JP2016143759A - Coil device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、金属磁性体粒子が合成樹脂の内部に分散してある複合磁性体で構成してあるコア素体を有するコイル装置に関する。 The present invention relates to a coil device having a core body made of a composite magnetic body in which metal magnetic particles are dispersed inside a synthetic resin.
比較的に小さなコイル装置を多量に製造する場合には、たとえば特許文献1に示すように、個々のチップ状に細かくするための切断工程を必要とする。しかしながら、金属磁性体粒子が合成樹脂の内部に分散してある複合磁性体を個々のチップ状に切断する際に、従来では、切断面において、金属粒子の脱落や金属粒子の脱落などが生じていた。その原因としては、合成樹脂と金属粒子との切断のし易さが異なることを考慮していなかったためであると考えられる。
When a relatively small coil device is manufactured in large quantities, for example, as shown in
特に、コイル装置のサイズの小型化と共に、切断面における金属粒子の脱落や金属粒子の脱落などが問題になってきている。本発明者等の新たな知見によれば、切断面において、金属粒子の脱落が生じると、コイル装置としての磁気特性(特にL値)が劣化する。また、切断面において、金属粒子の延びが生じると、端子電極をメッキにより形成する際に、メッキの延びが生じて耐電圧特性が劣化するおそれがある。 In particular, with the reduction in the size of the coil device, dropping of metal particles and dropping of metal particles at the cut surface has become a problem. According to the new knowledge of the present inventors, when metal particles fall off on the cut surface, the magnetic characteristics (particularly L value) of the coil device deteriorate. Further, if the metal particles extend on the cut surface, the plating may be extended when the terminal electrode is formed by plating, and the withstand voltage characteristic may be deteriorated.
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、サイズが小型化しても磁気特性の向上を図ることができるコイル装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to provide a coil device capable of improving magnetic characteristics even when the size is reduced.
上記目的を達成するために、本発明に係るコイル装置は、
金属磁性体粒子が分散してある合成樹脂から成る複合磁性体で構成してあるコア素体と、
前記コア素体の内部に埋設してあり、印刷工法または薄膜工法で形成された内部導体と、
前記コア素体の外表面に形成され、前記内部導体に接続する端子電極と、を有するコイル装置であって、
前記コア素体の切断面では、前記金属磁性体粒子が切断されており、当該金属磁性体粒子には、縞状の切断跡が形成してあることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a coil device according to the present invention comprises:
A core body made of a composite magnetic body made of a synthetic resin in which metal magnetic particles are dispersed;
Embedded in the core body, and an internal conductor formed by a printing method or a thin film method; and
A coil device having a terminal electrode formed on an outer surface of the core body and connected to the inner conductor,
The metal magnetic particles are cut at the cut surface of the core body, and striped cut marks are formed on the metal magnetic particles.
本発明に係るコイル装置のコア素体の切断面では、金属磁性体粒子が切断されており、当該金属磁性体粒子には、縞状の切断跡が形成してある。このことは、コア素体の切断面では、金属磁性体粒子を脱落させることなく切断されていることを示している。また、金属磁性体粒子に縞状の切断跡が形成してあることは、金属磁性体粒子が、ほとんど延びることなく切断されていることを示している。すなわち、本発明に係るコイル装置は、切断面において、金属磁性体粒子の脱落がなく、金属磁性体粒子の延びも少なく、磁気特性(特にL値)の劣化が少なく、耐電圧特性にも優れている。 In the cut surface of the core body of the coil device according to the present invention, the metal magnetic particles are cut, and striped cut marks are formed on the metal magnetic particles. This indicates that the cut surface of the core body is cut without dropping the metal magnetic particles. In addition, the formation of striped cut traces on the metal magnetic particles indicates that the metal magnetic particles are cut almost without extending. That is, the coil device according to the present invention has no drop of the metal magnetic particles, little extension of the metal magnetic particles, little deterioration of magnetic characteristics (particularly L value), and excellent withstand voltage characteristics at the cut surface. ing.
好ましくは、前記コア素体の切断面の表面粗さRyが、30μm以下である。コア素体の切断面の表面粗さRyが所定値以下であることで、磁気特性(特にL値)の劣化が少なく、耐電圧特性にも優れているコイル装置を実現することができる。 Preferably, the surface roughness Ry of the cut surface of the core body is 30 μm or less. When the surface roughness Ry of the cut surface of the core body is equal to or less than a predetermined value, it is possible to realize a coil device that is less deteriorated in magnetic characteristics (particularly L value) and excellent in withstand voltage characteristics.
