JP2016085239A - Coating composition and method of manufacturing optical coating film - Google Patents
Coating composition and method of manufacturing optical coating film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016085239A JP2016085239A JP2014215812A JP2014215812A JP2016085239A JP 2016085239 A JP2016085239 A JP 2016085239A JP 2014215812 A JP2014215812 A JP 2014215812A JP 2014215812 A JP2014215812 A JP 2014215812A JP 2016085239 A JP2016085239 A JP 2016085239A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating composition
- coating film
- group
- polymer emulsion
- optical coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Description
本発明は、コーティング組成物および光学塗膜の製造方法に関する。 The present invention relates to a coating composition and a method for producing an optical coating film.
従来、光学塗膜である反射防止膜の多くは、塗膜を形成する第1の工程と、当該塗膜中
に空隙を形成させる第2の工程とによって製造されている。このように、塗膜を形成した
後、塗膜中に空隙を形成することにより、反射防止膜は、その塗膜屈折率を低下させ、反
射率を低下させている。
Conventionally, many of the antireflection films, which are optical coating films, are manufactured by a first process for forming a coating film and a second process for forming voids in the coating film. Thus, after forming a coating film, the antireflection film reduces the refractive index of the coating film and decreases the reflectance by forming voids in the coating film.
例えば、特許文献1〜4においては、多孔起因剤を用いて塗膜中に空隙を導入した多孔
体が開示されている。
For example, Patent Documents 1 to 4 disclose a porous body in which voids are introduced into a coating film using a pore-causing agent.
また特許文献5〜7においては、多孔起因材を塗膜から抽出することが不要な低屈折率
の多孔体を成膜する方法として、鎖状の金属酸化物を含有する塗布液を用いて多孔体を成
膜する方法が開示されている。
Further, in Patent Documents 5 to 7, as a method of forming a low refractive index porous body that does not require extraction of the porous material from the coating film, a porous coating solution containing a chain metal oxide is used. A method for depositing a body is disclosed.
さらに、特許文献8及び10においては、鎖状のシリカゾル及び球状微粒子を含有する
塗布液を用いて得られた、耐擦傷性に優れた反射防止膜が開示されている。
Further, Patent Documents 8 and 10 disclose an antireflection film having excellent scratch resistance obtained by using a coating liquid containing a chain silica sol and spherical fine particles.
さらにまた、特許文献9においては、機械的強度、透明性、耐候性、耐薬品性、光学特
性、防汚性、防曇性、及び帯電防止性等に優れた水性高分子分散体を用いた塗膜が開示さ
れている。
Furthermore, in Patent Document 9, an aqueous polymer dispersion excellent in mechanical strength, transparency, weather resistance, chemical resistance, optical properties, antifouling property, antifogging property, antistatic property and the like was used. A coating is disclosed.
またさらに、特許文献11においては、防汚性能に優れたコーティング組成物が記載さ
れている。
Furthermore, Patent Document 11 describes a coating composition having excellent antifouling performance.
しかしながら、特許文献1〜11に開示されている技術においては、凹凸のある基材に塗布する際に膜厚が不均一になるため反射防止特性に改善の余地があるという問題を有している。 However, the techniques disclosed in Patent Documents 1 to 11 have a problem in that there is room for improvement in antireflection characteristics because the film thickness becomes non-uniform when applied to an uneven substrate. .
そこで本発明においては、上述した従来技術の問題点に鑑み、凹凸のある基材に対して均一な膜厚を形成できるコーティング組成物を提供することを目的とする。 In view of the above-described problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a coating composition that can form a uniform film thickness on an uneven substrate.
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、チキソ性インデックス(TI値)が2〜10であるコーティング組成物を凹凸のある基材に塗装することにより凹凸への追随性に優れる光学塗膜が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors are excellent in conformity to irregularities by coating a coating composition having a thixotropic index (TI value) of 2 to 10 on an irregular substrate. It discovered that an optical coating film was obtained and came to complete this invention.
That is, the present invention is as follows.
〔1〕
金属酸化物(A)及び重合体エマルジョン粒子(B)を含むコーティング組成物であって、該コーティング組成物のTI値が2〜10であることを特徴とする光学塗膜用コーティング組成物。
〔2〕
コーティング組成物の固形分濃度が6%でTI値が2〜10であることを特徴とする前記〔1〕に記載の光学塗膜用コーティング組成物。
〔3〕
金属酸化物(A)の粒子径(rA)と重合体エマルジョン粒子(B)の粒子径(rB)の比率がrA<rBかつrB<100nmであることを特徴とする前記〔1〕又は〔2〕に記載の光学塗膜用コーティング組成物。
〔4〕
前記〔1〕乃至〔3〕のいずれか一に記載の光学塗膜用コーティング組成物を塗布し、乾燥して形成される光学塗膜の前駆体を、500℃以上の温度で焼結することにより形成されたものである光学塗膜。
〔5〕
前記〔1〕乃至〔3〕のいずれか一に記載の光学塗膜用コーティング組成物を塗布し、乾燥して、光学塗膜の前駆体を形成する工程と、前記前駆体を500℃以上の温度で焼結し、光学塗膜を形成する工程と、を有する、光学塗膜の製造方法。
〔6〕
少なくとも、長径(L)とそれと直交する短径の最大値(D)の平均値:(空隙サイズ=(L+D)/2)が、20nm以上の空隙(X)を有し、前記空隙(X)の長径(L)と短径(D)とが1<L/Dであり、前記空隙(X)が前記基材との界面において、当該基材と非接触である前記〔4〕に記載の光学塗膜。
〔7〕
前記空隙(X)の周囲に前記空隙サイズが20nm未満の空隙(Y)を、さらに有する、前記〔6〕に記載の光学塗膜。
〔8〕
前記〔4〕、〔6〕又は〔7〕のいずれか一に記載の光学塗膜から構成される反射防止膜。
〔9〕
前記〔8〕に記載の反射防止膜を含む太陽電池用ガラス。
〔10〕
前記〔8〕に記載の反射防止膜を含む太陽電池モジュール。
〔11〕
前記〔8〕に記載の反射防止膜を含む太陽電池用集光レンズ。
〔12〕
前記〔8〕に記載の反射防止膜を含む太陽熱発電用鏡。
〔13〕
前記〔8〕に記載の反射防止膜を含む太陽熱発電用集光ガラスチューブ。
[1]
A coating composition comprising a metal oxide (A) and polymer emulsion particles (B), wherein the coating composition has a TI value of 2 to 10, wherein the coating composition is for an optical coating film.
[2]
The coating composition for optical coatings as described in [1] above, wherein the solid content concentration of the coating composition is 6% and the TI value is 2 to 10.
[3]
[1] or [2], wherein the ratio of the particle size (rA) of the metal oxide (A) to the particle size (rB) of the polymer emulsion particles (B) is rA <rB and rB <100 nm. ] Coating composition for optical coating films as described in any one of the above.
[4]
Applying the coating composition for an optical coating film according to any one of [1] to [3] and drying the precursor of the optical coating film formed at a temperature of 500 ° C. or higher. An optical coating film formed by.
[5]
Applying the coating composition for an optical coating film according to any one of the above [1] to [3] and drying to form a precursor of the optical coating film; And a step of sintering at a temperature to form an optical coating film.
[6]
At least the average value of the major axis (L) and the maximum value (D) of the minor axis perpendicular to the major axis (L): (void size = (L + D) / 2) has a void (X) of 20 nm or more, and the void (X) The major axis (L) and the minor axis (D) are 1 <L / D, and the gap (X) is not in contact with the substrate at the interface with the substrate. Optical coating.
[7]
The optical coating film according to [6], further including a void (Y) having a void size of less than 20 nm around the void (X).
[8]
The antireflection film comprised from the optical coating film as described in any one of said [4], [6], or [7].
[9]
The glass for solar cells containing the antireflection film as described in said [8].
[10]
A solar cell module comprising the antireflection film according to [8].
[11]
The condensing lens for solar cells containing the antireflection film as described in said [8].
[12]
A solar power generation mirror including the antireflection film according to [8].
[13]
The condensing glass tube for solar power generation containing the antireflection film as described in said [8].
本発明によれば、凹凸のある基材であっても均一な膜厚形成が可能で、多湿環境下においても優れた反射防止特性を維持可能で生産安定性に優れる光学塗膜が得られる。 According to the present invention, an optical coating film that can form a uniform film thickness even on an uneven substrate, can maintain excellent antireflection characteristics even in a humid environment, and has excellent production stability can be obtained.
以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」と言う。)について、詳細
に説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の
内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜変形して実施できる。
Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. The following embodiments are examples for explaining the present invention, and are not intended to limit the present invention to the following contents. The present invention can be appropriately modified within the scope of the gist.
(基材)
本実施形態で用いる基材は、特に限定されるものではないが、例えば、板状、シート状、フィルム状のものが挙げられる。
本実施形態においても用いる基材は、表面が平滑なものであっても、表面に所定の高低差の凹凸を有していているものであってもよい。
例えば、基材の光線透過率を向上させる観点から基材の表面に0.1〜100μmの高低差の凹凸を有する基材が好ましい。
凹凸の高低差は0.1〜100μmが好ましく、より好ましくは1〜60μmであり、さらに好ましくは5〜40μmである。表面粗さ(Ra)としては、0.1~10μmが好ましく、より好ましくは0.3~5μm、さらに好ましくは0.5~2μmである。
凹凸の高低差が上記範囲内であることにより、透過性により優れる傾向にある。
(Base material)
Although the base material used by this embodiment is not specifically limited, For example, a plate form, a sheet form, and a film form are mentioned.
The substrate used also in the present embodiment may have a smooth surface or may have irregularities with a predetermined height difference on the surface.
For example, the base material which has the unevenness | corrugation of 0.1-100 micrometers in elevation on the surface of a base material from a viewpoint of improving the light transmittance of a base material is preferable.
The height difference of the irregularities is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 1 to 60 μm, and further preferably 5 to 40 μm. The surface roughness (Ra) is preferably from 0.1 to 10 μm, more preferably from 0.3 to 5 μm, still more preferably from 0.5 to 2 μm.
When the unevenness level is within the above range, the permeability tends to be superior.
基材の材料は、特に限定されないが、例えば、ガラス、樹脂が挙げられる。
特に、透明性及び耐候性の観点からガラスが好ましい。
ガラスとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、一般的なガラスの他、強化ガラス、合わせガラス、複層ガラス、化学強化ガラス等が挙げられ、これらは目的に応じて用いることができる。
また、樹脂としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、エチレン−フルオロエチレン共重合体等が挙げられる。
これらの樹脂には耐候性を付与する目的で紫外線吸収剤等の耐候剤等をさらに練り込んでもよい。
基材としては、厚み5mm以下、より好ましくは2mm以下の基材がコストの観点から好ましい。
Although the material of a base material is not specifically limited, For example, glass and resin are mentioned.
In particular, glass is preferable from the viewpoints of transparency and weather resistance.
Examples of the glass include, but are not limited to, general glass, tempered glass, laminated glass, multilayer glass, chemically tempered glass, and the like. These may be used depending on the purpose. it can.
Examples of the resin include, but are not limited to, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a cyclic polyolefin resin, a polyethylene terephthalate resin, and an ethylene-fluoroethylene copolymer.
These resins may be further kneaded with a weathering agent such as an ultraviolet absorber for the purpose of imparting weatherability.
As the substrate, a substrate having a thickness of 5 mm or less, more preferably 2 mm or less is preferable from the viewpoint of cost.
(光学塗膜用コーティング組成物)
本実施形態の光学塗膜用組成物は、チキソトロピー性(又はチキソ性という)を有する。チキソトロピー性とは撹拌などの機械的刺激によって粘度が変化する性質のことを言う。ここでチキソトロピー性インデックス(TI値)とは25℃の環境下、B型粘度計を用い、ローター回転数60rpmの際の粘度(Z1)とローター回転数6rpmの際の粘度(Z2)の比率を言う。すなわち、TI値=Z2/Z1である。
基材に凹凸がある場合、凹み部分に組成物が偏在しやすいため結果として膜厚が不均一となり外観や反射防止性などの光学特性が低下するため、基材の凹凸に追随して均一な膜厚の光学塗膜を形成する観点らTI値は2〜10が好ましい。より好ましくは3〜9、さらに好ましくは4〜7である。
TI値が2未満の場合、基材の凹部へコーティング組成物が偏在することがある。TI値が10を超えると塗装ムラが発生し塗膜の外観が劣る。
光学塗膜用コーティング組成物は、金属酸化物(A)及び重合体エマルジョン粒子(B)を含む。
(Coating composition for optical coating film)
The composition for optical coating films of this embodiment has thixotropic properties (or thixotropic properties). Thixotropy refers to the property of changing viscosity by mechanical stimulation such as stirring. Here, the thixotropic index (TI value) is a ratio of the viscosity (Z1) at a rotor rotational speed of 60 rpm and the viscosity (Z2) at a rotor rotational speed of 6 rpm using a B-type viscometer in an environment of 25 ° C. say. That is, TI value = Z2 / Z1.
If the substrate has irregularities, the composition tends to be unevenly distributed in the indented portion, resulting in a non-uniform film thickness and decreased optical properties such as appearance and antireflection, so that the unevenness of the substrate follows and is uniform. From the viewpoint of forming an optical coating film having a thickness, the TI value is preferably 2 to 10. More preferably, it is 3-9, More preferably, it is 4-7.
