JP2016172349A - Thermal processing machine - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal processing machine capable of coping with printing surface processing of various processing sizes, by using only a single attachment.SOLUTION: A porous printing body can be fitted in an optional position on an installation surface (51a) to an attachment (50) for installing the porous printing body (101) being a processing object, and a plurality of detection switches (SW11-SW98) capable of detecting the porous printing body are arranged in a lattice shape. In a reverse surface of the porous printing body, shallow hole fitting parts (106a and 106b) fitted to the detection switches are formed in a corner part of at least two places respectively positioned at a diagonal angle. In a state of installing the porous printing body in the attachment, the detection switches are turned on by fitting the shallow hole fitting parts to the detection switches, and an installation position and a processing size of the porous printing body in the attachment are specified based on the respective positions of the turned-on detection switches.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、印判等の加工対象物に印面を形成するサーマル加工機に関する。   The present invention relates to a thermal processing machine that forms a marking surface on a workpiece such as a stamp.

サーマル加工機は、多孔質材などの加工対象物にサーマルヘッドを当接させ、それらを相対移動させながらサーマルヘッドの発熱素子を選択的に発熱駆動することで、加工対象物に所望の印面を形成する熱加工処理を行う装置である(例えば、特許文献1参照)。サーマル加工機により印面加工した多孔質材を、ホルダに取り付けられたインク含浸体に装着することで、印判が組み立てられる。近年では、顧客の注文に応じた様々な印面パターンやサイズの印判を加工できる汎用性や、誰もが店頭で加工ができる利便性などがサーマル加工機に求められている。そのため、例えば印判の種類(角型、丸型など)やそれらの加工サイズに適合した複数型式のアタッチメントを予め準備し、多孔質材を設置した専用のアタッチメントをサーマル加工機に装填して印面加工が行われている。   A thermal processing machine abuts a thermal head on a processing object such as a porous material, and selectively heat-generates a heat generating element of the thermal head while moving the relative head, thereby providing a desired marking surface on the processing object. It is an apparatus which performs the heat processing to form (for example, refer patent document 1). The stamp is assembled by mounting the porous material processed with the thermal processing machine on the ink impregnated body attached to the holder. In recent years, there is a demand for thermal processing machines that are versatile enough to process stamps with various stamp patterns and sizes according to customer orders and convenient for anyone to process at the store. For this reason, for example, multiple types of attachments suitable for the type of stamp (square, round, etc.) and their processing sizes are prepared in advance, and a dedicated attachment with a porous material is loaded into the thermal processing machine and stamped Has been done.

特開2014−43092号公報JP 2014-43092 A

上述した従来のサーマル加工機では、様々な種類及び加工サイズ(これらを加工対象物の「タイプ」という。)の加工対象物に印面加工ができる一方で、各タイプに専用のアタッチメントを準備する必要があった。また、ユーザ(印判の発注者や販売店員などを含む)は、複数のアタッチメントのなかから、印面を加工しようとする加工対象物に適合したアタッチメントをその都度選択する必要があり、作業が煩雑であるとともに、誤ったアタッチメントを加工装置に装填してしまう虞もあった。   In the above-described conventional thermal processing machine, it is necessary to prepare a dedicated attachment for each type while it is possible to perform stamping on a processing target of various types and processing sizes (these are called “types” of the processing target). was there. In addition, users (including stamp orderers and salesclerks) need to select an attachment that suits the workpiece to be processed from among a plurality of attachments, which is cumbersome. In addition, there is a possibility that an incorrect attachment is loaded into the processing apparatus.

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、単一のアタッチメントのみを使用して、様々な加工サイズの印面加工に対応可能なサーマル加工機を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a thermal processing machine that can cope with stamping processing of various processing sizes using only a single attachment.

上述した課題を解決するため、本発明は、ライン状に配置された複数の発熱素子を有するサーマルヘッドと、印面が形成される加工対象物が設置されるアタッチメントと、前記アタッチメントを内部に搬入し、前記アタッチメントに設置された前記加工対象物と前記サーマルヘッドとを当接させた状態でこれらを相対移動させる搬送手段と、前記搬送手段による前記相対移動を制御しながら前記サーマルヘッドの各発熱素子を選択的に発熱駆動して、前記加工対象物に印面を形成する加工処理を行う制御手段と、を備え、前記アタッチメントの前記加工対象物が設置される側の面には、該面上の任意の位置で前記加工対象物を嵌合可能とし、且つ該加工対象物を検出可能とする複数の検出スイッチが、格子状に直交する各交点位置にそれぞれ配置されている、ことを特徴とするサーマル加工機である。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a thermal head having a plurality of heating elements arranged in a line, an attachment on which a workpiece to be formed with a marking surface is installed, and the attachment is carried into the interior. A transfer means for moving the workpiece and the thermal head in contact with each other in a state where they are in contact with each other, and each heating element of the thermal head while controlling the relative movement by the transfer means And a control means for performing a processing process for selectively generating heat to form a marking surface on the processing object, and a surface of the attachment on the side where the processing object is installed is on the surface. A plurality of detection switches that enable the workpiece to be fitted at an arbitrary position and that can detect the workpiece are provided at each intersection position orthogonal to the grid. Is location, it is a thermal processing machine, wherein.

このようなサーマル加工機によれば、様々なタイプの加工対象物を単一のアタッチメントに設置することができ、汎用性が向上する。また、加工対象物をアタッチメントの任意の位置に設置でき、利便性も向上する。   According to such a thermal processing machine, various types of processing objects can be installed on a single attachment, and versatility is improved. In addition, the object to be processed can be placed at any position on the attachment, and convenience is improved.

また、前記加工対象物の前記アタッチメントに設置される側の対角に位置する少なくとも2箇所の隅部には、前記検出スイッチにそれぞれ嵌合する浅孔嵌合部が形成され、前記加工対象物が前記アタッチメントに設置された状態で前記浅孔嵌合部が前記検出スイッチに嵌合することにより該検出スイッチがオンし、オンした前記検出スイッチの位置に基づいて、少なくとも前記アタッチメントにおける前記加工対象物の設置位置を特定することができる。また、前記オンした検出スイッチの位置に基づいて、前記加工対象物の加工サイズを更に特定することもできる。   Moreover, shallow hole fitting portions that are respectively fitted to the detection switches are formed at at least two corners located on the diagonal side of the workpiece to be installed on the attachment, and the workpiece The detection switch is turned on when the shallow hole fitting portion is fitted to the detection switch in a state where the detection switch is installed in the attachment, and at least the processing target in the attachment is based on the position of the detection switch that is turned on. The installation position of an object can be specified. Further, the processing size of the processing object can be further specified based on the position of the detection switch that is turned on.

また、サーマル加工機は、前記加工対象物の前記アタッチメントに設置される側の、前記浅孔嵌合部が形成される少なくとも2箇所の隅部と異なる隅部には、前記浅孔嵌合部よりも深い孔を有して前記検出スイッチに嵌合する深孔嵌合部が形成され、前記加工対象物が前記アタッチメントに設置された状態では、前記深孔嵌合部が嵌合する前記検出スイッチのオフ状態が維持されることが好ましい。   Further, the thermal processing machine has the shallow hole fitting portion at a corner different from at least two corners where the shallow hole fitting portion is formed on the side of the workpiece to be installed on the attachment. The detection that the deep hole fitting portion is fitted in a state where a deep hole fitting portion that has a deeper hole and is fitted to the detection switch is formed and the workpiece is installed in the attachment. Preferably, the switch off state is maintained.

本発明に係るサーマル加工機によれば、単一のアタッチメントのみを使用して、様々な加工サイズの加工対象物に印面を加工することができる。また、現在アタッチメントに設置されている加工対象物の設置状態や加工サイズなどを特定することができる。したがって、高い汎用性及び利便性を兼ね備えたサーマル加工機を提供することができる。   According to the thermal processing machine according to the present invention, it is possible to process a stamp surface on a processing object having various processing sizes using only a single attachment. In addition, it is possible to specify the installation state, the processing size, and the like of the processing object currently installed in the attachment. Therefore, a thermal processing machine having high versatility and convenience can be provided.

