JP2016164694A - Touch sensor and manufacturing method therefor - Google Patents

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勇治 野並
Yuji Nonami
勇治 野並
領内 博
Hiroshi Ryonai
領内  博
溝根 信也
Shinya Mizone
信也 溝根
章博 井原
Akihiro Ihara
章博 井原
小園 利一
Riichi Kozono
利一 小園
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch sensor to be incorporated in an input manipulation section or the like of various electronic devices and a manufacturing method therefor, the touch sensor having a cover lens-integrated configuration that can be inexpensively achieved and being arranged to keep a manipulating finger or the like closer to a conductive portion of a detection unit compared with conventional products.SOLUTION: A metal pattern 50 is disposed at inner bottom sections of grooves 45 provided on a first surface 41 of a resin substrate 40, and the metal pattern 50 disposed in the grooves 45 is used as a conductive portion of a detection unit 20. The metal pattern 50 includes side end portions 50A that are thinner than a central potion 50B in cross-sectional view. Such an arrangement improves detection accuracy of a touch panel 10 because a manipulating finger or the like is kept closer to the metal pattern 50 disposed as the conductive portion of the detection unit 20 compared with conventional products.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、各種電子機器の入力操作部等に搭載されるタッチセンサおよびタッチセンサの製造方法に関する。   The present invention relates to a touch sensor mounted on an input operation unit or the like of various electronic devices and a method for manufacturing the touch sensor.

スマートフォン等を代表とする各種電子機器は、指などで入力操作部へのタッチ操作をして入力操作する。   Various electronic devices such as smartphones perform input operations by touching the input operation unit with fingers or the like.

入力操作部は、カバーレンズと、静電容量式のタッチセンサを有する。カバーレンズは、光透過性を有する。カバーレンズは平板状で、材質は樹脂やガラスからなる。   The input operation unit includes a cover lens and a capacitive touch sensor. The cover lens is light transmissive. The cover lens is flat and made of resin or glass.

タッチセンサは、光透過性を有する。なお、タッチセンサの構成についての説明は後述する。   The touch sensor is light transmissive. Note that the configuration of the touch sensor will be described later.

入力操作部は、機器内に配設された表示装置の前方位置にタッチセンサ付きカバーレンズを配置した構成である。タッチセンサ付きカバーレンズは、カバーレンズとタッチセンサとを粘着剤で貼り合わせて構成する。   The input operation unit has a configuration in which a cover lens with a touch sensor is disposed at a front position of a display device disposed in the device. The cover lens with a touch sensor is configured by bonding a cover lens and a touch sensor with an adhesive.

使用者は、タッチセンサ付きカバーレンズを介して機器内の表示装置の表示内容を視認しつつカバーレンズの表面を指で操作する。   The user operates the surface of the cover lens with a finger while visually confirming the display content of the display device in the device via the cover lens with a touch sensor.

静電容量式のタッチセンサの構成について以下に説明する。タッチセンサは、通常、基材部と基材部の表面上に薄膜状に形成された検知部を有する。基材部は、透明性を有した樹脂フィルムからなる。樹脂フィルムは、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂製やポリカーボネイト(PC)樹脂製である。検知部は光透過性を有する。検知部は導電性を有し、材質は例えばITOである。または、検知部は、導電性ナノワイヤーを分散した透明樹脂である。   The configuration of the capacitive touch sensor will be described below. The touch sensor usually has a base part and a detection part formed in a thin film on the surface of the base part. A base material part consists of a resin film with transparency. The resin film is made of polyethylene terephthalate (PET) resin or polycarbonate (PC) resin. The detection unit has light transparency. The detector has conductivity and is made of, for example, ITO. Alternatively, the detection unit is a transparent resin in which conductive nanowires are dispersed.

なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1、特許文献2が知られている。   As prior art document information related to the invention of this application, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2 are known.

特開2012−174003号公報JP 2012-174003 A 特開2012−181828号公報JP 2012-181828 A

静電容量式のタッチセンサは、ITO製の検知部にすると、材料費や加工工数の面でコスト高になる。導電性ナノワイヤーを含む検知部にしても同様である。すなわち、従来品の構成では、静電容量式のタッチセンサを安価に得ることに限界を有する。   When the capacitive touch sensor is made of an ITO detection unit, the cost is increased in terms of material costs and processing steps. The same applies to a detection unit including conductive nanowires. That is, the configuration of the conventional product has a limit in obtaining a capacitive touch sensor at low cost.

また、タッチセンサ付きカバーレンズは、タッチセンサの検知部を有する面とは反対の面をカバーレンズに貼り合わせて構成する。使用者は、タッチセンサ付きカバーレンズを搭載した電子機器に対してカバーレンズの表出した面をタッチ操作等して電子機器を使用する。   Further, the cover lens with a touch sensor is configured by bonding a surface opposite to the surface having the detection part of the touch sensor to the cover lens. The user uses the electronic device by touching the surface of the cover lens exposed to the electronic device on which the cover lens with the touch sensor is mounted.

ここで、電子機器を使用する使用者は、タッチ操作時における検出精度の向上を要求する。従来のタッチセンサでは、検知部の導電部位を基材部の表面上に重ねて配置している。このため、検知部の導電部位と操作中の指との間隔を近づけて検出精度を向上させることに限界を有する。また、カバーレンズとタッチセンサの貼り合わせずれ等を少なく抑える必要もある。   Here, the user who uses an electronic device requests | requires the improvement of the detection accuracy at the time of touch operation. In the conventional touch sensor, the conductive part of the detection unit is arranged so as to overlap the surface of the base member. For this reason, there is a limit in improving the detection accuracy by reducing the distance between the conductive portion of the detection unit and the finger being operated. In addition, it is necessary to suppress a misalignment between the cover lens and the touch sensor.

本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、安価にカバーレンズ一体型の構成品を得られ、しかも検知部の導電部位と操作中の指等との距離を従来品よりも近づけられる構成のタッチセンサおよびタッチセンサの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves such a conventional problem, and can obtain a cover lens integrated component at a low cost, and further, the distance between the conductive portion of the detection unit and the finger during operation is more than that of the conventional product. An object of the present invention is to provide a touch sensor having a configuration close to the touch sensor and a method for manufacturing the touch sensor.

上記目的を達成するために、本発明によるタッチセンサは、第1表面に溝を有する樹脂製の基材部を用いる。そして、溝の内底部に導電金属からなる金属パターンを配置する。すなわち、当該タッチセンサは、検知部の導電部位として、溝内の金属パターンを用いる。そして、金属パターンは、溝の延設方向に直交する溝幅方向での断面視形状で、溝の側壁部近傍に配置される側端部と、側端部と一体形成されて溝の中央近傍に配置される中央部とを含む。そして、第1表面から側端部までの深さ寸法が、第1表面から中央部までの深さ寸法よりも大きい形状である。   In order to achieve the above object, the touch sensor according to the present invention uses a resin base material having a groove on the first surface. Then, a metal pattern made of a conductive metal is disposed on the inner bottom portion of the groove. That is, the touch sensor uses a metal pattern in the groove as a conductive portion of the detection unit. The metal pattern has a cross-sectional shape in the groove width direction perpendicular to the extending direction of the groove, a side end disposed in the vicinity of the side wall of the groove, and the vicinity of the center of the groove formed integrally with the side end. And a central portion disposed in the. And the depth dimension from a 1st surface to a side edge part is a shape larger than the depth dimension from a 1st surface to a center part.

本発明によるタッチセンサの製造方法は、以下の工程を有する。第1工程で、第1表面に溝が設けられている基材部を所定の樹脂で形成する。第2工程で、基材部に対して第1表面側から導電金属膜を成膜する。第3工程では、基材部の溝の側壁部に付着した導電金属膜を除去して、その後、基材部の第1表面側に第1樹脂被膜を形成する。そして、基材部における溝内以外の箇所の導電金属膜および第1樹脂被膜を除去して、溝内に金属パターンと第1樹脂層を形成する。第4工程で、基材部の溝を含めて第1表面側から液状の第2樹脂液を塗布して、第1樹脂層を覆うように第1表面に重なる第2樹脂層を形成するようにする。   The method for manufacturing a touch sensor according to the present invention includes the following steps. In the first step, a base material portion having grooves on the first surface is formed with a predetermined resin. In the second step, a conductive metal film is formed from the first surface side with respect to the base material portion. In the third step, the conductive metal film attached to the side wall portion of the groove of the base material portion is removed, and then a first resin film is formed on the first surface side of the base material portion. Then, the conductive metal film and the first resin film in portions other than the inside of the groove in the base material portion are removed, and a metal pattern and a first resin layer are formed in the groove. In the fourth step, the liquid second resin liquid is applied from the first surface side including the groove of the base material portion so as to form the second resin layer overlapping the first surface so as to cover the first resin layer. To.

本発明によるタッチセンサは、検知部の導電部位となる金属パターンを溝内に配置している。このため、電子機器への搭載状態で、検知部の導電部位と操作中の指等との距離を従来品よりも近づけることを可能とする。しかも安価にカバーレンズ一体型の構成品の対応も可能とするタッチセンサおよびタッチセンサの製造方法を提供できるという有利な効果が得られる。   The touch sensor by this invention has arrange | positioned the metal pattern used as the electroconductive part of a detection part in a groove | channel. For this reason, it is possible to make the distance between the conductive portion of the detection unit and the finger being operated closer to that of the conventional product in a state where the electronic device is mounted. In addition, it is possible to provide an advantageous effect that it is possible to provide a touch sensor and a method for manufacturing the touch sensor that can be inexpensively adapted to cover lens integrated components.

本発明の実施形態によるタッチセンサを搭載したスマートフォンの外観斜視図The external appearance perspective view of the smart phone carrying the touch sensor by embodiment of this invention スマートフォンの分解斜視図Exploded perspective view of smartphone スマートフォンの構成を模式的に示すブロック図Block diagram schematically showing the configuration of the smartphone タッチセンサの断面図Cross section of touch sensor タッチセンサを下方から見た図View of touch sensor from below 図5において要部を拡大して示す図The figure which expands and shows the principal part in FIG. タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの変形例を示す斜視図The perspective view which shows the modification of a touch sensor

本発明によるタッチセンサおよびタッチセンサの製造方法について、以下に図面を用いて説明する。   A touch sensor and a touch sensor manufacturing method according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

(実施の形態)
図1は本発明の実施形態によるタッチセンサを搭載したスマートフォンの外観斜視図、図2はスマートフォンの分解斜視図、図3はスマートフォンの構成を模式的に示すブロック図、図4はタッチセンサの断面図、図5はタッチセンサを下方から見た図、図6は図5において要部を拡大して示す図である。なお、図4は、タッチセンサの検知部での断面位置を示したものである。図7〜図14はタッチセンサの製造方法を説明する図、図15はタッチセンサの変形例を示す斜視図である。
(Embodiment)
1 is an external perspective view of a smartphone equipped with a touch sensor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of the smartphone, FIG. 3 is a block diagram schematically showing the configuration of the smartphone, and FIG. 4 is a cross section of the touch sensor. 5 is a view of the touch sensor as viewed from below, and FIG. 6 is an enlarged view of the main part in FIG. FIG. 4 shows a cross-sectional position at the detection unit of the touch sensor. 7 to 14 are diagrams for explaining a method for manufacturing a touch sensor, and FIG. 15 is a perspective view showing a modification of the touch sensor.

本発明の実施形態によるタッチセンサ10は、静電容量式で光透過性を有する。また、タッチセンサ10は、カバーレンズ一体型の構成である。このタッチセンサ10は、例えばスマートフォン100(図1参照)に搭載される。   The touch sensor 10 according to the embodiment of the present invention is a capacitance type and has light transmittance. The touch sensor 10 has a cover lens integrated type. The touch sensor 10 is mounted on, for example, the smartphone 100 (see FIG. 1).

スマートフォン100は、図1や図2に示すように、外枠状の筐体110を備える。タッチセンサ10は筐体110の前方位置に配置される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the smartphone 100 includes an outer frame-shaped housing 110. The touch sensor 10 is disposed at a front position of the housing 110.

筐体110内には、図3に示したように、表示装置120、マイク130、スピーカ140などを有する。また、筐体110内には、配線基板が配置されている。配線基板は、第1制御部210や第2制御部220を有する。さらに、この配線基板には、電波用の送受信部250なども構成されている。表示装置120は、タッチセンサ10の後方位置に配置されている。   As shown in FIG. 3, the housing 110 includes a display device 120, a microphone 130, a speaker 140, and the like. A wiring board is disposed in the housing 110. The wiring board has a first control unit 210 and a second control unit 220. Further, a radio wave transmission / reception unit 250 and the like are configured on the wiring board. The display device 120 is disposed behind the touch sensor 10.

第1制御部210は、図3に示したように、表示装置120、マイク130、スピーカ140等の各種の機能部位に接続される。第1制御部210は、上記の各種の機能部位を制御する機能を有する。第2制御部220は、第1制御部210に接続されている。   As shown in FIG. 3, the first control unit 210 is connected to various functional parts such as the display device 120, the microphone 130, and the speaker 140. The 1st control part 210 has a function which controls the above-mentioned various functional parts. The second control unit 220 is connected to the first control unit 210.

三つの側面スイッチ部300(図1参照)が、筐体110に配置されている。各々の側面スイッチ部300も第1制御部210に接続される(図3参照)。例えば、側面スイッチ部300の内の一つを押圧操作すると、そのスイッチ信号を検出した第1制御部210は、表示装置120の表示中の画面の遷移などをさせる。   Three side switch units 300 (see FIG. 1) are arranged in the casing 110. Each side switch 300 is also connected to the first controller 210 (see FIG. 3). For example, when one of the side surface switch units 300 is pressed, the first control unit 210 that detects the switch signal causes the screen on the display device 120 to be changed.

タッチセンサ10は、図3に示すように、第2制御部220に接続される。すなわち、第2制御部220は、タッチセンサ10を制御する機能を有する。換言すると、第2制御部220は、タッチセンサ10に生じる静電容量の変化を検出する。そして、第2制御部220は、この検出結果に応じた所定信号を第1制御部210に出力する。   As shown in FIG. 3, the touch sensor 10 is connected to the second control unit 220. That is, the second control unit 220 has a function of controlling the touch sensor 10. In other words, the second controller 220 detects a change in capacitance that occurs in the touch sensor 10. Then, the second control unit 220 outputs a predetermined signal corresponding to the detection result to the first control unit 210.

例えば、使用者が、タッチセンサ10に指等を近接させる、またはタッチセンサ10へのタッチ操作をする。この操作状態を検出した第2制御部220は、対応する信号を生成して第1制御部210に送る。そして、第1制御部210は各種の機能部位などの所定の制御をする。   For example, the user brings a finger or the like close to the touch sensor 10 or performs a touch operation on the touch sensor 10. The second control unit 220 that has detected this operation state generates a corresponding signal and sends it to the first control unit 210. And the 1st control part 210 performs predetermined control of various functional parts.

以上のように、スマートフォン100は、タッチセンサ10や各種の機能部位などを含んで構成されている。   As described above, the smartphone 100 includes the touch sensor 10 and various functional parts.

次に、タッチセンサ10について説明する。   Next, the touch sensor 10 will be described.

タッチセンサ10は、図4〜図6に示したように、平板状に形成されている本体部15を有する。本体部15は、複数の検知部20を含む。なお、本体部15に装着されるフレキシブル配線板等の図示は省略する。   As shown in FIGS. 4 to 6, the touch sensor 10 includes a main body 15 formed in a flat plate shape. The main body unit 15 includes a plurality of detection units 20. In addition, illustration of the flexible wiring board etc. with which the main-body part 15 is mounted | worn is abbreviate | omitted.

複数の検知部20は、基材部40に設けられている。基材部40は、光透過性を有する樹脂からなり、平板状である。基材部40は、第1表面41と第1表面41に対向する第2表面42とを有する。基材部40の第1表面41には、複数の溝45を有する。ここに、基材部40の第1表面41とは溝45以外の箇所を指す。そして、第1表面41は、同じ高さ位置の平面である。基材部40の材質は、例えばポリカーボネイト(PC)樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、ポリメチルメタクリレート(PMMA)樹脂、環状オレフィン樹脂等の光透過性の樹脂である。   The plurality of detection units 20 are provided on the base material unit 40. The base material part 40 consists of resin which has a light transmittance, and is flat form. The base material portion 40 has a first surface 41 and a second surface 42 that faces the first surface 41. The first surface 41 of the base material part 40 has a plurality of grooves 45. Here, the first surface 41 of the base material portion 40 refers to a portion other than the groove 45. And the 1st surface 41 is a plane of the same height position. The material of the base material portion 40 is, for example, a light transmissive resin such as polycarbonate (PC) resin, polyethylene terephthalate (PET) resin, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, or cyclic olefin resin.

基材部40の第1表面41に設けた溝45は、図4に示したように、内底部46と側壁部47とを有する。溝45は第1表面41と同じ高さ位置で開口する形状である。   As shown in FIG. 4, the groove 45 provided on the first surface 41 of the base material portion 40 has an inner bottom portion 46 and a side wall portion 47. The groove 45 has a shape that opens at the same height as the first surface 41.

金属パターン50が溝45の内底部46に配置されている。金属パターン50に重なって覆うように第1樹脂層61が溝45内に配置されている。つまり、第1樹脂層61は、金属パターン50を覆う面とは反対の面が、溝45内に位置する高さに設定されて設けられている。そして、第2樹脂層62が、第1樹脂層61を覆うように第1表面41に重なっている。第1樹脂層61や第2樹脂層62は、樹脂のみで構成されている。第1樹脂層61、第2樹脂層62も光透過性を有する。なお、金属パターン50の形状については後述する。   A metal pattern 50 is disposed on the inner bottom 46 of the groove 45. A first resin layer 61 is disposed in the groove 45 so as to overlap and cover the metal pattern 50. That is, the first resin layer 61 is provided such that the surface opposite to the surface covering the metal pattern 50 is set at a height located in the groove 45. The second resin layer 62 overlaps the first surface 41 so as to cover the first resin layer 61. The 1st resin layer 61 and the 2nd resin layer 62 are comprised only with resin. The first resin layer 61 and the second resin layer 62 are also light transmissive. The shape of the metal pattern 50 will be described later.

このように、検知部20は、基材部40と、基材部40に設けた溝45と、溝45の内底部の金属パターン50と、第1樹脂層61と、第2樹脂層62とを含んで構成される。   Thus, the detection unit 20 includes the base material part 40, the groove 45 provided in the base material part 40, the metal pattern 50 on the inner bottom part of the groove 45, the first resin layer 61, and the second resin layer 62. It is comprised including.

ここに、カバーレンズ一体型のタッチセンサ10では、強度の確保を必要とする。一方、操作時においては、静電容量の所定の変化量を得ることも必要である。タッチセンサ10における基材部40は、これらを充足可能な厚みに設定している。基材部40の必要な厚みは、用いる樹脂の特性等によって左右される。例えばPC樹脂製の基材部40であれば、1mm前後またはそれよりも厚みの厚い基材部40として強度の確保をするとよい。基材部40の厚みを厚くしすぎると、使用者が操作する際、検知部20に生じる静電容量の変化を得難くなる。このため、PC樹脂製の基材部40であれば、厚みを3mm程度までの厚み、望ましくは3mm前後より薄い厚みにするとよい。   Here, the cover lens integrated type touch sensor 10 needs to ensure strength. On the other hand, it is necessary to obtain a predetermined amount of change in capacitance during operation. The base material portion 40 in the touch sensor 10 is set to a thickness that can satisfy these. The required thickness of the base material portion 40 depends on the characteristics of the resin used. For example, if it is the base material part 40 made from PC resin, it is good to ensure intensity | strength as the base material part 40 about 1 mm or thicker than that. If the thickness of the base material portion 40 is too thick, it is difficult to obtain a change in capacitance that occurs in the detection portion 20 when the user operates. For this reason, if it is the base material part 40 made from PC resin, it is good to make thickness into the thickness to about 3 mm, desirably thinner than about 3 mm.

なお、タッチセンサ10は、光透過性で、表示装置の表示内容を透過する。光透過性を有しないタッチセンサ10の構成にして、相応する電子機器に搭載してもよい。   The touch sensor 10 is light transmissive and transmits the display content of the display device. You may make it the structure of the touch sensor 10 which does not have light transmittance, and mount it in a corresponding electronic device.

当該カバーレンズ一体型のタッチセンサ10は、基材部40の第2表面42側を指等で操作する。このため、第2表面42に重ねて機能成膜(例えばハードコート層70)などを設けて操作面に構成する。機能成膜は、ハードコート層70以外に、例えば反射防止機能やアンチフィンガープリント機能を有する層である。なお、図4に示したハードコート層70としても反射防止機能やアンチフィンガープリント機能をあわせ持つ等としてもよい。または、それらの機能を有する複数の層を第2表面42に積層した構成にしてもよい。   The cover lens-integrated touch sensor 10 operates the second surface 42 side of the base member 40 with a finger or the like. For this reason, a functional film (for example, hard coat layer 70) or the like is provided on the second surface 42 to constitute the operation surface. In addition to the hard coat layer 70, the functional film formation is a layer having, for example, an antireflection function or an anti-fingerprint function. The hard coat layer 70 shown in FIG. 4 may have an antireflection function or an anti-fingerprint function. Or you may make it the structure which laminated | stacked the several layer which has those functions on the 2nd surface 42. FIG.

個々の検知部20の形状は、図5や図6に示すように、同じ大きさの矩形状である。複数の検知部20は、互いに独立してマトリクス状に配列されて配置されている。検知部20のそれぞれは、対応する引き出し部25を有する。それぞれの引き出し部25は、本体部15の外縁位置まで引き回される。そして、個々の検知部20は、対応する引き出し部25およびフレキシブル配線板(図示せず)などを介して第2制御部220に接続される。検知部20の形状や配置状態などは上記構成以外であってもよい。   As shown in FIGS. 5 and 6, the shape of each detection unit 20 is a rectangular shape having the same size. The plurality of detection units 20 are arranged in a matrix form independently of each other. Each of the detection units 20 has a corresponding drawer unit 25. Each drawer part 25 is drawn to the outer edge position of the main body part 15. Each detection unit 20 is connected to the second control unit 220 via a corresponding drawing unit 25 and a flexible wiring board (not shown). The shape and arrangement state of the detection unit 20 may be other than the above configuration.

それぞれの検知部20は、上述したように溝45(図4参照)を含んで構成されている。検知部20の溝45は、平面視での矩形状の外枠および、外枠内で互いに交差したメッシュ状で構成されている(図6参照)。全ての溝45は、同じ幅であり、溝45同士は互いに連結している。同様に、それぞれの引き出し部25も互いに連結した溝45を含んで構成されている。外枠内で溝45の配設状態を規則的な配置にすると、溝45以外の残部からなる第1表面41が同じ面積で規則的な配置になるため好ましい。   Each detection part 20 is comprised including the groove | channel 45 (refer FIG. 4) as mentioned above. The groove 45 of the detection unit 20 includes a rectangular outer frame in plan view and a mesh shape that intersects with each other in the outer frame (see FIG. 6). All the grooves 45 have the same width, and the grooves 45 are connected to each other. Similarly, each drawer | drawing-out part 25 is comprised including the groove | channel 45 mutually connected. It is preferable to arrange the grooves 45 in the outer frame in a regular arrangement because the first surface 41 composed of the remaining portions other than the grooves 45 is regularly arranged in the same area.

連結した複数の溝45全ては、第1表面41から同じ深さ寸法である。つまり、図4に示したように、それぞれの溝45の内底部46は、延設方向に直交する方向の断面視で同じ高さ位置に設定されて設けられている。溝45の内底部46は、平坦面のみに限られることはない。   All of the connected plurality of grooves 45 have the same depth dimension from the first surface 41. That is, as shown in FIG. 4, the inner bottom portion 46 of each groove 45 is provided at the same height position in a cross-sectional view in a direction orthogonal to the extending direction. The inner bottom 46 of the groove 45 is not limited to a flat surface.

溝45の内底部46に金属パターン50が配置されている。金属パターン50は、導電金属からなる。金属パターン50の形成幅は、溝45における溝幅のほぼ全体に亘る。そして、金属パターン50は溝45内に配置された第1樹脂層61で覆われ、さらに第1樹脂層61および第1表面41は第2樹脂層62で覆われている。   A metal pattern 50 is disposed on the inner bottom portion 46 of the groove 45. The metal pattern 50 is made of a conductive metal. The formation width of the metal pattern 50 covers substantially the entire groove width in the groove 45. The metal pattern 50 is covered with a first resin layer 61 disposed in the groove 45, and the first resin layer 61 and the first surface 41 are covered with a second resin layer 62.

タッチセンサ10の個々の検知部20や引き出し部25の導電部位は、溝45内の金属パターン50で構成されている。   The conductive portions of the individual detection units 20 and the lead-out units 25 of the touch sensor 10 are configured by metal patterns 50 in the grooves 45.

溝45における溝幅は0.5μm〜3μmである。溝45の深さは0.5μm〜10μmである。検知部20において、外枠内のメッシュ状を構成する一方の溝45同士間は50μm〜1000μmピッチの平行関係である。他方の溝45同士間は50μm〜1000μmピッチの平行関係である。一方の溝45同士と他方の溝45同士とは、直交関係で交差して互いに連結している。   The groove width in the groove 45 is 0.5 μm to 3 μm. The depth of the groove 45 is 0.5 μm to 10 μm. In the detection unit 20, the spaces between the one grooves 45 constituting the mesh shape in the outer frame have a parallel relationship of 50 μm to 1000 μm pitch. The other grooves 45 are parallel to each other with a pitch of 50 μm to 1000 μm. One groove 45 and the other groove 45 intersect each other in an orthogonal relationship and are connected to each other.

金属パターン50の材質は、銅、銀、アルミニウム、金及びそれぞれの合金などの導電金属製である。   The material of the metal pattern 50 is made of a conductive metal such as copper, silver, aluminum, gold, and their alloys.

ここで、金属パターン50の断面形状(溝45の延設方向に直交する方向の断面視での形状)について説明する。図4に引き出して拡大して示すように、金属パターン50は、断面視では、溝45の側壁部47近傍位置の側端部50Aと、溝45の中央近傍位置の中央部50Bとを含んだ形状である。側端部50Aと中央部50Bとは一体で形成されている。中央部50Bの厚みは0.5μm〜3μmである。   Here, a cross-sectional shape of the metal pattern 50 (a shape in a cross-sectional view in a direction orthogonal to the extending direction of the groove 45) will be described. 4, the metal pattern 50 includes a side end portion 50A in the vicinity of the side wall portion 47 of the groove 45 and a central portion 50B in the vicinity of the center of the groove 45 in a cross-sectional view. Shape. The side end portion 50A and the central portion 50B are integrally formed. The thickness of the central portion 50B is 0.5 μm to 3 μm.

