JP2016204217A - Multiple glass - Google Patents

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大道 千葉
Omichi Chiba
大道 千葉
淳 石黒
Atsushi Ishiguro
淳 石黒
小原 禎二
Teiji Obara
禎二 小原
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multiple glass fitted with a transparent conductive film in which secular deterioration in conductivity is suppressed even in the case of being placed under a high temperature-high moisture environment.SOLUTION: Provided is a multiple glass, in a multiple glass made of two or more glass plates and a resin intermediate film interposed in the joining face between the glass plates each other, in which the joining face of at least one of the glass plates is formed with a transparent conductive film, the resin intermediate film being an intermediate film containing a specified modified block copolymer hydride introduced with an alkoxysilyl group. The block copolymer is made of a block essentially consisting of a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and a block essentially consisting of linear conjugated diene compound, and 90% or more of the carbon-carbon unsaturated bonds of the main chain and the side chains and the unsaturated bonds of the aromatic ring is hydrogenated.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、透明導電膜を有する複層ガラスに関し、更に詳しくは、特定の変性ブロック共重合体水素化物により被覆され、耐久性に優れた透明導電膜を有する複層ガラスに関する。   The present invention relates to a multilayer glass having a transparent conductive film, and more particularly to a multilayer glass having a transparent conductive film coated with a specific modified block copolymer hydride and having excellent durability.

表面に透明導電膜を形成したガラス(透明導電膜付き複層ガラス)は、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、タッチパネル、プラズマディスプレイ、太陽電池、防曇自動車ガラス、遮熱ガラス等に利用されている。例えば、環境保護の観点から今後の普及が期待される電気自動車では、排熱を利用した防曇機能が付加できないため、透明導電膜を付与した複層ガラスを通電加熱することによる防曇機能が望まれている。発熱機能をもたせるための薄膜としては、ITO(In(Sn))、SnO、ZnO、SbあるいはFドープSnO、AlドープZnO等の透明導電膜が知られている。
しかし、透明導電膜を用いた複層ガラスにおいては、高温高湿条件下では時間経過とともに、透明導電膜の電気抵抗値が変化し、複層ガラスの防曇性能に好ましくない影響を及ぼすことがあった。
Glass having a transparent conductive film formed on its surface (multi-layer glass with a transparent conductive film) is used for liquid crystal displays, organic EL displays, touch panels, plasma displays, solar cells, anti-fogging automotive glass, thermal barrier glass, and the like. For example, in an electric vehicle that is expected to spread in the future from the viewpoint of environmental protection, an anti-fogging function using exhaust heat cannot be added. It is desired. As a thin film for providing a heat generating function, transparent conductive films such as ITO (In 2 O 3 (Sn)), SnO X , ZnO X , Sb, F-doped SnO X , and Al-doped ZnO X are known.
However, in a multi-layer glass using a transparent conductive film, the electrical resistance value of the transparent conductive film changes with time under high temperature and high humidity conditions, which may adversely affect the anti-fogging performance of the multi-layer glass. there were.

これに対する対応策として、特許文献1には、ガラス表面上に形成した透明導電膜と中間膜との間に、金属や金属酸化物、珪素酸化物等からなる層を形成して電気抵抗の変化を低減する方法が開示されている。
しかし、透明導電膜の上に更に保護層を形成する方法は、工業生産上で有利な方法とはいえない。
As countermeasures against this, Patent Document 1 discloses a change in electrical resistance by forming a layer made of metal, metal oxide, silicon oxide, or the like between a transparent conductive film formed on a glass surface and an intermediate film. A method for reducing the above is disclosed.
However, the method of forming a protective layer on the transparent conductive film is not an advantageous method for industrial production.

本発明に関連して、特許文献2、3には、芳香族ビニル化合物由来の重合体ブロックと、鎖状共役ジエン化合物由来の重合体ブロックとからなるブロック共重合体の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合、及び、芳香環の炭素−炭素不飽和結合を水素化して得られるブロック共重合体水素化物に、アルコキシシリル基が導入された変性ブロック共重合体水素化物は、ガラスとの接着性、低吸湿性、透明性、太陽電池封止材や複層ガラス用接着剤等として有用であることが開示されている。   In relation to the present invention, Patent Documents 2 and 3 disclose main and side chains of a block copolymer comprising a polymer block derived from an aromatic vinyl compound and a polymer block derived from a chain conjugated diene compound. The modified block copolymer hydride in which an alkoxysilyl group is introduced into the block copolymer hydride obtained by hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bond and the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring is made of glass. It is disclosed that it is useful as an adhesive, low hygroscopicity, transparency, solar cell encapsulant, adhesive for multilayer glass, and the like.

特開平8−217499号公報JP-A-8-217499 WO2012/043708号パンフレットWO2012 / 043708 pamphlet WO2013/176258号パンフレットWO2013 / 176258 pamphlet

本発明は、上述した従来技術に鑑みてなされたものであり、高温高湿環境下でも導電性の経時低下を抑制した透明導電膜付き複層ガラスを提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the prior art mentioned above, and it aims at providing the multilayer glass with a transparent conductive film which suppressed the time-dependent fall of electroconductivity also in a high-temperature, high-humidity environment.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、表面に透明導電膜を形成したガラスを使用した複層ガラスにおいて、高温高湿環境下での電気抵抗値が変化する原因は、中間膜を透過して侵入する水分による透明導電膜の劣化が原因であると推測した。そして、この推測に基づき、従来汎用的に使用されているポリビニルアセタールを使用した複層ガラス中間膜に代えて、アルコキシシリル基が導入されてなる特定の変性ブロック共重合体水素化物を使用した中間膜を使用することにより、ガラス表面上に形成された透明導電膜の高温高湿環境下での電気抵抗値の経時変化が抑制されることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention, in the double-layer glass using a glass having a transparent conductive film formed on the surface, the cause of the change in the electrical resistance value in a high temperature and high humidity environment, It was speculated that this was caused by the deterioration of the transparent conductive film due to moisture penetrating through the intermediate film. And based on this assumption, instead of the multilayer glass intermediate film using polyvinyl acetal conventionally used for general purposes, an intermediate using a specific modified block copolymer hydride in which an alkoxysilyl group is introduced By using the film, it was found that the change over time in the electrical resistance value of the transparent conductive film formed on the glass surface in a high temperature and high humidity environment was suppressed, and the present invention was completed.

かくして本発明によれば、下記(1)及び(2)の複層ガラスが提供される。
(1)2枚以上のガラス板と、これらのガラス板相互の接合面に介在するプラスチック中間膜とからなり、これらのガラス板の少なくとも1枚の前記接合面に透明導電膜が形成された複層ガラスにおいて、
前記プラスチック中間膜が、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック[A]と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック[B]とからなり、全重合体ブロック[A]のブロック共重合体全体に占める重量分率をwAとし、全重合体ブロック[B]のブロック共重合体全体に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比(wA:wB)が30:70〜60:40であるブロック共重合体[C]の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合の90%以上が水素化されたブロック共重合体水素化物[D]に、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物[E]を含有する中間膜であることを特徴とする複層ガラス。
(2)少なくとも、第1のガラス板、第1のガラス板上に形成された透明導電膜、樹脂中間膜、第2のガラス板の順に積層されてなる複層ガラスであって、
a.第1のガラス板上に積層された透明導電膜の端が、第1のガラス板の端に対して全周囲に亘って2mm以上離れて配置され、
b.樹脂中間膜が、透明導電膜の面積より大きい面積を有し、
c.透明導電膜が樹脂中間膜により覆われ、樹脂中間膜の端が、透明導電膜の端に対して全周囲に亘って2mm以上離れて配置された状態である
ことを特徴とする複層ガラス。
Thus, according to the present invention, the following multilayer glasses (1) and (2) are provided.
(1) A composite film comprising two or more glass plates and a plastic intermediate film interposed between the bonding surfaces of these glass plates, wherein a transparent conductive film is formed on at least one of the bonding surfaces of these glass plates. In layer glass,
The plastic intermediate film has at least two polymer blocks [A] having a structural unit derived from an aromatic vinyl compound as a main component and at least one heavy component having a structural unit derived from a chain conjugated diene compound as a main component. And the weight fraction of the entire polymer block [A] in the entire block copolymer is wA, and the weight fraction of the entire polymer block [B] in the entire block copolymer is The main-chain and side-chain carbon-carbon unsaturated bonds and fragrance of the block copolymer [C] in which the ratio of wA to wB (wA: wB) is 30: 70-60: 40 An intermediate containing a hydrogenated block copolymer [E] obtained by introducing an alkoxysilyl group into a block copolymer hydride [D] in which 90% or more of ring carbon-carbon unsaturated bonds are hydrogenated. Is a membrane Double glazing characterized and.
(2) At least the first glass plate, a transparent conductive film formed on the first glass plate, a resin intermediate film, and a multi-layer glass laminated in the order of the second glass plate,
a. The end of the transparent conductive film laminated on the first glass plate is disposed 2 mm or more apart over the entire circumference with respect to the end of the first glass plate,
b. The resin intermediate film has an area larger than the area of the transparent conductive film,
c. A multi-layer glass, wherein the transparent conductive film is covered with a resin intermediate film, and the end of the resin intermediate film is located 2 mm or more away from the end of the transparent conductive film over the entire periphery.

本発明によれば、高温高湿環境下に置かれた場合であっても、電気抵抗値の経時変化が抑制された透明導電膜付き複層ガラスが提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it is a case where it is set | placed on a high temperature, high humidity environment, the multilayer glass with a transparent conductive film by which the temporal change of the electrical resistance value was suppressed is provided.

以下、本発明の透明導電膜付き複層ガラスについて、詳細に説明する。
本発明の透明導電膜付き複層ガラスは、2枚以上のガラス板と、これらのガラス板相互の接合面に介在するプラスチック中間膜とからなり、これらのガラス板の少なくとも1枚の前記接合面に透明導電膜が形成された複層ガラスにおいて、
前記プラスチック中間膜が、
芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック[A]と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック[B]とからなり、全重合体ブロック[A]のブロック共重合体全体に占める重量分率をwAとし、全重合体ブロック[B]のブロック共重合体全体に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比(wA:wB)が30:70〜60:40であるブロック共重合体[C]の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合の90%以上が水素化されたブロック共重合体水素化物[D]に、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物[E](以下、「特定の変性ブロック共重合体水素化物[E]」ということがある。)を含有する中間膜であることを特徴とする。
Hereinafter, the multilayer glass with a transparent conductive film of the present invention will be described in detail.
The multi-layer glass with a transparent conductive film of the present invention comprises two or more glass plates and a plastic intermediate film interposed between the bonding surfaces of these glass plates, and at least one of the bonding surfaces of these glass plates. In the multilayer glass in which a transparent conductive film is formed on
The plastic interlayer is
At least two polymer blocks [A] mainly comprising a structural unit derived from an aromatic vinyl compound, and at least one polymer block [B] mainly comprising a structural unit derived from a chain conjugated diene compound. When the weight fraction of the whole polymer block [A] in the entire block copolymer is wA and the weight fraction of the whole polymer block [B] in the whole block copolymer is wB, The block copolymer [C] in which the ratio of wA to wB (wA: wB) is 30:70 to 60:40, the carbon-carbon unsaturated bond of the main chain and the side chain and the carbon-carbon bond of the aromatic ring Modified block copolymer hydride [E] in which an alkoxysilyl group is introduced into a block copolymer hydride [D] in which 90% or more of the saturated bonds are hydrogenated (hereinafter referred to as “specific modified block copolymer weight”). Combined hydride [E May be referred to ".), Characterized in that an intermediate film containing.