一実施形態によるサーマル加工機の外観図である。It is an external view of the thermal processing machine by one Embodiment. 図1のサーマル加工機の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the thermal processing machine of FIG. 図1のサーマル加工機に備えられるサーマルヘッドのヘッド面及びその側面を示す二面図である。FIG. 2 is a two-side view illustrating a head surface and a side surface of a thermal head provided in the thermal processing machine of FIG. 1. 加工対象物の例である、角型の多孔質印体の平面図、背面図及び断面図である。It is a top view, a rear view, and a cross-sectional view of a rectangular porous stamp that is an example of a workpiece. 一実施形態によるアタッチメントの平面図及び断面図である。It is the top view and sectional view of an attachment by one embodiment. 図5のアタッチメントに多孔質印体が設置された状態を示す平面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing which show the state by which the porous stamp was installed in the attachment of FIG. 図5のアタッチメントに様々な多孔質印体が設置された例を示す平面図である。It is a top view which shows the example by which various porous stamps were installed in the attachment of FIG. 図5のアタッチメントに様々な多孔質印体が設置された例を更に示す平面図である。FIG. 6 is a plan view further illustrating an example in which various porous stamps are installed on the attachment of FIG. 5. 図5の検出スイッチのデータを読み取るための回路例を示すブロック図である。FIG. 6 is a block diagram illustrating a circuit example for reading data of the detection switch of FIG. 5. 版下データ、階調画像データ、駆動量データ及び多孔質材断面を例示する図である。It is a figure which illustrates a block data, gradation image data, drive amount data, and a porous material cross section. サーマル加工機における印面加工処理を例示するフローチャートである。It is a flowchart which illustrates the stamping process in a thermal processing machine. サーマル加工機による印面加工動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the stamping process operation | movement by a thermal processing machine. 多孔質印判の組み立てを説明するための平面図、側面図及び断面図である。It is a top view, a side view, and a sectional view for explaining assembly of a porous stamp.

図1は、本発明の一実施形態によるサーマル加工機10を示す外観図である。また、図2は、サーマル加工機10の概略構成を示すブロック図である。サーマル加工機10は、様々なタイプの印判の多孔質印体101を加工対象物とし、アタッチメント50に設置された多孔質印体101の表面に印面を形成する装置である。より具体的には後述するが、サーマル加工機10は、サーマルヘッド12と多孔質印体101とを当接させた状態で、これらを相対移動させながらサーマルヘッド12の各発熱素子12aを選択的に発熱駆動して多孔質材を溶融固化することで、多孔質印体101の表面に1ラインずつ印面を熱加工する。ここで「当接」とは、サーマルヘッド12の高さ位置と加工対象物(多孔質印体101)の表面の高さ位置とが一致していることを意味する。サーマルヘッド12からの輻射熱で多孔質材が加熱溶融するのであれば、ミクロの間隙を有してサーマルヘッド12と多孔質材とが対向する状態も「当接」に含まれる。また、樹脂フィルム等を介在させてサーマルヘッド12からの熱が多孔質材に伝導する状態も、概念上「当接」に含まれる。また「相対移動」とは、サーマルヘッド12の位置を固定して多孔質印体101を移動させてもよいし、多孔質印体101の位置を固定してサーマルヘッド12を移動させてもよい。本明細書では、サーマルヘッド12の位置を固定して多孔質印体101を移動させる前者の態様のサーマル加工機10について説明する。   FIG. 1 is an external view showing a thermal processing machine 10 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of the thermal processing machine 10. The thermal processing machine 10 is a device that uses a porous stamp 101 of various types of stamps as an object to be processed, and forms a marking surface on the surface of the porous stamp 101 installed in the attachment 50. More specifically, as will be described later, the thermal processing machine 10 selectively selects each heating element 12a of the thermal head 12 while relatively moving the thermal head 12 and the porous stamp body 101 in contact with each other. The stamping surface is thermally processed line by line on the surface of the porous stamping body 101 by heating and solidifying the porous material. Here, “contact” means that the height position of the thermal head 12 and the height position of the surface of the object to be processed (porous seal body 101) coincide. If the porous material is heated and melted by radiant heat from the thermal head 12, a state where the thermal head 12 and the porous material are opposed to each other with a micro gap is also included in the “contact”. In addition, a state where heat from the thermal head 12 is conducted to the porous material through a resin film or the like is also conceptually included in the “contact”. “Relative movement” may be the movement of the porous printing body 101 while fixing the position of the thermal head 12, or the movement of the thermal head 12 while fixing the position of the porous printing body 101. . In the present specification, the thermal processing machine 10 of the former mode in which the position of the thermal head 12 is fixed and the porous stamp body 101 is moved will be described.

多孔質印判の印面部材である多孔質印体101は、例えば図5などに示されるアタッチメント50に設置される。詳細は後述するが、アタッチメント50の多孔質印体101が設置される側の面には、その任意の位置で多孔質印体101を嵌合可能とし、且つ、多孔質印体101の設置状態を検出可能とする複数の検出スイッチSW11〜SW98が、格子状に直交する各交点位置にそれぞれ配置されている。   A porous stamp body 101 which is a stamp face member of a porous stamp is installed on an attachment 50 shown in FIG. Although details will be described later, it is possible to fit the porous stamp body 101 at an arbitrary position on the surface of the attachment 50 where the porous stamp body 101 is installed, and the installation state of the porous stamp body 101 A plurality of detection switches SW11 to SW98 that can detect the above are arranged at each intersection position orthogonal to the grid.

図1に示すように、サーマル加工機10の前面部には、ユーザがサーマル加工機10を操作するためのタッチパネル21やテンキー22などが設けられている。タッチパネル21には、例えばサーマル加工機10への操作入力画面や、装置の動作状態(準備完了、アタッチメント装填、データ読取、印字加工、アタッチメント排出、エラーその他)又は現在設置されている多孔質印体101のタイプ(種類及び加工サイズ)などの情報を示す文字などが表示される。また、図示はしていないが、サーマル加工機10の背面部には、インターネットなどのネットワークに接続するための通信用コネクタや電源用コネクタなどが設けられている。
なお、サーマル加工機10は、図示しない外部のパーソナルコンピュータ(PC)や専用の端末装置などに、操作入力や表示などのヒューマンインタフェース機能や、内部の制御装置11の一部の処理機能を持たせて動作するものでもよい。
As shown in FIG. 1, a touch panel 21 and a numeric keypad 22 for a user to operate the thermal processing machine 10 are provided on the front surface of the thermal processing machine 10. On the touch panel 21, for example, an operation input screen for the thermal processing machine 10, an operation state of the apparatus (preparation complete, attachment loading, data reading, printing processing, attachment discharge, error, etc.) or a currently installed porous stamp Characters indicating information such as 101 type (type and processing size) are displayed. Although not shown, a communication connector for connecting to a network such as the Internet, a power supply connector, and the like are provided on the back surface of the thermal processing machine 10.
In the thermal processing machine 10, an external personal computer (PC) or a dedicated terminal device (not shown) has a human interface function such as operation input and display and a part of the processing function of the internal control device 11. It may be something that works.

図2に示すように、制御装置11には、上述のタッチパネル21やテンキー22の他に、サーマルヘッド12を熱駆動する熱駆動手段13、サーマルヘッド12を昇降させる昇降機構14、トレイ15及びアタッチメント50を搬入・搬出させる搬送機構16並びにアタッチメント50に設けられる検出スイッチSW1m、SW2m、SW3m、・・・からデータを読み取る読取回路18などが接続されている。なお、図2には、第m列目(mは任意の整数)の検出スイッチが図示されている。ただし、本実施形態のアタッチメント50には、例えば図5に示される9行×8列の合計72個の検出スイッチSW11〜SW98が設けられており、後述するようにこの読取回路18によって全ての検出スイッチSW11〜SW98の状態(オン・オフデータ)が読み取られ、そのデータが制御装置11に出力されるように構成されている。   As shown in FIG. 2, in addition to the touch panel 21 and the numeric keypad 22 described above, the control device 11 includes a thermal drive unit 13 that thermally drives the thermal head 12, an elevating mechanism 14 that raises and lowers the thermal head 12, a tray 15, and an attachment. A reading mechanism 18 for reading data from a detection mechanism SW1m, SW2m, SW3m,... Provided on the attachment 50 and a transport mechanism 16 for carrying in and out 50 are connected. FIG. 2 shows detection switches in the m-th column (m is an arbitrary integer). However, the attachment 50 of this embodiment is provided with a total of 72 detection switches SW11 to SW98 of 9 rows × 8 columns shown in FIG. 5, for example, and all the detections are performed by the reading circuit 18 as will be described later. The state (ON / OFF data) of the switches SW11 to SW98 is read, and the data is output to the control device 11.