前記コア素体の切断面は、たとえば前記コア素体の対向する側面に対応している。 The cut surface of the core element body corresponds to, for example, opposite side surfaces of the core element body.
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1に示すコイル装置2は、矩形平板形状のコア素体10と、コア素体10のX軸方向の両端にそれぞれ装着してある一対の端子電極4,4とを有する。コア素体10は、4つの側面10a〜10dと、X軸方向に対向する二つの端面10eおよび10fを有する。端子電極4,4は、コア素体10のX軸方向端面10e,10fを覆うと共に、X軸方向端面10e,10fの近くで、コア素体10のZ軸方向の上面10aと下面10bとを一部覆っている。
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
A
コア素体10の縦(X軸)、横(Y軸)および高さ(Z軸)の寸法は、特に限定されないが、本実施形態では、これらの寸法が小さい場合に特に効果が大きい。
The vertical (X-axis), horizontal (Y-axis) and height (Z-axis) dimensions of the
図2に示すように、コア素体10は、上部コア15と下部コア16とからなり、そのZ軸方向の中央部に、絶縁基板11を有する。絶縁基板11は、後述するスパイラル状の内部導体通路12,13を形成するための下地面となる。
As shown in FIG. 2, the
上部コア15は、矩形平板状のコア本体の中央部に、Z軸方向の下方に向けて突出する円柱状の中脚部15aを有する。また、上部コア15は、矩形平板状のコア本体のY軸方向の両端部に、X軸方向の下方に向けて突出する板状の側脚部15bを有する。
The
下部コア16は、上部コア15のコア本体と同様な矩形平板状の形状を有し、上部コア15の中脚部15aと側脚部15bとが、それぞれ下部コア16の中央部およびY軸方向の端部に連結されて一体化される。なお、図2では、コア素体10が、上部コア15と下部コア16とに分離されて描かれているが、これらは、金属磁性粉含有樹脂により一体化されて形成されても良い。また、上部コア15に形成してある中脚部15aおよび/または側脚部15bは、下部コア16に形成されていても良い。いずれにしても、コア素体10は、完全な閉磁路を構成してあり、閉磁路内にギャップは存在しない。
The
本実施形態では、コア素体10は、金属磁性粉含有樹脂で構成してある。金属磁性粉含有樹脂とは、樹脂に金属磁性粉が混入されてなる磁性材料である。金属磁性粉としては、特に限定されず、たとえばFe−Ni合金粉、Fe−Si合金粉、Fe−Si−Cr合金粉、アモルファスFe粉などが例示されるが、パーマアロイ系材料を用いることが好ましい。具体的には、第1の金属磁性粉として平均粒径が好ましくは10〜50μmであるPb−Ni−Co合金を用い、第2の金属磁性粉として平均粒径が好ましくは1〜10μmμmであるカルボニル鉄を用い、これらを所定の比率、例えば70:30〜80:20、好ましくは75:25の重量比で含む金属磁性粉を用いることが好ましい。
In the present embodiment, the
金属磁性粉の含有率は90〜98重量%であることが好ましい。樹脂に対して金属磁性粉の量を少なくすれば飽和磁束密度は小さくなり、逆に金属磁性粉の量を多めにすれば飽和磁束密度は大きくなるので、金属磁性粉の量だけで飽和磁束密度を調整することができる。 The content of the metal magnetic powder is preferably 90 to 98% by weight. If the amount of metal magnetic powder is reduced relative to the resin, the saturation magnetic flux density decreases. Conversely, if the amount of metal magnetic powder is increased, the saturation magnetic flux density increases. Can be adjusted.
本実施形態では、粒径が異なる2種類の金属磁性粉を用いることが好ましく、その場合には、低加圧又は非加圧成形下において高密度な磁性コアを成形することができ、高透磁率且つ低損失な磁性コアを実現することができる。 In the present embodiment, it is preferable to use two types of metal magnetic powders having different particle sizes. In this case, a high-density magnetic core can be formed under low pressure or non-pressure forming, A magnetic core with low magnetic loss and low loss can be realized.