1.中間膜
本発明に用いる中間膜は、少なくとも特定の変性ブロック共重合体水素化物[E]を含有するものであれば、変性ブロック共重合体水素化物[E]のみから成形されたものであっても、変性ブロック共重合体水素化物[E]に後述する配合剤を含む樹脂組成物で成形されたものであってもよい。
1. Intermediate Film The intermediate film used in the present invention is formed from only the modified block copolymer hydride [E] as long as it contains at least the specific modified block copolymer hydride [E]. Alternatively, it may be molded from a resin composition containing a compounding agent described later in the modified block copolymer hydride [E].

中間膜を構成する成分中の変性ブロック共重合体水素化物[E]の含有量は、中間膜を構成する成分全体に対して、通常70重量%以上、好ましくは80重量%以上、より好ましくは90重量%以上である。
変性ブロック共重合体水素化物[E]の含有量が70重量%以上であることで、耐熱性、柔軟性、低吸湿性、透明性、及び、ガラスとの接着性に優れる中間膜となる。
The content of the modified block copolymer hydride [E] in the component constituting the intermediate film is usually 70% by weight or more, preferably 80% by weight or more, more preferably, relative to the total components constituting the intermediate film. 90% by weight or more.
When the content of the modified block copolymer hydride [E] is 70% by weight or more, the interlayer film is excellent in heat resistance, flexibility, low hygroscopicity, transparency, and adhesion to glass.

前記特定の変性ブロック共重合体水素化物[E]は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック[A]と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック[B]とからなり、全重合体ブロック[A]のブロック共重合体全体に占める重量分率をwAとし、全重合体ブロック[B]のブロック共重合体全体に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比(wA:wB)が30:70〜60:40であるブロック共重合体[C]の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合の90%以上が水素化されたブロック共重合体水素化物[D]に、アルコキシシリル基が導入されることにより得られる。   The specific modified block copolymer hydride [E] comprises at least two polymer blocks [A] mainly comprising a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and a structural unit derived from a chain conjugated diene compound. It is composed of at least one polymer block [B] as a main component, and the weight fraction of the whole polymer block [A] in the entire block copolymer is wA, and the block ratio of all polymer blocks [B] is The main chain and side chain of the block copolymer [C] in which the ratio of wA to wB (wA: wB) is 30:70 to 60:40 when the weight fraction of the whole polymer is wB This is obtained by introducing an alkoxysilyl group into the hydride of block copolymer [D] in which 90% or more of the carbon-carbon unsaturated bond and aromatic carbon-carbon unsaturated bond of hydrogen are hydrogenated.

(ブロック共重合体[C])
前記変性ブロック共重合体水素化物[E]の前駆体であるブロック共重合体[C]は、少なくとも2つの重合体ブロック[A]と少なくとも1つの重合体ブロック[B]を含有する高分子である。ブロック共重合体[C]中の重合体ブロック[A]の数は、通常3個以下、好ましくは2個である。
(Block copolymer [C])
The block copolymer [C], which is a precursor of the modified block copolymer hydride [E], is a polymer containing at least two polymer blocks [A] and at least one polymer block [B]. is there. The number of polymer blocks [A] in the block copolymer [C] is usually 3 or less, preferably 2 in number.

ブロック共重合体[C]のブロックの形態は、鎖状型ブロックでもラジアル型ブロックでも良いが、鎖状型ブロックであるものが、機械的強度に優れ好ましい。
ブロック共重合体[C]の最も好ましい形態は、重合体ブロック[B]の両端に重合体ブロック[A]が結合した、[A]−[B]−[A]型のトリブロック共重合体である。
The block form of the block copolymer [C] may be a chain type block or a radial type block, but a chain type block is preferred because of its excellent mechanical strength.
The most preferable form of the block copolymer [C] is [A]-[B]-[A] type triblock copolymer in which the polymer block [A] is bonded to both ends of the polymer block [B]. It is.

重合体ブロック[A]は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とするものであり、重合体ブロック[A]中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位の含有量は、通常90重量%以上、好ましくは95重量%以上、より好ましくは99重量%以上である。
重合体ブロック[A]中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位が少な過ぎると、複層ガラスの耐熱性が低下するおそれがある。
複数の重合体ブロック[A]は、上記の範囲を満足すれば互いに同一であっても、相異なっていても良い。
The polymer block [A] is mainly composed of a structural unit derived from an aromatic vinyl compound, and the content of the structural unit derived from the aromatic vinyl compound in the polymer block [A] is usually 90% by weight. Above, preferably 95% by weight or more, more preferably 99% by weight or more.
When there are too few structural units derived from the aromatic vinyl compound in the polymer block [A], the heat resistance of the multilayer glass may be lowered.
The plurality of polymer blocks [A] may be the same as or different from each other as long as the above range is satisfied.

芳香族ビニル化合物としては、具体的には、スチレン;α−メチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2,4−ジイソプロピルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、5−t−ブチル−2−メチルスチレンなどの置換基としてアルキル基を有するスチレン類;3−メトキシスチレン、2−メトキシ−4−イソプロポキシスチレン等の置換基としてアルコキシ基を有するスチレン類;4−モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、4−モノフルオロスチレン等の置換基としてハロゲン原子を有するスチレン類;4−フェニルスチレン等の置換基としてアリール基を有するスチレン類;などが挙げられる。これらの中でも、吸湿性の観点から、極性基を含有しないもの(スチレン、置換基としてアルキル基を有するスチレン類、置換基としてアリール基を有するスチレン類)が好ましく、工業的な入手の容易さからスチレンが特に好ましい。   Specific examples of the aromatic vinyl compound include styrene; α-methylstyrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 4- Styrenes having an alkyl group as a substituent such as t-butylstyrene and 5-t-butyl-2-methylstyrene; alkoxy groups as a substituent such as 3-methoxystyrene and 2-methoxy-4-isopropoxystyrene Styrenes; styrenes having a halogen atom as a substituent such as 4-monochlorostyrene, dichlorostyrene, 4-monofluorostyrene; styrenes having an aryl group as a substituent such as 4-phenylstyrene; Among these, from the viewpoint of hygroscopicity, those that do not contain a polar group (styrene, styrenes having an alkyl group as a substituent, and styrenes having an aryl group as a substituent) are preferable, and are easy to obtain industrially. Styrene is particularly preferred.

また、重合体ブロック[A]は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位以外の成分として、鎖状共役ジエン由来の構造単位及び/又はその他のビニル化合物由来の構造単位を含むことができる。その含有量は、通常10重量%以下、好ましくは5重量%以下、より好ましくは1重量%以下である。
鎖状共役ジエン及びその他のビニル化合物としては、後述する重合体ブロック[B]の構造単位となる鎖状共役ジエン及びその他のビニル化合物と同様のものが挙げられる。
Moreover, polymer block [A] can contain the structural unit derived from a chain conjugated diene and / or the structural unit derived from another vinyl compound as components other than the structural unit derived from an aromatic vinyl compound. The content is usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less.
Examples of the chain conjugated diene and other vinyl compounds include those similar to the chain conjugated diene and other vinyl compounds that are structural units of the polymer block [B] described later.

重合体ブロック[B]は、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とするものであり、重合体ブロック[B]中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位の含有量は、通常80重量%以上、好ましくは90重量%以上、より好ましくは95重量%以上である。
鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位が上記範囲にあると、本発明の複層ガラスの耐熱衝撃性、低温での接着性に優れる。
The polymer block [B] has a structural unit derived from a chain conjugated diene compound as a main component, and the content of the structural unit derived from the chain conjugated diene compound in the polymer block [B] is usually 80. % By weight or more, preferably 90% by weight or more, more preferably 95% by weight or more.
When the structural unit derived from the chain conjugated diene compound is in the above range, the thermal shock resistance and low-temperature adhesiveness of the multilayer glass of the present invention are excellent.

また、重合体ブロック[B]中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位以外の成分として、芳香族ビニル化合物由来の構造単位及び/又はその他のビニル化合物由来の構造単位を含むことができる。その含有量は、通常20重量%以下、好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下である。重合体ブロック[B]中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位の含有量が増加すると、接着樹脂層の低温での柔軟性が低下し、複層ガラスの耐熱衝撃性が低下するおそれがある。
ブロック共重合体[C]が重合体ブロック[B]を複数有する場合には、重合体ブロック[B]は、上記の範囲を満足するものであれば、互いに同一であっても、相異なっていても良い。
Moreover, as a component other than the structural unit derived from the chain conjugated diene compound in the polymer block [B], a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and / or a structural unit derived from another vinyl compound can be included. The content is usually 20% by weight or less, preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less. When the content of the structural unit derived from the aromatic vinyl compound in the polymer block [B] increases, the flexibility of the adhesive resin layer at a low temperature decreases, and the thermal shock resistance of the multilayer glass may decrease.
When the block copolymer [C] has a plurality of polymer blocks [B], the polymer blocks [B] may be the same or different from each other as long as they satisfy the above range. May be.

鎖状共役ジエン系化合物としては、吸湿性の観点から、極性基を含有しない鎖状共役ジエン系化合物が好ましい。具体的には、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン等が挙げられる。これらの中でも、工業的な入手の容易さから、1,3−ブタジエン、イソプレンが特に好ましい。   As the chain conjugated diene compound, a chain conjugated diene compound not containing a polar group is preferable from the viewpoint of hygroscopicity. Specific examples include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene and the like. Among these, 1,3-butadiene and isoprene are particularly preferable from the viewpoint of industrial availability.

その他のビニル系化合物としては、鎖状ビニル化合物、環状ビニル化合物、不飽和の環状酸無水物、不飽和イミド化合物等が挙げられる。これらの化合物は、ニトリル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。これらの中でも、吸湿性の観点から、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ドデセン、1−エイコセン、4−メチル−1−ペンテン、4,6−ジメチル−1−ヘプテン等の炭素数2〜20の鎖状オレフィン;ビニルシクロヘキサン、ノルボルネン等の炭素数5〜20の環状オレフィン;1,3−シクロヘキサジエン、ノルボルナジエン等の環状ジエン化合物;等の極性基を含有しないものが好ましい。   Examples of other vinyl compounds include chain vinyl compounds, cyclic vinyl compounds, unsaturated cyclic acid anhydrides, and unsaturated imide compounds. These compounds may have a substituent such as a nitrile group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxycarbonyl group, or a halogen atom. Among these, from the viewpoint of hygroscopicity, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-dodecene, 1-eicosene, C2-C20 chain olefins such as 4-methyl-1-pentene and 4,6-dimethyl-1-heptene; C5-C20 cyclic olefins such as vinylcyclohexane and norbornene; 1,3-cyclohexadiene And those containing no polar group such as cyclic diene compounds such as norbornadiene;

ブロック共重合体[C]中の、重合体ブロック[A]の全量がブロック共重合体[C]に占める重量分率をwAとし、重合体ブロック[B]の全量がブロック共重合体[C]に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比(wA:wB)は、通常30:70〜60:40、好ましくは35:65〜55:45、より好ましくは40:60〜50:50である。
wAが多過ぎる場合は、変性ブロック共重合体水素化物[E]の耐熱性が高くなるが、柔軟性が低く、ガラスや金属に対する接着性が弱くなり、本発明に係る熱樹脂組成物のガラスや金属に対する接着性が損なわれるおそれがある。
In the block copolymer [C], the weight fraction of the total amount of the polymer block [A] in the block copolymer [C] is wA, and the total amount of the polymer block [B] is the block copolymer [C]. ], The ratio of wA to wB (wA: wB) is usually 30: 70-60: 40, preferably 35: 65-55: 45, more preferably 40: 60-50: 50.
When wA is too much, the heat resistance of the modified block copolymer hydride [E] is high, but the flexibility is low, and the adhesiveness to glass or metal is weak, and the glass of the thermal resin composition according to the present invention. There is a possibility that adhesion to metal and metal may be impaired.