When the TI value is less than 2, the coating composition may be unevenly distributed in the recesses of the substrate. When the TI value exceeds 10, coating unevenness occurs and the appearance of the coating film is inferior.
The coating composition for an optical coating film contains a metal oxide (A) and polymer emulsion particles (B).
<金属酸化物(A)>
前記金属酸化物(A)は、金属酸化物(a1)としては、特に限定されないが、例えば、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛、スズ、インジウム、ガリウム、ゲルマニウム、アンチモン、モリブデン、タングステン等の酸化物が挙げられる。
前記球状の金属酸化物(a1)の平均粒子径は、膜厚均一性の観点から1〜100nmであることが好ましく、より好ましくは1〜50nm、さらに好ましくは1〜10nmである。ここで、球状の金属酸化物(a1)の平均粒子径とは、当該粒子が一次粒子の形で存在している場合には一次粒子径を、凝集粒子の形で存在している場合は凝集粒子径(二次粒子径)を指し、以下の方法により決定することができる。すなわち、球状の金属酸化物(a1)の粒子が100個〜200個写るように調整して撮影した透過型顕微鏡(TEM)写真の中に存在している該当の粒子の粒子径(二軸平均径、すなわち、短径と長径との平均値)を測定し、当該測定された各粒子径の平均値を求めることにより決定することができる。
<Metal oxide (A)>
The metal oxide (A) is not particularly limited as the metal oxide (a1), and examples thereof include silicon, aluminum, titanium, zirconium, zinc, tin, indium, gallium, germanium, antimony, molybdenum, and tungsten. An oxide is mentioned.
The average particle diameter of the spherical metal oxide (a1) is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 50 nm, and further preferably 1 to 10 nm from the viewpoint of film thickness uniformity. Here, the average particle diameter of the spherical metal oxide (a1) is the primary particle diameter when the particles are present in the form of primary particles, and is aggregated when the particles are present in the form of aggregated particles. It refers to the particle diameter (secondary particle diameter) and can be determined by the following method. That is, the particle diameter (biaxial average) of the corresponding particles present in a transmission microscope (TEM) photograph taken by adjusting so that 100 to 200 spherical metal oxide (a1) particles are captured. It can be determined by measuring the diameter, that is, the average value of the minor axis and the major axis, and determining the average value of the measured particle diameters.
本実施形態の光学塗膜においては、前記コーティング組成物において、加水分解性珪素
化合物(C)をさらに含むことが好ましい。
コーティング組成物中に加水分解性珪素化合物(C)を含むことにより、前記平均空隙
サイズが20nm未満の空隙(Y)に、前記加水分解性珪素化合物(C)を浸透させるこ
とができ、当該空隙(Y)の平均空隙サイズを制御することができる。
前記コーティング組成物においては、加水分解性珪素化合物(C)を含む場合、加水分
解性珪素化合物(C)のシラノール基と前記金属酸化物(A)の表面に存在する水酸基と
の間の縮合反応により結合が形成したり、あるいは、加水分解性珪素化合物(C)と金属
酸化物(A)との間に水素結合が形成したりする。これにより、前記コーティング組成物か
ら得られる塗膜は、機械的強度がより増加する。なお、加水分解性珪素化合物(C)につ
いては後述する。
In the optical coating film of this embodiment, it is preferable that the coating composition further includes a hydrolyzable silicon compound (C).
By including the hydrolyzable silicon compound (C) in the coating composition, the hydrolyzable silicon compound (C) can be permeated into the voids (Y) having an average void size of less than 20 nm. The average void size of (Y) can be controlled.
In the coating composition, when the hydrolyzable silicon compound (C) is contained, the condensation reaction between the silanol group of the hydrolyzable silicon compound (C) and the hydroxyl group present on the surface of the metal oxide (A) As a result, a bond is formed, or a hydrogen bond is formed between the hydrolyzable silicon compound (C) and the metal oxide (A). Thereby, the mechanical strength of the coating film obtained from the coating composition is further increased. The hydrolyzable silicon compound (C) will be described later.
本実施形態の光学塗膜を形成するコーティング組成物には、前記金属酸化物(a
1)の他に、例えば、ホウ素、リン、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛、スズ、インジウム、ガリウム、ゲルマニウム、アンチモン、モリブデン等などからなるその他の金属酸化物が含まれていてもよい。
The coating composition for forming the optical coating film of the present embodiment includes the metal oxide (a
In addition to 1), other metal oxides made of, for example, boron, phosphorus, silicon, aluminum, titanium, zirconium, zinc, tin, indium, gallium, germanium, antimony, molybdenum and the like may be included.
<重合体エマルジョン粒子(B)>
本実施形態の前記コーティング組成物に含まれる重合体エマルジョン粒子(B)とは金属酸化物(A)及び/又は加水分解性珪素化合物(C)との相互作用によってコーティング組成物がチキソトロピー性を示すエマルジョンである。、重合体エマルジョン粒子(B)は所定の重合体により構成されている。当該重合体としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリ(メタ)アクリレート系、ポリ(メタ)アクリレート−シリコーン系共重合体、ポリビニルアセテート系、ポリブタジエン系、ポリ塩化ビニル系、塩素化ポリプロピレン系、ポリエチレン系、ポリスチレン系、ポリスチレン−(メタ)アクリレート系共重合体、ロジン系誘導体、スチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコール付加物等から構成される重合体等が挙げられる。
<Polymer emulsion particles (B)>
The polymer emulsion particles (B) contained in the coating composition of the present embodiment indicate thixotropic properties due to the interaction with the metal oxide (A) and / or the hydrolyzable silicon compound (C). It is an emulsion. The polymer emulsion particles (B) are composed of a predetermined polymer. Examples of the polymer include, but are not limited to, polyurethane, polyester, poly (meth) acrylate, poly (meth) acrylate-silicone copolymer, polyvinyl acetate, polybutadiene, Polymers composed of polyvinyl chloride, chlorinated polypropylene, polyethylene, polystyrene, polystyrene- (meth) acrylate copolymers, rosin derivatives, alcohol adducts of styrene-maleic anhydride copolymers, etc. Etc.
前記重合体エマルジョン粒子(B)は、チキソトロピー性の観点から、加水分解性珪素化合物(b1)及び/または2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)とを重合単量体として含むことが好ましい。
重合体エマルジョン粒子(B)は、前記(b1)と(b2)とが重合したもの、(b1
)、(b2)がそれぞれ重合したものの混合物、複合物のいずれであってもよく、これら
の併用であってもよい。
From the viewpoint of thixotropy, the polymer emulsion particles (B) are polymerized with a hydrolyzable silicon compound (b1) and / or a vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group. It is preferable to include as a body.
The polymer emulsion particles (B) are obtained by polymerizing the above (b1) and (b2), (b1
), (B2) may be either a mixture or a composite of those polymerized, or a combination thereof.
なお、重合体エマルジョン粒子(B)の数平均粒子径は、後述の実施例に記載する方法
により測定することができる。
重合体エマルジョン粒子(B)を製造する場合に用いる加水分解性珪素化合物(b1)としては、以下に限定され
るものではないが、例えば、下記式(1)で表される化合物やその縮合生成物、シランカ
ップリング剤等が挙げられる。
In addition, the number average particle diameter of polymer emulsion particle | grains (B) can be measured by the method described in the below-mentioned Example.
The hydrolyzable silicon compound (b1) used in the production of the polymer emulsion particles (B) is not limited to the following, but for example, a compound represented by the following formula (1) or a condensation product thereof Products, silane coupling agents and the like.
SiWxRy ・・・(1)
(式(1)中、Wは炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、炭素数1〜20のアセトキ
シ基、ハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜20のオキシム基、エノキシ基、アミノキシ
基、アミド基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表す。Rは、直鎖状又は分岐
状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、及び置換さ
れていないか又は炭素数1〜20のアルキル基若しくは炭素数1〜20のアルコキシ基若
しくはハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基からなる群より選ばれ
る少なくとも1種の炭化水素基を表す。xは1以上4以下の整数であり、yは0以上3以
下の整数である。また、x+y=4である。)
SiWxRy (1)
(In the formula (1), W represents an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a hydroxyl group, an acetoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a hydrogen atom, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, an enoxy group, an aminoxy group, R represents at least one group selected from the group consisting of amide groups, wherein R represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, and a substituted group. Or at least one hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom X is an integer of 1 or more and 4 or less, and y is an integer of 0 or more and 3 or less, and x + y = 4.
前記加水分解性珪素化合物(b1)の一例である前記シランカップリング剤とは、ビニ
ル重合性基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基、イソシアネート基等
の有機物と反応性を有する官能基が分子内に存在する、加水分解性珪素化合物である。
The silane coupling agent which is an example of the hydrolyzable silicon compound (b1) is a functional group having reactivity with organic substances such as a vinyl polymerizable group, an epoxy group, an amino group, a methacryl group, a mercapto group, and an isocyanate group. Is a hydrolyzable silicon compound present in the molecule.
前記加水分解性珪素化合物(b1)としては、以下に限定されるものではないが、例え
ば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テ
トライソプロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類
;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキ
シシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、n−ブ
チルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、n−ペンチルトリメトキシシ
ラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘプチルトリメトキシシラン、n−オクチ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリル
トリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフロ
ロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−
ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、2−
ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、
3−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラ
ン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、3−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナートプロピル
トリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメト
キシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−
(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アタクリルオキシプ
ロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリn−プロポキ
シシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、3−ウ
レイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のトリ
アルコキシシラン類;ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチル
ジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシラン、ジ
−n−プロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソプロピルジ
エトキシシラン、ジ−n−ブチルジメトキシシラン、ジ−n−ブチルジエトキシシラン、
ジ−n−ペンチルジメトキシシラン、ジ−n−ペンチルジエトキシシラン、ジ−n−ヘキ
シルジメトキシシラン、ジ−n−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−n−ヘプチルジメトキ
シシラン、ジ−n−ヘプチルジエトキシシラン、ジ−n−オクチルジメトキシシラン、ジ
−n−オクチルジエトキシシラン、ジ−n−シクロヘキシルジメトキシシラン、ジ−n−
シクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシ
シラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン等のジアルコ
キシシラン類;トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のモノアルコキ
シシラン類等が挙げられる。
Examples of the hydrolyzable silicon compound (b1) include, but are not limited to, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, and tetra-n-butoxysilane. Tetraalkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane,
Ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, n-pentyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-heptyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane , Phenyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysila , 3,3,3-trifluoropropyl triethoxysilane,
3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-
Hydroxyethyltrimethoxysilane, 2-hydroxyethyltriethoxysilane, 2-
Hydroxypropyltrimethoxysilane, 2-hydroxypropyltriethoxysilane,
3-hydroxypropyltrimethoxysilane, 3-hydroxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3-
(Meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltri-n-propoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltriisopropoxysilane, Trialkoxysilanes such as 3-ureidopropyltrimethoxysilane and 3-ureidopropyltriethoxysilane; dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di- n-propyldiethoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, diisopropyldiethoxysilane, di-n-butyldimethoxysilane, di-n-butyldiethoxysilane,
Di-n-pentyldimethoxysilane, di-n-pentyldiethoxysilane, di-n-hexyldimethoxysilane, di-n-hexyldiethoxysilane, di-n-heptyldimethoxysilane, di-n-heptyldiethoxysilane , Di-n-octyldimethoxysilane, di-n-octyldiethoxysilane, di-n-cyclohexyldimethoxysilane, di-n-
Examples include dialkoxysilanes such as cyclohexyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and 3- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane; monoalkoxysilanes such as trimethylmethoxysilane and trimethylethoxysilane.
また、これらの加水分解性珪素化合物(b1)は、1種のみを単独で使用してもよく、
2種以上を混合して使用してもよい。
Further, these hydrolyzable silicon compounds (b1) may be used alone as one type,
Two or more kinds may be mixed and used.
加水分解性珪素化合物(b1)は、縮合生成物として使用してもよく、かかる場合、縮
合生成物のGPC測定によるポリスチレン換算重量平均分子量は、好ましくは200〜5
000、より好ましくは300〜1000である。
The hydrolyzable silicon compound (b1) may be used as a condensation product. In such a case, the weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC measurement of the condensation product is preferably 200 to 5.
000, more preferably 300-1000.
上述の加水分解性珪素化合物(b1)の中で、フェニル基を有する珪素アルコキシド、
例えばフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキ
シシラン等は、水及び乳化剤の存在下における重合安定性に優れるため好ましい。
Among the hydrolyzable silicon compounds (b1) described above, a silicon alkoxide having a phenyl group,
For example, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane and the like are preferable because of excellent polymerization stability in the presence of water and an emulsifier.
また、上述の加水分解性珪素化合物(b1)の中で、3−(メタ)アクリルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、
3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリ
ロイルオキシプロピルトリn−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロ
ピルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン
、アリルトリメトキシシラン、2−トリメトキシシリルエチルビニルエーテル等のビニル
重合性基を有するシランカップリング剤や、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のチオール基を有するシランカップリン
グ剤は、上述した2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)と共重合又
は連鎖移動反応して化学結合を生成することが可能である。
Among the hydrolyzable silicon compounds (b1), 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane,
3- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltri-n-propoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltriisopropoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyl Silane coupling agents having vinyl polymerizable groups such as trimethoxysilane and 2-trimethoxysilylethyl vinyl ether, and silane coupling agents having thiol groups such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltriethoxysilane Can form a chemical bond by copolymerization or chain transfer reaction with the above-mentioned vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group.
