a sulfur atom, a group having an oxygen atom, a group having a nitrogen atom, and a halogeno group among those having a sulfur atom replacing at least one hydrogen atom of these groups, a group having a sulfur atom, a group having an oxygen atom, and a nitrogen atom As the group having nitro group (—NO 2 ), hydroxyl group (—OH), cyano group (—CN), amino group (—NH 2 ), C 1-8 alkoxy group, C 6-14 carbon group, An aryloxy group, an acyl group having 2 to 15 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 15 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms, an arylthio group having 6 to 14 carbon atoms, and a substituted amino group having 1 to 28 carbon atoms. Can be mentioned.

水素原子を置換する酸素原子を有する基である炭素数1〜8のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペントキシ基、iso−ペントキシ基、neo−ペントキシ基及び2−メチルブトキシ基等が挙げられる。
炭素数6〜14のアリールオキシ基としては、フェノキシ基及びナフトキシ基等が挙げられる。
Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, which is a group having an oxygen atom replacing a hydrogen atom, include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, and a tert. -Butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, 2-methylbutoxy group and the like.
Examples of the aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms include a phenoxy group and a naphthoxy group.

水素原子を置換する酸素原子を有する基である炭素数2〜15のアシル基としては、炭素数1〜8のアルキル基を有するアシル基及び炭素数6〜14のアリール基を有するアシル基等が挙げられる。
炭素数1〜8のアルキル基を有するアシル基としては、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基及びピバロイル基等が挙げられ、炭素数6〜14のアリール基を有するアシル基としては、ベンゾイル基等が挙げられる。
Examples of the acyl group having 2 to 15 carbon atoms, which is a group having an oxygen atom replacing a hydrogen atom, include an acyl group having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and an acyl group having an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Can be mentioned.
Examples of the acyl group having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group and a pivaloyl group. Examples of the acyl group having an aryl group having 6 to 14 carbon atoms include a benzoyl group. Can be mentioned.

水素原子を置換する酸素原子を有する基である炭素数2〜15のアシロキシ基としては、炭素数1〜8のアルキル基を有するアシロキシ基及び炭素数6〜14のアリール基を有するアシロキシ基等が挙げられる。
炭素数1〜8のアルキル基を有するアシロキシ基としては、アセトキシ基及びブタノイルオキシ基等が挙げられ、炭素数6〜14のアリール基を有するアシロキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the acyloxy group having 2 to 15 carbon atoms, which is a group having an oxygen atom replacing a hydrogen atom, include an acyloxy group having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and an acyloxy group having an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Can be mentioned.
Examples of the acyloxy group having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include an acetoxy group and a butanoyloxy group. Examples of the acyloxy group having an aryl group having 6 to 14 carbon atoms include a benzoyloxy group.

水素原子を置換する硫黄原子を有する基である炭素数1〜8のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ヘキシルチオ基及びシクロヘキシルチオ基等が挙げられる。
炭素数6〜14のアリールチオ基としては、フェニルチオ基及びナフチルチオ基等が挙げられる。
As a C1-C8 alkylthio group which is a group which has a sulfur atom which substitutes a hydrogen atom, a methylthio group, an ethylthio group, a butylthio group, a hexylthio group, a cyclohexylthio group, etc. are mentioned.
Examples of the arylthio group having 6 to 14 carbon atoms include a phenylthio group and a naphthylthio group.

水素原子を置換する窒素原子を有する基である炭素数1〜28の置換アミノ基の好ましいものとしては、炭素数1〜8のアルキル基が結合したジアルキルアミノ基(ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基及びジブチルアミノ基等)、炭素数1〜8のアルキル基が結合したアルキルアミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ヘキシルアミノ基及びシクロヘキシルアミノ基等)並びに炭素数2〜8の2価の炭化水素基が結合した環状アミノ基(ピペリジノ基及びモルホリノ基等)等が挙げられる。   Preferred examples of the substituted amino group having 1 to 28 carbon atoms, which is a group having a nitrogen atom for substituting a hydrogen atom, include dialkylamino groups (dimethylamino group, diethylamino group, methyl group to which an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is bonded. An ethylamino group, a dipropylamino group, a dibutylamino group, etc.), an alkylamino group to which an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is bonded (methylamino group, ethylamino group, propylamino group, hexylamino group, cyclohexylamino group, etc.) And a cyclic amino group (piperidino group, morpholino group, etc.) to which a divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms is bonded.

水素原子を置換するハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基及びヨード基等が挙げられる。   Examples of the halogeno group that replaces a hydrogen atom include a fluoro group, a chloro group, a bromo group, and an iodo group.

これら酸素原子有する基、硫黄原子有する基、窒素原子を有する基及びハロゲノ基のうち、水素原子を置換する基としては、両性イオン型ボレート塩の溶剤溶解性の観点から、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜8のアルキルチオ基、炭素数6〜14のアリールチオ基、炭素数1〜28の置換アミノ基、フルオロ基、クロロ基及びブロモ基が好ましい。
更に好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、炭素数1〜4のアルキルチオ基、炭素数1〜8のアルキル基が結合したアルキルアミノ基、2価の炭化水素基が結合した環状アミノ基、フルオロ基、クロロ基及びブロモ基であり、特に好ましくはメトキシ基、エトキシ基、n−ブトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、フルオロ基、クロロ基及びブロモ基である。
Among these groups having an oxygen atom, a group having a sulfur atom, a group having a nitrogen atom, and a halogeno group, the group substituting for a hydrogen atom has 1 to 8 carbon atoms from the viewpoint of solvent solubility of the zwitterionic borate salt. An alkoxy group, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms, an arylthio group having 6 to 14 carbon atoms, a substituted amino group having 1 to 28 carbon atoms, a fluoro group, a chloro group, and a bromo group; preferable.
More preferably, it is an alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a divalent carbonization. A cyclic amino group to which a hydrogen group is bonded, a fluoro group, a chloro group and a bromo group, particularly preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-butoxy group, a phenoxy group, a naphthoxy group, a methylthio group, an ethylthio group, a butylthio group, a phenylthio group Group, naphthylthio group, dimethylamino group, diethylamino group, dibutylamino group, piperidino group, morpholino group, fluoro group, chloro group and bromo group.

は4価共有結合窒素原子を有する基を表し、以下のものが挙げられる。 A + represents a group having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom, and examples thereof include the following.

アンモニオ基(アンモニオ基、ブチルアンモニオ基、オクチルアンモニオ基、ジメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、ジイソプロピルエチルアンモニオ及びフェニルジメチルアンモニオ基等);
ピロリジニオ基(N−メチルピロリジニオ基、N−メチル−2,5−ジメチルピロリジニオ基及びN−エチルピロリジニオ基等);
ピペリジニオ基(N−メチルピペリジニオ基、N−メチル−2,6−ジメチルピペリジニオ基およびN−エチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニオ基等);
キヌクリジニオ基(キヌクリジニオ基及び3−ヒドロキシキヌクリジニオ基等);
モルホリニオ基(N−メチルモルホリニオ基等);
イミダゾリニオ基(N−メチルイミダゾリニオ基及びN−エチルイミダゾリニオ基等)

アミジニオ基(N−メチルテトラヒドロピリミジニオ基、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニオ基及び1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネニオ基等);
グアニジオ基(ペンタメチルグアニジオ基及び2−tert−ブチル−1,1,3,3−テトラメチルグアニジオ基、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセニオ基、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセニオ基等);
イミダゾリオ基(N−メチルイミダゾリオ基及びN−エチルイミダゾリオ基等);
チアゾニオ基(ベンゾチアゾニオ基等);
ピリジニオ基(ピリジニオ基、4,4−ジメチルアミノピリジニオ基、4−オクチルピリジニオ基等);
キノリニオ基(キノリニオ基等);
イソキノリニオ基(イソキノリニオ基等);
アクリジオ基(アクリジオ基等)。
Ammonio group (ammonio group, butylammonio group, octylammonio group, dimethylammonio group, triethylammonio group, diisopropylethylammonio group, phenyldimethylammonio group, etc.);
Pyrrolidinio group (N-methylpyrrolidinio group, N-methyl-2,5-dimethylpyrrolidinio group, N-ethylpyrrolidinio group, etc.);
Piperidinio groups (N-methylpiperidinio group, N-methyl-2,6-dimethylpiperidinio group, N-ethyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidinio group, etc.);
Quinuclidinio groups (such as quinuclidinio groups and 3-hydroxyquinuclidinio groups);
Morpholinio group (N-methylmorpholinio group etc.);
Imidazolinio groups (N-methylimidazolinio group, N-ethylimidazolinio group, etc.)
;
Amidinio group (N-methyltetrahydropyrimidinio group, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenio group, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonenio group, etc.);
Guanidio group (pentamethyl guanidio group and 2-tert-butyl-1,1,3,3-tetramethylguanio group, 1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] -5 Decenio group, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] -5-decenio group, etc.);
An imidazolio group (N-methylimidazolio group, N-ethylimidazolio group and the like);
Thiazonio group (benzothiazonio group, etc.);
Pyridinio group (pyridinio group, 4,4-dimethylaminopyridinio group, 4-octylpyridinio group, etc.);
A quinolinio group (such as a quinolinio group);
Isoquinolinio group (isoquinolinio group etc.);
Acridio group (acridio group etc.).

これらアンモニウム基の中でも、アンモニオ基、アルキルアンモニオ基(ブチルアンモニオ基、オクチルアンモニオ基、ジメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、ジイソプロピルエチルアンモニオ及びフェニルジメチルアンモニオ基等)、ピロリジニオ基(N−メチルピロリジニオ基、N−メチル−2,5−ジメチルピロリジニオ基及びN−エチルピロリジニオ基等)、ピペリジニオ基(N−メチルピペリジニオ基、N−メチル−2,6−ジメチルピペリジニオ基及びN−エチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニオ基等)、キヌクリジニオ基(キヌクリジニオ基及び3−ヒドロキシキヌクリジニオ基等)、モルホリニオ基(N−メチルモルホリニオ基等)、イミダゾリニオ基(N−メチルイミダゾリニオ基及びN−エチルイミダゾリニオ基等)、アミジニオ基(N−メチルテトラヒドロピリミジニオ基、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニオ基及び1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネニオ基等)、グアニジオ基(ペンタメチルグアニジオ基及び2−tert−ブチル−1,1,3,3−テトラメチルグアニジオ基、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセニオ基、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセニオ基等)、イミダゾリオ基(N−メチルイミダゾリオ基及びN−エチルイミダゾリオ基等)が好ましい。   Among these ammonium groups, an ammonio group, an alkylammonio group (such as a butylammonio group, an octylammonio group, a dimethylammonio group, a triethylammonio group, a diisopropylethylammonio group and a phenyldimethylammonio group), a pyrrolidinio group ( N-methylpyrrolidinio group, N-methyl-2,5-dimethylpyrrolidinio group, N-ethylpyrrolidinio group, etc.), piperidinio group (N-methylpiperidinio group, N-methyl-2,6) -Dimethylpiperidinio group and N-ethyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidinio group), quinuclidinio group (such as quinuclidinio group and 3-hydroxyquinuclidinio group), morpholinio group (N- Methylmorpholinio group), imidazolinio group (N-methylimidazolinio group and N-ethyl) Midazolinio group, etc.), amidinio group (N-methyltetrahydropyrimidinio group, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenio group and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5 Noneniio group, etc.), guaniodio group (pentamethylguaniodio group and 2-tert-butyl-1,1,3,3-tetramethylguaniodio group, 1,5,7-triazabicyclo [4.4. 0] -5-decenio group, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] -5-decenio group), imidazolio group (N-methylimidazolio group and N-ethylimidazo) Rio group etc.) are preferred.

YはAが有する4価共有結合窒素原子とアニオン性ホウ素原子とを結合する2価の有機基である。
2価の有機基としては、炭素数1〜18のアルキレン基、炭素数2〜18のアルケニレン基、炭素数2〜18のアルキニレン基及び炭素数7〜24のアラルキレン基並びにこれら炭化水素基が有する少なくとも1つの水素原子が酸素原子を有する基で置換された基(ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、エステル基等)、硫黄原子を有する基で置換された基(メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオエステル基、スルホキシド基、スルホニル基等)、窒素原子を有する基(アミノ基、アミド基及びウレア基等)又はハロゲノ基(フルオロ基、クロロ基、ブロモ基及びヨード基等)で置換された基並びにこれらの炭化水素基が有する炭素原子の一部が酸素原子を有する基(エーテル基、ケト基及びエステル基等)、窒素原子を有する基(イミノ基、アミド基及びウレア基等)又は硫黄原子を有する基(チオエーテル基、スルフィド基、スルホキシド基、スルホニル基及びチオエステル基等)等が挙げられる。
Y is a divalent organic group that bonds the tetravalent covalently bonded nitrogen atom of A + and the anionic boron atom.
Examples of the divalent organic group include an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms, an alkynylene group having 2 to 18 carbon atoms, an aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms, and these hydrocarbon groups. Groups in which at least one hydrogen atom is substituted with a group having an oxygen atom (hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, ester group, etc.), groups substituted with a group having a sulfur atom (mercapto group, alkylthio group, arylthio group) Groups, thioester groups, sulfoxide groups, sulfonyl groups, etc.), nitrogen-containing groups (amino groups, amide groups, urea groups, etc.) or halogeno groups (fluoro groups, chloro groups, bromo groups, iodo groups, etc.) Groups in which some of the carbon atoms of these groups and these hydrocarbon groups have oxygen atoms (ether groups, keto groups, ester groups, etc.), Group (an imino group, an amido group, and a urea group, etc.) having an atom group having or sulfur atom (thioether group, a sulfide group, a sulfoxide group, sulfonyl group and a thioester group, etc.) and the like.

炭素数1〜18のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、2−メチルプロピレン基、へキシレン基、オクチレン基、ドデシレン基、オクタデシレン基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロペンタン−1,1−ジイル基、ビシクロ[2.2.1]−2,5−へプチレン基及びビシクロ[2.2.2]−2,3
−オクチレン基等が挙げられる。
Examples of the alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a 2-methylpropylene group, a hexylene group, an octylene group, a dodecylene group, an octadecylene group, and a cyclohexane-1,4-diyl group. , Cyclopentane-1,1-diyl group, bicyclo [2.2.1] -2,5-heptylene group and bicyclo [2.2.2] -2,3
-An octylene group etc. are mentioned.

炭素数1〜18のアルキレン基が有する少なくとも1つの水素原子が酸素原子を有する基で置換された基としては、メトキシメチレン基、1−メトキシエチレン基、2−ブトキシプロピレン基、3,3−ジメトキシブチレン基、2−メチル−3−エトキシプロピレン基、3−アセトキシへキシレン基、4−ピバロイルオキシオクチレン基、6−ヒドロキシドデシレン基、2−フェノキシオクタデシレン基及び2,3−エトキシ−シクロヘキサン−1,4−ジイレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkylene group having 1 to 18 carbon atoms is substituted with a group having an oxygen atom include a methoxymethylene group, a 1-methoxyethylene group, a 2-butoxypropylene group, and 3,3-dimethoxy. Butylene group, 2-methyl-3-ethoxypropylene group, 3-acetoxyhexylene group, 4-pivaloyloxyoctylene group, 6-hydroxydodecylene group, 2-phenoxyoctadecylene group and 2,3- And ethoxy-cyclohexane-1,4-diylene group.

炭素数1〜18のアルキレン基が有する少なくとも1つの水素原子が硫黄原子を有する基で置換された基としては、メチルチオメチレン基、1−エチルチオエチレン基、2−フェニルチオプロピレン基、3,3−ジチオシクロヘキシルブチレン基、2−メチルスルホニルプロピレン基、3−アセチルチオへキシレン基、4−フェニルスルフェニルオクチレン基、6−メルカプトドデシレン基及び2−フェニルチオオクタデシレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkylene group having 1 to 18 carbon atoms is substituted with a group having a sulfur atom include a methylthiomethylene group, a 1-ethylthioethylene group, a 2-phenylthiopropylene group, 3, 3 -A dithiocyclohexyl butylene group, a 2-methylsulfonylpropylene group, a 3-acetylthiohexylene group, a 4-phenylsulfenyloctylene group, a 6-mercaptododecylene group, a 2-phenylthiooctadecylene group, and the like.

炭素数1〜18のアルキレン基が有する少なくとも1つの水素原子が窒素原子を有する基で置換された基としては、アセトアミドメチレン基、1−ジメチルアミノエチレン基、2−ジシクロヘキシルアミノプロピレン基、6−アミノドデシレン基及び2−メチルウレイドオクタデシレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkylene group having 1 to 18 carbon atoms is substituted with a group having a nitrogen atom include an acetamidomethylene group, a 1-dimethylaminoethylene group, a 2-dicyclohexylaminopropylene group, and a 6-aminododecylene. Group, 2-methylureido octadecylene group and the like.

炭素数1〜18のアルキレン基が有する少なくとも1つの水素原子がハロゲノ基で置換された基としては、ジフルオロメチレン基、1,2−ジクロロエチレン基、3−ブロモシクロヘキサン−1,4−ジイレン基及び2−ヨードメチルプロピレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkylene group having 1 to 18 carbon atoms is substituted with a halogeno group include a difluoromethylene group, a 1,2-dichloroethylene group, a 3-bromocyclohexane-1,4-diylene group, and 2 -An iodomethyl propylene group etc. are mentioned.

これらのアルキレン基の有する炭素原子の一部が酸素原子を有する基で置換された基としては、2−オキサプロピレン基、3−オキサプロピレン基、5−メチル−5−アザオクチレン基、3,6−ジオキサオクチレン基、3,6,9−トリオキサウンデシル基及び3−オキソ−1−ブチレン基、メチレンカルボキシエチレン基(−CHCOOC−)、6−オキソドデシレン基等が挙げられ、窒素原子を有する基で置換された基としては、2−アザプロピレン基、メチレンカルバモイルエチレン(−CHCONHC−)基及びジエチレンウレイレン基(−CNHCONHC−)等が挙げられ、硫黄原子を有する基で置換された基としては、2−チアプロピレン基、4−チアへキシレン基、メチレンスルホニルメチレン基(−CHSOCH−)及びエチレンスルフィニルプロピレン基(−CSOC−)等が挙げられる。 Examples of the group in which some of the carbon atoms of these alkylene groups are substituted with a group having an oxygen atom include 2-oxapropylene group, 3-oxapropylene group, 5-methyl-5-azaoctylene group, 3,6- Dioxaoctylene group, 3,6,9-trioxaundecyl group and 3-oxo-1-butylene group, methylenecarboxyethylene group (—CH 2 COOC 2 H 4 —), 6-oxododecylene group, etc. The group substituted with a group having a nitrogen atom includes a 2-azapropylene group, a methylenecarbamoylethylene (—CH 2 CONHC 2 H 4 —) group and a diethylene ureylene group (—C 2 H 4 NHCONHC 2 H 4 — As the group substituted with a group having a sulfur atom, 2-thiapropylene group, 4-thiahexylene group, methylene Ruhonirumechiren group (-CH 2 SO 2 CH 2 - ) and ethylene sulfinyl propylene (-C 2 H 4 SOC 3 H 6 -) and the like.

炭素数2〜18のアルケニレン基としては、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−メチルプロペニレン基、1−へキセニレン基、2−へキセニレン基、1−オクテニレン基、1−ドデセニレン基、1−オクタデセニレン基、2−シクロヘキセン−1,4−ジイル基、2−シクロペンテン−1,1−ジイル基、ビシクロ[2.2.1]−2−へプテン−2,5−ジイル基及びビシクロ[2.2.2]−5−オクテン−2,3−ジイル基等が挙げられる。   Examples of the alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms include vinylene group, propenylene group, 1-butenylene group, 2-methylpropenylene group, 1-hexenylene group, 2-hexenylene group, 1-octenylene group and 1-dodecenylene group. 1-octadecenylene group, 2-cyclohexene-1,4-diyl group, 2-cyclopentene-1,1-diyl group, bicyclo [2.2.1] -2-heptene-2,5-diyl group and bicyclo [2.2.2] -5-octene-2,3-diyl group and the like.

炭素数2〜18のアルケニレン基が有する少なくとも1つの水素原子が酸素原子を有する基で置換された基としては、1−メトキシエテニレン基、2−ブトキシプロペニレン基、3,3−ジメトキシ−1−ブテニレン基、2−メチル−3−エトキシプロペニレン基、3−アセトキシ−1−へキセニレン基、4−ピバロイルオキシ−1−オクテニレン基、6−ヒドロキシ−1−ドデセニレン基、2−フェノキシ−1−オクタデセニレン基及び5,6−エトキシ−2−シクロヘキセン−1,4−ジイル基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms is substituted with a group having an oxygen atom include 1-methoxyethenylene group, 2-butoxypropenylene group, 3,3-dimethoxy-1 -Butenylene group, 2-methyl-3-ethoxypropenylene group, 3-acetoxy-1-hexenylene group, 4-pivaloyloxy-1-octenylene group, 6-hydroxy-1-dodecenylene group, 2-phenoxy-1-octadecenylene Group and a 5,6-ethoxy-2-cyclohexene-1,4-diyl group.

炭素数2〜18のアルケニレン基が有する少なくとも1つの水素原子が硫黄原子を有する基で置換された基としては、1−メチルチオエテニレン基、1−エチルチオプロペニレン基、2−フェニルチオプロペニレン基、3,3−ジチオシクロヘキシル−1−ブテニレン基、2−メチルスルホニルプロペニレン基、3−アセチルチオ−1−へキセニレン基、4−フェニルスルフェニル−1−オクテニレン基、6−メルカプト−2−ドデセニレン基及び2−フェニルチオ−1−オクタデセニレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms is substituted with a group having a sulfur atom include 1-methylthioethenylene group, 1-ethylthiopropenylene group, 2-phenylthiopropenylene Group, 3,3-dithiocyclohexyl-1-butenylene group, 2-methylsulfonylpropenylene group, 3-acetylthio-1-hexenylene group, 4-phenylsulfenyl-1-octenylene group, 6-mercapto-2-dodecenylene Group and 2-phenylthio-1-octadecenylene group.

炭素数2〜18のアルケニレン基が有する少なくとも1つの水素原子が窒素原子を有する基で置換された基としては、アセトアミドエテニレン基、1−ジメチルアミノエテニレン基、2−ジシクロヘキシルアミノプロペニレン基、6−アミノ−1−ドデセニレン基及び2−メチルウレイド−1−オクタデセニレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms is substituted with a group having a nitrogen atom include an acetamidoethenylene group, a 1-dimethylaminoethenylene group, a 2-dicyclohexylaminopropenylene group, Examples include 6-amino-1-dodecenylene group and 2-methylureido-1-octadecenylene group.

炭素数2〜18のアルケニレン基が有する少なくとも1つの水素原子がハロゲノ基で置換された基としては、1,2−ジフルオロエテニル基、1,2−ジクロロエテニル基、3−ブロモ−2−シクロヘキセン−1,4−ジイル基及び2−ヨードメチルプロペニレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms is substituted with a halogeno group include 1,2-difluoroethenyl group, 1,2-dichloroethenyl group, 3-bromo-2-cyclohexene Examples include -1,4-diyl group and 2-iodomethylpropenylene group.

これらのアルケニレン基の有する炭素原子の一部が酸素原子を有する基で置換された基としては、3−オキサブテニレン基、3−オキサ−1−へキセニレン基、3,6−ジオキサ−1−オクテニレン基、3,6,9−トリオキサ−1−ウンデセニレン基、3−オキソ−1−ブテニレン基、プロペニレンカルボキシエチレン基(−CH=CHCHCOOC−)、及び6−オキソ−1−ドデセニレン基等が挙げられ、窒素原子を有する基で置換された基としては、3−アザブテニレン基、5−メチル−5−アザ−1−オクテニレン基、メチレンカルバモイルエテニレン(−CHCONHCH=CH−)基及びジエテニレンウレイレン基(−CH=CHNHCONHCH=CH−)等が挙げられ、硫黄原子を有する基で置換された基としては、3−チアブテニレン基、4−チア−1−へキセニレン基、エテニレンスルホニルメチレン基(−CH=CHSOCH−)及びエテニレンスルフィニルプロピレン基(−CH=CHSOC−)等が挙げられる。 Examples of the group in which a part of carbon atoms of these alkenylene groups are substituted with a group having an oxygen atom include 3-oxabutenylene group, 3-oxa-1-hexenylene group, 3,6-dioxa-1-octenylene group 3,6,9-trioxa-1-undecenylene group, 3-oxo-1-butenylene group, propenylene carboxyethylene group (—CH═CHCH 2 COOC 2 H 4 —), and 6-oxo-1-dodecenylene group Examples of the group substituted with a group having a nitrogen atom include a 3-azabutenylene group, a 5-methyl-5-aza-1-octenylene group, and a methylenecarbamoylethenylene (—CH 2 CONHCH═CH—) group. And dietenylene ureylene group (—CH═CHNHCONHCH═CH—) and the like, and substituted with a group having a sulfur atom The 3-Chiabuteniren group, 4-thia-1-to Kiseniren groups, et tennis Ren sulfonyl methylene group (-CH = CHSO 2 CH 2 - ) and d tennis sulfide sulfonyl propylene group (-CH = CHSOC 3 H 6 - ) , etc. Is mentioned.

炭素数2〜18のアルキニレン基としては、エチニレン基、プロピニレン基、1−ブチニレン基、2−メチルプロピニレン基、1−へキシニレン基、2−へキシニレン基、オクチニレン基、3−オクチニレン基、1−ドデシニレン基及び1−オクタデシニレン基等が挙げられる。   Examples of the alkynylene group having 2 to 18 carbon atoms include ethynylene group, propynylene group, 1-butynylene group, 2-methylpropynylene group, 1-hexynylene group, 2-hexynylene group, octynylene group, 3-octynylene group, 1 -Dodecynylene group, 1-octadecynylene group, etc. are mentioned.

炭素数2〜18のアルキニレン基が有する少なくとも1つの水素原子が酸素原子を有する基で置換された基としては、ブトキシプロピニレン基、3,3−ジメトキシ−1−ブチニレン基、エトキシプロピニレン基、3−アセトキシ−1−へキシニレン基、4−ピバロイルオキシ−1−オクチニレン基、6−ヒドロキシ−1−ドデシニレン基及び3−フェノキシ−1−オクタデシニレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkynylene group having 2 to 18 carbon atoms is substituted with a group having an oxygen atom include a butoxypropynylene group, a 3,3-dimethoxy-1-butynylene group, an ethoxypropynylene group, A 3-acetoxy-1-hexynylene group, a 4-pivaloyloxy-1-octynylene group, a 6-hydroxy-1-dodecynylene group, a 3-phenoxy-1-octadecylene group, and the like can be given.

炭素数2〜18のアルキニレン基が有する少なくとも1つの水素原子が硫黄原子を有する基で置換された基としては、3−エチルチオプロピニレン基、3−フェニルチオプロピニレン基、3,3−ジチオシクロヘキシル−1−ブチニレン基、メチルスルホニルプロピニレン基、3−アセチルチオ−1−へキシニレン基、4−フェニルスルフェニル−1−オクチニレン基、6−メルカプト−3−ドデシニレン基及び4−フェニルチオ−1−オクタデシニレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkynylene group having 2 to 18 carbon atoms is substituted with a group having a sulfur atom include 3-ethylthiopropynylene group, 3-phenylthiopropynylene group, 3,3-dithio Cyclohexyl-1-butynylene group, methylsulfonylpropynylene group, 3-acetylthio-1-hexynylene group, 4-phenylsulfenyl-1-octynylene group, 6-mercapto-3-dodecynylene group and 4-phenylthio-1-octadecynylene Groups and the like.

炭素数2〜18のアルキニレン基が有する少なくとも1つの水素原子が窒素原子を有する基で置換された基としては、アセトアミドプロピニレン基、1−ジメチルアミノプロピレニレン基、ジシクロヘキシルアミノプロピニレン基、6−アミノ−1−ドデシニレン基
及び3−メチルウレイド−1−オクタデシニレン基等が挙げられる。
Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkynylene group having 2 to 18 carbon atoms is substituted with a group having a nitrogen atom include an acetamidopropynylene group, 1-dimethylaminopropylenylene group, dicyclohexylaminopropynylene group, 6 -Amino-1-dodecynylene group, 3-methylureido-1-octadecynylene group, and the like.

炭素数2〜18のアルキニレン基が有する少なくとも1つの水素原子がハロゲノ基で置換された基としては、ジフルオロプロピニレン基、ジクロロプロペニレン基、3−ブロモ−1−へキシニレン基及び3−ヨードメチル−1−ブチニレン基等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the alkynylene group having 2 to 18 carbon atoms is substituted with a halogeno group include a difluoropropynylene group, a dichloropropenylene group, a 3-bromo-1-hexynylene group, and 3-iodomethyl- 1-butynylene group etc. are mentioned.