ブロック共重合体[C]の分子量は、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常40,000〜200,000、好ましくは45,000〜150,000、より好ましくは50,000〜100,000である。また、ブロック共重合体[C]の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは3以下、より好ましくは2以下、特に好ましくは1.5以下である。Mw及びMw/Mnが上記範囲となるようにすると、変性ブロック共重合体水素化物[E]は、耐熱性や機械的強度が良好となり、本発明に係る複層ガラスの耐熱性や機械的強度が低下することがない。   The molecular weight of the block copolymer [C] is a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent, and usually 40,000 to 200. , Preferably 45,000 to 150,000, more preferably 50,000 to 100,000. Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer [C] is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less. When Mw and Mw / Mn are within the above ranges, the modified block copolymer hydride [E] has good heat resistance and mechanical strength, and the heat resistance and mechanical strength of the multilayer glass according to the present invention. Will not drop.

ブロック共重合体[C]の製造方法は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。例えば、リビングアニオン重合等の方法により、芳香族ビニル化合物を主成分として含有するモノマー混合物と、鎖状共役ジエン系化合物を主成分として含有するモノマー混合物を交互に重合させる方法;芳香族ビニル化合物を主成分として含有するモノマー混合物と鎖状共役ジエン系化合物を主成分として含有するモノマー混合物を順に重合させた後、重合体ブロック[B]の末端同士を、カップリング剤によりカップリングさせる方法等により、得ることができる。   The manufacturing method of block copolymer [C] is not specifically limited, A well-known method is employable. For example, a method of alternately polymerizing a monomer mixture containing an aromatic vinyl compound as a main component and a monomer mixture containing a chain conjugated diene compound as a main component by a method such as living anion polymerization; By sequentially polymerizing a monomer mixture containing as a main component and a monomer mixture containing a chain conjugated diene compound as a main component, and then coupling the ends of the polymer block [B] with a coupling agent, etc. Can get.

(ブロック共重合体水素化物[D])
ブロック共重合体水素化物[D]は、上記のブロック共重合体[C]の主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合を水素化して得られる高分子である。
その水素化率は、通常90%以上、好ましくは97%以上、より好ましくは99%以上である。水素化率が高いほど、変性ブロック共重合体水素化物[E]の耐熱性及耐久性が良好であり、本発明に係る複層ガラスの耐熱性や耐久性が低下することがなく好ましい。
ブロック共重合体水素化物[D]の水素化率は、ブロック共重合体水素化物[D]のH−NMRを測定することにより求めることができる。
(Block copolymer hydride [D])
The block copolymer hydride [D] is obtained by hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bond of the main chain and the side chain of the block copolymer [C] and the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring. Is a molecule.
The hydrogenation rate is usually 90% or more, preferably 97% or more, more preferably 99% or more. The higher the hydrogenation rate, the better the heat resistance and durability of the modified block copolymer hydride [E], and the lower the heat resistance and durability of the multilayer glass according to the present invention.
The hydrogenation rate of the block copolymer hydride [D] can be determined by measuring 1 H-NMR of the block copolymer hydride [D].

不飽和結合の水素化方法や反応形態等は特に限定されず、公知の方法にしたがって行えばよいが、水素化率を高くでき、重合体鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましい。このような水素化方法としては、例えば、WO2011/096389号パンフレット、WO2012/043708号パンフレット等に記載された方法を挙げることができる。   There are no particular restrictions on the hydrogenation method or reaction mode of the unsaturated bond, and it may be carried out according to a known method, but a hydrogenation method that can increase the hydrogenation rate and has little polymer chain scission reaction is preferred. Examples of such hydrogenation methods include the methods described in WO2011 / 096389 pamphlet, WO2012 / 043708 pamphlet and the like.

水素化反応終了後においては、水素化触媒、又は水素化触媒及び重合触媒を反応溶液から除去した後、得られた溶液からブロック共重合体水素化物[D]を回収することができる。回収されたブロック共重合体水素化物[D]の形態は限定されるものではないが、通常はペレット形状にして、その後のアルコキシシリル基の導入反応に供することができる。   After completion of the hydrogenation reaction, after removing the hydrogenation catalyst or the hydrogenation catalyst and the polymerization catalyst from the reaction solution, the block copolymer hydride [D] can be recovered from the resulting solution. Although the form of the recovered block copolymer hydride [D] is not limited, it can usually be formed into a pellet shape and used for the subsequent introduction reaction of alkoxysilyl groups.

ブロック共重合体水素化物[D]の分子量は、THFを溶媒としたGPCにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常40,000〜200,000、好ましくは50,000〜150,000、より好ましくは60,000〜100,000である。また、ブロック共重合体水素化物[D]の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは3以下、より好ましくは2以下、特に好ましくは1.5以下にする。Mw及びMw/Mnが上記範囲となるようにすると、変性ブロック共重合体水素化物[E]は、耐熱性や機械的強度が良好となり、本発明に係る複層ガラスの耐熱性や機械的強度が低下することがなく好ましい。   The molecular weight of the block copolymer hydride [D] is a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured by GPC using THF as a solvent, and is usually 40,000 to 200,000, preferably 50,000 to 150. , 000, more preferably 60,000 to 100,000. The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer hydride [D] is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less. When Mw and Mw / Mn are within the above ranges, the modified block copolymer hydride [E] has good heat resistance and mechanical strength, and the heat resistance and mechanical strength of the multilayer glass according to the present invention. Is preferable without lowering.

(変成ブロック共重合体水素化物[E])
本発明の複層ガラスに使用する中間膜を構成する主要成分である変成ブロック共重合体水素化物[E]は、上記ブロック共重合体水素化物[D]に、有機過酸化物の存在下で、エチレン性不飽和シラン化合物を反応させることにより、アルコキシシリル基が導入されたものである。ブロック共重合体水素化物[D]にアルコキシシリル基を導入することにより、ガラスや金属に対する強固な接着性を付与することができる。
(Modified block copolymer hydride [E])
The modified block copolymer hydride [E], which is a main component constituting the interlayer film used in the multilayer glass of the present invention, is converted into the block copolymer hydride [D] in the presence of an organic peroxide. An alkoxysilyl group is introduced by reacting an ethylenically unsaturated silane compound. By introducing an alkoxysilyl group into the block copolymer hydride [D], it is possible to impart strong adhesion to glass or metal.

アルコキシシリル基としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等の、トリ(炭素数1〜6アルコキシ)シリル基;メチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、エチルジメトキシシリル基、エチルジエトキシシリル基、プロピルジメトキシシリル基、プロピルジエトキシシリル基等の、(炭素数1〜20アルキル)ジ(炭素数1〜6アルコキシ)シリル基;フェニルジメトキシシリル基、フェニルジエトキシシリル基等の、(アリール)ジ(炭素数1〜6アルコキシ)シリル基;等が挙げられる。また、アルコキシシリル基は、ブロック共重合体水素化物[D]に、炭素数1〜20のアルキレン基や、炭素数2〜20のアルキレンオキシカルボニルアルキレン基等の2価の有機基を介して結合していても良い。   Examples of the alkoxysilyl group include tri (C1-C6 alkoxy) silyl groups such as trimethoxysilyl group and triethoxysilyl group; methyldimethoxysilyl group, methyldiethoxysilyl group, ethyldimethoxysilyl group, ethyldiethoxysilyl group Group, propyldimethoxysilyl group, propyldiethoxysilyl group, (C1-C20 alkyl) di (C1-C6 alkoxy) silyl group; phenyldimethoxysilyl group, phenyldiethoxysilyl group, (aryl ) Di (C1-C6 alkoxy) silyl group; and the like. The alkoxysilyl group is bonded to the block copolymer hydride [D] via a divalent organic group such as an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkyleneoxycarbonylalkylene group having 2 to 20 carbon atoms. You may do it.

ブロック共重合体水素化物[D]へのアルコキシシリル基の導入量は、通常、ブロック共重合体水素化物[D]100重量部に対し、0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部、より好ましくは0.5〜3重量部である。アルコキシシリル基の導入量が多過ぎると、得られる変性ブロック共重合体水素化物[E]を保存中に微量の水分等で分解されたアルコキシシリル基同士の架橋が進み、ゲル化したり、溶融成形時の流動性が低下して、中間膜を溶融押出し成形できる温度が高くなったり、成形される中間膜の表面が荒れたりするおそれがある。また、アルコキシシリル基の導入量が少な過ぎると、成形される中間膜のガラスや金属に対する接着性が低下するおそれがある。
アルコキシシリル基が導入されたことは、IRスペクトルで確認することができる。また、その導入量は、H−NMRスペクトルにて算出することができる。
The amount of the alkoxysilyl group introduced into the block copolymer hydride [D] is usually 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.2 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the block copolymer hydride [D]. 5 parts by weight, more preferably 0.5 to 3 parts by weight. When the introduction amount of the alkoxysilyl group is too large, the resulting modified block copolymer hydride [E] undergoes cross-linking between the alkoxysilyl groups decomposed with a small amount of moisture during storage, gelling, or melt molding There is a risk that the fluidity at the time is lowered, the temperature at which the intermediate film can be melt-extruded and molded becomes high, or the surface of the molded intermediate film becomes rough. Moreover, when there is too little introduction amount of an alkoxy silyl group, there exists a possibility that the adhesiveness with respect to the glass or metal of the intermediate film shape | molded may fall.
The introduction of the alkoxysilyl group can be confirmed by IR spectrum. Further, the amount introduced can be calculated by 1 H-NMR spectrum.

用いるエチレン性不飽和シラン化合物としては、ブロック共重合体水素化物[D]とグラフト重合し、ブロック共重合体水素化物[D]にアルコキシシリル基を導入するものであれば、特に限定されない。例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラ、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、等が好適に用いられる。これらのエチレン性不飽和シラン化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The ethylenically unsaturated silane compound to be used is not particularly limited as long as it is graft-polymerized with the block copolymer hydride [D] and introduces an alkoxysilyl group into the block copolymer hydride [D]. For example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, dimethoxymethylvinylsilane, diethoxymethylvinylsilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acrylic Loxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysila, 3-acryloxypropyltrimethoxy Silane and the like are preferably used. These ethylenically unsaturated silane compounds may be used alone or in combination of two or more.

エチレン性不飽和シラン化合物の使用量は、ブロック共重合体水素化物[D]100重量部に対して、通常0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部、より好ましくは0.5〜3重量部である。   The amount of the ethylenically unsaturated silane compound used is usually 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.2 to 5 parts by weight, and more preferably 0 to 100 parts by weight of the block copolymer hydride [D]. 0.5 to 3 parts by weight.

過酸化物としては、1分間半減期温度が170〜190℃のものが好ましく使用される。例えば、t−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキシド、ジ(2−t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン等が好適に用いられる。これらの過酸化物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
過酸化物の使用量は、ブロック共重合体水素化物[D]100重量部に対して、通常0.05〜2重量部、好ましくは0.1〜1重量部、より好ましくは0.2〜0.5重量である。
As the peroxide, those having a one-minute half-life temperature of 170 to 190 ° C. are preferably used. For example, t-butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, di-t-butyl peroxide, Di (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene or the like is preferably used. These peroxides may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the peroxide used is generally 0.05 to 2 parts by weight, preferably 0.1 to 1 part by weight, more preferably 0.2 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the block copolymer hydride [D]. 0.5 weight.

