JP2016157120A - Optical circuit board - Google Patents
Optical circuit board Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016157120A JP2016157120A JP2016031280A JP2016031280A JP2016157120A JP 2016157120 A JP2016157120 A JP 2016157120A JP 2016031280 A JP2016031280 A JP 2016031280A JP 2016031280 A JP2016031280 A JP 2016031280A JP 2016157120 A JP2016157120 A JP 2016157120A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- optical waveguide
- circuit board
- layer
- wiring conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
本発明は、光信号の方向変換を行う反射面を有する光回路基板に関するものである。 The present invention relates to an optical circuit board having a reflecting surface for changing the direction of an optical signal.
図3に、従来の光回路基板Bの一例を示す。
従来の光回路基板Bは、図3に示すように、配線基板20と、光導波路形成部21と、を備えている。
FIG. 3 shows an example of a conventional optical circuit board B.
As shown in FIG. 3, the conventional optical circuit board B includes a
配線基板20は、下層の絶縁層22aと上層の絶縁層22bとを備えている。各絶縁層22a、22bには、接続孔23が形成されている。下層の絶縁層22a上面および接続孔23内には、下層の配線導体24aが形成されている。上層の絶縁層22b上面および接続孔23内には、上層の配線導体24bが形成されている。さらに、下層の絶縁層22aの下面には、外部接続パッド25が形成されている。
The
光導波路形成部21は、配線基板20上に形成されている。光導波路形成部21には、光導波路26および電子部品接続パッド27が形成されている。
光導波路26は、下部クラッド層26aとコア26bと上部クラッド層26cとにより形成されている。光導波路26には、光信号が伝送される。
電子部品接続パッド27は、上部クラッド層26cの上面に形成されている。電子部品接続パッド27には、図示しない電子部品が実装される。この電子部品と光導波路26との間で光信号の授受が行われる。
さらに光導波路形成部21には、光導波路形成部21を貫通するように接続孔28が形成されている。接続孔28内には、接続導体28aが被着されている。この接続導体28aを介して電子部品接続パッド27と上層の配線導体24bとが接続されている。
光導波路形成部21を構成する下部クラッド層26aと上部クラッド層26cは、ベタ状の絶縁層である。コア26bは、断面が四角の細い帯状である。下部クラッド層26aおよび上部クラッド層26cは、コア26bの表面に密着してコア26bを取り囲んでいる。
さらに、コア26bは、その一端に反射面Mを有している。反射面Mは、コア26bの延在方向に直角かつ上主面に対して所定の角度を有する断面から成る。この反射面Mを介して、光導波路26と電子部品との間で光信号の授受が行われる。
The optical
The
The electronic
Further, a
The
Furthermore, the
次に、従来の光回路基板の製造方法の一例について、図4(a)〜(i)に示す要部拡大図を基にして説明する。なお、図3と同様の個所には同様の符号を付して説明する。 Next, an example of a conventional method for manufacturing an optical circuit board will be described with reference to enlarged views of main parts shown in FIGS. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the part similar to FIG.
まず、図4(a)に示すように、上面に下層の配線導体24aが被着されているとともに、下面に外部接続パッド25が被着された下層の絶縁層22aを準備する。
First, as shown in FIG. 4A, a lower
次に、図4(b)に示すように、下層の絶縁層22aの上面に上層の絶縁層22bを積層するとともに、下層の配線導体24aを底面とする接続孔23を形成する。
Next, as shown in FIG. 4B, the upper insulating
次に、図4(c)に示すように、上層の絶縁層22bの上面および接続孔23内に上層の配線導体24bを被着させることで配線基板20を形成する。
Next, as shown in FIG. 4C, the
次に、図4(d)に示すように、配線基板20の上面に下部クラッド層26aを形成する。
Next, as shown in FIG. 4D, a
次に、図4(e)に示すように、下部クラッド層26aの上面にコア26bを形成する。
Next, as shown in FIG. 4E, a
次に、図4(f)に示すように、コア26bの上面に上部クラッド層26cを形成することで光導波路26を形成する。
Next, as shown in FIG. 4F, an
次に、図4(g)に示すように、光導波路26に上層の配線導体24bの一部を底面として露出する接続孔28を形成する。
Next, as shown in FIG. 4G, a
次に、図4(h)に示すように、接続孔28内に接続導体28aを被着するとともに、上部クラッド層26cの上面に電子部品接続パッド27を形成する。
Next, as shown in FIG. 4H, a
最後に、図4(i)に示すように、光導波路26の斜め上方からレーザを照射してコア26bを分断し、コア26bの延在方向に直角かつ配線基板20の上主面に対して所定の角度を有する断面から成る反射面Mを形成することで図3に示すような従来の光回路基板Bが形成される。
Finally, as shown in FIG. 4 (i), the
ところで、近年、携帯型の通信機器や音楽プレーヤーに代表される電子機器の小型化や高機能化が進むにつれて、これらの電子機器に搭載される光回路基板も小型化や高機能化が求められている。このため、光回路基板を構成する配線基板の配線導体については、微細な配線導体が高密度で形成されるようになっている。
しかしながら、従来の光回路基板Bを製造する際に反射面Mを形成するときには、斜め上方から照射されたレーザが上層の絶縁層22bを貫通して、高密度に形成された微細な下層の配線導体24aに到達し損傷を与えてしまう場合がある。その結果、下層の配線導体24aに電気信号が伝播しにくくなり電子部品が安定的に作動しないという問題がある。
In recent years, as electronic devices typified by portable communication devices and music players have become smaller and more functional, optical circuit boards mounted on these electronic devices are also required to be smaller and more functional. ing. For this reason, fine wiring conductors are formed at a high density with respect to the wiring conductors of the wiring board constituting the optical circuit board.