加水分解性珪素化合物(b1)の使用量は、得られる重合体エマルジョン粒子(B)に
対する質量比(b1)/(B)として0.001以上0.95以下の範囲となることが好ましい。
なお、重合体エマルジョン粒子(B)の質量は、上述した2級及び/又は3級アミド基
を有するビニル単量体(b2)や、これと共重合可能なその他のビニル単量体(b3)、
さらには加水分解性珪素化合物(b1)が全て重合した場合に得られる重合生成物の質量
であるものとする。
The use amount of the hydrolyzable silicon compound (b1) is preferably in the range of 0.001 to 0.95 as the mass ratio (b1) / (B) to the polymer emulsion particles (B) to be obtained.
The mass of the polymer emulsion particles (B) is the above-mentioned vinyl monomer (b2) having secondary and / or tertiary amide groups, and other vinyl monomers (b3) copolymerizable therewith. ,
Furthermore, it shall be the mass of the polymerization product obtained when all the hydrolyzable silicon compounds (b1) are polymerized.
重合体エマルジョン粒子(B)を製造するために用いる、前記2級及び/又は3級アミ
ド基を有するビニル単量体(b2)としては、以下に限定されるものではないが、例えば
、N−メチルアクリルアミド、N−メチルメタアクリルアミド、N−エチルアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタアクリルアミド、N,N−
ジエチルアクリルアミド、N−エチルメタアクリルアミド、N−メチル−N−エチルアク
リルアミド、N−メチル−N−エチルメタアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルア
ミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N−イソプロピルメタアクリルアミド、N−n
−プロピルメタアクリルアミド、N−メチル−N−n−プロピルアクリルアミド、N−メ
チル−N−イソプロピルアクリルアミド、N−アクリロイルピロリジン、N−メタクリロ
イルピロリジン、N−アクリロイルピペリジン、N−メタクリロイルピペリジン、N−ア
クリロイルヘキサヒドロアゼピン、N−アクリロイルモルホリン、N−メタクリロイルモ
ルホリン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N,N’−メチレンビス
アクリルアミド、N,N’−メチレンビスメタクリルアミド、N−ビニルアセトアミド、
ダイアセトンアクリルアミド、ダイアセトンメタアクリルアミド、N−メチロールアクリ
ルアミド、N−メチロールメタアクリルアミド等が挙げられる。
The vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group used for producing the polymer emulsion particles (B) is not limited to the following, for example, N- Methylacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N, N-
Diethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-methyl-N-ethylacrylamide, N-methyl-N-ethylmethacrylamide, N-isopropylacrylamide, Nn-propylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, Nn
-Propylmethacrylamide, N-methyl-Nn-propylacrylamide, N-methyl-N-isopropylacrylamide, N-acryloylpyrrolidine, N-methacryloylpyrrolidine, N-acryloylpiperidine, N-methacryloylpiperidine, N-acryloylhexahydro Azepine, N-acryloylmorpholine, N-methacryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, N, N′-methylenebisacrylamide, N, N′-methylenebismethacrylamide, N-vinylacetamide,
Examples include diacetone acrylamide, diacetone methacrylamide, N-methylol acrylamide, and N-methylol methacrylamide.
前記2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)と共重合可能なその他
のビニル単量体(b3)としては、以下に限定されるものではないが、例えば、(メタ)
アクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物、シアン化ビニル化合物の他、カルボキシル基
含有ビニル単量体、水酸基含有ビニル単量体、エポキシ基含有ビニル単量体、カルボニル
基含有ビニル単量体のような官能基を含有する単量体等が挙げられる。
The other vinyl monomer (b3) copolymerizable with the vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group is not limited to the following. )
Functionality such as acrylic ester, aromatic vinyl compound, vinyl cyanide compound, carboxyl group-containing vinyl monomer, hydroxyl group-containing vinyl monomer, epoxy group-containing vinyl monomer, carbonyl group-containing vinyl monomer And monomers containing a group.
前記(メタ)アクリル酸エステルとしては、以下に限定されるものではないが、例えば
、アルキル部の炭素数が1〜50の(メタ)アクリル酸アルキルエステル、エチレンオキ
シド基の数が1〜100個の(ポリ)オキシエチレンジ(メタ)アクリレート等が挙げら
れる。
アルキル部の炭素数が1〜50の(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例え
ば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブ
チル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸メチルシクロヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリ
ル酸ドデシル等が挙げられる。
前記エチレンオキシド基の数が1〜100個の(ポリ)オキシエチレンジ(メタ)アク
リレートとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、ジ(メタ)アクリル酸エ
チレングリコール、ジ(メタ)アクリル酸ジエチレングリコール、メトキシ(メタ)アク
リル酸ジエチレングリコール、ジ(メタ)アクリル酸テトラエチレングリコール等が挙げ
られる。
Examples of the (meth) acrylic acid ester include, but are not limited to, for example, a (meth) acrylic acid alkyl ester having 1 to 50 carbon atoms in the alkyl part, and an ethylene oxide group having 1 to 100 carbon atoms. (Poly) oxyethylene di (meth) acrylate etc. are mentioned.
Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester having 1 to 50 carbon atoms in the alkyl part include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. Examples include 2-ethylhexyl, methyl cyclohexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, and the like.
Examples of the (poly) oxyethylene di (meth) acrylate having 1 to 100 ethylene oxide groups include, but are not limited to, ethylene glycol di (meth) acrylate and di (meth) acrylic. Examples include diethylene glycol acid, diethylene glycol methoxy (meth) acrylate, and tetraethylene glycol di (meth) acrylate.
なお、本明細書中で、(メタ)アクリルとはメタアクリル又はアクリルを簡便に表記し
たものである。
In the present specification, (meth) acrylic is a simple description of methacrylic or acrylic.
(メタ)アクリル酸エステルの使用量(複数の(メタ)アクリル酸エステルを使用する
場合には、その合計量)は、重合体エマルジョン粒子(B)を構成する全ビニル単量体中
において好ましくは0〜99.9質量%、より好ましくは5〜80質量%、さらに好ましくは20〜50質量%である。
The amount of the (meth) acrylic acid ester used (when using a plurality of (meth) acrylic acid esters, the total amount) is preferably in the total vinyl monomer constituting the polymer emulsion particles (B). It is 0-99.9 mass%, More preferably, it is 5-80 mass%, More preferably, it is 20-50 mass%.
前記ビニル単量体(b3)としての芳香族ビニル化合物としては、特に限定されるもの
ではなく、例えば、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。
当該芳香族ビニル化合物は、重合体エマルジョン粒子(B)を構成する全ビニル単量体
中において好ましくは0〜99.9質量%、より好ましくは5〜80質量%である。
The aromatic vinyl compound as the vinyl monomer (b3) is not particularly limited, and examples thereof include styrene and vinyl toluene.
The aromatic vinyl compound is preferably 0 to 99.9% by mass, and more preferably 5 to 80% by mass in the total vinyl monomers constituting the polymer emulsion particles (B).
前記ビニル単量体(b3)としてのシアン化ビニル化合物としては、特に限定されるも
のではなく、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。
当該シアン化ビニル化合物は、重合体エマルジョン粒子(B)を構成する全ビニル単量
体中において好ましくは0〜99.9質量%、より好ましくは5〜80質量%である。
The vinyl cyanide compound as the vinyl monomer (b3) is not particularly limited, and examples thereof include acrylonitrile and methacrylonitrile.
The vinyl cyanide compound is preferably 0 to 99.9% by mass, and more preferably 5 to 80% by mass in the total vinyl monomers constituting the polymer emulsion particles (B).
前記ビニル単量体(b3)としてのカルボキシル基含有ビニル単量体としては、特に限
定されるものではないが、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレ
イン酸、フマル酸、無水マレイン酸、又はイタコン酸、マレイン酸などの2塩基酸のハー
フエステル等が挙げられる。これらのカルボキシル酸基含有のビニル単量体を用いること
によって、重合体エマルジョン粒子(B)にカルボキシル基を導入することができ、当該
重合体エマルジョン粒子間に静電的反発力をもたせることができ、エマルジョンとしての
安定性を向上させ、例えば攪拌時の凝集といった、外部からの分散破壊作用に対して抵抗
力を持たせることが可能となる。この際、導入したカルボキシル基は、静電的反発力をさ
らに向上させるために、一部又は全部を、アンモニアやトリエチルアミン、ジメチルエタ
ノールアミン等のアミン類やNaOH、KOH等の塩基で中和してもよい。
The carboxyl group-containing vinyl monomer as the vinyl monomer (b3) is not particularly limited. For example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, anhydrous Mention may be made of maleic acid or half esters of dibasic acids such as itaconic acid and maleic acid. By using these carboxylic acid group-containing vinyl monomers, carboxyl groups can be introduced into the polymer emulsion particles (B), and electrostatic repulsion can be provided between the polymer emulsion particles. It is possible to improve the stability as an emulsion and to provide resistance to an external dispersion breaking action such as agglomeration during stirring. At this time, in order to further improve the electrostatic repulsion force, the introduced carboxyl group is partially or completely neutralized with amines such as ammonia, triethylamine and dimethylethanolamine, and bases such as NaOH and KOH. Also good.
前記カルボキシル基含有ビニル単量体の使用量(複数のカルボキシル基含有ビニル単量
体を使用する場合には、その合計量)は、重合体エマルジョン粒子(B)を構成する全ビ
ニル単量体((b2)+(b3))中において0〜50質量%であることが耐水性の観点
から好ましい。より好ましくは0.1〜10質量%、さらに好ましくは0.1〜5質量%
である。
The amount of the carboxyl group-containing vinyl monomer used (when a plurality of carboxyl group-containing vinyl monomers are used, the total amount thereof) is the total vinyl monomers (B) constituting the polymer emulsion particles (B). In (b2) + (b3)), 0 to 50% by mass is preferable from the viewpoint of water resistance. More preferably, it is 0.1-10 mass%, More preferably, it is 0.1-5 mass%
It is.
前記ビニル単量体(b3)としての水酸基含有ビニル単量体としては、特に限定される
ものではないが、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピ(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸のヒドロキシアルキルエ
ステル;ジ−2−ヒドロキシエチルフマレート、モノ−2−ヒドロキシエチルモノブチル
フマレート等のフマル酸のヒドロキシアルキルエステル;アリルアルコールやエチレンオ
キシド基の数が1〜100個の(ポリ)オキシエチレンモノ(メタ)アクリレート;プロ
ピレンオキシド基の数が1〜100個の(ポリ)オキシプロピレンモノ(メタ)アクリレ
ート;さらには、「プラクセルFM、FAモノマー」(ダイセル化学(株)製の、カプロ
ラクトン付加モノマーの商品名)や、その他のα,β−エチレン性不飽和カルボン酸のヒ
ドロキシアルキルエステル類等が挙げられる。
The hydroxyl group-containing vinyl monomer as the vinyl monomer (b3) is not particularly limited, and examples thereof include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3- Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-
Hydroxyalkyl esters of (meth) acrylic acid such as hydroxybutyl (meth) acrylate; hydroxyalkyl esters of fumaric acid such as di-2-hydroxyethyl fumarate and mono-2-hydroxyethyl monobutyl fumarate; allyl alcohol and ethylene oxide (Poly) oxyethylene mono (meth) acrylate having 1 to 100 groups; (Poly) oxypropylene mono (meth) acrylate having 1 to 100 propylene oxide groups; Monomer "(trade name of caprolactone addition monomer manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and other hydroxyalkyl esters of α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid.
前記ビニル単量体(b3)として、水酸基含有ビニル単量体を用いると、金属酸化物(
A)と2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)との水素結合力を制御
することが容易となるとともに、重合体エマルジョン粒子(B)の水分散安定性を向上さ
せることが可能となる。
When a hydroxyl group-containing vinyl monomer is used as the vinyl monomer (b3), a metal oxide (
It becomes easy to control the hydrogen bonding force between A) and the vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group, and the water dispersion stability of the polymer emulsion particles (B) is improved. It becomes possible to make it.
前記水酸基含有ビニル単量体の使用量は、重合体エマルジョン粒子(B)を構成する全
ビニル単量体中において、好ましくは0〜80質量%、より好ましくは0.1〜50質量
%、さらに好ましくは0.1〜10質量%である。
The amount of the hydroxyl group-containing vinyl monomer used is preferably 0 to 80% by mass, more preferably 0.1 to 50% by mass, and more preferably 0.1 to 50% by mass in the total vinyl monomers constituting the polymer emulsion particles (B). Preferably it is 0.1-10 mass%.
前記ビニル単量体(b3)としてのエポキシ基含有ビニル単量体としては、以下に限定
されるものではないが、例えば、グリシジル基含有ビニル単量体等が挙げられる。当該グ
リシジル基含有ビニル単量体としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、アリ
ルグリシジルエーテル、アリルジメチルグリシジルエーテル等を挙げることができる。
Examples of the epoxy group-containing vinyl monomer as the vinyl monomer (b3) include, but are not limited to, glycidyl group-containing vinyl monomers. Examples of the glycidyl group-containing vinyl monomer include glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, and allyl dimethyl glycidyl ether.
前記ビニル単量体(b3)としてのカルボニル含有ビニル単量体としては、以下に限定
されるものではないが、例えば、ダイアセトンアクリルアミド等が挙げられる。
Examples of the carbonyl-containing vinyl monomer as the vinyl monomer (b3) include, but are not limited to, diacetone acrylamide.