金属磁性粉含有樹脂に含まれる樹脂は絶縁結着材として機能する。樹脂の材料としては液状エポキシ樹脂又は粉体エポキシ樹脂を用いることが好ましい。また、樹脂の含有率は2〜10重量%であることが好ましい。 The resin contained in the metal magnetic powder-containing resin functions as an insulating binder. As the resin material, liquid epoxy resin or powder epoxy resin is preferably used. The resin content is preferably 2 to 10% by weight.
上部コア15および下部コア16の厚さは同一であることが好ましく、合計厚さT(図3参照)は0.3〜1.2mm程度に薄くすることができる。ただし、上部コア15および下部コア16の合計厚さTが薄すぎると、部品の機械的強度のみならずコイルのインダクタンスが低下するおそれがある。
The
図において、X軸、Y軸およびZ軸は、相互に垂直であり、本実施形態では、X軸が、一対の端子電極4,4が相互に向かい合う方向であり、Y軸が、端子電極4,4の長手方向であり、Z軸が、コア素体10の上面10aおよび下面10bに垂直な方向である。
In the figure, the X axis, the Y axis, and the Z axis are perpendicular to each other. In this embodiment, the X axis is a direction in which the pair of terminal electrodes 4 and 4 face each other, and the Y axis is the terminal electrode 4. , 4 and the Z axis is a direction perpendicular to the
図2に示すように、絶縁基板11のZ軸方向の上面(一方の主面)には、円形スパイラル状の内部導体通路12とダミー内部導体12cとから成る内部電極パターンが形成してある。内部導体通路12とダミー内部導体12cとは、絶縁基板11の上面で絶縁されている。
As shown in FIG. 2, on the upper surface (one main surface) of the insulating
スパイラル状の内部導体通路12の内周端には、接続端12aが形成してある。また、スパイラル状の内部導体通路12の外周端には、コア素体10の一方のX軸方向端部に沿って露出するようにリード用コンタクト12bが形成してある。ダミー内部導体12cは、内部導体通路12とは絶縁されているが、リード用コンタクト12bの形状に類似する形状で、コア素体10の他方のX軸方向端部に沿って露出するように形成してある。
A
絶縁基板11のZ軸方向の下面(他方の主面)には、スパイラル状の内部導体通路13とダミー内部導体13cとから成る内部電極パターンが形成してある。内部導体通路13とダミー内部導体13cとは、絶縁基板11の下面で絶縁されている。
On the lower surface (the other main surface) in the Z-axis direction of the insulating
スパイラル状の内部導体通路13の内周端には、接続端13aが形成してある。また、スパイラル状の内部導体通路13の外周端には、コア素体10の一方のX軸方向端部に沿って露出するようにリード用コンタクト13bが形成してある。ダミー内部導体13cは、内部導体通路13とは絶縁されているが、リード用コンタクト13bの形状に類似する形状で、コア素体10の他方のX軸方向端部に沿って露出するように形成してある。
A
本実施形態では、ダミー内部導体13cは、ダミー内部導体12cに対してX軸方向の反対側に形成してあり、リード用コンタクト13bがリード用コンタクト12bとX軸方向の反対側に形成してある。接続端12aと接続端13aとは、絶縁基板11を挟んで、同じ位置に形成してあり、図3に示すように、絶縁基板11に形成してあるスルーホール11iに埋め込まれているスルーホール電極18を通して電気的に接続してある。すなわち、スパイラル状の内部導体通路12と、同じくスパイラル状の内部導体通路13とは、スルーホール電極18を通して電気的に接続してある。
In this embodiment, the dummy
スパイラル状の内部導体通路12,13は、Z軸方向から見て概略的に重なり合っているが、完全には一致していなくてよい。すなわち、絶縁基板11の上面11a側から見たスパイラル状の内部導体通路12は、外周端のリード用コンタクト12bから内周端の接続端12aに向かって反時計回りのスパイラルを構成している。
The spiral
これに対して、絶縁基板11の上面11a側から見たスパイラル状の内部導体通路13は、内周端である接続端13aから外周端であるリード用コンタクト13bに向かって反時計回りのスパイラルを構成している。これにより、スパイラル状の内部導体通路12,13に電流が流れることによって生じる磁束の方向が一致し、スパイラル状の内部導体通路12,13で発生する磁束は重畳して強め合い、大きなインダクタンスを得ることができる。
On the other hand, the spiral
図2に示すように、上部コア15と内部導体通路12(ダミー内部導体12cも同じ)との間には、矩形シート状の保護絶縁層14が介在してあり、これらは絶縁されている。また、下部コア16と内部導体通路13(ダミー内部導体13cも同じ)との間には、矩形シート状の保護絶縁層14が介在してあり、これらは絶縁されている。保護絶縁層14の中央部には、円形の貫通孔14aが形成してある。また、絶縁基板11の中央部にも、円形の貫通孔11hが形成してある。これらの貫通孔14aおよび11hを通して、上部コア15の中脚部15aが下部コア16の方向に延びて下部コア16の中央と連結してある。