上記のブロック共重合体水素化物[D]とエチレン性不飽和シラン化合物とを、過酸化物の存在下で反応させる方法は、特に限定されない。例えば、二軸混練機にて所望の温度で所望の時間混練することにより、ブロック共重合体水素化物[D]にアルコキシシリル基を導入することができる。
二軸混練機による混練温度は、通常180〜220℃、好ましくは185〜210℃、より好ましくは190〜200℃である。
加熱混練時間は、通常0.1〜10分、好ましくは0.2〜5分、より好ましくは0.3〜2分程度である。
温度、滞留時間が上記範囲になるようにして、連続的に混練、押出しをすればよい。得られた変性ブロック共重合体水素化物[E]の形態は限定されるものではないが、通常はペレット形状にして、その後の添加剤の配合に供することができる。
The method for reacting the block copolymer hydride [D] with the ethylenically unsaturated silane compound in the presence of a peroxide is not particularly limited. For example, an alkoxysilyl group can be introduced into the block copolymer hydride [D] by kneading at a desired temperature for a desired time in a biaxial kneader.
The kneading temperature by the biaxial kneader is usually 180 to 220 ° C, preferably 185 to 210 ° C, more preferably 190 to 200 ° C.
The heat kneading time is usually about 0.1 to 10 minutes, preferably about 0.2 to 5 minutes, and more preferably about 0.3 to 2 minutes.
What is necessary is just to knead | mix and extrude continuously so that temperature and residence time may become the said range. Although the form of the obtained modified block copolymer hydride [E] is not limited, it can usually be formed into a pellet shape and used for subsequent blending of additives.

変性ブロック共重合体水素化物[E]の分子量は、導入されるアルコキシシリル基の量が少ないため、原料として用いたブロック共重合体水素化物[D]の分子量と実質的には変わらない。一方、過酸化物の存在下で、エチレン性不飽和シラン化合物と反応させるため、重合体の架橋反応、切断反応が併発し、変性ブロック共重合体水素化物[E]の分子量分布の値は大きくなる。   The molecular weight of the modified block copolymer hydride [E] is substantially the same as the molecular weight of the block copolymer hydride [D] used as a raw material because the amount of the introduced alkoxysilyl group is small. On the other hand, in order to react with the ethylenically unsaturated silane compound in the presence of peroxide, the cross-linking reaction and cleavage reaction of the polymer occur simultaneously, and the molecular weight distribution of the modified block copolymer hydride [E] is large. Become.

変性ブロック共重合体水素化物[E]の分子量は、THFを溶媒としたGPCにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常40,000〜200,000、好ましくは50,000〜150,000、より好ましくは60,000〜100,000である。また、分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは3.5以下、より好ましくは2.5以下、特に好ましくは2.0以下である。Mw及びMw/Mnが上記範囲となるようにすると、変性ブロック共重合体水素化物[E]の耐熱性や機械的強度が維持される。   The molecular weight of the modified block copolymer hydride [E] is a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by GPC using THF as a solvent, and is usually 40,000 to 200,000, preferably 50,000 to 150,000, more preferably 60,000 to 100,000. The molecular weight distribution (Mw / Mn) is preferably 3.5 or less, more preferably 2.5 or less, and particularly preferably 2.0 or less. When Mw and Mw / Mn are within the above ranges, the heat resistance and mechanical strength of the modified block copolymer hydride [E] are maintained.

(配合剤)
本発明の複層ガラスに使用する中間膜を構成する成分としては、主要成分である変成ブロック共重合体水素化物[E]に加えて、各種の添加剤を配合することもできる。
好ましい添加剤としては、充填性、接着温度の低下、及びガラスとの接着性等を調整するための充填助剤、紫外線を遮蔽するための紫外線吸収剤、加工性等を高めるための酸化防止剤やブロッキング防止剤、耐久性を高めるための光安定剤等が挙げられる。
(Combination agent)
As a component constituting the interlayer film used in the double-layer glass of the present invention, various additives can be blended in addition to the main component, the modified block copolymer hydride [E].
Preferred additives include filling aids for adjusting fillability, lowering of bonding temperature, and adhesion to glass, ultraviolet absorbers for shielding ultraviolet rays, and antioxidants for improving processability, etc. And anti-blocking agents, light stabilizers for enhancing durability, and the like.

中間膜を接着する対象物表面の微細構造に隙間なく中間膜を充填させるための充填助剤としては、ブロック共重合体水素化物[D]及び/又は変性ブロック共重合体水素化物[E]に均一に溶解ないし分散できるものが好ましく、数平均分子量300〜5,000の炭化水素系重合体が好ましい。   As a filling aid for filling the intermediate film without gaps in the fine structure of the surface of the object to which the intermediate film is bonded, the block copolymer hydride [D] and / or the modified block copolymer hydride [E] are used. Those that can be dissolved or dispersed uniformly are preferred, and hydrocarbon polymers having a number average molecular weight of 300 to 5,000 are preferred.

炭化水素系重合体の具体例としては、ポリイソブチレン、ポリブテン、ポリ−4−メチルペンテン、ポリ−1−オクテン、エチレン・α−オレフィン共重合体等の低分子量体及びその水素化物;ポリイソプレン、ポリイソプレン−ブタジエン共重合体等の低分子量体及びその水素化物等が挙げられる。充填助剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、特に透明性、耐光性を維持し、充填性の効果に優れている点で、低分子量のポリイソブチレン水素化物、低分子量のポリイソプレン水素化物が好ましい。   Specific examples of the hydrocarbon polymer include polyisobutylene, polybutene, poly-4-methylpentene, poly-1-octene, low molecular weight compounds such as ethylene / α-olefin copolymer and hydrides thereof; polyisoprene, Examples thereof include low molecular weight substances such as polyisoprene-butadiene copolymers and hydrides thereof. Filling aids can be used alone or in combination of two or more. Among these, a low molecular weight polyisobutylene hydride and a low molecular weight polyisoprene hydride are particularly preferable in terms of maintaining transparency and light resistance and being excellent in filling properties.

低分子量の炭化水素系重合体の配合量は、変性ブロック共重合体水素化物[E]100重量部に対して、通常20重量部以下、好ましくは10重量部以下である。低分子量の炭化水素系重合体の配合量を多くすると、複層ガラス用の中間膜とした場合に、充填性は高められるが、耐熱性が低下したり、溶出物が増加し易くなる傾向がある。   The blending amount of the low molecular weight hydrocarbon polymer is usually 20 parts by weight or less, preferably 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride [E]. When the amount of the low molecular weight hydrocarbon polymer is increased, the filling property is improved in the case of an interlayer film for a double-glazed glass, but the heat resistance tends to decrease or the effluent tends to increase. is there.

変性ブロック共重合体水素化物[E]に配合される、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤、光安定剤等は、それぞれ1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの添加剤の配合量は、変性ブロック共重合体水素化物[E]100重量部に対して、通常5重量部以下、好ましくは2重量部以下、より好ましくは1重量部以下である。   The ultraviolet absorbers, antioxidants, antiblocking agents, light stabilizers and the like blended in the modified block copolymer hydride [E] can be used singly or in combination of two or more. . The compounding amount of these additives is usually 5 parts by weight or less, preferably 2 parts by weight or less, more preferably 1 part by weight or less with respect to 100 parts by weight of the modified block copolymer hydride [E].

紫外線吸収剤としては、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が使用できる。
酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、フェノ−ル系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が使用できる。
光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤等が使用できる。
As the ultraviolet absorber, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, triazine compounds, and the like can be used.
As the antioxidant, phosphorus antioxidants, phenol antioxidants, sulfur antioxidants and the like can be used.
As the light stabilizer, a hindered amine light stabilizer or the like can be used.

変成ブロック共重合体水素化物[E]に各種の添加剤を配合する方法としては、一般に用いられる公知の方法が適用できる。例えば、変性ブロック共重合体水素化物[E]のペレット及び配合剤を、タンブラー、リボンブレンダー、ヘンシェルタイプミキサー等の混合機を使用して均等に混合した後、二軸押出し機等の連続式溶融混練機により溶融混合し、押出してペレット状にする方法、変性ブロック共重合体水素化物[E]を、サイドフィーダーを備えた二軸押出し機により、サイドフィーダーから配合剤を連続的に添加しながら、溶融混練して押出し、ペレット状にする方法、等によって配合剤を均一に分散した変性ブロック共重合体水素化物[E]を製造することができる。   As a method of blending various additives into the modified block copolymer hydride [E], known methods that are generally used can be applied. For example, modified block copolymer hydride [E] pellets and compounding ingredients are mixed evenly using a mixer such as a tumbler, ribbon blender, Henschel type mixer, etc., and then continuously melted using a twin screw extruder or the like. A method of melt-mixing with a kneader and extruding into pellets, a modified block copolymer hydride [E], while continuously adding compounding agents from the side feeder with a twin-screw extruder equipped with a side feeder The modified block copolymer hydride [E] in which the compounding agent is uniformly dispersed can be produced by melt kneading, extruding, pelletizing, or the like.

(中間膜)
本発明に使用する中間膜は、変性ブロック共重合体水素化物[E]をシート状に成形して、少なくとも2枚以上のガラス板を貼り合わせる目的で使用される。
(Interlayer film)
The intermediate film used in the present invention is used for the purpose of forming a modified block copolymer hydride [E] into a sheet and bonding at least two glass plates.

中間膜を成形する方法としては、特に限定されず、公知の、溶融押出し成形法、インフレーション成形法、カレンダー成形法等が適用できる。
変性ブロック共重合体水素化物[E]から形成された中間膜は、熱架橋性を付与するための有機過酸化物や架橋助剤の配合を必要としないため、溶融成形温度の選択領域が広い。例えば、溶融押出し成形法により、中間膜を成形する場合は、樹脂温度は、通常170〜250℃、好ましくは180〜240℃、より好ましくは190〜230℃の範囲で適宜選択される。樹脂温度が低過ぎる場合は、流動性が悪化し、得られる中間膜にゆず肌やダイライン等の不良を生じ易く、また、中間膜の押出し速度が上げられず、工業的に不利となるおそれがある。樹脂温度が高過ぎる場合は、中間膜のガラスヘの接着性が不良となったり、中間膜の貯蔵安定性が低下して、中間膜を常温常湿環境下で長期間貯蔵した後のガラスに対する接着性が低下したりするおそれがある。
The method for forming the interlayer film is not particularly limited, and a known melt extrusion molding method, inflation molding method, calendar molding method, or the like can be applied.
The intermediate film formed from the modified block copolymer hydride [E] does not require the blending of an organic peroxide or a crosslinking aid for imparting thermal crosslinkability, and therefore has a wide range of melt molding temperature selection. . For example, when the intermediate film is formed by a melt extrusion molding method, the resin temperature is appropriately selected within the range of usually 170 to 250 ° C, preferably 180 to 240 ° C, more preferably 190 to 230 ° C. If the resin temperature is too low, the fluidity deteriorates, and the resulting intermediate film is liable to cause defects such as the skin and die line, and the extrusion speed of the intermediate film cannot be increased, which may be industrially disadvantageous. is there. If the resin temperature is too high, the adhesion of the interlayer film to the glass will be poor, or the storage stability of the interlayer film will be reduced, and the interlayer film will adhere to the glass after being stored for a long time in a normal temperature and humidity environment. May deteriorate.

中間膜の厚みは、特に制限されないが、通常0.05〜5mm、好ましくは0.1〜4mm、より好ましくは0.2〜3mmの範囲である。中間膜の厚みが0.05mmよりも小さい場合、ガラスとの積層時に中間膜の取り扱い性が劣り、作業性が低下するおそれがある。また、中間膜の厚みが5mmよりも大きい場合、複層ガラス全体での光線透過率が低下したり、変性ブロック共重合体水素化物[E]の使用量が多くなり経済性が低下したりするおそれがある。   The thickness of the interlayer film is not particularly limited, but is usually in the range of 0.05 to 5 mm, preferably 0.1 to 4 mm, more preferably 0.2 to 3 mm. When the thickness of the intermediate film is smaller than 0.05 mm, the handleability of the intermediate film is inferior when laminated with glass, and workability may be reduced. In addition, when the thickness of the interlayer film is larger than 5 mm, the light transmittance in the entire multilayer glass is lowered, or the amount of the modified block copolymer hydride [E] used is increased and the economic efficiency is lowered. There is a fear.