前記ビニル単量体(b3)として、前記グリシジル基含有ビニル単量体や、前記カルボ
ニル基含有ビニル単量体を使用すると、重合体エマルジョン粒子(B)が反応性を有する
ものとなり、ヒドラジン誘導体、カルボン酸誘導体及びイソシアネート誘導体等により架
橋させることによって耐溶剤性等の優れた塗膜の形成が可能となる。グリシジル基含有ビ
ニル単量体やカルボニル基含有ビニル単量体の使用量は、重合体エマルジョン粒子(B)
を構成する全ビニル単量体中において好ましくは0〜50質量%である。
When the glycidyl group-containing vinyl monomer or the carbonyl group-containing vinyl monomer is used as the vinyl monomer (b3), the polymer emulsion particles (B) become reactive, and a hydrazine derivative, By crosslinking with a carboxylic acid derivative, an isocyanate derivative, or the like, it is possible to form a coating film having excellent solvent resistance. The amount of glycidyl group-containing vinyl monomer or carbonyl group-containing vinyl monomer used is determined by polymer emulsion particles (B).
Is preferably 0 to 50% by mass in the total vinyl monomers constituting
重合体エマルジョン粒子(B)の合成の際には、乳化剤を使用してもよい。
乳化剤としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アルキルベンゼンスルホ
ン酸、アルキルスルホン酸、アルキルスルホコハク酸、ポリオキシエチレンアルキル硫酸
、ポリオキシエチレンアルキルアリール硫酸、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエ
ーテルスルホン酸等の酸性乳化剤;酸性乳化剤のアルカリ金属(Li、Na、K等)塩、
酸性乳化剤のアンモニウム塩、脂肪酸石鹸等のアニオン性界面活性剤;アルキルトリメチ
ルアンモニウムブロミド、アルキルピリジニウムブロミド、イミダゾリニウムラウレート
等の四級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩型のカチオン性界面活性
剤;ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチ
レンジスチリルフェニルエーテル等のノニオン型界面活性剤やラジカル重合性の二重結合
を有する反応性乳化剤等が挙げられる。
An emulsifier may be used in the synthesis of the polymer emulsion particles (B).
Examples of the emulsifier include, but are not limited to, alkylbenzenesulfonic acid, alkylsulfonic acid, alkylsulfosuccinic acid, polyoxyethylene alkylsulfuric acid, polyoxyethylenealkylarylsulfuric acid, polyoxyethylene distyrylphenyl ether sulfonic acid. Acidic emulsifiers such as alkali metal (Li, Na, K, etc.) salts of acidic emulsifiers,
Anionic surfactants such as ammonium salts of acidic emulsifiers, fatty acid soaps; quaternary ammonium salts such as alkyltrimethylammonium bromide, alkylpyridinium bromide, imidazolinium laurate, pyridinium salts, imidazolinium salt type cationic surfactants Agent: Nonionic surfactant such as polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene oxypropylene block copolymer, polyoxyethylene distyryl phenyl ether, and reactivity having radical polymerizable double bond And emulsifiers.
これらの乳化剤の中で、ラジカル重合性の二重結合を有する反応性乳化剤を選択すると
、重合体エマルジョン粒子(B)の水分散安定性がより一層良好になるとともに、耐水性
、耐薬品性、光学特性、強度等に優れた塗膜を形成することができるため、さらに好まし
い。
Among these emulsifiers, when a reactive emulsifier having a radical polymerizable double bond is selected, the water dispersion stability of the polymer emulsion particles (B) is further improved, and water resistance, chemical resistance, It is more preferable because a coating film excellent in optical characteristics, strength, and the like can be formed.
前記ラジカル重合性の二重結合を有する反応性乳化剤としては、以下に限定されるので
はないが、例えば、スルホン酸基又はスルホネート基を有するビニル単量体、硫酸エステ
ル基を有するビニル単量体、それらのアルカリ金属塩又はアンモニウム塩;ポリオキシエ
チレン等のノニオン基を有するビニル単量体;4級アンモニウム塩を有するビニル単量体
等が挙げられる。
Examples of the reactive emulsifier having a radical polymerizable double bond include, but are not limited to, a vinyl monomer having a sulfonic acid group or a sulfonate group, and a vinyl monomer having a sulfate group. And alkali metal salts or ammonium salts thereof; vinyl monomers having a nonionic group such as polyoxyethylene; vinyl monomers having a quaternary ammonium salt;
前記反応性乳化剤としてのスルホン酸基又はスルホネート基を有するビニル単量体の塩
は、以下に限定されるものではないが、例えば、ラジカル重合性の二重結合を有し、かつ
スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩である基により一部が置換
された、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜4のアルキルエーテル基、炭素数2〜
4のポリアルキルエーテル基、炭素数6又は10のアリール基及びコハク酸基からなる群
から選ばれる置換基を有する化合物;スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩又は
カリウム塩である基が結合しているビニル基を有するビニルスルホネート化合物等が挙げ
られる。
The salt of a vinyl monomer having a sulfonic acid group or a sulfonate group as the reactive emulsifier is not limited to the following. For example, the reactive emulsifier has a radically polymerizable double bond and has a sulfonic acid group. Alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, alkyl ether group having 2 to 4 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms partially substituted by a group that is an ammonium salt, sodium salt or potassium salt
A compound having a substituent selected from the group consisting of 4 polyalkyl ether groups, aryl groups having 6 or 10 carbon atoms and succinic acid groups; and a group which is an ammonium salt, sodium salt or potassium salt of a sulfonic acid group And vinyl sulfonate compounds having a vinyl group.
前記スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩である基により一部
が置換されたコハク酸基を有する化合物としては、以下に限定されるものではないが、例
えば、アリルスルホコハク酸塩等が挙げられる。これらは市販品を用いることもでき、特
に限定されず、例えば、エレミノールJS−2(商品名)(三洋化成(株)製)、ラテム
ルS−120、S−180A又はS−180(商品名)(花王(株)製)等が挙げられる
。
The compound having a succinic acid group partially substituted with a group that is an ammonium salt, sodium salt or potassium salt of the sulfonic acid group is not limited to the following, but examples include allylsulfosuccinate. Can be mentioned. These can also use a commercial item, and it is not specifically limited, For example, Eleminol JS-2 (brand name) (made by Sanyo Kasei Co., Ltd.), Latemuru S-120, S-180A, or S-180 (brand name) (Manufactured by Kao Corporation).
スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩である基により一部が置
換された、炭素数2〜4のアルキルエーテル基又は炭素数2〜4のポリアルキルエーテル
基を有する化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アクアロンHS
−10又はKH−1025(商品名)(第一工業製薬(株)製)、アデカリアソープSE
−1025N又はSR−1025(商品名)(旭電化工業(株)製)等が挙げられる。
As a compound having an alkyl ether group having 2 to 4 carbon atoms or a polyalkyl ether group having 2 to 4 carbon atoms, which is partially substituted by a group which is an ammonium salt, sodium salt or potassium salt of a sulfonic acid group, For example, but not limited to Aqualon HS
-10 or KH-1025 (trade name) (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Adekaria soap SE
-1025N or SR-1025 (trade name) (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.).
前記反応性乳化剤としてのノニオン基を有するビニル単量体としては、以下に限定され
るものではないが、例えば、α−〔1−〔(アリルオキシ)メチル〕−2−(ノニルフェ
ノキシ)エチル〕−ω−ヒドロキシポリオキシエチレン(商品名:アデカリアソープNE
−20、NE−30、NE−40等、旭電化工業(株)製)、ポリオキシエチレンアルキ
ルプロペニルフェニルエーテル(商品名:アクアロンRN−10、RN−20、RN−3
0、RN−50等、第一製薬工業(株)製)等が挙げられる。
The vinyl monomer having a nonionic group as the reactive emulsifier is not limited to the following, but for example, α- [1-[(allyloxy) methyl] -2- (nonylphenoxy) ethyl]- ω-Hydroxypolyoxyethylene (trade name: Adeka Soap NE
-20, NE-30, NE-40, etc., manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., polyoxyethylene alkylpropenyl phenyl ether (trade names: Aqualon RN-10, RN-20, RN-3
0, RN-50, etc., manufactured by Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd.).
重合体エマルジョン粒子(B)の合成の際の乳化剤の使用量としては、得られる重合体
エマルジョン粒子(B)100質量部に対して、10質量部以下となる範囲内が好ましく
、0.001〜5質量部となる範囲内がより好ましい。
The amount of the emulsifier used in the synthesis of the polymer emulsion particles (B) is preferably within a range of 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer emulsion particles (B) to be obtained. A range of 5 parts by mass is more preferable.
重合体エマルジョン粒子(B)の合成の際、加水分解性珪素化合物(b1)及び2級及
び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)の重合は、重合触媒存在下で実施す
ることが好ましい。
During the synthesis of the polymer emulsion particles (B), the polymerization of the hydrolyzable silicon compound (b1) and the vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group is carried out in the presence of a polymerization catalyst. It is preferable.
加水分解性珪素化合物(b1)の重合触媒としては、重合に用いる単量体の成分等に応
じて適宜選択でき、以下に限定されるものではないが、例えば、塩酸、フッ酸等のハロゲ
ン化水素類、酢酸、トリクロル酢酸、トリフルオロ酢酸、乳酸等のカルボン酸類;硫酸、
p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類;アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルスル
ホン酸、アルキルスルホコハク酸、ポリオキシエチレンアルキル硫酸、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリール硫酸、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテルスルホン酸等
の酸性乳化剤類;酸性又は弱酸性の無機塩、フタル酸、リン酸、硝酸のような酸性化合物
類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメチラート、酢酸ナトリウム、テト
ラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリブチルア
ミン、ジアザビシクロウンデセン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、エタノー
ルアミン類、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)−アミ
ノプロピルトリメトキシシランのような塩基性化合物類;ジブチル錫オクチレート、ジブ
チル錫ジラウレートのような錫化合物等が挙げられる。これらの中で、重合触媒のみなら
ず乳化剤としての作用を有する観点から、酸性乳化剤類が好ましく、炭素数が5〜30の
アルキルベンゼンスルホン酸がより好ましい。
The polymerization catalyst for the hydrolyzable silicon compound (b1) can be appropriately selected according to the components of the monomer used for the polymerization, and is not limited to the following. For example, halogenation of hydrochloric acid, hydrofluoric acid, etc. Carboxylic acids such as hydrogen, acetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid and lactic acid; sulfuric acid,
sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid; acidic emulsifiers such as alkylbenzenesulfonic acid, alkylsulfonic acid, alkylsulfosuccinic acid, polyoxyethylene alkylsulfuric acid, polyoxyethylenealkylarylsulfuric acid, polyoxyethylene distyrylphenyl ether sulfonic acid; Acidic or weakly acidic inorganic salts, acidic compounds such as phthalic acid, phosphoric acid, nitric acid; sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methylate, sodium acetate, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium hydroxide, tributylamine , Diazabicycloundecene, ethylenediamine, diethylenetriamine, ethanolamines, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) -aminopropyltrimethoxysilane Basic compounds such as: tin compounds such as dibutyltin octylate and dibutyltin dilaurate. Among these, acidic emulsifiers are preferable from the viewpoint of not only a polymerization catalyst but also an emulsifier, and alkylbenzenesulfonic acids having 5 to 30 carbon atoms are more preferable.
2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)の重合触媒としては、熱又
は還元性物質等によってラジカル分解してビニル単量体の付加重合を起こさせるラジカル
重合触媒が好ましく、以下に限定されるものではないが、例えば、水溶性又は油溶性の過
硫酸塩、過酸化物、アゾビス化合物等が使用される。当該重合触媒の具体例としては、特
に限定されないが、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、
過酸化水素、t−ブチルヒドロパーオキシド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,
2−アゾビスイソブチロニトリル、2,2−アゾビス(2−ジアミノプロパン)ヒドロク
ロリド、2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等が挙げられる。当該重
合触媒の配合量としては、重合体エマルジョン粒子(B)を構成する全ビニル単量体10
0質量部に対して、0.001〜5質量部が好ましい。なお、重合速度の促進、及び70
℃以下での低温の重合をより望むときには、例えば、重亜硫酸ナトリウム、塩化第一鉄、
アスコルビン酸塩、ロンガリット等の還元剤をラジカル重合触媒と組み合わせて用いるこ
とが好ましい。
As the polymerization catalyst for the vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group, a radical polymerization catalyst that causes radical polymerization by heat or a reducing substance to cause addition polymerization of the vinyl monomer is preferable. Although not limited to the following, for example, water-soluble or oil-soluble persulfates, peroxides, azobis compounds and the like are used. Specific examples of the polymerization catalyst are not particularly limited. For example, potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate,
Hydrogen peroxide, t-butyl hydroperoxide, t-butyl peroxybenzoate, 2,
Examples include 2-azobisisobutyronitrile, 2,2-azobis (2-diaminopropane) hydrochloride, 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and the like. The blending amount of the polymerization catalyst is 10% of all vinyl monomers constituting the polymer emulsion particles (B).
0.001-5 mass parts is preferable with respect to 0 mass parts. Incidentally, the acceleration of the polymerization rate, and 70
When you want more low temperature polymerization below ℃, for example, sodium bisulfite, ferrous chloride,
It is preferable to use a reducing agent such as ascorbate or Rongalite in combination with a radical polymerization catalyst.
