JP2016157120A - Optical circuit board - Google Patents

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健司 寺田
Kenji Terada
健司 寺田
晃史 相良
Akifumi SAGARA
晃史 相良
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical circuit board in which electronic components are stably operated.SOLUTION: An optical circuit board A is configured such that: on an upper main surface of a wiring board 10 having a wiring conductor 14a between multiple stacked insulation layers 12a and 12b, an optical waveguide 16 formed such that a core 16b is held between a lower cladding layer 16a and an upper cladding layer 16c is disposed so as to extend along the upper main surface; and the core 16b is cut off perpendicularly to an extending direction and at a predetermined angle relative to the upper main surface, and the cut in which a cross section made by cutting off the core 16b serves as a reflection face M is also formed so as to penetrate the optical waveguide 16 from an upper surface of the upper cladding layer 16c. A metal layer S forming a bottom face of the cut is disposed above the wiring conductor 14a.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光信号の方向変換を行う反射面を有する光回路基板に関するものである。   The present invention relates to an optical circuit board having a reflecting surface for changing the direction of an optical signal.

図3に、従来の光回路基板Bの一例を示す。
従来の光回路基板Bは、図3に示すように、配線基板20と、光導波路形成部21と、を備えている。
FIG. 3 shows an example of a conventional optical circuit board B.
As shown in FIG. 3, the conventional optical circuit board B includes a wiring board 20 and an optical waveguide forming portion 21.

配線基板20は、下層の絶縁層22aと上層の絶縁層22bとを備えている。各絶縁層22a、22bには、接続孔23が形成されている。下層の絶縁層22a上面および接続孔23内には、下層の配線導体24aが形成されている。上層の絶縁層22b上面および接続孔23内には、上層の配線導体24bが形成されている。さらに、下層の絶縁層22aの下面には、外部接続パッド25が形成されている。   The wiring board 20 includes a lower insulating layer 22a and an upper insulating layer 22b. Connection holes 23 are formed in the insulating layers 22a and 22b. A lower wiring conductor 24 a is formed in the upper surface of the lower insulating layer 22 a and the connection hole 23. An upper wiring conductor 24 b is formed in the upper surface of the upper insulating layer 22 b and in the connection hole 23. Further, external connection pads 25 are formed on the lower surface of the lower insulating layer 22a.

光導波路形成部21は、配線基板20上に形成されている。光導波路形成部21には、光導波路26および電子部品接続パッド27が形成されている。
光導波路26は、下部クラッド層26aとコア26bと上部クラッド層26cとにより形成されている。光導波路26には、光信号が伝送される。
電子部品接続パッド27は、上部クラッド層26cの上面に形成されている。電子部品接続パッド27には、図示しない電子部品が実装される。この電子部品と光導波路26との間で光信号の授受が行われる。
さらに光導波路形成部21には、光導波路形成部21を貫通するように接続孔28が形成されている。接続孔28内には、接続導体28aが被着されている。この接続導体28aを介して電子部品接続パッド27と上層の配線導体24bとが接続されている。
光導波路形成部21を構成する下部クラッド層26aと上部クラッド層26cは、ベタ状の絶縁層である。コア26bは、断面が四角の細い帯状である。下部クラッド層26aおよび上部クラッド層26cは、コア26bの表面に密着してコア26bを取り囲んでいる。
さらに、コア26bは、その一端に反射面Mを有している。反射面Mは、コア26bの延在方向に直角かつ上主面に対して所定の角度を有する断面から成る。この反射面Mを介して、光導波路26と電子部品との間で光信号の授受が行われる。
The optical waveguide forming part 21 is formed on the wiring board 20. An optical waveguide 26 and an electronic component connection pad 27 are formed in the optical waveguide forming portion 21.
The optical waveguide 26 is formed by a lower clad layer 26a, a core 26b, and an upper clad layer 26c. An optical signal is transmitted to the optical waveguide 26.
The electronic component connection pad 27 is formed on the upper surface of the upper cladding layer 26c. An electronic component (not shown) is mounted on the electronic component connection pad 27. An optical signal is exchanged between the electronic component and the optical waveguide 26.
Further, a connection hole 28 is formed in the optical waveguide forming portion 21 so as to penetrate the optical waveguide forming portion 21. A connection conductor 28 a is attached in the connection hole 28. The electronic component connection pad 27 and the upper wiring conductor 24b are connected via the connection conductor 28a.
The lower clad layer 26a and the upper clad layer 26c constituting the optical waveguide forming portion 21 are solid insulating layers. The core 26b has a thin band shape with a square cross section. The lower clad layer 26a and the upper clad layer 26c are in close contact with the surface of the core 26b and surround the core 26b.
Furthermore, the core 26b has a reflective surface M at one end thereof. The reflecting surface M has a cross section that is perpendicular to the extending direction of the core 26b and has a predetermined angle with respect to the upper main surface. An optical signal is exchanged between the optical waveguide 26 and the electronic component via the reflecting surface M.

次に、従来の光回路基板の製造方法の一例について、図4(a)〜(i)に示す要部拡大図を基にして説明する。なお、図3と同様の個所には同様の符号を付して説明する。   Next, an example of a conventional method for manufacturing an optical circuit board will be described with reference to enlarged views of main parts shown in FIGS. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the part similar to FIG.

まず、図4(a)に示すように、上面に下層の配線導体24aが被着されているとともに、下面に外部接続パッド25が被着された下層の絶縁層22aを準備する。   First, as shown in FIG. 4A, a lower insulating layer 22a having a lower wiring conductor 24a deposited on the upper surface and an external connection pad 25 deposited on the lower surface is prepared.

次に、図4(b)に示すように、下層の絶縁層22aの上面に上層の絶縁層22bを積層するとともに、下層の配線導体24aを底面とする接続孔23を形成する。   Next, as shown in FIG. 4B, the upper insulating layer 22b is laminated on the upper surface of the lower insulating layer 22a, and the connection hole 23 having the lower wiring conductor 24a as the bottom surface is formed.

次に、図4(c)に示すように、上層の絶縁層22bの上面および接続孔23内に上層の配線導体24bを被着させることで配線基板20を形成する。   Next, as shown in FIG. 4C, the wiring substrate 20 is formed by depositing the upper wiring conductor 24 b in the upper surface of the upper insulating layer 22 b and the connection hole 23.

次に、図4(d)に示すように、配線基板20の上面に下部クラッド層26aを形成する。   Next, as shown in FIG. 4D, a lower clad layer 26 a is formed on the upper surface of the wiring substrate 20.

次に、図4(e)に示すように、下部クラッド層26aの上面にコア26bを形成する。   Next, as shown in FIG. 4E, a core 26b is formed on the upper surface of the lower cladding layer 26a.

次に、図4(f)に示すように、コア26bの上面に上部クラッド層26cを形成することで光導波路26を形成する。   Next, as shown in FIG. 4F, an optical waveguide 26 is formed by forming an upper clad layer 26c on the upper surface of the core 26b.

次に、図4(g)に示すように、光導波路26に上層の配線導体24bの一部を底面として露出する接続孔28を形成する。   Next, as shown in FIG. 4G, a connection hole 28 is formed in the optical waveguide 26 to expose a part of the upper wiring conductor 24b as a bottom surface.

次に、図4(h)に示すように、接続孔28内に接続導体28aを被着するとともに、上部クラッド層26cの上面に電子部品接続パッド27を形成する。   Next, as shown in FIG. 4H, a connection conductor 28a is deposited in the connection hole 28, and an electronic component connection pad 27 is formed on the upper surface of the upper clad layer 26c.

最後に、図4(i)に示すように、光導波路26の斜め上方からレーザを照射してコア26bを分断し、コア26bの延在方向に直角かつ配線基板20の上主面に対して所定の角度を有する断面から成る反射面Mを形成することで図3に示すような従来の光回路基板Bが形成される。   Finally, as shown in FIG. 4 (i), the core 26b is divided by irradiating a laser beam obliquely from above the optical waveguide 26, and perpendicular to the extending direction of the core 26b and with respect to the upper main surface of the wiring board 20. A conventional optical circuit board B as shown in FIG. 3 is formed by forming the reflecting surface M having a cross section having a predetermined angle.

ところで、近年、携帯型の通信機器や音楽プレーヤーに代表される電子機器の小型化や高機能化が進むにつれて、これらの電子機器に搭載される光回路基板も小型化や高機能化が求められている。このため、光回路基板を構成する配線基板の配線導体については、微細な配線導体が高密度で形成されるようになっている。
しかしながら、従来の光回路基板Bを製造する際に反射面Mを形成するときには、斜め上方から照射されたレーザが上層の絶縁層22bを貫通して、高密度に形成された微細な下層の配線導体24aに到達し損傷を与えてしまう場合がある。その結果、下層の配線導体24aに電気信号が伝播しにくくなり電子部品が安定的に作動しないという問題がある。
In recent years, as electronic devices typified by portable communication devices and music players have become smaller and more functional, optical circuit boards mounted on these electronic devices are also required to be smaller and more functional. ing. For this reason, fine wiring conductors are formed at a high density with respect to the wiring conductors of the wiring board constituting the optical circuit board.
However, when the reflective surface M is formed when the conventional optical circuit board B is manufactured, a fine lower layer wiring formed at a high density by the laser irradiated obliquely from above penetrating the upper insulating layer 22b. The conductor 24a may be reached and damaged. As a result, there is a problem that an electric signal is difficult to propagate to the lower wiring conductor 24a and the electronic component does not operate stably.

特開2006−330066号公報JP 2006-330066 A

本発明は、反射面を形成するときのレーザが配線基板に形成された配線導体に到達することを防止する金属層を形成しておくことで配線導体の損傷を防ぎ、もって電子部品が安定的に作動する光回路基板を提供することを課題とする。   The present invention prevents damage to the wiring conductor by forming a metal layer that prevents the laser at the time of forming the reflection surface from reaching the wiring conductor formed on the wiring board, thereby stabilizing the electronic component. It is an object of the present invention to provide an optical circuit board that can be operated easily.

本発明における光回路基板は、積層された複数の絶縁層間に配線導体を有する配線基板の上主面に、下部クラッド層および上部クラッド層間にコアが挟持されて成る光導波路が上主面に沿って延在するように配設されており、コアを延在方向に直角かつ上主面に対して所定の角度で分断するとともにコアの分断された断面が反射面である切り込みが上部クラッド層の上面から光導波路を貫通するように形成されて成る光回路基板であって、配線導体の上方に、切り込みの底面を形成する金属層が配置されている。   In the optical circuit board according to the present invention, an optical waveguide having a core sandwiched between a lower clad layer and an upper clad layer is provided along the upper main surface on the upper main surface of the wiring board having a wiring conductor between a plurality of laminated insulating layers. The core is divided at a predetermined angle with respect to the upper main surface and at a predetermined angle with respect to the upper main surface, and a cut in which the divided cross section of the core is a reflective surface is formed in the upper cladding layer. An optical circuit board is formed so as to penetrate the optical waveguide from the upper surface, and a metal layer that forms the bottom surface of the cut is disposed above the wiring conductor.

本発明の光回路基板によれば、光導波路の斜め上方からレーザを照射してコアを分断するときに、レーザの照射軸と配線導体よりも上側の絶縁層上面とが交わる領域に金属層を形成しておくことにより、レーザが配線導体よりも上側の絶縁層上面よりも下側に到達するのを防止する。これにより、配線導体がレーザによって損傷を受けることを回避することができるため、配線導体に電気信号を安定的に伝播させて、電子部品を安定的に作動させることが可能な光回路基板を提供することができる。   According to the optical circuit board of the present invention, when the core is divided by irradiating the laser from obliquely above the optical waveguide, the metal layer is formed in the region where the laser irradiation axis and the upper surface of the insulating layer above the wiring conductor intersect. By forming it, the laser is prevented from reaching below the upper surface of the insulating layer above the wiring conductor. As a result, it is possible to prevent the wiring conductor from being damaged by the laser, and thus it is possible to provide an optical circuit board that can stably propagate an electric signal to the wiring conductor and stably operate an electronic component. can do.

図1は、本発明に係る光回路基板の一実施形態を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of an optical circuit board according to the present invention. 図2(a)〜(i)は、本発明に係る光回路基板を製造する工程毎の一実施形態を示す要部拡大断面図である。2A to 2I are enlarged cross-sectional views of main parts showing one embodiment for each process of manufacturing an optical circuit board according to the present invention. 図3は、従来の光回路基板の実施例を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view showing an example of a conventional optical circuit board. 図4(a)〜(i)は、従来の光回路基板の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。4 (a) to 4 (i) are enlarged cross-sectional views of main parts showing an example of a conventional method for manufacturing an optical circuit board.

まず、本発明の光回路基板の一実施形態を、図1を基にして詳細に説明する。   First, an embodiment of the optical circuit board of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

図1に示すように、本発明の光回路基板Aは、配線基板10と、光導波路形成部11とを備えている。   As shown in FIG. 1, the optical circuit board A of the present invention includes a wiring board 10 and an optical waveguide forming portion 11.

配線基板10は、下層の絶縁層12aと上層の絶縁層12bとを備えている。両絶縁層12a、12bには、接続孔13が形成されている。下層の絶縁層12a上面および接続孔13内には、下層の配線導体14aが形成されている。上層の絶縁層12b上面および接続孔13内には、上層の配線導体14bが形成されている。さらに、上層の絶縁層12b上面にはレーザ遮断用の金属層Sが形成されている。また、下層の絶縁層12aの下面には、外部接続パッド15が形成されている。   The wiring board 10 includes a lower insulating layer 12a and an upper insulating layer 12b. Connection holes 13 are formed in both insulating layers 12a and 12b. A lower wiring conductor 14 a is formed in the upper surface of the lower insulating layer 12 a and the connection hole 13. An upper wiring conductor 14 b is formed in the upper surface of the upper insulating layer 12 b and in the connection hole 13. Further, a laser blocking metal layer S is formed on the upper surface of the upper insulating layer 12b. An external connection pad 15 is formed on the lower surface of the lower insulating layer 12a.

光導波路形成部11は、配線基板10の上主面に形成されている。光導波路形成部11には、光導波路16および電子部品接続パッド17が形成されている。
光導波路16は、下部クラッド層16aとコア16bと上部クラッド層16cとにより形成されている。光導波路16は、配線基板10の上主面に沿って延在するように形成されている。光導波路16には、光信号が伝送される。
電子部品接続パッド17は、上部クラッド層16cの上面に形成されている。電子部品接続パッド17には、図示しない電子部品が実装される。この電子部品と光導波路16との間で光信号の授受が行われる。
さらに光導波路形成部11には、光導波路形成部11を貫通するように接続孔18が形成されている。接続孔18内には、接続導体18aが被着されている。この接続導体18aを介して電子部品接続パッド17と上層の配線導体14bとが接続されている。
光導波路形成部11を構成する下部クラッド層16aと上部クラッド層16cは、ベタ状の絶縁層である。コア16bは、断面が四角の細い帯状である。下部クラッド層16aおよび上部クラッド層16cは、コア16bの表面に密着してコア16bを取り囲んでいる。
さらに、コア16bは、その一端に反射面Mを有している。反射面Mは、コア16bの延在方向に直角かつ上主面に対して所定の角度を有する断面から成る。この反射面Mを介して、光導波路16と電子部品との間で光信号の授受が行われる。
The optical waveguide forming portion 11 is formed on the upper main surface of the wiring board 10. An optical waveguide 16 and electronic component connection pads 17 are formed in the optical waveguide forming portion 11.
The optical waveguide 16 is formed of a lower cladding layer 16a, a core 16b, and an upper cladding layer 16c. The optical waveguide 16 is formed so as to extend along the upper main surface of the wiring substrate 10. An optical signal is transmitted to the optical waveguide 16.
The electronic component connection pad 17 is formed on the upper surface of the upper cladding layer 16c. An electronic component (not shown) is mounted on the electronic component connection pad 17. Optical signals are exchanged between the electronic component and the optical waveguide 16.
Further, a connection hole 18 is formed in the optical waveguide forming portion 11 so as to penetrate the optical waveguide forming portion 11. A connection conductor 18 a is attached in the connection hole 18. The electronic component connection pad 17 and the upper wiring conductor 14b are connected via the connection conductor 18a.
The lower clad layer 16a and the upper clad layer 16c constituting the optical waveguide forming portion 11 are solid insulating layers. The core 16b has a thin strip shape with a square cross section. The lower cladding layer 16a and the upper cladding layer 16c are in close contact with the surface of the core 16b and surround the core 16b.
Furthermore, the core 16b has a reflection surface M at one end thereof. The reflective surface M is formed of a cross section having a predetermined angle with respect to the upper main surface and perpendicular to the extending direction of the core 16b. An optical signal is exchanged between the optical waveguide 16 and the electronic component via the reflecting surface M.

次に、本発明の光回路基板の製造方法の一例について、図2(a)〜(i)を基にして詳細に説明する。また、図1と同様の個所には同様の符号を付して説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the optical circuit board of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. Further, the same parts as those in FIG.

まず、図2(a)に示すように、上面に下層の配線導体14aが被着されているとともに、下面に外部接続パッド15が被着された下層の絶縁層12aを準備する。
下層の絶縁層12aは、例えばガラスクロスにエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等を含浸させて熱硬化することにより形成される。下層の配線導体14aおよび外部接続パッド15は、例えば周知のめっき法により銅等の良導電性金属により形成される。
First, as shown in FIG. 2A, a lower insulating layer 12a having a lower wiring conductor 14a deposited on the upper surface and an external connection pad 15 deposited on the lower surface is prepared.
The lower insulating layer 12a is formed, for example, by impregnating a glass cloth with an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, or the like and thermosetting it. The lower wiring conductor 14a and the external connection pad 15 are made of a highly conductive metal such as copper by a known plating method, for example.

次に、図2(b)に示すように、下層の絶縁層12aの上面に上層の絶縁層12bを積層するとともに、下層の配線導体14aを底面として露出する接続孔13を形成する。
上層の絶縁層12bは、例えばビスマレイミドトリアジン樹脂やポリイミド樹脂等から成る絶縁シートを真空状態で下層の絶縁層12aの上面に被着させた後で熱硬化することで形成される。
また、接続孔13は、例えばレーザ加工により形成される。
Next, as shown in FIG. 2 (b), the upper insulating layer 12b is laminated on the upper surface of the lower insulating layer 12a, and the connection hole 13 exposing the lower wiring conductor 14a as the bottom surface is formed.
The upper insulating layer 12b is formed, for example, by applying an insulating sheet made of bismaleimide triazine resin, polyimide resin or the like to the upper surface of the lower insulating layer 12a in a vacuum state and then thermally curing the insulating sheet.
The connection hole 13 is formed by, for example, laser processing.

次に、図2(c)に示すように、上層の絶縁層12bの上面および接続孔13内に上層の配線導体14bを被着するとともに、後述する反射面Mを形成するためのレーザの照射軸と上層の絶縁層12bの上面とが交わる領域にレーザ遮断用の金属層Sを被着させることで配線基板10を形成する。
上層の配線導体14bおよび金属層Sは、例えば周知のめっき法により銅等の良導電性金属により形成される。金属層Sの厚みは、およそ10〜15μm程度であることが好ましい。10μmよりも薄いとレーザの遮断が不完全になる場合がある。また、15μmよりも厚いと光導波路16の薄型化が困難になる場合がある。
Next, as shown in FIG. 2 (c), the upper wiring conductor 14b is deposited in the upper surface of the upper insulating layer 12b and in the connection hole 13, and laser irradiation is performed to form a reflection surface M to be described later. The wiring board 10 is formed by depositing a laser blocking metal layer S in a region where the shaft and the upper surface of the upper insulating layer 12b intersect.
The upper wiring conductor 14b and the metal layer S are formed of a highly conductive metal such as copper by a known plating method, for example. The thickness of the metal layer S is preferably about 10 to 15 μm. If it is thinner than 10 μm, the laser may be cut off imperfectly. On the other hand, if the thickness is greater than 15 μm, it may be difficult to reduce the thickness of the optical waveguide 16.

次に、図2(d)に示すように、配線基板10の上面に下部クラッド層16aを形成する。
下部クラッド層16aは、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートを、真空状態で配線基板10上に被着して露光および現像により所定の形状にした後、熱硬化することで形成される。下部クラッド層16aの厚みは、およそ10〜20μm程度である。
Next, as shown in FIG. 2D, a lower clad layer 16 a is formed on the upper surface of the wiring substrate 10.
The lower clad layer 16a is formed by, for example, applying a photosensitive sheet made of an epoxy resin or a polyimide resin on the wiring substrate 10 in a vacuum state to form a predetermined shape by exposure and development, and then thermosetting. . The thickness of the lower cladding layer 16a is about 10 to 20 μm.

次に、図2(e)に示すように、下部クラッド層16aの上面にコア16bを形成する。
コア16bは、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートを、真空状態で下部クラッド層16a上に被着して露光および現像により帯状に形成した後、熱硬化することで形成される。コア16b形成用の感光性シートを形成する樹脂の屈折率は、下部および上部クラッド層16a、16c形成用の感光性シートを形成する樹脂の屈折率よりも大きいものを用いる。コア16bの厚みは、およそ30〜40μm程度である。
Next, as shown in FIG. 2E, the core 16b is formed on the upper surface of the lower cladding layer 16a.
The core 16b is formed by depositing a photosensitive sheet made of, for example, an epoxy resin or a polyimide resin on the lower clad layer 16a in a vacuum state, forming a strip shape by exposure and development, and then thermosetting. The refractive index of the resin forming the photosensitive sheet for forming the core 16b is larger than the refractive index of the resin forming the photosensitive sheet for forming the lower and upper cladding layers 16a and 16c. The thickness of the core 16b is about 30 to 40 μm.

次に、図2(f)に示すように、コア16bの上面に上部クラッド層16cを形成することで光導波路16を形成する。
上部クラッド層16cは、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートを、真空状態で下部クラッド層16aおよびコア16bを被覆するように被着して露光および現像した後、熱硬化することで形成される。上部クラッド層16cの厚みは、およそ10〜20μm程度である。
Next, as shown in FIG. 2F, an optical waveguide 16 is formed by forming an upper clad layer 16c on the upper surface of the core 16b.
The upper clad layer 16c is formed by applying a photosensitive sheet made of, for example, epoxy resin or polyimide resin so as to cover the lower clad layer 16a and the core 16b in a vacuum state, exposing and developing, and then thermosetting. Is done. The thickness of the upper cladding layer 16c is about 10 to 20 μm.

次に、図2(g)に示すように、光導波路16に上層の配線導体14bの一部を底面として露出する接続孔18を形成する。
接続孔18は、例えばレーザ加工により上層の配線導体14bを底面として形成される。
Next, as shown in FIG. 2G, a connection hole 18 is formed in the optical waveguide 16 to expose a part of the upper wiring conductor 14b as a bottom surface.
The connection hole 18 is formed, for example, by laser processing with the upper wiring conductor 14b as the bottom surface.

次に、図2(h)に示すように、接続孔18内に接続導体18aを被着するとともに、上部クラッド層16cの上面に電子部品接続パッド17を形成する。
接続導体18aおよび電子部品接続パッド17は、例えば周知のめっき法により銅等の良導電性金属により形成される。
Next, as shown in FIG. 2H, a connection conductor 18a is deposited in the connection hole 18, and an electronic component connection pad 17 is formed on the upper surface of the upper clad layer 16c.
The connection conductor 18a and the electronic component connection pad 17 are formed of a highly conductive metal such as copper by a known plating method, for example.

最後に、図2(i)に示すように、光導波路16の斜め上方からレーザを照射してコア16bを分断してコア16bの延在方向に直角かつ配線基板10の上主面に対して所定の角度を有する断面から成る反射面Mを形成する。そして、レーザにより分断された光導波路16の分断面をブラスト等で表面処理をすることで図1に示すような光回路基板Aが形成される。   Finally, as shown in FIG. 2I, the core 16b is divided by irradiating the laser beam obliquely from above the optical waveguide 16 so as to be perpendicular to the extending direction of the core 16b and to the upper main surface of the wiring board 10. A reflecting surface M having a cross section having a predetermined angle is formed. Then, the optical circuit board A as shown in FIG. 1 is formed by surface-treating the divided section of the optical waveguide 16 divided by the laser with blasting or the like.

このとき、本発明の光回路基板によれば、反射面Mを形成するためのレーザの照射軸と上層の絶縁層12bの上面とが交わる領域にレーザ遮断用の金属層Sが形成されていることから、反射面Mを形成するときに照射されたレーザは、コア16bを分断した後、レーザ遮断用の金属層Sにより金属層Sよりも下側に到達することが阻止される。これにより、レーザにより下層の配線導体14aが損傷を受けることを回避することができるため、下層の配線導体14aに電気信号を安定的に伝播させて電子部品を安定的に作動させることが可能な光回路基板を提供することができる。   At this time, according to the optical circuit board of the present invention, the laser blocking metal layer S is formed in a region where the laser irradiation axis for forming the reflecting surface M and the upper surface of the upper insulating layer 12b intersect. Therefore, the laser irradiated when forming the reflecting surface M is prevented from reaching below the metal layer S by the laser blocking metal layer S after dividing the core 16b. Thereby, since it is possible to avoid damage to the lower wiring conductor 14a by the laser, it is possible to stably propagate the electric signal to the lower wiring conductor 14a and to stably operate the electronic component. An optical circuit board can be provided.

なお、本発明は、上述の実施形態の一例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、本例では金属層Sは銅から形成される場合を示したが、チタンやニッケル、あるいはクロムといった金属、もしくはこれらの合金層から形成しても構わない。   In addition, this invention is not limited to an example of the above-mentioned embodiment, A various change is possible if it is a range which does not deviate from the summary of this invention. For example, in this example, the case where the metal layer S is formed from copper is shown, but a metal such as titanium, nickel, or chromium, or an alloy layer thereof may be used.

10 配線基板
12a (下層の)絶縁層
12b (上層の)絶縁層
14a (下層の)配線導体
14b (上層の)配線導体
16 光導波路
16a 下部クラッド層
16b コア
16c 上部クラッド層
A 光回路基板
M 反射面
S 金属層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Wiring board 12a (lower layer) insulating layer 12b (upper layer) insulating layer 14a (lower layer) wiring conductor 14b (upper layer) wiring conductor 16 Optical waveguide 16a Lower clad layer 16b Core 16c Upper clad layer A Optical circuit board M Reflection Surface S Metal layer

Claims (1)

積層された複数の絶縁層間に配線導体を有する配線基板の上主面に、下部クラッド層および上部クラッド層間にコアが挟持されて成る光導波路が前記上主面に沿って延在するように配設されており、前記コアを前記延在方向に直角かつ前記上主面に対して所定の角度で分断するとともに該コアの分断された断面が反射面である切り込みが前記上部クラッド層の上面から前記光導波路を貫通するように形成されて成る光回路基板であって、前記配線導体の上方に、前記切り込みの底面を形成する金属層が配置されていることを特徴とする光回路基板。   An optical waveguide having a core sandwiched between a lower clad layer and an upper clad layer is arranged on the upper main surface of a wiring board having a wiring conductor between a plurality of laminated insulating layers so as to extend along the upper main surface. The core is cut at a predetermined angle perpendicular to the extending direction and with respect to the upper main surface, and a cut in which the cut section of the core is a reflective surface is formed from the upper surface of the upper clad layer. An optical circuit board formed so as to penetrate the optical waveguide, wherein a metal layer forming a bottom surface of the cut is disposed above the wiring conductor.
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