As shown in FIG. 2, a rectangular sheet-like protective insulating
なお、スパイラル状のスパイラル状の内部導体通路12と、同じくスパイラル状の内部導体通路13とは、その中央部に、貫通孔14aおよび11hよりも大きな空間を有している。
The spiral
本実施形態では、端子電極4は、単層で構成しても良いが、たとえばコア素体10のX軸方向端面に接触する内層と、内層の表面に形成される外層とを有してもよい。内層は、コア素体10のX軸方向の端面近くで、コア素体10の上面10aおよび下面10bの一部も覆っており、その外表面を外層が覆っている。
In the present embodiment, the terminal electrode 4 may be composed of a single layer, but may have, for example, an inner layer in contact with the end surface in the X-axis direction of the
図4では、リードコンタクト13bの他に、ダミー内部導体12cも端子電極4の内層4aに電気的に接続されるが、ダミー内部導体12cは、スパイラル状の内部導体通路12とは接続されていないため、一方の端子電極4は、下側の内部導体通路13に対してのみ接続される。
In FIG. 4, in addition to the
また、図4に示すように、X軸方向の反対側に位置する端子電極4では、リード用コンタクト12bが端子電極4に接続するように形成してある。ダミー内部導体13cも端子電極4に電気的に接続されるが、ダミー内部導体13cは、スパイラル状の内部導体通路13とは接続されていないため、他方の端子電極4は、上側の内部導体通路12に対してのみ接続される。そのため一方の端子電極4と他方の端子電極4との間には、2つのスパイラル状の内部導体通路12および13が直列に接続される。
As shown in FIG. 4, in the terminal electrode 4 positioned on the opposite side in the X-axis direction, the
本実施形態では、絶縁基板11は、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させた一般的なプリント基板材料であることが好ましく、例えばBT基材、FR4基材、FR5基材等を用いることができるが、これに限定されず、CEM3基材、XPC基材などの樹脂基板でもよい。
In this embodiment, the insulating
絶縁基板11として、プリント基板材料を用いた場合には、スパイラル状の内部導体通路12,13を、いわゆる薄膜工法におけるスパッタリングではなく、めっきにより形成できる。このため、内部導体通路12,13を構成する導体の厚さを十分に厚くすることができる。
When a printed board material is used as the insulating
本実施形態では、コア素体10のY軸方向に対向する一対の側面10c,10dが切断面で構成してあり、コイル装置2の外面に露出してある。図5(A)および図6(A)に示すように、切断面である側面10c(側面10dも同様、以下同じ)では、樹脂22中の金属磁性体粒子20が切断されており、当該金属磁性体粒子20には、縞状の切断跡20aが形成してある。縞状の切断跡20aにおける縞の間隔は、特に限定されないが、たとえば1〜10μm程度であり、粒子20の粒径に比較して十分に小さい。
In the present embodiment, a pair of side surfaces 10 c and 10 d facing the Y-axis direction of the
そして、コア素体10の切断面である側面10cの表面粗さRyは、30μm以下、さらに好ましくは10μm以下である。コア素体10の切断面の表面粗さRyが所定値以下であることで、磁気特性(特にL値)の劣化が少なく、耐電圧特性にも優れているコイル装置を実現することができる。
And the surface roughness Ry of the
次に、本実施形態のコイル装置2の製造方法について説明する。
Next, the manufacturing method of the
まず、図2〜図4に示す絶縁基板11を準備する。絶縁基板11としては、浮遊容量の増大を回避するため、絶縁基板11の誘電率は、7以下(ε≦7)であることが好ましいが、特に限定されるものではない。また、本実施形態では、樹脂基板11の形状が、コイル装置の外形に合わせて矩形であるが、その他の形状であっても良い。樹脂基板11の厚みは、内部導体通路12および13間での絶縁が確保される程度に薄いことが好ましく、特に限定されないが、好ましくは40〜100μmである。樹脂基板11は、たとえば射出成形、圧縮成形、直圧成形、コンプレッション成形などにより形成される。
First, the insulating
絶縁基板11の上面11aおよび下面11bにそれぞれ形成される内部導体通路12(ダミー内部導体12cも同じ)および内部導体通路13(ダミー内部導体13cも同じ)は、たとえば次のようにしてめっき法により形成される。めっきにより形成することで、そのアスペクト比を高くすることができ、断面積が比較的大きく直流抵抗が小さなコイル装置を実現することができる。
