JP2016148030A - Antistatic agent for silicone release agent and antistatic silicone release film - Google Patents

Antistatic agent for silicone release agent and antistatic silicone release film Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic agent for a silicone release agent which exhibits little change in peeling force over time and is excellent in antistatic performance.SOLUTION: An antistatic agent composition for a silicone release agent contains a quaternary ammonium salt (A) and a compound (B) having a polyoxyethylene chain. The quaternary ammonium salt (A) is represented by formula (1). [Rand Reach independently represent a 1-22C aliphatic hydrocarbon group; Rrepresents a 1-22C aliphatic hydrocarbon group, a 7-22C arylalkyl group, or a 7-22C arylalkenyl group; Rrepresents an 8-22C aliphatic hydrocarbon group; and Xrepresents an anion being a conjugate base of a superacid having a Hammett acidity function (H) of less than -11.93.]SELECTED DRAWING: None

Description

本発明はシリコーン剥離剤用帯電防止剤、該シリコーン剥離剤用帯電防止剤を含有する帯電防止性シリコーン剥離剤、該帯電防止性シリコーンを塗布してなる剥離フィルムに関する。   The present invention relates to an antistatic agent for silicone release agent, an antistatic silicone release agent containing the antistatic agent for silicone release agent, and a release film formed by applying the antistatic silicone.

シリコーン剥離フィルムとは、基材上にシリコーン剥離剤を塗布したものであり、例えば接着フィルムあるいは粘着フィルム等の接合フィルムの貼付面から剥離されるフィルムであって剥離フィルム自体は接着性あるいは粘着性を示さないもの、例えば剥離フィルム及び剥離シート等が包含される。その具体例としては、基材の片面に剥離剤層を有する片面剥離フィルム、基材の両面に剥離剤層を有する両面剥離フィルムが挙げられる。 A silicone release film is a film in which a silicone release agent is applied on a substrate, for example, a film that is peeled off from the bonding surface of a bonding film such as an adhesive film or an adhesive film, and the release film itself is adhesive or tacky. Such as a release film and a release sheet are included. Specific examples thereof include a single-sided release film having a release agent layer on one side of the substrate and a double-sided release film having release agent layers on both sides of the substrate.

基材としては、各種プラスチック[ポリオレフィン(ポリエチレン及びポリプロピレン等)、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、レーヨン及びポリアミド等]のフィルム、シート、フォーム及びフラットヤーン並びに紙(和紙及びクレープ紙等)、金属板、金属箔、織布、不織布及び木材等が挙げられる。   Base materials include films of various plastics [polyolefin (polyethylene, polypropylene, etc.), polyurethane, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, rayon, polyamide, etc.], sheets, foam, flat yarn, paper (Japanese paper, crepe paper, etc.), metal Examples include plates, metal foils, woven fabrics, nonwoven fabrics, and wood.

剥離フィルム使用時、粘着フィルム等から剥離させた際に剥離帯電が発生する場合があり、粘着フィルム及び剥離フィルムにちりやほこり等の異物の付着あるいは巻き込が発生する。   When the release film is used, peeling electrification may occur when the release film is peeled off from the adhesive film or the like, and adhesion or entrainment of foreign matter such as dust or dust occurs on the adhesive film and the release film.

しかしながら、特許文献1に記載の方法では、陰イオン界面活性剤が経時でブリードアウトしてくるため、粘着剤を汚染し、剥離力が変化してしまう。 However, in the method described in Patent Document 1, since the anionic surfactant bleeds out over time, the pressure-sensitive adhesive is contaminated and the peeling force changes.

特開2014−233845号公報JP 2014-233845 A

本発明は前記事情に鑑みなされたものであり、本発明の目的は帯電防止剤を添加した際、経時での剥離力変化が少なく、かつ帯電防止性能に優れるシリコーン剥離剤用帯電防止剤を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an antistatic agent for a silicone release agent that has little change in peel force with time and is excellent in antistatic performance when an antistatic agent is added. There is to do.

本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達した。即ち本発明は、
第4級アンモニウム塩(A)及びポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)を含有するシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物;前記シリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物を含有する帯電防止性シリコーン剥離剤組成物;前記帯電防止性シリコーン剥離剤組成物の層を、基材の少なくとも片面の少なくとも一部に有する帯電防止性剥離フィルムである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have reached the present invention. That is, the present invention
Antistatic agent composition for silicone release agent containing quaternary ammonium salt (A) and compound (B) having polyoxyethylene chain; Antistatic silicone release containing antistatic agent composition for silicone release agent An antistatic release film having a layer of the antistatic silicone release agent composition on at least a part of at least one side of a substrate.

本発明のシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物を使用した帯電防止性剥離フィルムは、経時での剥離力変化が少なく、かつ帯電防止性能に優れる。 The antistatic release film using the antistatic agent composition for a silicone release agent of the present invention has little change in peel force over time and is excellent in antistatic performance.

本発明のシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物は、第4級アンモニウム塩(A)、ポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)を含有する。好ましくは塗膜密着性の理由からさらに有機金属化合物(C)を含有してもよい。また、好ましくは塗膜密着性の理由からさらに不飽和結合を有する脂肪族化合物(D)を含有してもよい。 The antistatic agent composition for a silicone release agent of the present invention contains a quaternary ammonium salt (A) and a compound (B) having a polyoxyethylene chain. Preferably, an organic metal compound (C) may be further contained for the reason of coating film adhesion. Further, preferably, an aliphatic compound (D) having an unsaturated bond may be contained for the reason of coating film adhesion.

本発明における第4級アンモニウム塩(A)としては、下記一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩(A1);並びに環状アミン(ピリジン及びモルホリン等)の第4級アンモニウム塩(A2)が挙げられる。 The quaternary ammonium salt (A) in the present invention includes a quaternary ammonium salt (A1) represented by the following general formula (1); and a quaternary ammonium salt (A2) of a cyclic amine (pyridine, morpholine, etc.). ).

一般式(1)におけるR及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜22の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基(アルキル基及びアルケニル基)を表す。
直鎖の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ヤシ油由来のアルコールから水酸基を除いたアルキル基(以下、ヤシ油アルキル基と略記)及びオレイル基等が挙げられ、分岐の炭化水素基としては、イソプロピル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。これらの内、シリコーンとの相溶性の観点から、好ましいのは炭素数1〜14の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基、更に好ましいのは炭素数1〜8の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基、特に好ましいのは炭素数1又は2の脂肪族炭化水素基、最も好ましいのはメチル基である。また、RとRは同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
R 1 and R 2 in the general formula (1) each independently represent a linear or branched aliphatic hydrocarbon group (alkyl group and alkenyl group) having 1 to 22 carbon atoms.
As the linear aliphatic hydrocarbon group, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, Examples include alkyl groups obtained by removing hydroxyl groups from alcohol derived from coconut oil (hereinafter abbreviated as coconut oil alkyl groups) and oleyl groups. Examples of branched hydrocarbon groups include isopropyl groups and 2-ethylhexyl groups. Among these, from the viewpoint of compatibility with silicone, a linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms is preferable, and a linear or branched aliphatic group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable. A hydrocarbon group, particularly preferred is an aliphatic hydrocarbon group having 1 or 2 carbon atoms, and most preferred is a methyl group. R 1 and R 2 may be the same or different, but are preferably the same.

は炭素数1〜22の直鎖若しくは分岐の脂肪族炭化水素基、炭素数7〜22のアリールアルキル、炭素数7〜22のアリールアルケニル基、又はアルキル(炭素数10〜24)アミドアルキル(炭素数2〜6)基及び/又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基を表す。
炭素数1〜22の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基としては、R及びRとして例示したものと同様のものが挙げられ、炭素数7〜22のアリールアルキル基としてはベンジル基及びフェネチル基等が挙げられ、炭素数7〜22のアリールアルケニル基としてはスチリル基及びシンナミル基等が挙げられる。
R 3 is a linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, arylalkyl having 7 to 22 carbon atoms, arylalkenyl group having 7 to 22 carbon atoms, or alkyl (10 to 24 carbon atoms) amidoalkyl. A (C2-C6) group and / or a C2-C4 hydroxyalkyl group are represented.
Examples of the linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms include those exemplified as R 1 and R 2 , and examples of the arylalkyl group having 7 to 22 carbon atoms include a benzyl group and A phenethyl group etc. are mentioned, A styryl group, a cinnamyl group, etc. are mentioned as a C7-C22 aryl alkenyl group.

