JP2016126847A - Production method of transparent conductive film and transparent conductive laminate - Google Patents

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青合 利明
Toshiaki Aoso
利明 青合
寛記 杉浦
Hiroki Sugiura
寛記 杉浦
野村 公篤
Kimiatsu Nomura
公篤 野村
林 直之
Naoyuki Hayashi
直之 林
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a transparent conductive film achieving both conductivity and transparency, and a transparent conductive laminate produced by the production method.SOLUTION: The production method comprises: preparing a carbon nanotube (CNT) dispersion by adding CNT containing monolayer CNT having a diameter of 1.5 to 2.5 nm by 50 mass% or more, and a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less to an aqueous solvent; applying the CNT dispersion on a transparent film substrate and drying to form a CNT thin film; cleaning the CNT thin film with a cleaning solution essentially comprising a solvent having an SP value of 10 to 20; and pressurizing the cleaned CNT thin film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、タッチパネル等に用いられる透明導電膜の製造方法および透明導電膜積層体に関する。詳しくは、導電性および透明性に優れる透明導電膜の製造方法および透明導電膜積層体に関する。   The present invention relates to a method for producing a transparent conductive film and a transparent conductive film laminate used for a touch panel and the like. In detail, it is related with the manufacturing method of a transparent conductive film excellent in electroconductivity and transparency, and a transparent conductive film laminated body.

タッチパネル、液晶ディスプレイなどの各種のディスプレイ、電子ペーパ等に透明導電膜を有する透明導電フィルムが利用されている。透明導電フィルムに用いられる透明導電膜には、高い導電性および透明性が要求される。
透明導電膜としては、従来から、ITO(酸化インジウム錫)膜が利用されている。しかしながら、ITO膜は、黄色の着色が避けられない、曲げると抵抗値が上がってしまう等の問題が有る。
Transparent conductive films having a transparent conductive film are used for various displays such as touch panels and liquid crystal displays, electronic paper, and the like. High conductivity and transparency are required for the transparent conductive film used for the transparent conductive film.
Conventionally, an ITO (indium tin oxide) film has been used as the transparent conductive film. However, the ITO film has problems such as inevitable yellow coloration and increased resistance when bent.

これに対し、高い性能が期待できる透明導電膜として、カーボンナノチューブ(以下、CNTとも言う)を用いる透明導電膜が知られている。そのため、CNTを用いた透明導電膜や、CNTを用いる透明導電膜の製造方法が、各種、提案されている。
例えば、特許文献1には、CNTと溶媒とを含有する分散体を基材の表面に塗布し、溶媒を除去することでCNTを三次元網目構造にし、さらに、この上に樹脂と溶媒とを含有する分散体を塗布して、この分散体をCNTの三次元網目構造に浸透させる、CNT含有コーティングフィルムの製造方法が記載されている。
On the other hand, a transparent conductive film using carbon nanotubes (hereinafter also referred to as CNT) is known as a transparent conductive film that can be expected to have high performance. Therefore, various methods for producing a transparent conductive film using CNT and a transparent conductive film using CNT have been proposed.
For example, in Patent Document 1, a dispersion containing CNT and a solvent is applied to the surface of a base material, and the CNT is made into a three-dimensional network structure by removing the solvent. A method for producing a CNT-containing coating film is described in which a dispersion containing the composition is applied and the dispersion is infiltrated into a three-dimensional network structure of CNTs.

特許文献2には、CNTからなる透明導電膜を形成するためのCNT分散液として、CNTと、分散剤と、溶剤とを含み、かつ、分散剤がカルボキシル基、エポキシ基、アミノ基およびスルホニル基から選択される1以上を有する、沸点が30〜150℃の有機化合物であるCNT分散液が記載されている。   In Patent Document 2, as a CNT dispersion liquid for forming a transparent conductive film made of CNT, CNT, a dispersant, and a solvent are included, and the dispersant is a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, and a sulfonyl group. A CNT dispersion which is an organic compound having a boiling point of 30 to 150 ° C. having one or more selected from is described.

特許文献3には、透過型電子顕微鏡において観察したときに、任意の100本中のCNT中、50本以上が2層CNTであること; 波長532nmのラマン分光分析で140±10cm-1、160±10cm-1、180±10cm-1、270±10cm-1、320±10cm-1にピークが観測されること; 波長633nmのラマン分光分析で220±10cm-1にピークが観測されること; および、波長532nmのラマン分光分析で190cm-1超260cm-1未満の領域にピークが観測されないことを満たすCNT集合体が分散媒に分散している分散体を基材上に塗布した、光透過率が85%以上、表面抵抗値が1×105Ω/□未満の導電性フィルムが記載されている。 In Patent Document 3, when observed with a transmission electron microscope, 50 or more of 100 CNTs are double-walled CNTs; 140 ± 10 cm −1 , 160 in Raman spectroscopic analysis at a wavelength of 532 nm A peak is observed at ± 10 cm −1 , 180 ± 10 cm −1 , 270 ± 10 cm −1 , 320 ± 10 cm −1 ; a peak is observed at 220 ± 10 cm −1 by Raman spectroscopy at a wavelength of 633 nm; In addition, a dispersion in which a CNT aggregate satisfying the fact that no peak is observed in a region of more than 190 cm −1 and less than 260 cm −1 in Raman spectroscopy at a wavelength of 532 nm is coated on a base material. A conductive film having a rate of 85% or more and a surface resistance value of less than 1 × 10 5 Ω / □ is described.

さらに、特許文献4には、単層CNTを有する導電層を持つ透明導電膜において、単層CNTが導電層でバンドル状態で存在し、バンドル状態で存在する単層CNTは、長さが1.5μm以下のものと長さが1.5μmを超えるものとが存在し、長さが1.5μmを超えたバンドルの数が長さが1.5μm以下のバンドルの数よりも多い、透明導電膜が記載されている。   Further, Patent Document 4 discloses that in a transparent conductive film having a conductive layer having a single-walled CNT, the single-walled CNT exists in a bundled state with the conductive layer, and the single-walled CNT present in the bundled state has a length of 1. A transparent conductive film in which there are one having a length of 5 μm or less and a length exceeding 1.5 μm, and the number of bundles having a length exceeding 1.5 μm is larger than the number of bundles having a length of 1.5 μm or less Is described.

特許第3665969号公報Japanese Patent No. 3665969 国際公開第2006/132254号International Publication No. 2006/132254 特開2009−149516号公報JP 2009-149516 A 特許第5004338号公報Japanese Patent No. 5004338

前述のように、透明導電膜には、高い導電性と、高い透明性とが要求される。
ここで、CNTは黒色であるので、高い透明性を得るためには、CNTを用いる透明導電膜の膜厚を薄くする必要が有る。その半面、CNTを用いる透明導電膜は、高い導電性を得るためには、膜厚を厚くする方が有利である。
すなわち、CNTを用いる透明導電膜においては、導電性と透明性との関係は、トレードオフの関係になる。
As described above, the transparent conductive film is required to have high conductivity and high transparency.
Here, since CNT is black, in order to obtain high transparency, it is necessary to reduce the film thickness of the transparent conductive film using CNT. On the other hand, it is advantageous to increase the thickness of the transparent conductive film using CNT in order to obtain high conductivity.
That is, in a transparent conductive film using CNT, the relationship between conductivity and transparency is a trade-off relationship.

ところが、近年では、透明導電膜に要求される導電性および透明性は、より高くなっている。そのため、従来のCNTを用いた透明導電膜に比して、高い導電性および高い透明性を、より好適に両立したCNTを用いる透明導電膜が望まれている。   However, in recent years, the electrical conductivity and transparency required for transparent conductive films have become higher. Therefore, there is a demand for a transparent conductive film using CNTs that more appropriately achieve both high conductivity and high transparency as compared to conventional transparent conductive films using CNTs.

本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、CNTを用いる透明導電膜であって、高い導電性および高い透明性を、良好なバランスで有する透明導電膜を製造できる製造方法、および、この製造方法で透明導電膜を形成した透明導電性積層体を提供することにある。   The object of the present invention is to solve such problems of the prior art, and to produce a transparent conductive film using CNTs, which has a high balance between high conductivity and high transparency in a good balance. It is in providing the manufacturing method which can be performed, and the transparent conductive laminated body which formed the transparent conductive film with this manufacturing method.

この目的を達成するために、本発明の透明導電膜の製造方法は、直径が1.5〜2.5nmの単層カーボンナノチューブの含有量が50質量%以上のカーボンナノチューブと、分子量1000以下の水溶性分散剤とを水系溶剤に添加して、カーボンナノチューブを分散してなるカーボンナノチューブ分散液を調製する調製工程、
カーボンナノチューブ分散液を透明なフィルム基板に塗布して乾燥することにより、カーボンナノチューブ薄膜を形成する薄膜形成工程、
カーボンナノチューブ薄膜をSP値が10〜20の溶剤を主成分とする洗浄液で洗浄して、水溶性分散剤を除去する洗浄工程、
および、洗浄工程を終了したカーボンナノチューブ薄膜を加圧する加圧工程を有することを特徴とする透明導電膜の製造方法を提供する。
In order to achieve this object, the method for producing a transparent conductive film of the present invention comprises a carbon nanotube having a diameter of 1.5 to 2.5 nm of single-walled carbon nanotubes of 50% by mass or more and a molecular weight of 1000 or less. A preparation step of preparing a carbon nanotube dispersion liquid in which a carbon nanotube is dispersed by adding a water-soluble dispersant to an aqueous solvent,
A thin film forming process for forming a carbon nanotube thin film by applying a carbon nanotube dispersion liquid to a transparent film substrate and drying it,
A cleaning step of cleaning the carbon nanotube thin film with a cleaning liquid mainly composed of a solvent having an SP value of 10 to 20 to remove the water-soluble dispersant;
And the manufacturing method of the transparent conductive film characterized by having the pressurization process which pressurizes the carbon nanotube thin film which finished the washing | cleaning process.

このような本発明の透明導電膜の製造方法において、加圧工程を、ローラ対または加圧ローラによって行うのが好ましい。
また、加圧工程における圧力が100〜500kg/cmであるのが好ましい。
また、加圧工程において、カーボンナノチューブ薄膜を加圧する部材を60〜100℃に加熱するのが好ましい。
また、洗浄液が、pKaが5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩を含有するのが好ましい。
また、洗浄工程は、カーボンナノチューブ薄膜中における水溶性分散剤の量が、カーボンナノチューブに対して20質量%以下になるまで水溶性分散剤を除去するものであるのが好ましい。
また、洗浄工程を終了したカーボンナノチューブ薄膜に、紫外線、可視光および赤外光のいずれかを照射した後に、加圧工程を行うのが好ましい。
また、透明なフィルム基板が、表面に接着層を有するのが好ましい。
また、接着層が、配向膜となっているのが好ましい。
さらに、薄膜形成工程の前に、接着層をラビング処理して配向膜とする工程を有するのが好ましい。
In such a method for producing a transparent conductive film of the present invention, the pressing step is preferably performed by a roller pair or a pressing roller.
Moreover, it is preferable that the pressure in a pressurization process is 100-500 kg / cm.
Moreover, it is preferable to heat the member which pressurizes a carbon nanotube thin film at 60-100 degreeC in a pressurization process.
Further, it is preferable that the cleaning solution contains an acid having a pKa of 5 or less or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less.
Moreover, it is preferable that a washing process removes a water-soluble dispersant until the quantity of the water-soluble dispersant in a carbon nanotube thin film becomes 20 mass% or less with respect to a carbon nanotube.
Moreover, it is preferable to perform a pressurization process after irradiating the carbon nanotube thin film which finished the washing | cleaning process with either an ultraviolet-ray, visible light, or infrared light.
Moreover, it is preferable that a transparent film substrate has an adhesive layer on the surface.
The adhesive layer is preferably an alignment film.
Furthermore, it is preferable to have a process of rubbing the adhesive layer to form an alignment film before the thin film forming process.

また、本発明の透明導電性積層体は、透明なフィルム状基板の上に接着層を有し、接着層の上に直径が1.5〜2.5nmの単層カーボンナノチューブの含有量が50質量%以上のカーボンナノチューブを含有する透明導電膜を有し、かつ、
カーボンナノチューブが、波長532nmのラマン分光法による1590±50cm-1のピーク強度と1350±40cm-1のピーク強度との比が100以上; アモルファスカーボンの含有量が3質量%以下; 室温から900℃までの熱重量測定において、重量減少開始温度が600℃以上で、かつ、重量減少量が90〜99質量%; および、波長532nmのラマン分光法によるRBM領域のピークにおいて、100〜120cm-1および120〜140cm-1の少なくとも一方に主ピークを有し、かつ、250cm-1以上にピークが無い; という4つの条件を、同時に満たすことを特徴とする透明導電性積層体を提供する。
The transparent conductive laminate of the present invention has an adhesive layer on a transparent film-like substrate, and the content of single-walled carbon nanotubes having a diameter of 1.5 to 2.5 nm is 50 on the adhesive layer. Having a transparent conductive film containing carbon nanotubes by mass or more, and
Carbon nanotubes, the ratio is 100 or more and the peak intensity of the peak intensity and 1350 ± 40 cm -1 of 1590 ± 50 cm -1 by Raman spectroscopy in the wavelength 532 nm; 900 ° C. from room temperature; the content of amorphous carbon 3 weight% or less In the thermogravimetric measurement up to 600 ° C. and the weight loss amount is 90 to 99% by mass; and the peak in the RBM region by Raman spectroscopy at a wavelength of 532 nm is 100 to 120 cm −1 and at least one on the main peak of 120~140Cm -1, and no peak within 250 cm -1 or more; four conditions that provide transparent electroconductive laminate and satisfies simultaneously.

このような本発明の透明導電性積層体において、透明導電膜が、pKaが5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩を含有するのが好ましい。
また、接着層が配向膜であるのが好ましい。
さらに、透明導電膜が分子量1000以下の水溶性分散剤を含有し、かつ、水溶性分散剤の含有量がカーボンナノチューブに対して20質量%以下であるのが好ましい。
In such a transparent conductive laminate of the present invention, the transparent conductive film preferably contains an acid having a pKa of 5 or less, or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less.
The adhesive layer is preferably an alignment film.
Furthermore, it is preferable that the transparent conductive film contains a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less, and the content of the water-soluble dispersant is 20% by mass or less based on the carbon nanotubes.