The inner conductor passage 12 (the same for the dummy
まず、金属箔(たとえば導電率が高く加工も容易な銅箔)が上面11aおよび下面11bに形成してある絶縁基板11を準備し、その金属箔を所定厚み(たとえば3〜5μm)までエッチングして金属箔の厚みを薄くする。この金属箔は、次工程でのめっき種膜となる。
First, an insulating
その前後に、図3に示すスルーホール11iを絶縁基板11にドリル加工などで形成する。金属箔およびスルーホール11iが形成してある絶縁基板11の両面にレジスト膜をラミネートし、回路パターンのスペースとなる部分を露光により感光させる。現像液(たとえば炭酸ナトリウム1%溶液)により未感光部分を溶解(現像)させ、回路パターンのスペース部分のみを残したレジストパターンを金属箔の表面に形成する。
Before and after that, the through
次に、レジストパターンが形成された絶縁基板11を電気めっきにて、レジストパターンが形成されていない部位にめっきを析出させることで、回路の導体配線となる部分(内部導体通路12,13やダミー内部導体12c,13cとなる部分)が形成される。めっきの膜厚は、次工程でエッチングされる量を予め想定し、めっき種膜のエッチング後に、たとえば所定厚みとなるように調整した膜厚で形成する。
Next, the insulating
次に、レジストが形成してある絶縁基板11を、レジスト剥離液に浸し、残っているレジストを剥離する。さらに、絶縁基板11を、めっき種膜のエッチング液にてエッチングし、めっきされていない部分のめっき種膜を除去する。
Next, the insulating
次に、めっき膜が形成してある絶縁基板11を電気めっきにてめっき膜を厚くする(HAPめっき法)。その状態で、図2に示す絶縁基板11の上面11aおよび下面11bに、所定膜厚の内部導体通路12,13およびダミー内部導体12c,13cが形成される。同時に、図3に示すスルーホール電極18も形成される。
Next, the insulating
次に、これらの内部導体通路12,13およびダミー内部導体12c,13cが形成された絶縁基板の両面に、保護絶縁層14を形成するために、絶縁基板11を、たとえば所定濃度で高沸点溶剤にて希釈した樹脂溶解液に浸漬させ乾燥させる。このようにして所定厚みの保護絶縁層14が形成される。
Next, in order to form the protective insulating
次に、図2に示す上部コア15および下部コア16の組合せからなるコア素体10を形成するために、保護絶縁層14が形成してある絶縁基板11の表面に、磁性材料を印刷にて塗布する。磁性材料としては、たとえば主金属磁性材量と微粉末金属磁性材料を所定割合で混練したペースト材を、樹脂溶液と混練したペーストを使用する。金属磁性材料の粒径は大きくなることで実行透磁率が向上するが、形成されたコア素体10の表面粗さも大きくなってしまう。
Next, in order to form the
なお、印刷により形成された磁性材料は、溶剤分を揮発させ、たとえば水圧プレス処理(WIP処理)にてコア素体10の密度を向上させる。また、コア素体10の上面11aおよび下面11bを、たとえば固定砥石にて研削し、コア素体10を所定の厚みにそろえる。その後、熱硬化させて樹脂を架橋させて、コア素体10が得られる。
Note that the magnetic material formed by printing volatilizes the solvent, and improves the density of the
その後に、コア素体10が形成された絶縁基板11を、たとえばダイシングなどにより個片状に切断すれば、図1で示される端子電極4が形成される前のコア素体10が得られる。なお、切断前の状態では、コア素体10は、X軸方向およびY軸方向に一体的に連結されているコア素体10の集合体である。
Thereafter, if the insulating
本実施形態では、図1に示すコア素体10において、X軸方向に対向する一対の端面10e,10fと、Y軸方向に対向する一対の側面10c,10dとが、コア素体10の製造過程における切断面となる。コア素体10におけるZ軸方向に対向する一対の側面10a,10bは、切断面ではない自然な成形面となる。
In the present embodiment, in the
本実施形態では、図7に示すように、コア素体の集合体40を切断してコア素体10を得る際には、線速が500〜2000m/minのダイヤモンド電着ワイヤ30を用いて行う。しかも、電着ワイヤ30による切断に際しては、図8に示すように、電着ワイヤ30に作用する加工圧力Pが、切断時間軸tに沿って略一定になるように切断する。
In the present embodiment, as shown in FIG. 7, when the
そのため、図7に示す切断対象のワークであるコア素体の集合体40を保持して電着ワイヤ30に向けて移動させる支持台32の移動速度Sは、図8に示すように切断時間軸tに沿って変化する。すなわち、ワイヤ30が柔らかい部分を切断しているときには、移動速度Sが早くなり、硬い部分を切断する際には、切断速度が遅くなり、加工圧力Pが、切断時間軸tに沿って略一定になるように切断する。
Therefore, the moving speed S of the
本実施形態では、そのような切断の結果として、図5(A)および図6(A)に示すように、切断面である側面10cでは、金属磁性体粒子20が切断されており、当該金属磁性体粒子20には、縞状の切断跡20aが形成してある。