However, when the reflective surface M is formed when the conventional optical circuit board B is manufactured, a fine lower layer wiring formed at a high density by the laser irradiated obliquely from above penetrating the upper
本発明は、反射面を形成するときのレーザが配線基板に形成された配線導体に到達することを防止する金属層を形成しておくことで配線導体の損傷を防ぎ、もって電子部品が安定的に作動する光回路基板を提供することを課題とする。 The present invention prevents damage to the wiring conductor by forming a metal layer that prevents the laser at the time of forming the reflection surface from reaching the wiring conductor formed on the wiring board, thereby stabilizing the electronic component. It is an object of the present invention to provide an optical circuit board that can be operated easily.
本発明における光回路基板は、積層された複数の絶縁層間に配線導体を有する配線基板の上主面に、下部クラッド層および上部クラッド層間にコアが挟持されて成る光導波路が上主面に沿って延在するように配設されており、コアを延在方向に直角かつ上主面に対して所定の角度で分断するとともにコアの分断された断面が反射面である切り込みが上部クラッド層の上面から光導波路を貫通するように形成されて成る光回路基板であって、配線導体の上方に、切り込みの底面を形成する金属層が配置されている。 In the optical circuit board according to the present invention, an optical waveguide having a core sandwiched between a lower clad layer and an upper clad layer is provided along the upper main surface on the upper main surface of the wiring board having a wiring conductor between a plurality of laminated insulating layers. The core is divided at a predetermined angle with respect to the upper main surface and at a predetermined angle with respect to the upper main surface, and a cut in which the divided cross section of the core is a reflective surface is formed in the upper cladding layer. An optical circuit board is formed so as to penetrate the optical waveguide from the upper surface, and a metal layer that forms the bottom surface of the cut is disposed above the wiring conductor.
本発明の光回路基板によれば、光導波路の斜め上方からレーザを照射してコアを分断するときに、レーザの照射軸と配線導体よりも上側の絶縁層上面とが交わる領域に金属層を形成しておくことにより、レーザが配線導体よりも上側の絶縁層上面よりも下側に到達するのを防止する。これにより、配線導体がレーザによって損傷を受けることを回避することができるため、配線導体に電気信号を安定的に伝播させて、電子部品を安定的に作動させることが可能な光回路基板を提供することができる。 According to the optical circuit board of the present invention, when the core is divided by irradiating the laser from obliquely above the optical waveguide, the metal layer is formed in the region where the laser irradiation axis and the upper surface of the insulating layer above the wiring conductor intersect. By forming it, the laser is prevented from reaching below the upper surface of the insulating layer above the wiring conductor. As a result, it is possible to prevent the wiring conductor from being damaged by the laser, and thus it is possible to provide an optical circuit board that can stably propagate an electric signal to the wiring conductor and stably operate an electronic component. can do.
まず、本発明の光回路基板の一実施形態を、図1を基にして詳細に説明する。 First, an embodiment of the optical circuit board of the present invention will be described in detail with reference to FIG.