また、サーマル加工機10は、アタッチメント50を載置して搬送する手段であるトレイ15を備え、サーマル加工機10内部に設けた搬送機構16が、多孔質印体101及びアタッチメント50を着脱可能な排出位置と、内部の収容位置との間で往復搬送するように構成されている。また、搬送機構16は、多孔質印体101とサーマルヘッド12とを当接させた状態でこれらを相対移動させる手段でもある。   Further, the thermal processing machine 10 includes a tray 15 which is a means for placing and transporting the attachment 50, and the transport mechanism 16 provided inside the thermal processing machine 10 can attach and detach the porous stamp body 101 and the attachment 50. It is configured to reciprocate between the discharge position and the internal storage position. The transport mechanism 16 is also means for relatively moving the porous stamp body 101 and the thermal head 12 in a state where they are in contact with each other.

ここで、図3は、サーマルヘッド12のヘッド面及びその側面を示す二面図である。同図に示されるように、サーマルヘッド12のヘッド面(多孔質印体101に当接して印面加工する面)には、ライン状に等間隔に複数の発熱素子12a、12a、・・・が配列されている。発熱素子12a、12aの配列間隔、言い換えると1つの発熱素子12aのサイズは、印面加工の理論上の最小加工画素サイズに相当する。サーマルヘッド12における発熱素子12aのドット密度を、例えば300dpi(dot/inch)程度とすることができる。サーマルヘッド12は、制御装置11の制御の下で、1ラインの加工周期時間内に熱駆動手段13が各発熱素子12a、12a、・・・に対し選択的に電流を流すことで、多孔質印体101に1ラインの印面を形成する。また、サーマルヘッド12は、制御装置11の制御の下で、昇降機構14により加工対象物に接近及び離間する位置に移動制御される。   Here, FIG. 3 is a two-side view showing the head surface and side surfaces of the thermal head 12. As shown in the figure, a plurality of heating elements 12a, 12a,... Are formed on the head surface of the thermal head 12 (the surface that is in contact with the porous stamping body 101 to be stamped) at regular intervals in a line. It is arranged. The arrangement interval of the heating elements 12a and 12a, in other words, the size of one heating element 12a corresponds to the theoretical minimum processing pixel size of the stamping process. The dot density of the heat generating elements 12a in the thermal head 12 can be set to, for example, about 300 dpi (dot / inch). Under the control of the control device 11, the thermal head 12 is made porous by allowing the heat driving means 13 to selectively flow current to each of the heating elements 12a, 12a,. A 1-line marking surface is formed on the marking body 101. In addition, the thermal head 12 is controlled to move to a position where the thermal head 12 approaches and separates from the workpiece by the elevating mechanism 14 under the control of the control device 11.

次に、図4(a)は、加工対象物の一例として角型の多孔質印体101の平面図であり、図4(b)はその多孔質印体101の背面図である。また、図4(c)は、図4(a)及び(b)のIVc−IVc線で切断した場合の多孔質印体101の断面図である。これらの図に示されるように、角型の多孔質印体101は、四角形の囲状の枠体103を備え、この枠体103の上面側の凹部103aにインク含浸体110が装着される。そして、インク含浸体110が装着された凹部103aを塞ぐように、多孔性膜102が、枠体103の上面に張られている。   Next, FIG. 4A is a plan view of a rectangular porous stamp 101 as an example of the object to be processed, and FIG. 4B is a rear view of the porous stamp 101. FIG. 4C is a cross-sectional view of the porous stamp 101 taken along the line IVc-IVc in FIGS. 4A and 4B. As shown in these drawings, the rectangular porous marking body 101 includes a quadrangular enclosure frame 103, and the ink impregnated body 110 is attached to the recess 103a on the upper surface side of the frame 103. The porous film 102 is stretched on the upper surface of the frame 103 so as to close the recess 103 a in which the ink impregnated body 110 is mounted.

ここで印体に関して「上面」又は「表面」とは印面が形成される側の面を指し、「下面」又は「裏面(背面)」とは印面が形成される面の反対側の面、つまりアタッチメントに設置される側の面を指す。かかる形状の枠体103は、熱変形が小さい例えば熱可塑性樹脂によりモールド成形される。なお、加工対象の多孔質印体101は、多孔性膜とインクを含浸できる多孔質材とが、枠体103の中に予め2層に充填されるものでもよい。   Here, the “upper surface” or “front surface” refers to the surface on the side where the marking surface is formed, and the “lower surface” or “back surface (back surface)” refers to the surface opposite to the surface on which the marking surface is formed. Refers to the surface on the side of the attachment. The frame 103 having such a shape is molded by, for example, a thermoplastic resin that has a small thermal deformation. Note that the porous stamp body 101 to be processed may be one in which a porous film and a porous material that can be impregnated with ink are preliminarily filled in two layers in the frame 103.

多孔性膜102の材料は、サーマルヘッド12により表面が加熱溶融し固化できる多孔質材であれば特に限定されない。この多孔質材の原材料として、例えばスチレン系、塩化ビニル系、オレフィン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ウレタン系の熱可塑性エストラマーを用いることができる。多孔性を得るためには、加熱加圧ニーダー、加熱ロール等により、デンプン、食塩、硝酸ナトリウム、炭酸カルシウム等の充填材と原材料樹脂とを混練し、シート状にして冷却後、水又は希酸水にて前記充填材を溶出する。この方法により作製される多孔質材の溶融温度は原材料樹脂と同じである。また、顔料、染料、無機質等の副成分を樹脂に添加することで、多孔質材の溶融温度の調整が可能である。本実施形態による多孔質材の溶融温度は70℃〜120℃である。   The material of the porous film 102 is not particularly limited as long as the surface can be heated and melted and solidified by the thermal head 12. As a raw material for the porous material, for example, styrene, vinyl chloride, olefin, polyester, polyamide, and urethane thermoplastic elastomers can be used. In order to obtain porosity, a filler such as starch, sodium chloride, sodium nitrate, calcium carbonate and raw material resin are kneaded with a heating and pressure kneader, a heating roll, etc., cooled to a sheet, and then water or dilute acid The filler is eluted with water. The melting temperature of the porous material produced by this method is the same as that of the raw material resin. Moreover, the melting temperature of the porous material can be adjusted by adding subcomponents such as pigments, dyes, and inorganic substances to the resin. The melting temperature of the porous material according to the present embodiment is 70 ° C to 120 ° C.

多孔性膜102の気孔率及び気孔径は、混練される溶解物質の粒径やそれらの含有量により調整することができる。本実施形態による多孔性膜102の気孔率は50%〜80%であり、気孔径は1μm〜20μmである。多孔性膜102を2層構造にし、下層(後面側)の気孔率を50μm〜100μmとしてもよい。印面加工の対象物である多孔質印体101は、多孔性膜102が枠体103の前面開口の周縁部(前端面)に熱融着されて作成される。   The porosity and pore diameter of the porous membrane 102 can be adjusted by the particle size of the dissolved substance to be kneaded and the content thereof. The porosity of the porous membrane 102 according to the present embodiment is 50% to 80%, and the pore diameter is 1 μm to 20 μm. The porous membrane 102 may have a two-layer structure, and the porosity of the lower layer (rear surface side) may be 50 μm to 100 μm. The porous stamped body 101, which is an object for the stamping process, is created by thermally bonding the porous film 102 to the peripheral edge (front end surface) of the front opening of the frame 103.