の内、剥離力の観点から好ましいのは炭素数1〜18の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基、炭素数7〜15のアリールアルキル基及びアリールアルケニル基、更に好ましいのは炭素数6〜14の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基である。 Of R 3 , a linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an arylalkyl group and arylalkenyl group having 7 to 15 carbon atoms, and more preferably a carbon number are preferable from the viewpoint of peeling force. 6 to 14 linear or branched aliphatic hydrocarbon groups.

は炭素数8〜22の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルケニル基等)を表す。
直鎖の脂肪族炭化水素基としては、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ヤシ油アルキル基及びオレイル基等が挙げられ、分岐の脂肪族炭化水素基としては、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。
R 4 represents a linear or branched aliphatic hydrocarbon group (alkyl group, alkenyl group, etc.) having 8 to 22 carbon atoms.
Examples of the linear aliphatic hydrocarbon group include octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, coconut oil alkyl group and oleyl group, and branched aliphatic hydrocarbons. Examples of the group include a 2-ethylhexyl group.

の内、剥離力の観点から好ましいのは炭素数8〜18の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基、更に好ましいのは炭素数10〜16の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基である。 Of R 4 , a linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 8 to 18 carbon atoms is preferable from the viewpoint of peeling force, and a linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 10 to 16 carbon atoms is more preferable. It is.

(A1)を構成する第4級アンモニウム基の具体例としては、Rが脂肪族炭化水素基の場合は、例えば、1つの長鎖アルキル基を有するもの(トリメチルドデシルアンモニウム、トリメチルテトラデシルアンモニウム、トリメチルヘキサデシルアンモニウム、トリメチルオクタデシルアンモニウム、トリメチルヤシ油アルキルアンモニウム、トリメチル−2−エチルヘキシルアンモニウム、ジメチルエチルドデシルアンモニウム、ジメチルエチルテトラデシルアンモニウム、ジメチルエチルヘキサデシルアンモニウム、ジメチルエチルオクタデシルアンモニウム、ジメチルエチルヤシ油アルキルアンモニウム、ジメチルエチル−2−エチルヘキシルアンモニウム、メチルジエチルドデシルアンモニウム、メチルジエチルテトラデシルアンモニウム、メチルジエチルヘキサデシルアンモニウム、メチルジエチルオクタデシルアンモニウム、メチルジエチルヤシ油アルキルアンモニウム及びメチルジエチル−2−エチルヘキシルアンモニウム、)、2つの長鎖アルキル基(炭素数6〜22)を有するもの(ジメチルジヘキシルアンモニウム、ジメチルジオクチルアンモニウム、ジメチルジデシルアンモニウム及びジメチルジドデシルアンモニウム)、1つの長鎖アルケニル基(炭素数8〜22)を有するもの(トリメチルオレイルアンモニウム、ジメチルエチルオレイルアンモニウム及びメチルジエチルオレイルアンモニウム)が挙げられる。
また、Rがアリールアルキル基の場合は、例えば、ジメチルデシルベンジルアンモニウム、ジメチルドデシルベンジルアンモニウム、ジメチルテトラデシルベンジルアンモニウム、ジメチルヘキサデシルベンジルアンモニウム、ジメチルヤシ油アルキルベンジルアンモニウム、ジメチルオレイルベンジルアンモニウム及びジメチル−2−エチルヘキシルベンジルアンモニウムが挙げられる。
また、Rがアルキル(炭素数10〜24)アミドアルキル(炭素数2〜6)基及び/又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基の場合は、例えば、オレアミドエチルジエチルメチルアンモニウム、ステアラミドエチルジエチルベンジルアンモニウム及びステアラミドプロピルジメチルヒドロキシエチルアンモニウム基等が挙げられる。
As a specific example of the quaternary ammonium group constituting (A1), when R 3 is an aliphatic hydrocarbon group, for example, one having one long-chain alkyl group (trimethyldodecyl ammonium, trimethyl tetradecyl ammonium, Trimethyl hexadecyl ammonium, trimethyl octadecyl ammonium, trimethyl coconut oil alkyl ammonium, trimethyl-2-ethylhexyl ammonium, dimethyl ethyl dodecyl ammonium, dimethyl ethyl tetradecyl ammonium, dimethyl ethyl hexadecyl ammonium, dimethyl ethyl octadecyl ammonium, dimethyl ethyl coconut oil alkyl ammonium , Dimethylethyl-2-ethylhexylammonium, methyldiethyldodecylammonium, methyldiethyltetradecylammonium Ni, methyldiethylhexadecylammonium, methyldiethyloctadecylammonium, methyldiethyl coconut oil alkylammonium and methyldiethyl-2-ethylhexylammonium), having two long-chain alkyl groups (6 to 22 carbon atoms) (dimethyldihexylammonium , Dimethyldioctylammonium, dimethyldidecylammonium and dimethyldidodecylammonium) and those having one long-chain alkenyl group (8 to 22 carbon atoms) (trimethyloleylammonium, dimethylethyloleylammonium and methyldiethyloleylammonium). .
When R 3 is an arylalkyl group, for example, dimethyldecylbenzylammonium, dimethyldodecylbenzylammonium, dimethyltetradecylbenzylammonium, dimethylhexadecylbenzylammonium, dimethyl coconut oil alkylbenzylammonium, dimethyloleylbenzylammonium and dimethyl-2 -Ethylhexylbenzylammonium.
When R 3 is an alkyl (10 to 24 carbon) amidoalkyl (2 to 6 carbon) group and / or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, for example, oleamidoethyldiethylmethylammonium, stearamide Examples thereof include ethyl diethylbenzylammonium and stearamidopropyldimethylhydroxyethylammonium groups.

これらの内、剥離力の観点から好ましいのは、トリメチルヘキサデシルアンモニウム、ジメチルジデシルアンモニウム、ジメチルドデシルベンジルアンモニウム及びジメチルテトラデシルベンジルアンモニウムである。   Of these, trimethyl hexadecyl ammonium, dimethyl didecyl ammonium, dimethyl dodecyl benzyl ammonium and dimethyl tetradecyl benzyl ammonium are preferable from the viewpoint of peeling force.

一般式(1)におけるXは、特に限定されるものではないが、例えばハロゲンイオン(F-、Cl-、Br-及びI-等)、カルボキシラートアニオン{炭素数1〜7のモノ又はジカルボン酸(ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸及びコハク酸等のイオン(−COO-)}、スルホン酸イオン{炭素数1〜20のスルホン酸(メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸及びp−トルエンスルホン酸等のイオン(−SO3 -)}、リン酸イオン{リン酸又は炭素数1〜10のリン酸基含有化合物のイオン(−OPO3 2-)}、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、硫酸イオン及び硝酸イオン、無機酸類等が挙げられる。 X in the general formula (1) is not particularly limited, and examples thereof include halogen ions (F , Cl , Br and I − and the like), carboxylate anions {mono- or dicarboxylic acids having 1 to 7 carbon atoms]. Acid (formic acid, acetic acid, propionic acid, oxalic acid, succinic acid and other ions (—COO )), sulfonic acid ion {sulfonic acid having 1 to 20 carbon atoms (methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, Ions such as trifluoromethanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid (—SO 3 )}, phosphate ions {ion of phosphoric acid or C 1-10 phosphate group-containing compound (—OPO 3 2− )}, Examples include thiocyanate ion, perchlorate ion, sulfate ion and nitrate ion, and inorganic acids.

特に好ましいのは、一般式(1)におけるXは、−11.93未満のHammett酸度関数(H)を有する超強酸の共役塩基である。 Particularly preferred, X in the general formula (1) - is a conjugate base of a superacid having a Hammett acidity function of less than -11.93 (H 0).

