JP2016151613A - Photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

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雄一朗 小西
Yuichiro Konishi
雄一朗 小西
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive lithographic printing plate having high sensitivity and excellent scratch resistance.SOLUTION: A photosensitive lithographic printing plate has at least a photocurable photosensitive layer and a protective layer in the stated order on a base material, with the photocurable photosensitive layer closer to the base material than the protective layer. The protective layer consists of at least two layers of a layer comprising no wax particles and a layer comprising wax particles thereon.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、基材上に少なくとも光硬化性感光層を有する感光性平版印刷版に関する。詳しくは実質的にアルカリ剤を含有しないケミカルレス現像液によって現像可能な感光性平版印刷版に関する。   The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate having at least a photocurable photosensitive layer on a substrate. More specifically, the present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that can be developed with a chemical-less developer containing substantially no alkali agent.

近年、CTP(Computer To Plateの略)方式を利用した製版システムにおいてはJDF(Job Definition Formatの略)の拡充によりフルデジタル化が進み大幅に作業の効率化が図られてきている。また、出力機や印刷版等のハード面においても、プロセスレスやケミカルレスへの展開により効率化は勿論、人の健康や環境にも配慮したもの作りが浸透している。しかし、現在主流となっているサーマル型やフォトポリマー型のCTP印刷版(CTP方式による製版が可能な平版印刷版)では、印刷版をレーザー露光した後、強アルカリ剤を含有する現像液を用いて非画像部を溶出除去し、その後水洗およびガム引き工程を経て印刷に供されるものとなるため、強アルカリ剤含有現像液の費用や廃液費用の観点から、また環境負荷の観点から、大きな課題となっていた。   2. Description of the Related Art In recent years, plate making systems using the CTP (Computer To Plate) system have been fully digitized by the expansion of JDF (Job Definition Format), and work efficiency has been greatly improved. In addition, in terms of hardware, such as output machines and printing plates, the creation of products that take into consideration human health and the environment as well as increasing efficiency through the development of process-less and chemical-less products has become widespread. However, for thermal and photopolymer type CTP printing plates (planographic printing plates capable of making plates by the CTP method) which are currently mainstream, a developer containing a strong alkali agent is used after laser exposure of the printing plate. The non-image area is eluted and removed, followed by washing with water and gumming, and is used for printing. It was an issue.

このようなアルカリ性現像液を用いることを回避し、水などで現像が可能な感光性組成物の提案がされている。例えば特開平5−27437号公報(特許文献1)には、カルボキシル基含有樹脂、アミン化合物、光硬化性不飽和化合物、光重合開始剤及び水を含む水系感光性組成物をプリント回路の製造に利用することが開示されている。また特開2003−215801号公報(特許文献2)には、側鎖に重合性二重結合基を有するアニオン性の水溶性ポリマーをバインダーポリマーとして用いる感光性組成物を感光性平版印刷版に利用することが開示されている。しかし上記した感光性組成物を用いた平版印刷版として利用した際には取扱時に傷が生じやすいという問題があった。   There has been proposed a photosensitive composition that avoids the use of such an alkaline developer and can be developed with water or the like. For example, in Japanese Patent Laid-Open No. 5-27437 (Patent Document 1), an aqueous photosensitive composition containing a carboxyl group-containing resin, an amine compound, a photocurable unsaturated compound, a photopolymerization initiator and water is used for the production of printed circuits. Use is disclosed. JP-A 2003-215801 (Patent Document 2) uses a photosensitive composition using an anionic water-soluble polymer having a polymerizable double bond group in the side chain as a binder polymer for a photosensitive lithographic printing plate. Is disclosed. However, when used as a lithographic printing plate using the above-described photosensitive composition, there is a problem that scratches are likely to occur during handling.

従来、感光性組成物からなる光硬化性感光層の上には、光硬化性感光層を保護し耐傷性を向上させるため、また重合性ラジカルが空気中の酸素と反応して感度が低下するのを防ぐための酸素遮断層として、水溶性樹脂などを含む保護層を設けることが一般に行われる。   Conventionally, on a photocurable photosensitive layer made of a photosensitive composition, in order to protect the photocurable photosensitive layer and improve scratch resistance, the sensitivity of the polymerizable radicals reacts with oxygen in the air to reduce the sensitivity. In general, a protective layer containing a water-soluble resin or the like is provided as an oxygen blocking layer for preventing the above.

保護層を2層構成にすることにより、耐傷性が向上することが特開2004−125876号公報(特許文献3)に示されているが、十分な効果が得られない場合があった。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-125876 (Patent Document 3) shows that scratch resistance is improved by forming the protective layer in a two-layer structure, but there are cases where sufficient effects cannot be obtained.

一方、特開2007−245690号公報(特許文献4)には保護層にワックス粒子を、特開2002−365813号公報(特許文献5)には潤滑剤を添加することにより耐傷性が向上することが開示されているが、十分な効果が得られるまでワックス粒子の添加量を増やすと酸素遮断層としての効果が低下し、感度が低下するという問題があった。   On the other hand, scratch resistance is improved by adding wax particles to the protective layer in JP 2007-245690 (Patent Document 4) and lubricant in JP 2002-365413 (Patent Document 5). However, if the amount of the wax particles added is increased until a sufficient effect is obtained, the effect as an oxygen barrier layer is lowered and the sensitivity is lowered.

特開平5−27437号公報JP-A-5-27437 特開2003−215801号公報JP 2003-215801 A 特開2004−125876号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-125876 特開2007−245690号公報JP 2007-245690 A 特開2002−365813号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-365813

本発明は、感度を低下させることなく耐傷性に優れた感光性平版印刷版を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate excellent in scratch resistance without deteriorating sensitivity.

本発明は、基材上に、基材に近い方から光硬化性感光層と保護層を少なくともこの順に有する感光性平版印刷版において、該保護層がワックス粒子を含まない層とその上層のワックス粒子を含む層の少なくとも2層であることを特徴とする感光性平版印刷版によって達成された。   The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate having at least a photocurable photosensitive layer and a protective layer in this order on the base material from the side close to the base material, wherein the protective layer contains no wax particles and a wax in the upper layer. It was achieved by a photosensitive lithographic printing plate characterized in that it is at least two layers comprising particles.

本発明により、高感度で耐傷性に優れた感光性平版印刷版を提供することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive lithographic printing plate having high sensitivity and excellent scratch resistance.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の感光性平版印刷版が有する基材としては、親水化処理された基材が好適であり、親水化処理されたアルミニウム板、各種プラスチックフィルム、各種プラスチックによりラミネートされた紙などが挙げられる。中でも柔軟性があり、張力による変形の少ない素材であるプラスチックフィルムが好ましく用いられる。好ましいプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、硝酸セルロース等が代表的に挙げられ、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく用いられる。   As the substrate that the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has, a substrate subjected to hydrophilic treatment is suitable, and examples include a hydrophilicized aluminum plate, various plastic films, and paper laminated with various plastics. . Among them, a plastic film which is flexible and is a material with little deformation due to tension is preferably used. Preferred examples of the plastic film include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl acetal, polycarbonate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, and cellulose nitrate. Polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferably used.

本発明の感光性平版印刷版が有する基材を親水化処理するにあたり、前記した基材と光硬化性感光層との間に、後述する親水性層を設けることが好ましく、基材の表面は、該親水性層や必要に応じて設けられる裏塗り層などの層との接着を良くするために、表面処理されていても良い。こうした表面処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられる。更なる表面処理として基材上に下引き層を設けても良い。   In hydrophilizing the substrate of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, it is preferable to provide a hydrophilic layer described later between the substrate and the photocurable photosensitive layer, and the surface of the substrate is In order to improve adhesion to the hydrophilic layer and a layer such as a backing layer provided as necessary, surface treatment may be performed. Examples of such surface treatment include corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, and ultraviolet irradiation treatment. An undercoat layer may be provided on the substrate as a further surface treatment.

本発明の感光性平版印刷版は、前記した基材上に、少なくとも光硬化性感光層と保護層をこの順に有する。   The photosensitive lithographic printing plate of the present invention has at least a photocurable photosensitive layer and a protective layer in this order on the substrate.

本発明において光硬化性感光層は光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、従来から知られる公知の化合物を用いることができる。例えば、トリハロアルキル置換された化合物(例えばトリハロアルキル置換された含窒素複素環化合物としてs−トリアジン化合物およびオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホニル化合物)、有機ホウ素塩、ヘキサアリールビイミダゾール、チタノセン化合物、チオ化合物、有機過酸化物等が挙げられる。これらの光重合開始剤の中でも、有機ホウ素塩が好ましく用いられる。更に好ましくは、トリハロアルキル置換化合物と有機ホウ素塩を組み合わせて用いることである。トリハロアルキル置換化合物と有機ホウ素塩を組み合わせることで、更に感度を向上させることができるために好ましい。   In the present invention, the photocurable photosensitive layer preferably contains a photopolymerization initiator. Conventionally known compounds can be used as the photopolymerization initiator. For example, trihaloalkyl-substituted compounds (for example, s-triazine compounds and oxadiazole derivatives as trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds, trihaloalkylsulfonyl compounds), organic boron salts, hexaarylbiimidazoles, titanocene compounds, thios Examples thereof include compounds and organic peroxides. Among these photopolymerization initiators, organic boron salts are preferably used. More preferably, a combination of a trihaloalkyl-substituted compound and an organic boron salt is used. A combination of a trihaloalkyl-substituted compound and an organic boron salt is preferable because the sensitivity can be further improved.

光重合開始剤であるトリハロアルキル置換化合物は、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール誘導体が挙げられ、あるいは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環あるいは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   The trihaloalkyl-substituted compound that is a photopolymerization initiator is specifically a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule. Preferred examples include the trihaloalkyl group. S-triazine derivatives and oxadiazole derivatives may be mentioned as compounds in which is bonded to a nitrogen-containing heterocyclic group, or trihaloalkylsulfonyl in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocyclic ring via a sulfonyl group Compounds.

トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい例を以下に示す。   Particularly preferred examples of compounds in which a trihaloalkyl group is bonded to a nitrogen-containing heterocyclic group and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.

Figure 2016151613
Figure 2016151613

Figure 2016151613
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有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式1で表される。   The organoboron anion constituting the organoboron salt is represented by the following general formula 1.