中間膜の層構成は、変性ブロック共重合体水素化物[E]に、必要に応じて前記配合剤を配合した組成物からなる単層のシートであっても、また、ブロック共重合体水素化物[D]に、必要に応じて前記配合剤を配合した組成物からなるシートの片面もしくは両面に、変性ブロック共重合体水素化物[E]からなる層が積層されている多層シートであっても良い。   The layer structure of the interlayer film may be a single-layer sheet comprising a composition obtained by blending the modified block copolymer hydride [E] with the above-mentioned compounding agent as necessary, or a block copolymer hydride. Even if it is a multilayer sheet by which the layer which consists of a modified block copolymer hydride [E] is laminated | stacked on the single side | surface or both surfaces of the sheet which consists of a composition which mix | blended the said compounding agent with [D] as needed. good.

中間膜が多層シートである場合、多層シートを成形する方法としては、例えば、2種3層共押出し成形法;ブロック共重合体水素化[D]からなるシートの片面もしくは両面に、変性ブロック共重合体水素化物[E]をからなるシートを、熱圧着して積層する方法;等が挙げられる。   When the interlayer film is a multilayer sheet, the multilayer sheet can be formed by, for example, a two-layer / three-layer coextrusion molding method; a block copolymer hydrogenation [D] on one side or both sides of a sheet. And a method of laminating a sheet comprising the polymer hydride [E] by thermocompression bonding.

中間膜が多層シートの場合、変性ブロック共重合体水素化物[E]からなる層の厚みは、通常0.005mm以上、好ましくは0.01mm以上、より好ましくは0.015mm以上である。変性ブロック共重合体水素化物[E]からなる層の厚みが0.005mmよりも小さいと、ガラス板との接着性が十分に得られなくなるおそれがある。   When the interlayer film is a multilayer sheet, the thickness of the layer made of the modified block copolymer hydride [E] is usually 0.005 mm or more, preferably 0.01 mm or more, more preferably 0.015 mm or more. If the thickness of the layer composed of the modified block copolymer hydride [E] is smaller than 0.005 mm, sufficient adhesion to the glass plate may not be obtained.

中間膜の表面は、平面状やエンボス加工を施した形状等とすることができる。また、中間膜同士のブロッキングを防止するために、中間膜の片面に、離型フィルムを重ねて保管することもできる。   The surface of the intermediate film can be flat or embossed. In addition, in order to prevent blocking of the interlayer films, a release film can be stacked and stored on one side of the interlayer film.

2.ガラス板
本発明の複層ガラスにおいて、使用されるガラス板は、厚さや材質等は特に限定されない。使用されるガラス板の厚さは、通常0.5〜10mm程度である。厚さが0.05〜0.4mm程度の極薄ガラス板を使用することもできる。例えば、厚さ3.2mmのガラス板(第1のガラス板)/樹脂中間膜/透明導電膜が形成された厚さ1.0mmのガラス板(第2のガラス板)のように、異なる厚みのガラス板を使用することもできる。
2. Glass plate In the multilayer glass of the present invention, the glass plate used is not particularly limited in thickness, material and the like. The thickness of the glass plate used is usually about 0.5 to 10 mm. An ultrathin glass plate having a thickness of about 0.05 to 0.4 mm can also be used. For example, a different thickness such as a 3.2 mm thick glass plate (first glass plate) / resin intermediate film / 1.0 mm thick glass plate (second glass plate) on which a transparent conductive film is formed. It is also possible to use a glass plate.

変性ブロック共重合体水素化物[E]は、−50℃程度の低温領域から、+120℃程度の高温領域まで幅広い温度帯域で柔軟性を維持するため、熱膨張係数の異なるガラス板を貼り合わせることもでき、急激な温度変化によってもガラスの割れを低減することができる。   The modified block copolymer hydride [E] is bonded with glass plates having different thermal expansion coefficients in order to maintain flexibility in a wide temperature range from a low temperature range of about −50 ° C. to a high temperature range of about + 120 ° C. It is also possible to reduce the glass breakage by a sudden temperature change.

使用するガラス板の材質は特に限定されない。例えば、アルミノシリケート酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、ウランガラス、カリガラス、ケイ酸ガラス、結晶化ガラス、ゲルマニウムガラス、石英ガラス、ソーダガラス、白板ガラス、鉛ガラス、バリウム瑚珪酸ガラス、瑚珪酸ガラス等が挙げられる。   The material of the glass plate to be used is not particularly limited. For example, aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, uranium glass, potash glass, silicate glass, crystallized glass, germanium glass, quartz glass, soda glass, white plate glass, lead glass, barium silicate glass, silicate glass, etc. Can be mentioned.

3.透明導電膜
本発明に用いる透明導電膜は、ガラス板表面に直接形成した場合の、波長550nmにおける光線透過率が60%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは75%以上のものである。
3. Transparent conductive film The transparent conductive film used in the present invention has a light transmittance at a wavelength of 550 nm of 60% or more, preferably 70% or more, more preferably 75% or more when directly formed on the surface of a glass plate.

本発明で使用する透明導電膜は、具体的には、無機酸化物、無機窒化物、無機硫化物又は金属等の無機物を用いてガラス上に製膜積層する。透明導電膜の膜厚は、5〜400nmの範囲内で、通電、発熱、電磁波遮蔽あるいは光反射等の目的に応じて適宜選択することが可能である。   Specifically, the transparent conductive film used in the present invention is formed and laminated on glass using an inorganic material such as an inorganic oxide, an inorganic nitride, an inorganic sulfide, or a metal. The film thickness of the transparent conductive film can be appropriately selected within the range of 5 to 400 nm according to the purpose such as energization, heat generation, electromagnetic wave shielding or light reflection.

無機物としては、例えば、酸化亜鉛、Alドープ酸化亜鉛、Gaドープ酸化亜鉛、Inドープ酸化亜鉛、Fドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、Snドープ酸化インジウム、Fドープ酸化インジウム、酸化ガリウム、酸化スズ、Sbドープ酸化スズ、Fドープ酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化タングステン、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、硫化カドミウム、硫化亜鉛、セレン化亜鉛等;金属としては、Ag、Pd、Al、Zn等が使用でき、単層膜又は多層膜として用いることができる。   Examples of inorganic substances include zinc oxide, Al-doped zinc oxide, Ga-doped zinc oxide, In-doped zinc oxide, F-doped zinc oxide, indium oxide, Sn-doped indium oxide, F-doped indium oxide, gallium oxide, tin oxide, and Sb-doped. Tin oxide, F-doped tin oxide, aluminum oxide, silicon oxide, titanium oxide, tungsten oxide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, cadmium sulfide, zinc sulfide, zinc selenide, etc .; as metals, Ag, Pd, Al, Zn or the like can be used, and it can be used as a single layer film or a multilayer film.

透明導電膜の製膜方法としては、真空製膜法、例えば、スパッタリング法、蒸着法、CVD法等の製膜法を用いることができる。透明導電膜はガラス板表面に直接形成しても、ガラス表面に太陽電池素子や表示素子等の他の薄膜を形成した上に形成してもよい。   As a method for forming the transparent conductive film, a vacuum film forming method, for example, a film forming method such as a sputtering method, a vapor deposition method, or a CVD method can be used. The transparent conductive film may be formed directly on the surface of the glass plate, or may be formed on another thin film such as a solar cell element or a display element formed on the glass surface.

4.複層ガラス
本発明の複層ガラスは、2枚以上のガラス板と、これらのガラス板相互の接合面に介在する樹脂中間膜とからなり、これらのガラス板の少なくとも1枚の前記接合面には透明導電膜が形成された複層ガラスであって、樹脂中間膜は、前述のアルコキシシリル基が導入された特定の変性ブロック共重合体水素化物[E]から形成されたものである。
すなわち、本発明の複層ガラスは、少なくとも、第1のガラス板/透明導電膜/樹脂中間膜/第2のガラス板の順に積層された構造を有している。第2のガラス板の表面にも透明導電膜が形成されていてもよい。
4). Multi-layer glass The multi-layer glass of the present invention comprises two or more glass plates and a resin intermediate film interposed between the bonding surfaces of these glass plates, and at least one of the bonding surfaces of these glass plates. Is a double-glazed glass on which a transparent conductive film is formed, and the resin intermediate film is formed from the above-mentioned specific modified block copolymer hydride [E] into which the alkoxysilyl group is introduced.
That is, the multilayer glass of the present invention has a structure in which at least the first glass plate / transparent conductive film / resin intermediate film / second glass plate are laminated in this order. A transparent conductive film may also be formed on the surface of the second glass plate.

本発明の複層ガラスでは、透明導電膜の端部は樹脂中間膜で覆われていることが好ましく、a〜cの状態であることがより好ましい。
a.第1のガラス板上に積層された透明導電膜の端が、第1のガラス板の端に対して全周囲に亘って2mm以上離れて配置され、
b.樹脂中間膜が、透明導電膜の面積より大きい面積を有し、
c.透明導電膜が樹脂中間膜により覆われ、樹脂中間膜の端が、透明導電膜の端に対して全周囲に亘って2mm以上離れて配置されている。
In the multilayer glass of the present invention, the end of the transparent conductive film is preferably covered with a resin intermediate film, and more preferably in the states a to c.
a. The end of the transparent conductive film laminated on the first glass plate is disposed 2 mm or more apart over the entire circumference with respect to the end of the first glass plate,
b. The resin intermediate film has an area larger than the area of the transparent conductive film,
c. The transparent conductive film is covered with a resin intermediate film, and the end of the resin intermediate film is disposed 2 mm or more away from the end of the transparent conductive film over the entire periphery.

本発明で使用する樹脂中間膜は、吸湿性及び透湿性が小さく、ガラスに対する接着性に優れた変性ブロック共重合体水素化物[E]を使用し、更に、透明導電膜の端部を樹脂中間膜で覆うことにより、高温高湿度環境下で使用した場合であっても、抵抗値が上昇して導電性が失われる等の不具合の発生を低減できる。   The resin intermediate film used in the present invention uses a modified block copolymer hydride [E] that has low hygroscopicity and moisture permeability, and excellent adhesion to glass. By covering with a film, even when used in a high temperature and high humidity environment, the occurrence of problems such as an increase in resistance and loss of conductivity can be reduced.

複層ガラスを製造するには、少なくとも、透明導電膜が形成された第1のガラス板/透明導電膜が形成された面に接するように樹脂中間膜/第2のガラス板をこの順に重ね、真空ラミネータを用いて加熱減圧下で接着させる方法や、減圧可能な耐熱性のゴム袋に入れて脱気後、オートクレーブを使用して、加熱加圧下で接着させる方法等が適用できる。 In order to produce a multilayer glass, at least the first glass plate / transparent conductive film is formed and the resin interlayer / second glass plate is stacked in this order so as to contact the surface on which the transparent conductive film is formed, A method of adhering under reduced pressure by heating using a vacuum laminator, a method of adhering under reduced pressure by using an autoclave after putting in a heat-resistant rubber bag capable of reducing pressure, and the like can be applied.

本発明の複層ガラスの層構成としては、透明導電膜を形成した第1のガラス板/第1の樹脂中間膜/ディスプレイ素子/第2の樹脂中間膜/第2のガラス板、透明導電膜を形成した第1のガラス板/第1の樹脂中間膜/調光素子/第2の樹脂中間膜/第2のガラス板、透明導電膜を形成した第1のガラス板/第1の樹脂中間膜/太陽電池素子/第2の樹脂中間膜/第2のガラス板、等が挙げられる。   As the layer constitution of the multilayer glass of the present invention, a first glass plate / first resin intermediate film / display element / second resin intermediate film / second glass plate on which a transparent conductive film is formed, a transparent conductive film 1st glass plate / first resin intermediate film / light control element / second resin intermediate film / second glass plate, first glass plate / first resin intermediate formed with transparent conductive film Film / solar cell element / second resin intermediate film / second glass plate, and the like.