これらのアルキニレン基の有する炭素原子の一部が酸素原子を有する基で置換された基としては、3−オキサブチニレン基、3−オキサ−1−へキシニレン基、3,6−ジオキサ−1−オクチニレン基、3,6,9−トリオキサ−1−ウンデシニレン基、6−オキソ−1−ドデシニレン基及びプロピニレンカルボキシエチレン基(−C≡CCHCOOC−)等が挙げられ、窒素原子を有する基で置換された基としては、3−アザブチニレン基、5−メチル−5−アザ−1−オクチニレン基、メチレンカルバモイルエチニレン(−CHCONHC≡C−)基及びジプロピニレンウレイレン基(−C≡CCHNHCONHCHC≡C−)等が挙げられ、硫黄原子を有する基で置換された基としては、3−チアブチニレン基、4−チア−1−へキシニレン基、エチニレンスルホニルメチレン基(−C≡CSOCH−)及びエチニレンスルフィニルプロピレン基(−C≡CSOC−)等が挙げられる。 Examples of the group in which a part of carbon atoms of these alkynylene groups are substituted with a group having an oxygen atom include 3-oxabutynylene group, 3-oxa-1-hexynylene group, and 3,6-dioxa-1-octynylene group , 3,6,9-trioxa-1-undecynylene group, 6-oxo-1-dodecynylene group, propynylenecarboxyethylene group (—C≡CCH 2 COOC 2 H 4 —) and the like, and a group having a nitrogen atom Examples of the group substituted with 3-azabutynylene, 5-methyl-5-aza-1-octynylene, methylenecarbamoylethynylene (—CH 2 CONHC≡C—) and dipropynylene ureylene (—C ≡CCH 2 NHCONHCH 2 C≡C-) and the like, and as the radicals substituted by a sulfur atom, 3- Chiabuchiniren group 4-thia-1 to Kishiniren group, ethynylene sulfonyl methylene group (-C≡CSO 2 CH 2 -) and ethynylene sulfide sulfonyl propylene (-C≡CSOC 3 H 6 -) and the like.

炭素数7〜24のアラルキレン基としては、p−フェニレンメチレン基、m−フェニレンメチレン基、p−フェニレンエチレン基、m−フェニレンエチレン基、p−フェニレン−メチルメチレン基、3,5−ジメチル−1−メチレン−1,4−フェニレン基、p−フェニレンジメチルメチレン基、p−フェニレン−へキシレン基、p−ビフェニレンメチレン基、ナフタレン−4−メチレン−1,4−ジイル基、ナフタレン−6−メチレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−5−ブチレン−1,5−ジイル基、アントラセン−9−メチレン−9,10−ジイル基及びアントラセン−9−エチレン−9,10−ジイル基、及び芳香環の一部が酸素原子、硫黄原子あるいは窒素原子で置換された基(チオフェン−2−メチレン−2,5−ジイル基、ピリジン−2−メチレン−2,6−ジイル基、キサンテン−1−メチレン−1,4−ジイル基等)等が挙げられる。   Examples of the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms include p-phenylenemethylene group, m-phenylenemethylene group, p-phenyleneethylene group, m-phenyleneethylene group, p-phenylene-methylmethylene group, 3,5-dimethyl-1 -Methylene-1,4-phenylene group, p-phenylenedimethylmethylene group, p-phenylene-hexylene group, p-biphenylenemethylene group, naphthalene-4-methylene-1,4-diyl group, naphthalene-6-methylene- 2,6-diyl group, naphthalene-5-butylene-1,5-diyl group, anthracene-9-methylene-9,10-diyl group and anthracene-9-ethylene-9,10-diyl group, and aromatic ring A group partially substituted with an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom (thiophene-2-methylene-2,5-diyl group, Lysine-2-methylene-2,6-diyl group, a xanthene-1-methylene-1,4-diyl group).

炭素数7〜24のアラルキレン基が有する少なくとも1つの水素原子が酸素原子を有する基で置換された基としては、3−メトキシ−1,4−フェニレン−4−メチレン基、4−アセトキシ−1,3−フェニレン−3−エチレン基、α、α−ジメトキシ−1,4−フェニレン−4−メチレン基、1,4−ジエトキシアントラセン−9−メチレン−9,10−ジイル基及び1,4−ジメトキシアントラセン−9−エチレン−9,10−ジイル基、及び芳香環の一部が酸素原子、硫黄原子あるいは窒素原子で置換された基(3,4−ジブトキシチオフェン−2−メチレン−2,5−ジイル基、4−アセトキシピリジン−2−メチレン−2,6−ジイル基、6−メトキシキサンテン−1−メチレン−1,4−ジイル基等)等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms is substituted with a group having an oxygen atom include a 3-methoxy-1,4-phenylene-4-methylene group, 4-acetoxy-1, 3-phenylene-3-ethylene group, α, α-dimethoxy-1,4-phenylene-4-methylene group, 1,4-diethoxyanthracene-9-methylene-9,10-diyl group and 1,4-dimethoxy Anthracene-9-ethylene-9,10-diyl group and a group in which a part of the aromatic ring is substituted with an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom (3,4-dibutoxythiophene-2-methylene-2,5- Diyl group, 4-acetoxypyridine-2-methylene-2,6-diyl group, 6-methoxyxanthene-1-methylene-1,4-diyl group, etc.).

炭素数7〜24のアラルキレン基が有する少なくとも1つの水素原子が硫黄原子を有する基で置換された基としては、α、α−ジチオエチレン−p−フェニレン−へキシレン基、3−メチルスルファニル−1,4−フェニレン−4−メチレン基、3−メチルスルホニル−1,4−フェニレン−4−エチレン基、2−メチルチオナフタレン−4−メチレン−1,4−ジイル基、3,4−メチルチオナフタレン−6−メチレン−2,6−ジイル基及び4−メルカプトナフタレン−5−ブチレン−1,5−ジイル基及び芳香環の一部が酸素原子、硫黄原子あるいは窒素原子で置換された基(3−フェニルチオチオフェン−2−メチレン−2,5−ジイル基、4−メタンスルファニルピリジン−2−メチレン−2,6−ジイル基、6−ブチルチオキサンテン−1−メチレン−1,4−ジイル基等)等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms is substituted with a group having a sulfur atom include α, α-dithioethylene-p-phenylene-hexylene group, 3-methylsulfanyl-1 , 4-phenylene-4-methylene group, 3-methylsulfonyl-1,4-phenylene-4-ethylene group, 2-methylthionaphthalene-4-methylene-1,4-diyl group, 3,4-methylthionaphthalene-6 -Methylene-2,6-diyl group and 4-mercaptonaphthalene-5-butylene-1,5-diyl group and a group in which a part of the aromatic ring is substituted with an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom (3-phenylthio Thiophene-2-methylene-2,5-diyl group, 4-methanesulfanylpyridine-2-methylene-2,6-diyl group, 6-butylthioxan Ten-1-methylene-1,4-diyl group, etc.).

炭素数7〜24のアラルキレン基が有する少なくとも1つの水素原子が窒素原子を有する基で置換された基としては、4−ジメチルアミノ−1,3−フェニレン−3−メチレン基及び3−メチルチオ−1,4−フェニレン−4−エチレン基及び芳香環の一部が酸素原子、硫黄原子あるいは窒素原子で置換された基(3−ジメチルアミノチオフェン−2−メチレン−2,5−ジイル基、4−ピロリジルピリジン−2−メチレン−2,6−ジイル基、6−ジブチルアミノキサンテン−1−メチレン−1,4−ジイル基等)等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms is substituted with a group having a nitrogen atom include 4-dimethylamino-1,3-phenylene-3-methylene group and 3-methylthio-1 , 4-phenylene-4-ethylene group and a group in which a part of the aromatic ring is substituted with oxygen atom, sulfur atom or nitrogen atom (3-dimethylaminothiophene-2-methylene-2,5-diyl group, 4-pyrrole Zircyridine-2-methylene-2,6-diyl group, 6-dibutylaminoxanthene-1-methylene-1,4-diyl group) and the like.

炭素数7〜24のアラルキレン基が有する少なくとも1つの水素原子がハロゲノ基で置換された基としては、4−ブロモ−1,3−フェニレン−3−メチレン基、4−クロロ−1,3−フェニレン−3−メチレン基、4−フルオロ−1,3−フェニレン−3−メチレン基及び2,3,5,6−テトラフルオロ−1,3−フェニレン−3−メチレン基及び芳香環の一部が酸素原子、硫黄原子あるいは窒素原子で置換された基(3−ブロモチオフェン−2−メチレン−2,5−ジイル基、4−クロロピリジン−2−メチレン−2,6−ジイル基、6−フルオロキサンテン−1−メチレン−1,4−ジイル基等)等が挙げられる。   Examples of the group in which at least one hydrogen atom of the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms is substituted with a halogeno group include 4-bromo-1,3-phenylene-3-methylene group, 4-chloro-1,3-phenylene -3-methylene group, 4-fluoro-1,3-phenylene-3-methylene group and 2,3,5,6-tetrafluoro-1,3-phenylene-3-methylene group and part of the aromatic ring is oxygen Groups substituted with an atom, sulfur atom or nitrogen atom (3-bromothiophene-2-methylene-2,5-diyl group, 4-chloropyridine-2-methylene-2,6-diyl group, 6-fluoroxanthene- 1-methylene-1,4-diyl group, etc.).

炭素数7〜24のアラルキレン基が有する炭素原子の一部が酸素原子、硫黄原子及び窒素原子で置換された基としては、p−フェニレンオキシメチレン基、p−フェニレンチオメチレン基、p−フェニレン−N−メチルアミノメチレン基、m−フェニレンオキシメチレン基、p−フェニレン−α−オキソエチレン基、m−フェニレンチオエチレン基、p−フェニレンカルボニルオキシ−メチルメチレン基、p−フェニレンスルホニルメチレン基、p−フェニレン−5−オキソへキシレン基、p−ビフェニレン−アミドメチレン基、ナフタレン−4−ウレイレンメチレン−1,4−ジイル基、ナフタレン−6−カルボメチレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−5−(3−オキサブチレン)−1,5−ジイル基、アントラセン−9−カルボメチレン−9,10−ジイル基及びアントラセン−9−カルボエチレン−9,10−ジイル基等が挙げられる。   Examples of the group in which a part of carbon atoms of the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms are substituted with oxygen atom, sulfur atom and nitrogen atom include p-phenyleneoxymethylene group, p-phenylenethiomethylene group, p-phenylene- N-methylaminomethylene group, m-phenyleneoxymethylene group, p-phenylene-α-oxoethylene group, m-phenylenethioethylene group, p-phenylenecarbonyloxy-methylmethylene group, p-phenylenesulfonylmethylene group, p- Phenylene-5-oxohexylene group, p-biphenylene-amimethylene group, naphthalene-4-ureylenemethylene-1,4-diyl group, naphthalene-6-carbomethylene-2,6-diyl group, naphthalene-5 (3-Oxabutylene) -1,5-diyl group, anthracene-9-carbomethyl Down-9,10-diyl group, and anthracene-9-carbonitrile ethylene-9,10-diyl group, and the like.

Yとしては、炭素数7〜24のアラルキレン基及び炭素数7〜24のアラルキレン基の有する炭素原子の一部が酸素原子を有する基で置換された基が好ましく、炭素数7〜24のアラルキレン基及び炭素数7〜24のアラルキレン基の有する炭素原子の一部がケト基で置換された基が更に好ましい。   Y is preferably a group in which a part of carbon atoms of an aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms and an aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms is substituted with a group having an oxygen atom, and an aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms. Further, a group in which a part of carbon atoms of the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms is substituted with a keto group is more preferable.

炭素数7〜24のアラルキレン基及び炭素数7〜24のアラルキレン基の有する炭素原子の一部がケト基で置換された基としては、下記一般式(2)で表される基及び下記一般式(3)で表される基が好ましい。   Examples of the group in which a part of carbon atoms of the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms and the aralkylene group having 7 to 24 carbon atoms are substituted with a keto group include the group represented by the following general formula (2) and the following general formula The group represented by (3) is preferred.

[一般式(2)中、Yは炭素数1〜18のアルキレン基であり、Arはアリーレン基であり、Arの有する少なくとも1つの水素原子が炭素数1〜8のアルキル基又は酸素原子を有する基、硫黄原子を有する基若しくはハロゲノ基で置換されていても良い。] [In General Formula (2), Y 1 is an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, Ar is an arylene group, and at least one hydrogen atom of Ar has an alkyl group or oxygen atom having 1 to 8 carbon atoms. And a group having a sulfur atom, or a halogeno group. ]

[一般式(3)中、Yは炭素数1〜18のアルキレン基であり、Arはアリーレン基であり、Arの有する少なくとも1つの水素原子が炭素数1〜8のアルキル基又は酸素原子を有する基、硫黄原子を有する基若しくはハロゲノ基で置換されていても良い。] [In General Formula (3), Y 1 is an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, Ar is an arylene group, and at least one hydrogen atom of Ar has an alkyl group or oxygen atom having 1 to 8 carbon atoms. And a group having a sulfur atom, or a halogeno group. ]

一般式(2)及び(3)において、Yは炭素数1〜18のアルキレン基であり、炭素数1〜18のアルキレン基としては前記のYとして例示した炭素数1〜18のアルキレン基と同じものが挙げられる。
Arはアリーレン基であり、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基等が挙げられ、Arの有する少なくとも1つの水素原子は、炭素数1〜8のアルキル基又は酸素原子を有する基、硫黄原子を有する基若しくはハロゲノ基で置換されていても良い。
Arとして好ましいものとしては、p−フェニレン基、m−フェニレン基、p−ビフェニレン基、ナフタレン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−1,5−ジイル基、アントラセン−9,10−ジイル基、3−メトキシ−1,4−フェニレン基、4−アセトキシ−1,3−フェニレン基、3−メチルスルファニル−1,4−フェニレン基、3−メチルスルホニル−1,4−フェニレン基、2−メトキシナフタレン−1,4−ジイル基、3,4−ジヒドロキシナフタレン−2,6−ジイル基、4−メルカプトナフタレン−1,5−ジイル基、4−ジメチルアミノ−1,3−フェニレン基、3−メチルチオ−1,4−フェニレン基、4−ブロモ−1,3−フェニレン基、4−クロロ−1,3−フェニレン基、4−フルオロ−1,3−フェニレン基及び2,3,5,6−テトラフルオロ−1,3−フェニレン基が挙げられる。
In the general formulas (2) and (3), Y 1 is an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, and the alkylene group having 1 to 18 carbon atoms may be an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms exemplified as the above Y. The same can be mentioned.
Ar is an arylene group, and includes a phenylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, and the like, and at least one hydrogen atom of Ar is a group having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an oxygen atom, or a group having a sulfur atom. Alternatively, it may be substituted with a halogeno group.
Preferred examples of Ar include p-phenylene group, m-phenylene group, p-biphenylene group, naphthalene-1,4-diyl group, naphthalene-2,6-diyl group, naphthalene-1,5-diyl group, anthracene -9,10-diyl group, 3-methoxy-1,4-phenylene group, 4-acetoxy-1,3-phenylene group, 3-methylsulfanyl-1,4-phenylene group, 3-methylsulfonyl-1,4 -Phenylene group, 2-methoxynaphthalene-1,4-diyl group, 3,4-dihydroxynaphthalene-2,6-diyl group, 4-mercaptonaphthalene-1,5-diyl group, 4-dimethylamino-1,3 -Phenylene group, 3-methylthio-1,4-phenylene group, 4-bromo-1,3-phenylene group, 4-chloro-1,3-phenylene group, 4-fluoro group Oro-1,3-phenylene group and 2,3,5,6-tetrafluoro-1,3-phenylene group.

一般式(2)で表される基のうち、好ましいものとしてはp−フェニレンメチレン基、m−フェニレンメチレン基、p−フェニレンエチレン基、m−フェニレンエチレン基、p−フェニレン−メチルメチレン基、3,5−ジメチル−1−メチレン−1,4−フェニレン基、p−フェニレンジメチルメチレン基、p−フェニレン−ブチレン基、p−フェニレン−へキシレン基、p−ビフェニレンメチレン基、ナフタレン−4−メチレン−1,4−ジイル基、ナフタレン−6−メチレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−5−ブチレン−1,5−ジイル基、アントラセン−9−メチレン−9,10−ジイル基及びアントラセン−9−エチレン−9,10−ジイル基、4−メトキシ−1,3−フェニレン−3−メチレン基、4−アセトキシ−1,3−フェニレン−3−エチレン基、α、α−ジメトキシ−1,4−フェニレン−4−メチレン基、1,4−ジエトキシアントラセン−9−メチレン−9,10−ジイル基及び1,4−ジメトキシアントラセン−9−エチレン−9,10−ジイル基、α、α−ジチオエチレン−p−フェニレン−へキシレン基、3−メチルスルファニル−1,4−フェニレン−4−メチレン基、3−メチルスルホニル−1,4−フェニレン−4−エチレン基、2−メトキシナフタレン−4−メチレン−1,4−ジイル基、3,4−ジヒドロキシナフタレン−6−メチレン−2,6−ジイル基及び4−メルカプトナフタレン−5−ブチレン−1,5−ジイル基、4−ジメチルアミノ−1,3−フェニレン−3−メチレン基、3−メチルチオ−1,4−フェニレン−4−エチレン基、4−ブロモ−1,3−フェニレン−3−メチレン基、4−クロロ−1,3−フェニレン−3−メチレン基、4−フルオロ−1,3−フェニレン−3−メチレン基及び2,3,5,6−テトラフルオロ−1,3−フェニレン−3−メチレン基が挙げられる。   Of the groups represented by the general formula (2), preferred are p-phenylenemethylene group, m-phenylenemethylene group, p-phenyleneethylene group, m-phenyleneethylene group, p-phenylene-methylmethylene group, 3 , 5-dimethyl-1-methylene-1,4-phenylene group, p-phenylenedimethylmethylene group, p-phenylene-butylene group, p-phenylene-hexylene group, p-biphenylenemethylene group, naphthalene-4-methylene- 1,4-diyl group, naphthalene-6-methylene-2,6-diyl group, naphthalene-5-butylene-1,5-diyl group, anthracene-9-methylene-9,10-diyl group and anthracene-9- Ethylene-9,10-diyl group, 4-methoxy-1,3-phenylene-3-methylene group, 4-acetoxy-1,3 Phenylene-3-ethylene group, α, α-dimethoxy-1,4-phenylene-4-methylene group, 1,4-diethoxyanthracene-9-methylene-9,10-diyl group and 1,4-dimethoxyanthracene- 9-ethylene-9,10-diyl group, α, α-dithioethylene-p-phenylene-hexylene group, 3-methylsulfanyl-1,4-phenylene-4-methylene group, 3-methylsulfonyl-1,4 -Phenylene-4-ethylene group, 2-methoxynaphthalene-4-methylene-1,4-diyl group, 3,4-dihydroxynaphthalene-6-methylene-2,6-diyl group and 4-mercaptonaphthalene-5-butylene -1,5-diyl group, 4-dimethylamino-1,3-phenylene-3-methylene group, 3-methylthio-1,4-phenylene-4-e Tylene group, 4-bromo-1,3-phenylene-3-methylene group, 4-chloro-1,3-phenylene-3-methylene group, 4-fluoro-1,3-phenylene-3-methylene group and 2, A 3,5,6-tetrafluoro-1,3-phenylene-3-methylene group may be mentioned.

一般式(3)で表される基のうち、好ましいものとしてはp−フェニレン−α−オキソエチレン基、p−フェニレン−α−オキソブチレン基、p−フェニレンカルボニルオキシ−メチルメチレン基、p−フェニレン−5−オキソへキシレン基、p−ビフェニレン−αオキソエチレン基、p−フェニレン−α−オキソ−フェニルエチレン基、ナフタレン−6−カルボメチレン−2,6−ジイル基、アントラセン−9−カルボメチレン−9,10−ジイル基及びアントラセン−9−カルボエチレン−9,10−ジイル基が挙げられる。   Of the groups represented by the general formula (3), preferred are p-phenylene-α-oxoethylene group, p-phenylene-α-oxobutylene group, p-phenylenecarbonyloxy-methylmethylene group, p-phenylene. -5-oxohexylene group, p-biphenylene-α oxoethylene group, p-phenylene-α-oxo-phenylethylene group, naphthalene-6-carbomethylene-2,6-diyl group, anthracene-9-carbomethylene- Examples include 9,10-diyl group and anthracene-9-carboethylene-9,10-diyl group.

本発明のボレート塩は、以下の方法1及び方法2等の公知の方法により製造できる。   The borate salt of the present invention can be produced by a known method such as the following method 1 and method 2.

方法1:脱離基を有するボレート塩中間体(D1)に対し、4価共有結合窒素原子を有する基(A)に対応するアミン化合物(A)を溶媒中で又は溶媒を用いずに反応させる方法。
方法2:4価共有結合窒素原子を有する基(A)に対応するアミノ基(A)を有するボレート塩中間体(D2)に対し、脱離基を有する化合物(G)を溶媒中で又は溶媒を用いずに反応させる方法。
Method 1: For the borate salt intermediate (D1) having a leaving group, the amine compound (A 1 ) corresponding to the group (A + ) having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom is added in a solvent or without using a solvent. How to react.
Method 2: A compound (G) having a leaving group is reacted with a borate salt intermediate (D2) having an amino group (A 2 ) corresponding to a group (A + ) having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom in a solvent. Or the method of making it react without using a solvent.

方法1は、脱離基を有するボレート塩中間体(D1)に対し、カチオン(A)に対応するアミン化合物(A)を溶媒中で又は溶媒を用いずに反応させる方法であり、下記の反応式(1)で表すことが出来る。 Method 1 is a method in which an amine compound (A 1 ) corresponding to a cation (A + ) is reacted with a borate salt intermediate (D1) having a leaving group in a solvent or without using a solvent. The reaction formula (1) can be used.

反応式(1)中、A、R及びYは一般式(1)と同じであり、Zは脱離基であり、Aは4価共有結合窒素原子を有する基(A)に対応するアミン化合物であり、Mは金属カチオンである。なお、本発明において脱離基は、Yと結合し、Aと反応する際にYとの結合が切断され開裂する基を意味する。 In the reaction formula (1), A + , R 1 and Y are the same as those in the general formula (1), Z is a leaving group, and A 1 is a group having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom (A + ). The corresponding amine compound, M + is a metal cation. Incidentally, the leaving group in the present invention is combined with Y, binding to Y when reacted with A 1 means a group which cleaves disconnected.

脱離基としては、ハロゲノ基(クロロ基、ブロモ基等)、スルホニルオキシ基(トリフルオロメチルスルホニルオキシ基及びp−トルエンスルホニルオキシ基等)及びアシロキシ(アセトキシ基及びトリフルオロメチルカルボニルオキシ基等)等が挙げられ、製造しやすさの観点から、ハロゲノ基が好ましい。   Leaving groups include halogeno groups (such as chloro and bromo groups), sulfonyloxy groups (such as trifluoromethylsulfonyloxy and p-toluenesulfonyloxy groups), and acyloxy (such as acetoxy and trifluoromethylcarbonyloxy groups). From the viewpoint of ease of production, a halogeno group is preferable.

脱離基を有するボレート塩中間体(D1)は公知の方法(Journal of Polymer Science:PartA:Polymer Chemistry、vol34、2817(1996)等に記載の方法)で合成でき、対応する脱離基のアルキル有機金属化合物又はアラルキル有機金属化合物とアルキルホウ素化合物、アリールホウ素
化合物又はハロゲン化ホウ素化合物とを有機溶媒中で反応させることにより得られる。アルキル有機金属化合物及びアラルキル有機金属化合物としては、アルキルリチウムやアラルキルリチウムなどのリチウム化合物、アルキルマグネシウムハライドやアラルキルマグネシウムハライドなどのマグネシウム化合物(グリニヤール試薬)が好適に用いられる。
The borate salt intermediate (D1) having a leaving group can be synthesized by a known method (the method described in Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, vol 34, 2817 (1996), etc.), and the corresponding leaving group alkyl It can be obtained by reacting an organometallic compound or aralkyl organometallic compound with an alkylboron compound, arylboron compound or boron halide compound in an organic solvent. As the alkyl organometallic compound and the aralkyl organometallic compound, lithium compounds such as alkyl lithium and aralkyl lithium, and magnesium compounds (Grignard reagent) such as alkyl magnesium halide and aralkyl magnesium halide are preferably used.

アルキルホウ素化合物、アリールホウ素化合物又はハロゲン化ホウ素化合物とアルキル又はアラルキル有機金属化合物との反応条件は、−80℃〜100℃、好ましくは−50℃〜50℃、最も好ましくは−30℃〜30℃である。用いる有機溶媒としては、炭化水素(ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等)、環状エーテル(テトラヒドロフラン及びジオキサン等)及び塩素系溶剤(クロロホルム及びジクロロメタン等)が好適に用いられる。   The reaction conditions of the alkyl boron compound, aryl boron compound or boron halide compound and the alkyl or aralkyl organometallic compound are -80 ° C to 100 ° C, preferably -50 ° C to 50 ° C, most preferably -30 ° C to 30 ° C. It is. As the organic solvent to be used, hydrocarbons (hexane, heptane, toluene, xylene, etc.), cyclic ethers (tetrahydrofuran, dioxane, etc.) and chlorinated solvents (chloroform, dichloromethane, etc.) are preferably used.

上記で得られるボレート塩中間体(D1)が有する金属カチオン(M)は安定性や溶解性の観点からアルカリ金属カチオンであることが好ましい。中でもナトリウムカチオン、リカリウムカチオン、リチウムカチオンがさらに好ましい。グリニヤール試薬で反応させる場合は反応中もしくは反応後に、炭酸水素ナトリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化リチウム等を加え、金属交換を
行うことが好ましい。
The metal cation (M + ) of the borate salt intermediate (D1) obtained above is preferably an alkali metal cation from the viewpoints of stability and solubility. Of these, a sodium cation, a potassium cation, and a lithium cation are more preferable. In the case of reacting with a Grignard reagent, it is preferable to perform metal exchange during or after the reaction by adding sodium hydrogen carbonate, sodium chloride, potassium chloride, lithium chloride, sodium bromide, potassium bromide, lithium bromide or the like.

ボレート塩中間体(D1)のうち、芳香環基に置換したアルキル基のα位炭素をハロゲン化(好ましくは臭素化)する場合、ハロゲン化の方法としては、ハロゲン(臭素が好ましい)を用いる方法又はラジカル発生剤を併用したN−ブロモスクシンイミドを用いた方法が簡便で好ましい(第4版実験化学講座19日本化学会編p422)。   In the borate salt intermediate (D1), when the α-position carbon of the alkyl group substituted with the aromatic ring group is halogenated (preferably brominated), a halogen (preferably bromine) is used as the halogenation method. Alternatively, a method using N-bromosuccinimide combined with a radical generator is simple and preferable (4th edition, Experimental Chemistry Course 19, edited by the Chemical Society of Japan, p422).

アミン化合物(A)は、ボレート塩中間体(D1)との付加反応によって、ボレート塩中間体(D1)から脱離基を除いた残基が付加することで本発明の両性イオン型ボレート塩の有する4価共有結合窒素原子を有する基(A)となる。
アミン化合物(A)としては、アンモニア、アルキルアミン(ブチルアミン、オクチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、及びフェニルジメチルアミン等);
ピロリジン(N−メチルピロリジン、N−メチル−2,5−ジメチルピロリジン及びN−エチルピロリジン等);
ピペリジン(N−メチルピペリジン、N−メチル−2,6−ジメチルピペリジンおよびN−エチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等);
キヌクリジン(キヌクリジン及び3−ヒドロキシキヌクリジン等);
モルホリン(N−メチルモルホリン等);
イミダゾリン(N−メチルイミダゾリン及びN−エチルイミダゾリン等);
アミジン(N−メチルテトラヒドロピリミジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(以下、DBUと記載)及び1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン(以下DBNと記載)等);
グアニジン(ペンタメチルグアニジン及び2−tert−ブチル−1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセン、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセン等);
イミダゾール(N−メチルイミダゾール及びN−エチルイミダゾール等);
チアゾール(ベンゾチアゾール等);
ピリジン;(ピリジン、4−4−ジメチルアミノピリジン、4−オクチルピリジン等);キノリン(キノリン等);
イソキノリン(イソキノリン等);
アクリジン(アクリジン等)等が挙げられる。
The amine compound (A 1 ) is added to the borate salt intermediate (D1) by addition of a residue obtained by removing the leaving group from the borate salt intermediate (D1), whereby the zwitterionic borate salt of the present invention is added. Becomes a group (A + ) having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom.
As the amine compound (A 1 ), ammonia, alkylamine (such as butylamine, octylamine, dimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylamine, and phenyldimethylamine);
Pyrrolidine (N-methylpyrrolidine, N-methyl-2,5-dimethylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, etc.);
Piperidine (N-methylpiperidine, N-methyl-2,6-dimethylpiperidine and N-ethyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, etc.);
Quinuclidine (such as quinuclidine and 3-hydroxyquinuclidine);
Morpholine (such as N-methylmorpholine);
Imidazolines (such as N-methylimidazoline and N-ethylimidazoline);
Amidine (N-methyltetrahydropyrimidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (hereinafter referred to as DBU) and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene (hereinafter referred to as DBU) DBN)));
Guanidine (pentamethylguanidine and 2-tert-butyl-1,1,3,3-tetramethylguanidine, 1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] -5-decene, 7-methyl-1 , 5,7-triazabicyclo [4.4.0] -5-decene, etc.);
Imidazole (N-methylimidazole, N-ethylimidazole, etc.);
Thiazole (benzothiazole, etc.);
Pyridine; (pyridine, 4-4-dimethylaminopyridine, 4-octylpyridine, etc.); quinoline (quinoline, etc.);
Isoquinoline (such as isoquinoline);
Examples include acridine (acridine and the like).