の共役酸である超強酸は、100%硫酸より強い酸強度を有する酸(「超強酸・超強塩基」田部浩三、野依良治著、講談社サイエンティフィック刊、p1参照)であり、Hammettの酸度関数(H)が100%硫酸の−11.93未満のものであり、プロトン酸及びプロトン酸とルイス酸の組み合わせからなる酸が挙げられる。 X - is a superacid which is a conjugate acid, 100% acid having a stronger acid strength than sulfate ( "superacid-superbase" Kozo Tanabe, Ryoji Noyori al, Kodansha Scientific published, p1 reference) and, Hammett The acidity function (H 0 ) is less than -11.93 of 100% sulfuric acid, and examples include proton acids and acids composed of proton acids and Lewis acids.

プロトン酸の超強酸の具体例としては、トリフルオロメタンスルホン酸(H=−14.10)、ペンタフルオロエタンスルホン酸(H=−14.00)等が挙げられる。 Specific examples of the strong acid of the protonic acid include trifluoromethanesulfonic acid (H 0 = -14.10), pentafluoroethanesulfonic acid (H 0 = -14.00), and the like.

プロトン酸とルイス酸の組み合わせに用いられるプロトン酸としては、ハロゲン化水素(フッ化水素、塩化水素、臭化水素及びヨウ化水素)が挙げられ、ルイス酸としては三フッ化硼素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化砒素及び五フッ化タウリン等が挙げられる。
プロトン酸とルイス酸の組み合わせは任意であるが、組み合わせて得られる超強酸の具体例としては、四フッ化硼素酸、六フッ化リン酸、塩化フッ化硼素酸、六フッ化アンチモン酸、六フッ化砒酸及び六フッ化タウリン等が挙げられる。
Examples of the protonic acid used in the combination of the protonic acid and the Lewis acid include hydrogen halides (hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide). Examples of the Lewis acid include boron trifluoride and pentafluoride. Examples thereof include phosphorus, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, and taurine pentafluoride.
A combination of a protonic acid and a Lewis acid is arbitrary, but specific examples of super strong acids obtained by combining them include boron tetrafluoride acid, hexafluorophosphoric acid, chlorofluoroboronic acid, hexafluoroantimonic acid, hexa Examples thereof include fluorinated arsenic acid and taurine hexafluoride.

として、一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩(A1)の帯電防止性能の観点から好ましいのは、Hammettの酸度関数(H)が−12.00以下の超強酸の共役塩基、更に好ましいのはトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ビス(フルオロスルホニル)イミド、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド、四フッ化硼素酸、六フッ化リン、塩化フッ化硼素酸、六フッ化アンチモン、六フッ化砒素又は六フッ化タウリンの共役塩基、特に好ましいのは、トリフルオロメタンスルホン酸、四フッ化硼素酸又は六フッ化リン酸の共役塩基、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド、最も好ましいのはトリフルオロメタンスルホン酸、四フッ化硼素酸の共役塩基、及びビス(トリフルオロメタンスルホン)イミドである。 X is preferably a super strong acid having a Hammett acidity function (H 0 ) of −12.00 or less from the viewpoint of antistatic performance of the quaternary ammonium salt (A1) represented by the general formula (1). Conjugated bases, more preferably trifluoromethanesulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, bis (fluorosulfonyl) imide, bis (trifluoromethanesulfone) imide, bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide, tetrafluoroboric acid, hexafluoro Conjugated bases of phosphorus fluoride, chlorofluoroboric acid, antimony hexafluoride, arsenic hexafluoride or taurine hexafluoride, particularly preferred are conjugates of trifluoromethanesulfonic acid, boron tetrafluoroboric acid or hexafluorophosphoric acid Base, bis (trifluoromethanesulfone) imide, most preferred is trifluoromethanesulfonic acid, tetrafluoromethane Conjugate base of boron acids, and bis (trifluoromethanesulfonyl) imide.

(A2)を構成する第4級アンモニウム基をしては、アルキロキシ(炭素数8〜24)メチルピリジニウム基(例えばステアリロキシメチルピリジニウム基)、アルキル(炭素数8〜24)オキシメチルピリジニウム基(例えば、ヘキサデシルオキシメチルピリジニウム基)及びアルキル(炭素数10〜24)ピリジニウム基(例えば、テトラデシルピリジニウム基)等が挙げられる。 The quaternary ammonium group constituting (A2) includes an alkyloxy (carbon number 8-24) methylpyridinium group (for example, stearyloxymethylpyridinium group), an alkyl (carbon number 8-24) oxymethylpyridinium group (for example, , Hexadecyloxymethylpyridinium group) and alkyl (C10-24) pyridinium group (for example, tetradecylpyridinium group).

(A2)を構成するアニオンとしては、前記(A1)におけるXとして例示した超強酸の共役塩基と同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。 Examples of the anion constituting the (A2), wherein (A1) X in - the same groups as those exemplified superacid conjugate base as, preferable ones are also same.

第4級アンモニウム塩(A)として、帯電防止性能及び剥離力の観点から好ましいのは(A1)であり、更に好ましいのはジメチルジデシルアンモニウム四フッ化硼素酸塩、ジデシルジメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、ジデシルジメチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド、トリメチルヘキサデシルアンモニウム四フッ化硼素酸塩、ジメチルヤシ油アルキルベンジルアンモニウム四フッ化硼素酸塩及びジメチルヤシ油アルキルベンジルアンモニウムトリフルオロメタンスルホン酸である。   The quaternary ammonium salt (A) is preferably (A1) from the viewpoint of antistatic performance and peel strength, and more preferably dimethyldidecylammonium tetrafluoroborate and didecyldimethylammonium trifluoromethanesulfone. Acid salts, didecyldimethylammonium bis (trifluoromethanesulfone) imide, trimethylhexadecylammonium tetrafluoroborate, dimethyl coconut oil alkylbenzylammonium tetrafluoroborate and dimethyl coconut oil alkylbenzylammonium trifluoromethanesulfonic acid.

第4級アンモニウム塩(A)の製造方法としては特に限定はなく、公知の方法、例えば下記の[I]及び[II]の方法等が挙げられ、好ましいのは[II]の方法である。   The production method of the quaternary ammonium salt (A) is not particularly limited, and known methods such as the following methods [I] and [II] can be mentioned, and the method [II] is preferable.

[I] 第4級アンモニウム塩(例えば、クロルアニオンからなる塩)の水溶液(20〜70重量%)に前記超強酸のアルカリ金属塩(ナトリウム塩又はカリウム塩等)を加え(第4級アンモニウム塩/超強酸塩の当量比は通常1/1〜1/1.5、好ましくは1/1.05〜1/1.3)、室温で約2時間撹拌混合して、70〜80℃で約1時間撹拌後、静置して分液した下層(水層)を除去し、上層中の水分を減圧留去して、目的の第4級アンモニウム塩を得る。 [I] An alkali metal salt (sodium salt or potassium salt) of the super strong acid is added to an aqueous solution (20 to 70% by weight) of a quaternary ammonium salt (for example, a salt comprising a chloroanion) (a quaternary ammonium salt). / Equivalent ratio of super-strong acid salt is usually 1/1 to 1 / 1.5, preferably 1 / 1.05 to 1 / 1.3), stirred and mixed at room temperature for about 2 hours, and about 70 to 80 ° C. After stirring for 1 hour, the lower layer (aqueous layer) which has been allowed to stand and separate is removed, and the water in the upper layer is distilled off under reduced pressure to obtain the desired quaternary ammonium salt.

[II] 第3級アミンと同当量以上(好ましくは1.1〜5.0当量)の炭酸ジアルキルエステル(アルキル基の炭素数1〜5)を、例えば第3級アミンの重量に基づいて10〜1,000重量%の量の有機溶媒(例えば、メタノール)の存在下又は非存在下に、反応温度80〜200℃、好ましくは100〜150℃で反応させて第4級アンモニウム塩を形成し、更に前記超強酸を添加(第4級アンモニウムの当量に基づいて1.0〜1.2当量)し、10〜50℃で1時間撹拌して塩交換する。有機溶媒を80〜120℃で減圧留去して、目的の第4級アンモニウム塩を得る。 [II] Carbonic acid dialkyl ester (alkyl group having 1 to 5 carbon atoms) of the same equivalent or more (preferably 1.1 to 5.0 equivalents) as the tertiary amine is, for example, 10 based on the weight of tertiary amine. The reaction is carried out at a reaction temperature of 80 to 200 ° C., preferably 100 to 150 ° C. in the presence or absence of an organic solvent (eg methanol) in an amount of ˜1,000% by weight to form a quaternary ammonium salt. Further, the super strong acid is added (1.0 to 1.2 equivalents based on the equivalent amount of quaternary ammonium), and the mixture is stirred at 10 to 50 ° C. for 1 hour for salt exchange. The organic solvent is distilled off at 80 to 120 ° C. under reduced pressure to obtain the desired quaternary ammonium salt.

本発明において、ポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)としては、エチレン性不飽和結合とポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B1)及びポリシロキサン構造とポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B2)等が挙げられる。   In the present invention, examples of the compound (B) having a polyoxyethylene chain include a compound (B1) having an ethylenically unsaturated bond and a polyoxyethylene chain, and a compound (B2) having a polysiloxane structure and a polyoxyethylene chain. Can be mentioned.

エチレン性不飽和結合とポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B1)としては、例えば、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アリルアルコールのエチレンオキサイド付加物等及び前記付加物の末端ヒドロキシル基を塩化(メタ)アクリル又は塩化(メタ)アリルで封鎖した2官能物等が挙げられる。   As the compound (B1) having an ethylenically unsaturated bond and a polyoxyethylene chain, for example, an ethylene oxide adduct of (meth) acrylic acid or (meth) allyl alcohol and the terminal hydroxyl group of the adduct are chlorinated (meta ) Bifunctional compounds blocked with acrylic or (meth) allyl chloride.

ポリシロキサン構造とポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B2)としては、例えば、アミノ変性シリコーンとポリエチレングリコール(以下、PEGと略記)とをポリイソシアネートを用いて反応させたウレタンウレア化物、エポキシ変性シリコーンとPEGをジカルボン酸を用いて反応させたエステル化物、カルビノール変性シリコーンとPEGとをポリイソシアネートを用いて反応させたウレタン化物、ポリエーテル変性シリコーン、メルカプト変性シリコーンとPEGとをポリイソシアネートを用いて反応させたチオウレタン化物、カルボキシル変性シリコーン又はカルボン酸無水物変性シリコーンとPEGとのエステル化物及びメチルハイドロジェンシリコーンと末端又は側鎖にエチレン性不飽和結合を有するPEGとを付加反応させた化合物等が挙げられる。   As the compound (B2) having a polysiloxane structure and a polyoxyethylene chain, for example, a urethane urea compound obtained by reacting an amino-modified silicone and polyethylene glycol (hereinafter abbreviated as PEG) using a polyisocyanate, an epoxy-modified silicone, Esterified products obtained by reacting PEG with dicarboxylic acid, urethanized products obtained by reacting carbinol-modified silicone and PEG with polyisocyanate, polyether-modified silicone, mercapto-modified silicone and PEG using polyisocyanate. Addition reaction of thiourethanated product, carboxylated silicone or carboxylic anhydride modified silicone and PEG esterified product and methylhydrogen silicone and PEG having an ethylenically unsaturated bond at the terminal or side chain It includes the compounds obtained by.

(B2)に用いられるポリイソシアネートとしては、炭素数4〜22の鎖状脂肪族ポリイソシアネート(エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネート等)、炭素数8〜18の脂環式ポリイソシアネート(イソホロンジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及びシクロヘキシレンジイソシアネート等)、炭素数8〜26の芳香族ポリイソシアネート(1,3−又は1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−又は2,6−トリレンジイソシアネート及び4,4’−又は2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート等)及び炭素数10〜18の芳香脂肪族ポリイソシアネート(m−又はp−キシリレンジイソシアネート等)等が挙げられる。   As polyisocyanate used for (B2), C4-C22 chain aliphatic polyisocyanate (ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, etc.), C8-C18 alicyclic polyisocyanate (isophorone) Diisocyanate, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, etc., aromatic polyisocyanate having 8 to 26 carbon atoms (1,3- or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-tri) Range isocyanate and 4,4'- or 2,4'-diphenylmethane diisocyanate) and C10-18 aromatic aliphatic polyisocyanate (m- or p-xylylene diisocyanate, etc.).

ポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)として、剥離力の観点からシリコーン骨格に結合することが好ましいため、エチレン性不飽和結合とポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B1)が好ましく、さらに第4級アンモニウム塩(A)のブリードアウトを抑え、剥離力変化を小さくするために2個以上のエチレン性不飽和結合を有するポリオキシエチレン鎖を有する化合物が好ましく、2個以上のエチレン性不飽和結合が末端にある化合物が最も好ましい。   Since the compound (B) having a polyoxyethylene chain is preferably bonded to the silicone skeleton from the viewpoint of peeling force, the compound (B1) having an ethylenically unsaturated bond and a polyoxyethylene chain is preferable, and further a quaternary A compound having a polyoxyethylene chain having two or more ethylenically unsaturated bonds is preferred in order to suppress bleeding out of the ammonium salt (A) and reduce the peel force change, and two or more ethylenically unsaturated bonds are preferred. Most preferred are terminal compounds.

ポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)におけるポリオキシエチレン鎖のオキシエチレン基の繰り返し単位数は、帯電防止性能の観点から、2〜100であることが好ましく、更に好ましくは5〜50である。   From the viewpoint of antistatic performance, the number of repeating units of the oxyethylene group of the polyoxyethylene chain in the compound (B) having a polyoxyethylene chain is preferably 2 to 100, more preferably 5 to 50.

本発明における有機金属化合物(C)は有機鉄化合物(C1)、有機アルミニウム化合物(C2)、または有機チタン化合物(C3)が好ましい。これらの有機金属化合物は、1種類のみを用いても良く、適宜、2種類以上混合して用いても良い。   The organometallic compound (C) in the present invention is preferably an organoiron compound (C1), an organoaluminum compound (C2), or an organotitanium compound (C3). Only one kind of these organometallic compounds may be used, or two or more kinds may be appropriately mixed and used.

本発明において有機鉄化合物(C1)としては、特に限定されないが、具体的には、オクチル酸第二鉄、酢酸第二鉄、プロピオン酸第二鉄、ナフテン酸第二鉄、鉄アセチルアセトナートが挙げられる。 In the present invention, the organic iron compound (C1) is not particularly limited. Specifically, ferric octylate, ferric acetate, ferric propionate, ferric naphthenate, and iron acetylacetonate are used. Can be mentioned.

有機アルミニウム化合物(C2)としては、特に限定されないが、具体的には、アルミニウム(III)アセチルアセトナート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウム−ジ−n−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−イソ−プロポキシド−モノメチルアセトアセテート等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as organoaluminum compound (C2), Specifically, aluminum (III) acetylacetonate, aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), aluminum-di-n-butoxide-monoethylacetate Acetate, aluminum-di-iso-propoxide-monomethyl acetoacetate and the like.

有機チタン化合物(C3)としては、特に限定されないが、具体例には、テトラノルマルブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、テトラメチルチタネート等のチタンオルソエステル類;チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート、チタンエチルアセトアセテート等のチタンキレート類等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as an organic titanium compound (C3), Specific examples include titanium orthoesters such as tetranormal butyl titanate, tetraisopropyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, tetramethyl titanate; Examples thereof include titanium chelates such as titanium acetylacetonate, titanium tetraacetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate, titanium triethanolamate, and titanium ethylacetoacetate.

有機金属化合物(C)において、さらに好ましくはキレート構造を有する有機金属化合物が好ましい。なお、「架橋剤ハンドブック」(山下晋三、金子東助 編者(株)大成社 平成2年版)にも具体的に記載されている。 In the organometallic compound (C), an organometallic compound having a chelate structure is more preferred. It is also described in detail in the “Crosslinking agent handbook” (Yamashita Shinzo, Kaneko East Assistant Editor, Taiseisha, 1990 edition).

本発明における不飽和結合を有する脂肪族化合物(D)はアクリル化合物、メタクリル化合物、オレフィン化合物等が挙げられるが、塗膜密着性の観点からα−オレフィン化合物が好ましい。 Examples of the aliphatic compound (D) having an unsaturated bond in the present invention include acrylic compounds, methacrylic compounds, and olefin compounds, and α-olefin compounds are preferable from the viewpoint of coating film adhesion.

α−オレフィンとは炭素炭素二重結合がα位にある、つまり末端にあるアルケンである。直鎖又は分岐を持つα−オレフィンで、塗膜密着性の観点から炭素数が3〜25のものが好ましい。 An α-olefin is an alkene having a carbon-carbon double bond at the α-position, that is, at the terminal. A linear or branched α-olefin having 3 to 25 carbon atoms is preferred from the viewpoint of coating film adhesion.

シリコーン剥離フィルム用帯電防止剤組成物において、第4級アンモニウム塩(A)とポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)の合計重量に対して、第4級アンモニウム塩(A)は0.1%以上重量30%以下、好ましくは1%以上重量25%以下含有され、ポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)は70%以上重量99.9%以下、好ましくは75%以上重量99%以下含有される。
有機金属化合物(C)の含有量は(A)と(B)の合計重量に対して、10重量%以上100重量%以下、不飽和結合を有する脂肪族化合物(D)の含有量は(A)と(B)の合計重量に対して、10重量%以上100重量%以下であることが好ましい。
In the antistatic agent composition for a silicone release film, the quaternary ammonium salt (A) is 0.1% based on the total weight of the quaternary ammonium salt (A) and the compound (B) having a polyoxyethylene chain. 30% or less by weight, preferably 1% or more and 25% or less, and the compound (B) having a polyoxyethylene chain is contained by 70% or more and 99.9% or less by weight, preferably 75% or more and 99% or less by weight. The
The content of the organometallic compound (C) is 10% by weight to 100% by weight with respect to the total weight of (A) and (B), and the content of the aliphatic compound (D) having an unsaturated bond is (A ) And (B) is preferably 10% by weight or more and 100% by weight or less.

本発明のシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物は、(A)、(B)、(C)、及び(D)、及び必要によりその他の成分を通常の混合装置(撹拌機を備えた混合槽及びスタティックミキサー等)で均一に混合することにより製造できる。   The antistatic agent composition for silicone release agent of the present invention comprises (A), (B), (C), and (D) and, if necessary, other components as usual mixing device (mixing tank equipped with a stirrer And a static mixer or the like).

本発明における帯電防止性剥離フィルムは、本発明の帯電防止性シリコーン剥離剤組成物を、基材の少なくとも片面の少なくとも一部に塗布して形成される帯電防止性シリコーン剥離剤組成物の層を有する。
基材としては、各種プラスチック[ポリオレフィン(ポリエチレン及びポリプロピレン等)、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、レーヨン及びポリアミド等]のフィルム、シート、フォーム及びフラットヤーン並びに紙(和紙及びクレープ紙等)、金属板、金属箔、織布、不織布及び木材等が挙げられる。本発明の帯電防止性シリコーン剥離剤組成物は、本発明のシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物及びシリコーン剥離剤を含有する。
The antistatic release film in the present invention comprises an antistatic silicone release agent layer formed by applying the antistatic silicone release composition of the present invention to at least a part of at least one side of a substrate. Have.
Base materials include films of various plastics [polyolefin (polyethylene, polypropylene, etc.), polyurethane, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, rayon, polyamide, etc.], sheets, foam, flat yarn, paper (Japanese paper, crepe paper, etc.), metal Examples include plates, metal foils, woven fabrics, nonwoven fabrics, and wood. The antistatic silicone release agent composition of the present invention contains the antistatic agent composition for a silicone release agent of the present invention and a silicone release agent.

本発明の帯電防止性シリコーン剥離剤組成物は、本発明のシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物とシリコーン剥離剤を含有する。   The antistatic silicone release agent composition of the present invention contains the antistatic agent composition for a silicone release agent of the present invention and a silicone release agent.

シリコーン剥離剤としては一般的にシリコーン剥離剤として使用されているシリコーン系化合物が挙げられ、これが帯電防止性シリコーン剥離剤の主成分となる。前記シリコーン系化合物としては、例えばSiO単位と(CHSiO0.5単位の共重合体及びシラノール基含有ポリジメチルシロキサンとの混合物又は反応物を主成分とするものが使用され、必要によりこれらのシロキサン単位の置換基がメチル基以外のもの、例えばフェニル基又はビニル基等で置換されたものが使用される。 Examples of the silicone release agent include silicone compounds that are generally used as silicone release agents, and this is the main component of the antistatic silicone release agent. As the silicone-based compound, for example, a compound mainly composed of a mixture or a reaction product of a copolymer of SiO 2 unit and (CH 3 ) 3 SiO 0.5 unit and silanol group-containing polydimethylsiloxane is used. Thus, those in which the substituent of these siloxane units is substituted with a group other than a methyl group, such as a phenyl group or a vinyl group, are used.

シリコーン剥離剤は、基材等に塗布することにより使用でき、有機溶媒を使用している場合は更に有機溶媒を揮発させることにより使用できるが、塗布されたシリコーン剥離剤の凝集力を高め、良好な剥離性が得られることから、架橋させて使用することが好ましい。架橋方法としては付加反応、UV等を用いたものなどが挙げられるが、これに限定されない。   Silicone release agent can be used by applying it to a substrate, etc., and when an organic solvent is used, it can be used by further volatilizing the organic solvent, but it improves the cohesive strength of the applied silicone release agent and is good It is preferable to use after cross-linking since a good releasability is obtained. Examples of the crosslinking method include, but are not limited to, an addition reaction, a method using UV, and the like.

本発明においては、ポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)は、シリコーン骨格に結合することが好ましいため、付加反応型シリコーン剥離剤を用いるのが好ましい。   In the present invention, since the compound (B) having a polyoxyethylene chain is preferably bonded to the silicone skeleton, an addition reaction type silicone release agent is preferably used.

付加反応型シリコーン剥離剤は、一般にRSiO0.5単位と(式中、Rは1価炭化水素基)とSiO単位からなる有機溶媒可溶性の共重合体及び末端シラノールのアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンとの縮合反応物あるいは混合物を、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンと付加反応させるものである。白金付加硬化型のシリコーン剥離剤としては、市販の「KS−774」[信越化学工業社製]及び「KS−3703T」[信越化学工業社製]等が挙げられる。 The addition reaction type silicone release agent is generally an organic solvent-soluble copolymer composed of 0.5 unit of R 3 SiO (where R is a monovalent hydrocarbon group) and SiO 2 unit, and an alkenyl group-containing polysiloxane of terminal silanol. A condensation reaction product or mixture with an organosiloxane is subjected to an addition reaction with a polyorganohydrogensiloxane. Examples of the platinum addition curing type silicone release agent include commercially available “KS-774” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and “KS-3703T” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

本発明に用いられるシリコーン剥離剤としては、比較的低温で硬化できる白金付加硬化型であることが好ましい。   The silicone release agent used in the present invention is preferably a platinum addition curable type that can be cured at a relatively low temperature.

本発明の帯電防止性シリコーン剥離剤組成物における本発明のシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物の含有量は、剥離力及び帯電防止性能の観点から、剥離剤組成物中の帯電防止剤組成物の合計重量が、好ましくは0.01〜30重量%、更に好ましくは0.05〜20重量%となる量である。   The content of the antistatic agent composition for a silicone release agent of the present invention in the antistatic silicone release agent composition of the present invention is such that the antistatic agent composition in the release agent composition is from the viewpoint of peeling force and antistatic performance. The total weight is preferably 0.01 to 30% by weight, more preferably 0.05 to 20% by weight.

帯電防止性剥離フィルムは基材の上に少なくとも片面の少なくとも一部に剥離層を設けてなる。
剥離層とは本発明の帯電防止組成物を含んだシリコーン剥離剤を塗布してなる。剥離層と基材との塗膜密着性を良好とするために塗布層を設けても良い。塗布層に関しては、塗布延伸法(インラインコーティング)を用いてもよく、一旦製造したフィルム上に系外で塗布する、いわゆるオフラインコーティングを採用してもよく、何れの手法を採用してもよい。
The antistatic release film is formed by providing a release layer on at least a part of at least one side on a substrate.
The release layer is formed by applying a silicone release agent containing the antistatic composition of the present invention. An application layer may be provided in order to improve the coating film adhesion between the release layer and the substrate. Regarding the coating layer, a coating stretching method (in-line coating) may be used, so-called off-line coating that is applied outside the system on a once produced film may be employed, and any method may be employed.

塗布層としてはポリオルガノシロキサンが使用できる。オルガノポリシロキサンは、1分子中に珪素原子に結合する加水分解性基を少なくとも3個、好ましくは3〜1000個有するものである。加水分解性基としては、珪素原子に直接結合したメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基、イソプロペノキシ基等のアルコキシ基、アセトキシ基等のアシルオキシ基が挙げられるがこれに限定されない。 Polyorganosiloxane can be used as the coating layer. Organopolysiloxane has at least 3, preferably 3 to 1000 hydrolyzable groups bonded to silicon atoms in one molecule. Examples of the hydrolyzable group include, but are not limited to, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a methoxyethoxy group and an isopropenoxy group directly bonded to a silicon atom, and an acyloxy group such as an acetoxy group. .

本発明において、塗布層中には加水分解・縮合反応促進を目的として、触媒を併用するのが好ましい。触媒の具体例としては、酢酸、酪酸、マレイン酸、クエン酸などの有機酸類、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸などの無機酸類、トリエチルアミンなどの塩基性化合物類、テトラブチルチタネート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジオレート、ジフェニル錫ジアセテート、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ジメトキサイド、ジブチルビス(トリエトキシシロキシ)錫、ジブチル錫ベンジルマレート等などの有機金属塩類などを挙げることができる。上記触媒は単独で使用しても良くあるいは2種類以上を併用しても良い。   In the present invention, it is preferable to use a catalyst in the coating layer for the purpose of promoting hydrolysis and condensation reaction. Specific examples of the catalyst include organic acids such as acetic acid, butyric acid, maleic acid and citric acid, inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid and sulfuric acid, basic compounds such as triethylamine, tetrabutyl titanate, dibutyltin dilaurate, Organic metal salts such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin diolate, diphenyltin diacetate, dibutyltin oxide, dibutyltin dimethoxide, dibutylbis (triethoxysiloxy) tin, dibutyltin benzylmalate, etc. it can. The above catalysts may be used alone or in combination of two or more.

さらに塗布層の密着性、滑り性改良を目的として、無機系粒子を含有してもよく、具体例としてはシリカ、アルミナ、カオリン、炭酸カルシウム、酸化チタン、バリウム塩等が挙げられる。   Further, inorganic particles may be contained for the purpose of improving the adhesion and slipperiness of the coating layer, and specific examples include silica, alumina, kaolin, calcium carbonate, titanium oxide, barium salt and the like.

また、本発明のシリコーン剥離フィルム用帯電防止剤組成物は必要に応じて、架橋剤、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、有機系潤滑剤、有機系高分子粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤発泡剤、染料等が含有されてもよい。 In addition, the antistatic agent composition for a silicone release film of the present invention includes a crosslinking agent, an antifoaming agent, a coating property improving agent, a thickener, an organic lubricant, an organic polymer particle, and an antioxidant as necessary. , UV absorber foaming agents, dyes and the like may be contained.

本発明の帯電防止性剥離フィルムは、本発明の帯電防止性シリコーン剥離剤組成物を種々の塗工装置を用いて基材の少なくとも片面の少なくとも一部に直接塗布し、加熱して有機溶媒あるいは分散媒の乾燥を行うとともに、硬化させる方法等により製造することができる。   The antistatic release film of the present invention is obtained by directly applying the antistatic silicone release agent composition of the present invention to at least a part of at least one side of a substrate using various coating apparatuses, and heating it to form an organic solvent or The dispersion medium can be produced by drying and curing the dispersion medium.

本発明の帯電防止性剥離フィルムは、本発明の帯電防止性シリコーン剥離剤を種々の塗工装置を用いてPETフィルム等の基材の少なくとも片面の少なくとも一部に直接塗布し、加熱して有機溶媒あるいは分散媒の乾燥を行うとともに、硬化させる方法等により製造することができる。   The antistatic release film of the present invention is obtained by directly applying the antistatic silicone release agent of the present invention to at least a part of at least one surface of a substrate such as a PET film using various coating apparatuses, The solvent or the dispersion medium can be produced by a method of drying and curing.

前記塗工装置としては、グラビアコータ、ロールコータ、リバースコータ、ドクターブレード、バーコータ、コンマコータ、ファウンテンダイコータ、リップコータ及びナイフコータ等が挙げられる。   Examples of the coating apparatus include a gravure coater, a roll coater, a reverse coater, a doctor blade, a bar coater, a comma coater, a fountain die coater, a lip coater, and a knife coater.

本発明の剥離テープ、剥離シート及び剥離フィルムのそれぞれの剥離層の厚さは、通常0.01〜10μm、剥離剤の剥離力の観点から好ましくは0.1〜1μmである。   The thickness of each release layer of the release tape, release sheet and release film of the present invention is usually 0.01 to 10 μm, and preferably 0.1 to 1 μm from the viewpoint of the release force of the release agent.

以下実施例により本発明を更に説明するが本発明はこれに限定されるものではない。以下において部は重量部を示す。   Hereinafter, the present invention will be further described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Below, a part shows a weight part.

製造例1
加熱冷却装置、攪拌機及び滴下ロートを備えたガラス製反応容器に、メタノール56部、メチルジn−デシルアミン163部(0.88モル部)及び炭酸ジメチルエステル144部(1.6モル部)を仕込み、120℃で20時間反応させた後、メタノールと炭酸ジメチルの一部を留去してジメチルジn−デシルアンモニウムメチルカーボネートの83%メタノール溶液250部(0.52モル部)を得た。得られたジメチルジn−デシルアンモニウムメチルカーボネートの83%メタノール溶液250部(0.52モル部)に、室温でトリフルオロメタンスルホン酸79.5部(0.53モル部)を加え、2時間攪拌した。この反応溶液に粒状苛性カリを添加して中和(pH:6〜8)し、析出する塩を濾過後、濾液のメタノールを留去し、更に水を9部(0.50モル部)加え、減圧ストリッピング(前記条件に同じ)して120℃で溶融状態にして取り出し、常温で固体のジメチルジn−デシルアンモニウムトリフルオロメタンスルホン酸塩(A1−1)250部を得た。
Production Example 1
A glass reaction vessel equipped with a heating / cooling device, a stirrer and a dropping funnel was charged with 56 parts of methanol, 163 parts (0.88 mole part) of methyldi-n-decylamine and 144 parts (1.6 mole part) of dimethyl carbonate, After reacting at 120 ° C. for 20 hours, a part of methanol and dimethyl carbonate was distilled off to obtain 250 parts (0.52 mole part) of 83% methanol solution of dimethyldi-n-decylammonium methyl carbonate. To 250 parts (0.52 mole part) of 83% methanol solution of dimethyldi n-decylammonium methyl carbonate obtained was added 79.5 parts (0.53 mole part) of trifluoromethanesulfonic acid at room temperature and stirred for 2 hours. . Granular caustic potash was added to the reaction solution to neutralize it (pH: 6-8), and the precipitated salt was filtered, and then methanol in the filtrate was distilled off. Further, 9 parts (0.50 mole part) of water was added, Stripped under reduced pressure (same conditions as above) and taken out in a molten state at 120 ° C. to obtain 250 parts of dimethyldi n-decylammonium trifluoromethanesulfonate (A1-1) solid at room temperature.

製造例2
加熱冷却装置、攪拌機及び滴下ロートを備えたガラス製反応容器に、メタノール56部、メチルジn−デシルアミン163部(0.88モル部)及び炭酸ジメチルエステル144部(1.6モル部)を仕込み、120℃で20時間反応させた後、メタノールと炭酸ジメチルの一部を留去してジメチルジn−デシルアンモニウムメチルカーボネートの83%メタノール溶液250部(0.52モル部)を得た。得られたジメチルジn−デシルアンモニウムメチルカーボネートの83%メタノール溶液250部(0.52モル部)に、室温でビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド149部(0.53モル部)を加え、2時間攪拌した。この反応溶液に粒状苛性カリを添加して中和(pH:6〜8)し、析出する塩を濾過後、濾液のメタノールを留去し、更に水を9部(0.50モル部)加え、減圧ストリッピング(前記条件に同じ)して120℃で溶融状態にして取り出し、常温で液体のジメチルジn−デシルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド塩(A1−2)250部を得た。
Production Example 2
A glass reaction vessel equipped with a heating / cooling device, a stirrer and a dropping funnel was charged with 56 parts of methanol, 163 parts (0.88 mole part) of methyldi-n-decylamine and 144 parts (1.6 mole part) of dimethyl carbonate, After reacting at 120 ° C. for 20 hours, a part of methanol and dimethyl carbonate was distilled off to obtain 250 parts (0.52 mole part) of 83% methanol solution of dimethyldi-n-decylammonium methyl carbonate. To 250 parts (0.52 mole part) of 83% methanol solution of dimethyldi n-decylammonium methyl carbonate obtained, 149 parts (0.53 mole part) of bis (trifluoromethanesulfone) imide was added at room temperature and stirred for 2 hours. did. Granular caustic potash was added to the reaction solution to neutralize it (pH: 6-8), and the precipitated salt was filtered, and then methanol in the filtrate was distilled off. Further, 9 parts (0.50 mole part) of water was added, Stripped under reduced pressure (same conditions as above) and taken out in a molten state at 120 ° C. to obtain 250 parts of dimethyldi-n-decylammonium bis (trifluoromethanesulfone) imide salt (A1-2) which is liquid at room temperature.

製造例3
撹拌装置、温度制御装置付きのステンレス製耐圧反応容器に、数平均分子量が600のポリエチレングリコール(三洋化成工業社製「PEG600」)300部(0.5モル)と水素化ホウ素ナトリウム0.1部とアリルクロライド78.8部(1.0モル)を仕込み、窒素雰囲気下、反応槽内の温度を20℃以下に調整する。温度調整後、水酸化ナトリウム60.0部を、釜内温度が60℃以下に保つように制御しながら、2時間かけて投入した後、85℃で4時間熟成した。次に、粗精製物を70℃に調整した後、イオン交換水を331.4部加え、30分間攪拌して粗精製物中の残存アルカリと生成塩を溶解した。塩を溶解した後、反応槽内温度を70℃に維持したまま30分間静置し、分離した下層の水を抜き取った。次いで上層に対して3部のKW−600(協和化学工業製)と2部のKW−700(協和化学工業製)を加え混合した。混合後、液中に窒素を通気しながら70〜80℃で4時間減圧脱水し、40℃まで冷却してから窒素加圧濾過してPEG600のジアリルエーテル化合物(B1−1)340部を得た。
Production Example 3
In a stainless steel pressure-resistant reaction vessel equipped with a stirrer and a temperature control device, 300 parts (0.5 mol) of polyethylene glycol (“PEG600” manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) having a number average molecular weight of 600 and 0.1 part of sodium borohydride And 78.8 parts (1.0 mol) of allyl chloride are charged, and the temperature in the reaction vessel is adjusted to 20 ° C. or lower in a nitrogen atmosphere. After adjusting the temperature, 60.0 parts of sodium hydroxide was added over 2 hours while controlling the temperature in the kettle to be kept at 60 ° C. or lower, and then aged at 85 ° C. for 4 hours. Next, after adjusting the crude product to 70 ° C., 331.4 parts of ion-exchanged water was added and stirred for 30 minutes to dissolve the remaining alkali and product salt in the crude product. After dissolving the salt, the reaction vessel was kept at a temperature of 70 ° C. for 30 minutes, and the separated lower layer water was extracted. Next, 3 parts of KW-600 (manufactured by Kyowa Chemical Industry) and 2 parts of KW-700 (manufactured by Kyowa Chemical Industry) were added to the upper layer and mixed. After mixing, the mixture was dehydrated under reduced pressure at 70-80 ° C. for 4 hours while ventilating nitrogen in the liquid, cooled to 40 ° C., and filtered under nitrogen pressure to obtain 340 parts of PEG600 diallyl ether compound (B1-1). .

製造例4
撹拌装置、温度制御装置付きのステンレス製耐圧反応容器に、数平均分子量が600のポリエチレングリコール(三洋化成工業社製「PEG1000」)500部(0.5モル)と水素化ホウ素ナトリウム0.1部とアリルクロライド78.8部(1.0モル)を仕込み、窒素雰囲気下、反応槽内の温度を20℃以下に調整する。温度調整後、水酸化ナトリウム60.0部を、釜内温度が60℃以下に保つように制御しながら、2時間かけて投入した後、85℃で4時間熟成した。次に、粗精製物を70℃に調整した後、イオン交換水を331.4部加え、30分間攪拌して粗精製物中の残存アルカリと生成塩を溶解した。塩を溶解した後、反応槽内温度を70℃に維持したまま30分間静置し、分離した下層の水を抜き取った。次いで上層に対して3部のKW−600(協和化学工業製)と2部のKW−700(協和化学工業製)を加え混合した。混合後、液中に窒素を通気しながら70〜80℃で4時間減圧脱水し、40℃まで冷却してから窒素加圧濾過してPEG1000のジアリルエーテル化合物(B1−2)510部を得た。
Production Example 4
In a stainless steel pressure-resistant reaction vessel equipped with a stirrer and a temperature controller, 500 parts (0.5 mol) of polyethylene glycol (“PEG1000” manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) having a number average molecular weight of 600 and 0.1 part of sodium borohydride And 78.8 parts (1.0 mol) of allyl chloride are charged, and the temperature in the reaction vessel is adjusted to 20 ° C. or lower in a nitrogen atmosphere. After adjusting the temperature, 60.0 parts of sodium hydroxide was added over 2 hours while controlling the temperature in the kettle to be kept at 60 ° C. or lower, and then aged at 85 ° C. for 4 hours. Next, after adjusting the crude product to 70 ° C., 331.4 parts of ion-exchanged water was added and stirred for 30 minutes to dissolve the remaining alkali and product salt in the crude product. After dissolving the salt, the reaction vessel was kept at a temperature of 70 ° C. for 30 minutes, and the separated lower layer water was extracted. Next, 3 parts of KW-600 (manufactured by Kyowa Chemical Industry) and 2 parts of KW-700 (manufactured by Kyowa Chemical Industry) were added to the upper layer and mixed. After mixing, the mixture was dehydrated under reduced pressure at 70-80 ° C. for 4 hours while ventilating nitrogen through the solution, cooled to 40 ° C., and filtered under nitrogen pressure to obtain 510 parts of PEG1000 diallyl ether compound (B1-2). .

実施例1
シリコーン剥離剤(「KS−3703T」、信越化学社製)100部に、ジメチルジn−デシルアンモニウムトリフルオロメタンスルホン酸塩(A1−1)2部、PEG600のジアリルエーテル化合物(B1−1)10部、トリス(2,4−ペンタンジオナト)アルミニウム(III)(東京化成社製)(C1−1)2部、1−デセン(関東化学株式会社製)(D1−1)2部、白金触媒(「CAT−PL−50T」、信越化学社製)1部、トルエン460部、及びMEK(メチルエチルケトン)460部を混合し、塗工量が0.1mとなるようにPETフィルム(東レ ルミラー L−38T60)上に塗布し、120℃で30秒間乾燥・硬化させ、剥離フィルムを作製した。
Example 1
100 parts of a silicone release agent (“KS-3703T”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 2 parts of dimethyldi-n-decylammonium trifluoromethanesulfonate (A1-1), 10 parts of PEG600 diallyl ether compound (B1-1), Tris (2,4-pentanedionato) aluminum (III) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (C1-1) 2 parts, 1-decene (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) (D1-1) 2 parts, platinum catalyst (" CAT-PL-50T "(manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1 part, 460 parts of toluene, and 460 parts of MEK (methyl ethyl ketone) are mixed, and a PET film (Toray Mirror L-38T60) is applied so that the coating amount is 0.1 m 2. ), And dried and cured at 120 ° C. for 30 seconds to produce a release film.

実施例2〜9及び比較例1〜4
表1に記載の配合処方(単位は「部」)で各成分を混合後、実施例1と同様の手順で剥離フィルムを作製した。また、表1に得られた剥離フィルムを用いて以下の試験方法により表面固有抵抗値、剥離力、経時での剥離力変化率、及び塗膜密着性を測定、評価した結果を示す。
Examples 2-9 and Comparative Examples 1-4
A release film was prepared in the same procedure as in Example 1 after mixing each component with the formulation shown in Table 1 (unit: “parts”). Table 1 shows the results of measuring and evaluating the surface resistivity, peel force, peel force change rate over time, and coating film adhesion by the following test methods using the peelable film obtained in Table 1.

・アリルアルコールEO12モル付加品(B1−3)(三洋化成工業社製 SANYCOL H−1200) ・ Allyl alcohol EO 12 mol addition product (B1-3) (SANYOCOL H-1200, manufactured by Sanyo Chemical Industries)

[性能試験方法]
(1)帯電防止性(表面固有抵抗)
試料フィルムを23℃×65%RHの条件で12時間静置した後に、JIS−K6911に記載の方法で表面固有抵抗値を測定した。
[Performance test method]
(1) Antistatic properties (surface resistivity)
After allowing the sample film to stand for 12 hours under the condition of 23 ° C. × 65% RH, the surface specific resistance value was measured by the method described in JIS-K6911.

(2)剥離フィルムの剥離力(α)
試料フィルムの剥離層表面に片面粘着テープ(ニットー31Bテープ(25mm幅、25μm厚))を2kgのローラーを1往復させて、貼り合わせた後、室温にて1時間放置後の剥離力(N/25mm)を測定した。剥離力は、引張試験機を使用し、引張速度300mm/分の条件下、180°剥離を行い、剥離力(α)とした。
(2) Release force of release film (α)
A single-sided adhesive tape (Nitto 31B tape (25 mm width, 25 μm thickness)) was reciprocated once on the surface of the release layer of the sample film, and the release force after standing for 1 hour at room temperature (N / 25 mm). The peeling force was determined as peeling force (α) by performing 180 ° peeling under a tensile speed of 300 mm / min using a tensile tester.

(3)経時での剥離力変化率
試料フィルムの剥離層表面に片面粘着テープ(ニットー31Bテープ(25mm幅、25μm厚))を2kgのローラーを1往復させて、貼り合わせた後、高温高湿機にて60℃、90RH%、1週間放置後、室温で1時間放置後の剥離力(N/25mm)を測定した。剥離力は、引張試験機を使用し、引張速度300mm/分の条件下、180°剥離を行い、経時変化後の剥離力(β)とした。
経時での剥離力変化率(%)=[{(β)−(α)}/(α)]×100 とした。経時変化での剥離力変化率は100%未満が好ましい。
(3) Rate of change in peel force over time After affixing a single-sided adhesive tape (Nitto 31B tape (25 mm width, 25 μm thickness)) with a 2 kg roller on the surface of the release layer of the sample film, high temperature and high humidity The peeling force (N / 25 mm) after standing at 60 ° C., 90 RH% for 1 week and then at room temperature for 1 hour was measured. Peeling force was determined by using a tensile tester and peeling at 180 ° under the condition of a tensile speed of 300 mm / min.
Change rate of peel force with time (%) = [{(β) − (α)} / (α)] × 100 The rate of change in peel force over time is preferably less than 100%.

(4)塗膜密着性
試料フィルムを高温高湿槽中、60℃、90%RH雰囲気下、4週間静置した後に試料フィルムを取り出した。常温で5時間乾燥させた後、試料フィルムの剥離面を指により5回擦り、剥離層の状態を目視にて観察した。
<判定基準>
○:塗膜の脱落が見られない
△:塗膜が曇るが脱落しない
×:塗膜の脱落が確認される
(4) Coating film adhesion After leaving the sample film in a high-temperature and high-humidity tank at 60 ° C. in a 90% RH atmosphere for 4 weeks, the sample film was taken out. After drying at room temperature for 5 hours, the release surface of the sample film was rubbed 5 times with a finger, and the state of the release layer was visually observed.
<Criteria>
○: The coating film does not fall off. Δ: The coating film becomes cloudy but does not fall off. ×: The coating film has fallen off.

表1の評価結果より、第4級アンモニウム塩(A)及びポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)を含有する帯電防止剤組成物を用いた帯電防止性剥離フィルムでは、経時での剥離力変化が少なく、帯電防止性能に優れる。 From the evaluation results in Table 1, in the antistatic release film using the antistatic agent composition containing the quaternary ammonium salt (A) and the compound (B) having a polyoxyethylene chain, the peel force change with time There are few, and it is excellent in antistatic performance.

本発明の帯電防止性剥離フィルムは、粘着シート用の剥離フィルム(キャリアフィルムおよびセパレーター)として極めて好適に用いることができ、極めて有用である。


















The antistatic release film of the present invention can be very suitably used as a release film (carrier film and separator) for pressure-sensitive adhesive sheets, and is extremely useful.


















Claims (7)

第4級アンモニウム塩(A)及びポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)を含有するシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物。   An antistatic agent composition for a silicone release agent comprising a quaternary ammonium salt (A) and a compound (B) having a polyoxyethylene chain. 前記第4級アンモニウム塩(A)が、一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩(A1)である請求項1に記載の帯電防止剤組成物。
[式中、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜22の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基を表し、Rは炭素数1〜22の直鎖若しくは分岐の脂肪族炭化水素基、炭素数7〜22のアリールアルキル基又は炭素数7〜22のアリールアルケニル基を表し、Rは炭素数8〜22の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基を表し、Xは−11.93未満のHammett酸度関数(H)を有する超強酸の共役塩基であるアニオンを表す。]
The antistatic agent composition according to claim 1, wherein the quaternary ammonium salt (A) is a quaternary ammonium salt (A1) represented by the general formula (1).
[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and R 3 represents a linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. Group, an arylalkyl group having 7 to 22 carbon atoms or an arylalkenyl group having 7 to 22 carbon atoms, R 4 represents a linear or branched aliphatic hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms, and X represents − Represents an anion which is a conjugate base of a super strong acid having a Hammett acidity function (H 0 ) of less than 11.93. ]
前記ポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B)が、エチレン性不飽和結合とポリオキシエチレン鎖を有する化合物(B1)である請求項1又は2に記載の帯電防止剤組成物。   The antistatic agent composition according to claim 1 or 2, wherein the compound (B) having a polyoxyethylene chain is a compound (B1) having an ethylenically unsaturated bond and a polyoxyethylene chain. さらに有機金属化合物(C)を含有してなる請求項1〜3のいずれか1項に記載の帯電防止剤組成物。   Furthermore, the antistatic agent composition of any one of Claims 1-3 formed by containing an organometallic compound (C). さらに不飽和結合を有する脂肪族化合物(D)を含有してなる請求項1〜4のいずれか1項に記載の帯電防止剤組成物。   Furthermore, the antistatic agent composition of any one of Claims 1-4 formed by containing the aliphatic compound (D) which has an unsaturated bond. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のシリコーン剥離剤用帯電防止剤組成物及びシリコーン剥離剤を含有する帯電防止性シリコーン剥離剤組成物。   The antistatic silicone release agent composition containing the antistatic agent composition for silicone release agents of any one of Claims 1-5, and a silicone release agent. 請求項6に記載の帯電防止性シリコーン剥離剤組成物の層を、基材の少なくとも片面の少なくとも一部に有する帯電防止性剥離フィルム。
An antistatic release film having a layer of the antistatic silicone release agent composition according to claim 6 on at least a part of at least one side of a substrate.
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