本発明によれば、CNT(カーボンナノチューブ)を用いて、高い導電性と高い透明性とを両立した透明導電膜および透明導電性積層体を得ることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the transparent conductive film and transparent conductive laminated body which were compatible with high electroconductivity and high transparency can be obtained using CNT (carbon nanotube).

本発明の透明導電性積層体の一例を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally an example of the transparent conductive laminated body of this invention.

以下、本発明の透明導電膜の製造方法および透明導電性積層体について、添付の図面に示される好適例を基に詳細に説明する。なお、本明細書中において、A〜Bとは、A以上B以下、を意味する。   Hereinafter, the manufacturing method of a transparent conductive film and the transparent conductive laminate of the present invention will be described in detail based on preferred examples shown in the accompanying drawings. In the present specification, A to B means A or more and B or less.

図1に、本発明の製造方法で透明導電膜を形成した、本発明の透明導電性積層体の一例を概念的に示す。
図1に示す透明導電性積層体10は、基板12の上に接着層14を有し、この接着層14の上に透明導電膜16を有するものである。
In FIG. 1, an example of the transparent conductive laminated body of this invention which formed the transparent conductive film with the manufacturing method of this invention is shown notionally.
A transparent conductive laminate 10 shown in FIG. 1 has an adhesive layer 14 on a substrate 12 and a transparent conductive film 16 on the adhesive layer 14.

基板12は、透明なフィルム状のものである。
基板12には、特に制限はなく、透明導電膜を有する公知の透明導電性積層体に利用される透明なフィルム状物(シート状物)が、各種、利用可能である。特に、可視域の波長(380〜780nm)における透過率が80%以上であるフィルムまたはシート状物であれば、本発明の基板12として、好適に使用することができる。なお透過率は、JISK7361−1(ISO13468−1)に準拠した方法で測定できる。
一例として、一例として、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−フタレンジカルボキシレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂フィルム、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)等の環状オレフィン系樹脂フィルム、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、透明ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂、ポリ乳酸等のフィルムを挙げることができる。
また、0.2mm以下のフレキシブルなガラスシート、例えば、日本電気硝子株式会社製の商品名G−Leaf(登録商標)、旭硝子株式会社製の商品名Spool、コーニングインターナショナル株式会社製の製品名Willow Glass等の超薄板ガラスシートも使用できる。
中でも、可視光域の透明性、耐熱性、強度、易加工性、および原料コスト等の点から、二軸延伸されたPETフィルム、PENフィルム、COPフィルム、COCフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、TAC樹脂フィルムが好適に使用される。
The substrate 12 is a transparent film.
There is no restriction | limiting in particular in the board | substrate 12, Various transparent film materials (sheet-like material) utilized for the well-known transparent conductive laminated body which has a transparent conductive film can be utilized. In particular, any film or sheet-like material having a transmittance of 80% or more at a visible wavelength (380 to 780 nm) can be suitably used as the substrate 12 of the present invention. The transmittance can be measured by a method based on JISK7361-1 (ISO 13468-1).
As an example, as an example, polyester resin films such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene isophthalate, polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate, polyethylene-2,6-phthalenedicarboxylate, polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyolefin resin film such as polystyrene, cycloolefin polymer film (COP), cyclic olefin resin film such as cycloolefin copolymer (COC), polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate, polyacrylonitrile, transparent polyimide, polyacrylate, Polymethacrylate, Polycarbonate (PC), Polyethersulfone, Polyetheretherketone (PEEK), Triacetylcellulose ( AC) resins, a film of polylactic acid.
Also, flexible glass sheets of 0.2 mm or less, for example, trade name G-Leaf (registered trademark) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., trade name Spool manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., product name Willow Glass manufactured by Corning International Co., Ltd. An ultra-thin glass sheet such as can also be used.
Above all, from the viewpoint of transparency in the visible light region, heat resistance, strength, ease of processing, raw material cost, etc., biaxially stretched PET film, PEN film, COP film, COC film, polyethersulfone film, TAC resin A film is preferably used.

基板12の厚さには、特に制限は無く、基板12の形成材料、透明導電性積層体10の大きさ、厚さ、用途、透明導電性積層体10に要求される剛性や可撓性等に応じて、適宜、設定すればよい。ここで、基板12は、厚さが薄くなるほど透明性が向上するため、基板12の厚さは、一般的に200μm以下が好ましい。   The thickness of the substrate 12 is not particularly limited, and the material for forming the substrate 12, the size, thickness, use of the transparent conductive laminate 10, rigidity, flexibility required for the transparent conductive laminate 10, etc. It may be set appropriately according to the above. Here, since the transparency of the substrate 12 is improved as the thickness is reduced, the thickness of the substrate 12 is generally preferably 200 μm or less.

基板12の上には、塗布液の濡れ性や接着性を確保するために、表面処理を施したり、接着層14を形成することができる。
表面処理は、公知の技術を使用できる。一例として、コロナ放電処理、紫外線−オゾン処理、グロー放電処理、低温大気圧プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を挙げることができる。
A surface treatment or an adhesive layer 14 can be formed on the substrate 12 in order to ensure wettability and adhesion of the coating solution.
A known technique can be used for the surface treatment. As an example, surface activation treatments such as corona discharge treatment, ultraviolet-ozone treatment, glow discharge treatment, low-temperature atmospheric pressure plasma treatment, and laser treatment can be exemplified.

接着層14は、必要な光透過性を確保できるものであれば、透明導電膜を有する公知の透明導電性積層体に利用される接着剤が、各種、利用できる。
一例として、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、および、これらの共重合体等を主成分として含有する接着剤を挙げることができる。これらの樹脂は2種以上を含有してもよい。また、強度を調節する目的で架橋剤を添加してもよい。
中でも、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ブタジエン系樹脂は好適に利用される。具体的には、スチレン−ブタジエン共重合体(以下、「SBR」とも言う)または水系ウレタン樹脂に架橋剤を含有する構成が好ましい。SBRは、スチレンとブタジエンとを主体とした共重合体であり、更に必要に応じて他の成分を共重合したものを意味する。この共重合体は、スチレンとブタジエンとの含有比率を調節することにより、様々な物性のものを得られることが知られている。SBRはラテックスであることが好ましい。具体的には、日本ゼオン株式会社製の商品名ニポール、住友ノーガタック株式会社製の商品名ノーガテックス、武田薬品工業株式会社製の商品名クロスレン、旭ダウ株式会社製の商品名旭ダウラテックス等、国内外のメーカーから販売されている市販品を用いることができる。SBRにおけるスチレン/ブタジエンの含有比率は、50/50〜80/20程度であることが好ましい。ラテックス中に含まれるSBRの割合は、固形分質量として30〜50質量%であることが好ましい。
2種の樹脂を併用する場合は、ポリウレタン系樹脂とアクリル系樹脂とは相溶性がよく、密着性と耐久性の高い材料となる。ポリウレタン樹脂の含有率は、10質量%〜99質量%であることが好ましく、15質量%〜98質量%であることがより好ましく、20質量%〜95質量%であることが更に好ましい。
接着剤に含まれる架橋剤としてはトリアジン系化合物(例えば、ジクロロ−S−トリアジン誘導体)、カルボジイミド系化合物(例えば、N,N−ジイロブチルカルボジイミド)、オキサゾリン系化合物、エポキシ化合物、イソシアネート化合物などを挙げることができ、膜強度の観点から、トリアジン系化合物、カルボジイミド化合物又はオキサゾリン化合物であることが好ましい。架橋剤の含有量は、通常、樹脂に対して1〜20質量%であることが好ましい。
As long as the adhesive layer 14 can ensure the required light transmittance, the adhesive utilized for the well-known transparent conductive laminated body which has a transparent conductive film can utilize various.
As an example, polyurethane resin, acrylic resin, polyester resin, polyamide resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, polybutadiene resin, epoxy resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, In addition, an adhesive containing such a copolymer as a main component can be given. These resins may contain 2 or more types. Moreover, you may add a crosslinking agent in order to adjust intensity | strength.
Among these, polyurethane resins, acrylic resins, and butadiene resins are preferably used. Specifically, a configuration in which a styrene-butadiene copolymer (hereinafter also referred to as “SBR”) or a water-based urethane resin contains a crosslinking agent is preferable. SBR is a copolymer mainly composed of styrene and butadiene, and further means a copolymer obtained by copolymerizing other components as required. It is known that this copolymer can be obtained with various physical properties by adjusting the content ratio of styrene and butadiene. SBR is preferably latex. Specifically, the product name Nipole manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., the product name NOGATEX manufactured by Sumitomo Nougatac Co., Ltd., the product name Crosslen manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited, the product name Asahi Dow Latex manufactured by Asahi Dow Corporation, Commercial products sold by domestic and foreign manufacturers can be used. The content ratio of styrene / butadiene in SBR is preferably about 50/50 to 80/20. The ratio of SBR contained in the latex is preferably 30 to 50% by mass as the solid mass.
When two kinds of resins are used in combination, the polyurethane-based resin and the acrylic resin have good compatibility and become a material having high adhesion and durability. The content of the polyurethane resin is preferably 10% by mass to 99% by mass, more preferably 15% by mass to 98% by mass, and still more preferably 20% by mass to 95% by mass.
Examples of the crosslinking agent contained in the adhesive include triazine compounds (for example, dichloro-S-triazine derivatives), carbodiimide compounds (for example, N, N-dibutylbutylcarbodiimide), oxazoline compounds, epoxy compounds, and isocyanate compounds. From the viewpoint of film strength, a triazine compound, a carbodiimide compound, or an oxazoline compound is preferable. The content of the crosslinking agent is usually preferably 1 to 20% by mass with respect to the resin.

接着層14の厚さには、特に制限は無く、接着層14の形成材料や要求される接着力、透明導電性積層体10の大きさ、厚さ、用途等に応じて、適宜、設定すればよい。
具体的には、接着層14の厚さは、0.005〜10μmが好ましく、0.01〜5μmがより好ましく、0.05〜1μmがさらに好ましい。
接着層14の厚さを上記範囲とすることにより、必要な接着力を好適に確保できると共に、接着層14を薄くすることで、透明導電性積層体10の平坦性や透明性が向上する等の点で好ましい。
The thickness of the adhesive layer 14 is not particularly limited, and may be appropriately set according to the material for forming the adhesive layer 14, the required adhesive strength, the size, thickness, application, etc. of the transparent conductive laminate 10. That's fine.
Specifically, the thickness of the adhesive layer 14 is preferably 0.005 to 10 μm, more preferably 0.01 to 5 μm, and still more preferably 0.05 to 1 μm.
By making the thickness of the adhesive layer 14 in the above range, the necessary adhesive force can be suitably secured, and by making the adhesive layer 14 thinner, the flatness and transparency of the transparent conductive laminate 10 are improved. This is preferable.

接着層14は、接着層14の形成材料に応じて、公知の方法で形成すればよい。
例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法などを用いることができる。
The adhesive layer 14 may be formed by a known method depending on the material for forming the adhesive layer 14.
For example, roll coating, bar coating, dip coating, spin coating, casting, die coating, blade coating, bar coating, gravure coating, curtain coating, spray coating, doctor coating, etc. are used. be able to.

ここで、接着層14は、配向膜であるのが好ましい。
接着層14を、配向膜とすることにより、透明導電膜16を構成するCNT(カーボンナノチューブ)をほぐして、長手方向を溝に沿って配向することができ、透明導電膜16の面方向の導電性を向上できる。
Here, the adhesive layer 14 is preferably an alignment film.
By using the adhesive layer 14 as an alignment film, the CNTs (carbon nanotubes) constituting the transparent conductive film 16 can be loosened, and the longitudinal direction can be aligned along the grooves. Can be improved.

このような配向膜は、ポリマーのラビング処理、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合物(例えば、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル)の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られているが、本発明においては、ラビング処理または光照射により形成される配向膜が好ましい。特にポリマーのラビング処理により形成する配向膜が好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では「液晶便覧」(丸善(株)、2000年)に記載されている方法により行うことが好ましい。
配向膜に用いられるポリマーは、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明に用いられる配向膜は、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリアミド、ポリイミド等が好ましく用いられる。特に、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが好ましい。また配向膜については、ディスコティック液晶に用いられている配向膜を液晶の配向膜として用いることができる。そのような配向膜としては、WO01/88574A1号パンフレットの43頁24行〜49頁8行の記載を参照することができる。このような樹脂を前述の透明基材上に塗布し、適宜架橋剤で硬化させることにより調製することができる。架橋剤としては、前記架橋剤の他、アルデヒド、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール化合物を使用することができる。
Such an alignment film is formed by polymer rubbing treatment, formation of a layer having a microgroove, or accumulation of an organic compound (for example, ω-tricosanoic acid, methyl stearylate) by a Langmuir-Blodgett method (LB film). It can be provided by means. Furthermore, an alignment film in which an alignment function is generated by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation is also known. In the present invention, an alignment film formed by rubbing treatment or light irradiation is preferable. In particular, an alignment film formed by a rubbing treatment of a polymer is preferable. The rubbing treatment can be generally carried out by rubbing the surface of the polymer layer several times in a certain direction with paper or cloth. In particular, in the present invention, it is described in “Liquid Crystal Handbook” (Maruzen Co., Ltd., 2000). It is preferable to carry out by the method described above.
The polymer used for the alignment film is described in many documents, and many commercially available products can be obtained. For the alignment film used in the present invention, polyvinyl alcohol and its derivatives, polyamide, polyimide and the like are preferably used. In particular, modified polyvinyl alcohol to which a hydrophobic group is bonded is preferable. As the alignment film, an alignment film used for a discotic liquid crystal can be used as the alignment film for the liquid crystal. As such an alignment film, reference can be made to the description on page 43, line 24 to page 49, line 8 of the pamphlet of WO01 / 88574A1. Such a resin can be prepared by coating on the above-mentioned transparent substrate and curing with a crosslinking agent as appropriate. As the crosslinking agent, aldehydes, N-methylol compounds, dioxane derivatives, compounds that act by activating carboxyl groups, active vinyl compounds, active halogen compounds, and isoxazole compounds can be used in addition to the above-mentioned crosslinking agents. .

