JP2016128607A - Catalyst body unit and heat generator cvd apparatus including the unit - Google Patents

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JP2016128607A JP2015252313A JP2015252313A JP2016128607A JP 2016128607 A JP2016128607 A JP 2016128607A JP 2015252313 A JP2015252313 A JP 2015252313A JP 2015252313 A JP2015252313 A JP 2015252313A JP 2016128607 A JP2016128607 A JP 2016128607A
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博康 田渕
Hiroyasu Tabuchi
博康 田渕
嘉章 西山
Yoshiaki Nishiyama
嘉章 西山
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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a catalyst body unit freely detachable to a chamber of a heat generator CVD apparatus, and the heat generator CVD including the catalyst unit.SOLUTION: A catalyst unit 100 including a unit basic body 110 freely detachably fixed to a chamber of a heat generator CVD apparatus, a raw material gas supply tube 23 supported by the unit basic body 110 and inserted into the chamber, a pair of electrodes 18 supported by the unit basic body 110, and a linear-shaped catalyst body 19 connected to the electrode pair 18 and arranged along a side surface of the raw material supply tube 23, the catalyst body 19 having a return part 19a.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、触媒体ユニット及びそれを備える発熱体CVD装置に関する。   The present invention relates to a catalyst unit and a heating element CVD apparatus including the catalyst unit.

発熱体CVD装置は、発熱させた触媒体に原料ガスを接触させて、生成した化学種を基材上に堆積させて薄膜を形成する装置である(例えば、特許文献1又は2を参照。)。発熱体CVDはCat−CVD又はホットワイヤーCVDと呼ばれることもある。発熱体CVD装置として、プラスチック容器を収容する真空チャンバと、プラスチック容器の内部へ原料ガスを供給する原料ガス供給管と、原料ガス供給管に支持された触媒体とを備える装置が知られている(例えば、特許文献1又は2を参照。)。   The heating element CVD apparatus is an apparatus for forming a thin film by bringing a source gas into contact with a heated catalyst body and depositing the generated chemical species on a substrate (see, for example, Patent Document 1 or 2). . The heating element CVD is sometimes called Cat-CVD or hot wire CVD. As a heating element CVD apparatus, an apparatus is known that includes a vacuum chamber that houses a plastic container, a source gas supply pipe that supplies a source gas into the plastic container, and a catalyst body supported by the source gas supply pipe. (For example, refer to Patent Document 1 or 2.)

WO2006/126677号公報WO2006 / 126777 Publication 特開2014−34719号公報JP 2014-34719 A

発熱体CVD装置では、より均一な成膜ができるようにするために、被蒸着物の形状又は原料ガスの種類に応じて、原料ガス供給管及びそれに支持された触媒体の種類、寸法又は配置などを変更したり、所定回数成膜後に触媒体を交換したりする場合がある。そのため、この変更作業又は交換作業を効率よく行うことができる発熱体CVD装置が望まれる。   In the heating element CVD apparatus, in order to enable more uniform film formation, depending on the shape of the deposition object or the type of the source gas, the type, size, or arrangement of the source gas supply pipe and the catalyst body supported by the source gas supply pipe Or the catalyst body may be replaced after a predetermined number of times of film formation. Therefore, a heating element CVD apparatus capable of efficiently performing this changing operation or replacement operation is desired.

本発明の目的は、発熱体CVD装置のチャンバに対して着脱自在な触媒体ユニット及びそれを備える発熱体CVD装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a catalyst body unit that is detachable from a chamber of a heating element CVD apparatus and a heating element CVD apparatus including the same.

本発明に係る触媒体ユニットは、発熱体CVD装置のチャンバに着脱自在に固定されるユニット基体と、該ユニット基体に支持され、前記チャンバ内に挿入される原料ガス供給管と、前記ユニット基体に支持される電極対と、該電極対に接続され、前記原料ガス供給管の側面に沿って配置される線状の触媒体と、を備え、該触媒体は、返し部を有することを特徴とする。   A catalyst unit according to the present invention includes a unit base that is detachably fixed to a chamber of a heating element CVD device, a source gas supply pipe that is supported by the unit base and inserted into the chamber, and a unit base. A supported electrode pair, and a linear catalyst body connected to the electrode pair and disposed along a side surface of the source gas supply pipe, the catalyst body having a return portion, To do.

本発明に係る触媒体ユニットでは、前記電極対は、細長状の形状を有し、かつ、前記原料ガス供給管の長手方向に沿って配置され、複数の前記触媒体の一部又は全部が前記電極対に間隔をあけて電気的に並列に接続されることが好ましい。   In the catalyst body unit according to the present invention, the electrode pair has an elongated shape and is disposed along a longitudinal direction of the source gas supply pipe, and a part or all of a plurality of the catalyst bodies are the It is preferable that the electrode pairs are electrically connected in parallel with a space therebetween.

本発明に係る触媒体ユニットでは、すべての前記触媒体の抵抗値が等しいことが好ましい。   In the catalyst body unit according to the present invention, it is preferable that the resistance values of all the catalyst bodies are equal.

本発明に係る触媒体ユニットでは、被蒸着物が、口部と、首部と、該首部の直径よりも大きな直径を有する胴部とを備えるボトル状容器であり、前記口部から、前記原料ガス供給管及び前記触媒体が挿入され、前記胴部は、該胴部の横断面に存在する前記触媒体の数が、前記首部の横断面に存在する前記触媒体の数よりも多い領域を有することが好ましい。   In the catalyst body unit according to the present invention, the deposition object is a bottle-shaped container including a mouth portion, a neck portion, and a body portion having a diameter larger than the diameter of the neck portion, and from the mouth portion, the source gas The supply pipe and the catalyst body are inserted, and the body portion has a region where the number of the catalyst bodies existing in the cross section of the body portion is larger than the number of the catalyst bodies existing in the cross section of the neck portion. It is preferable.

本発明に係る触媒体ユニットでは、前記ユニット基体が前記チャンバの天面壁に着脱自在に固定され、錘体が前記返し部に配置されて、前記触媒体が張架されていることが好ましい。   In the catalyst body unit according to the present invention, it is preferable that the unit base is detachably fixed to the top wall of the chamber, a weight is disposed on the return portion, and the catalyst body is stretched.

本発明に係る触媒体ユニットでは、前記原料ガス供給管の外周にガイドが設けられ、前記ガイドは、前記錘体を揺動自在に支持し、かつ、前記触媒体を支持しないことが好ましい。   In the catalyst unit according to the present invention, it is preferable that a guide is provided on the outer periphery of the source gas supply pipe, and the guide supports the weight body so as to be swingable and does not support the catalyst body.

本発明に係る触媒ユニットでは、前記触媒体は、前記返し部に、他の部分よりも前記触媒体を密に配置した密部分を有し、該密部分が錘となって前記触媒体が張架されていることが好ましい。   In the catalyst unit according to the present invention, the catalyst body has a dense portion in which the catalyst body is arranged more densely than the other portion at the return portion, and the dense portion serves as a weight to stretch the catalyst body. It is preferable that it is installed.

本発明に係る触媒体ユニットでは、前記密部分の質量が、前記触媒体の全体の質量に対して10%以上40%以下であることが好ましい。   In the catalyst body unit according to the present invention, the mass of the dense portion is preferably 10% or more and 40% or less with respect to the total mass of the catalyst body.

本発明に係る触媒体ユニットでは、前記原料ガス供給管が導電性を有し、かつ、前記電極対を兼ねていることが好ましい。   In the catalyst body unit according to the present invention, it is preferable that the source gas supply pipe has conductivity and also serves as the electrode pair.

本発明に係る触媒体ユニットでは、前記原料ガス供給管の外周の一部又は全体が、着脱可能な管状の絶縁部材で被覆されていることが好ましい。   In the catalyst body unit according to the present invention, it is preferable that a part or the whole of the outer periphery of the source gas supply pipe is covered with a detachable tubular insulating member.

本発明に係る発熱体CVD装置は、本発明に係る触媒体ユニットを備えることを特徴とする。   The heating element CVD apparatus according to the present invention includes the catalyst body unit according to the present invention.

本発明は、発熱体CVD装置のチャンバに対して着脱自在な触媒体ユニット及びそれを備える発熱体CVD装置を提供することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a catalyst unit that can be attached to and detached from the chamber of the heating element CVD apparatus and a heating element CVD apparatus including the catalyst body unit.

第一実施形態に係る触媒体ユニットの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the catalyst body unit which concerns on 1st embodiment. 触媒体の配置の変形形態の第一例を示す概略図である。It is the schematic which shows the 1st example of the deformation | transformation form of arrangement | positioning of a catalyst body. 図2の電気回路図である。FIG. 3 is an electric circuit diagram of FIG. 2. 触媒体の配置の変形形態の第二例を示す概略図である。It is the schematic which shows the 2nd example of the deformation | transformation form of arrangement | positioning of a catalyst body. 容器の横断面に存在する触媒体の数を説明するための図であり,(a)は図4のA−A線端面図、(b)は図4のB−B線端面図、(c)は図4のC−C線端面図である。It is a figure for demonstrating the number of the catalyst bodies which exist in the cross section of a container, (a) is the AA end view of FIG. 4, (b) is the BB end view of FIG. ) Is an end view taken along the line CC of FIG. 錘体の第一例を示す概略図である。It is the schematic which shows the 1st example of a weight body. 錘体の第二例を示す概略図である。It is the schematic which shows the 2nd example of a weight body. 第二実施形態に係る触媒体ユニットの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the catalyst body unit which concerns on 2nd embodiment. 本実施形態に係る発熱体CVD装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the heat generating body CVD apparatus which concerns on this embodiment. 触媒体の変形例を示す概略図である。It is the schematic which shows the modification of a catalyst body. 原料ガス供給管の変形例を示す概略図である。It is the schematic which shows the modification of a source gas supply pipe | tube. 図11に示す原料ガス供給管の先端部の第一例を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the 1st example of the front-end | tip part of the source gas supply pipe | tube shown in FIG. 図11に示す原料ガス供給管の先端部の第二例を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the 2nd example of the front-end | tip part of the source gas supply pipe | tube shown in FIG.

次に、本発明について実施形態を示して詳細に説明するが本発明はこれらの記載に限定して解釈されない。本発明の効果を奏する限り、実施形態は種々の変形をしてもよい。   Next, the present invention will be described in detail with reference to embodiments, but the present invention is not construed as being limited to these descriptions. As long as the effect of the present invention is exhibited, the embodiment may be variously modified.

(発熱体CVD装置)
図9は、本実施形態に係る発熱体CVD装置の一例を示す概略図である。まず、図9を参照して、発熱体CVD装置について説明する。
(Heating element CVD device)
FIG. 9 is a schematic view showing an example of a heating element CVD apparatus according to this embodiment. First, a heating element CVD apparatus will be described with reference to FIG.