In the present embodiment, as a result of such cutting, as shown in FIGS. 5 (A) and 6 (A), the metal
そして、コア素体10の切断面である側面10cの表面粗さRyは、30μm以下である。コア素体の切断面の表面粗さRyが所定値以下であることで、磁気特性(特にL値)の劣化が少なく、耐電圧特性にも優れているコイル装置を実現することができる。
And surface roughness Ry of the
これに対して、従来の切断方法では、図8に示す加工圧力Pを一定ではなく、切断速度Sを略一定にしていたため、図5(B)および図6(B)に示すような切断面になっていた。なお、切断速度Sを略一定で切断とは、図7(1)において、集合体100をワイヤ30に向けて矢印方向に一定速度で移動させて切断することである。
On the other hand, in the conventional cutting method, the processing pressure P shown in FIG. 8 is not constant, and the cutting speed S is substantially constant, so that the cutting surfaces as shown in FIGS. 5 (B) and 6 (B). It was. In addition, cutting with the cutting speed S being substantially constant means that the assembly 100 is moved toward the
図5(B)および図6(B)に示すように、従来のコイル装置における切断面10c’では、たとえば金属磁性体粒子20が脱落してしまい凹み24が形成されたり、粒子20が切断されずに残っていたりするために、切断面10c’における表面粗さRyは、10μmより大きくなっていた。そのため、磁気特性(特にL値)の劣化が大きかった。また、図示省略するが、切断面において、金属粒子の延びが生じる場合があり、そのために、耐電圧特性が劣化するおそれがあった。
As shown in FIGS. 5B and 6B, on the
本実施形態に係るコイル装置2のコア素体10の切断面である側面10cおよび10dでは、金属磁性体粒子20が切断されており、当該金属磁性体粒子20には、縞状の切断跡20aが形成してある。このことは、コア素体10の切断面では、金属磁性体粒子20を脱落させることなく切断されていることを示している。また、金属磁性体粒子20に縞状の切断跡が形成してあることは、金属磁性体粒子20が、ほとんど延びることなく切断されていることを示している。すなわち、本発明に係るコイル装置は、切断面において、金属磁性体粒子20の脱落がなく、金属磁性体粒子20の延びも少なく、磁気特性(特にL値)の劣化が少なく、耐電圧特性にも優れている。
In the side surfaces 10c and 10d that are cut surfaces of the
図7に示すコア素体の集合体を切断した後には、個片化されたコア素体10に、必要に応じてエッチング処理を行う。エッチング処理の条件としては、特に限定されない。
After the core element assembly shown in FIG. 7 is cut, the separated
次に、エッチング処理されたコア素体10のX軸方向の両端に、浸漬法(DIP)にて電極材を塗布して内層を形成する。電極材としては、磁性材料を固着している成分と同様に、たとえばエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂にAg粉などの導体粉を所定の含有量で混練したペースト材である。
Next, an electrode material is applied to both ends in the X-axis direction of the
内層を構成する導体粉含有樹脂に含まれる導体粉(たとえばAg粉)は、球状粉と扁平状粉とを有し、導体粉含有樹脂に含まれる球状粉の含有量をαとし、導体粉含有樹脂に含まれる前記扁平状粉の含有量をβとした場合に、α/βが、好ましくは2〜3の範囲内である。このような構成にすることで、端子電極4とコア素体10との固着強度が向上すると共に、端子電極4の抵抗を低減することが可能になる。
The conductor powder (for example, Ag powder) contained in the conductor powder-containing resin constituting the inner layer has spherical powder and flat powder, the content of the spherical powder contained in the conductor powder-containing resin is α, and the conductor powder contains When the content of the flat powder contained in the resin is β, α / β is preferably in the range of 2-3. With such a configuration, the fixing strength between the terminal electrode 4 and the
次に、内層となる電極ペーストが塗布された製品に端子めっきをバレルめっきにて外層を形成する。外層を形成するための端子めっきとしては、単一めっき膜でも多層めっき膜でも良く、たとえばNi膜とSn膜を形成する。このようにして端子電極4が形成されて、図1に示すコイル装置2が得られる。