透明導電性積層体10において、接着層14の上には透明導電膜16が形成される。
透明導電膜16は、直径が1.5〜2.5nmの単層CNTの含有量が50質量%以上のCNTおよび分子量が1000以下の水溶性分散剤を含有するものである。
In the transparent conductive laminate 10, a transparent conductive film 16 is formed on the adhesive layer 14.
The transparent conductive film 16 contains a single-walled CNT having a diameter of 1.5 to 2.5 nm having a content of 50% by mass or more and a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less.

CNTには、1枚の炭素膜(グラフェン・シート)が円筒状に巻かれた単層CNT、2枚のグラフェン・シートが同心円状に巻かれた2層CNT、及び複数のグラフェン・シートが同心円状に巻かれた多層CNTがある。本発明においては、直径が1.5〜2.5nmの単層CNTの含有量が50質量%以上であれば、単層CNT、2層CNT、多層CNTの2種以上を併せて用いてもよい。
単層CNTは、金属性のものであっても半導体性のものであってもよく、両者の混合物でもよい。好ましくは金属性のCNTである。通常、単層CNTの合成時は、半導体性CNTと金属性CNTの混合物になるため、合成品をそのままの混合物状態で使用してもよいが、半導体CNTと金属CNTを分離し、用途に応じて含有比率を適宜調節して使用してもよい。また、CNTには金属や有機化合物等が内包されていてもよく、フラーレン等の分子が内包されたものを用いてもよい。
A CNT is a single-walled CNT in which a single carbon film (graphene sheet) is wound in a cylindrical shape, a double-walled CNT in which two graphene sheets are wound in a concentric shape, and a plurality of graphene sheets in a concentric circle There are multi-walled CNTs wound in a shape. In the present invention, if the content of single-walled CNT having a diameter of 1.5 to 2.5 nm is 50% by mass or more, two or more kinds of single-walled CNT, double-walled CNT, and multilayered CNT may be used in combination. Good.
Single-walled CNTs may be metallic or semiconducting, or a mixture of both. Metallic CNT is preferable. Usually, when synthesizing single-walled CNT, it becomes a mixture of semiconducting CNT and metallic CNT, so the synthesized product may be used as it is, but the semiconducting CNT and metallic CNT are separated and depending on the application The content ratio may be adjusted as appropriate. In addition, the CNT may contain a metal, an organic compound, or the like, or may contain a molecule such as fullerene.

また、CNTとしては、CNTを修飾あるいは処理したCNTも利用可能である。修飾あるいは処理方法としては、フェロセン誘導体や窒素置換フラーレン(アザフラーレン)を内包する方法、酸や電子受容性化合物による正孔ドーピングや、電子供与性化合物による電子ドーピングによりCNTにドープする方法、真空中でCNTを加熱する方法等が例示される。
また、透明導電膜16には、単層CNTや多層CNTの他に、カーボンナノホーン、カーボンナノコイル、ナノグラフェン、酸化グラフェン等のナノカーボンが含まれてもよい。
Moreover, as CNT, the CNT which modified or processed CNT can also be utilized. Modification or treatment methods include ferrocene derivatives and nitrogen-substituted fullerenes (azafullerenes), hole doping with acids and electron-accepting compounds, doping CNTs by electron doping with electron-donating compounds, in vacuum A method of heating the CNTs is exemplified.
The transparent conductive film 16 may contain nanocarbons such as carbon nanohorns, carbon nanocoils, nanographene, and graphene oxide in addition to single-walled CNTs and multilayered CNTs.

本発明で用いるCNTの平均長さは特に制限は無く、透明導電性積層体の用途等に応じて適宜選択することができる。具体的には、電極間距離にもよるが、製造容易性、成膜性、導電性等の観点から、CNTの平均長さが0.01〜2000μmが好ましく、0.1〜1000μmがより好ましく、0.5〜500μmが特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the average length of CNT used by this invention, According to the use etc. of a transparent conductive laminated body, it can select suitably. Specifically, although it depends on the distance between the electrodes, the average length of the CNT is preferably 0.01 to 2000 μm, more preferably 0.1 to 1000 μm from the viewpoints of manufacturability, film formability, conductivity, and the like. 0.5 to 500 μm is particularly preferable.

透明導電膜16に含まれるCNTは、直径が1.5〜2.5nmの単層CNTの含有量が50質量%以上である。CNT中における直径が1.5〜2.5nmの単層CNTの含有量は、70質量%以上が好ましく、80質量%以上がより好ましい。
直径が1.5〜2.5nmの単層CNTの含有量が50質量%未満では、導電性が低い多層CNTやアモルファスカーボンの含有量が多くなり、十分な導電性が得られない。また、透明導電性積層体10の透明性を低下させる点でも問題を生じる。
The CNT contained in the transparent conductive film 16 has a content of single-walled CNTs having a diameter of 1.5 to 2.5 nm of 50% by mass or more. The content of single-walled CNT having a diameter of 1.5 to 2.5 nm in the CNT is preferably 70% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more.
When the content of the single-walled CNT having a diameter of 1.5 to 2.5 nm is less than 50% by mass, the content of the multi-walled CNT having low conductivity or amorphous carbon increases, and sufficient conductivity cannot be obtained. Moreover, a problem also arises in that the transparency of the transparent conductive laminate 10 is lowered.

また、本発明の透明導電性積層体10において、透明導電膜16を構成するCNTは、以下の特徴を満足するものである。
即ち、透明導電膜16を構成するCNTは、波長532nmのラマン分光法による1590±50cm-1に観測されるCNTのグラフェン構造の面内伸縮振動に起因するGバンドのピーク強度と、1350±40cm-1に観測されるCNTの欠陥に由来するDバンドのピーク強度との比(G/D比)が100以上であり、かつ、波長532nmのラマン分光法で、CNTの直径方向の伸縮振動に起因するRBM(Radical Breathing Mode)領域のピークにおいて、250cm-1以上にピークはなく、100〜120および120〜140の少なくとも一方に主ピークを有する。
加えて、透明導電膜16を構成するCNTは、室温から900℃までの熱重量測定(TGA)において、観測される重量減少開始温度が600℃以上で、かつ、重量減少量が9〜99質量%であり、アモルファスカーボンの含有量が3質量%以下である。
Moreover, in the transparent conductive laminated body 10 of this invention, CNT which comprises the transparent conductive film 16 satisfies the following characteristics.
That is, the CNT constituting the transparent conductive film 16 has a peak intensity of G band caused by in-plane stretching vibration of the graphene structure of CNT observed at 1590 ± 50 cm −1 by Raman spectroscopy with a wavelength of 532 nm, and 1350 ± 40 cm. The ratio (G / D ratio) to the peak intensity of the D band derived from the defect of CNT observed at −1 is 100 or more, and the stretching of the CNT in the diameter direction is confirmed by Raman spectroscopy with a wavelength of 532 nm. In the peak of the resulting RBM (Radical Breathing Mode) region, there is no peak at 250 cm −1 or more, and there is a main peak in at least one of 100 to 120 and 120 to 140.
In addition, the CNT constituting the transparent conductive film 16 has an observed weight loss starting temperature of 600 ° C. or higher and a weight loss amount of 9 to 99 mass in thermogravimetry (TGA) from room temperature to 900 ° C. %, And the amorphous carbon content is 3% by mass or less.

上記G/D比が高いほど、欠陥の量が少ないCNTであると推定できる。CNTのG/D比は100以上で、好ましくは150以上、より好ましくは200以上であり、このような単層CNTを透明導電膜16に、良好に分散させることで、導電性に優れる透明導電膜16が得られる。   It can be presumed that the higher the G / D ratio is, the smaller the number of defects. The G / D ratio of the CNT is 100 or more, preferably 150 or more, more preferably 200 or more. By transparently dispersing such single-walled CNTs in the transparent conductive film 16, the transparent conductive having excellent conductivity A membrane 16 is obtained.

また、CNTは、不純物としてアモルファスカーボンを含有するものが多い。本発明の透明導電性積層体10において、透明導電膜16のCNTは、アモルファスカーボンの含有量が3質量%以下であり、好ましくは1質量%以下である。
不純物であるアモルファスカーボンの含有量を3質量%以下とすることにより、CNTの分散性が良化し、導電性を低下させることなく、透明性を向上することが可能になる。
Many CNTs contain amorphous carbon as an impurity. In the transparent conductive laminate 10 of the present invention, the CNT of the transparent conductive film 16 has an amorphous carbon content of 3% by mass or less, preferably 1% by mass or less.
By setting the content of amorphous carbon, which is an impurity, to 3% by mass or less, the dispersibility of CNT is improved, and the transparency can be improved without lowering the conductivity.

一方、熱重量測定では、アモルファスカーボンは4〜500℃程度で減量を初め、CNTは600℃以上で減量を始める。
従って、CNTを、室温から900℃までの熱重量測定において、重量減少開始温度が600℃以上で、かつ、重量減少量が90〜99質量%とすることにより、先と同様に、不純物の少ないCNTによって、導電性等に優れる透明導電膜16が得られる。
On the other hand, in thermogravimetry, amorphous carbon begins to lose weight at about 4 to 500 ° C., and CNT starts to lose weight at 600 ° C. or higher.
Therefore, in thermogravimetry from room temperature to 900 ° C., the CNT has a reduced weight starting temperature of 600 ° C. or more and a weight reduction amount of 90 to 99% by mass, so that the amount of impurities is reduced as before By the CNT, the transparent conductive film 16 having excellent conductivity and the like can be obtained.

本発明の透明導電性積層体10において、透明導電膜16は、CNTは、直径が1.5〜2.5nmの単層CNTの含有量が50質量%以上である。
そのため、CNTは、波長532nmのラマン分光法によるRBM領域のピークにおいて、100〜120cm-1および/または120〜140cm-1に主ピークを有し、かつ、250cm-1以上にピークが無い。
In the transparent conductive laminate 10 of the present invention, the transparent conductive film 16 has a CNT content of 50% by mass or more of single-walled CNTs having a diameter of 1.5 to 2.5 nm.
Therefore, CNT is at the peak of RBM region by Raman spectroscopy in the wavelength 532 nm, have a main peak in 100~120Cm -1 and / or 120~140Cm -1, and no peak at 250 cm -1 or more.

すなわち、本発明によれば、導電性の高いCNTを用いて、薄くても十分な導電性を有する透明導電膜16を得ることができる。本発明は、これにより、通常はトレードオフの関係にある透明導電膜の導電性と透明性とを、好適に両立した透明導電膜16を実現している。   That is, according to the present invention, it is possible to obtain a transparent conductive film 16 having sufficient conductivity even when thin using CNT having high conductivity. Accordingly, the present invention realizes the transparent conductive film 16 which preferably satisfies both the conductivity and transparency of the transparent conductive film which are normally in a trade-off relationship.

このようなCNTは、独立行政法人産業技術総合研究所で開発された改良直噴熱分解合成法(e−DIPS法(Enhanced Direct Injection Pyrolytic Synthesis)法)で作製できる。すなわち、本発明の製造方法においては、改良直噴熱分解合成法によって作製したCNTが好適に使用できる。
改良直噴熱分解合成法(e−DIPS法)は、化学気相成長法(CVD法)の浮遊流動反応法(気相流動反応)の一種に位置付けられ、鉄/コバルト系触媒(またはその前駆体)および/またはモリブデン系触媒(またはその前駆体)の溶液を、高温の反応炉にスプレー等で噴霧し、触媒のナノ粒子を発生させて気相中に浮遊させると共に、第一の炭素源となるトルエン等の芳香族炭素またはデカリンやデカン等の脂肪族炭素に加え、第2の炭素源となるエチレンやアセチレン等を、反応促進剤となるチオフェン等のイオウ化合物と共存させて、キャリアガスとなる水素ガスフローの下、上記高温の反応炉に導入することによって、気相の流動相中で単層CNTを合成する方法である。
Such CNTs can be produced by an improved direct injection pyrolysis synthesis method (e-DIPS method (Enhanced Direct Injection Pyrolytic Synthesis) method) developed by the National Institute of Advanced Industrial Science and Technology. That is, in the production method of the present invention, CNTs produced by an improved direct injection pyrolysis synthesis method can be suitably used.
The improved direct injection pyrolysis synthesis method (e-DIPS method) is positioned as a kind of floating flow reaction method (vapor phase flow reaction) of chemical vapor deposition method (CVD method), and an iron / cobalt catalyst (or its precursor). Body) and / or a molybdenum-based catalyst (or a precursor thereof) is sprayed into a high-temperature reactor by spraying or the like to generate catalyst nanoparticles and float them in the gas phase. In addition to aromatic carbon such as toluene or aliphatic carbon such as decalin or decane, ethylene and acetylene as the second carbon source coexist with sulfur compounds such as thiophene as the reaction accelerator, and carrier gas This is a method of synthesizing single-walled CNTs in a gas phase fluid phase by introducing them into the high-temperature reactor under a hydrogen gas flow.

透明導電膜16におけるCNTの含有量は、50質量%以上が好ましく、80質量%以上がより好ましい。
透明導電膜16におけるCNTの含有量を50質量%以上とすることにより、導電性と透明性とを両立した透明導電膜16が得られる点で好ましい。
50 mass% or more is preferable and, as for content of CNT in the transparent conductive film 16, 80 mass% or more is more preferable.
By making content of CNT in the transparent conductive film 16 into 50 mass% or more, it is preferable at the point from which the transparent conductive film 16 which was compatible with electroconductivity and transparency is obtained.

透明導電膜16には、このようなCNTに加え、分子量が1000以下の水溶性分散剤を含有する。
水溶性分散剤に関しては、後に詳述する。
In addition to such CNTs, the transparent conductive film 16 contains a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less.
The water-soluble dispersant will be described in detail later.