Figure 2016151613
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式中、R、R、RおよびRは各々同じであっても異なっていても良く、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらのうちで、R、R、RおよびRのうちの一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the formula, each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different, and represents an alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group or heterocyclic group. Represent. Of these, it is particularly preferred that one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

有機ホウ素塩を構成するカチオンとしては、アルカリ金属イオンおよびオニウム化合物が挙げられるが、好ましくはオニウム塩であり、例えばテトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ素塩の例を下記に示す。   Examples of the cation constituting the organic boron salt include alkali metal ions and onium compounds, but onium salts are preferred, for example, ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and triarylalkyls. Examples thereof include phosphonium salts such as phosphonium salts. Examples of particularly preferred organic boron salts are shown below.

Figure 2016151613
Figure 2016151613

Figure 2016151613
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上述したような光重合開始剤の含有量は、光硬化性感光層の総固形分質量100質量部に対して0.1〜30質量部の範囲で使用することが好ましく、更には1〜15質量部の範囲で含まれることが好ましい。   The content of the photopolymerization initiator as described above is preferably used in the range of 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the photocurable photosensitive layer, and more preferably 1 to 15 parts. It is preferably included in the range of parts by mass.

光硬化性感光層は重合性二重結合基を有する化合物を含有することが好ましい。重合性二重結合基を有する化合物とは重合性二重結合基を有する高分子化合物あるいは重合性二重結合基を有する低分子化合物であり、重合性二重結合基を有する高分子化合物および重合性二重結合基を有する低分子化合物を共に含有することが光重合効率の上から好ましい。   The photocurable photosensitive layer preferably contains a compound having a polymerizable double bond group. The compound having a polymerizable double bond group is a polymer compound having a polymerizable double bond group or a low molecular compound having a polymerizable double bond group. From the viewpoint of photopolymerization efficiency, it is preferable to contain a low molecular weight compound having a polymerizable double bond group.

重合性二重結合基を有する高分子化合物について説明する。この重合性二重結合基を有する高分子化合物は、任意の繰り返し単位によって形成された高分子化合物であり、任意の連結基を介して重合性二重結合基が側鎖に結合した高分子化合物である。中でもビニル基を反応性二重結合基として有した高分子化合物が好ましく用いられ、ビニル基が置換したフェニル基が直接もしくは任意の連結基を介して主鎖と結合した高分子化合物が特に好ましく用いられる。また、実質的にアルカリ剤を含有しない(ケミカルレス現像液)での現像を可能にするため、任意の連結基を介して主鎖に連結するスルホ基、四級アンモニウム基等を導入することが好ましいが、中でも現像性の高さからスルホ基を有する高分子化合物が好ましく用いることができる。該スルホ基は塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、アミン塩等)を形成しても良い。これらの連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。ビニル基が置換したフェニル基およびスルホ基は、それぞれ独立して主鎖に結合していても良いし、あるいはビニル基が置換したフェニル基とスルホ基が連結基の一部または全部を共有する形で結合していても良い。   The polymer compound having a polymerizable double bond group will be described. The polymer compound having a polymerizable double bond group is a polymer compound formed by an arbitrary repeating unit, and a polymer compound in which a polymerizable double bond group is bonded to a side chain through an arbitrary linking group. It is. Among them, a polymer compound having a vinyl group as a reactive double bond group is preferably used, and a polymer compound in which a phenyl group substituted with a vinyl group is bonded to the main chain directly or via an arbitrary linking group is particularly preferably used. It is done. In addition, in order to enable development with substantially no alkali agent (chemicalless developer), it is possible to introduce a sulfo group, a quaternary ammonium group, or the like linked to the main chain via an arbitrary linking group. Among them, a polymer compound having a sulfo group can be preferably used because of its high developability. The sulfo group may form a salt (for example, sodium salt, potassium salt, lithium salt, amine salt, etc.). These linking groups are not particularly limited, and include any group, atom, or a combination thereof. The phenyl group and sulfo group substituted with a vinyl group may be independently bonded to the main chain, or the phenyl group substituted with a vinyl group and the sulfo group share part or all of the linking group. You may combine with.

上記ビニル基が置換したフェニル基において、該フェニル基は置換されていても良く、また、該ビニル基はハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換されていても良い。   In the phenyl group substituted by the vinyl group, the phenyl group may be substituted, and the vinyl group is a halogen atom, carboxyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group. , An aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group and the like may be substituted.

本発明のビニル基が置換したフェニル基が直接もしくは任意の連結基を介して主鎖と結合した高分子化合物は、詳細には、下記一般式2で表される基を側鎖に有するものが好ましい。   The polymer compound in which the phenyl group substituted with the vinyl group of the present invention is bonded to the main chain directly or through an arbitrary linking group has, in detail, one having a group represented by the following general formula 2 in the side chain. preferable.

Figure 2016151613
Figure 2016151613

式中、R、RおよびRは、同じであっても異なっていても良く、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表し、これらの基を構成するアルキル基およびアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。これらの基の中でも、R、Rが水素原子であり、Rが水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)であるものが特に好ましい。 In the formula, R 5 , R 6 and R 7 may be the same or different and are each a hydrogen atom, halogen atom, carboxyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group. Group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group An alkyl group and an aryl group constituting these groups are a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a hydroxy group, Alkoxy group, aryloxy group, alkylsulfanyl group , Arylsulfanyl group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like. Among these groups, those in which R 5 and R 6 are hydrogen atoms and R 7 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.) are particularly preferable.

式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表す。また、これらの基を構成するアルキル基およびアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。 In the formula, R 8 is hydrogen atom, halogen atom, carboxyl group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, alkylamino. And a group selected from a group, an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group. The alkyl group and aryl group constituting these groups are halogen atom, carboxyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxy group. , Alkoxy groups, aryloxy groups, alkylsulfanyl groups, arylsulfanyl groups, alkylamino groups, arylamino groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, etc. good.

式中、Lは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子または、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子群からなる多価の連結基を表す。具体的には下記に例示される構造単位より構成される基および下記に示す複素環基が挙げられる。これらの基は単独でも任意の2つ以上が組み合わされていても良い。 In the formula, L 1 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent linking group consisting of an atom group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Represent. Specific examples include groups composed of the structural units exemplified below and the heterocyclic groups shown below. These groups may be used alone or in any combination of two or more.

Figure 2016151613
Figure 2016151613

連結基Lとしては複素環を含むものが好ましい。Lを構成する複素環の例としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらの複素環は置換基を有していても良い。 The linking group L 1 preferably includes a heterocyclic ring. Examples of the heterocyclic ring constituting L 1 include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thiazole Triazole ring, indole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline And a nitrogen-containing heterocycle such as a ring and a quinoxaline ring, a furan ring, a thiophene ring, and the like. These heterocycles may have a substituent.

上述した多価の連結基が置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。   When the polyvalent linking group described above has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, etc. It is done.

式中、mは0〜4の整数を表し、pは0または1の整数を表し、qは1〜4の整数を表す。 In the formula, m 1 represents an integer of 0 to 4, p 1 represents an integer of 0 or 1, and q 1 represents an integer of 1 to 4.

重合性二重結合基を有する高分子化合物は、上述した側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する繰り返し単位、およびスルホ基や四級アンモニウム基等を有する繰り返し単位からのみなる重合体であっても良いし、あるいは本発明の効果を妨げない限り、更に他の繰り返し単位を導入した重合体であっても良い。また更に、他のモノマーとの共重合体であっても良く、このようなモノマーは1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。   The polymer compound having a polymerizable double bond group is a polymer composed only of a repeating unit having a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain and a repeating unit having a sulfo group or a quaternary ammonium group. Alternatively, a polymer into which another repeating unit is introduced may be used as long as the effects of the present invention are not hindered. Further, it may be a copolymer with another monomer, and such a monomer may be used alone or two or more of them may be used.

また、本発明の重合性二重結合基を有する高分子化合物は連鎖移動剤を用いることで、任意の置換基を高分子主鎖の末端に導入することができる。具体的には直鎖アルカンチオール、特にアルコキシ基やハロゲン原子が結合した珪素原子が置換した直鎖アルカンチオールを連鎖移動剤として重合時に用いることで、高い画像強度を得ることができるため好ましく用いることができる。このような連鎖移動剤の例として、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリクロロシラン、3−メルカプトプロピルジクロロメチルシラン、4−メルカプトブチルトリメトキシシラン、4−メルカプトブチルジメトキシメチルシラン、4−メルカプトブチルトリエトキシシラン、4−メルカプトブチルトリクロロシラン、4−メルカプトブチルジクロロメチルシラン等が挙げられ、これらの分子末端の珪素原子同士は加水分解縮合することで酸素原子を介して結合してシロキサン結合を形成しても良い。   Moreover, the high molecular compound which has a polymerizable double bond group of this invention can introduce | transduce arbitrary substituents into the terminal of a polymer principal chain by using a chain transfer agent. Specifically, linear alkane thiols, particularly linear alkane thiols substituted with silicon atoms bonded to alkoxy groups or halogen atoms, are preferably used because they can be used at the time of polymerization as a chain transfer agent. Can do. Examples of such chain transfer agents include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyldimethoxymethylsilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrichlorosilane, 3-mercaptopropyldichloromethylsilane, 4 -Mercaptobutyltrimethoxysilane, 4-mercaptobutyldimethoxymethylsilane, 4-mercaptobutyltriethoxysilane, 4-mercaptobutyltrichlorosilane, 4-mercaptobutyldichloromethylsilane, and the like. May be bonded via an oxygen atom by hydrolytic condensation to form a siloxane bond.

重合性二重結合基を有する高分子化合物の好ましい例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例示された構造式の中の数字は共重合体トータル組成100質量%中における各繰り返し単位の質量%を表す。   Preferred examples of the polymer compound having a polymerizable double bond group are shown below, but the present invention is not limited to these examples. The numbers in the exemplified structural formulas represent the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.

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重合性二重結合基を有する高分子化合物の重量平均分子量は、1000から100万の範囲であることが好ましく、更に5万から60万の範囲にあることが特に好ましい。重合性二重結合基を有する高分子化合物は1種のみの単独で用いても良いし、任意の2種以上を混合して用いても良い。上記した重合性二重結合基を有する高分子化合物の含有量は、光硬化性感光層の総固形分質量100質量部に対して20〜80質量部の範囲であることが好ましい。   The weight average molecular weight of the polymer compound having a polymerizable double bond group is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 50,000 to 600,000. The high molecular compound which has a polymerizable double bond group may be used individually by 1 type, and may mix and use arbitrary 2 or more types. The content of the polymer compound having a polymerizable double bond group is preferably in the range of 20 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the photocurable photosensitive layer.