発熱体CVD装置1は、被蒸着物7を収容するチャンバ6と、チャンバ6を真空引きする排気ポンプ(不図示)と、原料ガス供給管23と、電極対18と、触媒体19と、を有する。   The heating element CVD apparatus 1 includes a chamber 6 that accommodates the deposition object 7, an exhaust pump (not shown) that evacuates the chamber 6, a source gas supply pipe 23, an electrode pair 18, and a catalyst body 19. Have.

チャンバ6は、天面壁2と、天面壁2に対向する底面壁3と、天面壁2及び底面壁3を接続する側面壁4とを有する。チャンバ6の内部には、被蒸着物7を収容して、被蒸着物7の表面に薄膜を形成する反応室となる薄膜形成空間12が設けられている。チャンバ6は、例えば下部チャンバ13と下部チャンバ13の上部に着脱自在に取り付けられて下部チャンバ13の内部をOリング14を介して密封可能とする上部チャンバ15とを有し、上部チャンバ15を図示しない上下駆動機構で上下させて、被蒸着物7の搬入・搬出を行う。天面壁2には、真空バルブ8を介して排気管21を取り付け、薄膜形成空間12内の空気は、図示しない排気ポンプによって排気される。図1では、チャンバ6を、天面壁2が上方、底面壁3が下方となるよう配置した形態を示したが、配置はこれに限定されず、例えば天面壁2が下方、底面壁3が上方となるように配置してもよい。   The chamber 6 has a top wall 2, a bottom wall 3 facing the top wall 2, and a side wall 4 connecting the top wall 2 and the bottom wall 3. Inside the chamber 6, a thin film forming space 12 is provided which serves as a reaction chamber for accommodating the deposition object 7 and forming a thin film on the surface of the deposition object 7. The chamber 6 includes, for example, a lower chamber 13 and an upper chamber 15 that is detachably attached to the upper portion of the lower chamber 13 so that the inside of the lower chamber 13 can be sealed via an O-ring 14. The deposition object 7 is carried in and out by being moved up and down by a vertical drive mechanism that does not. An exhaust pipe 21 is attached to the top wall 2 via a vacuum valve 8, and the air in the thin film formation space 12 is exhausted by an exhaust pump (not shown). Although FIG. 1 shows a configuration in which the chamber 6 is arranged such that the top wall 2 is upward and the bottom wall 3 is downward, the arrangement is not limited to this. For example, the top wall 2 is downward and the bottom wall 3 is upward. You may arrange | position so that it may become.

被蒸着物7は、例えば、容器、シリンダのような筒状物、フィルム又はシートである。被蒸着物7は、図8に図示するようなボトル状容器であることが好ましい。ボトル状容器は、例えばプラスチックボトルである。   The deposition object 7 is, for example, a container, a cylindrical object such as a cylinder, a film, or a sheet. The deposition object 7 is preferably a bottle-shaped container as shown in FIG. The bottle-shaped container is, for example, a plastic bottle.

原料ガス供給管23は、原料ガス流路17と、原料ガス流路17に通じる原料ガス噴出口11とを有し、薄膜形成空間12内に配置される。原料ガス噴出口11は、例えば、底面壁3に向かって原料ガスを噴出する底面側ガス噴出口11x又は薄膜形成空間12の側面壁4に向けて原料ガスを噴出する側面側ガス噴出口11yである。本実施形態に係る発熱体CVD装置1では、原料ガス噴出口11として少なくとも底面側ガス噴出口11xを有することが好ましい。より好ましくは、図9に示すように、原料ガス噴出口11として底面側ガス噴出口11x及び側面側ガス噴出口11yの両方を有する。   The source gas supply pipe 23 includes a source gas channel 17 and a source gas outlet 11 that communicates with the source gas channel 17 and is disposed in the thin film formation space 12. The source gas outlet 11 is, for example, a bottom side gas outlet 11x that jets source gas toward the bottom wall 3 or a side gas outlet 11y that jets source gas toward the side wall 4 of the thin film formation space 12. is there. In the heating element CVD apparatus 1 according to the present embodiment, it is preferable to have at least the bottom side gas outlet 11x as the source gas outlet 11. More preferably, as shown in FIG. 9, the raw material gas ejection port 11 has both a bottom surface side gas ejection port 11 x and a side surface side gas ejection port 11 y.

原料ガス供給管23の一端は、ガス供給口16に接続される。ガス供給口16は、図9では一例として天面壁2に設けた形態を示したが、本発明はこれに限定されず、底面壁3又は側面壁4に設けてもよい(不図示)。原料ガスは、ボンベ24a,24bからガス流量調整器25a,25b及びバルブ26a〜26cを介してガス供給口16へ供給され、原料ガス流路17を通って、原料ガス噴出口11から噴出す。原料ガスは、目的とする薄膜の種類によって適宜選択されるものであり、本発明では特に制限はない。例えば、薄膜がSiCO系の薄膜である場合、原料ガスは、例えば、ビニルシラン、ジシラブタン、ジシリルアセチレン、2‐アミノエチルシランなどの有機シラン系化合物である。また、原料ガスには、必要に応じてキャリアガスを混合してもよい。キャリアガスは、例えば、アルゴン、ヘリウム、窒素などの不活性ガスである。図9では、一例としてボンベ24a,24bが2本である形態を示したが、本発明はこれに限定されない。   One end of the source gas supply pipe 23 is connected to the gas supply port 16. The gas supply port 16 is shown in FIG. 9 as an example provided on the top wall 2, but the present invention is not limited to this and may be provided on the bottom wall 3 or the side wall 4 (not shown). The source gas is supplied from the cylinders 24 a and 24 b to the gas supply port 16 through the gas flow rate regulators 25 a and 25 b and the valves 26 a to 26 c, and is ejected from the source gas outlet 11 through the source gas channel 17. The source gas is appropriately selected depending on the type of the target thin film, and is not particularly limited in the present invention. For example, when the thin film is a SiCO-based thin film, the source gas is, for example, an organic silane-based compound such as vinylsilane, disilabutane, disilylacetylene, or 2-aminoethylsilane. Moreover, you may mix carrier gas with source gas as needed. The carrier gas is an inert gas such as argon, helium or nitrogen. Although FIG. 9 shows an example in which there are two cylinders 24a and 24b as an example, the present invention is not limited to this.

原料ガス供給管23の長さは、チャンバ6の寸法、被蒸着物7の位置及び被蒸着物7の種類に応じて適宜設計される事項であり、本発明では特に限定されない。例えば、被蒸着物7がボトル状容器であるとき、原料ガス供給管23の長さは、原料ガス供給管23の先端がボトル状容器の底に当たらないように設計される。このとき、原料ガス供給管23の長さは、膜厚の均一性が向上する点で、原料ガス供給管23の先端からボトル状容器の底までの距離L1が5〜30mmとなる長さであることが好ましい。   The length of the source gas supply pipe 23 is a matter that is appropriately designed according to the dimensions of the chamber 6, the position of the deposition object 7 and the type of the deposition object 7, and is not particularly limited in the present invention. For example, when the deposition object 7 is a bottle-shaped container, the length of the source gas supply pipe 23 is designed so that the tip of the source gas supply pipe 23 does not hit the bottom of the bottle-shaped container. At this time, the length of the source gas supply pipe 23 is such that the distance L1 from the tip of the source gas supply pipe 23 to the bottom of the bottle-shaped container is 5 to 30 mm in that the uniformity of the film thickness is improved. Preferably there is.

電極対18は、2本の電極18a,18bで一組になっており、薄膜形成空間12内に配置される。電極対18は、電極棒(図9に図示)又はリード線(不図示)などのように細長状の形状を有することが好ましい。電極対18には、ヒーター電源22が電気的に接続される。電極対18の材質は、特に限定されないが、例えば、ステンレス鋼などの金属、又はグラファイトである。   The electrode pair 18 is a set of two electrodes 18 a and 18 b and is disposed in the thin film formation space 12. The electrode pair 18 preferably has an elongated shape such as an electrode rod (shown in FIG. 9) or a lead wire (not shown). A heater power source 22 is electrically connected to the electrode pair 18. The material of the electrode pair 18 is not particularly limited, and is, for example, a metal such as stainless steel or graphite.

触媒体19は、線状の部材であり、薄膜形成空間12内に配置される。ここで、線状とは、外形が細長い形状をいう。触媒体19は、発熱体と呼ばれることもある。触媒体19の材質は、特に限定されないが、C,W,Ta,Ti,Hf,V,Cr,Mo,Mn,Tc,Re,Fe,Ru,Os,Co,Rh,Ir,Ni,Pd及びPtの群の中から選ばれる一つ又は二つ以上を含むことが好ましい。このうち、触媒体19は、金属タンタル又は炭化タンタルであることが好ましい。   The catalyst body 19 is a linear member and is disposed in the thin film formation space 12. Here, the term “linear” refers to a shape having an elongated outer shape. The catalyst body 19 is sometimes called a heating element. The material of the catalyst body 19 is not particularly limited, but C, W, Ta, Ti, Hf, V, Cr, Mo, Mn, Tc, Re, Fe, Ru, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd and It is preferable to include one or two or more selected from the group of Pt. Among these, the catalyst body 19 is preferably metal tantalum or tantalum carbide.

触媒体19の一方の端部は、電極対18の一方の電極18aに接続される。また、触媒体19の他方の端部は、電極対18の他方の電極18bに接続される。触媒体19は、ヒーター電源22によって触媒体19に電気を流すことで発熱する。触媒体19は、原料ガスとの接触機会を増やすために、例えば、コイルバネ形状、波線形状又はジグザグ線形状に加工した部分(不図示)を設けてもよい。   One end of the catalyst body 19 is connected to one electrode 18 a of the electrode pair 18. The other end of the catalyst body 19 is connected to the other electrode 18 b of the electrode pair 18. The catalyst body 19 generates heat when electricity is supplied to the catalyst body 19 by the heater power supply 22. The catalyst body 19 may be provided with a portion (not shown) processed into, for example, a coil spring shape, a wavy line shape, or a zigzag line shape in order to increase the chance of contact with the source gas.