上述したように、重合体エマルジョン粒子(B)は、水及び乳化剤の存在下で、加水分
解性珪素化合物(b1)と、2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)
、さらには、必要に応じて前記ビニル単量体(b2)と共重合可能な他のビニル単量体(
b3)を用いて、好ましくは重合触媒存在下で、重合することにより得ることができる。
As described above, the polymer emulsion particles (B) are composed of the hydrolyzable silicon compound (b1) and the vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group in the presence of water and an emulsifier.
And, if necessary, other vinyl monomers copolymerizable with the vinyl monomer (b2) (
It can be obtained by polymerization using b3), preferably in the presence of a polymerization catalyst.
加水分解性珪素化合物(b1)と、2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体
(b2)との重合は、別々に実施することも可能であるが、同時に実施することにより、
両者の間で水素結合等によるミクロな有機・無機複合化が達成できるので好ましい。
Polymerization of the hydrolyzable silicon compound (b1) and the vinyl monomer (b2) having a secondary and / or tertiary amide group can be carried out separately, but by carrying out at the same time,
It is preferable because a micro organic / inorganic composite can be achieved by hydrogen bonding between the two.
重合体エマルジョン粒子(B)の数平均粒子径(一次粒子径;重合体エマルジョン粒子
(B)の一次粒子の数平均粒子径)は、チキソトロピー性の観点から、3〜100nmが好ましく、より好ましくは5~80nm、さらに好ましくは10〜40nmである。
なお、重合体エマルジョン粒子(B)の数平均粒子径は、後述の実施例に記載する方法
により測定することができる。
重合体エマルジョン粒子(B)の粒子径(rB)と金属酸化物(A)の粒子径(rA)との比率はチキソトロピー性の観点からrA<rBかつrB<100nmであることが好ましい。より好ましくはrA<rBかつrB<80nm、さらにはrA<rBかつrB<40nmである。チキソトロピー性に与える因子については明確ではないが粒子径が小さくなることにより粒子数が増大する事、表面積が著しく増大することで水中での相互作用が生じているものと推察している。さらには固形分濃度が6%を超えると粒子間の衝突確率が高まりチキソトロピー性が顕著となると考えられる。
The number average particle size of the polymer emulsion particles (B) (primary particle size; the number average particle size of the primary particles of the polymer emulsion particles (B)) is preferably 3 to 100 nm, more preferably from the viewpoint of thixotropic properties. The thickness is 5 to 80 nm, more preferably 10 to 40 nm.
In addition, the number average particle diameter of polymer emulsion particle | grains (B) can be measured by the method described in the below-mentioned Example.
The ratio of the particle diameter (rB) of the polymer emulsion particles (B) to the particle diameter (rA) of the metal oxide (A) is preferably rA <rB and rB <100 nm from the viewpoint of thixotropic properties. More preferably, rA <rB and rB <80 nm, and further rA <rB and rB <40 nm. Although it is not clear about the factors that affect the thixotropy, it is assumed that the number of particles increases as the particle size decreases, and that the interaction in water occurs due to the significant increase in surface area. Furthermore, when the solid content concentration exceeds 6%, it is considered that the collision probability between particles is increased and the thixotropic property becomes remarkable.
このような数平均粒子径の重合体エマルジョン粒子(B)を得る方法としては、特に限
定されないが、乳化剤がミセルを形成するのに十分な量の水の存在下で、加水分解性珪素
化合物(b1)及び/又はビニル単量体(b2)を重合す
る、いわゆる乳化重合によって、重合体エマルジョン粒子(B)を合成する方法が挙げら
れる。
The method for obtaining the polymer emulsion particles (B) having such a number average particle diameter is not particularly limited, but the hydrolyzable silicon compound (in the presence of a sufficient amount of water for the emulsifier to form micelles) Examples include a method of synthesizing the polymer emulsion particles (B) by so-called emulsion polymerization in which b1) and / or the vinyl monomer (b2) is polymerized.
重合体エマルジョン粒子(B)は、コア/シェル層構造を有していることが好ましい。
さらには、コア層とシェル層とにおいて、柔軟性が異なるものであることが好ましく、
空隙形成の観点からシェル層がコア層よりも硬度が高いことがより好ましい。硬度は、シェル層に加水分解性珪素化合物(b1)を含むことで制御できる。
塗膜強度の観点から前記重合体エマルジョン粒子(B)に含まれるビニル単量体(b2)の重量比率が20質量%以上であることが好ましく、より好ましくは40%質量%以上、さらに好ましくは50質量%以上が好ましい。コア層中のビニル単量体(b2)に限れば70%以上が好ましく、より好ましくは80%以上、さらには90%以上が好ましい。
詳細には、本実施形態の光学塗膜を形成する工程においては、前記金属酸化物(A)及
び重合体エマルジョン粒子(B)を含むコーティング層を塗布し、可能し、前駆体を形成
し、その後、焼結を行う。すなわち、コーティング組成物から溶媒を除去する乾燥工程で
前駆体を形成した後、焼結によって空隙(X)を形成する工程を実施する。当該空隙(X
)を形成する工程においては、重合体エマルジョン粒子(B)の全て、あるいは一部を除
去される。
The polymer emulsion particles (B) preferably have a core / shell layer structure.
Furthermore, it is preferable that the core layer and the shell layer have different flexibility,
From the viewpoint of void formation, the shell layer is more preferably harder than the core layer. Hardness can be controlled by including a hydrolyzable silicon compound (b1) in the shell layer.
From the viewpoint of coating strength, the weight ratio of the vinyl monomer (b2) contained in the polymer emulsion particles (B) is preferably 20% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and still more preferably. 50 mass% or more is preferable. As long as it is limited to the vinyl monomer (b2) in the core layer, it is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and further preferably 90% or more.
Specifically, in the step of forming the optical coating film of the present embodiment, a coating layer containing the metal oxide (A) and the polymer emulsion particles (B) is applied, and a precursor is formed. Thereafter, sintering is performed. That is, after the precursor is formed in the drying step of removing the solvent from the coating composition, a step of forming the void (X) by sintering is performed. The gap (X
In the step of forming a), all or a part of the polymer emulsion particles (B) are removed.
<加水分解性珪素化合物(C)>
本実施形態の光学塗膜は、上述した金属酸化物(A)、重合体エマルジョン粒子(B)
に加え、加水分解性珪素化合物(C)を、さらに含有してもよい。
当該加水分解性珪素化合物(C)は、下記式(2)、(3)、及び(4)で表される化
合物からなる群より選ばれる1種類以上の加水分解性珪素化合物であることが好ましい。
なお、上述した(b1)加水分解性珪素化合物は、重合体エマルジョン粒子(B)を構
成する成分であり、当該(B)成分中に一体として組み込まれており、前記加水分解性珪
素化合物(C)は、(A)成分及び(B)成分とは別個独立して添加されるものであり、
上述した(b1)加水分解性珪素化合物とは明確に区別される。
<Hydrolyzable silicon compound (C)>
The optical coating film of this embodiment includes the above-described metal oxide (A) and polymer emulsion particles (B).
In addition to the above, a hydrolyzable silicon compound (C) may further be contained.
The hydrolyzable silicon compound (C) is preferably one or more hydrolyzable silicon compounds selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (2), (3), and (4). .
The above-mentioned (b1) hydrolyzable silicon compound is a component constituting the polymer emulsion particles (B), and is incorporated integrally in the component (B), and the hydrolyzable silicon compound (C ) Is added separately and independently from the component (A) and the component (B),
It is clearly distinguished from the above-mentioned (b1) hydrolyzable silicon compound.
R1nSiX4-n ・・・(2)
(式(2)中、R1は水素原子、ハロゲン基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、
(メタ)アクリロイル基、及びエポキシ基からなる群より選ばれるいずれかを有してもよ
い、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表す。
Xは、加水分解性基を表し、nは0〜3の整数である。)
R1nSiX4-n (2)
(In the formula (2), R1 is a hydrogen atom, a halogen group, a hydroxy group, a mercapto group, an amino group,
A (meth) acryloyl group and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group, which may be selected from the group consisting of an epoxy group.
X represents a hydrolyzable group, and n is an integer of 0 to 3. )
X3Si−R2n−SiX3 ・・・(3)
(式(3)中、X3は加水分解性基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキレン基又はフェニ
レン基を表す。nは0又は1である。)
X3Si-R2n-SiX3 (3)
(In Formula (3), X3 represents a hydrolyzable group, R2 represents a C1-C6 alkylene group or a phenylene group. N is 0 or 1.)
R3−(O−Si(OR3)2)n−OR3 ・・・(4)
(式(4)中、R3は炭素数1〜6のアルキル基を表す。nは2〜8の整数である。)
R3- (O-Si (OR3) 2) n-OR3 (4)
(In Formula (4), R3 represents a C1-C6 alkyl group. N is an integer of 2-8.)
<各成分の含有比率>
本実施形態の光学塗膜を形成するコーティング組成物は、金属酸化物(A)と重合体エ
マルジョン粒子(B)との質量比率((A):(B))が、1:0.05〜1:10であ
ることが好ましく、1:0.1〜1:5であることがより好ましく、1:0.5〜1:3
であることがさらに好ましい。
金属酸化物(A)と加水分解性珪素化合物(C)との質量比率((A):(C))は、
強度の観点から、1:0.05〜1:10であることが好ましく、1:0.1〜1:5であることがより好ましく、1:0.5〜1:2であることがさらに好ましい。
金属酸化物(A)と重合体エマルジョン粒子(B)との質量比率((A):(B))は、チキソトロピー性の観点から、(A):(B)=1:0.2~1:2が好ましい。
<Content ratio of each component>
The coating composition for forming the optical coating film of this embodiment has a mass ratio ((A) :( B)) of the metal oxide (A) and the polymer emulsion particles (B) of 1: 0.05 to It is preferably 1:10, more preferably 1: 0.1 to 1: 5, and 1: 0.5 to 1: 3.
More preferably.
The mass ratio ((A) :( C)) between the metal oxide (A) and the hydrolyzable silicon compound (C) is:
From the viewpoint of strength, it is preferably 1: 0.05 to 1:10, more preferably 1: 0.1 to 1: 5, and further preferably 1: 0.5 to 1: 2. preferable.
The mass ratio ((A) :( B)) between the metal oxide (A) and the polymer emulsion particles (B) is (A) :( B) = 1: 0.2 to 1 from the viewpoint of thixotropy. : 2 is preferred.
金属酸化物(A)と加水分解性珪素化合物(C)との質量比率((A):(C))は、機械的強度、耐候性の観点から、1:0.05以上であることが好ましい。また、金属酸化物(A)と加水分解性珪素化合物(C)との質量比率((A):(C))は、空隙率を高め、塗膜を低屈折率とする観点から、1:10以下が好ましい。なお加水分解性珪素化合物(C)の質量とは、加水分解性珪素化合物(C)が加水分解、縮合した後のSiO2換算での質量であるものとする。 The mass ratio ((A) :( C)) of the metal oxide (A) and the hydrolyzable silicon compound (C) is 1: 0.05 or more from the viewpoint of mechanical strength and weather resistance. preferable. In addition, the mass ratio ((A) :( C)) of the metal oxide (A) and the hydrolyzable silicon compound (C) increases the porosity and makes the coating film have a low refractive index. 10 or less is preferable. The mass of the hydrolyzable silicon compound (C) is the mass in terms of SiO2 after the hydrolyzable silicon compound (C) is hydrolyzed and condensed.
<コーティング組成物の調製>
コーティング組成物は、金属酸化物(A)、好ましくは球状の金属酸化物(a1)と、ア
スペクト比(長径/短径)が3〜25の非球状の金属酸化物(a2)とを含む金属酸化物
(A)と、重合体エマルジョン粒子(B)とを配合して混合物を得る第1の工程と、当該
混合物に酸を添加する第2の工程により、調製することが好ましい。
前記「酸」として、加水分解触媒、縮合触媒としての酸を添加する場合、配合安定性の
観点から、先に金属酸化物(A)及び重合体エマルジョン粒子(B)を配合した後に、当
該酸を添加することが好ましい。あるいは、金属酸化物(A)の等電点まで酸を添加する
ことで凝集させた後、塩基で中和して安定化させてから重合体エマルジョン粒子(B)を
加えてもよい。
<Preparation of coating composition>
The coating composition contains a metal oxide (A), preferably a spherical metal oxide (a1), and a non-spherical metal oxide (a2) having an aspect ratio (major axis / minor axis) of 3 to 25 It is preferable to prepare by the 1st process of mix | blending an oxide (A) and polymer emulsion particle | grains (B), and obtaining a mixture, and the 2nd process of adding an acid to the said mixture.
In the case of adding an acid as a hydrolysis catalyst or a condensation catalyst as the “acid”, from the viewpoint of blending stability, the metal oxide (A) and the polymer emulsion particles (B) are blended first, and then the acid. Is preferably added. Or after making it aggregate by adding an acid to the isoelectric point of a metal oxide (A), after neutralizing and stabilizing with a base, you may add a polymer emulsion particle (B).