これらの中でもアミン化合物(A)としては、アンモニア、アルキルアミン(ブチルアミン、オクチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン及びフェニルジメチルアミン等)、N−アルキルピロリジン(N−メチルピロリジン、N−メチル−2,5−ジメチルピロリジン及びN−エチルピロリジン等)、N−アルキルピペリジン(N−メチルピペリジン、N−メチル−2,6−ジメチルピペリジン及びN−エチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等)、キヌクリジン(キヌクリジン及び3−ヒドロキシキヌクリジン等)、N−アルキルモルホリン(N−メチルモルホリン等)、N−アルキルイミダゾリン(N−メチルイミダゾリン及びN−エチルイミダゾリン等)、アミジン(N−メチルテトラヒドロピリミジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン及び1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等)、グアニジン(ペンタメチルグアニジン及び2−tert−ブチル−1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセン、7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセン等)及びN−アルキルイミダゾール(N−メチルイミダゾール及びN−エチルイミダゾール等)が好ましい。 Among these, amine compounds (A 1 ) include ammonia, alkylamines (butylamine, octylamine, dimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, phenyldimethylamine, etc.), N-alkylpyrrolidines (N-methylpyrrolidine, N-methyl- 2,5-dimethylpyrrolidine and N-ethylpyrrolidine), N-alkylpiperidine (N-methylpiperidine, N-methyl-2,6-dimethylpiperidine and N-ethyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine) ), Quinuclidine (such as quinuclidine and 3-hydroxyquinuclidine), N-alkylmorpholine (such as N-methylmorpholine), N-alkylimidazoline (such as N-methylimidazoline and N-ethylimidazoline), amidine (N-methyl) Trahydropyrimidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene), guanidine (pentamethylguanidine and 2-tert- Butyl-1,1,3,3-tetramethylguanidine, 1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] -5-decene, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4 4.0] -5-decene, etc.) and N-alkylimidazoles (N-methylimidazole, N-ethylimidazole, etc.) are preferred.

方法1は溶媒中で又は溶媒を用いずに行ってもよいが副反応の抑制の観点から溶媒中で行うことが好ましい。
方法1に用いる溶媒としては、炭化水素(ヘキサン、ヘプタン、トルエン及びキシレン等)、ニトリル(アセトニトリル及びプロピオニトリル等)、アルコール(メタノール及びプロパノール等)、水、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等)、アミド(N、N−ジメチルホルムアミド及びN−メチルピロリドン等)並びに塩素系溶剤(クロロホルム及びジクロロメタン等)等が挙げられる。
これらの溶媒は1種でもよく、2種以上混合して用いても良い。
Method 1 may be carried out in a solvent or without using a solvent, but is preferably carried out in a solvent from the viewpoint of suppressing side reactions.
Solvents used in Method 1 include hydrocarbons (hexane, heptane, toluene, xylene, etc.), nitriles (acetonitrile, propionitrile, etc.), alcohols (methanol, propanol, etc.), water, ketones (acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone). Etc.), amides (N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, etc.), chlorinated solvents (chloroform, dichloromethane, etc.) and the like.
These solvents may be used alone or in combination of two or more.

方法1において、アミン化合物(A)とボレート塩中間体(D1)との付加反応を行う条件としては、ボレート塩中間体(D1)の存在下にアミン化合物(A)又はアミン化合物(A)を前記の溶媒に溶解した溶液を滴下することが好ましい。滴下する場合の速度は、副反応の抑制の観点から、アミン化合物(A)として0.1〜20mL/分(更に好ましくは0.5〜10mL/分)が好ましい。
方法1において、ボレート塩中間体(D1)とアミン化合物(A)との比率は、副反応の抑制の観点からモル数の比率として0.6〜1.5となる比率であることが好ましく、0.8〜1.2が更に好ましい。ボレート塩中間体(D1)とアミン化合物(A)の反応は、副反応の抑制の観点から通常−20℃〜150℃、好ましくは−10℃〜100℃、最も好ましくは0℃〜70℃である。
In Method 1, the conditions for carrying out the addition reaction between the amine compound (A 1 ) and the borate salt intermediate (D1) are as follows: in the presence of the borate salt intermediate (D1), the amine compound (A 1 ) or amine compound (A It is preferable to add dropwise a solution prepared by dissolving 1 ) in the above solvent. Speed in the case of dropping, from the viewpoint of suppression of side reactions, 0.1~20ML / min as the amine compound (A 1) (more preferably 0.5 to 10 / min) is preferred.
In Method 1, the ratio between the borate salt intermediate (D1) and the amine compound (A 1 ) is preferably such that the molar ratio is 0.6 to 1.5 from the viewpoint of suppressing side reactions. 0.8 to 1.2 is more preferable. The reaction between the borate salt intermediate (D1) and the amine compound (A 1 ) is usually −20 ° C. to 150 ° C., preferably −10 ° C. to 100 ° C., most preferably 0 ° C. to 70 ° C. from the viewpoint of suppressing side reactions. It is.

方法2は、4価共有結合窒素原子を有する基(A)に対応するアミノ基(A)を有するボレート塩中間体(D2)に対し、脱離基を有する化合物(G)を溶媒中で又は溶媒を用いずに反応させる方法であり、下記の反応式(2)で表すことが出来る。
In Method 2, a compound (G) having a leaving group is added to a borate salt intermediate (D2) having an amino group (A 2 ) corresponding to a group (A + ) having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom in a solvent. Or without using a solvent, and can be represented by the following reaction formula (2).

反応式(2)中、A、R及びYは一般式(1)と同じであり、Zは脱離基であり、Aは4価共有結合窒素原子を有する基(A)に対応するアミノ基であり、EはAと反応することで4価共有結合窒素原子を有する基(A)の構成成分となる官能基であり、Mは金属カチオンである。 In the reaction formula (2), A + , R 1 and Y are the same as those in the general formula (1), Z is a leaving group, and A 2 is a group having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom (A + ). It is a corresponding amino group, E is a functional group that becomes a constituent component of a group (A + ) having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom by reacting with A 2, and M + is a metal cation.

化合物(G)は、反応式(2)においてE−Zで表され、脱離基(Z)とボレート塩中間体(D2)が有するアミノ基(A)に付加することで4価共有結合窒素原子を有する基(A)の構成成分となる官能基(E)とからなる。
化合物(G)とボレート塩中間体(D2)との反応によって、化合物(G)から脱離基を除いた残基である官能基(E)がボレート塩中間体(D2)の有するアミノ基(A)に付加し、本発明の両性イオン型ボレート塩の有する4価共有結合窒素原子を有する基(A)となる。
The compound (G) is represented by EZ in the reaction formula (2), and is added to the amino group (A 2 ) of the leaving group (Z) and the borate salt intermediate (D2) to add a tetravalent covalent bond. It consists of a functional group (E) which is a constituent component of a group (A + ) having a nitrogen atom.
By the reaction between the compound (G) and the borate salt intermediate (D2), the functional group (E), which is a residue obtained by removing the leaving group from the compound (G), has an amino group ( It becomes a group (A + ) having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom which is added to A 2 ) and which the zwitterionic borate salt of the present invention has.

脱離基(Z)としては、ハロゲノ基(クロロ基、ブロモ基、ヨーダイド基等)、スルホニルオキシ基(トリフルオロメチルスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基及びp−トルエンスルホニルオキシ基等)及びアシロキシ(アセトキシ基及びトリフルオロメチルカルボニルオキシ基等)が含まれる。
官能基(E)として好ましいものとしては、アミノ基(A)との反応性の観点から炭素数1〜18のアルキル基、炭素数7〜30のアラルキル基が挙げられる。
Examples of the leaving group (Z) include halogeno groups (chloro group, bromo group, iodide group, etc.), sulfonyloxy groups (trifluoromethylsulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, etc.) and acyloxy ( An acetoxy group and a trifluoromethylcarbonyloxy group).
Preferable examples of the functional group (E) include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms from the viewpoint of reactivity with the amino group (A 2 ).

反応性等の観点から、好ましい化合物(G)としては、臭化メチル、ヨウ化メチル、ジメチル硫酸、メタンスルホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸メチル、臭化エチル、ジエチル硫酸、臭化ブチル、ベンジルブロミド、ベンジルクロリド、1−ブロモメチルナフタレン、2−クロロメチルナフタレン、クロロエチルベンゼン、α−ブロモアセトン、α
−クロロベンゾフェノン及びα−ブロモエチルベンゼンが挙げられる。
From the viewpoint of reactivity and the like, preferred compounds (G) include methyl bromide, methyl iodide, dimethyl sulfate, methyl methanesulfonate, methyl p-toluenesulfonate, ethyl bromide, diethyl sulfate, butyl bromide, and benzyl. Bromide, benzyl chloride, 1-bromomethylnaphthalene, 2-chloromethylnaphthalene, chloroethylbenzene, α-bromoacetone, α
-Chlorobenzophenone and α-bromoethylbenzene.

アミノ基(A)は、ボレート塩中間体(D2)が有する4価共有結合窒素原子を有する基(A)の構成成分であり、アミン化合物(A)のうち、少なくとも1つの水素原子を有するアミン化合物から1つの水素原子を除いた残基である1価のアミノ基が挙げられる。
中でもアミノ基(A)としては、アミノ基(NH)、アルキルアミノ基(ブチルアミノ基、オクチルアミノ基及びジメチルアミノ基等)、ピロリジノ基(ピロリジノ基及び2,5−ジメチルピロリジノ基等)、ピペリジノ基(ピペリジノ基、2,6−ジメチルピペリジノ基及び2,2,6,6−テトラメチルピペリジノ基等)、キヌクリジノ基(キヌクリジノ基及び3−ヒドロキシキヌクリジノ基等)、モルホリノ基、イミダゾノ基(2−メチルイミダゾリノ基及びイミダゾリノ基等)、アミジノ基(テトラヒドロピリミジノ基等)、グアニジノ基(テトラメチルグアニジノ基及び1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]−5−デセニル基等)、イミダゾリノ基(イミダゾリノ基及び2−メチルイミダゾリノ基等)が好ましい。
The amino group (A 2 ) is a constituent component of a group (A + ) having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom that the borate salt intermediate (D2) has, and at least one hydrogen atom in the amine compound (A 1 ) And a monovalent amino group that is a residue obtained by removing one hydrogen atom from an amine compound having a hydrogen atom.
Among them, amino group (A 2 ) includes amino group (NH 2 ), alkylamino group (butylamino group, octylamino group, dimethylamino group, etc.), pyrrolidino group (pyrrolidino group, 2,5-dimethylpyrrolidino group, etc.) ), Piperidino group (piperidino group, 2,6-dimethylpiperidino group and 2,2,6,6-tetramethylpiperidino group etc.), quinuclidino group (quinuclidino group and 3-hydroxyquinuclidino group etc.) , Morpholino group, imidazolino group (2-methylimidazolino group and imidazolino group etc.), amidino group (tetrahydropyrimidino group etc.), guanidino group (tetramethylguanidino group and 1,5,7-triazabicyclo [4. 4.0] -5-decenyl group and the like, and imidazolino groups (such as imidazolino group and 2-methylimidazolino group) are preferable.

ボレート塩中間体(D2)が有する金属カチオン(M)は前記のボレート塩中間体(D1)と同じであり、好ましいものも同じである。 The metal cation (M + ) of the borate salt intermediate (D2) is the same as the borate salt intermediate (D1), and the preferred one is also the same.

アミノ基(A)を有するボレート塩中間体(D2)は公知の方法を用いることができ、前記のボレート塩中間体(D1)と同様の方法を用いて得ることができ、ボレート塩中間体(D2)と化合物(G)との反応条件は、ボレート塩中間体(D1)とアミン化合物(A)の反応条件と同様であり、好ましい反応条件も同じである。 A borate salt intermediate (D2) having an amino group (A 2 ) can be obtained by a known method, and can be obtained by using the same method as the borate salt intermediate (D1). The reaction conditions for (D2) and compound (G) are the same as the reaction conditions for borate salt intermediate (D1) and amine compound (A 1 ), and the preferred reaction conditions are also the same.

前記の方法1及び方法2において得られた反応混合物から、更にボレート塩の単離を行って本発明の両性イオン型ボレート塩を得ることができる。
単離は、公知の方法で行うことが出来、両性イオン型ボレート塩を含む有機溶剤溶液を必要により濃縮した後、両性イオン型ボレート塩の貧溶剤を加えて両性イオン型ボレート塩を析出させて単離する方法及び両性イオン型ボレート塩を含む有機溶剤溶液からクロマドグラフィー法によって両性イオン型ボレート塩を単離する方法等を用いることができる。
The zwitterionic borate salt of the present invention can be obtained by further isolating the borate salt from the reaction mixture obtained in the above-mentioned method 1 and method 2.
Isolation can be performed by a known method, and after concentrating an organic solvent solution containing a zwitterionic borate salt as necessary, a poor solvent of the zwitterionic borate salt is added to precipitate the zwitterionic borate salt. A method of isolating and a method of isolating a zwitterionic borate salt from an organic solvent solution containing the zwitterionic borate salt by a chromatographic method can be used.

貧溶媒を加えて両性イオン型ボレート塩を析出させて単離する方法において、貧溶剤としては、前記の鎖状エーテル、前記の炭化水素溶剤及びエステル溶剤(酢酸エチル及び酢酸ブチル等)を用いることが出来る。   In the method of depositing and isolating zwitterionic borate salt by adding a poor solvent, the chain ether, the hydrocarbon solvent and the ester solvent (such as ethyl acetate and butyl acetate) are used as the poor solvent. I can do it.

貧溶剤を加えて両性イオン型ボレート塩を析出させて単離する方法において、両性イオン型ボレート塩が油状物の場合、単離した油状物をデカンテーション法等によって有機溶剤溶液から分離し、更に油状物に含有する有機溶剤を留去することにより両性イオン型ボレート塩を得ることができる。
両性イオン型ボレート塩が固体の場合、析出した固体をデカンテーション法等によって有機溶剤溶液から分離し、更に固体に含有する有機溶剤を留去することにより、両性イオン型ボレート塩を得ることができる。
In the method of precipitating and isolating the zwitterionic borate salt by adding a poor solvent, when the zwitterionic borate salt is an oil, the isolated oil is separated from the organic solvent solution by a decantation method, etc. A zwitterionic borate salt can be obtained by distilling off the organic solvent contained in the oil.
When the zwitterionic borate salt is a solid, the precipitated solid is separated from the organic solvent solution by a decantation method or the like, and the organic solvent contained in the solid is distilled off to obtain the zwitterionic borate salt. .

クロマドグラフィー法によって両性イオン型ボレート塩を単離する方法の場合、分離操作後に得られた両性イオン型ボレート塩を含む有機溶剤溶液から有機溶剤を留去することにより両性イオン型ボレート塩を得ることができる。   In the case of isolating zwitterionic borate salt by chromatographic method, the zwitterionic borate salt is obtained by distilling off the organic solvent from the organic solvent solution containing the zwitterionic borate salt obtained after the separation operation. be able to.

前記の方法等で単離した両性イオン型ボレート塩が固体である場合、更に公知の方法により再結晶を行っても良い。   When the zwitterionic borate salt isolated by the above method is a solid, it may be recrystallized by a known method.

本発明の両性イオン型ボレート塩は潜在性塩基触媒(光が照射される前は、触媒作用はないが、光照射によって塩基触媒の作用を発現する触媒や、保管時には触媒作用はないが、熱を加えることにより塩基触媒の作用を発現する触媒)等に適用できる。
たとえば、塩基で硬化が促進する硬化性樹脂や重合性モノマーおよび本発明の両性イオン型ボレート塩、並びに必要に応じて、溶剤及び/又は添加剤を含んでなる硬化性樹脂組成物を容易に構成でき、熱または光照射等により硬化させることが可能である。このような硬化性樹脂組成物は、本発明の両性イオン型ボレート塩を含有するため、保存安定性に優れている。
硬化方法の一例として、本発明の両性イオン型ボレート塩を含有する硬化性樹脂組成物に、例えば光を照射(光照射ともいう)することによって塩基を発生させ、硬化反応を促進させて、硬化物を得ることができる。
なお、本発明において、光照射とは、放射線、X線、電子線、紫外線及び可視光線等の活性エネルギー線を照射することを意味する。
なお、硬化反応の際には必要に応じて加熱してもよい。あるいは本発明の両性イオン型ボレート塩を含有する硬化性樹脂組成物を加温することで硬化反応を促進させて、硬化物を得ることができる。
The zwitterionic borate salt of the present invention is a latent basic catalyst (a catalyst that does not have a catalytic action before irradiation with light, but does not have a catalytic action during storage, or has no catalytic action during storage. Can be applied to a catalyst that exhibits the action of a base catalyst).
For example, a curable resin composition comprising a curable resin or a polymerizable monomer that accelerates curing with a base, the zwitterionic borate salt of the present invention, and, if necessary, a solvent and / or an additive is easily configured. It can be cured by heat or light irradiation. Such a curable resin composition is excellent in storage stability because it contains the zwitterionic borate salt of the present invention.
As an example of a curing method, a curable resin composition containing the zwitterionic borate salt of the present invention is irradiated with light (also referred to as light irradiation) to generate a base, thereby promoting a curing reaction and curing. You can get things.
In the present invention, light irradiation means irradiation with active energy rays such as radiation, X-rays, electron beams, ultraviolet rays and visible rays.
In addition, you may heat as needed in the case of hardening reaction. Or hardening reaction can be accelerated | stimulated by heating the curable resin composition containing the zwitterionic borate salt of this invention, and hardened | cured material can be obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前記の両性イオン型ボレート塩と硬化性化合物を含む。   The curable resin composition of the present invention contains the zwitterionic borate salt and a curable compound.

硬化性化合物としては、前記の両性イオン型ボレート塩によって硬化する硬化性化合物であれば制限がなく、硬化性ウレタン化合物{(ポリ)イソシアネートと硬化剤(ポリオール及びチオール等)とからなる硬化性化合物等}、硬化性エポキシ化合物{(ポリ)エポキシドと硬化剤[酸無水物、カルボン酸、(ポリ)エポキシド及びチオール等]とからなる硬化性化合物、エピクロルヒドリンとカルボン酸とからなる硬化性化合物等}、硬化性アクリル化合物[(メタ)アクリルモノマー及び/又は(メタ)アクリルオリゴマーと硬化剤(チオール、マロン酸エステル及びアセチルアセトナート等)とからなる硬化性化合物等]、ポリシロキサン(硬化して架橋ポリシロキサンとなる硬化性化合物)、硬化性ポリアミド化合物(Am)及びポリイミド化合物等が挙げられる。
なかでも硬化性エポキシ化合物、及び硬化性ポリアミド化合物(Am)であることが好ましく、硬化性エポキシ化合物は、分子内に2つ以上のグリシジル基を有する化合物(J)と分子内に2つ以上の活性水素含有基を有する化合物(K)又は酸無水物(L)とからなる硬化性化合物であることが更に好ましく、硬化性ポリアミド化合物(Am)は一般式(4)で表される繰り返し単位を有するポリアミド樹脂(Am1)及び/又は前記一般式(5)で表される繰り返し単位を有するポリアミド樹脂(Am2)であることが更に好ましい。
尚、上記及び以下において、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれか
を指す場合「(メタ)アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「(メタ)アクリル」と、それぞれ記載することがある。
The curable compound is not limited as long as it is a curable compound that is cured by the zwitterionic borate salt, and includes a curable urethane compound {(poly) isocyanate and a curing agent (polyol, thiol, etc.). Etc.}, curable epoxy compounds {curable compounds comprising (poly) epoxides and curing agents [acid anhydrides, carboxylic acids, (poly) epoxides, thiols, etc.], curable compounds comprising epichlorohydrin and carboxylic acids, etc.} , Curable acrylic compounds [(meth) acrylic monomers and / or (meth) acrylic oligomers and curing agents (such as thiol, malonate and acetylacetonate)], polysiloxane (cured and crosslinked) Curable compound to be polysiloxane), curable polyamide compound (Am), and poly Examples include a mid compound.
Among them, a curable epoxy compound and a curable polyamide compound (Am) are preferable, and the curable epoxy compound includes a compound (J) having two or more glycidyl groups in the molecule and two or more in the molecule. More preferably, it is a curable compound comprising the compound (K) or acid anhydride (L) having an active hydrogen-containing group, and the curable polyamide compound (Am) is a repeating unit represented by the general formula (4). The polyamide resin (Am1) and / or the polyamide resin (Am2) having a repeating unit represented by the general formula (5) is more preferable.
In the above and the following, when referring to both and / or “acrylate” and “methacrylate”, when referring to “(meth) acrylate” and “acryl” and / or “methacryl”, “(meth) acryl” May be described respectively.

[一般式(4)中、(V)は4価の有機基を表し、(W)は2価の有機基を表す。] [In General Formula (4), (V) represents a tetravalent organic group, and (W) represents a divalent organic group. ]

[一般式(5)中、(V)は4価の有機基を表し、(W)は2価の有機基を表し、Xは水酸基、メルカプト基又はアミノ基である。] [In General Formula (5), (V) represents a tetravalent organic group, (W) represents a divalent organic group, and X represents a hydroxyl group, a mercapto group, or an amino group. ]

本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物として、2つ以上のグリシジル基を有する化合物(J)と分子内に2つ以上の活性水素含有基を有する化合物(K)又は酸無水物(L)とからなる硬化性化合物に用いる場合、分子内に2つ以上のグリシジル基を有する化合物(J)としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂及び脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのほかに、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、含複素環エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂及びスピロ環含有エポキシ樹脂等を用いることもできる。また、グリシジル基と類似した、エポキシ基の酸素原子が硫黄原子で置換されたチイラン化合物も同様に使用できる。
これらは単独または2種以上を混合して使用することができる。
As a curable compound contained in the curable resin composition of the present invention, a compound (J) having two or more glycidyl groups and a compound (K) having two or more active hydrogen-containing groups in the molecule or an acid anhydride When used in a curable compound comprising (L), the compound (J) having two or more glycidyl groups in the molecule includes bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin and fat. Examples thereof include cyclic epoxy resins. In addition to these, a phenol novolac type epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, a hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, a hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a spiro ring-containing epoxy resin, and the like can also be used. Further, a thiirane compound similar to the glycidyl group in which the oxygen atom of the epoxy group is substituted with a sulfur atom can also be used.
These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

分子内に2つ以上の活性水素含有基を有する化合物(K)の有する活性水素基としては、OH基、SH基、NH基及びNHR基が挙げられる。化合物(K)としては、OH基、SH基、NH基及びNHR基からなる群から選ばれる少なくとも二つの官能基を有する化合物であることが好ましい。なお、NHR基に含まれるRは窒素原子に結合する1価の有機基である。 Examples of the active hydrogen group possessed by the compound (K) having two or more active hydrogen-containing groups in the molecule include OH group, SH group, NH 2 group and NHR group. The compound (K) is preferably a compound having at least two functional groups selected from the group consisting of OH group, SH group, NH 2 group and NHR group. Note that R contained in the NHR group is a monovalent organic group bonded to a nitrogen atom.

化合物(K)のうち、OH基を有する化合物としては、フェノール樹脂類及び多官能アルコール類等が挙げられる。
フェノール樹脂類としては、フェノールノボラック樹脂、キシリレンノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、トリフェニルメタンノボラック樹脂、ビフェニルノボラック樹脂及びジシクロペンタジエンフェノールノボラック樹脂等が挙げられる。
多官能アルコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、マンニトール、グルコース、ハイドロキノン及びグリシドール等のアルコール類並びにこれらのアルキレンオキサイド(エチレンオキシド及びプロピレンオキシド等)付加物等が挙げられる。
Among the compounds (K), examples of the compound having an OH group include phenol resins and polyfunctional alcohols.
Examples of the phenolic resins include phenol novolac resins, xylylene novolac resins, bisphenol A novolac resins, triphenylmethane novolac resins, biphenyl novolac resins, and dicyclopentadiene phenol novolac resins.
Examples of the polyfunctional alcohols include alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, mannitol, glucose, hydroquinone and glycidol, and adducts of these alkylene oxides (such as ethylene oxide and propylene oxide). It is done.

化合物(K)のうち、SH基を有する化合物としては、チオフェノール類、多官能チオール類が挙げられ、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリストールテトラキスチオプロピオネート、エチレングリコールビスチオグリコレート、1,4−ブタンジオールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリストールテトラキスチオグリコレート、ジ(2−メルカプトエチル)エーテル、エタンジチオール、1,4−ブタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,4−ジメルカプトベンゼン、1,3,5−トリメルカプトメチルベンゼン、4,4’−チオジベンゼンチオール、2,4,6−トリメルカプト−s−トリアジン、2−ジブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジン、その他末端チオール基含有ポリエーテル、末端チオール基含有ポリチオエーテル、エポキシ化合物と硫化水素との反応によって得られるチオール化合物及びポリチオール化合物とエポキシ化合物との反応によって得られる末端チオール基を有するチオール化合物等が挙げられる。   Among the compounds (K), examples of the compound having an SH group include thiophenols and polyfunctional thiols, such as trimethylolpropane tristhiopropionate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, ethylene glycol bisthioglyco. 1,4-butanediol bisthioglycolate, trimethylolpropane tristhioglycolate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, di (2-mercaptoethyl) ether, ethanedithiol, 1,4-butanedithiol, 1, 6-hexanedithiol, 1,4-dimercaptobenzene, 1,3,5-trimercaptomethylbenzene, 4,4′-thiodibenzenethiol, 2,4,6-trimercapto-s-triazine, 2-dibutyl Amino-4,6-dimercapto s-triazine, other terminal thiol group-containing polyether, terminal thiol group-containing polythioether, thiol compound obtained by reaction of epoxy compound and hydrogen sulfide, and thiol having terminal thiol group obtained by reaction of polythiol compound and epoxy compound Compounds and the like.

化合物(K)のうち、NH基およびNHR基を有する化合物としては、芳香族ポリアミンおよび脂肪族ポリアミンが挙げられ、具体的にはジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、m−キシレンジアミン、トリメチレルへキシレンジアミン、2−メチルペンタメチレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン等脂肪族アミン、イソホロンジアミン、1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ノルボルネンジアミン、1,2−ジアミノシクロヘキサン等脂環式アミン、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン及びジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。 Among the compounds (K), examples of the compound having an NH 2 group and an NHR group include aromatic polyamines and aliphatic polyamines. Specifically, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, m-xylenediamine, Trimethylyl to xylenediamine, 2-methylpentamethylenediamine, aliphatic amines such as diethylaminopropylamine, isophoronediamine, 1,3-bisaminomethylcyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, norbornenediamine, 1,2-diaminocyclohexane Examples include isoalicyclic amines, diaminodiphenylmethane, metaphenylenediamine, and diaminodiphenylsulfone.

酸無水物(L)としては、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、テトラアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス(無水トリメリット酸)エステル、グリセリンビス(無水トリメリット酸)エステルモノアセテート、ドデセニル無水コハク酸及びクロレンド酸無水物等が挙げられる。   As the acid anhydride (L), tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, methylnorbornane- 2,3-dicarboxylic anhydride, tetraalkyltetrahydrophthalic anhydride, methylcyclohexenetetracarboxylic dianhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride Products, ethylene glycol bis (trimellitic anhydride) ester, glycerin bis (trimellitic anhydride) ester monoacetate, dodecenyl succinic anhydride and chlorendic anhydride.

硬化性化合物が硬化性エポキシ化合物である場合、本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる前記の両性イオン型ボレート塩の含有量は、硬化速度と硬化性組成物の安定性の観点から、硬化性化合物の合計重量に基づいて0.1〜30重量%が好ましく、更に好ましくは1〜10重量%である。   When the curable compound is a curable epoxy compound, the content of the zwitterionic borate salt contained in the curable resin composition of the present invention is cured from the viewpoint of curing speed and stability of the curable composition. The content is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, based on the total weight of the active compound.

硬化性化合物が硬化性エポキシ化合物である場合、本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物の合計含有量は、硬化物の物性の観点から、硬化性組成物の全体の重量に基づいて5〜99重量%が好ましく、更に好ましくは10〜60重量%である。   When the curable compound is a curable epoxy compound, the total content of the curable compound contained in the curable resin composition of the present invention is based on the total weight of the curable composition from the viewpoint of the physical properties of the cured product. The amount is preferably 5 to 99% by weight, more preferably 10 to 60% by weight.

硬化性化合物として、分子内に2つ以上のグリシジル基を有する化合物(J)と分子内に2つ以上の活性水素含有基を有する化合物(K)又は酸無水物(L)とからなる硬化性化合物を用いる場合、化合物(K)の含有量は、目的に応じた硬化物の物性の観点から、化合物(J)のエポキシ基1当量に対して、0.5〜1.5当量が好ましく、更に好ましくは0.7〜1.2当量である。
酸無水物(L)の含有量は、目的に応じた硬化物の物性の観点から、化合物(J)のエポキシ基1当量に対して、0.7〜1.5当量が好ましく、更に好ましくは0.8〜1.2当量である。
Curability comprising a compound (J) having two or more glycidyl groups in the molecule and a compound (K) or acid anhydride (L) having two or more active hydrogen-containing groups in the molecule as the curable compound. When using the compound, the content of the compound (K) is preferably 0.5 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the compound (J) from the viewpoint of the physical properties of the cured product according to the purpose. More preferably, it is 0.7-1.2 equivalent.
The content of the acid anhydride (L) is preferably from 0.7 to 1.5 equivalents, more preferably from 1 equivalent of the epoxy group of the compound (J), from the viewpoint of the physical properties of the cured product according to the purpose. 0.8 to 1.2 equivalents.

本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物のうち、好ましい硬化性化合物である硬化性ポリアミド化合物(Am)は、多価カルボン酸(又はその酸無水物)とポリアミンとが反応してできるアミド結合の繰り返しによって結合した繰り返し単位を有しする熱硬化性化合物である。   Among the curable compounds contained in the curable resin composition of the present invention, a curable polyamide compound (Am) which is a preferable curable compound is obtained by reacting a polycarboxylic acid (or an acid anhydride thereof) with a polyamine. It is a thermosetting compound having repeating units bonded by repeating amide bonds.

硬化性ポリアミド化合物(Am)のうち、更に好ましいものは、前記一般式(4)で表される繰り返し単位を有するポリアミド樹脂(Am1)である。   Of the curable polyamide compound (Am), more preferred is a polyamide resin (Am1) having a repeating unit represented by the general formula (4).

一般式(4)において、(V)は4価の有機基であり、(W)は2価の有機基である。   In the general formula (4), (V) is a tetravalent organic group, and (W) is a divalent organic group.

4価の有機基である(V)としては、芳香族化合物(ベンゼン、ナフタレン、ピリジン及びチオフェン等)の芳香環から4個の水素原子を除いた残基、脂環式化合物(シクロブタン、シクロペンタン及びノルボルナン等)の有する環状構造から4個の水素原子を除いた残基、前記芳香族化合物の有する芳香環から2個の水素原子を除いた残基及び前記脂環式化合物の有する環状構造から2個の水素原子を除いた残基から選ばれる2種の残基を互いに直接又はエーテル基、スルフィド基、フェニレン基、ビフェニレン基、炭素数1〜8のアルキレン基、フッ素が置換した炭素数1〜8のアルキレン基、スルホン基、スルホキシド基、ジスルフィド基若しくはケトン基で結合した基等が挙げられる。なかでも(V)としては、ベンゼンから4個の水素原子を除いた残基、ナフタレン4個の水素原子を除いた残基、シクロブタンから4個の水素原子を除いた残基、シクロペンタンから4個の水素原子を除いた残基、ベンゼンから2個の水素原子を除いた残基、ナフタレンから2個の水素原子を除いた残基、シクロブタンから2個の水素原子を除いた残基及びシクロペンタンから2個の水素原子を除いた残基からなる群から選ばれる2種の残基を直接又はエーテル基、スルフィド基、スルホン基、ケト基、炭素数1〜8のアルキレン基若しくはフッ素が置換した炭素数1〜8のアルキレン基で結合した基が好ましい。   Examples of the tetravalent organic group (V) include a residue obtained by removing four hydrogen atoms from an aromatic ring of an aromatic compound (benzene, naphthalene, pyridine, thiophene, etc.), an alicyclic compound (cyclobutane, cyclopentane). And a residue obtained by removing four hydrogen atoms from the cyclic structure of norbornane, etc., a residue obtained by removing two hydrogen atoms from the aromatic ring of the aromatic compound, and a cyclic structure of the alicyclic compound. Two residues selected from residues excluding two hydrogen atoms, each directly or an ether group, a sulfide group, a phenylene group, a biphenylene group, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and a carbon number of 1 substituted by fluorine Groups of 8 to 8 alkylene groups, sulfone groups, sulfoxide groups, disulfide groups or ketone groups. Among these, (V) includes a residue obtained by removing 4 hydrogen atoms from benzene, a residue obtained by removing 4 hydrogen atoms from naphthalene, a residue obtained by removing 4 hydrogen atoms from cyclobutane, and a residue obtained by removing 4 hydrogen atoms from cyclopentane. Residues from which 2 hydrogen atoms have been removed from benzene, residues from which 2 hydrogen atoms have been removed from naphthalene, residues from which 2 hydrogen atoms have been removed from cyclobutane, and cyclohexane Two residues selected from the group consisting of residues obtained by removing two hydrogen atoms from pentane are substituted directly or by an ether group, sulfide group, sulfone group, keto group, alkylene group having 1 to 8 carbon atoms or fluorine. A group bonded with an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms is preferred.

2価の有機基である(W)としては、前記芳香族化合物の有する芳香環に結合する2個の水素原子を除いた残基、前記脂環式化合物の有する環状構造から2個の水酸基を除いた残基、前記芳香族化合物の有する芳香環から1個の水素原子を除いた残基及び前記脂環式化合物から1個の水素原子を除いた残基から選ばれる2種の残基を互いに直接又はエーテル基、スルフィド基、フェニレン基、ビフェニレン基、炭素数1〜8のアルキレン基、フッ素が置換した炭素数1〜8のアルキレン基、スルホン基、スルホキシド基、ジスルフィド基若しくはケト基で結合した基である。
なかでも、ベンゼンから2個の水素原子を除いた残基、ナフタレンから2個の水素原子を除いた残基シクロブタンから2個の水素原子を除いた残基、シクロペンタンから2個の水素原子を除いた残基、ノルボルナンから2個の水素原子を除いた残基、ベンゼンから1
個の水素原子を除いた残基、ナフタレンから1個の水素原子を除いた残基、シクロブタンから1個の水素原子を除いた残基、シクロペンタンから1個の水素原子を除いた残基及びノルボルナンから1個の水素原子を除いた残基からなる群から選ばれる2種の残基を直接又はエーテル基、スルフィド基、スルホン基、ケト基、炭素数1〜8のアルキレン基若しくはフッ素が置換した炭素数1〜8のアルキレンで結合した基が好ましい。
(W) that is a divalent organic group includes a residue obtained by removing two hydrogen atoms bonded to the aromatic ring of the aromatic compound, and two hydroxyl groups from the cyclic structure of the alicyclic compound. Two residues selected from a removed residue, a residue obtained by removing one hydrogen atom from the aromatic ring of the aromatic compound, and a residue obtained by removing one hydrogen atom from the alicyclic compound; Bonded to each other directly or through an ether group, sulfide group, phenylene group, biphenylene group, alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, alkylene group having 1 to 8 carbon atoms substituted by fluorine, sulfone group, sulfoxide group, disulfide group or keto group It is a group.
Among them, a residue obtained by removing two hydrogen atoms from benzene, a residue obtained by removing two hydrogen atoms from naphthalene, a residue obtained by removing two hydrogen atoms from cyclobutane, and two hydrogen atoms from cyclopentane. Excluded residue, residue obtained by removing two hydrogen atoms from norbornane, 1 from benzene
Residues obtained by removing one hydrogen atom, residues obtained by removing one hydrogen atom from naphthalene, residues obtained by removing one hydrogen atom from cyclobutane, residues obtained by removing one hydrogen atom from cyclopentane, and Two residues selected from the group consisting of residues obtained by removing one hydrogen atom from norbornane are substituted directly or by an ether group, sulfide group, sulfone group, keto group, alkylene group having 1 to 8 carbon atoms or fluorine. Preferred is a group bonded with alkylene having 1 to 8 carbon atoms.

ポリアミド樹脂(Am1)は通常ポリアミック酸と呼ばれ、テトラカルボン酸二無水物(T1)とジアミノ化合物(E1)とを反応させることにより得ることができる。   The polyamide resin (Am1) is usually called a polyamic acid and can be obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride (T1) with a diamino compound (E1).

テトラカルボン酸二無水物(T1)としては、炭素数4〜18の脂環式テトラカルボン酸および炭素数6〜30の芳香族テトラカルボン酸の酸無水物等が挙げられ、炭素数4〜18の脂環式テトラカルボン酸としては、シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、ノルボルナンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸等が挙げられる。炭素数6〜30の芳香族テトラカルボン酸としてはピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸、2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸、2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}プロパンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルテトラメチルジシロキサン等が挙げられる。
テトラカルボン酸二無水物(T1)として好ましいものとしては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}プロパンテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物及び1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。
Examples of the tetracarboxylic dianhydride (T1) include alicyclic tetracarboxylic acids having 4 to 18 carbon atoms and acid anhydrides of aromatic tetracarboxylic acids having 6 to 30 carbon atoms, and 4 to 18 carbon atoms. As the alicyclic tetracarboxylic acid, cyclobutanetetracarboxylic acid, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid, norbornanetetracarboxylic acid, 3,3 Examples include ', 4,4'-dicyclohexyltetracarboxylic acid. Examples of the aromatic tetracarboxylic acid having 6 to 30 carbon atoms include pyromellitic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic acid, 3, 3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propanetetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanetetra Carboxylic acid, 2,2-bis {4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl} hexafluoropropanetetracarboxylic acid, 2,2-bis {4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl} propanetetra Examples thereof include carboxylic acid and 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenyltetramethyldisiloxane.
Preferred examples of the tetracarboxylic dianhydride (T1) include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′- Diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propanetetracarboxylic dianhydride, 2 , 2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis {4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl} hexafluoropropanetetracarboxylic dianhydride 2,2-bis {4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl} propanetetracarboxylic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride And 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic acid dianhydride. These may be used alone or in combination of two or more.

ジアミノ化合物(E1)としては、炭素数4〜18の脂肪族アミン化合物、炭素数6〜30の芳香族ジアミン化合物等が挙げられ、p−フェニレンジアミン、テトラメチル−1,4−フェニレンジアミン,p−キシレンジアミン、2,4−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、2,2−ビス(4−(p−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,3−ジアミノピリジン、ヘキサメチレンジアミン,ビス(アミノメチル)ノルボルナン及びアセトグアナミン等が挙げられる。これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。   Examples of the diamino compound (E1) include aliphatic amine compounds having 4 to 18 carbon atoms, aromatic diamine compounds having 6 to 30 carbon atoms, p-phenylenediamine, tetramethyl-1,4-phenylenediamine, p -Xylenediamine, 2,4-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino Diphenyl sulfide, 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2-bis (4- (p-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoro Propane, 2,3-diaminopyridine, hexamethylenediamine Bis (aminomethyl) norbornane and acetoguanamine, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

硬化性ポリアミド化合物(Am)のうち、前記一般式(5)で表される繰り返し単位を有するポリアミド樹脂(Am2)も更に好ましい。   Of the curable polyamide compound (Am), a polyamide resin (Am2) having a repeating unit represented by the general formula (5) is more preferable.

一般式(5)において、4価の有機基である(V)は、前記の一般式(4)に含まれる(V)のうち芳香環又は環状構造から除いた4個の水素原子が互いに隣り合う2個の水素原子の組み合わせである残基及び芳香環又は環状構造から互いに互いに隣り合う2個の水素原子を除いた残基を直接又はエーテル基、スルフィド基、スルホン基、ケト基、炭素数1〜8のアルキレン基若しくはフッ素が置換した炭素数1〜8のアルキレン基で結合した基であることが好ましい。   In the general formula (5), (V) which is a tetravalent organic group includes (V) included in the general formula (4) in which four hydrogen atoms removed from an aromatic ring or a cyclic structure are adjacent to each other. Residues that are a combination of two hydrogen atoms and residues obtained by removing two hydrogen atoms adjacent to each other from an aromatic ring or cyclic structure directly or ether group, sulfide group, sulfone group, keto group, carbon number A group bonded by an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms substituted by fluorine is preferable.

一般式(5)において、2価の有機基である(W)は一般式(4)と同じであり、好ましいものも同じである。   In the general formula (5), (W) which is a divalent organic group is the same as that in the general formula (4), and preferred ones are also the same.

一般式(5)において、Xは水酸基、メルカプト基又はアミノ基(NH)である。 In formula (5), X is a hydroxyl group, a mercapto group or an amino group (NH 2).

一般式(5)で表される繰り返し単位を更に脱水縮合反応することで、Xが水酸基の場合にはポリベンゾオキサゾールが、Xがメルカプト基の場合にはポリベンゾチオキサゾールが、Xがアミノ基の場合にはポリベンゾイミダゾールがそれぞれ得られる。   When the repeating unit represented by the general formula (5) is further subjected to a dehydration condensation reaction, when X is a hydroxyl group, polybenzoxazole is represented, when X is a mercapto group, polybenzothioxazole is represented, and X is an amino group. In this case, polybenzimidazole is obtained.

ポリアミド樹脂(Am2)は、ジカルボン酸、ジカルボン酸ハライド又はジカルボンエステル)[以下、ジカルボン酸、ジカルボン酸ハライド又はジカルボンエステルをジカルボン酸誘導体(T2)と記載する。]と、ジアミノジヒドロキシ化合物(E2)、ジアミノジメルカプト化合物(E3)又はテトラアミノ化合物(E4)とを反応させることにより得ることができる。   Polyamide resin (Am2) is dicarboxylic acid, dicarboxylic acid halide or dicarboxylic ester) [Hereinafter, dicarboxylic acid, dicarboxylic acid halide or dicarboxylic ester is referred to as dicarboxylic acid derivative (T2). And a diaminodihydroxy compound (E2), a diaminodimercapto compound (E3), or a tetraamino compound (E4).

ジカルボン酸誘導体(T2)としては、炭素数6〜30のジカルボン酸のジカルボン酸誘導体が挙げられる。炭素数6〜30のジカルボン酸としては、テレフタル酸、4,4’−ジカルボキシジフェニルエーテル、ベンゾフェノン−4,4’−ジカルボン酸、4,4’−ビフェニルジカルボン酸、2,2’−ビフェニルジカルボン酸、4,4’−ジカルボキシジフェニルスルホン、2,2’−ビス(4−カルボキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ビス(4−カルボキシフェニル)メタン、1,10−ビス(4−カルボキシフェノキシ)デカン、エチレングリコールビス(4−カルボキシフェニル)エーテル等が挙げられる。
ジカルボン酸誘導体として好ましいものとしては、テレフタル酸、4,4’−ジカルボキシジフェニルエーテル、ベンゾフェノン−4,4’−ジカルボン酸、4,4’−ビフェニルジカルボン酸、2,2’−ビフェニルジカルボン酸、4,4’−ジカルボキシジフェニルスルホン、2,2’−ビス(4−カルボキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ビス(4−カルボキシフェニル)メタン、1,10−ビス(4−カルボキシフェノキシ)デカン、エチレングリコールビス(4−カルボキシフェニル)エーテル並びにこれらの酸塩化物、酸臭化物及び炭素数1〜8のエステル化物等が挙げられる。これらは単独での用いても2種単以上を併用してもよい。
Examples of the dicarboxylic acid derivative (T2) include dicarboxylic acid derivatives of 6 to 30 carbon dicarboxylic acids. Examples of the dicarboxylic acid having 6 to 30 carbon atoms include terephthalic acid, 4,4′-dicarboxydiphenyl ether, benzophenone-4,4′-dicarboxylic acid, 4,4′-biphenyldicarboxylic acid, and 2,2′-biphenyldicarboxylic acid. 4,4′-dicarboxydiphenylsulfone, 2,2′-bis (4-carboxyphenyl) propane, 2,2′-bis (4-carboxyphenyl) hexafluoropropane, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, bis (4-Carboxyphenyl) methane, 1,10-bis (4-carboxyphenoxy) decane, ethylene glycol bis (4-carboxyphenyl) ether and the like.
Preferred examples of the dicarboxylic acid derivative include terephthalic acid, 4,4′-dicarboxydiphenyl ether, benzophenone-4,4′-dicarboxylic acid, 4,4′-biphenyldicarboxylic acid, 2,2′-biphenyldicarboxylic acid, 4 , 4′-dicarboxydiphenylsulfone, 2,2′-bis (4-carboxyphenyl) propane, 2,2′-bis (4-carboxyphenyl) hexafluoropropane, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, bis (4 -Carboxyphenyl) methane, 1,10-bis (4-carboxyphenoxy) decane, ethylene glycol bis (4-carboxyphenyl) ether, and acid chlorides, acid bromides, and esterified compounds having 1 to 8 carbon atoms. It is done. These may be used alone or in combination of two or more.

ジアミノジヒドロキシ化合物(E2)としては、炭素数6〜18のジアミノジヒドロキシ化合物等が挙げられ、2,4−ジアミノレゾルシノール、2,2’−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、3,4’−ジアミノ−4,3’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシ−6,6’−トリフルオロメチルビフェニル、1,3−ジアミノ−4,6−ジヒドロキシベンゼン、2,6−ジアミノ−3,7−ジヒドロキシナフタレン、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)メタン等公知のものが挙げられ、これらの1種以上を使用することができる。   Examples of the diaminodihydroxy compound (E2) include diaminodihydroxy compounds having 6 to 18 carbon atoms, such as 2,4-diaminoresorcinol, 2,2′-bis (4-amino-3-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane, 3,4′-diamino-4,3′-dihydroxydiphenylsulfone, 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxybiphenyl, 3 , 3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxy-6,6′-trifluoromethylbiphenyl, 1,3-diamino-4,6-dihydroxybenzene 2,6-diamino-3,7-dihydroxynaphthalene, bis (3-amino-4-hydroxyphene) Le) ketone, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) include those such as methane is known, it is possible to use one or more of these.

ジアミノジメルカプト化合物(E3)としては、炭素数6〜18のジアミノジメルカプト化合物等が挙げられ、2,2’−ビス(4−アミノ−3−メルカプトフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2’−ビス(4−アミノ−3−メルカプトフェニル)プロパン、3,4’−ジアミノ−4,3’−ジメルカプトジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジメルカプトビフェニル、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジメルカプト2,2’−トリフルオロメチルビフェニル、1,3−ジアミノ−4,6−ジメルカプトジフルオロベンゼン、1,4−ジアミノ−3,6−ジメルカプトベンゼン、2,7−ジアミノ−3,6−ジメルカプトナフタレン、ビス(3−アミノ−4−メルカプトフェニル)ケトン、ビス(3−アミノ−4−メルカプトフェニル)スルフィド、ビス(3−アミノ−4−メルカプトフェニル)エーテル、ビス(3−メルカプト4−アミノフェニル)スルホン、ビス(3−メルカプト4−アミノフェニル)メタン等公知のものが挙げられ、これらの1種以上を使用することができる。   Examples of the diaminodimercapto compound (E3) include diaminodimercapto compounds having 6 to 18 carbon atoms, such as 2,2′-bis (4-amino-3-mercaptophenyl) hexafluoropropane, 2,2′-. Bis (4-amino-3-mercaptophenyl) propane, 3,4′-diamino-4,3′-dimercaptodiphenyl sulfone, 3,3′-diamino-4,4′-dimercaptobiphenyl, 3,3 ′ -Diamino-4,4'-dimercapto 2,2'-trifluoromethylbiphenyl, 1,3-diamino-4,6-dimercaptodifluorobenzene, 1,4-diamino-3,6-dimercaptobenzene, 2, 7-diamino-3,6-dimercaptonaphthalene, bis (3-amino-4-mercaptophenyl) ketone, bis (3-amino-4-me Known examples include captophenyl) sulfide, bis (3-amino-4-mercaptophenyl) ether, bis (3-mercapto-4-aminophenyl) sulfone, bis (3-mercapto-4-aminophenyl) methane, and the like. One or more of these can be used.

テトラアミノ化合物(E4)としては、炭素数6〜18のテトラアミノ化合物等が挙げられ、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン、1,2,5,6−テトラアミノナフタレン、2,3,6,7−テトラアミノナフタレン、3,3’−ジアミノベンジジン、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルメタン、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエタン、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルエーテル、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルチオエーテル及び3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルスルホン等公知のものが挙げられ、これらの1種以上を使用することができる。   Examples of the tetraamino compound (E4) include tetraamino compounds having 6 to 18 carbon atoms, such as 1,2,4,5-tetraaminobenzene, 1,2,5,6-tetraaminonaphthalene, 2,3. , 6,7-tetraaminonaphthalene, 3,3′-diaminobenzidine, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenylmethane, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenylethane, 3,3 ′ , 4,4′-tetraaminodiphenyl ether, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl thioether, 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl sulfone, and the like. More than seeds can be used.

ポリアミド樹脂(Am1)及び(Am2)は、公知の方法(例えば特許文献;特開昭60−223824号公報、特開平10−168173号公報、非特許文献;J.Polymer.Sci.,A−1,3,p1373(1965)等参照)を用いてテトラカルボン酸二無水物(T1)又はジカルボン酸誘導体(T2)[以下、ポリカルボン酸誘導体(T)成分と記載する。]とジアミノ化合物(E1)又はジアミノジヒドロキシ化合物(E2)、ジアミノジメルカプト化合物(E3)若しくはテトラアミノ化合物(E4)[以下、ポリへテロ化合物(E)成分と記載する。]とを反応させることで得ることができる。
ポリアミド樹脂(Am1)及び(Am2)を得る反応において、ポリカルボン酸誘導体(T)成分とポリへテロ化合物(E)成分を有機溶媒中で反応することが好ましい。
ポリカルボン酸誘導体(T)成分とポリへテロ化合物(E)成分とを反応させる際の具体的な方法としては、少なくとも1種のポリへテロ化合物(E)成分を有機溶媒に溶解して得られた溶液に、少なくとも1種のポリカルボン酸誘導体(T)成分を添加し、0〜100℃の温度で、1〜60時間撹拌する方法等が挙げられる。
Polyamide resins (Am1) and (Am2) may be prepared by known methods (for example, patent literature; JP-A-60-223824, JP-A-10-168173, non-patent literature; J. Polymer. Sci., A-1). 3, p 1373 (1965), etc.) using tetracarboxylic dianhydride (T1) or dicarboxylic acid derivative (T2) [hereinafter referred to as a polycarboxylic acid derivative (T) component. ] And a diamino compound (E1) or a diaminodihydroxy compound (E2), a diaminodimercapto compound (E3) or a tetraamino compound (E4) [hereinafter referred to as a polyhetero compound (E) component. ] Can be obtained by reacting.
In the reaction for obtaining the polyamide resins (Am1) and (Am2), it is preferable to react the polycarboxylic acid derivative (T) component and the polyhetero compound (E) component in an organic solvent.
A specific method for reacting the polycarboxylic acid derivative (T) component with the polyhetero compound (E) component is obtained by dissolving at least one polyhetero compound (E) component in an organic solvent. Examples include a method in which at least one polycarboxylic acid derivative (T) component is added to the obtained solution and the mixture is stirred at a temperature of 0 to 100 ° C. for 1 to 60 hours.

ポリカルボン酸誘導体(T)成分とポリへテロ化合物(E)成分との反応を有機溶媒中で行う場合、有機溶媒としては、N‐メチル‐2‐ピロリドン、γ‐ブチラクトン、N,
N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、2‐メトキシエタノール、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、メチル‐1,3‐ブチレングリコールアセテート、1,3‐ブチレングリコールアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、テトラヒドロフラン及びこれらの混合物が使用できる。
ポリカルボン酸誘導体(T)成分とポリへテロ化合物(E)成分との反応において、ポリカルボン酸誘導体(T)成分、ポリへテロ化合物(E)成分及び必要による用いる有機溶剤からなる反応溶液中に含まれるポリカルボン酸誘導体(T)成分とポリへテロ化合物(E)成分との合計重量は、反応溶液全体の重量に対して1重量%以上であることが好ましく、更に好ましくは5〜80重量%、特に好ましくは10〜60重量%である。
ポリカルボン酸誘導体(T)成分とポリへテロ化合物(E)成分との反応において有機溶媒を用いる場合、有機溶剤の使用量は、反応溶液重量に対し99重量%以下が好ましく、更に好ましくは20から95重量%、特に好ましくは40重量%〜90重量%である。
When the reaction between the polycarboxylic acid derivative (T) component and the polyhetero compound (E) component is performed in an organic solvent, examples of the organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butylactone, N,
N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, 2-methoxyethanol, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl-1 1,3-butylene glycol acetate, 1,3-butylene glycol acetate, cyclohexanone, cyclopentanone, tetrahydrofuran and mixtures thereof can be used.
In the reaction of the polycarboxylic acid derivative (T) component and the polyhetero compound (E) component, in a reaction solution comprising the polycarboxylic acid derivative (T) component, the polyhetero compound (E) component, and an organic solvent to be used if necessary. The total weight of the polycarboxylic acid derivative (T) component and the polyhetero compound (E) component contained in is preferably 1% by weight or more, more preferably 5 to 80% with respect to the total weight of the reaction solution. % By weight, particularly preferably 10 to 60% by weight.
When an organic solvent is used in the reaction of the polycarboxylic acid derivative (T) component and the polyhetero compound (E) component, the amount of the organic solvent used is preferably 99% by weight or less, more preferably 20%, based on the weight of the reaction solution. To 95% by weight, particularly preferably 40% to 90% by weight.

ポリカルボン酸誘導体(T)成分とポリへテロ化合物(E)成分は、モル比{(T)成分/(E)成分}が0.8〜1.2となるように反応させることが好ましく、0.95〜1.0となるように反応させることがより好ましい。(T)成分と(E)成分とのモル比が、0.8当量未満、若しくは1.2当量を超えると、分子量が低くなり膜(フィルム)を形成することが困難なことがある。   The polycarboxylic acid derivative (T) component and the polyhetero compound (E) component are preferably reacted so that the molar ratio {(T) component / (E) component} is 0.8 to 1.2, It is more preferable to make it react so that it may become 0.95-1.0. When the molar ratio of the (T) component and the (E) component is less than 0.8 equivalent or more than 1.2 equivalent, the molecular weight may be low and it may be difficult to form a film (film).

ポリカルボン酸誘導体(T)成分とポリへテロ化合物(E)成分とを反応させた反応混合物は、そのまま本発明の硬化性樹脂組成物として使用してもよく、前記の反応混合物からポリアミド樹脂(Am1)及び(Am2)をそれぞれ単離して使用しても良い。反応混合物からポリアミド樹脂(Am1)及び(Am2)を単離する方法としては、反応混合物を、ポリアミド樹脂(Am1)及び(Am2)に対する貧溶媒(水、メタノール及びイソプロパノール等)に投じてポリアミド樹脂(Am1)及び(Am2)を沈殿させ、濾過・洗浄・乾燥等により分離する方法等が挙げられる。   The reaction mixture obtained by reacting the polycarboxylic acid derivative (T) component and the polyhetero compound (E) component may be used as it is as the curable resin composition of the present invention. Am1) and (Am2) may be isolated and used. As a method for isolating the polyamide resins (Am1) and (Am2) from the reaction mixture, the reaction mixture is poured into a poor solvent (water, methanol, isopropanol, etc.) for the polyamide resins (Am1) and (Am2) to form a polyamide resin ( Examples thereof include a method in which Am1) and (Am2) are precipitated and separated by filtration, washing, drying, and the like.

本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物が硬化性アミド化合物(Am)である場合、本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる両性イオン型ボレート塩の含有量は感光性樹脂組成物の重量に基づいて1〜20重量%が好ましく、更に好ましくは3〜15重量%、特に好ましくは5〜10重量%である。   When the curable compound contained in the curable resin composition of the present invention is a curable amide compound (Am), the content of the zwitterionic borate salt contained in the curable resin composition of the present invention is the photosensitive resin composition. The amount is preferably 1 to 20% by weight based on the weight of the product, more preferably 3 to 15% by weight, and particularly preferably 5 to 10% by weight.

硬化性化合物として硬化性ポリアミド化合物(Am)を含む場合、本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性ポリアミド化合物(Am)[好ましくは一般式(4)で表される繰り返し構造を有するポリアミド樹脂(Am1)及び/又は一般式(5)で表される繰り返し構造を有するポリアミド樹脂(Am2)]の合計重量は、硬化性樹脂組成物の重量に基づいて1〜100重量%が好ましく、更に好ましくは5〜80重量%、特に好ましくは10〜60重量%である。   When the curable polyamide compound (Am) is included as the curable compound, the curable polyamide compound (Am) contained in the curable resin composition of the present invention [preferably a polyamide having a repeating structure represented by the general formula (4) The total weight of the resin (Am1) and / or the polyamide resin (Am2) having a repeating structure represented by the general formula (5)] is preferably 1 to 100% by weight based on the weight of the curable resin composition. Preferably it is 5 to 80 weight%, Most preferably, it is 10 to 60 weight%.

本発明における硬化性樹脂組成物はさらに溶剤を含有していてもよい。溶剤としては、モノアルコール類(メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ゲラニオール、リナロール及びシトロネロール等)、カーボネート系溶剤(プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、1,2−ブチレンカーボネート、ジメチルカーボネート及びジエチルカーボネート等)、ケトン系溶剤(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケトン及び2−ヘプタノン等)、多価アルコール系溶剤(エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール及びジプロピレングリコール等)及びその誘導体(エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート及びジプロピレングリコールモノアセテート並びにこれらの多価アルコール系溶剤のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル及び又はモノフェニルエーテル等)、環状エーテル系溶剤(テトラヒドロフラン、ジオキサン及び1,8−シネオール等)、エステル系溶剤(蟻酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシブチルアセテート及び3−メチル−3−メトキシブチルアセテート等)並びに芳香族炭化水素系溶剤(トルエン、キシレン及びメシチレン等)等が挙げられる。
これらは、単独で使用しても2種以上を併用しても良い。
また、分子内に1つのグリシジル基を有するフェニルグリシジルエーテル及びメチルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル並びにオキセタン、スチレンオキシド及びシクロヘキセンオキシド等のアルキレンオキサイドを溶剤として用いることができる。なお、これらのグリシジルエーテル及びアルキレンオキサイドは反応性希釈剤と呼ばれる。
The curable resin composition in the present invention may further contain a solvent. Solvents include monoalcohols (methanol, ethanol, normal propanol, isopropanol, butanol, geraniol, linalool, citronellol, etc.), carbonate solvents (propylene carbonate, ethylene carbonate, 1,2-butylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, etc.) ), Ketone solvents (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isoamyl ketone, 2-heptanone, etc.), polyhydric alcohol solvents (ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, etc.) and derivatives thereof (ethylene glycol monoacetate, Diethylene glycol monoacetate, propylene glycol monoacetate and dipropylene glycol Monoacetate and polyhydric alcohol solvents such as monomethyl ether, monoethyl ether, monopropyl ether, monobutyl ether and / or monophenyl ether), cyclic ether solvents (tetrahydrofuran, dioxane and 1,8-cineol etc.), esters Solvents (ethyl formate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl pyruvate, ethyl ethoxyacetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate , Methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate Beauty 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, etc.) and aromatic hydrocarbon solvents (toluene, xylene and mesitylene), and the like.
These may be used alone or in combination of two or more.
Further, glycidyl ethers such as phenyl glycidyl ether and methyl glycidyl ether having one glycidyl group in the molecule, and alkylene oxides such as oxetane, styrene oxide, and cyclohexene oxide can be used as a solvent. These glycidyl ethers and alkylene oxides are called reactive diluents.

溶剤の含有量は、配合安定性の観点から、溶剤を含む硬化性樹脂組成物合計の重量に基づいて99重量%以下であることが好ましく、95重量%以下がさらに好ましく、3〜95重量%が特に好ましく、1〜90重量%がより好ましく、とりわけ好ましくは5〜90重量%、最も好ましくは5〜80重量%である。   The content of the solvent is preferably 99% by weight or less, more preferably 95% by weight or less, more preferably 3 to 95% by weight based on the total weight of the curable resin composition including the solvent, from the viewpoint of blending stability. Is particularly preferred, more preferably 1 to 90% by weight, particularly preferably 5 to 90% by weight, and most preferably 5 to 80% by weight.

光照射による硬化を行う場合、使用する光源の種類(波長)に応じさらに増感剤(H)を含有することが好ましい。   When hardening by light irradiation, it is preferable to contain a sensitizer (H) further according to the kind (wavelength) of the light source to be used.

増感剤(H)としては、公知(特開平11−279212号及び特開平09−183960号等)の増感剤等が使用でき、アントラセン(アントラセン、9,10−ジブトキシアントラセン、9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン及び9,10−ジプロポキシアントラセン等)、ピレン、1,2−ベンズアントラセン、ペリレン、テトラセン、コロネン、チオキサントン(チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン及び2,4−ジエチルチオキサントン等)、フェノチアジン(フェノチアジン、N−メチルフェノチアジン、N−エチルフェノチアジン及びN−フェニルフェノチアジン等)、キサントン、ナフタレン(1−ナフトール、2−ナフトール、1−メトキシナフタレン、2−メトキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン及び4−メトキシ−1−ナフトール等)、ケトン(ジメトキシアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン及び4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド等)、カルバゾール(N−フェニルカルバゾール、N−エチルカルバゾール、ポリ−N−ビニルカルバゾール及びN−グリシジルカルバゾール等)、クリセン(1,4−ジメトキシクリセン及び1,4−ジ−α−メチルベンジルオキシクリセン等)、フェナントレン(9−ヒドロキシフェナントレン、9−メトキシフェナントレン、9−ヒドロキシ−10−メトキシフェナントレン及び9−ヒドロキシ−10−エトキシフェナントレン等)等が挙げられる。
また、下記で挙げる着色剤のうち、照射する光の波長(特に可視光領域400〜830nm;JISZ8120参照)に感光性を有する着色剤は増感剤として用いることが可能である。
As the sensitizer (H), known sensitizers (JP-A Nos. 11-279212 and 09-183960) can be used, and anthracene (anthracene, 9,10-dibutoxyanthracene, 9,10) can be used. -Dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene and 9,10-dipropoxyanthracene), pyrene, 1,2-benzanthracene, perylene, tetracene, coronene, thioxanthone ( Thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone), phenothiazine (phenothiazine, N-methylphenothiazine, N-ethylphenothiazine and N- Phenyphenothiazine), xanthone, naphthalene (1-naphthol, 2-naphthol, 1-methoxynaphthalene, 2-methoxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 4-methoxy-1-naphthol, etc.), ketone (dimethoxyacetophenone, di Ethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 4′-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, etc.), carbazole (N-phenylcarbazole, N-ethylcarbazole, poly-N-vinylcarbazole, N-glycidylcarbazole, etc.), chrysene (1,4-dimethoxychrysene, 1,4-di-α-methylbenzyloxychrysene, etc.), phenanthre (9-hydroxy phenanthrene, 9-methoxy phenanthrene, 9-hydroxy-10-methoxy-phenanthrene and 9-hydroxy-10-ethoxy phenanthrene, etc.) and the like.
Among the colorants listed below, a colorant having photosensitivity to the wavelength of light to be irradiated (particularly, visible light region 400 to 830 nm; see JISZ8120) can be used as a sensitizer.

増感剤(H)の含有量は、硬化性樹脂組成物に対して1〜20重量%が好ましく、さらに好ましくは3〜15重量%、特に好ましくは5〜10重量%であり、感度等の観点から、両性イオン型ボレート塩の重量に基づいて1〜500重量%が好ましく、更に好ましくは10〜300重量%である。   The content of the sensitizer (H) is preferably 1 to 20% by weight, more preferably 3 to 15% by weight, particularly preferably 5 to 10% by weight based on the curable resin composition. From the viewpoint, the content is preferably 1 to 500% by weight, more preferably 10 to 300% by weight, based on the weight of the zwitterionic borate salt.

本発明の硬化性樹脂組成物には、さらに添加剤として使用目的に合わせて、着色剤(顔料等)、無機微粒子(金属酸化物粒子及び金属粒子等)、分散剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤(流動調整剤ともいう)、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、イオン補足剤、酸化防止剤、密着性付与剤、着色防止剤及び光安定剤(紫外線吸収型及び消光型等)等を含有することができる。   In the curable resin composition of the present invention, colorants (pigments, etc.), inorganic fine particles (metal oxide particles, metal particles, etc.), dispersants, antifoaming agents, leveling agents are further added as additives depending on the intended use. , Thixotropy imparting agent (also called flow regulator), slip agent, flame retardant, antistatic agent, ion scavenger, antioxidant, adhesion imparting agent, anti-coloring agent and light stabilizer (ultraviolet absorption type and quenching type) Etc.) and the like.

着色剤としては、従来、塗料及びインキ等に使用されている公知の顔料等が使用でき、無機顔料(酸化チタン、酸化鉄及びカーボンブラック等)、有機顔料(アゾ顔料、シアニン顔料、フタロシアニン顔料及びキナクリドン顔料等)及び染料等が挙げられる。
顔料を含有する場合、顔料の含有量は、両性イオン型ボレート塩の重量に基づいて、0.5〜400000重量%が好ましく、さらに好ましくは10〜150000重量%である。
As the colorant, known pigments conventionally used in paints and inks can be used, inorganic pigments (titanium oxide, iron oxide, carbon black, etc.), organic pigments (azo pigments, cyanine pigments, phthalocyanine pigments, and the like) And quinacridone pigments) and dyes.
When the pigment is contained, the content of the pigment is preferably 0.5 to 400,000 weight percent, more preferably 10 to 150,000 weight percent based on the weight of the zwitterionic borate salt.

無機顔料としては、酸化チタン、酸化鉄及びカーボンブラックの他に、黄鉛、亜鉛黄、紺青、硫酸バリウム、カドミウムレッド、亜鉛華、ベンガラ、アルミナ、炭酸カルシウム、群青、グラファイト及びチタンブラック等が挙げられる。   In addition to titanium oxide, iron oxide and carbon black, examples of inorganic pigments include yellow lead, zinc yellow, bitumen, barium sulfate, cadmium red, zinc white, bengara, alumina, calcium carbonate, ultramarine, graphite and titanium black. It is done.

有機顔料のうちアゾ顔料としては、溶性アゾ顔料(β−ナフトール系、β−オキシナフトエ酸系アニリド系、アセト酢酸アニリド系及びピラゾロン系等)及び不溶性アゾ顔料(β−ナフトール系、β−オキシナフトエ酸系、β−オキシナフトエ酸系アニリド系、アセト酢酸アニリド系モノアゾ、アセト酢酸アニリド系ジスアゾ及びピラゾロン系等)が挙げられ、フタロシアニン顔料としては銅フタロシニンブルー、ハロゲン化銅フタロシアニンブルー、スルホン化銅フタロシアニンブルー及び金属フリーフタロシアニン等が挙げられる。有機顔料としては、これらの他にイソシンドリノン系、ジオキサンジン系、ペリノン系及びペリレン系等の多環式又は複素環式化合物等を用いることができる。   Among organic pigments, azo pigments include soluble azo pigments (β-naphthol, β-oxynaphthoic acid anilide, acetoacetate anilide, pyrazolone, etc.) and insoluble azo pigments (β-naphthol, β-oxynaphthoyl). Acid-based, β-oxynaphthoic acid-based anilide-based, acetoacetate-anilide-based monoazo, acetoacetate-anilide-based disazo and pyrazolone-based), and phthalocyanine pigments include copper phthalosinine blue, halogenated copper phthalocyanine blue, sulfonated copper Examples include phthalocyanine blue and metal-free phthalocyanine. In addition to these, polycyclic or heterocyclic compounds such as isocindolinone, dioxazine, perinone, and perylene can be used as the organic pigment.

染料としては、イエロー染料としては、カップリング成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピラゾロン類、ピリドン類若しくは開鎖型活性メチレン化合物類を有するアリール又はヘテリルアゾ染料、カップリング成分として開鎖型活性メチレン化合物を有するアゾメチン染料、ベンジリデン染料及びモノメチンオキソノール染料等のメチン染料、ナフトキノン染料及びアントラキノン染料等のキノン系染料等、キノフタロン染料、ニトロ、ニトロソ染料、アクリジン染料並びにアクリジノン染料等が挙げられる。   As dyes, yellow dyes include phenols, naphthols, anilines, pyrazolones, pyridones, or open-chain active methylene compounds having a coupling component as an aryl or heteryl azo dye, open-chain active methylene compounds as a coupling component And methine dyes such as azomethine dyes, benzylidene dyes and monomethine oxonol dyes, quinone dyes such as naphthoquinone dyes and anthraquinone dyes, quinophthalone dyes, nitro, nitroso dyes, acridine dyes and acridinone dyes.

マゼンタ染料としては、カップリング成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピラゾロン類、ピリドン類、ピラゾロトリアゾール類、閉環型活性メチレン化合物類若しくはヘテロ環(ピロール、イミダゾール、チオフェン及びチアゾール誘導体等)を有するアリール又はヘテリルアゾ染料、カップリング成分としてピラゾロン類又はピラゾロトリアゾール類を有するアゾメチン染料、アリーリデン染料、スチリル染料、メロシアニン染料及びオキソノール染料等のメチン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料及びキサンテン染料等のカルボニウム染料、ナフトキノン、アントラキノン及びアントラピリドン等のキノン系染料並びにジオキサジン染料等の縮合多環系染料等を挙げられる。   For magenta dyes, phenols, naphthols, anilines, pyrazolones, pyridones, pyrazolotriazoles, ring-closing active methylene compounds or heterocycles (pyrrole, imidazole, thiophene and thiazole derivatives, etc.) are used as coupling components. Aryl or heteryl azo dyes, azomethine dyes having a pyrazolone or pyrazolotriazole as a coupling component, arylidene dyes, styryl dyes, merocyanine dyes such as merocyanine dyes and oxonol dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes and xanthene dyes Examples thereof include carbonium dyes, quinone dyes such as naphthoquinone, anthraquinone and anthrapyridone, and condensed polycyclic dyes such as dioxazine dyes.

シアン染料としては、インドアニリン染料及びインドフェノール染料等のアゾメチン染料、シアニン染料、オキソノール染料及びメロシアニン染料等のポリメチン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料及びキサンテン染料等のカルボニウム染料、フタロシアニン染料、アントラキノン染料、カップリング成分としてフェノール類、ナフトール類、アニリン類、ピロロピリミジノン若しくはピロロトリアジノン誘導体を有するアリール又はヘテリルアゾ染料(C.I.ダイレクトブルー14等)並びにインジゴ・チオインジゴ染料を挙げられる。   As cyan dyes, azomethine dyes such as indoaniline dyes and indophenol dyes, polymethine dyes such as cyanine dyes, oxonol dyes and merocyanine dyes, carbonium dyes such as diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes and xanthene dyes, phthalocyanine dyes, anthraquinone dyes Examples of the coupling component include phenols, naphthols, anilines, pyrrolopyrimidinone or pyrrolotriazinone derivatives, aryl or heteryl azo dyes (such as CI Direct Blue 14), and indigo / thioindigo dyes.

着色剤の粒子径は、塗膜の鮮映性の観点から、平均粒子径として0.01μm〜2.0μmが好ましく、0.01μm〜1.0μmが更に好ましい。   The particle diameter of the colorant is preferably from 0.01 μm to 2.0 μm, more preferably from 0.01 μm to 1.0 μm, from the viewpoint of the sharpness of the coating film.

着色剤の添加量は特に限定されないが、硬化性樹脂組成物の合計重量に基づいて1〜60重量%であることが好ましい。   Although the addition amount of a coloring agent is not specifically limited, It is preferable that it is 1 to 60 weight% based on the total weight of curable resin composition.

顔料を用いる場合は、その分散性及び硬化性樹脂組成物の保存安定性を向上させるために顔料分散剤を添加することが好ましい。
顔料分散剤としてはビックケミー社製顔料分散剤(Anti−Terra−U、Disperbyk−101,103、106、110、161、162、164、166、167、168,170、174、182、184又は2020等)、味の素ファインテクノ社製顔料分散剤(アジスパーPB711、PB821、PB814、PN411及びPA111等)、ルーブリゾール社製顔料分散剤(ソルスパーズ5000、12000、3
2000、33000及び39000等)が挙げられる。これらの顔料分散剤は単独で用いても2種以上を併用してもよい。顔料分散剤の添加量は特に限定されるものではないが、感光性組成物中に0.1〜10重量%の範囲で用いることが好ましい。
When a pigment is used, it is preferable to add a pigment dispersant in order to improve the dispersibility and the storage stability of the curable resin composition.
Pigment dispersants manufactured by Big Chemie (Anti-Terra-U, Disperbyk-101, 103, 106, 110, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 170, 174, 182, 184, 2020, etc.) ), Pigment dispersants manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co. (Ajisper PB711, PB821, PB814, PN411, PA111, etc.), pigment dispersants manufactured by Lubrizol (Solspers 5000, 12000, 3)
2000, 33000, 39000, etc.). These pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more. Although the addition amount of a pigment dispersant is not specifically limited, It is preferable to use in the range of 0.1 to 10 weight% in the photosensitive composition.

本発明の硬化性樹脂組成物は、添加剤として無機微粒子(金属酸化物粒子又は金属粒子等)を含有することにより、例えばセラミック電子部品のグリーンシート形成及び電極層形成に使用することができる。   The curable resin composition of the present invention contains inorganic fine particles (such as metal oxide particles or metal particles) as additives, and can be used, for example, for forming green sheets and electrode layers of ceramic electronic components.

金属酸化物粒子は、誘電体層を形成する際に使用され、酸化チタン、酸化アルミニウム、チタン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、酸化ニオブ及びチタン酸ジルコン酸鉛等が挙げられ、好ましいのはチタン酸バリウムである。また、酸化アルミニウムや酸化ケイ素、酸化チタン等は基材の保護のためのコーティング層形成の際に使用される。   The metal oxide particles are used when forming the dielectric layer, and examples thereof include titanium oxide, aluminum oxide, barium titanate, calcium zirconate, niobium oxide and lead zirconate titanate, and preferably barium titanate. It is. Aluminum oxide, silicon oxide, titanium oxide and the like are used when forming a coating layer for protecting the substrate.

金属酸化物粒子の粒子径は、誘電率の観点から、平均粒子径として0.01μm〜2.0μmであることが好ましく、更に好ましくは0.01μm〜1.0μmである。   The particle diameter of the metal oxide particles is preferably 0.01 μm to 2.0 μm, more preferably 0.01 μm to 1.0 μm as an average particle diameter from the viewpoint of dielectric constant.

金属粉末は導電体層を形成する際に使用される貴金属及び卑金属であり、具体的には、パラジウム、ニッケル、銅、銀及び金等が挙げられ、好ましいのはパラジウム、ニッケル及び銅である。
金属粉末の平均粒子径は、0.01μm〜10μmであることが好ましい。
The metal powder is a noble metal and a base metal used when forming the conductor layer, and specific examples thereof include palladium, nickel, copper, silver, and gold, with palladium, nickel, and copper being preferred.
The average particle diameter of the metal powder is preferably 0.01 μm to 10 μm.

無機微粒子は硬化性樹脂組成物の充填剤としても用いられる。充填剤としては、公知の充填剤等が使用でき、溶融シリカ、結晶シリカ、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸マグネシウム、マイカ、タルク、ケイ酸カルシウム及びケイ酸リチウムアルミニウム等が挙げられる。
充填剤を含有する場合、充填剤の含有量は、両性イオン型ボレート塩の重量に基づいて、50〜600000重量%が好ましく、さらに好ましくは300〜200000重量%である。
The inorganic fine particles are also used as a filler for the curable resin composition. As the filler, known fillers can be used, such as fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, zirconium oxide, magnesium carbonate, mica, talc, calcium silicate and lithium aluminum silicate. Can be mentioned.
When the filler is contained, the content of the filler is preferably 50 to 600000% by weight, more preferably 300 to 200000% by weight, based on the weight of the zwitterionic borate salt.

帯電防止剤としては、公知の帯電防止剤等が使用でき、非イオン型帯電防止剤、アニオン型帯電防止剤、カチオン型帯電防止剤、両性型帯電防止剤及び高分子型帯電防止剤が挙げられる。
帯電防止剤を含有する場合、帯電防止剤の含有量は、両性イオン型ボレート塩の重量に基づいて、0.1〜20000重量%が好ましく、さらに好ましくは0.6〜5000重量%である。
As the antistatic agent, known antistatic agents can be used, and examples include nonionic antistatic agents, anionic antistatic agents, cationic antistatic agents, amphoteric antistatic agents, and polymeric antistatic agents. .
When the antistatic agent is contained, the content of the antistatic agent is preferably 0.1 to 20000% by weight, more preferably 0.6 to 5000% by weight, based on the weight of the zwitterionic borate salt.

難燃剤としては、公知の難燃剤等が使用できる。
公知の難燃剤としては、無機難燃剤(三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化錫、水酸化錫、酸化モリブデン、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、赤燐、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム及びアルミン酸カルシウム等)、臭素難燃剤{テトラブロモ無水フタル酸、ヘキサブロモベンゼン及びデカブロモビフェニルエーテル等)及びリン酸エステル難燃剤[トリス(トリブロモフェニル)ホスフェート等]等が挙げられる。
難燃剤を含有する場合、難燃剤の含有量は、両性イオン型ボレート塩の重量に基づいて、0.5〜40000重量%が好ましく、さらに好ましくは5〜10000重量%である。
As the flame retardant, a known flame retardant can be used.
Known flame retardants include inorganic flame retardants (antimony trioxide, antimony pentoxide, tin oxide, tin hydroxide, molybdenum oxide, zinc borate, barium metaborate, red phosphorus, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and aluminate. Calcium, etc.), bromine flame retardants (tetrabromophthalic anhydride, hexabromobenzene, decabromobiphenyl ether, etc.), phosphate ester flame retardants [tris (tribromophenyl) phosphate, etc.] and the like.
When the flame retardant is contained, the content of the flame retardant is preferably 0.5 to 40000% by weight, more preferably 5 to 10000% by weight, based on the weight of the zwitterionic borate salt.

消泡剤としては、公知の消泡剤等が使用でき、アルコール消泡剤、金属石鹸消泡剤、リン酸エステル消泡剤、脂肪酸エステル消泡剤、ポリエーテル消泡剤、シリコーン消泡剤及び鉱物油消泡剤等が挙げられる。   As the antifoaming agent, known antifoaming agents can be used, such as alcohol defoaming agents, metal soap defoaming agents, phosphate ester defoaming agents, fatty acid ester defoaming agents, polyether defoaming agents, and silicone defoaming agents. And mineral oil defoaming agents.

流動調整剤としては、公知の流動性調整剤等が使用でき、水素添加ヒマシ油、酸化ポリエチレン、有機ベントナイト、コロイド状シリカ、アマイドワックス、金属石鹸及びアクリル酸エステルポリマー等が挙げられる。   As the flow control agent, known flow control agents can be used, and examples thereof include hydrogenated castor oil, polyethylene oxide, organic bentonite, colloidal silica, amide wax, metal soap, and acrylate polymer.

光安定剤としては、公知の光安定剤等が使用でき、紫外線吸収型安定剤(ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、サリチレート、シアノアクリレート及びこれらの誘導体等)、ラジカル補足型安定剤(ヒンダードアミン等)及び消光型安定剤(ニッケル錯体等)等が挙げられる。   As the light stabilizer, known light stabilizers can be used, UV absorbing stabilizers (benzotriazole, benzophenone, salicylate, cyanoacrylate and derivatives thereof), radical scavenging stabilizers (hindered amine, etc.) and quenching types. Stabilizers (nickel complex etc.) etc. are mentioned.

酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤等が使用でき、フェノール系酸化防止剤(モノフェノール系、ビスフェノール系及び高分子フェノール系等)、硫黄系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤等が挙げられる。   As the antioxidant, known antioxidants can be used, and examples include phenolic antioxidants (monophenolic, bisphenolic and polymeric phenolic), sulfur antioxidants and phosphorus antioxidants. It is done.

密着性付与剤としては、公知の密着性付与剤等が使用でき、カップリング剤、シランカップリング剤及びチタンカップリング剤等が挙げられる。   As the adhesion-imparting agent, a known adhesion-imparting agent can be used, and examples thereof include a coupling agent, a silane coupling agent, and a titanium coupling agent.

密着性付与剤として好ましいものとしては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、尿素プロピルトリエトキシシラン、トリス(アセチルアセトネート)アルミニウム及びアセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。
密着性付与剤を用いる場合の含有量は、硬化性樹脂組成物の合計重量にもとづいて0〜20重量%が好ましく、更に好ましくは1〜15重量%、特に好ましくは5〜10重量%である。
Preferable adhesion promoters are γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, Examples include urea propyltriethoxysilane, tris (acetylacetonate) aluminum, and acetylacetate aluminum diisopropylate.
The content in the case of using the adhesion imparting agent is preferably 0 to 20% by weight, more preferably 1 to 15% by weight, and particularly preferably 5 to 10% by weight based on the total weight of the curable resin composition. .

イオン補足剤としては、公知のイオン補足剤等が使用でき、有機アルミニウム(アルコキシアルミニウム及びフェノキシアルミニウム等)等が挙げられる。   As the ion scavenger, known ion scavengers can be used, and organic aluminum (alkoxyaluminum, phenoxyaluminum, etc.) and the like can be mentioned.

着色防止剤としては、公知の着色防止剤が使用でき、一般的には酸化防止剤が有効であり、フェノール系酸化防止剤(モノフェノール系、ビスフェノール系及び高分子フェノール系等)、硫黄系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤等が挙げられる。   Known anti-coloring agents can be used as the anti-coloring agent. In general, antioxidants are effective. Phenol type antioxidants (monophenol type, bisphenol type and high molecular phenol type, etc.), sulfur type oxidation Examples thereof include an inhibitor and a phosphorus-based antioxidant.

レベリング性付与剤及びスリップ剤としては、公知のもの使用することができる。   As the leveling agent and slip agent, known ones can be used.

消泡剤、流動調整剤、光安定剤、酸化防止剤、密着性付与剤、イオン補足剤又は、着色防止剤を含有する場合、各々の含有量は、両性イオン型ボレート塩の重量に基づいて、0.1〜20000重量%が好ましく、さらに好ましくは0.5〜5000重量%である。   When an antifoaming agent, a flow regulator, a light stabilizer, an antioxidant, an adhesion-imparting agent, an ion scavenger or an anti-coloring agent is contained, each content is based on the weight of the zwitterionic borate salt. 0.1 to 20000% by weight, more preferably 0.5 to 5000% by weight.

本発明の硬化性樹脂組成物は、両性イオン型ボレート塩、硬化性化合物、必要により用いる増感剤(H)、必要により用いる着色剤、必要により用いる金属酸化物粒子、必要により用いる金属粒子、必要により用いる溶剤及び必要により用いる密着性付与剤等を公知の撹拌混合装置(撹拌機の付属した混合容器及びペイントシェーカー等)を用いて均一混合する方法及び公知の混練機(ボールミル及び3本ロールミル等)を用いて混練する方法等で得られる。均一混合温度及び混練温度は通常10℃〜40℃、好ましくは20℃〜30℃である。   The curable resin composition of the present invention comprises a zwitterionic borate salt, a curable compound, a sensitizer (H) used if necessary, a colorant used if necessary, metal oxide particles used if necessary, metal particles used if necessary, A method of uniformly mixing a solvent to be used if necessary and a cohesion imparting agent to be used if necessary using a known stirring and mixing device (a mixing container with a stirrer, a paint shaker, etc.) and a known kneader (a ball mill and a three-roll mill) Etc.) and the like. The uniform mixing temperature and kneading temperature are usually 10 ° C to 40 ° C, preferably 20 ° C to 30 ° C.

本発明の硬化性樹脂組成物は、加熱することにより硬化させて、硬化体を得ることができる。加熱温度は、好ましくは50℃〜180℃である。   The curable resin composition of the present invention can be cured by heating to obtain a cured product. The heating temperature is preferably 50 ° C to 180 ° C.

本発明の硬化性樹脂組成物は、光照射(紫外〜可視光領域、好ましくは360nm〜830nmの活性光線の照射)することにより硬化させて、硬化体を得ることができる。
光源としては、本発明の両性イオン型ボレート塩の分解を誘発するエネルギーを有する限りいかなるものでもよいが、低圧、中圧、高圧若しくは超高圧の水銀灯、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ等(UV・EB硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、138頁、2006)、LEDランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、蛍光灯、半導体固体レーザ、アルゴンレーザ、He−Cdレーザ、KrFエキシマレーザ、ArFエキシマレーザ又はFレーザ等が挙げられる。なお、電子線又はX線等の高エネルギーを有する放射線を用いることもできる。
The curable resin composition of the present invention can be cured by light irradiation (irradiation with actinic rays in the ultraviolet to visible light region, preferably 360 nm to 830 nm) to obtain a cured product.
The light source may be any light source as long as it has energy that induces the decomposition of the zwitterionic borate salt of the present invention, such as a low pressure, medium pressure, high pressure or ultrahigh pressure mercury lamp, metal halide lamp, high power metal halide lamp, etc. Latest trends in EB curing technology, edited by Radtech Research Group, CMC Publishing, 138, 2006), LED lamp, xenon lamp, carbon arc lamp, fluorescent lamp, semiconductor solid-state laser, argon laser, He-Cd laser, KrF excimer laser ArF excimer laser, F 2 laser, or the like. Note that radiation having high energy such as an electron beam or an X-ray can be used.

活性光線の照射時及び/又は照射後に両性イオン型ボレート塩から発生した塩基を拡散させる目的で、加熱を行ってもよい。加熱温度は、通常、30℃〜200℃であり、好ましくは35℃〜150℃、更に好ましくは40℃〜120℃である。   Heating may be performed for the purpose of diffusing the base generated from the zwitterionic borate salt during and / or after irradiation with actinic rays. The heating temperature is usually 30 ° C to 200 ° C, preferably 35 ° C to 150 ° C, more preferably 40 ° C to 120 ° C.

本発明の硬化性樹脂組成物は、基材(シリコンウエハ、セラミック及びアルミ基板)上に塗布し、光照射してパターンを形成する用途に好ましく用いられる。
パターンを形成する方法は、まず該組成物を適当な基材に塗布し、60〜120℃でプリベークして塗膜を乾燥後、所望のパターン形状に光照射して硬化し、更に未露光部を溶解除去することによりパターンを得る方法等が挙げられる。
The curable resin composition of the present invention is preferably used for applications in which a pattern is formed by coating on a substrate (silicon wafer, ceramic and aluminum substrate) and irradiating with light.
The pattern is formed by first applying the composition to a suitable substrate, prebaking at 60 to 120 ° C., drying the coating film, curing it by irradiating the desired pattern shape with light, and further unexposed areas. And a method of obtaining a pattern by dissolving and removing.

塗布方法としてはスピンコーターを用いた回転塗布、スプレーコーターを用いた噴霧塗布、浸漬、印刷、ロールコーティングなどが挙げられる。   Examples of the coating method include spin coating using a spin coater, spray coating using a spray coater, dipping, printing, and roll coating.

本発明の硬化性樹脂組成物は露光現像方法によるパターン形成に用いることができる。本発明の硬化性樹脂組成物を用いたパターン形成において、現像液としては、アルカリ水溶液又はアルカリ水溶液に水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液が挙げられる。アルカリとしては無機アルカリ(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム及びアンモニア等)、一級アミン(エチルアミン及びn−プロピルアミン等)、二級アミン(ジエチルアミン及びジ−n−プロピルアミン等)、三級アミン(トリエチルアミン及びメチルジエチルアミン等)、アミノアルコール(ジメチルエタノールアミン及びトリエタノールアミン等)及び四級アンモニウム塩(テトラメチルアンモニウムヒドロキシド及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド等)等が挙げられる。   The curable resin composition of the present invention can be used for pattern formation by an exposure development method. In pattern formation using the curable resin composition of the present invention, examples of the developer include an aqueous alkali solution or an aqueous solution obtained by adding an appropriate amount of a water-soluble organic solvent or a surfactant to an alkaline aqueous solution. Examples of the alkali include inorganic alkalis (sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, and ammonia), primary amines (such as ethylamine and n-propylamine), and secondary amines (diethylamine and di-n-). Propylamine, etc.), tertiary amines (such as triethylamine and methyldiethylamine), amino alcohols (such as dimethylethanolamine and triethanolamine) and quaternary ammonium salts (such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide). .

未露光部を溶解除去する方法は、通常の現像方法として用いられる方法を用いることができ、スプレー、パドル、浸漬及び超音波等の方式が挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物を用いてパターン形成において、現像によって形成したパターンを更にリンス(洗浄)することができる。リンス液としては蒸留水を使用することができる。次に加熱処理(通常120〜450℃)を行うことで耐熱性に優れたパターンを得ることができる。
As a method for dissolving and removing the unexposed portion, a method used as a normal developing method can be used, and examples thereof include spray, paddle, immersion, and ultrasonic methods.
In pattern formation using the curable resin composition of the present invention, the pattern formed by development can be further rinsed (washed). Distilled water can be used as the rinse liquid. Next, the pattern excellent in heat resistance can be obtained by performing heat processing (usually 120-450 degreeC).

本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物は、半導体装置や多層配線板などの電子部品に使用することができ、具体的には、半導体装置中の表面保護膜や層間絶縁膜、多層配線板中の層間絶縁膜などの形成に使用することができる。またカラーフィルター保護膜、有機EL用絶縁膜、液晶配向膜、光学レンズ保護膜、光回路材料にも使用することができる。   The cured product of the curable resin composition of the present invention can be used for electronic parts such as semiconductor devices and multilayer wiring boards, specifically, surface protective films, interlayer insulating films, and multilayer wiring boards in semiconductor devices. It can be used to form an interlayer insulating film in the inside. It can also be used for color filter protective films, organic EL insulating films, liquid crystal alignment films, optical lens protective films, and optical circuit materials.

以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれに限定されることは意図するものではない。なお、以下特記しない限り、%は重量%を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not intending to be limited to this. Unless otherwise specified, “%” means “% by weight”.

<製造例1:トリフェニルボランの合成>
第4版実験化学講座24[有機合成VI(ヘテロ元素・典型金属元素化合物)] 日本化学会編 78頁に記載の方法によりトリフェニルボランを合成した。
<製造例2:トリ(2−ナフチル)ボランの合成
上記と同様の方法によりトリ(2−ナフチル)ボランを合成した。
<製造例3:トリ(p−フルオロフェニル)ボランの合成
上記と同様の方法によりトリ(p−フルオロフェニル)ボランを合成した。
<製造例4:トリ(m−クロロフェニル)ボランの合成
上記と同様の方法によりトリ(m−クロロフェニル)ボランを合成した。
<Production Example 1: Synthesis of triphenylborane>
Fourth Edition Experimental Chemistry Course 24 [Organic Synthesis VI (Hetero Element / Typical Metal Element Compound)] Triphenylborane was synthesized according to the method described on page 78 of the Chemical Society of Japan.
<Production Example 2: Synthesis of tri (2-naphthyl) borane Tri (2-naphthyl) borane was synthesized by the same method as described above.
<Production Example 3: Synthesis of tri (p-fluorophenyl) borane Tri (p-fluorophenyl) borane was synthesized by the same method as described above.
<Production Example 4: Synthesis of tri (m-chlorophenyl) borane Tri (m-chlorophenyl) borane was synthesized by the same method as described above.

<製造例5:比較例1に用いるボレート塩の合成>
特開2000−128912号公報に記載の方法にて下記化学式(1)で表される比較例1に用いるボレート塩(d−1)を合成した。
<Production Example 5: Synthesis of borate salt used in Comparative Example 1>
The borate salt (d-1) used for the comparative example 1 represented by following Chemical formula (1) was synthesize | combined by the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-128912.

<製造例6:ポリアミド樹脂(P1−1)の合成>
反応容器に4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(東京化成製)10.0gをジメチルアセトアミド100gに溶解させ、そこへピロメリット酸二無水物10.9gを氷浴にて徐々に滴下した。室温にて16時間反応させた。反応後の混合物を撹拌下のメタノール300gに少しずつ投入し、生じた沈殿をろ過により回収した。更に得られた固体をメタノール50mLを用いて3回洗浄を行った。洗浄後の固体を減圧下乾燥させることによりポリアミド樹脂(P1−1)を得た。
<Production Example 6: Synthesis of polyamide resin (P1-1)>
In a reaction vessel, 10.0 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was dissolved in 100 g of dimethylacetamide, and 10.9 g of pyromellitic dianhydride was gradually added dropwise thereto in an ice bath. The reaction was allowed to proceed for 16 hours at room temperature. The mixture after the reaction was added little by little to 300 g of methanol under stirring, and the resulting precipitate was collected by filtration. Further, the obtained solid was washed three times with 50 mL of methanol. The washed solid was dried under reduced pressure to obtain a polyamide resin (P1-1).

<製造例7:ポリアミド樹脂(P1−2)の合成>
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(東京化成製)10.0gをビス(アミノメチル)ノルボルナン(東京化成製)7.7gに変更し、ピロメリット酸二無水物10.9gを1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(東京化成製)9.8gに変更したことした以外は製造例6と同様に行い、ポリアミド樹脂(P1−2)を得た。
<Production Example 7: Synthesis of polyamide resin (P1-2)>
10.0 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether (Tokyo Kasei) was changed to 7.7 g of bis (aminomethyl) norbornane (Tokyo Kasei), and 10.9 g of pyromellitic dianhydride was changed to 1,2,3, A polyamide resin (P1-2) was obtained in the same manner as in Production Example 6 except that 4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was changed to 9.8 g.

<製造例8:ポリアミド樹脂(P1−3)の合成>
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル10.0gを4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(東京化成製)5.0gと2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン(東京化成製)8.3gの混合物に変更し、ピロメリット酸二無水物10.9gを3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物16.1gとした以外は製造例6と同様に行い、ポリアミド樹脂(P1−3)を得た。
<Production Example 8: Synthesis of polyamide resin (P1-3)>
5.0 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry) and 8.3 g of 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane (manufactured by Tokyo Chemical Industry) The mixture was changed to a mixture, and the same procedure as in Production Example 6 was carried out except that 10.9 g of pyromellitic dianhydride was changed to 16.1 g of 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride. P1-3) was obtained.

<製造例9:ポリアミド樹脂(P2−1)の合成>
反応容器に4,6−ジアミノレゾルシノール二塩酸塩(東京化成製)10.6gをジメチルアセトアミド200gに溶解し、そこへ4,4’−ジ(クロロホルミル)ジフェニルエーテル14.8g及びトリエチルアミン22gを加えた。常温にて20時間反応し、反応後の混合物を撹拌下水500gに少しずつ投入し、生じた沈殿をろ過により回収した。更に得られた固体を水50mLを用いて3回洗浄を行った。洗浄後の固体を減圧下乾燥してポリアミド樹脂(P2−1)を得た。
<Production Example 9: Synthesis of polyamide resin (P2-1)>
In a reaction vessel, 10.6 g of 4,6-diaminoresorcinol dihydrochloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was dissolved in 200 g of dimethylacetamide, and 14.8 g of 4,4′-di (chloroformyl) diphenyl ether and 22 g of triethylamine were added thereto. . The mixture was reacted at room temperature for 20 hours, and the mixture after the reaction was poured little by little into 500 g of water with stirring, and the resulting precipitate was collected by filtration. Furthermore, the obtained solid was washed 3 times with 50 mL of water. The washed solid was dried under reduced pressure to obtain a polyamide resin (P2-1).

<製造例10:ポリアミド樹脂(P2−2)の合成>
4,6−ジアミノレゾルシノール二塩酸塩10.6gを2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン12.9gとした以外は製造例9と同様に行い、ポリアミド樹脂(P2−2)を得た。
<Production Example 10: Synthesis of polyamide resin (P2-2)>
The same procedure as in Production Example 9 was carried out except that 10.6 g of 4,6-diaminoresorcinol dihydrochloride was changed to 12.9 g of 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane, and a polyamide resin (P2- 2) was obtained.

<製造例11:ポリアミド樹脂樹脂(P2−3)の合成>
4,6−ジアミノレゾルシノール二塩酸塩10.6gを1,4−ジアミノ−3,6−ジメルカプトベンゼン二塩酸塩(東京化成製)12.3g、4,4’−ジ(クロロホルミル)ジフェニルエーテル14.8gを4,4’−ビフェニルジカルボン酸ジクロリド(和光純薬製)12.3gに変更した以外は製造例9と同様の操作を行い、ポリアミド樹脂(P2−3)を得た。
<Production Example 11: Synthesis of polyamide resin resin (P2-3)>
10.6 g of 4,6-diaminoresorcinol dihydrochloride, 12.3 g of 1,4-diamino-3,6-dimercaptobenzene dihydrochloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry), 4,4′-di (chloroformyl) diphenyl ether 14 The same operation as in Production Example 9 was carried out except that .8 g was changed to 12.4 g of 4,4′-biphenyldicarboxylic acid dichloride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to obtain a polyamide resin (P2-3).

<製造例12:ポリアミド樹脂(P2−4)の合成>
4,6−ジアミノレゾルシノール二塩酸塩(東京化成製)10.6gを3,3’−ベンジジン(和光純薬製)10.7gに変更する以外は製造例9と同様の操作を行い、ポリアミド樹脂(P2−4)を得た。
<Production Example 12: Synthesis of polyamide resin (P2-4)>
The same procedure as in Production Example 9 was carried out except that 10.6 g of 4,6-diaminoresorcinol dihydrochloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was changed to 10.7 g of 3,3′-benzidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), and a polyamide resin was obtained. (P2-4) was obtained.

<製造例13:ポリアミド樹脂(P2−5)の合成>
4,6−ジアミノレゾルシノール二塩酸塩10.6gを4,6−ジアミノレゾルシノール二塩酸塩(東京化成製)5.3gと1,4−ジアミノ−3,6−ジメルカプトベンゼン二塩酸塩(東京化成製)6.1gとの混合物に変更する以外は製造例9と同様の操作を行い、ポリアミド樹脂(P2−5)を得た。
<Production Example 13: Synthesis of polyamide resin (P2-5)>
10.6-g of 4,6-diaminoresorcinol dihydrochloride, 5.3 g of 4,6-diaminoresorcinol dihydrochloride (manufactured by Tokyo Kasei) and 1,4-diamino-3,6-dimercaptobenzene dihydrochloride (Tokyo Kasei) (Product made) Except changing to a mixture with 6.1g, operation similar to manufacture example 9 was performed and the polyamide resin (P2-5) was obtained.

<製造例14:比較例3に用いる塩基発生剤の合成>
特開2007−119766号公報に記載の方法にて下記化学式(2)で表される比較例3に用いる塩基発生剤(d−3)を合成した。
<Production Example 14: Synthesis of base generator used in Comparative Example 3>
A base generator (d-3) used in Comparative Example 3 represented by the following chemical formula (2) was synthesized by the method described in JP-A-2007-119766.

<製造例15:比較例4に用いる塩基発生剤の合成>
特開2007−262276号公報に記載の方法にて下記化学式(3)で表される比較例4に用いる塩基発生剤(d−4)を合成した。
<Production Example 15: Synthesis of base generator used in Comparative Example 4>
A base generator (d-4) used in Comparative Example 4 represented by the following chemical formula (3) was synthesized by the method described in JP-A-2007-262276.

<製造例16:比較例5に用いる塩基発生剤の合成>
非特許文献1に記載の方法にて下記化学式(4)で表される比較例5に用いる塩基発生剤(d−5)を合成した。
<Production Example 16: Synthesis of base generator used in Comparative Example 5>
A base generator (d-5) used in Comparative Example 5 represented by the following chemical formula (4) was synthesized by the method described in Non-Patent Document 1.

<実施例1:4−(N−メチルモルホニオメチル)フェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A10):トリフェニル(p−トリル)ボレートカリウム塩の合成
反応容器に製造例1で得られたトリフェニルボラン6.1g、THF100mLを加え、−10℃に冷却した。そこへ常法により調製した4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)30mLを1時間かけて滴下した。滴下終了後、室温でさらに10時間反応を行った。THFを留去しそこへ飽和炭酸カリウム水溶液100mLを加え、さらに酢酸エチル200mLにて抽出を行った。有機層(酢酸エチル)を留去し、淡褐色固体を得た。メタノール−エーテルにて再結晶を行い、白色固体8.4gを得た。反応に用いたトリフェニルボランから計算される理論収量に対する収率は90%であった。
1H−NMRによりこの白色固体が中間体(A10)であることを確認した。
(2)中間体(A11):4−ブロモメチルフェニルトリフェニルボレートカリウム塩の合成
還流管付反応容器にN−ブロモスクシンイミド(和光純薬製)7.1g、中間体(A10)7.4g、四塩化炭素200mL、AIBN(アゾビスイソブチロニトリル)0.8gを加え、80℃にて8時間反応を行った。反応後室温にてろ過を行い、ろ液を濃縮し褐色固体を得た。酢酸エチル100mLに溶解させ、水100mLで5回洗浄し、有機層を濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製を行い、淡黄色固体7.2gを得た。反応に用いた中間体(A10)から計算される理論収量に対する収率は80%であった。
1H−NMRによりこの淡黄色固体が中間体(A11)であることを確認した。
(3)4−(N−メチルモルホニオメチル)フェニルトリフェニルボレートの合成
反応容器に中間体(A11)4.5g、クロロホルム100mLを加えて溶解させた。そこへN−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gを徐々に加えた。60℃にて6時間反応させた後、水100mLで5回洗浄した。有機層(クロロホルム)を濃縮し、そこへメタノール200mLを加えた。生じた固体をろ過し乾燥することで3.5gの淡黄色固体を得た。反応に用いた中間体(A11)から計算される理論収量に対する収率は80%であった。1H−NMRによりこの淡黄色固体が目的物である4−(N−メチルモルホニオメチル)フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−1)]であることを確認した。また、以下の条件による高速液体クロマトグラフィー(以下、HPLCと記載する。)により算出した純度は98%であった。
<HPLCの条件>
株式会社 日立ハイテクノロジーズ社製 LaChrom7000
展開溶媒:メタノール/水/過塩素酸ナトリウム=87/10/3(重量比)
カラム:ジーエルサイエンス社製 イナートシルPh−3
カラム温度:40℃ 流量:1.0mL/分
検出器:UV検出器(254nm)
Example 1: Synthesis of 4- (N-methylmorphoniomethyl) phenyltriphenylborate
(1) Synthesis of intermediate (A10): triphenyl (p-tolyl) borate potassium salt To a reaction vessel, 6.1 g of triphenylborane obtained in Production Example 1 and 100 mL of THF were added and cooled to −10 ° C. Thereto, 30 mL of 4-tolylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) prepared by a conventional method was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was further performed at room temperature for 10 hours. The THF was distilled off, 100 mL of saturated aqueous potassium carbonate solution was added thereto, and extraction was further performed with 200 mL of ethyl acetate. The organic layer (ethyl acetate) was distilled off to obtain a light brown solid. Recrystallization was performed with methanol-ether to obtain 8.4 g of a white solid. The yield based on the theoretical yield calculated from triphenylborane used in the reaction was 90%.
This white solid was confirmed to be an intermediate (A10) by 1H-NMR.
(2) Intermediate (A11): Synthesis of 4-bromomethylphenyltriphenylborate potassium salt 7.1 g of N-bromosuccinimide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 7.4 g of intermediate (A10), 200 mL of carbon tetrachloride and 0.8 g of AIBN (azobisisobutyronitrile) were added, and the reaction was performed at 80 ° C. for 8 hours. After the reaction, filtration was performed at room temperature, and the filtrate was concentrated to obtain a brown solid. It was dissolved in 100 mL of ethyl acetate, washed 5 times with 100 mL of water, and the organic layer was concentrated. Purification was performed by silica gel column chromatography to obtain 7.2 g of a pale yellow solid. The yield based on the theoretical yield calculated from the intermediate (A10) used in the reaction was 80%.
It was confirmed by 1H-NMR that this pale yellow solid was an intermediate (A11).
(3) Synthesis of 4- (N-methylmorphoniomethyl) phenyltriphenylborate 4.5 g of intermediate (A11) and 100 mL of chloroform were added to a reaction vessel and dissolved. Thereto was gradually added 1.5 g of N-methylmorpholine (manufactured by Tokyo Chemical Industry). After making it react at 60 degreeC for 6 hours, it wash | cleaned 5 times with 100 mL of water. The organic layer (chloroform) was concentrated, and 200 mL of methanol was added thereto. The resulting solid was filtered and dried to obtain 3.5 g of a pale yellow solid. The yield based on the theoretical yield calculated from the intermediate (A11) used in the reaction was 80%. It was confirmed by 1H-NMR that the pale yellow solid was 4- (N-methylmorphoniomethyl) phenyltriphenylborate [borate salt (A-1)], which was the target product. The purity calculated by high performance liquid chromatography (hereinafter referred to as HPLC) under the following conditions was 98%.
<HPLC conditions>
LaChrom7000 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation
Developing solvent: methanol / water / sodium perchlorate = 87/10/3 (weight ratio)
Column: Inert Sil Ph-3 manufactured by GL Sciences Inc.
Column temperature: 40 ° C. Flow rate: 1.0 mL / min Detector: UV detector (254 nm)

<実施例2:4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリフェニルボレートの合成>
実施例1においてN−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gをDBU(サンアプロ製)2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−2)]を得た(収率82%、純度95%)。
<Example 2: Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltriphenylborate>
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 1.5 g of N-methylmorpholine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was changed to 2.3 g of DBU (manufactured by San Apro) in Example 1, and 4- (1,8-diazabicyclo [5. 4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltriphenylborate [borate salt (A-2)] was obtained (yield 82%, purity 95%).

<実施例3:4−(α−トリブチルアンモニオエチル)フェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A30):4−エチルフェニルトリフェニルボレートカリウム塩の合成
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)を4−エチルフェニルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)に変更したこと以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A30)を得た。
(2)中間体(A31):4−(α−ブロモエチル)フェニルトリフェニルボレートカリウム塩の合成
中間体(A11)の合成において、中間体(A10)7.4gを中間体(A30)7.7gに変更したこと以外は中間体(A11)の合成と同様に行い、中間体(A31)を得た。
(3)4−(α−トリブチルアンモニオエチル)フェニルトリフェニルボレートの合成
中間体(A11)4.5gを中間体(A31)4.7gに、N−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gをトリブチルアミン(東京化成製)2.8g変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(α−トリブチルアンモニオエチル)フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−3)]を得た(収率80%、純度95%)。
<Example 3: Synthesis of 4- (α-tributylammonioethyl) phenyltriphenylborate>
(1) Intermediate (A30): Synthesis of potassium 4-ethylphenyltriphenylborate In the synthesis of intermediate (A10), 4-tolylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) was converted to 4-ethylphenylmagnesium bromide. Except having changed to the THF solution (1.0 mol / L), it carried out similarly to the synthesis | combination of intermediate body (A10), and obtained intermediate body (A30).
(2) Intermediate (A31): Synthesis of 4- (α-bromoethyl) phenyltriphenylborate potassium salt In the synthesis of intermediate (A11), 7.4 g of intermediate (A10) was converted to 7.7 g of intermediate (A30). The intermediate (A31) was obtained in the same manner as the synthesis of the intermediate (A11) except that the intermediate (A31) was changed.
(3) Synthesis of 4- (α-tributylammonioethyl) phenyltriphenylborate 4.5 g of intermediate (A11) is changed to 4.7 g of intermediate (A31), and 1.5 g of N-methylmorpholine (produced by Tokyo Chemical Industry) Was performed in the same manner as in Example 1 except that 2.8 g of tributylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was changed to obtain 4- (α-tributylammonioethyl) phenyltriphenylborate [borate salt (A-3)]. (Yield 80%, purity 95%).

<実施例4:4−(1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム−3−イル)エチルフェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A40):4−ブロモエチルフェニルトリフェニルボレートカリウム塩の合成
反応容器に4−(ブロモエチル)ブロモベンゼン(アルドリッチ製)8.2g、THF200mLを加え、ドライアイスアセトン浴にて−78℃に冷却した。n−ブチルリチウムヘキサン溶液(1.6mol/L、和光純薬製)20mLを−70℃で加えた。10分攪拌後、トリフェニルボランTHF溶液(0.25mol/L、アルドリッチ製)100mLを2時間かけて滴下した。滴下終了後、室温でさらに5時間反応を行った。THFを留去しそこへ飽和炭酸カリウム水溶液100mLを加え、さらに酢酸エチル200mLにて抽出を行った。有機層(酢酸エチル)を留去し、淡褐色固体を得た。メタノール−エーテルにて再結晶を行い、白色固体10.5gを得た。反応に用いたトリフェニルボランから計算される理論収量に対する収率は90%であった。
1H−NMRによりこの白色固体が中間体(A40)であることを確認した。
(2)4−(1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム−3−イル)エチルフェニルトリフェニルボレートの合成
中間体(A11)4.5gを中間体(A40)4.7gに、N−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gを1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン(和光純薬製)1.7gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム−3−イル)エチルフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−4)]であることを得た(収率80%、純度95%)。
<Example 4: Synthesis of 4- (1,2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium-3-yl) ethylphenyltriphenylborate>
(1) Intermediate (A40): Synthesis of 4-bromoethylphenyltriphenylborate potassium salt To a reaction vessel, 8.2 g of 4- (bromoethyl) bromobenzene (manufactured by Aldrich) and 200 mL of THF were added, and in a dry ice acetone bath- Cooled to 78 ° C. 20 mL of n-butyllithium hexane solution (1.6 mol / L, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added at -70 ° C. After stirring for 10 minutes, 100 mL of triphenylborane THF solution (0.25 mol / L, manufactured by Aldrich) was added dropwise over 2 hours. After completion of dropping, the reaction was further carried out at room temperature for 5 hours. The THF was distilled off, 100 mL of saturated aqueous potassium carbonate solution was added thereto, and extraction was further performed with 200 mL of ethyl acetate. The organic layer (ethyl acetate) was distilled off to obtain a light brown solid. Recrystallization was performed with methanol-ether to obtain 10.5 g of a white solid. The yield based on the theoretical yield calculated from triphenylborane used in the reaction was 90%.
This white solid was confirmed to be an intermediate (A40) by 1H-NMR.
(2) Synthesis of 4- (1,2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium-3-yl) ethylphenyltriphenylborate 4.5 g of intermediate (A11) is converted to intermediate (A40) Implemented except that 4.7 g was changed from 1.5 g of N-methylmorpholine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) to 1.7 g of 1,2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries). Performed in the same manner as in Example 1, and was 4- (1,2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium-3-yl) ethylphenyltriphenylborate [borate salt (A-4)]. (Yield 80%, purity 95%).

<実施例5:4−{α−(トリエチルアンモニオ)アセチル}フェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A50):2−(4−ブロモフェニル)−2−メチル−1,3−ジオキサンの合成
ディーンスターク装置を取り付けた反応容器に4−ブロモアセトフェノン10g、トルエン50mL、エチレングリコール30g、p−トルエンスルホン酸0.2gを仕込み、還流下で6時間反応させた。反応後トルエンを留去した。残渣を酢酸エチル100mLに溶解させ、水100mLで3回洗浄し、有機層(酢酸エチル)を濃縮した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、白色固体を得た。反応に用いた4−ブロモアセトフェノンから計算される理論収量に対する収率は95%であった。1H−NMRによりこの白色固体が目的物である2−(4−ブロモフェニル)−2−メチル−1,3−ジオキサンであることを確認した。
(2)中間体(A51):(1−メチル−2,5−ジオキサシクロペンチル)フェニルトリフェニルボレートカリウム塩の合成
中間体(A40)の合成において4−ブロモエチルブロモベンゼン(アルドリッチ製)を中間体(A50)7.5gに変更すること以外は中間体(A40)の合成と同様に行い、中間体(A51)を得た。
(3)中間体(A52):4−(α−ブロモアセチル)フェニルトリフェニルボレートカリウム塩の合成
反応容器に四臭化炭素(和光純薬製)9.9g、中間体(A51)6.7g、アセトン50mLを仕込んだ。0℃に冷却しトリフェニルホスフィン(東京化成製)7.9gのアセトン溶液50mLを少しずつ加えた。1時間攪拌後さらに室温で6時間攪拌した。反応液をヘキサン500mLに投入し、生じた固体をろ過することで中間体(A52)を得た。
(4)4−{α−(トリエチルアンモニオ)アセチル}フェニルトリフェニルボレートの合成
実施例1において中間体(A11)4.5gを中間体(A52)4.8g、N−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gをトリエチルアミン1.5gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−{α−(トリエチルアンモニオ)アセチル}フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−5)]を得た(収率88%、純度97%)。
Example 5 Synthesis of 4- {α- (triethylammonio) acetyl} phenyltriphenylborate>
(1) Intermediate (A50): Synthesis of 2- (4-bromophenyl) -2-methyl-1,3-dioxane 10 g of 4-bromoacetophenone, 50 mL of toluene, 30 g of ethylene glycol in a reaction vessel equipped with a Dean-Stark apparatus. Then, 0.2 g of p-toluenesulfonic acid was added and reacted under reflux for 6 hours. After the reaction, toluene was distilled off. The residue was dissolved in 100 mL of ethyl acetate, washed 3 times with 100 mL of water, and the organic layer (ethyl acetate) was concentrated. This was purified by silica gel column chromatography to obtain a white solid. The yield based on the theoretical yield calculated from 4-bromoacetophenone used in the reaction was 95%. It was confirmed by 1H-NMR that the white solid was 2- (4-bromophenyl) -2-methyl-1,3-dioxane, which was the target product.
(2) Intermediate (A51): Synthesis of (1-methyl-2,5-dioxacyclopentyl) phenyltriphenylborate potassium salt In the synthesis of intermediate (A40), 4-bromoethylbromobenzene (manufactured by Aldrich) was used as an intermediate. The intermediate (A51) was obtained in the same manner as the synthesis of the intermediate (A40) except that the amount was changed to 7.5 g of the body (A50).
(3) Intermediate (A52): Synthesis of 4- (α-bromoacetyl) phenyltriphenylborate potassium salt 9.9 g of carbon tetrabromide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 6.7 g of intermediate (A51) Acetone 50 mL was charged. After cooling to 0 ° C., 50 mL of an acetone solution of 7.9 g of triphenylphosphine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was added little by little. After stirring for 1 hour, the mixture was further stirred at room temperature for 6 hours. The reaction solution was added to 500 mL of hexane, and the resulting solid was filtered to obtain an intermediate (A52).
(4) Synthesis of 4- {α- (triethylammonio) acetyl} phenyltriphenylborate In Example 1, 4.5 g of the intermediate (A11) was changed to 4.8 g of the intermediate (A52), N-methylmorpholine (Tokyo Kasei) (Manufactured) The same procedure as in Example 1 was carried out except that 1.5 g was changed to 1.5 g of triethylamine, and 4- {α- (triethylammonio) acetyl} phenyltriphenylborate [borate salt (A-5)] was obtained. Obtained (yield 88%, purity 97%).

<実施例6:4−(7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ−[4.4.0]−5−デセニウム−5−イル)フェニルトリフェニルボレートの合成>
実施例1においてN−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gを7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ−[4.4.0]−5−デセン(東京化成製)2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ−[4.4.0]−5−デセニウム−5−イル)フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−6)]を得た(収率82%、純度95%)。
Example 6 Synthesis of 4- (7-Methyl-1,5,7-triazabicyclo- [4.4.0] -5-decenium-5-yl) phenyltriphenylborate>
In Example 1, 1.5 g of N-methylmorpholine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was converted to 2.3 g of 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo- [4.4.0] -5-decene (manufactured by Tokyo Chemical Industry). The procedure was carried out in the same manner as in Example 1 except that 4- (7-methyl-1,5,7-triazabicyclo- [4.4.0] -5-decenium-5-yl) phenyltriphenyl was used. Borate [borate salt (A-6)] was obtained (yield 82%, purity 95%).

<実施例7:4−(1−エチルイミダゾリニウム−3イル)メチルフェニルトリフェニルボレートの合成>
実施例1においてN−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gを1−エチルイミダゾール(東京化成製)1.4gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(1−エチルイミダゾリニウム−3イル)メチルフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−7)]を得た(収率90%、純度95%)。
Example 7 Synthesis of 4- (1-ethylimidazolinium-3-yl) methylphenyltriphenylborate
The same procedure as in Example 1 was conducted except that 1.5 g of N-methylmorpholine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was changed to 1.4 g of 1-ethylimidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry) in Example 1, and 4- (1-ethylimidazo Linium-3-yl) methylphenyltriphenylborate [borate salt (A-7)] was obtained (yield 90%, purity 95%).

<実施例8:4−(1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネニウム−5−イル)ブチルトリフェニルボレートの合成>
(1)4−クロロブチルマグネシウムブロミドの調製
還流管付反応容器にマグネシウム(削り状、和光純薬製)2.9g、エーテル5mLを加えた。そこへ4−クロロブチルブロミド(東京化成製)17.1gのエーテル溶液(40mL)を35℃〜40℃に保ちながら滴下を行った。滴下後さらに1時間還流を行い、室温まで冷却後、エーテル55mLを加え、4−クロロブチルマグネシウムブロミドエーテル溶液(1.0mol/L)を得た。
(2)中間体80:4−クロロブチルトリフェニルボレートカリウム塩の合成
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)を4−クロロブチルマグネシウムブロミドエーテル溶液(1.0mol/L)に変更したこと以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A80)を得た。
(3)4−(1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネニウム−5−イル)ブチルトリフェニルボレートの合成
実施例1において、中間体(A11)4.5gを中間体(A80)3.7gに、N−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gをDBN(サンアプロ製)1.9gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネニウム−5−イル)ブチルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−8)]を得た(収率90%、純度95%)。
<Example 8: Synthesis of 4- (1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonenium-5-yl) butyltriphenylborate>
(1) Preparation of 4-chlorobutylmagnesium bromide 2.9 g of magnesium (shaved, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 5 mL of ether were added to a reaction vessel equipped with a reflux tube. The 4-chlorobutyl bromide (product made from Tokyo Chemical Industry) 17.1g ether solution (40 mL) was dripped, keeping at 35 to 40 degreeC there. After the dropwise addition, the mixture was further refluxed for 1 hour, cooled to room temperature, and then added with 55 mL of ether to obtain a 4-chlorobutylmagnesium bromide ether solution (1.0 mol / L).
(2) Intermediate 80: Synthesis of 4-chlorobutyltriphenylborate potassium salt In the synthesis of intermediate (A10), 4-tolylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) was converted to 4-chlorobutylmagnesium bromide ether solution. Except having changed to (1.0 mol / L), it carried out similarly to the synthesis | combination of intermediate body (A10), and obtained intermediate body (A80).
(3) Synthesis of 4- (1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonenium-5-yl) butyltriphenylborate In Example 1, 4.5 g of the intermediate (A11) A80) The same procedure as in Example 1 was carried out except that 1.5 g of N-methylmorpholine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was changed to 1.9 g of DBN (manufactured by San Apro), and 4- (1,5-diazabicyclo) [4.3.0] -5-Nonenium-5-yl) butyltriphenylborate [borate salt (A-8)] was obtained (yield 90%, purity 95%).

<実施例9:4−(1−エチルイミダゾリニウム−3イル)メチルフェニルトリ(2−ナフチル)ボレートの合成>
実施例1においてトリフェニルボラン6.1gを製造例2で得られたトリ(2−ナフチル)ボラン9.8gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(1−エチルイミダゾリニウム−3イル)メチルフェニルトリ(2−ナフチル)ボレート[ボレート塩(A−9)]を得た(収率88%、純度95%)。
Example 9 Synthesis of 4- (1-ethylimidazolinium-3yl) methylphenyltri (2-naphthyl) borate
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 6.1 g of triphenylborane in Example 1 was changed to 9.8 g of tri (2-naphthyl) borane obtained in Production Example 2, and 4- (1-ethylimidazolium) was obtained. Nimo-3yl) methylphenyltri (2-naphthyl) borate [borate salt (A-9)] was obtained (yield 88%, purity 95%).

<実施例10:4−(1−エチルイミダゾリニウム−3イルメチル)フェニルトリ(p−フルオロフェニル)ボレートの合成>
実施例1においてトリフェニルボラン6.1gを製造例3で得られたトリ(p−フルオロフェニル)ボラン7.4gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(1−エチルイミダゾリニウム−3イル)メチルフェニルトリ(p−フルオロフェニル)ボレート[ボレート塩(A−10)]を得た(収率87%、純度95%)。
Example 10 Synthesis of 4- (1-ethylimidazolinium-3-ylmethyl) phenyltri (p-fluorophenyl) borate>
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 6.1 g of triphenylborane was changed to 7.4 g of tri (p-fluorophenyl) borane obtained in Production Example 3, and 4- (1-ethylimidazo Linium-3-yl) methylphenyltri (p-fluorophenyl) borate [borate salt (A-10)] was obtained (yield 87%, purity 95%).

<実施例11:4−(2−tert−ブチル−テトラメチルグアニジニウム−2−イル)メチルフェニルトリフェニルボレートの合成>
実施例1においてN−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gを2−tert−ブチル−テトラメチルグアニジン(アルドリッチ製)2.5gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(2−tert−ブチル−テトラメチルグアニジニウム−2−イル)メチルフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−11)]を得た(収率82%、純度95%)。
<Example 11: Synthesis of 4- (2-tert-butyl-tetramethylguanidinium-2-yl) methylphenyltriphenylborate>
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 1.5 g of N-methylmorpholine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was changed to 2.5 g of 2-tert-butyl-tetramethylguanidine (manufactured by Aldrich) in Example 1, and 4- ( 2-tert-butyl-tetramethylguanidinium-2-yl) methylphenyltriphenylborate [borate salt (A-11)] was obtained (yield 82%, purity 95%).

<実施例12:3−(キヌクリジニオ)メチルフェニルトリス(m−クロロフェニル)ボレートの合成>
(1)中間体(A110)の合成
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)を3−トリルフェニルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)に、トリフェニルボラン6.1gをトリス(m−クロロフェニル)ボラン8.6g変更したこと以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A110)を得た。
(2)中間体(A111):3−ブロモメチルフェニルトリス(m−クロロフェニル)ボレートカリウム塩の合成
中間体(A11)の合成において、中間体(A10)7.4gを中間体(A110)7.4gに変更したこと以外は中間体(A11)の合成と同様に行い、中間体(A111)を得た。
1H−NMRによりこの淡黄色固体が中間体(A111)であることを確認した。
(3)3−(キヌクリジニオ)メチルフェニルトリス(m−クロロフェニル)ボレートの合成
実施例1において中間体(A11)4.5gを中間体A(111)5.5g、N−メチルモルホリン(東京化成製)1.5gをキヌクリジン(東京化成製)1.7gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、3−(キヌクリジニオ)メチルフェニルトリス(m−
クロロフェニル)ボレート[ボレート塩(A−12)]を得た(収率77%、純度95%)。
<Example 12: Synthesis of 3- (quinuclidinio) methylphenyltris (m-chlorophenyl) borate>
(1) Synthesis of Intermediate (A110) In the synthesis of Intermediate (A10), 4-tolylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) was changed to 3-tolylphenylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L). The intermediate (A110) was obtained in the same manner as the synthesis of the intermediate (A10) except that 6.1 g of triphenylborane was changed to 8.6 g of tris (m-chlorophenyl) borane.
(2) Intermediate (A111): Synthesis of 3-bromomethylphenyltris (m-chlorophenyl) borate potassium salt In the synthesis of intermediate (A11), 7.4 g of intermediate (A10) was converted to intermediate (A110) 7. The intermediate (A111) was obtained in the same manner as the synthesis of the intermediate (A11) except that the amount was changed to 4 g.
It was confirmed by 1H-NMR that the pale yellow solid was an intermediate (A111).
(3) Synthesis of 3- (quinuclidinio) methylphenyltris (m-chlorophenyl) borate In Example 1, 4.5 g of intermediate (A11) was converted to 5.5 g of intermediate A (111), N-methylmorpholine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) ) The same procedure as in Example 1 was carried out except that 1.5 g was changed to 1.7 g of quinuclidine (manufactured by Tokyo Chemical Industry), and 3- (quinuclidinio) methylphenyltris (m-
Chlorophenyl) borate [borate salt (A-12)] was obtained (yield 77%, purity 95%).

<実施例13:4−(トリエチルアンモニオメチル)フェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A130)の合成
反応容器に4−ブロモベンジルブロミド25gをTHF50mLに溶解させ、そこへジエチルアミン8gを徐々に加えた。室温にて5時間攪拌した後酢酸エチル50mLにて2回抽出を行い、有機層を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで中間体(130)を得た。
(2)中間体(A131)の合成
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)を中間体(A130)を原料として常法にて調製したGrignard試薬(THF溶液、1.0mol/L)に変更したこと以外は実施例1における中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A131)を得た。
(3)4−(トリエチルアンモニオメチル)フェニルトリフェニルボレートの合成
反応容器に中間体(A131)4.4gとTHF100mLを加え、そこへ臭化エチル1.3gを10℃で滴下した。滴下後室温にて8時間攪拌し、有機溶媒を留去した。残渣を水100mLにて5回洗浄し、少量のアセトンに溶解した。これをジエチルエーテルにて再結晶を行い、淡黄色の固体3.8gを得た(収率87%、純度97%)。1H−NMRによりこの淡黄色固体が目的物である4−(トリエチルアンモニオメチル)フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−13)]であることを確認した。
Example 13 Synthesis of 4- (triethylammoniomethyl) phenyltriphenylborate
(1) Synthesis of intermediate (A130) In a reaction vessel, 25 g of 4-bromobenzyl bromide was dissolved in 50 mL of THF, and 8 g of diethylamine was gradually added thereto. After stirring at room temperature for 5 hours, extraction was performed twice with 50 mL of ethyl acetate, and the organic layer was concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography to obtain intermediate (130).
(2) Synthesis of Intermediate (A131) In the synthesis of Intermediate (A10), Grignard reagent prepared by a conventional method using 4-tolylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) as intermediate (A130) as a raw material. Except having changed to (THF solution, 1.0 mol / L), it carried out similarly to the synthesis | combination of the intermediate body (A10) in Example 1, and obtained the intermediate body (A131).
(3) Synthesis of 4- (triethylammoniomethyl) phenyltriphenylborate 4.4 g of intermediate (A131) and 100 mL of THF were added to the reaction vessel, and 1.3 g of ethyl bromide was added dropwise thereto at 10 ° C. After dropping, the mixture was stirred at room temperature for 8 hours, and the organic solvent was distilled off. The residue was washed 5 times with 100 mL of water and dissolved in a small amount of acetone. This was recrystallized from diethyl ether to obtain 3.8 g of a pale yellow solid (yield 87%, purity 97%). It was confirmed by 1H-NMR that the pale yellow solid was 4- (triethylammoniomethyl) phenyltriphenylborate [borate salt (A-13)], which was the target product.

<実施例14:4−(1−ブチルイミダゾリオメチル)フェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A140)の合成
中間体(A130)の合成において、ジエチルアミン8gをイミダゾール(東京化成製)7.5gに変更すること以外は中間体(A130)の合成と同様に行い、中間体(A140)を得た。
(2)中間体(A141)の合成
中間体(A131)の合成において、中間体(A130)より常法にて調製したGrignard試薬(THF溶液、1.0mol/L)を中間体(A140)を原料として常法にて調製したGrignard試薬(THF溶液、1.0mol/L)に変更したこと以外は中間体(A131)の合成と同様に行い、中間体(A141)を得た。
(3)4−(1−ブチルイミダゾリオメチル)フェニルトリフェニルボレートの合成
実施例13において、中間体(A131)4.4gを中間体(A141)4.4gに変更し、臭化エチル1.3gを臭化ブチル1.6gに変更したこと以外は実施例13と同様に行い、4−(1−ブチルイミダゾリオメチル)フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−14)]を得た(収率90%、純度96%)。
Example 14 Synthesis of 4- (1-Butylimidazoliomethyl) phenyltriphenylborate
(1) Synthesis of intermediate (A140) In the synthesis of intermediate (A130), except that 8 g of diethylamine was changed to 7.5 g of imidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry), the same procedure as in the synthesis of intermediate (A130) was performed. A body (A140) was obtained.
(2) Synthesis of intermediate (A141) In the synthesis of intermediate (A131), Grignard reagent (THF solution, 1.0 mol / L) prepared by a conventional method from intermediate (A130) was used as intermediate (A140). The intermediate (A141) was obtained in the same manner as the synthesis of the intermediate (A131) except that the Grignard reagent (THF solution, 1.0 mol / L) prepared by a conventional method was used as a raw material.
(3) Synthesis of 4- (1-butylimidazoliomethyl) phenyltriphenylborate In Example 13, 4.4 g of the intermediate (A131) was changed to 4.4 g of the intermediate (A141), and ethyl bromide 1. The same procedure as in Example 13 was carried out except that 3 g was changed to 1.6 g of butyl bromide, and 4- (1-butylimidazoliomethyl) phenyltriphenylborate [borate salt (A-14)] was obtained. Rate 90%, purity 96%).

<実施例15:4−(N−メチルモルホニオメチル)フェニルトリフェニルボレートの合成の合成>
(1)中間体(A150)の合成
中間体(A131)の合成において、中間体(A130)より常法にて調製したGrignard試薬(THF溶液、1.0mol/L)を4−(モルホリノメチル)ブロモベンゼン(和光純薬製)より常法にて調製したGrignard試薬(THF溶液、1.0mol/L)に変更したこと以外は中間体(A131)の合成と同様に行い、中間体(A150)を得た。
(2)4−(N−メチルモルホニオメチル)フェニルトリフェニルボレートの合成
実施例13において、中間体(A131)4.4gを中間体(A150)4.6gに変更し、臭化エチル1.3gをヨウ化メチル1.7gに変更したこと以外は実施例13と同様に行い、4−(N−メチルモルホニオメチル)フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−15)]を得た(収率93%、純度98%)。
<Example 15: Synthesis of synthesis of 4- (N-methylmorphoniomethyl) phenyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A150) In the synthesis of intermediate (A131), Grignard reagent (THF solution, 1.0 mol / L) prepared by a conventional method from intermediate (A130) was converted to 4- (morpholinomethyl). The intermediate (A150) was prepared in the same manner as the intermediate (A131) except that the Grignard reagent (THF solution, 1.0 mol / L) prepared in a conventional manner from bromobenzene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) was used. Got.
(2) Synthesis of 4- (N-methylmorphoniomethyl) phenyltriphenylborate In Example 13, 4.4 g of the intermediate (A131) was changed to 4.6 g of the intermediate (A150), and ethyl bromide 1 The same procedure as in Example 13 was conducted except that .3 g was changed to 1.7 g of methyl iodide to obtain 4- (N-methylmorphoniomethyl) phenyltriphenylborate [borate salt (A-15)]. (Yield 93%, purity 98%).

<実施例16:4−(4−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル}ブタノイル)フェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A160)の合成:
中間体(A50)の合成において、4−ブロモアセトフェノン10gを1−(4−ブロモフェニル)4−クロロブタノン13.1g(アルドリッチ製)に変更すること以外は中間体(A50)の合成と同様に行い、中間体(A160)を得た。
(2)中間体(A161)の合成
中間体(A51)の合成において、中間体(A50)7.5gを中間体(A160)9.5gに変更したこと以外は中間体(A51)の合成と同様に行い、中間体(A161)を得た。
(3)4−(4−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル}ブタノイル)フェニルトリフェニルボレートの合成
実施例5において、中間体(A52)4.5gを中間体(A161)4.7gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例5と同様に行い、4−(4−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル}ブタノイル)フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−16)]を得た(収率90%、純度94%)。
Example 16 Synthesis of 4- (4- {1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl} butanoyl) phenyltriphenylborate
(1) Synthesis of intermediate (A160):
In the synthesis of intermediate (A50), except that 10 g of 4-bromoacetophenone is changed to 13.1 g of 1- (4-bromophenyl) 4-chlorobutanone (manufactured by Aldrich), the same as the synthesis of intermediate (A50) The intermediate (A160) was obtained.
(2) Synthesis of intermediate (A161) In the synthesis of intermediate (A51), intermediate (A51) was synthesized except that 7.5 g of intermediate (A50) was changed to 9.5 g of intermediate (A160). In the same manner, an intermediate (A161) was obtained.
(3) Synthesis of 4- (4- {1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl} butanoyl) phenyltriphenylborate In Example 5, intermediate (A52) 4. The same procedure as in Example 5 was carried out, except that 5 g was changed to 4.7 g of intermediate (A161) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU, and 4- (4- {1,8-diazabicyclo [5.4. 0] -7-undecenium-8-yl} butanoyl) phenyltriphenylborate [borate salt (A-16)] was obtained (yield 90%, purity 94%).

<実施例17:6−(α−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル}アセチル)−2−ナフチルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A170)の合成:
中間体(A50)の合成において、4−ブロモアセトフェノン10gを6−ブロモ−2−アセトナフトン12.5g(アルドリッチ製)に変更すること以外は中間体(A50)の合成と同様に行い、中間体(A170)を得た。
(2)中間体(A171)の合成
中間体(A51)の合成において、中間体(A50)7.5gを中間体(A170)9.1gに変更したこと以外は中間体(A51)の合成と同様に行い、中間体(A171)を得た。
(3)中間体(A172)の合成
中間体(A52)の合成において、中間体(A51)6.7gを中間体(A171)7.4gに変更する以外は中間体(A52)の合成と同様に行い、中間体(A172)を得た。
(4)6−(α−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル}アセチル)−2−ナフチルトリフェニルボレートの合成
実施例5において、中間体(A52)4.5gを中間体(A172)5.3gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例5と同様に行い、6−(α−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル}アセチル)−2−ナフチルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−17)]を得た(収率88%、純度95%)。
<Example 17: Synthesis of 6- (α- {1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl} acetyl) -2-naphthyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A170):
In the synthesis of intermediate (A50), the same procedure as in the synthesis of intermediate (A50) was conducted except that 10 g of 4-bromoacetophenone was changed to 12.5 g of 6-bromo-2-acetonaphthone (manufactured by Aldrich). A170) was obtained.
(2) Synthesis of intermediate (A171) In the synthesis of intermediate (A51), intermediate (A51) was synthesized except that 7.5 g of intermediate (A50) was changed to 9.1 g of intermediate (A170). In the same manner, an intermediate (A171) was obtained.
(3) Synthesis of Intermediate (A172) In the synthesis of Intermediate (A52), except that 6.7 g of Intermediate (A51) is changed to 7.4 g of Intermediate (A171), the same as the synthesis of Intermediate (A52) To obtain an intermediate (A172).
(4) Synthesis of 6- (α- {1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl} acetyl) -2-naphthyltriphenylborate In Example 5, the intermediate (A52 ) 4.5 g was changed to 5.3 g of intermediate (A172) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU, and the same procedure as in Example 5 was carried out, and 6- (α- {1,8-diazabicyclo [5 4.0] -7-undecenium-8-yl} acetyl) -2-naphthyltriphenylborate [borate salt (A-17)] (yield 88%, purity 95%).

<実施例18:4−{α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−p−ビフェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A180)の合成:
中間体(A50)の合成において、4−ブロモアセトフェノン10gを4’−(4−ブロモフェニル)アセトフェノン13.8g(アルドリッチ製)に変更すること以外は中間体(A50)の合成と同様に行い、中間体(A180)を得た。
(2)中間体(A181)の合成
中間体(A51)の合成において、中間体(A50)7.5gを中間体(A180)9.9gに変更したこと以外は中間体(A51)の合成と同様に行い、中間体(A181)を得た。
(3)中間体(A182)の合成
中間体(A52)の合成において、中間体(A51)6.7gを中間体(A181)7.8gに変更する以外は中間体(A52)の合成と同様に行い、中間体(A182)を得た。
(4)4−{α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−p−ビフェニルトリフェニルボレートの合成
実施例5において、中間体(A52)4.5gを中間体(A182)5.6gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例5と同様に行い、4−{α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−p−ビフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−18)]を得た(収率87%、純度90%)。
Example 18 Synthesis of 4- {α- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -p-biphenyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A180):
In the synthesis of intermediate (A50), except that 10 g of 4-bromoacetophenone was changed to 13.8 g of 4 ′-(4-bromophenyl) acetophenone (manufactured by Aldrich), it was carried out in the same manner as the synthesis of intermediate (A50), An intermediate (A180) was obtained.
(2) Synthesis of intermediate (A181) In the synthesis of intermediate (A51), intermediate (A51) was synthesized except that 7.5 g of intermediate (A50) was changed to 9.9 g of intermediate (A180) In the same manner, an intermediate (A181) was obtained.
(3) Synthesis of Intermediate (A182) In the synthesis of Intermediate (A52), except that 6.7 g of Intermediate (A51) is changed to 7.8 g of Intermediate (A181), the same as the synthesis of Intermediate (A52) To obtain an intermediate (A182).
(4) Synthesis of 4- {α- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -p-biphenyltriphenylborate In Example 5, the intermediate (A52 ) 4.5 g was changed to 5.6 g of intermediate (A182) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU. 4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -p-biphenyltriphenylborate [borate salt (A-18)] (yield 87%, purity 90%).

<実施例19:3−{α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−4−フルオロフェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A190)の合成:
中間体(A50)の合成において、4−ブロモアセトフェノン10gを3−ブロモ−4−フルオロアセトフェノン10.9g(東京化成製)に変更すること以外は中間体(A50)の合成と同様に行い、中間体(A190)を得た。
(2)中間体(A191)の合成
中間体(A51)の合成において、中間体(A50)7.5gを中間体(A190)8.1gに変更したこと以外は中間体(A51)の合成と同様に行い、中間体(A191)を得た。
(3)中間体(A192)の合成
中間体(A52)の合成において、中間体(A51)6.7gを中間体(A191)6.9gに変更する以外は中間体(A52)の合成と同様に行い、中間体(A192)を得た。
(4)3−{α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−4−フルオロフェニルトリフェニルボレートの合成
実施例5において、中間体(A52)4.5gを中間体(A192)5gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例5と同様に行い、3−{α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−4−フルオロフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−19)]を得た(収率82%、純度96%)。
Example 19 Synthesis of 3- {α- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -4-fluorophenyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A190):
The intermediate (A50) was synthesized in the same manner as the intermediate (A50) except that 10 g of 4-bromoacetophenone was changed to 10.9 g of 3-bromo-4-fluoroacetophenone (manufactured by Tokyo Chemical Industry). A body (A190) was obtained.
(2) Synthesis of intermediate (A191) In the synthesis of intermediate (A51), intermediate (A51) was synthesized except that 7.5 g of intermediate (A50) was changed to 8.1 g of intermediate (A190). In the same manner, an intermediate (A191) was obtained.
(3) Synthesis of Intermediate (A192) In the synthesis of Intermediate (A52), except that 6.7 g of Intermediate (A51) was changed to 6.9 g of Intermediate (A191), the same as Synthesis of Intermediate (A52) To obtain an intermediate (A192).
(4) Synthesis of 3- {α- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -4-fluorophenyltriphenylborate In Example 5, the intermediate ( A52) 4.5 g was changed to 5 g of intermediate (A192) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU, and the same procedure as in Example 5 was carried out, and 3- {α- (1,8-diazabicyclo [5. 4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -4-fluorophenyltriphenylborate [borate salt (A-19)] (yield 82%, purity 96%).

<実施例20:4−{α−フェニル−α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−フェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A200)の合成:
中間体(A50)の合成において、4−ブロモアセトフェノン10gを4−ブロモ−αフェニルアセトフェノン13.8g(アルドリッチ製)に変更すること以外は中間体(A50)の合成と同様に行い、中間体(A200)を得た。
(2)中間体(A201)の合成
中間体(A51)の合成において、中間体(A50)7.5gを中間体(A200)9.9gに変更したこと以外は中間体(A51)の合成と同様に行い、中間体(A201)を得た。
(3)中間体(A202)の合成
中間体(A52)の合成において、中間体(A51)6.7gを中間体(A201)7.8gに変更する以外は中間体(A52)の合成と同様に行い、中間体(A202)を得た。
(4)4−{α−フェニル−α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−フェニルトリフェニルボレートの合成
実施例5において、中間体(A52)4.5gを中間体(A202)5.6gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例5と同様に行い、4−{α−フェニル−α−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)アセチル}−フェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−20)]を得た(収率89%、純度94%)。
Example 20 Synthesis of 4- {α-phenyl-α- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -phenyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A200):
In the synthesis of the intermediate (A50), except that 10 g of 4-bromoacetophenone was changed to 13.8 g of 4-bromo-α-phenylacetophenone (manufactured by Aldrich), the intermediate (A50) was synthesized. A200).
(2) Synthesis of intermediate (A201) In the synthesis of intermediate (A51), intermediate (A51) was synthesized except that 7.5 g of intermediate (A50) was changed to 9.9 g of intermediate (A200). In the same manner, an intermediate (A201) was obtained.
(3) Synthesis of intermediate (A202) In the synthesis of intermediate (A52), the same as synthesis of intermediate (A52), except that 6.7 g of intermediate (A51) was changed to 7.8 g of intermediate (A201). To obtain an intermediate (A202).
(4) Synthesis of 4- {α-phenyl-α- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -phenyltriphenylborate In Example 5, intermediate (A52) 4.5 g was changed to 5.6 g of the intermediate (A202) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU, and the same procedure as in Example 5 was carried out, and 4- {α-phenyl-α- (1 , 8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) acetyl} -phenyltriphenylborate [borate salt (A-20)] (yield 89%, purity 94%).

<実施例21:4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチル−1−ナフチルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A210)の合成:
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液を常法により調製できる4−メチル−1−ナフチルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)に変更すること以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A210)を得た。
(2)中間体(A211)の合成
中間体(A11)の合成において、中間体(A10)7.4gを中間体(A210)8.4gに変更したこと以外は中間体(A11)の合成と同様に行い、中間体(A211)を得た。
(3)4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチル−1−ナフチルトリフェニルボレートの合成
実施例1において、中間体(A11)4.5gを中間体(A211)5gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチル−1−ナフチルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−21)]を得た(収率87%、純度97%)。
Example 21 Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methyl-1-naphthyltriphenylborate
(1) Synthesis of intermediate (A210):
In the synthesis of the intermediate (A10), the intermediate (A10) was changed except that the 4-tolylmagnesium bromide THF solution was changed to a 4-methyl-1-naphthylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) which can be prepared by a conventional method. ) To give an intermediate (A210).
(2) Synthesis of Intermediate (A211) Synthesis of Intermediate (A11) except that 7.4 g of Intermediate (A10) was changed to 8.4 g of Intermediate (A210) in the synthesis of Intermediate (A11). In the same manner, an intermediate (A211) was obtained.
(3) Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methyl-1-naphthyltriphenylborate In Example 1, 4.5 g of intermediate (A11) 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium) was carried out in the same manner as in Example 1 except that 5 g of the intermediate (A211) and 1.5 g of triethylamine were changed to 2.3 g of DBU. -8-yl) methyl-1-naphthyltriphenylborate [borate salt (A-21)] was obtained (yield 87%, purity 97%).

<実施例22:9−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチル−10−アントリルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A220)の合成:
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液を常法により調製できる9−メチル−10−アントリルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)に変更すること以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A220)を得た。
(2)中間体(A221)の合成
中間体(A11)の合成において、中間体(A10)7.4gを中間体(A220)9.4gに変更したこと以外は中間体(A11)の合成と同様に行い、中間体(A221)を得た。
(3)9−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチル−10−アントリルトリフェニルボレートの合成
実施例1において、中間体(A11)4.5gを中間体(A221)5.5gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、9−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチル−10−アントリルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−22)]を得た(収率76%、純度97%)。
Example 22 Synthesis of 9- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methyl-10-anthryltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A220):
In the synthesis of the intermediate (A10), the intermediate (A) except that the 4-tolylmagnesium bromide THF solution is changed to a 9-methyl-10-anthrylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) that can be prepared by a conventional method The intermediate (A220) was obtained in the same manner as the synthesis of A10).
(2) Synthesis of intermediate (A221) In the synthesis of intermediate (A11), intermediate (A11) was synthesized except that 7.4 g of intermediate (A10) was changed to 9.4 g of intermediate (A220). In the same manner, an intermediate (A221) was obtained.
(3) Synthesis of 9- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methyl-10-anthryltriphenylborate In Example 1, intermediate (A11) 4. 9- (1,8-diazabicyclo [5.4.0]-was carried out in the same manner as in Example 1 except that 5 g was changed to 5.5 g of intermediate (A221) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU. 7-Undecenium-8-yl) methyl-10-anthryltriphenylborate [borate salt (A-22)] was obtained (yield 76%, purity 97%).

<実施例23:3−フルオロ−4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A230)の合成:
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液を常法により調製できる9−メチル−10−アントリルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)に変更すること以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A230)を得た。
(2)中間体(A231)の合成
中間体(A11)の合成において、中間体(A10)7.4gを中間体(A230)7.8gに変更したこと以外は中間体(A11)の合成と同様に行い、中間体(A231)を得た。
(3)3−フルオロ−4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリフェニルボレートの合成
実施例1において、中間体(A11)4.5gを中間体(A231)4.7gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、3−フルオロ−4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−23)]を得た(収率88%、純度91%)。
<Example 23: Synthesis of 3-fluoro-4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A230):
In the synthesis of the intermediate (A10), the intermediate (A) except that the 4-tolylmagnesium bromide THF solution is changed to a 9-methyl-10-anthrylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) that can be prepared by a conventional method. The intermediate (A230) was obtained in the same manner as in the synthesis of A10).
(2) Synthesis of intermediate (A231) In the synthesis of intermediate (A11), intermediate (A11) was synthesized except that 7.4 g of intermediate (A10) was changed to 7.8 g of intermediate (A230). In the same manner, an intermediate (A231) was obtained.
(3) Synthesis of 3-fluoro-4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltriphenylborate In Example 1, intermediate (A11) 4. The same procedure as in Example 1 was carried out, except that 5 g was changed to 4.7 g of intermediate (A231) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU, and 3-fluoro-4- (1,8-diazabicyclo [5.4] was obtained. 0.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltriphenylborate [borate salt (A-23)] (yield 88%, purity 91%).

<実施例24:4−メトキシ−3−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A240)の合成:
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液を常法により調製できる4−メトキシ−3−メチルフェニルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)に変更すること以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A240)を得た。
(2)中間体(A241)の合成
中間体(A11)の合成において、中間体(A10)7.4gを中間体(A240)8.1gに変更したこと以外は中間体(A11)の合成と同様に行い、中間体(A241)を得た。
(3)4−メトキシ−3−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリフェニルボレートの合成
実施例1において、中間体(A11)4.5gを中間体(A241)4.8gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−メトキシ−3−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−24)]を得た(収率70%、純度90%)。
<Example 24: Synthesis of 4-methoxy-3- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A240):
In the synthesis of intermediate (A10), except that 4-tolyl magnesium bromide THF solution was changed to 4-methoxy-3-methylphenyl magnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) that can be prepared by a conventional method, The intermediate (A240) was obtained in the same manner as the synthesis of A10).
(2) Synthesis of intermediate (A241) In the synthesis of intermediate (A11), intermediate (A11) was synthesized except that 7.4 g of intermediate (A10) was changed to 8.1 g of intermediate (A240). In the same manner, an intermediate (A241) was obtained.
(3) Synthesis of 4-methoxy-3- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltriphenylborate In Example 1, intermediate (A11) 4. The same procedure as in Example 1 was carried out except that 5 g was changed to 4.8 g of intermediate (A241) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU, and 4-methoxy-3- (1,8-diazabicyclo [5.4] was obtained. 0.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltriphenylborate [borate salt (A-24)] (yield 70%, purity 90%).

<実施例25:4−(α−フェニル−α−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル})メチルフェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A250)の合成:
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液を常法により調製できる4−(α−クロロ−α−フェニル)メチルフェニルマグネシウムブロミドTHF溶液(1.0mol/L)に変更すること以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A250)を得た。
(2)4−(α−フェニル−α−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル})メチルフェニルトリフェニルボレートの合成
実施例1において、中間体(A11)4.5gを中間体(A250)4.8gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(α−フェニル−α−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル})メチルフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−25)]を得た(収率81%、純度94%)。
Example 25 Synthesis of 4- (α-phenyl-α- {1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl}) methylphenyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A250):
In the synthesis of intermediate (A10), the 4-tolylmagnesium bromide THF solution is changed to a 4- (α-chloro-α-phenyl) methylphenylmagnesium bromide THF solution (1.0 mol / L) that can be prepared by a conventional method. The intermediate (A250) was obtained in the same manner as in the synthesis of the intermediate (A10).
(2) Synthesis of 4- (α-phenyl-α- {1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl}) methylphenyltriphenylborate In Example 1, the intermediate ( A11) The same procedure as in Example 1 was carried out except that 4.5 g of the intermediate (A250) was changed to 4.8 g and triethylamine 1.5 g was changed to DBU 2.3 g, and 4- (α-phenyl-α- {1, 8-Diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl}) methylphenyltriphenylborate [borate salt (A-25)] was obtained (yield 81%, purity 94%).

<実施例26:4−(4−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル})ブチルフェニルトリフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A260)の合成:
反応容器に水酸化カリウム30gとエチレングリコール150mLを仕込み、150℃にて水酸化カリウムを溶解させた。100℃にて1−(4−ブロモフェニル)−4−クロロブタノン40g(アルドリッチ製)を仕込み 、そこへヒドラジン一水和物(東京化成製)12gを滴下した。滴下後100℃にて8時間反応させ、冷却後300mLの水へ投入した。ジクロロメタン200mLで抽出を行い、さらにジクロロメタン層を5回水洗した。有機層(ジクロロメタン)を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製しを行い、中間体(A260)を得た。
(2)中間体(A261)の合成:
中間体(A10)の合成において、4−トリルマグネシウムブロミドTHF溶液を中間体(A260)より常法にて調製できるGrignard試薬(THF溶液、1.0mol/L)に変更すること以外は中間体(A10)の合成と同様に行い、中間体(A261)を得た。
(3)4−(4−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル})ブチルフェニルトリフェニルボレートの合成
実施例1において、中間体(A11)4.5gを中間体(A261)4.5gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(4−{1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル})ブチルフェニルトリフェニルボレート[ボレート塩(A−26)]を得た(収率77%、純度91%)。
Example 26 Synthesis of 4- (4- {1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl}) butylphenyltriphenylborate>
(1) Synthesis of intermediate (A260):
A reaction vessel was charged with 30 g of potassium hydroxide and 150 mL of ethylene glycol, and potassium hydroxide was dissolved at 150 ° C. At 100 ° C., 40 g of 1- (4-bromophenyl) -4-chlorobutanone (manufactured by Aldrich) was charged, and 12 g of hydrazine monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was added dropwise thereto. After dropping, the mixture was reacted at 100 ° C. for 8 hours, cooled, and poured into 300 mL of water. Extraction was performed with 200 mL of dichloromethane, and the dichloromethane layer was further washed with water 5 times. The organic layer (dichloromethane) was concentrated and purified by silica gel column chromatography to obtain an intermediate (A260).
(2) Synthesis of intermediate (A261):
In the synthesis of the intermediate (A10), the intermediate (A) except that the 4-tolylmagnesium bromide THF solution was changed from the intermediate (A260) to a Grignard reagent (THF solution, 1.0 mol / L) that can be prepared by a conventional method. The intermediate (A261) was obtained in the same manner as the synthesis of A10).
(3) Synthesis of 4- (4- {1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl}) butylphenyltriphenylborate In Example 1, intermediate (A11) 4. The same procedure as in Example 1 was carried out except that 5 g was changed to 4.5 g of the intermediate (A261) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU, and 4- (4- {1,8-diazabicyclo [5.4. 0] -7-undecenium-8-yl}) butylphenyltriphenylborate [borate salt (A-26)] was obtained (yield 77%, purity 91%).

<実施例27:4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリス(sec−ブチル)ボレートの合成>
(1)中間体(A270)の合成
中間体(40)の合成において、4−(ブロモエチル)−ブロモベンゼン8.2gを4−ブロモベンジルクロリド(東京化成製)6.4gに変更し、トリフェニルボランTHF溶液(0.25mol/L)100mLをトリス(sec−ブチル)ボランTHF溶液(1.0mol/L、アルドリッチ製)25mLに変更した以外は中間体(40)の合成と同様に行い、中間体(A270)を得た。
(2)4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリス(sec−ブチル)ボレートの合成
実施例1において、中間体(A11)4.5gを中間体(A270)3.5gに、トリエチルアミン1.5gをDBU2.3gに変更したこと以外は実施例1と同様に行い、4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニルトリス(sec−ブチル)ボレート[ボレート塩(A−27)]を得た(収率56%、純度94%)。
Example 27 Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltris (sec-butyl) borate>
(1) Synthesis of Intermediate (A270) In the synthesis of Intermediate (40), 8.2 g of 4- (bromoethyl) -bromobenzene was changed to 6.4 g of 4-bromobenzyl chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry), and triphenyl Except that 100 mL of borane THF solution (0.25 mol / L) was changed to 25 mL of tris (sec-butyl) borane THF solution (1.0 mol / L, manufactured by Aldrich), the same procedure as in the synthesis of intermediate (40) was performed. A body (A270) was obtained.
(2) Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyltris (sec-butyl) borate In Example 1, intermediate (A11) 4. The same procedure as in Example 1 was carried out except that 5 g was changed to 3.5 g of intermediate (A270) and 1.5 g of triethylamine was changed to 2.3 g of DBU, and 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0]- 7-Undecenium-8-yl) methylphenyltris (sec-butyl) borate [borate salt (A-27)] was obtained (yield 56%, purity 94%).

<実施例28:4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニル−ジエチル−3−ピリジルボレートの合成>
(1)中間体(A280)の合成
中間体(270)の合成において、トリフェニルボランTHF溶液(0.25mol/L)を3−ピリジルジエチルボラン3.7gをTHF100mLで溶解させたものに変更した以外は中間体(270)の合成と同様に行い、中間体(A280)を得た。
(2)4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニル−ジエチル−3−ピリジルボレートの合成
実施例27において、中間体(A270)3.5gを中間体(A280)3.1gに変更したこと以外は実施例27と同様に行い、4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニル−ジエチル−3−ピリジルボレート[ボレート塩(A−28)]を得た(収率78%、純度95%)。
Example 28 Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyl-diethyl-3-pyridylborate>
(1) Synthesis of Intermediate (A280) In the synthesis of Intermediate (270), the triphenylborane THF solution (0.25 mol / L) was changed to one obtained by dissolving 3.7 g of 3-pyridyldiethylborane in 100 mL of THF. The intermediate (A280) was obtained in the same manner as in the synthesis of the intermediate (270).
(2) Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyl-diethyl-3-pyridylborate In Example 27, intermediate (A270) 3. 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyl, which was carried out in the same manner as in Example 27 except that 5 g was changed to 3.1 g of intermediate (A280). -Diethyl-3-pyridyl borate [borate salt (A-28)] was obtained (yield 78%, purity 95%).

<実施例29:4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニル−トリスペンタフルオロフェニルボレートの合成>
(1)中間体(A290)の合成
中間体(270)の合成において、トリフェニルボランTHF溶液(0.25mol/L)をトリスペンタフルオロフェニルボラン(アルドリッチ製)12.8gをTHF100mLに溶解させたものに変更した以外は中間体(270)の合成と同様に行い、中間体(A290)を得た。
(2)4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニル−トリスペンタフルオロフェニルボレートの合成
実施例27において、中間体(A270)3.5gを中間体(A290)6.8gに変更したこと以外は実施例27と同様に行い、4−(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウム−8−イル)メチルフェニル−トリスペンタフルオロフェニルボレート[ボレート塩(A−29)]を得た(収率74%、純度98%)。
Example 29 Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyl-trispentafluorophenylborate>
(1) Synthesis of Intermediate (A290) In the synthesis of Intermediate (270), 12.8 g of triphenylborane THF solution (0.25 mol / L) and trispentafluorophenylborane (Aldrich) were dissolved in 100 mL of THF. The intermediate (A290) was obtained in the same manner as in the synthesis of the intermediate (270) except that the intermediate (A290) was changed.
(2) Synthesis of 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyl-trispentafluorophenylborate In Example 27, intermediate (A270) 3.5 g Was performed in the same manner as in Example 27, except that 4- (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium-8-yl) methylphenyl- Trispentafluorophenyl borate [borate salt (A-29)] was obtained (yield 74%, purity 98%).

<実施例30〜58、比較例1〜2>
実施例1〜29で得られた両性イオン型ボレート塩、製造例5で得られた比較用のボレート塩(d−1)及び比較用のボレート塩(d−2)[DBU誘導体のテトラフェニルボレート塩(製品名:U−CAT 5002、サンアプロ製)]を用いて以下の組成を均一に混合し、硬化性樹脂組成物(熱硬化性樹脂組成物及び光硬化性樹脂組成物)をそれぞれ調製した。
(熱硬化性樹脂組成物)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂 (JER−828;三菱化学製)100g
酸無水物 (HN5500E;日立化成製) 90g
ボレート塩 5g
(光硬化性樹脂組成物)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂 (JER−828;三菱化学製) 100g
酸無水物 (HN5500E;日立化成製) 90g
ボレート塩 5g
増感剤 (ジエチルチオキサントン;東京化成製) 5g
<Examples 30-58, Comparative Examples 1-2>
Zwitterionic borate salts obtained in Examples 1 to 29, comparative borate salt (d-1) and comparative borate salt (d-2) obtained in Production Example 5 [tetraphenylborate of DBU derivative] The following compositions were uniformly mixed using a salt (product name: U-CAT 5002, manufactured by San Apro) to prepare curable resin compositions (thermosetting resin composition and photocurable resin composition), respectively. .
(Thermosetting resin composition)
Bisphenol A type epoxy resin (JER-828; manufactured by Mitsubishi Chemical) 100g
Acid anhydride (HN5500E; manufactured by Hitachi Chemical) 90g
Borate salt 5g
(Photocurable resin composition)
Bisphenol A type epoxy resin (JER-828; manufactured by Mitsubishi Chemical) 100g
Acid anhydride (HN5500E; manufactured by Hitachi Chemical) 90g
Borate salt 5g
Sensitizer (diethylthioxanthone; manufactured by Tokyo Chemical Industry) 5g

実施例1〜29で得られた両性イオン型ボレート塩(A)、製造例5で得られた比較用のボレート塩(d−1)及び比較用のボレート塩(d−2)を硬化性樹脂組成物用の硬化促進剤として用いた場合の効果を確認するため、以下の方法で溶解性、保存安定性、熱硬化性及び光硬化性を評価し、結果を表1に記載した。   The zwitterionic borate salt (A) obtained in Examples 1 to 29, the borate salt for comparison (d-1) and the borate salt for comparison (d-2) obtained in Production Example 5 are curable resins. In order to confirm the effect when used as a curing accelerator for the composition, solubility, storage stability, thermosetting and photocuring properties were evaluated by the following methods, and the results are shown in Table 1.

(溶解性)
熱硬化性樹脂組成物を目視にて観察し、不溶物の有無を確認した。
不溶物なし・・○、 カスミあり・・△、 不溶物有り・・×
(Solubility)
The thermosetting resin composition was visually observed to confirm the presence or absence of insoluble matter.
There is no insoluble matter.

(保存安定性)
熱硬化性樹脂組成物を40℃の恒温機にて保存し、初期粘度の2倍に達する日数を比較した。
>2週間・・◎、1〜2週間・・○、3〜6日・・△、<3日・・×、<1日××
なお、粘度測定は回転式粘度計:ビスコリードプロL(ファンキラブ社製)を用いて25℃で行った。
(Storage stability)
The thermosetting resin composition was stored in a constant temperature machine at 40 ° C., and the number of days that reached twice the initial viscosity was compared.
> 2 weeks ..., 1-2 weeks ..., 3-6 days ..., <3 days ..., <1 day XX
The viscosity was measured at 25 ° C. using a rotary viscometer: Viscole Pro L (manufactured by Funkilab).

(熱硬化)
熱硬化性樹脂組成物をガラス基板(100mm×100mm)にバーコーターで均一に塗布した後、150℃に加熱したホットプレートで30分加熱を行い、塗布面を指で触ることで表面タックの有無を確認した。
タックなし・・○、 タックあり・・×
(Thermosetting)
After the thermosetting resin composition is uniformly applied to a glass substrate (100 mm × 100 mm) with a bar coater, it is heated on a hot plate heated to 150 ° C. for 30 minutes, and the coated surface is touched with a finger to check for surface tack. It was confirmed.
No tack ・ ・ ○ 、 With tack ・ ×

(光硬化)
光硬化性樹脂組成物をガラス基板(100mm×100mm)にバーコーターで均一塗布し、光源に高圧水銀灯を用いたベルトコンベア式UV照射装置(アイグラフィックス株式会社、ECS−151U)を用いて、露光量1000mJ/cm2(365nmにおける積算光量)となるように露光[300〜450nmの波長の光を透過するフィルター(アイグラフィックス株式会社、365フィルター)を使用]を行い、塗布面を指で触ることで表面タックの有無を確認した。
タックなし・・○、 タックあり・・×
(Light curing)
Using a belt conveyor type UV irradiation device (I Graphics Co., Ltd., ECS-151U) using a high pressure mercury lamp as a light source, uniformly applying a photocurable resin composition to a glass substrate (100 mm × 100 mm) with a bar coater, Perform exposure [using a filter that transmits light with a wavelength of 300 to 450 nm (Eye Graphics Co., Ltd., 365 filter)] so that the exposure amount is 1000 mJ / cm 2 (integrated light amount at 365 nm), and touch the coated surface with your finger The presence or absence of surface tack was confirmed.
No tack ・ ・ ○ 、 With tack ・ ×

表1の結果から、本発明の両性イオン型ボレート塩が比較用のボレート塩と比べて硬化性及び貯蔵安定性に優れていることがわかる。   From the results in Table 1, it can be seen that the zwitterionic borate salt of the present invention is superior in curability and storage stability as compared with the borate salt for comparison.

<実施例59〜76及び比較例3〜5>
実施例1〜28で得られた両性イオン型ボレート塩(A−1)〜(A−28)のうち表2に記載の両性イオン型ボレート塩又は比較用の塩基発生剤(d−3)〜(d−5)と、製造例6〜13で得られたポリアミド樹脂(P1−1)〜(P2−5)と、溶媒(S−1)〜(S−3)と、増感剤(H−1)又は(H−2)とをそれぞれ表2に記載の部数用い、室温で3時間撹拌することで均一に混合して硬化性樹脂組成物を作成し、得られた硬化性樹脂組成物について下記の方法で加熱後残確率とパターン形成性を評価し、結果を表2に記載した。
<Examples 59 to 76 and Comparative Examples 3 to 5>
Among the zwitterionic borate salts (A-1) to (A-28) obtained in Examples 1 to 28, the zwitterionic borate salts listed in Table 2 or the base generator (d-3) for comparison (D-5), polyamide resins (P1-1) to (P2-5) obtained in Production Examples 6 to 13, solvents (S-1) to (S-3), and a sensitizer (H -1) or (H-2), respectively, using the number of parts shown in Table 2 and stirring uniformly at room temperature for 3 hours to create a curable resin composition, and the resulting curable resin composition The residual probability after heating and pattern formation were evaluated by the following method, and the results are shown in Table 2.

なお、表2において、溶剤(S−1)はジメチルアセトアミドを表し、溶剤(S−2)はN−メチルピロリドンを表し、増感剤(H−1)は4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノンを表し、増感剤(H−2)は2,4−ジエチルチオキサントンを表す。   In Table 2, solvent (S-1) represents dimethylacetamide, solvent (S-2) represents N-methylpyrrolidone, and sensitizer (H-1) represents 4,4′-dimethylaminobenzophenone. And sensitizer (H-2) represents 2,4-diethylthioxanthone.

〔試験法:加熱後残膜率〕
シリコン基板上に調整した硬化性樹脂組成物をそれぞれ仕上がり膜厚10μmとなるようにスピンコートした後、100℃に温調されたホットプレート上で15分間乾燥した。乾燥させたシリコン基板の半分をマスクで遮光した後、i線(365nm)露光機で露光量1000mJ/cmで露光した。露光後の加熱温度を160℃から250℃まで変化させた。加熱時間は15分とした。加熱後、2%NaOH水溶液中にシリコン基板を浸漬して現像を行った。現像時間は遮光部分(未露光部分)が完全に溶解するまでの時間とした。
現像終了後に水洗を行い、露光部分の露光前膜厚と現像後の膜厚より残膜率を算出し、その結果を表2に示した。残存率が高いほど環化反応が進行していることを意味する。
[Test method: film ratio after heating]
The curable resin composition prepared on the silicon substrate was spin-coated so as to have a final film thickness of 10 μm, and then dried on a hot plate adjusted to 100 ° C. for 15 minutes. Half of the dried silicon substrate was shielded with a mask, and then exposed with an i-line (365 nm) exposure device at an exposure amount of 1000 mJ / cm. The heating temperature after exposure was changed from 160 ° C to 250 ° C. The heating time was 15 minutes. After the heating, development was performed by immersing the silicon substrate in a 2% NaOH aqueous solution. The development time was the time until the light-shielded part (unexposed part) was completely dissolved.
After completion of development, washing was carried out, and the residual film ratio was calculated from the film thickness before exposure and the film thickness after development of the exposed portion. The results are shown in Table 2. The higher the residual rate, the more the cyclization reaction is progressing.

〔試験法:パターン形成性〕
硬化性樹脂組成物を半導体保護膜、プリント基板保護膜に適応する場合、より精細なパターン形成できることが好ましいことから、パターン形成性を以下の方法で評価した。
シリコン基板上に硬化性樹脂組成物を仕上がり膜厚3μmとなるようにそれぞれスピンコートしたのち、100℃に温調されたホットプレート上で15分間乾燥した。
硬化部分であるライン(L)と未硬化部分であるスペース(S)からなるパターンを形成できるストライプ状のフォトマスクであって、ライン幅とスペース幅とが異なる複数のフォトマスクをそれぞれ用いてi線(365nm)露光機(TME−150RSC(トプコン社製))で露光量1000mJ/cmで露光した。露光後更に150℃で5分間加熱しその後、2%NaOH水溶液を用いて現像を行った。現像後、水洗した後、200℃で15分間加熱してフォトマスクに対応するストライプ状のパターンを形成することができたフォトマスクうち、最小のライン幅とスペース幅とを有するフォトマスクのライン幅とスペース幅をパターンの最小L/Sとして表2に記載した。この値が小さいほどより精細なパターン形成が可能であり、パターン形成性に優れることを意味する。
[Test method: Pattern formation]
In the case where the curable resin composition is applied to a semiconductor protective film or a printed circuit board protective film, it is preferable that a finer pattern can be formed.
The curable resin composition was spin-coated on a silicon substrate to a final film thickness of 3 μm, and then dried on a hot plate adjusted to 100 ° C. for 15 minutes.
A stripe-shaped photomask that can form a pattern composed of a line (L) that is a hardened portion and a space (S) that is an uncured portion, and a plurality of photomasks having different line widths and space widths is used for each i. It exposed with the exposure amount of 1000 mJ / cm with the line | wire (365 nm) exposure machine (TME-150RSC (made by Topcon Corporation)). After exposure, the film was further heated at 150 ° C. for 5 minutes, and then developed using a 2% aqueous NaOH solution. After developing, washing with water, and heating at 200 ° C. for 15 minutes, among the photomasks that can form a stripe pattern corresponding to the photomask, the line width of the photomask having the smallest line width and space width The space width is shown in Table 2 as the minimum L / S of the pattern. A smaller value means that a finer pattern can be formed and the pattern formability is better.

表2から、本発明の硬化性樹脂組成物は加熱温度200℃における残膜率が80%以上と良好であり、またパターン形成性におけるライン幅及びスペース幅も5〜10μmと細く良好である。比較の感光性樹脂組成物は加熱温度250℃においても残膜率が70%程度であり、ライン幅及びスペース幅は15〜20μmであった。またパターン形成時に一部欠損等の欠陥が見られた。
本実施例に見られるように、本発明の硬化性樹脂組成物を用いることで従来よりも低い温度である200℃でも環化反応が進行し、ポリイミドをはじめとする高耐熱樹脂が得られることがわかる。従って、高温での加熱プロセスに耐えられない半導体部品の保護膜及びプリント基板に特に有用である。
From Table 2, the curable resin composition of the present invention has a good residual film ratio of 80% or more at a heating temperature of 200 ° C., and the line width and space width in pattern forming property are thin and good at 5 to 10 μm. The comparative photosensitive resin composition had a remaining film ratio of about 70% even at a heating temperature of 250 ° C., and the line width and space width were 15 to 20 μm. Further, defects such as partial defects were observed during pattern formation.
As seen in this example, by using the curable resin composition of the present invention, the cyclization reaction proceeds even at 200 ° C., which is lower than the conventional temperature, and a high heat resistant resin such as polyimide can be obtained. I understand. Therefore, it is particularly useful for a protective film of a semiconductor component and a printed circuit board that cannot withstand a heating process at a high temperature.

本発明の両性イオン型ボレート塩は硬化性樹脂や重合性モノマーと配合させた場合の貯蔵安定性・溶解性に優れ、加熱または光照射によって硬化させる場合優れた硬化性を発揮する。更に従来よりも低い温度でイミド化が進行し、良好なパターン形成性を有する感光性樹脂組成物を得ることができる。光照射によって硬化させる場合、パターン等を形成する製品及び部材等(例えば電子部品(半導体保護膜、絶縁膜及びプリント基板保護膜等)、光学製品、光学部品の形成材料、層形成材料または接着剤等)の製造、あるいは熱硬化性樹脂と架橋剤からなる熱硬化性組成物ではIC封止材料等の電気・電子材料等に好適に用いられる。   The zwitterionic borate salt of the present invention is excellent in storage stability and solubility when blended with a curable resin or a polymerizable monomer, and exhibits excellent curability when cured by heating or light irradiation. Furthermore, imidization proceeds at a lower temperature than before, and a photosensitive resin composition having good pattern forming properties can be obtained. When cured by light irradiation, products and members that form patterns, etc. (for example, electronic components (semiconductor protective film, insulating film, printed circuit board protective film, etc.), optical products, optical component forming materials, layer forming materials, or adhesives Etc.) or a thermosetting composition comprising a thermosetting resin and a cross-linking agent is suitably used for electrical / electronic materials such as IC sealing materials.

Claims (7)

一般式(1)で表される両性イオン型ボレート塩。
[一般式(1)中、Rはそれぞれ独立して、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数2〜18のアルキニル基、炭素数7〜24のアラルキル基若しくは炭素数6〜18のアリール基又はこれらの基が有する少なくとも一つの水素原子が酸素原子を有する基、硫黄原子を有する基、窒素原子を有する基若しくはハロゲノ基で置換された基であり、Aは4価共有結合窒素原子を有する基であり、Bはアニオン性ホウ素原子であり、YはAが有する4価共有結合窒素原子とアニオン性ホウ素原子とを結合する二価の有機基である。]
A zwitterionic borate salt represented by the general formula (1).
[In General Formula (1), each R 1 is independently an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, or an aralkyl having 7 to 24 carbon atoms. A group or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or a group in which at least one hydrogen atom of these groups has an oxygen atom, a group having a sulfur atom, a group having a nitrogen atom or a halogeno group, A + is a group having a tetravalent covalently bonded nitrogen atom, B is an anionic boron atom, and Y is a divalent organic that bonds the tetravalent covalently bonded nitrogen atom and anionic boron atom of A +. It is a group. ]
Yが下記一般式(2)で表される基又は一般式(3)で表される基である請求項1に記載の両性イオン型ボレート塩。
[一般式(2)中、Yは炭素数1〜18のアルキレン基であり、Arはアリーレン基であり、Arの有する少なくとも1つの水素原子は炭素数1〜8のアルキル基、酸素原子を有する基、硫黄原子を有する基又はハロゲノ基で置換されていても良い。]
[一般式(3)中、Yは炭素数1〜18のアルキレン基であり、Arはアリーレン基であり、Arの有する少なくとも1つの水素原子は炭素数1〜8のアルキル基、酸素原子を有する基、硫黄原子を有する基又はハロゲノ基で置換されていても良い。]
The zwitterionic borate salt according to claim 1, wherein Y is a group represented by the following general formula (2) or a group represented by the general formula (3).
[In General Formula (2), Y 1 is an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, Ar is an arylene group, and at least one hydrogen atom of Ar is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and an oxygen atom. And a group having a sulfur atom, or a halogeno group. ]
[In General Formula (3), Y 1 is an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, Ar is an arylene group, and at least one hydrogen atom of Ar is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and an oxygen atom. And a group having a sulfur atom, or a halogeno group. ]
が炭素数6〜18のアリール基である請求項1又は2に記載の両性イオン型ボレート塩。 The zwitterionic borate salt according to claim 1 or 2, wherein R 1 is an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. 請求項1〜3のいずれかに記載の両性イオン型ボレート塩と硬化性化合物とを含む硬化性樹脂組成物。   A curable resin composition comprising the zwitterionic borate salt according to claim 1 and a curable compound. 硬化性化合物が分子内に2つ以上のグリシジル基を有する化合物(J)と分子内に2つ以上の活性水素含有基を有する化合物(K)又は酸無水物(L)とからなる硬化性化合物、並びに一般式(4)で表される繰り返し単位を有するポリアミド樹脂(Am1)及び/又は一般式(5)で表される繰り返し単位を有するポリアミド樹脂(Am2)である硬化性化合物、からなる群から選ばれる少なくとも1種の硬化性化合物を含む請求項4に記載の硬化性樹脂組成物。
[一般式(4)中、(V)は4価の有機基を表し、(W)は2価の有機基を表す。]
[一般式(5)中、(V)は4価の有機基を表し、(W)は2価の有機基を表し、Xは水酸基、メルカプト基又はアミノ基である。]
A curable compound comprising a curable compound comprising a compound (J) having two or more glycidyl groups in the molecule and a compound (K) or acid anhydride (L) having two or more active hydrogen-containing groups in the molecule. And a curable compound which is a polyamide resin (Am1) having a repeating unit represented by the general formula (4) and / or a polyamide resin (Am2) having a repeating unit represented by the general formula (5). The curable resin composition of Claim 4 containing the at least 1 sort (s) of curable compound chosen from these.
[In General Formula (4), (V) represents a tetravalent organic group, and (W) represents a divalent organic group. ]
[In General Formula (5), (V) represents a tetravalent organic group, (W) represents a divalent organic group, and X represents a hydroxyl group, a mercapto group, or an amino group. ]
更に増感剤(H)を含む請求項4又は5に記載の硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the curable resin composition of Claim 4 or 5 containing a sensitizer (H). 請求項4〜6のいずれか1項に記載の硬化性組成物の硬化体。   The hardened | cured material of the curable composition of any one of Claims 4-6.
JP2016063049A 2015-04-09 2016-03-28 Zwitterion type borate salt and curable resin composition containing the same Pending JP2016204636A (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015079846 2015-04-09
JP2015079846 2015-04-09
JP2015110580 2015-05-29
JP2015110580 2015-05-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016204636A true JP2016204636A (en) 2016-12-08

Family

ID=57488935

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016063049A Pending JP2016204636A (en) 2015-04-09 2016-03-28 Zwitterion type borate salt and curable resin composition containing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016204636A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4378929A1 (en) * 2022-11-29 2024-06-05 Adama Makhteshim Ltd. Synthesis of aromatic boronic acids

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4378929A1 (en) * 2022-11-29 2024-06-05 Adama Makhteshim Ltd. Synthesis of aromatic boronic acids

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3345951B1 (en) Curable composition and cured article using same
JP6498127B2 (en) Photobase generator
JP6211001B2 (en) Novel sulfonic acid derivative compound, photoacid generator, cationic polymerization initiator, resist composition, and cationic polymerizable composition
KR102274350B1 (en) Sulfonium salt, photoacid generator, photocurable composition, and cured product thereof
KR102321241B1 (en) Sulfonium salt, heat or photoacid generator, heat or photocurable composition and cured product thereof
JP2014205624A (en) Onium borate-based acid generator
TW200538481A (en) Thermally stable cationic photocurable compositions
JP2009269849A (en) Sulfonium salt, photoacid generator, photocurable composition, and cured product thereof
JP2009244745A (en) Photosensitive resin composition, article made by using the same and method of forming negative-type pattern
TW202014401A (en) Carbamoyl oxime compound, polymerization initiator containing said compound, and polymerizable composition
TW202130616A (en) Carbamoyl oxime compound, and polymerization initiator and polymerizable composition containing said compound
TW200624459A (en) Polymerizable composition
WO2020145043A1 (en) Sulfonium salt, photoacid generator, curable composition and resist composition
JP2011089119A (en) Base generating agent, photosensitive resin composition, pattern-forming material comprising the photosensitive resin composition, method for forming pattern and article using the photosensitive resin composition
JP2014214129A (en) Curable composition and cured body using the same
JP2016204636A (en) Zwitterion type borate salt and curable resin composition containing the same
JP7126344B2 (en) Curable composition and optical element using the same
JP2010254946A (en) Photosensitive resin composition, pattern-forming material comprising the photosensitive resin composition, method for forming pattern, article using the photosensitive resin composition, and photo-latent resin curing accelerator
CN113631537A (en) Carbamoyloxime compound, and polymerization initiator and polymerizable composition each containing same
JP6046540B2 (en) Sulfonium salt, photoacid generator, curable composition, and resist composition
JP2013227368A (en) Active energy ray-sensitive acid-generating agent
JP2012241064A (en) Base generator, photosensitive resin composition, pattern formation material comprising the photosensitive resin composition, and method for producing relief pattern and article using the composition
JP7177281B2 (en) ACID GENERATOR AND CURABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME
JP2013181991A (en) Photocuring resin composition and method of manufacturing base material pattern-formed using the same, and electronic component including the base material
CN113631540A (en) Carbamoyloxime compound, and polymerization initiator and polymerizable composition each containing same