次に、重合性二重結合基を有する低分子化合物について述べる。この場合の重合性二重結合基を有する低分子化合物とは、上記の光重合開始剤の光分解により発生するラジカルにより重合を行う化合物であればいずれも好ましく用いることができる。更には、分子内に2個以上の重合性二重結合基を有する化合物を含んで用いた場合には、ラジカルによる重合の結果、架橋物が生成するため、ネガ型感光性平版印刷版材料を構成した場合に、架橋した堅い画像部皮膜を形成することから耐刷性およびインキ乗り性に優れた印刷版を与えるため極めて好ましく用いることができる。こうした目的で用いることのできる重合性二重結合基を有する化合物の例としては、ビス[2−ジ(プロペノイルオキシメチル)ブチル]エーテル、ビス[2,2,2−トリ(プロペノイルオキシメチル)]エーテル、[2,2,2−トリ(プロペノイルオキシメチル)エチル][2−ヒドロキシ−2,2−ビス(プロペノイルオキシメチル)エチル]エーテル、ビス[2−ジ(プロペノイルオキシメチル)プロピル]エーテル、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能性アクリル系モノマー等、アクリロイル基、メタクリロイル基を導入した各種オリゴマーのポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。上記した重合性化合物の含有量は、光硬化性感光層の総固形分質量100質量部に対して1〜30質量部の範囲であることが好ましい。   Next, a low molecular compound having a polymerizable double bond group will be described. In this case, any low molecular compound having a polymerizable double bond group can be preferably used as long as it is a compound that undergoes polymerization by radicals generated by photolysis of the photopolymerization initiator. Furthermore, when a compound having two or more polymerizable double bond groups in the molecule is used, a crosslinked product is formed as a result of polymerization by radicals. Therefore, a negative photosensitive lithographic printing plate material is used. When constituted, it forms a cross-linked hard image part film, so that it can be used very preferably to give a printing plate excellent in printing durability and ink transferability. Examples of compounds having a polymerizable double bond group that can be used for such purposes include bis [2-di (propenoyloxymethyl) butyl] ether, bis [2,2,2-tri (propenoyloxymethyl). )] Ether, [2,2,2-tri (propenoyloxymethyl) ethyl] [2-hydroxy-2,2-bis (propenoyloxymethyl) ethyl] ether, bis [2-di (propenoyloxymethyl) ) Propyl] ether, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trisacryloyloxyethyl isocyanurate, tripropylene glycol diacrylate, trimethylol Propane triac relay Polyfunctional acrylic monomers such as pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate, etc. Polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate etc. of various oligomers introduced with acryloyl group and methacryloyl group Can be mentioned. The content of the polymerizable compound described above is preferably in the range of 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the photocurable photosensitive layer.

光硬化性感光層には紫外光から近赤外光の各種光源に対応できるように、前述の光重合開始剤を増感する化合物を併せて含有することが好ましい。そのような化合物としてシアニン系色素、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、トリメチンアクリジン、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スクアリリウム化合物、クマリン系化合物、カルバゾール系化合物、カルボメロシアニン系色素、アミノベンジリデンケトン系色素、ピロメチン系色素、スチリル系色素、あるいは(チオ)ピリリウム系化合物等が挙げられる。これらのうち、シアニン系色素またはクマリン系化合物あるいは(チオ)ピリリウム系化合物が好ましい。上記色素の含有量は、光重合開始剤に対して0.01〜3質量%の範囲が好ましく、更には0.5〜1.5質量%の範囲で含まれることが好ましい。光重合開始剤を増感する化合物の例を以下に示す。   The photocurable photosensitive layer preferably contains a compound for sensitizing the above-described photopolymerization initiator so as to be compatible with various light sources from ultraviolet light to near infrared light. Such compounds include cyanine dyes, cyanine, phthalocyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compounds, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compounds, diphenylmethane, triphenylmethane, trimethine acridine, ketocoumarin. Quinacridone, indigo, squarylium compound, coumarin compound, carbazole compound, carbomerocyanine dye, aminobenzylidene ketone dye, pyromethine dye, styryl dye, or (thio) pyrylium compound. Of these, cyanine dyes, coumarin compounds or (thio) pyrylium compounds are preferred. The content of the dye is preferably in the range of 0.01 to 3% by mass and more preferably in the range of 0.5 to 1.5% by mass with respect to the photopolymerization initiator. The example of the compound which sensitizes a photoinitiator is shown below.

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光硬化性感光層を構成するその他の要素として、視認性を高める目的で種々の着色剤を添加することが好ましく行われる。こうした目的で添加される着色剤として着色顔料の水系分散物が最も好ましく用いることができる。こうした顔料の水系分散物の例として各種、黒色、青色、赤色、緑色、黄色等の着色した顔料が水溶性である各種分散剤の存在下に水中で分散された任意の素材が使用可能である。顔料として特に、カーボンブラック、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等は入手が容易であり水中での分散も比較的容易であるため特に好ましく用いることができる。また、こうした顔料を水中で分散させるために用いることのできる分散剤の例として、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のオキシエチレン基を有する水溶性であるノニオン系界面活性剤や、ポリアクリル酸、ポリビニルピロリドン、ポリスチレン−マレイン酸ハーフエステル共重合体、ポリスチレン−マレイン酸共重合体、その他各種水溶性高分子が挙げられる。こうした分散剤は着色顔料100質量部に対して5〜50質量部の範囲で含まれていることが好ましい。更に着色顔料を用いる場合には、光硬化性感光層の総固形分質量100質量部に対して0.1〜20質量部の範囲で含まれていることが好ましい。   As other elements constituting the photocurable photosensitive layer, various colorants are preferably added for the purpose of improving visibility. As a colorant added for such purposes, an aqueous dispersion of a color pigment can be most preferably used. As an example of an aqueous dispersion of such a pigment, any material in which various colored pigments such as black, blue, red, green and yellow are dispersed in water in the presence of various water-soluble dispersants can be used. . In particular, carbon black, phthalocyanine blue, phthalocyanine green, and the like as pigments are particularly preferred because they are readily available and relatively easy to disperse in water. Examples of dispersants that can be used to disperse these pigments in water include water-soluble nonionic surfactants having an oxyethylene group such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, polyacrylic acid, and polyvinylpyrrolidone. , Polystyrene-maleic acid half ester copolymer, polystyrene-maleic acid copolymer, and other various water-soluble polymers. Such a dispersant is preferably contained in a range of 5 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the color pigment. Furthermore, when using a color pigment, it is preferable that it is contained in the range of 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of total solid content of a photocurable photosensitive layer.

光硬化性感光層はシランカップリング剤を含有することが好ましい。光硬化性感光層がシランカップリング剤を含有することによって優れた耐刷性が得られる。   The photocurable photosensitive layer preferably contains a silane coupling agent. When the photocurable photosensitive layer contains a silane coupling agent, excellent printing durability can be obtained.

シランカップリング剤としては、その目的を達成するものであれば特に限定されず任意のものを用いることができる。例えば、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリス(3−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。中でも、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシランが特に好ましい。なお、シランカップリング剤は、1種を単独で用いても良く、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用しても良い。   The silane coupling agent is not particularly limited as long as the purpose is achieved, and any silane coupling agent can be used. For example, epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, glycidoxypropyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, mercaptopropyltrimethoxysilane, mercaptopropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxy Silane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, styryltrimethoxysilane, styryltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane , Vinyltris (3-methoxyethoxy) silane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimeth Sisilane, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloyl Oxypropylmethyldiethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ -Aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane and the like. Among them, epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, mercaptopropyltrimethoxysilane, mercaptopropyltri Particularly preferred are trialkoxysilanes such as ethoxysilane. In addition, a silane coupling agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

光硬化性感光層が含有するシランカップリング剤の量としては、光硬化性感光層の総固形分質量100質量部に対して、0.01〜20質量部の範囲が好ましい。   As a quantity of the silane coupling agent which a photocurable photosensitive layer contains, the range of 0.01-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total solid content of a photocurable photosensitive layer.

光硬化性感光層は酸化防止剤を含有することが好ましい。酸化防止剤としては、(株)大成社出版の「酸化防止剤ハンドブック」(昭和51年10月25日初版)12頁から16頁に記載されている酸化防止剤や、メルカプト基含有化合物、チオエーテル基含有化合物のような含硫黄化合物;亜リン酸エステル類のような含リン化合物;アミン類;フェノール類;ハイドロキノン類;アスコルビン酸類などが挙げられる。中でも、アミン類、フェノール類、アスコルビン酸類が好ましく用いられる。酸化防止剤の添加量としては、光硬化性感光層の総固形分質量100質量部に対して0.01〜10質量部の範囲で使用することが好ましい。   The photocurable photosensitive layer preferably contains an antioxidant. Examples of the antioxidant include antioxidants described in pages 12 to 16 of "Antioxidant Handbook" (October 25, 1951) published by Taiseisha Co., Ltd., mercapto group-containing compounds, and thioethers. Sulfur-containing compounds such as group-containing compounds; phosphorus-containing compounds such as phosphites; amines; phenols; hydroquinones; ascorbic acids. Of these, amines, phenols, and ascorbic acids are preferably used. As addition amount of antioxidant, it is preferable to use in 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of total solid content of a photocurable photosensitive layer.

アミン類としてはヒンダードアミン系化合物が好ましく用いられる。このようなヒンダードアミン系化合物としては、LA52、LA57,LA62((株)アデカ製)、TINUVIN144、765、770DF(チバ・ジャパン(株)製)、サイアソーブUV−3346、UV−3529、UV−3853(サンケミカル(株)製)などが挙げられる。   As amines, hindered amine compounds are preferably used. As such hindered amine compounds, LA52, LA57, LA62 (manufactured by Adeka), TINUVIN 144, 765, 770DF (manufactured by Ciba Japan), Siasorb UV-3346, UV-3529, UV-3853 ( Sun Chemical Co., Ltd.).

フェノール類の市販品としては、ノクラックNS−5、NS−6、NS−30(大内新興化学工業(株)製)、サイアノックスCY1790、CY2777、CY−XS4(サンケミカル(株)製)スミライザーGA80、GM、GS、WXR、MDP(住友化学(株)製)のようなヒンダードフェノール系化合物を本発明に用いることができる。   As commercial products of phenols, NOCRACK NS-5, NS-6, NS-30 (manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.), Sianox CY1790, CY2777, CY-XS4 (manufactured by Sun Chemical Co., Ltd.) A hindered phenol compound such as GA80, GM, GS, WXR, MDP (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) can be used in the present invention.