前記酸は、以下に限定されるものではないが、例えば、塩酸、フッ酸等のハロゲン化水
素類;酢酸、トリクロル酢酸、トリフルオロ酢酸、乳酸等のカルボン酸類;硫酸、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類;アルキルベンゼンスルホン酸、
アルキルスルホン酸、アルキルスルホコハク酸、ポリオキシエチレンアルキル硫酸、ポリ
オキシエチレンアルキルアリール硫酸、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル
スルホン酸等の酸性乳化剤類;酸性又は弱酸性の無機塩、フタル酸、リン酸、硝酸のよう
な酸性化合物類等が挙げられる。
Examples of the acid include, but are not limited to, hydrogen halides such as hydrochloric acid and hydrofluoric acid; carboxylic acids such as acetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, and lactic acid; sulfuric acid, methanesulfonic acid, p- Sulfonic acids such as toluene sulfonic acid; alkylbenzene sulfonic acid,
Acid emulsifiers such as alkylsulfonic acid, alkylsulfosuccinic acid, polyoxyethylene alkylsulfuric acid, polyoxyethylenealkylarylsulfuric acid, polyoxyethylene distyrylphenyl ether sulfonic acid; acidic or weakly acidic inorganic salts, phthalic acid, phosphoric acid, Examples include acidic compounds such as nitric acid.
前記コーティング組成物の固形分としては、1質量%〜10質量%が好ましく、より好ましくは2質量%〜8質量%、さらに好ましくは3質量%〜6質量%が好ましい。
固形分が1質量%以下であると、チキソ性が不十分となり、固形分が10質量%を超えると塗装の際にスジが入りやすくなり外観上好ましくない。
上述のコーティング組成物のB型粘度計(60回転)で測定した際の粘度としては、好ましくは25℃において5〜2000mPa・sであり、好ましくは10〜1000mPa・s、さらに好ましくは2〜10mPa・sである。
As solid content of the said coating composition, 1 mass%-10 mass% are preferable, More preferably, 2 mass%-8 mass%, More preferably, 3 mass%-6 mass% are preferable.
If the solid content is 1% by mass or less, the thixotropy becomes insufficient, and if the solid content exceeds 10% by mass, streaks are likely to occur during coating, which is not preferable in appearance.
The viscosity of the coating composition as measured with a B-type viscometer (60 rotations) is preferably 5 to 2000 mPa · s at 25 ° C., preferably 10 to 1000 mPa · s, more preferably 2 to 10 mPa. -S.
本実施形態の光学塗膜は、上述のコーティング組成物を基材に塗布し、乾燥させた後、
重合体エマルジョン粒子(B)の一部又は全部を除去して空隙(X)を形成させることに
より得られる。この空隙(X)を形成する工程については、後述する。
The optical coating film of this embodiment is coated with the above coating composition on a substrate and dried,
It is obtained by removing part or all of the polymer emulsion particles (B) to form voids (X). The step of forming this void (X) will be described later.
<コーティング組成物を塗布する工程>
上述のようにして調製したコーティング組成物を、目的とする所定の材料(基材と記載
する。)上に塗布する。
上述のコーティング組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例え
ば、スプレー吹き付け法、フローコーティング法、ロールコート法、刷毛塗り法、ディッ
プコーティング法、スピンコーティング法、スクリーン印刷法、キャスティング法、グラ
ビア印刷法、フレキソ印刷法等が挙げられる。生産性の観点からロールコート、スクリー
ン印刷、グラビア印刷が好ましい。さらには大判の基材上へ塗装する目的ではロールコー
ト法が好ましい。
<The process of apply | coating a coating composition>
The coating composition prepared as described above is applied onto a predetermined material (described as a substrate).
The method for applying the above-described coating composition to the substrate is not particularly limited. For example, spraying, flow coating, roll coating, brush coating, dip coating, spin coating, screen printing, Examples thereof include a casting method, a gravure printing method, a flexographic printing method, and the like. From the viewpoint of productivity, roll coating, screen printing, and gravure printing are preferred. Furthermore, the roll coating method is preferable for the purpose of coating on a large-sized substrate.
上述のコーティング組成物を基材に塗布する膜厚としては、100μm以下が好ましく
、より好ましくは50μm以下、さらに好ましくは15μm以下が好ましい。
100μmを超えると均一な塗膜が得られず部分的に厚い膜が形成され外観上好ましい
とは言えない。
As a film thickness which apply | coats the above-mentioned coating composition to a base material, 100 micrometers or less are preferable, More preferably, it is 50 micrometers or less, More preferably, 15 micrometers or less are preferable.
If the thickness exceeds 100 μm, a uniform coating film cannot be obtained, and a partially thick film is formed.
<乾燥させる工程>
上記のようにコーティング組成物を基材上に塗布した後、乾燥させ、光学塗膜の前駆体
を形成する。
前記乾燥方法としては、特に限定されないが、例えば、自然乾燥、冷風乾燥、熱風乾燥
、赤外線乾燥等、これらの組み合わせが挙げられる。
前記乾燥温度としては、5〜700℃が好ましく、10〜300℃がより好ましく、2
0〜200℃がさらに好ましく、最も好ましくは25℃〜150℃が好ましい。
<Step of drying>
After coating the coating composition on the substrate as described above, the coating composition is dried to form a precursor of the optical coating film.
The drying method is not particularly limited, and examples thereof include natural drying, cold air drying, hot air drying, and infrared drying.
The drying temperature is preferably 5 to 700 ° C, more preferably 10 to 300 ° C, and 2
0-200 degreeC is further more preferable, Most preferably, 25 degreeC-150 degreeC is preferable.
<焼結工程>
さらに、前記光学塗膜の前駆体を、空隙形成工程として500℃以上の温度で焼結する
。
好ましくは、500℃〜900℃、より好ましくは600℃〜800℃、さらに好まし
くは、650℃〜750℃で焼結し、塗膜中に空隙を形成することが可能である。熱処理の他に高圧水銀灯等の紫外線照射等で焼結を行うこともできる。
本実施形態の光学塗膜は、透明性、反射防止特性の面から、厚みが0.05〜10μm
であることが好ましい。
<Sintering process>
Furthermore, the precursor of the optical coating film is sintered at a temperature of 500 ° C. or higher as a void forming step.
Preferably, sintering is performed at 500 ° C. to 900 ° C., more preferably 600 ° C. to 800 ° C., and still more preferably 650 ° C. to 750 ° C., and voids can be formed in the coating film. In addition to heat treatment, sintering can also be performed by ultraviolet irradiation such as a high-pressure mercury lamp.
The optical coating film of this embodiment has a thickness of 0.05 to 10 μm in terms of transparency and antireflection properties.
It is preferable that
(用途)
本実施形態の光学塗膜は、透明性、反射防止特性に優れているので、太陽電池用の部材
(ガラス、及びモジュール等)、太陽電池用集光レンズ、太陽熱発電用ミラー、太陽熱発電用集光ガラスチューブ、光電池、液晶ディスプレイ、メガネ、窓ガラス、テレビ等において、光透過性の向上及び/又は映り込みの防止を必要としている高精細な部材の反射防止膜として用いることができる。
(Use)
Since the optical coating film of this embodiment is excellent in transparency and antireflection properties, solar cell members (glass, modules, etc.), solar cell condensing lenses, solar power generation mirrors, solar power generation collectors. In an optical glass tube, a photovoltaic cell, a liquid crystal display, glasses, a window glass, a television, and the like, it can be used as an antireflection film for a high-definition member that needs to improve light transmission and / or prevent reflection.
以下、本発明について、具体的な実施例及び比較例を挙げて説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto.
後述する合成例、実施例及び比較例における、各種の物性は下記の方法で測定した。
((1)平均粒子径(nm)の測定)
金属酸化物(A)について、50,000〜100,000倍に拡大し、球状の金属酸化
物(A)の粒子が100個〜200個写るように調整して透過型顕微鏡写真を撮影した。
次いで、撮影された各金属酸化物(A)の粒子径(長径と短径)を測定し、それらの平
均値((長径+短径)/2)を求め、平均粒子径とした。
Various physical properties in Synthesis Examples, Examples, and Comparative Examples described later were measured by the following methods.
((1) Measurement of average particle diameter (nm))
The metal oxide (A) was magnified 50,000 to 100,000 times, and adjusted so that 100 to 200 spherical metal oxide (A) particles appeared, and a transmission micrograph was taken.
Next, the particle diameter (major axis and minor axis) of each photographed metal oxide (A) was measured, and an average value thereof ((major axis + minor axis) / 2) was obtained and used as an average particle diameter.
((2)全光線透過率(%)の測定)
後述する実施例及び比較例で製造した試験板について、日本国日本電色工業株式会社製
濁度計NDH2000を用いて、JIS K7361−1に規定される方法により、全光
線透過率を測定した。
((2) Measurement of total light transmittance (%))
About the test plate manufactured by the Example and comparative example which are mentioned later, total light transmittance was measured by the method prescribed | regulated to JISK7361-1 using Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. turbidimeter NDH2000.
((3)鉛筆硬度の測定)
後述する実施例及び比較例で製造した光学塗膜から、JIS S6006が規定する試
験用鉛筆を製造し、当該試験用鉛筆を用いて、JIS K5400に規定される鉛筆硬度
の評価方法に従い、1kg荷重における鉛筆硬度を評価した。
((3) Measurement of pencil hardness)
A test pencil specified by JIS S6006 is manufactured from optical coating films manufactured in Examples and Comparative Examples described later, and 1 kg load is applied according to the pencil hardness evaluation method specified in JIS K5400 using the test pencil. The pencil hardness was evaluated.
((4)表面水接触角(°)の測定)
後述する実施例及び比較例で製造した光学塗膜の表面に脱イオン水の滴(1.0μL)
を乗せ、25℃で10秒間放置した。その後、日本国協和界面科学製CA−X150型接
触角計を用いて初期接触角を測定した。光学塗膜に対する水の接触角が小さいほど、皮膜
表面の親水性が高いと評価した。
((4) Measurement of surface water contact angle (°))
Drops of deionized water (1.0 μL) on the surface of the optical coating film produced in Examples and Comparative Examples described later
And left at 25 ° C. for 10 seconds. Thereafter, the initial contact angle was measured using a CA-X150 contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science, Japan. The smaller the contact angle of water with the optical coating film, the higher the hydrophilicity of the coating surface.
((5)耐候性試験)
後述する実施例及び比較例で製造した試験板について、加速環境試験器(エスペック(
株)製、EHS−411)を用い、温度135℃、湿度85%の環境下、4時間放置する
耐候性試験を行った。なお、耐候性試験後の試験板の全光線透過率を上記(2)に記載し
た方法に従い測定した。
((5) Weather resistance test)
For test plates manufactured in Examples and Comparative Examples described later, an accelerated environment tester (Espec (
EHS-411) was used, and a weather resistance test was performed for 4 hours in an environment of a temperature of 135 ° C. and a humidity of 85%. In addition, the total light transmittance of the test plate after the weather resistance test was measured according to the method described in the above (2).
((6)空隙(X)(Y)の空隙サイズの測定)
カンタクロム社製オートソーブ−1」を用い、窒素吸着法によって空隙の容積を測定し
、空隙サイズを求めた。なお、細孔直径が18nm以下の細孔については、BJH法
により空隙の容積を測定し、空隙サイズを求めた。
((6) Measurement of void size of void (X) (Y))
The volume of the void was measured by a nitrogen adsorption method using “Autosorb-1 manufactured by Cantachrome Co., Ltd.”, and the void size was determined. For pores having a pore diameter of 18 nm or less, the void volume was measured by the BJH method to determine the void size.
((7)重合体エマルジョン粒子の数平均粒子径)
後述する合成例により製造した重合体エマルジョン粒子(B)の数平均粒子径は、動的
光散乱式粒度分布測定装置(日機装社製、商品名マイクロトラックUPA)により測定し
た。
((7) Number average particle diameter of polymer emulsion particles)
The number average particle diameter of the polymer emulsion particles (B) produced by the synthesis example described later was measured with a dynamic light scattering type particle size distribution analyzer (trade name: Microtrac UPA, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).
((8)AR値、AR変化率)
後述する実施例及び比較例により製造した試験板の、耐候性試験前後の全光線透過率、
基材の全光線透過率を用いて、下記式(6)、(7)により、AR値、AR変化率を算出
した。
((8) AR value, AR change rate)
The total light transmittance before and after the weather resistance test of the test plates manufactured according to Examples and Comparative Examples described later,
Using the total light transmittance of the substrate, the AR value and the AR change rate were calculated by the following formulas (6) and (7).
上記ARが2%以上であることにより、反射防止特性が良好であると評価できる。
前記AR変化率の絶対値が50%以下であることにより、耐候性が良好であると評価で
きる。
When the AR is 2% or more, it can be evaluated that the antireflection characteristic is good.
When the absolute value of the AR change rate is 50% or less, it can be evaluated that the weather resistance is good.
((9)塗膜均一性)
キーエンス社製 マイクロスコープ V−1000を用いて100倍の倍率で膜厚の均一性を測定し目視で評価した。
○:均一性良好 △:やや均一 ×:不良
((10)チキソ性(TI値)
25℃の条件下でB型粘度計(BRROKFIELD)で粘度を測定しTI値を求めたた。
TI値=6rpm粘度/60rpm粘度×100
((9) Coating uniformity)
Uniformity of the film thickness was measured visually at a magnification of 100 times using a KEYENCE microscope V-1000 and visually evaluated.
○: Uniformity good △: Slightly uniform ×: Defect ((10) thixotropy (TI value)
The viscosity was measured with a B-type viscometer (BRROKFIELD) under the condition of 25 ° C. to determine the TI value.
TI value = 6 rpm viscosity / 60 rpm viscosity × 100
〔合成例〕
以下、後述する実施例及び比較例において用いた重合体エマルジョン粒子(B)の合成
例を記載する。
(Synthesis example)
Hereinafter, synthesis examples of the polymer emulsion particles (B) used in Examples and Comparative Examples described later are described.