図1に示すように、本発明の光回路基板Aは、配線基板10と、光導波路形成部11とを備えている。
As shown in FIG. 1, the optical circuit board A of the present invention includes a
配線基板10は、下層の絶縁層12aと上層の絶縁層12bとを備えている。両絶縁層12a、12bには、接続孔13が形成されている。下層の絶縁層12a上面および接続孔13内には、下層の配線導体14aが形成されている。上層の絶縁層12b上面および接続孔13内には、上層の配線導体14bが形成されている。さらに、上層の絶縁層12b上面にはレーザ遮断用の金属層Sが形成されている。また、下層の絶縁層12aの下面には、外部接続パッド15が形成されている。
The
光導波路形成部11は、配線基板10の上主面に形成されている。光導波路形成部11には、光導波路16および電子部品接続パッド17が形成されている。
光導波路16は、下部クラッド層16aとコア16bと上部クラッド層16cとにより形成されている。光導波路16は、配線基板10の上主面に沿って延在するように形成されている。光導波路16には、光信号が伝送される。
電子部品接続パッド17は、上部クラッド層16cの上面に形成されている。電子部品接続パッド17には、図示しない電子部品が実装される。この電子部品と光導波路16との間で光信号の授受が行われる。
さらに光導波路形成部11には、光導波路形成部11を貫通するように接続孔18が形成されている。接続孔18内には、接続導体18aが被着されている。この接続導体18aを介して電子部品接続パッド17と上層の配線導体14bとが接続されている。
光導波路形成部11を構成する下部クラッド層16aと上部クラッド層16cは、ベタ状の絶縁層である。コア16bは、断面が四角の細い帯状である。下部クラッド層16aおよび上部クラッド層16cは、コア16bの表面に密着してコア16bを取り囲んでいる。
さらに、コア16bは、その一端に反射面Mを有している。反射面Mは、コア16bの延在方向に直角かつ上主面に対して所定の角度を有する断面から成る。この反射面Mを介して、光導波路16と電子部品との間で光信号の授受が行われる。
The optical
The
The electronic
Further, a
The lower
Furthermore, the
次に、本発明の光回路基板の製造方法の一例について、図2(a)〜(i)を基にして詳細に説明する。また、図1と同様の個所には同様の符号を付して説明する。 Next, an example of the manufacturing method of the optical circuit board of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. Further, the same parts as those in FIG.
まず、図2(a)に示すように、上面に下層の配線導体14aが被着されているとともに、下面に外部接続パッド15が被着された下層の絶縁層12aを準備する。
下層の絶縁層12aは、例えばガラスクロスにエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等を含浸させて熱硬化することにより形成される。下層の配線導体14aおよび外部接続パッド15は、例えば周知のめっき法により銅等の良導電性金属により形成される。
First, as shown in FIG. 2A, a lower insulating
The lower
次に、図2(b)に示すように、下層の絶縁層12aの上面に上層の絶縁層12bを積層するとともに、下層の配線導体14aを底面として露出する接続孔13を形成する。
上層の絶縁層12bは、例えばビスマレイミドトリアジン樹脂やポリイミド樹脂等から成る絶縁シートを真空状態で下層の絶縁層12aの上面に被着させた後で熱硬化することで形成される。
また、接続孔13は、例えばレーザ加工により形成される。
Next, as shown in FIG. 2 (b), the upper insulating
The upper insulating
The
次に、図2(c)に示すように、上層の絶縁層12bの上面および接続孔13内に上層の配線導体14bを被着するとともに、後述する反射面Mを形成するためのレーザの照射軸と上層の絶縁層12bの上面とが交わる領域にレーザ遮断用の金属層Sを被着させることで配線基板10を形成する。
上層の配線導体14bおよび金属層Sは、例えば周知のめっき法により銅等の良導電性金属により形成される。金属層Sの厚みは、およそ10〜15μm程度であることが好ましい。10μmよりも薄いとレーザの遮断が不完全になる場合がある。また、15μmよりも厚いと光導波路16の薄型化が困難になる場合がある。
Next, as shown in FIG. 2 (c), the
The
次に、図2(d)に示すように、配線基板10の上面に下部クラッド層16aを形成する。
下部クラッド層16aは、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートを、真空状態で配線基板10上に被着して露光および現像により所定の形状にした後、熱硬化することで形成される。下部クラッド層16aの厚みは、およそ10〜20μm程度である。
Next, as shown in FIG. 2D, a lower
The lower
次に、図2(e)に示すように、下部クラッド層16aの上面にコア16bを形成する。
コア16bは、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートを、真空状態で下部クラッド層16a上に被着して露光および現像により帯状に形成した後、熱硬化することで形成される。コア16b形成用の感光性シートを形成する樹脂の屈折率は、下部および上部クラッド層16a、16c形成用の感光性シートを形成する樹脂の屈折率よりも大きいものを用いる。コア16bの厚みは、およそ30〜40μm程度である。
Next, as shown in FIG. 2E, the
The core 16b is formed by depositing a photosensitive sheet made of, for example, an epoxy resin or a polyimide resin on the lower
次に、図2(f)に示すように、コア16bの上面に上部クラッド層16cを形成することで光導波路16を形成する。
上部クラッド層16cは、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートを、真空状態で下部クラッド層16aおよびコア16bを被覆するように被着して露光および現像した後、熱硬化することで形成される。上部クラッド層16cの厚みは、およそ10〜20μm程度である。
Next, as shown in FIG. 2F, an
The upper clad
次に、図2(g)に示すように、光導波路16に上層の配線導体14bの一部を底面として露出する接続孔18を形成する。
接続孔18は、例えばレーザ加工により上層の配線導体14bを底面として形成される。
Next, as shown in FIG. 2G, a
The
次に、図2(h)に示すように、接続孔18内に接続導体18aを被着するとともに、上部クラッド層16cの上面に電子部品接続パッド17を形成する。
接続導体18aおよび電子部品接続パッド17は、例えば周知のめっき法により銅等の良導電性金属により形成される。
Next, as shown in FIG. 2H, a
The
最後に、図2(i)に示すように、光導波路16の斜め上方からレーザを照射してコア16bを分断してコア16bの延在方向に直角かつ配線基板10の上主面に対して所定の角度を有する断面から成る反射面Mを形成する。そして、レーザにより分断された光導波路16の分断面をブラスト等で表面処理をすることで図1に示すような光回路基板Aが形成される。
Finally, as shown in FIG. 2I, the
このとき、本発明の光回路基板によれば、反射面Mを形成するためのレーザの照射軸と上層の絶縁層12bの上面とが交わる領域にレーザ遮断用の金属層Sが形成されていることから、反射面Mを形成するときに照射されたレーザは、コア16bを分断した後、レーザ遮断用の金属層Sにより金属層Sよりも下側に到達することが阻止される。これにより、レーザにより下層の配線導体14aが損傷を受けることを回避することができるため、下層の配線導体14aに電気信号を安定的に伝播させて電子部品を安定的に作動させることが可能な光回路基板を提供することができる。
At this time, according to the optical circuit board of the present invention, the laser blocking metal layer S is formed in a region where the laser irradiation axis for forming the reflecting surface M and the upper surface of the upper insulating
なお、本発明は、上述の実施形態の一例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、本例では金属層Sは銅から形成される場合を示したが、チタンやニッケル、あるいはクロムといった金属、もしくはこれらの合金層から形成しても構わない。 In addition, this invention is not limited to an example of the above-mentioned embodiment, A various change is possible if it is a range which does not deviate from the summary of this invention. For example, in this example, the case where the metal layer S is formed from copper is shown, but a metal such as titanium, nickel, or chromium, or an alloy layer thereof may be used.
10 配線基板
12a (下層の)絶縁層
12b (上層の)絶縁層
14a (下層の)配線導体
14b (上層の)配線導体
16 光導波路
16a 下部クラッド層
16b コア
16c 上部クラッド層
A 光回路基板
M 反射面
S 金属層
DESCRIPTION OF
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016031280A JP2016157120A (en) | 2016-02-22 | 2016-02-22 | Optical circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016031280A JP2016157120A (en) | 2016-02-22 | 2016-02-22 | Optical circuit board |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015032781A Division JP2016156865A (en) | 2015-02-23 | 2015-02-23 | Method of manufacturing optical circuit board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016157120A true JP2016157120A (en) | 2016-09-01 |
Family
ID=56825979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016031280A Pending JP2016157120A (en) | 2016-02-22 | 2016-02-22 | Optical circuit board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016157120A (en) |
-
2016
- 2016-02-22 JP JP2016031280A patent/JP2016157120A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6885800B2 (en) | Wiring board and its manufacturing method | |
US9632246B2 (en) | Opto-electric hybrid board | |
JP2016156865A (en) | Method of manufacturing optical circuit board | |
US20170285284A1 (en) | Opto-electric hybrid board and method of manufacturing same | |
TW201517710A (en) | Circuit board and method for manufacturing same | |
JP7032942B2 (en) | Optical waveguide and optical circuit board | |
CN110780393B (en) | Optical waveguide and optical circuit board | |
KR20140098675A (en) | Wiring substrate and method for manufacturing the same | |
JP2016157120A (en) | Optical circuit board | |
JP2016033975A (en) | Electronic component built-in wiring board and manufacturing method of the same | |
JP2000340906A (en) | Optical/electrical wiring board, manufacture thereof and mounting board | |
US20200329568A1 (en) | Wiring substrate and method for manufacturing wiring substrate | |
JP2013229421A (en) | Wiring board | |
JP4304764B2 (en) | Optical / electrical wiring board, manufacturing method, and mounting board | |
JP2019029389A (en) | Optical circuit board | |
JP2016127248A (en) | Multilayer wiring board | |
JP2021027167A (en) | Wiring board | |
JP2016085402A (en) | Photo-electric hybrid substrate | |
JP2018164021A (en) | Wiring board with cavity | |
JP2019079988A (en) | Wiring board | |
JP7411354B2 (en) | Printed wiring board and its manufacturing method | |
JP2023038701A (en) | Wiring board and manufacturing method thereof | |
JP6787716B2 (en) | Optical circuit board and its manufacturing method | |
JP2017083807A (en) | Method for manufacturing optical circuit substrate | |
KR102186150B1 (en) | Printed circuit board using the insulating film and method for manufacturing the same |