透明導電膜16の厚さには、特に制限はなく、透明導電性積層体10の大きさや厚さ、透明導電性積層体10の用途、要求される透明性、導電性等に応じて、適宜、設定すればよい。
具体的には、透明導電膜16の厚さは、0.003〜0.5μmが好ましく、0.01〜0.3μmがより好ましい。
透明導電膜16の厚さ0.003μm以上とすることにより、良好な導電性得ることができる等の点で好ましい。
また、透明導電膜16の厚さを0.5μm以下とすることにより、良好な透明性を得られる、透明導電性積層体10の厚さを薄くできる等の点で好ましい。
すなわち、透明導電膜16の厚さを0.003〜0.5μmとすることにより、より好適に高い導電性と高い透明性とをバランス良く得ることができる。
There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the transparent conductive film 16, According to the magnitude | size and thickness of the transparent conductive laminated body 10, the use of the transparent conductive laminated body 10, required transparency, electroconductivity, etc. suitably , You can set.
Specifically, the thickness of the transparent conductive film 16 is preferably 0.003 to 0.5 μm, and more preferably 0.01 to 0.3 μm.
By setting the thickness of the transparent conductive film 16 to 0.003 μm or more, it is preferable in that good conductivity can be obtained.
In addition, it is preferable that the thickness of the transparent conductive film 16 is 0.5 μm or less in that good transparency can be obtained and the thickness of the transparent conductive laminate 10 can be reduced.
That is, by setting the thickness of the transparent conductive film 16 to 0.003 to 0.5 μm, it is possible to more appropriately obtain high conductivity and high transparency in a balanced manner.

以下、透明導電膜16の製造方法を説明する。
まず、直径が1.5〜2.5nmの単層CNTの含有量が50質量%以上のCNTと、分子量1000以下の水溶性分散剤とを、水系溶媒に添加してCNT分散液を調製する。
前述のように、CNTは、改良直噴熱分解合成法で作製された、波長532nmのラマン分光法による1590±50cm-1のピーク強度と1350±40cm-1のピーク強度との比が100以上; アモルファスカーボンの含有量が3質量%以下; 室温から900℃までの熱重量測定において、重量減少開始温度が600℃以上で、かつ、重量減少量が90〜99質量%; および、波長532nmのラマン分光法によるRBM領域のピークにおいて、100〜120cm-1および12〜140cm-1の少なくとも一方に主ピークを有し、かつ、250cm-1以上にピークを有さない; という4つの条件を、全て満たす物を用いるのが好ましい。
Hereinafter, a method for manufacturing the transparent conductive film 16 will be described.
First, a CNT dispersion liquid is prepared by adding a CNT having a diameter of 1.5 to 2.5 nm and having a single-wall CNT content of 50% by mass or more and a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less to an aqueous solvent. .
As described above, the CNT has a ratio of the peak intensity of 1590 ± 50 cm −1 and the peak intensity of 1350 ± 40 cm −1 produced by the improved direct-injection pyrolysis synthesis method at a wavelength of 532 nm of 100 or more. A content of amorphous carbon of 3% by mass or less; in thermogravimetry from room temperature to 900 ° C., a weight reduction starting temperature is 600 ° C. or more and a weight reduction amount is 90 to 99% by mass; and a wavelength of 532 nm in the peak of the RBM region by Raman spectroscopy, it has a main peak in at least one of 100~120Cm -1 and 12~140Cm -1, and no peak at 250 cm -1 or more; four conditions of, It is preferable to use a material that satisfies all requirements.

水系溶剤とは、具体的には、水溶性の溶剤である。
水系溶剤としては、一例として、水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、アセトン、2−ブタノン、1−メトキシ−2−プロパノール、ジメチルスルホキシド、ブタノール、sec−ブタノール、イソブチルアルコール、tert−ブタノール、グリセリン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、メチルカルビトール、ブチルカルビトール等が例示される。
なお、水系溶媒は、二種以上の混合溶媒であってもよい。
Specifically, the aqueous solvent is a water-soluble solvent.
Examples of the aqueous solvent include water, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, propylene glycol, acetone, 2-butanone, 1-methoxy-2-propanol, dimethyl sulfoxide, butanol, sec-butanol, isobutyl alcohol, tert-butanol, glycerin, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N-methylpyrrolidone, N-ethyl Examples include pyrrolidone, methyl carbitol, butyl carbitol and the like.
The aqueous solvent may be a mixed solvent of two or more.

CNT分散液は、水系溶剤に好適にCNTを分散させるため、分子量が1000以下の水溶性分散剤を含む。
本発明の製造方法においては、分子量が1000以下の水溶性分散剤を用いることにより、後述する洗浄工程における水溶性分散剤の除去を容易にしている。
The CNT dispersion contains a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less in order to disperse CNT suitably in an aqueous solvent.
In the production method of the present invention, the use of a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less facilitates the removal of the water-soluble dispersant in the washing step described later.

水溶性分散剤は、分子量が1000以下で、CNTを分散させる機能を有するものであれば、公知の水溶性分散剤を使用することができる。より具体的には、水溶性分散剤は、水、極性溶媒、水と極性溶媒との混合物に溶解し、CNTに対する吸着性を有するものであれば、各種の水溶性分散剤が利用可能である。
例えば、イオン性水溶性分散剤(アニオン性水溶性分散剤、カチオン性水溶性分散剤、両性水溶性分散剤)、非イオン性水溶性分散剤(ノニオン性水溶性分散剤)などが挙げられる。CNTの分散性が良好で、洗浄による除去が容易という観点から、イオン性水溶性分散剤が好ましく、アニオン性水溶性分散剤がより好ましい。
As the water-soluble dispersant, a known water-soluble dispersant can be used as long as it has a molecular weight of 1000 or less and has a function of dispersing CNTs. More specifically, as long as the water-soluble dispersant is dissolved in water, a polar solvent, a mixture of water and a polar solvent, and has adsorbability to CNTs, various water-soluble dispersants can be used. .
Examples thereof include ionic water-soluble dispersants (anionic water-soluble dispersants, cationic water-soluble dispersants, amphoteric water-soluble dispersants), nonionic water-soluble dispersants (nonionic water-soluble dispersants), and the like. From the viewpoint of good dispersibility of CNTs and easy removal by washing, an ionic water-soluble dispersant is preferable, and an anionic water-soluble dispersant is more preferable.

アニオン性水溶性分散剤としては、例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、芳香族スルホン酸系水溶性分散剤、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類、芳香族スルホン酸塩類、芳香族置換ポリオキシエチレンスルホン酸塩類、モノソープ系アニオン性水溶性分散剤、エーテルサルフェート系水溶性分散剤、フォスフェート系水溶性分散剤およびカルボン酸系水溶性分散剤、脂肪酸塩等が挙げられる。
より具体的には、オクチルベンゼンスルホン酸塩、ノニルベンゼンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、モノイソプロピルナフタレンスルホン酸塩、ジイソプロピルナフタレンスルホン酸塩、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸塩、ジブチルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、コール酸ナトリウム、コール酸カリウム、デオキシコール酸ナトリウム、デオキシコール酸カリウム、グリココール酸ナトリウム、リトコール酸ナトリウム、セチルトリメチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。
Examples of the anionic water-soluble dispersant include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, aromatic sulfonic acid-based water-soluble dispersants, dialkyl sulfosuccinates, and linear alkylbenzene sulfonates. Branched alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamides Disodium salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, sulfate esters of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfates Ester salt, fatty acid monoglyceride sulfate ester, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate ester salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate Ester salts, saponification products of styrene-maleic anhydride copolymer, saponification products of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensates, aromatic sulfonates, aromatic substituted poly Oxyethylene sulfonates, monosoap anionic water-soluble dispersants, ether sulfate water-soluble dispersants, phosphate water-soluble dispersants and carboxylic acid water-soluble dispersants, fatty acid salts, etc. It is below.
More specifically, octylbenzenesulfonate, nonylbenzenesulfonate, dodecylbenzenesulfonate, dodecyldiphenyl ether disulfonate, monoisopropylnaphthalenesulfonate, diisopropylnaphthalenesulfonate, triisopropylnaphthalenesulfonate, Examples include dibutyl naphthalene sulfonate, naphthalene sulfonic acid formalin condensate salt, sodium cholate, potassium cholate, sodium deoxycholate, potassium deoxycholate, sodium glycocholate, sodium lithocholic acid, cetyltrimethylammonium bromide and the like.

カチオン性水溶性分散剤としては、例えば、アルキルアミン塩、第四級アンモニウム塩などが挙げられる。
両性水溶性分散剤としては、例えば、アルキルベタイン系水溶性分散剤、アミンオキサイド系水溶性分散剤がある。
Examples of the cationic water-soluble dispersant include alkylamine salts and quaternary ammonium salts.
Examples of amphoteric water-soluble dispersants include alkylbetaine-based water-soluble dispersants and amine oxide-based water-soluble dispersants.

非イオン性水溶性分散剤としては、例えば、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルなどの糖エステル系水溶性分散剤、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ジエチルなどの脂肪酸エステル系水溶性分散剤、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン・ポリプロピレングリコールなどのエーテル系水溶性分散剤、ポリオキシアルキレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシアルキルジブチルフェニルエーテル、ポリオキシアルキルスチリルフェニルエーテル、ポリオキシアルキルベンジルフェニルエーテル、ポリオキシアルキルビスフェニルエーテル、ポリオキシアルキルクミルフェニルエーテル等の芳香族系非イオン性水溶性分散剤が挙げられる。   Nonionic water-soluble dispersants include, for example, sugar ester water-soluble dispersants such as sorbitan fatty acid esters and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene resin acid esters, and fatty acid ester water-soluble waters such as polyoxyethylene fatty acid diethyl. Dispersant, fatty acid ester of glycerol of polyhydric alcohol type, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, fatty acid ester of sucrose, alkyl ether of polyhydric alcohol, fatty acid amide of alkanolamines, polyoxyethylene Ether-based water-soluble dispersants such as alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene / polypropylene glycol, polyoxyalkylene octylphenyl ether, Aromatic nonionic such as reoxyalkylene nonyl phenyl ether, polyoxyalkyl dibutyl phenyl ether, polyoxyalkyl styryl phenyl ether, polyoxyalkyl benzyl phenyl ether, polyoxyalkyl bisphenyl ether, polyoxyalkyl cumyl phenyl ether A water-soluble dispersing agent is mentioned.

以下に、使用可能な水溶性分散剤の具体例を例示する。
Below, the specific example of the water-soluble dispersing agent which can be used is illustrated.

このような水溶性分散剤の中でも、イオン性水溶性分散剤が好ましく、アニオン系水溶性分散剤がより好ましい。その中でも、コール酸塩およびデオキシコール酸塩は、より好適に利用される。
イオン性水溶性分散剤、特に、水溶性分散剤としてコール酸塩およびデオキシコール酸塩を用いることにより、CNT分散液において、CNTを良好に分散することができる。その結果、長く、欠陥が少ないCNTを多く含有する透明導電膜16を形成でき、より高い導電性が得られる。
Among such water-soluble dispersants, ionic water-soluble dispersants are preferable, and anionic water-soluble dispersants are more preferable. Among these, cholate and deoxycholate are more preferably used.
By using ionic water-soluble dispersants, particularly cholate and deoxycholate as water-soluble dispersants, CNTs can be well dispersed in the CNT dispersion. As a result, it is possible to form a transparent conductive film 16 containing a large amount of CNTs that is long and has few defects, and higher conductivity is obtained.

CNT分散液は、例えば、ホモジナイザー、高速旋回薄膜分散機、超音波ホモジナイザー、ビーズミル、ボールミル、ロールミル、ジェットミル、超高圧加工機等を用いて、公知の方法で調製すればよい。   The CNT dispersion may be prepared by a known method using, for example, a homogenizer, a high-speed rotating thin film disperser, an ultrasonic homogenizer, a bead mill, a ball mill, a roll mill, a jet mill, or an ultrahigh pressure processing machine.

CNT分散液において、CNTの含有量は、0.01〜2質量%が好ましく、0.1〜1質量%がより好ましい。
CNT分散液におけるCNTの含有量を0.01質量%以上とすることにより、導電パスとなるCNT鎖の緻密なネットッワークが形成され、導電性が向上する点で好ましい。
また、CNT分散液におけるCNTの含有量を2質量%以下とすることにより、CNTの分散性が良好になり、透明導電膜16の透明性が向上する点で好ましい。
In the CNT dispersion, the content of CNT is preferably 0.01 to 2% by mass, and more preferably 0.1 to 1% by mass.
By setting the CNT content in the CNT dispersion to 0.01% by mass or more, a dense network of CNT chains serving as a conductive path is formed, which is preferable in terms of improving conductivity.
Moreover, by making the content of CNT in the CNT dispersion liquid 2% by mass or less, it is preferable in that the dispersibility of CNT is improved and the transparency of the transparent conductive film 16 is improved.

CNT分散液において、水溶性分散剤の含有量は、0.05〜3質量%が好ましく、0.1〜1質量%がより好ましい。
CNT分散液における水溶性分散剤の含有量を0.05質量%以上とすることにより、CNTを好適に分散でき、均一な透明導電膜16を形成できる点で好ましい。
また、CNT分散液における水溶性分散剤の含有量を3質量%以下とすることにより、後述する洗浄工程において、容易に水溶性分散剤の量をCNTの20質量%以下にでき、導電性を高位に発現できる点で好ましい。
In the CNT dispersion, the content of the water-soluble dispersant is preferably 0.05 to 3% by mass, and more preferably 0.1 to 1% by mass.
By setting the content of the water-soluble dispersant in the CNT dispersion to 0.05% by mass or more, it is preferable in that CNT can be suitably dispersed and a uniform transparent conductive film 16 can be formed.
In addition, by setting the content of the water-soluble dispersant in the CNT dispersion to 3% by mass or less, the amount of the water-soluble dispersant can be easily reduced to 20% by mass or less of the CNT in the cleaning step described later, and the conductivity is improved. It is preferable in that it can be expressed at a high level.

また、CNT分散液は、必要に応じて、水系溶剤、CNTおよび水溶性分散剤以外にも、分散助剤、CNTのp型またはn型のドーピング剤、分散液の粘度調節剤、塗膜面上の改良剤としての界面活性剤等を含有してもよい。また、ドーピング剤として、後述するpKa値が5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩を含有してもよい。   In addition to the aqueous solvent, CNT, and the water-soluble dispersant, the CNT dispersion liquid may be a dispersion aid, a CNT p-type or n-type doping agent, a viscosity modifier for the dispersion liquid, and a coating surface. You may contain surfactant etc. as an upper improvement agent. Moreover, you may contain the acid whose pKa value mentioned later is 5 or less as a doping agent, or inorganic salt whose standard oxidation potential is 1 V or less.

CNT分散液を調製したら、基板12の表面に、CNT塗布液を塗布して、乾燥することにより、CNT薄膜を形成する。
好ましくは、図1に示すように、基板12に形成した接着層14に、CNT塗布液を塗布して、乾燥することにより、CNT薄膜を形成する。より好ましくは、接着層14にラビング布やラビングローラを用いるラビング処理を行ない、接着層14を配向膜とした後に、CNT塗布液を塗布して、乾燥することにより、CNT薄膜を形成する。
After the CNT dispersion is prepared, the CNT coating liquid is applied to the surface of the substrate 12 and dried to form a CNT thin film.
Preferably, as shown in FIG. 1, a CNT thin film is formed by applying a CNT coating liquid to the adhesive layer 14 formed on the substrate 12 and drying it. More preferably, a rubbing process using a rubbing cloth or a rubbing roller is performed on the adhesive layer 14, and after the adhesive layer 14 is used as an alignment film, a CNT coating solution is applied and dried to form a CNT thin film.

本発明の透明導電膜の製造方法において、CNT分散液の塗布方法には、特に制限はなく、従来公知の塗布法や印刷法なと、一般的な液相成膜法が広く利用できる。
CNT分散液の塗布方法は、ダイコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ブレードコート法、ドクターコート法、カーテンコート法、バーコート法、ローラーコート法、スプレーコート法、スピンコーティング法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の公知の塗料の塗布方法が、全て利用可能である。
また、印刷法としては、例えば、凸版(活版)印刷法、孔版(スクリーン)印刷法、平版(オフセット)印刷法、凹版(グラビア)印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法を利用し塗膜を形成することができる。
なお、CNT分散液の塗膜厚は、CNT分散液におけるCNTの濃度等に応じて、目的とする膜厚の透明導電膜16を得られる塗膜厚を、適宜、設定すればよい。
また、CNT分散液の乾燥も、ヒータによる加熱、ホットプレートを用いる方法、温風乾燥等の公知の乾燥方法が、全て利用可能である。
In the method for producing a transparent conductive film of the present invention, the method for applying the CNT dispersion liquid is not particularly limited, and general liquid phase film forming methods such as conventionally known coating methods and printing methods can be widely used.
The CNT dispersion can be applied by die coating, dip coating, air knife coating, blade coating, doctor coating, curtain coating, bar coating, roller coating, spray coating, spin coating, wire bar Any known coating method such as a coating method, a gravure coating method, and a slide coating method can be used.
In addition, as a printing method, for example, a printing method such as a letterpress (letter) printing method, a stencil (screen) printing method, a lithographic (offset) printing method, an intaglio (gravure) printing method, a spray printing method, or an ink jet printing method is used. A coating film can be formed.
In addition, what is necessary is just to set suitably the coating film thickness which can obtain the transparent conductive film 16 of the target film thickness according to the density | concentration of CNT in a CNT dispersion liquid, etc. as the coating film thickness of a CNT dispersion liquid.
For drying the CNT dispersion liquid, all known drying methods such as heating with a heater, a method using a hot plate, and hot air drying can be used.

CNT分散液を塗布、乾燥してCNT薄膜を形成したら、次いで、CNT薄膜を、SP値が10〜20の溶剤を主成分とする洗浄液で洗浄する。この洗浄によって、CNT薄膜から水溶性分散剤を除去する。
なお、洗浄液において、『SP値が10〜20の溶剤を主成分とする』とは、洗浄液中におけるSP値が10〜20の溶剤の含有量が50質量%以上であることを示す。
After the CNT dispersion liquid is applied and dried to form a CNT thin film, the CNT thin film is then washed with a cleaning liquid mainly composed of a solvent having an SP value of 10 to 20. By this cleaning, the water-soluble dispersant is removed from the CNT thin film.
In the cleaning liquid, “mainly a solvent having an SP value of 10 to 20” indicates that the content of the solvent having an SP value of 10 to 20 in the cleaning liquid is 50% by mass or more.

水溶性分散剤は、通常、絶縁体であり、透明導電膜16に水溶性分散剤が含まれると、透明導電膜16の導電性が低くなってしまう。
これに対し、本発明においては、洗浄工程を行って、CNT薄膜から水溶性分散剤を除去することにより、良好な導電性を有する透明導電膜16を形成できる。
The water-soluble dispersant is usually an insulator, and when the transparent conductive film 16 contains a water-soluble dispersant, the conductivity of the transparent conductive film 16 becomes low.
On the other hand, in this invention, the transparent conductive film 16 which has favorable electroconductivity can be formed by performing a washing | cleaning process and removing a water-soluble dispersing agent from a CNT thin film.

本発明においては、洗浄工程において、SP値が10〜20の溶剤を主成分とする洗浄液を用いることにより、水溶性分散剤との相溶性が向上し、相互作用が高まることで、水溶性分散剤を良好に除去することが可能になる。   In the present invention, the use of a cleaning liquid mainly composed of a solvent having an SP value of 10 to 20 in the cleaning process improves the compatibility with the water-soluble dispersant and increases the interaction, thereby increasing the water-soluble dispersion. It becomes possible to remove the agent well.

SP値が10〜20の溶剤としては、具体的には、1〜3価のアルコール類、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、アリルアルコール、1,3−プロパンジオール、メチルグリコール、n−ブタノール、2−ブタノール、t−ブタノール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、n−ペンタノール、アミルアルコール、ネオペンチルグリコール、フルフリルアルコール、n−ヘキサノール、2−エチルブタノール、2−メチルペンタン−1,3−ジオール、2,2−ジメチルブタンジオール、ジアセトンアルコール、n−ヘプチルアルコール、n−オクチルアルコール、フェノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、グリセリンなど、ケトン類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど、アミド類、例えばメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド、メチルアセトアミド、ジメチルアセトアミド、2−メチルピロリドンなど、この他、1,4−ジオキサン、モルホリン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、スルホラン、テトラメチルウレア等が例示される。
中でも、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、アリルアルコール、n−ブタノール、2−ブタノール、t−ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、1,4−ジオキサン、アセトニトリルなど、分子量が小さく、沸点が比較的低いもの、特に沸点が120℃以下のものが、塗膜の乾燥性が良好な点で好適に利用される。
SP値が10〜20の溶剤は、複数を併用してもよい。また、洗浄液には、50質量%未満で水を含有させても良い。
Specific examples of the solvent having an SP value of 10 to 20 include 1 to 3 alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, allyl alcohol, 1,3-propanediol, methyl glycol, n- Butanol, 2-butanol, t-butanol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, n-pentanol, amyl alcohol, neopentyl glycol, furfuryl alcohol, n-hexanol, 2-ethylbutanol, 2 -Methylpentane-1,3-diol, 2,2-dimethylbutanediol, diacetone alcohol, n-heptyl alcohol, n-octyl alcohol, phenol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethyl Lene glycol monophenyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, glycerin, etc., ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, amides such as methylformamide, dimethylformamide In addition, 1,4-dioxane, morpholine, acetonitrile, dimethyl sulfoxide, sulfolane, tetramethylurea and the like are exemplified.
Among them, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, allyl alcohol, n-butanol, 2-butanol, t-butanol, acetone, methyl ethyl ketone, 1,4-dioxane, acetonitrile and the like having a low molecular weight and a relatively low boiling point Particularly, those having a boiling point of 120 ° C. or less are preferably used in terms of good drying properties of the coating film.
A plurality of solvents having an SP value of 10 to 20 may be used in combination. The cleaning liquid may contain water at less than 50% by mass.

ここで、洗浄液は、酸性度の指標であるpKa値が5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩を含有するのが好ましい。
洗浄液が、このような酸または無機塩を含有することで、洗浄工程において、これらの成分をCNT薄膜に含有させることができる。すなわち、本発明の透明導電性積層体10において、透明導電膜16は、pKa値が5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩を含有するのが好ましい。
pKa値が5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩は、CNTに対して、p型のドーパントとして作用する。従って、洗浄液が、このような酸や無機塩を含有することにより、CNTにドーパントを付与して、より導電性の良好な透明導電膜16を得ることができる。
Here, the cleaning solution preferably contains an acid having a pKa value of 5 or less, which is an index of acidity, or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less.
When the cleaning liquid contains such an acid or inorganic salt, these components can be contained in the CNT thin film in the cleaning step. That is, in the transparent conductive laminate 10 of the present invention, the transparent conductive film 16 preferably contains an acid having a pKa value of 5 or less or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less.
An acid having a pKa value of 5 or less or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less acts as a p-type dopant for CNT. Therefore, when the cleaning liquid contains such an acid or inorganic salt, the transparent conductive film 16 having better conductivity can be obtained by adding a dopant to the CNT.

pKa値が5以下の酸は、公知の各種のものが利用可能である。具体的には、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、過ヨウ素酸、酢酸、クロロ酢酸、フルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、安息香酸、p−クロロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸等が例示される。
また、標準酸化電位が1V以下の無機塩も、公知の各種のものが利用可能である。具体的には、塩化第一鉄、水酸化第一鉄、酢酸第一鉄等の第一鉄塩、塩化第二鉄、水酸化第二鉄、酢酸第二鉄等の第二鉄塩、塩化第一銅、酢酸第一銅、塩化第二銅、酢酸第二銅等の銅塩、塩化亜鉛、酢酸亜鉛等の亜鉛塩等が例示される。
Various known acids can be used as the acid having a pKa value of 5 or less. Specifically, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, perchloric acid, periodic acid, acetic acid, chloroacetic acid, fluoroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, benzoic acid, p-chlorobenzoic acid , P-nitrobenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, salicylic acid and the like.
Various known inorganic salts having a standard oxidation potential of 1 V or less can be used. Specifically, ferrous salts such as ferrous chloride, ferrous hydroxide and ferrous acetate, ferric salts such as ferric chloride, ferric hydroxide and ferric acetate, chloride Examples thereof include copper salts such as cuprous, cuprous acetate, cupric chloride and cupric acetate, and zinc salts such as zinc chloride and zinc acetate.

洗浄液におけるpKa値が5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩の含有量は、使用するSP値が10〜20の溶剤、pKaが5以下の酸や標準酸化電位が1V以下の無機塩の種類等に応じて、適宜、設定すればよい。
具体的には、洗浄液における、このような酸や無機塩の含有量は、0.1〜5質量%が好ましく、0.5〜3質量%がより好ましい。
洗浄液における酸等の含有量を0.1質量%以上とすることにより、CNTに十分にドーピングできる点で好ましい。
また、洗浄液における酸等の含有量を5質量%以下とすることにより、水溶性分散剤の除去を効率よく行うことができる点で好ましい。
The content of an acid having a pKa value of 5 or less in the cleaning solution or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less is a solvent having an SP value of 10 to 20, an acid having a pKa of 5 or less, or a standard oxidation potential of 1 V or less. What is necessary is just to set suitably according to the kind etc. of inorganic salt.
Specifically, the content of such an acid or inorganic salt in the cleaning liquid is preferably 0.1 to 5% by mass, and more preferably 0.5 to 3% by mass.
By setting the content of acid or the like in the cleaning liquid to 0.1% by mass or more, it is preferable in that CNT can be sufficiently doped.
Moreover, it is preferable at the point which can remove a water-soluble dispersing agent efficiently by content of acids etc. in a washing | cleaning liquid being 5 mass% or less.

なお、洗浄液は、SP値が10〜20の溶剤、pKa値が5以下の酸もしくは標準酸化電位が1V以下の無機塩以外にも、必要に応じて、カチオン系、アニオン系、またはノニオン系の界面活性剤を含有してもよい。   In addition to the solvent having an SP value of 10 to 20, an acid having a pKa value of 5 or less, or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less, the cleaning liquid may be cationic, anionic, or nonionic as required. A surfactant may be contained.

このような洗浄液を用いるCNT薄膜の洗浄は、洗浄液にCNT薄膜を曝せる方法が、各種、利用可能である。
一例として、CNT薄膜を形成した基板12(基板12および接着層14)を、洗浄液に浸漬する方法が例示される。また、浸漬中には、洗浄液を攪拌あるいは循環してもよく、超音波による振動を付与してもよく、洗浄液を加熱あるいは冷却してもよい。
別の方法として、CNT薄膜を洗浄液でリンス処置することによって、CNT薄膜を洗浄してもよい。
For the cleaning of the CNT thin film using such a cleaning liquid, various methods for exposing the CNT thin film to the cleaning liquid can be used.
As an example, a method of immersing a substrate 12 (substrate 12 and adhesive layer 14) on which a CNT thin film is formed in a cleaning liquid is exemplified. Further, during the immersion, the cleaning liquid may be stirred or circulated, ultrasonic vibration may be applied, and the cleaning liquid may be heated or cooled.
As another method, the CNT thin film may be cleaned by rinsing the CNT thin film with a cleaning solution.

ここで、CNT薄膜から水溶性分散剤を除去する洗浄工程は、CNT薄膜が含有する水溶性分散剤の量が、CNTに対して20質量%以下となるように、浸漬処理やリンス処理の時間、洗浄液温度を調節して行うのが好ましい。
すなわち、本発明の透明導電性積層体10において、透明導電膜16が含有する水溶性分散剤は、CNTに対して20質量%であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましく、5質量%以下であるのがさらに好ましい。
Here, the cleaning process for removing the water-soluble dispersant from the CNT thin film is performed by the dipping treatment or the rinse treatment so that the amount of the water-soluble dispersant contained in the CNT thin film is 20% by mass or less with respect to the CNT. The cleaning liquid temperature is preferably adjusted.
That is, in the transparent conductive laminate 10 of the present invention, the water-soluble dispersant contained in the transparent conductive film 16 is preferably 20% by mass, more preferably 10% by mass or less, based on CNT. More preferably, it is 5 mass% or less.

前述のように、水溶性分散剤は、通常、絶縁体であり、水溶性分散剤の量が多いほど、導電性が低くなる。
洗浄工程を、CNT薄膜が含有する水溶性分散剤の量が、CNTに対して20質量%以下となるまで行うことにより、導電性が良好な透明導電膜を得られる点で好ましい。
As described above, the water-soluble dispersant is usually an insulator, and the greater the amount of the water-soluble dispersant, the lower the conductivity.
By performing the washing step until the amount of the water-soluble dispersant contained in the CNT thin film is 20% by mass or less based on CNT, it is preferable in that a transparent conductive film having good conductivity can be obtained.

なお、CNT薄膜におけるCNTに対する水溶性分散剤の含有量は、例えば、熱重量・示差熱分析法(TG/DTA)、顕微赤外分光法等の公知の方法を利用して測定することができる。   In addition, content of the water-soluble dispersing agent with respect to CNT in a CNT thin film can be measured using well-known methods, such as a thermogravimetric / differential thermal analysis method (TG / DTA) and a microscopic infrared spectroscopy, for example. .

CNT薄膜の洗浄を終了したら、CNT薄膜を乾燥した後に、CNT薄膜を加圧して圧縮する加圧工程を行って、透明導電膜16を作製して、透明導電性積層体10とする。
本発明の製造方法では、洗浄によって水溶性分散剤を除去したCNT薄膜を、加圧して圧縮することにより、CNT同士の接触点を多くして、より導電性の高い透明導電膜16を得ることができる。また、加圧工程を行うことで、透明導電膜16の膜厚を薄く、均一に平滑化できるため、透明性を向上できる。
When the cleaning of the CNT thin film is completed, after the CNT thin film is dried, a pressurizing step of pressurizing and compressing the CNT thin film is performed to produce the transparent conductive film 16 to obtain the transparent conductive laminate 10.
In the manufacturing method of the present invention, the CNT thin film from which the water-soluble dispersant has been removed by washing is pressurized and compressed to increase the number of contact points between the CNTs and to obtain a transparent conductive film 16 having higher conductivity. Can do. Moreover, since the film thickness of the transparent conductive film 16 can be made thin and uniformly smoothed by performing the pressurizing step, the transparency can be improved.

加圧は、シート状物を加圧して圧縮する、公知の方法が、各種、利用可能である。
具体的には、いわゆる、カレンダー処理が有効であり、以下のカレンダー処理ロール、カレンダー処理条件で行うとよい。
カレンダー処理ロールとしては、エポキシ、ポリエステル、ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチック弾性ロール(カーボン、金属やその他の無機化合物が練り込まれているものでもよい)と金属ロールの組み合わせを使用する。また、金属ロール同士で処理することが、より平坦な透明導電層表面が得られるので好ましい。透明導電層表面と接する側には、より平坦な表面を得るために金属ロールを配置する。支持体表面と接する側には、通常、プラスチック弾性ロールを配置するが、金属ロールを配置することが好ましい。
For the pressurization, various known methods for pressurizing and compressing the sheet-like material can be used.
Specifically, so-called calendar processing is effective, and the following calendar processing roll and calendar processing conditions may be used.
As the calendering roll, heat-resistant plastic elastic rolls such as epoxy, polyester, nylon, polyimide, polyamide, polyimide amide (which may be kneaded with carbon, metal or other inorganic compounds) and metal rolls Use a combination. Moreover, it is preferable to process between metal rolls because a flatter transparent conductive layer surface can be obtained. A metal roll is disposed on the side in contact with the surface of the transparent conductive layer in order to obtain a flatter surface. A plastic elastic roll is usually arranged on the side in contact with the support surface, but a metal roll is preferably arranged.

カレンダー処理条件は、特開2009−96798号公報に記載の磁気記録材料に適応される条件が使用できる。
具体的には、カレンダーロールの温度、即ちカレンダー温度は60〜100℃の範囲、好ましくは70〜100℃の範囲、特に好ましくは80〜100℃の範囲である。
カレンダー処理の圧力は、CNT薄膜の厚さ、CNT薄膜におけるCNTの含有量、目的とする透明導電膜16の厚さ等に応じて、適宜設定されるが、好ましくは100〜500kg/cm2の範囲、より好ましくは200〜450kg/cm2の範囲であり、特に300〜400kg/cm2の範囲の条件が好ましい。
カレンダー処理の処理速度は10〜900m/分の範囲であるのが好ましい。
加圧工程におけるカレンダー処理の圧力を100kg/cm2以上とすることにより、加圧よってCNT薄膜を好適に圧縮して、より導電性や透明性に優れる透明導電膜16が得られる点で好ましい。また、加圧工程における圧力を500kg/cm2以下とすることにより、CNTの切断や損傷を好適に防止できる点で好ましい。
加圧工程でカレンダーロールの温度を60℃以上に加熱することで、効果的にCNT鎖の接点が形成され、導電性向上の点で好ましい。また、カレンダーロールの温度が高すぎると、CNT鎖の接点に欠陥が生じる、透明導電膜フィルムの搬送性が低下する等の不都合が生じる可能性が有るが、100℃以下とすることで、このような問題も回避できる。
カレンダー処理の指標としては、WYKO社製の光干渉式表面粗さ計HD−2000型を用いてカットオフ値0.25mmの条件で測定250μm×250μm面積において測定される透明導電層表面の中心面平均表面粗さRaの変化量(低下量)ΔRaを用いることができる。
As the calendering conditions, conditions applicable to the magnetic recording material described in JP-A-2009-96798 can be used.
Specifically, the temperature of the calendar roll, that is, the calendar temperature is in the range of 60 to 100 ° C, preferably in the range of 70 to 100 ° C, and particularly preferably in the range of 80 to 100 ° C.
The pressure of the calendering process is appropriately set according to the thickness of the CNT thin film, the CNT content in the CNT thin film, the thickness of the target transparent conductive film 16, and the like, but preferably 100 to 500 kg / cm 2 . The range is more preferably 200 to 450 kg / cm 2 , and the condition of 300 to 400 kg / cm 2 is particularly preferable.
The processing speed of the calendar process is preferably in the range of 10 to 900 m / min.
By setting the pressure of the calendar process in the pressurizing step to 100 kg / cm 2 or more, it is preferable in that the CNT thin film is suitably compressed by pressurization, and a transparent conductive film 16 having more excellent conductivity and transparency can be obtained. Moreover, it is preferable at the point which can prevent the cutting | disconnection and damage of CNT suitably by making the pressure in a pressurization process into 500 kg / cm < 2 > or less.
By heating the temperature of the calender roll to 60 ° C. or higher in the pressurizing step, CNT chain contacts are effectively formed, which is preferable in terms of improving conductivity. Moreover, if the temperature of the calender roll is too high, there may be inconveniences such as defects in the contact points of the CNT chain, and a decrease in the transportability of the transparent conductive film. Such problems can also be avoided.
As an index of the calendar process, the center plane of the surface of the transparent conductive layer measured in an area of 250 μm × 250 μm is measured under the condition of a cutoff value of 0.25 mm using an optical interference type surface roughness meter HD-2000 manufactured by WYKO. A change amount (reduction amount) ΔRa of the average surface roughness Ra can be used.

ここで、本発明の製造方法では、このような加圧工程を行う前に、洗浄工程を終了したCNT薄膜に、紫外線、可視光および赤外線のいずれかを照射し、その後、加圧工程を行うのが好ましい。
理由は不明ではあるが、CNT薄膜に、紫外線、可視光および赤外線のいずれかを照射した後に、加圧工程を行うことにより、加圧処理に薄膜化、均一化がより効果的に進み、導電性がいっそう向上する点で好ましい。
紫外線、可視光および赤外線のいずれかの照射量は、光源のエネルギーにもよるが、好ましくは100mJ/cm2〜5J/cm2、より好ましくは200mJ/cm2〜2J/cm2、特に300mJ/cm2〜1J/cm2の範囲が好ましい。照射量が100mJ/cm2未満では上記効果が認められず、5J/cm2より大きい照射量では透明導電膜の着色の問題が生じる。
Here, in the manufacturing method of the present invention, before performing such a pressurizing step, the CNT thin film that has finished the cleaning step is irradiated with any one of ultraviolet rays, visible light, and infrared rays, and then the pressurizing step is performed. Is preferred.
The reason is unknown, but by applying a pressing process after irradiating the CNT thin film with either ultraviolet light, visible light, or infrared light, the thinning and homogenization of the pressing process proceeded more effectively, and the conductive process It is preferable in that the property is further improved.
The irradiation amount of any one of ultraviolet rays, visible light and infrared rays depends on the energy of the light source, but is preferably 100 mJ / cm 2 to 5 J / cm 2 , more preferably 200 mJ / cm 2 to 2 J / cm 2 , particularly 300 mJ / range cm 2 ~1J / cm 2 is preferred. When the irradiation amount is less than 100 mJ / cm 2 , the above effect is not observed, and when the irradiation amount is more than 5 J / cm 2 , the transparent conductive film is colored.

以上、本発明の透明導電膜の製造方法および透明導電性積層体について詳細に説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。   As mentioned above, although the manufacturing method of the transparent conductive film and transparent conductive laminated body of this invention were demonstrated in detail, this invention is not limited to the above-mentioned example, In the range which does not deviate from the summary of this invention, various improvement and Of course, changes may be made.

以下、本発明の具体的実施例を挙げて、本発明について、より詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention. However, the present invention is not limited to the following examples.

<CNTの物性評価>
単層CNTとして、e−DIPS法による単層CNT(株式会社名城ナノカーボン社製、商品名EC)、および、e−DIPS法ではない製造方法による2種の単層CNT((KH Chemical社製、商品名HP)および(Hanwha-chemical社製、商品名ASP−100F))を用意した。
これらの単層CNTのG/D比、直径、100〜120cm-1および/または120〜140cm-1のRBM吸収のピーク、250cm-1以上のRBM吸収、アモルファスカーボン量、および、TG/DTAにおける重量減少開始温度および600〜900℃の重量減少率を測定した。
<Physical property evaluation of CNT>
As single-walled CNTs, single-walled CNTs produced by the e-DIPS method (manufactured by Meijo Nanocarbon Co., Ltd., trade name EC) and two kinds of single-walled CNTs produced by a manufacturing method other than the e-DIPS method (produced by KH Chemical Co., Ltd.) , Trade name HP) and (trade name ASP-100F, manufactured by Hanwha-chemical) were prepared.
G / D ratio of the single-walled CNT, the diameter, the peak of RBM absorption 100~120Cm -1 and / or 120~140cm -1, 250cm -1 or more RBM absorption, amorphous carbon amount, and, in the TG / DTA The weight loss starting temperature and the weight loss rate of 600 to 900 ° C. were measured.

<<単層CNTのラマン吸収スペクトルの測定>>
顕微レーザラマン分光装置(株式会社堀場製作所製、商品名LabRam HR-800 Evolution)を用いて、単層CNTの532nm励起光でのラマンスペクトルを測定を行った。得られたラマンスペクトルを測定結果から、G/D比、直径、100〜120cm-1および/または120〜140cm-1のRBM吸収の主ピークの有無、250cm-1以上のRBM吸収の有無を調べた。
なお、単層CNTのG/D比および直径は、下記により求めた。
<<<CNTのG/D比の算出>>>
532nmの励起光にてラマンスペクトルを測定し、各単層CNTのGバンド(1590cm-1周辺、グラフェン面内振動)とDバンド(1350cm-1周辺、sp2炭素ネットワークの欠陥由来)の強度比G/D比を算出した。この強度比G/D比が大きいと、カーボンナノチューブの欠陥が少ないことを示す。
<<<カーボンナノチューブの環サイズの算出>>>
ラジアルブリージング(RBM)モードのシフトω(RBM)(cm-1)より、下記式を用いて、直径を算出した。
式: 直径(nm)=248/ω(RBM)
<< Measurement of Raman absorption spectrum of single-walled CNT >>
Using a microscopic laser Raman spectrometer (trade name: LabRam HR-800 Evolution, manufactured by Horiba, Ltd.), the Raman spectrum of single-walled CNTs with 532 nm excitation light was measured. From the results obtained Raman spectrum measurement, G / D ratio, the diameter, the main peak existence of RBM absorption 100~120Cm -1 and / or 120~140Cm -1, the presence or absence of 250 cm -1 or more RBM absorption examined It was.
In addition, the G / D ratio and diameter of single-walled CNT were calculated | required by the following.
<<< Calculation of G / D ratio of CNT >>>
A Raman spectrum is measured with excitation light of 532 nm, and the intensity ratio G between the G band (around 1590 cm −1 , graphene in-plane vibration) and the D band (around 1350 cm −1 , from sp2 carbon network defects) of each single-walled CNT. The / D ratio was calculated. A large intensity ratio G / D ratio indicates that there are few defects in the carbon nanotube.
<<< Calculation of ring size of carbon nanotube >>>
The diameter was calculated from the radial breathing (RBM) mode shift ω (RBM) (cm −1 ) using the following formula.
Formula: Diameter (nm) = 248 / ω (RBM)

<<CNTの熱分析測定>>
熱重量・示差熱分析計(SIIテクノロジー株式会社製、商品名TG/DTA 6200 AST−2)を用い、単層CNTに対し、昇温速度10℃/分、室温〜900℃の温度範囲で熱重量変化を測定した。
また、後述する透明導電性積層体の製造工程において、リンス処理または浸漬処理を行った後のCNT塗布膜に対し、同様に熱重量変化を測定した。
さらに、リンス処理または浸漬処理を行ったCNT塗布膜を取り出し、残存分散剤量に関し、窒素気流下、昇温速度10℃/分、室温〜500℃の温度範囲で熱重量変化にて測定した。
加えて、300〜500℃の重量減少率から、単層CNT中のアモルファスカーボン量(AC量)を測定した。
結果は、後述する表2に示す。
<< Thermal analysis measurement of CNT >>
Using a thermogravimetric / differential thermal analyzer (trade name TG / DTA 6200 AST-2, manufactured by SII Technology Co., Ltd.), heat was applied to a single-walled CNT at a temperature rising rate of 10 ° C./min and a temperature range of room temperature to 900 ° C. The change in weight was measured.
Moreover, the thermogravimetric change was similarly measured with respect to the CNT coating film after performing the rinse process or the immersion process in the manufacturing process of the transparent conductive laminated body mentioned later.
Furthermore, the CNT coating film which performed the rinse process or the immersion process was taken out, and it measured by the thermogravimetric change in the temperature range of 10 degree-C / min and room temperature-500 degreeC under nitrogen stream regarding the amount of residual dispersing agents.
In addition, the amount of amorphous carbon (AC amount) in the single-walled CNTs was measured from the weight reduction rate of 300 to 500 ° C.
The results are shown in Table 2 described later.

[実施例1〜9]
<CNT分散液の作製>
e−DIPS法による単層CNT(株式会社名城ナノカーボン製、商品名EC)2gを濃硝酸(60質量%、関東化学株式会社製)500mlに加え、120℃で20時間加熱還流した。加熱還流後、CNTを含む硝酸溶液をイオン交換水で3倍に希釈し濾過した。イオン交換水で濾物の懸濁液が中性となるまで水洗後濾別し、水を含んだCNTのウェット体を得た。
得られたウェット状態のCNT(乾燥重量100mg)に、水溶性分散剤としてデオキシコール酸ナトリウム(分子量414.55)0.3gおよびイオン交換水を加え、固形分濃度を1.0w/v%とした後、メカニカルホモジナイザー(IKA社製、商品名T10basic)を用いて、20℃で15分間混合して、CNTの予備混合物を得た。
次いで、この予備混合物を、薄膜旋回型高速ミキサー(プライミクス株式会社製、商品名フィルミックス40−40型)を用いて、25℃の恒温層中、周速40m/秒で10分間高速旋回薄膜分散法にて分散処理し、CNTペーストを調製した。なお、分散処理は、「フィルミックス40−40型」の管状外套の内周面と撹拌羽根の外周面との間隔を2mmに調整して行った。
次に、このCNTペーストをCNTの濃度が0.15質量%となるようにイオン交換水で希釈した。なお、実施例2〜9においては、ドーピング剤として酸または無機塩を0.5g、添加した。得られた液を高速遠心分離機(株式会社トミー精工製、商品名MX−300)にて10,000G、15分遠心処理し、CNT分散液を得た。
その後、水を添加して終濃度でCNT集合体の濃度が0.10質量%となるように調製してCNT塗布液とした。
[Examples 1 to 9]
<Preparation of CNT dispersion>
2 g of single-walled CNT by e-DIPS method (manufactured by Meijo Nanocarbon Co., Ltd., trade name EC) was added to 500 ml of concentrated nitric acid (60% by mass, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and heated to reflux at 120 ° C. for 20 hours. After heating to reflux, a nitric acid solution containing CNTs was diluted 3 times with ion-exchanged water and filtered. Washed with ion-exchanged water until the suspension of the filtrate became neutral, and then filtered to obtain a wet CNT body containing water.
To the obtained wet CNT (dry weight 100 mg), 0.3 g of sodium deoxycholate (molecular weight 414.55) and ion-exchanged water were added as a water-soluble dispersant, and the solid content concentration was 1.0 w / v%. Then, using a mechanical homogenizer (manufactured by IKA, trade name: T10 basic), the mixture was mixed at 20 ° C. for 15 minutes to obtain a CNT premix.
Next, this premixed mixture was dispersed in a high-speed swirling thin film for 10 minutes at a peripheral speed of 40 m / sec in a thermostatic layer at 25 ° C. using a thin-film swirling high-speed mixer (trade name: Filmix 40-40, manufactured by PRIMIX Corporation). The CNT paste was prepared by a dispersion process. The dispersion treatment was performed by adjusting the distance between the inner peripheral surface of the “fill mix 40-40” tubular mantle and the outer peripheral surface of the stirring blade to 2 mm.
Next, this CNT paste was diluted with ion-exchanged water so that the CNT concentration became 0.15% by mass. In Examples 2 to 9, 0.5 g of acid or inorganic salt was added as a doping agent. The obtained liquid was centrifuged at 10,000 G for 15 minutes with a high-speed centrifuge (trade name MX-300, manufactured by Tommy Seiko Co., Ltd.) to obtain a CNT dispersion.
Thereafter, water was added to prepare a CNT coating solution by adjusting the final concentration so that the concentration of the CNT aggregate was 0.10% by mass.

<接着層14を有する基板12の作製>
PETフィルムを縦方向および横方向の各々に3.3倍に延伸する2軸延伸を行った後に、PETフィルムを240℃で20秒間熱固定後、これと同じ温度で横方向に約4%緩和させた。この後、テンターのチャック部をスリット処理したあと、両端にナール加工を行い、巻き取った。このようにして、厚さ180μmのロール状のPET基板を得た。
次に、作製したPET基板をシート状に切断して、基板12とした。
この基板12を、ソリッドステートコロナ処理機(ピラー株式会社製、商品名6KVAモデル)を用い、室温下において、基板12の表面を送り速度20m/分で処理した。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ローラとのギャップクリアランスは1.6mmであり、電流および電圧の読み取り値から、基板には0.375kV・A・分/m2の処理がなされた。
処理した基板12上に、下記組成の易接着液を6ml/m2塗布し、185℃で5分間乾燥して、厚さ0.10μmの接着層14を形成した。
<<易接着液の組成>>
・ブタジエン−スチレン共重合ラテックス(固形分43質量%、ブタジエン/スチレン質量比=32/68):13ml
・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウム塩8質量%水溶液:7ml
・ポリスチレン粒子(平均粒子径:1.8μm)2質量%水溶液:0.5ml
・イオン交換水:79.5ml
<Production of Substrate 12 Having Adhesive Layer 14>
After biaxial stretching that stretches the PET film 3.3 times in the machine direction and transverse direction, the PET film was heat-set at 240 ° C. for 20 seconds, and relaxed by about 4% in the transverse direction at the same temperature. I let you. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slitted, and then knurled at both ends and wound up. In this way, a roll-shaped PET substrate having a thickness of 180 μm was obtained.
Next, the produced PET substrate was cut into a sheet shape to obtain a substrate 12.
The substrate 12 was processed at a feed rate of 20 m / min at room temperature using a solid state corona treatment machine (product name: 6KVA model, manufactured by Pillar Co., Ltd.). The processing frequency at this time is 9.6 kHz, the gap clearance between the electrode and the dielectric roller is 1.6 mm, and the substrate is processed at 0.375 kV · A · min / m 2 from the current and voltage readings. It was.
An easy-adhesion solution having the following composition was applied to the treated substrate 12 at 6 ml / m 2 and dried at 185 ° C. for 5 minutes to form an adhesive layer 14 having a thickness of 0.10 μm.
<< Composition of easy adhesive liquid >>
・ Butadiene-styrene copolymer latex (solid content: 43% by mass, butadiene / styrene mass ratio = 32/68): 13 ml
-2,4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt 8 mass% aqueous solution: 7 ml
Polystyrene particles (average particle size: 1.8 μm) 2% by mass aqueous solution: 0.5 ml
・ Ion exchange water: 79.5 ml

<CNT塗膜の作製>
作製したCNT塗布液を、エクストルージョンタイプの塗布ヘッドを用いたダイコータを使用し、接着層14を設けた基板12上に塗布した。次いで、塗膜を80℃の乾燥機内で1分間乾燥させて、CNT塗膜を固定化した。
なお、光透過率はCNT塗布液の塗布量によって変化するので、塗布液のCNT濃度に合わせて、基板12に塗布するCNT塗布液の塗布量を調節した。
<Preparation of CNT coating film>
The produced CNT coating solution was applied onto the substrate 12 provided with the adhesive layer 14 using a die coater using an extrusion type coating head. Next, the coating film was dried in a dryer at 80 ° C. for 1 minute to immobilize the CNT coating film.
Since the light transmittance varies depending on the coating amount of the CNT coating solution, the coating amount of the CNT coating solution applied to the substrate 12 was adjusted according to the CNT concentration of the coating solution.

<リンス処理または浸漬処理の実施>
接着層14およびCNT塗膜を形成した基板12に対し、過剰の水溶性分散剤を除去するため、エタノール液にてCNT塗膜を3分間リンス処理し、または、エタノール液中に30秒間浸漬処理した。
リンス処理または浸漬処理後、フィルムに付着した液滴をエアダスターで除去し、その後60℃で乾燥させた。
<Implementation of rinse treatment or immersion treatment>
In order to remove excess water-soluble dispersant on the substrate 12 on which the adhesive layer 14 and the CNT coating film are formed, the CNT coating film is rinsed with an ethanol solution for 3 minutes, or is immersed in the ethanol solution for 30 seconds. did.
After rinsing or dipping, the droplets adhering to the film were removed with an air duster and then dried at 60 ° C.

<加熱加圧処理の実施>
金属ロールの表面温度80℃で、ニップロール間に250kg/cm2で圧力をかけながら、接着層14およびCNT層を形成した基板12を、ロール間を通すことにより加熱加圧処理を(カレンダー処理)行い、CNTを基板に圧着して、透明導電膜16を形成し、図1に示すような透明導電性積層体10を作製した。
<Implementation of heat and pressure treatment>
While applying pressure at 250 kg / cm 2 between the nip rolls at a surface temperature of the metal roll of 80 ° C., the substrate 12 on which the adhesive layer 14 and the CNT layer are formed is heated and pressed by passing between the rolls (calendar treatment). Then, CNT was pressure-bonded to the substrate to form a transparent conductive film 16, and a transparent conductive laminate 10 as shown in FIG. 1 was produced.

[比較例1]
単層CNTとして、e−DIPS法では無い製造方法による単層CNT(KH Chemical社製、商品名HP)を用いた以外は、実施例1と同様に透明導電性積層体を作製した。
[比較例2]
単層CNTとして、e−DIPS法では無い製造方法による単層CNT(KH Chemical社製、商品名HP)を用いた以外は、実施例2と同様に透明導電性積層体を作製した。
[比較例3]
単層CNTとして、e−DIPS法では無い製造方法による単層CNT(Hanwha-chemical社製、商品名ASP−100F)を用いた以外は、実施例2と同様に透明導電性積層体を作製した。
[Comparative Example 1]
A transparent conductive laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that single-walled CNT (manufactured by KH Chemical Co., trade name HP) by a production method other than the e-DIPS method was used as the single-walled CNT.
[Comparative Example 2]
A transparent conductive laminate was produced in the same manner as in Example 2 except that single-wall CNT (manufactured by KH Chemical Co., trade name HP) by a production method other than the e-DIPS method was used as the single-wall CNT.
[Comparative Example 3]
A transparent conductive laminate was prepared in the same manner as in Example 2 except that single-walled CNTs (manufactured by Hanwha-chemical, trade name ASP-100F) by a manufacturing method other than the e-DIPS method were used as the single-walled CNTs. .

[比較例4]
浸漬処理を行わない以外は、実施例3と同様に透明導電性積層体を作製した。
[比較例5]
リンス処理を行った後に、加熱加圧処理を行わない以外は、実施例5と同様に透明導電性積層体を作製した。
[Comparative Example 4]
A transparent conductive laminate was produced in the same manner as in Example 3 except that the immersion treatment was not performed.
[Comparative Example 5]
A transparent conductive laminate was produced in the same manner as in Example 5 except that after the rinsing treatment, no heat and pressure treatment was conducted.

[評価]
作製した実施例1〜9および比較例1〜5の透明導電性積層体10について、以下のようにして、表面抵抗値および光透過率を測定した。
<表面抵抗値>
表面抵抗値[Ω/□]は、5cm×10cmにサンプリングした透明導電性積層体10に対し、抵抗率計(株式会社三菱化学アナリテック製、商品名ロレスターGPまたは商品名ハイレスターUX)を用い、透明導電性積層体10の透明導電膜16側の中央部に4探針プローブを密着させて、4端子法により室温下で測定した。
<光透過率>
光透過率は、透明導電性積層体10を分光光度計(株式会社島津製作所製、商品名UV−3150)にて、透明導電膜16側から光を入射させて波長550nmにおける光透過率[%]を測定した。
結果を表1に示す。
[Evaluation]
About the produced transparent conductive laminated body 10 of Examples 1-9 and Comparative Examples 1-5, the surface resistance value and the light transmittance were measured as follows.
<Surface resistance value>
For the surface resistance value [Ω / □], a resistivity meter (trade name Lorester GP or trade name High Lester UX, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) is used for the transparent conductive laminate 10 sampled to 5 cm × 10 cm. The four-probe probe was brought into close contact with the central portion of the transparent conductive laminate 10 on the transparent conductive film 16 side, and measurement was performed at room temperature by the four-terminal method.
<Light transmittance>
The light transmittance is obtained by allowing light to enter the transparent conductive laminate 10 from the transparent conductive film 16 side with a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: UV-3150) and transmitting light at a wavelength of 550 nm [%. ] Was measured.
The results are shown in Table 1.

また、前述の各単層CNTの物性の測定結果を表2に示す。

前述のように、EC(商品名)は、株式会社名城ナノカーボン製のe−DIPS法による単層CNTである。
また、HP(商品名)は、KH Chemical社製のe−DIPS法ではない製造方法による単層CNTである。さらに、ASP−100F(商品名)は、Hanwha-chemical社製のe−DIPS法ではない製造方法による単層CNTである。
また、各単層CNTについて、CNTの50質量%以上が単層CNTであり、かつ直径が1.5〜2.5nmの範囲内であるか否かについては、高分解能透過型電子顕微鏡(FEI社製、Titan型、加速電圧80keV)の観察において、100万倍、150nm2の視野の中で視野面積の10%以上がCNTである視野中から任意に抽出した100本のCNTについて評価することで確認した。
この測定は、視野を変えて5回実施し、最大値・最小値を除いた3回の平均値とした。
なお、一つの視野中で100本の測定ができない場合は、100本になるまで複数の視野から測定した。このとき、視野中でCNTの一部が観察できれば1本と計上し、必ずしも両端が見えている必要はない。また、視野中で2本と認識されても視野外でつながって1本となっていることもあり得るが、2本と判断した。
その結果、ECは、直径が1.5〜2.5nmの単層カーボンナノチューブの含有量が50質量%以上であるCNTであり、HPおよびASP−100Fは、直径が1.5〜2.5nmの単層カーボンナノチューブの含有量が50質量%以上であるCNTではないことを確認した。
Table 2 shows the measurement results of the physical properties of each single-walled CNT described above.

As described above, EC (trade name) is a single-walled CNT manufactured by Meijo Nano Carbon Co., Ltd. by the e-DIPS method.
Further, HP (trade name) is a single-walled CNT produced by a manufacturing method other than the e-DIPS method manufactured by KH Chemical. Furthermore, ASP-100F (trade name) is a single-walled CNT produced by a manufacturing method other than the e-DIPS method manufactured by Hanwha-chemical.
Further, for each single-walled CNT, whether or not 50% by mass or more of the CNTs are single-walled CNTs and the diameter is in the range of 1.5 to 2.5 nm is determined according to a high-resolution transmission electron microscope (FEI). Evaluation of 100 CNTs arbitrarily extracted from a visual field in which 10% or more of the visual field area is CNT in a visual field of 1 million times and 150 nm 2 in the observation of Titan type, acceleration voltage 80 keV) Confirmed with.
This measurement was performed 5 times while changing the visual field, and an average value of 3 times excluding the maximum value and the minimum value was used.
In addition, when 100 measurement was impossible in one visual field, it measured from the several visual field until it became 100. At this time, if a part of the CNT can be observed in the field of view, it is counted as one, and both ends are not necessarily visible. Moreover, even though it was recognized as two in the field of view, it may be connected outside the field of view and become one, but it was determined to be two.
As a result, EC is CNT in which the content of single-walled carbon nanotubes having a diameter of 1.5 to 2.5 nm is 50% by mass or more, and HP and ASP-100F are 1.5 to 2.5 nm in diameter. It was confirmed that the content of the single-walled carbon nanotube was not CNT having a content of 50% by mass or more.

表1および表2の結果から、本発明の製造方法で透明導電膜を製造した本発明の透明導電性積層体10は、従来の透明導電性積層体に比して、表面抵抗値が低く、優れた光透過率を示すことが判る。   From the results of Table 1 and Table 2, the transparent conductive laminate 10 of the present invention in which the transparent conductive film was produced by the production method of the present invention has a lower surface resistance value than the conventional transparent conductive laminate, It can be seen that the light transmittance is excellent.

[実施例10〜14、比較例6および7]
ドーピング剤(酸または無機塩)をCNT分散液に添加する代わりに、リンス処理液もしくは浸漬処理液にドーピング剤5mmol/L(リットル)を添加した以外は、実施例2(実施例10)、実施例3(実施例11)、実施例4(実施例12)、実施例5(実施例13)、実施例6(実施例14)、比較例2(比較例6)、および、比較例3(比較例7)と同様に透明導電性積層体10を作製した。
作製した透明導電性積層体10に関して、実施例1等と同様に表面抵抗値および光透過率を測定した。
結果を表3に示す。
[Examples 10 to 14, Comparative Examples 6 and 7]
Instead of adding the doping agent (acid or inorganic salt) to the CNT dispersion, Example 2 (Example 10), except that 5 mmol / L (liter) of the doping agent was added to the rinsing treatment solution or the immersion treatment solution. Example 3 (Example 11), Example 4 (Example 12), Example 5 (Example 13), Example 6 (Example 14), Comparative Example 2 (Comparative Example 6), and Comparative Example 3 ( A transparent conductive laminate 10 was prepared in the same manner as in Comparative Example 7).
Regarding the produced transparent conductive laminate 10, the surface resistance value and the light transmittance were measured in the same manner as in Example 1 and the like.
The results are shown in Table 3.


表3から、本発明の製造方法では、塗布液にドーピング剤を添加せずに、リンス処理液や浸漬処理液にドーピング剤を添加して処理を行っても、得られる透明導電性積層体10は、良好な表面抵抗値と光透過率を示すことが判る。

From Table 3, in the manufacturing method of the present invention, the transparent conductive laminate 10 obtained even when the doping agent is added to the rinsing treatment solution or the immersion treatment solution without adding the doping agent to the coating solution. Shows good surface resistance and light transmittance.

[実施例15〜17]
リンス処理もしくは浸漬処理を行う前に、CNT塗布膜に紫外線照射を行った以外は、実施例2(実施例15)、実施例3(実施例16)、および、実施例4(実施例17)と同様に透明導電性積層体10を作製した。
紫外線照射は、紫外線照射機(アイグラフィックス株式会社製、商品名ECS−401GX)を用い、紫外線照射量(光量)は300mJ/cm2とした。
作製した透明導電性積層体10に関して、実施例1等と同様に表面抵抗値および光透過率を測定した。
結果を下記の表4に示す。
[Examples 15 to 17]
Example 2 (Example 15), Example 3 (Example 16), and Example 4 (Example 17), except that the CNT coating film was irradiated with ultraviolet rays before the rinse treatment or the immersion treatment. A transparent conductive laminate 10 was produced in the same manner as described above.
For ultraviolet irradiation, an ultraviolet irradiation machine (trade name ECS-401GX, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) was used, and the ultraviolet irradiation amount (light quantity) was 300 mJ / cm 2 .
Regarding the produced transparent conductive laminate 10, the surface resistance value and the light transmittance were measured in the same manner as in Example 1 and the like.
The results are shown in Table 4 below.


表4から、本発明の製造方法では、水溶性分散剤を除去する前にCNT塗布膜に紫外線照射処理を行うことにより、得られる透明導電性積層体10の表面抵抗値がさらに低く、良好になることが判る。

From Table 4, in the manufacturing method of this invention, the surface resistance value of the transparent conductive laminated body 10 obtained by performing an ultraviolet irradiation process to a CNT coating film before removing a water-soluble dispersing agent is further low, and it is favorable. It turns out that it becomes.

[実施例18および19]
接着層14を配向膜に代え、さらに、CNT塗布膜を形成する前にラビング処理を行った以外は、実施例1(実施例18)および実施例2(実施例19)と同様に透明導電性積層体10を作製した。
接着層14の形成およびラビング処理は、以下のように行った。
まず、ソリッドステートコロナ処理機(ピラー株式会社製、商品名6KVAモデル)を用い、基板12の表面を室温下において20m/分の送り速度で処理した。次いで、基板12に接着層14(配向膜)として、アルキル変性ポバール(クラレ株式会社製、商品名MP203)を1μm厚となるように塗布して、乾燥した。
次に、ラビング処理機を用い、ラビングロール外径80mm、搬送速度100m/分、ラビングロール回転周速度250m/分、フイルム基板張力1kgf/cm基板巾、ラップ角360°、ラビングロール傾き角α=45°の条件で接着層14のラビング処理を行った。
作製した透明導電性積層体10に関して、実施例1等と同様に表面抵抗値および光透過率を測定した。
結果を下記の表5に示す。
[Examples 18 and 19]
The transparent conductive material is the same as in Example 1 (Example 18) and Example 2 (Example 19) except that the adhesive layer 14 is replaced with an alignment film and a rubbing treatment is performed before the CNT coating film is formed. The laminated body 10 was produced.
The formation of the adhesive layer 14 and the rubbing treatment were performed as follows.
First, the surface of the substrate 12 was processed at a feed rate of 20 m / min at room temperature using a solid state corona treatment machine (product name: 6KVA model, manufactured by Pillar Co., Ltd.). Next, an alkyl-modified poval (trade name MP203, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was applied to the substrate 12 as an adhesive layer 14 (alignment film) to a thickness of 1 μm and dried.
Next, using a rubbing machine, the outer diameter of the rubbing roll is 80 mm, the conveyance speed is 100 m / min, the peripheral speed of the rubbing roll is 250 m / min, the film substrate tension is 1 kgf / cm, the substrate width, the wrap angle is 360 °, and the rubbing roll inclination angle α = The adhesive layer 14 was rubbed at 45 °.
Regarding the produced transparent conductive laminate 10, the surface resistance value and the light transmittance were measured in the same manner as in Example 1 and the like.
The results are shown in Table 5 below.


表5から、接着層14を配向膜としてラビング処理した基板12に透明導電膜16を形成した透明導電性積層体10は、CNTの配向が促進されるためか、表面抵抗値がさらに低く、良好になることが判る。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

From Table 5, the transparent conductive laminate 10 in which the transparent conductive film 16 is formed on the substrate 12 that has been rubbed with the adhesive layer 14 as an alignment film has a lower surface resistance value because the alignment of the CNTs is promoted. It turns out that it becomes.
From the above results, the effects of the present invention are clear.

タッチパネル、各種のディスプレイ、電子ペーパ等に、好適に利用可能である。   It can be suitably used for touch panels, various displays, electronic paper, and the like.

10 透明導電性積層体
12 基板
14 接着層
16 透明導電膜
10 transparent conductive laminate 12 substrate 14 adhesive layer 16 transparent conductive film

Claims (14)

直径が1.5〜2.5nmの単層カーボンナノチューブの含有量が50質量%以上のカーボンナノチューブと、分子量1000以下の水溶性分散剤とを水系溶剤に添加して、前記カーボンナノチューブを分散してなるカーボンナノチューブ分散液を調製する調製工程、
前記カーボンナノチューブ分散液を透明なフィルム基板に塗布して乾燥することにより、カーボンナノチューブ薄膜を形成する薄膜形成工程、
前記カーボンナノチューブ薄膜をSP値が10〜20の溶剤を主成分とする洗浄液で洗浄して、前記水溶性分散剤を除去する洗浄工程、
および、前記洗浄工程を終了したカーボンナノチューブ薄膜を加圧する加圧工程を有することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
A carbon nanotube with a content of single-walled carbon nanotubes having a diameter of 1.5 to 2.5 nm of 50% by mass or more and a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less are added to an aqueous solvent to disperse the carbon nanotubes. A preparation step of preparing a carbon nanotube dispersion liquid,
A thin film forming step of forming a carbon nanotube thin film by applying the carbon nanotube dispersion liquid to a transparent film substrate and drying the film,
A cleaning step of cleaning the carbon nanotube thin film with a cleaning liquid mainly containing a solvent having an SP value of 10 to 20 to remove the water-soluble dispersant;
And the manufacturing method of the transparent conductive film characterized by having the pressurization process which pressurizes the carbon nanotube thin film which finished the said washing | cleaning process.
前記加圧工程を、ローラ対または加圧ローラによって行う請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the transparent conductive film of Claim 1 which performs the said pressurization process with a roller pair or a pressure roller. 前記加圧工程における圧力が100〜500kg/cmである請求項2に記載の透明導電膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to claim 2, wherein the pressure in the pressurizing step is 100 to 500 kg / cm. 前記加圧工程において、前記カーボンナノチューブ薄膜を加圧する部材を60〜100℃に加熱する請求項1〜3のいずれか1項に記載の透明導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the transparent conductive film of any one of Claims 1-3 which heats the member which pressurizes the said carbon nanotube thin film to 60-100 degreeC in the said pressurization process. 前記洗浄液が、pKaが5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩を含有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明導電膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to claim 1, wherein the cleaning liquid contains an acid having a pKa of 5 or less or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less. 前記洗浄工程は、前記カーボンナノチューブ薄膜中における水溶性分散剤の量が、前記カーボンナノチューブに対して20質量%以下になるまで水溶性分散剤を除去するものである請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明導電膜の製造方法。   The said washing | cleaning process removes a water-soluble dispersing agent until the quantity of the water-soluble dispersing agent in the said carbon nanotube thin film becomes 20 mass% or less with respect to the said carbon nanotube. 2. A method for producing a transparent conductive film according to item 1. 前記洗浄工程を終了したカーボンナノチューブ薄膜に、紫外線、可視光および赤外光のいずれかを照射した後に、前記加圧工程を行う請求項1〜6のいずれか1項に記載の透明導電膜の製造方法。   The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6, wherein the pressurizing step is performed after the carbon nanotube thin film that has finished the cleaning step is irradiated with any one of ultraviolet light, visible light, and infrared light. Production method. 前記透明なフィルム基板が、表面に接着層を有する請求項1〜7のいずれか1項に記載の透明導電膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to claim 1, wherein the transparent film substrate has an adhesive layer on a surface thereof. 前記接着層が、配向膜となっている請求項8に記載の透明導電膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to claim 8, wherein the adhesive layer is an alignment film. 前記薄膜形成工程の前に、前記接着層をラビング処理して配向膜とする工程を有する請求項9に記載の透明導電膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to claim 9, further comprising a step of rubbing the adhesive layer to form an alignment film before the thin film forming step. 透明なフィルム状基板の上に接着層を有し、前記接着層の上に直径が1.5〜2.5nmの単層カーボンナノチューブの含有量が50質量%以上のカーボンナノチューブを含有する透明導電膜を有し、かつ、
前記カーボンナノチューブが、波長532nmのラマン分光法による1590±50cm-1のピーク強度と1350±40cm-1のピーク強度との比が100以上; アモルファスカーボンの含有量が3質量%以下; 室温から900℃までの熱重量測定において、重量減少開始温度が600℃以上で、かつ、重量減少量が90〜99質量%; および、波長532nmのラマン分光法によるRBM領域のピークにおいて、100〜120cm-1および120〜140cm-1の少なくとも一方に主ピークを有し、かつ、250cm-1以上にピークが無い; という4つの条件を、同時に満たすことを特徴とする透明導電性積層体。
A transparent conductive material having an adhesive layer on a transparent film-like substrate and containing a carbon nanotube having a diameter of 1.5 to 2.5 nm of single-walled carbon nanotubes of 50% by mass or more on the adhesive layer Having a membrane, and
The carbon nanotubes, the ratio is 100 or more and the peak intensity and the 1350 peak intensity of ± 40 cm -1 of 1590 ± 50 cm -1 by Raman spectroscopy in the wavelength 532 nm; the content of the amorphous carbon 3 mass% or less; from room 900 In thermogravimetry up to 0 ° C., the weight loss starting temperature is 600 ° C. or more and the weight loss is 90 to 99% by mass; and at the peak in the RBM region by Raman spectroscopy at a wavelength of 532 nm, 100 to 120 cm −1 and it has a main peak in at least one of 120~140Cm -1, and a peak is not in the 250 cm -1 or more; four conditions of the transparent conductive laminate and satisfies simultaneously.
前記透明導電膜が、pKaが5以下の酸、もしくは、標準酸化電位が1V以下の無機塩を含有する請求項11に記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 11, wherein the transparent conductive film contains an acid having a pKa of 5 or less, or an inorganic salt having a standard oxidation potential of 1 V or less. 前記接着層が配向膜である請求項11または12に記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 11 or 12, wherein the adhesive layer is an alignment film. 前記透明導電膜が分子量1000以下の水溶性分散剤を含有し、かつ、前記水溶性分散剤の含有量がカーボンナノチューブに対して20質量%以下である請求項11〜13のいずれか1項に記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive film contains a water-soluble dispersant having a molecular weight of 1000 or less, and the content of the water-soluble dispersant is 20% by mass or less based on carbon nanotubes. The transparent conductive laminate described.
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