(合成例1)
<重合体エマルジョン粒子(B−1)水分散体の合成>
還流冷却器、滴下槽、温度計及び撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水1600g
、及びドデシルベンゼンスルホン酸7gを投入した後、撹拌しながら80℃に加温して混
合液(1)を得た。
得られた混合液(1)に、コア層としてジメチルジメトキシシラン185g及びフェニ
ルトリメトキシシラン(b1−3)117gの混合液(2)を、反応容器中の温度を80
℃に保った状態で約2時間かけて滴下して混合液(3)を得た。
その後、反応容器中の温度が80℃の状態で混合液(3)を約1時間撹拌した。
次に、得られた混合液(3)に、シェル層としてアクリル酸ブチル150g、テトラエ
トキシシラン(b1−3)30g、フェニルトリメトキシシラン(b1−3)145g、
及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(b1−3)1.3gの混合液(4
)と、ジエチルアクリルアミド165g、アクリル酸3g、反応性乳化剤(商品名「アデ
カリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25質量%水溶液)13g、過
硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、及びイオン交換水1900gの混合液(5)
とを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下して混合物(
6)を得た。
さらに熱養生として、反応容器中の温度が80℃の状態で混合物(6)を約2時間撹拌
した。
その後、混合物(6)を室温まで冷却し、100メッシュの金網で濾過し、精製水で濃
度を調整して数平均粒子径87nmの重合体エマルジョン粒子(B−1)の水分散体(固
形分10質量%、pH3.2)を得た。
(Synthesis Example 1)
<Synthesis of Polymer Emulsion Particle (B-1) Water Dispersion>
In a reactor having a reflux condenser, a dropping tank, a thermometer and a stirring device, 1600 g of ion-exchanged water
And 7 g of dodecylbenzenesulfonic acid were added, and the mixture was heated to 80 ° C. with stirring to obtain a mixed solution (1).
To the obtained mixed liquid (1), a mixed liquid (2) of 185 g of dimethyldimethoxysilane and 117 g of phenyltrimethoxysilane (b1-3) was used as a core layer, and the temperature in the reaction vessel was set at 80.
The mixture (3) was obtained by dropwise addition over about 2 hours while maintaining the temperature.
Thereafter, the mixed liquid (3) was stirred for about 1 hour while the temperature in the reaction vessel was 80 ° C.
Next, 150 g of butyl acrylate, 30 g of tetraethoxysilane (b1-3), 145 g of phenyltrimethoxysilane (b1-3) as a shell layer were added to the obtained mixed liquid (3).
And a mixed solution of 1.3 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (b1-3) (4
), 165 g of diethyl acrylamide, 3 g of acrylic acid, 13 g of reactive emulsifier (trade name “Adekaria Soap SR-1025”, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., 25 mass% solid content aqueous solution), 40 g of 2 mass% aqueous solution of ammonium persulfate And a mixture of ion-exchanged water 1900 g (5)
Are simultaneously added dropwise over a period of about 2 hours while maintaining the temperature in the reaction vessel at 80 ° C.
6) was obtained.
Further, as a heat curing, the mixture (6) was stirred for about 2 hours while the temperature in the reaction vessel was 80 ° C.
Thereafter, the mixture (6) was cooled to room temperature, filtered through a 100-mesh wire mesh, the concentration was adjusted with purified water, and an aqueous dispersion (solid content) of polymer emulsion particles (B-1) having a number average particle diameter of 87 nm. 10% by mass, pH 3.2) was obtained.
(合成例2)
<重合体エマルジョン粒子(B−2)水分散体の合成>
還流冷却器、滴下槽、温度計及び撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水1600g
、及びドデシルベンゼンスルホン酸20gを投入した後、撹拌しながら80℃に加温して
混合液(1)を得た。
得られた混合液(1)に、コア層としてジメチルジメトキシシラン185g及びフェニ
ルトリメトキシシラン(b1−3)151gの混合液(2)を、反応容器中の温度を80
℃に保った状態で約2時間かけて滴下して混合液(3)を得た。
その後、反応容器中の温度が80℃の状態で混合液(3)を約1時間撹拌した。
次に、得られた混合液(3)に、シェル層としてアクリル酸ブチル150g、テトラエ
トキシシラン(b1−3)10g、フェニルトリメトキシシラン(b1−3)145g、
及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(b1−3)1.3gの混合液(4
)と、ジエチルアクリルアミド145g、アクリル酸10g、反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25質量%水溶液)13g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、及びイオン交換水1900gの混合(5)
とを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下して混合物(
6)を得た。
さらに熱養生として、反応容器中の温度が80℃の状態で混合物(6)を約2時間撹拌
した。
その後、混合物(6)を室温まで冷却し、100メッシュの金網で濾過し、製水で濃度
を調整して数平均粒子径20nmの重合体エマルジョン粒子(B−2)の水分散体(固形
分10質量%、pH3.2)を得た。
(Synthesis Example 2)
<Synthesis of Polymer Emulsion Particle (B-2) Water Dispersion>
In a reactor having a reflux condenser, a dropping tank, a thermometer and a stirring device, 1600 g of ion-exchanged water
, And 20 g of dodecylbenzenesulfonic acid were added, followed by heating to 80 ° C. with stirring to obtain a mixed solution (1).
To the obtained mixed liquid (1), a mixed liquid (2) of 185 g of dimethyldimethoxysilane and 151 g of phenyltrimethoxysilane (b1-3) as a core layer was added, and the temperature in the reaction vessel was set to 80.
The mixture (3) was obtained by dropwise addition over about 2 hours while maintaining the temperature.
Thereafter, the mixed liquid (3) was stirred for about 1 hour while the temperature in the reaction vessel was 80 ° C.
Next, 150 g of butyl acrylate, 10 g of tetraethoxysilane (b1-3), 145 g of phenyltrimethoxysilane (b1-3) as a shell layer were added to the obtained mixed liquid (3).
And a mixed solution of 1.3 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (b1-3) (4
), 145 g of diethyl acrylamide, 10 g of acrylic acid, 13 g of reactive emulsifier (trade name “Adekaria Soap SR-1025”, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., solid content 25% by mass aqueous solution), 40 g of 2% by mass aqueous solution of ammonium persulfate , And 1900 g of ion exchange water (5)
Are simultaneously added dropwise over a period of about 2 hours while maintaining the temperature in the reaction vessel at 80 ° C.
6) was obtained.
Further, as a heat curing, the mixture (6) was stirred for about 2 hours while the temperature in the reaction vessel was 80 ° C.
Thereafter, the mixture (6) is cooled to room temperature, filtered through a 100-mesh wire mesh, the concentration is adjusted with water, and an aqueous dispersion (solid content) of polymer emulsion particles (B-2) having a number average particle diameter of 20 nm. 10% by mass, pH 3.2) was obtained.
(合成例3)
<重合体エマルジョン粒子(B−3)水分散体の合成>
還流冷却器、滴下槽、温度計及び撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水1600g
、ポリビニルアルコール(クラレ社製 PVA217)5g、及びドデシルベンゼンスルホン酸20gを投入した後、撹拌しながら80℃に加温して
混合液(1)を得た。
得られた混合液(1)に、コア層としてジメチルジメトキシシラン185g及びフェニ
ルトリメトキシシラン(b1−3)151gの混合液(2)を、反応容器中の温度を80
℃に保った状態で約2時間かけて滴下して混合液(3)を得た。
その後、反応容器中の温度が80℃の状態で混合液(3)を約1時間撹拌した。
次に、得られた混合液(3)に、シェル層としてアクリル酸メチル150g、テトラエ
トキシシラン(b1−3)10g、フェニルトリメトキシシラン(b1−3)145g、
及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(b1−3)1.3gの混合液(4
)と、ジエチルアクリルアミド145g、アクリル酸10g、反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25質量%水溶液)13g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、及びイオン交換水1900gの混合液(5)とを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下して混合物(6)を得た。
さらに熱養生として、反応容器中の温度が80℃の状態で混合物(6)を約2時間撹拌
した。
その後、混合物(6)を室温まで冷却し、100メッシュの金網で濾過し、製水で濃度
を調整して数平均粒子径25nmの重合体エマルジョン粒子(B−3)の水分散体(固形
分10質量%、pH3.3)を得た。
(Synthesis Example 3)
<Synthesis of Polymer Emulsion Particle (B-3) Water Dispersion>
In a reactor having a reflux condenser, a dropping tank, a thermometer and a stirring device, 1600 g of ion-exchanged water
Then, 5 g of polyvinyl alcohol (PVA217 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and 20 g of dodecylbenzenesulfonic acid were added, followed by heating to 80 ° C. with stirring to obtain a mixed solution (1).
To the obtained mixed liquid (1), a mixed liquid (2) of 185 g of dimethyldimethoxysilane and 151 g of phenyltrimethoxysilane (b1-3) as a core layer was added, and the temperature in the reaction vessel was set to 80.
The mixture (3) was obtained by dropwise addition over about 2 hours while maintaining the temperature.
Thereafter, the mixed liquid (3) was stirred for about 1 hour while the temperature in the reaction vessel was 80 ° C.
Next, 150 g of methyl acrylate, 10 g of tetraethoxysilane (b1-3), 145 g of phenyltrimethoxysilane (b1-3) as a shell layer were added to the obtained mixed liquid (3).
And a mixed solution of 1.3 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (b1-3) (4
), 145 g of diethyl acrylamide, 10 g of acrylic acid, 13 g of reactive emulsifier (trade name “Adekaria Soap SR-1025”, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., solid content 25% by mass aqueous solution), 40 g of 2% by mass aqueous solution of ammonium persulfate And a mixture (5) of 1900 g of ion-exchanged water were simultaneously added dropwise over about 2 hours while maintaining the temperature in the reaction vessel at 80 ° C. to obtain a mixture (6).
Further, as a heat curing, the mixture (6) was stirred for about 2 hours while the temperature in the reaction vessel was 80 ° C.
Thereafter, the mixture (6) is cooled to room temperature, filtered through a 100-mesh wire mesh, the concentration is adjusted with water, and an aqueous dispersion (solid content) of polymer emulsion particles (B-3) having a number average particle diameter of 25 nm. 10 mass%, pH 3.3) was obtained.
(合成例4)
<重合体エマルジョン粒子(B−4)水分散体の合成>
還流冷却器、滴下槽、温度計及び撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水2600g
、及びドデシルベンゼンスルホン酸12g、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル
の25%水溶液(エマルゲン950、花王(株)製)20部を投入した後、撹拌しながら
80℃に加温して混合液(1)を得た。
得られた混合液(1)に、コア層としてメタクリル酸18g、メタクリル酸メチル21
6g、アクリル酸ブチル216g、及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
(b1−3)6.9g、メチルトリメトキシシラン101g、過硫酸アンモニウムの2質
量%水溶液40g、の混合液(2)を反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間
かけて滴下して混合液(3)を得た。
その後、反応容器中の温度が80℃の状態で混合液(3)を約1時間撹拌した。
次に、得られた混合液(3)に、シェル層としてアクリル酸ブチル245g、メタクリ
ル酸メチル245g、アクリル酸10g、反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR
−1025」、旭電化(株)製、固形分25質量%水溶液)13g、過硫酸アンモニウム
の2質量%水溶液40g、及びイオン交換水1900gの混合液(4)とを、反応容器中
の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下して混合物(5)を得た。
さらに熱養生として、反応容器中の温度が80℃の状態で混合物(5)を約2時間撹拌
した。
その後、混合物(5)を室温まで冷却し、100メッシュの金網で濾過し、精製水で濃
度を調整して数平均粒子径120nmの重合体エマルジョン粒子(B−5)の水分散体(
固形分10質量%、pH3.2)を得た。
(Synthesis Example 4)
<Synthesis of Polymer Emulsion Particle (B-4) Water Dispersion>
In a reactor having a reflux condenser, a dropping tank, a thermometer and a stirring device, 2600 g of ion-exchanged water
, And 12 g of dodecylbenzenesulfonic acid and 20 parts of 25% aqueous solution of polyoxyethylene nonylphenyl ether (Emulgen 950, manufactured by Kao Corporation) were added, and the mixture was heated to 80 ° C. with stirring and mixed (1) Got.
In the obtained mixed liquid (1), 18 g of methacrylic acid and 21 methyl methacrylate were used as the core layer.
A mixture (2) of 6 g, 216 g of butyl acrylate, 6.9 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (b1-3), 101 g of methyltrimethoxysilane, and 40 g of a 2% by weight aqueous solution of ammonium persulfate in a reaction vessel Was added dropwise over about 2 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to obtain a mixed liquid (3).
Thereafter, the mixed liquid (3) was stirred for about 1 hour while the temperature in the reaction vessel was 80 ° C.
Next, 245 g of butyl acrylate, 245 g of methyl methacrylate, 10 g of acrylic acid, a reactive emulsifier (trade name “Adekari Soap SR” was added to the obtained mixed liquid (3) as a shell layer.
-1025 ", manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., 25 g solid content aqueous solution (13 g), ammonium persulfate 2 mass% aqueous solution 40 g, and ion-exchanged water 1900 g mixed solution (4), the temperature in the reaction vessel was 80 The mixture (5) was obtained by simultaneously dropping over about 2 hours while maintaining the temperature at ° C.
Further, as a heat curing, the mixture (5) was stirred for about 2 hours while the temperature in the reaction vessel was 80 ° C.