Next, the outer layer is formed by terminal plating on the product coated with the electrode paste as the inner layer by barrel plating. The terminal plating for forming the outer layer may be a single plating film or a multilayer plating film. For example, a Ni film and a Sn film are formed. Thus, the terminal electrode 4 is formed and the
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.
たとえば、絶縁基板11の片側表面にのみスパイラル状の内部導体通路12または13を形成しても良い。また上述した実施形態では、スパイラル状の内部導体通路12および13を直列に接続したが、並列に接続するように内部導体パターンを形成しても良い。また、コア素体10の外面に形成する端子電極4は、3つ以上であっても良い。さらに、内部導体通路12(ダミー内部導体12cも同じ)および内部導体通路13(ダミー内部導体13cも同じ)は、薄膜法ではなく、印刷法により形成することも可能である。
For example, the spiral
さらに、上述した実施形態では、切断面を電着ワイヤ30により形成したが、本発明では、電着ワイヤ30に限らず、電鋳ワイヤ、ダイヤモンドコーティングワイヤ、分散めっきワイヤなどを用いて、加工圧力を略一定にして切断しても良い。
Furthermore, in the above-described embodiment, the cut surface is formed by the
2… コイル装置
4… 端子電極
10… コア素体
11… 絶縁基板
12,13… 内部導体通路
12a,13a… 接続端
12b,13b… リード用コンタクト
12c,13c… ダミー内部導体
14… 保護絶縁層
15… 上部コア
15a… 中脚部
15b… 側脚部
16… 下部コア
18… スルーホール導体
20… 金属磁性体粒子
20a… 切断痕
22… 樹脂
30… 電着ワイヤ
40… 集合体
2 ... Coil device 4 ...
Claims (3)
前記コア素体の内部に埋設してあり、印刷工法または薄膜工法で形成された内部導体と、
前記コア素体の外表面に形成され、前記内部導体に接続する端子電極と、を有するコイル装置であって、
前記コア素体の切断面では、前記金属磁性体粒子が切断されており、当該金属磁性体粒子には、縞状の切断跡が形成してあることを特徴とするコイル装置。 A core body made of a composite magnetic body made of a synthetic resin in which metal magnetic particles are dispersed;
Embedded in the core body, and an internal conductor formed by a printing method or a thin film method; and
A coil device having a terminal electrode formed on an outer surface of the core body and connected to the inner conductor,
The coil device is characterized in that the metal magnetic particles are cut at a cut surface of the core body, and the metal magnetic particles are formed with striped cut traces.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015018353A JP2016143759A (en) | 2015-02-02 | 2015-02-02 | Coil device |
Applications Claiming Priority (1)
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Family
ID=56570730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2015018353A Pending JP2016143759A (en) | 2015-02-02 | 2015-02-02 | Coil device |
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JP (1) | JP2016143759A (en) |
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US12033789B2 (en) | 2019-08-09 | 2024-07-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Inductor component and inductor component embedded substrate |
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