アスコルビン酸類としては、アスコルビン酸、アスコルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸ナトリウムなどが挙げられる。   Ascorbic acids include ascorbic acid, sodium ascorbate, sodium erythorbate and the like.

本発明の光硬化性感光層は光重合開始剤やその他の疎水性成分を分散相として含む水中乳化物を作製し、これを含有する水性分散液を基材上に塗布することによって形成されることが好ましい。   The photocurable photosensitive layer of the present invention is formed by preparing an emulsion in water containing a photopolymerization initiator and other hydrophobic components as a dispersed phase, and applying an aqueous dispersion containing this onto a substrate. It is preferable.

水中乳化物の作製にあたっては、分散相の成分をアニオン性界面活性剤の存在下で水中に乳化分散することが好ましく、これによってある程度高温に晒しても安定な乳化分散状態が保てる水中乳化物が得られる。このようなアニオン性界面活性剤としては、ラウリン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム等の高級脂肪酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、オクチルアルコール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアルコール硫酸エステルアンモニウム等の高級アルコール硫酸エステル塩類、アセチルアルコール硫酸エステルナトリウム等の脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム等のアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、ラウリル燐酸ナトリウム、ステアリル燐酸ナトリウム等のアルキル燐酸エステル塩類、ラウリルエーテル硫酸ナトリウムのポリエチレンオキサイド付加物、ラウリルエーテル硫酸アンモニウムのポリエチレンオキサイド付加物、ラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミンのポリエチレンオキサイド付加物等のアルキルエーテル硫酸塩のポリエチレンオキサイド付加物類、ノニルフェニルエーテル硫酸ナトリウムのポリエチレンオキサイド付加物等のアルキルフェニルエーテル硫酸塩のポリエチレンオキサイド付加物類、ラウリルエーテル燐酸ナトリウムのポリエチレンオキサイド付加物等のアルキルエーテル燐酸塩のポリエチレンオキサイド付加物類、ノニルフェニルエーテル燐酸ナトリウムのポリエチレンオキサイド付加物等のアルキルフェニルエーテル燐酸塩のポリエチレンオキサイド付加物類等を挙げることができる。これらのうちで、特にジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸塩類及びアルキルエーテル硫酸塩のポリエチレンオキサイド付加物類が最も安定な水中乳化物を形成することから極めて好ましい。   In preparing the emulsion in water, it is preferable to emulsify and disperse the components of the dispersed phase in water in the presence of an anionic surfactant, thereby providing an emulsion in water that can maintain a stable emulsion dispersion state even when exposed to a certain high temperature. can get. Examples of such anionic surfactants include higher fatty acid salts such as sodium laurate, sodium stearate, and sodium oleate, alkyl sulfates such as sodium dialkylsulfosuccinate, sodium lauryl sulfate, and sodium stearyl sulfate, and octyl alcohol sulfate. Higher alcohol sulfates such as sodium, sodium lauryl alcohol sulfate, ammonium lauryl alcohol sulfate, aliphatic alcohol sulfates such as sodium acetyl alcohol sulfate, alkyl benzene sulfonates such as sodium dodecylbenzene sulfonate, butyl naphthalene sulfone Alkyl naphthalene sulfonates such as sodium acid and sodium isopropyl naphthalene sulfonate Alkyl diphenyl ether disulfonates such as sodium didiphenyl ether disulfonate, alkyl phosphate esters such as sodium lauryl phosphate and sodium stearyl phosphate, polyethylene oxide adducts of sodium lauryl ether sulfate, polyethylene oxide adducts of ammonium lauryl ether sulfate, trilauryl ether sulfate Polyethylene oxide adducts of alkyl ether sulfates such as polyethylene oxide adduct of ethanolamine, polyethylene oxide adducts of alkyl phenyl ether sulfates such as polyethylene oxide adduct of sodium nonylphenyl ether sulfate, polyethylene of sodium lauryl ether phosphate Polyethylene oxide of alkyl ether phosphates such as oxide adducts De adducts, and polyethylene oxide adducts of alkyl phenyl ether phosphate salts of polyethylene oxide adducts of nonyl phenyl ether sodium phosphate and the like. Of these, sodium dialkyl sulfosuccinate, alkyl naphthalene sulfonates and polyethylene oxide adducts of alkyl ether sulfates are particularly preferred because they form the most stable emulsions in water.

またこの系に更に、前述した重合性二重結合基とスルホ基を有する高分子化合物を加えることで、乳化分散安定性は更に向上する。該高分子化合物は、乳化分散時に添加してもよいし乳化分散後に添加してもよいが、乳化分散時に添加することで、水中乳化物の水中における分散粒子径が顕著に減少し、極めて微小な液滴、微粒子の形態で分散するため、経時による沈降あるいは浮上等の問題発生が抑えられることからより好ましい。更に、該高分子化合物は、その一部を分散時に使用してまず水中乳化物を作製し、安定な乳化物が作製された後に更に該高分子化合物を添加することも好ましく行うことができる。   Further, by adding the above-described polymer compound having a polymerizable double bond group and a sulfo group to this system, the emulsion dispersion stability is further improved. The polymer compound may be added at the time of emulsification and dispersion, or may be added after the emulsification and dispersion. However, by adding at the time of emulsification and dispersion, the dispersed particle diameter of the emulsion in water is remarkably reduced, so that it is extremely fine. Since it is dispersed in the form of simple droplets and fine particles, problems such as sedimentation or levitation over time can be suppressed, which is more preferable. Furthermore, it is also possible to preferably perform a part of the polymer compound at the time of dispersion to prepare an emulsion in water and then add the polymer compound after a stable emulsion is prepared.

光重合開始剤などの疎水性成分を水中に乳化分散する際、これらの成分を溶解もしくは分散可能な有機溶剤を使用して混合液を作製し、水と混合した上で、前記したアニオン性界面活性剤や重合性二重結合基とスルホ基を有する高分子化合物を用いて乳化分散することが好ましい。但し、他に使用する添加剤が液体であり、その他の疎水性成分がこれに溶解して両者の混合物が液状である場合には、敢えて有機溶剤を使用せずとも両者の混合物を水中に乳化分散させることも可能である。予め混合して、両者が混合した水中乳化物を作製することも可能であるが、各々別々に水中乳化物を作製しても良い。乳化分散を行う方法については、回転式分散機、メデイアミル、超音波式分散機または混練機等の任意の分散機を利用することができ、ホモミキサーやホモジナイザー、あるいはサンドグラインダー等の市販される装置が好ましく利用できる。   When emulsifying and dispersing hydrophobic components such as photopolymerization initiators in water, a mixed solution is prepared using an organic solvent that can dissolve or disperse these components and mixed with water. It is preferable to emulsify and disperse using an activator or a polymer compound having a polymerizable double bond group and a sulfo group. However, if the other additive used is a liquid and the other hydrophobic components are dissolved in this and the mixture of both is liquid, the mixture of both is emulsified in water without using an organic solvent. It is also possible to disperse. It is possible to prepare an underwater emulsion in which both are mixed in advance, but the underwater emulsion may be prepared separately. Regarding the method of emulsifying and dispersing, any dispersing machine such as a rotary dispersing machine, a media mill, an ultrasonic dispersing machine or a kneading machine can be used, and a commercially available apparatus such as a homomixer, a homogenizer, or a sand grinder. Can be preferably used.

乳化分散の際に使用できる有機溶剤としては、常温で液体であり、分散相の成分を溶解もしくは分散可能である有機溶剤を意味する。本発明で用いることのできる有機溶剤の例として、揮発性有機溶剤と不揮発性有機溶剤が挙げられる。揮発性有機溶剤を用いた場合には、作製した水中乳化物から揮発性有機溶剤を加熱もしくは放置すること等で系中から取り除くことが好ましい。不揮発性有機溶剤を用いる場合には、不揮発性有機溶剤が50℃より高い引火点を示し、通常の取扱いにおいて危険物としての対策が軽減できる場合があり、好ましい。   The organic solvent that can be used for emulsification dispersion means an organic solvent that is liquid at room temperature and can dissolve or disperse the components of the dispersed phase. Examples of organic solvents that can be used in the present invention include volatile organic solvents and non-volatile organic solvents. When a volatile organic solvent is used, it is preferable to remove the volatile organic solvent from the produced emulsion in water by heating or leaving it. In the case of using a non-volatile organic solvent, the non-volatile organic solvent exhibits a flash point higher than 50 ° C., and the countermeasure as a dangerous substance may be reduced in normal handling, which is preferable.

上記の揮発性有機溶剤として、本発明で好ましく使用できる溶剤の例を挙げると、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等の低級アルカノールの酢酸エステル類、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール系酢酸エステル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族類等が挙げられるが、これらのうちで酢酸エチルが後述する種々の理由から、最も好ましく使用することができる。   Examples of the solvent that can be preferably used in the present invention as the volatile organic solvent include lower alkanol acetates such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, and ethylene glycol monoethyl ether acetate. Ethylene glycol acetates such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane and heptane, aromatics such as benzene, toluene and xylene, etc. Of these, ethyl acetate is most preferably used for various reasons described later.

本発明で用いることのできる不揮発性有機溶剤として、リン酸エステル、フタル酸エステル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルその他のカルボン酸エステル、脂肪酸アミド、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニル、アルキル化ナフタレン、ジアリールエタン、塩素化パラフィン、アルコール系溶剤、フェノール系溶剤、エーテル系溶剤、モノオレフィン系溶剤、エポキシ系溶剤等が挙げられる。具体例としては、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリシクロヘキシル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジラウレート、フタル酸ジシクロヘキシル、オレフィン酸ブチル、ジエチレングリコールベンゾエート、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリメリット酸トリオクチル、クエン酸アセチルトリエチル、マレイン酸オクチル、マレイン酸ジブチル、イソアミルビフェニル、塩素化パラフィン、ジイソプロピルナフタレン、1,1′−ジトリルエタン、モノイソプロピルビフェニル、ジイソプロピルビフェニル、2,4−ジターシャリアミルフェノール、N,N−ジブチル−2−ブトキシ−5−ターシャリオクチルアニリン、ヒドロキシ安息香酸2−エチルヘキシルエステル、ポリエチレングリコール等の高沸点溶剤が挙げられる。   Nonvolatile organic solvents that can be used in the present invention include phosphoric acid esters, phthalic acid esters, acrylic acid esters, methacrylic acid esters and other carboxylic acid esters, fatty acid amides, alkylated biphenyls, alkylated terphenyls, alkylated naphthalenes, Examples include diarylethane, chlorinated paraffin, alcohol solvent, phenol solvent, ether solvent, monoolefin solvent, epoxy solvent and the like. Specific examples include tricresyl phosphate, trioctyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, tricyclohexyl phosphate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, dilaurate phthalate, dicyclohexyl phthalate, butyl olefinate, diethylene glycol benzoate, dioctyl sebacate, Dibutyl sebacate, dioctyl adipate, trioctyl trimellitate, acetyl triethyl citrate, octyl maleate, dibutyl maleate, isoamylbiphenyl, chlorinated paraffin, diisopropylnaphthalene, 1,1'-ditolylethane, monoisopropylbiphenyl, diisopropylbiphenyl, 2,4-ditertiaryamylphenol, N, N-dibutyl-2-butoxy-5-tertiaryoctylaniline, hydroxy Ikikosan ethylhexyl esters, high boiling point solvent such as polyethylene glycol.

本発明において、乳化分散に用いる有機溶剤は、揮発性有機溶剤であることがより好ましい。この場合、水中乳化物が最も安定して製造でき、かつ室温より高い温度に晒しても乳化分散状態が安定に保たれることから好ましい。揮発性有機溶剤としては、特に酢酸エチルが好ましい。酢酸エチルは揮発性が高いため、加熱もしくは減圧下に置くだけで簡便に水中乳化物から溜去でき、酢酸エチルを溜去した後の水中乳化物は固体分散状態であり、酢酸エチル等の有機溶剤を含んだ状態よりも更に安定な塗布液を形成することから極めて好ましい。   In the present invention, the organic solvent used for emulsification dispersion is more preferably a volatile organic solvent. In this case, the emulsion in water can be most stably produced, and it is preferable because the emulsified dispersion state is kept stable even when exposed to a temperature higher than room temperature. As the volatile organic solvent, ethyl acetate is particularly preferable. Since ethyl acetate is highly volatile, it can be easily removed from the emulsion in water simply by placing it under heating or reduced pressure. The emulsion in water after the distillation of ethyl acetate is in a solid dispersion state, such as ethyl acetate. This is extremely preferable because it forms a coating solution that is more stable than a state containing a solvent.

次に、水中乳化物を作製する製造方法について、より具体的に説明する。   Next, the production method for producing an underwater emulsion will be described more specifically.

前述の酢酸エチル等の有機溶剤を使用して疎水性成分を溶解もしくは分散した溶液を作製する。これを、アニオン性界面活性剤、重合性二重結合基とスルホ基を有する高分子化合物等を含む水中に添加する際に、ホモミキサーやホモジナイザー等の高速剪断が可能である公知の攪拌装置を使用して乳化分散を行うことで水中乳化物を作製することができる。有機溶剤には、本発明の光硬化性感光層を塗設するための塗布液に含まれる他の水不溶性の化合物を添加してもよいし、分散媒として用いる水には、塗布液に含まれる他の水可溶性の化合物を添加してもよい。また乳化分散方式はバッチ式で行う場合や、連続的方式で配管系を流れる状態で連続して乳化分散を行うことが可能であり、その際0〜70℃の温度範囲で乳化分散を行うことが好ましい。   Using the organic solvent such as ethyl acetate described above, a solution in which the hydrophobic component is dissolved or dispersed is prepared. When adding this to water containing an anionic surfactant, a polymer compound having a polymerizable double bond group and a sulfo group, etc., a known stirring device capable of high-speed shearing such as a homomixer or a homogenizer is used. An emulsified solution in water can be prepared by emulsifying and dispersing by using. The organic solvent may contain other water-insoluble compounds contained in the coating solution for coating the photocurable photosensitive layer of the present invention, and the water used as the dispersion medium may be contained in the coating solution. Other water soluble compounds may be added. Moreover, the emulsification dispersion method can be carried out in a batch manner, or can be carried out continuously in a state of flowing through the piping system in a continuous manner, and in that case, the emulsification dispersion is carried out in a temperature range of 0 to 70 ° C. Is preferred.

光硬化性感光層自体の乾燥固形分塗布量に関しては、乾燥質量で1平方メートルあたり0.3〜10gの範囲の乾燥固形分塗布量で形成することが好ましく、更に0.5〜3gの範囲であることが良好な解像度を発揮し、かつ細線画像や微小網点画像の耐刷性を確保し、同時にインキ乗り性を大幅に向上させるために極めて好ましい。   Regarding the dry solid content coating amount of the photocurable photosensitive layer itself, it is preferably formed with a dry solid content coating amount in the range of 0.3 to 10 g per square meter by dry mass, and further in the range of 0.5 to 3 g. It is extremely preferable to exhibit good resolution and to ensure the printing durability of fine line images and fine dot images, and at the same time to greatly improve the ink transportability.

<保護層>
本発明の感光性平版印刷版は光硬化性感光層の上に保護層を有する。本発明の保護層は、ワックス粒子を含まない層と、その上層のワックス粒子を含む層の少なくとも2層からなる。
<Protective layer>
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention has a protective layer on the photocurable photosensitive layer. The protective layer of the present invention comprises at least two layers: a layer not containing wax particles and a layer containing wax particles on the upper layer.

保護層に含まれるワックス粒子は、保護層中に均一に分散できるものであれば特に制限はないが、製造時や保管時に融着することを防止する目的から融点が50℃以上であることが好ましい。   The wax particles contained in the protective layer are not particularly limited as long as they can be uniformly dispersed in the protective layer, but the melting point may be 50 ° C. or higher for the purpose of preventing fusion during production or storage. preferable.

本発明のワックス粒子としてはカルナバワックス、蜜蝋、鯨蝋、木蝋、ホホバ油、ラノリン、オゾケライト、パラフィンワックス、モンタンワックス類、キャンデリラワックス、セレシンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ライスワックスなどの天然ワックス、ポリエチレンワックス、フィッシャートロプシュワックス、モンタンワックス誘導体、パラフィンワックス誘導体、マイクロクリスタリンワックス誘導体等が挙げられる。   The wax particles of the present invention include carnauba wax, beeswax, spermaceti, wood wax, jojoba oil, lanolin, ozokerite, paraffin wax, montan wax, candelilla wax, ceresin wax, microcrystalline wax, rice wax and other natural waxes, polyethylene Examples thereof include wax, Fischer-Tropsch wax, montan wax derivative, paraffin wax derivative, and microcrystalline wax derivative.

特に好ましいワックス粒子としては、カルナバワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、キャンデリラワックス、パラフィンワックスである。ワックス粒子は1種単独でも2種以上を組み合わせて用いてもよい。乳化しやすくするためにこれらのワックス粒子を酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入しても良い。このようなワックス粒子は市販品を利用することができ、市販されているワックス粒子としては、例えばビッグケミー・ジャパン(株)からのAQUACER497、AQUACER501、AQUACER531、AQUACER533、AQUACER537、AQUACER539、AQUACER593、AQUACER2500、AQUACER2650等が挙げられる。ワックス粒子の添加量としては、ワックス粒子を含む層の総固形分質量100質量部に対して20〜200質量部の範囲で使用することが好ましい。   Particularly preferred wax particles are carnauba wax, microcrystalline wax, polyethylene wax, polypropylene wax, candelilla wax and paraffin wax. Wax particles may be used alone or in combination of two or more. In order to facilitate emulsification, these wax particles may be oxidized to introduce polar groups such as hydroxyl groups, ester groups, carboxyl groups, aldehyde groups, and peroxide groups. Commercially available wax particles can be used. Examples of commercially available wax particles include AQUACER 497, AQUACER 501, AQUACER 531, AQUACER 533, AQUACER 537, AQUACER 539, AQUACER 593, AQUACER 2500, and AQUACER 2500 from Big Chemie Japan Co., Ltd. Etc. The added amount of wax particles is preferably 20 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the layer containing the wax particles.

保護層に関する工夫は従来よりなされており、米国特許第3,458,311号明細書、特開昭55−49729号公報等に詳しく記載されている。保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが良く、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸等のような水溶性ポリマーが知られているが、これらのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、および保護層の現像除去性といった基本特性的に最も良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルおよびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。これらの技術はいずれも本発明に用いることができる。こうした保護層を適用する際の乾燥固形分塗布量に関しては好ましい範囲が存在し、ワックス粒子を含まない層およびワックス粒子を含む層のいずれも光硬化性感光層上に乾燥質量で1平方メートルあたり0.1〜10gの範囲の乾燥固形分塗布量で形成することが好ましく、更には1平方メートルあたり0.2〜2gの範囲が好ましい。   Devices related to the protective layer have been conventionally used and are described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic are used. Water-soluble polymers such as acids are known, but among these, using polyvinyl alcohol as the main component provides the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability of the protective layer. give. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Any of these techniques can be used in the present invention. There is a preferred range for the amount of dry solids applied when applying such a protective layer, and both the layer containing no wax particles and the layer containing wax particles have a dry mass of 0 per square meter on the photocurable photosensitive layer. It is preferably formed with a dry solid content coating amount in the range of 1 to 10 g, and more preferably in the range of 0.2 to 2 g per square meter.

<親水性層>
感光性平版印刷版は前記基材上に親水性層を有することが好ましい。親水性層は無機フィラーを含有する親水性層であることが好ましく、該親水性層は、ゼラチンを含有することが好ましい。
<Hydrophilic layer>
The photosensitive lithographic printing plate preferably has a hydrophilic layer on the substrate. The hydrophilic layer is preferably a hydrophilic layer containing an inorganic filler, and the hydrophilic layer preferably contains gelatin.

ゼラチンについて更に詳細に説明する。例えば石灰処理ゼラチンは以下のようにして製造される。まず、燐酸カルシウムを除去したコラーゲンのみからなるオセインを2〜3ヵ月間、飽和石灰水中に浸漬(石灰漬け)した後、水洗、中和し、約60℃の温湯で抽出(1番抽出)を行う。次いで約70℃で2番抽出を、約85℃で3番抽出を、更には95℃で4番抽出を行う。各抽出液は濾過、減圧濃縮後、約10℃で冷却、凝固させ、次いで乾燥することによりゼラチンが得られる。   The gelatin will be described in more detail. For example, lime-processed gelatin is manufactured as follows. First, ossein consisting only of collagen from which calcium phosphate has been removed is immersed in lime saturated water for 2 to 3 months, then washed with water, neutralized, and extracted with hot water at about 60 ° C (No. 1 extraction). Do. Next, the second extraction is performed at about 70 ° C., the third extraction is performed at about 85 ° C., and the fourth extraction is further performed at 95 ° C. Each extract is filtered, concentrated under reduced pressure, cooled and solidified at about 10 ° C., and then dried to obtain gelatin.

上記した例ではオセインを石灰水により前処理(アルカリ処理)しているが、この他の前処理として塩酸、硫酸等の希薄な酸溶液に短時間(10〜48時間)浸漬する酸処理、プロナーゼやペプシン等を利用する酵素処理等がある。上記した例では抽出は60℃から第1抽出を始め95℃の第4抽出まで行っているが、第1抽出は一般に45℃以上の温度であれば開始することができる。抽出回数は上記した例では4回であるが、前段階の抽出温度との差を小さくすることで、例えば7回にわたる抽出も可能である。また一般に市販されるゼラチンは、求められる物理性、化学性に応じて、これら複数回にわたって抽出されたゼラチンをそれぞれ乾燥した後、適宜混合される。   In the above example, ossein is pretreated with lime water (alkaline treatment), but as other pretreatment, acid treatment by soaking in a dilute acid solution such as hydrochloric acid or sulfuric acid for a short time (10 to 48 hours), pronase And enzyme treatment using pepsin and the like. In the example described above, the extraction is performed from 60 ° C. to the fourth extraction at 95 ° C. starting from the first extraction, but the first extraction can be started at a temperature of generally 45 ° C. or higher. In the above example, the number of extractions is four, but by reducing the difference from the previous extraction temperature, for example, seven extractions are possible. In general, commercially available gelatin is appropriately mixed after drying the gelatin extracted several times according to the required physical properties and chemical properties.

ゼラチンを得るためには、牛骨から抽出されたオセインを原料とするボーンゼラチンが好ましい。前処理としては、アルカリ処理あるいは酵素処理が施されたゼラチンであることが好ましい。また第1および第2抽出により得られたゼラチンが特に高いゼリー強度が得られる点で好ましい。   In order to obtain gelatin, bone gelatin made from ossein extracted from bovine bone is preferred. The pretreatment is preferably gelatin that has been subjected to alkali treatment or enzyme treatment. Further, gelatin obtained by the first and second extractions is preferable in that a particularly high jelly strength can be obtained.

ゼラチンの好ましい使用量としては、0.5〜2.0g/mの範囲であることが好ましく、0.8〜1.5g/mの範囲がより好ましい。 The preferred amount of gelatin is preferably in the range of 0.5 to 2.0 g / m 2, the range of 0.8 to 1.5 g / m 2 is more preferable.

親水性層は上記したゼラチン以外に、他の親水性バインダーを併用することができる。その他の親水性バインダーの量としては、親水性層が含有するゼラチンの総量に対して0〜10質量%の範囲で用いることが好ましく、より好ましくは0〜5質量%の範囲で用いる。   In the hydrophilic layer, in addition to the above-described gelatin, other hydrophilic binders can be used in combination. The amount of the other hydrophilic binder is preferably 0 to 10% by mass, more preferably 0 to 5% by mass, based on the total amount of gelatin contained in the hydrophilic layer.

他の親水性バインダーとしては、例えば、ゼラチン誘導体などの蛋白質またはセルロース誘導体、アラビアゴム、デンプンおよびその誘導体、セルロース誘導体(例えばヒドロキシプロピルメチルセルロース)、グリコーゲン、アガロース、ペクチン、デキストラン、プルランなどの多糖類、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、スチレン・マレイン酸共重合体塩、スチレン・アクリル酸共重合体塩、アクリルアミド重合体などの合成高分子化合物などが挙げられる。   Examples of other hydrophilic binders include proteins such as gelatin derivatives or cellulose derivatives, gum arabic, starch and derivatives thereof, cellulose derivatives (for example, hydroxypropylmethylcellulose), glycogen, agarose, pectin, dextran, pullulan and other polysaccharides, Examples thereof include synthetic polymer compounds such as polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, styrene / maleic acid copolymer salt, styrene / acrylic acid copolymer salt, and acrylamide polymer.

親水性層が含有する無機フィラーとしては、例えば炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、コロイダルシリカ、細孔シリカ、カオリン等が挙げられる。中でも二酸化チタン、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、コロイダルシリカが好ましい。   Examples of the inorganic filler contained in the hydrophilic layer include calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc oxide, titanium dioxide, barium sulfate, aluminum hydroxide, zinc hydroxide, colloidal silica, pore silica, and kaolin. Of these, titanium dioxide, barium sulfate, aluminum hydroxide, and colloidal silica are preferable.

二酸化チタンは、ルチル型、アナターゼ型のいずれでもよく、その製法についても硫酸法、塩素法いずれかに限定されるものではない。それらを単独または混合して使用してもよい。更に、分散安定性や他の機能性の観点から、各種表面処理を施したものを選択的に用いることも可能である。市販されている二酸化チタンとしては、例えば堺化学工業(株)からのSR−1、R−650、R−5N、R−7E、R−3L、A−110、A−190等、石原産業(株)からのタイペークR−580、同R−930、同A−100、同A−220、同CR−58、チタン工業(株)からのクロノスKR−310、同KR−380、同KA−10、同KA−20等、テイカ(株)からのチタニックスJR−301、同JR−600A、同JR−800、同JR−701等、デュポン(株)からのタイピュアR−900、同R−931等が挙げられる。   Titanium dioxide may be either a rutile type or an anatase type, and the production method is not limited to either the sulfuric acid method or the chlorine method. You may use them individually or in mixture. Furthermore, from the viewpoint of dispersion stability and other functionality, it is possible to selectively use those subjected to various surface treatments. Examples of commercially available titanium dioxide include SR-1, R-650, R-5N, R-7E, R-3L, A-110, and A-190 from Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Typek R-580, R-930, A-100, A-220, CR-58 from Titanium Industry Co., Ltd. Kronos KR-310, KR-380, KA-10 from Titanium Industry Co., Ltd. KA-20, etc., Titanics JR-301, Takeda Co., Ltd., JR-600A, JR-800, JR-701, etc., Taipure R-900, R-931 from DuPont Co., Ltd. Etc.

硫酸バリウムは、バリウム塩素溶液に硫酸塩水溶液を加えて化学的に沈殿させて製造される沈降性硫酸バリウムを用いることが好ましい。沈降性硫酸バリウムは例えば堺化学工業(株)から“バリエース”として様々な粒子径のものや表面処理が施されたものなどが市販されているが、いずれも用いることができる。   As barium sulfate, it is preferable to use precipitated barium sulfate produced by adding a sulfate aqueous solution to a barium chlorine solution and chemically precipitating. Precipitated barium sulfate is commercially available, for example, as “Variace” from Sakai Chemical Industry Co., Ltd., having various particle diameters or surface-treated ones, any of which can be used.

水酸化アルミニウムは、アルミナ含有鉱石であるボーキサイトを苛性ソーダもしくはアルミン酸ナトリウム溶液と混合し、高温高圧条件下でアルミナ成分を抽出し、その抽出液から溶解残分である赤泥を分離除去して、清澄化したアルミン酸ナトリウム溶液を得、その後、該溶液に種子を添加して水酸化アルミニウムを晶析させ、得られた水酸化アルミニウムを粉砕することで得ることができる。水酸化アルミニウムは昭和電工(株)から“ハイジライト”として各種グレードが市販されており、いずれも用いることができる。   Aluminum hydroxide mixes bauxite, which is an ore containing alumina, with caustic soda or sodium aluminate solution, extracts the alumina component under high temperature and high pressure conditions, separates and removes red mud as a dissolution residue from the extract, A clarified sodium aluminate solution is obtained, and then seeds are added to the solution to crystallize aluminum hydroxide, and the obtained aluminum hydroxide can be pulverized. Various grades of aluminum hydroxide are commercially available from Showa Denko Co., Ltd. as “Hijilite”, and any of them can be used.

コロイダルシリカは、珪酸ソーダの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通して得られるシリカゾルを加熱熟成して得られる。あるいは、アルコキシドの加水分解といった液相合成法によっても製造することができる。例えば日産化学工業(株)製からスノーテックスXS、スノーテックスS、スノーテックス20、MP−2040、MP−1040、スノーテックスZL、スノーテックスO、スノーテックスOL、スノーテックスUP、スノーテックスPS−S、スノーテックスPS−M等が市販されており、いずれも用いることができる。   Colloidal silica is obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis of sodium silicate with an acid or the like or through an ion exchange resin layer. Alternatively, it can also be produced by a liquid phase synthesis method such as hydrolysis of an alkoxide. For example, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Snowtex XS, Snowtex S, Snowtex 20, MP-2040, MP-1040, Snowtex ZL, Snowtex O, Snowtex OL, Snowtex UP, Snowtex PS-S , Snowtex PS-M and the like are commercially available, and any of them can be used.

また上記した粒度分布を有する無機フィラー全体の中で、珪素含有化合物の含有量は少ない方が望ましい。珪素含有化合物とはコロイダルシリカや細孔シリカ、およびカオリン等といったもので、全無機フィラーに対して5質量%以下で用いることが好ましく、3質量%以下とすることがより好ましく、とりわけ1質量%以下で用いることが望ましい。これにより現像性により優れた親水性層が得られる。   In addition, it is desirable that the content of the silicon-containing compound is small in the entire inorganic filler having the above particle size distribution. The silicon-containing compound is colloidal silica, pore silica, kaolin, or the like, and is preferably used at 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, particularly 1% by mass with respect to the total inorganic filler. It is desirable to use in the following. As a result, a hydrophilic layer superior in developability can be obtained.

親水性層は、親水性層の膜強度や接着強度を向上させる目的で、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤の例としては、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソシアネート化合物、アルデヒド化合物、シラン化合物、クロム明礬、ジビニルスルホン等を好適に用いることができる。特に好ましい架橋剤としては、ジビニルスルホンである。架橋剤の配合量は親水性層が含有する親水性バインダーの固形分量に対して、1.0〜30質量%で用いることが好ましい。   The hydrophilic layer preferably contains a crosslinking agent for the purpose of improving the film strength and adhesive strength of the hydrophilic layer. As examples of the crosslinking agent, melamine resin, epoxy resin, polyisocyanate compound, aldehyde compound, silane compound, chromium alum, divinyl sulfone, and the like can be suitably used. A particularly preferred crosslinking agent is divinyl sulfone. The amount of the crosslinking agent is preferably 1.0 to 30% by mass with respect to the solid content of the hydrophilic binder contained in the hydrophilic layer.

親水性層を十分に架橋させるため、例えば親水性層を形成した後に、30〜60℃、好ましくは40〜50℃の温度下の条件で0.5〜10日間の加温処理を施すことが好ましい。このような加温処理によって該親水性層は印刷時に非画像部として印刷に供されても、印刷適性としては当然であるが、耐傷性という観点において十分な性能が発現できる。   In order to sufficiently crosslink the hydrophilic layer, for example, after the hydrophilic layer is formed, a heating treatment for 0.5 to 10 days may be performed at a temperature of 30 to 60 ° C., preferably 40 to 50 ° C. preferable. Even if the hydrophilic layer is subjected to printing as a non-image part at the time of printing by such a heating treatment, it is natural that printability is sufficient, but sufficient performance can be expressed in terms of scratch resistance.

親水性層は界面活性剤を含有することが好ましい。親水性層中の無機フィラーを高濃度で含有する塗液の塗布性、更には印刷適性を考慮した場合、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール等のノニオン性界面活性剤を含有することが好ましい。また、ポリオキシエチレンアルキルエーテル酢酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩等のアニオン性界面活性剤等も好ましく用いられる。ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタイン、ラウリン酸アミドプロピルベタイン、ミリスチン酸アミドプロピルベタイン、オクタン酸アミドプロピルベタイン等の脂肪酸アルキルベタイン型両性界面活性剤/ラウリルジメチルアミノ酢酸、ステアリルジメチルアミノ酢酸等のアルキルベタイン型両性界面活性剤/ドデシルアミノメチルジメチルスルホプロピルベタイン、オクタデシルアミノメチルジメチルスルホプロピルベタイン等のスルホベタイン型両性界面活性剤/ラウロイルグルタミン酸ナトリウム、ラウロイルグルタミン酸カリウム、ラウロイルメチル−β−アラニン等のアミノ酸型両性界面活性剤/ラウリルジメチルアミンN−オキシド、オレイルジメチルアミンN−オキシド等のアミンオキシド型の両性界面活性剤を用いることもできる。上記した界面活性剤の添加量は、親水性層の親水性バインダーに対し、固形分で0.2〜15質量%であることが好ましく、より好ましくは1.5〜10質量%である。親水性層自体の乾燥固形分塗布量に関しては、乾燥質量で1平方メートルあたり1〜20gの範囲の乾燥固形分塗布量で形成することが好ましい。   The hydrophilic layer preferably contains a surfactant. In consideration of the applicability of a coating liquid containing a high concentration of the inorganic filler in the hydrophilic layer, and also the printability, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol, etc. It is preferable to contain a nonionic surfactant. In addition, anionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ether acetate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyethylene alkyl ether sulfate, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate, and the like are also preferably used. Fatty acid alkylbetaine type amphoteric surfactants such as coconut oil fatty acid amidopropyl betaine, lauric acid amidopropyl betaine, myristic acid amidopropyl betaine, octanoic acid amidopropyl betaine / alkyl betaine type amphoteric Surfactant / sulfobetaine-type amphoteric surfactants such as dodecylaminomethyldimethylsulfopropylbetaine and octadecylaminomethyldimethylsulfopropylbetaine / amino acid-type amphoteric surfactants such as sodium lauroylglutamate, potassium lauroylglutamate, lauroylmethyl-β-alanine / Amine oxide type amphoteric surfactants such as lauryl dimethylamine N-oxide and oleyldimethylamine N-oxide can be used. That. The addition amount of the above-described surfactant is preferably 0.2 to 15% by mass, more preferably 1.5 to 10% by mass in terms of solid content with respect to the hydrophilic binder of the hydrophilic layer. Regarding the dry solid content coating amount of the hydrophilic layer itself, it is preferable to form the dry solid content in the range of 1 to 20 g per square meter in terms of dry mass.

感光性平版印刷版が有する親水性層や、その上層に設けられる光硬化性感光層、および保護層等を塗布する場合は、基材上に、上述した要素から構成される組成物の塗液を塗布、乾燥して作製される。塗布方法としては、公知の種々の方法を用いることができ、例えば、バーコーター塗布、スライドホッパーコーティング塗布、カーテン塗布、ブレード塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、回転塗布、ディップ塗布等を挙げることができる。   When applying the hydrophilic layer of the photosensitive lithographic printing plate, the photocurable photosensitive layer provided on the upper layer, the protective layer, or the like, a coating solution of the composition comprising the above-described elements on the substrate Is applied and dried. As the coating method, various known methods can be used, and examples thereof include bar coater coating, slide hopper coating coating, curtain coating, blade coating, air knife coating, roll coating, spin coating, and dip coating. it can.

感光性平版印刷版に画像パターンを形成するための露光に用いる光源としては、カーボンアーク、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、ディープUVランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、エキシマーUVランプ、LED灯、各種蛍光ランプ等(白色蛍光灯、ブラックライト、ケミカルライト等)を用いることが可能であるが、製版効率の上からレーザーによる走査露光が非常に好ましい。レーザー光源としては、青紫色半導体レーザー(バイオレットレーザー)、アルゴンレーザー、ヘリウム・ネオンレーザー、赤色LED、近赤外レーザー、赤外レーザー等が挙げられる。また、走査方法としては、内面ドラム方式あるいは外面ドラム方式、平面走査方式等のいずれであってもよいが、内面ドラム方式が好ましい。   Light sources used for exposure to form image patterns on photosensitive lithographic printing plates include carbon arc, high pressure mercury lamp, ultra high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, deep UV lamp, xenon lamp, metal halide lamp, tungsten lamp, halogen lamp, excimer A UV lamp, LED lamp, various fluorescent lamps (white fluorescent lamp, black light, chemical light, etc.) can be used, but scanning exposure with a laser is very preferable in terms of plate making efficiency. Examples of the laser light source include a blue-violet semiconductor laser (violet laser), an argon laser, a helium / neon laser, a red LED, a near infrared laser, and an infrared laser. The scanning method may be any of an internal drum system, an external drum system, a planar scanning system, etc., but an internal drum system is preferred.

<現像処理>
現像処理における処理液としては、画質向上や処理時間の短縮等を目的として、必要に応じて界面活性剤もしくはアルカリ剤を含有しても良い。前記した重合性二重結合基を有する高分子化合物がカルボキシル基やスルホ基等の酸性基を有し、該酸性基が光硬化性感光層中において、金属塩もしくはアンモニウム塩の形態になっている場合には、アルカリ剤を実質的に含有しないケミカルレス現像液、すなわち、pHが9未満の中性現像液で処理することが可能である。特に重合性二重結合基を有する化合物がスルホ基の中和塩を有する場合には良好な現像性を得ることが可能であり、純水でも処理可能であるが、カルボキシル基中和塩の場合やスルホ基中和塩を有していても十分な現像性を得ることができない場合は、該中性現像液に現像性の向上を目的として界面活性剤を添加することができる。
<Development processing>
The processing solution in the development processing may contain a surfactant or an alkali agent as necessary for the purpose of improving the image quality and shortening the processing time. The polymer compound having a polymerizable double bond group has an acidic group such as a carboxyl group or a sulfo group, and the acidic group is in the form of a metal salt or an ammonium salt in the photocurable photosensitive layer. In some cases, it is possible to process with a chemical-less developer substantially free of an alkali agent, that is, a neutral developer having a pH of less than 9. In particular, when the compound having a polymerizable double bond group has a neutralized salt of a sulfo group, good developability can be obtained, and processing is possible with pure water. In the case where sufficient developability cannot be obtained even with a neutralized sulfo group salt, a surfactant can be added to the neutral developer for the purpose of improving developability.

界面活性剤として、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン性、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン性、アルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性の界面活性剤、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の水溶性有機溶剤等が挙げられる。   Nonionic properties such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, monoglyceride alkyl esters as surfactants, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonic acids Anionic surfactants such as salts, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, sulfosuccinate esters, amphoteric surfactants such as alkyl betaines, amino acids, isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol And water-soluble organic solvents such as diacetone alcohol.

なお、現像は、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の公知の現像法により、通常、好ましくは10〜60℃程度、更に好ましくは15〜45℃程度の温度で、5秒〜10分程度の時間でなされる。その際、光硬化性感光層上に必要に応じて設けられる保護層は、予め水などで除去しておいてもよいし、現像時に除去することとしてもよい。   The development is usually carried out by a known development method such as immersion development, spray development, brush development, ultrasonic development, etc., preferably at a temperature of about 10 to 60 ° C., more preferably about 15 to 45 ° C. for 5 seconds to It takes about 10 minutes. At that time, the protective layer provided as necessary on the photocurable photosensitive layer may be removed in advance with water or the like, or may be removed during development.

以下、実施例を用いて本発明を説明するが、無論この記述により本発明が限定されるものではない。なお、以下の記述の中における単位として%や部は、特に記載がない限り質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated using an Example, this invention is not limited by this description. In the following description, “%” and “part” are based on mass unless otherwise specified.

(実施例1)
<親水性層>
厚みが約200μmのポリエチレンテレフタレート基材上に、下記組成の親水性層塗工液1をスライドホッパーコーティング法により塗布した。その際、湿分塗布量が35g/mになるように予め設定して行った。塗布後直ちに1〜5℃の冷風にて塗膜をゲル化、その後は50℃に設定された乾いた風を用いて乾燥を行った。乾燥後には40℃40%RHに調整された恒温恒湿機に入れ7日間の加温を施すことで親水性層を完成させた。
Example 1
<Hydrophilic layer>
A hydrophilic layer coating solution 1 having the following composition was applied on a polyethylene terephthalate substrate having a thickness of about 200 μm by a slide hopper coating method. At that time, the moisture application amount was set in advance to be 35 g / m 2 . Immediately after coating, the coating film was gelled with cold air of 1 to 5 ° C., and then dried using a dry air set at 50 ° C. After drying, the hydrophilic layer was completed by putting it in a thermo-hygrostat adjusted to 40 ° C. and 40% RH and heating for 7 days.

<親水性層塗工液1>
ゼラチン:GELタイプI 1.2部
(牛骨オセインを原料とするアルカリ処理ゼラチン、1番2番抽出ゼラチン混合品)
無機フィラー1:二酸化チタン 4.0部
(SR−1、堺化学工業(株)製、平均径≒0.3μm、屈折率=2.04)
無機フィラー2:硫酸バリウム 1.6部
(B35、堺化学工業(株)製、平均径≒0.3μm、屈折率=1.23)
無機フィラー3:水酸化アルミニウム 0.4部
(H42、昭和電工(株)製、平均径≒1.0μm、屈折率=1.24)
無機フィラー分散剤(アクリル酸共重合金属塩、10%溶液) 1.0部
POEノニルフェニルエーテル硫酸Na(10%溶液) 0.4部
ジビニルスルホン(5%溶液) 4.0部
水で全量を35部とした。
<Hydrophilic layer coating solution 1>
Gelatin: GEL Type I 1.2 parts (Alkaline-treated gelatin made from beef bone ossein, 1st and 2nd extracted gelatin mixture)
Inorganic filler 1: Titanium dioxide 4.0 parts (SR-1, Sakai Chemical Industry Co., Ltd., average diameter ≈ 0.3 μm, refractive index = 2.04)
Inorganic filler 2: 1.6 parts of barium sulfate (B35, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., average diameter≈0.3 μm, refractive index = 1.23)
Inorganic filler 3: 0.4 parts of aluminum hydroxide (H42, manufactured by Showa Denko KK, average diameter≈1.0 μm, refractive index = 1.24)
Inorganic filler dispersant (acrylic acid copolymerized metal salt, 10% solution) 1.0 part POE nonylphenyl ether sulfate Na (10% solution) 0.4 part divinyl sulfone (5% solution) 4.0 parts Total amount with water 35 parts.

<光硬化性感光層>
上記で得られた親水性層上に、下記のようにして得られた光硬化性感光層塗工液(水性分散液)を乾燥固形分量が1.5g/mになるよう塗布を行い、塗布後75℃の乾燥器内にて10分間乾燥した。
<Photocurable photosensitive layer>
On the hydrophilic layer obtained above, the photocurable photosensitive layer coating solution (aqueous dispersion) obtained as follows was applied so that the dry solid content was 1.5 g / m 2 . After application, the film was dried for 10 minutes in a 75 ° C. drier.

<光硬化性感光層塗工液>
下記の組成の水相を作製した。
<水相>
重合性二重結合基とスルホ基を有する高分子化合物
(SP−2)平均分子量80000 20部
ペレックスOTP(ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム:花王(株)製) 5部
イオン交換水 300部
<Photocurable photosensitive layer coating solution>
An aqueous phase having the following composition was prepared.
<Water phase>
Polymer compound having polymerizable double bond group and sulfo group
(SP-2) Average molecular weight 80,000 20 parts Perex OTP (sodium dialkylsulfosuccinate: manufactured by Kao Corporation) 5 parts Ion-exchanged water 300 parts

下記の組成の分散相を作製した。
<分散相>
AD−TMP
(ビス[2−ジ(プロペノイルオキシメチル)ブチル]エーテル、新中村化学工業(株)) 6部
有機ホウ素塩(BC−7) 2部
トリハロアルキル置換化合物(T−8) 1.5部
増感色素(VS−1) 0.05部
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン 0.08部
酸化防止剤
(2,2′−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール))
0.01部
酢酸エチル 200部
A dispersed phase having the following composition was prepared.
<Dispersed phase>
AD-TMP
(Bis [2-di (propenoyloxymethyl) butyl] ether, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 6 parts Organoboron salt (BC-7) 2 parts Trihaloalkyl-substituted compound (T-8) 1.5 parts Increase Dye-sensitive dye (VS-1) 0.05 part Acryloxypropyltrimethoxysilane 0.08 part Antioxidant (2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol))
0.01 parts ethyl acetate 200 parts

水性分散液の作製には、密閉容器内にホモミキサーが配置され、減圧下で加熱しながら溶媒を溜去可能な、みずほ工業(株)製卓上型真空乳化装置PVQ−1Dを使用して作製を行った。ホモミキサーの回転速度は5000rpmに設定した。上記で作製した水相と分散相を、真空乳化装置内に導入し、室温下でホモミキサーの20分間高速攪拌により乳化分散を行った。その後、着色剤としてピグメントブルー15を0.2部加えて攪拌し、真空乳化装置内をアスピレーターで減圧状態にし、大気圧の20%の減圧条件下で温度を50℃に上昇させて酢酸エチルを減圧溜去した。冷却器にて回収した酢酸エチルの量から、用いた全ての酢酸エチルが水中乳化物から溜去されたことを確認した。こうして光硬化性感光層塗工液を作製した。   The aqueous dispersion is prepared using a Mizuho Kogyo Co., Ltd. tabletop vacuum emulsifier PVQ-1D, in which a homomixer is placed in a sealed container and the solvent can be distilled off while heating under reduced pressure. Went. The rotation speed of the homomixer was set to 5000 rpm. The aqueous phase and the dispersed phase prepared above were introduced into a vacuum emulsification apparatus, and emulsified and dispersed by high-speed stirring with a homomixer for 20 minutes at room temperature. Thereafter, 0.2 parts of Pigment Blue 15 as a colorant was added and stirred, and the inside of the vacuum emulsifier was depressurized with an aspirator, and the temperature was raised to 50 ° C. under a depressurization condition of 20% of atmospheric pressure, and ethyl acetate was added. Distilled under reduced pressure. From the amount of ethyl acetate collected in the cooler, it was confirmed that all the ethyl acetate used was distilled off from the emulsion in water. Thus, a photocurable photosensitive layer coating solution was prepared.

<保護層>
下記保護層処方に従って保護層塗工液Aおよび保護層塗工液Bを作製し、表1に従って保護層を塗布した。保護層の塗布にあたっては、下層の塗工液を前記光硬化性感光層上に乾燥固形分量が1.0g/mになるよう塗布を行い、塗布後75℃の乾燥器内にて10分間乾燥を行った。その後、上層の塗工液を乾燥固形分量が1.0g/mになるよう塗布を行い、塗布後75℃の乾燥器内にて10分間乾燥を行い、感光性平版印刷版を得た。
<Protective layer>
A protective layer coating solution A and a protective layer coating solution B were prepared according to the following protective layer formulation, and a protective layer was applied according to Table 1. In applying the protective layer, the lower layer coating solution is applied onto the photocurable photosensitive layer so that the dry solid content is 1.0 g / m 2, and after application, in a 75 ° C. drier for 10 minutes. Drying was performed. Thereafter, the upper layer coating solution was applied so that the dry solid content was 1.0 g / m 2, and after application, drying was performed in a dryer at 75 ° C. for 10 minutes to obtain a photosensitive lithographic printing plate.

<保護層塗工液A>
ポリビニルアルコール PVA−205((株)クラレ製) 1部
イオン交換水 9部
<Protective layer coating liquid A>
Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1 part Ion-exchanged water 9 parts

<保護層塗工液B>
ポリビニルアルコール PVA−205((株)クラレ製) 1部
ワックス粒子(表1に記載) 0.5部
イオン交換水 9部
<Protective layer coating solution B>
Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1 part Wax particles (described in Table 1) 0.5 part Ion-exchanged water 9 parts

<耐傷性>
上記で得られた感光性平版印刷版の耐傷性は、HEIDON18型連続荷重式引っ掻き試験機(新東科学(株)製)で直径0.05mmのダイヤモンドの針に200gの荷重をかけて保護層の上から感光性平版印刷版を引っかき、その時の保護層の損傷具合を下記評価基準にて評価した。得られた結果を表1に示す。
(評価基準)
1:保護層が完全に剥離
2:保護層の剥離が顕著
3:わずか保護層が剥離している
4:保護層表面に傷跡がつくが剥離はしていない
5:全く保護層表面に損傷は見られない
<Scratch resistance>
The scratch resistance of the photosensitive lithographic printing plate obtained above was determined by applying a load of 200 g to a diamond needle having a diameter of 0.05 mm using a HEIDON 18 type continuous load type scratch tester (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.). The photosensitive lithographic printing plate was scratched from above, and the degree of damage to the protective layer at that time was evaluated according to the following evaluation criteria. The obtained results are shown in Table 1.
(Evaluation criteria)
1: The protective layer is completely peeled 2: The peeling of the protective layer is remarkable 3: The protective layer is slightly peeled 4: The surface of the protective layer is scratched but not peeled 5: The protective layer surface is not damaged at all can not see

<感度>
上記で得られた感光性平版印刷版の感度については以下のようにして評価した。版面上の露光量が600μJ/cmになるように設定し、グレイスケールを介してベタ画像を405nmの波長の光にて露光した。その後18℃のイオン交換水に15秒間漬けてセルローススポンジで光硬化性感光層/保護層を有する側の面を擦り、その後乾燥することによりサンプルを作製した。感度は画像部の濃度が一定になる露光量より判断した。値が小さいほど感度が高いことを示す。得られた結果を表1に示す。
<Sensitivity>
The sensitivity of the photosensitive lithographic printing plate obtained above was evaluated as follows. The exposure amount on the printing plate was set to 600 μJ / cm 2 , and the solid image was exposed with light having a wavelength of 405 nm through a gray scale. Thereafter, the sample was immersed in ion exchange water at 18 ° C. for 15 seconds, rubbed with the cellulose sponge on the surface having the photocurable photosensitive layer / protective layer, and then dried to prepare a sample. Sensitivity was judged from the exposure amount at which the density of the image area was constant. A smaller value indicates higher sensitivity. The obtained results are shown in Table 1.

Figure 2016151613
Figure 2016151613

表1から判るように、本発明によって、高感度で耐傷性に優れた平版印刷版が得られることが判る。   As can be seen from Table 1, according to the present invention, it is understood that a lithographic printing plate having high sensitivity and excellent scratch resistance can be obtained.

Claims (1)

基材上に、基材に近い方から光硬化性感光層と保護層を少なくともこの順に有する感光性平版印刷版において、該保護層がワックス粒子を含まない層とその上層のワックス粒子を含む層の少なくとも2層であることを特徴とする感光性平版印刷版。   A photosensitive lithographic printing plate having at least a photocurable photosensitive layer and a protective layer in this order on the base material from the side closer to the base material, wherein the protective layer does not contain wax particles and a layer containing wax particles as an upper layer thereof A photosensitive lithographic printing plate comprising at least two layers.
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