そして、中央部50Bの厚みよりも側端部50Aの厚みは薄い。換言すると、第1表面41から側端部50Aにおける内底部46とは反対の面までの深さ寸法は、第1表面41から中央部50Bにおける内底部46とは反対の面までの深さ寸法に対して大きい。すなわち、溝45の側壁部47は、内底部46に重ねて配置された中央部50Bの厚みの高さ位置よりも内底部46側に近い高さ位置まで露出している。この側壁部47における金属パターン50近傍の露出箇所は第1樹脂層61で覆われている。   The thickness of the side end portion 50A is thinner than the thickness of the central portion 50B. In other words, the depth dimension from the first surface 41 to the surface opposite to the inner bottom portion 46 in the side end portion 50A is the depth dimension from the first surface 41 to the surface opposite to the inner bottom portion 46 in the central portion 50B. Big against. That is, the side wall portion 47 of the groove 45 is exposed to a height position closer to the inner bottom portion 46 side than the height position of the thickness of the central portion 50B disposed so as to overlap the inner bottom portion 46. An exposed portion of the side wall 47 near the metal pattern 50 is covered with the first resin layer 61.

3μm以下の幅や厚みの金属パターン50は、視認されることを殆どなくせる。換言すると、所謂光透過性を有する状態となる。このため、金属パターン50の幅が3μm以下になることを目安に溝45の幅を設定する。   The metal pattern 50 having a width or thickness of 3 μm or less can hardly be visually recognized. In other words, it has a so-called light-transmitting state. For this reason, the width of the groove 45 is set with reference to the width of the metal pattern 50 being 3 μm or less.

所謂透明なタッチパネルを得るためには、3μm以下の幅や厚みの金属パターン50を、透明な樹脂製の基材部40に配置している検知部20を含むように構成する。   In order to obtain a so-called transparent touch panel, the metal pattern 50 having a width and thickness of 3 μm or less is configured to include the detection unit 20 disposed on the transparent resin base material unit 40.

溝45の内底部46は同じ高さ位置で、この連結した溝45全ての内底部46に上述した厚みや幅内の寸法の金属パターン50を設ける。この構成とすれば、金属パターン50が、平面視で、複数の溝45の連結形状と同じメッシュ状に溝45内に配置された透明なタッチパネルを容易に実現し得る。なお、メッシュ状の金属パターン50であれば、完全な断線状態の発生も防止可能である。   The inner bottom portions 46 of the grooves 45 are at the same height, and the metal patterns 50 having the above-described thickness and width are provided on all the inner bottom portions 46 of the connected grooves 45. With this configuration, it is possible to easily realize a transparent touch panel in which the metal pattern 50 is arranged in the groove 45 in the same mesh shape as the connection shape of the plurality of grooves 45 in plan view. In addition, if it is the mesh-shaped metal pattern 50, generation | occurrence | production of a perfect disconnection state can also be prevented.

なお、溝45は断面視で矩形以外の形状であってもよい。換言すると、深さの深い部分が内底部46になって、この内底部46に繋がる互いに対向した側壁部47を有する形状であればよい。つまり、内底部46の形状は平坦面以外に曲面形状や多角形状などであってもよい。また側壁部47も平行関係に設けられる以外であってもよい。   The groove 45 may have a shape other than a rectangle in a cross-sectional view. In other words, any shape may be used as long as the deep portion becomes the inner bottom portion 46 and the side wall portions 47 that face each other are connected to the inner bottom portion 46. That is, the shape of the inner bottom portion 46 may be a curved surface shape, a polygonal shape, or the like other than a flat surface. Further, the side wall portion 47 may be other than provided in a parallel relationship.

第1樹脂層61、第2樹脂層62は所謂絶縁レジストである。第1樹脂層61は、例えば光透過性を有するアクリル樹脂などからなる。第2樹脂層62は、例えば光透過性を有するアクリル樹脂などからなる。使用材料の種類を抑えるため、同一種類の第1樹脂層61と第2樹脂層62を用いるとよい。溝45内に配置された第1樹脂層61においても、平面視では、複数の溝45の連結形状と同じメッシュ状に配置されている。   The first resin layer 61 and the second resin layer 62 are so-called insulating resists. The first resin layer 61 is made of, for example, a light-transmitting acrylic resin. The second resin layer 62 is made of, for example, an acrylic resin having light transparency. The first resin layer 61 and the second resin layer 62 of the same type may be used in order to suppress the types of materials used. Also in the 1st resin layer 61 arrange | positioned in the groove | channel 45, it arrange | positions in the same mesh shape as the connection shape of the some groove | channel 45 by planar view.

溝45内の第1樹脂層61は、金属パターン50の中央部50Bに重なる厚さを0.5μm〜3μmで設ける。第2樹脂層62の厚さは、第1表面41に重なった箇所で0.5μm〜3μmである。なお、第2樹脂層62の基材部40とは反対側となる面は同一高さの平面であると望ましい。   The first resin layer 61 in the groove 45 is provided with a thickness of 0.5 μm to 3 μm overlapping the central portion 50B of the metal pattern 50. The thickness of the second resin layer 62 is 0.5 μm to 3 μm at the portion overlapping the first surface 41. Note that the surface of the second resin layer 62 opposite to the base 40 is preferably a flat surface having the same height.

ハードコート層70などの機能成膜が、第2表面42に重ねて設けられている。   A functional film, such as a hard coat layer 70, is provided over the second surface 42.

タッチセンサ10は、以上のように構成されている。   The touch sensor 10 is configured as described above.

そして、タッチセンサ10は基材部40の第1表面41側を筐体110の内部に向けて電子機器に搭載される(図1参照)。電子機器に搭載した状態で、基材部40の第2表面42側は外方に露出して操作面となる。   The touch sensor 10 is mounted on the electronic device with the first surface 41 side of the base member 40 facing the inside of the housing 110 (see FIG. 1). In the state mounted in the electronic device, the second surface 42 side of the base material portion 40 is exposed outward to become an operation surface.

次に、このカバーレンズ一体型のタッチセンサ10を搭載したスマートフォン100への入力操作状態を説明する。   Next, an input operation state to the smartphone 100 equipped with the cover lens integrated type touch sensor 10 will be described.

使用者は、スマートフォン100の表示装置120に各種のアイコンを表示させる。その状態で、使用者は、所望アイコンに応じたタッチセンサ10の露出した操作面を指でタッチ操作する。タッチ操作に応じて、タッチセンサ10の相応する検知部20の静電容量の変化が生じる。この静電容量の変化は、引き出し部25を通じて第2制御部220で検出される。第2制御部220は、検出結果に応じた所定信号を第1制御部210に出力する。第1制御部210は、第2制御部220からの所定信号に応じて、例えば操作した所望アイコンに対応する次画面に表示装置120の表示を遷移等させる。   The user displays various icons on the display device 120 of the smartphone 100. In this state, the user touches the exposed operation surface of the touch sensor 10 corresponding to the desired icon with a finger. In accordance with the touch operation, the capacitance of the corresponding detection unit 20 of the touch sensor 10 changes. This change in capacitance is detected by the second controller 220 through the drawer 25. The second control unit 220 outputs a predetermined signal corresponding to the detection result to the first control unit 210. In response to a predetermined signal from the second control unit 220, the first control unit 210 changes the display of the display device 120 to the next screen corresponding to the operated desired icon, for example.

ここに、タッチセンサ10の検出精度は、従来品の検出精度よりも優れる。すなわち、タッチセンサ10への操作時には、操作している指に金属パターン50の電荷が移動する。これによって、操作された箇所の静電容量が変化する。   Here, the detection accuracy of the touch sensor 10 is superior to the detection accuracy of the conventional product. That is, when the touch sensor 10 is operated, the charge of the metal pattern 50 moves to the operated finger. As a result, the capacitance of the operated portion changes.

従来品は、基材部の表面の上に重ねて構成した検知部を有する。そして、基材部の検知部側とは反対の面をカバーレンズに貼り合わせる。使用者は、その被着側とは反対のカバーレンズの面に対して入力操作をする。   The conventional product has a detection unit configured to overlap the surface of the base material unit. And the surface opposite to the detection part side of a base material part is bonded together to a cover lens. The user performs an input operation on the surface of the cover lens opposite to the attachment side.

これに対して、本発明によるタッチセンサ10は、検知部20の金属パターン50を溝45の内底部46に配置する。つまり、金属パターン50は、基材部40の厚みの中に配置している。換言すると、金属パターン50は、操作中の指に対して近づく位置関係で配置されており、このため、操作中の指に移動する電荷量が多くなる。つまり、操作された箇所での静電容量の変化量が大きく変化する。このために、タッチセンサ10は、従来品よりも検出精度の向上を図ることを可能とする。   On the other hand, the touch sensor 10 according to the present invention arranges the metal pattern 50 of the detection unit 20 on the inner bottom portion 46 of the groove 45. That is, the metal pattern 50 is disposed within the thickness of the base material portion 40. In other words, the metal pattern 50 is arranged in a positional relationship approaching the finger that is being operated, and thus the amount of charge that moves to the finger that is being operated increases. That is, the amount of change in capacitance at the operated location changes greatly. For this reason, the touch sensor 10 can improve the detection accuracy as compared with the conventional product.