本実施形態に係る発熱体CVD装置1は、触媒体ユニットを備える。触媒体ユニットとしては、例えば、図1に示す第一実施形態に係る触媒体ユニット100、又は図8に示す第二実施形態に係る触媒体ユニット200とがある。図9では第一実施形態に係る触媒体ユニット100を装着した例を示したが、第一実施形態に係る触媒体ユニット100に代えて、第二実施形態に係る触媒体ユニット200を装着してもよい。第一実施形態に係る触媒体ユニット100は、原料ガス供給管23と電極対18とが別体である。一方、第二実施形態に係る触媒体ユニット200は、原料ガス供給管23が電極対18を兼ねている。まず、第一実施形態に係る触媒体ユニット100について説明する。   The heating element CVD apparatus 1 according to this embodiment includes a catalyst unit. Examples of the catalyst body unit include the catalyst body unit 100 according to the first embodiment shown in FIG. 1 or the catalyst body unit 200 according to the second embodiment shown in FIG. FIG. 9 shows an example in which the catalyst body unit 100 according to the first embodiment is mounted, but instead of the catalyst body unit 100 according to the first embodiment, the catalyst body unit 200 according to the second embodiment is mounted. Also good. In the catalyst unit 100 according to the first embodiment, the source gas supply pipe 23 and the electrode pair 18 are separate bodies. On the other hand, in the catalyst body unit 200 according to the second embodiment, the source gas supply pipe 23 also serves as the electrode pair 18. First, the catalyst body unit 100 according to the first embodiment will be described.

(第一実施形態に係る触媒体ユニット)
図1は、第一実施形態に係る触媒体ユニットの一例を示す概略図である。第一実施形態に係る触媒体ユニット100は、発熱体CVD装置1のチャンバ6(図9に図示)に着脱自在に固定されるユニット基体110と、ユニット基体110に支持され、チャンバ内に挿入される原料ガス供給管23と、ユニット基体110に支持される電極対18と、電極対18に接続され、原料ガス供給管23の側面に沿って配置される線状の触媒体19と、を備え、触媒体19は、返し部19aを有する。
(Catalyst body unit according to the first embodiment)
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of a catalyst body unit according to the first embodiment. The catalyst body unit 100 according to the first embodiment is detachably fixed to a chamber 6 (shown in FIG. 9) of the heating element CVD apparatus 1, and is supported by the unit base 110, and is inserted into the chamber. A source gas supply pipe 23, an electrode pair 18 supported by the unit base 110, and a linear catalyst body 19 connected to the electrode pair 18 and disposed along the side surface of the source gas supply pipe 23. The catalyst body 19 has a return portion 19a.

ユニット基体110は、チャンバ6の壁(図9では天面壁2)に固定可能な外形を有していればよく、特に限定されない。図1では一例として、ユニット基体110が、嵌合部111と嵌合部111よりも拡径した拡径部112とを有する形態を示した。嵌合部111は、図9に示すように、開口5(図9に図示)に嵌め込まれる部分である。嵌合部111と開口5との嵌合をより強固にするために、嵌合部111の外周にOリングなどのシール部品(不図示)を配置してもよい。拡径部112は、図9に示すように、開口5の周辺の壁面に係合する部分である。変形形態としては、図示しないが、例えば、チャンバ6の壁(図9では天面壁2)にストッパを設けて、当該ストッパでユニット基体110を固定する形態、又はユニット基体110をチャンバ6の壁(図9では天面壁2)にねじ止めする形態であってもよい。開口5は、図9では天面壁2に設けた形態を示したが、本発明はこれに限定されず、底面壁3又は側面壁4に設けてもよい。ユニット基体110は、ガス供給口16に連通する貫通孔113を有する。ユニット基体110のうち電極対18を固定する箇所の材質は、高耐熱の絶縁体であり、例えば、セラミックス、ポリイミド、PTFE又はPEEKである。その他の箇所のユニット基体110の材質は、特に限定されないが、例えば、ステンレス鋼などの金属又はセラミックスである。   The unit base 110 is not particularly limited as long as it has an outer shape that can be fixed to the wall of the chamber 6 (the top wall 2 in FIG. 9). In FIG. 1, as an example, the unit base 110 has a configuration including a fitting portion 111 and a diameter-expanded portion 112 having a diameter larger than that of the fitting portion 111. As shown in FIG. 9, the fitting portion 111 is a portion that is fitted into the opening 5 (shown in FIG. 9). In order to make the fitting between the fitting portion 111 and the opening 5 stronger, a seal component (not shown) such as an O-ring may be disposed on the outer periphery of the fitting portion 111. The enlarged diameter portion 112 is a portion that engages with the wall surface around the opening 5 as shown in FIG. 9. As a modification, although not shown, for example, a stopper is provided on the wall of the chamber 6 (the top surface wall 2 in FIG. 9) and the unit base 110 is fixed by the stopper, or the unit base 110 is attached to the wall of the chamber 6 ( In FIG. 9, the top wall 2) may be screwed. Although the opening 5 is shown in FIG. 9 as being provided on the top wall 2, the present invention is not limited to this and may be provided on the bottom wall 3 or the side wall 4. The unit base 110 has a through hole 113 communicating with the gas supply port 16. The material of the location where the electrode pair 18 is fixed in the unit base 110 is a highly heat-resistant insulator, such as ceramics, polyimide, PTFE, or PEEK. The material of the unit base 110 at other locations is not particularly limited, and is, for example, a metal such as stainless steel or ceramics.

原料ガス供給管23は、例えば貫通孔113に挿入又はねじ止めされることで、ユニット基体110に支持される。また、原料ガス供給管23は、溶接によってユニット基体110に支持されていてもよい。原料ガス供給管23と貫通孔113との嵌合をより強固にするために、原料ガス供給管23の外周のうち貫通孔113に挿入される部分にOリングなどのシール部品(不図示)を配置してもよい。   The source gas supply pipe 23 is supported by the unit base 110 by being inserted or screwed into the through hole 113, for example. The source gas supply pipe 23 may be supported on the unit base 110 by welding. In order to make the fitting between the source gas supply pipe 23 and the through hole 113 stronger, a seal part (not shown) such as an O-ring is provided on the portion of the outer periphery of the source gas supply pipe 23 inserted into the through hole 113. You may arrange.

第一実施形態に係る触媒体ユニット100では、原料ガス供給管23の材質は、導電材料であるか、又は絶縁材料であってもよいが、絶縁材料であることがより好ましい。絶縁材料は、例えば、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素若しくは酸化アルミニウムなどのセラミックを主成分とする材料で形成されたセラミック管、又は、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素若しくは酸化アルミニウムなどのセラミックを主成分とする材料で表面が被覆された金属管であることが好ましい。触媒体19に安定して通電することができ、耐久性があり、かつ、触媒体19で発生した熱を熱伝導によって効率よく排熱させることができる。   In the catalyst unit 100 according to the first embodiment, the material of the source gas supply pipe 23 may be a conductive material or an insulating material, but is more preferably an insulating material. The insulating material is, for example, a ceramic tube formed of a material mainly composed of a ceramic such as aluminum nitride, silicon carbide, silicon nitride, or aluminum oxide, or a ceramic such as aluminum nitride, silicon carbide, silicon nitride, or aluminum oxide. A metal tube whose surface is coated with a material as a main component is preferable. The catalyst body 19 can be energized stably, has durability, and can efficiently exhaust heat generated by the catalyst body 19 by heat conduction.

電極対18は、例えばユニット基体110のチャンバ6(図9に図示)内に挿入される面114に差し込まれることで、ユニット基体110に支持される。電極対18とユニット基体110とは絶縁されている。電極対18をなす各電極18a,18bは、それぞれ、例えば電線28を介して端子27に電気的に接続される。端子27は、ヒーター電源22(図9に図示)に電気的に接続される。各電極18a,18bは、導通を防止するために、互いに間隔をあけて配置されることが好ましい。電極対18は、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素若しくは酸化アルミニウムなどのセラミックを主成分とする材料で表面が被覆されていることが好ましい。   The electrode pair 18 is supported by the unit base 110 by being inserted into a surface 114 to be inserted into the chamber 6 (shown in FIG. 9) of the unit base 110, for example. The electrode pair 18 and the unit base 110 are insulated. Each of the electrodes 18a and 18b constituting the electrode pair 18 is electrically connected to the terminal 27 via, for example, an electric wire 28. The terminal 27 is electrically connected to the heater power source 22 (shown in FIG. 9). The electrodes 18a and 18b are preferably arranged at a distance from each other in order to prevent conduction. The electrode pair 18 is preferably coated on the surface with a material mainly composed of ceramic such as aluminum nitride, silicon carbide, silicon nitride, or aluminum oxide.

電極対18の長さは、被蒸着物がボトル状容器900であるとき、電極対18の先端部が、ボトル状容器900の口部901からボトル状容器900内に挿入される長さであることが好ましい。電極対18の先端部をボトル状容器内に挿入することで、触媒体19の全体をボトル状容器内に配置することができる。その結果、ボトル状容器900の口部901への熱負荷を低減して口部901の変形を防止することができる。また、電極対18をなす各電極18a,18bは、図1では相互に同じ長さとする形態を示したが、本発明はこれに限定されず、相互に異なる長さとしてもよい。ここで、電極対18の長さとは、ユニット基体110から突出する長さをいう。すなわち、面114からの長さである。   The length of the electrode pair 18 is a length by which the tip of the electrode pair 18 is inserted into the bottle-shaped container 900 from the mouth 901 of the bottle-shaped container 900 when the deposition target is the bottle-shaped container 900. It is preferable. By inserting the tip of the electrode pair 18 into the bottle-shaped container, the entire catalyst body 19 can be arranged in the bottle-shaped container. As a result, the heat load on the mouth portion 901 of the bottle-shaped container 900 can be reduced and deformation of the mouth portion 901 can be prevented. Moreover, although each electrode 18a, 18b which comprises the electrode pair 18 showed the form set as the mutually same length in FIG. 1, this invention is not limited to this, You may make it mutually different length. Here, the length of the electrode pair 18 refers to a length protruding from the unit base 110. That is, the length from the surface 114.

触媒体19は、電極対18に接続され、原料ガス供給管23の側面に沿って配置される。触媒体19は、原料ガス供給管23の側面に接触させずに配置されることが好ましい。図9では、触媒体19を原料ガス供給管23の側壁の外周面と平行に配置した形態を示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、触媒体19を原料ガス供給管23の側壁の外周面に螺旋状に配置してもよい。また、触媒体19は、原料ガス供給管23の外周に設けた絶縁セラミックスなどの絶縁材料からなる支持部材(不図示)で支持されてもよい。   The catalyst body 19 is connected to the electrode pair 18 and is disposed along the side surface of the source gas supply pipe 23. The catalyst body 19 is preferably arranged without being in contact with the side surface of the source gas supply pipe 23. FIG. 9 shows a form in which the catalyst body 19 is arranged in parallel with the outer peripheral surface of the side wall of the source gas supply pipe 23, but the present invention is not limited to this, for example, the catalyst body 19 is connected to the source gas supply pipe 23. You may arrange | position helically on the outer peripheral surface of a side wall. The catalyst body 19 may be supported by a support member (not shown) made of an insulating material such as an insulating ceramic provided on the outer periphery of the source gas supply pipe 23.