また、サーマルヘッド12を直接、多孔質印体101の表面に接して発熱素子12aを駆動させると、加熱溶融した多孔質材がサーマルヘッド12に溶着し、摩擦力の増大や製版不良を引き起こすという不都合がある。これらの問題を解決するために、多孔質印体101とサーマルヘッド12との間に樹脂フィルム(不図示)を介在させてもよい。このような樹脂フィルムは、多孔質印体101に用いられている多孔質材よりも融点が高い耐熱性や、印面にしわなどを生じさせない低摩擦性及び平滑性を有していることが要求される。この樹脂フィルムとして、例えば、セロハン、アセテート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ四フッ化エチレン、ポリイミドなどのポリフィルムを用いることができる。このような樹脂フィルムを介在させることにより、多孔質材に発生するしわの防止の他にサーマルヘッド12に残留する余熱の影響も少なくすることができる。   Further, when the thermal head 12 is directly brought into contact with the surface of the porous stamp 101 and the heating element 12a is driven, the heated and melted porous material is welded to the thermal head 12, causing an increase in frictional force and a plate making failure. There is an inconvenience. In order to solve these problems, a resin film (not shown) may be interposed between the porous stamp body 101 and the thermal head 12. Such a resin film is required to have heat resistance having a higher melting point than the porous material used for the porous stamp 101 and low friction and smoothness that does not cause wrinkles on the printing surface. Is done. As this resin film, for example, a polyfilm such as cellophane, acetate, polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, polyester, polyethylene terephthalate, polytetrafluoroethylene, or polyimide can be used. By interposing such a resin film, in addition to preventing wrinkles generated in the porous material, the influence of residual heat remaining in the thermal head 12 can be reduced.

特に図4(b)に示されるように、多孔質印体101の裏面側、つまりアタッチメント50に設置される面側には、四角形の対角線上にある2箇所の隅部に、浅孔嵌合部106a、106bが形成されている。また、同じく多孔質印体101の裏面側には、上記浅孔嵌合部106a、106bと異なる対角線上の2個所の隅部に、深孔嵌合部107a、107bが形成されている。浅孔嵌合部106a、106bは、アタッチメント50の検出スイッチSWnm(ここで、nは、第n行目の検出スイッチを示す例えば1〜9の整数であり、mは、第m列目の検出スイッチを示す例えば1〜8の整数である。)に嵌合した状態で、当該嵌合した検出スイッチSWnmをオンさせる程度の比較的浅い孔106ah、106bhを有している。一方、深孔嵌合部107a、107bは、検出スイッチSWnmに嵌合しても、当該嵌合した検出スイッチSWnmのオフ状態が維持される比較的深い孔107ah、107bhを有している。多孔質印体101の横幅方向における浅孔嵌合部106aの孔106ahと深孔嵌合部107bの孔107bhとの間隔、及び、縦幅方向における浅孔嵌合部106aの孔106ahと深孔嵌合部107aの孔107ahとの間隔は、それぞれ、次に説明する検出スイッチSW11〜S98(例えば図5参照)のピッチの整数倍となっている。   In particular, as shown in FIG. 4B, shallow holes are fitted into two corners on the diagonal of the quadrilateral on the back side of the porous stamp 101, that is, the side installed on the attachment 50. Portions 106a and 106b are formed. Similarly, deep hole fitting portions 107a and 107b are formed at two corners on the diagonal line different from the shallow hole fitting portions 106a and 106b on the back side of the porous stamp body 101. The shallow hole fitting portions 106a and 106b are detection switches SWnm of the attachment 50 (where n is an integer of 1 to 9, for example, indicating a detection switch of the nth row, and m is a detection of the mth column) It is a relatively shallow hole 106ah, 106bh enough to turn on the fitted detection switch SWnm in a state in which the switch is fitted, for example, an integer of 1 to 8 indicating a switch. On the other hand, the deep hole fitting portions 107a and 107b have relatively deep holes 107ah and 107bh that can maintain the OFF state of the fitted detection switch SWnm even when fitted to the detection switch SWnm. The distance between the hole 106ah of the shallow hole fitting portion 106a and the hole 107bh of the deep hole fitting portion 107b in the horizontal width direction of the porous stamp 101, and the hole 106ah and deep hole of the shallow hole fitting portion 106a in the vertical width direction. The distance between the fitting portion 107a and the hole 107ah is an integral multiple of the pitch of detection switches SW11 to S98 (see, for example, FIG. 5) described below.

図5を参照して、アタッチメント50及びアタッチメント50に設けられる検出スイッチSW11〜SW98を更に詳細に説明する。なお、ここで、本実施形態のアタッチメント50の「搬送方向」とは、図5における上下方向を指す。特に図5の上方向を、アタッチメント50がサーマル加工機10の内部に向かう「搬入方向」ということがあり、図5の下方向を、アタッチメント50がサーマル加工機10から外部に向かう「搬出方向」ということがある。   With reference to FIG. 5, the attachment 50 and the detection switches SW11 to SW98 provided in the attachment 50 will be described in more detail. Here, the “conveying direction” of the attachment 50 of the present embodiment refers to the vertical direction in FIG. In particular, the upper direction in FIG. 5 may be referred to as a “loading direction” in which the attachment 50 is directed toward the inside of the thermal processing machine 10, and the “downward direction” in which the attachment 50 is directed outward from the thermal processing machine 10 in FIG. There is.

図5(a)に示すように、アタッチメント50の本体には、上面50aに対して低く窪んだ位置に平坦な設置面を有する印体設置部51が形成されている。印体設置部51の設置面51aには、当該設置面51a上の任意の位置で多孔質印体101を嵌合可能とし、且つ、多孔質印体101を検出可能とする複数の検出スイッチSW11〜SW98が、格子状に直交する各交点位置にそれぞれ配置されている。図5(b)に示すように、例えば1つの検出スイッチSW91は、設置面51aから突出する円筒部61と、円筒部61内で上下する可動片62とを備える。可動片62は、スプリング63により常時上方に付勢されている。検出スイッチSW91は、通常時にはマイクロスイッチ64がオフであり、可動片62がスプリング63の付勢力に抗して下方に押されると、移動した可動片62の基端部がマイクロスイッチ64をオンするように構成されている。なお、他の検出スイッチも検出スイッチSW91と同一の構造である。   As shown in FIG. 5A, the main body of the attachment 50 is formed with a printing body installation part 51 having a flat installation surface at a position recessed with respect to the upper surface 50a. A plurality of detection switches SW11 that can fit the porous stamp body 101 at an arbitrary position on the installation surface 51a and can detect the porous stamp body 101 on the installation surface 51a of the stamp body installation unit 51. ... To SW98 are arranged at the respective intersection positions orthogonal to the grid pattern. As shown in FIG. 5B, for example, one detection switch SW91 includes a cylindrical portion 61 protruding from the installation surface 51a and a movable piece 62 that moves up and down in the cylindrical portion 61. The movable piece 62 is always urged upward by a spring 63. In the detection switch SW91, the micro switch 64 is normally off, and when the movable piece 62 is pushed downward against the urging force of the spring 63, the base end portion of the moved movable piece 62 turns on the micro switch 64. It is configured as follows. The other detection switches have the same structure as the detection switch SW91.

多孔質印体101の裏面の浅孔嵌合部106a、106bの各孔106ah、106bh、及び、深孔嵌合部107a、107bの各孔107ah、107bhは、検出スイッチSW11〜SW98の各円筒部61が挿入して嵌合可能な程度の直径を有している。すなわち、多孔質印体101は、浅孔嵌合部106a、106b及び深孔嵌合部107a、107bが、アタッチメント50の検出スイッチSW11〜SW98の何れかに嵌合し、これにより設置面51aの任意の位置に安定的に設置することができる。   The holes 106ah and 106bh of the shallow hole fitting portions 106a and 106b and the holes 107ah and 107bh of the deep hole fitting portions 107a and 107b on the back surface of the porous stamp 101 are the cylindrical portions of the detection switches SW11 to SW98. 61 has a diameter that can be inserted and fitted. That is, in the porous stamped body 101, the shallow hole fitting portions 106a and 106b and the deep hole fitting portions 107a and 107b are fitted into any of the detection switches SW11 to SW98 of the attachment 50. It can be stably installed at an arbitrary position.

図6(a)は、一例として、多孔質印体101がアタッチメント50の印体設置部51の搬出方向端部中央に設置された状態を示す平面図である。また、図6(b)は、図6(a)のVIb−VIb線で切断した場合の断面図である。多孔質印体101がアタッチメント50の図6(a)に示す位置に設置された状態では、浅孔嵌合部106a、106bが検出スイッチSW92、SW87に嵌合することにより、これら検出スイッチSW92、SW87がオンする。つまり、浅孔嵌合部106a、106bの孔106ah、106bhの底部が、検出スイッチSW92、SW87の各可動片62を下方に移動させ、これらのマイクロスイッチ64がオンする。一方、深孔嵌合部107a、107bの孔107ah、107bhは、浅孔嵌合部106a、106bの孔106ah、106bhよりも深く形成されている。そのため、深孔嵌合部107a、107bが検出スイッチSW82、SW97に嵌合しても、これら検出スイッチSW82、SW97の各可動片62は孔107ah、107bhの底部に接触せず、オフ状態が維持される。   FIG. 6A is a plan view showing a state in which the porous stamp body 101 is installed at the center of the end portion in the carry-out direction of the stamp installation section 51 of the attachment 50 as an example. Moreover, FIG.6 (b) is sectional drawing at the time of cut | disconnecting by the VIb-VIb line | wire of Fig.6 (a). In a state where the porous stamp body 101 is installed at the position shown in FIG. 6A of the attachment 50, the shallow hole fitting portions 106a and 106b are fitted into the detection switches SW92 and SW87, so that these detection switches SW92 and SW87 is turned on. That is, the bottoms of the holes 106ah and 106bh of the shallow hole fitting portions 106a and 106b move the movable pieces 62 of the detection switches SW92 and SW87 downward, and these microswitches 64 are turned on. On the other hand, the holes 107ah and 107bh of the deep hole fitting portions 107a and 107b are formed deeper than the holes 106ah and 106bh of the shallow hole fitting portions 106a and 106b. Therefore, even if the deep hole fitting portions 107a and 107b are fitted to the detection switches SW82 and SW97, the movable pieces 62 of the detection switches SW82 and SW97 do not contact the bottom portions of the holes 107ah and 107bh, and the off state is maintained. Is done.

多孔質印体101の対角に位置する浅孔嵌合部106a、106bが嵌合することによりオンした検出スイッチSW92、SW87の各位置に基づいて、アタッチメント50の設置面51a上における多孔質印体101の設置位置を特定することができる。また、オンしている検出スイッチSW92、SW87の各位置を結ぶ対角線Dに基づいて、定型化された多孔質印体101の加工サイズを特定することもできる。更に、オンした検出スイッチSW92、SW87の各位置から特定した多孔質印体101の設置位置と加工サイズとの情報に基づいて、当該多孔質印体101の印面の加工開始位置及び加工終了位置も特定することができる。   The porous mark on the installation surface 51a of the attachment 50 is based on the positions of the detection switches SW92 and SW87 that are turned on when the shallow hole fitting portions 106a and 106b located on the diagonal of the porous mark body 101 are fitted. The installation position of the body 101 can be specified. Further, the processing size of the stylized porous stamp 101 can be specified based on the diagonal line D connecting the positions of the detection switches SW92 and SW87 that are turned on. Further, based on the information on the installation position and processing size of the porous stamp 101 identified from the positions of the detection switches SW92 and SW87 that are turned on, the processing start position and processing end position of the stamp surface of the porous stamp 101 are also determined. Can be identified.

なお、アタッチメント50の設置面51aの面積と設置される加工対象物のサイズとの間には一定の制限はあるものの、それらが許容される範囲で、例えば図7(a)、(b)及び(c)に示すように様々な加工サイズの多孔質印体101、101’、101’’を縦横任意の位置に設置することができる。また、図8(a)に例示するようにアタッチメント50の設置面51aの任意の位置に1つの多孔質印体101を設置できるだけでなく、図8(b)に例示するように複数の多孔質印体101、101、101を設置面51aに同時に設置することができる。また、図8(c)に例示するように、サイズが異なる複数の多孔質印体101、101’’’を設置面51aに同時に設置することもできる。   In addition, although there is a certain limitation between the area of the installation surface 51a of the attachment 50 and the size of the workpiece to be installed, they are within an allowable range, for example, FIGS. 7A and 7B and FIG. As shown in FIG. 3C, porous stamps 101, 101 ′, and 101 ″ having various processing sizes can be installed at arbitrary vertical and horizontal positions. Further, as illustrated in FIG. 8A, not only can one porous stamp body 101 be installed at an arbitrary position on the installation surface 51a of the attachment 50, but also a plurality of porous materials as illustrated in FIG. 8B. The stamps 101, 101, 101 can be installed on the installation surface 51a at the same time. Further, as illustrated in FIG. 8C, a plurality of porous stamps 101 and 101 '' 'having different sizes can be simultaneously installed on the installation surface 51a.

次に、サーマル加工機10に備えられる各制御手段とともに、その動作を説明する。   Next, the operation of each control means provided in the thermal processing machine 10 will be described.

(スイッチデータ読取手段)
サーマル加工機10の制御装置11は、各検出スイッチSW11〜S98からオン・オフのスイッチ信号を個別に読み取ってもよいし、例えば図9のブロック図に示すように、読取回路18が、検出スイッチSW11〜SW98のオン・オフデータを、スキャン方式で読み取る構成を採用してもよい。
(Switch data reading means)
The control device 11 of the thermal processing machine 10 may individually read on / off switch signals from the detection switches SW11 to S98. For example, as shown in the block diagram of FIG. A configuration may be adopted in which the on / off data of SW11 to SW98 is read by a scan method.

例えば図9のスキャン方式の実施形態によれば、制御装置11が検出スイッチSW11〜SW98の状態を読み取るステップで、読取回路18が検出スイッチSW11〜SW98の行数nに相当する例えば9回の周期的なスキャン信号をスイッチング回路71に出力する。スイッチング回路71は、スキャン信号を受信する毎に(n=1、2、・・・、9)、順次、n行目の検出スイッチSWn1、SWn2、・・・、SWn8に電流を供給する。すなわち、第1回目(n=1)のスキャン信号が出力されると、スイッチング回路71は、第1行目の検出スイッチSW11〜SW18のみに電流を供給し、第2回目(n=2)のスキャン信号が出力されると、スイッチング回路71は、第2行目の検出スイッチSW21〜SW28のみに電流を供給するというように、行数(n=9)回、繰り返し出力先を切り換える。   For example, according to the embodiment of the scanning method of FIG. 9, in the step in which the control device 11 reads the states of the detection switches SW11 to SW98, the reading circuit 18 corresponds to the number of rows n of the detection switches SW11 to SW98. A typical scan signal is output to the switching circuit 71. Each time the switching circuit 71 receives a scan signal (n = 1, 2,..., 9), the switching circuit 71 sequentially supplies current to the detection switches SWn1, SWn2,. That is, when the first (n = 1) scan signal is output, the switching circuit 71 supplies current only to the detection switches SW11 to SW18 in the first row, and the second (n = 2). When the scan signal is output, the switching circuit 71 switches the output destination repeatedly for the number of rows (n = 9) so as to supply current only to the detection switches SW21 to SW28 in the second row.

同時にラッチ回路72には、スキャン信号に同期してセット/リセット信号が入力される。すなわち、第1回目(n=1)のスキャン信号が出力されると、ラッチ回路72は、第1行目の検出スイッチSW11〜SW18の情報を捕捉(ラッチ)し読取回路18に出力する。スキャン信号が立ち下がると、ラッチ回路72が捕捉した情報がリセットされ、次の第2回目(n=2)のスキャン信号が出力されると、同様に第2行目の検出スイッチSW21〜SW28の情報をラッチして読取回路18に出力する。このように読取回路18は、第1行目から第9行目までスキャンして、全ての検出スイッチSW11〜SW98の状態を示すオン・オフデータを読み取っている。   At the same time, a set / reset signal is input to the latch circuit 72 in synchronization with the scan signal. That is, when the first (n = 1) scan signal is output, the latch circuit 72 captures (latches) information of the detection switches SW11 to SW18 in the first row and outputs the information to the reading circuit 18. When the scan signal falls, the information captured by the latch circuit 72 is reset, and when the next second (n = 2) scan signal is output, the detection switches SW21 to SW28 in the second row are similarly set. Information is latched and output to the reading circuit 18. As described above, the reading circuit 18 scans from the first row to the ninth row, and reads the on / off data indicating the states of all the detection switches SW11 to SW98.

(加工対象物特定手段)
制御装置11に備えられる加工対象物特定手段は、多孔質印体101がアタッチメント50に設置されオンした検出スイッチSWnm、SWn’m’の各位置に基づいて、アタッチメント50の設置面51a上における多孔質印体101の設置位置を特定する。また、加工対象物特定手段は、オンしている検出スイッチSWnm、SWn’m’の各位置を結ぶ対角線Dに基づいて、定型化された多孔質印体101の種類や加工サイズを特定する。
(Processing object identification means)
The processing object specifying means provided in the control device 11 is based on the positions of the detection switches SWnm and SWn′m ′ in which the porous stamp 101 is installed and turned on in the attachment 50, and the porous surface on the installation surface 51a of the attachment 50. The installation position of the marking body 101 is specified. Further, the processing object specifying means specifies the type and processing size of the stylized porous stamp 101 based on the diagonal line D connecting the positions of the detection switches SWnm and SWn′m ′ that are turned on.

(階調補正手段)
制御装置11にロードされる印面イメージデータは、2値(モノクロ)のビットマップ形式で記憶されている。例えば、印判の印字部分(捺印部)に相当する、いわゆる「黒」の画素値が「1」であり、非印字部分(非捺印部)に相当する、いわゆる「白」の画素値が「0」である。加工しようとする印面パターンを表すこの2値の版下データを「モノクロ画像データ」という。サーマル加工機10における印面加工の基本的な動作は、サーマルヘッド12の発熱素子12a、12a、・・・を選択的に発熱駆動させ、サーマルヘッド12に当接している多孔質印体101の表面を加熱溶融し固化することで、多孔質印体101の表面に多孔性を滅失させた非捺印部を形成することである。したがって、基本的には、制御装置11はモノクロ画像データに従ったオン・オフ制御を行うことで印面を加工することが可能である。
(Tone correction means)
The stamp image data loaded to the control device 11 is stored in a binary (monochrome) bitmap format. For example, a so-called “black” pixel value corresponding to a printing portion (printing portion) of a stamp is “1”, and a so-called “white” pixel value corresponding to a non-printing portion (non-printing portion) is “0”. Is. This binary block data representing the stamp pattern to be processed is referred to as “monochrome image data”. The basic operation of the marking surface processing in the thermal processing machine 10 is to selectively heat-generate the heating elements 12a, 12a,... By heating and melting and solidifying, a non-printing part in which the porosity is lost is formed on the surface of the porous stamping body 101. Therefore, basically, the control device 11 can process the stamp surface by performing on / off control according to the monochrome image data.

しかし、このような2値のモノクロ画像データに従った単純なオン・オフ制御では、非捺印部の縁の位置でサーマルヘッド12に蓄熱した残留熱が、近隣の捺印部の領域にまで伝導するという問題がある。その結果として、印字の輪郭部分の多孔性(インクの浸透性)が一部失われ、印字の輪郭が本来の画像データよりも狭くなる又は変形する等の不都合が生じる場合があった。そのような印字の変形を防ぐため、本実施形態においては、制御装置11が、モノクロ画像データを例えば8ビット(256階調)の階調を有する階調画像データに補正する階調補正手段を備えている。   However, in the simple on / off control according to such binary monochrome image data, the residual heat accumulated in the thermal head 12 at the edge position of the non-printed part is conducted to the area of the neighboring printed part. There is a problem. As a result, a part of the porosity (ink permeability) of the outline portion of the print is lost, and there is a case where the print outline becomes narrower or deforms than the original image data. In order to prevent such deformation of printing, in the present embodiment, the control device 11 includes gradation correction means for correcting monochrome image data to gradation image data having gradation of, for example, 8 bits (256 gradations). I have.

階調補正手段は、例えば図10に示すようにモノクロ画像データの印字部分(捺印部)と非印字部分(非捺印部)との境界領域(白黒の値が反転する領域)で画素値が段階的に単調変化するように補正した階調画像データを作成する。なお、ここでいう「単調変化」には、モノクロ画像データに基づいて階調画像データが非線形に補正される場合も含まれる。   For example, as shown in FIG. 10, the gradation correction unit has a pixel value stepped at a boundary region (a region where black and white values are reversed) between a printing portion (printing portion) and a non-printing portion (non-printing portion) of monochrome image data. Gradation image data corrected so as to change monotonically is created. The “monotonic change” here includes a case where the gradation image data is corrected nonlinearly based on the monochrome image data.

(駆動量変換手段)
制御装置11に備えられる駆動量変換手段は、補正された1ラインごとの階調画像データを、サーマルヘッド12の各発熱素子の駆動量のデータに変換する。このとき、駆動量変換手段は、発熱素子の駆動量を算出するに際して、発熱素子の駆動量と多孔性(インクの浸透性)との間の非線形な相関特性を考慮してもよい。
(Driving amount conversion means)
The driving amount conversion means provided in the control device 11 converts the corrected gradation image data for each line into driving amount data of each heating element of the thermal head 12. At this time, when calculating the drive amount of the heat generating element, the drive amount conversion means may consider a non-linear correlation characteristic between the drive amount of the heat generating element and the porosity (ink permeability).

ここで、多孔性を定量的に示す指標であるインクの浸透比率を、熱加工する前の初期の多孔質材の気孔率を1(100%)とし、最大駆動量Dqmaxで発熱素子を駆動して熱加工した後の多孔質材の気孔率を0(0%)として標準化した場合の比率として定義することができる。多孔質材は、加熱溶融に伴い若干収縮し及び熱伝導率等が変化するため、発熱素子の駆動量とインクの浸透比率とは必ずしも比例しない。そのため、予め実験等で測定された発熱素子の駆動量とインクの浸透比率との非線形な相関特性データを、制御装置11の記憶手段に予め記憶しておくことが好ましい。
なお、上述の階調補正手段が、発熱素子の駆動量とインクの浸透比率と間の上述の非線形な相関特性を考慮して、階調画像データを作成してもよい。
Here, the permeation ratio of the ink, which is an index for quantitatively indicating the porosity, is set to 1 (100%) as the porosity of the initial porous material before heat processing, and the heating element is driven with the maximum driving amount Dqmax. It can be defined as a ratio when the porosity of the porous material after heat processing is normalized as 0 (0%). Since the porous material slightly shrinks and changes its thermal conductivity and the like as it is heated and melted, the driving amount of the heating element and the ink penetration ratio are not necessarily proportional. Therefore, it is preferable to previously store in the storage means of the control device 11 nonlinear correlation characteristic data between the driving amount of the heating element and the ink permeation ratio measured in advance through experiments or the like.
Note that the above-described gradation correction unit may create gradation image data in consideration of the above-described nonlinear correlation characteristic between the driving amount of the heating element and the ink penetration ratio.

(加工制御手段)
次に、制御装置11に備えられる加工制御手段による印面加工処理を説明する。ここで、図11は、加工制御手段による印面加工処理を例示するフローチャートである。また、図12は、サーマル加工機10の印面加工動作を説明するための図である。なお、加工制御手段は、次に説明する搬送制御手段、昇降制御手段及び発熱駆動制御手段を含んでいる。
(Processing control means)
Next, the stamp surface processing by the processing control means provided in the control device 11 will be described. Here, FIG. 11 is a flowchart illustrating the stamp surface processing by the processing control means. FIG. 12 is a diagram for explaining the stamping operation of the thermal processing machine 10. The processing control means includes a conveyance control means, a lift control means and a heat generation drive control means which will be described next.

まず、ユーザ(印判の発注者や販売店員などを含む)は、印面を加工しようとする多孔質印体101をアタッチメント50の任意の位置に設置する。そして、タッチパネル21などを介してトレイ15の排出操作が行われると(ステップS11)、搬送制御手段が搬送機構16を制御して、トレイ15を図12(a)に示される排出位置に搬送する(ステップS12)。そして、ユーザは、排出されたトレイ15に、多孔質印体101が設置されたアタッチメント50を装填する。なお、ユーザは、アタッチメント50をトレイ15に装填した後に、多孔質印体101をアタッチメント50に設置してもよいし、既にトレイ15に装填されているアタッチメント50に対して、多孔質印体101を設置してもよい。   First, a user (including a stamp orderer, a sales clerk, etc.) installs a porous stamp 101 for processing a stamp surface at an arbitrary position of the attachment 50. When the discharge operation of the tray 15 is performed via the touch panel 21 or the like (step S11), the transfer control unit controls the transfer mechanism 16 to transfer the tray 15 to the discharge position shown in FIG. (Step S12). Then, the user loads the attachment 50 in which the porous stamp body 101 is installed on the discharged tray 15. The user may install the porous stamp 101 on the attachment 50 after the attachment 50 is loaded on the tray 15, or the porous stamp 101 on the attachment 50 already loaded on the tray 15. May be installed.

そして、タッチパネル21などを介して搬入操作が行われると(ステップS13)、搬送制御手段が搬送機構16を制御して、アタッチメント50の搬入動作を開始させる。アタッチメント50を原点方向に搬送する搬入工程において、例えば図12(b)で示される搬入位置で、制御装置11のスイッチデータ読取手段が、読取回路18を介して、検出スイッチSW11〜98の状態を示すオン・オフデータを読み取る(ステップS15)。   And when carrying-in operation is performed via the touch panel 21 etc. (step S13), a conveyance control means will control the conveyance mechanism 16, and will start carrying-in operation | movement of the attachment 50. FIG. In the carry-in process of carrying the attachment 50 in the direction of the origin, for example, the switch data reading means of the control device 11 changes the state of the detection switches SW11 to 98 via the read circuit 18 at the carry-in position shown in FIG. The indicated on / off data is read (step S15).

次のステップS16では、上述したスイッチデータ読取手段で読み取られた検出スイッチSW11〜98からのオン・オフデータから、多孔質印体101のアタッチメント50への設置状態が検査される。制御装置11は、検出スイッチSW11〜98のうち、少なくとも2個の検出スイッチがオン状態であると認識すると、多孔質印体101がアタッチメント50に正しく設置されていると判断する(ステップS16:YES)。検出スイッチSW11〜98の何れもオフであるとき、又は、1個ないしは奇数個の検出スイッチがオンしている場合には、多孔質印体101がアタッチメント50に設置されていないか、又は正しく設置されていないと判断する(ステップS16:NO)。その場合には、タッチパネル21などにエラーが表示され(ステップS17)、トレイ15が排出位置に戻される(ステップS12)。これにより、ユーザに、多孔質印体101のアタッチメント50への設置を促すことができる。   In the next step S16, the installation state of the porous stamp 101 on the attachment 50 is inspected from the on / off data from the detection switches SW11 to 98 read by the switch data reading means described above. When the control device 11 recognizes that at least two detection switches among the detection switches SW11 to 98 are in the on state, the control device 11 determines that the porous stamp body 101 is correctly installed on the attachment 50 (step S16: YES). ). When all of the detection switches SW11 to SW98 are off, or when one or an odd number of detection switches are on, the porous stamp 101 is not installed on the attachment 50 or is installed correctly. It is determined that it has not been performed (step S16: NO). In that case, an error is displayed on the touch panel 21 or the like (step S17), and the tray 15 is returned to the discharge position (step S12). Thereby, the user can be prompted to install the porous stamp 101 on the attachment 50.

次のステップS18では、上述した加工対象物特定手段が、オン状態の検出スイッチSWnm、SWn’m’の各位置に基づいて多孔質印体101の設置位置や種類を特定する。また、加工対象物特定手段は、オン状態の検出スイッチSWnm、SWn’m’の各位置を結ぶ対角線の長さに基づいて多孔質印体101の加工サイズを特定する。   In the next step S18, the processing object specifying means described above specifies the installation position and type of the porous stamp 101 based on the positions of the detection switches SWnm and SWn'm 'in the on state. Further, the processing object specifying unit specifies the processing size of the porous stamp 101 based on the length of the diagonal line connecting the positions of the detection switches SWnm and SWn′m ′ in the on state.

ステップS18で特定された情報は、サーマル加工機10のタッチパネル21などに表示されてもよい。続くステップS19では、サーマル加工機10にロードされている印面イメージデータのタイプ情報と、検出スイッチSWnm、SWn’m’から特定されたタイプ情報との整合性が判断される。もし、これらの情報に整合性がなければ(ステップS19:NO)、タッチパネル21などにエラーが表示され(ステップS20)、トレイ15が排出位置に戻される(ステップS12)。これにより、ユーザに操作のやり直しを促すことができる。このように、加工を開始する前に、多孔質印体101と印面イメージデータのミスマッチなどを発見でき、間違った多孔質印体101の設置や加工操作ミスなどを事前に防止することができる。   The information specified in step S18 may be displayed on the touch panel 21 of the thermal processing machine 10 or the like. In the subsequent step S19, the consistency between the type information of the stamp image data loaded on the thermal processing machine 10 and the type information specified from the detection switches SWnm and SWn'm 'is determined. If these pieces of information are not consistent (step S19: NO), an error is displayed on the touch panel 21 or the like (step S20), and the tray 15 is returned to the discharge position (step S12). This can prompt the user to redo the operation. As described above, before starting the processing, a mismatch between the porous stamp 101 and the image data of the stamp surface can be found, and erroneous installation of the porous stamp 101 or a processing operation error can be prevented in advance.

搬送制御手段が更にトレイ15を搬入し、図12(c)で示される最奥の位置では、アタッチメント50の端部が原点センサ19をオンし、これにより搬送における原点が検出される(ステップS21)。そして、その原点位置で、搬送制御手段がアタッチメント50の搬入動作を一旦停止する(ステップS22)。   The transport control means further carries in the tray 15, and at the innermost position shown in FIG. 12C, the end of the attachment 50 turns on the origin sensor 19, thereby detecting the origin in the transport (step S21). ). And the conveyance control means once stops the carrying-in operation of the attachment 50 at the origin position (step S22).

次に、加工制御手段は、特定した多孔質印体101の設置位置と整合性が得られたタイプ情報とに基づいて、印面の加工開始位置と、加熱高さ位置とを決定する(ステップS23)。そして、搬送制御手段が搬送機構16を制御して、多孔質印体101を加工開始位置に搬送する(ステップS24)。多孔質印体101が加工開始位置に搬送された後、昇降制御手段が昇降機構14を制御して、サーマルヘッド12を加熱高さ位置に下降させる(ステップS25)。図12(d)に示されるように、この段階で、サーマルヘッド12が多孔質印体101の加工開始位置表面に当接する。   Next, the processing control means determines the processing start position of the stamping surface and the heating height position based on the specified installation position of the porous stamped body 101 and the type information with which consistency is obtained (step S23). ). And a conveyance control means controls the conveyance mechanism 16, and conveys the porous stamping body 101 to a process start position (step S24). After the porous stamp body 101 is conveyed to the processing start position, the elevation control means controls the elevation mechanism 14 to lower the thermal head 12 to the heating height position (step S25). As shown in FIG. 12D, at this stage, the thermal head 12 contacts the processing start position surface of the porous stamp 101.

次のステップS26では、発熱駆動制御手段が1ラインの駆動量データに従って熱駆動手段13をPWM制御し、サーマルヘッド12の発熱素子12a、12a、・・・を選択的に発熱駆動する。これにより多孔質印体101が1ラインだけ熱加工される。そして、ステップS27において、搬送制御手段が搬送機構16を制御して、多孔質印体101を搬出方向(図12(d)の矢印方向)へ1ライン幅だけ移動させる。ステップS26とステップS27の処理が繰り返されることにより、多孔質印体101を1ラインずつ印面加工する。そして、ステップS28の判断で最終ラインの加工が終了したとき(図12(e))、昇降制御手段が昇降機構14を制御してサーマルヘッド12を待機位置まで上昇させ、搬送制御手段が搬送機構16を制御してトレイ15を排出位置に搬送する(ステップS29)。   In the next step S26, the heat generation drive control means performs PWM control of the heat drive means 13 in accordance with the drive amount data for one line, and selectively heats the heat generating elements 12a, 12a,. As a result, the porous stamped body 101 is thermally processed for only one line. In step S27, the transport control unit controls the transport mechanism 16 to move the porous stamp body 101 by one line width in the unloading direction (the arrow direction in FIG. 12D). By repeating the processing of step S26 and step S27, the porous stamped body 101 is stamped line by line. Then, when the processing of the final line is completed at the determination in step S28 (FIG. 12E), the lift control means controls the lift mechanism 14 to raise the thermal head 12 to the standby position, and the transport control means moves to the transport mechanism. 16 is controlled to convey the tray 15 to the discharge position (step S29).

ユーザは、排出されたトレイ15からアタッチメント50を取り出し、印面が加工形成された多孔質印体101を得ることができる。なお、ユーザは、アタッチメント50をトレイ15に装填した状態、つまり、アタッチメント50をトレイ15から取り出さずに、加工済みの多孔質印体101を得てもよい。そして、図13に示すように、多孔質印体101に装着されているインク含浸体110にインクを含浸させ、ホルダ112を取り付けることにより、ユーザは注文に応じた独自の印面パターンを有する多孔質印判100を組み立てることができる。   The user can take out the attachment 50 from the discharged tray 15 and obtain the porous stamped body 101 with the stamped surface processed. The user may obtain the processed porous stamp 101 in a state where the attachment 50 is loaded on the tray 15, that is, without removing the attachment 50 from the tray 15. Then, as shown in FIG. 13, by impregnating the ink impregnated body 110 attached to the porous stamp body 101 with the ink and attaching the holder 112, the user has a porous surface having a unique marking surface pattern according to the order. The stamp 100 can be assembled.

11 制御装置
12 サーマルヘッド
12a 発熱素子
13 熱駆動手段
14 昇降機構
15 トレイ
16 搬送機構
18 読取回路
19 原点センサ
21 タッチパネル
22 テンキー
50 アタッチメント
51 印体設置部
51a 設置面
61 円筒部
62 可動片
63 スプリング
64 マイクロスイッチ
71 スイッチング回路
72 ラッチ回路
100 多孔質印判
101 多孔質印体
102 多孔性膜
103 枠体
106a、106b 浅孔嵌合部
107a、107b 深孔嵌合部
110 インク含浸体
112 ホルダ
D 多孔質印体の対角線
SW11〜SW98 検出スイッチ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Control apparatus 12 Thermal head 12a Heating element 13 Thermal drive means 14 Lifting mechanism 15 Tray 16 Conveying mechanism 18 Reading circuit 19 Origin sensor 21 Touch panel 22 Numeric keypad 50 Attachment 51 Printing body installation part 51a Installation surface 61 Cylindrical part 62 Movable piece 63 Spring 64 Microswitch 71 Switching circuit 72 Latch circuit 100 Porous seal 101 Porous stamp 102 Porous membrane 103 Frames 106a and 106b Shallow hole fitting portions 107a and 107b Deep hole fitting portion 110 Ink impregnated body 112 Holder D Porous seal Body diagonal SW11-SW98 detection switch

Claims (5)

ライン状に配置された複数の発熱素子を有するサーマルヘッドと、
印面が形成される加工対象物が設置されるアタッチメントと、
前記アタッチメントを内部に搬入し、前記アタッチメントに設置された前記加工対象物と前記サーマルヘッドとを当接させた状態でこれらを相対移動させる搬送手段と、
前記搬送手段による前記相対移動を制御しながら前記サーマルヘッドの各発熱素子を選択的に発熱駆動して、前記加工対象物に印面を形成する加工処理を行う制御手段と、を備え、
前記アタッチメントの前記加工対象物が設置される側の面には、該面上の任意の位置で前記加工対象物を嵌合可能とし、且つ該加工対象物を検出可能とする複数の検出スイッチが、格子状に直交する各交点位置にそれぞれ配置されている、ことを特徴とするサーマル加工機。
A thermal head having a plurality of heating elements arranged in a line;
An attachment on which an object to be processed on which a stamp surface is formed is installed;
Conveying means for carrying the attachment into the interior, and relatively moving the object to be processed and the thermal head placed in the attachment in contact with each other;
Control means for selectively performing heat generation on each heat generating element of the thermal head while controlling the relative movement by the conveying means, and performing processing to form a stamp on the object to be processed,
A plurality of detection switches that allow the workpiece to be fitted at an arbitrary position on the surface of the attachment on the side on which the workpiece is installed and detect the workpiece. A thermal processing machine, wherein the thermal processing machine is arranged at each intersection position orthogonal to the grid pattern.
前記加工対象物の前記アタッチメントに設置される側の対角に位置する少なくとも2箇所の隅部には、前記検出スイッチにそれぞれ嵌合する浅孔嵌合部が形成され、
前記加工対象物が前記アタッチメントに設置された状態で前記浅孔嵌合部が前記検出スイッチに嵌合することにより該検出スイッチがオンし、オンした前記検出スイッチの位置に基づいて、少なくとも前記アタッチメントにおける前記加工対象物の設置位置が特定される、請求項1に記載のサーマル加工機。
Shallow hole fitting portions that are respectively fitted to the detection switches are formed in at least two corners located on the diagonal side of the workpiece to be installed on the attachment,
The detection switch is turned on when the shallow hole fitting portion is fitted to the detection switch in a state where the object to be processed is installed on the attachment, and at least the attachment is based on the position of the detection switch that is turned on. The thermal processing machine of Claim 1 in which the installation position of the said process target object in is specified.
前記オンした検出スイッチの位置に基づいて、前記加工対象物の加工サイズが更に特定される、請求項2に記載のサーマル加工機。   The thermal processing machine according to claim 2, wherein a processing size of the processing object is further specified based on a position of the detection switch that is turned on. 前記加工対象物の前記アタッチメントに設置される側の、前記浅孔嵌合部が形成される少なくとも2箇所の隅部と異なる隅部には、前記浅孔嵌合部よりも深い孔を有して前記検出スイッチに嵌合する深孔嵌合部が形成され、
前記加工対象物が前記アタッチメントに設置された状態では、前記深孔嵌合部が嵌合する前記検出スイッチのオフ状態が維持される、請求項2又は3に記載のサーマル加工機。
At a corner different from at least two corners where the shallow hole fitting portion is formed on the side of the workpiece to be installed on the attachment, there is a hole deeper than the shallow hole fitting portion. A deep hole fitting portion to be fitted to the detection switch is formed,
4. The thermal processing machine according to claim 2, wherein in a state where the object to be processed is installed on the attachment, an off state of the detection switch into which the deep hole fitting portion is fitted is maintained.
前記アタッチメントには、同一又は異なる加工サイズの前記加工対象物が、同時に複数設置可能である、請求項1〜4の何れか1項に記載のサーマル加工機。
The thermal processing machine according to any one of claims 1 to 4, wherein a plurality of processing objects having the same or different processing sizes can be simultaneously installed on the attachment.
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