ディスプレイ素子、EL素子、調光素子、太陽電池素子等は、有機EL素子、液晶素子、サーモクロミック素子、フォトクロミック素子、エレクトロクロミック素子、半導体素子等からなり、透明導電膜と同様に、複層ガラス端部から侵入する水分や酸素により劣化し易いものが多い。   Display elements, EL elements, dimming elements, solar cell elements, etc. are composed of organic EL elements, liquid crystal elements, thermochromic elements, photochromic elements, electrochromic elements, semiconductor elements, and the like. Many of them are easily deteriorated by moisture or oxygen entering from the end.

したがって、本発明の複層ガラスと同様の構成、すなわち、ディスプレイ素子、調光素子、太陽電池素子等の端が、第1及び第2の樹脂中間膜の端に対して全周囲に亘って2mm以上離れて配置された、第1のガラス板/第1の樹脂中間膜/ディスプレイ素子/第2の樹脂中間膜/第2のガラス板、第1のガラス板/第1の樹脂中間膜/調光素子/第2の樹脂中間膜/第2のガラス板、第1のガラス板/第1の樹脂中間膜/太陽電池素子/第2の樹脂中間膜/第2のガラス板、等の構成は、高温高湿環境下での有機ELディスプレイ素子、液晶ディスプレイ素子、調光素子、太陽電池素子等の劣化を防止するためにも効果的である。   Therefore, the same structure as the multilayer glass of the present invention, that is, the end of the display element, the light control element, the solar cell element, etc. is 2 mm over the entire circumference with respect to the ends of the first and second resin intermediate films. First glass plate / first resin intermediate film / display element / second resin intermediate film / second glass plate, first glass plate / first resin intermediate film / tone, which are arranged apart from each other Optical element / second resin intermediate film / second glass plate, first glass plate / first resin intermediate film / solar cell element / second resin intermediate film / second glass plate, etc. It is also effective for preventing deterioration of an organic EL display element, a liquid crystal display element, a light control element, a solar cell element and the like in a high temperature and high humidity environment.

本発明の複層ガラスは、防曇ガラス、建築物の窓ガラス、屋根用ガラス、部屋用遮熱壁材、自動車のサイドガラスやサンルーフ用ガラス、電気自動車のフロントガラス、鉄道車両や船舶用の窓ガラス、ディスプレイ基板等として有用である。   The double-glazed glass of the present invention includes anti-fogging glass, building window glass, roof glass, room heat shield wall material, automotive side glass and sunroof glass, electric vehicle windshield, railcar and ship windows. Useful as glass, display substrate, etc.

本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び%は特に断りのない限り重量基準である。   The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Parts and% are based on weight unless otherwise specified.

本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
(1)重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)
ブロック共重合体及びブロック共重合体水素化物の分子量は、THFを溶離液とするGPCによる標準ポリスチレン換算値として38℃において測定した。
測定装置としては、東ソー社製HLC8020GPCを用いた。
(2)水素化率
ブロック共重合体水素化物[D]の主鎖、側鎖及び芳香環の水素化率は、H−NMRスペクトルを測定して算出した。
(3)透明導電膜の耐久性
1枚のガラス板上に形成した透明導電膜上に2本の導線を固定し、樹脂中間膜を介して、もう1枚のガラス板と貼り合わせて一体成形体とした複層ガラスを試験片とした。
この試験片を恒温恒湿槽に入れて、温度85℃、相対湿度85%RHの環境に暴露し、複層ガラス試験片の2本の導線線間の電気抵抗値(R)を、初期(R)及び経時で測定し、透明導電膜の導電性を評価した。
耐久性の評価は、2本の導線間の電気抵抗値(R)の初期値(R)に対する、1500時間経過後の抵抗値(R1500)の比(R1500/R0)が10以下である場合を良好(○)、10を超える場合を不良(×)と判断した。
Evaluation in this example is performed by the following method.
(1) Weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn)
The molecular weights of the block copolymer and the hydride of the block copolymer were measured at 38 ° C. as standard polystyrene equivalent values by GPC using THF as an eluent.
As a measuring apparatus, HLC8020GPC manufactured by Tosoh Corporation was used.
(2) Hydrogenation rate The hydrogenation rate of the main chain, side chain, and aromatic ring of the block copolymer hydride [D] was calculated by measuring a 1 H-NMR spectrum.
(3) Durability of transparent conductive film Two conductive wires are fixed on a transparent conductive film formed on one glass plate and bonded to another glass plate through a resin intermediate film to form a single piece. The multilayer glass used as a body was used as a test piece.
This test piece is put in a constant temperature and humidity chamber and exposed to an environment of a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% RH, and the electrical resistance value (R) between the two conductors of the multilayer glass test piece is initially ( R 0 ) and measurement over time, and the conductivity of the transparent conductive film was evaluated.
The evaluation of durability was such that the ratio (R 1500 / R 0 0) of the resistance value (R 1500 ) after 1500 hours to the initial value (R 0 ) of the electrical resistance value (R) between the two conductors was 10. The following cases were judged as good (◯) and those exceeding 10 were judged as bad (×).

[製造例1] 樹脂中間膜[G−1]の製造
(変性ブロック共重合体水素化物「E−1])
内部が十分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン400部、脱水スチレン25.0部、及び、ジ−n−ブチルエーテル0.475部を入れた。全容を60℃で攪拌しながら、n−ブチルリチウムの15%シクロヘキサン溶液0.88部を加えて重合を開始させ、攪拌しながら60℃で60分反応させた。この時点で、反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により分析した結果、重合転化率は99.5%であった。
[Production Example 1] Production of resin interlayer [G-1] (modified block copolymer hydride "E-1")
400 parts of dehydrated cyclohexane, 25.0 parts of dehydrated styrene, and 0.475 part of di-n-butyl ether were placed in a reactor equipped with a stirrer that was sufficiently purged with nitrogen. While stirring the whole volume at 60 ° C., 0.88 part of a 15% cyclohexane solution of n-butyllithium was added to initiate polymerization, and the reaction was carried out at 60 ° C. for 60 minutes while stirring. At this time, the reaction solution was analyzed by gas chromatography (GC), and as a result, the polymerization conversion was 99.5%.

次いで、反応液に脱水イソプレン50.0部を加え、60℃で30分攪拌を継続した。この時点で、反応液をGCにより分析した結果、重合転化率は99.5%であった。
その後、更に、反応液に脱水スチレンを25.0部加え、60℃で60分攪拌した。この時点で、反応液をGCにより分析した結果、重合転化率はほぼ100%であった。
ここで、イソプロピルアルコール0.5部を加えて反応を停止させ、重合体溶液を得た。
重合体溶液に含まれるブロック共重合体[C−1]の重量平均分子量(Mw)は47,200、分子量分布(Mw/Mn)は1.04、wA:wB=50:50であった。
Subsequently, 50.0 parts of dehydrated isoprene was added to the reaction solution, and stirring was continued at 60 ° C. for 30 minutes. At this time, as a result of analyzing the reaction solution by GC, the polymerization conversion rate was 99.5%.
Thereafter, 25.0 parts of dehydrated styrene was further added to the reaction solution, followed by stirring at 60 ° C. for 60 minutes. At this point, the reaction solution was analyzed by GC. As a result, the polymerization conversion rate was almost 100%.
Here, 0.5 part of isopropyl alcohol was added to stop the reaction to obtain a polymer solution.
The weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer [C-1] contained in the polymer solution was 47,200, the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.04, and wA: wB = 50: 50.

次に、上記の重合体溶液を攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として、珪藻土担持型ニッケル触媒(製品名「E22U」、ニッケル担持量60%、日揮触媒化成社製)8.0部、及び脱水シクロヘキサン100部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度190℃、圧力4.5MPaにて6時間水素化反応を行った。
水素化反応により得られた反応溶液に含まれるブロック共重合体水素化物[D−1]の重量平均分子量(Mw)は49,900、分子量分布(Mw/Mn)は1.06であった。
Next, the above polymer solution is transferred to a pressure-resistant reactor equipped with a stirrer, and a diatomaceous earth supported nickel catalyst (product name “E22U”, nickel supported amount 60%, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) as a hydrogenation catalyst. 8.0 parts and 100 parts of dehydrated cyclohexane were added and mixed. The inside of the reactor was replaced with hydrogen gas, and hydrogen was supplied while stirring the solution. A hydrogenation reaction was performed at a temperature of 190 ° C. and a pressure of 4.5 MPa for 6 hours.
The weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer hydride [D-1] contained in the reaction solution obtained by the hydrogenation reaction was 49,900, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.06.

水素化反応終了後、反応溶液を濾過して水素化触媒を除去した後、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](製品名「Songnox1010」、松原産業社製)0.1部を溶解したキシレン溶液2.0部を添加して溶解させた。
次いで、上記溶液を、金属ファイバー製フィルター(孔径0.4μm、ニチダイ社製)にて濾過して微小な固形分を除去した後、円筒型濃縮乾燥器(製品名「コントロ」、日立製作所社製)を用いて、温度260℃、圧力0.001MPa以下で、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。
溶融ポリマーをダイからストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーによりブロック共重合体水素化物[D−1]のペレット95部を作製した。
得られたペレット状のブロック共重合体水素化物[D−1]の重量平均分子量(Mw)は49,500、分子量分布(Mw/Mn)は1.10、水素化率はほぼ100%であった。
After completion of the hydrogenation reaction, the reaction solution was filtered to remove the hydrogenation catalyst, and then the phenol-based antioxidant pentaerythrityl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl). ) Propionate] (product name “Songnox 1010”, manufactured by Matsubara Sangyo Co., Ltd.) 2.0 parts of xylene solution in which 0.1 part was dissolved was added and dissolved.
Next, the above solution was filtered through a metal fiber filter (pore size 0.4 μm, manufactured by Nichidai Co., Ltd.) to remove minute solids, and then a cylindrical concentration dryer (product name “Contro”, manufactured by Hitachi, Ltd.) ), The solvent cyclohexane, xylene and other volatile components were removed from the solution at a temperature of 260 ° C. and a pressure of 0.001 MPa or less.
The molten polymer was extruded into a strand shape from a die, and after cooling, 95 parts of pellets of the block copolymer hydride [D-1] were produced by a pelletizer.
The resulting block-like block copolymer hydride [D-1] had a weight average molecular weight (Mw) of 49,500, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.10, and a hydrogenation rate of almost 100%. It was.

得られたブロック共重合体水素化物[D−1]のペレット100部に対して、ビニルトリメトキシシラン2.0部及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(製品名「パーヘキサ(登録商標) 25B」、日油社製)0.2部を添加した。この混合物を、二軸押出し機を用いて、樹脂温度200℃、滞留時間60〜70秒で混練し、ストランド状に押出し、空冷した後、ペレタイザーによりカッティングし、アルコキシシリル基を有する変性ブロック共重合体水素化物[E−1]のペレット96部を得た。   2.0 parts of vinyltrimethoxysilane and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane with respect to 100 parts of pellets of the obtained block copolymer hydride [D-1] (Product name "Perhexa (registered trademark) 25B", manufactured by NOF Corporation) was added in an amount of 0.2 parts. This mixture is kneaded using a twin screw extruder at a resin temperature of 200 ° C. and a residence time of 60 to 70 seconds, extruded into a strand, air cooled, cut with a pelletizer, and modified block copolymer having an alkoxysilyl group. 96 parts of pellets of the combined hydride [E-1] were obtained.

得られた変性ブロック共重合体水素化物[E−1]のペレット10部をシクロヘキサン100部に溶解した後、脱水メタノール400部中に注いで、変性ブロック共重合体水素化物[E−1]を凝固させ、凝固物を濾取した。濾過物を25℃で真空乾燥して、変性ブロック共重合体水素化物[E−1]のクラム9.0部を単離した。
変性ブロック共重合体水素化物[E−1]のFT−IRスペクトルを測定したところ、1090cm−1にSi−OCH基、825cm−1と739cm−1にSi−CH基に由来する新たな吸収帯が、ビニルトリメトキシシランのSi−OCH基、Si−CH基に由来する吸収帯(1075cm−1、808cm−1及び766cm−1)と異なる位置に観察された。
また、変性ブロック共重合体水素化物[E−1]のH−NMRスペクトル(重クロロホルム中)を測定したところ、3.6ppmにメトキシ基のプロトンに基づくピークが観察され、ピーク面積比からブロック共重合体水素化物[D−1]の100部に対してビニルトリメトキシシラン1.8部が結合したことが確認された。
After dissolving 10 parts of pellets of the obtained modified block copolymer hydride [E-1] in 100 parts of cyclohexane, it was poured into 400 parts of dehydrated methanol, and the modified block copolymer hydride [E-1] was added. The solution was solidified, and the solidified product was collected by filtration. The filtrate was vacuum-dried at 25 degreeC, and 9.0 parts of crumbs of the modified block copolymer hydride [E-1] were isolated.
When the FT-IR spectrum of the modified block copolymer hydride [E-1] was measured, it was newly derived from Si—OCH 3 groups at 1090 cm −1 and Si—CH 2 groups at 825 cm −1 and 739 cm −1. Absorption bands were observed at different positions from absorption bands (1075 cm −1 , 808 cm −1 and 766 cm −1 ) derived from the Si—OCH 3 group and Si—CH 2 group of vinyltrimethoxysilane.
Further, when the 1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform) of the modified block copolymer hydride [E-1] was measured, a peak based on a proton of a methoxy group was observed at 3.6 ppm. It was confirmed that 1.8 parts of vinyltrimethoxysilane was bonded to 100 parts of copolymer hydride [D-1].

(中間膜[G−1])
上記で得た変性ブロック共重合体水素化物[E−1]のペレットを、37mmφのスクリューを備えた二軸混練機を有するTダイ式フィルム溶融押出し成形機(Tダイ幅300mm)、キャストロール(エンボスパターン付き)、及び、ゴム製ニップロール及びシート引き取り装置を備えた押出しシート成形機を使用して、溶融樹脂温度200℃、Tダイ温度200℃、キャストロール温度80℃の成形条件にて押出し成形し、変性ブロック共重合体水素化物[E−1]からなる中間膜[G−1](厚さ760μm、幅230mm)を成形して、中間膜[G−1]を得た。
中間膜[G−1]は、押出しシートの片面をニップロールでエンボスロールに押し当てることにより、エンボスパターンを転写した。得られた中間膜[G−1]はロールに巻き取り回収した。
(Intermediate film [G-1])
The modified block copolymer hydride [E-1] pellets obtained above were converted into a T-die film melt extrusion molding machine (T-die width 300 mm) having a twin-screw kneader equipped with a 37 mmφ screw, a cast roll ( Using an extrusion sheet molding machine equipped with a rubber nip roll and a sheet take-up device, and extrusion molding under molding conditions of a molten resin temperature of 200 ° C., a T-die temperature of 200 ° C., and a cast roll temperature of 80 ° C. Then, an intermediate film [G-1] (thickness: 760 μm, width: 230 mm) made of the modified block copolymer hydride [E-1] was molded to obtain an intermediate film [G-1].
The intermediate film [G-1] transferred the embossed pattern by pressing one side of the extruded sheet against the embossed roll with a nip roll. The obtained interlayer film [G-1] was wound up and collected on a roll.

[製造例2]
中間膜[G−2]の製造
(変性ブロック共重合体水素化物「E−2])
製造例1において、スチレン20.0部、イソプレン60.0部、スチレン20.0部をそれぞれ3回に分けて、この順に加え、n−ブチルリチウム(15%シクロヘキサン溶液)を0.80部に変える以外は、製造例1と同様に重合反応及び反応停止操作を行った。
得られたブロック共重合体[C−2]の重量平均分子量(Mw)は51,200、分子量分布(Mw/Mn)は1.04、wA:wB=40:60であった。
[Production Example 2]
Production of interlayer film [G-2] (modified block copolymer hydride “E-2”)
In Production Example 1, 20.0 parts of styrene, 60.0 parts of isoprene, and 20.0 parts of styrene were added in three portions each in this order, and n-butyllithium (15% cyclohexane solution) was added to 0.80 parts. Except for changing, the polymerization reaction and the reaction termination operation were performed in the same manner as in Production Example 1.
The resulting block copolymer [C-2] had a weight average molecular weight (Mw) of 51,200, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.04, and wA: wB = 40: 60.

次に、上記の重合体溶液を、製造例1と同様にして水素化反応を行った。水素化反応後のブロック共重合体水素化物[D―2]の重量平均分子量(Mw)は54,200、分子量分布(Mw/Mn)は1.06であった。   Next, the above polymer solution was subjected to a hydrogenation reaction in the same manner as in Production Example 1. The weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer hydride [D-2] after the hydrogenation reaction was 54,200, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.06.

水素化反応終了後、製造例1と同様に酸化防止剤を添加した後、濃縮乾燥してブロック共重合体水素化物[D−2]のペレット92部を得た。得られたペレット状のブロック共重合体水素化物[D−2]の重量平均分子量(Mw)は53,700、分子量分布(Mw/Mn)は1.11、水素化率はほぼ100%であった。   After completion of the hydrogenation reaction, an antioxidant was added in the same manner as in Production Example 1, followed by concentration and drying to obtain 92 parts of a block copolymer hydride [D-2] pellet. The resulting block-like block copolymer hydride [D-2] had a weight average molecular weight (Mw) of 53,700, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.11 and a hydrogenation rate of almost 100%. It was.

得られたブロック共重合体水素化物[D−2]のペレットを使用し、製造例1と同様にしてアルコキシシリル基を有する変性ブロック共重合体水素化物[E―2]のペレット95部を得た。
得られた変性ブロック共重合体水素化物[E−2]は、製造例1と同様にして分析し、ブロック共重合体水素化物[D−2]の100部に対してビニルトリメトキシシラン1.8部が結合したことが確認された。
Using the obtained block copolymer hydride [D-2] pellets, 95 parts of a modified block copolymer hydride [E-2] pellet having an alkoxysilyl group was obtained in the same manner as in Production Example 1. It was.
The obtained modified block copolymer hydride [E-2] was analyzed in the same manner as in Production Example 1, and vinyltrimethoxysilane 1.D was added to 100 parts of the block copolymer hydride [D-2]. It was confirmed that 8 parts were combined.

(中間膜[G−2])
変性ブロック共重合体水素化物[E−2]のペレットを、製造例1と同様にしてシート成形し、変性ブロック共重合体水素化物[E−2]からなる中間膜[G−2](厚さ760μm、幅230mm)を作製した。
中間膜[G−2]は、製造例1と同様に、エンボスパターンを付与し、ロールに巻いて回収した。
(Intermediate film [G-2])
A pellet of the modified block copolymer hydride [E-2] was formed into a sheet in the same manner as in Production Example 1, and an intermediate film [G-2] (thickness made of the modified block copolymer hydride [E-2]) was formed. 760 μm, width 230 mm).
Similarly to Production Example 1, the intermediate film [G-2] was provided with an embossed pattern, collected on a roll.

[製造例3]
中間膜[G−3]の製造
(エチレン・酢酸ビニル共重合体を主成分としてなる中間膜[G−3])
エチレン・酢酸ビニル共重合体(以下、「EVA」と略記する。)(製品名「エバフレックス(登録商標)EV150」、酢酸ビニル含有量33重量%、融点61℃、三井・デュポンポリケミカル社製)のペレット95重量部に、トリアリルイソシアヌレート7重量部、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名「KBM−503」、信越化学工業社製)0.5重量部、ジクミルパーオキサイド(商品名「パークミルD」、日油社製)1.0重量部、及び2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール0.4部を添加し、混合した。
[Production Example 3]
Production of intermediate film [G-3] (intermediate film [G-3] comprising ethylene / vinyl acetate copolymer as a main component)
Ethylene / vinyl acetate copolymer (hereinafter abbreviated as “EVA”) (product name “Evaflex (registered trademark) EV150”, vinyl acetate content 33 wt%, melting point 61 ° C., manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.) ), 7 parts by weight of triallyl isocyanurate, 0.5 part by weight of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM-503”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), dicumyl peroxide ( 1.0 part by weight of trade name “Park Mill D” (manufactured by NOF Corporation) and 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol 4 parts were added and mixed.

この混合物を、製造例1で使用したのと同じ二軸混練機を有するTダイ式フィルム溶融押出し成形機、及び、キャストロール、ゴム製ニップロール及びシート引き取り装置を備えた押出しシート成形機を使用し、溶融樹脂温度90℃、Tダイ温度90℃、エンボスロール温度40℃の成形条件にて、押出しシートの片面はニップロールでエンボスロールに押し当て、エンボス形状を付与しながら、EVAからなる中間膜[G−3](厚さ760μm、幅230mm)を成形した。得られた中間膜[G−3]はロールに巻き取り回収した。中間膜[G−3]は、ポリエチレン製袋に入れて密封し、冷蔵庫内(温度5℃)で保管した。   Using this mixture, a T-die type film melt extrusion molding machine having the same biaxial kneader as used in Production Example 1 and an extrusion sheet molding machine equipped with a cast roll, a rubber nip roll and a sheet take-up device were used. Under the molding conditions of molten resin temperature 90 ° C., T die temperature 90 ° C., embossing roll temperature 40 ° C., one side of the extruded sheet is pressed against the embossing roll with a nip roll to give an embossed shape, and an intermediate film made of EVA [ G-3] (thickness: 760 μm, width: 230 mm). The obtained intermediate film [G-3] was wound up and collected on a roll. The interlayer [G-3] was sealed in a polyethylene bag and stored in a refrigerator (temperature 5 ° C.).

[実施例1]
青板ガラス(縦80mm、横80mm、厚さ2mm) 上に、透明導電膜としてAlドープ酸化亜鉛(AZO)膜(膜厚650nm、シート抵抗10Ω/□cm、波長550nmでの光線透過率85.0%、ジオマテック社製)を形成した。AZO膜上に2cmの間隔を隔てた2本のタブ線(幅1.6mm、厚さ0.20mm)を、片方の端はガラス端部から2cmの距離を空け、もう一方の端はガラス板の外側まで延長して配置し、AZO膜上の6cmの長さに亘って銀ペーストで固定した。
タブ線を固定したAZO膜面に、全面を覆うように製造例1で得られた樹脂中間膜[G−1]を置き、その上にもう1枚の青板ガラス(縦80mm、横80mm、厚さ2mm)を重ねた。この積層物を、ナイロン/接着層/ポリプロピレンの層構成を有する厚さ75μmの樹脂製の袋に入れ、密封パック器(BH−951、パナソニック社製)を使用して、袋内を脱気しながら開口部をヒートシールして積層物を密封包装した。
その後、密封包装した積層物をオートクレーブに入れて、温度140℃、圧力0.8MPaで30分間処理して、ガラス板/透明導電膜/樹脂中間膜/ガラス板の層構成をした複層ガラス試験片[H−1]を作製した。複層ガラス試験片[H−1]の外観では、気泡、充填不良、剥がれ等の不良は観察されなかった。
[Example 1]
On a blue plate glass (length 80 mm, width 80 mm, thickness 2 mm), an Al-doped zinc oxide (AZO) film (film thickness 650 nm, sheet resistance 10 Ω / □ cm, light transmittance 85.0 at a wavelength of 550 nm) as a transparent conductive film %, Manufactured by Geomatec). Two tab lines (width 1.6 mm, thickness 0.20 mm) spaced 2 cm apart on the AZO film, one end is 2 cm away from the glass edge and the other end is a glass plate And extended to the outside of the AZO film, and fixed with silver paste over a length of 6 cm on the AZO film.
The resin intermediate film [G-1] obtained in Production Example 1 is placed on the AZO film surface on which the tab wire is fixed so as to cover the entire surface, and another blue plate glass (80 mm long, 80 mm wide, 80 mm thick) 2 mm). This laminate is put into a 75 μm-thick resin bag having a layer structure of nylon / adhesive layer / polypropylene, and the inside of the bag is deaerated using a sealed pack device (BH-951, manufactured by Panasonic Corporation). The opening was heat sealed while the laminate was hermetically packaged.
After that, the laminated package sealed was put in an autoclave and treated at a temperature of 140 ° C. and a pressure of 0.8 MPa for 30 minutes to form a glass sheet / transparent conductive film / resin intermediate film / glass plate layered glass test. Piece [H-1] was produced. In the appearance of the multilayer glass test piece [H-1], defects such as bubbles, poor filling, and peeling were not observed.

複層ガラス試験片[H−1]の透明導電膜の耐久性を評価した結果、タブ線間の電気抵抗初期値はR=5.1Ω、85℃、85%RHの環境に1500時間暴露した後の電気抵抗値はR1500=22.4Ωで、R1500/R=4.4であり、評価は○であった。 As a result of evaluating the durability of the transparent conductive film of the multilayer glass test piece [H-1], the initial electrical resistance between the tab wires was exposed to an environment of R 0 = 5.1Ω, 85 ° C., 85% RH for 1500 hours. After that, the electric resistance value was R 1500 = 22.4Ω, R 1500 / R 0 = 4.4, and the evaluation was good.

[実施例2]
樹脂中間膜[G−1]に代えて樹脂中間膜「G−2」を使用する以外は、実施例1と同様にして複層ガラス試験片[H−2]を作製した。
複層ガラス試験片[H−2]の透明導電膜の耐久性を評価した結果、初期値はR=5.0Ω、85℃、85%RHの環境に1500時間暴露した後の電気抵抗値はR1500=19.7Ωで、R1500/R=3.9であり、評価は○であった。
[Example 2]
A multilayer glass test piece [H-2] was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin interlayer “G-2” was used instead of the resin interlayer [G-1].
As a result of evaluating the durability of the transparent conductive film of the multilayer glass test piece [H-2], the initial value was an electric resistance value after exposure to an environment of R 0 = 5.0Ω, 85 ° C., 85% RH for 1500 hours. R 1500 = 19.7Ω, R 1500 / R 0 = 3.9, and the evaluation was good.

[比較例1]
樹脂中間膜[G−1]に代えて樹脂中間膜「G−3」を使用する以外は、実施例1と同様にして複層ガラス試験片[H−3]を作製した。
複層ガラス試験片[H−3]の透明導電膜の耐久性を評価した結果、初期値はR=5.4Ω、85℃、85%RHの環境に1500時間暴露した後の電気抵抗値はR1500=2725.5Ωで、R1500/R=504であり、評価は×であった。
[Comparative Example 1]
A multilayer glass test piece [H-3] was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin intermediate film “G-3” was used instead of the resin intermediate film [G-1].
As a result of evaluating the durability of the transparent conductive film of the multilayer glass test piece [H-3], the initial value was an electrical resistance value after exposure to an environment of R 0 = 5.4Ω, 85 ° C., 85% RH for 1500 hours. Was R 1500 = 2725.5Ω, R 1500 / R 0 = 504, and the evaluation was x.

[比較例2]
樹脂中間膜[G−1]に代えてポリビニルブチラール樹脂(以下、「PVB樹脂」ということがある。)を使用した中間膜(品名Saflex(登録商標)RF41、厚さ760μm、ソルーシア社製)を使用する以外は、実施例1と同様にして複層ガラス試験片[H−4]を作製した。
複層ガラス試験片[H−4]の透明導電膜の耐久性を評価した結果、初期値はR=6.1Ω、85℃、85%RHの環境に1500時間暴露した後の電気抵抗値はR1500=2888.5Ωで、R1500/R=473であり、評価は×であった。
[Comparative Example 2]
An intermediate film (product name: Saflex (registered trademark) RF41, thickness: 760 μm, manufactured by Solusia) using a polyvinyl butyral resin (hereinafter sometimes referred to as “PVB resin”) instead of the resin intermediate film [G-1]. A multilayer glass test piece [H-4] was produced in the same manner as in Example 1 except that it was used.
As a result of evaluating the durability of the transparent conductive film of the multilayer glass test piece [H-4], the initial value was an electrical resistance value after exposure to an environment of R 0 = 6.1Ω, 85 ° C., 85% RH for 1500 hours. Was R 1500 = 2888.5Ω, R 1500 / R 0 = 473, and the evaluation was x.

[実施例3]
青板ガラス上に形成する透明導電膜を酸化亜鉛膜(膜厚200nm、シート抵抗7.6kΩ/□cm、波長550nmでの光線透過率82.5%、東邦化研社製)に代える以外は、実施例1と同様にして、複層ガラス試験片[H−5]を作製した。複層ガラス試験片[H−5]の外観では、気泡、充填不良、剥がれ等の不良は観察されなかった。
[Example 3]
Except for replacing the transparent conductive film formed on the soda glass with a zinc oxide film (film thickness 200 nm, sheet resistance 7.6 kΩ / □ cm, light transmittance 82.5% at a wavelength of 550 nm, manufactured by Toho Kaken Co., Ltd.) In the same manner as in Example 1, a multilayer glass test piece [H-5] was produced. In the appearance of the multilayer glass test piece [H-5], defects such as bubbles, poor filling, and peeling were not observed.

複層ガラス試験片[H−1]の透明導電膜の耐久性を評価した結果、タブ線間の電気抵抗初期値はR=1.7Ω、85℃、85%RHの環境に1500時間暴露した後の電気抵抗値はR1500=4.1Ωで、R1500/R=2.4であり、評価は○であった。 As a result of evaluating the durability of the transparent conductive film of the multilayer glass test piece [H-1], the initial electrical resistance value between the tab wires was exposed to an environment of R 0 = 1.7Ω, 85 ° C., 85% RH for 1500 hours. After that, the electric resistance value was R 1500 = 4.1Ω, R 1500 / R 0 = 2.4, and the evaluation was good.

本実施例及び比較例の結果から以下のことがわかる。
アルコキシシリル基を導入した変性ブロック共重合体水素化物[E]からなる中間膜を使用して、透明導電膜を形成したガラス板を対向するガラス板と貼り合わせて作製した複層ガラスでは、高温高湿環境に長時間暴露した後も、透明導電膜の抵抗値の上昇は小さく、透明導電膜の耐久性が優れることが示されている(実施例1〜3)。
EVA樹脂やPVB樹脂をからなる中間膜熱を使用した場合、高温高湿環境に長時間暴露した後では、抵抗値の増加が大きく、透明導電膜の耐久性が劣ることが示されている(比較例1、2)。
The following can be seen from the results of this example and the comparative example.
In a multi-layer glass produced by laminating a glass plate on which a transparent conductive film is formed with an opposing glass plate using an intermediate film composed of a modified block copolymer hydride [E] introduced with an alkoxysilyl group, Even after exposure to a high humidity environment for a long time, the increase in the resistance value of the transparent conductive film is small, indicating that the durability of the transparent conductive film is excellent (Examples 1 to 3).
It has been shown that when an intermediate film heat composed of EVA resin or PVB resin is used, the resistance value increases greatly after being exposed to a high temperature and high humidity environment for a long time, and the durability of the transparent conductive film is inferior ( Comparative Examples 1 and 2).

本発明の複層ガラスは、高温高湿環境下でも導電性の経時低下を抑制した透明導電膜付き複層ガラスであり、防曇ガラス、建築物の窓ガラス、屋根用ガラス、部屋用遮熱壁材、自動車のサイドガラスやサンルーフ用ガラス、電気自動車のフロントガラス、鉄道車両や船舶用の窓ガラス、ディスプレイ基板等として有用である。   The multi-layer glass of the present invention is a multi-layer glass with a transparent conductive film that suppresses the deterioration of conductivity over time even in a high-temperature and high-humidity environment, and is anti-fogging glass, building window glass, roof glass, and room heat shielding. It is useful as a wall material, automobile side glass, sunroof glass, electric automobile windshield, railcar or ship window glass, display substrate, and the like.

Claims (2)

2枚以上のガラス板と、これらのガラス板相互の接合面に介在する樹脂中間膜とからなり、これらのガラス板の少なくとも1枚の前記接合面には透明導電膜が形成された複層ガラスにおいて、前記樹脂中間膜が
芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも2つの重合体ブロック[A]と、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とする、少なくとも1つの重合体ブロック[B]とからなり、全重合体ブロック[A]のブロック共重合体全体に占める重量分率をwAとし、全重合体ブロック[B]のブロック共重合体全体に占める重量分率をwBとしたときに、wAとwBとの比(wA:wB)が30:70〜60:40であるブロック共重合体[C]の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合及び芳香環の炭素−炭素不飽和結合の90%以上が水素化されたブロック共重合体水素化物[D]に、アルコキシシリル基が導入されてなる変性ブロック共重合体水素化物[E]を含有する中間膜であることを特徴とする複層ガラス。
A multi-layer glass comprising two or more glass plates and a resin intermediate film interposed between the bonding surfaces of these glass plates, and a transparent conductive film formed on at least one of the bonding surfaces of these glass plates In which the resin intermediate film has at least two polymer blocks [A] having a structural unit derived from an aromatic vinyl compound as a main component and at least one structural unit derived from a chain conjugated diene compound as a main component. The weight fraction of the entire polymer block [A] in the entire block copolymer is wA, and the weight fraction of the total polymer block [B] in the entire block copolymer is comprised of the polymer block [B]. Is the main chain and side chain carbon-carbon unsaturated bonds of the block copolymer [C] in which the ratio of wA to wB (wA: wB) is 30: 70-60: 40, Aromatic carbon-charcoal It is an intermediate film containing a modified block copolymer hydride [E] in which an alkoxysilyl group is introduced into a block copolymer hydride [D] in which 90% or more of unsaturated bonds are hydrogenated. Characteristic multilayer glass.
少なくとも、第1のガラス板、第1のガラス板上に形成された透明導電膜、樹脂中間膜、第2のガラス板の順に積層されてなる複層ガラスであって、
a.第1のガラス板上に積層された透明導電膜の端が、第1のガラス板の端に対して全周囲に亘って2mm以上離れて配置され、
b.樹脂中間膜が、透明導電膜の面積より大きい面積を有し、
c.透明導電膜が樹脂中間膜により覆われ、樹脂中間膜の端が、透明導電膜の端に対して全周囲に亘って2mm以上離れて配置された状態である
ことを特徴とする複層ガラス。
At least a first glass plate, a transparent conductive film formed on the first glass plate, a resin intermediate film, a multi-layer glass laminated in the order of the second glass plate,
a. The end of the transparent conductive film laminated on the first glass plate is disposed 2 mm or more apart over the entire circumference with respect to the end of the first glass plate,
b. The resin intermediate film has an area larger than the area of the transparent conductive film,
c. A multi-layer glass, wherein the transparent conductive film is covered with a resin intermediate film, and the end of the resin intermediate film is located 2 mm or more away from the end of the transparent conductive film over the entire periphery.
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