触媒体19は、返し部19aを有する。触媒体19は電極対18の一方の電極18aから原料ガス供給管23の側面に沿って配置され、所定の箇所でターンして、他方の電極18bへ向かって戻される。触媒体19を所定の箇所でターンさせた部分が返し部19aである。触媒体19が返し部19aを有することで、触媒体19の概形は、例えば、U字状(図1に図示)、V字状(不図示)又はJ字状(不図示)となる。返し部19aは、図9に示すように、例えば原料ガス供給管23の底面側ガス噴出口11xよりも底面壁3側に形成される。返し部19aを形成する箇所は、これに限定されず、原料ガス供給管23の底面側ガス噴出口11xよりも天面壁2側に形成してもよい。   The catalyst body 19 has a return portion 19a. The catalyst body 19 is disposed from one electrode 18a of the electrode pair 18 along the side surface of the source gas supply pipe 23, turns at a predetermined location, and returns toward the other electrode 18b. A portion where the catalyst body 19 is turned at a predetermined position is a return portion 19a. When the catalyst body 19 has the return portion 19a, the general shape of the catalyst body 19 is, for example, a U shape (shown in FIG. 1), a V shape (not shown), or a J shape (not shown). As shown in FIG. 9, the return portion 19 a is formed, for example, closer to the bottom wall 3 than the bottom gas outlet 11 x of the source gas supply pipe 23. The location where the return portion 19a is formed is not limited to this, and the return portion 19a may be formed closer to the top wall 2 than the bottom gas outlet 11x of the source gas supply pipe 23.

被蒸着物7がボトル状容器であるとき、触媒体19及び原料ガス供給管23を含む径L2(図9に図示)は、ボトル状容器の口部901から挿入する時の位置ズレを考慮して適宜設定される。   When the deposition object 7 is a bottle-shaped container, the diameter L2 (shown in FIG. 9) including the catalyst body 19 and the source gas supply pipe 23 takes into account a positional deviation when inserted from the mouth 901 of the bottle-shaped container. Is set as appropriate.

触媒体19の本数は、図1では一例として1本である形態を示したが、本発明はこれに限定されず、2本以上であってもよい。触媒体19が2本以上であるとき、2本以上の触媒体19を、同一の電極対18に接続するか、又は1本の触媒体19あたり一組の電極対18を用いてもよい。1本の触媒体19あたり一組の電極対18を用いることは、具体的には、例えば触媒体19が3本であるとき、電極対18を三組用いることである。被蒸着物7がボトル状容器であるとき、口部901からの挿入しやすさを考慮すると、2本以上の触媒体19を、同一の電極対18に接続することがより好ましい。   Although the number of the catalyst bodies 19 is one as an example in FIG. 1, the present invention is not limited to this and may be two or more. When there are two or more catalyst bodies 19, two or more catalyst bodies 19 may be connected to the same electrode pair 18, or one electrode pair 18 may be used per one catalyst body 19. Specifically, the use of one set of electrode pairs 18 per catalyst body 19 means that, for example, when there are three catalyst bodies 19, three electrode pairs 18 are used. When the deposition object 7 is a bottle-shaped container, it is more preferable to connect two or more catalyst bodies 19 to the same electrode pair 18 in consideration of ease of insertion from the mouth portion 901.

図2は、触媒体の配置の変形形態の第一例を示す概略図である。本実施形態に係る触媒体ユニットでは、電極対18は、細長状の形状を有し、かつ、原料ガス供給管23の長手方向に沿って配置され、複数の触媒体19(191,192,193)の一部又は全部が電極対18に間隔をあけて電気的に並列に接続されることが好ましい。   FIG. 2 is a schematic view showing a first example of a variation of the arrangement of the catalyst bodies. In the catalyst body unit according to the present embodiment, the electrode pair 18 has an elongated shape and is disposed along the longitudinal direction of the source gas supply pipe 23, and a plurality of catalyst bodies 19 (191, 192, 193). ) Are preferably electrically connected in parallel to the electrode pair 18 with a gap therebetween.

細長状の形状を有する電極対18は、例えば、電極棒又はリード線である。図2では、電極対18を概念的に示している。図3は、図2の電気回路図である。電気的に並列に接続されるとは、図3に示すように、電極対18及び触媒体19が並列回路を形成することをいう。触媒体19の本数は図2及び図3では一例として3本である形態を示したが、本発明はこれに限定されない。また、間隔をあけて接続されるとは、図3に示すように、触媒体19の電極対18に対する接続部20が、相互に離れて配置されることをいう。このとき、接続部20は、図2に示すように、同一の電極18a,18b内で間隔をあけて配置されて、原料ガス供給管23の長手方向に沿って複数段配置される。触媒体191の返し部19aが直下の触媒体192の接続部20の電極間の中央部に位置することが好ましい。触媒体191が直下の触媒体192の接続部20に接触して導通することを防止するとともに、容器軸方向においてより均一に成膜することができる。複数の触媒体19(191,192,193)のうち電極対18に間隔をあけずに電気的に並列に接続される触媒体があってもよい。触媒体が電極対18に間隔をあけずに電気的に並列に接続されるとは、触媒体が3本以上であって、2本以上の触媒体が、同一の接続部20に接続することをいう。   The electrode pair 18 having an elongated shape is, for example, an electrode rod or a lead wire. FIG. 2 conceptually shows the electrode pair 18. FIG. 3 is an electric circuit diagram of FIG. Electrically connected in parallel means that the electrode pair 18 and the catalyst body 19 form a parallel circuit, as shown in FIG. Although the number of the catalyst bodies 19 is three as an example in FIGS. 2 and 3, the present invention is not limited to this. Further, being connected with a gap means that the connecting portions 20 of the catalyst body 19 with respect to the electrode pair 18 are arranged apart from each other as shown in FIG. At this time, as shown in FIG. 2, the connecting portions 20 are arranged at intervals in the same electrodes 18 a and 18 b and are arranged in a plurality of stages along the longitudinal direction of the source gas supply pipe 23. It is preferable that the return portion 19a of the catalyst body 191 is located at the center portion between the electrodes of the connection portion 20 of the catalyst body 192 directly below. It is possible to prevent the catalyst body 191 from coming into contact with the connecting portion 20 of the catalyst body 192 directly below, and to form a film more uniformly in the container axial direction. Among the plurality of catalyst bodies 19 (191, 192, 193), there may be a catalyst body that is electrically connected in parallel to the electrode pair 18 without a gap. That the catalyst bodies are electrically connected in parallel to the electrode pair 18 without spacing is that there are three or more catalyst bodies and two or more catalyst bodies are connected to the same connecting portion 20. Say.

本実施形態に係る触媒体ユニットでは、すべての触媒体19(191,192,193)の抵抗値R1,R2,R3が等しいことが好ましい。被蒸着物の被蒸着面(例えば図9ではボトル状容器の内壁面)に対してより均一に成膜するためには、各触媒体191,192,193の抵抗値R1,R2,R3を相互に等しくして、各触媒体191,192,193の発熱温度を均一にすることが好ましい。触媒体19(191,192,193)の製造時又は取り付け時などに生じうる誤差を考慮してもよい。   In the catalyst unit according to this embodiment, it is preferable that the resistance values R1, R2, and R3 of all the catalyst bodies 19 (191, 192, and 193) are equal. In order to form a film more uniformly on the deposition surface of the deposition object (for example, the inner wall surface of the bottle-shaped container in FIG. 9), the resistance values R1, R2, and R3 of the catalyst bodies 191, 192, and 193 are mutually set. It is preferable to make the heat generation temperatures of the catalyst bodies 191, 192, 193 uniform. You may consider the error which may arise at the time of manufacture of the catalyst body 19 (191,192,193), or attachment.

触媒体が1本では、被蒸着物の形状によっては、触媒体の長さを長くせざるを得ない場合がある。例えば被蒸着物が高さが250mm以上の背高ボトルであるとき、図1に示すように触媒体19が1本であると、触媒体19の長さは例えば400mm以上となる。触媒体19の長さが長くなるほど、放電し易くなる。また、触媒体19の長さが長くなるほど、熱膨張及び体積膨張による伸び量が増大するため、触媒体19が変形し易くなる。そこで、図2に示された触媒体の配置の変形形態の第一例では、各触媒体191,192,193の1本あたりの長さを短くすることができるため、放電を抑制することができる。また、触媒体19の変形を防止することができる。   With a single catalyst body, the length of the catalyst body may have to be increased depending on the shape of the deposition object. For example, when the deposition target is a tall bottle having a height of 250 mm or more, and the number of the catalyst bodies 19 is one as shown in FIG. 1, the length of the catalyst body 19 is, for example, 400 mm or more. The longer the catalyst body 19 is, the easier it is to discharge. Further, as the length of the catalyst body 19 increases, the amount of elongation due to thermal expansion and volume expansion increases, so that the catalyst body 19 is easily deformed. Therefore, in the first example of the modification of the arrangement of the catalyst bodies shown in FIG. 2, since the length of each catalyst body 191, 192, 193 can be shortened, the discharge can be suppressed. it can. Further, deformation of the catalyst body 19 can be prevented.

図4は、触媒体の配置の変形形態の第二例を示す概略図である。図4では、電極対18を概念的に示している。本実施形態に係る触媒体ユニットでは、被蒸着物が、口部901と、首部902と、首部902の直径よりも大きな直径を有する胴部904とを備えるボトル状容器900であり、口部901から、原料ガス供給管23及び触媒体19が挿入され、胴部904は、胴部904の横断面に存在する触媒体19(192x及び192y,193x及び193y)の数が、首部902の横断面に存在する触媒体19(191)の数よりも多い領域を有することが好ましい。   FIG. 4 is a schematic view showing a second example of a variation of the arrangement of the catalyst bodies. FIG. 4 conceptually shows the electrode pair 18. In the catalyst body unit according to the present embodiment, the deposition target is a bottle-shaped container 900 including a mouth portion 901, a neck portion 902, and a body portion 904 having a diameter larger than the diameter of the neck portion 902, and the mouth portion 901. Thus, the raw material gas supply pipe 23 and the catalyst body 19 are inserted, and the body portion 904 has a number of catalyst bodies 19 (192x and 192y, 193x and 193y) present in the cross section of the body portion 904, the cross section of the neck portion 902. It is preferable to have a region larger than the number of catalyst bodies 19 (191) present in the.

ボトル状容器900は、首部902と胴部904との間に、胴部904に向かって径を拡径させた肩部903を有していてもよい。   The bottle-shaped container 900 may have a shoulder portion 903 whose diameter is increased toward the trunk portion 904 between the neck portion 902 and the trunk portion 904.

図4では、複数の触媒体19(191,192x,192y,193x,194y)が電極対18に間隔をあけて電気的に並列に接続されている。各触媒体191,192x,192y,193x,193yの抵抗値は、等しいことが好ましい。   In FIG. 4, a plurality of catalyst bodies 19 (191, 192x, 192y, 193x, 194y) are electrically connected in parallel to the electrode pair 18 at intervals. The resistance values of the catalyst bodies 191, 192x, 192y, 193x, 193y are preferably equal.

図4では、首部902には、1本の触媒体191が配置されている。触媒体191は返し部19aを有するため、容器の横断面に存在する触媒体の数は、触媒体1本あたり2個となる。そうすると、首部902の横断面(例えばA−A断面)に存在する触媒体191の数は、図5(a)に示すように、2個である。   In FIG. 4, one catalyst body 191 is disposed on the neck 902. Since the catalyst body 191 has the return portion 19a, the number of catalyst bodies existing in the cross section of the container is two per catalyst body. Then, as shown in FIG. 5A, the number of catalyst bodies 191 present in the cross section (for example, the AA cross section) of the neck portion 902 is two.

肩部と903と胴部904との境界部に2本の触媒体192x,192yが配置されている。そうすると、2本の触媒体192x,192yが配置されている領域では、胴部904の横断面(例えばB−B断面)に存在する触媒体192x,192yの数は、図5(b)に示すように、4個である。また、図4では、更に2本の触媒体192x,192yが配置された部分よりも容器の底面側の胴部904に、2本の触媒体193x,193yが配置されている。そうすると、2本の触媒体193x,193yが配置されている領域では、胴部904の横断面(例えばC−C断面)に存在する触媒体193x,193yの数は、図5(c)に示すように、4個である。このように、図4では、胴部904は、胴部904の横断面に存在する触媒体19(192x及び192y、又は、193x及び193y)の数が首部902の横断面に存在する触媒体の数よりも多い領域を容器軸方向に2箇所有している。本発明は、当該領域が少なくとも一つあればよく当該領域の数に限定されない。なお、図4では、便宜上、2本の触媒体192x,192yの電極対18に対する接続部20(202x,202y)を上下にずらして図示しているが、接続部20(202x,202y)は相互に同じ高さに配置することが好ましい。2本の触媒体193x,193yの電極対18に対する接続部20(203x,203y)についても同様である。   Two catalyst bodies 192x and 192y are arranged at the boundary between the shoulder portion 903 and the body portion 904. Then, in the region where the two catalyst bodies 192x and 192y are arranged, the number of the catalyst bodies 192x and 192y existing in the cross section (for example, the BB section) of the body portion 904 is shown in FIG. As such, there are four. Further, in FIG. 4, two catalyst bodies 193x and 193y are arranged in the body portion 904 on the bottom side of the container with respect to the portion where the two catalyst bodies 192x and 192y are further arranged. Then, in the region where the two catalyst bodies 193x and 193y are arranged, the number of the catalyst bodies 193x and 193y existing in the transverse section (for example, the CC section) of the trunk portion 904 is shown in FIG. As such, there are four. Thus, in FIG. 4, the body portion 904 is the number of catalyst bodies 19 (192x and 192y or 193x and 193y) present in the cross section of the body portion 904 in the cross section of the neck portion 902. There are two more regions in the container axial direction than the number. The present invention is not limited to the number of the areas as long as the area is at least one. In FIG. 4, for the sake of convenience, the connecting portions 20 (202x, 202y) of the two catalyst bodies 192x, 192y with respect to the electrode pair 18 are shown as being shifted up and down, but the connecting portions 20 (202x, 202y) are mutually connected. Are preferably arranged at the same height. The same applies to the connecting portions 20 (203x, 203y) of the two catalyst bodies 193x, 193y to the electrode pair 18.

図4に示された触媒体の配置の変形形態の第二例では、例えば次のような効果が得られる。変形形態の第二例では、首部902のように径が細い部分では、触媒体19を相対的に少なく配置して、発熱量を相対的に小さくする。一方、胴部904のように径が太い部分では、触媒体19を相対的に多く配置して、発熱量を相対的に大きくする。このように、発熱量の分布を容器の形状に合わせることができる。その結果、首部902では熱変形を抑制するとともに、1回の成膜処理によって首部902と胴部904とで成膜をより均一に行うことができる。   In the second example of the modification of the arrangement of the catalyst bodies shown in FIG. 4, for example, the following effects can be obtained. In the second example of the modified embodiment, in a portion having a small diameter such as the neck portion 902, the catalyst body 19 is disposed relatively small, and the heat generation amount is relatively small. On the other hand, in a portion having a large diameter such as the body portion 904, a relatively large amount of the catalyst body 19 is arranged to relatively increase the amount of heat generated. In this way, the calorific value distribution can be matched to the shape of the container. As a result, thermal deformation can be suppressed at the neck 902, and film formation can be performed more uniformly at the neck 902 and the body 904 by a single film formation process.

図4では、複数の触媒体19(191,192x,192y,193x,194y)が一組の電極対18に間隔をあけて電気的に並列に接続された形態を示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、首部902に配置される短い電極対(不図示)と胴部904に至る長さを有する長い電極対(不図示)とを用いて、短い電極対及び長い電極対に、それぞれ触媒体を接続する形態としてもよい。この形態では、胴部904に至る長い電極対に接続する触媒体の数を、首部902に配置される短い電極対に接続する触媒体の数よりも多くする。このとき、短い電極対及びそれに接続された触媒体と、長い電極対及びそれに接続された触媒体とが、一つの並列回路を形成することが好ましい。または、短い電極対と長い電極対とが別個のヒーター電源に接続され、短い電極対に接続された触媒体の発熱量と長い電極対に接続された触媒体の発熱量とが同程度となるように、各ヒーター電源で別個の電圧制御をする形態としてもよい。   FIG. 4 shows a form in which a plurality of catalyst bodies 19 (191, 192x, 192y, 193x, 194y) are electrically connected in parallel to a pair of electrode pairs 18 with an interval between them. It is not limited to. For example, using a short electrode pair (not shown) disposed on the neck 902 and a long electrode pair (not shown) having a length reaching the body 904, the catalyst body is respectively applied to the short electrode pair and the long electrode pair. It is good also as a form to connect. In this embodiment, the number of catalyst bodies connected to the long electrode pair reaching the body portion 904 is made larger than the number of catalyst bodies connected to the short electrode pair disposed on the neck portion 902. At this time, it is preferable that the short electrode pair and the catalyst body connected thereto and the long electrode pair and the catalyst body connected thereto form one parallel circuit. Alternatively, the short electrode pair and the long electrode pair are connected to separate heater power supplies, and the calorific value of the catalyst body connected to the short electrode pair is comparable to the calorific value of the catalyst body connected to the long electrode pair. Thus, it is good also as a form which carries out separate voltage control with each heater power supply.

図6は、錘体の第一例を示す概略図である。本実施形態に係る触媒体ユニットでは、ユニット基体がチャンバの天面壁2(図9に図示)に着脱自在に固定され、錘体31が返し部19aに配置されて、触媒体19が張架されていることが好ましい。触媒体19は錘体31によって常に張力が付加される。その結果、触媒体19が熱でたわみ、原料ガス供給管23の長手方向とは異なる方向の変形することを防止することができる。特に、触媒体19の体積膨張、熱膨張又は熱収縮によって触媒体19が原料ガス供給管23の長手方向と異なる方向へ変形することを防止することができる。また、触媒体19を繰り返し使用しても、触媒体19の形状を維持することができる。   FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a first example of a weight body. In the catalyst body unit according to the present embodiment, the unit base is detachably fixed to the top wall 2 (illustrated in FIG. 9) of the chamber, the weight body 31 is disposed on the return portion 19a, and the catalyst body 19 is stretched. It is preferable. Tension is always applied to the catalyst body 19 by the weight body 31. As a result, it is possible to prevent the catalyst body 19 from being bent by heat and deforming in a direction different from the longitudinal direction of the source gas supply pipe 23. In particular, it is possible to prevent the catalyst body 19 from being deformed in a direction different from the longitudinal direction of the source gas supply pipe 23 due to volume expansion, thermal expansion, or heat shrinkage of the catalyst body 19. Even if the catalyst body 19 is used repeatedly, the shape of the catalyst body 19 can be maintained.

錘体31の形状は、特に限定されず、図6に示すコイル状の他、例えば、球状、立方体状、又は棒状であってもよい。棒状は、細長状の形状であり、筒状、柱状又は錘状を包含する。また、錐体31には、返し部19aに引っ掛かるフックのような取付け部が設けられていてもよい。なお、錐体31に複数の取付け部を設ける場合には、取付け部間の距離を狭くする(例えば、10mm以内)。錘体31の材質は、特に限定されないが、C,W,Ta,Ti,Hf,V,Cr,Mo,Mn,Tc,Re,Fe,Ru,Os,Co,Rh,Ir,Ni,Pd及びPtの群の中から選ばれる一つ又は二つ以上を含むことが好ましい。錘体31に電流が流れることによる触媒体19の見かけ上の抵抗値を変化させたくない場合は、錘体31の表面にセラミックコーティングなどの絶縁処理を施してもよい。また、錘体31の材質は、石英ガラスなどのガラス、又はアルミナ、ジルコニア若しくはムライトなどのセラミックスであってもよい。また、金属とガラス又はセラミックスとの組合せであってもよい。金属とガラスとの組合せは、例えば、琺瑯である。金属とセラミックスとの組合せは、例えば、セラミックス粒子分散強化型金属である。これらのうち、比重が大きい点で、錘体31の材質は、W(タングステン)又はWC(炭化タングステン)であることがより好ましい。   The shape of the weight body 31 is not particularly limited, and may be a spherical shape, a cubic shape, or a rod shape in addition to the coil shape shown in FIG. The rod shape is an elongated shape, and includes a cylindrical shape, a columnar shape, or a weight shape. Further, the cone 31 may be provided with an attachment portion such as a hook that is hooked on the return portion 19a. In addition, when providing a some attachment part in the cone 31, the distance between attachment parts is narrowed (for example, within 10 mm). The material of the weight 31 is not particularly limited, but C, W, Ta, Ti, Hf, V, Cr, Mo, Mn, Tc, Re, Fe, Ru, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd and It is preferable to include one or two or more selected from the group of Pt. When it is not desired to change the apparent resistance value of the catalyst body 19 due to the current flowing through the weight body 31, the surface of the weight body 31 may be subjected to an insulation treatment such as ceramic coating. The material of the weight 31 may be glass such as quartz glass, or ceramics such as alumina, zirconia, or mullite. Moreover, the combination of a metal and glass or ceramics may be sufficient. The combination of metal and glass is, for example, a kite. The combination of metal and ceramic is, for example, a ceramic particle dispersion strengthened metal. Of these, the material of the weight body 31 is more preferably W (tungsten) or WC (tungsten carbide) in that the specific gravity is large.

錘体31は、返し部19aに係止されているか、又は返し部19aに固定されていてもよい。より好ましくは、錘体31が返し部19aに係止されている。錘体31が返し部19aに係止されている形態は、例えば、図6に示すようにコイル状の錘体31が返し部19に引っ掛けられる形態である。この形態では、錘体31と触媒体19との接点を複数個とすることができ、触媒体19にかかる応力を分散することができる。また、錘体31が返し部19aに係止されている形態の別の例として、図示しないが、球状、立方体状、又は棒状の錘体に貫通孔を設け、当該貫通孔に触媒体19を通す形態であってもよい。錘体31が返し部19aに固定されている形態は、例えば、錘体が返し部19aに溶接される形態(不図示)又は錘体が返し部19aに接着される形態(不図示)である。   The weight body 31 may be locked to the return portion 19a or may be fixed to the return portion 19a. More preferably, the weight body 31 is locked to the return portion 19a. The form in which the weight body 31 is locked to the return portion 19a is, for example, a form in which the coiled weight body 31 is hooked on the return portion 19 as shown in FIG. In this embodiment, a plurality of contacts between the weight body 31 and the catalyst body 19 can be provided, and the stress applied to the catalyst body 19 can be dispersed. Further, as another example of the form in which the weight 31 is locked to the return portion 19a, although not shown, a spherical, cubic, or rod-shaped weight is provided with a through hole, and the catalyst body 19 is placed in the through hole. It may be a form that passes through. The form in which the weight body 31 is fixed to the return part 19a is, for example, a form in which the weight body is welded to the return part 19a (not shown) or a form in which the weight body is bonded to the return part 19a (not shown). .

図7は、錘体の第二例を示す概略図である。本実施形態に係る触媒体ユニットでは、原料ガス供給管23の外周にガイド40が設けられ、ガイド40は、錘体32を揺動自在に支持し、かつ、触媒体19を支持しないことが好ましい。ガイド40を設けることで、装置本体の振動などによる触媒体19の動きを抑制することができる。   FIG. 7 is a schematic view showing a second example of the weight body. In the catalyst body unit according to the present embodiment, a guide 40 is provided on the outer periphery of the source gas supply pipe 23, and the guide 40 preferably supports the weight body 32 so as to be swingable and does not support the catalyst body 19. . By providing the guide 40, the movement of the catalyst body 19 due to the vibration of the apparatus main body can be suppressed.

ガイド40は、例えば、図7に示すような、原料ガス供給管23の外周に固定するための管固定部41と錘体32を揺動自在に支持するための支持部42とを有する板状部材である。管固定部41は、例えば、板状部材に設けた貫通孔(図7に図示)又は切欠き(不図示)である。支持部42は、例えば、板状部材に設けた貫通孔(図7に図示)又は切欠き(不図示)である。ここで、ガイド40が錘体32を揺動自在に支持するとは、ガイド40が、錘体32を垂直方向に移動可能としながら、その水平方向の移動範囲を規制した状態で支持している状態をいう。図7では、ガイド40が錘体32を揺動自在に支持する形態の一例として、錘体32として例えば棒状部材を用い、錘体32の一方の端部に貫通孔32aを設けて、貫通孔32aに触媒体19を通し、錘体32の他方の端部をガイド40の支持部42に通した形態を示した。図7では、ガイド40は、支持部42の孔径を錘体32の直径よりも大きくして錘体32を支持部42内で垂直方向に移動可能としながら、錘体32が支持部42からは外れない構造を有しており、錘体32の水平方向の移動範囲を規制している。ガイド40が錘体32を揺動可能に支持することで、触媒体19に常に張力を付加することができる。原料ガス供給管23の噴出口11の近傍に返し部19a及び錘体32が配置される場合、返し部19a及び錘体32には原料ガスの噴出しによって重力方向以外(例えば、水平方向)の力が作用する。このような環境下で、ガイド40が錘体32の水平方向の移動範囲を制限しているため、錘体32が触媒体19に対して重力方向へ荷重をより確実に付加することができる。   The guide 40 has, for example, a plate shape having a pipe fixing part 41 for fixing to the outer periphery of the source gas supply pipe 23 and a support part 42 for swingably supporting the weight body 32 as shown in FIG. It is a member. The tube fixing portion 41 is, for example, a through hole (shown in FIG. 7) or a notch (not shown) provided in the plate-like member. The support part 42 is, for example, a through hole (shown in FIG. 7) or a notch (not shown) provided in the plate-like member. Here, the guide 40 supports the weight body 32 so as to be swingable. The guide 40 supports the weight body 32 in a state where the horizontal movement range is restricted while the weight body 32 is movable in the vertical direction. Say. In FIG. 7, as an example of a form in which the guide 40 supports the weight body 32 in a swingable manner, for example, a rod-shaped member is used as the weight body 32, and a through hole 32 a is provided at one end of the weight body 32. A configuration is shown in which the catalyst body 19 is passed through 32 a and the other end of the weight body 32 is passed through the support portion 42 of the guide 40. In FIG. 7, the guide 40 has a diameter of the support portion 42 larger than the diameter of the weight body 32 so that the weight body 32 can move in the vertical direction within the support portion 42. It has a structure that does not come off, and restricts the horizontal movement range of the weight body 32. Since the guide 40 supports the weight body 32 so as to be able to swing, a tension can always be applied to the catalyst body 19. When the return portion 19a and the weight body 32 are disposed in the vicinity of the spout 11 of the source gas supply pipe 23, the return portion 19a and the weight body 32 are exposed in the direction other than the gravitational direction (for example, the horizontal direction) by the ejection of the source gas. Force acts. Under such circumstances, the guide 40 restricts the horizontal movement range of the weight body 32, so that the weight body 32 can more reliably apply a load to the catalyst body 19 in the gravitational direction.

ガイド40は触媒体19を支持しないことが好ましい。触媒体19をガイド40で支持するとき、通常ガイド40にガイド孔(不図示)を設けて、該ガイド孔に触媒体19を通すことで支持される。このとき、成膜作業を繰り返すうちにガイド40のガイド孔の内側も成膜されて、ガイド孔が塞がっていく。そうすると、触媒体19が熱膨張時にガイド孔内に引っかかって、断線するおそれがある。そこで、ガイド40が触媒体19を支持しないことで、触媒体19の寿命をより延ばすことができる。また、触媒体19は、ガイド40で支持されなくても、錘体32によって張架されているため、原料ガス供給管23の側面に沿って配置した状態を保持することができる。   It is preferable that the guide 40 does not support the catalyst body 19. When the catalyst body 19 is supported by the guide 40, the guide body (not shown) is normally provided in the guide 40, and the catalyst body 19 is passed through the guide hole. At this time, as the film forming operation is repeated, the inner side of the guide hole of the guide 40 is also formed, and the guide hole is closed. If it does so, there exists a possibility that the catalyst body 19 may be caught in a guide hole at the time of thermal expansion, and it may be disconnected. Therefore, the life of the catalyst body 19 can be further extended by the guide 40 not supporting the catalyst body 19. Even if the catalyst body 19 is not supported by the guide 40, the catalyst body 19 is stretched by the weight body 32, so that the state of being arranged along the side surface of the source gas supply pipe 23 can be maintained.

ガイド40の材質は、特に限定されないが、例えば、ガラス又はセラミックスなどの絶縁材料であることが好ましい。   Although the material of the guide 40 is not specifically limited, For example, it is preferable that it is insulating materials, such as glass or ceramics.

図7の変形例として、図示しないが、ガイド40としてワイヤーなどの線状部材を用い、線状部材の一部を原料ガス供給管23の外周に巻きつけて固定し、線状部材の残りの部分で輪を作り、該輪に錘体32を通して揺動自在に支持してもよい。   As a modification of FIG. 7, although not illustrated, a linear member such as a wire is used as the guide 40, and a part of the linear member is wound around the outer periphery of the source gas supply pipe 23 and fixed. A ring may be formed at the part and supported by the ring through the weight body 32 so as to be swingable.

図10は、触媒体の変形例を示す概略図である。本実施形態に係る触媒体ユニットでは、触媒体19は、返し部19aに、他の部分よりも触媒体19を密に配置した密部分50を有し、密部分50が錘となって触媒体19が張架されていることが好ましい。密部分50は、例えば、図10に示すように触媒線19をコイルばね形状に加工した部分、触媒線19を波線形状に加工した部分(不図示)又はジグザグ線形状に加工した部分(不図示)であってもよい。密部分50では、触媒体19同士が接触しないように配置する。返し部19aに、錘体32に代えて密部分50を設けることで、触媒体19が自重で鉛直方向に張架される。その結果、錘体32を設けた場合と同様の効果が得られる。さらに、密部分50を設けることで、底面側ガス噴出口11xから噴出されるガスに対する触媒線19の接触面積が大きくなり、形成される薄膜の膜質(例えばガスバリア性)をより向上させることができる。   FIG. 10 is a schematic view showing a modification of the catalyst body. In the catalyst body unit according to the present embodiment, the catalyst body 19 has a dense portion 50 in which the catalyst body 19 is arranged more densely than the other portions in the return portion 19a, and the dense portion 50 serves as a weight to form the catalyst body. It is preferable that 19 is stretched. The dense portion 50 is, for example, a portion obtained by processing the catalyst wire 19 into a coil spring shape as shown in FIG. 10, a portion obtained by processing the catalyst wire 19 into a wavy line shape (not shown), or a portion processed into a zigzag line shape (not shown). ). In the dense part 50, it arrange | positions so that the catalyst bodies 19 may not contact. By providing the dense portion 50 in the return portion 19a instead of the weight body 32, the catalyst body 19 is stretched in the vertical direction by its own weight. As a result, the same effect as when the weight body 32 is provided can be obtained. Furthermore, by providing the dense portion 50, the contact area of the catalyst wire 19 with respect to the gas ejected from the bottom side gas ejection port 11x is increased, and the film quality (for example, gas barrier property) of the formed thin film can be further improved. .

密部分50が、触媒体19をコイルばね形状に加工した部分であるとき、コイルの巻き回数は、0.2回/mm以上2回/mm以下であることが好ましく、0.3回/mm以上1回/mm以下であることがより好ましい。また、コイルの巻き直径は、1mm以上5mm以下であることが好ましく、3mm以上5mm以下であることがより好ましい。   When the dense portion 50 is a portion obtained by processing the catalyst body 19 into a coil spring shape, the number of turns of the coil is preferably 0.2 times / mm or more and 2 times / mm or less, and 0.3 times / mm. More preferably, it is 1 time / mm or less. The coil winding diameter is preferably 1 mm or more and 5 mm or less, and more preferably 3 mm or more and 5 mm or less.

本実施形態に係る触媒体ユニットでは、密部分50の質量が、触媒体19の全体の質量に対して10%以上40%以下であることが好ましい。より好ましくは、20%以上30%以下である。   In the catalyst body unit according to this embodiment, the mass of the dense portion 50 is preferably 10% or more and 40% or less with respect to the total mass of the catalyst body 19. More preferably, it is 20% or more and 30% or less.

図6及び図7では、返し部19aが原料ガス供給管23の下端よりも下方側に配置され、錘体31,32を原料ガス供給管23の下端よりも下方側に配置した形態を示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、図2又は図4に示す触媒体191,192,192x,192yの返し部19aように、原料ガス供給管23の側面に配置されている返し部に錘体31,32を配置してもよい。   6 and 7, the return portion 19 a is disposed below the lower end of the source gas supply pipe 23, and the weights 31 and 32 are disposed below the lower end of the source gas supply pipe 23. However, the present invention is not limited to this. For example, the weights 31 and 32 may be arranged on the return portion arranged on the side surface of the source gas supply pipe 23 like the return portion 19a of the catalyst bodies 191, 192, 192x, and 192y shown in FIG. Good.

(第二実施形態に係る触媒体ユニット)
図8は、第二実施形態に係る触媒体ユニットの一例を示す概略図である。第二実施形態に係る触媒体ユニット200では、原料ガス供給管202(202a,202b)が導電性を有し、かつ、電極対を兼ねていることが好ましい。第二実施形態に係る触媒体ユニット200は、原料ガス供給管202(202a,202b)が電極対を兼ねている以外は、基本的な構造を第一実施形態に係る触媒体ユニット100と同じくする。ここでは相違する構造を中心に説明し、共通する構造については説明を省略する場合がある。
(Catalyst body unit according to the second embodiment)
FIG. 8 is a schematic view showing an example of a catalyst body unit according to the second embodiment. In the catalyst unit 200 according to the second embodiment, it is preferable that the source gas supply pipe 202 (202a, 202b) has conductivity and also serves as an electrode pair. The catalyst body unit 200 according to the second embodiment has the same basic structure as the catalyst body unit 100 according to the first embodiment, except that the source gas supply pipe 202 (202a, 202b) also serves as an electrode pair. . Here, different structures will be mainly described, and description of common structures may be omitted.

原料ガス供給管202(202a,202b)は、原料ガス流路203と、原料ガス流路203に通じる原料ガス噴出口204とを有し、2本一組で薄膜形成空間12(図9に図示)内に配置される。2本の原料ガス供給管202a,202bは、それぞれ、例えば電線206を介して端子205に電気的に接続される。端子205は、ヒーター電源22(図9に図示)に電気的に接続される。2本の原料ガス供給管202a,202bは、導通防止のために相互に間隔をあけて配置されることが好ましい。図8では原料ガス供給管202(202a,202b)を一組設けた形態を示したが、二組以上設けてもよい。   The source gas supply pipe 202 (202a, 202b) has a source gas flow path 203 and a source gas outlet 204 that communicates with the source gas flow path 203, and a set of two thin film formation spaces 12 (shown in FIG. 9). ). The two source gas supply pipes 202a and 202b are each electrically connected to the terminal 205 via, for example, an electric wire 206. The terminal 205 is electrically connected to the heater power source 22 (shown in FIG. 9). The two source gas supply pipes 202a and 202b are preferably arranged with a space therebetween to prevent conduction. Although FIG. 8 shows a mode in which one set of source gas supply pipes 202 (202a, 202b) is provided, two or more sets may be provided.

第二実施形態に係る触媒体ユニット200では、原料ガス供給管202の材質は、導電性材料であればよく、例えば、ステンレス鋼などの金属、又はグラファイトである。導電性とは、電極対としての役割をなすことができる程度の電気伝導性を有することをいう。原料ガス供給管202の材質は、放電限界電圧以下となるように選定される。また、原料ガス供給管202は、触媒体19との接続部20以外の表面にセラミックコーティングなどの絶縁処理を施してもよい。   In the catalyst unit 200 according to the second embodiment, the material of the source gas supply pipe 202 may be a conductive material, such as a metal such as stainless steel or graphite. The term “conductivity” refers to having an electrical conductivity that can serve as an electrode pair. The material of the source gas supply pipe 202 is selected so as to be equal to or lower than the discharge limit voltage. In addition, the source gas supply pipe 202 may be subjected to an insulation treatment such as ceramic coating on the surface other than the connection portion 20 with the catalyst body 19.

触媒体19は、例えば、原料ガス供給管202(202a,202b)の外周に接続される。より好ましくは、触媒体19は、2本の原料ガス供給管の間に挟んで配置される。このように、第二実施形態に係る触媒体ユニット200では、触媒体19を2本の原料ガス供給管202(202a,202b)間に挟んで配置することができるなど配置の自由度が高まる。特に、2本の原料ガス供給管202(202a,202b)間の中心部に触媒体19を配置して、触媒体19と被蒸着物の被蒸着面との距離を等距離にすることができる。触媒体19を2本の原料ガス供給管間に挟んで配置することで、被蒸着物が胴径の細い部分を有する場合であっても被蒸着物の熱変形を防止することができる。また、ボトル状容器900の口部における触媒体19及び原料ガス供給管202の専有断面積をより小さくすることができるため、ボトル状容器900内の空気の排気効率(真空引きの効率)を向上させることができる。その結果、薄膜の密着性及び膜質を向上することができる。   The catalyst body 19 is connected to the outer periphery of the source gas supply pipe 202 (202a, 202b), for example. More preferably, the catalyst body 19 is disposed between two source gas supply pipes. As described above, in the catalyst body unit 200 according to the second embodiment, the degree of freedom in arrangement increases, for example, the catalyst body 19 can be disposed between the two source gas supply pipes 202 (202a, 202b). In particular, the catalyst body 19 can be arranged in the center between the two source gas supply pipes 202 (202a, 202b), so that the distance between the catalyst body 19 and the deposition surface of the deposition object can be equal. . By disposing the catalyst body 19 between the two source gas supply pipes, it is possible to prevent thermal deformation of the deposition object even when the deposition object has a portion with a narrow body diameter. Moreover, since the exclusive cross-sectional area of the catalyst body 19 and the source gas supply pipe 202 at the mouth of the bottle-shaped container 900 can be further reduced, the exhaust efficiency (evacuation efficiency) of the air in the bottle-shaped container 900 is improved. Can be made. As a result, the adhesion and film quality of the thin film can be improved.

図8では、触媒体19を原料ガス供給管202の長手方向に沿って間隔をあけて複数本配置した形態を示した。この形態の電気回路図は、図3に示す回路図と同じである。触媒体19の配置は、図8に示す形態に限定されず、例えば、触媒体19を1本だけ配置する形態、又は図4に示すように首部と胴部とで配置する触媒体19の数を変更する形態としてもよい。また、図6又は図7に示すように、錘体31,32を設けてもよい。   FIG. 8 shows a form in which a plurality of catalyst bodies 19 are arranged at intervals along the longitudinal direction of the source gas supply pipe 202. The electric circuit diagram of this embodiment is the same as the circuit diagram shown in FIG. The arrangement of the catalyst body 19 is not limited to the form shown in FIG. 8. For example, the form in which only one catalyst body 19 is arranged, or the number of catalyst bodies 19 arranged in the neck portion and the trunk portion as shown in FIG. 4. It is good also as a form which changes. Further, as shown in FIG. 6 or FIG. 7, weight bodies 31 and 32 may be provided.

以上のとおり、第一実施形態に係る触媒体ユニット100及び第二実施形態に係る触媒体ユニット200は、いずれも、原料ガス供給管23,202及び触媒体19がユニット化されているため、原料ガス供給管23,202及び触媒体19の交換作業が容易である。   As described above, since the catalyst body unit 100 according to the first embodiment and the catalyst body unit 200 according to the second embodiment are both the source gas supply pipes 23 and 202 and the catalyst body 19 are unitized, The replacement work of the gas supply pipes 23 and 202 and the catalyst body 19 is easy.

図11は、原料ガス供給管の変形例を示す概略図である。第一実施形態及び第二実施形態に係る触媒体ユニット100,200では、原料ガス供給管23,202の外周の一部又は全体が、着脱可能な管状の絶縁部材60で被覆されていることが好ましい。原料ガス供給管23,202の外周には薄膜ダストが付着するおそれがあるところ、絶縁部材60を交換するだけで、薄膜ダストを除去することができる。また、原料ガス供給管23,202を金属製とした場合、絶縁部材60によって絶縁性を確保することができる。   FIG. 11 is a schematic view showing a modification of the source gas supply pipe. In the catalyst body units 100 and 200 according to the first embodiment and the second embodiment, a part or the whole of the outer periphery of the source gas supply pipes 23 and 202 is covered with a detachable tubular insulating member 60. preferable. Where there is a risk of thin film dust adhering to the outer periphery of the source gas supply pipes 23 and 202, the thin film dust can be removed simply by replacing the insulating member 60. Further, when the source gas supply pipes 23 and 202 are made of metal, the insulating member 60 can ensure insulation.

絶縁部材60は、例えば碍子であり、その材質は、特に限定されないが、例えば、磁器、ガラス又は合成樹脂である。   The insulating member 60 is, for example, an insulator, and the material thereof is not particularly limited, but is, for example, porcelain, glass, or synthetic resin.

絶縁部材60の原料ガス供給管23,202への取り付け方法は、特に限定されないが、例えば、図12に示すように、原料ガス供給管23,202の外周に溝を設け、該溝にスナップリング23aを嵌め込み、絶縁部材をスナップリング23aに係合させる方法、又は図13に示すように、原料ガス供給管23,202の下端をかしめてフランジ23bを形成し、フランジ23bに絶縁部材を係止させる方法であってもよい。   A method of attaching the insulating member 60 to the source gas supply pipes 23 and 202 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 12, a groove is provided on the outer periphery of the source gas supply pipes 23 and 202, and a snap ring is provided in the groove. 23a is inserted and the insulating member is engaged with the snap ring 23a, or as shown in FIG. 13, the lower ends of the source gas supply pipes 23 and 202 are crimped to form the flange 23b, and the insulating member is locked to the flange 23b. It is also possible to use a method.

絶縁部材60は、図11に示すように複数の管に分割されているか、又は1本管であってもよい(不図示)。特に図9に示すように、原料ガス供給管23が側面側ガス噴出口11yを有する場合、絶縁部材60は、複数の管に分割されていることがより好ましい。原料ガス供給管23の外周のうち各側面側ガス噴出口11yの上方に溝(不図示)を設け、各溝にスナップリング(不図示)を嵌め込み、各スナップリングに絶縁部材60をそれぞれ係止させることで、側面側ガス噴出口11yを避けて絶縁部材60を配置することができる。   The insulating member 60 may be divided into a plurality of tubes as shown in FIG. 11, or may be a single tube (not shown). In particular, as shown in FIG. 9, when the source gas supply pipe 23 has the side gas outlet 11y, the insulating member 60 is more preferably divided into a plurality of pipes. Grooves (not shown) are provided in the outer periphery of the source gas supply pipe 23 above the side gas outlets 11y, snap rings (not shown) are fitted into the grooves, and the insulating members 60 are respectively locked to the snap rings. By doing so, the insulating member 60 can be disposed avoiding the side gas outlet 11y.

次に、発熱体CVD装置1を用いた薄膜の形成方法を、被蒸着物7としてボトル状容器の内表面に薄膜を形成する方法を例にとって説明する。   Next, a method for forming a thin film using the heating element CVD apparatus 1 will be described by taking as an example a method for forming a thin film on the inner surface of the bottle-shaped container as the deposition object 7.

まず、チャンバ6の例えば天面壁2に設けた開口5に、第一実施形態に係る触媒体ユニット100又は第二実施形態に係る触媒体ユニット(不図示)を固定する。次いで、チャンバ6の上部チャンバ15を上昇させて、下部チャンバ13内にボトル状容器を収容する。その後、上部チャンバ15を降下させ、原料ガス供給管23及び触媒体19をボトル状容器の口部901からボトル状容器内に挿入し、チャンバ6を密閉する。次いで、ベント(不図示)を閉じ、排気ポンプ(不図示)を作動させ、真空バルブ8を開とすることで薄膜形成空間12内の空気を排気する。次いで、触媒体19を通電することで発熱させる。この後、原料ガスを、ガス流量調整器25a,25bで流量制御した状態で、原料ガス供給管23の原料ガス噴出口11から薄膜形成空間12内に噴出する。原料ガスが触媒体19に接触すると化学種34が生成する。この化学種34がボトル状容器の内壁に到達することで、薄膜が堆積する。薄膜が所定の厚さに達したところで、原料ガスの供給を止め、薄膜形成空間12内を排気し、図示していないリークガスを導入して薄膜形成空間12を大気圧にする。この後、上部チャンバ15を上昇させて、ボトル状容器を取り出す。   First, the catalyst body unit 100 according to the first embodiment or the catalyst body unit (not shown) according to the second embodiment is fixed to the opening 5 provided in, for example, the top wall 2 of the chamber 6. Next, the upper chamber 15 of the chamber 6 is raised and the bottle-shaped container is accommodated in the lower chamber 13. Thereafter, the upper chamber 15 is lowered, the source gas supply pipe 23 and the catalyst body 19 are inserted into the bottle-shaped container from the mouth 901 of the bottle-shaped container, and the chamber 6 is sealed. Next, the vent (not shown) is closed, the exhaust pump (not shown) is operated, and the vacuum valve 8 is opened to exhaust the air in the thin film formation space 12. Next, the catalyst body 19 is heated by energization. Thereafter, the raw material gas is jetted into the thin film formation space 12 from the raw material gas outlet 11 of the raw material gas supply pipe 23 in a state where the flow rate is controlled by the gas flow rate regulators 25a and 25b. When the source gas comes into contact with the catalyst body 19, chemical species 34 are generated. When the chemical species 34 reaches the inner wall of the bottle-shaped container, a thin film is deposited. When the thin film reaches a predetermined thickness, the supply of the source gas is stopped, the thin film formation space 12 is exhausted, and a leak gas (not shown) is introduced to bring the thin film formation space 12 to atmospheric pressure. Thereafter, the upper chamber 15 is raised and the bottle-shaped container is taken out.

1 発熱体CVD装置
2 天面壁
3 底面壁
4 側面壁
5 開口
6 チャンバ
7 被蒸着物
8 真空バルブ
11 原料ガス噴出口
11x 底面側ガス噴出口
11y 側面側ガス噴出口
12 薄膜形成空間
13 下部チャンバ
14 Oリング
15 上部チャンバ
16 ガス供給口
17 原料ガス流路
18 電極対
18a,18b 電極
19,191,192,192x,192y,193,193x,193y 触媒体
19a 返し部
20,202x,202y,203x,203y 接続部
21 排気管
22 ヒーター電源
23 原料ガス供給管
24a,24b ボンベ
25a,25b ガス流量調整器
26a〜26c バルブ
27 端子
28 電線
31,32 錘体
32a 貫通孔
34 化学種
40 ガイド
41 管固定部
42 支持部
50 密部分
60 絶縁部材
100 触媒体ユニット
110 ユニット基体
111 嵌合部
112 拡径部
113 貫通孔
113a 孔口
114 面
200 触媒体ユニット
202(202a,202b) 原料ガス供給管
203 原料ガス流路
204 原料ガス噴出口
205 端子
206 電線
900 ボトル状容器
901 口部
902 首部
903 肩部
904 胴部
L1 原料ガス供給管の先端からボトル状容器の底までの距離
L2 触媒体及び原料ガス供給管を含む径
R1,R2,R3 抵抗値
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heat generating body CVD apparatus 2 Top wall 3 Bottom wall 4 Side wall 5 Opening 6 Chamber 7 Deposited material 8 Vacuum valve 11 Source gas outlet 11x Bottom side gas outlet 11y Side gas outlet 12 Thin film formation space 13 Lower chamber 14 O-ring 15 Upper chamber 16 Gas supply port 17 Raw material gas flow path 18 Electrode pair 18a, 18b Electrodes 19, 191, 192, 192x, 192y, 193, 193x, 193y Catalyst 19a Return portion 20, 202x, 202y, 203x, 203y Connection part 21 Exhaust pipe 22 Heater power supply 23 Raw material gas supply pipes 24a and 24b Gas cylinders 25a and 25b Gas flow rate regulators 26a to 26c Valve 27 Terminal 28 Electric wire 31, 32 Weight body 32a Through hole 34 Chemical species 40 Guide 41 Pipe fixing part 42 Supporting part 50 Dense part 60 Insulating member 100 Catalyst unit 110 Unit base 111 Fitting portion 112 Expanded portion 113 Through hole 113a Hole opening 114 Surface 200 Catalyst body unit 202 (202a, 202b) Raw material gas supply pipe 203 Raw material gas flow path 204 Raw material gas outlet 205 Terminal 206 Electric wire 900 Bottle-shaped container 901 Mouth part 902 Neck part 903 Shoulder part 904 Body part L1 Distance from the tip of the raw material gas supply pipe to the bottom of the bottle-shaped container L2 Diameters R1, R2, R3 including the catalyst body and the raw material gas supply pipe

Claims (11)

発熱体CVD装置のチャンバに着脱自在に固定されるユニット基体と、
該ユニット基体に支持され、前記チャンバ内に挿入される原料ガス供給管と、
前記ユニット基体に支持される電極対と、
該電極対に接続され、前記原料ガス供給管の側面に沿って配置される線状の触媒体と、を備え、
該触媒体は、返し部を有することを特徴とする触媒体ユニット。
A unit base that is detachably fixed to the chamber of the heating element CVD device;
A source gas supply pipe supported by the unit base and inserted into the chamber;
An electrode pair supported by the unit substrate;
A linear catalyst body connected to the electrode pair and disposed along a side surface of the source gas supply pipe,
The catalyst body unit having a return portion.
前記電極対は、細長状の形状を有し、かつ、前記原料ガス供給管の長手方向に沿って配置され、
複数の前記触媒体の一部又は全部が前記電極対に間隔をあけて電気的に並列に接続されることを特徴とする請求項1に記載の触媒体ユニット。
The electrode pair has an elongated shape, and is disposed along the longitudinal direction of the source gas supply pipe,
2. The catalyst body unit according to claim 1, wherein some or all of the plurality of the catalyst bodies are electrically connected in parallel to the electrode pairs with a space therebetween.
すべての前記触媒体の抵抗値が等しいことを特徴とする請求項2に記載の触媒体ユニット。   3. The catalyst body unit according to claim 2, wherein all of the catalyst bodies have equal resistance values. 被蒸着物が、口部と、首部と、該首部の直径よりも大きな直径を有する胴部とを備えるボトル状容器であり、
前記口部から、前記原料ガス供給管及び前記触媒体が挿入され、
前記胴部は、該胴部の横断面に存在する前記触媒体の数が、前記首部の横断面に存在する前記触媒体の数よりも多い領域を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の触媒体ユニット。
The deposited object is a bottle-shaped container including a mouth portion, a neck portion, and a trunk portion having a diameter larger than the diameter of the neck portion,
The raw material gas supply pipe and the catalyst body are inserted from the mouth,
The said trunk | drum has the area | region where the number of the said catalyst bodies which exists in the cross section of this trunk | drum is larger than the number of the said catalyst bodies which exist in the cross section of the said neck part, The 1-3 characterized by the above-mentioned. The catalyst body unit according to any one of the above.
前記ユニット基体が、前記チャンバの天面壁に着脱自在に固定され、
錘体が前記返し部に配置されて、前記触媒体が張架されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の触媒体ユニット。
The unit base is detachably fixed to the top wall of the chamber,
The catalyst body unit according to any one of claims 1 to 4, wherein a weight body is disposed on the return portion, and the catalyst body is stretched.
前記原料ガス供給管の外周にガイドが設けられ、
前記ガイドは、前記錘体を揺動自在に支持し、かつ、前記触媒体を支持しないことを特徴とする請求項5に記載の触媒体ユニット。
A guide is provided on the outer periphery of the source gas supply pipe,
6. The catalyst body unit according to claim 5, wherein the guide supports the weight body in a swingable manner and does not support the catalyst body.
前記触媒体は、前記返し部に、他の部分よりも前記触媒体を密に配置した密部分を有し、該密部分が錘となって前記触媒体が張架されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つの記載の触媒体ユニット。   The catalyst body has a dense portion in which the catalyst body is arranged more densely than the other portion in the return portion, and the catalyst body is stretched with the dense portion serving as a weight. The catalyst body unit according to any one of claims 1 to 4. 前記密部分の質量が、前記触媒体の全体の質量に対して10%以上40%以下であることを特徴とする請求項7に記載の触媒体ユニット。   8. The catalyst body unit according to claim 7, wherein a mass of the dense portion is 10% or more and 40% or less with respect to a total mass of the catalyst body. 前記原料ガス供給管が導電性を有し、かつ、前記電極対を兼ねていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の触媒体ユニット。   The catalyst body unit according to any one of claims 1 to 8, wherein the source gas supply pipe has conductivity and also serves as the electrode pair. 前記原料ガス供給管の外周の一部又は全体が、着脱可能な管状の絶縁部材で被覆されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一つに記載の触媒体ユニット。   The catalyst body unit according to any one of claims 1 to 9, wherein a part or the whole of the outer periphery of the source gas supply pipe is covered with a detachable tubular insulating member. 請求項1〜10のいずれか一つに記載の触媒体ユニットを備えることを特徴とする発熱体CVD装置。   A heating element CVD apparatus comprising the catalyst body unit according to any one of claims 1 to 10.
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