Thereafter, the mixture (5) was cooled to room temperature, filtered through a 100-mesh wire mesh, the concentration was adjusted with purified water, and an aqueous dispersion of polymer emulsion particles (B-5) having a number average particle size of 120 nm (
A solid content of 10% by mass, pH 3.2) was obtained.
〔実施例1〕
重合体エマルジョン粒子(B)として合成例2で合成した重合体エマルジョン粒子(B
−2)の水分散体を用いた。球状の金属酸化物(A)の原料として平均粒子径5nmの水
分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスOXS(表1中、「ST−OXS」と記
載する)」、日産化学工業(株)製、固形分10質量%)を用いた。
加水分解性珪素化合物(C)としてテトラエトキシシラン(信越化学工業(株)製)を
用いた。
これらを、表1に記載の固形分質量比で混合し、固形分6%となるように精製水で調整した後、攪拌し、コーティング組成物を得た。
[Example 1]
Polymer emulsion particles (B) synthesized in Synthesis Example 2 as polymer emulsion particles (B)
-2) was used. Water-dispersed colloidal silica having an average particle size of 5 nm (trade name “Snowtex OXS (described as“ ST-OXS ”in Table 1)”) as a raw material for the spherical metal oxide (A), manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. , Solid content of 10% by mass).
Tetraethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used as the hydrolyzable silicon compound (C).
These were mixed at a solid content mass ratio shown in Table 1, adjusted with purified water to a solid content of 6%, and then stirred to obtain a coating composition.
基材(5cm×5cmの凹凸のある型板ガラス)に上コーティング組成物を、スピン
コーターを用いて膜厚が100nmとなるよう塗布した後、25℃で10分間乾燥し、さ
らに電気炉中で600℃、3分間焼結した後に急冷してから塗膜を有する試験板を得た。
このとき塗膜中の組成比(コーティング組成物の固形分換算で計算した各成分の質量比率と同様)は、(A)/(B’)/(C’)=100/100/45となった
。
なお、(B’)は、前記焼結後に得られる重合体エマルジョン粒子(B)に由来する重
合体粒子であり、(C’)は、前記焼結後に得られる加水分解性珪素化合物(C)の加水
分解縮合物とする。
The top coating composition was applied to a substrate (5 cm × 5 cm concavo-convex template glass) using a spin coater so as to have a film thickness of 100 nm, then dried at 25 ° C. for 10 minutes, and further 600 in an electric furnace. A test plate having a coating film was obtained after quenching after sintering at 3 ° C. for 3 minutes.
At this time, the composition ratio in the coating film (similar to the mass ratio of each component calculated in terms of solid content of the coating composition) is (A) / (B ′) / (C ′) = 100/100/45. It was.
In addition, (B ′) is a polymer particle derived from the polymer emulsion particles (B) obtained after the sintering, and (C ′) is a hydrolyzable silicon compound (C) obtained after the sintering. The hydrolysis condensate of
〔実施例2〕
重合体エマルジョン粒子(B)として合成例3で合成した重合体エマルジョン粒子(B
−3)の水分散体を用いた。球状の金属酸化物(A)の原料として平均粒子径5nmの水
分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスOXS(表1中、「ST−OXS」と記
載する)」、日産化学工業(株)製、固形分10質量%)を用いた。
加水分解性珪素化合物(C)として加水分解性珪素化合物(C)としてテトラメトキシシランオリゴマーMS56(三菱化学(株)製)を用いた。
これらを、表1に記載の固形分質量比で混合し、固形分6%となるように精製水で調整した後、攪拌し、コーティング組成物を得た。
[Example 2]
Polymer emulsion particles (B) synthesized in Synthesis Example 3 as polymer emulsion particles (B)
The aqueous dispersion of -3) was used. Water-dispersed colloidal silica having an average particle size of 5 nm (trade name “Snowtex OXS (described as“ ST-OXS ”in Table 1)”) as a raw material for the spherical metal oxide (A), manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. , Solid content of 10% by mass).
As the hydrolyzable silicon compound (C), tetramethoxysilane oligomer MS56 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was used as the hydrolyzable silicon compound (C).
These were mixed at a solid content mass ratio shown in Table 1, adjusted with purified water to a solid content of 6%, and then stirred to obtain a coating composition.
基材(5cm×5cmの凹凸のある型板ガラス)に上記コーティング組成物を、スピン
コーターを用いて膜厚が100nmとなるよう塗布した後、25℃で10分間乾燥し、さ
らに電気炉中で600℃、3分間焼結した後に急冷してから塗膜を有する試験板を得た。
このとき塗膜中の組成比(コーティング組成物の固形分換算で計算した各成分の質量比率と同様)は、(A)/(B’)/(C’)=100/100/45となった。
なお、(B’)は、前記焼結後に得られる重合体エマルジョン粒子(B)に由来する重
合体粒子であり、(C’)は、前記焼結後に得られる加水分解性珪素化合物(C)の加水
分解縮合物とする。
The above-mentioned coating composition was applied to a base material (5 cm × 5 cm concavo-convex template glass) using a spin coater so as to have a film thickness of 100 nm, then dried at 25 ° C. for 10 minutes, and further 600 in an electric furnace. A test plate having a coating film was obtained after quenching after sintering at 3 ° C. for 3 minutes.
At this time, the composition ratio in the coating film (similar to the mass ratio of each component calculated in terms of solid content of the coating composition) is (A) / (B ′) / (C ′) = 100/100/45. It was.
In addition, (B ′) is a polymer particle derived from the polymer emulsion particles (B) obtained after the sintering, and (C ′) is a hydrolyzable silicon compound (C) obtained after the sintering. The hydrolysis condensate of
〔比較例1〕
重合体エマルジョン粒子(B)として合成例1で合成した重合体エマルジョン粒子(B
−1)の水分散体を用いた以外は実施例1と同様にして光学塗膜を得た。その評価結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
Polymer emulsion particles (B) synthesized in Synthesis Example 1 as polymer emulsion particles (B)
An optical coating film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the aqueous dispersion of -1) was used. The evaluation results are shown in Table 1.
〔比較例2〕
重合体エマルジョン粒子(B)として合成例4で合成した重合体エマルジョン粒子(B
−4)の水分散体を用いた以外は実施例1と同様にして光学塗膜を得た。
[Comparative Example 2]
Polymer emulsion particles (B) synthesized in Synthesis Example 4 as polymer emulsion particles (B)
An optical coating film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the aqueous dispersion of -4) was used.
上述した実施例1〜2及び比較例1〜2の評価結果を下記表1に示す。 The evaluation results of Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 described above are shown in Table 1 below.
表1に示すように、実施例1〜2においては、凹凸のある基材に対して均一な膜厚を形成可能性で優れた反射防止効果を有し、また、耐候性試験後において全反射透過率の低下が抑制されていることが分かった。
一方、比較例1〜2においては、凹凸のある基材に対して均一性が不十分のため反射防止特性が劣り、耐候性試験後において全反射透過率が低下していることが確認された。
As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, it has an excellent antireflection effect with the possibility of forming a uniform film thickness on uneven substrates, and is also totally reflective after the weather resistance test It turned out that the fall of the transmittance | permeability is suppressed.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, it was confirmed that the antireflection characteristics were inferior due to insufficient uniformity with respect to the uneven substrate, and the total reflection transmittance was lowered after the weather resistance test. .
本発明の光学塗膜は、太陽電池、光電池、液晶ディスプレイ、メガネ、窓ガラス、テレ
ビ等の、光透過性の向上及び/又は映り込みの防止を必要としている高精細な部材の反射防止膜や、これらの部材の防汚コートとして産業上の利用可能性を有している。
The optical coating film of the present invention is an antireflection film for a high-definition member that needs to improve light transmission and / or prevent reflection, such as solar cells, photovoltaic cells, liquid crystal displays, glasses, window glass, and televisions. The present invention has industrial applicability as an antifouling coating for these members.
Claims (13)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014215812A JP6426975B2 (en) | 2014-10-22 | 2014-10-22 | Coating composition and method for producing optical coating film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014215812A JP6426975B2 (en) | 2014-10-22 | 2014-10-22 | Coating composition and method for producing optical coating film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016085239A true JP2016085239A (en) | 2016-05-19 |
JP6426975B2 JP6426975B2 (en) | 2018-11-21 |
Family
ID=55971762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014215812A Active JP6426975B2 (en) | 2014-10-22 | 2014-10-22 | Coating composition and method for producing optical coating film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6426975B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016084374A (en) * | 2014-10-22 | 2016-05-19 | 旭化成株式会社 | Optical coating film and anti-reflection film |
JP2017226764A (en) * | 2016-06-22 | 2017-12-28 | 旭化成株式会社 | Coating film, manufacturing method of coating film and coating composition |
JP2019085459A (en) * | 2017-11-02 | 2019-06-06 | 株式会社放電精密加工研究所 | Surface-coated base material that can be used as substitute material of anodized aluminum material, and coating composition for forming top coat layer on the substrate surface |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0531438A (en) * | 1991-07-30 | 1993-02-09 | Matsushita Electric Works Ltd | Formation of resist film |
JPH06317898A (en) * | 1993-05-07 | 1994-11-15 | Ibiden Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPH09278837A (en) * | 1996-04-15 | 1997-10-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Aqueous emulsion and aqueous pressure-sensitive adhesive using the same |
JPH10219136A (en) * | 1997-02-10 | 1998-08-18 | Nitto Denko Corp | Glareproofing agent, glareproof film, and production thereof |
JPH1191298A (en) * | 1997-09-19 | 1999-04-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Transfer method of curved surface |
WO2013065801A1 (en) * | 2011-11-04 | 2013-05-10 | 旭硝子株式会社 | Method for producing article with low reflection film |
WO2013111783A1 (en) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Coating composition and antireflection film |
JP2013237573A (en) * | 2012-05-11 | 2013-11-28 | Asahi Kasei Corp | Tempered glass substrate and solar cell module |
JP2014079920A (en) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Asahi Glass Co Ltd | Article and production method of the same |
-
2014
- 2014-10-22 JP JP2014215812A patent/JP6426975B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0531438A (en) * | 1991-07-30 | 1993-02-09 | Matsushita Electric Works Ltd | Formation of resist film |
JPH06317898A (en) * | 1993-05-07 | 1994-11-15 | Ibiden Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPH09278837A (en) * | 1996-04-15 | 1997-10-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Aqueous emulsion and aqueous pressure-sensitive adhesive using the same |
JPH10219136A (en) * | 1997-02-10 | 1998-08-18 | Nitto Denko Corp | Glareproofing agent, glareproof film, and production thereof |
JPH1191298A (en) * | 1997-09-19 | 1999-04-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Transfer method of curved surface |
WO2013065801A1 (en) * | 2011-11-04 | 2013-05-10 | 旭硝子株式会社 | Method for producing article with low reflection film |
WO2013111783A1 (en) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Coating composition and antireflection film |
JP2013237573A (en) * | 2012-05-11 | 2013-11-28 | Asahi Kasei Corp | Tempered glass substrate and solar cell module |
JP2014079920A (en) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Asahi Glass Co Ltd | Article and production method of the same |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016084374A (en) * | 2014-10-22 | 2016-05-19 | 旭化成株式会社 | Optical coating film and anti-reflection film |
JP2017226764A (en) * | 2016-06-22 | 2017-12-28 | 旭化成株式会社 | Coating film, manufacturing method of coating film and coating composition |
JP2019085459A (en) * | 2017-11-02 | 2019-06-06 | 株式会社放電精密加工研究所 | Surface-coated base material that can be used as substitute material of anodized aluminum material, and coating composition for forming top coat layer on the substrate surface |
JP7148237B2 (en) | 2017-11-02 | 2022-10-05 | 株式会社放電精密加工研究所 | A surface-coated substrate that can be used as an alternative material to an alumite material, and a coating composition for forming a topcoat layer on the surface of the substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6426975B2 (en) | 2018-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6081929B2 (en) | Coating composition and antireflection film | |
JP6326199B2 (en) | Optical coating film, method for producing optical coating film, and antireflection film | |
JP7087059B2 (en) | Highly durable anti-fog coating and coating composition | |
CN108699392B (en) | High-durability antifogging coating film and coating composition | |
JP6270444B2 (en) | Coating composition and antireflection film | |
JP6573445B2 (en) | Optical coating film, method for producing optical coating film, and antireflection film | |
JP2020050808A (en) | Coating composition | |
JP6426975B2 (en) | Coating composition and method for producing optical coating film | |
JP2015018230A (en) | Precursor for forming optical coating, optical coating, and method of producing optical coating | |
JP2016115927A (en) | Coating film for solar cell | |
JP6437243B2 (en) | Optical coating film, method for producing optical coating film, and antireflection film | |
JP7026446B2 (en) | Anti-fog coating and coating composition | |
JP6425964B2 (en) | Optical coating film and antireflective film | |
JP2016184023A (en) | Coating film for solar cell cover glass and method for producing the same | |
JP6794151B2 (en) | Coating film, method for producing coating film, and coating composition | |
JP2016219545A (en) | Coating film for solar cell | |
JP6457866B2 (en) | Coating film for solar cell and method for producing the same | |
JP6212372B2 (en) | Method for producing functional membrane and functional membrane | |
JP2017114950A (en) | Coating film and method for producing coating film | |
JP2015227031A (en) | Flame resistant laminate | |
JP2021031619A (en) | Coating composition and antifogging coating film | |
JP2017036424A (en) | Coating film and method for producing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170719 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180405 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180410 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180606 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20180606 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181015 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181026 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6426975 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |