JP2016118706A - Ffs mode liquid crystal display device and manufacturing method of the same - Google Patents
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Description
本発明は、FFSモード液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に、車載用のFFSモード液晶表示装置及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an FFS mode liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to an on-vehicle FFS mode liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.
IPS(In-Plane Switching)モード液晶表示装置は、基板に対して平行に配向させた液晶分子を、基板に対して平行の電界(横電界)でスイッチングする方式の液晶表示装置であり、TNモードやVAモード等の他のモードの液晶表示装置に比べて視野角が広い等の特性を有している。他方、IPSモード液晶表示装置は、一方の基板(アレイ基板)のみに2組の櫛歯形状の電極(以下、「櫛歯電極」という)を形成しており、櫛歯電極上部は横電界にならず、液晶分子がスイッチングしない。そのため、IPSモード液晶表示装置は、光が透過する面積が狭く、開口率が低いという欠点がある。そこで、IPSモード液晶表示装置の低開口率の欠点を改善するために、FFS(Fringe Field Switching)モード液晶表示装置が提案されている(例えば、特許文献1)。 An IPS (In-Plane Switching) mode liquid crystal display device is a liquid crystal display device of a type in which liquid crystal molecules aligned parallel to a substrate are switched by an electric field (transverse electric field) parallel to the substrate. Compared with other mode liquid crystal display devices such as the VA mode and the VA mode, the viewing angle is wide. On the other hand, in the IPS mode liquid crystal display device, two sets of comb-shaped electrodes (hereinafter referred to as “comb-shaped electrodes”) are formed only on one substrate (array substrate), and the upper portion of the comb-shaped electrodes is subjected to a horizontal electric field. That is, the liquid crystal molecules do not switch. Therefore, the IPS mode liquid crystal display device has the disadvantages that the area through which light is transmitted is narrow and the aperture ratio is low. Therefore, in order to improve the disadvantage of the low aperture ratio of the IPS mode liquid crystal display device, an FFS (Fringe Field Switching) mode liquid crystal display device has been proposed (for example, Patent Document 1).
FFSモード液晶表示装置は、基板に対して平行に配向させた液晶分子をフリンジ電界でスイッチングする方式の液晶表示装置であり、スイッチング動作がIPSモード液晶表示装置と同じであるため、視野角が広い等の特性を有している。また、FFSモード液晶表示装置は、面電極と櫛歯電極とを組み合わせ、電極に透明電極を用いているため、高い開口率を実現することができる。さらに、フリンジ電界は、IPSモードで発生する電界よりも電界強度が大きく、且つ面電極上の液晶分子がスイッチングするため、IPSモードでスイッチングが困難であった電極上部の液晶分子もスイッチングさせることができる。 The FFS mode liquid crystal display device is a liquid crystal display device in which liquid crystal molecules aligned parallel to the substrate are switched by a fringe electric field, and the switching operation is the same as that of the IPS mode liquid crystal display device, so that the viewing angle is wide. And so on. In addition, since the FFS mode liquid crystal display device combines a surface electrode and a comb electrode and uses a transparent electrode for the electrode, a high aperture ratio can be realized. Further, the fringe electric field has a larger electric field strength than the electric field generated in the IPS mode, and the liquid crystal molecules on the surface electrode are switched, so that the liquid crystal molecules on the upper part of the electrode that are difficult to switch in the IPS mode can be switched. it can.
近年、液晶表示装置は、様々な分野で使用されているが、使用分野によって動作(性能)保証温度が異なる。例えば、一般的な家電製品用の液晶表示装置では、動作保証温度が0℃〜50℃であるのに対し、車載用の液晶表示装置では、動作保証温度が−30℃〜85℃である。したがって、車載用の液晶表示装置は、一般的な家電製品用の液晶表示装置に比べて、広い温度領域(特に、高温環境下)における動作保証を要求する。 In recent years, liquid crystal display devices have been used in various fields, but the operation (performance) guaranteed temperature differs depending on the field of use. For example, a general liquid crystal display device for home appliances has an operation guarantee temperature of 0 ° C. to 50 ° C., whereas an in-vehicle liquid crystal display device has an operation guarantee temperature of −30 ° C. to 85 ° C. Therefore, the in-vehicle liquid crystal display device requires operation guarantee in a wide temperature range (particularly in a high temperature environment) as compared with a general liquid crystal display device for home appliances.
液晶表示装置に要求される性能の1つとしては、残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良を防止することが挙げられる。ここで、「焼き付き」とは、長時間同じ画像を表示させていた場合に、次の画面に切り替えても前の画像が薄らと表示されたままになる現象である。また、「残像」とは、焼き付きと同じ現象であり、当該現象が比較的短時間で消える場合を指す。さらに、「フリッカ」とは、画面がちらつく現象である。残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良は、直流(DC)電圧によって配向膜に蓄積された電荷が直ぐに緩和されずに残り、これが残留DC電圧として電極間の液晶層に加えられてしまうことに起因していると考えられている。 One of the performances required for a liquid crystal display device is to prevent display defects such as afterimage, image sticking, and flicker. Here, “burn-in” is a phenomenon in which, when the same image is displayed for a long time, the previous image remains lightly displayed even when the screen is switched to the next screen. Further, “afterimage” is the same phenomenon as burn-in and refers to a case where the phenomenon disappears in a relatively short time. Furthermore, “flicker” is a phenomenon in which the screen flickers. Display defects such as afterimage, image sticking, and flicker are caused by the fact that the charge accumulated in the alignment film is not immediately relaxed by the direct current (DC) voltage, and this is added to the liquid crystal layer between the electrodes as the residual DC voltage. It is believed that
従来、電荷の蓄積は、液晶表示装置を構成する液晶表示パネルの液晶層に含有される不純物イオンに主な原因があると考えられてきた。そのため、不純物イオンを低減した高比抵抗の(比抵抗が1.5×1014Ω・cm以上の)液晶材料を用いて液晶層を形成することにより、残留DC電圧を低減する方法が提案されている(例えば、特許文献2)。
しかしながら、FFSモード液晶表示装置では、電極構造が非対称であるため、液晶に含まれる不純物イオンが僅かであっても、電極構造が対称であるIPSモード等の他の方式と比べて電極に電荷が残留し易い。特に、車載用のFFSモード液晶表示装置の場合、高温環境下において電極間の抵抗が低くなる(その結果、電極間の抵抗と容積との積である時定数が小さくなる)ため、電極に電荷の蓄積が生じてしまう。そのため、FFSモード液晶表示装置では、高比抵抗の液晶材料を用いて液晶層を形成しても、残留DC電圧を十分に低減することができず、高温環境下において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良を十分に抑制することができないという問題がある。
Conventionally, it has been considered that charge accumulation is mainly caused by impurity ions contained in a liquid crystal layer of a liquid crystal display panel constituting a liquid crystal display device. Therefore, a method of reducing the residual DC voltage by forming a liquid crystal layer using a liquid crystal material having a high specific resistance with reduced impurity ions (specific resistance of 1.5 × 10 14 Ω · cm or more) has been proposed. (For example, Patent Document 2).
However, in the FFS mode liquid crystal display device, since the electrode structure is asymmetrical, even if there are few impurity ions contained in the liquid crystal, the electrode has a charge compared to other systems such as the IPS mode in which the electrode structure is symmetric. It tends to remain. In particular, in the case of an in-vehicle FFS mode liquid crystal display device, the resistance between the electrodes becomes low under a high temperature environment (therefore, the time constant that is the product of the resistance between the electrodes and the volume becomes small). Will accumulate. For this reason, in the FFS mode liquid crystal display device, even if the liquid crystal layer is formed using a liquid crystal material having a high specific resistance, the residual DC voltage cannot be sufficiently reduced, and an afterimage, image sticking, flicker, etc. in a high temperature environment. There is a problem that display defects cannot be sufficiently suppressed.
他方、フリッカや焼き付き等の表示不良を抑制する方法として、低比抵抗の(比抵抗が109Ω・cm〜数1012Ω・cmの)液晶材料を用いて液晶層を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献3)。
しかしながら、この方法では、液晶材料の比抵抗を下げるためにドーパントを添加しなければならず、コストアップにつながる上、液晶表示装置の信頼特性が低下する場合もある。
On the other hand, as a method of suppressing display defects such as flicker and image sticking, a method of forming a liquid crystal layer using a liquid crystal material having a low specific resistance (specific resistance of 10 9 Ω · cm to several 10 12 Ω · cm) is proposed. (For example, Patent Document 3).
However, in this method, a dopant must be added in order to reduce the specific resistance of the liquid crystal material, leading to an increase in cost and the reliability characteristics of the liquid crystal display device in some cases.
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、広い温度領域(特に、高温環境下)において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良を抑制することが可能なFFSモード液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an FFS mode liquid crystal capable of suppressing display defects such as afterimages, image sticking, and flicker in a wide temperature range (particularly in a high temperature environment). It is an object to provide a display device and a manufacturing method thereof.
本発明者は、特定の材料及び工程を選択して用いることにより、広い温度領域(特に、高温環境下)において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良を抑制することが可能なFFSモード液晶表示装置を製造し得ることを見出した。また、このようにして製造されたFFSモード液晶表示装置について鋭意研究を続けた結果、液晶表示パネルの時定数及び蓄積電圧が、広い温度領域(特に、高温環境下)における残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良と密接に関係しているという知見に基づき、液晶表示パネルの時定数及び蓄積電圧を所定の範囲に制御することにより、上記の問題を解決し得ることを見出した。 The present inventor has selected and used a specific material and process to suppress display defects such as afterimage, image sticking, and flicker in a wide temperature range (particularly in a high temperature environment). It was found that can be produced. In addition, as a result of intensive research on the FFS mode liquid crystal display device manufactured in this way, the time constant and the accumulated voltage of the liquid crystal display panel have afterimages, burn-in, flicker, etc. in a wide temperature range (particularly in a high temperature environment). It has been found that the above problem can be solved by controlling the time constant and the storage voltage of the liquid crystal display panel within a predetermined range based on the knowledge that they are closely related to the display defect.
すなわち、本発明は、1014Ω・cm以上の体積抵抗率を有するポリイミド配向膜を一対の基板の表面に形成する第1工程と、前記ポリイミド配向膜を配向処理した後、イソプロピルアルコール(以下、「IPA」と略す。)を用いて洗浄する第2工程と、前記第2工程で得られた一対の基板を、シール材を挟んで重ね合わせた後、前記シール材をUV照射又は加熱すると共に加圧して硬化させることによって液晶セルを形成する第3工程と、前記第3工程で得られた液晶セルの基板間に1013Ω・cm以上の比抵抗を有する液晶材料を注入する第4工程とを含むことを特徴とするFFSモード液晶表示装置の製造方法である。 That is, the present invention includes a first step of forming a polyimide alignment film having a volume resistivity of 10 14 Ω · cm or more on the surface of a pair of substrates, and an alignment treatment of the polyimide alignment film, followed by isopropyl alcohol (hereinafter, The second step of cleaning using “IPA”) and the pair of substrates obtained in the second step are overlapped with the sealing material interposed therebetween, and then the sealing material is irradiated with UV or heated. A third step of forming a liquid crystal cell by pressurizing and curing, and a fourth step of injecting a liquid crystal material having a specific resistance of 10 13 Ω · cm or more between the substrates of the liquid crystal cell obtained in the third step. A method for manufacturing an FFS mode liquid crystal display device.
また、本発明は、85℃において300秒以上の時定数及び1.0V以下の蓄積電圧を有する液晶表示パネルを備えることを特徴とするFFSモード液晶表示装置である。 In addition, the present invention is an FFS mode liquid crystal display device including a liquid crystal display panel having a time constant of 300 seconds or more and an accumulated voltage of 1.0 V or less at 85 ° C.
本発明によれば、広い温度領域(特に、高温環境下)において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良を抑制することが可能なFFSモード液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an FFS mode liquid crystal display device capable of suppressing display defects such as afterimage, burn-in, and flicker in a wide temperature range (particularly in a high temperature environment) and a method for manufacturing the same.
以下、本発明のFFSモード液晶表示装置及びその製造方法について図面を用いて説明する。
図1は、本発明のFFSモード液晶表示装置における液晶表示パネルの断面模式図である。図1において、液晶表示パネル1は、対向した一対の基板2a,2bと、基板2aと基板2bとの間に挟持された液晶層3とを備えている。ここで、一般に、基板2aはアレイ基板、基板2bは対向基板と一般に称される。基板2aの液晶層3側の表面には、面電極4、絶縁層5(「バリア層」とも称される)、櫛歯電極6及びポリイミド配向膜7が順次形成されている。また、基板2bの液晶層3側の表面には、ポリイミド配向膜7が形成されている。ポリイミド配向膜7には、配向処理が施されており、液晶層3中の液晶分子8を基板2a,2bに対して平行に配向させる。
Hereinafter, the FFS mode liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display panel in an FFS mode liquid crystal display device of the present invention. In FIG. 1, a liquid
上記のような構造を有する液晶表示パネル1を備えたFFSモード液晶表示装置では、面電極4と櫛歯電極6との間にフリンジ電界(横電界)を発生させることにより、液晶分子8を基板2a,2bと平行な面内で回転させることができる。
なお、図1の液晶表示パネル1は、基本的な構成のみを示しており、当該技術分野において公知の他の部材(例えば、偏光板など)を有することができる。
In the FFS mode liquid crystal display device including the liquid
Note that the liquid
本発明のFFSモード液晶表示装置の製造方法は、4つの工程(第1工程〜第4工程)を必須工程として含む。
第1工程では、1014Ω・cm以上の体積抵抗率を有するポリイミド配向膜7を一対の基板2a,2bの表面に形成する。ここで、本明細書において、ポリイミド配向膜7の体積抵抗率は、室温環境下において測定された値である。ポリイミド配向膜7の体積抵抗率が1014Ω・cm未満であると、高温環境下において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良が生じてしまう。ポリイミド配向膜7の体積抵抗率は、好ましくは2×1014Ω・cm以上、より好ましくは5×1014Ω・cm以上、さらに好ましくは8×1014Ω・cm以上である。ポリイミド配向膜7の体積抵抗率の上限は、特に限定されないが、好ましくは1020Ω・cm、より好ましくは1018Ω・cm、さらに好ましくは1016Ω・cmである。ここで、本明細書において「室温環境」とは、25℃のことを意味する。
なお、基板2aの表面には、面電極4、絶縁層5及び櫛歯電極6が予め形成されているため、ポリイミド配向膜7は、これらの部材の表面に形成される。
The manufacturing method of the FFS mode liquid crystal display device of the present invention includes four steps (first step to fourth step) as essential steps.
In the first step, a
In addition, since the surface electrode 4, the insulating layer 5, and the comb electrode 6 are formed in advance on the surface of the
ポリイミド配向膜7の形成方法としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の方法に準じて行うことができる。具体的には、ポリイミドの溶液を基板2a,2bの表面に塗布した後、焼成を行うことによってポリイミド配向膜7を形成することができる。
基板2a,2bの表面に形成されるポリイミド配向膜7の厚さは、特に限定されず、作製するFFSモード液晶表示装置の大きさなどに応じて適宜調整すればよい。
A method for forming the
The thickness of the
一対の基板2a,2b、面電極4、絶縁層5及び櫛歯電極6としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の材料を用いることができる。例えば、基板2aとしては、液晶層側にTFTなどのアクティブ素子とサブ画素となる電極がマトリックス状に設けられたアクティブマトリックス基板であることが好ましい。基板2bとしては、ガラス基板であることが好ましい。面電極4及び櫛歯電極6としては、ITO、IZO等の透明導電性材料から形成されることが好ましい。絶縁層5としては、窒化ケイ素や酸化ケイ素等の透明絶縁材料から形成されることが好ましい。
The pair of
また、必須の工程ではないが、第1工程の前に、一対の基板2a,2bに付着した汚れなどを除去する観点から、一対の基板2a,2bに洗浄などの前処理を行ってもよい。前処理としては、特に限定されないが、洗浄剤を用いた洗浄処理、UV及びオゾンなどによる処理が挙げられる。
In addition, although not an essential step, a pretreatment such as cleaning may be performed on the pair of
第2工程では、ポリイミド配向膜7を配向処理した後、IPAを用いて洗浄する。配向処理後の洗浄を他の溶剤で行うと、高温環境下において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良が生じてしまう。
IPAによる洗浄方法は、特に限定されず、当該技術分野において公知の方法に準じて行うことができる。洗浄方法の例としては、噴霧洗浄、浸漬洗浄などが挙げられる。
配向処理の方法としては、特に限定されず当該技術分野において公知の方法に準じて行うことができる。配向処理の例としては、ナイロンやポリエステルなどの布が巻き付けられたローラーを回転させ、ポリイミド配向膜7を一定方向に擦るラビング処理、ポリイミド配向膜7に特定方向から高エネルギーの光を照射する光配向処理などが挙げられる。
In the second step, the
The washing method using IPA is not particularly limited, and can be performed according to a method known in the art. Examples of the cleaning method include spray cleaning and immersion cleaning.
The method for the alignment treatment is not particularly limited and can be performed according to a method known in the technical field. Examples of the alignment treatment include a rubbing treatment in which a roller around which a cloth such as nylon or polyester is wound is rotated to rub the
第3工程及び第4工程は、真空ディップ注入法と一般に呼ばれる液晶注入法に相当する。液晶注入法としては、ODF法などの他の方法も存在するが、他の方法を用いた場合、高温環境下において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良が生じてしまう。 The third step and the fourth step correspond to a liquid crystal injection method generally called a vacuum dip injection method. Other methods such as the ODF method exist as the liquid crystal injection method, but when other methods are used, display defects such as afterimages, image sticking, and flickering occur in a high temperature environment.
第3工程では、第2工程で得られた一対の基板2a,2bを、シール材を挟んで重ね合わせた後、シール材をUV照射又は加熱すると共に加圧して硬化させることによって液晶セルを形成する。
具体的には、まず、一対の基板2a,2bのいずれか一方の表面の周縁部にシール材を塗布する。次に、一対の基板2a,2bを所定の間隔を置いて対向させ、シール材を挟んで重ね合わせた後、シール材を金属冶具で機械的に加圧した状態でUV照射又は加熱して硬化させることによってシール部を形成する。シール部には、第4工程で液晶材料を注入するために注入口を予め設けておく。
In the third step, a pair of
Specifically, first, a sealing material is applied to the peripheral portion of the surface of either one of the pair of
この工程で使用されるシール材としては、特に限定されず、当該技術分野において公知のものを用いることができる。シール材の例としては、加熱硬化型シール材又はUV硬化型シール材が挙げられる。また、シール材を硬化させる際の条件も同様に特に限定されず、使用するシール材に応じて適宜設定すればよい。 It does not specifically limit as a sealing material used at this process, A well-known thing can be used in the said technical field. Examples of the sealing material include a heat curable sealing material or a UV curable sealing material. Similarly, the conditions for curing the sealing material are not particularly limited, and may be set as appropriate according to the sealing material to be used.
第4工程では、前記第3工程で得られた液晶セルの基板2a,2b間に1013Ω・cm以上の比抵抗を有する液晶材料を注入する。
具体的には、まず、液晶注入槽内において液晶セルと液晶材料とを離した状態で排気して真空状態にする。次に、排気を止めて液晶セルの注入口を液晶材料に浸漬させ、液晶注入槽内を大気圧に戻すか又は加圧することにより、液晶材料が液晶セル内に注入される。次に、液晶材料の注入が完了したら、液晶材料から液晶セルを分離する。そして最後に、UV硬化型シール材を用いて注入口を封止する。
In the fourth step, a liquid crystal material having a specific resistance of 10 13 Ω · cm or more is injected between the
Specifically, first, the liquid crystal cell and the liquid crystal material are separated from each other in the liquid crystal injection tank and evacuated to a vacuum state. Next, the exhaust is stopped, the injection port of the liquid crystal cell is immersed in the liquid crystal material, and the liquid crystal injection tank is returned to atmospheric pressure or pressurized to inject the liquid crystal material into the liquid crystal cell. Next, when the injection of the liquid crystal material is completed, the liquid crystal cell is separated from the liquid crystal material. Finally, the inlet is sealed using a UV curable sealant.
この工程で使用される液晶材料は、1013Ω・cm以上、好ましくは2×1013Ω・cm以上、より好ましくは5×1013Ω・cm以上、最も好ましくは8×1013Ω・cm以上の比抵抗を有する。ここで、本明細書において、液晶材料の比抵抗は、東陽テクニカ株式会社製の液晶比抵抗測定システムSR−6517型などの市販の装置を用い、室温環境下において測定された値のことを意味する。液晶材料の比抵抗が1013Ω・cm未満であると、高温環境下において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良が生じてしまう。液晶材料の比抵抗の上限は、特に限定されないが、好ましくは1019Ω・cm、より好ましくは1017Ω・cm、さらに好ましくは1015Ω・cmである。 The liquid crystal material used in this step is 10 13 Ω · cm or more, preferably 2 × 10 13 Ω · cm or more, more preferably 5 × 10 13 Ω · cm or more, and most preferably 8 × 10 13 Ω · cm. It has the above specific resistance. Here, in this specification, the specific resistance of the liquid crystal material means a value measured in a room temperature environment using a commercially available device such as a liquid crystal specific resistance measurement system SR-6517 manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. To do. If the specific resistance of the liquid crystal material is less than 10 13 Ω · cm, display defects such as afterimage, image sticking, and flicker may occur in a high temperature environment. The upper limit of the specific resistance of the liquid crystal material is not particularly limited, but is preferably 10 19 Ω · cm, more preferably 10 17 Ω · cm, and still more preferably 10 15 Ω · cm.
液晶材料は、単一の液晶成分であっても、2種以上の液晶成分を含む混合液晶であってもよい。その中でも、フッ素系混合ネマティック液晶が好ましい。ここで、本明細書において「フッ素系混合ネマティック液晶」とは、1種以上のフッ素系ネマティック液晶を含む、液晶表示装置に採用されている混合液晶を意味する。このような混合液晶は、市販されているため、当該市販品を用いることができる。 The liquid crystal material may be a single liquid crystal component or a mixed liquid crystal containing two or more liquid crystal components. Among these, a fluorine-based mixed nematic liquid crystal is preferable. Here, in the present specification, the “fluorine-based mixed nematic liquid crystal” means a mixed liquid crystal employed in a liquid crystal display device including one or more types of fluorine-based nematic liquid crystal. Since such a mixed liquid crystal is commercially available, the commercially available product can be used.
また、必須の工程ではないが、第4工程の後に、液晶材料を注入した液晶セルを、液晶材料のNI点以上の温度(液晶材料の種類にもよるが、一般的に100℃以上、好ましくは105℃以上、より好ましくは110℃以上)に加熱する第5工程をさらに含んでもよい。液晶材料のNI点以上の温度に加熱することにより、液晶分子を再配向させることができる。加熱温度の上限は、特に限定されないが、好ましくは120℃、より好ましくは115℃である。また、加熱時間は、特に限定されないが、好ましくは5分〜60分、より好ましくは6分〜30分、さらに好ましくは8分〜20分である。 Further, although not an essential step, after the fourth step, the liquid crystal cell into which the liquid crystal material has been injected is heated to a temperature above the NI point of the liquid crystal material (depending on the type of the liquid crystal material, but generally 100 ° C. or higher, preferably May further include a fifth step of heating to 105 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher. The liquid crystal molecules can be realigned by heating to a temperature above the NI point of the liquid crystal material. Although the upper limit of heating temperature is not specifically limited, Preferably it is 120 degreeC, More preferably, it is 115 degreeC. Moreover, although heating time is not specifically limited, Preferably it is 5 minutes-60 minutes, More preferably, they are 6 minutes-30 minutes, More preferably, they are 8 minutes-20 minutes.
次に、上記のような工程を経て製造される本発明のFFSモード液晶表示装置は、85℃において300秒以上の時定数及び1.0V以下の蓄積電圧を有する液晶表示パネル1を備える。液晶表示パネル1の時定数及び蓄積電圧を上記のような範囲に制御することにより、広い温度領域(特に、高温環境下)において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良を抑制することができる。
Next, the FFS mode liquid crystal display device of the present invention manufactured through the steps as described above includes a liquid
ここで、本明細書において、液晶表示パネル1の時定数及び蓄積電圧は、東陽テクニカ株式会社製の6254型液晶物性評価装置などの市販の装置を用いて測定又は算出することができる。
時定数は、電極間の抵抗と容量との積である。電極間の抵抗及び容量は、例えば、東陽テクニカ株式会社製の6254型液晶物性評価装置を用いる場合、±10V、0.01Hzの三角波を印加し、得られた波形から算出することができる。
また、蓄積電圧は、電圧印加後の電極間に発生する電位差の最大値である。すなわち、蓄積電圧は、DC電圧を一定時間印加した後、DC電圧の印加を停止した後に観察される残留DC電圧の最大値である。例えば、東陽テクニカ株式会社製の6254型液晶物性評価装置を用いる場合、5.5VのDC電圧を印加し、10分後にDC電圧の印加を停止した後に残留DC電圧を測定すればよい。蓄積電圧は、その値が小さいほど、残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良が少なくなる。
Here, in this specification, the time constant and the accumulated voltage of the liquid
The time constant is the product of resistance and capacitance between the electrodes. For example, when a 6254 type liquid crystal physical property evaluation apparatus manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. is used, the resistance and capacitance between the electrodes can be calculated from a waveform obtained by applying a triangular wave of ± 10 V and 0.01 Hz.
The accumulated voltage is the maximum value of the potential difference generated between the electrodes after voltage application. That is, the accumulated voltage is the maximum value of the residual DC voltage observed after the DC voltage is applied for a certain period of time and then the application of the DC voltage is stopped. For example, when using a 6254 type liquid crystal physical property evaluation apparatus manufactured by Toyo Technica Co., Ltd., a DC voltage of 5.5 V is applied, and after 10 minutes, the application of the DC voltage is stopped, and then the residual DC voltage is measured. The smaller the value of the accumulated voltage, the less display defects such as afterimage, image sticking, and flicker.
液晶表示パネル1の85℃における時定数は、好ましくは320秒以上、より好ましくは350秒以上、さらに好ましくは360秒以上、最も好ましくは380秒以上である。液晶表示パネル1の時定数の上限は、特に限定されないが、好ましくは1000秒、より好ましくは900秒、さらに好ましくは800秒、最も好ましくは700秒である。
液晶表示パネル1の85℃における蓄積電圧は、好ましくは0.9V以下、より好ましくは0.8V以下、さらに好ましくは0.7V以下、最も好ましくは0.6V以下である。液晶表示パネル1の蓄積電圧の上限は、特に限定されないが、好ましくは0.1V、より好ましくは0.2V、さらに好ましくは0.3Vである。
The time constant at 85 ° C. of the liquid
The accumulated voltage at 85 ° C. of the liquid
本発明のFFSモード液晶表示装置は、広い温度領域(特に、高温環境下)において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良を抑制することができるため、車載用のFFSモード液晶表示装置として用いるのに適している。 Since the FFS mode liquid crystal display device of the present invention can suppress display defects such as afterimage, image sticking, and flicker in a wide temperature range (particularly in a high temperature environment), it can be used as an in-vehicle FFS mode liquid crystal display device. Is suitable.
以下、実施例及び比較例により本発明の詳細を説明するが、これらによって本発明が限定されるものではない。
(実施例1)
まず、アレイ基板を次のようにして作製した。ITO膜(膜厚50nm)が成膜された10cm×10cmのガラス基板(イーエッチシー社製)を用い、SiNからなる絶縁膜(膜厚300nm)をスパッタ装置でITO膜上に成膜した。ここで、引き出し配線領域を形成するため、ITO膜の一部には絶縁膜を形成しなかった。次に、スパッタ装置で絶縁膜上にITO膜を成膜した後、エッチング処理を行うことによって櫛歯電極を形成した。櫛歯電極の電極幅及び電極間隔はいずれも10μmとした。
次に、対向基板として、9.5cm×9cmのガラス基板(イーエッチシー社製)を用い、ガラス基板上に所定の間隔で3μm×20μm×20μmのカラムスペーサーを配置した。なお、カラムスペーサーは、当該技術分野において一般的な手法を用いて配置した。
Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate the detail of this invention, this invention is not limited by these.
Example 1
First, an array substrate was produced as follows. An insulating film (thickness 300 nm) made of SiN was formed on the ITO film by a sputtering apparatus using a 10 cm × 10 cm glass substrate (manufactured by EHC Sea) on which an ITO film (thickness 50 nm) was formed. Here, in order to form the lead-out wiring region, an insulating film was not formed on a part of the ITO film. Next, an ITO film was formed on the insulating film with a sputtering device, and then an etching process was performed to form a comb electrode. The electrode width and electrode interval of the comb-teeth electrodes were both 10 μm.
Next, a 9.5 cm × 9 cm glass substrate (manufactured by Eetch Sea) was used as the counter substrate, and 3 μm × 20 μm × 20 μm column spacers were arranged on the glass substrate at predetermined intervals. In addition, the column spacer was arrange | positioned using the method common in the said technical field.
次に、アレイ基板の櫛歯電極側の表面及び対向基板のカラムスペーサー側の表面のそれぞれに、ポリイミド溶液をスピンコートにて塗布した後、65℃のホットプレート上で数分間仮焼成し、ポリイミド溶液の塗膜を乾燥させた。次に、233℃で1100秒の間、加熱チャンバー(常陽工学株式会社製CL0−9CH)内で本焼成することによって、1000±100Åの厚さを有するポリイミド配向膜(JSR株式会社製AL−16470;体積抵抗率1015Ω・cm)を形成した。
次に、ポリイミド配向膜に対し、コットン布を巻き付けたロールを有するラビング装置を用い、ロール回転数1000rpm、ステージ移動速度25mm/秒、押し込み長さ0.4mmの条件でラビング処理を行った。
Next, a polyimide solution is applied to each of the surface of the array substrate on the comb-teeth electrode side and the surface of the counter substrate on the column spacer side by spin coating, and then temporarily baked on a 65 ° C. hot plate for several minutes. The solution coating was dried. Next, a polyimide alignment film (AL-16470 manufactured by JSR Corporation) having a thickness of 1000 ± 100 mm is obtained by performing main firing in a heating chamber (CL0-9CH manufactured by Joyo Engineering Co., Ltd.) at 233 ° C. for 1100 seconds. A volume resistivity of 10 15 Ω · cm) was formed.
Next, the polyimide alignment film was rubbed using a rubbing apparatus having a roll wound with a cotton cloth under the conditions of a roll rotation speed of 1000 rpm, a stage moving speed of 25 mm / second, and an indentation length of 0.4 mm.
次に、ラビング処理が行われたポリイミド配向膜を、IPA(関東化学株式会社製)を用いて洗浄した。
次に、対向基板のポリイミド配向膜側の周縁部に熱硬化型シール材(三井化学株式会社製XN−741TR)を塗布して90℃で10分間乾燥させた。その後、アレイ基板と対向基板とを重ね合わせ、熱硬化型シール材を加熱及び加圧して硬化させることによって液晶セルを形成した。このとき、加熱チャンバー内において、加熱は150℃で3時間、機械的加圧は0.3kgf/cm2の条件とした。
次に、真空ディップ注入法として、液晶材料(フッ素系混合ネマティック液晶;比抵抗1014Ω・cm;NI点108.5℃)を1cc程度入れた金属製ボートを真空チャンバー(常陽工学株式会社製VF−555AT)内に配置し、真空状態(0.1Mpa以下)にて液晶セルの注入口を液晶材料中に浸漬した。その後、真空チャンバー内を大気圧に戻して液晶をセルの基板間に液晶材料を注入し、UV硬化型シール材(積水化学株式会社製フォトレックA−704)を用いて注入口を封止した。
最後に、液晶セルに注入した液晶材料を再配向させるために110℃にて10分間加熱チャンバー内で加熱した後、液晶セルの表面に偏光板を貼ることにより、液晶表示パネルを得た。
Next, the polyimide alignment film subjected to the rubbing treatment was washed using IPA (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.).
Next, a thermosetting sealing material (XN-741TR manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was applied to the peripheral edge of the counter substrate on the polyimide alignment film side and dried at 90 ° C. for 10 minutes. Thereafter, the array substrate and the counter substrate were overlaid, and the thermosetting sealing material was cured by heating and pressing to form a liquid crystal cell. At this time, in the heating chamber, the heating was performed at 150 ° C. for 3 hours, and the mechanical pressure was 0.3 kgf / cm 2 .
Next, as a vacuum dip injection method, a metal boat in which about 1 cc of a liquid crystal material (fluorine-based mixed nematic liquid crystal; specific resistance 10 14 Ω · cm; NI point 108.5 ° C.) is placed in a vacuum chamber (manufactured by Joyo Engineering Co., Ltd.) (VF-555AT), and the inlet of the liquid crystal cell was immersed in the liquid crystal material in a vacuum state (0.1 Mpa or less). Thereafter, the inside of the vacuum chamber is returned to atmospheric pressure, and a liquid crystal material is injected between the substrates of the cell, and the injection port is sealed using a UV curable sealing material (Photorec A-704 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.). .
Finally, in order to reorient the liquid crystal material injected into the liquid crystal cell, it was heated in a heating chamber at 110 ° C. for 10 minutes, and then a polarizing plate was attached to the surface of the liquid crystal cell to obtain a liquid crystal display panel.
(比較例1)
ラビング処理後の洗浄の際にIPAの代わりに水を用いたこと以外は実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
(比較例2)
液晶注入法としてODF(One Drop Fill)法を用いて液晶表示パネルを作製したこと以外は実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。ODF法は、以下の通りにして行った。
まず、ラビング処理が行われたポリイミド配向膜の洗浄後、一方の基板のポリイミド配向膜側の表面の周縁部にUV/熱併用硬化型シール材(積水化学株式会社製SWB−21)を塗布してシール部を形成した。次に、シール部で囲まれた基板上に液晶材料を滴下し、これを真空チャンバー内に入れて真空状態(0.1MPa以下)で他方の基板と重ね合わせ、真空チャンバー内を大気圧に戻した後、150mW/cm2のUVを40秒間照射してシール部を硬化させた。そして最後に、液晶材料を注入した液晶セルを加熱チャンバー内にて130℃で40分間さらに加熱することにより、シール部が完全に硬化した液晶表示パネルを得た。
(Comparative Example 1)
A liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1 except that water was used instead of IPA during the cleaning after the rubbing treatment.
(Comparative Example 2)
A liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal display panel was manufactured using an ODF (One Drop Fill) method as a liquid crystal injection method. The ODF method was performed as follows.
First, after cleaning the polyimide alignment film subjected to the rubbing treatment, a UV / heat combination curable sealing material (SWB-21 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) is applied to the peripheral portion of the surface on the polyimide alignment film side of one substrate. The seal part was formed. Next, a liquid crystal material is dropped on the substrate surrounded by the seal portion, put in a vacuum chamber and superposed on the other substrate in a vacuum state (0.1 MPa or less), and the inside of the vacuum chamber is returned to atmospheric pressure. Then, 150 mW / cm 2 of UV was irradiated for 40 seconds to cure the seal portion. Finally, the liquid crystal cell into which the liquid crystal material was injected was further heated in a heating chamber at 130 ° C. for 40 minutes to obtain a liquid crystal display panel in which the seal portion was completely cured.
(比較例3)
ポリイミド配向膜(JSR株式会社製AL−16470;体積抵抗率1015Ω・cm)の代わりにポリイミド配向膜(JSR株式会社製AL−16301;体積抵抗率1012Ω・cm)を用いたこと以外は実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。
(比較例4)
液晶材料(フッ素系混合ネマティック液晶;比抵抗1014Ω・cm;NI点108.5℃)の代わりに、液晶材料(フッ素系混合ネマティック液晶;比抵抗1012Ω・cm;NI点108.5℃)を用いたこと以外は実施例1と同様にして液晶表示パネルを作製した。ここで、比抵抗1012Ω・cmの液晶材料は、比抵抗1014Ω・cmの液晶材料を加熱チャンバー内にて150℃で5日間保管することによって調製した。
(Comparative Example 3)
Other than using polyimide alignment film (AL-16301 manufactured by JSR Corporation; volume resistivity 10 12 Ω · cm) instead of polyimide alignment film (AL-16470 manufactured by JSR Corporation; volume resistivity 10 15 Ω · cm) Produced a liquid crystal display panel in the same manner as in Example 1.
(Comparative Example 4)
Instead of the liquid crystal material (fluorine mixed nematic liquid crystal; specific resistance 10 14 Ω · cm; NI point 108.5 ° C.), the liquid crystal material (fluorine mixed nematic liquid crystal; specific resistance 10 12 Ω · cm; NI point 108.5). A liquid crystal display panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the temperature was used. Here, a liquid crystal material having a specific resistance of 10 12 Ω · cm was prepared by storing a liquid crystal material having a specific resistance of 10 14 Ω · cm in a heating chamber at 150 ° C. for 5 days.
なお、実施例1では4つのサンプル、比較例1〜4ではそれぞれ2つのサンプルを作製した。
上記の実施例及び比較例で得られた液晶表示パネルについて、85℃における時定数、蓄積電圧及び表示不良(特に、残像)を評価した。
時定数の算出に必要な電極間の容量及び抵抗、並びに蓄積電圧は、85℃において、東陽テクニカ株式会社製の6254型液晶物性評価装置を用いて測定又は算出した。
また、表示不良は、85℃において、ファンクションジェネレーター(テクトロニクス社製 形式 AFG3022)を用い、サンプルの電極部と配線した後、電極間に5VのDC電圧を1分間印加した後、0Vに切り替えて印加を停止し、直ちに電極部と非電極部との間の輝度差を目視にて評価した。この評価において、輝度差が確認されなかったものを○、僅かな輝度差が確認されたものを△、大きな輝度差が確認されたものを×と表す。
上記の各評価結果を表1に示す。
In Example 1, four samples were produced, and in Comparative Examples 1 to 4, two samples were produced.
About the liquid crystal display panel obtained by said Example and comparative example, the time constant in 85 degreeC, the storage voltage, and the display defect (especially afterimage) were evaluated.
The capacitance and resistance between electrodes necessary for calculation of the time constant, and the accumulated voltage were measured or calculated at 85 ° C. using a 6254 type liquid crystal property evaluation apparatus manufactured by Toyo Technica Co., Ltd.
In addition, the display defect was applied at 85 ° C. using a function generator (Model AFG3022 manufactured by Tektronix), wiring with the electrode part of the sample, applying a DC voltage of 5 V between the electrodes for 1 minute, and then switching to 0 V and applying The brightness difference between the electrode part and the non-electrode part was immediately evaluated visually. In this evaluation, a case where a luminance difference was not confirmed is indicated by ◯, a case where a slight luminance difference is confirmed is indicated by Δ, and a case where a large luminance difference is confirmed is indicated by ×.
Each evaluation result is shown in Table 1.
表1の結果に示されているように、特定の材料及び工程を用いて製造された実施例1の液晶表示パネルでは、85℃において表示不良を抑制することができた。これに対し、特定の材料及び工程を用いなかった比較例1〜4の液晶表示パネルでは、85℃において表示不良を抑制することができなかった。
実施例1と比較例1〜4とを対比すると、液晶表示パネルの時定数及び蓄積電圧に大きな違いがあり、液晶表示パネルの時定数及び蓄積電圧を特定の範囲に制御することにより、85℃における表示不良を抑制し得ることが分かった。
As shown in the results of Table 1, in the liquid crystal display panel of Example 1 manufactured using specific materials and processes, display defects could be suppressed at 85 ° C. On the other hand, in the liquid crystal display panels of Comparative Examples 1 to 4 that did not use specific materials and processes, display defects could not be suppressed at 85 ° C.
When Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 are compared, there is a large difference in the time constant and the storage voltage of the liquid crystal display panel. By controlling the time constant and the storage voltage of the liquid crystal display panel to a specific range, 85 ° C. It was found that display defects can be suppressed.
以上の結果からわかるように、本発明によれば、広い温度領域(特に、高温環境下)において残像、焼き付き、フリッカ等の表示不良を抑制することが可能なFFSモード液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。 As can be seen from the above results, according to the present invention, an FFS mode liquid crystal display device capable of suppressing display defects such as afterimage, burn-in, and flicker in a wide temperature range (particularly in a high temperature environment) and a method for manufacturing the same. Can be provided.
1 液晶表示パネル、2a,2b 基板、3 液晶層、4 面電極、5 絶縁層、6 櫛歯電極、7 ポリイミド配向膜、8 液晶分子。
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記ポリイミド配向膜を配向処理した後、イソプロピルアルコールを用いて洗浄する第2工程と、
前記第2工程で得られた一対の基板を、シール材を挟んで重ね合わせた後、前記シール材をUV照射又は加熱すると共に加圧して硬化させることによって液晶セルを形成する第3工程と、
前記第3工程で得られた液晶セルの基板間に1013Ω・cm以上の比抵抗を有する液晶材料を注入する第4工程と
を含むことを特徴とするFFSモード液晶表示装置の製造方法。 A first step of forming a polyimide alignment film having a volume resistivity of 10 14 Ω · cm or more on the surface of a pair of substrates;
A second step of cleaning the alignment layer with isopropyl alcohol after the alignment treatment;
A third step of forming a liquid crystal cell by superposing the pair of substrates obtained in the second step with a sealing material sandwiched between them, and then applying UV irradiation or heating and pressurizing and curing the sealing material;
And a fourth step of injecting a liquid crystal material having a specific resistance of 10 13 Ω · cm or more between the substrates of the liquid crystal cell obtained in the third step.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20170115532A1 (en) * | 2016-07-29 | 2017-04-27 | Xiamen Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. | Display panel, photo-alignment film and fabrication method thereof |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08146373A (en) * | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Sony Corp | Production of liquid crystal display panel |
JP2000019565A (en) * | 1998-06-29 | 2000-01-21 | Sharp Corp | Liquid crystal display device and its production |
JP2000330119A (en) * | 1999-05-24 | 2000-11-30 | Canon Inc | Liquid crystal device |
JP2008046471A (en) * | 2006-08-18 | 2008-02-28 | Nec Lcd Technologies Ltd | Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same |
JP2011145581A (en) * | 2010-01-18 | 2011-07-28 | Seiko Epson Corp | Method of manufacturing liquid crystal device |
WO2013168545A1 (en) * | 2012-05-10 | 2013-11-14 | シャープ株式会社 | Liquid-crystal-driving method and liquid crystal display device |
US20140132903A1 (en) * | 2011-11-03 | 2014-05-15 | Lg Display Co., Ltd | Fringe field switching liquid crystal display device and method of fabricating the same |
-
2014
- 2014-12-22 JP JP2014259135A patent/JP2016118706A/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08146373A (en) * | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Sony Corp | Production of liquid crystal display panel |
JP2000019565A (en) * | 1998-06-29 | 2000-01-21 | Sharp Corp | Liquid crystal display device and its production |
JP2000330119A (en) * | 1999-05-24 | 2000-11-30 | Canon Inc | Liquid crystal device |
JP2008046471A (en) * | 2006-08-18 | 2008-02-28 | Nec Lcd Technologies Ltd | Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same |
JP2011145581A (en) * | 2010-01-18 | 2011-07-28 | Seiko Epson Corp | Method of manufacturing liquid crystal device |
US20140132903A1 (en) * | 2011-11-03 | 2014-05-15 | Lg Display Co., Ltd | Fringe field switching liquid crystal display device and method of fabricating the same |
WO2013168545A1 (en) * | 2012-05-10 | 2013-11-14 | シャープ株式会社 | Liquid-crystal-driving method and liquid crystal display device |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20170115532A1 (en) * | 2016-07-29 | 2017-04-27 | Xiamen Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. | Display panel, photo-alignment film and fabrication method thereof |
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