さらに、タッチセンサ10はカバーレンズ一体型であるため、従来品とカバーレンズとを貼り合わせる粘着剤をなくせる。粘着剤をなくせることは電子機器の薄型化に寄与する。また、操作中の指と金属パターン50との間の距離をさらに近づけることにもなる。   Furthermore, since the touch sensor 10 is a cover lens integrated type, the adhesive that bonds the conventional product and the cover lens can be eliminated. The elimination of the pressure-sensitive adhesive contributes to thinning of the electronic device. In addition, the distance between the finger being operated and the metal pattern 50 is further reduced.

次に、図7〜図14を用いてタッチセンサ10の製造方法の説明をする。   Next, a method for manufacturing the touch sensor 10 will be described with reference to FIGS.

図7〜図14はタッチセンサ10の製造方法を説明する図である。   7-14 is a figure explaining the manufacturing method of the touch sensor 10. FIG.

図7に示したように、当該製造方法は、基材部形成工程となる第1工程810、成膜工程となる第2工程820、要部形成工程となる第3工程830、第2樹脂被膜形成工程となる第4工程840を含んでタッチセンサ10を製造する。なお、第3工程830は、詳細は後述するが複数のステップを含む。   As shown in FIG. 7, the manufacturing method includes a first step 810 that is a base material portion forming step, a second step 820 that is a film forming step, a third step 830 that is a main portion forming step, and a second resin coating. The touch sensor 10 is manufactured including the 4th process 840 used as a formation process. The third step 830 includes a plurality of steps, details of which will be described later.

第1工程810(基材部形成工程)では、ポリカーボネイトなどの樹脂を射出成形して図8に示す仕掛品410を得る。仕掛品410は、対向する第1表面41と第2表面42とを有する。仕掛品410の第1表面41においては、検知部20や引き出し部25に構成する箇所に溝45を有する。溝45は内底部46と側壁部47とを含み、平面視ではメッシュ状等に互いに連結している。すなわち、第1工程810では、基材部40そのものを仕掛品410として形成する。   In the first step 810 (base material forming step), a resin such as polycarbonate is injection-molded to obtain an in-process product 410 shown in FIG. The work in process 410 has a first surface 41 and a second surface 42 that face each other. On the first surface 41 of the work-in-progress item 410, a groove 45 is provided at a location constituting the detection unit 20 or the drawer unit 25. The groove 45 includes an inner bottom portion 46 and a side wall portion 47 and is connected to each other in a mesh shape or the like in plan view. That is, in the first step 810, the base material portion 40 itself is formed as the work-in-process 410.

ここで、互いに連結する溝45は第1表面41から内底部46までの深さ寸法が同じである。そして、溝45の溝幅(内底部46に繋がった側壁部47同士間の寸法)は0.5μm〜3μmである。なお、溝45を有する仕掛品410は成形以外の方法で得てもよい。例えば対向する表裏面が平坦な平板状の基材部にレーザ加工を施すこと等によって溝45を有する仕掛品410を得てもよい。   Here, the grooves 45 connected to each other have the same depth dimension from the first surface 41 to the inner bottom portion 46. The groove width of the groove 45 (the dimension between the side wall parts 47 connected to the inner bottom part 46) is 0.5 μm to 3 μm. The work-in-process 410 having the groove 45 may be obtained by a method other than molding. For example, the work-in-progress 410 having the groove 45 may be obtained by performing laser processing on a flat base member having flat front and back surfaces.

仕掛品410は、一つずつの単体で形成してもよい。または、基材部40を複数個取れるように大判状等で形成してもよい。   The work-in-progress 410 may be formed as a single piece. Alternatively, it may be formed in a large shape so that a plurality of base material portions 40 can be taken.

次に、仕掛品410に対して第2工程820(成膜工程)を行う。これによって、図9に示す仕掛品420を得る。仕掛品420は、溝45内を含んで導電金属膜500を有する。すなわち、第2工程820では、基材部40の第1表面41側に銅等の導電金属からなる導電金属膜500を成膜する。成膜方法はスパッタ法や蒸着法を用いるとよい。または、その他の方法を用いてもよい。   Next, the second process 820 (film forming process) is performed on the work-in-process 410. As a result, the work-in-process 420 shown in FIG. 9 is obtained. The work in process 420 includes the conductive metal film 500 including the inside of the groove 45. That is, in the second step 820, a conductive metal film 500 made of a conductive metal such as copper is formed on the first surface 41 side of the base material portion 40. As a film forming method, a sputtering method or a vapor deposition method may be used. Alternatively, other methods may be used.

導電金属膜500は、図9に引き出して示す拡大図のように、第1表面41に重なる第1部分510と、溝45の内底部46に重なる第2部分520と、溝45の側壁部47に付着する第3部分530とを有する。第1部分510と第2部分520とは、ほぼ同じ厚みである。ここに、当該製造方法では、後述する第3工程830を経て、第2部分520から金属パターン50を得る。このため、第2部分520の厚みは、後述する第3工程830を経た後に、金属パターン50の中央部50Bで必要な厚み(例えば0.5μm〜3μm)を確保する厚みで設ける。   As shown in the enlarged view shown in FIG. 9, the conductive metal film 500 includes a first portion 510 that overlaps the first surface 41, a second portion 520 that overlaps the inner bottom portion 46 of the groove 45, and a side wall portion 47 of the groove 45. And a third portion 530 attached to the surface. The first portion 510 and the second portion 520 have substantially the same thickness. Here, in the manufacturing method, the metal pattern 50 is obtained from the second portion 520 through a third step 830 described later. For this reason, the thickness of the 2nd part 520 is provided in the thickness which ensures thickness (for example, 0.5 micrometer-3 micrometers) required in the center part 50B of the metal pattern 50, after passing through the 3rd process 830 mentioned later.

なお、スパッタ法で導電金属膜500の成膜を行う場合、ターゲット表面から、はじき出された金属原子の多くは第1部分510と第2部分520とを形成する。はじき出された金属原子のうちの一部は、側壁部47に付着して第3部分530を形成する。このため、第3部分530は、第1部分510と第2部分520に対して薄い厚みで結晶度合いも低くなり易い。また、側壁部47近傍の第1部分510箇所や第2部分520箇所についても結晶度合いは低くなることも多い。   Note that when the conductive metal film 500 is formed by the sputtering method, most of the metal atoms ejected from the target surface form the first portion 510 and the second portion 520. Some of the ejected metal atoms adhere to the side wall portion 47 to form the third portion 530. For this reason, the third portion 530 is thinner than the first portion 510 and the second portion 520 and tends to have a low crystallinity. In addition, the degree of crystallinity is often low at the first portion 510 and the second portion 520 near the side wall 47.

次に、仕掛品420に対して第3工程830(要部形成工程)を行う。第3工程830は、図7にも示したように、エッチング処理をする第1ステップ831と、第1樹脂被膜を形成する第2ステップ832と、第1樹脂被膜の不要部を除去する第3ステップ833と、導電金属膜500の第1部分510を除去する第4ステップ834とを含む。   Next, a third step 830 (main part forming step) is performed on the work-in-progress 420. As shown in FIG. 7, the third step 830 includes a first step 831 for performing an etching process, a second step 832 for forming the first resin film, and a third step for removing unnecessary portions of the first resin film. Step 833 and a fourth step 834 for removing the first portion 510 of the conductive metal film 500 are included.

まず、仕掛品420に対して第1ステップ831を行う。これによって、図10に示す仕掛品430を得る。   First, the first step 831 is performed on the work-in-progress 420. As a result, the work-in-process 430 shown in FIG. 10 is obtained.

第1ステップ831では、仕掛品420に対して、希釈したエッチング液でエッチング処理を行う。このエッチング処理は、結晶度合いの低い第3部分530を除去するために行う。エッチング液の希釈度合いは、エッチングを行う時間や温度などを考慮しつつ第3部分530の除去度合い等で適宜設定する。第1ステップ831では、通常のエッチング液に対して例えば1.5倍〜15倍に希釈したエッチング液を用いる。   In the first step 831, the work-in-progress 420 is etched with a diluted etchant. This etching process is performed to remove the third portion 530 having a low degree of crystallinity. The degree of dilution of the etchant is set as appropriate depending on the degree of removal of the third portion 530 and the like while taking into consideration the time and temperature for etching. In the first step 831, an etching solution diluted by 1.5 times to 15 times, for example, with respect to a normal etching solution is used.

第1ステップ831を行った後の仕掛品430は、図10に示すように、第3部分530を除去したため、側壁部47は露出状態になっている。ここに、側壁部47近傍の結晶度の低い第1部分510箇所、第2部分520箇所も少し取り除かれることになる。一方、仕掛品430の側壁部47近傍以外の第1部分510箇所や第2部分520箇所は除去されることなく、ほぼそのままで残る。   Since the work-in-process 430 after performing the first step 831 has the third portion 530 removed as shown in FIG. 10, the side wall 47 is exposed. Here, the first portion 510 and the second portion 520 having low crystallinity near the side wall 47 are also slightly removed. On the other hand, the first portion 510 and the second portion 520 other than the vicinity of the side wall 47 of the work-in-process 430 are not removed and remain almost as they are.

すなわち、第1ステップ831後の仕掛品430では、溝45内に、前述説明した形状の金属パターン50を有した構成となる。換言すると、第1ステップ831を経ることによって、第2部分520が、断面視で、溝45の側壁部47近傍位置の側端部50Aと、溝45の中央近傍位置の中央部50Bとを含んだ形状の金属パターン50に形成される。つまり、第1ステップ831では、内底部46に重なる側端部50Aが形成されることから、溝45の側壁部47は、中央部50Bの厚みの高さ位置よりも内底部46側に近い高さ位置まで露出するようになる。   That is, the work-in-process 430 after the first step 831 has a configuration in which the metal pattern 50 having the shape described above is provided in the groove 45. In other words, through the first step 831, the second portion 520 includes the side end portion 50 </ b> A near the side wall 47 of the groove 45 and the central portion 50 </ b> B near the center of the groove 45 in a cross-sectional view. It is formed in a metal pattern 50 having an elliptical shape. That is, in the first step 831, the side end portion 50A that overlaps the inner bottom portion 46 is formed, so that the side wall portion 47 of the groove 45 is closer to the inner bottom portion 46 side than the height position of the thickness of the central portion 50B. It will be exposed to the position.

次に、仕掛品430に第3工程の第2ステップ832を行う。つまり、仕掛品430に対して、基材部40の第1表面41側に液状の第1樹脂液を塗布する。スピンコート法を用いると好ましいが塗布方法は限定されない。なお、基材部40に相当する部分を複数取り可能な大判状とすれば生産効率に優れる。第1樹脂液は、溝45内が第1樹脂液で満たされるように粘度調整などをする。   Next, the second step 832 of the third process is performed on the work-in-process 430. That is, the liquid first resin liquid is applied to the work-in-process 430 on the first surface 41 side of the base material portion 40. The spin coating method is preferably used, but the coating method is not limited. In addition, if it is set as the large size which can take a part corresponding to the base material part 40, it will be excellent in production efficiency. The viscosity of the first resin liquid is adjusted so that the groove 45 is filled with the first resin liquid.

その後、塗布した第1樹脂液を硬化させ、図11に示したように、第1樹脂被膜600を第1表面41側に有する仕掛品440に形成する。硬化手段は特に限定されない。硬化時間などの短縮化を図るためには、第1樹脂液としてUV硬化型のレジスト材料からなる樹脂材料を用いるとよい。   Thereafter, the applied first resin liquid is cured, and as shown in FIG. 11, a first resin film 600 is formed on the work-in-process 440 having the first surface 41 side. The curing means is not particularly limited. In order to shorten the curing time and the like, it is preferable to use a resin material made of a UV curable resist material as the first resin liquid.

第1樹脂被膜600は、溝45内の金属パターン50に重なって溝45内を充填するように設ける。第1樹脂被膜600の基材部40とは反対の露出面は、溝45に応じた位置を含めて略同一高さであると望ましい。   The first resin film 600 is provided so as to fill the groove 45 so as to overlap the metal pattern 50 in the groove 45. It is desirable that the exposed surface of the first resin film 600 opposite to the base material portion 40 has substantially the same height including the position corresponding to the groove 45.

さらに、第1樹脂被膜600の厚み設定としては、その露出面から第1部分510までの厚み(図11中のB寸法)を、第1表面41から溝45の内底部46に重なって配置された金属パターン50の中央部50Bまでの厚み(図11中のC寸法)よりも薄くなるようにする。言い換えると、上記関係の第1樹脂被膜600になるように、溝45の深さや導電金属膜500の厚みを設定して設ける。かつ、第1樹脂被膜600の形成厚みも管理して設ける。なお、スピンコート法を用いて第1樹脂液を塗布すると、第1表面41に溝45があっても、また溝45内に配置された金属パターン50の側端部50Aによって形成される断面略三角形状の空間があっても、第1樹脂液を全体的に均一に塗布して塗布表面の高さ位置を揃えられる。すなわち、露出面全ての高さ位置の揃っている第1樹脂被膜600を容易に形成可能とするため好ましい。スピンコート法以外の方法としては、第1樹脂液を塗布した後に、その表面をウレタン、シリコーン等の弾性のある材料で第1樹脂液を掻きとるラビング法(スキージ法)を用いてもよい。これであっても、スピンコート法と同様に、露出面全ての高さ位置の揃った第1樹脂被膜600を簡易に得られる。   Furthermore, as the thickness setting of the first resin film 600, the thickness from the exposed surface to the first portion 510 (dimension B in FIG. 11) is arranged so as to overlap the inner bottom portion 46 of the groove 45 from the first surface 41. The thickness of the metal pattern 50 is made thinner than the thickness up to the central portion 50B (C dimension in FIG. 11). In other words, the depth of the groove 45 and the thickness of the conductive metal film 500 are set so as to be the first resin film 600 having the above relationship. And the formation thickness of the 1st resin film 600 is also managed and provided. When the first resin liquid is applied using the spin coating method, the cross section formed by the side end portion 50A of the metal pattern 50 disposed in the groove 45 even if the groove 45 is present on the first surface 41. Even if there is a triangular space, the first resin liquid can be uniformly applied as a whole and the height position of the application surface can be made uniform. That is, it is preferable because the first resin film 600 in which the height positions of all the exposed surfaces are aligned can be easily formed. As a method other than the spin coating method, a rubbing method (squeegee method) may be used in which the first resin liquid is applied and then the surface is scraped with an elastic material such as urethane or silicone. Even in this case, as in the spin coating method, it is possible to easily obtain the first resin film 600 in which the height positions of all the exposed surfaces are aligned.

第3工程の第3ステップ833では、第1樹脂被膜600の不要部を除去した仕掛品450(図12参照)に形成する。   In the third step 833 of the third step, the work-in-process 450 (see FIG. 12) from which unnecessary portions of the first resin coating 600 are removed is formed.

第1樹脂被膜600の不要部の除去は、例えば、酸素ガスを用いたエッチング処理で行う。この除去の際には、溝45内で金属パターン50を覆っている第1樹脂被膜600箇所の除去も進む。ここで、仕掛品440では、上述したB寸法とC寸法との関係で溝45内を含めて第1樹脂被膜600を形成している。これであれば、導電金属膜500の第1部分510に重なった第1樹脂被膜600を除去して、しかも溝45内の第1樹脂被膜600は、所定厚みで維持されるようになる。すなわち、第1樹脂層61は、その溝45内に維持された第1樹脂被膜600からなる。この第3ステップ833を経て、図12に示すように、溝45内に第1樹脂層61を有する仕掛品450を得る。仕掛品450における第1樹脂層61と第1表面41に重なる導電金属膜500の第1部分510は表出している。   For example, the unnecessary portion of the first resin film 600 is removed by an etching process using oxygen gas. At the time of this removal, the removal of the first resin film 600 that covers the metal pattern 50 in the groove 45 also proceeds. Here, in the work-in-process 440, the first resin film 600 is formed including the inside of the groove 45 due to the relationship between the B dimension and the C dimension described above. In this case, the first resin film 600 overlapping the first portion 510 of the conductive metal film 500 is removed, and the first resin film 600 in the groove 45 is maintained at a predetermined thickness. That is, the first resin layer 61 is composed of the first resin film 600 maintained in the groove 45. Through this third step 833, a work-in-process 450 having the first resin layer 61 in the groove 45 is obtained as shown in FIG. The first portion 510 of the conductive metal film 500 overlapping the first resin layer 61 and the first surface 41 in the work-in-process 450 is exposed.

続いて、第4ステップ834で、導電金属膜500の第1部分510を除去した仕掛品460(図13参照)に形成する。例えば、銅素材からなる導電金属膜500であれば、第1表面41に重なった第1部分510を、銅に対するエッチング処理をして除去する。これによって、図13に示す仕掛品460を得る。   Subsequently, in a fourth step 834, a work-in-process 460 (see FIG. 13) from which the first portion 510 of the conductive metal film 500 has been removed is formed. For example, in the case of the conductive metal film 500 made of a copper material, the first portion 510 overlapping the first surface 41 is removed by performing an etching process on copper. As a result, the work-in-process 460 shown in FIG. 13 is obtained.

仕掛品460は、溝45内の内底部46に重なって配置された金属パターン50を有する。また、仕掛品460の金属パターン50は、溝45内で第1樹脂層61に覆われている。さらに、仕掛品460の基材部40そのものの第1表面41は露出している。そして、仕掛品460において、第1樹脂層61表面の高さ位置は、第1表面41に対して少し窪む、もしくは同一高さになっているとよい。   The work-in-process 460 has a metal pattern 50 disposed so as to overlap the inner bottom portion 46 in the groove 45. The metal pattern 50 of the work-in-process 460 is covered with the first resin layer 61 in the groove 45. Further, the first surface 41 of the base material portion 40 itself of the work-in-process 460 is exposed. In the work-in-process 460, the height position of the surface of the first resin layer 61 is preferably slightly depressed with respect to the first surface 41 or the same height.

なお、当該製造方法では、第1ステップ831で導電金属膜500の第3部分530を除去して第4ステップ834を行う。例えば第4ステップ834のときに第3部分530を有する状態の場合、第4ステップ834で第3部分530が除去され、さらには金属パターン50にまで影響を及ぼす可能性を有する。これを排除するために、第1ステップ831を入れておき、その後の第4ステップ834のエッチング処理を行う。これであれば、第4ステップ834での金属パターン50への影響は少なく抑えられる。   In the manufacturing method, the third portion 530 of the conductive metal film 500 is removed in the first step 831 and the fourth step 834 is performed. For example, in the state where the third portion 530 is included at the time of the fourth step 834, the third portion 530 is removed at the fourth step 834, and there is a possibility that the metal pattern 50 may be affected. In order to eliminate this, the first step 831 is inserted, and the etching process of the fourth step 834 is performed thereafter. If this is the case, the influence on the metal pattern 50 in the fourth step 834 can be reduced.

第4工程では、仕掛品460に対して第1表面41側から液状の第2樹脂液を塗布する。そして、この第2樹脂液を硬化させることによって、図14に示す仕掛品470に形成する。すなわち、仕掛品470では、溝45位置を含めて第1表面41側を覆う第2樹脂層62を有する構成にする。第2樹脂層62は、好ましくは均一的な表面高さ位置になるように設ける。   In the fourth step, the liquid second resin liquid is applied to the work-in-process 460 from the first surface 41 side. Then, the second resin liquid is cured to form a work-in-process 470 shown in FIG. That is, the work-in-process 470 is configured to have the second resin layer 62 that covers the first surface 41 side including the position of the groove 45. The second resin layer 62 is preferably provided so as to have a uniform surface height position.

なお、第2樹脂液は、第1樹脂液の塗布と同じように、塗布状態で溝45内に第2樹脂液が満たされるように粘度調整などをする。また、望ましくは、第2樹脂液の塗布方法にスピンコート法を用いる。   Note that the viscosity of the second resin liquid is adjusted so that the groove 45 is filled with the second resin liquid in the applied state, similarly to the application of the first resin liquid. Desirably, a spin coating method is used as a coating method of the second resin liquid.

その後、仕掛品470の第2表面42側にハードコート層70などの機能成膜を設けて、タッチセンサ10の本体部15に完成する。なお、大判状で形成している場合には、外形を打ち抜き、タッチセンサ10の個別の本体部15に形成する。   Thereafter, a functional film such as the hard coat layer 70 is provided on the second surface 42 side of the work-in-process 470 to complete the main body 15 of the touch sensor 10. In the case of forming in a large shape, the outer shape is punched and formed on the individual main body 15 of the touch sensor 10.

なお、ハードコート層70などの機能成膜の形成タイミングは第1工程の後などに行ってもよい。そして、カバーレンズ一体型のタッチセンサ10の場合には、第2表面42側の機能成膜の上を指等で操作するようになる。つまり、平坦な表面を有する機能成膜が望ましい。このため、機能成膜もスピンコート法を用いて形成するとよい。   The formation timing of the functional film such as the hard coat layer 70 may be performed after the first step. In the case of the cover lens integrated type touch sensor 10, the function film on the second surface 42 side is operated with a finger or the like. That is, functional film formation with a flat surface is desirable. For this reason, it is preferable to form the functional film using the spin coat method.

続いて、本体部15にフレキシブル配線板を装着させるなどしてタッチセンサ10とする。   Subsequently, the touch sensor 10 is formed by attaching a flexible wiring board to the main body 15.

以上のように、当該製造方法であれば、簡素な工程で、タッチセンサ10を生産し得る。なお、このタッチセンサ10は、上述したように、従来品に比べて検知部20の導電部位としてなる金属パターン50と指との距離の近づいた構成品となる。そして、このタッチセンサ10は、製造方法を含めて検知部20などの導電部位の材質として高価なITO製や導電性ナノワイヤーを用いない。このため、安価な構成のタッチセンサ10を提供可能とする。さらに、当該製造方法のようにスピンコート法を用いると、第1樹脂液や第2樹脂液を短時間で同一高さに塗布して、かつ大判状であっても効率よく形成可能とするため、これも安価で高品質なタッチセンサ10を得ることに寄与する。   As described above, with the manufacturing method, the touch sensor 10 can be produced by a simple process. As described above, the touch sensor 10 is a component in which the distance between the metal pattern 50 serving as the conductive portion of the detection unit 20 and the finger is closer than that of the conventional product. The touch sensor 10 does not use expensive ITO or conductive nanowires as the material of the conductive portion such as the detection unit 20 including the manufacturing method. For this reason, it is possible to provide the touch sensor 10 having an inexpensive configuration. Further, when the spin coating method is used as in the manufacturing method, the first resin liquid and the second resin liquid can be applied to the same height in a short time and can be efficiently formed even in a large size. This also contributes to obtaining an inexpensive and high-quality touch sensor 10.

さらに、当該製造方法では、基材部40を所定厚みで形成することによって、カバーレンズ一体型のタッチセンサ10に製造可能とする。カバーレンズ一体型のタッチセンサ10であれば、電子機器に搭載するにあたって、従来品のようにカバーレンズへの貼り合わせ工程は不要である。また、貼り合わせ工程での貼り合わせずれの発生要因等もなくせる。なお、タッチセンサ10は、カバーレンズに貼り合わせて使用する形態で用いてもよく、その場合には、製造時に基材部40の形成厚みを相応する厚みにすればよい。   Furthermore, in the manufacturing method, the cover lens integrated touch sensor 10 can be manufactured by forming the base material portion 40 with a predetermined thickness. The cover lens integrated type touch sensor 10 does not require a bonding process to the cover lens as in the conventional product when mounted on an electronic device. Further, it is possible to eliminate the cause of the bonding deviation in the bonding process. Note that the touch sensor 10 may be used in a form of being attached to a cover lens. In this case, the thickness of the base material portion 40 may be set to a corresponding thickness at the time of manufacture.

なお、第3工程830の第1ステップ831は必要に応じて行うようにしてもよい。例えば導電金属膜500の成膜時に、溝45の側壁部47に付着して形成される第3部分530がほぼない場合などに第1ステップ831を省いてもよい。この場合では、金属パターン50は側端部50Aを有しない形状となる。   Note that the first step 831 of the third step 830 may be performed as necessary. For example, when the conductive metal film 500 is formed, the first step 831 may be omitted when there is almost no third portion 530 formed on the side wall 47 of the groove 45. In this case, the metal pattern 50 has a shape without the side end portion 50A.

なお、上記には、平板状で、曲がっていない基材部40を含んで構成したタッチセンサ10について説明した。しかしながら、当該製造方法であれば、図15に示した変形例のタッチセンサ10Aを得ることも可能である。タッチセンサ10Aは、短手方向側のみを円弧状に形成している形状である。   In addition, the touch sensor 10 comprised including the base-material part 40 which is flat shape and is not bent above was demonstrated. However, if it is the said manufacturing method, it is also possible to obtain the touch sensor 10A of the modification shown in FIG. The touch sensor 10A has a shape in which only the lateral direction side is formed in an arc shape.

タッチセンサ10Aを製造するには、上述した第1工程において、短手方向側のみが円弧状になった基材部に形成する。その後の第2工程以降は同じ工程を用いる。基材部の第1表面や第2表面が曲面的である形状のタッチセンサ10Aであっても、スピンコート法を用いると第1樹脂液などの塗布は容易である。なお、タッチセンサ10Aのように短手方向側のみを円弧状にする代わりに、長手方向側のみを円弧状にしたり、または曲面的に繋がっている凸状や凹状の形状などであっても同様である。   In order to manufacture the touch sensor 10 </ b> A, in the first step described above, only the short side is formed on the base material having an arc shape. The same process is used after the second process thereafter. Even if the touch sensor 10A has a curved shape on the first surface and the second surface of the base material, application of the first resin liquid or the like is easy when the spin coating method is used. In addition, instead of making only the short direction side into an arc shape like the touch sensor 10A, only the longitudinal direction side is made into an arc shape, or a convex shape or a concave shape connected in a curved surface is the same. It is.

なお、溝45内の金属パターン50を導電部位とした検知部20は、例えば第1板状部材と第2板状部材とを貼り合わせた構成品の検知部として適用してもよい。すなわち、この構成品は、第1板状部材においてX方向に伸びる帯状の検知部を複数本、平行関係で配列形成し、第2板状部材においてY方向に伸びる帯状の検知部を複数本、配列形成し、第1板状部材と第2板状部材とを貼り合わせて構成する。これらの検知部の全てまたは一部を金属パターン50で設けるなどにしてもよい。なお、タッチセンサ10、10Aや上述構成品以外であっても、金属パターン50を適用させた構成にしてもよい。   In addition, you may apply the detection part 20 which made the metal pattern 50 in the groove | channel 45 the electroconductive part as a detection part of the component which bonded the 1st plate-shaped member and the 2nd plate-shaped member, for example. That is, this component has a plurality of strip-shaped detection portions extending in the X direction in the first plate-shaped member, arranged in parallel, and a plurality of strip-shaped detection portions extending in the Y direction in the second plate-shaped member, An array is formed and the first plate member and the second plate member are bonded together. All or a part of these detection units may be provided by the metal pattern 50. In addition, you may make it the structure to which the metal pattern 50 was applied even if it is other than the touch sensor 10 and 10A and the above-mentioned component.

なお、以上では、光透過性を有するタッチセンサ10、10Aをスマートフォン100に搭載する例で説明した。タッチセンサ10、10Aは、スマートフォン100以外に各種電子機器の入力操作部用等に搭載してもよい。例えば表示内容の視認の必要のない箇所にタッチセンサ10、10Aを配設して搭載してもよい。この場合、タッチセンサ10、10Aの光透過性は不要であるので、タッチセンサ10、10Aを構成するにあたって使用材料の選択幅を広げて、さらに安価に構成することも可能である。なお、光透過性の不要なタッチセンサを搭載する電子機器は、特に限定されない。例えば自動車の車室内の操作パネルなどである。   In the above description, the touch sensor 10 or 10 </ b> A having optical transparency has been described as being mounted on the smartphone 100. The touch sensors 10 and 10A may be mounted for input operation units of various electronic devices in addition to the smartphone 100. For example, the touch sensors 10 and 10A may be disposed and mounted at a location where the display content does not need to be visually recognized. In this case, since the light transmissivity of the touch sensors 10 and 10A is not necessary, it is possible to increase the selection range of materials used in configuring the touch sensors 10 and 10A and to further reduce the cost. Note that an electronic device on which a touch sensor that does not require light transmission is mounted is not particularly limited. For example, an operation panel in a passenger compartment of an automobile.

本発明によるタッチセンサおよびタッチセンサの製造方法は、従来品よりも検知部の導電部位と操作中の指等との距離を近づけ、しかも安価にカバーレンズ一体型のタッチセンサを提供することを可能とし、主に各種電子機器の入力操作部用等に有用である。   The touch sensor and the touch sensor manufacturing method according to the present invention can provide a touch sensor integrated with a cover lens at a lower cost, closer to the distance between the conductive portion of the detection unit and the finger being operated than the conventional product. It is useful mainly for the input operation unit of various electronic devices.

10、10A タッチセンサ
15 本体部
20 検知部
25 引き出し部
40 基材部
41 第1表面
42 第2表面
45 溝
46 内底部
47 側壁部
50 金属パターン
50A 側端部
50B 中央部
61 第1樹脂層
62 第2樹脂層
70 ハードコート層
100 スマートフォン
110 筐体
120 表示装置
130 マイク
140 スピーカ
210 第1制御部
220 第2制御部
250 送受信部
300 側面スイッチ部
410、420、430、440、450、460、470 仕掛品
500 導電金属膜
510 第1部分
520 第2部分
530 第3部分
600 第1樹脂被膜
810 第1工程
820 第2工程
830 第3工程
831 第1ステップ
832 第2ステップ
833 第3ステップ
834 第4ステップ
840 第4工程
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10A Touch sensor 15 Main body part 20 Detection part 25 Drawer part 40 Base part 41 1st surface 42 2nd surface 45 Groove 46 Inner bottom part 47 Side wall part 50 Metal pattern 50A Side edge part 50B Center part 61 1st resin layer 62 Second resin layer 70 Hard coat layer 100 Smartphone 110 Housing 120 Display device 130 Microphone 140 Speaker 210 First control unit 220 Second control unit 250 Transmission / reception unit 300 Side switch units 410, 420, 430, 440, 450, 460, 470 Work in process 500 Conductive metal film 510 1st part 520 2nd part 530 3rd part 600 1st resin coating 810 1st process 820 2nd process 830 3rd process 831 1st step 832 2nd step 833 3rd step 834 4th Step 840 4th process

Claims (12)

第1表面に溝を有する基材部と、
前記溝の内底部に配置された金属パターンと、を備え、
前記金属パターンは、前記溝の延設方向に直交する溝幅方向の断面視で、前記溝の側壁部近傍に配置される側端部と、前記側端部と一体形成されて前記溝の中央近傍に配置される中央部とを含み、かつ前記第1表面から前記側端部までの深さ寸法が、前記第1表面から前記中央部までの深さ寸法よりも大きくなる形状であり、
前記金属パターンを検知部の導電部位としていることを特徴とするタッチセンサ。
A base material having a groove on the first surface;
A metal pattern disposed on the inner bottom of the groove,
The metal pattern is integrally formed with a side end portion disposed in the vicinity of the side wall portion of the groove and the side end portion in a cross-sectional view in the groove width direction orthogonal to the extending direction of the groove, and is formed in the center of the groove. A central portion disposed in the vicinity, and a depth dimension from the first surface to the side end portion is larger than a depth dimension from the first surface to the central portion,
A touch sensor characterized in that the metal pattern is used as a conductive portion of a detection unit.
さらに、前記金属パターンを前記溝内で覆う第1樹脂層と、
前記第1樹脂層を覆うように前記第1表面に重なる第2樹脂層とを備えた、請求項1に記載のタッチセンサ。
A first resin layer covering the metal pattern in the groove;
The touch sensor according to claim 1, further comprising a second resin layer that overlaps the first surface so as to cover the first resin layer.
前記溝は、複数設けられて互いに連結しており、かつ前記溝における内底部は前記第1表面に対して同じ深さで形成された請求項1記載のタッチセンサ。 The touch sensor according to claim 1, wherein a plurality of the grooves are provided and connected to each other, and an inner bottom portion of the grooves is formed at the same depth with respect to the first surface. 前記基材部が光透過性を有する樹脂で形成されると共に、前記金属パターンの幅が0.5μm〜3μmで設けられた請求項1記載のタッチセンサ。 The touch sensor according to claim 1, wherein the base material portion is formed of a light-transmitting resin, and the metal pattern has a width of 0.5 μm to 3 μm. 前記金属パターンの材質が、銅、銀、アルミニウム、金及びそれぞれの合金である請求項1記載のタッチセンサ。 The touch sensor according to claim 1, wherein a material of the metal pattern is copper, silver, aluminum, gold, or an alloy thereof. 前記基材部の前記第1表面に対向する第2表面に機能成膜を設けて操作面とした請求項1記載のタッチセンサ。 The touch sensor according to claim 1, wherein a functional film is provided on a second surface facing the first surface of the base material portion to form an operation surface. 第1表面に溝を有する基材部を所定の樹脂で形成する第1工程と、
前記基材部の前記第1表面に前記溝内を含めて導電金属膜を成膜する第2工程と、
前記基材部の前記溝の側壁部に付着した前記導電金属膜を除去して、前記基材部の前記第1表面側に液状の第1樹脂液を塗布し、その後、前記第1樹脂液を硬化させて第1樹脂被膜を形成し、
前記基材部における前記溝内以外の箇所の前記導電金属膜および前記第1樹脂被膜を除去して、前記溝内に金属パターンとそれを覆う第1樹脂層を形成する第3工程と、
前記基材部の前記第1表面側から液状の第2樹脂液を塗布し、その後、前記第2樹脂液を硬化させて、前記第1樹脂層を覆うように前記第1表面に重なる第2樹脂層を形成する第4工程と、を有するタッチセンサの製造方法。
A first step of forming a base portion having a groove on the first surface with a predetermined resin;
A second step of forming a conductive metal film on the first surface of the base material part including the inside of the groove;
The conductive metal film adhering to the side wall portion of the groove of the base material portion is removed, and a liquid first resin liquid is applied to the first surface side of the base material portion, and then the first resin liquid is applied. To form a first resin film,
A third step of removing the conductive metal film and the first resin film in places other than the inside of the groove in the base material portion to form a metal pattern and a first resin layer covering the metal pattern in the groove;
A liquid second resin liquid is applied from the first surface side of the base material portion, and then the second resin liquid is cured to overlap the first surface so as to cover the first resin layer. And a fourth step of forming a resin layer.
前記第3工程において、前記第1樹脂液の塗布をスピンコート法、もしくはラビング法で行う請求項7記載のタッチセンサの製造方法。 The touch sensor manufacturing method according to claim 7, wherein in the third step, the first resin liquid is applied by a spin coating method or a rubbing method. 前記第3工程で形成される前記第1樹脂被膜は、前記第1樹脂被膜の露出面から前記第1表面に重なっている前記導電金属膜までの厚みが、前記第1表面から前記溝の内底部に重なっている前記金属パターンまでの厚みよりも薄い請求項7記載のタッチセンサの製造方法。 The thickness of the first resin film formed in the third step from the exposed surface of the first resin film to the conductive metal film overlapping the first surface is from the first surface to the inside of the groove. The touch sensor manufacturing method according to claim 7, wherein the touch sensor is thinner than a thickness of the metal pattern overlapping the bottom. 前記第4工程において、前記第2樹脂液の塗布をスピンコート法で行う請求項7記載のタッチセンサの製造方法。 The touch sensor manufacturing method according to claim 7, wherein in the fourth step, the second resin liquid is applied by a spin coating method. 前記基材部を形成する所定の樹脂として光透過性を有するものを用い、前記金属パターンの幅を0.5μm〜3μmで設けた請求項7記載のタッチセンサの製造方法。 The method for manufacturing a touch sensor according to claim 7, wherein a predetermined resin that forms the base portion is a light-transmitting resin, and the metal pattern has a width of 0.5 μm to 3 μm. 前記基材部の前記第2表面側にスピンコート法で機能成膜を形成するようにした請求項7記載のタッチセンサの製造方法。 The touch sensor manufacturing method according to claim 7, wherein the functional film is formed by spin coating on the second surface side of the base portion.
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